KR101381530B1 - Method for producing optical film, optical film, polarizing plate and display - Google Patents

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Abstract

생산성이 우수하고, 하드 코트층과 하드 코트층의 기재측에 접하는 층과의 사이에서의 간섭 줄무늬의 발생을 억제하여, 시인성이 우수한 광학 필름의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 광투과성 기재를 준비하는 공정, 제1 수지 및 제1 용제를 포함하고, 또한 저굴절률 성분을 포함하지 않거나 또는 저굴절률 성분이 제1 수지의 질량에 대하여 5.0질량% 이하이고, 점도 μ1이 3mPaㆍs 이상인 제1 조성물, 및 저굴절률 성분, 제2 수지 및 제2 용제를 포함하고, 점도 μ2가 5mPaㆍs 이상이면서 μ2와 μ1의 차가 30mPaㆍs 이하인 제2 조성물을 준비하는 공정, 광투과성 기재의 일면측에 광투과성 기재측으로부터 적어도 제1 조성물 및 제2 조성물을 인접시켜 동시 도포하여 도막으로 하는 공정, 상기 도막을 건조시키고, 계속해서 광조사나 가열을 행하여 경화시키는 공정을 포함하고, 또한 상기 건조 전에 예비 경화를 행하지 않는 것을 특징으로 하는 광학 필름의 제조 방법이다.It aims at providing the manufacturing method of the optical film which is excellent in productivity, suppresses generation | occurrence | production of the interference fringe between the hard-coat layer, and the layer which contact | connects the base material side of a hard-coat layer, and is excellent in visibility. A process for preparing a light-transmissive base material, the first resin and the first solvent, the low refractive index component is not included or the low refractive index component is 5.0% by mass or less with respect to the mass of the first resin, the viscosity μ1 is 3mPa. A process for preparing a second composition comprising a first composition having a s or more, and a low refractive index component, a second resin, and a second solvent, wherein the viscosity has a mu m of 5 mPa · s or more and a difference between mu 2 and mu 1 is 30 mPa · s or less, a light transmissive substrate At least one of the first composition and the second composition adjacent to one surface side of the light transmissive substrate side and simultaneously coating the coating film, and drying the coating film, followed by curing with light irradiation or heating. It is a manufacturing method of the optical film characterized by not pre-curing before drying.

Description

광학 필름의 제조 방법, 광학 필름, 편광판 및 디스플레이 {METHOD FOR PRODUCING OPTICAL FILM, OPTICAL FILM, POLARIZING PLATE AND DISPLAY}Method for manufacturing optical film, optical film, polarizer and display {METHOD FOR PRODUCING OPTICAL FILM, OPTICAL FILM, POLARIZING PLATE AND DISPLAY}

본 발명은 액정 디스플레이(LCD), 음극관 표시 장치(CRT), 또는 플라즈마 디스플레이(PDP) 등의 디스플레이(화상 표시 장치)의 전방면 등에 설치되는 광학 필름, 그 제조 방법 및 그것을 사용한 편광판 및 디스플레이에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to an optical film provided on a front surface of a display (image display device) such as a liquid crystal display (LCD), a cathode ray tube display (CRT), or a plasma display (PDP), a manufacturing method thereof, and a polarizing plate and a display using the same. will be.

상기와 같은 디스플레이에 있어서는, 그 표시면의 시인성을 높이기 위하여, 형광등이나 태양광 등의 외부 광원으로부터 조사된 광선의 반사가 적은 것이 요구된다. 외부 광의 반사를 억제하는 방법으로서, 하드 코트층 등의 기능층의 최표면에 저굴절률층을 형성한 반사 방지 필름을 사용하는 방법이 알려져 있다(예를 들어, 특허문헌 1).In such a display, in order to improve the visibility of the display surface, it is required that the reflection of the light beam irradiated from an external light source such as a fluorescent lamp or sunlight is required to be small. As a method of suppressing reflection of external light, the method of using the antireflection film which provided the low refractive index layer in the outermost surface of functional layers, such as a hard-coat layer, is known (for example, patent document 1).

그러나, 특허문헌 1의 발명과 같이 기능층 형성용 조성물을 도포하고, 전리 방사선으로 반경화시켜 기능층을 형성하고, 또한 반경화 상태의 기능층 상에 저굴절률층 형성용 조성물을 도포하여 완전히 경화시키는 방식(반경화 방식)이나, 종래의 각 층마다 조성물을 도포하고, 완전히 경화시키는 순차 중층 도포 방식에서는 복수회의 도포 공정 및 경화 공정을 행하기 때문에 생산성이 좋지 않다.However, as in the invention of Patent Literature 1, the composition for forming a functional layer is applied, semi-cured with ionizing radiation to form a functional layer, and the composition for forming a low refractive index layer is completely cured by applying a composition on the semi-cured functional layer. In order to apply | coat a composition (semi-curing system) and the conventional middle layer coating system which apply | coats a composition for each conventional layer, and to fully harden, since a several application | coating process and a hardening process are performed, productivity is not good.

이에 대해 특허문헌 2에서는 2층 이상의 기능층을 동시에 중층 도포할 수 있어 높은 생산성이 얻어지고, 층간의 밀착성이 높고, 또한 각 층간에서의 기능 분리에 지장을 초래하는 일이 없는 광학 필름의 제조 방법을 제공하는 것을 의도하여, 각각 전리 방사선 경화성 수지를 함유하는 A층과 B층을 동시 중층 도포하고, 1회째의 전리 방사선 조사(예비 경화)를 행하고, 이어서 건조하고, 2회째의 전리 방사선 조사를 행하여 경화(완전 경화)시키는 광학 필름의 제조 방법을 제안하고 있다.On the other hand, in patent document 2, two or more functional layers can be apply | coated at the same time, and high productivity is obtained, adhesiveness between layers is high, and the manufacturing method of the optical film which does not interfere with the functional separation in each layer. A layer and a B layer which contain an ionizing radiation curable resin are apply | coated at the same time, respectively, carrying out the 1st ionizing radiation irradiation (preliminary hardening), and then drying, and carrying out the 2nd ionizing irradiation The manufacturing method of the optical film which performs and hardens | cures (complete hardening) is proposed.

그러나, 중층 도포한 각 층간의 높은 밀착성 외에, 중층 도포한 층과 기재 또는 기재측에 접하는 층과의 높은 밀착성도 요구되고 있다. 특허문헌 2에서는 층간의 밀착성이 높고, 각 층간에서의 기능이 분리되어 있지만, 동시 도포한 A층(하드 코트층 또는 방현층)과 B층(굴절률 제어층)의 사이에는 층 계면이 존재하고 있었다.However, in addition to the high adhesion between the layers coated with the middle layer, a high adhesion between the layer coated with the layer and the substrate or the layer in contact with the substrate side is also required. In patent document 2, although the adhesiveness between layers was high and the function between each layer was isolate | separated, the layer interface existed between A layer (hard coat layer or anti-glare layer) and B layer (refractive-index control layer) which were apply | coated simultaneously. .

또한, 특허문헌 1에 있어서는 저굴절률층의 굴절률을 저감시키는 것을 의도하여 중공 입자 등의 저굴절률 미립자를 함유시키고 있지만, 이렇게 저굴절률 미립자를 저굴절률층에 함유시키면 저굴절률층의 굴절률은 저감되지만, 저굴절률층의 기재측에 접하는 기능층은 저굴절률층에 비하여 굴절률이 높기 때문에 저굴절률층과 기능층의 경계(계면)에 있어서 저굴절률층의 저굴절률 미립자와 기능층에 굴절률차가 있고, 정밀한 막 두께 제어를 행하지 않으면 간섭 줄무늬가 발생하게 되어, 반사 방지 필름을 사용한 디스플레이의 표시면의 시인성이 저하되어 버린다고 하는 문제가 있었다.In addition, although the patent document 1 contains low refractive index microparticles | fine-particles, such as a hollow particle, intention to reduce the refractive index of a low refractive index layer, when the low refractive index microparticles are contained in a low refractive index layer in this way, the refractive index of a low refractive index layer will reduce, Since the functional layer in contact with the substrate side of the low refractive index layer has a higher refractive index than the low refractive index layer, there is a difference in refractive index between the low refractive index fine particles of the low refractive index layer and the functional layer at the interface (interface) of the low refractive index layer and the functional layer. If thickness control is not performed, interference fringes will generate | occur | produce, and there existed a problem that the visibility of the display surface of the display using an antireflection film falls.

일본 특허 공개 제2009-053691호 공보Japanese Patent Publication No. 2009-053691 일본 특허 공개 제2008-250267호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-250267

본 발명은 상기 문제점을 해소하기 위하여 이루어진 것이며, 본 발명의 제1 목적은, 동시 도포(중층 도포)를 행함으로써 반사 방지 기능을 갖고, 헤이즈, 전체 광선 투과율 및 줄무늬가 없는 면 형상을 유지하면서, 도포 공정이나 경화 공정을 줄임으로서 생산성을 향상시키고, 또한 순차 도포에 의한 층간의 계면을 없앰으로써 층간의 간섭 줄무늬의 발생을 억제하고, 밀착성을 양호화하고, 기재 부근에서는 기재의 굴절률과 동일 정도의 굴절률의 하드 코트 조성물의 비율을 많게 함으로써 하드 코트층과 기재의 사이에서의 간섭 줄무늬의 발생을 억제하고, 또한 밀착성이 우수한 광학 필름 및 그 제조 방법을 제공하는 것이다.The present invention has been made to solve the above problems, and the first object of the present invention is to have a reflection preventing function by performing simultaneous coating (layer coating), while maintaining a surface shape without haze, total light transmittance, and stripes, By reducing the coating step and curing step, the productivity is improved, and by eliminating the interface between the layers due to the sequential coating, the generation of interference fringes between the layers is suppressed and the adhesion is improved. By increasing the ratio of the hard coat composition having a refractive index, it is possible to provide an optical film and a method for producing the same, which suppress the occurrence of interference fringes between the hard coat layer and the substrate and are excellent in adhesion.

본 발명의 제2 목적은, 상기 광학 필름을 구비한 편광판을 제공하는 것이다.The 2nd object of this invention is to provide the polarizing plate provided with the said optical film.

본 발명의 제3 목적은, 상기 광학 필름을 구비한 디스플레이를 제공하는 것이다.A third object of the present invention is to provide a display provided with the optical film.

본 발명자들이 예의 검토한 결과, 저굴절률 미립자 및 저굴절률 수지를 포함하지 않거나 또는 저굴절률 수지를 포함하고 있어도 광경화성 수지나 열경화성 수지를 포함하는 경화성 수지의 질량에 대하여 5질량% 이하로 적고, 또한 특정한 점도를 갖는 제1 조성물과, 저굴절률 미립자를 포함하고, 또한 특정한 점도를 갖는 제2 조성물을, 기재측으로부터 상기 제1 조성물 및 제2 조성물을 인접시켜 기재 상 또는 기재 상에 형성된 층 상에 동시 도포하고, 건조 전의 예비 경화를 행하지 않고 건조시키고, 계속해서 광조사나 가열하여 경화시킴으로써, HC층의 막 두께 방향에 있어서 저굴절률 미립자가 HC층의 기재와는 반대측의 계면측에 기재측보다도 많이 존재하고, 또한 기재측일수록 저굴절률 미립자의 존재량이 적어지는 분포, 즉 기재와는 반대측의 계면측으로부터 기재측에 걸쳐 저굴절률 미립자가 서서히 적어지고 있는 분포를 취하고, 종래의 저굴절률층과 HC층을 순차 중층 도포에 의해 형성한 경우나 특허문헌 2와 같은 동시 도포에 의해 형성한 경우와 같은 명확한 층 계면을 나타내지 않고, 또한 반사 방지 기능을 갖고, 헤이즈, 전체 광선 투과율 및 줄무늬가 없는 면 형상을 유지하면서, 순차 도포에 의한 층간의 계면을 없앰으로써 층간의 간섭 줄무늬의 발생을 억제하고, 밀착성을 양호화하고, 기재 부근에서는 기재의 굴절률과 동일 정도의 굴절률의 하드 코트 조성물의 비율을 많게 함으로써 하드 코트층과 기재의 사이에서의 간섭 줄무늬의 발생을 억제하고, 또한 밀착성이 우수한 광학 필름이 높은 생산성으로 얻어지는 것을 발견하고, 본 발명을 완성시키기에 이르렀다.As a result of earnestly examining by the present inventors, even if it does not contain the low refractive index microparticles | fine-particles and low refractive index resin, or contains the low refractive index resin, it is less than 5 mass% with respect to the mass of curable resin containing a photocurable resin and a thermosetting resin, A first composition having a specific viscosity and a second composition containing low refractive index fine particles and having a specific viscosity are formed on the substrate or on a layer formed on the substrate by adjoining the first composition and the second composition from the substrate side. By applying simultaneously, drying without pre-curing before drying, and subsequently curing with light irradiation or heating, the low refractive index fine particles in the film thickness direction of the HC layer are larger than the substrate side on the interface side opposite to the substrate of the HC layer. Distribution on the substrate side, that is, the amount of low refractive index fine particles is smaller, that is, the system on the side opposite to the substrate. The low refractive index microparticles | fine-particles are gradually taken over from the side to the base material side, and it is the same as the case where the conventional low refractive index layer and HC layer were formed by sequential intermediate | middle application, or when they were formed by simultaneous coating like patent document 2 It does not exhibit a clear layer interface and has an antireflection function, while maintaining the surface shape without haze, total light transmittance, and stripe, while suppressing the generation of interference fringes between layers by eliminating the interface between layers by sequential coating, In the vicinity of the substrate, by increasing the ratio of the hard coat composition having the same refractive index as that of the substrate, the occurrence of interference fringes between the hard coat layer and the substrate is suppressed, and the optical film having excellent adhesion is high. It discovered that it is obtained by productivity, and came to complete this invention.

즉, 본 발명에 관한 광학 필름의 제조 방법은, (i) 광투과성 기재를 준비하는 공정, (ii) 반응성을 갖는 제1 수지 및 제1 용제를 포함하고, 또한 저굴절률 미립자 및 저굴절률 수지를 포함하지 않거나 또는 저굴절률 수지를 포함하고 있어도 상기 제1 수지의 질량에 대하여 5.0질량% 이하이고, 점도 μ1이 3mPaㆍs 이상인 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물, 및 평균 입경 10 내지 300nm의 저굴절률 미립자 및 저굴절률 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 저굴절률 성분, 반응성을 갖는 제2 수지 및 제2 용제를 포함하고, 점도 μ2가 5mPaㆍs 이상이면서 상기 μ2로부터 상기 μ1을 차감한 값이 30mPaㆍs 이하인 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물을 준비하는 공정, (iii) 상기 광투과성 기재의 일면측에, 상기 광투과성 기재측으로부터 적어도 상기 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 및 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물을 인접시켜 동시 도포하여 도막으로 하는 공정, (iv) 상기 (iii) 공정에서 얻어진 도막을 건조시키고, 계속해서 광조사 및/또는 가열을 행하여 경화시키는 공정을 포함하고, 또한 상기 (iii) 공정과 상기 (iv) 공정의 사이에 예비 경화를 행하지 않는 것을 특징으로 한다.That is, the manufacturing method of the optical film which concerns on this invention contains the process of (i) preparing a light transmissive base material, (ii) the 1st resin and the 1st solvent which have reactivity, and also the low refractive index microparticle and the low refractive index resin Curable resin composition for a first hard coat layer having a viscosity of not more than 5.0 mass% or less with respect to the mass of the first resin and a viscosity μ1 of 3 mPa · s or more, and a low refractive index having an average particle diameter of 10 to 300 nm One or more low refractive index components selected from the group consisting of fine particles and low refractive index resins, a second resin having a reactivity, and a second solvent, and having a viscosity of? 2 of 5 mPa · s or more, A step of preparing a curable resin composition for a second hard coat layer of 30 mPa · s or less, (iii) at least on the first transparent surface from the light-transmitting substrate side on one side of the light-transmissive substrate. The curable resin composition for a hard-coat layer and the curable resin composition for a 2nd hard-coat layer adjoin and apply | coat simultaneously, and make into a coating film, (iv) Dry the coating film obtained by said (iii) process, and continue light irradiation and / or heating. And a step of curing, and further, preliminary curing is not performed between the step (iii) and the step (iv).

저굴절률 미립자 및 저굴절률 수지를 포함하지 않거나 또는 저굴절률 수지를 포함하고 있어도 제1 수지의 질량에 대하여 5.0질량% 이하로 적고, 상기 특정한 점도를 갖는 제1 HC층용 경화성 수지 조성물(이하, 간단히 제1 조성물이라고 하는 경우가 있음), 및 저굴절률 미립자 및 저굴절률 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 저굴절률 성분을 포함하고, 상기 특정한 점도를 갖는 제2 HC층용 경화성 수지 조성물(이하, 간단히 제2 조성물이라고 하는 경우가 있음)을 광투과성 기재측으로부터 제1 조성물 및 제2 조성물이 인접하여 위치하도록 동시 중층 도포하여 HC층을 형성하고 예비 경화를 행하지 않음으로써, 제2 조성물에 포함되는 저굴절률 성분이 HC층의 막 두께 방향에 있어서, HC층의 광투과성 기재와는 반대측의 계면측에 광투과성 기재측보다도 많이 존재하고, 또한 광투과성 기재측일수록 저굴절률 성분의 존재량이 적어지도록 분포하고, 광투과성 기재와는 반대측의 계면으로부터 광투과성 기재측에 걸쳐 상기 저굴절률 성분이 서서히 적어지고, HC층 내에 있어서 저굴절률 성분과 HC층의 수지의 굴절률차에 의한 간섭 줄무늬의 발생과, HC층과 기재의 계면에서의 간섭 줄무늬의 발생을 억제하고, 또한 시인성이 우수한 광학 필름이 얻어진다.Curable resin composition for 1st HC layer which does not contain low refractive index microparticles | fine-particles and low refractive index resin, or contains low refractive index resin, and is less than 5.0 mass% with respect to the mass of a 1st resin, and has the said specific viscosity (hereinafter, simply It may be called 1 composition), and 1 or more types of low refractive index components chosen from the group which consists of low refractive index microparticles | fine-particles and low refractive index resin, and has the said specific viscosity curable resin composition for 2nd HC layers (it simply follows 2 composition) may be applied from the light-transmitting substrate side at the same time so that the first composition and the second composition are positioned adjacent to each other to form an HC layer and not perform precuring, thereby reducing the low refractive index included in the second composition. The component is a light transmissive substrate on the interface side on the side opposite to the light transmissive substrate of the HC layer in the film thickness direction of the HC layer. It exists more than the side, and it is distributed so that the abundance of low refractive index components may become smaller on the light transmissive base material side, and the said low refractive index component gradually decreases from the interface on the opposite side to a light transmissive base material to the light transmissive base material side, and in HC layer The optical film which suppresses generation | occurrence | production of the interference fringe by the refractive index difference of resin of a low refractive index component and HC layer, and generation | occurrence | production of the interference fringe at the interface of HC layer and a base material, and is excellent in visibility is obtained.

그리고, 예비 경화를 행하지 않고 도막을 건조시키고, 계속해서 광조사나 가열을 행하여 도막을 경화시키기 때문에, 예비 경화를 행하여 경화시킨 경우에 비하여 HC층과 광투과성 기재나 HC층의 광투과성 기재측에 접하는 층과의 밀착성을 높일 수 있다. 본 발명에 있어서 예비 경화란 도막을 본 경화시키지 않는 광조사 및/또는 가열을 의미한다. 그리고, 도막의 본 경화란 도막을 건조시켜 도막 중의 용제를 적게 하고, 경화한 도막이 JIS K5600-5-4(1999)에 규정하는 연필 경도 시험(4.9N 하중)에서 「H」 이상의 경도를 발현하는 경화를 의미한다.Then, the coating film is dried without preliminary curing, and subsequently the light coating or heating is performed to cure the coating film. Therefore, the coating layer is in contact with the HC layer, the light-transmissive substrate, or the light-transmissive substrate side of the HC layer, as compared with the case of precuring and curing. Adhesion with a layer can be improved. In this invention, precure means light irradiation and / or heating which does not harden a coating film. And this hardening of a coating film dries a coating film, reduces the solvent in a coating film, and the hardened coating film expresses hardness more than "H" by the pencil hardness test (4.9N load) prescribed | regulated to JISK5600-5-4 (1999). It means hardening.

본 발명에 관한 광학 필름의 제조 방법의 적합한 실시 형태에 있어서는, 상기 (iii) 공정에 있어서, 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물의 도막의 습윤 막 두께를 T1, 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물의 도막의 습윤 막 두께를 T2로 하였을 때, T2를 T1로 나눈 값, 즉 T2/T1을 0.01 내지 1로 함으로써, 하드 코트층의 막 두께 방향에 있어서 저굴절률 성분이 HC층의 광투과성 기재와는 반대측의 계면측에 광투과성 기재측보다도 많이 존재하고, 또한 광투과성 기재측일수록 저굴절률 성분의 존재량이 적어지도록 분포하고, 광투과성 기재와는 반대측의 계면으로부터 광투과성 기재측에 걸쳐 상기 저굴절률 성분이 서서히 적어지고, 또한 하드 코트층의 막 두께 방향에 있어서 상기 광투과성 기재와는 반대측의 계면부터 상기 하드 코트층의 건조 막 두께의 70%까지의 영역에, 상기 저굴절률 성분의 전체량의 70 내지 100%가 존재하는 분포를 갖는 광학 필름을 얻는 것도 가능하다.In suitable embodiment of the manufacturing method of the optical film which concerns on this invention, in the said (iii) process, the wet film thickness of the coating film of the curable resin composition for 1st hard-coat layers is made of T1, the curable resin composition for 2nd hard-coat layers. When the wet film thickness of the coating film is T2, the value of T2 divided by T1, that is, T2 / T1 is 0.01 to 1, so that the low refractive index component in the film thickness direction of the hard coat layer is different from that of the light-transmissive substrate of the HC layer. It exists more in the interface side on the opposite side than the light transmissive substrate side, and it is distributed so that the abundance of the low refractive index component may become smaller on the light transmissive substrate side, and the said low refractive index component is spread from the interface on the opposite side to the light transmissive substrate side. This gradually decreases, and in the film thickness direction of the hard coat layer, 70 of the dry film thickness of the hard coat layer from the interface on the side opposite to the light transmissive substrate. It is also possible to obtain the optical film which has a distribution in which 70 to 100% of the total amount of the said low refractive index component exists in the area | region up to%.

이렇게 저굴절률 성분이 분포하고 있음으로써, 저굴절률 성분의 함유량을 적게 하여도 광학 필름의 반사 방지 성능을 충분히 발현할 수 있다.Thus, since the low refractive index component is distributed, even if the content of the low refractive index component is reduced, the antireflection performance of the optical film can be sufficiently expressed.

또한, HC층의 막 두께 방향에서의 저굴절률 미립자의 분포는, HC층의 막 두께 방향 단면의 TEM(투과형 전자 현미경) 사진에 의해 관찰할 수 있다.In addition, distribution of the low refractive index microparticles | fine-particles in the film thickness direction of HC layer can be observed with the TEM (transmission electron microscope) photograph of the film thickness direction cross section of HC layer.

HC층의 막 두께 방향에서의 저굴절률 수지의 분포는, 예를 들어 광학 필름을 열경화성 수지를 사용하여 포매하고, 그 포매한 광학 필름으로부터 레이카(LEICA)사제 울트라 마이크로톰을 사용하여 80nm 두께의 초박 절편을 제작하고, 계속해서 RuO4를 사용하여 기상 염색을 행하여 TEM에 의해 관찰함으로써 측정할 수 있다.The distribution of the low refractive index resin in the film thickness direction of the HC layer is, for example, an optical film is embedded using a thermosetting resin, and from the embedded optical film, an ultra-thin slice having a thickness of 80 nm using an ultra microtome manufactured by Leica (LEICA). It can be measured by producing a film, followed by vapor phase staining using RuO 4, and observing by TEM.

본 발명에 관한 광학 필름의 제조 방법의 적합한 실시 형태에서는, 상기 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물의 점도 μ1이 3 내지 95mPaㆍs이고, 상기 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물의 점도 μ2가 5 내지 100mPaㆍs인 것이, 상기 특정한 저굴절률 성분의 분포를 갖는 HC층이 용이하게 얻어지기 때문에 바람직하다.In a preferred embodiment of the method for producing an optical film according to the present invention, the viscosity μ1 of the curable resin composition for the first hard coat layer is 3 to 95 mPa · s, and the viscosity μ2 of the curable resin composition for the second hard coat layer is 5 to 5. It is preferable that it is 100 mPa · s because the HC layer having the distribution of the specific low refractive index component is easily obtained.

본 발명에 관한 광학 필름은, 상기 광학 필름의 제조 방법에 의해 얻어지는 광학 필름이다.The optical film which concerns on this invention is an optical film obtained by the manufacturing method of the said optical film.

