JP6103306B2 - Laminated film and transparent conductive film - Google Patents

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Description

本発明は、透明性が高く、かつ耐ブロッキング性の良好な積層フィルムに関し、詳細には透明導電性フィルムに好適な積層フィルムに関する。   The present invention relates to a laminated film having high transparency and good blocking resistance, and more particularly to a laminated film suitable for a transparent conductive film.

基材フィルムに活性エネルギー線硬化性樹脂層が積層された積層フィルムは、ディスプレイやタッチパネルの表面保護フィルム(ハードコートフィルム)や光学フィルム(反射防止フィルム)として、あるいはタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムとして用いられている。   A laminated film in which an active energy ray-curable resin layer is laminated on a base film is used as a surface protective film (hard coat film) or optical film (antireflection film) for displays and touch panels, or as a base for transparent conductive films for touch panels. It is used as a film.

これらの用途に使用される積層フィルムは、透明性が高く、かつ耐ブロッキング性が良好であることが要求される。   The laminated film used for these applications is required to have high transparency and good blocking resistance.

ハードコートフィルムの耐ブロッキング性を改良するために、表面に粒子による突起を設けることが提案されている(特許文献1〜4)。   In order to improve the blocking resistance of the hard coat film, it has been proposed to provide protrusions with particles on the surface (Patent Documents 1 to 4).

特開2010−122323号公報JP 2010-122323 A 特開2010−241937号公報JP 2010-241937 A 特開2011−68087号公報JP 2011-68087 A 特開2011−136490号公報JP 2011-136490 A

ハードコートフィルムにおけるハードコート層の厚みについては、カールの抑制、生産性、原材料コスト、透明性等の観点から、ハードコート層の厚みは比較的小さいことが好ましい。例えば、ハードコート層の厚みは2μm未満が好ましい。しかし、ハードコート層の厚みを小さくすると耐ブロッキング性が低下する傾向にある。   Regarding the thickness of the hard coat layer in the hard coat film, it is preferable that the thickness of the hard coat layer is relatively small from the viewpoints of curling suppression, productivity, raw material costs, transparency, and the like. For example, the thickness of the hard coat layer is preferably less than 2 μm. However, when the thickness of the hard coat layer is reduced, the blocking resistance tends to decrease.

上記特許文献には、厚みが比較的小さいハードコート層(例えば厚みが2μm未満のハードコート層)において透明性と耐ブロッキング性を同時に満足させる技術は開示されていない。   The above patent document does not disclose a technique for simultaneously satisfying transparency and blocking resistance in a hard coat layer having a relatively small thickness (for example, a hard coat layer having a thickness of less than 2 μm).

従って、本発明の目的は、上記従来技術の課題に鑑み、活性エネルギー線硬化性樹脂層の厚みが比較的小さい場合(2μm未満の場合)であっても、透明性が高く、かつ耐ブロッキング性の良好な積層フィルムを提供することにある。本発明の他の目的は、透明導電性フィルムに好適な積層フィルムを提供することにある。   Therefore, in view of the above-mentioned problems of the prior art, the object of the present invention is high transparency and blocking resistance even when the thickness of the active energy ray-curable resin layer is relatively small (less than 2 μm). It is in providing a favorable laminated film. Another object of the present invention is to provide a laminated film suitable for a transparent conductive film.

本発明の上記目的は、以下の発明によって達成された。
[1]基材フィルムの少なくとも一方の面に樹脂層が積層され、前記樹脂層上に第1活性エネルギー線硬化性樹脂層が直接に積層されており、前記第1活性エネルギー線硬化性樹脂層は粒子を含有し、この粒子による突起を第1活性エネルギー線硬化性樹脂層表面に有する積層フィルムであって、前記第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の厚み(d)が2μm未満、前記第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の厚み(d:μm)に対する前記粒子の平均粒子径(r:μm)の比率(r/d)が0.5以下であり、かつ前記樹脂層表面のぬれ張力が52mN/m以下であることを特徴とする、積層フィルム。
[2]積層フィルムのヘイズ値が0.5%以下である、前記[1]に記載の積層フィルム。
[3]前記基材フィルムがポリエチレンテレフタレートフィルムである、前記[1]または[2]に記載の積層フィルム。
[4]前記第1活性エネルギー線硬化性樹脂層表面の中心線平均粗さ(Ra1)が30nm未満である、前記[1]〜[3]のいずれかに記載の積層フィルム。
[5]前記粒子の平均粒子径(r)が0.03〜0.5μmの範囲である、前記[1]〜[4]のいずれかに記載の積層フィルム。
[6]前記第1活性エネルギー線硬化性樹脂層における粒子の含有量が、第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の固形分総量100質量%に対して3〜17質量%である、前記[1]〜[5]のいずれかに記載の積層フィルム。
[7]前記基材フィルムの第1活性エネルギー線硬化性樹脂層が設けられた面とは反対面に、易接着層を介して第2活性エネルギー線硬化性樹脂層を有し、第2活性エネルギー線硬化性樹脂層の厚みが2.5μm未満でかつ第2活性エネルギー線硬化性樹脂層表面の中心線平均粗さ(Ra2)が25nm以下である、前記[1]〜[6]のいずれかに記載の積層フィルム。
[8] 前記基材フィルムが、屈折率が1.61〜1.70であるポリエチレンテレフタレートフィルムであり、前記易接着層の屈折率が1.55〜1.60、前記第2活性エネルギー線硬化性樹脂層の屈折率が1.48〜1.54である、前記[7]に記載の積層フィルム。
[9]前記[1]〜[8]のいずれかに記載の積層フィルムの少なくとも一方の面に透明導電膜を有する、透明導電性フィルム。
The above object of the present invention has been achieved by the following invention.
[1] A resin layer is laminated on at least one surface of a base film, and a first active energy ray-curable resin layer is laminated directly on the resin layer, and the first active energy ray-curable resin layer Is a laminated film containing particles and having protrusions formed by the particles on the surface of the first active energy ray-curable resin layer, wherein the thickness (d) of the first active energy ray-curable resin layer is less than 2 μm, 1 The ratio (r / d) of the average particle diameter (r: μm) of the particles to the thickness (d: μm) of the active energy ray-curable resin layer is 0.5 or less, and the wetting tension of the resin layer surface Is 52 mN / m or less, The laminated film characterized by the above-mentioned.
[2] The laminated film according to [1], wherein the laminated film has a haze value of 0.5% or less.
[3] The laminated film according to [1] or [2], wherein the base film is a polyethylene terephthalate film.
[4] The laminated film according to any one of [1] to [3], wherein the centerline average roughness (Ra1) of the surface of the first active energy ray-curable resin layer is less than 30 nm.
[5] The laminated film according to any one of [1] to [4], wherein the average particle diameter (r) of the particles is in the range of 0.03 to 0.5 μm.
[6] The content of particles in the first active energy ray-curable resin layer is 3 to 17% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of the first active energy ray-curable resin layer. ] The laminated film according to any one of [5] to [5].
[7] The substrate film has a second active energy ray-curable resin layer on the opposite side of the surface on which the first active energy ray-curable resin layer is provided, with an easy-adhesion layer interposed therebetween. Any of [1] to [6] above, wherein the energy ray curable resin layer has a thickness of less than 2.5 μm and a center line average roughness (Ra2) of the second active energy ray curable resin layer surface of 25 nm or less. The laminated film of crab.
[8] The base film is a polyethylene terephthalate film having a refractive index of 1.61-1.70, the refractive index of the easy-adhesion layer is 1.55-1.60, and the second active energy ray curing is performed. The laminated film according to [7], wherein the refractive index of the conductive resin layer is 1.48 to 1.54.
[9] A transparent conductive film having a transparent conductive film on at least one surface of the laminated film according to any one of [1] to [8].

本発明によれば、透明性が高く、かつ耐ブロッキング性の良好な積層フィルムを提供することができる。本発明の積層フィルムは透明導電性フィルムのベースフィルムに好適である。   According to the present invention, a laminated film having high transparency and good blocking resistance can be provided. The laminated film of the present invention is suitable for a base film of a transparent conductive film.

図1は、本発明の第1活性エネルギー線硬化性樹脂層表面の走査型電子顕微鏡による表面写真の1例である。FIG. 1 is an example of a surface photograph taken by a scanning electron microscope on the surface of the first active energy ray-curable resin layer of the present invention. 図2は、本発明の第1活性エネルギー線硬化性樹脂層表面の走査型電子顕微鏡による表面写真の1例である。FIG. 2 is an example of a surface photograph taken by a scanning electron microscope on the surface of the first active energy ray-curable resin layer of the present invention. 図3は、本発明の第1活性エネルギー線硬化性樹脂層表面の走査型電子顕微鏡による表面写真の1例である。FIG. 3 is an example of a surface photograph taken by a scanning electron microscope on the surface of the first active energy ray-curable resin layer of the present invention.

本発明の積層フィルムは、基材フィルムの少なくとも一方の面に樹脂層が積層され、この樹脂層上に第1活性エネルギー線硬化性樹脂層が直接に積層されたものである。   In the laminated film of the present invention, a resin layer is laminated on at least one surface of a base film, and a first active energy ray-curable resin layer is laminated directly on the resin layer.

第1活性エネルギー線硬化性樹脂層は、厚み(d)が2μm未満であり、第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の厚み(d:μm)に対する粒子の平均粒子径(r:μm)の比率(r/d)が0.5以下である粒子を含有し、この粒子による突起を活性エネルギー線硬化性樹脂層表面に有する。そして、樹脂層はその表面のぬれ張力が52mN/m以下である。   The thickness (d) of the first active energy ray-curable resin layer is less than 2 μm, and the ratio of the average particle diameter (r: μm) of the particles to the thickness (d: μm) of the first active energy ray-curable resin layer It contains particles having (r / d) of 0.5 or less, and has projections formed by these particles on the surface of the active energy ray-curable resin layer. The resin layer has a surface wetting tension of 52 mN / m or less.

本発明において、第1活性エネルギー線硬化性樹脂層表面に粒子による突起を有するとは、詳しくは後述する方法で、第1活性エネルギー線硬化性樹脂層表面における突起の平均高さと個数を測定したときに、突起の平均高さが0.02μm以上であり、かつ、突起が2μm四方(面積4μm)当たり平均2個以上存在することを意味する。測定方法および判断方法の詳細は実施例に示す。 In the present invention, having the protrusions due to particles on the surface of the first active energy ray-curable resin layer was measured in detail by the method described later, and the average height and number of protrusions on the surface of the first active energy ray-curable resin layer were measured. Sometimes, it means that the average height of the protrusions is 0.02 μm or more, and there are two or more protrusions on an average of 2 μm square (area 4 μm 2 ). Details of the measurement method and determination method are shown in the examples.

第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の厚み(d)は、2μm未満であることが重要である。第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の厚みを2μm未満とすることにより、第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の透明性が高くなること(ヘイズ値が小さくなること)、積層フィルムのカールが抑制されること、生産性が向上すること、および原料コストが軽減できること等の利点がある。   It is important that the thickness (d) of the first active energy ray-curable resin layer is less than 2 μm. By setting the thickness of the first active energy ray-curable resin layer to less than 2 μm, the transparency of the first active energy ray-curable resin layer is increased (the haze value is reduced) and curling of the laminated film is suppressed. There are advantages such as improved productivity, reduced raw material costs, and the like.

第1活性エネルギー線硬化性樹脂層は、平均粒子径(r:μm)が厚み(d:μm)の0.5倍以下の粒子を含有し、この粒子による突起を有する。つまり、本発明では、第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の厚み(d:μm)に対する前記粒子の平均粒子径(r:μm)の比率(r/d)が0.5以下であることが重要である。第1活性エネルギー線硬化性樹脂層がこのような関係を満足する粒子を含有することにより透明性が向上し、この粒子による突起が第1活性エネルギー線硬化性樹脂層表面に形成されることにより耐ブロッキング性が良好となる。   The first active energy ray-curable resin layer contains particles having an average particle diameter (r: μm) of 0.5 times or less of the thickness (d: μm), and has protrusions formed by the particles. That is, in the present invention, the ratio (r / d) of the average particle diameter (r: μm) of the particles to the thickness (d: μm) of the first active energy ray-curable resin layer is 0.5 or less. is important. When the first active energy ray-curable resin layer contains particles satisfying such a relationship, the transparency is improved, and the protrusions formed by the particles are formed on the surface of the first active energy ray-curable resin layer. Good blocking resistance.

しかし、このような粒子(平均粒子径(r:μm)が厚み(d:μm)の0.5倍以下の粒子)によって第1活性エネルギー線硬化性表面に突起を形成させる場合、第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の厚み(d)が2μm未満になると、良好な耐ブロッキング性が得られる程度の十分な突起が安定的に形成されないことがある。   However, when protrusions are formed on the first active energy ray-curable surface by such particles (particles having an average particle diameter (r: μm) of 0.5 times or less of the thickness (d: μm)), the first activity If the thickness (d) of the energy ray curable resin layer is less than 2 μm, sufficient protrusions that can provide good blocking resistance may not be stably formed.

そこで、上記構成の第1活性エネルギー線硬化性樹脂層を、ぬれ張力が52mN/m以下である樹脂層上に直接に積層することにより、第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の表面に粒子による突起が形成されやすくなり、その結果耐ブロッキング性が良好な積層フィルムを得ることができることを見出し、本発明を成すに至った。   Therefore, by directly laminating the first active energy ray-curable resin layer having the above-described configuration on the resin layer having a wetting tension of 52 mN / m or less, particles are formed on the surface of the first active energy ray-curable resin layer. Protrusions are easily formed, and as a result, it has been found that a laminated film having good blocking resistance can be obtained, and the present invention has been achieved.

以下、本発明の積層フィルムを構成する各構成要素について詳細に説明する。   Hereinafter, each component which comprises the laminated | multilayer film of this invention is demonstrated in detail.

[基材フィルム]
本発明の基材フィルムは、プラスチックフィルムが好ましく用いられる。基材フィルムを構成する材質としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)などのポリエステル、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、アラミド、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリ乳酸、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、脂環式アクリル樹脂、シクロオレフィン樹脂、トリアセチルセルロース、およびこれら樹脂を混合および/または共重合したものが挙げられる。これらの樹脂を未延伸、一軸延伸、二軸延伸してフィルムとしたものを基材フィルムとして適用することができる。
[Base film]
The base film of the present invention is preferably a plastic film. Examples of the material constituting the base film include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), polyimide, polyphenylene sulfide, aramid, polypropylene, polyethylene, polylactic acid, polyvinyl chloride, polycarbonate, and polymethacrylic. Examples include methyl acid, alicyclic acrylic resin, cycloolefin resin, triacetyl cellulose, and those obtained by mixing and / or copolymerizing these resins. A film obtained by unstretching, uniaxially stretching, or biaxially stretching these resins can be used as a base film.

上記した基材フィルムの中でも、透明性、寸法安定性、機械的特性、耐熱性、電気的特性、耐薬品性などに優れていることから、ポリエステルフィルムが好ましく、特にポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム)が好ましく、中でも二軸延伸されたPETフィルムが好ましく用いられる。   Among the above-mentioned substrate films, polyester films are preferred because of their excellent transparency, dimensional stability, mechanical properties, heat resistance, electrical properties, chemical resistance, etc., and particularly polyethylene terephthalate films (PET films). Among these, a biaxially stretched PET film is preferably used.

基材フィルムの厚みは、20〜300μmの範囲が適当であり、30〜200μmの範囲が好ましく、50〜150μmの範囲がより好ましい。   The range of 20-300 micrometers is suitable for the thickness of a base film, the range of 30-200 micrometers is preferable, and the range of 50-150 micrometers is more preferable.

[樹脂層]
樹脂層は、基材フィルムと第1活性エネルギー線硬化性樹脂層との間に設けられる。樹脂層は、基材フィルムに直接に積層されていることが好ましい。樹脂層は、基材フィルムと第1活性エネルギー線硬化性樹脂層との密着性を向上させる機能を有することが好ましい。
[Resin layer]
The resin layer is provided between the base film and the first active energy ray-curable resin layer. The resin layer is preferably laminated directly on the base film. The resin layer preferably has a function of improving the adhesion between the base film and the first active energy ray-curable resin layer.

樹脂層は、表面のぬれ張力が52mN/m以下である。樹脂層表面のぬれ張力が52mN/mを越えると、第1活性エネルギー線硬化性樹脂層表面に粒子による突起が十分に形成されず、良好な耐ブロッキング性が得られない。   The resin layer has a surface wetting tension of 52 mN / m or less. When the wetting tension on the surface of the resin layer exceeds 52 mN / m, sufficient protrusions due to particles are not formed on the surface of the first active energy ray-curable resin layer, and good blocking resistance cannot be obtained.

樹脂層表面のぬれ張力は、更に50mN/m以下が好ましい。樹脂層表面のぬれ張力の下限は、35mN/m以上が好ましく、37mN/m以上がより好ましく、40mN/m以上が特に好ましい。樹脂層表面のぬれ張力が35mN/m未満となると、第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の密着性が低下することがある。   The wetting tension on the surface of the resin layer is further preferably 50 mN / m or less. The lower limit of the wetting tension on the surface of the resin layer is preferably 35 mN / m or more, more preferably 37 mN / m or more, and particularly preferably 40 mN / m or more. When the wetting tension on the surface of the resin layer is less than 35 mN / m, the adhesion of the first active energy ray-curable resin layer may be lowered.

