JP2011133862A - Method for producing optical film, optical film, polarizing plate and display - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、液晶ディスプレイ(LCD)、陰極管表示装置(CRT)、又はプラズマディスプレイ(PDP)等のディスプレイ(画像表示装置)の前面等に設置される光学フィルム、その製造方法並びにそれを用いた偏光板及びディスプレイに関する。 The present invention relates to an optical film installed on the front surface of a display (image display device) such as a liquid crystal display (LCD), a cathode ray tube display (CRT), or a plasma display (PDP), a manufacturing method thereof, and the same. The present invention relates to a polarizing plate and a display.
上記のようなディスプレイにおいては、その表示面の視認性を高めるために、蛍光灯や太陽光などの外部光源から照射された光線の反射が少ないことが求められる。外部光の反射を抑える方法として、ハードコート層等の機能層の最表面に低屈折率層を設けた反射防止フィルムを用いる方法が知られている(例えば、特許文献1)。 In the display as described above, in order to increase the visibility of the display surface, it is required that the reflection of light irradiated from an external light source such as a fluorescent lamp or sunlight is small. As a method for suppressing reflection of external light, a method using an antireflection film in which a low refractive index layer is provided on the outermost surface of a functional layer such as a hard coat layer is known (for example, Patent Document 1).
しかし、特許文献1の発明のように、機能層形成用組成物を塗布し、電離放射線で半硬化させて機能層を形成し、さらに半硬化状態の機能層上に低屈折率層形成用組成物を塗布し、完全に硬化させる方式(ハーフキュアー方式)や、従来の各層毎に組成物を塗布し、完全に硬化させる逐次重層塗布方式では複数回の塗布工程及び硬化工程を行うため生産性が良くない。 However, as in the invention of Patent Document 1, a functional layer forming composition is applied, semi-cured with ionizing radiation to form a functional layer, and a low refractive index layer forming composition on the semi-cured functional layer. Productivity is achieved by applying multiple coating processes and curing processes in the conventional method (half-cure system) that coats and completely cures, and the sequential multi-layer coating system in which the composition is applied to each layer and cured completely. Is not good.
これに対して特許文献2では、2層以上の機能層を同時に重層塗布することができ、高い生産性が得られ、層間の密着性が高く、かつ各層間での機能分離に支障をきたすことのない光学フィルムの製造方法を提供することを意図して、それぞれ電離放射線硬化性樹脂を含有するA層とB層とを同時重層塗布し、1回目の電離放射線照射(プレキュア)を行い、次いで乾燥し、2回目の電離放射線照射を行って硬化(完全硬化)させる光学フィルムの製造方法を提案している。 On the other hand, in Patent Document 2, two or more functional layers can be applied simultaneously, resulting in high productivity, high adhesion between layers, and hindering functional separation between layers. With the intention of providing a method for producing an optical film free from the above, an A-layer and a B-layer each containing an ionizing radiation-curable resin are applied simultaneously and subjected to a first ionizing radiation irradiation (precure), and then It proposes a method for producing an optical film which is dried and cured (completely cured) by second ionizing radiation irradiation.
しかし、重層塗布した各層間の高い密着性に加えて、重層塗布した層と基材又は基材側に接する層との高い密着性も要求されている。特許文献2では、層間の密着性が高く、各層間での機能が分離されているが、同時塗布したA層(ハードコート層又は防眩層)とB層(屈折率制御層)の間には層界面が存在していた。 However, in addition to the high adhesion between the layers coated with multiple layers, there is also a demand for high adhesion between the layers coated with multiple layers and the layer in contact with the substrate or the substrate side. In Patent Document 2, the adhesion between the layers is high and the functions between the layers are separated, but between the simultaneously applied A layer (hard coat layer or antiglare layer) and B layer (refractive index control layer). There was a layer interface.
また、特許文献1においては、低屈折率層の屈折率を低減させることを意図して中空粒子等の低屈折率微粒子を含有させているが、このように低屈折率微粒子を低屈折率層に含有させると低屈折率層の屈折率は低減するが、低屈折率層の基材側に接する機能層は低屈折率層に比べて屈折率が高いため低屈折率層と機能層との境界(界面)において低屈折率層の低屈折率微粒子と機能層に屈折率差があり、精密な膜厚制御を行わなければ干渉縞が発生してしまい、反射防止フィルムを用いたディスプレイの表示面の視認性が低下してしまうという問題があった。 Further, in Patent Document 1, low refractive index fine particles such as hollow particles are included for the purpose of reducing the refractive index of the low refractive index layer. The refractive index of the low refractive index layer is reduced when it is contained in the low refractive index layer, but the functional layer in contact with the substrate side of the low refractive index layer has a higher refractive index than the low refractive index layer. There is a difference in refractive index between the low refractive index fine particles of the low refractive index layer and the functional layer at the boundary (interface), and interference fringes will occur unless precise film thickness control is performed. Display on a display using an antireflection film There was a problem that the visibility of a surface fell.
本発明は上記問題点を解消するためになされたものであり、本発明の第一の目的は、同時塗布(重層塗布)をすることにより、反射防止機能を有し、ヘイズ、全光線透過率及びスジのない面状を維持しつつ、塗布工程や硬化工程を減らすことで生産性を向上し、かつ、逐次塗布による層間の界面をなくすことで層間の干渉縞の発生を抑制し、密着性を良化し、基材付近では、基材の屈折率と同程度の屈折率のハードコート組成物の割合を多くすることでハードコート層と基材との間における干渉縞の発生を抑制し、また、密着性に優れた光学フィルム及びその製造方法を提供することである。
本発明の第二の目的は上記光学フィルムを備えた偏光板を提供することである。
本発明の第三の目的は上記光学フィルムを備えたディスプレイを提供することである。
The present invention has been made to solve the above problems, and a first object of the present invention is to provide an antireflection function by simultaneous application (multilayer application), haze, and total light transmittance. In addition, while maintaining a flat surface without streaks, the productivity is improved by reducing the coating and curing processes, and the generation of interference fringes between layers is suppressed by eliminating the interface between layers by sequential coating, and adhesion In the vicinity of the base material, by suppressing the occurrence of interference fringes between the hard coat layer and the base material by increasing the ratio of the hard coat composition having the same refractive index as that of the base material, Moreover, it is providing the optical film excellent in adhesiveness, and its manufacturing method.
The second object of the present invention is to provide a polarizing plate comprising the optical film.
The third object of the present invention is to provide a display having the optical film.
本発明者らが鋭意検討した結果、低屈折率微粒子及び低屈折率樹脂を含まず又は低屈折率樹脂を含んでいても光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂を含む硬化性樹脂の質量に対して5質量%以下と少なく、かつ特定の粘度を有する第一の組成物と、低屈折率微粒子を含み、かつ特定の粘度を有する第二の組成物を、基材側から当該第一の組成物及び第二の組成物を隣接させて基材上又は基材上に設けられた層上に同時塗布し、乾燥前のプレキュアを行わずに乾燥させ、次いで光照射や加熱して硬化させることにより、HC層の膜厚方向において、低屈折率微粒子がHC層の基材とは反対側の界面側に基材側よりも多く存在し、かつ基材側ほど低屈折率微粒子の存在量が少なくなる分布、すなわち、基材とは反対側の界面側から基材側にかけて低屈折率微粒子が徐々に少なくなっている分布をとり、従来の低屈折率層とHC層を逐次重層塗布により形成した場合や特許文献2のような同時塗布により形成した場合のような明確な層界面を示さず、また、反射防止機能を有し、ヘイズ、全光線透過率及びスジのない面状を維持しつつ、逐次塗布による層間の界面をなくすことで層間の干渉縞の発生を抑制し、密着性を良化し、基材付近では、基材の屈折率と同程度の屈折率のハードコート組成物の割合を多くすることでハードコート層と基材との間における干渉縞の発生を抑制し、また、密着性に優れた光学フィルムが高い生産性で得られることを見出し、本発明を完成させるに至った。 As a result of intensive studies by the present inventors, the low refractive index fine particles and the low refractive index resin are not included, or even if the low refractive index resin is included, the mass of the curable resin including the photocurable resin and the thermosetting resin is reduced. The first composition having a specific viscosity of less than 5% by mass and the second composition containing the low refractive index fine particles and having the specific viscosity are arranged from the substrate side to the first composition. The product and the second composition are adjacently applied on the base material or a layer provided on the base material, dried without pre-cure before drying, and then cured by light irradiation or heating. Therefore, in the film thickness direction of the HC layer, there are more low refractive index fine particles on the interface side opposite to the base material of the HC layer than on the base material side, and the lower refractive index fine particles are present on the base material side. Less distribution, that is, low refractive index from the interface side opposite the substrate to the substrate side The distribution of particles gradually decreases, and a clear layer interface is formed as in the case where the conventional low refractive index layer and HC layer are formed by sequential multilayer coating or by simultaneous coating as in Patent Document 2. Not shown, also has anti-reflection function, suppresses generation of interference fringes between layers by eliminating the interface between layers by sequential coating while maintaining a haze, total light transmittance and surface shape without streaks, adhesion In the vicinity of the base material, the occurrence of interference fringes between the hard coat layer and the base material is suppressed by increasing the proportion of the hard coat composition having the same refractive index as the base material. In addition, the inventors have found that an optical film having excellent adhesion can be obtained with high productivity, and have completed the present invention.
すなわち、本発明に係る光学フィルムの製造方法は、(i)光透過性基材を準備する工程、(ii)反応性を有する第一の樹脂及び第一の溶剤を含み、かつ低屈折率微粒子及び低屈折率樹脂を含まず又は低屈折率樹脂を含んでいても当該第一の樹脂の質量に対して5.0質量%以下であり、粘度μ1が3mPa・s以上の第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物、並びに平均粒径10〜300nmの低屈折率微粒子及び低屈折率樹脂からなる群より選ばれる1種以上の低屈折率成分、反応性を有する第二の樹脂及び第二の溶剤を含み、粘度μ2が5mPa・s以上、かつ当該μ2から当該μ1を差し引いた値が30mPa・s以下である第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物を準備する工程、(iii)当該光透過性基材の一面側に、当該光透過性基材側から少なくとも当該第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物及び第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物を隣接させて同時塗布し、塗膜とする工程、(iv)前記(iii)工程で得られた塗膜を乾燥させ、次いで光照射及び/又は加熱を行い硬化させる工程、を含み、かつ、当該(iii)工程と当該(iv)工程の間に、プレキュアを行わないことを特徴とする。 That is, the method for producing an optical film according to the present invention includes (i) a step of preparing a light-transmitting substrate, (ii) a first resin having reactivity and a first solvent, and low refractive index fine particles In addition, even if the low refractive index resin is not included or the low refractive index resin is included, it is 5.0% by mass or less with respect to the mass of the first resin, and the first hard coat having a viscosity μ1 of 3 mPa · s or more. Curable resin composition for layer, one or more low refractive index components selected from the group consisting of low refractive index fine particles having an average particle diameter of 10 to 300 nm and low refractive index resin, a second resin having reactivity, and a second resin A step of preparing a second curable resin composition for a hard coat layer containing two solvents, having a viscosity μ2 of 5 mPa · s or more and a value obtained by subtracting the μ1 from the μ2 of 30 mPa · s or less (iii) ) On one side of the light transmissive substrate A step of coating at least the first curable resin composition for a hard coat layer and the second curable resin composition for a hard coat layer adjacently from the light-transmitting substrate side to form a coating film, (iv ) Drying the coating film obtained in the step (iii), and then curing by light irradiation and / or heating, and between the step (iii) and the step (iv) It is characterized by not performing.
低屈折率微粒子及び低屈折率樹脂を含まず又は低屈折率樹脂を含んでいても第一の樹脂の質量に対して5.0質量%以下と少なく、上記特定の粘度を有する第一のHC層用硬化性樹脂組成物(以下、単に第一の組成物ということがある。)、並びに低屈折率微粒子及び低屈折率樹脂からなる群より選ばれる1種以上の低屈折率成分を含み、上記特定の粘度を有する第二のHC層用硬化性樹脂組成物(以下、単に第二の組成物ということがある。)を、光透過性基材側から第一の組成物及び第二の組成物が隣接して位置するように同時重層塗布してHC層を形成しプレキュアを行わないことにより、第二の組成物に含まれる低屈折率成分がHC層の膜厚方向において、HC層の光透過性基材とは反対側の界面側に光透過性基材側よりも多く存在し、かつ、光透過性基材側ほど低屈折率成分の存在量が少なくなるように分布し、光透過性基材とは反対側の界面から光透過性基材側にかけて当該低屈折率成分が徐々に少なくなっており、HC層内において低屈折率成分とHC層の樹脂との屈折率差による干渉縞の発生と、HC層と基材との界面における干渉縞の発生を抑制し、また、視認性に優れた光学フィルムが得られる。
そして、プレキュアを行わずに塗膜を乾燥させ、次いで光照射や加熱を行い塗膜を硬化させるため、プレキュアを行って硬化させる場合に比べて、HC層と光透過性基材やHC層の光透過性基材側に接する層との密着性を高められる。本発明においてプレキュアとは、塗膜を本硬化させない光照射及び/又は加熱を意味する。そして、塗膜の本硬化とは、塗膜を乾燥させ、塗膜中の溶剤を少なくし、硬化した塗膜がJIS K5600−5−4(1999)に規定する鉛筆硬度試験(4.9N荷重)で、「H」以上の硬度を発現する硬化を意味する。
The first HC having the specific viscosity described above does not contain the low refractive index fine particles and the low refractive index resin or is less than 5.0% by mass with respect to the mass of the first resin even if the low refractive index resin is included. Including one or more low refractive index components selected from the group consisting of a low-refractive-index fine particle and a low-refractive-index resin, and a curable resin composition for layers (hereinafter sometimes referred to simply as a first composition), The second curable resin composition for the HC layer having the specific viscosity (hereinafter sometimes simply referred to as the second composition) is prepared from the light transmissive substrate side by the first composition and the second curable resin composition. By applying simultaneous multi-layer coating so that the compositions are located adjacently to form an HC layer and not performing a pre-cure, the low refractive index component contained in the second composition is in the HC layer thickness direction. There is more on the interface side opposite to the light transmissive substrate than on the light transmissive substrate side In addition, the lower refractive index component is distributed such that the amount of the low refractive index component decreases toward the light transmissive substrate side, and the low refractive index component extends from the interface opposite to the light transmissive substrate to the light transmissive substrate side. The number of interference fringes due to the difference in refractive index between the low refractive index component and the resin of the HC layer and the generation of interference fringes at the interface between the HC layer and the substrate are suppressed. An optical film excellent in visibility can be obtained.
And, since the coating film is dried without performing pre-curing, and then the film is cured by light irradiation or heating, compared with the case of curing by performing pre-curing, the HC layer and the light-transmitting substrate or HC layer Adhesion with the layer in contact with the light transmissive substrate side can be enhanced. In the present invention, the precure means light irradiation and / or heating which does not cause the coating film to be fully cured. The main curing of the coating film means that the coating film is dried, the solvent in the coating film is reduced, and the cured coating film is subjected to a pencil hardness test (4.9 N load) as defined in JIS K5600-5-4 (1999). ) Means curing that exhibits a hardness of “H” or higher.
本発明に係る光学フィルムの製造方法の好適な実施態様においては、前記(iii)工程において、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物の塗膜のウェット膜厚をT1、第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物の塗膜のウェット膜厚をT2としたとき、T2をT1で除した値、すなわちT2/T1を0.01〜1とすることにより、ハードコート層の膜厚方向において低屈折率成分がHC層の光透過性基材とは反対側の界面側に光透過性基材側よりも多く存在し、かつ、光透過性基材側ほど低屈折率成分の存在量が少なくなるように分布し、光透過性基材とは反対側の界面から光透過性基材側にかけて当該低屈折率成分が徐々に少なくなっており、かつ、ハードコート層の膜厚方向において前記光透過性基材とは反対側の界面から前記ハードコート層の乾燥膜厚の70%までの領域に、前記低屈折率成分の全量の70〜100%が存在する分布を有する光学フィルムを得ることも可能である。
このように低屈折率成分が分布していることにより、低屈折率成分の含有量を少なくしても光学フィルムの反射防止性能を十分に発現することができる。
なお、HC層の膜厚方向における低屈折率微粒子の分布は、HC層の膜厚方向断面のTEM(透過型電子顕微鏡)写真により観察することができる。
HC層の膜厚方向における低屈折率樹脂の分布は、例えば、光学フィルムを熱硬化性樹脂を用いて包埋し、その包埋した光学フィルムからLEICA社製ウルトラミクロトームを用いて80nm厚みの超薄切片を作製し、次いでRuO4を用いて気相染色を行い、TEMにより観察することにより測定することができる。
In a preferred embodiment of the method for producing an optical film according to the present invention, in the step (iii), the wet film thickness of the first hard coat layer curable resin composition is T1, the second hard When the wet film thickness of the coating film of the curable resin composition for the coat layer is T2, a value obtained by dividing T2 by T1, that is, by setting T2 / T1 to 0.01 to 1, the film thickness of the hard coat layer In the direction, the low refractive index component is present more on the interface side opposite to the light transmissive substrate of the HC layer than the light transmissive substrate side, and the low refractive index component is present on the light transmissive substrate side. The amount of the low refractive index component is gradually reduced from the interface opposite to the light transmissive substrate to the light transmissive substrate side, and the hard coat layer is in the film thickness direction. In the interface from the opposite side to the light-transmitting substrate In the region of up to 70% of the dry thickness of the Dokoto layer, it is also possible to obtain an optical film having a distribution of 70% to 100% of the total amount of the low refractive index component is present.
Since the low refractive index component is distributed as described above, the antireflection performance of the optical film can be sufficiently exhibited even if the content of the low refractive index component is reduced.
The distribution of the low refractive index fine particles in the film thickness direction of the HC layer can be observed by a TEM (transmission electron microscope) photograph of the cross section in the film thickness direction of the HC layer.
The distribution of the low refractive index resin in the film thickness direction of the HC layer is, for example, that an optical film is embedded using a thermosetting resin, and the embedded optical film is used with an ultramicrotome manufactured by LEICA to have a thickness of 80 nm or more. It can be measured by preparing a thin section, then performing gas phase staining with RuO4 and observing with TEM.
本発明に係る光学フィルムの製造方法の好適な実施態様では、前記第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物の粘度μ1が3〜95mPa・sあり、前記第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物の粘度μ2が5〜100mPa・sであることが、上記特定の低屈折率成分の分布を有するHC層が容易に得られるため好ましい。 In a preferred embodiment of the method for producing an optical film according to the present invention, the first hard coat layer curable resin composition has a viscosity μ1 of 3 to 95 mPa · s, and the second hard coat layer curable property. It is preferable that the viscosity μ2 of the resin composition is 5 to 100 mPa · s because an HC layer having a distribution of the specific low refractive index component can be easily obtained.
本発明に係る光学フィルムは、上記光学フィルムの製造方法により得られる光学フィルムである。 The optical film which concerns on this invention is an optical film obtained by the manufacturing method of the said optical film.
本発明に係る光学フィルムの好適な実施態様では、光透過性基材の一面側にハードコート層が設けられた光学フィルムであって、前記ハードコート層の膜厚方向において、低屈折率微粒子が前記光透過性基材とは反対側の界面側に当該光透過性基材側よりも多く存在し、かつ、当該光透過性基材側ほど当該低屈折率微粒子の存在量が少なく、当該光透過性基材とは反対側の界面から光透過性基材側にかけて当該低屈折率成分が徐々に少なくなっており、当該ハードコート層内に層界面がなく、当該ハードコート層の前記光透過性基材に対する碁盤目密着性試験の密着率を90〜100%とすることも可能である。
ここで、碁盤目密着性試験の密着率とは、光学フィルムのHC層側表面に1mm角で合計100目の碁盤目を入れ、幅24mmの粘着テープ(例えば、ニチバン(株)製の工業用セロテープ(登録商標))を用いて5回連続剥離試験を行い、下記基準に基づいて算出される剥がれずに残ったマス目の割合である。
密着率(%)=(剥がれなかったマス目の数/合計のマス目数100)×100
In a preferred embodiment of the optical film according to the present invention, the optical film is provided with a hard coat layer on one side of the light-transmitting substrate, and the low refractive index fine particles are formed in the film thickness direction of the hard coat layer. There is more on the interface side opposite to the light-transmitting substrate than on the light-transmitting substrate side, and the light-transmitting substrate side has less low refractive index fine particles, and the light The low refractive index component gradually decreases from the interface opposite to the transmissive substrate to the light transmissive substrate side, there is no layer interface in the hard coat layer, and the light transmission of the hard coat layer It is also possible to adjust the adhesion rate of the cross-cut adhesion test to the conductive substrate to 90 to 100%.
