JP5842320B2 - Manufacturing method of optical film, optical film, polarizing plate, and image display device - Google Patents

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Description

本発明は、画像表示装置等の表面を保護する目的等で使用される光学フィルムの製造方法、光学フィルム、当該光学フィルムを備える偏光板及び画像表示装置に関する。   The present invention relates to an optical film manufacturing method used for the purpose of protecting the surface of an image display device or the like, an optical film, a polarizing plate including the optical film, and an image display device.

液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンス(EL)表示装置、プロジェクションディスプレイ、冷陰極管(CRT)表示装置、反射スクリーン等の画像表示装置における画像表示面は、取り扱い時に傷がつかないように、硬度(耐擦傷性)を付与することが要求される。
これに対して、基材にハードコート(以下、単に「HC」ということがある。)層を設けたHCフィルムや光学フィルムを画像表示装置の画像表示面に用いることにより、画像表示装置の画像表示面の硬度を向上させることが一般になされている。
The image display surface of an image display device such as a liquid crystal display device (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence (EL) display device, a projection display, a cold cathode tube (CRT) display device, or a reflective screen is scratched during handling. It is required to impart hardness (abrasion resistance) so as not to stick.
On the other hand, by using an HC film or an optical film provided with a hard coat (hereinafter sometimes simply referred to as “HC”) layer on a base material on an image display surface of the image display device, an image of the image display device is obtained. Generally, the hardness of the display surface is improved.

バインダー成分のみが硬化したHC層は硬度が不十分となることが多く、バインダー成分に加えて、シリカ微粒子等の粒子表面に反応性基を持つ反応性無機微粒子を含む組成物を硬化させてHC層を形成することにより、HCフィルムや光学フィルムの硬度を向上させることが一般になされている(例えば、特許文献1)。   The HC layer in which only the binder component is cured often has insufficient hardness, and in addition to the binder component, a composition containing reactive inorganic fine particles having reactive groups on the particle surface such as silica fine particles is cured to cure HC. Generally, the hardness of an HC film or an optical film is improved by forming a layer (for example, Patent Document 1).

また、HCフィルムや光学フィルムを偏光素子の一面側に貼り合わせ、偏光板を作製する際に、当該HCフィルムや光学フィルムをアルカリ溶液に浸漬し、当該HCフィルムや光学フィルムの基材側の表面を親水化する処理(以下、「ケン化処理」という。)が行われている。
しかし、HC表面に含まれるシリカ微粒子は、ケン化処理によってHC層から脱落したり、アルカリ溶液中に流出ないし溶解しやすい性質がある。HC層からシリカ微粒子が脱落するとシリカ微粒子の含有量が減少するため所望の硬度が得られなくなるという問題がある。また、アルカリ溶液中にシリカ微粒子が流出ないし溶解するとアルカリ溶液を汚染するという問題もある。
In addition, when an HC film or an optical film is bonded to one side of a polarizing element to produce a polarizing plate, the HC film or the optical film is immersed in an alkaline solution, and the surface of the HC film or the optical film on the substrate side A process for hydrophilizing (hereinafter referred to as “saponification process”) is performed.
However, the silica fine particles contained on the HC surface have the property of easily falling off the HC layer by saponification treatment or easily flowing out or dissolving in an alkaline solution. If the silica fine particles fall off from the HC layer, the content of the silica fine particles is reduced, so that a desired hardness cannot be obtained. Another problem is that the silica solution is contaminated when the silica particles flow out or dissolve in the alkali solution.

これに対し、HC層を2層積層し、下層側のHC層にのみシリカ微粒子を含有させ、上層(表面)側のHC層にはシリカ微粒子を含有させずにバインダー成分を硬化させる方法が考えられる。   On the other hand, a method is considered in which two HC layers are laminated so that the silica particles are contained only in the lower HC layer, and the binder component is cured without containing the silica particles in the upper (surface) HC layer. It is done.

しかし、HC層を2層積層する場合において、下層側のHC層となる組成物を基材に塗布し、その塗膜に光照射して十分に硬化させ下層側のHC層を形成し、その上にさらに上層側のHC層となる組成物を塗布し、その塗膜に光照射して十分に硬化させ上層側のHC層形成するという方法(以下、単に「逐次塗工方法」という。)では、上下層の間に明瞭な層界面が生じ、その層界面によって干渉縞が発生して、光学フィルムやHCフィルムの外観を損ねるという問題があった。   However, in the case of laminating two HC layers, the composition to be the lower HC layer is applied to the base material, and the coating film is irradiated with light to be sufficiently cured to form the lower HC layer. A method of applying an upper HC layer composition on the upper layer and irradiating the coating film with light to sufficiently cure it to form an upper HC layer (hereinafter simply referred to as “sequential coating method”). However, there is a problem that a clear layer interface is formed between the upper and lower layers, interference fringes are generated by the layer interface, and the appearance of the optical film and the HC film is impaired.

上下の各層を逐次、完全硬化させて形成する上記逐次塗工方法に対して、下層に対する光照射量を抑えて半硬化(ハーフキュアー)させ、次いで、当該半硬化した下層の上に上層となる組成物を塗布し、半硬化した下層と共に上層の塗膜を完全硬化(フルキュアー)させる方法(以下、単に「ハーフキュアー法」という。)も考えられる。   In contrast to the sequential coating method in which the upper and lower layers are sequentially and completely cured, the light irradiation amount on the lower layer is suppressed and semi-cured (half cure), and then the upper layer is formed on the semi-cured lower layer. A method of applying the composition and completely curing (full curing) the upper coating film together with the semi-cured lower layer (hereinafter simply referred to as “half-curing method”) is also conceivable.

しかし、このハーフキュアー法でも上下層間の界面を完全になくすことはできず、層界面が生じ、その層界面によって干渉縞が発生するため、光学フィルムやHCフィルムの外観を損ねてしまっていた。   However, even with this half-curing method, the interface between the upper and lower layers cannot be completely eliminated, and a layer interface is formed, and interference fringes are generated by the layer interface, thereby deteriorating the appearance of the optical film and the HC film.

また、このハーフキュアー法では塗布と光照射工程が複数回に及ぶため、工程が複雑となり、生産性が高くなく、製造コストが上昇してしまう問題がある。   Further, in this half cure method, since the coating and light irradiation steps are performed a plurality of times, the steps become complicated, the productivity is not high, and the manufacturing cost increases.

これに対して、特許文献2では、干渉縞の発生を防止することができる光学フィルムとその製造方法の提供を意図して、同時重層塗布(以下、「同時塗布」ともいう。)を行っている。
しかし、この特許文献2には、耐ケン化性に関する着目がない。また、この特許文献2では、基材/ハードコート層/高屈折率傾斜ハードコート層/低屈折率層の層構成であり、高屈折率傾斜ハードコート層において、主に高屈折率微粒子の拡散や沈降によって、下層のハードコート層側に近いほど低屈折率で、上層の低屈折率層側に近いほど高屈折率というように屈折率を傾斜させている。すなわち、高屈折率傾斜ハードコート層において、上層の低屈折率層側に近いほど高屈折率微粒子の存在量が多く、下層のハードコート層側に近いほど高屈折率微粒子の存在量が少ない形態である。そのため、特許文献2には、同時塗布法によるHC層において、下層側に近いほどシリカ微粒子が多く分布し、上層側に近いほどシリカ微粒子の分布が少ない形態やそのための方法は記載がない。
In contrast, in Patent Document 2, simultaneous multilayer coating (hereinafter also referred to as “simultaneous coating”) is performed in order to provide an optical film capable of preventing the occurrence of interference fringes and a method for manufacturing the same. Yes.
However, this Patent Document 2 has no attention regarding saponification resistance. Moreover, in this patent document 2, it is a layer structure of a base material / hard coat layer / high refractive index gradient hard coat layer / low refractive index layer, and in the high refractive index gradient hard coat layer, mainly diffusion of high refractive index fine particles. Due to sedimentation, the refractive index is inclined such that the closer to the lower hard coat layer side, the lower the refractive index, and the closer to the upper lower refractive index layer side, the higher the refractive index. That is, in the high refractive index gradient hard coat layer, the amount of high refractive index fine particles increases as it is closer to the upper lower refractive index layer side, and the amount of high refractive index fine particles decreases as it is closer to the lower hard coat layer side. It is. For this reason, in Patent Document 2, there is no description of a form in which the silica fine particles are distributed more as it is closer to the lower layer side and the silica fine particle distribution is less as it is closer to the upper layer side and a method therefor in the HC layer by the simultaneous coating method.

このようなことから、硬度及び耐ケン化性に優れ、干渉縞がなく、外観が良好で、生産性に優れた光学フィルム及び当該光学フィルムの製造方法が要求されている。   For these reasons, there is a demand for an optical film excellent in hardness and saponification resistance, free from interference fringes, good in appearance, and excellent in productivity, and a method for producing the optical film.

特開2008−165041号公報JP 2008-165041 A 特開2009−265658号公報JP 2009-265658 A

本発明は上記問題点を解消するためになされたものであり、硬度及び耐ケン化性に優れ、干渉縞がなく、外観が良好で、生産性に優れた光学フィルムの製造方法、そのような光学フィルム、当該光学フィルムを備える偏光板及び画像表示装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in order to solve the above problems, and has excellent hardness and saponification resistance, no interference fringes, good appearance, and a method for producing an optical film excellent in productivity. An object is to provide an optical film, a polarizing plate including the optical film, and an image display device.

本発明者らが鋭意検討した結果、同時塗布法において、単純に下部側の組成物にシリカ微粒子を含有させて、上部側の組成物にシリカ微粒子を含有させずにバインダー成分を含有させても、十分な耐ケン化性が得られず、さらに、HC層に凹凸のスジ(以下、「塗工スジ」という。)が発生し、外観が損なわれることを見出した。
そこで、さらに本発明者らが鋭意検討した結果、下部側の組成物にシリカ微粒子を含有させて、上部側の組成物にシリカ微粒子を含有させずにバインダー成分を含有させて行う同時塗布法においては、上部側と下部側の組成物の粘度が、シリカ微粒子の分布の制御及び塗工スジの発生に影響していることを見出し、上部側と下部側の組成物の粘度を特定の範囲とすることにより、硬度及び耐ケン化性に優れ、干渉縞及び塗工スジがなく、外観が良好で、高い生産性の光学フィルムが得られることを見出し、本発明を完成させるに至った。
As a result of intensive studies by the present inventors, in the simultaneous coating method, it is possible to simply include silica fine particles in the lower composition, and to include the binder component without including the silica fine particles in the upper composition. It has been found that sufficient saponification resistance cannot be obtained, and furthermore, uneven lines (hereinafter referred to as “coating lines”) are generated in the HC layer and the appearance is impaired.
Therefore, as a result of further diligent investigations by the present inventors, in the simultaneous coating method in which silica fine particles are contained in the lower composition, and the binder component is contained in the upper composition without containing the silica fine particles. Found that the viscosity of the composition on the upper side and the lower side affects the control of the distribution of silica fine particles and the occurrence of coating stripes, and the viscosity of the composition on the upper side and the lower side is within a specific range. As a result, it was found that an optical film having excellent hardness and saponification resistance, no interference fringes and coating stripes, good appearance, and high productivity was obtained, and the present invention was completed.

すなわち、本発明に係る光学フィルムの製造方法は、(i)光透過性樹脂基材を準備する工程、(ii)それぞれ、同種及び異種の反応性基間で光硬化性又は熱硬化性を有する反応性基であって、粒子表面に反応性基を有する平均1次粒径1nm以上100nm以下の反応性シリカ微粒子、反応性基を有する第一のバインダー成分及び第一の溶剤を含み、粘度が5mPa・s以上9.5mPa・s以下である第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物及び前記反応性シリカ微粒子を含まず、反応性基を有する第二のバインダー成分及び第二の溶剤を含み、粘度が10mPa・s以上30.5mPa・s以下である第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物、を準備する工程、(iii)前記光透過性樹脂基材の一面側に、当該光透過性樹脂基材側から、前記第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物及び前記第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物を隣接して同時塗布し、塗膜とする工程、(iv)前記(iii)工程で得られた塗膜を光照射及び/又は加熱により硬化させハードコート層を形成する工程、を含むことを特徴とする。
That is, the method for producing an optical film according to the present invention includes (i) a step of preparing a light-transmitting resin substrate, and (ii) each having photocurability or thermosetting between the same and different reactive groups. A reactive group comprising a reactive silica fine particle having an average primary particle size of 1 nm to 100 nm having a reactive group on the particle surface, a first binder component having a reactive group, and a first solvent, and having a viscosity The second curable resin composition for hard coat layer having a reactive group of 5 mPa · s or more and 9.5 mPa · s or less , the second binder component having a reactive group, and the second binder component not containing the reactive silica fine particles includes a solvent, preparing a second hard coat layer curable resin composition viscosity is less 10 mPa · s or more 30.5mPa · s, and, (iii) one surface side of the light transmitting resin substrate And the light-transmitting resin A step of coating the first curable resin composition for a hard coat layer and the second curable resin composition for a hard coat layer simultaneously from the material side to form a coating film, (iv) and iii) curing the coating film obtained in the step by light irradiation and / or heating to form a hard coat layer.

第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物(以下、単に「第一の組成物」ともいう。)及び第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物(以下、単に「第二の組成物」ともいう。)において、それぞれ、粘度を上記特定範囲とすることにより、同時に塗布した際に2つの組成物全体が混合するのが抑制されながらも、2つの組成物の接触部分は適度に混合する。そして、このように接触部分で適度に混合しながらも2つの組成物の組成を保ちながら硬化させるため、HC層内に界面が生じず干渉縞の発生を抑えて光学フィルムの外観を良好なものとすることができる。また、第一の組成物と第二の組成物の粘度が適度であり2つの組成物全体が混合しないため、硬化膜において塗工スジが生じず、外観が良好となる。
さらに、硬化してHC層の下部側を形成する第一の組成物にのみ反応性シリカ微粒子が含まれ、硬化してHC層の上部側を形成する第二の組成物には当該反応性シリカ微粒子が含まれない。そして、同時塗布によっても2つの組成物全体が混合しないため、このような2つの組成物を用いて同時塗布により形成したHC層を備える光学フィルムをケン化処理をしても、HC層の上部側にはシリカ微粒子が少ないため、シリカ微粒子の流出や脱落が抑制される。したがって、当該光学フィルムは耐ケン化性に優れる。
なお、HC層の上部側、下部側とは、互いに対する相対的な位置関係を意味し、HC層における上部側半分や下部側半分のような絶対的な位置を意味するものではない。
本発明において、ハードコート層内の層界面とは、光学フィルムの膜厚方向の断面のTEM(透過型電子顕微鏡)を用いた観察において、視認できる界面を意味する。
First curable resin composition for hard coat layer (hereinafter also simply referred to as “first composition”) and second curable resin composition for hard coat layer (hereinafter simply referred to as “second composition”) In each case, by setting the viscosity within the above specific range, it is possible to moderately mix the contact portions of the two compositions while preventing the entire two compositions from being mixed when applied simultaneously. To do. And in order to cure while maintaining the composition of the two compositions while mixing appropriately at the contact portion in this way, the interface does not occur in the HC layer, the occurrence of interference fringes is suppressed, and the appearance of the optical film is good It can be. Moreover, since the viscosity of a 1st composition and a 2nd composition is moderate, and two whole compositions do not mix, a coating stripe does not arise in a cured film and an external appearance becomes favorable.
Further, only the first composition that cures to form the lower side of the HC layer contains reactive silica fine particles, and the second composition that cures to form the upper side of the HC layer includes the reactive silica. Does not contain fine particles. And since the whole two compositions are not mixed by the simultaneous application, even if the saponification treatment is performed on the optical film including the HC layer formed by the simultaneous application using such two compositions, Since there are few silica microparticles | fine-particles on the side, the outflow and dropping-out of a silica microparticle are suppressed. Therefore, the optical film is excellent in saponification resistance.
Note that the upper side and the lower side of the HC layer mean a relative positional relationship with respect to each other, and do not mean absolute positions such as the upper half and the lower half of the HC layer.
In this invention, the layer interface in a hard-coat layer means the interface which can be visually recognized in the observation using the TEM (transmission electron microscope) of the cross section of the film thickness direction of an optical film.

本発明に係る光学フィルムの製造方法では、前記光透過性樹脂基材がトリアセチルセルロース基材であり、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物において、前記第一の溶剤の全質量に対するメチルエチルケトンの割合が50質量%以上とすることができる。
In the method for producing an optical film according to the present invention, the light-transmitting resin substrate is a triacetyl cellulose substrate, and the first curable resin composition for a hard coat layer is based on the total mass of the first solvent. The ratio of methyl ethyl ketone can be 50% by mass or more.

本発明に係る光学フィルムの一態様は、上記光学フィルムの製造方法により得られることを特徴とする。   One aspect of the optical film according to the present invention is obtained by the above-described method for producing an optical film.

本発明に係る光学フィルムの別の一態様は、光透過性樹脂基材の一面側に、少なくともハードコート層が設けられている光学フィルムであって、当該ハードコート層は、平均1次粒径1nm以上100nm以下のシリカ微粒子を含み、当該ハードコート層において、当該ハードコート層の膜厚方向では、当該シリカ微粒子の存在量が、当該光透過性樹脂基材とは反対側の界面に近いほど少なく、前記ハードコート層において、前記光透過性樹脂基材から当該ハードコート層の膜厚の70%までの領域に、前記シリカ微粒子の全量の90%未満が存在し、前記前記光透過性樹脂基材から当該ハードコート層の膜厚の75%までの領域に、前記シリカ微粒子の全量の90%以上が存在することを特徴とすることを特徴とする。
Another aspect of the optical film according to the present invention is an optical film in which at least a hard coat layer is provided on one side of a light-transmitting resin substrate, and the hard coat layer has an average primary particle size. include 100nm or less of the silica fine particles or 1 nm, in the hard coat layer, the thickness direction of the hard coat layer, the abundance of the silica fine particles are close to the surface opposite to the said light transmissive resin substrate In the hard coat layer, less than 90% of the total amount of the silica fine particles is present in the region from the light transmissive resin substrate to 70% of the film thickness of the hard coat layer, and the light transmissive 90% or more of the total amount of the silica fine particles is present in a region from the resin substrate to 75% of the film thickness of the hard coat layer .

本発明に係る光学フィルムの上記別の一態様では、前記ハードコート層の光透過性樹脂基材とは反対側の面に、さらに前記ハードコート層の光透過性樹脂基材とは反対側の界面より屈折率の低い低屈折率層、又は当該ハードコート層側から、前記ハードコート層の光透過性樹脂基材とは反対側の界面より屈折率の高い高屈折率層及び、前記ハードコート層の光透過性樹脂基材とは反対側の界面より屈折率の低い低屈折率層が設けられていても良い。 In another aspect of the optical film according to the present invention, the surface of the hard coat layer opposite to the light-transmitting resin substrate is further opposite to the surface of the hard coat layer opposite to the light-transmitting resin substrate. A low refractive index layer having a lower refractive index than the interface , or a high refractive index layer having a higher refractive index than the interface opposite to the light-transmitting resin substrate of the hard coat layer from the hard coat layer side, and the hard coat A low refractive index layer having a lower refractive index than the interface of the layer opposite to the light-transmitting resin substrate may be provided.

