KR101910206B1 - Optical laminate, method for manufacturing thereof, and polarizing plate and image display device using the same - Google Patents
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Abstract
아크릴 기재, 프라이머층 및 필요에 따라서 추가로 하드 코트층을 이 순서로 갖는 광학 적층체에 있어서, 간섭 줄무늬의 발생을 억제하고, 또한 아크릴 기재와 프라이머층의 밀착성을 향상시키는 것, 및 이 광학 적층체를 효율적으로 제조하는 방법을 제공한다. 아크릴 기재, 프라이머층 및 필요에 따라서 추가로 하드 코트층을 이 순서로 갖는 광학 적층체이며, 상기 프라이머층이, 폴리알킬렌글리콜 디(메트)아크릴레이트를 50 내지 100질량%(고형분량) 포함하는 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A의 경화물인 것을 특징으로 하는 광학 적층체, 이것을 사용한 편광판 및 화상 표시 장치, 및 그 제조 방법을 제공한다.It is an object of the present invention to provide an optical laminate having an acrylic base material, a primer layer and, if necessary, a hard coat layer in this order, in order to suppress the occurrence of interference fringes and to improve the adhesion between the acrylic base material and the primer layer, The present invention provides a method for efficiently producing a sieve. Wherein the primer layer comprises an acrylic base material, a primer layer and, if necessary, a further hard coat layer in this order, wherein the primer layer contains 50 to 100 mass% (solid content) of polyalkylene glycol di (meth) Wherein the composition is a cured product of an ionizing radiation curable resin composition A, a polarizing plate and an image display apparatus using the same, and a manufacturing method thereof.
Description
본 발명은 광학 적층체, 그 제조 방법, 및 이것을 사용한 편광판 및 화상 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an optical laminate, a method of manufacturing the same, and a polarizing plate and an image display using the same.
화상 표시 장치에 있어서, LCD, 터치 패널을 탑재한 LCD나 EL, 전자 페이퍼 등은, 전력 절약, 경량, 박형 등과 같은 특징을 갖고 있기 때문에, 종래의 CRT 디스플레이 대신에, 최근 급속하게 보급되고 있다.In an image display apparatus, an LCD, an EL, an electronic paper, and the like mounted with an LCD, a touch panel, etc. have characteristics such as power saving, light weight, and thinness, and they are rapidly spreading instead of the conventional CRT display.
이와 같은 화상 표시 장치의 표면이나 내부에 사용하는 광학 적층체는, 통상, 취급 시에 흠집이 나지 않도록 경도를 부여하는 것이 요구되기 때문에, 광투과성 기재 상에 하드 코트층 등을 형성함으로써, 경도를 부여하는 것이 일반적으로 이루어지고 있다. 예를 들면 LCD에 있어서는, 액정 셀의 화상 표시면측에 편광 소자가 배치되어 있고, 편광판 보호 필름으로서, 광투과성 기재 상에 하드 코트층을 형성한 하드 코트 필름을 이용함으로써, 화상 표시면에 경도를 부여하는 것이 일반적으로 이루어지고 있다.Since an optical laminate to be used on the surface or inside of such an image display device is required to have hardness so as not to be scratched during handling, a hard coat layer or the like is formed on the light- And the like. For example, in an LCD, a polarizing element is disposed on an image display surface side of a liquid crystal cell, and a hard coat film having a hard coat layer formed on a light transmitting substrate is used as a polarizer protective film. And the like.
종래, 이와 같은 하드 코트 필름의 광투과성 기재로서, 트리아세틸셀룰로오스로 대표되는 셀룰로오스에스테르를 포함하여 이루어지는 필름이 사용되고 있었다. 이것은, 셀룰로오스에스테르는, 투명성, 광학 등방성이 우수하고, 면내에 거의 위상차를 갖지 않기(리타데이션값이 낮기) 때문에, 입사 직선 편광의 진동 방향을 변화시키는 경우가 매우 적어, 액정 표시 장치의 표시 품질에의 영향이 적은 것이나, 적당한 투수성을 갖기 때문에, 광학 적층체를 사용하여 이루어지는 편광판을 제조하였을 때에 편광자에 잔류한 수분을, 광학 적층체를 통하여 건조시킬 수 있는 등의 이점에 기초하는 것이다.Conventionally, as a light-transmitting base material of such a hard coat film, a film comprising a cellulose ester represented by triacetyl cellulose has been used. This is because the cellulose ester has excellent transparency and optical isotropy and has almost no retardation in the plane (low retardation value), so that the vibration direction of the incident linearly polarized light is hardly changed, and the display quality of the liquid crystal display And has water permeability. Therefore, it is based on the advantage that the moisture remaining in the polarizer can be dried through the optical laminate when the polarizing plate using the optical laminate is produced.
그러나, 셀룰로오스에스테르 필름은, 비용적으로는 불리한 소재이며, 또한, 내습, 내열성이 충분하지 않아, 셀룰로오스에스테르 필름을 기재로 하는 하드 코트 필름을 편광판 보호 필름으로서 고온 다습의 환경 하에서 사용하면, 편광 기능이나 색상 등의 편광판 기능을 저하시킨다고 하는 결점이 있었다.However, when the cellulose ester film is used in an environment of high temperature and high humidity as a polarizing plate protective film, a hard coat film based on a cellulose ester film is not sufficient in terms of cost and is not sufficient in moisture resistance and heat resistance, There is a drawback that the function of the polarizing plate such as color or the like is deteriorated.
이와 같은 셀룰로오스에스테르 필름의 문제점으로부터, 투명성, 내열성, 기계 강도가 우수하고, 또한, 셀룰로오스에스테르 필름에 비해 저렴하고 시장에 있어서 입수가 용이한, 아크릴 수지를 주성분으로 하는 투명 플라스틱 기재를 사용하는 것이 제안되고 있다.From the problem of such a cellulose ester film, it is proposed to use a transparent plastic base material having an acrylic resin as a main component which is excellent in transparency, heat resistance and mechanical strength, is inexpensive as compared with the cellulose ester film, .
그러나, 아크릴 수지를 주성분으로 하는 기재의 편면 혹은 양면에 하드 코트층을 형성한 광학 적층체에서는, 아크릴 기재와 하드 코트층의 밀착성이 떨어진다는 문제가 있었다. 또한, 아크릴 기재와 하드 코트층 사이에 굴절률차가 발생하여, 당해 광학 적층체를 사용하여 편광판 등을 형성한 경우, 간섭 줄무늬가 발생하여 외관 불량으로 되는 등의 문제도 있었다.However, in the case of an optical laminate in which a hard coat layer is formed on one side or both sides of a base material containing an acrylic resin as a main component, adhesion between the acrylic base material and the hard coat layer is deteriorated. Further, when a refractive index difference is generated between the acrylic base material and the hard coat layer and a polarizing plate or the like is formed by using the optical laminate, interference fringes are generated, resulting in appearance defects.
이와 같은 문제점에 대하여, 예를 들면 특허문헌 1에는, 기재 필름에 코로나 방전 처리, 산화 처리 등의 물리적인 처리 외에, 앵커제 또는 프라이머라 불리는 도료의 도포를 행한 후, 하드 코트층을 형성함으로써, 기재 필름과 하드 코트층의 밀착성의 향상을 도모하는 것이 개시되어 있다. 또한, 예를 들면 특허문헌 2에는, 기재 필름과 하드 코트층의 계면에 요철을 형성하는 방법이 개시되어 있다.In order to solve such a problem, for example,
그러나, 이들 방법에서는, 하드 코트 필름의 제조에 필요한 공정이 증가하고, 특별한 처리를 할 필요가 있기 때문에, 생산성이 떨어지는 것이었다.However, in these methods, the steps required for the production of the hard coat film increase, and special processing needs to be performed, resulting in poor productivity.
또한, 아크릴 기재는, 종래 자주 사용되고 있는 셀룰로오스에스테르 필름이나 폴리에스테르계 필름과 비교하여, 일반적으로 사용할 수 있는 용제 모두가 기재를 팽윤하는 힘이 있어, 오히려 용제에 따라서는 기재가 팽윤의 영향을 강하게 받기 쉬워, 가공 시에 기재 자체가 끊어지는 등의 문제가 있고, 종래의 투명 플라스틱 기재에서 알려져 있는 기술은, 그대로 아크릴 기재에는 사용할 수 없다고 하는 문제도 있었다.In addition, as compared with the cellulose ester film and the polyester film which are frequently used in the past, the acrylic base material has a force that swells the base material in all the generally usable solvents, and the base material strongly affects the swelling There is a problem that it is easily received and the substrate itself is broken at the time of processing, and there is also a problem that the technique known in the conventional transparent plastic substrate can not be used as it is in an acrylic substrate.
본 발명은, 이와 같은 상황 하에서, 아크릴 기재, 프라이머층 및 필요에 따라서 추가로 하드 코트층을 이 순서로 갖는 광학 적층체에 있어서, 아크릴 기재 자체가 끊어지는 일없이 제조 가공이 가능하고, 또한, 간섭 줄무늬의 발생을 억제하고, 또한 아크릴 기재와 프라이머층의 밀착성을 향상시키는 것, 및 이 광학 적층체를 효율적으로 제조하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.It is an object of the present invention to provide an optical laminate having an acrylic base material, a primer layer and, optionally, a hard coat layer in this order under such circumstances, It is an object of the present invention to suppress generation of interference fringes and to improve the adhesion between the acrylic base material and the primer layer and to provide a method for efficiently producing the optical laminate.
본 발명자는, 상기 과제를 해결하기 위해서 예의 연구를 거듭한 결과, 아크릴 기재, 프라이머층 및 필요에 따라서 추가로 하드 코트층을 이 순서로 갖는 광학 적층체에 있어서, 프라이머층으로서, 폴리알킬렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 다관능 중합체 및 단량체를 포함하는 전리 방사선 경화성 수지 조성물의 경화물을 사용함으로써 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 발견하였다. 본 발명은, 이러한 지식에 기초하여 완성된 것이다.As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that, in the optical laminate having an acrylic base material, a primer layer and, if necessary, a hard coat layer in this order in this order, as a primer layer, a polyalkylene glycol It has been found that the above problems can be solved by using a cured product of an ionizing radiation curable resin composition comprising a di (meth) acrylate, a multifunctional polymer and a monomer. The present invention has been completed based on this knowledge.
즉, 본 발명은, 이하의 발명을 제공하는 것이다.That is, the present invention provides the following invention.
[1] 아크릴 기재 및 프라이머층을 이 순서로 갖는 광학 적층체이며,[1] An optical laminate having an acrylic base material and a primer layer in this order,
상기 프라이머층이, 폴리알킬렌글리콜 디(메트)아크릴레이트를 50 내지 100질량%(고형분량) 포함하는 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A의 경화물인 것을 특징으로 하는 광학 적층체.Wherein the primer layer is a cured product of an ionizing radiation curable resin composition A containing 50 to 100 mass% (solid content) of a polyalkylene glycol di (meth) acrylate.
[2] 상기 아크릴 기재의 유리 전이점(Tg)이 110 내지 150℃인 [1]에 기재된 광학 적층체.[2] The optical laminate according to [1], wherein the acrylic base has a glass transition point (Tg) of 110 to 150 ° C.
[3] 상기 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A에 있어서의 폴리알킬렌글리콜 디(메트)아크릴레이트의 배합량이 70 내지 100질량%(고형분량)인 [1] 또는 [2]에 기재된 광학 적층체.[3] The optical laminate according to [1] or [2], wherein the amount of the polyalkylene glycol di (meth) acrylate in the ionizing radiation curable resin composition A is 70 to 100 mass% (solid content).
[4] 상기 폴리알킬렌글리콜 디(메트)아크릴레이트의 분자량이 180 내지 1,000인 [1] 내지 [3] 중 어느 하나에 기재된 광학 적층체.[4] The optical laminate according to any one of [1] to [3], wherein the polyalkylene glycol di (meth) acrylate has a molecular weight of 180 to 1,000.
[5] 상기 아크릴 기재가, 연신 아크릴 기재인 [1] 내지 [4] 중 어느 하나에 기재된 광학 적층체.[5] The optical laminate according to any one of [1] to [4], wherein the acrylic base material is a drawn acrylic base material.
[6] 상기 프라이머층의 아크릴 기재측과는 반대측의 면에 추가로 기능층을 갖는 [1] 내지 [5] 중 어느 하나에 기재된 광학 적층체.[6] The optical laminate according to any one of [1] to [5], further comprising a functional layer on a surface of the primer layer opposite to the acrylic base side.
[7] 상기 기능층이 하드 코트층이며, 전리 방사선 경화성 수지 조성물 B의 경화물인 [6]에 기재된 광학 적층체.[7] The optical laminate according to [6], wherein the functional layer is a hard coat layer and is a cured product of the ionizing radiation curable resin composition B.
[8] 상기 프라이머층이 기능성 성분을 함유하는 [1] 내지 [7] 중 어느 하나에 기재된 광학 적층체.[8] The optical laminate according to any one of [1] to [7], wherein the primer layer contains a functional component.
[9] 편광막의 적어도 한쪽 면에 [1] 내지 [8] 중 어느 하나에 기재된 광학 적층체를 적층하여 이루어지는 편광판.[9] A polarizing plate comprising the optical laminate according to any one of [1] to [8] laminated on at least one surface of a polarizing film.
[10] [1] 내지 [8] 중 어느 하나에 기재된 광학 적층체 및 [9]에 기재된 편광판 중 적어도 한쪽을 구비하는 화상 표시 장치.[10] An image display apparatus comprising at least one of the optical laminate according to any one of [1] to [8] and the polarizer according to [9].