上記の観点、即ち、第1活性エネルギー線硬化性樹脂層表面に粒子による突起が十分に形成されるようにするという観点、および基材フィルムと第1活性エネルギー線硬化性樹脂層との密着性を向上させるという観点から、樹脂層の厚みは0.005μm以上が好ましく、0.01μm以上がより好ましく、0.015μm以上が特に好ましい。上限は0.3μm以下が好ましく、0.2μm以下が好ましく、特に0.15μm以下が好ましい。樹脂層の厚みが0.3μmより大きくなると第1活性エネルギー線硬化性樹脂層を積層した後の硬度や耐ブロッキング性が低下することがある。   From the above viewpoint, that is, from the viewpoint of sufficiently forming projections by particles on the surface of the first active energy ray-curable resin layer, and the adhesion between the base film and the first active energy ray-curable resin layer From the viewpoint of improving the thickness, the thickness of the resin layer is preferably 0.005 μm or more, more preferably 0.01 μm or more, and particularly preferably 0.015 μm or more. The upper limit is preferably 0.3 μm or less, preferably 0.2 μm or less, particularly preferably 0.15 μm or less. When the thickness of the resin layer exceeds 0.3 μm, the hardness and blocking resistance after the first active energy ray-curable resin layer is laminated may be lowered.

樹脂層は、樹脂を主成分として含有する層である。即ち、樹脂層は、樹脂層の固形分総量100質量%に対して樹脂を50質量%以上含有する層である。樹脂層における樹脂の含有量は、更に、60質量%以上が好ましく、70質量%以上がより好ましく、80質量%以上が特に好ましい。上限は98質量%以下が好ましく、95質量%以下がより好ましく、特に90質量%以下が好ましい。   The resin layer is a layer containing a resin as a main component. That is, the resin layer is a layer containing 50% by mass or more of resin with respect to 100% by mass of the total solid content of the resin layer. Further, the resin content in the resin layer is preferably 60% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, and particularly preferably 80% by mass or more. The upper limit is preferably 98% by mass or less, more preferably 95% by mass or less, and particularly preferably 90% by mass or less.

樹脂層を構成する樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、尿素樹脂等が挙げられる。これらの樹脂を単独あるいは複数種併用することができる。   Examples of the resin constituting the resin layer include polyester resin, acrylic resin, urethane resin, polycarbonate resin, epoxy resin, alkyd resin, urea resin, and the like. These resins can be used alone or in combination.

樹脂層表面のぬれ張力を52mN/m以下に制御すると言う観点から、および基材フィルムと第1活性エネルギー線硬化性樹脂層との密着性を向上させるという観点から、樹脂層に含有させる樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂およびポリウレタン樹脂からなる群の中から選ばれる少なくとも1種を用いることが好ましく、更にポリエステル樹脂および/またはアクリル樹脂を用いることが好ましく、特に樹脂として少なくともポリエステル樹脂を用いることが好ましい。   From the viewpoint of controlling the wetting tension on the surface of the resin layer to 52 mN / m or less, and from the viewpoint of improving the adhesion between the base film and the first active energy ray-curable resin layer, Is preferably at least one selected from the group consisting of a polyester resin, an acrylic resin and a polyurethane resin, more preferably a polyester resin and / or an acrylic resin, and particularly at least a polyester resin as the resin. Is preferred.

上記ポリエステル樹脂は、主鎖あるいは側鎖にエステル結合を有するもので、例えば多価カルボン酸成分とジオール成分とから重縮合して得られるポリエステル樹脂を用いることができる。   The polyester resin has an ester bond in the main chain or side chain. For example, a polyester resin obtained by polycondensation from a polyvalent carboxylic acid component and a diol component can be used.

多価カルボン酸成分としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、オルソフタル酸、フタル酸、2,5−ジメチルテレフタル酸、5−ナトリウムスルホイソフタル酸、1,4−ナフタレンジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、ビフェニルジカルボン酸、1,2−ビスフェノキシエタン−p,p’−ジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、ドデカンジオン酸、ダイマー酸、1,3−シクロペンタンジカルボン酸、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸などのジカルボン酸、トリメリット酸、無水トリメリット酸、ピロメリット酸、無水ピロメリット酸、4−メチルシクロヘキセン−1,2,3−トリカルボン酸、トリメシン酸、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸、1,2,3,4−ペンタンテトラカルボン酸、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフルフリル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフルフリル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、シクロペンタンテトラカルボン酸、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸、エチレングリコールビストリメリテート、2,2’,3,3’−ジフェニルテトラカルボン酸、チオフェン−2,3,4,5−テトラカルボン酸、エチレンテトラカルボン酸などの3価以上の多価カルボン酸が挙げられる。   Examples of the polyvalent carboxylic acid component include terephthalic acid, isophthalic acid, orthophthalic acid, phthalic acid, 2,5-dimethylterephthalic acid, 5-sodium sulfoisophthalic acid, 1,4-naphthalenedicarboxylic acid, and 2,6-naphthalene. Dicarboxylic acid, biphenyldicarboxylic acid, 1,2-bisphenoxyethane-p, p'-dicarboxylic acid, phenylindanedicarboxylic acid, succinic acid, adipic acid, sebacic acid, dodecanedioic acid, dimer acid, 1,3-cyclopentane Dicarboxylic acids such as dicarboxylic acid, 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, trimellitic acid, trimellitic anhydride, pyromellitic acid, pyromellitic anhydride, 4-methylcyclohexene-1,2, 3-tricarboxylic acid, trimesic acid, 1,2,3 4-butanetetracarboxylic acid, 1,2,3,4-pentanetetracarboxylic acid, 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic acid, 5- (2,5-dioxotetrahydrofurfuryl) -3 -Methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, 5- (2,5-dioxotetrahydrofurfuryl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, cyclopentanetetracarboxylic acid, 2,3,6, 7-naphthalenetetracarboxylic acid, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic acid, ethylene glycol bistrimellitate, 2,2 ′, 3,3′-diphenyltetracarboxylic acid, thiophene-2,3,4,5 -Trivalent or higher polyvalent carboxylic acids such as tetracarboxylic acid and ethylenetetracarboxylic acid.

ジオール成分としては、例えばエチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,7−ヘプタンジオール、1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、1,10−デカンジオール、2,4−ジメチル−2−エチルヘキサン−1,3−ジオール、ネオペンチルグリコール、2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、2−エチル−2−イソブチル−1,3−プロパンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、2,2,4−トリメチル−1,6−ヘキサンジオール、1,2−シクロヘキサンジメタノール、1,3−シクロヘキサンジメタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、2,2,4,4−テトラメチル−1,3−シクロブタンジオール、4,4’−チオジフェノール、ビスフェノールA、4,4’−メチレンジフェノール、4,4’−(2−ノルボルニリデン)ジフェノール、4,4’−ジヒドロキシビフェノール、o−,m−,及びp−ジヒドロキシベンゼン、4,4’−イソプロピリデンフェノール、4,4’−イソプロピリデンビンジオール、シクロペンタン−1,2−ジオール、シクロヘキサン−1,2−ジオール、シクロヘキサン−1,4−ジオールなどが挙げられる。   Examples of the diol component include ethylene glycol, diethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, polypropylene glycol, 1,3-propanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1, 6-hexanediol, 1,7-heptanediol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, 1,10-decanediol, 2,4-dimethyl-2-ethylhexane-1,3-diol, Neopentyl glycol, 2-ethyl-2-butyl-1,3-propanediol, 2-ethyl-2-isobutyl-1,3-propanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2,2,4 -Trimethyl-1,6-hexanediol, 1,2-cyclohexanedi Tanol, 1,3-cyclohexanedimethanol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 2,2,4,4-tetramethyl-1,3-cyclobutanediol, 4,4′-thiodiphenol, bisphenol A, 4, 4'-methylenediphenol, 4,4 '-(2-norbornylidene) diphenol, 4,4'-dihydroxybiphenol, o-, m-, and p-dihydroxybenzene, 4,4'-isopropylidenephenol, 4 , 4′-isopropylidenevindiol, cyclopentane-1,2-diol, cyclohexane-1,2-diol, cyclohexane-1,4-diol, and the like.

さらに、ポリエステル樹脂の水溶化あるいは水分散化を容易にするために、3価以上多価カルボン酸やスルホ基を有するジカルボン酸等を共重合して、側鎖に親水性基(カルボキシル基やスルホ基)を有するポリエステル樹脂を用いることが好ましい。   Further, in order to facilitate the water-solubilization or water-dispersion of the polyester resin, a trivalent or higher polyvalent carboxylic acid or a dicarboxylic acid having a sulfo group is copolymerized to form a hydrophilic group (carboxyl group or sulfo group) on the side chain. It is preferable to use a polyester resin having a group.

上記アクリル樹脂としては、例えばメチルメタクリレート、エチルアクリレート、n−ブチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、アクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、グリシジルメタクリレートから選ばれる共重合体などがある。さらに、アクリル樹脂の水溶化あるいは水分散化を容易にするために、スルホ基を有する化合物やカルボキシル基を有する化合物(アクリル酸、メタクリル酸など)を共重合することが好ましい。   Examples of the acrylic resin include a copolymer selected from methyl methacrylate, ethyl acrylate, n-butyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, acrylamide, N-methylol acrylamide, N, N-dimethyl acrylamide, and glycidyl methacrylate. Furthermore, it is preferable to copolymerize a compound having a sulfo group or a compound having a carboxyl group (such as acrylic acid or methacrylic acid) in order to facilitate the water-solubilization or water-dispersion of the acrylic resin.

樹脂層は、更に架橋剤を含有することが好ましい。樹脂層は、上述の樹脂と架橋剤を用いてなる層であって、熱によって硬化せしめられた層(熱硬化層)であることが好ましい。樹脂層をこのような熱硬化層とすることにより、基材フィルムと第1活性エネルギー線硬化性樹脂層との密着性をさらに向上させることができる。樹脂層を熱硬化するときの条件(加熱温度、時間)は特に限定されないが、加熱温度は70℃以上が好ましく、100℃以上がより好ましく、150℃以上が特に好ましく、200℃以上が最も好ましい。上限は300℃以下が好ましい。加熱時間は5〜300秒の範囲が好ましく、10〜200秒の範囲がより好ましい。   The resin layer preferably further contains a crosslinking agent. The resin layer is a layer formed using the above-described resin and a crosslinking agent, and is preferably a layer cured by heat (thermosetting layer). By making the resin layer such a thermosetting layer, the adhesion between the base film and the first active energy ray-curable resin layer can be further improved. The conditions (heating temperature, time) for thermosetting the resin layer are not particularly limited, but the heating temperature is preferably 70 ° C or higher, more preferably 100 ° C or higher, particularly preferably 150 ° C or higher, and most preferably 200 ° C or higher. . The upper limit is preferably 300 ° C. or lower. The heating time is preferably in the range of 5 to 300 seconds, and more preferably in the range of 10 to 200 seconds.

上記架橋剤としては、例えばメラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アジリジン系架橋剤、エポキシ系架橋剤、メチロール化あるいはアルキロール化した尿素系架橋剤、アクリルアミド系架橋剤、ポリアミド系樹脂、アミドエポキシ化合物、各種シランカップリング剤、各種チタネート系カップリング剤などが挙げられる。これらの中でも、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アジリジン系架橋剤、エポキシ系架橋剤が好ましく、特にメラミン系架橋剤が好ましい。   Examples of the crosslinking agent include melamine crosslinking agent, oxazoline crosslinking agent, carbodiimide crosslinking agent, isocyanate crosslinking agent, aziridine crosslinking agent, epoxy crosslinking agent, methylolated or alkylolized urea crosslinking agent, acrylamide Examples thereof include system crosslinking agents, polyamide resins, amide epoxy compounds, various silane coupling agents, and various titanate coupling agents. Among these, melamine crosslinking agents, oxazoline crosslinking agents, carbodiimide crosslinking agents, isocyanate crosslinking agents, aziridine crosslinking agents, and epoxy crosslinking agents are preferable, and melamine crosslinking agents are particularly preferable.

メラミン系架橋剤としては、例えばイミノ基型メチル化メラミン樹脂、メチロール基型メラミン樹脂、メチロール基型メチル化メラミン樹脂、完全アルキル型メチル化メラミン樹脂などが挙げられる。これらの中でも、イミノ基型メラミン樹脂、メチロール化メラミン樹脂が好ましく用いられる。   Examples of the melamine-based crosslinking agent include imino group type methylated melamine resin, methylol group type melamine resin, methylol group type methylated melamine resin, and fully alkyl type methylated melamine resin. Among these, imino group type melamine resins and methylolated melamine resins are preferably used.

樹脂層における架橋剤の含有量は、樹脂層の固形分総量100質量%に対して0.5〜30質量%の範囲が好ましく、1〜25質量%の範囲がより好ましく、特に2〜20質量%の範囲が好ましい。   The content of the crosslinking agent in the resin layer is preferably in the range of 0.5 to 30% by mass, more preferably in the range of 1 to 25% by mass, particularly 2 to 20% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of the resin layer. % Range is preferred.

樹脂層表面のぬれ張力は、上記した架橋剤の種類や含有量を調整することによっても制御することができる。例えば、架橋剤の含有量が多くなると樹脂層表面のぬれ張力は小さくなる傾向にあり、逆に架橋剤の含有量が少なくなると樹脂層表面のぬれ張力は大きくなる傾向にある。   The wetting tension on the surface of the resin layer can also be controlled by adjusting the type and content of the crosslinking agent described above. For example, when the content of the crosslinking agent increases, the wetting tension on the surface of the resin layer tends to decrease. Conversely, when the content of the crosslinking agent decreases, the wetting tension on the surface of the resin layer tends to increase.

樹脂層は、更に界面活性剤を含有することができる。かかる界面活性剤としては、例えばポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン−脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、脂肪酸金属石鹸、アルキル硫酸塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、第4級アンモニウムタロライド塩、アルキルアミン塩酸、ベタイン型界面活性剤等を挙げることができる。   The resin layer can further contain a surfactant. Examples of such surfactants include polyoxyethylene alkylphenyl ether, polyoxyethylene-fatty acid ester, sorbitan fatty acid ester, glycerin fatty acid ester, fatty acid metal soap, alkyl sulfate, alkyl sulfonate, alkyl sulfosuccinate, Examples thereof include quaternary ammonium tallow salt, alkylamine hydrochloride, betaine type surfactant and the like.

樹脂層における界面活性剤の含有量は、樹脂層の固形分総量100質量%に対して0.1〜20質量%の範囲が好ましく、0.5〜15質量%の範囲がより好ましい。   The content of the surfactant in the resin layer is preferably in the range of 0.1 to 20% by mass and more preferably in the range of 0.5 to 15% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of the resin layer.

樹脂層は、積層フィルムの製造工程における適度な滑り性や巻き取り性を確保するという観点から、粒子を含有することが好ましい。   It is preferable that a resin layer contains particle | grains from a viewpoint of ensuring appropriate slipperiness and winding-up property in the manufacturing process of a laminated film.

樹脂層に含有させる粒子としては特に限定されないが、シリカ、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、ゼオライトなどの無機粒子や、アクリル粒子、シリコーン粒子、ポリイミド粒子、テフロン(登録商標)粒子などの有機粒子が挙げられる。また、有機粒子は、架橋ポリエステル粒子、架橋ポリスチレン粒子などの架橋重合体粒子であっても良いし、コアシェル粒子などであっても良い。これらの中でもシリカ粒子が好ましく、特にコロイダルシリカが好ましい。   The particles to be contained in the resin layer are not particularly limited, but inorganic particles such as silica, titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, zeolite, acrylic particles, silicone particles, polyimide particles, Teflon (registered trademark) particles, etc. Organic particles. The organic particles may be crosslinked polymer particles such as crosslinked polyester particles and crosslinked polystyrene particles, or may be core-shell particles. Among these, silica particles are preferable, and colloidal silica is particularly preferable.

樹脂層における粒子の含有量は、樹脂層の固形分総量100質量%に対して0.05〜10質量%の範囲が好ましく、0.1〜8質量%の範囲がより好ましく、特に0.5〜5質量%の範囲が好ましい。樹脂層における粒子の含有量が0.05質量%未満であると、良好な滑り性や耐ブロッキング性が得られないことがあり、粒子の含有量が10質量%を越えると、透明性が低下したり、第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の塗布性が悪化したり、基材フィルムと第1活性エネルギー線硬化性樹脂層との密着性が低下することがある。   The content of the particles in the resin layer is preferably in the range of 0.05 to 10% by mass, more preferably in the range of 0.1 to 8% by mass, particularly 0.5% relative to 100% by mass of the total solid content of the resin layer. A range of ˜5 mass% is preferred. When the content of the particles in the resin layer is less than 0.05% by mass, good slipping property and blocking resistance may not be obtained. When the content of the particles exceeds 10% by mass, the transparency is lowered. Or the applicability of the first active energy ray-curable resin layer may deteriorate, or the adhesion between the base film and the first active energy ray-curable resin layer may be reduced.

樹脂層に含有させる粒子は、その平均粒子径が樹脂層の厚みより大きいことが好ましい。具体的には、粒子の平均粒子径は樹脂層の厚みの1.3倍以上が好ましく、1.5倍以上がより好ましく、2.0倍以上が特に好ましい。上限は20倍以下が好ましく、15倍以下がより好ましく、10倍以下が特に好ましい。   The particles contained in the resin layer preferably have an average particle size larger than the thickness of the resin layer. Specifically, the average particle diameter of the particles is preferably 1.3 times or more of the thickness of the resin layer, more preferably 1.5 times or more, and particularly preferably 2.0 times or more. The upper limit is preferably 20 times or less, more preferably 15 times or less, and particularly preferably 10 times or less.

