KR101949558B1 - Optical laminate and method for manufacturing thereof - Google Patents

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KR101949558B1 KR1020150020780A KR20150020780A KR101949558B1 KR 101949558 B1 KR101949558 B1 KR 101949558B1 KR 1020150020780 A KR1020150020780 A KR 1020150020780A KR 20150020780 A KR20150020780 A KR 20150020780A KR 101949558 B1 KR101949558 B1 KR 101949558B1
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도모유키 호리오
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다이니폰 인사츠 가부시키가이샤
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    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics

Abstract

본원 발명은, 적은 제조 공정으로, 또한 수지층에 포함되는 기능성 성분의 종류를 불문하고, 기능이 보다 강하게 발현되는 광학 적층체 및 그 제조 방법을 제공하는 것이다.
아크릴 기재 상에, 적어도, 기능성 성분을 포함하는 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A를 도포하여 미경화 수지층을 형성하는 도포 공정 (A)와, 상기 미경화 수지층에 의해 아크릴 기재를 용해시켜, 아크릴 기재의 두께를 1.0 내지 15.0% 감소시키는 두께 감소 공정 (B)와, 전리 방사선을 조사하여 상기 미경화 수지층을 경화하여 수지층을 형성하는 경화 공정 (C)를 이 순서로 행함으로써, 상기 수지층 표면측에 기능성 성분을 편재시키는 것을 특징으로 하는 광학 적층체의 제조 방법 및 아크릴 기재 상에 수지층을 갖고, 상기 수지층 표면측에 기능성 성분을 편재시켜 이루어지는 광학 적층체이다.
An object of the present invention is to provide an optical laminate and a method for producing the optical laminate in which the function is more strongly expressed in a small number of manufacturing steps and regardless of the kind of the functional component contained in the resin layer.
A method for producing an acrylic resin composition, comprising: a coating step (A) of applying an ionizing radiation curable resin composition A containing at least a functional component on an acrylic base material to form an uncured resin layer; (B) for reducing the thickness of the resin layer (B) by 1.0 to 15.0%, and a curing step (C) for curing the uncured resin layer by irradiating ionizing radiation to form a resin layer in this order, A method of producing an optical laminate characterized by causing a functional component to be localized on the surface side, and a method for manufacturing an optical laminate comprising a resin layer on an acrylic base material and a functional component distributed on the surface side of the resin layer.

Description

광학 적층체 및 그 제조 방법{OPTICAL LAMINATE AND METHOD FOR MANUFACTURING THEREOF}[0001] OPTICAL LAMINATE AND METHOD FOR MANUFACTURING THEREOF [0002]

본 발명은 광학 적층체 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an optical laminate and a manufacturing method thereof.

화상 표시 장치에 있어서, 액정 디스플레이(LCD), 터치 패널을 탑재한 LCD, 일렉트로루미네센스(EL), 전자 페이퍼 등은, 전력 절약, 경량, 박형 등과 같은 특징을 갖고 있기 때문에, 종래의 브라운관(CRT) 디스플레이 대신에, 최근 급속하게 보급되고 있다.BACKGROUND ART In an image display apparatus, a liquid crystal display (LCD), an LCD equipped with a touch panel, an electroluminescence (EL), an electronic paper and the like have characteristics such as power saving, CRT) display, it is becoming popular recently.

이와 같은 화상 표시 장치의 표면이나 내부에 사용하는 광학 적층체는, 취급 시에 흠집이 생기기 않게 하기 위한 하드 코트성, 정전기의 영향을 없애기 위한 대전 방지성, 지문의 부착에 의한 외관 불량을 없애기 위한 방오성, 투영 방지를 위한 방현성, 외광의 반사를 방지하기 위한 반사 방지성 등의 기능이 요구되기 때문에, 광투과성 기재 상에 하드 코트층, 대전 방지층, 방오층, 방현층, 반사 방지층 등을, 단독 혹은 조합하여 형성함으로써, 기능을 부여하는 것이 일반적으로 이루어지고 있다.The optical laminate to be used on the surface or the inside of such an image display device has a hard coat property for preventing scratches during handling, antistatic property for eliminating the influence of static electricity, Antistatic property for preventing reflection of external light, and the like, it is necessary to provide a hard coat layer, an antistatic layer, a stain-resistant layer, an antiglare layer, an antireflection layer, and the like on the light- They are generally formed by a single function or a combination of functions.

예를 들면 LCD에 있어서는, 액정 셀의 화상 표시면측에 편광 소자가 배치되어 있고, 편광판 보호 필름으로서, 광투과성 기재 상에 상기 기능층을 형성한 하드 코트 필름을 이용함으로써, 화상 표시면에 각종 기능을 부여하는 것이 일반적으로 이루어지고 있다.For example, in an LCD, a polarizing element is disposed on an image display surface side of a liquid crystal cell, and a hard coat film having the functional layer formed on a light transmitting substrate is used as a polarizing plate protective film, Is generally given.

종래, 이와 같은 하드 코트 필름의 광투과성 기재로서, 트리아세틸셀룰로오스(TAC)로 대표되는 셀룰로오스에스테르를 포함하는 필름이 사용되었다. 이것은, 셀룰로오스에스테르가 투명성, 광학 등방성이 우수하고, 면내에 거의 위상차를 갖지 않기(리타데이션값이 낮기) 때문에, 입사 직선 편광의 진동 방향을 변화시키는 경우가 매우 적어, 액정 표시 장치의 표시 품질에의 영향이 적다는 이점이 있기 때문이다. 또한, 셀룰로오스에스테르는 적당한 투수성을 갖기 때문에, 광학 적층체를 사용하여 이루어지는 편광판을 제조하였을 때에, 편광자에 잔류한 수분, 광학 적층체와 편광판의 접착층에 잔류한 수분을, 광학 적층체를 통하여 건조시킬 수 있는 등의 이점도 있다.Conventionally, a film containing cellulose ester represented by triacetyl cellulose (TAC) has been used as a light-transmitting base material of such a hard coat film. This is because the case where the cellulose ester has excellent transparency and optical isotropy and has almost no retardation (low retardation value) in the plane is so small that the direction of vibration of the incident linearly polarized light is not very changed and the display quality of the liquid crystal display Is less affected by the effect of the. Further, since the cellulose ester has adequate water permeability, the moisture remaining in the polarizer and the moisture remaining in the adhesive layer of the optical laminate and the polarizing plate are dried through the optical laminate when the polarizing plate using the optical laminate is produced And the like.

한편, 셀룰로오스에스테르 필름을 투명 기재로서 사용한 경우에, 하드 코트성과 대전 방지성을 부여하기 위해서, 자외선 경화형 수지에 대전 방지제를 배합한 조성물을 상기 투명 기재에 도포하고, 경화시킴으로써 기능을 부여하는 방법이 알려져 있다. 또한, 경도가 높은 무기 미립자와, 대전 방지제를 바인더에 배합한 조성물을 투명 기재에 도포하고, 경화시킴으로써 기능을 부여하는 방법이 알려져 있다.On the other hand, in the case where a cellulose ester film is used as a transparent substrate, a method of applying a composition containing an antistatic agent to an ultraviolet curable resin to the transparent substrate and curing the function to give a hard coat property and antistatic property It is known. Further, there is known a method in which a function is imparted by coating a transparent base material with a composition containing an inorganic fine particle having a high hardness and an antistatic agent in a binder and curing the composition.

한편, 예를 들면 특허문헌 1에는, 기능성 성분을 하드 코트층 내에서 편재화하는 방법이 개시되어 있다. 이것은, 기능성 성분을 표면에 편재화시킴으로써, 당해 기능성 성분의 기능을 더욱 효과적으로 발현시킨다는 방법이며, 구체적으로는, 기능성 입자에 표면 처리를 실시하여, 그 친수성이나 소수성의 정도, 표면 에너지 등을 제어하는 것이다. 그러나, 이 방법은 특별한 처리가 필요하기 때문에 번잡하고, 또한 비용면에서도 불리함과 함께, 재료 선택의 폭이 좁고, 또한 제조 조건이 제약되는 등의 문제가 있었다.On the other hand, for example, Patent Document 1 discloses a method of uniformalizing a functional component in a hard coat layer. This is a method for more effectively expressing the function of the functional ingredient by causing the functional ingredient to be uneven on the surface. Specifically, the functional particles are surface-treated to control the hydrophilicity, degree of hydrophobicity, surface energy, etc. will be. However, this method is troublesome and disadvantageous in terms of cost because it requires special treatment, and there is a problem that the range of material selection is narrow and the manufacturing conditions are restricted.

일본 특허 공개 제2007-133236호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-133236

본 발명은, 적은 제조 공정으로, 또한 수지층에 포함되는 기능성 성분의 종류를 불문하고, 기능이 보다 강하게 발현되는 광학 적층체 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.It is an object of the present invention to provide an optical laminate having a function which is manifested in a small number of manufacturing steps and regardless of the kinds of functional components contained in the resin layer, and a method for producing the same.

본 발명자는, 상기 과제를 해결하기 위해서 예의 연구를 거듭한 결과, 상기 목적을 달성하기 위해서는, 투명 기재로서, 셀룰로오스에스테르 필름 대신에 아크릴 필름을 사용하고, 상기 아크릴 필름 상에 기능성 성분을 포함하는 수지층을 형성하고, 또한 상기 수지층을 구성하는 도액으로서, 상기 아크릴 필름을 용해하는 도액을 사용하고, 이 용해의 정도 여하에 의해, 상기 기능성 성분이 용이하게 편재화되는 것을 지견하였다. 그 결과, 적은 제조 공정으로, 또한 수지층에 포함되는 기능성 성분의 종류를 불문하고, 기능이 보다 강하게 발현되는 광학 적층체를 제공할 수 있는 것을 알아낸 것이다.Means for Solving the Problem As a result of intensive researches for solving the above problems, the present inventors have found that in order to achieve the above object, the present inventors have found that, in place of a cellulose ester film, an acrylic film is used as a transparent substrate, It has been found that a coating liquid for dissolving the acrylic film is used as a coating for forming a layer and constituting the resin layer and that the functional component is easily unevenly distributed depending on the degree of dissolution. As a result, it has been found that the optical laminate can be provided with a small number of manufacturing steps and in which the function is more strongly expressed regardless of the kind of the functional component contained in the resin layer.

본 발명은, 이하 [1] 내지 [3]의 발명을 제공하는 것이다.The present invention provides the following inventions [1] to [3].

[1] 아크릴 기재 상에, 적어도, 기능성 성분을 포함하는 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A를 도포하여 미경화 수지층을 형성하는 도포 공정 (A)와, 상기 미경화 수지층에 의해 아크릴 기재를 용해시켜, 아크릴 기재의 두께를 1.0 내지 15.0% 감소시키는 두께 감소 공정 (B)와, 전리 방사선을 조사하여 상기 미경화 수지층을 경화하여 수지층을 형성하는 경화 공정 (C)를 이 순서로 행함으로써, 상기 수지층 표면측에 기능성 성분을 편재시키는 것을 특징으로 하는 광학 적층체의 제조 방법.(1) A method for producing an acrylic resin composition, comprising: a coating step (A) of applying an ionizing radiation curable resin composition A containing at least a functional component on an acrylic base material to form an uncured resin layer; , A thickness reducing step (B) for reducing the thickness of the acrylic base material by 1.0 to 15.0%, and a curing step (C) for curing the uncured resin layer by irradiation with ionizing radiation to form a resin layer in this order, And the functional component is localized on the surface side of the resin layer.

[2] 상기 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A가 폴리알킬렌글리콜 디(메트)아크릴레이트를 포함하는 상기 [1]에 기재된 광학 적층체의 제조 방법.[2] The method for producing an optical laminate according to the above [1], wherein the ionizing radiation curable resin composition A comprises a polyalkylene glycol di (meth) acrylate.

[3] 아크릴 기재 상에, 기능성 성분을 포함하는 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A를 도포하여 미경화 수지층을 형성하는 도포 공정 (A)와, 상기 미경화 수지층에 의해 아크릴 기재를 용해시켜, 아크릴 기재의 두께를 1.0 내지 15.0% 감소시키는 두께 감소 공정 (B)와, 상기 미경화 수지층을 경화하여 수지층을 형성하는 경화 공정 (C)를 이 순서로 행함으로써, 상기 수지층 표면측에 기능성 성분을 편재시켜 이루어지는 광학 적층체.(3) A method for producing an acrylic resin composition, comprising the steps of: (A) applying an ionizing radiation curable resin composition A containing a functional component onto an acrylic base material to form an uncured resin layer; (B) for reducing the thickness of the substrate by 1.0 to 15.0%, and a curing step (C) for curing the uncured resin layer to form a resin layer in this order, And the component is localized.

본 발명에 의하면, 적은 제조 공정으로, 또한 수지층에 포함되는 기능성 성분의 종류를 불문하고, 기능이 보다 강하게 발현된 광학 적층체 및 그 제조 방법을 제공할 수 있다.INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is possible to provide an optical laminate in which functions are more strongly expressed in a small number of manufacturing steps and regardless of the kinds of functional components contained in the resin layer, and a method for producing the same.

구체적으로는, 본 발명의 제조 방법을 채용함으로써, 기능성 입자에 특별한 처리를 실시할 필요가 없으므로 재료 선택의 폭이 넓어지고, 또한, 제조 조건의 제약이 완화되어, 특별한 처리 공정도 불필요하다. 또한, 적은 제조 공정으로, 또한 수지층에 포함되는 기능성 성분의 종류를 불문하고, 기능이 보다 강하게 발현되고, 저렴하며, 광범위한 기능을 부여하는 것이 가능하게 되는 것이다.Specifically, by employing the production method of the present invention, there is no need to perform special treatment on the functional particles, which widens the range of material selection, relaxes the constraints of the production conditions, and eliminates the need for special treatment steps. In addition, the function can be expressed more stably, inexpensively, and can be given a wide range of functions regardless of the kinds of the functional components contained in the resin layer in a small manufacturing process.

나아가, 본원의 방법을 사용함으로써, 상기 본원의 목적 외에, 하기의 효과를 가져온다.Further, by using the method of the present invention, besides the object of the present invention, the following effects are obtained.

(1) 셀룰로오스에스테르 필름 대신에 내습열성이 양호한 아크릴 기재를 사용함으로써, 셀룰로오스에스테르 필름을 사용한 편광판에서 발현하는 고온 다습의 환경 하에서의 편광 기능이나 색상 등의 편광판 기능의 저하라는, 흡습 또한 흡수에 의한 휨과 같은 결점을 개선할 수 있다. 또한, 아크릴 기재는 셀룰로오스에스테르 필름과 비교하여 저렴하며, 시장에 있어서 입수가 용이하기 때문에, 한층 더 제조 비용을 억제할 수 있다는 장점이 있다.(1) By using an acrylic base material having good moisture and heat resistance in place of the cellulose ester film, the polarizing plate functions in polarizing function and color polarizing plate function in a high temperature and high humidity environment developed in a polarizing plate using a cellulose ester film, Can be improved. In addition, the acrylic base material is inexpensive as compared with the cellulose ester film and is easily available in the market, so that the manufacturing cost can be further reduced.

(2) 아크릴 기재의 편면 혹은 양면에 하드 코트층 등의 수지층을 형성한 광학 적층체는, 셀룰로오스 필름 기재를 사용한 경우에 비해, 기재와 수지층의 밀착성이 떨어진다는 결점을 갖는다. 그러나, 본 발명의 광학 적층체는, 수지층을 구성하는 도액으로서, 아크릴 기재를 용해시키는 바인더를 포함하는 도액을 사용함으로써, 아크릴 기재의 성분이 수지층에 용출되어 양자의 계면 근방에서 양자가 견고하게 결합하여, 아크릴 기재와 수지층의 밀착성을 향상시킬 수 있다. 또한, 아크릴 기재의 성분이 수지층에 용출될 때, 수지층의 기능성 성분이 수지층의 표면에 편재되어, 상기 기능성 성분에 기초하는 표면 물성을 부여할 수 있다.(2) The optical laminate in which a resin layer such as a hard coat layer is formed on one side or both sides of an acrylic base material has the disadvantage that adhesion between the base material and the resin layer is inferior to that in the case of using a cellulose film base. However, in the optical laminate of the present invention, by using the coating liquid containing the binder for dissolving the acrylic base material as the coating liquid constituting the resin layer, the components of the acrylic base material are eluted into the resin layer, So that the adhesion between the acrylic base material and the resin layer can be improved. Further, when the component of the acrylic base material is eluted into the resin layer, the functional component of the resin layer is localized on the surface of the resin layer, so that the surface property based on the functional component can be imparted.

(3) 통상, 아크릴 기재의 편면 혹은 양면에 하드 코트층 등의 수지층을 형성한 광학 적층체는, 아크릴 기재와 수지층 사이에 굴절률차가 발생하고, 당해 광학 적층체를 사용하여 편광판 등을 형성한 경우, 간섭 줄무늬가 발생하여 외관 불량으로 되는 등의 결점을 갖는다. 그러나, 본 발명의 광학 적층체는, 상기한 바와 같이, 아크릴 기재의 성분이 수지층에 용출되기 때문에, 아크릴 기재와 수지층의 계면에서의 굴절률의 변화가 완화되어, 간섭 줄무늬가 발생하지 않아, 외관 불량을 개선할 수 있다.(3) In general, an optical laminate in which a resin layer such as a hard coat layer is formed on one side or both sides of an acrylic base material has a refractive index difference between the acrylic base and the resin layer, and a polarizing plate or the like is formed In this case, interference fringes are generated and appearance defects are caused. However, in the optical laminate of the present invention, since the component of the acrylic base material is eluted into the resin layer as described above, the change of the refractive index at the interface between the acrylic base and the resin layer is relaxed, The appearance defects can be improved.