[11] 아크릴 기재 상에, 고형분량으로, 50 내지 100질량%의 폴리알킬렌글리콜 디(메트)아크릴레이트를 포함하는 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A를 도포하고, 건조하고, 경화하여 프라이머층을 형성하는 것을 특징으로 하는 [1] 내지 [8] 중 어느 하나에 기재된 광학 적층체의 제조 방법.[11] An ionizing radiation curable resin composition A containing 50 to 100% by mass of a polyalkylene glycol di (meth) acrylate is applied on an acrylic base material in a solid amount, dried and cured to form a primer layer (1) to (8), characterized in that the optical layered body is formed by a method comprising the steps of:
[12] 상기 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A가, 용매로서 메틸이소부틸케톤, 1-부탄올, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 및 이소프로판올로부터 선택되는 어느 1종 이상을 함유하고, 또한, 건조 온도가 40 내지 90℃인 [11]에 기재된 광학 적층체의 제조 방법.[12] The ionizing radiation curable resin composition according to the above [1], wherein the ionizing radiation curable resin composition A contains at least one selected from methyl isobutyl ketone, 1-butanol, propylene glycol monomethyl ether and isopropanol as the solvent, Wherein the optical layered body is formed by the steps of:
[13] 상기 프라이머층의 상기 아크릴 기재측과는 반대측의 면에 추가로 전리 방사선 경화성 수지 조성물 B를 도포하고, 건조하고, 경화하여 기능층을 형성하는 [11] 또는 [12]에 기재된 광학 적층체의 제조 방법.[13] The optical laminate according to [11] or [12], wherein the ionizing radiation curable resin composition B is further applied onto the surface of the primer layer opposite to the acrylic base side, followed by drying and curing to form a functional layer ≪ / RTI >
본 발명의 광학 적층체는, 아크릴 기재, 프라이머층 및 필요에 따라서 추가로 하드 코트층을 이 순서로 갖고, 간섭 줄무늬의 발생이 억제되고, 또한 아크릴 기재와 프라이머층의 밀착성이 우수하고, 또한, 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법은, 상기 광학 적층체를 효율적으로 제조할 수 있다.The optical laminate of the present invention has an acrylic base material, a primer layer and, if necessary, a hard coat layer in this order, thereby suppressing the occurrence of interference fringes and having excellent adhesion between the acrylic base material and the primer layer, The method for producing an optical laminate of the present invention can efficiently produce the above optical laminate.
도 1은 본 발명의 광학 적층체의 일 형태의 단면을 나타내는 주사형 투과 전자 현미경 사진(STEM)을 도시하는 도면.
도 2는 본 발명의 광학 적층체의 일 형태의 단면을 나타내는 주사형 투과 전자 현미경 사진(STEM)을 도시하는 도면.
도 3은 실시예 10에서 얻어진 본 발명의 광학 적층체의 단면을 나타내는 주사형 투과 전자 현미경 사진(STEM)을 도시하는 도면.
도 4는 실시예 10에서 얻어진 본 발명의 광학 적층체의 단면에 있어서, 하드 코트층-프라이머층 계면으로부터 아크릴 기재-프라이머층 계면까지를 확대하여 나타내는 주사형 투과 전자 현미경 사진(STEM)을 도시하는 도면.
도 5는 비교예 8에서 얻어진 광학 적층체의 단면을 나타내는 주사형 투과 전자 현미경 사진(STEM)을 도시하는 도면.
도 6은 비교예 8에서 얻어진 본 발명의 광학 적층체의 단면에 있어서, 하드 코트층-프라이머층 계면으로부터 아크릴 기재-프라이머층 계면까지를 확대하여 나타내는 주사형 투과 전자 현미경 사진(STEM)을 도시하는 도면.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a scanning electron microscope (STEM) showing a section of one form of the optical laminate of the present invention. FIG.
2 is a scanning electron microscope (STEM) showing a cross section of one form of the optical laminate of the present invention.
3 is a scanning transmission electron microscope (STEM) showing a cross section of the optical laminate of the present invention obtained in Example 10. Fig.
4 shows a scanning transmission electron micrograph (STEM) showing an enlargement from the hard coat layer-primer layer interface to the acrylic base-primer layer interface in the section of the optical laminate of the present invention obtained in Example 10 drawing.
5 is a scanning transmission electron microscope (STEM) showing a cross section of the optical laminate obtained in Comparative Example 8. Fig.
6 is a scanning transmission electron microscope (STEM) image showing an enlargement from the interface between the hard coat layer and the primer layer to the interface between the acrylic base and the primer layer in the cross section of the optical laminate of the present invention obtained in Comparative Example 8 drawing.
본 발명에 관한 광학 적층체는, 아크릴 기재, 프라이머층 및 필요에 따라서 추가로 하드 코트층을 이 순서로 갖는 광학 적층체이며, 상기 프라이머층이, 폴리알킬렌글리콜 디(메트)아크릴레이트를 50 내지 100질량% 포함하는 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A의 경화물인 것을 특징으로 한다.The optical laminate according to the present invention is an optical laminate having an acrylic base material, a primer layer and, if necessary, a further hard coat layer in this order, wherein the primer layer comprises a polyalkylene glycol di (meth) To 100% by mass of the ionizing radiation curable resin composition A.
본 발명의 광학 적층체는, 아크릴 기재 상에 상기 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A의 경화물을 적층함으로써, 도 1 및 도 2에 도시한 바와 같이, 아크릴 기재와 프라이머층의 계면(이하, 아크릴 기재-프라이머층 계면이라 약기하는 경우가 있음)이 요철을 갖는다.The optical laminate of the present invention can be obtained by laminating a cured product of the ionizing radiation curable resin composition A on an acrylic base material to form an interface between the acrylic base and the primer layer Primer layer interface) may be uneven.
본 발명의 광학 적층체는, 기재가 아크릴 수지를 포함함으로써, 트리아세틸셀룰로오스(TAC)를 포함하여 이루어지는 기재를 구비한 것과 비교하여, 내습열성 및 평활성이 우수함과 함께, 주름의 발생을 적절하게 방지할 수 있다. 또한, 본 명세서에 있어서, 「아크릴 수지」란, 아크릴계의 것 및 메타크릴계의 것을 의미한다.The optical laminate of the present invention is excellent in moisture and heat resistance and smoothness as compared with a base material comprising triacetyl cellulose (TAC) by including an acrylic resin in the base material, can do. In the present specification, the term " acrylic resin " means acrylic and methacrylic.
<아크릴 기재> <Acrylic substrate>
아크릴 기재가 함유하는 아크릴 수지로서는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 (메트)아크릴산알킬에스테르를 1종 또는 2종 이상 조합하여 중합하여 이루어지는 것이 바람직하고, 보다 구체적으로는, (메트)아크릴산메틸을 사용하여 얻어지는 것이 바람직하다. 또한, 아크릴 수지로서, 예를 들면 일본 특허 공개 제2000-230016호 공보, 일본 특허 공개 제2001-151814호 공보, 일본 특허 공개 제2002-120326호 공보, 일본 특허 공개 제2002-254544호 공보, 일본 특허 공개 제2005-146084호 공보 등에 기재된 것을 들 수 있다. 락톤환 구조를 갖는 아크릴 수지, 이미드환 구조를 갖는 아크릴 수지 등의 환 구조를 갖는 것을 사용해도 된다.The acrylic resin contained in the acrylic base material is not particularly limited. For example, the acrylic resin is preferably one obtained by polymerizing one or more (meth) acrylic acid alkyl esters in combination, and more specifically, using (meth) . As the acrylic resin, for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2000-230016, 2001-151814, 2002-120326, 2002-254544, And JP-A-2005-146084. An acrylic resin having a lactone ring structure, an acrylic resin having an imide ring structure, or the like may be used.
또한, 상기 아크릴 수지는, 유리 전이점(Tg)이 100 내지 150℃인 것이 바람직하고, 105 내지 135℃인 것이 보다 바람직하고, 110 내지 130℃인 것이 가장 바람직하다. 아크릴 수지의 유리 전이점(Tg)이 110℃ 이상이면, 프라이머층을 형성할 때에 프라이머층 형성용 조성물에 포함되는 용제에 의해 데미지를 받기 어렵고, 한편, 150℃ 이하이면, 프라이머층과의 계면에 요철을 형성하기 쉽다.The acrylic resin preferably has a glass transition point (Tg) of 100 to 150 ° C, more preferably 105 to 135 ° C, and most preferably 110 to 130 ° C. When the glass transition point (Tg) of the acrylic resin is 110 DEG C or more, it is difficult to be damaged by the solvent contained in the composition for forming the primer layer when the primer layer is formed, and if it is 150 DEG C or less, It is easy to form irregularities.
아크릴 기재는, 아크릴 수지 이외의 수지를 포함하고 있어도 되지만, 아크릴 기재 중 아크릴 수지의 비율이 80질량% 이상인 것이 바람직하고, 90질량% 이상인 것이 보다 바람직하다.The acrylic base material may contain a resin other than the acrylic resin, but the proportion of the acrylic resin in the acrylic base material is preferably 80 mass% or more, and more preferably 90 mass% or more.
상기 아크릴 기재의 두께로서는, 20 내지 300㎛인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 상한이 200㎛이고, 하한이 30㎛이다. 상기 아크릴 기재의 두께가 20㎛ 이상이면, 본 발명의 광학 적층체에 주름이 발생하기 어렵고, 한편, 300㎛ 이하이면, 본 발명의 광학 적층체가 얇아져, 광투과성 등의 광학 특성이 우수하다.The thickness of the acrylic base material is preferably 20 to 300 占 퐉, more preferably 200 占 퐉 and the lower limit is 30 占 퐉. When the thickness of the acrylic base material is 20 占 퐉 or more, wrinkles do not easily occur in the optical laminate of the present invention. On the other hand, when the thickness is 300 占 퐉 or less, the optical laminate of the present invention becomes thin, and optical characteristics such as light transmittance are excellent.
상기 아크릴 기재는, 연신 아크릴 기재인 것이 바람직하다. 연신 아크릴 기재로 함으로써, 기재의 강도나 치수 안정성을 양호하게 할 수 있다.The acrylic base material is preferably a drawn acrylic base material. By using a drawn acrylic base material, the strength and dimensional stability of the base material can be improved.
상기 아크릴 기재는, 예를 들면 조습을 한 아크릴 수지를 포함하여 이루어지는 펠릿(칩)을, 일반적인 용융 압출 후, 냉각하면서, 세로 방향으로 연신하고, 그 후, 가로 방향으로 연신함으로써 제조할 수 있다.The acrylic base material can be produced by, for example, stretching the pellet (chip) comprising an air-moistened acrylic resin, in the longitudinal direction while cooling it after the general melt extrusion, and then stretching it in the transverse direction.
상기 용융 압출 공정에서는, 1축, 2축, 또는 2축 이상의 스크류를 사용할 수 있고, 스크류의 회전 방향, 회전수, 용융 온도는 임의로 설정할 수 있다.In the melt extrusion process, a screw having one axis, two axes, or two or more axes can be used, and the rotational direction, the number of rotations, and the melting temperature of the screw can be arbitrarily set.
상기 연신은, 연신 후에 원하는 두께로 되도록 행하는 것이 바람직하다. 또한, 연신 배율은 한정되지 않지만, 1.2배 이상, 4.5배 이하가 바람직하다. 연신 시의 온도, 습도는 임의로 정해진다. 연신 방법은 일반적인 방법이어도 된다.The stretching is preferably performed so as to have a desired thickness after stretching. The drawing magnification is not limited, but is preferably 1.2 times or more and 4.5 times or less. The temperature and humidity at the time of stretching are arbitrarily determined. The stretching method may be a general method.
상기 아크릴 기재는, 아크릴 고무 입자, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 가소제 등을 포함해도 된다.The acrylic base material may include acrylic rubber particles, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a plasticizer and the like.
또한, 본 발명에 있어서, 상기 아크릴 기재에는 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에서, 비누화 처리, 글로우 방전 처리, 코로나 방전 처리, 자외선(UV) 처리 및 화염 처리 등의 표면 처리를 행해도 된다.In the present invention, the acrylic base material may be subjected to surface treatment such as saponification treatment, glow discharge treatment, corona discharge treatment, ultraviolet (UV) treatment and flame treatment within a range not deviating from the object of the present invention.
<프라이머층> <Primer Layer>
상기 프라이머층은, 폴리알킬렌글리콜 디(메트)아크릴레이트를 50 내지 100질량%(고형분량) 포함하는 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A의 경화물이다. 여기서, 본 명세서 중에 있어서 전리 방사선 경화성 수지 조성물이란, 전자선 경화성 수지 조성물 및 자외선 경화성 수지 조성물을 나타낸다.The primer layer is a cured product of an ionizing radiation curable resin composition A containing 50 to 100 mass% (solid content) of polyalkylene glycol di (meth) acrylate. Herein, in the present specification, the ionizing radiation curable resin composition refers to an electron beam-curable resin composition and an ultraviolet ray curable resin composition.
상기 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A는, 폴리알킬렌글리콜 디(메트)아크릴레이트 이외의 광중합성 단량체, 광중합성 올리고머, 광중합성 중합체 등을 더 함유하고 있어도 되고, 자외선 경화성 수지 조성물인 경우에는 개시제를 함유한다.The ionizing radiation curable resin composition A may further contain a photopolymerizable monomer other than the polyalkylene glycol di (meth) acrylate, a photopolymerizable oligomer, a photopolymerizable polymer, etc. In the case of the ultraviolet ray curable resin composition, do.
(폴리알킬렌글리콜 디(메트)아크릴레이트)(Polyalkylene glycol di (meth) acrylate)
상기 폴리알킬렌글리콜 디(메트)아크릴레이트는, 분자량 180 내지 1000의 것이 바람직하고, 분자량 200 내지 750의 것이 보다 바람직하고, 분자량 220 내지 450의 것이 특히 바람직하다. 폴리알킬렌글리콜 디(메트)아크릴레이트의 분자량이 상기 범위 내이면, 간섭 줄무늬의 발생의 억제나, 아크릴 기재와 프라이머층의 밀착성의 관점에서 바람직하다.The polyalkylene glycol di (meth) acrylate preferably has a molecular weight of 180 to 1000, more preferably a molecular weight of 200 to 750, and particularly preferably a molecular weight of 220 to 450. When the molecular weight of the polyalkylene glycol di (meth) acrylate is within the above range, it is preferable from the viewpoints of suppression of generation of interference fringes and adhesion of the acrylic base material and the primer layer.
또한, 폴리알킬렌글리콜 디(메트)아크릴레이트로서는, 디에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트 등의 폴리에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜 디(메트)아크릴레이트 등의 폴리프로필렌글리콜 디(메트)아크릴레이트 및 디부틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리부틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 테트라부틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트 등의 폴리부틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트를 들 수 있다.Examples of the polyalkylene glycol di (meth) acrylate include polyethylene glycol di (meth) acrylates such as diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate and tetraethylene glycol di (Meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate and the like; polypropylene glycol di And polybutylene glycol di (meth) acrylate such as glycol di (meth) acrylate.
