JP2007069471A - Optical film, antireflection film, polarizing plate, and display - Google Patents

Optical film, antireflection film, polarizing plate, and display Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical film which is improved in dispersibility of fine inorganic oxide particles without spoiling performance including reflectance and scratch resistance, prevents the deterioration of a film surface state by the aggregation of the inorganic oxide particles, and is good in production efficiency. <P>SOLUTION: In the optical film, an optical function layer is formed on a transparent support by the application of an optical function layer forming coating solution. The coating solution contains the fine silanized inorganic oxide particles. The surface of the inorganic oxide particle has at least 1.4 silyl groups per 1 nm<SP>2</SP>. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、CRT等の表示装置、特に好適に液晶ディスプレイに用いられ、反射防止性および視認性に優れた反射防止フィルムおよびそれを用いた偏光板に関する。   The present invention relates to a display device such as a liquid crystal display, a plasma display, and a CRT, and more particularly to an antireflection film excellent in antireflection and visibility, and a polarizing plate using the same.

光学フィルム、中でも反射防止フィルムは、一般に陰極管表示装置(CRT)、プラズマディスプレイ(PDP)エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や液晶表示装置(LCD)のようなディスプレイ装置において、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率を低減するためにディスプレイの最表面に配置される。   Optical films, especially antireflection films, are generally used in cathode ray tube display (CRT), plasma display (PDP), electroluminescent display (ELD), and liquid crystal display (LCD) display devices to reduce contrast due to reflection of external light. In order to prevent reflection of images and images, it is arranged on the outermost surface of the display in order to reduce reflectivity using the principle of optical interference.

このような反射防止フィルムは、最表面に適切な膜厚の低屈折率層、場合により支持体との間に適宜高屈折率層、中屈折率層、ハードコート層、防眩層、帯電防止層、光拡散層などを形成することにより作製できる。低い反射率を実現するために低屈折率層にはできるだけ屈折率の低い材料が望まれる。また反射防止フィルムはディスプレイの最表面に用いられるため高い耐擦傷性が要求される。厚さ100nm前後の薄膜において高い耐擦傷性を実現するためには、皮膜自体の強度が必要である。   Such an antireflection film has a low refractive index layer having an appropriate thickness on the outermost surface, and optionally a high refractive index layer, a medium refractive index layer, a hard coat layer, an antiglare layer, and an antistatic layer. It can be produced by forming a layer, a light diffusion layer, or the like. In order to realize a low reflectance, a material having a refractive index as low as possible is desired for the low refractive index layer. Further, since the antireflection film is used on the outermost surface of the display, high scratch resistance is required. In order to realize high scratch resistance in a thin film having a thickness of around 100 nm, the strength of the coating itself is necessary.

材料の屈折率を下げるには、含フッ素ポリマーをバインダー樹脂として用いるという手段があるが皮膜強度が損なわれ耐擦傷性が低下する方向であり、低い屈折率と高い耐傷性の両立は困難な課題であった。   In order to lower the refractive index of the material, there is a means of using a fluorine-containing polymer as a binder resin, but the film strength is impaired and the scratch resistance is lowered, and it is difficult to achieve both low refractive index and high scratch resistance. Met.

そのため含フッ素ポリマーからなる低屈折率層に適量の無機酸化物微粒子を含有し、皮膜表面の硬度を上げて耐擦傷性を改良する手段がある。該手段は低反射率と耐傷性改良に有効であったが、低屈折率層中で無機酸化物微粒子が凝集し、膜面状が悪化する問題があった。   Therefore, there is a means for improving the scratch resistance by increasing the hardness of the coating surface by containing an appropriate amount of inorganic oxide fine particles in the low refractive index layer made of a fluorine-containing polymer. This means was effective in improving the low reflectance and scratch resistance, but there was a problem that the inorganic oxide fine particles were aggregated in the low refractive index layer and the film surface was deteriorated.

また反射率や像の写りこみ性の更なる低減の他、ハードコート性や防塵性の付与などのために、低屈折率層と支持体との間に適宜高屈折率層、中屈折率層、防眩層、ハードコート層、帯電防止層などを形成する場合がある。一般に、層の屈折率調節や層表面への凹凸形成、層の硬度アップや導電性付与などの手段として、無機酸化物微粒子を層に含有する方法が用いられる。しかし前述同様、層中で無機酸化物微粒子が凝集し、膜面状が悪化する問題があった。   In addition to further reducing reflectivity and image reflectivity, as well as providing hard coat properties and dustproof properties, a high refractive index layer and a medium refractive index layer are appropriately provided between the low refractive index layer and the support. In some cases, an antiglare layer, a hard coat layer, an antistatic layer or the like is formed. In general, a method of containing inorganic oxide fine particles in a layer is used as means for adjusting the refractive index of the layer, forming irregularities on the layer surface, increasing the hardness of the layer, and imparting conductivity. However, as described above, there is a problem that the inorganic oxide fine particles aggregate in the layer and the film surface state deteriorates.

一般に、無機酸化物微粒子が有機溶剤中で凝集を起こさないようにするには、有機溶媒中に安定して分散されていることが重要である。具体的には、無機酸化物微粒子表面の親疎水性や立体障害性の制御が重要であり、無機酸化物微粒子においては、アルコキシシランを用いて表面処理することが知られている。例えば非特許文献1にはシランカップリング剤を用い無機粒子を有機溶媒に分散する方法についての記載がある。また特許文献1〜3には無機微粒子を予め表面処理しておくことにより、耐擦傷性や層の強度が改善する記載がある。さらに特許文献4には塗布液中での無機微粒子の凝集に対する保存安定性への効果も記載されている。しかしながら無機酸化物微粒子を含有する光学機能層形成用塗布液を塗設して光学機能層を形成していく乾燥過程では有機溶剤が揮発して無機酸化物微粒子濃度が上がり、凝集が促進されるため、形成された光学機能層中の粒子分散の安定性という意味では未だ不十分なレベルであった。   In general, it is important that inorganic oxide fine particles are stably dispersed in an organic solvent so as not to cause aggregation in the organic solvent. Specifically, it is important to control hydrophilicity / hydrophobicity and steric hindrance on the surface of the inorganic oxide fine particles, and it is known that the inorganic oxide fine particles are surface-treated using alkoxysilane. For example, Non-Patent Document 1 describes a method of dispersing inorganic particles in an organic solvent using a silane coupling agent. Further, Patent Documents 1 to 3 describe that the scratch resistance and the strength of the layer are improved by surface-treating inorganic fine particles in advance. Further, Patent Document 4 also describes the effect on storage stability against the aggregation of inorganic fine particles in the coating solution. However, in the drying process in which the optical functional layer forming coating liquid containing the inorganic oxide fine particles is applied to form the optical functional layer, the organic solvent volatilizes and the concentration of the inorganic oxide fine particles increases, thereby promoting aggregation. For this reason, the level of stability of particle dispersion in the formed optical functional layer is still insufficient.

一方、機械的な分散性改良手段として、微粒子を分散した液に超音波処理を行い、分散液を塗布、乾燥して機能性微粒子含有層を形成する手段がある(特許文献5参照)。塗布前の分散液では確かに分散性改良に効果が認められる。しかしながら前述同様、乾燥過程で有機溶剤が揮発して無機酸化物微粒子濃度が上がるため、形成された層中での微粒子分散性改良という意味ではほとんど効果がなかった。
特開2000−9908号公報(第3頁) 特開2001−310423号公報(第3頁) 特開2001−100013号公報(第3頁) 特開2001−272502号公報(第3頁) 特開2001−327917号公報(第4頁〜5頁) 「顔料分散技術 表面処理と分散剤の使い方および分散性評価」(技術情報協会編 1999年発行)
On the other hand, as means for improving the mechanical dispersibility, there is a means for forming a functional fine particle-containing layer by applying ultrasonic treatment to a liquid in which fine particles are dispersed, and applying and drying the dispersion (see Patent Document 5). The dispersion before coating is surely effective in improving dispersibility. However, as described above, the organic solvent volatilizes during the drying process and the concentration of the inorganic oxide fine particles increases, so that there is almost no effect in terms of improving the fine particle dispersibility in the formed layer.
Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-9908 (page 3) JP 2001-310423 (page 3) JP 2001-100013 A (page 3) JP 2001-272502 A (page 3) JP 2001-327917 (pages 4-5) "Pigment Dispersion Technology Surface Treatment, Dispersant Usage and Dispersibility Evaluation" (Technical Information Association, 1999 edition)

本発明者らは無機酸化物微粒子を含む光学機能層形成用塗布液を透明支持体上に塗設して、光学機能層を形成する乾燥過程で無機酸化物微粒子が凝集し、その結果、膜面状が悪化する問題があることを知った。   The present inventors apply a coating liquid for forming an optical functional layer containing inorganic oxide fine particles on a transparent support, and the inorganic oxide fine particles aggregate in the drying process to form the optical functional layer. I learned that there was a problem that the surface condition worsened.

本発明の目的は、反射率や耐擦傷性など性能を損なうことなく、無機酸化物微粒子の分散性が改良され、無機酸化物微粒子の凝集による膜面状の悪化がない、生産効率のよい光学フィルム(特に反射防止フィルム)を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、上記光学フィルム(特に反射防止フィルム)を具備する偏光板および表示装置を提供することにある。
The object of the present invention is to improve the dispersibility of the inorganic oxide fine particles without impairing the performance such as reflectance and scratch resistance, and to prevent the deterioration of the film surface due to the aggregation of the inorganic oxide fine particles. The object is to provide a film (particularly an antireflection film).
Another object of the present invention is to provide a polarizing plate and a display device comprising the optical film (particularly, an antireflection film).

本発明者は、鋭意検討の結果、以下の構成の光学フィルムおよび反射防止フィルム、により本発明の上記目的が達成されることを見出した。   As a result of intensive studies, the present inventor has found that the above object of the present invention is achieved by an optical film and an antireflection film having the following constitution.

(1)透明支持体上に少なくとも1層のハードコート層を有し、さらにその上層として無機微粒子を含む光学機能層を有する光学フィルムにおいて、ハードコート層の表面エネルギーが45mJ/m2以下であり、かつ該光学機能層に含有される無機微粒子がその表面積1nm2当たり1.1個以上のシリル基を含有することを特徴とする光学フィルム。
(2)上記(1)に記載の前記ハードコート層が、フッ素系レベリング剤、又はシリコーン系レベリング剤を含有することを特徴とする光学フィルム。
(3)上記(1)又は(2)に記載の前記ハードコート層が、フッ素原子と珪素原子を実質的に含まない高分子ポリマーを含有することを特徴とする光学フィルム。
(4)前記無機微粒子が中空無機酸化物粒子であることを特徴とする上記(1)〜(3)のいずれかに記載の反射防止フィルム。
(5)前記光学機能層が低屈折率層であることを特徴とする上記(1)〜(4)のいずれかに記載の反射防止フィルム。
(6)偏光子を2枚の保護フィルムで挟んでなる偏光板において、該偏光板の一方の保護フィルムが上記(1)〜(3)のいずれかに記載の光学フィルムまたは上記(4)〜(5)のいずれかに記載の反射防止フィルムであることを特徴とする偏光板。
(7)上記(6)に記載の偏光板を具備したことを特徴とする表示装置。
(8)上記(1)〜(3)のいずれかに記載の光学フィルムまたは上記(4)〜(5)のいずれかに記載の反射防止フィルムを具備したことを特徴とする表示装置。
(1) In an optical film having at least one hard coat layer on a transparent support and further having an optical functional layer containing inorganic fine particles as an upper layer, the surface energy of the hard coat layer is 45 mJ / m 2 or less. The inorganic fine particles contained in the optical functional layer contain 1.1 or more silyl groups per 1 nm 2 of the surface area.
(2) The optical film, wherein the hard coat layer according to (1) contains a fluorine-based leveling agent or a silicone-based leveling agent.
(3) The optical film, wherein the hard coat layer according to the above (1) or (2) contains a polymer that does not substantially contain a fluorine atom and a silicon atom.
(4) The antireflection film as described in any one of (1) to (3) above, wherein the inorganic fine particles are hollow inorganic oxide particles.
(5) The antireflection film as described in any one of (1) to (4) above, wherein the optical functional layer is a low refractive index layer.
(6) In the polarizing plate formed by sandwiching a polarizer between two protective films, one protective film of the polarizing plate is the optical film according to any one of the above (1) to (3) or the above (4) to (5) A polarizing plate, which is the antireflection film according to any one of (5).
(7) A display device comprising the polarizing plate according to (6).
(8) A display device comprising the optical film according to any one of (1) to (3) or the antireflection film according to any one of (4) to (5).

本発明の光学フィルム、特に反射防止フィルムは、反射率や耐擦傷性などの性能が損なわれることなく、また光学機能層形成用塗布液中および光学機能層中での無機酸化物微粒子の分散性が改良されたことにより、無機酸化物微粒子の凝集による膜面状の悪化がなく、生産効率が良い。本発明の光学フィルムおよび反射防止フィルムを用いた偏光板は上記の優れた性能を有する。更に本発明の光学フィルムおよび反射防止フィルムを具備した表示装置は、外光の映り込みや背景の映りこみが少なく、極めて視認性が高い。   The optical film of the present invention, particularly the antireflection film, does not impair the performance such as reflectance and scratch resistance, and the dispersibility of the inorganic oxide fine particles in the coating solution for forming the optical functional layer and in the optical functional layer. As a result of the improvement, the film surface state is not deteriorated due to the aggregation of the inorganic oxide fine particles, and the production efficiency is good. The polarizing plate using the optical film and the antireflection film of the present invention has the above-described excellent performance. Furthermore, the display device including the optical film and the antireflection film of the present invention has very high visibility because there is little reflection of external light and reflection of the background.

以下、本発明を詳細に説明する。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「(数値1)〜(数値2)」という記載は「(数値1)以上(数値2)以下」の意味を表す。   Hereinafter, the present invention will be described in detail. In the present specification, when a numerical value represents a physical property value, a characteristic value, etc., the description “(numerical value 1) to (numerical value 2)” means “(numerical value 1) or more and (numerical value 2) or less”. .

本発明の光学フィルムは、光学機能層の無機酸化物微粒子がその表面積1nm2当たり1.1個以上のシリル基を含有する。 In the optical film of the present invention, the inorganic oxide fine particles of the optical functional layer contain 1.1 or more silyl groups per 1 nm 2 of the surface area.

上記光学フィルムの支持体である透明支持体は単層または複数の層からなり、ドラム流延やバンド流延で形成してもよく、あるいは透明支持体上にコーティングして形成してもよい。光学フィルムは、複数層の光学機能層を有していても良い。   The transparent support, which is the support for the optical film, is composed of a single layer or a plurality of layers, and may be formed by drum casting or band casting, or may be formed by coating on the transparent support. The optical film may have a plurality of optical functional layers.

光学機能層形成用塗布液には、ハードコート性や耐擦傷性の付与、屈折率調整、導電性の付与、表面凹凸の付与などを目的に、適宜、微粒子が含有され、高強度、屈折率の選択幅、導電性、無色性など点から無機酸化物微粒子が好ましい。光学機能層形成用塗布液中で無機酸化物微粒子は凝集せず、安定に分散していることが好ましく、更には前記塗布液を塗設後、有機溶剤の揮発による乾燥過程で微粒子濃度が上がったときでも凝集しないことが、光学フィルムの膜面状を損なわず、生産効率の良い光学フィルムを製造する点で重要である。
有機溶剤中で無機酸化物微粒子が安定に分散するには微粒子表面を疎水化することが必要である。疎水化処理の方法として、過剰のアルコールの共存下で加熱することにより、微粒子表面の水酸基をエステル化する方法があるが、この反応には高温を要することや、高沸点のアルコールを用いた時には、過剰のアルコール除去が困難である。またこのエステル化法により得られた疎水性微粒子はアルコキシ基の加水分解により疎水性が失われやすい欠点をもつ。
一方、別の方法にシリル化剤で無機酸化物微粒子の表面を処理する方法があり、エステル化法と比較的すると穏やかな条件で処理することができ、好ましい。
微粒子を含有する塗布液を塗設後、乾燥過程で微粒子濃度が上がったときでも凝集しないようにするには、シリル化処理された無機酸化物微粒子の表面積1nm2当たり1.1個以上のシリル基が結合していることが必要であり、好ましくは1.4個以上で、更に好ましくは1.6個以上である。1.1個未満であれば乾燥過程で微粒子が凝集し、反射率が上昇し、反射防止能が悪化する。
一方、光学フィルムの特性上、微粒子の表面積1nm2当たりシリル基の結合数に上限はないが、3.0個を超えるシリル基を結合させるには多量のシリル化剤が必要となり、また100℃以上の高温で処理が必要となるため工業的に効率が良くない。
The coating liquid for forming an optical functional layer contains fine particles as appropriate for the purpose of imparting hard coat properties and scratch resistance, adjusting the refractive index, imparting conductivity, and imparting surface irregularities, and has high strength and refractive index. Inorganic oxide fine particles are preferred from the standpoints of selection range, conductivity, and colorlessness. It is preferable that the inorganic oxide fine particles do not aggregate in the coating solution for forming the optical functional layer and are stably dispersed. Further, after coating the coating solution, the fine particle concentration increases in the drying process due to volatilization of the organic solvent. It is important that the film does not aggregate even when the optical film is manufactured, without impairing the film surface shape of the optical film and producing an optical film with good production efficiency.
In order for inorganic oxide fine particles to be stably dispersed in an organic solvent, it is necessary to make the surface of the fine particles hydrophobic. As a method of hydrophobizing treatment, there is a method of esterifying hydroxyl groups on the surface of fine particles by heating in the presence of excess alcohol, but this reaction requires a high temperature, or when a high boiling alcohol is used. Excessive alcohol removal is difficult. Further, the hydrophobic fine particles obtained by this esterification method have a drawback that the hydrophobicity is easily lost due to hydrolysis of the alkoxy group.
On the other hand, there is a method of treating the surface of the inorganic oxide fine particles with a silylating agent as another method, which is preferable because it can be treated under mild conditions when compared with the esterification method.
In order to prevent agglomeration even when the concentration of fine particles is increased during the drying process after coating a coating solution containing fine particles, 1.1 or more silyl per 1 nm 2 of surface area of the silylated inorganic oxide fine particles It is necessary that the groups are bonded, and preferably 1.4 or more, and more preferably 1.6 or more. If the number is less than 1.1, fine particles aggregate in the drying process, the reflectance increases, and the antireflection ability deteriorates.
On the other hand, there is no upper limit on the number of silyl groups bonded per 1 nm 2 of surface area of the fine particles due to the characteristics of the optical film, but a large amount of silylating agent is required to bond more than 3.0 silyl groups, and 100 ° C. Since the treatment is required at the above high temperature, it is not industrially efficient.

無機酸化物微粒子へのシリル基の結合量は、シリル化処理された無機酸化物微粒子の元素分析により炭素含有量を測定する方法で知ることができる。単位表面積当たりのシリル基数はBET法により求めた微粒子の比表面積で割ることで算出できる。
すでに無機酸化物微粒子が有機溶剤などに分散されてなる組成物であるときは、遠心分離法などで無機酸化微粒子を単離することができ、前述、同様に炭素含有量を測定することでシリル基の結合量を知ることができる。組成物に複数の種類の無機酸化物微粒子を含有しそれぞれを個々に単離できない場合は、混在した複数の微粒子を同時に測定して平均化された値をシリル基結合量とする。
また無機酸化物微粒子が光学フィルム中に含有されているときは、硝酸でバインダー成分や支持体を分解し、水で希釈して、遠心分離することで無機酸化物微粒子を単離することができる。シリル基の結合量は前述同様に炭素含有量を測定して知ることができる。
The amount of silyl groups bonded to the inorganic oxide fine particles can be known by a method of measuring the carbon content by elemental analysis of the silylated inorganic oxide fine particles. The number of silyl groups per unit surface area can be calculated by dividing by the specific surface area of the fine particles determined by the BET method.
If the inorganic oxide fine particles are already dispersed in an organic solvent or the like, the inorganic oxide fine particles can be isolated by a centrifugal method or the like. It is possible to know the bonding amount of the group. When the composition contains a plurality of types of inorganic oxide fine particles and cannot be isolated individually, the average value obtained by simultaneously measuring a plurality of mixed fine particles is defined as the silyl group bond amount.
When the inorganic oxide fine particles are contained in the optical film, the inorganic oxide fine particles can be isolated by decomposing the binder component or the support with nitric acid, diluting with water, and centrifuging. . The amount of silyl group bonded can be determined by measuring the carbon content as described above.

