KR20210132004A - laminated film - Google Patents
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Abstract
제1 외측층, 중간층, 및 제2 외측층을 이 순서로 포함하고, 상기 제1 외측층은, 지환식 구조를 함유하는 중합체를 포함하고, 유리 전이 온도가 TgA1(℃)인 수지 A1로 이루어지고, 상기 제2 외측층은, 지환식 구조를 함유하는 중합체를 포함하고, 유리 전이 온도가 TgA2(℃)인 수지 A2로 이루어지고, 상기 중간층은, 지환식 구조를 함유하는 중합체 및 자외선 흡수제를 포함하고, 유리 전이 온도가 TgB(℃)인 수지 B로 이루어지고, TgA1 및 TgA2가, 각각 독립적으로 150℃ 이상이고, (TgA1 - TgB) 및 (TgA2 - TgB)가, 각각 독립적으로 0℃ 이상 60℃ 이하이고, 상기 수지 B에 있어서의 상기 자외선 흡수제의 농도가, 5 중량% 이상 20 중량% 이하이고, 상기 중간층의 두께(TB)의, 상기 제1 외측층의 두께(TA1) 및 상기 제2 외측층의 두께(TA2)의 합계에 대한 비율(TB/(TA1 + TA2))이, 0.1 이상 0.35 이하인, 적층 필름.a first outer layer, an intermediate layer, and a second outer layer in this order, wherein the first outer layer comprises a polymer containing an alicyclic structure and is made of a resin A1 having a glass transition temperature of TgA1 (°C) and the second outer layer comprises a polymer containing an alicyclic structure, and consists of a resin A2 having a glass transition temperature of TgA2 (°C), and the intermediate layer is a polymer containing an alicyclic structure and a UV absorber. comprising, consisting of resin B having a glass transition temperature of TgB (°C), TgA1 and TgA2 are each independently 150°C or higher, (TgA1-TgB) and (TgA2-TgB) are each independently 0°C or higher 60° C. or less, the concentration of the ultraviolet absorber in the resin B is 5 wt% or more and 20 wt% or less, and the thickness of the first outer layer (TA1) and the thickness of the first outer layer (TB) of the intermediate layer (TB) The laminated|multilayer film whose ratio (TB/(TA1 + TA2)) with respect to the sum total of the thickness (TA2) of 2 outer layers is 0.1 or more and 0.35 or less.
Description
본 발명은, 적층 필름에 관한 것이다.This invention relates to laminated|multilayer film.
근년, 터치 패널이 구비된 화상 표시 장치의 수요가 늘어나고 있어, 터치 패널의 부재인, 투명 도전성 필름의 개발이 진행되고 있다. 투명 도전성 필름으로는, 기재인 수지 필름 상에, 투명 도전층이 적층되어 있는 필름이 개시되어 있다(특허문헌 1, 2).In recent years, the demand of the image display apparatus with a touch panel is increasing, and development of the transparent conductive film which is a member of a touch panel is advancing. As a transparent conductive film, the film in which the transparent conductive layer is laminated|stacked on the resin film which is a base material is disclosed (patent document 1, 2).
화상 표시 장치는, 태양광 등의, 자외선을 포함하는 광 아래에서 사용될 수 있다. 화상 표시 장치를 자외선에 의한 열화로부터 보호하기 위하여, 자외선 흡수제를 포함하는 수지 필름이, 투명 도전성 필름의 기재 필름이나, 편광판 보호 필름 등으로서 사용되고 있다. 수지 필름으로는, 자외선 흡수제를 포함하는 수지의 층을 중간층으로서 구비하는, 3층 구조의 적층 필름이 개시되어 있다(특허문헌 3~5).The image display apparatus can be used under light including ultraviolet rays, such as sunlight. In order to protect an image display apparatus from deterioration by an ultraviolet-ray, the resin film containing a ultraviolet absorber is used as a base film of a transparent conductive film, a polarizing plate protective film, etc. As a resin film, the laminated|multilayer film of the three-layer structure provided with the layer of resin containing a ultraviolet absorber as an intermediate|middle layer is disclosed (patent documents 3-5).
자외선 흡수제를 포함하는 수지의 층을 중간층으로서 구비하는 적층 필름은, 중간층의 두께에 편차가 존재하면, 자외선 흡수의 성능도 불균일해질 수 있다. 또한, 적층 필름은, 그 제조 공정 등에 있어서, 고온에 노출되는 경우가 있다. 고온에 노출됨으로써, 적층 필름에 주름이 발생하면, 적층 필름을 포함하는 부재 또는 장치의 광학적 특성을 유지할 수 없는 경우가 있다. 또한, 이러한 부재 또는 장치를 효율적으로 제조할 수 없는 경우가 있다.In the laminated film provided with the layer of resin containing a ultraviolet absorber as an intermediate|middle layer, if there exists a dispersion|variation in the thickness of an intermediate|middle layer, the performance of ultraviolet absorption may also become non-uniform|heterogenous. In addition, laminated|multilayer film may be exposed to high temperature in the manufacturing process etc.. When a wrinkle arises in laminated|multilayer film by exposure to high temperature, the optical characteristic of the member or apparatus containing a laminated|multilayer film may not be maintained. In addition, there are cases in which such members or devices cannot be efficiently manufactured.
따라서, 자외선 흡수제를 포함하는 중간층에 있어서 두께의 편차가 억제되어 있고, 또한 고온에 노출되어도 주름이 발생하기 어려운 적층 필름이 요구되고 있다.Therefore, in the intermediate|middle layer containing a ultraviolet absorber, the dispersion|variation in thickness is suppressed, and even if it exposes to high temperature, the laminated|multilayer film which wrinkles are hard to generate|occur|produce is calculated|required.
본 발명자는, 상기 과제를 해결하기 위하여, 예의 검토하였다. 그 결과, 제1 외측층, 중간층, 및 제2 외측층을 이 순서로 포함하는 적층 필름에 있어서, 각 층의 유리 전이 온도, 각 층의 두께의 비, 중간층에 있어서의 자외선 흡수제의 농도를 소정의 범위 내에 들어가게 함으로써, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명을 완성시켰다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM This inventor earnestly studied in order to solve the said subject. As a result, in the laminated film including the first outer layer, the intermediate layer, and the second outer layer in this order, the glass transition temperature of each layer, the ratio of the thickness of each layer, and the concentration of the ultraviolet absorber in the intermediate layer are predetermined. By making it fall within the range, it found out that the said subject could be solved, and completed this invention.
즉, 본 발명은, 이하를 제공한다.That is, the present invention provides the following.
[1] 제1 외측층, 중간층, 및 제2 외측층을 이 순서로 포함하고,[1] comprising a first outer layer, an intermediate layer, and a second outer layer in this order,
상기 제1 외측층은, 지환식 구조를 함유하는 중합체를 포함하고, 유리 전이 온도가 TgA1(℃)인 수지 A1로 이루어지고,The first outer layer comprises a polymer containing an alicyclic structure and consists of a resin A1 having a glass transition temperature of TgA1 (°C),
상기 제2 외측층은, 지환식 구조를 함유하는 중합체를 포함하고, 유리 전이 온도가 TgA2(℃)인 수지 A2로 이루어지고,The second outer layer comprises a polymer containing an alicyclic structure and consists of a resin A2 having a glass transition temperature of TgA2 (°C),
상기 중간층은, 지환식 구조를 함유하는 중합체 및 자외선 흡수제를 포함하고, 유리 전이 온도가 TgB(℃)인 수지 B로 이루어지고,The intermediate layer comprises a polymer containing an alicyclic structure and a UV absorber, and consists of a resin B having a glass transition temperature of TgB (°C),
TgA1 및 TgA2가, 각각 독립적으로 150℃ 이상이고,TgA1 and TgA2 are each independently 150 ° C. or higher,
TgA1과 TgB의 차(TgA1 - TgB) 및 TgA2와 TgB의 차(TgA2 - TgB)가, 각각 독립적으로 0℃ 이상 60℃ 이하이고,The difference between TgA1 and TgB (TgA1-TgB) and the difference between TgA2 and TgB (TgA2-TgB) are each independently 0°C or more and 60°C or less,
상기 수지 B에 있어서의 상기 자외선 흡수제의 농도가, 5 중량% 이상 20 중량% 이하이고,The concentration of the ultraviolet absorber in the resin B is 5 wt% or more and 20 wt% or less,
상기 중간층의 두께(TB)의, 상기 제1 외측층의 두께(TA1) 및 상기 제2 외측층의 두께(TA2)의 합계에 대한 비율(TB/(TA1 + TA2))이, 0.1 이상 0.35 이하인, 적층 필름.The ratio (TB/(TA1 + TA2)) of the thickness TB of the intermediate layer to the sum of the thickness TA1 of the first outer layer and the thickness TA2 of the second outer layer is 0.1 or more and 0.35 or less , laminated film.
[2] 상기 수지 A1의 280℃ 및 하중 2.16 kg에서의 멜트 매스 플로우 레이트가, RA1(g/10 min)이고,[2] The melt mass flow rate of the resin A1 at 280°C and a load of 2.16 kg is RA1 (g/10 min),
상기 수지 A2의 280℃ 및 하중 2.16 kg에서의 멜트 매스 플로우 레이트가, RA2(g/10 min)이고,The melt mass flow rate of the resin A2 at 280°C and a load of 2.16 kg is RA2 (g/10 min),
상기 수지 B의 280℃ 및 하중 2.16 kg에서의 멜트 매스 플로우 레이트가, RB(g/10 min)이고,The melt mass flow rate at 280° C. and a load of 2.16 kg of the resin B is RB (g/10 min),
RB의 RA1에 대한 비율(RB/RA1) 및 RB의 RA2에 대한 비율(RB/RA2)이, 각각 독립적으로 3.5 이상 15.0 이하인, [1]에 기재된 적층 필름.The laminated film according to [1], wherein the ratio of RB to RA1 (RB/RA1) and the ratio of RB to RA2 (RB/RA2) are each independently 3.5 or more and 15.0 or less.
[3] 상기 수지 A1에 있어서의 자외선 흡수제의 농도 및 상기 수지 A2에 있어서의 자외선 흡수제의 농도가, 각각 독립적으로 0 중량% 이상 5 중량% 미만인, [1] 또는 [2]에 기재된 적층 필름.[3] The laminated film according to [1] or [2], wherein the concentration of the ultraviolet absorbent in the resin A1 and the concentration of the ultraviolet absorber in the resin A2 are each independently 0% by weight or more and less than 5% by weight.
[4] 상기 중간층의 일방의 면에 바로 접하여 상기 제1 외측층이 형성되고, 상기 중간층의 타방의 면에 바로 접하여 상기 제2 외측층이 형성되어 있는, [1]~[3] 중 어느 한 항에 기재된 적층 필름.[4] Any one of [1] to [3], wherein the first outer layer is formed in direct contact with one surface of the intermediate layer, and the second outer layer is formed in direct contact with the other surface of the intermediate layer The laminated|multilayer film of Claim.
[5] 파장 320 nm 이상 380 nm 이하에서의 광선 투과율이, 1.0% 이하이고, 상기 중간층에 포함되는 상기 자외선 흡수제가, 벤조트리아졸계 자외선 흡수제 및 트리아진계 자외선 흡수제로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는, [1]~[4] 중 어느 한 항에 기재된 적층 필름.[5] The light transmittance at a wavelength of 320 nm or more and 380 nm or less is 1.0% or less, and the ultraviolet absorber included in the intermediate layer is at least one selected from the group consisting of a benzotriazole-based ultraviolet absorber and a triazine-based ultraviolet absorber. The laminated film according to any one of [1] to [4], comprising:
[6] 투명 도전층을 더 포함하는, [1]~[5] 중 어느 한 항에 기재된 적층 필름.[6] The laminated film according to any one of [1] to [5], further comprising a transparent conductive layer.
[7] 상기 투명 도전층이, 인듐주석옥사이드를 포함하는 층, 은 나노와이어를 포함하는 층, 또는 구리 메시 구조를 포함하는 층인, [6]에 기재된 적층 필름.[7] The laminated film according to [6], wherein the transparent conductive layer is a layer containing indium tin oxide, a layer containing silver nanowires, or a layer containing a copper mesh structure.
본 발명에 의하면, 자외선 흡수제를 포함하는 중간층에 있어서 두께의 편차가 억제되어 있고, 또한 고온에 노출되어도 주름이 발생하기 어려운 적층 필름을 제공할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the dispersion|variation in thickness is suppressed in the intermediate|middle layer containing a ultraviolet absorber, and even if it exposes to high temperature, it can provide the laminated|multilayer film which wrinkles do not generate|occur|produce easily.
도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따른 적층 필름을 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 다른 실시형태에 따른 적층 필름을 모식적으로 나타내는 단면도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing which shows typically the laminated|multilayer film which concerns on one Embodiment of this invention.
It is sectional drawing which shows typically the laminated|multilayer film which concerns on another embodiment of this invention.
이하, 본 발명에 대하여 실시형태 및 예시물을 나타내어 상세하게 설명한다. 단, 본 발명은 이하에 나타내는 실시형태 및 예시물에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 청구범위 및 그 균등한 범위를 일탈하지 않는 범위에 있어서 임의로 변경하여 실시할 수 있다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail by showing embodiments and examples. However, this invention is not limited to embodiment and the example shown below, In the range which does not deviate from the range which does not deviate from the Claim of this invention and its equivalent, it can change arbitrarily and can implement it.
이하의 설명에 있어서, 「장척」의 필름이란, 폭에 대하여 5배 이상의 길이를 갖는 필름을 말하며, 바람직하게는 10배 혹은 그 이상의 길이를 갖고, 구체적으로는 롤상으로 권취되어 보관 또는 운반되는 정도의 길이를 갖는 필름을 말한다. 필름의 길이의 상한은, 특별히 제한은 없고, 예를 들어, 폭에 대하여 10만배 이하로 할 수 있다.In the following description, the "long" film refers to a film having a length of 5 times or more with respect to the width, and preferably has a length of 10 times or more, and specifically, the extent to which it is wound in a roll and stored or transported. A film with a length of There is no restriction|limiting in particular in the upper limit of the length of a film, For example, it can be made into 100,000 times or less with respect to a width|variety.
이하의 설명에 있어서, 층의 면내 방향에 있어서의 리타데이션 Re는, 별도로 언급하지 않는 한, Re = (nx - ny) × d로 나타내어지는 값이다. 여기서, nx는, 층의 두께 방향과 수직한 방향(면내 방향)으로서 최대의 굴절률을 부여하는 방향의 굴절률을 나타낸다. ny는, 층의 상기 면내 방향으로서 nx의 방향과 직교하는 방향의 굴절률을 나타낸다. d는, 층의 두께를 나타낸다. 측정 파장은, 별도로 언급하지 않는 한, 590 nm이다.In the following description, the retardation Re in the in-plane direction of the layer is a value represented by Re = (nx - ny) x d, unless otherwise specified. Here, nx represents the refractive index of the direction which gives the largest refractive index as a direction (in-plane direction) perpendicular to the thickness direction of a layer. ny represents the refractive index of the direction orthogonal to the direction of nx as the said in-plane direction of a layer. d represents the thickness of the layer. The measurement wavelength is 590 nm, unless otherwise stated.