このような平均粒子径が樹脂層の厚みより大きい粒子を含有する樹脂層に、本発明の第1活性エネルギー線硬化性樹脂層を直接に積層することにより、耐ブロッキング性が更に向上する。   By directly laminating the first active energy ray-curable resin layer of the present invention on a resin layer containing particles having an average particle size larger than the thickness of the resin layer, blocking resistance is further improved.

樹脂層に含有させる粒子の平均粒子径は樹脂層の厚み設計に応じて適宜選択されるが、具体的には粒子の平均粒子径は0.02〜1μmの範囲であることが好ましく、0.05〜0.7μmの範囲がより好ましく、特に0.1〜0.5μmの範囲が好ましい。粒子の平均粒子径が0.02μm未満であると耐ブロッキング性が低下することがある。粒子の平均粒子径が1μmを越えると粒子が脱落したり、透明性が低下したり、あるいは外観が悪化することがある。   The average particle size of the particles to be contained in the resin layer is appropriately selected according to the thickness design of the resin layer. Specifically, the average particle size of the particles is preferably in the range of 0.02 to 1 μm. A range of 05 to 0.7 μm is more preferable, and a range of 0.1 to 0.5 μm is particularly preferable. If the average particle size of the particles is less than 0.02 μm, the blocking resistance may be lowered. If the average particle diameter of the particles exceeds 1 μm, the particles may fall off, the transparency may be lowered, or the appearance may be deteriorated.

樹脂層は、基材フィルム上にウェットコーティング法で塗布し、加熱し硬化されて積層されることが好ましい。さらに基材フィルムの製造工程内で樹脂層をウェットコーティング法で塗布する、いわゆる、インラインコーティング法によって塗布し、加熱硬化して積層されることが好ましい。ウェットコーティング法としては、例えばリバースコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、ダイコート法等が挙げられる。   It is preferable that the resin layer is applied on the base film by a wet coating method, heated and cured to be laminated. Further, it is preferable that the resin layer is applied by a wet coating method in the manufacturing process of the base film, which is applied by a so-called in-line coating method, and is heated and cured to be laminated. Examples of the wet coating method include a reverse coating method, a spray coating method, a bar coating method, a gravure coating method, a rod coating method, and a die coating method.

[第1活性エネルギー線硬化性樹脂層]
第1活性エネルギー線硬化性樹脂層は、厚みが2μm未満である。第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の厚みを2μm未満とすることにより、第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の透明性が高くなること(ヘイズ値が小さくなること)、積層フィルムのカールが抑制されること、生産性が向上すること、および原料コストが軽減できること等の利点がある。
[First active energy ray-curable resin layer]
The first active energy ray-curable resin layer has a thickness of less than 2 μm. By setting the thickness of the first active energy ray-curable resin layer to less than 2 μm, the transparency of the first active energy ray-curable resin layer is increased (the haze value is reduced) and curling of the laminated film is suppressed. There are advantages such as improved productivity, reduced raw material costs, and the like.

上記観点から、第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の厚みは、更に1.7μm以下が好ましく、1.5μm以下がより好ましく、1.3μm以下が特に好ましい。下限の厚みは、ハードコート性を付与するという観点および基材フィルムからのオリゴマー析出を抑制するという観点から0.5μm以上が好ましく、0.7μm以上がより好ましい。   From the above viewpoint, the thickness of the first active energy ray-curable resin layer is preferably 1.7 μm or less, more preferably 1.5 μm or less, and particularly preferably 1.3 μm or less. The lower limit thickness is preferably 0.5 μm or more, and more preferably 0.7 μm or more from the viewpoint of imparting hard coat properties and suppressing oligomer precipitation from the base film.

第1活性エネルギー線硬化性樹脂層は粒子を含有し、その粒子による突起が第1活性エネルギー線硬化性樹脂層表面に形成されている。   The first active energy ray-curable resin layer contains particles, and protrusions due to the particles are formed on the surface of the first active energy ray-curable resin layer.

第1活性エネルギー線硬化性樹脂層に含有させる粒子の平均粒子径(r:μm)と第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の厚み(d:μm)の比率(r/d)は、0.5以下であることが重要である。上記比率(r/d)が0.5を超えると、第1活性エネルギー線硬化性樹脂層のヘイズ値が大きくなり、透明性が低下する。   The ratio (r / d) of the average particle diameter (r: μm) of the particles contained in the first active energy ray-curable resin layer to the thickness (d: μm) of the first active energy ray-curable resin layer is 0. It is important that it is 5 or less. When the ratio (r / d) exceeds 0.5, the haze value of the first active energy ray-curable resin layer increases, and the transparency decreases.

上記比率(r/d)は、更に0.4以下が好ましく、0.3以下がより好ましく、0.2以下が特に好ましい。下限は、0.01以上が好ましく、0.02以上がより好ましく、0.03以上が特に好ましい。上記比率(r/d)が0.01未満となると、第1活性エネルギー線硬化性樹脂層表面に粒子による突起が十分に形成されず、良好な耐ブロッキング性が得られなくなることがある。   The ratio (r / d) is further preferably 0.4 or less, more preferably 0.3 or less, and particularly preferably 0.2 or less. The lower limit is preferably 0.01 or more, more preferably 0.02 or more, and particularly preferably 0.03 or more. When the ratio (r / d) is less than 0.01, protrusions due to particles are not sufficiently formed on the surface of the first active energy ray-curable resin layer, and good blocking resistance may not be obtained.

第1活性エネルギー線硬化性樹脂層に含有させる粒子の平均粒子径(r)は、具体的には0.03〜0.5μmの範囲が好ましく、0.04〜0.4μmの範囲がより好ましく、0.05〜0.3μmの範囲が特に好ましい。   Specifically, the average particle diameter (r) of the particles contained in the first active energy ray-curable resin layer is preferably in the range of 0.03 to 0.5 μm, more preferably in the range of 0.04 to 0.4 μm. A range of 0.05 to 0.3 μm is particularly preferable.

第1活性エネルギー線硬化性樹脂層に含有させる粒子の平均粒子径(r)が0.03μm未満であると良好な耐ブロッキング性が得られなくなることがあり、一方、平均粒子径(r)が0.5μmより大きくなるとヘイズ値が大きくなり透明性が低下することがある。   When the average particle diameter (r) of the particles contained in the first active energy ray-curable resin layer is less than 0.03 μm, good blocking resistance may not be obtained, while the average particle diameter (r) is If it exceeds 0.5 μm, the haze value may increase and transparency may be lowered.

第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の表面において粒子によって形成される突起は、個々の粒子が独立して個々に突起を形成してもよいし、複数個の粒子が凝集した状態で突起を形成してもよい。   The protrusions formed by the particles on the surface of the first active energy ray-curable resin layer may form protrusions individually or in a state where a plurality of particles are aggregated. May be.

図1は、個々の粒子が独立して個々の突起を形成したときの表面写真の一例である。図2は、複数個の粒子がランダムに凝集して突起を形成したときの表面写真の一例である。図3は、複数個の粒子が数珠状に凝集して突起を形成したときの表面写真の一例である。図1〜図3は、第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の表面を走査型電子顕微鏡(SEM)で観察したときの表面写真である。   FIG. 1 is an example of a surface photograph when individual particles independently form individual protrusions. FIG. 2 is an example of a surface photograph when a plurality of particles are randomly aggregated to form protrusions. FIG. 3 is an example of a surface photograph when a plurality of particles aggregate in a bead shape to form protrusions. 1 to 3 are surface photographs when the surface of the first active energy ray-curable resin layer is observed with a scanning electron microscope (SEM).

第1活性エネルギー線硬化性樹脂層表面における突起の個数は、第1活性エネルギー線硬化性樹脂層表面の単位面積(100μm)当たり200個以上であることが好ましく、300個以上であることがより好ましく、400個以上であることが特に好ましい。上限は10000個以下が好ましく、7000個以下がより好ましく、4000個以下が特に好ましい。ここで突起の個数は、粒子1個によって形成された突起を意味する。 The number of protrusions on the surface of the first active energy ray-curable resin layer is preferably 200 or more per unit area (100 μm 2 ) on the surface of the first active energy ray-curable resin layer, and is preferably 300 or more. More preferably, it is particularly preferably 400 or more. The upper limit is preferably 10,000 or less, more preferably 7000 or less, and particularly preferably 4000 or less. Here, the number of protrusions means a protrusion formed by one particle.

図1は、1個の粒子で1個の突起を形成しているので、表面写真において単位面積当たりの突起を計測した数値が上記の単位面積当たりの突起の個数となる。   In FIG. 1, since one projection is formed by one particle, the numerical value obtained by measuring the projection per unit area in the surface photograph is the number of projections per unit area.

図2および図3は、複数個の粒子が凝集状態で突起を形成しているが、走査型電子顕微鏡(SEM)による表面観察の倍率を調整することにより突起を形成している個々の粒子を判別することが可能であり、突起を形成している粒子の個数を計測することができる。   In FIG. 2 and FIG. 3, a plurality of particles form protrusions in an aggregated state, but individual particles forming protrusions are adjusted by adjusting the magnification of surface observation with a scanning electron microscope (SEM). The number of particles forming protrusions can be measured.

第1活性エネルギー線硬化性樹脂層表面における突起の個数が、200個/100μm未満であると良好な耐ブロッキング性が得られないことがある。また、突起の個数が、10000個/100μmを超えるとヘイズ値が大きくなり透明性が低下することがある。 When the number of protrusions on the surface of the first active energy ray-curable resin layer is less than 200/100 μm 2 , good blocking resistance may not be obtained. On the other hand, if the number of protrusions exceeds 10,000 / 100 μm 2 , the haze value may increase and transparency may decrease.

突起の平均高さは、0.02〜0.3μmの範囲が好ましく、0.03〜0.25μmの範囲がより好ましく、0.04〜0.2μmの範囲が特に好ましい。突起の平均高さが0.02μm未満であると良好な耐ブロッキング性が得られないことがある。また、突起の平均高さが0.3μmを超えるとヘイズ値が大きくなり透明性が低下することがある。   The average height of the protrusions is preferably in the range of 0.02 to 0.3 μm, more preferably in the range of 0.03 to 0.25 μm, and particularly preferably in the range of 0.04 to 0.2 μm. If the average height of the protrusions is less than 0.02 μm, good blocking resistance may not be obtained. On the other hand, when the average height of the protrusions exceeds 0.3 μm, the haze value increases and transparency may be lowered.

上記した突起の高さとは、第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の透過型電子顕微鏡(TEM)で撮影された断面写真から測定することができる。   The height of the protrusions can be measured from a cross-sectional photograph taken with a transmission electron microscope (TEM) of the first active energy ray-curable resin layer.

上記したような突起を形成するためには、第1活性エネルギー線硬化性樹脂層に含有させる粒子の含有量は、第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の固形分総量100質量%に対して3〜17質量%の範囲が好ましく、4〜15質量%の範囲がより好ましく、特に5〜12質量%の範囲が好ましい。粒子の含有量が3質量%未満となると耐ブロッキング性が低下することがあり、また粒子の含有量が17質量%を超えるとヘイズ値が大きくなり透明性が低下することがある。   In order to form protrusions as described above, the content of the particles contained in the first active energy ray-curable resin layer is 3 with respect to 100% by mass of the total solid content of the first active energy ray-curable resin layer. The range of -17 mass% is preferable, the range of 4-15 mass% is more preferable, The range of 5-12 mass% is especially preferable. When the content of the particles is less than 3% by mass, the blocking resistance may be lowered, and when the content of the particles exceeds 17% by mass, the haze value may be increased and the transparency may be lowered.

第1活性エネルギー線硬化性樹脂層に含有させる粒子としては、有機粒子や無機粒子が挙げられる。   Examples of the particles to be contained in the first active energy ray curable resin layer include organic particles and inorganic particles.

有機粒子を構成する樹脂としては、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、あるいは上記樹脂の合成に用いられる2種以上のモノマーの共重合樹脂が挙げられる。これらの中でもアクリル系樹脂粒子が好ましく用いられる
アクリル系樹脂粒子としては、アクリル樹脂粒子、メタクリル樹脂粒子、アクリルモノマーあるいはメタクリルモノマーと他のモノマー(例えば、スチレン、ウレタンアクリレート、ウレタンメタクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエステルメタクリレート、シリコーンアクリレート、シリコーンメタクリレート等)との共重合樹脂粒子が挙げられる。
As the resin constituting the organic particles, an acrylic resin, a styrene resin, a polyester resin, a polyurethane resin, a polycarbonate resin, a polyamide resin, a silicone resin, a fluorine resin, or 2 used for the synthesis of the above resin. Examples thereof include copolymer resins of more than one type of monomer. Among these, acrylic resin particles are preferably used. As acrylic resin particles, acrylic resin particles, methacrylic resin particles, acrylic monomers or methacrylic monomers and other monomers (for example, styrene, urethane acrylate, urethane methacrylate, polyester acrylate, polyester) And copolymer resin particles such as methacrylate, silicone acrylate, and silicone methacrylate).

これらの有機粒子は乳化重合法により合成されることが好ましく、乳化重合法で合成されることによって平均粒子径が0.5μm以下の有機粒子を得ることができる。   These organic particles are preferably synthesized by an emulsion polymerization method, and organic particles having an average particle size of 0.5 μm or less can be obtained by synthesis by an emulsion polymerization method.

無機粒子としては、シリカ、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、ゼオライトなどの無機粒子が挙げられる。これらの中でもシリカ粒子が好ましく、特にコロイダルシリカが好ましい。   Examples of the inorganic particles include inorganic particles such as silica, titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, and zeolite. Among these, silica particles are preferable, and colloidal silica is particularly preferable.

第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の厚み(d:μm)に対する平均粒子径(r:μm)の比率(r/d)が0.5以下である粒子によって、第1活性エネルギー線硬化性樹脂層表面に十分な突起(良好な耐ブロッキング性を得るのに十分な突起)を形成するには、粒子を第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の表面近傍に比較的多く存在させることが好ましい。つまり、第1活性エネルギー線硬化性樹脂層に含まれる粒子の一部が層の表面近傍に移動(浮上)して表面近傍における粒子密度が大きくなることが好ましい。   The first active energy ray curable resin is composed of particles having a ratio (r / d) of the average particle diameter (r: μm) to the thickness (d: μm) of the first active energy ray curable resin layer of 0.5 or less. In order to form sufficient protrusions (protrusions sufficient to obtain good blocking resistance) on the surface of the layer, it is preferable that a relatively large amount of particles be present near the surface of the first active energy ray-curable resin layer. That is, it is preferable that a part of the particles contained in the first active energy ray-curable resin layer move (float) near the surface of the layer to increase the particle density near the surface.

第1活性エネルギー線硬化性樹脂層に含有させる粒子は、粒子の一部が層の表面近傍に移動(浮上)しやすい粒子であることが好ましく、この観点から無機粒子が好ましく用いられる。更に、上記観点から、表面自由エネルギーを小さくするような表面処理が施された無機粒子、界面活性剤で処理された無機粒子、あるいは粒子の表面を疎水化するための疎水化処理が施された無機粒子を用いることが好ましい。このような処理が施された無機粒子は層の表面近傍に移動(浮上)しやすくなる。   The particles contained in the first active energy ray-curable resin layer are preferably particles in which part of the particles easily move (float) near the surface of the layer, and inorganic particles are preferably used from this viewpoint. Furthermore, from the above viewpoint, the inorganic particles that have been subjected to a surface treatment that reduces the surface free energy, the inorganic particles that have been treated with a surfactant, or a hydrophobizing treatment to make the surface of the particles hydrophobic. It is preferable to use inorganic particles. The inorganic particles that have been subjected to such treatment are likely to move (float) near the surface of the layer.

