JP2017061069A - Transparent conductive film laminate and touch panel including the same - Google Patents

Transparent conductive film laminate and touch panel including the same Download PDF

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圭祐 松本
Keisuke Matsumoto
圭祐 松本
豪彦 安藤
Takehiko Ando
豪彦 安藤
明憲 西村
Akinori Nishimura
明憲 西村
健吉 家倉
Kenkichi Iekura
健吉 家倉
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transparent conductive film laminate using a substrate including a polyester, enabling a sufficient material strength as well as a sufficient restrictive effect on iridescent irregularity, and also to provide a touch panel including the same.SOLUTION: A transparent conductive film laminate includes a transparent conductive membrane 6, a first transparent resin film 4, an adhesive layer 8 and a second transparent resin film 9 in this order. The first transparent resin film 4 is a biaxially-drawn polyester resin film. As a total phase difference of the first transparent resin film 4 and the second transparent resin film 9, an in-plane phase difference value is 150 nm or less and a thickness direction phase difference value is 1100 nm or less.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、透明導電膜と複数の透明樹脂フィルムとを有する透明導電性フィルム積層体、及びそれを含むタッチパネルに関する。   The present invention relates to a transparent conductive film laminate having a transparent conductive film and a plurality of transparent resin films, and a touch panel including the same.

最近では、タブレット、スマートフォン、タッチパネル付きPCの普及により、屋外で電子機器を扱う機会が増えている。屋外にてディスプレイを見る際に偏光サングラスを着用した状態で見ることも多く、その際にポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用いた透明導電性フィルムを使用していると、PETフィルム自体の面内位相差(一般的には1000〜2000nm)により虹ムラが発生し、ディスプレイの視認性を大きく低下させるという問題があった。   Recently, with the spread of tablets, smartphones, and PCs with touch panels, opportunities to handle electronic devices outdoors have increased. When viewing the display outdoors, it is often viewed with polarized sunglasses. If a transparent conductive film using a polyethylene terephthalate (PET) film is used, the in-plane position of the PET film itself There is a problem that rainbow unevenness occurs due to the phase difference (generally 1000 to 2000 nm), and the visibility of the display is greatly reduced.

このため、位相差値の小さい基材(ポリシクロオレフィンなど)を用いた透明導電膜の開発が進められてきた。しかし、ポリシクロオレフィンなどは、材料強度が弱いなどのデメリットがあり、安価で強度の高い材料の使用が検討されている。また、他の材料を用いて位相差を小さくするために、厚みを薄くすると、製造時や部材を加工する際のハンドリング性が低下するという問題もある。   For this reason, development of a transparent conductive film using a base material (polycycloolefin or the like) having a small retardation value has been advanced. However, polycycloolefins have disadvantages such as weak material strength, and the use of inexpensive and high-strength materials has been studied. Further, if the thickness is reduced in order to reduce the phase difference using another material, there is a problem that handling properties at the time of manufacturing and processing of the member are lowered.

このような理由から、特許文献1には、面内位相差値が4000nm以上の延伸したポリエステル等からなる透明樹脂フィルムを基材とする透明導電性フィルムが提案されている。この透明導電性フィルムによると、偏光サングラスを通じて視認した場合にも、色むらが生じにくくなる。   For this reason, Patent Document 1 proposes a transparent conductive film based on a transparent resin film made of stretched polyester or the like having an in-plane retardation value of 4000 nm or more. According to this transparent conductive film, color unevenness is less likely to occur even when viewed through polarized sunglasses.

特開2004−214069号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2004-214069

しかしながら、このように面内位相差値の大きいポリエステルフィルム等は、一軸延伸の為に材料強度が弱いといったデメリットがあり、汎用材料としては扱いづらい一面がある。   However, such a polyester film having a large in-plane retardation value has a demerit that the material strength is weak due to uniaxial stretching, and is difficult to handle as a general-purpose material.

そこで、本発明の目的は、ポリエステルを含む基材を使用することで、十分な材料強度を有し、しかも十分な虹ムラの抑制効果が得られる透明導電性フィルム積層体、及びそれを含むタッチパネルを提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a transparent conductive film laminate having sufficient material strength and sufficient rainbow unevenness suppression effect by using a substrate containing polyester, and a touch panel including the same. Is to provide.

本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意検討した結果、ポリエステルを含む基材を使用して、全体の面内位相差値と厚み方向位相差値とを所定の範囲内とすることにより、上記目的を達成し得ることを見出し、本発明に至った。   As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have used a base material containing polyester to bring the entire in-plane retardation value and thickness direction retardation value within a predetermined range. The inventors have found that the above object can be achieved and have reached the present invention.

すなわち、本発明の透明導電性フィルム積層体は、透明導電膜と第一透明樹脂フィルムと接着剤層と第二透明樹脂フィルムとをこの順で有する透明導電性フィルム積層体であって、前記第一透明樹脂フィルムは、二軸延伸されたポリエステル系樹脂フィルムであり、前記第一透明樹脂フィルムと前記第二透明樹脂フィルムの合計の位相差として、面内位相差値が150nm以下、厚み方向位相差値が1100nm以下であることを特徴とする。なお、本発明における各種の物性値は、実施例等において採用する方法により測定される値である。   That is, the transparent conductive film laminate of the present invention is a transparent conductive film laminate having a transparent conductive film, a first transparent resin film, an adhesive layer, and a second transparent resin film in this order, The one transparent resin film is a biaxially stretched polyester-based resin film, and the in-plane retardation value is 150 nm or less as a total retardation of the first transparent resin film and the second transparent resin film. The phase difference value is 1100 nm or less. In addition, the various physical property values in the present invention are values measured by a method employed in Examples and the like.

一般的に、二軸延伸されたポリエステル系樹脂フィルムは、十分な材料強度を有し、安価であるが、面内位相差が1000〜2000nm程度であり、これを透明導電性フィルム積層体の基材に用いると、波長分散によって偏光を非偏光化する効果が不十分となり、虹ムラが生じてしまう。これに対して、本発明のように、二軸延伸されたポリエステル系樹脂フィルムを用いて、合計の位相差としての面内位相差値が150nm以下、厚み方向位相差値が1100nm以下にすることで、実施例の結果が示すように、十分な虹ムラの抑制効果が得られる。   In general, a biaxially stretched polyester-based resin film has sufficient material strength and is inexpensive, but has an in-plane retardation of about 1000 to 2000 nm, which is the basis of a transparent conductive film laminate. When used as a material, the effect of depolarizing polarized light by wavelength dispersion becomes insufficient, resulting in rainbow unevenness. On the other hand, as in the present invention, using a biaxially stretched polyester resin film, the in-plane retardation value as the total retardation is 150 nm or less and the thickness direction retardation value is 1100 nm or less. Thus, as the results of the examples show, a sufficient effect of suppressing rainbow unevenness can be obtained.

その理由の詳細は明確でないが、次のように考えられる。つまり、全体としての面内位相差値が150nm以下であると、直線偏光を円偏光化(楕円偏光化を含む)する作用が生じるが、これが、厚み方向位相差値が1100nm以下であることと相まって、視認方向の広がりに対して色調の変化を抑制できるため、十分な虹ムラの抑制効果が得られると考えられる。   The details of the reason are not clear, but are considered as follows. That is, when the in-plane retardation value as a whole is 150 nm or less, there is an action of circularly polarizing linearly polarized light (including elliptical polarization). This is because the thickness direction retardation value is 1100 nm or less. In combination, it is considered that a sufficient rainbow unevenness suppressing effect can be obtained because the change in the color tone with respect to the spread in the viewing direction can be suppressed.

その結果、本発明の透明導電性フィルム積層体によると、ポリエステルを含む基材を使用することで、十分な材料強度を有し、しかも十分な虹ムラの抑制効果が得られる透明導電性フィルム積層体を提供できる。   As a result, according to the transparent conductive film laminate of the present invention, a transparent conductive film laminate having sufficient material strength and sufficient rainbow unevenness suppression effect can be obtained by using a substrate containing polyester. Can provide the body.

上記において、前記第一透明樹脂フィルムは、面内位相差値が150nm以下、厚み方向位相差値が1100nm以下であることが好ましい。第一透明樹脂フィルムがこのような位相差値を有する場合、第二透明樹脂フィルムとして、光等方性の材料を使用することで、全体として上記のような位相差値を実現することができ、十分な虹ムラの抑制効果が得られ易くなる。   In the above, the first transparent resin film preferably has an in-plane retardation value of 150 nm or less and a thickness direction retardation value of 1100 nm or less. When the first transparent resin film has such a retardation value, the retardation value as described above can be realized as a whole by using an optically isotropic material as the second transparent resin film. Thus, a sufficient effect of suppressing rainbow unevenness can be easily obtained.

また、前記第二透明樹脂フィルムは、ポリシクロオレフィン、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、ポリビニルアルコール、シクロオレフィンコポリマーを含むことが好ましい。このような樹脂は光等方性の材料に分類され、上記のような第一透明樹脂フィルムと共に、全体として上記のような位相差値を実現することができ、十分な虹ムラの抑制効果が得られ易くなる。   The second transparent resin film preferably contains polycycloolefin, polycarbonate, triacetyl cellulose, polyvinyl alcohol, or cycloolefin copolymer. Such resins are classified as light isotropic materials, and together with the first transparent resin film as described above, the above retardation value can be realized as a whole, and a sufficient rainbow unevenness suppressing effect can be achieved. It becomes easy to obtain.

また、前記第一透明樹脂フィルムの厚みが5〜50μmであることが好ましい。このような範囲の厚みであると、面内位相差値が150nm以下、厚み方向位相差値が1100nm以下である、二軸延伸されたポリエステル系樹脂フィルムが、安価に製造し易くなる。また、第二透明樹脂フィルムが積層されることで、十分なハンドリング性が得られる。   Moreover, it is preferable that the thickness of said 1st transparent resin film is 5-50 micrometers. When the thickness is within such a range, a biaxially stretched polyester resin film having an in-plane retardation value of 150 nm or less and a thickness direction retardation value of 1100 nm or less can be easily produced at low cost. Moreover, sufficient handling property is obtained by laminating | stacking a 2nd transparent resin film.

また、前記第一透明樹脂フィルムは、長尺体又は矩形状の枚葉体であり、長辺又は短辺に対して配向軸が10〜45°の角度を有することが好ましい。透明導電性フィルム積層体は、液晶セルなどの矩形の光学表示装置に積層して使用されることが多く、また前記光学表示装置からの光はその長辺に平行又は垂直の偏光であることが多い。このため、本発明では、配向軸が何れかの端辺に対して10〜45°の角度を有することで、偏光に対して10〜45°の角度で遅相軸を配置し易くなり、透明樹脂フィルムにより偏光を円偏光化する作用が大きくなり、十分な虹ムラの抑制効果が得られ易くなる。   The first transparent resin film is a long or rectangular sheet, and the orientation axis is preferably 10 to 45 ° with respect to the long side or the short side. The transparent conductive film laminate is often used by being laminated on a rectangular optical display device such as a liquid crystal cell, and the light from the optical display device may be polarized in parallel or perpendicular to its long side. Many. For this reason, in this invention, it becomes easy to arrange | position a slow axis at an angle of 10-45 degrees with respect to polarization | polarized-light because an orientation axis has an angle of 10-45 degrees with respect to either edge, and it is transparent. The action of circularly polarizing polarized light is increased by the resin film, and a sufficient rainbow unevenness suppressing effect is easily obtained.

また、前記第一透明樹脂フィルムと前記透明導電膜との間には、少なくとも1層の光学調整層を有することが好ましい。光学調整層により屈折率を制御できるため、透明導電膜をパターン化した際のパターン形成部とパターン開口部との反射率差を低減することができ、透明導電膜パターンが見えにくく、タッチパネル等の表示装置において視認性が良好になる。   Moreover, it is preferable to have at least one optical adjustment layer between the first transparent resin film and the transparent conductive film. Since the refractive index can be controlled by the optical adjustment layer, the difference in reflectance between the pattern forming part and the pattern opening when the transparent conductive film is patterned can be reduced, and the transparent conductive film pattern is difficult to see, such as a touch panel. Visibility is improved in the display device.

前記第一透明樹脂フィルム又は前記第二透明樹脂フィルムの少なくとも一方の表面に、硬化樹脂層を有することが好ましい。硬化樹脂層は、搬送時の傷付き等を防止するためのハードコート層として機能し、表面に凹凸を生じさせることでアンチブロッキング層としても機能させることができる。   It is preferable to have a cured resin layer on at least one surface of the first transparent resin film or the second transparent resin film. The cured resin layer functions as a hard coat layer for preventing scratches during transportation, and can also function as an anti-blocking layer by generating irregularities on the surface.

一方、本発明のタッチパネルは、本発明の透明導電性フィルム積層体を用いて得られることを特徴とする。本発明の透明導電性フィルム積層体を用いることにより、十分な材料強度を有し、しかも十分な虹ムラの抑制効果が得られるタッチパネルを提供することができる。   On the other hand, the touch panel of the present invention is obtained using the transparent conductive film laminate of the present invention. By using the transparent conductive film laminate of the present invention, it is possible to provide a touch panel having sufficient material strength and sufficient rainbow unevenness suppression effect.

本発明の一実施形態に係る透明導電性フィルム積層体の模式的断面図である。It is a typical sectional view of the transparent conductive film layered product concerning one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に係る透明導電性フィルム積層体の模式的断面図である。It is a typical sectional view of the transparent conductive film layered product concerning one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に係る透明導電性フィルム積層体の模式的断面図である。It is a typical sectional view of the transparent conductive film layered product concerning one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に係る透明導電性フィルム積層体の模式的断面図である。It is a typical sectional view of the transparent conductive film layered product concerning one embodiment of the present invention.

<積層体の構造>
本発明の透明導電性フィルム積層体は、図1〜図3に示すように、透明導電膜6と第一透明樹脂フィルム4と接着剤層8と第二透明樹脂フィルム9とをこの順で有するを有するものであり、第一透明樹脂フィルム4と透明導電膜6との間には、少なくとも1層の光学調整層7を有することが好ましい。また、図2〜図3に示すように、第一透明樹脂フィルム4又は第二透明樹脂フィルム9の少なくとも一方の表面に、アンチブロッキング層3やハードコート層5などの硬化樹脂層を有していてもよい。更に、透明導電性フィルム積層体は、図4に示すように、第二透明樹脂フィルム9の透明導電膜6が設けられていない面側に、粘着剤層2と保護フィルム1とをこの順で有していてもよく、その場合、キャリアフィルム10が、粘着剤層2と保護フィルム1とから構成されている。
<Structure of laminate>
The transparent conductive film laminated body of this invention has the transparent conductive film 6, the 1st transparent resin film 4, the adhesive bond layer 8, and the 2nd transparent resin film 9 in this order, as shown in FIGS. It is preferable to have at least one optical adjustment layer 7 between the first transparent resin film 4 and the transparent conductive film 6. In addition, as shown in FIGS. 2 to 3, at least one surface of the first transparent resin film 4 or the second transparent resin film 9 has a cured resin layer such as the anti-blocking layer 3 or the hard coat layer 5. May be. Further, as shown in FIG. 4, the transparent conductive film laminate has the pressure-sensitive adhesive layer 2 and the protective film 1 in this order on the side of the second transparent resin film 9 where the transparent conductive film 6 is not provided. In this case, the carrier film 10 is composed of the pressure-sensitive adhesive layer 2 and the protective film 1.

(第一透明樹脂フィルム)
第一透明樹脂フィルムとしては、二軸延伸されたポリエステル系樹脂フィルムが用いられる。「二軸延伸された」とは、少なくとも2方向にフィルムの延伸が行われていることを指し、2方向延伸は同時又は逐次の何れでもよい。
(First transparent resin film)
As the first transparent resin film, a biaxially stretched polyester resin film is used. “Biaxially stretched” means that the film is stretched in at least two directions, and the bi-directional stretching may be simultaneous or sequential.