전리 방사선 경화성 수지 조성물 A에 있어서의 폴리알킬렌글리콜 디(메트)아크릴레이트의 배합량은, 고형분량으로, 50 내지 100질량%인 것을 필요로 하고, 70 내지 100질량%인 것이 특히 바람직하다.The blending amount of the polyalkylene glycol di (meth) acrylate in the ionizing radiation curable resin composition A is required to be 50 to 100 mass%, particularly preferably 70 to 100 mass%, in the solid fraction.
또한, 프라이머층에 굴절률 조정 재료나 대전 방지 재료 등의 다른 기능성 성분이 첨가되어 있는 경우, 도 3에 도시한 바와 같이, 기능성 성분이 프라이머층의 하부에는 존재하지 않고, 상부에 편재 밀집하기 때문에, 후술하는 용제가 휘발하는 움직임과 함께 용해된 아크릴 기재의 재료 성분이 프라이머층 중으로 유출되어 아크릴 기재-프라이머층 계면의 요철을 형성하는 것으로 추인된다. 또한, 이것에 의해 적당한 요철이 계면에 발생하여, 밀착성이 양호해짐과 함께 간섭 줄무늬 방지성도 양호해질 뿐만 아니라, 목적으로 하는 기능(대전 방지성이나 고굴절률성, 저굴절률성 등)을 발현시키기 쉬운 점에 있어서도 바람직하다.Further, in the case where another functional component such as a refractive index adjusting material or an antistatic material is added to the primer layer, as shown in Fig. 3, the functional component does not exist in the lower part of the primer layer, It is conceivable that the material of the acrylic base material dissolved into the primer layer is dissolved together with the volatilization of the solvent to be described later to form the irregularities at the acrylic base-primer layer interface. As a result, appropriate irregularities are generated at the interface to improve the adhesion, as well as to improve the interference fringe prevention property. In addition, it is easy to exhibit a desired function (antistatic property, high refractive index, and low refractive index) And is also preferable.
(광중합성 중합체) (Photopolymerizable polymer)
상기 광중합성 중합체로서는, 관능기로서 (메트)아크릴로일기를 갖는 것이 바람직하고, 관능기수가 10 내지 250개인 것이 바람직하고, 10 내지 100인 것이 보다 바람직하고, 10 내지 50인 것이 더욱 바람직하다.The photopolymerizable polymer preferably has a (meth) acryloyl group as the functional group, preferably has 10 to 250 functional groups, more preferably 10 to 100, and further preferably 10 to 50 carbon atoms.
광중합성 중합체의 중량 평균 분자량은, 10,000 내지 100,000인 것이 바람직하고, 12,000 내지 40,000인 것이 보다 바람직하다.The weight average molecular weight of the photopolymerizable polymer is preferably 10,000 to 100,000, more preferably 12,000 to 40,000.
전리 방사선 경화성 수지 조성물 A에 있어서의 광중합성 중합체의 배합량은, 고형분량으로, 0 내지 40질량%인 것이 바람직하고, 0 내지 30질량%인 것이 보다 바람직하다.The blending amount of the photopolymerizable polymer in the ionizing radiation curable resin composition A is preferably 0 to 40% by mass, more preferably 0 to 30% by mass in solid content.
(광중합성 올리고머) (Photopolymerizable oligomer)
상기 광중합성 올리고머로서는, 2관능 이상의 것이 사용되고, 관능기로서 (메트)아크릴로일기를 갖는 것이 바람직하고, 관능기수가 2 내지 30개인 것이 바람직하고, 2 내지 20개인 것이 보다 바람직하고, 3 내지 15개인 것이 더욱 바람직하다.The photopolymerizable oligomer is preferably a bifunctional or higher functional oligomer and preferably has a (meth) acryloyl group as the functional group. The photopolymerizable oligomer preferably has 2 to 30 functional groups, more preferably 2 to 20, and more preferably 3 to 15 More preferable.
광중합성 올리고머의 중량 평균 분자량은, 1,000 내지 10,000인 것이 바람직하고, 1,500 내지 10,000인 것이 보다 바람직하다.The weight average molecular weight of the photopolymerizable oligomer is preferably from 1,000 to 10,000, more preferably from 1,500 to 10,000.
전리 방사선 경화성 수지 조성물 A에 있어서의 광중합성 올리고머의 배합량은, 고형분량으로, 0 내지 40질량%인 것이 바람직하고, 0 내지 30질량%인 것이 보다 바람직하다.The blending amount of the photopolymerizable oligomer in the ionizing radiation curable resin composition A is preferably 0 to 40% by mass, more preferably 0 to 30% by mass, in solid content.
(광중합성 단량체) (Photopolymerizable monomer)
상기 광중합성 단량체로서는, 폴리알킬렌글리콜 디(메트)아크릴레이트 이외의 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물 등의 1 또는 2 이상의 불포화 결합을 갖는 것을 들 수 있다. 하나의 불포화 결합을 갖는 단관능 단량체로서는, 예를 들면 에틸(메트)아크릴레이트, 에틸헥실(메트)아크릴레이트, 스티렌, 메틸스티렌, N-비닐피롤리돈, 고굴절률 재료(o-페닐페놀 EO 변성 아크릴레이트) 등을 들 수 있다. 2 이상의 불포화 결합을 갖는 다관능 단량체로서는, 예를 들면 폴리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트 등 및 이들을 에틸렌옥시드(EO) 등으로 변성한 다관능 화합물, 또는, 상기 다관능 화합물과 (메트)아크릴레이트 등의 반응 생성물(예를 들면 다가 알코올의 폴리(메트)아크릴레이트에스테르) 등을 들 수 있다.Examples of the photopolymerizable monomer include compounds having one or two or more unsaturated bonds such as a compound having a (meth) acryloyl group other than polyalkylene glycol di (meth) acrylate. Examples of monofunctional monomers having one unsaturated bond include ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, methylstyrene, N-vinylpyrrolidone, high refractive index materials Modified acrylate) and the like. Examples of the polyfunctional monomer having two or more unsaturated bonds include polyfunctional monomers such as polymethylol propane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (Meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate and the like, and ethylene oxide Modified polyfunctional compounds, or reaction products of the polyfunctional compounds with (meth) acrylate (e.g., poly (meth) acrylate esters of polyhydric alcohols).
단관능 단량체를 사용함으로써, 굴절률 조정이 용이해져, 보다 굴절률이 높은 프라이머층을 형성할 수 있고, 한편, 다관능 단량체를 사용하면, 경도가 양호해진다. 또한, 본 명세서에 있어서 「(메트)아크릴레이트」란, 메타크릴레이트 및 아크릴레이트를 가리키는 것이다.By using a monofunctional monomer, the refractive index can be easily adjusted and a primer layer having a higher refractive index can be formed. On the other hand, when a polyfunctional monomer is used, the hardness becomes better. In the present specification, "(meth) acrylate" refers to methacrylate and acrylate.
광중합성 단량체의 분자량은, 200 내지 1,000인 것이 바람직하고, 250 내지 750인 것이 보다 바람직하다.The molecular weight of the photopolymerizable monomer is preferably 200 to 1,000, more preferably 250 to 750.
전리 방사선 경화성 수지 조성물 A에 있어서의 광중합성 단량체의 배합량은, 고형분량으로, 0 내지 40질량%인 것이 바람직하고, 0 내지 30질량%인 것이 보다 바람직하다.The blending amount of the photopolymerizable monomer in the ionizing radiation curable resin composition A is preferably 0 to 40 mass%, more preferably 0 to 30 mass%, in solid content.
상기 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A는, 용매를 더 함유하고 있는 것이 바람직하다.It is preferable that the ionizing radiation curable resin composition A further contains a solvent.
이 용매는, 아크릴 기재를 적절하게 팽윤시키는 것을 선택하는 것이 바람직하다. 단, 아크릴 기재는, 종래 자주 사용되고 있는 TAC 기재와는 달리, 거의 모든 종류의 용제에서 팽윤한다. 따라서 용제에 의한 영향이 강하고, 팽윤도가 지나치게 강하면 갈라지는 경우도 있기 때문에, 이하의 용제를 선택함으로써, 적절하게 팽윤시킬 수 있고, 기재를 구성하는 수지 성분과 수지층을 구성하는 수지 성분이 이동하는 밸런스가 적절해져, 계면에 있어서 바람직한 능선을 얻을 수 있다.The solvent is preferably selected so as to swell the acrylic base material appropriately. However, unlike the conventional TAC substrate, acrylic base materials swell in almost all kinds of solvents. Therefore, it is possible to swell adequately by selecting the following solvents, and it is possible to obtain a balance of the resin component constituting the base material and the resin component constituting the resin layer moving So that a preferable ridge line can be obtained at the interface.
또한, 상기 용매는, 사용하는 수지 성분의 종류 및 용해성에 따라서 선택하여 사용할 수 있다. 이와 같은 용매로서는, 알코올류(메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 1-부탄올)가 바람직하고, 그 밖의 각 용제 종류에 있어서는 탄소수가 보다 많은 것이 양호한 경향이 있고, 그 중에서도 증발 속도가 빠른 것이 양호한 경향이 있다. 예를 들면, 케톤류이면 메틸이소부틸케톤, 방향족 탄화수소류이면 톨루엔, 글리콜류이면 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등을 예시할 수 있고, 이들의 혼합 용매이어도 된다.The solvent may be selected depending on the type and solubility of the resin component to be used. As such a solvent, alcohols (methanol, ethanol, isopropanol, 1-butanol) are preferable, and in each of the other types of solvents, the number of carbon atoms tends to be better and the rate of evaporation tends to be higher . For example, methyl isobutyl ketone may be used as the ketone, toluene as the aromatic hydrocarbon, and propylene glycol monomethyl ether as the glycol, and a mixed solvent thereof may be used.
특히 본 발명에 있어서는, 수지와의 상용성, 도포 시공성이 우수하고, 또한, 아크릴 기재-프라이머층 계면에 본원의 특이한 요철 형상이 형성되고, 나아가 가공 시에 기재가 끊어지는 문제가 생기지 않는다고 하는 이유로부터, 특히 메틸이소부틸케톤, 이소프로판올 및 1-부탄올, 프로필렌글리콜모노메틸에테르로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것이 바람직하다. 이들 용제이면, 아크릴 기재가 갈라지지 않고 적절하게 팽윤할 수 있다.Particularly, in the present invention, it is possible to provide a resin composition which is excellent in compatibility with a resin, application workability, has a specific irregular shape at the interface of the acrylic base material and primer layer, , Particularly preferably at least one selected from methyl isobutyl ketone, isopropanol, 1-butanol, and propylene glycol monomethyl ether. With these solvents, the acrylic base material can be swelled adequately without cracking.
반대로, 에스테르류(아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산프로필, 아세트산 부틸 등)나, 케톤류(아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 디아세톤알코올), 셀로솔브류, 에테르류(디옥산, 테트라히드로푸란, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등), 지방족 탄화수소류(헥산 등), 방향족 탄화수소류(크실렌), 할로겐화 탄소류(디클로로메탄, 디클로로에탄 등), 셀로솔브류(메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브 등), 셀로솔브아세테이트류, 술폭시드류(디메틸술폭시드 등), 아미드류(디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드 등)는, 아크릴 기재를 과잉으로 팽윤시키는 경우가 있기 때문에 기재에 텐션이 가해지는 경우에는 사용하지 않는 것이 바람직하다.On the contrary, it is also possible to use esters (such as methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate and butyl acetate), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, diacetone alcohol), cellosolve, ethers (dioxane, tetrahydrofuran , Propylene glycol monomethyl ether acetate and the like), aliphatic hydrocarbons (such as hexane), aromatic hydrocarbons (xylene), halogenated carbons (such as dichloromethane and dichloroethane), cellosolve (methylcellosolve, , Etc.), cellosolve acetates, sulfoxides (dimethylsulfoxide and the like), and amides (dimethylformamide, dimethylacetamide, etc.) sometimes excessively swell the acrylic base material, so that when tension is applied to the base material It is preferable not to use it.
상기 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A 중에 있어서의 용매의 함유 비율로서는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 상술한 바람직한 용매에 대해서는, 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A의 고형분 100질량부에 대하여, 30 내지 300질량부인 것이 바람직하고, 100 내지 220질량부인 것이 보다 바람직하다. 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A의 고형분 100질량부에 대하여, 용매의 함유 비율이 30질량부 이상이면, 아크릴 기재-프라이머층 계면의 요철이 현저해져, 아크릴 기재와 프라이머층의 밀착성이나 간섭 줄무늬의 억제의 관점에서 바람직하고, 300질량부 이하이면, 헤이즈의 발생을 억제하는 관점에서 바람직하다.The content of the solvent in the ionizing radiation curable resin composition A is not particularly limited. For example, the preferable solvent is 30 to 300 parts by mass relative to 100 parts by mass of the solid content of the ionizing radiation curable resin composition A More preferably 100 to 220 parts by mass. If the content of the solvent is 30 parts by mass or more based on 100 parts by mass of the solid content of the ionizing radiation curable resin composition A, the irregularities of the interface of the acrylic base material and the primer layer become prominent and the adhesion of the acrylic material and the primer layer, , And when it is 300 parts by mass or less, it is preferable from the viewpoint of suppressing the occurrence of haze.
본 발명의 광학 적층체의 제조 방법은, 하기 제1 공정 내지 제4 공정을 갖는 것이 바람직하고, 제5 공정을 더 가지면, 광학 적층체에 경도를 부여하는 관점에서 바람직하다.The method for producing an optical laminate of the present invention preferably has the following first to fourth steps, and it is preferable from the viewpoint of imparting hardness to the optical laminate if the fifth step is further provided.
(제1 공정) (First step)
폴리알킬렌글리콜 디(메트)아크릴레이트를 50% 이상 포함하는 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A를 아크릴 기재에 도포한다.An ionizing radiation curable resin composition A containing 50% or more of a polyalkylene glycol di (meth) acrylate is applied to an acrylic substrate.
(제2 공정) (Second Step)
아크릴 기재가, 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A 중의 용매, 단량체 등에 의해 팽윤한다.The acrylic base material is swelled by the solvent, the monomer, and the like in the ionizing radiation curable resin composition A.
(제3 공정) (Third step)
적절한 건조 온도에서 용매를 건조하면서, 아크릴 기재가 팽윤함과 함께, 아크릴 기재 중의 재료 성분과 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A 중의 성분이 서로 이동함으로써 아크릴 기재/프라이머층 계면에 요철을 형성한다.While the solvent is dried at an appropriate drying temperature, the acrylic base material is swollen and the material components in the acrylic base material and the components in the ionizing radiation curable resin composition A move with each other to form irregularities at the acrylic base / primer layer interface.
