JP5933353B2 - Antireflection film, method for producing the same, polarizing plate, and image display device - Google Patents

Antireflection film, method for producing the same, polarizing plate, and image display device Download PDF

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本発明は、反射防止フィルム、その製造方法、該反射防止フィルムを用いた偏光板、及び該反射防止フィルム又は該偏光板をディスプレイの最表面に用いた画像表示装置に関する。   The present invention relates to an antireflection film, a production method thereof, a polarizing plate using the antireflection film, and an image display device using the antireflection film or the polarizing plate on the outermost surface of a display.

反射防止フィルムは、一般に、陰極管表示装置(CRT)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)、液晶表示装置(LCD)などの画像表示装置において、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するために、反射率を低減するようディスプレイの最表面に配置される。そのため、反射防止フィルムには高い反射防止性能の他に、指紋や皮脂などの油脂成分に対する高い防汚性、及び高い物理強度(耐擦傷性など)、高い透過率、耐薬品性、耐候性(耐湿熱性、耐光性)が要求される。
そのような反射防止フィルムとして、単層の光学干渉層を有するフィルムが知られている。また、更なる低反射化を達成する観点から、低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層などの複数の光学干渉層を有する多層型の反射防止フィルムも開発されているのが現状である。
例えば、特許文献1〜4には、多官能硬化性化合物を含有する組成物を塗布及び硬化させて各層を形成し、屈折率の調整のため、中屈折率層、高屈折率層に、酸化チタン等の微粒子を含有させてなる多層型の反射防止フィルムが記載されている。
このような多層型の反射防止フィルムは、低反射化を達成し得る反面、各層の膜厚や屈折率が変動すると反射色が変化してしまうことがある。
そこで、各層の膜厚の変動を抑える観点から、例えば、低屈折率層の塗布に際し、レベリング剤を含有させ、膜厚ムラを抑えることが知られている(例えば、特許文献5参照)。
In general, an antireflection film is used in an image display device such as a cathode ray tube display (CRT), plasma display (PDP), electroluminescence display (ELD), liquid crystal display (LCD), etc. In order to prevent reflection of light, it is disposed on the outermost surface of the display so as to reduce the reflectance. Therefore, in addition to high antireflection performance, the antireflection film has high antifouling properties against oil and fat components such as fingerprints and sebum, and high physical strength (such as scratch resistance), high transmittance, chemical resistance, and weather resistance ( Resistance to moisture and heat).
As such an antireflection film, a film having a single optical interference layer is known. In addition, from the viewpoint of achieving further low reflection, multilayer antireflection films having a plurality of optical interference layers such as a low refractive index layer, a middle refractive index layer, and a high refractive index layer are also being developed. It is.
For example, in Patent Documents 1 to 4, each layer is formed by applying and curing a composition containing a polyfunctional curable compound, and for adjusting the refractive index, the medium refractive index layer and the high refractive index layer are oxidized. A multilayer antireflection film containing fine particles such as titanium is described.
Such a multilayer antireflection film can achieve low reflection, but the reflection color may change when the film thickness or refractive index of each layer varies.
Thus, from the viewpoint of suppressing fluctuations in the film thickness of each layer, for example, it is known that a leveling agent is included in applying a low refractive index layer to suppress film thickness unevenness (see, for example, Patent Document 5).

特開2005−283730号公報JP 2005-283730 A 特開平10−300902号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-300902 特開2003−75603号公報JP 2003-75603 A 特開2001−31871号公報JP 2001-31871 A 特開2012−36394号公報JP 2012-36394 A

しかしながら、中屈折率層、高屈折率層などの中間層にレベリング剤を含有させた場合、レベリング剤を含有させた層の上に積層を行うと、界面にレベリング剤が偏在することで上層との密着性(界面結合性)が悪化し、界面が剥がれやすく(傷になりやすく)なり、耐擦傷性に劣る問題が発生する。また、得られた多層型の反射防止フィルムから更に偏光板を製造する際に鹸化処理を行うと、バインダーが有する結合基の分解が起こるため、界面が剥がれやすく(傷になりやすく)なり、耐擦傷性に劣る問題がさらに顕著となってくる。このような観点から中屈折率層にレベリング性が高いレベリング剤を含有させることや保護フィルム(ラミネートフィルム)無しでの鹸化処理をすることは行われてこなかった。
本発明の目的は、上記従来技術の問題点に鑑み、鹸化処理した後であっても耐擦傷性に優れ、鹸化処理において保護フィルム(ラミネートフィルム)を要することがなく、また、色味ムラのない反射防止フィルム、前記反射防止フィルムを用いた偏光板及び画像表示装置を提供することにある。
However, when a leveling agent is contained in an intermediate layer such as a medium refractive index layer or a high refractive index layer, when the layering is performed on the layer containing the leveling agent, the leveling agent is unevenly distributed at the interface, The adhesion (interfacial bondability) of the film deteriorates, the interface is easily peeled off (prone to scratches), and the problem of poor scratch resistance occurs. In addition, when a polarizing plate is further produced from the obtained multilayer antireflection film, the saponification treatment causes decomposition of the bonding group of the binder, so that the interface is easily peeled off (prone to scratches). The problem of inferior scratching becomes even more pronounced. From such a point of view, a leveling agent having a high leveling property is not contained in the middle refractive index layer, and saponification without a protective film (laminate film) has not been performed.
In view of the above-mentioned problems of the prior art, the object of the present invention is excellent in scratch resistance even after saponification, and does not require a protective film (laminate film) in the saponification, There is provided an antireflection film, a polarizing plate using the antireflection film, and an image display device.

本発明者らは、上記課題を解消すべく鋭意検討した結果、中屈折率層中の有機又は無機粒子の平均1次粒子径10nm未満とすることで前記層中に占める前記粒子の含有量を変化させること無く粒子の表面積を増やすことにより、特定の疎水的なレベリング剤(一般式1で表されるモノマーに相当する繰り返し単位を含有する重合体)を中屈折率層表面に偏在、濃縮しやすくするとともに層表面近傍のバインダー(不飽和二重結合を3つ以上有する化合物)の結合基濃度を増加させ得るものと考えられる。それにより上層との結合性を向上させ、鹸化処理後においても良好な耐擦傷性を達成し得ることを見出した。上記知見に基づき、本発明を完成するに至った。
<1>
透明支持体上にハードコート層、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層をこの順に有する反射防止フィルムであって、前記中屈折率層が(A)平均1次粒子径10nm未満の有機又は無機粒子、(B)不飽和二重結合を3つ以上有する化合物、及び(C)下記一般式1で表されるモノマーに相当する繰り返し単位を有する重合体を含有する組成物から形成され、前記重合体(C)が前記組成物中の全固形分に対して1.0〜2.0質量%であり、前記有機又は無機粒子(A)が、前記組成物中の全固形分に対して30〜60質量%である、反射防止フィルム。
一般式1

Figure 0005933353

上記一般式1において、R は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表す。
Xは酸素原子、イオウ原子又は−N(R 12 )−を表す。R 12 は水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を表す。R は−CF 又は−CF Hを表す。
mは1〜6の整数を表す。
nは1〜11の整数を表す。
<2>
前記一般式1において、R は−CF を表す<1>に記載の反射防止フィルム。
<3>
前記平均1次粒子径10nm未満の有機又は無機粒子(A)がジルコニア粒子である、<1>又は<2>に記載の反射防止フィルム。
<4>
前記不飽和二重結合を3つ以上有する化合物(B)の分子量の数値を、官能基数で除した値である、分子量/官能基数が100以下である、<1>〜<3>のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。
<5>
前記透明支持体がセルロースアシレートフィルムである、<1>〜<4>のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。
<6>
偏光膜と該偏光膜の両面を保護する2枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が<1>〜<5>のいずれか1項に記載の反射防止フィルムである偏光板。
<7>
<1>〜<5>のいずれか1項に記載の反射防止フィルム、又は<6>に記載の偏光板を有する画像表示装置。
<8>
透明支持体上にハードコート層、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層をこの順に有し、各層それぞれが塗布、乾燥及び硬化の工程を行うことで形成される反射防止フィルムの製造方法であって、前記中屈折率層が(A)平均1次粒子径10nm未満の有機又は無機粒子、(B)不飽和二重結合を3つ以上有する化合物、(C)下記一般式1で表されるモノマーに相当する繰り返し単位を有する重合体を含有する組成物から形成され、前記重合体(C)が前記組成物中の全固形分に対して1.0〜2.0質量%であり、前記有機又は無機粒子(A)が、前記組成物中の全固形分に対して30〜60質量%である、反射防止フィルムの製造方法。
一般式1
Figure 0005933353

上記一般式1において、R は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表す。
Xは酸素原子、イオウ原子又は−N(R 12 )−を表す。R 12 は水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を表す。R は−CF 又は−CF Hを表す。
mは1〜6の整数を表す。
nは1〜11の整数を表す。
<9>
前記一般式1において、R は−CF を表す<8>に記載の反射防止フィルムの製造方法。
<10>
前記塗布、乾燥及び硬化の工程の後、さらに鹸化処理を行う、<8>又は<9>に記載の反射防止フィルムの製造方法。
なお、本発明は上記<1>〜<10>に関するものであるが、参考のためその他の事項(下記〔1〕〜〔7〕に記載した事項等)についても記載した。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have determined the content of the particles in the layer by making the average primary particle diameter of the organic or inorganic particles in the medium refractive index layer less than 10 nm. By increasing the surface area of the particles without change, a specific hydrophobic leveling agent (polymer containing a repeating unit corresponding to the monomer represented by the general formula 1) is unevenly distributed and concentrated on the surface of the medium refractive index layer. It is considered that the concentration of the bonding group of the binder (a compound having three or more unsaturated double bonds) in the vicinity of the surface of the layer can be increased. As a result, it was found that the bondability with the upper layer was improved, and good scratch resistance could be achieved even after the saponification treatment. Based on the above findings, the present invention has been completed.
<1>
An antireflection film having a hard coat layer, a medium refractive index layer, a high refractive index layer and a low refractive index layer in this order on a transparent support, wherein the medium refractive index layer (A) has an average primary particle diameter of less than 10 nm An organic or inorganic particle, (B) a compound having three or more unsaturated double bonds, and (C) a composition containing a polymer having a repeating unit corresponding to the monomer represented by the following general formula 1. The polymer (C) is 1.0 to 2.0% by mass with respect to the total solid content in the composition, and the organic or inorganic particles (A) are the total solid content in the composition. The antireflection film which is 30 to 60% by mass relative to the mass.
General formula 1
Figure 0005933353

In the above general formula 1, R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a methyl group.
X represents an oxygen atom, a sulfur atom, or —N (R 12 ) —. R 12 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. R f represents —CF 3 or —CF 2 H.
m represents an integer of 1 to 6.
n represents an integer of 1 to 11.
<2>
In Formula 1, the antireflection film according to <1> R f is representative of the -CF 3.
<3>
The antireflection film according to <1> or <2>, wherein the organic or inorganic particles (A) having an average primary particle diameter of less than 10 nm are zirconia particles.
<4>
Any one of <1> to <3>, wherein the molecular weight / functional group number is 100 or less, which is a value obtained by dividing the numerical value of the molecular weight of the compound (B) having three or more unsaturated double bonds by the number of functional groups 2. The antireflection film according to item 1.
<5>
The antireflection film according to any one of <1> to <4>, wherein the transparent support is a cellulose acylate film.
<6>
It is a polarizing plate which has two protective films which protect both surfaces of a polarizing film and this polarizing film, Comprising: At least one of this protective film is an antireflection film in any one of <1>-<5> A polarizing plate.
<7>
<1>-<5> The image display apparatus which has an antireflection film of any one of <5>, or a polarizing plate as described in <6>.
<8>
An antireflection film having a hard coat layer, a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer in this order on a transparent support, and each layer is formed by applying, drying and curing steps. A production method, wherein the medium refractive index layer is (A) organic or inorganic particles having an average primary particle diameter of less than 10 nm, (B) a compound having three or more unsaturated double bonds, (C) the following general formula 1 Formed from a composition containing a polymer having a repeating unit corresponding to the monomer represented by formula (1), wherein the polymer (C) is 1.0 to 2.0% by mass with respect to the total solid content in the composition. The method for producing an antireflection film, wherein the organic or inorganic particles (A) are 30 to 60% by mass with respect to the total solid content in the composition.
General formula 1
Figure 0005933353

In the above general formula 1, R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a methyl group.
X represents an oxygen atom, a sulfur atom, or —N (R 12 ) —. R 12 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. R f represents —CF 3 or —CF 2 H.
m represents an integer of 1 to 6.
n represents an integer of 1 to 11.
<9>
In Formula 1, R f is a manufacturing method of the antireflection film as described in <8> representing a -CF 3.
<10>
The method for producing an antireflection film according to <8> or <9>, wherein a saponification treatment is further performed after the coating, drying, and curing steps.
The present invention relates to the above <1> to <10>, but other matters (items described in [1] to [7] below) are also described for reference.

〔1〕
透明支持体上にハードコート層、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層をこの順に有する反射防止フィルムであって、前記中屈折率層が(A)平均1次粒子径10nm未満の有機又は無機粒子、(B)不飽和二重結合を3つ以上有する化合物、及び(C)下記一般式1で表されるモノマーに相当する繰り返し単位を有する重合体を含有する組成物から形成され、前記重合体(C)が前記組成物中の全固形分に対して0.2〜2.0質量%であり、前記有機又は無機粒子(A)が、前記組成物中の全固形分に対して30〜60質量%である、反射防止フィルム。
一般式1
[1]
An antireflection film having a hard coat layer, a medium refractive index layer, a high refractive index layer and a low refractive index layer in this order on a transparent support, wherein the medium refractive index layer (A) has an average primary particle diameter of less than 10 nm An organic or inorganic particle, (B) a compound having three or more unsaturated double bonds, and (C) a composition containing a polymer having a repeating unit corresponding to the monomer represented by the following general formula 1. The polymer (C) is 0.2 to 2.0% by mass with respect to the total solid content in the composition, and the organic or inorganic particles (A) are the total solid content in the composition. The antireflective film which is 30-60 mass% with respect to.
General formula 1

Figure 0005933353
Figure 0005933353

上記一般式1において、Rは水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表す。
Xは酸素原子、イオウ原子又は−N(R12)−を表す。R12は水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を表す。Rは−CF又は−CFHを表す。
mは1〜6の整数を表す。
nは1〜11の整数を表す。
〔2〕
前記平均1次粒子径10nm未満の有機又は無機粒子(A)が酸化ジルコニウム粒子である、〔1〕に記載の反射防止フィルム。
〔3〕
前記不飽和二重結合を3つ以上有する化合物(B)の分子量の数値を、官能基数で除した値である、分子量/官能基数が100以下である、〔1〕又は〔2〕に記載の反射防止フィルム。
〔4〕
前記透明支持体がセルロースアシレートフィルムである、〔1〕〜〔3〕のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。
〔5〕
偏光膜と該偏光膜の両面を保護する2枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が〔1〕〜〔4〕のいずれか1項に記載の反射防止フィルムである偏光板。
〔6〕
〔1〕〜〔4〕のいずれか1項に記載の反射防止フィルム、又は〔5〕に記載の偏光板を有する画像表示装置。
〔7〕
透明支持体上にハードコート層、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層をこの順に有し、各層それぞれが塗布、乾燥及び硬化の工程を行うことで形成される反射防止フィルムの製造方法であって、前記中屈折率層が(A)平均1次粒子径10nm未満の有機又は無機粒子、(B)不飽和二重結合を3つ以上有する化合物、(C)下記式1で表されるモノマーに相当する繰り返し単位を有する重合体を含有する組成物から形成され、前記重合体(C)が前記組成物中の全固形分に対して0.2〜2.0質量%であり、前記有機又は無機粒子(A)が、前記組成物中の全固形分に対して30〜60質量%である、反射防止フィルムの製造方法。
一般式1
In the above general formula 1, R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a methyl group.
X represents an oxygen atom, a sulfur atom, or —N (R 12 ) —. R 12 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. R f represents —CF 3 or —CF 2 H.
m represents an integer of 1 to 6.
n represents an integer of 1 to 11.
[2]
The antireflection film according to [1], wherein the organic or inorganic particles (A) having an average primary particle diameter of less than 10 nm are zirconium oxide particles.
[3]
The molecular weight / number of functional groups is 100 or less, which is a value obtained by dividing the numerical value of the molecular weight of the compound (B) having three or more unsaturated double bonds by the number of functional groups, according to [1] or [2] Antireflection film.
[4]
The antireflection film according to any one of [1] to [3], wherein the transparent support is a cellulose acylate film.
[5]
It is a polarizing plate which has two protective films which protect both surfaces of a polarizing film and this polarizing film, Comprising: At least one of this protective film is an antireflection film in any one of [1]-[4] A polarizing plate.
[6]
An image display device comprising the antireflection film according to any one of [1] to [4] or the polarizing plate according to [5].
[7]
An antireflection film having a hard coat layer, a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer in this order on a transparent support, and each layer is formed by applying, drying and curing steps. In the production method, the medium refractive index layer is (A) an organic or inorganic particle having an average primary particle diameter of less than 10 nm, (B) a compound having three or more unsaturated double bonds, (C) It is formed from a composition containing a polymer having a repeating unit corresponding to the monomer represented, and the polymer (C) is 0.2 to 2.0 mass% with respect to the total solid content in the composition. Yes, The manufacturing method of the anti-reflective film whose said organic or inorganic particle (A) is 30-60 mass% with respect to the total solid in the said composition.
General formula 1

Figure 0005933353
Figure 0005933353

上記一般式1において、Rは水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表す。
Xは酸素原子、イオウ原子又は−N(R12)−を表す。R12は水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を表す。Rは−CF又は−CFHを表す。
mは1〜6の整数を表す。
nは1〜11の整数を表す。
In the above general formula 1, R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a methyl group.
X represents an oxygen atom, a sulfur atom, or —N (R 12 ) —. R 12 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. R f represents —CF 3 or —CF 2 H.
m represents an integer of 1 to 6.
n represents an integer of 1 to 11.

本発明の反射防止フィルムは、鹸化処理した後であっても耐擦傷性に優れるため、鹸化処理において保護フィルム(ラミネートフィルム)を要することがなく、製造コストを下げることができる。また、膜厚ムラが少ないため、色味ムラの無い良好な反射防止フィルムを得ることができる。
本発明の反射防止フィルムによれば、鹸化処理した後であっても耐擦傷性に優れ、色味ムラのない偏光板及び画像表示装置を提供することができる。
Since the antireflection film of the present invention is excellent in scratch resistance even after saponification treatment, a protective film (laminate film) is not required in the saponification treatment, and the production cost can be reduced. Moreover, since there is little film thickness nonuniformity, the favorable antireflection film without a color nonuniformity can be obtained.
According to the antireflection film of the present invention, it is possible to provide a polarizing plate and an image display device that are excellent in scratch resistance even after saponification treatment and have no uneven coloring.

本発明の反射防止フィルムの層構成を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the laminated constitution of the antireflection film of this invention.

以下、本発明について説明する。ただし、本発明は以下の記載により制限されるものではない。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「(数値1)〜(数値2)」という記載は「(数値1)以上(数値2)以下」の意味を表す。また、本明細書において、「(メタ)アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「(メタ)アクリロイル基」、「(メタ)アクリル酸」等も同様である。   The present invention will be described below. However, the present invention is not limited by the following description. In the present specification, when a numerical value represents a physical property value, a characteristic value, etc., the description “(numerical value 1) to (numerical value 2)” means “(numerical value 1) or more and (numerical value 2) or less”. . In the present specification, the description “(meth) acrylate” means “at least one of acrylate and methacrylate”. The same applies to “(meth) acryloyl group”, “(meth) acrylic acid” and the like.

本発明の反射防止フィルムは、透明支持体上にハードコート層、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層をこの順に有する反射防止フィルムであって、前記中屈折率層が(A)平均1次粒子径10nm未満の有機又は無機粒子、(B)不飽和二重結合を3つ以上有する化合物、及び(C)下記一般式1で表されるモノマーに相当する繰り返し単位を有する重合体を含有する組成物から形成され、前記重合体(C)が前記組成物中の全固形分に対して0.2〜2.0質量%であり、前記有機又は無機粒子(A)が、前記組成物中の全固形分に対して30〜60質量%である。
一般式1
The antireflective film of the present invention is an antireflective film having a hard coat layer, a medium refractive index layer, a high refractive index layer and a low refractive index layer in this order on a transparent support, wherein the medium refractive index layer is (A ) An organic or inorganic particle having an average primary particle diameter of less than 10 nm, (B) a compound having three or more unsaturated double bonds, and (C) a weight having a repeating unit corresponding to the monomer represented by the following general formula 1. Formed from a composition containing coalesced, the polymer (C) is 0.2 to 2.0 mass% with respect to the total solid content in the composition, the organic or inorganic particles (A), It is 30-60 mass% with respect to the total solid in the said composition.
General formula 1

Figure 0005933353
Figure 0005933353

上記一般式1において、Rは水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表す。
Xは酸素原子、イオウ原子又は−N(R12)−を表す。R12は水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を表す。Rは−CF又は−CFHを表す。
mは1〜6の整数を表す。
nは1〜11の整数を表す。
In the above general formula 1, R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a methyl group.
X represents an oxygen atom, a sulfur atom, or —N (R 12 ) —. R 12 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. R f represents —CF 3 or —CF 2 H.
m represents an integer of 1 to 6.
n represents an integer of 1 to 11.

<(A)平均1次粒子径10nm未満の有機又は無機ナノ粒子>
本発明において、前記中屈折率層を形成する組成物(以下、単に「中屈折率層形成用組成物」ともいう)が平均1次粒子径10nm未満の有機又は無機粒子(A)を含有し、前記有機又は無機粒子(A)が、前記組成物中の全固形分に対して30〜60質量%である。
<(A) Organic or inorganic nanoparticles having an average primary particle diameter of less than 10 nm>
In the present invention, the composition for forming the medium refractive index layer (hereinafter, also simply referred to as “medium refractive index layer forming composition”) contains organic or inorganic particles (A) having an average primary particle diameter of less than 10 nm. The organic or inorganic particles (A) are 30 to 60% by mass with respect to the total solid content in the composition.

(無機粒子)
上記無機粒子としては、金属(例えば、Zr、Ti、In、Zn、Sn、Sb、Al)の酸化物が好ましく、酸化ジルコニウム粒子(ZrO)又は酸化チタン粒子(TiO)であることがより好ましく、酸化チタン粒子を平均1次粒子径10nm未満にすると光活性が強まり、周囲の有機物を分解し易くなり得る観点と後述の屈折率の観点とから、酸化ジルコニウム粒子(ジルコニア粒子)が最も好ましい。
(Inorganic particles)
The inorganic particles are preferably metal (eg, Zr, Ti, In, Zn, Sn, Sb, Al) oxides, more preferably zirconium oxide particles (ZrO 2 ) or titanium oxide particles (TiO 2 ). Preferably, when the titanium oxide particles have an average primary particle diameter of less than 10 nm, the photoactivity is enhanced, and the zirconium oxide particles (zirconia particles) are most preferable from the viewpoint that the surrounding organic matter can be easily decomposed and the refractive index described later. .