本発明に係る偏光板は、偏光素子の一面側に、上記光学フィルムを、当該光学フィルムの光透過性樹脂基材側を当該偏光素子に向けて配置してなることを特徴とする。   The polarizing plate according to the present invention is characterized in that the optical film is disposed on one surface side of the polarizing element, and the light transmissive resin substrate side of the optical film is directed toward the polarizing element.

本発明に係る画像表示装置は、上記光学フィルムを備えることを特徴とする。   An image display device according to the present invention includes the optical film.

本発明に係る光学フィルムは、HC層において、塗工スジや干渉縞の発生が抑えられ、外観が良好である。また、HC層において、当該HC層の膜厚方向では、シリカ微粒子の存在量が、光透過性樹脂基材とは反対側の界面に近いほど、シリカ微粒子の流出や脱落が抑制されるため、当該光学フィルムは耐ケン化性に優れる。さらに、光学フィルムのケン化処理時にシリカ微粒子の流出や脱落を防ぐために保護フィルムを設ける工程、コストが不要となる。
本発明に係る光学フィルムの製造方法によれば、上述した特定の粘度を有する2つの組成物を用いて同時塗布により、HC層を形成するため、硬度と耐ケン化性にも優れ、干渉縞や塗工スジがなく、外観が良好な光学フィルムを容易に高い生産性で得ることができる。
In the HC layer, the optical film according to the present invention is excellent in appearance because generation of coating lines and interference fringes is suppressed. In the HC layer, in the film thickness direction of the HC layer, the closer the silica fine particles are to the interface opposite to the light-transmitting resin base material, the more the silica fine particles are prevented from flowing out and dropping off. The optical film is excellent in saponification resistance. Furthermore, the process and cost of providing a protective film in order to prevent the silica fine particles from flowing out or falling off during the saponification treatment of the optical film become unnecessary.
According to the method for producing an optical film of the present invention, since the HC layer is formed by simultaneous application using the two compositions having the specific viscosity described above, the hardness and saponification resistance are excellent, and interference fringes are formed. In addition, an optical film having no appearance of coating lines and good appearance can be easily obtained with high productivity.

図1は、本発明に係る光学フィルムの製造方法における(iii)工程の同時塗布の一例を示した模式図である。FIG. 1 is a schematic view showing an example of the simultaneous application in step (iii) in the method for producing an optical film according to the present invention. 図2は、本発明に係る光学フィルムの層構成の一例を示した模式図である。FIG. 2 is a schematic view showing an example of the layer structure of the optical film according to the present invention. 図3は、本発明に係る光学フィルムの層構成の他の一例を示した模式図である。FIG. 3 is a schematic view showing another example of the layer structure of the optical film according to the present invention. 図4は、本発明に係る光学フィルムの層構成の他の一例を示した模式図である。FIG. 4 is a schematic view showing another example of the layer structure of the optical film according to the present invention. 図5は、本発明に係る光学フィルムのハードコート層におけるシリカ微粒子の分布の様子の一例を模式的に示した断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing an example of a state of distribution of silica fine particles in the hard coat layer of the optical film according to the present invention. 図6は、本発明に係る偏光板の構成の一例を示した模式図である。FIG. 6 is a schematic diagram showing an example of the configuration of the polarizing plate according to the present invention.

フィルムとシートのJIS K6900での定義では、シートとは薄く一般にその厚さが長さと幅の割りには小さい平らな製品をいい、フィルムとは長さ及び幅に比べて厚さが極めて小さく、最大厚さが任意に限定されている薄い平らな製品で、通例、ロールの形で供給されるものをいう。したがって、シートの中でも厚さの特に薄いものがフィルムであるといえるが、シートとフィルムの境界は定かではなく、明確に区別しにくいので、本発明では、厚みの厚いもの及び薄いものの両方の意味を含めて、「フィルム」と定義する。
本発明において、「ハードコート層」とは、JIS K5600−5−4(1999)に規定する鉛筆硬度試験(4.9N荷重)で、「H」以上の硬度を示すものをいう。
本発明において、(メタ)アクリレートは、アクリレート及び/又はメタクリレートを表す。
微粒子の平均1次粒径とは、溶液中の当該微粒子を動的光散乱方法で測定し、粒径分布を累積分布で表したときの50%粒子径(d50 メジアン径)を意味する。当該平均1次粒径は、日機装(株)製のMicrotrac粒度分析計を用いて測定することができる。
また、本発明の光には、可視領域及び非可視領域の波長の電磁波だけでなく、電子線のような粒子線及び電磁波と粒子線を総称する放射線又は電離放射線が含まれる。
本発明において、特に記載がない限り膜厚とは乾燥時の膜厚(乾燥膜厚)を意味する。
本発明において、分子量とは、分子量分布を有する場合には、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)により測定したポリスチレン換算値である重量平均分子量を意味し、分子量分布を有しない場合には、化合物そのものの分子量を意味する。
本発明において、球状とは、真球に加え、略球状や回転楕円体、多面体等をも含めた球体に近似できる形状も包含する概念である。
本発明において、屈折率は、分光光度計((株)島津製作所製のUV−3100PC)を用いて、波長380〜780nmの絶対反射率を測定し、得られた反射率曲線から、シミュレーションを用いて求めた屈折率の値を意味する。
本発明において、表面抵抗値は、表面抵抗率測定器(三菱化学(株)製の商品名Hiresta IP MCP−HT260)を用いて測定した値である。
本発明において、乾燥膜厚は(株)ミツトヨ製の商品名IDF−130を用いて測定した値である。
According to the definition of film and sheet in JIS K6900, the sheet is thin and generally refers to a flat product whose thickness is small relative to the length and width, and the film is extremely small compared to the length and width. A thin, flat product with an arbitrarily limited maximum thickness, usually supplied in the form of a roll. Therefore, it can be said that a film having a particularly thin thickness among the sheets is a film, but the boundary between the sheet and the film is not clear and is difficult to distinguish clearly. Therefore, in the present invention, the meaning of both a thick sheet and a thin sheet is meant. Including “” is defined as “film”.
In the present invention, the “hard coat layer” refers to a layer having a hardness of “H” or higher in a pencil hardness test (4.9 N load) defined in JIS K5600-5-4 (1999).
In the present invention, (meth) acrylate represents acrylate and / or methacrylate.
The average primary particle diameter of the fine particles means a 50% particle diameter (d50 median diameter) when the fine particles in the solution are measured by a dynamic light scattering method and the particle size distribution is represented by a cumulative distribution. The average primary particle size can be measured using a Microtrac particle size analyzer manufactured by Nikkiso Co., Ltd.
The light of the present invention includes not only electromagnetic waves having wavelengths in the visible region and invisible region, but also particle beams such as electron beams, and radiation or ionizing radiation that collectively refers to electromagnetic waves and particle beams.
In the present invention, unless otherwise specified, the film thickness means the film thickness during drying (dry film thickness).
In the present invention, the molecular weight means a weight average molecular weight which is a polystyrene equivalent value measured by gel permeation chromatography (GPC) when having a molecular weight distribution, and when having no molecular weight distribution, Mean molecular weight.
In the present invention, the term “spherical” is a concept including not only a true sphere but also a shape that can be approximated to a sphere including a substantially spherical shape, a spheroid, and a polyhedron.
In the present invention, the refractive index is measured using a spectrophotometer (UV-3100PC, manufactured by Shimadzu Corporation), the absolute reflectance at a wavelength of 380 to 780 nm, and a simulation is performed from the obtained reflectance curve. Means the refractive index value obtained by
In the present invention, the surface resistance value is a value measured using a surface resistivity meter (trade name: Hiresta IP MCP-HT260, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation).
In the present invention, the dry film thickness is a value measured using trade name IDF-130 manufactured by Mitutoyo Corporation.

以下、まず本発明に係る光学フィルムの製造方法について説明し、次いで光学フィルム、偏光板及び画像表示装置について説明する。   Hereinafter, the manufacturing method of the optical film according to the present invention will be described first, and then the optical film, the polarizing plate and the image display device will be described.

(光学フィルムの製造方法)
本発明に係る光学フィルムの製造方法は、(i)光透過性樹脂基材を準備する工程、(ii)それぞれ、同種及び異種の反応性基間で光硬化性又は熱硬化性を有する反応性基であって、粒子表面に反応性基を有する平均1次粒径1〜100nmの反応性シリカ微粒子、反応性基を有する第一のバインダー成分及び第一の溶剤を含み、粘度が3〜100mPa・sである第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物及び前記反応性シリカ微粒子を含まず、反応性基を有する第二のバインダー成分及び第二の溶剤を含み、粘度が10〜100mPa・sである第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物、を準備する工程、(iii)前記光透過性樹脂基材の一面側に、当該光透過性樹脂基材側から、前記第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物及び前記第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物を隣接して同時塗布し、塗膜とする工程、(iv)前記(iii)工程で得られた塗膜を光照射及び/又は加熱により硬化させハードコート層を形成する工程、を含むことを特徴とする。
(Optical film manufacturing method)
The method for producing an optical film according to the present invention includes (i) a step of preparing a light-transmitting resin substrate, and (ii) a reactivity having photocurability or thermosetting properties between the same and different reactive groups, respectively. A reactive silica fine particle having an average primary particle diameter of 1 to 100 nm having a reactive group on the particle surface, a first binder component having a reactive group and a first solvent, and having a viscosity of 3 to 100 mPa -The s 1st curable resin composition for hard coat layer and the reactive silica fine particles are not included, the second binder component having a reactive group and the second solvent are included, and the viscosity is 10 to 100 mPa. a step of preparing a second curable resin composition for a hard coat layer that is s, (iii) on the one surface side of the light transmissive resin substrate, from the light transmissive resin substrate side, the first Curable resin composition for hard coat layer and A step of simultaneously applying the second curable resin composition for a hard coat layer to form a coating film, and (iv) curing the coating film obtained in the step (iii) by light irradiation and / or heating. And a step of forming a hard coat layer.

第一の組成物及び第二の組成物の粘度をそれぞれ、上記特定範囲とすることにより、同時に塗布した際に2つの組成物全体が混合するのが抑制されながらも、2つの組成物の接触部分は適度に混合する。そして、このように接触部分で適度に混合しながらも2つの組成物の組成を保ちながら硬化させるため、HC層内に界面が生じず干渉縞の発生を抑えて光学フィルムの外観を良好なものとすることができる。また、第一の組成物と第二の組成物の粘度が適度であり2つの組成物全体が混合しないため、硬化膜において塗工スジが生じず、外観が良好となる。
さらに、硬化してHC層の下部側を形成する第一の組成物にのみ反応性シリカ微粒子が含まれ、硬化してHC層の上部側を形成する第二の組成物には当該反応性シリカ微粒子が含まれない。そして、同時塗布によっても2つの組成物全体が混合しないため、このような2つの組成物を用いて同時塗布により形成したHC層を備える光学フィルムをケン化処理をしても、HC層の上部側にはシリカ微粒子が少ないため、シリカ微粒子の流出や脱落が抑制される。したがって、当該光学フィルムは耐ケン化性に優れる。
By making each of the viscosity of the first composition and the second composition within the specific ranges described above, it is possible to prevent the two compositions from being mixed when applied at the same time, but to contact the two compositions. Mix the parts moderately. And in order to cure while maintaining the composition of the two compositions while mixing appropriately at the contact portion in this way, the interface does not occur in the HC layer, the occurrence of interference fringes is suppressed, and the appearance of the optical film is good It can be. Moreover, since the viscosity of a 1st composition and a 2nd composition is moderate, and two whole compositions do not mix, a coating stripe does not arise in a cured film and an external appearance becomes favorable.
Further, only the first composition that cures to form the lower side of the HC layer contains reactive silica fine particles, and the second composition that cures to form the upper side of the HC layer includes the reactive silica. Does not contain fine particles. And since the whole two compositions are not mixed by the simultaneous application, even if the saponification treatment is performed on the optical film including the HC layer formed by the simultaneous application using such two compositions, Since there are few silica microparticles | fine-particles on the side, the outflow and dropping-out of a silica microparticle are suppressed. Therefore, the optical film is excellent in saponification resistance.

この他、第一の組成物、第二の組成物に含まれる成分を適宜選択することによって、HC層の上部側と下部側とで、それぞれ異なる機能を発現させることも可能である。   In addition, by appropriately selecting the components contained in the first composition and the second composition, it is possible to express different functions on the upper side and the lower side of the HC layer.

以下、本発明に係る光学フィルムの製造方法の(i)〜(iv)の各工程を順に説明する。   Hereinafter, each process of (i)-(iv) of the manufacturing method of the optical film which concerns on this invention is demonstrated in order.

((i)工程)
(i)工程では光透過性樹脂基材を準備する。
(光透過性樹脂基材)
本発明に用いられる光透過性樹脂基材は、光透過性の高いプラスチックフィルムであり、従来公知のハードコートフィルム、光学フィルムの光透過性樹脂基材や透明樹脂基材を適宜選択して用いることができる。
光透過性樹脂基材の平均光透過率は70%以上、さらには85%以上であることが好ましい。なお、光透過率の測定は、紫外可視分光光度計(例えば、(株)島津製作所製の商品名UV−3100PC)を用い、室温、大気中で測定した値を用いる。
((I) Process)
In the step (i), a light transmissive resin base material is prepared.
(Light transmissive resin substrate)
The light-transmitting resin base material used in the present invention is a plastic film having high light transmittance, and a conventionally known hard coat film, a light-transmitting resin base material or a transparent resin base material of an optical film is appropriately selected and used. be able to.
The average light transmittance of the light transmissive resin substrate is preferably 70% or more, and more preferably 85% or more. In addition, the measurement of light transmittance uses the value measured in room temperature and air | atmosphere using the ultraviolet visible spectrophotometer (For example, brand name UV-3100PC made from Shimadzu Corporation).

本発明においては、光透過性樹脂基材の厚さは適宜選択して用いることができる。通常、光透過性基材の厚さは、10〜300μmであるが、光学フィルムの表面を割れにくく、かつ、硬度を付与する点から、40〜200μmとすることが好ましい。   In the present invention, the thickness of the light transmissive resin substrate can be appropriately selected and used. Usually, the thickness of the light-transmitting substrate is 10 to 300 μm, but it is preferably 40 to 200 μm from the viewpoint of hardly cracking the surface of the optical film and imparting hardness.

光透過性樹脂基材の材料として好ましいものとしては、トリアセチルセルロース(TAC)、シクロオレフィンポリマー、ポリカーボネート、アクリレート系ポリマー又はポリエチレンテレフタレート(PET)等のポリエステルを主体とするものが挙げられる。ここで、「主体とする」とは、基材構成成分の中で最も含有割合が高い成分を示すものである。   Preferable materials for the light-transmitting resin substrate include triacetyl cellulose (TAC), cycloolefin polymer, polycarbonate, acrylate polymer, or polyester such as polyethylene terephthalate (PET). Here, “mainly” means a component having the highest content ratio among the constituent components of the base material.

本発明に用いられる光透過性樹脂基材として、最も光透過性に優れる観点から、TACを用いることが好ましい。
TACは、可視光域380〜780nmにおいて、平均光透過率を50%以上とすることが可能な光透過性樹脂基材である。
TACは、光学的等方性を有するため、LCD用途の場合においても好ましく用いることができる。
As the light-transmitting resin base material used in the present invention, TAC is preferably used from the viewpoint of being most excellent in light transmittance.
TAC is a light-transmitting resin substrate that can have an average light transmittance of 50% or more in a visible light region of 380 to 780 nm.
Since TAC has optical isotropy, it can be preferably used for LCD applications.

本発明においては、光透過性樹脂基材に表面処理(例えば、ケン化処理、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線(UV)処理、火炎処理)を施してもよく、プライマー層(接着剤層)を形成してもよい。本発明における光透過性樹脂基材は、これらの表面処理及びプライマー層も含めたものをいう。   In the present invention, a surface treatment (for example, saponification treatment, glow discharge treatment, corona discharge treatment, ultraviolet (UV) treatment, flame treatment) may be applied to the light-transmitting resin substrate, and a primer layer (adhesive layer) ) May be formed. The light-transmitting resin substrate in the present invention refers to those including these surface treatments and primer layers.

((ii)工程)
(ii)工程では、特定の粘度の第一の組成物と第二の組成物を準備する。
上記(i)工程と(ii)工程は、どちらを先に行っても良く、同時に行っても良い。
以下、第一の組成物と第二の組成物について説明する。
(Step (ii))
In the step (ii), a first composition and a second composition having a specific viscosity are prepared.
Either step (i) or step (ii) may be performed first or simultaneously.
Hereinafter, the first composition and the second composition will be described.

(第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物)
第一の組成物は、粒子表面に反応性基を有する平均1次粒径1〜100nmの反応性シリカ微粒子、反応性基を有する第一のバインダー成分及び第一の溶剤を含み、粘度が3〜100mPa・sである。
(First curable resin composition for hard coat layer)
The first composition includes reactive silica fine particles having an average primary particle diameter of 1 to 100 nm having a reactive group on the particle surface, a first binder component having a reactive group, and a first solvent, and has a viscosity of 3 ˜100 mPa · s.

第一の組成物の粘度は、3〜100mPa・sであるが、同時塗布により形成した塗膜が硬化する際に、第一の組成物に含まれる反応性シリカ微粒子の拡散、浮上等の移動を制御する観点から、好ましくは、3〜50mPa・s、さらに好ましくは5〜30mPa・sである。
本発明に係る光学フィルムの製造方法において、第一の組成物の粘度と後述する第二の組成物の粘度の差の絶対値は30以下であることが好ましい。この絶対値が30以下であることにより、同時塗布により形成した塗膜が硬化する際に、第一の組成物に含まれる反応性シリカ微粒子の拡散、浮上等の移動を制御して、塗膜の硬化したHC層内におけるシリカ微粒子の分布を制御しやすい。当該絶対値は、30以下が好ましく、さらに、1〜15が好ましい。
第一の組成物の粘度と後述する第二の組成物の粘度は、それぞれ、3〜100mPa・s、10〜100mPa・sであるが、第一の組成物の粘度が5〜30mPa・s、かつ、第二の組成物の粘度が20〜30mPa・sであることがより好ましい。
さらに、第一の組成物の粘度よりも第二の組成物の粘度が大きいことが、第一の組成物と第二の組成物の混合の程度を制御しやすく生産性に優れるため好ましい。
The viscosity of the first composition is 3 to 100 mPa · s. When the coating film formed by simultaneous coating is cured, the reactive silica fine particles contained in the first composition move, such as diffusion and floating. From the viewpoint of controlling the viscosity, it is preferably 3 to 50 mPa · s, more preferably 5 to 30 mPa · s.
In the method for producing an optical film according to the present invention, the absolute value of the difference between the viscosity of the first composition and the viscosity of the second composition described later is preferably 30 or less. When this absolute value is 30 or less, when the coating film formed by simultaneous coating is cured, the movement of the reactive silica fine particles contained in the first composition, such as diffusion and floating, is controlled, and the coating film It is easy to control the distribution of silica fine particles in the cured HC layer. The absolute value is preferably 30 or less, and more preferably 1 to 15.
The viscosity of the first composition and the viscosity of the second composition described below are 3 to 100 mPa · s and 10 to 100 mPa · s, respectively, but the viscosity of the first composition is 5 to 30 mPa · s, And it is more preferable that the viscosity of a 2nd composition is 20-30 mPa * s.
Furthermore, it is preferable that the viscosity of the second composition is larger than the viscosity of the first composition because the degree of mixing of the first composition and the second composition can be easily controlled and the productivity is excellent.