도 1은 실시예 1의 광학 적층체의 제조 방법에 의해 얻어진 광학 적층체의 단면을 나타내는 주사형 투과 전자 현미경(STEM)의 사진을 도시하는 도면.
도 2는 비교예 2의 광학 적층체의 제조 방법에 의해 얻어진 광학 적층체의 단면을 나타내는 주사형 투과 전자 현미경(STEM)의 사진을 도시하는 도면.
도 3은 실시예 18의 광학 적층체의 제조 방법에 의해 얻어진 광학 적층체의 단면을 나타내는 주사형 투과 전자 현미경(STEM)의 부분 확대 사진을 도시하는 도면.
도 4는 실시예 18의 광학 적층체의 제조 방법에 의해 얻어진 광학 적층체의 수지층의 단면을 나타내는 주사형 투과 전자 현미경(STEM)의 부분 확대 사진을, 수지층의 표면측으로부터 아크릴 기재측으로 배열한 것을 도시하는 도면.
도 5는 비교예 9의 광학 적층체의 제조 방법에 의해 얻어진 광학 적층체의 수지층의 단면을 나타내는 주사형 투과 전자 현미경(STEM)의 부분 확대 사진을, 수지층의 표면측으로부터 아크릴 기재측으로 배열한 것을 나타내는 도면.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a photograph showing a scanning electron microscope (STEM) showing a cross section of an optical laminate obtained by the method of producing an optical laminate of Example 1. Fig.
Fig. 2 is a photograph showing a scanning electron microscope (STEM) showing a cross section of an optical laminate obtained by the method for producing an optical laminate of Comparative Example 2. Fig.
3 is a partially enlarged photograph of a scanning transmission electron microscope (STEM) showing a cross section of an optical laminate obtained by the method for producing an optical laminate of Example 18. Fig.
4 is a partial enlarged photograph of a scanning transmission electron microscope (STEM) showing a cross section of a resin layer of an optical laminate obtained by the manufacturing method of the optical laminate of Example 18, from the surface side of the resin layer to the acrylic substrate side Fig.
5 is a partial enlarged photograph of a scanning transmission electron microscope (STEM) showing a cross section of a resin layer of the optical laminate obtained by the production method of the optical laminate of Comparative Example 9, from the surface side of the resin layer to the acrylic substrate side Fig.

본 발명의 제조 방법은, 아크릴 기재 상에, 적어도, 기능성 성분을 포함하는 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A를 도포하여 미경화 수지층을 형성하는 도포 공정 (A)와, 상기 미경화 수지층에 의해 아크릴 기재를 용해시켜, 아크릴 기재의 두께를 1.0 내지 15.0% 감소시키는 두께 감소 공정 (B)와, 전리 방사선을 조사하여 상기 미경화 수지층을 경화하여 수지층을 형성하는 경화 공정 (C)를 이 순서로 행함으로써, 상기 수지층 표면측에 기능성 성분을 편재시키는 것을 특징으로 한다.A manufacturing method of the present invention is a manufacturing method comprising: a coating step (A) of applying an ionizing radiation curable resin composition A containing at least a functional component on an acrylic base material to form an uncured resin layer; (B) for reducing the thickness of the acrylic base material by 1.0 to 15.0% by dissolving the base material, and a curing step (C) for curing the uncured resin layer by irradiating with ionizing radiation to form a resin layer, , The functional component is localized on the surface side of the resin layer.

본 발명에서는, 적어도, 상기 (A) 내지 (C) 공정을 이 순서로 행하지만, 본 발명의 효과를 발휘하는 범위에서, 각각의 공정간에 다른 공정을 포함해도 된다.In the present invention, at least the above-mentioned steps (A) to (C) are performed in this order. However, different steps may be included among the respective steps within the range of achieving the effect of the present invention.

이하, 각 공정에 대해서 상세하게 설명한다.Hereinafter, each step will be described in detail.

(A) 공정 및 (B) 공정 (A) process and (B) process

본 발명의 제조 방법에 있어서의 (A) 공정은, 아크릴 기재 상에, 기능성 성분을 포함하는 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A를 도포하여 미경화 수지층을 형성하는 도포 공정이고, (B) 공정은 상기 미경화 수지층에 의해 아크릴 기재를 용해시켜, 아크릴 기재의 두께를 1.0 내지 15.0% 감소시키는 두께 감소 공정이다.The step (A) in the production method of the present invention is a coating step of forming an uncured resin layer by applying an ionizing radiation curable resin composition A containing a functional component on an acrylic base material, and the step (B) Is a thickness reducing process for dissolving an acrylic base material by an uncured resin layer to reduce the thickness of the acrylic base material by 1.0 to 15.0%.

도 1은 실시예 1의 광학 적층체의 제조 방법에 의해 얻어진 광학 적층체의 단면을 나타내는 주사형 투과 전자 현미경(STEM)의 사진이다. 또한, 도 2는 비교예 2의 광학 적층체의 제조 방법에 의해 얻어진 광학 적층체의 단면을 나타내는 주사형 투과 전자 현미경(STEM)의 사진이다. 실시예 1 및 비교예 2에서는 모두 두께 40㎛의 아크릴 기재를 사용하고 있지만, 도 1(실시예 1)의 것은 아크릴 기재의 두께가 3㎛(7.5%) 감소한 것에 반해, 도 2(비교예 2)의 것은 아크릴 기재의 두께가 거의 감소하지 않은 것을 알 수 있다.1 is a photograph of a scanning transmission electron microscope (STEM) showing a cross section of an optical laminate obtained by the method of producing an optical laminate of Example 1. Fig. 2 is a photograph of a scanning transmission electron microscope (STEM) showing a cross section of an optical laminate obtained by the method for producing an optical laminate of Comparative Example 2. Fig. (Example 1), the thickness of the acrylic base material was reduced by 3 占 퐉 (7.5%) while the acrylic base material having a thickness of 40 占 퐉 was used in both of Example 1 and Comparative Example 2. In contrast, ) Indicates that the thickness of the acrylic base material is not substantially reduced.

<아크릴 기재> <Acrylic substrate>

아크릴 기재가 함유하는 아크릴 수지로서는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 (메트)아크릴산알킬에스테르를 1종 또는 2종 이상 조합하여 중합하여 이루어지는 것이 바람직하고, 보다 구체적으로는, (메트)아크릴산메틸을 사용하여 얻어지는 것이 바람직하다.The acrylic resin contained in the acrylic base material is not particularly limited. For example, the acrylic resin is preferably one obtained by polymerizing one or more (meth) acrylic acid alkyl esters in combination, and more specifically, using (meth) .

또한, 락톤환 구조를 갖는 아크릴 수지, 이미드환 구조를 갖는 아크릴 수지 등의 환 구조를 갖는 것을 사용해도 된다. 이 수지에 대해서는 후에 상세하게 설명한다.An acrylic resin having a lactone ring structure or an acrylic resin having an imide ring structure may be used. This resin will be described later in detail.

본 발명의 광학 적층체는, 기재가 아크릴 수지를 포함함으로써, TAC를 포함하는 기재를 구비한 것과 비교하여, 내습열성이 우수함과 함께, 주름의 발생을 적절하게 방지할 수 있다. 또한, 본 명세서에 있어서, 「아크릴 수지」란, 아크릴계의 것 및/또는 메타크릴계의 것을 의미한다.The optical laminate of the present invention has an excellent heat and humidity resistance as well as a wrinkle can be appropriately prevented as compared with a base material including a TAC including an acrylic resin. In the present specification, &quot; acrylic resin &quot; means acrylic type and / or methacryl type.

본 발명에서는, 후에 상세하게 설명하는 두께 감소 공정 (B)에 있어서, 미경화 수지층에 의해 아크릴 기재를 용해시켜, 아크릴 기재의 두께를 1.0 내지 15.0% 감소시키는 것이 긴요하다. 즉, 본 발명에 있어서의 아크릴 기재는, 상기 아크릴 기재를 구성하는 아크릴 수지가, 기능성 성분을 포함하는 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A에 의해, 특히 상기 수지 조성물 A에 포함되는 용제에 의해 침식됨과 함께, 상기 아크릴 수지가 미경화 수지층에 용출됨으로써, 아크릴 기재의 두께가 감소하는 것이다.In the present invention, it is essential to reduce the thickness of the acrylic base material by 1.0 to 15.0% by dissolving the acrylic base material by the uncured resin layer in the thickness reducing step (B) to be described later in detail. That is, in the acrylic base material of the present invention, the acrylic resin constituting the acrylic base material is corroded by the ionizing radiation curable resin composition A containing the functional component, especially by the solvent contained in the resin composition A, The acrylic resin is eluted into the uncured resin layer, thereby reducing the thickness of the acrylic base material.

두께 감소 공정 (B)에 있어서, 아크릴 기재의 두께의 감소율이 1.0% 미만이면, 아크릴 기재 중의 성분이 수지층으로 충분히 이행하지 않아, 수지층 중의 기능성 성분을 표면에 편재할 수 없음과 함께, 아크릴 기재와 수지층의 밀착성을 양호하게 할 수 없고, 게다가 간섭 줄무늬를 방지할 수 없다. 또한, 두께 감소 공정 (B)에 있어서, 아크릴 기재의 두께의 감소율이 15.0%를 초과하면, 아크릴 기재의 강도가 부족하여, 두께 감소 공정 (B)나 그 후의 사용 과정 등에서 기재에 갈라짐이 발생해 버린다.If the reduction ratio of the thickness of the acrylic base material in the thickness reducing step (B) is less than 1.0%, the components in the acrylic base material do not sufficiently migrate to the resin layer, so that the functional components in the resin layer can not be localized on the surface, The adhesion between the substrate and the resin layer can not be improved, and interference fringes can not be prevented. In addition, in the thickness reducing step (B), if the reduction rate of the thickness of the acrylic base material exceeds 15.0%, the strength of the acrylic base material is insufficient and the base material is cracked in the thickness reducing step (B) Throw away.

두께 감소 공정 (B)에 있어서의 아크릴 기재의 두께의 감소율은 3.0 내지 13.0%인 것이 바람직하다.The reduction rate of the thickness of the acrylic base material in the thickness reducing step (B) is preferably 3.0 to 13.0%.

두께 감소 공정 (B)에 있어서 아크릴 기재의 두께가 감소하였는지 여부는, 문자 그대로, 두께 감소 공정 (B)의 전후에서의 두께의 변화를 측정해도 되지만, 예를 들면 두께 감소 공정 (B) 후에도, 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A가 도포되지 않은 개소의 아크릴 기재의 두께와, 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A가 도포된 개소의 아크릴 기재의 두께를 비교함으로써 확인할 수 있다. 또한, 두께 감소 공정 (B) 전의 아크릴 기재의 두께 불균일이 현저한 경우는, 도포 개소와 비도포 개소의 아크릴 기재의 두께의 비교를, 비교적 근접한 개소에서 행하는 것이 바람직하다.Whether or not the thickness of the acrylic base material has decreased in the thickness reducing step (B) may literally be measured before and after the thickness reducing step (B). For example, even after the thickness reducing step (B) Can be confirmed by comparing the thickness of the acrylic base material where the ionizing radiation curable resin composition A is not applied and the thickness of the acrylic base material where the ionizing radiation curable resin composition A is coated. When thickness irregularity of the acrylic base material before the thickness reducing step (B) is significant, it is preferable to compare the thicknesses of the acrylic base material of the coated portion with the acrylic base material of the non-coated portion at relatively close positions.

또한, 본 발명에서는, 두께 감소 공정 (B) 후의 아크릴 기재의 두께는, 광학 적층체의 단면을 나타내는 주사형 투과 전자 현미경(STEM)의 사진의 폭 30㎛의 평균값을 말하는 것으로 한다. 예를 들면, 도 3과 같이 아크릴 기재의 표면이 거칠어져 있는 경우, STEM의 사진의 30㎛ 폭의 영역에서, 아크릴 기재의 수지층과는 반대측의 면으로부터 수지층까지의 평균 거리를 산출하고, 상기 평균 거리를 감소 두께 공정 (B) 후의 아크릴 기재의 두께로 한다. 또한, 경화 공정 (C) 후의 수지층의 두께(수지층의 성분과 아크릴 기재의 성분이 혼연 일체화되어 경화가 완료된 층의 두께)는, STEM의 사진의 30㎛ 폭의 영역에서, 수지층의 표면으로부터 아크릴 기재까지의 평균 거리를 산출하고, 상기 평균 거리를 수지층의 두께로 한다.In the present invention, the thickness of the acrylic substrate after the thickness reducing step (B) refers to an average value of a width of 30 占 퐉 of a photograph of a scanning transmission electron microscope (STEM) showing a cross section of the optical laminate. For example, when the surface of the acrylic base material is rough as shown in Fig. 3, the average distance from the surface of the acrylic base material opposite to the resin base layer to the resin layer is calculated in the 30 占 퐉 width region of the photograph of the STEM, The average distance is defined as the thickness of the acrylic substrate after the reducing thickness step (B). Further, the thickness of the resin layer after the curing step (C) (the thickness of the layer in which the components of the resin layer and the components of the acrylic base material were integrated by melt-kneading and cured) in the 30 탆 width area of the STEM photograph, Is calculated, and the average distance is defined as the thickness of the resin layer.

상기 아크릴 기재의 두께로서는, 20 내지 300㎛인 것이 바람직하고, 30 내지 200㎛인 것이 보다 바람직하고, 30 내지 100㎛인 것이 더욱 바람직하다. 아크릴 기재가 20㎛ 이상이면, 두께 감소 공정 (B)를 거쳐도 기재가 갈라지기 어려워짐과 함께, 경화 공정 (C) 후에 컬되기 어려워진다. 또한, 아크릴 기재가 300㎛ 이하이면, 본 발명의 광학 적층체가 얇아져, 광투과성 등의 광학 특성이 우수하다.The thickness of the acrylic base material is preferably 20 to 300 占 퐉, more preferably 30 to 200 占 퐉, and still more preferably 30 to 100 占 퐉. If the acrylic base material is 20 mu m or more, the base material is less likely to be cracked through the thickness reducing step (B), and becomes less likely to be curled after the curing step (C). When the acrylic base material is 300 m or less, the optical laminate of the present invention becomes thin, and optical characteristics such as light transmittance are excellent.

또한, 두께 감소 공정 (B)에 있어서, 수지층 형성 전의 아크릴 기재의 두께에 대하여, 수지층 형성 후의 아크릴 기재의 두께가 0.5 내지 5.0㎛ 감소하는 것이 바람직하고, 1.5 내지 5.0㎛ 감소하는 것이 보다 바람직하다. 당해 범위의 감소이면, 상술한 본 발명의 효과를 보다 충분히 발휘할 수 있다.In the thickness reducing step (B), the thickness of the acrylic base after the resin layer formation is preferably reduced by 0.5 to 5.0 占 퐉, more preferably by 1.5 to 5.0 占 퐉, relative to the thickness of the acrylic base material before the resin layer is formed Do. If the range is reduced, the effects of the present invention described above can be more fully exhibited.

또한, 본 발명에 있어서의 아크릴 기재는 연신 아크릴 기재인 것이 바람직하다. 연신 아크릴 기재로 함으로써, 기재의 강도나 치수 안정성을 양호하게 할 수 있다.Further, the acrylic base material in the present invention is preferably a drawn acrylic base material. By using a drawn acrylic base material, the strength and dimensional stability of the base material can be improved.

상기 락톤환 구조를 갖는 아크릴 수지의 구체예로서는, 예를 들면 일본 특허 공개 제2000-230016호 공보, 일본 특허 공개 제2001-151814호 공보, 일본 특허 공개 제2002-120326호 공보, 일본 특허 공개 제2002-254544호 공보, 일본 특허 공개 제2005-146084호 공보 등에 기재된 것을 들 수 있다.Specific examples of the acrylic resin having the lactone ring structure include those described in, for example, JP-A-2000-230016, JP-A-2001-151814, JP-A-2002-120326, JP- -254544, Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2005-146084, and the like.

상기 락톤환 구조를 갖는 아크릴 수지로서는, 하기 화학식 1로 표시되는 락톤환 구조를 갖는 것이 바람직하다.The acrylic resin having the lactone ring structure preferably has a lactone ring structure represented by the following formula (1).

Figure 112015014454097-pat00001
Figure 112015014454097-pat00001

화학식 1 중, R1, R2 및 R3은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 20의 유기기를 나타낸다. 또한, 상기 유기기는 산소 원자를 포함하고 있어도 된다.In formula (1), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or an organic group having 1 to 20 carbon atoms. In addition, the organic group may contain an oxygen atom.

상기 락톤환 구조를 갖는 아크릴 수지의 구조 중의 화학식 1로 표시되는 락톤환 구조의 함유율로서는, 5 내지 90질량%인 것이 바람직하고, 10 내지 70질량%인 것이 보다 바람직하고, 10 내지 60질량%인 것이 더욱 바람직하고, 10 내지 50질량%인 것이 가장 바람직하다. 상기 화학식 1로 표시되는 락톤환 구조의 함유율이 5질량% 이상이면, 내열성, 내용제성, 표면 경도가 개선되고, 90질량% 이하이면, 성형 가공성이 개선된다.The content of the lactone ring structure represented by the general formula (1) in the structure of the acrylic resin having the lactone ring structure is preferably from 5 to 90 mass%, more preferably from 10 to 70 mass%, still more preferably from 10 to 60 mass% , And most preferably from 10 to 50 mass%. When the content of the lactone ring structure represented by the above formula (1) is 5% by mass or more, heat resistance, solvent resistance and surface hardness are improved, and when it is 90% by mass or less, molding processability is improved.