(有機粒子)
有機粒子としては、例えば、トリアジン、ポリスチレン、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド縮合物、メラミン−ホルムアルデヒド縮合物等の球状ポリマーが好ましく、トリアジンの球状ポリマーがより好ましい。
(Organic particles)
As organic particles, for example, spherical polymers such as triazine, polystyrene, benzoguanamine-formaldehyde condensate, melamine-formaldehyde condensate are preferable, and triazine spherical polymer is more preferable.

前記中屈折率層中の有機又は無機粒子の平均1次粒子径は、1〜8nmであることが好ましく、2〜7nmであることがより好ましい。この範囲内で、前記層中に占める前記粒子の含有量を変化させること無く、粒子の表面積を増やすことにより、層表面近傍のバインダー(不飽和二重結合を3つ以上有する化合物)の結合基濃度を増加させ上層との密着性が良好となり、好ましい。
本発明において、平均1次粒子径は、無作為に選択された粒子を電子顕微鏡で観察することで算出することができる。本発明では、中屈折率層に含有される任意の粒子を400個選択し、これらの粒子の粒径分布(粒子径に対する粒子数分布)を求め、その粒子数がピークとなる粒径を平均1次粒子径と定義する。
The average primary particle diameter of the organic or inorganic particles in the medium refractive index layer is preferably 1 to 8 nm, and more preferably 2 to 7 nm. Within this range, by increasing the surface area of the particles without changing the content of the particles in the layer, the bonding group of the binder near the layer surface (compound having three or more unsaturated double bonds) The concentration is increased, and the adhesion with the upper layer is improved, which is preferable.
In the present invention, the average primary particle size can be calculated by observing randomly selected particles with an electron microscope. In the present invention, 400 arbitrary particles contained in the medium refractive index layer are selected, the particle size distribution of these particles (particle number distribution with respect to the particle size) is determined, and the average particle size at which the number of particles reaches a peak It is defined as the primary particle size.

本発明における有機又は無機粒子は、屈折率が1.70〜2.80であることが好ましく、1.75〜2.80であることがさらに好ましく、1.80〜2.80であることが最も好ましい。前記屈折率は酸化ジルコニウム粒子を用いることにより好適に達成し得る。また、中屈折率層の屈折率は、前記粒子の量を変化させることなどで所定の屈折率に調整することができる。
前記有機又は無機粒子(A)の含有量は、前記組成物中の固形分に対し、30〜60質量%であり、35〜55質量%が好ましく、40〜50質量%が更に好ましい。30質量%よりも少ないと粒子数が少なくなりレベリング剤を層表面に濃縮できなくなり、耐擦傷性が悪化してしまう。60質量%よりも多いと層中のバインダー濃度が下がり、隣接する層との結合性が下がり、耐擦傷性が悪化してしまう。
The organic or inorganic particles in the present invention preferably have a refractive index of 1.70 to 2.80, more preferably 1.75 to 2.80, and 1.80 to 2.80. Most preferred. The refractive index can be suitably achieved by using zirconium oxide particles. The refractive index of the medium refractive index layer can be adjusted to a predetermined refractive index by changing the amount of the particles.
Content of the said organic or inorganic particle (A) is 30-60 mass% with respect to solid content in the said composition, 35-55 mass% is preferable, and 40-50 mass% is still more preferable. When the amount is less than 30% by mass, the number of particles decreases, and the leveling agent cannot be concentrated on the surface of the layer, resulting in deterioration of scratch resistance. When it exceeds 60% by mass, the binder concentration in the layer is lowered, the bonding property with the adjacent layer is lowered, and the scratch resistance is deteriorated.

有機又は無機粒子の比表面積は、10〜400m/gであることが好ましく、20〜200m/gであることがさらに好ましく、30〜150m/gであることが最も好ましい。 The specific surface area of the organic or inorganic particles is preferably from 10 to 400 m 2 / g, more preferably from 20 to 200 m 2 / g, and most preferably from 30 to 150 m 2 / g.

有機又は無機粒子は、分散液中あるいは塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいはバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていても良い。カップリング剤の使用が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物(例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤)が好ましく用いられる。なかでも、アクリロイル基またはメタクリロイル基を有するシランカップリング剤による処理が特に有効である。無機微粒子の化学的表面処理剤、溶媒、触媒、および分散物の安定剤は特開2006−17870号公報の[0058]〜[0083]に記載されている。   Organic or inorganic particles are used in the dispersion liquid or coating liquid for physical stabilization such as plasma discharge treatment or corona discharge treatment in order to stabilize the dispersion or to increase the affinity and binding properties with the binder component. Surface treatment, chemical surface treatment with a surfactant, a coupling agent, or the like may be performed. The use of a coupling agent is particularly preferred. As the coupling agent, an alkoxy metal compound (eg, titanium coupling agent, silane coupling agent) is preferably used. Among these, treatment with a silane coupling agent having an acryloyl group or a methacryloyl group is particularly effective. Chemical surface treatment agents for inorganic fine particles, solvents, catalysts, and dispersion stabilizers are described in JP-A-2006-17870, [0058] to [0083].

<(B)不飽和二重結合を3つ以上有する化合物>
本発明において、前記中屈折率層を形成する組成物は、不飽和二重結合を3つ以上有する化合物を含有する。
不飽和二重結合を3つ以上有する化合物はバインダーとして機能することができ、硬化性の観点、及び塗膜の強度や耐擦傷性を向上させる観点から、不飽和二重結合は4つ以上であることが好ましい。
<(B) Compound having three or more unsaturated double bonds>
In the present invention, the composition forming the intermediate refractive index layer contains a compound having three or more unsaturated double bonds.
A compound having 3 or more unsaturated double bonds can function as a binder. From the viewpoint of curability and improving the strength and scratch resistance of the coating film, the number of unsaturated double bonds is 4 or more. Preferably there is.

不飽和二重結合を3つ以上有する化合物としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和二重結合を有する化合物が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基及び−C(O)OCH=CHが好ましい。特に好ましくは下記の1分子内に3つ以上の(メタ)アクリロイル基を含有する化合物を用いることができる。 Examples of the compound having three or more unsaturated double bonds include compounds having an unsaturated double bond such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, and an allyl group. Among them, a (meth) acryloyl group and -C (O) OCH = CH 2 are preferred. Particularly preferably, a compound containing three or more (meth) acryloyl groups in one molecule described below can be used.

重合性の不飽和二重結合を有する化合物の具体例としては、アルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の(メタ)アクリル酸ジエステル類、エポキシ(メタ)アクリレート類、ウレタン(メタ)アクリレート類、ポリエステル(メタ)アクリレート類等を挙げることができる。   Specific examples of the compound having a polymerizable unsaturated double bond include (meth) acrylic acid diesters of alkylene glycol, (meth) acrylic acid diesters of polyoxyalkylene glycol, (meth) acrylic acid of polyhydric alcohol Examples include diesters, (meth) acrylic acid diesters of adducts of ethylene oxide or propylene oxide, epoxy (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates, polyester (meth) acrylates, and the like.

中でも、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル類が好ましい。例えば、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、PO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、EO変性リン酸トリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート等が挙げられる。   Among these, esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid are preferable. For example, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate , Pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, EO modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, PO modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, EO modified Tri (meth) acrylate phosphate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate Rate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-chlorohexane tetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate, caprolactone modified tris And (acryloxyethyl) isocyanurate.

(メタ)アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類は市販されているものを用いることもでき、日本化薬(株)製KAYARAD DPHA、同PET−30、新中村化学工業(株)NKエステル A−TMMT、同A−TMPT等を挙げることができる。
ウレタン(メタ)アクリレート類は市販されているものを用いることもでき、新中村化学工業(株)製U−4HA、ダイセル・サイテック(株)製EB5129等を挙げることができる。
非含フッ素多官能モノマーについては、特開2009−98658号公報の段落[0114]〜[0122]に記載されており、本発明においても同様である。
Commercially available polyfunctional acrylate compounds having a (meth) acryloyl group can be used, such as KAYARAD DPHA manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., PET-30, Shin Nakamura Chemical Co., Ltd., NK Ester A -TMMT, A-TMPT, etc. can be mentioned.
Commercially available urethane (meth) acrylates can be used, such as U-4HA manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., EB5129 manufactured by Daicel-Cytec Co., Ltd., and the like.
Non-fluorinated polyfunctional monomers are described in paragraphs [0114] to [0122] of JP-A-2009-98658, and the same applies to the present invention.

本発明において、硬化性の観点、及び塗膜の強度や耐擦傷性を向上させる観点から、前記不飽和二重結合を3つ以上有する化合物(B)の分子量の数値を、官能基数で除した値である、分子量/官能基数が100以下であることが好ましく、90以下であることがより好ましい。化合物(B)の分子量/官能基数の下限値としては特に制限はないが、70以上であることが好ましい。   In the present invention, from the viewpoint of curability and the viewpoint of improving the strength and scratch resistance of the coating film, the molecular weight of the compound (B) having three or more unsaturated double bonds is divided by the number of functional groups. The molecular weight / functional group number is preferably 100 or less, and more preferably 90 or less. Although there is no restriction | limiting in particular as a lower limit of the molecular weight / functional group number of a compound (B), It is preferable that it is 70 or more.

本発明に係る中屈折率層形成用組成物中の不飽和二重結合を3つ以上有する化合物の含有量は、十分な重合率を与えて硬度などを付与するため、中屈折率層形成用組成物中の全固形分に対して、40〜70質量%が好ましく、50〜60質量%がより好ましい。   In the composition for forming a medium refractive index layer according to the present invention, the content of the compound having three or more unsaturated double bonds gives a sufficient polymerization rate and imparts hardness, etc. 40-70 mass% is preferable with respect to the total solid content in a composition, and 50-60 mass% is more preferable.

<(C)一般式1で表されるモノマーに相当する繰り返し単位を含有する重合体>
本発明において、前記中屈折率層を形成する組成物が前記一般式1で表されるモノマーに相当する繰り返し単位を含有する重合体(以下、単に「フッ素系ポリマー」ともいう)を含有し、前記重合体(C)が前記組成物中の全固形分に対して0.2〜2.0質量%である。
前記一般式1で表されるモノマー(フルオロ脂肪族基含有モノマー)に相当する繰り返し単位を含有する重合体(C)は、フッ素系レベリング剤として膜厚ムラ防止作用を有する。
<(C) Polymer containing a repeating unit corresponding to the monomer represented by Formula 1>
In the present invention, the composition forming the intermediate refractive index layer contains a polymer containing a repeating unit corresponding to the monomer represented by the general formula 1 (hereinafter, also simply referred to as “fluorine polymer”), The said polymer (C) is 0.2-2.0 mass% with respect to the total solid in the said composition.
The polymer (C) containing a repeating unit corresponding to the monomer represented by the general formula 1 (fluoroaliphatic group-containing monomer) has an effect of preventing film thickness unevenness as a fluorine leveling agent.

前記一般式1で表されるモノマーに相当する繰り返し単位を含有する重合体としては、下記(i)のモノマーに相当する繰り返し単位(重合単位)の重合体、又は下記(i)のモノマーに相当する繰り返し単位(重合単位)及び下記(ii)のモノマーに相当する繰り返し単位(重合単位)を含むアクリル樹脂、メタアクリル樹脂、及びこれらに共重合可能なビニル系モノマーとの共重合体等が挙げられる。このような単量体としては、PolymerHandbook 2nd ed.,J.Brandrup,Wiley lnterscience(1975)Chapter 2,Page 1〜483記載のものを用いることが出来る。
例えばアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等から選ばれる付加重合性不飽和結合を1個有する化合物等をあげることができる。
The polymer containing a repeating unit corresponding to the monomer represented by the general formula 1 is a polymer of a repeating unit (polymerization unit) corresponding to the monomer (i) below or a monomer (i) below. And an acrylic resin, a methacrylic resin, and a copolymer with a vinyl monomer copolymerizable therewith, including a repeating unit (polymerized unit) and a repeating unit (polymerized unit) corresponding to the monomer (ii) below. It is done. Examples of such monomers include Polymer Handbook 2nd ed. , J .; Brandrup, Wiley Interscience (1975) Chapter 2, Pages 1-483 can be used.
For example, a compound having one addition polymerizable unsaturated bond selected from acrylic acid, methacrylic acid, acrylic esters, methacrylic esters, acrylamides, methacrylamides, allyl compounds, vinyl ethers, vinyl esters, etc. I can give you.

(i)下記一般式1で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー   (I) Fluoroaliphatic group-containing monomer represented by the following general formula 1

一般式1

Figure 0005933353
General formula 1
Figure 0005933353

上記一般式1において、Rは水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、水素原子、メチル基が好ましい。Xは酸素原子、イオウ原子又は−N(R12)−を表し、酸素原子又は−N(R12)−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。R12は水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を表し、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基がより好ましく、水素原子又はメチル基が更に好ましい。Rは−CF又は−CFHを表す。
一般式1中のmは1〜6の整数を表し、1〜3がより好ましく、1であることが更に好ましい。
一般式1中のnは1〜11の整数を表し、1〜9がより好ましく、1〜6が更に好ましい。Rは−CFHが好ましい。
またフッ素系ポリマー中に一般式1で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーから誘導される重合単位が2種類以上構成成分として含まれていても良い。
In the general formula 1, R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a methyl group, preferably a hydrogen atom or a methyl group. X represents an oxygen atom, a sulfur atom or —N (R 12 ) —, more preferably an oxygen atom or —N (R 12 ) —, and still more preferably an oxygen atom. R 12 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and still more preferably a hydrogen atom or a methyl group. R f represents —CF 3 or —CF 2 H.
M in the general formula 1 represents an integer of 1 to 6, more preferably 1 to 3, and still more preferably 1.
N in the general formula 1 represents an integer of 1 to 11, more preferably 1 to 9, and still more preferably 1 to 6. R f is preferably —CF 2 H.
In addition, two or more kinds of polymer units derived from the fluoroaliphatic group-containing monomer represented by the general formula 1 may be contained in the fluorine-based polymer as a constituent component.

(ii)上記(i)と共重合可能な下記一般式2で示されるモノマー
一般式2
(Ii) Monomer represented by the following general formula 2 copolymerizable with the above (i)

Figure 0005933353
Figure 0005933353

上記一般式2において、R13は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Yは酸素原子、イオウ原子又は−N(R15)−を表し、酸素原子又は−N(R15)−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。R15は水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を表し、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基がより好ましく、水素原子又はメチル基が更に好ましい。
14は、炭素数1〜60の直鎖、分岐状、あるいは環状のアルキル基、又は芳香族基(例えば、フェニル基又はナフチル基)を表す。該アルキル基はポリ(アルキレンオキシ)基を含んでも良い。更に、炭素数1〜20の直鎖、分岐状あるいは環状のアルキル基がより好ましく、炭素数1〜10の直鎖、分岐状のアルキル基が極めて好ましい。
In the general formula 2, R 13 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a methyl group, a hydrogen atom, more preferably a methyl group. Y represents an oxygen atom, a sulfur atom or —N (R 15 ) —, more preferably an oxygen atom or —N (R 15 ) —, and still more preferably an oxygen atom. R 15 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and still more preferably a hydrogen atom or a methyl group.
R 14 represents a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 60 carbon atoms, or an aromatic group (for example, a phenyl group or a naphthyl group). The alkyl group may include a poly (alkyleneoxy) group. Furthermore, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is more preferable, and a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is very preferable.

好ましいフッ素系ポリマーの製造に用いられる上記一般式1で示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの量は、該フッ素系ポリマーの単量体全量に基づいて、10質量%以上であり、好ましくは25質量%以上であり、より好ましくは40〜90質量%の範囲である。   The amount of the fluoroaliphatic group-containing monomer represented by the above general formula 1 used for the production of a preferred fluoropolymer is 10% by mass or more, preferably 25% based on the total amount of the monomer of the fluoropolymer. % Or more, and more preferably in the range of 40 to 90% by mass.

以下、好ましいフッ素系ポリマーの具体的な構造例を示すがこの限りではない。
なお、式中の数字は各モノマー成分のモル比率を示す。Mwは質量平均分子量を表す。
Hereinafter, although the specific structural example of a preferable fluorine-type polymer is shown, it is not this limitation.
In addition, the number in a formula shows the molar ratio of each monomer component. Mw represents a mass average molecular weight.

Figure 0005933353
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Figure 0005933353
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Figure 0005933353
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前記一般式1で表されるモノマーに相当する繰り返し単位を含有する重合体の好ましい質量平均分子量は、3000〜100,000が好ましく、5,000〜80,000がより好ましい。
更に、前記一般式1で表されるモノマーに相当する繰り返し単位を含有する重合体の好ましい含有量は、前記組成物中の全固形分に対して0.5〜1.5質量%であることが好ましい。前記一般式1で表されるモノマーに相当する繰り返し単位を含有する重合体の含有量が少なすぎると膜厚ムラ低減効果が不十分であり、また多すぎると、塗膜の乾燥が十分に行われなくなったり、塗膜としての性能(例えば反射率、耐擦傷性)に悪影響を及ぼすことがある。
The mass average molecular weight of the polymer containing a repeating unit corresponding to the monomer represented by the general formula 1 is preferably 3000 to 100,000, and more preferably 5,000 to 80,000.
Furthermore, the preferable content of the polymer containing a repeating unit corresponding to the monomer represented by Formula 1 is 0.5 to 1.5% by mass with respect to the total solid content in the composition. Is preferred. If the content of the polymer containing the repeating unit corresponding to the monomer represented by the general formula 1 is too small, the effect of reducing the film thickness unevenness is insufficient, and if it is too large, the coating film is sufficiently dried. It may become unclear and may adversely affect the performance as a coating film (for example, reflectivity and scratch resistance).

(重合開始剤)
本発明において、前記中屈折率層を形成する組成物が重合開始剤を含有することが好ましい。
重合開始剤としては、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤と光カチオン重合開始剤が好ましく、特に好ましいのは光ラジカル重合開始剤である。
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーのベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイドおよびチオキサントン類等が挙げられる。
(Polymerization initiator)
In the present invention, the composition forming the medium refractive index layer preferably contains a polymerization initiator.
As the polymerization initiator, it is preferable to use a photopolymerization initiator. As the photopolymerization initiator, a photoradical polymerization initiator and a photocationic polymerization initiator are preferable, and a photoradical polymerization initiator is particularly preferable.
Examples of the photo radical polymerization initiator include acetophenones, benzophenones, Michler's benzoylbenzoate, α-amyloxime ester, tetramethylthiuram monosulfide, and thioxanthones.

市販の光ラジカル重合開始剤としては、日本化薬(株)製のカヤキュア(DETX−S,BP−100,BDMK,CTX,BMS,2−EAQ,ABQ,CPTX,EPD,ITX,QTX,BTC,MCAなど)、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製のイルガキュア(651,184,127,500,907,369,1173,2959,4265,4263など)、サートマー社製のEsacure(KIP100F,KB1,EB3,BP,X33,KT046,KT37,KIP150,TZT)等が挙げられる。   As a commercially available radical photopolymerization initiator, Kayacure (DETX-S, BP-100, BDMK, CTX, BMS, 2-EAQ, ABQ, CPTX, EPD, ITX, QTX, BTC, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. MCA, etc.), Irgacure (651, 184, 127, 500, 907, 369, 1173, 2959, 4265, 4263, etc.) manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., Esacure (KIP100F, KB1, EB3, manufactured by Sartomer) BP, X33, KT046, KT37, KIP150, TZT) and the like.

特に、光開裂型の光ラジカル重合開始剤が好ましい。光開裂型の光ラジカル重合開始剤については、最新UV硬化技術(P.159,発行人;高薄一弘,発行所;(株)技術情報協会,1991年発行)に記載されている。
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製のイルガキュア(651,184,127,907)等が挙げられる。
In particular, photocleavable photoradical polymerization initiators are preferred. The photocleavable photoradical polymerization initiator is described in the latest UV curing technology (P.159, issuer; Kazuhiro Takasawa, publisher; Technical Information Association, published in 1991).
Examples of commercially available photocleavable photoradical polymerization initiators include Irgacure (651, 184, 127, 907) manufactured by Ciba Specialty Chemicals.

光重合開始剤は、不飽和二重結合を3つ以上有する化合物100質量部に対して、0.1〜15質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは1〜10質量部の範囲である。
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンを挙げることができる。
市販の光増感剤としては、日本化薬(株)製のKAYACURE(DMBI,EPA)などが挙げられる。
光重合反応は、中屈折率層の塗布および乾燥後、紫外線照射により行うことが好ましい。
The photopolymerization initiator is preferably used in the range of 0.1 to 15 parts by mass, more preferably in the range of 1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the compound having three or more unsaturated double bonds. It is.
In addition to the photopolymerization initiator, a photosensitizer may be used. Specific examples of the photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, Michler's ketone and thioxanthone.
Examples of commercially available photosensitizers include KAYACURE (DMBI, EPA) manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
The photopolymerization reaction is preferably performed by ultraviolet irradiation after application and drying of the medium refractive index layer.

(溶媒)
溶媒としては、沸点が60〜170℃の液体を用いることが好ましい。具体的には、水、アルコール(例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン)、エーテルアルコール(例、1−メトキシ−2−プロパノール)等が挙げられる。中でもトルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびブタノールが好ましく、特に好ましい分散媒体は、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンである。
上記溶媒の使用量は、中屈折率層に関して、塗布組成物の固形分濃度が1〜20質量%となるように使用するのが好ましく、2〜15質量%となるように使用するのが更に好ましい。
(solvent)
As the solvent, it is preferable to use a liquid having a boiling point of 60 to 170 ° C. Specifically, water, alcohol (eg, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol), ketone (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone), ester (eg, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate) , Butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate), aliphatic hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbons (eg, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride), aromatic hydrocarbons (Eg, benzene, toluene, xylene), amide (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone), ether (eg, diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran), ether alcohol (eg, 1-methoxy) 2-propanol) and the like. Of these, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and butanol are preferred, and particularly preferred dispersion media are methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone.
The amount of the solvent used is preferably such that the solid content concentration of the coating composition is 1 to 20% by mass, more preferably 2 to 15% by mass with respect to the medium refractive index layer. preferable.