(反応性シリカ微粒子)
反応性シリカ微粒子は、粒子表面に反応性基を有するシリカ微粒子である。
反応性基は、同種又は異種の反応性基間で光照射又は加熱による重合ないし架橋等の光硬化性又は熱硬化性を有する基である。反応性シリカ微粒子の反応性基と後述する第一のバインダーの反応性基が重合ないし架橋等の反応をして、HC層に硬度を付与する。
反応性基が光硬化性基である場合、当該光硬化性基は好ましくは光硬化性不飽和基であり、特に好ましくは電離放射線硬化性不飽和基である。その具体例としては、(メタ)アクリロイル基、(メタ)アクリロイルオキシ基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合及びエポキシ基等である。
反応性基が熱硬化性基である場合、当該熱硬化性基は、例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、グリシジル基、イソシアネート基及びアルコキシル基等が挙げられる。
反応性シリカ微粒子、第一のバインダー成分、後述する第二の組成物に含まれる第二のバインダー成分が有する反応性基は、互いに硬化反応が可能であればそれぞれ、同じであっても良いし、異なっていても良い。また、反応性シリカ微粒子、第一のバインダー成分及び第二のバインダー成分が有する反応性基は、光硬化性基単独であっても良いし、熱硬化性基単独であっても良いし、光硬化性基と熱硬化性基の両方であっても良い。
(Reactive silica fine particles)
The reactive silica fine particles are silica fine particles having a reactive group on the particle surface.
The reactive group is a group having photocurability or thermosetting such as polymerization or cross-linking by light irradiation or heating between the same or different reactive groups. The reactive group of the reactive silica fine particles and the reactive group of the first binder described later react by polymerization or crosslinking to impart hardness to the HC layer.
When the reactive group is a photocurable group, the photocurable group is preferably a photocurable unsaturated group, and particularly preferably an ionizing radiation curable unsaturated group. Specific examples thereof include an ethylenically unsaturated bond such as a (meth) acryloyl group, a (meth) acryloyloxy group, a vinyl group and an allyl group, and an epoxy group.
When the reactive group is a thermosetting group, examples of the thermosetting group include a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, an epoxy group, a glycidyl group, an isocyanate group, and an alkoxyl group.
The reactive silica fine particles, the first binder component, and the reactive groups contained in the second binder component contained in the second composition to be described later may be the same as long as they are capable of curing reaction with each other. May be different. Further, the reactive silica fine particles, the reactive group possessed by the first binder component and the second binder component may be a photocurable group alone, a thermosetting group alone, Both a curable group and a thermosetting group may be used.

反応性シリカ微粒子は、平均1次粒径が1〜100nmであるが、好ましくは、10〜80nmであることが好ましく、12〜50nmであることがより好ましい。平均1次粒径が1nm未満では、HC層に十分な硬度を付与できない。平均1次粒径が100nmを超えると、HC層のヘイズの上昇を招く。
反応性シリカ微粒子は、1種単独で用いても良いし、異なる平均1次粒径のものを組み合わせて用いても良い。2種類以上組み合わせて用いる場合は、それぞれの平均1次粒径が1〜100nmであれば良い。
The reactive silica fine particles have an average primary particle size of 1 to 100 nm, preferably 10 to 80 nm, and more preferably 12 to 50 nm. If the average primary particle size is less than 1 nm, sufficient hardness cannot be imparted to the HC layer. When the average primary particle size exceeds 100 nm, the haze of the HC layer increases.
The reactive silica fine particles may be used alone or in combination with different average primary particle diameters. When using in combination of 2 or more types, each average primary particle diameter should just be 1-100 nm.

反応性シリカ微粒子の粒子形状は特に限定されず、要求される硬度、透明性等の性能に応じて、従来公知の形状から適宜選択すれば良い。粒子の形状としては、例えば、球状、針状、当該球状の粒子が連結した鎖状等が挙げられる。特開2010−120182号公報に記載の、シリカ微粒子が無機の化学結合により3〜20個結合してなる異形シリカ微粒子(鎖状粒子)はHC層に優れた硬度を付与できるため好ましい。   The particle shape of the reactive silica fine particles is not particularly limited, and may be appropriately selected from conventionally known shapes according to required performance such as hardness and transparency. Examples of the shape of the particles include a spherical shape, a needle shape, and a chain shape in which the spherical particles are connected. The irregular shaped silica fine particles (chain particles) described in JP 2010-120182 A, which are formed by combining 3 to 20 silica fine particles by an inorganic chemical bond, are preferable because they can impart excellent hardness to the HC layer.

第一の組成物における反応性シリカ微粒子の含有量は、硬度やヘイズ等の観点から適宜調節すれば良い。例えば、第一の組成物の全固形分に対して、反応性シリカ微粒子の含有割合は、15〜70質量%が好ましく、35〜65質量%がより好ましく、50〜65質量%がさらに好ましい。上記含有割合が、15質量%以上であれば、HC層に優れた硬度を付与しやすい。上記含有割合が、70質量%以下であれば、シリカ微粒子と第一のバインダー成分の密着性が保たれ、HC層の硬度を十分に高められる。   What is necessary is just to adjust suitably content of the reactive silica fine particle in a 1st composition from viewpoints, such as hardness and a haze. For example, the content ratio of the reactive silica fine particles is preferably 15 to 70% by mass, more preferably 35 to 65% by mass, and further preferably 50 to 65% by mass with respect to the total solid content of the first composition. If the said content rate is 15 mass% or more, it will be easy to provide the hardness which was excellent in HC layer. If the said content rate is 70 mass% or less, the adhesiveness of a silica particle and a 1st binder component will be maintained, and the hardness of HC layer will fully be raised.

反応性シリカ微粒子は、従来公知の方法で調製すれば良く、例えば、特許文献1に記載の表面吸着イオン除去と続く表面処理による、調製方法を用いれば良い。   The reactive silica fine particles may be prepared by a conventionally known method. For example, a preparation method by surface adsorbed ion removal and subsequent surface treatment described in Patent Document 1 may be used.

(第一のバインダー成分)
第一のバインダー成分は、反応性基を有し、硬化してHC層のマトリクスとなる成分である。
本発明においては、第一の組成物は後述する第二の組成物と全体が混合しないが、当該2つの組成物が接触している部分では適度に混合する。そのため、第一のバインダー成分は、その反応性基により、後述する第二の組成物に含まれる第二のバインダー成分とも重合ないし架橋等の反応をすることができ、HC層において主に第一の組成物が硬化した下部側と主に第二の組成物硬化した上部側との密着性を高める働きも有する。
(First binder component)
The first binder component is a component that has a reactive group and cures to become a matrix of the HC layer.
In the present invention, the first composition is not mixed as a whole with the second composition described later, but is appropriately mixed at the portion where the two compositions are in contact. Therefore, the first binder component can react with the second binder component contained in the second composition to be described later due to the reactive group, such as polymerization or crosslinking, and the first binder component mainly in the HC layer. It also has the function of enhancing the adhesion between the lower side where the composition is cured and the upper side where the second composition is cured.

第一のバインダー成分としては、反応性基間で光照射又は加熱による重合ないし架橋等の光硬化性又は熱硬化性を有する反応性基を有する従来公知のモノマー、オリゴマー又はポリマー等のバインダー成分を用いることができる。第一のバインダー成分は、反応性基を有するモノマー、
反応性基として光硬化性基を有するバインダー成分としては、例えば、特開2004−300210号公報に記載の単官能(メタ)アクリレート、ジ(メタ)アクリレート、トリ(メタ)アクリレート及び多官能(メタ)アクリレート及びこれらのEO変性品等の誘導体、これらのラジカル重合性モノマーが重合したオリゴマー並びにエチレン性不飽和結合を有するポリマー等が挙げられる。また、特許文献1に記載の第1の光硬化性樹脂、第2の光硬化性樹脂、特許文献2に記載のアクリレート系の官能基を有するもの等を用いることができる。
熱硬化性バインダー成分としては、例えば、エポキシ基を有する化合物及び特開2006−106503号公報に記載のバインダー性エポキシ化合物が挙げられる。また、特許文献1に記載の熱硬化性樹脂を用いることができる。
また、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、光及び熱に感応することなく乾燥又は冷却により固化する非反応性バインダー成分を併用しても良い。
非反応性バインダー成分としては、例えば、特開2004−300210号公報に記載のポリアクリル酸、ポリイミド及びポリビニルアルコール等が挙げられる。
第一のバインダー成分は1種単独で用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても良い。
第一の組成物における第一のバインダー成分の含有量は、第一のバインダー成分の分子量、反応性基数、要求される塗布性等に応じて適宜調節すれば良い。第一のバインダー成分は、第一の組成物の全固形分から上記反応性シリカ微粒子を除いた残りに対して、20〜95質量%含まれることが、硬化してHC層のマトリクスを形成する観点から好ましい。
As the first binder component, a binder component such as a conventionally known monomer, oligomer or polymer having a reactive group having photo-curing property or thermosetting property such as polymerization or crosslinking by light irradiation or heating between reactive groups is used. Can be used. The first binder component is a monomer having a reactive group,
Examples of the binder component having a photocurable group as a reactive group include monofunctional (meth) acrylate, di (meth) acrylate, tri (meth) acrylate and polyfunctional (meta) described in JP-A-2004-300210. ) Derivatives such as acrylates and EO-modified products thereof, oligomers obtained by polymerizing these radical polymerizable monomers, and polymers having an ethylenically unsaturated bond. Moreover, the 1st photocurable resin described in patent document 1, the 2nd photocurable resin, what has the acrylate-type functional group described in patent document 2, etc. can be used.
Examples of the thermosetting binder component include a compound having an epoxy group and a binder epoxy compound described in JP-A-2006-106503. Moreover, the thermosetting resin of patent document 1 can be used.
Further, a non-reactive binder component that solidifies by drying or cooling without being sensitive to light and heat may be used in combination without departing from the gist of the present invention.
Examples of the non-reactive binder component include polyacrylic acid, polyimide, and polyvinyl alcohol described in JP-A-2004-300210.
A 1st binder component may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
What is necessary is just to adjust suitably content of the 1st binder component in a 1st composition according to the molecular weight of a 1st binder component, the number of reactive groups, the applicability | paintability requested | required, etc. The viewpoint that the first binder component is contained by 20 to 95% by mass with respect to the remainder obtained by removing the reactive silica fine particles from the total solid content of the first composition to form a matrix of the HC layer by curing. To preferred.

(第一の溶剤)
第一の溶剤は、第一の組成物の粘度を調整し、第一の組成物に塗工性を付与する働きを有する。
第一の溶剤は、従来公知のハードコートフィルムや光学フィルムの形成に用いられているものであれば特に限定されずに用いることができる。
第一の溶剤としては、例えば、特開2005−316428号公報に記載のアルコール類、ケトン類、エステル類、ハロゲン化炭化水素類、芳香族炭化水素類が挙げられる。
(First solvent)
The first solvent has a function of adjusting the viscosity of the first composition and imparting coatability to the first composition.
The first solvent can be used without particular limitation as long as it is a conventionally known hard coat film or optical film.
Examples of the first solvent include alcohols, ketones, esters, halogenated hydrocarbons, and aromatic hydrocarbons described in JP-A-2005-316428.

干渉縞の発生を防止するためには、光透過性樹脂基材に対して浸透性のある溶剤(以下、単に「浸透性溶剤」という。)を使用するのが好ましい。
なお、本発明において浸透性とは、光透過性樹脂基材に対して浸透する性質の他、光透過性樹脂基材を膨潤又は湿潤させる概念を含む意味である。
浸透性溶剤の具体例としては、イソプロピルアルコール、メタノール及びエタノール等のアルコール類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン及びシクロヘキサノン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル及び酢酸ブチル等のエステル類、ハロゲン化炭化水素、トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素並びにフェノール類が挙げられる。
光透過性基材がTACの場合に使用する溶剤及び光透過性基材がPETの場合に使用する溶剤は、特開2005−316428号公報記載の溶剤が挙げられる。
特に、光透過性基材がTACの場合に使用する溶剤は、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル及びメチルエチルケトンが好ましい。
光透過性基材がPETの場合に使用する溶剤は、フェノール、クロロベンゼン、ニトロベンゼン、クロロフェノール及びヘキサフルオロイソプロパノールが好ましい。
また、上記ケトン類の溶剤は、浸透性の他に、第一の組成物を光透過性基材表面に容易に均一に塗布することができ、かつ、塗布後において溶剤の蒸発速度が適度で乾燥むらを起こし難いという効果を有する。このため、均一な厚さの大面積塗膜を容易に得ることができる。
第一の溶剤は、上記溶剤を1種単独で用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても良い。
第一の溶剤の量は、第一の組成物の粘度が3〜100mPa・sとなるようにすれば良い。
第一の溶剤として、浸透性溶剤及び非浸透性溶剤を組み合わせて用いる場合、第一の溶剤の全質量に対して、浸透性溶剤の割合を50質量%以上とすることが好ましく、80質量%以上とすることがより好ましい。
In order to prevent the occurrence of interference fringes, it is preferable to use a solvent that is permeable to the light-transmitting resin substrate (hereinafter simply referred to as “permeable solvent”).
In the present invention, penetrability means not only the property of penetrating the light transmissive resin base material but also the concept of swelling or wetting the light transmissive resin base material.
Specific examples of the penetrating solvent include alcohols such as isopropyl alcohol, methanol and ethanol, ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, esters such as methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate, halogenated hydrocarbons, Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, and phenols can be mentioned.
Examples of the solvent used when the light transmissive substrate is TAC and the solvent used when the light transmissive substrate is PET include the solvents described in JP-A-2005-316428.
In particular, when the light-transmitting substrate is TAC, the solvent used is preferably methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate or methyl ethyl ketone.
The solvent used when the light-transmitting substrate is PET is preferably phenol, chlorobenzene, nitrobenzene, chlorophenol and hexafluoroisopropanol.
In addition to penetrability, the ketone solvent can easily and uniformly apply the first composition to the surface of the light-transmitting substrate, and the evaporation rate of the solvent after application is moderate. It has an effect that it is difficult to cause uneven drying. For this reason, a large-area coating film having a uniform thickness can be easily obtained.
As the first solvent, the above solvents may be used alone or in combination of two or more.
The amount of the first solvent may be such that the viscosity of the first composition is 3 to 100 mPa · s.
When using a combination of a permeable solvent and a non-permeable solvent as the first solvent, the proportion of the permeable solvent is preferably 50% by mass or more based on the total mass of the first solvent, and is 80% by mass. More preferably.

(第一の組成物のその他の成分)
第一の組成物には、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、第一のバインダー成分等の反応性基を有する成分の硬化促進、第一の組成物の粘度調整、HC層への硬度、帯電防止性の付与等を目的として、光重合開始剤、硬化剤、増粘剤、帯電防止剤及びレベリング剤等のその他の成分が含まれていても良い。
(Other components of the first composition)
In the first composition, within the range not departing from the gist of the present invention, the curing of the component having a reactive group such as the first binder component, the viscosity adjustment of the first composition, the hardness to the HC layer, For the purpose of imparting antistatic properties and the like, other components such as a photopolymerization initiator, a curing agent, a thickener, an antistatic agent and a leveling agent may be contained.

(光重合開始剤)
光重合開始剤は、上記反応性基が光硬化性基の場合に当該光硬化性基を有する成分の硬化を促進する働きを有する。
光重合開始剤としては、例えば、特開2007−272132号公報に記載のアセトフェノン類及びベンゾフェノン類等の光開始剤を用いることができる。
なかでも、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製の商品名イルガキュア184)及び2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製の商品名イルガキュア907)は、少量でも光重合反応を開始し促進するので、本発明において好ましく用いられる。
光重合開始剤は、1種単独で用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても良い。
光重合開始剤を用いる場合、その含有量は、第一の組成物の全固形分に対して0.1〜20質量%となるように用いることが好ましい。
(Photopolymerization initiator)
The photopolymerization initiator has a function of accelerating the curing of the component having the photocurable group when the reactive group is a photocurable group.
As the photopolymerization initiator, for example, photoinitiators such as acetophenones and benzophenones described in JP-A-2007-272132 can be used.
Among them, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (trade name Irgacure 184 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) and 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one ( Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. trade name Irgacure 907) is preferably used in the present invention because it initiates and accelerates the photopolymerization reaction even in a small amount.
A photoinitiator may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more type.
When using a photoinitiator, it is preferable to use it so that the content may become 0.1-20 mass% with respect to the total solid of a 1st composition.

(硬化剤)
硬化剤は、上記反応性基が熱硬化性基の場合に、当該熱硬化性基を有する成分の硬化を促進する働きを有する。
このような硬化剤としては、従来公知の熱硬化性バインダーと併用される硬化剤を用いて良く、例えば、特開2006−284752号公報に記載の、無水フタル酸、無水トリメリット酸等の多価カルボン酸無水物又はコハク酸、トリメリット酸等の多価カルボン酸を用いることができる。
硬化剤は、1種単独で用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても良い。
硬化剤を用いる場合、その含有量は、熱硬化性基を有するバインダー成分100質量部に対して1〜100質量部が好ましく、5〜50質量部がより好ましい。
(Curing agent)
When the reactive group is a thermosetting group, the curing agent has a function of promoting the curing of the component having the thermosetting group.
As such a curing agent, a curing agent used in combination with a conventionally known thermosetting binder may be used. For example, many curing agents such as phthalic anhydride and trimellitic anhydride described in JP-A No. 2006-284752 may be used. A polyvalent carboxylic acid such as a polyvalent carboxylic acid anhydride or succinic acid or trimellitic acid can be used.
A hardening | curing agent may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
When using a hardening | curing agent, 1-100 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of binder components which have a thermosetting group, and 5-50 mass parts is more preferable.