上記の無機粒子の表面自由エネルギーを小さくするため表面処理剤としては、フッ素原子を有するオルガノシラン化合物、該オルガノシランの加水分解物、あるいは該オルガノシランの加水分解物の部分縮合物が挙げられる。これらの化合物としては、下記の一般式(1)で挙げる化合物が好ましい。
2n+1−(CH)−Si(Q)・・・・一般式(1)
(一般式(1)において、nは1〜10の整数、mは1〜5の整数を表す。Qは炭素数1〜5のアルコキシ基またはハロゲン原子を表す。)
一般式(1)の化合物として、具体的には下記の化合物を例示することができる。
CHCHSi(OCH
13CHCHSi(OCH
17CHCHSi(OCH
13CHCHCHSi(OCH
13CHCHCHCHSi(OCH
13CHCHSi(OC
17CHCHCHSi(OC
13CHCHCHCHSi(OC
13CHCHSiCl
13CHCHSiBr
13CHCHCHSiCl
13CHCHSi(OCH)Cl
また、表面自由エネルギーを小さくするための処理が施された無機粒子として、下記のフッ素処理無機粒子も好ましく用いられる。つまり、無機粒子(例えばシリカ粒子)を下記一般式(2)で示される化合物で処理し、更に下記一般式(3)で示されるフッ素化合物で表面処理した粒子である。
B−R−SiR (OR3−n ・・・一般式(2)
D−R−Rf ・・・・一般式(3)
(一般式(2)および(3)において、BおよびDはそれぞれ独立に反応性部位を表し、RおよびRはそれぞれ独立に炭素数1から3のアルキレン基、あるいは前記アルキル基から導出されるエステル構造を表し、RおよびRはそれぞれ独立の水素あるいは炭素数が1から4のアルキル基を表し、Rfはフルオロアルキル基を表し、nは0から2の整数を表す。)
一般式(2)の具体例としては、アクリロキシエチルトリメトキシシラン、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、アクリロキシブチルトリメトキシシラン、アクリロキシペンチルトリメトキシシラン、アクリロキシヘキシルトリメトキシシラン、アクリロキシヘプチルトリメトキシシラン、メタクリロキシエチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メタクリロキシブチルトリメトキシシラン、メタクリロキシヘキシルトリメトキシシラン、メタクリロキシヘプチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン及びこれら化合物中のメトキシ基が他のアルコキシル基及び水酸基に置換された化合物を含むものなどが挙げられる。
Examples of the surface treating agent for reducing the surface free energy of the inorganic particles include an organosilane compound having a fluorine atom, a hydrolyzate of the organosilane, or a partial condensate of the hydrolyzate of the organosilane. As these compounds, compounds represented by the following general formula (1) are preferable.
C n F 2n + 1 - ( CH 2) m -Si (Q) 3 ···· general formula (1)
(In General Formula (1), n represents an integer of 1 to 10, m represents an integer of 1 to 5. Q represents an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom.)
Specific examples of the compound of the general formula (1) include the following compounds.
C 4 F 9 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3
C 6 F 13 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3
C 8 F 17 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3
C 6 F 13 CH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3
C 6 F 13 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3
C 6 F 13 CH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5) 3
C 8 F 17 CH 2 CH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5) 3
C 6 F 13 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5 ) 3
C 6 F 13 CH 2 CH 2 SiCl 3
C 6 F 13 CH 2 CH 2 SiBr 3
C 6 F 13 CH 2 CH 2 CH 2 SiCl 3
C 6 F 13 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) Cl 2
In addition, the following fluorine-treated inorganic particles are also preferably used as the inorganic particles subjected to the treatment for reducing the surface free energy. That is, it is a particle obtained by treating inorganic particles (for example, silica particles) with a compound represented by the following general formula (2) and further surface-treating with a fluorine compound represented by the following general formula (3).
B—R 4 —SiR 5 n (OR 6 ) 3-n ... General formula (2)
DR 7 -Rf 2 ... General formula (3)
(In the general formulas (2) and (3), B and D each independently represent a reactive site, and R 4 and R 7 are each independently derived from an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms or the alkyl group. R 5 and R 6 each independently represent hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, Rf 2 represents a fluoroalkyl group, and n represents an integer of 0 to 2.)
Specific examples of the general formula (2) include acryloxyethyltrimethoxysilane, acryloxypropyltrimethoxysilane, acryloxybutyltrimethoxysilane, acryloxypentyltrimethoxysilane, acryloxyhexyltrimethoxysilane, acryloxyheptyltri Methoxysilane, methacryloxyethyltrimethoxysilane, methacryloxypropyltrimethoxysilane, methacryloxybutyltrimethoxysilane, methacryloxyhexyltrimethoxysilane, methacryloxyheptyltrimethoxysilane, methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, methacryloxypropylmethyldimethoxy Examples include silane and compounds in which the methoxy group in these compounds is substituted with other alkoxyl groups and hydroxyl groups.

一般式(3)の具体例としては、2,2,2−トリフルオロエチルアクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフロオロプロピルアクリレート、2−パーフルオロブチルエチルアクリレート、3−パーフルオロブチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロヘキシルエチルアクリレート、3−パーフルオロヘキシル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロオクチルエチルアクリレート、3−パーフルオロオクチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロデシルエチルアクリレート、2−パーフルオロ−3−メチルブチルエチルアクリレート、3−パーフルオロ−3−メトキシブチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロ−5−メチルヘキシルエチルアクリレート、3−パーフルオロ−5−メチルヘキシル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロ−7−メチルオクチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラフルオロプロピルアクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、ドデカフルオロヘプチルアクリレート、ヘキサデカフルオロノニルアクリレート、ヘキサフルオロブチルアクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルメタクリレート、2−パーフルオロブチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロブチル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロオクチル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロデシルエチルメタクリレート、2−パーフルオロ−3−メチルブチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロ−3−メチルブチル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロ−5−メチルヘキシルエチルメタクリレート、3−パーフルオロ−5−メチルヘキシル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロ−7−メチルオクチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロ−7−メチルオクチルエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、ドデカフルオロヘプチルメタクリレート、ヘキサデカフルオロノニルメタクリレート、1−トリフルオロメチルトリフルオロエチルメタクリレート、ヘキサフルオロブチルメタクリレートなどが挙げられる。   Specific examples of the general formula (3) include 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl acrylate, 2-perfluorobutylethyl acrylate, 3-perfluoro Butyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluorohexylethyl acrylate, 3-perfluorohexyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluorooctylethyl acrylate, 3-perfluorooctyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2- Perfluorodecylethyl acrylate, 2-perfluoro-3-methylbutylethyl acrylate, 3-perfluoro-3-methoxybutyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluoro-5-methylhexylethyl acrylate 3-perfluoro-5-methylhexyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluoro-7-methyloctyl-2-hydroxypropyl acrylate, tetrafluoropropyl acrylate, octafluoropentyl acrylate, dodecafluoroheptyl acrylate, hexadeca Fluorononyl acrylate, hexafluorobutyl acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl methacrylate, 2-perfluorobutylethyl methacrylate, 3-perfluorobutyl-2 -Hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluorooctylethyl methacrylate, 3-perfluorooctyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluoro Decylethyl methacrylate, 2-perfluoro-3-methylbutylethyl methacrylate, 3-perfluoro-3-methylbutyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluoro-5-methylhexylethyl methacrylate, 3-perfluoro-5- Methylhexyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluoro-7-methyloctylethyl methacrylate, 3-perfluoro-7-methyloctylethyl methacrylate, tetrafluoropropyl methacrylate, octafluoropentyl methacrylate, octafluoropentyl methacrylate, dodecafluoro Heptyl methacrylate, hexadecafluorononyl methacrylate, 1-trifluoromethyltrifluoroethyl methacrylate, hexafur Examples include orobutyl methacrylate.

前述の界面活性剤で処理された無機粒子としては、例えばシリカ粒子(好ましくはコロイダルシリカ)を分子中にエチレンオキシ基を有する界面活性剤で処理した無機粒子が挙げられる。   Examples of the inorganic particles treated with the aforementioned surfactant include inorganic particles obtained by treating silica particles (preferably colloidal silica) with a surfactant having an ethyleneoxy group in the molecule.

分子中にエチレンオキシ基を有する界面活性剤としては、例えば、オクチルジメチルエチルアンモニウムエチルサルフェート、ラウリルジメチルエチルアンモニウムエチルサルフェート、バルミチルジメチルエチルアンモニウムエチルサルフェート、ステアリルジメチルヒドロキシエチルアンモニウムパラトルエンスルホネート等の陽イオン性界面活性剤、
ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルリン酸エステル、ポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテルリン酸エステル、ポリオキシエチレントリデシルエーテルリン酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステルモノエタノールアミン塩、ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸エステル、ポリオキシエチレントリラウリルエーテルリン酸エステルモノエタノールアミン塩、ポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテルリン酸エステル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸ナトリウム、ポリオキシエチレンスルホコハク酸ラウリルニナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルスルホコハク酸ニナトリウム、ポリオキシスチレン化フェニルエーテル硫酸アンモニウム、ポリエキシアルキレン分岐デシルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンイソデシルエーテル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレントリデシルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンオレイルセチルエーテル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレンオレイルセチルエーテル硫酸ナトリウム等の陰イオン性界面活性剤、および、
ポリオキシアルキレンデシルエーテル、ポリオキシエチレントリデシルエーテル、ポリオキシアルキレントリデシルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンイソデシルエーテル、ポリオキシアルキレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテル、ポリオキシエチレンナフチルエーテル、ポリオキシエチレンフェニルエーテル、ポリオキシエチレンポリエキシプロピレングリコール、ポリオキシエチレンラウルルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイン酸エステル、ポリエキシエチレンステアリン酸エステル、ポリエキシエチレンソルビタンモノココエート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート、イソステアリン酸ポリオキシエチレングリセリル、ポリオキシエチレンアルキルアミン等の非イオン性界面活性剤、
が挙げられる。
Examples of the surfactant having an ethyleneoxy group in the molecule include cations such as octyl dimethyl ethyl ammonium ethyl sulfate, lauryl dimethyl ethyl ammonium ethyl sulfate, valmityl dimethyl ethyl ammonium ethyl sulfate, stearyl dimethyl hydroxyethyl ammonium paratoluene sulfonate, and the like. Active surfactant,
Polyoxyethylene alkyl ether phosphate, polyoxyalkylene alkyl ether phosphate, polyoxyalkylene alkyl phenyl ether phosphate, polyoxyethylene tridecyl ether phosphate, polyoxyethylene alkyl ether phosphate, polyoxyethylene Alkyl ether phosphate monoethanolamine salt, polyoxyethylene lauryl ether phosphate ester, polyoxyethylene trilauryl ether phosphate monoethanolamine salt, polyoxyethylene styrenated phenyl ether phosphate ester, polyoxyethylene lauryl ether acetic acid Sodium, polyoxyethylene sulfosuccinate lauryl disodium, polyoxyethylene alkyl sulfosuccinate ninatate , Polyoxystyrenated phenyl ether ammonium sulfate, polyoxyalkylene branched sodium decyl ether sulfate, polyoxyethylene isodecyl ether ammonium sulfate, polyoxyethylene tridecyl ether sodium sulfate, polyoxyethylene lauryl ether sodium sulfate, polyoxyethylene lauryl ether ammonium sulfate Anionic surfactants such as sodium polyoxyethylene alkyl ether sulfate, ammonium polyoxyethylene oleyl cetyl ether sulfate, sodium polyoxyethylene oleyl cetyl ether sulfate, and
Polyoxyalkylene decyl ether, polyoxyethylene tridecyl ether, polyoxyalkylene tridecyl ether, polyoxyalkylene alkyl ether, polyoxyethylene isodecyl ether, polyoxyalkylene lauryl ether, polyoxyethylene styrenated phenyl ether, polyoxyethylene Naphthyl ether, polyoxyethylene phenyl ether, polyoxyethylene polyoxypropylene glycol, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene oleyl cetyl ether, polyoxyethylene oleate, polyoxyethylene stearate, polyoxyethylene sorbitan monococo Ate, polyoxyethylene sorbitan monostearate, polyoxyethylene sorbie Nmonooreto, isostearic acid polyoxyethylene glyceryl, nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkyl amines,
Is mentioned.

前述した粒子表面に疎水化処理を施すための疎水性化合物としては、例えば分子中に疎水基と反応性部位とを有する化合物が挙げられる。疎水性化合物の疎水基は、一般に疎水的な機能を有すれば特に限定されないが、疎水基の具体例としては、例えば炭素数4以上のフルオロアルキル基、炭素数8以上の炭化水素基、及びシロキサン基からなる群より選ばれる少なくとも1つの官能基が例示される。   Examples of the hydrophobic compound for subjecting the particle surface to the hydrophobic treatment include compounds having a hydrophobic group and a reactive site in the molecule. The hydrophobic group of the hydrophobic compound is not particularly limited as long as it generally has a hydrophobic function, but specific examples of the hydrophobic group include, for example, a fluoroalkyl group having 4 or more carbon atoms, a hydrocarbon group having 8 or more carbon atoms, and Examples include at least one functional group selected from the group consisting of siloxane groups.

以下の説明において、炭素数4以上のフルオロアルキル基と反応性部位とを有する化合物をフッ素化合物といい、炭素数8以上の炭化水素基と反応性部位とを有する化合物を長鎖炭化水素化合物といい、シロキサン基と反応性部位とを有する化合物をシリコーン化合物という。   In the following description, a compound having a fluoroalkyl group having 4 or more carbon atoms and a reactive site is referred to as a fluorine compound, and a compound having a hydrocarbon group having 8 or more carbon atoms and a reactive site is referred to as a long-chain hydrocarbon compound. A compound having a siloxane group and a reactive site is called a silicone compound.

上記の反応性部位としては、光または熱などのエネルギーを受けて発生したラジカルなどにより化学反応する部位であり、具体例としては、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、エポキシ基、カルボキシル基、水酸基などの光または熱などのエネルギーを受けて化学反応する反応性部位を有することがより好ましい。   The reactive site is a site that chemically reacts with radicals generated by receiving energy such as light or heat. Specific examples include vinyl group, allyl group, acryloyl group, methacryloyl group, acryloyloxy group, It is more preferable to have a reactive site that undergoes a chemical reaction upon receiving energy such as light or heat, such as a methacryloyloxy group, an epoxy group, a carboxyl group, or a hydroxyl group.

長鎖炭化水素化合物は、分子中に疎水基である炭素数8以上の炭化水素基と、反応性部位とを有する化合物を表す。炭素数8以上の炭化水素基は、炭素数が8以上30以下であることが好ましい。また炭素数8以上の炭化水素基は、直鎖構造、分岐構造、脂環構造を問わず選択することができる。長鎖炭化水素化合物としてより好ましくは、炭素数10以上22以下の直鎖状のアルキルアルコール、アルキルエポキシド、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート、アルキルカルボキシレート(酸無水物及びエステル類を含む)、などを用いることができる。   The long-chain hydrocarbon compound represents a compound having a hydrocarbon group having 8 or more carbon atoms that is a hydrophobic group and a reactive site in the molecule. The hydrocarbon group having 8 or more carbon atoms preferably has 8 to 30 carbon atoms. The hydrocarbon group having 8 or more carbon atoms can be selected regardless of a linear structure, a branched structure, or an alicyclic structure. More preferably, a linear alkyl alcohol having 10 to 22 carbon atoms, an alkyl epoxide, an alkyl acrylate, an alkyl methacrylate, an alkyl carboxylate (including acid anhydrides and esters), etc. are used as the long-chain hydrocarbon compound. be able to.

長鎖炭化水素化合物の具体例としては、オクタノール、ヘキサンジオール、ヘプタンジオール、オクタンジオール、ステアリルアルコール、などの多価アルコール、オクチルアクリレート、オクチルメタクリレート、2−ヒドロキシオクチルアクリレート、2−ヒドロキシオクチルメタクリレート、などのアクリレート(メタクリレート)、オクチルトリメトキシシランなどのアクリルシラン、などが挙げられる。   Specific examples of long-chain hydrocarbon compounds include polyhydric alcohols such as octanol, hexanediol, heptanediol, octanediol, stearyl alcohol, octyl acrylate, octyl methacrylate, 2-hydroxyoctyl acrylate, 2-hydroxyoctyl methacrylate, etc. Acrylate (methacrylate), acrylic silane such as octyltrimethoxysilane, and the like.

シリコーン化合物としては、分子中に疎水基であるシロキサン基と、反応性部位とを有する化合物が挙げられる。シリコーン化合物の反応性部位は、(メタ)アクリロイルオキシ基が好ましく用いられる。   Examples of the silicone compound include compounds having a siloxane group that is a hydrophobic group in the molecule and a reactive site. As the reactive site of the silicone compound, a (meth) acryloyloxy group is preferably used.

またシロキサン基としては、下記一般式(4)で示されるポリシロキサン基が好ましく用いられる。
−(Si(R)(R)−O)− ・・・・一般式(4)
(一般式(4)において、RおよびRはそれぞれ独立に炭素数1〜6のアルキル基、フェニル基、3−アクリロキシ−2−ヒドロキシプロピル−オキシプロピル基、2−アクリロキシ−3−ヒドロキシプロピル−オキシプロピル基、末端アクリレート基を有するポリエチレングリコールプロピルエーテル基、あるいは末端ヒドロキシ基を有するポリエチレングリコールプロピルエーテル基を示し、mは10〜200の整数を表す。)
疎水基として一般式(4)で表されるポリシロキサン基を有するシリコーン化合物の具体例は、下記一般式(5)で表されるジメチルシロキサン基と、さらに反応性部位とを有する化合物が挙げられる。一般式(5)のジメチルシロキサン基と、さらに反応性部位とを有するシリコーン化合物の具体例として、X−22−164B,X−22−164C,X−22−5002、X−22−174D、X−22−167B(以上商品名、信越化学工業株式会社製)などが挙げられる。
Moreover, as a siloxane group, the polysiloxane group shown by following General formula (4) is used preferably.
- (Si (R 8) ( R 9) -O) m - ···· formula (4)
(In the general formula (4), R 8 and R 9 are each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, phenyl group, 3-acryloxy-2-hydroxypropyl-oxypropyl group, 2-acryloxy-3-hydroxypropyl. -An oxypropyl group, a polyethylene glycol propyl ether group having a terminal acrylate group, or a polyethylene glycol propyl ether group having a terminal hydroxy group, m represents an integer of 10 to 200.)
Specific examples of the silicone compound having a polysiloxane group represented by the general formula (4) as a hydrophobic group include compounds having a dimethylsiloxane group represented by the following general formula (5) and a reactive site. . Specific examples of the silicone compound having a dimethylsiloxane group of the general formula (5) and a reactive site include X-22-164B, X-22-164C, X-22-5002, X-22-174D, X -22-167B (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and the like.

一般式(5)は以下のとおりである。   General formula (5) is as follows.

(式中、Rは炭素数1以上7以下のアルキルを表し、kは0または1の整数を表し、mは10〜200の整数を表す)。   (In the formula, R represents alkyl having 1 to 7 carbon atoms, k represents an integer of 0 or 1, and m represents an integer of 10 to 200).