以下、本発明の反射防止フィルムについて説明する。
(反射防止フィルムの層構成)
本発明の反射防止フィルムは、耐久性、光学特性、コストや生産性等の観点から、ハードコート層を有する透明支持体上に、中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層の順に有する。例えば、特開平8−122504号公報、特開平8−110401号公報、特開平10−300902号公報、特開2002−243906号公報、特開2000−111706号公報等に記載の構成が挙げられる。また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの(例、特開平10−206603号公報、特開2002−243906号公報等)等が挙げられる。
本発明の反射防止フィルムの層構成について図面を参照しながら説明する。
図1は、本発明の反射防止フィルムを模式的に示す断面図である。
図1に示す反射防止フィルムは、優れた反射防止性能を有する3層薄膜干渉型反射防止フィルムであり、透明支持体1と、該透明支持体1の一方の面に位置する低屈折率層5と、低屈折率層5と該透明支持体1の間に、低屈折率層より高屈折率の高屈折率層4とを薄膜層として有する。さらに、高屈折率層4と透明支持体1との間には薄膜層(以下、単に「薄膜層」という場合にはこれらの低屈折率層、高屈折率層及び中屈折率層を指す)としての中屈折率層3が設けられている。また、中屈折率層3及び透明支持体1の間にはハードコート層2が設けられている。
そして、本発明において、透明支持体1、中屈折率層3、高屈折率層4および低屈折率層5は、以下の関係を満足する屈折率を有することが好ましい。
Hereinafter, the antireflection film of the present invention will be described.
(Layer structure of antireflection film)
The antireflection film of the present invention is a medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer in this order on a transparent support having a hard coat layer from the viewpoint of durability, optical properties, cost, productivity, and the like. Have. For example, configurations described in JP-A-8-122504, JP-A-8-110401, JP-A-10-300902, JP-A-2002-243906, JP-A-2000-11706, and the like can be given. Other functions may be imparted to each layer, for example, an antifouling low refractive index layer or an antistatic high refractive index layer (eg, JP-A-10-206603, JP-A-2002). -243906 publication etc.) etc. are mentioned.
The layer structure of the antireflection film of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an antireflection film of the present invention.
The antireflection film shown in FIG. 1 is a three-layer thin film interference type antireflection film having excellent antireflection performance, and includes a transparent support 1 and a low refractive index layer 5 located on one surface of the transparent support 1. Between the low refractive index layer 5 and the transparent support 1, a high refractive index layer 4 having a higher refractive index than the low refractive index layer is provided as a thin film layer. Further, a thin film layer (hereinafter simply referred to as “thin film layer” refers to these low refractive index layer, high refractive index layer and medium refractive index layer) between the high refractive index layer 4 and the transparent support 1. A medium refractive index layer 3 is provided. A hard coat layer 2 is provided between the intermediate refractive index layer 3 and the transparent support 1.
In the present invention, the transparent support 1, the middle refractive index layer 3, the high refractive index layer 4, and the low refractive index layer 5 preferably have a refractive index that satisfies the following relationship.

高屈折率層の屈折率>中屈折率層の屈折率>透明支持体の屈折率>低屈折率層の屈折率。   The refractive index of the high refractive index layer> the refractive index of the medium refractive index layer> the refractive index of the transparent support> the refractive index of the low refractive index layer.

本発明の反射防止フィルムは、透明支持体上に、中屈折率層、高屈折率層、及び低屈折率層がこの順に透明支持体側から積層されており、
該中屈折率層の波長550nmにおける屈折率が1.57〜1.62であり、該中屈折率層の厚さが55.0nm〜75.0nmであり、
該高屈折率層の波長550nmにおける屈折率が1.70〜1.74であり、該高屈折率層の厚さが125.0nm〜145.0nmであり、
該低屈折率層の波長550nmにおける屈折率が1.33〜1.38であり、該低屈折率層の厚さが90.0nm〜100.0nmである
ことが好ましい。
In the antireflection film of the present invention, a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer are laminated in this order from the transparent support side on the transparent support,
The refractive index of the middle refractive index layer at a wavelength of 550 nm is 1.57 to 1.62, and the thickness of the middle refractive index layer is 55.0 nm to 75.0 nm.
The refractive index of the high refractive index layer at a wavelength of 550 nm is 1.70 to 1.74, and the thickness of the high refractive index layer is 125.0 nm to 145.0 nm.
The refractive index of the low refractive index layer at a wavelength of 550 nm is preferably 1.33 to 1.38, and the thickness of the low refractive index layer is preferably 90.0 nm to 100.0 nm.

本発明の反射防止フィルムは、上記構成の中でも、以下に示す構成であることが特に好ましい。
構成:
中屈折率層の波長550nmにおける屈折率が1.59〜1.60であり、中屈折率層の厚さが60.0nm〜70.0nmであり、
高屈折率層の波長550nmにおける屈折率が1.70〜1.74であり、高屈折率層の厚さが130.0nm〜140.0nmであり、
低屈折率層の波長550nmにおける屈折率が1.33〜1.38であり、低屈折率層の厚さが90.0nm〜100.0nmを有する低屈折率層である反射防止フィルム。
The antireflection film of the present invention preferably has the following configuration among the above configurations.
Constitution:
The refractive index at a wavelength of 550 nm of the middle refractive index layer is 1.59 to 1.60, and the thickness of the middle refractive index layer is 60.0 nm to 70.0 nm.
The refractive index at a wavelength of 550 nm of the high refractive index layer is 1.70 to 1.74, and the thickness of the high refractive index layer is 130.0 nm to 140.0 nm,
An antireflection film which is a low refractive index layer having a refractive index of 1.33 to 1.38 at a wavelength of 550 nm of the low refractive index layer and a thickness of the low refractive index layer of 90.0 nm to 100.0 nm.

各層の屈折率と厚みを上記範囲内とすることで視角を振った際の反射色の変動をより小さくできる。   By setting the refractive index and thickness of each layer within the above range, the variation in reflected color when the viewing angle is changed can be further reduced.

各層の屈折率の測定は、各層の塗布液を3〜5μmの厚みになるようにガラス板に塗布し、多波長アッベ屈折計DR−M2(アタゴ(株)製)にて測定することができる。本明細書では、「DR−M2,M4用干渉フィルター546(e)nm 部品番号:RE−3523」のフィルターを使用して測定した屈折率を波長550nmにおける屈折率として採用することができる。
各層の膜厚は光の干渉を利用した反射分光膜厚計“FE−3000”(大塚電子(株)製)や、TEM(透過型電子顕微鏡)による断面観察により測定することができる。反射分光膜厚計でも膜厚と同時に屈折率の測定も可能であるが、膜厚の測定精度を上げるために、別手段で測定した各層の屈折率を用いることが望ましい。各層の屈折率が測定できない場合は、TEMによる膜厚測定が望ましい。その場合は、10箇所以上測定し、平均した値を用いることが望ましい。
The refractive index of each layer can be measured with a multi-wavelength Abbe refractometer DR-M2 (manufactured by Atago Co., Ltd.) by applying the coating solution of each layer to a glass plate so as to have a thickness of 3 to 5 μm. . In this specification, the refractive index measured using the filter of “DR-M2, M4 interference filter 546 (e) nm part number: RE-3523” can be adopted as the refractive index at a wavelength of 550 nm.
The film thickness of each layer can be measured by cross-sectional observation using a reflection spectral film thickness meter “FE-3000” (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.) utilizing light interference or a TEM (transmission electron microscope). Although the reflection spectral film thickness meter can also measure the refractive index simultaneously with the film thickness, it is desirable to use the refractive index of each layer measured by another means in order to increase the measurement accuracy of the film thickness. When the refractive index of each layer cannot be measured, the film thickness measurement by TEM is desirable. In that case, it is desirable to measure 10 or more locations and use an average value.

次に、本発明の反射防止フィルムを構成する透明支持体及び各層について詳細に説明する。
[透明支持体]
本発明の反射防止フィルムの透明支持体としては、透明基材フィルムが好ましい。透明基材フィルムとしては、透明樹脂フィルム、透明樹脂板、透明樹脂シートや透明ガラスなど、特に限定は無い。透明樹脂フィルムとしては、セルロースアシレートフィルム(例えば、セルローストリアセテートフィルム(屈折率1.48)、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム)、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、(メタ)アクリルニトリルフィルムポリオレフィン、脂環式構造を有するポリマー(ノルボルネン系樹脂(アートン:商品名、JSR社製、非晶質ポリオレフィン(ゼオネックス:商品名、日本ゼオン社製))、などが挙げられる。このうちセルロースアシレートフィルム、ポリエチレンテレフタレート、脂環式構造を有するポリマーが好ましく、特にセルロースアシレートフィルムが好ましい。
透明支持体の厚さは通常25μm〜1000μm程度のものを用いることができるが、好ましくは25μm〜250μmであり、30μm〜90μmであることがより好ましい。
透明支持体の幅は任意のものを使うことができるが、ハンドリング、得率、生産性の点から通常は100〜5000mmのものが用いられ、800〜3000mmであることが好ましく、1000〜2000mmであることがさらに好ましい。透明支持体はロール形態の長尺で取り扱うことができ、通常100m〜5000m、好ましくは500m〜3000mのものである。
透明支持体の表面は平滑であることが好ましく、平均粗さRaの値が1μm以下であることが好ましく、0.0001〜0.5μmであることが好ましく、0.001〜0.1μmであることがさらに好ましい。
透明支持体については、特開2009−98658号公報の段落[0163]〜[0169]に記載されており、本発明においても同様である。
Next, the transparent support and each layer constituting the antireflection film of the present invention will be described in detail.
[Transparent support]
As the transparent support of the antireflection film of the present invention, a transparent substrate film is preferable. There is no limitation in particular as a transparent base film, such as a transparent resin film, a transparent resin board, a transparent resin sheet, and transparent glass. Transparent resin films include cellulose acylate films (for example, cellulose triacetate film (refractive index 1.48), cellulose diacetate film, cellulose acetate butyrate film, cellulose acetate propionate film), polyethylene terephthalate film, polyethersulfone. Film, polyacrylic resin film, polyurethane resin film, polyester film, polycarbonate film, polysulfone film, polyether film, polymethylpentene film, polyetherketone film, (meth) acrylonitrile film polyolefin, alicyclic structure Polymer (Norbornene resin (Arton: trade name, manufactured by JSR Corporation, amorphous polyolefin (ZEONEX: Name, Nippon Zeon Co., Ltd.)), and the like. Among the cellulose acylate film, a polyethylene terephthalate, preferably a polymer having an alicyclic structure, particularly preferred is a cellulose acylate film.
Although the thickness of a transparent support body can use the thing about 25 micrometers-1000 micrometers normally, Preferably it is 25 micrometers-250 micrometers, and it is more preferable that it is 30 micrometers-90 micrometers.
Although the arbitrary width | variety of a transparent support body can be used, the thing of 100-5000 mm is normally used from the point of handling, a yield, and productivity, and it is preferable that it is 800-3000 mm, 1000-2000 mm More preferably it is. The transparent support can be handled in the form of a roll, and is usually 100 m to 5000 m, preferably 500 m to 3000 m.
The surface of the transparent support is preferably smooth, and the average roughness Ra is preferably 1 μm or less, preferably 0.0001 to 0.5 μm, and 0.001 to 0.1 μm. More preferably.
The transparent support is described in paragraphs [0163] to [0169] of JP-A-2009-98658, and the same applies to the present invention.

[ハードコート層]
本発明の反射防止フィルムにおけるハードコート層は、フィルムの物理的強度を付与することができる。これにより鉛筆引掻き試験などの耐擦傷性面が強くすることができる。
本発明において、ハードコート層と低屈折率層の間に中屈折率層、高屈折率層が設けられ、反射防止フィルムを構成する。
ハードコート層は、二層以上の積層から構成されてもよい。
[Hard coat layer]
The hard coat layer in the antireflection film of the present invention can impart the physical strength of the film. As a result, the scratch-resistant surface such as a pencil scratch test can be strengthened.
In the present invention, an intermediate refractive index layer and a high refractive index layer are provided between the hard coat layer and the low refractive index layer to constitute an antireflection film.
The hard coat layer may be composed of two or more layers.

本発明におけるハードコート層の屈折率は、反射防止性のフィルムを得るための光学設計から、屈折率が1.48〜2.00の範囲にあることが好ましく、より好ましくは1.48〜1.60である。本発明では、ハードコート層の上に低屈折率層が少なくとも1層あるので、屈折率がこの範囲より小さ過ぎると反射防止性が低下し、大き過ぎると反射光の色味が強くなる傾向がある。   The refractive index of the hard coat layer in the present invention is preferably in the range of 1.48 to 2.00, more preferably 1.48 to 1, from the optical design for obtaining an antireflection film. .60. In the present invention, since there is at least one low refractive index layer on the hard coat layer, if the refractive index is too small, the antireflection property is lowered, and if it is too large, the color of the reflected light tends to be strong. is there.

ハードコート層の膜厚は、フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、通常0.5μm〜50μm程度とし、好ましくは1μm〜20μm、さらに好ましくは5μm〜20μmである。
ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、H以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。さらに、JIS K5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
The film thickness of the hard coat layer is usually about 0.5 μm to 50 μm, preferably 1 μm to 20 μm, more preferably 5 μm to 20 μm, from the viewpoint of imparting sufficient durability and impact resistance to the film.
The strength of the hard coat layer is preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and most preferably 3H or higher in the pencil hardness test. Furthermore, in the Taber test according to JIS K5400, the smaller the wear amount of the test piece before and after the test, the better.

ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は重合反応により形成されることが好ましい。例えば、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む重合性組成物を透明支持体上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。
電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和二重結合等が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基が好ましい。具体的には下記不飽和二重結合を有する多官能モノマーで挙げた化合物を好ましく用いることができる。
The hard coat layer is preferably formed by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of an ionizing radiation curable compound. For example, it is formed by applying a polymerizable composition containing an ionizing radiation-curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer on a transparent support and subjecting the polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer to a crosslinking reaction or a polymerization reaction. Can do.
The functional group of the ionizing radiation curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer is preferably a light, electron beam, or radiation polymerizable group, and among them, a photopolymerizable functional group is preferable.
Examples of the photopolymerizable functional group include unsaturated double bonds such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, and an allyl group. Among them, a (meth) acryloyl group is preferable. Specifically, the compounds mentioned for the polyfunctional monomer having an unsaturated double bond described below can be preferably used.

(不飽和二重結合を有する化合物)
本発明に係るハードコート層用組成物には、不飽和二重結合を有する化合物を含有することができる。
不飽和二重結合を有する化合物はバインダーとして機能することができ、重合性不飽和基を2つ以上有する多官能モノマーであることが好ましい。該重合性不飽和基を2つ以上有する多官能モノマーは、硬化剤として機能することができ、塗膜の強度や耐擦傷性を向上させることが可能となる。重合性不飽和基は3つ以上であることがより好ましい。
(Compound having an unsaturated double bond)
The composition for hard coat layers according to the present invention may contain a compound having an unsaturated double bond.
The compound having an unsaturated double bond can function as a binder, and is preferably a polyfunctional monomer having two or more polymerizable unsaturated groups. The polyfunctional monomer having two or more polymerizable unsaturated groups can function as a curing agent, and can improve the strength and scratch resistance of the coating film. The number of polymerizable unsaturated groups is more preferably 3 or more.

不飽和二重結合を有する化合物としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基を有する化合物が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基及び−C(O)OCH=CHが好ましい。特に好ましくは下記の1分子内に3つ以上の(メタ)アクリロイル基を含有する化合物を用いることができる。 Examples of the compound having an unsaturated double bond include compounds having a polymerizable functional group such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, and an allyl group. Among them, a (meth) acryloyl group and —C (O ) OCH = CH 2 is preferred. Particularly preferably, a compound containing three or more (meth) acryloyl groups in one molecule described below can be used.

重合性の不飽和結合を有する化合物の具体例、好ましい例としては、本発明における中屈折率層を形成する組成物が含有する不飽和二重結合を3つ以上有する化合物(B)について前述した具体例、好ましい例と同様のものが挙げられる。   As specific examples and preferred examples of the compound having a polymerizable unsaturated bond, the compound (B) having three or more unsaturated double bonds contained in the composition forming the middle refractive index layer in the present invention is described above. Specific examples and preferred examples are the same.

本発明に係るハードコート層形成用組成物中の不飽和二重結合を有する化合物の含有量は、十分な重合率を与えて硬度などを付与するため、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、40〜98質量%が好ましく、60〜95質量%がより好ましい。   The content of the compound having an unsaturated double bond in the composition for forming a hard coat layer according to the present invention provides a sufficient polymerization rate and imparts hardness and the like. 40-98 mass% is preferable with respect to solid content, and 60-95 mass% is more preferable.

[光重合開始剤]
本発明に係るハードコート層用組成物は、光重合開始剤を含有することができる。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開2009−098658号公報の段落[0133]〜[0151]に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。
[Photopolymerization initiator]
The composition for hard coat layers according to the present invention can contain a photopolymerization initiator.
As photopolymerization initiators, acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds, Examples include fluoroamine compounds, aromatic sulfoniums, lophine dimers, onium salts, borate salts, active esters, active halogens, inorganic complexes, and coumarins. Specific examples, preferred embodiments, commercially available products, and the like of the photopolymerization initiator are described in paragraphs [0133] to [0151] of JP-A-2009-098658, and can be suitably used in the present invention as well. it can.

「最新UV硬化技術」{(株)技術情報協会}(1991年)、p.159、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著(平成元年、総合技術センター発行)、p.65〜148にも種々の例が記載されており本発明に有用である。   “Latest UV Curing Technology” {Technical Information Association, Inc.} (1991), p. 159, and “UV Curing System” written by Kiyomi Kato (published by the General Technology Center in 1989), p. Various examples are also described in 65-148 and are useful in the present invention.

本発明に係るハードコート層用組成物中の光重合開始剤の含有量は、ハードコート層用組成物に含まれる重合可能な化合物を重合させるのに十分多く、かつ開始点が増えすぎないよう十分少ない量に設定するという理由から、ハードコート層用組成物中の全固形分に対して、0.5〜8質量%が好ましく、1〜5質量%がより好ましい。   The content of the photopolymerization initiator in the hard coat layer composition according to the present invention is sufficiently large to polymerize the polymerizable compound contained in the hard coat layer composition, and the starting point does not increase too much. From the reason of setting to a sufficiently small amount, 0.5 to 8% by mass is preferable and 1 to 5% by mass is more preferable with respect to the total solid content in the composition for hard coat layer.

(溶剤)
ハードコート層形成用組成物は種々の有機溶剤を含有してもよい。
本発明においては、親水性溶媒を含んでいることが好ましい。親水性溶媒としては、アルコール系溶媒、カーボネート系溶媒、エステル系溶媒などが挙げられ、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、2−エチル−1−ヘキサノール、2−メチル−1ヘキサノール、2−メトキシエタノール、2−プロポキシエタノール、2−ブトキシエタノール、ジアセトンアルコール、ジメチルカーボーネート、ジエチルカーボネート、ジイソプロピルカーボネート、メチルエチルカーボネート、メチルn−プロピルカーボネート、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、2−エトキシプロピオン酸エチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−メトキシ酢酸メチル、2−エトキシ酢酸メチル、2−エトキシ酢酸エチル、アセトン、1,2−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン等が挙げられ、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
(solvent)
The composition for forming a hard coat layer may contain various organic solvents.
In this invention, it is preferable that the hydrophilic solvent is included. Examples of the hydrophilic solvent include alcohol solvents, carbonate solvents, ester solvents and the like, for example, methanol, ethanol, isopropanol, n-butyl alcohol, cyclohexyl alcohol, 2-ethyl-1-hexanol, 2-methyl-1 Hexanol, 2-methoxyethanol, 2-propoxyethanol, 2-butoxyethanol, diacetone alcohol, dimethyl carbonate, diethyl carbonate, diisopropyl carbonate, methyl ethyl carbonate, methyl n-propyl carbonate, ethyl formate, propyl formate, pentyl formate , Methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, ethyl 2-ethoxypropionate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, 2-methoxy Methyl acetate, 2-ethoxyethyl acetate, 2-ethoxyethyl acetate, acetone, 1,2-diacetoxy acetone, acetylacetone and the like, may be used in combination of at least one kind alone or two kinds.

また、上記以外の溶剤を用いてもよい。例えば、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒などが挙げられる。例えばジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、1,3,5−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール、メチルエチルケトン(MEK)、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、2−オクタノン、2−ペンタノン、2−ヘキサノン、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。   Further, a solvent other than the above may be used. For example, ether solvents, ketone solvents, aliphatic hydrocarbon solvents, aromatic hydrocarbon solvents and the like can be mentioned. For example, dibutyl ether, dimethoxyethane, diethoxyethane, propylene oxide, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolane, 1,3,5-trioxane, tetrahydrofuran, anisole, phenetole, methyl ethyl ketone (MEK), diethyl ketone, dipropyl Ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, methyl isobutyl ketone, 2-octanone, 2-pentanone, 2-hexanone, ethylene glycol ethyl ether, ethylene glycol isopropyl ether, ethylene glycol butyl ether, propylene glycol methyl ether, ethyl Carbitol, butyl carbitol, hexane, heptane, octane, cyclohexane, methylcyclohexane, ethyl Cyclohexane, benzene, toluene, xylene and the like, can be used singly or in combination of two or more.

本発明に係るハードコート層用組成物中の固形分の濃度は20〜80質量%の範囲となるように溶媒を用いるのが好ましく、より好ましくは30〜75質量%であり、最も好ましくは40〜70質量%である。   It is preferable to use a solvent such that the solid content in the composition for hard coat layer according to the present invention is in the range of 20 to 80% by mass, more preferably 30 to 75% by mass, and most preferably 40. -70 mass%.

(界面活性剤)
本発明に係るハードコート層用組成物には各種の界面活性剤を使用することも好適である。一般的に界面活性剤は乾燥風の局所的な分布による乾燥バラツキに起因する膜厚ムラ等を抑制することができる。
(Surfactant)
It is also suitable to use various surfactants for the composition for hard coat layers according to the present invention. In general, a surfactant can suppress film thickness unevenness caused by variation in drying due to local distribution of drying air.

界面活性剤としては、具体的にはフッ素系界面活性剤、又はシリコーン系界面活性剤が好ましい。また、界面活性剤は、低分子化合物よりもオリゴマーやポリマーであることが好ましい。   Specifically, the surfactant is preferably a fluorine-based surfactant or a silicone-based surfactant. Further, the surfactant is preferably an oligomer or a polymer rather than a low molecular compound.

界面活性剤を添加すると、塗布された液膜の表面に界面活性剤が速やかに移動して偏在化し、膜乾燥後も界面活性剤がそのまま表面に偏在することになるので、界面活性剤を添加したハードコート層の表面エネルギーは、界面活性剤によって低下する。ハードコート層の膜厚不均一性やハジキ、ムラを防止するという観点からは、膜の表面エネルギーが低いことが好ましい。   When a surfactant is added, the surfactant quickly moves to the surface of the applied liquid film and becomes unevenly distributed, and the surfactant is unevenly distributed on the surface even after the film is dried. The surface energy of the hard coat layer is lowered by the surfactant. From the viewpoint of preventing unevenness of film thickness, repellency, and unevenness of the hard coat layer, the surface energy of the film is preferably low.

好ましいシリコーン系化合物の例としては、信越化学工業(株)製の“X−22−174DX”、“X−22−2426”、“X22−164C”、“X−22−176D”、(以上商品名);チッソ(株)製の、“FM−7725”、“FM−5521”、“FM−6621”、(以上商品名);Gelest製の“DMS−U22”、“RMS−033”(以上商品名);東レ・ダウコーニング(株)製の“SH200”、“DC11PA”、 “ST80PA”、“L7604”、“FZ−2105”、“L−7604”、“Y−7006”、“SS−2801”、(以上商品名);モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン製の“TSF400”(商品名)などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
前記界面活性剤は、ハードコート層用塗布組成物の全固形分中に0.01〜0.5質量%含有されることが好ましく、0.01〜0.3質量%がより好ましい。
Examples of preferred silicone compounds include “X-22-174DX”, “X-22-2426”, “X22-164C”, “X-22-176D” (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Name); "FM-7725", "FM-5521", "FM-6621" (named above) manufactured by Chisso Corporation; "DMS-U22", "RMS-033" (named above) manufactured by Gelest Product name); “SH200”, “DC11PA”, “ST80PA”, “L7604”, “FZ-2105”, “L-7604”, “Y-7006”, “SS-” manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd. 2801 "(trade name);" TSF400 "(trade name) manufactured by Momentive Performance Materials Japan, but not limited thereto.
The surfactant is preferably contained in the total solid content of the coating composition for the hard coat layer in an amount of 0.01 to 0.5% by mass, and more preferably 0.01 to 0.3% by mass.