(増粘剤)
第一の組成物には粘度の調整を目的として、有機化合物及び/又は無機化合物の増粘剤が含まれていても良い。
有機化合物の増粘剤としては、例えば、エチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、アクリル樹脂、脂肪酸アマイドワックス、酸化ポリエチレン、高分子ポリエステルのアミン塩、直鎖ポリアミノアミドと高分子酸ポリエステルの塩、ポリカルポン酸のアミド溶液、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリルスルホン酸塩、コロイダル系エステル、ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂及びポリイミド樹脂等並びにこれらを粉砕したものが挙げられる。
無機化合物の増粘剤としては、例えば、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸アルミニウム、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、ガラス、けいそう土、酸化チタン、酸化ジルコニウム、二酸化珪素、タルク、雲母、長石、カオリナイト(カオリンクレー)、パイロフィライト(ろう石クレー)、セリサイト(絹雲母)、ベントナイト、スメクタイト・バーミキュライト類(モンモリロナイト、バイデライト、ノントロナイト及びサポナイト等)、有機ベントナイト並びに有機スメクタイト等が挙げられる。
増粘剤は市販品を用いても良い。有機化合物の増粘剤の市販品としては、例えば、日本曹達(株)製のセルニーHPC−H、HPC−M、HPC−L、HPC−SL及びHPC−SSL、三菱レイヨン(株)製のダイヤナールBRシリーズ、楠本化成(株)製のディスパロン#6900−20X、ディスパロン#4200、デイスパロンKS−873N及びディスパロン#1850、ビック・ケミー・ジャパン社製のBYK−405及びBYK−410、ローム・アンド・ハース社製のプライマルRW−12W、伊藤製油(株)製のA−S−AT−20S、A−S−AT−350F、A−S−AD−10A及びA−S−AD−160等が挙げられる。
無機化合物の増粘剤の市販品としては、例えば、白石工業(株)のクラウンクレー、バーゲスクレー#60、バーゲスクレーKF及びオプチホワイト、土屋カオリン工業(株)製のカオリンJP−100、NNカオリンクレー、STカオリンクレー及びハードシル、エンジェルハード(株)製のASP−072、サテントンプラス、トランスリンク37及びハイドラスデラミNCD、丸尾カルシウム(株)製のSYカオリン、OSクレー、HAクレー及びMCハードクレー、コープケミカル社製のルーセンタイトSWN、ルーセンタイトSAN、ルーセンタイトSTN、ルーセンタイトSEN及びルーセンタイトSPN、クニミネ工業社製のスメクトン、ホージュン(株)製のベンゲル、ベンゲルFW、エスベン、エスベン74、オルガナイト及びオルガナイトT、ウイルバー・エリス社製の穂高印、オルベン、250M、ベントン34及びベントン38、日本シリカ工業(株)製のラポナイト、ラポナイトRD及びラポナイトRDS等が挙げられる。
透明性の観点から好ましい増粘剤は上記有機化合物系の増粘剤で、これらの中でもヒドロキシプロピルセルロース、アクリル樹脂が好ましい。
増粘剤は、1種単独で用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても良い。
本発明に係る光学フィルムの製造方法では、第一の組成物及び/又は第二の組成物が増粘剤を含むことが好ましい。増粘剤を用いる場合、その含有量は、第一の組成物の全固形分に対して0.1〜10質量%となるようにすることが好ましい。
第一の組成物と第二の組成物に増粘剤が含まれる場合、第一の組成物及び第二の組成物の増粘剤は、同じであっても良いし、異なっていても良い。
(Thickener)
The first composition may contain a thickener of an organic compound and / or an inorganic compound for the purpose of adjusting the viscosity.
Examples of organic compound thickeners include, for example, ethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose, acrylic resin, fatty acid amide wax, polyethylene oxide, amine salt of high molecular polyester, salt of linear polyaminoamide and high molecular acid polyester, amide of polycarponic acid Examples thereof include solutions, alkyl sulfonates, alkyl allyl sulfonates, colloidal esters, polyester resins, phenol resins, melamine resins, epoxy resins, urethane resins and polyimide resins, and those obtained by pulverizing them.
Examples of thickening agents for inorganic compounds include calcium stearate, zinc stearate, aluminum stearate, aluminum oxide, zinc oxide, magnesium oxide, glass, diatomaceous earth, titanium oxide, zirconium oxide, silicon dioxide, talc, mica, Feldspar, kaolinite (kaolin clay), pyrophyllite (waxite clay), sericite (sericite), bentonite, smectite vermiculites (montmorillonite, beidellite, nontronite, saponite, etc.), organic bentonite and organic smectite, etc. Is mentioned.
A commercially available product may be used as the thickener. Commercially available organic compound thickeners include, for example, Selney HPC-H, HPC-M, HPC-L, HPC-SL and HPC-SSL manufactured by Nippon Soda Co., Ltd., diamond manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd. NAR BR series, Disparon # 6900-20X, Disparon # 4200, Disparon KS-873N and Disparon # 1850 manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd. BYK-405 and BYK-410 manufactured by Big Chemie Japan, Rohm and Primal RW-12W manufactured by Haas, AS-AT-20S, AS-AT-350F, AS-AD-10A, AS-AD-160, etc. manufactured by Ito Oil Co., Ltd. It is done.
Commercially available inorganic compound thickeners include, for example, Shiraishi Kogyo Co., Ltd. Crown clay, Burgess clay # 60, Burgess clay KF and Opti White, Kaolin JP-100, NN Kaolin clay, manufactured by Tsuchiya Kaolin Kogyo Co., Ltd. ST kaolin clay and hard sill, Angel Hard Co., Ltd. ASP-072, Satinton Plus, Translink 37 and Hydras Delami NCD, Maruo Calcium Co., Ltd. SY Kaolin, OS clay, HA clay and MC hard clay, Lucentite SWN, Lucentite SAN, Lucentite STN, Lucentite SEN and Lucentite SPN manufactured by Co-op Chemical Co., Smecton manufactured by Kunimine Industry Co., Ltd. And Olga Knight T, Wilbur-Ellis Co. Hotaka indicia, Orben, 250M, Benton 34 and Bentone 38, Nippon Silica Industrial Co., Ltd. Laponite include Laponite RD and Laponite RDS, and the like.
From the viewpoint of transparency, preferred thickeners are the organic compound thickeners, among which hydroxypropylcellulose and acrylic resins are preferred.
A thickener may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more type.
In the manufacturing method of the optical film which concerns on this invention, it is preferable that a 1st composition and / or a 2nd composition contain a thickener. When using a thickener, it is preferable that the content will be 0.1-10 mass% with respect to the total solid of a 1st composition.
When a thickener is contained in the first composition and the second composition, the thickeners of the first composition and the second composition may be the same or different. .

(帯電防止剤)
帯電防止剤は、HC層に帯電防止性を付与するための成分である。
帯電防止剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。
帯電防止剤としては、例えば、特開2009−265658号公報に記載の陰イオン性帯電防止剤、陽イオン性帯電防止剤、両性帯電防止剤、非イオン性帯電防止剤、電解質及びイオン性液体等が挙げられる。
帯電防止剤は、1種単独で用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても良い。
帯電防止剤の含有量は、特に限定されず適宜調節して用いれば良い。例えば、HC層の表面抵抗率は、1.0×1013Ω/□以下であることが好ましく、1.0×10Ω/□以下であることがより好ましいため、HC層の表面抵抗率がこの範囲になるように用いれば良い。
(Antistatic agent)
The antistatic agent is a component for imparting antistatic properties to the HC layer.
An antistatic agent is not specifically limited, A conventionally well-known thing can be used.
Examples of the antistatic agent include an anionic antistatic agent, a cationic antistatic agent, an amphoteric antistatic agent, a nonionic antistatic agent, an electrolyte, and an ionic liquid described in JP-A-2009-265658. Is mentioned.
An antistatic agent may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
The content of the antistatic agent is not particularly limited and may be appropriately adjusted and used. For example, the surface resistivity of the HC layer is preferably 1.0 × 10 13 Ω / □ or less, and more preferably 1.0 × 10 8 Ω / □ or less. May be used in such a range.

(レベリング剤)
レベリング剤は、HC層の形成時にその表面に対して、防汚性、塗工性又は平滑性を付与する働きを有する。
レベリング剤としては、従来公知の反射防止フィルムや光学フィルムに用いられているフッ素系、シリコーン系及びアクリル系等のレベリング剤を用いることができる。例えば、DIC(株)製の商品名メガファックシリーズ(MCF350−5)等の電離放射線硬化性基を有しないレベリング剤、信越化学工業(株)製の商品名X−22−163A等の電離放射線硬化性基を有するレベリング剤のいずれも使用することができる。
フッ素系、シリコーン系のレベリング剤は、防汚性も有する。
レベリング剤は、1種単独で用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても良い。
レベリング剤を用いる場合、その含有量は、第一のバインダー成分の質量に対して5.0質量%以下となるようにすることが好ましく、0.1〜3.0質量%とすることがより好ましい。
(Leveling agent)
The leveling agent has a function of imparting antifouling property, coating property or smoothness to the surface of the HC layer when it is formed.
As the leveling agent, there can be used fluorine-based, silicone-based, acrylic-based leveling agents and the like used in conventionally known antireflection films and optical films. For example, a leveling agent having no ionizing radiation curable group such as a trade name “Megafac Series” (MCF350-5) manufactured by DIC Corporation, or an ionizing radiation such as a trade name “X-22-163A” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Any leveling agent having a curable group can be used.
Fluorine and silicone leveling agents also have antifouling properties.
A leveling agent may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
When a leveling agent is used, the content is preferably 5.0% by mass or less, more preferably 0.1 to 3.0% by mass with respect to the mass of the first binder component. preferable.

(第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物)
第二の組成物は、上記反応性シリカ微粒子を含まず、第二のバインダー成分及び第二の溶剤を含み、粘度が10〜100mPa・sである。
第二の組成物が、上記反応性シリカ微粒子を含まず、第一の組成物の粘度と第二の組成物の粘度が上記特定範囲であることにより、同時塗布により形成したHC層の上部側に反応性シリカ微粒子の反応後のシリカ微粒子が少ないため、光学フィルムは耐ケン化性に優れる。
(Second curable resin composition for hard coat layer)
The second composition does not include the reactive silica fine particles, includes the second binder component and the second solvent, and has a viscosity of 10 to 100 mPa · s.
When the second composition does not contain the reactive silica fine particles and the viscosity of the first composition and the viscosity of the second composition are in the specific range, the upper side of the HC layer formed by simultaneous application In addition, since the amount of silica fine particles after the reaction of the reactive silica fine particles is small, the optical film is excellent in saponification resistance.

第二の組成物の粘度は、10〜100mPa・sであるが、同時塗布により形成した塗膜が硬化する際に、上記第一の組成物に含まれる反応性シリカ微粒子の拡散、浮上等の移動を制御する観点から、好ましくは、15〜50mPa・s、さらに好ましくは、20〜30mPa・sである。   The viscosity of the second composition is 10 to 100 mPa · s, but when the coating film formed by simultaneous coating is cured, the reactive silica fine particles contained in the first composition are diffused, floated, etc. From the viewpoint of controlling movement, it is preferably 15 to 50 mPa · s, and more preferably 20 to 30 mPa · s.

(第二のバインダー成分)
第二のバインダー成分は、反応性基を有し、硬化してHC層のマトリクスとなる成分である。
第二のバインダー成分は、上記第一のバインダー成分で説明したものを用いることができる。
第二のバインダー成分は、1種単独で用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても良い。
第二のバインダー成分と上記第一のバインダー成分は、種類、分子量、反応性基数等が同じであっても良いし、異なっていても良い。
第二の組成物における第二のバインダー成分の含有量は、第二のバインダー成分の分子量、反応性基基数、要求される塗布性等に応じて適宜調節すれば良い。第二のバインダー成分は、後述する高屈折率微粒子を含まない場合は、第二の組成物の全固形分に対して、20〜95質量%含まれることが好ましく、後述する高屈折率微粒子を含む場合は、第二の組成物の全固形分から高屈折率微粒子を除いた残りに対して、20〜95質量%含まれることが、硬化してHC層のマトリクスを形成する観点から好ましい。
(Second binder component)
The second binder component is a component that has a reactive group and cures to become a matrix of the HC layer.
As the second binder component, those described in the first binder component can be used.
A 2nd binder component may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
The second binder component and the first binder component may be the same or different in kind, molecular weight, number of reactive groups, and the like.
What is necessary is just to adjust suitably content of the 2nd binder component in a 2nd composition according to the molecular weight of a 2nd binder component, the number of reactive group groups, the applicability | paintability requested | required. When the second binder component does not contain the high refractive index fine particles described later, it is preferably contained in an amount of 20 to 95% by mass with respect to the total solid content of the second composition. When it is contained, it is preferably contained in an amount of 20 to 95% by mass with respect to the remainder obtained by removing the high refractive index fine particles from the total solid content of the second composition from the viewpoint of curing and forming a matrix of the HC layer.

(第二の溶剤)
第二の溶剤は、第二の組成物の粘度を調整する働きを有する。
第二の溶剤は、上記第一の溶剤で説明したものを用いることができる。
第二の溶剤は、1種単独で用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても良い。
第二の溶剤と上記第一の溶剤は、同じであっても良いし、異なっていても良い。
第二の溶剤の量は、第二の組成物の粘度が10〜100mPa・sとなるようにすれば良い。
(Second solvent)
The second solvent has a function of adjusting the viscosity of the second composition.
As the second solvent, those described for the first solvent can be used.
A 2nd solvent may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
The second solvent and the first solvent may be the same or different.
The amount of the second solvent may be such that the viscosity of the second composition is 10 to 100 mPa · s.

(第二の組成物のその他の成分)
第二の組成物には、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、第二のバインダー成分等の反応性基を有する成分の硬化促進、第二の組成物の粘度調整、HC層への硬度、帯電防止性、防汚性、耐ブロッキング性の付与等を目的として、光重合開始剤、増粘剤、易滑剤、帯電防止剤、防汚剤及びレベリング剤等のその他の成分が含まれていても良い。
光重合開始剤、増粘剤、帯電防止剤及びレベリング剤は、第一の組成物で説明したものを用いることができる。
(Other components of the second composition)
In the second composition, within the range not departing from the gist of the present invention, the curing of the component having a reactive group such as the second binder component, the viscosity adjustment of the second composition, the hardness to the HC layer, Other components such as photopolymerization initiators, thickeners, lubricants, antistatic agents, antifouling agents, and leveling agents are included for the purpose of imparting antistatic properties, antifouling properties, blocking resistance, etc. Also good.
As the photopolymerization initiator, thickener, antistatic agent and leveling agent, those described in the first composition can be used.

(防汚剤)
防汚剤は、光学フィルムの最表面の汚れを防止し、さらにHC層に耐擦傷性を付与することもできる。
防汚剤としては、従来公知のフッ素系化合物又はケイ素系化合物等の防汚剤(防汚染剤)を用いて良い。
防汚剤としては、例えば、特開2007−264279号公報に記載の防汚染剤が挙げられる。
市販品の防汚剤を用いることも好ましい。このような市販品の防汚剤(非反応性)としては、DIC(株)製のメガファックシリーズ、例えば、商品名MCF350−5、F445、F455、F178、F470、F475、F479、F477、TF1025、F478及びF178K等、東芝シリコーン(株)製のTSFシリーズ等、信越化学工業(株)製のX22シリーズ及びKFシリーズ等並びにチッソ(株)製のサイラプレーンシリーズ等が挙げられる。
市販品の防汚剤(反応性)としては、新中村化学工業(株)製の商品名SUA1900L10及び商品名SUA1900L6、ダイセルユーシービー(株)製の商品名Ebecryl350、商品名Ebecryl1360及び商品名KRM7039、日本合成化学工業(株)製のUT3971、DIC(株)製の商品名ディフェンサTF3001、商品名ディフェンサTF3000及び商品名ディフェンサTF3028、共栄社化学(株)製の商品名ライトプロコートAFC3000、信越化学工業(株)製の商品名KNS5300、GE東芝シリコーン(株)製の商品名UVHC1105及びUVHC8550並びに日本ペイント(株)製の商品名ACS−1122等が挙げられる。
(Anti-fouling agent)
The antifouling agent prevents the outermost surface of the optical film from being stained, and can also impart scratch resistance to the HC layer.
As the antifouling agent, a conventionally known antifouling agent (antifouling agent) such as a fluorine compound or a silicon compound may be used.
Examples of the antifouling agent include antifouling agents described in JP-A-2007-264279.
It is also preferable to use a commercially available antifouling agent. Examples of such commercially available antifouling agents (non-reactive) include Megafac series manufactured by DIC Corporation, such as trade names MCF350-5, F445, F455, F178, F470, F475, F479, F477, and TF1025. , F478 and F178K, TSF series manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd., X22 series and KF series manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., and Silaplane series manufactured by Chisso Corporation.
As a commercially available antifouling agent (reactivity), trade name SUA1900L10 and trade name SUA1900L6 manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., trade name Ebecryl 350, trade name Ebecryl 1360 and trade name KRM7039 manufactured by Daicel UC Corporation, UT3971 manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., Def Co., Ltd., trade name Defensa TF3001, Def Co., Ltd. TF3000 and trade name Defensa TF3028, Kyoeisha Chemical Co., Ltd. trade name Light Procoat AFC3000, Shin-Etsu Chemical Trade name KNS5300 manufactured by GE Toshiba Silicone Co., Ltd., trade names UVHC1105 and UVHC8550 manufactured by GE Toshiba Silicone, and trade name ACS-1122 manufactured by Nippon Paint Co., Ltd.

(易滑剤)
易滑剤は、HC層表面に微小な凹凸を形成し、光学フィルムに耐ブロッキング性を付与する働きを有する。なお、ブロッキングとは、光学フィルムを積層したときや、光学フィルムを巻き取ってロール状にしたとき等に光学フィルムの一方の表面と他方の表面とが貼り付く現象をいう。ブロッキングが起こるとロールから光学フィルムを滑らかに繰り出すことができなくなり、後の工程において、光学フィルムにシワが発生したり、光学フィルムが蛇行したりする要因となる。その他、ブロッキングした箇所にムラができて透明性等の光学的均一性を損なう要因ともなる。
本発明に係る光学フィルムの製造方法では、前記第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物が、さらに、平均1次粒径50〜300nmの易滑剤を含むことが、光学フィルムに耐ブロッキング性を付与できるため好ましい。
(Lubricant)
The easy slip agent has a function of forming minute irregularities on the surface of the HC layer and imparting blocking resistance to the optical film. In addition, blocking refers to a phenomenon in which one surface and the other surface of an optical film stick together when the optical film is laminated or when the optical film is wound into a roll. When blocking occurs, the optical film cannot be smoothly fed out from the roll, and in the subsequent process, wrinkles are generated in the optical film or the optical film meanders. In addition, unevenness is generated in the blocked portion, which is a factor that impairs optical uniformity such as transparency.
In the method for producing an optical film according to the present invention, the second curable resin composition for a hard coat layer further contains an easy lubricant having an average primary particle size of 50 to 300 nm. Is preferable.