Here, the adhesion rate in the cross-cut adhesion test means that a 100-mm cross-cut is placed in a 1 mm square on the HC layer side surface of the optical film, and an adhesive tape having a width of 24 mm (for example, industrial product manufactured by Nichiban Co., Ltd.) This is the proportion of squares left without peeling, calculated based on the following criteria, after 5 continuous peel tests using Cellotape (registered trademark).
Adhesion rate (%) = (number of cells not peeled / total number of cells 100) × 100
本発明に係る光学フィルムの好適な実施態様では、ハードコート層の膜厚方向において、前記光透過性基材とは反対側の界面から前記ハードコート層の乾燥膜厚の70%までの領域に、前記低屈折率微粒子の全量の70〜100%が存在することも可能である。 In a preferred embodiment of the optical film according to the present invention, in the film thickness direction of the hard coat layer, the region from the interface opposite to the light transmissive substrate to 70% of the dry film thickness of the hard coat layer. 70% to 100% of the total amount of the low refractive index fine particles may be present.
本発明に係る偏光板は上記いずれかの光学フィルムの前記ハードコート層とは反対の光透過性基材側に偏光子が設けられていることを特徴とする。 The polarizing plate according to the present invention is characterized in that a polarizer is provided on the light transmissive substrate side opposite to the hard coat layer of any one of the above optical films.
本発明に係るディスプレイは、上記いずれかの光学フィルムの前記ハードコート層とは反対の光透過性基材側にディスプレイパネルが配置されていることを特徴とする。 The display according to the present invention is characterized in that a display panel is disposed on the light transmissive substrate side opposite to the hard coat layer of any one of the above optical films.
低屈折率微粒子及び低屈折率樹脂を含まず又は低屈折率樹脂を含んでいても上記特定量であり、上記特定の粘度を有する第一の組成物、並びに低屈折率微粒子及び/又は低屈折率樹脂を含み、上記特定の粘度を有する第二の組成物を、光透過性基材側から第一の組成物及び第二の組成物が隣接して位置するように同時塗布し、プレキュアを行わずに塗膜を乾燥させて、次いで光照射や加熱を行い、HC層を形成することにより、第二の組成物に含まれる低屈折率微粒子及び/又は低屈折率樹脂がHC層の膜厚方向において、HC層の光透過性基材とは反対側の界面側に光透過性基材側よりも多く存在し、かつ、光透過性基材側ほどその存在量が少なくなるように分布し、かつ、光透過性基材とは反対側の界面から光透過性基材側にかけて当該低屈折率成分が徐々に少なくなるように分布し、反射防止機能を有し、ヘイズ、全光線透過率及びスジのない面状を維持しつつ、塗布工程や硬化工程を減らすことで生産性を向上し、かつ、逐次塗布による層間の界面をなくすことで層間の干渉縞の発生を抑制し、密着性を良化し、基材付近では、基材の屈折率と同程度の屈折率のハードコート組成物の割合を多くすることでハードコート層と基材との間における干渉縞の発生を抑制し、また、密着性に優れた光学フィルムが得られる。 The low-refractive-index fine particles and the low-refractive-index resin are not included, or the low-refractive-index resin is included in the specific amount and the specific composition, and the low-refractive index fine particles and / or the low-refractive index. The second composition containing a specific resin and having the above specific viscosity is simultaneously applied from the light-transmitting substrate side so that the first composition and the second composition are adjacent to each other, and the precure is applied. The coating film is dried without performing light irradiation and heating to form an HC layer, so that the low refractive index fine particles and / or the low refractive index resin contained in the second composition is a film of the HC layer. In the thickness direction, the HC layer is distributed so that there is more on the interface side opposite to the light transmissive substrate than the light transmissive substrate side, and the abundance is smaller on the light transmissive substrate side. And from the interface opposite to the light transmissive substrate to the light transmissive substrate side Productivity is improved by reducing the coating process and curing process while maintaining a surface shape that has an antireflection function and has no haze, total light transmittance, and streaks, and is distributed so that the refractive index component gradually decreases. In addition, by eliminating the interface between layers by sequential coating, the generation of interference fringes between layers is suppressed, the adhesion is improved, and the hard coat composition having a refractive index similar to the refractive index of the substrate in the vicinity of the substrate By increasing the proportion of the product, the generation of interference fringes between the hard coat layer and the substrate can be suppressed, and an optical film excellent in adhesion can be obtained.
以下、まず本発明に係る光学フィルムの製造方法について説明し、次いで当該光学フィルムについて説明する。 Hereinafter, the manufacturing method of the optical film according to the present invention will be described first, and then the optical film will be described.
本発明において、(メタ)アクリレートは、アクリレート及び/又はメタクリレートを表す。
また、本発明の光には、可視及び非可視領域の波長の電磁波だけでなく、電子線のような粒子線、及び、電磁波と粒子線を総称する放射線又は電離放射線が含まれる。
本発明において、特に記載がない限り膜厚とは乾燥時の膜厚(乾燥膜厚)を意味する。
本発明において、「ハードコート層」とは、JIS K5600−5−4(1999)に規定する鉛筆硬度試験(4.9N荷重)で、「H」以上の硬度を示すものをいう。
なお、フィルムとシートのJIS−K6900での定義では、シートとは薄く一般にその厚さが長さと幅の割りには小さい平らな製品をいい、フィルムとは長さ及び幅に比べて厚さが極めて小さく、最大厚さが任意に限定されている薄い平らな製品で、通例、ロールの形で供給されるものをいう。従って、シートの中でも厚さの特に薄いものがフィルムであるといえるが、シートとフィルムの境界は定かではなく、明確に区別しにくいので、本発明では、厚みの厚いもの、および薄いものの両方の意味を含めて、「フィルム」と定義する。
本発明において樹脂とは、モノマーやオリゴマーの他、ポリマーを含む概念であり、硬化後にHC層やその他の機能層のマトリクスとなる成分を意味する。
本発明において、分子量とは、分子量分布を有する場合には、THF溶剤におけるゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)により測定したポリスチレン換算値である重量平均分子量を意味し、分子量分布を有しない場合には、化合物そのものの分子量を意味する。
本発明において、低屈折率微粒子の平均粒径とは、組成物における微粒子の場合は、溶液中の粒子を動的光散乱方法で測定し、1次粒径及び2次粒径を含む粒径分布を累積分布で表したときの50%粒径(d50 メジアン径)を意味し、日機装(株)製のMicrotrac粒度分析計を用いて測定することができる。HC層中の微粒子の場合は、HC層の断面のTEM写真により観察される粒子20個の平均値を意味する。
In the present invention, (meth) acrylate represents acrylate and / or methacrylate.
The light of the present invention includes not only electromagnetic waves having wavelengths in the visible and non-visible regions, but also particle beams such as electron beams, and radiation or ionizing radiation that collectively refers to electromagnetic waves and particle beams.
In the present invention, unless otherwise specified, the film thickness means the film thickness during drying (dry film thickness).
In the present invention, the “hard coat layer” refers to a layer having a hardness of “H” or higher in a pencil hardness test (4.9 N load) defined in JIS K5600-5-4 (1999).
In the definition of film and sheet in JIS-K6900, a sheet is a thin and generally flat product whose thickness is small relative to the length and width. A film has a thickness compared to the length and width. A thin, flat product that is extremely small and has an arbitrarily limited maximum thickness, usually supplied in the form of a roll. Accordingly, it can be said that a sheet having a particularly thin thickness is a film, but the boundary between the sheet and the film is not clear and is difficult to distinguish clearly. Therefore, in the present invention, both a thick sheet and a thin sheet are used. Including meaning, it is defined as “film”.
In the present invention, the resin is a concept including a polymer in addition to a monomer and an oligomer, and means a component that becomes a matrix of the HC layer and other functional layers after curing.
In the present invention, the molecular weight means a weight average molecular weight which is a polystyrene equivalent value measured by gel permeation chromatography (GPC) in a THF solvent when having a molecular weight distribution, and when having no molecular weight distribution, It means the molecular weight of the compound itself.
In the present invention, the average particle size of the low refractive index fine particles is a particle size including a primary particle size and a secondary particle size obtained by measuring particles in a solution by a dynamic light scattering method in the case of fine particles in a composition. This means a 50% particle diameter (d50 median diameter) when the distribution is expressed as a cumulative distribution, and can be measured using a Microtrac particle size analyzer manufactured by Nikkiso Co., Ltd. In the case of fine particles in the HC layer, it means an average value of 20 particles observed by a TEM photograph of a cross section of the HC layer.
(光学フィルムの製造方法)
本発明に係る光学フィルムの製造方法は、(i)光透過性基材を準備する工程、(ii)反応性を有する第一の樹脂及び第一の溶剤を含み、かつ低屈折率微粒子及び低屈折率樹脂を含まず又は低屈折率樹脂を含んでいても当該第一の樹脂の質量に対して5.0質量%以下であり、粘度μ1が3mPa・s以上の第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物、並びに平均粒径10〜300nmの低屈折率微粒子及び低屈折率樹脂からなる群より選ばれる1種以上の低屈折率成分、反応性を有する第二の樹脂及び第二の溶剤を含み、粘度μ2が5mPa・s以上、かつ当該μ2から当該μ1を差し引いた値が30mPa・s以下である第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物を準備する工程、(iii)当該光透過性基材の一面側に、当該光透過性基材側から少なくとも当該第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物及び第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物を隣接させて同時塗布し、塗膜とする工程、(iv)前記(iii)工程で得られた塗膜を乾燥させ、次いで光照射及び/又は加熱を行い硬化させる工程、を含み、かつ、当該(iii)工程と当該(iv)工程の間に、プレキュアを行わないことを特徴とする。
(Optical film manufacturing method)
The method for producing an optical film according to the present invention includes (i) a step of preparing a light-transmitting substrate, (ii) a first resin having reactivity and a first solvent, and low refractive index fine particles and low Even if it does not contain a refractive index resin or contains a low refractive index resin, it is 5.0% by mass or less based on the mass of the first resin, and the viscosity μ1 is 3 mPa · s or more for the first hard coat layer. A curable resin composition, one or more low refractive index components selected from the group consisting of low refractive index fine particles having an average particle diameter of 10 to 300 nm and a low refractive index resin, a reactive second resin, and a second resin A step of preparing a second curable resin composition for a hard coat layer containing a solvent and having a viscosity μ2 of 5 mPa · s or more and a value obtained by subtracting the μ1 from the μ2 of 30 mPa · s, (iii) On one side of the light transmissive substrate, the light transmissive A step of coating at least the first curable resin composition for a hard coat layer and the second curable resin composition for a hard coat layer adjacent to each other from the material side to form a coating film; (iv) the above (iii) ) Drying the coating film obtained in the step, and then curing it by light irradiation and / or heating, and not performing pre-cure between the step (iii) and the step (iv) It is characterized by.
図1は、本発明の製造方法により得られた光学フィルムのHC層における低屈折率微粒子の分布の一例を示した断面模式図である。
光学フィルム1は光透過性基材10の一面側にHC層20が設けられており、HC層において、低屈折率微粒子30はHC層の光透過性基材とは反対側の界面側に光透過性基材側よりも多く存在し、かつ、光透過性基材側ほどその存在量が少ない分布、すなわち、光透過性基材とは反対側の界面から光透過性基材側にかけて当該低屈折率成分が徐々に少なくなる分布を有している。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the distribution of low refractive index fine particles in the HC layer of an optical film obtained by the production method of the present invention.
The optical film 1 is provided with an HC layer 20 on one surface side of the light-transmitting substrate 10, and in the HC layer, the low refractive index fine particles 30 are formed on the interface side of the HC layer opposite to the light-transmitting substrate. A distribution in which there is a larger amount than the transparent substrate side, and the amount of the light-transmitting substrate side is smaller, that is, from the interface opposite to the light-transmitting substrate to the light-transmitting substrate side. The refractive index component has a distribution that gradually decreases.
図2は従来の逐次重層塗布方式による反射防止フィルムの低屈折率層における低屈折率微粒子の分布の一例を示した断面模式図である。
反射防止フィルム100は光透過性基材10の一面側に光透過性基材側からHC層110及び低屈折率層120が設けられており、低屈折率層内において低屈折率微粒子30が均一に分布しているが、HC層を完全に硬化させて形成した後に低屈折率層が形成されているため低屈折率微粒子はHC層内になく、低屈折率層とHC層との界面において屈折率差が大きくなり干渉縞が生じてしまっていた。また、HC層と低屈折率層の界面も明瞭に判別することができる。さらに、図1の低屈折率微粒子が存在している領域の厚さと同程度の膜厚が厚い低屈折率層を従来の反射防止フィルムで形成すると、干渉縞が発生してしまっていた。
このように、従来の逐次重層塗布方式では、本発明の塗布方法により得られる低屈折率微粒子が分布している厚さと同程度の厚さの上層(低屈折率層)を形成すると、下層となる組成物の硬化部分と上層となる組成物の硬化部分に界面が生じ、当該界面部分における上層の組成物に含まれる低屈折率微粒子と、下層の組成物に含まれる樹脂との屈折率差が大きく、干渉縞が生じてしまっていた。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an example of a distribution of low refractive index fine particles in a low refractive index layer of an antireflection film according to a conventional sequential multilayer coating method.
The antireflection film 100 has an HC layer 110 and a low refractive index layer 120 provided on one side of the light transmissive substrate 10 from the light transmissive substrate side, and the low refractive index fine particles 30 are uniform in the low refractive index layer. However, since the low refractive index layer is formed after the HC layer is completely cured, the low refractive index fine particles are not in the HC layer, but at the interface between the low refractive index layer and the HC layer. The difference in refractive index was large, causing interference fringes. Also, the interface between the HC layer and the low refractive index layer can be clearly distinguished. Further, when a low refractive index layer having a thickness approximately equal to the thickness of the region where the low refractive index fine particles in FIG. 1 are present is formed with a conventional antireflection film, interference fringes are generated.
Thus, in the conventional sequential multi-layer coating method, when an upper layer (low refractive index layer) having a thickness similar to the thickness in which the low refractive index fine particles obtained by the coating method of the present invention are distributed, An interface is formed between the cured portion of the resulting composition and the cured portion of the upper composition, and the difference in refractive index between the low refractive index fine particles contained in the upper composition and the resin contained in the lower composition at the interface portion. Was large and interference fringes had occurred.
これに対して、本発明に係る光学フィルムの製造方法においては、低屈折率微粒子及び低屈折率樹脂を含まず又は低屈折率樹脂を含んでいても第一の樹脂の質量に対して5.0質量%以下であり、上記特定の粘度を有する第一の組成物、並びに低屈折率成分を含み、上記特定の粘度を有する第二の組成物を、光透過性基材側から第一の組成物及び第二の組成物が隣接して位置するように同時塗布してHC層を形成しプレキュアを行わないことにより、図1に示したように、第二の組成物に含まれる低屈折率成分がHC層の膜厚方向において、HC層の光透過性基材とは反対側の界面側に光透過性基材側よりも多く存在し、かつ、光透過性基材側ほど低屈折率微粒子の存在量が少なくなる分布、すなわち、光透過性基材とは反対側の界面側から光透過性基材側にかけて低屈折率成分が徐々に少なくなっている分布をとり、HC層内において低屈折率成分とHC層の樹脂との屈折率差による干渉縞の発生と、HC層と基材との界面における干渉縞の発生を抑制し、視認性に優れ、さらにHC層と光透過性基材又は光透過性基材側に接する層との密着性が優れた光学フィルムが得られる。
また、プレキュアを行う必要がないため、プレキュアと本硬化の2度、光照射を行って硬化させる場合に比べて、生産性にも優れる。
On the other hand, in the method for producing an optical film according to the present invention, the low refractive index fine particles and the low refractive index resin are not included, or even if the low refractive index resin is included, 5. The first composition having a specific viscosity of 0% by mass or less, and the second composition having a low refractive index component and having the specific viscosity are separated from the light-transmitting substrate side by the first composition. By simultaneously applying the composition and the second composition so as to be adjacent to each other to form an HC layer and not performing the precuring, as shown in FIG. 1, the low refraction included in the second composition is reduced. In the film thickness direction of the HC layer, the rate component is present more at the interface side opposite to the light-transmitting substrate of the HC layer than at the light-transmitting substrate side, and the refractive index is lower at the light-transmitting substrate side. Distribution where the abundance of fine particles decreases, that is, from the interface side opposite to the light-transmitting substrate The distribution is such that the low refractive index component gradually decreases toward the transmissive substrate side, and interference fringes are generated in the HC layer due to the refractive index difference between the low refractive index component and the resin of the HC layer. Generation of interference fringes at the interface with the material is suppressed, and an optical film having excellent visibility and excellent adhesion between the HC layer and the light-transmitting substrate or the layer in contact with the light-transmitting substrate is obtained.
Moreover, since it is not necessary to perform pre-cure, it is excellent in productivity compared with the case where it cures by irradiating light twice with pre-cure and main curing.
なお、光透過性基材上に低屈折率成分として低屈折率微粒子を含むHC層を同時塗布により形成した場合、当該HC層と当該光透過性基材との密着性が良い理由は定かではないが、以下の理由が推測される。すなわち、光透過性基材に対して第一の組成物に含まれる樹脂が接すると当該樹脂が光透過性基材に浸透し、化学的及び/又は物理的結合が生じるため、HC層と光透過性基材との密着性が向上するものと推測される。これに対し、HC層に含まれる低屈折率微粒子が上述したような光透過性基材側ほど存在量が少なくなるという分布をとらずにHC層中に均一に分散した場合、HC層中の光透過性基材側の界面において低屈折率微粒子が占める部分だけ、樹脂が浸透することによる樹脂と基材との化学的及び/又は物理的結合が生じず、密着性が高まらないと推測される。
また、光透過性基材上に第一の組成物と第二の組成物を同時塗布した直後にプレキュアを行うと、溶剤存在下で樹脂が光透過性基材に浸透する前に重合ないし架橋が開始され、樹脂の分子量が大きくなり樹脂が光透過性基材に浸透せず、乾燥後にさらに光照射や加熱を行っても密着性が高まらないと推測される。
これらのことから、光透過性基材上に第一の組成物と第二の組成物を同時塗布して上述した特定の低屈折率微粒子の分布を有する本発明のHC層を形成する場合には、光透過性基材に対しての密着性に優れるものと推測される。
When an HC layer containing low refractive index fine particles as a low refractive index component is formed on the light transmissive substrate by simultaneous application, the reason why the adhesion between the HC layer and the light transmissive substrate is good is clear. The following reasons are presumed. That is, when the resin contained in the first composition comes into contact with the light transmissive substrate, the resin penetrates into the light transmissive substrate, resulting in chemical and / or physical bonding. It is presumed that the adhesion with the permeable substrate is improved. On the other hand, when the low refractive index fine particles contained in the HC layer are uniformly dispersed in the HC layer without taking the distribution that the abundance decreases as the light-transmitting substrate side as described above, It is presumed that only the portion occupied by the low refractive index fine particles at the interface on the light transmissive substrate side does not cause chemical and / or physical bonding between the resin and the substrate due to the penetration of the resin, and the adhesion is not increased. The
In addition, if precure is performed immediately after the first composition and the second composition are simultaneously applied on the light-transmitting substrate, polymerization or crosslinking occurs before the resin penetrates the light-transmitting substrate in the presence of a solvent. Is initiated, the molecular weight of the resin increases, the resin does not penetrate into the light-transmitting substrate, and it is presumed that the adhesion does not increase even if light irradiation or heating is performed after drying.
From these, when the HC layer of the present invention having the above-mentioned distribution of the specific low refractive index fine particles is formed by simultaneously coating the first composition and the second composition on the light transmissive substrate. Is presumed to have excellent adhesion to a light-transmitting substrate.
図3は、本発明に係る光学フィルムの製造方法における、第一及び第二のHC層用硬化性樹脂組成物を同時塗布する工程の一例を示した模式図である。
光透過性基材10上にダイコーターヘッド40のスリット51及び52からそれぞれ、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物60及び第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物70を光透過性基材側に第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物が位置するように隣接して同時重層塗布し、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物の塗膜61及び第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物の塗膜71とする。なお、図3において、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物と第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物は本来一体となってハードコート層を形成するが、説明の簡略化のため当該二種の組成物やその塗膜を色分けして記載してある。
FIG. 3 is a schematic view showing an example of a process for simultaneously applying the first and second curable resin compositions for the HC layer in the method for producing an optical film according to the present invention.
Light transmission of the first hard coat layer curable resin composition 60 and the second hard coat layer curable resin composition 70 from the slits 51 and 52 of the die coater head 40 onto the light transmissive substrate 10, respectively. The first curable resin composition for the hard coat layer is adjacently coated so that the first curable resin composition for the hard coat layer is located on the side of the porous substrate, and the coating film 61 and the second curable resin composition for the first hard coat layer are applied. Let it be the coating film 71 of the curable resin composition for hard coat layers. In FIG. 3, the first curable resin composition for hard coat layer and the second curable resin composition for hard coat layer are originally integrated to form a hard coat layer. Therefore, the two kinds of compositions and the coating film thereof are described in different colors.