また、疎水基として一般式(4)で表されるポリシロキサン基と反応性部位とを有するシリコーン化合物の別の具体例は、一般式(6)で表される、3−アクリロキシ−2−ヒドロキシプロピル−オキシプロピル基とメチル基とを有する化合物や、一般式(7)で表される、2−アクリロキシ−3−ヒドロキシプロピル−オキシプロピル基とメチル基とを有する化合物を例示することができる。   Another specific example of the silicone compound having a polysiloxane group represented by the general formula (4) and a reactive site as a hydrophobic group is 3-acryloxy-2-hydroxy represented by the general formula (6). Examples thereof include a compound having a propyl-oxypropyl group and a methyl group and a compound having a 2-acryloxy-3-hydroxypropyl-oxypropyl group and a methyl group represented by the general formula (7).

一般式(6)は以下のとおりである。   General formula (6) is as follows.

一般式(7)は以下のとおりである。   General formula (7) is as follows.

(一般式(6)および(7)において、Rは炭素数1以上7以下のアルキルを表し、kは0または1の整数を表し、mは10〜200のいずれかの整数を表す)。   (In General Formulas (6) and (7), R represents alkyl having 1 to 7 carbon atoms, k represents an integer of 0 or 1, and m represents an integer of 10 to 200).

さらに疎水基として一般式(4)で表されるポリシロキサン基と反応性部位とを有するシリコーン化合物の別の具体例は、一般式(8)で表される、末端にアクリロイルオキシ基を有するポリエチレングリコールプロピルエーテル基とメチル基とを有する化合物や、一般式(9)で表される、末端にヒドロキシ基を有するポリエチレングリコールプロピルエーテル基とメチル基とを有する化合物を例示できる。   Furthermore, another specific example of the silicone compound having a polysiloxane group represented by the general formula (4) and a reactive site as a hydrophobic group is polyethylene represented by the general formula (8) and having an acryloyloxy group at the terminal. Examples thereof include a compound having a glycol propyl ether group and a methyl group, and a compound having a polyethylene glycol propyl ether group having a hydroxy group at the terminal and a methyl group represented by the general formula (9).

一般式(8)は以下のとおりである。   General formula (8) is as follows.

一般式(9)は以下のとおりである。   General formula (9) is as follows.

(一般式(8)および(9)において、Rは炭素数1以上7以下のアルキルを表し、kは0または1の整数を表し、xは1〜10の整数を表し、mは10〜200の整数を表す)。   (In General Formulas (8) and (9), R represents alkyl having 1 to 7 carbon atoms, k represents an integer of 0 or 1, x represents an integer of 1 to 10, and m represents 10 to 200. Represents an integer).

炭素数4以上のフルオロアルキル基と反応性部位とを有するフッ素化合物について説明する。ここで、フルオロアルキル基は、直鎖構造または分岐構造のいずれであってもよい。またフルオロアルキル基としては、炭素数4以上8以下であることが好ましい。このようなフッ素化合物としては、フルオロアルキルアルコール、フルオロアルキルエポキシド、フルオロアルキルハライド、フルオロアルキルアクリレート、フルオロアルキルメタクリレート、フルオロアルキルカルボキシレート(酸無水物及びエステル類を含む)、などを用いることができる。   A fluorine compound having a fluoroalkyl group having 4 or more carbon atoms and a reactive site will be described. Here, the fluoroalkyl group may have a linear structure or a branched structure. The fluoroalkyl group preferably has 4 to 8 carbon atoms. As such a fluorine compound, fluoroalkyl alcohol, fluoroalkyl epoxide, fluoroalkyl halide, fluoroalkyl acrylate, fluoroalkyl methacrylate, fluoroalkyl carboxylate (including acid anhydrides and esters), and the like can be used.

フッ素化合物中のフルオロアルキル基の数は必ずしも一つである必要はなく、フッ素化合物は複数のフルオロアルキル基を有してもよい。   The number of fluoroalkyl groups in the fluorine compound is not necessarily one, and the fluorine compound may have a plurality of fluoroalkyl groups.

第1活性エネルギー線硬化性樹脂層は、積層フィルム表面に傷が発生するのを抑制するために硬度が高いことが好ましく、JIS K5600−5−4(1999年)で定義される鉛筆硬度が、F以上が好ましく、H以上がより好ましい。上限は9H程度である。   The first active energy ray-curable resin layer preferably has a high hardness in order to suppress the occurrence of scratches on the surface of the laminated film, and the pencil hardness defined by JIS K5600-5-4 (1999) F or more is preferable, and H or more is more preferable. The upper limit is about 9H.

第1活性エネルギー線硬化性樹脂層は、少なくとも活性エネルギー線硬化性樹脂と粒子を含有する活性エネルギー線硬化性組成物を硬化せしめた層である。第1活性エネルギー線硬化性樹脂層は、活性エネルギー線硬化性組成物をウェットコーティング法により塗布し、乾燥した後、活性エネルギー線を照射して硬化せしめた層であることが好ましい。   The first active energy ray curable resin layer is a layer obtained by curing an active energy ray curable composition containing at least an active energy ray curable resin and particles. The first active energy ray-curable resin layer is preferably a layer obtained by applying an active energy ray-curable composition by a wet coating method and drying it, and then irradiating and curing the active energy ray.

ウェットコーティング法としては、例えばリバースコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、ダイコート法、スピンコート法、エクストルージョンコート法等の塗布方法を用いることができる。   As the wet coating method, for example, a coating method such as a reverse coating method, a spray coating method, a bar coating method, a gravure coating method, a rod coating method, a die coating method, a spin coating method, or an extrusion coating method can be used.

活性エネルギー線としては、紫外線、可視光線、赤外線、電子線、線、β線、γ線などが挙げられる。これらの活性エネルギー線の中でも、紫外線および電子線が好ましく、特に紫外線が好ましく用いられる。   Examples of active energy rays include ultraviolet rays, visible rays, infrared rays, electron beams, rays, β rays, and γ rays. Among these active energy rays, ultraviolet rays and electron beams are preferable, and ultraviolet rays are particularly preferably used.

紫外線を照射するための光源としては、特に限定されないが、例えば、紫外線蛍光灯、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ArFエキシマレーザ、KrFエキシマレーザ、エキシマランプ又はシンクロトロン放射光等も用いることができる。このうち、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプを好ましく用いられる。また、紫外線を照射するときに、低酸素濃度下の雰囲気下、例えば、酸素濃度が500ppm以下の雰囲気下で照射を行なうと、効率よく硬化させることができるので好ましい。   Although it does not specifically limit as a light source for irradiating an ultraviolet-ray, For example, an ultraviolet fluorescent lamp, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp etc. can be used. . An ArF excimer laser, a KrF excimer laser, an excimer lamp, synchrotron radiation, or the like can also be used. Among these, an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc, and a metal halide lamp are preferably used. In addition, when irradiating with ultraviolet rays, it is preferable to perform irradiation in an atmosphere having a low oxygen concentration, for example, an atmosphere having an oxygen concentration of 500 ppm or less because it can be cured efficiently.

紫外線の照射光量は、50mJ/cm以上が好ましく、100mJ/cm以上がより好ましく、特に150mJ/cm以上が好ましい。上限は2000mJ/cm以下が好ましく、1000mJ/cm以下がより好ましい。 Irradiation light amount of the ultraviolet rays is preferably from 50 mJ / cm 2 or more, 100 mJ / cm 2 or more, and particularly 150 mJ / cm 2 or more. The upper limit is preferably 2000 mJ / cm 2 or less, and more preferably 1000 mJ / cm 2 or less.

活性エネルギー線硬化性樹脂は、活性エネルギー線によって重合されて硬化する樹脂を意味する。かかる活性エネルギー線硬化性樹脂としては、分子中に少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有する化合物(モノマーやオリゴマー)が挙げられる。ここで、エチレン性不飽和基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アリル基、ビニル基等が挙げられる。本発明において、このようなエチレン性不飽和基を分子中に2個以上有する化合物が好ましく、特にエチレン性不飽和基を分子中に3個以上有する化合物が好ましく用いられる。   The active energy ray-curable resin means a resin that is polymerized and cured by active energy rays. Examples of such active energy ray-curable resins include compounds (monomers and oligomers) having at least one ethylenically unsaturated group in the molecule. Here, examples of the ethylenically unsaturated group include acryloyl group, methacryloyl group, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, allyl group, and vinyl group. In the present invention, a compound having two or more such ethylenically unsaturated groups in the molecule is preferred, and a compound having three or more ethylenically unsaturated groups in the molecule is particularly preferably used.

分子中にエチレン性不飽和基を有する化合物を以下に例示するが、本発明はこれらの化合物に限定されない。尚、下記の説明において、「・・・(メタ)アクリレート」なる表現は、「・・・アクリレート」と「・・・メタクリレート」との2つの化合物を含む。   Although the compound which has an ethylenically unsaturated group in a molecule | numerator is illustrated below, this invention is not limited to these compounds. In the following description, the expression “... (Meth) acrylate” includes two compounds “... acrylate” and “... methacrylate”.

分子中にエチレン性不飽和基を2個有する化合物としては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。   Compounds having two ethylenically unsaturated groups in the molecule include ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) ) Acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene Examples include glycol di (meth) acrylate and polypropylene glycol di (meth) acrylate.

分子中にエチレン性不飽和基を3個以上有する化合物としては、例えばトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、グリセリンプロポキシトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレオリゴマー、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートトルエンジイソシアネートウレタンオリゴマー、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンオリゴマーなどが挙げられる。   Examples of the compound having 3 or more ethylenically unsaturated groups in the molecule include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, glycerin propoxytri (meta ) Acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (Meth) acrylate, tripentaerythritol tri (meth) acrylate, tripentaerythritol hexa (meth) acrylate, pentaeryth Torutori (meth) acrylate hexamethylene diisocyanate urethane oligomer, pentaerythritol tri (meth) acrylate toluene diisocyanate urethane oligomer, pentaerythritol tri (meth) acrylate isophorone diisocyanate urethane oligomer and the like.

また、多官能のウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーとして、市販されているものを使用することができる。例えば、共栄社化学(株)製のウレタンアクリレートAHシリーズ、ウレタンアクリレートATシリーズ、ウレタンアクリレートUAシリーズ、根上工業(株)製のUN−3320シリーズ、UN−900シリーズ、新中村化学工業(株)製のNKオリゴUシリーズ、ダイセル・ユーシービー社製のEbecryl1290シリーズなどが挙げられる。   Moreover, what is marketed can be used as a polyfunctional urethane (meth) acrylate oligomer. For example, urethane acrylate AH series, urethane acrylate AT series, urethane acrylate AT series, urethane acrylate UA series manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., UN-3320 series, UN-900 series manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd., Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. NK Oligo U series, Ebecryl 1290 series manufactured by Daicel UCB, and the like.

活性エネルギー線硬化性樹脂として、上記したように分子中にエチレン性不飽和基を2個以上有する化合物が好ましく、更に分子中にエチレン性不飽和基を3個以上有する化合物が好ましく用いられるが、これらの化合物に分子中にエチレン性不飽和基を1個有する化合物を組み合わせて用いることができる。   As the active energy ray-curable resin, a compound having two or more ethylenically unsaturated groups in the molecule as described above is preferable, and a compound having three or more ethylenically unsaturated groups in the molecule is preferably used. These compounds can be used in combination with a compound having one ethylenically unsaturated group in the molecule.

分子中にエチレン性不飽和基を1個有する化合物としては、例えばメチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、エチルジエチレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、イソボルニルオキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシ(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、アクリルアミド、(メタ)アクリロイルモルホリン、7−アミノ−3,7−ジメチルオクチル(メタ)アクリレート、イソブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、t−オクチル(メタ)アクリルアミド、ジアセトン(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Examples of the compound having one ethylenically unsaturated group in the molecule include methyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, ethyl diethylene glycol (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, and methoxytriethylene glycol (meth). Acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, isobornyloxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate 2-hydroxy-3-phenoxy (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, acrylamide, (meth) acryloylmorpholine, 7-amino 3,7-dimethyloctyl (meth) acrylate, isobutoxymethyl (meth) acrylamide, t-octyl (meth) acrylamide, diacetone (meth) acrylamide, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, etc. It is done.

活性エネルギー線硬化性組成物における活性エネルギー線硬化性樹脂の含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量100質量%に対して50質量%以上が好ましく、60質量%以上がより好ましく、70質量%以上が特に好ましい。上限は97質量%以下が好ましく、95質量%以下がより好ましい。   The content of the active energy ray-curable resin in the active energy ray-curable composition is preferably 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, based on 100% by mass of the total solid content of the active energy ray-curable composition. 70 mass% or more is particularly preferable. The upper limit is preferably 97% by mass or less, more preferably 95% by mass or less.

活性エネルギー線として紫外線を用いる場合は、活性エネルギー線硬化性組成物は光重合開始剤を含むことが好ましい。かかる光重合開始剤の具体例としては、例えばアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、p−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、2種以上組み合せて用いてもよい。   When ultraviolet rays are used as the active energy ray, the active energy ray curable composition preferably contains a photopolymerization initiator. Specific examples of such photopolymerization initiators include, for example, acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4,4′-dichlorobenzophenone, 4,4′-bisdiethylaminobenzophenone, Michler's ketone, benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, methyl benzoylformate, p-isopropyl-α-hydroxyisobutylphenone, α-hydroxyisobutylphenone, 2, Carbonyl compounds such as 2-dimethoxy-2-phenylacetophenone and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, tetramethylthiuram monosulfide, teto Sulfur compounds such as lamethylthiuram disulfide, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, and 2-methylthioxanthone can be used. These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

また、光重合開始剤は一般に市販されており、それらを使用することができる。例えば、
チバ・スペシャリティー・ケミカルズ(株)製のイルガキュア184、イルガキュア907、イルガキュア379、イルガキュア819、イルガキュア127、イルガキュア500、イルガキュア754、イルガキュア250、イルガキュア1800、イルガキュア1870、イルガキュアOXE01、DAROCUR TPO、DAROCUR1173等、日本シイベルヘグナー(株)製のSpeedcureMBB、SpeedcurePBZ、SpeedcureITX、SpeedcureCTX、SpeedcureEDB、Esacure ONE、Esacure KIP150、Esacure KTO46等、日本化薬(株)製のKAYACURE DETX−S、KAYACURE CTX、KAYACURE BMS、KAYACURE DMBI等が挙げられる。
Moreover, generally the photoinitiator is marketed and they can be used. For example,
Irgacure 184, Irgacure 907, Irgacure 379, Irgacure 127, Irgacure 127, Irgacure 500, Irgacure 250, Irgacure 1800, Irgacure 1870, Irgacure OXE01, DAROCURO Sipecure MBB, Speedcure PBZ, Speedcure ITX, Speedcure CTX, Speedcure EDB, Escure ONE, Esacure KIP150, Esacure KTO46, etc. CURE DMBI etc. are mentioned.

上記光重合開始剤の含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量100質量%に対して0.1〜10質量%の範囲が適当であり、0.5〜8質量%の範囲が好ましい。   The content of the photopolymerization initiator is suitably in the range of 0.1 to 10% by mass and in the range of 0.5 to 8% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of the active energy ray-curable composition. Is preferred.

前述したように第1活性エネルギー線硬化性樹脂層は粒子を含有する。従って、第1活性エネルギー線硬化性樹脂層を形成するための活性エネルギー線硬化性組成物も粒子を含有する。この粒子は前述した粒子と同一であり、ここでの説明は省略する。   As described above, the first active energy ray-curable resin layer contains particles. Therefore, the active energy ray-curable composition for forming the first active energy ray-curable resin layer also contains particles. These particles are the same as those described above, and a description thereof is omitted here.

活性エネルギー線硬化性組成物は、更に各種添加剤、例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、レベリング剤、有機系帯電防止剤、滑剤、着色剤、顔料等を含有することができる。   The active energy ray-curable composition can further contain various additives such as an antioxidant, an ultraviolet absorber, a leveling agent, an organic antistatic agent, a lubricant, a colorant, and a pigment.

第1活性エネルギー線硬化性樹脂層は、表面に比較的多くの突起を有していることが好ましいが、一方、積層フィルムのヘイズ値を小さくするという観点から第1活性エネルギー線硬化性樹脂層表面は比較的平滑であることが好ましい。即ち、第1活性エネルギー線硬化性樹脂層表面の中心線平均粗さ(Ra1)は30nm未満であることが好ましい。前述した第1活性エネルギー線硬化性樹脂層表面の突起の個数や高さを調整することにより、第1活性エネルギー線硬化性樹脂層表面の中心線平均粗さ(Ra1)は30nm未満に制御することができる。   The first active energy ray-curable resin layer preferably has a relatively large number of protrusions on the surface. On the other hand, from the viewpoint of reducing the haze value of the laminated film, the first active energy ray-curable resin layer is used. The surface is preferably relatively smooth. That is, the center line average roughness (Ra1) on the surface of the first active energy ray-curable resin layer is preferably less than 30 nm. By adjusting the number and height of the protrusions on the surface of the first active energy ray-curable resin layer described above, the center line average roughness (Ra1) of the surface of the first active energy ray-curable resin layer is controlled to be less than 30 nm. be able to.

第1活性エネルギー線硬化性樹脂層表面の中心線平均粗さ(Ra1)は、25nm以下が好ましく、20nm以下がより好ましく、18nm以下が特に好ましい。一方、第1活性エネルギー線硬化性樹脂層表面の中心線平均粗さ(Ra1)が小さくなりすぎると耐ブロッキング性が低下することがあるので、下限の中心線平均粗さ(Ra1)は3nm以上が好ましく、5nm以上がより好ましい。   The center line average roughness (Ra1) on the surface of the first active energy ray-curable resin layer is preferably 25 nm or less, more preferably 20 nm or less, and particularly preferably 18 nm or less. On the other hand, if the centerline average roughness (Ra1) on the surface of the first active energy ray-curable resin layer is too small, the anti-blocking property may decrease, so the lower limit centerline average roughness (Ra1) is 3 nm or more. Is preferable, and 5 nm or more is more preferable.