상기 락톤환 구조를 갖는 아크릴 수지는, 중량 평균 분자량이 1000 내지 200만인 것이 바람직하고, 5000 내지 100만인 것이 보다 바람직하고, 1만 내지 50만인 것이 더욱 바람직하고, 5만 내지 50만인 것이 가장 바람직하다. 상기 락톤환 구조를 갖는 아크릴 수지의 중량 평균 분자량이 상기 범위 내이면, 상술한 본 발명의 효과 관점에서 바람직하다.The acrylic resin having the lactone ring structure preferably has a weight average molecular weight of 1,000 to 2,000,000, more preferably 5,000 to 1,000,000, still more preferably 10,000 to 5,000, and most preferably 50,000 to 500,000 . The weight average molecular weight of the acrylic resin having a lactone ring structure within the above range is preferable from the viewpoint of the effect of the present invention described above.

또한, 상기 이미드환 구조를 갖는 아크릴 수지로서는, 예를 들면 글루타르이미드 구조 또는 N-치환 말레이미드 구조를 갖는 아크릴 수지 등을 들 수 있다. 글루타르이미드 구조를 갖는 아크릴 수지로서는, 하기 화학식 2로 표시되는 글루타르이미드 구조를 갖는 것이 바람직하다.Examples of the acrylic resin having an imide ring structure include an acrylic resin having a glutarimide structure or an N-substituted maleimide structure. As the acrylic resin having a glutarimide structure, it is preferable to have a glutarimide structure represented by the following general formula (2).

Figure 112015014454097-pat00002
Figure 112015014454097-pat00002

상기 화학식 2 중, R4 및 R5는, 서로 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R6은 수소 원자, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 알킬기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기 또는 페닐기를 나타낸다.In the general formula (2), R 4 and R 5 independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and R 6 represents a hydrogen atom, a straight chain alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group or a phenyl group.

또한, 이와 같은 글루타르이미드 구조는, 예를 들면 (메트)아크릴산에스테르 중합체를 메틸아민 등의 이미드화제에 의해 이미드화하여 형성할 수 있다. 여기서, 「(메트)아크릴」이란, 「아크릴」 및 「메타크릴」을 의미한다.Such a glutarimide structure can be formed, for example, by imidizing a (meth) acrylic acid ester polymer with an imidizing agent such as methylamine. Here, "(meth) acryl" means "acryl" and "methacryl".

상기 N-치환 말레이미드 구조를 갖는 아크릴 수지로서는, 하기 화학식 3으로 표시되는 N-치환 말레이미드 구조를 갖는 것이 바람직하다.The acrylic resin having the N-substituted maleimide structure preferably has an N-substituted maleimide structure represented by the following formula (3).

Figure 112015014454097-pat00003
Figure 112015014454097-pat00003

상기 화학식 3 중, R7 및 R8은, 서로 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R9는 수소 원자, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 알킬기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기 또는 페닐기를 나타낸다.In the above formula (3), R 7 and R 8 independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and R 9 represents a hydrogen atom, a straight chain alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group or a phenyl group.

또한, 이와 같은 N-치환 말레이미드 구조를 주쇄에 갖는 아크릴 수지는, 예를 들면 N-치환 말레이미드와 (메트)아크릴산에스테르를 공중합하여 형성할 수 있다.The acrylic resin having such an N-substituted maleimide structure in its main chain can be formed, for example, by copolymerizing N-substituted maleimide and (meth) acrylic acid ester.

또한, 상기 아크릴 수지는, 유리 전이점(Tg)이 100 내지 150℃인 것이 바람직하고, 105 내지 135℃인 것이 보다 바람직하고, 110 내지 130℃인 것이 더욱 바람직하다. 아크릴 수지의 유리 전이점(Tg)이 100℃ 이상이면, 수지층을 형성할 때에 수지층 형성용 조성물에 포함되는 용제에 의해 대미지를 받기 어렵고, 한편, 150℃ 이하이면, 후술하는 수지층과의 계면에 요철을 형성하기 쉽다.The acrylic resin preferably has a glass transition point (Tg) of 100 to 150 ° C, more preferably 105 to 135 ° C, and even more preferably 110 to 130 ° C. When the glass transition temperature (Tg) of the acrylic resin is 100 占 폚 or more, it is difficult for the acrylic resin to be damaged by the solvent contained in the resin layer forming composition at the time of forming the resin layer. On the other hand, It is easy to form irregularities at the interface.

아크릴 기재는 아크릴 수지 이외의 수지를 포함하고 있어도 되지만, 아크릴 기재 중 아크릴 수지의 비율이 80질량% 이상인 것이 바람직하고, 90질량% 이상인 것이 더욱 바람직하다.The acrylic base material may contain a resin other than the acrylic resin, but the proportion of the acrylic resin in the acrylic base material is preferably 80 mass% or more, more preferably 90 mass% or more.

상기 아크릴 기재는, 예를 들면 조습을 한 아크릴 수지를 포함하는 펠릿(칩)을, 일반적인 용융 압출 후, 냉각하면서, 세로 방향(제막 방향)으로 연신하고, 그 후, 가로 방향으로 연신함으로써 제조할 수 있다.The acrylic base material is produced, for example, by stretching a pellet (chip) containing an air-moistened acrylic resin in the longitudinal direction (film forming direction) while cooling it after the general melt extrusion and then stretching it in the transverse direction .

상기 용융 압출 공정에서는, 1축, 2축, 또는 2축 이상의 스크류를 사용할 수 있고, 스크류의 회전 방향, 회전수, 용융 온도는 임의로 설정할 수 있다.In the melt extrusion process, a screw having one axis, two axes, or two or more axes can be used, and the rotational direction, the number of rotations, and the melting temperature of the screw can be arbitrarily set.

상기 연신은, 연신 후에 원하는 두께로 되도록 행하는 것이 바람직하다. 또한, 연신 배율은 한정되지 않지만, 1.2배 이상, 4.5배 이하가 바람직하다. 연신 시의 온도, 습도는 임의로 정해진다. 연신 방법은 일반적인 방법이어도 된다.The stretching is preferably performed so as to have a desired thickness after stretching. The drawing magnification is not limited, but is preferably 1.2 times or more and 4.5 times or less. The temperature and humidity at the time of stretching are arbitrarily determined. The stretching method may be a general method.

또한, 아크릴 기재를 권취할 때의 부착 방지를 위해서, 아크릴 기재의 연신 전 또는 후에, 아크릴 기재의 적어도 편면에 프라이머층을 형성하거나, 아크릴 기재의 양쪽 사이드에 널링을 부여해도 된다.In order to prevent the acrylic base material from being adhered to the acrylic base material, a primer layer may be formed on at least one side of the acrylic base material before or after the stretching of the acrylic base material, or nulling may be provided on both sides of the acrylic base material.

상기 아크릴 기재는, 아크릴 고무 입자, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 가소제 등을 포함하고 있어도 된다. 아크릴 고무 입자는 아크릴 기재의 크랙을 방지하기 쉽게 할 수 있다.The acrylic base material may include acrylic rubber particles, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a plasticizer and the like. The acrylic rubber particles can easily prevent cracking of the acrylic base material.

또한, 본 발명에 있어서, 상기 아크릴 기재는 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에서, 비누화 처리, 글로우 방전 처리, 코로나 방전 처리, 플라즈마 처리, 자외선(UV) 처리 및 화염 처리 등의 표면 처리를 행해도 된다.In the present invention, the acrylic base material is subjected to surface treatment such as saponification treatment, glow discharge treatment, corona discharge treatment, plasma treatment, ultraviolet (UV) treatment and flame treatment within the range not deviating from the object of the present invention .

<기능성 성분을 포함하는 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A>&Lt; Ionizing Radiation Curable Resin Composition A Containing Functional Component >

(기능성 성분) (Functional ingredient)

기능성 성분으로서는, 대전 방지제, 굴절률 조정제, 방오제, 슬립제, 반사 방지제, 방현제, 하드 코트성 부여제, 블로킹 방지제 등 통상의 광학 시트에 사용되는 것을 들 수 있다.Examples of the functional component include those used in conventional optical sheets such as antistatic agents, refractive index adjusting agents, antifouling agents, slip agents, antireflective agents, antistatic agents, hard coatability-imparting agents and antiblocking agents.

대전 방지제로서는, 유기계의 것이어도, 무기계의 것이어도 되고, 유기계의 것으로서는, 구체적으로는, 리튬 이온염, 4급 암모늄염, 이온성 액체 등의 이온성의 것이나, 폴리티오펜, 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리아세틸렌 등의 전자 전도성의 것을 들 수 있다. 무기계의 것으로서는 ATO, ITO, PTO, GZO, 오산화안티몬, 산화아연 등의 금속 산화물, 은 나노와이어, 카본 나노 튜브, 풀러렌 등을 들 수 있다.The antistatic agent may be organic or inorganic. Examples of the organic antistatic agent include ionic compounds such as lithium ion salts, quaternary ammonium salts and ionic liquids, and ionic compounds such as polythiophene, polyaniline, polypyrrole, poly And electron conductive ones such as acetylene. Examples of the inorganic material include metal oxides such as ATO, ITO, PTO, GZO, antimony pentoxide and zinc oxide, silver nanowires, carbon nanotubes, and fullerenes.

굴절률 조정제에 대해서는, 저굴절률 재료로서, 중공 실리카, 중실 실리카, 불화마그네슘, 불화나트륨 등의 무기계 재료, 및 불소 함유 단량체, 올리고머, 중합체 등의 불소계 재료 등을 들 수 있다. 한편, 고굴절률 재료로서는, 산화지르코늄, 산화티타늄, ATO, ITO, PTO, GZO, 오산화안티몬 등의 무기계 재료, 및 염소, 불소 이외의 할로겐(브롬, 요오드 원자)을 함유하는 유기계 재료, 황 원자를 함유하는 유기계 재료, 벤젠환 골격 또는 나프탈렌 골격, 안트라센 골격을 적어도 1개 이상을 분자 내에 갖는 유기계 재료, 카르바졸 재료 등을 들 수 있다.As the refractive index adjusting agent, inorganic materials such as hollow silica, solid silica, magnesium fluoride, and sodium fluoride, and fluorine-based materials such as fluorine-containing monomers, oligomers, and polymers can be given as the low refractive index material. Examples of the high refractive index material include inorganic materials such as zirconium oxide, titanium oxide, ATO, ITO, PTO, GZO and antimony pentoxide, organic materials containing chlorine, halogens other than fluorine (bromine and iodine atoms) A benzene ring skeleton or a naphthalene skeleton, an organic material having at least one anthracene skeleton in the molecule, and a carbazole material.

또한, 방오제로서는, 불소계 수지, 실리콘계 수지, 불소-실리콘 공중합 수지, 불소 및 실리콘 비함유의 계면 활성제 등을 들 수 있다. 슬립제로서는 불소계 수지, 실리콘계 수지, 불소-실리콘 공중합 수지를 들 수 있다.Examples of the antifouling agent include a fluorine resin, a silicone resin, a fluorine-silicone copolymer resin, and a fluorine- and silicon-free surfactant. Examples of the slip agent include a fluorine-based resin, a silicone-based resin, and a fluorine-silicone copolymer resin.

반사 방지제로서는 상기의 저굴절률 재료를 들 수 있다.As the antireflection agent, there can be mentioned the above-mentioned low refractive index material.

방현제로서는, 실리카 입자, 아크릴 입자, 멜라민 입자, 벤조구아나민 입자, 실리콘 입자 등을 들 수 있다. 하드 코트성 부여제로서는, 실리카, 알루미나 등의 중실 초미립자, 이형 미립자, 쇄상 미립자, 돌기를 갖는 미립자(별사탕형 미립자) 등을 들 수 있다.Examples of the dispersant include silica particles, acrylic particles, melamine particles, benzoguanamine particles, and silicone particles. Examples of hard coatability-imparting agents include fine solid fine particles such as silica and alumina, fine fine particles, fine chain fine particles, fine particles having protrusions (star candy fine particles), and the like.

블로킹 방지제로서는, 실리카, 아크릴, 스티렌, 알루미나 등의 미립자 등을 들 수 있다.Examples of the antiblocking agent include fine particles such as silica, acryl, styrene and alumina.

상기 기능성 성분의 함유량은, 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A 중의 전체 고형분의 합계 질량에 대하여, 대전 방지제로는 0.1 내지 30질량%의 범위가 바람직하다. 굴절률 조정제의 함유량은, 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A 중의 전체 고형분의 합계 질량에 대하여, 5 내지 30질량%의 범위가 바람직하다. 방오제의 함유량은, 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A 중의 전체 고형분의 합계 질량에 대하여, 0.01 내지 5질량%의 범위가 바람직하다. 슬립제의 함유량은, 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A 중의 전체 고형분의 합계 질량에 대하여, 0.01 내지 5질량%의 범위가 바람직하다. 방현제는, 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A 중의 전체 고형분의 합계 질량에 대하여, 1 내지 20질량%의 범위가 바람직하다. 하드 코트성 부여제는, 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A 중의 전체 고형분의 합계 질량에 대하여, 5 내지 40질량%의 범위가 바람직하다. 블로킹 방지제는, 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A 중의 전체 고형분의 합계 질량에 대하여, 0.1 내지 5질량%의 범위가 바람직하다.The content of the functional component is preferably in the range of 0.1 to 30 mass% as the antistatic agent, based on the total mass of the total solid content in the ionizing radiation curable resin composition A. The content of the refractive index adjusting agent is preferably in the range of 5 to 30% by mass with respect to the total mass of all solids in the ionizing radiation curable resin composition A. The content of the antifouling agent is preferably in the range of 0.01 to 5 mass% with respect to the total mass of all solids in the ionizing radiation curable resin composition A. The content of the slip agent is preferably in the range of 0.01 to 5% by mass with respect to the total mass of all solids in the ionizing radiation curable resin composition A. The blending agent is preferably in the range of 1 to 20 mass% with respect to the total mass of the total solid content in the ionizing radiation curable resin composition A. The hard coat property-imparting agent is preferably in the range of 5 to 40% by mass with respect to the total mass of all solids in the ionizing radiation curable resin composition A. The antiblocking agent is preferably in the range of 0.1 to 5 mass% with respect to the total mass of all the solids in the ionizing radiation curable resin composition A.

또한, 하기하는 바와 같이, 본 발명에 있어서는, 기능성 성분이 수지층의 상면에 편재화되므로, 보다 적은 함유량으로 상기 기능성 성분의 효과를 발현시킬 수 있다.Further, as described below, in the present invention, since the functional component is unevenly distributed on the upper surface of the resin layer, the effect of the functional component can be exhibited with a smaller content.

본 발명의 광학 적층체는, 도 3 및 도 4에 도시한 바와 같이, 기능성 성분이 수지층의 상면에 편재화되므로, 기능성 성분의 기능을 보다 강하게 발현시킬 수 있다. 예를 들면, 본 발명의 광학 적층체의 수지층이, 기능성 성분으로서 대전 방지제를 함유하는 경우, 대전 방지제가 수지층의 표면측에 편재되어 있기 때문에, 동일량의 대전 방지제를 균일 분산시킨 경우와 비교하여, 대전 방지 성능이 보다 강하게 발현된다.In the optical laminate of the present invention, as shown in Figs. 3 and 4, since the functional component is unevenly distributed on the upper surface of the resin layer, the function of the functional component can be more strongly expressed. For example, when the resin layer of the optical laminate of the present invention contains an antistatic agent as a functional component, since the antistatic agent is localized on the surface side of the resin layer, the case where the same amount of the antistatic agent is uniformly dispersed In comparison, the antistatic performance is more strongly expressed.

마찬가지로, 수지층이 방현제를 함유하는 경우는 투영이 보다 방지되고, 저굴절률제를 함유하는 경우는, 반사율이 보다 저하되고, 하드 코트성 부여제를 함유하는 경우는 하드 코트 성능이 더욱 향상된다.Similarly, when the resin layer contains a defoaming agent, the projection is further prevented. When the resin layer contains a low refractive index agent, the reflectance is further lowered. When the hard coat property-imparting agent is contained, the hard coat performance is further improved .

또한, 아크릴 기재를 용해하지 않고 수지층을 형성한 경우, 도 5에 도시한 바와 같이, 수지층의 상면에 기능성 성분을 편재시킬 수는 없다.In addition, when the resin layer is formed without dissolving the acrylic base material, as shown in Fig. 5, the functional component can not be distributed on the upper surface of the resin layer.

본 발명에 있어서, 기능성 성분이 수지층의 상면에 편재화되는 메커니즘에 대해서는 이하와 같이 추정하고 있다. 즉, 후술하는 용제가 휘발하는 움직임과 함께 용해된 아크릴 기재의 재료 성분이 수지층 중에 유출되어, 기능성 성분을 상층으로 밀어올리는 힘을 제공한 것으로 추정하고 있다.In the present invention, the mechanism by which the functional component is localized on the upper surface of the resin layer is estimated as follows. In other words, it is presumed that the acrylic-based material component dissolved in the volatile solvent, which will be described later, flows out to the resin layer to provide a force for pushing up the functional component to the upper layer.

따라서, 종래는, 기능성 성분이 매트릭스인 수지 성분에 대하여 비중이 가벼운 경우에, 그 비중차에 의해, 기능성 성분이 상층 방향으로 이동한다고 되어 있었지만, 본 발명의 경우에는, 비중이 수지 성분보다도 무거운 것이라도, 수지층 표면에 기능성 성분을 편재시킬 수 있는 것으로 생각하고 있다.Therefore, conventionally, in the case where the specific gravity is light relative to the resin component in which the functional component is a matrix, the functional component moves in the direction of the upper layer due to the difference in specific gravity. In the case of the present invention, however, , It is thought that the functional component can be distributed on the surface of the resin layer.

특히, 기능성 성분이 4급 암모늄염 등의 친수성의 성분이나, 방오제, 슬립제 등의 표면 장력이 낮은 성분인 경우, 수지층의 상방에 기능성 성분이 편재화되기 쉬워진다. 또한, 기능성 성분이 아크릴 기재 중의 아크릴 수지보다도 수지층의 수지와 상용성이 좋은 경우, 기능성 성분은 수지층의 상방에 편재화되기 쉬워진다.Particularly, when the functional component is a hydrophilic component such as a quaternary ammonium salt or a component having a low surface tension such as an antifouling agent or a slip agent, the functional component is liable to be unevenly distributed above the resin layer. In addition, when the functional component is more compatible with the resin of the resin layer than the acrylic resin in the acrylic base material, the functional component is likely to be unevenly distributed above the resin layer.

또한, 상술한 바와 같이, 아크릴 기재의 재료 성분이 수지층 중에 유출되기 때문에, 아크릴 기재-수지층 계면에 적당한 요철이 발생하여, 아크릴 기재와 수지층간의 밀착성이 양호해짐과 함께, 장소에 따라서 광학 거리가 상이하기 때문에 간섭 줄무늬가 불선명해져, 간섭 줄무늬 방지성도 양호해진다.In addition, as described above, since the material component of the acrylic base material flows out to the resin layer, appropriate irregularities are generated at the acrylic base-resin layer interface to improve the adhesion between the acrylic base material and the resin layer, Since the distances are different, the interference fringe becomes unclear, and interference fringe prevention is improved.

또한, 기능성 성분은, 기재인 아크릴과 굴절률이 상이한 경우가 많기 때문에, 기능성 성분이 수지층 중에 균일 분산되어 있으면, 아크릴 기재와 수지층에서 굴절률차가 발생하여, 간섭 줄무늬가 발생하기 쉽다. 이에 반해, 본 발명의 광학 적층체에서는, 기능성 성분이 아크릴 기재-수지층 계면에는 거의 존재하지 않기 때문에, 굴절률차를 원인으로 하는 간섭 줄무늬를 발생시키기 어렵게 할 수 있다.In addition, since the functional component often differs in refractive index from acryl as the base material, if the functional component is uniformly dispersed in the resin layer, a refractive index difference occurs between the acrylic base and the resin layer, and interference fringes are likely to occur. On the other hand, in the optical laminate of the present invention, since the functional component is hardly present at the acrylic base-resin layer interface, it is possible to make it difficult to generate interference fringes caused by the refractive index difference.

(전리 방사선 경화성 수지) (Ionizing radiation curable resin)

본 명세서 중에 있어서 전리 방사선 경화성 수지 조성물이란, 전자선 경화성 수지 조성물 또는 자외선 경화성 수지 조성물을 나타낸다. 전리 방사선 경화성 수지로서는, 폴리알킬렌글리콜 디(메트)아크릴레이트를 주성분으로 하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 전리 방사선 경화성 수지에 있어서의 폴리알킬렌글리콜 디(메트)아크릴레이트의 함유량이, 고형분 환산으로 25 내지 100질량%인 것이 바람직하고, 50 내지 100질량%인 것이 보다 바람직하다.In the present specification, the ionizing radiation curable resin composition refers to an electron beam-curable resin composition or an ultraviolet ray curable resin composition. As the ionizing radiation curable resin, it is preferable to use a polyalkylene glycol di (meth) acrylate as a main component. Specifically, the content of the polyalkylene glycol di (meth) acrylate in the ionizing radiation curable resin is preferably 25 to 100% by mass, more preferably 50 to 100% by mass in terms of solid content.

아크릴 기재는 용제에 의해서도 용해되지만, 용제와 폴리알킬렌글리콜 디(메트)아크릴레이트의 상승 작용에 의해, 아크릴 기재를 보다 용해하기 쉽게 할 수 있다. 또한, 폴리알킬렌글리콜 디(메트)아크릴레이트는, 아크릴 기재의 수지 성분과 혼합되기 쉽다. 따라서, 전리 방사선 경화성 수지로서 폴리알킬렌글리콜 디(메트)아크릴레이트를 사용함으로써, 수지층의 상방에 기능성 성분을 편재화시키기 쉽게 할 수 있다.The acrylic base material is also dissolved by the solvent, but the acrylic base material can be more easily dissolved by the synergistic action of the solvent and the polyalkylene glycol di (meth) acrylate. Further, the polyalkylene glycol di (meth) acrylate is apt to be mixed with the acrylic resin component. Therefore, by using a polyalkylene glycol di (meth) acrylate as the ionizing radiation curable resin, the functional component can be easily flattened above the resin layer.

폴리알킬렌글리콜 디(메트)아크릴레이트로서는, 디에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트 등의 폴리에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 폴리프로필렌글리콜 디(메트)아크릴레이트 및 디부틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리부틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 테트라부틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트 등의 폴리부틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트를 들 수 있다.Examples of the polyalkylene glycol di (meth) acrylate include polyethylene glycol di (meth) acrylate such as diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate and tetraethylene glycol di Polypropylene glycol di (meth) acrylate such as dipropylene glycol di (meth) acrylate and dibutylene glycol di (meth) acrylate, tributylene glycol di (meth) acrylate, tetrabutylene glycol di (Meth) acrylate, and polybutylene glycol di (meth) acrylate.

상기 폴리알킬렌글리콜 디(메트)아크릴레이트는, 분자량 180 내지 1000의 것이 바람직하고, 분자량 200 내지 750의 것이 보다 바람직하고, 분자량 220 내지 450의 것이 특히 바람직하다. 당해 분자량이 이 범위 내이면, 아크릴 기재와 수지층의 밀착성이나 간섭 줄무늬 방지성이 우수함과 함께, 기능성 성분을 수지층의 상방에 편재시키기 쉽게 할 수 있다.The polyalkylene glycol di (meth) acrylate preferably has a molecular weight of 180 to 1000, more preferably a molecular weight of 200 to 750, and particularly preferably a molecular weight of 220 to 450. When the molecular weight is within this range, the adhesion between the acrylic substrate and the resin layer and the prevention of interference streaking are excellent, and the functional component can be easily localized above the resin layer.

전리 방사선 경화성 수지 조성물 A는, 폴리알킬렌글리콜 디(메트)아크릴레이트를 주성분으로 하는 것이 바람직하지만, 후술하는 그 밖의 성분을 함유하고 있어도 된다. 또한, 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A 중에 극단적으로 성질이 상이한 재료를 혼합한 경우, 두께 감소 공정 (B)에서 아크릴 기재의 성분이 수지층측에 유입되었을 때 해도(海島) 구조가 형성되어 외관이 손상되는 경우가 있다. 이 때문에, 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A의 재료를 2성분 이상으로 하는 경우, 성질이 비슷한 재료를 사용하는 것이 바람직하다.The ionizing radiation curable resin composition A preferably contains polyalkylene glycol di (meth) acrylate as a main component, but may contain other components to be described later. In addition, when a material having extremely different properties is mixed in the ionizing radiation curable resin composition A, a sea-island structure is formed when the component of the acrylic base material flows into the resin layer side in the thickness reducing step (B) . Therefore, when the ionizing radiation curable resin composition A is composed of two or more components, it is preferable to use materials having similar properties.

상기 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A는, 단관능 (메트)아크릴레이트나 3관능 (메트)아크릴레이트를 더 함유하고 있어도 된다.The ionizing radiation curable resin composition A may further contain monofunctional (meth) acrylate or trifunctional (meth) acrylate.

단관능 (메트)아크릴레이트의 구체예로서는, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 부틸(메트)아크릴레이트, 헥실(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 페닐(메트)아크릴레이트, 아크릴로일모르폴린, N-아크릴로일옥시에틸헥사히드로프탈이미드, 테트라히드로푸르푸릴아크릴레이트, 이소보르닐아크릴레이트, 페녹시에틸아크릴레이트, 아다만틸아크릴레이트, 알킬렌글리콜모노(메트)아크릴레이트(에틸렌글리콜모노(메트)아크릴레이트, 프로필렌글리콜모노(메트)아크릴레이트, 부틸렌글리콜모노(메트)아크릴레이트 등) 또는 폴리알킬렌글리콜모노(메트)아크릴레이트(폴리에틸렌글리콜모노(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜모노(메트)아크릴레이트, 폴리부틸렌글리콜모노(메트)아크릴레이트 등)을 들 수 있고, 알킬렌글리콜모노(메트)아크릴레이트가 특히 바람직하다.Specific examples of monofunctional (meth) acrylate include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, cyclohexyl Acrylates such as hexyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, acryloylmorpholine, N-acryloyloxyethylhexahydrophthalimide, tetrahydrofurfuryl acrylate, isobornyl acrylate, (Meth) acrylate, ethylene glycol mono (meth) acrylate, propylene glycol mono (meth) acrylate, and butylene glycol mono (meth) acrylate) or polyalkyl (Meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, polybutylene glycol mono (meth) acrylate, There may be mentioned rate, etc.), an alkylene glycol mono (meth) acrylate is particularly preferred.

또한, 3관능 (메트)아크릴레이트의 구체예로서는, 이소시아누르산트리아크릴레이트, 폴리알킬렌글리콜트리(메트)아크릴레이트(트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Specific examples of the trifunctional (meth) acrylate include isocyanuric acid triacrylate, polyalkylene glycol tri (meth) acrylate (trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) And the like.

또한, 단관능 (메트)아크릴레이트, 3관능 (메트)아크릴레이트로서는, 각 화합물의 프로필렌옥시드(PO), 에틸렌옥시드(EO)의 변성품을 사용해도 된다.As monofunctional (meth) acrylate and trifunctional (meth) acrylate, modified compounds of propylene oxide (PO) and ethylene oxide (EO) of each compound may be used.

단관능 (메트)아크릴레이트를 사용함으로써, 점도 조정이 용이해짐과 함께, 기재와의 밀착성도 양호해진다. 또한, 단관능 (메트)아크릴레이트는 아크릴 기재중의 수지 성분과 혼합되기 쉬워, 수지층의 상방에 기능성 성분을 편재화시키기 쉽게 할 수 있다.By using the monofunctional (meth) acrylate, the viscosity can be easily adjusted and the adhesion with the base material can be improved. Further, the monofunctional (meth) acrylate is easily mixed with the resin component in the acrylic base material, so that the functional component can be easily flattened above the resin layer.

3관능 (메트)아크릴레이트를 사용하면, 경도를 높게 할 수 있다. 한편, 3관능 (메트)아크릴레이트는 아크릴 기재 중의 수지 성분과 혼합되기 어려운 경향이 있어, 수지층의 상방에 기능성 성분을 편재화시키기 어려워지는 경우가 있다.When trifunctional (meth) acrylate is used, the hardness can be increased. On the other hand, the trifunctional (meth) acrylate tends to be difficult to mix with the resin component in the acrylic base material, and it may be difficult to flatten the functional component above the resin layer.

또한, 본 명세서에 있어서 「(메트)아크릴레이트」란, 메타크릴레이트 및 아크릴레이트를 가리키는 것이다.In the present specification, "(meth) acrylate" refers to methacrylate and acrylate.

상기 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A는, 광중합성 중합체, 광중합성 올리고머, 그 밖의 광중합성 단량체 등을 더 함유하고 있어도 되고, 자외선 경화성 수지 조성물인 경우에는 개시제를 함유한다.The ionizing radiation curable resin composition A may further contain a photopolymerizable polymer, a photopolymerizable oligomer and other photopolymerizable monomers, and in the case of an ultraviolet curable resin composition, an initiator.

(광중합성 중합체) (Photopolymerizable polymer)

광중합성 중합체로서는, 관능기로서 (메트)아크릴로일기를 갖는 것이 바람직하고, 관능기 수가 10 내지 250개인 것이 바람직하고, 10 내지 100개인 것이 보다 바람직하고, 10 내지 50개인 것이 더욱 바람직하다.The photopolymerizable polymer preferably has a (meth) acryloyl group as the functional group. The number of the functional groups is preferably 10 to 250, more preferably 10 to 100, and still more preferably 10 to 50.

광중합성 중합체의 중량 평균 분자량은 10,000 내지 100,000인 것이 바람직하고, 12,000 내지 40,000인 것이 보다 바람직하다.The weight average molecular weight of the photopolymerizable polymer is preferably 10,000 to 100,000, more preferably 12,000 to 40,000.

전리 방사선 경화성 수지 조성물 A에 있어서의 광중합성 중합체의 배합량은, 고형분 환산으로, 0 내지 40질량%인 것이 바람직하고, 0 내지 30질량%인 것이 보다 바람직하다.The blending amount of the photopolymerizable polymer in the ionizing radiation curable resin composition A is preferably 0 to 40% by mass, more preferably 0 to 30% by mass in terms of solid content.

(광중합성 올리고머) (Photopolymerizable oligomer)

광중합성 올리고머로서는 2관능 이상의 것이 사용되고, 관능기로서 (메트)아크릴로일기를 갖는 것이 바람직하고, 관능기 수가 2 내지 30개인 것이 바람직하고, 2 내지 20개인 것이 보다 바람직하고, 3 내지 15개인 것이 더욱 바람직하다.The photopolymerizable oligomer is preferably a bifunctional or higher functional group and preferably has a (meth) acryloyl group as the functional group. The number of the functional groups is preferably 2 to 30, more preferably 2 to 20, still more preferably 3 to 15 Do.

광중합성 올리고머의 중량 평균 분자량은 1,000 내지 10,000인 것이 바람직하고, 1,500 내지 10,000인 것이 보다 바람직하다.The weight average molecular weight of the photopolymerizable oligomer is preferably 1,000 to 10,000, more preferably 1,500 to 10,000.

전리 방사선 경화성 수지 조성물 A에 있어서의 광중합성 올리고머의 배합량은, 고형분 환산으로, 0 내지 40질량%인 것이 바람직하고, 0 내지 30질량%인 것이 보다 바람직하다.The blending amount of the photopolymerizable oligomer in the ionizing radiation curable resin composition A is preferably 0 to 40% by mass, more preferably 0 to 30% by mass in terms of solid content.

(그 밖의 광중합성 단량체)(Other photopolymerizable monomer)

그 밖의 광중합성 단량체로서는, 1 또는 2 이상의 불포화 결합을 갖는 것으로, 전술한 (메트)아크릴레이트 이외의 화합물이나 4관능 이상의 (메트)아크릴레이트를 들 수 있다. (메트)아크릴레이트 이외의 화합물로서는, 예를 들면 스티렌, 메틸스티렌, N-비닐피롤리돈 등의 1관능 단량체, 다가 알코올의 폴리(메트)아크릴레이트에스테르 등의 다관능 단량체 등을 들 수 있다. 4관능 이상의 (메트)아크릴레이트로서는, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트 등 및 이들을 에틸렌옥시드(EO) 등으로 변성한 다관능 화합물 등을 들 수 있다.As other photopolymerizable monomer, those having one or two or more unsaturated bonds include a compound other than the (meth) acrylate described above and a (meth) acrylate having four or more functionalities. (Meth) acrylate include polyfunctional monomers such as monofunctional monomers such as styrene, methyl styrene and N-vinyl pyrrolidone, poly (meth) acrylate esters of polyhydric alcohols and the like . Examples of the tetrafunctional or higher (meth) acrylate include pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate and the like, and ethylene oxide (EO) And the like, and the like.

이들 그 밖의 광중합성 단량체에 의해, 굴절률이나 경도를 조정할 수 있다.The refractive index and the hardness can be adjusted by these other photopolymerizable monomers.

광중합성 단량체의 분자량은 200 내지 1,000인 것이 바람직하고, 250 내지 750인 것이 보다 바람직하다.The molecular weight of the photopolymerizable monomer is preferably 200 to 1,000, more preferably 250 to 750.

전리 방사선 경화성 수지 조성물 A에 있어서의, 그 밖의 광중합성 단량체의 배합량은 본 발명의 효과를 발휘하는 범위에서 특별히 제한은 없지만, 고형분 환산으로, 0 내지 40질량%인 것이 바람직하고, 0 내지 30질량%인 것이 보다 바람직하다.The blending amount of other photopolymerizable monomers in the ionizing radiation curable resin composition A is not particularly limited within the range of exhibiting the effects of the present invention, but is preferably 0 to 40 mass%, more preferably 0 to 30 mass% % Is more preferable.

(개시제) (Initiator)

개시제로서는 특별히 한정되지 않고, 공지의 것을 사용할 수 있으며, 예를 들면 광중합 개시제로서는, 구체예에는, 아세토페논류, 벤조페논류, 미힐러벤조일벤조에이트, α-아밀옥심에스테르, 티오크산톤류, 프로피오페논류, 벤질류, 벤조인류, 아실포스핀옥시드류를 들 수 있다. 또한, 광증감제를 혼합하여 사용하는 것이 바람직하고, 그 구체예로서는, 예를 들면 n-부틸아민, 트리에틸아민, 폴리-n-부틸포스핀 등을 들 수 있다.The initiator is not particularly limited and known ones can be used. Specific examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzophenones, meihylbenzoyl benzoates,? -Amyl oxime esters, thioxanthones, Propiophenes, benzyls, benzoins, and acylphosphine oxides. Further, it is preferable to use a mixture of photosensitizer. Specific examples thereof include n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine and the like.

상기 광중합 개시제로서는, 상기 광중합성 단량체/올리고머/중합체가 라디칼 중합성 불포화기를 갖는 수지계인 경우에는, 아세토페논류, 벤조페논류, 티오크산톤류, 벤조인, 벤조인메틸에테르 등을 단독 또는 혼합하여 사용하는 것이 바람직하고, 1-히드록시-시클로헥실-페닐-케톤이, 전리 방사선 경화형 수지와의 상용성 및 황변도 적다고 하는 이유로부터 특히 바람직하다. 또한, 상기 광중합성 단량체/올리고머/중합체가 양이온 중합성 관능기를 갖는 경우는, 상기 광중합 개시제로서는, 방향족 디아조늄염, 방향족 술포늄염, 방향족 요오도늄염, 메탈로센 화합물, 벤조인술폰산에스테르 등을 단독 또는 혼합물로서 사용하는 것이 바람직하다.As the photopolymerization initiator, when the photopolymerizable monomer / oligomer / polymer is a resin system having a radically polymerizable unsaturated group, the photopolymerization initiator may be selected from the group consisting of acetophenones, benzophenones, thioxanthones, benzoins, benzoin methyl ethers, Cyclohexyl-phenyl-ketone is particularly preferable from the viewpoint of compatibility with the ionizing radiation curable resin and yellowing. When the photopolymerizable monomer / oligomer / polymer has a cationic polymerizable functional group, examples of the photopolymerization initiator include aromatic diazonium salts, aromatic sulfonium salts, aromatic iodonium salts, metallocene compounds, benzoin sulfonic acid esters and the like. It is preferably used alone or as a mixture.

상기 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A에 있어서의 개시제의 함유량은, 전체 고형분의 합계 질량에 대하여 1 내지 10질량%인 것이 바람직하다. 개시제의 함유량이 1질량% 이상이면, 광학 적층체에 있어서의 수지층의 경도 관점에서 바람직하고, 10질량% 이하이면, 개시제가 과잉으로 잔류하는 것에 의한 수지 열화를 억제함과 함께 비용 상승을 방지할 수 있어, 목표인 수지층이나 후술하는 하드 코트층의 표면의 연필 경도가 얻어진다.The content of the initiator in the ionizing radiation curable resin composition A is preferably 1 to 10% by mass with respect to the total mass of all the solid components. When the content of the initiator is 1% by mass or more, it is preferable from the viewpoint of the hardness of the resin layer in the optical laminate, and when it is 10% by mass or less, the resin deterioration due to the excess of the initiator remaining is suppressed, And the pencil hardness of the target resin layer or the surface of the hard coat layer described later can be obtained.

상기 개시제의 함유량의 보다 바람직한 하한은, 전체 고형분의 합계 질량에 대하여 2질량%이며, 보다 바람직한 상한은 8질량%이다. 상기 개시제의 함유량이 이 범위에 있음으로써, 상기 경화를 보다 확실하게 한다.A more preferable lower limit of the content of the initiator is 2% by mass with respect to the total mass of the total solid content, and a more preferable upper limit is 8% by mass. When the content of the initiator is within this range, the curing is made more reliable.

(용제 건조형 수지) (Solvent-drying type resin)

상기 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A는, 용제 건조형 수지를 더 함유하고 있어도 된다. 용제 건조형 수지를 병용함으로써, 도포면의 피막 결함을 유효하게 방지할 수 있다. 또한, 상기 용제 건조형 수지란, 열가소성 수지 등, 도포 시공 시에 고형분을 조정하기 위해서 첨가한, 용제를 건조시키는 것만으로 피막으로 되는 수지를 말한다.The ionizing radiation curable resin composition A may further contain a solvent-drying type resin. By using the solvent-drying type resin in combination, it is possible to effectively prevent coating defects on the coated surface. The above-mentioned solvent-drying resin refers to a resin such as a thermoplastic resin, which is added to adjust the solid content at the time of coating and is formed into a film by simply drying the solvent.

상기 용제 건조형 수지로서는 특별히 한정되지 않고, 일반적으로, 열가소성 수지를 사용할 수 있다.The solvent-drying resin is not particularly limited, and a thermoplastic resin can be generally used.

상기 열가소성 수지로서는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 스티렌계 수지, (메트)아크릴계 수지, 아세트산비닐계 수지, 비닐에테르계 수지, 할로겐 함유 수지, 지환식 올레핀계 수지, 폴리카르보네이트계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리아미드계 수지, 셀룰로오스 유도체, 실리콘계 수지 및 고무 또는 엘라스토머 등을 들 수 있다. 상기 열가소성 수지는, 비결정성이며, 또한 유기 용매(특히 복수의 중합체나 경화성 화합물을 용해 가능한 공통 용매)에 가용인 것이 바람직하다. 특히, 제막성, 투명성이나 내후성의 관점에서, 스티렌계 수지, (메트)아크릴계 수지, 지환식 올레핀계 수지, 폴리에스테르계 수지, 셀룰로오스 유도체(셀룰로오스에스테르류 등) 등이 바람직하다.The thermoplastic resin is not particularly limited and examples thereof include thermoplastic resins such as styrene resin, (meth) acrylic resin, vinyl acetate resin, vinyl ether resin, halogen-containing resin, alicyclic olefin resin, polycarbonate resin, A polyester resin, a polyamide resin, a cellulose derivative, a silicone resin and a rubber or an elastomer. The thermoplastic resin is preferably amorphous and soluble in an organic solvent (in particular, a common solvent capable of dissolving a plurality of polymers or curable compounds). Particularly, styrene resins, (meth) acrylic resins, alicyclic olefin resins, polyester resins, cellulose derivatives (such as cellulose esters) and the like are preferable from the viewpoints of film formability, transparency and weather resistance.

(용제) (solvent)

상기 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A는, 용제를 더 함유하고 있는 것이 바람직하다.It is preferable that the ionizing radiation curable resin composition A further contains a solvent.

이 용제는, 아크릴 기재를 적절하게 용해시키는 것을 선택하는 것이 바람직하다. 보다 상세하게는, 전술한 바와 같이, 두께 감소 공정 (B)에 있어서, 수지층 형성 전의 아크릴 기재의 두께에 대하여, 수지층 형성 후의 아크릴 기재의 두께를 1.0 내지 15.0% 감소시키는 용제를 선택하는 것이 바람직하다.This solvent is preferably selected so as to appropriately dissolve the acrylic base material. More specifically, as described above, it is preferable to select a solvent which reduces the thickness of the acrylic base material after the formation of the resin layer by 1.0 to 15.0% with respect to the thickness of the acrylic base material before the resin layer formation in the thickness reduction step (B) desirable.

단, 아크릴 기재는, 종래 자주 사용되고 있는 TAC 기재와는 달리, 거의 모든 종류의 용제에 의해 용해된다. 따라서 용제에 의한 영향이 강하여, 용해도가 지나치게 강하면 갈라져 버려 광학 적층체를 생산할 수 없게 되는 경우도 있다. 따라서, 용제 중에서도 이하의 용제를 선택하는 것이 바람직하다. 또한, 아크릴 기재의 용해성은, 도포액 중의 용제의 질량 비율이나 용제의 건조 온도도 영향을 미친다. 이 때문에, 용제의 사용량 및 건조 온도를 고려하면서, 이하의 용제로부터 적절한 것을 선택하는 것이 바람직하다.However, unlike the conventional TAC substrate, acrylic base materials are dissolved by almost all kinds of solvents. Therefore, there is a case where the influence of the solvent is strong, and if the solubility is excessively strong, the optical laminate can not be produced due to cracking. Therefore, it is preferable to select the following solvents among the solvents. The solubility of the acrylic base material also affects the mass ratio of the solvent in the coating liquid and the drying temperature of the solvent. For this reason, it is preferable to select an appropriate one from the following solvents while considering the amount of the solvent used and the drying temperature.

이와 같은 용제로서는, 알코올류, 케톤류, 방향족 탄화수소류, 글리콜류 등을 적절하게 들 수 있고, 알코올이면, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 1-부탄올 등의 저급 알코올류가 바람직하다. 또한, 알코올류 이외의 각 용제에서는, 탄소수가 보다 많은 것이 양호한 경향이 있고, 그 중에서도 증발 속도가 빠른 것이 양호한 경향이 있다. 구체적으로는, 케톤류이면 메틸이소부틸케톤, 방향족 탄화수소류이면 톨루엔, 글리콜류이면 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등을 예시할 수 있고, 이 혼합 용제이어도 된다.As such a solvent, alcohols, ketones, aromatic hydrocarbons, glycols and the like are suitably used, and in the case of alcohol, lower alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol and 1-butanol are preferable. Further, in each of the solvents other than alcohols, the greater the number of carbon atoms tends to be good, and the higher the rate of evaporation tends to be, the better. Specifically, methyl isobutyl ketone is used as the ketone, toluene as the aromatic hydrocarbon, and propylene glycol monomethyl ether as the glycol, and the mixed solvent may be used.

특히 본 발명에 있어서는, 수지와의 상용성, 도포 시공성이 우수하고, 또한, 아크릴 기재-수지층 계면에 본원의 특이한 요철 형상이 형성되고, 나아가 가공 시에 기재가 끊어지는 문제가 생기지 않는다는 이유로부터, 특히 메틸이소부틸케톤, 이소프로판올 및 1-부탄올, 프로필렌글리콜모노메틸에테르로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것이 바람직하다. 이들 용제이면, 아크릴 기재가 갈라지는 일없이 적절하게 용해시킬 수 있다.Particularly, in the present invention, since the compatibility with the resin is excellent, the application workability is excellent, and the specific irregular shape of the present invention is formed at the acrylic base-resin layer interface, and furthermore, , Especially methyl isobutyl ketone, isopropanol, and 1-butanol and propylene glycol monomethyl ether. With these solvents, the acrylic base material can be appropriately dissolved without cracking.

한편, 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산프로필, 아세트산부틸 등의 에스테르류; 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 디아세톤 알코올 등의 케톤류; 셀로솔브류; 디옥산, 테트라히드로푸란, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등의 에테르류; 헥산 등의 지방족 탄화수소류; 크실렌 등의 톨루엔 이외의 방향족 탄화수소류; 디클로로메탄, 디클로로에탄할로겐화 탄소류; 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브 등의 셀로솔브류; 셀로솔브아세테이트류; 디메틸술폭시드 등의 술폭시드류: 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드 등의 아미드류는, 아크릴 기재를 과잉으로 용해시키는 경우가 있기 때문에, 기재에 텐션이 가해지는 경우에는 사용하지 않는 것이 바람직하다.On the other hand, esters such as methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate and butyl acetate; Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, and diacetone alcohol; Cellosolve; Ethers such as dioxane, tetrahydrofuran and propylene glycol monomethyl ether acetate; Aliphatic hydrocarbons such as hexane; Aromatic hydrocarbons other than toluene such as xylene; Dichloromethane, dichloroethane halogenated carbons; Cellosolve such as methylcellosolve, ethylcellosolve; Cellosolve acetate; Sulfoxides such as dimethyl sulfoxide: amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide are preferably not used when tension is applied to the substrate, since the acrylic base may be excessively dissolved.

상기 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A 중에 있어서의 용제의 함유 비율은, 사용하는 용제의 종류 및 용제의 건조 온도에 따라서, 아크릴 기재를 적절하게 용해시키는 범위에서 결정한다. 상술한 바람직한 용제의 함유량은, 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A의 고형분 100질량부에 대하여, 30 내지 300질량부가 바람직하고, 100 내지 220질량부인 것이 보다 바람직하다.The content of the solvent in the ionizing radiation curable resin composition A is determined according to the kind of the solvent to be used and the drying temperature of the solvent within a range in which the acrylic base material is appropriately dissolved. The content of the above-mentioned preferable solvent is preferably 30 to 300 parts by mass, more preferably 100 to 220 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the solid content of the ionizing radiation curable resin composition A. [

본 발명의 광학 적층체에 있어서의 아크릴 기재-수지층 계면은, 예를 들면 용제에 의해 아크릴 기재가 적절하게 용해되고, 그것에 수반하여 적당한 분자량을 갖는 폴리알킬렌글리콜 디(메트)아크릴레이트 등이 아크릴 기재에 침투해 간다. 또한, 수지층의 성분이 아크릴 기재에 침투할 때, 반대로 아크릴 기재의 재료 성분이 수지층 방향으로 압출되거나, 용제가 아크릴 기재로부터 수지층의 공기면 방향으로 휘발하는 것 등에 의해, 용해된 아크릴 기재의 재료 성분도 수지층 중에 침투해 간다. 이와 같이 상부로부터 하부로, 하부로부터 상부로 각 성분이 움직임으로써, 계면에 적당한 요철이 발생하여, 밀착성이 양호해짐과 함께 간섭 줄무늬 방지성도 양호해진다고 생각된다.The acrylic base material-resin layer interface in the optical laminate of the present invention can be obtained by, for example, a method in which an acryl base material is appropriately dissolved by a solvent and a polyalkylene glycol di (meth) acrylate or the like having an appropriate molecular weight Permeates the acrylic substrate. In addition, when the component of the resin layer penetrates the acrylic substrate, on the contrary, when the material component of the acrylic base material is extruded toward the resin layer or the solvent volatilizes from the acrylic base to the air surface of the resin layer, The material component of the resin penetrates into the resin layer. As each component moves from the upper part to the lower part and from the lower part to the upper part, proper irregularities are generated at the interface, so that the adhesion is improved and interference fringe prevention is also improved.

(전리 방사선 경화성 수지 조성물 A의 제조)(Preparation of ionizing radiation curable resin composition A)

전리 방사선 경화성 수지 조성물 A의 제조 방법으로서는, 각 성분을 균일하게 혼합할 수 있으면 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 페인트 셰이커, 비즈 밀, 니이더, 믹서 등의 공지의 장치를 사용하여 행할 수 있다.The ionizing radiation curable resin composition A can be produced by any known method such as a paint shaker, a bead mill, a kneader, a mixer or the like without particular limitation as long as the respective components can be uniformly mixed.

(도포 방법) (Application method)

도포 공정 (A)에 있어서의 상기 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A를 상기 아크릴 기재 상에 도포하는 방법으로서는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 스핀 코트법, 침지법, 스프레이법, 다이 코트법, 바 코트법, 그라비아 코트법, 롤 코터법, 메니스커스 코터법, 플렉소 인쇄법, 스크린 인쇄법, 비드 코터법 등의 공지의 방법을 들 수 있다.The method of applying the ionizing radiation curable resin composition A on the acrylic base material in the coating step (A) is not particularly limited, and examples of the method include a spin coating method, a dipping method, a spraying method, a die coating method, a bar coating method , A gravure coating method, a roll coater method, a meniscus coater method, a flexo printing method, a screen printing method, and a bead coater method.

(건조 공정) (Drying step)

계속해서, 필요에 따라서, 건조 공정이 실시된다. 건조 공정에 의해서도, 아크릴 기재의 두께가 감소하는 경우가 있고, 그 경우에는, 건조 공정은 (B) 두께 감소 공정의 일부로 된다.Subsequently, if necessary, a drying step is carried out. The drying step may also reduce the thickness of the acrylic substrate, and in that case, the drying step becomes part of the (B) thickness reducing step.

건조 공정에서의 건조 시간은, 바람직하게는 20초 내지 120초이고, 보다 바람직하게는 40초 내지 80초이다. 또한, 건조 공정에서의 건조 온도는, 바람직하게는 40 내지 90℃이고, 보다 바람직하게는 50 내지 80℃이다. 건조 온도가 100℃를 초과하면, 아크릴에의 용해성이 바람직한 용제를 선택하고 있어도, 용제의 침투력 등이 업되어, 기재가 갈라지는 경우가 있기 때문에, 건조 온도는 어느 용제를 사용하는 경우라도 기본적으로 90℃ 이하인 것이 바람직하다. 예를 들면, 상술한 바와 같이, 바람직한 용제로서 메틸이소부틸케톤이 있지만, 이 용제라도 건조 온도가 100℃이면 장력을 가함으로써, 아크릴 기재가 끊어지는 경우가 있다.The drying time in the drying step is preferably 20 seconds to 120 seconds, more preferably 40 seconds to 80 seconds. The drying temperature in the drying step is preferably 40 to 90 占 폚, more preferably 50 to 80 占 폚. If the drying temperature exceeds 100 ° C, even if a solvent having good solubility in acrylic is selected, penetration of the solvent or the like may increase and the substrate may be cracked. Therefore, even if any solvent is used, Lt; 0 &gt; C or less. For example, as described above, there is methylisobutylketone as a preferable solvent. However, if the drying temperature is 100 deg. C even with this solvent, the acryl base may be broken by applying a tensile force.

최저 온도는 용제를 건조할 수 있는 정도이면 되고, 40℃ 이상이 바람직하다. 예를 들면, 메틸이소부틸케톤에서 건조 온도가 30℃인 경우에는, 건조 불충분한 상태 그대로 자외선 등으로 경화함으로써, 그 경우는 경화가 잘 되지 않고, 미경화 부분도 발생한다. 이때는 밀착성이 저하되는 경우가 있다.The minimum temperature may be as long as the solvent can be dried, and preferably 40 ° C or more. For example, in the case of methylisobutyl ketone, when the drying temperature is 30 ° C, curing with ultraviolet rays or the like is carried out in an insufficiently dried state. In this case, curing is not performed well and uncured portions are also generated. At this time, the adhesion may be lowered.

(C) 공정 (C) Process

본 발명의 제조 방법에 있어서의 (C) 공정은, 전리 방사선을 조사하여 미경화 수지층을 경화하여 수지층을 형성하는 경화 공정이다.The step (C) in the production method of the present invention is a curing step of curing the uncured resin layer by irradiating with ionizing radiation to form a resin layer.

전리 방사선으로서는, 자외선 또는 전자선에 의한 조사를 들 수 있다.Examples of the ionizing radiation include irradiation with ultraviolet rays or electron beams.