(제4 공정) (Fourth step)
전리 방사선을 조사하여 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A를 경화하여 프라이머층을 경화한다.The ionizing radiation curable resin composition A is cured by irradiating ionizing radiation to cure the primer layer.
(제5 공정) (Step 5)
프라이머층 상에 별도로 전리 방사선 경화성 수지 조성물 B를 도포, 건조하고 전리 방사선을 조사하여 경화하여, 하드 코트층을 형성한다.The ionizing radiation curable resin composition B is separately applied on the primer layer, dried, and irradiated with ionizing radiation to be cured to form a hard coat layer.
본 발명의 광학 적층체의 제조 방법에 있어서, 아크릴 기재를 끊어지지 않게 가공할 수 있고, 게다가 간섭 줄무늬가 없고 밀착성이 좋은 상태로 하기 위해서는, 이하의 조건 (ⅰ) 내지 (ⅲ)가 갖추어지는 것이 바람직하다.In the method for producing an optical laminate of the present invention, it is preferable that the following conditions (i) to (iii) are satisfied so that the acrylic base material can be processed without breaking, and further, desirable.
(ⅰ) 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A가 폴리알킬렌글리콜 디(메트)아크릴레이트를 50 내지 100질량% 포함하는 것.(I) The ionizing radiation curable resin composition A contains 50 to 100% by mass of a polyalkylene glycol di (meth) acrylate.
(ⅱ) 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A가, 아크릴 기재를 적절하게 팽윤시키는 용제를 포함하여, 아크릴 기재가 가공 시에 끊어지지 않는 것.(Ii) the ionizing radiation-curable resin composition A contains a solvent which appropriately swells the acrylic base material so that the acrylic base material is not broken during processing.
(ⅲ) 제3 공정에서의 건조 온도가, 40℃ 내지 90℃인 것.(Iii) the drying temperature in the third step is 40 ° C to 90 ° C.
또한, 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A의 용매가, 설령 상기한 적절한 종류이어도, 건조 온도가 90℃를 초과하면, 용매의 어택력이 상승하기 때문에 아크릴 기재가 가공 시에 끊어지기 쉬워지는 경우가 있다.Even if the solvent of the ionizing radiation curable resin composition A is of the above-mentioned appropriate type, if the drying temperature exceeds 90 캜, the attack force of the solvent is increased, and the acrylic base material is liable to be broken at the time of processing.
상기 조건 (ⅰ) 내지 (ⅲ)를 모두 만족시킴으로써, 아크릴 기재와 프라이머층 계면의 요철이 바람직한 광학 적층체를 용이하게 제조하는 것이 가능해지고, 그 결과, 간섭 줄무늬 방지성, 밀착성이 양호해진다.By satisfying all of the conditions (i) to (iii), it becomes possible to easily produce an optical laminate in which the irregularities of the interface between the acrylic base material and the primer layer are preferable. As a result, interference fringe prevention and adhesion are improved.
상기 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A는, 용제 건조형 수지를 더 함유하고 있어도 된다. 용제 건조형 수지를 병용함으로써, 도포면의 피막 결함을 유효하게 방지할 수 있다. 또한, 상기 용제 건조형 수지란, 열가소성 수지 등, 도포 시공 시에 고형분을 조정하기 위해서 첨가한 용제를 건조시킬 뿐이고, 피막으로 되는 수지를 말한다.The ionizing radiation curable resin composition A may further contain a solvent-drying type resin. By using the solvent-drying type resin in combination, it is possible to effectively prevent coating defects on the coated surface. The above-mentioned solvent-drying type resin refers to a resin such as a thermoplastic resin, which is only used to dry a solvent added to adjust the solid content at the time of coating, and becomes a coating film.
상기 용제 건조형 수지로서는 특별히 한정되지 않고, 일반적으로, 열가소성 수지를 사용할 수 있다.The solvent-drying resin is not particularly limited, and a thermoplastic resin can be generally used.
상기 열가소성 수지로서는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 스티렌계 수지, (메트)아크릴계 수지, 아세트산비닐계 수지, 비닐에테르계 수지, 할로겐 함유 수지, 지환식 올레핀계 수지, 폴리카르보네이트계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리아미드계 수지, 셀룰로오스 유도체, 실리콘계 수지 및 고무 또는 엘라스토머 등을 들 수 있다. 상기 열가소성 수지는, 비결정성이며, 또한 유기 용매(특히 복수의 중합체나 경화성 화합물을 용해 가능한 공통 용매)에 가용인 것이 바람직하다. 특히, 제막성, 투명성이나 내후성의 관점에서, 스티렌계 수지, (메트)아크릴계 수지, 지환식 올레핀계 수지, 폴리에스테르계 수지, 셀룰로오스 유도체(셀룰로오스에스테르류 등) 등이 바람직하다.The thermoplastic resin is not particularly limited and examples thereof include thermoplastic resins such as styrene resin, (meth) acrylic resin, vinyl acetate resin, vinyl ether resin, halogen-containing resin, alicyclic olefin resin, polycarbonate resin, A polyester resin, a polyamide resin, a cellulose derivative, a silicone resin and a rubber or an elastomer. The thermoplastic resin is preferably amorphous and soluble in an organic solvent (in particular, a common solvent capable of dissolving a plurality of polymers or curable compounds). Particularly, styrene resins, (meth) acrylic resins, alicyclic olefin resins, polyester resins, cellulose derivatives (such as cellulose esters) and the like are preferable from the viewpoints of film formability, transparency and weather resistance.
상기 개시제로서는 특별히 한정되지 않고, 공지의 것을 사용할 수 있고, 예를 들면 광중합 개시제로서는, 구체예에는, 아세토페논류, 벤조페논류, 미힐러벤조일벤조에이트, α-아밀옥심에스테르, 티오크산톤류, 프로피오페논류, 벤질류, 벤조인류, 아실포스핀옥시드류를 들 수 있다. 또한, 광증감제를 혼합하여 사용하는 것이 바람직하고, 그 구체예로서는, 예를 들면 n-부틸아민, 트리에틸아민, 폴리-n-부틸포스핀 등을 들 수 있다.The initiator is not particularly limited and known ones can be used. Specific examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzophenones, meihylbenzoylbenzoates,? -Amyloxime esters, , Propiophenes, benzyls, benzoins, and acylphosphine oxides. Further, it is preferable to use a mixture of photosensitizer. Specific examples thereof include n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine and the like.
상기 광중합 개시제로서는, 상기 광중합성 단량체/올리고머/중합체가 라디칼 중합성 불포화기를 갖는 수지계의 경우는, 아세토페논류, 벤조페논류, 티오크산톤류, 벤조인, 벤조인메틸에테르 등을 단독 또는 혼합하여 사용하는 것이 바람직하고, 1-히드록시-시클로헥실-페닐-케톤이, 전리 방사선 경화형 수지와의 상용성 및 황변도 적다고 하는 이유로부터 특히 바람직하다. 또한, 상기 광중합성 단량체/올리고머/중합체가 양이온 중합성 관능기를 갖는 경우는, 상기 광중합 개시제로서는, 방향족 디아조늄염, 방향족 술포늄염, 방향족 요오도늄염, 메탈로센 화합물, 벤조인술폰산에스테르 등을 단독 또는 혼합물로서 사용하는 것이 바람직하다.As the photopolymerization initiator, in the case of a resin system in which the photopolymerizable monomer / oligomer / polymer has a radically polymerizable unsaturated group, the photopolymerization initiator may be selected from the group consisting of acetophenones, benzophenones, thioxanthones, benzoins, benzoin methyl ethers, Cyclohexyl-phenyl-ketone is particularly preferable from the viewpoint of compatibility with the ionizing radiation curable resin and yellowing. When the photopolymerizable monomer / oligomer / polymer has a cationic polymerizable functional group, examples of the photopolymerization initiator include aromatic diazonium salts, aromatic sulfonium salts, aromatic iodonium salts, metallocene compounds, benzoin sulfonic acid esters and the like. It is preferably used alone or as a mixture.
상기 자외선 경화성 수지 조성물에 있어서의 상기 개시제의 함유량은, 상기 광중합성 단량체, 광중합성 올리고머 및 광중합성 중합체의 합계량 100질량부에 대하여, 1 내지 10질량부인 것이 바람직하다. 개시제의 함유량이 1질량부 이상이면, 광학 적층체에 있어서의 프라이머층의 경도의 관점에서 바람직하고, 10질량부 이하이면, 개시제가 과잉으로 잔류하는 것에 의한 수지 열화를 억제함과 함께 비용 상승을 방지할 수 있고, 목표인 프라이머층이나 후술하는 하드 코트층의 표면의 연필 경도가 얻어진다.The content of the initiator in the ultraviolet-curable resin composition is preferably 1 to 10 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of the photopolymerizable monomer, the photopolymerizable oligomer and the photopolymerizable polymer. When the content of the initiator is 1 part by mass or more, the amount is preferably in view of the hardness of the primer layer in the optical laminate, and when it is 10 parts by mass or less, the resin deterioration due to excessively remaining initiator is suppressed, And the pencil hardness of the surface of the target primer layer or the hard coat layer to be described later can be obtained.
상기 개시제의 함유량의 보다 바람직한 하한은, 상기 광중합성 단량체, 광중합성 올리고머 및 광중합성 중합체의 합계량 100질량부에 대하여 2질량부이며, 보다 바람직한 상한은 8질량부이다. 상기 개시제의 함유량이 이 범위에 있음으로써, 상기 효과를 보다 확실하게 한다.A more preferable lower limit of the content of the initiator is 2 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of the photopolymerizable monomer, the photopolymerizable oligomer and the photopolymerizable polymer, and the more preferable upper limit is 8 parts by mass. When the content of the initiator is in this range, the above effect is more assured.
상기 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A 중에 기능성 성분을 함유시킴으로써, 프라이머층에 기능을 더 부여할 수 있다.By containing a functional component in the ionizing radiation curable resin composition A, the primer layer can further be given a function.
기능성 성분으로서는, 대전 방지제, 굴절률 조정제, 방오제, 슬립제, 방현제, 하드 코트성 부여제 등 통상의 광학 시트에 사용되는 것을 들 수 있다.Examples of the functional component include those used in conventional optical sheets such as an antistatic agent, a refractive index adjusting agent, an antifouling agent, a slip agent, a dispersant, and a hard coatability-imparting agent.
상기 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A는, 대전 방지제를 함유하고 있어도 된다.The ionizing radiation curable resin composition A may contain an antistatic agent.
대전 방지제로서는 유기계의 것이 바람직하고, 보다 구체적으로는, 리튬 이온염, 4급 암모늄염, 이온성 액체 등의 이온성의 것이나, 폴리티오펜, 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리아세틸렌 등의 전자 전도성의 것을 들 수 있다.As the antistatic agent, organic ones are preferable, and more specifically, ionic ones such as lithium ion salts, quaternary ammonium salts and ionic liquids, and electron conductive ones such as polythiophene, polyaniline, polypyrrole and polyacetylene can be given .
또한, 상기 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A는, 불소, 실리콘 등의 방오제를 함유하고 있어도 된다.The ionizing radiation curable resin composition A may contain an antifouling agent such as fluorine or silicon.
상기 기능성 성분을 사용하는 경우, 그 함유량은, 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A 중의 전체 고형분의 합계 질량에 대하여 1 내지 30질량%인 것이 바람직하다.When the functional ingredient is used, the content thereof is preferably 1 to 30% by mass based on the total mass of solids in the ionizing radiation curable resin composition A.
또한, 본 발명의 광학 적층체는, 대전 방지제를 포함하는 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A를 사용하여 프라이머층을 형성한 경우(즉, 프라이머층이 대전 방지제를 함유하는 경우), 상술한 폴리알킬렌글리콜 디(메트)아크릴레이트와의 조합에 의해, 상기 이유에 의해, 대전 방지제가 프라이머층의 상면에 국재화되므로, 대전 방지 성능이 더욱 향상된다. 또한, 실리카, 알루미나 등의 초미립자를 하드 코트성 부여제로서 포함하는 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A를 사용하여 프라이머층을 형성한 경우(즉, 프라이머층이 하드 코트성 부여제를 함유하는 경우), 상술한 폴리알킬렌글리콜 디(메트)아크릴레이트와의 조합에 의해, 상기 이유에 의해, 하드 코트성 부여제가 프라이머층의 상면에 국재화되므로, 하드 코트 성능이 더욱 향상된다.In the optical laminate of the present invention, when a primer layer is formed using an ionizing radiation curable resin composition A containing an antistatic agent (that is, when the primer layer contains an antistatic agent), the above-mentioned polyalkylene glycol By the combination with di (meth) acrylate, the antistatic property is further improved because the antistatic agent is localized on the upper surface of the primer layer for the above reason. Further, when a primer layer is formed by using an ionizing radiation curable resin composition A containing ultrafine particles such as silica or alumina as a hard coatability-imparting agent (that is, when the primer layer contains a hard coatability-imparting agent) By virtue of the combination of the polyalkylene glycol di (meth) acrylate and the polyalkylene glycol di (meth) acrylate, the hard coat property is further improved because the hard coat property imparting agent is localized on the top surface of the primer layer.
상기 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A의 제조 방법으로서는 각 성분을 균일하게 혼합할 수 있으면 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 페인트 셰이커, 비즈 밀, 니이더, 믹서 등의 공지의 장치를 사용하여 행할 수 있다.The ionizing radiation curable resin composition A can be produced by any known method such as a paint shaker, a bead mill, a kneader, a mixer and the like without particular limitation as long as the components can be uniformly mixed .
또한, 상기 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A를 상기 아크릴 기재 상에 도포하는 방법으로서는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 스핀 코트법, 침지법, 스프레이법, 다이 코트법, 바 코트법, 그라비아 코트법, 롤 코터법, 메니스커스 코터법, 플렉소 인쇄법, 스크린 인쇄법, 비드 코터법 등의 공지의 방법을 들 수 있다.The method of applying the ionizing radiation curable resin composition A onto the acrylic base material is not particularly limited and examples thereof include spin coating, dipping, spraying, die coating, bar coating, gravure coating, A known method such as a roll coater method, a meniscus coater method, a flexo printing method, a screen printing method, and a bead coater method.