易滑剤としては、従来公知の無機微粒子又は有機微粒子等の易滑剤を用いることができる。
易滑剤の平均1次粒径は50〜300nmであることが好ましい。平均1次粒径が50nm以上であることにより、HC層表面に微小な凹凸を形成しやすく、光学フィルムに耐ブロッキング性を付与しやすい。平均1次粒径が300nm以下であることにより、光学フィルムの透明性を損なわず、ヘイズの上昇も抑えることができる。
易滑剤を用いる場合、易滑剤の含有量は、第二の組成物の全固形分に対して、0.1〜3.0質量%となるように用いることが十分な耐ブロッキング性を得る観点から好ましい。
易滑剤の具体例としては、シリカ微粒子(触媒化成工業(株)製の商品名MIBKSIR)等が挙げられる。
As the lubricant, conventionally known lubricants such as inorganic fine particles or organic fine particles can be used.
The average primary particle size of the lubricant is preferably 50 to 300 nm. When the average primary particle size is 50 nm or more, minute irregularities are easily formed on the surface of the HC layer, and it is easy to impart blocking resistance to the optical film. When the average primary particle size is 300 nm or less, the transparency of the optical film is not impaired, and an increase in haze can be suppressed.
When using a lubricant, the content of the lubricant is 0.1 to 3.0% by mass with respect to the total solid content of the second composition. To preferred.
Specific examples of the lubricant include silica fine particles (trade name MIBKSIR manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd.).

(高屈折率微粒子)
HC層の屈折率を高める、又は調整するために高屈折率微粒子を用いても良い。
後述するように、HC層上に低屈折率層を直接又は高屈折率層を介して設ける場合、第二の組成物に高屈折率微粒子を含有させることにより、HC層においては、HC層の膜厚方向では、HC層の光透過性樹脂基材とは反対側の界面に近いほど高屈折率微粒子の存在量を多く(光透過性樹脂基材側の界面に近いほど高屈折率微粒子の存在量を少なく)することができる。これによって、HC層の上部側の屈折率を選択的に高める又は調整することができ、これらの層との屈折率差を調整することができる。そのため、光学フィルムの反射防止性能を高めることができる。
本発明の高屈折率微粒子は、屈折率が1.50〜2.80の微粒子をいう。
このような高屈折率微粒子としては、例えば、特許文献1、特開2007−272132号公報に記載の、酸化チタン、酸化ジルコニウム、アンチモンスズ酸化物、酸化アンチモン等の高屈折率微粒子又は中乃至高屈折率微粒子等を用いることができる。
高屈折率微粒子の平均1次粒径は、HC層の透明性を確保する観点から、1〜100nmであることが好ましい。
上記高屈折率微粒子は、1種単独で用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても良い。
(High refractive index fine particles)
High refractive index fine particles may be used to increase or adjust the refractive index of the HC layer.
As will be described later, when the low refractive index layer is provided on the HC layer directly or via the high refractive index layer, the second composition contains high refractive index fine particles so that the HC layer has In the film thickness direction, the closer to the interface of the HC layer opposite to the light-transmitting resin substrate, the more the high refractive index fine particles are present (the closer the interface to the light-transmitting resin substrate side, Can be less). Thereby, the refractive index on the upper side of the HC layer can be selectively increased or adjusted, and the difference in refractive index with these layers can be adjusted. Therefore, the antireflection performance of the optical film can be enhanced.
The high refractive index fine particles of the present invention are fine particles having a refractive index of 1.50 to 2.80.
Examples of such high refractive index fine particles include high refractive index fine particles such as titanium oxide, zirconium oxide, antimony tin oxide, and antimony oxide described in Patent Document 1 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-272132. Refractive index fine particles and the like can be used.
The average primary particle size of the high refractive index fine particles is preferably 1 to 100 nm from the viewpoint of ensuring the transparency of the HC layer.
The high refractive index fine particles may be used alone or in combination of two or more.

((iii)工程)
(iii)工程では、上記光透過性基材の一面側に、当該光透過性基材側から、上記第一の組成物及び第二の組成物を隣接して同時塗布し、塗膜とする。
同時塗布の方法は特に限定されず、従来公知のダイコーティングやスライドコーティング等の同時塗布方法を用いることができる。本発明においては、ダイコーティングが好ましい。
((Iii) step)
In the step (iii), the first composition and the second composition are adjacently applied to one side of the light transmissive substrate from the light transmissive substrate side to form a coating film. .
The method of simultaneous application is not particularly limited, and a conventionally known simultaneous application method such as die coating or slide coating can be used. In the present invention, die coating is preferred.

図1は、本発明に係る光学フィルムの製造方法における(iii)工程の同時塗布の一例を示した模式図である。
光透過性樹脂基材10の一面側に、2スロットエクストルージョン型ダイコーターのダイコーターヘッド20のスリット31及び32より、それぞれ、第一の組成物40、第二の組成物50を吐出し、塗膜とする。エクストルージョン型ダイコーターの2つのスリット31及び32のうち、光透過性樹脂基材10の進行方向に対して、上流側に位置するスリット31より、硬化してHC層の下部側を形成する第一の組成物40を、下流側に位置するスリット32より、硬化してHC層の上部側を形成する第二の組成物50を吐出させて塗布を行う。
FIG. 1 is a schematic view showing an example of the simultaneous application in step (iii) in the method for producing an optical film according to the present invention.
The first composition 40 and the second composition 50 are discharged from the slits 31 and 32 of the die coater head 20 of the two-slot extrusion type die coater, respectively, on one side of the light transmissive resin base material 10. Let it be a coating film. Of the two slits 31 and 32 of the extrusion type die coater, the lower side of the HC layer is formed by curing from the slit 31 located on the upstream side with respect to the traveling direction of the light transmissive resin base material 10. The first composition 40 is applied by discharging a second composition 50 that cures and forms the upper side of the HC layer from the slit 32 positioned on the downstream side.

図1では、第一の組成物40と第二の組成物50を同時塗布する様子を示したが、これら2つの組成物40、50に加えて、後述する高屈折率層用組成物や低屈折率層用組成物を同時塗布しても良い。
高屈折率層や低屈折率層等のその他の層を形成する組成物を上記2つの組成物40、50と一緒に同時塗布することで、生産工程を簡略化できる利点がある。
同時塗布によりHC層上となる位置にその他の層を設ける場合には、光透過性樹脂基材の進行方向に対して下流側にその他の層を形成するための組成物を吐出するスロットをさらに設けて、同時塗布を行えば良い。
例えば、図示しないが3スロットダイコーターを用いて、光透過性樹脂基材上に第一の組成物40、その上に第二の組成物50、さらにその上に低屈折率層用組成物を同時塗布し、光照射又は加熱により硬化させることにより、光透過性樹脂基材/HC層/低屈折率層という層構成の光学フィルムを得ることも可能である。
In FIG. 1, a state in which the first composition 40 and the second composition 50 are simultaneously applied is shown. In addition to these two compositions 40 and 50, a composition for a high refractive index layer and a low composition described later are used. You may apply | coat the composition for refractive index layers simultaneously.
There is an advantage that the production process can be simplified by simultaneously applying a composition for forming other layers such as a high refractive index layer and a low refractive index layer together with the two compositions 40 and 50.
When another layer is provided at a position on the HC layer by simultaneous application, a slot for discharging a composition for forming the other layer on the downstream side with respect to the traveling direction of the light-transmitting resin substrate is further provided. It may be provided and applied simultaneously.
For example, using a three-slot die coater (not shown), the first composition 40 is formed on the light-transmitting resin substrate, the second composition 50 is formed thereon, and the composition for the low refractive index layer is formed thereon. It is also possible to obtain an optical film having a layer structure of light-transmitting resin base material / HC layer / low refractive index layer by simultaneous application and curing by light irradiation or heating.

本発明に係る光学フィルムの製造方法においては、ダイコーターヘッド20と光透過性樹脂基材10の距離であるコーターギャップ60と光透過性樹脂基材10上に同時塗布した際の第一の組成物40と第二の組成物50の塗膜の合計の厚さ70が、コーターギャップ60<厚さ70の2倍の関係にあることが好ましい。このような関係を保ちながら同時塗布することで、光透過性樹脂基材10とダイコーターヘッド20の間に形成される塗布ビードが安定化する。特にこの塗布ビードは、塗布により形成する層が薄膜化するほど不安定になりやすく、塗布面にむらやスジを生じさせ、外観を悪化させる原因となるが、上記コーターギャップ60と厚さ70の関係を保つことで、塗布ビードを安定化させることができる。なお、塗布ビードとは、塗布装置と基材との間に生成する液だまりを意味する。   In the method for producing an optical film according to the present invention, the first composition when the coater gap 60 that is the distance between the die coater head 20 and the light transmissive resin substrate 10 and the light transmissive resin substrate 10 are simultaneously applied. It is preferable that the total thickness 70 of the coating film of the object 40 and the second composition 50 is in a relationship of twice the coater gap 60 <thickness 70. By simultaneously coating while maintaining such a relationship, the coating bead formed between the light-transmitting resin substrate 10 and the die coater head 20 is stabilized. In particular, this coating bead tends to become unstable as the layer formed by coating becomes thinner, causing unevenness and streaks on the coated surface and deteriorating the appearance. However, the coating bead 60 has a thickness of 70 and a thickness of 70. By maintaining the relationship, the coated bead can be stabilized. In addition, a coating bead means the liquid pool produced | generated between a coating device and a base material.

((iv)工程)
(iv)工程では、前記(iii)工程で得られた塗膜を光照射及び/又は加熱により硬化させハードコート層を形成する。
光照射には、主に、紫外線、可視光、電子線又は電離放射線等が使用される。紫外線硬化の場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク又はメタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等を使用する。光照射量は、紫外線波長365nmでの積算露光量として、50〜300mJ/cmであれば良い。
加熱する場合は、通常40℃〜120℃の温度にて処理する。また、室温(25℃)で24時間以上放置することにより反応を行っても良い。
((Iv) step)
In the step (iv), the hard coat layer is formed by curing the coating film obtained in the step (iii) by light irradiation and / or heating.
For light irradiation, ultraviolet rays, visible light, electron beams, ionizing radiation, or the like is mainly used. In the case of ultraviolet curing, ultraviolet rays or the like emitted from light such as an ultra-high pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc, or a metal halide lamp are used. The light irradiation amount may be 50 to 300 mJ / cm 2 as an integrated exposure amount at an ultraviolet wavelength of 365 nm.
When heating, it processes at the temperature of 40 to 120 degreeC normally. Moreover, you may react by leaving it to stand for 24 hours or more at room temperature (25 degreeC).

また、(iv)工程においては、光照射又は加熱の前に必要に応じて適宜乾燥を行っても良い。
乾燥方法としては、例えば、減圧乾燥又は加熱乾燥、さらにはこれらの乾燥を組み合わせる方法等が挙げられる。また、常圧で乾燥させる場合は、30〜110℃で乾燥させることが好ましい。例えば、第一の溶剤又は第二の溶剤としてメチルイソブチルケトンを用いる場合は、通常室温〜80℃、好ましくは40℃〜70℃の範囲内の温度で、20秒〜3分、好ましくは30秒〜1分程度の時間で乾燥が行われる。
In the step (iv), drying may be appropriately performed as necessary before light irradiation or heating.
Examples of the drying method include reduced-pressure drying or heat drying, and a method combining these drying methods. Moreover, when drying at normal pressure, it is preferable to dry at 30-110 degreeC. For example, when methyl isobutyl ketone is used as the first solvent or the second solvent, it is usually room temperature to 80 ° C., preferably 40 ° C. to 70 ° C., and 20 seconds to 3 minutes, preferably 30 seconds. Drying is performed in about 1 minute.

(iv)工程において形成されるHC層の膜厚は、要求される硬度、耐ケン化性等に応じて適宜調節すれば良い。HC層の膜厚は、例えば、1〜20μmとすることができる。   The film thickness of the HC layer formed in the step (iv) may be appropriately adjusted according to required hardness, saponification resistance, and the like. The film thickness of the HC layer can be set to 1 to 20 μm, for example.

本発明に係る光学フィルムの製造方法では、前記(iv)工程の後に、さらに(v)前記ハードコート層の光透過性樹脂基材とは反対側の面に、直接又は高屈折率層を介して低屈折率層を形成する工程、を含むことが、光学フィルムに反射防止性能を付与できるため好ましい。   In the method for producing an optical film according to the present invention, after the step (iv), (v) the surface of the hard coat layer opposite to the light-transmitting resin substrate is directly or via a high refractive index layer. Including a step of forming a low refractive index layer is preferable because the optical film can be provided with antireflection performance.

図2は、本発明に係る光学フィルムの層構成の一例を示した模式図である。
図2の光学フィルム1では、光透過性樹脂基材10の一面側に、光透過性樹脂基材10側からハードコート層80及び低屈折率層90が設けられている。
このとき、各層の屈折率の大小関係は、ハードコート層80>低屈折率層90である。
図3は、本発明に係る光学フィルムの層構成の他の一例を示した模式図である。
図3の光学フィルム1では、光透過性樹脂基材10の一面側に、光透過性樹脂基材10側からハードコート層80、高屈折率層100及び低屈折率層90が設けられている。
このとき、各層の屈折率の大小関係は、高屈折率層100>ハードコート層80>低屈折率層90である。
図2や図3のように、通常、光学フィルムの一面側の最表面となる位置に最も屈折率の低い低屈折率層90が位置し、低屈折率層90の光透過性樹脂基材10側に低屈折率層90よりも屈折率の高いハードコート層80や高屈折率層100が位置することで、光学フィルムに反射防止性能を付与することができる。通常は、上述したように低屈折率層90が光学フィルムの一面側の最表面となるが、図示しないが、低屈折率層90の光透過性樹脂基材10とは反対側の面に、さらに反射防止性能を損なわない範囲で、極薄い防汚層やHC層を設けても良い。また、上記低屈折率層90や高屈折率層100を設けずに、ハードコート層80の光透過性樹脂基材10とは反対側の面に、防汚層等の層を設けても良い。
以下、低屈折率層及び高屈折率層並びにこれらの層を形成するための組成物を説明する。
FIG. 2 is a schematic view showing an example of the layer structure of the optical film according to the present invention.
In the optical film 1 of FIG. 2, the hard coat layer 80 and the low refractive index layer 90 are provided on one side of the light transmissive resin base material 10 from the light transmissive resin base material 10 side.
At this time, the magnitude relationship of the refractive index of each layer is hard coat layer 80> low refractive index layer 90.
FIG. 3 is a schematic view showing another example of the layer structure of the optical film according to the present invention.
In the optical film 1 of FIG. 3, the hard coat layer 80, the high refractive index layer 100, and the low refractive index layer 90 are provided on one surface side of the light transmissive resin base material 10 from the light transmissive resin base material 10 side. .
At this time, the magnitude relationship of the refractive index of each layer is high refractive index layer 100> hard coat layer 80> low refractive index layer 90.
As shown in FIG. 2 and FIG. 3, the low refractive index layer 90 having the lowest refractive index is usually positioned at the outermost surface on the one surface side of the optical film. When the hard coat layer 80 or the high refractive index layer 100 having a higher refractive index than the low refractive index layer 90 is located on the side, antireflection performance can be imparted to the optical film. Usually, as described above, the low refractive index layer 90 is the outermost surface on the one surface side of the optical film, although not shown, on the surface of the low refractive index layer 90 opposite to the light-transmitting resin substrate 10, Furthermore, an extremely thin antifouling layer or HC layer may be provided as long as the antireflection performance is not impaired. Further, without providing the low refractive index layer 90 or the high refractive index layer 100, a layer such as an antifouling layer may be provided on the surface of the hard coat layer 80 opposite to the light transmissive resin base material 10. .
Hereinafter, the low refractive index layer, the high refractive index layer, and the composition for forming these layers will be described.

(低屈折率層)
低屈折率層は、当該低屈折率層の光透過性樹脂基材側に隣接する層との屈折率差により、反射防止性能を発現する層であり、必要に応じて設けられる層である。
低屈折率層の屈折率は、上述したHC層80や高屈折率層100との大小関係を満たせば、従来公知の反射防止フィルムや光学フィルムの屈折率とすることができる。低屈折率層の屈折率は、通常、1.30〜1.50であり、好ましくは1.30〜1.45である。
さらに、低屈折率層は下記式(1)を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
(m/4)λ×0.7<n<(m/4)λ×1.3・・・式(1)
式(1)中、mは正の奇数であり、nは低屈折率層の屈折率であり、そして、dは低屈折率層の厚さ(nm)である。また、λは光の波長であり、380〜780nmの範囲の値である。
なお、上記式(1)を満たすとは、上記波長の範囲において数式(1)を満たすm(正の奇数。通常1である。)が存在することを意味する。
(Low refractive index layer)
The low refractive index layer is a layer that exhibits antireflection performance due to a difference in refractive index with a layer adjacent to the light transmissive resin substrate side of the low refractive index layer, and is a layer provided as necessary.
The refractive index of the low refractive index layer can be the refractive index of a conventionally known antireflection film or optical film as long as the magnitude relationship with the HC layer 80 and the high refractive index layer 100 described above is satisfied. The refractive index of the low refractive index layer is usually 1.30 to 1.50, preferably 1.30 to 1.45.
Furthermore, the low refractive index layer preferably satisfies the following formula (1) from the viewpoint of reducing the reflectance.
(M / 4) λ × 0.7 <n 1 d 1 <(m / 4) λ × 1.3 Formula (1)
In Formula (1), m is a positive odd number, n 1 is the refractive index of the low refractive index layer, and d 1 is the thickness (nm) of the low refractive index layer. Also, λ is the wavelength of light and is a value in the range of 380 to 780 nm.
In addition, satisfy | filling said Formula (1) means that m (a positive odd number. Usually it is 1) which satisfy | fills Formula (1) in the said wavelength range exists.

(低屈折率層用組成物)
低屈折率層用組成物は、光照射等により硬化して上記低屈折率層を形成する。
低屈折率層用組成物には、上記第一の組成物で挙げた第一のバインダー成分を用いることができる。
その他、屈折率層の屈折率を低下させるために、従来公知の材料を用いることができる。例えば、特許文献1、特開2007−272132号公報に記載の、中空シリカ微粒子(空隙を有する微粒子)、フッ化マグネシウム及びフッ化ナトリウム等の低屈折率微粒子、フッ素系樹脂、シリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体等を用いることができる。
低屈折率微粒子を用いる場合は、光学フィルムの外観や反射率を損なわないように、低屈折率微粒子の平均1次粒径を低屈折率層の厚さの30〜80%とすることが好ましい。
上記屈折率を低下させるための材料は、1種単独で用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても良い。
(Composition for low refractive index layer)
The low refractive index layer composition is cured by light irradiation or the like to form the low refractive index layer.
The 1st binder component quoted by said 1st composition can be used for the composition for low refractive index layers.
In addition, in order to reduce the refractive index of the refractive index layer, conventionally known materials can be used. For example, hollow silica fine particles (fine particles having voids), low refractive index fine particles such as magnesium fluoride and sodium fluoride, fluorine resin, and silicone-containing vinylidene fluoride described in JP-A-2007-272132 A copolymer or the like can be used.
When using low refractive index fine particles, the average primary particle diameter of the low refractive index fine particles is preferably 30 to 80% of the thickness of the low refractive index layer so as not to impair the appearance and reflectance of the optical film. .
The material for lowering the refractive index may be used alone or in combination of two or more.