이하의 설명에 있어서, 요소의 방향이 「평행」, 「수직」 및 「직교」란, 별도로 언급하지 않는 한, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위 내, 예를 들어 ±3°, ±2° 또는 ±1°의 범위 내에서의 오차를 포함하고 있어도 된다.In the following description, the directions of elements are "parallel", "vertical" and "orthogonal", unless otherwise specified, within a range that does not impair the effects of the present invention, for example, ±3°, ±2° Alternatively, an error within the range of ±1° may be included.
본 명세서에 있어서 「제」란, 단일종의 물질이어도 되고, 복수종의 물질을 포함하는 것이어도 된다.In this specification, a single type of substance may be sufficient as "agent", and a multiple type of substance may be included.
[1. 적층 필름][One. laminated film]
[1.1. 적층 필름의 개요][1.1. Overview of Laminated Film]
본 발명의 일 실시형태에 따른 적층 필름은, 제1 외측층, 중간층, 및 제2 외측층을 이 순서로 포함한다. 도 1은, 본 발명의 일 실시형태에 따른 적층 필름을 모식적으로 나타내는 단면도이다. 도 1에 나타내는 바와 같이, 적층 필름(100)은, 제1 외측층(110), 중간층(120), 제2 외측층(130)을 이 순서로 포함한다. 제1 외측층(110)은, 중간층(120)의 일방의 면(120U)에 바로 접하여 형성되어 있다. 제2 외측층(130)은, 중간층(120)의 타방의 면(120D)에 바로 접하여 형성되어 있다. 제1 외측층(110)은, 두께(TA1)를 갖는다. 제2 외측층(130)은, 두께(TA2)를 갖는다. 중간층(120)은, 두께(TB)를 갖는다.A laminated film according to an embodiment of the present invention includes a first outer layer, an intermediate layer, and a second outer layer in this order. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing which shows typically the laminated|multilayer film which concerns on one Embodiment of this invention. 1 , the laminated
제1 외측층(110)은, 수지 A1로 이루어지고, 수지 A1을 재료로 하여 형성되어 있다.The first outer layer 110 is made of a resin A1, and is formed using the resin A1 as a material.
제2 외측층(130)은, 수지 A2로 이루어지고, 수지 A2를 재료로 하여 형성되어 있다.The second outer layer 130 is made of resin A2, and is formed using resin A2 as a material.
중간층(120)은, 수지 B로 이루어지고, 수지 B를 재료로 하여 형성되어 있다.The intermediate layer 120 is made of resin B, and is formed using the resin B as a material.
중간층(120)의 두께(TB)의, 제1 외측층(110)의 두께(TA1) 및 제2 외측층(130)의 두께(TA2)의 합계에 대한 비율(TB/(TA1 + TA2))은, 통상 0.1 이상 0.35 이하이다.The ratio of the thickness TB of the intermediate layer 120 to the sum of the thickness TA1 of the first outer layer 110 and the thickness TA2 of the second outer layer 130 (TB/(TA1 + TA2)) Silver is usually 0.1 or more and 0.35 or less.
적층 필름(100)이, 상기 구성을 가짐으로써, 중간층(120)에 있어서 두께의 편차가 억제되어 있고, 또한 고온에 노출되어도 주름이 발생하기 어려운 적층 필름으로 할 수 있다.When the laminated|
[1.2. 수지 A1][1.2. Resin A1]
제1 외측층을 형성하는 수지 A1은, 지환식 구조를 함유하는 중합체를 포함하고, 유리 전이 온도가 TgA1(℃)이다.Resin A1 forming the first outer layer contains a polymer containing an alicyclic structure, and has a glass transition temperature of TgA1 (°C).
지환식 구조를 함유하는 중합체란, 반복 단위 중에 지환식 구조를 함유하는 중합체이다. 이하, 지환식 구조를 함유하는 중합체를, 「지환식 구조 함유 중합체」라고도 한다.The polymer containing an alicyclic structure is a polymer containing an alicyclic structure in a repeating unit. Hereinafter, the polymer containing an alicyclic structure is also called "a polymer containing an alicyclic structure."
지환식 구조 함유 중합체는, 기계적 강도가 우수하다. 또한, 지환식 구조 함유 중합체는, 통상, 투명성, 저흡수성, 내습성, 치수 안정성 및 경량성이 우수하다.The alicyclic structure-containing polymer is excellent in mechanical strength. Moreover, an alicyclic structure containing polymer is excellent in transparency, low water absorption, moisture resistance, dimensional stability, and light weight normally.
지환식 구조 함유 중합체의 예로는, 고리형 올레핀을 단량체로서 사용한 중합 반응에 의해 얻어질 수 있는 중합체 또는 그 수소화물 등을 들 수 있다. 또한, 상기의 지환식 구조 함유 중합체로는, 주쇄 중에 지환식 구조를 함유하는 중합체, 및 측쇄에 지환식 구조를 함유하는 중합체를 어느 것이나 사용할 수 있다. 그 중에서도, 지환식 구조 함유 중합체는, 주쇄에 지환식 구조를 함유하는 것이 바람직하다. 지환식 구조로는, 예를 들어, 시클로알칸 구조, 시클로알켄 구조 등을 들 수 있으나, 열 안정성 등의 관점에서 시클로알칸 구조가 바람직하다.Examples of the alicyclic structure-containing polymer include a polymer obtainable by a polymerization reaction using a cyclic olefin as a monomer, or a hydride thereof. In addition, as said alicyclic structure-containing polymer, either a polymer containing an alicyclic structure in a main chain, and a polymer containing an alicyclic structure in a side chain can be used. Especially, it is preferable that an alicyclic structure containing polymer contains an alicyclic structure in a main chain. As an alicyclic structure, although a cycloalkane structure, a cycloalkene structure, etc. are mentioned, for example, From a viewpoint of thermal stability etc., a cycloalkane structure is preferable.
1개의 지환식 구조에 포함되는 탄소 원자의 수는, 바람직하게는 4개 이상, 보다 바람직하게는 5개 이상, 특히 바람직하게는 6개 이상이고, 바람직하게는 30개 이하, 보다 바람직하게는 20개 이하, 특히 바람직하게는 15개 이하이다. 1개의 지환식 구조에 포함되는 탄소 원자의 수가 상기 범위 내에 있음으로써, 기계적 강도, 내열성, 및 성형성이 고도로 밸런스된다.The number of carbon atoms contained in one alicyclic structure is preferably 4 or more, more preferably 5 or more, particularly preferably 6 or more, preferably 30 or less, more preferably 20 or more. or less, particularly preferably 15 or less. When the number of carbon atoms contained in one alicyclic structure is within the above range, mechanical strength, heat resistance, and moldability are highly balanced.
지환식 구조 함유 중합체 중의 지환식 구조를 갖는 반복 단위의 비율은, 바람직하게는 30 중량% 이상, 보다 바람직하게는 50 중량% 이상, 더욱 바람직하게는 70 중량% 이상, 특히 바람직하게는 90 중량% 이상이다. 지환식 구조를 갖는 반복 단위의 비율을 상기와 같이 많게 함으로써, 내열성을 높일 수 있다.The proportion of the repeating unit having an alicyclic structure in the alicyclic structure-containing polymer is preferably 30% by weight or more, more preferably 50% by weight or more, still more preferably 70% by weight or more, particularly preferably 90% by weight or more. More than that. Heat resistance can be improved by increasing the ratio of the repeating unit which has an alicyclic structure as mentioned above.
또한, 지환식 구조 함유 중합체에 있어서, 지환식 구조를 갖는 반복 단위 이외의 잔부는, 특별한 한정은 없고, 사용 목적에 따라 적당히 선택할 수 있다.In addition, in the alicyclic structure-containing polymer, the remainder other than the repeating unit having an alicyclic structure is not particularly limited, and may be appropriately selected according to the intended use.
지환식 구조 함유 중합체의 예로는, (1) 노르보르넨계 중합체, (2) 단환의 고리형 올레핀 중합체, (3) 고리형 공액 디엔 중합체, (4) 비닐 지환식 탄화수소 중합체, 및 이들의 수소화물을 들 수 있다. 이들 중에서도, 투명성 및 성형성의 관점에서, 노르보르넨계 중합체 및 이 수소화물이 바람직하다.Examples of the alicyclic structure-containing polymer include (1) norbornene polymers, (2) monocyclic cyclic olefin polymers, (3) cyclic conjugated diene polymers, (4) vinyl alicyclic hydrocarbon polymers, and hydrides thereof can be heard Among these, a norbornene-type polymer and this hydride are preferable from a viewpoint of transparency and a moldability.
노르보르넨계 중합체의 예로는, 노르보르넨 구조를 갖는 단량체의 개환 중합체 및 그 수소화물; 노르보르넨 구조를 갖는 단량체의 부가 중합체 및 그 수소화물을 들 수 있다. 또한, 노르보르넨 구조를 갖는 단량체의 개환 중합체의 예로는, 노르보르넨 구조를 갖는 1종류의 단량체의 개환 단독 중합체, 노르보르넨 구조를 갖는 2종류 이상의 단량체의 개환 공중합체, 그리고, 노르보르넨 구조를 갖는 단량체 및 이것과 공중합할 수 있는 임의의 단량체와의 개환 공중합체를 들 수 있다. 또한, 노르보르넨 구조를 갖는 단량체의 부가 중합체의 예로는, 노르보르넨 구조를 갖는 1종류의 단량체의 부가 단독 중합체, 노르보르넨 구조를 갖는 2종류 이상의 단량체의 부가 공중합체, 그리고, 노르보르넨 구조를 갖는 단량체 및 이것과 공중합할 수 있는 임의의 단량체와의 부가 공중합체를 들 수 있다. 이들 중에서, 노르보르넨 구조를 갖는 단량체의 개환 중합체의 수소화물은, 성형성, 내열성, 저흡습성, 저투습성, 치수 안정성 및 경량성의 관점에서, 특히 호적하다.Examples of the norbornene-based polymer include a ring-opened polymer of a monomer having a norbornene structure and a hydride thereof; The addition polymer of the monomer which has a norbornene structure, and its hydride are mentioned. Further, examples of the ring-opened polymer of the monomer having a norbornene structure include a ring-opened homopolymer of one type of monomer having a norbornene structure, a ring-opened copolymer of two or more types of monomers having a norbornene structure, and norbornene A ring-opened copolymer of the monomer which has a nene structure, and the arbitrary monomer which can be copolymerized with this is mentioned. In addition, as an example of the addition polymer of the monomer which has a norbornene structure, the addition homopolymer of one type of monomer which has a norbornene structure, the addition copolymer of two or more types of monomers which have a norbornene structure, and norbornene The addition copolymer of the monomer which has a nene structure, and arbitrary monomers copolymerizable with this is mentioned. Among these, the hydride of the ring-opened polymer of the monomer which has a norbornene structure is especially suitable from a viewpoint of moldability, heat resistance, low moisture absorption, low moisture permeability, dimensional stability, and lightness.
노르보르넨 구조를 갖는 단량체로는, 예를 들어, 비시클로[2.2.1]헵토-2-엔(관용명: 노르보르넨), 트리시클로[4.3.0.12,5]데카-3,7-디엔(관용명: 디시클로펜타디엔), 7,8-벤조트리시클로[4.3.0.12,5]데카-3-엔(관용명: 메타노테트라하이드로플루오렌), 테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]도데카-3-엔(관용명: 테트라시클로도데센), 및 이들 화합물의 유도체(예를 들어, 고리에 치환기를 갖는 것)를 들 수 있다. 여기서, 치환기로는, 예를 들어 알킬기, 알킬렌기, 및 극성기를 들 수 있다. 이들 치환기는, 동일 또는 상이하고, 복수개가 고리에 결합하고 있어도 된다. 노르보르넨 구조를 갖는 단량체는, 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 임의의 비율로 조합하여 사용해도 된다.Examples of the monomer having a norbornene structure include bicyclo[2.2.1]hepto-2-ene (common name: norbornene), tricyclo[4.3.0.1 2,5 ]deca-3,7- Diene (common name: dicyclopentadiene), 7,8-benzotricyclo[4.3.0.1 2,5 ]deca-3-ene (common name: methanotetrahydrofluorene), tetracyclo[4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ]dodeca-3-ene (common name: tetracyclododecene), and derivatives of these compounds (eg, those having a substituent on the ring). Here, as a substituent, an alkyl group, an alkylene group, and a polar group are mentioned, for example. These substituents may be the same or different, and two or more may couple|bond with the ring. The monomer which has a norbornene structure may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
노르보르넨 구조를 갖는 단량체의 개환 중합체는, 예를 들어, 단량체를 개환 중합 촉매의 존재 하에 중합 또는 공중합함으로써 제조할 수 있다.The ring-opening polymer of the monomer having a norbornene structure can be produced, for example, by polymerizing or copolymerizing the monomer in the presence of a ring-opening polymerization catalyst.
노르보르넨 구조를 갖는 단량체의 부가 중합체는, 예를 들어, 단량체를 부가 중합 촉매의 존재 하에 중합 또는 공중합함으로써 제조할 수 있다.The addition polymer of the monomer having a norbornene structure can be produced, for example, by polymerizing or copolymerizing the monomer in the presence of an addition polymerization catalyst.
상술한 개환 중합체 및 부가 중합체의 수소화물은, 예를 들어, 개환 중합체 및 부가 중합체의 용액에 있어서, 니켈, 팔라듐 등의 전이 금속을 포함하는 수소화 촉매의 존재 하에서, 탄소-탄소 불포화 결합을, 바람직하게는 90% 이상 수소화함으로써 제조할 수 있다.The hydrides of the above-mentioned ring-opened polymer and addition polymer, for example, in the solution of the ring-opened polymer and the addition polymer, in the presence of a hydrogenation catalyst containing a transition metal such as nickel or palladium, carbon-carbon unsaturated bonds, preferably Preferably, it can be prepared by hydrogenating at least 90%.
수지 A1에 포함되는 지환식 구조 함유 중합체의 중량 평균 분자량(Mw)은, 바람직하게는 10,000 이상, 보다 바람직하게는 15,000 이상, 더욱 바람직하게는 20,000 이상이고, 바람직하게는 100,000 이하, 보다 바람직하게는 80,000 이하, 더욱 바람직하게는 50,000 이하이다. 이러한 중량 평균 분자량을 갖는 지환식 구조 함유 중합체는, 기계적 강도, 성형 가공성 및 내열성의 밸런스가 우수하다.The weight average molecular weight (Mw) of the alicyclic structure-containing polymer contained in the resin A1 is preferably 10,000 or more, more preferably 15,000 or more, still more preferably 20,000 or more, preferably 100,000 or less, more preferably It is 80,000 or less, More preferably, it is 50,000 or less. The alicyclic structure-containing polymer having such a weight average molecular weight is excellent in the balance of mechanical strength, moldability, and heat resistance.