(シリル化処理)
無機酸化物微粒子のシリル化処理は一般式(I)で表されるシリカ化剤を無機酸化物微粒子表面と作用させて処理することができる。
一般式(I)
R10 mSi(X)4-m
(式中、R10は置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表す。Xは水酸基または加水分解可能な基を表す。mは1〜3の整数を表す。)
(Silylation treatment)
The silylation treatment of the inorganic oxide fine particles can be performed by allowing the silica gel represented by the general formula (I) to act on the surface of the inorganic oxide fine particles.
Formula (I)
R 10 m Si (X) 4-m
(In the formula, R 10 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group. X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group. M represents an integer of 1 to 3.)

[シリル化剤]
本発明のシリル化剤について詳細に説明する。
一般式(I)においてR10は、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ヘキシル、t-ブチル、sec-ブチル、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アルキル基として好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは1〜6のものである。アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
[Silylating agent]
The silylating agent of the present invention will be described in detail.
In the general formula (I), R 10 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group. Examples of the alkyl group include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, hexyl, t-butyl, sec-butyl, hexyl, decyl, hexadecyl and the like. The alkyl group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 6 carbon atoms. Examples of the aryl group include phenyl and naphthyl, and a phenyl group is preferable.

Xは、水酸基または加水分解可能な基を表す。加水分解可能な基としては、例えばアルコキシ基(炭素数1〜5のアルコキシ基が好ましい。例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる)、ハロゲン原子(例えばCl、Br、I等)、およびR2COO(R2は水素原子または炭素数1〜5のアルキル基が好ましい。例えばCH3COO、C25COO等が挙げられる)が挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基またはエトキシ基である。
mは1〜3の整数を表す。R10もしくはXが複数存在するとき、複数のR10もしくはXはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。mとして好ましくは1または2であり、特に好ましくは1である。
X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group. Examples of the hydrolyzable group include an alkoxy group (an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, such as a methoxy group and an ethoxy group), a halogen atom (for example, Cl, Br, I and the like), and R 2. COO (R 2 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. Examples include CH 3 COO, C 2 H 5 COO, etc.), preferably an alkoxy group, particularly preferably a methoxy group. Or it is an ethoxy group.
m represents an integer of 1 to 3. When R 10 or X there are a plurality, a plurality of R 10 or X groups may be different, even the same, respectively. m is preferably 1 or 2, particularly preferably 1.

R10に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基(メチル、エチル、i-プロピル、プロピル、t-ブチル等)、アリール基(フェニル、ナフチル等)、芳香族ヘテロ環基(フリル、ピラゾリル、ピリジル等)、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ、i-プロポキシ、ヘキシルオキシ等)、アリールオキシ(フェノキシ等)、アルキルチオ基(メチルチオ、エチルチオ等)、アリールチオ基(フェニルチオ等)、アルケニル基(ビニル、1-プロペニル等)、アシルオキシ基(アセトキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル基(フェノキシカルボニル等)、カルバモイル基(カルバモイル、N-メチルカルバモイル、N,N-ジメチルカルバモイル、N-メチル-N-オクチルカルバモイル等)、アシルアミノ基(アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等)等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。なお、本明細書においては、水素原子を置換するものが単一の原子であっても、便宜上置換基として取り扱う。
R10が複数ある場合は、少なくとも一つが、置換アルキル基もしくは置換アリール基であることが好ましく、中でも、下記一般式(II)で表されるビニル重合性の置換基を有するオルガノシラン化合物が好ましい。
The substituent contained in R 10 is not particularly limited, but is a halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.), hydroxyl group, mercapto group, carboxyl group, epoxy group, alkyl group (methyl, ethyl, i-propyl). , Propyl, t-butyl, etc.), aryl groups (phenyl, naphthyl, etc.), aromatic heterocyclic groups (furyl, pyrazolyl, pyridyl, etc.), alkoxy groups (methoxy, ethoxy, i-propoxy, hexyloxy, etc.), aryloxy (Phenoxy, etc.), alkylthio groups (methylthio, ethylthio, etc.), arylthio groups (phenylthio, etc.), alkenyl groups (vinyl, 1-propenyl, etc.), acyloxy groups (acetoxy, acryloyloxy, methacryloyloxy, etc.), alkoxycarbonyl groups (methoxy) Carbonyl, ethoxycarbonyl, etc.), aryl Oxycarbonyl groups (such as phenoxycarbonyl), carbamoyl groups (such as carbamoyl, N-methylcarbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl, N-methyl-N-octylcarbamoyl), acylamino groups (acetylamino, benzoylamino, acrylicamino, methacrylic) Amino) and the like, and these substituents may be further substituted. In the present specification, even if a hydrogen atom is replaced by a single atom, it is treated as a substituent for convenience.
When there are a plurality of R 10 , at least one is preferably a substituted alkyl group or a substituted aryl group, and among them, an organosilane compound having a vinyl polymerizable substituent represented by the following general formula (II) is preferable. .

一般式(II)

Figure 2007069471
Formula (II)
Figure 2007069471

上記一般式(II)において、R1は水素原子、メチル基、メトキシ基、アルコキシカル
ボニル基、シアノ基、フッ素原子、または塩素原子を表す。アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。水素原子、メチル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、および塩素原子が好ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子、および塩素原子が更に好ましく、水素原子およびメチル基が特に好ましい。
Yは単結合、または、*−COO−**、*−CONH−**もしくは*−O−**を表し、単結合、*−COO−**および*−CONH−**が好ましく、単結合および*−COO−**が更に好ましく、*−COO−**が特に好ましい。*は=C(R1)−に結合する位置を、**はLに結合する位置を表す。
In the general formula (II), R 1 represents a hydrogen atom, a methyl group, a methoxy group, an alkoxycarbonyl group, a cyano group, a fluorine atom, or a chlorine atom. Examples of the alkoxycarbonyl group include a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group. A hydrogen atom, a methyl group, a methoxy group, a methoxycarbonyl group, a cyano group, a fluorine atom, and a chlorine atom are preferable, a hydrogen atom, a methyl group, a methoxycarbonyl group, a fluorine atom, and a chlorine atom are more preferable, and a hydrogen atom and a methyl group Is particularly preferred.
Y represents a single bond or * -COO-**, * -CONH-** or * -O-**, preferably a single bond, * -COO-** or * -CONH-**. Bonds and * -COO-** are more preferred, and * -COO-** is particularly preferred. * Represents a position bonded to ═C (R 1 ) —, and ** represents a position bonded to L.

Lは2価の連結鎖を表す。例えば、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基(例えば、エーテル、エステル、アミドなど)を有する置換もしくは無置換のアルキレン基、内部に連結基を有する置換もしくは無置換のアリーレン基が挙げられ、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基を有するアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。
一般式(II)において、l(スモールエル)、及びmはモル分率を表し、lはl=10
0−mの数式を満たす数を表し、mは0〜50の数を表す。mは0〜40の数がより好ましく、0〜30の数が特に好ましい。mが50より多いと、固形分が生じたり、液が濁ったり、ポットライフが悪化したり、分子量の制御が困難(分子量の増大)であったり、重合性基の含有量が少ないために重合処理を行った場合の性能(例えば反射防止膜の耐傷性)の向上が得られにくいために好ましくない。
L represents a divalent linking chain. For example, a substituted or unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted arylene group, a substituted or unsubstituted alkylene group having a linking group (for example, ether, ester, amide, etc.) therein, a substituted or unsubstituted alkylene group having a linking group inside An unsubstituted arylene group is exemplified, and a substituted or unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted arylene group, and an alkylene group having a linking group therein are preferred, an unsubstituted alkylene group, an unsubstituted arylene group, and an inside An alkylene group having an ether or ester linking group is more preferred, an unsubstituted alkylene group, and an alkylene group having an ether or ester linking group inside is particularly preferred. Examples of the substituent include a halogen, a hydroxyl group, a mercapto group, a carboxyl group, an epoxy group, an alkyl group, and an aryl group, and these substituents may be further substituted.
In the general formula (II), l (small L) and m represent a mole fraction, and l is l = 10.
It represents a number that satisfies the mathematical formula 0-m, and m represents a number from 0 to 50. As for m, the number of 0-40 is more preferable, and the number of 0-30 is especially preferable. When m is more than 50, solid content is generated, the liquid becomes cloudy, the pot life is deteriorated, the molecular weight is difficult to control (increase in molecular weight), or the content of the polymerizable group is small. This is not preferable because it is difficult to improve the performance (for example, the scratch resistance of the antireflection film) when the treatment is performed.

上記一般式(II)で表されるビニル重合性の置換基を有するオルガノシラン化合物の重
量平均分子量は、450〜20000が好ましく、500〜10000がより好ましく、550〜5000が更に好ましく、600〜3000が更に好ましい。
ここで、重量平均分子量は、TSKgel GMHxL、TSKgel G4000HxL、TSKgel G2000HxL(何れも東ソー(株)製の商品名)のカラムを使用したGPC分析装置により、溶媒THF、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量である。
The weight average molecular weight of the organosilane compound having a vinyl polymerizable substituent represented by the general formula (II) is preferably 450 to 20,000, more preferably 500 to 10,000, still more preferably 550 to 5,000, and 600 to 3,000. Is more preferable.
Here, the weight average molecular weight is expressed in terms of polystyrene by GTH analyzer using a column of TSKgel GMHxL, TSKgel G4000HxL, TSKgel G2000HxL (both trade names manufactured by Tosoh Corporation) and solvent THF and differential refractometer detection. Molecular weight.

2〜R4は、ハロゲン原子、水酸基、無置換のアルコキシ基、もしくは無置換のアルキル基を表す。R2〜R4は塩素原子、水酸基、無置換の炭素数1〜6のアルコキシ基がより好ましく、水酸基、炭素数1〜3のアルコキシ基が更に好ましく、水酸基もしくはメトキシ基が特に好ましい。
5は水素原子、アルキル基を表す。R5は水素原子もしくは炭素数1〜3のアルキル基が好ましく、水素原子もしくはメチル基が特に好ましい。
R 2 to R 4 represent a halogen atom, a hydroxyl group, an unsubstituted alkoxy group, or an unsubstituted alkyl group. R 2 to R 4 are more preferably a chlorine atom, a hydroxyl group, or an unsubstituted alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydroxyl group or an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, and particularly preferably a hydroxyl group or a methoxy group.
R 5 represents a hydrogen atom or an alkyl group. R 5 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group.

6は置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基としては、炭素数1〜30のアルキル基が好ましく、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは1〜6のものである。アルキル基の具体例として、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。R6に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素等)、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基(メチル、エチル、i−プロピル、プロピル、t−ブチル等)、アリール基(フェニル、ナフチル等)、芳香族ヘテロ環基(フリル、ピラゾリル、ピリジル等)、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ、i−プロポキシ、ヘキシルオキシ等)、アリールオキシ(フェノキシ等)、アルキルチオ基(メチルチオ、エチルチオ等)、アリールチオ基(フェニルチオ等)、アルケニル基(ビニル、1−プロペニル等)、アシルオキシ基(アセトキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル基(フェノキシカルボニル等)、カルバモイル基(カルバモイル、N−メチルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N−メチル−N−オクチルカルバモイル等)、アシルアミノ基(アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等)等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。置換基としてビニル重合性基以外の重合性官能基、例えばエポキシ基、イソシアナート基なども好ましい。R6の置換基としては、水酸基もしくは無置換のアルキル基が更に好ましく、水酸基もしくは炭素数1〜3のアルキル基が更に好ましく、水酸基もしくはメチル基が特に好ましい。 R 6 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group. As an alkyl group, a C1-C30 alkyl group is preferable, More preferably, it is C1-C16, Most preferably, it is a C1-C6 thing. Specific examples of the alkyl group include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, hexyl, decyl, hexadecyl and the like. Examples of the aryl group include phenyl and naphthyl, and a phenyl group is preferable. The substituent contained in R 6 is not particularly limited, but a halogen atom (fluorine, chlorine, bromine, etc.), hydroxyl group, mercapto group, carboxyl group, epoxy group, alkyl group (methyl, ethyl, i-propyl, propyl, t-butyl etc.), aryl groups (phenyl, naphthyl etc.), aromatic heterocyclic groups (furyl, pyrazolyl, pyridyl etc.), alkoxy groups (methoxy, ethoxy, i-propoxy, hexyloxy etc.), aryloxy (phenoxy etc.) ), Alkylthio groups (methylthio, ethylthio, etc.), arylthio groups (phenylthio, etc.), alkenyl groups (vinyl, 1-propenyl, etc.), acyloxy groups (acetoxy, acryloyloxy, methacryloyloxy, etc.), alkoxycarbonyl groups (methoxycarbonyl, ethoxy) Carbonyl, etc.), aryloxy Carbonyl groups (phenoxycarbonyl, etc.), carbamoyl groups (carbamoyl, N-methylcarbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl, N-methyl-N-octylcarbamoyl, etc.), acylamino groups (acetylamino, benzoylamino, acrylicamino, methacrylamino) Etc.), and these substituents may be further substituted. A polymerizable functional group other than the vinyl polymerizable group such as an epoxy group or an isocyanate group is also preferable as a substituent. As the substituent for R 6 , a hydroxyl group or an unsubstituted alkyl group is more preferred, a hydroxyl group or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms is more preferred, and a hydroxyl group or a methyl group is particularly preferred.

一般式(II)の化合物は1種もしくは2種類以上のシラン化合物を出発原料として合成される。以下に一般式(II)の出発原料となるシラン化合物の具体例を示すが、限定されるものではない。   The compound of general formula (II) is synthesized using one or more silane compounds as starting materials. Although the specific example of the silane compound used as the starting material of general formula (II) below is shown, it is not limited.

Figure 2007069471
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これらのうち、(M−1)、(M−2)、(M−25)、(M−48)、(M−49)を出発原料とすることが特に好ましい。
本発明においては、一般式(I)で表されるシリル化剤の使用量は、特に制限はないが、無機酸化物微粒子当たり0.1質量%〜150質量%が好ましく、更に好ましくは0.3質量%〜100質量%、最も好ましくは1質量%〜75質量%である。無機酸化物微粒子表面積当たりでは0.1〜10ミリモル/微粒子表面積100m2が好ましく、更に好ましくは0.3〜5ミリモル/微粒子表面積100m2、最も好ましくは0.5〜3ミリモル/微粒子表面積100m2である。シリル化剤の使用量が上記範囲であると、分散液の安定化効果が充分得られ、塗膜形成時に膜強度も大である。
Among these, it is particularly preferable to use (M-1), (M-2), (M-25), (M-48), and (M-49) as starting materials.
In the present invention, the amount of the silylating agent represented by the general formula (I) is not particularly limited, but is preferably 0.1% by mass to 150% by mass, more preferably 0.8%, per inorganic oxide fine particle. It is 3 mass%-100 mass%, Most preferably, it is 1 mass%-75 mass%. In terms of the surface area of the inorganic oxide fine particles, 0.1 to 10 mmol / 100 m 2 of fine particle surface area is preferable, more preferably 0.3 to 5 mmol / 100 m 2 of fine particle surface area, and most preferably 0.5 to 3 mmol / 100 m 2 of fine particle surface area. It is. When the amount of the silylating agent used is in the above range, a sufficient stabilizing effect of the dispersion can be obtained, and the film strength is also great when forming a coating film.

[無機酸化物微粒子]
続いて本発明に用いることのできる無機酸化物微粒子について説明する。
無機酸化物微粒子は、得られる硬化性組成物の硬化被膜の無色性の観点から、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタニウム、亜鉛、ゲルマニウム、インジウム、スズ、アンチモンおよびセリウムよりなる群から選ばれる少なくとも一つの元素の酸化物粒子であることが好ましい。
[Inorganic oxide fine particles]
Next, inorganic oxide fine particles that can be used in the present invention will be described.
The inorganic oxide fine particles are at least one selected from the group consisting of silicon, aluminum, zirconium, titanium, zinc, germanium, indium, tin, antimony and cerium from the viewpoint of the colorlessness of the cured film of the resulting curable composition. Elemental oxide particles are preferred.

これらの無機酸化物微粒子としては、例えば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、インジウムスズ酸化物(ITO)、酸化アンチモン、酸化セリウム等の粒子を挙げることができる。中でも、高硬度の観点から、シリカ、アルミナ、ジルコニアおよび酸化アンチモンの粒子が好ましい。これらは単独でまたは2種以上を組合わせて用いることができる。さらには、無機酸化物微粒子は、有機溶媒分散物として用いるのが好ましい。有機溶媒分散物として用いる場合、他の成分との相溶性、分散性の観点から、分散媒は、有機溶剤が好ましい。このような有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド類を挙げることができる。中でも、メタノール、イソプロパノール、ブタノール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、キシレンが好ましい。   Examples of these inorganic oxide fine particles include particles such as silica, alumina, zirconia, titanium oxide, zinc oxide, germanium oxide, indium oxide, tin oxide, indium tin oxide (ITO), antimony oxide, and cerium oxide. be able to. Of these, particles of silica, alumina, zirconia and antimony oxide are preferred from the viewpoint of high hardness. These can be used alone or in combination of two or more. Furthermore, the inorganic oxide fine particles are preferably used as an organic solvent dispersion. When used as an organic solvent dispersion, the dispersion medium is preferably an organic solvent from the viewpoint of compatibility with other components and dispersibility. Examples of such an organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, and octanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, and γ-butyrolactone. , Esters such as propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monoethyl ether acetate; ethers such as ethylene glycol monomethyl ether and diethylene glycol monobutyl ether; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; dimethylformamide, dimethylacetamide, Examples thereof include amides such as N-methylpyrrolidone. Of these, methanol, isopropanol, butanol, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, butyl acetate, toluene and xylene are preferred.

無機酸化物微粒子の数平均粒子径は、1nm〜5000nmの粒子があるが、低屈折率層に含有する場合は3nm〜200nmが好ましく、5nm〜100nmがさらに好ましい。またハードコート層に含有する場合は3nm〜3000nmが好ましく、5nm〜2000nmがさらに好ましい。数平均粒子径が5000nmを超えると、硬化物としたときの透明性が低下したり、被膜としたときの表面状態が悪化する傾向がある。また、粒子の分散性を改良するために各種の界面活性剤やアミン類を添加してもよい。   The number average particle diameter of the inorganic oxide fine particles is 1 nm to 5000 nm, but when contained in the low refractive index layer, 3 nm to 200 nm is preferable, and 5 nm to 100 nm is more preferable. Moreover, when containing in a hard-coat layer, 3 nm-3000 nm are preferable, and 5 nm-2000 nm are more preferable. When the number average particle diameter exceeds 5000 nm, the transparency of the cured product tends to decrease, or the surface state of the coating tends to deteriorate. Various surfactants and amines may be added to improve the dispersibility of the particles.

ケイ素酸化物微粒子分散液(例えば、シリカ粒子)として市販されている商品としては、例えば、コロイダルシリカとして、日産化学工業(株)製メタノ−ルシリカゾル、MA−ST−MS、IPA−ST、IPA−ST−MS、IPA−ST−L、IPA−ST−ZL、IPA−ST−UP、EG−ST、NPC−ST−30、MEK−ST、MEK−ST−L、MIBK−ST、NBA−ST、XBA−ST、DMAC−ST、ST−UP、ST−OUP、ST−20、ST−40、ST−C、ST−N、ST−O、ST−50、ST−OL等、触媒化成工業(株)製中空シリカCS60-IPA等を挙げることがで
きる。
また粉体シリカとしては、日本触媒(株)製KE−P150、KE−P250、日本アエロジル(株)製アエロジル130、アエロジル300、アエロジル380、アエロジルTT600、アエロジルOX50、旭硝子(株)製シルデックスH31、H32、H51、H52、H121、H122、日本シリカ工業(株)製E220A、E220、富士シリシア(株)製SYLYSIA470、日本板硝子(株)製SGフレ−ク等を挙げることができる。
Examples of products that are commercially available as silicon oxide fine particle dispersions (for example, silica particles) include colloidal silica, methanol silica sol manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., MA-ST-MS, IPA-ST, IPA- ST-MS, IPA-ST-L, IPA-ST-ZL, IPA-ST-UP, EG-ST, NPC-ST-30, MEK-ST, MEK-ST-L, MIBK-ST, NBA-ST, XBA-ST, DMAC-ST, ST-UP, ST-OUP, ST-20, ST-40, ST-C, ST-N, ST-O, ST-50, ST-OL, etc. ) Hollow silica CS60-IPA and the like.
As the powder silica, KE-P150, KE-P250 manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd., Aerosil 130 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., Aerosil 300, Aerosil 380, Aerosil TT600, Aerosil OX50, Sildex H31 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd. , H32, H51, H52, H121, H122, Nippon Silica Industry Co., Ltd. E220A, E220, Fuji Silysia Co., Ltd. SYLYSIA470, Nippon Sheet Glass Co., Ltd. SG flakes, etc. can be mentioned.