상기 아크릴 기재 상에 상기 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A를 도포하여 형성한 도막은, 필요에 따라서 가열, 건조하고, 활성 에너지선 조사 등에 의해 경화시키는 것이 바람직하다.The coating film formed by applying the ionizing radiation curable resin composition A onto the acrylic base material is preferably heated, dried, and cured by irradiation with active energy rays or the like, if necessary.
건조 공정에서의 건조 시간은, 바람직하게는 20초 내지 2분이고, 보다 바람직하게는 30초 내지 1분이다. 또한, 건조 공정에서의 건조 온도는, 바람직하게는 40 내지 90℃이고, 보다 바람직하게는 50 내지 80℃이다. 건조 온도가 40℃ 미만이면, 가공한 광학 적층체에 잔류 용제가 많아져 버려, 다음 경화 공정에 있어서 미경화 부분이 발생하고, 그 영향에 의해 밀착성이 저하된다. 아크릴 기재의 경우, 대체로 어느 용제라도 팽윤하기 쉽다고 하는 특징이 있다. 그 때문에, 건조 온도가 바람직한 범위 외, 100℃를 초과하면 용매의 팽윤에 대한 힘이 향상되고, 도포 가공 시에 가해지는 장력이 2.2N/㎝를 초과한 경우에 끊어지기 쉽다. 따라서, 본 발명에 있어서는, 적절한 용매를 선택함과 함께, 적절한 건조 온도를 선택하는 것이 바람직하다.The drying time in the drying step is preferably 20 seconds to 2 minutes, more preferably 30 seconds to 1 minute. The drying temperature in the drying step is preferably 40 to 90 占 폚, more preferably 50 to 80 占 폚. If the drying temperature is less than 40 占 폚, the amount of the residual solvent in the processed optical stacked body is increased, and uncured portions are generated in the subsequent curing step, and the adhesion is lowered due to the influence. In the case of an acrylic base material, generally, any solvent is likely to swell. Therefore, when the drying temperature is out of the preferable range and exceeds 100 ° C, the force against the swelling of the solvent is improved, and when the applied tension exceeds 2.2 N / cm, it tends to be broken. Therefore, in the present invention, it is preferable to select an appropriate solvent and select an appropriate drying temperature.
상기 활성 에너지선 조사로서는, 자외선 또는 전자선에 의한 조사를 들 수 있다.As the active energy ray irradiation, irradiation with ultraviolet rays or electron beams can be mentioned.
상기 자외선 조사에 있어서의 자외선원의 구체예로서는, 예를 들면 초고압 수은등, 고압 수은등, 저압 수은등, 카본 아크등, 블랙 라이트 형광등, 메탈 할라이드 램프등 등의 광원을 들 수 있다. 또한, 자외선의 파장으로서는, 190 내지 380㎚의 파장 영역을 사용할 수 있다.Specific examples of the ultraviolet source in the ultraviolet irradiation include light sources such as ultrahigh pressure mercury lamp, high pressure mercury lamp, low pressure mercury lamp, carbon arc lamp, black light fluorescent lamp, metal halide lamp and the like. As the wavelength of ultraviolet rays, a wavelength range of 190 to 380 nm can be used.
상기 전자선 조사에 있어서의 전자선원의 구체예로서는, 코크로프트 월턴형, 반데그라프트형, 공진 변압기형, 절연 코어 변압기형, 또는 직선형, 다이나미트론형, 고주파형 등의 각종 전자선 가속기를 들 수 있다.Specific examples of the electron beam source in the electron beam irradiation include various types of electron beam accelerators such as a Cocross Walton type, a Bandegraft type, a resonant transformer type, an insulating core transformer type, or a linear type, a dinamitron type and a high frequency type.
또한, 상기 프라이머층의 바람직한 막 두께(경화 시)는 0.5 내지 100㎛, 보다 바람직하게는 0.8 내지 13㎛, 컬 방지성이나 균열 방지성이 특히 우수하므로, 가장 바람직하게는 0.8 내지 4㎛의 범위이다. 상기 하드 코트층의 막 두께는, 단면을 전자 현미경(SEM, TEM, STEM)으로 관찰하고, 임의의 10점을 측정한 평균값(㎛)이다.The primer layer preferably has a film thickness (at the time of curing) of 0.5 to 100 占 퐉, more preferably 0.8 to 13 占 퐉, particularly excellent in anti-curl property and anti-cracking property, and is most preferably in the range of 0.8 to 4 占 퐉 to be. The film thickness of the hard coat layer is an average value (占 퐉) obtained by observing a cross section with an electron microscope (SEM, TEM, STEM) and measuring arbitrary 10 points.
또한, 본 발명의 광학 적층체는, 상기 프라이머층 상에 직접, 저굴절률층, 하드 코트층, 방오층, 방현층, 대전 방지층 및 고굴절률층으로부터 선택되는 1개 이상을 가져도 된다.The optical laminate of the present invention may have at least one selected from the group consisting of a low refractive index layer, a hard coat layer, a scattering layer, an antiglare layer, an antistatic layer and a high refractive index layer directly on the primer layer.
<하드 코트층> <Hard coat layer>
상기 하드 코트층은, 프라이머층 상에 형성되고, 바람직하게는 전리 방사선 경화성 수지 조성물 B가 경화물로 이루어진다.The hard coat layer is formed on the primer layer, and preferably the ionizing radiation curable resin composition B is composed of a cured product.
하드 코트층은, 경도가, JIS K5600-5-4(1999)에 의한 연필 경도 시험(하중 4.9N)에 있어서, H 이상인 것이 바람직하고, 2H 이상인 것이 보다 바람직하다. 또한, 상기 하드 코트층은, 기능성 성분을 함유하는 것이어도 된다.The hard coat layer preferably has a hardness of H or more and more preferably 2H or more in a pencil hardness test (load 4.9 N) according to JIS K5600-5-4 (1999). The hard coat layer may contain a functional component.
하드 코트층을 형성하는 전리 방사선 경화성 수지 조성물 B의 상세는, 폴리알킬렌글리콜 디(메트)아크릴레이트를 필수 성분으로 하지 않는 것 이외는, 상술한 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A와 마찬가지이다.The details of the ionizing radiation curable resin composition B forming the hard coat layer are the same as those of the above ionizing radiation curable resin composition A except that the polyalkylene glycol di (meth) acrylate is not an essential component.
또한, 전리 방사선 경화성 수지 조성물 B는, 광중합성 단량체(특히 다관능 단량체)의 배합량이 30 내지 100질량%인 것이 바람직하고, 40 내지 90질량%인 것이 보다 바람직하고, 50 내지 80질량%인 것이 더욱 바람직하다. 그때, 전리 방사선 경화성 수지 조성물 B의 잔량부는, 광중합성 올리고머 및 광중합성 중합체 중 적어도 한쪽으로 하는 것이 바람직하다.In the ionizing radiation curable resin composition B, the blending amount of the photopolymerizable monomer (particularly, the polyfunctional monomer) is preferably 30 to 100 mass%, more preferably 40 to 90 mass%, and more preferably 50 to 80 mass% More preferable. At this time, it is preferable that the remaining amount of the ionizing radiation curable resin composition B is at least one of a photopolymerizable oligomer and a photopolymerizable polymer.
또한, 하드 코트층의 형성 방법은, 상술한 프라이머층과 마찬가지이다. 그 밖의 하드 코트층의 상세에 대해서도, 상술한 프라이머층과 마찬가지이다.The method of forming the hard coat layer is the same as that of the above-described primer layer. Details of other hard coat layers are the same as those of the above-described primer layer.
본 발명에 있어서는, 프라이머층 상에 하드 코트층을 적층하는 것이 바람직하다. 3관능 이상의 다관능 단량체 비율이 높은 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A를 사용하거나, 하드 코트 부여제를 첨가함으로써 프라이머층 자체를 고경도로 해도 되지만, 아크릴 기재 상에 직접, 즉 프라이머층에 다관능의 반응성 관능기를 갖는 재료를 사용하여 2H 이상의 고경도로 한 경우에는, 하드 코트층에 뭔가 부분적으로 압력이 가해진 경우 등 아크릴 기재가 갈라지기 쉽다고 하는 결점을 갖는다. 그 때문에, 본 발명의 광학 적층체에 있어서는, 프라이머층을 하드 코트층과의 사이에 형성함으로써, 하드 코트층의 충격이 그대로 아크릴 기재에 전해지지 않고, 완충 작용을 갖고 있어 보다 바람직한 하드 코트성으로 된다. 또한, 프라이머층/하드 코트층으로 됨으로써도, 단순히 하드 코트층만이 적층되어 있는 경우보다도 경도도 향상시킬 수 있다.In the present invention, it is preferable to laminate a hard coat layer on the primer layer. The primer layer itself may have a high hardness by using an ionizing radiation curable resin composition A having a high ratio of trifunctional or more polyfunctional monomers or by adding a hard coat imparting agent. However, the primer layer itself may have a high hardness by directly imparting a reactive functional group , There is a drawback that the acrylic base material tends to be cracked, for example, when some partial pressure is applied to the hard coat layer. Therefore, in the optical laminate of the present invention, by forming the primer layer between the hard coat layer and the hard coat layer, the impact of the hard coat layer is not transmitted to the acrylic substrate as it is, do. In addition, the hardness can be improved as compared with the case where only the hard coat layer is laminated even by using the primer layer / hard coat layer.
단, 하드 코트층 등을 적층하는 경우에는, 프라이머층과의 사이에 새로운 계면이 생기는, 즉 간섭 줄무늬가 발생하는 계기로 되는 부분이 증가되어 버리게 된다. 이 경우, 중요한 것은 적층하는 층의 굴절률이, 그 아래의 층과 가능한 한 가까운 것이다. 따라서, 간섭 줄무늬 방지성을 양호하게 유지하기 위해서는, 하드 코트층의 굴절률은, 프라이머층의 굴절률과 거의 동일한 것이 바람직하고, 프라이머층과의 바람직한 굴절률차는 0.03 이하이다. 하드 코트층의 막 두께는 1 내지 20 ㎛인 것이 바람직하고, 3 내지 15 ㎛인 것이 보다 바람직하다.However, when a hard coat layer or the like is laminated, a new interface is formed between the primer layer and the primer layer, that is, an interference fringe occurs. In this case, it is important that the refractive index of the layer to be laminated is as close as possible to the layer below it. Therefore, in order to maintain good interference fringe prevention properties, the refractive index of the hard coat layer is preferably approximately the same as the refractive index of the primer layer, and the refractive index difference with respect to the primer layer is 0.03 or less. The thickness of the hard coat layer is preferably 1 to 20 mu m, more preferably 3 to 15 mu m.
<저굴절률층> <Low Refractive Index Layer>
또한, 본 발명의 광학 적층체는, 상기 하드 코트층 상에 저굴절률층을 더 갖는 것이 바람직하다.Further, it is preferable that the optical laminate of the present invention further has a low refractive index layer on the hard coat layer.
상기 저굴절률층으로서는, 바람직하게는 1) 실리카 또는 불화마그네슘 등의 저굴절률 무기 미립자를 함유하는 수지, 2) 저굴절률 수지인 불소계 수지, 3) 실리카 또는 불화마그네슘 등의 저굴절률 무기 미립자를 함유하는 불소계 수지, 4) 실리카 또는 불화마그네슘 등의 저굴절률 무기 박막 등 중 어느 하나를 포함하는 저굴절률층 형성용 조성물을 사용하여 형성한다. 불소계 수지 이외의 수지에 대해서는, 상술한 아크릴 수지와 마찬가지의 수지를 사용할 수 있다.Preferable examples of the low refractive index layer include 1) a resin containing low refractive index inorganic fine particles such as silica or magnesium fluoride, 2) a fluororesin as a low refractive index resin, and 3) a resin containing low refractive index inorganic fine particles such as silica or magnesium fluoride A fluorine resin, and 4) a low refractive index inorganic thin film such as silica or magnesium fluoride. As the resin other than the fluorine resin, the same resin as the above-mentioned acrylic resin can be used.
또한, 상술한 실리카는, 중공 실리카 미립자인 것이 바람직하고, 이와 같은 중공 실리카 미립자는, 예를 들면 일본 특허 공개 제2005-099778호 공보의 실시예에 기재된 제조 방법에 의해 제작할 수 있다.The above-mentioned silica is preferably hollow silica fine particles, and such hollow silica fine particles can be produced, for example, by the production method described in the embodiment of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-099778.
이들 저굴절률층은, 그 굴절률이 1.47 이하, 특히 1.42 이하인 것이 바람직하다. 또한, 저굴절률층의 두께는 한정되지 않지만, 통상은 10㎚ 내지 1㎛ 정도의 범위 내로부터 적절히 설정하면 된다.These low refractive index layers preferably have a refractive index of 1.47 or less, particularly 1.42 or less. The thickness of the low refractive index layer is not limited, but it may be suitably set within a range of usually about 10 nm to 1 占 퐉.
상기 불소계 수지로서는, 적어도 분자 중에 불소 원자를 포함하는 중합성 화합물 또는 그 중합체를 사용할 수 있다. 중합성 화합물로서는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 전리 방사선에 의해 경화되는 관능기, 열경화되는 극성기 등의 경화 반응성의 기를 갖는 것이 바람직하다. 또한, 이들 반응성의 기를 동시에 겸비하는 화합물이어도 된다. 이 중합성 화합물에 대하여, 중합체란, 상기와 같은 반응성기 등을 일절 갖지 않는 것이다.As the fluororesin, at least a polymerizable compound containing a fluorine atom in a molecule or a polymer thereof may be used. The polymerizable compound is not particularly limited, but preferably has a curing-reactive group such as a functional group which is cured by ionizing radiation or a polar group which is thermally cured. Further, a compound capable of simultaneously combining these reactive groups may also be used. With respect to the polymerizable compound, the polymer does not have any reactive group as described above.