以下、(i)及び(ii)工程で準備する、光透過性基材並びに第一の組成物及び第二の組成物について説明する。 Hereinafter, the light transmissive substrate, the first composition, and the second composition prepared in the steps (i) and (ii) will be described.
(光透過性基材)
本発明の光透過性基材は、光学フィルムの光透過性基材として用い得る物性を満たすものであれば特に限定されることはなく、従来公知のハードコートフィルムや光学フィルムに用いられているトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート又はシクロオレフィンポリマー等を適宜選択して用いることができる。
可視光域380〜780nmにおける光透過性基材の平均光透過率は50%以上が好ましく、より好ましくは70%以上、特に好ましくは85%以上である。なお、光透過率の測定は、紫外可視分光光度計(例えば、(株)島津製作所製 UV−3100PC)を用い、室温、大気中で測定した値を用いる。
また、光透過性基材にけん化処理やプライマー層を設ける等の表面処理が施されていても良い。また、光透過性基材には帯電防止剤等の添加剤が添加されていても良い。
光透過性基材の厚さは特に限定されず、通常20μm〜300μm程度であり、好ましくは40μm〜200μmである。
(Light transmissive substrate)
The light transmissive substrate of the present invention is not particularly limited as long as it satisfies the physical properties that can be used as the light transmissive substrate of the optical film, and is used for conventionally known hard coat films and optical films. Triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate, cycloolefin polymer, or the like can be appropriately selected and used.
The average light transmittance of the light-transmitting substrate in the visible light region of 380 to 780 nm is preferably 50% or more, more preferably 70% or more, and particularly preferably 85% or more. In addition, the measurement of light transmittance uses the value measured in room temperature and air | atmosphere using the ultraviolet visible spectrophotometer (For example, Shimadzu Corporation UV-3100PC).
Further, the light-transmitting substrate may be subjected to a surface treatment such as a saponification treatment or a primer layer. Further, an additive such as an antistatic agent may be added to the light transmissive substrate.
The thickness of the light-transmitting substrate is not particularly limited, and is usually about 20 μm to 300 μm, preferably 40 μm to 200 μm.
(第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物)
第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物は、反応性を有する第一の樹脂及び第一の溶剤を含み、かつ低屈折率微粒子及び低屈折率樹脂を含まず又は低屈折率樹脂を含んでいても当該第一の樹脂の質量に対して5.0質量%以下であり、粘度μ1が5mPa・s以上である。
第一の組成物が低屈折率微粒子及び低屈折率樹脂を含まず又は低屈折率樹脂を含んでいても当該第一の樹脂の質量に対して5.0質量%以下であり、上記特定の粘度を有し、後述する第二の組成物が低屈折率成分を含み、特定の粘度を有し、かつ第一の組成物が第二の組成物よりも光透過性基材側に位置するように当該二種の組成物が隣接して同時塗布されることにより、第一の組成物と第二の組成物が硬化してHC層を形成する際に、HC層の膜厚方向において、光透過性基材とは反対側の界面側から光透過性基材側にかけて低屈折率成分が徐々に少なくなっている分布をとり、低屈折率成分が低屈折率微粒子の場合は図1に示したように低屈折率微粒子が分布する。
第一の組成物の粘度μ1は、後述する第二の組成物との混合を適度に抑制する点から3mPa・s以上であり、10mPa・s以上であることが好ましい。当該粘度μ1は、塗工性を高める観点から、95mPa・s以下が好ましく、50mPa・s以下がより好ましく、30mPa・s以下が特に好ましい。そして、第二の組成物の粘度μ2からμ1を差し引いた値(以下、単に「粘度の差」ともいうことがある。)が30mPa・s以下である。粘度の差は混合の抑制と形成される面状の観点から15mPa・s以下であることが好ましく、10mPa・s以下であることがより好ましい。また、第一の組成物の粘度μ1と第二の組成物の粘度μ2は、塗工性の観点から、μ2がμ1よりも大きいことが好ましい。
なお、第一の組成物及び後述する第二の組成物の粘度は、例えば、Anton Paar社製の商品名MCR301を用いて、測定治具はPP50とし、測定温度は25℃、せん断速度は10000[1/s]の条件で、測定対象の組成物を適量、ステージに滴下し測定することができる。
(First curable resin composition for hard coat layer)
The first curable resin composition for a hard coat layer contains a reactive first resin and a first solvent, and does not contain low refractive index fine particles and low refractive index resin or contains a low refractive index resin. However, it is 5.0 mass% or less with respect to the mass of the said 1st resin, and viscosity (mu) 1 is 5 mPa * s or more.
Even if the first composition does not contain the low refractive index fine particles and the low refractive index resin or does not contain the low refractive index resin, it is 5.0% by mass or less with respect to the mass of the first resin, The second composition described below contains a low refractive index component, has a specific viscosity, and the first composition is located closer to the light transmissive substrate than the second composition. As described above, when the two types of compositions are adjacently applied simultaneously to form the HC layer by curing the first composition and the second composition, in the film thickness direction of the HC layer, A distribution in which the low refractive index component gradually decreases from the interface side opposite to the light transmissive substrate to the light transmissive substrate side is shown in FIG. 1 when the low refractive index component is a low refractive index fine particle. As shown, low refractive index fine particles are distributed.
The viscosity μ1 of the first composition is 3 mPa · s or more and preferably 10 mPa · s or more from the viewpoint of appropriately suppressing mixing with the second composition described later. The viscosity μ1 is preferably 95 mPa · s or less, more preferably 50 mPa · s or less, and particularly preferably 30 mPa · s or less from the viewpoint of improving the coatability. The value obtained by subtracting μ1 from the viscosity μ2 of the second composition (hereinafter sometimes simply referred to as “viscosity difference”) is 30 mPa · s or less. The difference in viscosity is preferably 15 mPa · s or less, more preferably 10 mPa · s or less, from the viewpoint of suppression of mixing and the surface shape formed. In addition, the viscosity μ1 of the first composition and the viscosity μ2 of the second composition are preferably larger than μ1 from the viewpoint of coatability.
The viscosity of the first composition and the second composition to be described later is, for example, the product name MCR301 manufactured by Anton Paar, the measurement jig is PP50, the measurement temperature is 25 ° C., and the shear rate is 10,000. Under the condition of [1 / s], an appropriate amount of the composition to be measured can be dropped on the stage and measured.
第一の組成物は低屈折率微粒子及び低屈折率樹脂を含まないか又は低屈折率樹脂を含んでいても当該第一の樹脂の質量に対して5.0質量%以下である。このような低屈折率成分は反射防止性能を発現する観点からはHC層の光透過性基材とは反対側の界面及びその近傍部分にのみ存在することが好ましい。HC層全体に低屈折率成分が均一に存在すると光学フィルムの反射防止性能が十分に発現されず、またHC層の硬度も十分に発現されないおそれがある。この点につき、後述する第二の組成物が低屈折率成分を当該界面及びその近傍領域に多く分布させる働きを有する。第一の組成物に低屈折率樹脂が含まれていても上記の量であれば光学フィルムにおいて十分な反射防止性能が得られる。第一の組成物に含まれる低屈折率樹脂の量は第一の樹脂の質量に対して1質量%以下であることが好ましい。 The first composition does not contain the low refractive index fine particles and the low refractive index resin or is 5.0% by mass or less based on the mass of the first resin even when the low refractive index resin is contained. Such a low refractive index component is preferably present only at the interface on the side opposite to the light-transmitting substrate of the HC layer and in the vicinity thereof from the viewpoint of developing antireflection performance. If the low refractive index component is uniformly present throughout the HC layer, the antireflection performance of the optical film may not be sufficiently exhibited, and the hardness of the HC layer may not be sufficiently exhibited. In this regard, the second composition described later has a function of distributing a large amount of the low refractive index component in the interface and the vicinity thereof. Even if the low refractive index resin is contained in the first composition, sufficient antireflection performance can be obtained in the optical film as long as the amount is as described above. The amount of the low refractive index resin contained in the first composition is preferably 1% by mass or less with respect to the mass of the first resin.
(第一の樹脂)
第一の樹脂は反応性を有し、硬化してHC層のマトリクスとなる成分である。第一の樹脂は光照射や加熱により第一の樹脂同士及び後述する第二の樹脂との重合ないし架橋反応性を有する。第一の樹脂は、紫外線等の光照射により硬化する光硬化性樹脂であっても良いし、加熱により硬化する熱硬化性樹脂であっても良い。
第一の樹脂が光硬化性樹脂の場合、第一の樹脂は、重合性不飽和基を有することが好ましく、電離放射線硬化性不飽和基を有することがより好ましい。その具体例としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合及びエポキシ基等が挙げられる。
第一の樹脂が熱硬化性樹脂の場合、第一の樹脂としては、例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、グリシジル基、イソシアネート基及びアルコキシル基等を有するものが挙げられる。
第一の樹脂は、架橋反応によりHC層の硬度を高める点から、反応性基を1分子中に2個以上有することが好ましく、3個以上有することがより好ましい。
(First resin)
The first resin is a component that is reactive and hardens to become a matrix of the HC layer. The first resin has polymerization or crosslinking reactivity with the first resins and the second resin described later by light irradiation or heating. The first resin may be a photocurable resin that is cured by irradiation with light such as ultraviolet rays, or may be a thermosetting resin that is cured by heating.
When the first resin is a photocurable resin, the first resin preferably has a polymerizable unsaturated group, and more preferably has an ionizing radiation curable unsaturated group. Specific examples thereof include ethylenically unsaturated bonds such as (meth) acryloyl group, vinyl group and allyl group, and epoxy group.
When the first resin is a thermosetting resin, examples of the first resin include those having a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, an epoxy group, a glycidyl group, an isocyanate group, and an alkoxyl group.
The first resin preferably has two or more reactive groups in one molecule, more preferably three or more, from the viewpoint of increasing the hardness of the HC layer by a crosslinking reaction.
光硬化性樹脂としての第一の樹脂は、従来公知のHC層のマトリクスとなる光硬化性樹脂を用いればよく、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)及びジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)等の多官能モノマーが好ましく用いられる。 The first resin as the photocurable resin may be a conventionally known photocurable resin that becomes a matrix of the HC layer, such as pentaerythritol triacrylate (PETA) and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA). A polyfunctional monomer is preferably used.
熱硬化性樹脂としての第一の樹脂は、例えば、エポキシ基を有する化合物及び特開2006−106503号公報に記載のバインダー性エポキシ化合物を用いることができる。また、特開2008−165041号公報に記載の熱硬化性樹脂を用いることができる。 As the first resin as the thermosetting resin, for example, a compound having an epoxy group and a binder epoxy compound described in JP-A-2006-106503 can be used. Moreover, the thermosetting resin described in JP 2008-150441 A can be used.
第一の組成物の粘度μ1を調節しやすい観点から、第一の樹脂の分子量は500以上であることが好ましく、1000より大きいことがより好ましい。また、第一の組成物の粘度μ1を調節しやすい観点から、第一の樹脂の分子量の上限値は150000以下であることが好ましく、50000以下であることがより好ましく、20000以下であることが特に好ましい。第一の樹脂の分子量がこの範囲であることにより、後述する第二の組成物に含まれる低屈折率微粒子や低屈折率樹脂がHC層全体に均一に拡散するのを抑え、HC層の光透過性基材とは反対側の界面側に多く存在させやすい。
分子量が1000より大きい樹脂としては、例えば、特許文献1に記載のポリアルキレンオキシド鎖含有ポリマーDや荒川化学工業(株)製の商品名ビームセットDK1、新中村化学工業(株)製のUV硬化型ウレタンアクリレートオリゴマーである商品名NHオリゴ U−15HA及び日本合成化学工業(株)製の商品名UV−1700B等が好ましく挙げられる。
From the viewpoint of easily adjusting the viscosity μ1 of the first composition, the molecular weight of the first resin is preferably 500 or more, and more preferably greater than 1000. From the viewpoint of easily adjusting the viscosity μ1 of the first composition, the upper limit of the molecular weight of the first resin is preferably 150,000 or less, more preferably 50000 or less, and preferably 20000 or less. Particularly preferred. When the molecular weight of the first resin is within this range, the low refractive index fine particles and the low refractive index resin contained in the second composition described later are prevented from uniformly diffusing throughout the HC layer, and the light of the HC layer is reduced. Many are likely to be present on the interface side opposite to the permeable substrate.
Examples of the resin having a molecular weight larger than 1000 include polyalkylene oxide chain-containing polymer D described in Patent Document 1, trade name beam set DK1 manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd., and UV curing manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. Preferred examples include trade name NH oligo U-15HA, which is a type urethane acrylate oligomer, and trade name UV-1700B manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.
HC層と基材の界面における干渉縞の発生を抑制する観点から、第一の樹脂に分子量が1000以下の樹脂を含有させることが好ましい。このような分子量1000以下の樹脂としては、上記PETAやDPHAが好ましく挙げられる。
第一の樹脂として、分子量が1000以下の樹脂と、それ以外の樹脂、すなわち、分子量が1000より大きい樹脂とを併用する場合、分子量1000以下の樹脂の含有量は、所望の粘度等に応じて適宜調節すれば良いが、分子量1000以下の樹脂の含有量が、第一の樹脂の全質量に対して50〜100質量%であることが好ましい。
From the viewpoint of suppressing the occurrence of interference fringes at the interface between the HC layer and the substrate, it is preferable that the first resin contains a resin having a molecular weight of 1000 or less. As such a resin having a molecular weight of 1000 or less, the above PETA and DPHA are preferably mentioned.
As the first resin, when a resin having a molecular weight of 1000 or less and another resin, that is, a resin having a molecular weight of greater than 1000 are used in combination, the content of the resin having a molecular weight of 1000 or less depends on the desired viscosity or the like. What is necessary is just to adjust suitably, but it is preferable that content of resin with a molecular weight of 1000 or less is 50-100 mass% with respect to the total mass of 1st resin.
また、HC層の硬度の観点から、第一の樹脂の分子量は、5000以下であることが好ましい。 Further, from the viewpoint of the hardness of the HC layer, the molecular weight of the first resin is preferably 5000 or less.
この他、第一の樹脂としては、例えば、特許文献1に記載のバインダーCを用いても良い。当該バインダーCの市販品としては、重量平均分子量が10000未満であり、かつ、2以上の重合性不飽和基を有するウレタンアクリレートの市販品である、共栄社化学(株)製の商品名AH−600、AT−600、UA−306H、UA−306T、UA−306I等、日本合成化学工業(株)製の商品名UV−3000B、UV−3200B、UV−6300B、UV−6330B、UV−7000B等、荒川化学工業(株)製の商品名ビームセット500シリーズ(502H、504H、550B等)、新中村化学工業(株)製の商品名U−6HA、UA−32P、U−324A、東亞合成(株)製の商品名M−9050等を挙げることができる。 In addition, as the first resin, for example, the binder C described in Patent Document 1 may be used. As a commercial product of the binder C, trade name AH-600 manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., which is a commercial product of urethane acrylate having a weight average molecular weight of less than 10,000 and having two or more polymerizable unsaturated groups. , AT-600, UA-306H, UA-306T, UA-306I, etc., trade names UV-3000B, UV-3200B, UV-6300B, UV-6330B, UV-7000B, etc. manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. Trade name beam set 500 series (502H, 504H, 550B, etc.) manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., trade names U-6HA, UA-32P, U-324A manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., Toagosei Co., Ltd. ) Manufactured product name M-9050 and the like.
第一の樹脂の含有量は、適宜調節して用いればよく、第一の組成物の全固形分に対して40〜90質量%が好ましく、より好ましくは、50〜80質量%である。
第一の樹脂は1種単独で用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても良い。また、第一の樹脂は後述する第二の組成物に含まれる第二の樹脂と基本骨格、官能基の種類若しくは官能基数又は分子量が同じであっても良いし、異なっていても良い。
What is necessary is just to adjust suitably and use content of 1st resin, 40-90 mass% is preferable with respect to the total solid of a 1st composition, More preferably, it is 50-80 mass%.
1st resin may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type. Further, the first resin may be the same as or different from the second resin contained in the second composition to be described later, the basic skeleton, the type of functional group, the number of functional groups, or the molecular weight.
(第一の溶剤)
第一の溶剤は第一の組成物において、上記第一の樹脂のような固形分を溶解又は分散して粘度を調節する働きを有する。
第一の溶剤としては、従来公知のハードコート層用組成物に用いられている溶剤から1種又は2種以上を用いることができる。例えば、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン(MIBK)及びトルエン等や、特開2005−316428号公報記載のアルコール類、ケトン類、エステル類、ハロゲン化炭化水素類、芳香族炭化水素類、エーテル類等が挙げられる。第一の溶剤としては、この他、例えば、テトラヒドロフラン、1,4―ジオキサン、ジオキソラン及びジイソプロピルエーテル等のエーテル類及びメチルグリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)、メチルグリコールアセテート等のグリコール類等を用いることができる。
第一の組成物の粘度を調整する(高める)観点から、第一の溶剤は粘度が高いことが好ましく、1mP・s以上が好ましく、2mP・s以上がより好ましい。このような第一の組成物の粘度を高めるための溶剤としては、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)等が好ましい。
また、第一の溶剤の種類及び上記光透過性基材の種類を適宜選択することによって、第一の溶剤は、上記第一の樹脂の一部を上記光透過性基材に浸透させる働きも有する。
本発明において、光透過性基材に対して浸透性のある溶剤(浸透性溶剤)を使用(又は併用)することで第一の樹脂が基材に浸透し干渉縞の発生を抑制し易く、密着性も高めることができる。
なお、本発明において浸透性とは、光透過性基材に対する浸透する性質の他、光透過性基材を膨潤又は湿潤させる概念を含む意味である。
浸透性溶剤の具体例としては、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン及びシクロヘキサノン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル及び酢酸ブチル等のエステル類、ハロゲン化炭化水素並びにフェノール類が挙げられる。
光透過性基材がトリアセチルセルロース(TAC)の場合に使用する溶剤及び光透過性基材がポリエチレンテレフタレート(PET)の場合に使用する溶剤は、特開2005−316428号公報記載の溶剤が挙げられる。
特に、光透過性基材がトリアセチルセルロース(TAC)の場合に使用する溶剤は、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル及びメチルエチルケトンが好ましい。
第一の溶剤は後述する第二の組成物に含まれる第二の溶剤と同じであっても良いし、異なっていても良い。
(First solvent)
The first solvent has a function of adjusting the viscosity by dissolving or dispersing solid components such as the first resin in the first composition.
As a 1st solvent, 1 type (s) or 2 or more types can be used from the solvent currently used for the composition for a conventionally well-known hard-coat layer. For example, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone (MIBK), toluene and the like, alcohols, ketones, esters, halogenated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, ethers described in JP-A-2005-316428 Etc. As the first solvent, for example, ethers such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, dioxolane and diisopropyl ether and glycols such as methyl glycol, propylene glycol monomethyl ether (PGME) and methyl glycol acetate are used. be able to.
From the viewpoint of adjusting (enhancing) the viscosity of the first composition, the first solvent preferably has a high viscosity, preferably 1 mP · s or more, and more preferably 2 mP · s or more. As a solvent for increasing the viscosity of the first composition, for example, propylene glycol monomethyl ether (PGME) is preferable.
In addition, by appropriately selecting the type of the first solvent and the type of the light transmissive substrate, the first solvent also functions to permeate a part of the first resin into the light transmissive substrate. Have.
In the present invention, it is easy to suppress the occurrence of interference fringes when the first resin penetrates the substrate by using (or using in combination) a solvent (permeable solvent) that is permeable to the light transmissive substrate, Adhesion can also be improved.
In the present invention, penetrability means not only the property of penetrating the light transmissive substrate but also the concept of swelling or wetting the light transmissive substrate.
Specific examples of the permeable solvent include ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, esters such as methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate, halogenated hydrocarbons and phenols.
Examples of the solvent used when the light-transmitting substrate is triacetyl cellulose (TAC) and the solvent used when the light-transmitting substrate is polyethylene terephthalate (PET) include the solvents described in JP-A-2005-316428. It is done.
In particular, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate and methyl ethyl ketone are preferable as the solvent used when the light-transmitting substrate is triacetyl cellulose (TAC).
The first solvent may be the same as or different from the second solvent contained in the second composition described below.
第一の組成物において、第一の溶剤の質量に対する第一の樹脂の質量の割合が100〜400質量%であることが、HC層において光透過性基材とは反対側に低屈折率成分を多く分布させる点から好ましい。またこのとき、後述する第二の組成物において、第二の溶剤の質量に対する低屈折率成分及び第二の樹脂の合計質量の割合は100〜400質量%である。 In the first composition, the ratio of the mass of the first resin to the mass of the first solvent is 100 to 400% by mass, and the low refractive index component on the side opposite to the light-transmitting substrate in the HC layer Is preferable from the viewpoint of distributing a large amount of. At this time, in the second composition described later, the ratio of the total mass of the low refractive index component and the second resin to the mass of the second solvent is 100 to 400% by mass.