ハードコート層には、内部散乱性付与の目的で、平均粒径が1.0〜10.0μm、好ましくは1.5〜7.0μmのマット粒子、例えば無機化合物の粒子又は樹脂粒子を含有してもよい。   The hard coat layer contains matte particles having an average particle diameter of 1.0 to 10.0 μm, preferably 1.5 to 7.0 μm, such as inorganic compound particles or resin particles, for the purpose of imparting internal scattering properties. May be.

ハードコート層のバインダーには、ハードコート層の屈折率を制御する目的で、各種屈折率モノマーまたは無機粒子、或いは両者を加えることができる。無機粒子には屈折率を制御する効果に加えて、架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。本発明では、ハードコート層形成後において、前記多官能モノマー及び/又は高屈折率モノマー等が重合して生成した重合体、その中に分散された無機粒子を含んでバインダーと称する。屈折率を制御するための無機微粒子としてはシリカ微粒子を用いることが支持体とハードコート層の干渉による色味ムラを抑制するという観点から好ましい。   For the purpose of controlling the refractive index of the hard coat layer, various refractive index monomers or inorganic particles, or both can be added to the binder of the hard coat layer. In addition to the effect of controlling the refractive index, the inorganic particles also have the effect of suppressing cure shrinkage due to the crosslinking reaction. In the present invention, a polymer formed by polymerizing the polyfunctional monomer and / or the high refractive index monomer after the formation of the hard coat layer, and the inorganic particles dispersed therein are referred to as a binder. As inorganic fine particles for controlling the refractive index, silica fine particles are preferably used from the viewpoint of suppressing color unevenness due to interference between the support and the hard coat layer.

(導電性化合物)
本発明におけるハードコート層は、帯電防止性を付与する目的で導電性化合物を含有してもよい。本発明に用いられる導電性化合物は、特に制限はないが、イオン導電性化合物又は電子伝導性化合物が挙げられる。イオン導電性化合物としては、カチオン性、アニオン性、非イオン性、両性等のイオン導電性化合物が挙げられる。電子伝導性化合物としては、芳香族炭素環又は芳香族ヘテロ環を、単結合又は二価以上の連結基で連結した非共役高分子又は共役高分子である電子伝導性化合物が挙げられる。これらの中では帯電防止性能が高く、比較的安価で、更に基材側領域に偏在させる観点から、4級アンモニウム塩基を有する化合物(カチオン系化合物)が好適である。
(Conductive compound)
The hard coat layer in the present invention may contain a conductive compound for the purpose of imparting antistatic properties. The conductive compound used in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include an ion conductive compound and an electron conductive compound. Examples of the ion conductive compound include cationic, anionic, nonionic, and amphoteric ion conductive compounds. Examples of the electron conductive compound include an electron conductive compound which is a non-conjugated polymer or a conjugated polymer in which aromatic carbocycles or aromatic heterocycles are connected by a single bond or a divalent or higher linking group. Among these, a compound having a quaternary ammonium base (cationic compound) is suitable from the viewpoint of high antistatic performance, relatively low cost, and uneven distribution in the substrate side region.

4級アンモニウム塩基を有する化合物としては、低分子型又は高分子型のいずれを用いることもできるが、ブリードアウト等による帯電防止性の変動がないことから高分子型カチオン系帯電防止剤がより好ましく用いられる。高分子型の4級アンモニウム塩基を有するカチオン化合物としては、公知化合物の中から適宜選択して用いることができ、特開2010−084425、特許第4600605号公報などに記載の化合物を好ましく用いることができる。   As the compound having a quaternary ammonium base, either a low molecular type or a high molecular type can be used, but a high molecular cationic antistatic agent is more preferable because there is no variation in antistatic properties due to bleedout or the like. Used. As the cationic compound having a polymer type quaternary ammonium base, it can be appropriately selected from known compounds, and the compounds described in JP2010-084425A, JP46000605A and the like are preferably used. it can.

[中屈折率層]
本発明における中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整される。中屈折率層の屈折率は、1.57〜1.62であることが好ましく、1.58〜1.60であることがさらに好ましい。
中屈折率層の形成方法は化学蒸着(CVD)法や物理蒸着(PVD)法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、オールウェット塗布による方法が好ましい。
[Medium refractive index layer]
In the present invention, the refractive index of the middle refractive index layer is adjusted to be a value between the refractive index of the low refractive index layer and the refractive index of the high refractive index layer. The refractive index of the medium refractive index layer is preferably 1.57 to 1.62, and more preferably 1.58 to 1.60.
The medium refractive index layer can be formed by a chemical vapor deposition (CVD) method or a physical vapor deposition (PVD) method, particularly a vacuum vapor deposition method or a sputtering method, which is a kind of physical vapor deposition method. An all wet coating method is preferred.

[高屈折率層]
本発明における高屈折率層の屈折率は、1.70〜1.74であることが好ましく、1.71〜1.73であることがより好ましい。高屈折率層の形成方法は中屈折率層の形成方法として前述したものと同様である。
[High refractive index layer]
The refractive index of the high refractive index layer in the present invention is preferably 1.70 to 1.74, more preferably 1.71 to 1.73. The method for forming the high refractive index layer is the same as that described above as the method for forming the medium refractive index layer.

上記高屈折率層は、無機微粒子、3官能以上の重合性基を有する硬化性樹脂(以下、「バインダー」と称する場合もある)、溶媒および重合開始剤を含有する塗布組成物を塗布し、溶媒を乾燥させた後、加熱、電離放射線照射あるいは両手段の併用により硬化して形成されたものであるのが好ましい。硬化性樹脂や開始剤を用いる場合は、塗布後に熱および/または電離放射線による重合反応により硬化性樹脂を硬化させることで、耐傷性や密着性に優れる高屈折率層が形成できる。   The high refractive index layer is coated with a coating composition containing inorganic fine particles, a curable resin having a tri- or higher functional polymerizable group (hereinafter sometimes referred to as “binder”), a solvent and a polymerization initiator, It is preferable that the solvent is dried and then cured by heating, irradiation with ionizing radiation, or a combination of both means. When a curable resin or an initiator is used, a high refractive index layer having excellent scratch resistance and adhesion can be formed by curing the curable resin by a polymerization reaction by heat and / or ionizing radiation after coating.

(無機微粒子)
上記無機微粒子としては、金属(例Ti、Zr、In、Zn、Sn、Sb、Al)の酸化物が好ましく、屈折率の観点から、酸化ジルコニウムの微粒子が最も好ましい。ただし、導電性の観点からは、Sb、In、Snのうちの少なくとも1種類の金属の酸化物を主成分とする無機微粒子を用いることが好ましい。無機微粒子の量を変化させることで所定の屈折率に調整することができる。層中の無機微粒子の平均粒径は、酸化ジルコニウムを主成分として用いた場合、1〜120nmであることが好ましく、さらに好ましくは1〜60nm、2〜40nmがさらに好ましい。この範囲内で、ヘイズを抑え、分散安定性、表面の適度の凹凸による上層との密着性が良好となり、好ましい。
(Inorganic fine particles)
As the inorganic fine particles, metal (eg, Ti, Zr, In, Zn, Sn, Sb, Al) oxides are preferred, and zirconium oxide fine particles are most preferred from the viewpoint of refractive index. However, from the viewpoint of conductivity, it is preferable to use inorganic fine particles whose main component is an oxide of at least one kind of metal of Sb, In, and Sn. The refractive index can be adjusted to a predetermined refractive index by changing the amount of the inorganic fine particles. The average particle diameter of the inorganic fine particles in the layer is preferably 1 to 120 nm, more preferably 1 to 60 nm, and further preferably 2 to 40 nm when zirconium oxide is used as a main component. Within this range, haze is suppressed, dispersion stability, and adhesion with the upper layer due to moderate irregularities on the surface become favorable, which is preferable.

本発明における酸化ジルコニウムを主成分とする無機微粒子は、屈折率が1.90〜2.80であることが好ましく、2.10〜2.80であることがさらに好ましく、2.20〜2.80であることが最も好ましい。
無機微粒子の添加量は、高屈折率層全体の固形分に対し、40〜90質量%であり、50〜85質量%が好ましく、60〜80質量%が更に好ましい。
The inorganic fine particles mainly composed of zirconium oxide in the present invention preferably have a refractive index of 1.90 to 2.80, more preferably 2.10 to 2.80, and 2.20 to 2.80. 80 is most preferred.
The addition amount of the inorganic fine particles is 40 to 90% by mass, preferably 50 to 85% by mass, and more preferably 60 to 80% by mass with respect to the solid content of the entire high refractive index layer.

無機微粒子の粒子径は、光散乱法や電子顕微鏡写真により測定できる。
無機微粒子の比表面積は、10〜400m/gであることが好ましく、20〜200m/gであることがさらに好ましく、30〜150m/gであることが最も好ましい。
The particle diameter of the inorganic fine particles can be measured by a light scattering method or an electron micrograph.
The specific surface area of the inorganic fine particles is preferably 10 to 400 m 2 / g, more preferably from 20 to 200 m 2 / g, and most preferably from 30 to 150 m 2 / g.

無機微粒子は、分散液中あるいは塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいはバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていても良い。カップリング剤の使用が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物(例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤)が好ましく用いられる。なかでも、アクリロイル基またはメタクリロイル基を有するシランカップリング剤による処理が特に有効である。無機微粒子の化学的表面処理剤、溶媒、触媒、および分散物の安定剤は特開2006−17870号公報の[0058]〜[0083]に記載されている。   Inorganic fine particles are treated with physical surface treatment such as plasma discharge treatment or corona discharge treatment in order to stabilize dispersion in the dispersion or coating solution, or to improve the affinity and binding properties with the binder component. Chemical surface treatment with a surfactant, a coupling agent, or the like may be performed. The use of a coupling agent is particularly preferred. As the coupling agent, an alkoxy metal compound (eg, titanium coupling agent, silane coupling agent) is preferably used. Among these, treatment with a silane coupling agent having an acryloyl group or a methacryloyl group is particularly effective. Chemical surface treatment agents for inorganic fine particles, solvents, catalysts, and dispersion stabilizers are described in JP-A-2006-17870, [0058] to [0083].

(硬化性樹脂)
硬化性樹脂としては、重合性化合物によって形成される硬化性樹脂であることが好ましく、重合性化合物としては電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーが好ましく用いられる。これらの化合物中の官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基が好ましい。
(Curable resin)
The curable resin is preferably a curable resin formed of a polymerizable compound, and an ionizing radiation curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer is preferably used as the polymerizable compound. The functional group in these compounds is preferably a light, electron beam, or radiation polymerizable group, and among them, a photopolymerizable functional group is preferable.
Examples of the photopolymerizable functional group include unsaturated polymerizable functional groups such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, and an allyl group. Among them, a (meth) acryloyl group is preferable.

光重合性官能基を有する光重合性多官能モノマーの具体例としては、
ネオペンチルグリコールアクリレート、1,6−ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等のアルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類;
トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類;
ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート等の多価アルコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類;
2,2−ビス{4−(アクリロキシ・ジエトキシ)フェニル}プロパン、2−2−ビス{4−(アクリロキシ・ポリプロポキシ)フェニル}プロパン等のエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の(メタ)アクリル酸ジエステル類等を挙げることができる。
As a specific example of a photopolymerizable polyfunctional monomer having a photopolymerizable functional group,
(Meth) acrylic acid diesters of alkylene glycol such as neopentyl glycol acrylate, 1,6-hexanediol (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate;
(Meth) acrylic acid diesters of polyoxyalkylene glycols such as triethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate;
(Meth) acrylic acid diesters of polyhydric alcohols such as pentaerythritol di (meth) acrylate;
(Meth) acrylic acid diesters of ethylene oxide or propylene oxide adducts such as 2,2-bis {4- (acryloxy · diethoxy) phenyl} propane and 2-bis {4- (acryloxy · polypropoxy) phenyl} propane Etc.

さらにはエポキシ(メタ)アクリレート類、ウレタン(メタ)アクリレート類、ポリエステル(メタ)アクリレート類も、光重合性多官能モノマーとして、好ましく用いられる。   Furthermore, epoxy (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates, and polyester (meth) acrylates are also preferably used as the photopolymerizable polyfunctional monomer.

中でも、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル類が好ましい。さらに好ましくは、1分子中に3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能モノマーが好ましい。具体的には、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、1,2,4−シクロヘキサンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールトリアクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサトリアクリレート等が挙げられる。多官能モノマーは、二種類以上を併用してもよい。
硬化性樹脂の使用量は、上述の各層の屈折率を満たす範囲で調整することができる。
Among these, esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid are preferable. More preferably, a polyfunctional monomer having 3 or more (meth) acryloyl groups in one molecule is preferable. Specifically, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, 1,2,4-cyclohexanetetra (meth) acrylate, pentaglycerol triacrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, penta Erythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tripentaerythritol triacrylate, tripentaerythritol hexatriacrylate, etc. Is mentioned. Two or more polyfunctional monomers may be used in combination.
The usage-amount of curable resin can be adjusted in the range with which the refractive index of each above-mentioned layer is satisfy | filled.

(重合開始剤)
重合開始剤としては、中屈折率層塗布組成物についての重合開始剤の具体例、好ましい例として前述したものと同様のものが挙げられる。
(Polymerization initiator)
As a polymerization initiator, the thing similar to what was mentioned above as a specific example of a polymerization initiator about a middle refractive index layer coating composition, and a preferable example is mentioned.

光重合開始剤は、硬化性樹脂100質量部に対して、0.1〜15質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは1〜10質量部の範囲である。
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンを挙げることができる。
市販の光増感剤としては、日本化薬(株)製のKAYACURE(DMBI,EPA)などが挙げられる。
光重合反応は、高屈折率層の塗布および乾燥後、紫外線照射により行うことが好ましい。
It is preferable to use a photoinitiator in the range of 0.1-15 mass parts with respect to 100 mass parts of curable resin, More preferably, it is the range of 1-10 mass parts.
In addition to the photopolymerization initiator, a photosensitizer may be used. Specific examples of the photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, Michler's ketone and thioxanthone.
Examples of commercially available photosensitizers include KAYACURE (DMBI, EPA) manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
The photopolymerization reaction is preferably performed by ultraviolet irradiation after the high refractive index layer is applied and dried.

高屈折率層には、前記の成分(無機微粒子、硬化性樹脂、重合開始剤、光増感剤など)以外に、界面活性剤、帯電防止剤、カップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤(顔料、染料)、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、導電性の金属微粒子、などを添加することもできる。   In addition to the above-mentioned components (inorganic fine particles, curable resins, polymerization initiators, photosensitizers, etc.), the high refractive index layer includes a surfactant, an antistatic agent, a coupling agent, a thickener, and an anti-coloring agent. , Colorants (pigments, dyes), antifoaming agents, leveling agents, flame retardants, UV absorbers, infrared absorbers, adhesion promoters, polymerization inhibitors, antioxidants, surface modifiers, conductive metal particles, Etc. can also be added.

(溶媒)
上記溶媒としては、中屈折率層塗布組成物についての溶媒の具体例、好ましい例として前述したものと同様のものが挙げられる。
上記溶媒の使用量は、高屈折率層塗布組成物の固形分濃度が2〜30質量%となるように使用するのが好ましく、3〜20質量%となるように使用するのが更に好ましい。
(solvent)
As said solvent, the thing similar to what was mentioned above as a specific example of a solvent about a medium refractive index layer coating composition, and a preferable example is mentioned.
The amount of the solvent used is preferably such that the solid content concentration of the high refractive index layer coating composition is 2 to 30% by mass, and more preferably 3 to 20% by mass.

本発明に用いる高屈折率層および中屈折率層は、分散媒体中に無機微粒子を分散した分散液に、さらにマトリックス形成に必要なバインダー前駆体である硬化性樹脂(例えば、前述の電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなど)、光重合開始剤等を加えて高屈折率層および中屈折率層形成用の塗布組成物とし、透明支持体上に高屈折率層および中屈折率層形成用の塗布組成物を塗布して、硬化性樹脂の架橋反応又は重合反応により硬化させて形成することが好ましい。   The high refractive index layer and the medium refractive index layer used in the present invention are a curable resin (for example, the above-mentioned ionizing radiation curing described above) that is a binder precursor necessary for matrix formation in a dispersion liquid in which inorganic fine particles are dispersed in a dispersion medium. Functional polyfunctional monomers and polyfunctional oligomers), photopolymerization initiators, etc. to form a coating composition for forming a high refractive index layer and a medium refractive index layer, and a high refractive index layer and a medium refractive index on a transparent support. It is preferably formed by applying a coating composition for forming a layer and curing it by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of a curable resin.

さらに、高屈折率層および中屈折率層のバインダーを層の塗布と同時または塗布後に、分散剤と架橋反応又は重合反応させることが好ましい。
このようにして作製した高屈折率層および中屈折率層のバインダーは、例えば、上記の好ましい分散剤と電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーとが、架橋又は重合反応し、バインダーに分散剤のアニオン性基が取りこまれた形となる。さらに高屈折率層および中屈折率層のバインダーは、アニオン性基が無機微粒子の分散状態を維持する機能を有し、架橋又は重合構造がバインダーに皮膜形成能を付与して、無機微粒子を含有する高屈折率層および中屈折率層の物理強度、耐薬品性、耐候性を改良する。
Furthermore, it is preferable to cause the binder of the high refractive index layer and the medium refractive index layer to undergo a crosslinking reaction or a polymerization reaction with the dispersant simultaneously with or after the coating of the layer.
The binder of the high refractive index layer and the medium refractive index layer produced in this way is, for example, the above-mentioned preferred dispersant and ionizing radiation curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer are crosslinked or polymerized to form a binder. The anionic group of the dispersant is incorporated. Furthermore, the binder of the high refractive index layer and the medium refractive index layer has a function in which the anionic group maintains the dispersion state of the inorganic fine particles, and the crosslinked or polymerized structure imparts a film forming ability to the binder and contains the inorganic fine particles. To improve the physical strength, chemical resistance and weather resistance of the high refractive index layer and medium refractive index layer.

高屈折率層及び中屈折率層の形成において、硬化性樹脂の架橋反応、又は、重合反応は、酸素濃度が10体積%以下の雰囲気で実施することが好ましい。
高屈折率層及び中屈折率層を酸素濃度が10体積%以下の雰囲気で形成することにより、高屈折率層の物理強度、耐薬品性、耐候性、更には、高屈折率層及び中屈折率層と高屈折率層及び中屈折率層と隣接する層との接着性を改良することができる。
好ましくは酸素濃度が6体積%以下の雰囲気で硬化性樹脂の架橋反応、又は、重合反応により形成することであり、更に好ましくは酸素濃度が4体積%以下、特に好ましくは酸素濃度が2体積%以下、最も好ましくは1体積%以下である。
In the formation of the high refractive index layer and the middle refractive index layer, the crosslinking reaction or polymerization reaction of the curable resin is preferably performed in an atmosphere having an oxygen concentration of 10% by volume or less.
By forming the high refractive index layer and the medium refractive index layer in an atmosphere having an oxygen concentration of 10% by volume or less, the physical strength, chemical resistance, and weather resistance of the high refractive index layer, as well as the high refractive index layer and the medium refractive index, The adhesion between the refractive index layer, the high refractive index layer, and the medium refractive index layer and the adjacent layer can be improved.
Preferably, it is formed by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of a curable resin in an atmosphere having an oxygen concentration of 6% by volume or less, more preferably an oxygen concentration of 4% by volume or less, particularly preferably an oxygen concentration of 2% by volume. Hereinafter, it is most preferably 1% by volume or less.

[低屈折率層]
本発明に好適に用いられる低屈折率層は、屈折率が1.33〜1.38であることが望ましく、更に望ましくは1.34〜1.37が望ましい。上記範囲内とすることで反射率を抑え、膜強度を維持することができ、好ましい。低屈折率層の形成方法も化学蒸着(CVD)法や物理蒸着(PVD)法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、後述する低屈折率層形成溶塗布用組成物を用いてオールウェット塗布による方法を用いることが好ましい。低屈折率層中には無機微粒子が含有されるのが好ましく、無機微粒子のうちの少なくとも1種は中空粒子であることが好ましく、シリカを主成分とする中空粒子(以下、中空シリカ粒子)が特に好ましい。
低屈折率層の厚さは、90.0〜100.0nmであることが好ましく、95.0〜100.0nmであることがさらに好ましい。
低屈折率層のヘイズは、3%以下であることが好ましく、2%以下であることがさらに好ましく、1%以下であることが最も好ましい。
低屈折率層まで形成した反射防止フィルムの強度は、500g荷重の鉛筆硬度試験でH以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。
また、反射防止フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が90゜以上であることが好ましい。更に好ましくは95゜以上であり、特に好ましくは100゜以上である。
[Low refractive index layer]
The low refractive index layer suitably used in the present invention preferably has a refractive index of 1.33 to 1.38, more preferably 1.34 to 1.37. Within the above range, the reflectance can be suppressed and the film strength can be maintained, which is preferable. The low refractive index layer can be formed by a chemical vapor deposition (CVD) method or a physical vapor deposition (PVD) method, particularly a vacuum vapor deposition method or a sputtering method, which is a kind of physical vapor deposition method. It is preferable to use an all wet coating method using a low refractive index layer forming solution coating composition to be described later. The low refractive index layer preferably contains inorganic fine particles. At least one of the inorganic fine particles is preferably a hollow particle, and hollow particles mainly composed of silica (hereinafter referred to as hollow silica particles) are used. Particularly preferred.
The thickness of the low refractive index layer is preferably 90.0 to 100.0 nm, and more preferably 95.0 to 100.0 nm.
The haze of the low refractive index layer is preferably 3% or less, more preferably 2% or less, and most preferably 1% or less.
The strength of the antireflection film formed up to the low refractive index layer is preferably H or more, more preferably 2H or more, and most preferably 3H or more in a pencil hardness test under a 500 g load.
In order to improve the antifouling performance of the antireflection film, it is preferable that the contact angle of the surface with respect to water is 90 ° or more. More preferably, it is 95 ° or more, and particularly preferably 100 ° or more.

(無機微粒子)
低屈折率層中に用いることのできる無機微粒子としては、中空粒子であることが好ましい。
中空粒子は屈折率が1.17〜1.40が好ましく、更に好ましくは1.17〜1.35、最も好ましくは1.17〜1.33である。中空粒子としては、中空シリカ粒子が好ましく、以下、中空シリカ粒子を例にとって記載する。ここでの屈折率は粒子全体として屈折率を表し、中空シリカ粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表わすものではない。この時、粒子内の空孔の半径をa、粒子外殻の半径をbとすると、下記式(7)で表される空隙率xは、好ましくは10〜60%、更に好ましくは20〜60%、最も好ましくは30〜60%である。
式(7) : x=(4πa/3)/(4πb/3)×100
中空のシリカ粒子をより低屈折率に、より空隙率を大きくしようとすると、外殻の厚みが薄くなり、粒子の強度としては弱くなるため、耐擦傷性の観点から上記の範囲の屈折率の粒子が好ましい。
なお、これら中空シリカ粒子の屈折率はアッベ屈折率計(アタゴ(株)製)にて測定をおこなうことができる。
中空シリカ粒子の製造方法は、例えば特開2001−233611号公報や特開2002−79616号公報に記載されている。
中空シリカ粒子としては、市販品を用いることもできる。
(Inorganic fine particles)
The inorganic fine particles that can be used in the low refractive index layer are preferably hollow particles.
The hollow particles preferably have a refractive index of 1.17 to 1.40, more preferably 1.17 to 1.35, and most preferably 1.17 to 1.33. As the hollow particles, hollow silica particles are preferable, and the hollow silica particles will be described below as an example. The refractive index here represents the refractive index of the whole particle, and does not represent the refractive index of only the outer shell silica forming the hollow silica particles. At this time, assuming that the radius of the pores in the particle is a and the radius of the particle outer shell is b, the porosity x represented by the following formula (7) is preferably 10 to 60%, more preferably 20 to 60. %, Most preferably 30-60%.
Equation (7): x = (4πa 3/3) / (4πb 3/3) × 100
If hollow silica particles are made to have a lower refractive index and a higher porosity, the thickness of the outer shell becomes thinner and the strength of the particles becomes weaker. Particles are preferred.
The refractive index of these hollow silica particles can be measured with an Abbe refractometer (manufactured by Atago Co., Ltd.).
A method for producing hollow silica particles is described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2001-233611 and 2002-79616.
A commercial item can also be used as a hollow silica particle.

