JP5046482B2 - Method for producing inorganic oxide fine particle dispersion, inorganic oxide fine particle dispersion, coating composition, optical film, antireflection film, polarizing plate, and liquid crystal display device - Google Patents

Method for producing inorganic oxide fine particle dispersion, inorganic oxide fine particle dispersion, coating composition, optical film, antireflection film, polarizing plate, and liquid crystal display device Download PDF

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Description

本発明は、無機酸化物微粒子が安定して分散している無機酸化物微粒子分散物、及びそれを含むコーティング組成物に関する。また、該コーティング組成物から形成された光学フィルム、特に反射防止フィルムに関する。更には、該光学フィルム、特に反射防止フィルムを具備した偏光板、液晶表示装置に関する。   The present invention relates to an inorganic oxide fine particle dispersion in which inorganic oxide fine particles are stably dispersed, and a coating composition containing the same. Moreover, it is related with the optical film formed from this coating composition, especially an antireflection film. Furthermore, the present invention relates to a polarizing plate and a liquid crystal display device provided with the optical film, particularly an antireflection film.

接着剤、外装塗料、ハードコート、反射防止膜などに有機材料や無機材料を配合して、耐擦傷性、硬化物の強度、接触した他の素材との密着などを向上させることが検討されている。
無機材料と有機材料を配合する際には、無機材料が不要な凝集を起こさないことが必要である。一般に行われる方法の1つは、無機材料を有機材料に親和性のある溶媒中に分散した後に有機材料と混合して皮膜を形成する方法である。安定した性能を得るためには、無機材料が溶媒中に安定して分散されていることが重要である。具体的には、無機材料表面の親疎水性や立体障害性の制御が重要であり、無機酸化物微粒子においては、アルコキシシランを用いて表面処理することが知られている。例えば、「顔料分散技術 表面処理と分散剤の使い方および分散性評価」(技術情報協会編 1999年発行)にはシランカップリング剤を用い無機粒子を有機溶媒に分散する方法についての記載がある。しかしながら分散液の安定性という意味では未だ不十分なレベルであった。
It is being studied to improve the scratch resistance, strength of cured products, adhesion with other materials that come into contact with organic materials and inorganic materials in adhesives, exterior paints, hard coats, antireflection films, etc. Yes.
When blending an inorganic material and an organic material, it is necessary that the inorganic material does not cause unnecessary aggregation. One of the commonly performed methods is a method in which an inorganic material is dispersed in a solvent having an affinity for an organic material and then mixed with the organic material to form a film. In order to obtain stable performance, it is important that the inorganic material is stably dispersed in the solvent. Specifically, it is important to control hydrophilicity / hydrophobicity and steric hindrance on the surface of the inorganic material, and it is known that the inorganic oxide fine particles are subjected to a surface treatment using alkoxysilane. For example, “Pigment Dispersion Technology Surface Treatment, Usage of Dispersing Agents and Dispersibility Evaluation” (edited by the Technical Information Association, 1999) describes a method of dispersing inorganic particles in an organic solvent using a silane coupling agent. However, it was still insufficient in terms of the stability of the dispersion.

また、特に重合硬化系の有機材料と無機粒子の組み合わせにおいては、重合基を含有するアルコキシシラン及び/またはその加水分解縮合物が注目されている。例えば、特許文献1(特開平9-169847号公報)には、特定のポリアルコキシポリシロキサンと重合性シランカップリング剤との併用が提案されているが、ポリアルコキシポリシロキサンと重合性シランカップリング剤との反応が十分に行いにくく、重合性基の導入率が低いために、硬化物の耐擦過性や強度は十分ではない。特許文献2(特開平9-40909号公報)には、有機官能基を含むアルコキシシランとテトラアルコキシシランとの部分共加水分解縮合物が報告されているが、液の保存性は十分なものではなかった。上記の様に、これまでの技術では、皮膜の耐擦傷性や強度、液の保存安定性の点で不十分で、更なる改良が求められていた。   In particular, in the combination of a polymerization-curing organic material and inorganic particles, alkoxysilanes containing a polymerization group and / or hydrolysis condensates thereof have attracted attention. For example, Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 9-169847) proposes the combined use of a specific polyalkoxypolysiloxane and a polymerizable silane coupling agent, but the polyalkoxypolysiloxane and the polymerizable silane coupling are proposed. Since the reaction with the agent is not sufficiently performed and the introduction rate of the polymerizable group is low, the scratch resistance and strength of the cured product are not sufficient. Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 9-40909) reports a partial co-hydrolysis condensate of an alkoxysilane containing an organic functional group and a tetraalkoxysilane. However, the storage stability of the liquid is not sufficient. There wasn't. As described above, the conventional techniques are insufficient in terms of the scratch resistance and strength of the film and the storage stability of the liquid, and further improvements have been demanded.

一方、光学フィルム、特に反射防止フィルムは、一般に、陰極管表示装置(CRT)、プラズマディスプレイ(PDP)エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や液晶表示装置(LCD)のようなディスプレイ装置において、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率を低減する様にディスプレイの最表面に配置される。   On the other hand, optical films, particularly antireflection films, generally reflect external light in display devices such as cathode ray tube display (CRT), plasma display (PDP), electroluminescence display (ELD), and liquid crystal display (LCD). In order to prevent contrast reduction and image reflection due to the optical interference, it is arranged on the outermost surface of the display so as to reduce the reflectance by using the principle of optical interference.

このような反射防止フィルムは、最表面に適切な膜厚の低屈折率層、場合により支持体との間に適宜高屈折率層、中屈折率層、ハードコート層などを形成することにより作製できる。低い反射率を実現するために低屈折率層にはできるだけ屈折率の低い材料が望まれる。また反射防止フィルムはディスプレイの最表面に用いられるため高い耐擦傷性が要求される。厚さ100nm前後の薄膜において高い耐擦傷性を実現するためには、皮膜自体の強度、および下層への密着性が必要である。   Such an antireflection film is produced by forming a low refractive index layer having an appropriate thickness on the outermost surface, and optionally a high refractive index layer, a middle refractive index layer, a hard coat layer, etc. between the support and the support. it can. In order to realize a low reflectance, a material having a refractive index as low as possible is desired for the low refractive index layer. Further, since the antireflection film is used on the outermost surface of the display, high scratch resistance is required. In order to realize high scratch resistance in a thin film having a thickness of around 100 nm, the strength of the coating itself and the adhesion to the lower layer are required.

材料の屈折率を下げるには、フッ素原子を導入する、密度を下げる(空隙を導入する)という手段があるがいずれも皮膜強度および密着性が損なわれ耐擦傷性が低下する方向であり、低い屈折率と高い耐傷性の両立は困難な課題であった。   In order to lower the refractive index of the material, there are means of introducing fluorine atoms and lowering the density (introducing voids), but both are in the direction that the film strength and adhesion are impaired and the scratch resistance is lowered, and low Reconciling refractive index and high scratch resistance has been a difficult task.

特許文献3(特開平11-189621号公報)、特許文献4(特開平11-228631号公報)、特許文献5(特開2000-313709号公報)には、含フッ素ポリマー中にポリシロキサン構造を導入することにより皮膜表面の摩擦係数を下げ耐傷性を改良する手段が記載されている。該手段は耐傷性改良に対してある程度有効であるが、本質的な皮膜強度および界面密着性が不足している皮膜に対して該手法のみでは十分な耐傷性が得られなかった。   In Patent Document 3 (Japanese Patent Laid-Open No. 11-189621), Patent Document 4 (Japanese Patent Laid-Open No. 11-228631), and Patent Document 5 (Japanese Patent Laid-Open No. 2000-313709), a polysiloxane structure is contained in a fluorine-containing polymer. A means for reducing the coefficient of friction on the surface of the film and improving the scratch resistance by the introduction is described. Although this means is effective to some extent for improving scratch resistance, sufficient scratch resistance cannot be obtained only by this method for a film having an insufficient film strength and interfacial adhesion.

一方、特許文献6(特開2003−222704号公報)には含フッ素ポリマーを利用した低屈折率層素材にシランカップリング剤を添加することにより耐傷性が大幅に改良されることが記載されている。しかしながら沸点が低いシランカップリング剤は塗布乾燥工程で揮散する問題があり、揮散分を考慮した過剰量の添加を必要とし、安定した性能を得るのが難しいという問題があった。
特開平9-169847号公報 特開平9-40909号公報 特開平11-189621号公報 特開平11-228631号公報 特開2000-313709号公報 特開2003−222704号公報
On the other hand, Patent Document 6 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-222704) describes that the scratch resistance is greatly improved by adding a silane coupling agent to a low refractive index layer material using a fluorine-containing polymer. Yes. However, the silane coupling agent having a low boiling point has a problem that it volatilizes in the coating and drying process, and requires an excessive amount of addition considering the volatilized content, and there is a problem that it is difficult to obtain stable performance.
JP-A-9-169847 Japanese Patent Laid-Open No. 9-40909 Japanese Patent Laid-Open No. 11-189621 Japanese Patent Laid-Open No. 11-228631 JP 2000-313709 A JP 2003-222704 A

本発明の目的は、無機酸化物微粒子の分散性が改良され、安定した無機酸化物微粒子分散物、及びそれを含むコーティング組成物を提供することにある。
また、本発明のさらなる目的は、十分な反射防止性能を有しながら耐擦傷性の向上した光学フィルム、特に反射防止フィルムを提供することにある。
更に、本発明の目的は、上記光学フィルム、特に反射防止フィルムを具備する偏光板、液晶表示装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a stable inorganic oxide fine particle dispersion in which the dispersibility of the inorganic oxide fine particles is improved, and a coating composition containing the same.
A further object of the present invention is to provide an optical film, particularly an antireflection film, which has sufficient antireflection performance and improved scratch resistance.
Furthermore, the objective of this invention is providing the polarizing plate and liquid crystal display device which comprise the said optical film, especially an antireflection film.

本発明者は、鋭意検討の結果、以下の構成の無機酸化物微粒子分散物の製造方法、無機酸化物微粒子分散物、コーティング組成物、光学フィルム、反射防止フィルム、偏光板、及び液晶表示装置により本発明の上記目的が達成されることを見出した。
[1] 無機酸化物微粒子が有機溶媒中に分散してなる無機酸化物微粒子分散物の製造方法であって、該製造方法が、
(1)ケトン系溶媒の含率が30体積%以下のアルコール系有機溶媒中、酸触媒および下記金属キレート化合物の少なくともいずれかの存在下で、下記一般式(II)で表されるオルガノシランの加水分解物および/またはその部分縮合物の少なくとも1種と、下記一般式[1]で表される含フッ素シランカップリング剤の少なくとも1種とによって無機酸化物微粒子を表面処理する工程、及び、
(2)該表面処理に用いた分散媒を、全溶媒中のケトン系溶媒の含量を90体積%以上に増やすように溶媒置換する工程、
を含み、
該溶媒置換が無機酸化物粒子の含量が一定となるようにケトン系溶媒を添加しながら行う減圧蒸留による溶媒置換であり、
該ケトン系溶媒が、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、及びシクロヘキサノンから選ばれる溶媒である
ことを特徴とする無機酸化物微粒子分散物の製造方法。
金属キレート化合物
一般式R3OH(式中、R3は炭素数1〜10のアルキル基を示す。)で表されるアルコール及び/又は一般式R4COCH2COR5(式中、R4は炭素数1〜10のアルキル基を、R5は炭素数1〜10のアルキル基または炭素数1〜10のアルコキシ基を示す。)で表される化合物とを配位子とした、Zr、TiおよびAlから選ばれる金属を中心金属とする少なくとも1種の金属キレート化合物。
一般式(II)

Figure 0005046482

(式中、R 1 は水素原子、メチル基、メトキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、または塩素原子を表す。Yは単結合、−COO−、−CONH−又は−O−を表し、Lは2価の連結基を表す。nは0または1を表す。R 10 は置換もしくは無置換のアルキル基、無置換のアリール基を表し、Xは水酸基または加水分解可能な基を表す。)
一般式[1] (Rf−L 1 n −Si(R 11 4-n
(式中、Rfは炭素数1〜20の直鎖、分岐、環状の含フッ素アルキル基、または炭素数6〜14の含フッ素芳香族基を表す。L 1 は炭素数10以下の2価の連結基を表し、R 11 は水酸基または加水分解可能な基を表す。nは1〜3の整数を表す。)
[2]
前記一般式[1]で表される含フッ素シランカップリング剤が下記一般式[2]で表されることを特徴とする上記[1]に記載の無機酸化物微粒子分散物の製造方法。
一般式[2] Cn2n+1−(CH2m−Si(R)3
(式中、nは1〜10の整数を表し、mは1〜5の整数を表す。Rは炭素数1〜5のアルコキシ基またはハロゲン原子を表す。) As a result of intensive studies, the inventor has obtained a method for producing an inorganic oxide fine particle dispersion having the following constitution, an inorganic oxide fine particle dispersion, a coating composition, an optical film, an antireflection film, a polarizing plate, and a liquid crystal display device. It has been found that the above object of the present invention is achieved.
[1] A method for producing an inorganic oxide fine particle dispersion in which inorganic oxide fine particles are dispersed in an organic solvent, the production method comprising:
(1) An organosilane represented by the following general formula (II) in the presence of at least one of an acid catalyst and the following metal chelate compound in an alcoholic organic solvent having a ketone solvent content of 30% by volume or less . A step of surface-treating inorganic oxide fine particles with at least one of a hydrolyzate and / or a partial condensate thereof and at least one fluorine-containing silane coupling agent represented by the following general formula [1] ; and
(2) A step of replacing the dispersion medium used in the surface treatment with a solvent so that the content of the ketone solvent in all the solvents is increased to 90% by volume or more ,
Including
The solvent substitution is a solvent substitution by distillation under reduced pressure while adding a ketone solvent so that the content of inorganic oxide particles is constant,
The method for producing an inorganic oxide fine particle dispersion, wherein the ketone solvent is a solvent selected from acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, and cyclohexanone.
Metal chelate compounds (wherein, R 3 represents. An alkyl group having 1 to 10 carbon atoms) Formula R 3 OH alcohol and / or the general formula R 4 COCH 2 COR 5 (wherein represented by, R 4 is Zr, Ti, wherein the alkyl group has 1 to 10 carbon atoms, R 5 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms. And at least one metal chelate compound having a metal selected from Al as a central metal.
Formula (II)
Figure 0005046482

(In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a methyl group, a methoxy group, an alkoxycarbonyl group, a cyano group, or a chlorine atom. Y represents a single bond, —COO—, —CONH—, or —O—, and L represents Represents a divalent linking group, n represents 0 or 1. R 10 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or an unsubstituted aryl group, and X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group.
Formula [1] (Rf-L 1 ) n -Si (R 11) 4-n
(In the formula, Rf represents a linear, branched or cyclic fluorine-containing alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a fluorine-containing aromatic group having 6 to 14 carbon atoms. L 1 is a divalent divalent having 10 or less carbon atoms. Represents a linking group, R 11 represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group, and n represents an integer of 1 to 3.)
[2]
The method for producing an inorganic oxide fine particle dispersion according to the above [1], wherein the fluorine-containing silane coupling agent represented by the general formula [1] is represented by the following general formula [2].
Formula [2] C n F 2n + 1 - (CH 2) m -Si (R) 3
(In the formula, n represents an integer of 1 to 10, m represents an integer of 1 to 5. R represents an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom.)

[3]
前記無機酸化物微粒子がシリカ微粒子であることを特徴とする上記[1]又は[2]に記載の無機酸化物微粒子分散物の製造方法。
[4]
前記無機酸化物微粒子が中空のシリカ微粒子であることを特徴とする上記[1]〜[3]のいずれか一項に記載の無機酸化物微粒子分散物の製造方法。
[5]
上記[1]〜[4]のいずれか一項に記載の製造方法によって得られたことを特徴とする無機酸化物微粒子分散物。
[6]
上記[5]に記載の無機酸化物微粒子分散物と皮膜形成組成物とを含むコーティング組成物であって、該皮膜形成組成物の少なくとも1種の成分がエチレン性不飽和基を有する化合物であることを特徴とするコーティング組成物。
[7]
上記[5]に記載の無機酸化物微粒子分散物と皮膜形成組成物とを含むコーティング組成物であって、該皮膜形成組成物の主たる成分がエチレン性不飽和基を有する化合物であることを特徴とするコーティング組成物。
[8]
透明支持体上に、上記[5]または[6]に記載のコーティング組成物を用いて形成された層を有することを特徴とする光学フィルム。
[9]
前記コーティング組成物から形成された層に含有される無機酸化物微粒子が中空状粒子であり、該層の屈折率が1.20以上1.46以下であることを特徴とする上記[9]に記載の光学フィルム。
[10]
前記コーティング組成物から形成された層に含有される無機酸化物微粒子が中空のシリカ微粒子であって、該中空のシリカ微粒子の屈折率が1.17以上1.40以下であることを特徴とする上記[8]または[9]に記載の光学フィルム。
[11]
上記[8]〜[10]のいずれか一項に記載の光学フィルムが、透明支持体上に反射防止層を有する反射防止フィルムであって、低屈折率層が前記コーティング組成物を用いて形成されていることを特徴とする反射防止フィルム。
[12]
前記コーティング組成物中に含有される無機酸化物微粒子が、低屈折率層の厚みの30%以上150%以下にある中空のシリカ微粒子であることを特徴とする上記[11]に記載の反射防止フィルム。
[13]
低屈折率層が下記一般式1で表される含フッ素ポリマーを含有した塗布液から形成されたことを特徴とする、上記[11]または[12]に記載の反射防止フィルム。
[3]
The method for producing an inorganic oxide fine particle dispersion according to the above [1] or [2], wherein the inorganic oxide fine particles are silica fine particles.
[4]
The method for producing an inorganic oxide fine particle dispersion according to any one of [1] to [3] , wherein the inorganic oxide fine particles are hollow silica fine particles.
[5]
An inorganic oxide fine particle dispersion obtained by the production method according to any one of [1] to [4] above.
[6]
A coating composition comprising the inorganic oxide fine particle dispersion described in [5] above and a film-forming composition, wherein at least one component of the film-forming composition is a compound having an ethylenically unsaturated group A coating composition characterized by that.
[7]
A coating composition comprising the inorganic oxide fine particle dispersion according to the above [5] and a film-forming composition, wherein the main component of the film-forming composition is a compound having an ethylenically unsaturated group A coating composition.
[8]
An optical film comprising a layer formed using the coating composition according to the above [5] or [6] on a transparent support.
[9]
In the above [9], the inorganic oxide fine particles contained in the layer formed from the coating composition are hollow particles, and the refractive index of the layer is 1.20 or more and 1.46 or less. The optical film as described.
[10]
The inorganic oxide fine particles contained in the layer formed from the coating composition are hollow silica fine particles, and the refractive index of the hollow silica fine particles is 1.17 to 1.40. The optical film as described in [8] or [9] above.
[11]
The optical film according to any one of [8] to [10] above is an antireflection film having an antireflection layer on a transparent support, and a low refractive index layer is formed using the coating composition. An antireflection film characterized by being made.
[12]
The antireflection according to [11] , wherein the inorganic oxide fine particles contained in the coating composition are hollow silica fine particles having a thickness of 30% to 150% of the thickness of the low refractive index layer. the film.
[13]
The antireflection film as described in [11] or [12] above, wherein the low refractive index layer is formed from a coating solution containing a fluorine-containing polymer represented by the following general formula 1.

Figure 0005046482

(式中、Lは炭素数1〜10の連結基を表し、mは0または1を表す。Xは水素原子また
はメチル基を表す。Aは任意のビニルモノマーの重合単位を表し、単一成分であっても複
数の成分で構成されていてもよい。x、y、zはそれぞれの構成成分のモル%を表し、3
0≦x≦60、5≦y≦70、0≦z≦65を満たす値を表す。)
[14]
上記[8]〜[13]のいずれか一項に記載のフィルムが、偏光板における偏光子の保
護フィルムに用いられていることを特徴とする偏光板。
[15]
上記[8]〜[13]のいずれかに記載のフィルム、または上記[14]に記載の偏光
板が、ディスプレイの最表面に用いられていることを特徴とする画像表示装置。
本発明は、上記[1]〜[15]に関するものであるが、その他の事項についても参考
のために記載した。
Figure 0005046482

(Wherein L represents a linking group having 1 to 10 carbon atoms, m represents 0 or 1, X represents a hydrogen atom or a methyl group, A represents a polymerized unit of any vinyl monomer, and a single component. Or x, y, z represents the mol% of each component, and 3
It represents a value satisfying 0 ≦ x ≦ 60, 5 ≦ y ≦ 70, and 0 ≦ z ≦ 65. )
[14]
A polarizing plate, wherein the film according to any one of [8] to [13] is used as a protective film for a polarizer in a polarizing plate.
[15]
An image display device, wherein the film according to any one of [8] to [13] or the polarizing plate according to [14] is used on an outermost surface of a display.
The present invention relates to the above [1] to [15] , but other matters are also described for reference.

本発明の無機酸化物微粒子分散物は、分散安定性に優れる。本発明の無機酸化物微粒子分散物と皮膜形成組成物を含んでなるコーティング組成物から形成される光学フィルムは、ヘイズが少なく膜の耐傷性に優れている。更に、本発明の光学フィルム、特に本発明の反射防止フィルムを用いた偏光板を備えたディスプレイ装置は、外光の映り込みや背景の映りこみが少なく、極めて視認性が高い。   The inorganic oxide fine particle dispersion of the present invention is excellent in dispersion stability. An optical film formed from the coating composition comprising the inorganic oxide fine particle dispersion and the film-forming composition of the present invention has low haze and excellent film scratch resistance. Furthermore, a display device provided with a polarizing plate using the optical film of the present invention, in particular, the antireflection film of the present invention, has very little visibility of external light and background reflection, and has extremely high visibility.

以下、本発明を詳細に説明する。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「(数値1)〜(数値2)」という記載は「(数値1)以上(数値2)以下」の意味を表す。
本発明の無機酸化物微粒子分散物は、下記一般式(I)で表されるオルガノシラン化合物の加水分解物および/またはその部分縮合物によって表面処理された無機酸化物微粒子を、有機溶媒中に分散させてなる。該表面処理は、酸触媒および金属キレート化合物の少なくともいずれかの存在下で行なわれることを特徴とする。
上記表面処理は、オルガノシラン化合物と無機酸化物微粒子と必要に応じて水とを、加水分解機能を有する触媒および/または縮合機能を有する金属キレート化合物の存在下に、接触させることにより行われる。オルガノシラン化合物は、一部加水分解されていても良いし、部分縮合していても良い。オルガノシラン化合物は、加水分解に引き続いて部分縮合し、これが無機酸化物微粒子の表面を修飾することによって、分散性が向上し、安定した無機酸化物微粒子分散物が得られる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. In the present specification, when a numerical value represents a physical property value, a characteristic value, etc., the description “(numerical value 1) to (numerical value 2)” means “(numerical value 1) or more and (numerical value 2) or less”. .
The inorganic oxide fine particle dispersion of the present invention comprises an inorganic oxide fine particle surface-treated with a hydrolyzate and / or partial condensate of an organosilane compound represented by the following general formula (I) in an organic solvent. Dispersed. The surface treatment is performed in the presence of at least one of an acid catalyst and a metal chelate compound.
The surface treatment is performed by bringing an organosilane compound, inorganic oxide fine particles, and if necessary, water into contact in the presence of a catalyst having a hydrolysis function and / or a metal chelate compound having a condensation function. The organosilane compound may be partially hydrolyzed or partially condensed. The organosilane compound undergoes partial condensation subsequent to hydrolysis, which modifies the surface of the inorganic oxide fine particles, thereby improving dispersibility and obtaining a stable inorganic oxide fine particle dispersion.

一般式(I)
(R10m−Si(X)4-m
(式中、R10は置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表す。Xは水酸基または加水分解可能な基を表す。mは1〜3の整数を表す。)
Formula (I)
(R 10 ) m -Si (X) 4-m
(In the formula, R 10 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group. X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group. M represents an integer of 1 to 3.)

金属キレート化合物
一般式R3OH(式中、R3は炭素数1〜10のアルキル基を示す。)で表されるアルコールと一般式R4COCH2COR5(式中、R4は炭素数1〜10のアルキル基を、R5は炭素数1〜10のアルキル基または炭素数1〜10のアルコキシ基を示す。)で表される化合物とを配位子とした、Zr、TiおよびAlから選ばれる金属を中心金属とする少なくとも1種の金属キレート化合物。
Metal chelate compound An alcohol represented by a general formula R 3 OH (wherein R 3 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms) and a general formula R 4 COCH 2 COR 5 (wherein R 4 is the number of carbon atoms) Zr, Ti, and Al having a ligand of a compound represented by 1 to 10 alkyl groups, R 5 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms. At least one metal chelate compound having a metal selected from

[オルガノシラン化合物]
本発明のオルガノシラン化合物について詳細に説明する。
一般式(I)においてR10は、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基として好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは1〜6のものであり、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ヘキシル、t-ブチル、sec-ブチル、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
[Organosilane compound]
The organosilane compound of the present invention will be described in detail.
In the general formula (I), R 10 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group. The alkyl group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 6 carbon atoms. Methyl, ethyl, propyl, isopropyl, hexyl, t-butyl, sec-butyl, hexyl Decyl, hexadecyl and the like. Examples of the aryl group include phenyl and naphthyl, and a phenyl group is preferable.

Xは、水酸基または加水分解可能な基を表す。加水分解可能な基としては、例えばアルコキシ基(炭素数1〜5のアルコキシ基が好ましい。例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる)、ハロゲン原子(例えばCl、Br、I等)、およびR2COO(R2は水素原子または炭素数1〜5のアルキル基が好ましい。例えばCH3COO、C25COO等が挙げられる)が挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基またはエトキシ基である。
mは1〜3の整数を表す。R10もしくはXが複数存在するとき、複数のR10もしくはXはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。mとして好ましくは1または2であり、特に好ましくは1である。
X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group. Examples of the hydrolyzable group include an alkoxy group (an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, such as a methoxy group and an ethoxy group), a halogen atom (for example, Cl, Br, I and the like), and R 2. COO (R 2 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. Examples include CH 3 COO, C 2 H 5 COO, etc.), preferably an alkoxy group, particularly preferably a methoxy group. Or it is an ethoxy group.
m represents an integer of 1 to 3. When R 10 or X there are a plurality, a plurality of R 10 or X groups may be different, even the same, respectively. m is preferably 1 or 2, particularly preferably 1.

10に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基(メチル、エチル、i-プロピル、プロピル、t-ブチル等)、アリール基(フェニル、ナフチル等)、芳香族ヘテロ環基(フリル、ピラゾリル、ピリジル等)、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ、i-プロポキシ、ヘキシルオキシ等)、アリールオキシ(フェノキシ等)、アルキルチオ基(メチルチオ、エチルチオ等)、アリールチオ基(フェニルチオ等)、アルケニル基(ビニル、1-プロペニル等)、アシルオキシ基(アセトキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル基(フェノキシカルボニル等)、カルバモイル基(カルバモイル、N-メチルカルバモイル、N,N-ジメチルカルバモイル、N-メチル-N-オクチルカルバモイル等)、アシルアミノ基(アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等)等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。なお、本明細書においては、水素原子を置換するものが単一の原子であっても、便宜上置換基として取り扱う。
10が複数ある場合は、少なくとも一つが、置換アルキル基もしくは置換アリール基であることが好ましく、中でも、下記一般式(II)で表されるビニル重合性の置換基を有するオルガノシラン化合物が好ましい。
一般式(II)
The substituent contained in R 10 is not particularly limited, but is a halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.), hydroxyl group, mercapto group, carboxyl group, epoxy group, alkyl group (methyl, ethyl, i-propyl). , Propyl, t-butyl, etc.), aryl groups (phenyl, naphthyl, etc.), aromatic heterocyclic groups (furyl, pyrazolyl, pyridyl, etc.), alkoxy groups (methoxy, ethoxy, i-propoxy, hexyloxy, etc.), aryloxy (Phenoxy, etc.), alkylthio groups (methylthio, ethylthio, etc.), arylthio groups (phenylthio, etc.), alkenyl groups (vinyl, 1-propenyl, etc.), acyloxy groups (acetoxy, acryloyloxy, methacryloyloxy, etc.), alkoxycarbonyl groups (methoxy) Carbonyl, ethoxycarbonyl, etc.), aryl Ruoxycarbonyl group (phenoxycarbonyl etc.), carbamoyl group (carbamoyl, N-methylcarbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl, N-methyl-N-octylcarbamoyl etc.), acylamino group (acetylamino, benzoylamino, acrylicamino, Methacrylamino and the like, and these substituents may be further substituted. In the present specification, even if a hydrogen atom is replaced by a single atom, it is treated as a substituent for convenience.
When there are a plurality of R 10 , at least one is preferably a substituted alkyl group or a substituted aryl group, and among them, an organosilane compound having a vinyl polymerizable substituent represented by the following general formula (II) is preferable. .
Formula (II)

Figure 0005046482
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一般式(II)においてR1は、水素原子、メチル基、メトキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子または塩素原子を表す。上記アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。R1としては、水素原子、メチル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子および塩素原子が好ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子および塩素原子が更に好ましく、水素原子およびメチル基が特に好ましい。
Yは、単結合、エステル基、アミド基、エーテル基またはウレア基を表す。単結合、エステル基およびアミド基が好ましく、単結合およびエステル基が更に好ましく、エステル基が特に好ましい。
In the general formula (II), R 1 represents a hydrogen atom, a methyl group, a methoxy group, an alkoxycarbonyl group, a cyano group, a fluorine atom or a chlorine atom. Examples of the alkoxycarbonyl group include a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group. R 1 is preferably a hydrogen atom, a methyl group, a methoxy group, a methoxycarbonyl group, a cyano group, a fluorine atom or a chlorine atom, more preferably a hydrogen atom, a methyl group, a methoxycarbonyl group, a fluorine atom or a chlorine atom, And methyl groups are particularly preferred.
Y represents a single bond, an ester group, an amide group, an ether group or a urea group. Single bonds, ester groups and amide groups are preferred, single bonds and ester groups are more preferred, and ester groups are particularly preferred.