수지 A1에 포함되는 지환식 구조 함유 중합체의 분자량 분포(Mw/Mn)는, 바람직하게는 1.2 이상, 보다 바람직하게는 1.5 이상, 특히 바람직하게는 1.8 이상이고, 바람직하게는 3.5 이하, 보다 바람직하게는 3.4 이하, 특히 바람직하게는 3.3 이하이다. 분자량 분포가 상기 범위의 하한값 이상임으로써, 지환식 구조 함유 중합체의 생산성을 높여, 제조 비용을 억제할 수 있다. 또한, 상한값 이하임으로써, 저분자 성분의 양이 작아지므로, 제1 외측층의 안정성을 높일 수 있다.The molecular weight distribution (Mw/Mn) of the alicyclic structure-containing polymer contained in the resin A1 is preferably 1.2 or more, more preferably 1.5 or more, particularly preferably 1.8 or more, preferably 3.5 or less, more preferably is 3.4 or less, particularly preferably 3.3 or less. When molecular weight distribution is more than the lower limit of the said range, productivity of an alicyclic structure containing polymer can be improved and manufacturing cost can be suppressed. Moreover, since the amount of a low molecular component becomes small when it is below an upper limit, stability of a 1st outer side layer can be improved.
수지 A1에 포함되는 지환식 구조 함유 중합체 및 후술하는 수지 A2에 포함되는 지환식 구조 함유 중합체의 중량 평균 분자량 Mw 및 수평균 분자량 Mn은, 용매로서 시클로헥산을 사용한 겔·퍼미에이션·크로마토그래피(이하, 「GPC」라고 약칭한다.)에 의해, 폴리이소프렌 환산의 값으로 측정할 수 있다. 수지가 시클로헥산에 용해되지 않는 경우에는, 용매로서 톨루엔을 사용한 GPC에 의해, 폴리스티렌 환산의 값으로 측정할 수 있다.The weight average molecular weight Mw and number average molecular weight Mn of the alicyclic structure-containing polymer contained in Resin A1 and the alicyclic structure-containing polymer contained in Resin A2, which will be described later, are determined by gel permeation chromatography (hereinafter referred to as cyclohexane) using cyclohexane as a solvent. , "GPC" is abbreviated). When resin does not melt|dissolve in cyclohexane, it can measure with the value of polystyrene conversion by GPC using toluene as a solvent.
지환식 구조 함유 중합체를 포함하는 수지로는, 여러 가지 상품이 시판되고 있으므로, 그들 중, 원하는 특성을 갖는 것을 적당히 선택하여 사용할 수 있다. 이러한 시판품의 예로는, 상품명 「ZEONOR」(니폰 제온 주식회사 제조), 「아톤」(JSR 주식회사 제조), 「아펠」(미츠이 화학 주식회사 제조), 「TOPAS」(TOPAS Advanced Polymers사 제조)의 제품군을 들 수 있다.As a resin containing an alicyclic structure containing polymer, since various goods are marketed, among them, what has a desired characteristic can be selected suitably and can be used. Examples of such commercially available products include product lines of product names "ZEONOR" (manufactured by Nippon Zeon Corporation), "Aton" (manufactured by JSR Corporation), "Apel" (manufactured by Mitsui Chemicals Corporation), and "TOPAS" (manufactured by TOPAS Advanced Polymers). can
수지 A1에 있어서의 지환식 구조 함유 중합체의 양은, 바람직하게는 80 중량% 이상, 보다 바람직하게는 90 중량% 이상, 더욱 바람직하게는 95 중량% 이상이며, 통상 100 중량% 이하이고, 98 중량% 이하여도 된다. 수지 A1에 있어서의 지환식 구조 함유 중합체의 양이, 상기 하한값 이상임으로써, 수지 A1이, 지환식 구조 함유 중합체가 갖는 특성을 구비할 수 있다.The amount of the alicyclic structure-containing polymer in the resin A1 is preferably 80% by weight or more, more preferably 90% by weight or more, still more preferably 95% by weight or more, and is usually 100% by weight or less, and 98% by weight. It may be as follows. When the amount of the alicyclic structure-containing polymer in the resin A1 is equal to or more than the lower limit, the resin A1 can have characteristics that the alicyclic structure-containing polymer has.
수지 A1은, 지환식 구조 함유 중합체를 1종류 단독으로 포함하고 있어도 되고, 2종류 이상의 임의의 비율의 조합으로서 포함하고 있어도 된다.Resin A1 may contain an alicyclic structure containing polymer individually by 1 type, and may contain it as a combination of 2 or more types of arbitrary ratios.
수지 A1은, 지환식 구조 함유 중합체 외에, 임의의 성분을 포함하고 있어도 된다.Resin A1 may contain arbitrary components other than an alicyclic structure containing polymer.
임의의 성분의 예로는, 지환식 구조 함유 중합체 이외의 중합체; 무기 미립자; 산화 방지제, 열 안정제, 자외선 흡수제, 근적외선 흡수제 등의 안정제; 활제, 가소제 등의 수지 개질제; 염료나 안료 등의 착색제; 및 대전 방지제를 들 수 있다. 이들 임의의 성분으로는, 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 임의의 비율로 조합하여 사용해도 된다.Examples of the optional component include polymers other than the alicyclic structure-containing polymer; inorganic particulates; Stabilizers, such as antioxidant, a heat stabilizer, a ultraviolet absorber, and a near-infrared absorber; resin modifiers such as lubricants and plasticizers; colorants such as dyes and pigments; and antistatic agents. As these arbitrary components, you may use individually by 1 type, and may use it combining two or more types by arbitrary ratios.
수지 A1은, 임의의 성분으로서, 자외선 흡수제를 포함하고 있어도 된다. 자외선 흡수제가 제1 외측층으로부터 블리드 아웃하는 것을 억제하는 관점에서, 수지 A1에 있어서의 자외선 흡수제의 농도는, 바람직하게는 5 중량% 미만, 보다 바람직하게는 3 중량% 이하, 더욱 바람직하게는 1 중량% 이하이며, 통상 0 중량% 이상이고, 0 중량%여도 된다.Resin A1 may contain the ultraviolet absorber as an arbitrary component. From the viewpoint of suppressing the ultraviolet absorber from bleed out from the first outer layer, the concentration of the ultraviolet absorber in the resin A1 is preferably less than 5% by weight, more preferably 3% by weight or less, still more preferably 1 It is weight % or less, normally 0 weight% or more, and 0 weight% may be sufficient.
수지 A1이 포함할 수 있는 자외선 흡수제의 예로는, 수지 B가 포함하는 자외선 흡수제의 예로서 후술하는 자외선 흡수제를 들 수 있다.Examples of the ultraviolet absorber that the resin A1 may contain include a ultraviolet absorber which will be described later as an example of the ultraviolet absorber contained in the resin B.
[수지 A1의 물성][Physical Properties of Resin A1]
수지 A1의 유리 전이 온도 TgA1(℃)은, 통상 150℃ 이상, 바람직하게는 155℃ 이상, 보다 바람직하게는 160℃ 이상이고, 바람직하게는 185℃ 이하, 보다 바람직하게는 175℃ 이하이다. 유리 전이 온도 TgA1이, 상기 하한값 이상임으로써, 적층 필름에 있어서 고온 노출시의 주름의 발생을 억제할 수 있다.The glass transition temperature TgA1 (°C) of the resin A1 is usually 150°C or higher, preferably 155°C or higher, more preferably 160°C or higher, preferably 185°C or lower, and more preferably 175°C or lower. When glass transition temperature TgA1 is more than the said lower limit, generation|occurrence|production of the wrinkles at the time of high temperature exposure in laminated|multilayer film can be suppressed.
수지 A1의 유리 전이 온도 TgA1(℃), 후술하는 수지 B의 유리 전이 온도 TgB(℃), 및 후술하는 수지 A2의 유리 전이 온도 TgA2(℃)는, JIS K7121에 기초하여, 시차 주사 열량 분석법(이하, DSC라고도 한다.)에 의해 측정할 수 있다.The glass transition temperature TgA1 (° C.) of the resin A1, the glass transition temperature TgB (° C.) of the resin B described later, and the glass transition temperature TgA2 (° C.) of the resin A2 described below are based on JIS K7121, differential scanning calorimetry ( Hereinafter, also referred to as DSC).
DSC에 의한 유리 전이 온도의 측정은, 실온부터 200℃까지 20℃/min으로 승온하고, 이어서 40℃까지 20℃/min으로 냉각한 시료에 대하여, 40℃부터 200℃까지 10℃/min으로 승온하는 조건으로 행할 수 있다.The measurement of the glass transition temperature by DSC is a sample heated at 20°C/min from room temperature to 200°C, and then cooled to 40°C at 20°C/min, the temperature is increased from 40°C to 200°C at 10°C/min. It can be done under the condition that
수지 A1의, 280℃ 및 하중 2.16 kg에서의 멜트 매스 플로우 레이트 RA1은, 바람직하게는 0.5 g/10 min 이상, 보다 바람직하게는 1 g/10 min 이상, 더욱 바람직하게는 3 g/10 min 이상이고, 바람직하게는 50 g/10 min 이하, 보다 바람직하게는 30 g/10 min 이하, 더욱 바람직하게는 20 g/10 min 이하이다. 수지 A1의 멜트 매스 플로우 레이트 RA1을 상기 범위 내로 함으로써, 보다 효과적으로 적층 필름에 있어서 고온 노출시의 주름의 발생을 억제할 수 있다. 수지 A1의 멜트 매스 플로우 레이트 RA1은, 예를 들어, 수지 A1의 중량 평균 분자량을 조정하는 방법, 활제; 가소제 등의 수지 개질제; 및 자외선 흡수제 등의 첨가제의 함유량을 조정하는 방법에 의해 조정할 수 있다.The resin A1 has a melt mass flow rate RA1 at 280°C and a load of 2.16 kg, preferably 0.5 g/10 min or more, more preferably 1 g/10 min or more, still more preferably 3 g/10 min or more. and preferably 50 g/10 min or less, more preferably 30 g/10 min or less, still more preferably 20 g/10 min or less. By making melt mass flow rate RA1 of resin A1 into the said range, generation|occurrence|production of the wrinkles at the time of high temperature exposure in laminated|multilayer film can be suppressed more effectively. Melt mass flow rate RA1 of resin A1 is, for example, the method of adjusting the weight average molecular weight of resin A1, a lubricant; resin modifiers such as plasticizers; And it can adjust by the method of adjusting content of additives, such as a ultraviolet absorber.
수지 A1 그리고 후술하는 수지 A2 및 수지 B의 멜트 매스 플로우 레이트(이하, 멜트 매스 플로우 레이트를 MFR이라고도 한다.)는, JIS K7210에 기초하여, 멜트 인덱서를 사용하여, 온도 280℃, 하중 2.16 kg의 조건으로 측정할 수 있다.Melt mass flow rates of Resin A1 and Resin A2 and Resin B described later (hereinafter, also referred to as melt mass flow rate MFR) are based on JIS K7210, using a melt indexer, at a temperature of 280°C and a load of 2.16 kg. conditions can be measured.
[1.3. 수지 A2][1.3. Resin A2]
제2 외측층을 형성하는 수지 A2는, 지환식 구조를 함유하는 중합체를 포함하고, 유리 전이 온도가 TgA2(℃)이다.Resin A2 forming the second outer layer contains a polymer containing an alicyclic structure, and has a glass transition temperature of TgA2 (°C).
수지 A2에 포함되는 지환식 구조 함유 중합체의 예로는, 수지 A1에 포함되는 지환식 구조 함유 중합체의 예와 동일한 예를 들 수 있다. 수지 A2에 포함되는 지환식 구조 함유 중합체로는, 수지 A1에 포함되는 지환식 구조 함유 중합체의 호적한 예에서 적당히 선택할 수 있다.Examples of the alicyclic structure-containing polymer contained in the resin A2 include the same examples as the examples of the alicyclic structure-containing polymer contained in the resin A1. The alicyclic structure-containing polymer contained in the resin A2 can be appropriately selected from suitable examples of the alicyclic structure-containing polymer contained in the resin A1.
수지 A2에 포함되는 지환식 구조 함유 중합체의 중량 평균 분자량은, 수지 A1에 포함되는 지환식 구조 함유 중합체에 있어서의 중량 평균 분자량(Mw)의 호적한 범위와 동일한 범위로 할 수 있다.The weight average molecular weight of the alicyclic structure-containing polymer contained in Resin A2 can be within the same range as the suitable range of the weight average molecular weight (Mw) of the alicyclic structure-containing polymer contained in Resin A1.
수지 A2에 포함되는 지환식 구조 함유 중합체의 분자량 분포(Mw/Mn)는, 수지 A1에 포함되는 지환식 구조 함유 중합체에 있어서의 분자량 분포의 호적한 범위와 동일한 범위로 할 수 있다.The molecular weight distribution (Mw/Mn) of the alicyclic structure-containing polymer contained in the resin A2 can be within the same range as the suitable range of the molecular weight distribution of the alicyclic structure-containing polymer contained in the resin A1.
수지 A2에 있어서의 지환식 구조 함유 중합체의 양은, 수지 A1에 있어서의 지환식 구조 함유 중합체의 호적한 양과 동일한 범위로 할 수 있다.The amount of the alicyclic structure-containing polymer in the resin A2 can be within the same range as the suitable amount of the alicyclic structure-containing polymer in the resin A1.
수지 A2는, 지환식 구조 함유 중합체를 1종류 단독으로 포함하고 있어도 되고, 2종류 이상의 임의의 비율의 조합으로서 포함하고 있어도 된다.Resin A2 may contain the alicyclic structure containing polymer individually by 1 type, and may contain it as a combination of 2 or more types of arbitrary ratios.
수지 A2는, 지환식 구조 함유 중합체 외에, 임의의 성분을 포함하고 있어도 된다.Resin A2 may contain arbitrary components other than an alicyclic structure containing polymer.
임의의 성분의 예로는, 수지 A1에 포함될 수 있는 임의 성분과 동일한 예를 들 수 있다. 임의의 성분으로는, 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 임의의 비율로 조합하여 사용해도 된다.Examples of the optional component include the same examples as the optional component that may be included in the resin A1. As an arbitrary component, you may use individually by 1 type, and may use it combining two or more types by arbitrary ratios.
수지 A2는, 임의의 성분으로서, 자외선 흡수제를 포함하고 있어도 된다. 자외선 흡수제가 제2 외측층으로부터 블리드 아웃하는 것을 억제하는 관점에서, 수지 A2에 있어서의 자외선 흡수제의 농도는, 바람직하게는 5 중량% 미만, 보다 바람직하게는 3 중량% 이하, 더욱 바람직하게는 1 중량% 이하이며, 통상 0 중량% 이상이고, 0 중량%여도 된다.Resin A2 may contain the ultraviolet absorber as an arbitrary component. From the viewpoint of suppressing the ultraviolet absorber from bleed out from the second outer layer, the concentration of the ultraviolet absorber in the resin A2 is preferably less than 5% by weight, more preferably 3% by weight or less, still more preferably 1 It is weight % or less, normally 0 weight% or more, and 0 weight% may be sufficient.
수지 A2가 포함할 수 있는 자외선 흡수제의 예로는, 수지 B가 포함할 수 있는 자외선 흡수제의 예로서 후술된 자외선 흡수제를 들 수 있다.Examples of the ultraviolet absorber that the resin A2 may contain include the ultraviolet absorbers described later as examples of the ultraviolet absorber that the resin B may contain.
