KR20180048801A - A transparent conductive film, and a touch panel - Google Patents

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KR20180048801A
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게이스케 마츠모토
히데히코 안도우
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닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명의 목적은, 저위상차의 폴리에스테르를 기재로서 사용함으로써, 충분한 재료 강도를 갖고, 재료비가 저렴하고 생산성도 양호하며, 게다가 충분한 무지개 얼룩의 억제 효과가 얻어지는 투명 도전성 필름, 및 그것을 포함하는 터치 패널을 제공하는 것이다. 본 발명은 투명 수지 필름 (4) 과 투명 도전막 (6) 을 갖는 투명 도전성 필름 (20) 으로서, 투명 수지 필름 (4) 은, 2 축 연신된 폴리에스테르계 수지 필름으로, 면내 위상차값이 150 ㎚ 이하, 두께 방향 위상차값이 1000 ㎚ 이하인 것을 특징으로 한다.It is an object of the present invention to provide a transparent conductive film which has sufficient material strength, low material cost, good productivity, and sufficient anti-iridescence suppression effect by using a low-phase-difference polyester as a substrate, Panel. A transparent conductive film (20) having a transparent resin film (4) and a transparent conductive film (6), wherein the transparent resin film (4) is a biaxially stretched polyester resin film and has an in- Nm or less in thickness direction retardation value and 1000 nm or less in thickness direction retardation value.

Description

투명 도전성 필름, 및 그것을 포함하는 터치 패널A transparent conductive film, and a touch panel

본 발명은 투명 수지 필름과 투명 도전막을 갖는 투명 도전성 필름, 및 그것을 포함하는 터치 패널에 관한 것이다.The present invention relates to a transparent conductive film having a transparent resin film and a transparent conductive film, and a touch panel including the transparent conductive film.

최근에는, 태블릿, 스마트폰, 터치 패널이 부착된 PC 의 보급에 따라, 옥외에서 전자 기기를 취급할 기회가 증가하고 있다. 옥외에서 디스플레이를 볼 때에 편광 선글라스를 착용한 상태에서 보는 경우도 많아, 그 때에 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 필름을 사용한 투명 도전성 필름을 사용하고 있으면, PET 필름 자체의 면내 위상차 (일반적으로는 1000 ∼ 2000 ㎚) 에 의해 무지개 얼룩이 발생하여, 디스플레이의 시인성을 크게 저하시킨다는 문제가 있었다.Recently, with the spread of PCs with tablets, smart phones, and touch panels, opportunities for handling electronic devices in the open are increasing. When a transparent conductive film using a polyethylene terephthalate (PET) film is used at that time, the in-plane retardation (generally 1000 to 2000 Nm), which causes a problem that the visibility of the display is significantly lowered.

이 때문에, 위상차값이 작은 기재 (고리형 올레핀 수지 등) 를 사용한 투명 도전막의 개발이 진행되어 왔다. 그러나, 고리형 올레핀 수지 등은, 재료 강도가 약하고, 재료 그 자체가 고가라는 디메리트가 있어, 저렴하고 강도가 높은 재료의 사용이 검토되고 있다.For this reason, development of a transparent conductive film using a substrate (cyclic olefin resin or the like) having a small retardation value has been underway. However, the cyclic olefin resin or the like has such a demerit that the material strength is low and the material itself is high, and the use of low-cost and high-strength materials is being studied.

이와 같은 이유로부터, 특허문헌 1 에는, 면내 위상차값이 4000 ㎚ 이상인 연신된 폴리에스테르 등으로 이루어지는 투명 수지 필름을 기재로 하는 투명 도전성 필름이 제안되어 있다. 이 투명 도전성 필름에 의하면, 편광 선글라스를 통하여 시인한 경우에도, 색 불균일이 발생하기 어려워진다.For these reasons, Patent Document 1 proposes a transparent conductive film based on a transparent resin film made of stretched polyester or the like having an in-plane retardation value of 4000 nm or more. According to this transparent conductive film, color irregularity is less likely to occur even when viewed through polarized sunglasses.

일본 공개특허공보 2004-214069호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-214069

그러나, 이와 같이 면내 위상차값이 큰 폴리에스테르 필름 등은, 1 축 연신을 위해 재료 강도가 약하고, 위상차를 높이기 위해 필름이 두껍기 때문에, 재료 비용이 상승하여 생산성도 양호하지 않다는 디메리트가 있어, 범용 재료로는 취급하기 어려운 일면이 있다.However, such a polyester film or the like having a large in-plane retardation value has such a demerit that the material strength is weak for uniaxial stretching and the film is thick to increase the retardation, resulting in an increase in material cost and a poor productivity. There are some aspects that are difficult to handle with materials.

그래서, 본 발명의 목적은, 저위상차의 폴리에스테르를 기재로서 사용함으로써, 충분한 재료 강도를 갖고, 재료비가 저렴하고 생산성도 양호하고, 게다가 충분한 무지개 얼룩의 억제 효과가 얻어지는 투명 도전성 필름, 및 그것을 포함하는 터치 패널을 제공하는 것에 있다.Therefore, an object of the present invention is to provide a transparent conductive film which has sufficient material strength, low material cost, good productivity, and sufficient anti-irritation suppression effect by using a low-phase-difference polyester as a substrate, And a touch panel.

본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토한 결과, 면내 위상차값과 두께 방향 위상차값이 소정의 범위인 2 축 연신된 폴리에스테르계 수지 필름을 기재로서 사용함으로써, 상기 목적을 달성할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명에 이르렀다.Means for Solving the Problems As a result of intensive studies for solving the above problems, the present inventors have found that by using a biaxially stretched polyester resin film having an in-plane retardation value and a thickness retardation value in a predetermined range as a substrate, And reached the present invention.

즉, 본 발명의 투명 도전성 필름은, 투명 수지 필름과 투명 도전막을 갖는 투명 도전성 필름으로서, 상기 투명 수지 필름은, 2 축 연신된 폴리에스테르계 수지 필름으로, 면내 위상차값이 150 ㎚ 이하, 두께 방향 위상차값이 1000 ㎚ 이하인 것을 특징으로 한다. 또한, 본 발명에 있어서의 각종 물성값은, 실시예 등에 있어서 채용하는 방법에 의해 측정되는 값이다.That is, the transparent conductive film of the present invention is a transparent conductive film having a transparent resin film and a transparent conductive film, wherein the transparent resin film is a biaxially stretched polyester resin film having an in-plane retardation value of 150 nm or less, And the retardation value is 1000 nm or less. The various physical property values in the present invention are values measured by the method employed in Examples and the like.

일반적으로, 2 축 연신된 폴리에스테르계 수지 필름은, 충분한 재료 강도를 갖고, 저렴하지만, 면내 위상차가 1000 ∼ 2000 ㎚ 정도로, 이것을 투명 도전성 필름의 기재에 사용하면, 파장 분산에 의해 편광을 비편광화하는 효과가 불충분해져, 무지개 얼룩이 발생한다. 이에 반해, 본 발명과 같이, 면내 위상차값이 150 ㎚ 이하, 두께 방향 위상차값이 1000 ㎚ 이하인 폴리에스테르계 수지 필름을 사용하면, 실시예의 결과가 나타내는 바와 같이, 충분한 무지개 얼룩의 억제 효과가 얻어진다.In general, a biaxially stretched polyester-based resin film has a sufficient material strength and is inexpensive, but when the in-plane retardation is in the range of 1000 to 2000 nm and used in a substrate of a transparent conductive film, polarization is depolarized And the iridescence spots occur. On the other hand, when a polyester-based resin film having an in-plane retardation value of 150 nm or less and a thickness direction retardation value of 1000 nm or less is used as in the present invention, sufficient suppression of iridescence is obtained as shown in the results of Examples .

그 이유의 상세한 것은 명확하지 않지만, 다음과 같이 생각된다. 요컨대, 면내 위상차값이 150 ㎚ 이하인 폴리에스테르계 수지 필름을 사용하면, 직선 편광을 원 편광화 (타원 편광화를 포함한다) 하는 작용이 발생하지만, 이것이, 두께 방향 위상차값이 1000 ㎚ 이하인 것과 함께, 시인 방향의 확장에 대해 색조의 변화를 억제할 수 있기 때문에, 충분한 무지개 얼룩의 억제 효과가 얻어지는 것으로 생각된다.The reason for this is not clear, but it is thought as follows. That is, when a polyester resin film having an in-plane retardation value of 150 nm or less is used, linearly polarized light is circularly polarized (including elliptically polarized light). This is because the retardation value in the thickness direction is 1000 nm or less , It is possible to suppress the change in color tone with respect to the expansion of the viewing direction, and therefore, it is considered that sufficient rainbow stain suppressing effect is obtained.

그 결과, 본 발명의 투명 도전성 필름에 의하면, 저위상차의 폴리에스테르를 기재로서 사용함으로써, 충분한 재료 강도를 갖고, 재료비가 저렴하고 생산성도 양호하고, 게다가 충분한 무지개 얼룩의 억제 효과가 얻어지는 투명 도전성 필름을 제공할 수 있다.As a result, according to the transparent conductive film of the present invention, it is possible to obtain a transparent conductive film having sufficient material strength, low material cost, good productivity, Can be provided.

상기에 있어서, 상기 투명 수지 필름과 상기 투명 도전막 사이에는 적어도 1 층의 광학 조정층을 갖는 것이 바람직하다. 광학 조정층에 의해 굴절률을 제어할 수 있기 때문에, 투명 도전막을 패턴화하였을 때의 패턴 형성부와 패턴 개구부의 반사율차를 저감시킬 수 있어, 투명 도전막 패턴이 보이기 어렵고, 터치 패널 등의 표시 장치에 있어서 시인성이 양호해진다.In the above, it is preferable that at least one optical adjustment layer is provided between the transparent resin film and the transparent conductive film. Since the refractive index can be controlled by the optical adjusting layer, the difference in the reflectance between the pattern forming portion and the pattern opening portion when the transparent conductive film is patterned can be reduced, and the transparent conductive film pattern can hardly be seen, The visibility is improved.

또, 상기 투명 수지 필름의 두께가 5 ∼ 50 ㎛ 인 것이 바람직하다. 이와 같은 범위의 두께이면, 면내 위상차값이 150 ㎚ 이하, 두께 방향 위상차값이 1000 ㎚ 이하인, 2 축 연신된 폴리에스테르계 수지 필름이, 저렴하게 제조하기 쉬워진다.The transparent resin film preferably has a thickness of 5 to 50 mu m. A biaxially stretched polyester-based resin film having an in-plane retardation value of 150 nm or less and a thickness direction retardation value of 1000 nm or less can be produced at low cost with such a thickness in such a range.

또, 상기 투명 수지 필름은, 장척체 또는 사각형상의 매엽체로, 장변 또는 단변에 대해 배향축이 10 ∼ 45 °의 각도를 갖는 것이 바람직하다. 투명 도전성 필름은, 액정 셀 등의 사각형의 광학 표시 장치에 적층하여 사용되는 경우가 많고, 또 상기 광학 표시 장치로부터의 광은 그 장변에 평행 또는 수직인 편광인 경우가 많다. 이 때문에, 본 발명에서는, 배향축이 장변 또는 단변에 대해 10 ∼ 45 °의 각도를 가짐으로써, 편광에 대해 10 ∼ 45 °의 각도로 지상축을 배치하기 쉬워지고, 투명 수지 필름에 의해 편광을 원 편광화하는 작용이 커져, 충분한 무지개 얼룩의 억제 효과를 얻기 쉬워진다.It is preferable that the transparent resin film is an elongated body or rectangular shaped wafers and the orientation axis has an angle of 10 to 45 degrees with respect to a long side or a short side. The transparent conductive film is often used by being laminated on a quadrangular optical display device such as a liquid crystal cell, and the light from the optical display device is often polarized parallel or perpendicular to its long side. Therefore, in the present invention, since the orientation axis has an angle of 10 to 45 degrees with respect to the long side or short side, it is easy to arrange the slow axis at an angle of 10 to 45 degrees with respect to the polarized light, The action of polarizing is increased, and it is easy to obtain a suppressing effect of sufficient rainbow stains.

상기 투명 수지 필름의 적어도 일방의 표면에, 경화 수지층을 갖는 것이 바람직하다. 경화 수지층은, 반송시의 스크래치 발생 등을 방지하기 위한 하드 코트층으로서 기능하며, 표면에 요철을 발생시킴으로써 안티 블로킹층으로서도 기능시킬 수 있다.It is preferable to have a cured resin layer on at least one surface of the transparent resin film. The cured resin layer functions as a hard coat layer for preventing scratches and the like during transportation, and can function as an anti-blocking layer by generating irregularities on the surface.

상기 투명 수지 필름의 상기 투명 도전막이 형성되어 있지 않은 면측에, 점착제층과 보호 필름을 이 순서로 갖는 것이 바람직하다. 보호 필름에 의해, 핸들링성이 높아짐과 함께, 보호 필름을 세퍼레이터로서 구성함으로써, 본 발명의 투명 도전성 필름을 점착형으로 할 수 있다.It is preferable that the transparent resin film has a pressure-sensitive adhesive layer and a protective film in this order on the side where the transparent conductive film is not formed. The transparent conductive film of the present invention can be made into a sticky type by increasing the handling property by the protective film and constituting the protective film as a separator.

한편, 본 발명의 터치 패널은, 본 발명의 투명 도전성 필름을 사용하여 얻어지는 것을 특징으로 한다. 본 발명의 투명 도전성 필름을 사용함으로써, 충분한 재료 강도를 갖고, 재료비가 저렴하고 생산성도 양호하고, 게다가 충분한 무지개 얼룩의 억제 효과가 얻어지는 터치 패널을 제공할 수 있다.On the other hand, the touch panel of the present invention is characterized by being obtained by using the transparent conductive film of the present invention. By using the transparent conductive film of the present invention, it is possible to provide a touch panel which has sufficient material strength, is inexpensive in materials cost, has good productivity, and is capable of obtaining sufficient suppression of rainbow stains.

도 1 은 본 발명의 일 실시형태에 관련된 투명 도전성 필름의 모식적 단면도이다.
도 2 는 본 발명의 일 실시형태에 관련된 투명 도전성 필름의 모식적 단면도이다.
도 3 은 본 발명의 일 실시형태에 관련된 투명 도전성 필름의 모식적 단면도이다.
도 4 는 본 발명의 일 실시형태에 관련된 투명 도전성 필름의 모식적 단면도이다.
도 5 는 발명의 일 실시형태에 관련된 투명 도전성 필름의 모식적 단면도이다.
도 6 은 본 발명의 일 실시형태에 관련된 투명 도전성 필름의 모식적 단면도이다.
1 is a schematic cross-sectional view of a transparent conductive film according to an embodiment of the present invention.
2 is a schematic cross-sectional view of a transparent conductive film according to an embodiment of the present invention.
3 is a schematic cross-sectional view of a transparent conductive film according to an embodiment of the present invention.
4 is a schematic cross-sectional view of a transparent conductive film according to an embodiment of the present invention.
5 is a schematic cross-sectional view of a transparent conductive film according to an embodiment of the invention.
6 is a schematic cross-sectional view of a transparent conductive film according to an embodiment of the present invention.

<투명 도전성 필름의 적층 구조><Laminated Structure of Transparent Conductive Film>

본 발명의 투명 도전성 필름 (20) 은, 도 1 ∼ 도 3 에 나타내는 바와 같이, 투명 수지 필름 (4) 과 투명 도전막 (6) 을 갖는 것으로, 투명 수지 필름 (4) 과 투명 도전막 (6) 사이에는, 적어도 1 층의 광학 조정층 (7) 을 갖는 것이 바람직하다. 또, 도 2 ∼ 도 3 에 나타내는 바와 같이, 투명 수지 필름 (4) 의 적어도 일방의 표면에, 안티 블로킹층 (3) 이나 하드 코트층 (5) 등의 경화 수지층을 갖고 있어도 된다. 또한, 투명 도전성 필름 (20) 은, 도 4 ∼ 6 에 나타내는 바와 같이, 투명 수지 필름 (4) 의 투명 도전막 (6) 이 형성되어 있지 않은 면측에, 점착제층 (2) 과 보호 필름 (1) 을 이 순서로 갖고 있어도 되며, 그 경우, 캐리어 필름 (10) 이, 점착제층 (2) 과 보호 필름 (1) 으로 구성되어 있다.The transparent conductive film 20 of the present invention has a transparent resin film 4 and a transparent conductive film 6 as shown in Figs. 1 to 3 and includes a transparent resin film 4 and a transparent conductive film 6 It is preferable that at least one layer of the optical adjustment layer 7 be provided. 2 to 3, at least one surface of the transparent resin film 4 may have a cured resin layer such as the anti-blocking layer 3 and the hard coat layer 5. 4 to 6, the transparent conductive film 20 is provided on the side of the transparent resin film 4 on which the transparent conductive film 6 is not formed, the adhesive layer 2 and the protective film 1 In this case, the carrier film 10 is composed of the pressure-sensitive adhesive layer 2 and the protective film 1. In this case,

(투명 수지 필름)(Transparent resin film)

투명 수지 필름으로는, 2 축 연신된 폴리에스테르계 수지 필름이 사용된다. 「2 축 연신된」이란, 적어도 2 방향으로 필름의 연신이 이루어져 있는 것을 가리키며, 2 방향 연신은 동시 또는 축차적의 어느 것이어도 된다.As the transparent resin film, a biaxially stretched polyester resin film is used. The term &quot; biaxially stretched &quot; means that the film is stretched in at least two directions, and the two-direction stretching may be simultaneous or recursive.

폴리에스테르계 수지로는, 폴리에스테르, 변성 폴리에스테르, 및 그것들의 블렌드에서 선택되는 폴리에스테르계 수지를 들 수 있다. 폴리에스테르로는, 예를 들어, 카르복실산 성분과 폴리올 성분의 축합 중합에 의해 얻은 것을 사용할 수 있다.Examples of the polyester-based resin include a polyester-based resin selected from a polyester, a modified polyester, and blends thereof. As the polyester, for example, those obtained by condensation polymerization of a carboxylic acid component and a polyol component can be used.

카르복실산 성분으로는, 방향족 디카르복실산, 지방족 디카르복실산, 지환족 디카르복실산을 들 수 있다. 방향족 디카르복실산으로는, 예를 들어, 테레프탈산, 이소프탈산, 벤질말론산, 1,4-나프탈산, 디페닌산, 4,4'-옥시벤조산, 2,5-나프탈렌디카르복실산을 들 수 있다. 지방족 디카르복실산으로는, 예를 들어, 말론산, 디메틸말론산, 숙신산, 글루타르산, 아디프산, 트리메틸아디프산, 피멜린산, 2,2-디메틸글루타르산, 아젤라인산, 세바크산, 푸말산, 말레산, 이타콘산, 티오디프로피온산, 디글리콜산을 들 수 있다. 지환족 디카르복실산으로는, 예를 들어, 1,3-시클로펜탄디카르복실산, 1,2-시클로헥산디카르복실산, 1,3-시클로펜탄디카르복실산, 1,4-시클로헥산디카르복실산, 2,5-노르보르난디카르복실산, 아다만탄디카르복실산을 들 수 있다. 카르복실산 성분은, 에스테르, 염화물, 산무수물과 같은 유도체여도 되고, 예를 들어, 1,4-시클로헥산디카르복실산디메틸, 2,6-나프탈렌디카르복실산디메틸, 이소프탈산디메틸, 테레프탈산디메틸 및 테레프탈산디페닐을 포함한다. 카르복실산 성분은, 단독으로 사용해도 되고 2 종 이상을 병용해도 된다.Examples of the carboxylic acid component include aromatic dicarboxylic acids, aliphatic dicarboxylic acids, and alicyclic dicarboxylic acids. Examples of the aromatic dicarboxylic acid include aromatic dicarboxylic acids such as terephthalic acid, isophthalic acid, benzylmalonic acid, 1,4-naphthalic acid, diphenic acid, 4,4'-oxybenzoic acid and 2,5-naphthalenedicarboxylic acid. . Examples of the aliphatic dicarboxylic acid include malonic acid, dimethyl malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, trimethyladipic acid, pimelic acid, 2,2-dimethylglutaric acid, Sebacic acid, fumaric acid, maleic acid, itaconic acid, thiodipropionic acid and diglycolic acid. Examples of the alicyclic dicarboxylic acid include 1,3-cyclopentanedicarboxylic acid, 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,3-cyclopentanedicarboxylic acid, 1,4- Cyclohexanedicarboxylic acid, 2,5-norbornanedicarboxylic acid, and adamantanedicarboxylic acid. The carboxylic acid component may be a derivative such as an ester, a chloride or an acid anhydride, and examples thereof include dimethyl 1,4-cyclohexanedicarboxylate, dimethyl 2,6-naphthalenedicarboxylate, dimethyl isophthalate, terephthalic acid Dimethyl and terephthalic acid diphenyl. The carboxylic acid component may be used alone, or two or more kinds may be used in combination.

폴리올 성분으로는, 대표적으로는 2 가 알코올을 들 수 있다. 2 가 알코올로는, 지방족 디올, 지환족 디올, 방향족 디올을 들 수 있다. 지방족 디올로는, 예를 들어, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 1,3-프로판디올, 2,4-디메틸-2-에틸헥산-1,3-디올, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올(네오펜틸글리콜), 2-에틸-2-부틸-1,3-프로판디올, 2-에틸-2-이소부틸-1,3-프로판디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 2,2,4-트리메틸-1,6-헥산디올을 들 수 있다. 지환족 디올로는, 예를 들어, 1,2-시클로헥산디메탄올, 1,3-시클로헥산디메탄올, 1,4-시클로헥산디메탄올, 스피로글리콜, 트리시클로데칸디메탄올, 아다만탄디올, 2,2,4,4-테트라메틸-1,3-시클로부탄디올을 들 수 있다. 방향족 디올로는, 예를 들어, 4,4'-티오디페놀, 4,4'-메틸렌디페놀, 4,4'-(2-노르보르닐리덴)디페놀, 4,4'-디하이드록시비페놀, o-, m - 및 p-디하이드록시벤젠, 4,4'-이소프로필리덴페놀, 4,4'-이소프로필리덴비스(2,6-시클로로페놀)2,5-나프탈렌디올 및 p-자일렌디올을 들 수 있다. 폴리올 성분은, 단독으로 사용해도 되고 2 종 이상을 병용해도 된다.Representative examples of the polyol component include divalent alcohols. Examples of dihydric alcohols include aliphatic diols, alicyclic diols and aromatic diols. The aliphatic diol includes, for example, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, 1,3-propanediol, 2,4- Propylene diol, 2-ethyl-2-butyl-1,3-propanediol, 2-ethyl- Butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2,2,4-trimethyl-1,6-hexane Diols. The alicyclic diols include, for example, 1,2-cyclohexanedimethanol, 1,3-cyclohexanedimethanol, 1,4-cyclohexanedimethanol, spiroglycol, tricyclodecanedimethanol, adamantanediol , And 2,2,4,4-tetramethyl-1,3-cyclobutanediol. Examples of the aromatic diol include 4,4'-thiodiphenol, 4,4'-methylenediphenol, 4,4'- (2-norbornylidene) diphenol, 4,4'- (2, 6-cyclophenol) 2,5-naphthalene, 4,4'-isopropylidene phenol, 4,4'-isopropylidenebis Diol and p-xylene diol. The polyol component may be used alone or in combination of two or more.

바람직한 카르복실산 성분으로는, 테레프탈산, 이소프탈산, 2,5-나프탈렌디카르복실산을 들 수 있다. 바람직한 폴리올 성분으로는, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 1,4-부탄디올, 1,3-시클로헥산디메탄올, 1,4-시클로헥산디메탄올을 들 수 있다.Preferred examples of the carboxylic acid component include terephthalic acid, isophthalic acid and 2,5-naphthalenedicarboxylic acid. Preferable examples of the polyol component include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, 1,4-butanediol, 1,3-cyclohexanedimethanol and 1,4-cyclohexanedimethanol.

폴리에스테르의 구조는, 이상과 같은 모노머의 조합에 의해 결정된다. 따라서, 바람직한 폴리에스테르계 수지로는, 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET), 폴리부틸렌테레프탈레이트 (PBT), 폴리에틸렌나프탈레이트 (PEN), 폴리시클로헥실렌테레프탈레이트, 그리고, 이것들의 공중합체, 블렌드 및 변성체를 들 수 있다.The structure of the polyester is determined by a combination of the above-mentioned monomers. Therefore, preferable examples of the polyester resin include polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), polyethylene naphthalate (PEN), polycyclohexylene terephthalate, and copolymers thereof , Blends and modified bodies.

이와 같은 폴리에스테르계 수지를 사용하고, 또한, 기울기 연신을 포함하는 제조 방법을 적용함으로써, 바람직한 면내 위상차와 배향축의 방향을 갖고, 또한, 보다 우수한 축 정밀도를 갖는 투명 수지 필름을 얻을 수 있다.By using such a polyester resin and further applying a manufacturing method including a tilt stretching, it is possible to obtain a transparent resin film having a desired in-plane retardation and direction of the orientation axis and having better axial precision.

본 발명에서는, 폴리에스테르계 수지가, 시클로헥산디메탄올 유래의 반복 단위를 포함하는 변성 PET 여도 된다. 이 경우, 폴리올 성분에 있어서의 시클로헥산디메탄올의 비율은, 바람직하게는 0 몰% 를 초과하고 10 몰% 이하이며, 보다 바람직하게는 0 몰% 를 초과하고 3 몰% 이하이다. 또, 폴리에스테르계 수지는, 이소프탈산 유래의 반복 단위를 포함하는 변성 PET 일 수 있다. 이 경우, 카르복실산 성분에 있어서의 이소프탈산의 비율은, 바람직하게는 0 몰% 를 초과하고 20 몰% 이하이며, 보다 바람직하게는 0 몰% 를 초과하고 10 몰% 이하이다. 또한, 이들 실시형태를 조합해도 되는 것은 말할 필요도 없다.In the present invention, the polyester resin may be a modified PET containing a repeating unit derived from cyclohexane dimethanol. In this case, the proportion of cyclohexane dimethanol in the polyol component is preferably more than 0 mol% and 10 mol% or less, more preferably 0 mol% or more and 3 mol% or less. The polyester resin may be a modified PET containing a repeating unit derived from isophthalic acid. In this case, the ratio of isophthalic acid in the carboxylic acid component is preferably more than 0 mol% and 20 mol% or less, more preferably 0 mol% or more and 10 mol% or less. Needless to say, these embodiments may be combined.

투명 수지 필름은, 2 축 연신된 장척상의 필름 (장척체) 으로서 제조된다. 본 명세서에 있어서 「장척상」이란, 폭에 대한 길이의 비가 10 이상인 가늘고 긴 형상을 말한다. 투명 수지 필름의 폭에 대한 길이의 비는, 바람직하게는 30 이상이며, 보다 바람직하게는 100 이상이다. 하나의 실시형태에 있어서는, 투명 수지 필름은 롤상으로 권회된 장척체이며, 또, 다른 실시형태에 있어서는, 투명 수지 필름은 사각형상의 매엽체이다.The transparent resin film is produced as a biaxially stretched elongated film (elongated body). As used herein, the term &quot; elongated shape &quot; refers to a thin and long shape having a ratio of length to width of 10 or more. The ratio of the length to the width of the transparent resin film is preferably 30 or more, and more preferably 100 or more. In one embodiment, the transparent resin film is an elongated body rolled in the form of a roll, and in another embodiment, the transparent resin film is a rectangular body.

투명 수지 필름은, 그 배향축이, 장변 또는 단변에 대해 10 ∼ 45 °의 각도를 갖는 것이 바람직하고, 20 ∼ 45 °의 각도가 보다 바람직하고, 30 ∼ 45 °의 각도가 가장 바람직하다. 또한, 본 발명의 투명 도전성 필름은, 투명 수지 필름의 배향축이, 표시 장치로부터 출사되는 직선 편광의 진동 방향에 대해, 10 ∼ 80 °의 각도로 배치되는 것이 바람직하고, 20 ∼ 70 °의 각도로 배치되는 것이 보다 바람직하고, 30 ∼ 60 °의 각도로 배치되는 것이 더욱 바람직하다.The transparent resin film preferably has an orientation axis at an angle of 10 to 45 degrees with respect to a long side or a short side, more preferably an angle of 20 to 45 degrees, and most preferably an angle of 30 to 45 degrees. In the transparent conductive film of the present invention, the orientation axis of the transparent resin film is preferably arranged at an angle of 10 to 80 degrees with respect to the vibration direction of the linearly polarized light emitted from the display device, More preferably, at an angle of 30 to 60 degrees.

이 때문에, 장척상의 필름의 지상축의 방향이 필름의 폭 방향의 전역에 걸쳐 장척 방향에 대해 30 °∼ 60 °의 범위, 바람직하게는 38 °∼ 52 °의 범위, 보다 바람직하게는 43 °∼ 47 °의 범위에 있고, 더욱 바람직하게는 지상축 방향이 장척 방향에 대해 45 °정도의 각도를 이루고 있다. 투명 수지 필름은, 기울기 연신을 포함하는 제조 방법을 적용함으로써, 우수한 축 정밀도로 기울기 방향으로 지상축을 갖는 투명 수지 필름을 얻을 수 있다.Therefore, the direction of the slow axis of the elongated film is in the range of 30 ° to 60 °, preferably in the range of 38 ° to 52 °, more preferably in the range of 43 ° to 47 ° with respect to the longitudinal direction over the entire width direction of the film. Deg., And more preferably, the slow axis direction is at an angle of about 45 DEG with respect to the long direction. By applying the manufacturing method including the tilt stretching, the transparent resin film can obtain a transparent resin film having the slow axis in the tilting direction with excellent axial precision.

투명 수지 필름의 면내 위상차 (R0) 는 0 ∼ 150 ㎚ 이고, 무지개 얼룩의 억제 효과를 보다 높이는 관점에서, 바람직하게는 10 ∼ 130 ㎚ 이며, 보다 바람직하게는 20 ∼ 110 ㎚ 이다.The in-plane retardation R0 of the transparent resin film is 0 to 150 nm, preferably 10 to 130 nm, and more preferably 20 to 110 nm from the viewpoint of further enhancing the suppression effect of rainbow stains.

여기서, 면내 위상차 (R0) 는, 23 ℃ 에 있어서의 파장 590 ㎚ 의 광에서 측정한 필름의 면내 위상차이다. R0 는 필름의 두께를 d (㎚) 로 하였을 때, 식 : R0 = (nx - ny) × d 에 의해 구해진다. 여기서, nx 는 면내의 굴절률이 최대가 되는 방향 (즉, 지상축 방향) 의 굴절률이고, ny 는 면내에서 지상축과 직교하는 방향의 굴절률이다.Herein, the in-plane retardation R0 is the in-plane retardation of the film measured at a wavelength of 590 nm at 23 deg. R0 is obtained by the formula: R0 = (nx-ny) xd, where d (nm) is the thickness of the film. Here, nx is a refractive index in the direction in which the in-plane refractive index is the maximum (i.e., the slow axis direction), and ny is the refractive index in the plane perpendicular to the slow axis.

투명 수지 필름의 두께 방향 위상차 (Rth) 는 1000 ㎚ 이하이며, 무지개 얼룩의 억제 효과를 보다 높임과 함께, 충분한 강도를 얻는 관점에서, 바람직하게는 350 ∼ 950 ㎚ 이고, 보다 바람직하게는 400 ∼ 900 ㎚ 이다.The retardation in the thickness direction (Rth) of the transparent resin film in the thickness direction is 1000 nm or less, preferably 350 to 950 nm, more preferably 400 to 900 nm, from the viewpoint of achieving a sufficient suppressing effect of rainbow stains and obtaining sufficient strength. Nm.

여기서, 두께 방향 위상차 (Rth) 는, 23 ℃ 에 있어서의 파장 590 ㎚ 의 광으로 측정한 필름의 두께 방향 위상차이다. Rth 는 필름의 두께를 d (㎚) 로 하였을 때, 식 : Rth = (nx - nz) × d 에 의해 구해진다. 여기서, nx 는 면내의 굴절률이 최대가 되는 방향 (즉, 지상축 방향) 의 굴절률이고, nz 는 두께 방향의 굴절률이다.Here, the retardation in the thickness direction (Rth) is the retardation in the thickness direction of the film measured at a wavelength of 590 nm at 23 캜. Rth is obtained by the formula: Rth = (nx - nz) xd, where d (nm) is the thickness of the film. Here, nx is the refractive index in the direction in which the in-plane refractive index is the maximum (i.e., the slow axis direction), and nz is the refractive index in the thickness direction.

본 발명에서는, 위상차의 비 (R0/Rth) 도 중요하고, 무지개 얼룩의 억제 효과를 보다 높임과 함께, 충분한 강도를 얻는 관점에서, 위상차의 비 (R0/Rth) 는 0.01 ∼ 0.5 가 바람직하고, 0.02 ∼ 0.47 이 보다 바람직하고, 0.04 ∼ 0.45 가 더욱 바람직하다.In the present invention, the ratio of retardation (R0 / Rth) is also important. From the viewpoint of further enhancing the suppression effect of rainbow stains and obtaining sufficient strength, the retardation ratio (R0 / Rth) is preferably 0.01 to 0.5, More preferably 0.02 to 0.47, and still more preferably 0.04 to 0.45.

투명 수지 필름은, 80 ℃ 에서 240 시간 가열 후의 치수 수축률이 바람직하게는 2.0 % 이하이고, 보다 바람직하게는 1.0 % 이하이다.The transparent resin film is preferably 2.0% or less in dimensional shrinkage percentage after heating at 80 DEG C for 240 hours, and more preferably 1.0% or less.

투명 수지 필름은, X 선 회절법 (XRD) 으로 측정되는 결정화도가 바람직하게는 25 % 이상이고, 보다 바람직하게는 30 % 이상이다. 결정화도의 상한은, 예를 들어 70 % 이다. 결정화도가 이와 같은 범위이면, 연신 후의 필름을 가열하였을 때에 필름이 수축되지 않고, 또, 위상차나 배향각 등의 광학 특성이 변화되기 어렵다는 이점이 있다.The transparent resin film preferably has a crystallinity of at least 25%, more preferably at least 30%, as measured by X-ray diffraction (XRD). The upper limit of the crystallinity is, for example, 70%. When the degree of crystallinity is in this range, there is an advantage that the film is not shrunk when heated after stretching, and optical properties such as retardation and orientation angle are hardly changed.

투명 수지 필름의 두께는, 상기와 같은 면내 위상차와 두께 방향 위상차를 얻음과 함께, 핸들링성을 높이는 관점에서, 5 ∼ 50 ㎛ 가 바람직하고, 7 ㎛ ∼ 40 ㎛ 가 보다 바람직하고, 10 ∼ 30 ㎛ 가 더욱 바람직하다.The thickness of the transparent resin film is preferably 5 to 50 占 퐉, more preferably 7 占 퐉 to 40 占 퐉, and more preferably 10 to 30 占 퐉, from the viewpoint of obtaining the retardation in the in- Is more preferable.

폴리에스테르계 수지의 유리 전이 온도는, 바람직하게는 65 ℃ ∼ 80 ℃ 이고, 보다 바람직하게는 70 ℃ ∼ 75 ℃ 이다. 유리 전이 온도가 과도하게 낮으면, 원하는 치수 수축률이 얻어지지 않는 경우가 있다. 유리 전이 온도가 과도하게 높으면, 필름 성형시의 성형 안정성이 나빠지는 경우가 있고, 또, 필름의 투명성을 저해하는 경우가 있다. 또한, 유리 전이 온도는 JIS K 7121 (1987) 에 준하여 구해진다.The glass transition temperature of the polyester-based resin is preferably 65 ° C to 80 ° C, and more preferably 70 ° C to 75 ° C. If the glass transition temperature is excessively low, desired dimensional shrinkage may not be obtained. If the glass transition temperature is excessively high, the molding stability at the time of film forming may deteriorate, and transparency of the film may be deteriorated. The glass transition temperature is determined in accordance with JIS K 7121 (1987).

폴리에스테르계 수지의 중량 평균 분자량은 바람직하게는 10000 ∼ 100000 이고, 보다 바람직하게는 15000 ∼ 50000 이다. 이와 같은 중량 평균 분자량이면, 성형시의 취급이 용이하고, 또한, 우수한 기계적 강도를 갖는 필름을 얻을 수 있다.The weight average molecular weight of the polyester-based resin is preferably 10,000 to 100,000, and more preferably 15,000 to 50,000. With such a weight average molecular weight, it is easy to handle during molding, and a film having excellent mechanical strength can be obtained.

폴리에스테르계 수지는, 임의의 적절한 방법에 의해 필름으로 성형될 수 있다. 얻어진 폴리에스테르계 수지 필름은, 세로 및 가로의 2 축으로 연신하는 방법으로, 2 축 연신 필름으로 할 수 있다. 그 때, 일본 공개특허공보 2015-72376호에 개시되어 있는 바와 같이, 기울기 연신을 포함하는 제조 방법에 제공함으로써, 기울기 방향으로 배향축을 갖는 투명 수지 필름을 바람직하게 얻을 수 있다.The polyester-based resin can be formed into a film by any suitable method. The obtained polyester-based resin film can be biaxially stretched in a longitudinal and transverse direction by biaxial stretching. At that time, as disclosed in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2015-72376, a transparent resin film having an orientation axis in a tilting direction can be preferably obtained by providing it to a manufacturing method including a tilt elongation.

요컨대, 연신 대상의 필름의 좌우 단부를, 각각, 세로 방향의 클립 피치가 변화하는 가변 피치형의 좌우의 클립에 의해 파지하는 것 (공정 A : 파지 공정) ; 그 필름을 예열하는 것 (공정 B : 예열 공정) ; 그 좌우의 클립의 클립 피치를 각각 독립적으로 변화시켜, 그 필름을 기울기 연신하는 것 (공정 C : 연신 공정) ; 필요에 따라, 그 좌우의 클립의 클립 피치를 일정하게 한 상태에서, 그 필름을 열처리하여 결정화시키는 것 (공정 D : 결정화 공정) ; 및 그 필름을 파지하는 클립을 해방하는 것 (공정 E : 해방 공정) 을 포함하는, 기울기 연신을 포함하는 제조 방법에 의해, 본 발명에서 사용하는 투명 수지 필름을 바람직하게 제조할 수 있다.That is, the left and right ends of the film to be stretched are gripped by the left and right clips of variable pitch type in which the clip pitch in the longitudinal direction changes (step A: gripping step); Preheating the film (Process B: preheating process); The clip pitch of the right and left clips is independently varied to tilt and stretch the film (Step C: stretching step); Crystallizing the film by heat treatment in a state where the clip pitch of the left and right clips is kept constant as needed (Process D: crystallization process); And releasing the clip holding the film (Process E: releasing step), the transparent resin film used in the present invention can be preferably manufactured by a manufacturing method including inclination stretching.

투명 수지 필름에는, 표면에 미리 스퍼터링, 코로나 방전, 화염, 자외선 조사, 전자선 조사, 화성, 산화 등의 에칭 처리나 하도 처리를 실시하여, 투명 수지 필름 위에 형성되는 광학 조정층, 경화 수지층, 투명 도전막 등과의 밀착성을 향상시키도록 해도 된다. 또, 광학 조정층 등을 형성하기 전에, 필요에 따라 용제 세정이나 초음파 세정 등에 의해, 투명 수지 필름 표면을 제진 (除塵), 청정화해도 된다.The surface of the transparent resin film is subjected to an etching treatment or undercoating treatment such as sputtering, corona discharge, flame, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, chemical conversion and oxidation in advance to form an optical adjustment layer, a cured resin layer, The adhesion with the conductive film or the like may be improved. Before the formation of the optical adjustment layer or the like, the surface of the transparent resin film may be damped or cleaned by solvent cleaning or ultrasonic cleaning as necessary.

(경화 수지층)(Cured resin layer)

경화 수지층은, 투명 수지 필름의 일방의 제 1 주면측에 형성된 제 1 경화 수지층과, 반대측의 제 2 주면측에 형성된 제 2 경화 수지층을 포함한다. 투명 수지 필름은, 투명 도전막의 형성이나 투명 도전막의 패턴화 또는 전자 기기에 대한 탑재 등의 각 공정에서 스크래치가 생기기 쉽기 때문에, 상기와 같이, 투명 수지 필름의 양면에 제 1 경화 수지층과 제 2 경화 수지층을 형성하는 것이 바람직하다.The cured resin layer includes a first cured resin layer formed on one side of the first main surface of the transparent resin film and a second cured resin layer formed on the second main side opposite to the first cured resin layer. Since the transparent resin film is prone to scratches in each process such as formation of a transparent conductive film, patterning of a transparent conductive film, mounting on an electronic device, and the like, the first cured resin layer and the second It is preferable to form a cured resin layer.

경화 수지층은, 경화형 수지를 경화시킴으로써 얻어진 층이다. 사용하는 수지로는, 경화 수지층 형성 후의 피막으로서 충분한 강도를 갖고, 투명성이 있는 것을 특별히 제한 없이 사용할 수 있지만, 열 경화형 수지, 자외선 경화형 수지, 전자선 경화형 수지, 2 액 혼합형 수지 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 자외선 조사에 의한 경화 처리에서, 간단한 가공 조작으로 효율적으로 경화 수지층을 형성할 수 있는 자외선 경화형 수지가 바람직하다.The cured resin layer is a layer obtained by curing the curable resin. As the resin to be used, a thermosetting resin, an ultraviolet-curable resin, an electron beam-curable resin, a two-liquid mixed resin, and the like can be used as the resin having sufficient strength as a film after formation of a cured resin layer and having transparency without particular limitation . Among them, an ultraviolet curable resin which can efficiently form a cured resin layer by a simple processing operation in a curing treatment by ultraviolet irradiation is preferable.

자외선 경화형 수지로는, 폴리에스테르계, 아크릴계, 우레탄계, 아미드계, 실리콘계, 에폭시계 등의 각종의 것을 들 수 있으며, 자외선 경화형의 모노머, 올리고머, 폴리머 등이 포함된다. 바람직하게 사용되는 자외선 경화형 수지는, 아크릴계 수지나 에폭시계 수지이며, 보다 바람직하게는 아크릴계 수지이다.Examples of the ultraviolet curable resin include various types such as a polyester type, an acrylic type, a urethane type, an amide type, a silicone type and an epoxy type, and include ultraviolet curable type monomers, oligomers, polymers and the like. The ultraviolet curable resin preferably used is an acrylic resin or an epoxy resin, more preferably an acrylic resin.

경화 수지층은 입자를 함유하고 있어도 된다. 경화 수지층에 입자를 배합함으로써, 경화 수지층의 표면에 융기를 형성할 수 있어, 투명 도전성 필름에 내블로킹성을 바람직하게 부여할 수 있다.The cured resin layer may contain particles. By blending the particles in the cured resin layer, it is possible to form ridges on the surface of the cured resin layer, and the anti-blocking property can be preferably imparted to the transparent conductive film.

상기 입자로는, 각종 금속 산화물, 유리, 플라스틱 등의 투명성을 갖는 것을 특별히 제한 없이 사용할 수 있다. 예를 들어 실리카, 알루미나, 티타니아, 지르코니아, 산화칼슘 등의 무기계 입자, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리스티렌, 폴리 우레탄, 아크릴계 수지, 아크릴-스티렌 공중합체, 벤조구아나민, 멜라민, 폴리카보네이트 등의 각종 폴리머로 이루어지는 가교 또는 미가교의 유기계 입자나 실리콘 계 입자 등을 들 수 있다. 상기 입자는 1 종 또는 2 종 이상을 적절히 선택하여 사용할 수 있지만, 유기계 입자가 바람직하다. 유기계 입자로는, 굴절률의 관점에서, 아크릴계 수지가 바람직하다.As the above-mentioned particles, those having transparency such as various metal oxides, glass, and plastic can be used without particular limitation. For example, inorganic particles such as silica, alumina, titania, zirconia and calcium oxide, and various polymers such as polymethyl methacrylate, polystyrene, polyurethane, acrylic resin, acryl-styrene copolymer, benzoguanamine, melamine and polycarbonate Based organic particles and silicon-based particles, which are crosslinked or uncrosslinked. One or more of these particles can be appropriately selected and used, but organic particles are preferred. As the organic particles, an acrylic resin is preferable from the viewpoint of the refractive index.

입자의 최빈 입자경은, 경화 수지층의 융기의 돌출도나 융기 이외의 평탄 영역의 두께와의 관계 등을 고려하여 적절히 설정할 수 있으며, 특별히 한정되지 않는다. 또한, 투명 도전성 필름에 내블로킹성을 충분히 부여하고, 또한 헤이즈의 상승을 충분히 억제한다는 관점에서, 입자의 최빈 입자경은 0.1 ∼ 3 ㎛ 가 바람직하고, 0.5 ∼ 2.5 ㎛ 가 보다 바람직하다. 또한, 본 명세서에 있어서, 「최빈 입자경」이란, 입자 분포의 극대값을 나타내는 입경을 말하며, 플로식 입자 이미지 분석 장치 (Sysmex 사 제조, 제품명 「FPTA-3000S」) 를 사용하여, 소정 조건하 (Sheath 액 : 아세트산에틸, 측정 모드 : HPF 측정, 측정 방식 : 토탈 카운트) 에서 측정함으로써 구해진다. 측정 시료는, 입자를 아세트산에틸로 1.0 중량% 로 희석하고, 초음파 세정기를 사용하여 균일하게 분산시킨 것을 사용한다.The optimum particle diameter of the particles can be suitably set in consideration of the relationship between the protrusion of the ridge of the cured resin layer and the thickness of the flat region other than the ridge, and the like, and is not particularly limited. From the viewpoint of sufficiently imparting blocking resistance to the transparent conductive film and sufficiently suppressing the rise of haze, the particle size of the particles is preferably from 0.1 to 3 mu m, more preferably from 0.5 to 2.5 mu m. In the present specification, the term &quot; minimum particle diameter &quot; refers to particle diameter indicating the maximum value of the particle distribution, and is measured under a predetermined condition (Sheath Solution: ethyl acetate, measurement mode: HPF measurement, measurement method: total count). The sample to be measured is prepared by diluting the particles with 1.0% by weight of ethyl acetate and uniformly dispersing them using an ultrasonic cleaner.

입자의 함유량은, 수지 조성물의 고형분 100 중량부에 대해 0.05 ∼ 1.0 중량부인 것이 바람직하고, 0.1 ∼ 0.5 중량부인 것이 보다 바람직하고, 0.1 ∼ 0.2 중량부인 것이 더욱 바람직하다. 경화 수지층 중의 입자의 함유량이 작으면, 경화 수지층의 표면에 내블로킹성이나 미끄러짐 용이성을 부여하는 데에 충분한 융기가 형성되기 어려워지는 경향이 있다. 한편, 입자의 함유량이 지나치게 크면, 입자에 의한 광 산란에서 기인하여 투명 도전성 필름의 헤이즈가 높아져, 시인성이 저하되는 경향이 있다. 또, 입자의 함유량이 지나치게 크면, 경화 수지층의 형성시 (용액의 도포시) 에, 줄무늬가 발생하여, 시인성이 손상되거나 투명 도전막의 전기 특성이 불균일해지거나 하는 경우가 있다.The content of the particles is preferably 0.05 to 1.0 part by weight, more preferably 0.1 to 0.5 part by weight, and even more preferably 0.1 to 0.2 part by weight based on 100 parts by weight of the solid content of the resin composition. If the content of the particles in the cured resin layer is small, it is likely that ridges sufficient to impart anti-blocking property and slippery property to the surface of the cured resin layer become difficult to be formed. On the other hand, if the content of the particles is too large, the haze of the transparent conductive film tends to increase due to light scattering caused by the particles, and the visibility tends to decrease. If the content of the particles is too large, streaks may be generated at the time of forming the cured resin layer (at the time of applying the solution), thereby impairing the visibility and uneven electrical characteristics of the transparent conductive film.

경화 수지층은, 각 경화형 수지와 필요에 따라 첨가하는 입자, 가교제, 개시제, 증감제 등을 함유하는 수지 조성물을 투명 수지 필름 위에 도포하고, 수지 조성물이 용제를 함유하는 경우에는, 용제의 건조를 실시하여, 열, 활성 에너지선 또는 그 양방 중 어느 것의 적용에 의해 경화시킴으로써 얻어진다. 열은 공기 순환식 오븐이나 IR 히터 등 공지된 수단을 사용할 수 있지만 이들 방법에 한정되지 않는다. 활성 에너지선의 예로는 자외선, 전자선, 감마선 등이 있지만 특별히 한정되지 않는다.The cured resin layer is formed by applying a resin composition containing each curable resin and particles, a crosslinking agent, an initiator, a sensitizer, and the like as needed, on a transparent resin film, and when the resin composition contains a solvent, And curing it by application of heat, active energy rays or both. The heat may be a known means such as an air circulating oven or an IR heater, but is not limited to these methods. Examples of the active energy ray include, but are not limited to, ultraviolet ray, electron ray, gamma ray and the like.

경화 수지층은, 상기 재료를 사용하여, 웨트 코팅법 (도공법) 등에 의해 제막할 수 있다. 예를 들어, 투명 도전막으로서 산화주석을 함유하는 산화인듐 (ITO) 을 형성하는 경우, 하지층인 경화 수지층의 표면이 평활하면, 투명 도전막의 결정화 시간을 단축할 수도 있다. 이러한 관점에서, 경화 수지층은 웨트 코팅법에 의해 제막되는 것이 바람직하다.The cured resin layer can be formed by a wet coating method (coating method) or the like using the above materials. For example, when indium oxide (ITO) containing tin oxide is formed as a transparent conductive film, crystallization time of the transparent conductive film can be shortened if the surface of the cured resin layer as a ground layer is smooth. From this viewpoint, it is preferable that the cured resin layer is formed by a wet coating method.

경화 수지층의 두께는, 바람직하게는 0.5 ㎛ ∼ 5 ㎛ 이고, 보다 바람직하게는 0.7 ㎛ ∼ 3 ㎛ 이며, 가장 바람직하게는 0.8 ㎛ ∼ 2 ㎛ 이다. 경화 수지층의 두께가 상기 범위에 있으면, 스크래치 발생 방지나 경화 수지층의 경화 수축에 있어서의 필름 주름을 방지할 수 있어, 터치 패널 등의 시인성이 악화되는 것을 방지할 수 있다.The thickness of the cured resin layer is preferably 0.5 탆 to 5 탆, more preferably 0.7 탆 to 3 탆, and most preferably 0.8 탆 to 2 탆. When the thickness of the cured resin layer is within the above range, it is possible to prevent film wrinkles in prevention of scratches and curing shrinkage of the cured resin layer, thereby preventing the visibility of the touch panel and the like from deteriorating.

(투명 도전막)(Transparent conductive film)

투명 도전막은, 투명 수지 필름 위에 형성할 수 있지만, 투명 수지 필름의 일방의 제 1 주면측에 형성된 제 1 경화 수지층 위에 형성되는 것이 바람직하다. 투명 도전막의 구성 재료는, 무기물을 함유하는 한 특별히 한정되지 않고, 인듐, 주석, 아연, 갈륨, 안티몬, 티탄, 규소, 지르코늄, 마그네슘, 알루미늄, 금, 은, 구리, 팔라듐, 텅스텐으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 금속의 금속 산화물이 바람직하게 사용된다. 당해 금속 산화물에는, 필요에 따라, 추가로 상기 군으로 나타낸 금속 원자를 함유하고 있어도 된다. 예를 들어 산화주석을 함유하는 산화인듐 (ITO), 안티몬을 함유하는 산화주석 (ATO) 등이 바람직하게 사용된다. 산화주석을 함유하는 산화인듐을 사용하는 경우, 산화주석의 함유량은, 투명 도전막 중에서 1 ∼ 20 중량% 가 바람직하고, 3 ∼ 15 중량% 가 보다 바람직하다.The transparent conductive film can be formed on the transparent resin film, but is preferably formed on the first cured resin layer formed on the first principal surface side of the transparent resin film. The constituent material of the transparent conductive film is not particularly limited as long as it contains an inorganic substance and may be selected from the group consisting of indium, tin, zinc, gallium, antimony, titanium, silicon, zirconium, magnesium, aluminum, gold, silver, copper, palladium, A metal oxide of at least one selected metal is preferably used. The metal oxide may further contain a metal atom represented by the above-mentioned group, if necessary. For example, indium oxide (ITO) containing tin oxide, tin oxide (ATO) containing antimony and the like are preferably used. When indium oxide containing tin oxide is used, the content of tin oxide is preferably 1 to 20% by weight, and more preferably 3 to 15% by weight, in the transparent conductive film.

투명 도전막의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 그 표면 저항을 1 × 103 Ω/□ 이하의 양호한 도전성을 갖는 연속 피막으로 하려면, 두께를 10 ㎚ 이상으로 하는 것이 바람직하다. 막 두께가 지나치게 두꺼워지면 투명성의 저하 등을 초래하기 때문에, 15 ∼ 35 ㎚ 인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 20 ∼ 30 ㎚의 범위 내이다. 투명 도전막의 두께가 10 ㎚ 미만이면 막 표면의 전기 저항이 높아지고, 또한 연속 피막이 되기 어려워진다. 또, 투명 도전막의 두께가 35 ㎚ 를 초과하면 투명성의 저하 등을 초래하는 경우가 있다.Although the thickness of the transparent conductive film is not particularly limited, it is preferable that the thickness of the transparent conductive film is 10 nm or more in order to form a continuous film having good conductivity with a surface resistance of 1 x 10 &lt; 3 &gt; If the film thickness is excessively increased, transparency deteriorates. Therefore, the thickness is preferably 15 to 35 nm, more preferably 20 to 30 nm. If the thickness of the transparent conductive film is less than 10 nm, the electrical resistance of the film surface becomes high and it becomes difficult to form a continuous film. If the thickness of the transparent conductive film exceeds 35 nm, the transparency may be lowered.

투명 도전막의 형성 방법은 특별히 한정되지 않고, 종래 공지된 방법을 채용할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들어 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법 등의 드라이 프로세스를 예시할 수 있다. 또, 필요로 하는 막 두께에 따라 적절한 방법을 채용할 수도 있다. 또한, 제 1 경화 수지층 위에 투명 도전막을 형성하는 경우, 투명 도전막이 스퍼터링법 등의 드라이 프로세스에 의해 형성되면, 투명 도전막의 표면은, 그 하지층인 제 1 경화 수지층 표면 형상을 거의 유지한다. 그 때문에, 제 1 경화 수지층에 융기가 존재하는 경우에는, 투명 도전막 표면에도 내블로킹성 및 미끄러짐 용이성을 바람직하게 부여할 수 있다.The method of forming the transparent conductive film is not particularly limited, and conventionally known methods can be employed. Specifically, for example, a dry process such as a vacuum deposition method, a sputtering method, and an ion plating method can be exemplified. An appropriate method may be employed depending on the required film thickness. When a transparent conductive film is formed on the first cured resin layer by a dry process such as a sputtering method, the surface of the transparent conductive film substantially retains the surface shape of the first cured resin layer as the underlayer . Therefore, when ridges are present in the first cured resin layer, anti-blocking properties and slipperiness can be favorably imparted to the surface of the transparent conductive film.

투명 도전막은, 필요에 따라 가열 어닐 처리 (예를 들어, 대기 분위기하, 80 ∼ 150 ℃ 에서 30 ∼ 90 분간 정도) 를 실시하여 결정화할 수 있다. 투명 도전막을 결정화함으로써, 투명 도전막이 저 (低) 저항화되는 것에 더하여, 투명성 및 내구성이 향상된다. 비정질의 투명 도전막을 결정질로 전화시키는 수단은 특별히 한정되지 않지만, 공기 순환식 오븐이나 IR 히터 등이 사용된다.The transparent conductive film can be crystallized by a thermal annealing treatment (for example, at 80 to 150 DEG C for about 30 to 90 minutes in an atmospheric environment) if necessary. By crystallizing the transparent conductive film, the transparency and durability of the transparent conductive film are improved in addition to the low resistance. The means for making the amorphous transparent conductive film into crystalline is not particularly limited, but an air circulating oven or IR heater is used.

「결정질」의 정의에 대해서는, 투명 수지 필름 위에 투명 도전막이 형성된 투명 도전성 필름을, 20 ℃, 농도 5 중량% 의 염산에 15 분간 침지한 후, 수세·건조시키고, 15 ㎜ 간의 단자간 저항을 테스터로 측정을 실시하여, 단자간 저항이 10 kΩ 을 초과하지 않는 경우, ITO 막의 결정질로의 전화가 완료된 것으로 한다.For the definition of "crystalline", a transparent conductive film having a transparent conductive film formed on a transparent resin film was immersed in hydrochloric acid having a concentration of 5% by weight at 20 ° C. for 15 minutes, washed with water and dried, , And when the resistance between terminals is not more than 10 k ?, it is assumed that the telephone to the crystalline of the ITO film is completed.

또, 투명 도전막은 에칭 등에 의해 패턴화해도 된다. 투명 도전막의 패턴화에 관해서는, 종래 공지된 포토리소그래피의 기술을 사용하여 실시할 수 있다. 에칭액으로는 산이 바람직하게 사용된다. 산으로는, 예를 들어, 염화수소, 브롬화수소, 황산, 질산, 인산 등의 무기산, 아세트산 등의 유기산, 및 이것들의 혼합물, 그리고 그것들의 수용액을 들 수 있다. 예를 들어, 정전 용량 방식의 터치 패널이나 매트릭스식의 저항막 방식의 터치 패널에 사용되는 투명 도전성 필름에 있어서는, 투명 도전막이 스트라이프상으로 패턴화되는 것이 바람직하다. 또한, 에칭에 의해 투명 도전막을 패턴화하는 경우, 먼저 투명 도전막의 결정화를 실시하면, 에칭에 의한 패턴화가 곤란해지는 경우가 있다. 그 때문에, 투명 도전막의 어닐 처리는, 투명 도전막을 패턴화한 후에 실시하는 것이 바람직하다.The transparent conductive film may be patterned by etching or the like. The patterning of the transparent conductive film can be carried out by using a conventionally known technique of photolithography. As the etchant, an acid is preferably used. Examples of the acid include inorganic acids such as hydrogen chloride, hydrogen bromide, sulfuric acid, nitric acid, and phosphoric acid, organic acids such as acetic acid, and mixtures thereof, and aqueous solutions thereof. For example, in a transparent conductive film used in a capacitive touch panel or a matrix type resistive touch panel, it is preferable that the transparent conductive film is patterned in a stripe shape. Further, when the transparent conductive film is patterned by etching, if crystallization of the transparent conductive film is performed first, patterning by etching may become difficult. Therefore, the annealing of the transparent conductive film is preferably performed after patterning the transparent conductive film.

투명 도전막은, 후술하는 캐리어 필름을 적층할 때에 비정질이어도 되고 결정질이어도 된다. 예를 들어, 투명 도전막이 비정질 상태의 투명 도전성 필름에 점착제층을 개재하여 보호 필름을 첩합 (貼合) 한 후에, 어닐 처리를 하여 결정질로 전화하는 것이 가능하다.The transparent conductive film may be amorphous or crystalline when laminating a carrier film to be described later. For example, after a transparent conductive film is bonded to a transparent conductive film having an amorphous state with a pressure-sensitive adhesive layer interposed therebetween, the film can be annealed to be crystalline.

상기 투명 도전막은, 금속 나노 와이어를 포함할 수 있다. 금속 나노 와이어란, 재질이 금속이고, 형상이 침상 (針狀) 또는 사상 (絲狀) 이며, 직경이 나노미터 사이즈인 도전성 물질을 말한다. 금속 나노 와이어는 직선상이어도 되고, 곡선상이어도 된다. 금속 나노 와이어로 구성된 투명 도전층을 사용하면, 금속 나노 와이어가 망목상이 됨으로써, 소량의 금속 나노 와이어라도 양호한 전기 전도 경로를 형성할 수 있고, 전기 저항이 작은 투명 도전성 필름을 얻을 수 있다. 또한, 금속 나노 와이어가 망목상이 됨으로써, 망목의 간극에 개구부를 형성하여, 광투과율이 높은 투명 도전성 필름을 얻을 수 있다.The transparent conductive film may include metal nanowires. The metal nanowire refers to a conductive material whose material is metal, shape is needle-like or thread-like, and has a diameter of nanometer size. The metal nanowires may be linear or curved. When a transparent conductive layer composed of metal nanowires is used, the metal nanowires are in the form of a mesh, so that even a small amount of metal nanowires can form a good electrical conduction path and a transparent conductive film having a small electrical resistance can be obtained. Further, since the metal nanowires are in the form of meshes, openings are formed in the gaps of the mesh, and a transparent conductive film having a high light transmittance can be obtained.

상기 금속 나노 와이어를 구성하는 금속으로는, 도전성이 높은 금속인 한, 임의의 적절한 금속이 사용될 수 있다. 상기 금속 나노 와이어를 구성하는 금속으로는, 예를 들어, 은, 금, 구리, 니켈 등을 들 수 있다. 또, 이들 금속에 도금 처리 (예를 들어, 금 도금 처리) 를 실시한 재료를 사용해도 된다. 그 중에서도 바람직하게는, 도전성의 관점에서, 은, 구리 또는 금이고, 보다 바람직하게는 은이다.As the metal constituting the metal nanowire, any appropriate metal may be used as long as it is a metal having high conductivity. Examples of the metal constituting the metal nanowire include silver, gold, copper, and nickel. In addition, a material obtained by subjecting these metals to a plating treatment (for example, a gold plating treatment) may be used. Among them, silver is preferably copper or gold, and more preferably silver, from the viewpoint of conductivity.

(광학 조정층)(Optical adjustment layer)

본 발명에서는, 투명 수지 필름 또는 제 1 경화 수지층과 투명 도전막 사이에, 1 층 이상의 광학 조정층을 추가로 포함할 수 있다. 광학 조정층은, 투명 도전성 필름의 투과율의 상승이나, 투명 도전막이 패턴화되는 경우에는, 패턴이 남는 패턴부와 패턴이 남지 않는 개구부 사이에서 투과율차나 반사율차를 저감시킬 수 있어, 시인성이 우수한 투명 도전성 필름을 얻기 위해 사용된다.In the present invention, one or more optical adjustment layers may be further included between the transparent resin film or the first cured resin layer and the transparent conductive film. When the transmittance of the transparent conductive film is increased or the transparent conductive film is patterned, the difference in transmittance difference or reflectance between the pattern portion where the pattern remains and the opening portion where the pattern is not formed can be reduced, And is used to obtain a conductive film.

광학 조정층의 굴절률은 1.5 ∼ 1.8 인 것이 바람직하고, 1.51 ∼ 1.78 인 것이 보다 바람직하고, 1.52 ∼ 1.75 인 것이 더욱 바람직하다. 이로써, 투과율차나 반사율차를 저감시킬 수 있어, 시인성이 우수한 투명 도전성 필름을 얻을 수 있다.The refractive index of the optical adjusting layer is preferably 1.5 to 1.8, more preferably 1.51 to 1.78, and further preferably 1.52 to 1.75. Thereby, the difference in transmittance and the difference in reflectance can be reduced, and a transparent conductive film having excellent visibility can be obtained.

광학 조정층은, 무기물, 유기물, 혹은 무기물과 유기물의 혼합물에 의해 형성된다. 광학 조정층을 형성하는 재료로는, NaF, Na3AlF6, LiF, MgF2, CaF2, SiO2, LaF3, CeF3, Al2O3, TiO2, Ta2O5, ZrO2, ZnO, ZnS, SiOx (x 는 1.5 이상 2 미만) 등의 무기물이나, 아크릴 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 멜라민 수지, 알키드 수지, 실록산계 폴리머 등의 유기물을 들 수 있다. 특히, 유기물로서, 멜라민 수지와 알키드 수지와 유기 실란 축합물의 혼합물로 이루어지는 열경화형 수지를 사용하는 것이 바람직하다. 광학 조정층은, 상기 재료를 사용하여, 웨트법, 그라비아 코트법이나 바 코트법 등의 도공법, 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법 등에 의해 형성할 수 있다.The optical adjustment layer is formed of an inorganic material, an organic material, or a mixture of an inorganic material and an organic material. Material in forming an optical adjustment layer, NaF, Na 3 AlF 6, LiF, MgF 2, CaF 2, SiO 2, LaF 3, CeF 3, Al 2 O 3, TiO 2, Ta 2 O 5, ZrO 2, ZnO, ZnS, and SiO x (x is 1.5 or more and less than 2), organic materials such as acrylic resin, epoxy resin, urethane resin, melamine resin, alkyd resin and siloxane polymer. Particularly, as the organic material, it is preferable to use a thermosetting resin comprising a mixture of a melamine resin, an alkyd resin and an organosilane condensate. The optical adjustment layer can be formed using the above materials by a coating method such as a wet method, a gravure coating method or a bar coating method, a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, or the like.

광학 조정층은, 평균 입경이 1 ㎚ ∼ 500 ㎚ 인 나노 미립자를 갖고 있어도 된다. 광학 조정층 중의 나노 미립자의 함유량은 0.1 중량% ∼ 90 중량% 인 것이 바람직하다. 광학 조정층에 사용되는 나노 미립자의 평균 입경은, 상기 서술한 바와 같이 1 ㎚ ∼ 500 ㎚ 의 범위인 것이 바람직하고, 5 ㎚ ∼ 300 ㎚ 인 것이 보다 바람직하다. 또, 광학 조정층 중의 나노 미립자의 함유량은 10 중량% ∼ 80 중량% 인 것이 보다 바람직하고, 20 중량% ∼ 70 중량% 인 것이 더욱 바람직하다. 광학 조정층 중에 나노 미립자를 함유함으로써, 광학 조정층 자체의 굴절률의 조정을 용이하게 실시할 수 있다.The optical adjustment layer may have nanoparticles having an average particle diameter of 1 nm to 500 nm. The content of the nano-particles in the optical adjustment layer is preferably 0.1 wt% to 90 wt%. The average particle diameter of the nano-particles used in the optical adjustment layer is preferably in the range of 1 nm to 500 nm, more preferably in the range of 5 nm to 300 nm as described above. The content of the nano-particles in the optical adjusting layer is more preferably 10 wt% to 80 wt%, and still more preferably 20 wt% to 70 wt%. By containing nanoparticles in the optical adjustment layer, it is possible to easily adjust the refractive index of the optical adjustment layer itself.