Lは、2価の連結鎖であり、具体的には、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基(例えば、エーテル、エステル、アミド)を有する置換もしくは無置換のアルキレン基、または内部に連結基を有する置換もしくは無置換のアリーレン基であり、なかでも、置換もしくは無置換の炭素数2〜10のアルキレン基、置換もしくは無置換の炭素数6〜20のアリーレン基、内部に連結基を有する炭素数3〜10のアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテル、あるいは、エステル連結基を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテル、あるいは、エステル連結基を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。   L is a divalent linking chain, specifically, a substituted or unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted arylene group, a substituted or unsubstituted group having a linking group (eg, ether, ester, amide) therein. A substituted alkylene group or a substituted or unsubstituted arylene group having a linking group therein, among which a substituted or unsubstituted alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted carbon group having 6 to 20 carbon atoms, An arylene group, an alkylene group having 3 to 10 carbon atoms having a linking group inside is preferable, an unsubstituted alkylene group, an unsubstituted arylene group, an alkylene group having an ether or ester linking group inside is more preferable, A substituted alkylene group and an alkylene group having an ether or ester linking group therein are particularly preferred. Examples of the substituent include a halogen, a hydroxyl group, a mercapto group, a carboxyl group, an epoxy group, an alkyl group, and an aryl group, and these substituents may be further substituted.

nは0または1を表す。Xが複数存在するとき、複数のXはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。nとして好ましくは0である。
10は、一般式(I)のR10と同義であり、置換もしくは無置換のアルキル基、無置換のアリール基が好ましく、無置換のアルキル基、無置換のアリール基が更に好ましい。
Xは、一般式(I)のXと同義であり、ハロゲン、水酸基、無置換のアルコキシ基が好ましく、塩素、水酸基、無置換の炭素数1〜6のアルコキシ基が更に好ましく、水酸基、炭素数1〜3のアルコキシ基が更に好ましく、メトキシ基が特に好ましい。
n represents 0 or 1. When there are a plurality of Xs, the plurality of Xs may be the same or different. n is preferably 0.
R 10 has the same meaning as R 10 in formula (I), preferably a substituted or unsubstituted alkyl group or an unsubstituted aryl group, and more preferably an unsubstituted alkyl group or an unsubstituted aryl group.
X has the same meaning as X in formula (I), preferably a halogen, a hydroxyl group or an unsubstituted alkoxy group, more preferably a chlorine, a hydroxyl group or an unsubstituted alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a hydroxyl group or a carbon number. 1-3 alkoxy groups are more preferable, and a methoxy group is particularly preferable.

一般式(I)の化合物は2種類以上を併用しても良い。以下に一般式(I)または一般式(II)で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Two or more kinds of the compounds represented by formula (I) may be used in combination. Specific examples of the compound represented by the general formula (I) or the general formula (II) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

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これらの具体例の中で、(M-1)、(M-2)、(M-25)等が特に好ましい。
本発明においては、一般式(I)または一般式(II)で表されるオルガノシラン化合物の使用量は、特に制限はないが、無機酸化物微粒子当たり1質量%〜300質量%が好ましく、更に好ましくは2質量%〜100質量%、最も好ましくは5質量%〜50質量%である。無機酸化物の表面の水酸基あたりでは1〜300モル%が好ましく、更に好ましくは5〜300モル%、最も好ましくは10〜200モル%である。オルガノシラン化合物の使用量が上記範囲であると、分散液の安定化効果が充分得られ、塗膜形成時に膜強度も大である。
Among these specific examples, (M-1), (M-2), (M-25) and the like are particularly preferable.
In the present invention, the amount of the organosilane compound represented by the general formula (I) or the general formula (II) is not particularly limited, but is preferably 1% by mass to 300% by mass with respect to the inorganic oxide fine particles. Preferably they are 2 mass%-100 mass%, Most preferably, they are 5 mass%-50 mass%. It is preferably 1 to 300 mol% per hydroxyl group on the surface of the inorganic oxide, more preferably 5 to 300 mol%, and most preferably 10 to 200 mol%. When the amount of the organosilane compound used is in the above range, a sufficient stabilizing effect of the dispersion can be obtained, and the film strength is also great when forming a coating film.

本発明において、無機酸化物微粒子は、前記オルガノシラン化合物の加水分解物および/またはその部分縮合物に加えて、少なくとも一種の、含フッ素アルキル基または含フッ素芳香族基を有する化合物で表面修飾されていることが好ましい。上記無機酸化物微粒子に含フッ素アルキル基および/または含フッ素芳香族基を有する化合物が相互作用していることが好ましく、フッ素系の界面活性剤やカップリング剤等によって化学的表面処理がなされていていることがより好ましく、フッ素系カップリング剤による表面処理がなされていることが更に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物(例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤)が好ましく用いられる。なかでも、シランカップリング剤による処理が有効であり、下記一般式[1]で表される含フッ素シランカップリング剤が特に有効である。含フッ素シランカップリング剤による表面処理においては、含フッ素シランカップリング剤由来の成分と無機酸化物微粒子との部分縮合物が形成されていることが好ましい。フッ素系のカップリング剤を使用すると、無機酸化物微粒子の溶液での安定性や塗膜中での粒子分散性が改善される。特に、下記一般式[1]で表わされる含フッ素シランカップリング剤と一般式(II)で表わされる化合物を併用すると、塗膜中での粒子の分散性と耐擦傷性に優れ好ましい。尚、一般式(I)で表わされるオルガノシラン化合物は下記一般式[1]で表わされる含フッ素シランカップリング剤であっても良く、一般式[I]で表わされる含フッ素シランカップリング剤単独での表面修飾も有効である。   In the present invention, the inorganic oxide fine particles are surface-modified with a compound having at least one fluorine-containing alkyl group or fluorine-containing aromatic group in addition to the hydrolyzate of the organosilane compound and / or the partial condensate thereof. It is preferable. It is preferable that a compound having a fluorine-containing alkyl group and / or a fluorine-containing aromatic group interacts with the inorganic oxide fine particles, and a chemical surface treatment is performed with a fluorine-based surfactant or a coupling agent. More preferably, surface treatment with a fluorine-based coupling agent is more preferable. As the coupling agent, an alkoxy metal compound (eg, titanium coupling agent, silane coupling agent) is preferably used. Of these, treatment with a silane coupling agent is effective, and a fluorine-containing silane coupling agent represented by the following general formula [1] is particularly effective. In the surface treatment with the fluorine-containing silane coupling agent, it is preferable that a partial condensate of the component derived from the fluorine-containing silane coupling agent and the inorganic oxide fine particles is formed. When a fluorine-based coupling agent is used, the stability of the inorganic oxide fine particles in the solution and the particle dispersibility in the coating film are improved. In particular, the combined use of a fluorine-containing silane coupling agent represented by the following general formula [1] and a compound represented by the general formula (II) is preferable because of excellent dispersibility of particles and scratch resistance in the coating film. The organosilane compound represented by the general formula (I) may be a fluorine-containing silane coupling agent represented by the following general formula [1], or a fluorine-containing silane coupling agent represented by the general formula [I] alone. Surface modification with is also effective.

(含フッ素シランカップリング剤)
本発明において好ましい含フッ素シランカップリング剤は下記一般式[1]で表される。
一般式[1]
(Rf−L1n−Si(R11n-4
上記式中、Rfは炭素数1〜20の直鎖、分岐、環状の含フッ素アルキル基、または炭素数6〜14の含フッ素芳香族基を表す。Rfは、炭素数3〜10の直鎖、分岐、環状のフルオロアルキル基が好ましく、炭素数4〜8の直鎖のフルオロアルキル基が更に好ましい。
1は炭素数10以下の2価の連結基を表し、好ましくは炭素数1〜10のアルキレン基、更に好ましくは炭素数1〜5のアルキレン基を表す。アルキレン基は、直鎖もしくは分岐の、置換もしくは無置換の、内部に連結基(例えば、エーテル、エステル、アミド)を有していてもよいアルキレン基である。アルキレン基は置換基を有していてもよく、その場合の好ましい置換基は、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられる。
11は水酸基または加水分解可能な基を表し、炭素数1〜5のアルコキシ基またはハロゲン原子が好ましく、メトキシ基、エトキシ基、及び塩素原子が更に好ましい。
nは1〜3の整数を表す。
(Fluorine-containing silane coupling agent)
A preferred fluorine-containing silane coupling agent in the present invention is represented by the following general formula [1].
General formula [1]
(Rf-L 1) n -Si (R 11) n-4
In the above formula, Rf represents a linear, branched or cyclic fluorinated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a fluorinated aromatic group having 6 to 14 carbon atoms. Rf is preferably a linear, branched or cyclic fluoroalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and more preferably a linear fluoroalkyl group having 4 to 8 carbon atoms.
L 1 represents a divalent linking group having 10 or less carbon atoms, preferably an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms. The alkylene group is a linear or branched, substituted or unsubstituted alkylene group that may have a linking group (for example, ether, ester, amide) inside. The alkylene group may have a substituent, and preferable substituents in that case include a halogen atom, a hydroxyl group, a mercapto group, a carboxyl group, an epoxy group, an alkyl group, and an aryl group.
R 11 represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group, preferably an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom, more preferably a methoxy group, an ethoxy group, or a chlorine atom.
n represents an integer of 1 to 3.

次に一般式[1]で表される含フッ素シランカップリング剤の中でも、下記一般式[2]で表される含フッ素シランカップリング剤が好ましい。
一般式[2]
n2n+1−(CH2m−Si(R)3
上記式中、nは1〜10の整数、mは1〜5の整数を表す。Rは炭素数1〜5のアルコキシ基またはハロゲン原子を表す。nは4〜10が好ましく、mは1〜3が好ましく、Rはメトキシ基、エトキシ基、及び塩素原子が好ましい。
Next, among the fluorine-containing silane coupling agents represented by the general formula [1], a fluorine-containing silane coupling agent represented by the following general formula [2] is preferable.
General formula [2]
C n F 2n + 1 - ( CH 2) m -Si (R) 3
In the above formula, n represents an integer of 1 to 10, and m represents an integer of 1 to 5. R represents an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom. n is preferably 4 to 10, m is preferably 1 to 3, and R is preferably a methoxy group, an ethoxy group, or a chlorine atom.

以下に、一般式[1]または[2]で表される含フッ素シランカップリング剤の具体例を示すが、これに限定されるものではない。   Specific examples of the fluorine-containing silane coupling agent represented by the general formula [1] or [2] are shown below, but are not limited thereto.

Figure 0005046482
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これらの化合物は例えば特開平11−189599に記載の方法によって合成することができる。   These compounds can be synthesized, for example, by the method described in JP-A-11-189599.

上記一般式[1]または[2]で表される含フッ素シランカップリング剤は、無機酸化物微粒子に対して1質量%〜100質量%使用することが好ましく、より好ましくは2質量%〜80質量%であり、更に好ましくは5質量%〜50質量%である。
また2種類以上の含フッ素シランカップリング剤を併用してもよく、添加量の合計が無機酸化物微粒子に対して質量1%〜100質量%であることが好ましく、より好ましくは2質量%〜80質量%であり、更に好ましくは5質量%〜50質量%である。
The fluorine-containing silane coupling agent represented by the general formula [1] or [2] is preferably used in an amount of 1% by mass to 100% by mass with respect to the inorganic oxide fine particles, and more preferably 2% by mass to 80%. It is mass%, More preferably, it is 5 mass%-50 mass%.
Two or more kinds of fluorine-containing silane coupling agents may be used in combination, and the total amount of addition is preferably 1% to 100% by mass, more preferably 2% by mass to the inorganic oxide fine particles. 80% by mass, more preferably 5% by mass to 50% by mass.

本発明において、一般式[1]または[2]で表される含フッ素シランカップリング剤と、一般式(II)で表されるオルガノシラン化合物を併用する場合の比率は、99:1〜1:99が好ましく、75:25〜5:95がより好ましく、50:50〜25:75が最も好ましい。   In the present invention, the ratio when the fluorine-containing silane coupling agent represented by the general formula [1] or [2] and the organosilane compound represented by the general formula (II) are used in combination is 99: 1 to 1. : 99 is preferable, 75:25 to 5:95 is more preferable, and 50:50 to 25:75 is most preferable.

また、本発明において複数種のオルガノシラン化合物(シランカップリング剤を含む)を用いる場合には、すべてのオルガノシラン化合物を同時に添加してもよいし、一種又は複数種を添加して反応を進行させた後に、残りの一種又は複数種を添加しても良い。またあらかじめオルガノシラン化合物だけで部分縮合物を調製してから無機酸化物微粒子に加えることも好ましい。   Moreover, when using multiple types of organosilane compounds (including a silane coupling agent) in the present invention, all of the organosilane compounds may be added simultaneously, or the reaction proceeds by adding one or more types. After the treatment, the remaining one kind or plural kinds may be added. It is also preferable to prepare a partial condensate with an organosilane compound in advance and then add it to the inorganic oxide fine particles.

上記オルガノシラン化合物を無機酸化物微粒子表面と作用させて無機酸化物微粒子の分散性を改善する。具体的には、オルガノシラン化合物の加水分解/縮合反応により無機酸化物微粒子の表面にシランカップリング剤に由来する成分が結合する。   The organosilane compound is allowed to act on the surface of the inorganic oxide fine particles to improve the dispersibility of the inorganic oxide fine particles. Specifically, components derived from the silane coupling agent are bonded to the surface of the inorganic oxide fine particles by hydrolysis / condensation reaction of the organosilane compound.

[表面処理の溶媒]
オルガノシラン化合物の加水分解物および/または縮合反応物による無機酸化物微粒子の表面処理は、無溶媒でも、溶媒中でも行うことができる。溶媒を用いる場合はオルガノシラン化合物の加水分解物および/またはその部分縮合物の濃度を適宜に定めることができる。溶媒としては成分を均一に混合するために有機溶媒を用いることが好ましく、例えばアルコール類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、エステル類などが好適である。
溶媒は、オルガノシラン化合物の加水分解物および/または縮合反応物と触媒を溶解させるものが好ましい。また、有機溶媒が塗布液あるいは塗布液の一部として用いられることが工程上好ましく、含フッ素ポリマーなどのその他の素材と混合した場合に、溶解性あるいは分散性を損なわないものが好ましい。
[Surface treatment solvent]
The surface treatment of the inorganic oxide fine particles with the hydrolyzate and / or condensation reaction product of the organosilane compound can be carried out without a solvent or in a solvent. When a solvent is used, the concentration of the hydrolyzate of the organosilane compound and / or the partial condensate thereof can be appropriately determined. As the solvent, an organic solvent is preferably used in order to uniformly mix the components. For example, alcohols, aromatic hydrocarbons, ethers, ketones, esters and the like are preferable.
The solvent is preferably a solvent that dissolves the hydrolyzate and / or condensation reaction product of the organosilane compound and the catalyst. In addition, it is preferable in the process that an organic solvent is used as a coating solution or a part of the coating solution, and those that do not impair the solubility or dispersibility when mixed with other materials such as a fluorine-containing polymer are preferable.

このうち、アルコール類としては、例えば1価アルコールまたは2価アルコールを挙げることができ、このうち1価アルコールとしては炭素数1〜8の飽和脂肪族アルコールが好ましい。これらのアルコール類の具体例としては、メタノール、エタノール、n-プロピルアルコール、i-プロピルアルコール、n-ブチルアルコール、sec -ブチルアルコール、tert-ブチルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテルなどを挙げることができる。   Among these, examples of the alcohols include monohydric alcohols and dihydric alcohols. Among these, monohydric alcohols are preferably saturated aliphatic alcohols having 1 to 8 carbon atoms. Specific examples of these alcohols include methanol, ethanol, n-propyl alcohol, i-propyl alcohol, n-butyl alcohol, sec-butyl alcohol, tert-butyl alcohol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, ethylene glycol. Examples thereof include monobutyl ether and ethylene glycol monoethyl ether acetate.

また、芳香族炭化水素類の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどを、エーテル類の具体例としては、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどを、ケトン類の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトンなどを、エステル類の具体例としては、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸プロピレンなどを挙げることができる。
これらの有機溶媒は、1種単独であるいは2種以上を併用して使用することもできる。該処理における溶媒に対するオルガノシラン化合物の濃度は特に限定されるものではないが通常0.1質量%〜70質量%の範囲であり、好ましくは1質量%〜50質量%の範囲である。
本発明においては、アルコール系溶媒で無機酸化物微粒子を分散した後に、表面処理を行い、それに引き続いて分散溶媒を芳香族炭化水素溶媒やケトン系溶媒に置換することが好ましい。塗設時に併用するバインダーとの親和性や分散物自身の安定性の向上の点から、ケトン系溶媒への置換が好ましい。無機酸化物微粒子の分散媒に用いる有機溶媒は、ケトン系溶媒の含有率が小さいことが好ましく、全溶媒中のケトン系溶媒の含有率が30体積%以下であることが好ましく、より好ましくは10体積%以下、特に好ましくは5体積%以下である。表面処理後のケトン系溶媒への置換によって、全溶媒中のケトン系溶媒の含有率が50体積%以上となることが好ましく、より好ましくは80体積%以上、特に好ましくは90体積%以上である。
Specific examples of aromatic hydrocarbons include benzene, toluene and xylene, specific examples of ethers include tetrahydrofuran and dioxane, and specific examples of ketones include acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone. Specific examples of esters such as diisobutylketone and the like include ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, and propylene carbonate.
These organic solvents can be used alone or in combination of two or more. Although the density | concentration of the organosilane compound with respect to the solvent in this process is not specifically limited, Usually, it is the range of 0.1 mass%-70 mass%, Preferably it is the range of 1 mass%-50 mass%.
In the present invention, it is preferable to disperse the inorganic oxide fine particles with an alcohol solvent and then perform a surface treatment, and subsequently replace the dispersion solvent with an aromatic hydrocarbon solvent or a ketone solvent. Substitution with a ketone solvent is preferable from the viewpoint of improving the affinity with the binder used at the time of coating and the stability of the dispersion itself. The organic solvent used for the dispersion medium of the inorganic oxide fine particles preferably has a low ketone solvent content, and preferably has a ketone solvent content of 30% by volume or less, more preferably 10%. It is not more than volume%, particularly preferably not more than 5 volume%. By substitution with a ketone solvent after the surface treatment, the content of the ketone solvent in the total solvent is preferably 50% by volume or more, more preferably 80% by volume or more, and particularly preferably 90% by volume or more. .

[表面処理の触媒]
オルガノシラン化合物の加水分解物および/または縮合反応物による無機酸化物微粒子の表面処理は、触媒の存在下で行われることが好ましい。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類;シュウ酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類;トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類;トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム等の金属アルコキシド類等が挙げられるが、無機酸化物微粒子分散物の製造安定性や保存安定性の点から、本発明においては、酸触媒(無機酸類、有機酸類)及び/又は金属キレート化合物が用いられる。無機酸では塩酸、硫酸、有機酸では、水中での酸解離定数(pKa値(25℃))が4.5以下のものが好ましく、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が3.0以下の有機酸がより好ましく、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が2.5以下の有機酸が更に好ましく、水中での酸解離定数が2.5以下の有機酸が更に好ましく、メタンスルホン酸、シュウ酸、フタル酸、マロン酸が更に好ましく、シュウ酸が特に好ましい。
[Surface treatment catalyst]
The surface treatment of the inorganic oxide fine particles with the hydrolyzate and / or condensation reaction product of the organosilane compound is preferably performed in the presence of a catalyst. Catalysts include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and nitric acid; organic acids such as oxalic acid, acetic acid, formic acid, methanesulfonic acid and toluenesulfonic acid; inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and ammonia; triethylamine, Organic bases such as pyridine; metal alkoxides such as triisopropoxyaluminum and tetrabutoxyzirconium, and the like. From the viewpoint of production stability and storage stability of the inorganic oxide fine particle dispersion, Catalysts (inorganic acids, organic acids) and / or metal chelate compounds are used. Among inorganic acids, hydrochloric acid, sulfuric acid, and organic acids preferably have an acid dissociation constant in water (pKa value (25 ° C.)) of 4.5 or less, and an acid dissociation constant in hydrochloric acid, sulfuric acid, or water of 3.0 or less. More preferred is an organic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, an organic acid having an acid dissociation constant of 2.5 or less in water is more preferred, an organic acid having an acid dissociation constant in water of 2.5 or less is more preferred, and methanesulfonic acid Further, oxalic acid, phthalic acid, and malonic acid are more preferable, and oxalic acid is particularly preferable.

オルガノシラン化合物の加水分解性基がアルコキシ基で酸触媒が有機酸の場合には、有機酸のカルボキシル基やスルホ基がプロトンを供給するために、水の添加量を減らすことができ、オルガノシラン化合物のアルコキシド基1モルに対する水の添加量は、0〜2モル、好ましくは0〜1.5モル、より好ましくは、0〜1モル、特に好ましくは、0〜0.5モルである。アルコールを溶媒に用いた場合には、実質的に水を添加しない場合も好適である。   When the hydrolyzable group of the organosilane compound is an alkoxy group and the acid catalyst is an organic acid, the amount of water added can be reduced because the carboxyl group or sulfo group of the organic acid supplies protons. The amount of water added to 1 mol of the alkoxide group of the compound is 0 to 2 mol, preferably 0 to 1.5 mol, more preferably 0 to 1 mol, and particularly preferably 0 to 0.5 mol. When alcohol is used as the solvent, it is also preferred that substantially no water is added.

酸触媒の使用量は、酸触媒が無機酸の場合には加水分解性基に対して0.01〜10モル%、好ましくは0.1〜5モル%であり、酸触媒が有機酸の場合には、水の添加量によって最適な使用量が異なるが、水を添加する場合には加水分解性基に対して0.01〜10モル%、好ましくは0.1〜5モル%であり、実質的に水を添加しない場合には、加水分解性基に対して1〜500モル%、好ましくは10〜200モル%であり、より好ましくは20〜200モル%であり、更に好ましくは50〜150モル%であり、特に好ましくは50〜120モル%である。
処理は15〜100℃で撹拌することにより行われるがオルガノシラン化合物の反応性により調節されることが好ましい。
The amount of the acid catalyst used is 0.01 to 10 mol%, preferably 0.1 to 5 mol%, based on the hydrolyzable group when the acid catalyst is an inorganic acid, and the acid catalyst is an organic acid. However, when water is added, the optimal amount of use is 0.01 to 10 mol%, preferably 0.1 to 5 mol%, based on the hydrolyzable group. When substantially no water is added, it is 1 to 500 mol%, preferably 10 to 200 mol%, more preferably 20 to 200 mol%, still more preferably 50 to 50 mol% with respect to the hydrolyzable group. 150 mol%, particularly preferably 50 to 120 mol%.
The treatment is carried out by stirring at 15 to 100 ° C., but is preferably controlled by the reactivity of the organosilane compound.

[金属キレート化合物]
金属キレート化合物は、一般式R3OH(式中、R3は炭素数1〜10のアルキル基を示す。)で表されるアルコール及び/又は一般式R4COCH2COR5(式中、R4は炭素数1〜10のアルキル基を、R5は炭素数1〜10のアルキル基または炭素数1〜10のアルコキシ基を示す。)で表される化合物とを配位子とした、Zr、TiまたはAlから選ばれる金属を中心金属とするものであれば特に制限なく好適に用いることができる。この範疇であれば、2種以上の金属キレート化合物を併用しても良い。本発明に用いられる金属キレート化合物は、一般式
Zr(OR3p1(R4COCHCOR5p2
Ti(OR3q1(R4COCHCOR5q2、および
Al(OR3r1(R4COCHCOR5r2
で表される化合物群から選ばれるものが好ましく、前記オルガノシラン化合物の縮合反応を促進する作用をなす。
金属キレート化合物中のR3およびR4は、同一または異なってもよく炭素数1〜10のアルキル基、具体的にはエチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、フェニル基などである。また、R5は、前記と同様の炭素数1〜10のアルキル基のほか、炭素数1〜10のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキシ基などである。また、金属キレート化合物中のp1、p2、q1、q2、r1およびr2は、4あるいは6座配位となるように決定される整数を表す。
[Metal chelate compounds]
The metal chelate compound is an alcohol represented by a general formula R 3 OH (wherein R 3 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms) and / or a general formula R 4 COCH 2 COR 5 (where R 3 4 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R 5 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms.) As long as a metal selected from Ti or Al is used as a central metal, it can be suitably used without any particular limitation. Within this category, two or more metal chelate compounds may be used in combination. The metal chelate compound used in the present invention has the general formula Zr (OR 3 ) p1 (R 4 COCHCOR 5 ) p2 ,
Ti (OR 3 ) q1 (R 4 COCHCOR 5 ) q2 and Al (OR 3 ) r1 (R 4 COCHCOR 5 ) r2
Are preferably selected from the group of compounds represented by the formula (I), which serve to promote the condensation reaction of the organosilane compound.
R 3 and R 4 in the metal chelate compound may be the same or different and each is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, specifically, an ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, sec -Butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, phenyl group and the like. R 5 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms as described above, or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms such as a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an i-propoxy group, and n-butoxy. Group, sec-butoxy group, t-butoxy group and the like. In addition, p1, p2, q1, q2, r1, and r2 in the metal chelate compound represent integers determined so as to be tetradentate or hexadentate.

これらの金属キレート化合物の具体例としては、トリ-n-ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジ-n-ブトキシビス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、n-ブトキシトリス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(n-プロピルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(アセチルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(エチルアセトアセテート)ジルコニウムなどのジルコニウムキレート化合物;ジイソプロポキシ・ビス(エチルアセトアセテート)チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス(アセチルアセテート)チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス(アセチルアセトン)チタニウムなどのチタニウムキレート化合物;ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチルアセトナートアルミニウム、イソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)アルミニウム、イソプロポキシビス(アセチルアセトナート)アルミニウム、トリス(エチルアセトアセテート)アルミニウム、トリス(アセチルアセトナート)アルミニウム、モノアセチルアセトナート・ビス(エチルアセトアセテート)アルミニウムなどのアルミニウムキレート化合物などが挙げられる。
これらの金属キレート化合物のうち好ましいものは、トリ-n-ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジイソプロポキシビス(アセチルアセトナート)チタニウム、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス(エチルアセトアセテート)アルミニウムである。これらの金属キレート化合物は、1種単独であるいは2種以上混合して使用することができる。また、これらの金属キレート化合物の部分加水分解物を使用することもできる。
Specific examples of these metal chelate compounds include tri-n-butoxyethylacetoacetate zirconium, di-n-butoxybis (ethylacetoacetate) zirconium, n-butoxytris (ethylacetoacetate) zirconium, tetrakis (n-propylacetate). Zirconium chelate compounds such as acetate) zirconium, tetrakis (acetylacetoacetate) zirconium, tetrakis (ethylacetoacetate) zirconium; diisopropoxy bis (ethylacetoacetate) titanium, diisopropoxy bis (acetylacetate) titanium, diiso Titanium chelate compounds such as propoxy bis (acetylacetone) titanium; diisopropoxyethyl acetoacetate aluminum, diisopropoxy Cetylacetonate aluminum, isopropoxybis (ethylacetoacetate) aluminum, isopropoxybis (acetylacetonate) aluminum, tris (ethylacetoacetate) aluminum, tris (acetylacetonato) aluminum, monoacetylacetonate bis (ethylacetate) And aluminum chelate compounds such as acetate) aluminum.
Among these metal chelate compounds, tri-n-butoxyethyl acetoacetate zirconium, diisopropoxybis (acetylacetonato) titanium, diisopropoxyethyl acetoacetate aluminum, and tris (ethyl acetoacetate) aluminum are preferable. These metal chelate compounds can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types. Moreover, the partial hydrolyzate of these metal chelate compounds can also be used.

本発明の金属キレート化合物は、縮合反応の速度および塗膜にした場合の膜強度の観点から、オルガノシラン化合物に対し、好ましくは、0.01〜50質量%、より好ましくは、0.1〜50質量%、さらに好ましくは、0.5〜10質量%の割合で用いられる。   The metal chelate compound of the present invention is preferably from 0.01 to 50% by mass, more preferably from 0.1 to 50% by mass, based on the organosilane compound, from the viewpoint of the speed of the condensation reaction and the film strength when it is used as a coating film. It is used in a proportion of 50% by mass, more preferably 0.5 to 10% by mass.

[分散液の安定化添加剤]
本発明の分散物またはコーティング組成物には、上記オルガノシラン化合物および酸触媒及び/またはキレート化合物に加えて、下記(c)成分が添加されることが好ましい。以下に、(c)成分をさらに説明する。本発明で使用される(c)成分は、一般式R4COCH2COR5で表されるβ−ジケトン化合物および/またはβ−ケトエステル化合物であり、本発明の分散物またはコーティング組成物の安定性向上剤として作用するものである。すなわち、前記金属キレート化合物(ジルコニウム、チタニウムおよび/またはアルミニウム化合物)中の金属原子に配位することにより、これらの金属キレート化合物によるオルガノシラン化合物と金属キレート成分の縮合反応を促進する作用を抑制し、得られる組成物の保存安定性を向上させる作用をなすものと考えられる。(c)成分を構成するR4およびR5は、前記金属キレート化合物を構成するR4およびR5と同様である。
[Dispersion stabilization additive]
In addition to the organosilane compound and acid catalyst and / or chelate compound, the following component (c) is preferably added to the dispersion or coating composition of the present invention. Hereinafter, the component (c) will be further described. The component (c) used in the present invention is a β-diketone compound and / or β-ketoester compound represented by the general formula R 4 COCH 2 COR 5 , and the stability of the dispersion or coating composition of the present invention It acts as an improver. That is, by coordinating to the metal atom in the metal chelate compound (zirconium, titanium and / or aluminum compound), the action of promoting the condensation reaction of the organosilane compound and the metal chelate component by these metal chelate compounds is suppressed. Therefore, it is considered that the resulting composition improves the storage stability. R 4 and R 5 constituting the component (c) is the same as R 4 and R 5 constituting the metal chelate compound.

この(c)成分のβ-ジケトン化合物および/またはβ-ケトエステル化合物の具体例としては、アセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸-n-プロピル、アセト酢酸-i-プロピル、アセト酢酸-n-ブチル、アセト酢酸-sec-ブチル、アセト酢酸-t-ブチル、2,4-ヘキサン-ジオン、2,4-ヘプタン-ジオン、3,5-ヘプタン-ジオン、2,4-オクタン-ジオン、2,4-ノナン-ジオン、5-メチル-ヘキサン-ジオンなどを挙げることができる。これらのうち、アセト酢酸エチルおよびアセチルアセトンが好ましく、特にアセチルアセトンが好ましい。これらのβ-ジケトン化合物および/またはβ-ケトエステル化合物は、1種単独でまたは2種以上を混合して使用することもできる。本発明において(c)成分のβ-ジケトン化合物および/またはβ-ケトエステル化合物は、金属キレート化合物1モルに対し好ましくは2モル以上、より好ましくは3〜20モル用いられる。2モル未満では得られる組成物の保存安定性に劣るおそれがあり好ましいものではない。   Specific examples of the (c) component β-diketone compound and / or β-ketoester compound include acetylacetone, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, acetoacetate-n-propyl, acetoacetate-i-propyl, acetoacetate- n-butyl, acetoacetate-sec-butyl, acetoacetate-t-butyl, 2,4-hexane-dione, 2,4-heptane-dione, 3,5-heptane-dione, 2,4-octane-dione, Examples include 2,4-nonane-dione, 5-methyl-hexane-dione, and the like. Of these, ethyl acetoacetate and acetylacetone are preferred, and acetylacetone is particularly preferred. These β-diketone compounds and / or β-ketoester compounds may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, the β-diketone compound and / or β-ketoester compound as the component (c) is preferably used in an amount of 2 mol or more, more preferably 3 to 20 mol, per 1 mol of the metal chelate compound. If it is less than 2 mol, the storage stability of the resulting composition may be inferior, which is not preferable.