[수지 A2의 물성][Physical Properties of Resin A2]
수지 A2의 유리 전이 온도 TgA2(℃)는, 통상 150℃ 이상, 바람직하게는 155℃ 이상, 보다 바람직하게는 160℃ 이상이고, 바람직하게는 185℃ 이하, 보다 바람직하게는 175℃ 이하이다. 유리 전이 온도 TgA2가, 상기 하한값 이상임으로써, 적층 필름에 있어서 고온 노출시의 주름의 발생을 억제할 수 있다.The glass transition temperature TgA2 (°C) of the resin A2 is usually 150°C or higher, preferably 155°C or higher, more preferably 160°C or higher, preferably 185°C or lower, and more preferably 175°C or lower. When glass transition temperature TgA2 is more than the said lower limit, generation|occurrence|production of the wrinkles at the time of high temperature exposure in laminated|multilayer film can be suppressed.
수지 A2의, 280℃ 및 하중 2.16 kg에서의 멜트 매스 플로우 레이트 RA2는, 바람직하게는 0.5 g/10 min 이상, 보다 바람직하게는 1 g/10 min 이상, 더욱 바람직하게는 3 g/10 min 이상이고, 바람직하게는 50 g/10 min 이하, 보다 바람직하게는 30 g/10 min 이하, 더욱 바람직하게는 20 g/10 min 이하이다. 수지 A2의 MFR을 상기 범위 내로 함으로써, 보다 효과적으로 적층 필름에 있어서 고온 노출시의 주름의 발생을 억제할 수 있다. 수지 A2의 MFR은, 수지 A1의 MFR의 조정 방법으로서 예시한 방법과 동일한 방법에 의해 조정할 수 있다.The resin A2 has a melt mass flow rate RA2 at 280°C and a load of 2.16 kg, preferably 0.5 g/10 min or more, more preferably 1 g/10 min or more, still more preferably 3 g/10 min or more. and preferably 50 g/10 min or less, more preferably 30 g/10 min or less, still more preferably 20 g/10 min or less. By making MFR of resin A2 into the said range, generation|occurrence|production of the wrinkles at the time of high temperature exposure in laminated|multilayer film can be suppressed more effectively. MFR of resin A2 can be adjusted by the method similar to the method illustrated as a method of adjusting MFR of resin A1.
수지 A2는, 수지 A1과 다른 수지여도 된다. 예를 들어, 수지 A2는, 수지 A1과, 포함되는 지환식 구조 함유 중합체의, 종류, 중량 평균 분자량, 분자량 분포, 함유 비율 등이 달라도 되고, 포함될 수 있는 임의 성분의, 종류, 함유 비율 등이 달라도 된다. 또한 예를 들어, 수지 A2는, 수지 A1과, 유리 전이 온도, 멜트 매스 플로우 레이트 등의 물성이 달라도 된다.Resin A2 may be resin different from resin A1. For example, the resin A2 may differ from the resin A1 in the type, weight average molecular weight, molecular weight distribution, content ratio, etc. of the resin A1 and the alicyclic structure-containing polymer, and the type, content ratio, etc. may be different Moreover, for example, resin A2 may differ from resin A1 in physical properties, such as a glass transition temperature and a melt mass flow rate.
그러나, 적층 필름의 제조를 간편하게 하고, 적층 필름의 컬을 억제하는 관점에서, 수지 A2는, 수지 A1과 동일한 수지인 것이 바람직하다.However, it is preferable that resin A2 is resin similar to resin A1 from a viewpoint of simplifying manufacture of laminated|multilayer film and suppressing the curl of laminated|multilayer film.
[1.4. 수지 B][1.4. Resin B]
중간층을 형성하는 수지 B는, 지환식 구조를 함유하는 중합체 및 자외선 흡수제를 포함하고, 유리 전이 온도가 TgB(℃)이다.Resin B which forms an intermediate|middle layer contains the polymer containing an alicyclic structure, and a ultraviolet absorber, and has a glass transition temperature of TgB (degreeC).
수지 B에 포함되는 지환식 구조 함유 중합체의 예로는, 수지 A1에 포함되는 지환식 구조 함유 중합체의 예와 동일한 예를 들 수 있다. 수지 B에 포함되는 지환식 구조 함유 중합체로는, 수지 A1에 포함되는 지환식 구조 함유 중합체의 호적한 예에서 적당히 선택할 수 있다.Examples of the alicyclic structure-containing polymer contained in the resin B include the same examples as those of the alicyclic structure-containing polymer contained in the resin A1. The alicyclic structure-containing polymer contained in the resin B can be appropriately selected from suitable examples of the alicyclic structure-containing polymer contained in the resin A1.
수지 B에 포함되는 지환식 구조 함유 중합체의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 10,000 이상, 보다 바람직하게는 15,000 이상, 더욱 바람직하게는 20,000 이상이고, 바람직하게는 100,000 이하, 보다 바람직하게는 80,000 이하, 더욱 바람직하게는 50,000 이하이다. 이러한 중량 평균 분자량을 갖는 지환식 구조 함유 중합체는, 기계적 강도, 성형 가공성 및 내열성의 밸런스가 우수하다.The weight average molecular weight of the alicyclic structure-containing polymer contained in the resin B is preferably 10,000 or more, more preferably 15,000 or more, still more preferably 20,000 or more, preferably 100,000 or less, more preferably 80,000 or less, More preferably, it is 50,000 or less. The alicyclic structure-containing polymer having such a weight average molecular weight is excellent in the balance of mechanical strength, moldability, and heat resistance.
수지 B에 포함되는 지환식 구조 함유 중합체의 분자량 분포(Mw/Mn)는, 바람직하게는 1.2 이상, 보다 바람직하게는 1.5 이상, 특히 바람직하게는 1.8 이상이고, 바람직하게는 3.5 이하, 보다 바람직하게는 3.4 이하, 특히 바람직하게는 3.3 이하이다. 분자량 분포가 상기 범위의 하한값 이상임으로써, 지환식 구조 함유 중합체의 생산성을 높여, 제조 비용을 억제할 수 있다. 또한, 상한값 이하임으로써, 저분자 성분의 양이 작아지므로, 중간층의 안정성을 높일 수 있다.The molecular weight distribution (Mw/Mn) of the alicyclic structure-containing polymer contained in Resin B is preferably 1.2 or more, more preferably 1.5 or more, particularly preferably 1.8 or more, preferably 3.5 or less, more preferably is 3.4 or less, particularly preferably 3.3 or less. When molecular weight distribution is more than the lower limit of the said range, productivity of an alicyclic structure containing polymer can be improved and manufacturing cost can be suppressed. Moreover, since the quantity of a low molecular component becomes small by being below an upper limit, stability of an intermediate|middle layer can be improved.
수지 B에 있어서의 지환식 구조 함유 중합체의 양은, 바람직하게는 80 중량% 이상, 보다 바람직하게는 82 중량% 이상, 더욱 바람직하게는 85 중량% 이상이며, 통상 95 중량% 이하이고, 90 중량% 이하여도 된다.The amount of the alicyclic structure-containing polymer in the resin B is preferably 80% by weight or more, more preferably 82% by weight or more, still more preferably 85% by weight or more, and is usually 95% by weight or less, and 90% by weight or more. It may be as follows.
수지 B는, 지환식 구조 함유 중합체를 1종류 단독으로 포함하고 있어도 되고, 2종류 이상의 임의의 비율의 조합으로서 포함하고 있어도 된다.Resin B may contain an alicyclic structure containing polymer individually by 1 type, and may contain it as a combination of 2 or more types of arbitrary ratios.
수지 B에 포함되는 자외선 흡수제의 예로는, 벤조트리아졸계 자외선 흡수제, 트리아진계 자외선 흡수제, 벤조페논계 자외선 흡수제, 아크릴로니트릴계 자외선 흡수제, 살리실레이트계 자외선 흡수제, 시아노아크릴레이트계 자외선 흡수제, 아조메틴계 자외선 흡수제, 인돌계 자외선 흡수제, 나프탈이미드계 자외선 흡수제, 프탈로시아닌계 자외선 흡수제 등의 유기 자외선 흡수제를 들 수 있다.Examples of the ultraviolet absorber contained in the resin B include a benzotriazole-based ultraviolet absorber, a triazine-based ultraviolet absorber, a benzophenone-based ultraviolet absorber, an acrylonitrile-based ultraviolet absorber, a salicylate-based ultraviolet absorber, a cyanoacrylate-based ultraviolet absorber, Organic ultraviolet absorbers, such as an azomethine-type ultraviolet absorber, an indole-type ultraviolet absorber, a naphthalimide-type ultraviolet absorber, and a phthalocyanine-type ultraviolet absorber, are mentioned.
그 중에서도, 수지 B는, 벤조트리아졸계 자외선 흡수제 및 트리아진계 자외선 흡수제로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것이 바람직하다.Especially, it is preferable that resin B contains 1 or more types chosen from the group which consists of a benzotriazole type ultraviolet absorber and a triazine type ultraviolet absorber.
벤조트리아졸계 자외선 흡수제는, 분자 내에 벤조트리아졸 구조를 포함한다.A benzotriazole-type ultraviolet absorber contains a benzotriazole structure in a molecule|numerator.
벤조트리아졸계 자외선 흡수제의 예로는, 2,2'-메틸렌비스[6-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀], 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-p-크레졸, 및 2-(5-클로로-2H-벤조트리아졸-2-일)-6-tert-부틸-4-메틸페놀을 들 수 있다.Examples of the benzotriazole-based ultraviolet absorber include 2,2'-methylenebis[6-(2H-benzotriazol-2-yl)-4-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)phenol], 2 -(2H-benzotriazol-2-yl)-p-cresol, and 2-(5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl)-6-tert-butyl-4-methylphenol are mentioned. .
벤조트리아졸계 자외선 흡수제의 시판품의 예로는, ADEKA사 제조 「아데카스타브 LA-31」, 「아데카스타브 LA-32」, 「아데카스타브 LA-36」을 들 수 있다.As an example of the commercial item of a benzotriazole type|system|group ultraviolet absorber, the ADEKA company make "adekastave LA-31", "adekastave LA-32", and "adekastave LA-36" are mentioned.
트리아진계 자외선 흡수제는, 분자 내에 트리아진 구조를 포함한다. 트리아진계 자외선 흡수제로서, 분자 내에 1,3,5-트리아진 구조를 포함하는 화합물이 바람직하다.A triazine-type ultraviolet absorber contains a triazine structure in a molecule|numerator. As the triazine-based ultraviolet absorber, a compound having a 1,3,5-triazine structure in its molecule is preferable.
트리아진계 자외선 흡수제의 예로는, 2,4,6-트리스(2-하이드록시-3-메틸-4-헥실옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-5-(2-(2-에틸헥사노일옥시)에톡시)페놀, 및 2,4-디페닐-6-(2-하이드록시-4-헥실옥시페닐)-1,3,5-트리아진을 들 수 있다.Examples of the triazine-based UV absorber include 2,4,6-tris(2-hydroxy-3-methyl-4-hexyloxyphenyl)-1,3,5-triazine, 2-(4,6-diphenyl) -1,3,5-triazin-2-yl)-5-(2-(2-ethylhexanoyloxy)ethoxy)phenol, and 2,4-diphenyl-6-(2-hydroxy-4 -hexyloxyphenyl)-1,3,5-triazine is mentioned.
트리아진계 자외선 흡수제의 시판품의 예로는, ADEKA사 제조 「아데카스타브 LA-F70」, 「아데카스타브 LA-46」, 및 BASF 저팬사 제조 「티누빈 1577」을 들 수 있다.As an example of the commercial item of a triazine type|system|group ultraviolet absorber, "adekastave LA-F70" by ADEKA company, "adekastave LA-46", and BASF Japan company "Tinuvin 1577" are mentioned.
자외선 흡수제의 다른 구체예로는, 일본 공개특허공보 2017-154401호에 기재된 자외선 흡수제를 들 수 있다.As another specific example of a ultraviolet absorber, the ultraviolet absorber of Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-154401 is mentioned.
수지 B는, 자외선 흡수제를, 1종 단독으로 포함하고 있어도 되고, 2종 이상을 임의의 비율의 조합으로 포함하고 있어도 된다.Resin B may contain the ultraviolet absorber individually by 1 type, and may contain 2 or more types by the combination of arbitrary ratios.
수지 B에 있어서의 자외선 흡수제의 함유율은, 통상 5 중량% 이상, 바람직하게는 7 중량% 이상, 보다 바람직하게는 8 중량% 이상이고, 통상 20 중량% 이하, 바람직하게는 15 중량% 이하, 보다 바람직하게는 13 중량% 이하이다.The content of the ultraviolet absorber in the resin B is usually 5% by weight or more, preferably 7% by weight or more, more preferably 8% by weight or more, and usually 20% by weight or less, preferably 15% by weight or less, more Preferably, it is 13% by weight or less.
수지 B에 있어서의 자외선 흡수제의 함유율이, 상기 하한값 이상임으로써, 적층 필름에 있어서의 자외선 흡수 성능이 향상된다. 수지 B에 있어서의 자외선 흡수제의 함유율이, 상기 상한값 이하임으로써, 자외선 흡수제에 의한 수지 B의 착색을 억제하고, 수지 B에 있어서 자외선 흡수제가 보다 양호하게 분산될 수 있다.When the content rate of the ultraviolet absorber in resin B is more than the said lower limit, the ultraviolet absorption performance in laminated|multilayer film improves. When the content rate of the ultraviolet absorber in resin B is below the said upper limit, coloring of resin B by a ultraviolet absorber is suppressed, and in resin B, a ultraviolet absorber can be disperse|distributed more favorably.
수지 B는, 지환식 구조 함유 중합체 및 자외선 흡수제 외에, 임의의 성분을 포함하고 있어도 된다.Resin B may contain arbitrary components other than an alicyclic structure containing polymer and a ultraviolet absorber.
임의의 성분의 예로는, 수지 A1에 포함될 수 있는 임의 성분과 동일한 예를 들 수 있다. 임의의 성분으로는, 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 임의의 비율로 조합하여 사용해도 된다.Examples of the optional component include the same examples as the optional component that may be included in the resin A1. As an arbitrary component, you may use individually by 1 type, and may use it combining two or more types by arbitrary ratios.
[수지 B의 물성][Physical Properties of Resin B]
수지 A1의 유리 전이 온도 TgA1(℃)과 수지 B의 유리 전이 온도 TgB(℃)의 차(TgA1 - TgB)는, 통상 60℃ 이하이고, 바람직하게는 50℃ 이하, 보다 바람직하게는 48℃ 이하이며, 통상 0℃ 이상이다.The difference (TgA1-TgB) between the glass transition temperature TgA1 (°C) of the resin A1 and the glass transition temperature TgB (°C) of the resin B is usually 60°C or less, preferably 50°C or less, more preferably 48°C or less and is usually 0°C or higher.
또한, 수지 A2의 유리 전이 온도 TgA2(℃)와 수지 B의 유리 전이 온도 TgB(℃)의 차(TgA2 - TgB)는, 통상 60℃ 이하이고, 바람직하게는 50℃ 이하, 보다 바람직하게는 48℃ 이하이며, 통상 0℃ 이상이다.The difference (TgA2-TgB) between the glass transition temperature TgA2 (°C) of the resin A2 and the glass transition temperature TgB (°C) of the resin B is usually 60°C or less, preferably 50°C or less, more preferably 48 °C or lower, and usually 0 °C or higher.
