KR101524580B1 - Transparent conductive film, touch panel, and display device - Google Patents
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Abstract
저비용으로 반사 방지성이 양호한 투명 전도성 필름을 제공한다. 굴절률이 1.6~1.7인 기재 필름의 한쪽 면에 투명 도전막을 갖고, 상기 기재 필름의 다른쪽 면에 이접착층을 통해서 굴절률이 1.42 이하이고 또한 두께가 80~120㎚인 저굴절률층을 1층만 갖고, 상기 이접착층이 하기 조건 1, 조건 2, 또는 (조건 1 및 조건 2)를 충족하는 투명 도전성 필름이다. 조건 1; 기재 필름의 굴절률과 이접착층의 굴절률의 차의 절대값이 0.08 이하이다. 조건 2; 이접착층의 두께가 5㎚ 이상 50㎚ 미만이다. A transparent conductive film having excellent antireflection property at low cost is provided. Wherein the base film has a transparent conductive film on one side of a base film having a refractive index of 1.6 to 1.7 and a low refractive index layer having a refractive index of 1.42 or less and a thickness of 80 to 120 nm through the adhesive layer on the other side of the base film, The adhesive layer is a transparent conductive film satisfying the following Condition 1, Condition 2, or (Condition 1 and Condition 2). Condition 1; The absolute value of the difference between the refractive index of the base film and the refractive index of the adhesive layer is 0.08 or less. Condition 2; The thickness of the adhesive layer is 5 nm or more and less than 50 nm.
Description
본 발명은 광의 투과성이 양호한 투명 도전성 필름에 관한 것이고, 상세하게는 투명 도전성 필름을 이용한 터치 패널 및 표시 장치에 있어서 표시 패널로부터의 발광의 투과성 저하를 억제할 수 있는 투명 도전성 필름에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD The present invention relates to a transparent conductive film having good light transmittance. More specifically, the present invention relates to a transparent conductive film capable of suppressing a decrease in transmittance of light emitted from a display panel in a touch panel and a display device using a transparent conductive film.
터치 패널 등에 사용되는 투명 도전성 필름은 터치 입력면의 내찰상성이나 외광의 반사 방지성을 부여하기 위해 투명 도전성 필름의 반대면(기재 필름에 대하여 투명 도전막이 형성되어 있는 면과는 반대면)에 하드 코트층, 반사 방지층, 방현층 등의 기능층을 적층하는 것이 알려져 있다(특허문헌 1, 특허문헌 2). A transparent conductive film to be used for a touch panel or the like is provided on the opposite surface of the transparent conductive film (the surface opposite to the surface on which the transparent conductive film is formed with respect to the base film) to provide scratch resistance on the touch input surface and anti- It is known to laminate functional layers such as a coat layer, an antireflection layer, and an antiglare layer (
또한, 터치 패널을 구비한 표시 장치의 내부 공극층(공기층)의 존재는 투명 도전성 필름과 공기층의 계면 반사를 크게 하고, 그것에 의해서 표시 패널로부터의 발광의 투과성이 저하된다고 하는 문제가 생긴다. 이 과제를 해결하기 위해, 투명 도전막과는 반대면에 반사 방지층을 갖는 투명 도전성 필름을 터치 패널이나 표시 장치의 내부에 사용하는 것이 알려져 있다(특허문헌 3, 특허문헌 4).In addition, the presence of the internal void layer (air layer) of the display device provided with the touch panel increases the interface reflection between the transparent conductive film and the air layer, thereby causing a problem that the transmittance of light emitted from the display panel is lowered. In order to solve this problem, it is known to use a transparent conductive film having an antireflection layer on the surface opposite to the transparent conductive film inside a touch panel or a display device (
상기 특허문헌에는 반사 방지층으로서 다층 구성 또는 단일 구성을 채용할 수 있는 것이 기재되어 있다. 그러나, 다층 구성의 경우에는 높은 반사 방지성이 얻어지기 쉽지만, 생산 비용(생산성이 낮음)의 문제나 간섭무늬가 발생하기 쉬워진다고 하는 문제가 있다. 반사 방지층이 단일 구성인 경우에는 저비용이지만 충분한 반사 방지성이 얻어지지 않는다고 하는 문제, 내찰상성의 저하, 미끄러짐성이나 내블로킹성이 저하된다고 하는 문제가 있다. 또한, 상기 특허문헌에는 단일의 반사 방지층에 대해서는 구체적인 기재는 되어 있지 않다. The above patent documents disclose that a multilayer structure or a single structure can be employed as the antireflection layer. However, in the case of a multilayer structure, high antireflection properties tend to be obtained, but there is a problem that production costs (low productivity) and interference patterns tend to occur. When the antireflection layer has a single structure, there is a problem that the antireflection property can not be obtained although the cost is low, the antiscratching property is lowered, and the slipperiness and blocking resistance are lowered. In addition, the above patent document does not describe a single antireflection layer.
따라서, 본 발명의 목적은 저비용으로 반사 방지성이 양호한 투명 도전성 필름을 제공하는 것에 있다. 본 발명의 다른 목적은 본 발명의 투명 도전성 필름을 이용한 터치 패널, 또한 상기 터치 패널을 구비한 표시 장치를 제공하는 것에 있다. Accordingly, an object of the present invention is to provide a transparent conductive film having good antireflection properties at low cost. Another object of the present invention is to provide a touch panel using the transparent conductive film of the present invention and a display device provided with the touch panel.
본 발명의 상기 목적은 이하의 발명에 의해서 달성되었다. The above object of the present invention has been achieved by the following invention.
1) 굴절률이 1.6~1.7인 기재 필름의 한쪽 면에 투명 도전막을 갖고, 상기 기재 필름의 다른쪽 면에 이접착층을 통해서 굴절률이 1.42 이하이고 또한 두께가 80~120㎚인 저굴절률층을 1층만 갖고, 상기 이접착층이 하기 조건 1을 충족하는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름. 1) A transparent conductive film is formed on one surface of a base film having a refractive index of 1.6 to 1.7, and a low refractive index layer having a refractive index of 1.42 or less and a thickness of 80 to 120 nm through the adhesive layer is formed on the other surface of the base film, , And the adhesive layer satisfies the following condition (1).
조건 1; 기재 필름의 굴절률과 이접착층의 굴절률의 차의 절대값이 0.08 이하이다.
2) 굴절률이 1.6~1.7인 기재 필름의 한쪽 면에 투명 도전막을 갖고, 상기 기재 필름의 다른쪽 면에 이접착층을 통해서 굴절률이 1.42 이하이고 또한 두께가 80~120㎚인 저굴절률층을 1층만 갖고, 상기 이접착층이 하기 조건 2를 충족하는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름. 2) A transparent conductive film is formed on one surface of a base film having a refractive index of 1.6 to 1.7, and a low refractive index layer having a refractive index of 1.42 or less and a thickness of 80 to 120 nm is formed on the other surface of the base film through this adhesive layer, And the adhesive layer satisfies the following condition (2).
조건 2; 이접착층의 두께가 5㎚ 이상 50㎚ 미만이다.
3) 굴절률이 1.6~1.7인 기재 필름의 한쪽 면에 투명 도전막을 갖고, 상기 기재 필름의 다른쪽 면에 이접착층을 통해서 굴절률이 1.42 이하이고 또한 두께가 80~120㎚인 저굴절률층을 1층만 갖고, 상기 이접착층이 하기 조건 1 및 조건 2를 충족하는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름. 3) A transparent conductive film is formed on one surface of a base film having a refractive index of 1.6 to 1.7, and a low refractive index layer having a refractive index of 1.42 or less and a thickness of 80 to 120 nm through the adhesive layer is formed on the other surface of the base film, And the adhesive layer satisfies the
조건 1; 기재 필름의 굴절률과 이접착층의 굴절률의 차의 절대값이 0.08 이하이다.
조건 2; 이접착층의 두께가 5㎚ 이상 50㎚ 미만이다.
4) 1) 또는 3)에 있어서,4) The method according to 1) or 3)
상기 기재 필름의 굴절률과 이접착층의 굴절률의 차의 절대값은 0.05 이하인 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름. Wherein an absolute value of a difference between a refractive index of the base film and a refractive index of the adhesive layer is 0.05 or less.
5) 1) 또는 4)에 있어서,5) The method according to 1) or 4)
상기 이접착층의 두께는 5㎚ 이상 200㎚ 미만인 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름. Wherein the adhesive layer has a thickness of 5 nm or more and less than 200 nm.
6) 1) 내지 5) 중 어느 하나에 있어서,6) In any one of 1) to 5)
상기 기재 필름은 폴리에스테르 필름인 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름. Wherein the base film is a polyester film.
7) 6)에 있어서,7) In 6)
상기 폴리에스테르 필름은 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름인 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름. Wherein the polyester film is a polyethylene terephthalate film.
8) 1) 내지 7) 중 어느 하나에 있어서,8) In any one of 1) to 7)
상기 이접착층은 적어도 수지와 가교제를 함유하는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름. Wherein the adhesive layer contains at least a resin and a crosslinking agent.
9) 8)에 있어서, 9) In 8)
상기 수지는 폴리에스테르 수지인 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름. Wherein the resin is a polyester resin.
10) 1) 내지 9) 중 어느 하나에 있어서,10) The method according to any one of 1) to 9)
상기 저굴절률층은 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 습식 코팅법에 의해 도포하여 경화시킨 층인 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름. Wherein the low refractive index layer is a layer obtained by applying an active energy ray curable resin composition by a wet coating method and curing the layer.
11) 1) 내지 10) 중 어느 하나에 있어서,11) The method according to any one of 1) to 10)
상기 이접착층은 입자를 포함하고, 상기 입자의 평균 입자지름(r)과 이접착층의 두께(d)의 관계는 하기 식 1을 충족하는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름. Wherein the adhesive layer comprises particles and the relationship between the average particle diameter r of the particles and the thickness d of the adhesive layer satisfies the following
0.5≤(r/d)≤20···식 1 0.5? (R / d)? 20
12) 11)에 있어서, 12) The method according to 11)
상기 입자를 상기 이접착층의 고형분 총량 100질량%에 대하여 0.05~20질량% 함유하는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름. Wherein the particles are contained in an amount of 0.05 to 20% by mass based on 100% by mass of the total solid content of the adhesive layer.
13) 1) 내지 12) 중 어느 하나에 있어서,13) In any one of 1) to 12)
상기 저굴절률층은 에틸렌성 불포화기를 갖는 폴리실록산 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름.Wherein the low refractive index layer contains a polysiloxane compound having an ethylenic unsaturated group.
14) 상기 1) 내지 13) 중 어느 하나에 기재된 투명 도전성 필름을 구비한 것을 특징으로 하는 터치 패널. 14) A touch panel comprising the transparent conductive film according to any one of 1) to 13).
15) 표시 패널 상에 상기 1) 내지 13) 중 어느 하나에 기재된 투명 도전성 필름을 이용한 터치 패널이 배치된 표시 장치로서, 상기 투명 도전성 필름의 상기 저굴절률층측이 표시 패널과 공기층을 통해서 마주 보도록 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 표시 장치. 15) A display device in which a touch panel is disposed on a display panel using the transparent conductive film according to any one of 1) to 13) above, wherein the low refractive index layer side of the transparent conductive film is disposed so as to face the display panel through the air layer And the display device.
16) 표시 패널 상에 상기 1) 내지 13) 중 어느 하나에 기재된 투명 도전성 필름을 이용한 전자파 차폐 부재가 배치된 표시 장치로서, 상기 투명 도전성 필름의 상기 저굴절률층측이 표시 패널과 공기층을 통해서 마주 보도록 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 표시 장치. 16) A display device in which an electromagnetic wave shielding member using the transparent conductive film according to any one of 1) to 13) above is placed on a display panel, wherein the low refractive index layer side of the transparent conductive film faces the display panel through the air layer And wherein the display device is disposed on the display device.
(발명의 효과) (Effects of the Invention)
본 발명에 의하면, 저비용으로 반사 방지성이 양호한 투명 도전성 필름을 제공할 수 있다. 또한, 본 발명의 투명 도전성 필름을 이용한 터치 패널 및/또는 전자파 차폐 부재를 표시 장치에 배치함으로써 표시 패널로부터의 발광의 투과성이 양호한 표시 장치를 제공할 수 있다. According to the present invention, it is possible to provide a transparent conductive film having good antireflection property at low cost. Further, by disposing the touch panel and / or the electromagnetic wave shielding member using the transparent conductive film of the present invention in the display device, it is possible to provide a display device having good light-transmissive property from the display panel.
또한, 본 발명의 바람직한 형태에 의하면 미끄러짐성이 개량된 투명 도전성 필름을 제공할 수 있다. Further, according to a preferred embodiment of the present invention, it is possible to provide a transparent conductive film having improved slidability.
또한, 본 발명의 바람직한 형태에 의하면 기재 필름으로부터의 올리고머 석출이 억제된 투명 도전성 필름을 제공할 수 있다. Further, according to a preferred embodiment of the present invention, it is possible to provide a transparent conductive film in which oligomer precipitation from the base film is suppressed.
도 1은 본 발명의 투명 도전성 필름을 이용한 저항막식 터치 패널을 구비한 표시 장치의 일례의 모식 단면도이다.
도 2는 본 발명의 투명 도전성 필름을 이용한 정전용량식 터치 패널을 구비한 표시 장치의 일례의 모식 단면도이다.
도 3은 본 발명의 투명 도전성 필름을 이용한 정전용량식 터치 패널을 구비한 표시 장치의 일례의 모식 단면도이다.
도 4는 본 발명의 투명 도전성 필름을 이용한 전자파 차폐 부재를 구비한 표시 장치의 일례의 모식 단면도이다. 1 is a schematic cross-sectional view of an example of a display device having a resistive film touch panel using the transparent conductive film of the present invention.
2 is a schematic sectional view of an example of a display device having a capacitive touch panel using the transparent conductive film of the present invention.
3 is a schematic cross-sectional view of an example of a display device having a capacitive touch panel using the transparent conductive film of the present invention.
4 is a schematic sectional view of an example of a display device having an electromagnetic wave shielding member using the transparent conductive film of the present invention.
본 발명의 투명 도전성 필름은 기재 필름의 한쪽 면에 투명 도전막을 갖고, 상기 기재 필름의 다른쪽 면에 이접착층을 통해서 저굴절률층을 1층만 갖는다. 이하, 본 발명의 투명 도전성 필름의 각 구성 요소에 대해서 상세하게 설명한다. The transparent conductive film of the present invention has a transparent conductive film on one side of a base film and has only one low refractive index layer through the adhesive layer on the other side of the base film. Hereinafter, each component of the transparent conductive film of the present invention will be described in detail.
[기재 필름] [Base film]
본 발명의 기재 필름은 굴절률이 1.6~1.7의 범위에 있는 필름이다. 기재 필름의 굴절률은 저굴절률층과 공기층의 계면에서의 반사율을 작게 한다고 하는 관점에서 큰 쪽이 바람직하다. 기재 필름의 굴절률은, 구체적으로는 1.61 이상이 바람직하고, 1.62 이상이 보다 바람직하고, 1.63 이상이 더욱 바람직하고, 1.64 이상이 특히 바람직하다. The base film of the present invention is a film having a refractive index in the range of 1.6 to 1.7. The refractive index of the base film is preferably as large as possible from the viewpoint of reducing the reflectance at the interface between the low refractive index layer and the air layer. Specifically, the refractive index of the base film is preferably 1.61 or more, more preferably 1.62 or more, further preferably 1.63 or more, and particularly preferably 1.64 or more.
본 발명의 기재 필름은 플라스틱 필름 중에서 선택할 수 있다. 플라스틱 필름 중에서도 인장 강도, 내열성, 내용제성의 관점에서 폴리에스테르 필름이 바람직하고, 특히 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(PET 필름)이 바람직하게 이용된다. The base film of the present invention can be selected from plastic films. Among the plastic films, a polyester film is preferable in view of tensile strength, heat resistance and solvent resistance, and a polyethylene terephthalate film (PET film) is particularly preferably used.
기재 필름의 두께는 20~300㎛의 범위가 적당하고, 30~200㎛의 범위가 바람직하고, 50~150㎛의 범위가 보다 바람직하다. The thickness of the base film is suitably in the range of 20 to 300 mu m, preferably in the range of 30 to 200 mu m, and more preferably in the range of 50 to 150 mu m.
[이접착층] [Adhesive layer]
본 발명의 이접착층은 기재 필름과 저굴절률층의 밀착성을 강화함과 아울러, 기재 필름 및 후술의 저굴절률층과의 조합에 의해서 우수한 반사 방지성(낮은 반사율)을 유지하기 위한 것이다. 우수한 반사 방지성을 유지하기 위해서는 이접착층은 하기 조건 1, 조건 2 또는 (조건 1 및 조건 2)를 충족할 필요가 있다. 특히, 이접착층은 조건 1을 충족하는 것이 바람직하다. This adhesive layer of the present invention is intended to enhance the adhesion between the base film and the low refractive index layer and to maintain excellent antireflection properties (low reflectance) by the combination of the base film and the low refractive index layer described later. In order to maintain excellent antireflection property, this adhesive layer needs to satisfy the
조건 1; 기재 필름의 굴절률과 이접착층의 굴절률의 차의 절대값이 0.08 이하이다.
조건 2; 이접착층의 두께가 5㎚ 이상 50㎚ 미만이다.
[조건 1을 충족하는 이접착층] [This adhesive layer satisfying Condition 1]
조건 1의 이접착층은 기재 필름의 굴절률과 이접착층의 굴절률의 차의 절대값이 0.08 이하를 충족하는 이접착층이다. 상기 굴절률차의 절대값은 0.06 이하가 바람직하고, 0.05 이하가 보다 바람직하고, 특히 0.03 이하가 바람직하고, 0.01 이하가 가장 바람직하다. 기재 필름의 굴절률과 이접착층의 굴절률의 차의 절대값이 0.08보다 커지면 양호한 반사 방지성이 얻어지지 않는다. This adhesive layer under
이접착층은 기재 필름과 저굴절률층의 밀착성을 강화한다고 하는 의미에서 이접착층 자신의 경도는 너무 높지 않은 것이 바람직하다. 본 발명의 투명 도전성 필름은 이접착층 상에는 극박막의 저굴절률층 밖에 갖지 않으므로 경도가 너무 높지 않은 이접착층의 두께를 크게 하면 저굴절률층의 경도가 저하된다고 하는 문제가 발생하는 경우가 있다. 따라서, 이접착층의 두께는 비교적 작은 쪽이 바람직하다. It is preferable that the hardness of the adhesive layer itself is not too high in the sense of enhancing the adhesion between the base film and the low refractive index layer. Since the transparent conductive film of the present invention has only a low refractive index layer of an extremely thin film on the adhesive layer, there arises a problem that if the thickness of the adhesive layer whose hardness is not too high, the hardness of the low refractive index layer is lowered. Therefore, it is preferable that the thickness of the adhesive layer is relatively small.