본 발명에 관한 광학 필름의 적합한 실시 형태에서는, 광투과성 기재의 일면측에 하드 코트층이 형성된 광학 필름이며, 상기 하드 코트층의 막 두께 방향에 있어서 저굴절률 미립자가 상기 광투과성 기재와는 반대측의 계면측에 상기 광투과성 기재측보다도 많이 존재하고, 또한 상기 광투과성 기재측일수록 상기 저굴절률 미립자의 존재량이 적고, 상기 광투과성 기재와는 반대측의 계면으로부터 광투과성 기재측에 걸쳐 상기 저굴절률 성분이 서서히 적어지고, 상기 하드 코트층 내에 층 계면이 없고, 상기 하드 코트층의 상기 광투과성 기재에 대한 바둑판 눈금 밀착성 시험의 밀착률을 90 내지 100%로 하는 것도 가능하다.In suitable embodiment of the optical film which concerns on this invention, it is an optical film in which the hard-coat layer was formed in the one surface side of a transparent base material, and low refractive index microparticles | fine-particles are the opposite side to the said transparent base material in the film thickness direction of the said hard-coat layer. The amount of the low refractive index fine particles is smaller on the interface side than on the light transmissive substrate side, and on the light transmissive substrate side, the amount of the low refractive index fine particles is smaller, and the low refractive index component is spread from the interface on the opposite side to the light transmissive substrate. It gradually decreases, and there is no layer interface in the said hard-coat layer, and it is also possible to make the adhesiveness of the board | substrate graduation adhesion test with respect to the said light-transmissive base material of the said hard-coat layer into 90 to 100%.

여기에서, 바둑판 눈금 밀착성 시험의 밀착률이란, 광학 필름의 HC층측 표면에 한변이 1mm인 사각형에서 합계 100개의 바둑판 눈금을 넣고, 폭 24mm의 점착 테이프(예를 들어, 니찌반(주)제의 공업용 셀로테이프(등록 상표))를 사용하여 5회 연속 박리 시험을 행하여, 하기 기준에 기초하여 산출되는 박리되지 않고 남은 눈금의 비율이다.Here, the adhesion rate of the checkerboard scale adhesiveness test puts a total of 100 checkerboard scales in the square of 1 mm on one side to the HC layer side surface of an optical film, and is 24 mm in width | variety adhesive tape (for example, Nichiban Co., Ltd. product made). It is the ratio of the scale which remained without peeling computed based on the following reference | standard by performing 5 times continuous peeling tests using industrial cello tape (trademark).

밀착률(%)=(박리되지 않은 눈금의 수/합계 눈금수 100)×100Adhesion rate (%) = (number of scales not peeled off / total number of scales 100) × 100

본 발명에 관한 광학 필름의 적합한 실시 형태에서는, 하드 코트층의 막 두께 방향에 있어서, 상기 광투과성 기재와는 반대측의 계면부터 상기 하드 코트층의 건조 막 두께의 70%까지의 영역에, 상기 저굴절률 미립자의 전체량의 70 내지 100%가 존재하는 것도 가능하다.In a preferred embodiment of the optical film according to the present invention, in the film thickness direction of the hard coat layer, in the region from the interface on the side opposite to the light transmissive substrate to 70% of the dry film thickness of the hard coat layer, the low It is also possible that 70 to 100% of the total amount of the refractive index fine particles is present.

본 발명에 관한 편광판은 상기 어느 하나의 광학 필름의 상기 하드 코트층과는 반대의 광투과성 기재측에 편광자가 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.The polarizing plate which concerns on this invention is provided with the polarizer in the light transmissive base material side opposite to the said hard-coat layer of any one of said optical films, It is characterized by the above-mentioned.

본 발명에 관한 디스플레이는, 상기 어느 하나의 광학 필름의 상기 하드 코트층과는 반대의 광투과성 기재측에 디스플레이 패널이 배치되어 있는 것을 특징으로 한다.The display according to the present invention is characterized in that a display panel is arranged on the light transmissive substrate side opposite to the hard coat layer of any one of the above optical films.

저굴절률 미립자 및 저굴절률 수지를 포함하지 않거나 또는 저굴절률 수지를 포함하고 있어도 상기 특정량이고, 상기 특정한 점도를 갖는 제1 조성물, 및 저굴절률 미립자 및/또는 저굴절률 수지를 포함하고, 상기 특정한 점도를 갖는 제2 조성물을 광투과성 기재측으로부터 제1 조성물 및 제2 조성물이 인접하여 위치하도록 동시 도포하고, 예비 경화를 행하지 않고 도막을 건조시키고, 계속해서 광조사나 가열을 행하여 HC층을 형성함으로써, 제2 조성물에 포함되는 저굴절률 미립자 및/또는 저굴절률 수지가 HC층의 막 두께 방향에 있어서, HC층의 광투과성 기재와는 반대측의 계면측에 광투과성 기재측보다도 많이 존재하고, 또한 광투과성 기재측일수록 그 존재량이 적어지도록 분포하고, 또한 광투과성 기재와는 반대측의 계면으로부터 광투과성 기재측에 걸쳐 상기 저굴절률 성분이 서서히 적어지도록 분포하고, 반사 방지 기능을 갖고, 헤이즈, 전체 광선 투과율 및 줄무늬가 없는 면 형상을 유지하면서, 도포 공정이나 경화 공정을 줄임으로써 생산성을 향상시키고, 또한 순차 도포에 의한 층간의 계면을 없앰으로써 층간의 간섭 줄무늬의 발생을 억제하고, 밀착성을 양호화하고, 기재 부근에서는 기재의 굴절률과 동일 정도의 굴절률의 하드 코트 조성물의 비율을 많게 함으로써 하드 코트층과 기재의 사이에서의 간섭 줄무늬의 발생을 억제하고, 또한 밀착성이 우수한 광학 필름이 얻어진다.The first composition having the specific amount, the first composition having the specific viscosity, and the low refractive index fine particles and / or the low refractive index resin even when the low refractive index fine particles and the low refractive index resin are not included or the low refractive index resin is included, and the specific viscosity is included. By simultaneously applying a second composition having a composition so that the first composition and the second composition are adjacent to each other from the light-transmissive substrate side, drying the coating film without preliminary curing, and subsequently performing light irradiation or heating to form the HC layer, The low refractive index microparticles | fine-particles and / or low refractive index resin which are contained in a 2nd composition exist in the film thickness direction of HC layer more in the interface side on the opposite side to the light transmissive base material of HC layer than the light transmissive base material side, and are also light transmissive. It is distributed so that the abundance amount becomes smaller as the base material side, and it is a light transmissive base material from the interface on the opposite side to a light transmissive base material. The low-refractive index component is distributed gradually to decrease, has an antireflection function, improves productivity by reducing the coating process and the curing process while maintaining the surface shape without haze, total light transmittance, and streaks, and also sequentially applying By eliminating the interface between the layers, the occurrence of interference fringes between the layers can be suppressed, the adhesion can be improved, and in the vicinity of the substrate, the ratio of the hard coat composition having the same refractive index as that of the substrate is increased so as to increase the The optical film which suppresses generation | occurrence | production of the interference fringe between them and is excellent in adhesiveness is obtained.

도 1은 본 발명의 제조 방법에 의해 얻어진 광학 필름의 HC층에서의 저굴절률 미립자의 분포의 일례를 도시한 단면 모식도.
도 2는 종래의 순차 중층 도포 방식에 의해 얻어진 반사 방지 필름의 저굴절률층에서의 저굴절률 미립자의 분포의 일례를 도시한 단면 모식도.
도 3은 본 발명에 관한 광학 필름의 제조 방법에서의 제1 및 제2 HC층용 경화성 수지 조성물을 동시 도포하는 공정의 일례를 도시한 모식도.
도 4는 본 발명의 제2 광학 필름의 층 구성의 일례를 도시한 모식도.
도 5는 본 발명의 제2 광학 필름의 층 구성의 다른 일례를 도시한 모식도.
도 6은 본 발명의 편광판의 층 구성의 일례를 도시한 모식도.
도 7은 실시예 1의 광학 필름의 단면도.
도 8은 실시예 1의 광학 필름의 하드 코트층의 광투과성 기재와는 반대측의 계면 부분의 확대 단면도.
도 9는 비교예 3의 광학 필름의 단면도.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The cross-sectional schematic diagram which shows an example of distribution of the low refractive index microparticles | fine-particles in HC layer of the optical film obtained by the manufacturing method of this invention.
FIG. 2 is a cross-sectional schematic diagram showing an example of distribution of low refractive index fine particles in a low refractive index layer of an antireflection film obtained by a conventional sequential multilayer coating method. FIG.
It is a schematic diagram which shows an example of the process of simultaneously apply | coating the curable resin composition for 1st and 2nd HC layers in the manufacturing method of the optical film which concerns on this invention.
It is a schematic diagram which shows an example of the laminated constitution of the 2nd optical film of this invention.
It is a schematic diagram which shows another example of the laminated constitution of the 2nd optical film of this invention.
6 is a schematic diagram showing an example of a layer structure of a polarizing plate of the present invention.
7 is a cross-sectional view of the optical film of Example 1. FIG.
8 is an enlarged cross-sectional view of an interface portion on the side opposite to the light transmissive substrate of the hard coat layer of the optical film of Example 1. FIG.
9 is a sectional view of an optical film of Comparative Example 3. FIG.

이하, 우선 본 발명에 관한 광학 필름의 제조 방법에 대하여 설명하고, 계속해서 상기 광학 필름에 대하여 설명한다.Hereinafter, the manufacturing method of the optical film which concerns on this invention is demonstrated first, and the said optical film is demonstrated subsequently.

본 발명에 있어서, (메트)아크릴레이트는 아크릴레이트 및/또는 메타크릴레이트를 나타낸다.In the present invention, (meth) acrylate represents acrylate and / or methacrylate.

또한, 본 발명의 광에는 가시 및 비가시 영역의 파장의 전자파뿐만 아니라, 전자선과 같은 입자선 및 전자파와 입자선을 총칭하는 방사선 또는 전리 방사선이 포함된다.In addition, the light of the present invention includes not only electromagnetic waves of wavelengths in the visible and invisible regions, but also particle beams such as electron beams and radiation or ionizing radiation which collectively refer to electromagnetic waves and particle beams.

본 발명에 있어서, 특별히 기재하지 않는 한, 막 두께란 건조 시의 막 두께(건조 막 두께)를 의미한다.In this invention, unless otherwise indicated, a film thickness means the film thickness at the time of drying (dry film thickness).

본 발명에 있어서, 「하드 코트층」이란 JIS K5600-5-4(1999)에 규정하는 연필 경도 시험(4.9N 하중)에서 「H」 이상의 경도를 나타내는 것을 말한다.In the present invention, the "hard coat layer" refers to a hardness of "H" or more in a pencil hardness test (4.9 N load) defined in JIS K5600-5-4 (1999).

또한, 필름과 시트의 JIS-K6900에서의 정의에서는, 시트란 얇고 일반적으로 그 두께가 길이와 폭보다는 작은 평평한 제품을 말하며, 필름이란 길이 및 폭에 비하여 두께가 극히 작고, 최대 두께가 임의로 한정되어 있는 얇은 평평한 제품이며, 일반적으로 롤의 형태로 공급되는 것을 말한다. 따라서, 시트 중에서도 두께가 특히 얇은 것이 필름이라고 할 수 있는데, 시트와 필름의 경계는 분명하지 않고, 명확하게 구별하기 어렵기 때문에, 본 발명에서는 두께가 두꺼운 것 및 얇은 것의 양쪽의 의미를 포함하여 「필름」으로 정의한다.In addition, in the definition of film and sheet in JIS-K6900, a sheet refers to a flat product which is thin and generally whose thickness is smaller than the length and width, and the film is extremely small compared to the length and width, and the maximum thickness is arbitrarily defined. It is a thin flat product, usually referred to as supplied in the form of a roll. Therefore, although the thickness is especially thin among sheets, since the boundary of a sheet | seat and a film is not clear, and it is difficult to distinguish clearly, in this invention, both the thickness and the thin meaning include " Film ”.

본 발명에 있어서, 수지란 단량체나 올리고머 외에 중합체를 포함하는 개념이며, 경화 후에 HC층이나 그 밖의 기능층의 매트릭스로 되는 성분을 의미한다.In this invention, resin is a concept containing a polymer other than a monomer and an oligomer, and means the component used as a matrix of HC layer and another functional layer after hardening.

본 발명에 있어서, 분자량이란, 분자량 분포를 갖는 경우에는 THF 용제에서의 겔 침투 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정한 폴리스티렌 환산값인 중량 평균 분자량을 의미하고, 분자량 분포를 갖지 않는 경우에는 화합물 그 자체의 분자량을 의미한다.In the present invention, the molecular weight means a weight average molecular weight which is a polystyrene conversion value measured by gel permeation chromatography (GPC) in a THF solvent when it has a molecular weight distribution, and the compound itself when it does not have a molecular weight distribution. It means the molecular weight of.

본 발명에 있어서, 저굴절률 미립자의 평균 입경이란, 조성물에서의 미립자의 경우에는, 용액 중의 입자를 동적 광산란 방법으로 측정하여, 1차 입경 및 2차 입경을 포함하는 입경 분포를 누적 분포로 나타내었을 때의 50% 입경(d50 메디안 직경)을 의미하고, 닛끼소(주)제의 마이크로트랙(Microtrac) 입도 분석계를 사용하여 측정할 수 있다. HC층 중의 미립자의 경우에는, HC층의 단면의 TEM 사진에 의해 관찰되는 입자 20개의 평균값을 의미한다.In the present invention, the average particle diameter of the low refractive index fine particles means that in the case of the fine particles in the composition, the particles in the solution are measured by a dynamic light scattering method, and the particle size distribution including the primary particle size and the secondary particle size is represented by a cumulative distribution. It means the 50% particle diameter (d50 median diameter) at the time, and can measure it using the Microtrac particle size analyzer made by Nikkiso Corporation. In the case of microparticles | fine-particles in HC layer, the mean value of 20 particle | grains observed by the TEM photograph of the cross section of HC layer is meant.

(광학 필름의 제조 방법)(Method for producing optical film)

본 발명에 관한 광학 필름의 제조 방법은, (i) 광투과성 기재를 준비하는 공정, (ii) 반응성을 갖는 제1 수지 및 제1 용제를 포함하고, 또한 저굴절률 미립자 및 저굴절률 수지를 포함하지 않거나 또는 저굴절률 수지를 포함하고 있어도 상기 제1 수지의 질량에 대하여 5.0질량% 이하이고, 점도 μ1이 3mPaㆍs 이상인 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물, 및 평균 입경 10 내지 300nm의 저굴절률 미립자 및 저굴절률 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 저굴절률 성분, 반응성을 갖는 제2 수지 및 제2 용제를 포함하고, 점도 μ2가 5mPaㆍs 이상이면서 상기 μ2로부터 상기 μ1을 차감한 값이 30mPaㆍs 이하인 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물을 준비하는 공정, (iii) 상기 광투과성 기재의 일면측에, 상기 광투과성 기재측으로부터 적어도 상기 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 및 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물을 인접시켜 동시 도포하여 도막으로 하는 공정, (iv) 상기 (iii) 공정에서 얻어진 도막을 건조시키고, 계속해서 광조사 및/또는 가열을 행하여 경화시키는 공정을 포함하고, 또한 상기 (iii) 공정과 상기 (iv) 공정의 사이에 예비 경화를 행하지 않는 것을 특징으로 한다.The manufacturing method of the optical film which concerns on this invention contains the process of (i) preparing an optically transparent base material, (ii) the 1st resin and the 1st solvent which have reactivity, and do not contain low refractive index microparticles | fine-particles and low refractive index resin. Or a low refractive index resin, the curable resin composition for a first hard coat layer having a viscosity of not more than 5.0% by mass with respect to the mass of the first resin and having a viscosity μ1 of 3 mPa · s or more, low refractive index fine particles having an average particle diameter of 10 to 300 nm, and 30 mPa * including the 1 or more low-refractive-index components selected from the group which consists of low refractive index resins, the 2nd resin which has reactivity, and a 2nd solvent, and subtracting the said μ1 from the said μ2 with a viscosity (micro) 2 of 5 mPa * s or more. Process of preparing curable resin composition for 2nd hard-coat layers which are s or less, (iii) On the one surface side of the said transparent base material, From the said transparent base side at least from said 1st lower A step of coating the curable resin composition for the coat layer and the curable resin composition for the second hard coat layer adjacent to each other to form a coating film, and (iv) drying the coating film obtained in the step (iii), followed by light irradiation and / or heating. A step of hardening is included, and precure is not performed between the step (iii) and the step (iv).

도 1은 본 발명의 제조 방법에 의해 얻어진 광학 필름의 HC층에서의 저굴절률 미립자의 분포의 일례를 도시한 단면 모식도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a cross-sectional schematic diagram which shows an example of distribution of the low refractive index microparticles | fine-particles in HC layer of the optical film obtained by the manufacturing method of this invention.

광학 필름(1)은 광투과성 기재(10)의 일면측에 HC층(20)이 형성되어 있고, HC층에 있어서 저굴절률 미립자(30)는 HC층의 광투과성 기재와는 반대측의 계면측에 광투과성 기재측보다도 많이 존재하고, 또한 광투과성 기재측일수록 그 존재량이 적은 분포, 즉 광투과성 기재와는 반대측의 계면으로부터 광투과성 기재측에 걸쳐 상기 저굴절률 성분이 서서히 적어지는 분포를 갖고 있다.In the optical film 1, the HC layer 20 is formed on one surface side of the light transmissive substrate 10, and the low refractive index fine particles 30 in the HC layer are disposed on the interface side opposite to the light transmissive substrate of the HC layer. It exists more than the light transmissive base material side, and has a distribution in which the quantity of abundance is small, that is, the said low refractive index component gradually decreases from the interface on the opposite side to a light transmissive base material from the light transmissive base material side.

도 2는 종래의 순차 중층 도포 방식에 의한 반사 방지 필름의 저굴절률층에서의 저굴절률 미립자의 분포의 일례를 도시한 단면 모식도이다.It is a cross-sectional schematic diagram which shows an example of distribution of the low refractive index microparticles | fine-particles in the low refractive index layer of the antireflection film by the conventional sequential middle layer coating method.

반사 방지 필름(100)은 광투과성 기재(10)의 일면측에 광투과성 기재측으로부터 HC층(110) 및 저굴절률층(120)이 형성되어 있고, 저굴절률층 내에 있어서 저굴절률 미립자(30)가 균일하게 분포되어 있지만, HC층을 완전히 경화시켜 형성한 후에 저굴절률층이 형성되어 있기 때문에 저굴절률 미립자는 HC층 내에 없고, 저굴절률층과 HC층의 계면에 있어서 굴절률차가 커져 간섭 줄무늬가 발생해 버렸다. 또한, HC층과 저굴절률층의 계면도 명료하게 판별할 수 있다. 또한, 도 1의 저굴절률 미립자가 존재하고 있는 영역의 두께와 동일 정도의 막 두께가 두꺼운 저굴절률층을 종래의 반사 방지 필름으로 형성하면, 간섭 줄무늬가 발생해 버렸다.In the antireflection film 100, the HC layer 110 and the low refractive index layer 120 are formed on one surface side of the light transmissive substrate 10 from the light transmissive substrate side, and the low refractive index fine particles 30 are formed in the low refractive index layer. Is uniformly distributed, but since the low refractive index layer is formed after the HC layer is completely cured, the low refractive index fine particles are not present in the HC layer, and the difference in refractive index is large at the interface between the low refractive index layer and the HC layer, resulting in interference fringes. I did it. In addition, the interface between the HC layer and the low refractive index layer can also be clearly identified. In addition, when a low refractive index layer having a thick film thickness about the same as the thickness of the region in which the low refractive index microparticles | fine-particles of FIG. 1 exist is formed with the conventional antireflection film, interference fringes generate | occur | produced.

이와 같이 종래의 순차 중층 도포 방식에서는, 본 발명의 도포 방법에 의해 얻어지는 저굴절률 미립자가 분포하고 있는 두께와 동일 정도의 두께의 상층(저굴절률층)을 형성하면, 하층으로 되는 조성물의 경화 부분과 상층으로 되는 조성물의 경화 부분에 계면이 발생하고, 상기 계면 부분에서의 상층의 조성물에 포함되는 저굴절률 미립자와, 하층의 조성물에 포함되는 수지와의 굴절률차가 커서 간섭 줄무늬가 발생해 버렸다.Thus, in the conventional sequential middle layer coating method, when the upper layer (low refractive index layer) of the same thickness as the thickness in which the low refractive index microparticles | fine-particles obtained by the coating method of this invention is distributed is formed, the hardened part of the composition used as a lower layer, and An interface was generated in the cured portion of the upper layer composition, and the interference fringes occurred because the difference in refractive index between the low refractive index fine particles contained in the upper layer composition at the interface portion and the resin contained in the lower layer composition was large.

이에 대해, 본 발명에 관한 광학 필름의 제조 방법에 있어서는, 저굴절률 미립자 및 저굴절률 수지를 포함하지 않거나 또는 저굴절률 수지를 포함하고 있어도 제1 수지의 질량에 대하여 5.0질량% 이하이고, 상기 특정한 점도를 갖는 제1 조성물, 및 저굴절률 성분을 포함하고, 상기 특정한 점도를 갖는 제2 조성물을, 광투과성 기재측으로부터 제1 조성물 및 제2 조성물이 인접하여 위치하도록 동시 도포하여 HC층을 형성하고 예비 경화를 행하지 않음으로써, 도 1에 도시한 바와 같이, 제2 조성물에 포함되는 저굴절률 성분이 HC층의 막 두께 방향에 있어서, HC층의 광투과성 기재와는 반대측의 계면측에 광투과성 기재측보다도 많이 존재하고, 또한 광투과성 기재측일수록 저굴절률 미립자의 존재량이 적어지는 분포, 즉 광투과성 기재와는 반대측의 계면측으로부터 광투과성 기재측에 걸쳐 저굴절률 성분이 서서히 적어지고 있는 분포를 취하고, HC층 내에 있어서 저굴절률 성분과 HC층의 수지의 굴절률차에 의한 간섭 줄무늬의 발생과, HC층과 기재의 계면에서의 간섭 줄무늬의 발생을 억제하여, 시인성이 우수하고, 또한 HC층과 광투과성 기재 또는 광투과성 기재측에 접하는 층과의 밀착성이 우수한 광학 필름이 얻어진다.On the other hand, in the manufacturing method of the optical film which concerns on this invention, even if it does not contain low refractive index microparticles | fine-particles and low refractive index resin, or contains low refractive index resin, it is 5.0 mass% or less with respect to the mass of a 1st resin, The said specific viscosity And a first composition having a low refractive index component, and a second composition having the specific viscosity, being co-coated so that the first composition and the second composition are positioned adjacent to each other from the light transmissive substrate side to form an HC layer and preliminarily. By not hardening, as shown in FIG. 1, the low-refractive-index component contained in a 2nd composition is a light transmissive base material side on the interface side opposite to the light transmissive base material of HC layer in the film thickness direction of HC layer. More present and the light transmissive substrate side has a smaller amount of low refractive index fine particles, i.e., an interface side opposite to the light transmissive substrate. From the light transmissive substrate side, the low refractive index component is gradually decreased, and the generation of interference fringes caused by the difference in refractive index between the low refractive index component and the resin of the HC layer in the HC layer and the interface between the HC layer and the substrate The generation of interference fringes is suppressed, and the optical film which is excellent in visibility and excellent in the adhesiveness of HC layer and the layer which contact | connects a light transmissive base material or the light transmissive base material side is obtained.

또한, 예비 경화를 행할 필요가 없기 때문에, 예비 경화와 본 경화의 2번 광조사를 행하여 경화시킨 경우에 비하여 생산성도 우수하다.Moreover, since it is not necessary to precure, it is excellent also in productivity compared with the case where it hardens by performing 2 times light irradiation of precure and this hardening.

또한, 광투과성 기재 상에 저굴절률 성분으로서 저굴절률 미립자를 포함하는 HC층을 동시 도포에 의해 형성한 경우, 상기 HC층과 상기 광투과성 기재의 밀착성이 좋은 이유는 분명하지는 않지만, 이하의 이유가 추측된다. 즉, 광투과성 기재에 대하여 제1 조성물에 포함되는 수지가 접하면 상기 수지가 광투과성 기재에 침투하여 화학적 및/또는 물리적 결합이 발생하기 때문에, HC층과 광투과성 기재의 밀착성이 향상되는 것으로 추측된다. 이에 대해, HC층에 포함되는 저굴절률 미립자가 상술한 바와 같은 광투과성 기재측일수록 존재량이 적어진다고 하는 분포를 취하지 않고 HC층 중에 균일하게 분산된 경우, HC층 중의 광투과성 기재측의 계면에 있어서 저굴절률 미립자가 차지하는 부분만큼, 수지가 침투하는 것에 의한 수지와 기재의 화학적 및/또는 물리적 결합이 발생하지 않고, 밀착성이 높아지지 않는다고 추측된다.Moreover, when HC layer containing low refractive index microparticles | fine-particles as a low refractive index component is formed by simultaneous application | coating on a transparent base material, the reason why the adhesiveness of the said HC layer and the said transparent base material is good is not clear, but the following reasons I guess. That is, when the resin contained in the first composition is in contact with the light transmissive substrate, the resin penetrates into the light transmissive substrate and chemical and / or physical bonds occur, which is supposed to improve the adhesion between the HC layer and the light transmissive substrate. do. On the other hand, when the low refractive index microparticles | fine-particles contained in HC layer are disperse | distributed uniformly in HC layer, without taking the distribution that the amount of abundance is less in the light transmissive substrate side as mentioned above, in the interface of the light transmissive substrate side in HC layer, As much as the portion occupied by the low refractive index fine particles, it is estimated that the chemical and / or physical bonding between the resin and the substrate due to the penetration of the resin does not occur, and the adhesion does not increase.