[無機酸化物微粒子]
続いて本発明に用いることのできる無機酸化物微粒子について説明する。
無機酸化物微粒子は、得られる硬化性組成物の硬化皮膜の無色性の観点から、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタニウム、亜鉛、ゲルマニウム、インジウム、スズ、アンチモンおよびセリウムよりなる群から選ばれる少なくとも一つの元素の酸化物微粒子であることが好ましい。
[Inorganic oxide fine particles]
Next, inorganic oxide fine particles that can be used in the present invention will be described.
The inorganic oxide fine particles are at least one selected from the group consisting of silicon, aluminum, zirconium, titanium, zinc, germanium, indium, tin, antimony and cerium from the viewpoint of the colorlessness of the cured film of the resulting curable composition. Elemental oxide fine particles are preferred.

これらの無機酸化物微粒子としては、例えば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、インジウムスズ酸化物(ITO)、酸化アンチモン、酸化セリウム等の粒子を挙げることができる。中でも、高硬度の観点から、シリカ、アルミナ、ジルコニアおよび酸化アンチモンの粒子が好ましい。これらは単独でまたは2種以上を組合わせて用いることができる。本発明の無機酸化物微粒子分散物は、表面を修飾した上記の無機酸化物微粒子を有機溶媒中に分散させて得られる。無機酸化物微粒子は、分散媒中に分散させた状態で、その表面を修飾することが好ましい。他の成分との相溶性、分散性の観点から、分散媒は有機溶剤であることが好ましく、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド類を挙げることができる。中でも、メタノール、イソプロパノール、ブタノール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、キシレンが好ましい。   Examples of these inorganic oxide fine particles include particles of silica, alumina, zirconia, titanium oxide, zinc oxide, germanium oxide, indium oxide, tin oxide, indium tin oxide (ITO), antimony oxide, cerium oxide, and the like. be able to. Of these, particles of silica, alumina, zirconia and antimony oxide are preferred from the viewpoint of high hardness. These can be used alone or in combination of two or more. The inorganic oxide fine particle dispersion of the present invention is obtained by dispersing the above-mentioned inorganic oxide fine particles having a modified surface in an organic solvent. The surface of the inorganic oxide fine particles is preferably modified while being dispersed in a dispersion medium. From the viewpoint of compatibility with other components and dispersibility, the dispersion medium is preferably an organic solvent, for example, alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, and octanol; acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone. Ketones such as ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, γ-butyrolactone, esters such as propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monoethyl ether acetate; ethers such as ethylene glycol monomethyl ether and diethylene glycol monobutyl ether; benzene, Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; and amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide, and N-methylpyrrolidone. Of these, methanol, isopropanol, butanol, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, butyl acetate, toluene and xylene are preferred.

酸化物微粒子の数平均粒子径は、1nm〜2000nmが好ましく、3nm〜200nmがさらに好ましく、5nm〜100nmが特に好ましい。数平均粒子径が2000μmを超えると、硬化物としたときの透明性が低下したり、皮膜としたときの表面状態が悪化する傾向がある。また、粒子の分散性を改良するために各種の界面活性剤やアミン類を添加してもよい。   The number average particle diameter of the oxide fine particles is preferably 1 nm to 2000 nm, more preferably 3 nm to 200 nm, and particularly preferably 5 nm to 100 nm. When the number average particle diameter exceeds 2000 μm, the transparency when cured is reduced, and the surface state when the film is formed tends to be deteriorated. Various surfactants and amines may be added to improve the dispersibility of the particles.

ケイ素酸化物微粒子分散液(例えば、シリカ粒子)として市販されている商品としては、例えば、コロイダルシリカとして、日産化学工業(株)製メタノ−ルシリカゾル、MA−ST−MS、IPA−ST、IPA−ST−MS、IPA−ST−L、IPA−ST−ZL、IPA−ST−UP、EG−ST、NPC−ST−30、MEK−ST、MEK−ST−L、MIBK−ST、NBA−ST、XBA−ST、DMAC−ST、ST−UP、ST−OUP、ST−20、ST−40、ST−C、ST−N、ST−O、ST−50、ST−OL等、触媒化成工業(株)製中空シリカCS60-IPA等を挙げることができる。また粉体シリカとしては、日本アエロジル(株)製アエロジル130、アエロジル300、アエロジル380、アエロジルTT600、アエロジルOX50、旭硝子(株)製シルデックスH31、H32、H51、H52、H121、H122、日本シリカ工業(株)製E220A、E220、富士シリシア(株)製SYLYSIA470、日本板硝子(株)製SGフレ−ク等を挙げることができる。   Examples of products that are commercially available as silicon oxide fine particle dispersions (for example, silica particles) include colloidal silica, methanol silica sol manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., MA-ST-MS, IPA-ST, IPA- ST-MS, IPA-ST-L, IPA-ST-ZL, IPA-ST-UP, EG-ST, NPC-ST-30, MEK-ST, MEK-ST-L, MIBK-ST, NBA-ST, XBA-ST, DMAC-ST, ST-UP, ST-OUP, ST-20, ST-40, ST-C, ST-N, ST-O, ST-50, ST-OL, etc. ) Hollow silica CS60-IPA and the like. As powder silica, Aerosil 130, Aerosil 300, Aerosil 380, Aerosil TT600, Aerosil OX50, Silex H31, H32, H51, H52, H121, H122, Asahi Glass Co., Ltd. Examples include E220A and E220 manufactured by Fuji Electric, SYLYSIA470 manufactured by Fuji Silysia Co., Ltd., SG flake manufactured by Nippon Sheet Glass Co., Ltd., and the like.

また、アルミナの水分散品としては、日産化学工業(株)製アルミナゾル−100、−200、−520;アルミナのイソプロパノール分散品としては、住友大阪セメント(株)製AS−150I;アルミナのトルエン分散品としては、住友大阪セメント(株)製AS−150T;ジルコニアのトルエン分散品としては、住友大阪セメント(株)製HXU−110JC;アンチモン酸亜鉛粉末の水分散品としては、日産化学工業(株)製セルナックス;アルミナ、酸化チタン、酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛等の粉末および溶剤分散品としては、シーアイ化成(株)製ナノテック;アンチモンドープ酸化スズの水分散ゾルとしては、石原産業(株)製SN−100D;ITO粉末としては、三菱マテリアル(株)製の製品;酸化セリウム水分散液としては、多木化学(株)製ニードラール等を挙げることができる。   Moreover, as an aqueous dispersion product of alumina, Nissan Chemical Industries, Ltd. alumina sol-100, -200, -520; As an alumina isopropanol dispersion product, Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. AS-150I; AS-150T manufactured by Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd .; HXU-110JC manufactured by Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. as a toluene dispersion of zirconia; ) Celnax; Alumina, Titanium oxide, Tin oxide, Indium oxide, Zinc oxide, etc. Powder and solvent dispersion products are nanotech made by CI Kasei Co., Ltd .; SN-100D, manufactured by Mitsubishi Materials Corporation, and ITO The aqueous dispersion, mention may be made of Taki Chemical Co., Ltd. Nidoraru like.

酸化物微粒子の形状は、球状、中空状、多孔質状、棒状、板状、繊維状、または不定形状であり、好ましくは、球状または中空状である。中空状のシリカ粒子については後述する。酸化物微粒子の比表面積(窒素を用いたBET比表面積測定法による)は、好ましくは、10〜1000m2/gであり、さらに好ましくは、100〜500m2/gである。これら無機酸化物微粒子は、乾燥状態の粉末を有機溶媒に分散することもできるが、例えば上記の酸化物の溶剤分散ゾルとして当業界に知られている微粒子状の酸化物微粒子の分散液を直接用いることができる。 The shape of the oxide fine particles is spherical, hollow, porous, rod-like, plate-like, fibrous, or indefinite, and preferably spherical or hollow. The hollow silica particles will be described later. The specific surface area of the oxide fine particles (by the BET specific surface area measurement method using nitrogen) is preferably 10 to 1000 m 2 / g, and more preferably 100 to 500 m 2 / g. These inorganic oxide fine particles can be obtained by dispersing a dry powder in an organic solvent. For example, a fine particle dispersion of oxide fine particles known in the art as a solvent dispersion sol of the above oxide is directly used. Can be used.

[分散方法]
本発明の無機酸化物微粒子を粉体から溶媒中に分散して調製するには、分散剤を用いることもできる。本発明においては、アニオン性基を有する分散剤を用いることが好ましい。
アニオン性基としては、カルボキシル基、スルホン酸基(スルホ)、リン酸基(ホスホノ)、スルホンアミド基等の酸性プロトンを有する基、またはその塩が有効であり、特にカルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基またはその塩が好ましく、カルボキシル基、リン酸基が特に好ましい。分散性をさらに改良する目的でアニオン性基は複数個が含有されていてもよい。平均で2個以上であることが好ましく、より好ましくは5個以上、特に好ましくは10個以上である。また、分散剤に含有されるアニオン性基は、1分子中に複数種類が含有されていてもよい。
分散剤は、さらに架橋又は重合性官能基を含有することもできる。架橋又は重合性官能基としては、ラジカル種による付加反応・重合反応が可能なエチレン性不飽和基(例えば(メタ)アクリロイル基、アリル基、スチリル基、ビニルオキシ基等)、カチオン重合性基(エポキシ基、オキサタニル基、ビニルオキシ基等)、重縮合反応性基(加水分解性シリル基等、N−メチロール基)等が挙げられ、好ましくはエチレン性不飽和基を有する官能基である。
本発明においては、無機酸化物微粒子を粉砕するのに分散機を用いることができる。分散機の例には、サンドグラインダーミル(例、ピン付きビーズミル)、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライターおよびコロイドミルが含まれる。サンドグラインダーミルおよび高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例には、ボールミル、三本ロールミル、ニーダーおよびエクストルーダーが含まれる。
[Distribution method]
In order to prepare the inorganic oxide fine particles of the present invention by dispersing them from a powder in a solvent, a dispersant can also be used. In the present invention, it is preferable to use a dispersant having an anionic group.
As the anionic group, a group having an acidic proton such as a carboxyl group, a sulfonic acid group (sulfo), a phosphoric acid group (phosphono), a sulfonamide group, or a salt thereof is effective, and in particular, a carboxyl group, a sulfonic acid group, A phosphoric acid group or a salt thereof is preferable, and a carboxyl group and a phosphoric acid group are particularly preferable. A plurality of anionic groups may be contained for the purpose of further improving dispersibility. The average number is preferably 2 or more, more preferably 5 or more, and particularly preferably 10 or more. Moreover, the anionic group contained in a dispersing agent may contain multiple types in 1 molecule.
The dispersant may further contain a crosslinking or polymerizable functional group. Crosslinkable or polymerizable functional groups include ethylenically unsaturated groups (for example, (meth) acryloyl groups, allyl groups, styryl groups, vinyloxy groups, etc.) that can undergo addition reactions and polymerization reactions with radical species, and cationic polymerizable groups (epoxies). Groups, oxatanyl groups, vinyloxy groups, etc.), polycondensation reactive groups (hydrolyzable silyl groups, etc., N-methylol groups) and the like, and functional groups having an ethylenically unsaturated group are preferred.
In the present invention, a disperser can be used to grind the inorganic oxide fine particles. Examples of dispersers include sand grinder mills (eg, pinned bead mills), high speed impeller mills, pebble mills, roller mills, attritors and colloid mills. A sand grinder mill and a high-speed impeller mill are particularly preferred. Further, preliminary dispersion processing may be performed. Examples of the disperser used for the preliminary dispersion treatment include a ball mill, a three-roll mill, a kneader, and an extruder.

以上説明した本発明の無機酸化物微粒子の有機溶媒分散物を用いて微粒子成分とし、皮膜形成組成物と組み合わせてコーティング組成物となし、この組成物から光学フィルムの各層を形成することができる。特に、反射防止フィルムの低屈折率層を形成するのに好適である。   The organic oxide dispersion of the inorganic oxide fine particles of the present invention described above is used as a fine particle component, which is combined with the film forming composition to form a coating composition, and each layer of the optical film can be formed from this composition. In particular, it is suitable for forming a low refractive index layer of an antireflection film.

[光学フィルムの層構成]
本発明の光学フィルムは、透明基材(以後、基材フィルムと称することもある)上に、少なくとも一層の機能層を有し、該機能層の少なくとも一層が、本発明のコーティング組成物から形成されていることが好ましい。
ここでいう機能層とは、例えば、帯電防止層、ハードコート層、反射防止層、防眩層、光学補償層、配向層、液晶層等が挙げられ、中でも、本発明の反射防止フィルムは、透明基材上に、必要に応じて後述のハードコート層を有し、その上に、光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数及び層順等を考慮して積層された反射防止層を有する。
反射防止フィルムの最も単純な構成は、基材上に低屈折率層のみからなる反射防止層を塗設したものである。更に反射率を低下させるには、反射防止層を、基材よりも屈折率の高い高屈折率層と、基材よりも屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて構成することが好ましい。構成例としては、基材側から高屈折率層/低屈折率層の2層のものや、屈折率の異なる3層を、中屈折率層(基材またはハードコート層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層)/高屈折率層/低屈折率層の順に積層されているもの等があり、更に多くの反射防止層を積層するものも提案されている。中でも、耐久性、光学特性、コストや生産性等から、ハードコート層を有する基材上に、中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層の順に積層されているものが好ましい。また、本発明の反射防止フィルムは防眩性層や帯電防止層等を有していてもよい。
[Layer structure of optical film]
The optical film of the present invention has at least one functional layer on a transparent substrate (hereinafter also referred to as a substrate film), and at least one of the functional layers is formed from the coating composition of the present invention. It is preferable that
Examples of the functional layer herein include an antistatic layer, a hard coat layer, an antireflection layer, an antiglare layer, an optical compensation layer, an alignment layer, and a liquid crystal layer. On the transparent substrate, if necessary, it has a hard coat layer which will be described later. It has a laminated antireflection layer.
The simplest structure of the antireflection film is obtained by coating an antireflection layer consisting of only a low refractive index layer on a substrate. In order to further reduce the reflectance, the antireflection layer is preferably constituted by combining a high refractive index layer having a higher refractive index than that of the base material and a low refractive index layer having a lower refractive index than that of the base material. Examples of configurations include two layers of a high refractive index layer / low refractive index layer from the base material side, and three layers having different refractive indices, a medium refractive index layer (having a higher refractive index than the base material or the hard coat layer , A layer having a refractive index lower than that of a high refractive index layer) / a layer having a high refractive index / a layer having a low refractive index, and the like. Among these, in view of durability, optical characteristics, cost, productivity, and the like, those laminated in the order of medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer on a substrate having a hard coat layer are preferable. Further, the antireflection film of the present invention may have an antiglare layer, an antistatic layer or the like.

本発明の低反射積層体の好ましい層構成の例を下記に示す。
基材フィルム/低屈折率層、
基材フィルム/防眩層/低屈折率層、
基材フィルム/ハードコート層/防眩層/低屈折率層、
基材フィルム/ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層、
基材フィルム/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層、
基材フィルム/防眩層/高屈折率層/低屈折率層、
基材フィルム/防眩層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層、
基材フィルム/帯電防止層/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層、
帯電防止層/基材フィルム/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層、
基材フィルム/帯電防止層/防眩層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層、
帯電防止層/基材フィルム/防眩層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層、
帯電防止層/基材フィルム/防眩層/高屈折率層/低屈折率層/高屈折率層/低屈折率
層、
光学干渉により反射率を低減できるものであれば、特にこれらの層構成のみに限定されるものではない。高屈折率層は防眩性のない光拡散性層であってもよい。また、帯電防止層は導電性ポリマー粒子または金属酸化物微粒子(例えば、SnO2、ITO)を含む層であることが好ましく、塗布または大気圧プラズマ処理等によって設けることができる。
Examples of preferred layer configurations of the low reflection laminate of the present invention are shown below.
Base film / low refractive index layer,
Base film / antiglare layer / low refractive index layer,
Base film / hard coat layer / antiglare layer / low refractive index layer,
Base film / hard coat layer / high refractive index layer / low refractive index layer,
Base film / hard coat layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer,
Base film / antiglare layer / high refractive index layer / low refractive index layer,
Base film / antiglare layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer,
Base film / antistatic layer / hard coat layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer,
Antistatic layer / base film / hard coat layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer,
Base film / antistatic layer / antiglare layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer,
Antistatic layer / base film / antiglare layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer,
Antistatic layer / base film / antiglare layer / high refractive index layer / low refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer,
As long as the reflectance can be reduced by optical interference, it is not limited to these layer configurations. The high refractive index layer may be a light diffusing layer having no antiglare property. The antistatic layer is preferably a layer containing conductive polymer particles or metal oxide fine particles (for example, SnO 2 , ITO), and can be provided by coating or atmospheric pressure plasma treatment.

[皮膜形成バインダー]
本発明のコーティング組成物において、皮膜形成組成物の少なくとも一種の成分がエチレン性不飽和基を有する化合物であることが好ましい。特に本発明では、皮膜強度、塗布液の安定性、塗膜の生産性などの観点から、皮膜形成組成物の主たる皮膜形成バインダー成分が、エチレン性不飽和基を有する化合物であることがより好ましい。主たる皮膜形成バインダーとは、無機粒子を除く皮膜形成成分のうち10質量%以上をしめるものをいう。好ましくは、20質量%以上100質量%以下、更に好ましくは30質量%以上95%以下である。
皮膜形成バインダーは、飽和炭化水素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの(共)重合体が好ましい。
さらに高屈折率にするには、このモノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、及び窒素原子から選ばれた少なくとも1種の原子を含むことが好ましい。
[Film-forming binder]
In the coating composition of the present invention, it is preferable that at least one component of the film-forming composition is a compound having an ethylenically unsaturated group. Particularly in the present invention, from the viewpoints of film strength, coating solution stability, coating film productivity, and the like, the main film-forming binder component of the film-forming composition is more preferably a compound having an ethylenically unsaturated group. . The main film-forming binder refers to one that accounts for 10% by mass or more of the film-forming components excluding inorganic particles. Preferably, they are 20 mass% or more and 100 mass% or less, More preferably, they are 30 mass% or more and 95% or less.
The film-forming binder is preferably a polymer having a saturated hydrocarbon chain or a polyether chain as a main chain, and more preferably a polymer having a saturated hydrocarbon chain as a main chain. As the binder polymer having a saturated hydrocarbon chain as the main chain and having a crosslinked structure, a (co) polymer of monomers having two or more ethylenically unsaturated groups is preferable.
In order to further increase the refractive index, the monomer structure preferably contains an aromatic ring or at least one atom selected from halogen atoms other than fluorine, sulfur atoms, phosphorus atoms, and nitrogen atoms.

二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル(例、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート)、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート)、ビニルベンゼンおよびその誘導体(例、1,4−ジビニルベンゼン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエステル、1,4−ジビニルシクロヘキサノン)、ビニルスルホン(例、ジビニルスルホン)、アクリルアミド(例、メチレンビスアクリルアミド)およびメタクリルアミドが挙げられる。上記モノマーは2種以上併用してもよい。尚、本明細書においては、「(メタ)アクリレート」は「アクリレート又はメタクリレート」を表す。   Examples of the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups include esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid (eg, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-cyclohexanediacrylate, pentaerythritol tetra ( (Meth) acrylate), pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, di Pentaerythritol hexa (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexanetetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polymer Acrylate), vinylbenzene and its derivatives (eg, 1,4-divinylbenzene, 4-vinylbenzoic acid-2-acryloylethyl ester, 1,4-divinylcyclohexanone), vinylsulfone (eg, divinylsulfone), acrylamide (eg, , Methylenebisacrylamide) and methacrylamide. Two or more of these monomers may be used in combination. In the present specification, “(meth) acrylate” represents “acrylate or methacrylate”.

高屈折率モノマーの具体例としては、ビス(4−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、4−メタクリロキシフェニル−4'−メトキシフェニルチオエーテル等が挙げられる。これらのモノマーも2種以上併用してもよい。   Specific examples of the high refractive index monomer include bis (4-methacryloylthiophenyl) sulfide, vinyl naphthalene, vinyl phenyl sulfide, 4-methacryloxyphenyl-4′-methoxyphenyl thioether, and the like. Two or more of these monomers may be used in combination.

これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。   Polymerization of the monomer having an ethylenically unsaturated group can be performed by irradiation with ionizing radiation or heating in the presence of a photo radical initiator or a thermal radical initiator.

光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類が挙げられる。アセトフェノン類の例には、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、1−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−4−メチルチオ−2−モルフォリノプロピオフェノンおよび2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、2,4−ジクロロベンゾフェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノンおよびp−クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
最新UV硬化技術(P.159,発行人;高薄一弘,発行所;(株)技術情報協会,1991年発行)にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、日本チバガイギー(株)製のイルガキュア(651,184,907)等が好ましい例として挙げられる。
光重合開始剤は、多官能モノマー100質量部に対して、0.1〜15質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは1〜10質量部の範囲である。
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンを挙げることができる。
Photo radical polymerization initiators include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds And fluoroamine compounds and aromatic sulfoniums. Examples of acetophenones include 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-hydroxydimethylphenyl ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-4-methylthio-2-morpholinopropiophenone and 2 -Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone is included. Examples of benzoins include benzoin benzene sulfonate, benzoin toluene sulfonate, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin isopropyl ether. Examples of the benzophenones include benzophenone, 2,4-dichlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone and p-chlorobenzophenone. Examples of phosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide.
Various examples are described in the latest UV curing technology (P.159, issuer; Kazuhiro Takashiro, publisher; Technical Information Association, Inc., published in 1991), which is useful for the present invention.
Preferable examples of commercially available photocleavable photoradical polymerization initiators include Irgacure (651, 184, 907) manufactured by Nippon Ciba-Geigy Co., Ltd.
It is preferable to use a photoinitiator in the range of 0.1-15 mass parts with respect to 100 mass parts of polyfunctional monomers, More preferably, it is the range of 1-10 mass parts.
In addition to the photopolymerization initiator, a photosensitizer may be used. Specific examples of the photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, Michler's ketone and thioxanthone.

熱ラジカル開始剤としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として2−アゾ−ビス−イソブチロニトリル、2−アゾ−ビス−プロピオニトリル、2−アゾ−ビス−シクロヘキサンジニトリル等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、p−ニトロベンゼンジアゾニウム等を挙げることができる。
As the thermal radical initiator, organic or inorganic peroxides, organic azo, diazo compounds, and the like can be used.
Specifically, benzoyl peroxide, halogen benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, acetyl peroxide, dibutyl peroxide, cumene hydroperoxide, butyl hydroperoxide as organic peroxides, hydrogen peroxide, peroxides as inorganic peroxides. Ammonium sulfate, potassium persulfate, etc., 2-azo-bis-isobutyronitrile, 2-azo-bis-propionitrile, 2-azo-bis-cyclohexanedinitrile, etc. as diazo compounds, diazoaminobenzene, p -Nitrobenzenediazonium etc. can be mentioned.

本発明においては皮膜形成バインダーとして、ポリエーテルを主鎖として有するポリマーを使用することもできる。該皮膜形成バインダーは、多官能エポキシ化合物の開環重合体であることが好ましい。多官能エポキシ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。   In the present invention, a polymer having a polyether as a main chain can also be used as a film-forming binder. The film-forming binder is preferably a ring-opening polymer of a polyfunctional epoxy compound. The ring-opening polymerization of the polyfunctional epoxy compound can be performed by irradiation with ionizing radiation or heating in the presence of a photoacid generator or a thermal acid generator.

二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりにまたはそれに加えて、架橋性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。
これら架橋性官能基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。
Instead of or in addition to a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups, a monomer having a crosslinkable functional group is used to introduce a crosslinkable functional group into the polymer, and by reaction of this crosslinkable functional group, A crosslinked structure may be introduced into the binder polymer.
Examples of the crosslinkable functional group include isocyanate group, epoxy group, aziridine group, oxazoline group, aldehyde group, carbonyl group, hydrazine group, carboxyl group, methylol group and active methylene group. Vinylsulfonic acid, acid anhydride, cyanoacrylate derivative, melamine, etherified methylol, ester and urethane, and metal alkoxide such as tetramethoxysilane can also be used as a monomer for introducing a crosslinked structure. A functional group that exhibits crosslinkability as a result of the decomposition reaction, such as a block isocyanate group, may be used. That is, in the present invention, the crosslinkable functional group may not react immediately but may exhibit reactivity as a result of decomposition.
These binder polymers having a crosslinkable functional group can form a crosslinked structure by heating after coating.

以下、反射防止フィルムを例に、本発明の光学フィルムについて説明する。
[低屈折率層用材料]
低屈折率層は、本発明のコーティング組成物を用いて形成されることが好ましい。
低屈折率層は、含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位および側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する繰返し単位を必須の構成成分とする共重合体の硬化皮膜によって形成されるのが好ましい。該共重合体由来の成分は皮膜固形分の60質量%以上を占めることが好ましく、70質量%以上を占めることがより好ましく、80質量%以上を占めることが特に好ましい。低屈折率化と皮膜硬度の両立の観点から多官能(メタ)アクリレート等の硬化剤も相溶性を損なわない範囲の添加量で好ましく用いられる。
Hereinafter, the optical film of the present invention will be described using an antireflection film as an example.
[Material for low refractive index layer]
The low refractive index layer is preferably formed using the coating composition of the present invention.
The low refractive index layer is preferably formed by a cured film of a copolymer having a repeating unit derived from a fluorine-containing vinyl monomer and a repeating unit having a (meth) acryloyl group in the side chain as essential constituent components. The copolymer-derived component preferably occupies 60% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, and particularly preferably 80% by mass or more. From the viewpoint of achieving both low refractive index and film hardness, a curing agent such as polyfunctional (meth) acrylate is also preferably used in an addition amount within a range that does not impair the compatibility.

低屈折率層の屈折率は、1.20〜1.46であることが好ましく、1.25〜1.46であることがより好ましく、1.30〜1.46であることが特に好ましい。
低屈折率層の厚さは、50〜200nmであることが好ましく、70〜100nmであることがさらに好ましい。低屈折率層のヘイズは、3%以下であることが好ましく、2%以下であることがさらに好ましく、1%以下であることが最も好ましい。具体的な低屈折率層の強度は、500g荷重の鉛筆硬度試験でH以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。
また、光学フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が90゜以上であることが好ましい。更に好ましくは95゜以上であり、特に好ましくは100゜以上である。
The refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.20 to 1.46, more preferably 1.25 to 1.46, and particularly preferably 1.30 to 1.46.
The thickness of the low refractive index layer is preferably 50 to 200 nm, and more preferably 70 to 100 nm. The haze of the low refractive index layer is preferably 3% or less, more preferably 2% or less, and most preferably 1% or less. The specific strength of the low refractive index layer is preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and most preferably 3H or higher in a pencil hardness test under a 500 g load.
In order to improve the antifouling performance of the optical film, it is preferable that the contact angle of the surface with respect to water is 90 ° or more. More preferably, it is 95 ° or more, and particularly preferably 100 ° or more.

以下に本発明の低屈性率層に好ましく用いられる共重合体について説明する。
含フッ素ビニルモノマーとしてはフルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン等)、(メタ)アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えばビスコート6FM(商品名、大阪有機化学製)やR−2020(商品名、ダイキン製)等)、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。これらの含フッ素ビニルモノマーの組成比を上げれば屈折率を下げることができるが、皮膜強度は低下する。本発明では共重合体のフッ素含率が20〜60質量%となるように含フッ素ビニルモノマーを導入することが好ましく、より好ましくは25〜55質量%の場合であり、特に好ましくは30〜50質量%の場合である。
The copolymer preferably used for the low refractive index layer of the present invention will be described below.
Examples of the fluorine-containing vinyl monomer include fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, etc.), (meth) acrylic acid moieties or fully fluorinated alkyl ester derivatives (for example, biscoat 6FM (trade name) , Osaka Organic Chemical Co., Ltd.) and R-2020 (trade name, manufactured by Daikin Co., Ltd.), fully or partially fluorinated vinyl ethers, and the like. Preferred are perfluoroolefins, refractive index, solubility, and transparency. From the viewpoint of availability, hexafluoropropylene is particularly preferable. Increasing the composition ratio of these fluorinated vinyl monomers can lower the refractive index but lowers the film strength. In the present invention, the fluorine-containing vinyl monomer is preferably introduced so that the fluorine content of the copolymer is 20 to 60% by mass, more preferably 25 to 55% by mass, and particularly preferably 30 to 50%. This is a case of mass%.

本発明の共重合体は側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する繰返し単位を必須の構成成分として有するのが好ましい。これらの(メタ)アクリロイル基含有繰返し単位の組成比を高めれば皮膜強度は向上するが屈折率も高くなる。含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位の種類によっても異なるが、一般に(メタ)アクリロイル基含有繰返し単位は5〜90質量%を占めることが好ましく、30〜70質量%を占めることがより好ましく、40〜60質量%を占めることが特に好ましい。   The copolymer of the present invention preferably has a repeating unit having a (meth) acryloyl group in the side chain as an essential component. If the composition ratio of these (meth) acryloyl group-containing repeating units is increased, the film strength is improved, but the refractive index is also increased. Generally, the (meth) acryloyl group-containing repeating unit preferably accounts for 5 to 90% by mass, more preferably 30 to 70% by mass, although it varies depending on the type of repeating unit derived from the fluorine-containing vinyl monomer. It is particularly preferred to account for ~ 60% by weight.

本発明に有用な共重合体では上記含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位および側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する繰返し単位以外に、基材への密着性、ポリマーのTg(皮膜硬度に寄与する)、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜他のビニルモノマーを共重合することもできる。これらのビニルモノマーは目的に応じて複数を組み合わせてもよく、合計で共重合体中の0〜65モル%の範囲で導入されていることが好ましく、0〜40モル%の範囲であることがより好ましく、0〜30モル%の範囲であることが特に好ましい。   In the copolymer useful for the present invention, in addition to the repeating unit derived from the above-mentioned fluorine-containing vinyl monomer and the repeating unit having a (meth) acryloyl group in the side chain, it contributes to adhesion to the substrate and Tg of the polymer (film hardness). And other vinyl monomers can be copolymerized as appropriate from various viewpoints such as solubility in a solvent, transparency, slipperiness, dust resistance and antifouling properties. A plurality of these vinyl monomers may be combined depending on the purpose, and are preferably introduced in the range of 0 to 65 mol% in the copolymer in total, and in the range of 0 to 40 mol%. More preferably, it is particularly preferably in the range of 0 to 30 mol%.