수지 B의 유리 전이 온도 TgB가, 유리 전이 온도 TgA1 및 TgA2와 상기 관계에 있음으로써, 가열 후에 있어서의 적층 필름의 치수 변화를 억제할 수 있고, 또한 고온에 노출되어도 주름이 발생하기 어려운 적층 필름으로 할 수 있다.By having the glass transition temperature TgB of the resin B in the above relationship with the glass transition temperatures TgA1 and TgA2, the dimensional change of the laminated film after heating can be suppressed, and wrinkles are less likely to occur even when exposed to high temperatures. can do.
수지 B의, 280℃ 및 하중 2.16 kg에서의 멜트 매스 플로우 레이트 RB(g/10 min)의, 상기 멜트 매스 플로우 레이트 RA1에 대한 비율(RB/RA1)은, 통상 3.5 이상, 바람직하게는 4.0 이상이고, 통상 15.0 이하, 바람직하게는 14.5 이하, 보다 바람직하게는 14.0 이하이다. 비율(RB/RA1)이, 상기 하한값 이상임으로써, 중간층에 있어서의 두께의 편차가 억제되고, 또한 고온에 노출되어도 주름이 발생하기 어려운 적층 필름으로 할 수 있다.The ratio (RB/RA1) of the melt mass flow rate RB (g/10 min) of the resin B at 280° C. and a load of 2.16 kg to the melt mass flow rate RA1 is usually 3.5 or more, preferably 4.0 or more and is usually 15.0 or less, preferably 14.5 or less, and more preferably 14.0 or less. When ratio (RB/RA1) is more than the said lower limit, the dispersion|variation in the thickness in an intermediate|middle layer can be suppressed, and it can be set as the laminated|multilayer film which wrinkles do not generate|occur|produce easily even if it exposes to high temperature.
또한, 멜트 매스 플로우 레이트 RB의 상기 멜트 매스 플로우 레이트 RA2에 대한 비율(RB/RA2)은, 통상 3.5 이상, 바람직하게는 4.0 이상이고, 통상 15.0 이하, 바람직하게는 14.5 이하, 보다 바람직하게는 14.0 이하이다. 비율(RB/RA2)이, 상기 하한값 이상임으로써, 중간층에 있어서의 두께의 편차가 억제되고, 또한 고온에 노출되어도 주름이 발생하기 어려운 적층 필름으로 할 수 있다.In addition, the ratio (RB/RA2) of the melt mass flow rate RB to the melt mass flow rate RA2 is usually 3.5 or more, preferably 4.0 or more, and usually 15.0 or less, preferably 14.5 or less, more preferably 14.0 or more. is below. When ratio (RB/RA2) is more than the said lower limit, the dispersion|variation in the thickness in an intermediate|middle layer can be suppressed, and it can be set as the laminated|multilayer film which wrinkles do not generate|occur|produce easily even if it exposes to high temperature.
수지 B의 멜트 매스 플로우 레이트 RB는, 수지 A1의 MFR의 조정 방법으로서 예시한 방법과 동일한 방법에 의해 조정할 수 있다.The melt mass flow rate RB of resin B can be adjusted by the method similar to the method illustrated as a method of adjusting MFR of resin A1.
[1.5. 적층 필름의 구성, 물성 등][1.5. Composition of laminated film, physical properties, etc.]
적층 필름에 있어서, 중간층의 두께(TB)의, 제1 외측층의 두께(TA1) 및 제2 외측층의 두께(TA2)의 합계에 대한 비율(TB/(TA1 + TA2))은, 통상 0.1 이상, 바람직하게는 0.13 이상, 보다 바람직하게는 0.16 이상이고, 통상 0.35 이하, 바람직하게는 0.32 이하, 보다 바람직하게는 0.30 이하이다. 비율(TB/(TA1 + TA2))을, 상기 범위 내로 함으로써, 고온에 노출되어도 주름이 발생하기 어려운 적층 필름으로 할 수 있다.In the laminated film, the ratio (TB/(TA1 + TA2)) of the thickness (TB) of the intermediate layer to the sum of the thickness (TA1) of the first outer layer and the thickness (TA2) of the second outer layer is usually 0.1 or more, preferably 0.13 or more, more preferably 0.16 or more, and usually 0.35 or less, preferably 0.32 or less, more preferably 0.30 or less. By making the ratio (TB/(TA1 + TA2)) into the above range, it is possible to obtain a laminated film that does not easily generate wrinkles even when exposed to high temperatures.
적층 필름의 두께는, 적층 필름의 사용 목적 등에 따라 적당히 설정할 수 있고, 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 30 μm 이상 150 μm 이하이다.Although the thickness of laminated|multilayer film can be suitably set according to the purpose of use of laminated|multilayer film, etc. and is not specifically limited, Preferably they are 30 micrometers or more and 150 micrometers or less.
중간층의 두께는, 중간층에 포함되는 자외선 흡수제의 양 등에 따라 적당히 설정할 수 있고, 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 5 μm 이상 35 μm 이하이다.Although the thickness of an intermediate|middle layer can be suitably set according to the quantity etc. of the ultraviolet absorber contained in an intermediate|middle layer, It is although it does not specifically limit, Preferably they are 5 micrometers or more and 35 micrometers or less.
적층 필름은, 파장 320 nm 이상 380 nm 이하에서의 광선 투과율이, 통상 1.0% 이하이고, 바람직하게는 0.8% 이하이며, 이상적으로는 0%이고, 0% 이상이어도 된다.As for the laminated|multilayer film, the light transmittance in wavelength 320 nm or more and 380 nm or less is 1.0 % or less normally, Preferably it is 0.8 % or less, Ideally, it is 0 %, and 0 % or more may be sufficient as it.
적층 필름의 파장 320 nm 이상 380 nm 이하에서의 광선 투과율이, 상기 상한값 이하임으로써, 적층 필름이 보다 효과적으로 자외선을 커트할 수 있다.When the light transmittance in wavelength 320 nm or more of laminated|multilayer film 380 nm or less is below the said upper limit, laminated|multilayer film can cut an ultraviolet-ray more effectively.
파장 320 nm 이상 380 nm 이하에서의 광선 투과율은, 자외 가시 근적외 분광 광도계를 사용하여 측정될 수 있다.The light transmittance at a wavelength of 320 nm or more and 380 nm or less can be measured using an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer.
적층 필름은, 면내 방향에 있어서의 리타데이션 Re가, 바람직하게는 5 nm 이하, 보다 바람직하게는 3 nm 이하이고, 통상 0 nm 이상이다. 면내 방향에 있어서의 리타데이션 Re는, 시판의 복굴절계를 사용하여 측정될 수 있다.As for laminated|multilayer film, retardation Re in an in-plane direction becomes like this. Preferably it is 5 nm or less, More preferably, it is 3 nm or less, and is 0 nm or more normally. The retardation Re in the in-plane direction can be measured using a commercially available birefringent meter.
적층 필름은, 헤이즈가, 바람직하게는 5% 이하, 보다 바람직하게는 3% 이하이고, 통상 0% 이상이다. 헤이즈는, 시판의 헤이즈미터를 사용하여 측정될 수 있다.A haze of laminated|multilayer film becomes like this. Preferably it is 5 % or less, More preferably, it is 3 % or less, and is 0 % or more normally. The haze can be measured using a commercially available haze meter.
적층 필름은, 전체 광선 투과율이, 바람직하게는 90% 이상, 보다 바람직하게는 91% 이상이고, 통상 100% 이하이다. 전체 광선 투과율은 시판의 헤이즈미터를 사용하여 측정될 수 있다.The laminated film has a total light transmittance of preferably 90% or more, more preferably 91% or more, and is usually 100% or less. The total light transmittance can be measured using a commercially available haze meter.
적층 필름은, 145℃에서 60분간 가열 후에 있어서의 치수 변화율의 절대값이, 바람직하게는 0.1% 이하, 보다 바람직하게는 0.1% 미만이고, 통상 0% 이상이다.As for laminated|multilayer film, the absolute value of the dimensional change rate after heating at 145 degreeC for 60 minutes becomes like this. Preferably it is 0.1 % or less, More preferably, it is less than 0.1 %, and is 0 % or more normally.
145℃에서 60분간 가열한 후에 있어서의 치수 변화율의 절대값은, 가열 전의 적층 필름의 치수에 대한, 가열 후의 적층 필름의 치수 변화율의 절대값으로서 구할 수 있다.The absolute value of the dimensional change rate after heating at 145 degreeC for 60 minutes can be calculated|required as the absolute value of the dimensional change rate of the laminated|multilayer film after heating with respect to the dimension of the laminated|multilayer film before a heating.
보다 구체적으로는, 치수 변화율의 절대값은, 실시예에 있어서 설명하는 방법에 의해 구할 수 있다.More specifically, the absolute value of the dimensional change rate can be calculated|required by the method demonstrated in an Example.
[1.6. 적층 필름에 포함될 수 있는 임의의 층][1.6. Any layer that may be included in the laminated film]
적층 필름은, 상기의 제1 외측층, 중간층, 및 제2 외측층 외에, 임의의 층을 포함하고 있어도 된다. 임의의 층의 예로는, 투명 도전층, 접착층, 접착 보조층을 들 수 있다.The laminated|multilayer film may contain the layer arbitrary other than the said 1st outer side layer, an intermediate|middle layer, and a 2nd outer side layer. Examples of the optional layer include a transparent conductive layer, an adhesive layer, and an adhesive auxiliary layer.
[투명 도전층][Transparent conductive layer]
적층 필름은, 투명 도전층을 포함하고 있어도 된다.The laminated film may contain the transparent conductive layer.
도전층은, 예를 들어, 적층 필름의 최외면에 형성된다.A conductive layer is formed in the outermost surface of laminated|multilayer film, for example.
도 2는, 본 발명의 다른 실시형태에 따른 적층 필름을 모식적으로 나타내는 단면도이다. 적층 필름(200)은, 투명 도전층(240), 제1 외측층(210), 중간층(220), 및 제2 외측층(230)을 이 순서로 포함한다. 제1 외측층(210), 중간층(220), 및 제2 외측층(230)을 구비하는 적층체(250)는, 상기 적층 필름(100)과 동일한 구성을 갖고, 제1 외측층(210), 중간층(220), 및 제2 외측층(230)은, 각각 제1 외측층(110), 중간층(120), 및 제2 외측층(130)과 동일한 구성을 갖고 있으므로, 설명을 생략한다.2 : is sectional drawing which shows typically the laminated|multilayer film which concerns on another embodiment of this invention. The
투명 도전층은, 도전성을 갖는 층이다.A transparent conductive layer is a layer which has electroconductivity.
투명 도전층은, 통상, 가시광 파장에 있어서 높은 투과율을 갖는 도전성 재료를 포함한다. 투명 도전층에 포함되는 도전성 재료의 예로는, ITO(인듐주석옥사이드), IZO(인듐아연옥사이드), ZnO(산화아연), IWO(인듐텅스텐옥사이드), ITiO(인듐티타늄옥사이드), AZO(알루미늄아연옥사이드), GZO(갈륨아연옥사이드), XZO(아연계 특수 산화물), IGZO(인듐갈륨아연옥사이드) 등의 도전성 금속 산화물; 카본 나노튜브, 은 나노와이어 등의 도전성 나노와이어; 금속 나노 잉크; 구리 메시 등의 금속 메시; 도전성 폴리머; 등을 들 수 있다. 또한, 이들 도전성 재료는, 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 임의의 비율로 조합하여 사용해도 된다.A transparent conductive layer contains the electroconductive material which has a high transmittance|permeability in a visible light wavelength normally. Examples of the conductive material included in the transparent conductive layer include ITO (indium tin oxide), IZO (indium zinc oxide), ZnO (zinc oxide), IWO (indium tungsten oxide), ITiO (indium titanium oxide), AZO (aluminum zinc oxide) oxide), conductive metal oxides such as gallium zinc oxide (GZO), special zinc oxide (XZO), and indium gallium zinc oxide (IGZO); conductive nanowires such as carbon nanotubes and silver nanowires; metal nano ink; metal meshes such as copper mesh; conductive polymers; and the like. In addition, these electroconductive materials may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
투명 도전층은, 인듐주석옥사이드를 포함하는 층, 은 나노와이어를 포함하는 층, 또는 구리 메시 구조를 포함하는 층인 것이 바람직하다.The transparent conductive layer is preferably a layer containing indium tin oxide, a layer containing silver nanowires, or a layer containing a copper mesh structure.
투명 도전층은, 파장 400 nm~700 nm의 범위에 있어서의 광선 투과율이, 바람직하게는 85% 이상이고, 보다 바람직하게는 90% 이상이며, 더욱 바람직하게는 95% 이상이다.The transparent conductive layer has a light transmittance in a wavelength range of 400 nm to 700 nm, preferably 85% or more, more preferably 90% or more, still more preferably 95% or more.
투명 도전층은, 소정의 패턴을 갖고 있어도 된다.The transparent conductive layer may have a predetermined pattern.
본 실시형태에서는, 투명 도전층(240)은, 제1 외측층(210)보다 외측이 되도록, 제1 외측층(210)에 바로 접하여 형성되어 있다. 그러나, 다른 실시형태의 적층 필름에서는, 투명 도전층은, 제2 외측층보다 외측이 되도록, 제2 외측층에 바로 접하여 형성되어 있어도 된다.In the present embodiment, the transparent
또 다른 실시형태에 따른 적층 필름은, 제1 외측층에 바로 접하여 형성되어 있는 제1 투명 도전층과, 제2 외측층에 바로 접하여 형성되어 있는 제2 투명 도전층을 포함하고 있어도 된다.The laminated film according to another embodiment may include a first transparent conductive layer formed in direct contact with the first outer layer and a second transparent conductive layer formed in direct contact with the second outer layer.
또 다른 실시형태에 따른 적층 필름은, 제1 외측층과 투명 도전층 사이, 또는 제2 외측층과 투명 도전층 사이에, 임의의 층이 형성되어 있어도 된다.In the laminated film according to another embodiment, an arbitrary layer may be formed between the first outer layer and the transparent conductive layer or between the second outer layer and the transparent conductive layer.
[1.7. 적층 필름의 용도][1.7. Use of laminated film]
상기 적층 필름은, 중간층에 있어서의 두께의 편차가 억제되어 있는 결과, 자외선 흡수 성능의 편차가 적다. 또한, 고온에 노출되어도 주름이 발생하기 어렵다. 그 때문에, 예를 들어, 편광판 보호 필름, 위상차 필름, 고온 하에서 제조될 수 있는, 터치 패널의 기재 필름으로서 호적하게 사용될 수 있다.As a result of suppressing the dispersion|variation in the thickness in an intermediate|middle layer, the said laminated|multilayer film has few dispersion|variation in ultraviolet-ray absorption performance. Moreover, it is hard to generate|occur|produce wrinkles even if it is exposed to high temperature. Therefore, it can be used suitably as a polarizing plate protective film, retardation film, and the base film of a touch panel which can be manufactured under high temperature, for example.
[2. 적층 필름의 제조 방법][2. Manufacturing method of laminated film]
상기 적층 필름은, 임의의 방법에 의해 제조할 수 있다. 예를 들어, 제1 외측층, 중간층, 및 제2 외측층의 각각을 따로따로, 용융 성형법, 용액 유연법 등의 공지의 방법에 의해 제조하고 나서, 각각을 적층하여 제조해도 되고, 수지 A1, 수지 B, 및 수지 A2를 공압출의 방법에 의해 적층하여 제조해도 된다.The said laminated|multilayer film can be manufactured by arbitrary methods. For example, each of the first outer layer, the intermediate layer, and the second outer layer may be separately produced by a known method such as a melt molding method or a solution casting method, and then laminated to manufacture, resin A1, You may manufacture by laminating|stacking resin B and resin A2 by the method of co-extrusion.