또한, 광투과성 기재 상에 제1 조성물과 제2 조성물을 동시 도포한 직후에 예비 경화를 행하면, 용제 존재 하에서 수지가 광투과성 기재에 침투하기 전에 중합 내지 가교가 개시되어, 수지의 분자량이 커져 수지가 광투과성 기재에 침투하지 않고, 건조 후에 또 광조사나 가열을 행하여도 밀착성이 높아지지 않는다고 추측된다.In addition, if precuring is carried out immediately after simultaneously applying a 1st composition and a 2nd composition on a light transmissive base material, superposition | polymerization or crosslinking will start before resin infiltrates a light transmissive base material in presence of a solvent, and the molecular weight of resin will become large and resin It is guessed that adhesiveness does not increase even if it does not penetrate into a light transmissive base material, and even if it irradiates or heats after drying.

이러한 점에서 광투과성 기재 상에 제1 조성물과 제2 조성물을 동시 도포하여 상술한 특정한 저굴절률 미립자의 분포를 갖는 본 발명의 HC층을 형성하는 경우에는, 광투과성 기재에 대한 밀착성이 우수한 것으로 추측된다.In this respect, when the first composition and the second composition are simultaneously applied on the light-transmissive substrate to form the HC layer of the present invention having the above-described distribution of the specific low refractive index fine particles, it is assumed that the adhesion to the light-transmissive substrate is excellent. do.

도 3은 본 발명에 관한 광학 필름의 제조 방법에서의 제1 및 제2 HC층용 경화성 수지 조성물을 동시 도포하는 공정의 일례를 도시한 모식도이다.It is a schematic diagram which shows an example of the process of simultaneously apply | coating the curable resin composition for 1st and 2nd HC layers in the manufacturing method of the optical film which concerns on this invention.

광투과성 기재(10) 상에 다이 코터 헤드(40)의 슬릿(51 및 52)으로부터 각각 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물(60) 및 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물(70)을 광투과성 기재측에 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물이 위치하도록 인접하여 동시 중층 도포하고, 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물의 도막(61) 및 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물의 도막(71)으로 한다. 또한, 도 3에 있어서, 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물과 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물은 원래 일체로 되어 하드 코트층을 형성하지만, 설명의 간략화를 위하여 상기 2종의 조성물이나 그 도막을 색 구분하여 기재하고 있다.The curable resin composition 60 for the first hard coat layer and the curable resin composition 70 for the second hard coat layer were respectively formed from the slits 51 and 52 of the die coater head 40 on the light transmissive substrate 10. Simultaneously apply | coat the intermediate | middle layer application so that the curable resin composition for hard coat layers may be located in the side, and let it be the coating film 61 of the curable resin composition for hard coat layers, and the coating film 71 of the curable resin composition for hard coat layers. In FIG. 3, the curable resin composition for the first hard coat layer and the curable resin composition for the second hard coat layer are integrally formed to form a hard coat layer. However, the two kinds of compositions or the coating films thereof are used for simplicity of explanation. Color classification is described.

이하, (i) 및 (ii) 공정에서 준비하는 광투과성 기재 및 제1 조성물 및 제2 조성물에 대하여 설명한다.Hereinafter, the light transmissive substrate and the first composition and the second composition prepared in the steps (i) and (ii) will be described.

(광투과성 기재)(Light-transmitting substrate)

본 발명의 광투과성 기재는, 광학 필름의 광투과성 기재로서 사용할 수 있는 물성을 만족하는 것이면 특별히 한정되지 않고, 종래 공지된 하드 코트 필름이나 광학 필름에 사용되고 있는 트리아세틸셀룰로오스, 폴리에틸렌테레프탈레이트 또는 시클로올레핀 중합체 등을 적절하게 선택하여 사용할 수 있다.The light transmissive base material of the present invention is not particularly limited as long as it satisfies the physical properties that can be used as the light transmissive base material of the optical film. The triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate, or cycloolefin used in conventionally known hard coat films and optical films is not limited. A polymer etc. can be selected suitably and used.

가시광 영역 380 내지 780nm에서의 광투과성 기재의 평균 광투과율은 50% 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 70% 이상, 특히 바람직하게는 85% 이상이다. 또한, 광투과율의 측정은 자외 가시 분광 광도계(예를 들어, (주)시마즈 세이사꾸쇼제 UV-3100PC)를 사용하여 실온, 대기 중에서 측정한 값을 사용한다.The average light transmittance of the light-transmitting base material in the visible light region of 380 to 780 nm is preferably 50% or more, more preferably 70% or more, particularly preferably 85% or more. In addition, the measurement of the light transmittance uses the value measured in room temperature and air | atmosphere using the ultraviolet visible spectrophotometer (for example, UV-3100PC by Shimadzu Corporation).

또한, 광투과성 기재에 비누화 처리나 프라이머층을 형성하는 등의 표면 처리가 실시되어도 된다. 또한, 광투과성 기재에는 대전 방지제 등의 첨가제가 첨가되어도 된다.Moreover, surface treatment, such as forming a saponification process and a primer layer, may be given to a transparent base material. In addition, additives, such as an antistatic agent, may be added to a light transmissive base material.

광투과성 기재의 두께는 특별히 한정되지 않고, 통상 20㎛ 내지 300㎛ 정도이고, 바람직하게는 40㎛ 내지 200㎛이다.The thickness of a light transmissive base material is not specifically limited, Usually, it is about 20 micrometers-300 micrometers, Preferably it is 40 micrometers-200 micrometers.

(제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물)(Curable resin composition for first hard coat layer)

제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물은, 반응성을 갖는 제1 수지 및 제1 용제를 포함하고, 또한 저굴절률 미립자 및 저굴절률 수지를 포함하지 않거나 또는 저굴절률 수지를 포함하고 있어도 상기 제1 수지의 질량에 대하여 5.0질량% 이하이고, 점도 μ1이 5mPaㆍs 이상이다.The curable resin composition for a 1st hard-coat layer contains the 1st resin and 1st solvent which have reactivity, and also contains the low refractive index microparticles | fine-particles and low refractive index resin, or contains the low refractive index resin, and the mass of the said 1st resin It is 5.0 mass% or less with respect to, and a viscosity micrometer 1 is 5 mPa * s or more.

제1 조성물이 저굴절률 미립자 및 저굴절률 수지를 포함하지 않거나 또는 저굴절률 수지를 포함하고 있어도 상기 제1 수지의 질량에 대하여 5.0질량% 이하이고, 상기 특정한 점도를 갖고, 후술하는 제2 조성물이 저굴절률 성분을 포함하고, 특정한 점도를 갖고, 또한 제1 조성물이 제2 조성물보다도 광투과성 기재측에 위치하도록 상기 2종의 조성물이 인접하여 동시 도포됨으로써, 제1 조성물과 제2 조성물이 경화하여 HC층을 형성할 때에, HC층의 막 두께 방향에 있어서, 광투과성 기재와는 반대측의 계면측으로부터 광투과성 기재측에 걸쳐 저굴절률 성분이 서서히 적어지고 있는 분포를 취하고, 저굴절률 성분이 저굴절률 미립자인 경우에는 도 1에 도시한 바와 같이 저굴절률 미립자가 분포한다.Even if the first composition does not contain the low refractive index fine particles and the low refractive index resin or contains the low refractive index resin, the second composition having 5.0 mass% or less, the specific viscosity, and will be described later is low relative to the mass of the first resin. The first composition and the second composition are cured by simultaneously applying the two kinds of compositions adjacent to each other such that the refractive index component is included, and the first composition is positioned on the light transmissive substrate side rather than the second composition. In forming the layer, in the film thickness direction of the HC layer, a low refractive index component is gradually decreased from the interface side opposite to the light transmissive substrate to the light transmissive substrate side, and the low refractive index component is a low refractive index fine particle. In the case of, low refractive index fine particles are distributed as shown in FIG. 1.

제1 조성물의 점도 μ1은, 후술하는 제2 조성물과의 혼합을 적절하게 억제하는 점에서 3mPaㆍs 이상이고, 10mPaㆍs 이상인 것이 바람직하다. 상기 점도 μ1은 도포 시공성을 높이는 관점에서 95mPaㆍs 이하가 바람직하고, 50mPaㆍs 이하가 보다 바람직하고, 30mPaㆍs 이하가 특히 바람직하다. 그리고, 제2 조성물의 점도 μ2로부터 μ1을 차감한 값(이하, 간단히 「점도의 차」라고도 하는 경우가 있음)이 30mPaㆍs 이하이다. 점도의 차는 혼합의 억제와 형성되는 면 형상의 관점에서 15mPaㆍs 이하인 것이 바람직하고, 10mPaㆍs 이하인 것이 보다 바람직하다. 또한, 제1 조성물의 점도 μ1과 제2 조성물의 점도 μ2는, 도포 시공성의 관점에서 μ2가 μ1보다도 큰 것이 바람직하다.The viscosity mu 1 of a 1st composition is 3 mPa * s or more and 10 mPa * s or more from the point which suppresses mixing with the 2nd composition mentioned later suitably. 95 mPa * s or less are preferable, as for the said viscosity (micrometer), from a viewpoint of improving coating property, 50 mPa * s or less are more preferable, 30 mPa * s or less are especially preferable. The value obtained by subtracting μ1 from the viscosity μ2 of the second composition (hereinafter may be simply referred to as "viscosity difference") is 30 mPa · s or less. It is preferable that it is 15 mPa * s or less from a viewpoint of the suppression of mixing and the planar shape formed, and, as for the difference of viscosity, it is more preferable that it is 10 mPa * s or less. In addition, it is preferable that (micro) 2 is larger than (micro) 1 from the viewpoint of applicability | paintability as for the viscosity (micro) 1 of a 1st composition, and the viscosity (micro2) of a 2nd composition.

또한, 제1 조성물 및 후술하는 제2 조성물의 점도는, 예를 들어 안톤 파르(Anton Paar)사제의 상품명 MCR301을 사용하고, 측정 지그는 PP50으로 하고, 측정 온도는 25℃, 전단 속도는 10000[1/s]의 조건에서 측정 대상의 조성물을 적당량 스테이지에 적하하여 측정할 수 있다.In addition, the viscosity of a 1st composition and the 2nd composition mentioned later uses the brand name MCR301 made from Anton Paar, for example, a measurement jig is PP50, a measurement temperature is 25 degreeC, and a shear rate is 10000 [ The composition to be measured can be added dropwise to the appropriate amount stages under the conditions of 1 / s] and measured.

제1 조성물은 저굴절률 미립자 및 저굴절률 수지를 포함하지 않거나 또는 저굴절률 수지를 포함하고 있어도 상기 제1 수지의 질량에 대하여 5.0질량% 이하이다. 이러한 저굴절률 성분은 반사 방지 성능을 발현하는 관점에서는 HC층의 광투과성 기재와는 반대측의 계면 및 그 근방 부분에만 존재하는 것이 바람직하다. HC층 전체에 저굴절률 성분이 균일하게 존재하면 광학 필름의 반사 방지 성능이 충분히 발현되지 않고, 또한 HC층의 경도도 충분히 발현되지 않을 우려가 있다. 이 점에 대하여, 후술하는 제2 조성물이 저굴절률 성분을 상기 계면 및 그 근방 영역에 많이 분포시키는 작용을 갖는다. 제1 조성물에 저굴절률 수지가 포함되어 있어도 상기의 양이면 광학 필름에 있어서 충분한 반사 방지 성능이 얻어진다. 제1 조성물에 포함되는 저굴절률 수지의 양은 제1 수지의 질량에 대하여 1질량% 이하인 것이 바람직하다.Even if the 1st composition does not contain low refractive index microparticles | fine-particles and low refractive index resin, or contains low refractive index resin, it is 5.0 mass% or less with respect to the mass of the said 1st resin. It is preferable that such a low refractive index component exist only at the interface on the side opposite to the light transmissive substrate of the HC layer and in the vicinity thereof from the viewpoint of exhibiting antireflection performance. If the low refractive index component exists uniformly in the whole HC layer, there exists a possibility that the antireflection performance of an optical film may not fully be expressed, and the hardness of HC layer may not be fully expressed. On the other hand, the 2nd composition mentioned later has a function which distributes a low refractive index component in the said interface and the area | region near it. Even if the low refractive index resin is contained in a 1st composition, sufficient antireflection performance will be acquired in an optical film as it is said quantity. It is preferable that the quantity of the low refractive index resin contained in a 1st composition is 1 mass% or less with respect to the mass of a 1st resin.

(제1 수지)(First resin)

제1 수지는 반응성을 갖고, 경화하여 HC층의 매트릭스로 되는 성분이다. 제1 수지는 광조사나 가열에 의해 제1 수지끼리 및 후술하는 제2 수지와의 중합 내지 가교 반응성을 갖는다. 제1 수지는 자외선 등의 광조사에 의해 경화하는 광경화성 수지이어도 되고, 가열에 의해 경화하는 열경화성 수지이어도 된다.1st resin is a component which has reactivity, hardens | cures, and turns into a matrix of HC layer. 1st resin has superposition | polymerization thru | or crosslinking reactivity with 1st resins and 2nd resin mentioned later by light irradiation or a heating. The first resin may be a photocurable resin that is cured by light irradiation such as ultraviolet rays, or may be a thermosetting resin that is cured by heating.

제1 수지가 광경화성 수지인 경우, 제1 수지는 중합성 불포화기를 갖는 것이 바람직하고, 전리 방사선 경화성 불포화기를 갖는 것이 보다 바람직하다. 그 구체예로서는 (메트)아크릴로일기, 비닐기, 알릴기 등의 에틸렌성 불포화 결합 및 에폭시기 등을 들 수 있다.When 1st resin is photocurable resin, it is preferable that 1st resin has a polymerizable unsaturated group, and it is more preferable to have an ionizing radiation curable unsaturated group. As the specific example, ethylenically unsaturated bonds, such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, an allyl group, an epoxy group, etc. are mentioned.

제1 수지가 열경화성 수지인 경우, 제1 수지로서는 예를 들어 수산기, 카르복실기, 아미노기, 에폭시기, 글리시딜기, 이소시아네이트기 및 알콕실기 등을 갖는 것을 들 수 있다.When 1st resin is thermosetting resin, what has a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, an epoxy group, glycidyl group, an isocyanate group, an alkoxyl group etc. is mentioned as 1st resin, for example.

제1 수지는 가교 반응에 의해 HC층의 경도를 높이는 점에서 반응성기를 1분자 중에 2개 이상 갖는 것이 바람직하고, 3개 이상 갖는 것이 보다 바람직하다.It is preferable to have 2 or more reactive groups in 1 molecule, and, as for 1st resin, to increase the hardness of HC layer by crosslinking reaction, it is more preferable to have 3 or more.

광경화성 수지로서의 제1 수지는, 종래 공지된 HC층의 매트릭스로 되는 광경화성 수지를 사용하면 되며, 예를 들어 펜타에리트리톨트리아크릴레이트(PETA) 및 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(DPHA) 등의 다관능 단량체가 바람직하게 사용된다.As the first resin as the photocurable resin, a photocurable resin that is a matrix of a conventionally known HC layer may be used. For example, pentaerythritol triacrylate (PETA), dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), and the like. Polyfunctional monomers of are preferably used.

열경화성 수지로서의 제1 수지는, 예를 들어 에폭시기를 갖는 화합물 및 일본 특허 공개 제2006-106503호 공보에 기재된 바인더성 에폭시 화합물을 사용할 수 있다. 또한, 일본 특허 공개 제2008-165041호 공보에 기재된 열경화성 수지를 사용할 수 있다.As a 1st resin as a thermosetting resin, the compound which has an epoxy group, and the binder epoxy compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-106503 can be used, for example. Moreover, the thermosetting resin of Unexamined-Japanese-Patent No. 2008-165041 can be used.

제1 조성물의 점도 μ1을 조절하기 쉬운 관점에서, 제1 수지의 분자량은 500 이상인 것이 바람직하고, 1000보다 큰 것이 보다 바람직하다. 또한, 제1 조성물의 점도 μ1을 조절하기 쉬운 관점에서, 제1 수지의 분자량의 상한값은 150000 이하인 것이 바람직하고, 50000 이하인 것이 보다 바람직하고, 20000 이하인 것이 특히 바람직하다. 제1 수지의 분자량이 이 범위인 것에 의해, 후술하는 제2 조성물에 포함되는 저굴절률 미립자나 저굴절률 수지가 HC층 전체에 균일하게 확산되는 것을 억제하고, HC층의 광투과성 기재와는 반대측의 계면측에 많이 존재시키기 쉽다.From the viewpoint of easily adjusting the viscosity μ1 of the first composition, the molecular weight of the first resin is preferably 500 or more, and more preferably greater than 1000. In addition, it is preferable that the upper limit of the molecular weight of 1st resin is 150000 or less, It is more preferable that it is 50000 or less, It is especially preferable that it is 20000 or less from a viewpoint which is easy to adjust the viscosity (micro) 1 of a 1st composition. When the molecular weight of the first resin is within this range, the low refractive index fine particles and the low refractive index resin contained in the second composition described later are suppressed from being uniformly dispersed in the entire HC layer, and the opposite side to the light transmissive substrate of the HC layer It is easy to exist much in an interface side.

분자량이 1000보다 큰 수지로서는, 예를 들어 특허문헌 1에 기재된 폴리알킬렌옥시드쇄 함유 중합체 D나 아라까와 가가꾸 고교(주)제의 상품명 빔 세트 DK1, 신나까무라 가가꾸 고교(주)제의 UV 경화형 우레탄아크릴레이트 올리고머인 상품명 NH 올리고 U-15HA 및 닛본 고세이 가가꾸 고교(주)제의 상품명 UV-1700B 등을 바람직하게 들 수 있다.As resin with a molecular weight larger than 1000, for example, the polyalkylene oxide chain containing polymer D of patent document 1, and brand name beam set DK1 of Arakawa Chemical Industries, Ltd. make, Shin-Nakamura Chemical Industries, Ltd. make The brand name NH oligo U-15HA which is a UV curable urethane acrylate oligomer, and the brand name UV-1700B by Nippon Kosei Chemical Industries, Ltd. are mentioned preferably.

HC층과 기재의 계면에서의 간섭 줄무늬의 발생을 억제하는 관점에서, 제1 수지에 분자량이 1000 이하인 수지를 함유시키는 것이 바람직하다. 이러한 분자량 1000 이하의 수지로서는, 상기 PETA나 DPHA를 바람직하게 들 수 있다.It is preferable to contain resin whose molecular weight is 1000 or less in a 1st resin from a viewpoint of suppressing generation | occurrence | production of the interference fringe at the interface of HC layer and a base material. As such a resin with a molecular weight of 1000 or less, the above-mentioned PETA and DPHA are mentioned preferably.

제1 수지로서 분자량이 1000 이하인 수지와, 그 이외의 수지, 즉 분자량이 1000보다 큰 수지를 병용하는 경우, 분자량 1000 이하의 수지의 함유량은 원하는 점도 등에 따라 적절하게 조절하면 되지만, 분자량 1000 이하의 수지의 함유량이 제1 수지의 전체 질량에 대하여 50 내지 100질량%인 것이 바람직하다.When using together resin whose molecular weight is 1000 or less and resin other than it, ie, resin whose molecular weight is larger than 1000, as 1st resin, content of resin of molecular weight 1000 or less should just be adjusted suitably according to desired viscosity, etc. It is preferable that content of resin is 50-100 mass% with respect to the total mass of 1st resin.

또한, HC층의 경도의 관점에서, 제1 수지의 분자량은 5000 이하인 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the molecular weight of 1st resin is 5000 or less from a viewpoint of the hardness of HC layer.

이밖에 제1 수지로서는, 예를 들어 특허문헌 1에 기재된 바인더 C를 사용하여도 된다. 상기 바인더 C의 시판품으로서는 중량 평균 분자량이 10000 미만이고, 또한 2 이상의 중합성 불포화기를 갖는 우레탄아크릴레이트의 시판품인 교에샤 가가꾸(주)제의 상품명 AH-600, AT-600, UA-306H, UA-306T, UA-306I 등, 닛본 고세이 가가꾸 고교(주)제의 상품명 UV-3000B, UV-3200B, UV-6300B, UV-6330B, UV-7000B 등, 아라까와 가가꾸 고교(주)제의 상품명 빔 세트 500 시리즈(502H, 504H, 550B 등), 신나까무라 가가꾸 고교(주)제의 상품명 U-6HA, UA-32P, U-324A, 도아 고세이(주)제의 상품명 M-9050 등을 들 수 있다.In addition, as 1st resin, you may use the binder C of patent document 1, for example. As a commercial item of the said binder C, the brand name AH-600, AT-600, UA-306H by Kyoesha Chemical Co., Ltd. which is a commercial item of the urethane acrylate which has a weight average molecular weight less than 10000 and has two or more polymerizable unsaturated groups Nippon Kosei Kagaku Kogyo Co., Ltd. product name UV-3000B, UV-3200B, UV-6300B, UV-6330B, UV-7000B including UA-306T, UA-306I, etc. Product name M-6 made by beam set 500 series (502H, 504H, 550B, etc.), brand name U-6HA, UA-32P, U-324A, product made by Shin-Nakamura Kagaku Kogyo Co., Ltd. 9050 etc. are mentioned.

제1 수지의 함유량은 적절하게 조절하여 사용하면 되며, 제1 조성물의 전체 고형분에 대하여 40 내지 90질량%가 바람직하고, 보다 바람직하게는 50 내지 80질량%이다.What is necessary is just to adjust content of 1st resin suitably, and 40-90 mass% is preferable with respect to the total solid of a 1st composition, More preferably, it is 50-80 mass%.

제1 수지는 1종 단독으로 사용하여도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용하여도 된다. 또한, 제1 수지는 후술하는 제2 조성물에 포함되는 제2 수지와 기본 골격, 관능기의 종류 혹은 관능기수 또는 분자량이 동일하여도 되고 상이하여도 된다.1st resin may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type. In addition, 1st resin may be same or different from 2nd resin contained in the 2nd composition mentioned later, a basic skeleton, the kind of functional group, the number of functional groups, or molecular weight.

(제1 용제)(First solvent)

제1 용제는 제1 조성물에 있어서 상기 제1 수지와 같은 고형분을 용해 또는 분산시켜 점도를 조절하는 작용을 갖는다.The first solvent has the function of adjusting the viscosity by dissolving or dispersing the same solid content as the first resin in the first composition.

제1 용제로서는 종래 공지된 하드 코트층용 조성물에 사용되고 있는 용제로부터 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다. 예를 들어, 메틸에틸케톤(MEK), 메틸이소부틸케톤(MIBK) 및 톨루엔 등이나, 일본 특허 공개 제2005-316428호 공보에 기재된 알코올류, 케톤류, 에스테르류, 할로겐화 탄화수소류, 방향족 탄화수소류, 에테르류 등을 들 수 있다. 제1 용제로서는 이밖에 예를 들어 테트라히드로푸란, 1,4-디옥산, 디옥솔란 및 디이소프로필에테르 등의 에테르류 및 메틸글리콜, 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME), 메틸글리콜아세테이트 등의 글리콜류 등을 사용할 수 있다.As a 1st solvent, 1 type, or 2 or more types can be used from the solvent conventionally used for the composition for hard-coat layers. For example, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone (MIBK), toluene and the like, alcohols, ketones, esters, halogenated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, and the like described in JP-A-2005-316428 Ethers; and the like. As the first solvent, for example, ethers such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, dioxolane and diisopropyl ether and glycols such as methyl glycol, propylene glycol monomethyl ether (PGME) and methyl glycol acetate And the like can be used.

제1 조성물의 점도를 조정하는(높이는) 관점에서, 제1 용제는 점도가 높은 것이 바람직하고, 1mPㆍs 이상이 바람직하고, 2mPㆍs 이상이 보다 바람직하다. 이러한 제1 조성물의 점도를 높이기 위한 용제로서는, 예를 들어 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME) 등이 바람직하다.From the viewpoint of adjusting (highing) the viscosity of the first composition, the first solvent is preferably high in viscosity, preferably 1 mP · s or more, and more preferably 2 mP · s or more. As a solvent for raising the viscosity of such a 1st composition, propylene glycol monomethyl ether (PGME) etc. are preferable, for example.

또한, 제1 용제의 종류 및 상기 광투과성 기재의 종류를 적절하게 선택함으로써, 제1 용제는 상기 제1 수지의 일부를 상기 광투과성 기재에 침투시키는 작용도 갖는다.Further, by appropriately selecting the kind of the first solvent and the kind of the light transmissive substrate, the first solvent also has an effect of infiltrating a part of the first resin into the light transmissive substrate.

본 발명에 있어서, 광투과성 기재에 대하여 침투성이 있는 용제(침투성 용제)를 사용(또는 병용)함으로써 제1 수지가 기재에 침투하여 간섭 줄무늬의 발생을 억제하기 쉽고, 밀착성도 높일 수 있다.In the present invention, by using (or using in combination) a solvent (penetrating solvent) that is permeable to the light transmissive substrate, the first resin easily penetrates into the substrate and suppresses the occurrence of interference fringes, and the adhesiveness can also be enhanced.

또한, 본 발명에 있어서 침투성이란, 광투과성 기재에 대하여 침투하는 성질 외에 광투과성 기재를 팽윤 또는 습윤시키는 개념을 포함하는 의미이다.In addition, in this invention, permeability means the meaning including the concept which swells or wets a transparent base material other than the property which permeates with respect to a transparent base material.