이접착층의 두께는 상기 관점에서 구체적으로는 200㎚ 미만이 바람직하고, 150㎚ 미만이 보다 바람직하고, 130㎚ 미만이 더욱 바람직하고, 100㎚ 미만이 특히 바람직하다. 하한의 두께는 기재 필름과 저굴절률층의 밀착성을 확보한다고 하는 관점에서 5㎚ 이상이 바람직하고, 10㎚ 이상이 보다 바람직하고, 20㎚ 이상이 더욱 바람직하다. Specifically, the thickness of the adhesive layer is preferably less than 200 nm, more preferably less than 150 nm, further preferably less than 130 nm, and particularly preferably less than 100 nm. The thickness of the lower limit is preferably not less than 5 nm, more preferably not less than 10 nm, and even more preferably not less than 20 nm from the viewpoint of securing adhesion between the base film and the low refractive index layer.
조건 1의 이접착층은 굴절률이 비교적 큰 이접착층이고, 이러한 이접착층은 비교적 굴절률이 큰 수지나 금속 산화물 미립자 등의 고굴절률 재료를 함유시킴으로써 얻을 수 있다. This adhesive layer under
폴리에틸렌테레프탈레이트 필름에 이접착층을 형성하는 것은 알려져 있다. 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 굴절률은 통상 1.63~1.67 정도이고, 종래부터 일반적으로 적층되어 있는 이접착층은 폴리에스테르 수지, 아크릴 수지, 우레탄 수지 등의 수지를 주성분으로 하는 것이고, 굴절률은 통상 1.50~1.54 정도로 비교적 작은 것이며, 조건 1을 충족하지 않는다. It is known to form this adhesive layer on a polyethylene terephthalate film. The refractive index of the polyethylene terephthalate film is usually about 1.63 to 1.67. The adhesive layer which is conventionally laminated in the prior art is made mainly of a resin such as a polyester resin, an acrylic resin, and a urethane resin. The refractive index is usually about 1.50 to 1.54 Small, does not meet
조건 1의 이접착층의 하나의 형태는 폴리에스테르 수지, 아크릴 수지, 우레탄 수지 등의 수지에 방향족환, 황 원자, 브롬 원자 등을 도입함으로써 고굴절률화 한 수지를 이용하는 형태이다. 상기 고굴절률화 한 수지의 함유량은 이접착층의 고형분 총량 100질량%에 대하여 50질량% 이상인 것이 바람직하고, 60질량% 이상인 것이 보다 바람직하고, 특히 70질량% 이상인 것이 바람직하다. 상한의 함유량은 98질량% 정도이다. One form of the adhesive layer of
상기 고굴절률화 한 수지로서는 분자 중에 방향족환을 갖는 폴리에스테르 수지가 바람직하고, 분자 중에 축합 방향족환을 갖는 폴리에스테르 수지가 더욱 바람직하다. 상기 축합 방향족환으로서는, 예를 들면 나프탈렌환, 플루오렌환 등이 예시된다. As the resin having a high refractive index, a polyester resin having an aromatic ring in a molecule is preferable, and a polyester resin having a condensed aromatic ring in a molecule is more preferable. Examples of the condensed aromatic ring include naphthalene ring, fluorene ring and the like.
폴리에스테르 수지는 일반적으로 카르복실산 성분과 글리콜 성분으로부터 중축합하여 얻어진다. 상기 분자 중에 나프탈렌환을 갖는 폴리에스테르 수지는 카르복실산 성분으로서, 1,4-나프탈렌디카르복실산, 2,6-나프탈렌디카르복실산 등의 나프탈렌환을 갖는 디카르복실산을 사용함으로써 합성할 수 있다. 분자 중에 나프탈렌환을 갖는 폴리에스테르 수지의 굴절률은 전체 카르복실산 성분 중의 나프탈렌환을 갖는 디카르복실산의 비율을 조정함으로써 제어할 수 있다. The polyester resin is generally obtained by polycondensation from a carboxylic acid component and a glycol component. The polyester resin having a naphthalene ring in the molecule can be synthesized by using a dicarboxylic acid having a naphthalene ring such as 1,4-naphthalenedicarboxylic acid or 2,6-naphthalenedicarboxylic acid as a carboxylic acid component can do. The refractive index of the polyester resin having a naphthalene ring in the molecule can be controlled by adjusting the ratio of the dicarboxylic acid having a naphthalene ring in the whole carboxylic acid component.
상기 분자 중에 플루오렌환을 갖는 폴리에스테르 수지는 카르복실산 성분 및/또는 글리콜 성분으로서 플루오렌환을 갖는 화합물을 사용함으로써 합성할 수 있다. 상기 플루오렌환을 갖는 화합물의 함유량을 조정함으로써 그 폴리에스테르 수지의 굴절률을 제어할 수 있다. 분자 중에 플루오렌환을 갖는 폴리에스테르 수지는, 예를 들면 국제 공개 번호 WO2009/145075호에 상세하게 기재되어 있고, 이것을 참조하여 합성할 수 있다. The polyester resin having a fluorene ring in the molecule can be synthesized by using a compound having a fluorene ring as a carboxylic acid component and / or a glycol component. The refractive index of the polyester resin can be controlled by adjusting the content of the fluorene ring-containing compound. A polyester resin having a fluorene ring in a molecule is described in detail, for example, in International Publication No. WO2009 / 145075, and can be synthesized with reference to this.
상기 폴리에스테르 수지는 수용성 또는 수분산성인 것이 바람직하다. 수용성 또는 수분산성 폴리에스테르 수지는 폴리에스테르 수지의 합성에 이용되는 카르복실산 성분 중에 3가 이상의 다가 카르복실산 또는 술포기를 갖는 디카르복실산을 포함시킴으로써 합성할 수 있다. The polyester resin is preferably water-soluble or water-dispersible. The water-soluble or water-dispersible polyester resin can be synthesized by including a polycarboxylic acid having three or more carboxyl groups or a dicarboxylic acid having a sulfo group in the carboxylic acid component used for synthesis of polyester resin.
조건 1의 이접착층의 다른 형태는 금속 산화물 미립자를 함유시키는 형태이다. 이 형태의 이접착층은 수지 중에 금속 산화물 미립자가 분산된 층이다. 수지로서는, 예를 들면 아크릴 수지(바람직하게는 아크릴 수지 폴리올 등의 OH기를 갖는 아크릴 수지), 폴리에스테르 수지(바람직하게는 폴리에스테르 수지 폴리올 등의 OH기를 갖는 폴리에스테르 수지), 에폭시 수지, 우레탄 수지, 스티렌-말레산 그라프트 폴리에스테르 수지, 아크릴 그라프트 폴리에스테르 수지, 실리콘 수지, 또는 상술의 분자 중에 축합 방향족환을 갖는 폴리에스테르 수지 등을 이용할 수 있다.Another form of this adhesive layer under
금속 산화물 미립자로서는 산화티탄, 산화지르코늄, 산화아연, 산화주석, 산화안티몬, 산화세륨, 산화철, 안티몬산 아연, 산화주석 도프 산화인듐(ITO), 안티몬 도프 산화주석(ATO), 인 도프 산화주석, 알루미늄 도프 산화아연, 갈륨 도프 산화아연 등을 이용할 수 있다. 이들 금속 산화물 미립자 중에서도, 투명성, 내광성, 고굴절률화의 관점에서 산화티탄 및 산화지르코늄이 바람직하고, 특히 산화지르코늄이 바람직하다. Examples of the metal oxide fine particles include titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, antimony oxide, cerium oxide, iron oxide, zinc antimonate, indium tin oxide (ITO), antimony doped tin oxide (ATO) Aluminum-doped zinc oxide, and gallium-doped zinc oxide may be used. Among these metal oxide fine particles, titanium oxide and zirconium oxide are preferable in view of transparency, light resistance, and high refractive index, and zirconium oxide is particularly preferable.
이접착층에 있어서의 수지와 금속 산화물 미립자의 함유 비율은 질량비로 100:10~100:400의 범위가 적당하고, 100:20~100:300의 범위가 바람직하고, 특히 100:30~100:200의 범위가 바람직하다. The content of the resin and the metal oxide fine particles in the adhesive layer is suitably in the range of 100: 10 to 100: 400, more preferably 100: 20 to 100: 300, particularly 100: 30 to 100: Is preferable.
[조건 2를 충족하는 이접착층] [This adhesive layer satisfying the condition 2]
조건 2의 이접착층은 그 두께가 5㎚ 이상 50㎚ 미만의 범위이다. 이접착층의 두께가 50㎚ 이상으로 되면 낮은 반사율이 얻어지지 않고, 반대로 이접착층의 두께가 5㎚ 미만으로 되면 저굴절률층의 밀착성이 저하된다. 조건 2의 이접착층의 두께는 상기 두께의 범위 내에서도 작은 쪽이 바람직하고, 구체적으로는 40㎚ 미만이 바람직하고, 30㎚ 미만이 보다 바람직하다. 이접착층의 하한의 두께는 10㎚ 이상이 바람직하다. The adhesive layer of
조건 2의 이접착층의 굴절률은 특별히 한정되지 않지만, 1.45 이상 1.60 미만의 범위가 바람직하고, 1.47~1.59의 범위가 보다 바람직하고, 특히 1.48~1.58의 범위가 바람직하다. The refractive index of this adhesive layer under
조건 2의 이접착층은 폴리에스테르 수지, 아크릴 수지, 우레탄 수지 등의 수지를 포함하는 층인 것이 바람직하다. The adhesive layer of
또한, 조건 2의 이접착층은 상기 조건 1과 마찬가지의 조성의 이접착층을 이용할 수 있다. This adhesive layer of
[조건 1과 조건 2를 충족하는 이접착층] [This adhesive layer satisfying the
본 발명의 이접착층으로서, 조건 1 및 조건 2를 동시에 충족하는 이접착층을 이용할 수 있다. As this adhesive layer of the present invention, this adhesive layer satisfying the
[조건 1의 이접착층과 조건 2의 이접착층의 공통되는 내용] [Contents common to this adhesive layer under
이어서, 조건 1 및 조건 2의 이접착층에 공통되는 내용에 대해서 설명한다. Next, the contents common to this adhesive layer under
본 발명의 이접착층은 상술한 바와 같이 적어도 수지를 포함하고 있는 것이 바람직하다. 이러한 수지로서는 적어도 폴리에스테르 수지를 포함하는 것이 바람직하다. 수지를 포함하는 이접착층은 상세하게는 후술하지만, 폴리에스테르 필름의 제조 공정 내에서 인라인으로 이접착층을 적층하는 것이 가능하고, 생산성의 점에서 유익하다. 이접착층에 있어서의 수지의 함유량은 이접착층의 고형분 총량 100질량%에 대하여 20질량% 이상인 것이 바람직하고, 30질량% 이상인 것이 보다 바람직하고, 특히 50질량% 이상인 것이 바람직하다. 상한은 98질량% 정도이다. The adhesive layer of the present invention preferably contains at least a resin as described above. As such a resin, it is preferable to include at least a polyester resin. This adhesive layer containing the resin is described later in detail, but it is possible to laminate the adhesive layer in-line in the production process of the polyester film, and is advantageous in terms of productivity. The content of the resin in the adhesive layer is preferably 20% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, and particularly preferably 50% by mass or more based on 100% by mass of the total solid content of the adhesive layer. The upper limit is about 98% by mass.
이접착층은 가교제를 함유하는 것이 바람직하다. 이러한 가교제로서는 멜라민계 가교제, 옥사졸린계 가교제, 카르보디이미드계 가교제, 이소시아네이트계 가교제, 아지리딘계 가교제, 에폭시계 가교제, 메틸올화 또는 알킬올화 한 요소계 가교제, 아크릴아미드계 가교제, 폴리아미드계 수지, 아미드에폭시 화합물, 각종 실란 커플링제, 각종 티타네이트계 커플링제 등을 이용할 수 있다. 이들 가교제 중에서도 멜라민계 가교제, 옥사졸린계 가교제, 카르보디이미드계 가교제, 이소시아네이트계 가교제 및 아지리딘계 가교제로 이루어지는 군 중의 적어도 1종을 이용하는 것이 바람직하다. The adhesive layer preferably contains a crosslinking agent. Examples of the crosslinking agent include melamine crosslinking agents, oxazoline crosslinking agents, carbodiimide crosslinking agents, isocyanate crosslinking agents, aziridine crosslinking agents, epoxy crosslinking agents, methylol or alkylol urea crosslinking agents, acrylamide crosslinking agents, polyamide resins, Amide epoxy compounds, various silane coupling agents, and various titanate-based coupling agents. Among these crosslinking agents, at least one selected from the group consisting of a melamine crosslinking agent, an oxazoline crosslinking agent, a carbodiimide crosslinking agent, an isocyanate crosslinking agent and an aziridine crosslinking agent is preferably used.
이접착층에 있어서의 가교제의 함유량은 이접착층의 고형분 총량 100질량%에 대하여 1~40질량%의 범위가 바람직하고, 3~35질량%의 범위가 보다 바람직하고, 5~30질량%의 범위가 특히 바람직하다. The content of the crosslinking agent in the adhesive layer is preferably in the range of 1 to 40 mass%, more preferably in the range of 3 to 35 mass%, and more preferably in the range of 5 to 30 mass%, based on 100 mass% of the total solid content of the adhesive layer Particularly preferred.
이접착층은 적어도 수지와 가교제를 함유하는 것이 바람직하다. 이것에 의해서 기재 필름과 저굴절률층의 밀착성이 한층 향상된다. The adhesive layer preferably contains at least a resin and a crosslinking agent. This further improves the adhesion between the base film and the low refractive index layer.
또한, 이러한 이접착층(적어도 수지와 가교제를 함유하는 이접착층)을 기재 필름에 적층하고, 이 이접착층 상에 후술의 저굴절률층(활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 습식 코팅법에 의해 도포하여 경화시킨 저굴절률층)을 적층함으로써 기재 필름으로부터의 올리고머 석출을 억제할 수 있다. Further, this adhesive layer (the adhesive layer containing at least a resin and a crosslinking agent) is laminated on a base film, and a low refractive index layer described later (an active energy ray curable resin composition is coated by a wet coating method and cured Low-refractive-index layer) are stacked, oligomer precipitation from the base film can be suppressed.
기재 필름으로서 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 이용한 경우, 후술하는 투명 도전막의 제막 공정 등에서 가열 처리되면, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 표면에 비가교 성분인 올리고머(환상 삼량체)가 석출되는 경우가 있다. 이 올리고머 석출은 이접착층(적어도 수지와 가교제를 함유하는 이접착층)과 저굴절률층(활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 습식 코팅법에 의해 도포하여 경화시킨 저굴절률층)을 적층함으로써 억제할 수 있다.When a polyethylene terephthalate film is used as the base film, an oligomer (cyclic trimer), which is a non-cross-linked component, may be precipitated on the surface of the polyethylene terephthalate film when the film is subjected to a heat treatment in a film forming process or the like of a transparent conductive film described later. This oligomer precipitation can be suppressed by laminating the adhesive layer (the adhesive layer containing at least a resin and a crosslinking agent) and a low refractive index layer (a low refractive index layer formed by coating an active energy ray curable resin composition by a wet coating method).
또한, 올리고머 석출을 억제한다고 하는 관점에서 이접착층의 두께는 50㎚ 이상이 바람직하고, 60㎚ 이상이 보다 바람직하고, 특히 70㎚ 이상이 바람직하다. The thickness of the adhesive layer is preferably 50 nm or more, more preferably 60 nm or more, and particularly preferably 70 nm or more from the viewpoint of suppressing oligomer precipitation.
이접착층은 입자를 더 함유하는 것이 바람직하다. 입자를 함유하는 이접착층 상에 평활하고 박막(80~120㎚)인 저굴절률층을 1층만 적층한 경우, 이접착층의 입자로부터 유래되는 볼록 구조가 저굴절률층에도 반영되고, 그 결과 저굴절률층 적층 후라도 저굴절률층 표면의 미끄러짐성이 향상되어 양호한 내블로킹을 유지할 수 있다. It is preferable that the adhesive layer further contains particles. In the case where only one low refractive index layer having a smooth film (80 to 120 nm) is laminated on this adhesive layer containing particles, the convex structure derived from the particles of the adhesive layer is also reflected in the low refractive index layer, The slipperiness of the surface of the low refractive index layer is improved even after the lamination, and good blocking resistance can be maintained.
상기 관점에서 이접착층에 함유시키는 입자의 평균 입자지름(r)은 이접착층의 두께(d)에 대하여 비교적 큰 비율인 것이 바람직하다. 구체적으로는 하기 식 1을 충족하는 것이 바람직하고, 하기 식 2를 충족하는 것이 더욱 바람직하고, 특히 하기 식 3을 충족하는 것이 바람직하다. From the above viewpoint, it is preferable that the average particle diameter (r) of the particles contained in the adhesive layer is a relatively large ratio to the thickness (d) of the adhesive layer. Specifically, it is preferable to satisfy the following formula (1), more preferably to satisfy the following formula (2), and particularly preferably to satisfy the following formula (3).
0.5≤(r/d)≤20···식 1 0.5? (R / d)? 20
1.0≤(r/d)≤10···식 2 1.0? (R / d)? 10
1.3≤(r/d)≤6 ···식 3 1.3? (R / d)? 6
이접착층에 함유시키는 입자의 평균 입자지름은 상기 식 1~식 3의 범위에서 선택하는 것이 바람직하지만, 입자의 평균 입자지름은 구체적으로는 10~600㎚의 범위가 바람직하고, 20~500㎚의 범위가 보다 바람직하고, 특히 30~300㎚의 범위가 바람직하다. 또한, 이접착층에 함유시키는 입자의 평균 입자지름은 수 평균으로 구한 입자지름이다. The average particle diameter of the particles to be contained in the adhesive layer is preferably selected in the range of the
이접착층에 있어서의 입자의 함유량은 이접착층의 고형분 총량 100질량%에 대하여 0.05~20질량%의 범위가 바람직하고, 0.1~15질량%의 범위가 보다 바람직하고, 특히 0.2~10질량%의 범위가 바람직하다. The content of the particles in the adhesive layer is preferably in the range of 0.05 to 20 mass%, more preferably in the range of 0.1 to 15 mass%, particularly preferably in the range of 0.2 to 10 mass%, based on 100 mass% of the total solid content of the adhesive layer .
이접착층에 함유되는 입자로서는 특별히 한정되지 않지만, 실리카 입자, 산화티탄, 산화알루미늄, 산화지르코늄, 탄산칼슘, 카본블랙, 제올라이트 입자 등의 무기 입자나, 아크릴 입자, 실리콘 입자, 폴리이미드 입자, 테프론(등록상표) 입자, 가교 폴리에스테르 입자, 가교 폴리스티렌 입자, 가교 중합체 입자, 코어 쉘(core shell) 입자 등의 유기 입자가 예시된다. 이들 중에서도 실리카 입자가 바람직하고, 특히 콜로이달 실리카가 바람직하다. The particles contained in the adhesive layer are not particularly limited and examples thereof include inorganic particles such as silica particles, titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, carbon black and zeolite particles, acrylic particles, silicone particles, polyimide particles, (Registered trademark) particles, crosslinked polyester particles, crosslinked polystyrene particles, crosslinked polymer particles, core shell particles and the like. Of these, silica particles are preferable, and colloidal silica is particularly preferable.