[積層フィルム]
本発明の積層フィルムは、基材フィルムの少なくとも一方の面に樹脂層と第1活性エネルギー線硬化性樹脂層をこの順に有する。本発明の積層フィルムは、基材フィルムの片面のみに樹脂層と第1活性エネルギー線硬化性樹脂層を有していてもよいし、基材フィルムの両面に樹脂層と第1活性エネルギー線硬化性樹脂層を有していてもよい。
[Laminated film]
The laminated film of the present invention has a resin layer and a first active energy ray-curable resin layer in this order on at least one surface of the base film. The laminated film of the present invention may have a resin layer and a first active energy ray-curable resin layer only on one side of the base film, or a resin layer and a first active energy ray cure on both sides of the base film. May have a functional resin layer.

また、本発明の積層フィルムの他の好ましい態様として、基材フィルムの一方の面に樹脂層と第1活性エネルギー線硬化性樹脂層を有し、基材フィルムの他方の面に(つまり、基材フィルムの第1活性エネルギー線硬化性樹脂層が設けられた面とは反対面)に第2活性エネルギー線硬化性樹脂層を有する積層フィルムが挙げられる。   Further, as another preferred embodiment of the laminated film of the present invention, the base film has a resin layer and a first active energy ray-curable resin layer on one surface, and the other surface of the base film (that is, a base film). The laminated film which has a 2nd active energy ray curable resin layer on the surface opposite to the surface in which the 1st active energy ray curable resin layer of the material film was provided is mentioned.

本発明の積層フィルムは後述するように透明導電性フィルムのベースフィルムとして好適である。透明導電性フィルムは高い透明性が要求されることから、ベースフィルム(積層フィルム)のヘイズ値は小さいことが好ましい。   The laminated film of the present invention is suitable as a base film of a transparent conductive film as will be described later. Since the transparent conductive film is required to have high transparency, the base film (laminated film) preferably has a small haze value.

上記の観点から、本発明の積層フィルムは、ヘイズ値が0.5%以下であることが好ましく、0.4%以下であることがより好ましく、0.3%以下であることが特に好ましい。下限のヘイズ値は小さいほど好ましく、従って特に限定されない。   From the above viewpoint, the laminated film of the present invention preferably has a haze value of 0.5% or less, more preferably 0.4% or less, and particularly preferably 0.3% or less. The lower haze value is preferably as small as possible, and is not particularly limited.

本発明の積層フィルムの構成(基材フィルムの少なくとも一方の面に樹脂層と第1活性エネルギー線硬化性樹脂層をこの順に有する構成)を採用することにより、ヘイズ値が0.5%以下である積層フィルムを得ることができるが、更にヘイズ値の小さい積層フィルムを得るには、基材フィルムの一方の面に樹脂層と第1活性エネルギー線硬化性樹脂層を有し、基材フィルムの他方の面に下記の第2活性エネルギー線硬化性樹脂層を有する積層フィルムとすることが好ましい。   By employing the configuration of the laminated film of the present invention (the configuration having the resin layer and the first active energy ray-curable resin layer in this order on at least one surface of the base film), the haze value is 0.5% or less. A certain laminated film can be obtained, but in order to obtain a laminated film having a smaller haze value, the resin film and the first active energy ray-curable resin layer are provided on one surface of the substrate film, It is preferable to use a laminated film having the following second active energy ray-curable resin layer on the other surface.

[第2活性エネルギー線硬化性樹脂層]
以下、基材フィルムの他方の面に設けられる第2活性エネルギー線硬化性樹脂層について説明する。
[Second active energy ray-curable resin layer]
Hereinafter, the 2nd active energy ray curable resin layer provided in the other surface of a base film is demonstrated.

第2活性エネルギー線硬化性樹脂層の厚みは、2.5μm未満であることが好ましく、2.0μm以下であることがより好ましい。下限の厚みは0.5μm以上であることが好ましく、1.0μm以上であることがより好ましい。   The thickness of the second active energy ray-curable resin layer is preferably less than 2.5 μm, and more preferably 2.0 μm or less. The lower limit thickness is preferably 0.5 μm or more, and more preferably 1.0 μm or more.

第2活性エネルギー線硬化性樹脂層の厚みが2.5μm以上となると、積層フィルムのカールが大きくなったり、透過率が低下するなどの不都合が生じる場合がある。また、第2活性エネルギー線硬化性樹脂層の厚みが0.5μm未満となると第2活性エネルギー線硬化性樹脂層の硬度が低下し、傷が入りやすくなる。   When the thickness of the second active energy ray-curable resin layer is 2.5 μm or more, there are cases where inconveniences such as an increase in curling of the laminated film and a decrease in transmittance may occur. On the other hand, when the thickness of the second active energy ray-curable resin layer is less than 0.5 μm, the hardness of the second active energy ray-curable resin layer is lowered, and scratches are easily formed.

第2活性エネルギー線硬化性樹脂層は、積層フィルム表面に傷が発生するのを抑制するという観点から硬度が高いことが好ましく、JIS K5600−5−4(1999年)で定義される鉛筆硬度が、H以上が好ましく、2H以上がより好ましい。上限は9H程度である。   The second active energy ray-curable resin layer preferably has a high hardness from the viewpoint of suppressing the occurrence of scratches on the surface of the laminated film, and has a pencil hardness defined by JIS K5600-5-4 (1999). , H or more is preferable, and 2H or more is more preferable. The upper limit is about 9H.

上述したように、積層フィルムのヘイズ値を小さくするという観点から、第2活性エネルギー線硬化性樹脂層の表面は平滑であることが好ましい。即ち、第2活性エネルギー線硬化性樹脂層の表面の中心線平均粗さ(Ra2)は、25nm以下が好ましく、20nm以下がより好ましく、15nm以下が特に好ましい。下限は特に限定されないが、現実的には0.1nm程度である。   As described above, from the viewpoint of reducing the haze value of the laminated film, the surface of the second active energy ray-curable resin layer is preferably smooth. That is, the center line average roughness (Ra2) of the surface of the second active energy ray-curable resin layer is preferably 25 nm or less, more preferably 20 nm or less, and particularly preferably 15 nm or less. The lower limit is not particularly limited, but is practically about 0.1 nm.

第2活性エネルギー線硬化性樹脂層は、第2活性エネルギー線硬化性樹脂層表面の中心線平均粗さ(Ra2)を25nm以下とするために、第2活性エネルギー線硬化性樹脂層は平均粒子径が0.5μmより大きい粒子を実質的に含有しないことが好ましい。ここで、第2活性エネルギー線硬化性樹脂層が、平均粒子径が0.5μmより大きい粒子を実質的に含有しないとは、第2活性エネルギー線硬化性樹脂層を形成するための塗布液(例えば、活性エネルギー線硬化性組成物)に平均粒子径が0.5μmより大きい粒子を意図的に添加しないことを意味する。なお、第2活性エネルギー線硬化性樹脂層に含まれる粒子の平均径は、第1活性エネルギー線硬化性樹脂層に含まれる粒子の平均径の測定方法と同様の方法によって、求められる。   The second active energy ray-curable resin layer has an average particle size of the second active energy ray-curable resin layer so that the centerline average roughness (Ra2) of the surface of the second active energy ray-curable resin layer is 25 nm or less. It is preferable that particles having a diameter larger than 0.5 μm are not substantially contained. Here, the fact that the second active energy ray-curable resin layer does not substantially contain particles having an average particle size larger than 0.5 μm means that the coating liquid for forming the second active energy ray-curable resin layer ( For example, it means that particles having an average particle size larger than 0.5 μm are not intentionally added to the active energy ray-curable composition). In addition, the average diameter of the particle | grains contained in a 2nd active energy ray curable resin layer is calculated | required by the method similar to the measuring method of the average diameter of the particle | grains contained in a 1st active energy ray curable resin layer.

第2活性エネルギー線硬化性樹脂層は、その表面には粒子による突起は存在しないことが好ましい。第2活性エネルギー線硬化性樹脂層は、平均粒子径が0.5μm以下の粒子を含有することができるが、上記の観点から第2活性エネルギー線硬化性樹脂層に含有させる粒子の平均粒子径は調整することが好ましい。   The second active energy ray-curable resin layer preferably has no protrusions due to particles on the surface thereof. The second active energy ray-curable resin layer can contain particles having an average particle size of 0.5 μm or less. From the above viewpoint, the average particle size of particles to be contained in the second active energy ray-curable resin layer Is preferably adjusted.

第2活性エネルギー線硬化性樹脂層に粒子を含有させる場合は、粒子の平均粒子径は0.2μm以下が好ましく、0.1μm以下がより好ましい。このような粒子の含有量は、第2活性エネルギー線硬化性樹脂層の固形分総量100質量%に対して0.1〜15質量%の範囲が適当であり、0.5〜10質量%の範囲がより好ましく、特に1〜8質量%の範囲が好ましい。   When the particles are contained in the second active energy ray-curable resin layer, the average particle diameter of the particles is preferably 0.2 μm or less, and more preferably 0.1 μm or less. The content of such particles is suitably in the range of 0.1 to 15% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of the second active energy ray-curable resin layer, and is 0.5 to 10% by mass. A range is more preferable, and a range of 1 to 8% by mass is particularly preferable.

第2活性エネルギー線硬化性樹脂層は、粒子を全く含有しないことが最も好ましい。   Most preferably, the second active energy ray-curable resin layer contains no particles.

第2活性エネルギー線硬化性樹脂層は、少なくとも活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する活性エネルギー線硬化性組成物を硬化せしめた層である。第2活性エネルギー線硬化性樹脂層は、活性エネルギー線硬化性組成物をウェットコーティング法により塗布し、乾燥した後、活性エネルギー線を照射して硬化せしめた層であることが好ましい。   The second active energy ray curable resin layer is a layer obtained by curing an active energy ray curable composition containing at least an active energy ray curable resin. The second active energy ray-curable resin layer is preferably a layer obtained by applying an active energy ray-curable composition by a wet coating method and drying it, and then irradiating and curing the active energy ray.

ウェットコーティング法および活性エネルギー線は、前述の第1活性エネルギー線硬化性樹脂層を形成するためのものと同様のものが用いられる。   The wet coating method and the active energy ray are the same as those used for forming the first active energy ray-curable resin layer.

活性エネルギー線として紫外線を用いる場合の照射光量は、50mJ/cm以上が好ましく、100mJ/cm以上がより好ましく、特に150mJ/cm以上が好ましい。上限は2000mJ/cm以下が好ましく、1000mJ/cm以下がより好ましい。 Irradiation dose in the case of using ultraviolet rays as the active energy ray is preferably 50 mJ / cm 2 or more, 100 mJ / cm 2 or more, and particularly 150 mJ / cm 2 or more. The upper limit is preferably 2000 mJ / cm 2 or less, and more preferably 1000 mJ / cm 2 or less.

活性エネルギー線硬化性樹脂についても、前述の第1活性エネルギー線硬化性樹脂層を形成するための活性エネルギー線硬化性組成物に含有される活性エネルギー線硬化性樹脂と同様のものを用いることができる。また、活性エネルギー線硬化性樹脂の含有量についても、前述の第1活性エネルギー線硬化性樹脂層を形成するための活性エネルギー線硬化性組成物における含有量と同様である。   As the active energy ray curable resin, the same active energy ray curable resin as that contained in the active energy ray curable composition for forming the first active energy ray curable resin layer described above may be used. it can. Further, the content of the active energy ray-curable resin is the same as the content in the active energy ray-curable composition for forming the first active energy ray-curable resin layer.

第2活性エネルギー線硬化性樹脂層を形成するための活性エネルギー線硬化性組成物は、光重合開始剤を含有することが好ましい。かかる光重合開始剤は、前述の第1活性エネルギー線硬化性樹脂層を形成するための活性エネルギー線硬化性組成物に含有される光重合開始剤と同様のものを用いることができる。また、光重合開始剤の含有量についても、前述の第1活性エネルギー線硬化性樹脂層を形成するための活性エネルギー線硬化性組成物における含有量と同様である。   The active energy ray-curable composition for forming the second active energy ray-curable resin layer preferably contains a photopolymerization initiator. As the photopolymerization initiator, the same photopolymerization initiator as that contained in the active energy ray-curable composition for forming the first active energy ray-curable resin layer described above can be used. Further, the content of the photopolymerization initiator is the same as the content in the active energy ray-curable composition for forming the first active energy ray-curable resin layer described above.

第2活性エネルギー線硬化性樹脂層の屈折率は、1.48〜1.54の範囲であることが好ましく、1.50〜1.53の範囲がより好ましい。第2活性エネルギー線硬化性樹脂層を、上述した活性エネルギー線硬化性組成物をウェットコーティング法により塗布し、必要に応じて乾燥した後、活性エネルギー線を照射して硬化することにより形成することにより、屈折率が1.48〜1.54の範囲の第2活性エネルギー線硬化性樹脂層を得ることができる。   The refractive index of the second active energy ray-curable resin layer is preferably in the range of 1.48 to 1.54, and more preferably in the range of 1.50 to 1.53. The second active energy ray-curable resin layer is formed by applying the above-described active energy ray-curable composition by a wet coating method, drying as necessary, and then irradiating and curing the active energy ray. Thus, a second active energy ray-curable resin layer having a refractive index in the range of 1.48 to 1.54 can be obtained.

なお、本発明において、上記第2活性エネルギー線硬化性樹脂層の屈折率、および後述する二軸延伸PETフィルム、易接着層、屈折率調整層の屈折率は、特に断りの無い限り、波長589nmにおける屈折率を言う。   In the present invention, the refractive index of the second active energy ray-curable resin layer and the refractive indexes of the biaxially stretched PET film, the easy-adhesion layer, and the refractive index adjustment layer described below are wavelengths 589 nm unless otherwise specified. The refractive index at.

基材フィルムと第2活性エネルギー線硬化性樹脂層との密着性を強化するために、易接着層を基材フィルムと第2活性エネルギー線硬化性樹脂層との間に介在させることが好ましい。易接着層としては、前述の基材フィルムと第1活性エネルギー線硬化性樹脂層との間に設けられる樹脂層と同じものを用いることができる。   In order to reinforce the adhesion between the base film and the second active energy ray-curable resin layer, it is preferable to interpose an easy-adhesion layer between the base film and the second active energy ray-curable resin layer. As an easily bonding layer, the same thing as the resin layer provided between the above-mentioned base film and the 1st active energy ray hardening resin layer can be used.

前述したように、積層フィルムの基材フィルムとしてポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム)が好ましく、特に二軸延伸PETフィルムが好ましく用いられる。この二軸延伸PETフィルムの屈折率は通常1.61〜1.70であり、この二軸延伸PETフィルム上に屈折率が1.48〜1.54の第2活性エネルギー線硬化性樹脂層を積層すると反射色むらが発生することがある。この反射色むらを抑制するために、上記易接着層の屈折率を1.55〜1.60とすることが好ましく、特に1.56〜1.59とすることがより好ましい。   As described above, a polyethylene terephthalate film (PET film) is preferable as the base film of the laminated film, and a biaxially stretched PET film is particularly preferably used. The biaxially stretched PET film usually has a refractive index of 1.61 to 1.70, and a second active energy ray-curable resin layer having a refractive index of 1.48 to 1.54 is formed on the biaxially stretched PET film. When laminated, uneven reflection colors may occur. In order to suppress this uneven reflection color, the refractive index of the easy adhesion layer is preferably 1.55 to 1.60, more preferably 1.56 to 1.59.

したがって、本発明の積層フィルムは、基材フィルムが、屈折率が1.61〜1.70であるポリエチレンテレフタレートフィルムであり、易接着層の屈折率が1.55〜1.60であり、第2活性エネルギー線硬化性樹脂層の屈折率が1.48〜1.54であることが特に好ましい。   Therefore, in the laminated film of the present invention, the base film is a polyethylene terephthalate film having a refractive index of 1.61 to 1.70, the refractive index of the easy adhesion layer is 1.55 to 1.60, The refractive index of the two active energy ray-curable resin layer is particularly preferably 1.48 to 1.54.

易接着層の屈折率を1.55〜1.60の範囲とするには、樹脂として分子中にナフタレン環を含むポリエステル樹脂を用いることが好ましい。ナフタレン環を含むポリエステル樹脂は、例えば、共重合成分として1,4−ナフタレンジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸などの多価カルボン酸を使用することによって合成することができる。   In order to set the refractive index of the easy-adhesion layer in the range of 1.55 to 1.60, it is preferable to use a polyester resin containing a naphthalene ring in the molecule as the resin. A polyester resin containing a naphthalene ring can be synthesized, for example, by using a polyvalent carboxylic acid such as 1,4-naphthalenedicarboxylic acid or 2,6-naphthalenedicarboxylic acid as a copolymerization component.

易接着層における分子中にナフタレン環を含むポリエステル樹脂の含有量は、全樹脂総量100質量%に対して5〜70質量%の範囲が好ましく、10〜60質量%の範囲がより好ましい。   The content of the polyester resin containing a naphthalene ring in the molecule in the easy adhesion layer is preferably 5 to 70% by mass, more preferably 10 to 60% by mass with respect to 100% by mass of the total resin.

易接着層は、架橋剤を含有することが好ましい。かかる架橋剤は前述の樹脂層に含有させる架橋剤と同様のものを用いることができ、また含有量も同様である。   The easy adhesion layer preferably contains a cross-linking agent. As the crosslinking agent, the same crosslinking agent as that contained in the resin layer can be used, and the content is also the same.