침투성 용제의 구체예로서는 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 및 시클로헥사논 등의 케톤류, 아세트산 메틸, 아세트산 에틸 및 아세트산 부틸 등의 에스테르류, 할로겐화 탄화수소 및 페놀류를 들 수 있다.Specific examples of the permeable solvent include ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, esters such as methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate, halogenated hydrocarbons and phenols.

광투과성 기재가 트리아세틸셀룰로오스(TAC)인 경우에 사용하는 용제 및 광투과성 기재가 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)인 경우에 사용하는 용제는, 일본 특허 공개 제2005-316428호 공보에 기재된 용제를 들 수 있다.The solvent used when a light transmissive base material is triacetyl cellulose (TAC), and the solvent used when a light transmissive base material is polyethylene terephthalate (PET) can mention the solvent of Unexamined-Japanese-Patent No. 2005-316428. have.

특히, 광투과성 기재가 트리아세틸셀룰로오스(TAC)인 경우에 사용하는 용제는 아세트산 메틸, 아세트산 에틸, 아세트산 부틸 및 메틸에틸케톤이 바람직하다.In particular, the solvent used when the light transmissive substrate is triacetyl cellulose (TAC) is preferably methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate and methyl ethyl ketone.

제1 용제는 후술하는 제2 조성물에 포함되는 제2 용제와 동일하여도 되고 상이하여도 된다.The first solvent may be the same as or different from the second solvent contained in the second composition described later.

제1 조성물에 있어서, 제1 용제의 질량에 대한 제1 수지의 질량의 비율이 100 내지 400질량%인 것이 HC층에 있어서 광투과성 기재와는 반대측에 저굴절률 성분을 많이 분포시키는 점에서 바람직하다. 또한, 이때, 후술하는 제2 조성물에 있어서, 제2 용제의 질량에 대한 저굴절률 성분 및 제2 수지의 합계 질량의 비율은 100 내지 400질량%이다.In a 1st composition, it is preferable that the ratio of the mass of 1st resin with respect to the mass of a 1st solvent is 100-400 mass% in the point which distributes many low refractive index components in the HC layer on the opposite side to a light transmissive base material. . In addition, at this time, in the 2nd composition mentioned later, the ratio of the total mass of the low refractive index component and 2nd resin with respect to the mass of a 2nd solvent is 100-400 mass%.

(제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물의 그 밖의 성분)(Other components of curable resin composition for 1st hard-coat layer)

제1 조성물에는 상기 성분 외에 기능성 부여를 목적으로 하여 중합 개시제, 대전 방지제, 증점제 및 반응성 또는 비반응성 레벨링제 등이 더 포함되어도 된다.In addition to the above components, the first composition may further include a polymerization initiator, an antistatic agent, a thickener, a reactive or non-reactive leveling agent, and the like for the purpose of providing functionality.

(중합 개시제)(Polymerization initiator)

필요에 따라 라디칼 및 양이온 중합 개시제 등을 적절하게 선택하여 사용하여도 된다. 이들 중합 개시제는 광조사 및/또는 가열에 의해 분해되어, 라디칼 혹은 양이온을 발생시켜 라디칼 중합과 양이온 중합을 진행시키는 것이다. 예를 들어, 라디칼 중합 개시제로서는 시바 재팬(주)제의 이르가큐어 184(1-히드록시-시클로헥실-페닐-케톤)를 들 수 있다.You may use suitably selecting a radical, a cationic polymerization initiator, etc. as needed. These polymerization initiators are decomposed by light irradiation and / or heating to generate radicals or cations to advance radical polymerization and cationic polymerization. For example, Irgacure 184 (1-hydroxy cyclohexyl phenyl- ketone) by Ciba Japan Co., Ltd. is mentioned as a radical polymerization initiator.

에폭시기를 함유하는 제1 수지와 같이 광 양이온 중합성의 제1 수지를 사용하는 경우에는, 필요에 따라 예를 들어 일본 특허 공개 제2010-107823호 공보에 기재된 양이온 중합 개시제를 사용할 수 있다.When using photocationic polymerizable 1st resin like 1st resin containing an epoxy group, the cation polymerization initiator of Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-107823 can be used as needed, for example.

중합 개시제를 사용하는 경우, 그 함유량은 제1 조성물의 전체 고형분에 대하여 1 내지 10질량%로 사용하는 것이 바람직하다.When using a polymerization initiator, it is preferable to use that content at 1-10 mass% with respect to the total solid of a 1st composition.

(대전 방지제)(Antistatic agent)

대전 방지제로서는 종래 공지된 대전 방지제를 사용할 수 있으며, 예를 들어 일본 특허 공개 제2007-264221호 공보에 기재된 제4급 암모늄염 등의 양이온성 대전 방지제나, 주석 도프 산화인듐(ITO) 등의 미립자를 사용할 수 있다.As the antistatic agent, a conventionally known antistatic agent can be used, and for example, fine particles such as cationic antistatic agents such as quaternary ammonium salts described in JP-A-2007-264221 and fine particles such as tin-doped indium oxide (ITO) Can be used.

대전 방지제를 사용하는 경우, 그 함유량은 제1 조성물의 전체 고형분에 대하여 30 내지 60질량%로 사용하는 것이 바람직하다.When using an antistatic agent, it is preferable to use the content at 30-60 mass% with respect to the total solid of a 1st composition.

(증점제)(Thickener)

제1 조성물에는 점도의 조정을 목적으로 하여 증점제가 포함되어도 된다.A thickener may be contained in the 1st composition for the purpose of adjustment of a viscosity.

증점제로서는 종래 공지된 증점제를 사용할 수 있으며, 예를 들어 카제인 및 카제인의 염 등의 단백질계, 폴리비닐알코올, 지방족 아미드, 아크릴 공중합물, 폴리비닐피롤리돈, 폴리아크릴산나트륨 등, 폴리에테르디알킬에스테르, 비닐메틸에테르-무수 말레산 공중합물의 부분 에스테르 및 아세틸렌글리콜 등의 유기계 증점제를 들 수 있다. 이밖에 마이크로 실리카, 카올린 벤토나이트 및 탈크 등의 무기계 증점제도 들 수 있다.As the thickener, a conventionally known thickener can be used, and for example, a polyetherdialkyl such as protein-based such as casein and casein salt, polyvinyl alcohol, aliphatic amide, acrylic copolymer, polyvinylpyrrolidone, sodium polyacrylate, etc. Organic thickeners such as esters, partial esters of vinyl methyl ether-maleic anhydride copolymers, and acetylene glycols; In addition, inorganic thickeners, such as micro silica, kaolin bentonite, and talc, are mentioned.

상기 유기계 증점제 및 무기계 증점제를 1종 단독으로 사용하여도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용하여도 된다.The organic thickener and the inorganic thickener may be used alone, or may be used in combination of two or more thereof.

증점제를 사용하는 경우, 그 함유량은 제1 조성물의 전체 고형분에 대하여 0.1 내지 10질량%로 사용하는 것이 바람직하다.When using a thickener, it is preferable to use the content at 0.1-10 mass% with respect to the total solid of a 1st composition.

(레벨링제)(Leveling agent)

레벨링제는 HC 표면에 대하여 도포 안정성, 미끄러짐성, 오염 방지성 또는 내찰상성을 부여하는 작용을 갖는다.The leveling agent has an action of imparting coating stability, slipperiness, antifouling or scratch resistance to the HC surface.

레벨링제로서는 종래 공지된 반사 방지 필름에 사용되고 있는 불소계, 실리콘계 및 아크릴계 등의 레벨링제를 사용할 수 있다. 예를 들어, DIC(주)제 메가팩 시리즈(MCF350-5) 등의 전리 방사선 경화성기를 갖지 않는 불소계의 레벨링제, 신에쯔 가가꾸 고교(주)제의 X22-163A 등의 전리 방사선 경화성기를 갖는 실리콘계의 레벨링제 모두를 사용할 수 있다.As a leveling agent, leveling agents, such as a fluorine type, a silicone type, and an acryl type, which are used for the conventionally well-known antireflection film, can be used. For example, a fluorine-based leveling agent that does not have an ionizing radiation curable group such as DIC Corporation Megapack series (MCF350-5), and an ionizing radiation curable group such as X22-163A manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. All the silicone leveling agent which has can be used.

레벨링제를 사용하는 경우의 함유량으로서는, 불소계의 레벨링제인 경우에는 제1 수지의 질량에 대하여 5.0질량% 이하로 사용하고, 0.1 내지 3.0질량%로 사용하는 것이 바람직하며, 불소계 이외의 레벨링제인 경우에는 제1 수지의 질량에 대하여 0.5 내지 10질량%로 사용하는 것이 바람직하다.As content in the case of using a leveling agent, when it is a fluorine-type leveling agent, it is preferable to use at 5.0 mass% or less with respect to the mass of 1st resin, and to use it at 0.1-3.0 mass%, and when it is a leveling agent other than fluorine-type, It is preferable to use at 0.5-10 mass% with respect to the mass of 1st resin.

또한, HC층의 경도의 관점에서, 레벨링제의 함유량은 제1 조성물 및 제2 조성물의 고형분의 합계 질량에 대하여 5.0질량% 이하인 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that content of a leveling agent is 5.0 mass% or less with respect to the total mass of solid content of a 1st composition and a 2nd composition from a viewpoint of the hardness of HC layer.

제1 조성물은, 통상, 제1 용제에 제1 수지 외에 필요에 따라 포함되는 중합 개시제 등을 일반적인 제조법에 따라 혼합하여 분산 처리함으로써 제조된다. 혼합 분산에는 페인트 셰이커 또는 비즈 밀 등을 사용할 수 있다.A 1st composition is normally manufactured by mixing and disperse | distributing a polymerization initiator etc. which are contained as needed in a 1st solvent other than a 1st resin according to a general manufacturing method. A paint shaker, a bead mill, etc. can be used for mixed dispersion.

(제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물)(Curable resin composition for second hard coat layer)

본 발명에 관한 광학 필름의 제조 방법에 있어서 사용하는 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물은, 평균 입경 10 내지 300nm의 저굴절률 미립자 및 저굴절률 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 저굴절률 성분, 반응성을 갖는 제2 수지 및 제2 용제를 포함하고, 점도 μ2가 5mPaㆍs 이상이면서 점도의 차가 30mPaㆍs 이하이다.The curable resin composition for 2nd hard-coat layers used in the manufacturing method of the optical film which concerns on this invention is 1 or more types of low refractive index components chosen from the group which consists of low refractive index microparticles and a low refractive index resin with an average particle diameter of 10-300 nm, and reactivity It contains the 2nd resin which has the 2nd solvent, and the viscosity difference is 5 mPa * s or more, and the difference of viscosity is 30 mPa * s or less.

제2 조성물이 저굴절률 성분을 포함하고, 상기 특정한 점도를 가지며, 또한 상기 제1 조성물이 제2 조성물보다도 광투과성 기재측에 위치하도록 상기 2종의 조성물이 인접하여 동시 도포됨으로써, 제1 조성물과 제2 조성물이 경화하여 HC층을 형성할 때에, HC층의 막 두께 방향에 있어서, 광투과성 기재와는 반대측의 계면측으로부터 광투과성 기재측에 걸쳐 저굴절률 성분이 서서히 적어지고 있는 분포를 취하고, 상기 저굴절률 성분이 저굴절률 미립자인 경우에는 도 1에 도시한 바와 같이 저굴절률 미립자가 분포한다.The second composition includes the low refractive index component, has the specific viscosity, and the two compositions are simultaneously applied simultaneously so that the first composition is located on the light transmissive substrate side rather than the second composition, whereby the first composition and When the second composition is cured to form the HC layer, in the film thickness direction of the HC layer, a distribution in which the low refractive index component gradually decreases from the interface side on the opposite side to the light transmissive substrate to the light transmissive substrate side is taken. When the low refractive index component is low refractive index fine particles, low refractive index fine particles are distributed as shown in FIG. 1.

본 발명에 관한 광학 필름의 제조 방법에 있어서 사용하는 제2 조성물의 점도 μ2는, 상기 제1 조성물과의 혼합을 적절하게 억제하는 점에서 5mPaㆍs 이상이며, 10mPaㆍs 이상인 것이 바람직하다. 상기 점도 μ2는 도포 시공성을 높이는 관점에서 100mPaㆍs 이하가 바람직하고, 50mPaㆍs 이하가 보다 바람직하고, 30mPaㆍs 이하가 특히 바람직하다. 또한, 제1 조성물의 점도 μ1과 제2 조성물의 점도 μ2는, 도포 시공성의 관점에서 μ2가 μ1보다도 큰 것이 바람직하다.Viscosity (micro) 2 of the 2nd composition used in the manufacturing method of the optical film which concerns on this invention is 5 mPa * s or more in the point which suppresses mixing with the said 1st composition suitably, It is preferable that it is 10 mPa * s or more. The viscosity µ2 is preferably 100 mPa · s or less, more preferably 50 mPa · s or less, and particularly preferably 30 mPa · s or less from the viewpoint of increasing the coating workability. In addition, it is preferable that (micro) 2 is larger than (micro) 1 from the viewpoint of applicability | paintability as for the viscosity (micro) 1 of a 1st composition, and the viscosity (micro2) of a 2nd composition.

(저굴절률 미립자)(Low refractive index fine particles)

본 발명에 관한 제1 광학 필름의 제조 방법에 있어서 사용하는 저굴절률 미립자는, HC층의 광투과성 기재와는 반대측의 계면측에 많이 존재함으로써 본 발명의 광학 필름에 반사 방지성을 부여한다. 저굴절률 미립자 외에, 후술하는 저굴절률 수지를 함께 사용하여도 된다.The low refractive index microparticles | fine-particles used in the manufacturing method of the 1st optical film which concerns on this invention provide antireflective property to the optical film of this invention by existing in many on the interface side on the opposite side to the light transmissive base material of HC layer. In addition to the low refractive index fine particles, the low refractive index resin described later may be used together.

저굴절률 미립자는 굴절률이 1.20 내지 1.45인 것을 가리킨다.Low refractive index microparticles | fine-particles point out that refractive index is 1.20-1.45.

저굴절 미립자로서는 종래 공지된 저굴절률층에 사용되고 있는 입자를 사용할 수 있으며, 예를 들어 특허문헌 2에 기재된 중공의 실리카 미립자나, LiF(굴절률 1.39), MgF2(불화마그네슘, 굴절률 1.38), AlF3(굴절률 1.38), Na3AlF6(빙정석, 굴절률 1.33) 및 NaMgF3(굴절률 1.36) 등의 금속 불화물 미립자를 들 수 있다.As the low refractive fine particles, particles which have been used in a conventionally known low refractive index layer can be used. For example, hollow silica fine particles described in Patent Document 2, LiF (refractive index 1.39), MgF 2 (magnesium fluoride, refractive index 1.38), AlF 3 (refractive index: 1.38), Na 3 AlF 6 may be (cryolite, refractive index 1.33) and 3 NaMgF the metal fluoride fine particles such as (refractive index 1.36).

또한, 저굴절률 미립자는 그 표면을 제2 수지나 상기 제1 수지와 가교 반응 가능하도록 중합성 불포화기나 열경화성기를 갖는 유기 성분으로 피복되어도 된다. 피복 방법으로서는 일본 특허 공개 제2008-165040호 공보에 기재된 반응성 무기 미립자의 제조 방법을 이용할 수 있다.Moreover, the low refractive index microparticles | fine-particles may be coat | covered with the organic component which has a polymerizable unsaturated group or a thermosetting group so that the surface may be crosslinked-reacted with a 2nd resin or said 1st resin. As a coating method, the manufacturing method of the reactive inorganic fine particles of Unexamined-Japanese-Patent No. 2008-165040 can be used.

저굴절률 미립자의 평균 입경은, HC층의 헤이즈 상승을 방지하는 점에서 300nm 이하이다. 저굴절률 미립자가 중공 실리카 미립자인 경우, 공극을 필요로 하기 때문에 평균 입경은 굴절률 저하의 효과를 발현시키는 관점에서 10nm 이상이다.The average particle diameter of low refractive index microparticles | fine-particles is 300 nm or less from the point which prevents haze rise of HC layer. In the case where the low refractive index fine particles are hollow silica fine particles, a void is required so that the average particle size is 10 nm or more from the viewpoint of expressing the effect of lowering the refractive index.

저굴절률 미립자의 평균 입경은 바람직하게는 10 내지 100nm, 더욱 바람직하게는 30 내지 100nm이다.The average particle diameter of the low refractive index fine particles is preferably 10 to 100 nm, more preferably 30 to 100 nm.

저굴절률 미립자의 함유량은 적절하게 조절하여 사용하면 되며, 제2 조성물에 포함되는 제2 수지와의 합계 질량에 대하여 50 내지 90질량%가 바람직하고, 보다 바람직하게는 65 내지 90질량%이다.What is necessary is just to adjust content of the low refractive index microparticles | fine-particles, and to use, 50-90 mass% is preferable with respect to the total mass with the 2nd resin contained in a 2nd composition, More preferably, it is 65-90 mass%.

(저굴절률 수지)(Low refractive index resin)

저굴절률 수지는 도막의 제막 후의 굴절률이 1.30 내지 1.45인 수지를 가리킨다. 저굴절률 수지 외에 상기 저굴절률 미립자를 함께 사용하여도 된다.Low refractive index resin refers to resin whose refractive index after film forming of a coating film is 1.30-1.45. In addition to the low refractive index resin, the low refractive index fine particles may be used together.

또한, 저굴절률 수지는 도막의 제막 후에 HC층의 매트릭스의 일부로 될 수 있는 성분이기 때문에, 후술하는 제2 수지를 겸하여 저굴절률 수지를 사용하여도 된다.In addition, since the low refractive index resin is a component that can become part of the matrix of the HC layer after the film formation of the coating film, the low refractive index resin may also be used as the second resin described later.

저굴절률 수지로서는 종래 공지된 광경화성기 또는 열경화성기 등의 반응성기를 갖는 불소 함유 수지, 반응성기를 갖지 않는 불소 함유 수지 등을 사용할 수 있다.As the low refractive index resin, a fluorine-containing resin having a reactive group such as a conventionally known photocurable group or thermosetting group, a fluorine-containing resin not having a reactive group, or the like can be used.

광경화성기를 갖는 불소 함유 수지로서는, 예를 들어 비닐리덴플루오라이드, 테트라플루오로에틸렌, 헥사플루오로프로필렌, 퍼플루오로부타디엔, 퍼플루오로-2,2-디메틸-1,3-디옥솔 등의 플루오로올레핀류를 들 수 있다.Examples of the fluorine-containing resin having a photocurable group include vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluorobutadiene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxol, and the like. Fluoroolefins are mentioned.

이밖에 광경화성기를 갖는 불소 함유 수지로서 2,2,2-트리플루오로에틸(메트)아크릴레이트, 2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필(메트)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로부틸)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로헥실)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로옥틸)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로데실)에틸(메트)아크릴레이트, α-트리플루오로메타크릴산 메틸, α-트리플루오로메타크릴산 에틸 등의 (메트)아크릴레이트 화합물, 1 분자 중에 불소 원자를 적어도 3개 갖는 탄소수 1 내지 14의 플루오로알킬기, 플루오로시클로알킬기 또는 플루오로알킬렌기와, 적어도 2개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 불소 함유 다관능 (메트)아크릴산 에스테르 화합물 등을 들 수 있다.In addition, as a fluorine-containing resin which has a photocurable group, 2,2,2- trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl (meth) acrylate, 2- (purple) Fluorobutyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorooctyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorodecyl) ethyl (Meth) acrylate compounds such as (meth) acrylate, α-trifluoromethacrylate methyl, and α-trifluoromethacrylate ethyl; fluorine having 1 to 14 carbon atoms having at least three fluorine atoms in one molecule A fluorine-containing polyfunctional (meth) acrylic acid ester compound etc. which have a fluoroalkyl group, a fluorocycloalkyl group, or a fluoroalkylene group, and at least 2 (meth) acryloyloxy group are mentioned.

열경화성기를 갖는 불소 함유 수지로서, 예를 들어 4-플루오로에틸렌-퍼플루오로알킬비닐에테르 공중합체, 플루오로에틸렌-탄화수소계 비닐에테르 공중합체 및 에폭시 수지, 폴리우레탄 수지, 셀룰로오스 수지, 페놀 수지 및 폴리이미드 수지 등의 불소 변성품 등을 사용할 수 있다.As the fluorine-containing resin having a thermosetting group, for example, 4-fluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer, fluoroethylene-hydrocarbon-based vinyl ether copolymer and epoxy resin, polyurethane resin, cellulose resin, phenol resin and Fluorine-modified products, such as polyimide resin, etc. can be used.

이밖에 일본 특허 공개 제2010-122603호 공보에 기재된 불소 원자를 함유하는 중합성 화합물의 중합체, 공중합체 및 실리콘 함유 불화비닐리덴 공중합체를 사용하여도 된다.In addition, you may use the polymer, copolymer, and silicone containing vinylidene fluoride copolymer of the polymeric compound containing the fluorine atom of Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-122603.

저굴절률 수지의 분자량은 특별히 제한되지 않고, 적절하게 선택할 수 있지만, 500 내지 5000이 제2 조성물의 점도를 조절하는 관점에서 바람직하다.Although the molecular weight of the low refractive index resin is not particularly limited and can be appropriately selected, 500 to 5000 are preferable from the viewpoint of adjusting the viscosity of the second composition.

제2 조성물에 포함되는 저굴절률 수지의 함유량은 적절하게 조절하면 되지만, 저굴절률 수지가 후술하는 제2 수지를 겸하는 경우에는, 제2 조성물의 전체 고형분에 대하여 70 내지 100질량%인 것이 바람직하다.Although content of the low refractive index resin contained in a 2nd composition may be adjusted suitably, when low refractive index resin also serves as 2nd resin mentioned later, it is preferable that it is 70-100 mass% with respect to the total solid of a 2nd composition.

(제2 수지)(2nd resin)

제2 수지는 반응성을 갖고, 경화하여 HC층의 매트릭스로 되는 성분이다. 제2 수지는 광조사나 가열에 의해 제2 수지끼리 및 상기 제1 수지와의 중합 내지 가교 반응성을 갖는다.The second resin is a component that is reactive and cures to form a matrix of the HC layer. 2nd resin has superposition | polymerization thru | or crosslinking reactivity with 2nd resins and said 1st resin by light irradiation or a heating.

제2 수지는 자외선 등의 광조사에 의해 경화하는 광경화성 수지이어도 되고, 가열에 의해 경화하는 열경화성 수지이어도 된다. 제2 수지가 광경화성 수지인 경우, 제2 수지는 중합성 불포화기를 갖는 것이 바람직하고, 전리 방사선 경화성 불포화기를 갖는 것이 보다 바람직하다. 그 구체예로서는 (메트)아크릴로일기, 비닐기, 알릴기 등의 에틸렌성 불포화 결합 및 에폭시기 등을 들 수 있다.The second resin may be a photocurable resin that is cured by light irradiation such as ultraviolet rays, or may be a thermosetting resin that is cured by heating. When 2nd resin is photocurable resin, it is preferable that a 2nd resin has a polymerizable unsaturated group, and it is more preferable to have an ionizing radiation curable unsaturated group. As the specific example, ethylenically unsaturated bonds, such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, an allyl group, an epoxy group, etc. are mentioned.

제2 수지가 열경화성 수지인 경우, 제2 수지가 갖는 열경화성기로서는, 예를 들어 수산기, 카르복실기, 아미노기, 에폭시기, 글리시딜기, 이소시아네이트기 및 알콕실기 등을 들 수 있다.When 2nd resin is a thermosetting resin, as a thermosetting group which a 2nd resin has, a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, an epoxy group, glycidyl group, an isocyanate group, an alkoxyl group, etc. are mentioned, for example.

제2 수지는 가교 반응에 의해 HC층의 경도를 높이는 점에서, 경화성기를 1분자 중에 2개 이상 갖는 것이 바람직하고, 3개 이상 갖는 것이 보다 바람직하다.From the viewpoint of increasing the hardness of the HC layer by the crosslinking reaction, the second resin preferably has two or more curable groups in one molecule, and more preferably has three or more.

제2 수지로서는 상기 제1 수지에서 예시한 것을 사용할 수 있다.As 2nd resin, the thing illustrated by the said 1st resin can be used.

제2 수지의 함유량은 적절하게 조절하여 사용하면 되며, 제2 조성물의 전체 고형분에 대하여 60질량% 이하가 바람직하다. 또한, 제2 수지가 저굴절률 수지를 겸하는 경우에는, 제2 조성물의 전체 고형분에 대하여 100질량% 이하이어도 된다.What is necessary is just to adjust content of 2nd resin suitably, and 60 mass% or less is preferable with respect to the total solid of a 2nd composition. In addition, when 2nd resin also serves as a low refractive index resin, 100 mass% or less may be sufficient with respect to the total solid of a 2nd composition.

제2 수지는 1종 단독으로 사용하여도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용하여도 된다.2nd resin may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

(제2 용제)(Second solvent)

제2 용제는 제2 조성물에 있어서, 상기 저굴절률 미립자나 제2 수지와 같은 고형분을 용해 또는 분산시켜 점도를 조절하는 기능을 갖는다. 제2 용제로서는 상기 제1 용제에서 예시한 것을 사용할 수 있다.The second solvent has a function of adjusting the viscosity by dissolving or dispersing solid content such as the low refractive index fine particles and the second resin in the second composition. As a 2nd solvent, the thing illustrated by the said 1st solvent can be used.