中空シリカ粒子の塗設量は、1mg/m〜100mg/mが好ましく、より好ましくは5mg/m〜80mg/m、更に好ましくは10mg/m〜60mg/mである。この範囲内で、低屈折率化の効果や耐擦傷性の改良効果が良好で、低屈折率層表面に微細な凹凸ができることを防ぎ、黒の締まりなどの外観や積分反射率を良好に維持することができる。
中空シリカ粒子の平均粒径は、低屈折率層の厚みの30%以上150%以下が好ましく、より好ましくは35%以上80%以下、更に好ましくは40%以上60%以下である。
即ち、低屈折率層の厚みが100nmであれば、中空シリカ粒子の粒径は30nm以上150nm以下が好ましく、より好ましくは35nm以上80nm以下、更に好ましくは、40nm以上60nm以下である。
粒径を上記の範囲とすることで、空孔部の割合を充分に保ち、屈折率を充分に低下し、低屈折率層表面に微細な凹凸ができることを防ぎ、黒の締まりといった外観、積分反射率を良好に維持できる。シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子が好ましい。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題無い。
ここで、中空シリカ粒子の平均粒径は電子顕微鏡写真から求めることができる。
The coating amount of the hollow silica particles is preferably from 1mg / m 2 ~100mg / m 2 , more preferably 5mg / m 2 ~80mg / m 2 , more preferably from 10mg / m 2 ~60mg / m 2 . Within this range, the effects of lowering the refractive index and improving the scratch resistance are good, prevent the formation of fine irregularities on the surface of the low refractive index layer, and maintain the appearance and integrated reflectivity such as black tightening. can do.
The average particle diameter of the hollow silica particles is preferably 30% or more and 150% or less of the thickness of the low refractive index layer, more preferably 35% or more and 80% or less, and further preferably 40% or more and 60% or less.
That is, when the thickness of the low refractive index layer is 100 nm, the particle size of the hollow silica particles is preferably 30 nm or more and 150 nm or less, more preferably 35 nm or more and 80 nm or less, and still more preferably 40 nm or more and 60 nm or less.
By setting the particle size within the above range, the ratio of the pores is kept sufficiently, the refractive index is sufficiently lowered, the surface of the low refractive index layer is prevented from forming fine irregularities, the appearance of black tightening, integration The reflectance can be maintained well. The silica fine particles may be either crystalline or amorphous, and monodisperse particles are preferred. The shape is most preferably a spherical diameter, but there is no problem even if the shape is indefinite.
Here, the average particle diameter of the hollow silica particles can be determined from an electron micrograph.

本発明においては、中空シリカ粒子と併用して空孔のないシリカ粒子を用いることができる。空孔のないシリカの好ましい粒子サイズは、5nm以上150nm以下、更に好ましくは10nm以上80nm以下、最も好ましくは15nm以上60nm以下である。
また、平均粒径が低屈折率層の厚みの25%未満であるシリカ微粒子(「小サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す)の少なくとも1種を上記の粒径のシリカ微粒子(「大サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す)と併用することが好ましい。
小サイズ粒径のシリカ微粒子は、大サイズ粒径のシリカ微粒子同士の隙間に存在することができるため、大サイズ粒径のシリカ微粒子の保持剤として寄与することができる。
小サイズ粒径のシリカ微粒子の平均粒径は、1nm以上20nm以下が好ましく、5nm以上15nm以下が更に好ましく、10nm以上15nm以下が特に好ましい。このようなシリカ微粒子を用いると、原料コストおよび保持剤効果の点で好ましい。
In the present invention, silica particles having no pores can be used in combination with hollow silica particles. The preferable particle size of silica without voids is 5 nm to 150 nm, more preferably 10 nm to 80 nm, and most preferably 15 nm to 60 nm.
In addition, at least one kind of silica fine particles having an average particle size of less than 25% of the thickness of the low refractive index layer (referred to as “silica fine particles with small size particle size”) is used as silica fine particles with the above particle size (“large size particles”). It is preferably used in combination with “silica fine particles having a diameter”.
Since the fine silica particles having a small size can be present in the gaps between the fine silica particles having a large size, the fine particles can contribute as a retaining agent for the fine silica particles having a large size.
The average particle diameter of the silica fine particles having a small size is preferably 1 nm to 20 nm, more preferably 5 nm to 15 nm, and particularly preferably 10 nm to 15 nm. Use of such silica fine particles is preferable in terms of raw material costs and a retaining agent effect.

中空粒子は、分散液中あるいは塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいはバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていても良い。カップリング剤の使用が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物(例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤)が好ましく用いられる。なかでも、アクリロイル基またはメタクリロイル基を有するシランカップリング剤による処理が特に有効である。中空粒子の化学的表面処理剤、溶媒、触媒、および分散物の安定剤は特開2006−17870号公報の[0058]〜[0083]に記載されている。   Hollow particles are treated with physical surface treatment such as plasma discharge treatment or corona discharge treatment in order to stabilize dispersion in the dispersion or coating solution, or to improve the affinity and binding properties with the binder component. Chemical surface treatment with a surfactant, a coupling agent, or the like may be performed. The use of a coupling agent is particularly preferred. As the coupling agent, an alkoxy metal compound (eg, titanium coupling agent, silane coupling agent) is preferably used. Among these, treatment with a silane coupling agent having an acryloyl group or a methacryloyl group is particularly effective. Hollow particle chemical surface treatment agents, solvents, catalysts, and dispersion stabilizers are described in JP-A-2006-17870, [0058] to [0083].

上記低屈折率層が、膜形成性の溶質と1種類以上の溶媒とを含有する塗布組成物を塗布し、該溶媒を乾燥した後、加熱、電離放射線照射又は両手段の併用による硬化により形成されたものであるのが好ましい。
上記溶質は、熱または電離放射線硬化性の含フッ素硬化性樹脂を含有する組成物、あるいは有機シリル化合物の加水分解物およびその部分縮合物のいずれかであるのが好ましい。
含フッ素硬化性樹脂を含有する組成物を用いることがより好ましく、有機シリル化合物の加水分解物およびその部分縮合物を補助的に用いる態様がより好ましい。補助的に用いる有機シリル化合物の加水分解物およびその部分縮合物の添加量は、含フッ素硬化性樹脂の10〜40質量%である。
The low refractive index layer is formed by applying a coating composition containing a film-forming solute and one or more solvents, drying the solvent, and then curing by heating, irradiation with ionizing radiation, or a combination of both means. It is preferred that
The solute is preferably either a composition containing a heat- or ionizing radiation-curable fluorine-containing curable resin, or a hydrolyzate of an organic silyl compound and a partial condensate thereof.
It is more preferable to use a composition containing a fluorine-containing curable resin, and a mode in which a hydrolyzate of an organic silyl compound and a partial condensate thereof are used supplementarily is more preferable. The addition amount of the hydrolyzate of the organic silyl compound and the partial condensate thereof used in an auxiliary amount is 10 to 40% by mass of the fluorinated curable resin.

(含フッ素硬化性樹脂)
上記含フッ素硬化性樹脂(以下、「含フッ素ポリマー」ともいう)としては、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物(例えば(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロデシル)トリエトキシシラン)の加水分解、脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性付与のための構成単位を構成成分とする含フッ素共重合体が挙げられる。特に、本発明の低屈折率層は、含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位および側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する繰返し単位を必須の構成成分とする共重合体の硬化皮膜によって形成されるのが好ましい。低屈折率化と皮膜硬度の両立の観点から多官能(メタ)アクリレート等の硬化剤を併用することも好ましい。該含フッ素ポリマーと該多官能(メタ)アクリレートの混合比には特に制限はないが、乾燥後の被膜で両者が相分離を起こさない混合比にすることが望ましい。また、当然、どちらか一方だけを用いることもできる。多官能(メタ)アクリレートとしては、高屈折率層に記した光重合性多官能モノマーが具体例として挙げられる。
(Fluorine-containing curable resin)
Examples of the fluorine-containing curable resin (hereinafter also referred to as “fluorinated polymer”) include perfluoroalkyl group-containing silane compounds (for example, (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrodecyl) triethoxysilane). In addition to hydrolysis and dehydration condensates, there may be mentioned fluorine-containing copolymers having a fluorine-containing monomer unit and a constituent unit for imparting crosslinking reactivity as constituent components. In particular, the low refractive index layer of the present invention is formed by a cured film of a copolymer comprising a repeating unit derived from a fluorine-containing vinyl monomer and a repeating unit having a (meth) acryloyl group in the side chain as essential constituent components. Is preferred. It is also preferable to use a curing agent such as polyfunctional (meth) acrylate in combination from the viewpoint of achieving both low refractive index and film hardness. Although there is no restriction | limiting in particular in the mixing ratio of this fluoropolymer and this polyfunctional (meth) acrylate, It is desirable to set it as the mixing ratio which does not raise | generate phase separation with the film after drying. Of course, only one of them can be used. Specific examples of the polyfunctional (meth) acrylate include a photopolymerizable polyfunctional monomer described in the high refractive index layer.

以下に本発明の低屈折率層に用いられる好ましい含フッ素硬化性樹脂の例を説明する。
含フッ素ビニルモノマーとしてはフルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン等)、(メタ)アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えばビスコート6FM(商品名、大阪有機化学製)やM−2020(商品名、ダイキン製)等)、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。本発明では共重合体のフッ素含率が20〜60質量%となるように含フッ素ビニルモノマーを導入することが好ましく、より好ましくは25〜55質量%の場合であり、特に好ましくは30〜50質量%の場合である。含フッ素ビニルモノマーの組成比は上記の範囲とすることで、屈折率を充分に低くするとともに、皮膜強度も維持することができる。
Examples of preferred fluorine-containing curable resins used for the low refractive index layer of the present invention will be described below.
Examples of the fluorine-containing vinyl monomer include fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, etc.), (meth) acrylic acid moieties or fully fluorinated alkyl ester derivatives (for example, biscoat 6FM (trade name) , Osaka Organic Chemical Co., Ltd.), M-2020 (trade name, manufactured by Daikin Co., Ltd.), fully or partially fluorinated vinyl ethers, and the like. Preferred are perfluoroolefins, refractive index, solubility, and transparency. From the viewpoint of availability, hexafluoropropylene is particularly preferable. In the present invention, the fluorine-containing vinyl monomer is preferably introduced so that the fluorine content of the copolymer is 20 to 60% by mass, more preferably 25 to 55% by mass, and particularly preferably 30 to 50%. This is a case of mass%. By setting the composition ratio of the fluorine-containing vinyl monomer within the above range, the refractive index can be sufficiently lowered and the film strength can be maintained.

上記低屈折率層に用いられる含フッ素硬化性樹脂は架橋反応性基を有することが好ましい。架橋反応性付与のための構成単位としてはグリシジル(メタ)アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、カルボキシ基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー(例えば(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等)の重合によって得られる構成単位、これらの構成単位に高分子反応によって(メタ)アクリルロイル基等の架橋反応性基を導入した構成単位(例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できる)が挙げられる。低屈折率層に用いられる含フッ素ポリマーとしての共重合体は、側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する繰返し単位を必須の構成成分として有するのが好ましい。含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位の種類によっても異なるが、一般に(メタ)アクリロイル基含有繰返し単位は5〜90質量%を占めることが好ましく、30〜70質量%を占めることがより好ましく、40〜60質量%を占めることが特に好ましい。これらの(メタ)アクリロイル基含有繰返し単位の組成比を高めれば皮膜強度は向上するが屈折率も高くなり、好ましい。   The fluorine-containing curable resin used for the low refractive index layer preferably has a crosslinking reactive group. As structural units for imparting crosslinking reactivity, structural units obtained by polymerization of monomers having a self-crosslinkable functional group in the molecule in advance such as glycidyl (meth) acrylate and glycidyl vinyl ether, carboxy group, hydroxy group, amino group Obtained by polymerization of a monomer having a sulfo group or the like (for example, (meth) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allyl acrylate, hydroxyethyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, maleic acid, crotonic acid, etc.) And a structural unit obtained by introducing a crosslinking reactive group such as a (meth) acryloyl group into these structural units by a polymer reaction (for example, it can be introduced by a technique such as allowing acrylic acid chloride to act on a hydroxy group) But It is below. The copolymer as the fluorine-containing polymer used in the low refractive index layer preferably has a repeating unit having a (meth) acryloyl group in the side chain as an essential constituent component. Generally, the (meth) acryloyl group-containing repeating unit preferably accounts for 5 to 90% by mass, more preferably 30 to 70% by mass, although it varies depending on the type of repeating unit derived from the fluorine-containing vinyl monomer. It is particularly preferred to account for ~ 60% by weight. Increasing the composition ratio of these (meth) acryloyl group-containing repeating units improves the film strength but also increases the refractive index, which is preferable.

本発明に有用な共重合体では上記含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位および側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する繰返し単位以外に、透明支持体への密着性、ポリマーのTg(皮膜硬度に寄与する)、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜他のビニルモノマーを共重合することもできる。これらのビニルモノマーは目的に応じて複数を組み合わせてもよく、合計で共重合体中の0〜65mol%の範囲で導入されていることが好ましく、0〜40mol%の範囲であることがより好ましく、0〜30mol%の範囲であることが特に好ましい。   In the copolymer useful for the present invention, in addition to the repeating unit derived from the above-mentioned fluorine-containing vinyl monomer and the repeating unit having a (meth) acryloyl group in the side chain, the adhesiveness to the transparent support, the Tg of the polymer (on the film hardness) In addition, other vinyl monomers can be appropriately copolymerized from various viewpoints such as solubility in solvents, transparency, slipperiness, dust resistance and antifouling properties. A plurality of these vinyl monomers may be combined depending on the purpose, and are preferably introduced in the range of 0 to 65 mol% in the copolymer in total, and more preferably in the range of 0 to 40 mol%. The range of 0 to 30 mol% is particularly preferable.

併用可能なビニルモノマーには特に限定はなく、例えばオレフィン類(エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等)、アクリル酸エステル類(アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸2−ヒドロキシエチル)、メタクリル酸エステル類(メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル等)、スチレン誘導体(スチレン、p−ヒドロキシメチルスチレン、p−メトキシスチレン等)、ビニルエーテル類(メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル等)、ビニルエステル類(酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等)、不飽和カルボン酸類(アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等)、アクリルアミド類(N,N−ジメチルアクリルアミド、N−tertブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド等)、メタクリルアミド類(N,N−ジメチルメタクリルアミド)、アクリロニトリル等を挙げることができる。   The vinyl monomer that can be used in combination is not particularly limited. For example, olefins (ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride, etc.), acrylic esters (methyl acrylate, ethyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, acrylic) Acid 2-hydroxyethyl), methacrylic acid esters (methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, etc.), styrene derivatives (styrene, p-hydroxymethylstyrene, p-methoxystyrene, etc.) , Vinyl ethers (methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, etc.), vinyl esters (vinyl acetate, vinyl propionate, Vinyl cinnamate), unsaturated carboxylic acids (acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, maleic acid, itaconic acid, etc.), acrylamides (N, N-dimethylacrylamide, N-tertbutylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, etc.) Methacrylamides (N, N-dimethylmethacrylamide), acrylonitrile and the like.

上記のポリマーに対しては特開平10−25388号および特開平10−147739号各公報に記載のごとく適宜硬化剤を併用しても良い。   As described in JP-A-10-25388 and JP-A-10-147739, a curing agent may be appropriately used in combination with the above polymer.

本発明に用いられる含フッ素硬化性樹脂の好ましい形態として下記一般式IIIのものが挙げられる。   As a preferred form of the fluorine-containing curable resin used in the present invention, the following general formula III may be mentioned.

Figure 0005933353
Figure 0005933353

一般式III中、Lは炭素数1〜10の連結基を表し、より好ましくは炭素数1〜6の連結基であり、特に好ましくは2〜4の連結基であり、直鎖であっても分岐構造を有していてもよく、環構造を有していてもよく、O、N、Sから選ばれるヘテロ原子を有していても良い。
好ましい例としては、*−(CH−O−**,*−(CH−NH−**,*−(CH−O−**,*−(CH−O−**,*−(CH−O−(CH−O−**,*−CONH−(CH−O−**,*−CHCH(OH)CH−O−**,*−CHCHOCONH(CH−O−**(*はポリマー主鎖側の連結部位を表し、**は(メタ)アクリロイル基側の連結部位を表す。)等が挙げられる。mは0または1を表わす。
In the general formula III, L represents a linking group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably a linking group having 1 to 6 carbon atoms, particularly preferably a linking group having 2 to 4 carbon atoms, It may have a branched structure, may have a ring structure, and may have a heteroatom selected from O, N, and S.
Preferred examples include * — (CH 2 ) 2 —O — **, * — (CH 2 ) 2 —NH — **, * — (CH 2 ) 4 —O — **, * — (CH 2 ). 6 -O - **, * - ( CH 2) 2 -O- (CH 2) 2 -O - **, * - CONH- (CH 2) 3 -O - **, * - CH 2 CH (OH ) CH 2 —O — **, * —CH 2 CH 2 OCONH (CH 2 ) 3 —O — ** (* represents a linking site on the polymer main chain side, and ** represents a linking on the (meth) acryloyl group side) Represents a part). m represents 0 or 1;

一般式III中、Xは水素原子またはメチル基を表す。硬化反応性の観点から、より好ましくは水素原子である。   In general formula III, X represents a hydrogen atom or a methyl group. From the viewpoint of curing reactivity, a hydrogen atom is more preferable.

一般式III中、Aは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表わし、ヘキサフルオロプロピレンと共重合可能な単量体の構成成分であれば特に制限はなく、透明支持体への密着性、ポリマーのTg(皮膜硬度に寄与する)、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜選択することができ、目的に応じて単一あるいは複数のビニルモノマーによって構成されていても良い。   In general formula III, A represents a repeating unit derived from an arbitrary vinyl monomer, and is not particularly limited as long as it is a constituent component of a monomer copolymerizable with hexafluoropropylene. Adhesiveness to a transparent support, polymer Tg (contributes to film hardness), solubility in solvents, transparency, slipperiness, dustproof / antifouling properties, etc., can be selected as appropriate, depending on the purpose, single or multiple vinyl monomers It may be constituted by.

好ましいビニルモノマーの例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、t−ブチルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、アリルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、グリシジルメタアクリレート、アリル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の(メタ)アクリレート類、スチレン、p−ヒドロキシメチルスチレン等のスチレン誘導体、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸およびその誘導体等を挙げることができるが、より好ましくはビニルエーテル誘導体、ビニルエステル誘導体であり、特に好ましくはビニルエーテル誘導体である。   Examples of preferred vinyl monomers include methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, t-butyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, glycidyl vinyl ether, vinyl ethers such as allyl vinyl ether, vinyl acetate, propionic acid Vinyl esters such as vinyl and vinyl butyrate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, glycidyl methacrylate, allyl (meth) acrylate, (meth) acryloyloxypropyltrimethoxysilane, etc. (Meth) acrylates, styrene, styrene derivatives such as p-hydroxymethylstyrene, crotonic acid, male Acid, can be mentioned and unsaturated carboxylic acids and derivatives thereof such as itaconic acid, more preferably a vinyl ether derivative, vinyl ester derivatives, particularly preferably a vinyl ether derivative.

x、y、zはそれぞれの構成成分のモル%を表し、30≦x≦60、5≦y≦70、0≦z≦65を満たす値を表す。但し、x+y+z=100である。好ましくは、35≦x≦55、30≦y≦60、0≦z≦20の場合であり、特に好ましくは40≦x≦55、40≦y≦55、0≦z≦10の場合である。   x, y, and z represent mol% of each constituent component, and represent values satisfying 30 ≦ x ≦ 60, 5 ≦ y ≦ 70, and 0 ≦ z ≦ 65. However, x + y + z = 100. Preferably, 35 ≦ x ≦ 55, 30 ≦ y ≦ 60, and 0 ≦ z ≦ 20, and particularly preferably 40 ≦ x ≦ 55, 40 ≦ y ≦ 55, and 0 ≦ z ≦ 10.

本発明に用いられる共重合体の特に好ましい形態として一般式IVが挙げられる。   As a particularly preferred form of the copolymer used in the present invention, general formula IV can be mentioned.

Figure 0005933353
Figure 0005933353

上記一般式IVにおいてX、x、yは一般式IIIにおけるX、x、yと同義であり、好ましい範囲も同じである。
nは2≦n≦10の整数を表し、2≦n≦6であることが好ましく、2≦n≦4であることが特に好ましい。
Bは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表し、単一組成であっても複数の組成によって構成されていても良い。例としては、前記一般式IIIにおけるAの例として説明したものが当てはまる。
z1およびz2はそれぞれの繰返し単位のmol%を表し、0≦z1≦65、0≦z2≦65を満たす値を表す。但し、x+y+z1+z2=100である。それぞれ0≦z1≦30、0≦z2≦10であることが好ましく、0≦z1≦10、0≦z2≦5であることが特に好ましい。
In the general formula IV, X, x, and y have the same meanings as X, x, and y in the general formula III, and preferred ranges are also the same.
n represents an integer of 2 ≦ n ≦ 10, preferably 2 ≦ n ≦ 6, and particularly preferably 2 ≦ n ≦ 4.
B represents a repeating unit derived from an arbitrary vinyl monomer, and may be composed of a single composition or a plurality of compositions. As an example, what was demonstrated as an example of A in the said general formula III is applicable.
z1 and z2 represent mol% of each repeating unit, and represent values satisfying 0 ≦ z1 ≦ 65 and 0 ≦ z2 ≦ 65. However, x + y + z1 + z2 = 100. It is preferable that 0 ≦ z1 ≦ 30 and 0 ≦ z2 ≦ 10 respectively, and it is particularly preferable that 0 ≦ z1 ≦ 10 and 0 ≦ z2 ≦ 5.

一般式III又はIVで表される共重合体は、例えば、ヘキサフルオロプロピレン成分とヒドロキシアルキルビニルエーテル成分とを含んでなる共重合体に前記のいずれかの手法により(メタ)アクリロイル基を導入することにより合成できる。   For the copolymer represented by the general formula III or IV, for example, a (meth) acryloyl group is introduced into a copolymer comprising a hexafluoropropylene component and a hydroxyalkyl vinyl ether component by any one of the methods described above. Can be synthesized.

以下に本発明で有用な共重合体の好ましい例を示すが本発明はこれらに限定されるものではない。   Although the preferable example of the copolymer useful by this invention is shown below, this invention is not limited to these.

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本発明に用いられる含フッ素硬化性樹脂としての共重合体の合成は、種々の重合方法、例えば溶液重合、沈澱重合、懸濁重合、塊状重合、乳化重合によって水酸基含有重合体等の前駆体を合成した後、前記高分子反応によって(メタ)アクリロイル基を導入することにより行うことができる。重合反応は回分式、半連続式、連続式等の公知の操作で行うことができる。   The synthesis of the copolymer as the fluorine-containing curable resin used in the present invention can be carried out by using various polymerization methods such as solution polymerization, precipitation polymerization, suspension polymerization, bulk polymerization, and emulsion polymerization. After the synthesis, it can be carried out by introducing a (meth) acryloyl group by the polymer reaction. The polymerization reaction can be performed by a known operation such as a batch system, a semi-continuous system, or a continuous system.

重合の開始方法はラジカル開始剤を用いる方法、光または放射線を照射する方法等がある。これらの重合方法、重合の開始方法は、例えば鶴田禎二「高分子合成方法」改定版(日刊工業新聞社刊、1971)や大津隆行、木下雅悦共著「高分子合成の実験法」化学同人、昭和47年刊、124〜154頁に記載されている。   The polymerization initiation method includes a method using a radical initiator, a method of irradiating light or radiation, and the like. These polymerization methods and polymerization initiation methods are, for example, the revised version of Tsuruta Junji “Polymer Synthesis Method” (published by Nikkan Kogyo Shimbun, 1971), Takatsu Otsu, Masato Kinoshita, “Experimental Methods for Polymer Synthesis” It is described in pp. 47-154 published in 1972.

上記重合方法のうち、特にラジカル開始剤を用いた溶液重合法が好ましい。溶液重合法で用いられる溶剤は、例えば酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ベンゼン、トルエン、アセトニトリル、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノールのような種々の有機溶剤の単独あるいは2種以上の混合物でも良いし、水との混合溶媒としても良い。   Among the above polymerization methods, a solution polymerization method using a radical initiator is particularly preferable. Solvents used in the solution polymerization method include, for example, ethyl acetate, butyl acetate, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, tetrahydrofuran, dioxane, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, benzene, toluene, acetonitrile, A single organic solvent such as methylene chloride, chloroform, dichloroethane, methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, and 1-butanol, or a mixture of two or more thereof may be used, or a mixed solvent with water may be used.

重合温度は生成するポリマーの分子量、開始剤の種類などと関連して設定する必要があり0℃以下から100℃以上まで可能であるが、50〜100℃の範囲で重合を行うことが好ましい。   The polymerization temperature needs to be set in relation to the molecular weight of the polymer to be produced, the type of initiator, and the like, and can be from 0 ° C. or lower to 100 ° C. or higher, but it is preferable to perform the polymerization in the range of 50 to 100 ° C.

反応圧力は、適宜選定可能であるが、通常は、0.098〜9.8MPa(1〜100kg/cm)、特に、0.098〜2.94MPa(1〜30kg/cm)程度が望ましい。反応時間は、5〜30時間程度である。 The reaction pressure can be selected as appropriate, but is usually 0.098 to 9.8 MPa (1 to 100 kg / cm 2 ), and particularly preferably about 0.098 to 2.94 MPa (1 to 30 kg / cm 2 ). . The reaction time is about 5 to 30 hours.

得られたポリマーの再沈殿溶媒としては、イソプロパノール、ヘキサン、メタノール等が好ましい。
含フッ素硬化性樹脂としては、市販品を用いることもできる。
このようにして得られる含フッ素硬化性樹脂の使用量は、低屈折率層塗布組成物の全固形分中10〜98質量%とするのが好ましく、30〜95質量%とするのが更に好ましい。特に無機微粒子を併用する場合は、30〜80質量%とするのが好ましく、40〜75質量%とするのが更に好ましい。
As the reprecipitation solvent for the obtained polymer, isopropanol, hexane, methanol and the like are preferable.
A commercial item can also be used as a fluorine-containing curable resin.
The amount of the fluorine-containing curable resin thus obtained is preferably 10 to 98% by mass, more preferably 30 to 95% by mass in the total solid content of the low refractive index layer coating composition. . In particular, when inorganic fine particles are used in combination, it is preferably 30 to 80% by mass, and more preferably 40 to 75% by mass.

(低屈折率層形成用塗布組成物)
低屈折率層形成用塗布組成物は、通常、液の形態をとり、好ましくは前記無機微粒子及び含フッ素硬化性樹脂を含有し、必要に応じて各種添加剤およびラジカル重合開始剤を適当な溶剤に溶解して作製される。この際固形分の濃度は、用途に応じて適宜選択されるが一般的には0.01〜60質量%程度であり、好ましくは0.5〜50質量%、特に好ましくは1〜20質量%程度である。
(Coating composition for forming a low refractive index layer)
The coating composition for forming a low refractive index layer usually takes the form of a liquid, and preferably contains the inorganic fine particles and the fluorine-containing curable resin, and if necessary, various additives and radical polymerization initiators in an appropriate solvent. It is prepared by dissolving in At this time, the concentration of the solid content is appropriately selected depending on the use, but is generally about 0.01 to 60% by mass, preferably 0.5 to 50% by mass, particularly preferably 1 to 20% by mass. Degree.

ラジカル重合開始剤としては熱の作用によりラジカルを発生するもの、あるいは光の作用によりラジカルを発生するもののいずれの形態も可能である。   The radical polymerization initiator may be in any form of generating radicals by the action of heat or generating radicals by the action of light.

熱の作用によりラジカル重合を開始する化合物としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロペルオキシド、ブチルヒドロペルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として2−アゾ−ビス−イソブチロニトリル、2−アゾ−ビス−プロピオニトリル、2−アゾ−ビス−シクロヘキサンジニトリル等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、p−ニトロベンゼンジアゾニウム等を挙げることができる。
As the compound that initiates radical polymerization by the action of heat, organic or inorganic peroxides, organic azo, diazo compounds, and the like can be used.
Specifically, benzoyl peroxide, halogen benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, acetyl peroxide, dibutyl peroxide, cumene hydroperoxide, butyl hydroperoxide as organic peroxides, hydrogen peroxide, peroxides as inorganic peroxides. Ammonium sulfate, potassium persulfate, etc., 2-azo-bis-isobutyronitrile, 2-azo-bis-propionitrile, 2-azo-bis-cyclohexanedinitrile, etc. as diazo compounds, diazoaminobenzene, p -Nitrobenzenediazonium etc. can be mentioned.

光の作用によりラジカル重合を開始する化合物を使用する場合は、電離放射線の照射によって皮膜の硬化が行われる。
このような光ラジカル重合開始剤の例としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類がある。アセトフェノン類の例には、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、1−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−4−メチルチオ−2−モルフォリノプロピオフェノンおよび2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、2,4−ジクロロベンゾフェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノンおよびp−クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。これらの光ラジカル重合開始剤と併用して増感色素も好ましく用いることができる。
When a compound that initiates radical polymerization by the action of light is used, the coating is cured by irradiation with ionizing radiation.
Examples of such radical photopolymerization initiators include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds , Disulfide compounds, fluoroamine compounds and aromatic sulfoniums. Examples of acetophenones include 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-hydroxydimethylphenyl ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-4-methylthio-2-morpholinopropiophenone and 2 -Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone is included. Examples of benzoins include benzoin benzene sulfonate, benzoin toluene sulfonate, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin isopropyl ether. Examples of the benzophenones include benzophenone, 2,4-dichlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone and p-chlorobenzophenone. Examples of phosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide. Sensitizing dyes can also be preferably used in combination with these photoradical polymerization initiators.

熱または光の作用によってラジカル重合を開始する化合物の添加量としては、炭素−炭素二重結合の重合を開始できる量であれば良く、低屈折率層形成組成物中の全固形分に対して0.1〜15質量%が好ましく、0.5〜10質量%であることがより好ましく、2〜5質量%であることが特に好ましい。   The amount of the compound that initiates radical polymerization by the action of heat or light may be an amount that can initiate polymerization of the carbon-carbon double bond, and is based on the total solid content in the low refractive index layer forming composition. 0.1-15 mass% is preferable, it is more preferable that it is 0.5-10 mass%, and it is especially preferable that it is 2-5 mass%.

(溶媒)
低屈折率層用塗布液組成物に含まれる溶媒としては、含フッ素硬化性樹脂が沈殿を生じることなく、均一に溶解または分散されるものであれば特に制限はなく2種類以上の溶剤を併用することもできる。好ましい例としては、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等)、エステル類(酢酸エチル、酢酸ブチル等)、エーテル類(テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等)、アルコール類(メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、エチレングリコール、等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン等)、水などを挙げることができる。
(solvent)
The solvent contained in the coating composition for the low refractive index layer is not particularly limited as long as the fluorine-containing curable resin is uniformly dissolved or dispersed without causing precipitation, and two or more kinds of solvents are used in combination. You can also Preferred examples include ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, etc.), esters (ethyl acetate, butyl acetate, etc.), ethers (tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, etc.), alcohols (methanol, ethanol, isopropyl). Alcohol, butanol, ethylene glycol, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.), water and the like.

(低屈折率層形成用塗布組成物に好適に含まれるその他の化合物)
また、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のシリコーン系あるいはフッ素系の防汚剤、滑り剤等を適宜添加することもできる。これらの添加剤を添加する場合には低屈折率層全固形分の0〜20質量%の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは0〜10質量%の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは0〜5質量%の場合である。
(Other compounds suitably contained in the coating composition for forming a low refractive index layer)
In addition, for the purpose of imparting properties such as antifouling properties, water resistance, chemical resistance, and slipping properties, known silicone-based or fluorine-based antifouling agents, slipping agents, and the like can be appropriately added. When these additives are added, it is preferably added in the range of 0 to 20% by mass of the total solid content of the low refractive index layer, more preferably in the range of 0 to 10% by mass. Particularly preferred is 0 to 5% by mass.

低屈折率層は、無機フィラー、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有することができる。特に、無機微粒子、シランカップリング剤、滑り剤を含有することが好ましい。   The low refractive index layer can contain an inorganic filler, a silane coupling agent, a slip agent, a surfactant and the like. In particular, it is preferable to contain inorganic fine particles, a silane coupling agent, and a slip agent.

シランカップリング剤としては、好ましいのは、水酸基、メルカプト基、カルボキシ基、エポキシ基、アルキル基、アルコキシシリル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基を含有するシランカップリング剤であり、特に好ましいのはエポキシ基、重合性のアシルオキシ基((メタ)アクリロイル)、重合性のアシルアミノ基(アクリルアミノ、メタクリルアミノ)を含有するシランカップリング剤である。   The silane coupling agent is preferably a silane coupling agent containing a hydroxyl group, a mercapto group, a carboxy group, an epoxy group, an alkyl group, an alkoxysilyl group, an acyloxy group, or an acylamino group, and particularly preferably an epoxy group. A silane coupling agent containing a polymerizable acyloxy group ((meth) acryloyl) and a polymerizable acylamino group (acrylamino, methacrylamino).

特に好ましいのは、架橋又は重合性官能基として(メタ)アクリロイル基を有する化合物であり、例えば、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。   Particularly preferred are compounds having a (meth) acryloyl group as a crosslinkable or polymerizable functional group, such as 3-acryloxypropyltrimethoxysilane and 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane.

前記滑り剤としては、ジメチルシリコーンなどのシリコーン化合物等、及びポリシロキサンセグメントが導入された含フッ素化合物が好ましい。   As the slip agent, a silicone compound such as dimethyl silicone, and a fluorine-containing compound into which a polysiloxane segment is introduced are preferable.

(低屈折率層の形成)
低屈折率層は、中空粒子、含フッ素硬化性樹脂、有機シリル化合物その他所望により含有される任意成分を溶解あるいは分散させた塗布組成物を塗布と同時、または塗布・乾燥後に電離放射線照射(例えば光照射、電子線ビーム照射等が挙げられる。)や加熱することによる架橋反応、又は、重合反応により硬化して、形成することが好ましい。
特に、低屈折率層が電離放射線硬化性の化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成される場合、架橋反応、又は、重合反応は酸素濃度が10体積%以下の雰囲気で実施することが好ましい。酸素濃度が10体積%以下の雰囲気で形成することにより、物理強度、耐薬品性に優れた最外層を得ることができる。
好ましくは酸素濃度が6体積%以下であり、更に好ましくは酸素濃度が4体積%以下、特に好ましくは酸素濃度が2体積%以下、最も好ましくは1体積%以下である。
(Formation of a low refractive index layer)
The low refractive index layer is irradiated with ionizing radiation simultaneously with application or after application / drying of a coating composition in which hollow particles, fluorine-containing curable resin, organic silyl compound and other optional components contained therein are dissolved or dispersed (for example, And light irradiation, electron beam irradiation, etc.) and are preferably cured by a crosslinking reaction by heating or a polymerization reaction.
In particular, when the low refractive index layer is formed by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of an ionizing radiation curable compound, the crosslinking reaction or the polymerization reaction is preferably performed in an atmosphere having an oxygen concentration of 10% by volume or less. . By forming in an atmosphere having an oxygen concentration of 10% by volume or less, an outermost layer having excellent physical strength and chemical resistance can be obtained.
The oxygen concentration is preferably 6% by volume or less, more preferably 4% by volume or less, particularly preferably 2% by volume or less, and most preferably 1% by volume or less.

酸素濃度を10体積%以下にする手法としては、大気(窒素濃度約79体積%、酸素濃度約21体積%)を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換(窒素パージ)することである。
本発明の反射防止フィルムは、透明支持体上に少なくとも1層の低屈折率層を有する反射防止フィルムであって、該低屈折率層が、前記重合性組成物から形成される。
As a method of reducing the oxygen concentration to 10% by volume or less, it is preferable to replace the atmosphere (nitrogen concentration of about 79% by volume, oxygen concentration of about 21% by volume) with another gas, particularly preferably replacement with nitrogen (nitrogen purge). It is to be.
The antireflection film of the present invention is an antireflection film having at least one low refractive index layer on a transparent support, and the low refractive index layer is formed from the polymerizable composition.

[反射防止フィルムのその他の層]
反射防止フィルムには、以上に述べた以外の層を設けてもよい。例えば、接着層、シールド層、滑り層や光拡散性層、防眩性層を設けてもよい。シールド層は電磁波や赤外線を遮蔽するために設けられる。
[Other layers of antireflection film]
The antireflection film may be provided with layers other than those described above. For example, an adhesive layer, a shield layer, a sliding layer, a light diffusing layer, or an antiglare layer may be provided. The shield layer is provided to shield electromagnetic waves and infrared rays.

[反射防止フィルムの製造方法等]
本発明は反射防止フィルムの製造方法に関するものでもある。
本発明の反射防止フィルムの製造方法は、透明支持体上にハードコート層、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層をこの順に有し、各層それぞれが塗布、乾燥及び硬化の工程を行うことで形成される反射防止フィルムの製造方法であって、前記中屈折率層が(A)平均1次粒子径10nm未満の有機又は無機ナノ粒子、(B)不飽和二重結合を3つ以上有する化合物、(C)前記式1で表されるモノマーに相当する繰り返し単位を有する重合体を含有する組成物から形成され、前記重合体(C)が前記組成物中の全固形分に対して0.2〜2.0質量%であり、前記有機又は無機粒子(A)が、前記組成物中の全固形分に対して30〜60質量%である。
反射防止フィルムの各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ダイコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法により、各層の塗布液を透明支持体上に塗布することにより形成することができる。
これらの塗布方式のうち塗布膜の均一性を高くするためには、グラビアコート法またはダイコート法を用いることが好ましい。
グラビアコート法の中でもマイクログラビア法がより好ましい。ダイコート法は全計量方式のため膜厚制御が比較的容易であり、さらに塗布部における溶剤の蒸散が少ないため、特に好ましい。多層を連続的に形成する場合には、タンデム方式を採用することができる。
ダイコート法では2層以上を同時に塗布することが可能である。ダイコート法による同時塗布の方法については、米国特許2761791号、同2941898号、同3508947号、同3526528号の各明細書および原崎勇次著、コーティング工学、253頁、朝倉書店(1973)に記載があり、これらを用いることができる。
ダイコート法では、エクストルージョン型またはスライド型のダイを単独であるいは組み合わせて用いることができる。これらの中ではエクストルージョン型のダイ(スロットダイとも言う)が好ましい。ダイの設計については、特開2003−211052号公報、及び特開2006−122889号公報の段落番号0344〜0427に詳細に記載されているオーバーバイト方式を用いることが好ましい。
[Production method of antireflection film, etc.]
The present invention also relates to a method for producing an antireflection film.
The method for producing an antireflection film of the present invention has a hard coat layer, a medium refractive index layer, a high refractive index layer and a low refractive index layer in this order on a transparent support, and each layer is applied, dried and cured. In which the medium refractive index layer is (A) an organic or inorganic nanoparticle having an average primary particle diameter of less than 10 nm, and (B) 3 unsaturated double bonds. A compound having at least one compound, and (C) a composition containing a polymer having a repeating unit corresponding to the monomer represented by Formula 1, wherein the polymer (C) is added to the total solid content in the composition. It is 0.2-2.0 mass% with respect to the said, or the said organic or inorganic particle (A) is 30-60 mass% with respect to the total solid in the said composition.
Each layer of the antireflection film should be coated on the transparent support by the dip coating method, air knife coating method, curtain coating method, roller coating method, die coating method, wire bar coating method, and gravure coating method. Can be formed.
Among these coating methods, in order to increase the uniformity of the coating film, it is preferable to use a gravure coating method or a die coating method.
Among the gravure coating methods, the micro gravure method is more preferable. The die coating method is particularly preferable because the film thickness control is relatively easy because it is an all-measuring method, and the evaporation of the solvent in the coating part is small. A tandem method can be employed when forming multiple layers continuously.
In the die coating method, two or more layers can be applied simultaneously. The method of simultaneous application by the die coating method is described in the specifications of US Pat. These can be used.
In the die coating method, an extrusion type or slide type die can be used alone or in combination. Of these, an extrusion die (also referred to as a slot die) is preferable. For the die design, it is preferable to use the overbiting method described in detail in paragraph numbers 0344 to 0427 of JP2003-211052A and JP2006-122889A.

(硬化処理)
上記のようにして支持体上に各層を形成するための組成物を塗布した後、熱及び光照射の少なくともいずれかの手段による硬化処理を行う。このように塗布と硬化処理とを各層について繰り返して、支持体上にハードコート層や中屈折率層等を積層していく。また、同時重層塗布後に重層塗布した全層を同時に硬化させても良い。
透明支持体の着色や分解、変形を抑えるために、加熱硬化処理する場合は150℃以下、光照射する場合には1000mJ/cmが好ましい。更には、加熱硬化処理後に光硬化処理したり、光硬化処理の後半で加熱処理することも好ましい。特に低屈折率層においては、加熱硬化処理後に光硬化処理をするか、光硬化処理の後半で加熱処理することが好ましい。
また、上層と下層との間の層間密着性を上げるために、反射防止能に影響が出ない範囲で下層をハーフキュアし、上層塗布後にフルキュアすることが好ましい。
ハーフキュア条件としては、例えば、240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度10〜1000mW/cm、照射量10〜150mJ/cmの照射量で照射することで達成することができる。
ハーフキュア後のフルキュア条件としては、例えば、240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度10〜1000mW/cm、照射量200〜800mJ/cmの照射量で照射することで達成することができる。
(Curing treatment)
After applying the composition for forming each layer on the support as described above, a curing treatment is performed by at least one of heat and light irradiation. Thus, application | coating and a hardening process are repeated about each layer, and a hard-coat layer, a medium refractive index layer, etc. are laminated | stacked on a support body. Moreover, you may cure simultaneously all the layers which apply | coated the multilayer after simultaneous multilayer coating.
In order to suppress coloring, decomposition, and deformation of the transparent support, it is preferably 150 ° C. or lower when heat-curing, and 1000 mJ / cm 2 when irradiated with light. Furthermore, it is also preferable to carry out a photocuring treatment after the heat curing treatment or heat treatment in the latter half of the photocuring treatment. In particular, in the low refractive index layer, it is preferable to carry out a photocuring treatment after the heat curing treatment or heat treatment in the latter half of the photocuring treatment.
Moreover, in order to improve the interlayer adhesion between the upper layer and the lower layer, it is preferable to half-cure the lower layer within a range that does not affect the antireflection performance and to perform full cure after the upper layer is applied.
The half-cured condition, for example, using a 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co.), illuminance 10 to 1,000 / cm 2, irradiation with irradiation dose of irradiation dose 10~150mJ / cm 2 Can be achieved.
The Furukyua conditions after half cured, for example, using a 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co.), illuminance 10 to 1,000 / cm 2, irradiation amount of dose 200~800mJ / cm 2 It can be achieved by irradiating with.

[偏光板用保護フィルム]
本発明の反射防止フィルムを偏光膜の表面保護フィルム(偏光板用保護フィルム)として用いる場合、薄膜層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良することができる。
偏光子の2枚の保護フィルムのうち、反射防止フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい。光学補償フィルム(位相差フィルム)は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開2001−100042号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
[Protective film for polarizing plate]
When using the antireflection film of the present invention as a polarizing film surface protective film (polarizing plate protective film), the surface of the transparent support opposite to the side having the thin film layer, that is, the surface to be bonded to the polarizing film By making it hydrophilic, it is possible to improve adhesion to a polarizing film containing polyvinyl alcohol as a main component.
Of the two protective films of the polarizer, the film other than the antireflection film is preferably an optical compensation film having an optical compensation layer comprising an optically anisotropic layer. The optical compensation film (retardation film) can improve the viewing angle characteristics of the liquid crystal display screen.
A known film can be used as the optical compensation film, but the optical compensation film described in JP-A-2001-100042 is preferable in terms of widening the viewing angle.

反射防止フィルムを偏光膜の表面保護フィルム(偏光板用保護フィルム)として用いる場合、透明支持体としては、セルロースアシレートフィルム(例えば、トリアセチルセルロースフィルム)を用いることが特に好ましい。   When the antireflection film is used as a surface protective film for a polarizing film (protective film for polarizing plate), it is particularly preferable to use a cellulose acylate film (for example, a triacetyl cellulose film) as the transparent support.

本発明における偏光板用保護フィルムを作製する手法としては、(1)予め鹸化処理した透明支持体の一方の面に上記の反射防止フィルムを構成する各層を塗設する手法、(2)透明支持体の一方の面に反射防止層を塗設した後、偏光膜と貼り合わせる側又は両面を鹸化処理する手法、(3)透明支持体の一方の面に反射防止層の一部を塗設した後、偏光膜と貼り合わせる側又は両面を鹸化処理した後に残りの層を塗設する手法、の3手法があげられるが、(1)は反射防止層を塗設するべき面まで親水化され、透明支持体と反射防止層との密着性の確保が困難となるため、(2)の手法が特に好ましい。   As a method for producing a protective film for a polarizing plate in the present invention, (1) a method of coating each layer constituting the above antireflection film on one surface of a previously saponified transparent support, and (2) a transparent support After coating an antireflection layer on one side of the body, a method of saponifying the side or both sides to be bonded to the polarizing film, (3) coating a part of the antireflection layer on one side of the transparent support Thereafter, there are three methods of applying the remaining layer after saponifying the side or both sides to be bonded to the polarizing film, (1) is hydrophilicized to the surface on which the antireflection layer is to be applied, Since it becomes difficult to ensure the adhesion between the transparent support and the antireflection layer, the method (2) is particularly preferable.

[偏光板]
次に、本発明の偏光板について説明する。本発明の偏光板は、偏光膜と該偏光膜の両面を保護する2枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が前記本発明の反射防止フィルムである。
[Polarizer]
Next, the polarizing plate of the present invention will be described. The polarizing plate of the present invention is a polarizing plate having a polarizing film and two protective films for protecting both surfaces of the polarizing film, and at least one of the protective films is the antireflection film of the present invention.

反射防止フィルムの透明支持体が、必要に応じてポリビニルアルコールからなる接着剤層等を介して偏光膜に接着しており、偏光膜のもう一方の側にも保護フィルムを有する構成が好ましい。もう一方の保護フィルムの偏光膜と反対側の面には粘着剤層を有していても良い。   The transparent support of the antireflection film is preferably bonded to the polarizing film via an adhesive layer made of polyvinyl alcohol, if necessary, and has a protective film on the other side of the polarizing film. The surface of the other protective film opposite to the polarizing film may have an adhesive layer.

本発明の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、物理強度、耐光性に優れた反射防止機能を有する偏光板が作製でき、大幅なコスト削減、表示装置の薄手化が可能となる。   By using the antireflection film of the present invention as a protective film for a polarizing plate, a polarizing plate having an antireflection function excellent in physical strength and light resistance can be produced, and the cost can be greatly reduced and the display device can be thinned. .

また、本発明の偏光板は、光学補償機能を有することもできる。その場合、2枚の表面保護フィルムの表面及び裏面のいずれかの一面側のみを上記反射防止フィルムを用いて形成されており、該偏光板の反射防止フィルムを有する側とは他面側の表面保護フィルムが光学補償フィルムであることが好ましい。   Moreover, the polarizing plate of the present invention can also have an optical compensation function. In that case, only one surface side of the surface and the back surface of the two surface protective films is formed using the antireflection film, and the side having the antireflection film of the polarizing plate is the surface on the other surface side. It is preferable that the protective film is an optical compensation film.

本発明の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムの一方に、光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いた偏光板を作製することにより、さらに、液晶表示装置の明室でのコントラスト、上下左右の視野角を改善することができる。   By producing a polarizing plate using the antireflection film of the present invention as one of the protective films for polarizing plates and an optical compensation film having optical anisotropy as the other protective film of the polarizing film, a liquid crystal display device is further produced. The contrast in the bright room and the viewing angle of the top, bottom, left and right can be improved.

また、本発明の画像表示装置は、前記本発明の反射防止フィルム又は偏光板をディスプレイの最表面に有することを特徴とする。   The image display device of the present invention is characterized by having the antireflection film or polarizing plate of the present invention on the outermost surface of the display.

以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれによっていささかも限定して解釈されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the scope of the present invention should not be construed as being limited thereto.

〔反射防止フィルムの作製〕
下記に示す通りに、各層形成用の塗布液を調製し、各層を形成して、反射防止フィルムNo.1〜20を作製した。
[Preparation of antireflection film]
As shown below, a coating solution for forming each layer was prepared, and each layer was formed. 1-20 were produced.

((a)4級アンモニウム塩基を有する化合物の合成)
イオン伝導性化合物を、特許第4600605号の合成例1と同様に実施し、帯電防止性共重合体(A−1)と同じAN−1(30質量%エタノール溶液)を合成した。
(ハードコート層用塗布液の調製)
下記表1に記載のハードコート層用塗布液HC−1の組成となるように各成分を添加し、得られた組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌し、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して帯電防止性ハードコート層塗布液HC−1(固形分濃度50質量%)とした。
((A) Synthesis of compound having quaternary ammonium base)
The ion conductive compound was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1 of Japanese Patent No. 46006065, and the same AN-1 (30% by mass ethanol solution) as the antistatic copolymer (A-1) was synthesized.
(Preparation of coating solution for hard coat layer)
Each component was added so that it might become the composition of the coating liquid HC-1 for hard-coat layers of Table 1 below, the obtained composition was put into a mixing tank, stirred, and a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm To obtain an antistatic hard coat layer coating solution HC-1 (solid content: 50% by mass).

Figure 0005933353
Figure 0005933353

それぞれ使用した化合物を以下に示す。
AN−1:前記4級アンモニウム塩基を有する化合物AN−1
Irg.184:光重合開始剤、イルガキュア184(チバ・ジャパン(株)製)
A−TMMT:ペンタエリスリトールテトラアクリレート(新中村化学工業(株)NKエステル)
FP1:下記式で示されるフッ素含有レベリング剤
The compounds used are shown below.
AN-1: Compound AN-1 having the quaternary ammonium base
Irg. 184: Photopolymerization initiator, Irgacure 184 (manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.)
A-TMMT: Pentaerythritol tetraacrylate (Shin Nakamura Chemical Co., Ltd. NK Ester)
FP1: A fluorine-containing leveling agent represented by the following formula

Figure 0005933353
Figure 0005933353

上記構造式中、60:40は質量比を表す。
(中屈折率層用塗布液Aの調製)
ZrO微粒子メチルエチルケトン分散液(ナノユース OZ−S30K[商品名、固形分濃度:30質量%、酸化ジルコニウム微粒子の平均1次粒子径:7nm、日産化学工業(株)社製])6.67質量部に、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(新中村化学工業(株)製 NKエステル A−TMMT)2.86質量部、レベリング剤(下記式Aで表されるフッ素含有レベリング剤MF、固形分濃度30質量% メチルエチルケトン溶媒)0.17質量部、光重合開始剤(イルガキュア907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.09質量部、メチルエチルケトン61.72質量部、メチルイソブチルケトン9.50質量部及びシクロヘキサノン19.00質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液Aを調製した。
式A
In the above structural formula, 60:40 represents a mass ratio.
(Preparation of coating liquid A for medium refractive index layer)
ZrO 2 fine particle methyl ethyl ketone dispersion (nanouse OZ-S30K [trade name, solid content concentration: 30% by mass, average primary particle diameter of zirconium oxide fine particles: 7 nm, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.]) 6.67 parts by mass In addition, 2.86 parts by mass of pentaerythritol tetraacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., NK Ester A-TMMT), leveling agent (fluorine-containing leveling agent MF represented by the following formula A, solid content concentration 30% by mass methyl ethyl ketone) Solvent) 0.17 parts by mass, photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 0.09 parts by mass, methyl ethyl ketone 61.72 parts by mass, methyl isobutyl ketone 9.50 parts by mass, and cyclohexanone 19 0.000 part by mass was added and stirred. After sufficiently stirring, the solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to prepare a coating solution A for medium refractive index layer.
Formula A

Figure 0005933353
Figure 0005933353

上記式A中、40:60は質量比を表す。
(中屈折率層用塗布液Bの調製)
ZrO微粒子メチルエチルケトン分散液SZR−K[商品名、固形分濃度:30質量%、酸化ジルコニウム微粒子の平均1次粒子径:4nm、溶剤組成:メチルエチルケトン/メタノール=9/1(質量比)、堺化学工業(株)製]7.50質量部に、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(新中村化学工業(株)製 NKエステル A−TMMT)2.62質量部、レベリング剤(前記式Aで表されるフッ素含有レベリング剤MF、固形分濃度30質量% メチルエチルケトン溶媒)0.17質量部、光重合開始剤(イルガキュア907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.08質量部、メチルエチルケトン61.13質量部、メチルイソブチルケトン9.50質量部及びシクロヘキサノン19.00質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液Bを調製した。
In the above formula A, 40:60 represents a mass ratio.
(Preparation of coating liquid B for medium refractive index layer)
ZrO 2 fine particle methyl ethyl ketone dispersion SZR-K [trade name, solid content concentration: 30 mass%, average primary particle diameter of zirconium oxide fine particles: 4 nm, solvent composition: methyl ethyl ketone / methanol = 9/1 (mass ratio), Sakai Chemical Industrial Co., Ltd.] 7.50 parts by mass, 2.62 parts by mass of pentaerythritol tetraacrylate (Shin Nakamura Chemical Co., Ltd., NK Ester A-TMMT), leveling agent (fluorine-containing represented by Formula A) Leveling agent MF, solid content concentration 30% by mass methyl ethyl ketone solvent) 0.17 parts by mass, photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 0.08 parts by mass, methyl ethyl ketone 61.13 parts by mass, Add 9.50 parts by mass of methyl isobutyl ketone and 19.00 parts by mass of cyclohexanone and stir It was. After sufficiently stirring, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to prepare a coating solution B for medium refractive index layer.

(中屈折率層用塗布液Cの調製)
トリアジン系ポリマー粒子[固形分濃度:15質量%、トリアジン系ポリマー粒子の平均1次粒子径:7nm、溶剤組成:シクロヘキサノン、日産化学工業(株)製]5.83質量部に、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(新中村化学工業(株)製 NKエステル A−TMMT)1.55質量部、レベリング剤(前記式Aで表されるフッ素含有レベリング剤MF、固形分濃度30質量% メチルエチルケトン溶媒)0.08質量部、光重合開始剤(イルガキュア907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.05質量部、メチルエチルケトン68.19質量部、メチルイソブチルケトン9.75質量部及びシクロヘキサノン14.54質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液Cを調製した。
(Preparation of coating liquid C for medium refractive index layer)
Triazine polymer particles [solid content concentration: 15% by mass, average primary particle size of triazine polymer particles: 7 nm, solvent composition: cyclohexanone, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.] 5.83 parts by mass, pentaerythritol tetraacrylate (Shin Nakamura Chemical Co., Ltd. NK Ester A-TMMT) 1.55 parts by mass, leveling agent (fluorine-containing leveling agent MF represented by Formula A, solid content concentration 30% by mass methyl ethyl ketone solvent) 0.08 mass Part, 0.05 parts by weight of photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), 68.19 parts by weight of methyl ethyl ketone, 9.75 parts by weight of methyl isobutyl ketone and 14.54 parts by weight of cyclohexanone And stirred. After sufficiently stirring, the solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to prepare a coating solution C for medium refractive index layer.

(中屈折率層用塗布液Dの調製)
ZrO微粒子含有ハードコート剤オプスターKZ6666[商品名、固形分濃度:50質量%、酸化ジルコニウム微粒子含量:70質量%(対固形分)、酸化ジルコニウム微粒子の平均1次粒子径:20nm、溶剤組成:メチルエチルケトン/2−ブタノール/キシレン=35/5/2.5(質量比)、JSR(株)製]4.50質量部に、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(新中村化学工業(株)製 NKエステル A−TMMT)2.62質量部、レベリング剤(前記式Aで表されるフッ素含有レベリング剤MF、固形分濃度30質量% メチルエチルケトン溶媒)0.17質量部、光重合開始剤(イルガキュア907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.08質量部、メチルエチルケトン64.13質量部、メチルイソブチルケトン9.50質量部及びシクロヘキサノン19.00質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液Dを調製した。
(Preparation of coating liquid D for medium refractive index layer)
ZrO 2 fine particle-containing hard coating agent OPSTA KZ6666 [trade name, solid content concentration: 50 mass%, zirconium oxide fine particle content: 70 mass% (based on solid content), average primary particle diameter of zirconium oxide fine particles: 20 nm, solvent composition: Methyl ethyl ketone / 2-butanol / xylene = 35/5 / 2.5 (mass ratio), manufactured by JSR Corporation] and 4.50 parts by mass of pentaerythritol tetraacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., NK Ester A- TMMT) 2.62 parts by mass, leveling agent (fluorine-containing leveling agent MF represented by Formula A, solid content concentration 30% by mass methyl ethyl ketone solvent) 0.17 parts by mass, photopolymerization initiator (Irgacure 907, Ciba Specialty)・ Chemicals Co., Ltd.) 0.08 parts by mass, methyl ethyl ketone 64.13 parts by mass, methyl 9.50 parts by mass of ruisobutyl ketone and 19.00 parts by mass of cyclohexanone were added and stirred. After sufficiently stirring, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to prepare a coating solution D for a medium refractive index layer.

(中屈折率層用塗布液Eの調製)
TYT80[商品名、固形分濃度:25質量%、酸化チタン微粒子含量:60質量%(対固形分)、酸化チタン微粒子の平均1次粒子径:30nm、溶剤組成:プロピレングリコールモノメチルエーテル/メチルイソブチルケトン/シクロヘキサノン=10/45/15(質量比)、東洋インキ製造(株)製]10.00質量部に、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(新中村化学工業(株)製 NKエステル A−TMMT)2.38質量部、レベリング剤(前記式Aで表されるフッ素含有レベリング剤MF、固形分濃度30質量% メチルエチルケトン溶媒)0.17質量部、光重合開始剤(イルガキュア907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.08質量部、メチルエチルケトン58.88質量部、メチルイソブチルケトン9.50質量部及びシクロヘキサノン19.00質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液Eを調製した。
(Preparation of coating liquid E for medium refractive index layer)
TYT80 [trade name, solid content concentration: 25 mass%, titanium oxide fine particle content: 60 mass% (based on solid content), average primary particle diameter of titanium oxide fine particles: 30 nm, solvent composition: propylene glycol monomethyl ether / methyl isobutyl ketone / Cyclohexanone = 10/45/15 (mass ratio), manufactured by Toyo Ink Mfg. Co., Ltd.] 10.00 parts by mass, pentaerythritol tetraacrylate (NK Nakamura Chemical Co., Ltd., NK Ester A-TMMT) 2.38 Parts by weight, leveling agent (fluorine-containing leveling agent MF represented by Formula A, solid content concentration 30% by weight methyl ethyl ketone solvent) 0.17 parts by weight, photopolymerization initiator (Irgacure 907, Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) Manufactured) 0.08 parts by mass, methyl ethyl ketone 58.88 parts by mass, methyl isobutyl keto 9.50 parts by mass and 19.00 parts by mass of cyclohexanone were added and stirred. After sufficiently stirring, the solution was filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 0.4 μm to prepare a coating solution E for medium refractive index layer.

(中屈折率層用塗布液Fの調製)
ペンタエリスリトールテトラアクリレート(A−TMMT)を1、4−ブタンジオールジアクリレート[商品名V#195、大阪有機化学工業(株)製]に変更した以外は中屈折率用塗布液Aと同様にして中屈折率層用塗布液Fを調製した。
(中屈折率層用塗布液Gの調製)
ペンタエリスリトールテトラアクリレート(A−TMMT)をポリエチレングリコールジアクリレート[商品名A−400、新中村化学工業(株)製]に変更した以外は中屈折率用塗布液Aと同様にして中屈折率層用塗布液Gを調製した。
(Preparation of coating liquid F for medium refractive index layer)
Except for changing pentaerythritol tetraacrylate (A-TMMT) to 1,4-butanediol diacrylate [trade name V # 195, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.], the same as coating solution A for medium refractive index. A medium refractive index layer coating solution F was prepared.
(Preparation of coating liquid G for medium refractive index layer)
Medium refractive index layer similar to coating liquid A for medium refractive index except that pentaerythritol tetraacrylate (A-TMMT) is changed to polyethylene glycol diacrylate [trade name A-400, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.] Coating solution G was prepared.

(中屈折率層用塗布液Hの調製)
前記レベリング剤MFを使用しなかった以外は中屈折率用塗布液Aと同様にして中屈折率層用塗布液Hを調製した。
(中屈折率層用塗布液Iの調製)
前記レベリング剤MFを前記レベリング剤SP-15に変更した以外は中屈折率用塗布液Aと同様にして中屈折率層用塗布液Iを調製した。
(中屈折率層用塗布液Jの調製)
前記レベリング剤MFを前記レベリング剤FP-49に変更した以外は中屈折率用塗布液Aと同様にして中屈折率層用塗布液Jを調製した。
(Preparation of coating liquid H for medium refractive index layer)
A medium refractive index layer coating liquid H was prepared in the same manner as the medium refractive index coating liquid A except that the leveling agent MF was not used.
(Preparation of coating liquid I for medium refractive index layer)
A medium refractive index layer coating solution I was prepared in the same manner as the medium refractive index coating solution A except that the leveling agent MF was changed to the leveling agent SP-15.
(Preparation of coating liquid J for medium refractive index layer)
A medium refractive index layer coating solution J was prepared in the same manner as the medium refractive index coating solution A except that the leveling agent MF was changed to the leveling agent FP-49.

(中屈折率層用塗布液Kの調製)
前記レベリング剤MFの使用量を0.2質量%(対固形分)に変更した以外は中屈折率用塗布液Aと同様にして中屈折率層用塗布液Kを調製した。
(中屈折率層用塗布液Lの調製)
前記レベリング剤MFの使用量を2.0質量%(対固形分)に変更した以外は中屈折率用塗布液Aと同様にして中屈折率層用塗布液Lを調製した。
(中屈折率層用塗布液Mの調製)
前記レベリング剤MFの使用量を3.0質量%(対固形分)に変更した以外は中屈折率用塗布液Aと同様にして中屈折率層用塗布液Mを調製した。
(Preparation of coating liquid K for medium refractive index layer)
A medium refractive index layer coating liquid K was prepared in the same manner as the medium refractive index coating liquid A except that the amount of the leveling agent MF used was changed to 0.2% by mass (based on solid content).
(Preparation of coating liquid L for medium refractive index layer)
A medium refractive index layer coating liquid L was prepared in the same manner as the medium refractive index coating liquid A except that the amount of the leveling agent MF used was changed to 2.0% by mass (based on solid content).
(Preparation of coating liquid M for medium refractive index layer)
A medium refractive index layer coating liquid M was prepared in the same manner as the medium refractive index coating liquid A except that the amount of the leveling agent MF used was changed to 3.0% by mass (based on solid content).

(中屈折率層用塗布液Nの調製)
ペンタエリスリトールテトラアクリレート(A−TMMT)をジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)に変更した以外は中屈折率用塗布液Aと同様にして中屈折率層用塗布液Nを調製した。
(中屈折率層用塗布液Oの調製)
ペンタエリスリトールテトラアクリレート(A−TMMT)をウレタンアクリレート(商品名EB5129、ダイセル・サイテック(株)製)に変更した以外は中屈折率用塗布液Aと同様にして中屈折率層用塗布液Oを調製した。
(中屈折率層用塗布液Pの調製)
ペンタエリスリトールテトラアクリレート(A−TMMT)をウレタンアクリレート(商品名U−4HA、新中村化学工業(株)製)に変更した以外は中屈折率用塗布液Aと同様にして中屈折率層用塗布液Pを調製した。
(Preparation of coating liquid N for medium refractive index layer)
Except for changing pentaerythritol tetraacrylate (A-TMMT) to a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.), the same as coating solution A for medium refractive index A coating solution N for medium refractive index layer was prepared.
(Preparation of coating liquid O for medium refractive index layer)
The medium refractive index layer coating liquid O was prepared in the same manner as the medium refractive index coating liquid A, except that pentaerythritol tetraacrylate (A-TMMT) was changed to urethane acrylate (trade name EB5129, manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.). Prepared.
(Preparation of coating liquid P for medium refractive index layer)
Coating for medium refractive index layer in the same manner as coating liquid A for medium refractive index, except that pentaerythritol tetraacrylate (A-TMMT) was changed to urethane acrylate (trade name U-4HA, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) Liquid P was prepared.

(中屈折率層用塗布液Qの調製)
ZrO微粒子メチルエチルケトン分散液(ナノユース OZ−S30K[商品名、固形分濃度:30質量%、酸化ジルコニウム微粒子の平均1次粒子径:7nm、日産化学工業(株)社製])3.33質量部に、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(新中村化学工業(株)製 NKエステル A−TMMT)3.83質量部、レベリング剤(前記式Aで表されるフッ素含有レベリング剤MF、固形分濃度30質量% メチルエチルケトン溶媒)0.17質量部、光重合開始剤(イルガキュア907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.12質量部、メチルエチルケトン64.05質量部、メチルイソブチルケトン9.50質量部及びシクロヘキサノン19.00質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液Qを調製した。
(Preparation of coating liquid Q for medium refractive index layer)
ZrO 2 fine particle methyl ethyl ketone dispersion (nanouse OZ-S30K [trade name, solid content concentration: 30% by mass, average primary particle size of zirconium oxide fine particles: 7 nm, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.]) 3.33 parts by mass And 3.83 parts by mass of pentaerythritol tetraacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., NK Ester A-TMMT), leveling agent (fluorine-containing leveling agent MF represented by the above formula A, solid content concentration 30% by mass methyl ethyl ketone) Solvent) 0.17 parts by mass, photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 0.12 parts by mass, methyl ethyl ketone 64.05 parts by mass, methyl isobutyl ketone 9.50 parts by mass, and cyclohexanone 19 0.000 part by mass was added and stirred. After sufficiently stirring, the solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to prepare a coating solution Q for a medium refractive index layer.

(中屈折率層用塗布液Rの調製)
ZrO微粒子メチルエチルケトン分散液(ナノユース OZ−S30K[商品名、固形分濃度:30質量%、酸化ジルコニウム微粒子の平均1次粒子径:7nm、日産化学工業(株)社製])10.00質量部に、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(新中村化学工業(株)製 NKエステル A−TMMT)1.89質量部、レベリング剤(前記式Aで表されるフッ素含有レベリング剤MF、固形分濃度30質量% メチルエチルケトン溶媒)0.17質量部、光重合開始剤(イルガキュア907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.06質量部、メチルエチルケトン59.38質量部、メチルイソブチルケトン9.50質量部及びシクロヘキサノン19.00質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液Rを調製した。
(Preparation of coating solution R for medium refractive index layer)
ZrO 2 fine particle methyl ethyl ketone dispersion (nanouse OZ-S30K [trade name, solid content concentration: 30% by mass, average primary particle size of zirconium oxide fine particles: 7 nm, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.]) 10.00 parts by mass 1.89 parts by mass of pentaerythritol tetraacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., NK ester A-TMMT), leveling agent (fluorine-containing leveling agent MF represented by Formula A, solid content concentration 30% by mass methyl ethyl ketone) Solvent) 0.17 parts by mass, photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 0.06 parts by mass, methyl ethyl ketone 59.38 parts by mass, methyl isobutyl ketone 9.50 parts by mass, and cyclohexanone 19 0.000 part by mass was added and stirred. After sufficiently stirring, the solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to prepare a coating solution R for a medium refractive index layer.

(中屈折率層用塗布液Sの調製)
ZrO微粒子メチルエチルケトン分散液(ナノユース OZ−S30K[商品名、固形分濃度:30質量%、酸化ジルコニウム微粒子の平均1次粒子径:7nm、日産化学工業(株)社製])11.67質量部に、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(新中村化学工業(株)製 NKエステル A−TMMT)1.41質量部、レベリング剤(前記式Aで表されるフッ素含有レベリング剤MF、固形分濃度30質量% メチルエチルケトン溶媒) 0.17質量部、光重合開始剤(イルガキュア907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.05質量部、メチルエチルケトン58.22質量部、メチルイソブチルケトン9.50質量部及びシクロヘキサノン19.00質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液Sを調製した。
(Preparation of coating solution S for medium refractive index layer)
ZrO 2 fine particle methyl ethyl ketone dispersion (nanouse OZ-S30K [trade name, solid content concentration: 30% by mass, average primary particle diameter of zirconium oxide fine particles: 7 nm, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.]) 11.67 parts by mass 1.41 parts by mass of pentaerythritol tetraacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., NK ester A-TMMT), leveling agent (fluorine-containing leveling agent MF represented by the above formula A, solid content concentration 30% by mass methyl ethyl ketone) Solvent) 0.17 parts by mass, 0.05 parts by mass of photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), 58.22 parts by mass of methyl ethyl ketone, 9.50 parts by mass of methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone 19 0.000 part by mass was added and stirred. After sufficiently stirring, the solution was filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 0.4 μm to prepare a coating solution S for medium refractive index layer.

(高屈折率層用塗布液Aの調製)
ZrO微粒子含有ハードコート剤(オプスターKZ6666[屈折率1.72、固形分濃度:50質量%、酸化ジルコニウム微粒子含量:70質量%(対固形分)、酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径:約20nm、溶剤組成:メチルエチルケトン/2-ブタノール/キシレン=35/5/2.5(質量比)、JSR(株)製])14.10質量部に、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(新中村化学工業(株)製 NKエステル A−TMMT)0.41質量部、レベリング剤(前記式Aで表されるフッ素含有レベリング剤MF、固形分濃度30質量% メチルエチルケトン溶媒)0.11質量部、光重合開始剤(イルガキュア907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.01質量部、メチルエチルケトン48.37質量部、シクロヘキサノン37.00質量部を添加して攪拌した。孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用塗布液Aを調製した。
(Preparation of coating liquid A for high refractive index layer)
ZrO 2 fine particle-containing hard coating agent (OPSTAR KZ6666 [refractive index 1.72, solid content concentration: 50 mass%, zirconium oxide fine particle content: 70 mass% (based on solid content), average particle diameter of zirconium oxide fine particles: about 20 nm, Solvent composition: methyl ethyl ketone / 2-butanol / xylene = 35/5 / 2.5 (mass ratio), manufactured by JSR Corporation]) 14.10 parts by mass, pentaerythritol tetraacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) NK Ester A-TMMT) 0.41 parts by mass, leveling agent (fluorine-containing leveling agent MF represented by Formula A, solid content concentration 30% by mass methyl ethyl ketone solvent) 0.11 part by mass, photopolymerization initiator (Irgacure 907) , Manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 0.01 parts by weight, methyl ethyl ketone 48.37 parts by weight , Cyclohexanone were added and stirred 37.00 parts by weight. Filtration through a polypropylene filter having a pore diameter of 0.4 μm prepared a coating solution A for a high refractive index layer.

(低屈折率層用塗布液の調製)
(パーフルオロオレフィン共重合体P−1の合成)
特開2010−152311号公報に記載のパーフルオロオレフィン共重合体(1)と同様の方法で、パーフルオロオレフィン共重合体P−1を調製した。得られたポリマーの屈折率は1.422であった
(Preparation of coating solution for low refractive index layer)
(Synthesis of perfluoroolefin copolymer P-1)
Perfluoroolefin copolymer P-1 was prepared in the same manner as perfluoroolefin copolymer (1) described in JP 2010-152111 A. The resulting polymer had a refractive index of 1.422.

Figure 0005933353
Figure 0005933353

上記構造式中、50:50はモル比を表す。   In the above structural formula, 50:50 represents a molar ratio.

(中空シリカ分散液A−1の調製)
特開2007−298974号公報に記載の分散液A−1と同様の方法を用いて条件を調整し、平均粒子径60nm、シェル厚み10nm、シリカ粒子の屈折率1.31の中空シリカ粒子分散液A−1(固形分濃度18.2質量%)を調製した。
(Preparation of hollow silica dispersion A-1)
A hollow silica particle dispersion having an average particle diameter of 60 nm, a shell thickness of 10 nm, and a silica particle refractive index of 1.31 by adjusting the conditions using the same method as dispersion A-1 described in JP-A-2007-298974. A-1 (solid content concentration 18.2 mass%) was prepared.

(低屈折率層形成用組成物A−1の調製)
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌し、低屈折率層形成用組成物A−1(固形分濃度5質量%)とした。
パーフルオロオレフィン共重合体P−1 14.8質量部
エチルメチルケトン 157.7質量部
DPHA 3.0質量部
中空シリカ粒子分散液A−1 21.2質量部
イルガキュア127 1.3質量部
X22−164C 2.1質量部
(Preparation of composition A-1 for forming a low refractive index layer)
The following composition was charged into a mixing tank and stirred to obtain a composition A-1 for forming a low refractive index layer (solid content concentration 5% by mass).
Perfluoroolefin copolymer P-1 14.8 parts by weight Ethyl methyl ketone 157.7 parts by weight DPHA 3.0 parts by weight Hollow silica particle dispersion A-1 21.2 parts by weight Irgacure 127 1.3 parts by weight X22- 164C 2.1 parts by mass

それぞれ使用した化合物を以下に示す。
・DPHA:ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(日本化薬(株)製)
・X22−164C:反応性シリコーン(信越化学(株)製)
・イルガキュア127:光重合開始剤(チバ・ジャパン(株)製)
The compounds used are shown below.
DPHA: Mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
-X22-164C: Reactive silicone (made by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
・ Irgacure 127: Photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.)

(ハードコート層Aの作製)
層厚40μmの透明支持体としてのトリアセチルセルロースフィルム(TD40UL、富士フイルム(株)製、屈折率1.48)上に、前記ハードコート層用塗布液HC−1をグラビアコーターを用いて塗布した。60℃で乾燥した後、酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度200mW/cm、照射量50mJ/cmの紫外線を照射して塗布層をハーフキュアさせ、厚さ10μmのハードコート層Aを形成した。
(Preparation of hard coat layer A)
The coating liquid HC-1 for hard coat layer was applied on a triacetyl cellulose film (TD40UL, manufactured by FUJIFILM Corporation, refractive index 1.48) as a transparent support having a layer thickness of 40 μm using a gravure coater. . After drying at 60 ° C., an irradiance of 200 mW / cm using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) of 160 W / cm while purging with nitrogen so that the oxygen concentration becomes 1.0 vol% or less. 2. Irradiation with an irradiation amount of 50 mJ / cm 2 was performed to half-cure the coating layer to form a hard coat layer A having a thickness of 10 μm.

ハードコート層Aの上に、それぞれ所望の屈折率となるように調整した、中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。なお、各層の屈折率の測定は、各層の塗布液を約4μmの厚みになるようにガラス板に塗布し、多波長アッベ屈折計DR−M2(アタゴ(株)製)にて測定した。「DR−M2,M4用干渉フィルター546(e)nm 部品番号:RE−3523」のフィルターを使用して測定した屈折率を波長550nmにおける屈折率として採用した。   A medium refractive index layer coating solution, a high refractive index layer coating solution, and a low refractive index layer coating solution, which are adjusted to have a desired refractive index, are applied onto the hard coat layer A using a gravure coater. did. The refractive index of each layer was measured by applying a coating solution for each layer on a glass plate so as to have a thickness of about 4 μm, and measuring with a multiwavelength Abbe refractometer DR-M2 (manufactured by Atago Co., Ltd.). The refractive index measured using the “DR-M2, M4 interference filter 546 (e) nm part number: RE-3523” filter was employed as the refractive index at a wavelength of 550 nm.

各層の膜厚は、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を積層後に反射分光膜厚計“FE−3000”(大塚電子(株)製)を用いて算出した。算出の際の各層の屈折率は上記アッベ屈折率計で導出した値を使用した。   The film thickness of each layer was calculated using a reflection spectral film thickness meter “FE-3000” (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.) after laminating the medium refractive index layer, the high refractive index layer, and the low refractive index layer. The value derived from the Abbe refractometer was used as the refractive index of each layer in the calculation.

中屈折率層の乾燥条件は90℃、60秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら180W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度200mW/cm、照射量60mJ/cmの照射量で照射しハーフキュアさせ、厚さ63nmの中屈折率層を形成した。 The drying condition of the medium refractive index layer is 90 ° C. for 60 seconds, and the ultraviolet curing condition is a 180 W / cm air-cooled metal halide lamp (eye graphics) while purging with nitrogen so that the atmosphere has an oxygen concentration of 1.0% by volume or less. And a half-curing layer having a thickness of 63 nm was formed by irradiation with an irradiance of 200 mW / cm 2 and an irradiation amount of 60 mJ / cm 2 .

高屈折率層の乾燥条件は90℃、60秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度200mW/cm、照射量60mJ/cmの照射量で照射しハーフキュアさせ、厚さ136nmの高屈折率層を形成した。 The drying condition of the high refractive index layer is 90 ° C. for 60 seconds, and the ultraviolet curing condition is a 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (eye graphics) while purging with nitrogen so that the atmosphere has an oxygen concentration of 1.0% by volume or less. And a half-cure by irradiation with an illuminance of 200 mW / cm 2 and an irradiation amount of 60 mJ / cm 2 to form a high refractive index layer having a thickness of 136 nm.

(低屈折率層の作製)
低屈折率層の乾燥条件は60℃、60秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が0.1体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度300mW/cm、照射量300mJ/cmの照射量で照射し硬化させ、厚さ98nmの低屈折率層を形成し、ハードコート層、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層の4層連続で塗布・硬化(フルキュア)して反射防止フィルムを作製した。
(Preparation of low refractive index layer)
The low refractive index layer was dried at 60 ° C. for 60 seconds, and the ultraviolet curing condition was 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (eye graphics) while purging with nitrogen so that the atmosphere had an oxygen concentration of 0.1% by volume or less. ), And is cured by irradiation with an illuminance of 300 mW / cm 2 and an irradiation amount of 300 mJ / cm 2 to form a low refractive index layer having a thickness of 98 nm, a hard coat layer, a medium refractive index layer, The antireflective film was produced by applying and curing (full curing) four layers of a high refractive index layer and a low refractive index layer continuously.

反射防止フィルムの透明支持体を特開2011−237764の実施例1に記載のものと同様の糖エステル化合物含有セルロースアシレートフィルムに変更した以外はNo.1と同様にして反射防止フィルムNo.20を作製した。   The antireflection film No. 20 was the same as No. 1 except that the transparent support of the antireflection film was changed to a sugar ester compound-containing cellulose acylate film similar to that described in Example 1 of JP2011-237764A. Was made.

〔反射防止フィルムの評価〕
以下の方法により反射防止フィルムの諸特性の評価を行った。結果を表2に示す。
[Evaluation of antireflection film]
Various characteristics of the antireflection film were evaluated by the following methods. The results are shown in Table 2.

(反射防止フィルムの鹸化処理)
作製した各反射防止フィルムについて鹸化処理済みの反射防止フィルムも準備しスチールウール耐傷性について試験した。
1.5mol/lの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、55℃に保温した。0.01mol/lの希硫酸水溶液を調製し、35℃に保温した。作製した光学フィルムを前記の水酸化ナトリウム水溶液に2分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、前記の希硫酸水溶液に1分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を120℃で十分に乾燥させた。
このようにして、鹸化処理済みの反射防止フィルムを作製した。
(Saponification treatment of antireflection film)
A saponified antireflection film was also prepared for each of the produced antireflection films and tested for steel wool scratch resistance.
A 1.5 mol / l aqueous sodium hydroxide solution was prepared and kept at 55 ° C. A 0.01 mol / l dilute sulfuric acid aqueous solution was prepared and kept at 35 ° C. The produced optical film was immersed in the aqueous sodium hydroxide solution for 2 minutes, and then immersed in water to sufficiently wash away the aqueous sodium hydroxide solution. Subsequently, after being immersed in the dilute sulfuric acid aqueous solution for 1 minute, it was immersed in water to sufficiently wash away the dilute sulfuric acid aqueous solution. Finally, the sample was thoroughly dried at 120 ° C.
In this way, a saponified antireflection film was produced.

(1)スチールウール耐傷性(SW耐性)評価
ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストを行うことで、耐擦傷性の指標とすることができる。
評価環境条件:25℃、60%RH
こすり材:スチールウール(日本スチールウール(株)製、グレードNo.0000)
試料と接触するテスターのこすり先端部(1cm×1cm)に巻いて、バンド固定。
移動距離(片道):13cm、
こすり速度:13cm/秒、
荷重:200g/cm
先端部接触面積:1cm×1cm、
こすり回数:10往復。
こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、こすり部分の傷を評価した。
A :非常に注意深く見ても、全く傷が見えない。
B :傷はないが、僅かに色味が変化している。
C :数本の傷が見える。
D :数本より多くの傷が見える。
(1) Steel Wool Scratch Resistance (SW Resistance) Evaluation Using a rubbing tester, a rubbing test can be performed under the following conditions as an index of scratch resistance.
Evaluation environmental conditions: 25 ° C., 60% RH
Rubbing material: Steel wool (manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd., Grade No. 0000)
Wrap around the tip (1cm x 1cm) of the scraper of the tester that comes into contact with the sample, and fix the band.
Travel distance (one way): 13cm
Rubbing speed: 13 cm / second,
Load: 200 g / cm 2 ,
Tip contact area: 1 cm × 1 cm,
Number of rubs: 10 round trips.
An oily black ink was applied to the back side of the rubbed sample and visually observed with reflected light to evaluate scratches on the rubbed portion.
A: Even if you look very carefully, no scratches are visible.
B: There is no scratch, but the color is slightly changed.
C: Several scratches are visible.
D: More than a few scratches are visible.

(2)膜厚ムラ
実施例で作製した反射防止フィルムについて、幅1340mmのロール状に巻きつけたサンプルを幅方向の両端120mmを除き1100mm幅に調整し、幅方向に100mmピッチで膜厚を12点測定し、さらに長手方向100mごとに11回同様な膜厚の測定を行い、全132点の測定点の膜厚の平均値d(平均値)と最小値d(最小値)と最大値d(最大値)より、下記数式(I)により膜厚分布を算出した。
数式(I):(最大値d―最小値d)×100/平均値d
なお、膜厚は、反射防止フィルムの裏面を紙やすりで擦った後に、黒マジックで塗り、裏面の反射を無くした状態で表面から測定した380〜780nmの波長域の反射特性を光学的にフィッティングすることで算出した。
A:3%未満
B:3%以上5%未満
C:5%以上
(2) Film thickness unevenness About the antireflection film produced in the example, a sample wound in a roll shape having a width of 1340 mm was adjusted to 1100 mm width except for 120 mm at both ends in the width direction, and the film thickness was 12 at 100 mm pitch in the width direction. The film thickness is measured at 11 points every 100 m in the longitudinal direction, and the average value d (average value), minimum value d (minimum value), and maximum value d of the film thicknesses of all 132 measurement points are measured. From (maximum value), the film thickness distribution was calculated by the following mathematical formula (I).
Formula (I): (maximum value d−minimum value d) × 100 / average value d
The film thickness is optically fitted with reflection characteristics in the wavelength range of 380 to 780 nm measured from the front surface after rubbing the back surface of the antireflection film with sandpaper and then painting with black magic and eliminating the reflection on the back surface. It was calculated by doing.
A: Less than 3% B: 3% or more and less than 5% C: 5% or more

評価結果を表2に示す。
No.11の反射防止フィルムは、「本発明」とあるのを「参考例」と読み替えるものとする。
The evaluation results are shown in Table 2.
No. In the antireflection film of 11, the “present invention” is read as “reference example”.

Figure 0005933353
Figure 0005933353

表2に示した結果から明らかなように、中屈折率層に含有させる粒子の平均一次粒子径が10nm以上の比較例の反射防止フィルム4及び5は鹸化後のSW耐性に劣ることがわかる。不飽和二重結合を有する化合物の不飽和二重結合が3つに満たない比較例の反射防止フィルム6及び7は未鹸化、鹸化後いずれもSW耐性に劣ることがわかる。一般式1で表されるモノマーに相当する繰り返し単位を含有する重合体(レベリング剤)を含有させていない比較例の反射防止フィルム8は、膜厚ムラに劣ることがわかる。一般式1で表されるモノマーに相当する繰り返し単位を含有する重合体の含有量が中屈折率層形成用組成物中の全固形分に対して2.0質量%を超える比較例の反射防止フィルム13は、未鹸化、鹸化後いずれもSW耐性に劣ることがわかる。
中屈折率層に含有させる粒子の含有量が30〜60質量%から外れる比較例の反射防止フィルム17、19は、鹸化後のSW耐性に劣ることがわかる。
一方、実施例の反射防止フィルム1〜3、9〜12、14〜16、18及び20は、未鹸化、鹸化後いずれもSW耐性に優れ、膜厚ムラもないことがわかる。
As is clear from the results shown in Table 2, it can be seen that the antireflective films 4 and 5 of Comparative Examples in which the average primary particle diameter of the particles contained in the medium refractive index layer is 10 nm or more are inferior in SW resistance after saponification. It can be seen that the antireflection films 6 and 7 of the comparative examples in which the number of unsaturated double bonds of the compound having an unsaturated double bond is less than three are inferior in SW resistance both after unsaponification and after saponification. It turns out that the antireflection film 8 of the comparative example which does not contain the polymer (leveling agent) containing the repeating unit corresponding to the monomer represented by the general formula 1 is inferior in film thickness unevenness. The antireflection of the comparative example in which the content of the polymer containing the repeating unit corresponding to the monomer represented by the general formula 1 exceeds 2.0% by mass with respect to the total solid content in the composition for forming a medium refractive index layer It can be seen that the film 13 is inferior in SW resistance both after unsaponification and after saponification.
It can be seen that the antireflection films 17 and 19 of the comparative examples in which the content of the particles contained in the medium refractive index layer deviates from 30 to 60% by mass are inferior in SW resistance after saponification.
On the other hand, it can be seen that the antireflection films 1 to 3, 9 to 12, 14 to 16, 18 and 20 of the examples have excellent SW resistance and no film thickness unevenness both after unsaponification and after saponification.

1 透明支持体
2 ハードコート層
3 中屈折率層
4 高屈折率層
5 低屈折率層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent support 2 Hard-coat layer 3 Medium refractive index layer 4 High refractive index layer 5 Low refractive index layer

Claims (10)

透明支持体上にハードコート層、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層をこの順に有する反射防止フィルムであって、前記中屈折率層が(A)平均1次粒子径10nm未満の有機又は無機粒子、(B)不飽和二重結合を3つ以上有する化合物、及び(C)下記一般式1で表されるモノマーに相当する繰り返し単位を有する重合体を含有する組成物から形成され、前記重合体(C)が前記組成物中の全固形分に対して1.0〜2.0質量%であり、前記有機又は無機粒子(A)が、前記組成物中の全固形分に対して30〜60質量%である、反射防止フィルム。
一般式1
Figure 0005933353

上記一般式1において、Rは水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表す。
Xは酸素原子、イオウ原子又は−N(R12)−を表す。R12は水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を表す。Rは−CF又は−CFHを表す。
mは1〜6の整数を表す。
nは1〜11の整数を表す。
An antireflection film having a hard coat layer, a medium refractive index layer, a high refractive index layer and a low refractive index layer in this order on a transparent support, wherein the medium refractive index layer (A) has an average primary particle diameter of less than 10 nm An organic or inorganic particle, (B) a compound having three or more unsaturated double bonds, and (C) a composition containing a polymer having a repeating unit corresponding to the monomer represented by the following general formula 1. The polymer (C) is 1.0 to 2.0% by mass with respect to the total solid content in the composition, and the organic or inorganic particles (A) are the total solid content in the composition. The antireflection film which is 30 to 60% by mass relative to the mass.
General formula 1
Figure 0005933353

In the above general formula 1, R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a methyl group.
X represents an oxygen atom, a sulfur atom, or —N (R 12 ) —. R 12 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. R f represents —CF 3 or —CF 2 H.
m represents an integer of 1 to 6.
n represents an integer of 1 to 11.
前記一般式1において、R  In the general formula 1, R f は−CFIs -CF 3 を表す請求項1に記載の反射防止フィルム。The antireflection film according to claim 1, which represents 前記平均1次粒子径10nm未満の有機又は無機粒子(A)がジルコニア粒子である、請求項1又は2に記載の反射防止フィルム。 The antireflection film according to claim 1 or 2 , wherein the organic or inorganic particles (A) having an average primary particle diameter of less than 10 nm are zirconia particles. 記不飽和二重結合を3つ以上有する化合物(B)の分子量の数値を、官能基数で除した値である、分子量/官能基数が100以下である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。 The numerical value of the molecular weight of pre-Symbol unsaturated double bond three or more compound having (B), a value obtained by dividing the number of functional groups, molecular weight / number of functional groups is 100 or less, any of claims 1-3 1 An antireflection film as described in the item . 前記透明支持体がセルロースアシレートフィルムである、請求項1〜のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。 Wherein the transparent support is a cellulose acylate film, an antireflection film according to any one of claims 1-4. 偏光膜と該偏光膜の両面を保護する2枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が請求項1〜のいずれか1項に記載の反射防止フィルムである偏光板。 A polarizing plate having a polarizing film and two protective films protecting both surfaces of the polarizing film, wherein at least one of the protective films is the antireflection film according to any one of claims 1 to 5. Board. 請求項1〜のいずれか1項に記載の反射防止フィルム、又は請求項に記載の偏光板を有する画像表示装置。 The antireflection film according to any one of claims 1 to 5, or an image display device having the polarizing plate according to claim 6. 透明支持体上にハードコート層、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層をこの順に有し、各層それぞれが塗布、乾燥及び硬化の工程を行うことで形成される反射防止フィルムの製造方法であって、前記中屈折率層が(A)平均1次粒子径10nm未満の有機又は無機粒子、(B)不飽和二重結合を3つ以上有する化合物、(C)下記一般式1で表されるモノマーに相当する繰り返し単位を有する重合体を含有する組成物から形成され、前記重合体(C)が前記組成物中の全固形分に対して1.0〜2.0質量%であり、前記有機又は無機粒子(A)が、前記組成物中の全固形分に対して30〜60質量%である、反射防止フィルムの製造方法。
一般式1
Figure 0005933353

上記一般式1において、Rは水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表す。
Xは酸素原子、イオウ原子又は−N(R12)−を表す。R12は水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を表す。Rは−CF又は−CFHを表す。
mは1〜6の整数を表す。
nは1〜11の整数を表す。
An antireflection film having a hard coat layer, a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer in this order on a transparent support, and each layer is formed by applying, drying and curing steps. a manufacturing method, the medium refractive index layer is (a) an organic less than the average primary particle diameter of 10nm or no opportunity particle element, (B) an unsaturated double bond compound having three or more, (C) the following general is formed from a composition containing a polymer having a repeating unit corresponding to the monomer represented by formula 1, 1.0 for the polymer (C) is the total solids in the composition to 2.0 The manufacturing method of the antireflection film which is mass% and the said organic or inorganic particle (A) is 30-60 mass% with respect to the total solid in the said composition.
General formula 1
Figure 0005933353

In the above general formula 1, R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a methyl group.
X represents an oxygen atom, a sulfur atom, or —N (R 12 ) —. R 12 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. R f represents —CF 3 or —CF 2 H.
m represents an integer of 1 to 6.
n represents an integer of 1 to 11.
前記一般式1において、R  In the general formula 1, R f は−CFIs -CF 3 を表す請求項8に記載の反射防止フィルムの製造方法。The manufacturing method of the anti-reflective film of Claim 8 showing. 前記塗布、乾燥及び硬化の工程の後、さらに鹸化処理を行う、請求項8又は9に記載の反射防止フィルムの製造方法。  The method for producing an antireflection film according to claim 8 or 9, wherein a saponification treatment is further performed after the coating, drying and curing steps.
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