(高屈折率層)
高屈折率層は、低屈折率層を設ける場合に、反射防止性能を高めるために必要に応じて設けられる層である。高屈折率層は、低屈折率層の光透過性樹脂基材側に隣接して設けられ、低屈折率層との屈折率差を高める働きを有する。
高屈折率層の屈折率は、上述したHC層80や低屈折率層90との大小関係を満たせば、従来公知の反射防止フィルムや光学フィルムの屈折率とすることができる。高屈折率層の屈折率は、通常、1.50〜2.80である。
高屈折率層の厚さは、適宜設定すれば良く、例えば、10〜300nmであることが好ましい。
(High refractive index layer)
The high refractive index layer is a layer provided as necessary in order to improve the antireflection performance when the low refractive index layer is provided. The high refractive index layer is provided adjacent to the light transmissive resin substrate side of the low refractive index layer, and has a function of increasing the refractive index difference from the low refractive index layer.
The refractive index of the high refractive index layer can be the refractive index of a conventionally known antireflection film or optical film as long as the magnitude relationship with the HC layer 80 and the low refractive index layer 90 described above is satisfied. The refractive index of the high refractive index layer is usually 1.50 to 2.80.
What is necessary is just to set the thickness of a high refractive index layer suitably, for example, it is preferable that it is 10-300 nm.

(高屈折率層用組成物)
高屈折率層用組成物は、光照射等により硬化して上記高屈折率層を形成する。
高屈折率層用組成物には、上記第一の組成物で挙げた第一のバインダー成分を用いることができる。
高屈折率層の屈折率を高める、又は調整するために、第二の組成物で説明した高屈折率微粒子を用いることができる。
高屈折率微粒子を用いる場合は、光学フィルムの透明性の観点から、高屈折率微粒子の平均1次粒径は、1〜100nmであることが好ましい。
高屈折率微粒子は、1種単独で用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても良い。
(Composition for high refractive index layer)
The high refractive index layer composition is cured by light irradiation or the like to form the high refractive index layer.
The 1st binder component quoted by said 1st composition can be used for the composition for high refractive index layers.
In order to increase or adjust the refractive index of the high refractive index layer, the high refractive index fine particles described in the second composition can be used.
When high refractive index fine particles are used, the average primary particle size of the high refractive index fine particles is preferably 1 to 100 nm from the viewpoint of the transparency of the optical film.
High refractive index fine particles may be used alone or in combination of two or more.

上記低屈折率層及び高屈折率層を設ける方法は特に限定されず、従来公知の塗布方法により低屈折率層用組成物や高屈折率層用組成物を塗布し、その塗膜を上記HC層と同様に光照射や加熱により硬化させて形成すれば良い。
塗布方法としては、例えば、特許文献1に記載のスライドコート法、バーコート法、ロールコーター法等を用いることができる。
上記低屈折率層や高屈折率層は、上記HC層と別個に、すなわち、第一の組成物と第二の組成物の同時塗布とは別に低屈折率層用組成物や高屈折率層用組成物を塗布して形成しても良い。また、上記低屈折率層や高屈折率層は、第一の組成物、第二の組成物とともに低屈折率層用組成物や高屈折率層用組成物を同時塗布して形成しても良い。
The method for providing the low refractive index layer and the high refractive index layer is not particularly limited, and a low refractive index layer composition or a high refractive index layer composition is applied by a conventionally known coating method, and the coating film is applied to the HC. As with the layer, it may be formed by curing by light irradiation or heating.
As a coating method, for example, a slide coating method, a bar coating method, a roll coater method and the like described in Patent Document 1 can be used.
The low refractive index layer and the high refractive index layer are separated from the HC layer, that is, separately from the simultaneous application of the first composition and the second composition, the composition for the low refractive index layer and the high refractive index layer. It may be formed by applying a composition for use. The low refractive index layer and the high refractive index layer may be formed by simultaneously applying the low refractive index layer composition and the high refractive index layer composition together with the first composition and the second composition. good.

本発明に係る光学フィルムの製造方法では、前記(iii)工程の前に、さらに(vi)前記光透過性樹脂基材のハードコート層を設ける面に、帯電防止層を形成する工程、を含むことが、光学フィルムに帯電防止性能を付与できるため好ましい。   In the method for producing an optical film according to the present invention, before the step (iii), further includes (vi) a step of forming an antistatic layer on the surface on which the hard coat layer of the light-transmitting resin substrate is provided. Is preferable because it can impart antistatic performance to the optical film.

図4は、本発明に係る光学フィルムの層構成の他の一例を示した模式図である。
図4の光学フィルム1では、光透過性樹脂基材10の一面側に、光透過性樹脂基材10側から帯電防止層110、ハードコート層80及び低屈折率層90が設けられている。
以下、帯電防止層及び帯電防止層を形成するための組成物を説明する。
FIG. 4 is a schematic view showing another example of the layer structure of the optical film according to the present invention.
In the optical film 1 of FIG. 4, an antistatic layer 110, a hard coat layer 80, and a low refractive index layer 90 are provided on one side of the light transmissive resin base material 10 from the light transmissive resin base material 10 side.
Hereinafter, the antistatic layer and the composition for forming the antistatic layer will be described.

(帯電防止層)
帯電防止層は、光学フィルムに帯電防止性能を付与する働きを有する層であり、必要に応じて設けられる層である。
帯電防止層の厚さは、従来公知の帯電防止層の厚さとすれば良く、例えば、30nm〜1μmであれば良い。
(Antistatic layer)
The antistatic layer is a layer having a function of imparting antistatic performance to the optical film, and is a layer provided as necessary.
The thickness of the antistatic layer may be the thickness of a conventionally known antistatic layer, and may be, for example, 30 nm to 1 μm.

(帯電防止層用組成物)
帯電防止層用組成物は、帯電防止剤とバインダー成分を含み光照射や加熱により硬化して上記帯電防止層を形成する。
帯電防止層用組成物には、上記第一の組成物で挙げた第一のバインダー成分を用いることができる。
帯電防止剤としては、上記第一の組成物で挙げたものを用いることができる。
帯電防止剤は、1種単独で用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても良い。
帯電防止剤の含有量は、特に限定されず適宜調節して用いれば良い。例えば、帯電防止層の表面抵抗率は、1.0×1013Ω/□以下であることが好ましく、1.0×10Ω/□以下であることがより好ましいため、帯電防止層の表面抵抗率がこの範囲になるように用いれば良い。
(Composition for antistatic layer)
The antistatic layer composition contains an antistatic agent and a binder component, and is cured by light irradiation or heating to form the antistatic layer.
The first binder component mentioned in the first composition can be used in the antistatic layer composition.
As the antistatic agent, those mentioned in the first composition can be used.
An antistatic agent may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
The content of the antistatic agent is not particularly limited and may be appropriately adjusted and used. For example, the surface resistivity of the antistatic layer is preferably 1.0 × 10 13 Ω / □ or less, and more preferably 1.0 × 10 8 Ω / □ or less. What is necessary is just to use so that a resistivity may become this range.

帯電防止層を設ける方法は、特に限定されず、上記HC層の光透過性基材側となる位置に設けられれば良く、上記低屈折率層や高屈折率層と同様に帯電防止層用組成物を塗布し、塗膜を光照射や加熱により硬化させて形成すれば良い。   The method of providing the antistatic layer is not particularly limited as long as it is provided at a position on the light transmitting substrate side of the HC layer, and the composition for the antistatic layer is the same as the low refractive index layer and the high refractive index layer. What is necessary is just to apply | coat an object and harden | cure a coating film by light irradiation or a heating.

(光学フィルム)
本発明に係る光学フィルムは、上記製造方法により得られることを特徴とする、光学フィルムである。
上述した製造方法により得られる光学フィルムは、第一の組成物と第二の組成物の粘度が適度であり2つの組成物全体が混合していないため、HC層において塗工スジがなく、外観が良好である。
上述した製造方法では、硬化してHC層の下部側を形成する第一の組成物にのみ反応性シリカ微粒子が含まれ、硬化してHC層の上部側を形成する第二の組成物には当該反応性シリカ微粒子が含まれない。そして、同時塗布によっても2つの組成物全体が混合していないため、光学フィルムをケン化処理しても、HC層の上部側にはシリカ微粒子が少ないため、シリカ微粒子の流出や脱落が抑制される。また、下部側のシリカ微粒子の存在量が多い部分が下地としても機能する。したがって、当該光学フィルムは耐ケン化性と硬度に優れる。
さらに、反応性シリカ微粒子は、同時塗布時に第二の組成物よりも下部側となる第一の組成物に含まれるため、第一の組成物と第二の組成物の塗膜が硬化してなるHC層内では下部側に多く存在し、HC層の表面(光透過性基材とは反対側の面)に近いほど存在量が少なくなる。第一の組成物と第二の組成物は、当該2つの組成物が接触する部分において適度に混合するため、反応性シリカ微粒子も上部側に少量移行する。逐次塗工法やハーフキュアー法で下層側にのみシリカ微粒子を含有させた場合には、シリカ微粒子の含まれる下層側とシリカ微粒子の含まれない上層側の界面が明瞭に生じてしまう。これに対して、上記製造方法により得られる光学フィルムでは、HC層の表面に近いほどシリカ微粒子の存在量が少ないが、硬化前に前記2つの組成物が接触する部分において適度に混合しており、HC層の上部側にもシリカ微粒子が移行するため、HC層内に界面が生じず、干渉縞の発生が抑制され、外観が良好である。
(Optical film)
The optical film which concerns on this invention is an optical film characterized by being obtained by the said manufacturing method.
The optical film obtained by the above-described production method has an appropriate viscosity of the first composition and the second composition, and the two compositions are not mixed together. Is good.
In the manufacturing method described above, the reactive silica fine particles are included only in the first composition that cures to form the lower side of the HC layer, and the second composition that cures to form the upper side of the HC layer includes The reactive silica fine particles are not included. And since the entire two compositions are not mixed even by simultaneous application, even if the optical film is saponified, there are few silica fine particles on the upper side of the HC layer, so that the outflow and dropping of the silica fine particles are suppressed. The Further, the portion where the amount of the silica fine particles on the lower side is large also functions as a base. Therefore, the optical film is excellent in saponification resistance and hardness.
Furthermore, since the reactive silica fine particles are contained in the first composition that is lower than the second composition at the time of simultaneous application, the coating film of the first composition and the second composition is cured. In the HC layer, a large amount is present on the lower side, and the abundance decreases as the surface is closer to the surface of the HC layer (the surface opposite to the light-transmitting substrate). Since the first composition and the second composition are appropriately mixed at the portion where the two compositions are in contact with each other, the reactive silica fine particles also move in a small amount to the upper side. When silica fine particles are contained only on the lower layer side by the sequential coating method or the half cure method, an interface between the lower layer side containing the silica fine particles and the upper layer side not containing the silica fine particles is clearly generated. In contrast, in the optical film obtained by the above production method, the closer to the surface of the HC layer, the smaller the amount of silica fine particles present, but the two compositions are appropriately mixed before curing. Since the silica fine particles migrate to the upper side of the HC layer, no interface is formed in the HC layer, the generation of interference fringes is suppressed, and the appearance is good.

また、本発明に係る光学フィルムは、光透過性樹脂基材の一面側に、少なくともハードコート層が設けられている光学フィルムであって、当該ハードコート層は、平均1次粒径1〜100nmのシリカ微粒子を含み、当該ハードコート層において、当該ハードコート層の膜厚方向では、当該シリカ微粒子の存在量が、当該光透過性樹脂基材とは反対側の界面に近いほど少ないことを特徴とする。   The optical film according to the present invention is an optical film in which at least a hard coat layer is provided on one side of the light-transmitting resin substrate, and the hard coat layer has an average primary particle size of 1 to 100 nm. In the hard coat layer, in the film thickness direction of the hard coat layer, the abundance of the silica fine particles is smaller as it is closer to the interface on the side opposite to the light-transmitting resin substrate. And

図5は、本発明に係る光学フィルムのハードコート層におけるシリカ微粒子の分布の様子の一例を模式的に示した断面図である。
光学フィルム1のハードコート層80には、シリカ微粒子120が含まれ、ハードコート層において、その膜厚方向では、シリカ微粒子120の存在量が、光透過性樹脂基材10とは反対側の界面に近いほど少ない。
このように、HC層の光透過性樹脂基材とは反対側の界面に近いほどシリカ微粒子が少ないと、光学フィルムをケン化処理したときでも当該界面からのシリカ微粒子の脱落や流出が抑制される。そのため、光学フィルムの耐ケン化性をさらに高めることができる。
上記本発明に係る光学フィルムの製造方法により得られる光学フィルムでは、第一の組成物に含まれる反応性シリカ微粒子は、HC層形成時に、通常、その粒子表面の反応性基を反応に供した後であるため、シリカ微粒子となる。
なお、図5では、シリカ微粒子120を拡大誇張して図示している。
FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing an example of a state of distribution of silica fine particles in the hard coat layer of the optical film according to the present invention.
The hard coat layer 80 of the optical film 1 includes silica fine particles 120, and the amount of the silica fine particles 120 in the hard coat layer in the film thickness direction is the interface on the side opposite to the light transmissive resin substrate 10. The closer it is to the less.
Thus, if the silica fine particle is so small that it is closer to the interface of the HC layer opposite to the light-transmitting resin base material, dropping and outflow of the silica fine particle from the interface are suppressed even when the optical film is saponified. The Therefore, the saponification resistance of the optical film can be further improved.
In the optical film obtained by the method for producing an optical film according to the present invention, the reactive silica fine particles contained in the first composition are usually subjected to a reaction on the reactive group on the particle surface during the formation of the HC layer. Since it is later, it becomes silica fine particles.
In FIG. 5, the silica fine particles 120 are illustrated in an enlarged and exaggerated manner.

本発明に係る光学フィルムでは、前記ハードコート層において、前記光透過性樹脂基材から当該ハードコート層の膜厚の80%までの領域に、前記シリカ微粒子の全量の90%以上が存在することも可能である。
図5に示したように、ハードコート層80において、光透過性樹脂基材10からハードコート層80の膜厚の80%までの領域に、シリカ微粒子120の全量の90%以上が存在することによって、耐ケン化性がさらに高まる。
In the optical film according to the present invention, in the hard coat layer, 90% or more of the total amount of the silica fine particles is present in a region from the light-transmitting resin base material to 80% of the film thickness of the hard coat layer. Is also possible.
As shown in FIG. 5, in the hard coat layer 80, 90% or more of the total amount of the silica fine particles 120 exists in a region from the light-transmitting resin substrate 10 to 80% of the film thickness of the hard coat layer 80. As a result, the saponification resistance is further enhanced.

本発明に係る光学フィルムでは、前記ハードコート層に、平均1次粒径50〜300nmの易滑剤が含まれており、当該ハードコート層の光透過性樹脂基材とは反対側の界面には、JIS B0601(1994)に準拠した算術平均粗さRaが3〜50nmであり、凸部間の平均間隔Smが100nm〜7μmである凹凸を形成することも可能である。
上記製造方法において、第二の組成物に平均1次粒径50〜300nmの易滑剤が含まれる場合、硬化膜であるHC層の表面(HC層の光透過性樹脂基材とは反対側の界面)には、上記Raが3〜50nm、上記Smが100nm〜7μmの凹凸が形成される。この微小な凹凸によって光学フィルムに耐ブロッキング性が付与される。
なお、上記Ra及びSmは、(株)小坂研究所製の表面粗さ測定機、商品名SE−3400を用いて、以下の条件で求めた。
表面粗さ検出部の触針((株)小坂研究所製の商品名SE2555N(2μ標準))
・先端曲率半径2μm、頂角90度、材質ダイヤモンド
表面粗さ測定器の測定条件
・基準長さ(粗さ曲線のカットオフ値λc):0.8mm、
・評価長さ(基準長さ(カットオフ値λc)×5):4.0mm
・触針の送り速さ:0.1mm/s
In the optical film according to the present invention, the hard coat layer contains a lubricant having an average primary particle size of 50 to 300 nm, and the hard coat layer has an interface opposite to the light-transmitting resin substrate. It is also possible to form irregularities having an arithmetic average roughness Ra in accordance with JIS B0601 (1994) of 3 to 50 nm and an average interval Sm between convex portions of 100 nm to 7 μm.
In the above production method, when the second composition contains a lubricant having an average primary particle size of 50 to 300 nm, the surface of the HC layer that is a cured film (on the side opposite to the light-transmitting resin substrate of the HC layer) On the interface, irregularities having Ra of 3 to 50 nm and Sm of 100 nm to 7 μm are formed. The minute unevenness imparts blocking resistance to the optical film.
In addition, said Ra and Sm were calculated | required on condition of the following using the surface roughness measuring machine by the Kosaka laboratory, brand name SE-3400.
Surface roughness detector stylus (trade name SE2555N (2μ standard) manufactured by Kosaka Laboratory Ltd.)
・ Tip radius of curvature 2μm, apex angle 90 degrees, material diamond Measurement conditions of surface roughness measuring instrument ・ Reference length (cutoff value λc of roughness curve): 0.8 mm,
Evaluation length (reference length (cutoff value λc) × 5): 4.0 mm
・ Feeding speed of stylus: 0.1 mm / s

本発明に係る光学フィルムでは、前記ハードコート層の光透過性樹脂基材とは反対側の面に、さらに低屈折率層又は当該ハードコート層側から高屈折率層及び低屈折率層が設けられていても良い。
図2や図3のような層構成とすることにより、光学フィルムの反射防止性能を高めることができる。
低屈折率層及び高屈折率層については、上記製造方法で説明したのでここでの説明は省略する。
In the optical film according to the present invention, a low refractive index layer or a high refractive index layer and a low refractive index layer are further provided on the surface of the hard coat layer opposite to the light-transmitting resin base material from the hard coat layer side. It may be done.
The antireflection performance of the optical film can be enhanced by using the layer structure as shown in FIG. 2 or FIG.
Since the low refractive index layer and the high refractive index layer have been described in the above manufacturing method, description thereof is omitted here.