(제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물의 그 밖의 성분)(Other components of curable resin composition for 2nd hard-coat layers)

제2 조성물에는 상기 성분 외에 기능성 부여를 목적으로 하여 제1 조성물과 마찬가지로 중합 개시제, 대전 방지제, 증점제, 오염 방지제 및 반응성 또는 비반응성 레벨링제 등이 더 포함되어도 된다.The second composition may further contain a polymerization initiator, an antistatic agent, a thickener, an antifouling agent, a reactive or non-reactive leveling agent, and the like, in addition to the above components for the purpose of imparting functionality.

(중합 개시제)(Polymerization initiator)

중합 개시제는 상기 제1 조성물에서 예시한 것을 사용할 수 있다.The polymerization initiator can use what was illustrated by the said 1st composition.

중합 개시제를 사용하는 경우, 그 함유량은 제2 조성물의 전체 고형분에 대하여 1 내지 5질량%로 사용하는 것이 바람직하다.When using a polymerization initiator, it is preferable to use the content at 1-5 mass% with respect to the total solid of a 2nd composition.

(대전 방지제)(Antistatic agent)

대전 방지제는 상기 제1 조성물에서 예시한 것을 사용할 수 있다.The antistatic agent can use what was illustrated by the said 1st composition.

대전 방지제를 사용하는 경우, 그 함유량은 제2 조성물의 전체 고형분에 대하여 30 내지 60질량%로 사용하는 것이 바람직하다.When using an antistatic agent, it is preferable to use the content at 30-60 mass% with respect to the total solid of a 2nd composition.

(증점제)(Thickener)

증점제는 상기 제1 조성물에서 예시한 것을 사용할 수 있다.Thickeners can be used as exemplified in the first composition.

증점제의 함유량으로서는, 제2 조성물의 전체 고형분에 대하여 0.1 내지 10질량%로 사용하는 것이 바람직하다.As content of a thickener, it is preferable to use at 0.1-10 mass% with respect to the total solid of a 2nd composition.

(오염 방지제)(Antifouling agent)

오염 방지제는 광학 필름의 최표면의 오염을 방지하고, 또한 HC층에 내찰상성을 부여할 수도 있다. 오염 방지제는 제1 조성물 및 제2 조성물의 양쪽에 포함되어도 된다. 적은 함유량으로 오염 방지성을 효율적으로 발현시키는 관점에서, 오염 방지제는 제2 조성물에만 포함되어 있는 것이 바람직하다.An antifouling agent may prevent contamination of the outermost surface of the optical film and may impart scratch resistance to the HC layer. The antifouling agent may be included in both the first composition and the second composition. From the viewpoint of effectively expressing the antifouling property at a small content, the antifouling agent is preferably contained only in the second composition.

오염 방지제로서는 종래 공지된 불소계 화합물 또는 규소계 화합물 등의 오염 방지제(방오제)를 사용하여도 된다.As the antifouling agent, a conventionally known antifouling agent (antifouling agent) such as a fluorine compound or a silicon compound may be used.

오염 방지제로서는, 예를 들어 일본 특허 공개 제2007-264279호 공보에 기재된 오염 방지제를 들 수 있다.As an antifouling agent, the antifouling agent of Unexamined-Japanese-Patent No. 2007-264279 is mentioned, for example.

시판품인 오염 방지제를 사용하는 것도 바람직하다. 이러한 시판품인 오염 방지제(비반응성)로서는 DIC(주)제의 메가팩 시리즈, 예를 들어 상품명 MCF350-5, F445, F455, F178, F470, F475, F479, F477, TF1025, F478 및 F178K 등, 도시바 실리콘(주)제의 TSF 시리즈 등, 신에쯔 가가꾸 고교(주)제의 X-22 시리즈 및 KF 시리즈 등 및 틱소(주)제의 실라플레인 시리즈 등을 들 수 있다.It is also preferable to use a commercially available antifouling agent. As such a commercially available antifouling agent (non-reactive), Megapack series manufactured by DIC Corporation, for example, Toshiba Corporation such as trade names MCF350-5, F445, F455, F178, F470, F475, F479, F477, TF1025, F478, and F178K. And TSF series manufactured by Silicon Corporation, X-22 series manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KF series, and Silaplane series manufactured by Thixo Corporation.

시판품인 오염 방지제(반응성)로서는 신나까무라 가가꾸 고교(주)제의 상품명 SUA1900L10 및 상품명 SUA1900L6, 다이셀 UCB(주)제의 상품명 에베크릴(Ebecryl) 350, 상품명 에베크릴 1360 및 상품명 KRM7039, 닛본 고세이 가가꾸 고교(주)제의 UT3971, DIC(주)제의 상품명 디펜서 TF3001, 상품명 디펜서 TF3000 및 상품명 디펜서 TF3028, 교에샤 가가꾸(주)제의 상품명 라이트 프로코트 AFC3000, 신에쯔 가가꾸 고교(주)제의 상품명 KNS5300, GE 도시바 실리콘(주)제의 상품명 UVHC1105 및 UVHC8550 및 닛본 페인트(주)제의 상품명 ACS-1122 등을 들 수 있다.As a commercially available antifouling agent (reactivity), the brand name SUA1900L10 and brand name SUA1900L6 made by Shin-Nakamura Chemical Industries, Ltd., brand name Ebecryl 350, brand name Ebecryl 1360 and brand name KRM7039, made by Daicel UCB Co., Ltd. UT3971 made by Kagaku Kogyo Co., Ltd. brand name dispenser TF3001, brand name dispenser TF3000 and brand name dispenser TF3028, brand name light pro-coat AFC3000 made by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. The brand name KNS5300 by the Co., Ltd., brand name UVHC1105 and UVHC8550 by GE Toshiba Silicone Co., Ltd., and the brand name ACS-1122 by Nippon Paint Co., Ltd. are mentioned.

(레벨링제)(Leveling agent)

레벨링제는 상기 제1 조성물에서 예시한 것을 사용할 수 있다.Leveling agents may be used as exemplified in the first composition.

레벨링제는 제1 조성물과 제2 조성물 중 어디에 포함되어도 되지만, 효율적으로 레벨링제의 기능을 발현하는 관점에서 제2 조성물에만 포함되어 있는 것이 바람직하다.Although a leveling agent may be contained in any of a 1st composition and a 2nd composition, it is preferable to be contained only in a 2nd composition from a viewpoint of expressing the function of a leveling agent efficiently.

레벨링제를 사용하는 경우의 함유량으로서는, 불소계의 레벨링제인 경우에는 제2 수지의 질량에 대하여 5.0질량% 이하로 사용하고, 0.1 내지 3.0질량%로 사용하는 것이 바람직하며, 불소계 이외의 레벨링제인 경우에는 제2 수지의 질량에 대하여 0.5 내지 10질량%로 사용하는 것이 바람직하다.As content in the case of using a leveling agent, when it is a fluorine-type leveling agent, it is preferable to use at 5.0 mass% or less with respect to the mass of a 2nd resin, and to use it at 0.1-3.0 mass%, and when it is a leveling agent other than fluorine-type, It is preferable to use at 0.5-10 mass% with respect to the mass of 2nd resin.

제2 조성물의 제조 방법은 상기 제1 조성물에서 예시한 방법을 이용할 수 있다.The manufacturing method of a 2nd composition can use the method illustrated by the said 1st composition.

(그 밖의 기능층용 조성물)(Other Functional Layer Composition)

본 발명에 관한 광학 필름의 제조 방법에 있어서는, 상기 (iii) 동시 도포하는 공정에 있어서 광투과성 기재의 일면측에, 적어도 상기 제1 및 제2 조성물을 동시 도포하면 되며, 광학 필름의 요구되는 성능에 따라 적시에 그 밖의 기능층을 형성하기 위하여 그 밖의 기능층용 조성물을 준비하여도 된다.In the manufacturing method of the optical film which concerns on this invention, what is necessary is just to apply | coat simultaneously at least the said 1st and 2nd composition to one surface side of a light transmissive base material in the said (iii) simultaneous coating process, and the required performance of an optical film In order to form another functional layer at timely, you may prepare another composition for functional layers.

그 밖의 기능층으로서는, 예를 들어 대전 방지층 및 오염 방지층을 들 수 있다.As another functional layer, an antistatic layer and an antifouling layer are mentioned, for example.

또한, 후술하는 바와 같이 그 밖의 기능층용 조성물은, 광투과성 기재측으로부터 제1 및 제2 조성물이 위치하도록 인접하여 도포만 하면, 그 기능에 따라 적절하게 도포 위치를 설정할 수 있다.In addition, as described later, the other functional layer composition can be appropriately set in accordance with the function as long as the composition is applied adjacently so that the first and second compositions are positioned from the light-transmitting substrate side.

본 발명에 관한 광학 필름의 제조 방법의 (iii) 제1 조성물과 제2 조성물을 동시 도포하는 공정에 있어서, 상기 제1 및 제2 조성물을 동시 도포하는 방법은 동시 도포할 수 있는 것이면 특별히 제한되지 않고, 종래 공지된 방법을 이용할 수 있으며, 예를 들어 도 3에 도시한 바와 같은 익스트루전형의 다이 코터를 사용한 방법을 들 수 있다.(Iii) In the process of simultaneously applying a 1st composition and a 2nd composition of the manufacturing method of the optical film which concerns on this invention, the method of simultaneously apply | coating the said 1st and 2nd composition will not be restrict | limited especially if it can apply | coat simultaneously. Instead, a conventionally known method can be used. For example, a method using an extruded die coater as shown in FIG. 3 can be mentioned.

광학 필름의 제조 방법의 (iii) 제1 조성물과 제2 조성물을 동시 도포하는 공정에 있어서는, 제1 조성물의 도막의 습윤 막 두께를 T1, 제2 조성물의 도막의 습윤 막 두께를 T2로 하였을 때, T2/T1을 0.01 내지 1로 하는 것이, HC층의 막 두께 방향에 있어서 저굴절률 성분이 HC층의 광투과성 기재와는 반대측의 계면측에 광투과성 기재측보다도 많이 존재하고, 또한 광투과성 기재측일수록 저굴절률 성분의 존재량이 적어지도록 분포하고, 광투과성 기재와는 반대측의 계면으로부터 광투과성 기재측에 걸쳐 상기 저굴절률 성분이 서서히 적어지고, 또한 하드 코트층의 막 두께 방향에 있어서 상기 광투과성 기재와는 반대측의 계면부터 상기 하드 코트층의 건조 막 두께의 70%까지의 영역에, 상기 저굴절률 성분의 전체량의 70 내지 100%가 존재하는 분포로 하는 것이 가능하고, 효율적으로 광학 필름의 반사 방지성을 높일 수 있는 관점에서 바람직하다. 여기에서 습윤 막 두께란, 도포 직후의 조성물 중의 용제가 휘발하기 전의 상태의 도막의 두께이며, (광투과성 기재 상에 도포된 조성물의 체적/도포 면적)으로부터 구해진다.(Iii) In the process of simultaneously applying a 1st composition and a 2nd composition of the manufacturing method of an optical film, when the wet film thickness of the coating film of a 1st composition is T1 and the wet film thickness of the coating film of a 2nd composition is T2. , T2 / T1 is 0.01 to 1, in the film thickness direction of the HC layer, more low refractive index components exist on the interface side on the side opposite to the light-transmissive substrate of the HC layer than on the light-transmissive substrate side, and on the light-transmissive substrate It is distributed so that the abundance of the low refractive index component becomes smaller, and the said low refractive index component gradually decreases from the interface on the opposite side to the light transmissive substrate side to the light transmissive substrate side, and the light transmittance in the film thickness direction of the hard coat layer. A distribution in which 70 to 100% of the total amount of the low refractive index component is present in an area from the interface opposite to the substrate to 70% of the dry film thickness of the hard coat layer. Possible, it is efficiently preferable in view to increase the anti-reflective property of the optical film. Here, a wet film thickness is the thickness of the coating film of the state before the solvent in the composition immediately after application | coating volatilizes, and is calculated | required from (volume / coating area of the composition apply | coated on a light transmissive base material).

또한, 제1 및 제2 조성물의 도포를 도 3에 도시한 바와 같은 다이 코터 헤드를 사용하여 행하는 경우, 다이 코터 헤드(40)와 광투과성 수지 기재(10)의 거리인 코터 갭(80)과 광투과성 수지 기재(10) 상에 동시 다층 도포하였을 때의 제1 및 제2 조성물의 도막의 합계의 두께(90)가, 코터 갭(80)<(두께(90)의 2배)의 관계에 있는 것이 바람직하다. 이러한 관계를 유지하면서 동시 다층 도포함으로써, 광투과성 수지 기재(10)와 다이 코터 헤드(40)의 사이에 형성되는 도포 비드가 안정화된다. 특히 이 도포 비드는 도포에 의해 형성하는 층이 박막화할수록 불안정해지기 쉽고, 도포면에 불균일이나 줄무늬를 발생시켜 외관을 악화시키는 원인으로 되지만, 상기 코터 갭(80)과 두께(90)의 관계를 유지함으로써 도포 비드를 안정화시키기 쉬워진다. 또한, 도포 비드란, 도포 장치와 기재의 사이에 생성되는 액 고임을 의미한다.In addition, when application | coating of a 1st and 2nd composition is performed using the die coater head as shown in FIG. 3, the coater gap 80 which is the distance of the die coater head 40 and the transparent resin base material 10, and When the thickness 90 of the sum total of the coating film of the 1st and 2nd composition when apply | coating multilayered on the transparent resin base material 10 simultaneously is related to the relationship of a coater gap 80 <(double of thickness 90) It is desirable to have. By simultaneously applying the multilayers while maintaining such a relationship, the coating beads formed between the transparent resin substrate 10 and the die coater head 40 are stabilized. In particular, the coating beads tend to become unstable as the layer formed by coating becomes thinner, causing unevenness and streaks on the coated surface, thereby deteriorating the appearance, but maintaining the relationship between the coater gap 80 and the thickness 90. This makes it easy to stabilize the coating beads. In addition, application | coating bead means the liquid pool produced between an application | coating apparatus and a base material.

상기 그 밖의 기능층용 조성물은, 제1 및 제2 조성물과 함께 동시 도포되어도 되고, 제1 및 제2 조성물과는 별도로 도포하여도 된다. 동시 도포하는 경우에는, 광투과성 기재측으로부터 제1 및 제2 조성물이 위치하도록 인접하여 도포만 하면, 그 기능에 따라 적절하게 도포 위치를 설정할 수 있다. 예를 들어, 대전 방지층용 조성물을 제1 및 제2 조성물과 함께 동시 도포하는 경우에는, 도 3의 다이 헤드의 슬릿(51)보다도 광투과성 기재의 반송 방향(140)의 상류측, 즉 도 3에 있어서는 슬릿(51)의 좌측에 제3 슬릿(도시하지 않음)을 설치하여 대전 방지층용 조성물, 제1 및 제2 조성물을 동시 도포하면 된다. 또한, 예를 들어 대전 방지층용 조성물, 제1 및 제2 조성물 및 오염 방지층용 조성물을 동시 도포하는 경우에는, 도 3에 있어서 슬릿(51)의 좌측에 대전 방지층용 조성물을 도포하기 위한 제3 슬릿(도시하지 않음)을, 슬릿(52)의 우측에 오염 방지층용 조성물을 도포하기 위한 제4 슬릿(도시하지 않음)을 설치하고, 상기 4종의 조성물을 동시 도포하면 된다.The said other functional layer composition may be apply | coated simultaneously with a 1st and 2nd composition, and may be apply | coated separately from a 1st and 2nd composition. When apply | coating simultaneously, just apply | coating adjacently so that a 1st and 2nd composition may be located from the light transmissive base material side, a coating position can be suitably set according to the function. For example, when applying the composition for antistatic layers together with a 1st and 2nd composition simultaneously, it is an upstream side of the conveyance direction 140 of a light transmissive base material rather than the slit 51 of the die head of FIG. In the present invention, a third slit (not shown) may be provided on the left side of the slit 51, and the antistatic layer composition and the first and second compositions may be simultaneously applied. In addition, when apply | coating antistatic layer composition, a 1st, 2nd composition, and an antifouling layer composition simultaneously, for example, the 3rd slit for apply | coating the antistatic layer composition to the left side of the slit 51 in FIG. What is necessary is just to provide the 4th slit (not shown) for apply | coating the composition for antifouling layers on the right side of the slit 52 (not shown), and apply | coating the said 4 types of compositions simultaneously.

(iv) 공정의 건조 방법으로서는, 예를 들어 감압 건조 또는 가열 건조, 나아가 이들 건조를 조합하는 방법 등을 들 수 있다. 또한, 상압에서 건조시키는 경우에는 30 내지 110℃에서 건조시키는 것이 바람직하다.As a drying method of a (iv) process, the pressure reduction drying or heat drying, the method of combining these drying, etc. are mentioned, for example. Further, in the case of drying at normal pressure, it is preferable to dry at 30 to 110 ° C.

본 발명에서는 (iv) 공정 전, 즉 도막의 건조 전에 예비 경화를 행하지 않는다.In the present invention, preliminary curing is not performed before the step (iv), that is, before the coating film is dried.

예를 들어, 제1 또는 제2 용제로서 메틸이소부틸케톤을 사용하는 경우에는, 통상 실온 내지 80℃, 바람직하게는 40℃ 내지 70℃의 범위 내의 온도에서 20초 내지 3분, 바람직하게는 30초 내지 1분 정도의 시간으로 건조가 행해진다.For example, when methyl isobutyl ketone is used as the first or second solvent, usually 20 seconds to 3 minutes at a temperature within the range of room temperature to 80 ° C, preferably 40 ° C to 70 ° C, preferably 30 Drying is performed in a time of about 1 to 1 minute.

또한, 본 발명에 있어서, (iv) 공정의 건조란, 상기 건조를 행하여도 층의 경화가 제품으로서 충분하지 않을 정도(예를 들어, JIS K5600-5-4(1999)에 규정하는 연필 경도 시험(4.9N 하중)에서 경도 「H」 미만)로 처리하는 것을 의미하는 것에 대해, 제1 수지나 제2 수지가 열경화성 수지를 포함하는 경우에 건조 후에 행하는 가열은, 상기 가열을 행함으로써 층의 경화가 제품으로서 충분해지는 정도(상기 연필 경도 시험에서 경도 「H」 이상)의 온도에서 처리하는 것을 의미한다.In the present invention, the drying of the step (iv) means that the curing of the layer is not sufficient as a product even if the drying is performed (for example, the pencil hardness test specified in JIS K5600-5-4 (1999)). (Meaning less than the hardness "H" at 4.9N load), the heating performed after drying when the first resin or the second resin contains a thermosetting resin, curing the layer by performing the heating It means processing at the temperature of the grade (hardness "H" or more by the said pencil hardness test) to become enough as a product.

(iv) 공정의 광조사 방법으로서는 주로 자외선, 가시광, 전자선 또는 전리 방사선 등이 사용된다. 자외선 경화의 경우에는 초고압 수은등, 고압 수은등, 저압 수은등, 카본 아크, 크세논 아크 또는 메탈 할라이드 램프 등의 광선으로부터 발하는 자외선 등을 사용한다. 에너지선원의 조사량은, 자외선 파장 365nm에서의 적산 노광량으로서 50 내지 300mJ/cm2이다.As the light irradiation method of the step (iv), ultraviolet rays, visible light, electron beams or ionizing radiation are mainly used. In the case of ultraviolet curing, ultraviolet rays emitted from light such as ultra-high pressure mercury lamp, high pressure mercury lamp, low pressure mercury lamp, carbon arc, xenon arc or metal halide lamp are used. The irradiation amount of an energy source is 50-300 mJ / cm <2> as an integrated exposure amount in an ultraviolet-ray wavelength 365nm.

본 발명에 있어서는 예비 경화는 행하지 않고, 도막을 경화(본 경화)시키는 광조사나 가열은 도막의 건조 후에 행한다. 이에 의해, 제2 조성물에 포함되는 저굴절률 성분이 HC층의 막 두께 방향에 있어서, HC층의 광투과성 기재와는 반대측의 계면측에 광투과성 기재측보다도 많이 존재하고, 또한 광투과성 기재측일수록 저굴절률 성분의 존재량이 적어지도록 분포하고, 광투과성 기재와는 반대측의 계면으로부터 광투과성 기재측에 걸쳐 상기 저굴절률 성분이 서서히 적어지고, HC층 내에 있어서 저굴절률 성분과 HC층의 수지의 굴절률차에 의한 간섭 줄무늬의 발생과, HC층과 기재의 계면에서의 간섭 줄무늬의 발생을 억제하고, 또한 시인성이 우수한 광학 필름이 얻어진다.In this invention, preliminary hardening is not performed but light irradiation and heating which harden | cure a coating film (main hardening) are performed after drying of a coating film. Thereby, in the film thickness direction of HC layer, the low refractive index component contained in a 2nd composition exists more in the interface side on the opposite side to the light transmissive base material of HC layer than the light transmissive base material side, and the light transmissive base material side It is distributed so that the amount of low refractive index component is decreased, and the low refractive index component gradually decreases from the interface on the opposite side to the light transmissive substrate to the light transmissive substrate side, and the refractive index difference between the low refractive index component and the resin of the HC layer in the HC layer. The optical film which suppresses generation | occurrence | production of interference fringes by this, and generation | occurrence | production of interference fringes in the interface of HC layer and a base material, and is excellent in visibility is obtained.

또한, 예비 경화를 행하지 않고 도막을 건조시키고, 계속해서 광조사나 가열을 행하여 도막을 경화시키기 때문에, 예비 경화를 행하여 경화시키는 경우에 비하여 HC층과 광투과성 기재나 HC층의 광투과성 기재측에 접하는 층과의 밀착성을 높일 수 있다.In addition, since the coating film is dried without preliminary curing, and the coating film is cured by subsequent light irradiation or heating, the contact with the HC layer, the light-transmissive substrate, or the light-transmissive substrate side of the HC layer is in comparison with the case of pre-curing and curing. Adhesion with a layer can be improved.

또한, 예비 경화를 행할 필요가 없기 때문에, 예비 경화와 본 경화의 2번 광조사를 행하여 경화시키는 경우에 비하여 생산성도 우수하다.Moreover, since it is not necessary to perform precure, it is excellent also in productivity compared with the case where it performs the 2nd light irradiation of precure and this hardening, and hardens | cures it.

(광학 필름)(Optical film)

본 발명에 관한 광학 필름은 상기 제조 방법에 의해 얻어지는 것이며, 도 1에 도시한 바와 같이 광투과성 기재(10)의 일면측에 적어도 HC층(20)이 형성되어 있다.The optical film which concerns on this invention is obtained by the said manufacturing method, and as shown in FIG. 1, HC layer 20 is formed in at least one surface side of the transparent base material 10. As shown in FIG.

본 발명의 광학 필름은, 상기 제조 방법에 의해 제조함으로써, 제2 조성물에 포함되는 저굴절률 미립자 및/또는 저굴절률 수지가 HC층의 막 두께 방향에 있어서, HC층의 광투과성 기재와는 반대측의 계면측에 광투과성 기재측보다도 많이 존재하고, 또한 광투과성 기재측일수록 그 존재량이 적어지도록 분포하고, HC층 내에 있어서 그 저굴절률 미립자 및/또는 저굴절률 수지와 HC층의 수지의 굴절률차에 의한 간섭 줄무늬의 발생과, HC층과 기재의 계면에서의 간섭 줄무늬의 발생을 억제하고, 또한 시인성이 우수한 광학 필름이 얻어진다.The optical film of this invention is manufactured by the said manufacturing method, and the low refractive index microparticles | fine-particles and / or low refractive index resin which are contained in a 2nd composition are in the film thickness direction of HC layer, on the opposite side to the light transmissive base material of HC layer. It exists more in an interface side than a light transmissive base material side, and it exists so that it exists in the light transmissive base material side so that it may become small, and it exists in the HC layer by the refractive index difference of the low refractive index microparticles | fine-particles and / or low refractive index resin, and resin of HC layer. The optical film which suppresses generation | occurrence | production of interference fringes and generation | occurrence | production of interference fringes at the interface of HC layer and a base material, and is excellent in visibility is obtained.

또한, 예비 경화를 행하지 않고 도막을 건조시키고, 계속해서 광조사나 가열에 의해 경화시키고 있기 때문에, 예비 경화를 행하고, 계속해서 건조, 광조사나 가열을 행하여 경화시키는 경우에 비하여, 종래의 저굴절률층과 HC층을 순차 중층 도포에 의해 형성한 경우나 특허문헌 2와 같은 동시 도포에 의해 형성한 경우와 같은 명확한 층 계면을 나타내지 않고, 또한 반사 방지 기능을 가지며, 헤이즈, 전체 광선 투과율 및 줄무늬가 없는 면 형상을 유지하면서 층간의 간섭 줄무늬의 발생을 억제하고, 밀착성을 양호화하고, 기재 부근에서는 기재의 굴절률과 동일 정도의 굴절률의 하드 코트 조성물의 비율을 많게 함으로써 하드 코트층과 기재의 사이에서의 간섭 줄무늬의 발생을 억제하고, 또한 밀착성이 우수하다.In addition, since the coating film is dried without preliminary curing and subsequently cured by light irradiation or heating, the conventional low refractive index layer and the conventional low refractive index layer are compared with the case of preliminary curing, followed by drying, light irradiation or heating. The surface does not exhibit the clear layer interface as in the case where the HC layer is formed by sequential middle layer coating or the case of simultaneous coating as in Patent Document 2, and also has an antireflection function, and has no haze, total light transmittance and streaks Interference between the hard coat layer and the base material is maintained by suppressing the occurrence of interference fringes between the layers while maintaining the shape, improving the adhesion, and increasing the ratio of the hard coat composition having the same refractive index as that of the base material in the vicinity of the base material. It suppresses generation | occurrence | production of a streak and is excellent in adhesiveness.