본 발명의 이접착층은 기재 필름 상에 습식 코팅법으로 적층되는 것이 바람직하고, 기재 필름의 제조 공정 내에서 이접착층을 적층하는, 이른바 인라인 코팅법이 더욱 바람직하다. 습식 코팅법으로서는, 예를 들면 리버스 코팅법, 스프레이 코팅법, 바 코팅법, 그라비아 코팅법, 로드 코팅법, 다이 코팅법 등이 예시된다. The adhesive layer of the present invention is preferably laminated on the base film by the wet coating method, and the so-called inline coating method in which the adhesive layer is laminated in the production process of the base film is more preferable. Examples of the wet coating method include a reverse coating method, a spray coating method, a bar coating method, a gravure coating method, a rod coating method and a die coating method.
기재 필름 상에 본 발명의 이접착층을 도포할 때에는 도포성이나 밀착성을 향상시키기 위한 예비 처리로서 기재 필름 표면에 코로나 방전 처리, 화염 처리, 플라즈마 처리 등을 실시해 두는 것이 바람직하다. When this adhesive layer of the present invention is coated on the base film, it is preferable to subject the surface of the base film to corona discharge treatment, flame treatment, plasma treatment, or the like as a preliminary treatment for improving coatability and adhesion.
상술의 인라인 코팅법에 대해서 기재 필름으로서 폴리에틸렌테레프탈레이트(이하, PET로 약칭) 필름을 이용한 형태에 대해서 이하에 설명하지만, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니다. A mode in which polyethylene terephthalate (hereinafter abbreviated as PET) film is used as a base film in the above-mentioned inline coating method will be described below, but the present invention is not limited thereto.
PET 필름의 원료인 극한점도 0.5~0.8dl/g의 PET 펠릿을 진공 건조한 후 압출기에 공급하여 260~300℃에서 용융하고, T자형 구금(口金)으로부터 시트 형상으로 압출하고, 정전인가 캐스트법를 이용하여 표면 온도 10~60℃의 경면 캐스팅 드럼에 권취하고, 냉각 고화시켜서 미연신 PET 필름을 제작한다. 이 미연신 PET 필름을 70~100℃로 가열된 롤 사이에서 세로 방향(필름의 진행 방향을 가리킴 「길이 방향」이라고도 함)으로 2.5~5배 연신한다. 이 연신에 의해 얻어진 1축 연신 PET 필름의 적어도 편면에 공기 중에서 코로나 방전 처리를 실시하여 그 표면의 젖음 장력을 47mN/m 이상으로 하고, 그 처리면에 본 발명의 이접착층의 도포액을 도포한다. PET pellets having an intrinsic viscosity of 0.5 to 0.8 dl / g, which is a raw material of a PET film, are vacuum dried and then fed to an extruder, melted at 260 to 300 ° C, extruded into a sheet form from a tee-shaped nip and subjected to electrostatic casting And wound up on a mirror casting drum having a surface temperature of 10 to 60 DEG C, followed by cooling and solidification to produce an unoriented PET film. This unstretched PET film is stretched 2.5 to 5 times in the longitudinal direction (also referred to as " longitudinal direction " in the direction of film advance) between rolls heated to 70 to 100 캜. At least one surface of the uniaxially stretched PET film obtained by this stretching is subjected to corona discharge treatment in air to adjust the wet tension of the surface to 47 mN / m or more, and the application liquid of the adhesive layer of the present invention is applied to the treated surface .
이어서, 도포액이 도포된 1축 연신 PET 필름을 클립으로 파지하여 건조 존으로 안내하고, 1축 연신 PET 필름의 Tg 미만의 온도에서 건조한 후 Tg 이상의 온도로 높여서 다시 Tg 근방의 온도에서 건조, 계속해서 연속적으로 70~150℃의 가열 존에서 가로 방향(필름의 진행 방향과는 직교하는 방향을 가리킴 「폭 방향」이라고도 함)으로 2.5~5배 연신하고, 이어서 180~240℃의 가열 존에서 5~40초 동안 열 처리를 실시하여 결정 배향이 완료된 PET 필름에 이접착층이 적층된 폴리에스테르 필름이 얻어진다. 또한, 상기 열 처리 중에 필요에 따라서 3~12%의 이완 처리를 실시해도 좋다. 이축 연신은 세로, 가로 축차 연신 또는 동시 2축 연신 중 어느 것이어도 좋고, 또한 세로, 가로 연신 후에 세로, 가로 어느 하나의 방향으로 재연신해도 좋다. Next, the uniaxially stretched PET film coated with the coating liquid was gripped with a clip and guided to a drying zone. The uniaxially stretched PET film was dried at a temperature lower than the Tg of the uniaxially stretched PET film and then increased to a temperature of Tg or higher. The film is continuously stretched by 2.5 to 5 times in the transverse direction (also referred to as the " width direction " indicating the direction orthogonal to the film advancing direction) in a heating zone at 70 to 150 캜, followed by stretching by 5 to 5 times in the heating zone at 180 to 240 캜 A heat treatment is performed for 40 seconds to obtain a polyester film in which the adhesive layer is laminated on the PET film in which the crystal orientation is completed. In addition, during the heat treatment, a relaxation treatment of 3 to 12% may be carried out if necessary. The biaxial stretching may be longitudinal, transverse stretching or simultaneous biaxial stretching, or may be repeated in any one of the longitudinal and transverse directions after longitudinal and transverse stretching.
본 발명의 이접착층은 기재 필름과 저굴절률층의 밀착성을 강화한다고 하는 관점에서 자외선이나 전자선 등의 활성 에너지선에 의해 경화되는 수지층이 아닌 것이 바람직하다. 예를 들면, 이접착층 대신에 활성 에너지선 경화성 고굴절률층을 기재 필름에 직접 적층한 경우에는 기재 필름과 고굴절률층의 밀착성이 충분하게 얻어지지 않는다. It is preferable that the adhesive layer of the present invention is not a resin layer that is cured by active energy rays such as ultraviolet rays or electron beams from the viewpoint of enhancing adhesion between the base film and the low refractive index layer. For example, when an active energy radiation curable high refractive index layer is directly laminated on a base film instead of the adhesive layer, adhesion between the base film and the high refractive index layer can not be sufficiently obtained.
(저굴절률층) (Low refractive index layer)
본 발명의 저굴절률층은 굴절률이 1.42 이하이고 또한 두께가 80~120㎚인 층이다. 저굴절률층의 굴절률은 1.41 이하가 바람직하고, 1.40 이하가 보다 바람직하고, 특히 1.39 이하가 바람직하다. 하한의 굴절률은 특별히 한정되지 않지만 1.30 정도이다. The low refractive index layer of the present invention is a layer having a refractive index of 1.42 or less and a thickness of 80 to 120 nm. The refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.41 or less, more preferably 1.40 or less, and particularly preferably 1.39 or less. The refractive index of the lower limit is not particularly limited, but is about 1.30.
저굴절률층의 굴절률이 1.42보다 커지면 양호한 반사 방지성이 얻어지지 않는다. 또한, 저굴절률층의 두께가 80~120㎚의 범위를 벗어나는 경우에도 양호한 반사 방지성이 얻어지지 않는다. When the refractive index of the low refractive index layer is larger than 1.42, good antireflection properties can not be obtained. Further, even when the thickness of the low refractive index layer is out of the range of 80 to 120 nm, good antireflection properties can not be obtained.
저굴절률층의 두께는 85~115㎚의 범위가 바람직하고, 특히 90~110㎚의 범위가 바람직하다. The thickness of the low refractive index layer is preferably in the range of 85 to 115 nm, particularly preferably in the range of 90 to 110 nm.
저굴절률층의 하나의 형태로서 금속 불화물 막이 예시된다. 이 금속 불화물 막은 진공 증착법, 반응성 증착법, 이온빔 어시스트 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법, 플라즈마 CVD법 등의 기상 제막법에 의해 적층된 막이다. As one form of the low refractive index layer, a metal fluoride film is exemplified. This metal fluoride film is a film laminated by a vapor deposition method such as a vacuum deposition method, a reactive deposition method, an ion beam assisted deposition method, a sputtering method, an ion plating method, and a plasma CVD method.
상기 금속 불화물로서는, 예를 들면 불화마그네슘(MgF2), 불화알루미늄(AlF3), 불화칼슘(CaF2), 불화바륨(BaF2), 불화스트론튬(SrF2), 빙정석(Na3AlF6), 티오라이트(Na5Al3F14), 불화나트륨(NaF) 등이 예시된다. 이들 중에서도 불화마그네슘이 바람직하게 이용된다. Examples of the metal fluoride, for example, magnesium fluoride (MgF 2), aluminum fluoride (AlF 3), calcium fluoride (CaF 2), barium fluoride (BaF 2), fluoride, strontium (SrF 2), cryolite (Na 3 AlF 6) , Thiolite (Na 5 Al 3 F 14 ), sodium fluoride (NaF), and the like. Of these, magnesium fluoride is preferably used.
저굴절률층의 바람직한 형태는 활성 에너지선 경화성 조성물을 습식 코팅법에 의해 도포하여 경화시킨 층이다. A preferred form of the low refractive index layer is a layer obtained by applying the active energy ray curable composition by a wet coating method and curing it.
습식 코팅법으로서는, 예를 들면 리버스 코팅법, 스프레이 코팅법, 바 코팅법, 그라비아 코팅법, 로드 코팅법, 다이 코팅법, 스핀 코팅법, 엑스트루젼법 등의 도포 방법을 이용할 수 있다.As the wet coating method, a coating method such as a reverse coating method, a spray coating method, a bar coating method, a gravure coating method, a rod coating method, a die coating method, a spin coating method, and an extrusion method can be used.
활성 에너지선 경화성 조성물로서는, 예를 들면 자외선이나 전자선 등의 활성 에너지선에 의해서 경화하는 활성 에너지선 경화성 수지와 저굴절률 재료로서 저굴절률 무기 입자 및/또는 함불소 화합물을 포함하는 조성물이 예시된다. As the active energy ray-curable composition, for example, a composition comprising an active energy ray-curable resin curable by an active energy ray such as ultraviolet rays or electron beams and a low refractive index inorganic particle and / or a fluorinated compound as a low refractive index material.
활성 에너지선 경화성 수지는 자외선이나 전자선 등의 활성 에너지선에 의해 경화되는 수지이고, 분자 중에 적어도 1개의 에틸렌성 불포화기를 갖는 모노머나 올리고머가 바람직하게 이용된다. 여기서, 에틸렌성 불포화기로서는 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 비닐기, 알릴기 등이 예시된다. 또한, 이하의 설명에 있어서 「···(메타)아크릴레이트」라는 표현은 「···아크릴레이트」와 「···메타크릴레이트」의 2가지의 화합물을 포함한다. The active energy ray curable resin is a resin which is cured by active energy rays such as ultraviolet rays or electron beams, and monomers or oligomers having at least one ethylenic unsaturated group in the molecule are preferably used. Examples of the ethylenic unsaturated group include an acryloyl group, a methacryloyl group, an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, a vinyl group, and an allyl group. In the following description, the expression " (meth) acrylate " includes two compounds of " ... acrylate " and " methacrylate ".
상기 모노머의 예로서는 메틸(메타)아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트, 에톡시디에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시(메타)아크릴레이트 등의 단관능 아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 트리펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 트리펜타에리스리톨헥사(메타)트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판(메타)아크릴산 벤조산 에스테르, 트리메틸올프로판벤조산 에스테르 등의 다관능 아크릴레이트, 글리세린디(메타)아크릴레이트 헥사메틸렌디이소시아네이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트 헥사메틸렌디이소시아네이트 등의 우레탄아크릴레이트 등을 예시할 수 있다. Examples of the monomer include methyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, phenoxyethyl (Meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxy- (Meth) acrylate such as neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri Acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (Meth) acrylate such as dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tripentaerythritol tri (meth) acrylate, tripentaerythritol hexa (meta) triacrylate, trimethylol propane Acrylate, urethane acrylate such as glycerine di (meth) acrylate hexamethylene diisocyanate, pentaerythritol tri (meth) acrylate hexamethylene diisocyanate, and the like.
상기 올리고머의 예로서는 폴리에스테르(메타)아크릴레이트, 폴리우레탄(메타)아크릴레이트, 에폭시(메타)아크릴레이트, 폴리에테르(메타)아크릴레이트, 알키드(메타)아크릴레이트, 멜라민(메타)아크릴레이트, 실리콘(메타)아크릴레이트 등을 예시할 수 있다. Examples of the oligomer include polyester (meth) acrylate, polyurethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, alkyd (Meth) acrylate, and the like.
상기한 모노머나 올리고머는 단독 또는 복수 혼합하여 사용해도 좋지만, 3관능 이상의 다관능 모노머나 다관능 올리고머를 이용하는 것이 바람직하다. The monomer or oligomer may be used alone or in combination, but it is preferable to use a trifunctional or higher functional monomer or polyfunctional oligomer.
활성 에너지선 경화성 조성물에 있어서, 활성 에너지선 경화성 수지의 함유량은 조성물의 고형분 총량 100질량%에 대하여 5~90질량%의 범위가 적용되고, 5~80질량%의 범위가 바람직하고, 10~70질량%의 범위가 보다 바람직하다. In the active energy ray-curable composition, the content of the active energy ray-curable resin is in the range of 5 to 90 mass% with respect to 100 mass% of the total solid content of the composition, preferably 5 to 80 mass% The range of mass% is more preferable.
저굴절률 무기 입자로서는 실리카나 불화마그네슘 등의 무기 입자가 바람직하다. 또한, 이들 무기 입자는 중공 형상 및 다공질인 것이 바람직하다. 상기 무기 입자의 굴절률은 1.2~1.35의 범위가 보다 바람직하다. As the low refractive index inorganic particles, inorganic particles such as silica and magnesium fluoride are preferable. These inorganic particles are preferably hollow and porous. The refractive index of the inorganic particles is more preferably in the range of 1.2 to 1.35.
활성 에너지선 경화성 조성물에 있어서, 저굴절률 무기 입자의 함유량은 조성물의 고형분 총량 100질량%에 대하여 20~70질량%의 범위가 바람직하고, 25~70질량%의 범위가 보다 바람직하고, 특히 30~60질량%의 범위가 바람직하다. In the active energy ray-curable composition, the content of the low refractive index inorganic particles is preferably in the range of 20 to 70 mass%, more preferably 25 to 70 mass%, particularly preferably 30 to 70 mass%, based on 100 mass% of the total solid content of the composition. By mass to 60% by mass.
함불소 화합물로서는 함불소 모노머, 함불소 올리고머, 함불소 고분자 화합물이 예시된다. 여기서, 함불소 모노머, 함불소 올리고머는 분자 중에 에틸렌성 불포화기와 불소 원자를 갖는 모노머나 올리고머이다. Examples of the fluorine-containing compound include fluorine-containing monomers, fluorine-containing oligomers and fluorine-containing polymer compounds. Here, the fluorine-containing monomer and fluorine-containing oligomer are monomers or oligomers having an ethylenic unsaturated group and a fluorine atom in the molecule.
함불소 모노머, 함불소 올리고머로서는, 예를 들면 2,2,2-트리플루오로에틸(메타)아크릴레이트, 2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필(메타)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로부틸)에틸(메타)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로헥실)에틸(메타)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로옥틸)에틸(메타)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로데실)에틸(메타)아크릴레이트, β-(퍼플루오로옥틸)에틸(메타)아크릴레이트 등의 불소 함유 (메타)아크릴산 에스테르류, 디-(α-플루오로아크릴산)-2,2,2-트리플루오로에틸에틸렌글리콜, 디-(α-플루오로아크릴산)-2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필에틸렌글리콜, 디-(α-플루오로아크릴산)-2,2,3,3,4,4,4-헵탄플루오로부틸에틸렌글리콜, 디-(α-플루오로아크릴산)-2,2,3,3,4,4,5,5,5-노나플루오로펜틸에틸렌글리콜, 디-(α-플루오로아크릴산)-2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,6-운데카플루오로헥실에틸렌글리콜, 디-(α-플루오로아크릴산)-2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,7-트리데카플루오로헵틸에틸렌글리콜, 디-(α-플루오로아크릴산)-2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-펜타데카플루오로옥틸에틸렌글리콜, 디-(α-플루오로아크릴산)-3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-트리데카플루오로옥틸에틸렌글리콜, 디-(α-플루오로아크릴산)-2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,9-헵타데카플루오로노닐에틸렌글리콜 등의 디-(α-플루오로아크릴산)플루오로알킬에스테르류가 예시된다. Examples of fluorinated monomers and fluorinated oligomers include 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl (meth) acrylate, 2- (Perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, 2- Fluorine-containing (meth) acrylic acid esters such as ethyl (meth) acrylate and? - (perfluorooctyl) ethyl (meth) acrylate, di- Fluoroethyl ethylene glycol, di- (? -Fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,3-pentafluoropropylethylene glycol, di- (? -Fluoroacrylic acid) -2,2,3,3 , 4,4,4-heptane fluorobutyl ethylene glycol, di- (? - fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,4,4,5,5,5-nonafluoropentyl ethylene glycol, di - (? -fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,6-undecafluorohexyl ethylene Glycol, di- (? - fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,7-tridecafluoroheptylethylene glycol, di- (? -Fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-pentadecafluorooctylethylene glycol, di- (? - fluoro (Acrylic acid) -3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctylethylene glycol, di- (? - fluoroacrylic acid) -2, Di- (? -Fluoroacrylic acid) such as 2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,9-heptadecafluorononyl ethylene glycol, Fluoroalkyl esters are exemplified.
함불소 고분자 화합물로서는, 예를 들면 함불소 모노머와 가교성기 부여를 위한 모노머를 구성 단위로 하는 함불소 공중합체가 예시된다. 함불소 모노머 단위의 구체예로서는, 예를 들면 플루오로올레핀류(예를 들면, 플루오로에틸렌, 비닐리덴플루오라이드, 테트라플루오로에틸렌, 헥사플루오로에틸렌, 헥사플루오로프로필렌, 퍼플루오로-2,2-디메틸-1,3-디옥솔 등), (메타)아크릴산의 부분 또는 완전 불소화알킬에스테르 유도체류(예를 들면, 비스코트 6FM(오사카유키카가쿠제)이나 M-2020(다이킨제) 등), 완전 또는 부분 불소화비닐에테르류 등이다. 가교성기 부여를 위한 모노머로서는 글리시딜메타크릴레이트와 같이 분자 내에 미리 가교성 관능기를 갖는 (메타)아크릴레이트 모노머 외에, 카르복실기나 히드록실기, 아미노기, 술폰산기 등을 갖는 (메타)아크릴레이트 모노머(예를 들면, (메타)아크릴산, 메틸올(메타)아크릴레이트, 히드록시알킬(메타)아크릴레이트, 알릴아크릴레이트 등)가 예시된다. As the fluorinated polymer compound, for example, a fluorinated copolymer containing a fluorinated monomer and a monomer for imparting a crosslinkable group as a constitutional unit is exemplified. Specific examples of fluorinated monomer units include fluoroolefins (e.g., fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2, (E.g., bisquat 6FM (Osaka Yuki Kagaku Co., Ltd.) or M-2020 (manufactured by Daikin Industries, Ltd.)), or a partially fluorinated alkyl ester derivative of (meth) acrylic acid , Fully or partially fluorinated vinyl ethers, and the like. Examples of the monomer for imparting a crosslinkable group include a (meth) acrylate monomer having a carboxyl group, a hydroxyl group, an amino group, a sulfonic acid group and the like, as well as a (meth) acrylate monomer having a crosslinkable functional group in advance in the molecule such as glycidyl methacrylate (Meth) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allylacrylate and the like).