本発明に係る光学フィルムでは、前記光透過性樹脂基材と前記ハードコート層の間に、さらに帯電防止層が設けられていても良い。
図4のような層構成とすることにより、光学フィルムの帯電防止性を高めることができる。
帯電防止層については、上記製造方法で説明したのでここでの説明は省略する。
In the optical film according to the present invention, an antistatic layer may be further provided between the light-transmitting resin substrate and the hard coat layer.
By adopting the layer structure as shown in FIG. 4, the antistatic property of the optical film can be enhanced.
Since the antistatic layer has been described in the above manufacturing method, description thereof is omitted here.

本発明に係る光学フィルムでは、JIS K5600−5−4(1999)に規定する鉛筆硬度試験(4.9N荷重)の硬度を、3H以上とすることも可能である。これは、HC層において下部側(下地)にシリカ微粒子が多く含まれ、下部側の硬度が高いためと推測される。   In the optical film according to the present invention, the hardness of the pencil hardness test (4.9 N load) specified in JIS K5600-5-4 (1999) can be 3H or more. This is presumably because the HC layer contains a large amount of silica fine particles on the lower side (base) and the lower side has high hardness.

(偏光板)
本発明に係る偏光板は、偏光素子の一面側に、上記光学フィルムを、当該光学フィルムの光透過性樹脂基材側を当該偏光素子に向けて配置してなることを特徴とする。
図6は、本発明に係る偏光板の構成の一例を示した模式図である。
偏光板2は、偏光素子130の一面側に、光学フィルム1の光透過性樹脂基材10側を偏光素子130に向けて貼り合わせて(ラミネート処理して)なる。
(Polarizer)
The polarizing plate according to the present invention is characterized in that the optical film is disposed on one surface side of the polarizing element, and the light transmissive resin substrate side of the optical film is directed toward the polarizing element.
FIG. 6 is a schematic diagram showing an example of the configuration of the polarizing plate according to the present invention.
The polarizing plate 2 is formed by laminating (laminating) one side of the polarizing element 130 with the light transmissive resin substrate 10 side of the optical film 1 facing the polarizing element 130.

偏光素子としては、特に限定されず、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を使用することができる。
上記偏光素子と光学フィルムとのラミネート処理においては、光透過性樹脂基材(光学フィルム)をアルカリ溶液によりケン化処理することが好ましい。ケン化処理によって、接着性が良好になり帯電防止効果も得ることができる。このようにケン化処理する場合の光透過性樹脂基材は、TACであることが好ましい。
The polarizing element is not particularly limited, and for example, a polyvinyl alcohol film, a polyvinyl formal film, a polyvinyl acetal film, an ethylene-vinyl acetate copolymer saponified film which is dyed and stretched with iodine or the like can be used.
In the laminating process of the polarizing element and the optical film, it is preferable to saponify the light-transmitting resin base material (optical film) with an alkaline solution. By the saponification treatment, the adhesiveness is improved and an antistatic effect can be obtained. Thus, it is preferable that the transparent resin base material in the case of a saponification process is TAC.

(画像表示装置)
本発明に係る画像表示装置は、上記光学フィルムを備えることを特徴とする。
上記画像表示装置としては、従来公知の画像表示装置を用いることができる。例えば、LCD、PDP、EL表示装置、プロジェクションディスプレイ、CRT表示装置等である。
本発明に係る画像表示装置は、上記光学フィルムを備えれば良く、画像表示面に光学フィルムの光透過性基材側を向けて配置して備えても良いし、例えば、LCDでは、上記光学フィルムを備える偏光板を液晶パネルに備えていても良い。
(Image display device)
An image display device according to the present invention includes the optical film.
As the image display device, a conventionally known image display device can be used. For example, LCD, PDP, EL display device, projection display, CRT display device and the like.
The image display device according to the present invention may be provided with the above optical film, and may be provided with the light transmissive substrate side of the optical film facing the image display surface. A liquid crystal panel may be provided with a polarizing plate provided with a film.

以下、実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明する。これらの記載により本発明を制限するものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. These descriptions do not limit the present invention.

反応性シリカ微粒子(1)として、日産化学工業(株)製のコロイダルシリカのMIBK分散液、商品名MIBK−SDL(平均1次粒径44nm、固形分40%、表面処理剤;3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン)を用いた。
反応性シリカ微粒子(2)として、日産化学工業(株)製のコロイダルシリカのMIBK分散液、商品名MIBK−SDZL(平均1次粒径80nm、固形分40%、表面処理剤;3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン)を用いた。
反応性シリカ微粒子(3)として、日揮触媒化成(株)製のコロイダルシリカのMIBK分散液、商品名DP1039SIV(平均1次粒径20nm、平均連結数3.5個、平均2次粒径55nm、平均1次粒径44nm、固形分40%、表面処理剤;3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン)を用いた。
低屈折率微粒子として、中空シリカ微粒子(平均1次粒径50nm、固形分20%、空隙率40%)を用いた。
バインダー成分(1)として、新中村化学工業(株)製の多官能ウレタンアクリレート、商品名U−4HA(分子量600、官能基数4)を用いた。
バインダー成分(2)として、日本化薬(株)製の商品名KAYARAD−DPHA(ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物)を用いた。
バインダー成分(3)として、日本化薬(株)製の商品名KAYARAD−PET30(ペンタエリスリトールトリアクリレート)を用いた。
バインダー成分(4)として、荒川化学工業(株)製の商品名BS371(重量平均分子量40000、反応性官能基数30以上のポリマーアクリレート)を用いた。
バインダー成分(5)として、共栄社化学工業(株)製の商品名LINC−3A(フッ素モノマー)を用いた。
溶剤(1)として、TAC基材に浸透性を有するメチルエチルケトンを用いた。
溶剤(2)として、メチルイソブチルケトンを用いた。
増粘剤として、日本曹達(株)製の商品名セルニー HPC−M(ヒドロキシプロピルセルロース)を用いた。
防汚剤として、ソルベイソレクシス(株)製のの商品名5101X(両末端4官能メタクリレート変性パーフルオロポリエーテル化合物)を用いた。
易滑剤として、CIKナノテック(株)製の商品名SIRMEK−E03(平均1次粒径147nm、シリカ粒子、MEK分散液、固形分15%)を用いた。
光重合開始剤(1)として、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製の商品名イルガキュアー184を用いた。
光重合開始剤(2)として、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製の商品名イルガキュアー127を用いた。
光透過性基材として、コニカミノルタ(株)製のTAC基材(厚さ40μm、トリアセチルセルロース樹脂フィルム、商品名:KC4UY)を用いた。
以下の略語はそれぞれ、次のものを表す。
MIBK:メチルイソブチルケトン
MEK:メチルエチルケトン
DPPA:ジペンタエリスリトールペンタアクリレート
DPHA:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
IPA:イソプロパノール
PETA:ペンタエリスリトールトリアクリレート
TAC:トリアセチルセルロース
As reactive silica fine particles (1), a colloidal silica MIBK dispersion manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., trade name MIBK-SDL (average primary particle size 44 nm, solid content 40%, surface treatment agent; 3-methacryloxy Propyltrimethoxysilane) was used.
As reactive silica fine particles (2), colloidal silica MIBK dispersion manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., trade name MIBK-SDZL (average primary particle size 80 nm, solid content 40%, surface treatment agent; 3-methacryloxy Propyltrimethoxysilane) was used.
As reactive silica fine particles (3), a colloidal silica MIBK dispersion manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd., trade name DP1039SIV (average primary particle size 20 nm, average number of connections 3.5, average secondary particle size 55 nm, An average primary particle size of 44 nm, a solid content of 40%, a surface treatment agent; 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane) was used.
As the low refractive index fine particles, hollow silica fine particles (average primary particle size 50 nm, solid content 20%, porosity 40%) were used.
As a binder component (1), Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. polyfunctional urethane acrylate, brand name U-4HA (molecular weight 600, functional group number 4) was used.
As the binder component (2), trade name KAYARAD-DPHA (mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate) manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. was used.
As the binder component (3), trade name KAYARAD-PET30 (pentaerythritol triacrylate) manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. was used.
As the binder component (4), trade name BS371 (polymer acrylate having a weight average molecular weight of 40000 and a reactive functional group of 30 or more) manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd. was used.
As the binder component (5), trade name LINC-3A (fluorine monomer) manufactured by Kyoeisha Chemical Industry Co., Ltd. was used.
As the solvent (1), methyl ethyl ketone having permeability to the TAC substrate was used.
Methyl isobutyl ketone was used as the solvent (2).
As a thickener, trade name Selney HPC-M (hydroxypropylcellulose) manufactured by Nippon Soda Co., Ltd. was used.
As the antifouling agent, trade name 5101X (both terminal tetrafunctional methacrylate-modified perfluoropolyether compound) manufactured by Solvay Solexis Co., Ltd. was used.
As a lubricant, trade name SIRMEK-E03 (average primary particle size 147 nm, silica particles, MEK dispersion, solid content 15%) manufactured by CIK Nanotech Co., Ltd. was used.
As a photopolymerization initiator (1), trade name Irgacure 184 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. was used.
As a photopolymerization initiator (2), trade name Irgacure 127 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. was used.
A TAC substrate (thickness 40 μm, triacetyl cellulose resin film, trade name: KC4UY) manufactured by Konica Minolta Co., Ltd. was used as the light transmissive substrate.
The following abbreviations represent the following:
MIBK: methyl isobutyl ketone MEK: methyl ethyl ketone DPPA: dipentaerythritol pentaacrylate DPHA: dipentaerythritol hexaacrylate IPA: isopropanol PETA: pentaerythritol triacrylate TAC: triacetyl cellulose

(組成物の調製)
それぞれ、下記に示す組成の成分を配合して組成物を調製した。
(Preparation of composition)
The composition of each was mix | blended and the composition was prepared.

(第一の組成物1、粘度7.8mPa・s)
反応性シリカ微粒子(1)MIBK−SDL:43.9質量部
バインダー成分(1)U−4HA:26.4質量部
溶剤(1)MEK:28.6質量部
光重合開始剤(1)イルガキュアー184:1.1質量部
(First composition 1, viscosity 7.8 mPa · s)
Reactive silica fine particles (1) MIBK-SDL: 43.9 parts by mass Binder component (1) U-4HA: 26.4 parts by mass Solvent (1) MEK: 28.6 parts by mass Photopolymerization initiator (1) Irgacure 184: 1.1 parts by mass

(第一の組成物2、粘度6.5mPa・s)
反応性シリカ微粒子(1)MIBK−SDZL:43.9質量部
バインダー成分(2)KAYARAD−DPHA:26.4質量部
溶剤(1)MEK:28.6質量部
光重合開始剤(1)イルガキュアー184:1.1質量部
(First composition 2, viscosity 6.5 mPa · s)
Reactive silica fine particles (1) MIBK-SDZL: 43.9 parts by mass Binder component (2) KAYARAD-DPHA: 26.4 parts by mass Solvent (1) MEK: 28.6 parts by mass Photopolymerization initiator (1) Irgacure 184: 1.1 parts by mass

(第一の組成物3、粘度9.5mPa・s)
反応性シリカ微粒子(3)DP1039SIV:43.9質量部
バインダー成分(2)KAYARAD−DPHA:13.2質量部
バインダー成分(4)BS371:13.2質量部
溶剤(1)MEK:28.6質量部
光重合開始剤(1)イルガキュアー184:1.1質量部
(First composition 3, viscosity 9.5 mPa · s)
Reactive silica fine particles (3) DP1039SIV: 43.9 parts by mass Binder component (2) KAYARAD-DPHA: 13.2 parts by mass Binder component (4) BS371: 13.2 parts by mass Solvent (1) MEK: 28.6 parts by mass Part Photopolymerization initiator (1) Irgacure 184: 1.1 parts by mass

(第二の組成物1、粘度30.5mPa・s)
バインダー成分(2)KAYARAD−DPHA:28.8質量部
バインダー成分(4)BS371:28.8質量部
溶剤(2)MIBK:40.0質量部
光重合開始剤(1)イルガキュアー184:2.4質量部
(Second composition 1, viscosity 30.5 mPa · s)
Binder component (2) KAYARAD-DPHA: 28.8 parts by mass Binder component (4) BS371: 28.8 parts by mass Solvent (2) MIBK: 40.0 parts by mass Photopolymerization initiator (1) Irgacure 184: 2. 4 parts by mass

(第二の組成物2、粘度14.7mPa・s)
バインダー成分(1)U−4HA:57.6質量部
溶剤(2)MIBK:40.0質量部
光重合開始剤(1)イルガキュアー184:2.4質量部
(Second composition 2, viscosity 14.7 mPa · s)
Binder component (1) U-4HA: 57.6 parts by mass Solvent (2) MIBK: 40.0 parts by mass Photopolymerization initiator (1) Irgacure 184: 2.4 parts by mass

(低屈折率層用組成物)
中空シリカ微粒子:15.0質量部
バインダー成分(3)PET−30:1.0質量部
バインダー成分(5)LINC−3A:1.0質量部
溶剤(2)MIBK:83.0質量部
光重合開始剤(2)イルガキュアー127:0.1質量部
(Composition for low refractive index layer)
Hollow silica fine particles: 15.0 parts by mass Binder component (3) PET-30: 1.0 part by mass Binder component (5) LINC-3A: 1.0 part by mass Solvent (2) MIBK: 83.0 parts by mass Photopolymerization Initiator (2) Irgacure 127: 0.1 part by mass

(実施例1)
TAC基材上に、2スロットダイコーターを用いて、上記第一の組成物1が上記第二の組成物1よりもTAC基材(下部)側に位置するように当該第一の組成物1及び第二の組成物1を、塗布速度20m/minにて隣接して同時塗布を行い、塗膜を形成した。その塗膜を温度70度の熱オーブン中で30秒間乾燥し、溶剤を除去した。次いでその塗膜に紫外線照射装置を用いて、照射量100mJ/cmで紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて乾燥膜厚11μmのハードコート層を形成し、光学フィルムを得た。
(Example 1)
Using a two-slot die coater on the TAC substrate, the first composition 1 is positioned on the TAC substrate (lower) side than the second composition 1. And the 2nd composition 1 was simultaneously apply | coated adjacently with the application | coating speed | rate of 20 m / min, and the coating film was formed. The coating film was dried in a heating oven at a temperature of 70 degrees for 30 seconds to remove the solvent. Subsequently, the coating film was irradiated with ultraviolet rays at an irradiation amount of 100 mJ / cm 2 using an ultraviolet irradiation device to cure the coating film to form a hard coat layer having a dry film thickness of 11 μm, thereby obtaining an optical film.

(実施例2)
実施例1において、第一の組成物1に代えて第一の組成物2、第二の組成物1に代えて第二の組成物2を用いた以外は実施例1と同様にして、光学フィルムを得た。
(Example 2)
In Example 1, except that the first composition 2 was used instead of the first composition 1 and the second composition 2 was used instead of the second composition 1, the optical composition was the same as in Example 1. A film was obtained.

(実施例3)
実施例1において、第一の組成物1に代えて第一の組成物3を用いた以外は実施例1と同様にして、光学フィルムを得た。
(Example 3)
In Example 1, an optical film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the first composition 3 was used instead of the first composition 1.

参考例4)
実施例3において、第一の組成物3に増粘剤(セルニー HPC−M)を1.0質量部加えて粘度を28.5mPa・sに調整した以外は実施例3と同様にして、光学フィルムを得た。
( Reference Example 4)
In Example 3, the same procedure as in Example 3 was repeated except that 1.0 part by mass of a thickener (Serny HPC-M) was added to the first composition 3 to adjust the viscosity to 28.5 mPa · s. A film was obtained.

(実施例5)
実施例3において、第二の組成物1に防汚剤(5101X)を0.2質量部、易滑剤(SIRMEK−E03)を7.1質量部加えた以外は実施例3と同様にして光学フィルムを得た。
(Example 5)
In Example 3, the optical composition was the same as in Example 3 except that 0.2 parts by mass of the antifouling agent (5101X) and 7.1 parts by mass of the lubricant (SIRMEK-E03) were added to the second composition 1. A film was obtained.

(実施例6)
実施例3において、ハードコート層を形成した後に、そのHC層上に、上記低屈折率層用組成物をスロットダイを用いて塗布し、塗膜を形成した。次いで、その塗膜にハードコート層と同様に乾燥、紫外線照射を行い、乾燥膜厚100nmの低屈折率層を形成し、TAC基材上にHC層及び低屈折率層を有する光学フィルムを得た。
(Example 6)
In Example 3, after the hard coat layer was formed, the low refractive index layer composition was applied onto the HC layer using a slot die to form a coating film. Next, the coating film is dried and irradiated with ultraviolet rays in the same manner as the hard coat layer, a low refractive index layer having a dry film thickness of 100 nm is formed, and an optical film having an HC layer and a low refractive index layer on the TAC substrate is obtained. It was.

(比較例1)
実施例1において、第一の組成物1にMEKを加えて第一の組成物1の粘度を0.9mPa・sに、MIBKを第二の組成物1に加えて第二の組成物1の粘度を1.3mPa・sに調整して用いた以外は実施例1と同様にして、光学フィルムを得た。
(Comparative Example 1)
In Example 1, MEK was added to the first composition 1, the viscosity of the first composition 1 was 0.9 mPa · s, and MIBK was added to the second composition 1 to An optical film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the viscosity was adjusted to 1.3 mPa · s.

(比較例2)
実施例1において、第一の組成物1に増粘剤(セルニー HPC−M)を10.0質量部加え、かつ、第一の組成物1のMEKの量を減らし、第一の組成物1の粘度を110.7mPa・sに調整したもの及び第二の組成物1に増粘剤(セルニー HPC−M)を5.0質量部加え、かつ、第二の組成物1のMIBKの量を減らして第二の組成物2の粘度を120.0mPa・sに調整したものを用いた以外は実施例1と同様にして、光学フィルムを得た。
(Comparative Example 2)
In Example 1, 10.0 parts by mass of a thickener (Serny HPC-M) was added to the first composition 1, and the amount of MEK in the first composition 1 was reduced. 5.0 parts by weight of a thickener (Serny HPC-M) is added to the composition 2 adjusted to a viscosity of 110.7 mPa · s and the second composition 1 and the amount of MIBK in the second composition 1 is An optical film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the viscosity of the second composition 2 was adjusted to 120.0 mPa · s.

(比較例3)
実施例1において、第一の組成物1にMEKを加えて第一の組成物1の粘度を0.9mPa・sに調整して用いた以外は実施例1と同様にして、光学フィルムを得た。
(Comparative Example 3)
In Example 1, an optical film was obtained in the same manner as in Example 1 except that MEK was added to the first composition 1 to adjust the viscosity of the first composition 1 to 0.9 mPa · s. It was.

(比較例4)
実施例1において、第一の組成物1に増粘剤(セルニー HPC−M)を10.0質量部加え、かつ、第一の組成物1のMEKの量を減らし、第一の組成物1の粘度を110.7mPa・sに調整して用いた以外は実施例1と同様にして、光学フィルムを得た。
(Comparative Example 4)
In Example 1, 10.0 parts by mass of a thickener (Serny HPC-M) was added to the first composition 1, and the amount of MEK in the first composition 1 was reduced. An optical film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the viscosity was adjusted to 110.7 mPa · s.