본 발명의 광학 필름은, 상기 제조 방법에서 설명한 바와 같이 그 밖의 기능층용 조성물을 도포하여, 그 밖의 기능층을 형성하여도 되고, 예를 들어 제1 조성물의 광투과성 기재측에 대전 방지층용 조성물을 도포하여 대전 방지층을 형성한 경우에는, 도 4에 도시한 바와 같은 광투과성 기재(10)측으로부터 대전 방지층(140) 및 HC층(20)이라고 하는 층 구성으로 된다.The optical film of this invention may apply | coat another composition for functional layers, and may form another functional layer as demonstrated in the said manufacturing method, For example, the composition for antistatic layers is provided to the light transmissive base material side of a 1st composition. When apply | coating and forming an antistatic layer, it becomes a layer structure called antistatic layer 140 and HC layer 20 from the light transmissive base material 10 side as shown in FIG.

또한, 도 5에 도시한 바와 같이, HC층의 광투과성 기재와는 반대측의 면에 오염 방지층(150)을 형성하여도 된다.In addition, as shown in FIG. 5, you may form the antifouling layer 150 in the surface on the opposite side to the light transmissive base material of HC layer.

HC층의 건조 막 두께(이하, 간단히 「막 두께」라고도 함)는 요구되는 성능에 따라 적절하게 조절할 수 있으며, 예를 들어 막 두께 1 내지 20㎛인 것이 바람직하다.The dry film thickness (henceforth simply called "film thickness") of HC layer can be adjusted suitably according to the performance calculated | required, for example, it is preferable that it is 1-20 micrometers in film thickness.

그 밖의 기능층의 막 두께는 적절하게 조절하면 되며, 예를 들어 대전 방지층의 막 두께는 0.05 내지 5㎛가 바람직하고, 오염 방지층의 막 두께는 0.01 내지 10nm가 바람직하다.What is necessary is just to adjust the film thickness of another functional layer suitably, for example, the film thickness of an antistatic layer is preferable 0.05-5 micrometers, and the film thickness of an antifouling layer is preferable 0.01-10 nm.

본 발명의 광학 필름은 요구되는 성능에 따라 적절하게 상기 제2 조성물의 저굴절률 미립자나 저굴절률 수지의 종류나 함유량을 조절함으로써 그 반사율을 조절할 수 있는데, 입사광에 대하여 반사율이 1 내지 3.75인 것이 바람직하고, 1 내지 3.4인 것이 보다 바람직하다.The optical film of the present invention can adjust the reflectance by appropriately adjusting the type and content of the low refractive index fine particles and the low refractive index resin of the second composition according to the required performance, but the reflectance is preferably 1 to 3.75 with respect to the incident light. And it is more preferable that it is 1-3.4.

반사율은 닛본 분꼬(주)제의 상품명 V7100형 자외 가시 분광 광도계 및 닛본 분꼬(주)제의 상품명 VAR-7010 절대 반사율 측정 장치를 사용하여, 입사각을 5°, 편광자를 N 편광, 측정 파장 범위를 380 내지 780nm로 하여 광학 필름의 TAC 기재측에 흑색 테이프를 접합하고, 그것을 장치에 설치하여 측정한다. 또한, 측정 파장 범위에서 구해진 측정 결과의 평균값을 반사율로 한다.The reflectance was measured by using the Nippon Bunko Co., Ltd. product name V7100 ultraviolet visible spectrophotometer and the Nippon Bunco Co. product name VAR-7010 absolute reflectance measuring device, the angle of incidence was 5 °, the polarizer was N-polarized, and the wavelength range was measured. A black tape is bonded to the TAC base material side of an optical film as 380-780 nm, it is installed in an apparatus, and it measures. In addition, let the reflectance be the average value of the measurement result calculated | required in the measurement wavelength range.

본 발명의 광학 필름의 헤이즈는 요구되는 성능에 따라 적절하게 조절할 수 있는데, 0.1 내지 1.0%인 것이 바람직하고, 0.1 내지 0.4%인 것이 보다 바람직하다.Although the haze of the optical film of this invention can be suitably adjusted according to the performance calculated | required, it is preferable that it is 0.1 to 1.0%, and it is more preferable that it is 0.1 to 0.4%.

헤이즈값은 JIS K7136에 따라 반사ㆍ투과율계 HM-150((주)무라까미 시끼사이 기쥬쯔 겡뀨쇼제)에 의해 측정할 수 있다.The haze value can be measured by a reflection / transmittance meter HM-150 (manufactured by Murakami Shikisai Kijutsu Co., Ltd.) in accordance with JIS K7136.

본 발명에 관한 광학 필름의 적합한 실시 형태에서는, 광투과성 기재의 일면측에 하드 코트층이 형성된 광학 필름이며, 상기 하드 코트층의 막 두께 방향에 있어서, 저굴절률 미립자가 상기 광투과성 기재와는 반대측의 계면측에 상기 광투과성 기재측보다도 많이 존재하고, 또한 상기 광투과성 기재측일수록 상기 저굴절률 미립자의 존재량이 적고, 상기 광투과성 기재와는 반대측의 계면으로부터 광투과성 기재측에 걸쳐 상기 저굴절률 성분이 서서히 적어지고, 상기 하드 코트층 내에 층 계면이 없고, 상기 하드 코트층의 상기 광투과성 기재에 대한 바둑판 눈금 밀착성 시험의 밀착률을 90 내지 100%로 하는 것도 가능하다.In suitable embodiment of the optical film which concerns on this invention, it is an optical film in which the hard-coat layer was formed in the one surface side of a transparent base material, and low refractive index microparticles | fine-particles are a side opposite to the said transparent base material in the film thickness direction of the said hard-coat layer. The amount of the low refractive index fine particles is smaller on the interface side of the light transmissive substrate side than on the light transmissive substrate side, and the low refractive index component is spread from the interface on the opposite side to the light transmissive substrate to the light transmissive substrate side. This gradually decreases, there is no layer interface in the hard coat layer, and the adhesion rate of the checkerboard scale adhesion test with respect to the light transmissive substrate of the hard coat layer may be set to 90 to 100%.

도 1에 도시한 바와 같이, HC층 내에 있어서 이러한 저굴절률 미립자의 분포를 취함으로써, 반사 방지 기능을 갖고, 헤이즈, 전체 광선 투과율 및 줄무늬가 없는 면 형상을 유지하면서 층간의 간섭 줄무늬의 발생을 억제하고, 밀착성을 양호화하고, 기재 부근에서는 기재의 굴절률과 동일 정도의 굴절률의 하드 코트 조성물의 비율을 많게 함으로써 하드 코트층과 기재의 사이에서의 간섭 줄무늬의 발생을 억제하고, 밀착성이 우수한 광학 필름이 얻어진다.As shown in Fig. 1, by distributing such low refractive index fine particles in the HC layer, it has an antireflection function and suppresses generation of interference fringes between layers while maintaining a haze, total light transmittance, and a surface shape without streaks. In order to improve the adhesiveness and increase the ratio of the hard coat composition having the same refractive index as that of the base material in the vicinity of the base material, the occurrence of interference fringes between the hard coat layer and the base material can be suppressed and the optical film excellent in the adhesiveness Is obtained.

하드 코트층 내의 층 계면이란, 도 2에 도시한 바와 같이 층 내에 있어서 조성물의 경화 부분에 계면(경계)이 발생하는 것을 의미한다. 층 계면의 구체예로서는, 후술하는 도 9에 도시하는 2종의 조성물의 경화 부분의 경계를 들 수 있다.The layer interface in a hard-coat layer means that an interface (boundary) arises in the hardened part of a composition in a layer, as shown in FIG. As a specific example of a layer interface, the boundary of the hardened part of 2 types of compositions shown in FIG. 9 mentioned later is mentioned.

본 발명에 관한 광학 필름의 적합한 실시 형태에서는, 하드 코트층의 막 두께 방향에 있어서, 상기 광투과성 기재와는 반대측의 계면부터 상기 하드 코트층의 건조 막 두께의 70%까지의 영역에, 상기 저굴절률 미립자의 전체량의 70 내지 100%가 존재하는 것도 가능하다. 이에 의해, 광학 필름의 반사 방지성을 효율적으로 높일 수 있다.In a preferred embodiment of the optical film according to the present invention, in the film thickness direction of the hard coat layer, in the region from the interface on the side opposite to the light transmissive substrate to 70% of the dry film thickness of the hard coat layer, the low It is also possible that 70 to 100% of the total amount of the refractive index fine particles is present. Thereby, the antireflection property of an optical film can be raised efficiently.

본 발명의 광학 필름의 전체 광선 투과율(τt)은, 투명성의 점에서 90% 이상이 바람직하고, 92% 이상이 보다 바람직하다.90% or more is preferable and, as for the total light transmittance (tau t) of the optical film of this invention, 92% or more is more preferable.

광학 필름의 전체 광선 투과율은, JIS K7361에 따라 헤이즈값과 동일한 측정기로 측정할 수 있다.The total light transmittance of an optical film can be measured with the same measuring device as a haze value according to JISK7361.

(편광판)(Polarizer)

본 발명에 관한 편광판은, 상기 광학 필름의 상기 하드 코트층과는 반대의 광투과성 기재측에 편광자가 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.The polarizing plate which concerns on this invention is provided with the polarizer in the light transmissive base material side opposite to the said hard-coat layer of the said optical film, It is characterized by the above-mentioned.

도 6은 본 발명에 관한 편광판의 층 구성의 일례를 도시하는 모식도이다. 도 6에 도시하는 편광판(2)은, 광투과성 기재(10)에 HC층(20)이 형성된 광학 필름(1) 및 보호 필름(160) 및 편광층(170)이 적층된 편광자(180)를 갖고 있고, 광학 필름(1)의 HC층(20)과는 반대의 광투과성 기재(10)측에 편광자(180)가 설치되어 있다.It is a schematic diagram which shows an example of the laminated constitution of the polarizing plate which concerns on this invention. The polarizing plate 2 illustrated in FIG. 6 includes a polarizer 180 in which the optical film 1 having the HC layer 20 is formed on the transparent substrate 10, the protective film 160, and the polarizing layer 170 are laminated. It has, and the polarizer 180 is provided in the light transmissive base material 10 side opposite to HC layer 20 of the optical film 1.

또한, 광학 필름의 하드 코트층과는 반대의 광투과성 기재측에 편광자가 배치되어 있다고 하는 것은, 광학 필름과 편광자가 별도로 형성되어 있는 경우뿐만 아니라, 광학 필름을 구성하는 부재가 편광자를 구성하는 부재를 겸하고 있는 경우도 포함하는 것이다.In addition, the fact that a polarizer is arrange | positioned at the light transmissive base material side opposite to the hard-coat layer of an optical film is not only the case where an optical film and a polarizer are formed separately, but the member which comprises an optical film comprises the polarizer. It also includes the case where it also serves as.

또한, 본 발명에 관한 편광판을 디스플레이 패널에 사용하는 경우, 통상, 편광자측에 디스플레이 패널이 배치된다.In addition, when using the polarizing plate which concerns on this invention for a display panel, a display panel is normally arrange | positioned at the polarizer side.

또한, 광학 필름에 대해서는, 상술한 광학 필름을 사용하면 되므로, 여기에서의 설명은 생략한다. 이하, 본 발명에 관한 편광판에서의 다른 구성에 대하여 설명한다.In addition, since the optical film mentioned above should be used about an optical film, the description here is abbreviate | omitted. Hereinafter, the other structure in the polarizing plate which concerns on this invention is demonstrated.

(편광자)(Polarizer)

본 발명에 사용되는 편광자로서는 소정의 편광 특성을 구비하는 것이면 특별히 한정되는 것이 아니며, 일반적으로 액정 표시 장치에 사용되는 편광자를 사용할 수 있다.As a polarizer used for this invention, if it has a predetermined polarization characteristic, it will not specifically limit, Generally, the polarizer used for a liquid crystal display device can be used.

편광자는 소정의 편광 특성을 장기간 유지할 수 있는 형태이면 특별히 한정되는 것이 아니며, 예를 들어 편광층만으로 구성되어도 되고, 보호 필름과 편광층이 접합된 것이어도 된다. 보호 필름과 편광층이 접합되어 있는 경우, 편광층의 편면에만 보호 필름이 형성되어도 되고, 편광층의 양면에 보호 필름이 형성되어도 된다.A polarizer will not be specifically limited if it is a form which can maintain predetermined | prescribed polarization characteristic for a long time, For example, it may be comprised only with a polarizing layer, and the thing which the protective film and the polarizing layer were bonded may be sufficient. When the protective film and the polarizing layer are bonded, the protective film may be formed only on one side of the polarizing layer, or the protective film may be formed on both surfaces of the polarizing layer.

편광층으로서는, 통상 폴리비닐알코올로 이루어지는 필름에 요오드를 함침시키고, 이것을 1축 연신함으로써 폴리비닐알코올과 요오드의 착체를 형성시킨 것이 사용된다.As a polarizing layer, the thing which formed the complex of polyvinyl alcohol and iodine is usually used by impregnating iodine in the film which consists of polyvinyl alcohol, and uniaxially stretching this.

또한, 보호 필름으로서는 상기 편광층을 보호할 수 있고, 또한 원하는 광투과성을 갖는 것이면 특별히 한정되는 것이 아니다.Moreover, as a protective film, if the said polarizing layer can be protected and it has desired light transmittance, it will not specifically limit.

보호 필름의 광투과성으로서는 가시광 영역에서의 투과율이 80% 이상인 것이 바람직하고, 90% 이상인 것이 보다 바람직하다.As light transmittance of a protective film, it is preferable that the transmittance | permeability in a visible light region is 80% or more, and it is more preferable that it is 90% or more.

또한, 상기 보호 필름의 투과율은 JIS K7361-1(플라스틱-투명 재료의 전체 광투과율의 시험 방법)에 의해 측정할 수 있다.In addition, the transmittance | permeability of the said protective film can be measured by JISK7361-1 (test method of the total light transmittance of a plastics-transparent material).

보호 필름을 구성하는 수지로서는, 예를 들어 셀룰로오스 유도체, 시클로올레핀계 수지, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리비닐알코올, 폴리이미드, 폴리아릴레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등을 들 수 있다. 그 중에서도 셀룰로오스 유도체 또는 시클로올레핀계 수지를 사용하는 것이 바람직하다.Examples of the resin constituting the protective film include a cellulose derivative, a cycloolefin resin, polymethyl methacrylate, polyvinyl alcohol, polyimide, polyarylate, and polyethylene terephthalate. Among them, it is preferable to use a cellulose derivative or a cycloolefin-based resin.

보호 필름은 단일한 층으로 이루어지는 것이어도 되고, 복수의 층이 적층된 것이어도 된다. 또한, 보호 필름이 복수의 층이 적층된 것인 경우에는, 동일 조성의 복수의 층이 적층되어도 되고, 또한 다른 조성을 갖는 복수의 층이 적층되어도 된다.The protective film may consist of a single layer or may be a laminate of a plurality of layers. In addition, when a protective film is what laminated | stacked several layers, the some layer of the same composition may be laminated | stacked, and the some layer which has another composition may be laminated | stacked.

또한, 보호 필름의 두께는, 본 발명의 편광판의 가요성을 원하는 범위 내로 할 수 있고, 또한 편광층과 접합함으로써 편광자의 치수 변화를 소정의 범위 내로 할 수 있는 범위이면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 5 내지 200㎛의 범위 내인 것이 바람직하고, 특히 15 내지 150㎛의 범위 내인 것이 바람직하고, 또한 30 내지 100㎛의 범위 내인 것이 바람직하다. 상기 두께가 5㎛보다도 얇으면, 본 발명의 편광판의 치수 변화가 커져 버릴 우려가 있다. 또한, 상기 두께가 200㎛보다도 두꺼우면, 예를 들어 본 발명의 편광판을 재단 가공할 때에, 가공 부스러기가 증가하거나 재단 날의 마모가 빨라져 버릴 우려가 있다.The thickness of the protective film is not particularly limited as long as the flexibility of the polarizing plate of the present invention can be within a desired range, and the dimensional change of the polarizer can be within a predetermined range by bonding with the polarizing layer. It is preferable to exist in the range of -200 micrometers, It is preferable to exist in the range of 15-150 micrometers especially, and also to exist in the range which is 30-100 micrometers further. When the said thickness is thinner than 5 micrometers, there exists a possibility that the dimensional change of the polarizing plate of this invention may become large. Moreover, when the said thickness is thicker than 200 micrometers, when cutting the polarizing plate of this invention, for example, there exists a possibility that processing waste may increase or abrasion of a cutting blade may accelerate.

보호 필름은 위상차성을 갖는 것이어도 된다. 위상차성을 갖는 보호 필름을 사용함으로써, 본 발명의 편광판을 디스플레이 패널의 시야각 보상 기능을 갖는 것으로 할 수 있다고 하는 이점이 있다.The protective film may have a retardation. By using the protective film which has retardation, there exists an advantage that the polarizing plate of this invention can be made to have the viewing angle compensation function of a display panel.

보호 필름이 위상차성을 갖는 형태로서는, 원하는 위상차성을 발현할 수 있는 형태이면 특별히 한정되는 것이 아니다. 이러한 형태로서는, 예를 들어 보호 필름이 단일한 층으로 이루어지는 구성을 갖고, 위상차성을 발현하는 광학 특성 발현제를 함유함으로써 위상차성을 갖는 형태와, 상술한 수지로 이루어지는 보호 필름 상에 굴절률 이방성을 갖는 화합물을 함유하는 위상차층이 적층된 구성을 가짐으로써, 위상차성을 갖는 형태를 들 수 있다. 본 발명에 있어서는, 이들 어느 형태라도 적절하게 사용할 수 있다.It will not specifically limit, if the protective film is a form which can express desired retardation as a form which has retardation. As such an aspect, the protective film has a structure which consists of a single layer, for example, and contains refractive index anisotropy on the aspect which has retardation by containing the optical characteristic expression agent which expresses retardation, and the protective film which consists of resin mentioned above When the retardation layer containing the compound which has a compound is laminated | stacked, the aspect which has retardation is mentioned. In this invention, any of these forms can be used suitably.

(디스플레이)(display)

본 발명에 관한 디스플레이는, 상기 광학 필름의 상기 하드 코트층과는 반대의 광투과성 기재측에 디스플레이 패널이 배치되어 있는 것을 특징으로 한다.The display which concerns on this invention is arrange | positioned at the light transmissive base material side opposite to the said hard-coat layer of the said optical film, It is characterized by the above-mentioned.

디스플레이로서는 LCD, PDP, ELD(유기 EL, 무기 EL), CRT 등을 들 수 있다.Examples of the display include LCD, PDP, ELD (organic EL, inorganic EL), CRT, and the like.

디스플레이는, 디스플레이의 시청자측 부재의 디스플레이 패널과, 구동부를 포함하는 배면측 부재로 이루어진다. 액정 디스플레이를 예로 들어 설명하면, 디스플레이 패널이란 액정재를 가둔 2매의 유리판(예를 들어, 컬러 필터 기판과 어레이 기판)과 편광판 및 본 발명의 광학 필름 등으로 이루어지는 부재이다. 액정 디스플레이를 예로 들어 설명하면, 배면측 부재란 백라이트라고 불리는 광원이나 LCD를 제어하는 구동 회로, 광원을 제어하는 회로 및 섀시 등으로 이루어지는 부재이다. 이 경우의 액정 디스플레이의 층 구성의 일례로서는 도광판이나 확산 필름 등을 포함하는 백라이트부가 있고, 그 시청자측에 편광판, 어레이 기판, 액정층, 컬러 필터 기판, 편광판, 광학 필름의 순으로 적층되어 이루어지는 것이다.The display consists of a display panel of a viewer side member of the display and a back side member including a drive unit. When explaining a liquid crystal display as an example, a display panel is a member which consists of two glass plates (for example, a color filter board | substrate and an array board | substrate), a polarizing plate, the optical film of this invention, etc. which trapped the liquid crystal material. Taking a liquid crystal display as an example, the back side member is a member including a light source called a backlight, a driving circuit for controlling the LCD, a circuit for controlling the light source, a chassis, and the like. As an example of the layer structure of a liquid crystal display in this case, there exists a backlight part containing a light guide plate, a diffusion film, etc., and is laminated | stacked on the viewer side in order of a polarizing plate, an array substrate, a liquid crystal layer, a color filter substrate, a polarizing plate, and an optical film. .

상기 디스플레이의 다른 일례인 PDP는, 표면 유리 기판과 상기 표면 유리 기판에 대향하여 사이에 방전 가스가 봉입되어 배치된 배면 유리 기판을 구비하여 이루어지는 것이다. 상기 디스플레이가 PDP인 경우, 표면 유리 기판의 표면 또는 그의 전방면판(유리 기판 또는 필름 기판)에 상기 광학 필름을 구비하는 것이기도 하다.The PDP which is another example of the said display is provided with the surface glass substrate and the back glass substrate in which discharge gas was enclosed and arrange | positioned facing the said surface glass substrate. When the display is a PDP, the optical film may be provided on the surface of the surface glass substrate or on the front surface plate thereof (glass substrate or film substrate).

상기 디스플레이는 전압을 걸면 발광하는 황화아연, 디아민류 물질 등의 발광체를 유리 기판에 증착하고, 기판에 거는 전압을 제어하여 표시를 행하는 ELD 장치 또는 전기 신호를 광으로 변환하여 인간의 눈에 보이는 상을 발생시키는 CRT 등의 디스플레이이어도 된다. 이 경우, ELD 장치 또는 CRT의 최표면 또는 그 전방면판의 표면에 상기 광학 필름을 구비하는 것이다.The display includes a light emitting element such as zinc sulfide or a diamine material that emits light when a voltage is applied to a glass substrate, and converts an ELD device or an electrical signal that displays the light by controlling the voltage applied to the substrate to light, thereby making the image visible to the human eye. It may be a display such as a CRT that generates. In this case, the optical film is provided on the outermost surface of the ELD device or the CRT or on the surface of the front face plate.

<실시예><Examples>

이하, 실시예를 들어 본 발명을 더욱 구체적으로 설명한다. 이들 기재에 의해 본 발명을 제한하는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described more specifically by way of examples. The present invention is not limited by these descriptions.

저굴절률 미립자로서 닛끼 쇼꾸바이 가세이(주)제의 중공 실리카 미립자(상품명 스루 리어 DAS(평균 입경 50nm, MIBK 분산액, 고형분 20%))를 사용하였다.As low refractive index microparticles | fine-particles, the hollow silica microparticles (brand name through rear DAS (average particle diameter 50nm, MIBK dispersion liquid, 20% of solid content)) by the Nikki Shokubai Kasei Co., Ltd. were used.

제1 수지 (1)로서 아라까와 가가꾸 고교(주)제의 상품명 빔 세트 DK1(중량 평균 분자량 20000, 고형분 75%, MIBK 용제)을 사용하였다.The brand name beam set DK1 (weight average molecular weight 20000, 75% of solid content, MIBK solvent) by Arakawa Chemical Industries, Ltd. was used as 1st resin (1).

제1 수지 (2)로서 닛본 가야꾸(주)제의 펜타에리트리톨트리아크릴레이트를 사용하였다.Nippon Kayaku Co., Ltd. pentaerythritol triacrylate was used as 1st resin (2).

제1 수지를 겸한 저굴절률 수지로서 교에샤 가가꾸(주)제의 LINC-3A(하기 화학식 (1)로 표시되는 트리아크릴로일-헵타데카플루오로노네닐-펜타에리트리톨(주성분)과 펜타에리트리톨트리아크릴레이트의 혼합물)를 사용하였다.LINC-3A (triacryloyl-heptadecafluorononenyl-pentaerythritol (main component) represented by the following formula (1)) manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd. as a low refractive index resin serving as the first resin; A mixture of pentaerythritol triacrylate).

화학식 (1)(1)

Figure 112012034489274-pct00001
Figure 112012034489274-pct00001

중합 개시제로서 시바 재팬(주)제의 상품명 이르가큐어(Irg) 184를 사용하였다.As a polymerization initiator, the brand name Irgacure (Irg) 184 by Ciba Japan Co., Ltd. was used.

레벨링제로서 DIC(주)제의 상품명 MCF350-5(고형분 5%)를 사용하였다.The brand name MCF350-5 (solid content 5%) by DIC Corporation was used as a leveling agent.

용제로서 MIBK를 사용하였다.MIBK was used as a solvent.

광투과성 기재로서 후지 필름(주)제의 TAC 기재, 상품명 TD80UL(두께 80㎛)을 사용하였다.As a light-transmissive base material, the TAC base material and brand name TD80UL (80 micrometers in thickness) made from Fujifilm Co., Ltd. were used.

또한, 제1 조성물 및 제2 조성물의 점도는 안톤 파르사제의 MCR301을 사용하고, 측정 지그는 PP50으로 하고, 측정 온도는 25℃, 전단 속도는 10000[1/s]의 조건에서 측정 대상의 조성물(잉크)을 적당량 스테이지에 적하하여 측정하였다.In addition, the viscosity of a 1st composition and a 2nd composition uses MCR301 made from Anton Parsa, the measurement jig is PP50, the measurement temperature is 25 degreeC, and the shear rate is the composition of a measurement object on 10000 [1 / s] conditions. (Ink) was dripped at the appropriate amount stage and it measured.