상기 전리 방사선에 의해 경화되는 관능기를 갖는 중합성 화합물로서는, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 불소 함유 단량체를 널리 사용할 수 있다. 보다 구체적으로는, 플루오로올레핀류(예를 들면 플루오로에틸렌, 비닐리덴플루오라이드, 테트라플루오로에틸렌, 헥사플루오로프로필렌, 퍼플루오로부타디엔, 퍼플루오로-2, 2-디메틸-1,3-디옥솔 등)을 예시할 수 있다. (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 것으로서는, 2,2,2-트리플루오로에틸(메트)아크릴레이트, 2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필(메트)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로부틸)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로 헥실)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로옥틸)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로데실)에틸(메트)아크릴레이트, α-트리플루오로메타크릴산메틸, α-트리플루오로메타크릴산에틸과 같은, 분자 중에 불소 원자를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물; 분자 중에, 불소 원자를 적어도 3개 갖는 탄소수 1 내지 14의 플루오로알킬기, 플루오로시클로알킬기 또는 플루오로알킬렌기와, 적어도 2개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 불소 함유 다관능 (메트)아크릴산에스테르 화합물 등도 있다.As the polymerizable compound having a functional group which is cured by the above ionizing radiation, a fluorine-containing monomer having an ethylenic unsaturated bond can be widely used. More specifically, fluoroolefins (e.g., fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluorobutadiene, perfluoro-2, 2-dimethyl- -Dioxol and the like) can be exemplified. (Meth) acryloyloxy group include 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl (meth) acrylate, 2- (Perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, 2- ) (Meth) acrylate compounds having fluorine atoms in the molecule, such as ethyl (meth) acrylate, methyl? -Trifluoromethacrylate and ethyl? -Trifluoromethacrylate; (Meth) acrylic acid having at least three fluorine atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 14 carbon atoms, a fluorocycloalkyl group or a fluoroalkylene group having at least two fluorine atoms and at least two fluorine-containing (meth) acryloyloxy groups Ester compounds and the like.
상기 열경화되는 극성기로서 바람직한 것은, 예를 들면 수산기, 카르복실기, 아미노기, 에폭시기 등의 수소 결합 형성기이다. 이들은, 도막과의 밀착성뿐만 아니라, 실리카 등의 무기 초미립자와의 친화성도 우수하다. 열경화성 극성기를 갖는 중합성 화합물로서는, 예를 들면 4-플루오로에틸렌-퍼플루오로알킬비닐에테르 공중합체; 플루오로에틸렌-탄화수소계 비닐에테르 공중합체; 에폭시, 폴리우레탄, 셀룰로오스, 페놀, 폴리이미드 등의 각 수지의 불소 변성품 등을 들 수 있다.Preferred examples of the thermosetting polar group include a hydrogen bond forming group such as a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, and an epoxy group. These are excellent not only in adhesion to the coating film but also in affinity with inorganic ultrafine particles such as silica. As the polymerizable compound having a thermosetting polar group, for example, a 4-fluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer; Fluoroethylene-hydrocarbon-based vinyl ether copolymers; Fluorine-modified products of various resins such as epoxy, polyurethane, cellulose, phenol, and polyimide.
상기 전리 방사선에 의해 경화되는 관능기와 열경화되는 극성기를 겸비하는 중합성 화합물로서는, 아크릴 또는 메타크릴산의 부분 및 완전 불소화 알킬, 알케닐, 아릴에스테르류, 완전 또는 부분 불소화 비닐에테르류, 완전 또는 부분 불소화 비닐에스테르류, 완전 또는 부분 불소화 비닐케톤류 등을 예시할 수 있다.Examples of the polymerizable compound having a polar group capable of being thermally cured by a functional group cured by the ionizing radiation include acrylic or methacrylic acid moieties and fully fluorinated alkyl, alkenyl, aryl esters, fully or partially fluorinated vinyl ethers, Partially-fluorinated vinyl esters, fully or partially fluorinated vinyl ketones, and the like.
또한, 불소계 수지로서는, 예를 들면 다음과 같은 것을 들 수 있다.Examples of the fluorine-based resin include the following.
상기 전리 방사선 경화성기를 갖는 중합성 화합물의 불소 함유 (메트)아크릴레이트 화합물을 적어도 1종류 포함하는 단량체 또는 단량체 혼합물의 중합체; 상기 불소 함유 (메트)아크릴레이트 화합물 중 적어도 1종류와, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 프로필(메트)아크릴레이트, 부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트와 같은 분자 중에 불소 원자를 포함하지 않는 (메트)아크릴레이트 화합물과의 공중합체; 플루오로에틸렌, 불화비닐리덴, 트리플루오로에틸렌, 클로로트리플루오로에틸렌, 3,3,3-트리플루오로프로필렌, 1,1,2-트리클로로-3,3,3-트리플루오로프로필렌, 헥사플루오로프로필렌과 같은 불소 함유 단량체의 단독 중합체 또는 공중합체 등. 이들 공중합체에 실리콘 성분을 함유시킨 실리콘 함유 불화비닐리덴 공중합체도 사용할 수 있다. 이 경우의 실리콘 성분으로서는, (폴리)디메틸실록산, (폴리)디에틸실록산, (폴리)디페닐실록산, (폴리)메틸페닐실록산, 알킬 변성 (폴리)디메틸실록산, 아조기 함유 (폴리)디메틸실록산, 디메틸실리콘, 페닐메틸실리콘, 알킬ㆍ아르알킬 변성 실리콘, 플루오로 실리콘, 폴리에테르 변성 실리콘, 지방산에스테르 변성 실리콘, 메틸수소 실리콘, 실라놀기 함유 실리콘, 알콕시기 함유 실리콘, 페놀기 함유 실리콘, 메타크릴 변성 실리콘, 아크릴 변성 실리콘, 아미노 변성 실리콘, 카르복실산 변성 실리콘, 카르비놀 변성 실리콘, 에폭시 변성 실리콘, 머캅토 변성 실리콘, 불소 변성 실리콘, 폴리에테르 변성 실리콘 등이 예시된다. 그 중에서도, 디메틸실록산 구조를 갖는 것이 바람직하다.A polymer of a monomer or monomer mixture containing at least one fluorine-containing (meth) acrylate compound of the polymerizable compound having an ionizing radiation curable group; (Meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (Meth) acrylate compounds which do not contain a fluorine atom in the molecule such as acrylate; Fluoroethylene, vinylidene fluoride, trifluoroethylene, chlorotrifluoroethylene, 3,3,3-trifluoropropylene, 1,1,2-trichloro-3,3,3-trifluoropropylene, Homopolymers or copolymers of fluorine-containing monomers such as hexafluoropropylene. Silicon-containing vinylidene fluoride copolymers containing a silicone component in these copolymers may also be used. Examples of the silicone component in this case include (poly) dimethylsiloxane, (poly) diethylsiloxane, (poly) diphenylsiloxane, (poly) methylphenylsiloxane, alkyl modified (poly) dimethylsiloxane, azo group- A silicon-containing silicon, an alkoxy group-containing silicone, a phenol group-containing silicone, a methacryl-modified silicone, an alkylaryl-modified silicone, a fluoro silicone, a polyether-modified silicone, a fatty acid ester- , Acryl modified silicone, amino modified silicone, carboxylic acid modified silicone, carbinol modified silicone, epoxy modified silicone, mercapto modified silicone, fluorine modified silicone, polyether modified silicone and the like. Among them, those having a dimethylsiloxane structure are preferable.
또한, 이하와 같은 화합물을 포함하여 이루어지는 비중합체 또는 중합체도, 불소계 수지로서 사용할 수 있다. 즉, 분자 중에 적어도 1개의 이소시아나토기를 갖는 불소 함유 화합물과, 아미노기, 히드록실기, 카르복실기와 같은 이소시아나토 기와 반응하는 관능기를 분자 중에 적어도 1개 갖는 화합물을 반응시켜 얻어지는 화합물; 불소 함유 폴리에테르폴리올, 불소 함유 알킬폴리올, 불소 함유 폴리에스테르폴리올, 불소 함유 ε-카프로락톤 변성 폴리올과 같은 불소 함유 폴리올과, 이소시아나토기를 갖는 화합물을 반응시켜 얻어지는 화합물 등을 사용할 수 있다.In addition, a non-polymer or a polymer comprising the following compounds can also be used as the fluorine resin. That is, a compound obtained by reacting a fluorine-containing compound having at least one isocyanato group in a molecule with a compound having at least one functional group reactive with an isocyanato group such as an amino group, a hydroxyl group or a carboxyl group in a molecule; A compound obtained by reacting a fluorine-containing polyol such as a fluorine-containing polyether polyol, a fluorine-containing alkylpolyol, a fluorine-containing polyesterpolyol and a fluorine-containing? -Caprolactone-modified polyol with a compound having an isocyanato group.
또한, 저굴절률층 형성용 조성물은, 상기한 불소 원자를 갖는 중합성 화합물이나 중합체와 함께, 상기에 기재한 바와 같은 각 열가소성 수지를 함유해도 된다. 또한, 반응성기 등을 경화시키기 위한 경화제, 도포 시공성을 향상시키거나, 방오성을 부여시키거나 하기 위해서, 각종 첨가제, 용제를 적절히 사용할 수 있다.The composition for forming a low refractive index layer may contain the thermoplastic resin as described above together with the above-mentioned polymerizable compound or polymer having a fluorine atom. In addition, various additives and solvents can be suitably used to improve the curing agent for curing the reactive group or the like, the application workability, or the antifouling property.
상기 저굴절률층의 형성에 있어서는, 상기 저굴절률층 형성용 조성물의 점도를 바람직한 도포성이 얻어지는 0.5 내지 5m㎩ㆍs(25℃), 바람직하게는 0.7 내지 3m㎩ㆍs(25℃)의 범위의 것으로 하는 것이 바람직하다. 가시광선의 우수한 반사 방지층을 실현할 수 있고, 또한, 균일하고 도포 불균일이 없는 박막을 형성할 수 있고, 또한, 밀착성이 특히 우수한 저굴절률층을 형성할 수 있다.In forming the low refractive index layer, the viscosity of the composition for forming a low refractive index layer is preferably in the range of 0.5 to 5 mPa ㆍ (25 캜), preferably 0.7 to 3 mPa ㆍ (25 캜) . It is possible to realize an excellent antireflection layer of visible light and to form a thin film which is uniform and free from coating irregularities and can form a low refractive index layer with particularly excellent adhesion.
수지의 경화 수단은, 전술한 하드 코트층에 있어서의 경화 수단과 마찬가지이어도 된다. 경화 처리를 위해서 가열 수단이 이용되는 경우에는, 가열에 의해, 예를 들면 라디칼을 발생하여 중합성 화합물의 중합을 개시시키는 열 중합 개시제가 저굴절률층 형성용 조성물에 첨가되는 것이 바람직하다.The curing means of the resin may be the same as the curing means in the above-mentioned hard coat layer. When a heating means is used for the curing treatment, it is preferable that, for example, a thermal polymerization initiator which generates radicals to initiate polymerization of the polymerizable compound by heating is added to the composition for forming a low refractive index layer.
본 발명의 광학 적층체는, 전체 광선 투과율이 80% 이상인 것이 바람직하다. 80% 미만이면, 화상 표시 장치에 장착한 경우에 있어서, 색 재현성이나 시인성을 손상시킬 우려가 있는 것 외에, 원하는 콘트라스트가 얻어지지 않을 우려가 있다. 상기 전체 광선 투과율은 90% 이상인 것이 보다 바람직하다. 헤이즈는 0.8% 이하인 것이 바람직하고, 0.5% 이하인 것이 더 바람직하다.The optical laminate of the present invention preferably has a total light transmittance of 80% or more. If it is less than 80%, there is a fear that the color reproducibility and visibility may be impaired in the case of being mounted on the image display apparatus, and there is a possibility that the desired contrast may not be obtained. The total light transmittance is more preferably 90% or more. The haze is preferably 0.8% or less, more preferably 0.5% or less.
상기 전체 광선 투과율은, 헤이즈미터(무라까미 시끼사이 기쥬쯔 겡뀨죠제, 제품 번호; HM-150)를 사용하여 JIS K-7361에 준거한 방법에 의해 측정할 수 있다.The total light transmittance can be measured by a method in accordance with JIS K-7361 using a haze meter (Murakami Shikigi Co., Ltd., product number: HM-150).
또한, 본 발명의 광학 적층체는, 헤이즈가 1% 이하인 것이 바람직하다. 1% 이하이면, 원하는 광학 특성이 얻어지고, 본 발명의 광학 적층체를 화상 표시 표면에 설치하였을 때의 광학 특성의 열화가 없다.The optical laminate of the present invention preferably has a haze of 1% or less. If it is 1% or less, desired optical characteristics are obtained, and there is no deterioration in optical characteristics when the optical laminate of the present invention is provided on the image display surface.
상기 헤이즈는, 헤이즈미터(무라까미 시끼사이 기쥬쯔 겡뀨죠제, 제품 번호; HM-150)를 사용하여 JIS K-7136에 준거한 방법에 의해 측정할 수 있다.The haze can be measured by a method in accordance with JIS K-7136 using a haze meter (Murakami Shikigi Co., Ltd., product number: HM-150).
본 발명의 편광판은, 편광막의 적어도 한쪽 면에 본 발명의 광학 적층체를 적층하여 이루어진다.The polarizing plate of the present invention is formed by laminating the optical laminate of the present invention on at least one surface of a polarizing film.
상기 편광막으로서는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 요오드 등에 의해 염색하고, 연신한 폴리비닐알코올 필름, 폴리비닐포르말 필름, 폴리비닐아세탈 필름, 에틸렌-아세트산 비닐 공중합체계 비누화 필름 등을 사용할 수 있다. 상기 편광막과 상기 광학 적층체의 라미네이트 처리에 있어서는, 아크릴 기재에 비누화 처리를 행하는 것이 바람직하다. 비누화 처리에 의해, 접착성이 양호해지고 대전 방지 효과도 얻을 수 있다.The polarizing film is not particularly limited, and for example, a stretched polyvinyl alcohol film, a polyvinyl formal film, a polyvinyl acetal film, and an ethylene-vinyl acetate copolymerization system saponified film can be used which are dyed with iodine or the like . In the lamination treatment of the polarizing film and the optical laminate, it is preferable to saponify the acrylic base material. By the saponification treatment, the adhesiveness is improved and an antistatic effect can be obtained.
본 발명은, 상기 광학 적층체 및 상기 편광판 중 적어도 한쪽을 구비하여 이루어지는 화상 표시 장치도 제공한다.The present invention also provides an image display apparatus comprising at least one of the optical laminate and the polarizer.