상기 적층 필름은, 장척의 필름으로서 제조할 수 있다.The said laminated|multilayer film can be manufactured as a long film.
적층 필름이 투명 도전층을 포함하는 경우, 투명 도전층은, 투명 도전층에 포함되는 도전성 재료에 따른 방법에 의해 형성할 수 있다. 예를 들어, 투명 도전층은, 증착법, 스퍼터링법, 도포법 등의 방법에 의해 형성할 수 있다.When a laminated|multilayer film contains a transparent conductive layer, a transparent conductive layer can be formed by the method according to the electroconductive material contained in a transparent conductive layer. For example, a transparent conductive layer can be formed by methods, such as a vapor deposition method, a sputtering method, and a coating method.
실시예Example
이하, 실시예를 나타내어 본 발명에 대하여 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명은 이하에 나타내는 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 청구범위 및 그 균등한 범위를 일탈하지 않는 범위에 있어서 임의로 변경하여 실시할 수 있다.Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples. However, this invention is not limited to the Example shown below, In the range which does not deviate from the Claim of this invention and its equivalent range, it can change arbitrarily and implement it.
이하의 설명에 있어서, 양을 나타내는 「%」 및 「부」는, 별도로 언급하지 않는 한, 중량 기준이다. 또한, 이하에 설명하는 조작은, 별도로 언급하지 않는 한, 상온 및 상압의 조건에 있어서 행하였다.In the following description, "%" and "part" indicating the quantity are based on weight, unless otherwise specified. In addition, the operation demonstrated below was performed on conditions of normal temperature and normal pressure, unless otherwise indicated.
[평가 방법][Assessment Methods]
(유리 전이 온도)(Glass Transition Temperature)
시료의 유리 전이 온도를, JIS K7121에 기초하여 시차 주사 열량 분석법에 의해 측정하였다. 측정은, 실온부터 200℃까지 20℃/min으로 승온하고, 이어서 40℃까지 20℃/min으로 냉각한 시료에 대하여, 40℃부터 200℃까지 10℃/min으로 승온하는 조건으로 행하였다.The glass transition temperature of the sample was measured by differential scanning calorimetry based on JIS K7121. The measurement was performed under conditions of heating the sample from room temperature to 200°C at 20°C/min and then cooled to 40°C at 20°C/min at 10°C/min from 40°C to 200°C.
(멜트 매스 플로우 레이트)(melt mass flow rate)
시료의 멜트 매스 플로우 레이트를, JIS K7210에 기초하여, 멜트 인덱서(토요 세이키 제작소사 제조 「F-F01」)를 사용하여, 온도 280℃, 하중 2.16 kg의 조건으로 측정하였다.The melt mass flow rate of the sample was measured under conditions of a temperature of 280°C and a load of 2.16 kg using a melt indexer (“F-F01” manufactured by Toyo Seiki Corporation) based on JIS K7210.
(분자량의 측정)(Measurement of molecular weight)
지환식 구조 함유 중합체의 중량 평균 분자량 및 수평균 분자량은, 겔·퍼미에이션·크로마토그래피(GPC) 시스템 HLC-8320(토소사 제조)으로, H 타입 칼럼(토소사 제조)을 사용하여, 시클로헥산을 용매로 하여 40℃에서 측정하고, 폴리이소프렌 환산값으로서 구하였다.The weight average molecular weight and the number average molecular weight of the alicyclic structure-containing polymer were determined using a gel permeation chromatography (GPC) system HLC-8320 (manufactured by Tosoh Corporation) using an H-type column (manufactured by Tosoh Corporation), and cyclohexane was used as a solvent, and measured at 40°C, and calculated as a polyisoprene conversion value.
(중합체의 수소화율)(Hydrogenation rate of polymer)
중합체의 수소화율을, 1H-NMR에 의해 측정하였다.The hydrogenation rate of the polymer was measured by 1 H-NMR.
(적층 필름의 헤이즈)(haze of laminated film)
적층 필름의 폭 방향 양단부 및 폭 방향 중심부로부터, 1변이 50 mm인 대략 정방형의 필름편을, 합계 3매 잘라냈다. 얻어진 3개의 필름편 각각의 헤이즈를, 헤이즈미터(닛폰 덴쇼쿠 공업사 제조 「NDH-2000」)를 사용하여 측정하였다. 얻어진 3매의 필름편의 헤이즈의 평균을, 적층 필름의 헤이즈의 값으로 하였다.From the width direction both ends of the laminated|multilayer film, and the width direction center part, the substantially square film piece whose one side is 50 mm was cut out in total of 3 sheets. The haze of each of the obtained three film pieces was measured using the haze meter ("NDH-2000" by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.). The average of the haze of the obtained film piece of 3 sheets was made into the value of the haze of laminated|multilayer film.
(적층 필름의 전체 광선 투과율)(Total light transmittance of laminated film)
적층 필름의 폭 방향 양단부 및 폭 방향 중심부로부터, 1변이 50 mm인 대략 정방형의 필름편을, 합계 3매 잘라냈다. 얻어진 3개의 필름편 각각의 전체 광선 투과율을, 헤이즈미터(닛폰 덴쇼쿠 공업사 제조 「NDH-2000」)를 사용하여 측정하였다. 얻어진 3매의 필름편의 전체 광선 투과율의 평균을, 적층 필름의 전체 광선 투과율의 값으로 하였다.From the width direction both ends of the laminated|multilayer film, and the width direction center part, the substantially square film piece whose one side is 50 mm was cut out in total of 3 sheets. The total light transmittance of each of the obtained three film pieces was measured using the haze meter ("NDH-2000" by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.). The average of the total light transmittance of the obtained three film pieces was made into the value of the total light transmittance of laminated|multilayer film.
(적층 필름의 면내 방향에 있어서의 리타데이션 Re)(Retardation Re in the in-plane direction of the laminated film)
적층 필름의 폭 방향 양단부 및 폭 방향 중심부로부터, 1변이 50 mm인 대략 정방형의 필름편을, 합계 3매 잘라냈다. 얻어진 3개의 필름편 각각의, 면내 방향에 있어서의 리타데이션 Re를, 자동 복굴절계(오지 계측 기기 주식회사 제조 「KOBLA-21ADH」)로 측정하였다. 측정 파장은, 590 nm로 하였다. 얻어진 3매의 필름편의 리타데이션 Re의 평균을, 적층 필름의 리타데이션 Re의 값으로 하였다.From the width direction both ends of the laminated|multilayer film, and the width direction center part, the substantially square film piece whose one side is 50 mm was cut out in total of 3 sheets. The retardation Re in the in-plane direction of each of the obtained three film pieces was measured with an automatic birefringent meter ("KOBLA-21ADH" by Oji Instruments Co., Ltd.). The measurement wavelength was 590 nm. The average of retardation Re of the obtained three film pieces was made into the value of retardation Re of laminated|multilayer film.
(자외선 투과율)(ultraviolet light transmittance)
측정 대상의 필름의 자외선 투과율을, 자외 가시 근적외 분광 광도계(닛폰 분광사 제조 「V-550」)를 사용하여, 파장 200 nm 내지 400 nm의 범위에서 측정하였다. 파장 320 nm, 340 nm, 360 nm, 및 380 nm에서의 자외선 투과율(%), 그리고, 파장 320 nm 내지 380 nm에서의 자외선 투과율의 최대값(%)을, 얻어진 스펙트럼으로부터 판독하였다.The ultraviolet transmittance of the film to be measured was measured in a wavelength range of 200 nm to 400 nm using an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer ("V-550" manufactured by Nippon Kogyo Co., Ltd.). The ultraviolet transmittance (%) at wavelengths 320 nm, 340 nm, 360 nm, and 380 nm, and the maximum value (%) of the ultraviolet transmittance at wavelengths 320 nm to 380 nm were read from the obtained spectrum.
(TB/(TA1 + TA2) 및 중간층에 있어서의 두께의 편차)(TB/(TA1 + TA2) and variation in thickness in the intermediate layer)
어느 개소에 있어서의 적층 필름의 총 두께(μm)를, 시판의 접촉식 두께계를 사용하여 측정하였다.The total thickness (micrometer) of the laminated|multilayer film in a certain location was measured using the commercially available contact-type thickness meter.
적층 필름을 두께 방향을 포함하는 면에서 절단하여 단면을 광학 현미경으로 관찰하고, 총 두께를 측정한 개소에 있어서, 중간층의 두께의, 제1 외측층의 두께 및 제2 외측층의 두께의 합계에 대한 비율(TB/(TA1 + TA2))을 구하였다. 적층 필름의 총 두께와, 비율(TB/(TA1 + TA2))로부터, 중간층의 두께(TB)(μm)를 구하였다.The laminated film was cut at the surface including the thickness direction, the cross section was observed with an optical microscope, and the total thickness of the intermediate layer was calculated as the sum of the thickness of the first outer layer and the thickness of the second outer layer at the location where the total thickness was measured. The ratio (TB/(TA1 + TA2)) was calculated. The thickness (TB) (micrometer) of an intermediate|middle layer was calculated|required from the total thickness of laminated|multilayer film, and ratio (TB/(TA1 + TA2)).
이상의 측정을, 폭 방향(적층 필름의 제조에 있어서의 반송 방향과 수직한 방향)으로 50 mm 간격으로 10개소, 길이 방향(적층 필름의 제조에 있어서의 반송 방향)으로 50 mm 간격으로 10개소의, 합계 20개소에서 행하였다. 단, 적층 필름의 폭 방향에 있어서의 단부로부터 50 mm의 범위를, 측정 개소로부터 제외하였다.The above measurements were performed at 10 locations at 50 mm intervals in the width direction (direction perpendicular to the conveyance direction in the production of the laminated film) and 10 locations at 50 mm intervals in the longitudinal direction (the conveying direction in the production of the laminated film). , was carried out in a total of 20 places. However, the range of 50 mm from the edge part in the width direction of laminated|multilayer film was excluded from the measurement location.
20개소에 있어서 측정된 비율(TB/(TA1 + TA2))의 산술 평균값을, 적층 필름의 비율(TB/(TA1 + TA2))의 값으로 하였다.The arithmetic mean value of the ratio (TB/(TA1 + TA2)) measured in 20 places was made into the value of the ratio (TB/(TA1 + TA2)) of the laminated|multilayer film.
또한, 20개소에 있어서 측정된 중간층의 두께의, 산술 평균값 TBave(μm)와, 최소값 TBmin(μm)과, 최대값 TBmax(μm)로부터, 하기의 식에 의해, d1 및 d2를 구하였다. d1과 d2를 비교하여, d1 및 d2의 값이 서로 동일한 경우에는 그 값을, 값이 서로 다른 경우에는 큰 쪽의 값을, 적층 필름에 있어서의 중간층의 두께의 편차 D(μm)로 하였다. Further, from the arithmetic mean value TB ave (μm), the minimum value TB min (μm), and the maximum value TB max (μm) of the thickness of the intermediate layer measured at 20 places, d1 and d2 are obtained by the following formulas did. d1 and d2 were compared, and when the values of d1 and d2 were the same, when the values were different from each other, the larger value was taken as the variation D (μm) in the thickness of the intermediate layer in the laminated film.
d1(μm) = TBave - TBmin d1 (μm) = TB ave - TB min
d2(μm) = TBmax - TBave d2(μm) = TB max - TB ave
(치수 안정성 및 주름 억제)(Dimensional stability and wrinkle suppression)
적층 필름의 폭 방향 양단부 및 폭 방향 중심부로부터, 1변이 100 mm인 대략 정방형의 필름편을, 합계 3매 잘라냈다. 잘라낼 때에, 필름편의 각 변이, 적층 필름의 폭 방향 또는 반송 방향과 평행이 되도록 하였다.From the width direction both ends of the laminated|multilayer film, and the width direction center part, the film piece of 100 mm of one side was cut out in a total of three substantially square film pieces. When cutting out, each side of a film piece was made to become parallel to the width direction or conveyance direction of laminated|multilayer film.
3매의 필름편을, 145℃에서 60분간 가열 후, 방랭하였다. 가열 방랭 후에 있어서의 3매의 필름편을 목시로 관찰하고, 이하의 기준에 의해 고온 노출시의 주름 억제를 평가하였다.Three film pieces were left to cool after heating at 145 degreeC for 60 minutes. The three film pieces after heat standing to cool were visually observed, and the following criteria evaluated the wrinkle suppression at the time of high temperature exposure.
양호: 3매의 필름편의 어느 것에도, 주름이 없다.Good: There is no wrinkle in any of the three film pieces.
불량: 3매의 필름편의 어느 하나에, 주름이 있다.Defect: In any one of the three film pieces, there is a wrinkle.
가열 방랭 후에 있어서의 3매의 필름편의 각각에 대하여, 각 변(폭 방향에 있어서의 변 및 반송 방향과 평행한 방향에 있어서의 변)의 치수 X(mm)를 재고, 하기 식에 따라, 가열 전의 치수(100 mm)에 대한 치수 변화율의 절대값 |RL|(%)을 구하였다.For each of the three film pieces after heating and cooling, the dimension X (mm) of each side (the side in the width direction and the side in the direction parallel to the conveyance direction) is measured, and heated according to the following formula The absolute value |R L |(%) of the dimensional change rate with respect to the previous dimension (100 mm) was calculated|required.
|RL|(%) = |X - 100|/100 × 100|R L |(%) = |X - 100|/100 × 100
또한, 3매의 필름편의 각 변에 대하여 얻어진 치수 변화율의 절대값 |RL|(%)의 산술 평균값 Ave(%)를 구하고, 하기 기준에 의해, 고온 노출시에 있어서의 적층 필름의 치수 안정성을 평가하였다. Ave가 작을수록, 고온 노출시에 있어서의 적층 필름의 치수 안정성이 높다. Furthermore, the arithmetic mean value Ave (%) of the absolute value |R L | (%) of the dimensional change rate obtained with respect to each side of the three film pieces is calculated|required, and the dimensional stability of the laminated|multilayer film at the time of high temperature exposure is calculated|required by the following reference|standard was evaluated. The dimensional stability of the laminated|multilayer film at the time of high temperature exposure is so high that Ave is small.
A: Ave < 0.1%A: Ave < 0.1%
B: 0.1% ≤ Ave < 0.2%B: 0.1% ≤ Ave < 0.2%
C: 0.2% ≤ AveC: 0.2% ≤ Ave
[제조예 1: 지환식 구조 함유 중합체 C1의 제조][Preparation Example 1: Preparation of Polymer C1 containing an alicyclic structure]
트리시클로[4.3.0.12,5]데카-3,7-디엔(디시클로펜타디엔, 이하, 적당히 「DCP」라고 약기한다.) 및 7,8-벤조트리시클로[4.4.0.12,5.17,10]데카-3-엔(메타노테트라하이드로플루오렌, 이하, 적당히 「MTF」라고 약기한다.)을, 중량비 87/13으로 혼합하였다. 이 혼합물을, 일본 특허 제6256353호 명세서 [실시예 1]에 기재된 방법에 의해 개환 중합하고, 이어서 수소화하여, DCP/MTF 개환 중합체 수소화물인, 중합체 C1을 얻었다.tricyclo[4.3.0.1 2,5 ]deca-3,7-diene (dicyclopentadiene, hereinafter appropriately abbreviated as "DCP") and 7,8-benzotricyclo[4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ]deca-3-ene (methanotetrahydrofluorene, hereinafter appropriately abbreviated as "MTF") was mixed at a weight ratio of 87/13. This mixture was subjected to ring-opening polymerization by the method described in Japanese Patent No. 6256353 [Example 1], followed by hydrogenation to obtain a DCP/MTF ring-opening polymer hydride, polymer C1.