자외선원의 구체예로서는, 예를 들면 초고압 수은등, 고압 수은등, 저압 수은등, 카본 아크등, 블랙 라이트 형광등, 메탈 할라이드 램프등 등의 광원을 들 수 있다. 또한, 자외선의 파장으로서는 190 내지 380㎚의 파장 영역을 사용할 수 있다.Specific examples of the ultraviolet ray source include light sources such as ultrahigh pressure mercury lamp, high pressure mercury lamp, low pressure mercury lamp, carbon arc lamp, black light fluorescent lamp, metal halide lamp and the like. A wavelength range of 190 to 380 nm can be used as the wavelength of ultraviolet rays.

상기 전자선 조사에 있어서의 전자선원의 구체예로서는, 코크로프트 월턴형, 반데그라프트형, 공진 변압기형, 절연 코어 변압기형, 또는 직선형, 다이나미트론형, 고주파형 등의 각종 전자선 가속기를 들 수 있다.Specific examples of the electron beam source in the electron beam irradiation include various types of electron beam accelerators such as a Cocross Walton type, a Bandegraft type, a resonant transformer type, an insulating core transformer type, or a linear type, a dinamitron type and a high frequency type.

또한, 상기 수지층의 바람직한 막 두께(수지층의 성분과 아크릴 기재의 성분이 혼연 일체화되어 경화가 완료된 층의 두께)는 0.5 내지 100㎛, 보다 바람직하게는 0.8 내지 20㎛, 컬 방지성이나 크랙 방지성이 특히 우수하므로, 가장 바람직하게는 2 내지 10㎛의 범위이다.The preferable film thickness of the resin layer (the thickness of the layer of the resin layer and the layer of the acryl base material formed by cementing together the acrylic base material) is 0.5 to 100 탆, more preferably 0.8 to 20 탆, Since the anti-blocking property is particularly excellent, it is most preferably in the range of 2 to 10 mu m.

<광학 적층체> &Lt; Optical laminate &

본 발명의 광학 적층체는, 아크릴 기재 상에, 기능성 성분을 포함하는 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A를 도포하여 미경화 수지층을 형성하는 도포 공정 (A)와, 상기 미경화 수지층에 의해 아크릴 기재를 용해시켜, 아크릴 기재의 두께를 1.0 내지 15.0% 감소시키는 두께 감소 공정 (B)와, 상기 미경화 수지층을 경화하여 수지층을 형성하는 경화 공정 (C)를 이 순서로 행함으로써, 상기 수지층 표면측에 기능성 성분을 편재시켜 이루어지는 것을 특징으로 한다.The optical laminate of the present invention comprises: an application step (A) of applying an ionizing radiation curable resin composition A containing a functional component on an acrylic base material to form an uncured resin layer; and a step (B) for reducing the thickness of the acrylic base material by 1.0 to 15.0%, and a curing step (C) for curing the uncured resin layer to form a resin layer in this order, Characterized in that the functional component is localized on the surface side of the stratum corneum.

기능성 성분으로서는, 전술한 다양한 성분을 사용할 수 있기 때문에, 아크릴 기재와 수지층만으로 본 발명의 광학 적층체를 구성할 수 있다.Since the above-described various components can be used for the functional component, the optical laminate of the present invention can be constituted only by the acrylic base material and the resin layer.

한편, 본 발명의 광학 적층체는, 수지층 상에 저굴절률층, 하드 코트층, 방오층, 방현층, 대전 방지층 및 고굴절률층으로부터 선택되는 1개 이상을 가져도 된다.On the other hand, the optical laminate of the present invention may have at least one selected from a low refractive index layer, a hard coat layer, a scattering layer, an antiglare layer, an antistatic layer and a high refractive index layer on a resin layer.

<하드 코트층> <Hard coat layer>

하드 코트층은, 바람직하게는 전리 방사선 경화성 수지 조성물 B의 경화물을 포함한다.The hard coat layer preferably includes a cured product of the ionizing radiation curable resin composition B.

하드 코트층은, 경도가 JIS K5600-5-4(1999)에 의한 연필 경도 시험(하중 4.9N)에 있어서, H 이상인 것이 바람직하고, 2H 이상인 것이 보다 바람직하다. 또한, 상기 하드 코트층은 하드 코트성 부여제 이외의 상술한 기능성 성분을 함유하는 것이어도 된다.The hard coat layer preferably has a hardness of H or more and more preferably 2H or more in a pencil hardness test (load 4.9 N) according to JIS K5600-5-4 (1999). The hard coat layer may contain the above-mentioned functional components other than the hard coat property-imparting agent.

하드 코트층을 형성하는 전리 방사선 경화성 수지 조성물 B의 상세는, 상술한 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A와 마찬가지이다.Details of the ionizing radiation curable resin composition B forming the hard coat layer are the same as those of the ionizing radiation curable resin composition A described above.

또한, 전리 방사선 경화성 수지 조성물 B는, 광중합성 단량체(특히 다관능 단량체)의 배합량이, 전체 고형분의 합계 질량에 대하여 30 내지 100질량%인 것이 바람직하고, 40 내지 90질량%인 것이 보다 바람직하고, 50 내지 80질량%인 것이 더욱 바람직하다.Further, in the ionizing radiation curable resin composition B, the blending amount of the photopolymerizable monomer (particularly, the polyfunctional monomer) is preferably 30 to 100 mass%, more preferably 40 to 90 mass%, based on the total mass of the total solid content , And more preferably 50 to 80 mass%.

또한, 전리 방사선 경화성 수지 조성물 B는, 광중합성 올리고머 및 광중합성 중합체의 배합량의 합계가, 전체 고형분의 합계 질량에 대하여 30 내지 100질량%인 것이 바람직하고, 40 내지 90질량%인 것이 보다 바람직하고, 50 내지 80질량%인 것이 더욱 바람직하다.In the ionizing radiation curable resin composition B, the total amount of the photopolymerizable oligomer and the photopolymerizable polymer is preferably 30 to 100% by mass, more preferably 40 to 90% by mass, based on the total mass of the total solid content , And more preferably 50 to 80 mass%.

또한, 하드 코트층의 형성 방법은 상술한 수지층과 마찬가지이다. 그 밖의 하드 코트층의 상세에 대해서도 상술한 수지층과 마찬가지이다.The method of forming the hard coat layer is the same as the above-mentioned resin layer. The details of the other hard coat layers are the same as those of the resin layer described above.

본 발명에 있어서는, 수지층 상에 하드 코트층을 적층하는 것이 바람직하다. 광학 적층체로서의 경도를 얻기 위해서는, 수지층 자체를 고경도로 하는 것이 고려된다. 그러나, 아크릴 기재 상에 직접, 즉 수지층에 다관능의 반응성 관능기를 갖는 재료를 사용하여 2H 이상의 고경도로 한 경우에는, 하드 코트층에 뭔가 부분적으로 압력이 가해진 경우 등 아크릴 기재가 갈라지기 쉽다고 하는 결점을 갖는다. 그 때문에, 본 발명의 광학 적층체에 있어서는, 수지층이 하드 코트층과의 사이에 있음으로써, 하드 코트층의 충격이 그대로 아크릴 기재에 전해지지 않고, 완충 작용을 갖고 있어 바람직하다. 또한, 수지층/하드 코트층으로 됨으로써도, 단순히 하드 코트층만이 적층되어 있는 경우보다도 경도도 향상시킬 수 있다.In the present invention, it is preferable to laminate a hard coat layer on the resin layer. In order to obtain the hardness as the optical laminate, it is considered that the resin layer itself has a high hardness. However, when a material having a reactive functional group having a polyfunctional functional group is used directly on the acrylic base material, that is, the resin base layer has a hardness of 2H or more, the acrylic base material tends to be cracked, for example, when a partial pressure is applied to the hard coat layer . Therefore, in the optical laminate of the present invention, the impact of the hard coat layer is not directly transmitted to the acrylic base material because the resin layer is in contact with the hard coat layer, and the buffer layer has a buffering action. In addition, by using the resin layer / hard coat layer, it is possible to improve the hardness as compared with the case where only the hard coat layer is laminated.

단, 하드 코트층 등을 적층하는 경우에는, 수지층과의 사이에 새로운 계면이 생기는, 즉 간섭 줄무늬가 발생하는 계기로 되는 부분이 증가되어 버리게 된다. 이 경우, 중요한 것은 적층하는 층의 굴절률이, 그 아래의 층과 가능한 한 가까운 것이다. 따라서, 간섭 줄무늬 방지성을 양호하게 유지하기 위해서는, 하드 코트층의 굴절률은, 수지층의 굴절률과 거의 동일한 것이 바람직하고, 바람직한 굴절률차는 0.03 이하이다.However, when a hard coat layer or the like is laminated, a new interface is generated between the resin layer and the resin layer, that is, a portion where interference fringes are generated is increased. In this case, it is important that the refractive index of the layer to be laminated is as close as possible to the layer below it. Therefore, in order to maintain interference fringe prevention properties well, the refractive index of the hard coat layer is preferably approximately the same as the refractive index of the resin layer, and the preferable difference in refractive index is 0.03 or less.

<저굴절률층> <Low Refractive Index Layer>

본 발명의 광학 적층체는 상기 하드 코트층 상에 저굴절률층을 더 갖는 것이 바람직하다.The optical laminate of the present invention preferably further comprises a low refractive index layer on the hard coat layer.

상기 저굴절률층으로서는, 바람직하게는 1) 실리카 또는 불화마그네슘 등의 저굴절률 무기 미립자를 함유하는 수지, 2) 저굴절률 수지인 불소계 수지, 3) 실리카 또는 불화 마그네슘 등의 저굴절률 무기 미립자를 함유하는 불소계 수지, 4) 실리카 또는 불화마그네슘 등의 저굴절률 무기 박막 등 중 어느 하나를 포함하는 저굴절률층 형성용 조성물을 사용하여 형성한다. 불소계 수지 이외의 수지에 대해서는, 상술한 아크릴 수지와 마찬가지의 수지를 사용할 수 있다.Preferable examples of the low refractive index layer include 1) a resin containing low refractive index inorganic fine particles such as silica or magnesium fluoride, 2) a fluororesin as a low refractive index resin, and 3) a resin containing low refractive index inorganic fine particles such as silica or magnesium fluoride A fluorine resin, and 4) a low refractive index inorganic thin film such as silica or magnesium fluoride. As the resin other than the fluorine resin, the same resin as the above-mentioned acrylic resin can be used.

또한, 상술한 실리카는 중공 실리카 미립자인 것이 바람직하고, 이와 같은 중공 실리카 미립자는, 예를 들면 일본 특허 공개 제2005-099778호 공보의 실시예에 기재된 제조 방법에 의해 제작할 수 있다.The above-mentioned silica is preferably hollow silica fine particles, and such hollow silica fine particles can be produced, for example, by the production method described in the embodiment of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-099778.

이들 저굴절률층은, 그 굴절률이 1.47 이하, 특히 1.42 이하인 것이 바람직하다. 또한, 저굴절률층의 두께는 한정되지 않지만, 통상은 10㎚ 내지 1㎛ 정도의 범위 내에서 적절히 설정하면 된다.These low refractive index layers preferably have a refractive index of 1.47 or less, particularly 1.42 or less. The thickness of the low refractive index layer is not limited, but may be suitably set within a range of usually about 10 nm to 1 m.

상기 불소계 수지로서는, 적어도 분자 중에 불소 원자를 포함하는 중합성 화합물 또는 그의 중합체를 사용할 수 있다. 중합성 화합물로서는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 전리 방사선에 의해 경화되는 관능기, 열경화되는 극성기 등의 경화 반응성의 기를 갖는 것이 바람직하다. 또한, 이들 반응성의 기를 동시에 겸비하는 화합물이어도 된다. 이 중합성 화합물에 대하여, 중합체란, 상기와 같은 반응성기 등을 일절 갖지 않는 것이다.As the fluororesin, at least a polymerizable compound containing a fluorine atom in a molecule or a polymer thereof can be used. The polymerizable compound is not particularly limited, but preferably has a curing-reactive group such as a functional group which is cured by ionizing radiation or a polar group which is thermally cured. Further, a compound capable of simultaneously combining these reactive groups may also be used. With respect to the polymerizable compound, the polymer does not have any reactive group as described above.

상기 전리 방사선에 의해 경화되는 관능기를 갖는 중합성 화합물로서는, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 불소 함유 단량체를 폭넓게 사용할 수 있다. 보다 구체적으로는, 플루오로올레핀류(예를 들면 플루오로에틸렌, 비닐리덴플루오라이드, 테트라플루오로에틸렌, 헥사플루오로프로필렌, 퍼플루오로부타디엔, 퍼플루오로-2,2-디메틸-1,3-디옥솔 등)를 예시할 수 있다.As the polymerizable compound having a functional group which is cured by the above ionizing radiation, a fluorine-containing monomer having an ethylenic unsaturated bond can be widely used. More specifically, fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluorobutadiene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3 -Dioxol, etc.) can be exemplified.

또한, (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 불소 함유 단량체를 사용할 수도 있다. 구체적으로는, 2,2,2-트리플루오로에틸(메트)아크릴레이트, 2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필(메트)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로부틸)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로헥실)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로옥틸)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로데실)에틸(메트)아크릴레이트, α-트리플루오로메타크릴산메틸, α-트리플루오로메타크릴산에틸과 같은, 분자 중에 불소 원자를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물을 들 수 있다.Further, a fluorine-containing monomer having a (meth) acryloyloxy group may also be used. Specific examples include 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl (meth) acrylate, 2- (perfluorobutyl) ethyl (Perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorooctyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (meth) acrylate compounds having a fluorine atom in the molecule, such as methyl? -trifluoromethacrylate and ethyl? -trifluoromethacrylate.

또한, 분자 중에, 불소 원자를 적어도 3개 갖는 탄소수 1 내지 14의 플루오로알킬기, 플루오로시클로알킬기 또는 플루오로알킬렌기와, 적어도 2개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 불소 함유 다관능 (메트)아크릴산에스테르 화합물 등도 있다.Further, it is also possible to use, in the molecule, a fluorine-containing polyfunctional (meth) acrylate having at least three fluorine atom-containing fluoroalkyl groups, fluorocycloalkyl groups or fluoroalkylene groups each having 1 to 14 carbon atoms and at least two (meth) acryloyloxy groups ) Acrylic ester compounds.

다음에, 상기 열경화되는 극성기로서 바람직한 것은, 예를 들면 수산기, 카르복실기, 아미노기, 에폭시기 등의 수소 결합 형성기이다. 이들은, 도막과의 밀착성뿐만 아니라, 실리카 등의 무기 초미립자와의 친화성도 우수하다. 열경화성 극성기를 갖는 중합성 화합물로서는, 예를 들면 4-플루오로에틸렌-퍼플루오로알킬비닐에테르 공중합체; 플루오로에틸렌-탄화수소계 비닐에테르 공중합체; 에폭시, 폴리우레탄, 셀룰로오스, 페놀, 폴리이미드 등의 각 수지의 불소 변성품 등을 들 수 있다.Next, preferable examples of the polar group which is thermally cured include a hydrogen bond forming group such as a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, and an epoxy group. These are excellent not only in adhesion to the coating film but also in affinity with inorganic ultrafine particles such as silica. As the polymerizable compound having a thermosetting polar group, for example, a 4-fluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer; Fluoroethylene-hydrocarbon-based vinyl ether copolymers; Fluorine-modified products of various resins such as epoxy, polyurethane, cellulose, phenol, and polyimide.

상기 전리 방사선에 의해 경화되는 관능기와 열경화되는 극성기를 겸비하는 중합성 화합물로서는, 아크릴 또는 메타크릴산의 부분 및 완전 불소화 알킬, 알케닐, 아릴에스테르류, 완전 또는 부분 불소화 비닐에테르류, 완전 또는 부분 불소화 비닐에스테르류, 완전 또는 부분 불소화 비닐케톤류 등을 예시할 수 있다.Examples of the polymerizable compound having a polar group capable of being thermally cured by a functional group cured by the ionizing radiation include acrylic or methacrylic acid moieties and fully fluorinated alkyl, alkenyl, aryl esters, fully or partially fluorinated vinyl ethers, Partially-fluorinated vinyl esters, fully or partially fluorinated vinyl ketones, and the like.

또한, 불소계 수지로서는, 예를 들면 다음과 같은 것을 들 수 있다.Examples of the fluorine-based resin include the following.