併用可能なビニルモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類(エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等)、アクリル酸エステル類(アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸2‐ヒドロキシエチル)、メタクリル酸エステル類(メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル等)、スチレン誘導体(スチレン、p−ヒドロキシメチルスチレン、p−メトキシスチレン等)、ビニルエーテル類(メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル等)、ビニルエステル類(酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等)、不飽和カルボン酸類(アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等)、アクリルアミド類(N、N−ジメチルアクリルアミド、N−tert−ブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド等)、メタクリルアミド類(N、N−ジメチルメタクリルアミド)、アクリロニトリル等を挙げることができる。   The vinyl monomer unit that can be used in combination is not particularly limited. For example, olefins (ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride, etc.), acrylic esters (methyl acrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic acid) 2-ethylhexyl, 2-hydroxyethyl acrylate), methacrylic acid esters (methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, etc.), styrene derivatives (styrene, p-hydroxymethylstyrene, p -Methoxystyrene, etc.), vinyl ethers (methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, etc.), vinyl esters (vinyl acetate) Vinyl propionate, vinyl cinnamate, etc.), unsaturated carboxylic acids (acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, maleic acid, itaconic acid, etc.), acrylamides (N, N-dimethylacrylamide, N-tert-butylacrylamide, N -Cyclohexyl acrylamide, etc.), methacrylamides (N, N-dimethylmethacrylamide), acrylonitrile and the like.

本発明に用いられる共重合体の好ましい形態として前記一般式1のものが挙げられる。   A preferred form of the copolymer used in the present invention is that of the general formula 1.

Figure 0005046482
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一般式1中、Lは炭素数1〜10の連結基を表し、より好ましくは炭素数1〜6の連結基であり、特に好ましくは2〜4の連結基であり、直鎖であっても分岐構造を有していてもよく、環構造を有していてもよく、O、N、Sから選ばれるヘテロ原子を有していても良い。
好ましい例としては、*‐(CH2)2-O-**, *-(CH2)2-NH-**, *-(CH2)4-O-**, *-(CH2)6-O-**, *-(CH2)2-O-(CH2)2-O-**, *-CONH-(CH2)3-O-**, *-CH2CH(OH)CH2-O-**, *-CH2CH2OCONH(CH2)3-O-**(*はポリマー主鎖側の連結部位を表し、**は(メタ)アクリロイル基側の連結部位を表す。)等が挙げられる。mは0または1を表わす。
In General Formula 1, L represents a linking group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably a linking group having 1 to 6 carbon atoms, particularly preferably a linking group having 2 to 4 carbon atoms, It may have a branched structure, may have a ring structure, and may have a heteroatom selected from O, N, and S.
Preferred examples include *-(CH 2 ) 2 -O-**, *-(CH 2 ) 2 -NH-**, *-(CH 2 ) 4 -O-**, *-(CH 2 ) 6 -O-**, *-(CH 2 ) 2 -O- (CH 2 ) 2 -O-**, * -CONH- (CH 2 ) 3 -O-**, * -CH 2 CH (OH ) CH 2 -O-**, * -CH 2 CH 2 OCONH (CH 2 ) 3 -O-** (* represents the linking site on the polymer main chain side, ** represents the linking on the (meth) acryloyl group side) Represents a part). m represents 0 or 1;

一般式1中、Xは水素原子またはメチル基を表す。硬化反応性の観点から、より好ましくは水素原子である。   In general formula 1, X represents a hydrogen atom or a methyl group. From the viewpoint of curing reactivity, a hydrogen atom is more preferable.

一般式1中、Aは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表わし、ヘキサフルオロプロピレンと共重合可能な単量体の構成成分であれば特に制限はなく、基材への密着性、ポリマーのTg(皮膜硬度に寄与する)、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜選択することができ、目的に応じて単一あるいは複数のビニルモノマーによって構成されていても良い。   In the general formula 1, A represents a repeating unit derived from an arbitrary vinyl monomer, and is not particularly limited as long as it is a constituent component of a monomer copolymerizable with hexafluoropropylene. Tg (contributes to film hardness), solubility in solvents, transparency, slipperiness, dust / antifouling properties, etc., can be selected as appropriate, depending on the purpose, depending on the single or multiple vinyl monomers It may be configured.

好ましい例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、t−ブチルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、アリルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、グリシジルメタアクリレート、アリル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の(メタ)アクリレート類、スチレン、p−ヒドロキシメチルスチレン等のスチレン誘導体、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸およびその誘導体等を挙げることができるが、より好ましくはビニルエーテル誘導体、ビニルエステル誘導体であり、特に好ましくはビニルエーテル誘導体である。   Preferred examples include methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, t-butyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, glycidyl vinyl ether, vinyl ethers such as allyl vinyl ether, vinyl acetate, vinyl propionate, butyric acid. (Meth) such as vinyl esters such as vinyl, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, glycidyl methacrylate, allyl (meth) acrylate, (meth) acryloyloxypropyltrimethoxysilane Acrylates, styrene, styrene derivatives such as p-hydroxymethylstyrene, crotonic acid, maleic acid, itaconic acid Can be mentioned unsaturated carboxylic acids and derivatives thereof, more preferably ether derivatives, vinyl ester derivatives, particularly preferably a vinyl ether derivative.

x、y、zはそれぞれの構成成分のモル%を表わし、30≦x≦60、5≦y≦70、0≦z≦65を満たす値を表す。好ましくは、35≦x≦55、30≦y≦60、0≦z≦20の場合であり、特に好ましくは40≦x≦55、40≦y≦55、0≦z≦10の場合である。   x, y, and z represent mol% of each constituent component, and represent values satisfying 30 ≦ x ≦ 60, 5 ≦ y ≦ 70, and 0 ≦ z ≦ 65. Preferably, 35 ≦ x ≦ 55, 30 ≦ y ≦ 60, and 0 ≦ z ≦ 20, and particularly preferably 40 ≦ x ≦ 55, 40 ≦ y ≦ 55, and 0 ≦ z ≦ 10.

本発明に用いられる共重合体の特に好ましい形態として一般式2が挙げられる。   A particularly preferred form of the copolymer used in the present invention is General Formula 2.

Figure 0005046482
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一般式2においてX、x、yは一般式1と同じ意味を表し、好ましい範囲も同じである。
nは2≦n≦10の整数を表し、2≦n≦6であることが好ましく、2≦n≦4であることが特に好ましい。
Bは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を単位を表わし、単一組成であっても複数の組成によって構成されていても良い。例としては、前記一般式1におけるAの例として説明したものが当てはまる。
z1およびz2はそれぞれの繰返し単位のmol%を表わし、0≦z1≦65、0≦z2≦65を満たす値を表す。それぞれ0≦z1≦30、0≦z2≦10であることが好ましく、0≦z1≦10、0≦z2≦5であることが特に好ましい。
In general formula 2, X, x, and y have the same meaning as in general formula 1, and the preferred ranges are also the same.
n represents an integer of 2 ≦ n ≦ 10, preferably 2 ≦ n ≦ 6, and particularly preferably 2 ≦ n ≦ 4.
B represents a unit of a repeating unit derived from an arbitrary vinyl monomer, and may be composed of a single composition or a plurality of compositions. As an example, what was demonstrated as an example of A in the said General formula 1 is applicable.
z1 and z2 represent mol% of each repeating unit, and represent values satisfying 0 ≦ z1 ≦ 65 and 0 ≦ z2 ≦ 65. It is preferable that 0 ≦ z1 ≦ 30 and 0 ≦ z2 ≦ 10 respectively, and it is particularly preferable that 0 ≦ z1 ≦ 10 and 0 ≦ z2 ≦ 5.

一般式1又は一般式2で表される共重合体は、例えば、ヘキサフルオロプロピレン成分とヒドロキシアルキルビニルエーテル成分とを含んでなる共重合体に(メタ)アクリロイル基を導入することにより合成できる。これらの共重合体は特開2004−45462号公報に記載の方法により合成することができる。   The copolymer represented by the general formula 1 or the general formula 2 can be synthesized, for example, by introducing a (meth) acryloyl group into a copolymer containing a hexafluoropropylene component and a hydroxyalkyl vinyl ether component. These copolymers can be synthesized by the method described in JP-A-2004-45462.

以下に本発明で有用な共重合体の好ましい例を示すが本発明はこれらに限定されるものではない。   Although the preferable example of the copolymer useful by this invention is shown below, this invention is not limited to these.

Figure 0005046482
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本発明に用いられる共重合体の合成は、種々の重合方法、例えば溶液重合、沈澱重合、懸濁重合、沈殿重合、塊状重合、乳化重合によって水酸基含有重合体等の前駆体を合成した後、高分子反応によって(メタ)アクリロイル基を導入することにより行なうことができる。重合反応は回分式、半連続式、連続式等の公知の操作で行なうことができる。   The copolymer used in the present invention is synthesized by synthesizing a precursor such as a hydroxyl group-containing polymer by various polymerization methods such as solution polymerization, precipitation polymerization, suspension polymerization, precipitation polymerization, bulk polymerization, and emulsion polymerization. It can be carried out by introducing a (meth) acryloyl group by a polymer reaction. The polymerization reaction can be performed by a known operation such as a batch system, a semi-continuous system, or a continuous system.

重合の開始方法はラジカル開始剤を用いる方法、光または放射線を照射する方法等がある。これらの重合方法、重合の開始方法は、例えば鶴田禎二「高分子合成方法」改定版(日刊工業新聞社刊、1971)や大津隆行、木下雅悦共著「高分子合成の実験法」化学同人、昭和47年刊、124〜154頁に記載されている。   The polymerization initiation method includes a method using a radical initiator, a method of irradiating light or radiation, and the like. These polymerization methods and polymerization initiation methods are, for example, the revised version of Tsuruta Junji “Polymer Synthesis Method” (published by Nikkan Kogyo Shimbun, 1971), Takatsu Otsu, Masato Kinoshita, “Experimental Methods for Polymer Synthesis” It is described in pp. 47-154 published in 1972.

上記重合方法のうち、特にラジカル開始剤を用いた溶液重合法が好ましい。溶液重合法で用いられる溶剤は、例えば酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ベンゼン、トルエン、アセトニトリル、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノールのような種々の有機溶剤の単独あるいは2種以上の混合物でも良いし、水との混合溶媒としても良い。   Among the above polymerization methods, a solution polymerization method using a radical initiator is particularly preferable. Solvents used in the solution polymerization method include, for example, ethyl acetate, butyl acetate, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, tetrahydrofuran, dioxane, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, benzene, toluene, acetonitrile, A single organic solvent such as methylene chloride, chloroform, dichloroethane, methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, and 1-butanol, or a mixture of two or more thereof may be used, or a mixed solvent with water may be used.

重合温度は生成するポリマーの分子量、開始剤の種類などと関連して設定する必要があり0℃以下から100℃以上まで可能であるが、50〜100℃の範囲で重合を行なうことが好ましい。   The polymerization temperature needs to be set in relation to the molecular weight of the polymer to be produced, the type of initiator, etc., and can be from 0 ° C. or lower to 100 ° C. or higher, but it is preferable to carry out the polymerization in the range of 50 to 100 ° C.

反応圧力は、適宜選定可能であるが、通常は、0.98〜98kPa、特に、0.98〜30kPa程度が望ましい。反応時間は、5〜30時間程度である。   The reaction pressure can be selected as appropriate, but usually 0.98 to 98 kPa, particularly about 0.98 to 30 kPa is desirable. The reaction time is about 5 to 30 hours.

得られたポリマーの再沈殿溶媒としては、イソプロパノール、ヘキサン、メタノール等が好ましい。   As the reprecipitation solvent for the obtained polymer, isopropanol, hexane, methanol and the like are preferable.

本発明において、反射防止層の低屈折率層に好ましく用いることのできる無機微粒子について説明する。
無機微粒子の塗設量は、1mg/m2〜100mg/m2が好ましく、より好ましくは5mg/m2〜80mg/m2、更に好ましくは10mg/m2〜60mg/m2である。少なすぎると、耐擦傷性の改良効果が減り、多すぎると、低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化する。該無機微粒子は、低屈折率層に含有させることから、低屈折率であることが望ましい。
具体的には、前記した有機溶媒分散物中に分散した表面処理された無機酸化物微粒子または中空無機酸化物微粒子であって、低屈折率のものが好ましく用いられる。例えば、シリカまたは中空シリカの微粒子が挙げられる。シリカ微粒子の平均粒径は、低屈折率層の厚みの30%以上150%以下が好ましく、より好ましくは35%以上80%以下、更に好ましくは40%以上60%以下である。即ち、低屈折率層の厚みが100nmであれば、シリカ微粒子の粒径は30nm以上150nm以下が好ましく、より好ましくは35nm以上80nm以下、更に好ましくは、40nm以上60nm以下である。
シリカ微粒子の粒径が小さすぎると、耐擦傷性の改良効果が少なくなり、大きすぎると低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する。シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題無い。ここで、無機微粒子の平均粒径はコールターカウンターにより測定される。
In the present invention, inorganic fine particles that can be preferably used for the low refractive index layer of the antireflection layer will be described.
The coating amount of the inorganic fine particles is preferably 1mg / m 2 ~100mg / m 2 , more preferably 5mg / m 2 ~80mg / m 2 , more preferably from 10mg / m 2 ~60mg / m 2 . If the amount is too small, the effect of improving the scratch resistance is reduced. If the amount is too large, fine irregularities are formed on the surface of the low refractive index layer, and the appearance such as black tightening and the integrated reflectance are deteriorated. Since the inorganic fine particles are contained in the low refractive index layer, it is desirable that the inorganic fine particles have a low refractive index.
Specifically, surface-treated inorganic oxide fine particles or hollow inorganic oxide fine particles dispersed in the organic solvent dispersion described above and having a low refractive index are preferably used. For example, fine particles of silica or hollow silica can be mentioned. The average particle diameter of the silica fine particles is preferably 30% to 150% of the thickness of the low refractive index layer, more preferably 35% to 80%, and still more preferably 40% to 60%. That is, when the thickness of the low refractive index layer is 100 nm, the particle diameter of the silica fine particles is preferably 30 nm to 150 nm, more preferably 35 nm to 80 nm, and still more preferably 40 nm to 60 nm.
If the particle size of the silica fine particles is too small, the effect of improving the scratch resistance is reduced. If it is too large, fine irregularities are formed on the surface of the low refractive index layer, and the appearance such as black tightening and the integrated reflectance are deteriorated. The silica fine particles may be either crystalline or amorphous, and may be monodispersed particles or aggregated particles as long as a predetermined particle size is satisfied. The shape is most preferably a spherical diameter, but there is no problem even if the shape is indefinite. Here, the average particle diameter of the inorganic fine particles is measured by a Coulter counter.

低屈折率層の屈折率を低下させるために、中空のシリカ微粒子を用いることが好ましい。該中空シリカ微粒子は屈折率が1.17〜1.40、より好ましくは1.17〜1.35、さらに好ましくは1.17〜1.30である。ここでの屈折率は粒子全体としての屈折率を表し、中空シリカ微粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表すものではない。この時、粒子内の空腔の半径をa、粒子外殻の半径をbとすると、空隙率xは下記数式(VIII)で算出される。
(数式VIII)
x=(4πa3/3)/(4πb3/3)×100
空隙率xは、好ましくは10〜60%、さらに好ましくは20〜60%、最も好ましくは30〜60%である。中空のシリカ微粒子をより低屈折率に、より空隙率を大きくしようとすると、外殻の厚みが薄くなり、粒子の強度としては弱くなるため、耐擦傷性の観点から1.17未満の低屈折率の粒子は成り立たない。
なお、これら中空シリカ微粒子の屈折率はアッベ屈折率計(アタゴ(株)製)にて測定をおこなった。
In order to lower the refractive index of the low refractive index layer, it is preferable to use hollow silica fine particles. The hollow silica fine particles have a refractive index of 1.17 to 1.40, more preferably 1.17 to 1.35, and still more preferably 1.17 to 1.30. The refractive index here represents the refractive index of the whole particle, and does not represent the refractive index of only the outer shell silica forming the hollow silica fine particles. At this time, when the radius of the cavity in the particle is a and the radius of the particle outer shell is b, the porosity x is calculated by the following formula (VIII).
(Formula VIII)
x = (4πa 3/3) / (4πb 3/3) × 100
The porosity x is preferably 10 to 60%, more preferably 20 to 60%, and most preferably 30 to 60%. If hollow silica fine particles are made to have a lower refractive index and a higher porosity, the thickness of the outer shell becomes thinner and the strength of the particles becomes weaker. Rate particles do not hold.
The refractive index of these hollow silica fine particles was measured with an Abbe refractometer (manufactured by Atago Co., Ltd.).

また、中空状粒子を低屈折率層に含有させることで該層の屈折率を低下させることができる。中空状粒子を用いた場合に好ましい該層の屈折率は1.20以上1.46以下であり、更に好ましくは1.25以上1.41以下であり、最も好ましくは1.30以上1.39以下である。   Moreover, the refractive index of this layer can be reduced by including hollow particles in the low refractive index layer. When hollow particles are used, the refractive index of the layer is preferably 1.20 or more and 1.46 or less, more preferably 1.25 or more and 1.41 or less, and most preferably 1.30 or more and 1.39. It is as follows.

また、平均粒径が低屈折率層の厚みの25%未満であるシリカ微粒子(「小サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す)の少なくとも1種を上記の粒径のシリカ微粒子(「大サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す)と併用することが好ましい。
小サイズ粒径のシリカ微粒子は、大サイズ粒径のシリカ微粒子同士の隙間に存在することができるため、大サイズ粒径のシリカ微粒子の保持剤として寄与することができる。
小サイズ粒径のシリカ微粒子の平均粒径は、低屈折率層が100nmの場合、1nm以上20nm以下が好ましく、5nm以上15nm以下が更に好ましく、10nm以上15nm以下が特に好ましい。このようなシリカ微粒子を用いると、原料コストおよび保持剤効果の点で好ましい。
In addition, at least one kind of silica fine particles having an average particle size of less than 25% of the thickness of the low refractive index layer (referred to as “silica fine particles having a small size”) is used as silica fine particles having the above particle size (“large size particles”). It is preferably used in combination with “silica fine particles having a diameter”.
Since the fine silica particles having a small size can be present in the gaps between the fine silica particles having a large size, the fine particles can contribute as a retaining agent for the fine silica particles having a large size.
When the low refractive index layer is 100 nm, the average particle size of the silica fine particles having a small size is preferably from 1 nm to 20 nm, more preferably from 5 nm to 15 nm, and particularly preferably from 10 nm to 15 nm. Use of such silica fine particles is preferable in terms of raw material costs and a retaining agent effect.

本発明においては、膜強度の向上の点から、上記硬化皮膜を形成し得る共重合体と共に、オルガノシラン化合物の加水分解物および/またはその部分縮合物を層中に添加することが好ましい。オルガノシラン化合物の部分縮合物(ゾルと略す)の合成には、本発明の無機酸化物微粒子の表面処理(分散性の改良処理)に用いた酸触媒や金属キレート化合物を用いることができる。ゾルの好ましい添加量は、無機酸化物微粒子の2〜200質量%が好ましく、5〜100質量%が更に好ましく、最も好ましくは、10〜50質量%である。   In the present invention, from the viewpoint of improving the film strength, it is preferable to add a hydrolyzate of an organosilane compound and / or a partial condensate thereof together with the copolymer capable of forming the cured film. For the synthesis of the partial condensate (abbreviated as sol) of the organosilane compound, the acid catalyst or metal chelate compound used for the surface treatment (dispersion improving treatment) of the inorganic oxide fine particles of the present invention can be used. The preferable addition amount of sol is preferably 2 to 200% by mass of the inorganic oxide fine particles, more preferably 5 to 100% by mass, and most preferably 10 to 50% by mass.

(低屈折率層に添加するその他の材料)
本発明においては、防汚性向上の観点から、反射防止膜表面の表面自由エネルギーを下げることが好ましい。具体的には、含フッ素化合物やポリシロキサン構造を有する化合物を低屈折率層に使用することが好ましい。ポリシロキサン構造を有する添加剤としては、反応性基含有ポリシロキサン(例えばKF−100T、X−22−169AS、KF−102、X−22−3701IE、X−22−164B、X−22−5002、X−22−173B、X−22−174D、X−22−167B、X−22−161AS(以上商品名、信越化学工業社製)、AK−5、AK−30、AK−32(以上商品名、東亜合成社製)、サイラプレーンFM0725、サイラプレーンFM0721(以上商品名、チッソ社製)等)を添加するのも好ましい。また、特開2003−112383の表2、表3に記載のシリコーン系化合物も好ましく使用できる。これらのポリシロキサンは低屈折率層全固形分の0.1〜10質量%の範囲で添加されることが好ましく、特に好ましくは1〜5質量%の場合である。
(Other materials added to the low refractive index layer)
In the present invention, it is preferable to reduce the surface free energy on the surface of the antireflection film from the viewpoint of improving the antifouling property. Specifically, it is preferable to use a fluorine-containing compound or a compound having a polysiloxane structure for the low refractive index layer. Examples of the additive having a polysiloxane structure include reactive group-containing polysiloxanes (for example, KF-100T, X-22-169AS, KF-102, X-22-3701IE, X-22-164B, X-22-5002, X-22-173B, X-22-174D, X-22-167B, X-22-161AS (above trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), AK-5, AK-30, AK-32 (above trade name) , Manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.), Silaplane FM0725, Silaplane FM0721 (trade name, manufactured by Chisso Corporation) and the like are also preferably added. In addition, silicone compounds described in Tables 2 and 3 of JP-A No. 2003-112383 can also be preferably used. These polysiloxanes are preferably added in the range of 0.1 to 10% by mass of the total solid content of the low refractive index layer, particularly preferably 1 to 5% by mass.

低屈折率層は、含フッ素化合物、その他所望により含有される任意成分を溶解あるいは分散させた塗布組成物を塗布と同時、または塗布・乾燥後に電離放射線照射(例えば光照射、電子線ビーム照射)や加熱することによる架橋反応、又は、重合反応により硬化して、形成することが好ましい。
特に、低屈折率層が電離放射線硬化性の化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成される場合、架橋反応、又は、重合反応は酸素濃度が10体積%以下の雰囲気で実施することが好ましい。酸素濃度が10体積%以下の雰囲気で形成することにより、物理強度、耐薬品性に優れた最外層を得ることができる。
好ましくは酸素濃度が6体積%以下であり、更に好ましくは酸素濃度が4体積%以下、特に好ましくは酸素濃度が2体積%以下、最も好ましくは1体積%以下である。
The low refractive index layer is irradiated with ionizing radiation (for example, light irradiation, electron beam irradiation) at the same time as coating, or after coating and drying a coating composition in which a fluorine-containing compound and other optional components optionally contained are dissolved or dispersed. It is preferably formed by curing by a crosslinking reaction by heating or a polymerization reaction.
In particular, when the low refractive index layer is formed by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of an ionizing radiation curable compound, the crosslinking reaction or the polymerization reaction is preferably performed in an atmosphere having an oxygen concentration of 10% by volume or less. . By forming in an atmosphere having an oxygen concentration of 10% by volume or less, an outermost layer having excellent physical strength and chemical resistance can be obtained.
The oxygen concentration is preferably 6% by volume or less, more preferably 4% by volume or less, particularly preferably 2% by volume or less, and most preferably 1% by volume or less.

酸素濃度を10体積%以下にする手法としては、大気(窒素濃度約79体積%、酸素濃度約21体積%)を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換(窒素パージ)することである。   As a method of reducing the oxygen concentration to 10% by volume or less, it is preferable to replace the atmosphere (nitrogen concentration of about 79% by volume, oxygen concentration of about 21% by volume) with another gas, particularly preferably replacement with nitrogen (nitrogen purge). It is to be.

[高屈折率層用材料]
本発明における反射防止フィルムには高屈折率層を設けることが好ましい。高屈折率層は、バインダー、防眩性を付与するためのマット粒子、および高屈折率化、架橋収縮防止、高強度化のための無機フィラーから形成することができる。
[Material for high refractive index layer]
The antireflection film in the present invention is preferably provided with a high refractive index layer. The high refractive index layer can be formed from a binder, mat particles for imparting antiglare properties, and an inorganic filler for increasing the refractive index, preventing crosslinking shrinkage, and increasing the strength.

高屈折率層には、防眩性付与の目的で、フィラー粒子より大きく、平均粒径が0.1〜5.0μm、好ましくは1.5〜3.5μmのマット粒子、例えば無機化合物の粒子または樹脂粒子が含有させることができる。マット粒子とバインダー間の屈折率差は大きすぎるとフィルムが白濁し、小さすぎると十分な光拡散効果をえることができないため、0.02〜0.20であることが好ましく、0.04〜0.10であることが特に好ましい。マット粒子のバインダーに対する添加量も屈折率同様、大きすぎるとフィルムが白濁し、小さすぎると十分な光拡散効果をえることができないため、3〜30質量パーセントであることが好ましく、5〜20質量パーセントであることが特に好ましい。
上記マット粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、TiO2粒子等の無機化合物の粒子;アクリル粒子、架橋アクリル粒子、ポリスチレン粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子、架橋アクリル粒子、シリカ粒子が好ましい。
マット粒子の形状は、真球あるいは不定形のいずれも使用できる。
For the purpose of imparting antiglare properties, the high refractive index layer has a matte particle having an average particle size of 0.1 to 5.0 μm, preferably 1.5 to 3.5 μm, for example, inorganic compound particles. Alternatively, resin particles can be contained. If the difference in refractive index between the matte particles and the binder is too large, the film becomes cloudy, and if it is too small, a sufficient light diffusion effect cannot be obtained, so 0.02 to 0.20 is preferable, and 0.04 to Particularly preferred is 0.10. Similarly to the refractive index, the addition amount of the matting particles with respect to the binder is too large, the film becomes cloudy, and if it is too small, a sufficient light diffusion effect cannot be obtained. A percentage is particularly preferred.
As specific examples of the mat particles, inorganic particles such as silica particles and TiO 2 particles; resin particles such as acrylic particles, crosslinked acrylic particles, polystyrene particles, crosslinked styrene particles, melamine resin particles, and benzoguanamine resin particles are preferable. Can be mentioned. Of these, crosslinked styrene particles, crosslinked acrylic particles, and silica particles are preferred.
As the shape of the mat particle, either a true sphere or an indefinite shape can be used.

異なる2種以上のマット粒子を併用して用いてもよい。2種類以上のマット粒子を用いる場合には両者の混合による屈折率制御を効果的に発揮するために屈折率の差が0.02以上、0.10以下であることが好ましく、0.03以上、0.07以下であることが特に好ましい。またより大きな粒子径のマット粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径のマット粒子で別の光学特性を付与することが可能である。例えば、133ppi以上の高精細ディスプレイに光学フィルムを貼り付けた場合に、ギラツキと呼ばれる光学性能上の不具合のないことが要求される。ギラツキは、フィルム表面に存在する凹凸(防眩性に寄与)により、画素が拡大もしくは縮小され、輝度の均一性を失うことに由来するが、防眩性を付与するマット粒子より小さな粒子径で、バインダーの屈折率と異なるマット粒子を併用することにより大きく改善することができる。   Two or more different kinds of mat particles may be used in combination. When two or more kinds of mat particles are used, the difference in refractive index is preferably 0.02 or more and 0.10 or less in order to effectively exert the refractive index control by mixing the two, and 0.03 or more. Is particularly preferably 0.07 or less. Further, it is possible to impart an antiglare property with mat particles having a larger particle size and to impart another optical characteristic with mat particles having a smaller particle size. For example, when an optical film is attached to a high-definition display of 133 ppi or more, it is required that there is no problem in optical performance called glare. Glare originates from the fact that the pixels are enlarged or reduced due to unevenness existing on the film surface (contributing to anti-glare properties) and lose uniformity of brightness, but with a particle size smaller than that of mat particles that provide anti-glare properties. It can be greatly improved by using mat particles having a different refractive index from the binder.

さらに、上記マット粒子の粒子径分布としては単分散であることが最も好ましく、各粒子の粒子径は、それぞれ同一に近ければ近いほど良い。例えば平均粒子径よりも20%以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合には、この粗大粒子の割合は全粒子数の1%以下であることが好ましく、より好ましくは0.1%以下であり、さらに好ましくは0.01%以下である。このような粒子径分布を持つマット粒子は通常の合成反応後に、分級によって得られ、分級の回数を上げることやその程度を強くすることにより、より好ましい分布のマット剤を得ることができる。   Furthermore, the particle size distribution of the mat particles is most preferably monodisperse, and the particle sizes of the particles are preferably closer to each other. For example, when particles having a particle size of 20% or more than the average particle size are defined as coarse particles, the proportion of coarse particles is preferably 1% or less of the total number of particles, more preferably 0.1%. Or less, more preferably 0.01% or less. Matt particles having such a particle size distribution are obtained by classification after a normal synthesis reaction, and a matting agent having a more preferable distribution can be obtained by increasing the number of classifications or increasing the degree of classification.

上記マット粒子は、形成された高屈折率層中のマット粒子量が好ましくは10〜1000mg/m2、より好ましくは100〜700mg/m2となるように高屈折率層に含有される。
マット粒子の粒度分布はコールターカウンター法により測定し、測定された分布を粒子数分布に換算する。
The mat particles are contained in the high refractive index layer so that the amount of mat particles in the formed high refractive index layer is preferably 10 to 1000 mg / m 2 , more preferably 100 to 700 mg / m 2 .
The particle size distribution of the matte particles is measured by a Coulter counter method, and the measured distribution is converted into a particle number distribution.

高屈折率層には、層の屈折率を高めるため、および硬化収縮を低減するために、上記のマット粒子に加えて、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物からなり、平均粒径が0.2μm以下、好ましくは0.1μm以下、より好ましくは0.06μm以下である無機フィラーが含有されることが好ましい。
また、マット粒子との屈折率差を大きくするために、高屈折率マット粒子を用いた高屈折率層では層の屈折率を低目に保つためにケイ素の酸化物を用いることも好ましい。好ましい粒径は前述の無機フィラーと同じである。
高屈折率層に用いられる無機フィラーの具体例としては、TiO2、ZrO2、Al23、In23、ZnO、SnO2、Sb23、ITOとSiO2等が挙げられる。TiO2およびZrO2が高屈折率化の点で特に好ましい。屈折率の観点からは、二酸化チタンの微粒子が最も好ましい。モノマーと開始剤を用いる場合は、塗布後に電離放射線または熱による重合反応によりモノマーを硬化させることで、耐傷性や密着性に優れる中屈折率層や高屈折率層が形成できる。膜中の無機微粒子の平均粒径は、ヘイズ、分散安定性、表面の適度の凹凸による上層との密着性、二酸化チタンを用いた場合の光活性の抑止の観点から考えると、20〜120nmであることが好ましく、さらに好ましくは30〜100nm、40〜90nmがさらに好ましい。
The high refractive index layer is selected from titanium, zirconium, aluminum, indium, zinc, tin, and antimony in addition to the above matte particles in order to increase the refractive index of the layer and to reduce cure shrinkage. It is preferable that an inorganic filler which contains an oxide of at least one metal and has an average particle size of 0.2 μm or less, preferably 0.1 μm or less, more preferably 0.06 μm or less.
In order to increase the difference in refractive index from the mat particles, it is also preferable to use a silicon oxide in order to keep the refractive index of the layer low in the high refractive index layer using the high refractive index mat particles. The preferred particle size is the same as that of the aforementioned inorganic filler.
Specific examples of the inorganic filler used for the high refractive index layer include TiO 2 , ZrO 2 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , ZnO, SnO 2 , Sb 2 O 3 , ITO and SiO 2 . TiO 2 and ZrO 2 are particularly preferable from the viewpoint of increasing the refractive index. From the viewpoint of refractive index, titanium dioxide fine particles are most preferable. In the case of using a monomer and an initiator, a medium refractive index layer or a high refractive index layer having excellent scratch resistance and adhesion can be formed by curing the monomer by ionizing radiation or heat polymerization after coating. The average particle size of the inorganic fine particles in the film is 20 to 120 nm in view of haze, dispersion stability, adhesion to the upper layer due to moderate irregularities on the surface, and suppression of photoactivity when using titanium dioxide. It is preferable that there is, more preferably 30 to 100 nm, and further preferably 40 to 90 nm.