활성 에너지선 경화성 조성물에 있어서, 함불소 화합물의 함유량은 조성물의 고형분 총량 100질량%에 대하여 30질량% 이상이 바람직하고, 50질량% 이상이 보다 바람직하고, 특히 60질량% 이상이 바람직하다. 상한은 100질량% 이하가 바람직하고, 99질량% 이하가 보다 바람직하고, 특히 98질량% 이하가 바람직하다. In the active energy ray-curable composition, the content of the fluorine-containing compound is preferably 30 mass% or more, more preferably 50 mass% or more, and particularly preferably 60 mass% or more, based on 100 mass% of the total solid content of the composition. The upper limit is preferably 100 mass% or less, more preferably 99 mass% or less, and particularly preferably 98 mass% or less.
활성 에너지선 경화성 조성물은 활성 에너지선 경화성 수지의 전부 또는 일부로서 상술의 함불소 모노머 및/또는 함불소 올리고머를 이용할 수 있다. The active energy ray curable composition may utilize the above fluorinated monomers and / or fluorinated oligomers as all or part of the active energy ray curable resin.
활성 에너지선 경화성 조성물은 광중합 개시제를 포함하는 것이 바람직하다. 이러한 광중합 개시제의 구체예로서는, 예를 들면 아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, p-디메틸아세토페논, p-디메틸아미노프로피오페논, 벤조페논, 2-클로로벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 4,4'-비스디에틸아미노벤조페논, 미힐러케톤, 벤질, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 메틸벤조일포메이트, p-이소프로필-α-히드록시이소부틸페논, α-히드록시이소부틸페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤 등의 카르보닐 화합물, 테트라메틸티우람모노술피드, 테트라메틸티우람디술피드, 티옥산톤, 2-클로로티옥산톤, 2-메틸티옥산톤 등의 황 화합물 등을 이용할 수 있다. 이들 광중합 개시제는 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상 조합하여 사용해도 좋다. The active energy ray curable composition preferably comprises a photopolymerization initiator. Specific examples of such photopolymerization initiators include, for example, acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, Benzyl benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, methyl benzoyl formate, p-isopropyl ether, methyl isobutyl ketone, methyl isobutyl ketone, carbonyl compounds such as? -hydroxyisobutylphenone,? -hydroxyisobutylphenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone and 1-hydroxycyclohexylphenylketone, tetramethylthiurammonosulfur Feed, sulfur compounds such as tetramethylthiuram disulfide, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone and the like. These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.
상기 광중합 개시제의 함유량은 조성물의 고형분 총량 100질량%에 대하여 0.1~10질량%의 범위가 적당하고, 0.5~8질량%의 범위가 바람직하다. The content of the photopolymerization initiator is suitably in the range of 0.1 to 10 mass%, preferably 0.5 to 8 mass%, based on 100 mass% of the total solid content of the composition.
활성 에너지선 경화성 조성물은 저굴절률층 표면의 미끄러짐성이나 내찰상성을 향상시키기 위해 에틸렌성 불포화기를 갖는 폴리실록산 화합물을 함유하는 것이 바람직하다. The active energy ray-curable composition preferably contains a polysiloxane compound having an ethylenic unsaturated group in order to improve slidability and scratch resistance of the surface of the low refractive index layer.
에틸렌성 불포화기를 갖는 폴리실록산 화합물은 분자 중의 폴리실록산 주쇄의 말단 또는 측쇄 중 어느 하나에 1개 이상의 에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물이다. 에틸렌성 불포화기로서는 비닐기, 알릴기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기 등이 예시된다. 에틸렌성 불포화기를 갖는 폴리실록산 화합물에 있어서의 에틸렌성 불포화기의 수는 1~6개의 범위가 바람직하다. 또한, 에틸렌성 불포화기를 갖는 폴리실록산 화합물로서는 에틸렌성 불포화기를 갖는 폴리디메틸실록산 화합물이 바람직하다. The polysiloxane compound having an ethylenically unsaturated group is a compound having at least one ethylenic unsaturated group in either the terminal or side chain of the polysiloxane main chain in the molecule. Examples of the ethylenic unsaturated group include a vinyl group, an allyl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, an acryloyloxy group, and a methacryloyloxy group. The number of ethylenic unsaturated groups in the polysiloxane compound having an ethylenic unsaturated group is preferably in the range of 1 to 6. As the polysiloxane compound having an ethylenic unsaturated group, a polydimethylsiloxane compound having an ethylenic unsaturated group is preferable.
에틸렌성 불포화기를 갖는 폴리실록산 화합물로서는 일본 특허 공개 2009-84327호 공보의 제조예 1-1~제조예 1-3의 화합물, 또는 틱소(주)제의 사일라플레인 FM-0711, 동 FM-0721, 동 FM-0725, 신에츠카가쿠고교(주)제의 X-24-8201, X-22-174DX, X-22-2426, X-22-2404, X-22-164A, X-22-164C, 도레이 다우코닝(주)제의 BY16-152D, BY16-152, BY16-152C 등의 시판품을 이용할 수 있다. Examples of the polysiloxane compound having an ethylenically unsaturated group include compounds of Production Examples 1-1 to 1-3 of JP-A-2009-84327 or silylplane FM-0711, FM-0721, X-22-174DX, X-22-2426, X-22-2404, X-22-164A, X-22-164C, and X-22-164C of Shin-Etsu Chemical Co., Commercially available products such as BY16-152D, BY16-152 and BY16-152C manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd. can be used.
에틸렌성 불포화기를 갖는 폴리실록산 화합물의 함유량은 활성 에너지선 경화성 조성물의 고형분 총량 100질량%에 대하여 0.5질량% 이상 10질량% 미만의 범위가 바람직하고, 1질량% 이상 8질량% 미만의 범위가 보다 바람직하고, 1.3질량% 이상 6질량% 미만의 범위가 더욱 바람직하고, 특히 1.5질량% 이상 5질량% 미만의 범위가 바람직하다. The content of the ethylenically unsaturated group-containing polysiloxane compound is preferably in the range of 0.5% by mass or more and less than 10% by mass, more preferably in the range of 1% by mass or more and less than 8% by mass, based on 100% by mass of the total solid content of the active energy ray- By mass, more preferably from 1.3% by mass to less than 6% by mass, particularly preferably from 1.5% by mass to less than 5% by mass.
상술한 바와 같이, 이접착층이 입자를 함유하고 또한 저굴절률층이 에틸렌성 불포화기를 갖는 폴리실록산 화합물을 함유함으로써, 저굴절률층 표면의 미끄러짐성이 한층 향상되어 생산 공정 등에 있어서의 내블로킹성이 향상된다. As described above, when the adhesive layer contains particles and the low refractive index layer contains a polysiloxane compound having an ethylenic unsaturated group, the slidability of the surface of the low refractive index layer is further improved, and blocking resistance in a production process is improved .
또한, 저굴절률층이 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 습식 코팅법에 의해 도포하여 경화시킨 층인 경우, 기재 필름으로부터의 올리고머 석출을 억제할 수 있다. Further, when the low refractive index layer is a layer formed by applying the active energy ray-curable resin composition by the wet coating method, the oligomer precipitation from the base film can be suppressed.
상술한 바와 같이 기재 필름으로서 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 이용한 경우, 후술하는 투명 도전막의 제막 공정 등에서 가열 처리되면, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 표면에 비가교 성분인 올리고머(환상 삼량체)가 석출되는 경우가 있다. 이 올리고머 석출은 상술의 이접착층(적어도 수지와 가교제를 함유하는 이접착층)과 저굴절률층(활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 습식 코팅법에 의해 도포하여 경화시킨 저굴절률층)을 적층함으로써 억제할 수 있다. As described above, when a polyethylene terephthalate film is used as the base film, an oligomer (cyclic trimer), which is a non-cross-linking component, may be precipitated on the surface of the polyethylene terephthalate film when the film is subjected to heat treatment in a film formation process of a transparent conductive film . This oligomer precipitation can be suppressed by laminating the adhesive layer (the adhesive layer containing at least the resin and the crosslinking agent) and the low refractive index layer (the low refractive index layer formed by coating the active energy ray curable resin composition by the wet coating method) have.
또한, 올리고머 석출을 억제한다고 하는 관점에서 저굴절률층의 두께는 80㎚ 이상이 바람직하고, 90㎚ 이상이 보다 바람직하다. From the viewpoint of suppressing oligomer precipitation, the thickness of the low refractive index layer is preferably 80 nm or more, more preferably 90 nm or more.
본 발명의 투명 도전성 필름에 있어서, 저굴절률층측의 시감 반사율은 1.0% 이하인 것이 바람직하고, 0.9% 이하인 것이 보다 바람직하고, 특히 0.8% 이하인 것이 바람직하고, 0.7% 이하인 것이 가장 바람직하다. 투명 도전성 필름의 저굴절률층측의 시감 반사율이 1.0%보다 커지면, 표시 패널로부터의 발광의 투과율이 저하되어 표시 장치의 표시 품질을 저하시킨다. In the transparent conductive film of the present invention, the luminous reflectance on the low refractive index layer side is preferably 1.0% or less, more preferably 0.9% or less, particularly preferably 0.8% or less, most preferably 0.7% or less. If the luminous reflectance of the transparent conductive film on the side of the low refractive index layer is larger than 1.0%, the transmittance of light emission from the display panel is lowered and the display quality of the display device is deteriorated.
[투명 도전막] [Transparent conductive film]
투명 도전막의 재료로서는 터치 패널의 전극에 이용되는 공지의 재료를 이용할 수 있다. 예를 들면 산화주석, 산화인듐, 산화안티몬, 산화아연, ITO(산화인듐 주석), ATO(산화안티몬 주석) 등의 금속 산화물, 은 나노와이어 등의 금속 나노와이어, 카본 나노튜브 등이 예시된다. 이들 중에서도 ITO가 바람직하게 이용된다. As a material of the transparent conductive film, a known material used for an electrode of a touch panel can be used. Examples thereof include metal oxides such as tin oxide, indium oxide, antimony oxide, zinc oxide, indium tin oxide (ITO) and antimony tin oxide (ATO), metal nanowires such as silver nanowires and carbon nanotubes. Of these, ITO is preferably used.
투명 도전막의 두께는, 예를 들면 표면 저항값을 103Ω/□ 이하의 양호한 도전성을 확보한다고 하는 관점에서, 10㎚ 이상인 것이 바람직하고, 15㎚ 이상인 것이 보다 바람직하고, 특히 20㎚ 이상인 것이 바람직하다. 한편, 투명 도전막의 두께가 너무 커지면 뼈대보임 현상의 억제 효과가 작아지는 것, 및 투명성이 저하된다고 하는 문제가 생기는 경우가 있기 때문에 투명 도전막의 두께의 상한은 100㎚ 이하가 바람직하고, 60㎚ 이하가 보다 바람직하고, 50㎚ 이하가 더욱 바람직하고, 특히 40㎚ 이하가 바람직하다. The thickness of the transparent conductive film is preferably not less than 10 nm, more preferably not less than 15 nm, particularly preferably not less than 20 nm, from the viewpoint of securing good conductivity, for example, a surface resistance value of 10 3 Ω / Do. On the other hand, if the thickness of the transparent conductive film is excessively large, the suppression effect of the skeletal visibility phenomenon may be reduced and the transparency may be deteriorated. Therefore, the upper limit of the thickness of the transparent conductive film is preferably 100 nm or less, More preferably 50 nm or less, and particularly preferably 40 nm or less.
투명 도전막의 형성 방법으로서는 특별히 한정되지 않고, 종래 공지의 방법을 이용할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들면 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법 등의 드라이 프로세스, 또는 습식 코팅법(구체적으로는 상술한 방법)을 이용할 수 있다. The method of forming the transparent conductive film is not particularly limited, and conventionally known methods can be used. Specifically, for example, a dry process such as a vacuum evaporation process, a sputtering process, an ion plating process, or a wet coating process (specifically, the above-described process) can be used.
상기와 같이 하여 제막된 투명 도전막은 패턴화되어 있어도 좋다. 패턴화는 투명 도전성 필름이 적용되는 용도에 따라서 각종 패턴을 형성할 수 있다. 또한, 투명 도전막의 패턴화에 따라 패턴부와 비패턴부가 형성되지만, 패턴부의 형상으로서는, 예를 들면 스트라이프 형상, 격자 형상, 또는 이것들의 조합 패턴 등이 예시된다. The transparent conductive film thus formed may be patterned. The patterning can form various patterns according to the application to which the transparent conductive film is applied. Further, the pattern portion and the non-pattern portion are formed in accordance with the patterning of the transparent conductive film, but the shape of the pattern portion may be, for example, a stripe shape, a lattice shape, or a combination pattern thereof.
투명 도전막의 패턴화는 일반적으로는 에칭에 의해서 행해진다. 예를 들면, 투명 도전막 상에 패턴 형상의 에칭 레지스트막을 포토리소그래피법, 레이저 노광법, 또는 인쇄법에 의해 형성한 후 에칭 처리함으로써 투명 도전막이 패턴화된다. The patterning of the transparent conductive film is generally performed by etching. For example, the transparent conductive film is patterned by forming an etching resist film of a pattern shape on the transparent conductive film by a photolithography method, a laser exposure method, or a printing method, and then performing an etching treatment.
에칭액으로서는 종래 공지의 것이 이용된다. 예를 들면, 염화수소, 브롬화수소, 황산, 질산, 인산 등의 무기산, 아세트산 등의 유기산, 및 이것들의 혼합물, 및 그것들의 수용액이 이용된다. As the etching solution, conventionally known ones may be used. For example, inorganic acids such as hydrogen chloride, hydrogen bromide, sulfuric acid, nitric acid, and phosphoric acid, organic acids such as acetic acid, and mixtures thereof, and aqueous solutions thereof are used.
[다른 기능층] [Other functional layer]
기재 필름과 투명 도전막 사이에 다른 기능층을 형성하는 것이 바람직하다. 다른 기능층으로서는 이접착층, 하드 코트층, 고굴절률층, 저굴절률층 등이 예시되고, 이들 기능층을 단독 또는 조합하여 형성할 수 있다. It is preferable to form another functional layer between the base film and the transparent conductive film. As the other functional layers, the adhesive layer, the hard coat layer, the high refractive index layer, the low refractive index layer and the like are exemplified, and these functional layers can be formed singly or in combination.
기재 필름과 투명 도전막 사이에 형성되는 이접착층으로서는 상술과 마찬가지의 이접착층을 이용할 수 있지만, 특히 굴절률이 1.55~1.60의 범위인 이접착층이 바람직하다. 또한, 두께는 10~200㎚의 범위가 바람직하다. As this adhesive layer to be formed between the base film and the transparent conductive film, the same adhesive layer as described above can be used. In particular, this adhesive layer having a refractive index in the range of 1.55 to 1.60 is preferable. The thickness is preferably in the range of 10 to 200 nm.
하드 코트층은 상술의 활성 에너지선 경화성 수지를 포함하는 활성 에너지선 경화 조성물을 습식 코팅법에 의해 도포하여 경화시킨 층인 것이 바람직하다. 하드 코트층의 굴절률은 1.48~1.55의 범위가 적당하고, 1.50~1.53의 범위가 바람직하다. The hard coat layer is preferably a layer obtained by coating the active energy ray hardening composition containing the active energy ray-curable resin by the wet coating method. The refractive index of the hard coat layer is suitably in the range of 1.48 to 1.55, preferably in the range of 1.50 to 1.53.
고굴절률층은 굴절률이 1.65 이상인 금속 산화물 미립자(산화티탄, 산화지르코늄, 산화아연, 산화주석, 산화안티몬, 산화세륨, 산화철, 안티몬산 아연, 산화주석 도프 산화인듐(ITO), 안티몬 도프 산화주석(ATO), 인 도프 산화주석, 알루미늄 도프 산화아연, 갈륨 도프 산화아연, 불소 도프 산화주석 등)와 상술의 활성 에너지선 경화성 수지를 포함하는 활성 에너지선 경화 조성물을 습식 코팅법에 의해 도포하여 경화시킨 층인 것이 바람직하다. The high refractive index layer is formed of a metal oxide fine particle having a refractive index of 1.65 or more (titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, antimony oxide, cerium oxide, iron oxide, zinc antimonate, tin oxide dodeposide (ITO), antimony doped tin oxide ATO), indium tin oxide, aluminum-doped zinc oxide, gallium-doped zinc oxide, fluorine-doped tin oxide, etc.) and the aforementioned active energy ray-curable resin are coated by a wet coating method and cured Layer.
고굴절률층의 굴절률(n1)은 1.61~1.80의 범위가 바람직하고, 1.63~1.75의 범위가 보다 바람직하다. 고굴절률층의 두께(d1)는 30~100㎚의 범위가 바람직하고, 40~95㎚의 범위가 보다 바람직하다. The refractive index n1 of the high refractive index layer is preferably in the range of 1.61 to 1.80, more preferably in the range of 1.63 to 1.75. The thickness d1 of the high refractive index layer is preferably in the range of 30 to 100 nm, more preferably in the range of 40 to 95 nm.
저굴절률층은 상술한 저굴절률층과 마찬가지의 것을 이용할 수 있다. 또한, 저굴절률층으로서 SiO2 막(기상제막법에 의해 형성)도 바람직하게 이용된다. 저굴절률층의 굴절률(n2)은 1.30~1.50의 범위가 바람직하고, 1.33~1.48의 범위가 보다 바람직하다. 저굴절률층의 두께(d2)는 5~70㎚의 범위가 보다 바람직하고, 7~50㎚의 범위가 보다 바람직하고, 특히 10~45㎚의 범위가 바람직하다. As the low refractive index layer, the same materials as those of the above-described low refractive index layer can be used. Further, an SiO 2 film (formed by vapor deposition) is also preferably used as the low refractive index layer. The refractive index n2 of the low refractive index layer is preferably in the range of 1.30 to 1.50, more preferably in the range of 1.33 to 1.48. The thickness d2 of the low refractive index layer is more preferably in the range of 5 to 70 nm, more preferably in the range of 7 to 50 nm, and particularly preferably in the range of 10 to 45 nm.
특히, 기재 필름과 투명 도전막 사이에 고굴절률층과 저굴절률층을 형성하는 것이 바람직하다. 고굴절률층과 저굴절률층을 형성함으로써 투명 도전성 필름의 투명 도전막의 색상에 기인하는 반사색이나 투과색의 문제를 보정할 수 있다. 이 경우, 고굴절률층의 광학 두께와 저굴절률층의 광학 두께의 합계는 λ/4인 것이 바람직하다. In particular, it is preferable to form a high refractive index layer and a low refractive index layer between the base film and the transparent conductive film. By forming the high refractive index layer and the low refractive index layer, it is possible to correct the problem of the reflection color or the transmission color due to the hue of the transparent conductive film of the transparent conductive film. In this case, the sum of the optical thickness of the high refractive index layer and the optical thickness of the low refractive index layer is preferably? / 4.