易接着層は、粒子を含有することが好ましい。かかる粒子は前述の樹脂層に含有させる粒子と同様のものを用いることができ、また含有量も同様である。   The easy adhesion layer preferably contains particles. As such particles, the same particles as those contained in the resin layer described above can be used, and the content is also the same.

易接着層は、基材フィルム上にウェットコーティング法で塗布し、加熱硬化されて積層されることが好ましい。さらに基材フィルムの製造工程内で易接着層をウェットコーティング法で塗布する、いわゆる、インラインコーティング法によって塗布し、加熱硬化して積層されることが好ましい。   The easy-adhesion layer is preferably applied on a base film by a wet coating method, and is cured by heating and laminated. Furthermore, it is preferable that the easy-adhesion layer is applied by a wet coating method in the manufacturing process of the base film, which is applied by a so-called in-line coating method, and is heated and cured to be laminated.

易接着層の厚みは、0.005〜0.3μmの範囲が好ましく、0.01〜0.2μmの範囲がより好ましく、0.015〜0.15μmの範囲が特に好ましい。   The thickness of the easy adhesion layer is preferably in the range of 0.005 to 0.3 μm, more preferably in the range of 0.01 to 0.2 μm, and particularly preferably in the range of 0.015 to 0.15 μm.

[透明導電性フィルム]
本発明の積層フィルムは、透明導電性フィルムのベースフィルムとして好適である。つまり、本発明の積層フィルムをベースフィルムとして用いた透明導電性フィルムは、本発明の積層フィルムの少なくとも一方の面に透明導電膜が積層されたものである。
[Transparent conductive film]
The laminated film of the present invention is suitable as a base film for a transparent conductive film. That is, the transparent conductive film using the laminated film of the present invention as a base film is obtained by laminating a transparent conductive film on at least one surface of the laminated film of the present invention.

透明導電膜は、本発明の積層フィルムのどちらか一方の面のみに積層されていてもよいし、両方の面に積層されていてもよい。   The transparent conductive film may be laminated | stacked only on either one surface of the laminated | multilayer film of this invention, and may be laminated | stacked on both surfaces.

本発明の積層フィルムをベースフィルムとして用いた透明導電性フィルムの構成例の幾つかを以下に例示するが、本発明はこれらに限定されない。   Some examples of the configuration of the transparent conductive film using the laminated film of the present invention as a base film are exemplified below, but the present invention is not limited thereto.

i)第1活性エネルギー線硬化性樹脂層/樹脂層/基材フィルム/易接着層/第1活性エネルギー線硬化性樹脂層/透明導電膜
ii)透明導電膜/第1活性エネルギー線硬化性樹脂層/樹脂層/基材フィルム/樹脂層/第1活性エネルギー線硬化性樹脂層/透明導電膜
iii)第1活性エネルギー線硬化性樹脂層/樹脂層/基材フィルム/易接着層/第2活性エネルギー線硬化性樹脂層/透明導電膜
iv)/透明導電膜/第1活性エネルギー線硬化性樹脂層/樹脂層/基材フィルム/易接着層/第2活性エネルギー線硬化性樹脂層
v)透明導電膜/第1活性エネルギー線硬化性樹脂層/樹脂層/基材フィルム/易接着層/第2活性エネルギー線硬化性樹脂層/透明導電膜。
i) First active energy ray-curable resin layer / resin layer / base film / adhesive layer / first active energy ray-curable resin layer / transparent conductive film
ii) Transparent conductive film / first active energy ray-curable resin layer / resin layer / base film / resin layer / first active energy ray-curable resin layer / transparent conductive film
iii) First active energy ray-curable resin layer / resin layer / base film / adhesive layer / second active energy ray-curable resin layer / transparent conductive film
iv) / transparent conductive film / first active energy ray-curable resin layer / resin layer / base film / adhesive layer / second active energy ray-curable resin layer
v) Transparent conductive film / first active energy ray-curable resin layer / resin layer / base film / adhesive layer / second active energy ray-curable resin layer / transparent conductive film.

上記の構成例の中でも、i)もしくはiii)が好ましく、特にiii)が好ましい。つまり、透明導電膜の積層工程や加工工程における積層フィルムの耐ブロッキング性を確保するという観点から、一方の第1活性エネルギー線硬化性樹脂層には透明導電膜を積層せず露出させておくことが好ましい。   Among the above configuration examples, i) or iii) is preferable, and iii) is particularly preferable. In other words, from the viewpoint of ensuring the blocking resistance of the laminated film in the lamination step and processing step of the transparent conductive film, the first active energy ray-curable resin layer should be exposed without being laminated. Is preferred.

また更に、透明導電膜を積層する面の活性エネルギー線硬化性樹脂層は比較的平滑でクリアーであることが好ましい。従って、iii)の構成例において、第2活性エネルギー線硬化性樹脂層の表面の中心線平均粗さRaは25nm以下が好ましく、20nm以下がより好ましく、特に15nm以下が好ましい。   Furthermore, the active energy ray-curable resin layer on the surface on which the transparent conductive film is laminated is preferably relatively smooth and clear. Therefore, in the configuration example of iii), the center line average roughness Ra of the surface of the second active energy ray-curable resin layer is preferably 25 nm or less, more preferably 20 nm or less, and particularly preferably 15 nm or less.

[透明導電膜]
透明導電性層を形成する材料としては、例えば、酸化錫、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、ITO(酸化インジウム錫)、ATO(酸化アンチモン錫)等の金属酸化物、金属ナノワイヤー(例えば銀ナノワイヤー)、カーボンナオチューブが挙げられる。これらの中でも、ITOが好ましく用いられる。
[Transparent conductive film]
Examples of the material for forming the transparent conductive layer include tin oxide, indium oxide, antimony oxide, zinc oxide, ITO (indium tin oxide), metal oxide such as ATO (antimony tin oxide), and metal nanowires (for example, silver Nanowire) and carbon naotube. Among these, ITO is preferably used.

透明導電膜の厚みは、表面抵抗値を10Ω/□以下の良好な導電性を確保するという観点から、8nm以上であることが好ましく、10nm以上であることがより好ましい。一方、透明導電膜の厚みが大きくなりすぎると、色味(着色)が強くなったり、透明性が低下するという不都合が生じることがあるので、透明導電膜の厚みの上限は、60nm以下が好ましく、50nm以下がより好ましく、特に40nm以下が好ましい。 The thickness of the transparent conductive film is preferably 8 nm or more, and more preferably 10 nm or more, from the viewpoint of ensuring good conductivity with a surface resistance value of 10 3 Ω / □ or less. On the other hand, if the thickness of the transparent conductive film is too large, the color (coloring) may become inconvenient or the transparency may be lowered. Therefore, the upper limit of the thickness of the transparent conductive film is preferably 60 nm or less. 50 nm or less is more preferable, and 40 nm or less is particularly preferable.

透明導電膜の形成方法としては特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。具体的には、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライ製膜法(気相製膜法)、あるいはウェットコーティング法が挙げられる。   It does not specifically limit as a formation method of a transparent conductive film, A conventionally well-known method can be used. Specifically, a dry film forming method (vapor phase film forming method) such as a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, or a wet coating method can be used.

上記のようにして製膜された透明導電膜はパターン化されていてもよい。パターン化は、透明導電性フィルムが適用される用途に応じて、各種のパターンを形成することができる。なお、透明導電膜のパターン化により、パターン部(積層フィルムの表面において透明導電膜が積層されている部分)と非パターン部(積層フィルムの表面において透明導電膜が積層されていない部分)が形成されるが、パターン部の形状としては、例えば、ストライプ状、格子状等が挙げられる。   The transparent conductive film formed as described above may be patterned. The patterning can form various patterns depending on the application to which the transparent conductive film is applied. In addition, by patterning the transparent conductive film, a pattern portion (a portion where the transparent conductive film is laminated on the surface of the laminated film) and a non-pattern portion (a portion where the transparent conductive film is not laminated on the surface of the laminated film) are formed. However, examples of the shape of the pattern portion include a stripe shape and a lattice shape.

透明導電膜のパターン化は、一般的にはエッチングによって行われる。例えば、透明導電膜上にパターン状のエッチングレジスト膜を、フォトリソグラフィ法、レーザー露光法、あるいは印刷法により形成した後エッチング処理することにより、透明導電膜がパターン化される。透明導電膜がパターン化された後、エッチングレジスト膜がアルカリ水溶液で剥離除去される。   The patterning of the transparent conductive film is generally performed by etching. For example, a transparent conductive film is patterned by forming a patterned etching resist film on the transparent conductive film by a photolithography method, a laser exposure method, or a printing method and then performing an etching process. After the transparent conductive film is patterned, the etching resist film is peeled off with an alkaline aqueous solution.

エッチング液としては、従来から公知のものが用いられる。例えば、塩化水素、臭化水素、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸、酢酸等の有機酸、およびこれらの混合物、ならびにそれらの水溶液が用いられる。   A conventionally well-known thing is used as etching liquid. For example, inorganic acids such as hydrogen chloride, hydrogen bromide, sulfuric acid, nitric acid and phosphoric acid, organic acids such as acetic acid, and mixtures thereof, and aqueous solutions thereof are used.

エッチングレジスト膜の剥離除去に用いられるアルカリ水溶液としては、1〜5質量%の水酸化ナトリウム水溶液や水酸化カリウム水溶液等が挙げられる。   Examples of the alkaline aqueous solution used for stripping and removing the etching resist film include 1 to 5% by mass of a sodium hydroxide aqueous solution and a potassium hydroxide aqueous solution.

[屈折率調整層]
上記透明導電性フィルムの構成例において、透明導電膜は第1活性エネルギー線硬化性樹脂層あるいは第2活性エネルギー線硬化性樹脂層の上に直接に積層されてもよいが、透明導電膜と第1活性エネルギー線硬化性樹脂層あるいは第2活性エネルギー線硬化性樹脂層との間に屈折率調整層を介在させることが好ましい。以下、屈折率調整層について説明する。
[Refractive index adjusting layer]
In the configuration example of the transparent conductive film, the transparent conductive film may be directly laminated on the first active energy ray curable resin layer or the second active energy ray curable resin layer. It is preferable to interpose a refractive index adjusting layer between the 1 active energy ray curable resin layer or the second active energy ray curable resin layer. Hereinafter, the refractive index adjustment layer will be described.

屈折率調整層は、1層のみで構成されてもよいし、2層以上の積層構成であってもよい。屈折率調整層は、その上に積層される透明導電膜の反射色や透過色を調整するための機能、あるいはパターン化された透明導電膜のパターン部が視認される、いわゆる「骨見え」を抑制するための機能を有する層である。   The refractive index adjusting layer may be composed of only one layer or may be a laminated structure of two or more layers. The refractive index adjustment layer has a function for adjusting the reflection color and transmission color of the transparent conductive film laminated thereon, or a so-called “bone appearance” in which the patterned portion of the patterned transparent conductive film is visually recognized. It is a layer having a function to suppress.

屈折率調整層の構成としては、例えば、屈折率が1.60〜1.80の高屈折率層の1層構成、屈折率が1.30〜1.50の低屈折率層の1層構成、あるいは上記高屈折率層と低屈折率層との積層構成(低屈折率層が透明導電膜側に配置)などが挙げられる。   As the configuration of the refractive index adjustment layer, for example, a single layer configuration of a high refractive index layer having a refractive index of 1.60 to 1.80, and a single layer configuration of a low refractive index layer having a refractive index of 1.30 to 1.50. Or the laminated structure of the said high refractive index layer and a low refractive index layer (low refractive index layer arrange | positions at the transparent conductive film side) etc. are mentioned.

上記高屈折率層の屈折率は、さらに1.63〜1.78の範囲が好ましく、1.65〜1.75の範囲がより好ましい。上記低屈折率層の屈折率は、さらに1.30〜1.48の範囲が好ましく、1.33〜1.46の範囲がより好ましい。   The refractive index of the high refractive index layer is further preferably in the range of 1.63 to 1.78, and more preferably in the range of 1.65 to 1.75. The refractive index of the low refractive index layer is further preferably in the range of 1.30 to 1.48, more preferably in the range of 1.33 to 1.46.

屈折率調整層の厚み(複数層の積層構成の場合は合計厚みを指す)は、0.2μm以下が好ましく、0.15μm以下がより好ましく、0.12μm以下が特に好ましく、0.1μm以下が最も好ましい。下限の厚みは0.03μm以上が好ましく、0.04μm以上がより好ましく、0.05μm以上が特に好ましく、0.06μm以上が最も好ましい。   The thickness of the refractive index adjusting layer (referring to the total thickness in the case of a multilayer structure) is preferably 0.2 μm or less, more preferably 0.15 μm or less, particularly preferably 0.12 μm or less, and 0.1 μm or less. Most preferred. The lower limit thickness is preferably 0.03 μm or more, more preferably 0.04 μm or more, particularly preferably 0.05 μm or more, and most preferably 0.06 μm or more.

高屈折率層は、例えば屈折率が1.65以上の金属酸化物微粒子を含有する活性エネルギー線硬化性組成物をウェットコーティング法により塗布し、必要に応じて乾燥した後、活性エネルギー線を照射して硬化することにより形成することができる。ここで活性エネルギー線硬化性組成物は、前述の第1活性エネルギー線硬化性樹脂層で説明した活性エネルギー線硬化性樹脂と光重合開始剤を少なくとも含有する組成物である。   For the high refractive index layer, for example, an active energy ray-curable composition containing metal oxide fine particles having a refractive index of 1.65 or more is applied by a wet coating method, dried as necessary, and then irradiated with active energy rays. Then, it can be formed by curing. Here, the active energy ray-curable composition is a composition containing at least the active energy ray-curable resin and the photopolymerization initiator described in the first active energy ray-curable resin layer.

金属酸化物微粒子としては、チタン、ジルコニウム、亜鉛、錫、アンチモン、セリウム、鉄、インジウム等の金属酸化物粒子が挙げられる。金属酸化物微粒子の具体例としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチモン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム(ITO)、アンチモンドープ酸化錫(ATO)、リンドープ酸化錫、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ酸化錫等が挙げられ、これらの金属酸化物微粒子は単独で用いてもよいし、複数併用してもよい。上記金属酸化物微粒子の中でも、特に酸化チタンおよび酸化ジルコニウムが、透明性を低下させずに屈折率を高めることができるので好ましい。   Examples of the metal oxide fine particles include metal oxide particles such as titanium, zirconium, zinc, tin, antimony, cerium, iron, and indium. Specific examples of the metal oxide fine particles include, for example, titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, antimony oxide, cerium oxide, iron oxide, zinc antimonate, tin oxide-doped indium oxide (ITO), and antimony-doped tin oxide. (ATO), phosphorus-doped tin oxide, aluminum-doped zinc oxide, gallium-doped zinc oxide, fluorine-doped tin oxide, and the like. These metal oxide fine particles may be used alone or in combination. Among the metal oxide fine particles, titanium oxide and zirconium oxide are particularly preferable because they can increase the refractive index without reducing transparency.

活性エネルギー線硬化性組成物における金属酸化物微粒子の含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量100質量%に対して30質量%以上が好ましく、40質量%以上がより好ましく、50質量%以上が特に好ましい。上限は70質量%以下が好ましく、60質量%以下が好ましい。   The content of the metal oxide fine particles in the active energy ray-curable composition is preferably 30% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, with respect to 100% by mass of the total solid content of the active energy ray-curable composition. A mass% or more is particularly preferred. The upper limit is preferably 70% by mass or less, and preferably 60% by mass or less.

低屈折率層は、例えば、低屈折率材料として低屈折率無機粒子および/または含フッ素化合物を含有する活性エネルギー線硬化性組成物をウェットコーティング法により塗布し、必要に応じて乾燥した後、活性エネルギー線を照射して硬化することにより形成することができる。ここで活性エネルギー線硬化性組成物は、前述の第1活性エネルギー線硬化性樹脂層で説明した活性エネルギー線硬化性樹脂および光重合開始剤を含有する組成物である。   The low refractive index layer is, for example, coated with an active energy ray-curable composition containing low refractive index inorganic particles and / or a fluorine-containing compound as a low refractive index material by a wet coating method and, if necessary, dried. It can be formed by irradiating with active energy rays and curing. Here, the active energy ray-curable composition is a composition containing the active energy ray-curable resin and the photopolymerization initiator described in the first active energy ray-curable resin layer.

低屈折率無機粒子としては、シリカやフッ化マグネシウム等の無機粒子が好ましい。さらにこれらの無機粒子は中空状や多孔質のものが好ましい。このような低屈折率無機粒子の含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量100質量%に対して1〜50質量%の範囲が好ましく、3〜40質量%の範囲がより好ましく、特に5〜35質量%の範囲が好ましい。   As the low refractive index inorganic particles, inorganic particles such as silica and magnesium fluoride are preferable. Further, these inorganic particles are preferably hollow or porous. The content of such low refractive index inorganic particles is preferably in the range of 1 to 50% by mass, more preferably in the range of 3 to 40% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of the active energy ray-curable composition. In particular, the range of 5 to 35% by mass is preferable.

含フッ素化合物としては、含フッ素モノマー、含フッ素オリゴマー、含フッ素高分子化合物が挙げられる。ここで、含フッ素モノマーあるいは含フッ素オリゴマーは、分子中に前述のエチレン性不飽和基とフッ素原子とを有するモノマーあるいはオリゴマーである。   Examples of the fluorine-containing compound include fluorine-containing monomers, fluorine-containing oligomers, and fluorine-containing polymer compounds. Here, the fluorine-containing monomer or fluorine-containing oligomer is a monomer or oligomer having the above-mentioned ethylenically unsaturated group and fluorine atom in the molecule.