건조 막 두께의 측정은 미쯔또요(Mitutoyo)제의 상품명 디지마틱 인디케이터(DIGIMATIC INDICATOR) CODE215-403을 사용하여 유리 상에 측정 대상의 샘플을 놓고 측정하였다.The dry film thickness was measured by placing a sample to be measured on glass using a Mitsutoyo trade name DIGIMATIC INDICATOR CODE215-403.

각 화합물의 약어는 각각 이하와 같다.The abbreviations of the respective compounds are as follows.

PETA: 펜타에리트리톨트리아크릴레이트PETA: pentaerythritol triacrylate

MIBK: 메틸이소부틸케톤MIBK: methyl isobutyl ketone

IPA: 이소프로판올IPA: isopropanol

TAC: 트리아세틸셀룰로오스TAC: triacetylcellulose

(제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물의 제조)(Manufacture of curable resin composition for 1st hard-coat layer)

각각 하기에 나타내는 조성의 성분을 배합하여 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1 및 2, 및 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1을 제조하였다.The components of the composition shown below were respectively mix | blended and the curable resin composition 1 and 2 for 1st hard-coat layer, and curable resin composition 1 for 2nd hard-coat layer were manufactured.

(제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1)(Curable resin composition 1 for 1st hard-coat layer)

빔 세트 DK1: 64.72질량부(고형분 환산 48.54질량부)Beam set DK1: 64.72 parts by mass (48.54 parts by mass in terms of solids)

Irg184: 1.94질량부Irg184: 1.94 parts by mass

MCF350-5: 0.97질량부(고형분 환산 0.05질량부)MCF350-5: 0.97 parts by mass (0.05 parts by mass of solid content)

MIBK: 32.36질량부MIBK: 32.36 parts by mass

(제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 2)(Curable resin composition 2 for 1st hard-coat layer)

PETA: 75.49질량부(고형분 환산 56.62질량부)PETA: 75.49 parts by mass (56.62 parts by mass in terms of solids)

Irg184: 3.02질량부Irg184: 3.02 parts by mass

MCF350-5: 3.02질량부(고형분 환산 0.15질량부)MCF350-5: 3.02 parts by mass (solid content of 0.15 parts by mass)

MIBK: 18.47질량부MIBK: 18.47 parts by mass

(제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1)(Curable resin composition 1 for 2nd hard-coat layers)

스루 리어 DAS: 75.81(고형분 환산 15.16질량부)Through rear DAS: 75.81 (15.16 parts by weight of solids)

빔 세트 DK1: 13.48질량부(고형분 환산 10.11질량부)Beam set DK1: 13.48 parts by mass (10.11 parts by mass in terms of solid content)

Irg184: 0.61질량부Irg184: 0.61 parts by mass

MCF350-5: 10.11질량부(고형분 환산 0.51질량부)MCF350-5: 10.11 parts by mass (0.51 parts by mass in terms of solid content)

(제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 2)(Curable resin composition 2 for 2nd hard-coat layers)

스루 리어 DAS: 83.12(고형분 환산 16.62질량부)Through rear DAS: 83.12 (16.62 parts by weight of solid content)

빔 세트 DK1: 15.83질량부(고형분 환산 11.87질량부)Beam set DK1: 15.83 parts by mass (solid equivalents 11.87 parts by mass)

Irg184: 0.48질량부Irg184: 0.48 parts by mass

MCF350-5: 0.57질량부(고형분 환산 0.03질량부)MCF350-5: 0.57 parts by mass (solid content of 0.03 parts by mass)

(제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 3)(Curable resin composition 3 for 2nd hard-coat layers)

스루 리어 DAS: 73.95(고형분 환산 14.79질량부)Through rear DAS: 73.95 (14.79 parts by mass of solid content)

빔 세트 DK1: 24.65질량부(고형분 환산 18.49질량부)Beam set DK1: 24.65 parts by mass (18.49 parts by mass in terms of solid content)

Irg184: 0.74질량부Irg184: 0.74 mass parts

MCF350-5: 0.67질량부(고형분 환산 0.03질량부)MCF350-5: 0.67 parts by mass (solid content of 0.03 parts by mass)

(제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 4)(Curable resin composition 4 for 2nd hard-coat layers)

LINC-3A: 78.63LINC-3A: 78.63

Irg184: 3.15질량부Irg184: 3.15 parts by mass

MCF350-5: 15.73질량부(고형분 환산 0.79질량부)MCF350-5: 15.73 parts by mass (0.79 parts by mass in terms of solids)

MIBK: 2.49질량부MIBK: 2.49 parts by mass

(광학 필름의 제작)(Production of optical film)

(실시예 1)(Example 1)

상기 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1 및 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1을 증발기를 사용하여 용제를 증류 제거하고, 각각 점도를 30mPaㆍs로 조정하였다. 계속해서, 1m/분의 속도로 반송되는 TAC 기재(TD80UL) 상에, TAC 기재측으로부터 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1 및 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1이 위치하도록 2층 동시 도포를 행하였다. 이때, 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1 및 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1의 도막의 습윤 막 두께를 각각 20㎛, 10㎛로 하였다.The solvent was distilled off using the said curable resin composition 1 for 1st hard-coat layers, and the curable resin composition 1 for 2nd hard-coat layers using an evaporator, and the viscosity was adjusted to 30 mPa * s, respectively. Subsequently, on a TAC base material (TD80UL) conveyed at the speed of 1 m / min, 2 layer simultaneous application | coating is apply | coated so that curable resin composition 1 for 1st hard-coat layers and curable resin composition 1 for 2nd hard-coat layers may be located from a TAC base material side. It was done. At this time, the wet film thickness of the coating film of curable resin composition 1 for 1st hard-coat layers, and curable resin composition 1 for 2nd hard-coat layers was 20 micrometers and 10 micrometers, respectively.

계속해서, 2층 동시 도포의 도막을 70℃에서 60초간 건조하고, 질소 분위기 하에서 자외선을 적산 광량이 120mJ/cm2로 되도록 조사하여 도막을 경화시킴으로써, 건조 막 두께 10㎛의 하드 코트층을 형성하여, 광학 필름을 제작하였다.Subsequently, the coating film of two-layer co-application is dried at 70 degreeC for 60 second, and a hard-coat layer with a dry film thickness of 10 micrometers is formed by irradiating an ultraviolet-ray to a accumulated light amount of 120 mJ / cm <2> in nitrogen atmosphere, and hardening a coating film. The optical film was produced.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

실시예 1에 있어서, 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1을 사용하지 않고, 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1만을 습윤 막 두께 20㎛로 도포하고, 건조 막 두께 9㎛의 하드 코트층을 형성한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 광학 필름을 제작하였다.In Example 1, only the curable resin composition 1 for 1st hard-coat layer was apply | coated to 20 micrometers of wet film thickness, and the hard coat layer of 9 micrometers of dry film thickness was formed, without using curable resin composition 1 for 2nd hard-coat layers. Except having done, the optical film was produced like Example 1.

(비교예 2)(Comparative Example 2)

실시예 1에 있어서, 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1을 사용하지 않고, 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1만을 습윤 막 두께 20㎛로 도포하고, 건조 막 두께 10㎛의 하드 코트층을 형성한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 광학 필름을 제작하였다.In Example 1, only curable resin composition 1 for 2nd hard-coat layers is apply | coated to 20 micrometers of wet film thicknesses, and the hard coat layer of 10 micrometers of dry film thicknesses is formed, without using curable resin composition 1 for 1st hard-coat layers. Except having done, the optical film was produced like Example 1.

(비교예 3)(Comparative Example 3)

실시예 1에 있어서, 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1만을 습윤 막 두께 20㎛로 도포하고, 그 도막을 70℃에서 60초간 건조하고, 질소 분위기 하에서 자외선을 적산 광량이 120mJ/cm2로 되도록 조사하여 도막을 경화시키고, 계속해서 그 경화막 상에 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1만을 습윤 막 두께 10㎛로 도포하고, 그 도막을 70℃에서 60초간 건조하고, 질소 분위기 하에서 자외선을 적산 광량이 120mJ/cm2로 되도록 조사하여 도막을 경화시켜, 합계 건조 막 두께 10㎛의 하드 코트층을 형성한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 광학 필름을 제작하였다.In Example 1, only the curable resin composition 1 for the first hard coat layer was applied at a wet film thickness of 20 μm, the coating film was dried at 70 ° C. for 60 seconds, and the amount of ultraviolet light accumulated in a nitrogen atmosphere was 120 mJ / cm 2 . Irradiate, harden a coating film, and apply | coating only the curable resin composition 1 for 2nd hard-coat layers at 10 micrometers of wet film thickness on this cured film, and drying this coating film at 70 degreeC for 60 second, and integrating an ultraviolet-ray under nitrogen atmosphere. The optical film was produced like Example 1 except having irradiated so that light quantity might be 120mJ / cm <2> and hardening a coating film and forming the hard-coat layer of 10 micrometers of total dry film thicknesses.

(실시예 2)(Example 2)

상기 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1 및 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 2를 각각 점도 10mPaㆍs로 조정하였다. 계속해서, 20m/분의 속도로 반송되는 TAC 기재(TD80UL) 상에, TAC 기재측으로부터 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1 및 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 2가 위치하도록 2층 동시 도포를 행하였다. 이때, 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1 및 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 2의 도막의 습윤 막 두께를 각각 25㎛, 5㎛로 하였다.The said curable resin composition 1 for hard coat layers, and the curable resin composition 2 for 2nd hard coat layers were adjusted to viscosity 10 mPa * s, respectively. Subsequently, on the TAC base material (TD80UL) conveyed at the speed of 20 m / min, 2 layer simultaneous application | coating is apply | coated so that curable resin composition 1 for 1st hard-coat layers and curable resin composition 2 for 2nd hard-coat layers may be located from a TAC base material side. It was done. At this time, the wet film thickness of the coating film of curable resin composition 1 for 1st hard-coat layers, and curable resin composition 2 for 2nd hard-coat layers was set to 25 micrometers and 5 micrometers, respectively.

계속해서, 2층 동시 도포의 도막을 70℃에서 60초간 건조하고, 질소 분위기 하에서 자외선을 적산 광량이 120mJ/cm2로 되도록 조사하여 도막을 경화시킴으로써, 건조 막 두께 11㎛의 하드 코트층을 형성하여, 광학 필름을 제작하였다.Subsequently, the coating film of two-layer co-application is dried at 70 degreeC for 60 second, and a hard-coat layer with a dry film thickness of 11 micrometers is formed by irradiating an ultraviolet-ray to a accumulated light amount of 120 mJ / cm <2> in nitrogen atmosphere, and hardening a coating film. The optical film was produced.

(실시예 3)(Example 3)

실시예 2에 있어서, 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1 및 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 2의 도막의 습윤 막 두께를 각각 25㎛, 1㎛로 하고, 건조 막 두께 8㎛의 하드 코트층을 형성한 것 이외에는, 실시예 2와 마찬가지로 하여 광학 필름을 제작하였다.In Example 2, the wet-coat thickness of the coating film of curable resin composition 1 for 1st hard-coat layers, and curable resin composition 2 for 2nd hard-coat layers is set to 25 micrometers and 1 micrometer, respectively, and the hard-coat layer of 8 micrometers of dry film thicknesses Except for forming a film, an optical film was produced in the same manner as in Example 2.

(실시예 4)(Example 4)

실시예 2에 있어서, 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1 및 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 2의 도막의 습윤 막 두께를 각각 18.75㎛, 3.75㎛로 하고, 건조 막 두께 6㎛의 하드 코트층을 형성한 것 이외에는, 실시예 2와 마찬가지로 하여 광학 필름을 제작하였다.In Example 2, the wet-coat thickness of the coating film of curable resin composition 1 for 1st hard-coat layers, and curable resin composition 2 for 2nd hard-coat layers was 18.75 micrometers, 3.75 micrometers, respectively, and the hard-coat layer of 6 micrometers of dry film thicknesses Except for forming a film, an optical film was produced in the same manner as in Example 2.

(비교예 4)(Comparative Example 4)

실시예 2에 있어서, 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 2를 사용하지 않고, 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1만을 습윤 막 두께 20㎛로 도포하고, 건조 막 두께 11㎛의 하드 코트층을 형성한 것 이외에는, 실시예 2와 마찬가지로 하여 광학 필름을 제작하였다.In Example 2, only curable resin composition 1 for 1st hard-coat layer is apply | coated to 20 micrometers of wet film thickness, without using curable resin composition 2 for 2nd hard-coat layer, and the hard-coat layer of 11 micrometers of dry film thickness is formed. Except having done, the optical film was produced similarly to Example 2.

(비교예 5)(Comparative Example 5)

실시예 2에 있어서, 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1을 사용하지 않고, 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 2만을 습윤 막 두께 10㎛로 도포하고, 건조 막 두께 5㎛의 하드 코트층을 형성한 것 이외에는, 실시예 2와 마찬가지로 하여 광학 필름을 제작하였다.In Example 2, only curable resin composition 2 for 2nd hard-coat layers was apply | coated to 10 micrometers of wet film thicknesses, without using the curable resin composition 1 for 1st hard-coat layer, and the hard-coat layer of 5 micrometers of dry film thicknesses was formed. Except having done, the optical film was produced similarly to Example 2.

(비교예 6)(Comparative Example 6)

실시예 2에 있어서, 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1 및 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 2의 동시 도포 후, 건조 전에, 질소 분위기 하에서 자외선을 적산 광량이 50mJ/cm2로 되도록 조사(예비 경화)한 것 이외에는, 실시예 2와 마찬가지로 하여 광학 필름을 제작하였다.In Example 2, after simultaneous application | coating of curable resin composition 1 for 1st hard-coat layers, and curable resin composition 2 for 2nd hard-coat layers, before drying, ultraviolet-ray is irradiated so that accumulated light amount may be 50 mJ / cm <2> (preliminary | preliminary). Except having hardened), it carried out similarly to Example 2, and produced the optical film.

(실시예 5)(Example 5)

상기 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1 및 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 3을 각각 점도 10mPaㆍs로 조정하였다. 계속해서, 20m/분의 속도로 반송되는 TAC 기재(TD80UL) 상에, TAC 기재측으로부터 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1 및 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 3이 위치하도록 2층 동시 도포를 행하였다. 이때, 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1 및 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 3의 도막의 습윤 막 두께를 각각 25㎛, 5㎛로 하였다.The said curable resin composition 1 for hard coat layers, and the curable resin composition 3 for 2nd hard coat layers were adjusted to viscosity 10 mPa * s, respectively. Subsequently, on the TAC base material (TD80UL) conveyed at the speed of 20 m / min, 2 layer simultaneous application | coating is applied so that the curable resin composition 1 for 1st hard-coat layers and curable resin composition 3 for 2nd hard-coat layers may be located from a TAC base material side. It was done. At this time, the wet film thickness of the coating film of curable resin composition 1 for 1st hard-coat layers, and curable resin composition 3 for 2nd hard-coat layers was 25 micrometers and 5 micrometers, respectively.

계속해서, 2층 동시 도포의 도막을 70℃에서 60초간 건조하고, 질소 분위기 하에서 자외선을 적산 광량이 120mJ/cm2로 되도록 조사하여 도막을 경화시킴으로써, 건조 막 두께 9㎛의 하드 코트층을 형성하여, 광학 필름을 제작하였다.Subsequently, the coating film of two-layer co-application is dried at 70 degreeC for 60 second, and a hard coat layer with a dry film thickness of 9 micrometers is formed by irradiating an ultraviolet-ray to a accumulated light amount of 120 mJ / cm <2> in nitrogen atmosphere, and hardening a coating film. The optical film was produced.

(실시예 6)(Example 6)

실시예 5에 있어서, 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1 및 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 3의 도막의 습윤 막 두께를 각각 25㎛, 1㎛로 하고, 건조 막 두께 8㎛의 하드 코트층을 형성한 것 이외에는, 실시예 5와 마찬가지로 하여 광학 필름을 제작하였다.In Example 5, the wet-coat thickness of the coating film of curable resin composition 1 for 1st hard-coat layers, and curable resin composition 3 for 2nd hard-coat layers is set to 25 micrometers and 1 micrometer, respectively, and the hard coat layer of 8 micrometers of dry film thicknesses Except for forming a film, an optical film was produced in the same manner as in Example 5.

(실시예 7)(Example 7)

실시예 5에 있어서, 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1 및 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 3의 도막의 습윤 막 두께를 각각 18.75㎛, 3.75㎛로 하고, 건조 막 두께 5㎛의 하드 코트층을 형성한 것 이외에는, 실시예 5와 마찬가지로 하여 광학 필름을 제작하였다.In Example 5, the wet-coat thickness of the coating film of curable resin composition 1 for 1st hard-coat layers, and curable resin composition 3 for 2nd hard-coat layers was 18.75 micrometers and 3.75 micrometers, respectively, and the hard-coat layer of 5 micrometers of dry film thicknesses Except for forming a film, an optical film was produced in the same manner as in Example 5.

(비교예 7)(Comparative Example 7)

실시예 5에 있어서, 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1을 사용하지 않고, 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 3만을 습윤 막 두께 10㎛로 도포하고, 건조 막 두께 5㎛의 하드 코트층을 형성한 것 이외에는, 실시예 5와 마찬가지로 하여 광학 필름을 제작하였다.In Example 5, only the curable resin composition 3 for 2nd hard-coat layers was apply | coated to 10 micrometers of wet film thicknesses, without using the curable resin composition 1 for 1st hard-coat layers, and the hard-coat layer of 5 micrometers of dry film thicknesses was formed. Except having done, the optical film was produced similarly to Example 5.

(실시예 8)(Example 8)

상기 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 2 및 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 4를 각각 점도 30mPaㆍs로 조정하였다. 계속해서, 1m/분의 속도로 반송되는 TAC 기재(TD80UL) 상에, TAC 기재측으로부터 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 2 및 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 4가 위치하도록 2층 동시 도포를 행하였다. 이때, 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 2 및 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 4의 도막의 습윤 막 두께를 각각 20㎛, 10㎛로 하였다.The said curable resin composition 2 for 1st hard-coat layers, and the curable resin composition 4 for 2nd hard-coat layers were adjusted to viscosity 30 mPa * s, respectively. Subsequently, on the TAC base material (TD80UL) conveyed at the speed of 1 m / min, two-layer simultaneous application | coating is applied so that the curable resin composition 2 for 1st hard-coat layers and curable resin composition 4 for 2nd hard-coat layers may be located from a TAC base material side. It was done. At this time, the wet film thickness of the coating film of curable resin composition 2 for 1st hard-coat layers, and curable resin composition 4 for 2nd hard-coat layers was 20 micrometers and 10 micrometers, respectively.

계속해서, 2층 동시 도포의 도막을 25℃에서 60초간 건조하고, 질소 분위기 하에서 자외선을 적산 광량이 120mJ/cm2로 되도록 조사하여 도막을 경화시킴으로써, 건조 막 두께 14㎛의 하드 코트층을 형성하고, 광학 필름을 제작하였다.Subsequently, the coating film of the two-layer co-application is dried at 25 degreeC for 60 second, and a hard-coat layer with a dry film thickness of 14 micrometers is formed by irradiating an ultraviolet-ray to a accumulated light amount of 120 mJ / cm <2> in nitrogen atmosphere, and hardening a coating film. And the optical film was produced.

(실시예 9)(Example 9)

실시예 8에 있어서, 2층 동시 도포의 도막의 건조 온도를 50℃로 한 것 이외에는, 실시예 8과 마찬가지로 하여 광학 필름을 제작하였다.In Example 8, an optical film was produced in the same manner as in Example 8 except that the drying temperature of the coating film of the two-layer co-application was set to 50 ° C.

(실시예 10)(Example 10)

실시예 8에 있어서, 2층 동시 도포의 도막의 건조 온도를 70℃로 한 것 이외에는, 실시예 8과 마찬가지로 하여 광학 필름을 제작하였다.In Example 8, the optical film was produced like Example 8 except having made the drying temperature of the coating film of two layer simultaneous coating into 70 degreeC.

(실시예 11)(Example 11)

실시예 8에 있어서, 2층 동시 도포의 도막의 건조 온도를 100℃로 한 것 이외에는, 실시예 8과 마찬가지로 하여 광학 필름을 제작하였다.In Example 8, an optical film was produced in the same manner as in Example 8 except that the drying temperature of the coating film of the two-layer simultaneous coating was set to 100 ° C.

(실시예 12)(Example 12)

실시예 10에 있어서, 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 2 및 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 4의 도막의 습윤 막 두께를 각각 25㎛, 5㎛로 한 것 이외에는, 실시예 10과 마찬가지로 하여 광학 필름을 제작하였다.In Example 10, it carried out similarly to Example 10 except having set the wet film thickness of the coating film of curable resin composition 2 for 1st hard-coat layers, and curable resin composition 4 for 2nd hard-coat layers, respectively to 25 micrometers and 5 micrometers. A film was produced.

(비교예 8)(Comparative Example 8)

실시예 10에 있어서, 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 4를 사용하지 않고, 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 2만을 습윤 막 두께 20㎛로 도포하고, 건조 막 두께 9㎛의 하드 코트층을 형성한 것 이외에는, 실시예 10과 마찬가지로 하여 광학 필름을 제작하였다.In Example 10, only the curable resin composition 2 for 1st hard-coat layers was apply | coated to 20 micrometers of wet film thicknesses, without using the curable resin composition 4 for 2nd hard-coat layers, and the hard-coat layer of 9 micrometers of dry film thicknesses was formed. Except what was done, the optical film was produced like Example 10.

(비교예 9)(Comparative Example 9)

실시예 10에 있어서, 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 2를 사용하지 않고, 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 4만을 습윤 막 두께 10㎛로 도포하고, 건조 막 두께 8㎛의 하드 코트층을 형성한 것 이외에는, 실시예 10과 마찬가지로 하여 광학 필름을 제작하였다.In Example 10, only the curable resin composition 4 for 2nd hard-coat layers was apply | coated to 10 micrometers of wet film thicknesses, without using the curable resin composition 2 for 1st hard-coat layers, and the hard-coat layer with a dry film thickness of 8 micrometers was formed. Except what was done, the optical film was produced like Example 10.

(실시예 13)(Example 13)

실시예 1에 있어서, 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1 및 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1의 점도를 각각 90mPaㆍs로 되도록 조정하고, 동시 도포 시에 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1 및 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 3의 도막의 습윤 막 두께를 각각 25㎛, 5㎛로 하고, 건조 막 두께 18㎛의 하드 코트층을 형성한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 광학 필름을 제작하였다.In Example 1, the viscosity of curable resin composition 1 for 1st hard-coat layers and curable resin composition 1 for 2nd hard-coat layers is adjusted to 90 mPa * s, respectively, and curable resin composition 1 for 1st hard-coat layers at the time of simultaneous application | coating And the wet film thickness of the coating film of the curable resin composition 3 for 2nd hard-coat layers were set to 25 micrometers and 5 micrometers, respectively, and the optical film was carried out similarly to Example 1 except having formed the hard-coat layer with a dry film thickness of 18 micrometers. Produced.

(비교예 10)(Comparative Example 10)

실시예 1에 있어서, 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1 및 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1의 점도를 각각 4mPaㆍs로 되도록 조정하고, 건조 막 두께 5㎛의 하드 코트층을 형성한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 광학 필름을 제작하였다.In Example 1, the viscosity of the curable resin composition 1 for 1st hard-coat layers, and the curable resin composition 1 for 2nd hard-coat layers were adjusted to be 4 mPa * s, respectively, and the hard-coat layer with a dry film thickness of 5 micrometers was formed. In the same manner as in Example 1 except for the above, an optical film was produced.

(비교예 11)(Comparative Example 11)

실시예 1에 있어서, 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1 및 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1의 점도를 각각 10mPaㆍs, 4mPaㆍs로 되도록 조정하고, 건조 막 두께 9㎛의 하드 코트층을 형성한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 광학 필름을 제작하였다.In Example 1, the viscosity of the curable resin composition 1 for the first hard coat layer and the curable resin composition 1 for the second hard coat layer was adjusted to 10 mPa · s and 4 mPa · s, respectively, and the hard coat layer having a dry film thickness of 9 μm. Except for forming a film, an optical film was produced in the same manner as in Example 1.

(비교예 12)(Comparative Example 12)

실시예 1에 있어서, 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1 및 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1의 점도를 각각 62mPaㆍs, 10mPaㆍs로 되도록 조정하고, 건조 막 두께 17㎛의 하드 코트층을 형성한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 광학 필름을 제작하였다.In Example 1, the viscosity of the curable resin composition 1 for the first hard coat layer and the curable resin composition 1 for the second hard coat layer was adjusted to be 62 mPa · s and 10 mPa · s, respectively, and the hard coat layer having a dry film thickness of 17 μm. Except for forming a film, an optical film was produced in the same manner as in Example 1.