상기 전리 방사선 경화성기를 갖는 중합성 화합물의 불소 함유 (메트)아크릴레이트 화합물을 적어도 1종류 포함하는 단량체 또는 단량체 혼합물의 중합체; 상기 불소 함유 (메트)아크릴레이트 화합물 중 적어도 1종류와, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 프로필(메트)아크릴레이트, 부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트와 같은 분자 중에 불소 원자를 포함하지 않는 (메트)아크릴레이트 화합물의 공중합체; 플루오로에틸렌, 불화비닐리덴, 트리플루오로에틸렌, 클로로트리플루오로에틸렌, 3,3,3-트리플루오로프로필렌, 1,1,2-트리클로로-3,3,3-트리플루오로프로필렌, 헥사플루오로프로필렌과 같은 불소 함유 단량체의 단독 중합체 또는 공중합체 등. 이들 공중합체에 실리콘 성분을 함유시킨 실리콘 함유 불화비닐리덴 공중합체도 사용할 수 있다. 이 경우의 실리콘 성분으로서는, (폴리)디메틸실록산, (폴리)디에틸실록산, (폴리)디페닐실록산, (폴리)메틸페닐실록산, 알킬 변성 (폴리)디메틸실록산, 아조기 함유 (폴리)디메틸실록산, 디메틸실리콘, 페닐메틸실리콘, 알킬ㆍ아르알킬 변성 실리콘, 플루오로실리콘, 폴리에테르 변성 실리콘, 지방산 에스테르 변성 실리콘, 메틸 수소 실리콘, 실라놀기 함유 실리콘, 알콕시기 함유 실리콘, 페놀기 함유 실리콘, 메타크릴 변성 실리콘, 아크릴 변성 실리콘, 아미노 변성 실리콘, 카르복실산 변성 실리콘, 카르비놀 변성 실리콘, 에폭시 변성 실리콘, 머캅토 변성 실리콘, 불소 변성 실리콘, 폴리에테르 변성 실리콘 등이 예시된다. 그 중에서도, 디메틸실록산 구조를 갖는 것이 바람직하다.A polymer of a monomer or monomer mixture containing at least one fluorine-containing (meth) acrylate compound of the polymerizable compound having an ionizing radiation curable group; (Meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl Copolymers of (meth) acrylate compounds that do not contain fluorine atoms in the molecule such as acrylate; Fluoroethylene, vinylidene fluoride, trifluoroethylene, chlorotrifluoroethylene, 3,3,3-trifluoropropylene, 1,1,2-trichloro-3,3,3-trifluoropropylene, Homopolymers or copolymers of fluorine-containing monomers such as hexafluoropropylene. Silicon-containing vinylidene fluoride copolymers containing a silicone component in these copolymers may also be used. Examples of the silicone component in this case include (poly) dimethylsiloxane, (poly) diethylsiloxane, (poly) diphenylsiloxane, (poly) methylphenylsiloxane, alkyl modified (poly) dimethylsiloxane, azo group- A silicon-containing silicon, an alkoxy group-containing silicone, a phenol group-containing silicone, a methacryl-modified silicone, an alkylaryl-modified silicone, a fluoro silicone, a polyether-modified silicone, a fatty acid ester- , Acryl modified silicone, amino modified silicone, carboxylic acid modified silicone, carbinol modified silicone, epoxy modified silicone, mercapto modified silicone, fluorine modified silicone, polyether modified silicone and the like. Among them, those having a dimethylsiloxane structure are preferable.

나아가, 이하와 같은 화합물을 포함하는 비중합체 또는 중합체도, 불소계 수지로서 사용할 수 있다. 즉, 분자 중에 적어도 1개의 이소시아나토기를 갖는 불소 함유 화합물과, 아미노기, 히드록실기, 카르복실기와 같은 이소시아나토기와 반응하는 관능기를 분자 중에 적어도 1개 갖는 화합물을 반응시켜 얻어지는 화합물; 불소 함유 폴리에테르폴리올, 불소 함유 알킬폴리올, 불소 함유 폴리에스테르폴리올, 불소 함유 ε-카프로락톤 변성 폴리올과 같은 불소 함유 폴리올과, 이소시아나토기를 갖는 화합물을 반응시켜 얻어지는 화합물 등을 사용할 수 있다.Further, a non-polymer or a polymer containing the following compounds can also be used as the fluorine resin. A compound obtained by reacting a fluorine-containing compound having at least one isocyanato group in a molecule with a compound having at least one functional group reactive with an isocyanato group such as an amino group, a hydroxyl group or a carboxyl group in a molecule; A compound obtained by reacting a fluorine-containing polyol such as a fluorine-containing polyether polyol, a fluorine-containing alkylpolyol, a fluorine-containing polyesterpolyol and a fluorine-containing? -Caprolactone-modified polyol with a compound having an isocyanato group.

또한, 저굴절률층 형성용 조성물은, 상기한 불소 원자를 갖는 중합성 화합물이나 중합체와 함께, 상기에 기재한 바와 같은 각 열가소성 수지를 함유해도 된다. 또한, 반응성기 등을 경화시키기 위한 경화제, 도포 시공성을 향상시키거나, 방오성을 부여시키거나 하기 위해서, 각종 첨가제, 용제를 적절히 사용할 수 있다.The composition for forming a low refractive index layer may contain the thermoplastic resin as described above together with the above-mentioned polymerizable compound or polymer having a fluorine atom. In addition, various additives and solvents can be suitably used to improve the curing agent for curing the reactive group or the like, the application workability, or the antifouling property.

상기 저굴절률층의 형성에 있어서는, 상기 저굴절률층 형성용 조성물의 점도를 바람직한 도포성이 얻어지는 0.5 내지 5mPaㆍs(25℃), 바람직하게는 0.7 내지 3mPaㆍs(25℃)의 범위의 것으로 하는 것이 바람직하다. 가시광선의 우수한 반사 방지층을 실현할 수 있고, 또한, 균일하며 도포 불균일이 없는 박막을 형성할 수 있고, 또한, 밀착성이 특히 우수한 저굴절률층을 형성할 수 있다.In forming the low refractive index layer, the viscosity of the low refractive index layer forming composition is in the range of 0.5 to 5 mPa ((25 캜), preferably 0.7 to 3 mPa s (25 캜) . It is possible to form an excellent antireflection layer of visible light and to form a thin film which is uniform and free from coating irregularities and can form a low refractive index layer having particularly excellent adhesion.

수지의 경화 수단은, 전술한 하드 코트층에 있어서의 경화 수단과 마찬가지이어도 된다. 경화 처리를 위해서 가열 수단이 이용되는 경우에는, 가열에 의해, 예를 들면 라디칼을 발생하여 중합성 화합물의 중합을 개시시키는 열 중합 개시제가 저굴절률층 형성용 조성물에 첨가되는 것이 바람직하다.The curing means of the resin may be the same as the curing means in the above-mentioned hard coat layer. When a heating means is used for the curing treatment, it is preferable that, for example, a thermal polymerization initiator which generates radicals to initiate polymerization of the polymerizable compound by heating is added to the composition for forming a low refractive index layer.

본 발명의 광학 적층체는, 전체 광선 투과율이 80% 이상인 것이 바람직하다. 80% 미만이면, 화상 표시 장치에 장착한 경우에 있어서, 색 재현성이나 시인성을 손상시킬 우려가 있는 것 외에, 원하는 콘트라스트가 얻어지지 않을 우려가 있다. 상기 전체 광선 투과율은 90% 이상인 것이 보다 바람직하다.The optical laminate of the present invention preferably has a total light transmittance of 80% or more. If it is less than 80%, there is a fear that the color reproducibility and visibility may be impaired in the case of being mounted on the image display apparatus, and there is a possibility that the desired contrast may not be obtained. The total light transmittance is more preferably 90% or more.

상기 전체 광선 투과율은, 헤이즈 미터(무라까미 시끼사이 기쥬쯔 겡뀨죠제, 제품 번호; HM-150)를 사용하여 JIS K-7361에 준거한 방법에 의해 측정할 수 있다.The total light transmittance can be measured by a method in accordance with JIS K-7361 using a haze meter (Murakami Shikigi Co., Ltd., product number: HM-150).

또한, 본 발명의 광학 적층체는, 헤이즈가 1% 이하인 것이 바람직하다. 1% 이하이면, 원하는 광학 특성이 얻어지고, 본 발명의 광학 적층체를 화상 표시 표면에 형성하였을 때의 시인성의 열화가 없다.The optical laminate of the present invention preferably has a haze of 1% or less. If it is 1% or less, desired optical characteristics are obtained, and there is no deterioration of visibility when the optical laminate of the present invention is formed on the image display surface.

상기 헤이즈는, 헤이즈 미터(무라까미 시끼사이 기쥬쯔 겡뀨죠제, 제품 번호; HM-150)를 사용하여 JIS K-7136에 준거한 방법에 의해 측정할 수 있다.The haze can be measured by a method in accordance with JIS K-7136 using a haze meter (Murakami Shikigi Co., Ltd., product number: HM-150).

본 발명의 광학 적층체는 편광판으로서 유용하고, 편광막의 적어도 한쪽 면에 본 발명의 광학 적층체를 적층하여 이루어진다.The optical laminate of the present invention is useful as a polarizer, and is formed by laminating the optical laminate of the present invention on at least one side of a polarizing film.

상기 편광막으로서는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 요오드 등에 의해 염색하고, 연신한 폴리비닐알코올 필름, 폴리비닐포르말 필름, 폴리비닐아세탈 필름, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체계 비누화 필름 등을 사용할 수 있다. 상기 편광 막과 상기 광학 적층체의 라미네이트 처리에 있어서는, 아크릴 기재에 비누화 처리를 행하는 것이 바람직하다. 비누화 처리에 의해, 접착성이 양호해지고 대전 방지 효과도 얻을 수 있다.The polarizing film is not particularly limited, and for example, a stretched polyvinyl alcohol film, a polyvinyl formal film, a polyvinyl acetal film, an ethylene-vinyl acetate copolymerization system saponified film and the like can be used which are dyed with iodine or the like. In the lamination treatment of the polarizing film and the optical laminate, it is preferable to saponify the acrylic base material. By the saponification treatment, the adhesiveness is improved and an antistatic effect can be obtained.

본 발명의 광학 적층체는, 상기 광학 적층체 및/또는 상기 편광판을 구비하여 이루어지는 화상 표시 장치에 적용할 수 있다.The optical laminate of the present invention can be applied to an image display apparatus comprising the optical laminate and / or the polarizer.

상기 화상 표시 장치로서는, 텔레비전, 컴퓨터, LCD, PDP, FED, ELD(유기 EL, 무기 EL), CRT, 태블릿 PC, 전자 페이퍼, 휴대 전화 등을 들 수 있고, 또한, 화상 표시 장치 등에 사용되는 터치 패널에도 적절하게 사용할 수 있다.Examples of the image display device include a television, a computer, an LCD, a PDP, an FED, an ELD (organic EL, inorganic EL), a CRT, a tablet PC, an electronic paper, a mobile phone, It can also be applied to panels.

상기의 대표적인 예인 LCD는, 투과성 표시체와, 상기 투과성 표시체를 배면으로부터 조사하는 광원 장치를 구비하여 이루어지는 것이다. 본 발명의 광학 적층체를 사용한 화상 표시 장치가 LCD인 경우, 이 투과성 표시체의 표면에, 본 발명의 광학 적층체 및/또는 본 발명의 광학 적층체를 사용한 편광판이 형성되어 이루어지는 것이다. 단, 터치 패널을 탑재한 화상 표시 장치의 경우, 표면에 한하지 않고, 장치 내부를 구성하는 투명 기판 등으로서도 사용할 수 있다.The LCD, which is a typical example of the above, comprises a transmissive display body and a light source device for irradiating the transmissive display body from the back side. When the image display device using the optical laminate of the present invention is an LCD, a polarizing plate using the optical laminate of the present invention and / or the optical laminate of the present invention is formed on the surface of the transmissive display. However, in the case of an image display apparatus equipped with a touch panel, it can be used not only as a surface but also as a transparent substrate constituting the inside of the apparatus.

본 발명의 광학 적층체를 사용한 화상 표시 장치에 있어서는, 광원 장치의 광원은 광학 적층체나 편광판의 하측으로부터 조사된다. 또한, 화상 표시 소자와 편광판 사이에, 위상차판이 삽입되어도 된다. 이 화상 표시 장치의 각 층 사이에는 필요에 따라서 접착제층이 형성되어도 된다.In the image display apparatus using the optical laminate of the present invention, the light source of the light source device is irradiated from the lower side of the optical laminate or the polarizing plate. Further, a phase difference plate may be inserted between the image display element and the polarizing plate. An adhesive layer may be formed between each layer of the image display apparatus, if necessary.

여기서, 본 발명의 광학 적층체를 사용한 화상 표시 장치가 액정 표시 장치인 경우, 그 백라이트 광원에 대해서는 특별히 한정되지 않지만, 백색 발광 다이오드(백색 LED)인 것이 바람직하고, 당해 화상 표시 장치는, 백라이트 광원으로서 백색 발광 다이오드를 구비한 VA 모드 또는 IPS 모드의 액정 표시 장치인 것이 바람직하다.Here, when the image display apparatus using the optical laminate of the present invention is a liquid crystal display device, the backlight light source is not particularly limited, but it is preferable that the image display apparatus is a white light emitting diode (white LED) It is preferable that the liquid crystal display device is a VA mode or IPS mode liquid crystal display device having a white light emitting diode.

상기 백색 LED란, 형광체 방식, 즉 화합물 반도체를 사용한 청색광 또는 자외광을 발하는 발광 다이오드와 형광체를 조합함으로써 백색을 발하는 소자이다. 그 중에서도, 화합물 반도체를 사용한 청색 발광 다이오드와 이트륨ㆍ알루미늄ㆍ가닛계 황색 형광체를 조합한 발광 소자를 포함하는 백색 발광 다이오드는, 연속적이며 폭넓은 발광 스펙트럼을 갖고 있기 때문에 반사 방지 성능 및 명소 콘트라스트의 개선에 유효함과 함께, 발광 효율도 우수하기 때문에, 본 발명에 있어서의 상기 백라이트 광원으로서 적합하다. 또한, 소비 전력이 작은 백색 LED를 광범위하게 이용 가능하게 되므로, 에너지 절약화의 효과도 발휘하는 것이 가능하게 된다.The white LED is a device that emits white light by combining a phosphor or a light emitting diode that emits blue light or ultraviolet light using a phosphor compound, that is, a compound semiconductor. Among them, a white light emitting diode including a light emitting element comprising a combination of a blue light emitting diode using a compound semiconductor and a yttrium aluminum garnet yellow phosphor has a continuous and broad emission spectrum, and therefore has improved antireflection performance and improved spot contrast And is also suitable as the backlight light source in the present invention because of its excellent luminous efficiency. In addition, since a white LED having a small power consumption can be widely used, the effect of energy saving can also be exhibited.

또한, 상기 VA(Vertical Alignment) 모드란, 전압 무인가 시에 액정 분자가 액정 셀의 기판에 수직으로 되도록 배향되어 암 표시를 나타내고, 전압의 인가에 의해 액정 분자를 쓰러지게 함으로써 명 표시를 나타내는 동작 모드이다.The VA (Vertical Alignment) mode is a mode in which the liquid crystal molecules are oriented so as to be perpendicular to the substrate of the liquid crystal cell when no voltage is applied, and the liquid crystal molecules are collapsed by application of a voltage, to be.

또한, 상기 IPS(In-Plane Switching) 모드란, 액정 셀의 한쪽 기판에 설치한 빗형 전극쌍에 인가된 가로 방향의 전계에 의해, 액정을 기판 면내에서 회전시켜 표시를 행하는 방식이다.The IPS (In-Plane Switching) mode is a mode in which the liquid crystal is rotated in the plane of the substrate by the electric field in the horizontal direction applied to the interdigital electrode pairs provided on one substrate of the liquid crystal cell to perform display.

상기 화상 표시 장치인 PDP는, 표면에 전극을 형성한 표면 유리 기판과, 당해 표면 유리 기판에 대향하여 사이에 방전 가스가 봉입되어 배치되고, 전극 및 미소한 홈을 표면에 형성하고, 홈 내에 적색, 녹색, 청색의 형광체층을 형성한 배면 유리 기판을 구비하여 이루어지는 것이다. 본 발명의 화상 표시 장치가 PDP인 경우, 상기 표면 유리 기판의 표면, 또는 그 전방면판(유리 기판 또는 필름 기판)에 상술한 광학 적층체를 구비하는 것이기도 하다.The PDP as the image display device has a surface glass substrate on which electrodes are formed on the surface, and a discharge gas is disposed in confrontation with the surface glass substrate, electrodes and minute grooves are formed on the surface, Green, and blue phosphor layers are formed on the rear glass substrate. When the image display apparatus of the present invention is a PDP, the above-described optical laminate may be provided on the surface of the surface glass substrate or on the front surface plate (glass substrate or film substrate) thereof.

상기 화상 표시 장치는, 전압을 가하면 발광하는 황화아연, 디아민류 물질: 발광체를 유리 기판에 증착하고, 기판에 가하는 전압을 제어하여 표시를 행하는 ELD 장치, 또는 전기 신호를 광으로 변환하여, 인간의 눈에 보이는 상을 발생시키는 CRT 등의 화상 표시 장치이어도 된다. 이 경우, 상기와 같은 각 표시 장치의 최표면 또는 그 전방면판의 표면에 상술한 광학 적층체를 구비하는 것이다.The image display device includes an ELD device for depositing zinc sulfide, a substance of diamines, and a light emitting substance, which emit light when a voltage is applied, on a glass substrate and controlling the voltage applied to the substrate to perform display, Or an image display device such as a CRT for generating a visible image. In this case, the above-mentioned optical laminate is provided on the outermost surface of each display device or on the surface of the front surface plate.

[실시예][Example]

다음에, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이 예에 의해 전혀 한정되지 않는다.Next, the present invention will be described in more detail by way of examples, but the present invention is not limited at all by this example.

(평가 방법) (Assessment Methods)

각 실시예 및 비교예에서 제조된 광학 적층체에 대하여 이하의 평가를 행하였다.The following evaluations were performed on the optical laminate produced in each of the Examples and Comparative Examples.

(1) 아크릴 기재의 두께 측정 (1) Measurement of thickness of acrylic base material

두께 감소 공정 (B) 후의 아크릴 기재의 두께 및 경화 공정 (C) 후의 수지층의 두께를 명세서 본문에 기재된 방법에 의해 산출하였다.The thickness of the acrylic base material after the thickness reducing step (B) and the thickness of the resin layer after the curing step (C) were calculated by the method described in the specification.

(2) 밀착성 (2) Adhesion

JIS K 5600에 기초하여, 광학 적층체의 하드 코트층에, 한 변이 1㎜인 사각형으로 합계 100개의 바둑판눈을 형성하고, 니치반(주)제 공업용 24㎜ 셀로판 테이프(등록 상표)를 사용하여 5회 연속 박리 시험을 행하여, 남아 있는 모눈의 수량을 계측하였다.On the basis of JIS K 5600, a total of 100 checkerboard eyes were formed in a square of 1 mm on each side in the hard coat layer of the optical laminate, and a 24 mm cellophane tape (registered trademark) for industrial use manufactured by Nichiban Co., Ltd. was used Five consecutive peeling tests were performed to measure the remaining number of the grids.