上記二酸化チタンの微粒子としては、コバルト、アルミニウム、ジルコニウムから選ばれる少なくとも1つの元素を含有する二酸化チタンを主成分とする無機微粒子が特に好ましい。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量(質量%)が多い成分を意味する。
本発明における二酸化チタンを主成分とする無機微粒子は、屈折率が1.90〜2.80であることが好ましく、2.10〜2.80であることがさらに好ましく、2.20〜2.80であることが最も好ましい。
二酸化チタンを主成分とする無機微粒子の一次粒子の質量平均径は1〜200nmであることが好ましく、より好ましくは1〜150nm、さらに好ましくは1〜100nm、特に好ましくは1〜80nmである。
As the titanium dioxide fine particles, inorganic fine particles mainly containing titanium dioxide containing at least one element selected from cobalt, aluminum, and zirconium are particularly preferable. The main component means a component having the largest content (mass%) among the components constituting the particles.
The inorganic fine particles mainly composed of titanium dioxide in the present invention preferably have a refractive index of 1.90 to 2.80, more preferably 2.10 to 2.80, and 2.20 to 2.80. 80 is most preferred.
The mass average diameter of primary particles of inorganic fine particles mainly composed of titanium dioxide is preferably 1 to 200 nm, more preferably 1 to 150 nm, still more preferably 1 to 100 nm, and particularly preferably 1 to 80 nm.

無機微粒子の粒子径は、光散乱法や電子顕微鏡写真により測定できる。無機微粒子の比表面積は、10〜400m2/gであることが好ましく、20〜200m2/gであることがさらに好ましく、30〜150m2/gであることが最も好ましい。
二酸化チタンを主成分とする無機微粒子の結晶構造は、ルチル、ルチル/アナターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造が主成分であることが好ましく、特にルチル構造が主成分であることが好ましい。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量(質量%)が多い成分を意味する。
The particle diameter of the inorganic fine particles can be measured by a light scattering method or an electron micrograph. The specific surface area of the inorganic fine particles is preferably 10 to 400 m 2 / g, more preferably from 20 to 200 m 2 / g, and most preferably from 30 to 150 m 2 / g.
The crystal structure of the inorganic fine particles containing titanium dioxide as a main component is preferably a rutile, rutile / anatase mixed crystal, anatase or amorphous structure, particularly preferably a rutile structure. The main component means a component having the largest content (mass%) among the components constituting the particles.

二酸化チタンを主成分とする無機微粒子に、Co(コバルト)、Al(アルミニウム)及びZr(ジルコニウム)から選ばれる少なくとも1つの元素を含有することで、二酸化チタンが有する光触媒活性を抑えることができ、本発明の高屈折率層および中屈折率層の耐候性を改良することができる。
特に、好ましい元素はCo(コバルト)である。また、2種類以上を併用することも好ましい。該無機フィラーは表面をシランカップリング処理又はチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
これらの無機フィラーの添加量は、高屈折率層の全質量の10〜90%であることが好ましく、より好ましくは20〜80%であり、特に好ましくは30〜70%である。
なお、このようなフィラーは、粒径が光の波長よりも十分小さいために散乱が生じず、バインダーポリマーに該フィラーが分散した分散体は光学的に均一な物質として振舞う。
By containing at least one element selected from Co (cobalt), Al (aluminum) and Zr (zirconium) in the inorganic fine particles mainly composed of titanium dioxide, the photocatalytic activity of titanium dioxide can be suppressed, The weather resistance of the high refractive index layer and the middle refractive index layer of the present invention can be improved.
A particularly preferable element is Co (cobalt). It is also preferable to use two or more types in combination. The surface of the inorganic filler is preferably subjected to a silane coupling treatment or a titanium coupling treatment, and a surface treatment agent having a functional group capable of reacting with a binder species on the filler surface is preferably used.
The amount of these inorganic fillers added is preferably 10 to 90% of the total mass of the high refractive index layer, more preferably 20 to 80%, and particularly preferably 30 to 70%.
Such a filler does not scatter because the particle size is sufficiently smaller than the wavelength of light, and a dispersion in which the filler is dispersed in a binder polymer behaves as an optically uniform substance.

本発明の高屈折率層のバインダーおよび無機フィラーの混合物のバルクの屈折率は、1.48〜2.00であることが好ましく、より好ましくは1.50〜1.80である。屈折率を上記範囲とするには、バインダー及び無機フィラーの種類及び量割合を適宜選択すればよい。どのように選択するかは、予め実験的に容易に知ることができる。   The bulk refractive index of the mixture of the binder and the inorganic filler of the high refractive index layer of the present invention is preferably 1.48 to 2.00, more preferably 1.50 to 1.80. In order to make the refractive index within the above range, the kind and amount ratio of the binder and the inorganic filler may be appropriately selected. How to select can be easily known experimentally in advance.

このようにして形成された本発明の反射防止フィルムは、ヘイズ値が3〜70%、好ましくは4〜60%の範囲にあり、そして450nmから650nmの平均反射率が3.0%以下、好ましくは2.5%以下である。
本発明の反射防止フィルムが上記範囲のヘイズ値及び平均反射率であることにより、透過画像の劣化を伴なわずに良好な防眩性および反射防止性が得られる。
The antireflection film of the present invention thus formed has a haze value of 3 to 70%, preferably 4 to 60%, and an average reflectance of 450 nm to 650 nm is preferably 3.0% or less, preferably Is 2.5% or less.
When the antireflection film of the present invention has a haze value and an average reflectance in the above range, good antiglare properties and antireflection properties can be obtained without causing deterioration of the transmitted image.

[支持体]
本発明の光学フィルムの透明支持体としては、プラスチックフィルムを用いることが好ましい。プラスチックフィルムを形成するポリマーとしては、セルロースエステル(例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、代表的には富士写真フイルム社製TAC−TD80U,TD80UFなど)、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル(例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート)、ポリスチレン、ポリオレフィン、ノルボルネン系樹脂(アートン:商品名、JSR社製)、非晶質ポリオレフィン(ゼオネックス:商品名、日本ゼオン社製)、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、が好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。また、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まないセルロースアシレートフィルムおよびその製造法については発明協会公開技報(公技番号2001−1745、2001年3月15日発行、以下公開技報2001−1745号と略す)に記載されており、ここに記載されたセルロースアシレートも本発明に好ましく用いることができる。
[Support]
A plastic film is preferably used as the transparent support of the optical film of the present invention. Examples of polymers forming the plastic film include cellulose esters (eg, triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, typically TAC-TD80U, TD80UF, etc. manufactured by Fuji Photo Film), polyamides, polycarbonates, polyesters (eg, polyethylene terephthalate, polyethylene). Naphthalate), polystyrene, polyolefin, norbornene resin (Arton: trade name, manufactured by JSR), amorphous polyolefin (ZEONEX: trade name, manufactured by Nippon Zeon), and the like. Of these, triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate, and polyethylene naphthalate are preferable, and triacetyl cellulose is particularly preferable. In addition, the cellulose acylate film substantially free of halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and the process for producing the same are disclosed in the JIII Journal of Technical Disclosure (Publication No. 2001-1745, published on March 15, 2001; The cellulose acylate described here can also be preferably used in the present invention.

[鹸化処理]
本発明の光学フィルムを液晶表示装置に用いる場合、片面に粘着層を設ける等してディスプレイの最表面に配置する。該透明支持体がトリアセチルセルロースの場合は、通常、偏光板の偏光層を保護する保護フィルムとしてトリアセチルセルロースが用いられるため、本発明の光学フィルムをそのまま保護フィルムに用いることがコストの上では好ましい。
[Saponification]
When the optical film of the present invention is used in a liquid crystal display device, it is disposed on the outermost surface of the display by providing an adhesive layer on one side. When the transparent support is triacetyl cellulose, since triacetyl cellulose is usually used as a protective film for protecting the polarizing layer of the polarizing plate, it is costly to use the optical film of the present invention as it is for the protective film. preferable.

本発明の光学フィルム、例えば本発明の反射防止フィルムは、片面に粘着層を設ける等してディスプレイの最表面に配置したり、そのまま偏光板用保護フィルムとして使用される場合には、十分に接着させるためには透明支持体上に含フッ素ポリマーを主体とする最外層を形成した後、鹸化処理を実施することが好ましい。鹸化処理は、公知の手法、例えば、アルカリ液の中に該フィルムを適切な時間浸漬して実施される。アルカリ液に浸漬した後は、該フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。
鹸化処理することにより、最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面が親水化される。
親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良するのに特に有効である。また、親水化された表面は、空気中の塵埃が付着しにくくなるため、偏光膜と接着させる際に偏光膜と光学フィルムの間に塵埃が入りにくく、塵埃による点欠陥を防止するのに有効である。
鹸化処理は、最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が40゜以下になるように実施することが好ましい。更に好ましくは30゜以下、特に好ましくは20゜以下である。
The optical film of the present invention, for example, the antireflection film of the present invention is sufficiently bonded when it is disposed on the outermost surface of a display by providing an adhesive layer on one side or used as a protective film for a polarizing plate as it is. For this purpose, it is preferable to carry out a saponification treatment after forming an outermost layer mainly composed of a fluoropolymer on a transparent support. The saponification treatment is performed by a known method, for example, by immersing the film in an alkali solution for an appropriate time. After being immersed in the alkaline solution, it is preferable to sufficiently wash with water or neutralize the alkaline component by dipping in a dilute acid so that the alkaline component does not remain in the film.
By saponification treatment, the surface of the transparent support opposite to the side having the outermost layer is hydrophilized.
The hydrophilized surface is particularly effective for improving the adhesion with a polarizing film containing polyvinyl alcohol as a main component. In addition, the hydrophilic surface makes it difficult for dust in the air to adhere to it, making it difficult for dust to enter between the polarizing film and the optical film when bonded to the polarizing film, and is effective in preventing point defects caused by dust. It is.
The saponification treatment is preferably carried out so that the contact angle of water on the surface of the transparent support opposite to the side having the outermost layer is 40 ° or less. More preferably, it is 30 ° or less, particularly preferably 20 ° or less.

アルカリ鹸化処理の具体的手段としては、以下の(1)及び(2)の2つの手段から選択することができる。汎用のトリアセチルセルロースフィルムと同一の工程で処理できる点で(1)が優れているが、最外層面まで鹸化処理されるため、表面がアルカリ加水分解されて膜が劣化する点、鹸化処理液が残ると汚れになる点が問題になり得る。その場合には、特別な工程となるが、(2)が優れる。
(1)透明支持体上に機能層を形成後に、アルカリ液中に少なくとも1回浸漬することで、該フィルムの裏面を鹸化処理する。
(2)透明支持体上に機能層を形成する前または後に、アルカリ液を該光学フィルムの光学フィルムを形成する面とは反対側の面に塗布し、加熱、水洗および/または中和することで、該フィルムの裏面だけを鹸化処理する。
Specific means for the alkali saponification treatment can be selected from the following two means (1) and (2). (1) is superior in that it can be processed in the same process as a general-purpose triacetylcellulose film, but since the saponification is performed up to the outermost layer surface, the surface is alkali-hydrolyzed and the membrane is deteriorated. If it remains, it becomes a problem that it becomes dirty. In that case, although it becomes a special process, (2) is excellent.
(1) After forming a functional layer on a transparent support, the back surface of the film is saponified by immersing it in an alkaline solution at least once.
(2) Before or after the functional layer is formed on the transparent support, the alkaline liquid is applied to the surface of the optical film opposite to the surface on which the optical film is formed, and is heated, washed and / or neutralized. Then, only the back surface of the film is saponified.

[塗膜形成方法]
本発明の光学フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。以下、反射防止フィルムの形成方法を例にとり、本発明の光学フィルムの製造方法について詳細に説明する。
まず、各層を形成するための成分を含有した塗布液が調製される。塗布液を、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法(米国特許2681294号明細書参照)により透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥する。これらの塗布方式のうち、グラビアコート法で塗布すると反射防止フィルムの各層のような塗布量の少ない塗布液を膜厚均一性高く塗布することができ、好ましい。グラビアコート法の中でもマイクログラビア法は膜厚均一性が高く、より好ましい。
また、ダイコート法を用いても塗布量の少ない塗布液を膜厚均一性高く塗布することができ、さらにダイコート法は前計量方式のため膜厚制御が比較的容易であり、さらに塗布部における溶剤の蒸散が少ないため、好ましい。二層以上を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許2761791号、同2941898号、同3508947号、同3526528号の各明細書および原崎勇次著、コーティング工学、253頁、朝倉書店(1973)に記載がある。
[Coating method]
The optical film of the present invention can be formed by the following method, but is not limited to this method. Hereinafter, the method for producing an optical film of the present invention will be described in detail by taking the method for forming an antireflection film as an example.
First, a coating solution containing components for forming each layer is prepared. The coating solution is applied on a transparent support by dip coating, air knife coating, curtain coating, roller coating, wire bar coating, gravure coating or extrusion coating (see US Pat. No. 2,681,294). Heat and dry. Of these coating methods, a gravure coating method is preferable because a coating solution with a small coating amount such as each layer of the antireflection film can be applied with high film thickness uniformity. Among the gravure coating methods, the micro gravure method has a high film thickness uniformity and is more preferable.
In addition, a coating solution with a small coating amount can be applied with high film thickness uniformity even by using the die coating method. Furthermore, since the die coating method is a pre-weighing method, the film thickness can be controlled relatively easily, and the solvent in the coating part can be controlled. Is preferred because of less transpiration. Two or more layers may be applied simultaneously. The methods for simultaneous application are described in US Pat. Nos. 2,761,791, 2,941,898, 3,508,947, and 3,526,528 and Yuji Harasaki, Coating Engineering, page 253, Asakura Shoten (1973).

本発明の反射防止フィルムの複数の層のうちの少なくとも2層を、1回の支持体フィルムの送り出し、各々の該光学薄膜の形成、フィルムの巻取り、の工程で形成するのが、生産コストの観点で好ましく、反射防止層が3層構成の場合には、3層を1回の工程で形成するのがより好ましい。このような製造方法は、塗布機の支持体フィルムの送り出しから巻取りまでの間に、塗布ステーションと乾燥、硬化ゾーンのセットを複数個、好ましくは光学薄膜の数と同じ数以上、縦列して設けることによって達成される。
図1に装置構成の一例を示す。ロールフィルムの送り出し(101)から巻取り(112)までの一工程中に、第一の塗布ステーション(102)、第一の乾燥ゾーン(103)、第一のUV照射機(104)、第二の塗布ステーション(105)、第二の乾燥ゾーン(106)、第二のUV照射機(107)、第三の塗布ステーション(108)、第三の乾燥ゾーン(109)、第三のUV照射機(110)、後加熱ゾーン(111)を含んだ例であり、例えば中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層の3層、ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層の3層、ハードコート層、防眩層、低屈折率層の3層等、一工程で3層までの機能層を形成することができる。必要に応じて、塗布ステーションの数を2つに減らした装置構成として中屈折率層と高屈折率層の2層だけを一工程で形成し、面状、膜厚等をチェックした結果をフィードバックして得率を向上させたり、防眩層、低屈折率層の2層からなる防眩性反射防止フィルムを低コストで製造したり、4つに増やした装置構成として、ハードコート層、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を一工程で形成して塗布コストを大幅に低減する、といった製造方法とすることも、別の好ましい形態として挙げられる。また、UV硬化性樹脂だけで層を構成し、後加熱ゾーンを省略することもコスト、設置場所の観点からは望ましい。
It is a production cost that at least two of the plurality of layers of the antireflection film of the present invention are formed by the steps of feeding the support film once, forming each optical thin film, and winding the film. From the viewpoint of the above, when the antireflection layer has a three-layer structure, it is more preferable to form the three layers in one step. In such a manufacturing method, a plurality of coating stations and drying / curing zone sets, preferably the same number or more as the number of optical thin films, are cascaded between feeding and winding of the support film of the coating machine. This is achieved by providing.
FIG. 1 shows an example of the device configuration. During one step from roll film delivery (101) to winding (112), the first coating station (102), the first drying zone (103), the first UV irradiator (104), the second Coating station (105), second drying zone (106), second UV irradiator (107), third coating station (108), third drying zone (109), third UV irradiator (110) is an example including a post-heating zone (111), for example, three layers of a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer, a hard coat layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer. Functional layers up to three layers can be formed in one step, such as three layers, a hard coat layer, an antiglare layer, and a low refractive index layer. If necessary, the number of coating stations is reduced to two, and only two layers, the middle refractive index layer and the high refractive index layer, are formed in one step, and the results of checking the surface shape, film thickness, etc. are fed back. To improve the yield, to produce an antiglare antireflection film consisting of two layers, an antiglare layer and a low refractive index layer, at low cost, or as a device configuration increased to four, a hard coat layer, Another preferred embodiment is a manufacturing method in which the refractive index layer, the high refractive index layer, and the low refractive index layer are formed in one step to significantly reduce the coating cost. In addition, it is desirable from the viewpoint of cost and installation location that the layer is formed only with the UV curable resin and the post-heating zone is omitted.

[偏光板]
偏光板は、偏光膜を両面から挟む2枚の保護フィルムで主に構成される。本発明の光学フィルム、特に反射防止フィルムを、偏光膜を両面から挟む2枚の保護フィルムのうち少なくとも1枚に用いることが好ましい。本発明の反射防止フィルムが保護フィルムを兼ねることで、偏光板の製造コストを低減できる。また、本発明の反射防止フィルムを最表層に使用することにより、外光の映り込み等が防止され、耐傷性、防汚性等も優れた偏光板とすることができる。
[Polarizer]
The polarizing plate is mainly composed of two protective films that sandwich the polarizing film from both sides. The optical film of the present invention, particularly the antireflection film, is preferably used for at least one of the two protective films sandwiching the polarizing film from both sides. Since the antireflection film of the present invention also serves as a protective film, the production cost of the polarizing plate can be reduced. Further, by using the antireflection film of the present invention as the outermost layer, reflection of external light and the like can be prevented, and a polarizing plate having excellent scratch resistance, antifouling property and the like can be obtained.

偏光膜としては公知の偏光膜や、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜から切り出された偏光膜を用いてもよい。偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜は以下の方法により作成される。
即ち、連続的に供給されるポリマーフィルムの両端を保持手段により保持しつつ張力を付与して延伸した偏光膜で、少なくともフィルム幅方向に1.1〜20.0倍に延伸し、フィルム両端の保持装置の長手方向進行速度差が3%以内であり、フィルム両端を保持する工程の出口におけるフィルムの進行方向と、フィルムの実質延伸方向のなす角が、20〜70゜傾斜するようにフィルム進行方向を、フィルム両端を保持させた状態で屈曲させてなる延伸方法によって製造することができる。特に45°傾斜させたものが生産性の観点から好ましく用いられる。
As the polarizing film, a known polarizing film or a polarizing film cut out from a long polarizing film whose absorption axis is neither parallel nor perpendicular to the longitudinal direction may be used. A long polarizing film whose absorption axis is neither parallel nor perpendicular to the longitudinal direction is produced by the following method.
That is, a polarizing film stretched by applying tension while holding both ends of a continuously supplied polymer film by a holding means, stretched at least 1.1 to 20.0 times in the film width direction, The progress of the film is such that the difference between the moving speeds in the longitudinal direction of the holding device is within 3%, and the angle formed by the film moving direction at the exit of the step of holding both ends of the film and the substantial stretching direction of the film is inclined by 20 to 70 °. The film can be produced by a stretching method in which the direction is bent while holding both ends of the film. In particular, those inclined by 45 ° are preferably used from the viewpoint of productivity.

ポリマーフィルムの延伸方法については、特開2002−86554号公報の段落0020〜0030に詳しい記載がある。   The method for stretching the polymer film is described in detail in paragraphs 0020 to 0030 of JP-A-2002-86554.

本発明の反射防止フィルムは、偏光膜の表面保護フィルムの片側として用いた場合、ツイステットネマチック(TN)、スーパーツイステットネマチック(STN)、バーティカルアライメント(VA)、インプレインスイッチング(IPS)、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル(OCB)等のモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。   The antireflection film of the present invention, when used as one side of the surface protective film of the polarizing film, is twisted nematic (TN), super twisted nematic (STN), vertical alignment (VA), in-plane switching (IPS), optical It can be preferably used for a transmissive, reflective, or transflective liquid crystal display device of a mode such as a curry compensate bend cell (OCB).

VAモードの液晶セルには、(1)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のVAモードの液晶セル(特開平2−176625号公報記載)に加えて、(2)視野角拡大のため、VAモードをマルチドメイン化した(MVAモードの)液晶セル(SID97、Digest of tech. Papers(予稿集)28(1997)845記載)、(3)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード(n−ASMモード)の液晶セル(日本液晶討論会の予稿集58〜59(1998)記載)および(4)SURVAIVALモードの液晶セル(LCDインターナショナル98で発表)が含まれる。
VAモードの液晶セル用には、2軸延伸したトリアセチルセルロースフィルムを本発明の光学フィルムと組み合わせて作成した偏光板が好ましく用いられる。2軸延伸したトリアセチルセルロースフィルムの作製方法については、例えば特開2001−249223号公報、特開2003−170492号公報などに記載の方法を用いることが好ましい。
The VA mode liquid crystal cell includes (1) a narrowly defined VA mode liquid crystal cell in which rod-like liquid crystalline molecules are aligned substantially vertically when no voltage is applied, and substantially horizontally when a voltage is applied (Japanese Patent Laid-Open No. Hei 2-). (2) In addition to (2) Liquid crystal cell (SID97, Digest of tech. Papers (Preliminary Collection) 28 (1997) 845 in which the VA mode is converted into a multi-domain (MVA mode) for viewing angle expansion ), (3) A liquid crystal cell in a mode (n-ASM mode) in which rod-like liquid crystalline molecules are substantially vertically aligned when no voltage is applied and twisted multi-domain alignment is applied when a voltage is applied (Preliminary collections 58-59 of the Japan Liquid Crystal Society) (1998)) and (4) SURVAVAL mode liquid crystal cells (announced at LCD International 98).
For a VA mode liquid crystal cell, a polarizing plate prepared by combining a triacetyl cellulose film stretched biaxially with the optical film of the present invention is preferably used. As for the method for producing a biaxially stretched triacetyl cellulose film, for example, the methods described in JP-A Nos. 2001-249223 and 2003-170492 are preferably used.

OCBモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に(対称的に)配向させるベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置であり、米国特許4583825号、同5410422号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、OCB(Optically Compensatory Bend) 液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。   The OCB mode liquid crystal cell is a liquid crystal display device using a bend alignment mode liquid crystal cell in which rod-like liquid crystalline molecules are aligned in a substantially opposite direction (symmetrically) between the upper part and the lower part of the liquid crystal cell. It is disclosed in the specifications of Japanese Patent Nos. 45882525 and 5410422. Since the rod-like liquid crystal molecules are symmetrically aligned at the upper and lower portions of the liquid crystal cell, the bend alignment mode liquid crystal cell has a self-optical compensation function. Therefore, this liquid crystal mode is also called an OCB (Optically Compensatory Bend) liquid crystal mode. The bend alignment mode liquid crystal display device has an advantage of high response speed.

ECBモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向しており、カラーTFT液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。例えば「EL、PDP、LCDディスプレイ」東レリサーチセンター発行(2001)などに記載されている。   In an ECB mode liquid crystal cell, rod-like liquid crystal molecules are substantially horizontally aligned when no voltage is applied, and is most frequently used as a color TFT liquid crystal display device, and is described in many documents. For example, it is described in “EL, PDP, LCD display” published by Toray Research Center (2001).

特にTNモードやIPSモードの液晶表示装置に対しては、特開2001−100043号公報等に記載されているように、視野角拡大効果を有する光学補償フィルムを偏光膜の裏表2枚の保護フィルムの内の本発明の反射防止フィルムとは反対側の面に用いることにより、1枚の偏光板の厚みで反射防止効果と視野角拡大効果を有する偏光板を得ることができ、特に好ましい。   In particular, for TN mode and IPS mode liquid crystal display devices, as described in JP-A-2001-100043, an optical compensation film having an effect of widening a viewing angle is used as a protective film having two polarizing films on both sides. Among them, by using it on the surface opposite to the antireflection film of the present invention, a polarizing plate having an antireflection effect and a viewing angle widening effect can be obtained with the thickness of one polarizing plate, which is particularly preferable.

以下、実施例により本発明を説明するが、本発明はこれらに限定されない。なお、特別の断りの無い限り、「部」及び「%」は質量基準である。また、以下、実施例1〜9、実施例10の分散液No.c−5、c−6、c−7、c−8、c−9、2c−1、2c−4、2c−5、実施例11の反射防止膜No.303及び306は、「参考例」と読み替えるものとする。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention, this invention is not limited to these. Unless otherwise specified, “part” and “%” are based on mass. In addition, hereinafter, the dispersion Nos. 1 to 9 and Example 10 were used. c-5, c-6, c-7, c-8, c-9, 2c-1, 2c-4, 2c-5, antireflection film No. 10 of Example 11. 303 and 306 shall be read as “reference example”.

<実施例1>
[無機酸化物微粒子の安定化処理]
(分散液A−1の調製)
シリカ微粒子ゾル(イソプロピルアルコールシリカゾル、日産化学工業(株)製 IPA−ST−L、平均粒子系45nm、シリカ濃度30%)333部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン30部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート1.5部加え混合した後に、イオン交換水9部を加えた。60℃で8時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン1.8部を添加し、分散液A−1を得た。
<Example 1>
[Stabilization of inorganic oxide fine particles]
(Preparation of dispersion A-1)
Silica fine particle sol (isopropyl alcohol silica sol, IPA-ST-L manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., average particle size 45 nm, silica concentration 30%), 333 parts, acryloyloxypropyltrimethoxysilane 30 parts, and diisopropoxyaluminum ethyl After adding 1.5 parts of acetate and mixing, 9 parts of ion-exchanged water was added. After making it react at 60 degreeC for 8 hours, it cooled to room temperature, 1.8 parts of acetylacetone was added, and the dispersion liquid A-1 was obtained.

(分散液B−1の調製)
シリカ微粒子ゾル(日産化学工業(株)製 メタノールシリカゾル、平均粒子系12nm、シリカ濃度30%)333部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン30部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート1.5部加え混合した後に、イオン交換水を9部を加えた。60℃で8時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン1.8部を添加し、分散液B−1を得た。
(Preparation of Dispersion B-1)
To 333 parts of silica fine particle sol (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., methanol silica sol, average particle size 12 nm, silica concentration 30%), 30 parts of acryloyloxypropyltrimethoxysilane and 1.5 parts of diisopropoxyaluminum ethyl acetate are added and mixed. After that, 9 parts of ion-exchanged water was added. After making it react at 60 degreeC for 8 hours, it cooled to room temperature, 1.8 parts of acetylacetone was added, and the dispersion liquid B-1 was obtained.

(分散液C−1の調製)
中空シリカ微粒子ゾル(イソプロピルアルコールシリカゾル、触媒化成工業(株)製CS60−IPA、平均粒子径60nm、シェル厚み10nm、シリカ濃度20%、シリカ粒子の屈折率1.31)500部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン30部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート1.5部加え混合した後に、イオン交換水を9部を加えた。60℃で8時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン1.8部を添加し、分散液C−1を得た。
(Preparation of dispersion C-1)
Hollow silica fine particle sol (isopropyl alcohol silica sol, CS60-IPA manufactured by Catalytic Chemical Industry Co., Ltd., average particle diameter 60 nm, shell thickness 10 nm, silica concentration 20%, silica particle refractive index 1.31) in 500 parts, acryloyloxypropyl After 30 parts of trimethoxysilane and 1.5 parts of diisopropoxyaluminum ethyl acetate were added and mixed, 9 parts of ion-exchanged water was added. After making it react at 60 degreeC for 8 hours, it cooled to room temperature, 1.8 parts of acetylacetone was added, and the dispersion liquid C-1 was obtained.

(分散液D−1の調製)
酸化ジルコニウム微粒子ゾル(メチルエチルケトン酸化ジルコニウムゾル、住友大阪セメント(株)製、平均粒子径10nm、酸化ジルコニウム濃度30%)333部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン30部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート1.5部加え混合した後に、イオン交換水を9部を加えた。60℃で8時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン1.8部を添加し、分散液D−1を得た
(Preparation of dispersion D-1)
Zirconium oxide fine particle sol (methyl ethyl ketone zirconium sol, manufactured by Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd., average particle size 10 nm, zirconium oxide concentration 30%), 333 parts, acryloyloxypropyltrimethoxysilane 30 parts, and diisopropoxyaluminum ethyl acetate 1 After adding 5 parts and mixing, 9 parts of ion-exchanged water was added. After reacting at 60 ° C. for 8 hours, the mixture was cooled to room temperature, and 1.8 parts of acetylacetone was added to obtain dispersion D-1.

上記分散液において、一般式(I)の化合物、酸触媒または金属キレート化合物を表1に示す様に変更した以外は全く同様にして、(A−2)〜(A−9)、(B−2)〜(B−6)、(C−2)〜(C−5)及び(D−2)〜(D−4)の分散液を調製した。得られた分散液は、調製直後と、40℃で2週間保管の後に以下の評価を行った。   In the above dispersion, (A-2) to (A-9), (B-) were changed in exactly the same manner except that the compound of general formula (I), acid catalyst or metal chelate compound was changed as shown in Table 1. Dispersions of (2) to (B-6), (C-2) to (C-5) and (D-2) to (D-4) were prepared. The obtained dispersion liquid was subjected to the following evaluation immediately after preparation and after storage at 40 ° C. for 2 weeks.

評価1:分散液中異物評価
分散液を直径10mmの試験管に10cc採取し、目視にて異物を観察した。目視で分かる異物の発生の程度を以下の4ランクに分けて評価した。
○ :異物は認められない。
△ :50μm程度の異物が僅かに認められる。
× :500μm以上の異物が明らかに認められる。
××:500μm以上の異物に加え明らかな凝集沈降物が認められる。
評価2:分散液の粘度
分散液を25℃において、振動式粘度計で粘度を測定した。
各分散物について調製直後に、更には40℃で2週間放置後に、それぞれ評価した結果を表1に示す。
表1
Evaluation 1: Evaluation of foreign matter in dispersion 10 cc of the dispersion was collected in a test tube having a diameter of 10 mm, and the foreign matter was visually observed. The degree of occurrence of foreign matters that can be visually observed was divided into the following four ranks and evaluated.
○: Foreign matter is not recognized.
Δ: Foreign matter of about 50 μm is slightly observed.
X: Foreign matter of 500 μm or more is clearly recognized.
XX: In addition to foreign matters of 500 μm or more, clear aggregated sediment is observed.
Evaluation 2: Viscosity of dispersion liquid The viscosity of the dispersion liquid was measured at 25 ° C. using a vibration viscometer.
Table 1 shows the results of evaluation for each dispersion immediately after preparation and after standing at 40 ° C. for 2 weeks.
Table 1

Figure 0005046482
Figure 0005046482

第1表より以下のことが明らかである。
本発明に従い、一般式(I)で表される化合物と、酸触媒および金属キレート化合物の少なくともいずれかを用いて無機酸化物微粒子を処理した分散液は、調製直後から高温での保管の後も分散物中の異物の発生が少なく、また粘度の増加が少なく安定している。特に、金属キレート化合物で表される化合物を用いて調製した分散液は粘度の経時変化が少なく安定性に優れている。
また、分散液(C−1)の調整時にジイソプロポキシアルミニウムアセトアセテートの代わりにジ−n−ブトキシビス(エチルアセテート)ジルコニウムを用いた分散液と、分散液(D−4)の調整時にジイソプロポキシアルミニウムアセトアセテートの代わりにジイソプロポキシビス(エチルアセテート)チタニウムを用いた分散液を調整し、上記と同様の評価を行なったところ、本発明の金属キレート化合物を用いて調整した分散液は粘度の経時変化が少なく安定性に優れている傾向を示した。
From Table 1, the following is clear.
According to the present invention, a dispersion obtained by treating inorganic oxide fine particles using a compound represented by the general formula (I) and at least one of an acid catalyst and a metal chelate compound can be used immediately after preparation and after storage at high temperature. There is little generation of foreign matter in the dispersion, and there is little increase in viscosity and it is stable. In particular, a dispersion prepared using a compound represented by a metal chelate compound has little change in viscosity with time and is excellent in stability.
In addition, a dispersion using di-n-butoxybis (ethyl acetate) zirconium instead of diisopropoxyaluminum acetoacetate at the time of preparing the dispersion (C-1), and a diisotropy at the time of preparing the dispersion (D-4). A dispersion using diisopropoxybis (ethyl acetate) titanium instead of propoxyaluminum acetoacetate was prepared and evaluated in the same manner as described above. The dispersion prepared using the metal chelate compound of the present invention had a viscosity of There was little change with time, and there was a tendency to be excellent in stability.

<実施例2>
[溶媒置換処理した分散液の調製A2−1]
実施例1の分散液(A−1)の500gにほぼシリカの含量一定となるようにメチルイソブチルケトンを添加しながら、圧力150torrで減圧蒸留による溶媒置換を行った。得られた分散液のイソプロピルアルコールの残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ、1.0%以下であった。分散液に異物の発生はなく、固形分濃度をメチルイソブチルケトンで調整し30%にしたときの粘度は25℃で3mPa・sであった。
[溶媒置換処理した分散液の調製B2−2]
実施例1の分散液(B−2)の500gにほぼシリカの含量一定となるようにメチルエチルケトンを添加しながら、圧力150torrで減圧蒸留による溶媒置換を行った。得られた分散液のメタノールの残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ、1.0%以下であった。分散液に異物の発生はなく、固形分濃度をメチルエチルケトンで調整し30%にしたときの粘度は25℃で3mPa・sであった。
[溶媒置換処理した分散液の調製C2−1]
実施例1の分散液(C−1)の500gにほぼシリカの含量一定となるようにメチルイソブチルケトンを添加しながら、圧力150torrで減圧蒸留による溶媒置換を行った。得られた分散液のイソプロピルアルコールの残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ、1.0%以下であった。分散液に異物の発生はなく、固形分濃度をメチルイソブチルケトンで調整し20%にしたときの粘度は25℃で2mPa・sであった。
<Example 2>
[Preparation of dispersion subjected to solvent substitution treatment A2-1]
While adding methyl isobutyl ketone to 500 g of the dispersion liquid (A-1) of Example 1 so that the silica content was almost constant, solvent substitution was performed by distillation under reduced pressure at a pressure of 150 torr. When the residual amount of isopropyl alcohol in the obtained dispersion was analyzed by gas chromatography, it was 1.0% or less. There was no generation of foreign matter in the dispersion, and the viscosity when the solid concentration was adjusted to 30% with methyl isobutyl ketone was 3 mPa · s at 25 ° C.
[Preparation of solvent-dispersed dispersion B2-2]
While adding methyl ethyl ketone to 500 g of the dispersion liquid (B-2) of Example 1 so that the silica content was substantially constant, solvent substitution was performed by distillation under reduced pressure at a pressure of 150 torr. When the residual amount of methanol in the obtained dispersion was analyzed by gas chromatography, it was 1.0% or less. There was no generation of foreign matter in the dispersion, and the viscosity was 3 mPa · s at 25 ° C. when the solid content was adjusted to 30% with methyl ethyl ketone.
[Preparation of dispersion subjected to solvent substitution C2-1]
While adding methyl isobutyl ketone to 500 g of the dispersion (C-1) of Example 1 so that the content of silica was almost constant, solvent substitution was performed by distillation under reduced pressure at a pressure of 150 torr. When the residual amount of isopropyl alcohol in the obtained dispersion was analyzed by gas chromatography, it was 1.0% or less. No foreign matter was generated in the dispersion, and the viscosity when the solid concentration was adjusted to 20% with methyl isobutyl ketone was 2 mPa · s at 25 ° C.

<実施例3>
以下に示す多層の反射防止フィルムを作製した。
(ハードコート層用塗布液の調製)
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌してハードコート層塗布液とした。
トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA:ビスコート#295、日本化薬(株)製)750.0質量部に、質量平均分子量15000のポリ(グリシジルメタクリレート)270.0質量部、メチルエチルケトン730.0質量部、シクロヘキサノン500.0質量部及び光重合開始剤(イルガキュア184、日本チバガイギー(株)製)50.0質量部を添加して攪拌した。孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用の塗布液を調製した。
<Example 3>
The multilayer antireflection film shown below was produced.
(Preparation of coating solution for hard coat layer)
The following composition was put into a mixing tank and stirred to obtain a hard coat layer coating solution.
750.0 parts by mass of trimethylolpropane triacrylate (TMPTA: Biscote # 295, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 270.0 parts by mass of poly (glycidyl methacrylate) having a mass average molecular weight of 15000, 730.0 parts by mass of methyl ethyl ketone, 500.0 parts by mass of cyclohexanone and 50.0 parts by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure 184, Nippon Ciba Geigy Co., Ltd.) were added and stirred. The solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to prepare a coating solution for a hard coat layer.

(二酸化チタン微粒子分散液の調製)
二酸化チタン微粒子としては、コバルトを含有し、かつ水酸化アルミニウムと水酸化ジルコニウムを用いて表面処理を施した二酸化チタン微粒子(MPT−129C、石原産業(株)製、TiO2:Co34:Al23:ZrO2=90.5:3.0:4.0:0.5質量比)を使用した。
この粒子257.1質量部に、下記分散剤41.1質量部、およびシクロヘキサノン701.8質量部を添加してダイノミルにより分散し、質量平均径70nmの二酸化チタン分散液を調製した。
(Preparation of titanium dioxide fine particle dispersion)
As the titanium dioxide fine particles, titanium dioxide fine particles (MPT-129C, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., TiO 2 : Co 3 O 4 : containing cobalt and subjected to surface treatment using aluminum hydroxide and zirconium hydroxide: Al 2 O 3 : ZrO 2 = 90.5: 3.0: 4.0: 0.5 mass ratio) was used.
The following dispersant (41.1 parts by mass) and cyclohexanone (701.8 parts by mass) were added to 257.1 parts by mass of the particles and dispersed by dynomill to prepare a titanium dioxide dispersion having a mass average diameter of 70 nm.

分散剤

Figure 0005046482
Dispersant
Figure 0005046482

(中屈折率層用塗布液の調製)
上記の二酸化チタン分散液99.1質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA)68.0質量部、光重合開始剤(イルガキュア907)3.6質量部、光増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)1.2質量部、メチルエチルケトン279.6質量部およびシクロヘキサノン1049.0質量部を添加して攪拌した。十分に攪拌したのち、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液を調製した。
(Preparation of coating solution for medium refractive index layer)
In 99.1 parts by mass of the above titanium dioxide dispersion, 68.0 parts by mass of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), 3.6 parts by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure 907), light A sensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 1.2 parts by mass, 279.6 parts by mass of methyl ethyl ketone and 1049.0 parts by mass of cyclohexanone were added and stirred. After sufficiently stirring, the solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to prepare a coating solution for a medium refractive index layer.

(高屈折率層用塗布液の調製)
上記の二酸化チタン分散液469.8質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)40.0質量部、光重合開始剤(イルガキュア907、日本チバガイギー(株)製)3.3質量部、光増感剤(カヤキュア-DETX、日本化薬(株)製)1.1質量部、メチルエチルケトン526.2質量部、およびシクロヘキサノン459.6質量部を添加して攪拌した。孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用の塗布液を調製した。
(Preparation of coating solution for high refractive index layer)
To 469.8 parts by mass of the above titanium dioxide dispersion, 40.0 parts by mass of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.), a photopolymerization initiator (Irgacure 907) 3.3 parts by mass, manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd.), 1.1 parts by mass of photosensitizer (Kayacure-DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 526.2 parts by mass of methyl ethyl ketone, and 459.6 parts by mass of cyclohexanone. Parts were added and stirred. The solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to prepare a coating solution for a high refractive index layer.

(低屈折率層用塗布液Aの調製)
メチルイソブチルケトン200質量部に対して、下記パーフルオロオレフィン共重合体(1)74.4質量部、末端メタクリレート基含有シリコーン樹脂X-22-164C(信越化学(株)製)3質量部、光ラジカル発生剤イルガキュア907(商品名)3質量部、光増感剤(カヤキュア-DETX、日本化薬(株)製)1質量部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)18.6質量部を加えて溶解した。塗布液全体の固形分濃度が7質量%となるようにメチルエチルケトンで希釈して塗布液Aを調製した。
(Preparation of coating solution A for low refractive index layer)
74.4 parts by mass of the following perfluoroolefin copolymer (1), 3 parts by mass of terminal methacrylate group-containing silicone resin X-22-164C (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 200 parts by mass of methyl isobutyl ketone Radical generator Irgacure 907 (trade name) 3 parts by mass, photosensitizer (Kayacure-DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 1 part by mass, a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, 18.6 parts by mass of Nippon Kayaku Co., Ltd.) was added and dissolved. A coating solution A was prepared by diluting with methyl ethyl ketone so that the solid content concentration of the entire coating solution was 7% by mass.

パーフルオロオレフィン共重合体(1)

Figure 0005046482
Perfluoroolefin copolymer (1)
Figure 0005046482

(パーフルオロオレフィン共重合体(1)の合成)
内容量100mlのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル40ml、ヒドロキシエチルビニルエーテル14.7gおよび過酸化ジラウロイル0.55gを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。さらにヘキサフルオロプロピレン(HFP)25gをオートクレーブ中に導入して65℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が65℃に達した時点の圧力は5.4kg/cm2であった。該温度を保持し8時間反応を続け、圧力が3.2kg/cm2に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。さらにこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから2回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー28gを得た。次に該ポリマーの20gをN,N−ジメチルアセトアミド100mlに溶解、氷冷下アクリル酸クロライド11.4gを滴下した後、室温で10時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることによりパーフルオロオレフィン共重合体(1)を19g得た。得られたポリマーの屈折率は1.421であった。
(Synthesis of perfluoroolefin copolymer (1))
Into a stainless steel autoclave with a stirrer of 100 ml, 40 ml of ethyl acetate, 14.7 g of hydroxyethyl vinyl ether and 0.55 g of dilauroyl peroxide were charged, and the inside of the system was deaerated and replaced with nitrogen gas. Furthermore, 25 g of hexafluoropropylene (HFP) was introduced into the autoclave and the temperature was raised to 65 ° C. The pressure when the temperature in the autoclave reached 65 ° C. was 5.4 kg / cm 2 . The reaction was continued for 8 hours while maintaining the temperature, and when the pressure reached 3.2 kg / cm 2 , the heating was stopped and the mixture was allowed to cool. When the internal temperature dropped to room temperature, unreacted monomers were driven out, the autoclave was opened, and the reaction solution was taken out. The obtained reaction solution was poured into a large excess of hexane, and the polymer was precipitated by removing the solvent by decantation. Further, this polymer was dissolved in a small amount of ethyl acetate and reprecipitated twice from hexane to completely remove the residual monomer. After drying, 28 g of polymer was obtained. Next, 20 g of the polymer was dissolved in 100 ml of N, N-dimethylacetamide, and 11.4 g of acrylic acid chloride was added dropwise under ice cooling, followed by stirring at room temperature for 10 hours. Ethyl acetate was added to the reaction solution, washed with water, the organic layer was extracted and concentrated, and the resulting polymer was reprecipitated with hexane to obtain 19 g of perfluoroolefin copolymer (1). The resulting polymer had a refractive index of 1.421.

(反射防止フィルム301の作製)
膜厚80μmのトリアセチルセルロースフィルム(TD-80UF、富士写真フイルム(株)製)上に、ハードコート層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。100℃で乾燥した後、酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量300mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ8μmのハードコート層を形成した。
ハードコート層の上に、中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液Aを3つの塗布ステーションを有するグラビアコーターを用いて連続して塗布した。
(Preparation of antireflection film 301)
A hard coat layer coating solution was applied onto a triacetyl cellulose film (TD-80UF, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) having a thickness of 80 μm using a gravure coater. After drying at 100 ° C., an irradiance of 400 mW / cm using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) of 160 W / cm while purging with nitrogen so that the oxygen concentration becomes 1.0 vol% or less. 2. Irradiation with an irradiation amount of 300 mJ / cm 2 was applied to cure the coating layer to form a hard coat layer having a thickness of 8 μm.
On the hard coat layer, an intermediate refractive index layer coating solution, a high refractive index layer coating solution, and a low refractive index layer coating solution A were successively applied using a gravure coater having three coating stations.

中屈折率層の乾燥条件は90℃、30秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら180W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量400mJ/cm2の照射量とした。
硬化後の中屈折率層は屈折率1.630、膜厚67nmであった。
The medium refractive index layer was dried at 90 ° C. for 30 seconds, and the ultraviolet curing condition was 180 W / cm air-cooled metal halide lamp (eye graphics) while purging with nitrogen so that the atmosphere had an oxygen concentration of 1.0% by volume or less. ), And the irradiation dose was 400 mW / cm 2 and the irradiation dose was 400 mJ / cm 2 .
The medium refractive index layer after curing had a refractive index of 1.630 and a film thickness of 67 nm.

高屈折率層の乾燥条件は90℃、30秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度600mW/cm2、照射量400mJ/cm2の照射量とした。
硬化後の高屈折率層は屈折率1.905、膜厚107nmであった。
The drying condition of the high refractive index layer is 90 ° C. for 30 seconds, and the ultraviolet curing condition is a 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (eye graphics) while purging with nitrogen so that the atmosphere has an oxygen concentration of 1.0 vol. ), And the irradiation dose was 600 mW / cm 2 and the irradiation dose was 400 mJ / cm 2 .
The cured high refractive index layer had a refractive index of 1.905 and a film thickness of 107 nm.

低屈折率層の乾燥条件は90℃、30秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が0.1体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度600mW/cm2、照射量600mJ/cm2の照射量とした。
硬化後の低屈折率層は屈折率1.458、膜厚85nmであった。
The low refractive index layer was dried at 90 ° C. for 30 seconds, and the ultraviolet curing condition was 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (eye graphics) while purging with nitrogen so that the atmosphere had an oxygen concentration of 0.1% by volume or less. ), And the irradiation amount was 600 mW / cm 2 and the irradiation amount was 600 mJ / cm 2 .
The low refractive index layer after curing had a refractive index of 1.458 and a film thickness of 85 nm.

(反射防止フィルム302の作製)
上記試料301において、低屈折率層を以下の様に変更した試料302を作製した。なお、試料301、302は反射防止フィルム301、302と同義である。以下、同様である。
(ゾル液aの調製)
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン120部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(KBM−5103、信越化学工業(株)製)100部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート3部を加え混合したのち、イオン交換水30部を加え、60℃で4時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液aを得た。質量平均分子量は1600であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が1000〜20000の成分は100%であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
(Preparation of antireflection film 302)
A sample 302 was prepared by changing the low refractive index layer in the sample 301 as follows. Samples 301 and 302 are synonymous with antireflection films 301 and 302. The same applies hereinafter.
(Preparation of sol solution a)
A stirrer, a reactor equipped with a reflux condenser, 120 parts of methyl ethyl ketone, 100 parts of acryloyloxypropyltrimethoxysilane (KBM-5103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 3 parts of diisopropoxyaluminum ethyl acetoacetate were added and mixed. Thereafter, 30 parts of ion-exchanged water was added and reacted at 60 ° C. for 4 hours, and then cooled to room temperature to obtain sol solution a. The mass average molecular weight was 1600, and among the components higher than the oligomer component, the component having a molecular weight of 1000 to 20000 was 100%. Further, from the gas chromatography analysis, the raw material acryloyloxypropyltrimethoxysilane did not remain at all.

(低屈折率層用塗布液Bの調製)
メチルイソブチルケトン200質量部に対して、低屈折率層用塗布液Aで使用の含フッ素重合体51質量部、末端メタクリレート基含有シリコーン樹脂X-22-164C(信越化学(株)製)3質量部、光ラジカル発生剤イルガキュア907(商品名)3質量部、光増感剤(カヤキュア-DETX、日本化薬(株)製)1質量部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)13質量部を加えて溶解した後に、上記ゾル液aを22.5質量部(溶媒揮発後の固形分として9質量部)と実施例1で調製した分散液A−1を111質量部(シリカ固形分として20質量部)を添加した。塗布液全体の固形分濃度が7質量%となるようにメチルエチルケトンで希釈して塗布液Bを完成した。
このようにして得られた低屈折率層用塗布液Bを用いて試料301に準じて塗布し低屈折率層膜厚が85nmになるように調節して試料302を作製した。
(Preparation of coating solution B for low refractive index layer)
Fluoropolymer 51 parts by mass and terminal methacrylate group-containing silicone resin X-22-164C (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 3 parts by mass with respect to 200 parts by mass of methyl isobutyl ketone Parts, photoradical generator Irgacure 907 (trade name) 3 parts by mass, photosensitizer (Kayacure-DETX, Nippon Kayaku Co., Ltd.) 1 part by mass, mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.) 13 parts by mass were added and dissolved, and then the sol solution a was prepared in 22.5 parts by mass (9 parts by mass as the solid content after solvent volatilization) and Example 1. 111 parts by mass (20 parts by mass as silica solid content) of dispersion A-1 was added. The coating solution B was completed by diluting with methyl ethyl ketone so that the solid content concentration of the entire coating solution was 7% by mass.
The low refractive index layer coating liquid B thus obtained was applied according to Sample 301, and the low refractive index layer thickness was adjusted to 85 nm to prepare Sample 302.

(反射防止フィルム312の作製)
上記試料302において、実施例1で調製した分散液C−1を用いたこと以外は全く同様にして試料312を作製した。硬化後の低屈折率層は屈折率1.44、膜厚85nmであった。
(Preparation of antireflection film 312)
A sample 312 was produced in the same manner as the sample 302 except that the dispersion C-1 prepared in Example 1 was used. The low refractive index layer after curing had a refractive index of 1.44 and a film thickness of 85 nm.

(反射防止フィルム318の作製)
上記試料301において、低屈折率層を以下の様に変更した試料318を作製した。
(Preparation of antireflection film 318)
A sample 318 in which the low refractive index layer of the sample 301 was changed as follows was produced.

(低屈折率層用塗布液Cの調製)
メチルイソブチルケトン200質量部に対して、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)44質量部、末端メタクリレート基含有シリコーン樹脂X-22-164C(信越化学(株)製)3質量部、光ラジカル発生剤イルガキュア907(商品名)2.5質量部、光増感剤(カヤキュア−DETX、日本化薬(株)製)0.5質量部を加えて溶解した後に、上記ゾル液aを45質量部(溶媒揮発後の固形分として18質量部)と実施例1で調製した分散液C−1を222質量部(シリカ固形分として40質量部)を添加した。塗布液全体の固形分濃度が7質量%となるようにメチルエチルケトンで希釈して塗布液Cを完成した。
(Preparation of coating solution C for low refractive index layer)
For 200 parts by mass of methyl isobutyl ketone, 44 parts by mass of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), terminal methacrylate group-containing silicone resin X-22-164C ( 3 parts by weight of Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., 2.5 parts by weight of photoradical generator Irgacure 907 (trade name), 0.5 parts by weight of photosensitizer (Kayacure-DETX, Nippon Kayaku Co., Ltd.) After addition and dissolution, 45 parts by mass of the sol liquid a (18 parts by mass as a solid content after solvent evaporation) and 222 parts by mass of the dispersion C-1 prepared in Example 1 (40 parts by mass as a silica solid content) ) Was added. The coating liquid C was completed by diluting with methyl ethyl ketone so that the solid content concentration of the entire coating liquid was 7% by mass.

このようにして得られた低屈折率層用塗布液Cを用いて試料301に準じて塗布し低屈折率層膜厚が85nmになるように調節して試料318を作製した。硬化後の低屈折率層は屈折率1.44、膜厚85nmであった。   The low refractive index layer coating liquid C thus obtained was applied according to the sample 301 and adjusted so that the thickness of the low refractive index layer was 85 nm to prepare a sample 318. The low refractive index layer after curing had a refractive index of 1.44 and a film thickness of 85 nm.

(反射防止フィルム324の作製)
上記試料301において低屈折率層を以下のように変更した試料324を作製した。
(低屈折率層用塗布液Dの調製)
オプスターJTA113(熱架橋性含フッ素ポリマー組成液(固形分6%)、溶媒メチルエチルケトン:JSR(株)製)100質量部にシクロヘキサノンを3質量部添加して、低屈折率層用塗布液Dを調製した。
このようにして得られた低屈折率層用塗布液Dを用いて試料301に準じて塗布し低屈折率層膜厚が85nmになるように調節して試料324を作製した。低屈折率層の乾燥条件は120℃、12分とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が0.1体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度120mW/cm2、照射量120mJ/cm2の照射量とした。
(Preparation of antireflection film 324)
A sample 324 in which the low refractive index layer in the sample 301 was changed as follows was produced.
(Preparation of coating solution D for low refractive index layer)
3 parts by weight of cyclohexanone is added to 100 parts by weight of OPSTAR JTA113 (thermally crosslinkable fluorine-containing polymer composition (solid content 6%), solvent methyl ethyl ketone: manufactured by JSR Corporation) to prepare a coating solution D for a low refractive index layer. did.
The low refractive index layer coating liquid D thus obtained was applied according to Sample 301, and the low refractive index layer thickness was adjusted to 85 nm to prepare Sample 324. The low refractive index layer was dried at 120 ° C. for 12 minutes, and the ultraviolet curing condition was 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (eye graphics) while purging with nitrogen so that the atmosphere had an oxygen concentration of 0.1% by volume or less. ), And the irradiation amount was 120 mW / cm 2 and the irradiation amount was 120 mJ / cm 2 .

(反射防止フィルム325の作製)
上記試料324において低屈折率層を以下のように変更した試料325を作製した。
(低屈折率層用塗布液Eの調製)
オプスターJTA113(熱架橋性含フッ素ポリマー組成液(固形分6%):JSR(株)製)70質量部、実施例1の分散液C−1を9.9質量部(シリカ固形分として1.8質量部)、ゾル液a2.0質量部(固形分として0.81質量部)にシクロヘキサノンを2.4質量部と添加して、低屈折率層用塗布液Eを調製した。
このようにして得られた低屈折率層用塗布液Eを用いて試料324に準じて塗布、硬化した。低屈折率層膜厚が85nmになるように調節して試料325を作製した。
(Preparation of antireflection film 325)
A sample 325 in which the low refractive index layer in the sample 324 was changed as follows was produced.
(Preparation of coating liquid E for low refractive index layer)
70 parts by mass of OPSTAR JTA113 (thermally crosslinkable fluorine-containing polymer composition (solid content: 6%): manufactured by JSR Corporation) and 9.9 parts by mass of dispersion C-1 of Example 1 (1. 8 parts by mass) and 2.0 parts by mass of sol liquid a (0.81 parts by mass as a solid content) were added with 2.4 parts by mass of cyclohexanone to prepare a coating solution E for low refractive index layer.
Using the coating solution E for the low refractive index layer thus obtained, coating and curing were performed according to the sample 324. A sample 325 was prepared by adjusting the thickness of the low refractive index layer to 85 nm.

(反射防止膜の評価)
得られたフィルムについて、以下の項目の評価を行った。
(1)塗膜試料のヘイズ
ヘイズメーターMODEL 1001DP(商品名、日本電色工業(株)製)を用いて測定した。評価に際しては、低屈折率層塗布液を調製後3時間以内に塗設した試料と低屈折率層塗布液を調製後40℃に48hr保管した後に塗設した試料の両方を比較評価した。
(2)スチールウール耐傷性(SW強度)評価
ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストをおこなった。
評価環境条件:25℃、60%RH
こすり材:試料と接触するテスターのこすり先端部(1cm×1cm)にスチールウール((株)日本スチールウール製、No.0000)を巻いて、動かないようバンド固定した。
移動距離(片道):13cm、こすり速度:13cm/秒、荷重:500g/cm2、先端部接触面積:1cm×1cm、こすり回数:10往復。
こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、こすり部分の傷を、以下の基準で評価した。
○:非常に注意深く見ても、全く傷が見えない。
○△:非常に注意深く見ると僅かに弱い傷が見える。
△:弱い傷が見える。
△×:中程度の傷が見える。
×:一目見ただけで分かる傷がある。
××:一面膜が傷ついている。
(Evaluation of antireflection film)
About the obtained film, the following items were evaluated.
(1) Haze of coating film sample Haze meter MODEL 1001DP (trade name, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.) was used for measurement. In the evaluation, both the sample coated within 3 hours after the preparation of the low refractive index layer coating solution and the sample coated after storing the low refractive index layer coating solution at 40 ° C. for 48 hours were compared and evaluated.
(2) Steel Wool Scratch Resistance (SW Strength) Evaluation Using a rubbing tester, a rubbing test was performed under the following conditions.
Evaluation environmental conditions: 25 ° C., 60% RH
Rub material: Steel wool (No. 0000, manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd.) was wound around the rubbing tip (1 cm × 1 cm) of a tester in contact with the sample, and the band was fixed so as not to move.
Moving distance (one way): 13 cm, rubbing speed: 13 cm / sec, load: 500 g / cm 2 , tip contact area: 1 cm × 1 cm, rubbing frequency: 10 reciprocations.
An oil-based black ink was applied to the back side of the rubbed sample and visually observed with reflected light, and scratches on the rubbed portion were evaluated according to the following criteria.
○: Even when viewed very carefully, no scratches are visible.
○ △: Slightly weak scratches are visible when viewed very carefully.
Δ: A weak scratch is visible.
Δ ×: moderate scratches are visible.
X: There are scratches that can be seen at first glance.
XX: Single-sided film is damaged.

[反射防止フィルム303〜317、319〜323、326〜330の作製]
試料302、318、325の低屈折率層処方の主バインダー組成はそのままにして、表1に記載の様に無機微粒子分散液を変更した以外は同様にして試料302〜317、319〜323、326〜330を作製した。なお、試料312の詳細は既に述べた。
評価結果を第2表に合わせて示す。
表2
[Preparation of Antireflection Films 303 to 317, 319 to 323, 326 to 330]
Samples 302 to 317, 319 to 323, and 326 were the same except that the main binder composition of the low refractive index layer formulation of Samples 302, 318, and 325 was left unchanged, and the inorganic fine particle dispersion was changed as shown in Table 1. ~ 330 were made. The details of the sample 312 have already been described.
The evaluation results are shown in Table 2.
Table 2

Figure 0005046482
Figure 0005046482

第2表に示される結果より、以下のことが明らかである。
本発明の分散物により処理された無機酸化物微粒子を用いた塗膜は、ヘイズの上昇がなく、膜の強度が向上していることが分かる。特に光硬化系のバインダーを主に使用した試料は膜強度に優れることが分かる(試料302〜304、307〜312、315〜318、321〜323、328〜330)。
また、実施例2に従い溶媒を置換した分散液を使用した試料は、塗布液調製経時後のヘイズが少なく、塗布液安定性に優れることがわかる。(試料311、317、323、330)
From the results shown in Table 2, the following is clear.
It can be seen that the coating film using the inorganic oxide fine particles treated with the dispersion of the present invention has no increase in haze and the film strength is improved. In particular, it can be seen that samples mainly using a photo-curing binder have excellent film strength (samples 302 to 304, 307 to 312, 315 to 318, 321 to 323, and 328 to 330).
Moreover, it can be seen that the sample using the dispersion liquid in which the solvent was replaced according to Example 2 had less haze after the coating liquid preparation time-lapse and was excellent in coating liquid stability. (Samples 311, 317, 323, 330)

<実施例4>
実施例3において、低屈折率層塗布液A及びBの含フッ素重合体の重合性基をアクリレートからメタクリレートに変更した試料を作製し、実施例3に準じた評価を行った結果、僅かにスチールウール耐傷性が悪化することを除いてはほぼ同様の効果が得られた。
<Example 4>
In Example 3, a sample in which the polymerizable group of the fluorine-containing polymer of the low refractive index layer coating liquids A and B was changed from acrylate to methacrylate was prepared, and the evaluation according to Example 3 was performed. The same effect was obtained except that the wool scratch resistance deteriorated.

<実施例5>
1.5mol/L、55℃のNaOH水溶液中に2分間浸漬したあと中和、水洗した80μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルム(TAC-TD80U、富士写真フイルム(株)製)と、実施例3の本発明に係る試料の裏面鹸化済みトリアセチルセルロースフィルムに、ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作製した。このようにして作製した偏光板を、反射防止膜側が最表面となるように透過型TN液晶表示装置搭載のノートパソコンの液晶表示装置(偏光選択層を有する偏光分離フィルムである住友3M(株)製のD-BEFをバックライトと液晶セルとの間に有する)の視認側の偏光板と貼り代えたところ、背景の映りこみが極めて少なく、表示品位の非常に高い表示装置が得られた。特に無機酸化物微粒子の屈折率が1.31の中空シリカ粒子を使用した試料(試料312、315,316)は特に写りこみが少なく視認性の高い表示装置が得られた。
<Example 5>
Example 3 A triacetyl cellulose film (TAC-TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) having a thickness of 80 μm, which was immersed in an aqueous 1.5 mol / L, 55 ° C. NaOH solution for 2 minutes, then neutralized and washed with water. A polarizing plate was produced by adhering and protecting both sides of a polarizer prepared by adsorbing iodine to polyvinyl alcohol on the backside saponified triacetylcellulose film of the sample according to the present invention. A liquid crystal display device of a notebook personal computer equipped with a transmissive TN liquid crystal display device (Sumitomo 3M Co., Ltd., which is a polarization separation film having a polarization selection layer) so that the anti-reflection film side is the outermost surface. When the D-BEF made by the manufacturing method was replaced with the polarizing plate on the viewing side (having between the backlight and the liquid crystal cell), there was very little reflection of the background, and a display device with very high display quality was obtained. In particular, samples (samples 312, 315, and 316) using hollow silica particles having a refractive index of 1.31 of the inorganic oxide fine particles were able to obtain a display device with particularly low reflection and high visibility.

<実施例6>
以下に示す多層反射防止フィルムを作製した。
<Example 6>
The multilayer antireflection film shown below was produced.

(ハードコート層用塗布液Aの調製)
PETA 50.0g
イルガキュア184 2.0g
SX−350(30%) 1.5g
架橋アクリル−スチレン粒子(30%) 13.9g
FP−132 0.75g
KBM−5103 10.0g
トルエン 38.5g
上記混合液を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過してハードコート層の塗布液を調製した。
(Preparation of coating liquid A for hard coat layer)
PETA 50.0g
Irgacure 184 2.0g
SX-350 (30%) 1.5g
Cross-linked acrylic-styrene particles (30%) 13.9g
FP-132 0.75g
KBM-5103 10.0g
Toluene 38.5g
The mixed solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 30 μm to prepare a hard coat layer coating solution.

それぞれ使用した化合物を以下に示す。
PETA:ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物(日本化薬(株)製)
イルガキュア184:重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)
SX−350:平均粒径3.5μm架橋ポリスチレン粒子(屈折率1.60、綜研化学(株)製、30%トルエン分散液。ポリトロン分散機にて10000rpmで20分分散後使用)。
架橋アクリル−スチレン粒子:平均粒径3.5μm(屈折率1.55、綜研化学(株)製、30%トルエン分散液。ポリトロン分散機にて10000rpmで20分分散後使用)。
The compounds used are shown below.
PETA: A mixture of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
Irgacure 184: Polymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
SX-350: average particle size 3.5 μm crosslinked polystyrene particles (refractive index 1.60, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., 30% toluene dispersion, used after dispersion at 10,000 rpm in a Polytron disperser for 20 minutes).
Cross-linked acrylic-styrene particles: average particle size 3.5 μm (refractive index 1.55, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., 30% toluene dispersion, used after dispersion at 10,000 rpm for 20 minutes in a Polytron disperser).

FP−132:フッ素系表面改質剤

Figure 0005046482
FP-132: Fluorine surface modifier
Figure 0005046482

KBM−5103:アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製)。   KBM-5103: acryloyloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).

(ハードコート層の塗設)
80μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルム(TAC−TD80U、富士写真フイルム(株)製)をロール形態で巻き出して直接、上記のハードコート層用塗布液Aを線数180本/インチ、深度40μmのグラビアパターンを有する直径50mmのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数30rpm、搬送速度30m/分の条件で塗布し、60℃で150秒乾燥の後、さらに窒素パージ下酸素濃度0.1%で160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量250mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ6μmの層を形成し、巻き取った。このようにして作製した試料得られた塗膜601の表面粗さはRa=0.18μm、Rz=1.40μm、ヘイズ35%であった。
(Coating of hard coat layer)
An 80 μm-thick triacetyl cellulose film (TAC-TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) is unwound in a roll form and directly coated with the above coating liquid A for hard coat layer 180 lines / inch, depth 40 μm. Using a micro gravure roll with a diameter of 50 mm and a doctor blade having a gravure pattern, the coating was applied under the conditions of a gravure roll rotational speed of 30 rpm and a conveying speed of 30 m / min, dried at 60 ° C. for 150 seconds, and further oxygen concentration under nitrogen purge Using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) of 0.1% and 160 W / cm, the coating layer is cured by irradiating ultraviolet rays with an illuminance of 400 mW / cm 2 and an irradiation amount of 250 mJ / cm 2 A 6 μm thick layer was formed and wound up. The surface roughness of the coating film 601 obtained in this manner was Ra = 0.18 μm, Rz = 1.40 μm, and haze 35%.

塗膜601上に実施例3および4の低屈折率層を塗設し、実施例3に準じた評価を行った結果、得られた本発明に係る反射防止フィルムはスチールウール擦り耐性が強かった。   As a result of coating the low refractive index layers of Examples 3 and 4 on the coating film 601 and performing the evaluation according to Example 3, the obtained antireflection film according to the present invention had high steel wool scuff resistance. .

<実施例7>
実施例3及び6において、塗布方式をグラビアコーターからダイコーターに変更した試料を作製し、実施例3及び6に準じた評価を行った。その結果、本発明に係る反射防止フィルムは、塗膜面状に優れ、低反射率で、膜の耐擦傷性に優れていた。
<Example 7>
In Examples 3 and 6, samples in which the coating method was changed from a gravure coater to a die coater were prepared, and evaluations according to Examples 3 and 6 were performed. As a result, the antireflection film according to the present invention was excellent in the surface of the coating film, had a low reflectance, and was excellent in the scratch resistance of the film.

<実施例8>
実施例3および6の本発明に係る試料を、有機EL表示装置の表面のガラス板に粘着剤を介して貼り合わせたところ、ガラス表面での反射が抑えられ、視認性の高い表示装置が得られた。
<Example 8>
When the samples according to the present invention of Examples 3 and 6 were bonded to the glass plate on the surface of the organic EL display device via an adhesive, reflection on the glass surface was suppressed, and a display device with high visibility was obtained. It was.

<実施例9>
[無機酸化物微粒子の安定化処理]
(分散液a−1の調製)
シリカ微粒子ゾル(イソプロピルアルコールシリカゾル、日産化学工業(株)製 IPA−ST−L、平均粒子径45nm、シリカ濃度30質量%)333部に、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン(A−1)30部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート1.5部加え混合した後に、イオン交換水9部を加えた。60℃で8時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン1.8部を添加し、分散液a−1を得た。
<Example 9>
[Stabilization of inorganic oxide fine particles]
(Preparation of dispersion a-1)
30 parts of tridecafluorooctyltrimethoxysilane (A-1) to 333 parts of silica fine particle sol (isopropyl alcohol silica sol, IPA-ST-L manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., average particle diameter 45 nm, silica concentration 30% by mass) And 1.5 parts of diisopropoxyaluminum ethyl acetoacetate were added and mixed, and then 9 parts of ion-exchanged water was added. After making it react at 60 degreeC for 8 hours, it cooled to room temperature, added 1.8 parts of acetylacetone, and obtained dispersion liquid a-1.

(分散液b−1の調製)
シリカ微粒子ゾル(メタノールシリカゾル(商品名)、平均粒子径12nm、シリカ濃度30%、日産化学工業(株)製)333部に、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン(A−3)(TSL−8233、GE東芝シリコーン(株)製)30部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート1.5部加え混合した後に、イオン交換水9部を加えた。60℃で8時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン1.8部を添加し、分散液b−1を得た。
(Preparation of dispersion b-1)
Silica fine particle sol (methanol silica sol (trade name), average particle size 12 nm, silica concentration 30%, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) 333 parts, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane (A-3) (TSL-8233, 30 parts of GE Toshiba Silicone Co., Ltd.) and 1.5 parts of diisopropoxyaluminum ethyl acetoacetate were added and mixed, and then 9 parts of ion-exchanged water was added. After making it react at 60 degreeC for 8 hours, it cooled to room temperature, 1.8 parts of acetylacetone was added, and the dispersion liquid b-1 was obtained.

(分散液c−1の調製)
中空シリカ微粒子ゾル(イソプロピルアルコール中空シリカゾル、触媒化成工業(株)製 CS−60−IPA、平均粒子径60nm、シェル厚み10nm、シリカ濃度20%、シリカ屈折率1.31)500部に、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン(A−1)30部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート1.5部加え混合した後に、イオン交換水9部を加えた。60℃で8時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン1.8部を添加し、分散液c−1を得た。
(Preparation of dispersion c-1)
Hollow silica fine particle sol (Isopropyl alcohol hollow silica sol, CS-60-IPA manufactured by Catalytic Chemical Industry Co., Ltd., average particle diameter 60 nm, shell thickness 10 nm, silica concentration 20%, silica refractive index 1.31) After 30 parts of fluorooctyltrimethoxysilane (A-1) and 1.5 parts of diisopropoxyaluminum ethyl acetoacetate were added and mixed, 9 parts of ion-exchanged water was added. After making it react at 60 degreeC for 8 hours, it cooled to room temperature, 1.8 parts of acetylacetone was added, and the dispersion liquid c-1 was obtained.

(分散液d−1の調製)
酸化ジルコニウム微粒子ゾル(メチルエチルケトン酸化ジルコニウムゾル、住友大阪セメント(株)製 平均粒子径10nm、酸化ジルコニウム濃度30%)333部に、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン(A−3)30部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート1.5部加え混合した後に、イオン交換水9部を加えた。60℃で8時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン1.8部を添加し、分散液d−1を得た。
(Preparation of dispersion d-1)
Zirconium oxide fine particle sol (Methyl ethyl ketone zirconium oxide sol, Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. average particle size 10 nm, zirconium oxide concentration 30%), 333 parts, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane (A-3) 30 parts, and diiso After adding 1.5 parts of propoxyaluminum ethyl acetoacetate and mixing, 9 parts of ion-exchanged water was added. After making it react at 60 degreeC for 8 hours, it cooled to room temperature, 1.8 parts of acetylacetone was added, and the dispersion liquid d-1 was obtained.

分散液a−1、b−1、c−1、d−1の調製において、一般式[1]または[2]で表わされる化合物、一般式(II)で表わされる化合物を表3に示すように変更した以外は全く同様にして、それぞれa−2〜a−4、b−2〜b−4、c−2〜c−4、d−2〜d−4の分散液を調製した。得られた分散液は、調製直後と40℃で2週間保管の後に以下の評価を行った。   In the preparation of the dispersions a-1, b-1, c-1, and d-1, the compounds represented by the general formula [1] or [2] and the compounds represented by the general formula (II) are shown in Table 3. Except for changing to, dispersions a-2 to a-4, b-2 to b-4, c-2 to c-4, d-2 to d-4 were prepared in the same manner. The obtained dispersion liquid was subjected to the following evaluation immediately after preparation and after storage at 40 ° C. for 2 weeks.

評価1:分散液中異物評価
分散液を直径10mmの試験管に10cc採取し、目視にて異物を観察した。目視でわかる異物の発生の程度を以下の4ランクにわけて評価した。
○:異物は認められない。
△:50μm程度の異物が僅かに認められる。
×:500μm以上の異物が明らかに認められる。
××:500μm以上の異物に加え明らかに凝集沈殿物が認められる。
Evaluation 1: Evaluation of foreign matter in dispersion 10 cc of the dispersion was collected in a test tube having a diameter of 10 mm, and the foreign matter was visually observed. The degree of occurrence of foreign matters that can be visually observed was evaluated in the following four ranks.
○: Foreign matter is not recognized.
Δ: Slightly foreign matter of about 50 μm is observed.
X: Foreign matter of 500 μm or more is clearly recognized.
XX: Aggregate precipitate is clearly observed in addition to foreign matters of 500 μm or more.

評価2:分散液の粘度
分散液を25℃において、振動式粘度計(エー・アンド・デイ(株)製CJV5000)で粘度測定した。各分散物について調製直後に、更に40℃に2週間放置後に、それぞれ評価した結果を表3に示す。
表3
Evaluation 2: Viscosity of Dispersion Viscosity of the dispersion was measured at 25 ° C. with a vibration viscometer (CJV5000 manufactured by A & D Co., Ltd.). Table 3 shows the evaluation results for each dispersion immediately after preparation and after standing at 40 ° C. for 2 weeks.
Table 3

Figure 0005046482
Figure 0005046482

表3より以下のことが明らかである。
本発明に従い、金属キレート化合物の存在下で、一般式[1]又は[2]で表される化合物、および/または、一般式(II)で表わされる化合物を用いて無機酸化物微粒子を処理した分散液は、調製直後から高温での保管の後も分散物中の異物の発生が少ない。また、40℃に2週間放置後の粘度の増加が少なく安定している。
From Table 3, the following is clear.
In accordance with the present invention, inorganic oxide fine particles were treated with a compound represented by general formula [1] or [2] and / or a compound represented by general formula (II) in the presence of a metal chelate compound. The dispersion produces little foreign matter in the dispersion immediately after preparation and after storage at a high temperature. Further, the viscosity is stable with little increase in viscosity after standing at 40 ° C. for 2 weeks.

<実施例10>
[溶媒置換処理した分散液の調製]
(ゾル液aの調製)
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン120部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(M−1)(KBM−5103、信越化学工業(株)製)100部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート3部を加え混合したのち、イオン交換水30部を加え、60℃で4時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液aを得た。質量平均分子量は1600であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が1000〜20000の成分は100%であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
<Example 10>
[Preparation of solvent-dispersed dispersion]
(Preparation of sol solution a)
A reactor equipped with a stirrer and a reflux condenser, 120 parts of methyl ethyl ketone, 100 parts of acryloyloxypropyltrimethoxysilane (M-1) (KBM-5103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), diisopropoxyaluminum ethyl acetoacetate 3 After adding parts and mixing, 30 parts of ion-exchanged water was added and reacted at 60 ° C. for 4 hours, and then cooled to room temperature to obtain sol solution a. The mass average molecular weight was 1600, and among the components higher than the oligomer component, the component having a molecular weight of 1000 to 20000 was 100%. Further, from the gas chromatography analysis, the raw material acryloyloxypropyltrimethoxysilane did not remain at all.

(ゾル液bの調製)
上記ゾル液aの調製において、反応時間を2時間に変更したことだけが異なるゾル液bを調製した。
(ゾル液cの調製)
上記ゾル液bの調製において、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(M−1)100部の代わりにトリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン(A−1)(TSL−8257、GE東芝シリコーン(株)製)40部及びアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(M−1)60部を加えたことだけが異なるゾル液cを調製した。
(分散液c−5の調製)
中空シリカ微粒子ゾル(イソプロピルアルコール中空シリカゾル、触媒化成工業(株)製 CS−60−IPA、平均粒子径60nm、シェル厚み10nm、シリカ濃度20%、シリカ屈折率1.31)500部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(M−1)30部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート1.5部加え混合した後に、イオン交換水9部を加えた。60℃で8時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン1.8部を添加し、分散液c−5を得た。
(Preparation of sol solution b)
In the preparation of the sol solution a, a sol solution b which differs only in that the reaction time was changed to 2 hours was prepared.
(Preparation of sol solution c)
In the preparation of the sol solution b, instead of 100 parts of acryloyloxypropyltrimethoxysilane (M-1), tridecafluorooctyltrimethoxysilane (A-1) (TSL-8257, manufactured by GE Toshiba Silicone Co., Ltd.) 40 Sol solutions c differing only in the addition of 60 parts of acryloyloxypropyltrimethoxysilane (M-1).
(Preparation of dispersion c-5)
Hollow silica fine particle sol (Isopropyl alcohol hollow silica sol, CS-60-IPA manufactured by Catalytic Chemical Industry Co., Ltd., average particle diameter 60 nm, shell thickness 10 nm, silica concentration 20%, silica refractive index 1.31) in 500 parts, acryloyloxy After 30 parts of propyltrimethoxysilane (M-1) and 1.5 parts of diisopropoxyaluminum ethyl acetoacetate were added and mixed, 9 parts of ion-exchanged water was added. After making it react at 60 degreeC for 8 hours, it cooled to room temperature, 1.8 parts of acetylacetone was added, and the dispersion liquid c-5 was obtained.

(分散液c−6の調製)
中空シリカ微粒子ゾル(イソプロピルアルコール中空シリカゾル、触媒化成工業(株)製 CS−60−IPA、平均粒子径60nm、シェル厚み10nm、シリカ濃度20%、シリカ屈折率1.31)500部に、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン(A−1)10部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート1.5部加え混合した後に、イオン交換水9部を加えた。60℃で4時間反応させた後にさらにアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(M−1)30部を加えて4時間反応させた。室温まで冷却し、アセチルアセトン1.8部を添加し、分散液c−6を得た。
(Preparation of dispersion c-6)
Hollow silica fine particle sol (Isopropyl alcohol hollow silica sol, CS-60-IPA manufactured by Catalytic Chemical Industry Co., Ltd., average particle diameter 60 nm, shell thickness 10 nm, silica concentration 20%, silica refractive index 1.31) After 10 parts of fluorooctyltrimethoxysilane (A-1) and 1.5 parts of diisopropoxyaluminum ethyl acetoacetate were added and mixed, 9 parts of ion-exchanged water was added. After reacting at 60 ° C. for 4 hours, 30 parts of acryloyloxypropyltrimethoxysilane (M-1) was further added and reacted for 4 hours. After cooling to room temperature, 1.8 parts of acetylacetone was added to obtain dispersion c-6.

(分散液c−7の調製)
中空シリカ微粒子ゾル(イソプロピルアルコール中空シリカゾル、触媒化成工業(株)製 CS−60−IPA、平均粒子径60nm、シェル厚み10nm、シリカ濃度20%、シリカ屈折率1.31)500部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(M−1)15部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート1.5部加え混合した後に、イオン交換水9部を加えた。60℃で4時間反応させた後にさらに上記ゾル液cを63部を加えて4時間反応させた。室温まで冷却し、アセチルアセトン1.8部を添加し、分散液c−7を得た。
(Preparation of dispersion c-7)
Hollow silica fine particle sol (Isopropyl alcohol hollow silica sol, CS-60-IPA manufactured by Catalytic Chemical Industry Co., Ltd., average particle diameter 60 nm, shell thickness 10 nm, silica concentration 20%, silica refractive index 1.31) in 500 parts, acryloyloxy After 15 parts of propyltrimethoxysilane (M-1) and 1.5 parts of diisopropoxyaluminum ethyl acetoacetate were added and mixed, 9 parts of ion-exchanged water was added. After reacting at 60 ° C. for 4 hours, 63 parts of the sol solution c was further added and reacted for 4 hours. After cooling to room temperature, 1.8 parts of acetylacetone was added to obtain dispersion c-7.

(分散液c−8の調製)
中空シリカ微粒子ゾル(イソプロピルアルコール中空シリカゾル、触媒化成工業(株)製 CS−60−IPA、平均粒子径60nm、シェル厚み10nm、シリカ濃度20%、シリカ屈折率1.31)500部に、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン(A−1)10部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート1.5部加え混合した後に、イオン交換水9部を加えた。60℃で4時間反応させた後にさらに上記ゾル液bを75部を加えて4時間反応させた。室温まで冷却し、アセチルアセトン1.8部を添加し、分散液c−8を得た。
(Preparation of dispersion c-8)
Hollow silica fine particle sol (Isopropyl alcohol hollow silica sol, CS-60-IPA manufactured by Catalytic Chemical Industry Co., Ltd., average particle diameter 60 nm, shell thickness 10 nm, silica concentration 20%, silica refractive index 1.31) After 10 parts of fluorooctyltrimethoxysilane (A-1) and 1.5 parts of diisopropoxyaluminum ethyl acetoacetate were added and mixed, 9 parts of ion-exchanged water was added. After reacting at 60 ° C. for 4 hours, 75 parts of the sol solution b was further added and reacted for 4 hours. After cooling to room temperature, 1.8 parts of acetylacetone was added to obtain dispersion c-8.

(分散液c−9の調製)
中空シリカ微粒子ゾル(イソプロピルアルコール中空シリカゾル、触媒化成工業(株)製 CS−60−IPA、平均粒子径60nm、シェル厚み10nm、シリカ濃度20%、シリカ屈折率1.31)500部に、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン(A−1)10部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(M−1)30部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート1.5部加え混合した後に、イオン交換水9部を加えた。60℃で8時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン1.8部を添加し、分散液c−9を得た。
(Preparation of dispersion c-9)
Hollow silica fine particle sol (Isopropyl alcohol hollow silica sol, CS-60-IPA manufactured by Catalytic Chemical Industry Co., Ltd., average particle diameter 60 nm, shell thickness 10 nm, silica concentration 20%, silica refractive index 1.31) After 10 parts of fluorooctyltrimethoxysilane (A-1), 30 parts of acryloyloxypropyltrimethoxysilane (M-1) and 1.5 parts of diisopropoxyaluminum ethyl acetoacetate were added and mixed, 9 parts of ion-exchanged water was added. added. After making it react at 60 degreeC for 8 hours, it cooled to room temperature, 1.8 parts of acetylacetone was added, and dispersion liquid c-9 was obtained.

(溶媒置換処理した分散液の調製:2blank)
未処理の中空シリカ微粒子ゾル(イソプロピルアルコールシリカゾル、触媒化成工業(株)製 CS−60−IPA、平均粒子径60nm、シェル厚み10nm、シリカ濃度20%、シリカ屈折率1.31)の500gにほぼシリカの含量一定となるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力39hPaで減圧蒸留による溶媒置換を行った。分散液に異物の発生はなく、固形分濃度をシクロヘキサノンで調整し20%にした時の粘度は25℃で30mPa・sであった。得られた分散液中のイソプロピルアルコールの残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ0.5%以下であった。
(Preparation of solvent-dispersed dispersion: 2 blank)
Approximately 500 g of an untreated hollow silica fine particle sol (isopropyl alcohol silica sol, CS-60-IPA, manufactured by Catalytic Chemical Industry Co., Ltd., average particle diameter 60 nm, shell thickness 10 nm, silica concentration 20%, silica refractive index 1.31) While adding cyclohexanone so that the content of silica was constant, solvent substitution was performed by distillation under reduced pressure at a pressure of 39 hPa. No foreign matter was generated in the dispersion, and the viscosity when the solid content concentration was adjusted to 20% with cyclohexanone was 30 mPa · s at 25 ° C. The residual amount of isopropyl alcohol in the obtained dispersion was analyzed by gas chromatography and found to be 0.5% or less.

(溶媒置換処理した分散液の調製:2c−1)
実施例9の分散液c−1の500gで2blankと同様な操作を行い2c−1を得た。粘度は25℃で12mPa・sであった。
(溶媒置換処理した分散液の調製:2c−2)
実施例9の分散液c−2の500gで2blankと同様な操作を行い2c−2を得た。粘度は25℃で13mPa・sであった。
(溶媒置換処理した分散液の調製:2c−3)
実施例9の分散液(c−3)の500gで2blankと同様な操作を行い2c−3を得た。粘度は25℃で13mPa・sであった。
(溶媒置換処理した分散液の調製:2c−5)
分散液(c−5)の500gで2blankと同様な操作を行い2c−5を得た。粘度は25℃で15mPa・sであった。
(溶媒置換処理した分散液の調製:2c−6〜2c−8)
分散液c−6、c−7、c−8、c−9においても2blankと同様な操作を行い、それぞれ2c−6、2c−7、2c−8、2c−9を得た。
(Preparation of solvent-dispersed dispersion: 2c-1)
The same operation as 2blank was performed with 500 g of the dispersion c-1 of Example 9 to obtain 2c-1. The viscosity was 12 mPa · s at 25 ° C.
(Preparation of solvent-dispersed dispersion: 2c-2)
2c-2 was obtained by carrying out the same operation as 2blank with 500 g of the dispersion c-2 of Example 9. The viscosity was 13 mPa · s at 25 ° C.
(Preparation of solvent-dispersed dispersion: 2c-3)
2c-3 was obtained by performing the same operation as 2 blank with 500 g of the dispersion liquid (c-3) of Example 9. The viscosity was 13 mPa · s at 25 ° C.
(Preparation of solvent-dispersed dispersion: 2c-5)
The same operation as 2blank was performed with 500 g of the dispersion (c-5) to obtain 2c-5. The viscosity was 15 mPa · s at 25 ° C.
(Preparation of solvent-dispersed dispersion: 2c-6 to 2c-8)
Dispersions c-6, c-7, c-8 and c-9 were also subjected to the same operation as 2blank to obtain 2c-6, 2c-7, 2c-8 and 2c-9, respectively.

<実施例11>
以下に示す多層の反射防止フィルムを作製した。
(ハードコート層用塗布液の調製)
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌してハードコート層塗布液とした。
トリメチロールプロパントリアクリレート(ビスコート#295、日本化薬(株)製)750.0質量部に、質量平均分子量15000のポリ(グリシジルメタクリレート)270.0質量部、メチルエチルケトン730.0質量部、シクロヘキサノン500.0質量部及び光重合開始剤(イルガキュア184、日本チバガイギー(株)製)50.0質量部を添加して攪拌した。孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用の塗布液を調製した。
<Example 11>
The multilayer antireflection film shown below was produced.
(Preparation of coating solution for hard coat layer)
The following composition was put into a mixing tank and stirred to obtain a hard coat layer coating solution.
750.0 parts by mass of trimethylolpropane triacrylate (Biscoat # 295, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 270.0 parts by mass of poly (glycidyl methacrylate) having a mass average molecular weight of 15000, 730.0 parts by mass of methyl ethyl ketone, 500 cyclohexanone 0.0 part by mass and 50.0 parts by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Geigy Japan, Inc.) were added and stirred. The solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to prepare a coating solution for a hard coat layer.

(二酸化チタン微粒子分散液の調製)
二酸化チタン微粒子としては、コバルトを含有し、かつ水酸化アルミニウムと水酸化ジルコニウムを用いて表面処理を施した二酸化チタン微粒子(MPT−129C、石原産業(株)製、TiO2:Co34:Al23:ZrO2=90.5:3.0:4.0:0.5質量比)を使用した。
この粒子257.1質量部に、下記分散剤41.1質量部、およびシクロヘキサノン701.8質量部を添加してダイノミルにより分散し、質量平均径70nmの二酸化チタン分散液を調製した。
分散剤
(Preparation of titanium dioxide fine particle dispersion)
As the titanium dioxide fine particles, titanium dioxide fine particles (MPT-129C, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., TiO 2 : Co 3 O 4 : containing cobalt and subjected to surface treatment using aluminum hydroxide and zirconium hydroxide: Al 2 O 3 : ZrO 2 = 90.5: 3.0: 4.0: 0.5 mass ratio) was used.
The following dispersant (41.1 parts by mass) and cyclohexanone (701.8 parts by mass) were added to 257.1 parts by mass of the particles and dispersed by dynomill to prepare a titanium dioxide dispersion having a mass average diameter of 70 nm.
Dispersant

Figure 0005046482
Figure 0005046482

(中屈折率層用塗布液の調製)
上記の二酸化チタン分散液99.1質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA)68.0質量部、光重合開始剤(イルガキュア907)3.6質量部、光増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)1.2質量部、メチルエチルケトン279.6質量部およびシクロヘキサノン1049.0質量部を添加して攪拌した。十分に攪拌したのち、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液を調製した。
(Preparation of coating solution for medium refractive index layer)
In 99.1 parts by mass of the above titanium dioxide dispersion, 68.0 parts by mass of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), 3.6 parts by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure 907), light A sensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 1.2 parts by mass, 279.6 parts by mass of methyl ethyl ketone and 1049.0 parts by mass of cyclohexanone were added and stirred. After sufficiently stirring, the solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to prepare a coating solution for a medium refractive index layer.

(高屈折率層用塗布液の調製)
上記の二酸化チタン分散液469.8質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)40.0質量部、光重合開始剤(イルガキュア907、日本チバガイギー(株)製)3.3質量部、光増感剤(カヤキュア-DETX、日本化薬(株)製)1.1質量部、メチルエチルケトン526.2質量部、およびシクロヘキサノン459.6質量部を添加して攪拌した。孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用の塗布液を調製した。
(Preparation of coating solution for high refractive index layer)
To 469.8 parts by mass of the above titanium dioxide dispersion, 40.0 parts by mass of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.), a photopolymerization initiator (Irgacure 907) 3.3 parts by mass, manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd.), 1.1 parts by mass of photosensitizer (Kayacure-DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 526.2 parts by mass of methyl ethyl ketone, and 459.6 parts by mass of cyclohexanone. Parts were added and stirred. The solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to prepare a coating solution for a high refractive index layer.

(低屈折率層用塗布液Aの調製)
2−ブタノン200質量部、シクロヘキサノン150部に対して、含フッ素ポリマー(P−3)75.2質量部、メタクリレート基含有シリコーン樹脂RMS−033(Gelest(株)製)3質量部、光ラジカル発生剤イルガキュア907(商品名)3質量部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)18.8質量部を加えて溶解した。塗布液全体の固形分濃度が7質量%となるようにメチルエチルケトンで希釈して低屈折率層用塗布液Aを調製した。
(Preparation of coating solution A for low refractive index layer)
2-butanone 200 parts by weight, cyclohexanone 150 parts by weight, fluorine-containing polymer (P-3) 75.2 parts by weight, methacrylate group-containing silicone resin RMS-033 (manufactured by Gelest Co., Ltd.) 3 parts by weight, photoradical generation 3 parts by mass of the agent Irgacure 907 (trade name) and 18.8 parts by mass of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.) were added and dissolved. A low refractive index layer coating solution A was prepared by diluting with methyl ethyl ketone so that the solid content concentration of the entire coating solution was 7% by mass.

(反射防止フィルム301の作製)
膜厚80μmのトリアセチルセルロースフィルム(TD80UF、富士写真フイルム(株)製)上に、ハードコート層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。100℃で乾燥した後、酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量300mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ8μmのハードコート層を形成した。
ハードコート層の上に、中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液Aを3つの塗布ステーションを有するグラビアコーターを用いて連続して塗布した。
(Preparation of antireflection film 301)
A hard coat layer coating solution was applied on a triacetyl cellulose film (TD80UF, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) having a thickness of 80 μm using a gravure coater. After drying at 100 ° C., an irradiance of 400 mW / cm using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) of 160 W / cm while purging with nitrogen so that the oxygen concentration becomes 1.0 vol% or less. 2. Irradiation with an irradiation amount of 300 mJ / cm 2 was applied to cure the coating layer to form a hard coat layer having a thickness of 8 μm.
On the hard coat layer, an intermediate refractive index layer coating solution, a high refractive index layer coating solution, and a low refractive index layer coating solution A were successively applied using a gravure coater having three coating stations.

中屈折率層の乾燥条件は90℃、30秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら180W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量400mJ/cm2の照射量とした。
硬化後の中屈折率層は屈折率1.630、膜厚67nmであった。
The medium refractive index layer was dried at 90 ° C. for 30 seconds, and the ultraviolet curing condition was 180 W / cm air-cooled metal halide lamp (eye graphics) while purging with nitrogen so that the atmosphere had an oxygen concentration of 1.0% by volume or less. ), And the irradiation dose was 400 mW / cm 2 and the irradiation dose was 400 mJ / cm 2 .
The medium refractive index layer after curing had a refractive index of 1.630 and a film thickness of 67 nm.

高屈折率層の乾燥条件は90℃、30秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度600mW/cm2、照射量400mJ/cm2の照射量とした。硬化後の高屈折率層は屈折率1.905、膜厚107nmであった。 The drying condition of the high refractive index layer is 90 ° C. for 30 seconds, and the ultraviolet curing condition is a 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (eye graphics) while purging with nitrogen so that the atmosphere has an oxygen concentration of 1.0 vol. ), And the irradiation dose was 600 mW / cm 2 and the irradiation dose was 400 mJ / cm 2 . The cured high refractive index layer had a refractive index of 1.905 and a film thickness of 107 nm.

低屈折率層の乾燥条件は90℃、30秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が0.05体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度600mW/cm2、照射量600mJ/cm2の照射量とした。
硬化後の低屈折率層は屈折率1.458、膜厚85nmであった。
The low refractive index layer was dried at 90 ° C. for 30 seconds, and the ultraviolet curing condition was 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (eye graphics) while purging with nitrogen so that the atmosphere had an oxygen concentration of 0.05% by volume or less. ), And the irradiation amount was 600 mW / cm 2 and the irradiation amount was 600 mJ / cm 2 .
The low refractive index layer after curing had a refractive index of 1.458 and a film thickness of 85 nm.

(反射防止フィルム302の作製)
上記試料301において、低屈折率層を以下の様に変更した試料302を作製した。なお、試料301、302は反射防止フィルム301、302と同義である。以下、同様である。
(Preparation of antireflection film 302)
A sample 302 was prepared by changing the low refractive index layer in the sample 301 as follows. Samples 301 and 302 are synonymous with antireflection films 301 and 302. The same applies hereinafter.

(低屈折率層用塗布液Bの調製)
2−ブタノン200質量部、シクロヘキサノン150質量部に対して、低屈折率層用塗布液Aで使用の含フッ素ポリマー30質量部、メタクリレート基含有シリコーン樹脂RMS−033(Gelest(株)製)3質量部、光ラジカル発生剤イルガキュア907(商品名)3質量部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)7質量部を加えて溶解した後に、上記ゾル液aを45質量部(溶媒揮発後の固形分として27質量部)と実施例10で調製した分散液2blankを150質量部(シリカ固形分として30質量部)を添加した。塗布液全体の固形分濃度が7質量%となるようにメチルエチルケトンで希釈して低屈折率層用塗布液Bを完成した。
このようにして得られた低屈折率層用塗布液Bを用いて試料301に準じて塗布し低屈折率層膜厚が85nmになるように調節して試料302を作製した。試料302の低屈折率層の屈折率は1.435であった。
(Preparation of coating solution B for low refractive index layer)
2 parts by mass of 2-butanone and 150 parts by mass of cyclohexanone, 30 parts by mass of the fluorine-containing polymer used in the coating solution A for low refractive index layer, 3 parts by mass of methacrylate group-containing silicone resin RMS-033 (manufactured by Gelest Co., Ltd.) Parts, photoradical generator Irgacure 907 (trade name) 3 parts by mass, dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate mixture (DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.) 7 parts by mass, 45 parts by mass of the sol liquid a (27 parts by mass as the solid content after solvent evaporation) and 150 parts by mass of the dispersion 2 blank prepared in Example 10 (30 parts by mass as the silica solid content) were added. The coating liquid B for low refractive index layer was completed by diluting with methyl ethyl ketone so that the solid content concentration of the entire coating liquid was 7% by mass.
The low refractive index layer coating liquid B thus obtained was applied according to Sample 301, and the low refractive index layer thickness was adjusted to 85 nm to prepare Sample 302. The refractive index of the low refractive index layer of Sample 302 was 1.435.

(反射防止膜の評価)
得られたフィルムについて、以下の項目の評価を行った。
(1)塗膜試料の面状
塗布済みの試料の裏面に油状黒インクを塗り、500Wの三波長蛍光灯下約10cmのところで角度を変えて目視で評価した。
反射光が拡散し白くモヤ状に見えるムラを以下の基準で評価した。
◎:非常に注意深く見ても全くモヤが見えない。
○:非常に注意深く見るとわずかに光が拡散している。
△:モヤ状に白い部分が認められる。
×:一面が白いモヤ状である。
(Evaluation of antireflection film)
About the obtained film, the following items were evaluated.
(1) Planar shape of coating film sample Oily black ink was applied to the back surface of the coated sample, and the angle was changed at about 10 cm under a 500 W three-wavelength fluorescent lamp and visually evaluated.
The unevenness in which reflected light is diffused and appears white and dull is evaluated according to the following criteria.
A: Even if you look very carefully, you can not see any haze.
○: Slightly diffused when viewed very carefully.
Δ: A haze-like white portion is observed.
X: One surface has a white haze.

(2)スチールウール耐傷性(SW強度)評価
ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストをおこなった。
評価環境条件:25℃、60%RH
こすり材:試料と接触するテスターのこすり先端部(1cm×1cm)にスチールウール((株)日本スチールウール製、No.0000)を巻いて、動かないようバンド固定した。
移動距離(片道):13cm、こすり速度:13cm/秒、荷重:500g/cm2、先端部接触面積:1cm×1cm、こすり回数:10往復。
こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、こすり部分の傷を、以下の基準で評価した。
◎:非常に注意深く見ても、全く傷が見えない。
○:非常に注意深く見ると僅かに弱い傷が見えるが実用上問題ない。
△:弱い傷が見える。
△×:中程度の傷が見える。
×:一目見ただけで分かる傷がある。
××:一面膜が傷ついている。
(2) Steel Wool Scratch Resistance (SW Strength) Evaluation Using a rubbing tester, a rubbing test was performed under the following conditions.
Evaluation environmental conditions: 25 ° C., 60% RH
Rub material: Steel wool (No. 0000, manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd.) was wound around the rubbing tip (1 cm × 1 cm) of a tester in contact with the sample, and the band was fixed so as not to move.
Moving distance (one way): 13 cm, rubbing speed: 13 cm / sec, load: 500 g / cm 2 , tip contact area: 1 cm × 1 cm, rubbing frequency: 10 reciprocations.
An oil-based black ink was applied to the back side of the rubbed sample and visually observed with reflected light, and scratches on the rubbed portion were evaluated according to the following criteria.
A: Even when viewed very carefully, no scratches are visible.
○: Slightly weak scratches are visible when viewed very carefully, but there is no practical problem.
Δ: A weak scratch is visible.
Δ ×: moderate scratches are visible.
X: There are scratches that can be seen at first glance.
XX: Single-sided film is damaged.

(反射防止フィルム303〜307の作製)
試料302の低屈折率層処方の主バインダー組成はそのままにして、表4に記載の様に無機微粒子分散液とゾル液aの添加量を変えた以外は同様にして試料303〜306を作製した。試料303〜306の屈折率はいずれも1.435付近であった。また、試料307は試料305において、含フッ素ポリマー(P−3)をDPHAに置換したことだけが異なる以外は全く同様にして作製した。試料307の屈折率は1.44であった。
表4
(Preparation of antireflection films 303 to 307)
Samples 303 to 306 were prepared in the same manner except that the main binder composition of the low refractive index layer formulation of sample 302 was left unchanged and the addition amount of the inorganic fine particle dispersion and sol liquid a was changed as shown in Table 4. . The refractive indexes of Samples 303 to 306 were all around 1.435. Sample 307 was produced in the same manner as sample 305, except that the fluoropolymer (P-3) was replaced with DPHA. The refractive index of Sample 307 was 1.44.
Table 4

Figure 0005046482
Figure 0005046482

表4に示される結果より、以下のことが明らかである。
本発明の分散物により処理された中空シリカ微粒子を用いた塗膜は、面状、SW強度共に良好な値を示すことがわかった。
From the results shown in Table 4, the following is clear.
It was found that the coating film using the hollow silica fine particles treated with the dispersion of the present invention showed good values for both the surface shape and the SW strength.

また試料302の低屈折率層処方の主バインダー組成はそのままにして、表5に記載の様に無機微粒子分散液を変えて、ゾル液aを除いた以外は同様にして試料308〜311を作製した。
表5
Samples 308 to 311 were prepared in the same manner except that the sol solution a was removed by changing the inorganic fine particle dispersion as shown in Table 5 while keeping the main binder composition of the low refractive index layer formulation of the sample 302. did.
Table 5

Figure 0005046482
Figure 0005046482

表5に示される結果より、以下のことが明らかである。
同量のシランカップリング剤(A−1)及び(M−1)との部分縮合物で本発明の分散物を比較すると、(M−1)を反応の途中から追添(試料308)したり、(M−1)のゾルであるゾル液bを追添(試料310)することでSW強度や面状が良化傾向にあることがわかった。
また、(A−1)と(M−1)のゾルであるゾルcを追添(試料309)することでも面状、SW強度が良化傾向にあることがわかった。
From the results shown in Table 5, the following is clear.
When the dispersion of the present invention was compared with the same amount of the partial condensate with the silane coupling agents (A-1) and (M-1), (M-1) was added from the middle of the reaction (sample 308). In addition, it was found that the SW strength and the surface shape tend to be improved by adding the sol liquid b which is the sol of (M-1) (sample 310).
Further, it was found that the surface shape and the SW intensity tend to be improved by adding sol c (sample 309) which is the sol of (A-1) and (M-1).

<実施例12>
実施例11において、低屈折率層塗布液A及びBの含フッ素ポリマーの重合性基をアクリレートからメタクリレートに変更した試料を作製し、実施例11に準じた評価を行った結果、僅かにスチールウール耐傷性が悪化することを除いてはほぼ同様の効果が得られた。
<Example 12>
In Example 11, a sample in which the polymerizable group of the fluorine-containing polymer in the low refractive index layer coating liquids A and B was changed from acrylate to methacrylate was prepared, and the evaluation according to Example 11 was performed. A similar effect was obtained except that the scratch resistance deteriorated.

<実施例13>
1.5mol/L、55℃のNaOH水溶液中に2分間浸漬したあと中和、水洗した80μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルム(TD80U、富士写真フイルム(株)製)と、実施例11の本発明に係る試料の裏面鹸化済みトリアセチルセルロースフィルムに、ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作製した。このようにして作製した偏光板を、反射防止膜側が最表面となるように透過型TN液晶表示装置搭載のノートパソコンの液晶表示装置(偏光選択層を有する偏光分離フィルムである住友3M(株)製のD-BEFをバックライトと液晶セルとの間に有する)の視認側の偏光板と貼り代えたところ、背景の映りこみが極めて少なく、表示品位の非常に高い表示装置が得られた。特に無機酸化物微粒子の屈折率が1.31の中空シリカ粒子を使用した試料は特に写りこみが少なく視認性の高い表示装置が得られた。
<Example 13>
80 μm-thick triacetylcellulose film (TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.), neutralized and washed with a 1.5 mol / L, 55 ° C. NaOH aqueous solution for 2 minutes, and the book of Example 11 A polarizing plate was prepared by adhering and protecting both sides of a polarizer prepared by adsorbing iodine to polyvinyl alcohol on a back-saponified triacetyl cellulose film of the sample according to the invention and stretching. A liquid crystal display device of a notebook personal computer equipped with a transmissive TN liquid crystal display device (Sumitomo 3M Co., Ltd., which is a polarization separation film having a polarization selection layer) so that the anti-reflection film side is the outermost surface. When the D-BEF made by the manufacturing method was replaced with the polarizing plate on the viewing side (having between the backlight and the liquid crystal cell), there was very little reflection of the background, and a display device with very high display quality was obtained. In particular, a sample using hollow silica particles having a refractive index of 1.31 of the inorganic oxide fine particles was able to obtain a display device with particularly low reflection and high visibility.

<実施例14>
以下に示す多層反射防止フィルムを作製した。
<Example 14>
The multilayer antireflection film shown below was produced.

(ハードコート層用塗布液Aの調製)
PETA 50.0g
イルガキュア184 2.0g
SX−350(30%) 1.5g
架橋アクリル−スチレン粒子(30%) 13.9g
FP−132 0.75g
KBM−5103 10.0g
トルエン 38.5g
上記混合液を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過してハードコート層の塗布液を調製した。
(Preparation of coating liquid A for hard coat layer)
PETA 50.0g
Irgacure 184 2.0g
SX-350 (30%) 1.5g
Cross-linked acrylic-styrene particles (30%) 13.9g
FP-132 0.75g
KBM-5103 10.0g
Toluene 38.5g
The mixed solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 30 μm to prepare a hard coat layer coating solution.

それぞれ使用した化合物を以下に示す。
PETA:ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物(KAYARAD PET−30(商品名)、日本化薬(株)製)
イルガキュア184:重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)
SX−350:平均粒径3.5μm架橋ポリスチレン粒子(屈折率1.60、綜研化学(株)製、30%トルエン分散液。ポリトロン分散機にて10000rpmで20分分散後使用)。
架橋アクリル−スチレン粒子:平均粒径3.5μm(屈折率1.55、綜研化学(株)製、30%トルエン分散液。ポリトロン分散機にて10000rpmで20分分散後使用)。
FP−132:フッ素系表面改質剤
The compounds used are shown below.
PETA: A mixture of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate (KAYARAD PET-30 (trade name), manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
Irgacure 184: Polymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
SX-350: average particle size 3.5 μm crosslinked polystyrene particles (refractive index 1.60, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., 30% toluene dispersion, used after dispersion at 10,000 rpm in a Polytron disperser for 20 minutes).
Cross-linked acrylic-styrene particles: average particle size 3.5 μm (refractive index 1.55, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., 30% toluene dispersion, used after dispersion at 10,000 rpm for 20 minutes in a Polytron disperser).
FP-132: Fluorine surface modifier

Figure 0005046482
Figure 0005046482

KBM−5103:アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製)。   KBM-5103: acryloyloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).

(ハードコート層の塗設)
80μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルム(TD80U、富士写真フイルム(株)製)をロール形態で巻き出して直接、上記のハードコート層用塗布液Aを線数180本/インチ、深度40μmのグラビアパターンを有する直径50mmのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数30rpm、搬送速度30m/分の条件で塗布し、60℃で150秒乾燥の後、さらに窒素パージ下酸素濃度0.1%で160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量250mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ6μmの層を形成し、巻き取った。このようにして作製した試料得られた塗膜601の表面粗さはRa=0.18μm、Rz=1.40μm、ヘイズ35%であった。
(Coating of hard coat layer)
An 80 μm-thick triacetyl cellulose film (TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) is unwound in a roll form and directly coated with the coating liquid A for hard coat layer 180 lines / inch and a depth of 40 μm. Using a micro gravure roll having a diameter of 50 mm and a doctor blade having a pattern, coating was performed under the conditions of a gravure roll rotation speed of 30 rpm and a conveyance speed of 30 m / min, drying at 60 ° C. for 150 seconds, and then an oxygen concentration of 0. Using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) at 1%, the coating layer is cured by irradiating ultraviolet rays with an illuminance of 400 mW / cm 2 and an irradiation amount of 250 mJ / cm 2 , and a thickness of 6 μm The layer was formed and wound up. The surface roughness of the coating film 601 obtained in this manner was Ra = 0.18 μm, Rz = 1.40 μm, and haze 35%.

上記のハードコート層上に実施例11および12の低屈折率層を塗設し、実施例11に準じた評価を行った結果、得られた本発明に係る反射防止フィルムは面状に優れスチールウール擦り耐性が強かった。   As a result of coating the low refractive index layers of Examples 11 and 12 on the above hard coat layer and performing an evaluation according to Example 11, the obtained antireflection film according to the present invention has an excellent surface shape and is steel. Wool scuff resistance was strong.

<実施例15>
(ハードコート層用塗布液の調製)
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌してハードコート層塗布液とした。
<Example 15>
(Preparation of coating solution for hard coat layer)
The following composition was put into a mixing tank and stirred to obtain a hard coat layer coating solution.

(ハードコート層用塗布液組成)
デソライトZ7404
(ジルコニア微粒子含有ハードコート組成液:JSR(株)製) 100質量部
DPHA(UV硬化性樹脂:日本化薬(株)製) 31質量部
KBM−5103(シランカップリング剤:信越化学工業(株)製) 10質量部
KE−P150(1.5μmシリカ粒子:日本触媒(株)製) 8.9質量部
MXS−300(3μm架橋PMMA粒子:綜研化学(株)製) 3.4質量部
MEK 29質量部
MIBK 13質量部
(Coating solution composition for hard coat layer)
Desolite Z7404
(Zirconia fine particle-containing hard coat composition solution: manufactured by JSR Corporation) 100 parts by mass DPHA (UV curable resin: manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 31 parts by mass KBM-5103 (silane coupling agent: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) )) 10 parts by mass KE-P150 (1.5 μm silica particles: manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) 8.9 parts by mass MXS-300 (3 μm cross-linked PMMA particles: manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 3.4 parts by mass MEK 29 parts by weight MIBK 13 parts by weight

(反射防止フィルムの作製)
支持体としてトリアセチルセルロースフィルム(TD80U、富士写真フイルム(株)製)をロール形態で巻き出して、上記のハードコート層用塗布液を線数135本/インチ、深度60μmのグラビアパターンを有する直径50mmのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、搬送速度10m/分の条件で塗布し、60℃で150秒乾燥の後、さらに窒素パージ下で160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量250mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、巻き取った。硬化後のハードコート層の厚さが3.6μmとなるようにグラビアロール回転数を調整した。ハードコート層の表面粗さを走査型プローブ顕微鏡システム(セイコーインスツルメンツ(株)製、SPI3800型)で測定したところ、中心線平均粗さRa=0.04μm、自乗平均面粗さRMS=0.06μm、十点平均粗さRz=0.27μmであった。上記のハードコート層の上に実施例11の低屈折率層を塗設し、実施例11に準じた評価を行った結果、得られた本発明に係る反射防止フィルムは面状に優れスチールウール擦り耐性が強かった。
(Preparation of antireflection film)
A triacetyl cellulose film (TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) as a support is unrolled in a roll form, and the above coating liquid for hard coat layer has a diameter of 135 lines / inch and a gravure pattern with a depth of 60 μm. Using a 50 mm micro gravure roll and a doctor blade, the coating was carried out under conditions of a conveyance speed of 10 m / min, dried at 60 ° C. for 150 seconds, and further under a nitrogen purge, an air-cooled metal halide lamp (Igraphics Corporation) )), The coating layer was cured by being irradiated with ultraviolet rays having an illuminance of 400 mW / cm 2 and an irradiation amount of 250 mJ / cm 2 . The rotational speed of the gravure roll was adjusted so that the thickness of the hard coat layer after curing was 3.6 μm. When the surface roughness of the hard coat layer was measured with a scanning probe microscope system (manufactured by Seiko Instruments Inc., SPI model 3800), the center line average roughness Ra = 0.04 μm and the root mean square roughness RMS = 0.06 μm. The ten-point average roughness Rz = 0.27 μm. As a result of coating the low refractive index layer of Example 11 on the above hard coat layer and performing the evaluation according to Example 11, the obtained antireflection film according to the present invention was excellent in surface shape and was made of steel wool. Scratch resistance was strong.

<実施例16>
実施例11及び15において、塗布方式をグラビアコーターからダイコーターに変更した試料を作製し、実施例11及び15に準じた評価を行った。その結果、本発明に係る反射防止フィルムは、塗膜面状に優れ、低反射率で、膜の耐擦傷性に優れていた。
<Example 16>
In Examples 11 and 15, samples in which the coating method was changed from the gravure coater to the die coater were produced, and evaluation according to Examples 11 and 15 was performed. As a result, the antireflection film according to the present invention was excellent in the surface of the coating film, had a low reflectance, and was excellent in the scratch resistance of the film.

<実施例17>
実施例11及び15の本発明に係る試料を、有機EL表示装置の表面のガラス板に粘着剤を介して貼り合わせたところ、ガラス表面での反射が抑えられ、視認性の高い表示装置が得られた。
<Example 17>
When the samples according to the present invention of Examples 11 and 15 were bonded to the glass plate on the surface of the organic EL display device via an adhesive, reflection on the glass surface was suppressed, and a display device with high visibility was obtained. It was.

本発明の反射防止フィルムを製造するための装置の構成の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of a structure of the apparatus for manufacturing the antireflection film of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

101 ロールフィルムの送り出し
102 第一の塗布ステーション
103 第一の乾燥ゾーン
104 第一のUV照射機
105 第二の塗布ステーション
106 第二の乾燥ゾーン
107 第二のUV照射機
108 第三の塗布ステーション
109 第三の乾燥ゾーン
110 第三のUV照射機
111 後乾燥ゾーン
112 ロールフィルムの巻取り
DESCRIPTION OF SYMBOLS 101 Roll film delivery 102 1st coating station 103 1st drying zone 104 1st UV irradiation machine 105 2nd coating station 106 2nd drying zone 107 2nd UV irradiation machine 108 3rd coating station 109 Third drying zone 110 Third UV irradiator 111 Post-drying zone 112 Roll film winding

Claims (15)

無機酸化物微粒子が有機溶媒中に分散してなる無機酸化物微粒子分散物の製造方法であって、該製造方法が、
(1)ケトン系溶媒の含率が30体積%以下のアルコール系有機溶媒中、酸触媒および下記金属キレート化合物の少なくともいずれかの存在下で、下記一般式(II)で表されるオルガノシランの加水分解物および/またはその部分縮合物の少なくとも1種と、下記一般式[1]で表される含フッ素シランカップリング剤の少なくとも1種とによって無機酸化物微粒子を表面処理する工程、及び、
(2)該表面処理に用いた分散媒を、全溶媒中のケトン系溶媒の含量を90体積%以上に増やすように溶媒置換する工程、
を含み、
該溶媒置換が無機酸化物粒子の含量が一定となるようにケトン系溶媒を添加しながら行う減圧蒸留による溶媒置換であり、
該ケトン系溶媒が、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、及びシクロヘキサノンから選ばれる溶媒である
ことを特徴とする無機酸化物微粒子分散物の製造方法。
金属キレート化合物
一般式R3OH(式中、R3は炭素数1〜10のアルキル基を示す。)で表されるアルコール及び/又は一般式R4COCH2COR5(式中、R4は炭素数1〜10のアルキル基を、R5は炭素数1〜10のアルキル基または炭素数1〜10のアルコキシ基を示す。)で表される化合物とを配位子とした、Zr、TiおよびAlから選ばれる金属を中心金属とする少なくとも1種の金属キレート化合物。
一般式(II)
Figure 0005046482

(式中、R 1 は水素原子、メチル基、メトキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、または塩素原子を表す。Yは単結合、−COO−、−CONH−又は−O−を表し、Lは2価の連結基を表す。nは0または1を表す。R 10 は置換もしくは無置換のアルキル基、無置換のアリール基を表し、Xは水酸基または加水分解可能な基を表す。)
一般式[1] (Rf−L 1 n −Si(R 11 4-n
(式中、Rfは炭素数1〜20の直鎖、分岐、環状の含フッ素アルキル基、または炭素数6〜14の含フッ素芳香族基を表す。L 1 は炭素数10以下の2価の連結基を表し、R 11 は水酸基または加水分解可能な基を表す。nは1〜3の整数を表す。)
A method for producing an inorganic oxide fine particle dispersion in which inorganic oxide fine particles are dispersed in an organic solvent, the production method comprising:
(1) An organosilane represented by the following general formula (II) in the presence of at least one of an acid catalyst and the following metal chelate compound in an alcoholic organic solvent having a ketone solvent content of 30% by volume or less . A step of surface-treating inorganic oxide fine particles with at least one of a hydrolyzate and / or a partial condensate thereof and at least one fluorine-containing silane coupling agent represented by the following general formula [1] ; and
(2) A step of replacing the dispersion medium used in the surface treatment with a solvent so that the content of the ketone solvent in all the solvents is increased to 90% by volume or more ,
Including
The solvent substitution is a solvent substitution by distillation under reduced pressure while adding a ketone solvent so that the content of inorganic oxide particles is constant,
The method for producing an inorganic oxide fine particle dispersion, wherein the ketone solvent is a solvent selected from acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, and cyclohexanone.
Metal chelate compounds (wherein, R 3 represents. An alkyl group having 1 to 10 carbon atoms) Formula R 3 OH alcohol and / or the general formula R 4 COCH 2 COR 5 (wherein represented by, R 4 is Zr, Ti, wherein the alkyl group has 1 to 10 carbon atoms, R 5 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms. And at least one metal chelate compound having a metal selected from Al as a central metal.
Formula (II)
Figure 0005046482

(In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a methyl group, a methoxy group, an alkoxycarbonyl group, a cyano group, or a chlorine atom. Y represents a single bond, —COO—, —CONH—, or —O—, and L represents Represents a divalent linking group, n represents 0 or 1. R 10 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or an unsubstituted aryl group, and X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group.
Formula [1] (Rf-L 1 ) n -Si (R 11) 4-n
(In the formula, Rf represents a linear, branched or cyclic fluorine-containing alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a fluorine-containing aromatic group having 6 to 14 carbon atoms. L 1 is a divalent divalent having 10 or less carbon atoms. Represents a linking group, R 11 represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group, and n represents an integer of 1 to 3.)
前記一般式[1]で表される含フッ素シランカップリング剤が下記一般式[2]で表されることを特徴とする請求項1に記載の無機酸化物微粒子分散物の製造方法。
一般式[2] Cn2n+1−(CH2m−Si(R)3
(式中、nは1〜10の整数を表し、mは1〜5の整数を表す。Rは炭素数1〜5のアルコキシ基またはハロゲン原子を表す。)
The method for producing an inorganic oxide fine particle dispersion according to claim 1, wherein the fluorine-containing silane coupling agent represented by the general formula [1] is represented by the following general formula [2].
Formula [2] C n F 2n + 1 - (CH 2) m -Si (R) 3
(In the formula, n represents an integer of 1 to 10, m represents an integer of 1 to 5. R represents an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom.)
前記無機酸化物微粒子がシリカ微粒子であることを特徴とする請求項1または2に記載の無機酸化物微粒子分散物の製造方法。 Method of producing an inorganic oxide fine particle dispersion according to claim 1 or 2, wherein the inorganic oxide fine particles are silica fine particles. 前記無機酸化物微粒子が中空のシリカ微粒子であることを特徴とする請求項1〜のいずれか一項に記載の無機酸化物微粒子分散物の製造方法。 The method for producing an inorganic oxide fine particle dispersion according to any one of claims 1 to 3 , wherein the inorganic oxide fine particles are hollow silica fine particles. 請求項1〜のいずれか一項に記載の製造方法によって得られたことを特徴とする無機酸化物微粒子分散物。 An inorganic oxide fine particle dispersion obtained by the production method according to any one of claims 1 to 4 . 請求項に記載の無機酸化物微粒子分散物と皮膜形成組成物とを含むコーティング組成物であって、該皮膜形成組成物の少なくとも1種の成分がエチレン性不飽和基を有する化合物であることを特徴とするコーティング組成物。 A coating composition comprising the inorganic oxide fine particle dispersion according to claim 5 and a film-forming composition, wherein at least one component of the film-forming composition is a compound having an ethylenically unsaturated group. A coating composition characterized by 請求項に記載の無機酸化物微粒子分散物と皮膜形成組成物とを含むコーティング組成物であって、該皮膜形成組成物の主たる成分がエチレン性不飽和基を有する化合物であることを特徴とするコーティング組成物。 A coating composition comprising the inorganic oxide fine particle dispersion according to claim 5 and a film-forming composition, wherein the main component of the film-forming composition is a compound having an ethylenically unsaturated group. Coating composition. 透明支持体上に、請求項6または7に記載のコーティング組成物を用いて形成された層を有することを特徴とする光学フィルム。 An optical film having a layer formed using the coating composition according to claim 6 on a transparent support. 前記コーティング組成物から形成された層に含有される無機酸化物微粒子が中空状粒子であり、該層の屈折率が1.20以上1.46以下であることを特徴とする請求項に記載の光学フィルム。 Wherein an inorganic oxide fine particles hollow particles contained in the layer formed from the coating composition, according to claim 8, characterized in that the layer of a refractive index of 1.20 or more 1.46 or less Optical film. 前記コーティング組成物から形成された層に含有される無機酸化物微粒子が中空のシリカ微粒子であって、該中空のシリカ微粒子の屈折率が1.17以上1.40以下であることを特徴とする請求項8または9に記載の光学フィルム。 The inorganic oxide fine particles contained in the layer formed from the coating composition are hollow silica fine particles, and the refractive index of the hollow silica fine particles is 1.17 to 1.40. The optical film according to claim 8 or 9 . 請求項8〜10のいずれか一項に記載の光学フィルムが、透明支持体上に反射防止層を有する反射防止フィルムであって、低屈折率層が前記コーティング組成物を用いて形成されていることを特徴とする反射防止フィルム。 The optical film as described in any one of Claims 8-10 is an antireflection film which has an antireflection layer on a transparent support body, Comprising: The low refractive index layer is formed using the said coating composition. An antireflection film characterized by that. 前記コーティング組成物中に含有される無機酸化物微粒子が、低屈折率層の厚みの30%以上150%以下にある中空のシリカ微粒子であることを特徴とする請求項11に記載の反射防止フィルム。 The antireflection film according to claim 11 , wherein the inorganic oxide fine particles contained in the coating composition are hollow silica fine particles having a thickness of 30% to 150% of the thickness of the low refractive index layer. . 低屈折率層が下記一般式1で表される含フッ素ポリマーを含有した塗布液から形成されたことを特徴とする、請求項11または12に記載の反射防止フィルム。
Figure 0005046482

(式中、Lは炭素数1〜10の連結基を表し、mは0または1を表す。Xは水素原子またはメチル基を表す。Aは任意のビニルモノマーの重合単位を表し、単一成分であっても複数の成分で構成されていてもよい。x、y、zはそれぞれの構成成分のモル%を表し、30≦x≦60、5≦y≦70、0≦z≦65を満たす値を表す。)
The antireflective film according to claim 11 or 12 , wherein the low refractive index layer is formed from a coating solution containing a fluorine-containing polymer represented by the following general formula 1.
Figure 0005046482

(Wherein L represents a linking group having 1 to 10 carbon atoms, m represents 0 or 1, X represents a hydrogen atom or a methyl group, A represents a polymerized unit of any vinyl monomer, and a single component. Or x, y, z represents the mol% of each component, and satisfies 30 ≦ x ≦ 60, 5 ≦ y ≦ 70, and 0 ≦ z ≦ 65. Represents the value.)
請求項8〜13のいずれか一項に記載のフィルムが、偏光板における偏光子の保護フィルムに用いられていることを特徴とする偏光板。 The film as described in any one of Claims 8-13 is used for the protective film of the polarizer in a polarizing plate, The polarizing plate characterized by the above-mentioned. 請求項8〜13のいずれか一項に記載のフィルム、または請求項14に記載の偏光板が、ディスプレイの最表面に用いられていることを特徴とする画像表示装置。 An image display device, wherein the film according to any one of claims 8 to 13 or the polarizing plate according to claim 14 is used on an outermost surface of a display.
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