(비교예 13)(Comparative Example 13)

실시예 1에 있어서, 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1 및 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 1의 점도를 각각 10mPaㆍs로 되도록 조정하고, 그 조정한 2개의 조성물을 실시예 1에서 사용한 것과 동일한 양으로 혼합하고, 그 혼합한 조성물을 TAC 기재 상에 도포하였다. 이때, 이 혼합한 조성물의 도막의 습윤 막 두께를 30㎛로 하였다.In Example 1, the viscosity of curable resin composition 1 for 1st hard-coat layer, and curable resin composition 1 for 2nd hard-coat layer was adjusted so that it might be set to 10 mPa * s, respectively, and the adjusted two compositions were used in Example 1, The same amount was mixed and the mixed composition was applied on a TAC substrate. At this time, the wet film thickness of the coating film of this mixed composition was 30 micrometers.

계속해서, 그 도막을 실시예 1과 마찬가지로 건조, 광조사를 행하여 건조 막 두께 10㎛의 하드 코트층을 형성하고, 광학 필름을 제작하였다.Subsequently, the coating film was dried and irradiated with light in the same manner as in Example 1 to form a hard coat layer having a dry film thickness of 10 μm, thereby producing an optical film.

상기 실시예 및 비교예에서 사용한 조성물의 종류, 습윤 막 두께, 도포 방식, 건조 막 두께 및 건조 조건 및 TAC 기재의 반송 속도를 정리한 것을 하기 표 1에 나타낸다.Table 1 shows the types of compositions used in the examples and comparative examples, the wet film thickness, the coating method, the dry film thickness and the drying conditions, and the conveyance speed of the TAC substrate.

Figure 112012034489274-pct00002
Figure 112012034489274-pct00002

(광학 필름의 평가)(Evaluation of optical film)

상기 실시예 및 비교예의 광학 필름에 대하여, 각각 하기에 나타낸 바와 같이 반사율, 헤이즈(Hz) 및 전체 광선 투과율에 대하여 측정을 행하였다. 또한, 상기 실시예 및 비교예의 광학 필름에 대하여, 각각 하기에 나타낸 바와 같이 간섭 줄무늬의 평가를 행하였다. 그 결과를 표 2에 나타낸다.About the optical film of the said Example and a comparative example, as shown below, it measured about reflectance, haze (Hz), and total light transmittance. Moreover, about the optical film of the said Example and a comparative example, as shown below, interference fringe was evaluated, respectively. The results are shown in Table 2.

또한, 실시예 1의 광학 필름의 단면 사진을 도 7 및 8에, 비교예 3의 광학 필름의 단면 사진을 도 9에 도시한다. 또한, 도 8의 단면 사진은 도 7의 사진에서의 HC층의 TAC 기재와는 반대측의 계면측을 확대한 것이다.In addition, the cross-sectional photograph of the optical film of Example 1 is shown to FIG. 7 and 8, and the cross-sectional photograph of the optical film of the comparative example 3 is shown in FIG. In addition, the cross-sectional photograph of FIG. 8 enlarges the interface side on the opposite side to the TAC base material of HC layer in the photograph of FIG.

(반사율의 측정)(Measurement of reflectance)

반사율의 측정은, 닛본 분꼬(주)제의 상품명 V7100형 자외 가시 분광 광도계 및 닛본 분꼬(주)제의 상품명 VAR-7010 절대 반사율 측정 장치를 사용하여, 입사각을 5°, 편광자를 N 편광, 측정 파장 범위를 380 내지 780nm로 하여 광학 필름의 TAC 기재측에 흑색 테이프를 접합하고, 그것을 장치에 설치하여 측정을 행하였다. 또한, 측정 파장 범위에서 구해진 측정 결과의 평균값을 반사율로 하였다.The reflectance was measured using a Nippon Bunko Co., Ltd. brand name V7100 ultraviolet visible spectrophotometer and a Nippon Bunko Co., Ltd. brand name VAR-7010 absolute reflectance measuring device, at an angle of incidence of 5 ° and polarized light with N polarization. The black tape was bonded to the TAC base material side of an optical film with the wavelength range 380-780 nm, it was installed in the apparatus, and it measured. In addition, the average value of the measurement result calculated | required in the measurement wavelength range was made into the reflectance.

(헤이즈 및 전체 광선 투과율의 측정)(Measurement of haze and total light transmittance)

헤이즈 및 전체 광선 투과율은 각각 JIS K-7136, JIS K7361에 준거하여 반사ㆍ투과율계 HM-150((주)무라까미 시끼사이 기쥬쯔 껭뀨쇼제)으로 측정하였다.Haze and total light transmittance were measured with the reflection and transmittance meter HM-150 (made by Murakami Shikisai Kijutsu Co., Ltd.) based on JISK-7136 and JISK7361, respectively.

(간섭 줄무늬의 평가)(Evaluation of interference stripes)

후나테크(주)제의 간섭 줄무늬 검사 램프(Na 램프)를 사용하여 육안으로 검사하고, 하기 기준으로 평가하였다.Visual inspection was performed using an interference striation test lamp (Na lamp) manufactured by Funatech Co., Ltd., and evaluated according to the following criteria.

○: 간섭 줄무늬의 발생이 거의 보이지 않은 것○: almost no generation of interference stripes

△: 간섭 줄무늬가 희미하게 보인 것(Triangle | delta): What interference fringes looked blurry

×: 간섭 줄무늬가 명확하게 보인 것×: interference fringes clearly visible

Figure 112012034489274-pct00003
Figure 112012034489274-pct00003

(밀착성의 평가)(Evaluation of adhesion)

상기 실시예 및 비교예의 광학 필름에 대하여, 각각 하기에 나타내는 바둑판 눈금 밀착성 시험의 밀착률의 측정을 행하였다.About the optical film of the said Example and a comparative example, the adhesion rate of the checkerboard scale adhesion test shown below was measured, respectively.

또한, 비교예 12에 대해서는 면 형상이 나빠서 측정할 수 없었다.In addition, about the comparative example 12, surface shape was bad and it could not measure.

(바둑판 눈금 밀착성 시험)(Checker scale adhesion test)

광학 필름의 HC층측 표면에 한변이 1mm인 사각형에서 합계 100눈금의 바둑판 눈금을 넣고, 니찌반(주)제의 공업용 24mm 셀로테이프(등록 상표)를 사용하여 5회 연속 박리 시험을 행하여, 하기 기준에 기초하여 산출되는 박리되지 않고 남은 눈금의 비율을 구하였다.A checkerboard scale of 100 divisions was put in a square of 1 mm on one side of the HC layer side surface of the optical film, and five consecutive peel tests were performed using an industrial 24mm cello tape (registered trademark) manufactured by Nichiban Co., Ltd. The ratio of the scale which remained without peeling computed based on was calculated | required.

밀착률(%)=(박리되지 않은 눈금의 수/합계 눈금수 100)×100Adhesion rate (%) = (number of scales not peeled off / total number of scales 100) × 100

(면 형상의 평가)(Evaluation of surface shape)

광학 필름의 외관의 면 형상(도포 시공 줄무늬의 유무)에 대하여 육안에 의해 평가를 행하였다.The surface shape (with or without coating streak) of the external appearance of the optical film was evaluated visually.

○: 도포 시공 줄무늬가 보이지 않은 것○: no coating streaks

△: 도포 시공 줄무늬가 희미하게 보인 것△: coating coating streaked faintly

×: 도포 시공 줄무늬가 명확하게 보인 것×: coating coating streaked clearly

(결과의 정리)(Summary of results)

표 2로부터 실시예에서는 모두 반사율 및 헤이즈가 낮았다. 실시예에서는 전체 광선 투과율은 91.5% 이상으로 높은 값이었다. 또한, 실시예에서는 모두 간섭 줄무늬의 발생이 억제되어 있었다. 또한, 실시예에서는 밀착성과 면 형상도 양호하였다. 특히 실시예 1과 실시예 2의 면 형상이 양호하였다.In Example 2 from Table 2, both reflectance and haze were low. In the Example, the total light transmittance was a high value of 91.5% or more. Moreover, in the Example, generation | occurrence | production of the interference fringe was suppressed all. Moreover, adhesiveness and surface shape were also favorable in the Example. In particular, the surface shape of Example 1 and Example 2 was favorable.

실시예 1의 광학 필름의 단면도인 도 7 및 도 8로부터, 중공 실리카 미립자가 HC층의 TAC 기재와는 반대측(상층측)으로부터 TAC 기재측일수록 적어지는 분포를 취하고 있는 것을 알 수 있고, 도 8로부터는 HC층의 TAC 기재와는 반대측의 계면부터 5㎛까지 대부분의 중공 실리카 미립자가 분포하고 있는 것을 알 수 있다.7 and 8 which are sectional views of the optical film of Example 1, it turns out that hollow silica microparticles | fine-particles take the distribution which becomes smaller from the opposite side (upper layer side) to the TAC base material side of HC layer, and FIG. 8 It turns out that most of the hollow silica fine particles are distributed from the interface on the side opposite to the TAC substrate of the HC layer to 5 µm.

또한, 도 7 내지 도 9를 대비하면, 실시예 1의 경우에서는 제1 조성물의 경화한 부분과 제2 조성물의 경화한 부분의 경계가 비교예 3에 비하여 명확하지 않은 것을 알 수 있다.7 to 9, it can be seen that in Example 1, the boundary between the cured portion of the first composition and the cured portion of the second composition is not as clear as in Comparative Example 3.

그러나, 실시예 1에 있어서 제2 조성물이 없는 경우에 상당하는 비교예 1에서는, 중공 실리카 미립자가 포함되지 않기 때문에 일반적인 하드 코트층만인 것과 동일한 반사율로 되어 버렸다.However, in the comparative example 1 which corresponds to the case where there is no 2nd composition in Example 1, since the hollow silica microparticles were not contained, it became the same reflectance only as a general hard coat layer.

실시예 1에 있어서 제1 조성물이 없는 경우에 상당하는 비교예 2에서는, 간섭 줄무늬가 발생하고 밀착률도 낮았다. 이것은 제2 조성물에 포함되는 중공 실리카 미립자가 HC층에 있어서 균일하게 분포하고, HC층의 TAC 기재측 계면에 위치함으로써 TAC 기재와 중공 실리카 미립자의 굴절률차가 커진 것에 의해 간섭 줄무늬가 발생한 것으로 추측된다. 또한, 이와 같이 HC층의 TAC 기재측 계면에 중공 실리카 미립자가 위치함으로써, HC층의 수지가 TAC 기재에 침투하여 경화하는 면적이 작아져 밀착성이 저하한 것으로 추측된다.In the comparative example 2 which corresponded to the case where there is no 1st composition in Example 1, interference fringes generate | occur | produced and the adhesiveness rate was also low. It is assumed that the interference fringes are caused by the fact that the hollow silica fine particles contained in the second composition are uniformly distributed in the HC layer and located at the TAC substrate side interface of the HC layer, whereby the refractive index difference between the TAC substrate and the hollow silica fine particles is increased. Moreover, when hollow silica microparticles | fine-particles are located in the TAC base material side interface of HC layer in this way, it is estimated that the area which resin of a HC layer penetrates and hardens | cures and the adhesiveness fell.

실시예 1에 있어서 동시 도포가 아니라 순차 도포를 한 경우에 상당하는 비교예 3에서는, 간섭 줄무늬가 희미하게 관찰되었다. 이것은 도 9의 단면 사진에 보여지는 바와 같이 제1 조성물의 경화한 부분과 제2 조성물의 경화한 부분의 경계가 명료하게 구별되고, 이 경계 부분의 굴절률차에 의해 간섭 줄무늬가 발생한 것으로 추측된다.In the comparative example 3 which corresponded to the case where application was carried out instead of simultaneous application in Example 1, the interference fringe was observed faintly. As shown in the cross-sectional photograph of FIG. 9, the boundary between the cured portion of the first composition and the cured portion of the second composition is clearly distinguished, and it is presumed that interference fringes are caused by the refractive index difference of the boundary portion.

실시예 2에 있어서 제2 조성물이 없는 경우에 상당하는 비교예 4에서는, 비교예 1과 마찬가지로 반사율이 일반적인 하드 코트층만의 것과 동일한 반사율로 되어 버렸다.In the comparative example 4 which corresponds to the case where there is no 2nd composition in Example 2, similarly to the comparative example 1, reflectance became the reflectance similar to only the general hard-coat layer.

실시예 2에 있어서 제1 조성물이 없는 경우에 상당하는 비교예 5에서는, 비교예 2와 마찬가지로 간섭 줄무늬가 발생하고 밀착률도 낮았다.In the comparative example 5 which corresponds to the case where there is no 1st composition in Example 2, interference fringes generate | occur | produced similarly to the comparative example 2, and the adhesiveness rate was also low.

실시예 2에 있어서 건조 전에 예비 경화를 행한 경우에 상당하는 비교예 6에서는 밀착률이 낮았다. 이것은 예비 경화를 행함으로써, 제1 조성물과 제2 조성물의 경화(수지의 중합 내지 가교)가 진행되어 버려, TAC 기재측의 제1 조성물에 포함되는 제1 수지가 TAC 기재에 충분히 침투하지 않았기 때문이라고 추측된다.In Comparative Example 6 corresponding to the case where preliminary curing was performed before drying in Example 2, the adhesion rate was low. This is because the curing of the first composition and the second composition (polymerization or crosslinking of the resin) proceeds by preliminary curing, and the first resin contained in the first composition on the TAC base material side does not sufficiently penetrate into the TAC base material. It is assumed.

실시예 5에 있어서 제1 조성물이 없는 경우에 상당하는 비교예 7에서는, 비교예 2와 마찬가지로 간섭 줄무늬가 발생하고 밀착률도 낮았다.In Comparative Example 7, which corresponds to the case where there was no first composition in Example 5, an interference fringe was generated similarly to Comparative Example 2, and the adhesion rate was also low.

실시예 10에 있어서 제2 조성물이 없는 경우에 상당하는 비교예 8에서는, 비교예 1과 마찬가지로 일반적인 하드 코트층만의 것과 동일한 반사율로 되어 버렸다.In the comparative example 8 which corresponds to the case where there is no 2nd composition in Example 10, it became the same reflectance only as the general hard-coat layer like the comparative example 1.

실시예 10에 있어서 제1 조성물이 없는 경우에 상당하는 비교예 9에서는, 비교예 2와 마찬가지로 간섭 줄무늬가 발생하고 밀착률도 낮았다.In the comparative example 9 which corresponds to the case where there is no 1st composition in Example 10, interference fringes generate | occur | produced similarly to the comparative example 2, and the adhesiveness rate was also low.

실시예 1에 있어서 제1 조성물과 제2 조성물의 점도가 모두 작은 경우에 상당하는 비교예 10에서는, 반사율이 비교예 1보다도 낮고, 실시예 1보다도 높았다. 이것은 2개의 조성물의 점도가 낮음으로써, 2개의 조성물의 혼합이 진행되어 버려, HC층의 TAC 기재와 반대측(상층측)에 존재하는 중공 실리카 미립자가 감소하고, 반사율이 높아졌기 때문이라고 추측된다.In Comparative Example 10, in which the viscosity of both the first composition and the second composition in Example 1 was small, the reflectance was lower than that of Comparative Example 1 and higher than that of Example 1. This is presumably because the mixing of the two compositions proceeds due to the low viscosity of the two compositions, and the hollow silica fine particles present on the opposite side (upper layer side) of the HC layer is reduced, and the reflectance is increased.

실시예 1에 있어서 HC층의 상층측의 제2 조성물의 점도가 작은 경우에 상당하는 비교예 11에서는 면 형상이 좋지 않았다.In Example 1, when the viscosity of the 2nd composition on the upper layer side of HC layer was small, the surface shape was not good.

실시예 1에 있어서 제1 조성물과 제2 조성물의 점도차가 큰 경우에 상당하는 비교예 12에서는, HC층 표면의 줄무늬가 대량으로 발생하고, 표면이 평활하지 않게 되어 버려, 광이 산란함으로써 반사율, 헤이즈 및 전체 광선 투과율을 측정할 수 없었다.In Comparative Example 12, which corresponds to the case where the viscosity difference between the first composition and the second composition in Example 1 is large, streaks on the surface of the HC layer are generated in a large amount, the surface is not smooth, and light scatters, thereby reflecting, Haze and total light transmittance could not be measured.

실시예 1에 있어서 제1 조성물과 제2 조성물을 균일하게 혼합한 것을 도포한 경우에 상당하는 비교예 13에서는, 반사율이 비교예 10과 동등하게 되었다. 또한, 간섭 줄무늬가 발생하고 밀착률도 낮았다. 이것은 2개의 조성물을 균일하게 혼합하여 도포한 것에 의해, 비교예 10과 마찬가지로 HC층의 TAC 기재와 반대측에 존재하는 중공 실리카 미립자가 감소하고, 반사율이 높아졌기 때문이라고 추측된다. 또한, 비교예 2와 마찬가지로 HC층의 TAC 기재측 계면에 중공 실리카 미립자가 위치함으로써 간섭 줄무늬가 발생하고, 밀착률이 낮아진 것으로 추측된다.In Comparative Example 13 corresponding to the case where a mixture of the first composition and the second composition was uniformly applied in Example 1, the reflectance became equivalent to Comparative Example 10. FIG. In addition, interference fringes occurred and the adhesion rate was low. It is estimated that this is because the hollow silica fine particles existing on the side opposite to the TAC substrate of the HC layer was reduced and the reflectance was increased by uniformly mixing and applying the two compositions. In addition, as in Comparative Example 2, it is estimated that the interference fringes are generated by the presence of hollow silica fine particles located at the TAC substrate side interface of the HC layer, and the adhesion rate is lowered.

1: 광학 필름
2: 편광판
10: 광투과성 기재
20: 하드 코트층
30: 저굴절률 미립자
40: 다이 헤드
51, 52: 슬릿
60: 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물
61: 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물의 도막
70: 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물
71: 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물의 도막
80: 코터 갭
90: 제1 및 제2 조성물의 합계 습윤 막 두께
100: 종래의 반사 방지 필름
110: 종래의 하드 코트층
120: 저굴절률층
130: 광투과성 기재의 반송 방향
140: 대전 방지층
150: 오염 방지층
160: 보호 필름
170: 편광층
180: 편광자
1: Optical film
2: polarizer
10: light transmissive substrate
20: hard coat layer
30: low refractive index fine particle
40: die head
51, 52: slit
60: curable resin composition for 1st hard-coat layer
61: Coating film of curable resin composition for 1st hard-coat layer
70: curable resin composition for a second hard coat layer
71: coating film of curable resin composition for 2nd hard-coat layers
80: coater gap
90: total wet film thickness of the first and second compositions
100: conventional antireflection film
110: conventional hard coat layer
120: low refractive index layer
130: conveyance direction of the light transmissive substrate
140: antistatic layer
150: antifouling layer
160: protective film
170: polarizing layer
180: polarizer

Claims (9)

(i) 광투과성 기재를 준비하는 공정,
(ii) 반응성을 갖는 제1 수지 및 제1 용제를 포함하고, 또한 저굴절률 미립자 및 저굴절률 수지를 포함하지 않거나 또는 저굴절률 수지를 포함하고 있어도 상기 제1 수지의 질량에 대하여 5.0질량% 이하이고, 점도 μ1이 3mPaㆍs 이상인 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물, 및 평균 입경 10 내지 300nm의 저굴절률 미립자 및 저굴절률 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 저굴절률 성분, 반응성을 갖는 제2 수지 및 제2 용제를 포함하고, 점도 μ2가 5mPaㆍs 이상이면서 상기 μ2로부터 상기 μ1을 차감한 값이 30mPaㆍs 이하인 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물을 준비하는 공정,
(iii) 상기 광투과성 기재의 일면측에, 상기 광투과성 기재측으로부터 적어도 상기 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물 및 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물을 인접시켜 동시 도포하여 도막으로 하는 공정,
(iv) 상기 (iii) 공정에서 얻어진 도막을 건조시키고, 계속해서 광조사, 가열 또는 양자 모두를 행하여 경화시키는 공정을 포함하고, 또한 상기 (iii) 공정과 상기 (iv) 공정의 사이에 예비 경화를 행하지 않는 것을 특징으로 하는 광학 필름의 제조 방법.
(i) preparing a light-transmitting substrate,
(ii) 5.0 mass% or less with respect to the mass of the said 1st resin, even if it contains the 1st resin and 1st solvent which have reactivity, and it does not contain low refractive index microparticles | fine-particles and low refractive index resin, or contains low refractive index resin, At least one low refractive index component selected from the group consisting of a curable resin composition for a hard coat layer having a viscosity μ1 of 3 mPa · s or more, a low refractive index fine particle having an average particle diameter of 10 to 300 nm, and a low refractive index resin, and a second resin having reactivity And a second solvent, wherein the step of preparing a curable resin composition for a second hard coat layer having a viscosity of 2 m or more and 5 mPa · s or less and the value of 1 µm or less is 30 mPa · s or less;
(iii) at least one curable resin composition for the first hard coat layer and the curable resin composition for the second hard coat layer adjacent to one surface side of the light transmissive substrate from the light transmissive substrate side to be coated simultaneously to form a coating film;
(iv) drying the coating film obtained in the step (iii), followed by curing by light irradiation, heating or both, and further preliminary curing between the step (iii) and the step (iv). The manufacturing method of the optical film characterized by not performing.
제1항에 있어서, 상기 (iii) 공정에 있어서, 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물의 도막의 습윤 막 두께를 T1, 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물의 도막의 습윤 막 두께를 T2로 하였을 때, T2/T1이 0.01 내지 1인 것을 특징으로 하는 광학 필름의 제조 방법.The wet film thickness of the coating film of the curable resin composition for hard coat layers of T1 and the wet film thickness of the coating film of the curable resin composition for hard coat layers of 2nd said T3 in the said (iii) process of Claim 1, And T2 / T1 is 0.01-1, The manufacturing method of the optical film characterized by the above-mentioned. 제2항에 있어서, 상기 (iii) 공정에 있어서, 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물의 도막의 습윤 막 두께 T1이 18.75 내지 25 ㎛이고, 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물의 도막의 습윤 막 두께 T2가 1 내지 10 ㎛이며, 또한 상기 (iv) 공정 후의 하드 코트층의 막 두께가 5 내지 18 ㎛인 광학 필름의 제조 방법.3. The wet film thickness of the coating film of the curable resin composition for a second hard coat layer according to claim 2, wherein in the step (iii), the wet film thickness T1 of the coating film of the curable resin composition for a first hard coat layer is 18.75 to 25 µm. The manufacturing method of the optical film whose T2 is 1-10 micrometers, and the film thickness of the hard-coat layer after the said (iv) process is 5-18 micrometers. 제1항에 있어서, 상기 제1 하드 코트층용 경화성 수지 조성물의 점도 μ1이 3 내지 95mPaㆍs이고, 상기 제2 하드 코트층용 경화성 수지 조성물의 점도 μ2가 5 내지 100mPaㆍs인 것을 특징으로 하는 광학 필름의 제조 방법.The viscosity μ1 of the curable resin composition for a first hard coat layer is 3 to 95 mPa · s, and the viscosity μ2 of the curable resin composition for the second hard coat layer is 5 to 100 mPa · s. Method for producing a film. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법에 의해 얻어지는 광학 필름.The optical film obtained by the manufacturing method in any one of Claims 1-4. 제5항에 있어서,
상기 하드 코트층의 막 두께 방향에 있어서, 저굴절률 미립자가 상기 광투과성 기재와는 반대측의 계면측에 상기 광투과성 기재측보다도 많이 존재하고, 또한 상기 광투과성 기재측일수록 상기 저굴절률 미립자의 존재량이 적고, 상기 광투과성 기재와는 반대측의 계면으로부터 광투과성 기재측에 걸쳐 상기 저굴절률 성분이 서서히 적어지고,
상기 하드 코트층 내에 층 계면이 없고,
상기 하드 코트층의 상기 광투과성 기재에 대한 바둑판 눈금 밀착성 시험의 밀착률이 90 내지 100%인 것을 특징으로 하는 광학 필름.
6. The method of claim 5,
In the film thickness direction of the hard coat layer, more low refractive index fine particles exist on the interface side opposite to the light transmissive substrate than on the light transmissive substrate side, and the amount of the low refractive index fine particles is greater on the light transmissive substrate side. And the low refractive index component gradually decreases from the interface on the opposite side to the light-transmissive substrate to the light-transmissive substrate side,
There is no layer interface in the hard coat layer,
The adhesion rate of the checkerboard scale adhesion test with respect to the said light transmissive base material of the said hard-coat layer is 90 to 100%, The optical film characterized by the above-mentioned.
제5항에 있어서, 상기 하드 코트층의 막 두께 방향에 있어서, 상기 광투과성 기재와는 반대측의 계면부터 상기 하드 코트층의 건조 막 두께의 70%까지의 영역에, 상기 저굴절률 미립자의 전체량의 70 내지 100%가 존재하는 것을 특징으로 하는 광학 필름.The total amount of the said low refractive index microparticles | fine-particles of Claim 5 in the film thickness direction of the said hard-coat layer in the area | region from the interface on the opposite side to the said light transmissive base material to 70% of the dry film thickness of the said hard-coat layer. 70 to 100% of the optical film is present. 제5항에 기재된 광학 필름의 상기 하드 코트층측과는 반대측의 광투과성 기재에 편광자가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 편광판.The polarizer is provided in the light transmissive base material on the opposite side to the said hard-coat layer side of the optical film of Claim 5, The polarizing plate characterized by the above-mentioned. 제5항에 기재된 광학 필름의 상기 하드 코트층측과는 반대측의 광투과성 기재에 디스플레이 패널이 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 디스플레이.The display panel is arrange | positioned at the light transmissive base material on the opposite side to the said hard-coat layer side of the optical film of Claim 5, The display characterized by the above-mentioned.
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