상기 화상 표시 장치로서는, 텔레비전, 컴퓨터, LCD, PDP, FED, ELD(유기 EL, 무기 EL), CRT, 태블릿 PC, 전자 페이퍼, 휴대 전화 등을 들 수 있고, 또한, 화상 표시 장치 등에 사용되는 터치 패널에도 적절하게 사용할 수 있다.Examples of the image display device include a television, a computer, an LCD, a PDP, an FED, an ELD (organic EL, inorganic EL), a CRT, a tablet PC, an electronic paper, a mobile phone, It can also be applied to panels.
상기의 대표적인 예인 LCD는, 투과성 표시체와, 상기 투과성 표시체를 배면으로부터 조사하는 광원 장치를 구비하여 이루어지는 것이다. 본 발명의 화상 표시 장치가 LCD인 경우, 이 투과성 표시체의 표면에, 본 발명의 광학 적층체 및 본 발명의 편광판 중 적어도 한쪽이 형성되어 이루어지는 것이다. 단, 터치 패널을 탑재한 화상 표시 장치의 경우, 표면에 한하지 않고, 터치 패널을 구성하는 투명 기판으로서도 사용할 수 있다.The LCD, which is a typical example of the above, comprises a transmissive display body and a light source device for irradiating the transmissive display body from the back side. When the image display apparatus of the present invention is an LCD, at least one of the optical laminate of the present invention and the polarizing plate of the present invention is formed on the surface of the transmissive display body. However, in the case of an image display apparatus having a touch panel mounted thereon, it can be used not only as a surface but also as a transparent substrate constituting a touch panel.
상기의 대표적인 예인 LCD는, 투과성 표시체와, 상기 투과성 표시체를 배면으로부터 조사하는 광원 장치를 구비하여 이루어지는 것이다. 본 발명의 화상 표시 장치가 LCD인 경우, 이 투과성 표시체의 표면에, 본 발명의 광학 적층체 및 본 발명의 편광판 중 적어도 한쪽이 형성되어 이루어지는 것이다. 또한, 터치 패널을 탑재한 화상 표시 장치의 경우나 LCD에서도 경우에 따라서, 표면에 한하지 않고, 장치 내부를 구성하는 투명 기판 등으로서도 사용할 수 있다.The LCD, which is a typical example of the above, comprises a transmissive display body and a light source device for irradiating the transmissive display body from the back side. When the image display apparatus of the present invention is an LCD, at least one of the optical laminate of the present invention and the polarizing plate of the present invention is formed on the surface of the transmissive display body. In addition, in the case of an image display device on which a touch panel is mounted or in an LCD, it may be used not only as a surface but also as a transparent substrate constituting the inside of the device.
본 발명의 액정 표시 장치에 있어서는, 광원 장치의 광원은 광학 적층체나 편광판의 하측으로부터 조사된다. 또한, 액정 표시 소자와 편광판 사이에, 위상차판이 삽입되어도 된다. 이 액정 표시 장치의 각 층 사이에는 필요에 따라서 접착제층이 형성되어도 된다.In the liquid crystal display device of the present invention, the light source of the light source device is irradiated from the lower side of the optical laminate or the polarizing plate. Further, a phase difference plate may be inserted between the liquid crystal display element and the polarizing plate. An adhesive layer may be formed between each layer of the liquid crystal display device, if necessary.
여기서, 본 발명이 상기 광학 적층체를 갖는 액정 표시 장치인 경우, 상기 액정 표시 장치에 있어서, 백라이트 광원으로서는 특별히 한정되지 않지만, 백색 발광 다이오드(백색 LED)인 것이 바람직하고, 본 발명의 화상 표시 장치는, 백라이트 광원으로서 백색 발광 다이오드를 구비한 VA 모드 또는 IPS 모드의 액정 표시 장치인 것이 바람직하다.In the case where the present invention is a liquid crystal display device having the optical laminate, the backlight light source in the liquid crystal display device is not particularly limited, but is preferably a white light emitting diode (white LED) Is preferably a VA mode or IPS mode liquid crystal display device having a white light emitting diode as a backlight source.
상기 백색 LED란, 형광체 방식, 즉 화합물 반도체를 사용한 청색광 또는 자외광을 발하는 발광 다이오드와 형광체를 조합함으로써 백색을 발하는 소자이다. 그 중에서도, 화합물 반도체를 사용한 청색 발광 다이오드와 이트륨ㆍ알루미늄ㆍ가닛계 황색 형광체를 조합한 발광 소자를 포함하여 이루어지는 백색 발광 다이오드는, 연속적이며 폭넓은 발광 스펙트럼을 갖고 있기 때문에 반사 방지 성능 및 명소 콘트라스트의 개선에 유효함과 함께, 발광 효율도 우수하기 때문에, 본 발명에 있어서의 상기 백라이트 광원으로서 적합하다. 또한, 소비 전력이 작은 백색 LED를 광범위하게 이용 가능하게 되므로, 에너지 절약화의 효과도 발휘하는 것이 가능하게 된다.The white LED is a device that emits white light by combining a phosphor or a light emitting diode that emits blue light or ultraviolet light using a phosphor compound, that is, a compound semiconductor. Among them, a white light emitting diode including a light emitting element comprising a combination of a blue light emitting diode using a compound semiconductor and a yttrium aluminum / garnet yellow phosphor has a continuous and broad emission spectrum, and therefore has excellent antireflection performance and spot contrast And it is also suitable as the backlight light source in the present invention because the light emission efficiency is also excellent. In addition, since a white LED having a small power consumption can be widely used, the effect of energy saving can also be exhibited.
또한, 상기 VA(Vertical Alignment) 모드란, 전압 무인가 시에 액정 분자가 액정 셀의 기판에 수직하게 되도록 배향되어 암표시를 나타내고, 전압의 인가에 의해 액정 분자가 쓰러짐으로써 명표시를 나타내는 동작 모드이다.The VA (Vertical Alignment) mode is an operation mode in which the liquid crystal molecules are oriented so that the liquid crystal molecules are perpendicular to the substrate of the liquid crystal cell when no voltage is applied and the dark display is indicated by the collapse of the liquid crystal molecules by application of a voltage .
또한, 상기 IPS(In-Plane Switching) 모드란, 액정 셀의 한쪽 기판에 설치한 빗형 전극쌍에 인가된 가로 방향의 전계에 의해, 액정을 기판 면내에서 회전시켜 표시를 행하는 방식이다.The IPS (In-Plane Switching) mode is a mode in which the liquid crystal is rotated in the plane of the substrate by the electric field in the horizontal direction applied to the interdigital electrode pairs provided on one substrate of the liquid crystal cell to perform display.
상기 화상 표시 장치인 PDP는, 표면에 전극을 형성한 표면 유리 기판과, 당해 표면 유리 기판에 대향하여 사이에 방전 가스가 봉입되어 배치되고, 전극 및, 미소한 홈을 표면에 형성하고, 홈 내에 적색, 녹색, 청색의 형광체층을 형성한 배면 유리 기판을 구비하여 이루어지는 것이다. 본 발명의 화상 표시 장치가 PDP인 경우, 상기 표면 유리 기판의 표면, 또는 그 전방면판(유리 기판 또는 필름 기판)에 상술한 광학 적층체를 구비하는 것이기도 하다.Wherein the PDP as the image display device comprises a surface glass substrate having electrodes formed on the surface thereof, and a discharge gas is disposed in confrontation with the surface glass substrate, electrodes and fine grooves are formed on the surface, And a rear glass substrate on which red, green and blue phosphor layers are formed. When the image display apparatus of the present invention is a PDP, the above-described optical laminate may be provided on the surface of the surface glass substrate or on the front surface plate (glass substrate or film substrate) thereof.
상기 화상 표시 장치는, 전압을 가하면 발광하는 황화아연, 디아민류 물질 : 발광체를 유리 기판에 증착하고, 기판에 가하는 전압을 제어하여 표시를 행하는 ELD 장치, 또는, 전기 신호를 광으로 변환하고, 인간의 눈으로 보이는 상을 발생시키는 CRT 등의 화상 표시 장치이어도 된다. 이 경우, 상기와 같은 각 표시 장치의 최표면 또는 그 전방면판의 표면에 상술한 광학 적층체를 구비하는 것이다.The image display device includes an ELD device for depositing zinc sulfide, a diamine substance, and a light emitting substance, which emit light when a voltage is applied, on a glass substrate and controlling the voltage applied to the substrate to perform display, It may be an image display device such as a CRT that generates a visible image of the image. In this case, the above-mentioned optical laminate is provided on the outermost surface of each display device or on the surface of the front surface plate.
[실시예] [Example]
다음에, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이 예에 의해 전혀 한정되지 않는다.Next, the present invention will be described in more detail by way of examples, but the present invention is not limited at all by this example.
실시예 1 Example 1
(아크릴 기재(1)의 제조)(Preparation of acrylic base material (1)) [
메타크릴산메틸 및 아크릴산메틸의 공중합체(유리 전이점 : 130℃)를 포함하여 이루어지는 펠릿을, 용융 혼련하고, 필터를 통하여 이물을 제거하면서, 용융 압출 방법에 의해, 다이의 간극으로부터 중합체를 압출하였다. 계속해서, 중합체를 냉각하면서, 세로 방향으로 1.2배로 연신하고, 그 후, 가로 방향으로 1.5배로 연신하여, 두께 40㎛의 아크릴 기재(1)를 얻었다.The polymer is extruded from the gap of the die by a melt extrusion method while melting and kneading the pellets comprising a copolymer of methyl methacrylate and methyl acrylate (glass transition point: 130 ° C) and removing foreign matter through a filter Respectively. Subsequently, the polymer was stretched 1.2 times in the longitudinal direction while cooling the polymer, and then stretched 1.5 times in the transverse direction to obtain an
(프라이머층 형성용 조성물의 제조)(Preparation of composition for forming primer layer)
테트라에틸렌글리콜디아크릴레이트(도아 고세 가부시끼가이샤제, 「M240」) 100질량부 및 개시제(바스프(BASF)사제, 「Irg184」) 4질량부를, 메틸이소부틸케톤 150질량부에 용해시켜, 프라이머층 형성용 조성물을 제조하였다.100 parts by mass of tetraethylene glycol diacrylate ("M240" available from Toagosei Co., Ltd.) and 4 parts by mass of an initiator ("Irg184" manufactured by BASF) were dissolved in 150 parts by mass of methyl isobutyl ketone, To prepare a composition for forming a layer.
또한, 제1 표에 프라이머층 형성용 조성물의 조성을 나타낸다.The composition of the composition for forming a primer layer is shown in Table 1.
(하드 코트층 형성용 조성물1의 제조)(Production of
디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(닛본 가야꾸 가부시끼가이샤제) 50질량부, 우레탄아크릴레이트(닛본 고세 가가꾸 고교 가부시끼가이샤제, 「UV1700B」, 10관능, 중량 평균 분자량 : 2, 000) 50질량부 및 개시제(바스프(BASF)사제, 「Irg184」) 4질량부를, 메틸이소부틸케톤 150질량부에 용해시켜, 하드 코트층 형성용 조성물1을 제조하였다.50 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha), 50 parts by mass of urethane acrylate ("UV1700B", 10 functionalities, weight average molecular weight: 2, 000, manufactured by Nippon Gosei Chemical Industry Co., And 4 parts by mass of an initiator ("Irg184" manufactured by BASF) were dissolved in 150 parts by mass of methyl isobutyl ketone to prepare a
(광학 적층체의 제조) (Production of optical laminate)
아크릴 기재 상에, 다이 코트법에 의해, 프라이머층 형성용 조성물을 도포 시공하고, 70℃에서 1분간 건조시켜 용제를 증발시켜, 건조 후의 도포량이 4g/㎡(건조 막 두께 3.5㎛)로 되도록 프라이머층을 형성하였다. 얻어진 도막에, 조사량 70mJ/㎠로 자외선을 조사하여 도막을 반경화(하프 큐어 상태)로 하였다.A composition for forming a primer layer was applied on an acrylic base material by a die coating method and dried at 70 DEG C for 1 minute to evaporate the solvent so that the coating amount after drying was 4 g / Layer. The obtained coating film was irradiated with ultraviolet rays at an irradiation dose of 70 mJ / cm2 to make the coating film semi-cured (Half Cure state).
다음에, 상술한 바와 같이 하여 형성한 프라이머층 상에, 다이 코트 방법에 의해, 하드 코트층 형성용 조성물1을 도포 시공하고, 70℃에서 1분간 건조시켜 용제를 증발시켜, 건조 후의 도포량이 8g/㎡(건조 막 두께 7㎛)로 되도록 하드 코트층1을 형성하였다. 얻어진 도막을, 자외선 조사량 200mJ/㎠로 자외선을 조사하여 도막을 완전 경화(풀 큐어 상태)시켜, 광학 적층체를 얻었다.Next, the hard coat
실시예 2 내지 16, 비교예 1 내지 9 및 참고예 1 내지 7Examples 2 to 16, Comparative Examples 1 to 9 and Reference Examples 1 to 7
프라이머층 형성용 조성물의 조성 및 건조 온도를 제1 표 및 제2 표에 나타내는 것으로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 광학 적층체를 얻었다.An optical laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition and the drying temperature of the composition for forming the primer layer were changed to those shown in Tables 1 and 2.
실시예 17 Example 17
하드 코트층 형성용 조성물로서, 상술한 하드 코트층 형성용 조성물1 대신에, 이하와 같이 하여 제조한 하드 코트층 형성용 조성물2를 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 광학 적층체를 얻었다.An optical laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the hard coat
(하드 코트층 형성용 조성물2의 제조) (Preparation of
디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(닛본 가야꾸 가부시끼가이샤제) 30질량부, 우레탄아크릴레이트(아라까와 가가꾸 고교 가부시끼가이샤제, 「BS577」, 6관능, 중량 평균 분자량 : 1,000) 46질량부, 단량체(도아 고세 가부시끼가이샤제, 「M315」, 3관능) 20질량부, 4급 암모늄염 함유 올리고머(대성 파인케미컬 가부시끼가이샤제, 「1SX3000」) 4질량부 및 개시제(바스프(BASF)사제, 「Irg184」) 4질량부를, 메틸이소부틸케톤 130질량부 및 N-부탄올 20질량부에 용해시켜, 하드 코트층 형성용 조성물2를 제조하였다.30 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha), 46 parts by mass of urethane acrylate ("BS577", 6-functional group, weight average molecular weight: 1,000, manufactured by Arakawa Chemical Industries, , 4 parts by mass of a quaternary ammonium salt-containing oligomer ("1SX3000" manufactured by Daesung Fine Chemical Co., Ltd.) and 20 parts by mass of an initiator (BASF), 20 parts by mass of a monomer ("M315", trifunctional, manufactured by Toagosei Co., 4 parts by mass of "Irg184" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) were dissolved in 130 parts by mass of methyl isobutyl ketone and 20 parts by mass of N-butanol to prepare a
실시예 17에서 얻어진 광학 적층체는, 하드 코트층 중에 대전 방지제가 포함되므로, 대전 방지성을 갖는다.The optical laminate obtained in Example 17 has an antistatic property because it contains an antistatic agent in the hard coat layer.