얻어진 이 중합체 C1 중의 각 노르보르넨계 단량체의 공중합 비율을, 중합 후의 용액 중에 잔류하는 노르보르넨계 단량체의 조성으로부터 가스 크로마토그래피법에 의한 분석으로 계산한 결과, DCP/MTF = 87/13으로, 대략 투입 조성과 동등하였다.As a result of calculating the copolymerization ratio of each norbornene-based monomer in the obtained polymer C1 by gas chromatography analysis from the composition of the norbornene-based monomer remaining in the solution after polymerization, DCP/MTF = 87/13, approximately Equivalent to the input composition.
또한, 이 중합체 C1의 중량 평균 분자량(Mw)은 38,000, 분자량 분포(Mw/Mn; Mn은 수평균 분자량)는 2.2, 수소화율은 99.9%, 유리 전이 온도 Tg는 125℃였다.Moreover, the weight average molecular weight (Mw) of this polymer C1 was 38,000, molecular weight distribution (Mw/Mn; Mn is a number average molecular weight) 2.2, the hydrogenation rate was 99.9 %, and glass transition temperature Tg was 125 degreeC.
[제조예 2: 지환식 구조 함유 중합체 C2의 제조][Preparation Example 2: Preparation of Polymer C2 containing an alicyclic structure]
DCP 및 MTF를 중량비 85/15로 혼합하였다. 이 혼합물을, 상기 공지의 방법에 의해 개환 중합하고, 이어서 수소화하여, DCP/MTF 개환 중합체 수소화물인, 중합체 C2를 얻었다.DCP and MTF were mixed in a weight ratio of 85/15. This mixture was subjected to ring-opening polymerization by the known method, followed by hydrogenation, to obtain a polymer C2, which is a DCP/MTF ring-opened polymer hydride.
얻어진 중합체 C2 중의 각 노르보르넨계 단량체의 공중합 비율을, 중합 후의 용액 중에 잔류하는 노르보르넨계 단량체의 조성으로부터 가스 크로마토그래피법에 의한 분석으로 계산한 결과, DCP/MTF = 85/15로, 대략 투입 조성과 동등하였다.As a result of calculating the copolymerization ratio of each norbornene-based monomer in the obtained polymer C2 by gas chromatography analysis from the composition of the norbornene-based monomer remaining in the solution after polymerization, DCP/MTF = 85/15, approximately input It was equivalent to the composition.
또한, 이 중합체 C2의 중량 평균 분자량(Mw)은 33,000, 분자량 분포(Mw/Mn)는 2.1, 수소화율은 99.9%, 유리 전이 온도 Tg는 135℃였다.Moreover, the weight average molecular weight (Mw) of this polymer C2 was 33,000, molecular weight distribution (Mw/Mn) was 2.1, the hydrogenation rate was 99.9 %, and glass transition temperature Tg was 135 degreeC.
[제조예 3: 지환식 구조 함유 중합체 C3의 제조][Production Example 3: Preparation of Polymer C3 containing an alicyclic structure]
DCP, MTF, 및 테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]도데카-3-엔(테트라시클로도데센, 이하, 적당히 「TCD」라고 약기한다.)을 중량비 5/70/25로 혼합하였다. 이 혼합물을, 상기 공지의 방법에 의해 개환 중합하고, 이어서 수소화하여, DCP/MTF/TCD 개환 중합체 수소화물인, 중합체 C3을 얻었다.DCP, MTF, and tetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10] (hereinafter referred to tetracyclododecene, hereinafter suitably "TCD".) Dodeca-3-en the weight ratio of 5/70/25 mixed with This mixture was subjected to ring-opening polymerization by the known method, followed by hydrogenation to obtain a polymer C3 which is a DCP/MTF/TCD ring-opened polymer hydride.
얻어진 중합체 C3 중의 각 노르보르넨계 단량체의 공중합 비율을, 중합 후의 용액 중에 잔류하는 노르보르넨계 단량체의 조성으로부터 가스 크로마토그래피법에 의한 분석으로 계산한 결과, DCP/MTF/TCD = 5/70/25로, 대략 투입 조성과 동등하였다. 또한, 이 중합체 C3의 중량 평균 분자량(Mw)은 35,000, 분자량 분포(Mw/Mn)는 2.1, 수소화율은 99.9%, 유리 전이 온도 Tg는 162℃였다.As a result of calculating the copolymerization ratio of each norbornene-type monomer in the obtained polymer C3 by gas chromatography analysis from the composition of the norbornene-type monomer remaining in the solution after polymerization, DCP/MTF/TCD=5/70/25 , which was approximately equivalent to the input composition. Moreover, the weight average molecular weight (Mw) of this polymer C3 was 35,000, molecular weight distribution (Mw/Mn) was 2.1, the hydrogenation rate was 99.9 %, and glass transition temperature Tg was 162 degreeC.
[실시예 1][Example 1]
(수지 B의 제조)(Preparation of Resin B)
중합체 C1을 91 부와, 자외선 흡수제 9 부를, 2축 압출기에 의해 혼합하여, 수지 B1을 얻었다. 자외선 흡수제로는, 분자 내에 벤조트리아졸 구조를 포함하는, ADEKA사 제조 「LA-31」을 사용하였다.91 parts of polymer C1 and 9 parts of ultraviolet absorbers were mixed with the twin screw extruder, and resin B1 was obtained. As a ultraviolet absorber, "LA-31" by ADEKA which contains a benzotriazole structure in a molecule|numerator was used.
(적층 필름의 제조)(Production of laminated film)
피드블록 및 이것에 연결되는 단층 다이를 구비하는, 2종 3층의 적층 필름을 제조할 수 있는 공압출 필름 성형기를 준비하였다. 제1 외측층, 중간층, 및 제2 외측층을 이 순서로 구비하는 필름상으로 토출되도록, 피드블록에, 각 층의 재료로서, 280℃에 용융된 수지를 공급하여 단층 다이로부터 토출시켜, 공압출 성형하였다. 제1 외측층 및 제2 외측층의 재료로서, 수지 A1 및 수지 A2로서의 중합체 C3을 공급하였다. 중간층의 재료로서, 수지 B1을 공급하였다.A co-extrusion film forming machine capable of producing a laminated film of two types and three layers having a feed block and a single-layer die connected thereto was prepared. The first outer layer, the intermediate layer, and the second outer layer are discharged from the single-layer die by supplying a molten resin at 280°C as a material for each layer to the feed block so as to be discharged in the form of a film having the second outer layer in this order, Extrusion molded. As materials for the first outer layer and the second outer layer, resin A1 and polymer C3 as resin A2 were supplied. As a material for the intermediate layer, resin B1 was supplied.
공압출된 필름상의 수지를, 100℃로 온도 조정된 냉각 롤에 캐스트하고, 50℃로 온도 조정된 다른 냉각 롤에 통과시켜 냉각하였다. 이에 의해, 폭 600 mm의 장척의 적층 필름을 얻었다. 적층 필름은, (중합체 C3으로 이루어지는 제1 외측층/수지 B1로 이루어지는 중간층/중합체 C3으로 이루어지는 제2 외측층)의, 2종 3층의 구성을 갖는다.The co-extruded film-like resin was cast on a cooling roll temperature-controlled to 100°C, and passed through another cooling roll temperature-regulated to 50°C to cool. Thereby, a long laminated film having a width of 600 mm was obtained. The laminated film has a configuration of two types and three layers (first outer layer made of polymer C3/middle layer made of resin B1/second outer layer made of polymer C3).
얻어진 적층 필름에 대하여, 상기 평가 방법에 따라 평가하였다.About the obtained laminated|multilayer film, the said evaluation method evaluated.
[실시예 2][Example 2]
이하의 사항을 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 적층 필름을 얻고, 평가하였다.Except having changed the following matters, it carried out similarly to Example 1, the laminated|multilayer film was obtained and evaluated.
·수지 B의 제조에 있어서, 중합체 C1을 91 부 대신에, 중합체 C2를 84 부 사용하고, 자외선 흡수제로서, ADEKA사 제조 「LA-31」을 9 부 대신에, ADEKA사 제조 「LA-F70」을 16 부를 사용하여, 수지 B2를 제조하였다. 「LA-F70」은, 분자 내에 1,3,5-트리아진 구조를 포함한다.-In the production of resin B, 84 parts of polymer C2 was used instead of 91 parts of polymer C1, and "LA-F70" manufactured by ADEKA was used instead of 9 parts of "LA-31" manufactured by ADEKA as a UV absorber. 16 parts of was used to prepare Resin B2. "LA-F70" contains a 1,3,5-triazine structure in a molecule|numerator.
·적층 필름의 제조에 있어서, 수지 B1 대신에, 수지 B2를 공급하고, 각 층이 표에 나타내는 두께가 되도록 공압출의 조건을 조정하였다.- Production of the laminated film WHEREIN: Instead of resin B1, resin B2 was supplied, and the conditions of coextrusion were adjusted so that each layer might become the thickness shown in a table|surface.
적층 필름은, (중합체 C3으로 이루어지는 제1 외측층/수지 B2로 이루어지는 중간층/중합체 C3으로 이루어지는 제2 외측층)의, 2종 3층의 구성을 갖는다.The laminated film has a configuration of two types and three layers (first outer layer made of polymer C3/middle layer made of resin B2/second outer layer made of polymer C3).
[실시예 3][Example 3]
이하의 사항을 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 적층 필름을 얻고, 평가하였다.Except having changed the following matters, it carried out similarly to Example 1, the laminated|multilayer film was obtained and evaluated.
·수지 B의 제조에 있어서, 중합체 C1을 91 부 대신에, 중합체 C3을 88 부 사용하고, 자외선 흡수제로서의 ADEKA사 제조 「LA-31」의 양을, 9 부에서 12 부로 변경하여, 수지 B3을 제조하였다.In the production of Resin B, 88 parts of Polymer C3 was used instead of 91 parts of Polymer C1, and the amount of "LA-31" manufactured by ADEKA as a UV absorber was changed from 9 parts to 12 parts, and Resin B3 was prepared.
·적층 필름의 제조에 있어서, 수지 B1 대신에, 수지 B3을 공급하고, 각 층이 표에 나타내는 두께가 되도록 공압출의 조건을 조정하였다.- In manufacture of a laminated|multilayer film, resin B3 was supplied instead of resin B1, and the conditions of coextrusion were adjusted so that each layer might become the thickness shown in a table|surface.
적층 필름은, (중합체 C3으로 이루어지는 제1 외측층/수지 B3으로 이루어지는 중간층/중합체 C3으로 이루어지는 제2 외측층)의, 2종 3층의 구성을 갖는다.The laminated film has a configuration of two types and three layers (first outer layer made of polymer C3/middle layer made of resin B3/second outer layer made of polymer C3).
[비교예 1][Comparative Example 1]
이하의 사항을 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 적층 필름을 얻고, 평가하였다.Except having changed the following matters, it carried out similarly to Example 1, the laminated|multilayer film was obtained and evaluated.
·적층 필름의 제조에 있어서, 중합체 C3 대신에, 중합체 C1을 공급하고, 각 층이 표에 나타내는 두께가 되도록 공압출의 조건을 조정하였다.- Production of the laminated film WHEREIN: Instead of the polymer C3, the polymer C1 was supplied, and the conditions of coextrusion were adjusted so that each layer might become the thickness shown in a table|surface.
적층 필름은, (중합체 C1로 이루어지는 제1 외측층/수지 B1로 이루어지는 중간층/중합체 C1로 이루어지는 제2 외측층)의, 2종 3층의 구성을 갖는다.The laminated film has a configuration of two types of three layers (the first outer layer made of polymer C1/the middle layer made of resin B1/the second outer layer made of polymer C1).
[비교예 2][Comparative Example 2]
이하의 사항을 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 적층 필름을 얻고, 평가하였다.Except having changed the following matters, it carried out similarly to Example 1, the laminated|multilayer film was obtained and evaluated.
·적층 필름의 제조에 있어서, 각 층이 표에 나타내는 두께가 되도록 공압출의 조건을 조정하였다.- Production of the laminated film WHEREIN: The conditions of coextrusion were adjusted so that each layer might become the thickness shown in a table|surface.
적층 필름은, (중합체 C3으로 이루어지는 제1 외측층/수지 B1로 이루어지는 중간층/중합체 C3으로 이루어지는 제2 외측층)의, 2종 3층의 구성을 갖는다.The laminated film has a configuration of two types and three layers (first outer layer made of polymer C3/middle layer made of resin B1/second outer layer made of polymer C3).
[비교예 3][Comparative Example 3]
이하의 사항을 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 적층 필름을 얻고, 평가하였다.Except having changed the following matters, it carried out similarly to Example 1, the laminated|multilayer film was obtained and evaluated.
·수지 B의 제조에 있어서, 자외선 흡수제로서, ADEKA사 제조 「LA-31」 대신에, ADEKA사 제조 「LA-F70」을 사용하여, 수지 B4를 제조하였다.- Production of Resin B WHEREIN: As a ultraviolet absorber, instead of "LA-31" by ADEKA, "LA-F70" by ADEKA was used, and Resin B4 was manufactured.
·적층 필름의 제조에 있어서, 수지 B1 대신에, 수지 B4를 공급하고, 각 층이 표에 나타내는 두께가 되도록 공압출의 조건을 조정하였다.- Production of the laminated film WHEREIN: Instead of resin B1, resin B4 was supplied, and the conditions of coextrusion were adjusted so that each layer might become the thickness shown in a table|surface.
적층 필름은, (중합체 C3으로 이루어지는 제1 외측층/수지 B4로 이루어지는 중간층/중합체 C3으로 이루어지는 제2 외측층)의, 2종 3층의 구성을 갖는다.The laminated film has a configuration of two types and three layers (first outer layer made of polymer C3/middle layer made of resin B4/second outer layer made of polymer C3).
[비교예 4][Comparative Example 4]
이하의 사항을 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 적층 필름을 얻고, 평가하였다.Except having changed the following matters, it carried out similarly to Example 1, the laminated|multilayer film was obtained and evaluated.
·수지 B의 제조에 있어서, 중합체 C1을 91 부 대신에, 중합체 C2를 84 부 사용하고, 자외선 흡수제로서, ADEKA사 제조 「LA-31」을 9 부 대신에, ADEKA사 제조 「LA-F70」을 16 부를 사용하여, 수지 B2를 제조하였다.-In the production of resin B, 84 parts of polymer C2 was used instead of 91 parts of polymer C1, and "LA-F70" manufactured by ADEKA was used instead of 9 parts of "LA-31" manufactured by ADEKA as a UV absorber. 16 parts of was used to prepare Resin B2.