(比較例5)
実施例1において、第二の組成物1にMIBKを加えて第二の組成物1の粘度を1.3mPa・sに調整して用いた以外は実施例1と同様にして、光学フィルムを得た。
(Comparative Example 5)
In Example 1, an optical film was obtained in the same manner as in Example 1 except that MIBK was added to the second composition 1 to adjust the viscosity of the second composition 1 to 1.3 mPa · s. It was.

(比較例6)
実施例1において、第一の組成物1の溶剤(1)MEKの量を減らして第一の組成物1の粘度を12.8mPa・sに調整し、第二の組成物1に溶剤(2)MIBKを加えて第二の組成物1の粘度を4.3mPa・sに調整して用いた以外は実施例1と同様にして、光学フィルムを得た。
(Comparative Example 6)
In Example 1, the amount of the solvent (1) MEK of the first composition 1 was reduced to adjust the viscosity of the first composition 1 to 12.8 mPa · s. ) An optical film was obtained in the same manner as in Example 1 except that MIBK was added to adjust the viscosity of the second composition 1 to 4.3 mPa · s.

(比較例7)
実施例1において、第二の組成物1に増粘剤(セルニー HPC−M)を5.0質量部加え、かつ、第二の組成物1のMIBKの量を減らして第二の組成物2の粘度を120.0mPa・sに調整したものを用いた以外は実施例1と同様にして、光学フィルムを得た。
(Comparative Example 7)
In Example 1, 5.0 parts by mass of a thickener (Serny HPC-M) was added to the second composition 1, and the amount of MIBK in the second composition 1 was reduced to reduce the second composition 2. An optical film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the viscosity was adjusted to 120.0 mPa · s.

(比較例8)
TAC基材上に、スロットダイコーターを用いて、第一の組成物1を塗布し、その塗膜を温度70度の熱オーブン中で30秒間乾燥し、溶剤を除去した。次いでその塗膜に紫外線照射装置を用いて、照射量50mJ/cmになるように照射して硬化させ、膜厚7μmのHC層を形成した。次いで、当該HC層上に、第二の組成物1をスロットダイコーターを用いて塗布し、その塗膜を温度70度の熱オーブン中で30秒間乾燥し、溶剤を除去した。次いでその塗膜に紫外線照射装置を用いて、照射量100mJ/cmになるように照射して、上下層の合計膜厚が11μmのHC層を形成して、光学フィルムを得た。
(Comparative Example 8)
On the TAC substrate, the first composition 1 was applied using a slot die coater, and the coating film was dried in a hot oven at a temperature of 70 degrees for 30 seconds to remove the solvent. Next, the coating film was irradiated and cured with an ultraviolet irradiation device so that the irradiation amount was 50 mJ / cm 2 , thereby forming an HC layer having a thickness of 7 μm. Next, the second composition 1 was applied onto the HC layer using a slot die coater, and the coating film was dried in a hot oven at a temperature of 70 degrees for 30 seconds to remove the solvent. Next, the coating film was irradiated with an ultraviolet irradiation device so that the irradiation amount was 100 mJ / cm 2 to form an HC layer having a total thickness of 11 μm of the upper and lower layers, thereby obtaining an optical film.

(比較例9)
TAC基材上に、スロットダイコーターを用いて、第一の組成物1を塗布し、その塗膜を温度70度の熱オーブン中で30秒間乾燥し、溶剤を除去した。次いでその塗膜に紫外線照射装置を用いて、照射量100mJ/cmになるように照射して、膜厚11μmのHC層を形成し、光学フィルムを得た。
(Comparative Example 9)
On the TAC substrate, the first composition 1 was applied using a slot die coater, and the coating film was dried in a hot oven at a temperature of 70 degrees for 30 seconds to remove the solvent. Subsequently, the coating film was irradiated with an ultraviolet irradiation device so that the irradiation amount was 100 mJ / cm 2 to form an HC layer having a film thickness of 11 μm, thereby obtaining an optical film.

上記実施例及び比較例の第一の組成物及び第二の組成物の種類、粘度、塗布方式及び用いたその他の組成物についてまとめたものを表1に示す。   Table 1 shows a summary of the types, viscosities, coating methods, and other compositions used in the first and second compositions of the above Examples and Comparative Examples.

Figure 0005842320
Figure 0005842320

(光学フィルムの評価)
上記実施例及び比較例の光学フィルムについて、それぞれ以下に示すように鉛筆硬度、密着性、干渉縞の有無、塗工スジの有無、生産性、耐ケン化性の評価を行った。また、HC層の断面のTEM写真からシリカ微粒子の分布を評価した。その結果を表2に示す。表2において、膜厚の割合とは、HC層全体の膜厚に対する、シリカ微粒子の90%が存在するHC層のTAC基材側からの膜厚の割合である。
(Evaluation of optical film)
About the optical film of the said Example and the comparative example, as shown below, pencil hardness, adhesiveness, the presence or absence of an interference fringe, the presence or absence of a coating stripe, productivity, and saponification resistance were evaluated. Further, the distribution of silica fine particles was evaluated from a TEM photograph of a cross section of the HC layer. The results are shown in Table 2. In Table 2, the ratio of the film thickness is the ratio of the film thickness from the TAC substrate side of the HC layer in which 90% of the silica fine particles are present to the film thickness of the entire HC layer.

(鉛筆硬度の評価)
作製した光学フィルムを温度25℃、相対湿度60%の条件で2時間調湿した後、JIS S6006が規定する試験用鉛筆(硬度3H)を用いて、JIS K5600−5−4(1999)に規定する鉛筆硬度試験(4.9N荷重)を行い、下記基準で測定した。
○:3H合格(5本線中、傷がない又は傷が1本)
×:3H不合格(5本線中、傷が2本以上)
(Evaluation of pencil hardness)
The prepared optical film was conditioned for 2 hours under conditions of a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%, and then specified in JIS K5600-5-4 (1999) using a test pencil (hardness 3H) specified in JIS S6006. A pencil hardness test (4.9 N load) was performed and measured according to the following criteria.
○: 3H pass (no flaws or one flaw in 5 lines)
×: 3H reject (2 lines or more in 5 lines)

(密着性の評価)
光学フィルムのHC層側表面に1mm角で合計100目の碁盤目状のマス目を入れ、ニチバン(株)製の工業用24mmセロテープ(登録商標)を用いて5回連続剥離試験を行い、残っているマス目の数量を計測し、下記基準に基づいて密着度を測定することにより密着性を評価した。
密着率(%)=(剥がれなかったマス目の数/合計のマス目数100)×100
○:密着率90%以上
×:密着率90%未満
(Evaluation of adhesion)
Put 100 square grids in total on the HC layer side surface of the optical film, conduct 5 continuous peel tests using industrial 24mm cello tape (registered trademark) manufactured by Nichiban Co., Ltd. The number of squares measured was measured, and the adhesion was evaluated by measuring the degree of adhesion based on the following criteria.
Adhesion rate (%) = (number of cells not peeled / total number of cells 100) × 100
○: Adhesion rate 90% or more ×: Adhesion rate less than 90%

(外観の評価:干渉縞の有無)
フナテック(株)製の干渉縞検査ランプ(Naランプ)を用いて目視にて検査し、下記基準で評価した。
○:干渉縞がほとんど見られなかったもの
×:干渉縞がはっきり見えたもの
(Evaluation of appearance: presence of interference fringes)
Visual inspection was performed using an interference fringe inspection lamp (Na lamp) manufactured by Funatech Co., Ltd., and evaluation was performed according to the following criteria.
○: Interference fringes were hardly seen ×: Interference fringes were clearly visible

(外観の評価:塗工スジの有無)
光学フィルムの外観の面状(塗工スジの有無)について目視により評価を行った。
○:塗工スジが見えなかったもの
△:塗工スジがぼんやり見えたもの
×:塗工スジがはっきり見えたもの
(Appearance evaluation: Presence or absence of coating stripes)
The appearance of the optical film (the presence or absence of coating stripes) was visually evaluated.
○: The coating streaks could not be seen. △: The coating streaks looked blurred. ×: The coating streaks were clearly visible.

(生産性(塗工適性))
上記各実施例及び比較例において、塗工速度のみを変えたときのTAC基材への第一の組成物及び第二の組成物の塗工適性を下記基準で評価した。
○:塗工速度10m/min以上でも塗工スジを生じずに塗工が可能なもの
△:塗工スジを生じずに塗工可能な塗工速度が1m/min以下のもの
×:どのような速度でも塗工スジが生じてしまうもの
(Productivity (coating suitability))
In each of the above Examples and Comparative Examples, the applicability of the first composition and the second composition to the TAC substrate when only the coating speed was changed was evaluated according to the following criteria.
○: Can be applied without producing coating stripes even at a coating speed of 10 m / min or more. Δ: Coating speed capable of being applied without producing coating stripes is 1 m / min or less. That cause coating streaks even at high speeds

(耐ケン化性の評価)
作製した光学フィルムを、温度55℃のケン化処理液(2規定の水酸化ナトリウム水溶液)に2分間浸漬させた。その後、十分に水洗した後、70℃で5分間乾燥させた。#0000番のスチールウールを用いて、摩擦荷重9.8×10−2MPa(1000gf/cm)にて、10往復摩擦し、その後の硬化膜の傷、剥がれの有無を目視し下記の基準にて評価した。
○:傷と硬化膜の剥がれなし
×:傷又は硬化膜の剥がれがあった
(Evaluation of saponification resistance)
The produced optical film was immersed in a saponification solution (2N aqueous sodium hydroxide solution) at a temperature of 55 ° C. for 2 minutes. Then, after sufficiently washing with water, it was dried at 70 ° C. for 5 minutes. Using # 0000 steel wool, rubbing 10 times at a friction load of 9.8 × 10 −2 MPa (1000 gf / cm 2 ), and then visually checking for the presence or absence of scratches or peeling of the cured film, the following criteria Evaluated.
○: No scratch or cured film peeled ×: There was a scratch or cured film peeling

Figure 0005842320
Figure 0005842320

(結果のまとめ)
表2より、実施例1〜3、及び5〜6の光学フィルムは良好な評価結果を得た。
また、実施例5の光学フィルムでは、第二の組成物に防汚剤を加えたため、指紋が付きにくく、指紋が付いても容易に拭き取ることができた。さらに実施例5の光学フィルムでは、第二の組成物に易滑剤を加えたため、光学フィルムを重ねても光学フィルム同士の貼り付き(ブロッキング)が生じなかった。なお、実施例5の光学フィルムのJIS B0601(1994)に準拠した算術平均粗さRaは7.5nm、凸部間の平均間隔Smは3.8μmであった。
HC層上に低屈折率層を形成した実施例6では、低屈折率層を設けなかった光学フィルムよりも反射率が低く、良好な反射防止性を示した。
しかし、比較例1〜7の光学フィルムは実施例よりも密着性が低く、外観も塗工スジが生じてしまった。また、生産性にも劣る結果となった。
逐次塗工法を用いた比較例8では、上下のHC層間に層界面が存在して、干渉縞が発生し、外観が悪い結果となった。また、密着性も劣った。比較例8では、シリカ微粒子は下層側のHC層に均一に存在しており、シリカ微粒子の90%が存在する膜厚の割合は、下層側の膜厚の90%であった。
単層塗工を行った比較例9では、シリカ粒子がHC層表面に存在するため、耐ケン化性に劣る結果となった。
(Summary of results)
From Table 2, the optical film of Examples 1-3 and 5-6 obtained the favorable evaluation result.
Moreover, in the optical film of Example 5, since the antifouling agent was added to the second composition, fingerprints were hardly attached, and even if fingerprints were attached, they could be easily wiped off. Furthermore, in the optical film of Example 5, since an easy-lubricant was added to the 2nd composition, even if it laminated | stacked the optical film, sticking (blocking) of optical films did not arise. In addition, arithmetic mean roughness Ra based on JISB0601 (1994) of the optical film of Example 5 was 7.5 nm, and the average space | interval Sm between convex parts was 3.8 micrometers.
In Example 6 in which the low refractive index layer was formed on the HC layer, the reflectance was lower than that of the optical film without the low refractive index layer, and good antireflection properties were exhibited.
However, the optical films of Comparative Examples 1 to 7 had lower adhesion than the Examples, and the appearance was also caused by coating stripes. Also, the productivity was inferior.
In Comparative Example 8 using the sequential coating method, there was a layer interface between the upper and lower HC layers, interference fringes were generated, and the appearance was poor. Also, the adhesion was poor. In Comparative Example 8, the silica fine particles were uniformly present in the lower HC layer, and the ratio of the film thickness in which 90% of the silica fine particles were present was 90% of the film thickness on the lower layer side.
In Comparative Example 9 in which the single layer coating was performed, the silica particles were present on the surface of the HC layer, resulting in poor saponification resistance.

1 光学フィルム
2 偏光板
10 光透過性樹脂基材
20 ダイコーターヘッド
31、32 スリット
40 第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物
50 第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物
60 コーターギャップ
70 第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物と第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物の塗膜の合計の厚さ
80 ハードコート層
90 低屈折率層
100 高屈折率層
110 帯電防止層
120 シリカ微粒子
130 偏光素子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Optical film 2 Polarizing plate 10 Translucent resin base material 20 Die coater head 31, 32 Slit 40 First curable resin composition for hard coat layers 50 Second curable resin composition for hard coat layers 60 Coater gap 70 Total thickness of coating film of first curable resin composition for hard coat layer and second curable resin composition for hard coat layer 80 Hard coat layer 90 Low refractive index layer 100 High refractive index layer 110 Charging Prevention layer 120 Silica fine particle 130 Polarizing element

Claims (6)

(i)光透過性樹脂基材を準備する工程、
(ii)それぞれ、同種及び異種の反応性基間で光硬化性又は熱硬化性を有する反応性基であって、粒子表面に反応性基を有する平均1次粒径1nm以上100nm以下の反応性シリカ微粒子、反応性基を有する第一のバインダー成分及び第一の溶剤を含み、粘度が5mPa・s以上9.5mPa・s以下である第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物及び前記反応性シリカ微粒子を含まず、反応性基を有する第二のバインダー成分及び第二の溶剤を含み、粘度が10mPa・s以上30.5mPa・s以下である第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物、を準備する工程、
(iii)前記光透過性樹脂基材の一面側に、当該光透過性樹脂基材側から、前記第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物及び前記第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物を隣接して同時塗布し、塗膜とする工程、
(iv)前記(iii)工程で得られた塗膜を光照射及び/又は加熱により硬化させハードコート層を形成する工程、を含むことを特徴とする、光学フィルムの製造方法。
(I) preparing a light transmissive resin base material;
(Ii) Reactivity having an average primary particle size of 1 nm or more and 100 nm or less having a reactive group on the particle surface, which is a reactive group having photocurability or thermosetting property between the same and different reactive groups, respectively. First hard-coat layer curable resin composition containing silica fine particles, first binder component having a reactive group and first solvent, and having a viscosity of 5 mPa · s to 9.5 mPa · s and the reaction Curable resin composition for second hard coat layer, containing no reactive silica fine particles, including a second binder component having a reactive group and a second solvent, and having a viscosity of 10 mPa · s to 30.5 mPa · s Preparing a product,
(Iii) The first curable resin composition for hard coat layer and the second curable resin for hard coat layer are formed on one side of the light transmissive resin substrate from the light transmissive resin substrate side. Applying the composition adjacent to each other to form a coating film;
(Iv) A method for producing an optical film, comprising a step of forming a hard coat layer by curing the coating film obtained in the step (iii) by light irradiation and / or heating.
前記光透過性樹脂基材がトリアセチルセルロース基材であり、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物において、前記第一の溶剤の全質量に対するメチルエチルケトンの割合が50質量%以上である、請求項1に記載の光学フィルムの製造方法。   The light-transmitting resin substrate is a triacetyl cellulose substrate, and in the first curable resin composition for a hard coat layer, the ratio of methyl ethyl ketone to the total mass of the first solvent is 50% by mass or more. The manufacturing method of the optical film of Claim 1. 光透過性樹脂基材の一面側に、少なくともハードコート層が設けられている光学フィルムであって、
当該ハードコート層は、平均1次粒径1nm以上100nm以下のシリカ微粒子を含み、当該ハードコート層において、当該ハードコート層の膜厚方向では、当該シリカ微粒子の存在量が、当該光透過性樹脂基材とは反対側の界面に近いほど少なく、
前記ハードコート層において、前記光透過性樹脂基材から当該ハードコート層の膜厚の70%までの領域に、前記シリカ微粒子の全量の90%未満が存在し、前記光透過性樹脂基材から当該ハードコート層の膜厚の75%までの領域に、前記シリカ微粒子の全量の90%以上が存在することを特徴とする、光学フィルム。
An optical film in which at least a hard coat layer is provided on one side of the light-transmitting resin base material,
The hard coat layer includes silica fine particles having an average primary particle size of 1 nm or more and 100 nm or less. In the hard coat layer, the amount of the silica fine particles in the film thickness direction of the hard coat layer is the light-transmitting resin. The closer to the interface opposite the substrate, the less
In the hard coat layer, the region from the light-transmissive resin substrate up to 70% of the thickness of the hard coat layer, there is less than 90% of the total amount of the silica fine particles, from the light transmissive resin substrate An optical film, wherein 90% or more of the total amount of the silica fine particles is present in a region of up to 75% of the film thickness of the hard coat layer.
前記ハードコート層の光透過性樹脂基材とは反対側の面に、さらに前記ハードコート層の光透過性樹脂基材とは反対側の界面より屈折率の低い低屈折率層、又は当該ハードコート層側から、前記ハードコート層の光透過性樹脂基材とは反対側の界面より屈折率の高い高屈折率層及び、前記ハードコート層の光透過性樹脂基材とは反対側の界面より屈折率の低い低屈折率層が設けられていることを特徴とする、請求項に記載の光学フィルム。 A low refractive index layer having a lower refractive index than the interface of the hard coat layer on the side opposite to the light transmissive resin substrate, and the interface on the opposite side of the hard coat layer to the light transmissive resin substrate, or the hard coat layer From the coat layer side, a high refractive index layer having a higher refractive index than the interface of the hard coat layer opposite to the light transmissive resin substrate, and an interface of the hard coat layer opposite to the light transmissive resin substrate The optical film according to claim 3 , wherein a low refractive index layer having a lower refractive index is provided. 偏光素子の一面側に、前記請求項3又は4に記載の光学フィルムを、当該光学フィルムの光透過性樹脂基材側を当該偏光素子に向けて配置してなることを特徴とする、偏光板。 A polarizing plate comprising the optical film according to claim 3 or 4 disposed on one surface side of a polarizing element, the light transmissive resin substrate side of the optical film facing the polarizing element. . 前記請求項3又は4に記載の光学フィルムを備えることを特徴とする、画像表示装置。 An image display device comprising the optical film according to claim 3 .
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