여기서, 광학 두께는 굴절률과 두께의 곱이고, λ는 가시광 영역의 파장 범위인 380~780㎚이다. 두께의 단위는 ㎚이다. Here, the optical thickness is a product of a refractive index and a thickness, and? Is a wavelength range of a visible light region of 380 to 780 nm. The unit of thickness is nm.
즉, 고굴절률층의 광학 두께와 저굴절률층의 광학 두께의 합계는 이하의 관계식 4를 충족하는 것이 바람직하다. That is, the sum of the optical thickness of the high refractive index layer and the optical thickness of the low refractive index layer preferably satisfies the following relational expression (4).
(380㎚/4)≤(n1×d1)+(n2×d2)≤(780㎚/4) (380 nm / 4)? (N1 x d1) + (n2 x d2)? (780 nm / 4)
95㎚≤(n1×d1)+(n2×d2)≤195㎚···(식 4) 95 nm? (N1 x d1) + (n2 x d2)? 195 nm (4)
상술한 바와 같이, 기재 필름과 투명 도전막 사이에 활성 에너지선 경화 조성물을 습식 코팅법에 의해 도포하여 경화시킨 층인 하드 코트층, 고굴절률층 및 저굴절률층으로 이루어지는 군 중에서 선택되는 적어도 1층을 형성함으로써 기재 필름으로부터의 올리고머 석출을 방지할 수 있다. As described above, at least one layer selected from the group consisting of a hard coat layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer, which is a layer formed by applying an active energy ray curable composition by a wet coating method between a base film and a transparent conductive film, The oligomer precipitation from the base film can be prevented.
[터치 패널 및 표시 장치] [Touch panel and display device]
본 발명의 투명 도전성 필름은 저항막식이나 정전용량식 등의 터치 패널에 바람직하게 이용된다. 특히, 정전용량식 터치 패널에 바람직하게 이용된다. The transparent conductive film of the present invention is preferably used for a touch panel such as a resistive film type or capacitive type. Particularly, it is preferably used in capacitive touch panels.
저항막식 터치 패널은 2개의 투명 도전성 필름의 투명 도전막끼리가 스페이서를 통해 마주 보도록 배치된 구성이 일반적이다. The resistance film type touch panel is generally configured such that the transparent conductive films of the two transparent conductive films face each other through the spacers.
도 1은 본 발명의 투명 도전성 필름을 이용한 저항막식 터치 패널을 구비한 표시 장치의 일례의 모식 단면도이다. 도 1은 본 발명의 투명 도전성 필름(11)을 하부 전극으로서 사용한 형태이다. 상부 전극을 구성하는 투명 도전성 필름(12)과 하부 전극을 구성하는 투명 도전성 필름(11)으로 터치 패널(21)을 구성하고, 터치 패널(21)은 표시 패널(31) 상에 공기층(9)을 통해서 배치되어 있다. 1 is a schematic cross-sectional view of an example of a display device having a resistive film touch panel using the transparent conductive film of the present invention. Fig. 1 shows a mode in which the transparent
터치 패널(21)은 기재 필름(1)의 한쪽 면에 투명 도전막(2)을 갖고 또한 기재 필름(1)의 다른쪽 면에 이접착층(3)을 통해서 저굴절률층(4)을 1층만 갖는 본 발명의 투명 도전성 필름(11)과, 기재 필름(5)의 한쪽 면에 투명 도전막(6)을 갖고 또한 기재 필름(5)의 다른쪽 면에 기능층(7)을 갖는 투명 도전성 필름(12)을, 스페이서(8)를 통해서 투명 도전막(2)과 투명 도전막(6)이 마주 보도록 배치되어 있다. 본 발명의 투명 도전성 필름(11)의 저굴절률층(4) 측에는 공기층(9)이 존재한다. The
이 공기층(9)의 존재에 의해서 투명 도전성 필름(11)과의 계면에서의 반사율이 커지고, 표시 패널로부터의 발광의 투과율을 저하시키고, 표시 장치로서도 표시 품질(휘도나 시인성)을 저하시킨다. 그러나, 본 발명의 투명 도전성 필름을 사용함으로써 계면 반사가 저감되고, 양호한 표시 품질을 확보할 수 있다. The presence of the
표시 패널(31)로서는 액정 표시 패널이나 유기 EL 표시 패널이 예시된다. 투명 도전성 필름(12)의 기능층으로서는 하드 코트층, 방현층, 반사 방지층, 방오층 등이 이용된다. As the
도 2 및 도 3은 본 발명의 투명 도전성 필름을 이용한 정전용량식 터치 패널을 구비한 표시 장치의 일례의 모식 단면도이다. 2 and 3 are schematic sectional views of an example of a display device having a capacitive touch panel using the transparent conductive film of the present invention.
도 2는 X 전극과 Y 전극이 공기층을 통해서 배치된 정전용량식 터치 패널을 구비한 표시 장치의 모식 단면도이다. X 전극은 본 발명의 투명 도전성 필름(13)으로 구성되고, Y 전극은 본 발명의 투명 도전성 필름(14)으로 구성되어 있으며, 2개의 투명 도전성 필름(13, 14)은 공기층(9)을 통해서 배치되어서 터치 패널(22)이 형성되어 있다. 그리고, 터치 패널(22)은 공기층(9)을 통해서 표시 패널(31) 상에 배치되어 있다. 2 is a schematic cross-sectional view of a display device including a capacitive touch panel in which an X electrode and a Y electrode are disposed through an air layer. The X electrode is constituted by the transparent
X 전극 및 Y 전극을 구성하는 본 발명의 투명 도전성 필름(13, 14)은 기재 필름(1)의 한쪽 면에 투명 도전막(2)을 갖고, 또한 기재 필름(1)의 다른쪽 면에 이접착층(3)을 통해서 저굴절률층(4)을 1층만 갖는다. X 전극 및 Y 전극은 투명 도전막(2)을 각각 패턴화함으로써 형성된다. The transparent
본 발명의 투명 도전성 필름(13, 14)의 각각의 저굴절률층(4)은 공기층(9)과 접하고 있다. Each of the low refractive index layers (4) of the transparent conductive films (13, 14) of the present invention is in contact with the air layer (9).
도 2에 있어서, 투명 도전성 필름(13, 14)이란 점착제층(도시하지 않음)에 의해 접합되어 있어도 좋다. 이 경우, 투명 도전성 필름(13)은 저굴절률층이 공기층과 접하지 않으므로 투명 도전성 필름(13)은 반드시 본 발명의 투명 도전성 필름을 사용할 필요는 없다. In Fig. 2, the transparent
도 3은 X 전극과 Y 전극이 하나의 기재 필름 상에 형성된 투명 도전성 필름을 이용한 정전용량식 터치 패널을 구비한 표시 장치의 모식 단면도이다. 본 발명의 투명 도전성 필름(15)의 투명 도전막(2)은 X 전극이 되는 패턴화된 투명 도전막과 Y 전극이 되는 패턴화된 투명 도전막이 절연막을 통해서 적층된 구성으로 된다. 3 is a schematic cross-sectional view of a display device including a capacitive touch panel using a transparent conductive film having an X electrode and a Y electrode formed on one base film. The transparent
터치 패널(23)이 되는 본 발명의 투명 도전성 필름(15)은 표시 패널(31) 상에 공기층(9)을 통해서 배치되어 있고, 본 발명의 투명 도전성 필름(15)의 저굴절률층(4)은 공기층(9)과 접하고 있다.The transparent
도 2 및 도 3에 나타내는 정전용량식 터치 패널을 구비한 표시 장치는, 통상 터치면측에 도시하지 않은 보호 패널(유리판이나 아크릴 수지판 등)이 도시하지 않은 공기층 또는 점착제층을 통해서 배치되어 있다. 2 and 3, a protective panel (such as a glass plate or an acrylic resin plate) not shown on the touch surface side is disposed through an air layer or a pressure sensitive adhesive layer (not shown).
상술한 바와 같이, 본 발명의 투명 도전성 필름을 이용한 터치 패널을 표시 장치에 표시 패널 상에 장착할 때에는 본 발명의 투명 도전성 필름의 저굴절률층측이 공기층을 통해서 표시 패널과 마주 보도록 배치되는 것이 바람직하다. As described above, when the touch panel using the transparent conductive film of the present invention is mounted on the display panel, it is preferable that the low refractive index layer side of the transparent conductive film of the present invention is arranged to face the display panel through the air layer .
이와 같이, 본 발명의 투명 도전성 필름은 터치 패널을 구비한 표시 장치의 터치면이 아니라 내부에 장착되는 것이 바람직하다. 본 발명의 투명 도전성 필름은 표시 장치의 내부에 이용됨으로써 내찰상성의 점에서 저굴절률층의 1층만의 구성(하드 코트층이나 고굴절률층을 갖고 있지 않음)을 가능하게 한다. As described above, the transparent conductive film of the present invention is preferably mounted inside the touch surface of the display device having the touch panel, not inside the touch surface. The transparent conductive film of the present invention is used in a display device to make it possible to have only one layer of the low refractive index layer (no hard coat layer or high refractive index layer) in view of scratch resistance.
또한, 본 발명의 투명 도전성 필름의 다른 용도로서 액정 표시 패널로부터 발생되는 전자파를 차폐하는 전자파 차폐 부재가 예시된다. 즉, 본 발명의 투명 도전성 필름은 전자파 차폐 부재에 적합이다. Another example of the transparent conductive film of the present invention is an electromagnetic wave shielding member that shields electromagnetic waves generated from a liquid crystal display panel. That is, the transparent conductive film of the present invention is suitable for an electromagnetic wave shielding member.
도 4는 본 발명의 투명 도전성 필름을 이용한 전자파 차폐 부재를 구비한 표시 장치의 일례의 모식 단면도이다. 4 is a schematic sectional view of an example of a display device having an electromagnetic wave shielding member using the transparent conductive film of the present invention.
도 4에 있어서, 전자파 차폐 부재(24)가 되는 본 발명의 투명 도전성 필름(16)은 표시 패널(액정 표시 패널)(31) 상에 공기층(9)을 통해서 배치되고 있고, 본 발명의 투명 도전성 필름(16)의 저굴절률층(4)은 공기층(9)과 접하고 있다. 본 발명의 투명 도전성 필름(16)은 기재 필름(1)의 한쪽 면에 투명 도전막(2)을 갖고 또한 기재 필름(1)의 다른쪽 면에 이접착층(3)을 통해서 저굴절률층(4)을 1층만 갖는다. 4, the transparent
도 4의 표시 장치는 전자파 차폐 부재(24)가 되는 본 발명의 투명 도전성 필름(16)의 투명 도전막(2) 측에 터치 패널(25)이 배치되어 있다. 여기서, 터치 패널(25)은 특별히 한정되지 않고, 상기한 저항막식이나 정전용량식 이외의 다른 방식의 터치 패널(예를 들면, 초음파 방식, 전자 유도 방식 등)도 사용할 수 있다. 또한, 상기한 바와 같은 본 발명의 투명 도전성 필름을 이용한 저항막식 터치 패널이나 정전용량식 터치 패널도 바람직하게 이용된다. 4, the
실시예 Example
이하, 실시예에 의해 본 발명을 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해서 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 실시예에 있어서의 측정 방법 및 평가 방법을 이하에 나타낸다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples, but the present invention is not limited to these examples. The measurement method and the evaluation method in this embodiment are shown below.
(1) 기재 필름의 굴절률의 측정 (1) Measurement of refractive index of base film
기재 필름(PET 필름)의 굴절률은 JIS K7105(1981)에 준하여 아베 굴절률계로 측정했다. The refractive index of the base film (PET film) was measured with an Abbe's refractometer according to JIS K7105 (1981).
(2) 이접착층 및 저굴절률층의 굴절률의 측정 (2) Measurement of the refractive index of the adhesive layer and the low refractive index layer
이접착층 및 저굴절률층의 각각의 도포 조성물을 규소 웨이퍼 상에 스핀 코터로 도공 형성한 도포막(건조 두께 약 2㎛)에 대해서 25℃의 온도 조건 하에서 위상차 측정 장치(니콘(주)제: NPDM-1000)에 의해 633㎚의 굴절률을 측정했다. Each coating composition of the adhesive layer and the low refractive index layer was coated on a silicon wafer coated with a spin coater (dry thickness: about 2 mu m) under a temperature condition of 25 DEG C using a phase difference measuring apparatus (NPDM -1000) to measure the refractive index of 633 nm.
(3) 이접착층의 두께 (3) The thickness of the adhesive layer
이접착층이 적층된 기재 필름의 단면을 초박절편으로 잘라내고, RuO4 염색, OsO4 염색, 또는 양자의 이중 염색에 의한 염색 초박절편법에 의해 TEM(투과형 전자 현미경)으로 단면 구조가 육안으로 볼 수 있는 이하의 조건으로 관찰하고, 그 단면 사진으로부터 이접착층의 두께를 측정한다. 또한, 5개소를 측정하여 그 평균값을 이접착층의 두께로 했다. The cross-section of the base film on which the adhesive layer was laminated was cut into ultra-thin pieces, and the cross-sectional structure was observed with the naked eye by TEM (transmission electron microscope) by staining with RuO 4 dye, OsO 4 dye, The thickness of the adhesive layer is measured from the cross-sectional photograph. In addition, five portions were measured, and the average value was taken as the thickness of this adhesive layer.
·측정 장치: 투명형 전자 현미경(히타치(주)제 H-7100FA형) Measurement apparatus: Transparent electron microscope (H-7100FA type, manufactured by Hitachi)
·측정 조건: 가속 전압 100kV Measurement conditions: acceleration voltage 100 kV
·시료 조정: 동결 초박절편법 · Sample adjustment:
·배율: 300,000배 · Magnification: 300,000 times
(4) 저굴절률층의 두께의 측정 (4) Measurement of the thickness of the low refractive index layer
샘플의 단면을 초박절편으로 잘라내어 투과형 전자 현미경(히타치제 H-7100FA형)에 의해 가속 전압 100kV로 관찰(100,000배의 배율로 관찰)하고, 그 단면 사진으로부터 저굴절률층의 두께를 측정한다. 또한, 5개소를 측정하여 그 평균값을 저굴절률층의 두께로 했다. The cross section of the sample was cut into ultra-thin slices and observed with a transmission electron microscope (H-7100FA type, Hitachi, Ltd.) at an acceleration voltage of 100 kV (observed at a magnification of 100,000), and the thickness of the low refractive index layer was measured from the cross-sectional photograph. Further, five portions were measured, and the average value was determined as the thickness of the low refractive index layer.
(5) 투명 도전성 필름의 시감 반사율의 측정(5) Measurement of luminous reflectance of transparent conductive film
<평가용 샘플의 작성> <Preparation of sample for evaluation>
샘플의 저굴절률층이 적층된 측과는 반대면을 점착제로 유리판에 붙이고, 그 유리판의 반대면(투명 도전성 필름 샘플이 점착된 면과는 반대측의 면)에 검정 테이프(니토덴코제 No.21 토크(BC))를 부착하여 평가용 샘플을 제작한다. The surface of the sample opposite to the side where the low refractive index layer was laminated was attached to a glass plate with an adhesive, and a black tape (Nitto Denko No.21 Torque (BC)) is attached to produce an evaluation sample.
<측정> <Measurement>
분광광도계(시마즈세이사쿠쇼제, UV3150PC)를 이용하여 측정면으로부터 5도의 입사각으로 파장 380~780㎚의 범위에서 반사율(편면반사)을 산출하여 시감 반사율(JIS Z8701-1999에 있어서 규정되어 있는 반사의 자극값 Y)을 구했다. 분광광도계에 의해 분광입체각을 측정하고, JIS Z8701-1999에 따라서 반사율(편면 광선 반사)을 산출한다. 산출식은 이하와 같다. (Single-sided reflection) at a wavelength of 380 to 780 nm at an incident angle of 5 degrees from the measurement plane using a spectrophotometer (Shimadzu Seisakusho Co., Ltd., UV3150PC) to obtain a luminous reflectance (reflectance of the reflection specified in JIS Z8701-1999 The stimulus value Y) was obtained. The spectroscopic solid angle is measured by a spectrophotometer, and the reflectance (one-sided light reflection) is calculated in accordance with JIS Z8701-1999. The calculation formula is as follows.
·T=K·∫S(λ)·y(λ)·R(λ)·dλ(단, 적분 구간은 380~780㎚) T = K? S (?) Y (?) R (?) D? (Where the integral period is 380 to 780 nm)
T: 편면 광선 반사율 T: single-sided light reflectance
S(λ): 색의 표시에 이용되는 표준 광의 분포 S (?): Distribution of standard light used for color display
y(λ): XYZ 표시계에 있어서의 등색함수 y (?): Isochromatic function in the XYZ indicator
R(λ): 분광 입체각 반사율 R (?): Spectral solid angle reflectance
<시감 반사율의 목표> ≪ Aim of luminous reflectance >
본 발명의 투명 도전성 필름을 이용한 터치 패널을 구비한 표시 장치에 있어서, 표시 패널로부터의 발광의 투과율을 저하시키지 않기 위해서는 투명 도전성 필름의 저굴절률층측의 시감 반사율은 1.0% 이하인 것이 바람직하고, 0.9% 이하인 것이 보다 바람직하고, 특히 0.8% 이하인 것이 바람직하다. 시감 반사율이 1.0%보다 커지면 투과율이 저하된다. In the display device provided with the touch panel using the transparent conductive film of the present invention, in order not to lower the transmittance of the light emitted from the display panel, the luminous reflectance of the transparent conductive film on the low refractive index layer side is preferably 1.0% Or less, more preferably 0.8% or less. When the luminous reflectance is larger than 1.0%, the transmittance is lowered.
(6) 밀착성 (6) Adhesiveness
각 샘플을 60℃-90% RH의 분위기 하에서 500시간 방치한 후, 각 샘플의 박막층면에 1㎟의 크로스컷을 100개 넣고, 니치반(주)제 셀로판 테이프를 그 위에 부착하고, 손가락으로 강하게 압착한 후 90도 방향으로 급속하게 박리하여 잔존한 개수에 따라 이하의 기준으로 밀착성을 평가했다. Each sample was allowed to stand in an atmosphere of 60 ° C-90% RH for 500 hours, 100 cross-cuts of 1
○: 90/100(잔존 수량/측정 개수) 이상 ○: 90/100 (remaining quantity / number of measurement) or more
×: 90/100(잔존 수량/측정 개수) 미만 ×: less than 90/100 (remaining quantity / number of measurements)
(7) 미끄러짐성 (7) Slipperiness
각 샘플을 절단하여 2장의 시트편(20cm×15cm)을 제작했다. 2장의 시트편의 저굴절률층면끼리가 마주 보도록 2장의 시트편을 약간 어긋나게 겹쳐서 평활한 받침대 상에 놓고, 아래쪽의 시트편을 손가락으로 받침대 상에 고정하여 위쪽의 시트편을 손으로 미끄러지게 하는 방법에 의해 미끄러짐성의 양부(良否) 판정을 행했다. 측정 환경은 23℃, 55% RH이다. Each sample was cut into two sheet pieces (20 cm x 15 cm). Two sheets of sheet pieces are stacked so that the two sheet pieces are slightly shifted and laid on a smooth pedestal so that the low refractive index layer faces are opposed to each other and the lower sheet piece is fixed on the pedestal with a finger so that the upper sheet piece is slid by hand (Good or bad) judgment of slip property. The measurement environment is 23 캜, 55% RH.