박리되지 않은 모눈의 수에 따라서, 이하와 같이 평가하였다. B 레벨 이상이 제품으로서 양호한 것이다.According to the number of ungrooved grids, the following evaluation was made. Level B or better is good as a product.

A : 90-100 A: 90-100

B : 80-89 B: 80-89

C : 50-79 C: 50-79

D : 50 미만 D: less than 50

(3) 간섭 줄무늬 (3) Interference stripes

광학 적층체의 하드 코트층과 반대측의 면에 흑색의 테이프를 접합한 후, 3파장관 형광등 하에서 육안으로 간섭 줄무늬의 유무의 평가를 행하였다. 간섭 줄무늬를 시인할 수 없는 합격품을 A로 하고, 흐리게 시인할 수 있는 경우를 C로 하고, 시인할 수 있는 경우를 D로 하였다.After a black tape was bonded to the surface of the optical laminate opposite to the hard coat layer, the presence or absence of interference fringe was visually observed under a three-wavelength tube fluorescent lamp. The acceptable product which can not recognize interference fringes is designated as A, the case where blurred visibility is possible is designated as C, and the case where visibility is visable is defined as D.

(4) 제조 가공성 (4) Manufacturing processability

전리 방사선 경화성 수지 조성물 A를 아크릴 기재 상에 도포하고 건조한 단계에서, 인장 시험을 행하였다. 인장 정도는 2.2N/㎝로 하였다. 그 결과, 인장하였을 때 끊어지지 않는 경우를 「A」로, 조금이라도 끊김이 발생하여, 제조 가공상 문제가 발생하는 것을 「C」로 평가하였다. 또한, 제조 가공성이 「불량」으로 되는 광학 적층체는, 기재 자체의 물성이 약체화되어 있으므로 수지층, 하드 코트층 등을 경화시켜도 연필 경도(JIS K5600-5-4)가 2H 이상으로는 되지 않다.The ionic radiation-curable resin composition A was applied onto an acrylic base material and dried, thereby performing a tensile test. The degree of tension was 2.2 N / cm. As a result, it was evaluated as &quot; C &quot; when a case of not being broken when stretched was denoted by &quot; A &quot; In addition, since the physical properties of the substrate itself are weakened in the optical laminate in which the manufacturing processability becomes &quot; defective &quot;, the pencil hardness (JIS K5600-5-4) does not become 2H or more even if the resin layer or the hard coat layer is cured .

(5) 헤이즈 (5) Hayes

광학 적층체의 헤이즈값(%)을, 헤이즈 미터(무라까미 시끼사이 기쥬쯔 겡뀨죠제, 제품 번호; HM-150)를 사용하여 JIS K-7136에 따라서 측정하고, 이하의 평가 기준에 의해 평가하였다.The haze value (%) of the optical laminate was measured in accordance with JIS K-7136 using a haze meter (Murakami Shikigui Co., Ltd., product number: HM-150) and evaluated according to the following evaluation criteria .

A : 헤이즈값이 0.8 이하 A: Haze value is 0.8 or less

C : 헤이즈값이 0.8 초과C: Haze value exceeded 0.8

(6) 갈라짐 내성 (6) Crack resistance

텐실론 만능 재료 시험기(RTG-1310 가부시끼가이샤 에이앤디제)를 사용하여, 인장 시험을 행하여, 갈라짐 내성을 평가하였다. 광학 적층체를 폭 10㎜, 길이 100㎜의 샘플로 하고, 텐실론으로 100㎜/분으로 인장하여, 이하의 기준에 의해 평가하였다.A tensile test was carried out using a tensile shear universal testing machine (RTG-1310 manufactured by A & D Co., Ltd.) to evaluate cracking resistance. The optical laminate was made into a sample having a width of 10 mm and a length of 100 mm, and was stretched at a rate of 100 mm / min with a tensilon and evaluated according to the following criteria.

A : 15N보다 강하게 인장한 경우라도 끊어지지 않은 경우A: Stronger than 15N, but not broken

C : 15N 이하에서 끊어진 경우C: Breaks below 15N

(7) 표면 저항률 (7) Surface resistivity

수지층에 대전 방지재를 함유하는 광학 적층체에 대하여, 표면 저항률 측정기(하이레스터 HT-210, 미쯔비시 가가꾸 애널리테크사제)를 사용하여 표면 저항률(Ω/□)을 측정하였다.The surface resistivity (? /?) Of the optical laminate containing the antistatic material in the resin layer was measured by using a surface resistivity meter (HiRester HT-210, manufactured by Mitsubishi Chemical Industry Co., Ltd.).

(8) 블로킹 방지성(부착 방지 성능)(8) Anti-blocking property (anti-adhesion property)

수지층에 블로킹 방지제를 함유하는 광학 적층체(실시예 21의 광학 적층체)를 2개 제작하고, 각각 5㎝×5㎝의 크기로 커트하였다. 한쪽의 광학 적층체의 아크릴 기재측과, 다른 쪽의 광학 적층체의 수지층측을 대향하도록 하여 중첩하고, 압력 3.0kgf/㎠, 50℃의 조건에서 30시간 밀착시킨 후, 이하의 기준에 의해 평가하였다.Two optical laminated bodies (optical laminated bodies of Example 21) containing an antiblocking agent in the resin layer were prepared and cut into a size of 5 cm x 5 cm each. The acrylic base side of one optical laminate and the resin layer side of the other optical laminate were stacked so as to face each other, and the laminate was closely contacted for 30 hours under the conditions of a pressure of 3.0 kgf / cm 2 and 50 ° C. Respectively.

A : 부착 없음 A: No attachment

C : 부착 있음 C: Attached

(9) 연필 경도 (9) Pencil Hardness

JIS-S-6006이 규정하는 시험용 연필을 사용하여, JIS K5600-5-4(1999)가 규정하는 연필 경도 평가 방법에 따라서, 4.9N의 하중으로, 하드 코트층이 형성된 표면의 연필 경도를 측정하였다.The pencil hardness of the surface on which the hard coat layer was formed was measured at a load of 4.9 N according to the pencil hardness evaluation method prescribed by JIS K5600-5-4 (1999) using a test pencil specified by JIS-S-6006 Respectively.

실시예 1 Example 1

(아크릴 기재의 제조) (Preparation of acrylic substrate)

메타크릴산메틸 및 아크릴산메틸의 공중합체(유리 전이점 : 130℃)를 포함하는 펠릿을 용융 혼련하고, 필터를 통해서 이물을 제거하면서, 용융 압출 방법에 의해, 다이의 간극으로부터 중합체를 압출하였다. 계속해서, 중합체를 냉각하면서, 세로 방향으로 1.2배로 연신하고, 그 후, 가로 방향으로 1.5배로 연신하여, 두께 40㎛의 아크릴 기재를 얻었다.A pellet containing a copolymer of methyl methacrylate and methyl acrylate (glass transition point: 130 占 폚) was melted and kneaded, and the polymer was extruded from the gap of the die by a melt extrusion method while removing foreign matters through a filter. Subsequently, the polymer was stretched 1.2 times in the longitudinal direction while cooling the polymer, and then stretched 1.5 times in the transverse direction to obtain an acrylic base material having a thickness of 40 占 퐉.

(전리 방사선 경화성 수지 조성물 A의 제조)(Preparation of ionizing radiation curable resin composition A)

테트라에틸렌글리콜 디아크릴레이트(도아 고세 가부시끼가이샤제, 「M240」, 분자량 : 286) 80질량부에 대하여, 기능성 성분으로서, 안티몬 도프 산화주석 입자(ATO 입자의 메틸이소부틸케톤 분산액 미쯔비시 머테리얼 덴시 가세이 가부시끼가이샤제, 「EPT5DL2MIBK」) 20질량부(고형분 환산), 개시제(바스프(BASF)사제, 「Irg184」) 4질량부를, 메틸이소부틸케톤(MIBK) 150질량부에 용해시켜, 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A를 제조하였다. 표 1에 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A의 조성을 나타낸다.80 parts by mass of tetraethylene glycol diacrylate ("M240", manufactured by Toagosei Co., Ltd., molecular weight: 286) was added, as a functional component, antimony doped tin oxide particles (methyl isobutyl ketone dispersion of ATO particles Mitsubishi Material Dicy , 4 parts by mass of an initiator (&quot; Irg184 &quot;, manufactured by BASF) were dissolved in 150 parts by mass of methyl isobutyl ketone (MIBK) Curable resin composition A was prepared. Table 1 shows the composition of the ionizing radiation curable resin composition A.

(광학 적층체의 제조) (Production of optical laminate)

아크릴 기재 상에, 다이 코트법에 의해, 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A를 도포 시공하여, 미경화 수지층을 형성하였다. 70℃에서 1분간 건조시켜 용제를 증발시키고, 건조 후의 부착량이 5g/㎡로 되도록 수지층을 형성하였다. 얻어진 도막에, 질소 분위기 하에서(산소 농도 500ppm 이하), 자외선 조사량 200mJ/㎠로 자외선을 조사하여 도막을 완전 경화(풀 큐어 상태)시켜, 광학 적층체를 얻었다. 상기 평가 방법에 의해 평가한 결과를 표 1에 나타낸다.An ionizing radiation-curable resin composition A was coated and formed on an acrylic substrate by a die coating method to form an uncured resin layer. The resultant was dried at 70 DEG C for 1 minute to evaporate the solvent, and a resin layer was formed so that the adhesion amount after drying was 5 g / m &lt; 2 &gt;. The resulting coating film was irradiated with ultraviolet rays at a dose of ultraviolet radiation of 200 mJ / cm 2 under a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 500 ppm or less) to completely cure the coating film (full cure state) to obtain an optical laminate. Table 1 shows the results of evaluation by the above evaluation method.

실시예 2 내지 28, 비교예 1 내지 13 Examples 2 to 28, Comparative Examples 1 to 13

전리 방사선 경화성 수지 조성물 A, 건조 온도 및 건조 후의 부착량을 표 1 내지 표 5의 조건으로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 광학 적층체를 얻었다. 실시예 1과 마찬가지로 평가한 결과를 표 1 내지 표 5에 나타낸다.An optical laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the ionizing radiation curable resin composition A, the drying temperature, and the deposition amount after drying were changed to the conditions of Tables 1 to 5. The evaluation results are shown in Tables 1 to 5 in the same manner as in Example 1.

Figure 112015014454097-pat00004
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Figure 112015014454097-pat00008
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(표 1 내지 표 5 사용의 재료)(Materials used in Tables 1 to 5)

[전리 방사선 경화성 수지] [Ionizing radiation curable resin]

TEGDA : 테트라에틸렌글리콜 디아크릴레이트(도아 고세 가부시끼가이샤제, 「M240」, 분자량 : 286) TEGDA: tetraethylene glycol diacrylate ("M240" manufactured by Toagosei Co., Ltd., molecular weight: 286)

PETA : 펜타에리트리톨트리아크릴레이트 PETA: pentaerythritol triacrylate

[그 밖의 전리 방사선 경화성 수지] [Other ionizing radiation curable resins]

A : 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트A: Dipentaerythritol hexaacrylate

B : 우레탄아크릴레이트, 닛본 고세 가가꾸 고교사제, 「자광(紫光) UV1700B」B: urethane acrylate, manufactured by Nippon Kogei Kagaku Kogyo Co., Ltd., "Zircon UV1700B"

[기능성 재료] [Functional Materials]

대전 방지제 a : ATO 분산액, 미쯔비시 머테리얼 덴시 가세이사제, 「EPT5DL 2MIBK」 Antistatic agent a: ATO dispersion, manufactured by Mitsubishi Materials Denshi Chemical Industry &quot; EPT5DL 2MIBK &quot;

대전 방지제 b : 쇄상 ATO 분산액, 닛키 쇼쿠바 가세이사제, 「ELCOM V3560」Antistatic agent b: Stretched ATO dispersion, manufactured by Nikkiso Co., Ltd., &quot; ELCOM V3560 &quot;

대전 방지제 c : 오산화안티몬 분산액, 닛키 쇼쿠바 가세이사제, 「ELCOM V4504」Antistatic agent c: antimony pentoxide dispersion, NIKKISOKUBA Kasei Co., Ltd., "ELCOM V4504"

대전 방지제 d : 4급 암모늄염, 콜코트사제, 「콜코트 NR121X」Antistatic agent d: quaternary ammonium salt, trade name, &quot; Colcoat NR121X &quot;

대전 방지제 e : 4급 암모늄염, 다이세 파인 케미컬사제, 「1SX3004」Antistatic agent e: quaternary ammonium salt, manufactured by Daisepine Chemical Co., Ltd., 1SX3004

대전 방지제 f : Li 이온계 대전 방지제, 리튬비스트리플루오로메탄술폰이미드, 스미또모 쓰리엠사제, 「LJ-603010」Antistatic agent f: Li ion-type antistatic agent, lithium bistrifluoromethanesulfonimide, Sumitomo 3M, LJ-603010

반응성 실리카 a : 닛산 가가꾸 고교사제, 중실 실리카, 「MIBK-SDL」, 평균 입자 직경 44㎚ Reactive silica a: "MIBK-SDL" manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., solid silica, average particle diameter 44 nm

반응성 실리카 b : 닛키 쇼쿠바 가세이사제, 이형 실리카, 「ELCOM V8803」, 평균 입자 직경 25㎚Reactive silica b: NIKKISOKU Cubase KASEI Co., Ltd., modified silica, "ELCOM V8803", average particle diameter 25 nm

블로킹 방지제 : CIK 나노텍사제, 중실 실리카, 「E65」, 평균 1차 입자 직경 150 내지 300㎚Anti-blocking agent: CIK Nanotek Co., solid silica, "E65", average primary particle diameter 150 to 300 nm

고굴절률 재료 a : 고굴절률 우레탄아크릴레이트, 다이이찌 고교 세야꾸사제, 「R1403MB」High refractive index material a: high refractive index urethane acrylate, manufactured by Dai-ichi Kogyo Seiyaku, &quot; R1403MB &quot;

고굴절률 재료 b : 고굴절률 단관능 단량체, 다이이찌 고교 세야꾸사제, 「OPPE」High refractive index material b: high refractive index monofunctional monomer, manufactured by Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., "OPPE"

[용제] [solvent]

MIBK : 메틸이소부틸케톤MIBK: methyl isobutyl ketone

IPA : 이소프로필알코올IPA: Isopropyl alcohol

MEK : 메틸에틸케톤 MEK: methyl ethyl ketone

PGME : 프로필렌글리콜모노메틸에테르 PGME: Propylene glycol monomethyl ether

<산업상 이용가능성>&Lt; Industrial applicability >

본 발명의 광학 적층체는, 음극선관 표시 장치(CRT), 액정 디스플레이(LCD), 플라즈마 디스플레이(PDP), 일렉트로루미네센스 디스플레이(ELD), 터치 패널, 전자 페이퍼, 휴대 전화 등의 디스플레이, 특히 고정밀화 디스플레이에 적절하게 사용할 수 있다.INDUSTRIAL APPLICABILITY The optical laminate of the present invention can be applied to a display such as a cathode ray tube display (CRT), a liquid crystal display (LCD), a plasma display (PDP), an electroluminescence display (ELD), a touch panel, And can be suitably used for a high-definition display.

Claims (3)

두께 20 내지 300㎛의 아크릴 기재 상에, 적어도, 기능성 성분을 포함하는 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A를 도포하여 미경화 수지층을 형성하는 도포 공정 (A)와, 상기 미경화 수지층에 의해 아크릴 기재를 용해시켜, 아크릴 기재의 두께를 3.0 내지 15.0% 감소시키는 두께 감소 공정 (B)와, 전리 방사선을 조사하여 상기 미경화 수지층을 경화하여 수지층을 형성하는 경화 공정 (C)를 이 순서로 행함으로써, 상기 수지층 표면측에 기능성 성분을 편재시키는 것을 특징으로 하는 광학 적층체의 제조 방법.(A) applying at least an ionizing radiation curable resin composition A containing a functional component on an acrylic base material having a thickness of 20 to 300 탆 to form an uncured resin layer; and (B) for reducing the thickness of the acrylic base material by 3.0 to 15.0%, and a curing step (C) for curing the uncured resin layer by irradiating with ionizing radiation to form a resin layer in this order And the functional component is localized on the surface side of the resin layer, thereby producing an optical laminate. 제1항에 있어서,
상기 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A가 폴리알킬렌글리콜 디(메트)아크릴레이트를 포함하는 광학 적층체의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the ionizing radiation curable resin composition A comprises a polyalkylene glycol di (meth) acrylate.
두께 20 내지 300㎛의 아크릴 기재 상에, 기능성 성분을 포함하는 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A를 도포하여 미경화 수지층을 형성하는 도포 공정 (A)와, 상기 미경화 수지층에 의해 아크릴 기재를 용해시켜, 아크릴 기재의 두께를 3.0 내지 15.0% 감소시키는 두께 감소 공정 (B)와, 상기 미경화 수지층을 경화하여 수지층을 형성하는 경화 공정 (C)를 이 순서로 행함으로써, 상기 수지층 표면측에 기능성 성분을 편재시켜 이루어지는 광학 적층체.(A) applying an ionizing radiation curable resin composition A containing a functional component on an acrylic base material having a thickness of 20 to 300 탆 to form an uncured resin layer, and a step (A) of dissolving the acrylic base material by the uncured resin layer (B) for reducing the thickness of the acrylic base material by 3.0 to 15.0%, and a curing step (C) for curing the uncured resin layer to form a resin layer in this order, And the functional component is unevenly distributed on the side of the optical layer.
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