실시예 1 내지 17, 비교예 1 내지 9 및 참고예 1 내지 7에서 얻어진 광학 적층체에 대하여, 하기의 평가를 행하였다. 결과를 제1 표 및 제2 표에 나타낸다.The following evaluations were carried out on the optical laminate obtained in Examples 1 to 17, Comparative Examples 1 to 9, and Reference Examples 1 to 7. The results are shown in Tables 1 and 2.
(밀착성) (Adhesion)
JIS K 5600에 기초하여, 광학 적층체의 하드 코트층에, 1㎜ 사각형으로 합계 100개의 바둑판눈을 형성하고, 니치반(주)제 공업용 24㎜ 셀로판 테이프(등록 상표)를 사용하여 5회 연속 박리 시험을 행하여, 남아 있는 모눈의 수량을 계측하였다.On the basis of JIS K 5600, a total of 100 checkerboard eyes were formed in a 1 mm square on the hard coat layer of the optical laminate, and a total of five checkerboard eyes were formed using a 24 mm cellophane tape (registered trademark) manufactured by Nichiban Co., Ltd. for five consecutive The peel test was conducted to measure the amount of the remaining grid.
박리되지 않은 모눈의 수에 따라서, 이하와 같이 평가하였다. ○ 레벨 이상이 제품으로서 양호한 것이다.According to the number of ungrooved grids, the following evaluation was made. ○ The level above is good as a product.
A : 90-100 A: 90-100
B : 80-89 B: 80-89
C : 50-79 C: 50-79
D : 50 미만 D: less than 50
(간섭 줄무늬) (Interference stripes)
광학 적층체의 하드 코트층과 반대측의 면에 흑색의 테이프를 접합한 후, 3파장관 형광등 하에서 육안으로 간섭 줄무늬의 유무의 평가를 행하였다. 간섭 줄무늬를 시인할 수 없는 경우를 A로 하고, 흐리게 시인할 수 있었던 경우를 B로 하고, 시인할 수 있었던 경우를 C로 하였다.After a black tape was bonded to the surface of the optical laminate opposite to the hard coat layer, the presence or absence of interference fringe was visually observed under a three-wavelength tube fluorescent lamp. A when the interference fringe can not be seen, A when the fringe was visible, B when the fringe was visible, and C when the fringe was visible.
(제조 가공성) (Manufacturing processability)
프라이머층 형성용 조성물을 아크릴 기재 상에 도포하고 건조한 단계에서, 인장 시험을 행하였다. 인장 정도는 2.2N/㎝로 하였다.The composition for forming a primer layer was applied on an acrylic substrate and dried, thereby performing a tensile test. The degree of tension was 2.2 N / cm.
그 결과, 인장하였을 때 끊어지지 않는 경우를 「양호」로, 조금이라도 끊김이 발생하여, 제조 가공상 문제가 발생하는 것을 「불량」으로 평가하였다.As a result, it was evaluated as " defective " when a problem occurred in the manufacturing process due to a slight break even when the tension was not broken when the tension was " good ".
제조 가공성이 「불량」으로 되는 광학 적층체는, 기재 자체의 물성이 약체화되어 있으므로 프라이머층, 하드 코트층 등을 경화시켜도 연필 경도(JIS K5600-5-4)가 2H 이상 나오지 않는다.In the optical laminate having poor manufacturing processability, the physical properties of the substrate itself are weakened, so that even if the primer layer, the hard coat layer and the like are cured, the pencil hardness (JIS K5600-5-4) does not exceed 2H.
(표면 저항) (Surface resistance)
상기 실시예 및 비교예에서 제작한 각각의 광학 적층체에 대하여, 표면 저항값 측정기(하이레스터 HT-210, 미쓰비시유카 가부시끼가이샤제)를 사용하여 표면 저항값을 측정하였다.The surface resistivity of each of the optical stacks prepared in the above examples and comparative examples was measured using a surface resistivity meter (Hirestr HT-210, manufactured by Mitsubishi Yuka Co., Ltd.).
PEG디(메트)아크릴레이트1 : 테트라에틸렌글리콜디아크릴레이트(도아 고세 가부시끼가이샤제, 「M240」, 분자량 : 286)PEG di (meth) acrylate 1: tetraethylene glycol diacrylate ("M240" manufactured by Toagosei Co., Ltd., molecular weight: 286)
PEG디(메트)아크릴레이트2 : 트리에틸렌글리콜디메타아크릴레이트(교에샤 가가꾸 가부시끼가이샤제, 「라이트에스테르 3EG」, 분자량 : 270)PEG di (meth) acrylate 2: triethylene glycol dimethacrylate ("Light Ester 3EG", molecular weight: 270, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
PEG디(메트)아크릴레이트3 : 테트라에틸렌글리콜디메타크릴레이트(교에샤 가가꾸 가부시끼가이샤제, 「라이트에스테르 4EG」, 분자량 : 314)PEG di (meth) acrylate 3: tetraethylene glycol dimethacrylate ("Light Ester 4EG", molecular weight: 314, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
말레이미드 중합체 : (도아 고세 가부시끼가이샤제, 「UVT302」)Maleimide polymer: (" UVT302 ", manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
PETA : 펜타에리트리톨트리아크릴레이트 PETA: pentaerythritol triacrylate
다관능 중합체 : 아라까와 가가꾸 고교제, 「BS371」 Multifunctional polymer: "BS371" manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.
다관능 올리고머 : 다이이찌 고교 세야꾸 가부시끼가이샤제, 「R1403」Polyfunctional oligomer: manufactured by Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., " R1403 "
단량체1 : 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 닛본 가야꾸 가부시끼가이샤제 Monomer 1: dipentaerythritol hexaacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
단량체2 : o-페닐페놀 EO 변성 아크릴레이트, 신나까무라 가가꾸 고교 가부시끼가이샤제 Monomer 2: o-phenylphenol EO-modified acrylate, Shin-Nakamura Kagaku Kogyo Co., Ltd.
4급 암모늄염 : 콜코트사제, 「콜코트 NR121X」Quaternary ammonium salt: " Colcoat NR121X "
ATO 입자 : 안티몬 도프 산화주석의 메틸이소부틸케톤 분산액 미쯔비시 머테리얼 덴시 가세이 가부시끼가이샤제, 「EPT5DL2MIBK」ATO particles: Methylisobutyl ketone dispersion of antimony doped tin oxide "EPT5DL2MIBK" manufactured by Mitsubishi Materials Denshi Kasei Kabushiki Kaisha
반응성 실리카 : 닛산 가가꾸 고교 가부시끼가이샤제, 「MIBKSD」, 평균 입경 : 12㎚Reactive silica: "MIBKSD" manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., average particle diameter: 12 nm
지르코니아 : 산화지르코늄의 MEK 분산액(고형분 30% 분산액, 사까이 가가꾸 고교제, 「SZR-K 4㎚」)Zirconia: MEK dispersion of zirconium oxide (
MIBK : 메틸이소부틸케톤MIBK: methyl isobutyl ketone
PGME : 프로필렌글리콜모노메틸에테르PGME: Propylene glycol monomethyl ether
MEK : 메틸에틸케톤 MEK: methyl ethyl ketone
또한, 상기 실시예 1 내지 17에 있어서의 광학 적층체의 제조에 있어서는, 이하의 제1 공정 내지 제5 공정을 거치고 있다.Further, in the production of the optical laminate in Examples 1 to 17, the following first through fifth processes are carried out.
(제1 공정) (First step)
폴리알킬렌글리콜 디(메트)아크릴레이트를 50% 이상 포함하는 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A를 아크릴 기재에 도포한다.An ionizing radiation curable resin composition A containing 50% or more of a polyalkylene glycol di (meth) acrylate is applied to an acrylic substrate.
(제2 공정) (Second Step)
아크릴 기재가, 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A 중의 용매, 단량체 등에 의해 팽윤한다.The acrylic base material is swelled by the solvent, the monomer, and the like in the ionizing radiation curable resin composition A.
(제3 공정) (Third step)
적절한 건조 온도에서 용매를 건조하면서, 아크릴 기재가 팽윤함과 함께, 아크릴 기재 중의 재료 성분과 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A 중의 성분이 서로 이동함으로써 아크릴 기재/프라이머층 계면에 요철을 형성한다.While the solvent is dried at an appropriate drying temperature, the acrylic base material is swollen and the material components in the acrylic base material and the components in the ionizing radiation curable resin composition A move with each other to form irregularities at the acrylic base / primer layer interface.
(제4 공정) (Fourth step)
전리 방사선을 조사하여 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A를 경화하여 프라이머층을 경화한다.The ionizing radiation curable resin composition A is cured by irradiating ionizing radiation to cure the primer layer.
(제5 공정) (Step 5)
프라이머층 상에, 별도로 전리 방사선 경화성 수지 조성물 B를 도포, 건조하고 전리 방사선을 조사하여 경화하여, 하드 코트층을 형성한다.The ionizing radiation curable resin composition B is separately applied onto the primer layer, dried, and irradiated with ionizing radiation to be hardened to form a hard coat layer.
이 때문에, 본 발명의 과제인 아크릴 기재가 가공 시에 끊어지지 않고, 간섭 줄무늬 방지성, 밀착성이 양호하고, 또한 연필 경도도 2H 이상인 광학 적층체가 얻어졌다.For this reason, an optical laminate in which the acrylic base material, which is an object of the present invention, is not broken at the time of processing, good interference fringe pattern adhesion, good adhesion, and pencil hardness of 2H or more is obtained.
본 발명의 광학 적층체는, 음극선관 표시 장치(CRT), 액정 디스플레이(LCD), 플라즈마 디스플레이(PDP), 일렉트로 루미네센스 디스플레이(ELD), 터치 패널, 전자 페이퍼, 휴대 전화 등의 디스플레이, 특히 고정밀화 디스플레이에 적절하게 사용할 수 있다.INDUSTRIAL APPLICABILITY The optical laminate of the present invention can be applied to a display such as a cathode ray tube display (CRT), a liquid crystal display (LCD), a plasma display (PDP), an electroluminescence display (ELD), a touch panel, And can be suitably used for a high-definition display.
1 : 아크릴 기재
2 : 프라이머층
3 : 하드 코트층
4 : 아크릴 기재-프라이머층 계면1: Acrylic substrate
2: Primer layer
3: Hard coat layer
4: Acrylic base-primer layer interface
Claims (13)
상기 프라이머층이 폴리알킬렌글리콜 디(메트)아크릴레이트를 50 내지 100질량%(고형분량) 포함하는 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A의 경화물인 것을 특징으로 하는 광학 적층체.An acrylic base material, and a primer layer in this order,
Wherein the primer layer is a cured product of an ionizing radiation curable resin composition A containing 50 to 100 mass% (solid content) of polyalkylene glycol di (meth) acrylate.
상기 아크릴 기재의 유리 전이점(Tg)이 110 내지 150℃인 광학 적층체.The method according to claim 1,
Wherein the acrylic base has a glass transition point (Tg) of 110 to 150 ° C.
상기 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A에 있어서의 폴리알킬렌글리콜 디(메트)아크릴레이트의 배합량이 70 내지 100질량%(고형분량)인 광학 적층체.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein an amount of the polyalkylene glycol di (meth) acrylate in the ionizing radiation curable resin composition A is 70 to 100 mass% (solid content).
상기 폴리알킬렌글리콜 디(메트)아크릴레이트의 분자량이 180 내지 1,000인 광학 적층체.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the polyalkylene glycol di (meth) acrylate has a molecular weight of 180 to 1,000.
상기 아크릴 기재가 연신 아크릴 기재인 광학 적층체.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the acrylic base material is a stretched acrylic base material.
상기 프라이머층의 아크릴 기재측과는 반대측의 면에 추가로 기능층을 갖는 광학 적층체.3. The method according to claim 1 or 2,
And a functional layer on a surface of the primer layer opposite to the acrylic substrate side.
상기 기능층이 하드 코트층이며, 전리 방사선 경화성 수지 조성물 B의 경화물인 광학 적층체.The method according to claim 6,
Wherein the functional layer is a hard coat layer and is a cured product of the ionizing radiation curable resin composition B.
상기 프라이머층이 기능성 성분을 함유하는 광학 적층체.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the primer layer contains a functional component.
상기 전리 방사선 경화성 수지 조성물 A가, 용매로서 메틸이소부틸케톤, 1-부탄올, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 및 이소프로판올로부터 선택되는 어느 1종 이상을 함유하고, 또한 건조 온도가 40 내지 90℃인 광학 적층체의 제조 방법.12. The method of claim 11,
Wherein the ionizing radiation curable resin composition A contains at least one selected from the group consisting of methyl isobutyl ketone, 1-butanol, propylene glycol monomethyl ether and isopropanol as a solvent, and the drying temperature is 40 to 90 ° C. ≪ / RTI >
상기 프라이머층의 상기 아크릴 기재측과는 반대측의 면에 추가로 전리 방사선 경화성 수지 조성물 B를 도포하고, 건조하고, 경화하여 기능층을 형성하는 광학 적층체의 제조 방법.13. The method according to claim 11 or 12,
Wherein an ionizing radiation curable resin composition (B) is further applied to a surface of the primer layer opposite to the acrylic base side, followed by drying and curing to form a functional layer.
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JPS59109525A (en) * | 1982-12-15 | 1984-06-25 | Dainippon Printing Co Ltd | Printing or painting of acrylic sheet |
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Patent Citations (2)
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---|---|---|---|---|
JP2009052036A (en) | 2007-07-30 | 2009-03-12 | Toray Ind Inc | Acrylic based film, lamination film, and polarization plate |
JP2011128408A (en) | 2009-12-18 | 2011-06-30 | Konica Minolta Opto Inc | Method of manufacturing hard coat film, hard coat film, polarizing plate and image displaying device |
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