また、アルミナ微粒子の水分散品としては、日産化学工業(株)製アルミナゾル−100、−200、−520;アルミナのイソプロパノール分散品としては、住友大阪セメント(株)製AS−150I;アルミナのトルエン分散品としては、住友大阪セメント(株)製AS−150T;ジルコニアのトルエン分散品としては、住友大阪セメント(株)製HXU−110JC;アンチモン酸亜鉛粉末の水分散品としては、日産化学工業(株)製セルナックス;アルミナ、酸化チタン、酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛等の粉末および溶剤分散品としては、シーアイ化成(株)製ナノテック;アンチモンドープ酸化スズの水分散ゾルとしては、石原産業(株)製SN−100D;ITO粉末としては、三菱マテリアル(株)製の製品;酸化セリウム水分散液としては、多木化学(株)製ニードラール等を挙げることができる。   Further, as the aqueous dispersion of alumina fine particles, alumina sol-100, -200, -520 manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd .; as the isopropanol dispersion of alumina, AS-150I manufactured by Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd .; toluene of alumina As a dispersion, AS-150T manufactured by Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. As a toluene dispersion of zirconia, HXU-110JC manufactured by Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd .; As a water dispersion of zinc antimonate powder, Nissan Chemical Industries ( CELNAX Co., Ltd .; Nanotech made by Cai Kasei Co., Ltd. for powders and solvent dispersions of alumina, titanium oxide, tin oxide, indium oxide, zinc oxide, etc .; Ishihara Sangyo for water dispersion sol of antimony-doped tin oxide SN-100D manufactured by Mitsubishi Materials Corporation, manufactured by Mitsubishi Materials Corporation, oxidized The helium aqueous dispersion, mention may be made of Taki Chemical Co., Ltd. Nidoraru like.

無機酸化物微粒子の形状は、球状、中空状、多孔質状、棒状、板状、繊維状、または不定形状であり、好ましくは、球状または中空状である。中空状のシリカ粒子については後述する。無機酸化物微粒子の比表面積(窒素を用いたBET比表面積測定法による)は、好ましくは、10〜1000m2/gであり、さらに好ましくは、100〜500m2/gである。これら無機酸化物微粒子は、乾燥状態の粉末を有機溶媒に分散することもできるが、例えば上記の酸化物の溶剤分散ゾルとして当業界に知られている微粒子状の酸化物粒子の分散液を直接用いることができる。 The inorganic oxide fine particles have a spherical shape, a hollow shape, a porous shape, a rod shape, a plate shape, a fiber shape, or an indefinite shape, and preferably a spherical shape or a hollow shape. The hollow silica particles will be described later. The specific surface area of the inorganic oxide fine particles (by the BET specific surface area measurement method using nitrogen) is preferably 10 to 1000 m 2 / g, and more preferably 100 to 500 m 2 / g. These inorganic oxide fine particles can be obtained by dispersing powder in a dry state in an organic solvent. For example, a dispersion of fine oxide particles known in the art as a solvent dispersion sol of the above oxide is directly used. Can be used.

[シリル化処理の溶媒]
シリル化処理は、無溶媒でも、溶媒中でも行うことができる。溶媒を用いる場合はシリル化剤の濃度を適宜に定めることができる。溶媒としては成分を均一に混合するために有機溶媒を用いることが好ましく、例えばアルコール類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、エステル類などが好適である。
溶媒はシリル化剤を溶解させるものが好ましい。また、有機溶媒が塗布液あるいは塗布液の一部として用いられることが工程上好ましく、含フッ素ポリマーなどのその他の素材と混合した場合に、溶解性あるいは分散性を損なわないものが好ましい。
[Sililation solvent]
The silylation treatment can be performed without a solvent or in a solvent. When a solvent is used, the concentration of the silylating agent can be appropriately determined. As the solvent, an organic solvent is preferably used in order to uniformly mix the components. For example, alcohols, aromatic hydrocarbons, ethers, ketones, esters and the like are preferable.
The solvent preferably dissolves the silylating agent. In addition, it is preferable in the process that an organic solvent is used as a coating solution or a part of the coating solution, and those that do not impair the solubility or dispersibility when mixed with other materials such as a fluorine-containing polymer are preferable.

このうち、アルコール類としては、例えば1価アルコールまたは2価アルコールを挙げることができ、このうち1価アルコールとしては炭素数1〜8の飽和脂肪族アルコールが好ましい。これらのアルコール類の具体例としては、メタノール、エタノール、n-プロピルアルコール、i-プロピルアルコール、n-ブチルアルコール、sec -ブチルアルコール、tert-ブチルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテルなどを挙げることができる。
また、芳香族炭化水素類の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどを、エーテル類の具体例としては、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどを、ケトン類の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトンなどを、エステル類の具体例としては、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸プロピレンなどを挙げることができる。
Among these, examples of the alcohols include monohydric alcohols and dihydric alcohols. Among these, monohydric alcohols are preferably saturated aliphatic alcohols having 1 to 8 carbon atoms. Specific examples of these alcohols include methanol, ethanol, n-propyl alcohol, i-propyl alcohol, n-butyl alcohol, sec-butyl alcohol, tert-butyl alcohol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, ethylene glycol. Examples thereof include monobutyl ether and ethylene glycol monoethyl ether acetate.
Specific examples of aromatic hydrocarbons include benzene, toluene and xylene, specific examples of ethers include tetrahydrofuran and dioxane, and specific examples of ketones include acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone. Specific examples of esters such as diisobutylketone and the like include ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, and propylene carbonate.

これらの有機溶媒は、1種単独であるいは2種以上を併用して使用することもできる。該処理における溶媒に対するシリル化剤の濃度は特に限定されるものではないが通常0.1質量%〜70質量%の範囲であり、好ましくは1質量%〜50質量%の範囲である。   These organic solvents can be used alone or in combination of two or more. The concentration of the silylating agent relative to the solvent in the treatment is not particularly limited, but is usually in the range of 0.1% by mass to 70% by mass, and preferably in the range of 1% by mass to 50% by mass.

本発明においては、アルコール系溶媒で無機酸化物微粒子を分散した後に、分散性改良処理を行い、それに引き続いて分散溶媒を芳香族炭化水素溶媒やケトン系溶媒に置換することが好ましい。塗設時に併用するバインダーとの親和性や分散物自身の安定性の向上の点から、ケトン系溶媒への置換が好ましい。   In the present invention, it is preferable to disperse the inorganic oxide fine particles with an alcohol solvent and then perform a dispersibility improvement treatment, and subsequently replace the dispersion solvent with an aromatic hydrocarbon solvent or a ketone solvent. Substitution with a ketone solvent is preferable from the viewpoint of improving the affinity with the binder used at the time of coating and the stability of the dispersion itself.

以上説明した本発明の表面がシリル化処理された無機酸化物微粒子を用いて、バインダー組成物と組み合わせて光学機能層形成用塗布液とし、塗設することで光機能層を形成することができる。特に、反射防止フィルムの低屈折率層を形成するのに好適である。   An optical functional layer can be formed by applying the coating composition for forming an optical functional layer in combination with a binder composition using the inorganic oxide fine particles whose surface is silylated on the surface of the present invention described above. . In particular, it is suitable for forming a low refractive index layer of an antireflection film.

[シリル化反応]
シリル化反応はシリル化剤添加後、常温でも進行するが加温によって促進することができる。常温の場合は1日以上反応させることが好ましい。加温の場合での反応時間は通常数時間でよい。加温は反応媒体の沸点より低い温度が好ましく、40〜100℃で行なうのがより好ましい。
[Silylation reaction]
The silylation reaction proceeds at room temperature after the addition of the silylating agent, but can be accelerated by heating. In normal temperature, it is preferable to make it react for 1 day or more. In the case of heating, the reaction time is usually several hours. The heating is preferably performed at a temperature lower than the boiling point of the reaction medium, and more preferably performed at 40 to 100 ° C.

(光学フィルムの層構成)
本発明における光学機能層としては、反射防止層や屈折率が制御された中間層が挙げられ、反射防止層は、具体的には光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚が制御された低屈折率層が挙げられる。本発明における光学機能層としては、低屈折率層であることが最も好ましい。
本発明の光学フィルム、特に反射防止フィルムは、透明な基材(支持体)上に、後述のハードコート層を有し、その上に光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層されている。低反射積層体は、反射率を低下させるには、反射防止層を、基材よりも屈折率の高い高屈折率層と、基材よりも屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて構成することが好ましい。構成例としては、基材側から高屈折率層/低屈折率層の2層のものや、屈折率の異なる3層を、中屈折率層(基材またはハードコート層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層)/高屈折率層/低屈折率層の順に積層されているもの等があり、更に多くの反射防止層を積層するものも提案されている。中でも、耐久性、光学特性、コストや生産性等から、ハードコート層を有する基材上に、中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層の順に塗布することが好ましい。
(Layer structure of optical film)
Examples of the optical functional layer in the present invention include an antireflection layer and an intermediate layer in which the refractive index is controlled. Specifically, the antireflection layer has a refractive index and a film thickness so that the reflectance is reduced by optical interference. A controlled low refractive index layer may be mentioned. The optical functional layer in the present invention is most preferably a low refractive index layer.
The optical film of the present invention, particularly the antireflection film, has a hard coat layer to be described later on a transparent base material (support), and has a refractive index and a film thickness so that the reflectance is reduced by optical interference thereon. The layers are stacked in consideration of the number of layers, the layer order, and the like. In order to reduce the reflectance of the low-reflection laminate, the antireflection layer is formed by combining a high refractive index layer having a higher refractive index than that of the base material and a low refractive index layer having a lower refractive index than that of the base material. It is preferable. Examples of configurations include two layers of a high refractive index layer / low refractive index layer from the base material side, and three layers having different refractive indices, a medium refractive index layer (having a higher refractive index than the base material or the hard coat layer). , A layer having a lower refractive index than a high refractive index layer) / a high refractive index layer / a low refractive index layer, and the like. Especially, it is preferable to apply | coat in order of a middle refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer on the base material which has a hard-coat layer from durability, an optical characteristic, cost, productivity, etc.

ハードコート層は表面に凹凸のある防眩性ハードコート層(「防眩層」とも称する)であってもよい。
また、光学機能層は低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層のいずれであってもよい。さらに(防眩性)ハードコート層と光学機能層の間にどちらとも異なる層があってもよいが、(防眩性)ハードコート層と光学機能層が直接接することが、生産性の観点から好ましい。
The hard coat layer may be an anti-glare hard coat layer (also referred to as “anti-glare layer”) having an uneven surface.
The optical functional layer may be any of a low refractive index layer, a medium refractive index layer, and a high refractive index layer. Furthermore, there may be a different layer between the (antiglare) hard coat layer and the optical functional layer, but the (antiglare) hard coat layer and the optical functional layer are in direct contact with each other from the viewpoint of productivity. preferable.

本発明の低反射積層体の好ましい層構成の例を下記に示す。
以下の層構成において、光学機能層は低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層のいずれであってもよい。
基材フィルム/(防眩性)ハードコート層/低屈折率層
基材フィルム/ハードコート層/(防眩性)ハードコート層/低屈折率層
基材フィルム/(防眩性)ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層
基材フィルム/(防眩性)ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
基材フィルム/帯電防止層/(防眩性)ハードコート層/低屈折率層
帯電防止層/基材フィルム/(防眩性)ハードコート層/低屈折率層
基材フィルム/帯電防止層/(防眩性)ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
帯電防止層/基材フィルム/(防眩性)ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
Examples of preferred layer configurations of the low reflection laminate of the present invention are shown below.
In the following layer configuration, the optical functional layer may be any of a low refractive index layer, a medium refractive index layer, and a high refractive index layer.
Base film / (anti-glare) hard coat layer / low refractive index layer Base film / hard coat layer / (anti-glare) hard coat layer / low refractive index layer Base film / (anti-glare) hard coat layer / High refractive index layer / Low refractive index layer Base film / (Anti-glare) Hard coat layer / Medium refractive index layer / High refractive index layer / Low refractive index layer Base film / Antistatic layer / (Anti-glare) Hard coat layer / low refractive index layer Antistatic layer / base film / (antiglare) hard coat layer / low refractive index layer base film / antistatic layer / (antiglare) hard coat layer / medium refractive index layer / High refractive index layer / Low refractive index layer Antistatic layer / Base film / (Anti-glare) hard coat layer / Medium refractive index layer / High refractive index layer / Low refractive index layer

光学干渉により反射率を低減できるものであれば、特にこれらの層構成のみに限定されるものではない。ハードコート層は防眩機能を付与した防眩性ハードコート層でもよい。またハードコート層は防眩機能がなく光拡散機能のある光拡散性ハードコート層でも良い。さらに高屈折率層や中屈折率層には防眩機能やハードコート機能、光拡散機能を付与させてもよい。また、帯電防止層は導電性ポリマー粒子または金属酸化物微粒子(例えば、SnO2、ITO)を含む層であることが好ましく、塗布または大気圧プラズマ処理等により設けることができる。 As long as the reflectance can be reduced by optical interference, it is not limited to these layer configurations. The hard coat layer may be an antiglare hard coat layer imparted with an antiglare function. The hard coat layer may be a light diffusive hard coat layer having no antiglare function and having a light diffusion function. Further, the high refractive index layer and the middle refractive index layer may be provided with an antiglare function, a hard coat function, and a light diffusion function. The antistatic layer is preferably a layer containing conductive polymer particles or metal oxide fine particles (for example, SnO 2 , ITO), and can be provided by coating or atmospheric pressure plasma treatment.

[低屈折率層用材料]
低屈折率層は、含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位および側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する繰返し単位を必須の構成成分とする共重合体の硬化皮膜によって形成されるのが好ましい。該共重合体由来の成分は皮膜固形分の60質量%以上を占めることが好ましく、70質量%以上を占めることがより好ましく、80質量%以上を占めることが特に好ましい。低屈折率化と皮膜硬度の両立の観点から多官能(メタ)アクリレート等の硬化剤も相溶性を損なわない範囲の添加量で好ましく用いられる。
[Material for low refractive index layer]
The low refractive index layer is preferably formed by a cured film of a copolymer having a repeating unit derived from a fluorine-containing vinyl monomer and a repeating unit having a (meth) acryloyl group in the side chain as essential constituent components. The copolymer-derived component preferably occupies 60% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, and particularly preferably 80% by mass or more. From the viewpoint of achieving both low refractive index and film hardness, a curing agent such as polyfunctional (meth) acrylate is also preferably used in an addition amount within a range that does not impair the compatibility.

低屈折率層の屈折率は、1.20〜1.46であることが好ましく、1.25〜1.46であることがより好ましく、1.30〜1.46であることが特に好ましい。
低屈折率層の厚さは、50〜200nmであることが好ましく、70〜100nmであることがさらに好ましい。低屈折率層のヘイズは、3%以下であることが好ましく、2%以下であることがさらに好ましく、1%以下であることが最も好ましい。具体的な低屈折率層の強度は、500g荷重の鉛筆硬度試験でH以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。
また、光学フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が90゜以上であることが好ましい。更に好ましくは95゜以上であり、特に好ましくは100゜以上である。
The refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.20 to 1.46, more preferably 1.25 to 1.46, and particularly preferably 1.30 to 1.46.
The thickness of the low refractive index layer is preferably 50 to 200 nm, and more preferably 70 to 100 nm. The haze of the low refractive index layer is preferably 3% or less, more preferably 2% or less, and most preferably 1% or less. The specific strength of the low refractive index layer is preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and most preferably 3H or higher in a pencil hardness test under a 500 g load.
In order to improve the antifouling performance of the optical film, it is preferable that the contact angle of the surface with respect to water is 90 ° or more. More preferably, it is 95 ° or more, and particularly preferably 100 ° or more.

以下に本発明の低屈性率層に好ましく用いられる共重合体について説明する。
含フッ素ビニルモノマーとしてはフルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン等)、(メタ)アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えばビスコート6FM(商品名、大阪有機化学製)やR−2020(商品名、ダイキン製)等)、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。これらの含フッ素ビニルモノマーの組成比を上げれば屈折率を下げることができるが、皮膜強度は低下する。本発明では共重合体のフッ素含率が20〜60質量%となるように含フッ素ビニルモノマーを導入することが好ましく、より好ましくは25〜55質量%の場合であり、特に好ましくは30〜50質量%の場合である。
The copolymer preferably used for the low refractive index layer of the present invention will be described below.
Examples of the fluorine-containing vinyl monomer include fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, etc.), (meth) acrylic acid moieties or fully fluorinated alkyl ester derivatives (for example, biscoat 6FM (trade name) , Osaka Organic Chemical Co., Ltd.) and R-2020 (trade name, manufactured by Daikin Co., Ltd.), fully or partially fluorinated vinyl ethers, and the like. Preferred are perfluoroolefins, refractive index, solubility, and transparency. From the viewpoint of availability, hexafluoropropylene is particularly preferable. Increasing the composition ratio of these fluorinated vinyl monomers can lower the refractive index but lowers the film strength. In the present invention, the fluorine-containing vinyl monomer is preferably introduced so that the fluorine content of the copolymer is 20 to 60% by mass, more preferably 25 to 55% by mass, and particularly preferably 30 to 50%. This is a case of mass%.

本発明の共重合体は側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する繰返し単位を必須の構成成分として有するのが好ましい。これらの(メタ)アクリロイル基含有繰返し単位の組成比を高めれば皮膜強度は向上するが屈折率も高くなる。含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位の種類によっても異なるが、一般に(メタ)アクリロイル基含有繰返し単位は5〜90質量%を占めることが好ましく、30〜70質量%を占めることがより好ましく、40〜60質量%を占めることが特に好ましい。
本発明に有用な共重合体では上記含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位および側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する繰返し単位以外に、基材への密着性、ポリマーのTg(皮膜硬度に寄与する)、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜他のビニルモノマーを共重合することもできる。これらのビニルモノマーは目的に応じて複数を組み合わせてもよく、合計で共重合体中の0〜65モル%の範囲で導入されていることが好ましく、0〜40モル%の範囲であることがより好ましく、0〜30モル%の範囲であることが特に好ましい。
The copolymer of the present invention preferably has a repeating unit having a (meth) acryloyl group in the side chain as an essential component. If the composition ratio of these (meth) acryloyl group-containing repeating units is increased, the film strength is improved, but the refractive index is also increased. Generally, the (meth) acryloyl group-containing repeating unit preferably accounts for 5 to 90% by mass, more preferably 30 to 70% by mass, although it varies depending on the type of repeating unit derived from the fluorine-containing vinyl monomer. It is particularly preferred to account for ~ 60% by weight.
In the copolymer useful for the present invention, in addition to the repeating unit derived from the above-mentioned fluorine-containing vinyl monomer and the repeating unit having a (meth) acryloyl group in the side chain, it contributes to adhesion to the substrate and Tg of the polymer (film hardness). And other vinyl monomers can be copolymerized as appropriate from various viewpoints such as solubility in a solvent, transparency, slipperiness, dust resistance and antifouling properties. A plurality of these vinyl monomers may be combined depending on the purpose, and are preferably introduced in the range of 0 to 65 mol% in the copolymer in total, and in the range of 0 to 40 mol%. More preferably, it is particularly preferably in the range of 0 to 30 mol%.