(第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物のその他の成分)
第一の組成物には、上記成分のほかに、機能性付与を目的として、更に重合開始剤、帯電防止剤、増粘剤及び反応性又は非反応性レベリング剤等が含まれていても良い。
(Other components of the curable resin composition for the first hard coat layer)
In addition to the above components, the first composition may further contain a polymerization initiator, an antistatic agent, a thickener, a reactive or non-reactive leveling agent, etc. for the purpose of imparting functionality. .
(重合開始剤)
必要に応じてラジカル及びカチオン重合開始剤等を適宜選択して用いても良い。これらの重合開始剤は、光照射及び/又は加熱により分解されて、ラジカルもしくはカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。例えば、ラジカル重合開始剤としては、チバ・ジャパン(株)製イルガキュア184(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン)が挙げられる。
エポキシ基を含有する第一の樹脂のように光カチオン重合性の第一の樹脂を用いる場合には、必要に応じて例えば、特開2010−107823号公報記載のカチオン重合開始剤を用いることができる。
重合開始剤を用いる場合、その含有量は、第一の組成物の全固形分に対して1〜10質量%で用いることが好ましい。
(Polymerization initiator)
If necessary, radicals and cationic polymerization initiators may be appropriately selected and used. These polymerization initiators are decomposed by light irradiation and / or heating to generate radicals or cations to advance radical polymerization and cationic polymerization. For example, as a radical polymerization initiator, Irgacure 184 (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) manufactured by Ciba Japan Co., Ltd. may be mentioned.
When using a photocationically polymerizable first resin such as a first resin containing an epoxy group, for example, a cationic polymerization initiator described in JP 2010-107823 A may be used as necessary. it can.
When using a polymerization initiator, the content is preferably 1 to 10% by mass relative to the total solid content of the first composition.
(帯電防止剤)
帯電防止剤としては、従来公知の帯電防止剤を用いることができ、例えば、特開2007−264221号公報に記載の第4級アンモニウム塩等のカチオン性帯電防止剤や、スズドープ酸化インジウム(ITO)等の微粒子を用いることができる。
帯電防止剤を用いる場合、その含有量は、第一の組成物の全固形分に対して30〜60質量%で用いることが好ましい。
(Antistatic agent)
As the antistatic agent, a conventionally known antistatic agent can be used. For example, a cationic antistatic agent such as a quaternary ammonium salt described in JP-A-2007-264221, or tin-doped indium oxide (ITO). Fine particles such as these can be used.
When using an antistatic agent, it is preferable to use the content by 30-60 mass% with respect to the total solid of a 1st composition.
(増粘剤)
第一の組成物には粘度の調整を目的として、増粘剤が含まれていても良い。
増粘剤としては、従来公知の増粘剤を用いることができ、例えば、カゼイン及びカゼインの塩等の蛋白質系、ポリビニルアルコール、脂肪族アマイド、アクリル共重合物、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸ナトリウム等、ポリエーテルジアルキルエステル、ビニルメチルエーテル−無水マレイン酸共重合物の部分エステル並びにアセチレングリコール等の有機系増粘剤が挙げられる。この他、マイクロシリカ、カオリンベントナイト及びタルク等の無機系増粘剤も挙げられる。
上記有機系増粘剤及び無機系増粘剤を1種単独で用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても良い。
増粘剤を用いる場合、その含有量は、第一の組成物の全固形分に対して0.1〜10質量%で用いることが好ましい。
(Thickener)
The first composition may contain a thickener for the purpose of adjusting the viscosity.
As the thickener, conventionally known thickeners can be used, for example, protein systems such as casein and salt of casein, polyvinyl alcohol, aliphatic amide, acrylic copolymer, polyvinylpyrrolidone, sodium polyacrylate, etc. And organic thickeners such as polyether dialkyl ester, partial ester of vinyl methyl ether-maleic anhydride copolymer, and acetylene glycol. In addition, inorganic thickeners such as microsilica, kaolin bentonite and talc are also included.
The above organic thickener and inorganic thickener may be used alone or in combination of two or more.
When using a thickener, it is preferable to use the content by 0.1-10 mass% with respect to the total solid of a 1st composition.
(レベリング剤)
レベリング剤はHC表面に対して、塗布安定性、滑り性、防汚性又は耐擦傷性を付与する働きを有する。
レベリング剤としては、従来公知の反射防止フィルムに用いられているフッ素系、シリコーン系及びアクリル系等のレベリング剤を用いることができる。例えば、DIC(株)製メガファックシリーズ(MCF350−5)等の電離放射線硬化性基を有しないフッ素系のレベリング剤、信越化学工業(株)製のX22−163A等の電離放射線硬化性基を有するシリコーン系のレベリング剤のいずれも使用することができる。
レベリング剤を用いる場合の含有量としては、フッ素系のレベリング剤の場合は、第一の樹脂の質量に対して5.0質量%以下で用い、0.1〜3.0質量%で用いることが好ましく、フッ素系以外のレベリング剤の場合は、第一の樹脂の質量に対して0.5〜10質量%で用いることが好ましい。
また、HC層の硬度の観点から、レベリング剤の含有量は、第一の組成物及び第二の組成物の固形分の合計質量に対して、5.0質量%以下であることが好ましい。
(Leveling agent)
The leveling agent has a function of imparting coating stability, slipperiness, antifouling property or scratch resistance to the HC surface.
As the leveling agent, there can be used fluorine-based, silicone-based, acrylic-based leveling agents and the like used in conventionally known antireflection films. For example, a fluorine-based leveling agent having no ionizing radiation curable group such as Megafic series (MCF350-5) manufactured by DIC Corporation, or an ionizing radiation curable group such as X22-163A manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Any of the silicone leveling agents can be used.
As content when using a leveling agent, in the case of a fluorine-type leveling agent, it is 5.0 mass% or less with respect to the mass of 1st resin, and it is used by 0.1-3.0 mass%. In the case of a leveling agent other than fluorine-based, it is preferably used at 0.5 to 10% by mass with respect to the mass of the first resin.
Further, from the viewpoint of the hardness of the HC layer, the content of the leveling agent is preferably 5.0% by mass or less with respect to the total mass of the solid content of the first composition and the second composition.
第一の組成物は、通常、第一の溶剤に第一の樹脂の他、必要に応じて含まれる重合開始剤等を一般的な調製法に従って、混合し分散処理することにより調製される。混合分散には、ペイントシェーカー又はビーズミル等を用いることができる。 The first composition is usually prepared by mixing and dispersing a first initiator in the first solvent and a polymerization initiator or the like contained as necessary in accordance with a general preparation method. A paint shaker or a bead mill can be used for mixing and dispersing.
(第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物)
本発明に係る光学フィルムの製造方法において用いる第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物は、平均粒径10〜300nmの低屈折率微粒子及び低屈折率樹脂からなる群より選ばれる1種以上の低屈折率成分、反応性を有する第二の樹脂及び第二の溶剤を含み、粘度μ2が5mPa・s以上、かつ粘度の差が30mPa・s以下である。
第二の組成物が低屈折率成分を含み、上記特定の粘度を有し、かつ上記第一の組成物が第二の組成物よりも光透過性基材側に位置するように当該二種の組成物が隣接して同時塗布されることにより、第一の組成物と第二の組成物が硬化してHC層を形成する際に、HC層の膜厚方向において、光透過性基材とは反対側の界面側から光透過性基材側にかけて低屈折率成分が徐々に少なくなっている分布をとり、当該低屈折率成分が低屈折率微粒子である場合は図1に示したように低屈折率微粒子が分布する。
(Second curable resin composition for hard coat layer)
The second curable resin composition for a hard coat layer used in the method for producing an optical film according to the present invention is one or more selected from the group consisting of low refractive index fine particles having an average particle diameter of 10 to 300 nm and a low refractive index resin. And a second resin having reactivity and a second solvent, the viscosity μ2 is 5 mPa · s or more, and the difference in viscosity is 30 mPa · s or less.
The second composition includes a low refractive index component, has the specific viscosity, and the first composition is positioned on the light-transmitting substrate side with respect to the second composition. When the first composition and the second composition are cured to form the HC layer by the simultaneous application of the compositions, the light-transmitting substrate in the film thickness direction of the HC layer When the low refractive index component is gradually reduced from the opposite interface side to the light-transmitting substrate side, and the low refractive index component is a low refractive index fine particle as shown in FIG. Low refractive index fine particles are distributed.
本発明に係る光学フィルムの製造方法において用いる第二の組成物の粘度μ2は、上記第一の組成物との混合を適度に抑制する点から5mPa・s以上であり、10mPa・s以上であることが好ましい。当該粘度μ2は、塗工性を高める観点から、100mPa・s以下が好ましく、50mPa・s以下がより好ましく、30mPa・s以下が特に好ましい。また、第一の組成物の粘度μ1と第二の組成物の粘度μ2は、塗工性の観点から、μ2がμ1よりも大きいことが好ましい。 The viscosity μ2 of the second composition used in the method for producing an optical film according to the present invention is 5 mPa · s or more and 10 mPa · s or more from the viewpoint of moderately suppressing mixing with the first composition. It is preferable. The viscosity μ2 is preferably 100 mPa · s or less, more preferably 50 mPa · s or less, and particularly preferably 30 mPa · s or less, from the viewpoint of improving coatability. In addition, the viscosity μ1 of the first composition and the viscosity μ2 of the second composition are preferably larger than μ1 from the viewpoint of coatability.
(低屈折率微粒子)
本発明に係る第一の光学フィルムの製造方法において用いる低屈折率微粒子は、HC層の光透過性基材とは反対側の界面側に多く存在することによって本発明の光学フィルムに反射防止性を付与する。低屈折率微粒子に加えて、後述する低屈折率樹脂を合わせて用いても良い。
低屈折率微粒子は屈折率が1.20〜1.45のものを指す。
低屈折微粒子としては、従来公知の低屈折率層に用いられている粒子を用いることができ、例えば、特許文献2に記載の中空のシリカ微粒子や、LiF(屈折率1.39)、MgF2(フッ化マグネシウム、屈折率1.38)、AlF3(屈折率1.38)、Na3AlF6(氷晶石、屈折率1.33)及びNaMgF3(屈折率1.36)等の金属フッ化物微粒子が挙げられる。
また、低屈折率微粒子はその表面を第二の樹脂や上記第一の樹脂と架橋反応可能なように重合性不飽和基や熱硬化性基を有する有機成分で被覆されていても良い。被覆の方法としては、特開2008−165040号公報記載の反応性無機微粒子の調製方法を用いることができる。
低屈折率微粒子の平均粒径は、HC層のヘイズ上昇を防ぐ点から、300nm以下である。低屈折率微粒子が中空シリカ微粒子の場合、空隙を必要とすることから平均粒径は屈折率低下の効果を発現させる観点から10nm以上である。
低屈折率微粒子の平均粒径は好ましくは、10〜100nm、さらに好ましくは30〜100nmである。
低屈折率微粒子の含有量は、適宜調節して用いればよく、第二の組成物に含まれる第二の樹脂との合計質量に対して50〜90質量%が好ましく、より好ましくは、65〜90質量%である。
(Low refractive index fine particles)
The low refractive index fine particles used in the method for producing the first optical film according to the present invention are present on the interface side opposite to the light-transmitting substrate of the HC layer, so that the optical film of the present invention has antireflection properties. Is granted. In addition to the low refractive index fine particles, a low refractive index resin, which will be described later, may be used together.
Low refractive index fine particles have a refractive index of 1.20 to 1.45.
As the low-refractive fine particles, particles conventionally used in a low-refractive index layer can be used. For example, hollow silica fine particles described in Patent Document 2, LiF (refractive index 1.39), MgF 2 Metals such as (magnesium fluoride, refractive index 1.38), AlF 3 (refractive index 1.38), Na 3 AlF 6 (cryolite, refractive index 1.33) and NaMgF 3 (refractive index 1.36) Examples include fluoride fine particles.
Moreover, the surface of the low refractive index fine particles may be coated with an organic component having a polymerizable unsaturated group or a thermosetting group so that the surface thereof can be cross-linked with the second resin or the first resin. As a coating method, a method for preparing reactive inorganic fine particles described in JP-A-2008-165040 can be used.
The average particle diameter of the low refractive index fine particles is 300 nm or less from the viewpoint of preventing the haze increase of the HC layer. In the case where the low refractive index fine particles are hollow silica fine particles, the average particle diameter is 10 nm or more from the viewpoint of expressing the effect of lowering the refractive index because voids are required.
The average particle diameter of the low refractive index fine particles is preferably 10 to 100 nm, more preferably 30 to 100 nm.
The content of the low refractive index fine particles may be appropriately adjusted and used, and is preferably 50 to 90% by mass, more preferably 65 to 90% by mass with respect to the total mass with the second resin contained in the second composition. 90% by mass.
(低屈折率樹脂)
低屈折率樹脂は、塗膜の製膜後の屈折率が1.30〜1.45の樹脂を指す。低屈折率樹脂に加えて、上記低屈折率微粒子を合わせて用いても良い。
また、低屈折率樹脂は、塗膜の製膜後にHC層のマトリクスの一部となり得る成分であるため、後述する第二の樹脂を兼ねて低屈折率樹脂を用いても良い。
低屈折率樹脂としては、従来公知の光硬化性基又は熱硬化性基等の反応性基を有する含フッ素樹脂、反応性基を有しない含フッ素樹脂等を用いることができる。
(Low refractive index resin)
The low refractive index resin refers to a resin having a refractive index of 1.30 to 1.45 after the coating film is formed. In addition to the low refractive index resin, the low refractive index fine particles may be used together.
Further, since the low refractive index resin is a component that can become a part of the matrix of the HC layer after the coating film is formed, the low refractive index resin may be used also as the second resin described later.
As the low refractive index resin, a conventionally known fluorine-containing resin having a reactive group such as a photocurable group or a thermosetting group, a fluorine-containing resin having no reactive group, or the like can be used.
光硬化性基を有する含フッ素樹脂としては、例えば、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロブタジエン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等のフルオロオレフィン類が挙げられる。
この他、光硬化性基を有する含フッ素樹脂として、2,2,2‐トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,3‐ペンタフルオロプロピル(メタ)アクリレート2−(パーフルオロブチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロオクチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロデシル)エチル(メタ)アクリレート、α−トリフルオロメタクリル酸メチル、α−トリフルオロメタクリル酸エチル等の(メタ)アクリレート化合物、1分子中に、フッ素原子を少なくとも3個持つ炭素数1〜14のフルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも2個の(メタ)アクリロイルオキシ基とを有する含フッ素多官能(メタ)アクリル酸エステル化合物等が挙げられる。
Examples of the fluorine-containing resin having a photocurable group include fluoroolefins such as vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluorobutadiene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole. Can be mentioned.
Other fluorine-containing resins having a photocurable group include 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl (meth) acrylate 2- (perfluoro Butyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorooctyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorodecyl) ethyl (meth) acrylate, α-tri (Meth) acrylate compounds such as methyl fluoromethacrylate and ethyl α-trifluoromethacrylate, a C1-C14 fluoroalkyl group, fluorocycloalkyl group or fluoroalkylene group having at least three fluorine atoms in one molecule And having at least two (meth) acryloyloxy groups. Fluorine polyfunctional (meth) acrylic acid ester compounds and the like.
熱硬化性基を有する含フッ素樹脂として、例えば、4−フルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、フルオロエチレン−炭化水素系ビニルエーテル共重合体並びにエポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、フェノール樹脂及びポリイミド樹脂等のフッ素変性品等を用いることができる。 Examples of the fluorine-containing resin having a thermosetting group include 4-fluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer, fluoroethylene-hydrocarbon vinyl ether copolymer, epoxy resin, polyurethane resin, cellulose resin, phenol resin, and polyimide. Fluorine modified products such as resins can be used.
この他、特開2010−122603号公報に記載のフッ素原子を含有する重合性化合物の重合体、共重合体及びシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体を用いても良い。 In addition, a polymer, a copolymer, and a silicone-containing vinylidene fluoride copolymer containing a fluorine atom-containing polymerizable compound described in JP 2010-122603 A may be used.
低屈折率樹脂の分子量は、特に制限されず、適宜選択することができるが、500〜5000が第二の組成物の粘度を調節する観点から好ましい。
第二の組成物に含まれる低屈折率樹脂の含有量は、適宜調節すれば良いが、低屈折率樹脂が後述する第二の樹脂を兼ねる場合は、第二の組成物の全固形分に対して、70〜100質量%であることが好ましい。
The molecular weight of the low refractive index resin is not particularly limited and can be appropriately selected, but 500 to 5000 is preferable from the viewpoint of adjusting the viscosity of the second composition.
The content of the low refractive index resin contained in the second composition may be adjusted as appropriate, but when the low refractive index resin also serves as the second resin described later, the total solid content of the second composition On the other hand, it is preferable that it is 70-100 mass%.
(第二の樹脂)
第二の樹脂は反応性を有し、硬化してHC層のマトリクスとなる成分である。第二の樹脂は光照射や加熱により第二の樹脂同士及び上記第一の樹脂との重合ないし架橋反応性を有する。
(Second resin)
The second resin is reactive and is a component that cures and becomes a matrix of the HC layer. The second resin has polymerization or crosslinking reactivity with the second resins and the first resin by light irradiation or heating.
第二の樹脂は、紫外線等の光照射により硬化する光硬化性樹脂であっても良いし、加熱により硬化する熱硬化性樹脂であっても良い。第二の樹脂が光硬化性樹脂の場合、第二の樹脂は、重合性不飽和基を有することが好ましく、電離放射線硬化性不飽和基を有することがより好ましい。その具体例としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合及びエポキシ基等が挙げられる。
第二の樹脂が熱硬化性樹脂の場合、第二の樹脂が有する熱硬化性基としては、例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、グリシジル基、イソシアネート基及びアルコキシル基等が挙げられる。
第二の樹脂は、架橋反応によりHC層の硬度を高める点から、硬化性基を1分子中に2個以上有することが好ましく、3個以上有することがより好ましい。
第二の樹脂としては、上記第一の樹脂で挙げたものを用いることができる。
The second resin may be a photocurable resin that is cured by irradiation with light such as ultraviolet rays, or may be a thermosetting resin that is cured by heating. When the second resin is a photocurable resin, the second resin preferably has a polymerizable unsaturated group, and more preferably has an ionizing radiation curable unsaturated group. Specific examples thereof include ethylenically unsaturated bonds such as (meth) acryloyl group, vinyl group and allyl group, and epoxy group.
When the second resin is a thermosetting resin, examples of the thermosetting group of the second resin include a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, an epoxy group, a glycidyl group, an isocyanate group, and an alkoxyl group. .
The second resin preferably has two or more curable groups in one molecule, more preferably three or more, from the viewpoint of increasing the hardness of the HC layer by a crosslinking reaction.
As the second resin, those mentioned in the first resin can be used.
第二の樹脂の含有量は、適宜調節して用いればよく、第二の組成物の全固形分に対して60質量%以下が好ましい。また、第二の樹脂が低屈折率樹脂を兼ねる場合は、第二の組成物の全固形分に対して100質量%以下でも良い。
第二の樹脂は1種単独で用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても良い。
The content of the second resin may be appropriately adjusted and used, and is preferably 60% by mass or less with respect to the total solid content of the second composition. When the second resin also serves as a low refractive index resin, it may be 100% by mass or less based on the total solid content of the second composition.
A 2nd resin may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
(第二の溶剤)
第二の溶剤は第二の組成物において、上記低屈折率微粒子や第二の樹脂のような固形分を溶解又は分散して粘度を調節する働きを有する。第二の溶剤としては、上記第一の溶剤で挙げたものを用いることができる。
(Second solvent)
In the second composition, the second solvent functions to adjust the viscosity by dissolving or dispersing solids such as the low refractive index fine particles and the second resin. As the second solvent, those mentioned in the first solvent can be used.
(第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物のその他の成分)
第二の組成物には、上記成分のほかに、機能性付与を目的として、第一の組成物と同様に更に重合開始剤、帯電防止剤、増粘剤、防汚剤及び反応性又は非反応性レベリング剤等が含まれていても良い。
(Other components of the curable resin composition for the second hard coat layer)
In addition to the above components, the second composition further includes a polymerization initiator, an antistatic agent, a thickener, an antifouling agent, and a reactive or non-reactive material in the same manner as the first composition for the purpose of imparting functionality. A reactive leveling agent or the like may be contained.