○: 위쪽의 시트편의 미끄러짐성이 양호하다. A: Good slipperiness of the upper sheet member.
△: 위쪽의 시트편의 미끄러짐성은 떨어지지만 비교적 양호하다. DELTA: Sliding property of the upper sheet member is lower, but relatively good.
×: 위쪽의 시트편이 미끄러지지 않는다. X: The upper sheet section does not slip.
(8) 이접착층에 함유시킨 입자의 평균 입자지름의 측정 (8) Measurement of the average particle diameter of the particles contained in the adhesive layer
이접착층 표면을 SEM(주사형 전자 현미경)을 이용하여 배율 10,000배로 관찰하고, 입자의 화상(입자에 의해서 생기는 광의 농담)을 이미지 애널라이저(예를 들면, 캠브리지인스톨먼트제 QTM900)에 결합하여 관찰 개소를 바꿔서 데이터를 취합하고, 합계 입자수 5,000개 이상으로 된 시점에서 다음의 수치 처리를 행하고, 그것에 의해서 구한 수 평균 지름(d)을 평균 입경(직경)으로 했다. The surface of the adhesive layer was observed at a magnification of 10,000 times using an SEM (scanning electron microscope), and the image of the particles (density of light generated by the particles) was bonded to an image analyzer (for example, QTM900 manufactured by Cambridge Instruments) And the data were collected. When the total number of particles became 5,000 or more, the following numerical processing was carried out, and the number-average diameter d obtained thereby was regarded as an average particle diameter (diameter).
·d=Σdi/N · D = Σdi / N
여기서, di는 입자의 등가원직경(입자의 단면적과 같은 면적을 갖는 원의 직경), N은 개수이다. Where di is the equivalent circle diameter of the particle (the diameter of the circle having the same area as the cross-sectional area of the particle), and N is the number.
(9) 올리고머 석출 억제 효과의 평가 (9) Evaluation of oligomer precipitation inhibiting effect
각 샘플을 140℃의 오븐 중에 방치하고, 80분 열처리를 행했다. 열처리 전후의 헤이즈값을 JIS K 7105(1981)에 의거해 니폰덴쇼쿠고교(주)제 탁도계 NDH2000을 이용하여 측정했다. 열 처리 전후의 헤이즈값의 변화에 의거하여 올리고머 석출 억제 효과를 이하의 기준으로 평가했다. Each sample was left in an oven at 140 캜 and subjected to heat treatment for 80 minutes. The haze value before and after the heat treatment was measured using a turbidity meter NDH2000 manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd. according to JIS K 7105 (1981). Based on the change in haze value before and after the heat treatment, the oligomer precipitation inhibiting effect was evaluated based on the following criteria.
○: 열 처리 전후의 헤이즈값 변화가 0.5% 미만 ○: Change in haze value before and after heat treatment is less than 0.5%
△: 열 처리 전후의 헤이즈값 변화가 0.5% 이상 1.0% 미만 ?: Change in haze value before and after heat treatment is 0.5% or more and less than 1.0%
×: 열 처리 전후의 헤이즈값 변화가 1.0% 이상X: Change in haze value before and after heat treatment is 1.0% or more
(이접착층을 형성하기 위한 수지) (A resin for forming the adhesive layer)
<폴리에스테르 수지 1, 2> ≪
폴리에스테르 수지 중의 플루오렌환의 함유량을 조정함으로써 굴절률이 1.64인 수분산성 폴리에스테르 수지 1과 굴절률이 1.62인 수분산성 폴리에스테르 수지 2를 조제했다. 즉, 하기 플루오렌환 함유 폴리에스테르 수지의 합성에 있어서 9,9-비스[4-(2-히드록시에톡시)페닐]플루오렌의 조성비 x몰%를 35몰%~45몰%의 범위로 조정함으로써 상기 폴리에스테르 수지 1 및 폴리에스테르 수지 2를 얻었다. The water
<플루오렌환 함유 폴리에스테르 수지> ≪ Fluorene ring-containing polyester resin >
하기 카르복실산 성분과 글리콜 성분의 공중합 조성으로 이루어지는 폴리에스테르 수지이다. And a copolymer composition of the following carboxylic acid component and glycol component.
·카르복실산 성분 · Carboxylic acid component
숙신산 40몰% 40 mol%
5-Na 술포이소프탈산 10몰% 5-Na sulfoisophthalic acid 10 mol%
·글리콜 성분 · Glycol component
9,9-비스[4-(2-히드록시에톡시)페닐]플루오렌 x몰%
에틸렌글리콜 (50-x)몰% Ethylene glycol (50-x) mol%
<폴리에스테르 수지 3> ≪
하기 굴절률이 1.58인 수분산성 폴리에스테르 수지 3(나프탈렌환 함유 폴리에스테르 수지)을 조제했다. A water-dispersible polyester resin 3 (naphthalene ring-containing polyester resin) having the following refractive index of 1.58 was prepared.
<나프탈렌환 함유 폴리에스테르 수지> ≪ Naphthalene ring-containing polyester resin &
하기 카르복실산 성분과 글리콜 성분의 공중합 조성으로 이루어지는 폴리에스테르 수지이다. And a copolymer composition of the following carboxylic acid component and glycol component.
·카르복실산 성분 · Carboxylic acid component
테레프탈산 35몰% Terephthalic acid 35 mol%
2,6-나프탈렌디카르복실산 9몰% 9 mol% of 2,6-naphthalene dicarboxylic acid
5-Na술포이소프탈산 6몰% 6 mol% of 5-Na sulfoisophthalic acid
·글리콜 성분 · Glycol component
에틸렌글리콜 49몰% Ethylene glycol 49 mol%
디에틸렌글리콜 1몰% 1 mol% of diethylene glycol
<아크릴 수지 1, 2> <
하기 굴절률이 1.54인 수분산성 아크릴 수지 1과 굴절률이 1.52인 수분산성 아크릴 수지 2를 각각 준비했다. A water-dispersible
<아크릴 수지 1> <
하기 공중합 조성으로 이루어지는 아크릴 수지이다. Is an acrylic resin having the following copolymerization composition.
·공중합 성분 Copolymer component
메틸메타크릴레이트 64중량% Methyl methacrylate 64 wt%
에틸아크릴레이트 30중량% Ethyl acrylate 30 wt%
아크릴산 5중량% 5% by weight of acrylic acid
N-메틸올아크릴아미드 1중량% N-
<아크릴 수지 2> <
하기 공중합 조성으로 이루어지는 아크릴 수지이다. Is an acrylic resin having the following copolymerization composition.
·공중합 성분 Copolymer component
메틸메타크릴레이트 63중량% Methyl methacrylate 63 wt%
에틸아크릴레이트 35중량% 35% by weight of ethyl acrylate
아크릴산 1중량% 1% by weight of acrylic acid
N-메틸올아크릴아미드 1중량% N-
(이접착층에 함유되는 입자) (Particles contained in this adhesive layer)
·입자 A; 평균 입자지름이 190㎚인 콜로이달 실리카 Particle A; Colloidal silica having an average particle diameter of 190 nm
·입자 B; 평균 입자지름이 80㎚인 콜로이달 실리카 Particle B; Colloidal silica having an average particle diameter of 80 nm
·입자 C; 평균 입자지름이 30㎚인 콜로이달 실리카 Particle C; Colloidal silica having an average particle diameter of 30 nm
[제조예 1] [Production Example 1]
굴절률 1.65이고 두께 100㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(PET 필름)의 한쪽 면(저굴절률층 적층면)에, 하기 이접착층 A를 건조 두께가 90㎚로 되도록 적층하여 이접착층 부착 PET 필름을 얻었다. The following adhesive layer A was laminated on one side (low refractive index layer laminated surface) of a polyethylene terephthalate film (PET film) having a refractive index of 1.65 and a thickness of 100 占 퐉 so as to have a dry thickness of 90 nm to obtain a PET film with the adhesive layer.
상기에서 얻어진 이접착층 부착 PET 필름의 이접착층의 두께는 90㎚이고, 이접착층의 굴절률은 1.64였다. 이 이접착층은 조건 1을 충족한다. The thickness of the adhesive layer of the PET film with an adhesive layer obtained above was 90 nm, and the refractive index of the adhesive layer was 1.64. This adhesive layer satisfies the
또한, PET 필름의 다른쪽 면(투명 도전막을 적층하는 측의 면)에는 하기 이접착층 Z를 건조 두께가 90㎚로 되도록 적층했다. On the other side of the PET film (on the side where the transparent conductive film was laminated), the following adhesive layer Z was laminated so that the dry thickness was 90 nm.
<이접착층 A> <Adhesive Layer A>
굴절률 1.64인 폴리에스테르 수지 1을 100질량부, 멜라민계 가교제를 5질량부, 입자 A를 2질량부 함유한다. 각각의 성분의 함유량은 고형분 환산에 의한 함유량이고, 이하의 실시예도 마찬가지이다. 100 parts by mass of a
상기 멜라민계 가교제는 메틸올형 멜라민계 가교제(산와케미컬(주)제의 「니칼락 MW12LF」)이고, 이하의 실시예 및 비교예에 있어서 멜라민계 가교제란 상기 화합물을 가리킨다. The melamine-based cross-linking agent is a methylol-based melamine-based cross-linking agent ("Knorak MW12LF" manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.). In the following Examples and Comparative Examples, the melamine-based cross-
<이접착층 Z> <Adhesive layer Z>
굴절률 1.58의 폴리에스테르 수지 3을 100질량부, 멜라민계 가교제를 5질량부, 입자 A를 2질량부 함유한다. 100 parts by mass of a
[제조예 2] [Production Example 2]
굴절률 1.65이고, 두께 100㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(PET 필름)의 한쪽 면(저굴절률층 적층면)에, 하기 이접착층 B를 건조 두께가 20㎚로 되도록 적층하여 이접착층 부착 PET 필름을 얻었다. The following adhesive layer B was laminated on one side (low refractive index layer laminated side) of a polyethylene terephthalate film (PET film) having a refractive index of 1.65 and a thickness of 100 占 퐉 to obtain a PET film with the adhesive layer.
상기에서 얻어진 이접착층 부착 PET 필름의 이접착층의 두께는 20㎚이고, 이접착층의 굴절률은 1.64였다. 이 이접착층은 조건 1 및 조건 2를 충족한다. The thickness of the adhesive layer of the PET film with an adhesive layer obtained above was 20 nm, and the refractive index of the adhesive layer was 1.64. This adhesive layer satisfies
또한, PET 필름의 다른쪽 면(투명 도전막을 적층하는 측의 면)에는 제조예 1과 마찬가지로 이접착층 Z를 건조 두께가 90㎚로 되도록 적층했다. On the other side of the PET film (on the side where the transparent conductive film was laminated), this adhesive layer Z was laminated so as to have a dry thickness of 90 nm as in Production Example 1.
<이접착층 B> ≪ Adhesive layer B &
굴절률 1.64의 폴리에스테르 수지 1을 100질량부, 멜라민계 가교제를 5질량부, 입자 B를 2질량부 함유한다. 100 parts by mass of a
[제조예 3] [Production Example 3]
굴절률 1.65이고 두께 100㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(PET 필름)의 한쪽 면(저굴절률층 적층면)에, 하기 이접착층 C를 건조 두께가 90㎚로 되도록 적층하여 이접착층 부착 PET 필름을 얻었다. The following adhesive layer C was laminated on one side (low refractive index layer laminated surface) of a polyethylene terephthalate film (PET film) having a refractive index of 1.65 and a thickness of 100 占 퐉 to obtain a PET film with an adhesive layer.
상기에서 얻어진 이접착층 부착 PET 필름의 이접착층의 두께는 90㎚이고, 이접착층의 굴절률은 1.62였다. 이 이접착층은 조건 1을 충족한다. The thickness of the adhesive layer of the PET film with an adhesive layer obtained above was 90 nm, and the refractive index of the adhesive layer was 1.62. This adhesive layer satisfies the
또한, PET 필름의 다른쪽 면(투명 도전막을 적층하는 측의 면)에는 제조예 1과 마찬가지로 이접착층 Z를 건조 두께가 90㎚로 되도록 적층했다. On the other side of the PET film (on the side where the transparent conductive film was laminated), this adhesive layer Z was laminated so as to have a dry thickness of 90 nm as in Production Example 1.
<이접착층 C> ≪ Adhesive layer C &
굴절률 1.62의 폴리에스테르 수지 2를 100질량부, 멜라민계 가교제를 5질량부, 입자 A를 2질량부 함유한다. 100 parts by mass of a
[제조예 4] [Production Example 4]
굴절률 1.65이고 두께 100㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(PET 필름)의 한쪽 면(저굴절률층 적층면)에, 하기 이접착층 D를 건조 두께가 30㎚로 되도록 적층하여 이접착층 부착 PET 필름을 얻었다. The following adhesive layer D was laminated on one side (low refractive index layer laminated surface) of a polyethylene terephthalate film (PET film) having a refractive index of 1.65 and a thickness of 100 占 퐉 to obtain a PET film with an adhesive layer.
상기에서 얻어진 이접착층 부착 PET 필름의 이접착층의 두께는 30㎚이고, 이접착층의 굴절률은 1.62였다. 이 이접착층은 조건 1 및 조건 2를 충족한다. The thickness of the adhesive layer of the PET film with adhesive layer obtained above was 30 nm, and the refractive index of the adhesive layer was 1.62. This adhesive layer satisfies
또한, PET 필름의 다른쪽 면(투명 도전막을 적층하는 측의 면)에는 제조예 1과 마찬가지로 이접착층 Z를 건조 두께가 90㎚로 되도록 적층했다. On the other side of the PET film (on the side where the transparent conductive film was laminated), this adhesive layer Z was laminated so as to have a dry thickness of 90 nm as in Production Example 1.
<이접착층 D> <Adhesive Layer D>
굴절률 1.62의 폴리에스테르 수지 2를 100질량부, 멜라민계 가교제를 5질량부, 입자 B를 2질량부 함유한다. 100 parts by mass of a
[제조예 5] [Production Example 5]
굴절률 1.65이고 두께 100㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(PET 필름)의 한쪽 면(저굴절률층 적층면)에, 하기 이접착층 E를 건조 두께가 90㎚로 되도록 적층하여 이접착층 부착 PET 필름을 얻었다. The following adhesive layer E was laminated on one side (low refractive index layer laminated surface) of a polyethylene terephthalate film (PET film) having a refractive index of 1.65 and a thickness of 100 占 퐉 to obtain a PET film with an adhesive layer.
상기에서 얻어진 이접착층 부착 PET 필름의 이접착층의 두께는 90㎚이고, 이접착층의 굴절률은 1.58이었다. 이 이접착층은 조건 1을 충족한다. The thickness of the adhesive layer of the PET film with an adhesive layer obtained above was 90 nm, and the refractive index of the adhesive layer was 1.58. This adhesive layer satisfies the
또한, PET 필름의 다른쪽 면(투명 도전막을 적층하는 측의 면)에는 제조예 1과 마찬가지로 이접착층 Z를 건조 두께가 90㎚로 되도록 적층했다. On the other side of the PET film (on the side where the transparent conductive film was laminated), this adhesive layer Z was laminated so as to have a dry thickness of 90 nm as in Production Example 1.
<이접착층 E> <Adhesive Layer E>
굴절률 1.58의 폴리에스테르 수지 3을 100질량부, 멜라민계 가교제를 5질량부, 입자 A를 2질량부 함유한다. 100 parts by mass of a
[제조예 6] [Production Example 6]
굴절률 1.65이고 두께 100㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(PET 필름)의 한쪽 면(저굴절률층 적층면)에, 하기 이접착층 F를 건조 두께가 40㎚로 되도록 적층하여 이접착층 부착 PET 필름을 얻었다. The following adhesive layer F was laminated on one side (low refractive index layer laminated surface) of a polyethylene terephthalate film (PET film) having a refractive index of 1.65 and a thickness of 100 占 퐉 to obtain a PET film with the adhesive layer.
상기에서 얻어진 이접착층 부착 PET 필름의 이접착층의 두께는 40㎚이고, 이접착층의 굴절률은 1.58이었다. 이 이접착층은 조건 1 및 조건 2를 충족한다. The thickness of the adhesive layer of the PET film with an adhesive layer obtained above was 40 nm, and the refractive index of the adhesive layer was 1.58. This adhesive layer satisfies
또한, PET 필름의 다른쪽 면(투명 도전막을 적층하는 측의 면)에는 제조예 1과 마찬가지로 이접착층 Z를 건조 두께가 90㎚로 되도록 적층했다. On the other side of the PET film (on the side where the transparent conductive film was laminated), this adhesive layer Z was laminated so as to have a dry thickness of 90 nm as in Production Example 1.
<이접착층 F> <Adhesive layer F>
굴절률 1.58의 폴리에스테르 수지 3을 100질량부, 멜라민계 가교제를 5질량부, 입자 B를 2질량부 함유한다.100 parts by mass of a
[제조예 7] [Production Example 7]
제조예 6의 이접착층 F의 두께를 20㎚로 변경하는 것 이외에는 제조예 6과 마찬가지로 하여 이접착층 부착 PET 필름을 얻었다. A PET film with an adhesive layer was obtained in the same manner as in Production Example 6 except that the thickness of the adhesive layer F of Production Example 6 was changed to 20 nm.
상기에서 얻어진 이접착층 부착 PET 필름의 이접착층의 두께는 20㎚이고, 이접착층의 굴절률은 1.58이었다. 이 이접착층은 조건 1 및 조건 2를 충족한다. The thickness of the adhesive layer of the PET film with an adhesive layer obtained above was 20 nm, and the refractive index of the adhesive layer was 1.58. This adhesive layer satisfies
[제조예 8] [Production Example 8]
굴절률 1.65이고 두께 100㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(PET 필름)의 한쪽 면(저굴절률층 적층면)에, 하기 이접착층 G를 건조 두께가 90㎚로 되도록 적층하여 이접착층 부착 PET 필름을 얻었다. The following adhesive layer G was laminated on one side (low refractive index layer laminated surface) of a polyethylene terephthalate film (PET film) having a refractive index of 1.65 and a thickness of 100 占 퐉 to obtain a PET film with an adhesive layer.
상기에서 얻어진 이접착층 부착 PET 필름의 이접착층의 두께는 90㎚이고, 이접착층의 굴절률은 1.54였다. 이 이접착층은 조건 1 및 조건 2 어느 것이나 충족하지 않는다. The thickness of the adhesive layer of the PET film with adhesive layer obtained above was 90 nm, and the refractive index of the adhesive layer was 1.54. This adhesive layer does not satisfy either
또한, PET 필름의 다른쪽 면(투명 도전막을 적층하는 측의 면)에는 제조예 1과 마찬가지로 이접착층 Z를 건조 두께가 90㎚로 되도록 적층했다. On the other side of the PET film (on the side where the transparent conductive film was laminated), this adhesive layer Z was laminated so as to have a dry thickness of 90 nm as in Production Example 1.
<이접착층 G> <Adhesive Layer G>
굴절률 1.54의 아크릴 수지 1을 100질량부, 멜라민계 가교제를 5질량부, 입자 A를 2질량부 함유한다. 100 parts by mass of an
[제조예 9] [Production Example 9]
제조예 8의 이접착층 G의 두께를 60㎚로 변경하는 것 이외에는 제조예 8과 마찬가지로 하여 이접착층 부착 PET 필름을 얻었다. A PET film with an adhesive layer was obtained in the same manner as in Production Example 8, except that the thickness of the adhesive layer G in Production Example 8 was changed to 60 nm.
상기에서 얻어진 이접착층 부착 PET 필름의 이접착층의 두께는 60㎚이고, 이접착층의 굴절률은 1.54였다. 이 이접착층은 조건 1 및 조건 2 어느 것이나 충족하지 않는다. The thickness of the adhesive layer of the PET film with an adhesive layer obtained above was 60 nm, and the refractive index of the adhesive layer was 1.54. This adhesive layer does not satisfy either
[제조예 10] [Production Example 10]
제조예 8의 이접착층 G의 두께를 40㎚로 변경하는 것 이외에는 제조예 8과 마찬가지로 하여 이접착층 부착 PET 필름을 얻었다. A PET film with an adhesive layer was obtained in the same manner as in Production Example 8, except that the thickness of the adhesive layer G in Production Example 8 was changed to 40 nm.
상기에서 얻어진 이접착층 부착 PET 필름의 이접착층의 두께는 40㎚이고, 이접착층의 굴절률은 1.54였다. 이 이접착층 조건 2를 충족한다. The thickness of the adhesive layer of the PET film with an adhesive layer obtained above was 40 nm, and the refractive index of the adhesive layer was 1.54. Satisfies this
[제조예 11] [Production Example 11]
굴절률 1.65이고 두께 100㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(PET 필름)의 한쪽 면(저굴절률층 적층면)에, 하기 이접착층 E를 건조 두께가 90㎚로 되도록 적층하여 이접착층 부착 PET 필름을 얻었다. The following adhesive layer E was laminated on one side (low refractive index layer laminated surface) of a polyethylene terephthalate film (PET film) having a refractive index of 1.65 and a thickness of 100 占 퐉 to obtain a PET film with an adhesive layer.
상기에서 얻어진 이접착층 부착 PET 필름의 이접착층의 두께는 90㎚이고, 이접착층의 굴절률은 1.52였다. 이 이접착층은 조건 1 및 조건 2 어느 것이나 충족하지 않는다. The thickness of the adhesive layer of the PET film with an adhesive layer obtained above was 90 nm, and the refractive index of the adhesive layer was 1.52. This adhesive layer does not satisfy either
또한, PET 필름의 다른쪽 면(투명 도전막을 적층하는 측의 면)에는 제조예 1과 마찬가지로 이접착층 Z를 건조 두께가 90㎚로 되도록 적층했다. On the other side of the PET film (on the side where the transparent conductive film was laminated), this adhesive layer Z was laminated so as to have a dry thickness of 90 nm as in Production Example 1.
<이접착층 H> <Adhesive Layer H>
굴절률 1.52의 아크릴 수지 2를 100질량부, 멜라민계 가교제를 5질량부, 입자 A를 2질량부 함유한다. 100 parts by mass of an
[제조예 12] [Production Example 12]
제조예 11의 이접착층 H의 두께를 60㎚로 변경하는 것 이외에는 제조예 11과 마찬가지로 하여 이접착층 부착 PET 필름을 얻었다. A PET film with an adhesive layer was obtained in the same manner as in Production Example 11, except that the thickness of the adhesive layer H in Production Example 11 was changed to 60 nm.
상기에서 얻어진 이접착층 부착 PET 필름의 이접착층의 두께는 60㎚이고, 이접착층의 굴절률은 1.52였다. 이 이접착층은 조건 1 및 조건 2 어느 것이나 충족하지 않는다. The thickness of the adhesive layer of the PET film with an adhesive layer obtained above was 60 nm, and the refractive index of the adhesive layer was 1.52. This adhesive layer does not satisfy either
[제조예 13] [Production Example 13]
굴절률 1.65이고 두께 100㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(PET 필름)의 한쪽 면(저굴절률층 적층면)에, 하기 이접착층 I를 건조 두께가 20㎚가 되도록 적층하여 이접착층 부착 PET 필름을 얻었다. The following adhesive layer I was laminated on one side (low refractive index layer laminated surface) of a polyethylene terephthalate film (PET film) having a refractive index of 1.65 and a thickness of 100 占 퐉 so as to have a dry thickness of 20 nm to obtain a PET film with the adhesive layer.
상기에서 얻어진 이접착층 부착 PET 필름의 이접착층의 두께는 20㎚이고, 이접착층의 굴절률은 1.52였다. 이 이접착층은 조건 2를 충족한다. The thickness of the adhesive layer of the PET film with an adhesive layer obtained above was 20 nm, and the refractive index of the adhesive layer was 1.52. This adhesive layer satisfies
또한, PET 필름의 다른쪽 면(투명 도전막을 적층하는 측의 면)에는 제조예 1과 마찬가지로 이접착층 Z를 건조 두께가 90㎚로 되도록 적층했다. On the other side of the PET film (on the side where the transparent conductive film was laminated), this adhesive layer Z was laminated so as to have a dry thickness of 90 nm as in Production Example 1.
<이접착층 I> <Adhesive Layer I>
굴절률 1.52의 아크릴 수지 2를 100질량부, 멜라민계 가교제를 5질량부, 입자 B를 2질량부 함유한다. 100 parts by mass of an
[제조예 14] [Production Example 14]
굴절률 1.65이고 두께 100㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(PET 필름)의 한쪽 면(저굴절률층 적층면)에, 하기 이접착층 J를 건조 두께가 90㎚로 되도록 적층하여 이접착층 부착 PET 필름을 얻었다. The following adhesive layer J was laminated on one side (low refractive index layer laminated side) of a polyethylene terephthalate film (PET film) having a refractive index of 1.65 and a thickness of 100 占 퐉 to obtain a PET film with the adhesive layer.
상기에서 얻어진 이접착층 부착 PET 필름의 이접착층의 두께는 90㎚이고, 이접착층의 굴절률은 1.52였다. 이 이접착층은 조건 1 및 조건 2 어느 것이나 충족하지 않는다. The thickness of the adhesive layer of the PET film with an adhesive layer obtained above was 90 nm, and the refractive index of the adhesive layer was 1.52. This adhesive layer does not satisfy either
또한, PET 필름의 다른쪽 면(투명 도전막을 적층하는 측의 면)에는 제조예 1과 마찬가지로 이접착층 Z를 건조 두께가 90㎚로 되도록 적층했다. On the other side of the PET film (on the side where the transparent conductive film was laminated), this adhesive layer Z was laminated so as to have a dry thickness of 90 nm as in Production Example 1.
<이접착층 J> <Adhesive Layer J>
굴절률 1.52의 아크릴 수지 2를 100질량부, 멜라민계 가교제를 5질량부, 입자 C를 2질량부 함유한다. 100 parts by mass of an
[제조예 15] [Production Example 15]
굴절률 1.65이고 두께 100㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(PET 필름)의 한쪽 면(저굴절률층 적층면)에, 하기 이접착층 K를 건조 두께가 90㎚로 되도록 적층하여 이접착층 부착 PET 필름을 얻었다. The following adhesive layer K was laminated on one side (low refractive index layer laminated side) of a polyethylene terephthalate film (PET film) having a refractive index of 1.65 and a thickness of 100 占 퐉 to obtain a dry film thickness of 90 nm to obtain a PET film with the adhesive layer.
상기에서 얻어진 이접착층 부착 PET 필름의 이접착층의 두께는 90㎚이고, 이접착층의 굴절률은 1.52였다. 이 이접착층은 조건 1 및 조건 2 어느 것이나 충족하지 않는다. The thickness of the adhesive layer of the PET film with an adhesive layer obtained above was 90 nm, and the refractive index of the adhesive layer was 1.52. This adhesive layer does not satisfy either
또한, PET 필름의 다른쪽 면(투명 도전막을 적층하는 측의 면)에는 제조예 1과 마찬가지로 이접착층 Z를 건조 두께가 90㎚로 되도록 적층했다. On the other side of the PET film (on the side where the transparent conductive film was laminated), this adhesive layer Z was laminated so as to have a dry thickness of 90 nm as in Production Example 1.
<이접착층 K> <Adhesive layer K>
굴절률 1.52의 아크릴 수지 2를 100질량부, 멜라민계 가교제를 5질량부 함유한다. 이 이접착층 F는 입자를 포함하지 않는 이접착층이다. 100 parts by mass of
[제조예 16] [Production Example 16]
이접착층이 적층되어 있지 않은 PET 필름(굴절률 1.65, 두께 100㎛)을 준비했다. A PET film (refractive index: 1.65, thickness: 100 m) on which the adhesive layer was not laminated was prepared.
[제조예 17-1] [Manufacturing Example 17-1]
굴절률 1.65이고 두께 100㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(PET 필름)의 한쪽 면(저굴절률층 적층면)에, 하기 이접착층 L을 건조 두께가 90㎚로 되도록 적층하여 이접착층 부착 PET 필름을 얻었다. The following adhesive layer L was laminated on one side (low refractive index layer laminated surface) of a polyethylene terephthalate film (PET film) having a refractive index of 1.65 and a thickness of 100 占 퐉 to obtain a PET film with an adhesive layer.
상기에서 얻어진 이접착층 부착 PET 필름의 이접착층의 두께는 90㎚이고, 이접착층의 굴절률은 1.60이었다. 이 이접착층은 조건 1을 충족한다. The thickness of the adhesive layer of the PET film with an adhesive layer obtained above was 90 nm, and the refractive index of the adhesive layer was 1.60. This adhesive layer satisfies the
또한, PET 필름의 다른쪽 면(투명 도전막을 적층하는 측의 면)에는 제조예 1과 마찬가지로 이접착층 Z를 건조 두께가 90㎚로 되도록 적층했다. On the other side of the PET film (on the side where the transparent conductive film was laminated), this adhesive layer Z was laminated so as to have a dry thickness of 90 nm as in Production Example 1.
<이접착층 L> <Adhesive Layer L>
폴리에스테르 수지 3을 100질량부, 산화지르코늄(평균 입자지름이 20㎚)을 20질량부, 멜라민계 가교제를 15질량부, 입자 A를 1질량부 함유한다. 100 parts by mass of the
[제조예 17-2] [Manufacturing Example 17-2]
상기 제조예 17-1에 있어서, 이접착층 L의 건조 두께를 120㎚로 변경하는 것 이외에는 제조예 17-1과 마찬가지로 하여 이접착층 부착 PET 필름을 얻었다. A PET film with an adhesive layer was obtained in the same manner as in Production Example 17-1, except that the dry thickness of the adhesive layer L was changed to 120 nm in Production Example 17-1.
상기에서 얻어진 이접착층 부착 PET 필름의 이접착층의 두께는 120㎚이고, 이접착층의 굴절률은 1.60이었다. 이 이접착층은 조건 1을 충족한다. The thickness of the adhesive layer of the PET film with an adhesive layer obtained above was 120 nm, and the refractive index of the adhesive layer was 1.60. This adhesive layer satisfies the
[제조예 17-3] [Manufacturing Example 17-3]
상기 제조예 17-1에 있어서, 이접착층 L의 건조 두께를 120㎚로 변경하는 것 이외에는 제조예 17-1과 마찬가지로 하여 이접착층 부착 PET 필름을 얻었다. A PET film with an adhesive layer was obtained in the same manner as in Production Example 17-1, except that the dry thickness of the adhesive layer L was changed to 120 nm in Production Example 17-1.
상기에서 얻어진 이접착층 부착 PET 필름의 이접착층의 두께는 150㎚이고, 이접착층의 굴절률은 1.60이었다. 이 이접착층은 조건 1을 충족한다. The thickness of the adhesive layer of the PET film with an adhesive layer obtained above was 150 nm, and the refractive index of the adhesive layer was 1.60. This adhesive layer satisfies the
[제조예 18] [Production Example 18]
굴절률 1.65이고 두께 100㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(PET 필름)의 한쪽 면(저굴절률층 적층면)에, 하기 이접착층 L을 건조 두께가 90㎚로 되도록 적층하여 이접착층 부착 PET 필름을 얻었다. The following adhesive layer L was laminated on one side (low refractive index layer laminated surface) of a polyethylene terephthalate film (PET film) having a refractive index of 1.65 and a thickness of 100 占 퐉 to obtain a PET film with an adhesive layer.
상기에서 얻어진 이접착층 부착 PET 필름의 이접착층의 두께는 90㎚이고, 이접착층의 굴절률은 1.65였다. 이 이접착층은 조건 1을 충족한다. The thickness of the adhesive layer of the PET film with adhesive layer obtained above was 90 nm, and the refractive index of the adhesive layer was 1.65. This adhesive layer satisfies the
또한, PET 필름의 다른쪽 면(투명 도전막을 적층하는 측의 면)에는 제조예 1과 마찬가지로 이접착층 Z를 건조 두께가 90㎚로 되도록 적층했다. On the other side of the PET film (on the side where the transparent conductive film was laminated), this adhesive layer Z was laminated so as to have a dry thickness of 90 nm as in Production Example 1.
<이접착층 M> <Adhesive layer M>
폴리에스테르 수지 3을 100질량부, 산화지르코늄(평균 입자지름이 20㎚)을 60질량부, 멜라민계 가교제 15질량부, 입자 A를 1질량부 함유한다. 100 parts by mass of
[제조예 19] [Production Example 19]
굴절률 1.65이고 두께 100㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(PET 필름)의 한쪽 면(저굴절률층 적층면)에, 하기 이접착층 L을 건조 두께가 90㎚로 되도록 적층하여 이접착층 부착 PET 필름을 얻었다. The following adhesive layer L was laminated on one side (low refractive index layer laminated surface) of a polyethylene terephthalate film (PET film) having a refractive index of 1.65 and a thickness of 100 占 퐉 to obtain a PET film with an adhesive layer.
상기에서 얻어진 이접착층 부착 PET 필름의 이접착층의 두께는 90㎚이고, 이접착층의 굴절률은 1.66이었다. 이 이접착층은 조건 1을 충족한다. The thickness of the adhesive layer of the PET film with an adhesive layer obtained above was 90 nm, and the refractive index of the adhesive layer was 1.66. This adhesive layer satisfies the
또한, PET 필름의 다른쪽 면(투명 도전막을 적층하는 측의 면)에는 제조예 1과 마찬가지로 이접착층 Z를 건조 두께가 90㎚로 되도록 적층했다. On the other side of the PET film (on the side where the transparent conductive film was laminated), this adhesive layer Z was laminated so as to have a dry thickness of 90 nm as in Production Example 1.
<이접착층 N> <Adhesive Layer N>
폴리에스테르 수지 3을 100질량부, 산화지르코늄(평균 입자지름이 20㎚)를 67질량부, 멜라민계 가교제 15질량부, 입자 A를 1질량부 함유한다. 100 parts by mass of
[제조예 20] [Production Example 20]
굴절률 1.65이고 두께 100㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(PET 필름)의 한쪽 면(저굴절률층 적층면)에, 이접착층 대신에 하기 활성 에너지선 경화성(자외선 경화성)의 고굴절률층을 건조 두께가 90㎚로 되도록 적층하여 자외선을 조사하여 고굴절률층 적층 PET 필름을 얻었다. A high refractive index layer of the following active energy ray-curable (ultraviolet curable) layer was formed on one surface (low refractive index layer laminated surface) of a polyethylene terephthalate film (PET film) having a refractive index of 1.65 and a thickness of 100 탆, And irradiated with ultraviolet rays to obtain a high refractive index layer laminated PET film.
상기에서 얻어진 고굴절률층 적층 PET 필름의 고굴절률층의 두께는 90㎚이고, 고굴절률층의 굴절률은 1.65였다. The thickness of the high refractive index layer of the high refractive index layer laminated PET film obtained above was 90 nm, and the refractive index of the high refractive index layer was 1.65.
또한, 상기 PET 필름의 다른쪽 면(투명 도전막을 적층하는 측의 면)에는 제조예 1과 마찬가지로 이접착층 Z를 건조 두께가 90㎚로 되도록 적층했다. The adhesive layer Z was laminated on the other side of the PET film (on the side where the transparent conductive film was laminated) so as to have a dry thickness of 90 nm as in Production Example 1. [
<고굴절률층> ≪ High refractive index layer &
활성 에너지선 경화성 수지로서 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트를 100질량부, 산화지르코늄(평균 입자지름이 20㎚)을 100질량부, 및 광중합 개시제(치바 스페셜티 케미컬즈(주)제 「일가큐어(등록상표) 184」)를 5질량부 함유한다. 100 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate as an active energy ray curable resin, 100 parts by mass of zirconium oxide (average particle diameter of 20 nm) and 100 parts by mass of a photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., ) 184 "). ≪ / RTI >
[실시예 1~33 및 비교예 1~25] [Examples 1 to 33 and Comparative Examples 1 to 25]
하기 요령으로 실시예 1~실시예 33 및 비교예 1~비교예 25의 투명 도전성 필름을 작성했다. The transparent conductive films of Examples 1 to 33 and Comparative Examples 1 to 25 were prepared in the following manner.
상기 제조예 1~제조예 19에서 얻어진 이접착층 부착 PET 필름의 한쪽의 이접착층(저굴절률층 적층 측의 이접착층)의 면에, 하기 저굴절률층 A, 저굴절률층 B, 저굴절률층 C 또는 저굴절률층 D를 형성했다. 또한, 상기 제조예 20에서 얻어진 고굴절률층 적층 PET 필름의 고굴절률층 상에 저굴절률층 C를 형성했다. The low refractive index layer A, the low refractive index layer B, the low refractive index layer C, or the low refractive index layer C was formed on the surface of one of the adhesive layers (the adhesive layer on the low refractive index layer lamination side) of the adhesive layer- A low refractive index layer D was formed. Further, a low refractive index layer C was formed on the high refractive index layer of the high refractive index layer laminated PET film obtained in Production Example 20.
이접착층 부착 PET 필름과 저굴절률층의 조합을 표 1~표 3에 나타낸다. Tables 1 to 3 show combinations of the PET film with adhesive layer and the low refractive index layer.
또한, 이접착층 부착 PET 필름의 다른쪽의 이접착층(투명 도전층측의 이접착층)의 면에, 하기 하드 코트층, 고굴절률층, SiO2 막 및 투명 도전막을 이 순서로 적층하여 투명 도전성 필름을 작성했다. On the other side of the adhesive layer (the adhesive layer on the transparent conductive layer side) of the adhesive film-attached PET film, the following hard coat layer, high refractive index layer, SiO 2 And a transparent conductive film were laminated in this order to prepare a transparent conductive film.
<저굴절률층 A> <Low Refractive Index Layer A>
활성 에너지선 경화성 수지(디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트와 우레탄아크릴레이트를 질랑비 1:3으로 함유) 47질량부, 중공 실리카(니키쇼쿠바이카세이(주)제의 ELECOM-P5024)를 고형분으로 50질량부, 에틸렌성 불포화기를 갖는 폴리실록산 화합물(신에츠카가쿠고교(주)제의 「X-22-164C」) 3질량부 및 광중합 개시제(치바 스페셜티 케미컬즈(주)제 「일가큐어(등록상표) 184」) 3질량부를 유기용제에 분산 또는 용해하여 활성 에너지선 경화성 조성물 포조성물을 조제했다. 이 조성물의 굴절률은 1.35였다. 47 parts by mass of an active energy ray curable resin (containing dipentaerythritol hexaacrylate and urethane acrylate in a ratio of 1: 3), and 50 parts by mass of hollow silica (ELECOM-P5024, manufactured by Nikkiso Co., , 3 parts by mass of a polysiloxane compound having an ethylenic unsaturated group (" X-22-164C ", manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 1 part by mass of a photopolymerization initiator (" Ilgacure (registered trademark) 184 ") were dispersed or dissolved in an organic solvent to prepare an active energy ray curable composition composition. The refractive index of this composition was 1.35.
이 조성물을 습식 코팅법(그라비아 코팅법)으로 도포하고, 90℃에서 건조 후 자외선 400mJ/㎠를 조사해서 경화시켜 저굴절률층을 형성했다. 저굴절률층의 두께(경화 후의 두께)는 표 1~표 3에 나타내는 바와 같이 70㎚, 90㎚, 100㎚, 110㎚, 130㎚ 사이에서 변화시켰다. This composition was applied by a wet coating method (gravure coating method), dried at 90 占 폚 and irradiated with ultraviolet rays of 400 mJ / cm2 to form a low refractive index layer. The thickness of the low refractive index layer (thickness after curing) was changed between 70 nm, 90 nm, 100 nm, 110 nm and 130 nm as shown in Tables 1 to 3.
<저굴절률층 B> ≪ Low Refractive Index Layer B &
활성 에너지선 경화성 수지(디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트와 우레탄아크릴레이트를 질량비 1:3으로 함유) 59질량부, 중공 실리카(니키쇼쿠바이카세이(주)제의 ELECOM-P5024)를 고형분으로 38질량부, 에틸렌성 불포화기를 갖는 폴리실록산 화합물(신에츠카가쿠고교(주)제의 「X-22-164C」) 3질량부 및 광중합 개시제(치바 스페셜티 케미컬즈(주)제 「일가큐어(등록상표) 184」) 3질량부를 유기용제에 분산 또는 용해하여 활성 에너지선 경화성 조성물 포조성물을 조제했다. 이 조성물의 굴절률은 1.38이었다. 59 parts by mass of active energy ray-curable resin (containing dipentaerythritol hexaacrylate and urethane acrylate in a mass ratio of 1: 3), 38 parts by mass of hollow silica (ELECOM-P5024 manufactured by Nikkiso Co., , 3 parts by mass of a polysiloxane compound having an ethylenic unsaturated group ("X-22-164C" manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and 3 parts by mass of a photopolymerization initiator "Ilgacure (registered trademark) 184 ) Was dispersed or dissolved in an organic solvent to prepare an active energy ray curable composition composition. The refractive index of this composition was 1.38.
이 조성물을 습식 코팅법(그라비아 코팅법)으로 도포하고, 90℃에서 건조 후 자외선 400mJ/㎠를 조사해서 경화시켜 저굴절률층을 형성했다. 저굴절률층의 두께(경화 후의 두께)는 표 1~표 3에 나타낸 바와 같이 90㎚, 100㎚, 110㎚ 사이에서 변화시켰다. This composition was applied by a wet coating method (gravure coating method), dried at 90 占 폚 and irradiated with ultraviolet rays of 400 mJ / cm2 to form a low refractive index layer. The thickness of the low refractive index layer (thickness after curing) was changed between 90 nm, 100 nm and 110 nm as shown in Tables 1 to 3.
<저굴절률층 C> <Low Refractive Index Layer C>
활성 에너지선 경화성 수지(디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트와 우레탄아크릴레이트를 질량비 1:3으로 함유) 67질량부, 중공 실리카(니키쇼쿠바이카세이(주)제의 ELECOM-P5024)를 고형분 30질량부, 에틸렌성 불포화기를 갖는 폴리실록산 화합물(신에츠카가쿠고교(주)제의 「X-22-164C」) 3질량부 및 광중합 개시제(치바 스페셜티 케미컬즈(주)제 「일가큐어(등록상표) 184」) 3질량부를 유기용제에 분산 또는 용해하여 활성 에너지선 경화성 조성물 포조성물을 조제했다. 이 조성물의 굴절률은 1.40이었다. 67 parts by mass of an active energy ray curable resin (containing dipentaerythritol hexaacrylate and urethane acrylate in a mass ratio of 1: 3), 30 parts by mass of hollow silica (ELECOM-P5024, manufactured by Nikkiso Co., , 3 parts by mass of a polysiloxane compound having an ethylenic unsaturated group ("X-22-164C", manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 1 part by mass of a photopolymerization initiator ("Ilgacure (registered trademark) 184" ) Was dispersed or dissolved in an organic solvent to prepare an active energy ray curable composition composition. The refractive index of this composition was 1.40.
이 조성물을 습식 코팅법(그라비아 코팅법)으로 도포하고, 90℃에서 건조 후 자외선 400mJ/㎠를 조사해서 경화시켜서 두께가 100㎚인 저굴절률층을 형성했다. This composition was applied by a wet coating method (gravure coating method), dried at 90 占 폚 and irradiated with ultraviolet rays of 400 mJ / cm2 to be cured to form a low refractive index layer having a thickness of 100 nm.
<저굴절률층 D> ≪ Low Refractive Index Layer D &
활성 에너지선 경화성 수지(디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트와 우레탄아크릴레이트를 질량비 1:3으로 함유) 82질량부, 중공 실리카(니키쇼쿠바이카세이(주)제의 ELECOM-P5024)를 고형분으로 15질량부 및 광중합 개시제(치바 스페셜티 케미컬즈(주)제 「일가큐어(등록상표) 184」) 3질량부를 유기용제에 분산 또는 용해하여 활성 에너지선 경화성 조성물 포조성물을 조제했다. 이 조성물의 굴절률은 1.43이었다. 82 parts by mass of an active energy ray curable resin (containing dipentaerythritol hexaacrylate and urethane acrylate in a mass ratio of 1: 3) and 15 parts by mass of hollow silica (ELECOM-P5024, manufactured by Nikkiso Co., And 3 parts by mass of a photopolymerization initiator ("IGACURE (registered trademark) 184" manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) were dispersed or dissolved in an organic solvent to prepare an active energy ray curable composition composition. The refractive index of this composition was 1.43.
이 조성물을 습식 코팅법(그라비아 코팅법)으로 도포하고, 90℃에서 건조 후 자외선 400mJ/㎠를 조사해서 경화시켜 두께가 100㎚인 저굴절률층을 형성했다. This composition was applied by a wet coating method (gravure coating method), dried at 90 占 폚, and cured by irradiation with ultraviolet rays of 400 mJ / cm2 to form a low refractive index layer having a thickness of 100 nm.
<하드 코트층> <Hard coat layer>
활성 에너지선 경화성 수지(디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트와 우레탄아크릴레이트를 질량비 1:3으로 함유) 95질량부, 광중합 개시제(치바 스페셜티 케미컬즈(주)제 「일가큐어(등록상표) 184」) 5질량부를 포함하는 조성물을 조제했다. 이 조성물의 굴절률은 1.50이었다. , 95 parts by mass of an active energy ray curable resin (containing dipentaerythritol hexaacrylate and urethane acrylate in a mass ratio of 1: 3), 5 parts by mass of a photopolymerization initiator ("Ilgacure (registered trademark) 184" By mass was prepared. The refractive index of this composition was 1.50.
이 조성물을 습식 코팅법(그라비아 코팅법)에 의해 도포하고, 90℃에서 건조 후 자외선 400mJ/㎠를 조사해서 경화시켜 두께가 2㎛인 하드 코트층을 형성했다. This composition was applied by a wet coating method (gravure coating method), dried at 90 占 폚 and irradiated with ultraviolet rays of 400 mJ / cm2 to form a hard coat layer having a thickness of 2 占 퐉.
<고굴절률층> ≪ High refractive index layer &
활성 에너지선 경화성 수지(디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 10질량부와 우레탄아크릴레이트 27질량부) 37질량부, 산화지르코늄(평균 입자지름이 20㎚) 60질량부 및 광중합 개시제(치바 스페셜티 케미컬즈(주)제 「일가큐어(등록상표) 184」) 3질량부를 유기용제에 분산 또는 용해시킨 조성물을 조제했다. 이 조성물의 굴절률은 1.70이었다. , 37 parts by mass of an active energy ray curable resin (10 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate and 27 parts by mass of urethane acrylate), 60 parts by mass of zirconium oxide (average particle diameter of 20 nm) and 60 parts by mass of a photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals ) &Quot; IGACURE (registered trademark) 184 ") were dispersed or dissolved in an organic solvent. The refractive index of this composition was 1.70.
이 조성물을 습식 코팅법(그라비아 코팅법)에 의해 도포하고, 90℃에서 건조 후 자외선 400mJ/㎠를 조사해서 경화시켜 두께가 80㎚인 고굴절률층을 형성했다. This composition was coated by a wet coating method (gravure coating method), dried at 90 占 폚 and irradiated with ultraviolet rays of 400 mJ / cm2 to form a high refractive index layer having a thickness of 80 nm.
<SiO2 막> <SiO 2 film>
SiO2 막(굴절률 1.46)을 두께가 10㎚가 되도록 스퍼터링법에 의해 적층했다. An SiO 2 film (refractive index: 1.46) was laminated by a sputtering method so as to have a thickness of 10 nm.
<투명 도전막> ≪ Transparent conductive film &
ITO막을 두께가 30㎚가 되도록 스퍼터링법으로 적층하고, 패턴 가공(에칭 처리)해서 투명 도전막을 형성했다. The ITO film was laminated by a sputtering method so as to have a thickness of 30 nm and patterned (etched) to form a transparent conductive film.
[투명 도전성 필름의 평가] [Evaluation of transparent conductive film]
상기에서 얻어진 실시예 및 비교예의 투명 도전성 필름에 대해서 시감 반사율, 밀착성 및 미끄러짐성을 평가했다. 이것들의 결과를 표 1~표 3에 나타낸다. The transparent conductive films of the examples and comparative examples obtained above were evaluated for luminous reflectance, adhesion, and slipperiness. The results are shown in Tables 1 to 3.
표 1~표 3의 결과로부터, 본 발명의 실시예는 시감 반사율이 작고, 또한 저굴절률층의 밀착성 및 미끄러짐성이 양호한 것을 알 수 있다. From the results of Tables 1 to 3, it can be seen that the embodiment of the present invention has a small luminous reflectance and a good adhesion and slippery property of the low refractive index layer.
비교예 1~비교예 6, 비교예 8, 비교예 9에 사용된 이접착층 PET 필름의 이접착층은 조건 1과 조건 2 어느 것이나 충족하지 않으므로 시감 반사율이 크게 되어 있다. This adhesive layer of this adhesive layer PET film used in Comparative Examples 1 to 6 and Comparative Example 8 and Comparative Example 9 did not satisfy any of
또한, 비교예 5의 이접착층 PET 필름의 이접착층은 입자를 함유하고 있지만, 이접착층의 두께(d)에 대한 입자의 평균 입자지름(r)의 비율(r/d)이 0.5 미만이기 때문에 미끄러짐성이 떨어지고 있다. 비교예 6의 이접착층 PET 필름의 이접착층은 입자를 함유하고 있지 않으므로 미끄러짐성이 떨어지고 있다. 이접착층을 갖지 않는 PET 필름을 사용한 비교예 7은 밀착성 및 미끄러짐성이 떨어지고 있다. The adhesive layer of the adhesive layer PET film of Comparative Example 5 contained particles but the ratio (r / d) of the average particle diameter r of the particles to the thickness d of the adhesive layer was less than 0.5, The castle is falling. The adhesive layer of this adhesive layer PET film of Comparative Example 6 contained no particles and thus had a poor slidability. In Comparative Example 7 using the PET film having no adhesive layer, adhesiveness and slipperiness were poor.
비교예 10~비교예 14, 비교예 15, 비교예 16은 저굴절률층의 굴절률이 1.42를 초과하고 있고, 시감 반사율이 크게 되어 있다. 또한, 비교예 10~비교예 14, 비교예 15, 비교예 16의 저굴절률층 D는 에틸렌성 불포화기를 갖는 폴리실록산 화합물을 포함하지 않으므로, 동 화합물을 포함하는 저굴절률층 A, B, C에 비해서 미끄러짐성이 떨어지고 있다. In Comparative Examples 10 to 14 and Comparative Example 15 and Comparative Example 16, the refractive index of the low refractive index layer exceeds 1.42 and the luminous reflectance is large. In addition, since the low refractive index layer D of Comparative Examples 10 to 14 and Comparative Example 15 and Comparative Example 16 does not contain the polysiloxane compound having an ethylenic unsaturated group, the refractive index of the low refractive index layers A, B and C Slipperiness is falling.
또한, 비교예 14의 이접착층 PET 필름의 이접착층은 입자를 함유하고 있지 않고, 또한 에틸렌성 불포화기를 갖는 폴리실록산 화합물을 포함하지 않는 저굴절률층 D를 이용하고 있으므로 미끄러짐성이 떨어지고 있다. 이것들의 결과로부터 이접착층이 적당한 크기의 입자를 포함하고 또한 저굴절률층이 에틸렌성 불포화기를 갖는 폴리실록산 화합물을 포함함으로써 양호한 미끄러짐성이 얻어지는 것을 알 수 있다. In addition, the adhesive layer of this adhesive layer PET film of Comparative Example 14 uses a low refractive index layer D that does not contain particles and does not contain a polysiloxane compound having an ethylenic unsaturated group, so that the slidability is low. From these results, it can be seen that good slipperiness is obtained by including the polysiloxane compound in which the adhesive layer contains particles of an appropriate size and the low refractive index layer has an ethylenic unsaturated group.
비교예 17~비교예 20은 저굴절률층의 두께가 80㎚ 미만이므로 시감 반사율이 크게 되고, 또한 올리고머 석출의 억제 효과도 저하되어 있다. In Comparative Examples 17 to 20, since the thickness of the low refractive index layer is less than 80 nm, the luminous reflectance is increased and the effect of suppressing oligomer precipitation is also deteriorated.
비교예 21~비교예 24는 저굴절률층의 두께가 120㎚를 초과하고 있으므로 시감 반사율이 크게 되어 있다. In Comparative Examples 21 to 24, since the thickness of the low refractive index layer exceeds 120 nm, the luminous reflectance becomes large.
비교예 25는 이접착층 대신에 활성 에너지선 경화성의 고굴절률층을 형성하고 있지만, 기재 필름과의 밀착성이 떨어지고 있다. In Comparative Example 25, instead of this adhesive layer, a high refractive index layer having an active energy ray curability was formed, but adhesion with the base film was poor.
1, 5: 기재 필름
2, 6: 투명 도전막
3: 이접착층
4: 저굴절률층
7: 기능층
8: 스페이서
9: 공기층
11, 13, 14, 15, 16: 본 발명의 투명 도전성 필름
12: 투명 도전성 필름
21, 22, 23, 25: 터치 패널
24: 전자파 차폐 부재
31: 표시 패널 1, 5: base film
2, 6: transparent conductive film
3:
4: Low refractive index layer
7: functional layer
8: Spacer
9: air layer
11, 13, 14, 15, 16: The transparent conductive film
12: transparent conductive film
21, 22, 23, 25: Touch panel
24: Electromagnetic wave shield member
31: Display panel
Claims (16)
상기 이접착층이 고굴절률 재료로서 분자 중에 축합 방향족환을 갖는 폴리에스테르 수지와, 산화지르코늄 및 산화티탄 중 적어도 어느 하나를 함유하고,
상기 이접착층이 실리카 입자를 더 함유하고,
상기 실리카 입자의 평균 입자지름(r)과 이접착층의 두께(d)의 비율(r/d)은 1.3이상 20이하이고,
상기 이접착층의 굴절률이 1.60∼1.66이고, 또한 하기 조건 1을 충족하는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름.
조건 1; 기재 필름의 굴절률과 이접착층의 굴절률의 차의 절대값이 0.05 이하이다. Wherein the base film has a transparent conductive film on one side of a base film having a refractive index of 1.6 to 1.7 and a low refractive index layer having a refractive index of 1.42 or less and a thickness of 80 to 120 nm through the adhesive layer on the other side of the base film,
Wherein the adhesive layer contains at least one of a polyester resin having a condensed aromatic ring in a molecule as a high refractive index material and zirconium oxide and titanium oxide,
Wherein the adhesive layer further contains silica particles,
The ratio (r / d) of the average particle diameter (r) of the silica particles to the thickness (d) of the adhesive layer is 1.3 to 20,
Wherein the adhesive layer has a refractive index of 1.60 to 1.66, and further satisfies the following condition (1).
Condition 1; The absolute value of the difference between the refractive index of the base film and the refractive index of the adhesive layer is 0.05 or less.
상기 분자 중에 축합 방향족환을 갖는 폴리에스테르 수지가 분자 중에 나프탈렌환 및 플루오렌환 중 적어도 어느 하나를 갖는 폴리에스테르 수지인 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름.The method according to claim 1,
Wherein the polyester resin having a condensed aromatic ring in the molecule is a polyester resin having at least one of a naphthalene ring and a fluorene ring in the molecule.
상기 이접착층이 분자 중에 축합 방향족환을 갖는 폴리에스테르 수지 중에 산화지르코늄 또는 산화티탄이 분산된 층인 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름.The method according to claim 1,
Wherein the adhesive layer is a layer in which zirconium oxide or titanium oxide is dispersed in a polyester resin having a condensed aromatic ring in the molecule.
상기 이접착층의 두께는 5㎚ 이상 200㎚ 미만인 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름. The method according to claim 1,
Wherein the adhesive layer has a thickness of 5 nm or more and less than 200 nm.
상기 기재 필름은 폴리에스테르 필름인 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름. The method according to claim 1,
Wherein the base film is a polyester film.
상기 폴리에스테르 필름은 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름인 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름. The method according to claim 6,
Wherein the polyester film is a polyethylene terephthalate film.
상기 이접착층은 가교제를 더 함유하는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름. The method according to claim 1,
Wherein the adhesive layer further contains a crosslinking agent.
상기 가교제는 멜라민계 가교제, 옥사졸린계 가교제, 카르보디이미드계 가교제, 이소시아네이트계 가교제 및 아지리딘계 가교제로 이루어지는 군 중의 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름. 9. The method of claim 8,
Wherein the crosslinking agent is at least one member selected from the group consisting of a melamine crosslinking agent, an oxazoline crosslinking agent, a carbodiimide crosslinking agent, an isocyanate crosslinking agent and an aziridine crosslinking agent.
상기 저굴절률층은 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 습식 코팅법에 의해 도포하여 경화시킨 층인 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름. The method according to claim 1,
Wherein the low refractive index layer is a layer obtained by applying an active energy ray curable resin composition by a wet coating method and curing the layer.
상기 저굴절률층은 에틸렌성 불포화기를 갖는 폴리실록산 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름.The method according to claim 1,
Wherein the low refractive index layer contains a polysiloxane compound having an ethylenic unsaturated group.
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