ポリエステル系樹脂としては、ポリエステル、変性ポリエステル、およびそれらのブレンドから選択されるポリエステル系樹脂が挙げられる。ポリエステルとしては、例えば、カルボン酸成分とポリオール成分との縮合重合により得たものを使用することができる。   Examples of the polyester resin include polyester resins selected from polyester, modified polyester, and blends thereof. As the polyester, for example, a polyester obtained by condensation polymerization of a carboxylic acid component and a polyol component can be used.

カルボン酸成分としては、芳香族ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸が挙げられる。芳香族ジカルボン酸としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、ベンジルマロン酸、1,4−ナフタール酸、ジフェニン酸、4,4′−オキシ安息香酸、2,5−ナフタレンジカルボン酸が挙げられる。脂肪族ジカルボン酸としては、例えば、マロン酸、ジメチルマロン酸、コハク酸、グルタール酸、アジピン酸、トリメチルアジピン酸、ピメリン酸、2,2−ジメチルグルタール酸、アゼライン酸、ゼバシン酸、フマール酸、マレイン酸、イタコン酸、チオジプロピオン酸、ジグリコール酸が挙げられる。脂環族ジカルボン酸としては、例えば、1,3−シクロペンタンジカルボン酸、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、1,3−シクロペンタンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、2,5−ノルボルナンジカルボン酸、アダマンタンジカルボン酸が挙げられる。カルボン酸成分は、エステル、塩化物、酸無水物のような誘導体であってもよく、例えば、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸ジメチル、2,6−ナフタレンジカルボン酸ジメチル、イソフタル酸ジメチル、テレフタル酸ジメチルおよびテレフタル酸ジフェニルを含む。カルボン酸成分は、単独で用いてもよく2種以上を併用してもよい。   Examples of the carboxylic acid component include aromatic dicarboxylic acids, aliphatic dicarboxylic acids, and alicyclic dicarboxylic acids. Examples of the aromatic dicarboxylic acid include terephthalic acid, isophthalic acid, benzylmalonic acid, 1,4-naphthalic acid, diphenic acid, 4,4′-oxybenzoic acid, and 2,5-naphthalenedicarboxylic acid. Examples of the aliphatic dicarboxylic acid include malonic acid, dimethylmalonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, trimethyladipic acid, pimelic acid, 2,2-dimethylglutaric acid, azelaic acid, zebacic acid, fumaric acid, Maleic acid, itaconic acid, thiodipropionic acid, diglycolic acid are mentioned. Examples of the alicyclic dicarboxylic acid include 1,3-cyclopentane dicarboxylic acid, 1,2-cyclohexane dicarboxylic acid, 1,3-cyclopentane dicarboxylic acid, 1,4-cyclohexane dicarboxylic acid, and 2,5-norbornane dicarboxylic acid. Examples include acids and adamantane dicarboxylic acids. The carboxylic acid component may be a derivative such as ester, chloride, or acid anhydride. For example, dimethyl 1,4-cyclohexanedicarboxylate, dimethyl 2,6-naphthalenedicarboxylate, dimethyl isophthalate, dimethyl terephthalate And diphenyl terephthalate. A carboxylic acid component may be used independently and may use 2 or more types together.

ポリオール成分としては、代表的には二価アルコールが挙げられる。二価アルコールとしては、脂肪族ジオール、脂環族ジオール、芳香族ジオールが挙げられる。脂肪族ジオールとしては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、2,4−ジメチル−2−エチルヘキサン−1,3−ジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール(ネオペンチルグリコール)、2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、2−エチル−2−イソブチル−1,3−プロパンジオール、1,3−ブタジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、2,2,4−トリメチル−1,6−ヘキサンジオールが挙げられる。脂環族ジオールとしては、例えば、1,2−シクロヘキサンジメタノール、1,3−シクロヘキサンジメタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、スピログリコール、トリシクロデカンジメタノール、アダマンタンジオール、2,2,4,4−テトラメチル−1,3−シクロブタンジオールが挙げられる。芳香族ジオールとしては、例えば、4,4′−チオジフェノール、4,4′−メチレンジフェノール、4,4′−(2−ノルボルニリデン)ジフェノール、4,4′−ジヒドロキシビフェノール、o−,m−およびp−ジヒドロキシベンゼン、4,4′−イソプロピリデンフェノール、4,4′−イソプロピリデンビス(2,6−シクロロフェノール)2,5−ナフタレンジオールおよびp−キシレンジオールが挙げられる。ポリオール成分は、単独で用いてもよく2種以上を併用してもよい。   A typical example of the polyol component is a dihydric alcohol. Examples of the dihydric alcohol include aliphatic diols, alicyclic diols, and aromatic diols. Examples of the aliphatic diol include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, 1,3-propanediol, 2,4-dimethyl-2-ethylhexane-1,3-diol, 2, 2-dimethyl-1,3-propanediol (neopentyl glycol), 2-ethyl-2-butyl-1,3-propanediol, 2-ethyl-2-isobutyl-1,3-propanediol, 1,3- Examples include butadiol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, and 2,2,4-trimethyl-1,6-hexanediol. It is done. Examples of the alicyclic diol include 1,2-cyclohexanedimethanol, 1,3-cyclohexanedimethanol, 1,4-cyclohexanedimethanol, spiroglycol, tricyclodecane dimethanol, adamantanediol, 2,2,4 , 4-tetramethyl-1,3-cyclobutanediol. Examples of the aromatic diol include 4,4'-thiodiphenol, 4,4'-methylenediphenol, 4,4 '-(2-norbornylidene) diphenol, 4,4'-dihydroxybiphenol, o-, m- and p-dihydroxybenzene, 4,4'-isopropylidenephenol, 4,4'-isopropylidenebis (2,6-cyclophenol) 2,5-naphthalenediol and p-xylenediol. A polyol component may be used independently and may use 2 or more types together.

好ましいカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、2,5−ナフタレンジカルボン酸が挙げられる。好ましいポリオール成分としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,3−シクロヘキサンジメタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノールが挙げられる。   Preferred carboxylic acid components include terephthalic acid, isophthalic acid, and 2,5-naphthalenedicarboxylic acid. Preferred polyol components include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, 1,4-butanediol, 1,3-cyclohexanedimethanol, and 1,4-cyclohexanedimethanol.

ポリエステルの構造は、以上のようなモノマーの組合せにより決定される。したがって、好ましいポリエステル系樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ならびに、これらの共重合体、ブレンドおよび変性体が挙げられる。   The structure of the polyester is determined by the combination of monomers as described above. Accordingly, preferred polyester resins include, for example, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), polyethylene naphthalate (PEN), polycyclohexylene terephthalate, and copolymers, blends and modified products thereof. It is done.

このようなポリエステル系樹脂を用い、かつ、斜め延伸を含む製造方法を適用することにより、好ましい面内位相差と配向軸の方向を有し、かつ、より優れた軸精度を有する第一透明樹脂フィルムを得ることができる。   By using such a polyester resin and applying a production method including oblique stretching, a first transparent resin having a preferable in-plane retardation and an orientation axis direction and having a superior axial accuracy. A film can be obtained.

本発明では、ポリエステル系樹脂が、シクロヘキサンジメタノール由来の繰り返し単位を含む変性PETであってもよい。この場合、ポリオール成分におけるシクロヘキサンジメタノールの割合は、好ましくは0モル%を超えて10モル%以下であり、より好ましくは0モル%を超えて3モル%以下である。また、ポリエステル系樹脂は、イソフタル酸由来の繰り返し単位を含む変性PETであり得る。この場合、カルボン酸成分におけるイソフタル酸の割合は、好ましくは0モル%を超えて20モル%以下であり、より好ましくは0モル%を超えて10モル%以下である。なお、これらの実施形態を組み合わせてもよいことは言うまでもない。   In the present invention, the polyester resin may be a modified PET containing a repeating unit derived from cyclohexanedimethanol. In this case, the ratio of cyclohexanedimethanol in the polyol component is preferably more than 0 mol% and 10 mol% or less, more preferably more than 0 mol% and 3 mol% or less. The polyester-based resin may be a modified PET containing a repeating unit derived from isophthalic acid. In this case, the proportion of isophthalic acid in the carboxylic acid component is preferably more than 0 mol% and 20 mol% or less, more preferably more than 0 mol% and 10 mol% or less. Needless to say, these embodiments may be combined.

第一透明樹脂フィルムは、二軸延伸された長尺状のフィルム(長尺体)として製造される。本明細書において「長尺状」とは、幅に対する長さの比が10以上の細長形状をいう。第一透明樹脂フィルムの幅に対する長さの比は、好ましくは30以上であり、より好ましくは100以上である。1つの実施形態においては、第一透明樹脂フィルムはロール状に巻回されている長尺体であり、また、別の実施形態においては、第一透明樹脂フィルムは矩形状の枚葉体である。   The first transparent resin film is produced as a biaxially stretched long film (long body). In the present specification, the “long shape” refers to an elongated shape having a ratio of length to width of 10 or more. The ratio of the length to the width of the first transparent resin film is preferably 30 or more, more preferably 100 or more. In one embodiment, the first transparent resin film is a long body wound in a roll shape, and in another embodiment, the first transparent resin film is a rectangular sheet. .

第一透明樹脂フィルムは、その配向軸が、長辺又は短辺に対して10〜45°の角度を有することが好ましく、20〜45°の角度がより好ましく、30〜45°の角度が最も好ましい。なお、本発明の透明導電性フィルム積層体は、第一透明樹脂フィルムの配向軸が、表示装置から出射される直線偏光の振動方向に対して、10〜80°の角度で配置されることが好ましく、20〜70°の角度で配置されることがより好ましく、30〜60°の角度で配置されることが更に好ましい。   The orientation axis of the first transparent resin film preferably has an angle of 10 to 45 ° with respect to the long side or the short side, more preferably 20 to 45 °, and most preferably 30 to 45 °. preferable. In the transparent conductive film laminate of the present invention, the orientation axis of the first transparent resin film is disposed at an angle of 10 to 80 ° with respect to the vibration direction of the linearly polarized light emitted from the display device. Preferably, it is arranged at an angle of 20 to 70 °, more preferably at an angle of 30 to 60 °.

このため、長尺状のフィルムの遅相軸の方向がフィルムの幅方向の全域にわたって長尺方向に対して30°〜60°の範囲、好ましくは38°〜52°の範囲、より好ましくは43°〜47°の範囲にあり、さらに好ましくは遅相軸方向が長尺方向に対して45°程度の角度をなしている。第一透明樹脂フィルムは、斜め延伸を含む製造方法を適用することにより、優れた軸精度で斜め方向に遅相軸を有する第一透明樹脂フィルムを得ることができる。   For this reason, the direction of the slow axis of the long film is in the range of 30 ° to 60 °, preferably in the range of 38 ° to 52 °, more preferably 43 over the entire width direction of the film. More preferably, the slow axis direction forms an angle of about 45 ° with respect to the longitudinal direction. The first transparent resin film can be obtained as a first transparent resin film having a slow axis in an oblique direction with excellent axial accuracy by applying a production method including oblique stretching.

第一透明樹脂フィルムの面内位相差R0は、虹ムラの抑制効果をより高める観点から、好ましくは0〜150nmであり、より好ましくは10〜130nmであり、更に好ましくは20〜110nmである。   The in-plane retardation R0 of the first transparent resin film is preferably 0 to 150 nm, more preferably 10 to 130 nm, and still more preferably 20 to 110 nm, from the viewpoint of further enhancing the effect of suppressing rainbow unevenness.

ここで、面内位相差R0は、23℃における波長590nmの光で測定したフィルムの面内位相差である。R0は、フィルムの厚みをd(nm)としたとき、式:R0=(nx−ny)×dによって求められる。ここで、nxは面内の屈折率が最大になる方向(すなわち、遅相軸方向)の屈折率であり、nyは面内で遅相軸と直交する方向の屈折率である。   Here, the in-plane retardation R0 is an in-plane retardation of the film measured with light having a wavelength of 590 nm at 23 ° C. R0 is determined by the formula: R0 = (nx−ny) × d, where d (nm) is the thickness of the film. Here, nx is the refractive index in the direction in which the in-plane refractive index is maximum (that is, the slow axis direction), and ny is the refractive index in the direction perpendicular to the slow axis in the plane.

第一透明樹脂フィルムの厚み方向位相差Rthは、虹ムラの抑制効果をより高めると共に、十分な強度を得る観点から、好ましくは1100nm以下であり、より好ましくは350〜950nmであり、更に好ましくは400〜900nmである。   The thickness direction retardation Rth of the first transparent resin film is preferably 1100 nm or less, more preferably 350 to 950 nm, and still more preferably from the viewpoint of further enhancing the effect of suppressing rainbow unevenness and obtaining sufficient strength. 400-900 nm.

ここで、厚み方向位相差Rthは、23℃における波長590nmの光で測定したフィルムの厚み方向位相差である。Rthは、フィルムの厚みをd(nm)としたとき、式:Rth=(nx−nz)×dによって求められる。ここで、nxは面内の屈折率が最大になる方向(すなわち、遅相軸方向)の屈折率であり、nzは厚み方向の屈折率である。   Here, the thickness direction retardation Rth is the thickness direction retardation of the film measured with light having a wavelength of 590 nm at 23 ° C. Rth is determined by the formula: Rth = (nx−nz) × d, where d (nm) is the thickness of the film. Here, nx is the refractive index in the direction in which the in-plane refractive index is maximum (that is, the slow axis direction), and nz is the refractive index in the thickness direction.

本発明では、位相差の比R0/Rthも重要であり、虹ムラの抑制効果をより高めると共に、十分な強度を得る観点から、位相差の比R0/Rthは、0.01〜0.5が好ましく、0.02〜0.47がより好ましく、0.04〜0.45が更に好ましい。   In the present invention, the phase difference ratio R0 / Rth is also important. From the viewpoint of enhancing the effect of suppressing rainbow unevenness and obtaining sufficient strength, the phase difference ratio R0 / Rth is 0.01 to 0.5. Is preferable, 0.02-0.47 is more preferable, and 0.04-0.45 is still more preferable.

第一透明樹脂フィルムは、80℃で240時間加熱後の寸法収縮率が好ましくは2.0%以下であり、より好ましくは1.0%以下である。   The first transparent resin film preferably has a dimensional shrinkage after heating at 80 ° C. for 240 hours of 2.0% or less, more preferably 1.0% or less.

第一透明樹脂フィルムは、X線回折法(XRD)で測定される結晶化度が好ましくは25%以上であり、より好ましくは30%以上である。結晶化度の上限は、例えば70%である。結晶化度がこのような範囲であれば、延伸後のフィルムを加熱した際にフィルムが収縮せず、また、位相差や配向角などの光学特性が変化し難いという利点がある。   The first transparent resin film preferably has a crystallinity measured by X-ray diffraction (XRD) of 25% or more, more preferably 30% or more. The upper limit of the crystallinity is, for example, 70%. When the crystallinity is in such a range, there is an advantage that the film does not shrink when the stretched film is heated, and optical properties such as retardation and orientation angle are hardly changed.

第一透明樹脂フィルムの厚みは、上記のような面内位相差と厚み方向位相差とを得ると共に、ハンドリング性を高める観点から、5〜50μmが好ましく、7μm〜40μmがより好ましく、10〜30μmが更に好ましい。   The thickness of the first transparent resin film is preferably 5 to 50 μm, more preferably 7 to 40 μm, and more preferably 10 to 30 μm from the viewpoint of obtaining the in-plane retardation and the thickness direction retardation as described above and enhancing the handling property. Is more preferable.

ポリエステル系樹脂のガラス転移温度は、好ましくは65℃〜80℃であり、より好ましくは70℃〜75℃である。ガラス転移温度が過度に低いと、所望の寸法収縮率が得られない場合がある。ガラス転移温度が過度に高いと、フィルム成形時の成形安定性が悪くなる場合があり、また、フィルムの透明性を損なう場合がある。なお、ガラス転移温度は、JIS K 7121(1987)に準じて求められる。   The glass transition temperature of the polyester resin is preferably 65 ° C to 80 ° C, more preferably 70 ° C to 75 ° C. If the glass transition temperature is too low, the desired dimensional shrinkage rate may not be obtained. If the glass transition temperature is excessively high, the molding stability at the time of film molding may deteriorate, and the transparency of the film may be impaired. The glass transition temperature is determined according to JIS K 7121 (1987).

ポリエステル系樹脂の重量平均分子量は、好ましくは10000〜100000であり、より好ましくは15000〜50000である。このような重量平均分子量であれば、成形時の取り扱いが容易であり、かつ、優れた機械的強度を有するフィルムが得られ得る。   The weight average molecular weight of the polyester resin is preferably 10,000 to 100,000, more preferably 15,000 to 50,000. If it is such a weight average molecular weight, the handling at the time of shaping | molding is easy, and the film which has the outstanding mechanical strength can be obtained.

ポリエステル系樹脂は、任意の適切な方法によりフィルムに成形され得る。得られたポリエステル系樹脂フィルムは、縦および横の二軸に延伸する方法で、二軸延伸フィルムとすることができる。その際、特開2015−72376号公報に開示されているように、斜め延伸を含む製造方法に供することにより、斜め方向に配向軸を有する第一透明樹脂フィルムを好適に得ることができる。   The polyester resin can be formed into a film by any appropriate method. The obtained polyester resin film can be made into a biaxially stretched film by a method of stretching biaxially and horizontally. At that time, as disclosed in JP-A-2015-72376, a first transparent resin film having an orientation axis in an oblique direction can be suitably obtained by using a production method including oblique stretching.

つまり、延伸対象のフィルムの左右端部を、それぞれ、縦方向のクリップピッチが変化する可変ピッチ型の左右のクリップによって把持すること(工程A:把持工程);該フィルムを予熱すること(工程B:予熱工程);該左右のクリップのクリップピッチをそれぞれ独立して変化させて、該フィルムを斜め延伸すること(工程C:延伸工程);必要に応じて、該左右のクリップのクリップピッチを一定とした状態で、該フィルムを熱処理して結晶化させること(工程D:結晶化工程);および、該フィルムを把持するクリップを解放すること(工程E:解放工程);を含む、斜め延伸を含む製造方法により、本発明で使用する第一透明樹脂フィルムを好適に製造することができる。   That is, the left and right end portions of the film to be stretched are each gripped by variable pitch type left and right clips whose longitudinal clip pitches change (step A: gripping step); the film is preheated (step B) : Preheating step); changing the clip pitch of the left and right clips independently and stretching the film diagonally (step C: stretching step); if necessary, the clip pitch of the left and right clips is constant In this state, the film is heat-treated to be crystallized (step D: crystallization step); and a clip that holds the film is released (step E: release step); By the manufacturing method containing, the 1st transparent resin film used by this invention can be manufactured suitably.

第一透明樹脂フィルムには、表面に予めスパッタリング、コロナ放電、火炎、紫外線照射、電子線照射、化成、酸化などのエッチング処理や下塗り処理(易接着層)を施して、第一透明樹脂フィルム上に形成される光学調整層、硬化樹脂層、透明導電膜等との密着性を向上させるようにしてもよい。また、光学調整層等を形成する前に、必要に応じて溶剤洗浄や超音波洗浄などにより、第一透明樹脂フィルム表面を除塵、清浄化してもよい。   The first transparent resin film is subjected to an etching process such as sputtering, corona discharge, flame, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, chemical conversion, oxidation, and undercoating (adhesive layer) on the first transparent resin film in advance. You may make it improve adhesiveness with the optical adjustment layer, cured resin layer, transparent conductive film, etc. which are formed in this. Moreover, before forming an optical adjustment layer etc., you may remove and clean the surface of a 1st transparent resin film by solvent washing | cleaning, ultrasonic washing | cleaning, etc. as needed.

(第二透明樹脂フィルム)   (Second transparent resin film)

第二透明樹脂フィルムとしては、第一透明樹脂フィルムとの関係で、合計の位相差が所定の範囲内になるものであれば、透明性を有する各種のプラスチックフィルムをいずれも使用することができる。   As the second transparent resin film, any of various plastic films having transparency can be used as long as the total retardation is within a predetermined range in relation to the first transparent resin film. .

当該プラスチックフィルムの材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリシクロオレフィン、ポリアセテート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、ポリアミド、ポリイミド、(メタ)アクリル系ポリマー、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、ポリアリレート、ポリフェニレンサルファイド等が挙げられる。これら材料の中でも、スパッタリング時の耐熱性や、合計の位相差が所定の範囲内にする観点から、ポリシクロオレフィン、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、ポリビニルアルコール、シクロオレフィンコポリマーを用いることが好ましい。つまり、第二透明樹脂フィルムとしては、光等方性の材料を含むことが好ましい。   Examples of the plastic film material include polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polycycloolefin, polyacetate, polyethersulfone, polycarbonate, triacetylcellulose, polyamide, polyimide, (meth) acrylic polymer, polychlorinated Examples include vinyl, polyvinylidene chloride, polystyrene, polyvinyl alcohol, polyarylate, polyphenylene sulfide, and the like. Among these materials, it is preferable to use polycycloolefin, polycarbonate, triacetyl cellulose, polyvinyl alcohol, and cycloolefin copolymer from the viewpoint of heat resistance during sputtering and total retardation within a predetermined range. That is, the second transparent resin film preferably contains a light isotropic material.

第二透明樹脂フィルムは、その遅相軸を、第一透明樹脂フィルムの遅相軸に直交させることで、第一透明樹脂フィルムの面内位相差R0より合計の面内位相差R0を小さくすることができ、その値は、第一透明樹脂フィルムの面内位相差R0と第一透明樹脂フィルムの面内位相差R0との差となる。また、同様に、斜め方向に両者の遅相軸を配置することによっても、合計の面内位相差R0を小さくすることができるが、両者の遅相軸を直交させる場合が最小の面内位相差となる。   By making the slow axis of the second transparent resin film perpendicular to the slow axis of the first transparent resin film, the total in-plane retardation R0 is made smaller than the in-plane retardation R0 of the first transparent resin film. The value is the difference between the in-plane retardation R0 of the first transparent resin film and the in-plane retardation R0 of the first transparent resin film. Similarly, by arranging both slow axes in an oblique direction, the total in-plane phase difference R0 can be reduced, but the case where both slow axes are orthogonal is the smallest in-plane position. It becomes a phase difference.

このため、合計の位相差が所定の範囲内にする観点から、両者の遅相軸を配置する角度は、45〜90°が好ましく、80〜90°がより好ましく、90°が最も好ましい。   For this reason, from the viewpoint of bringing the total phase difference within a predetermined range, the angle at which both slow axes are arranged is preferably 45 to 90 °, more preferably 80 to 90 °, and most preferably 90 °.

また、このような両者の遅相軸の配置を考慮しつつ、合計の位相差が所定の範囲内にする観点から、第二透明樹脂フィルムの面内位相差R0は、好ましくは0〜300nmであり、より好ましくは10〜260nmであり、更に好ましくは20〜220nmである。   Further, in consideration of the arrangement of the slow axes of both, the in-plane retardation R0 of the second transparent resin film is preferably 0 to 300 nm from the viewpoint of making the total retardation within a predetermined range. More preferably, it is 10-260 nm, More preferably, it is 20-220 nm.

第二透明樹脂フィルムの厚み方向位相差Rthは、虹ムラの抑制効果をより高めると共に、十分な強度を得る観点から、好ましくは0〜200nmであり、より好ましくは5〜150nmであり、更に好ましくは10〜100nmである。なお、合計の厚み方向位相差Rthを低減する観点から、負の位相差Rthを有する第二透明樹脂フィルムを使用することも可能である。なお、合計の厚み方向位相差Rthは、遅相軸の配置角度に関係なく、両者の位相差Rthの和で決定される。   The thickness direction retardation Rth of the second transparent resin film is preferably 0 to 200 nm, more preferably 5 to 150 nm, and still more preferably from the viewpoint of further enhancing the effect of suppressing rainbow unevenness and obtaining sufficient strength. Is 10 to 100 nm. In addition, it is also possible to use the 2nd transparent resin film which has negative phase difference Rth from a viewpoint of reducing total thickness direction phase difference Rth. The total thickness direction phase difference Rth is determined by the sum of both phase differences Rth irrespective of the arrangement angle of the slow axis.

第二透明樹脂フィルムの厚みは、上記のような面内位相差と厚み方向位相差とを得ると共に、ハンドリング性を高める観点から、30〜200μmが好ましく、50〜180μmがより好ましく、70〜160μmが更に好ましい。   The thickness of the second transparent resin film is preferably 30 to 200 μm, more preferably 50 to 180 μm, and more preferably 70 to 160 μm from the viewpoint of obtaining the in-plane retardation and the thickness direction retardation as described above and enhancing the handling property. Is more preferable.

第二透明樹脂フィルムには、表面に予めスパッタリング、コロナ放電、火炎、紫外線照射、電子線照射、化成、酸化などのエッチング処理や下塗り処理(易接着層)を施して、第一透明樹脂フィルム上に形成される光学調整層、硬化樹脂層、透明導電膜等との密着性を向上させるようにしてもよい。また、光学調整層等を形成する前に、必要に応じて溶剤洗浄や超音波洗浄などにより、第一透明樹脂フィルム表面を除塵、清浄化してもよい。   The second transparent resin film is subjected to etching treatment such as sputtering, corona discharge, flame, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, chemical conversion, oxidation, and undercoating treatment (adhesive layer) on the first transparent resin film in advance. You may make it improve adhesiveness with the optical adjustment layer, cured resin layer, transparent conductive film, etc. which are formed in this. Moreover, before forming an optical adjustment layer etc., you may remove and clean the surface of a 1st transparent resin film by solvent washing | cleaning, ultrasonic washing | cleaning, etc. as needed.

(合計の位相差)
本発明では、前記第一透明樹脂フィルムと前記第二透明樹脂フィルムの合計の位相差としての面内位相差R0は、0〜150nmであり、虹ムラの抑制効果をより高める観点から、より好ましくは10〜130nmであり、更に好ましくは20〜110nmである。ここで、合計の位相差は、第一透明樹脂フィルムの遅相軸と第二透明樹脂フィルムの積層体の面内位相差R0を測定することによって決定される。
(Total phase difference)
In the present invention, the in-plane retardation R0 as the total retardation of the first transparent resin film and the second transparent resin film is 0 to 150 nm, and is more preferable from the viewpoint of further enhancing the effect of suppressing rainbow unevenness. Is 10 to 130 nm, more preferably 20 to 110 nm. Here, the total retardation is determined by measuring the in-plane retardation R0 of the laminate of the slow axis of the first transparent resin film and the second transparent resin film.

前記第一透明樹脂フィルムと前記第二透明樹脂フィルムの合計の位相差としての厚み方向位相差Rthは、1100nm以下であり、虹ムラの抑制効果をより高めると共に、十分な強度を得る観点から、より好ましくは400〜950nmであり、更に好ましくは
350〜900nmである。
The thickness direction retardation Rth as the total retardation of the first transparent resin film and the second transparent resin film is 1100 nm or less, and from the viewpoint of obtaining a sufficient strength while further enhancing the effect of suppressing rainbow unevenness, More preferably, it is 400-950 nm, More preferably, it is 350-900 nm.

本発明では、前記第一透明樹脂フィルムと前記第二透明樹脂フィルムの合計の位相差としての位相差の比R0/Rthも重要であり、虹ムラの抑制効果をより高めると共に、十分な強度を得る観点から、位相差の比R0/Rthは、0.01〜0.5が好ましく、0.02〜0.47がより好ましく0.04〜0.45が更に好ましい。   In the present invention, the ratio R0 / Rth of the retardation as the total retardation of the first transparent resin film and the second transparent resin film is also important, and the effect of suppressing rainbow unevenness is further enhanced and sufficient strength is obtained. From the viewpoint of obtaining, the phase difference ratio R0 / Rth is preferably 0.01 to 0.5, more preferably 0.02 to 0.47, and still more preferably 0.04 to 0.45.

(接着剤層)
接着剤層は、活性エネルギー線硬化型、熱硬化型、自然硬化型などの硬化型接着剤、又は感圧型接着剤(粘着剤)により形成することができるが、活性エネルギー線硬化型接着剤を使用するのが好ましい。なお、感圧型接着剤としては、後述する粘着剤を使用することができる。
(Adhesive layer)
The adhesive layer can be formed of a curable adhesive such as an active energy ray curable type, a thermosetting type or a natural curable type, or a pressure sensitive adhesive (adhesive). It is preferred to use. In addition, as a pressure sensitive adhesive, the adhesive mentioned later can be used.

活性エネルギー線硬化型接着剤層の形成には、例えば、ラジカル硬化型接着剤が好適に用いられる。ラジカル硬化型接着剤としては、電子線硬化型、紫外線硬化型等の活性エネルギー線硬化型の接着剤を例示できる。特に短時間で硬化可能な、活性エネルギー線硬化型が好ましく、さらには低エネルギーで硬化可能な紫外線硬化型接着剤が好ましい。   For the formation of the active energy ray curable adhesive layer, for example, a radical curable adhesive is suitably used. Examples of the radical curable adhesive include active energy ray curable adhesives such as an electron beam curable type and an ultraviolet curable type. In particular, an active energy ray curable adhesive that can be cured in a short time is preferable, and an ultraviolet curable adhesive that can be cured with low energy is more preferable.

紫外線硬化型接着剤としては、大きくラジカル重合硬化型接着剤とカチオン重合型接着剤に区分出来る。その他、ラジカル重合硬化型接着剤は熱硬化型接着剤として用いることができる。   The ultraviolet curable adhesive can be roughly classified into a radical polymerization curable adhesive and a cationic polymerization adhesive. In addition, the radical polymerization curable adhesive can be used as a thermosetting adhesive.

ラジカル重合硬化型接着剤の硬化性成分としては、(メタ)アクリロイル基を有する化合物、ビニル基を有する化合物が挙げられる。これら硬化性成分は、単官能または二官能以上のいずれも用いることができる。またこれら硬化性成分は、1種を単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。これら硬化性成分としては、例えば、(メタ)アクリロイル基を有する化合物が好適である。   Examples of the curable component of the radical polymerization curable adhesive include a compound having a (meth) acryloyl group and a compound having a vinyl group. These curable components may be monofunctional or bifunctional or higher. Moreover, these curable components can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. As these curable components, for example, compounds having a (meth) acryloyl group are suitable.

(メタ)アクリロイル基を有する化合物としては、具体的には例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、2−メチル−2−ニトロプロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、s−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、n−ペンチル(メタ)アクリレート、t−ペンチル(メタ)アクリレート、3−ペンチル(メタ)アクリレート、2,2−ジメチルブチル(メタ)アクリレート、n−ヘキシル(メタ)アクリレート、セチル(メタ)アクリレート、n−オクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、4−メチル−2−プロピルペンチル(メタ)アクリレート、n−オクタデシル(メタ)アクリレートなどの(メタ)アクリル酸(炭素数1−20)アルキルエステル類が挙げられる。   Specific examples of the compound having a (meth) acryloyl group include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, and 2-methyl-2-nitro. Propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, s-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, n-pentyl (meth) acrylate, t-pentyl (meth) Acrylate, 3-pentyl (meth) acrylate, 2,2-dimethylbutyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, cetyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate 4-methyl-2- Ropirupenchiru (meth) acrylate, n- octadecyl (meth) (meth) acrylic acid (1-20 carbon atoms) such as acrylates alkyl esters.

また、(メタ)アクリロイル基を有する化合物としては、例えば、シクロアルキル(メタ)アクリレート(例えば、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、シクロペンチル(メタ)アクリレートなど)、アラルキル(メタ)アクリレート(例えば、ベンジル(メタ)アクリレートなど)、多環式(メタ)アクリレート(例えば、2−イソボルニル(メタ)アクリレート、2−ノルボルニルメチル(メタ)アクリレート、5−ノルボルネン−2−イル−メチル(メタ)アクリレート、3−メチル−2−ノルボルニルメチル(メタ)アクリレートなど)、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリル酸エステル類(例えば、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2,3−ジヒドロキシプロピルメチル−ブチル(メタ)メタクリレートなど)、アルコキシ基またはフェノキシ基含有(メタ)アクリル酸エステル類(2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート、2−メトキシメトキシエチル(メタ)アクリレート、3−メトキシブチル(メタ)アクリレート、エチルカルビトール(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレートなど)、エポキシ基含有(メタ)アクリル酸エステル類(例えば、グリシジル(メタ)アクリレートなど)、ハロゲン含有(メタ)アクリル酸エステル類(例えば、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルエチル(メタ)アクリレート、テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、ヘキサフルオロプロピル(メタ)アクリレート、オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル(メタ)アクリレートなど)、アルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート(例えば、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレートなど)等が挙げられる。   Examples of the compound having a (meth) acryloyl group include cycloalkyl (meth) acrylate (for example, cyclohexyl (meth) acrylate, cyclopentyl (meth) acrylate, etc.), aralkyl (meth) acrylate (for example, benzyl (meth)). Acrylates), polycyclic (meth) acrylates (for example, 2-isobornyl (meth) acrylate, 2-norbornylmethyl (meth) acrylate, 5-norbornen-2-yl-methyl (meth) acrylate, 3-methyl 2-norbornylmethyl (meth) acrylate, etc.), hydroxyl group-containing (meth) acrylic acid esters (eg, hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2,3-dihydroxypropylmethyl) Butyl (meth) methacrylate), alkoxy group or phenoxy group-containing (meth) acrylic acid esters (2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 2-methoxymethoxyethyl (meth) acrylate), 3-methoxybutyl (meth) acrylate, ethyl carbitol (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, etc.), epoxy group-containing (meth) acrylic acid esters (for example, glycidyl (meth) acrylate, etc.), halogen-containing ( (Meth) acrylic acid esters (for example, 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,2-trifluoroethylethyl (meth) acrylate, tetrafluoropropyl (meth) acrylate, hexafluoropro) Le (meth) acrylate, octafluoropentyl (meth) acrylate, heptadecafluorodecyl (meth) acrylate), alkylaminoalkyl (meth) acrylates (e.g., dimethylaminoethyl (meth) acrylate, etc.) and the like.

また、前記以外の(メタ)アクリロイル基を有する化合物としては、ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−メトキシメチルアクリルアミド(SP値22.9)、N−エトキシメチルアクリルアミド、(メタ)アクリルアミド等のアミド基含有モノマー等が挙げられる。また、アクリロイルモルホリン等の窒素含有モノマー等が挙げられる。   Moreover, as a compound which has (meth) acryloyl group other than the above, hydroxyethyl acrylamide, N-methylol acrylamide, N-methoxymethyl acrylamide (SP value 22.9), N-ethoxymethyl acrylamide, (meth) acrylamide, etc. Examples thereof include amide group-containing monomers. Moreover, nitrogen-containing monomers, such as acryloyl morpholine, etc. are mentioned.

また、前記ラジカル重合硬化型接着剤の硬化性成分としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基等の重合性二重結合を複数個有する化合物を例示することができ、当該化合物は、架橋成分として接着剤成分に混合することもできる。かかる架橋成分になる硬化性成分としては、例えば、トリプロピレングリコールジアクリレート、1,9−ノナンジオールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、環状トリメチロールプロパンフォルマルアクリレート、ジオキサングリコールジアクリレート、EO変性ジグリセリンテトラアクリレート、アロニックスM−220(東亞合成社製)、ライトアクリレート1,9ND−A(共栄社化学社製)、ライトアクリレートDGE−4A(共栄社化学社製)、ライトアクリレートDCP−A(共栄社化学社製)、SR−531(Sartomer社製)、CD−536(Sartomer社製)等が挙げられる。また必要に応じて、各種のエポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレートや、各種の(メタ)アクリレート系モノマー等が挙げられる。   Examples of the curable component of the radical polymerization curable adhesive include compounds having a plurality of polymerizable double bonds such as a (meth) acryloyl group and a vinyl group, and the compound can be used as a crosslinking component. It can also be mixed with the adhesive component. Examples of the curable component that becomes such a crosslinking component include tripropylene glycol diacrylate, 1,9-nonanediol diacrylate, tricyclodecane dimethanol diacrylate, cyclic trimethylolpropane formal acrylate, dioxane glycol diacrylate, and EO. Modified diglycerin tetraacrylate, Aronix M-220 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), light acrylate 1,9ND-A (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), light acrylate DGE-4A (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), light acrylate DCP-A (kyoeisha) Chemicals), SR-531 (Sartomer), CD-536 (Sartomer) and the like. Moreover, various epoxy (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates, polyester (meth) acrylates, various (meth) acrylate monomers, and the like are included as necessary.

ラジカル重合硬化型接着剤は、前記硬化性成分を含むが、前記成分に加えて、硬化のタイプに応じて、ラジカル重合開始剤を添加する。前記接着剤を電子線硬化型で用いる場合には、前記接着剤にはラジカル重合開始剤を含有させることは特に必要ではないが、紫外線硬化型、熱硬化型で用いる場合には、ラジカル重合開始剤が用いられる。ラジカル重合開始剤の使用量は硬化性成分100重量部あたり、通常0.1〜10重量部程度、好ましくは、0.5〜3重量部である。また、ラジカル重合硬化型接着剤には、必要に応じて、カルボニル化合物などで代表される電子線による硬化速度や感度を上がる光増感剤を添加することもできる。光増感剤の使用量は硬化性成分100重量部あたり、通常0.001〜10重量部程度、好ましくは、0.01〜3重量部である。   The radical polymerization curable adhesive contains the curable component, and in addition to the component, a radical polymerization initiator is added according to the type of curing. When the adhesive is used as an electron beam curable type, it is not particularly necessary that the adhesive contains a radical polymerization initiator, but when it is used as an ultraviolet curable type or a thermosetting type, radical polymerization is started. An agent is used. The usage-amount of a radical polymerization initiator is about 0.1-10 weight part normally per 100 weight part of sclerosing | hardenable components, Preferably, it is 0.5-3 weight part. Moreover, the radical polymerization curable adhesive may be added with a photosensitizer that increases the curing speed and sensitivity of the electron beam typified by a carbonyl compound, if necessary. The usage-amount of a photosensitizer is about 0.001-10 weight part normally per 100 weight part of sclerosing | hardenable components, Preferably, it is 0.01-3 weight part.

カチオン重合硬化型接着剤の硬化性成分としては、エポキシ基やオキセタニル基を有する化合物が挙げられる。エポキシ基を有する化合物は、分子内に少なくとも2個のエポキシ基を有するものであれば特に限定されず、一般に知られている各種の硬化性エポキシ化合物を用いることができる。好ましいエポキシ化合物として、分子内に少なくとも2個のエポキシ基と少なくとも1個の芳香環を有する化合物や、分子内に少なくとも2個のエポキシ基を有し、そのうちの少なくとも1個は脂環式環を構成する隣り合う2個の炭素原子との間で形成されている化合物等が例として挙げられる。   Examples of the curable component of the cationic polymerization curable adhesive include compounds having an epoxy group or an oxetanyl group. The compound having an epoxy group is not particularly limited as long as it has at least two epoxy groups in the molecule, and various generally known curable epoxy compounds can be used. As a preferable epoxy compound, a compound having at least two epoxy groups and at least one aromatic ring in the molecule, or at least two epoxy groups in the molecule, at least one of which has an alicyclic ring. Examples thereof include a compound formed between two adjacent carbon atoms constituting it.

また、接着剤層を形成には、水系の硬化型接着剤として、例えば、ビニルポリマー系、ゼラチン系、ビニル系ラテックス系、ポリウレタン系、イソシアネート系、ポリエステル系、エポキシ系等を例示できる。このような水系接着剤からなる接着剤層は、水溶液の塗布乾燥層などとして形成しうるが、その水溶液の調製に際しては、必要に応じて、架橋剤や他の添加剤、酸等の触媒も配合することができる。   In forming the adhesive layer, examples of the water-based curable adhesive include vinyl polymer, gelatin, vinyl latex, polyurethane, isocyanate, polyester, and epoxy. Such an adhesive layer composed of an aqueous adhesive can be formed as an aqueous solution coating / drying layer, etc., but when preparing the aqueous solution, a catalyst such as a crosslinking agent, other additives, and an acid can be used as necessary. Can be blended.

前記水系接着剤としては、ビニルポリマーを含有する接着剤などを用いることが好ましく、ビニルポリマーとしては、ポリビニルアルコール系樹脂が好ましい。またポリビニルアルコール系樹脂としては、アセトアセチル基を有するポリビニルアルコール系樹脂を含む接着剤が耐久性を向上させる点からより好ましい。また、ポリビニルアルコール系樹脂に配合できる架橋剤としては、ポリビニルアルコール系樹脂と反応性を有する官能基を少なくとも2つ有する化合物が好ましく使用できる。例えば、ホウ酸やホウ砂、カルボン酸化合物、アルキルジアミン類;イソシアネート類;エポキシ類;モノアルデヒド類;ジアルデヒド類;アミノ−ホルムアルデヒド樹脂;さらに二価金属、または三価金属の塩およびその酸化物が挙げられる。   As the water-based adhesive, an adhesive containing a vinyl polymer is preferably used, and the vinyl polymer is preferably a polyvinyl alcohol resin. Moreover, as a polyvinyl alcohol-type resin, the adhesive agent containing the polyvinyl alcohol-type resin which has an acetoacetyl group is more preferable from the point which improves durability. Moreover, as a crosslinking agent which can be mix | blended with a polyvinyl alcohol-type resin, the compound which has at least two functional groups reactive with a polyvinyl alcohol-type resin can be used preferably. For example, boric acid, borax, carboxylic acid compounds, alkyldiamines; isocyanates; epoxies; monoaldehydes; dialdehydes; amino-formaldehyde resins; and divalent or trivalent metal salts and oxides thereof Is mentioned.

前記硬化型接着剤層を形成する接着剤は、必要であれば適宜添加剤を含むものであっても良い。添加剤の例としては、シランカップリング剤、チタンカップリング剤等のカップリング剤、エチレンオキシドで代表される接着促進剤、透明保護フィルムとの濡れ性を向上させる添加剤、アクリロキシ基化合物や炭化水素系(天然、合成樹脂)などに代表され、機械的強度や加工性などを向上させる添加剤、紫外線吸収剤、老化防止剤、染料、加工助剤、イオントラップ剤、酸化防止剤、粘着付与剤、充填剤(金属化合物フィラー以外)、可塑剤、レベリング剤、発泡抑制剤、帯電防止割、耐熱安定剤、耐加水分解安定剤等の安定剤等が挙げられる。   The adhesive that forms the curable adhesive layer may appropriately contain an additive if necessary. Examples of additives include coupling agents such as silane coupling agents and titanium coupling agents, adhesion promoters typified by ethylene oxide, additives that improve wettability with transparent protective films, acryloxy group compounds and hydrocarbons. Represented by systems (natural and synthetic resins), additives that improve mechanical strength and processability, UV absorbers, anti-aging agents, dyes, processing aids, ion trapping agents, antioxidants, tackifiers , Stabilizers such as fillers (other than metal compound fillers), plasticizers, leveling agents, foaming inhibitors, antistatic cracks, heat stabilizers, hydrolysis stabilizers, and the like.

接着剤の塗工方式は、接着剤の粘度や目的とする厚みによって適宜に選択される。塗工方式の例として、例えば、リバースコーター、グラビアコーター(ダイレクト,リバースやオフセット)、バーリバースコーター、ロールコーター、ダイコーター、バーコーター、ロッドコーター等が挙げられる。その他、塗工には、デイッピング方式などの方式を適宜に使用することができる。   The adhesive coating method is appropriately selected depending on the viscosity of the adhesive and the target thickness. Examples of coating methods include reverse coaters, gravure coaters (direct, reverse and offset), bar reverse coaters, roll coaters, die coaters, bar coaters, rod coaters and the like. In addition, for coating, a method such as a dapping method can be appropriately used.

また、接着剤層の厚さは、0.01〜10μmであることが好ましい。より好ましくは、0.1〜5μm、さらに好ましくは0.3〜4μmである。   Moreover, it is preferable that the thickness of an adhesive bond layer is 0.01-10 micrometers. More preferably, it is 0.1-5 micrometers, More preferably, it is 0.3-4 micrometers.

(硬化樹脂層)
硬化樹脂層は、前記第一透明樹脂フィルム又は前記第二透明樹脂フィルムの一方の第1主面側に設けられた第1の硬化樹脂層と、反対側の第2主面側に設けられた第2の硬化樹脂層とを含む。透明樹脂フィルムは、透明導電膜の形成や透明導電膜のパターン化または電子機器への搭載などの各工程で傷が入りやすいので、上記のように、透明樹脂フィルムの両面に第1の硬化樹脂層と第2の硬化樹脂層とを形成することが好ましい。
(Cured resin layer)
The cured resin layer was provided on the second principal surface side opposite to the first cured resin layer provided on one first principal surface side of the first transparent resin film or the second transparent resin film. And a second cured resin layer. Since the transparent resin film is easily scratched in each process such as formation of a transparent conductive film, patterning of the transparent conductive film, or mounting on an electronic device, the first cured resin is formed on both sides of the transparent resin film as described above. It is preferable to form a layer and a second cured resin layer.

硬化樹脂層は、硬化型樹脂を硬化させることにより得られた層である。用いる樹脂としては、硬化樹脂層形成後の皮膜として十分な強度を持ち、透明性のあるものを特に制限なく使用できるが、熱硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂、二液混合型樹脂などがあげられる。これらのなかでも紫外線照射による硬化処理にて、簡単な加工操作にて効率よく硬化樹脂層を形成することができる紫外線硬化型樹脂が好適である。   The cured resin layer is a layer obtained by curing a curable resin. As the resin to be used, those having sufficient strength as a film after forming the cured resin layer and having transparency can be used without particular limitation, but thermosetting resin, ultraviolet curable resin, electron beam curable resin, two-component Examples thereof include mixed resins. Among these, an ultraviolet curable resin that can efficiently form a cured resin layer by a simple processing operation by a curing treatment by ultraviolet irradiation is preferable.

紫外線硬化型樹脂としては、ポリエステル系、アクリル系、ウレタン系、アミド系、シリコーン系、エポキシ系等の各種のものがあげられ、紫外線硬化型のモノマー、オリゴマー、ポリマー等が含まれる。好ましく用いられる紫外線硬化型樹脂は、アクリル系樹脂やエポキシ系樹脂であり、より好ましくはアクリル系樹脂である。   Examples of the ultraviolet curable resin include polyester-based, acrylic-based, urethane-based, amide-based, silicone-based, and epoxy-based resins, and include ultraviolet curable monomers, oligomers, polymers, and the like. The ultraviolet curable resin preferably used is an acrylic resin or an epoxy resin, more preferably an acrylic resin.

硬化樹脂層は粒子を含んでいてもよい。硬化樹脂層に粒子を配合することにより、硬化樹脂層の表面に隆起を形成することができ、透明導電性フィルムに耐ブロッキング性を好適に付与することができる。   The cured resin layer may contain particles. By blending the particles in the cured resin layer, ridges can be formed on the surface of the cured resin layer, and blocking resistance can be suitably imparted to the transparent conductive film.

上記粒子としては、各種金属酸化物、ガラス、プラスチックなどの透明性を有するものを特に制限なく使用することができる。例えばシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化カルシウム等の無機系粒子、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリウレタン、アクリル系樹脂、アクリル−スチレン共重合体、ベンゾグアナミン、メラミン、ポリカーボネート等の各種ポリマーからなる架橋又は未架橋の有機系粒子やシリコーン系粒子などがあげられる。前記粒子は、1種または2種以上を適宜に選択して用いることができるが、有機系粒子が好ましい。有機系粒子としては、屈折率の観点から、アクリル系樹脂が好ましい。   As said particle | grains, what has transparency, such as various metal oxides, glass, a plastics, can be especially used without a restriction | limiting. For example, inorganic particles such as silica, alumina, titania, zirconia, calcium oxide, polymethyl methacrylate, polystyrene, polyurethane, acrylic resin, acrylic-styrene copolymer, benzoguanamine, melamine, polycarbonate, and other cross-linked or uncrosslinked polymers. Examples include crosslinked organic particles and silicone particles. The particles can be used by appropriately selecting one type or two or more types, but organic particles are preferable. The organic particles are preferably acrylic resins from the viewpoint of refractive index.

粒子の最頻粒子径は、硬化樹脂層の隆起の突出度や隆起以外の平坦領域の厚みとの関係などを考慮して適宜設定することができ、特に限定されない。なお、透明導電性フィルムに耐ブロッキング性を十分に付与し、かつヘイズの上昇を十分に抑制するという観点から、粒子の最頻粒子径は0.1〜3μmが好ましく、0.5〜2.5μmがより好ましい。なお、本明細書において、「最頻粒子径」とは、粒子分布の極大値を示す粒径をいい、フロー式粒子像分析装置(Sysmex社製、製品名「FPTA−3000S」)を用いて、所定条件下(Sheath液:酢酸エチル、測定モード:HPF測定、測定方式:トータルカウント)で測定することによって求められる。測定試料は、粒子を酢酸エチルで1.0重量%に希釈し、超音波洗浄機を用いて均一に分散させたものを用いる。   The mode particle diameter of the particles can be appropriately set in consideration of the degree of protrusion of the cured resin layer and the thickness of a flat region other than the protrusion, and is not particularly limited. In addition, from the viewpoint of sufficiently imparting blocking resistance to the transparent conductive film and sufficiently suppressing increase in haze, the mode particle diameter of the particles is preferably 0.1 to 3 μm, and preferably 0.5 to 2. 5 μm is more preferable. In the present specification, “mode particle size” refers to a particle size showing the maximum value of particle distribution, using a flow type particle image analyzer (product name “FPTA-3000S” manufactured by Sysmex). , By measuring under predetermined conditions (Sheath solution: ethyl acetate, measurement mode: HPF measurement, measurement method: total count). The measurement sample is prepared by diluting the particles to 1.0% by weight with ethyl acetate and uniformly dispersing the particles using an ultrasonic cleaner.

粒子の含有量は、樹脂組成物の固形分100重量部に対して0.05〜1.0重量部であることが好ましく、0.1〜0.5重量部であることがより好ましく、0.1〜0.2重量部であることがさらに好ましい。硬化樹脂層中の粒子の含有量が小さいと、硬化樹脂層の表面に耐ブロッキング性や易滑性を付与するのに十分な隆起が形成され難くなる傾向がある。一方、粒子の含有量が大きすぎると、粒子による光散乱に起因して透明導電性フィルムのヘイズが高くなり、視認性が低下する傾向がある。また、粒子の含有量が大きすぎると、硬化樹脂層の形成時(溶液の塗布時)に、スジが発生し、視認性が損なわれたり、透明導電膜の電気特性が不均一となったりする場合がある。   The content of the particles is preferably 0.05 to 1.0 part by weight, more preferably 0.1 to 0.5 part by weight, based on 100 parts by weight of the solid content of the resin composition. More preferably, it is 1 to 0.2 parts by weight. When the content of the particles in the cured resin layer is small, there is a tendency that bulges sufficient to impart blocking resistance and slipperiness to the surface of the cured resin layer are hardly formed. On the other hand, if the content of the particles is too large, the haze of the transparent conductive film increases due to light scattering by the particles, and the visibility tends to decrease. On the other hand, when the content of the particles is too large, streaks are generated during the formation of the cured resin layer (at the time of application of the solution), and the visibility may be impaired, or the electrical characteristics of the transparent conductive film may be uneven. There is a case.

硬化樹脂層は、各硬化型樹脂と必要に応じて加える粒子、架橋剤、開始剤、増感剤などを含む樹脂組成物を透明樹脂フィルム上に塗布し、樹脂組成物が溶剤を含む場合には、溶剤の乾燥を行い、熱、活性エネルギー線またはその両方のいずれかの適用により硬化させることにより得られる。熱は空気循環式オーブンやIRヒーターなど公知の手段を用いることができるがこれらの方法に限定されない。活性エネルギー線の例としては紫外線、電子線、ガンマ線などがあるが特に限定されない。   The cured resin layer is formed by applying a resin composition containing particles, a crosslinking agent, an initiator, a sensitizer and the like to be added to each curable resin as necessary on a transparent resin film, and the resin composition contains a solvent. Is obtained by drying the solvent and curing by application of either heat, active energy rays or both. For the heat, known means such as an air circulation oven or an IR heater can be used, but it is not limited to these methods. Examples of active energy rays include, but are not limited to, ultraviolet rays, electron beams, and gamma rays.

硬化樹脂層は、上記の材料を用いて、ウェットコーティング法(塗工法)等により製膜できる。例えば、透明導電膜として酸化スズを含有する酸化インジウム(ITO)を形成する場合、下地層である硬化樹脂層の表面が平滑であると、透明導電膜の結晶化時間を短縮することもできる。かかる観点から、硬化樹脂層はウェットコーティング法により製膜されることが好ましい。   The cured resin layer can be formed by the wet coating method (coating method) using the above materials. For example, in the case of forming indium oxide (ITO) containing tin oxide as the transparent conductive film, the crystallization time of the transparent conductive film can be shortened if the surface of the cured resin layer that is the base layer is smooth. From this point of view, the cured resin layer is preferably formed by a wet coating method.

硬化樹脂層の厚みは、好ましくは0.5μm〜5μmであり、より好ましくは0.7μm〜3μmであり、最も好ましくは0.8μm〜2μmである。硬化樹脂層の厚みが前記範囲にあると、傷付防止や硬化樹脂層の硬化収縮におけるフィルムシワを防止でき、タッチパネル等の視認性が悪化することを防ぐことができる。   The thickness of the cured resin layer is preferably 0.5 μm to 5 μm, more preferably 0.7 μm to 3 μm, and most preferably 0.8 μm to 2 μm. When the thickness of the cured resin layer is within the above range, it is possible to prevent scratches and film wrinkles in the cured shrinkage of the cured resin layer, and it is possible to prevent the visibility of a touch panel and the like from being deteriorated.

(透明導電膜)
透明導電膜は、透明樹脂フィルム上に設けることができるが、透明樹脂フィルムの一方の第1主面側に設けられた第1の硬化樹脂層上に設けられることが好ましい。透明導電膜の構成材料は、無機物を含む限り特に限定されず、インジウム、スズ、亜鉛、ガリウム、アンチモン、チタン、珪素、ジルコニウム、マグネシウム、アルミニウム、金、銀、銅、パラジウム、タングステンからなる群より選択される少なくとも1種の金属の金属酸化物が好適に用いられる。当該金属酸化物には、必要に応じて、さらに上記群に示された金属原子を含んでいてもよい。例えば酸化スズを含有する酸化インジウム(ITO)、アンチモンを含有する酸化スズ(ATO)などが好ましく用いられる。酸化スズを含有する酸化インジウムを用いる場合、酸化スズの含有量は、透明導電膜中において1〜20重量%が好ましく、3〜15重量%がより好ましい。
(Transparent conductive film)
The transparent conductive film can be provided on the transparent resin film, but is preferably provided on the first cured resin layer provided on the first main surface side of the transparent resin film. The constituent material of the transparent conductive film is not particularly limited as long as it contains an inorganic substance. From the group consisting of indium, tin, zinc, gallium, antimony, titanium, silicon, zirconium, magnesium, aluminum, gold, silver, copper, palladium, tungsten A metal oxide of at least one selected metal is preferably used. The metal oxide may further contain a metal atom shown in the above group, if necessary. For example, indium oxide (ITO) containing tin oxide and tin oxide (ATO) containing antimony are preferably used. When using indium oxide containing tin oxide, the content of tin oxide is preferably 1 to 20% by weight, more preferably 3 to 15% by weight in the transparent conductive film.

透明導電膜の厚みは、特に制限されないが、その表面抵抗を1×10Ω/□以下の良好な導電性を有する連続被膜とするには、厚みを10nm以上とするのが好ましい。膜厚が、厚くなりすぎると透明性の低下などをきたすため、15〜35nmであることが好ましく、より好ましくは20〜30nmの範囲内である。透明導電膜の厚みが、10nm未満であると膜表面の電気抵抗が高くなり、かつ連続被膜になり難くなる。また、透明導電膜の厚みが、35nmを超えると透明性の低下などをきたす場合がある。 The thickness of the transparent conductive film is not particularly limited, but the thickness is preferably 10 nm or more in order to obtain a continuous film having good conductivity with a surface resistance of 1 × 10 3 Ω / □ or less. When the film thickness becomes too thick, the transparency is lowered, and it is preferably 15 to 35 nm, more preferably in the range of 20 to 30 nm. When the thickness of the transparent conductive film is less than 10 nm, the electrical resistance of the film surface increases and it becomes difficult to form a continuous film. Further, when the thickness of the transparent conductive film exceeds 35 nm, the transparency may be lowered.

透明導電膜の形成方法は、特に限定されず、従来公知の方法を採用することができる。具体的には、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライプロセスを例示できる。また、必要とする膜厚に応じて適宜の方法を採用することもできる。なお、第1の硬化樹脂層上に透明導電膜を形成する場合、透明導電膜がスパッタリング法等のドライプロセスによって形成されれば、透明導電膜の表面は、その下地層である第1の硬化樹脂層表面形状をほぼ維持する。そのため、第1の硬化樹脂層に隆起が存在する場合には、透明導電膜表面にも耐ブロッキング性及び易滑性を好適に付与することができる。   The formation method of a transparent conductive film is not specifically limited, A conventionally well-known method is employable. Specific examples include dry processes such as vacuum deposition, sputtering, and ion plating. In addition, an appropriate method can be adopted depending on the required film thickness. In addition, when forming a transparent conductive film on the 1st hardening resin layer, if the transparent conductive film is formed by dry processes, such as sputtering method, the surface of a transparent conductive film is the 1st hardening which is the foundation layer The surface shape of the resin layer is substantially maintained. Therefore, when a protrusion exists in the 1st cured resin layer, blocking resistance and slipperiness can be suitably given also to the transparent conductive film surface.

透明導電膜は、必要に応じて加熱アニール処理(例えば、大気雰囲気下、80〜150℃で30〜90分間程度)を施して結晶化することができる。透明導電膜を結晶化することで、透明導電膜が低抵抗化されることに加えて、透明性及び耐久性が向上する。非晶質の透明導電膜を結晶質に転化させる手段は、特に限定されないが、空気循環式オーブンやIRヒーターなどが用いられる。   The transparent conductive film can be crystallized by applying a heat annealing treatment (for example, at 80 to 150 ° C. for about 30 to 90 minutes in an air atmosphere) as necessary. By crystallizing the transparent conductive film, the transparency and durability are improved in addition to the resistance of the transparent conductive film being reduced. The means for converting the amorphous transparent conductive film into crystalline is not particularly limited, and an air circulation oven, an IR heater, or the like is used.

「結晶質」の定義については、透明樹脂フィルム上に透明導電膜が形成された透明導電性フィルムを、20℃、濃度5重量%の塩酸に15分間浸漬した後、水洗・乾燥し、15mm間の端子間抵抗をテスタにて測定を行い、端子間抵抗が10kΩを超えない場合、ITO膜の結晶質への転化が完了したものとする。   Regarding the definition of “crystalline”, a transparent conductive film in which a transparent conductive film is formed on a transparent resin film is immersed in hydrochloric acid having a concentration of 5% by weight at 20 ° C. for 15 minutes, then washed with water and dried for 15 mm. When the inter-terminal resistance is measured with a tester and the inter-terminal resistance does not exceed 10 kΩ, it is assumed that the conversion of the ITO film to crystalline is completed.

また、透明導電膜は、エッチング等によりパターン化してもよい。透明導電膜のパターン化に関しては、従来公知のフォトリソグラフィの技術を用いて行うことができる。エッチング液としては、酸が好適に用いられる。酸としては、例えば、塩化水素、臭化水素、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸、酢酸等の有機酸、およびこれらの混合物、ならびにそれらの水溶液があげられる。例えば、静電容量方式のタッチパネルやマトリックス式の抵抗膜方式のタッチパネルに用いられる透明導電性フィルム積層体においては、透明導電膜がストライプ状にパターン化されることが好ましい。なお、エッチングにより透明導電膜をパターン化する場合、先に透明導電膜の結晶化を行うと、エッチングによるパターン化が困難となる場合がある。そのため、透明導電膜のアニール処理は、透明導電膜をパターン化した後に行うことが好ましい。   The transparent conductive film may be patterned by etching or the like. The patterning of the transparent conductive film can be performed using a conventionally known photolithography technique. An acid is preferably used as the etching solution. Examples of the acid include inorganic acids such as hydrogen chloride, hydrogen bromide, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, organic acids such as acetic acid, mixtures thereof, and aqueous solutions thereof. For example, in a transparent conductive film laminate used for a capacitive touch panel or a matrix resistive touch panel, the transparent conductive film is preferably patterned in a stripe shape. Note that, when the transparent conductive film is patterned by etching, if the transparent conductive film is first crystallized, patterning by etching may be difficult. Therefore, it is preferable to perform the annealing treatment of the transparent conductive film after patterning the transparent conductive film.

透明導電膜は、後述のキャリアフィルムを積層する際に非晶質であっても結晶質であってもよい。例えば、透明導電膜が非晶質の状態の透明導電性フィルムに粘着剤層を介して保護フィルムを貼り合せた後に、アニール処理をして結晶質に転化することが可能である。   The transparent conductive film may be amorphous or crystalline when a carrier film described later is laminated. For example, after a protective film is bonded to a transparent conductive film in which the transparent conductive film is in an amorphous state via an adhesive layer, the film can be converted into crystalline by annealing.

前記透明導電膜は、金属ナノワイヤを含むことができる。金属ナノワイヤとは、材質が金属であり、形状が針状または糸状であり、径がナノメートルサイズの導電性物質をいう。金属ナノワイヤは直線状であってもよく、曲線状であってもよい。金属ナノワイヤで構成された透明導電層を用いれば、金属ナノワイヤが網の目状となることにより、少量の金属ナノワイヤであっても良好な電気伝導経路を形成することができ、電気抵抗の小さい透明導電性フィルム積層体を得ることができる。さらに、金属ナノワイヤが網の目状となることにより、網の目の隙間に開口部を形成して、光透過率の高い透明導電性フィルム積層体を得ることができる。   The transparent conductive film may include metal nanowires. A metal nanowire is a conductive material having a metal material, a needle shape or a thread shape, and a diameter of nanometer. The metal nanowire may be linear or curved. If a transparent conductive layer composed of metal nanowires is used, the metal nanowires can be formed into a mesh shape, so that even with a small amount of metal nanowires, a good electrical conduction path can be formed, and transparent with low electrical resistance. A conductive film laminate can be obtained. Furthermore, when the metal nanowire has a mesh shape, an opening is formed in the mesh space, and a transparent conductive film laminate having a high light transmittance can be obtained.

前記金属ナノワイヤを構成する金属としては、導電性の高い金属である限り、任意の適切な金属が用いられ得る。前記金属ナノワイヤを構成する金属としては、例えば、銀、金、銅、ニッケル等が挙げられる。また、これらの金属にメッキ処理(例えば、金メッキ処理)を行った材料を用いてもよい。なかでも好ましくは、導電性の観点から、銀、銅または金であり、より好ましくは銀である。   Any appropriate metal can be used as the metal constituting the metal nanowire as long as it is a highly conductive metal. As a metal which comprises the said metal nanowire, silver, gold | metal | money, copper, nickel etc. are mentioned, for example. Moreover, you may use the material which performed the plating process (for example, gold plating process) to these metals. Among these, silver, copper, or gold is preferable from the viewpoint of conductivity, and silver is more preferable.

(光学調整層)
本発明では、第一透明樹脂フィルム又は第1の硬化樹脂層と透明導電膜との間に、1層以上の光学調整層をさらに含むことができる。光学調整層は、透明導電性フィルム積層体の透過率の上昇や、透明導電膜がパターン化される場合には、パターンが残るパターン部とパターンが残らない開口部の間で透過率差や反射率差を低減でき、視認性に優れた透明導電性フィルム積層体を得るために用いられる。
(Optical adjustment layer)
In the present invention, one or more optical adjustment layers can be further included between the first transparent resin film or the first cured resin layer and the transparent conductive film. The optical adjustment layer increases the transmittance of the transparent conductive film laminate, and when the transparent conductive film is patterned, the transmittance difference or reflection between the pattern part where the pattern remains and the opening part where the pattern does not remain. It is used to obtain a transparent conductive film laminate that can reduce the rate difference and has excellent visibility.

光学調整層の屈折率は、1.5〜1.8であることが好ましく、1.51〜1.78であることがより好ましく、1.52〜1.75であることが更に好ましい。これにより、透過率差や反射率差を低減でき、視認性に優れた透明導電性フィルム積層体を得ることができる。   The refractive index of the optical adjustment layer is preferably 1.5 to 1.8, more preferably 1.51 to 1.78, and still more preferably 1.52 to 1.75. Thereby, the transmittance | permeability difference and a reflectance difference can be reduced, and the transparent conductive film laminated body excellent in visibility can be obtained.

光学調整層は、無機物、有機物、あるいは無機物と有機物との混合物により形成される。光学調整層を形成する材料としては、NaF、NaAlF、LiF、MgF、CaF2、SiO、LaF、CeF、Al、TiO、Ta、ZrO、ZnO、ZnS、SiO(xは1.5以上2未満)などの無機物や、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、シロキサン系ポリマーなどの有機物が挙げられる。特に、有機物として、メラミン樹脂とアルキド樹脂と有機シラン縮合物の混合物からなる熱硬化型樹脂を使用することが好ましい。光学調整層は、上記の材料を用いて、ウエット法、グラビアコート法やバーコート法などの塗工法、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などにより形成できる。 The optical adjustment layer is formed of an inorganic material, an organic material, or a mixture of an inorganic material and an organic material. As a material for forming the optical adjustment layer, NaF, Na 3 AlF 6 , LiF, MgF 2 , CaF 2, SiO 2 , LaF 3 , CeF 3 , Al 2 O 3 , TiO 2 , Ta 2 O 5 , ZrO 2 , Examples thereof include inorganic substances such as ZnO, ZnS, and SiO x (x is 1.5 or more and less than 2), and organic substances such as acrylic resins, epoxy resins, urethane resins, melamine resins, alkyd resins, and siloxane polymers. In particular, it is preferable to use a thermosetting resin made of a mixture of a melamine resin, an alkyd resin, and an organic silane condensate as the organic substance. The optical adjustment layer can be formed using the above materials by a coating method such as a wet method, a gravure coating method or a bar coating method, a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, or the like.

光学調整層は、平均粒径が1nm〜500nmのナノ微粒子を有していてもよい。光学調整層中のナノ微粒子の含有量は0.1重量%〜90重量%であることが好ましい。光学調整層に用いられるナノ微粒子の平均粒径は、上述のように1nm〜500nmの範囲であることが好ましく、5nm〜300nmであることがより好ましい。また、光学調整層中のナノ微粒子の含有量は10重量%〜80重量%であることがより好ましく、20重量%〜70重量%であることがさらに好ましい。光学調整層中にナノ微粒子を含有することによって、光学調整層自体の屈折率の調整を容易に行うことができる。   The optical adjustment layer may have nanoparticles having an average particle diameter of 1 nm to 500 nm. The content of the nanoparticles in the optical adjustment layer is preferably 0.1% by weight to 90% by weight. As described above, the average particle diameter of the nanoparticles used in the optical adjustment layer is preferably in the range of 1 nm to 500 nm, and more preferably 5 nm to 300 nm. Further, the content of the nanoparticles in the optical adjustment layer is more preferably 10% by weight to 80% by weight, and further preferably 20% by weight to 70% by weight. By containing nanoparticles in the optical adjustment layer, the refractive index of the optical adjustment layer itself can be easily adjusted.

ナノ微粒子を形成する無機酸化物としては、例えば、酸化ケイ素(シリカ)、中空ナノシリカ、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ等の微粒子があげられる。これらの中でも、酸化ケイ素(シリカ)、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム、酸化ニオブの微粒子が好ましい。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Examples of the inorganic oxide forming the nano fine particles include fine particles such as silicon oxide (silica), hollow nano silica, titanium oxide, aluminum oxide, zinc oxide, tin oxide, zirconium oxide, and niobium oxide. Among these, fine particles of silicon oxide (silica), titanium oxide, aluminum oxide, zinc oxide, tin oxide, zirconium oxide, and niobium oxide are preferable. These may be used alone or in combination of two or more.

光学調整層の厚みは、10nm〜200nmであることが好ましく、20nm〜150nmであることがより好ましく、30nm〜130nmであることがさらに好ましい。光学調整層の厚みが過度に小さいと連続被膜となりにくい。また、光学調整層の厚みが過度に大きいと、透明導電性フィルム積層体の透明性が低下したり、クラックが生じ易くなったりする傾向がある。   The thickness of the optical adjustment layer is preferably 10 nm to 200 nm, more preferably 20 nm to 150 nm, and further preferably 30 nm to 130 nm. If the thickness of the optical adjustment layer is too small, it is difficult to form a continuous film. Moreover, when the thickness of the optical adjustment layer is excessively large, the transparency of the transparent conductive film laminate tends to be reduced or cracks tend to occur.

(金属層、金属配線)
本発明では、透明導電膜上に金属層又は金属配線を設けることも可能である。金属配線は、金属層を透明導電膜上に形成した後、エッチングにより形成することも可能であるが、以下のように感光性金属ペーストを用いて形成するのが好ましい。即ち、金属配線は、透明導電膜がパターン化された後に、後述の感光性導電ペーストを前記透明樹脂フィルム上または前記透明導電膜上に塗布し、感光性金属ペースト層を形成し、フォトマスクを積層または近接させフォトマスクを介して感光性金属ペースト層に露光を行い、次いで現像を行い、パターン形成した後、乾燥工程を経て得られる。つまり、公知のフォトリソグラフィ法等により、金属配線のパターン形成が可能である。
(Metal layer, metal wiring)
In the present invention, it is also possible to provide a metal layer or a metal wiring on the transparent conductive film. The metal wiring can be formed by etching after forming the metal layer on the transparent conductive film, but is preferably formed using a photosensitive metal paste as follows. That is, after the transparent conductive film is patterned, the metal wiring is formed by applying a photosensitive conductive paste described later on the transparent resin film or the transparent conductive film, forming a photosensitive metal paste layer, and forming a photomask. The photosensitive metal paste layer is exposed through a photomask after being laminated or brought close to each other, then developed and patterned to obtain a drying process. That is, the metal wiring pattern can be formed by a known photolithography method or the like.

前記感光性導電ペーストは、金属粉末などの導電性粒子と感光性有機成分とを含むことが好ましい。金属粉末の導電性粒子の材料としては、Ag、Au、Pd、Ni、Cu、AlおよびPtの群から選択される少なくとも1種を含むものであることが好ましく、より好ましくはAgである。金属粉末の導電性粒子の体積平均粒子径は0.1μm〜2.5μmであることが好ましい。   The photosensitive conductive paste preferably includes conductive particles such as metal powder and a photosensitive organic component. The material of the conductive particles of the metal powder preferably contains at least one selected from the group consisting of Ag, Au, Pd, Ni, Cu, Al, and Pt, and more preferably Ag. The volume average particle diameter of the conductive particles of the metal powder is preferably 0.1 μm to 2.5 μm.

金属粉末以外の導電性粒子としては、樹脂粒子表面を金属で被覆した金属被覆樹脂粒子でもよい。樹脂粒子の材料としては、前述のような粒子が含まれるが、アクリル系樹脂が好ましい。金属被覆樹脂粒子は樹脂粒子の表面にシランカップリング剤を反応させ、さらにその表面に金属で被覆することにより得られる。シランカップリング剤を用いることにより、樹脂成分の分散が安定化して、均一な金属被覆樹脂粒子を形成することができる。   The conductive particles other than the metal powder may be metal-coated resin particles in which the resin particle surfaces are coated with metal. As the material of the resin particles, the above-mentioned particles are included, but an acrylic resin is preferable. The metal-coated resin particles are obtained by reacting the surface of the resin particles with a silane coupling agent and coating the surface with metal. By using the silane coupling agent, the dispersion of the resin component is stabilized, and uniform metal-coated resin particles can be formed.

感光性導電ペーストはさらにガラスフリットを含んでいてもよい。ガラスフリットは、体積平均粒子径が0.1μm〜1.4μmであることが好ましく、90%粒子径が1〜2μmおよびトップサイズが4.5μm以下であることが好ましい。ガラスフリットの組成としては、特に限定されないが、Biが全体に対して30重量%〜70重量%の範囲で配合されることが好ましい。Bi以外に含んでいてよい酸化物としては、SiO、B、ZrO、Alを含んでよい。NaO、KO、LiOは実質的に含まないアルカリフリーのガラスフリットであることが好ましい。 The photosensitive conductive paste may further contain glass frit. The glass frit preferably has a volume average particle size of 0.1 μm to 1.4 μm, a 90% particle size of 1 to 2 μm, and a top size of 4.5 μm or less. As the composition of the glass frit is not particularly limited, Bi 2 O 3 is are preferably blended in a range of 30% to 70% by weight relative to the total. Examples of the oxide that may be contained in addition to Bi 2 O 3 may include SiO 2 , B 2 O 3 , ZrO 2 , and Al 2 O 3 . Na 2 O, K 2 O, and Li 2 O are preferably alkali-free glass frit that is substantially free of them.

感光性有機成分は、感光性ポリマーおよび/または感光性モノマーを含むことが好ましい。感光性ポリマーとしては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート等の炭素−炭素二重結合有する化合物から選択された成分の重合体やこれらの共重合体からなるアクリル樹脂の側鎖または分子末端に光反応性基を付加したもの等が好適に用いられる。好ましい光反応性基としてはビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基などのエチレン性不飽和基が挙げられる。感光性ポリマーの含有量は、1〜30重量%、2〜30重量%であることが好ましい。   The photosensitive organic component preferably contains a photosensitive polymer and / or a photosensitive monomer. As the photosensitive polymer, a polymer of a component selected from a compound having a carbon-carbon double bond such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, or a side chain or molecule of an acrylic resin comprising these copolymers. Those having a photoreactive group added to the terminal are preferably used. Preferred photoreactive groups include ethylenically unsaturated groups such as vinyl, allyl, acrylic and methacrylic groups. The content of the photosensitive polymer is preferably 1 to 30% by weight and 2 to 30% by weight.

感光性モノマーとしては、メタクリルアクリレート、エチルアクリレートなどの(メタ)アクリレート系モノマーや、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、1−ビニル−2−ピロリドンなどが挙げられ、1種または2種以上を使用することができる。   Examples of the photosensitive monomer include (meth) acrylate monomers such as methacryl acrylate and ethyl acrylate, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 1-vinyl-2-pyrrolidone and the like, and one or more are used. can do.

感光性導電ペーストにおいては、感光性有機成分が金属粉末100重量部に対して、5〜40重量%含むことが光の感度の点で好ましく、より好ましくは10重量部〜30重量部である。また、本発明の感光性導電ペーストは必要により光重合開始剤、増感剤、重合禁止剤、有機溶媒を用いることが好ましい。   In the photosensitive conductive paste, the photosensitive organic component is preferably contained in an amount of 5 to 40% by weight with respect to 100 parts by weight of the metal powder in terms of light sensitivity, and more preferably 10 to 30 parts by weight. The photosensitive conductive paste of the present invention preferably uses a photopolymerization initiator, a sensitizer, a polymerization inhibitor, and an organic solvent as necessary.

金属層の厚みは、特に制限されない。例えば、金属層の面内の一部をエッチング等により除去してパターン配線を形成する場合は、形成後のパターン配線が所望の抵抗値を有するように金属層の厚みが適宜に設定される。そのため、金属層の厚みは、0.01〜200μmであることが好ましく、0.05〜100μmであることがより好ましい。金属層の厚みが上記範囲であると、パターン配線の抵抗が高くなりすぎず、デバイスの消費電力が大きくならない。また、金属層の成膜の生産効率が上がり、成膜時の積算熱量が小さくなり、フィルムに熱シワが生じにくくなる。   The thickness of the metal layer is not particularly limited. For example, when the pattern wiring is formed by removing a part of the surface of the metal layer by etching or the like, the thickness of the metal layer is appropriately set so that the formed pattern wiring has a desired resistance value. Therefore, the thickness of the metal layer is preferably 0.01 to 200 μm, and more preferably 0.05 to 100 μm. When the thickness of the metal layer is within the above range, the resistance of the pattern wiring does not become too high, and the power consumption of the device does not increase. In addition, the production efficiency of the metal layer is increased, the integrated heat amount during the film formation is reduced, and the film is less likely to be thermally wrinkled.

透明導電性フィルム積層体がディスプレイと組合せて使用するタッチパネル用の透明導電性フィルム積層体である場合、表示部分に対応した部分はパターン化された透明導電膜により形成され、感光性導電ペーストから作製された金属配線は非表示部(例えば周縁部)の配線部分に用いられる。透明導電膜は非表示部でも用いられてよく、その場合は金属配線が透明導電膜上に形成されていてもよい。   When the transparent conductive film laminate is a transparent conductive film laminate for a touch panel used in combination with a display, the portion corresponding to the display portion is formed by a patterned transparent conductive film and is made from a photosensitive conductive paste The metal wiring thus used is used for a wiring portion of a non-display portion (for example, a peripheral portion). The transparent conductive film may be used even in a non-display portion, and in that case, metal wiring may be formed on the transparent conductive film.

<キャリアフィルム>
本発明では、透明導電性フィルム積層体がキャリアフィルムを有していてもよい。キャリアフィルムは、保護フィルムの少なくとも一方の面側に粘着剤層を有する。キャリアフィルムは、粘着剤層を介して剥離可能な透明導電性フィルム積層体と、透明導電性フィルム積層体の第2主面側を貼りあわせて、透明導電性フィルム積層体を形成する。キャリアフィルムを透明導電性フィルム積層体から剥離する際は、粘着剤層は保護フィルムとともに剥離されてもよいし、保護フィルムのみが剥離されてもよい。
<Carrier film>
In the present invention, the transparent conductive film laminate may have a carrier film. The carrier film has an adhesive layer on at least one surface side of the protective film. A carrier film bonds a transparent conductive film laminated body which can be peeled through an adhesive layer, and the 2nd main surface side of a transparent conductive film laminated body, and forms a transparent conductive film laminated body. When peeling a carrier film from a transparent conductive film laminated body, an adhesive layer may be peeled with a protective film, and only a protective film may be peeled.

(保護フィルム)
保護フィルムを形成する材料としては、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性などに優れるものが好ましい。保護フィルムとしては、結晶性樹脂又は非晶性樹脂からなるフィルムが使用できる。
(Protective film)
As a material for forming the protective film, a material excellent in transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture barrier property, isotropy and the like is preferable. As the protective film, a film made of a crystalline resin or an amorphous resin can be used.

結晶性樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、トリアセチルセルロース、ポリビニルアルコール、シクロオレフィンコポリマーなどが挙げられるが、ポリエステル系樹脂が好ましい。   Examples of the crystalline resin include polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene, triacetyl cellulose, polyvinyl alcohol, and cycloolefin copolymers. Polyester resins are preferred.

非晶性樹脂としては、シクロオレフィン系樹脂やポリカーボネート系樹脂などがあげられるが、優れた光透過性、耐傷性、耐水性を持ち、良好な機械的性質の観点から、ポリカーボネート系樹脂が好ましい。ポリカーボネート系樹脂には、例えば、脂肪族ポリカーボネート、芳香族ポリカーボネート、脂肪族−芳香族ポリカーボネートなどが挙げられる。   Examples of the amorphous resin include cycloolefin resins and polycarbonate resins, and polycarbonate resins are preferable from the viewpoint of excellent light transmittance, scratch resistance, water resistance, and good mechanical properties. Examples of the polycarbonate-based resin include aliphatic polycarbonate, aromatic polycarbonate, and aliphatic-aromatic polycarbonate.

保護フィルムは、透明樹脂フィルムと同様に、表面に予めスパッタリング、コロナ放電、火炎、紫外線照射、電子線照射、化成、酸化などのエッチング処理や下塗り(易接着層)処理を施して、保護フィルム上の粘着剤層等との密着性を向上させるようにしてもよい。また、粘着剤層を形成する前に、必要に応じて溶剤洗浄や超音波洗浄などにより、保護フィルム表面を除塵、清浄化してもよい。   As with the transparent resin film, the surface of the protective film is pre-treated with an etching process such as sputtering, corona discharge, flame, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, chemical conversion, oxidation, or undercoating (easily adhesive layer) on the surface. You may make it improve adhesiveness with the adhesive layer of this. In addition, before forming the pressure-sensitive adhesive layer, the surface of the protective film may be removed and cleaned by solvent cleaning or ultrasonic cleaning as necessary.

保護フィルムの厚みは、作業性等を向上する観点から、20〜150μmが好ましく、30〜100μmがより好ましく、40〜80μmが更に好ましい。   From the viewpoint of improving workability and the like, the thickness of the protective film is preferably 20 to 150 μm, more preferably 30 to 100 μm, and still more preferably 40 to 80 μm.

(粘着剤層)
粘着剤層としては、透明性を有するものであれば特に制限なく使用できる。具体的には、例えば、アクリル系ポリマー、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリビニルエーテル、酢酸ビニル/塩化ビニルコポリマー、変性ポリオレフィン、エポキシ系、フッ素系、天然ゴム、合成ゴム等のゴム系などのポリマーをベースポリマーとするものを適宜に選択して用いることができる。特に、光学的透明性に優れ、適度な濡れ性、凝集性および接着性等の粘着特性を示し、耐候性や耐熱性等にも優れるという点からは、アクリル系粘着剤が好ましく用いられる。
(Adhesive layer)
The pressure-sensitive adhesive layer can be used without particular limitation as long as it has transparency. Specifically, for example, acrylic polymers, silicone polymers, polyesters, polyurethanes, polyamides, polyvinyl ethers, vinyl acetate / vinyl chloride copolymers, modified polyolefins, epoxy systems, fluorine systems, natural rubbers, rubbers such as synthetic rubbers, etc. Those having the above polymer as a base polymer can be appropriately selected and used. In particular, an acrylic pressure-sensitive adhesive is preferably used from the viewpoint that it is excellent in optical transparency, exhibits adhesive properties such as appropriate wettability, cohesiveness and adhesiveness, and is excellent in weather resistance and heat resistance.

粘着剤層の形成方法は特に制限されず、剥離ライナーに粘着剤組成物を塗布し、乾燥後、基材フィルムに転写する方法(転写法)、保護フィルムに、直接、粘着剤組成物を塗布、乾燥する方法(直写法)や共押出しによる方法等があげられる。なお粘着剤には、必要に応じて粘着付与剤、可塑剤、充填剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、シランカップリング剤等を適宜に使用することもできる。粘着剤層の好ましい厚みは5μm〜100μmであり、より好ましくは10μm〜50μmであり、より好ましくは15μmから35μmである。   The method for forming the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited. The pressure-sensitive adhesive composition is applied to a release liner, dried and then transferred to a base film (transfer method), and the pressure-sensitive adhesive composition is directly applied to a protective film. And a drying method (direct copying method) and a co-extrusion method. In addition, a tackifier, a plasticizer, a filler, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a silane coupling agent, and the like can be appropriately used as the pressure-sensitive adhesive. The preferable thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is 5 μm to 100 μm, more preferably 10 μm to 50 μm, and more preferably 15 μm to 35 μm.

<透明導電性フィルム積層体の特性>
本発明の透明導電性フィルム積層体は、実施例における虹ムラの評価のxy表色でのバラツキとして、Δxが0.15以下、Δyが0.20以下であることが好ましく、Δxが0.13以下、Δyが0.17以下であることがより好ましい。
<Characteristics of transparent conductive film laminate>
In the transparent conductive film laminate of the present invention, Δx is preferably 0.15 or less, Δy is 0.20 or less, and Δx is 0.2 or less, as variations in xy color of evaluation of rainbow unevenness in Examples. More preferably, it is 13 or less and Δy is 0.17 or less.

また、これを達成する上で、透明樹脂フィルムを単体で用いた場合に、xy表色でのバラツキとして、Δxが0.15以下、Δyが0.20以下であることが好ましく、Δxが0.13以下、Δyが0.17以下であることがより好ましい。   Further, in order to achieve this, when a transparent resin film is used alone, Δx is preferably 0.15 or less and Δy is 0.20 or less, and Δx is 0 or less, as variations in xy color specification. .13 or less and Δy is more preferably 0.17 or less.

<タッチパネル>
透明導電性フィルム積層体からキャリアフィルム又は保護フィルムを剥離した透明導電性フィルム積層体は、例えば、静電容量方式、抵抗膜方式などのタッチパネルなどの電子機器の透明電極として好適に適用できる。
<Touch panel>
The transparent conductive film laminate in which the carrier film or the protective film is peeled off from the transparent conductive film laminate can be suitably applied as a transparent electrode of electronic devices such as a capacitive touch panel and a resistive film touch panel, for example.

タッチパネルの形成に際しては、前述した透明導電性フィルム積層体の一方または両方の主面に透明な粘着剤層を介して、ガラスや高分子フィルム等の他の基材等を貼り合わせることができる。例えば、透明導電性フィルム積層体の透明導電膜が形成されていない側の面に透明な粘着剤層を介して透明基体が貼り合わせられた積層体を形成してもよい。透明基体は、1枚の基体フィルムからなっていてもよく、2枚以上の基体フィルムの積層体(例えば透明な粘着剤層を介して積層したもの)であってもよい。また、透明導電性フィルム積層体に貼り合わせる透明基体の外表面にハードコート層を設けることもできる。透明導電性フィルム積層体と基材との貼り合わせに用いられる粘着剤層としては、前述の通り、透明性を有するものであれば特に制限なく使用できる。   In forming the touch panel, other base materials such as glass and a polymer film can be bonded to one or both main surfaces of the transparent conductive film laminate described above via a transparent adhesive layer. For example, you may form the laminated body by which the transparent base | substrate was bonded together through the transparent adhesive layer on the surface by which the transparent conductive film laminated body of the transparent conductive film is not formed. The transparent substrate may be composed of a single substrate film or may be a laminate of two or more substrate films (for example, laminated via a transparent adhesive layer). A hard coat layer can also be provided on the outer surface of the transparent substrate to be bonded to the transparent conductive film laminate. As described above, the pressure-sensitive adhesive layer used for bonding the transparent conductive film laminate and the substrate can be used without particular limitation as long as it has transparency.

本発明の透明導電性フィルム積層体をタッチパネルの形成に用いた場合、低位相差のポリエステルを基材として使用することで、十分な材料強度を有し、材料費が安価で生産性も良好で、しかも十分な虹ムラの抑制効果が得られる透明導電性フィルム積層体を有するタッチパネルを提供できる。タッチパネル用途以外であれば、電子機器から発せられる電磁波やノイズをシールドするシールド用途に用いることができる。   When the transparent conductive film laminate of the present invention is used for forming a touch panel, by using a low retardation polyester as a base material, it has sufficient material strength, the material cost is low, and the productivity is good. And the touch panel which has a transparent conductive film laminated body from which the suppression effect of sufficient rainbow nonuniformity is acquired can be provided. If it is other than a touch panel use, it can be used for the shield use which shields the electromagnetic waves and noise emitted from an electronic device.

以下、本発明に関して実施例を用いて詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、実施例等における物性等は次のようにして測定した。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated in detail using an Example, this invention is not limited to a following example. In addition, the physical property etc. in an Example etc. were measured as follows.

(位相差)
偏光・位相差測定システム(Axometrics製 製品名「AxoScan」)を用い、23℃の環境下にて、測定波長590nmで透明樹脂フィルムの面内位相差の測定を行った。また、同様にして、遅相軸方向および進相軸方向を回転中心としてフィルムを40°傾斜した際の位相差を測定した。なお、位相差の測定値の次数は、予め求めた透明樹脂フィルムの位相差の波長分散と一致するように決定した。これらの測定値から、透明樹脂フィルムの面内位相差値(R0)と厚み方向位相差値(Rth)を算出した。
(Phase difference)
The in-plane retardation of the transparent resin film was measured at a measurement wavelength of 590 nm in a 23 ° C. environment using a polarization / phase difference measurement system (product name “AxoScan” manufactured by Axometrics). Similarly, the phase difference was measured when the film was tilted by 40 ° with the slow axis direction and the fast axis direction as the center of rotation. In addition, the order of the measured value of the phase difference was determined so as to coincide with the wavelength dispersion of the phase difference of the transparent resin film obtained in advance. From these measured values, an in-plane retardation value (R0) and a thickness direction retardation value (Rth) of the transparent resin film were calculated.

(厚みの測定)
厚みは、1μm以上の厚みを有するものに関しては、マイクロゲージ式厚み計(ミツトヨ社製)にて測定を行った。また、1μm未満の厚みや光学調整層の厚みは、瞬間マルチ測光システム(大塚電子社製 MCPD2000)で測定した。ITO膜等の厚みのようにナノサイズの厚みは、FB−2000A(株式会社日立ハイテクノロジーズ製)にて断面観察用サンプルを作製し、断面TEM観察はHF−2000(株式会社日立ハイテクノロジーズ製)を用いて膜厚を測定した。評価した結果を表1に示す。
(Measurement of thickness)
Thickness was measured with a micro gauge thickness gauge (manufactured by Mitutoyo Corporation) for those having a thickness of 1 μm or more. The thickness of less than 1 μm and the thickness of the optical adjustment layer were measured with an instantaneous multi-photometry system (MCPD2000 manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.). For nano-sized thickness like the thickness of ITO film etc., FB-2000A (manufactured by Hitachi High-Technologies Co., Ltd.) is used to prepare a sample for cross-sectional observation, and cross-sectional TEM observation is HF-2000 (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation). Was used to measure the film thickness. The evaluation results are shown in Table 1.

(虹ムラの評価)
虹ムラの評価方法としては、xy表色でのバラツキ評価と黙視による4段階評価(◎〜×)とを行った。
(Evaluation of rainbow unevenness)
As a method for evaluating the rainbow unevenness, a variation evaluation with an xy color specification and a four-stage evaluation (◎ to ×) by silent vision were performed.

xy表色でのバラツキ評価は、コノスコープ(Autronic−Melchers社製、Conoscope)を用いて実施し、高輝度バックライトの上に市販の偏光板を配置したものを使用した。この第一の偏光板の吸収軸に対して、第一透明樹脂フィルムの遅相軸(即ち、配向軸)の方向が45°になるように透明導電性フィルムを載置し、さらに前記透明導電性フィルムの上に第一の偏光板の吸収軸に対して、吸収軸が直交するようにさらに第二の偏光板を載置し、全方位(極角0°〜80°、方位角0°〜360°)からコノスコープでx値とy値を測定し、その際のxy表色でのバラツキを評価した。Δx、Δyが小さいものほど虹ムラが抑制されていることになり、Δxが0.15以下、Δyが0.20以下が良好な虹ムラ抑制の目安となる。   The xy color variation was evaluated using a conoscope (manufactured by Autotronic-Melchers, Conoscope), and a commercially available polarizing plate was placed on a high-luminance backlight. A transparent conductive film is placed so that the direction of the slow axis (that is, the orientation axis) of the first transparent resin film is 45 ° with respect to the absorption axis of the first polarizing plate. The second polarizing plate is further placed on the conductive film so that the absorption axis is orthogonal to the absorption axis of the first polarizing plate, and all directions (polar angle 0 ° to 80 °, azimuth angle 0 °) The x value and the y value were measured with a conoscope from ˜360 °, and the variation in the xy color at that time was evaluated. As Δx and Δy are smaller, the rainbow unevenness is suppressed, and Δx is 0.15 or less and Δy is 0.20 or less, which is a good rainbow unevenness suppression standard.

また、黙視による4段階評価は、×:角度変化に対して色相が顕著に変化する、△:色相が顕著に変化する角度範囲が、概ね極角40〜60°の範囲であり、上記1に比して狭い、○:色相が顕著に変化する角度範囲が、概ね極角40〜50°の範囲であり、上記2に比してさらに狭い、◎:角度変化に対して、色相の変化がほとんど確認されない、とした。   In addition, the four-level evaluation by silent vision is that x: the hue changes significantly with respect to the angle change, Δ: the angle range where the hue changes significantly is a range of approximately polar angle 40-60 °, ◯: The angle range in which the hue changes remarkably is in the range of approximately 40 to 50 ° polar angle, and is narrower than the above 2. A: The hue changes with respect to the angle change Almost no confirmation was made.

[実施例1−1〜1−8]
二軸延伸の条件を変えることで、表1に示すような面内位相差値(R0)と厚み方向位相差値(Rth)と厚みを有する種々のポリエチレンテレフタレート(PET)を、第一透明樹脂フィルムとして準備した。
[Examples 1-1 to 1-8]
By changing the biaxial stretching conditions, various polyethylene terephthalates (PET) having in-plane retardation values (R0), thickness direction retardation values (Rth) and thicknesses as shown in Table 1 can be used as the first transparent resin. Prepared as a film.

これを基材として、その片面に、光学調整層として屈折率1.62のジルコニア粒子含有紫外線硬化型組成物(JSR社製、商品名「オプスタ―Z7412」を塗布し、塗布層を形成した。次いで、塗布層が形成された側から塗布層に紫外線を照射して、厚みが100nmとなるように光学調整層を形成した。   Using this as a base material, a zirconia particle-containing UV curable composition having a refractive index of 1.62 (manufactured by JSR Corporation, trade name “OPSTA Z7412”) was applied as an optical adjustment layer on one surface thereof to form a coating layer. Subsequently, the coating layer was irradiated with ultraviolet rays from the side on which the coating layer was formed, and an optical adjustment layer was formed so as to have a thickness of 100 nm.

次に、光学調整層が形成された第一透明樹脂フィルムを、巻き取り式スパッタ装置に投入し、光学調整層の表面に、厚みが27nmの非晶質のインジウム・スズ酸化物層(組成:SnO:10wt%)を形成して、透明導電膜を形成した。このようにして透明導電性フィルムを作製した。 Next, the first transparent resin film on which the optical adjustment layer is formed is put into a take-up sputtering apparatus, and an amorphous indium tin oxide layer (composition: 27 nm in thickness) is formed on the surface of the optical adjustment layer. SnO 2 : 10 wt%) was formed to form a transparent conductive film. In this way, a transparent conductive film was produced.

一方、光等方性の第二透明樹脂フィルムとして、面内位相差値(R0)が3nm、厚み方向位相差値(Rth)が100nm、厚みが40μmのポリシクロオレフィンフィルム(日本ゼオン社製、商品名「ZEONOR(登録商標)」)を準備した。   On the other hand, as the optically isotropic second transparent resin film, the in-plane retardation value (R0) is 3 nm, the thickness direction retardation value (Rth) is 100 nm, and the thickness is 40 μm. The product name “ZEONOR (registered trademark)” was prepared.

通常の溶液重合により、ブチルアクリレート/アクリル酸=100/6(重量比)にて重量平均分子量60万のアクリル系ポリマーを得た。このアクリル系ポリマー100重量部に対し、エポキシ系架橋剤(三菱瓦斯化学製、商品名「テトラッドC(登録商標)」)6重量部を加えてアクリル系粘着剤を準備した。
前記の第二透明樹脂フィルムに、前記アクリル系粘着剤を片面に塗工し、150℃で90秒間加熱して、厚さ10μmの粘着剤層を形成した。次いで、前記粘着剤層の表面に、片面にシリコーン処理を施したPET剥離ライナー(厚さ25μm)のシリコーン処理面を貼り合わせ、50℃で2日間保存して、剥離ライナー付き第二透明樹脂フィルムを作製した。
By normal solution polymerization, an acrylic polymer having a weight average molecular weight of 600,000 was obtained with butyl acrylate / acrylic acid = 100/6 (weight ratio). An acrylic pressure-sensitive adhesive was prepared by adding 6 parts by weight of an epoxy-based crosslinking agent (trade name “Tetrad C (registered trademark)”) manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd. to 100 parts by weight of the acrylic polymer.
The acrylic adhesive was applied to one side of the second transparent resin film and heated at 150 ° C. for 90 seconds to form an adhesive layer having a thickness of 10 μm. Next, the surface of the pressure-sensitive adhesive layer is bonded with a silicone-treated surface of a PET release liner (thickness 25 μm) having a silicone treatment on one side, stored at 50 ° C. for 2 days, and a second transparent resin film with a release liner. Was made.

この剥離ライナー付き第二透明樹脂フィルムを、剥離ライナーを剥離してから、前記光学調整層を形成した第一透明樹脂フィルムと貼り合わせて、透明導電性フィルム積層体を作製した。なお、貼り合わせは、第一透明樹脂フィルムの遅相軸と第二透明樹脂フィルムの遅相軸とが角度30°となるように行った。   The second transparent resin film with a release liner was peeled off from the release liner, and then bonded to the first transparent resin film on which the optical adjustment layer was formed to produce a transparent conductive film laminate. Bonding was performed so that the slow axis of the first transparent resin film and the slow axis of the second transparent resin film were at an angle of 30 °.

[比較例1−1〜1−10]
実施例1−1において、表1に示すような面内位相差値(R0)と厚み方向位相差値(Rth)と厚みを有する種々のポリエチレンテレフタレート(PET)を、第一透明樹脂フィルムとして使用したこと以外は、実施例1−1と全く同じ条件で、透明導電性フィルム積層体を作製した。
[Comparative Examples 1-1 to 1-10]
In Example 1-1, various polyethylene terephthalates (PET) having in-plane retardation values (R0), thickness direction retardation values (Rth) and thicknesses as shown in Table 1 are used as the first transparent resin film. A transparent conductive film laminate was produced under exactly the same conditions as in Example 1-1 except that.

以上の透明導電性フィルム積層体の評価結果を表1に示す。   The evaluation results of the above transparent conductive film laminate are shown in Table 1.

表1の結果が示すように、実施例1−1〜1−8の透明導電性フィルム積層体は、合計の面内位相差値が150nm以下、厚み方向位相差値が1100nm以下であるため、Δxが0.16以下、Δyが0.20以下となり、また黙視評価でも良好な結果であり、十分な虹ムラ抑制が可能であった。このことは、ディスプレイを偏光サングラスを通してみた時の虹ムラが抑えられることを意味する。これに対して、面内位相差値が150nmを超えるか、厚み方向位相差値が1100nmを超える比較例1−1〜1−10では、ΔxとΔyの少なくとも一方が大きく、黙視評価でも結果が悪く、虹ムラを抑制する効果が不十分であった。   As the results of Table 1 show, the transparent conductive film laminates of Examples 1-1 to 1-8 have a total in-plane retardation value of 150 nm or less and a thickness direction retardation value of 1100 nm or less. Δx was 0.16 or less and Δy was 0.20 or less, and the results were also good in the silent evaluation, and sufficient rainbow unevenness suppression was possible. This means that rainbow unevenness when the display is viewed through polarized sunglasses can be suppressed. On the other hand, in Comparative Examples 1-1 to 1-10 in which the in-plane retardation value exceeds 150 nm or the thickness direction retardation value exceeds 1100 nm, at least one of Δx and Δy is large, and the result of the silent evaluation is also obtained. Unfortunately, the effect of suppressing rainbow unevenness was insufficient.

[実施例2−1〜2−8]
実施例1−1〜1−8において、光等方性の第二透明樹脂フィルムを用いる代わりに、1/4波長シクロオレフィン樹脂フィルムを第二透明樹脂フィルムとして用いること以外は、全く同じ条件で透明導電性フィルム積層体を作製した。
[Examples 2-1 to 2-8]
In Examples 1-1 to 1-8, instead of using the optically isotropic second transparent resin film, the same conditions except that a quarter wavelength cycloolefin resin film is used as the second transparent resin film. A transparent conductive film laminate was produced.

なお、1/4波長シクロオレフィン樹脂フィルムとしては、面内位相差値(R0)が
140nm、厚み方向位相差値(Rth)が80nm、厚みが100μmのポリシクロオレフィンフィルム(日本ゼオン社製、商品名「ZEONOR(登録商標)」)を使用した。また、貼り合わせは、第一透明樹脂フィルムの遅相軸と第二透明樹脂フィルムの遅相軸とが角度45°となるように行った。
In addition, as a 1/4 wavelength cycloolefin resin film, an in-plane retardation value (R0) is 140 nm, a thickness direction retardation value (Rth) is 80 nm, and a thickness is 100 μm. The name “ZEONOR®”) was used. The pasting was performed so that the slow axis of the first transparent resin film and the slow axis of the second transparent resin film were at an angle of 45 °.

[比較例2−1〜2−10]
実施例2−1において、表1に示すような面内位相差値(R0)と厚み方向位相差値(Rth)と厚みを有する種々のポリエチレンテレフタレート(PET)を、第一透明樹脂フィルムとして使用したこと以外は、実施例2−1と全く同じ条件で、透明導電性フィルム積層体を作製した。
[Comparative Examples 2-1 to 2-10]
In Example 2-1, various polyethylene terephthalates (PET) having in-plane retardation values (R0), thickness direction retardation values (Rth) and thicknesses as shown in Table 1 are used as the first transparent resin film. A transparent conductive film laminate was produced under exactly the same conditions as in Example 2-1, except that this was done.

以上の透明導電性フィルム積層体の評価結果を表2に示す。   Table 2 shows the evaluation results of the transparent conductive film laminate.

表2の結果が示すように、実施例2−1〜2−8の透明導電性フィルム積層体は、面内位相差値が150nm以下、厚み方向位相差値が1100nm以下であるため、Δxが0.16以下、Δyが0.20以下となり、また黙視評価でも良好な結果であり、十分な虹ムラ抑制が可能であった。このことは、ディスプレイを偏光サングラスを通してみた時の虹ムラが抑えられることを意味する。これに対して、面内位相差値が150nmを超えるか、厚み方向位相差値が1100nmを超える比較例2−1〜2−10では、ΔxとΔyの少なくとも一方が大きく、黙視評価でも結果が悪く、虹ムラを抑制する効果が不十分であった。   As the result of Table 2 shows, since the transparent conductive film laminated body of Examples 2-1 to 2-8 has an in-plane retardation value of 150 nm or less and a thickness direction retardation value of 1100 nm or less, Δx is It was 0.16 or less, and Δy was 0.20 or less, and it was also a good result in the silent evaluation, and sufficient rainbow unevenness suppression was possible. This means that rainbow unevenness when the display is viewed through polarized sunglasses can be suppressed. On the other hand, in Comparative Examples 2-1 to 2-10 in which the in-plane retardation value exceeds 150 nm or the thickness direction retardation value exceeds 1100 nm, at least one of Δx and Δy is large, and the result of the silent evaluation is also obtained. Unfortunately, the effect of suppressing rainbow unevenness was insufficient.

[実施例3]
実施例1−1において、次のようにして第一透明樹脂フィルムに硬化樹脂層を形成したものを用いたこと以外は、実施例1−1と全く同じ条件で、透明導電性フィルム積層体を作製した。
[Example 3]
In Example 1-1, the transparent conductive film laminate was prepared under the same conditions as in Example 1-1 except that a cured resin layer was formed on the first transparent resin film as follows. Produced.

まず、紫外線硬化性樹脂組成物(DIC社製 商品名「UNIDIC(登録商標)RS29−120」)を100重量部と、最頻粒子径が1.9μmであるアクリル系球状粒子(綜研化学社製、商品名「MX−180TA」)を0.2重量部とを含む、球状粒子入り硬化性樹脂組成物を準備した。   First, 100 parts by weight of an ultraviolet curable resin composition (trade name “UNIDIC (registered trademark) RS29-120” manufactured by DIC Corporation) and acrylic spherical particles having a mode particle diameter of 1.9 μm (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) And a curable resin composition containing spherical particles, containing 0.2 part by weight of a trade name “MX-180TA”).

準備した球状粒子入り硬化性樹脂組成物を厚みが50μmでPET基材(第一透明樹脂フィルム)の一方の面に塗布し、塗布層を形成した。次いで、塗布層が形成された側から塗布層に紫外線を照射して、厚みが1.0μmとなる様に第2の硬化樹脂層を形成した。PET基材の他方の面に、上記とは球状粒子を添加しない以外は同様の方法で、厚みが1.0μmとなる様に第1の硬化樹脂層を形成した。なお、光学調整層と透明導電膜の形成は、第1の硬化樹脂層の表面に行った。   The prepared curable resin composition containing spherical particles was applied to one surface of a PET substrate (first transparent resin film) with a thickness of 50 μm to form an application layer. Next, the coating layer was irradiated with ultraviolet rays from the side on which the coating layer was formed, and a second cured resin layer was formed so as to have a thickness of 1.0 μm. A first cured resin layer was formed on the other surface of the PET substrate by the same method except that spherical particles were not added, so that the thickness was 1.0 μm. The optical adjustment layer and the transparent conductive film were formed on the surface of the first cured resin layer.

得られた透明導電性フィルム積層体の虹ムラの評価を行った結果、実施例1−1と実質的に同じΔxとΔyとを有しており、また黙視評価でも良好な結果であり、十分な虹ムラ抑制が可能であった。   As a result of evaluating the rainbow unevenness of the obtained transparent conductive film laminate, it has substantially the same Δx and Δy as in Example 1-1, and is also a good result in the silent evaluation, which is sufficient Rainbow unevenness suppression was possible.

[実施例4]
実施例1−1において、粘着剤の代わりに、活性エネルギー線硬化型接着剤を用いたこと以外は、実施例1−1と全く同じ条件で、透明導電性フィルム積層体を作製した。
[Example 4]
In Example 1-1, a transparent conductive film laminate was produced under exactly the same conditions as Example 1-1 except that an active energy ray-curable adhesive was used instead of the adhesive.

ヒドロキシエチルアクリルアミド50重量部、メチルアクリレート30重量部、アロニックスM−220(東亞合成社製)40重量部、IRGACURE907(チバ・ジャパン社製)1.5重量部を混合して50℃で1時間撹拌し活性エネルギー線硬化型接着剤を得た。   50 parts by weight of hydroxyethylacrylamide, 30 parts by weight of methyl acrylate, 40 parts by weight of Aronix M-220 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and 1.5 parts by weight of IRGACURE907 (manufactured by Ciba Japan) are mixed and stirred at 50 ° C. for 1 hour. An active energy ray-curable adhesive was obtained.

第一透明樹脂フィルムに上記活性エネルギー線硬化型接着剤をMCDコーター(富士機械社製)(セル形状:ハニカム、グラビアロール線数:1000本/inch、回転速度140%/対ライン速)を用いて、接着剤層の厚みが1μmになるように塗布した。次いで、前記活性エネルギー線硬化型接着剤を介して、第二透明樹脂フィルムを貼り合わせた。その後、第一透明樹脂フィルムに側から、高圧水銀ランプの紫外線(波長365nm)を照射して、接着剤を硬化させて、透明導電性フィルム積層体を得た。   MCD coater (manufactured by Fuji Machinery Co., Ltd.) (cell shape: honeycomb, number of gravure rolls: 1000 / inch, rotational speed 140% / line speed) is used for the first transparent resin film with the above active energy ray-curable adhesive. The adhesive layer was applied so that the thickness of the adhesive layer was 1 μm. Subsequently, the 2nd transparent resin film was bonded together through the said active energy ray hardening-type adhesive agent. Thereafter, the first transparent resin film was irradiated with ultraviolet rays (wavelength 365 nm) of a high-pressure mercury lamp from the side to cure the adhesive, and a transparent conductive film laminate was obtained.

得られた透明導電性フィルム積層体の虹ムラの評価を行った結果、実施例1−1と実質的に同じΔxとΔyとを有しており、また黙視評価でも良好な結果であり、十分な虹ムラ抑制が可能であった。   As a result of evaluating the rainbow unevenness of the obtained transparent conductive film laminate, it has substantially the same Δx and Δy as in Example 1-1, and is also a good result in the silent evaluation, which is sufficient Rainbow unevenness suppression was possible.

1 保護フィルム
2 粘着剤層
3 第2の硬化樹脂層(アンチブロッキング層)
4 第一透明樹脂フィルム
5 第1の硬化樹脂層(ハードコート層)
6 透明導電膜
7 光学調整層
8 接着剤層
9 第二透明樹脂フィルム
10 キャリアフィルム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Protective film 2 Adhesive layer 3 2nd cured resin layer (anti-blocking layer)
4 First transparent resin film 5 First cured resin layer (hard coat layer)
6 Transparent conductive film 7 Optical adjustment layer 8 Adhesive layer 9 Second transparent resin film 10 Carrier film

Claims (8)

透明導電膜と第一透明樹脂フィルムと接着剤層と第二透明樹脂フィルムとをこの順で有する透明導電性フィルム積層体であって、
前記第一透明樹脂フィルムは、二軸延伸されたポリエステル系樹脂フィルムであり、
前記第一透明樹脂フィルムと前記第二透明樹脂フィルムの合計の位相差として、面内位相差値が150nm以下、厚み方向位相差値が1100nm以下である透明導電性フィルム積層体。
A transparent conductive film laminate having a transparent conductive film, a first transparent resin film, an adhesive layer and a second transparent resin film in this order,
The first transparent resin film is a biaxially stretched polyester resin film,
A transparent conductive film laminate having an in-plane retardation value of 150 nm or less and a thickness direction retardation value of 1100 nm or less as a total retardation of the first transparent resin film and the second transparent resin film.
前記第一透明樹脂フィルムは、面内位相差値が150nm以下、厚み方向位相差値が1100nm以下である請求項1に記載の透明導電性フィルム積層体。   2. The transparent conductive film laminate according to claim 1, wherein the first transparent resin film has an in-plane retardation value of 150 nm or less and a thickness direction retardation value of 1100 nm or less. 前記第二透明樹脂フィルムは、ポリシクロオレフィン、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、ポリビニルアルコール、シクロオレフィンコポリマーを含む請求項1又は2に記載の透明導電性フィルム積層体。   The transparent conductive film laminate according to claim 1, wherein the second transparent resin film contains polycycloolefin, polycarbonate, triacetyl cellulose, polyvinyl alcohol, and a cycloolefin copolymer. 前記第一透明樹脂フィルムの厚みが5〜50μmである請求項1〜3いずれかに記載の透明導電性フィルム積層体。   The thickness of said 1st transparent resin film is 5-50 micrometers, The transparent conductive film laminated body in any one of Claims 1-3. 前記第一透明樹脂フィルムは、長尺体又は矩形状の枚葉体であり、長辺又は短辺に対して配向軸が10〜45°の角度を有する請求項1〜4のいずれか1項に記載の透明導電性フィルム積層体。   The first transparent resin film is a long or rectangular sheet, and the orientation axis has an angle of 10 to 45 ° with respect to the long side or the short side. The transparent conductive film laminated body of description. 前記第一透明樹脂フィルムと前記透明導電膜との間には、少なくとも1層の光学調整層を有する請求項1〜5のいずれか1項に記載の透明導電性フィルム積層体。   The transparent conductive film laminated body of any one of Claims 1-5 which has an at least 1 layer of optical adjustment layer between said 1st transparent resin film and said transparent conductive film. 前記第一透明樹脂フィルム又は前記第二透明樹脂フィルムの少なくとも一方の表面に、硬化樹脂層を有する請求項1〜6いずれか1項に記載の透明導電性フィルム積層体。   The transparent conductive film laminated body of any one of Claims 1-6 which has a cured resin layer in the at least one surface of said 1st transparent resin film or said 2nd transparent resin film. 請求項1〜7のいずれか1項に記載の透明導電性フィルム積層体を用いて得られるタッチパネル。
The touch panel obtained using the transparent conductive film laminated body of any one of Claims 1-7.
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