(重合開始剤)
重合開始剤は上記第一の組成物で挙げたものを用いることができる。
重合開始剤を用いる場合、その含有量は、第二の組成物の全固形分に対して1〜5質量%で用いることが好ましい。
(Polymerization initiator)
As the polymerization initiator, those mentioned in the first composition can be used.
When using a polymerization initiator, it is preferable to use the content by 1-5 mass% with respect to the total solid of a 2nd composition.
(帯電防止剤)
帯電防止剤は上記第一の組成物で挙げたものを用いることができる。
帯電防止剤を用いる場合、その含有量は、第二の組成物の全固形分に対して30〜60質量%で用いることが好ましい。
(Antistatic agent)
As the antistatic agent, those mentioned in the first composition can be used.
When using an antistatic agent, it is preferable that the content is 30-60 mass% with respect to the total solid of a 2nd composition.
(増粘剤)
増粘剤は上記第一の組成物で挙げたものを用いることができる。
増粘剤の含有量としては、第二の組成物の全固形分に対して0.1〜10質量%で用いることが好ましい。
(Thickener)
As the thickener, those mentioned in the first composition can be used.
As content of a thickener, it is preferable to use at 0.1-10 mass% with respect to the total solid of a 2nd composition.
(防汚剤)
防汚剤は、光学フィルムの最表面の汚れを防止し、さらにHC層に耐擦傷性を付与することもできる。防汚剤は第一の組成物及び第二の組成物の両方に含まれていても良い。少ない含有量で防汚性を効率的に発現させる観点から、防汚剤は第二の組成物にのみ含まれていることが好ましい。
防汚剤としては、従来公知のフッ素系化合物又はケイ素系化合物等の防汚剤(防汚染剤)を用いて良い。
防汚剤としては、例えば、特開2007−264279号公報に記載の防汚染剤が挙げられる。
市販品の防汚剤を用いることも好ましい。このような市販品の防汚剤(非反応性)としては、DIC(株)製のメガファックシリーズ、例えば、商品名MCF350−5、F445、F455、F178、F470、F475、F479、F477、TF1025、F478及びF178K等、東芝シリコーン(株)製のTSFシリーズ等、信越化学工業(株)製のX−22シリーズ及びKFシリーズ等並びにチッソ(株)製のサイラプレーンシリーズ等が挙げられる。
市販品の防汚剤(反応性)としては、新中村化学工業(株)製の商品名SUA1900L10及び商品名SUA1900L6、ダイセルユーシービー(株)製の商品名Ebecryl350、商品名Ebecryl1360及び商品名KRM7039、日本合成化学工業(株)製のUT3971、DIC(株)製の商品名ディフェンサTF3001、商品名ディフェンサTF3000及び商品名ディフェンサTF3028、共栄社化学(株)製の商品名ライトプロコートAFC3000、信越化学工業(株)製の商品名KNS5300、GE東芝シリコーン(株)製の商品名UVHC1105及びUVHC8550並びに
日本ペイント(株)製の商品名ACS−1122等が挙げられる。
(Anti-fouling agent)
The antifouling agent prevents the outermost surface of the optical film from being stained, and can also impart scratch resistance to the HC layer. An antifouling agent may be included in both the first composition and the second composition. From the viewpoint of efficiently expressing the antifouling property with a small content, the antifouling agent is preferably contained only in the second composition.
As the antifouling agent, a conventionally known antifouling agent (antifouling agent) such as a fluorine compound or a silicon compound may be used.
Examples of the antifouling agent include antifouling agents described in JP-A-2007-264279.
It is also preferable to use a commercially available antifouling agent. Examples of such commercially available antifouling agents (non-reactive) include Megafac series manufactured by DIC Corporation, such as trade names MCF350-5, F445, F455, F178, F470, F475, F479, F477, and TF1025. , F478 and F178K, TSF series manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd., X-22 series and KF series manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., and Silaplane series manufactured by Chisso Corporation.
As a commercially available antifouling agent (reactivity), trade name SUA1900L10 and trade name SUA1900L6 manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. UT3971 manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., Def Co., Ltd., Def Co., Ltd., Def Co., Ltd., Def Co., Ltd., Def Co., Ltd. Trade name KNS5300 manufactured by GE Toshiba Silicone Co., Ltd., trade names UVHC1105 and UVHC8550 manufactured by GE Toshiba Silicone, and trade name ACS-1122 manufactured by Nippon Paint Co., Ltd.
(レベリング剤)
レベリング剤は上記第一の組成物で挙げたものを用いることができる。
レベリング剤は、第一の組成物と第二の組成物のいずれに含まれていても良いが、効率良くレベリング剤の機能を発現する観点から第二の組成物のみに含まれていることが好ましい。
レベリング剤を用いる場合の含有量としては、フッ素系のレベリング剤の場合は、第二の樹脂の質量に対して5.0質量%以下で用い、0.1〜3.0質量%で用いることが好ましく、フッ素系以外のレベリング剤の場合は、第二の樹脂の質量に対して0.5〜10質量%で用いることが好ましい。
(Leveling agent)
As the leveling agent, those mentioned in the first composition can be used.
The leveling agent may be contained in either the first composition or the second composition, but from the viewpoint of efficiently expressing the function of the leveling agent, it may be contained only in the second composition. preferable.
As content when using a leveling agent, in the case of a fluorine-type leveling agent, it is 5.0 mass% or less with respect to the mass of 2nd resin, and should be used by 0.1-3.0 mass%. In the case of a leveling agent other than fluorine-based, it is preferably used at 0.5 to 10% by mass with respect to the mass of the second resin.
第二の組成物の調製方法は、上記第一の組成物で挙げた方法を用いることができる。 As a method for preparing the second composition, the method described in the first composition can be used.
(その他の機能層用組成物)
本発明に係る光学フィルムの製造方法においては、上記(iii)同時塗布する工程において光透過性基材の一面側に、少なくとも上記第一及び第二の組成物を同時塗布すればよく、光学フィルムの要求される性能に応じて、適宜その他の機能層を設けるためにその他の機能層用組成物を準備しても良い。
その他の機能層としては、例えば、帯電防止層及び防汚層が挙げられる。
なお、後述するようにその他の機能層用組成物は、光透過性基材側から第一及び第二の組成物が位置するように隣接して塗布さえすれば、その機能に応じて適宜塗布位置を設定することができる。
(Other functional layer compositions)
In the method for producing an optical film according to the present invention, at least the first and second compositions may be simultaneously coated on one side of the light-transmitting substrate in the step (iii) of simultaneous coating. Depending on the required performance, other functional layer compositions may be prepared to provide other functional layers as appropriate.
Examples of other functional layers include an antistatic layer and an antifouling layer.
As will be described later, other functional layer compositions can be appropriately applied according to their functions as long as they are applied adjacently so that the first and second compositions are located from the light-transmitting substrate side. The position can be set.
本発明に係る光学フィルムの製造方法の(iii)第一の組成物と第二の組成物を同時塗布する工程において、上記第一及び第二の組成物を同時塗布する方法は、同時塗布できるものであれば特に制限されず、従来公知の方法を用いることができ、例えば、図3に示したようなエクストルージョン型のダイコーターを用いた方法が挙げられる。 (Iii) In the step of simultaneously applying the first composition and the second composition in the method for producing an optical film according to the present invention, the method of simultaneously applying the first and second compositions can be applied simultaneously. Any known method can be used as long as it is a conventional one. For example, a method using an extrusion type die coater as shown in FIG. 3 can be used.
光学フィルムの製造方法の(iii)第一の組成物と第二の組成物を同時塗布する工程においては、第一の組成物の塗膜のウェット膜厚をT1、第二の組成物の塗膜のウェット膜厚をT2としたとき、T2/T1を0.01〜1とすることが、HC層の膜厚方向において低屈折率成分がHC層の光透過性基材とは反対側の界面側に光透過性基材側よりも多く存在し、かつ、光透過性基材側ほど低屈折率成分の存在量が少なくなるように分布し、光透過性基材とは反対側の界面から光透過性基材側にかけて当該低屈折率成分が徐々に少なくなっており、かつ、ハードコート層の膜厚方向において前記光透過性基材とは反対側の界面から前記ハードコート層の乾燥膜厚の70%までの領域に、前記低屈折率成分の全量の70〜100%が存在する分布とすることが可能であり、効率良く光学フィルムの反射防止性を高められる観点から好ましい。ここでウェット膜厚とは、塗布直後の組成物中の溶剤が揮発する前の状態の塗膜の厚さであり、(光透過性基材上に塗布された組成物の体積/塗布面積)から求められる。 In the step (iii) of simultaneously applying the first composition and the second composition in the optical film production method, the wet film thickness of the coating film of the first composition is T1, and the coating of the second composition When the wet film thickness of the film is T2, T2 / T1 is set to 0.01 to 1 so that the low refractive index component is opposite to the light-transmitting substrate of the HC layer in the film thickness direction of the HC layer. There is more on the interface side than the light transmissive substrate side, and the light transmissive substrate side is distributed so that the abundance of the low refractive index component decreases, and the interface on the side opposite to the light transmissive substrate side The low refractive index component gradually decreases from the light-transmitting base material side, and the hard coat layer is dried from the interface opposite to the light-transmitting base material in the film thickness direction of the hard coat layer. 70 to 100% of the total amount of the low refractive index component exists in a region up to 70% of the film thickness. It is possible to fabric, from the viewpoint for effectively enhancing the antireflection property of the optical film. Here, the wet film thickness is the thickness of the coating film in a state before the solvent in the composition immediately after application is volatilized, and (volume of the composition applied on the light-transmitting substrate / application area). It is requested from.
また、第一及び第二の組成物の塗布を図3に示したようなダイコーターヘッドを用いて行う場合、ダイコーターヘッド40と光透過性樹脂基材10の距離であるコーターギャップ80と光透過性樹脂基材10上に同時多層塗布した際の第一及び第二の組成物の塗膜の合計の厚さ90が、コーターギャップ80<(厚さ90の2倍)の関係にあることが好ましい。このような関係を保ちながら同時多層塗布することで、光透過性樹脂基材10とダイコーターヘッド40の間に形成される塗布ビードが安定化する。特にこの塗布ビードは塗布により形成する層が薄膜化するほど不安定になりやすく、塗布面にむらやすじを生じさせ、外観を悪化させる原因となるが、上記コーターギャップ80と厚さ90の関係を保つことで、塗布ビードを安定化させ易くなる。なお、塗布ビードとは、塗布装置と基材との間に生成する液だまりを意味する。 When the first and second compositions are applied using a die coater head as shown in FIG. 3, the coater gap 80, which is the distance between the die coater head 40 and the light-transmitting resin substrate 10, and light. The total thickness 90 of the coating films of the first and second compositions upon simultaneous multi-layer coating on the transparent resin substrate 10 has a relationship of coater gap 80 <(twice the thickness 90). Is preferred. By simultaneously applying multiple layers while maintaining such a relationship, a coating bead formed between the light-transmitting resin substrate 10 and the die coater head 40 is stabilized. In particular, this coating bead tends to become unstable as the layer formed by coating becomes thinner, causing unevenness on the coated surface and deteriorating the appearance, but the relationship between the coater gap 80 and the thickness 90 described above. By keeping the above, it becomes easy to stabilize the coating bead. In addition, a coating bead means the liquid pool produced | generated between a coating device and a base material.
上記その他の機能層用組成物は、第一及び第二の組成物と合わせて同時塗布されても良いし、第一及び第二の組成物とは別に塗布しても良い。同時塗布する場合は、光透過性基材側から第一及び第二の組成物が位置するように隣接して塗布さえすれば、その機能に応じて適宜塗布位置を設定することができる。例えば、帯電防止層用組成物を第一及び第二の組成物と合わせて同時塗布する場合は、図3のダイヘッドのスリット51よりも光透過性基材の搬送方向140の上流側、すなわち図3においてはスリット51の左側に第三のスリット(図示せず)を設けて帯電防止層用組成物、第一及び第二の組成物を同時塗布すればよい。また、例えば、帯電防止層用組成物、第一及び第二の組成物並びに防汚層用組成物を同時塗布する場合は、図3においてスリット51の左側に帯電防止層用組成物を塗布するための第三のスリット(図示せず)を、スリット52の右側に防汚層用組成物を塗布するための第四のスリット(図示せず)を設けて、当該四種の組成物を同時塗布すれば良い。 The other functional layer composition may be applied simultaneously with the first and second compositions, or may be applied separately from the first and second compositions. In the case of simultaneous application, the application position can be appropriately set according to the function as long as application is performed adjacently so that the first and second compositions are located from the light transmissive substrate side. For example, when the antistatic layer composition is applied simultaneously with the first and second compositions, the upstream side in the transport direction 140 of the light-transmitting substrate from the slit 51 of the die head in FIG. 3, a third slit (not shown) may be provided on the left side of the slit 51 to apply the antistatic layer composition and the first and second compositions simultaneously. For example, when the antistatic layer composition, the first and second compositions, and the antifouling layer composition are applied simultaneously, the antistatic layer composition is applied to the left side of the slit 51 in FIG. And a fourth slit (not shown) for applying the antifouling layer composition on the right side of the slit 52, and the four kinds of compositions are simultaneously used. What is necessary is just to apply.
(iv)工程の乾燥方法としては、例えば、減圧乾燥又は加熱乾燥、更にはこれらの乾燥を組み合わせる方法等が挙げられる。また、常圧で乾燥させる場合は、30〜110℃で乾燥させることが好ましい。
本発明では、(iv)工程の前、すなわち、塗膜の乾燥の前にプレキュアを行わない。
例えば、第一又は第二の溶剤としてメチルイソブチルケトンを用いる場合は、通常室温〜80℃、好ましくは40℃〜70℃の範囲内の温度で、20秒〜3分、好ましくは30秒〜1分程度の時間で乾燥が行われる。
なお、本発明において、(iv)工程の乾燥とは、当該乾燥を行っても層の硬化が製品として十分ではない程度(例えば、JIS K5600−5−4(1999)に規定する鉛筆硬度試験(4.9N荷重)で、硬度「H」未満。)に処理することを意味するのに対し、第一の樹脂や第二の樹脂が熱硬化性樹脂を含む場合に乾燥後に行う加熱は、当該加熱を行うことにより層の硬化が製品として十分になる程度(上記鉛筆硬度試験で、硬度「H」以上)の温度で処理することを意味する。
Examples of the drying method in the step (iv) include a vacuum drying method or a heat drying method, and a method in which these drying methods are combined. Moreover, when drying at normal pressure, it is preferable to dry at 30-110 degreeC.
In the present invention, precure is not performed before the step (iv), that is, before the coating film is dried.
For example, when methyl isobutyl ketone is used as the first or second solvent, it is usually room temperature to 80 ° C., preferably 40 ° C. to 70 ° C., and 20 seconds to 3 minutes, preferably 30 seconds to 1 Drying takes about a minute.
In the present invention, the drying in the step (iv) means that the layer is not sufficiently cured as a product even if the drying is performed (for example, a pencil hardness test (specified in JIS K5600-5-4 (1999) ( 4.9 N load) and a hardness of less than “H”), the heating performed after drying when the first resin or the second resin contains a thermosetting resin It means that the treatment is performed at a temperature at which the layer is sufficiently cured by heating (hardness “H” or higher in the pencil hardness test).
(iv)工程の光照射方法としては、主に、紫外線、可視光、電子線又は電離放射線等が使用される。紫外線硬化の場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク又はメタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等を使用する。エネルギー線源の照射量は、紫外線波長365nmでの積算露光量として、50〜300mJ/cm2である。 As the light irradiation method in the step (iv), ultraviolet rays, visible light, electron beams, ionizing radiation, or the like is mainly used. In the case of ultraviolet curing, ultraviolet rays or the like emitted from light such as an ultra-high pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc, or a metal halide lamp are used. The irradiation amount of the energy ray source is 50 to 300 mJ / cm 2 as an integrated exposure amount at an ultraviolet wavelength of 365 nm.
本発明においてはプレキュアは行わず、塗膜を硬化(本硬化)させる光照射や加熱は塗膜の乾燥後に行う。これにより、第二の組成物に含まれる低屈折率成分がHC層の膜厚方向において、HC層の光透過性基材とは反対側の界面側に光透過性基材側よりも多く存在し、かつ、光透過性基材側ほど低屈折率成分の存在量が少なくなるように分布し、光透過性基材とは反対側の界面から光透過性基材側にかけて当該低屈折率成分が徐々に少なくなっており、HC層内において低屈折率成分とHC層の樹脂との屈折率差による干渉縞の発生と、HC層と基材との界面における干渉縞の発生を抑制し、また、視認性に優れた光学フィルムが得られる。
また、プレキュアを行わずに塗膜を乾燥させ、次いで光照射や加熱を行い塗膜を硬化させるため、プレキュアを行って硬化させる場合に比べて、HC層と光透過性基材やHC層の光透過性基材側に接する層との密着性を高められる。
また、プレキュアを行う必要がないため、プレキュアと本硬化の2度、光照射を行って硬化させる場合に比べて、生産性にも優れる。
In the present invention, pre-curing is not performed, and light irradiation and heating for curing (main curing) the coating film are performed after the coating film is dried. As a result, the low refractive index component contained in the second composition is present more in the thickness direction of the HC layer on the interface side of the HC layer opposite to the light transmissive substrate than on the light transmissive substrate side. In addition, the low refractive index component is distributed so that the abundance of the low refractive index component decreases toward the light transmissive substrate side, from the interface opposite to the light transmissive substrate to the light transmissive substrate side. Is gradually reduced, suppressing the generation of interference fringes due to the refractive index difference between the low refractive index component and the resin of the HC layer in the HC layer, and the generation of interference fringes at the interface between the HC layer and the substrate, Moreover, the optical film excellent in visibility is obtained.
In addition, the coating film is dried without pre-curing, and then the film is cured by light irradiation or heating. Therefore, compared with the case of curing by pre-curing, the HC layer and the light-transmitting substrate or HC layer Adhesion with the layer in contact with the light transmissive substrate side can be enhanced.
Moreover, since it is not necessary to perform pre-cure, it is excellent in productivity compared with the case where it cures by irradiating light twice with pre-cure and main curing.
(光学フィルム)
本発明に係る光学フィルムは上記製造方法により得られるものであり、図1に示したように、光透過性基材10の一面側に少なくともHC層20が設けられている。
本発明の光学フィルムは、上記製造方法により製造することで、第二の組成物に含まれる低屈折率微粒子及び/又は低屈折率樹脂がHC層の膜厚方向において、HC層の光透過性基材とは反対側の界面側に光透過性基材側よりも多く存在し、かつ、光透過性基材側ほどその存在量が少なくなるように分布し、HC層内においてその低屈折率微粒子及び/又は低屈折率樹脂とHC層の樹脂との屈折率差による干渉縞の発生と、HC層と基材との界面における干渉縞の発生を抑制し、また、視認性に優れる光学フィルムが得られる。
また、プレキュアを行わずに塗膜を乾燥させて、次いで光照射や加熱により硬化させているため、プレキュアを行い、次いで、乾燥、光照射や加熱を行い硬化させる場合に比べて、従来の低屈折率層とHC層を逐次重層塗布により形成した場合や特許文献2のような同時塗布により形成した場合のような明確な層界面を示さず、また、反射防止機能を有し、ヘイズ、全光線透過率及びスジのない面状を維持しつつ、層間の干渉縞の発生を抑制し、密着性を良化し、基材付近では、基材の屈折率と同程度の屈折率のハードコート組成物の割合を多くすることでハードコート層と基材との間における干渉縞の発生を抑制し、また、密着性に優れる。
(Optical film)
The optical film according to the present invention is obtained by the above manufacturing method, and as shown in FIG. 1, at least an HC layer 20 is provided on one surface side of the light transmissive substrate 10.
The optical film of the present invention is produced by the production method described above, so that the low refractive index fine particles and / or the low refractive index resin contained in the second composition is in the film thickness direction of the HC layer and the light transmittance of the HC layer. There is more on the interface side opposite to the base material than the light-transmitting base material side, and the light-transmitting base material side is distributed so that its abundance decreases, and its low refractive index in the HC layer An optical film that suppresses the generation of interference fringes due to the difference in refractive index between the fine particles and / or the low refractive index resin and the resin of the HC layer, and the generation of interference fringes at the interface between the HC layer and the substrate, and is excellent in visibility. Is obtained.
In addition, since the coating film is dried without pre-curing and then cured by light irradiation or heating, compared with the conventional case of performing pre-curing and then drying, light irradiation or heating to cure. When the refractive index layer and the HC layer are formed by sequential multilayer coating or when the refractive index layer and the HC layer are formed by simultaneous coating as in Patent Document 2, the layer interface does not show a clear layer, and has an antireflection function. Hard coat composition with a refractive index comparable to the refractive index of the base material in the vicinity of the base material while suppressing the generation of interference fringes between layers while maintaining the light transmittance and the surface shape without streaks. By increasing the proportion of the object, the generation of interference fringes between the hard coat layer and the substrate is suppressed, and the adhesiveness is excellent.