併用可能なビニルモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類(エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等)、アクリル酸エステル類(アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸2‐ヒドロキシエチル)、メタクリル酸エステル類(メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル等)、スチレン誘導体(スチレン、p−ヒドロキシメチルスチレン、p−メトキシスチレン等)、ビニルエーテル類(メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル等)、ビニルエステル類(酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等)、不飽和カルボン酸類(アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等)、アクリルアミド類(N、N−ジメチルアクリルアミド、N−tert−ブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド等)、メタクリルアミド類(N、N−ジメチルメタクリルアミド)、アクリロニトリル等を挙げることができる。   The vinyl monomer unit that can be used in combination is not particularly limited. For example, olefins (ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride, etc.), acrylic esters (methyl acrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic acid) 2-ethylhexyl, 2-hydroxyethyl acrylate), methacrylic acid esters (methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, etc.), styrene derivatives (styrene, p-hydroxymethylstyrene, p -Methoxystyrene, etc.), vinyl ethers (methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, etc.), vinyl esters (vinyl acetate) Vinyl propionate, vinyl cinnamate, etc.), unsaturated carboxylic acids (acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, maleic acid, itaconic acid, etc.), acrylamides (N, N-dimethylacrylamide, N-tert-butylacrylamide, N -Cyclohexyl acrylamide, etc.), methacrylamides (N, N-dimethylmethacrylamide), acrylonitrile and the like.

本発明において、反射防止膜の低屈折率層に好ましく用いることのできる無機粒子について説明する。
無機微粒子の塗設量は、1mg/m2〜100mg/m2が好ましく、より好ましくは5mg/m2〜80mg/m2、更に好ましくは10mg/m2〜60mg/m2である。少なすぎると、耐擦傷性の改良効果が減り、多すぎると、低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化する。該無機微粒子は、低屈折率層に含有させることから、低屈折率であることが望ましい。
具体的には、前記したシリル化処理で分散性の改良処理がなされている無機酸化物粒子または中空無機酸化物粒子であって、低屈折率のものが好ましく用いられる。例えば、シリカまたは中空シリカの微粒子が挙げられる。シリカ微粒子の平均粒径は、低屈折率層の厚みの30%以上150%以下が好ましく、より好ましくは35%以上80%以下、更に好ましくは40%以上60%以下である。即ち、低屈折率層の厚みが100nmであれば、シリカ微粒子の粒径は30nm以上150nm以下が好ましく、より好ましくは35nm以上80nm以下、更に好ましくは、40nm以上60nm以下である。
In the present invention, inorganic particles that can be preferably used for the low refractive index layer of the antireflection film will be described.
The coating amount of the inorganic fine particles is preferably 1mg / m 2 ~100mg / m 2 , more preferably 5mg / m 2 ~80mg / m 2 , more preferably from 10mg / m 2 ~60mg / m 2 . If the amount is too small, the effect of improving the scratch resistance is reduced. If the amount is too large, fine irregularities are formed on the surface of the low refractive index layer, and the appearance such as black tightening and the integrated reflectance are deteriorated. Since the inorganic fine particles are contained in the low refractive index layer, it is desirable that the inorganic fine particles have a low refractive index.
Specifically, inorganic oxide particles or hollow inorganic oxide particles that have been subjected to dispersibility improving treatment by the silylation treatment described above, and those having a low refractive index are preferably used. For example, fine particles of silica or hollow silica can be mentioned. The average particle diameter of the silica fine particles is preferably 30% to 150% of the thickness of the low refractive index layer, more preferably 35% to 80%, and still more preferably 40% to 60%. That is, when the thickness of the low refractive index layer is 100 nm, the particle diameter of the silica fine particles is preferably 30 nm to 150 nm, more preferably 35 nm to 80 nm, and still more preferably 40 nm to 60 nm.

シリカ微粒子の粒径が小さすぎると、耐擦傷性の改良効果が少なくなり、大きすぎると低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する。シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題無い。
低屈折率層の屈折率を低下させるために、中空のシリカ微粒子を用いることが好ましい。該中空シリカ微粒子は屈折率が1.17〜1.40、より好ましくは1.17〜1.35、さらに好ましくは1.17〜1.30である。ここでの屈折率は粒子全体としての屈折率を表し、中空シリカ粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表すものではない。この時、粒子内の空腔の半径をa、粒子外殻の半径をbとすると、空隙率xは下記数式(I)で算出される。
If the particle size of the silica fine particles is too small, the effect of improving the scratch resistance is reduced. If it is too large, fine irregularities are formed on the surface of the low refractive index layer, and the appearance such as black tightening and the integrated reflectance are deteriorated. The silica fine particles may be either crystalline or amorphous, and may be monodispersed particles or aggregated particles as long as a predetermined particle size is satisfied. The shape is most preferably a spherical diameter, but there is no problem even if the shape is indefinite.
In order to lower the refractive index of the low refractive index layer, it is preferable to use hollow silica fine particles. The hollow silica fine particles have a refractive index of 1.17 to 1.40, more preferably 1.17 to 1.35, and still more preferably 1.17 to 1.30. The refractive index here represents the refractive index of the entire particle, and does not represent the refractive index of only the outer shell silica forming the hollow silica particles. At this time, when the radius of the cavity in the particle is a and the radius of the particle outer shell is b, the porosity x is calculated by the following formula (I).

(数式 I) x=(4πa3/3)/(4πb3/3)×100 (Formula I) x = (4πa 3/ 3) / (4πb 3/3) × 100

空隙率xは、好ましくは10〜60%、さらに好ましくは20〜60%、最も好ましくは30〜60%である。中空のシリカ粒子をより低屈折率に、より空隙率を大きくしようとすると、外殻の厚みが薄くなり、粒子の強度としては弱くなるため、耐擦傷性の観点から1.17未満の低屈折率の粒子は成り立たない。
なお、これら中空シリカ粒子の屈折率はアッベ屈折率計(アタゴ(株)製)にて測定をおこなった。
また、中空粒子を低屈折率層に含有させることで該層の屈折率を低下させることができる。中空粒子を用いた場合に好ましい該層の屈折率は1.20以上1.46以下であり、更に好ましくは1.25以上1.41以下であり、最も好ましくは1.30以上1.39以下である。
The porosity x is preferably 10 to 60%, more preferably 20 to 60%, and most preferably 30 to 60%. If the hollow silica particles are made to have a lower refractive index and a higher porosity, the thickness of the outer shell becomes thinner and the strength of the particles becomes weaker. Rate particles do not hold.
The refractive index of these hollow silica particles was measured with an Abbe refractometer (manufactured by Atago Co., Ltd.).
Moreover, the refractive index of this layer can be reduced by containing hollow particles in the low refractive index layer. When the hollow particles are used, the refractive index of the layer is preferably 1.20 or more and 1.46 or less, more preferably 1.25 or more and 1.41 or less, and most preferably 1.30 or more and 1.39 or less. It is.

また、平均粒径が低屈折率層の厚みの25%未満であるシリカ微粒子(「小サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す)の少なくとも1種を上記の粒径のシリカ微粒子(「大サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す)と併用することが好ましい。小サイズ粒径のシリカ微粒子は、大サイズ粒径のシリカ微粒子同士の隙間に存在することができるため、大サイズ粒径のシリカ微粒子の保持剤として寄与することができる。
小サイズ粒径のシリカ微粒子の平均粒径は、低屈折率層が100nmの場合、1nm以上20nm以下が好ましく、5nm以上15nm以下が更に好ましく、10nm以上15nm以下が特に好ましい。このようなシリカ微粒子を用いると、原料コストおよび保持剤効果の点で好ましい。
Further, at least one kind of silica fine particles having an average particle size of less than 25% of the thickness of the low refractive index layer (referred to as “small size particle size silica particles”) is used as silica fine particles having the above particle size (“large size particles”). It is preferably used in combination with “silica fine particles having a diameter”. Since the fine silica particles having a small particle size can exist in the gaps between the fine silica particles having a large particle size, they can contribute as a retaining agent for the fine silica particles having a large particle size.
When the low refractive index layer is 100 nm, the average particle size of the silica fine particles having a small size is preferably from 1 nm to 20 nm, more preferably from 5 nm to 15 nm, and particularly preferably from 10 nm to 15 nm. Use of such silica fine particles is preferable in terms of raw material costs and a retaining agent effect.

本発明においては、防汚性向上の観点から、反射防止膜表面の表面自由エネルギーを下げることが好ましい。具体的には、含フッ素化合物やポリシロキサン構造を有する化合物を低屈折率層に使用することが好ましい。ポリシロキサン構造を有する添加剤としては、反応性基含有ポリシロキサン(例えばKF-100T,X-22-169AS,KF-102,X-22-3701IE,X-22-164B,X-22-5002,X-22-173B,X-22-174D,X-22-167B,X-22-161AS(以上商品名、信越化学工業社製)、AK-5,AK-30,AK-32(以上商品名、東亜合成社製)、サイラプレーンFM0725,サイラプレーンFM0721(以上商品名、チッソ社製)等)を添加するのも好ましい。また、特開2003−112383の表2、表3に記載のシリコーン系化合物も好ましく使用できる。これらのポリシロキサンは低屈折率層全固形分の0.1〜10質量%の範囲で添加されることが好ましく、特に好ましくは1〜5質量%の場合である。   In the present invention, it is preferable to reduce the surface free energy on the surface of the antireflection film from the viewpoint of improving the antifouling property. Specifically, it is preferable to use a fluorine-containing compound or a compound having a polysiloxane structure for the low refractive index layer. Examples of additives having a polysiloxane structure include reactive group-containing polysiloxanes (for example, KF-100T, X-22-169AS, KF-102, X-22-3701IE, X-22-164B, X-22-5002, X-22-173B, X-22-174D, X-22-167B, X-22-161AS (above product names, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), AK-5, AK-30, AK-32 (above product names) , Manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.), Silaplane FM0725, Silaplane FM0721 (named above, trade name, manufactured by Chisso Corporation), etc.) are also preferably added. In addition, silicone compounds described in Tables 2 and 3 of JP-A No. 2003-112383 can also be preferably used. These polysiloxanes are preferably added in the range of 0.1 to 10% by mass of the total solid content of the low refractive index layer, particularly preferably 1 to 5% by mass.

[ハードコート層用材料]
本発明の光学フィルムはハードコート層を有する。ハードコート層は、バインダー、防眩機能や光拡散機能を付与するためのマット粒子、および高屈折率化、架橋収縮防止、高強度化のための無機微粒子から形成されることができる。
バインダー成分として、エチレン性不飽和基を有する化合物を用いることが、皮膜強度、塗布液の安定性、塗膜の生産性、などの点で好ましい。主たる皮膜形成バインダーとは、無機微粒子を除く皮膜形成成分のうち10質量%以上をしめるものをいう。好ましくは、20質量%以上100質量%以下、更に好ましくは30質量%以上95%以下である。
飽和炭化水素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの(共)重合体が好ましい。
高屈折率にするには、このモノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、及び窒素原子から選ばれた少なくとも1種の原子を含むことが好ましい。
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル(例、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート)、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート)、ビニルベンゼンおよびその誘導体(例、1,4−ジビニルベンゼン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエステル、1,4−ジビニルシクロヘキサノン)、ビニルスルホン(例、ジビニルスルホン)、アクリルアミド(例、メチレンビスアクリルアミド)およびメタクリルアミドが挙げられる。上記モノマーは2種以上併用してもよい。尚、本明細書においては、「(メタ)アクリレート」は「アクリレート又はメタクリレート」を表す。
[Material for hard coat layer]
The optical film of the present invention has a hard coat layer. The hard coat layer can be formed of a binder, matte particles for imparting an antiglare function and a light diffusion function, and inorganic fine particles for increasing the refractive index, preventing crosslinking shrinkage, and increasing the strength.
It is preferable to use a compound having an ethylenically unsaturated group as the binder component in terms of film strength, coating solution stability, coating film productivity, and the like. The main film-forming binder refers to one that accounts for 10% by mass or more of the film-forming components excluding inorganic fine particles. Preferably, they are 20 mass% or more and 100 mass% or less, More preferably, they are 30 mass% or more and 95% or less.
A polymer having a saturated hydrocarbon chain or a polyether chain as a main chain is preferable, and a polymer having a saturated hydrocarbon chain as a main chain is more preferable. As the binder polymer having a saturated hydrocarbon chain as the main chain and having a crosslinked structure, a (co) polymer of monomers having two or more ethylenically unsaturated groups is preferable.
In order to obtain a high refractive index, the monomer structure preferably contains an aromatic ring or at least one atom selected from halogen atoms other than fluorine, sulfur atoms, phosphorus atoms, and nitrogen atoms.
Examples of the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups include esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid (eg, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-cyclohexanediacrylate, pentaerythritol tetra ( (Meth) acrylate), pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, di Pentaerythritol hexa (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexanetetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polymer Acrylate), vinylbenzene and its derivatives (eg, 1,4-divinylbenzene, 4-vinylbenzoic acid-2-acryloylethyl ester, 1,4-divinylcyclohexanone), vinylsulfone (eg, divinylsulfone), acrylamide (eg, , Methylenebisacrylamide) and methacrylamide. Two or more of these monomers may be used in combination. In the present specification, “(meth) acrylate” represents “acrylate or methacrylate”.

高屈折率モノマーの具体例としては、ビス(4−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、4−メタクリロキシフェニル−4'−メトキシフェニルチオエーテル等が挙げられる。これらのモノマーも2種以上併用してもよい。   Specific examples of the high refractive index monomer include bis (4-methacryloylthiophenyl) sulfide, vinyl naphthalene, vinyl phenyl sulfide, 4-methacryloxyphenyl-4′-methoxyphenyl thioether, and the like. Two or more of these monomers may be used in combination.

これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類が挙げられる。アセトフェノン類の例には、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、1−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−4−メチルチオ−2−モルフォリノプロピオフェノンおよび2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、2,4−ジクロロベンゾフェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノンおよびp−クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
最新UV硬化技術(P.159,発行人;高薄一弘,発行所;(株)技術情報協会,1991年発行)にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、日本チバガイギー(株)製のイルガキュア(651,184,907)等が好ましい例として挙げられる。
光重合開始剤は、多官能モノマー100質量部に対して、0.1〜15質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは1〜10質量部の範囲である。
Polymerization of these monomers having an ethylenically unsaturated group can be carried out by irradiation with ionizing radiation or heating in the presence of a photo radical initiator or a thermal radical initiator.
Photo radical polymerization initiators include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds And fluoroamine compounds and aromatic sulfoniums. Examples of acetophenones include 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-hydroxydimethylphenyl ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-4-methylthio-2-morpholinopropiophenone and 2 -Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone is included. Examples of benzoins include benzoin benzene sulfonate, benzoin toluene sulfonate, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin isopropyl ether. Examples of the benzophenones include benzophenone, 2,4-dichlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone and p-chlorobenzophenone. Examples of phosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide.
Various examples are described in the latest UV curing technology (P.159, issuer; Kazuhiro Takashiro, publisher; Technical Information Association, Inc., published in 1991), which is useful for the present invention.
Preferable examples of commercially available photocleavable photoradical polymerization initiators include Irgacure (651, 184, 907) manufactured by Nippon Ciba-Geigy Co., Ltd.
It is preferable to use a photoinitiator in the range of 0.1-15 mass parts with respect to 100 mass parts of polyfunctional monomers, More preferably, it is the range of 1-10 mass parts.

光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンを挙げることができる。
熱ラジカル開始剤としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として2−アゾ−ビス−イソブチロニトリル、2−アゾ−ビス−プロピオニトリル、2−アゾ−ビス−シクロヘキサンジニトリル等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、p−ニトロベンゼンジアゾニウム等を挙げることができる。
In addition to the photopolymerization initiator, a photosensitizer may be used. Specific examples of the photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, Michler's ketone and thioxanthone.
As the thermal radical initiator, organic or inorganic peroxides, organic azo, diazo compounds, and the like can be used.
Specifically, benzoyl peroxide, halogen benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, acetyl peroxide, dibutyl peroxide, cumene hydroperoxide, butyl hydroperoxide as organic peroxides, hydrogen peroxide, peroxides as inorganic peroxides. Ammonium sulfate, potassium persulfate, etc., 2-azo-bis-isobutyronitrile, 2-azo-bis-propionitrile, 2-azo-bis-cyclohexanedinitrile, etc. as diazo compounds, diazoaminobenzene, p -Nitrobenzenediazonium etc. can be mentioned.

本発明においてはポリエーテルを主鎖として有するポリマーを使用することもできる。多官能エポキシ化合物の開環重合体が好ましい。多官能エポキシ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行なうことができる。
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりにまたはそれに加えて、架橋性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。
これら架橋性官能基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。
In the present invention, a polymer having a polyether as a main chain can also be used. A ring-opening polymer of a polyfunctional epoxy compound is preferred. The ring-opening polymerization of the polyfunctional epoxy compound can be performed by irradiation with ionizing radiation or heating in the presence of a photoacid generator or a thermal acid generator.
Instead of or in addition to a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups, a monomer having a crosslinkable functional group is used to introduce a crosslinkable functional group into the polymer, and by reaction of this crosslinkable functional group, A crosslinked structure may be introduced into the binder polymer.
Examples of the crosslinkable functional group include isocyanate group, epoxy group, aziridine group, oxazoline group, aldehyde group, carbonyl group, hydrazine group, carboxyl group, methylol group and active methylene group. Vinylsulfonic acid, acid anhydride, cyanoacrylate derivative, melamine, etherified methylol, ester and urethane, and metal alkoxide such as tetramethoxysilane can also be used as a monomer for introducing a crosslinked structure. A functional group that exhibits crosslinkability as a result of the decomposition reaction, such as a block isocyanate group, may be used. That is, in the present invention, the crosslinkable functional group may not react immediately but may exhibit reactivity as a result of decomposition.
These binder polymers having a crosslinkable functional group can form a crosslinked structure by heating after coating.

ハードコート層には、防眩性付与の目的で、平均粒径が0.1〜5.0μm、好ましくは1.5〜3.5μmのマット粒子、例えば無機化合物の粒子または樹脂粒子が含有させることができる。マット粒子とバインダー間の屈折率差は大きすぎるとフィルムが白濁し、小さすぎると十分な光拡散効果をえることができないため、0.02〜0.20であることが好ましく、0.04〜0.10であることが特に好ましい。マット粒子のバインダーに対する添加量も屈折率同様、大きすぎるとフィルムが白濁し、小さすぎると十分な光拡散効果をえることができないため、3〜30質量パーセントであることが好ましく、5〜20質量パーセントであることが特に好ましい。   For the purpose of imparting antiglare properties, the hard coat layer contains matte particles having an average particle size of 0.1 to 5.0 μm, preferably 1.5 to 3.5 μm, such as inorganic compound particles or resin particles. be able to. If the difference in refractive index between the matte particles and the binder is too large, the film becomes cloudy, and if it is too small, a sufficient light diffusion effect cannot be obtained, so 0.02 to 0.20 is preferable, and 0.04 to Particularly preferred is 0.10. Similarly to the refractive index, the addition amount of the matting particles with respect to the binder is too large, the film becomes cloudy, and if it is too small, a sufficient light diffusion effect cannot be obtained. A percentage is particularly preferred.

上記マット粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、TiO2粒子等の無機化合物の粒子;アクリル粒子、架橋アクリル粒子、ポリスチレン粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子、架橋アクリル粒子、シリカ粒子が好ましい。
マット粒子の形状は、真球あるいは不定形のいずれも使用できる。
As specific examples of the mat particles, inorganic particles such as silica particles and TiO 2 particles; resin particles such as acrylic particles, crosslinked acrylic particles, polystyrene particles, crosslinked styrene particles, melamine resin particles, and benzoguanamine resin particles are preferable. Can be mentioned. Of these, crosslinked styrene particles, crosslinked acrylic particles, and silica particles are preferred.
As the shape of the mat particle, either a true sphere or an indefinite shape can be used.