나노 미립자를 형성하는 무기 산화물로는, 예를 들어, 산화규소 (실리카), 중공 나노 실리카, 산화티탄, 산화알루미늄, 산화아연, 산화주석, 산화지르코늄, 산화니오브 등의 미립자를 들 수 있다. 이들 중에서도, 산화규소 (실리카), 산화티탄, 산화알루미늄, 산화아연, 산화주석, 산화지르코늄, 산화니오브의 미립자가 바람직하다. 이것들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.Examples of the inorganic oxide for forming the nano-particle include fine particles such as silicon oxide (silica), hollow nanosilica, titanium oxide, aluminum oxide, zinc oxide, tin oxide, zirconium oxide and niobium oxide. Among these, fine particles of silicon oxide (silica), titanium oxide, aluminum oxide, zinc oxide, tin oxide, zirconium oxide and niobium oxide are preferable. These may be used singly or in combination of two or more kinds.

광학 조정층의 두께는 10 ㎚ ∼ 200 ㎚ 인 것이 바람직하고, 20 ㎚ ∼ 150 ㎚ 인 것이 보다 바람직하고, 30 ㎚ ∼ 130 ㎚ 인 것이 더욱 바람직하다. 광학 조정층의 두께가 과도하게 작으면 연속 피막이 되기 어렵다. 또, 광학 조정층의 두께가 과도하게 크면, 투명 도전성 필름의 투명성이 저하되거나, 크랙이 생기기 쉬워지거나 하는 경향이 있다.The thickness of the optical adjusting layer is preferably from 10 nm to 200 nm, more preferably from 20 nm to 150 nm, even more preferably from 30 nm to 130 nm. If the thickness of the optical adjustment layer is excessively small, it is difficult to form a continuous coating. In addition, if the thickness of the optical adjustment layer is excessively large, the transparency of the transparent conductive film tends to be lowered or cracks tend to occur.

(금속층, 금속 배선)(Metal layer, metal wiring)

본 발명에서는, 투명 도전막 위에 금속층 또는 금속 배선을 형성하는 것도 가능하다. 금속 배선은, 금속층을 투명 도전막 위에 형성한 후, 에칭에 의해 형성하는 것도 가능하지만, 이하와 같이 감광성 금속 페이스트를 사용하여 형성하는 것이 바람직하다. 즉, 금속 배선은, 투명 도전막이 패턴화된 후에, 후술하는 감광성 도전 페이스트를 상기 투명 수지 필름 위 또는 상기 투명 도전막 위에 도포하여, 감광성 금속 페이스트층을 형성하고, 포토마스크를 적층 또는 근접시켜 포토마스크를 개재하여 감광성 금속 페이스트층에 노광을 실시하고, 이어서 현상을 실시하여, 패턴 형성한 후, 건조 공정을 거쳐 얻어진다. 요컨대, 공지된 포토리소그래피법 등에 의해, 금속 배선의 패턴 형성이 가능하다.In the present invention, it is also possible to form a metal layer or a metal wiring on the transparent conductive film. The metal wiring can be formed by forming a metal layer on the transparent conductive film and then etching, but it is preferable that the metal wiring is formed by using a photosensitive metal paste as follows. That is, after the transparent conductive film is patterned, the metal wiring is formed by coating a photosensitive conductive paste described later on the transparent resin film or the transparent conductive film to form a photosensitive metal paste layer, A photosensitive metal paste layer is exposed through a mask, and then a development is performed to form a pattern, followed by a drying step. That is, it is possible to form a metal wiring pattern by a known photolithography method or the like.

상기 감광성 도전 페이스트는, 금속 분말 등의 도전성 입자와 감광성 유기 성분을 함유하는 것이 바람직하다. 금속 분말의 도전성 입자의 재료로는, Ag, Au, Pd, Ni, Cu, Al 및 Pt 의 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는 것인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 Ag 이다. 금속 분말의 도전성 입자의 체적 평균 입자경은 0.1 ㎛ ∼ 2.5 ㎛ 인 것이 바람직하다.The photosensitive conductive paste preferably contains conductive particles such as a metal powder and a photosensitive organic component. As the material of the conductive particles of the metal powder, it is preferable to contain at least one kind selected from the group consisting of Ag, Au, Pd, Ni, Cu, Al and Pt, more preferably Ag. The volume average particle diameter of the conductive particles of the metal powder is preferably 0.1 mu m to 2.5 mu m.

금속 분말 이외의 도전성 입자로는, 수지 입자 표면을 금속으로 피복한 금속 피복 수지 입자여도 된다. 수지 입자의 재료로는, 전술한 바와 같은 입자가 함유되지만, 아크릴계 수지가 바람직하다. 금속 피복 수지 입자는 수지 입자의 표면에 실란커플링제를 반응시키고, 또한 그 표면에 금속으로 피복함으로써 얻어진다. 실란커플링제를 사용함으로써, 수지 성분의 분산이 안정화되어, 균일한 금속 피복 수지 입자를 형성할 수 있다.The conductive particles other than the metal powder may be metal coated resin particles in which the surface of the resin particle is coated with a metal. As the material of the resin particles, the above-mentioned particles are contained, but an acrylic resin is preferable. The metal-coated resin particles are obtained by reacting the surface of the resin particles with a silane coupling agent and coating the surface with a metal. By using the silane coupling agent, the dispersion of the resin component is stabilized and uniform metal-coated resin particles can be formed.

감광성 도전 페이스트는 추가로 유리 플릿을 함유하고 있어도 된다. 유리 플릿은, 체적 평균 입자경이 0.1 ㎛ ∼ 1.4 ㎛ 인 것이 바람직하고, 90 % 입자경이 1 ∼ 2 ㎛ 및 탑 사이즈가 4.5 ㎛ 이하인 것이 바람직하다. 유리 플릿의 조성으로는 특별히 한정되지 않지만, Bi2O3 이 전체에 대해 30 중량% ∼ 70 중량% 의 범위로 배합되는 것이 바람직하다. Bi2O3 이외에 함유하고 있어도 되는 산화물로는, SiO2, B2O3, ZrO2, Al2O3 을 함유해도 된다. Na2O, K2O, Li2O 는 실질적으로 함유하지 않는 알칼리 프리의 유리 플릿인 것이 바람직하다.The photosensitive conductive paste may further contain glass frit. The glass frit preferably has a volume average particle diameter of 0.1 mu m to 1.4 mu m, a 90% particle diameter of 1 to 2 mu m, and a top size of 4.5 mu m or less. The composition of the glass frit is not particularly limited, but it is preferable that Bi 2 O 3 is blended in the range of 30 wt% to 70 wt% with respect to the whole glass frit. The oxides that may be contained in other than Bi 2 O 3 may include SiO 2 , B 2 O 3 , ZrO 2 , and Al 2 O 3 . It is preferable that the glass frit is an alkali-free glass frit substantially containing no Na 2 O, K 2 O, or Li 2 O.

감광성 유기 성분은, 감광성 폴리머 및/또는 감광성 모노머를 함유하는 것이 바람직하다. 감광성 폴리머로는, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트 등의 탄소-탄소 이중 결합을 갖는 화합물에서 선택된 성분의 중합체나 이것들의 공중합체로 이루어지는 아크릴 수지의 측사슬 또는 분자 말단에 광 반응성기를 부가한 것 등이 바람직하게 사용된다. 바람직한 광 반응성기로는 비닐기, 알릴 기, 아크릴기, 메타크릴기 등의 에틸렌성 불포화기를 들 수 있다. 감광성 폴리머의 함유량은 1 ∼ 30 중량%, 2 ∼ 30 중량% 인 것이 바람직하다.The photosensitive organic component preferably contains a photosensitive polymer and / or a photosensitive monomer. Examples of the photosensitive polymer include a polymer having a carbon-carbon double bond-containing polymer such as methyl (meth) acrylate and ethyl (meth) acrylate, or a polymer having a polymerizable unsaturated group at the side chain or molecular end of an acrylic resin A reactive group is added, and the like are preferably used. Preferred examples of the photoreactive group include ethylenic unsaturated groups such as vinyl, allyl, acryl, and methacryl groups. The content of the photosensitive polymer is preferably 1 to 30% by weight and 2 to 30% by weight.

감광성 모노머로는, 메타크릴아크릴레이트, 에틸아크릴레이트 등의 (메트)아크릴레이트계 모노머나, γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 1-비닐-2-피롤리돈 등을 들 수 있고, 1 종 또는 2 종 이상을 사용할 수 있다.Examples of the photosensitive monomer include (meth) acrylate monomers such as methacryl acrylate and ethyl acrylate,? -Methacryloxypropyltrimethoxysilane and 1-vinyl-2-pyrrolidone, One or more of them may be used.

감광성 도전 페이스트에 있어서는, 감광성 유기 성분이 금속 분말 100 중량부에 대해, 5 ∼ 40 중량% 함유하는 것이 광의 감도 면에서 바람직하고, 보다 바람직하게는 10 중량부 ∼ 30 중량부이다. 또, 본 발명의 감광성 도전 페이스트는 필요에 따라 광 중합 개시제, 증감제, 중합 금지제, 유기 용매를 사용하는 것이 바람직하다.In the photosensitive conductive paste, the photosensitive organic component is preferably contained in an amount of 5 to 40% by weight based on 100 parts by weight of the metal powder from the viewpoint of light sensitivity, more preferably 10 to 30 parts by weight. In the photosensitive conductive paste of the present invention, a photo polymerization initiator, a sensitizer, a polymerization inhibitor, and an organic solvent are preferably used, if necessary.

금속층의 두께는 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어, 금속층의 면내의 일부를 에칭 등에 의해 제거하고 패턴 배선을 형성하는 경우에는, 형성 후의 패턴 배선이 원하는 저항값을 갖도록 금속층의 두께가 적절히 설정된다. 그 때문에, 금속층의 두께는 0.01 ∼ 200 ㎛ 인 것이 바람직하고, 0.05 ∼ 100 ㎛ 인 것이 보다 바람직하다. 금속층의 두께가 상기 범위이면, 패턴 배선의 저항이 지나치게 높아지지 않아, 디바이스의 소비 전력이 커지지 않는다. 또, 금속층의 성막의 생산 효율이 올라, 성막시의 적산 열량이 작아지고, 필름에 열주름이 생기기 어려워진다.The thickness of the metal layer is not particularly limited. For example, when a part of the surface of the metal layer is removed by etching or the like to form a pattern wiring, the thickness of the metal layer is appropriately set so that the formed pattern wiring has a desired resistance value. Therefore, the thickness of the metal layer is preferably 0.01 to 200 탆, more preferably 0.05 to 100 탆. When the thickness of the metal layer is within the above range, the resistance of the pattern wiring is not excessively increased and the power consumption of the device is not increased. In addition, the production efficiency of the film formation of the metal layer increases, the amount of heat accumulated at the time of film formation becomes small, and heat wrinkles are less likely to occur in the film.

투명 도전성 필름이 디스플레이와 조합하여 사용하는 터치 패널용 투명 도전성 필름인 경우, 표시 부분에 대응된 부분은 패턴화된 투명 도전막에 의해 형성되고, 감광성 도전 페이스트로 제조된 금속 배선은 비표시부 (예를 들어 주연부) 의 배선 부분에 사용된다. 투명 도전막은 비표시부에서도 사용되어도 되고, 그 경우는 금속 배선이 투명 도전막 위에 형성되어 있어도 된다.When the transparent conductive film is a transparent conductive film for a touch panel used in combination with a display, a portion corresponding to the display portion is formed by a patterned transparent conductive film, and a metal wiring made of a photosensitive conductive paste is formed on a non- For example, a peripheral portion. The transparent conductive film may be used in a non-display portion, and in this case, a metal wiring may be formed on the transparent conductive film.

<캐리어 필름><Carrier film>

본 발명에서는, 투명 도전성 필름이 캐리어 필름을 갖고 있어도 된다. 캐리어 필름은, 보호 필름의 적어도 일방의 면측에 점착제층을 갖는다. 캐리어 필름은, 점착제층을 개재하여 박리 가능한 투명 도전성 필름과, 투명 도전성 필름의 제 2 주면측을 첩합하여, 투명 도전성 필름을 형성한다. 캐리어 필름을 투명 도전성 필름으로부터 박리할 때에는, 점착제층은 보호 필름과 함께 박리되어도 되고, 보호 필름만이 박리되어도 된다.In the present invention, the transparent conductive film may have a carrier film. The carrier film has a pressure-sensitive adhesive layer on at least one side of the protective film. The carrier film forms a transparent conductive film by bonding a second main surface side of the transparent conductive film and a peelable transparent conductive film via a pressure-sensitive adhesive layer. When the carrier film is peeled from the transparent conductive film, the pressure-sensitive adhesive layer may be peeled together with the protective film, or only the protective film may be peeled off.

(보호 필름)(Protective film)

보호 필름을 형성하는 재료로는, 투명성, 기계적 강도, 열안정성, 수분 차단성, 등방성 등이 우수한 것이 바람직하다. 보호 필름으로는, 결정성 수지 또는 비정성 수지로 이루어지는 필름을 사용할 수 있다.The material for forming the protective film is preferably excellent in transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture barrier property, isotropy and the like. As the protective film, a film made of a crystalline resin or an amorphous resin can be used.

결정성 수지로는, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀계 수지 등을 들 수 있지만, 폴리에스테르계 수지가 바람직하다.Examples of the crystalline resin include a polyester-based resin such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate; and a polyolefin-based resin such as polyethylene and polypropylene. A polyester-based resin is preferable.

비정성 수지로는, 시클로올레핀계 수지나 폴리카보네이트계 수지 등을 들 수 있지만, 우수한 광 투과성, 내스크래치성, 내수성을 갖고, 양호한 기계적 성질의 관점에서, 폴리카보네이트계 수지가 바람직하다. 폴리카보네이트계 수지에는, 예를 들어, 지방족 폴리카보네이트, 방향족 폴리카보네이트, 지방족-방향족 폴리카보네이트 등을 들 수 있다.Examples of the amorphous resin include a cycloolefin resin and a polycarbonate resin. From the viewpoints of excellent light transmission, scratch resistance and water resistance, and good mechanical properties, a polycarbonate resin is preferable. Examples of the polycarbonate resin include an aliphatic polycarbonate, an aromatic polycarbonate, an aliphatic-aromatic polycarbonate, and the like.

보호 필름은, 투명 수지 필름과 마찬가지로, 표면에 미리 스퍼터링, 코로나 방전, 화염, 자외선 조사, 전자선 조사, 화성, 산화 등의 에칭 처리나 하도 처리를 실시하여, 보호 필름 위의 점착제층 등과의 밀착성을 향상시키도록 해도 된다. 또, 점착제층을 형성하기 전에, 필요에 따라 용제 세정이나 초음파 세정 등에 의해, 보호 필름 표면을 제진, 청정화해도 된다.As with the transparent resin film, the surface of the protective film is subjected to an etching treatment or a priming treatment such as sputtering, corona discharge, flame, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, chemical conversion and oxidation in advance to improve the adhesion with the pressure- . Before the pressure-sensitive adhesive layer is formed, the surface of the protective film may be damped and cleaned by solvent cleaning or ultrasonic cleaning as necessary.

보호 필름의 두께는, 작업성 등을 향상시키는 관점에서, 20 ∼ 150 ㎛ 가 바람직하고, 30 ∼ 100 ㎛ 가 보다 바람직하고, 40 ∼ 80 ㎛ 가 더욱 바람직하다.The thickness of the protective film is preferably 20 to 150 占 퐉, more preferably 30 to 100 占 퐉, and even more preferably 40 to 80 占 퐉, from the viewpoint of improving workability and the like.

(점착제층)(Pressure-sensitive adhesive layer)

점착제층으로는, 투명성을 갖는 것이면 특별히 제한 없이 사용할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들어, 아크릴계 폴리머, 실리콘계 폴리머, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 폴리아미드, 폴리비닐에테르, 아세트산비닐/염화비닐 코폴리머, 변성 폴리올레핀, 에폭시계, 불소계, 천연 고무, 합성 고무 등의 고무계 등의 폴리머를 베이스 폴리머로 하는 것을 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 특히, 광학적 투명성이 우수하고, 적당한 젖음성, 응집성 및 접착성 등의 점착 특성을 나타내고, 내후성이나 내열성 등도 우수하다는 점에서는, 아크릴계 점착제가 바람직하게 사용된다.The pressure-sensitive adhesive layer can be used without particular limitation as long as it has transparency. Specific examples thereof include polymers such as acrylic polymers, silicone polymers, polyesters, polyurethanes, polyamides, polyvinyl ethers, vinyl acetate / vinyl chloride copolymers, modified polyolefins, epoxy based, fluorine based, natural rubber, Rubber, or the like as a base polymer can be appropriately selected and used. In particular, an acrylic pressure-sensitive adhesive is preferably used because it has excellent optical transparency, exhibits adhesive properties such as appropriate wettability, cohesiveness and adhesiveness, and is also excellent in weather resistance and heat resistance.

점착제층의 형성 방법은 특별히 제한되지 않고, 박리 라이너에 점착제 조성물을 도포하고, 건조 후, 기재 필름에 전사하는 방법 (전사법), 보호 필름에, 직접 점착제 조성물을 도포, 건조시키는 방법 (직사법) 이나 공압출에 의한 방법 등을 들 수 있다. 또한 점착제에는, 필요에 따라 점착 부여제, 가소제, 충전제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 실란커플링제 등을 적절히 사용할 수도 있다. 점착제층의 바람직한 두께는 5 ㎛ ∼ 100 ㎛ 이고, 보다 바람직하게는 10 ㎛ ∼ 50 ㎛ 이며, 보다 바람직하게는 15 ㎛ 내지 35 ㎛ 이다.The method of forming the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, and a method of applying a pressure-sensitive adhesive composition to a release liner, drying and then transferring the pressure-sensitive adhesive composition onto a base film (transfer method), a method of directly applying a pressure- ) Or a method by coextrusion. Further, a tackifier, a plasticizer, a filler, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a silane coupling agent and the like may be suitably used for the pressure-sensitive adhesive, if necessary. The preferable thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is 5 占 퐉 to 100 占 퐉, more preferably 10 占 퐉 to 50 占 퐉, and still more preferably 15 占 퐉 to 35 占 퐉.

<투명 도전성 필름의 특성>&Lt; Properties of transparent conductive film &

본 발명의 투명 도전성 필름은, 실시예에 있어서의 무지개 얼룩의 평가의 xy 표색에서의 편차로서, Δx 가 0.15 이하, Δy 가 0.20 이하인 것이 바람직하고, Δx 가 0.13 이하, Δy 가 0.17 이하인 것이 보다 바람직하다.The transparent conductive film of the present invention preferably has deviation Δx in the xy coloring of the evaluation of rainbow stains in the examples of not more than 0.15 and Δy of not more than 0.20, more preferably Δy of not more than 0.13 and Δy of not more than 0.17 Do.

또, 이것을 달성하는 데에 있어서, 투명 수지 필름을 단체로 사용한 경우에, xy 표색에서의 편차로서 Δx 가 0.15 이하, Δy 가 0.20 이하인 것이 바람직하고, Δx 가 0.13 이하, Δy 가 0.17 이하인 것이 보다 바람직하다.In order to accomplish this, when the transparent resin film is used singly, it is preferable that Δx is not more than 0.15 and Δy is not more than 0.20, and Δx is not more than 0.13 and Δy is not more than 0.17 Do.

<터치 패널><Touch panel>

투명 도전성 필름으로부터 캐리어 필름 또는 보호 필름을 박리한 투명 도전성 필름은, 예를 들어, 정전 용량 방식, 저항막 방식 등의 터치 패널 등의 전자 기기의 투명 전극으로서 바람직하게 적용할 수 있다.The transparent conductive film obtained by peeling the carrier film or the protective film from the transparent conductive film can be preferably applied as a transparent electrode of an electronic device such as a touch panel such as a capacitive type or a resistive film type.

터치 패널의 형성시에는, 전술한 투명 도전성 필름의 일방 또는 양방의 주면에 투명한 점착제층을 개재하여, 유리나 고분자 필름 등의 다른 기재 등을 첩합할 수 있다. 예를 들어, 투명 도전성 필름의 투명 도전막이 형성되어 있지 않은 측의 면에 투명한 점착제층을 개재하여 투명 기체가 첩합된 적층체를 형성해도 된다. 투명 기체는, 1 장의 기체 필름으로 되어 있어도 되고, 2 장 이상의 기체 필름의 적층체 (예를 들어 투명한 점착제층을 개재하여 적층한 것) 여도 된다. 또, 투명 도전성 필름에 첩합하는 투명 기체의 외표면에 하드 코트층을 형성할 수도 있다. 투명 도전성 필름과 기재의 첩합에 사용되는 점착제층으로는, 전술한 바와 같이, 투명성을 갖는 것이면 특별히 제한 없이 사용할 수 있다.At the time of forming the touch panel, other materials such as glass or polymer film can be bonded to one or both of the main surfaces of the above-mentioned transparent conductive film with a transparent pressure-sensitive adhesive layer interposed therebetween. For example, a laminate in which a transparent substrate is bonded to the surface of the transparent conductive film on the side where the transparent conductive film is not formed, via a transparent pressure-sensitive adhesive layer, may be formed. The transparent substrate may be a single substrate film or a laminate of two or more substrates (for example, a substrate laminated with a transparent pressure-sensitive adhesive layer interposed therebetween). The hard coat layer may be formed on the outer surface of the transparent substrate to be bonded to the transparent conductive film. The pressure-sensitive adhesive layer used for bonding the transparent conductive film to the substrate can be used without particular limitation as long as it has transparency as described above.

본 발명의 투명 도전성 필름을 터치 패널의 형성에 사용한 경우, 저위상차의 폴리에스테르를 기재로서 사용함으로써, 충분한 재료 강도를 갖고, 재료비가 저렴하고 생산성도 양호하고, 게다가 충분한 무지개 얼룩의 억제 효과가 얻어지는 투명 도전성 필름을 갖는 터치 패널을 제공할 수 있다. 터치 패널 용도 이외이면, 전자 기기로부터 발해지는 전자파나 노이즈를 실드하는 실드 용도로 사용할 수 있다.When the transparent conductive film of the present invention is used for the formation of a touch panel, by using a polyester having a low phase difference as a substrate, it is possible to obtain a film having sufficient material strength, low material cost, good productivity, A touch panel having a transparent conductive film can be provided. And can be used as a shielding application for shielding electromagnetic waves and noise emitted from electronic devices, other than the use of a touch panel.

실시예Example

이하, 본 발명에 관하여 실시예를 사용하여 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 실시예 등에 있어서의 물성 등은 다음과 같이 하여 측정하였다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to the following Examples. The physical properties and the like in the examples and the like were measured as follows.

(위상차)(Phase difference)

편광·위상차 측정 시스템 (Axometrics 제조 제품명 「AxoScan」) 을 사용하여, 23 ℃ 의 환경하에서, 측정 파장 590 ㎚ 로 투명 수지 필름의 면내 위상차의 측정을 실시하였다. 또, 마찬가지로 하여, 지상축 방향 및 진상축 방향을 회전 중심으로 하여 필름을 40 °경사시켰을 때의 위상차를 측정하였다. 또한, 위상차의 측정값의 차수는, 미리 구한 투명 수지 필름의 위상차의 파장 분산과 일치하도록 결정하였다. 이들 측정값으로부터, 투명 수지 필름의 면내 위상차값 (R0) 과 두께 방향 위상차값 (Rth) 을 산출하였다.The in-plane retardation of the transparent resin film was measured at a measurement wavelength of 590 nm under an environment of 23 캜 using a polarization / phase difference measurement system (AxoScan, manufactured by Axometrics). Similarly, the phase difference was measured when the film was inclined by 40 DEG with the slow axis direction and the fast axis direction as rotation centers. The order of the measured values of the retardation was determined so as to coincide with the wavelength dispersion of the retardation of the previously obtained transparent resin film. From these measured values, the in-plane retardation value (R0) and the thickness direction retardation value (Rth) of the transparent resin film were calculated.

(두께의 측정)(Measurement of thickness)

두께는 1 ㎛ 이상의 두께를 갖는 것에 관해서는, 마이크로 게이지식 두께계 (미츠토요사 제조) 로 측정을 실시하였다. 또, 1 ㎛ 미만의 두께나 광학 조정층의 두께는, 순간 멀티 측광 시스템 (오오츠카 전자사 제조 MCPD2000) 으로 측정하였다. ITO 막 등의 두께와 같이 나노 사이즈의 두께는, FB-2000A (주식회사 히타치 하이테크놀로지즈 제조) 로 단면 관찰용 샘플을 제조하고, 단면 TEM 관찰은 HF-2000 (주식회사 히타치 하이테크놀로지즈 제조) 을 사용하여 막 두께를 측정하였다. 평가한 결과를 표 1 에 나타낸다.With respect to the thickness having a thickness of 1 占 퐉 or more, the measurement was carried out with a micro-gauge thickness meter (manufactured by Mitsutoyo Corporation). The thickness of less than 1 mu m and the thickness of the optical adjustment layer were measured with an instant multi-photometry system (MCPD2000 manufactured by OTSUKA ELECTRONICS CO., LTD.). The thickness of the nano-size such as the thickness of the ITO film and the like was measured by using FB-2000A (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation), and cross-sectional TEM observation was performed using HF-2000 (manufactured by Hitachi High Technologies Corporation) And the film thickness was measured. The evaluation results are shown in Table 1.

(무지개 얼룩의 평가)(Evaluation of rainbow stains)

무지개 얼룩의 평가 방법으로는, xy 표색에서의 편차 평가와 묵시에 의한 4 단계 평가 (◎ ∼ Х) 를 실시하였다.As a method of evaluating the rainbow stains, a deviation evaluation in the xy coloring and a four-step evaluation (⊚ to Х) by implication were conducted.

xy 표색에서의 편차 평가는, 코노스코프 (Autronic-Melchers 사 제조, Conoscope) 를 사용하여 실시하고, 고휘도 백라이트 위에 시판되는 편광판을 배치한 것을 사용하였다. 이 제 1 편광판의 흡수축에 대해, 기재의 지상축 (즉, 배향축) 의 방향이 45 °가 되도록 투명 도전성 필름을 재치 (載置) 하고, 또한 상기 투명 도전성 필름 위에 제 1 편광판의 흡수축에 대해, 흡수축이 직교하도록 추가로 제 2 편광판을 재치하고, 전방위 (극각 0 ° ∼ 80 °, 방위각 0 ° ∼ 360 °) 로부터 코노스코프로 x 값과 y 값을 측정하고, 그 때의 xy 표색에서의 편차를 평가하였다. Δx, Δy 가 작을수록 무지개 얼룩이 억제되어 있는 것이 되고, Δx 가 0.15 이하, Δy 가 0.20 이하가 양호한 무지개 얼룩 억제의 기준이 된다.The deviation in the xy color was evaluated by using a Konoskop (Conronic, manufactured by Autronic-Melchers), and a commercially available polarizer was disposed on a high-luminance backlight. A transparent conductive film was placed on the absorption axis of the first polarizing plate such that the direction of the slow axis of the substrate (that is, the alignment axis) was 45 °. On the transparent conductive film, , The second polarizing plate is further placed on the second polarizer plate so that the absorption axis is orthogonal so that the x value and the y value are measured from the omnidirectional angle (0 deg. To 80 deg. Polarizations and 0 deg. To 360 deg. Azimuthal angle) The deviation in the color was evaluated. The smaller the values of? X and? Y are, the less iridescent speckles are suppressed. The? X is 0.15 or less and the? Y is 0.20 or less.

또, 묵시에 의한 4 단계 평가는, Х : 각도 변화에 대해 색상이 현저하게 변화하고, △ : 색상이 현저하게 변화하는 각도 범위가, 대체로 극각 40 ∼ 60 °의 범위이고, 상기 1 에 비해 좁고, ○ : 색상이 현저하게 변화하는 각도 범위가, 대체로 극각 40 ∼ 50 °의 범위이고, 상기 2 에 비해 더욱 좁고, ◎ : 각도 변화에 대해, 색상의 변화가 거의 확인되지 않는다고 하였다.In the four-step evaluation by implication, the hue significantly changes with respect to the angular change, and the angular range in which the hue changes significantly is generally in the range of 40 to 60 degrees from the polar angle, , &Amp; cir &amp;: The angle range in which the hue changes remarkably is generally in the range of 40 to 50 DEG polar angles, narrower than the above 2, and &amp;

[실시예 1 ∼ 7][Examples 1 to 7]

2 축 연신의 조건을 바꿈으로써, 표 1 에 나타내는 바와 같은 면내 위상차값 (R0) 과 두께 방향 위상차값 (Rth) 과 두께를 갖는 여러 가지 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 를, 투명 수지 필름으로서 준비하였다.Various polyethylene terephthalate (PET) films having an in-plane retardation value (R0) and a thickness direction retardation value (Rth) and thickness as shown in Table 1 were prepared as a transparent resin film by changing the conditions of biaxial stretching.

이것을 기재로 하여, 그 편면에, 광학 조정층으로서 굴절률 1.62 의 지르코니아 입자 함유 자외선 경화형 조성물 (JSR 사 제조, 상품명 「옵스타 Z7412」) 을 도포하여, 도포층을 형성하였다. 이어서, 도포층이 형성된 측에서 도포층에 자외선을 조사하여, 두께가 100 ㎚ 가 되도록 광학 조정층을 형성하였다.An ultraviolet curable composition containing zirconia particles having a refractive index of 1.62 (manufactured by JSR Corporation, trade name &quot; Obstar Z7412 &quot;) as an optical adjustment layer was coated on one side thereof to form a coating layer. Subsequently, the coating layer was irradiated with ultraviolet rays on the side where the coating layer was formed, and an optical adjustment layer was formed so as to have a thickness of 100 nm.

다음으로, 광학 조정층이 형성된 PET 필름을, 권취식 스퍼터 장치에 투입하고, 광학 조정층의 표면에, 두께가 27 ㎚ 인 비정질의 인듐·주석 산화물층 (조성 : SnO2 : 10 wt%) 을 형성하여, 투명 도전막을 형성하였다. 이와 같이 하여 투명 도전성 필름을 제조하였다.Next, the PET film on which the optical adjustment layer was formed was placed in a winding type sputtering apparatus, and an amorphous indium tin oxide layer (composition: SnO 2 : 10 wt%) having a thickness of 27 nm was deposited on the surface of the optical adjustment layer To form a transparent conductive film. Thus, a transparent conductive film was produced.

[비교예 1 ∼ 11][Comparative Examples 1 to 11]

실시예 1 에 있어서, 표 1 에 나타내는 바와 같은 면내 위상차값 (R0) 과 두께 방향 위상차값 (Rth) 과 두께를 갖는 여러 가지 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 를, 기재로서 사용한 것 이외에는, 실시예 1 과 완전히 동일한 조건으로, 투명 도전성 필름을 제조하였다.Examples 1 and 2 were obtained in the same manner as in Example 1 except that various polyethylene terephthalate (PET) having in-plane retardation value (R0) and thickness direction retardation value (Rth) Under the completely same conditions, a transparent conductive film was produced.

이상의 투명 도전성 필름의 평가 결과를 표 1 에 나타낸다.The evaluation results of the above-mentioned transparent conductive film are shown in Table 1.

Figure pct00001
Figure pct00001

표 1 의 결과가 나타내는 바와 같이, 실시예 1 ∼ 7 의 투명 도전성 필름은, 면내 위상차값이 150 ㎚ 이하, 두께 방향 위상차값이 1000 ㎚ 이하이기 때문에, Δx 가 0.15 이하, Δy 가 0.20 이하가 되고, 또 묵시 평가에서도 양호한 결과이며, 충분한 무지개 얼룩 억제가 가능하였다. 이것은, 디스플레이를 편광 선글라스를 통해 보았을 때의 무지개 얼룩이 억제되는 것을 의미한다. 이에 반해, 면내 위상차값이 150 ㎚ 를 초과하거나, 두께 방향 위상차값이 1000 ㎚ 를 초과하는 비교예 1 ∼ 11 에서는, Δx 와 Δy 의 적어도 일방이 크고, 묵시 평가에서도 결과가 나빠, 무지개 얼룩을 억제하는 효과가 불충분하였다.As shown in the results of Table 1, the transparent conductive films of Examples 1 to 7 have an in-plane retardation value of 150 nm or less and a retardation value in the thickness direction of 1000 nm or less, so? X is 0.15 or less and? Y is 0.20 or less , And also good results in the implied evaluation, and sufficient rainbow stain suppression was possible. This means that rainbow stains are suppressed when the display is viewed through polarized sunglasses. On the other hand, in Comparative Examples 1 to 11 in which the in-plane retardation value exceeded 150 nm or the thickness direction retardation value exceeded 1000 nm, at least one of? X and? Y was large and the result was worse even in the implied evaluation, Was insufficient.

[실시예 8][Example 8]

실시예 1 에 있어서, 다음과 같이 하여 PET 필름에 경화 수지층을 형성한 것을 사용한 것 이외에는, 실시예 1 과 완전히 동일한 조건으로, 투명 도전성 필름을 제조하였다.A transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 1 except that a cured resin layer was formed on the PET film in the following manner.

먼저, 자외선 경화성 수지 조성물 (DIC 사 제조 상품명 「UNIDIC (등록 상표) RS29-120」) 을 100 중량부와, 최빈 입자경이 1.9 ㎛ 인 아크릴계 구상 입자(소켄 화학사 제조, 상품명「MX-180TA」) 를 0.2 중량부를 함유하는, 구상 입자가들어있는 경화성 수지 조성물을 준비하였다.First, 100 parts by weight of an ultraviolet ray-curable resin composition (trade name "UNIDIC (registered trademark) RS29-120", trade name, manufactured by DIC) and acrylic spherical particles (trade name "MX-180TA" And 0.2 part by weight of a curable resin composition containing spherical particles.

준비한 구상 입자가 들어있는 경화성 수지 조성물을 두께가 50 ㎛ 로 PET 기재의 일방의 면에 도포하여, 도포층을 형성하였다. 이어서, 도포층이 형성된 측에서 도포층에 자외선을 조사하여, 두께가 1.0 ㎛ 가 되도록 제 2 경화 수지층을 형성하였다. PET 기재의 타방의 면에, 상기와는 구상 입자를 첨가하지 않는 것 이외에는 동일한 방법으로, 두께가 1.0 ㎛ 가 되도록 제 1 경화 수지층을 형성하였다. 또한, 광학 조정층과 투명 도전막의 형성은, 제 1 경화 수지층의 표면에 실시하였다.The curable resin composition containing the prepared spherical particles was coated on one side of the PET base material with a thickness of 50 占 퐉 to form a coating layer. Then, the coating layer was irradiated with ultraviolet rays at the side where the coating layer was formed, and a second cured resin layer was formed so as to have a thickness of 1.0 탆. A first cured resin layer was formed on the other surface of the PET substrate so that the thickness was 1.0 占 퐉, in the same manner as in the above, except that spherical particles were not added to the above. The formation of the optical adjusting layer and the transparent conductive film was performed on the surface of the first cured resin layer.

얻어진 투명 도전성 필름의 무지개 얼룩의 평가를 실시한 결과, 실시예 1 과 실질적으로 동일한 Δx 와 Δy 를 갖고 있고, 또 묵시 평가에서도 양호한 결과로, 충분한 무지개 얼룩 억제가 가능하였다.As a result of evaluating the iridescent smear of the obtained transparent conductive film, it was found that it had substantially the same? X and? Y as in Example 1, and the iridescent smear evaluation was satisfactory and sufficient iridescent smear suppression was possible.

1 : 보호 필름
2 : 점착제층
3 : 제 2 경화 수지층 (안티 블로킹층)
4 : 투명 수지 필름
5 : 제 1 경화 수지층 (하드 코트층)
6 : 투명 도전막
7 : 광학 조정층
10 : 캐리어 필름
20 : 투명 도전성 필름
1: Protective film
2: Pressure-sensitive adhesive layer
3: Second cured resin layer (anti-blocking layer)
4: Transparent resin film
5: First cured resin layer (hard coat layer)
6: Transparent conductive film
7: Optical adjustment layer
10: Carrier film
20: transparent conductive film

Claims (7)

투명 수지 필름과 투명 도전막을 갖는 투명 도전성 필름으로서,
상기 투명 수지 필름은, 2 축 연신된 폴리에스테르계 수지 필름으로, 면내 위상차값이 150 ㎚ 이하, 두께 방향 위상차값이 350 ∼ 1000 ㎚ 인, 투명 도전성 필름.
A transparent conductive film having a transparent resin film and a transparent conductive film,
The transparent resin film is a biaxially stretched polyester resin film having an in-plane retardation value of 150 nm or less and a retardation value in the thickness direction of 350 to 1000 nm.
제 1 항에 있어서,
상기 투명 수지 필름과 상기 투명 도전막 사이에는, 적어도 1 층의 광학 조정층을 갖는, 투명 도전성 필름.
The method according to claim 1,
And at least one optical adjustment layer is provided between the transparent resin film and the transparent conductive film.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 투명 수지 필름의 두께가 5 ∼ 50 ㎛ 인, 투명 도전성 필름.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the transparent resin film has a thickness of 5 to 50 占 퐉.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 투명 수지 필름은, 장척체 또는 사각형상의 매엽체로, 장변 또는 단변에 대해 배향축이 10 ∼ 45 °의 각도를 갖는, 투명 도전성 필름.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the transparent resin film is an elongated body or a rectangular shaped sheet, and the orientation axis has an angle of 10 to 45 degrees with respect to a long side or a short side.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 투명 수지 필름의 적어도 일방의 표면에 경화 수지층을 갖는, 투명 도전성 필름.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein the transparent resin film has a cured resin layer on at least one surface of the transparent resin film.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 투명 수지 필름의 상기 투명 도전막이 형성되어 있지 않은 면측에, 점착제층과 보호 필름을 이 순서로 갖는, 투명 도전성 필름.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
Wherein the transparent resin film has a pressure-sensitive adhesive layer and a protective film in this order on the side where the transparent conductive film is not formed.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 기재된 투명 도전성 필름을 사용하여 얻어지는, 터치 패널.A touch panel obtained using the transparent conductive film according to any one of claims 1 to 6.
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101866692B1 (en) * 2017-04-25 2018-06-11 동우 화인켐 주식회사 Touch Sensor Panel
JP6997590B2 (en) 2017-10-24 2022-01-17 日東電工株式会社 Transparent conductive film
GB201718707D0 (en) 2017-11-13 2017-12-27 Dupont Teijin Films Us Lp Polyester films and devices containing them
JP2019107785A (en) * 2017-12-15 2019-07-04 日東電工株式会社 Transparent conductive film
JP7141237B2 (en) * 2018-04-27 2022-09-22 日東電工株式会社 HARD COAT FILM, TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM, TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM LAMINATE AND IMAGE DISPLAY DEVICE
JP7054651B2 (en) * 2018-06-19 2022-04-14 日東電工株式会社 Underlayer film, transparent conductive film, transparent conductive film laminate and image display device
JP7466269B2 (en) 2018-12-28 2024-04-12 日東電工株式会社 Transparent conductive film and crystalline transparent conductive film

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI284236B (en) * 2002-01-23 2007-07-21 Nitto Denko Corp Optical film, laminated polarizing plate, liquid crystal display using the same, and self-light-emitting display using the same
JP2011170234A (en) * 2010-02-22 2011-09-01 Sumitomo Chemical Co Ltd Liquid crystal display device
JP5051328B1 (en) * 2012-01-27 2012-10-17 大日本印刷株式会社 Optical laminate, polarizing plate, and image display device
JP5812444B2 (en) * 2012-04-13 2015-11-11 日東電工株式会社 Optical member, polarizing plate set and liquid crystal display device
JP2014112510A (en) * 2012-11-02 2014-06-19 Nitto Denko Corp Transparent conductive film
JP6048203B2 (en) * 2013-02-19 2016-12-21 大日本印刷株式会社 Adhesive composition
WO2014163068A1 (en) * 2013-04-04 2014-10-09 日東電工株式会社 Conductive film and image display device
JPWO2015056594A1 (en) * 2013-10-18 2017-03-09 コニカミノルタ株式会社 Infrared shielding film and laminated glass

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