本発明の光学フィルムは、上記製造方法で述べたようにその他の機能層用組成物塗布して、その他の機能層を形成しても良く、例えば、第一の組成物の光透過性基材側に帯電防止層用組成物を塗布して帯電防止層を形成した場合は、図4に示すような、光透過性基材10側から帯電防止層140及びHC層20という層構成となる。
また、図5に示すように、HC層の光透過性基材とは反対側の面に防汚層150を設けても良い。
The optical film of the present invention may be coated with another functional layer composition as described in the above production method to form another functional layer. For example, the light-transmitting substrate of the first composition When an antistatic layer is formed by coating the antistatic layer composition on the side, the antistatic layer 140 and the HC layer 20 are configured from the light transmissive substrate 10 side as shown in FIG.
Moreover, as shown in FIG. 5, you may provide the antifouling layer 150 in the surface on the opposite side to the light transmissive base material of HC layer.
HC層の乾燥膜厚(以下、単に「膜厚」ともいう。)は要求される性能に応じて適宜調節することができ、例えば、膜厚1〜20μmであることが好ましい。 The dry film thickness (hereinafter also simply referred to as “film thickness”) of the HC layer can be appropriately adjusted according to the required performance. For example, the film thickness is preferably 1 to 20 μm.
その他の機能層の膜厚は適宜調節すれば良く、例えば、帯電防止層の膜厚は0.05〜5μmが好ましく、防汚層の膜厚は0.01〜10nmが好ましい。 The thickness of the other functional layer may be adjusted as appropriate. For example, the thickness of the antistatic layer is preferably 0.05 to 5 μm, and the thickness of the antifouling layer is preferably 0.01 to 10 nm.
本発明の光学フィルムは要求される性能に応じて適宜、上記第二の組成物の低屈折率微粒子や低屈折率樹脂の種類や含有量を調節することによりその反射率を調節できるが、入射光に対して反射率が、1〜3.75であることが好ましく、1〜3.4であることがより好ましい。
反射率は、日本分光(株)製の商品名V7100型紫外可視分光光度計及び日本分光(株)製の商品名VAR−7010絶対反射率測定装置を用いて、入射角を5°、偏光子をN偏光、測定波長範囲を380〜780nmとして、光学フィルムのTAC基材側に黒テープを貼合し、それを装置に設置して測定する。なお、測定波長範囲にて求められた測定結果の平均値を反射率とする。
The optical film of the present invention can adjust its reflectance by adjusting the type and content of the low refractive index fine particles and low refractive index resin of the second composition as appropriate according to the required performance. The reflectance with respect to light is preferably 1 to 3.75, and more preferably 1 to 3.4.
The reflectivity is 5 ° with an incident angle of 5 °, a polarizer using a trade name V7100 type UV-visible spectrophotometer manufactured by JASCO Corporation and a trade name VAR-7010 absolute reflectometer manufactured by JASCO Corporation. Is N-polarized light, the measurement wavelength range is 380 to 780 nm, a black tape is pasted on the TAC substrate side of the optical film, and it is installed in an apparatus and measured. In addition, let the average value of the measurement result calculated | required in the measurement wavelength range be a reflectance.
本発明の光学フィルムのヘイズは要求される性能に応じて適宜調節することができるが、0.1〜1.0%であることが好ましく、0.1〜0.4%であることがより好ましい。
ヘイズ値は、JIS K7136に従って反射・透過率計HM−150((株)村上色彩技術研究所製)により測定することができる。
The haze of the optical film of the present invention can be appropriately adjusted according to the required performance, but is preferably 0.1 to 1.0%, more preferably 0.1 to 0.4%. preferable.
The haze value can be measured by a reflection / transmittance meter HM-150 (manufactured by Murakami Color Research Laboratory Co., Ltd.) according to JIS K7136.
本発明に係る光学フィルムの好適な実施態様では、光透過性基材の一面側にハードコート層が設けられた光学フィルムであって、前記ハードコート層の膜厚方向において、低屈折率微粒子が前記光透過性基材とは反対側の界面側に当該光透過性基材側よりも多く存在し、かつ、当該光透過性基材側ほど当該低屈折率微粒子の存在量が少なく、当該光透過性基材とは反対側の界面から光透過性基材側にかけて当該低屈折率成分が徐々に少なくなっており、当該ハードコート層内に層界面がなく、当該ハードコート層の前記光透過性基材に対する碁盤目密着性試験の密着率を90〜100%とすることも可能である。
図1に示したように、HC層内においてこのような低屈折率微粒子の分布をとることにより、反射防止機能を有し、ヘイズ、全光線透過率及びスジのない面状を維持しつつ、層間の干渉縞の発生を抑制し、密着性を良化し、基材付近では、基材の屈折率と同程度の屈折率のハードコート組成物の割合を多くすることでハードコート層と基材との間における干渉縞の発生を抑制し、密着性に優れた光学フィルムが得られる。
ハードコート層内の層界面とは、図2に示したように層内において組成物の硬化部分に界面(境界)が生じることを意味する。層界面の具体例としては、後述する図9に示す2種の組成物の硬化部分の境界が挙げられる。
In a preferred embodiment of the optical film according to the present invention, the optical film is provided with a hard coat layer on one side of the light-transmitting substrate, and the low refractive index fine particles are formed in the film thickness direction of the hard coat layer. There is more on the interface side opposite to the light-transmitting substrate than on the light-transmitting substrate side, and the light-transmitting substrate side has less low refractive index fine particles, and the light The low refractive index component gradually decreases from the interface opposite to the transmissive substrate to the light transmissive substrate side, there is no layer interface in the hard coat layer, and the light transmission of the hard coat layer It is also possible to adjust the adhesion rate of the cross-cut adhesion test to the conductive substrate to 90 to 100%.
As shown in FIG. 1, by taking such a low refractive index fine particle distribution in the HC layer, it has an antireflection function and maintains a surface shape without haze, total light transmittance, and streaks. Suppresses the generation of interference fringes between layers, improves adhesion, and increases the ratio of the hard coat composition having a refractive index similar to the refractive index of the base material in the vicinity of the base material to increase the hard coat layer and the base material. The optical film excellent in adhesiveness is obtained by suppressing the generation of interference fringes between the two.
The layer interface in the hard coat layer means that an interface (boundary) is formed in the cured portion of the composition in the layer as shown in FIG. As a specific example of the layer interface, there is a boundary between cured portions of two kinds of compositions shown in FIG. 9 described later.
本発明に係る光学フィルムの好適な実施態様では、ハードコート層の膜厚方向において、前記光透過性基材とは反対側の界面から前記ハードコート層の乾燥膜厚の70%までの領域に、前記低屈折率微粒子の全量の70〜100%が存在することも可能である。これにより、光学フィルムの反射防止性を効率良く高めることができる。 In a preferred embodiment of the optical film according to the present invention, in the film thickness direction of the hard coat layer, the region from the interface opposite to the light transmissive substrate to 70% of the dry film thickness of the hard coat layer. 70% to 100% of the total amount of the low refractive index fine particles may be present. Thereby, the antireflective property of an optical film can be improved efficiently.
本発明の光学フィルムの全光線透過率(τt)は、透明性の点から90%以上が好ましく、92%以上がより好ましい。
光学フィルムの全光線透過率は、JIS K7361に従って、ヘイズ値と同じ測定器で測定できる。
The total light transmittance (τt) of the optical film of the present invention is preferably 90% or more, more preferably 92% or more from the viewpoint of transparency.
The total light transmittance of the optical film can be measured with the same measuring device as the haze value according to JIS K7361.
(偏光板)
本発明に係る偏光板は、上記光学フィルムの前記ハードコート層とは反対の光透過性基材側に偏光子が設けられていることを特徴とする。
図6は、本発明に係る偏光板の層構成の一例を示す模式図である。図6に示す偏光板2は、光透過性基材10にHC層20が設けられた光学フィルム1並びに保護フィルム160及び偏光層170が積層された偏光子180とを有しており、光学フィルム1のHC層20とは反対の光透過性基材10側に偏光子180が設けられている。
(Polarizer)
The polarizing plate according to the present invention is characterized in that a polarizer is provided on the light transmissive substrate side opposite to the hard coat layer of the optical film.
FIG. 6 is a schematic diagram showing an example of the layer configuration of the polarizing plate according to the present invention. The polarizing plate 2 shown in FIG. 6 has the optical film 1 in which the HC layer 20 is provided on the light-transmitting substrate 10, and the polarizer 180 in which the protective film 160 and the polarizing layer 170 are laminated. A polarizer 180 is provided on the side of the light transmissive substrate 10 opposite to the HC layer 20 of one.
なお、光学フィルムのハードコート層とは反対の光透過性基材側に偏光子が配置されているとは、光学フィルムと偏光子とが別に形成されている場合だけでなく、光学フィルムを構成する部材が偏光子を構成する部材を兼ねている場合をも含むものである。 Note that the polarizer is disposed on the side of the light-transmitting substrate opposite to the hard coat layer of the optical film, not only when the optical film and the polarizer are separately formed, but also the optical film. The case where the member to serve also serves as the member constituting the polarizer is included.
また、本発明に係る偏光板をディスプレイパネルに用いる場合、通常、偏光子側にディスプレイパネルが配置される。 Moreover, when using the polarizing plate which concerns on this invention for a display panel, a display panel is normally arrange | positioned at the polarizer side.
なお、光学フィルムについては、上述した光学フィルムを用いればよいので、ここでの説明は省略する。以下、本発明に係る偏光板における他の構成について説明する。 In addition, about an optical film, since the optical film mentioned above should just be used, description here is abbreviate | omitted. Hereinafter, another configuration of the polarizing plate according to the present invention will be described.
(偏光子)
本発明に用いられる偏光子としては、所定の偏光特性を備えるものであれば特に限定されるものではなく、一般的に液晶表示装置に用いられる偏光子を用いることができる。
偏光子は、所定の偏光特性を長期間保持できる形態であれば特に限定されるものではなく、例えば、偏光層のみから構成されていてもよく、保護フィルムと偏光層とが貼り合わされたものであってもよい。保護フィルムと偏光層とが貼り合わされている場合、偏光層の片面のみに保護フィルムが形成されていてもよく、偏光層の両面に保護フィルムが形成されていてもよい。
(Polarizer)
The polarizer used in the present invention is not particularly limited as long as it has predetermined polarization characteristics, and a polarizer generally used in a liquid crystal display device can be used.
The polarizer is not particularly limited as long as it can maintain predetermined polarization characteristics for a long period of time. For example, the polarizer may be composed of only a polarizing layer, and a protective film and a polarizing layer are bonded together. There may be. When the protective film and the polarizing layer are bonded together, the protective film may be formed only on one side of the polarizing layer, or the protective film may be formed on both sides of the polarizing layer.
偏光層としては、通常、ポリビニルアルコールからなるフィルムにヨウ素を含浸させ、これを一軸延伸することによってポリビニルアルコールとヨウ素との錯体を形成させたものが用いられる。 As the polarizing layer, usually, a film made of polyvinyl alcohol is impregnated with iodine and uniaxially stretched to form a complex of polyvinyl alcohol and iodine.
また、保護フィルムとしては、上記偏光層を保護することができ、かつ所望の光透過性を有するものであれば特に限定されるものではない。
保護フィルムの光透過性としては、可視光領域における透過率が80%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましい。
なお、上記保護フィルムの透過率は、JIS K7361−1(プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法)により測定することができる。
The protective film is not particularly limited as long as it can protect the polarizing layer and has a desired light transmittance.
As the light transmittance of the protective film, the transmittance in the visible light region is preferably 80% or more, and more preferably 90% or more.
In addition, the transmittance | permeability of the said protective film can be measured by JISK7361-1 (The test method of the total light transmittance of a plastic-transparent material).
保護フィルムを構成する樹脂としては、例えば、セルロース誘導体、シクロオレフィン系樹脂、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート等を挙げることができる。中でも、セルロース誘導体またはシクロオレフィン系樹脂を用いることが好ましい。 Examples of the resin constituting the protective film include cellulose derivatives, cycloolefin resins, polymethyl methacrylate, polyvinyl alcohol, polyimide, polyarylate, and polyethylene terephthalate. Among these, it is preferable to use a cellulose derivative or a cycloolefin resin.
保護フィルムは、単一の層からなるものであっても良く、複数の層が積層されたものであっても良い。また、保護フィルムが複数の層が積層されたものである場合は、同一組成の複数の層が積層されても良く、また、異なる組成を有する複数の層が積層されても良い。 The protective film may be composed of a single layer or may be a laminate of a plurality of layers. When the protective film is a laminate of a plurality of layers, a plurality of layers having the same composition may be laminated, or a plurality of layers having different compositions may be laminated.
また、保護フィルムの厚さは、本発明の偏光板の可撓性を所望の範囲内にすることができ、かつ偏光層と貼り合わせることにより、偏光子の寸法変化を所定の範囲内にできる範囲であれば特に限定されるものではないが、5〜200μmの範囲内であることが好ましく、特に15〜150μmの範囲内であることが好ましく、さらに30〜100μmの範囲内であることが好ましい。上記厚さが5μmよりも薄いと、本発明の偏光板の寸法変化が大きくなってしまうおそれがある。また、上記厚みが200μmよりも厚いと、例えば、本発明の偏光板を裁断加工する際に、加工屑が増加したり、裁断刃の磨耗が早くなってしまうおそれがある。 In addition, the thickness of the protective film allows the flexibility of the polarizing plate of the present invention to be within a desired range, and the dimensional change of the polarizer can be within a predetermined range by being bonded to the polarizing layer. Although it is not particularly limited as long as it is in the range, it is preferably in the range of 5 to 200 μm, particularly preferably in the range of 15 to 150 μm, and more preferably in the range of 30 to 100 μm. . If the thickness is less than 5 μm, the dimensional change of the polarizing plate of the present invention may increase. Moreover, when the said thickness is thicker than 200 micrometers, when cutting the polarizing plate of this invention, there exists a possibility that a process waste may increase or abrasion of a cutting blade may become quick.
保護フィルムは、位相差性を有するものであってもよい。位相差性を有する保護フィルムを用いることにより、本発明の偏光板をディスプレイパネルの視野角補償機能を有するものにできるという利点がある。 The protective film may have retardation. By using a protective film having retardation, there is an advantage that the polarizing plate of the present invention can have a viewing angle compensation function for a display panel.
保護フィルムが位相差性を有する態様としては、所望の位相差性を発現できる態様であれば特に限定されるものではない。このような態様としては、例えば、保護フィルムが単一の層からなる構成を有し、位相差性を発現する光学特性発現剤を含有することにより位相差性を有する態様と、上述した樹脂からなる保護フィルム上に、屈折率異方性を有する化合物を含有する位相差層が積層された構成を有することにより、位相差性を有する態様とを挙げることができる。本発明においては、これらのいずれの態様であっても好適に用いることができる。 The aspect in which the protective film has retardation is not particularly limited as long as the protective film can exhibit desired retardation. As such an embodiment, for example, the protective film has a configuration consisting of a single layer, and includes an optical property developing agent that expresses retardation, and has retardation, and the above-described resin. By having a structure in which a retardation layer containing a compound having refractive index anisotropy is laminated on the protective film to be formed, an embodiment having retardation can be mentioned. In the present invention, any of these embodiments can be suitably used.
(ディスプレイ)
本発明に係るディスプレイは、上記光学フィルムの前記ハードコート層とは反対の光透過性基材側にディスプレイパネルが配置されていることを特徴とする。
ディスプレイとしては、LCD、PDP、ELD(有機EL、無機EL)、CRT等が挙げられる。
ディスプレイは、ディスプレイの視聴者側部材のディスプレイパネルと、駆動部を含む背面側部材からなる。液晶ディスプレイを例に説明すると、ディスプレイパネルとは、液晶材を閉じ込めた2枚のガラス板(例えば、カラーフィルタ基板とアレイ基板)と偏光板及び本発明の光学フィルム等からなる部材である。液晶ディスプレイを例に説明すると、背面側部材とは、バックライトと呼ばれる光源や、LCDを制御する駆動回路、光源を制御する回路及びシャーシ等からなる部材である。この場合の液晶ディスプレイの層構成の一例としては、導光板や拡散フィルム等を含むバックライト部があり、その視聴者側に偏光板、アレイ基板、液晶層、カラーフィルタ基板、偏光板、光学フィルムの順に積層されてなるものである。
(display)
The display according to the present invention is characterized in that a display panel is arranged on the light transmissive substrate side opposite to the hard coat layer of the optical film.
Examples of the display include LCD, PDP, ELD (organic EL, inorganic EL), and CRT.
The display includes a display panel as a viewer side member of the display and a back side member including a driving unit. Taking a liquid crystal display as an example, the display panel is a member composed of two glass plates (for example, a color filter substrate and an array substrate) in which a liquid crystal material is confined, a polarizing plate, and the optical film of the present invention. When taking a liquid crystal display as an example, the back-side member is a member made up of a light source called a backlight, a drive circuit that controls the LCD, a circuit that controls the light source, a chassis, and the like. As an example of the layer structure of the liquid crystal display in this case, there is a backlight portion including a light guide plate, a diffusion film, etc., and the viewer side has a polarizing plate, an array substrate, a liquid crystal layer, a color filter substrate, a polarizing plate, an optical film. Are stacked in this order.
上記ディスプレイの他の一例であるPDPは、表面ガラス基板と当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置された背面ガラス基板とを備えてなるものである。上記ディスプレイがPDPの場合、表面ガラス基板の表面又はその前面板(ガラス基板又はフィルム基板)に上記光学フィルムを備えるものでもある。 A PDP, which is another example of the display, includes a front glass substrate and a rear glass substrate disposed so as to be opposed to the front glass substrate with a discharge gas sealed therebetween. When the display is a PDP, the optical film is also provided on the surface of the surface glass substrate or the front plate (glass substrate or film substrate).
上記ディスプレイは、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質等の発光体をガラス基板に蒸着し、基板にかける電圧を制御して表示を行うELD装置又は電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるCRTなどのディスプレイであっても良い。この場合、ELD装置又はCRTの最表面又はその前面板の表面に上記光学フィルムを備えるものである。 In the above display, a light emitter such as zinc sulfide or a diamine substance that emits light when a voltage is applied is vapor-deposited on a glass substrate. It may be a display such as a CRT that generates a visible image. In this case, the optical film is provided on the outermost surface of the ELD device or CRT or the surface of the front plate.
以下、実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明する。これらの記載により本発明を制限するものではない。 Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. These descriptions do not limit the present invention.
低屈折率微粒子として、日揮触媒化成(株)製の中空シリカ微粒子(商品名スルーリアDAS(平均粒径50nm、MIBK分散液、固形分20%))を用いた。
第一の樹脂(1)として、荒川化学工業(株)製の商品名ビームセットDK1(重量平均分子量20000、固形分75%、MIBK溶剤)を用いた。
第一の樹脂(2)として、日本化薬(株)製のペンタエリスリトールトリアクリレートを用いた。
第一の樹脂を兼ねた低屈折率樹脂として、共栄社化学(株)製のLINC−3A(下記一般式(1)で表わされるトリアクリロイル−ヘプタデカフルオロノネニル−ペンタエリスリトール(主成分)とペンタエリスリトールトリアクリレートの混合物)を用いた。
As low refractive index fine particles, hollow silica fine particles manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd. (trade name: Sululia DAS (average particle size 50 nm, MIBK dispersion, solid content 20%)) were used.
As the first resin (1), trade name beam set DK1 (weight average molecular weight 20000, solid content 75%, MIBK solvent) manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd. was used.
Pentaerythritol triacrylate manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. was used as the first resin (2).
As a low-refractive index resin that also serves as the first resin, LINC-3A (triacryloyl-heptadecafluorononenyl-pentaerythritol (main component) represented by the following general formula (1) and pentane) manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd. A mixture of erythritol triacrylate) was used.
重合開始剤として、チバ・ジャパン(株)製の商品名イルガキュアー(Irg)184を用いた。
レベリング剤として、DIC(株)製の商品名MCF350−5(固形分5%)を用いた。
溶剤として、MIBKを用いた。
光透過性基材として、富士フィルム(株)製のTAC基材、商品名TD80UL(厚さ80μm)を用いた。
As a polymerization initiator, trade name Irgacure (Irg) 184 manufactured by Ciba Japan Co., Ltd. was used.
As a leveling agent, trade name MCF350-5 (solid content 5%) manufactured by DIC Corporation was used.
MIBK was used as a solvent.
As the light-transmitting substrate, a TAC substrate manufactured by Fuji Film Co., Ltd., trade name TD80UL (thickness 80 μm) was used.
なお、第一の組成物及び第二の組成物の粘度は、Anton Paar社製のMCR301を用いて、測定治具はPP50とし、測定温度は25℃、せん断速度は10000[1/s]の条件で、測定対象の組成物(インキ)を適量、ステージに滴下し測定した。
乾燥膜厚の測定は、Mitutoyo製の商品名DIGIMATIC INDICATOR CODE215−403を用いて、ガラス上に測定対象のサンプルを置き、測定した。
各化合物の略語はそれぞれ、以下の通りである。
PETA:ペンタエリスリトールトリアクリレート
MIBK:メチルイソブチルケトン
IPA:イソプロパノール
TAC:トリアセチルセルロース
The viscosity of the first composition and the second composition was MCR301 manufactured by Anton Paar, the measurement jig was PP50, the measurement temperature was 25 ° C., and the shear rate was 10,000 [1 / s]. Under the conditions, an appropriate amount of the composition to be measured (ink) was dropped on the stage and measured.
The dry film thickness was measured by placing a sample to be measured on glass using a trade name DIGIMATIC INDICATOR CODE 215-403 manufactured by Mitutoyo.
Abbreviations for each compound are as follows.
PETA: pentaerythritol triacrylate MIBK: methyl isobutyl ketone IPA: isopropanol TAC: triacetyl cellulose
(第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物の調製)
それぞれ、下記に示す組成の成分を配合して、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物1及び2並びに第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物1を調製した。
(Preparation of first curable resin composition for hard coat layer)
The components of the compositions shown below were respectively blended to prepare first hard coat layer curable resin compositions 1 and 2 and second hard coat layer curable resin composition 1.
(第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物1)
ビームセットDK1:64.72質量部(固形分換算48.54質量部)
Irg184:1.94質量部
MCF350−5:0.97質量部(固形分換算0.05質量部)
MIBK:32.36質量部
(First curable resin composition for hard coat layer 1)
Beam set DK1: 64.72 parts by mass (48.54 parts by mass in terms of solid content)
Irg184: 1.94 parts by mass MCF350-5: 0.97 parts by mass (0.05 parts by mass in terms of solid content)
MIBK: 32.36 parts by mass
(第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物2)
PETA:75.49質量部(固形分換算56.62質量部)
Irg184:3.02質量部
MCF350−5:3.02質量部(固形分換算0.15質量部)
MIBK:18.47質量部
(First curable resin composition for hard coat layer 2)
PETA: 75.49 parts by mass (56.62 parts by mass in terms of solid content)
Irg184: 3.02 parts by mass MCF350-5: 3.02 parts by mass (0.15 parts by mass in terms of solid content)
MIBK: 18.47 parts by mass
(第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物1)
スルーリアDAS:75.81(固形分換算15.16質量部)
ビームセットDK1:13.48質量部(固形分換算10.11質量部)
Irg184:0.61質量部
MCF350−5:10.11質量部(固形分換算0.51質量部)
(Second curable resin composition for hard coat layer 1)
Through rear DAS: 75.81 (solid content conversion 15.16 parts by mass)
Beam set DK1: 13.48 parts by mass (solid content equivalent: 10.11 parts by mass)
Irg184: 0.61 parts by mass MCF350-5: 10.11 parts by mass (0.51 parts by mass in terms of solid content)
(第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物2)
スルーリアDAS:83.12(固形分換算16.62質量部)
ビームセットDK1:15.83質量部(固形分換算11.87質量部)
Irg184:0.48質量部
MCF350−5:0.57質量部(固形分換算0.03質量部)
(Second curable resin composition for hard coat layer 2)
Through rear DAS: 83.12 (solid content conversion 16.62 parts by mass)
Beam set DK1: 15.83 parts by mass (solid content conversion: 11.87 parts by mass)
Irg184: 0.48 parts by mass MCF350-5: 0.57 parts by mass (solid content conversion 0.03 parts by mass)
(第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物3)
スルーリアDAS:73.95(固形分換算14.79質量部)
ビームセットDK1:24.65質量部(固形分換算18.49質量部)
Irg184:0.74質量部
MCF350−5:0.67質量部(固形分換算0.03質量部)
(Second curable resin composition for hard coat layer 3)
Through rear DAS: 73.95 (14.79 parts by mass in terms of solid content)
Beam set DK1: 24.65 parts by mass (18.49 parts by mass in terms of solid content)
Irg184: 0.74 parts by mass MCF350-5: 0.67 parts by mass (0.03 parts by mass in terms of solid content)
(第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物4)
LINC−3A:78.63
Irg184:3.15質量部
MCF350−5:15.73質量部(固形分換算0.79質量部)
MIBK:2.49質量部
(Second curable resin composition for hard coat layer 4)
LINC-3A: 78.63
Irg184: 3.15 parts by mass MCF350-5: 15.73 parts by mass (0.79 parts by mass in terms of solid content)
MIBK: 2.49 parts by mass
(光学フィルムの作製)
(実施例1)
上記第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物1及び第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物1をエバポレーターを用いて溶剤を留去し、それぞれ、粘度を30mPa・sに調整した。次いで、1m/minの速度で搬送されるTAC基材(TD80UL)上に、TAC基材側から第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物1及び第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物1が位置するように2層同時塗布を行った。このとき、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物1及び第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物1の塗膜のウェット膜厚をそれぞれ、20μm、10μmとした。
次いで、2層同時塗布の塗膜を70℃にて60秒間乾燥し、窒素雰囲気下で、紫外線を積算光量が120mJ/cm2になるように照射して塗膜を硬化させることにより、乾燥膜厚10μmのハードコート層を形成し、光学フィルムを作製した。
(Production of optical film)
Example 1
The solvent was distilled off from the first curable resin composition for hard coat layer 1 and the second curable resin composition for hard coat layer 1 using an evaporator, and the viscosity was adjusted to 30 mPa · s. Next, on the TAC substrate (TD80UL) conveyed at a speed of 1 m / min, the first curable resin composition for hard coat layer 1 and the second curable resin composition for hard coat layer are formed from the TAC substrate side. Two layers were simultaneously applied so that the product 1 was located. At this time, the wet film thicknesses of the first hard coat layer curable resin composition 1 and the second hard coat layer curable resin composition 1 were 20 μm and 10 μm, respectively.
Next, the two-layer coating film is dried at 70 ° C. for 60 seconds, and the coating film is cured by irradiating with ultraviolet rays so that the integrated light amount becomes 120 mJ / cm 2 in a nitrogen atmosphere. A 10 μm thick hard coat layer was formed to produce an optical film.
(比較例1)
実施例1において、第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物1を用いず、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物1のみをウェット膜厚20μmで塗布し、乾燥膜厚9μmのハードコート層を形成した以外は、実施例1と同様にして光学フィルムを作製した。
(Comparative Example 1)
In Example 1, the second curable resin composition 1 for hard coat layer was not used, but only the first curable resin composition 1 for hard coat layer was applied with a wet film thickness of 20 μm, and a dry film thickness of 9 μm was applied. An optical film was produced in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer was formed.
(比較例2)
実施例1において、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物1を用いず、第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物1のみをウェット膜厚20μmで塗布し、乾燥膜厚10μmのハードコート層を形成した以外は、実施例1と同様にして光学フィルムを作製した。
(Comparative Example 2)
In Example 1, the first curable resin composition for hard coat layer 1 was not used, but only the second curable resin composition for hard coat layer 1 was applied with a wet film thickness of 20 μm, and a dry film thickness of 10 μm was applied. An optical film was produced in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer was formed.
(比較例3)
実施例1において、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物1のみをウェット膜厚20μmで塗布し、その塗膜を70℃にて60秒間乾燥し、窒素雰囲気下で、紫外線を積算光量が120mJ/cm2になるように照射して塗膜を硬化させ、次いで、その硬化膜上に第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物1のみをウェット膜厚10μmで塗布し、その塗膜を70℃にて60秒間乾燥し、窒素雰囲気下で、紫外線を積算光量が120mJ/cm2になるように照射して塗膜を硬化させ、合計乾燥膜厚10μmのハードコート層を形成した以外は、実施例1と同様にして光学フィルムを作製した。
(Comparative Example 3)
In Example 1, only the first curable resin composition 1 for hard coat layer was applied with a wet film thickness of 20 μm, the coating film was dried at 70 ° C. for 60 seconds, and ultraviolet rays were accumulated in a nitrogen atmosphere. There is cured by irradiating the coating film to be 120 mJ / cm 2, then, only the second hard coat layer curable resin composition 1 was applied with a wet film thickness of 10μm on the cured film, the coating The film was dried at 70 ° C. for 60 seconds, and the coating film was cured by irradiating with ultraviolet rays so that the integrated light amount became 120 mJ / cm 2 in a nitrogen atmosphere, thereby forming a hard coat layer having a total dry film thickness of 10 μm. Except for the above, an optical film was produced in the same manner as in Example 1.
(実施例2)
上記第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物1及び第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物2をそれぞれ、粘度を10mPa・sに調整した。次いで、20m/minの速度で搬送されるTAC基材(TD80UL)上に、TAC基材側から第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物1及び第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物2が位置するように2層同時塗布を行った。このとき、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物1及び第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物2の塗膜のウェット膜厚をそれぞれ、25μm、5μmとした。
次いで、2層同時塗布の塗膜を70℃にて60秒間乾燥し、窒素雰囲気下で、紫外線を積算光量が120mJ/cm2になるように照射して塗膜を硬化させることにより、乾燥膜厚11μmのハードコート層を形成し、光学フィルムを作製した。
(Example 2)
The viscosity of each of the first curable resin composition for hard coat layer 1 and the second curable resin composition for hard coat layer 2 was adjusted to 10 mPa · s. Next, on the TAC substrate (TD80UL) conveyed at a speed of 20 m / min, the first curable resin composition for hard coat layer 1 and the second curable resin composition for hard coat layer are formed from the TAC substrate side. Two layers were simultaneously applied so that the product 2 was located. At this time, the wet film thicknesses of the first hard coat layer curable resin composition 1 and the second hard coat layer curable resin composition 2 were 25 μm and 5 μm, respectively.
Next, the two-layer coating film is dried at 70 ° C. for 60 seconds, and the coating film is cured by irradiating with ultraviolet rays so that the integrated light amount becomes 120 mJ / cm 2 in a nitrogen atmosphere. A hard coat layer having a thickness of 11 μm was formed to produce an optical film.
(実施例3)
実施例2において、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物1及び第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物2の塗膜のウェット膜厚をそれぞれ、25μm、1μmとし、乾燥膜厚8μmのハードコート層を形成した以外は、実施例2と同様にして光学フィルムを作製した。
(Example 3)
In Example 2, the wet film thicknesses of the first curable resin composition 1 for hard coat layer 1 and the second curable resin composition 2 for hard coat layer 2 were 25 μm and 1 μm, respectively, and the dry film thickness was An optical film was produced in the same manner as in Example 2 except that an 8 μm hard coat layer was formed.
(実施例4)
実施例2において、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物1及び第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物2の塗膜のウェット膜厚をそれぞれ、18.75μm、3.75μmとし、乾燥膜厚6μmのハードコート層を形成した以外は、実施例2と同様にして光学フィルムを作製した。
Example 4
In Example 2, the wet film thicknesses of the first hard coat layer curable resin composition 1 and the second hard coat layer curable resin composition 2 were 18.75 μm and 3.75 μm, respectively. An optical film was produced in the same manner as in Example 2 except that a hard coat layer having a dry film thickness of 6 μm was formed.
(比較例4)
実施例2において、第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物2を用いず、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物1のみをウェット膜厚20μmで塗布し、乾燥膜厚11μmのハードコート層を形成した以外は、実施例2と同様にして光学フィルムを作製した。
(Comparative Example 4)
In Example 2, the second hard coat layer curable resin composition 2 was not used, but only the first hard coat layer curable resin composition 1 was applied with a wet film thickness of 20 μm, and the dry film thickness of 11 μm was applied. An optical film was produced in the same manner as in Example 2 except that a hard coat layer was formed.
(比較例5)
実施例2において、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物1を用いず、第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物2のみをウェット膜厚10μmで塗布し、乾燥膜厚5μmのハードコート層を形成した以外は、実施例2と同様にして光学フィルムを作製した。
(Comparative Example 5)
In Example 2, the first curable resin composition for hard coat layer 1 was not used, but only the second curable resin composition for hard coat layer 2 was applied at a wet film thickness of 10 μm, and the dry film thickness was 5 μm. An optical film was produced in the same manner as in Example 2 except that a hard coat layer was formed.
(比較例6)
実施例2において、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物1及び第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物2の同時塗布後、乾燥前に、窒素雰囲気下で、紫外線を積算光量が50mJ/cm2になるように照射(プレキュア)した以外は、実施例2と同様にして光学フィルムを作製した。
(Comparative Example 6)
In Example 2, after simultaneous application of the first curable resin composition 1 for hard coat layer and the second curable resin composition 2 for hard coat layer, and before drying, an integrated amount of ultraviolet rays is applied in a nitrogen atmosphere. An optical film was produced in the same manner as in Example 2 except that irradiation (precure) was performed so that was 50 mJ / cm 2 .
(実施例5)
上記第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物1及び第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物3をそれぞれ、粘度を10mPa・sに調整した。次いで、20m/minの速度で搬送されるTAC基材(TD80UL)上に、TAC基材側から第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物1及び第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物3が位置するように2層同時塗布を行った。このとき、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物1及び第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物3の塗膜のウェット膜厚をそれぞれ、25μm、5μmとした。
次いで、2層同時塗布の塗膜を70℃にて60秒間乾燥し、窒素雰囲気下で、紫外線を積算光量が120mJ/cm2になるように照射して塗膜を硬化させることにより、乾燥膜厚9μmのハードコート層を形成し、光学フィルムを作製した。
(Example 5)
The viscosity of each of the first curable resin composition for hard coat layer 1 and the second curable resin composition for hard coat layer 3 was adjusted to 10 mPa · s. Next, on the TAC substrate (TD80UL) conveyed at a speed of 20 m / min, the first curable resin composition for hard coat layer 1 and the second curable resin composition for hard coat layer are formed from the TAC substrate side. Two layers were simultaneously applied so that the object 3 was located. At this time, the wet film thicknesses of the first hard coat layer curable resin composition 1 and the second hard coat layer curable resin composition 3 were 25 μm and 5 μm, respectively.
Next, the two-layer coating film is dried at 70 ° C. for 60 seconds, and the coating film is cured by irradiating with ultraviolet rays so that the integrated light amount becomes 120 mJ / cm 2 in a nitrogen atmosphere. A 9 μm thick hard coat layer was formed to prepare an optical film.
(実施例6)
実施例5において、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物1及び第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物3の塗膜のウェット膜厚をそれぞれ、25μm、1μmとし、乾燥膜厚8μmのハードコート層を形成した以外は、実施例5と同様にして光学フィルムを作製した。
(Example 6)
In Example 5, the wet film thicknesses of the first hard coat layer curable resin composition 1 and the second hard coat layer curable resin composition 3 were 25 μm and 1 μm, respectively, and the dry film thickness was An optical film was produced in the same manner as in Example 5 except that an 8 μm hard coat layer was formed.
(実施例7)
実施例5において、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物1及び第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物3の塗膜のウェット膜厚をそれぞれ、18.75μm、3.75μmとし、乾燥膜厚5μmのハードコート層を形成した以外は、実施例5と同様にして光学フィルムを作製した。
(Example 7)
In Example 5, the wet film thicknesses of the first hard coat layer curable resin composition 1 and the second hard coat layer curable resin composition 3 were 18.75 μm and 3.75 μm, respectively. An optical film was produced in the same manner as in Example 5 except that a hard coat layer having a dry film thickness of 5 μm was formed.
(比較例7)
実施例5において、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物1を用いず、第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物3のみをウェット膜厚10μmで塗布し、乾燥膜厚5μmのハードコート層を形成した以外は、実施例5と同様にして光学フィルムを作製した。
(Comparative Example 7)
In Example 5, the first curable resin composition 1 for hard coat layer was not used, but only the second curable resin composition 3 for hard coat layer was applied with a wet film thickness of 10 μm, and the dry film thickness of 5 μm was applied. An optical film was produced in the same manner as in Example 5 except that the hard coat layer was formed.
(実施例8)
上記第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物2及び第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物4をそれぞれ、粘度を30mPa・sに調整した。次いで、1m/minの速度で搬送されるTAC基材(TD80UL)上に、TAC基材側から第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物2及び第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物4が位置するように2層同時塗布を行った。このとき、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物2及び第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物4の塗膜のウェット膜厚をそれぞれ、20μm、10μmとした。
次いで、2層同時塗布の塗膜を25℃にて60秒間乾燥し、窒素雰囲気下で、紫外線を積算光量が120mJ/cm2になるように照射して塗膜を硬化させることにより、乾燥膜厚14μmのハードコート層を形成し、光学フィルムを作製した。
(Example 8)
The viscosity of each of the first curable resin composition 2 for hard coat layer 2 and the second curable resin composition 4 for hard coat layer was adjusted to 30 mPa · s. Next, on the TAC substrate (TD80UL) conveyed at a speed of 1 m / min, the first curable resin composition 2 for the hard coat layer and the second curable resin composition for the hard coat layer are formed from the TAC substrate side. Two layers were simultaneously applied so that the product 4 was located. At this time, the wet film thicknesses of the first hard coat layer curable resin composition 2 and the second hard coat layer curable resin composition 4 were 20 μm and 10 μm, respectively.
Next, the two-layer coating film is dried at 25 ° C. for 60 seconds, and the coating film is cured by irradiating with ultraviolet rays so that the integrated light amount becomes 120 mJ / cm 2 in a nitrogen atmosphere. A 14 μm thick hard coat layer was formed to produce an optical film.
(実施例9)
実施例8において、2層同時塗布の塗膜の乾燥温度を50℃とした以外は、実施例8と同様にして光学フィルムを作製した。
Example 9
In Example 8, an optical film was produced in the same manner as in Example 8, except that the drying temperature of the two-layer coating film was 50 ° C.
(実施例10)
実施例8において、2層同時塗布の塗膜の乾燥温度を70℃とした以外は、実施例8と同様にして光学フィルムを作製した。
(Example 10)
In Example 8, an optical film was produced in the same manner as in Example 8, except that the drying temperature of the two-layer coating film was 70 ° C.
(実施例11)
実施例8において、2層同時塗布の塗膜の乾燥温度を100℃とした以外は、実施例8と同様にして、光学フィルムを作製した。
(Example 11)
In Example 8, an optical film was produced in the same manner as in Example 8, except that the drying temperature of the two-layer coating film was 100 ° C.
(実施例12)
実施例10において、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物2及び第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物4の塗膜のウェット膜厚をそれぞれ、25μm、5μmとした以外は、実施例10と同様にして光学フィルムを作製した。
(Example 12)
In Example 10, except that the wet film thicknesses of the first hard coat layer curable resin composition 2 and the second hard coat layer curable resin composition 4 were 25 μm and 5 μm, respectively. An optical film was produced in the same manner as in Example 10.
(比較例8)
実施例10において、第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物4を用いず、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物2のみをウェット膜厚20μmで塗布し、乾燥膜厚9μmのハードコート層を形成した以外は、実施例10と同様にして光学フィルムを作製した。
(Comparative Example 8)
In Example 10, the second hard coat layer curable resin composition 4 was not used, but only the first hard coat layer curable resin composition 2 was applied with a wet film thickness of 20 μm, and the dry film thickness of 9 μm was applied. An optical film was produced in the same manner as in Example 10 except that the hard coat layer was formed.
(比較例9)
実施例10において、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物2を用いず、第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物4のみをウェット膜厚10μmで塗布し、乾燥膜厚8μmのハードコート層を形成した以外は、実施例10と同様にして光学フィルムを作製した。
(Comparative Example 9)
In Example 10, without using the first curable resin composition 2 for hard coat layer, only the second curable resin composition 4 for hard coat layer was applied with a wet film thickness of 10 μm, and the dry film thickness was 8 μm. An optical film was produced in the same manner as in Example 10 except that the hard coat layer was formed.
(実施例13)
実施例1において、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物1及び第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物1の粘度をそれぞれ、90mPa・sになるように調整し、同時塗布時に、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物1及び第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物3の塗膜のウェット膜厚をそれぞれ、25μm、5μmとし、乾燥膜厚18μmのハードコート層を形成した以外は、実施例1と同様にして光学フィルムを作製した。
(Example 13)
In Example 1, the viscosities of the first hard coat layer curable resin composition 1 and the second hard coat layer curable resin composition 1 were adjusted to 90 mPa · s, respectively, The hard film thicknesses of the coating films of the first hard coat layer curable resin composition 1 and the second hard coat layer curable resin composition 3 were 25 μm and 5 μm, respectively, and the dry film thickness was 18 μm. An optical film was produced in the same manner as in Example 1 except that the layer was formed.
(比較例10)
実施例1において、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物1及び第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物1の粘度をそれぞれ、4mPa・sになるように調整し、乾燥膜厚5μmのハードコート層を形成した以外は、実施例1と同様にして光学フィルムを作製した。
(Comparative Example 10)
In Example 1, the viscosity of each of the first curable resin composition for hard coat layer 1 and the second curable resin composition for hard coat layer 1 is adjusted to 4 mPa · s, and the dry film thickness An optical film was produced in the same manner as in Example 1 except that a 5 μm hard coat layer was formed.
(比較例11)
実施例1において、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物1及び第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物1の粘度をそれぞれ、10mPa・s、4mPa・sになるように調整し、乾燥膜厚9μmのハードコート層を形成した以外は、実施例1と同様にして光学フィルムを作製した。
(Comparative Example 11)
In Example 1, the viscosities of the first hard coat layer curable resin composition 1 and the second hard coat layer curable resin composition 1 were adjusted to 10 mPa · s and 4 mPa · s, respectively. An optical film was produced in the same manner as in Example 1 except that a hard coat layer having a dry film thickness of 9 μm was formed.
(比較例12)
実施例1において、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物1及び第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物1の粘度をそれぞれ、62mPa・s、10mPa・sになるように調整し、乾燥膜厚17μmのハードコート層を形成した以外は、実施例1と同様にして光学フィルムを作製した。
(Comparative Example 12)
In Example 1, the viscosities of the first hard coat layer curable resin composition 1 and the second hard coat layer curable resin composition 1 were adjusted to 62 mPa · s and 10 mPa · s, respectively. An optical film was produced in the same manner as in Example 1 except that a hard coat layer having a dry film thickness of 17 μm was formed.
(比較例13)
実施例1において、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物1及び第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物1の粘度をそれぞれ、10mPa・sになるように調整し、その調整した2つの組成物の実施例1で用いたのと同じ量を混合し、その混合した組成物をTAC基材上に塗布した。このとき、この混合した組成物の塗膜のウェット膜厚を30μmとした。
次いで、その塗膜を実施例1と同様に乾燥、光照射を行い、乾燥膜厚10μmのハードコート層を形成し、光学フィルムを作製した。
(Comparative Example 13)
In Example 1, the first hard coat layer curable resin composition 1 and the second hard coat layer curable resin composition 1 were adjusted to have a viscosity of 10 mPa · s, respectively. The same amount of the two compositions used in Example 1 were mixed and the mixed composition was coated on a TAC substrate. At this time, the wet film thickness of the coating film of the mixed composition was set to 30 μm.
Subsequently, the coating film was dried and irradiated with light in the same manner as in Example 1 to form a hard coat layer having a dry film thickness of 10 μm, thereby producing an optical film.
上記実施例及び比較例で用いた組成物の種類、ウェット膜厚、塗布方式、乾燥膜厚及び乾燥条件並びにTAC基材の搬送速度をまとめたものを下記表1に示す。 Table 1 below summarizes the types of compositions, wet film thickness, coating method, dry film thickness and drying conditions used in the above Examples and Comparative Examples, and the transport speed of the TAC substrate.
(光学フィルムの評価)
上記実施例及び比較例の光学フィルムについて、それぞれ下記に示すように反射率、ヘイズ(Hz)及び全光線透過率について測定を行った。また、上記実施例及び比較例の光学フィルムについて、それぞれ下記に示すように干渉縞の評価を行った。その結果を表2に示す。
また、実施例1の光学フィルムの断面写真を図7及び8に、比較例3の光学フィルムの断面写真を図9に示す。なお、図8の断面写真は、図7の写真におけるHC層のTAC基材とは反対側の界面側を拡大したものである。
(Evaluation of optical film)
About the optical film of the said Example and comparative example, it measured about the reflectance, the haze (Hz), and the total light transmittance as shown below, respectively. Moreover, about the optical film of the said Example and comparative example, the interference fringe was evaluated as shown below, respectively. The results are shown in Table 2.
Moreover, the cross-sectional photograph of the optical film of Example 1 is shown in FIGS. 7 and 8, and the cross-sectional photograph of the optical film of Comparative Example 3 is shown in FIG. 8 is an enlarged view of the interface side of the HC layer opposite to the TAC substrate in the photograph of FIG.
(反射率の測定)
反射率の測定は、日本分光(株)製の商品名V7100型紫外可視分光光度計及び日本分光(株)製の商品名VAR−7010絶対反射率測定装置を用いて、入射角を5°、偏光子をN偏光、測定波長範囲を380〜780nmとして、光学フィルムのTAC基材側に黒テープを貼合し、それを装置に設置して測定を行った。なお、測定波長範囲にて求められた測定結果の平均値を反射率とした。
(Measurement of reflectance)
The measurement of the reflectance is performed using a product name V7100 type UV-visible spectrophotometer manufactured by JASCO Corporation and a product name VAR-7010 absolute reflectance measurement device manufactured by JASCO Corporation with an incident angle of 5 °, The polarizer was N-polarized light, the measurement wavelength range was 380 to 780 nm, a black tape was bonded to the TAC substrate side of the optical film, and the measurement was performed by installing it on the apparatus. In addition, the average value of the measurement result calculated | required in the measurement wavelength range was made into the reflectance.
(ヘイズ及び全光線透過率の測定)
ヘイズ及び全光線透過率は、それぞれ、JIS K−7136、JIS K7361に準拠して反射・透過率計HM−150((株)村上色彩技術研究所製)で測定した。
(Measurement of haze and total light transmittance)
The haze and total light transmittance were measured with a reflection / transmittance meter HM-150 (manufactured by Murakami Color Research Laboratory Co., Ltd.) in accordance with JIS K-7136 and JIS K7361, respectively.
(干渉縞の評価)
フナテック(株)製の干渉縞検査ランプ(Naランプ)を用い、目視にて検査し、下記基準で評価した。
○:干渉縞の発生がほとんど見られなかったもの
△:干渉縞がぼんやり見えたもの
×:干渉縞がはっきり見えたもの
(Evaluation of interference fringes)
Using an interference fringe inspection lamp (Na lamp) manufactured by Funatec Co., Ltd., visual inspection was performed and the following criteria were evaluated.
○: Interference fringes were hardly observed. △: Interference fringes were blurred. ×: Interference fringes were clearly visible.
(密着性の評価)
上記実施例及び比較例の光学フィルムについて、それぞれ下記に示す碁盤目密着性試験の密着率の測定を行った。
なお、比較例12については面状が悪く、測定できなかった。
(碁盤目密着性試験)
光学フィルムのHC層側表面に1mm角で合計100目の碁盤目を入れ、ニチバン(株)製工業用24mmセロテープ(登録商標)を用いて5回連続剥離試験を行い、下記基準に基づいて算出される剥がれずに残ったマス目の割合を求めた。
密着率(%)=(剥がれなかったマス目の数/合計のマス目数100)×100
(Evaluation of adhesion)
About the optical film of the said Example and the comparative example, the measurement of the adhesion rate of the cross-cut adhesion test shown below was performed, respectively.
In addition, about the comparative example 12, surface shape was bad and it was not able to measure.
(Cross-cut adhesion test)
Put 100 square grids on the surface of the HC layer of the optical film in total of 1 mm square, perform 5 continuous peel tests using Nichiban Co., Ltd. industrial 24 mm cello tape (registered trademark), and calculate based on the following criteria The percentage of squares that remained without being peeled was determined.
Adhesion rate (%) = (number of cells not peeled / total number of cells 100) × 100
(面状の評価)
光学フィルムの外観の面状(塗工スジの有無)について目視により評価を行った。
○:塗工スジが見えなかったもの
△:塗工スジがぼんやり見えたもの
×:塗工スジがはっきり見えたもの
(Surface evaluation)
The appearance of the optical film (the presence or absence of coating stripes) was visually evaluated.
○: The coating streaks could not be seen. △: The coating streaks looked blurred. ×: The coating streaks were clearly visible.
(結果のまとめ)
表2より、実施例ではいずれも反射率及びヘイズが低かった。実施例では、全光線透過率は91.5%以上と高い値であった。また、実施例ではいずれも干渉縞の発生が抑制されていた。また、実施例では密着性と面状も良好であった。特に実施例1と実施例2の面状が良好であった。
実施例1の光学フィルムの断面図である図7及び図8より、中空シリカ微粒子がHC層のTAC基材とは反対側(上層側)からTAC基材側ほど少なくなる分布をとっていることがわかり、図8からはHC層のTAC基材とは反対側の界面から5μmまでにほとんどの中空シリカ微粒子が分布していることがわかる。
また、図7〜図9を対比すると、実施例1の場合では、第一の組成物の硬化した部分と第二の組成物の硬化した部分の境界が比較例3に比べて明確ではないことがわかる。
しかし、実施例1において第二の組成物がない場合に相当する比較例1では、中空シリカ微粒子が含まれないため一般的なハードコート層のみと同じ反射率となってしまった。
実施例1において第一の組成物がない場合に相当する比較例2では、干渉縞が発生し、密着率も低かった。これは、第二の組成物に含まれる中空シリカ微粒子がHC層において均一に分布し、HC層のTAC基材側界面に位置することによってTAC基材と中空シリカ微粒子との屈折率差が大きくなったことで干渉縞が発生したものと推測される。また、このようにHC層のTAC基材側界面に中空シリカ微粒子が位置することによって、HC層の樹脂がTAC基材に浸透して硬化する面積が小さくなり、密着性が低下したものと推測される。
実施例1において同時塗布ではなく逐次塗布をした場合に相当する比較例3では、干渉縞がぼんやりと観察された。これは、図9の断面写真に見られるように第一の組成物の硬化した部分と第二の組成物の硬化した部分の境界が明瞭に区別され、この境界部分の屈折率差によって干渉縞が発生したものと推測される。
実施例2において第二の組成物がない場合に相当する比較例4では、比較例1と同様に反射率が一般的なハードコート層のみと同じ反射率となってしまった。
実施例2において第一の組成物がない場合に相当する比較例5では、比較例2と同様に干渉縞が発生し、密着率も低かった。
実施例2において乾燥前にプレキュアを行った場合に相当する比較例6では、密着率が低かった。これは、プレキュアを行うことにより、第一の組成物と第二の組成物の硬化(樹脂の重合ないし架橋)が進行してしまい、TAC基材側の第一の組成物に含まれる第一の樹脂がTAC基材に十分に浸透しなかったためと推測される。
実施例5において第一の組成物がない場合に相当する比較例7では、比較例2と同様に干渉縞が発生し、密着率も低かった。
実施例10において第二の組成物がない場合に相当する比較例8では、比較例1と同様に一般的なハードコート層のみと同じ反射率となってしまった。
実施例10において第一の組成物がない場合に相当する比較例9では、比較例2と同様に干渉縞が発生し、密着率も低かった。
実施例1において第一の組成物と第二の組成物の粘度がともに小さい場合に相当する比較例10では、反射率が比較例1よりも低く、実施例1よりも高かった。これは、二つの組成物の粘度が低いことにより、二つの組成物の混合が進行してしまい、HC層のTAC基材と反対側(上層側)に存在する中空シリカ微粒子が減少し、反射率が高くなったためと推測される。
実施例1においてHC層の上層側の第二の組成物の粘度が小さい場合に相当する比較例11では面状が良くなかった。
実施例1において第一の組成物と第二の組成物の粘度差が大きい場合に相当する比較例12では、HC層表面のスジが大量に発生し、表面が平滑でなくなってしまい、光が散乱することで反射率、ヘイズ及び全光線透過率が測定できなかった。
実施例1において第一の組成物と第二の組成物を均一に混合したものを塗布した場合に相当する比較例13では、反射率が比較例10と同等となった。また、干渉縞が発生し、密着率も低かった。これは二つの組成物を均一に混合して塗布したことにより、比較例10と同様にHC層のTAC基材と反対側に存在する中空シリカ微粒子が減少し、反射率が高くなったためと推測される。また、比較例2と同様にHC層のTAC基材側界面に中空シリカ微粒子が位置することによって干渉縞が発生し、密着率が低くなったものと推測される。
(Summary of results)
From Table 2, the reflectance and haze were all low in the examples. In the examples, the total light transmittance was as high as 91.5% or more. In all the examples, the generation of interference fringes was suppressed. Further, in the examples, adhesion and surface condition were also good. In particular, the surface conditions of Example 1 and Example 2 were good.
From FIG. 7 and FIG. 8 which are cross-sectional views of the optical film of Example 1, the hollow silica fine particles have a distribution that decreases from the opposite side (upper layer side) to the TAC substrate side of the HC layer from the TAC substrate side. From FIG. 8, it can be seen that most hollow silica fine particles are distributed from the interface of the HC layer on the side opposite to the TAC substrate to 5 μm.
7 to 9, in the case of Example 1, the boundary between the cured portion of the first composition and the cured portion of the second composition is not clear compared to Comparative Example 3. I understand.
However, in Comparative Example 1 corresponding to the case where there was no second composition in Example 1, the hollow silica fine particles were not included, and thus the reflectance was the same as that of only a general hard coat layer.
In Comparative Example 2 corresponding to the case where the first composition was not present in Example 1, interference fringes were generated and the adhesion rate was low. This is because the hollow silica fine particles contained in the second composition are uniformly distributed in the HC layer, and the refractive index difference between the TAC substrate and the hollow silica fine particles is large because it is located at the TAC substrate side interface of the HC layer. It is presumed that interference fringes have occurred. In addition, the presence of the hollow silica fine particles at the TAC substrate-side interface of the HC layer in this way presumes that the area where the resin of the HC layer penetrates and cures the TAC substrate is reduced and the adhesion is reduced. Is done.
In Comparative Example 3 corresponding to the case where sequential application was performed instead of simultaneous application in Example 1, the interference fringes were faintly observed. As shown in the cross-sectional photograph of FIG. 9, the boundary between the cured portion of the first composition and the cured portion of the second composition is clearly distinguished. It is estimated that this occurred.
In Comparative Example 4 corresponding to the case where there was no second composition in Example 2, the reflectance was the same as that of only a general hard coat layer as in Comparative Example 1.
In Comparative Example 5 corresponding to the case where the first composition was not present in Example 2, interference fringes were generated as in Comparative Example 2, and the adhesion rate was low.
In Comparative Example 6 corresponding to the case where precure was performed before drying in Example 2, the adhesion rate was low. This is because the curing (resin polymerization or crosslinking) of the first composition and the second composition proceeds by performing the pre-cure, and the first composition contained in the first composition on the TAC substrate side. This is presumably because this resin did not sufficiently penetrate into the TAC substrate.
In Comparative Example 7 corresponding to the case without the first composition in Example 5, interference fringes were generated as in Comparative Example 2, and the adhesion rate was low.
In Comparative Example 8 corresponding to the case where the second composition was not present in Example 10, the reflectance was the same as that of only a general hard coat layer as in Comparative Example 1.
In Comparative Example 9 corresponding to the case without the first composition in Example 10, interference fringes were generated as in Comparative Example 2, and the adhesion rate was low.
In Comparative Example 10 corresponding to the case where the viscosity of both the first composition and the second composition in Example 1 was small, the reflectance was lower than that of Comparative Example 1 and higher than that of Example 1. This is because the mixing of the two compositions proceeds due to the low viscosity of the two compositions, and the hollow silica fine particles present on the side opposite to the TAC substrate of the HC layer (upper layer side) are reduced and reflected. It is estimated that the rate has increased.
In Example 1, the surface shape was not good in Comparative Example 11 corresponding to the case where the viscosity of the second composition on the upper layer side of the HC layer was small.
In Comparative Example 12 corresponding to the case where the difference in viscosity between the first composition and the second composition is large in Example 1, a large amount of streaks on the surface of the HC layer occurs, the surface becomes not smooth, and light is not emitted. The reflectance, haze, and total light transmittance could not be measured due to scattering.
In Comparative Example 13 corresponding to the case where a uniform mixture of the first composition and the second composition in Example 1 was applied, the reflectance was the same as that of Comparative Example 10. Further, interference fringes were generated and the adhesion rate was low. This is presumed that the two silica compositions were uniformly mixed and applied, so that the hollow silica fine particles present on the opposite side of the HC substrate of the HC layer decreased as in Comparative Example 10, and the reflectance increased. Is done. Further, as in Comparative Example 2, it is presumed that interference fringes were generated due to the hollow silica fine particles being located at the TAC substrate side interface of the HC layer, and the adhesion rate was lowered.
1 光学フィルム
2 偏光板
10 光透過性基材
20 ハードコート層
30 低屈折率微粒子
40 ダイヘッド
51、52 スリット
60 第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物
61 第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物の塗膜
70 第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物
71 第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物の塗膜
80 コーターギャップ
90 第一及び第二の組成物の合計ウェット膜厚
100 従来の反射防止フィルム
110 従来のハードコート層
120 低屈折率層
130 光透過性基材の搬送方向
140 帯電防止層
150 防汚層
160 保護フィルム
170 偏光層
180 偏光子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Optical film 2 Polarizing plate 10 Light transmissive substrate 20 Hard coat layer 30 Low refractive index fine particle 40 Die head 51, 52 Slit 60 First hard coat layer curable resin composition 61 First hard coat layer curability Coating film 70 of resin composition Second curable resin composition for hard coat layer 71 Coating film 80 of second curable resin composition for hard coat layer Coater gap 90 Total wet of first and second compositions Film thickness 100 Conventional antireflection film 110 Conventional hard coat layer 120 Low refractive index layer 130 Transport direction 140 of transparent substrate Antistatic layer 150 Antifouling layer 160 Protective film 170 Polarizing layer 180 Polarizer
Claims (8)
(ii)反応性を有する第一の樹脂及び第一の溶剤を含み、かつ低屈折率微粒子及び低屈折率樹脂を含まず又は低屈折率樹脂を含んでいても当該第一の樹脂の質量に対して5.0質量%以下であり、粘度μ1が3mPa・s以上の第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物、並びに平均粒径10〜300nmの低屈折率微粒子及び低屈折率樹脂からなる群より選ばれる1種以上の低屈折率成分、反応性を有する第二の樹脂及び第二の溶剤を含み、粘度μ2が5mPa・s以上、かつ当該μ2から当該μ1を差し引いた値が30mPa・s以下である第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物を準備する工程、
(iii)当該光透過性基材の一面側に、当該光透過性基材側から少なくとも当該第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物及び第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物を隣接させて同時塗布し、塗膜とする工程、
(iv)前記(iii)工程で得られた塗膜を乾燥させ、次いで光照射及び/又は加熱を行い硬化させる工程、を含み、かつ、当該(iii)工程と当該(iv)工程の間に、プレキュアを行わないことを特徴とする、光学フィルムの製造方法。 (I) preparing a light transmissive substrate;
(Ii) including the reactive first resin and the first solvent, and does not include the low refractive index fine particles and the low refractive index resin or includes the low refractive index resin, the mass of the first resin And a first hard-coat layer curable resin composition having a viscosity μ1 of 3 mPa · s or more, a low refractive index fine particle having an average particle diameter of 10 to 300 nm, and a low refractive index resin. One or more low-refractive index components selected from the group consisting of a second resin having reactivity and a second solvent, the viscosity μ2 is 5 mPa · s or more, and the value obtained by subtracting the μ1 from the μ2 is 30 mPa A step of preparing a second hard coat layer curable resin composition that is s or less,
(Iii) At least the first curable resin composition for a hard coat layer and the second curable resin composition for a hard coat layer are provided on one side of the light transmissive substrate from the light transmissive substrate side. A process of applying them adjacent to each other to form a coating film;
(Iv) a step of drying the coating film obtained in the step (iii) and then curing by light irradiation and / or heating, and between the step (iii) and the step (iv) A method for producing an optical film, characterized by not performing precure.
前記ハードコート層の膜厚方向において、低屈折率微粒子が前記光透過性基材とは反対側の界面側に当該光透過性基材側よりも多く存在し、かつ、当該光透過性基材側ほど当該低屈折率微粒子の存在量が少なく、当該光透過性基材とは反対側の界面から光透過性基材側にかけて当該低屈折率成分が徐々に少なくなっており、
当該ハードコート層内に層界面がなく、
当該ハードコート層の前記光透過性基材に対する碁盤目密着性試験の密着率が90〜100%であることを特徴とする、請求項4に記載の光学フィルム。 An optical film provided with a hard coat layer on one side of a light-transmitting substrate,
In the film thickness direction of the hard coat layer, there are more low refractive index fine particles on the interface side opposite to the light transmissive substrate than on the light transmissive substrate side, and the light transmissive substrate. The amount of the low refractive index fine particles is smaller toward the side, and the low refractive index component is gradually reduced from the interface opposite to the light transmissive substrate to the light transmissive substrate side,
There is no layer interface in the hard coat layer,
5. The optical film according to claim 4, wherein an adhesion rate of the cross-coat adhesion test of the hard coat layer to the light-transmitting substrate is 90 to 100%.
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