異なる2種以上のマット粒子を併用して用いてもよい。2種類以上のマット粒子を用いる場合には両者の混合による屈折率制御を効果的に発揮するために屈折率の差が0.02以上、0.10以下であることが好ましく、0.03以上、0.07以下であることが特に好ましい。またより大きな粒子径のマット粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径のマット粒子で別の光学特性を付与することが可能である。例えば、133ppi以上の高精細ディスプレイに光学フィルムを貼り付けた場合に、ギラツキと呼ばれる光学性能上の不具合のないことが要求される。ギラツキは、フィルム表面に存在する凹凸(防眩性に寄与)により、画素が拡大もしくは縮小され、輝度の均一性を失うことに由来するが、防眩性を付与するマット粒子より小さな粒子径で、バインダーの屈折率と異なるマット粒子を併用することにより大きく改善することができる。
さらに、上記マット粒子の粒子径分布としては単分散であることが最も好ましく、各粒子の粒子径は、それぞれ同一に近ければ近いほど良い。例えば平均粒子径よりも20%以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合には、この粗大粒子の割合は全粒子数の1%以下であることが好ましく、より好ましくは0.1%以下であり、さらに好ましくは0.01%以下である。このような粒子径分布を持つマット粒子は通常の合成反応後に、分級によって得られ、分級の回数を上げることやその程度を強くすることにより、より好ましい分布のマット剤を得ることができる。
上記マット粒子は、形成されたハードコート層中のマット粒子量が好ましくは10〜1000mg/m2、より好ましくは100〜700mg/m2となるようにハードコート層に含有される。
マット粒子の粒度分布はコールターカウンター法により測定し、測定された分布を粒子数分布に換算する。
Two or more different kinds of mat particles may be used in combination. When two or more kinds of mat particles are used, the difference in refractive index is preferably 0.02 or more and 0.10 or less in order to effectively exert the refractive index control by mixing the two, and 0.03 or more. Is particularly preferably 0.07 or less. Further, it is possible to impart an antiglare property with mat particles having a larger particle size and to impart another optical characteristic with mat particles having a smaller particle size. For example, when an optical film is attached to a high-definition display of 133 ppi or more, it is required that there is no problem in optical performance called glare. Glare originates from the fact that the pixels are enlarged or reduced due to unevenness existing on the film surface (contributing to anti-glare properties) and lose uniformity of brightness, but with a particle size smaller than that of mat particles that provide anti-glare properties. It can be greatly improved by using mat particles having a different refractive index from the binder.
Furthermore, the particle size distribution of the mat particles is most preferably monodisperse, and the particle sizes of the particles are preferably closer to each other. For example, when particles having a particle size of 20% or more than the average particle size are defined as coarse particles, the proportion of coarse particles is preferably 1% or less of the total number of particles, more preferably 0.1%. Or less, more preferably 0.01% or less. Matt particles having such a particle size distribution are obtained by classification after a normal synthesis reaction, and a matting agent having a more preferable distribution can be obtained by increasing the number of classifications or increasing the degree of classification.
The mat particles are contained in the hard coat layer so that the amount of the mat particles in the formed hard coat layer is preferably 10 to 1000 mg / m 2 , more preferably 100 to 700 mg / m 2 .
The particle size distribution of the mat particles is measured by a Coulter counter method, and the measured distribution is converted into a particle number distribution.

ハードコート層には、層の屈折率を高めるため、および硬化収縮を低減するために、上記のマット粒子に加えて、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物からなり、平均粒径が0.2μm以下、好ましくは0.1μm以下、より好ましくは0.06μm以下である無機微粒子が含有されることが好ましい。
また、マット粒子との屈折率差を大きくするために、高屈折率マット粒子を用いたハードコート層では層の屈折率を低目に保つためにケイ素の酸化物を用いることも好ましい。好ましい粒径は前述の無機微粒子と同じである。
ハードコート層に用いられる無機微粒子の具体例としては、TiO2、ZrO2、Al23、In23、ZnO、SnO2、Sb23、ITOとSiO2等が挙げられる。TiO2およびZrO2が高屈折率化の点で特に好ましい。該無機微粒子は表面をシリル化剤で処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
これらの無機微粒子の添加量は、ハードコート層の全質量の10〜90質量%であることが好ましく、より好ましくは20〜80質量%であり、特に好ましくは30〜70質量%である。
なお、このようなフィラーは、粒径が光の波長よりも十分小さいために散乱が生じず、バインダーポリマーに該フィラーが分散した分散体は光学的に均一な物質として振舞う。
The hard coat layer has at least one selected from titanium, zirconium, aluminum, indium, zinc, tin, and antimony, in addition to the above mat particles, in order to increase the refractive index of the layer and to reduce cure shrinkage. It is preferable to contain inorganic fine particles made of one kind of metal oxide and having an average particle size of 0.2 μm or less, preferably 0.1 μm or less, more preferably 0.06 μm or less.
In order to increase the difference in refractive index from the mat particles, it is also preferable to use a silicon oxide in order to keep the refractive index of the hard coat layer using the high refractive index mat particles low. The preferred particle size is the same as that of the aforementioned inorganic fine particles.
Specific examples of the inorganic fine particles used for the hard coat layer include TiO 2 , ZrO 2 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , ZnO, SnO 2 , Sb 2 O 3 , ITO and SiO 2 . TiO 2 and ZrO 2 are particularly preferable from the viewpoint of increasing the refractive index. The surface of the inorganic fine particles is preferably treated with a silylating agent, and a surface treating agent having a functional group capable of reacting with a binder species on the filler surface is preferably used.
The amount of these inorganic fine particles added is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 20 to 80% by mass, and particularly preferably 30 to 70% by mass with respect to the total mass of the hard coat layer.
Such a filler does not scatter because the particle size is sufficiently smaller than the wavelength of light, and a dispersion in which the filler is dispersed in a binder polymer behaves as an optically uniform substance.

本発明のハードコート層のバインダーおよび無機微粒子の混合物のバルクの屈折率は、1.48〜2.00であることが好ましく、より好ましくは1.50〜1.80である。屈折率を上記範囲とするには、バインダー及び無機微粒子の種類及び量割合を適宜選択すればよい。どのように選択するかは、予め実験的に容易に知ることができる。
このようにして形成された本発明の光学フィルムは、ヘイズ値が3〜70%、好ましくは4〜60%の範囲にあり、そして450nmから650nmの平均反射率が3.0%以下、好ましくは2.5%以下である。
本発明の光学フィルムが上記範囲のヘイズ値及び平均反射率であることにより、透過画像の劣化を伴なわずに良好な防眩性および反射防止性が得られる。
The bulk refractive index of the mixture of the binder and inorganic fine particles of the hard coat layer of the present invention is preferably 1.48 to 2.00, more preferably 1.50 to 1.80. In order to make the refractive index within the above range, the type and amount ratio of the binder and the inorganic fine particles may be appropriately selected. How to select can be easily known experimentally in advance.
The optical film of the present invention thus formed has a haze value of 3 to 70%, preferably 4 to 60%, and an average reflectance of 450 nm to 650 nm is 3.0% or less, preferably 2.5% or less.
When the optical film of the present invention has a haze value and an average reflectance in the above ranges, good antiglare properties and antireflection properties can be obtained without causing deterioration of the transmitted image.

また、ハードコート層はムラ防止を目的として各種のレベリング剤を使用することが好ましい。レベリング剤としては、具体的にはフッ素系レベリング剤、又はシリコーン系レベリング剤が好ましく、特にフッ素系レベリング剤はムラ防止能が高く、好ましい。
本発明においてレベリング剤は、低分子化合物よりもオリゴマーやポリマーであることがムラ防止能が高く好ましい。
ハードコート層にレベリング剤を添加すると、塗布された液膜の表面にレベリング剤が速やかに偏在し、ハードコート層の膜乾燥後もレベリング剤がそのまま表面に偏在することになるのでハードコート層膜の表面エネルギーは、レベリング剤によって低下する。
従ってハードコート層のムラを防止するという観点からはハードコート層の表面エネルギーが低いことが好ましい。
The hard coat layer preferably uses various leveling agents for the purpose of preventing unevenness. Specifically, as the leveling agent, a fluorine-based leveling agent or a silicone-based leveling agent is preferable, and in particular, a fluorine-based leveling agent is preferable because of its high unevenness preventing ability.
In the present invention, the leveling agent is preferably an oligomer or polymer rather than a low molecular weight compound because of its high unevenness preventing ability.
When a leveling agent is added to the hard coat layer, the leveling agent is quickly unevenly distributed on the surface of the applied liquid film, and the leveling agent is unevenly distributed on the surface even after the hard coat layer is dried. The surface energy is reduced by the leveling agent.
Therefore, it is preferable that the surface energy of the hard coat layer is low from the viewpoint of preventing unevenness of the hard coat layer.

ハードコート層の表面エネルギー(γsv:単位、mJ/m2)とはD.K.Owens:J.Appl.Polym.Sci.,13,1941(1969)を参考に、防眩性ハードコート層上で実験的に求めた純水H2Oとヨウ化メチレンCH22のそれぞれの接触角θH2O、θCH2I2から以下の連立方程式(1)(2)より求めたγsdとγshの和で表される値γsv(=γsd+γsh)で定義する防眩性ハードコート層の表面張力のエネルギー換算値である。(mN/m単位をmJ/m2単位としたもの)サンプルは測定する前に所定の温湿度条件で一定時間以上調湿を行うことが必要である。この際の温度は20℃〜27℃、湿度は50RH%〜65RH%の範囲であることが好ましく、調湿時間は2時間以上であることが好ましい。 The surface energy of hard coat layer (γs v : unit, mJ / m 2 ) is experimental on antiglare hard coat layer with reference to DKOwens: J.Appl.Polym.Sci., 13,1941 (1969) is represented by the sum of pure water between H 2 O and methylene iodide CH 2 respective contact angle theta H2 O of I 2, where theta following simultaneous equations from CH2I2 (1) (2) from the obtained gamma] s d and gamma] s h obtained in This is an energy conversion value of the surface tension of the antiglare hard coat layer defined by the value γs v (= γs d + γs h ). (The mN / m unit is mJ / m 2 unit.) Before the sample is measured, it is necessary to adjust the humidity for a certain period of time under a predetermined temperature and humidity condition. The temperature at this time is preferably in the range of 20 ° C. to 27 ° C., the humidity is preferably in the range of 50 RH% to 65 RH%, and the humidity conditioning time is preferably 2 hours or more.

(1)1+cosθH2O=2√γsd(√γH2Od/γH2Ov)+2√γsh(√γH2Oh/γH2Ov)
(2)1+cosθCH2I2=2√γsd(√γCH2I2d/γCH2I2v)+2√γsh(√γCH2I2h/γCH2I2v)
ここで、γH2O d=21.8°、γH2O h=51.0°、γH2O v=72.8°、γCH2I2 d=49.5°、γCH2I2 h=1.3°、γCH2I2 v=50.8°である。
(1) 1 + cos θH 2 O = 2√γs d (√γH 2 Od / γH 2 Ov) + 2√γs h (√γH 2 Oh / γH 2 Ov)
(2) 1 + cos θCH 2 I 2 = 2√γs d (√γCH 2 I 2 d / γCH 2 I 2 v) + 2√γs h (√γCH 2 I 2 h / γCH 2 I 2 v)
Here, γ H2O d = 21.8 °, γ H2O h = 51.0 °, γ H2O v = 72.8 °, γ CH2I2 d = 49.5 °, γ CH2I2 h = 1.3 °, and γ CH2I2 v = 50.8 °.

ハードコート層の表面エネルギーは、45mJ/m2以下の範囲であり、20〜45mJ/m2の範囲が好ましく、25〜40mJ/m2の範囲が最も好ましい。
ハードコート層の表面エネルギーを45mJ/m2以下とすることにより、ハードコート層の塗布ムラが生じにくいという効果が得られる。
ただし、ハードコート層の上にさらに低屈折率層などの上層を塗布するため、レベリング剤は上層へ溶出することが好ましく、ハードコート層の上層塗布液の溶媒(例えばメチルエチルケトン)でハードコート層を浸漬した後のハードコート層の表面エネルギーは、むしろ高いことが好ましく、表面エネルギー35〜70mJ/m2であることが好ましい。
The surface energy of the hard coat layer is in the range of 45 mJ / m 2 or less, preferably in the range of 20~45mJ / m 2, and most preferred range of 25~40mJ / m 2.
By setting the surface energy of the hard coat layer to 45 mJ / m 2 or less, it is possible to obtain an effect that uneven coating of the hard coat layer hardly occurs.
However, since an upper layer such as a low refractive index layer is further coated on the hard coat layer, the leveling agent is preferably eluted into the upper layer, and the hard coat layer is coated with a solvent (for example, methyl ethyl ketone) in the hard coat layer upper layer coating solution. It is preferable that the surface energy of the hard coat layer after the immersion is rather high, and it is preferable that the surface energy is 35 to 70 mJ / m 2 .

以下では本発明において、ハードコート層のレベリング剤として好ましいフッ素系レベリング剤について説明する。シリコーン系レベリング剤については後述する。   Hereinafter, in the present invention, a preferred fluorine-based leveling agent as a leveling agent for the hard coat layer will be described. The silicone leveling agent will be described later.

フッ素系レベリング剤としては、フルオロ脂肪族基を有する重合体が好ましく、さらに下記(i)のモノマーに相当する繰り返し単位(重合単位)の重合体、又は下記(i)のモノマーに相当する繰り返し単位(重合単位)および下記(ii)のモノマーに相当する繰り返し単位(重合単位)を含むアクリル樹脂、メタアクリル樹脂、及びこれらに共重合可能なビニル系モノマーとの共重合体が有用である。このような単量体としては、PolymerHandbook2nd ed.,J.Brandrup,Wiley lnterscience(1975)Chapter 2,Page 1〜483記載のものを用いることが出来る。
例えばアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等から選ばれる付加重合性不飽和結合を1個有する化合物等をあげることができる。
As the fluorine-based leveling agent, a polymer having a fluoroaliphatic group is preferable, and a polymer of a repeating unit (polymerization unit) corresponding to the monomer (i) below, or a repeating unit corresponding to the monomer (i) below. An acrylic resin, a methacrylic resin, and a copolymer with a vinyl monomer copolymerizable therewith are useful, including (polymerized unit) and a repeating unit (polymerized unit) corresponding to the monomer (ii) below. Examples of such monomers include Polymer Handbook 2nd ed. , J .; Brandrup, Wiley Interscience (1975) Chapter 2, Pages 1-483 can be used.
For example, a compound having one addition polymerizable unsaturated bond selected from acrylic acid, methacrylic acid, acrylic esters, methacrylic esters, acrylamides, methacrylamides, allyl compounds, vinyl ethers, vinyl esters, etc. I can give you.

(i)下記一般式1で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー   (I) Fluoroaliphatic group-containing monomer represented by the following general formula 1

一般式1   General formula 1

Figure 2007069471
Figure 2007069471

上記一般式1において、R1は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、水素原子、メチル基が好ましい。Xは酸素原子、イオウ原子または−N(R12)−を表し、酸素原子または−N(R12)−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。R12は水素原子または置換基を有しても良い炭素数1〜8のアルキル基を表し、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基がより好ましく、水素原子またはメチル基が更に好ましい。Rfは−CF3または−CF2Hを表す。
一般式1中のmは1〜6の整数を表し、1〜3がより好ましく、1であることが更に好ましい。
一般式1中のnは1〜11の整数を表し、1〜9がより好ましく、1〜6が更に好ましい。Rfは−CF2Hが好ましい。
またフッ素系ポリマー中に一般式1で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーから誘導される重合単位が2種類以上構成成分として含まれていても良い。
In the general formula 1, R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a methyl group, preferably a hydrogen atom or a methyl group. X represents an oxygen atom, a sulfur atom or —N (R 12 ) —, more preferably an oxygen atom or —N (R 12 ) —, and still more preferably an oxygen atom. R 12 represents a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and further preferably a hydrogen atom or a methyl group. R f represents —CF 3 or —CF 2 H.
M in the general formula 1 represents an integer of 1 to 6, more preferably 1 to 3, and still more preferably 1.
N in the general formula 1 represents an integer of 1 to 11, more preferably 1 to 9, and still more preferably 1 to 6. R f is preferably —CF 2 H.
In addition, two or more kinds of polymer units derived from the fluoroaliphatic group-containing monomer represented by the general formula 1 may be contained in the fluorine-based polymer as a constituent component.

(ii)上記(i)と共重合可能な下記一般式2で示されるモノマー   (Ii) Monomer represented by the following general formula 2 copolymerizable with the above (i)

一般式2   General formula 2

Figure 2007069471
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上記一般式2において、R13は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Yは酸素原子、イオウ原子または−N(R15)−を表し、酸素原子または−N(R15)−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。R15は水素原子または炭素数1〜8のアルキル基を表し、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基がより好ましく、水素原子またはメチル基が更に好ましい。
14は、置換基を有しても良い炭素数1〜60の直鎖、分岐、あるいは環状のアルキル基、または置換基を有していても良い芳香族基(例えば、フェニル基またはナフチル基)を表す。該アルキル基はポリ(アルキレンオキシ)基を含んでも良い。炭素数1〜12の直鎖、分岐あるいは環状のアルキル基、炭素数5〜40のポリ(アルキレンオキシ)基を含むアルキル基または総炭素数6〜18の芳香族がより好ましく、炭素数1〜8の直鎖、分岐、または環状のアルキル基および炭素数炭素数5〜30のポリ(アルキレンオキシ)基を含むアルキル基が極めて好ましい。以下にポリ(アルキレンオキシ)基について説明する。
In the above general formula 2, R 13 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a methyl group, more preferably a hydrogen atom or a methyl group. Y represents an oxygen atom, a sulfur atom or —N (R 15 ) —, more preferably an oxygen atom or —N (R 15 ) —, and still more preferably an oxygen atom. R 15 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and further preferably a hydrogen atom or a methyl group.
R 14 is a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 60 carbon atoms which may have a substituent, or an aromatic group which may have a substituent (for example, a phenyl group or a naphthyl group). ). The alkyl group may include a poly (alkyleneoxy) group. A linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkyl group containing a poly (alkyleneoxy) group having 5 to 40 carbon atoms, or an aromatic group having 6 to 18 carbon atoms is more preferable. Alkyl groups including 8 linear, branched, or cyclic alkyl groups and poly (alkyleneoxy) groups having 5 to 30 carbon atoms are highly preferred. The poly (alkyleneoxy) group will be described below.

ポリ(アルキレンオキシ)基は(OR)xで表すことができ、Rは2〜4個の炭素原子を有するアルキレン基、例えば−CH2CH2−、−CH2CH2CH2−、−CH(CH3)CH2−、または−CH(CH3)CH(CH3)−であることが好ましい。xは2〜30を表し、2〜20が好ましく、4〜15がさらに好ましい。 Poly (alkyleneoxy) groups can be represented by (OR) x, R is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, such as -CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 CH 2 -, - CH (CH 3 ) CH 2 — or —CH (CH 3 ) CH (CH 3 ) — is preferred. x represents 2-30, 2-20 are preferable and 4-15 are more preferable.

前記のポリ(オキシアルキレン)基中のオキシアルキレン単位はポリ(オキシプロピレン)におけるように同一であってもよく、また互いに異なる2種以上のオキシアルキレンが不規則に分布されたものであっても良く、直鎖または分岐状のオキシプロピレンまたはオキシエチレン単位であったり、または直鎖または分岐状のオキシプロピレン単位のブロック及びオキシエチレン単位のブロックのように存在するものであっても良い。   The oxyalkylene units in the poly (oxyalkylene) group may be the same as in poly (oxypropylene), or two or more different oxyalkylenes may be randomly distributed. It may be a linear or branched oxypropylene or oxyethylene unit, or a linear or branched oxypropylene unit block and an oxyethylene unit block.

このポリ(オキシアルキレン)鎖は1つまたはそれ以上の連鎖結合(例えば−CONH−Ph−NHCO−、−S−など:Phはフェニレン基を表す)で連結されたものも含むことができる。連鎖の結合が3つまたはそれ以上の原子価を有する場合には、これは分岐鎖のオキシアルキレン単位を得るための手段を供する。またこの共重合体を本発明に用いる場合には、ポリ(オキシアルキレン)基の分子量は250〜3000が適当である。
ポリ(オキシアルキレン)アクリレート及びメタクリレートは、市販のヒドロキシポリ(オキシアルキレン)材料、例えば商品名“プルロニック”[Pluronic](旭電化工業(株)製)、アデカポリエーテル(旭電化工業(株)製)“カルボワックス[Carbowax(グリコ・プロダクス)]、”トリトン“[Toriton(ローム・アンド・ハース(Rohm and Haas製))およびP.E.G(第一工業製薬(株)製)として販売されているものを公知の方法でアクリル酸、メタクリル酸、アクリルクロリド、メタクリルクロリドまたは無水アクリル酸等と反応させることによって製造できる。別に、公知の方法で製造したポリ(オキシアルキレン)ジアクリレート等を用いることもできる。
The poly (oxyalkylene) chain may also include those linked by one or more chain bonds (for example, —CONH—Ph—NHCO—, —S—, etc .: Ph represents a phenylene group). If the chain bond has a valence of 3 or more, this provides a means for obtaining branched oxyalkylene units. When this copolymer is used in the present invention, the molecular weight of the poly (oxyalkylene) group is suitably from 250 to 3,000.
Poly (oxyalkylene) acrylates and methacrylates are commercially available hydroxypoly (oxyalkylene) materials such as trade name “Pluronic” (manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), Adeka polyether (manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.). ) "Carbowax (Glyco Products)", "Triton" [Toriton (Rohm and Haas) and PEG (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) Can be produced by reacting them with acrylic acid, methacrylic acid, acrylic chloride, methacrylic chloride or acrylic anhydride, etc. Separately, poly (oxyalkylene) diacrylate produced by a known method is used. You can also.

本発明で用いられるフッ素系ポリマーの製造に用いられる上記一般式1で示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの量は、該フッ素系ポリマーの単量体全量に基づいて、10質量%以上であり、好ましくは50質量%以上であり、より好ましくは70〜100質量%であり、さらに好ましくは80〜100質量%の範囲である。   The amount of the fluoroaliphatic group-containing monomer represented by the general formula 1 used in the production of the fluoropolymer used in the present invention is 10% by mass or more based on the total amount of the monomer of the fluoropolymer, Preferably it is 50 mass% or more, More preferably, it is 70-100 mass%, More preferably, it is the range of 80-100 mass%.

以下、本発明によるフッ素系ポリマーの具体的な構造の例を示すがこの限りではない。
なお、式中の数字は各モノマー成分のモル比率を示す。Mwは質量平均分子量を表す。
Hereinafter, examples of specific structures of the fluorine-based polymer according to the present invention are shown, but the present invention is not limited thereto.
In addition, the number in a formula shows the molar ratio of each monomer component. Mw represents a mass average molecular weight.

Figure 2007069471
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本発明で用いられるフッ素系ポリマーを構成するフルオロ脂肪族基含有モノマーの重合単位の量は、10質量%を超えることが好ましく、50〜100質量%であることがより好ましく、ハードコート層のムラを防止するという観点を重視すれば、75〜100質量%であることが最も好ましく、ハードコート層の上に低屈折率層を塗布する場合は、50〜75質量%であることが最も好ましい。(該フッ素系ポリマーを構成する全重合単位で記載した)   The amount of the polymerization unit of the fluoroaliphatic group-containing monomer constituting the fluoropolymer used in the present invention is preferably more than 10% by mass, more preferably 50 to 100% by mass, and unevenness of the hard coat layer If the viewpoint of preventing the above is emphasized, it is most preferably 75 to 100% by mass, and when the low refractive index layer is applied on the hard coat layer, it is most preferably 50 to 75% by mass. (Described in all polymer units constituting the fluoropolymer)

次に、シリコーン系レベリング剤について、説明する。
シリコーン系レベリング剤としては、エチレングリコール、プロピレングリコール等のオリゴマー等の各種の置換基で、側鎖、主鎖の末端が変性されたポリジメチルシロキサン等が挙げられ、信越化学社製のKF−96、X−22−945などがある。
Next, the silicone leveling agent will be described.
Examples of the silicone-based leveling agent include polydimethylsiloxane having various substituents such as oligomers such as ethylene glycol and propylene glycol, and the side chain and the terminal of the main chain are modified. KF-96 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. X-22-945.

その他、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤も好ましく用いることができる。
これらの非イオン活性剤の具体例としては、例えば、日本ユニカー(株)製、シリコーン界面活性剤 SILWET L−77、L−720、L−7001、L−7002、L−7604、Y−7006、FZ−2101、FZ−2104、FZ−2105、FZ−2110、FZ−2118、FZ−2120、FZ−2122、FZ−2123、FZ−2130、FZ−2154、FZ−2161、FZ−2162、FZ−2163、FZ−2164、FZ−2166、FZ−2191があり、さらにSUPERSILWET SS−2801、SS−2802、SS−2803、SS−2804、SS−2805等が挙げられる。
また、これら、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン系の界面活性剤の好ましい構造としては、ジメチルポリシロキサン構造部分とポリオキシアルキレン鎖が交互に繰り返し結合した直鎖状のブロックコポリマーであることが好ましく、特開平6−49486号が参考にできる。
これらの具体例としては、例えば、日本ユニカー(株)製、シリコーン界面活性剤 ABN SILWET FZ−2203、FZ−2207、FZ−2208等が挙げられる。
In addition, a nonionic surfactant having a hydrophobic group composed of dimethylpolysiloxane and a hydrophilic group composed of polyoxyalkylene can also be preferably used.
Specific examples of these nonionic surfactants include, for example, Nippon Unicar Co., Ltd., silicone surfactants SILWET L-77, L-720, L-7001, L-7002, L-7604, Y-7006, FZ-2101, FZ-2104, FZ-2105, FZ-2110, FZ-2118, FZ-2120, FZ-2122, FZ-2123, FZ-2130, FZ-2154, FZ-2161, FZ-2162, FZ- 2163, FZ-2164, FZ-2166, FZ-2191, and SUPERSILWET SS-2801, SS-2802, SS-2803, SS-2804, SS-2805, and the like.
In addition, as a preferable structure of the nonionic surfactant in which the hydrophobic group is composed of dimethylpolysiloxane and the hydrophilic group is composed of polyoxyalkylene, a dimethylpolysiloxane structure portion and a polyoxyalkylene chain are alternately and repeatedly bonded. A linear block copolymer is preferred, and JP-A-6-49486 can be referred to.
Specific examples thereof include, for example, silicone surfactants ABN SILWET FZ-2203, FZ-2207, FZ-2208 and the like manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.

塗布液に対する上記含フッ素系レベリング剤、シリコーン系レベリング剤の添加量は、0.001質量%〜1.0質量%であることが好ましく、より好ましくは0.01質量%〜0.2質量%である。   The amount of the fluorine-containing leveling agent and silicone leveling agent added to the coating solution is preferably 0.001% by mass to 1.0% by mass, more preferably 0.01% by mass to 0.2% by mass. It is.

・ハードコート層の増粘剤
ハードコート層には、塗布液の粘度を調整するために増粘剤を用いてもよい。
ここでいう増粘剤とは、それを添加することにより液の粘度が増大するものを意味し、添加することにより塗布液の粘度が上昇する大きさとして好ましくは0.05〜50cPであり、さらに好ましくは0.10〜20cPであり、最も好ましくは0.10〜10cPである。
増粘剤として用いられる高分子ポリマーは、フッ素原子および/または珪素原子を実質的に含まないことが好ましい。ここでいう「実質的に」とは高分子ポリマー質量中フッ素原子および/または珪素原子の含有量が0.1質量%以下、好ましくは0.01質量%以下という意味である。
-Thickener for hard coat layer A thickener may be used for the hard coat layer in order to adjust the viscosity of the coating solution.
The term “thickener” as used herein means that the viscosity of the liquid is increased by adding it, and is preferably 0.05 to 50 cP as the magnitude of increase in the viscosity of the coating liquid by adding it. More preferably, it is 0.10-20 cP, Most preferably, it is 0.10-10 cP.
It is preferable that the polymer used as the thickener does not substantially contain a fluorine atom and / or a silicon atom. Here, “substantially” means that the content of fluorine atoms and / or silicon atoms in the mass of the polymer is 0.1% by mass or less, preferably 0.01% by mass or less.

このような増粘剤としては高分子ポリマーが好ましく、具体的に以下のものが挙げられるが、これに限定されない。
ポリアクリル酸エステル
ポリメタクリル酸エステル
ポリビニルアセテート
ポリビニルプロピオネート
ポリビニルブチレート
ポリビニルブチラール
ポリビニルホルマール
ポリビニルアセタール
ポリビニルプロパナール
ポリビニルヘキサナール
ポリビニルピロリドン
セルロースアセテート
セルロースプロピオネート
セルロースアセテートブチレート
この中で、特にポリメタクリル酸エステル(具体的にはポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル)、ポリビニルアセテート、ポリビニルプロピオネート、セルロースプロピオネート、セルロースアセテートブチレートが好ましい。
また、これらの質量平均分子量としては10万〜100万のものが好ましい。
Such a thickener is preferably a high molecular polymer, and specific examples include, but are not limited to, the following.
Polyacrylic acid ester Polymethacrylic acid ester Polyvinyl acetate Polyvinyl propionate Polyvinyl butyrate Polyvinyl butyral Polyvinyl formal Polyvinyl acetal Polyvinyl propanal Polyvinyl hexanal Polyvinyl pyrrolidone Cellulose acetate Cellulose propionate Cellulose acetate butyrate Among these, especially polymethacrylic acid ester ( Specifically, polymethyl methacrylate, polyethyl methacrylate), polyvinyl acetate, polyvinyl propionate, cellulose propionate, and cellulose acetate butyrate are preferable.
Further, those having a mass average molecular weight of 100,000 to 1,000,000 are preferable.

この他にも特開平8−325491号記載のスメクタイト、フッ素四珪素雲母、ベントナイト、シリカ、モンモリロナイト及びポリアクリル酸ソーダ、特開平10−219136エチルセルロース、ポリアクリル酸、有機粘土など、公知の粘度調整剤やチキソトロピー性付与剤を使用することが出来る。   Other known viscosity modifiers such as smectite, tetrasilica mica, bentonite, silica, montmorillonite and sodium polyacrylate, JP-A-10-219136, ethyl cellulose, polyacrylic acid, and organic clay described in JP-A-8-325491. Or a thixotropic agent can be used.

[支持体]
本発明の光学フィルムの透明支持体としては、プラスチックフィルムを用いることが好ましい。プラスチックフィルムを形成するポリマーとしては、セルロースエステル(例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、代表的には富士写真フイルム社製TAC−TD80U,TD80UFなど)、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル(例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート)、ポリスチレン、ポリオレフィン、ノルボルネン系樹脂(アートン:商品名、JSR社製)、非晶質ポリオレフィン(ゼオネックス:商品名、日本ゼオン社製)、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、が好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。また、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まないセルロースアシレートフィルムおよびその製造法については発明協会公開技報(公技番号2001−1745、2001年3月15日発行、以下公開技報2001−1745号と略す)に記載されており、ここに記載されたセルロースアシレートも本発明に好ましく用いることができる。
[Support]
A plastic film is preferably used as the transparent support of the optical film of the present invention. Examples of the polymer forming the plastic film include cellulose esters (eg, triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, typically TAC-TD80U, TD80UF, etc. manufactured by Fuji Photo Film), polyamides, polycarbonates, polyesters (eg, polyethylene terephthalate, polyethylene). Naphthalate), polystyrene, polyolefin, norbornene resin (Arton: trade name, manufactured by JSR), amorphous polyolefin (ZEONEX: trade name, manufactured by Nippon Zeon), and the like. Of these, triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate, and polyethylene naphthalate are preferable, and triacetyl cellulose is particularly preferable. In addition, the cellulose acylate film substantially free of halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and the process for producing the same are disclosed in the JIII Journal of Technical Disclosure (Publication No. 2001-1745, published on March 15, 2001; The cellulose acylate described herein can also be preferably used in the present invention.

(光学フィルムの作製方法)
[光学機能層形成方法]
本発明の光学フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。
まず、各層を形成するための成分を含有した塗布液が調製される。塗布液を、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法(米国特許2681294号明細書参照)により透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥する。これらの塗布方式のうち、グラビアコート法で塗布すると反射防止膜の各層のような塗布量の少ない塗布液を膜厚均一性高く塗布することができ、好ましい。グラビアコート法の中でもマイクログラビア法は膜厚均一性が高く、より好ましい。
また、ダイコート法を用いても塗布量の少ない塗布液を膜厚均一性高く塗布することができ、さらにダイコート法は前計量方式のため膜厚制御が比較的容易であり、さらに塗布部における溶剤の蒸散が少ないため、好ましい。二層以上を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許2761791号、同2941898号、同3508947号、同3526528号の各明細書および原崎勇次著、コーティング工学、253頁、朝倉書店(1973)に記載がある。
(Method for producing optical film)
[Method for forming optical functional layer]
The optical film of the present invention can be formed by the following method, but is not limited to this method.
First, a coating solution containing components for forming each layer is prepared. The coating solution is applied onto a transparent support by dip coating, air knife coating, curtain coating, roller coating, wire bar coating, gravure coating or extrusion coating (see US Pat. No. 2,681,294). Heat and dry. Among these coating methods, it is preferable to apply the gravure coating method because a coating solution with a small coating amount such as each layer of the antireflection film can be applied with high film thickness uniformity. Among the gravure coating methods, the micro gravure method has a high film thickness uniformity and is more preferable.
In addition, a coating solution with a small coating amount can be applied with high film thickness uniformity even by using a die coating method. Further, since the die coating method is a pre-measuring method, film thickness control is relatively easy, and the solvent in the coating part Is preferred because of less transpiration. Two or more layers may be applied simultaneously. The method of simultaneous application is described in US Pat. Nos. 2,761,791, 2,941,898, 3,508,947, and 3,526,528 and Yuji Harasaki, Coating Engineering, page 253, Asakura Shoten (1973).

[鹸化処理]
本発明の光学フィルムを液晶表示装置に用いる場合、片面に粘着層を設ける等してディスプレイの最表面に配置する。該透明支持体がトリアセチルセルロースの場合は偏光板の偏光層を保護する保護フィルムとしてトリアセチルセルロースが用いられるため、本発明の光学フィルムをそのまま保護フィルムに用いることがコストの上では好ましい。
本発明の光学フィルムは、片面に粘着層を設ける等してディスプレイの最表面に配置したり、そのまま偏光板用保護フィルムとして使用される場合には、十分に接着させるためには透明支持体上に含フッ素ポリマーを主体とする最外層を形成した後、鹸化処理を実施することが好ましい。鹸化処理は、公知の手法、例えば、アルカリ液の中に該フィルムを適切な時間浸漬して実施される。アルカリ液に浸漬した後は、該フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。
鹸化処理することにより、最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面が親水化される。
親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良するのに特に有効である。また、親水化された表面は、空気中の塵埃が付着しにくくなるため、偏光膜と接着させる際に偏光膜と光学フィルムの間に塵埃が入りにくく、塵埃による点欠陥を防止するのに有効である。
鹸化処理は、最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が40゜以下になるように実施することが好ましい。更に好ましくは30゜以下、特に好ましくは20゜以下である。
[Saponification]
When the optical film of the present invention is used in a liquid crystal display device, it is disposed on the outermost surface of the display by providing an adhesive layer on one side. When the transparent support is triacetyl cellulose, triacetyl cellulose is used as a protective film for protecting the polarizing layer of the polarizing plate. Therefore, it is preferable in terms of cost to use the optical film of the present invention as it is for the protective film.
When the optical film of the present invention is disposed on the outermost surface of a display by providing an adhesive layer on one side or used as it is as a protective film for a polarizing plate, the optical film on the transparent support is sufficient for adhesion. It is preferable to perform a saponification treatment after forming an outermost layer mainly composed of a fluorine-containing polymer. The saponification treatment is performed by a known method, for example, by immersing the film in an alkali solution for an appropriate time. After being immersed in the alkaline solution, it is preferable to sufficiently wash with water or neutralize the alkaline component by dipping in a dilute acid so that the alkaline component does not remain in the film.
By saponification treatment, the surface of the transparent support opposite to the side having the outermost layer is hydrophilized.
The hydrophilized surface is particularly effective for improving the adhesion with a polarizing film containing polyvinyl alcohol as a main component. In addition, the hydrophilic surface makes it difficult for dust in the air to adhere to it, making it difficult for dust to enter between the polarizing film and the optical film when bonded to the polarizing film, and is effective in preventing point defects caused by dust. It is.
The saponification treatment is preferably carried out so that the contact angle of water on the surface of the transparent support opposite to the side having the outermost layer is 40 ° or less. More preferably, it is 30 ° or less, particularly preferably 20 ° or less.

アルカリ鹸化処理の具体的手段としては、以下の(1)及び(2)の2つの手段から選択することができる。以下、反射防止フィルムを例に説明する。汎用のトリアセチルセルロースフィルムと同一の工程で処理できる点で(1)が優れているが、反射防止層面まで鹸化処理されるため、表面がアルカリ加水分解されて膜が劣化する点、鹸化処理液が残ると汚れになる点が問題になり得る。その場合には、特別な工程となるが、(2)が優れる。
(1)透明支持体上に反射防止層を形成後に、アルカリ液中に少なくとも1回浸漬することで、該フィルムの裏面を鹸化処理する。
(2)透明支持体上に反射防止層を形成する前または後に、アルカリ液を該光学フィルムの光学フィルムを形成する面とは反対側の面に塗布し、加熱、水洗および/または中和することで、該フィルムの裏面だけを鹸化処理する。
Specific means for the alkali saponification treatment can be selected from the following two means (1) and (2). Hereinafter, an antireflection film will be described as an example. (1) is superior in that it can be processed in the same process as a general-purpose triacetyl cellulose film, but since the saponification treatment is performed up to the antireflection layer surface, the surface is alkali-hydrolyzed and the film deteriorates. If it remains, it becomes a problem that it becomes dirty. In that case, although it becomes a special process, (2) is excellent.
(1) After the antireflection layer is formed on the transparent support, the back surface of the film is saponified by immersing it in an alkaline solution at least once.
(2) Before or after forming the antireflection layer on the transparent support, an alkaline solution is applied to the surface of the optical film opposite to the surface on which the optical film is formed, and is heated, washed and / or neutralized. Thus, only the back surface of the film is saponified.

[偏光板]
偏光板は、偏光膜を両面から挟む2枚の保護フィルムで主に構成される。本発明の光学フィルムは、偏光膜を両面から挟む2枚の保護フィルムのうち少なくとも1枚に用いることが好ましい。本発明の光学フィルムが保護フィルムを兼ねることで、偏光板の製造コストを低減できる。また、本発明の光学フィルム、特に反射防止フィルムを最表層に使用することにより、外光の映り込み等が防止され、耐傷性、防汚性等も優れた偏光板とすることができる。
偏光膜としては公知の偏光膜や、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜から切り出された偏光膜を用いてもよい。偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜は以下の方法により作成される。
即ち、連続的に供給されるポリマーフィルムの両端を保持手段により保持しつつ張力を付与して延伸した偏光膜で、少なくともフィルム幅方向に1.1〜20.0倍に延伸し、フィルム両端の保持装置の長手方向進行速度差が3%以内であり、フィルム両端を保持する工程の出口におけるフィルムの進行方向と、フィルムの実質延伸方向のなす角が、20〜70゜傾斜するようにフィルム進行方向を、フィルム両端を保持させた状態で屈曲させてなる延伸方法によって製造することができる。特に45°傾斜させたものが生産性の観点から好ましく用いられる。
ポリマーフィルムの延伸方法については、特開2002−86554号公報の段落0020〜0030に詳しい記載がある。
[Polarizer]
The polarizing plate is mainly composed of two protective films that sandwich the polarizing film from both sides. The optical film of the present invention is preferably used for at least one of the two protective films sandwiching the polarizing film from both sides. The manufacturing cost of a polarizing plate can be reduced because the optical film of the present invention also serves as a protective film. In addition, by using the optical film of the present invention, particularly the antireflection film, as the outermost layer, reflection of external light and the like can be prevented, and a polarizing plate having excellent scratch resistance and antifouling properties can be obtained.
As the polarizing film, a known polarizing film or a polarizing film cut out from a long polarizing film whose absorption axis is neither parallel nor perpendicular to the longitudinal direction may be used. A long polarizing film whose absorption axis is neither parallel nor perpendicular to the longitudinal direction is produced by the following method.
That is, a polarizing film stretched by applying tension while holding both ends of a continuously supplied polymer film by a holding means, stretched at least 1.1 to 20.0 times in the film width direction, The progress of the film is such that the difference between the moving speeds in the longitudinal direction of the holding device is within 3%, and the angle formed by the film moving direction at the exit of the step of holding both ends of the film and the substantial stretching direction of the film is inclined by 20 to 70 °. The film can be produced by a stretching method in which the direction is bent while holding both ends of the film. In particular, those inclined by 45 ° are preferably used from the viewpoint of productivity.
The method for stretching the polymer film is described in detail in paragraphs 0020 to 0030 of JP-A-2002-86554.

本発明の光学フィルムは、偏光膜の表面保護フィルムの片側として用いた場合、ツイステットネマチック(TN)、スーパーツイステットネマチック(STN)、バーティカルアライメント(VA)、インプレインスイッチング(IPS)、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル(OCB)等のモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。   When the optical film of the present invention is used as one side of a surface protective film of a polarizing film, it is twisted nematic (TN), super twisted nematic (STN), vertical alignment (VA), in-plane switching (IPS), optically. It can be preferably used for a transmissive, reflective, or transflective liquid crystal display device in a mode such as a compensated bend cell (OCB).

VAモードの液晶セルには、(1)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のVAモードの液晶セル(特開平2−176625号公報記載)に加えて、(2)視野角拡大のため、VAモードをマルチドメイン化した(MVAモードの)液晶セル(SID97、Digest of tech. Papers(予稿集)28(1997)845記載)、(3)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード(n−ASMモード)の液晶セル(日本液晶討論会の予稿集58〜59(1998)記載)および(4)SURVAIVALモードの液晶セル(LCDインターナショナル98で発表)が含まれる。
VAモードの液晶セル用には、2軸延伸したトリアセチルセルロースフィルムを本発明の光学フィルムと組み合わせて作成した偏光板が好ましく用いられる。2軸延伸したトリアセチルセルロースフィルムの作製方法については、例えば特開2001−249223号公報、特開2003−170492号公報などに記載の方法を用いることが好ましい。
The VA mode liquid crystal cell includes (1) a narrowly defined VA mode liquid crystal cell in which rod-like liquid crystalline molecules are aligned substantially vertically when no voltage is applied, and substantially horizontally when a voltage is applied (Japanese Patent Laid-Open No. Hei 2-). (2) In addition to (2) Liquid crystal cell (SID97, Digest of tech. Papers (Preliminary Collection) 28 (1997) 845 in which the VA mode is converted into a multi-domain (MVA mode) for viewing angle expansion ), (3) A liquid crystal cell in a mode (n-ASM mode) in which rod-like liquid crystalline molecules are substantially vertically aligned when no voltage is applied and twisted multi-domain alignment is applied when a voltage is applied (Preliminary collections 58-59 of the Japan Liquid Crystal Society) (1998)) and (4) SURVAVAL mode liquid crystal cells (announced at LCD International 98).
For a VA mode liquid crystal cell, a polarizing plate prepared by combining a triacetyl cellulose film stretched biaxially with the optical film of the present invention is preferably used. As for the method for producing a biaxially stretched triacetyl cellulose film, for example, the methods described in JP-A Nos. 2001-249223 and 2003-170492 are preferably used.

OCBモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に(対称的に)配向させるベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置であり、米国特許4583825号、同5410422号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、OCB(Optically Compensatory Bend) 液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。   The OCB mode liquid crystal cell is a liquid crystal display device using a bend alignment mode liquid crystal cell in which rod-like liquid crystalline molecules are aligned in a substantially opposite direction (symmetrically) between the upper part and the lower part of the liquid crystal cell. It is disclosed in the specifications of Japanese Patent Nos. 45882525 and 5410422. Since the rod-like liquid crystal molecules are symmetrically aligned at the upper and lower portions of the liquid crystal cell, the bend alignment mode liquid crystal cell has a self-optical compensation function. Therefore, this liquid crystal mode is also called an OCB (Optically Compensatory Bend) liquid crystal mode. The bend alignment mode liquid crystal display device has an advantage of high response speed.

ECBモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向しており、カラーTFT液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。例えば「EL、PDP、LCDディスプレイ」東レリサーチセンター発行(2001)などに記載されている。   In an ECB mode liquid crystal cell, rod-like liquid crystal molecules are substantially horizontally aligned when no voltage is applied, and is most frequently used as a color TFT liquid crystal display device, and is described in many documents. For example, it is described in “EL, PDP, LCD display” published by Toray Research Center (2001).

特にTNモードやIPSモードの液晶表示装置に対しては、特開2001−100043号公報等に記載されているように、視野角拡大効果を有する光学補償フィルムを偏光膜の裏表2枚の保護フィルムの内の本発明の光学フィルムとは反対側の面に用いることにより、1枚の偏光板の厚みで反射防止効果と視野角拡大効果を有する偏光板を得ることができ、特に好ましい。   In particular, for TN mode and IPS mode liquid crystal display devices, as described in JP-A-2001-100043, an optical compensation film having an effect of widening a viewing angle is used as a protective film having two polarizing films on both sides. Among them, by using it on the surface opposite to the optical film of the present invention, a polarizing plate having an antireflection effect and a viewing angle expansion effect can be obtained with the thickness of one polarizing plate, which is particularly preferable.

以下、本発明の実施例を示すがこれに示す限りではない。尚、以下の実施例において、「部」とは「質量部」を意味するものである。   Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited thereto. In the following examples, “part” means “part by mass”.

無機酸化物微粒子のシリル化処理
(分散液P−1の調整)
シリカ微粒子ゾル(イソプロピルアルコールシリカゾル、日産化学工業(株)製 IPA−ST−L、平均粒子径45nm、シリカ濃度30%)500部に、トリメチルメトキシシラン27.2部(2.9ミリモル/シリカゾルのシリカ表面積100m2)を加え攪拌混合した。その後60℃で2時間反応させてシリル化処理シリカゾルを得た。このシリル化処理シリカゾルにメチルエチルケトンを添加しながら、総液量が一定になるように圧力100Torrで減圧蒸留による溶媒置換を行なった。得られた分散液のイソプロパノ−ルの残存量はガズクロマトグラフィーで分析したところ1.0%以下であった。この溶剤置換されたシリル化処理シリカゾルの固形分濃度をメチルエチルケトンで30%に調整し、分散液P−1を得た。
この分散液P−1を50℃で減圧乾燥後、粉砕し更に110℃で1時間乾燥後、元素分析を行なったところ炭素含有量は0.62重量%であり、これはトリメチルシリル基数としてシリカ微粒子表面積1nm2当たり1.72個に相当した。
Silylation of inorganic oxide fine particles
(Preparation of dispersion P-1)
Silica fine particle sol (isopropyl alcohol silica sol, IPA-ST-L manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., average particle diameter 45 nm, silica concentration 30%), 500 parts, trimethylmethoxysilane 27.2 parts (2.9 mmol / silica sol A silica surface area of 100 m 2 ) was added and mixed with stirring. Thereafter, the mixture was reacted at 60 ° C. for 2 hours to obtain a silylated silica sol. While adding methyl ethyl ketone to the silylation-treated silica sol, the solvent was replaced by vacuum distillation at a pressure of 100 Torr so that the total liquid amount was constant. The amount of residual isopropanol in the obtained dispersion was 1.0% or less as analyzed by gas chromatography. The solid content concentration of this solvent-substituted silylation-treated silica sol was adjusted to 30% with methyl ethyl ketone to obtain dispersion P-1.
This dispersion P-1 was dried under reduced pressure at 50 ° C., pulverized, further dried at 110 ° C. for 1 hour, and subjected to elemental analysis. The carbon content was 0.62% by weight. It corresponds to 1.72 per 1 nm 2 of surface area.

分散液P−1において、一般式(I)で表させるシリル化処理剤、シリル化処理時間及びシリル化処理剤の添加量を表1に示すように変更した以外は、全く同様にしてP−2〜P−6の分散液を調整した。微粒子表面積1nm2当たりのシリル基数は、得られた分散液を上記と同じの方法で評価した。 In the dispersion P-1, except that the silylation treatment agent represented by the general formula (I), the silylation treatment time, and the addition amount of the silylation treatment agent were changed as shown in Table 1, P- A dispersion of 2 to P-6 was prepared. The number of silyl groups per 1 nm 2 of the fine particle surface area was evaluated by the same method as described above for the obtained dispersion.

(分散液Q−1の調整)
シリカ微粒子ゾル(イソプロピルアルコールシリカゾル、日産化学工業(株)製 IPA−ST−ZL、平均粒子径100nm、シリカ濃度30%)500部に、トリメチルメトキシシラン6.1部(1.4ミリモル/シリカゾルのシリカ表面積100m2)を加え攪拌混合した。その後60℃で2時間反応させてシリル化処理シリカゾルを得た。このシリル化処理シリカゾルにメチルエチルケトンを添加しながら、総液量が一定になるように圧力100Torrで減圧蒸留による溶媒置換を行なった。得られた分散液のイソプロパノ−ルの残存量はガズクロマトグラフィーで分析したところ1.0%以下であった。この溶剤置換されたシリル化処理シリカゾルの固形分濃度をメチルエチルケトンで30%に調整し、分散液Q−1を得た。
この分散液Q−1を50℃で減圧乾燥後、粉砕し更に110℃で1時間乾燥後、元素分析を行なったところ炭素含有量は0.26重量%であり、これはトリメチルシリル基数としてシリカ微粒子表面積1nm2当たり1.62個に相当した。
(Adjustment of dispersion Q-1)
In 500 parts of silica fine particle sol (isopropyl alcohol silica sol, IPA-ST-ZL, average particle diameter 100 nm, silica concentration 30%, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), 6.1 parts of trimethylmethoxysilane (1.4 mmol / silica sol A silica surface area of 100 m 2 ) was added and mixed with stirring. Thereafter, the mixture was reacted at 60 ° C. for 2 hours to obtain a silylated silica sol. While adding methyl ethyl ketone to the silylation-treated silica sol, the solvent was replaced by vacuum distillation at a pressure of 100 Torr so that the total liquid amount was constant. The amount of residual isopropanol in the obtained dispersion was 1.0% or less as analyzed by gas chromatography. The solid content concentration of the solvent-substituted silylation-treated silica sol was adjusted to 30% with methyl ethyl ketone to obtain dispersion Q-1.
This dispersion Q-1 was dried under reduced pressure at 50 ° C., pulverized, further dried at 110 ° C. for 1 hour, and subjected to elemental analysis. As a result, the carbon content was 0.26% by weight. This corresponds to 1.62 per 1 nm 2 of surface area.

(分散液R−1の調整)
中空シリカ微粒子ゾル(イソプロピルアルコールシリカゾル、触媒化成工業(株)製CS60−IPA、平均粒子径60nm、シェル厚み10nm、シリカ濃度20%)500部に、トリメチルメトキシシラン25部(2.9ミリモル/シリカゾルのシリカ表面積100m2)を加え攪拌混合した。その後60℃で2時間反応させてシリル化処理シリカゾルを得た。このシリル化処理シリカゾルにメチルエチルケトンを添加しながら、総液量が一定になるように圧力100Torrで減圧蒸留による溶媒置換を行なった。得られた分散液のイソプロパノ−ルの残存量はガズクロマトグラフィーで分析したところ1.0%以下であった。この溶剤置換されたシリル化処理シリカゾルの固形分濃度をメチルエチルケトンで30%に調整し、分散液R−1を得た。
この分散液R−1を50℃で減圧乾燥後、粉砕し更に110℃で1時間乾燥後、元素分析を行なったところ炭素含有量は0.88重量%であり、これはトリメチルシリル基数としてシリカ微粒子表面積1nm2当たり1.76個に相当した。
(Preparation of dispersion R-1)
Hollow silica fine particle sol (Isopropyl alcohol silica sol, CS60-IPA manufactured by Catalytic Chemical Industry Co., Ltd., average particle diameter 60 nm, shell thickness 10 nm, silica concentration 20%), 500 parts, trimethylmethoxysilane 25 parts (2.9 mmol / silica sol) Of silica having a surface area of 100 m 2 ) was added and mixed with stirring. Thereafter, the mixture was reacted at 60 ° C. for 2 hours to obtain a silylated silica sol. While adding methyl ethyl ketone to the silylation-treated silica sol, the solvent was replaced by vacuum distillation at a pressure of 100 Torr so that the total liquid amount was constant. The amount of residual isopropanol in the obtained dispersion was 1.0% or less as analyzed by gas chromatography. The solid content concentration of this solvent-substituted silylation-treated silica sol was adjusted to 30% with methyl ethyl ketone to obtain dispersion R-1.
This dispersion R-1 was dried at 50 ° C. under reduced pressure, pulverized, further dried at 110 ° C. for 1 hour, and subjected to elemental analysis. The carbon content was 0.88% by weight. This corresponds to 1.76 per 1 nm 2 of surface area.

分散液R−1において、一般式(I)で表させるシリル化処理剤、シリル化処理時間及びシリル化処理剤の添加量を表1に示すように変更した以外は、全く同様にしてR−2〜R−4の分散液を調整した。微粒子表面積1nm2当たりのシリル基数は、得られた分散液を上記と同じの方法で評価した。 In the dispersion R-1, R- is exactly the same except that the silylation treatment agent represented by the general formula (I), the silylation treatment time, and the addition amount of the silylation treatment agent are changed as shown in Table 1. A dispersion of 2 to R-4 was prepared. The number of silyl groups per 1 nm 2 of the fine particle surface area was evaluated by the same method as described above for the obtained dispersion.

Figure 2007069471
Figure 2007069471

[実施例1]
(ゾル液の調製)
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン120部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(KBM−5103、信越化学工業(株)製)100部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート3部を加え混合したのち、イオン交換水30部を加え、60℃で4時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液aを得た。質量平均分子量は1600であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が1000〜20000の成分は100%であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
[Example 1]
(Preparation of sol solution)
A stirrer, a reactor equipped with a reflux condenser, 120 parts of methyl ethyl ketone, 100 parts of acryloyloxypropyltrimethoxysilane (KBM-5103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 3 parts of diisopropoxyaluminum ethyl acetoacetate were added and mixed. Thereafter, 30 parts of ion-exchanged water was added and reacted at 60 ° C. for 4 hours, and then cooled to room temperature to obtain sol solution a. The mass average molecular weight was 1600, and among the components higher than the oligomer component, the component having a molecular weight of 1000 to 20000 was 100%. Further, from the gas chromatography analysis, the raw material acryloyloxypropyltrimethoxysilane did not remain at all.

(防眩層用塗布液Aの調製)
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)285.0gをメチルイソブチルケトン175.0gで希釈した。更に、重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)を15.0g添加し、混合攪拌した。続いてシランカップリング剤(KBM−5103、信越化学工業(株)製)60.0gを加えてエアーディスパーにて120分間攪拌して溶質を完全に溶解した。
最後に、この溶液にポリトロン分散機にて10000rpmで20分間分散した平均粒径3.5μmの架橋ポリ(アクリル−スチレン)粒子(共重合組成比=50/50、屈折率1.536)の30%メチルイソブチルケトン分散液を240.0g加えた後に、フッ素レベリング剤FP−7を0.5g、メチルエチルケトン112.5gとプロピレングリコールを112.5g添加し、エアーディスパーにて10分間攪拌した。
前記混合液を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用塗布液Aを調製した。
(Preparation of coating solution A for antiglare layer)
285.0 g of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.) was diluted with 175.0 g of methyl isobutyl ketone. Furthermore, 15.0 g of a polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) was added and mixed and stirred. Subsequently, 60.0 g of a silane coupling agent (KBM-5103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added and stirred for 120 minutes with an air disper to completely dissolve the solute.
Finally, 30 of crosslinked poly (acryl-styrene) particles having an average particle diameter of 3.5 μm (copolymerization composition ratio = 50/50, refractive index 1.536) dispersed in this solution for 20 minutes at 10,000 rpm with a Polytron disperser. After adding 240.0 g of% methyl isobutyl ketone dispersion, 0.5 g of fluorine leveling agent FP-7, 112.5 g of methyl ethyl ketone and 112.5 g of propylene glycol were added, and the mixture was stirred with an air disper for 10 minutes.
The mixed solution was filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 30 μm to prepare a coating solution A for an antiglare layer.

(低屈折率層用塗布液Aの調整)
ポリシロキサンおよび水酸基を含有する屈折率1.44の熱架橋性含フッ素ポリマー(JTA113、固形分濃度6%、JSR(株)製)12.5g、前記で合成したシリカ微粒子の30%分散物を1.3g、ゾル液a0.6g、およびメチルエチルケトン7.0g、シクロヘキサノン0.6gを添加、攪拌の後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層塗布液Aを調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、1.45であった。
(Adjustment of coating solution A for low refractive index layer)
12.5 g of a heat-crosslinkable fluorine-containing polymer having a refractive index of 1.44 containing polysiloxane and a hydroxyl group (JTA113, solid content concentration 6%, manufactured by JSR Corporation), a 30% dispersion of silica fine particles synthesized above 1.3 g, 0.6 g of sol solution a, 7.0 g of methyl ethyl ketone, and 0.6 g of cyclohexanone were added. After stirring, the solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a low refractive index layer coating solution A. The refractive index of the layer formed with this coating solution was 1.45.

(1)防眩層(防眩性ハードコート層)の塗設
特開2003−211052号の図1に記載されたスロットダイコーターを用いて、80μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルム(TAC−TD80U、富士写真フイルム(株)製)をロール形態で巻き出して、防眩層用塗布液Aを17.3g/mとなるように塗布し、30℃で15秒間、90℃で20秒間乾燥の後、さらに窒素パージ下で160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照射量90mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ6μmの防眩性を有する防眩層を形成し、巻き取った。
(2)低屈折率層の塗設
上記防眩層用塗布液Aを塗布して防眩層を塗設したトリアセチルセルロースフィルムを再び巻き出して、バーコーターで前記低屈折率層用塗布液Aを3.5g/m塗布し、120℃で150秒乾燥の後、更に140℃で8分乾燥させてから窒素パージにより酸素濃度0.1%の雰囲気下で240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照射量300mJ/cm2の紫外線を照射し、厚さ100nmの低屈折率層を形成し、巻き取った。
上記の方法で得られた反射防止フィルムを1−1とした。
(1) Coating of antiglare layer (antiglare hard coat layer) Using a slot die coater described in FIG. 1 of JP-A No. 2003-211052, a triacetylcellulose film (TAC-TD80U having a thickness of 80 μm). , Manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) in the form of a roll, and coated with an antiglare layer coating solution A at 17.3 g / m 2 and dried at 30 ° C. for 15 seconds and 90 ° C. for 20 seconds. Thereafter, using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) of 160 W / cm under a nitrogen purge, the coating layer was cured by irradiating ultraviolet rays with an irradiation amount of 90 mJ / cm 2 , and having a thickness of 6 μm. An antiglare layer having antiglare properties was formed and wound up.
(2) Coating of low refractive index layer The triacetyl cellulose film coated with the antiglare layer coating liquid A and coated with the antiglare layer is unwound again, and the low refractive index layer coating liquid is applied with a bar coater. A was applied at 3.5 g / m 2, dried at 120 ° C. for 150 seconds, further dried at 140 ° C. for 8 minutes, and then purged with nitrogen to 240 W / cm air-cooled metal halide lamp in an atmosphere with an oxygen concentration of 0.1%. (Igraphics Co., Ltd.) was used to irradiate ultraviolet rays having an irradiation amount of 300 mJ / cm 2 to form a low refractive index layer having a thickness of 100 nm and wound up.
The antireflection film obtained by the above method was designated 1-1.

(ハードコートフィルムおよび反射防止フィルムの評価)
得られたこれらの試料について、以下の項目の評価を行った。結果を表2に示した。
(1)ハードコート膜の面状評価
ハードコート層しか塗られていない塗布巾1.34m×長さ25cmの大きさの試料を裏面を黒塗りし、反射光で目視観察して、塗布ムラの度合いを以下の基準で評価した。
◎ :非常に注意深く見ても、全くムラが見えない。
○ :非常に注意深く見ると僅かに弱いムラが見える。
△ :弱いムラが見える。
× :中程度のムラが見える。
×× :一目見ただけで分かるムラがある。
(Evaluation of hard coat film and antireflection film)
About these obtained samples, the following items were evaluated. The results are shown in Table 2.
(1) Evaluation of surface condition of hard coat film A sample having a coating width of 1.34 m × length of 25 cm coated only with a hard coat layer is black-coated on the back surface, and visually observed with reflected light. The degree was evaluated according to the following criteria.
A: Even if looked very carefully, no unevenness was seen.
○: Slightly weak unevenness is seen when viewed very carefully.
Δ: Weak unevenness is visible.
X: Medium unevenness is visible.
XX: Unevenness that can be seen at first glance.

(2)微粒子凝集観察
電子顕微鏡を用いて、各試料(無機酸化物微粒子を含有する低屈折率層用塗布液が塗布されている試料)の塗布面側を倍率5000倍で観察し、網目状に広がる微粒子の凝集の度合いを以下の基準で評価した。
◎ :全く網目状の微粒子凝集が見えない。
○ :網目状に広がってはいないが、僅かに小さい微粒子凝集が見える。
△ :弱い網目状の微粒子凝集が見える。
× :はっきりとした細い網目状の微粒子凝集が見える
×× :はっきりとした太い網目状の微粒子凝集が見える。
(2) Fine particle aggregation observation Using an electron microscope, the coated surface side of each sample (sample coated with a coating solution for low refractive index layer containing inorganic oxide fine particles) was observed at a magnification of 5000 times to form a mesh. The degree of agglomeration of fine particles spreading to the surface was evaluated according to the following criteria.
A: No network-like fine particle aggregation is seen.
○: Although it does not spread in a mesh shape, slightly small particle aggregation can be seen.
Δ: Weak network-like fine particle aggregation is visible.
×: Clear fine mesh-like fine particle aggregates are visible. ××: Clear thick mesh-like fine particle aggregates are visible.

(3)平均反射率評価
分光光度計V−550(日本分光(株)製)にアダプターARV−474を装着して、380〜780nmの波長領域において、入射角5度における出射角−5度の鏡面反射率を測定し、450〜650nmの平均反射率を算出し、反射防止性を評価した。
(3) Evaluation of average reflectance The spectrophotometer V-550 (manufactured by JASCO Corporation) is equipped with an adapter ARV-474, and in the wavelength region of 380 to 780 nm, the output angle is -5 degrees at the incident angle of 5 degrees. The specular reflectance was measured, an average reflectance of 450 to 650 nm was calculated, and antireflection properties were evaluated.

(4)スチールウール擦り耐性評価
ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストをおこなった。
評価環境条件:25℃、60%RH
こすり材:試料と接触するテスターのこすり先端部(1cm×1cm)にスチールウール(日本スチールウール(株)製、ゲレードNo.0000)を巻いて、動かないようバンド固定した。
移動距離(片道):13cm、こすり速度:13cm/秒、荷重:500g/cm2、先端部接触面積:1cm×1cm、こすり回数:10往復。
こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、こすり部分の傷を、以下の基準で評価した。
◎ :非常に注意深く見ても、全く傷が見えない。
○ :非常に注意深く見ると僅かに弱い傷が見える。
△ :弱い傷が見える。
× :中程度の傷が見える。
×× :一目見ただけで分かる傷がある。
(4) Steel wool rubbing resistance evaluation A rubbing test was performed using a rubbing tester under the following conditions.
Evaluation environmental conditions: 25 ° C., 60% RH
Rub material: Steel wool (manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd., Gelade No. 0000) was wound around the rubbing tip (1 cm × 1 cm) of a tester that was in contact with the sample, and the band was fixed so as not to move.
Moving distance (one way): 13 cm, rubbing speed: 13 cm / sec, load: 500 g / cm 2 , tip contact area: 1 cm × 1 cm, rubbing frequency: 10 reciprocations.
An oil-based black ink was applied to the back side of the rubbed sample and visually observed with reflected light, and scratches on the rubbed portion were evaluated according to the following criteria.
A: Even if looked very carefully, no scratches were visible.
○: Slightly weak scratches are visible when viewed very carefully.
Δ: Weak scratches are visible.
X: A moderate crack is visible.
XX: There are scratches that can be seen at first glance.

Figure 2007069471
Figure 2007069471

防眩層に含フッ素レベリング剤を添加するとその増粘効果により面状が改良される。しかし、その上層に比較のシリカゾルを用いた低屈折率層を塗布すると、反射率の上昇が起こり、耐擦傷性が悪化する。防眩層の塗布面状と低反射率、耐擦傷性が両立しない。これは防眩層の含フッ素レベリング剤が低屈折率層へ溶出し、シリカ粒子を網目状に凝集させているものと考えられる。
シリカゾルを本発明品にすると反射率の上昇はなく、耐擦傷性が良好であり、凝集もなくなる。
本発明の反射防止フィルムは、防眩層の面状に優れ、反射率の上昇がなく、耐擦傷性が良好である。
When a fluorine-containing leveling agent is added to the antiglare layer, the surface shape is improved by the thickening effect. However, when a low refractive index layer using a comparative silica sol is applied as an upper layer, the reflectance increases, and the scratch resistance deteriorates. The application surface shape of the antiglare layer is not compatible with low reflectance and scratch resistance. It is considered that this is because the fluorine-containing leveling agent in the antiglare layer is eluted into the low refractive index layer and the silica particles are aggregated in a network.
When silica sol is used as a product of the present invention, there is no increase in reflectance, good scratch resistance, and no aggregation.
The antireflection film of the present invention is excellent in the surface shape of the antiglare layer, has no increase in reflectance, and has good scratch resistance.

[実施例2]
防眩層に各種フッ素レベリング剤を添加し、さらにフッ素原子を含まない高分子ポリマーを添加した以外は1−1の防眩層と全く同じ方法で防眩層を作製した。
それらの防眩層と低屈折率層を表3に示すように組み合わせて反射防止フィルムを完成させた。
[Example 2]
An antiglare layer was produced in exactly the same manner as the antiglare layer 1-1 except that various fluorine leveling agents were added to the antiglare layer, and a polymer polymer not containing fluorine atoms was further added.
These antiglare layers and low refractive index layers were combined as shown in Table 3 to complete an antireflection film.

Figure 2007069471
Figure 2007069471

防眩層にフッ素レベリング剤を添加し、防眩層の表面エネルギーが45mJ/m2以下であるとき、塗布面状が改良される。
しかし、その上層に比較のシリカゾルを用いた低屈折率層を塗布すると、反射率の上昇が起こり、耐擦傷性が悪化する。防眩層の塗布面状と低反射率、耐擦傷性が両立しない。これはフッ素レベリング剤の使用によって防眩層の表面エネルギーが低いため、低屈折率層のシリカ粒子が塗布時に網目状に凝集するものと考えられる。
シリカゾルを本発明品にすると反射率の上昇はなく、耐擦傷性が良好であり、凝集もなくなる。
本発明の反射防止フィルムは、防眩層の面状に優れ、反射率の上昇がなく、耐擦傷性が良好である。
また、フッ素原子を含有しない高分子ポリマーを併用すると、さらに防眩層の面状に優れ、反射率の上昇や耐擦傷性の悪化もなく、好ましい反射防止フィルムが得られた。
When a fluorine leveling agent is added to the antiglare layer and the surface energy of the antiglare layer is 45 mJ / m 2 or less, the coated surface shape is improved.
However, when a low refractive index layer using a comparative silica sol is applied as an upper layer, the reflectance increases, and the scratch resistance deteriorates. The application surface shape of the antiglare layer is not compatible with low reflectance and scratch resistance. This is thought to be because the surface energy of the antiglare layer is low due to the use of a fluorine leveling agent, and thus the silica particles of the low refractive index layer are aggregated in a network form during coating.
When silica sol is used as a product of the present invention, there is no increase in reflectance, good scratch resistance, and no aggregation.
The antireflection film of the present invention is excellent in the surface shape of the antiglare layer, has no increase in reflectance, and has good scratch resistance.
In addition, when a high molecular polymer not containing a fluorine atom was used in combination, a preferable antireflection film was obtained without any further improvement in the surface shape of the antiglare layer and without any increase in reflectance or deterioration of scratch resistance.

[実施例3]
1.5mol/L、55℃のNaOH水溶液中に2分間浸漬したあと中和、水洗した、80μmの厚さのトリアセチルセルロースフイルム(TAC−TD80U、富士写真フイルム(株)製)と、実施例1の本発明試料(鹸化処理済み)に、ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光膜の両面を接着、保護して偏光板を作製した。このようにして作製した偏光板を、反射防止膜側が最表面となるように透過型TN液晶表示装置搭載のノートパソコンの液晶表示装置(偏光選択層を有する偏光分離フィルムである住友3M(株)製のD−BEFをバックライトと液晶セルとの間に有する)の視認側の偏光板と貼り代えたところ、背景の映りこみが極めて少なく、表示品位の非常に高い表示装置が得られた。
[Example 3]
An 80 μm-thick triacetylcellulose film (TAC-TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.), which was immersed in an aqueous 1.5 mol / L, 55 ° C. NaOH solution for 2 minutes, then neutralized and washed with water, and Examples A polarizing plate was prepared by adhering and protecting both surfaces of a polarizing film prepared by adsorbing iodine to polyvinyl alcohol and stretching the film on one sample of the present invention (saponified). A liquid crystal display device of a notebook personal computer equipped with a transmissive TN liquid crystal display device (Sumitomo 3M Co., Ltd., which is a polarization separation film having a polarization selection layer) so that the anti-reflection film side is the outermost surface. When the polarizing plate on the viewing side of D-BEF made of the product between the backlight and the liquid crystal cell was replaced, a display device with very high display quality was obtained with very little background reflection.

[実施例4]
PVAフィルムをヨウ素2.0g/l、ヨウ化カリウム4.0g/lの水溶液に25℃にて240秒浸漬し、さらにホウ酸10g/lの水溶液に25℃にて60秒浸漬後、特開2002−86554号公報に記載の図2の形態のテンター延伸機に導入し、5.3倍に延伸し、テンターを延伸方向に対し図2の如く屈曲させ、以降幅を一定に保った。80℃雰囲気で乾燥させた後テンターから離脱した。左右のテンタークリップの搬送速度差は、0.05%未満であり、導入されるフィルムの中心線と次工程に送られるフィルムの中心線のなす角は、46゜であった。ここで|L1−L2|は0.7m、Wは0.7mであり、|L1−L2|=Wの関係にあった。テンター出口における実質延伸方向Ax−Cxは、次工程へ送られるフィルムの中心線22に対し45゜傾斜していた。テンター出口におけるシワ、フィルム変形は観察されなかった。
さらに、PVA((株)クラレ製PVA−117H)3%水溶液を接着剤としてケン化処理した富士写真フィルム(株)製フジタック(セルローストリアセテート、レターデーション値3.0nm)と貼り合わせ、さらに80℃で乾燥して有効幅650mmの偏光板を得た。得られた偏光板の吸収軸方向は、長手方向に対し45゜傾斜していた。この偏光板の550nmにおける透過率は43.7%、偏光度は99.97%であった。さらに310×233mmサイズに裁断したところ、91.5%の面積効率で辺に対し45゜吸収軸が傾斜した偏光板を得た。
次に、実施例1の本発明試料(鹸化処理済み)の各々のフィルムを上記偏光板と貼り合わせて反射防止付き偏光板を作製した。この偏光板を用いて反射防止層を最表層に配置した液晶表示装置を作製したところ、外光の映り込みがないために優れたコントラストが得られ、反射像が目立たず優れた視認性を有していた。
[Example 4]
The PVA film was immersed in an aqueous solution of 2.0 g / l iodine and 4.0 g / l potassium iodide at 25 ° C. for 240 seconds, and further immersed in an aqueous solution of boric acid 10 g / l at 25 ° C. for 60 seconds. It introduced into the tenter drawing machine of the form of FIG. 2 described in 2002-86554, it extended | stretched 5.3 time, the tenter was bent like FIG. 2 with respect to the extending | stretching direction, and the width | variety was kept constant hereafter. After drying in an atmosphere of 80 ° C., it was detached from the tenter. The difference in transport speed between the left and right tenter clips was less than 0.05%, and the angle formed by the center line of the introduced film and the center line of the film sent to the next process was 46 °. Here, | L1-L2 | is 0.7 m, W is 0.7 m, and | L1-L2 | = W. The substantial stretching direction Ax-Cx at the tenter outlet was inclined by 45 ° with respect to the center line 22 of the film sent to the next process. Wrinkles and film deformation at the tenter exit were not observed.
Furthermore, it was bonded to Fuji Photo Film Co., Ltd. Fujitac (cellulose triacetate, retardation value 3.0 nm), which was saponified with an aqueous solution of PVA (Pura-117H, Kuraray Co., Ltd.) 3%, and further 80 ° C. And dried to obtain a polarizing plate having an effective width of 650 mm. The absorption axis direction of the obtained polarizing plate was inclined 45 ° with respect to the longitudinal direction. The polarizing plate had a transmittance at 550 nm of 43.7% and a polarization degree of 99.97%. Further, when the substrate was cut into a size of 310 × 233 mm, a polarizing plate having a 45 ° absorption axis inclined with respect to the side with an area efficiency of 91.5% was obtained.
Next, each film of the inventive sample of Example 1 (saponified) was bonded to the above polarizing plate to produce a polarizing plate with antireflection. Using this polarizing plate, a liquid crystal display device having an antireflection layer as the outermost layer was produced. As a result, there was no reflection of external light, and an excellent contrast was obtained, and the reflected image was not noticeable and had excellent visibility. Was.

[実施例5]
実施例1の本発明試料を貼りつけた透過型TN液晶セルの視認側の偏光板の液晶セル側の保護フィルム、およびバックライト側の偏光板の液晶セル側の保護フィルムとして、光学補償フィルム(ワイドビューフィルムエース、富士写真フイルム(株)製)を用いたところ、明室でのコントラストに優れ、且つ上下左右の視野角が非常に広く、極めて視認性に優れ、表示品位の高い液晶表示装置が得られた。
[Example 5]
As a protective film on the liquid crystal cell side of the polarizing plate on the viewing side of the transmission type TN liquid crystal cell to which the sample of the present invention of Example 1 was attached, and as a protective film on the liquid crystal cell side of the polarizing plate on the backlight side, an optical compensation film ( Using Wide View Film Ace (Fuji Photo Film Co., Ltd.), a liquid crystal display device with excellent contrast in a bright room, extremely wide viewing angles in the top, bottom, left and right, extremely excellent visibility, and high display quality was gotten.

[実施例6]
アセチル置換度2.94のセルロースアシレートを用い、下記光学的異方性低下剤Xを49.3%(対セルロースアシレート)、下記波長分散調整剤Yを7.6%(対セルロースアシレート)となるようにして、実施例1と同様の製膜法により厚み80μmのセルロースアシレート試料201を作製した。得られたフィルムのレターデーションReは−1.0nm(TD方向に遅相軸のため負とする)、厚み方向のレターデーションRthは−2.0nmといずれも十分に小さい値であった。このセルロースアシレートフィルム試料を偏光子の2枚の保護フィルムのうちセル側の保護フィルムの透明支持体に、本発明の実施例1を偏光子の視認側の保護フィルムとし、特開平10−48420号公報の実施例1に記載の液晶表示装置、特開平9−26572号公報の実施例1に記載のディスコティック液晶分子を含む光学異方性層、ポリビニルアルコールを塗布した配向膜、特開2000−154261号公報の図2〜9に記載のVA型液晶表示装置、特開2000−154261号公報の図10〜15に記載のOCB型液晶表示装置での評価をしたところ、いずれの場合においてもコントラスト視野角が良好な性能が得られた。
[Example 6]
Using cellulose acylate having an acetyl substitution degree of 2.94, the following optical anisotropy reducing agent X was 49.3% (vs. cellulose acylate), and the following chromatic dispersion adjusting agent Y was 7.6% (vs. cellulose acylate). ) To prepare a cellulose acylate sample 201 having a thickness of 80 μm by the same film forming method as in Example 1. The retardation Re of the obtained film was −1.0 nm (negative because of the slow axis in the TD direction), and the retardation Rth in the thickness direction was −2.0 nm, both sufficiently small values. This cellulose acylate film sample was used as a transparent support for the protective film on the cell side of the two protective films of the polarizer, and Example 1 of the present invention was used as the protective film on the viewing side of the polarizer. Liquid crystal display device described in Example 1 of Japanese Patent Publication No. JP-A-9-26572, an optically anisotropic layer containing discotic liquid crystal molecules described in Example 1 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-26572, an alignment film coated with polyvinyl alcohol, -154261 in FIGS. 2 to 9 of the VA type liquid crystal display device and JP2000-154261 of the OCB type liquid crystal display device in FIGS. Performance with good contrast viewing angle was obtained.

Figure 2007069471
Figure 2007069471

Figure 2007069471
Figure 2007069471

[実施例7]
実施例1の本発明試料を、有機EL表示装置の表面のガラス板に粘着剤を介して貼り合わせたところ、ガラス表面での反射が抑えられ、視認性の高い表示装置が得られた。
[Example 7]
When the inventive sample of Example 1 was bonded to the glass plate on the surface of the organic EL display device via an adhesive, reflection on the glass surface was suppressed, and a display device with high visibility was obtained.

[実施例8]
実施例1の本発明試料を用いて、片面反射防止フィルム付き偏光板を作製し、偏光板の反射防止膜を有している側の反対面にλ/4板を張り合わせ、反射防止膜側が最表面になるように、有機EL表示装置の表面のガラス板に貼り付けたところ、表面反射および、表面ガラスの内部からの反射がカットされ、極めて視認性の高い表示が得られた。
[Example 8]
Using the sample of the present invention of Example 1, a polarizing plate with a single-sided antireflection film was prepared, and a λ / 4 plate was laminated on the opposite side of the polarizing plate on the side having the antireflection film, with the antireflection film side closest to the antireflection film side. When attached to the glass plate on the surface of the organic EL display device so as to be on the surface, the surface reflection and the reflection from the inside of the surface glass were cut, and a display with extremely high visibility was obtained.

Claims (8)

透明支持体上に少なくとも1層のハードコート層を有し、さらにその上層として無機微粒子を含む光学機能層を有する光学フィルムにおいて、ハードコート層の表面エネルギーが45mJ/m2以下であり、かつ該光学機能層に含有される無機微粒子がその表面積1nm2当たり1.1個以上のシリル基を含有することを特徴とする光学フィルム。 In an optical film having at least one hard coat layer on a transparent support and further having an optical functional layer containing inorganic fine particles as an upper layer, the surface energy of the hard coat layer is 45 mJ / m 2 or less, and An optical film characterized in that the inorganic fine particles contained in the optical functional layer contain 1.1 or more silyl groups per 1 nm 2 of the surface area. 請求項1に記載の前記ハードコート層が、フッ素系レベリング剤、又はシリコーン系レベリング剤を含有することを特徴とする光学フィルム。   The said hard-coat layer of Claim 1 contains a fluorine-type leveling agent or a silicone type leveling agent, The optical film characterized by the above-mentioned. 請求項1又は2に記載の前記ハードコート層が、フッ素原子と珪素原子を実質的に含まない高分子ポリマーを含有することを特徴とする光学フィルム。   The optical film, wherein the hard coat layer according to claim 1 or 2 contains a high molecular polymer substantially free of fluorine atoms and silicon atoms. 前記無機微粒子が中空無機酸化物粒子であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to claim 1, wherein the inorganic fine particles are hollow inorganic oxide particles. 前記光学機能層が低屈折率層であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の反射防止フィルム。   The anti-reflection film according to claim 1, wherein the optical functional layer is a low refractive index layer. 偏光子を2枚の保護フィルムで挟んでなる偏光板において、該偏光板の一方の保護フィルムが請求項1〜3のいずれかに記載の光学フィルムまたは請求項4〜5のいずれかに記載の反射防止フィルムであることを特徴とする偏光板。   In the polarizing plate formed by sandwiching a polarizer between two protective films, one protective film of the polarizing plate is the optical film according to any one of claims 1 to 3 or any one of claims 4 to 5. A polarizing plate, which is an antireflection film. 請求項6に記載の偏光板を具備したことを特徴とする表示装置。   A display device comprising the polarizing plate according to claim 6. 請求項1〜3のいずれかに記載の光学フィルムまたは請求項4〜5のいずれかに記載の反射防止フィルムを具備したことを特徴とする表示装置。   A display device comprising the optical film according to claim 1 or the antireflection film according to any one of claims 4 to 5.
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