·적층 필름의 제조에 있어서, 수지 B1 대신에, 수지 B2를 공급하고, 중합체 C3 대신에, 중합체 C1을 공급하고, 각 층이 표에 나타내는 두께가 되도록 공압출의 조건을 조정하였다.- In the manufacture of a laminated film, the resin B2 was supplied instead of the resin B1, and the polymer C1 was supplied instead of the polymer C3, and the conditions of coextrusion were adjusted so that each layer might have the thickness shown in a table|surface.
적층 필름은, (중합체 C1로 이루어지는 제1 외측층/수지 B2로 이루어지는 중간층/중합체 C1로 이루어지는 제2 외측층)의, 2종 3층의 구성을 갖는다.The laminated film has a configuration of two types and three layers (first outer layer made of polymer C1/middle layer made of resin B2/second outer layer made of polymer C1).
[비교예 5][Comparative Example 5]
이하의 사항을 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 적층 필름을 얻고, 평가하였다.Except having changed the following matters, it carried out similarly to Example 1, the laminated|multilayer film was obtained and evaluated.
·수지 B의 제조에 있어서, 중합체 C1의 양을, 91 부에서 76 부로 변경하고, 자외선 흡수제로서의 ADEKA사 제조 「LA-31」의 양을, 9 부에서 24 부로 변경하여, 수지 B5를 제조하였다.- In the production of resin B, the amount of polymer C1 was changed from 91 parts to 76 parts, and the amount of "LA-31" manufactured by ADEKA as a UV absorber was changed from 9 parts to 24 parts, to prepare Resin B5 .
·적층 필름의 제조에 있어서, 수지 B1 대신에, 수지 B5를 공급하고, 각 층이 표에 나타내는 두께가 되도록 공압출의 조건을 조정하였다.- Production of the laminated film WHEREIN: Instead of resin B1, resin B5 was supplied, and the conditions of coextrusion were adjusted so that each layer might become the thickness shown in a table|surface.
적층 필름은, (중합체 C3으로 이루어지는 제1 외측층/수지 B5로 이루어지는 중간층/중합체 C3으로 이루어지는 제2 외측층)의, 2종 3층의 구성을 갖는다.The laminated film has a configuration of two types of three layers (the first outer layer made of polymer C3/the middle layer made of resin B5/the second outer layer made of polymer C3).
[비교예 6][Comparative Example 6]
이하의 사항을 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 적층 필름을 얻고, 평가하였다.Except having changed the following matters, it carried out similarly to Example 1, the laminated|multilayer film was obtained and evaluated.
·수지 B의 제조에 있어서, 중합체 C1을 91 부 대신에, 중합체 C2를 78 부 사용하고, 자외선 흡수제로서, ADEKA사 제조 「LA-31」을 9 부 대신에, ADEKA사 제조 「LA-F70」을 22 부를 사용하여, 수지 B6을 제조하였다.-In the production of resin B, 78 parts of polymer C2 was used instead of 91 parts of polymer C1, and "LA-F70" manufactured by ADEKA was replaced with 9 parts of "LA-31" manufactured by ADEKA as a UV absorber. 22 parts of was used to prepare Resin B6.
·적층 필름의 제조에 있어서, 수지 B1 대신에, 수지 B6을 공급하고, 각 층이 표에 나타내는 두께가 되도록 공압출의 조건을 조정하였다.- Production of the laminated film WHEREIN: Instead of resin B1, resin B6 was supplied, and the conditions of coextrusion were adjusted so that each layer might become the thickness shown in a table|surface.
적층 필름은, (중합체 C3으로 이루어지는 제1 외측층/수지 B6으로 이루어지는 중간층/중합체 C3으로 이루어지는 제2 외측층)의, 2종 3층의 구성을 갖는다.The laminated film has a configuration of two types and three layers (first outer layer made of polymer C3/middle layer made of resin B6/second outer layer made of polymer C3).
적층 필름의 구성 및 평가 결과를, 하기 표에 나타낸다.The structure and evaluation result of laminated|multilayer film are shown to the following table|surface.
하기 표에 있어서의 약어는, 이하의 의미를 나타낸다.The abbreviation in the following table|surface shows the following meaning.
UVA: 자외선 흡수제UVA: UV absorber
벤조트리아졸계: ADEKA사 제조 「LA-31」Benzotriazole type: "LA-31" manufactured by ADEKA
트리아진계: ADEKA사 제조 「LA-F70」Triazine series: "LA-F70" manufactured by ADEKA
TB: 중간층의 두께TB: thickness of the intermediate layer
TA1 + TA2: 제1 외측층의 두께(TA1) 및 제2 외측층의 두께(TA2)의 합계TA1 + TA2: the sum of the thickness TA1 of the first outer layer and the thickness TA2 of the second outer layer
RB: 수지 B의 멜트 매스 플로우 레이트RB: melt mass flow rate of resin B
TgB: 수지 B의 유리 전이 온도TgB: glass transition temperature of resin B
TgA: 수지 A1 및 수지 A2의 유리 전이 온도TgA: Glass transition temperature of Resin A1 and Resin A2
RA: 수지 A1 및 수지 A2의 멜트 매스 플로우 레이트RA: melt mass flow rate of Resin A1 and Resin A2
C1: 제조예 1에서 제조된 중합체 C1C1: Polymer C1 prepared in Preparation Example 1
C2: 제조예 2에서 제조된 중합체 C2C2: Polymer C2 prepared in Preparation Example 2
C3: 제조예 3에서 제조된 중합체 C3C3: Polymer C3 prepared in Preparation Example 3
자외선 투과율의 최대값: 파장 320 nm 이상 380 nm 이하에서의 자외선 투과율의 최대값Maximum value of ultraviolet transmittance: Maximum value of ultraviolet transmittance at a wavelength of 320 nm or more and 380 nm or less
이상의 결과로부터, 이하를 알 수 있다.From the above result, the following can be seen.
실시예 1~3에 따른 적층 필름은, 중간층에 있어서의 두께의 편차가 작고, 또한 145℃의 고온에 노출된 후에 있어서, 주름의 발생이 억제되어 있는 것을 알 수 있다.In the laminated|multilayer film which concern on Examples 1-3, the dispersion|variation in the thickness in an intermediate|middle layer is small, and after being exposed to the high temperature of 145 degreeC, it turns out that generation|occurrence|production of a wrinkle is suppressed.
한편, 비교예 1~6에 따른 적층 필름은, 주름 발생이 억제되어 있지 않은 것을 알 수 있다.On the other hand, it turns out that wrinkle generation is not suppressed in the laminated|multilayer film which concern on Comparative Examples 1-6.
상세하게는, 비교예 5 및 6에 따른 적층 필름은, 수지 B에 있어서의 자외선 흡수제의 농도가 20 중량%보다 많고, 주름 발생이 억제되어 있지 않고, 치수 안정성이 실시예보다 떨어진다.In detail, in the laminated|multilayer film which concern on Comparative Examples 5 and 6, the density|concentration of the ultraviolet absorber in resin B is more than 20 weight%, wrinkle generation is not suppressed, and dimensional stability is inferior to an Example.
비교예 1 및 4에 따른 적층 필름은, 제1 외측층 및 제2 외측층이, 유리 전이 온도가 150℃ 미만인 수지로부터 형성되어 있고, 주름 발생이 억제되어 있지 않다.In the laminated films according to Comparative Examples 1 and 4, the first outer layer and the second outer layer are formed from a resin having a glass transition temperature of less than 150°C, and wrinkle generation is not suppressed.
비교예 5에 따른 적층 필름은, TgA - TgB가, 60℃보다 높고, 주름 발생이 억제되어 있지 않고, 치수 안정성이 실시예보다 떨어진다.As for the laminated|multilayer film which concerns on the comparative example 5, TgA-TgB is higher than 60 degreeC, wrinkle generation is not suppressed, and dimensional stability is inferior to an Example.
비교예 1 및 2에 따른 적층 필름은, 비율(TB/(TA1 + TA2))이, 0.35보다 크고, 중간층에 있어서의 두께의 편차가 크고, 주름 발생이 억제되어 있지 않다.In the laminated films according to Comparative Examples 1 and 2, the ratio (TB/(TA1 + TA2)) was larger than 0.35, the thickness variation in the intermediate layer was large, and the generation of wrinkles was not suppressed.
비교예 3에 따른 적층 필름은, 비율(TB/(TA1 + TA2))이, 0.1 미만이고, 주름 발생이 억제되어 있지 않다.In the laminated film according to Comparative Example 3, the ratio (TB/(TA1 + TA2)) was less than 0.1, and the generation of wrinkles was not suppressed.
비교예 6에 따른 적층 필름은, RB/RA가, 15.0보다 크고, 중간층에 있어서의 두께의 편차가 크고, 주름 발생이 억제되어 있지 않고, 치수 안정성이 실시예보다 떨어진다.RB/RA of the laminated|multilayer film which concerns on Comparative Example 6 is larger than 15.0, the dispersion|variation in thickness in an intermediate|middle layer is large, wrinkle generation is not suppressed, and dimensional stability is inferior to an Example.
이상의 결과는, 본 발명의 적층 필름이, 자외선 흡수제를 포함하는 중간층에 있어서 두께의 편차가 억제되어 있고, 또한 고온에 노출되어도 주름이 발생하기 어려운 것을 나타내는 결과이다.The above result is a result which shows that even if the laminated|multilayer film of this invention is suppressed in thickness dispersion|fluctuation in the intermediate|middle layer containing a ultraviolet absorber, and is exposed to high temperature, it is a result which shows that a wrinkle is hard to generate|occur|produce.
100: 적층 필름
110: 제1 외측층
120: 중간층
130: 제2 외측층
120D: 면
120U: 면
200: 적층 필름
210: 제1 외측층
220: 중간층
230: 제2 외측층
240: 투명 도전층
250: 적층체100: laminated film
110: first outer layer
120: middle layer
130: second outer layer
120D: Cotton
120U: Cotton
200: laminated film
210: first outer layer
220: middle layer
230: second outer layer
240: transparent conductive layer
250: laminate
Claims (7)
상기 제1 외측층은, 지환식 구조를 함유하는 중합체를 포함하고, 유리 전이 온도가 TgA1(℃)인 수지 A1로 이루어지고,
상기 제2 외측층은, 지환식 구조를 함유하는 중합체를 포함하고, 유리 전이 온도가 TgA2(℃)인 수지 A2로 이루어지고,
상기 중간층은, 지환식 구조를 함유하는 중합체 및 자외선 흡수제를 포함하고, 유리 전이 온도가 TgB(℃)인 수지 B로 이루어지고,
TgA1 및 TgA2가, 각각 독립적으로 150℃ 이상이고,
TgA1과 TgB의 차(TgA1 - TgB) 및 TgA2와 TgB의 차(TgA2 - TgB)가, 각각 독립적으로 0℃ 이상 60℃ 이하이고,
상기 수지 B에 있어서의 상기 자외선 흡수제의 농도가, 5 중량% 이상 20 중량% 이하이고,
상기 중간층의 두께(TB)의, 상기 제1 외측층의 두께(TA1) 및 상기 제2 외측층의 두께(TA2)의 합계에 대한 비율(TB/(TA1 + TA2))이, 0.1 이상 0.35 이하인, 적층 필름.a first outer layer, a middle layer, and a second outer layer in this order;
The first outer layer comprises a polymer containing an alicyclic structure and consists of a resin A1 having a glass transition temperature of TgA1 (°C),
The second outer layer comprises a polymer containing an alicyclic structure and consists of a resin A2 having a glass transition temperature of TgA2 (°C),
The intermediate layer comprises a polymer containing an alicyclic structure and a UV absorber, and consists of a resin B having a glass transition temperature of TgB (°C),
TgA1 and TgA2 are each independently 150 ° C. or higher,
The difference between TgA1 and TgB (TgA1-TgB) and the difference between TgA2 and TgB (TgA2-TgB) are each independently 0°C or more and 60°C or less,
The concentration of the ultraviolet absorber in the resin B is 5 wt% or more and 20 wt% or less,
The ratio (TB/(TA1 + TA2)) of the thickness TB of the intermediate layer to the sum of the thickness TA1 of the first outer layer and the thickness TA2 of the second outer layer is 0.1 or more and 0.35 or less , laminated film.
상기 수지 A1의 280℃ 및 하중 2.16 kg에서의 멜트 매스 플로우 레이트가, RA1(g/10 min)이고,
상기 수지 A2의 280℃ 및 하중 2.16 kg에서의 멜트 매스 플로우 레이트가, RA2(g/10 min)이고,
상기 수지 B의 280℃ 및 하중 2.16 kg에서의 멜트 매스 플로우 레이트가, RB(g/10 min)이고,
RB의 RA1에 대한 비율(RB/RA1) 및 RB의 RA2에 대한 비율(RB/RA2)이, 각각 독립적으로 3.5 이상 15.0 이하인, 적층 필름.According to claim 1,
The melt mass flow rate at 280° C. and a load of 2.16 kg of the resin A1 is RA1 (g/10 min),
The melt mass flow rate of the resin A2 at 280°C and a load of 2.16 kg is RA2 (g/10 min),
The melt mass flow rate at 280° C. and a load of 2.16 kg of the resin B is RB (g/10 min),
The laminated|multilayer film whose ratio (RB/RA1) of RB with respect to RA1 and ratio (RB/RA2) of RB with respect to RA2 are 3.5 or more and 15.0 or less, respectively independently.
상기 수지 A1에 있어서의 자외선 흡수제의 농도 및 상기 수지 A2에 있어서의 자외선 흡수제의 농도가, 각각 독립적으로 0 중량% 이상 5 중량% 미만인, 적층 필름.3. The method of claim 1 or 2,
The laminated|multilayer film whose density|concentration of the ultraviolet absorber in the said resin A1 and the density|concentration of the ultraviolet absorber in the said resin A2 are respectively independently 0 weight% or more and less than 5 weight%.
상기 중간층의 일방의 면에 바로 접하여 상기 제1 외측층이 형성되고, 상기 중간층의 타방의 면에 바로 접하여 상기 제2 외측층이 형성되어 있는, 적층 필름.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The laminated film, wherein the first outer layer is formed in direct contact with one surface of the intermediate layer, and the second outer layer is formed in direct contact with the other surface of the intermediate layer.
파장 320 nm 이상 380 nm 이하에서의 광선 투과율이, 1.0% 이하이고, 상기 중간층에 포함되는 상기 자외선 흡수제가, 벤조트리아졸계 자외선 흡수제 및 트리아진계 자외선 흡수제로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는, 적층 필름.5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The light transmittance at a wavelength of 320 nm or more and 380 nm or less is 1.0% or less, and the UV absorber included in the intermediate layer contains at least one selected from the group consisting of a benzotriazole-based UV absorber and a triazine-based UV absorber. , laminated film.
투명 도전층을 더 포함하는, 적층 필름.6. The method according to any one of claims 1 to 5,
The laminated|multilayer film which further includes a transparent conductive layer.
상기 투명 도전층이, 인듐주석옥사이드를 포함하는 층, 은 나노와이어를 포함하는 층, 또는 구리 메시 구조를 포함하는 층인, 적층 필름.7. The method of claim 6,
The laminated film, wherein the transparent conductive layer is a layer including indium tin oxide, a layer including silver nanowires, or a layer including a copper mesh structure.
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination |