JP6413289B2 - Optical laminate and method for producing the same - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 84
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 31
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 174
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 174
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 133
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 110
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 63
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 63
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 claims description 62
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims description 52
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 claims description 13
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 173
- 229940048053 acrylate Drugs 0.000 description 65
- -1 N-substituted maleimide structure Chemical group 0.000 description 39
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 39
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 238000000034 method Methods 0.000 description 30
- 239000010408 film Substances 0.000 description 28
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 27
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 27
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 26
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 25
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 24
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 24
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 22
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 22
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 22
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 19
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 19
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 19
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 17
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 17
- 230000006870 function Effects 0.000 description 16
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 16
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 16
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 13
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 12
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 12
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 10
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 10
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 10
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 9
- 150000002596 lactones Chemical group 0.000 description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 8
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 7
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 7
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N antimony pentoxide Chemical compound O=[Sb](=O)O[Sb](=O)=O LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 6
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 5
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 5
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 5
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 4
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 4
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 4
- 239000002519 antifouling agent Substances 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- KNCYXPMJDCCGSJ-UHFFFAOYSA-N piperidine-2,6-dione Chemical group O=C1CCCC(=O)N1 KNCYXPMJDCCGSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 4
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 4
- 239000012748 slip agent Substances 0.000 description 4
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 3
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 3
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000002981 blocking agent Substances 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 3
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 3
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 3
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 3
- 125000001261 isocyanato group Chemical group *N=C=O 0.000 description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 238000011946 reduction process Methods 0.000 description 3
- 238000011160 research Methods 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 2
- 229920000800 acrylic rubber Polymers 0.000 description 2
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 2
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 2
- BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N edrophonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](C)(C)C1=CC=CC(O)=C1 BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N fluoroethene Chemical group FC=C XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 150000003949 imides Chemical group 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Chemical group 0.000 description 2
- 239000011630 iodine Chemical group 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N methyl pentane Natural products CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920001921 poly-methyl-phenyl-siloxane Polymers 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920001748 polybutylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 2
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 238000009864 tensile test Methods 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 239000011882 ultra-fine particle Substances 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N (4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl) prop-2-enoate Chemical compound C1CC2(C)C(OC(=O)C=C)CC1C2(C)C PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGPPATCNSOSOQH-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,3,4,4-hexafluorobuta-1,3-diene Chemical compound FC(F)=C(F)C(F)=C(F)F LGPPATCNSOSOQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHPRWKJDGHSJMI-UHFFFAOYSA-N 1-adamantyl prop-2-enoate Chemical compound C1C(C2)CC3CC2CC1(OC(=O)C=C)C3 PHPRWKJDGHSJMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 1-morpholin-4-ylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)N1CCOCC1 XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004206 2,2,2-trifluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C(F)(F)F 0.000 description 1
- OVJHMJJVXOJMBB-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-dioxo-3a,4,5,6,7,7a-hexahydroisoindol-2-yl)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C1CCCC2C(=O)N(CCOC(=O)C=C)C(=O)C21 OVJHMJJVXOJMBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVINYQDSSQUKO-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC1=CC=CC=C1 RZVINYQDSSQUKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSYRISKCBOPJRG-UHFFFAOYSA-N 4,5-difluoro-2,2-bis(trifluoromethyl)-1,3-dioxole Chemical compound FC1=C(F)OC(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)O1 YSYRISKCBOPJRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000023514 Barrett esophagus Diseases 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N C60 fullerene Chemical class C12=C3C(C4=C56)=C7C8=C5C5=C9C%10=C6C6=C4C1=C1C4=C6C6=C%10C%10=C9C9=C%11C5=C8C5=C8C7=C3C3=C7C2=C1C1=C2C4=C6C4=C%10C6=C9C9=C%11C5=C5C8=C3C3=C7C1=C1C2=C4C6=C2C9=C5C3=C12 XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical class CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N Lithium ion Chemical class [Li+] HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCXXDZUWBAHYPA-UHFFFAOYSA-N OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.O=C1NC(=O)NC(=O)N1 Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.O=C1NC(=O)NC(=O)N1 QCXXDZUWBAHYPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002042 Silver nanowire Substances 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 description 1
- GHPGOEFPKIHBNM-UHFFFAOYSA-N antimony(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Sb+3].[Sb+3] GHPGOEFPKIHBNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000007860 aryl ester derivatives Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- CHIHQLCVLOXUJW-UHFFFAOYSA-N benzoic anhydride Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OC(=O)C1=CC=CC=C1 CHIHQLCVLOXUJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- CCDWGDHTPAJHOA-UHFFFAOYSA-N benzylsilicon Chemical compound [Si]CC1=CC=CC=C1 CCDWGDHTPAJHOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLIJPAHLBJIQHE-UHFFFAOYSA-N butylphosphane Chemical compound CCCCP DLIJPAHLBJIQHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 1
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005348 fluorocycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910003472 fullerene Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002223 garnet Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene Chemical group FC(F)=C(F)C(F)(F)F HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- NYMPGSQKHIOWIO-UHFFFAOYSA-N hydroxy(diphenyl)silicon Chemical class C=1C=CC=CC=1[Si](O)C1=CC=CC=C1 NYMPGSQKHIOWIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000002608 ionic liquid Substances 0.000 description 1
- 239000011254 layer-forming composition Substances 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- QSZMZKBZAYQGRS-UHFFFAOYSA-N lithium;bis(trifluoromethylsulfonyl)azanide Chemical compound [Li+].FC(F)(F)S(=O)(=O)[N-]S(=O)(=O)C(F)(F)F QSZMZKBZAYQGRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008204 material by function Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-dien-3-one Chemical class C=CC(=O)C=C UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920005906 polyester polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- KRIOVPPHQSLHCZ-UHFFFAOYSA-N propiophenone Chemical class CCC(=O)C1=CC=CC=C1 KRIOVPPHQSLHCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- WXXSNCNJFUAIDG-UHFFFAOYSA-N riociguat Chemical compound N1=C(N)C(N(C)C(=O)OC)=C(N)N=C1C(C1=CC=CN=C11)=NN1CC1=CC=CC=C1F WXXSNCNJFUAIDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 description 1
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- PXQLVRUNWNTZOS-UHFFFAOYSA-N sulfanyl Chemical class [SH] PXQLVRUNWNTZOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- MUTNCGKQJGXKEM-UHFFFAOYSA-N tamibarotene Chemical compound C=1C=C2C(C)(C)CCC(C)(C)C2=CC=1NC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 MUTNCGKQJGXKEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004154 testing of material Methods 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N tetraethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
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- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
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Description
本発明は光学積層体及びその製造方法に関する。 The present invention relates to an optical laminate and a method for producing the same.
画像表示装置において、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、タッチパネルを搭載したＬＣＤ、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）、電子ペーパーなどは、省電力、軽量、薄型等といった特徴を有していることから、従来のブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイに替わり、近年急速に普及している。
このような画像表示装置の表面や内部に用いる光学積層体は、取扱い時に傷が付かないためのハードコート性、静電気の影響をなくすための帯電防止性、指紋の付着による外観不良をなくすための防汚性、写り込み防止のための防眩性、外光の反射を防ぐための反射防止性等の機能が要求されることから、光透過性基材上にハードコート層、帯電防止層、防汚層、防眩層、反射防止層などを、単独あるいは組み合わせて設けることにより、機能を付与することが一般になされている。
例えばＬＣＤにおいては、液晶セルの画像表示面側に偏光素子が配置されており、偏光板保護フィルムとして、光透過性基材上に上記機能層を設けたハードコートフィルムを利用することにより、画像表示面に各種機能を付与することが一般になされている。
In an image display device, a liquid crystal display (LCD), an LCD equipped with a touch panel, electroluminescence (EL), electronic paper, and the like have features such as power saving, light weight, thinness, and the like. ) Instead of display, it has been spreading rapidly in recent years.
The optical laminate used on the surface and inside of such an image display device has a hard coat property to prevent scratches during handling, an antistatic property to eliminate the influence of static electricity, and an appearance defect due to adhesion of fingerprints. Functions such as antifouling, antiglare to prevent reflection, and antireflection to prevent reflection of external light are required, so a hard coat layer, antistatic layer, In general, a function is imparted by providing an antifouling layer, an antiglare layer, an antireflection layer or the like alone or in combination.
For example, in an LCD, a polarizing element is disposed on the image display surface side of a liquid crystal cell, and an image is obtained by using a hard coat film in which the above functional layer is provided on a light-transmitting substrate as a polarizing plate protective film. In general, various functions are given to a display surface.
従来、このようなハードコートフィルムの光透過性基材として、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）に代表されるセルロースエステルからなるフィルムが用いられていた。これは、セルロースエステルが、透明性、光学等方性に優れ、面内にほとんど位相差を持たない（リタデーション値が低い）ため、入射直線偏光の振動方向を変化させることが極めて少なく、液晶表示装置の表示品質への影響が少ないという利点があるためである。また、セルロースエステルは適度な透水性を有することから、光学積層体を用いてなる偏光板を製造した時に、偏光子に残留した水分、光学積層体と偏光板との接着層に残留した水分を、光学積層体を通して乾燥させることができる等の利点もある。 Conventionally, a film made of cellulose ester represented by triacetyl cellulose (TAC) has been used as a light-transmitting substrate of such a hard coat film. This is because the cellulose ester is excellent in transparency and optical isotropy, and has almost no retardation in the plane (low retardation value). This is because there is an advantage that the influence on the display quality of the apparatus is small. In addition, since cellulose ester has an appropriate water permeability, when manufacturing a polarizing plate using an optical laminate, moisture remaining in the polarizer and moisture remaining in the adhesive layer between the optical laminate and the polarizing plate There is also an advantage that it can be dried through the optical laminate.
一方、セルロースエステルフィルムを透明基材として用いた場合に、ハードコート性と帯電防止性を付与するために、紫外線硬化型樹脂に帯電防止剤を配合した組成物を該透明基材に塗布し、硬化させることで機能を付与する方法が知られている。また、硬度が高い無機微粒子と、帯電防止剤をバインダーに配合した組成物を透明基材に塗布し、硬化させることで機能を付与する方法が知られている。
他方、例えば特許文献１には、機能性成分をハードコート層中で偏在化する方法が開示されている。これは、機能性成分を表面に偏在化させることで、当該機能性成分の機能をより効果的に発現させるという手法であり、具体的には、機能性粒子に表面処理を施し、その親水性や疎水性の程度、表面エネルギー等を制御するものである。しかしながら、この手法は、特別な処理が必要であるために煩雑であり、かつコスト面でも不利であると共に、材料選択の幅が狭く、また製造条件が制約される等の問題があった。
On the other hand, when a cellulose ester film is used as a transparent substrate, in order to impart hard coat properties and antistatic properties, a composition in which an antistatic agent is blended with an ultraviolet curable resin is applied to the transparent substrate, A method of imparting a function by curing is known. In addition, a method of imparting a function by coating a transparent substrate with a composition containing inorganic fine particles having high hardness and an antistatic agent in a binder and curing the composition is known.
On the other hand, for example, Patent Document 1 discloses a method of unevenly distributing functional components in a hard coat layer. This is a technique of making the functional component function more effectively by making the functional component unevenly distributed on the surface. Specifically, the functional particle is subjected to a surface treatment and its hydrophilicity. It controls the degree of hydrophobicity, surface energy, and the like. However, this method is troublesome because it requires special processing, and is disadvantageous in terms of cost, and has a problem that the range of material selection is narrow and manufacturing conditions are restricted.
本発明は、少ない製造工程で、かつ、樹脂層に含まれる機能性成分の種類を問わず、機能がより強く発現する光学積層体及びその製造方法を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide an optical laminate and a method for producing the same, in which the function is more strongly expressed regardless of the kind of the functional component contained in the resin layer with fewer production steps.
本発明者は、前記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、上記目的を達成するためには、透明基材として、セルロースエステルフィルムに代えてアクリルフィルムを用い、該アクリルフィルム上に機能性成分を含む樹脂層を設け、かつ該樹脂層を構成する塗液として、前記アクリルフィルムを溶解する塗液を用い、この溶解の程度如何で、前記機能性成分が容易に偏在化することを知見した。その結果、少ない製造工程で、かつ、樹脂層に含まれる機能性成分の種類を問わず、機能がより強く発現する光学積層体を提供できることを見出したものである。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor used an acrylic film instead of a cellulose ester film as a transparent substrate, and functions on the acrylic film. A resin layer containing a functional component is provided, and a coating liquid that dissolves the acrylic film is used as a coating liquid constituting the resin layer, and the functional component is easily unevenly distributed depending on the degree of the dissolution. I found out. As a result, it has been found that an optical laminate can be provided that exhibits fewer functions with fewer manufacturing steps and regardless of the type of functional component contained in the resin layer.
本発明は、以下［１］〜［３］の発明を提供するものである。
［１］アクリル基材上に、少なくとも、機能性成分を含む電離放射線硬化性樹脂組成物Ａを塗布して未硬化樹脂層を形成する塗布工程（Ａ）と、該未硬化樹脂層によりアクリル基材を溶解させ、アクリル基材の厚みを１．０〜１５．０％減少させる減厚工程（Ｂ）と、電離放射線を照射して該未硬化樹脂層を硬化して樹脂層を形成する硬化工程（Ｃ）とをこの順に行うことで、該樹脂層表面側に機能性成分を偏在させることを特徴とする光学積層体の製造方法。
［２］前記電離放射線硬化性樹脂組成物Ａがポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートを含む上記［１］に記載の光学積層体の製造方法。
［３］アクリル基材上に、機能性成分を含む電離放射線硬化性樹脂組成物Ａを塗布して未硬化樹脂層を形成する塗布工程（Ａ）と、該未硬化樹脂層によりアクリル基材を溶解させ、アクリル基材の厚みを１．０〜１５．０％減少させる減厚工程（Ｂ）と、該未硬化樹脂層を硬化して樹脂層を形成する硬化工程（Ｃ）とをこの順に行うことで、該樹脂層表面側に機能性成分を偏在させてなる光学積層体。
The present invention provides the following inventions [1] to [3].
[1] An application step (A) of forming an uncured resin layer by applying an ionizing radiation curable resin composition A containing at least a functional component on an acrylic substrate, and an acrylic group by the uncured resin layer. Thickening step (B) for dissolving the material and reducing the thickness of the acrylic substrate by 1.0 to 15.0%, and curing to form the resin layer by irradiating with ionizing radiation to cure the uncured resin layer A process for producing an optical laminate, wherein the functional component is unevenly distributed on the surface side of the resin layer by performing the steps (C) in this order.
[2] The method for producing an optical laminate according to the above [1], wherein the ionizing radiation curable resin composition A contains polyalkylene glycol di (meth) acrylate.
[3] An application step (A) of forming an uncured resin layer by applying an ionizing radiation curable resin composition A containing a functional component on an acrylic substrate, and an acrylic substrate by the uncured resin layer. A thickness reducing step (B) for dissolving and reducing the thickness of the acrylic base material by 1.0 to 15.0% and a curing step (C) for curing the uncured resin layer to form a resin layer in this order. By performing, the optical laminated body in which a functional component is unevenly distributed in the resin layer surface side.
本発明によれば、少ない製造工程で、かつ、樹脂層に含まれる機能性成分の種類を問わず、機能がより強く発現した光学積層体及びその製造方法を提供することができる。
具体的には、本発明の製造方法を採用することにより、機能性粒子に特別な処理を施す必要がないので材料選択の幅が広がり、かつ、製造条件の制約が緩和され、特別な処理工程も不要である。また、少ない製造工程で、かつ、樹脂層に含まれる機能性成分の種類を問わず、機能がより強く発現し、安価で、広範な機能を付与することが可能となるものである。
さらには、本願の方法を用いることにより、上記本願の目的に加えて、下記の効果をもたらす。
（１）セルロースエステルフィルムに代えて耐湿熱性が良好なアクリル基材を用いることで、セルロースエステルフィルムを用いた偏光板で発現する高温多湿の環境下での偏光機能や色相等の偏光板機能の低下という、吸湿また吸水による反りといった欠点を改善することができる。また、アクリル基材はセルロースエステルフィルムに比べて安価であり、市場において入手が容易なため、一層の製造コストを抑制できるというメリットがある。
（２）アクリル基材の片面若しくは両面にハードコート層などの樹脂層を形成した光学積層体は、セルロースフィルム基材を用いた場合に比べ、基材と樹脂層との密着性に劣るという欠点を有する。しかしながら、本発明の光学積層体は、樹脂層を構成する塗液として、アクリル基材を溶解させるバインダーを含む塗液を用いることで、アクリル基材の成分が樹脂層に溶け出して両者の界面近傍で両者が強固に結びつき、アクリル基材と樹脂層の密着性を向上させることができる。また、アクリル基材の成分が樹脂層に溶け出す際に、樹脂層の機能性成分が樹脂層の表面に偏在し、該機能性成分に基づく表面物性を付与することができる。
（３）通常、アクリル基材の片面若しくは両面にハードコート層などの樹脂層を形成した光学積層体は、アクリル基材と樹脂層との間に屈折率差が生じ、当該光学積層体を用いて偏光板等を形成した場合、干渉縞が発生して外観不良になるといった欠点を有する。しかしながら、本発明の光学積層体は、上記のように、アクリル基材の成分が樹脂層に溶け出しているため、アクリル基材と樹脂層との界面での屈折率の変化が緩和され、干渉縞が生じず、外観不良を改善できる。
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the optical laminated body which expressed the function more strongly, and its manufacturing method can be provided with few manufacturing processes and irrespective of the kind of functional component contained in a resin layer.
Specifically, by adopting the production method of the present invention, it is not necessary to perform special treatment on the functional particles, so the range of material selection is widened, and restrictions on production conditions are relaxed, and special treatment steps are performed. Is also unnecessary. In addition, the function can be expressed more strongly, inexpensively, and imparted with a wide range of functions with few manufacturing steps and regardless of the type of functional component contained in the resin layer.
Furthermore, by using the method of the present application, the following effects are brought about in addition to the object of the present application.
(1) A polarizing plate function such as a polarizing function or a hue in a high-temperature and high-humidity environment expressed by a polarizing plate using a cellulose ester film is obtained by using an acrylic base material having good moisture and heat resistance instead of the cellulose ester film. It is possible to improve the disadvantage of lowering and warping due to moisture absorption or water absorption. Moreover, since an acrylic base material is cheap compared with a cellulose ester film and is easily available in the market, there is an advantage that further manufacturing costs can be suppressed.
(2) The optical laminate in which a resin layer such as a hard coat layer is formed on one side or both sides of an acrylic substrate is inferior to the adhesion between the substrate and the resin layer compared to the case of using a cellulose film substrate. Have However, in the optical layered body of the present invention, by using a coating liquid containing a binder that dissolves the acrylic base material as the coating liquid constituting the resin layer, the components of the acrylic base material are dissolved into the resin layer and the interface between them Both are firmly connected in the vicinity, and the adhesion between the acrylic substrate and the resin layer can be improved. Moreover, when the component of an acrylic base material melts into the resin layer, the functional component of the resin layer is unevenly distributed on the surface of the resin layer, and surface physical properties based on the functional component can be imparted.
(3) Usually, an optical laminate in which a resin layer such as a hard coat layer is formed on one or both sides of an acrylic substrate has a difference in refractive index between the acrylic substrate and the resin layer, and the optical laminate is used. When a polarizing plate or the like is formed, interference fringes are generated, resulting in a defect in appearance. However, in the optical layered body of the present invention, as described above, since the components of the acrylic base material are dissolved in the resin layer, the change in the refractive index at the interface between the acrylic base material and the resin layer is alleviated and interference occurs. Stripes do not occur and appearance defects can be improved.
本発明の製造方法は、アクリル基材上に、少なくとも、機能性成分を含む電離放射線硬化性樹脂組成物Ａを塗布して未硬化樹脂層を形成する塗布工程（Ａ）と、該未硬化樹脂層によりアクリル基材を溶解させ、アクリル基材の厚みを１．０〜１５．０％減少させる減厚工程（Ｂ）と、電離放射線を照射して該未硬化樹脂層を硬化して樹脂層を形成する硬化工程（Ｃ）とをこの順に行うことで、該樹脂層表面側に機能性成分を偏在させることを特徴とする。
本発明では、少なくとも、上記（Ａ）〜（Ｃ）工程をこの順に行うが、本発明の効果を奏する範囲で、それぞれの工程間に他の工程を含んでもよい。
以下、各工程について詳細に説明する。
The production method of the present invention comprises an application step (A) of applying an ionizing radiation curable resin composition A containing at least a functional component on an acrylic substrate to form an uncured resin layer, and the uncured resin. The acrylic base material is dissolved by the layer, the thickness reduction step (B) for reducing the thickness of the acrylic base material by 1.0 to 15.0%, and the uncured resin layer is cured by irradiating with ionizing radiation to form a resin layer The functional component is unevenly distributed on the surface side of the resin layer by performing the curing step (C) for forming the resin layer in this order.
In the present invention, at least the steps (A) to (C) are performed in this order, but other steps may be included between the respective steps as long as the effects of the present invention are achieved.
Hereinafter, each step will be described in detail.
（Ａ）工程及び（Ｂ）工程
本発明の製造方法における（Ａ）工程は、アクリル基材上に、機能性成分を含む電離放射線硬化性樹脂組成物Ａを塗布して未硬化樹脂層を形成する塗布工程であり、（Ｂ）工程は該未硬化樹脂層によりアクリル基材を溶解させ、アクリル基材の厚みを１．０〜１５．０％減少させる減厚工程である。
図１は、実施例１の光学積層体の製造方法により得られた光学積層体の断面を示す走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）の写真である。また、図２は、比較例２の光学積層体の製造方法により得られた光学積層体の断面を示す走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）の写真である。実施例１及び比較例２ではともに厚み４０μｍのアクリル基材を用いているが、図１（実施例１）のものはアクリル基材の厚みが３μｍ（７．５％）減少しているのに対して、図２（比較例２）のものはアクリル基材の厚みが殆ど減少していないことが分かる。
(A) Process and (B) Process (A) process in the manufacturing method of this invention forms the uncured resin layer by apply | coating the ionizing radiation-curable resin composition A containing a functional component on an acrylic base material. The step (B) is a thickness reducing step in which the acrylic base material is dissolved by the uncured resin layer and the thickness of the acrylic base material is reduced by 1.0 to 15.0%.
1 is a photograph of a scanning transmission electron microscope (STEM) showing a cross section of an optical laminate obtained by the method for producing an optical laminate of Example 1. FIG. FIG. 2 is a photograph of a scanning transmission electron microscope (STEM) showing a cross section of the optical laminate obtained by the method for producing an optical laminate of Comparative Example 2. In both Example 1 and Comparative Example 2, an acrylic base material having a thickness of 40 μm is used, but in the case of FIG. 1 (Example 1), the thickness of the acrylic base material is reduced by 3 μm (7.5%). On the other hand, it can be seen that the thickness of the acrylic substrate in FIG. 2 (Comparative Example 2) is hardly reduced.
＜アクリル基材＞
アクリル基材が含有するアクリル樹脂としては特に限定されないが、例えば、（メタ）アクリル酸アルキルエステルを１種又は２種以上組み合わせて重合してなるものが好ましく、より具体的には、（メタ）アクリル酸メチルを用いて得られるものが好ましい。
また、ラクトン環構造を有するアクリル樹脂、イミド環構造を有するアクリル樹脂等の環構造を有するものを用いてもよい。これらの樹脂については、後に詳述する。
本発明の光学積層体は、基材がアクリル樹脂を含むことで、ＴＡＣからなる基材を備えたものと比較して、耐湿熱性に優れるとともに、シワの発生を好適に防止することができる。なお、本明細書において、「アクリル樹脂」とは、アクリル系のもの及び／又はメタクリル系のものを意味する。
<Acrylic base material>
Although it does not specifically limit as an acrylic resin which an acrylic base material contains, For example, what is polymerized by combining 1 type (s) or 2 or more types of (meth) acrylic-acid alkylester is preferable, More specifically, (meth) Those obtained using methyl acrylate are preferred.
Moreover, you may use what has ring structures, such as an acrylic resin which has a lactone ring structure, and an acrylic resin which has an imide ring structure. These resins will be described in detail later.
In the optical layered body of the present invention, the base material contains an acrylic resin, so that it is excellent in moisture and heat resistance and can be suitably prevented from wrinkling as compared with a base material made of TAC. In the present specification, “acrylic resin” means an acrylic resin and / or a methacrylic resin.
本発明では、後に詳述する減厚工程（Ｂ）において、未硬化樹脂層によりアクリル基材を溶解させ、アクリル基材の厚みを１．０〜１５．０％減少させることが肝要である。すなわち、本発明におけるアクリル基材は、該アクリル基材を構成するアクリル樹脂が、機能性成分を含む電離放射線硬化性樹脂組成物Ａによって、特には該樹脂組成物Ａに含まれる溶剤によって侵食されるとともに、該アクリル樹脂が未硬化樹脂層に溶出することで、アクリル基材の厚みが減少するものである。
減厚工程（Ｂ）において、アクリル基材の厚みの減少率が１．０％未満であると、アクリル基材中の成分が樹脂層に十分に移行せず、樹脂層中の機能性成分を表面に偏在できないとともに、アクリル基材と樹脂層との密着性を良好にすることができず、さらには干渉縞を防止できない。また、減厚工程（Ｂ）において、アクリル基材の厚みの減少率が１５．０％を超えると、アクリル基材の強度が不足して、減厚工程（Ｂ）やその後の使用過程等で基材に割れが生じてしまう。
減厚工程（Ｂ）におけるアクリル基材の厚みの減少率は、３．０〜１３．０％であることが好ましい。
減厚工程（Ｂ）においてアクリル基材の厚みが減少しているか否かは、文字通り、減厚工程（Ｂ）の前後での厚みの変化を測定してもよいが、例えば、減厚工程（Ｂ）の後であっても、電離放射線硬化性樹脂組成物Ａが塗布されなかった箇所のアクリル基材の厚みと、電離放射線硬化性樹脂組成物Ａが塗布された箇所のアクリル基材の厚みとを比較することにより確認できる。なお、減厚工程（Ｂ）前のアクリル基材の厚みムラが顕著な場合は、塗布箇所と非塗布箇所とのアクリル基材の厚みの比較を、比較的近接した箇所で行うことが好ましい。
In the present invention, it is important to reduce the thickness of the acrylic base material by 1.0 to 15.0% by dissolving the acrylic base material with the uncured resin layer in the thickness reduction step (B) described in detail later. That is, in the acrylic base material in the present invention, the acrylic resin constituting the acrylic base material is eroded by the ionizing radiation curable resin composition A containing a functional component, particularly by the solvent contained in the resin composition A. As the acrylic resin elutes into the uncured resin layer, the thickness of the acrylic substrate decreases.
In the thickness reduction step (B), if the reduction rate of the thickness of the acrylic base material is less than 1.0%, the components in the acrylic base material are not sufficiently transferred to the resin layer, and the functional components in the resin layer are In addition to being unevenly distributed on the surface, the adhesion between the acrylic substrate and the resin layer cannot be improved, and interference fringes cannot be prevented. Moreover, in the thickness reduction process (B), when the reduction rate of the thickness of the acrylic base material exceeds 15.0%, the strength of the acrylic base material is insufficient, and the thickness reduction process (B) or subsequent use process, etc. The base material will be cracked.
The reduction rate of the thickness of the acrylic base material in the thickness reduction step (B) is preferably 3.0 to 13.0%.
Whether or not the thickness of the acrylic base material is reduced in the thickness reduction step (B) may literally be measured by a change in thickness before and after the thickness reduction step (B). Even after B), the thickness of the acrylic base material where the ionizing radiation curable resin composition A was not applied and the thickness of the acrylic base material where the ionizing radiation curable resin composition A was applied Can be confirmed by comparing with. In addition, when the thickness nonuniformity of the acrylic base material before a thickness reduction process (B) is remarkable, it is preferable to compare the thickness of the acrylic base material of an application location and a non-application location in a comparatively close location.
なお、本発明では、減厚工程（Ｂ）後のアクリル基材の厚みは、光学積層体の断面を示す走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）の写真の幅３０μｍの平均値をいうものとする。例えば、図３のようにアクリル基材の表面が荒れている場合、ＳＴＥＭの写真の３０μｍ幅の領域において、アクリル基材の樹脂層とは反対側の面から樹脂層までの平均距離を算出し、該平均距離を減厚工程（Ｂ）後のアクリル基材の厚みとする。また、硬化工程（Ｃ）の後の樹脂層の厚み（樹脂層の成分とアクリル基材との成分が渾然一体化して硬化が完了した層の厚み）は、ＳＴＥＭの写真の３０μｍ幅の領域において、樹脂層の表面からアクリル基材までの平均距離を算出し、該平均距離を樹脂層の厚みとする。 In the present invention, the thickness of the acrylic base material after the thickness reduction step (B) refers to an average value of a width of 30 μm of a scanning transmission electron microscope (STEM) photograph showing a cross section of the optical laminate. For example, when the surface of the acrylic base material is rough as shown in FIG. 3, the average distance from the surface opposite to the resin layer of the acrylic base material to the resin layer is calculated in the 30 μm wide region of the STEM photograph. The average distance is defined as the thickness of the acrylic substrate after the thickness reducing step (B). In addition, the thickness of the resin layer after the curing step (C) (the thickness of the layer in which the components of the resin layer and the acrylic substrate are completely integrated and cured) is 30 μm wide in the STEM photograph. The average distance from the surface of the resin layer to the acrylic substrate is calculated, and the average distance is taken as the thickness of the resin layer.
上記アクリル基材の厚みとしては、２０〜３００μｍであることが好ましく、３０〜２００μｍであることがより好ましく、３０〜１００μｍであることがさらに好ましい。アクリル基材が２０μｍ以上であると、減厚工程（Ｂ）を経ても基材が割れづらくなるとともに、硬化工程（Ｃ）の後にカールしづらくなる。また、アクリル基材が３００μｍ以下であると、本発明の光学積層体が薄くなり、光透過性等の光学特性に優れる。 As thickness of the said acrylic base material, it is preferable that it is 20-300 micrometers, it is more preferable that it is 30-200 micrometers, and it is more preferable that it is 30-100 micrometers. When the acrylic substrate is 20 μm or more, the substrate is difficult to crack even after the thickness reducing step (B), and it is difficult to curl after the curing step (C). Moreover, when the acrylic substrate is 300 μm or less, the optical laminate of the present invention becomes thin, and optical properties such as light transmittance are excellent.
また、減厚工程（Ｂ）において、樹脂層形成前のアクリル基材の厚みに対し、樹脂層形成後のアクリル基材の厚みが０．５〜５．０μｍ減少することが好ましく、１．５〜５．０μｍ減少することがより好ましい。当該範囲の減少であると、上述の本発明の効果をより十分に奏することができる。
なお、本発明におけるアクリル基材は、延伸アクリル基材であることが好ましい。延伸アクリル基材とすることにより、基材の強度や寸法安定性を良好にすることができる。
In the thickness reduction step (B), it is preferable that the thickness of the acrylic base material after forming the resin layer is reduced by 0.5 to 5.0 μm with respect to the thickness of the acrylic base material before forming the resin layer. It is more preferable to decrease by ~ 5.0 μm. The effect of the above-mentioned this invention can fully be show | played as it is the reduction | decrease of the said range.
In addition, it is preferable that the acrylic base material in this invention is an extending | stretching acrylic base material. By setting it as an extending | stretching acrylic base material, the intensity | strength and dimensional stability of a base material can be made favorable.
上記ラクトン環構造を有するアクリル樹脂の具体例としては、例えば、特開２０００−２３００１６号公報、特開２００１−１５１８１４号公報、特開２００２−１２０３２６号公報、特開２００２−２５４５４４号公報、特開２００５−１４６０８４号公報等に記載のものが挙げられる。
上記ラクトン環構造を有するアクリル樹脂としては、下記一般式（１）で表されるラクトン環構造を有するものが好ましい。
Specific examples of the acrylic resin having the lactone ring structure include, for example, JP 2000-230016, JP 2001-151814, JP 2002-120326, JP 2002-254544, JP The thing as described in 2005-146084 gazette etc. is mentioned.
As the acrylic resin having a lactone ring structure, those having a lactone ring structure represented by the following general formula (1) are preferable.
一般式（１）中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を表す。なお、上記有機基は、酸素原子を含んでいてもよい。 In the general formula (1), R 1, R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or an organic group having 1 to 20 carbon atoms. The organic group may contain an oxygen atom.
上記ラクトン環構造を有するアクリル樹脂の構造中の一般式（１）で表されるラクトン環構造の含有率としては、５〜９０質量％であることが好ましく、１０〜７０質量％であることがより好ましく、１０〜６０質量％であることが更に好ましく、１０〜５０質量％であることが最も好ましい。上記一般式（１）で表されるラクトン環構造の含有率が５質量％以上であると、耐熱性、耐溶剤性、表面硬度が改善し、９０質量％以下であると、成形加工性が改善する。 As content rate of the lactone ring structure represented by General formula (1) in the structure of the acrylic resin which has the said lactone ring structure, it is preferable that it is 5-90 mass%, and it is 10-70 mass%. More preferably, it is more preferably 10 to 60% by mass, and most preferably 10 to 50% by mass. When the content of the lactone ring structure represented by the general formula (1) is 5% by mass or more, heat resistance, solvent resistance, and surface hardness are improved, and when it is 90% by mass or less, moldability is improved. Improve.
上記ラクトン環構造を有するアクリル樹脂は、重量平均分子量が、１０００〜２００万であることが好ましく、５０００〜１００万であることがより好ましく、１万〜５０万であることがさらに好ましく、５万〜５０万であることが最も好ましい。上記ラクトン環構造を有するアクリル樹脂の重量平均分子量が上記範囲内であると、上述した本発明の効果の観点から好ましい。 The acrylic resin having the lactone ring structure preferably has a weight average molecular weight of 1,000 to 2,000,000, more preferably 5,000 to 1,000,000, still more preferably 10,000 to 500,000. Most preferred is ˜500,000. The weight average molecular weight of the acrylic resin having a lactone ring structure is preferably within the above range from the viewpoint of the effects of the present invention described above.
また、上記イミド環構造を有するアクリル樹脂としては、例えば、グルタルイミド構造又はＮ−置換マレイミド構造を有するアクリル樹脂等が挙げられる。グルタルイミド構造を有するアクリル樹脂としては、下記一般式（２）で表されるグルタルイミド構造を有することが好ましい。 Examples of the acrylic resin having the imide ring structure include an acrylic resin having a glutarimide structure or an N-substituted maleimide structure. The acrylic resin having a glutarimide structure preferably has a glutarimide structure represented by the following general formula (2).
上記一般式（２）中、Ｒ4及びＲ5は、互いに独立して、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ6は、水素原子、炭素数１〜６の直鎖アルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基又はフェニル基を表す。
なお、このようなグルタルイミド構造は、例えば、（メタ）アクリル酸エステル重合体をメチルアミン等のイミド化剤によりイミド化して形成できる。ここで、「（メタ）アクリル」とは、「アクリル」及び「メタクリル」を意味する。
In the general formula (2), R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and R 6 represents a hydrogen atom, a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cyclopentyl group, or cyclohexyl. Represents a group or a phenyl group.
Such a glutarimide structure can be formed, for example, by imidizing a (meth) acrylic acid ester polymer with an imidizing agent such as methylamine. Here, “(meth) acryl” means “acryl” and “methacryl”.
上記Ｎ−置換マレイミド構造を有するアクリル樹脂としては、下記一般式（３）で表されるＮ−置換マレイミド構造を有することが好ましい。 The acrylic resin having an N-substituted maleimide structure preferably has an N-substituted maleimide structure represented by the following general formula (3).
上記一般式（３）中、Ｒ7及びＲ8は、互いに独立して、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ9は、水素原子、炭素数１〜６の直鎖アルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基又はフェニル基を表す。
なお、このようなＮ−置換マレイミド構造を主鎖に有するアクリル樹脂は、例えば、Ｎ−置換マレイミドと（メタ）アクリル酸エステルとを共重合して形成できる。
In the general formula (3), R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and R 9 represents a hydrogen atom, a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cyclopentyl group, or cyclohexyl. Represents a group or a phenyl group.
The acrylic resin having such an N-substituted maleimide structure in the main chain can be formed, for example, by copolymerizing N-substituted maleimide and (meth) acrylic acid ester.
また、上記アクリル樹脂は、ガラス転移点（Ｔｇ）が１００〜１５０℃であることが好ましく、１０５〜１３５℃であることがより好ましく、１１０〜１３０℃であることがさらに好ましい。アクリル樹脂のガラス転移点（Ｔｇ）が１００℃以上であると、樹脂層を形成する際に樹脂層形成用組成物に含まれる溶剤によりダメージを受けにくく、一方、１５０℃以下であると、後述する樹脂層との界面に凹凸を形成しやすい。
アクリル基材は、アクリル樹脂以外の樹脂を含んでいてもよいが、アクリル基材のうちアクリル樹脂の割合が８０質量％以上であることが好ましく、９０質量％以上であることがさらに好ましい。
The acrylic resin preferably has a glass transition point (Tg) of 100 to 150 ° C, more preferably 105 to 135 ° C, and still more preferably 110 to 130 ° C. When the glass transition point (Tg) of the acrylic resin is 100 ° C. or higher, it is difficult to be damaged by the solvent contained in the resin layer forming composition when the resin layer is formed. It is easy to form unevenness at the interface with the resin layer.
The acrylic base material may contain a resin other than the acrylic resin, but the ratio of the acrylic resin in the acrylic base material is preferably 80% by mass or more, and more preferably 90% by mass or more.
上記アクリル基材は、例えば、調湿をしたアクリル樹脂からなるペレット（チップ）を、一般的な溶融押し出し後、冷却しながら、縦方向（製膜方向）に延伸し、その後、横方向に延伸することで製造することができる。
上記溶融押し出し工程では、１軸、２軸、又は２軸以上のスクリューを使用することができ、スクリューの回転方向、回転数、溶融温度は任意に設定できる。
上記延伸は、延伸後に所望の厚みになるように行うことが好ましい。また、延伸倍率は限定されないが、１．２倍以上、４．５倍以下が好ましい。延伸時の温度、湿度は任意に決められる。延伸方法は、一般的な方法でよい。
また、アクリル基材を巻き取る際の貼り付き防止のために、アクリル基材の延伸前又は後に、アクリル基材の少なくとも片面にプライマー層を形成したり、アクリル基材の両サイドにナーリングを付与してもよい。
上記アクリル基材は、アクリルゴム粒子、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤などを含んでいてもよい。アクリルゴム粒子は、アクリル基材のクラックを防止しやすくできる。
The acrylic base material is, for example, stretched in the longitudinal direction (film-forming direction) while cooling a pellet (chip) made of conditioned acrylic resin, after general melt extrusion, and then stretched in the lateral direction. Can be manufactured.
In the melt-extrusion step, a single-axis, bi-axis, or two-axis or more screw can be used, and the rotation direction, rotation speed, and melting temperature of the screw can be arbitrarily set.
The stretching is preferably performed so as to have a desired thickness after stretching. Moreover, although a draw ratio is not limited, 1.2 times or more and 4.5 times or less are preferable. The temperature and humidity during stretching are arbitrarily determined. The stretching method may be a general method.
In addition, to prevent sticking when winding the acrylic base material, a primer layer is formed on at least one surface of the acrylic base material before or after the acrylic base material is stretched, or knurling is applied to both sides of the acrylic base material. May be.
The acrylic substrate may contain acrylic rubber particles, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a plasticizer, and the like. The acrylic rubber particles can easily prevent cracks in the acrylic base material.
また、本発明において、上記アクリル基材は本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、ケン化処理、グロー放電処理、コロナ放電処理、プラズマ処理、紫外線（ＵＶ）処理、及び火炎処理等の表面処理を行ってもよい。 In the present invention, the acrylic substrate is subjected to surface treatment such as saponification treatment, glow discharge treatment, corona discharge treatment, plasma treatment, ultraviolet (UV) treatment, and flame treatment without departing from the spirit of the present invention. You may go.
＜機能性成分を含む電離放射線硬化性樹脂組成物Ａ＞
（機能性成分）
機能性成分としては、帯電防止剤、屈折率調整剤、防汚剤、スリップ剤、反射防止剤、防眩剤、ハードコート性付与剤、ブロッキング防止剤など通常の光学シートに用いられるものが挙げられる。
帯電防止剤としては、有機系のものであっても、無機系のものであってもよく、有機系のものとしては、具体的には、リチウムイオン塩、４級アンモニウム塩、イオン性液体などのイオン性のものや、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール、ポリアセチレン等の電子伝導性のものが挙げられる。無機系のものとしては、ＡＴＯ、ＩＴＯ、ＰＴＯ、ＧＺＯ、五酸化アンチモン、酸化亜鉛などの金属酸化物、銀ナノワイヤー、カーボンナノチューブ、フラーレンなどが挙げられる。
屈折率調整剤については、低屈折率材料として、中空シリカ、中実シリカ、フッ化マグネシウム、フッ化ナトリウムなどの無機系材料、並びに、フッ素含有モノマー、オリゴマー、ポリマー等のフッ素系材料などが挙げられる。一方、高屈折率材料としては、酸化ジルコニウム、酸化チタン、ＡＴＯ、ＩＴＯ、ＰＴＯ、ＧＺＯ、五酸化アンチモン等の無機系材料、並びに、塩素、フッ素以外のハロゲン（臭素、ヨウ素原子）を含有する有機系材料、硫黄原子を含有する有機系材料、ベンゼン環骨格またはナフタレン骨格、アントラセン骨格を少なくとも１個以上を分子内に有する有機系材料、カルバゾール材料などが挙げられる。
また、防汚剤としては、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素−シリコーン共重合樹脂、フッ素及びシリコーン非含有の界面活性剤などが挙げられる。スリップ剤としては、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素−シリコーン共重合樹脂が挙げられる。
反射防止剤としては、上記の低屈折率材料が挙げられる。
防眩剤としては、シリカ粒子、アクリル粒子、メラミン粒子、ベンゾグアナミン粒子、シリコーン粒子等が挙げられる。ハードコート性付与剤としては、シリカ、アルミナ等の中実超微粒子、異型微粒子、鎖状微粒子、突起付微粒子(金平糖型微粒子)等が挙げられる。
ブロッキング防止剤としては、シリカ、アクリル、スチレン、アルミナなどの微粒子などが挙げられる。
<Ionizing radiation curable resin composition A containing functional components>
(Functional ingredients)
Examples of the functional component include those used for ordinary optical sheets such as antistatic agents, refractive index adjusting agents, antifouling agents, slip agents, antireflection agents, antiglare agents, hard coat imparting agents, and antiblocking agents. It is done.
The antistatic agent may be organic or inorganic, and specific examples of the organic antistatic agent include lithium ion salt, quaternary ammonium salt, ionic liquid and the like. And those having electron conductivity such as polythiophene, polyaniline, polypyrrole, and polyacetylene. Examples of inorganic materials include metal oxides such as ATO, ITO, PTO, GZO, antimony pentoxide, and zinc oxide, silver nanowires, carbon nanotubes, and fullerenes.
For refractive index modifiers, examples of low refractive index materials include inorganic materials such as hollow silica, solid silica, magnesium fluoride, and sodium fluoride, and fluorine-based materials such as fluorine-containing monomers, oligomers, and polymers. It is done. On the other hand, examples of high refractive index materials include inorganic materials such as zirconium oxide, titanium oxide, ATO, ITO, PTO, GZO, and antimony pentoxide, and organic materials containing halogens (bromine and iodine atoms) other than chlorine and fluorine. Examples thereof include organic materials, organic materials containing sulfur atoms, benzene ring skeleton or naphthalene skeleton, organic materials having at least one anthracene skeleton in the molecule, and carbazole materials.
Examples of the antifouling agent include a fluorine-based resin, a silicone-based resin, a fluorine-silicone copolymer resin, a surfactant containing no fluorine and silicone. Examples of the slip agent include fluorine resins, silicone resins, and fluorine-silicone copolymer resins.
Examples of the antireflection agent include the low refractive index materials described above.
Examples of the antiglare agent include silica particles, acrylic particles, melamine particles, benzoguanamine particles, and silicone particles. Examples of the hard coatability-imparting agent include solid ultrafine particles such as silica and alumina, atypical fine particles, chain fine particles, and fine particles with protrusions (gold flat sugar type fine particles).
Examples of the anti-blocking agent include fine particles such as silica, acrylic, styrene, and alumina.
上記機能性成分の含有量は、電離放射線硬化性樹脂組成物Ａ中の全固形分の合計質量に対して、帯電防止剤では０．１〜３０質量％の範囲が好ましい。屈折率調整剤の含有量は、電離放射線硬化性樹脂組成物Ａ中の全固形分の合計質量に対して、５〜３０質量％の範囲が好ましい。防汚剤の含有量は、電離放射線硬化性樹脂組成物Ａ中の全固形分の合計質量に対して、０．０１〜５質量％の範囲が好ましい。スリップ剤の含有量は、電離放射線硬化性樹脂組成物Ａ中の全固形分の合計質量に対して、０．０１〜５質量％の範囲が好ましい。防眩剤は、電離放射線硬化性樹脂組成物Ａ中の全固形分の合計質量に対して、１ 〜２０質量％の範囲が好ましい。ハードコート性付与剤は、電離放射線硬化性樹脂組成物Ａ中の全固形分の合計質量に対して、５〜４０質量％の範囲が好ましい。ブロッキング防止剤は、電離放射線硬化性樹脂組成物Ａ中の全固形分の合計質量に対して、０．１〜５質量％の範囲が好ましい。
なお、下記するように、本発明においては、機能性成分が樹脂層の上面に偏在化するので、より少ない含有量で上記機能性成分の効果を発現させることができる。
The content of the functional component is preferably in the range of 0.1 to 30% by mass in the antistatic agent with respect to the total mass of the total solid content in the ionizing radiation curable resin composition A. The content of the refractive index adjuster is preferably in the range of 5 to 30% by mass with respect to the total mass of the total solid content in the ionizing radiation curable resin composition A. The content of the antifouling agent is preferably in the range of 0.01 to 5% by mass with respect to the total mass of the total solid content in the ionizing radiation curable resin composition A. The content of the slip agent is preferably in the range of 0.01 to 5% by mass with respect to the total mass of the total solid content in the ionizing radiation curable resin composition A. The antiglare agent is preferably in the range of 1 to 20% by mass with respect to the total mass of the total solid content in the ionizing radiation curable resin composition A. The hard coatability-imparting agent is preferably in the range of 5 to 40% by mass with respect to the total mass of the total solid content in the ionizing radiation curable resin composition A. The range of 0.1-5 mass% is preferable with respect to the total mass of the total solid in the ionizing radiation-curable resin composition A for an antiblocking agent.
As described below, in the present invention, the functional component is unevenly distributed on the upper surface of the resin layer, so that the effect of the functional component can be expressed with a smaller content.
本発明の光学積層体は、図３及び図４に示すように、機能性成分が樹脂層の上面に偏在化するので、機能性成分の機能をより強く発現させることができる。例えば、本発明の光学積層体の樹脂層が、機能性成分として帯電防止剤を含有する場合、帯電防止剤が樹脂層の表面側に偏在しているため、同一量の帯電防止剤を均一分散させた場合と比較して、帯電防止性能がより強く発現する。
同様に、樹脂層が防眩剤を含有する場合は、映り込みがより防止され、低屈折率剤を含有する場合は、反射率がより低下し、ハードコート性付与剤を含有する場合は、ハードコート性能がさらに向上する。
なお、アクリル基材を溶解することなく樹脂層を形成した場合、図５に示すように、樹脂層の上面に機能性成分を偏在させることはできない。
In the optical layered body of the present invention, as shown in FIGS. 3 and 4, the functional component is unevenly distributed on the upper surface of the resin layer, so that the function of the functional component can be expressed more strongly. For example, when the resin layer of the optical laminate of the present invention contains an antistatic agent as a functional component, since the antistatic agent is unevenly distributed on the surface side of the resin layer, the same amount of antistatic agent is uniformly dispersed. Compared with the case where it was made, antistatic performance expresses more strongly.
Similarly, when the resin layer contains an antiglare agent, reflection is more prevented, and when a low refractive index agent is contained, the reflectance is further lowered, and when a hard coat property imparting agent is contained, Hard coat performance is further improved.
In the case where the resin layer is formed without dissolving the acrylic base material, the functional component cannot be unevenly distributed on the upper surface of the resin layer as shown in FIG.
本発明において、機能性成分が樹脂層の上面に偏在化するメカニズムについては、以下のように推定している。すなわち、後述する溶剤が揮発する動きとともに溶解したアクリル基材の材料成分が樹脂層中に流出して、機能性成分を上層に押し上げる力を与えたものと推定している。
したがって、従来は、機能性成分がマトリックスである樹脂成分に対して比重が軽い場合に、その比重差によって、機能性成分が上層方向に移動するとされていたが、本発明の場合には、比重が樹脂成分よりも重いものであっても、樹脂層表面に機能性成分を偏在させることができるものと考えている。
特に、機能性成分が４級アンモニウム塩などの親水性の成分や、防汚剤、スリップ剤などの表面張力の低い成分である場合、樹脂層の上方に機能性成分が偏在化しやすくなる。また、機能性成分がアクリル基材中のアクリル樹脂よりも樹脂層の樹脂と相溶性が良い場合、機能性成分は樹脂層の上方に偏在化しやすくなる。
In the present invention, the mechanism by which the functional component is unevenly distributed on the upper surface of the resin layer is estimated as follows. That is, it is presumed that the material component of the acrylic base material dissolved as the solvent described later volatilizes flows out into the resin layer and gives a force to push up the functional component to the upper layer.
Therefore, conventionally, when the specific gravity of the functional component is light with respect to the resin component that is a matrix, the functional component is supposed to move upward due to the specific gravity difference. It is considered that even if the component is heavier than the resin component, the functional component can be unevenly distributed on the surface of the resin layer.
In particular, when the functional component is a hydrophilic component such as a quaternary ammonium salt or a component having a low surface tension such as an antifouling agent or a slip agent, the functional component tends to be unevenly distributed above the resin layer. In addition, when the functional component is more compatible with the resin in the resin layer than the acrylic resin in the acrylic base material, the functional component tends to be unevenly distributed above the resin layer.
なお、上述のように、アクリル基材の材料成分が樹脂層中に流出することから、アクリル基材−樹脂層界面に適度な凹凸が生じ、アクリル基材と樹脂層間の密着性が良好となるとともに、場所によって光学距離が異なることから干渉縞が不鮮明になり、干渉縞防止性も良好となる。
また、機能性成分は、基材であるアクリルと屈折率が異なる場合が多いため、機能性成分が樹脂層中に均一分散されていると、アクリル基材と樹脂層とで屈折率差を生じ、干渉縞が生じやすい。これに対し、本発明の光学積層体では、機能性成分がアクリル基材−樹脂層界面にはほとんど存在しないため、屈折率差を原因とする干渉縞を生じさせづらくできる。
As described above, since the material component of the acrylic base material flows out into the resin layer, moderate unevenness is generated at the acrylic base material-resin layer interface, and the adhesion between the acrylic base material and the resin layer is improved. At the same time, since the optical distance differs depending on the location, the interference fringes become unclear and the interference fringe prevention property is also improved.
In addition, since the functional component often has a refractive index different from that of the base acrylic, if the functional component is uniformly dispersed in the resin layer, a difference in refractive index occurs between the acrylic base and the resin layer. Interference fringes are likely to occur. On the other hand, in the optical layered body of the present invention, since the functional component is hardly present at the interface between the acrylic base material and the resin layer, it is difficult to generate interference fringes due to a difference in refractive index.
（電離放射線硬化性樹脂）
本明細書中において電離放射線硬化性樹脂組成物とは、電子線硬化性樹脂組成物又は紫外線硬化性樹脂組成物を示す。電離放射線硬化性樹脂としては、ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートを主成分とすることが好ましい。具体的には、電離放射線硬化性樹脂におけるポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートの含有量が、固形分換算で２５〜１００質量％であることが好ましく、５０〜１００質量％であることがより好ましい。
アクリル基材は溶剤でも溶解するが、溶剤とポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートとの相乗作用により、アクリル基材をより溶解しやすくできる。また、ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートは、アクリル基材の樹脂成分と混ざりやすい。したがって、電離放射線硬化性樹脂としてポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートを用いることにより、樹脂層の上方に機能性成分を偏在化させやすくできる。
(Ionizing radiation curable resin)
In this specification, the ionizing radiation curable resin composition refers to an electron beam curable resin composition or an ultraviolet curable resin composition. The ionizing radiation curable resin is preferably composed mainly of polyalkylene glycol di (meth) acrylate. Specifically, the content of polyalkylene glycol di (meth) acrylate in the ionizing radiation curable resin is preferably 25 to 100% by mass, more preferably 50 to 100% by mass in terms of solid content. .
Although the acrylic base material can be dissolved by a solvent, the acrylic base material can be more easily dissolved by the synergistic action of the solvent and the polyalkylene glycol di (meth) acrylate. Moreover, polyalkylene glycol di (meth) acrylate is easy to mix with the resin component of an acrylic base material. Therefore, by using polyalkylene glycol di (meth) acrylate as the ionizing radiation curable resin, the functional component can be easily unevenly distributed above the resin layer.
ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートとしては、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート及びジブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラブチレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリブチレングリコールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。
上記ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートは、分子量１８０〜１０００のものが好ましく、分子量２００〜７５０のものがより好ましく、分子量２２０〜４５０のものが特に好ましい。当該分子量がこの範囲内であると、アクリル基材と樹脂層との密着性や干渉縞防止性に優れると共に、機能性成分を樹脂層の上方に偏在させやすくできる。
電離放射線硬化性樹脂組成物Ａは、ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートを主成分とすることが好ましいが、後述するその他の成分を含有していてもよい。なお、電離放射線硬化性樹脂組成物Ａ中に極端に性質の異なる材料を混合した場合、減厚工程（Ｂ）でアクリル基材の成分が樹脂層側に流入した際に海島構造が形成され外観が損なわれる場合がある。このため、電離放射線硬化性樹脂組成物Ａの材料を二成分以上とする場合、性質の近い材料を用いることが好ましい。
Examples of the polyalkylene glycol di (meth) acrylate include diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate such as tetraethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di ( Polybutylene glycol di (meth) acrylates such as polypropylene glycol di (meth) acrylate such as (meth) acrylate and dibutylene glycol di (meth) acrylate, tributylene glycol di (meth) acrylate, tetrabutylene glycol di (meth) acrylate, etc. Can be mentioned.
The polyalkylene glycol di (meth) acrylate preferably has a molecular weight of 180 to 1000, more preferably a molecular weight of 200 to 750, and particularly preferably a molecular weight of 220 to 450. When the molecular weight is within this range, the adhesion between the acrylic substrate and the resin layer and interference fringe prevention properties are excellent, and the functional component can be easily unevenly distributed above the resin layer.
The ionizing radiation curable resin composition A preferably contains polyalkylene glycol di (meth) acrylate as a main component, but may contain other components described later. In addition, when materials with extremely different properties are mixed in the ionizing radiation curable resin composition A, a sea island structure is formed when the components of the acrylic base material flow into the resin layer side in the thickness reduction step (B). May be damaged. For this reason, when the material of the ionizing radiation curable resin composition A is made of two or more components, it is preferable to use materials having similar properties.
上記電離放射線硬化性樹脂組成物Ａは、さらに単官能（メタ）アクリレートや三官能（メタ）アクリレートを含有していてもよい。
単官能（メタ）アクリレートの具体例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、テトラヒドロフルフリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、アダマンチルアクリレート、アルキレングリコールモノ（メタ）アクリレート（エチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールモノ（メタ）アクリレートなど）またはポリアルキレングリコールモノ（メタ）アクリレート（ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリブチレングリコールモノ（メタ）アクリレートなど）、が挙げられ、アルキレングリコールモノ（メタ）アクリレートが特に好ましい。
また、三官能（メタ）アクリレートの具体例としては、イソシアヌル酸トリアクリレート、ポリアルキレングリコールトリ（メタ）アクリレート（トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
なお、単官能（メタ）アクリレート、三官能（メタ）アクリレートとしては、各化合物のプロピレンオキシド（ＰＯ）、エチレンオキシド（ＥＯ）の変性品を用いてもよい。
単官能（メタ）アクリレートを用いることで、粘度調整が容易となるとともに、基材との密着性も良好になる。また、単官能（メタ）アクリレートは、アクリル基材中の樹脂成分と混ざりやすく、樹脂層の上方に機能性成分を偏在化させやすくできる。
三官能（メタ）アクリレートを用いると、硬度を高くすることができる。一方、三官能（メタ）アクリレートは、アクリル基材中の樹脂成分と混ざりにくい傾向があり、樹脂層の上方に機能性成分を偏在化させにくくなる場合がある。
なお、本明細書において「（メタ）アクリレート」とは、メタクリレート及びアクリレートを指すものである。
上記電離放射線硬化性樹脂組成物Ａは、さらに光重合性ポリマー、光重合性オリゴマー、その他の光重合性モノマー等を含有していてもよく、紫外線硬化性樹脂組成物である場合には開始剤を含有する。
The ionizing radiation curable resin composition A may further contain monofunctional (meth) acrylate or trifunctional (meth) acrylate.
Specific examples of the monofunctional (meth) acrylate include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, Phenyl (meth) acrylate, acryloylmorpholine, N-acryloyloxyethyl hexahydrophthalimide, tetrahydrofurfuryl acrylate, isobornyl acrylate, phenoxyethyl acrylate, adamantyl acrylate, alkylene glycol mono (meth) acrylate (ethylene glycol mono (meth) acrylate , Propylene glycol mono (meth) acrylate, butylene glycol mono (meth) acrylate, etc.) or polyalkylene glycol Call mono (meth) acrylate (polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, polybutylene glycol mono (meth) acrylate, etc.), and the like, alkylene glycol mono (meth) acrylate are particularly preferred.
Specific examples of the trifunctional (meth) acrylate include isocyanuric acid triacrylate, polyalkylene glycol tri (meth) acrylate (trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, and the like.
In addition, as monofunctional (meth) acrylate and trifunctional (meth) acrylate, you may use the modified product of propylene oxide (PO) of each compound, and ethylene oxide (EO).
By using a monofunctional (meth) acrylate, the viscosity can be easily adjusted, and the adhesion to the substrate is improved. Moreover, the monofunctional (meth) acrylate can be easily mixed with the resin component in the acrylic base material, and the functional component can be easily unevenly distributed above the resin layer.
When trifunctional (meth) acrylate is used, the hardness can be increased. On the other hand, trifunctional (meth) acrylates tend not to be mixed with the resin component in the acrylic substrate, and it may be difficult to make the functional component unevenly distributed above the resin layer.
In the present specification, “(meth) acrylate” refers to methacrylate and acrylate.
The ionizing radiation curable resin composition A may further contain a photopolymerizable polymer, a photopolymerizable oligomer, other photopolymerizable monomers, and the like, and in the case of an ultraviolet curable resin composition, an initiator. Containing.
（光重合性ポリマー）
光重合性ポリマーとしては、官能基として（メタ）アクリロイル基を有するものが好ましく、官能基数が１０〜２５０個のものが好ましく、１０〜１００個のものがより好ましく、１０〜５０個のものがさらに好ましい。
光重合性ポリマーの重量平均分子量は、１０，０００〜１００，０００であることが好ましく、１２，０００〜４０，０００であることがより好ましい。
電離放射線硬化性樹脂組成物Ａにおける光重合性ポリマーの配合量は、固形分換算で、０〜４０質量％であることが好ましく、０〜３０質量％であることがより好ましい。
(Photopolymerizable polymer)
As the photopolymerizable polymer, those having a (meth) acryloyl group as a functional group are preferred, those having 10 to 250 functional groups are preferred, those having 10 to 100 are more preferred, and those having 10 to 50 are preferred. Further preferred.
The weight average molecular weight of the photopolymerizable polymer is preferably 10,000 to 100,000, and more preferably 12,000 to 40,000.
The blending amount of the photopolymerizable polymer in the ionizing radiation curable resin composition A is preferably 0 to 40% by mass and more preferably 0 to 30% by mass in terms of solid content.
（光重合性オリゴマー）
光重合性オリゴマーとしては、２官能以上のものが用いられ、官能基として（メタ）アクリロイル基を有するものが好ましく、官能基数が２〜３０個のものが好ましく、２〜２０個のものがより好ましく、３〜１５個のものがさらに好ましい。
光重合性オリゴマーの重量平均分子量は、１，０００〜１０，０００であることが好ましく、１，５００〜１０，０００であることがより好ましい。
電離放射線硬化性樹脂組成物Ａにおける光重合性オリゴマーの配合量は、固形分換算で、０〜４０質量％であることが好ましく０〜３０質量％であることがより好ましい。
(Photopolymerizable oligomer)
As the photopolymerizable oligomer, those having two or more functions are used, those having a (meth) acryloyl group as a functional group are preferable, those having 2 to 30 functional groups are preferable, and those having 2 to 20 are more preferable. Preferably, 3 to 15 are more preferable.
The weight average molecular weight of the photopolymerizable oligomer is preferably 1,000 to 10,000, and more preferably 1,500 to 10,000.
The blending amount of the photopolymerizable oligomer in the ionizing radiation curable resin composition A is preferably 0 to 40% by mass and more preferably 0 to 30% by mass in terms of solid content.
（その他の光重合性モノマー）
その他の光重合性モノマーとしては、１又は２以上の不飽和結合を有するもので、前述の（メタ）アクリレート以外の化合物や四官能以上の（メタ）アクリレートを挙げることができる。（メタ）アクリレート以外の化合物としては、例えば、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の１官能モノマー、多価アルコールのポリ（メタ）アクリレートエステル等の多官能モノマー等が挙げられる。四官能以上の（メタ）アクリレートとしては、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等及びこれらをエチレンオキサイド（ＥО）等で変性した多官能化合物等が挙げられる。
これらその他の光重合性モノマーにより、屈折率や硬度を調整できる。
光重合性モノマーの分子量は、２００〜１，０００であることが好ましく、２５０〜７５０であることがより好ましい。
電離放射線硬化性樹脂組成物Ａにおける、その他の光重合性モノマーの配合量は、本発明の効果を奏する範囲で特に制限はないが、固形分換算で、０〜４０質量％であることが好ましく、０〜３０質量％であることがより好ましい。
(Other photopolymerizable monomers)
Other photopolymerizable monomers have one or two or more unsaturated bonds, and include compounds other than the aforementioned (meth) acrylates and tetrafunctional or higher (meth) acrylates. Examples of compounds other than (meth) acrylates include monofunctional monomers such as styrene, methylstyrene, and N-vinylpyrrolidone, and polyfunctional monomers such as poly (meth) acrylate esters of polyhydric alcohols. Examples of tetrafunctional or higher functional (meth) acrylates include pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, and the like, which are modified with ethylene oxide (EO) or the like. Examples thereof include functional compounds.
The refractive index and hardness can be adjusted by these other photopolymerizable monomers.
The molecular weight of the photopolymerizable monomer is preferably 200 to 1,000, and more preferably 250 to 750.
The blending amount of the other photopolymerizable monomer in the ionizing radiation curable resin composition A is not particularly limited as long as the effects of the present invention are exhibited, but is preferably 0 to 40% by mass in terms of solid content. 0 to 30% by mass is more preferable.
（開始剤）
開始剤としては特に限定されず、公知のものを用いることができ、例えば、光重合開始剤としては、具体例には、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。
(Initiator)
The initiator is not particularly limited, and known ones can be used. For example, specific examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzophenones, Michler benzoylbenzoate, α-amyloxime ester, thioxanthone. , Propiophenones, benzyls, benzoins, acylphosphine oxides. In addition, it is preferable to use a mixture of photosensitizers, and specific examples thereof include n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine, and the like.
上記光重合開始剤としては、上記光重合性モノマー／オリゴマー／ポリマーがラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いることが好ましく、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンが、電離放射線硬化型樹脂との相溶性、及び、黄変も少ないという理由から特に好ましい。また、上記光重合性モノマー／オリゴマー／ポリマーがカチオン重合性官能基を有する場合は、上記光重合開始剤としては、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いることが好ましい。 As the photopolymerization initiator, when the photopolymerizable monomer / oligomer / polymer is a resin system having a radically polymerizable unsaturated group, acetophenones, benzophenones, thioxanthones, benzoin, benzoin methyl ether, etc. are used alone or It is preferable to use a mixture, and 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone is particularly preferable because it is compatible with an ionizing radiation curable resin and has little yellowing. When the photopolymerizable monomer / oligomer / polymer has a cationic polymerizable functional group, the photopolymerization initiator may be an aromatic diazonium salt, aromatic sulfonium salt, aromatic iodonium salt, metallocene compound, benzoin sulfone. It is preferable to use acid esters alone or as a mixture.
上記電離放射線硬化性樹脂組成物Ａにおける開始剤の含有量は、全固形分の合計質量に対して１〜１０質量％であることが好ましい。開始剤の含有量が１質量％以上であると、光学積層体における樹脂層の硬度の観点から好ましく、１０質量％以下であると、開始剤が過剰に残留することによる樹脂劣化を抑えると共にコストアップを防止でき、目標である樹脂層や後述するハードコート層の表面の鉛筆硬度が得られる。
上記開始剤の含有量のより好ましい下限は、全固形分の合計質量に対して２質量％であり、より好ましい上限は８質量％である。上記開始剤の含有量がこの範囲にあることで、上記硬化をより確実にする。
The content of the initiator in the ionizing radiation curable resin composition A is preferably 1 to 10% by mass with respect to the total mass of the total solid content. When the content of the initiator is 1% by mass or more, it is preferable from the viewpoint of the hardness of the resin layer in the optical layered body, and when it is 10% by mass or less, the resin deterioration due to excessive remaining of the initiator is suppressed and the cost is reduced. The pencil hardness of the surface of the target resin layer and the hard coat layer described later can be obtained.
The minimum with more preferable content of the said initiator is 2 mass% with respect to the total mass of all the solid content, and a more preferable upper limit is 8 mass%. When the content of the initiator is within this range, the curing is further ensured.
（溶剤乾燥型樹脂）
上記電離放射線硬化性樹脂組成物Ａは、さらに溶剤乾燥型樹脂を含有していてもよい。溶剤乾燥型樹脂を併用することによって、塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができる。なお、上記溶剤乾燥型樹脂とは、熱可塑性樹脂等、塗工時に固形分を調整するために添加した、溶剤を乾燥させるだけで被膜となるような樹脂をいう。
上記溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。
上記熱可塑性樹脂としては特に限定されず、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等を挙げることができる。上記熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶であることが好ましい。特に、製膜性、透明性や耐候性の観点から、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。
(Solvent drying resin)
The ionizing radiation curable resin composition A may further contain a solvent-drying resin. By using the solvent-drying resin in combination, film defects on the coated surface can be effectively prevented. The solvent-drying resin refers to a resin such as a thermoplastic resin that is added to adjust the solid content at the time of coating and forms a film only by drying the solvent.
The solvent-drying resin is not particularly limited, and generally a thermoplastic resin can be used.
The thermoplastic resin is not particularly limited. For example, a styrene resin, a (meth) acrylic resin, a vinyl acetate resin, a vinyl ether resin, a halogen-containing resin, an alicyclic olefin resin, a polycarbonate resin, or a polyester resin. Examples thereof include resins, polyamide-based resins, cellulose derivatives, silicone-based resins, rubbers, and elastomers. The thermoplastic resin is preferably amorphous and soluble in an organic solvent (particularly a common solvent capable of dissolving a plurality of polymers and curable compounds). In particular, from the viewpoints of film forming properties, transparency, and weather resistance, styrene resins, (meth) acrylic resins, alicyclic olefin resins, polyester resins, cellulose derivatives (cellulose esters, etc.) and the like are preferable.
（溶剤）
上記電離放射線硬化性樹脂組成物Ａは、さらに溶剤を含有していることが好ましい。
この溶剤は、アクリル基材を適度に溶解させるものを選択することが好ましい。より詳細には、前述したように、減厚工程（Ｂ）において、樹脂層形成前のアクリル基材の厚みに対し、樹脂層形成後のアクリル基材の厚みを１．０〜１５．０％減少させる溶剤を選択することが好ましい。
ただし、アクリル基材は、従来よく用いられているＴＡＣ基材とは異なり、ほぼあらゆる種類の溶剤で溶解する。よって溶剤による影響が強く、溶解度が強すぎると割れてしまい光学積層体を生産することができなくなる場合もある。したがって、溶剤の中でも以下の溶剤を選択することが好ましい。また、アクリル基材の溶解性は、塗布液中の溶剤の質量割合や溶剤の乾燥温度も影響する。このため、溶剤の使用量及び乾燥温度を考慮しつつ、以下の溶剤から適切なものを選択することが好ましい。
(solvent)
The ionizing radiation curable resin composition A preferably further contains a solvent.
It is preferable to select a solvent that appropriately dissolves the acrylic substrate. More specifically, as described above, in the thickness reduction step (B), the thickness of the acrylic base material after the resin layer is formed is 1.0 to 15.0% with respect to the thickness of the acrylic base material before the resin layer is formed. It is preferable to select a solvent to be reduced.
However, the acrylic base material is dissolved in almost all kinds of solvents, unlike the TAC base material that has been conventionally used. Accordingly, the influence of the solvent is strong, and if the solubility is too strong, the optical laminate may not be produced due to cracking. Therefore, it is preferable to select the following solvents among the solvents. In addition, the solubility of the acrylic substrate is affected by the mass ratio of the solvent in the coating solution and the drying temperature of the solvent. For this reason, it is preferable to select an appropriate solvent from the following solvents in consideration of the amount of solvent used and the drying temperature.
このような溶剤としては、アルコール類、ケトン類、芳香族炭化水素類、グリコール類などが好適に挙げられ、アルコールであれば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、１−ブタノールなどの低級アルコール類が好ましい。また、アルコール類以外の各溶剤では、炭素数がより多いものが良好な傾向があり、その中でも蒸発速度が速いものが良好な傾向がある。具体的には、ケトン類であればメチルイソブチルケトン、芳香族炭化水素類であればトルエン、グリコール類であればプロピレングリコールモノメチルエーテル等が例示でき、これらの混合溶剤であってもよい。
特に本発明においては、樹脂との相溶性、塗工性に優れ、また、アクリル基材−樹脂層界面に本願の特異な凹凸形状が形成され、更には加工時に基材が切れる不具合が出ない、という理由から、とりわけメチルイソブチルケトン、イソプロパノール及び１−ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテルから選択される一種以上を含むものが好ましい。これらの溶剤であると、アクリル基材が割れることなく適度に溶解させることできる。
As such a solvent, alcohols, ketones, aromatic hydrocarbons, glycols and the like are preferably exemplified. As alcohols, lower alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol and 1-butanol are preferable. Moreover, in each solvent other than alcohols, those having a larger number of carbons tend to be good, and those having a high evaporation rate tend to be good. Specifically, methyl isobutyl ketone can be exemplified for ketones, toluene can be exemplified for aromatic hydrocarbons, and propylene glycol monomethyl ether can be exemplified for glycols, and a mixed solvent thereof can also be used.
In particular, in the present invention, the compatibility with the resin and the coating property are excellent, the unique uneven shape of the present application is formed at the acrylic substrate-resin layer interface, and further, there is no problem that the substrate is cut during processing. In particular, those containing at least one selected from methyl isobutyl ketone, isopropanol, 1-butanol, and propylene glycol monomethyl ether are preferable. When these solvents are used, the acrylic base material can be appropriately dissolved without cracking.
一方、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチルなどのエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコールなどのケトン類；セロソルブ類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのエーテル類；ヘキサンなどの脂肪族炭化水素類；キシレンなどのトルエン以外の芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、ジクロロエタンハロゲン化炭素類；メチルセロソルブ、エチルセロソルブなどのセロソルブ類；セロソルブアセテート類；ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類：ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類は、アクリル基材を過剰に溶解させることがあるため、基材にテンションがかかる場合には使用しないことが好ましい。 On the other hand, esters such as methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate and butyl acetate; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone and diacetone alcohol; cellosolves; ethers such as dioxane, tetrahydrofuran and propylene glycol monomethyl ether acetate; hexane Aliphatic hydrocarbons such as xylene; aromatic hydrocarbons other than toluene such as xylene; dichloromethane, dichloroethane halogenated carbons; cellosolves such as methyl cellosolve and ethyl cellosolve; cellosolve acetates; sulfoxides such as dimethyl sulfoxide: dimethyl Amides such as formamide and dimethylacetamide may dissolve the acrylic base material excessively, so do not use it when tension is applied to the base material. Preferred.
上記電離放射線硬化性樹脂組成物Ａ中における溶剤の含有割合は、使用する溶剤の種類及び溶剤の乾燥温度に応じて、アクリル基材を適度に溶かす範囲で決定する。上述の好ましい溶剤の含有量は、電離放射線硬化性樹脂組成物Ａの固形分１００質量部に対して、３０〜３００質量部が好ましく、１００〜２２０質量部であることがより好ましい。
本発明の光学積層体におけるアクリル基材−樹脂層界面は、例えば、溶剤によってアクリル基材が適度に溶解し、それに伴って適度な分子量を有するポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート等が、アクリル基材に浸透していく。また、樹脂層の成分がアクリル基材に浸透するときに、逆にアクリル基材の材料成分が樹脂層方向に押し出されたり、溶剤がアクリル基材から樹脂層の空気面方向に揮発する等により、溶解したアクリル基材の材料成分も樹脂層中に浸透していく。このように上部から下部へ、下部から上部へ各成分が動くことによって、界面に適度な凹凸が生じ、密着性が良好になるとともに干渉縞防止性も良好になると考えられる。
The content ratio of the solvent in the ionizing radiation curable resin composition A is determined within a range in which the acrylic base material is appropriately dissolved according to the type of the solvent used and the drying temperature of the solvent. 30-300 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of solid content of the ionizing radiation curable resin composition A, and, as for content of the above-mentioned preferable solvent, it is more preferable that it is 100-220 mass parts.
The acrylic base material-resin layer interface in the optical layered body of the present invention is, for example, a polyalkylene glycol di (meth) acrylate having an appropriate molecular weight in which an acrylic base material is appropriately dissolved by a solvent and an acrylic group. It penetrates into the material. Also, when the resin layer component penetrates into the acrylic substrate, the material component of the acrylic substrate is extruded in the resin layer direction, or the solvent volatilizes from the acrylic substrate in the air surface direction of the resin layer. The material component of the dissolved acrylic base material also penetrates into the resin layer. Thus, it is considered that the movement of each component from the upper part to the lower part and from the lower part to the upper part causes moderate irregularities at the interface, improving the adhesion and preventing interference fringes.
（電離放射線硬化性樹脂組成物Ａの調製）
電離放射線硬化性樹脂組成物Ａの調製方法としては、各成分を均一に混合できれば特に限定されず、例えば、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー、ミキサー等の公知の装置を使用して行うことができる。
(Preparation of ionizing radiation curable resin composition A)
The method for preparing the ionizing radiation curable resin composition A is not particularly limited as long as each component can be uniformly mixed. For example, it can be performed using a known apparatus such as a paint shaker, a bead mill, a kneader, a mixer.
（塗布方法）
塗布工程（Ａ）における上記電離放射線硬化性樹脂組成物Ａを上記アクリル基材上に塗布する方法としては特に限定されず、例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の公知の方法を挙げることができる。
(Application method)
The method for coating the ionizing radiation curable resin composition A on the acrylic substrate in the coating step (A) is not particularly limited, and examples thereof include spin coating, dipping, spraying, die coating, and bar coating. And known methods such as a gravure coating method, a roll coater method, a meniscus coater method, a flexographic printing method, a screen printing method, and a speed coater method.
（乾燥工程）
次いで、必要に応じて、乾燥工程が施される。乾燥工程によっても、アクリル基材の厚さが減少する場合があり、その場合には、乾燥工程は（Ｂ）減厚工程の一部となる。
乾燥工程における乾燥時間は、好ましくは２０秒〜１２０秒であり、より好ましくは４０秒〜８０秒である。また、乾燥工程における乾燥温度は、好ましくは４０〜９０℃であり、より好ましくは５０〜８０℃である。乾燥温度が１００℃を超えると、アクリルへの溶解性が好ましい溶剤を選択していても、溶剤の浸透力などがアップし、基材が割れる場合があるため、乾燥温度は、どの溶剤を用いる場合でも基本的に９０℃以下であることが好ましい。例えば、上述のように、好ましい溶剤としてメチルイソブチルケトンがあるが、この溶剤であっても乾燥温度が１００℃であると張力をかけることによって、アクリル基材が切れる場合がある。
最低温度は、溶剤が乾燥できる程度であればよく、４０℃以上が好ましい。例えば、メチルイソブチルケトンで乾燥温度が３０℃であった場合は、乾燥不十分のまま紫外線などで硬化することになり、その場合は硬化がうまくいかず、未硬化部分も生じる。このときは、密着性が低下することがある。
(Drying process)
Subsequently, a drying process is performed as needed. Even in the drying step, the thickness of the acrylic base material may be reduced. In this case, the drying step becomes a part of the (B) thickness reduction step.
The drying time in the drying step is preferably 20 seconds to 120 seconds, more preferably 40 seconds to 80 seconds. Moreover, the drying temperature in a drying process becomes like this. Preferably it is 40-90 degreeC, More preferably, it is 50-80 degreeC. When the drying temperature exceeds 100 ° C., even if a solvent having a preferable solubility in acrylic is selected, the solvent penetration may be increased and the substrate may be cracked. Even in this case, it is basically preferable that the temperature is 90 ° C. or lower. For example, as described above, there is methyl isobutyl ketone as a preferable solvent, but even if this solvent is used, the acrylic base material may be cut by applying tension when the drying temperature is 100 ° C.
The minimum temperature should just be a grade which can dry a solvent, and 40 degreeC or more is preferable. For example, when the drying temperature is 30 ° C. with methyl isobutyl ketone, curing is performed with ultraviolet rays or the like with insufficient drying. In this case, curing is not successful, and an uncured part is also generated. At this time, the adhesion may be reduced.
（Ｃ）工程
本発明の製造方法における（Ｃ）工程は、電離放射線を照射して未硬化樹脂層を硬化して樹脂層を形成する硬化工程である。
電離放射線としては、紫外線又は電子線による照射が挙げられる。
紫外線源の具体例としては、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等の光源が挙げられる。また、紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。
上記電子線照射における電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。
(C) Process (C) process in the manufacturing method of this invention is a hardening process which irradiates an ionizing radiation, hardens | cures an uncured resin layer, and forms a resin layer.
Examples of the ionizing radiation include irradiation with ultraviolet rays or electron beams.
Specific examples of the ultraviolet light source include light sources such as an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a black light fluorescent lamp, and a metal halide lamp. Moreover, as a wavelength of an ultraviolet-ray, the wavelength range of 190-380 nm can be used.
Specific examples of electron beam sources in the above-mentioned electron beam irradiation include various types of electron beam accelerators such as cockcroft-wald type, bande graft type, resonant transformer type, insulated core transformer type, linear type, dynamitron type, and high frequency type. Can be mentioned.
なお、上記樹脂層の好ましい膜厚（樹脂層の成分とアクリル基材との成分が渾然一体化して硬化が完了した層の厚み）は０．５〜１００μｍ、より好ましくは０．８〜２０μｍ、カール防止性やクラック防止性が特に優れるので、もっとも好ましくは２〜１０μｍの範囲である。 In addition, the preferable film thickness of the resin layer (the thickness of the layer in which the components of the resin layer and the acrylic substrate are completely integrated and cured) is 0.5 to 100 μm, more preferably 0.8 to 20 μm, Since curling prevention property and crack prevention property are particularly excellent, the range of 2 to 10 μm is most preferable.
＜光学積層体＞
本発明の光学積層体は、アクリル基材上に、機能性成分を含む電離放射線硬化性樹脂組成物Ａを塗布して未硬化樹脂層を形成する塗布工程（Ａ）と、該未硬化樹脂層によりアクリル基材を溶解させ、アクリル基材の厚みを１．０〜１５．０％減少させる減厚工程（Ｂ）と、該未硬化樹脂層を硬化して樹脂層を形成する硬化工程（Ｃ）とをこの順に行うことで、該樹脂層表面側に機能性成分を偏在させてなることを特徴とする。
機能性成分としては、前述の種々の成分を用いることができるため、アクリル基材と樹脂層のみから本発明の光学積層体を構成することができる。
一方、本発明の光学積層体は、樹脂層の上に低屈折率層、ハードコート層、防汚層、防眩層、帯電防止層、及び高屈折率層から選択される１つ以上を有していてもよい。
<Optical laminate>
The optical layered body of the present invention comprises an application step (A) of applying an ionizing radiation curable resin composition A containing a functional component on an acrylic substrate to form an uncured resin layer, and the uncured resin layer. A thickness reduction step (B) for dissolving the acrylic base material by 1.0 to 15.0% and a curing step (C) for curing the uncured resin layer to form a resin layer. ) In this order, the functional component is unevenly distributed on the surface side of the resin layer.
Since the above-mentioned various components can be used as the functional component, the optical layered body of the present invention can be constituted only from the acrylic base material and the resin layer.
On the other hand, the optical laminate of the present invention has one or more selected from a low refractive index layer, a hard coat layer, an antifouling layer, an antiglare layer, an antistatic layer, and a high refractive index layer on the resin layer. You may do it.
＜ハードコート層＞
ハードコート層は、好ましくは電離放射線硬化性樹脂組成物Ｂの硬化物よりなる。
ハードコート層は、硬度が、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）による鉛筆硬度試験（荷重４．９Ｎ）において、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがより好ましい。また、上記ハードコート層は、ハードコート性付与剤以外の上述の機能性成分を含有するものであってもよい。
<Hard coat layer>
The hard coat layer is preferably made of a cured product of the ionizing radiation curable resin composition B.
The hardness of the hard coat layer is preferably H or higher, more preferably 2H or higher, in a pencil hardness test (load 4.9 N) according to JIS K5600-5-4 (1999). The hard coat layer may contain the above-described functional components other than the hard coatability-imparting agent.
ハードコート層を形成する電離放射線硬化性樹脂組成物Ｂの詳細は、上述の電離放射線硬化性樹脂組成物Ａと同様である。
また、電離放射線硬化性樹脂組成物Ｂは、光重合性モノマー（特に多官能モノマー）の配合量が、全固形分の合計質量に対して３０〜１００質量％であることが好ましく、４０〜９０質量％であることがより好ましく、５０〜８０質量％であることがさらに好ましい。
さらに、電離放射線硬化性樹脂組成物Ｂは、光重合性オリゴマー及び光重合性ポリマーの配合量の合計が、全固形分の合計質量に対して３０〜１００質量％であることが好ましく、４０〜９０質量％であることがより好ましく、５０〜８０質量％であることがさらに好ましい。
また、ハードコート層の形成方法は、上述の樹脂層と同様である。その他のハードコート層の詳細についても、上述の樹脂層と同様である。
本発明においては、樹脂層の上に、ハードコート層を積層することが好ましい。光学積層体としての硬度を得るためには、樹脂層自身を高硬度にすることが考えられる。しかしながら、アクリル基材の上に、直接、つまり樹脂層に多官能の反応性官能基を有する材料を用いて２Ｈ以上の高硬度にした場合には、ハードコート層に何かしら部分的に圧がかかった場合などアクリル基材が割れやすいという欠点を有する。そのため、本発明の光学積層体においては、樹脂層がハードコート層との間にあることによって、ハードコート層の衝撃がそのままアクリル基材に伝わることなく、緩衝作用を有していて好ましい。また、樹脂層／ハードコート層となることによっても、単にハードコート層のみが積層されている場合よりも硬度も向上させることができる。
ただし、ハードコート層などを積層する場合には、樹脂層との間に新たな界面ができる、つまり干渉縞が発生するきっかけになる部分が増えてしまうことになる。この場合、大切なのは積層する層の屈折率が、その下の層と可能な限り近いことである。よって、干渉縞防止性を良好に維持するためには、ハードコート層の屈折率は、樹脂層の屈折率とほぼ同じであることが好ましく、好ましい屈折率差は、０．０３以下である。
The details of the ionizing radiation curable resin composition B forming the hard coat layer are the same as those of the ionizing radiation curable resin composition A described above.
In addition, in the ionizing radiation curable resin composition B, the blending amount of the photopolymerizable monomer (particularly the polyfunctional monomer) is preferably 30 to 100% by mass with respect to the total mass of the total solid content, and 40 to 90%. It is more preferable that it is mass%, and it is further more preferable that it is 50-80 mass%.
Furthermore, in the ionizing radiation curable resin composition B, the total amount of the photopolymerizable oligomer and the photopolymerizable polymer is preferably 30 to 100% by mass with respect to the total mass of the total solids, More preferably, it is 90 mass%, and it is further more preferable that it is 50-80 mass%.
Moreover, the formation method of a hard-coat layer is the same as that of the above-mentioned resin layer. The details of the other hard coat layers are the same as those of the resin layer described above.
In the present invention, it is preferable to laminate a hard coat layer on the resin layer. In order to obtain the hardness as the optical laminated body, it is conceivable to make the resin layer itself high in hardness. However, when the hardness of 2H or higher is directly applied on the acrylic substrate, that is, using a material having a polyfunctional reactive functional group in the resin layer, some pressure is applied to the hard coat layer. In such a case, the acrylic base material has a drawback of being easily broken. Therefore, in the optical layered body of the present invention, it is preferable that the resin layer is between the hard coat layer and the impact of the hard coat layer is not directly transmitted to the acrylic base material but has a buffering action. Also, the resin layer / hard coat layer can also improve the hardness as compared with the case where only the hard coat layer is laminated.
However, in the case of laminating a hard coat layer or the like, a new interface is formed between the resin layer, that is, a portion that causes an interference fringe is increased. In this case, it is important that the refractive index of the layer to be stacked is as close as possible to the layer below it. Therefore, in order to maintain the interference fringe prevention property satisfactorily, the refractive index of the hard coat layer is preferably substantially the same as the refractive index of the resin layer, and a preferable refractive index difference is 0.03 or less.
＜低屈折率層＞
本発明の光学積層体は、上記ハードコート層上に更に低屈折率層を有することが好ましい。
上記低屈折率層としては、好ましくは１）シリカ又はフッ化マグネシウム等の低屈折率無機微粒子を含有する樹脂、２）低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂、３）シリカ又はフッ化マグネシウム等の低屈折率無機微粒子を含有するフッ素系樹脂、４）シリカ又はフッ化マグネシウム等の低屈折率無機薄膜等のいずれかを含む低屈折率層形成用組成物を用いて形成する。フッ素系樹脂以外の樹脂については、上述したアクリル樹脂と同様の樹脂を用いることができる。
また、上述したシリカは、中空シリカ微粒子であることが好ましく、このような中空シリカ微粒子は、例えば、特開２００５−０９９７７８号公報の実施例に記載の製造方法にて作製できる。
これらの低屈折率層は、その屈折率が１．４７以下、特に１．４２以下であることが好ましい。また、低屈折率層の厚みは限定されないが、通常は１０ｎｍ〜１μｍ程度の範囲内から適宜設定すれば良い。
<Low refractive index layer>
The optical layered body of the present invention preferably further has a low refractive index layer on the hard coat layer.
The low refractive index layer is preferably 1) a resin containing inorganic fine particles of low refractive index such as silica or magnesium fluoride, 2) a fluorine-based resin which is a low refractive index resin, 3) silica or magnesium fluoride, etc. It is formed using a composition for forming a low refractive index layer containing either a fluorine-based resin containing low refractive index inorganic fine particles, 4) a low refractive index inorganic thin film such as silica or magnesium fluoride, and the like. For resins other than fluorine-based resins, the same resins as the acrylic resins described above can be used.
Moreover, it is preferable that the silica mentioned above is a hollow silica fine particle, and such a hollow silica fine particle can be produced by, for example, a production method described in Examples of JP-A-2005-099778.
These low refractive index layers preferably have a refractive index of 1.47 or less, particularly 1.42 or less. In addition, the thickness of the low refractive index layer is not limited, but it may be set appropriately from the range of about 10 nm to 1 μm.
上記フッ素系樹脂としては、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性化合物又はその重合体を用いることができる。重合性化合物としては特に限定されないが、例えば、電離放射線で硬化する官能基、熱硬化する極性基等の硬化反応性の基を有するものが好ましい。また、これらの反応性の基を同時に併せ持つ化合物でもよい。この重合性化合物に対し、重合体とは、上記のような反応性基などを一切もたないものである。 As the fluororesin, a polymerizable compound containing a fluorine atom in at least a molecule or a polymer thereof can be used. Although it does not specifically limit as a polymeric compound, For example, what has hardening reactive groups, such as a functional group hardened | cured by ionizing radiation, and a polar group thermally cured, is preferable. Moreover, the compound which has these reactive groups simultaneously may be sufficient. In contrast to this polymerizable compound, a polymer has no reactive groups as described above.
上記電離放射線で硬化する官能基を有する重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマーを広く用いることができる。より具体的には、フルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロブタジエン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）を例示することができる。
また、（メタ）アクリロイルオキシ基を有するフッ素含有モノマーを用いることもできる。具体的には、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、α−トリフルオロメタクリル酸メチル、α−トリフルオロメタクリル酸エチルのような、分子中にフッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物を挙げることができる。
さらに、分子中に、フッ素原子を少なくとも３個持つ炭素数１〜１４のフルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する含フッ素多官能（メタ）アクリル酸エステル化合物等もある。
As the polymerizable compound having a functional group that is cured by ionizing radiation, fluorine-containing monomers having an ethylenically unsaturated bond can be widely used. More specifically, to illustrate fluoroolefins (eg, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluorobutadiene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole, etc.) Can do.
Moreover, the fluorine-containing monomer which has a (meth) acryloyloxy group can also be used. Specifically, 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl (meth) acrylate, 2- (perfluorobutyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorooctyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorodecyl) ethyl (meth) acrylate, α-trifluoromethyl methacrylate, α-tri Examples thereof include (meth) acrylate compounds having a fluorine atom in the molecule, such as fluoroethyl methacrylate.
Further, the fluorine-containing polyfunctional group having a C1-C14 fluoroalkyl group, a fluorocycloalkyl group or a fluoroalkylene group having at least three fluorine atoms and at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule. There are (meth) acrylic acid ester compounds.
次に、上記熱硬化する極性基として好ましいのは、例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基等の水素結合形成基である。これらは、塗膜との密着性だけでなく、シリカ等の無機超微粒子との親和性にも優れている。熱硬化性極性基を持つ重合性化合物としては、例えば、４−フルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体；フルオロエチレン−炭化水素系ビニルエーテル共重合体；エポキシ、ポリウレタン、セルロース、フェノール、ポリイミド等の各樹脂のフッ素変性品等が挙げられる。
上記電離放射線で硬化する官能基と熱硬化する極性基とを併せ持つ重合性化合物としては、アクリル又はメタクリル酸の部分及び完全フッ素化アルキル、アルケニル、アリールエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類、完全又は部分フッ素化ビニルエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルケトン類等を例示することができる。
Next, preferred as the thermosetting polar group is a hydrogen bond forming group such as a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, and an epoxy group. These are excellent not only in adhesion to the coating film but also in affinity with inorganic ultrafine particles such as silica. Examples of the polymerizable compound having a thermosetting polar group include 4-fluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer; fluoroethylene-hydrocarbon vinyl ether copolymer; epoxy, polyurethane, cellulose, phenol, polyimide, and the like. Examples include fluorine-modified products of each resin.
Examples of the polymerizable compound having both a functional group curable by ionizing radiation and a polar group curable by heat include acrylic or methacrylic acid moieties and fully fluorinated alkyl, alkenyl, aryl esters, fully or partially fluorinated vinyl ethers, fully Alternatively, partially fluorinated vinyl esters, fully or partially fluorinated vinyl ketones and the like can be exemplified.
また、フッ素系樹脂としては、例えば、次のようなものを挙げることができる。
上記電離放射線硬化性基を有する重合性化合物の含フッ素（メタ）アクリレート化合物を少なくとも１種類含むモノマー又はモノマー混合物の重合体；上記含フッ素（メタ）アクリレート化合物の少なくとも１種類と、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートの如き分子中にフッ素原子を含まない（メタ）アクリレート化合物との共重合体；フルオロエチレン、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレンのような含フッ素モノマーの単独重合体又は共重合体など。これらの共重合体にシリコーン成分を含有させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体も用いることができる。この場合のシリコーン成分としては、（ポリ）ジメチルシロキサン、（ポリ）ジエチルシロキサン、（ポリ）ジフェニルシロキサン、（ポリ）メチルフェニルシロキサン、アルキル変性（ポリ）ジメチルシロキサン、アゾ基含有（ポリ）ジメチルシロキサン、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、メタクリル変性シリコーン、アクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン等が例示される。なかでも、ジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。
Moreover, as a fluorine resin, the following can be mentioned, for example.
Polymer of monomer or monomer mixture containing at least one fluorine-containing (meth) acrylate compound of a polymerizable compound having an ionizing radiation curable group; at least one fluorine-containing (meth) acrylate compound; and methyl (meth) Copolymers with (meth) acrylate compounds that do not contain fluorine atoms in the molecule such as acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate; fluoroethylene , Fluorine-containing compounds such as vinylidene fluoride, trifluoroethylene, chlorotrifluoroethylene, 3,3,3-trifluoropropylene, 1,1,2-trichloro-3,3,3-trifluoropropylene, hexafluoropropylene Monomer homopolymer or Copolymer such as. Silicone-containing vinylidene fluoride copolymers obtained by adding a silicone component to these copolymers can also be used. The silicone components in this case include (poly) dimethylsiloxane, (poly) diethylsiloxane, (poly) diphenylsiloxane, (poly) methylphenylsiloxane, alkyl-modified (poly) dimethylsiloxane, azo group-containing (poly) dimethylsiloxane, Dimethyl silicone, phenylmethyl silicone, alkyl / aralkyl modified silicone, fluorosilicone, polyether modified silicone, fatty acid ester modified silicone, methyl hydrogen silicone, silanol group containing silicone, alkoxy group containing silicone, phenol group containing silicone, methacryl modified silicone, acrylic Modified silicone, amino modified silicone, carboxylic acid modified silicone, carbinol modified silicone, epoxy modified silicone, mercapto modified silicone Over emissions, fluorine-modified silicones, polyether-modified silicone and the like. Of these, those having a dimethylsiloxane structure are preferred.
更には、以下のような化合物からなる非重合体又は重合体も、フッ素系樹脂として用いることができる。すなわち、分子中に少なくとも１個のイソシアナト基を有する含フッ素化合物と、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基のようなイソシアナト基と反応する官能基を分子中に少なくとも１個有する化合物とを反応させて得られる化合物；フッ素含有ポリエーテルポリオール、フッ素含有アルキルポリオール、フッ素含有ポリエステルポリオール、フッ素含有ε−カプロラクトン変性ポリオールのようなフッ素含有ポリオールと、イソシアナト基を有する化合物とを反応させて得られる化合物等を用いることができる。 Furthermore, non-polymers or polymers composed of the following compounds can also be used as the fluororesin. That is, a fluorine-containing compound having at least one isocyanato group in the molecule is reacted with a compound having at least one functional group in the molecule that reacts with an isocyanato group such as an amino group, a hydroxyl group, or a carboxyl group. Compound obtained: a compound obtained by reacting a fluorine-containing polyol such as fluorine-containing polyether polyol, fluorine-containing alkyl polyol, fluorine-containing polyester polyol, fluorine-containing ε-caprolactone modified polyol with a compound having an isocyanato group Can be used.
また、低屈折率層形成用組成物は、上記したフッ素原子を持つ重合性化合物や重合体とともに、上記に記載したような各熱可塑性樹脂を含有してもよい。更に、反応性基等を硬化させるための硬化剤、塗工性を向上させたり、防汚性を付与させたりするために、各種添加剤、溶剤を適宜使用することができる。 Moreover, the composition for low refractive index layer formation may contain each thermoplastic resin as described above with the polymeric compound and polymer which have the above-mentioned fluorine atom. Furthermore, various additives and solvents can be used as appropriate in order to improve the curing agent for curing reactive groups and the like, to improve the coating property, and to impart antifouling properties.
上記低屈折率層の形成においては、上記低屈折率層形成用組成物の粘度を好ましい塗布性が得られる０．５〜５ｍＰａ・ｓ（２５℃）、好ましくは０．７〜３ｍＰａ・ｓ（２５℃）の範囲のものとすることが好ましい。可視光線の優れた反射防止層を実現でき、かつ、均一で塗布ムラのない薄膜を形成することができ、かつ、密着性に特に優れた低屈折率層を形成することができる。 In the formation of the low refractive index layer, the viscosity of the composition for forming a low refractive index layer is 0.5 to 5 mPa · s (25 ° C.), preferably 0.7 to 3 mPa · s (at which preferable coating properties are obtained. 25 ° C.). An antireflection layer excellent in visible light can be realized, a uniform thin film with no coating unevenness can be formed, and a low refractive index layer particularly excellent in adhesion can be formed.
樹脂の硬化手段は、前述のハードコート層における硬化手段と同様であってよい。硬化処理のために加熱手段が利用される場合には、加熱により、例えばラジカルを発生して重合性化合物の重合を開始させる熱重合開始剤が低屈折率層形成用組成物に添加されることが好ましい。 The resin curing means may be the same as the curing means in the hard coat layer described above. When a heating means is used for the curing treatment, a thermal polymerization initiator that generates, for example, radicals to start polymerization of the polymerizable compound by heating is added to the composition for forming a low refractive index layer. Is preferred.
本発明の光学積層体は、全光線透過率が８０％以上であることが好ましい。８０％未満であると、画像表示装置に装着した場合において、色再現性や視認性を損なうおそれがある他、所望のコントラストが得られないおそれがある。上記全光線透過率は、９０％以上であることがより好ましい。
上記全光線透過率は、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７３６１に準拠した方法により測定することができる。
The optical layered body of the present invention preferably has a total light transmittance of 80% or more. If it is less than 80%, color reproducibility and visibility may be impaired when mounted on an image display device, and a desired contrast may not be obtained. The total light transmittance is more preferably 90% or more.
The total light transmittance can be measured by a method based on JIS K-7361 using a haze meter (manufactured by Murakami Color Research Laboratory, product number: HM-150).
また、本発明の光学積層体は、ヘイズが１％以下であることが好ましい。１％以下であると、所望の光学特性が得られ、本発明の光学積層体を画像表示表面に設置した際の視認性の劣化がない。
上記ヘイズは、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７１３６に準拠した方法により測定することができる。
The optical layered body of the present invention preferably has a haze of 1% or less. When it is 1% or less, desired optical characteristics are obtained, and there is no deterioration in visibility when the optical laminate of the present invention is placed on the image display surface.
The haze can be measured by a method based on JIS K-7136 using a haze meter (manufactured by Murakami Color Research Laboratory, product number: HM-150).
本発明の光学積層体は偏光板として有用であり、偏光膜の少なくとも一方の面に本発明の光学積層体を積層してなる。
上記偏光膜としては特に限定されず、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を使用することができる。上記偏光膜と上記光学積層体とのラミネート処理においては、アクリル基材にケン化処理を行うことが好ましい。ケン化処理によって、接着性が良好になり帯電防止効果も得ることができる。
The optical laminate of the present invention is useful as a polarizing plate, and is formed by laminating the optical laminate of the present invention on at least one surface of a polarizing film.
The polarizing film is not particularly limited, and for example, a polyvinyl alcohol film, a polyvinyl formal film, a polyvinyl acetal film, an ethylene-vinyl acetate copolymer saponified film, which is dyed and stretched with iodine or the like can be used. In the laminating process between the polarizing film and the optical laminate, it is preferable to saponify the acrylic base material. By the saponification treatment, the adhesiveness is improved and an antistatic effect can be obtained.
本発明の光学積層体は、上記光学積層体及び／又は上記偏光板を備えてなる画像表示装置に適用できる。
上記画像表示装置としては、テレビ、コンピュータ、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＦＥＤ、ＥＬＤ（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、ＣＲＴ、タブレットＰＣ、電子ペーパー、携帯電話等が挙げられ、さらに、画像表示装置等に用いられるタッチパネルにも好適に用いることができる。
The optical laminate of the present invention can be applied to an image display device comprising the optical laminate and / or the polarizing plate.
Examples of the image display device include a television, a computer, an LCD, a PDP, an FED, an ELD (organic EL, inorganic EL), a CRT, a tablet PC, electronic paper, a mobile phone, and the like, and further used for an image display device and the like. It can also be suitably used for a touch panel.
上記の代表的な例であるＬＣＤは、透過性表示体と、上記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなるものである。本発明の光学積層体を用いた画像表示装置がＬＣＤである場合、この透過性表示体の表面に、本発明の光学積層体及び／又は本発明の光学積層体を用いた偏光板が形成されてなるものである。ただし、タッチパネルを搭載した画像表示装置の場合、表面に限らず、装置内部を構成する透明基板などとしても用いることができる。 The LCD, which is a typical example of the above, includes a transmissive display body and a light source device that irradiates the transmissive display body from the back. When the image display device using the optical laminate of the present invention is an LCD, a polarizing plate using the optical laminate of the present invention and / or the optical laminate of the present invention is formed on the surface of the transparent display. It will be. However, in the case of an image display device equipped with a touch panel, it can be used not only on the surface but also as a transparent substrate constituting the inside of the device.
本発明の光学積層体を用いた画像表示装置においては、光源装置の光源は光学積層体や偏光板の下側から照射する。なお、画像表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてもよい。この画像表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。 In the image display device using the optical laminate of the present invention, the light source of the light source device irradiates from below the optical laminate or the polarizing plate. A retardation plate may be inserted between the image display element and the polarizing plate. An adhesive layer may be provided between the layers of the image display device as necessary.
ここで、本発明の光学積層体を用いた画像表示装置が液晶表示装置の場合、そのバックライト光源については特に限定されないが、白色発光ダイオード（白色ＬＥＤ）であることが好ましく、当該画像表示装置は、バックライト光源として白色発光ダイオードを備えたＶＡモード又はＩＰＳモードの液晶表示装置であることが好ましい。
上記白色ＬＥＤとは、蛍光体方式、すなわち化合物半導体を使用した青色光又は紫外光を発する発光ダイオードと蛍光体を組み合わせることにより白色を発する素子のことである。なかでも、化合物半導体を使用した青色発光ダイオードとイットリウム・アルミニウム・ガーネット系黄色蛍光体とを組み合わせた発光素子からなる白色発光ダイオードは、連続的で幅広い発光スペクトルを有していることから反射防止性能及び明所コントラストの改善に有効であるとともに、発光効率にも優れるため、本発明における上記バックライト光源として好適である。また、消費電力の小さい白色ＬＥＤを広汎に利用可能になるので、省エネルギー化の効果も奏することが可能となる。
また、上記ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モードとは、電圧無印加のときに液晶分子が液晶セルの基板に垂直になるように配向されて暗表示を示し、電圧の印加で液晶分子を倒れ込ますことで明表示を示す動作モードである。
また、上記ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードとは、液晶セルの一方の基板に設けた櫛形電極対に印加された横方向の電界により、液晶を基板面内で回転させて表示を行う方式である。
Here, when the image display device using the optical laminate of the present invention is a liquid crystal display device, the backlight light source is not particularly limited, but is preferably a white light emitting diode (white LED), and the image display device. Is preferably a VA mode or IPS mode liquid crystal display device including a white light emitting diode as a backlight light source.
The white LED is an element that emits white by combining a phosphor with a phosphor system, that is, a light emitting diode that emits blue light or ultraviolet light using a compound semiconductor. In particular, white light-emitting diodes, which consist of light-emitting elements that combine blue light-emitting diodes using compound semiconductors with yttrium, aluminum, and garnet yellow phosphors, have a continuous and broad emission spectrum, so they have anti-reflection performance. In addition, it is effective for improving the contrast of a bright place and is excellent in luminous efficiency, so that it is suitable as the backlight light source in the present invention. Further, since white LEDs with low power consumption can be widely used, it is possible to achieve an energy saving effect.
The VA (Vertical Alignment) mode refers to a dark display in which liquid crystal molecules are aligned so as to be perpendicular to the substrate of the liquid crystal cell when no voltage is applied, and the liquid crystal molecules are collapsed when a voltage is applied. This is an operation mode showing bright display.
The IPS (In-Plane Switching) mode is a method in which display is performed by rotating the liquid crystal within the substrate surface by a horizontal electric field applied to a pair of comb electrodes provided on one substrate of the liquid crystal cell. is there.
上記画像表示装置であるＰＤＰは、表面に電極を形成した表面ガラス基板と、当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置され、電極及び、微小な溝を表面に形成し、溝内に赤、緑、青の蛍光体層を形成した背面ガラス基板とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＰＤＰである場合、上記表面ガラス基板の表面、又はその前面板（ガラス基板又はフィルム基板）に上述した光学積層体を備えるものでもある。 The PDP as the image display device has a surface glass substrate on which an electrode is formed on the surface and a discharge gas sealed between the surface glass substrate to form the electrode and minute grooves on the surface. And a rear glass substrate on which red, green and blue phosphor layers are formed in the groove. When the image display device of the present invention is a PDP, the above-mentioned optical laminate is provided on the surface of the surface glass substrate or the front plate (glass substrate or film substrate).
上記画像表示装置は、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質：発光体をガラス基板に蒸着し、基板にかける電圧を制御して表示を行うＥＬＤ装置、又は、電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるＣＲＴなどの画像表示装置であってもよい。この場合、上記のような各表示装置の最表面又はその前面板の表面に上述した光学積層体を備えるものである。 The above image display device is a zinc sulfide or diamine substance that emits light when a voltage is applied: a light emitting material is deposited on a glass substrate, and an ELD device that performs display by controlling the voltage applied to the substrate, or converts an electrical signal into light Alternatively, it may be an image display device such as a CRT that generates an image visible to human eyes. In this case, the optical laminated body described above is provided on the outermost surface of each display device as described above or the surface of the front plate.
次に、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこの例によってなんら限定されるものではない。
（評価方法）
各実施例及び比較例にて製造された光学積層体について、以下の評価を行った。
（１）アクリル基材の厚み測定
減厚工程（Ｂ）後のアクリル基材の厚み、及び硬化工程（Ｃ）の後の樹脂層の厚みを明細書本文に記載の方法で算出した。
EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited at all by this example.
(Evaluation method)
The following evaluation was performed about the optical laminated body manufactured by each Example and the comparative example.
(1) Thickness measurement of acrylic substrate The thickness of the acrylic substrate after the thickness reducing step (B) and the thickness of the resin layer after the curing step (C) were calculated by the methods described in the specification.
（２）密着性
ＪＩＳ Ｋ ５６００に基づき、光学積層体のハードコート層に、１ｍｍ角で合計１００目の碁盤目を入れ、ニチバン（株）製工業用２４ｍｍセロテープ（登録商標）を用いて５回連続剥離試験を行い、残っているマス目の数量を計測した。
剥がれなかったマス目の数に応じて、以下のように評価した。○レベル以上が製品として良好なものである。
◎：９０−１００
○：８０−８９
△：５０−７９
×：５０未満
(2) Adhesiveness Based on JIS K 5600, the hard coat layer of the optical laminate is filled with 100 mm grids of 1 mm square and 5 times using Nichiban Co., Ltd. industrial 24 mm cello tape (registered trademark). A continuous peel test was performed to measure the number of remaining squares.
Depending on the number of squares that were not peeled off, evaluation was performed as follows. ○ A level or higher is a good product.
A: 90-100
○: 80-89
Δ: 50-79
X: less than 50
（３）干渉縞
光学積層体のハードコート層と反対側の面に黒色のテープを貼合した後、三波長管蛍光灯下にて目視にて干渉縞の有無の評価を行った。干渉縞が視認できない合格品を○とし、薄く視認出来た場合を△とし、視認出来た場合を×とした。
(3) Interference fringes After pasting a black tape on the surface opposite to the hard coat layer of the optical laminate, the presence or absence of interference fringes was evaluated visually under a three-wavelength tube fluorescent lamp. The acceptable product in which the interference fringes cannot be visually recognized is indicated by “◯”, the thinly visible product is indicated by “△”, and the visible product is indicated by “X”.
（４）製造加工性
電離放射線硬化性樹脂組成物Ａをアクリル基材上に塗布し乾燥した段階で、引っ張り試験を行った。引っ張り度合いは、２.２Ｎ/ｃｍとした。その結果、引っ張った折に切れない場合を「良好」と、少しでも切れが生じ、製造加工上問題が生じるものを「不良」と評価した。なお、製造加工性が「不良」となる光学積層体は、基材自体の物性が弱体化しているので樹脂層、ハードコート層などを硬化させても鉛筆硬度（ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４）が２Ｈ以上にはならない。
(4) Manufacturing processability A tensile test was performed at the stage where the ionizing radiation curable resin composition A was applied onto an acrylic substrate and dried. The degree of pulling was 2.2 N / cm. As a result, the case where it was not cut in the pulled fold was evaluated as “good”, and the case where even a slight break occurred and caused a problem in manufacturing processing was evaluated as “bad”. In addition, since the physical properties of the base material itself are weakened in the optical laminated body in which the manufacturing processability is “bad”, the pencil hardness (JIS K5600-5-4) is maintained even if the resin layer, the hard coat layer, or the like is cured. No more than 2H.
（５）ヘイズ
光学積層体のヘイズ値（％）を、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７１３６に従って測定し、以下の評価基準で評価した。
○：ヘイズ値が０．８以下
×：ヘイズ値が０．８超
(5) Haze The haze value (%) of the optical layered product was measured according to JIS K-7136 using a haze meter (manufactured by Murakami Color Research Laboratory, product number: HM-150), and evaluated according to the following evaluation criteria. .
○: Haze value is 0.8 or less ×: Haze value is more than 0.8
（６）割れ耐性
テンシロン万能材料試験機（ＲＴＧ−１３１０ 株式会社エー・アンド・デイ製）を用いて、引っ張り試験を行い、割れ耐性を評価した。光学積層体を幅１０ｍｍ、長さ１００ｍｍのサンプルとし、テンシロンにて１００ｍｍ／分にて引っ張り、以下の基準で評価した。
○：１５Ｎより強く引っ張った場合でも切れない場合
×：１５Ｎ以下で切れた場合
(6) Crack resistance Using a Tensilon universal material testing machine (RTG-1310 A & D Co., Ltd.), a tensile test was performed to evaluate crack resistance. The optical laminated body was made into a sample having a width of 10 mm and a length of 100 mm, pulled with Tensilon at 100 mm / min, and evaluated according to the following criteria.
○: When the wire is pulled more strongly than 15N, it cannot be cut. ×: When it is cut below 15N
（７）表面抵抗率
樹脂層に帯電防止材を含有する光学積層体について、表面抵抗率測定器(ハイレスターＨＴ−２１０、三菱化学アナリテック社製）を用いて表面抵抗率（Ω／□）を測定した。
(7) Surface resistivity For optical laminates containing an antistatic material in the resin layer, surface resistivity (Ω / □) using a surface resistivity meter (Hirester HT-210, manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.) Was measured.
（８）ブロッキング防止性（貼り付き防止性能）
樹脂層にブロッキング防止剤を含有する光学積層体を２つ作製し、それぞれ５ｃｍ×５ｃｍの大きさにカットした。一方の光学積層体のアクリル基材側と、他方の光学積層体の樹脂層側とを対向するようにして重ね合わせ、圧力３．０ｋｇｆ／ｃｍ2、５０℃の条件で３０時間密着させた後、以下の基準で評価した。
〇：貼り付きなし
×：貼り付きあり
(8) Anti-blocking property (adhesion prevention performance)
Two optical laminates containing an anti-blocking agent in the resin layer were prepared and each cut into a size of 5 cm × 5 cm. After overlapping the acrylic substrate side of one optical laminate and the resin layer side of the other optical laminate so as to face each other and adhering them for 30 hours under conditions of a pressure of 3.0 kgf / cm 2 and 50 ° C. The evaluation was based on the following criteria.
◯: Without sticking ×: With sticking
（９）鉛筆硬度
ＪＩＳ−Ｓ−６００６が規定する試験用鉛筆を用いて、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）が規定する鉛筆硬度評価方法に従い、４．９Ｎの荷重にて、ハードコート層が形成された表面の鉛筆硬度を測定した。
(9) Pencil Hardness Using a test pencil specified by JIS-S-6006, a hard coat layer was formed at a load of 4.9 N according to the pencil hardness evaluation method specified by JIS K5600-5-4 (1999). The pencil hardness of the formed surface was measured.
実施例１
（アクリル基材の製造）
メタクリル酸メチル及びアクリル酸メチルの共重合体（ガラス転移点：１３０℃）からなるペレットを溶融混練し、フィルターを通して異物を除去しつつ、溶融押し出し方法で、ダイの隙間からポリマーを押し出した。次いで、ポリマーを冷却しながら、縦方向に１．２倍に延伸し、その後、横方向に１．５倍に延伸して、厚み４０μｍのアクリル基材を得た。
Example 1
(Manufacture of acrylic substrate)
Pellets made of a copolymer of methyl methacrylate and methyl acrylate (glass transition point: 130 ° C.) were melt-kneaded, and the polymer was extruded from the gap of the die by a melt extrusion method while removing foreign matters through a filter. Next, while cooling the polymer, the polymer was stretched 1.2 times in the longitudinal direction, and then stretched 1.5 times in the transverse direction to obtain an acrylic substrate having a thickness of 40 μm.
（電離放射線硬化性樹脂組成物Ａの調製）
テトラエチレングリコールジアクリレート（東亞合成株式会社製、「Ｍ２４０」、分子量：２８６）８０質量部に対して、機能性成分として、アンチモンドープ酸化スズ粒子（ＡＴＯ粒子のメチルイソブチルケトン分散液 三菱マテリアル電子化成株式会社製、「ＥＰＴ５ＤＬ２ＭＩＢＫ」）２０質量部（固形分換算）、開始剤（ＢＡＳＦ社製、「Ｉｒｇ１８４」）４質量部を、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）１５０質量部に溶解させ、電離放射線硬化性樹脂組成物Ａを調製した。第１表に電離放射線硬化性樹脂組成物Ａの組成を示す。
(Preparation of ionizing radiation curable resin composition A)
Antimony-doped tin oxide particles (methyl isobutyl ketone dispersion of ATO particles) Mitsubishi Materials Electronics Chemical Co., Ltd. as a functional component with respect to 80 parts by mass of tetraethylene glycol diacrylate (manufactured by Toagosei Co., Ltd., “M240”, molecular weight: 286) "EPT5DL2MIBK" manufactured by Co., Ltd.) 20 parts by mass (converted to solid content) and 4 parts by mass of initiator ("Irg184" manufactured by BASF) are dissolved in 150 parts by mass of methyl isobutyl ketone (MIBK), and ionizing radiation curable. Resin composition A was prepared. Table 1 shows the composition of the ionizing radiation curable resin composition A.
（光学積層体の製造）
アクリル基材上に、ダイコート法により、電離放射線硬化性樹脂組成物Ａを塗工し、未硬化樹脂層を形成した。７０℃にて１分間乾燥させて溶剤を蒸発させ、乾燥後の付着量が５ｇ／ｍ2となるように樹脂層を形成した。得られた塗膜に、窒素雰囲気下（酸素濃度５００ｐｐｍ以下）、紫外線照射量２００ｍＪ／ｃｍ2で紫外線を照射して塗膜を完全硬化（フルキュアー状態）させ、光学積層体を得た。上記評価方法にて評価した結果を表１に示す。
(Manufacture of optical laminates)
On the acrylic base material, the ionizing radiation curable resin composition A was applied by a die coating method to form an uncured resin layer. It was dried at 70 ° C. for 1 minute to evaporate the solvent, and a resin layer was formed so that the adhesion amount after drying was 5 g / m 2 . The obtained coating film was irradiated with ultraviolet rays at a UV irradiation amount of 200 mJ / cm 2 under a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 500 ppm or less) to completely cure the coating film (full cure state), thereby obtaining an optical laminate. Table 1 shows the results evaluated by the above evaluation method.
実施例２〜２８、比較例１〜１３
電離放射線硬化性樹脂組成物Ａ、乾燥温度及び乾燥後の塗布量を表１〜５の条件に変更した以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。実施例１と同様に評価した結果を表１〜５に示す。
Examples 2-28, Comparative Examples 1-13
An optical laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the ionizing radiation curable resin composition A, the drying temperature, and the coating amount after drying were changed to the conditions shown in Tables 1 to 5. The result evaluated similarly to Example 1 is shown to Tables 1-5.
（表１〜５使用の材料）
［電離放射線硬化性樹脂］
ＴＥＧＤＡ：テトラエチレングリコールジアクリレート（東亞合成株式会社製、「Ｍ２４０」、分子量：２８６）
ＰＥＴＡ：ペンタエリスリトールトリアクリレート
［その他の電離放射線硬化性樹脂］
Ａ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
Ｂ：ウレタンアクリレート、日本合成化学工業社製、「紫光ＵＶ１７００Ｂ」
［機能性材料］
帯電防止剤ａ：ＡＴＯ分散液、三菱マテリアル電子化成社製、「ＥＰＴ５ＤＬ２ＭＩＢＫ」
帯電防止剤ｂ：鎖状ＡＴＯ分散液、日揮触媒化成社製、「ＥＬＣＯＭ Ｖ３５６０」
帯電防止剤ｃ：五酸化アンチモン分散液、日揮触媒化成社製、「ＥＬＣＯＭ Ｖ４５０４」
帯電防止剤ｄ：４級アンモニウム塩、コルコート社製、「コルコートＮＲ１２１Ｘ」
帯電防止剤ｅ：４級アンモニウム塩、大成ファインケミカル社製、「１ＳＸ３００４」
帯電防止剤ｆ：Ｌｉイオン系帯電防止剤、リチウムビストリフルオロメタンスルホンイミド、住友スリーエム社製、「ＬＪ−６０３０１０」
反応性シリカａ：日産化学工業社製、中実シリカ、「ＭＩＢＫ−ＳＤＬ」、平均粒子径４４ｎｍ
反応性シリカｂ：日揮触媒化成社製、異型シリカ、「ＥＬＣＯＭ Ｖ８８０３」、平均粒子径２５ｎｍ
ブロッキング防止剤： ＣＩＫナノテック社製、中実シリカ、「Ｅ６５」、平均一次粒子径１５０〜３００ｎｍ
高屈折率材料ａ：高屈折率ウレタンアクリレート、第一工業製薬社製、「Ｒ１４０３ＭＢ」
高屈折率材料ｂ：高屈折率単官能モノマー、第一工業製薬社製、「ＯＰＰＥ」
［溶剤］
ＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトン
ＩＰＡ：イソプロピルアルコール
ＭＥＫ：メチルエチルケトン
ＰＧＭＥ：プロピレングリコールモノメチルエーテル
(Materials used in Tables 1 to 5)
[Ionizing radiation curable resin]
TEGDA: Tetraethylene glycol diacrylate (manufactured by Toagosei Co., Ltd., “M240”, molecular weight: 286)
PETA: Pentaerythritol triacrylate [other ionizing radiation curable resin]
A: Dipentaerythritol hexaacrylate B: Urethane acrylate, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.
[Functional materials]
Antistatic agent a: ATO dispersion, “EPT5DL2MIBK” manufactured by Mitsubishi Materials Electronic Chemicals Corporation
Antistatic agent b: chain ATO dispersion, manufactured by JGC Catalysts & Chemicals, "ELCOM V3560"
Antistatic agent c: antimony pentoxide dispersion, JGC Catalysts & Chemicals, "ELCOM V4504"
Antistatic agent d: quaternary ammonium salt, “Colcoat NR121X” manufactured by Colcoat
Antistatic agent e: quaternary ammonium salt, manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., “1SX3004”
Antistatic agent f: Li ion-based antistatic agent, lithium bistrifluoromethanesulfonimide, manufactured by Sumitomo 3M, "LJ-603010"
Reactive silica a: Nissan Chemical Industries, Ltd., solid silica, “MIBK-SDL”, average particle size 44 nm
Reactive silica b: manufactured by JGC Catalysts & Chemicals, atypical silica, “ELCOM V8803”, average particle size 25 nm
Anti-blocking agent: CIK Nanotech, solid silica, “E65”, average primary particle size 150-300 nm
High refractive index material a: High refractive index urethane acrylate, manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku "R1403MB"
High refractive index material b: high refractive index monofunctional monomer, manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., “OPPE”
[solvent]
MIBK: methyl isobutyl ketone IPA: isopropyl alcohol MEK: methyl ethyl ketone PGME: propylene glycol monomethyl ether
本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、タッチパネル、電子ペーパー、携帯電話等のディスプレイ、特に高精細化ディスプレイに好適に使用することができる。 The optical laminate of the present invention is a cathode ray tube display (CRT), liquid crystal display (LCD), plasma display (PDP), electroluminescence display (ELD), touch panel, electronic paper, mobile phone display, etc. It can be suitably used for a display.
Claims (3)
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014065944A JP6413289B2 (en) | 2014-03-27 | 2014-03-27 | Optical laminate and method for producing the same |
| TW104104480A TWI643740B (en) | 2014-03-27 | 2015-02-11 | Optical laminate and manufacturing method of optical laminate |
| KR1020150020780A KR101949558B1 (en) | 2014-03-27 | 2015-02-11 | Optical laminate and method for manufacturing thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014065944A JP6413289B2 (en) | 2014-03-27 | 2014-03-27 | Optical laminate and method for producing the same |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2015188772A JP2015188772A (en) | 2015-11-02 |
| JP6413289B2 true JP6413289B2 (en) | 2018-10-31 |
Family
ID=54343949
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2014065944A Active JP6413289B2 (en) | 2014-03-27 | 2014-03-27 | Optical laminate and method for producing the same |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6413289B2 (en) |
| KR (1) | KR101949558B1 (en) |
| TW (1) | TWI643740B (en) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6574731B2 (en) * | 2016-03-25 | 2019-09-11 | 富士フイルム株式会社 | Optical film, polarizing plate, and image display device |
| KR101934448B1 (en) | 2017-10-17 | 2019-01-02 | 에스케이씨 주식회사 | Polarizing plate protective film and liquid crystal display comprising same |
| JP6383081B1 (en) * | 2017-12-21 | 2018-08-29 | デクセリアルズ株式会社 | Photocurable resin composition and method for manufacturing image display device |
| TW202307470A (en) | 2021-06-14 | 2023-02-16 | 日商大日本印刷股份有限公司 | Antiglare laminate, optical laminate, polarizing plate, and image display device |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57202501A (en) * | 1981-06-05 | 1982-12-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Plastic lens |
| JPS60173023A (en) * | 1984-12-24 | 1985-09-06 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | Production of synthetic resin molding excellent in abrasion resistance and surface smoothness |
| JPH0356178A (en) * | 1989-07-26 | 1991-03-11 | Dainippon Printing Co Ltd | Formation of film composed of ionizing radiation curable resin |
| JP4210127B2 (en) * | 2002-01-24 | 2009-01-14 | 三菱レイヨン株式会社 | Photocurable sheet manufacturing method, photocurable sheet and insert molded article manufacturing method |
| JP2004101883A (en) * | 2002-09-10 | 2004-04-02 | Konica Minolta Holdings Inc | Method for manufacturing optical film, and optical film |
| JP5075333B2 (en) | 2005-11-11 | 2012-11-21 | 富士フイルム株式会社 | Optical film, polarizing plate, and image display device |
| JP5380832B2 (en) * | 2006-12-27 | 2014-01-08 | 大日本印刷株式会社 | Method for producing optical laminate |
| US10774235B2 (en) * | 2008-10-27 | 2020-09-15 | Arkema France | Nano-structure coated sheets/films for optical electronic displays and photovoltaic modules |
| JP2011053596A (en) * | 2009-09-04 | 2011-03-17 | Konica Minolta Opto Inc | Optical film, polarizing plate, and display device |
| JP5810591B2 (en) * | 2011-04-07 | 2015-11-11 | 三菱レイヨン株式会社 | Laminated body, antireflection article and water repellent article |
| KR101811913B1 (en) * | 2012-01-11 | 2017-12-22 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | Method for manufacturing optical laminate |
| JP2013205645A (en) * | 2012-03-28 | 2013-10-07 | Toppan Printing Co Ltd | Antireflection film, polarizing plate with antireflection film and transmission type liquid crystal display |
| WO2014103686A1 (en) * | 2012-12-25 | 2014-07-03 | 大日本印刷株式会社 | Optical layered object, polarizer obtained using same, and image display device |
-
2014
- 2014-03-27 JP JP2014065944A patent/JP6413289B2/en active Active
-
2015
- 2015-02-11 KR KR1020150020780A patent/KR101949558B1/en active IP Right Grant
- 2015-02-11 TW TW104104480A patent/TWI643740B/en active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2015188772A (en) | 2015-11-02 |
| KR20150112764A (en) | 2015-10-07 |
| TW201536545A (en) | 2015-10-01 |
| KR101949558B1 (en) | 2019-02-18 |
| TWI643740B (en) | 2018-12-11 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170130 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170908 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170926 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171121 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180508 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180627 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180904 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180917 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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