含フッ素モノマー、含フッ素オリゴマーとしては、例えば、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロブチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロオクチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロデシル)エチル(メタ)アクリレート、βー(パーフロロオクチル)エチル(メタ)アクリレートなどのフッ素含有(メタ)アクリル酸エステル類、 ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,2−トリフルオロエチルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブチルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,4,4,5,5,5−ノナフルオロペンチルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,6−ウンデカフルオロヘキシルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,7−トリデカフルオロヘプチルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−ペンタデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,9−ヘプタデカフルオロノニルエチレングリコールなどのジ−(α−フルオロアクリル酸)フルオロアルキルエステル類が挙げられる。   Examples of the fluorine-containing monomer and fluorine-containing oligomer include 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl (meth) acrylate, and 2- (perfluorobutyl). ) Ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorooctyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorodecyl) ethyl (meth) acrylate, β- (per Fluoro-containing (meth) acrylic esters such as fluorooctyl) ethyl (meth) acrylate, di- (α-fluoroacrylic acid) -2,2,2-trifluoroethylethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid) ) -2,2,3,3,3-pentafluoropropylethylene glycol, di (Α-fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutylethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,4,4,4 5,5,5-nonafluoropentylethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,6-undecafluorohexylethylene glycol , Di- (α-fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,7-tridecafluoroheptylethylene glycol, di- (α-fluoro Acrylic acid) -2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-pentadecafluorooctylethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid) -3, 3, 4, 4, 5, 5, 6, 6, 7, 7, 8, 8, 8-tridecafluorooctylethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9 , 9-heptadecafluorononylethylene glycol and the like di- (α-fluoroacrylic acid) fluoroalkyl esters.

含フッ素高分子化合物としては、例えば、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等)、(メタ)アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えばビスコート6FM(大阪有機化学製)やM−2020(ダイキン製)等)、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等である。架橋性基付与のためのモノマーとしてはグリシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有する(メタ)アクリレートモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する(メタ)アクリレートモノマー(例えば(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、アリルアクリレート等)が挙げられる。   Examples of the fluorine-containing polymer compound include a fluorine-containing copolymer having a fluorine-containing monomer and a monomer for imparting a crosslinkable group as constituent units. Specific examples of the fluorine-containing monomer unit include, for example, fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole, etc. ), (Meth) acrylic acid partial or fully fluorinated alkyl ester derivatives (for example, Biscoat 6FM (manufactured by Osaka Organic Chemicals) and M-2020 (manufactured by Daikin)), fully or partially fluorinated vinyl ethers, and the like. As a monomer for imparting a crosslinkable group, in addition to a (meth) acrylate monomer having a crosslinkable functional group in the molecule like glycidyl methacrylate, it has a carboxyl group, a hydroxyl group, an amino group, a sulfonic acid group, etc. ) Acrylate monomers (for example, (meth) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allyl acrylate, etc.).

含フッ素化合物の含有量は活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量100質量%に対して、5〜50質量%の範囲が好ましく、10〜45質量%の範囲がより好ましく、特に15〜40質量%の範囲が好ましい。   The content of the fluorine-containing compound is preferably in the range of 5 to 50% by mass, more preferably in the range of 10 to 45% by mass, and particularly preferably 15 to 40% with respect to 100% by mass of the total solid content of the active energy ray-curable composition. A range of mass% is preferred.

[タッチパネル]
本発明の積層フィルムをベースフィルとする透明導電性フィルムは、タッチパネルの構成部材の1つとして好ましく用いられる。
[Touch panel]
The transparent conductive film having the laminated film of the present invention as a base fill is preferably used as one of constituent members of the touch panel.

抵抗膜式タッチパネルは、通常、上部電極と下部電極がスペーサーを介して配置された構成となっているが、本発明の積層フィルムをベースフィルとする透明導電性フィルムは、上部電極および下部電極のどちらか一方あるいは両方に用いることができる。   A resistive touch panel usually has a configuration in which an upper electrode and a lower electrode are arranged via a spacer. However, a transparent conductive film using the laminated film of the present invention as a base fill is composed of an upper electrode and a lower electrode. It can be used for either one or both.

また、静電容量式タッチパネルは、通常、パターン化されたX電極とY電極で構成されるが、本発明の積層フィルムをベースフィルとする透明導電性フィルムは、X電極およびY電極のどちらか一方あるいは両方に用いることができる。   Capacitive touch panels are usually composed of patterned X and Y electrodes, but transparent conductive films based on the laminated film of the present invention are either X or Y electrodes. It can be used for one or both.

タッチパネルに使用される透明導電性フィルムは、透明性および加工性(耐ブロッキング性)が良好なことが要求されるが、本発明の積層フィルムをベースフィルとする透明導電性フィルムは、上記特性を十分に満足することができる。   The transparent conductive film used for the touch panel is required to have good transparency and workability (blocking resistance), but the transparent conductive film based on the laminated film of the present invention has the above characteristics. You can be satisfied enough.

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。尚、本実施例における、測定方法および評価方法を以下に示す。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited by these Examples. In addition, the measuring method and evaluation method in a present Example are shown below.

(1)樹脂層のぬれ張力の測定
樹脂層が積層された基材フィルムを常態(23℃、相対湿度50%)の雰囲気下で6時間シーズニングして、同雰囲気下でJIS−K−6768(1999)に準拠して測定した。
(1) Measurement of Wetting Tension of Resin Layer A base film on which a resin layer is laminated is seasoned for 6 hours in an ordinary atmosphere (23 ° C., relative humidity 50%), and JIS-K-6768 ( 1999).

(2)各層の屈折率の測定
それぞれの塗布液をシリコンウエハー上にスピンコーターにて塗工形成した塗膜(乾燥厚み約2μm)について、25℃の温度条件下で位相差測定装置(ニコン(株)製:NPDM−1000)で589nmの屈折率を測定した。
(2) Measurement of Refractive Index of Each Layer For a coating film (dry thickness of about 2 μm) formed by coating each coating solution on a silicon wafer with a spin coater, a phase difference measurement device (Nikon ( The refractive index of 589 nm was measured by NPDM-1000).

また、基材フィルム(PETフィルム)の屈折率は、JIS K7105(1981)に準じて、アッベ屈折率計で589nmの屈折率を測定した。   Moreover, the refractive index of the base film (PET film) measured the refractive index of 589 nm with the Abbe refractometer according to JISK7105 (1981).

(3)樹脂層および易接着層の厚みの測定
樹脂層および易接着層が積層された基材フィルムの断面を超薄切片に切り出し、RuO染色、OsO 染色、あるいは両者の二重染色による染色超薄切片法により、TEM(透過型電子顕微鏡)で断面構造が目視可能な以下の条件にて観察し、その断面写真から樹脂層および易接着層の厚みを測定する。尚、測定個所は粒子が存在しない部分である。なお、5箇所を測定して、その平均値を樹脂層および易接着層の厚みとした。
・測定装置:透過型電子顕微鏡(日立(株)製 H−7100FA型)
・測定条件:加速電圧 100kV
・試料調整:凍結超薄切片法
・倍率:30万倍。
(3) Measurement of thickness of resin layer and easy-adhesion layer A cross section of the base film on which the resin layer and the easy-adhesion layer are laminated is cut into ultrathin sections, and RuO 4 staining, OsO 4 staining, or double staining of both. By observation with a TEM (transmission electron microscope) under the following conditions where the cross-sectional structure is visible, the thickness of the resin layer and the easy-adhesion layer is measured from the cross-sectional photograph by the dyeing ultrathin section method. The measurement location is a portion where no particles exist. In addition, five places were measured and the average value was made into the thickness of a resin layer and an easily bonding layer.
Measurement device: Transmission electron microscope (H-7100FA type, manufactured by Hitachi, Ltd.)
・ Measurement conditions: acceleration voltage 100 kV
-Sample preparation: frozen ultrathin section method-Magnification: 300,000 times.

(4)第1および第2活性エネルギー線硬化性樹脂層、高屈折率層、低屈折率層の厚みの測定
積層フィルムの断面を超薄切片に切り出し、TEM(透過型電子顕微鏡)で加速電圧100kVにて観察(1〜30万倍の倍率で観察)し、その断面写真から厚みを測定する。尚、第1活性エネルギー線硬化性樹脂層のように表面に突起を有する層については、突起が存在しない部分における厚みである。厚みの測定は5箇所で行い、その平均値を厚みとした。
(4) Measurement of the thickness of the first and second active energy ray-curable resin layers, the high refractive index layer, and the low refractive index layer The cross section of the laminated film is cut into ultrathin sections, and the acceleration voltage is measured with a TEM (transmission electron microscope). Observation is performed at 100 kV (observation at a magnification of 1 to 300,000 times), and the thickness is measured from the cross-sectional photograph. In addition, about the layer which has a processus | protrusion on the surface like a 1st active energy ray curable resin layer, it is the thickness in the part in which a processus | protrusion does not exist. The thickness was measured at five locations, and the average value was taken as the thickness.

(5)第1活性エネルギー線硬化性樹脂層に含有される粒子の平均粒子径の測定
第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の断面をTEM(透過型電子顕微鏡)で観察(約1万〜10万倍)し、その断面写真から、無作為に選択した30個の粒子のそれぞれの最大長さを計測し、それらを平均した値を粒子の平均粒子径とした。
(5) Measurement of average particle diameter of particles contained in first active energy ray curable resin layer The cross section of the first active energy ray curable resin layer is observed with a TEM (transmission electron microscope) (approximately 10,000 to 10). The maximum length of each of 30 randomly selected particles was measured from the cross-sectional photograph, and the average value of these was taken as the average particle diameter of the particles.

(6)樹脂層および易接着層に含有される粒子の平均粒子径の測定
基材フィルムに積層された樹脂層(易接着層)表面を、SEM(走査型電子顕微鏡)を用いて倍率一万倍で観察し、粒子の画像(粒子によってできる光の濃淡)をイメージアナライザー(たとえばケンブリッジインストルメント製QTM900)に結び付け、観察箇所を変えてデータを取り込み、合計粒子数5000個以上となったところで次の数値処理を行ない、それによって求めた数平均径dを平均粒径(直径)とした。
・d=Σdi /N
ここでdi は粒子の等価円直径(粒子の断面積と同じ面積を持つ円の直径)、Nは個数である。
(6) Measurement of average particle diameter of particles contained in resin layer and easy-adhesion layer The surface of the resin layer (easy-adhesion layer) laminated on the base film was scaled 10,000 using an SEM (scanning electron microscope). The image of the particle (light density produced by the particle) is linked to an image analyzer (for example, QTM900 manufactured by Cambridge Instrument), the data is acquired by changing the observation position, and when the total number of particles reaches 5000 or more The number average diameter d obtained by the numerical processing was defined as the average particle diameter (diameter).
・ D = Σdi / N
Here, di is the equivalent circular diameter of the particle (the diameter of a circle having the same area as the cross-sectional area of the particle), and N is the number.

(7)第1および第2活性エネルギー線硬化性樹脂層の表面の中心線平均粗さRaの測定
JIS B0601(1982)に基づき、触針式表面粗さ測定器SE−3400((株)小坂研究所製)を用いて測定した。
(7) Measurement of center line average roughness Ra of surfaces of first and second active energy ray-curable resin layers Based on JIS B0601 (1982), stylus type surface roughness measuring instrument SE-3400 (Kosaka Co., Ltd.) Measured using a laboratory.

<測定条件>
送り速さ;0.5mm/s
評価長さ;8mm
カットオフ値λc;0.08mm。
<Measurement conditions>
Feeding speed: 0.5mm / s
Evaluation length: 8mm
Cut-off value λc; 0.08 mm.

(8)第1活性エネルギー線硬化性樹脂層表面における粒子による突起の有無の判断
下記の方法で突起の平均高さと個数を測定し、平均高さが0.02μm以上であり、かつ、突起が2μm四方(面積4μm)当たり平均2個以上存在することをもって、粒子による突起を有すると判断する。
(8) Determination of presence or absence of protrusions due to particles on the surface of the first active energy ray-curable resin layer The average height and number of protrusions are measured by the following method, the average height is 0.02 μm or more, and the protrusions are It is judged that it has the protrusion by particle | grains by having two or more on average per 2 micrometers square (area 4 micrometers 2 ).

<突起の平均高さの測定>
積層フィルムのカットサンプル(20cm×15cm)を用意し、このカットサンプルの第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の断面をSEM(走査型電子顕微鏡)にて5箇所撮影(約1万〜10万倍)し、5つの断面写真を作製する。次に、5つの断面写真に存在する全ての突起の高さを測定し、平均する。尚、1つの断面写真における測定長さが1μm以上となるように断面写真のサイズを調整する。
<Measurement of average height of protrusions>
A cut sample (20 cm × 15 cm) of a laminated film is prepared, and a cross section of the first active energy ray-curable resin layer of this cut sample is photographed at five locations with a scanning electron microscope (approximately 10,000 to 100,000 times). And five cross-sectional photographs are produced. Next, the heights of all the protrusions present in the five cross-sectional photographs are measured and averaged. In addition, the size of the cross-sectional photograph is adjusted so that the measurement length in one cross-sectional photograph is 1 μm or more.

<突起の個数の測定>
積層フィルムのカットサンプル(20cm×15cm)を用意し、このカットサンプルの第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の表面をSEM(走査型電子顕微鏡)にて5箇所撮影(約1万〜10万倍)し、5つの画像(表面写真)を作製する。次に、5つの画像それぞれについて、画像の2μm四方(面積4μm)の範囲に存在する突起の個数を計測し、平均する。
<Measurement of the number of protrusions>
A cut sample (20 cm × 15 cm) of a laminated film is prepared, and the surface of the first active energy ray-curable resin layer of this cut sample is photographed at five locations with a SEM (scanning electron microscope) (approximately 10,000 to 100,000 times). 5 images (surface photographs). Next, for each of the five images, the number of protrusions existing in the range of 2 μm square (area 4 μm 2 ) of the image is measured and averaged.

(9)積層フィルムのヘイズ値の測定
JIS K 7136(2000)に基づき、日本電色工業(株)製の濁度計「NDH−2000」を用いて測定した。測定に際し、積層フィルムの第1活性エネルギー線硬化性樹脂層が設けられている側の表面に光が入射するように配置する。
(9) Measurement of haze value of laminated film Based on JIS K 7136 (2000), it measured using the turbidimeter "NDH-2000" by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. In the measurement, it arrange | positions so that light may inject into the surface of the side in which the 1st active energy ray curable resin layer of the laminated film is provided.

(10)耐ブロッキング性の評価
積層フィルムの一方の表面を第1面とし、他方の表面を第2面とする。
積層フィルムを切断して2枚のシート片(20cm×15cm)を作製する。この2枚のシートの第1面と第2面とが向き合うようにして重ね合わせる。次に、2枚のシート片を重ね合わせた試料をガラス板で挟み込み、約3kgの重りを載せて、50℃、90%(RH)の雰囲気下に48時間放置する。次に、重ね合わせ面を目視により観察しニュートンリングの発生状況を確認した後、両者を剥離し、以下の基準で評価した。
○:剥離前はニュートンリングが発生しておらず、剥離時には剥離音を立てずに軽く剥離される。
△:剥離前は一部ニュートンリングが発生しており、剥離時には小さな剥離音を立てながら剥離される。
×:剥離前は全面にニュートンリングが発生しており、剥離時には大きな剥離音を立てて剥離される。
(10) Evaluation of blocking resistance One surface of the laminated film is the first surface and the other surface is the second surface.
The laminated film is cut to produce two sheet pieces (20 cm × 15 cm). The two sheets are overlapped so that the first surface and the second surface face each other. Next, a sample in which two sheet pieces are overlapped is sandwiched between glass plates, and a weight of about 3 kg is placed thereon and left in an atmosphere of 50 ° C. and 90% (RH) for 48 hours. Next, the overlapping surface was visually observed to confirm the occurrence of Newton rings, and then both were peeled off and evaluated according to the following criteria.
○: Newton ring is not generated before peeling, and light peeling is performed without making a peeling sound at the time of peeling.
(Triangle | delta): Before peeling, a part of Newton ring has generate | occur | produced and it peels, making a small peeling sound at the time of peeling.
X: Newton ring is generated on the entire surface before peeling, and peels off with a loud peeling sound during peeling.

(11)積層フィルムの第2活性エネルギー線硬化性樹脂層の面の反射色の目視評価
積層フィルムの第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の面に黒粘着テープ(日東電工製“ビニルテープNo.21 トクハバ 黒”)を貼り付け、第2活性エネルギー線硬化性樹脂層の面の反射色を暗室三波長蛍光灯下にて目視にて観察し、以下の基準で行った。
○:反射色がニュートラルでほぼ無色である。
×:反射色が着色を呈している。
(11) Visual evaluation of reflection color of the surface of the second active energy ray-curable resin layer of the laminated film A black adhesive tape (“Vinyl tape No. 1” manufactured by Nitto Denko Corporation) is applied to the surface of the first active energy ray-curable resin layer of the laminated film. 21 Tokuhaba black ") was applied, and the reflected color of the surface of the second active energy ray-curable resin layer was visually observed under a dark room three-wavelength fluorescent lamp, and the following criteria were used.
○: Reflection color is neutral and almost colorless.
X: The reflected color is colored.

(12)透明導電膜パターンの視認性
黒い板の上に透明導電性フィルムを置き、目視により透明導電膜のパターン部が視認できるかどうか以下の基準で評価した。
○:パターン部が視認できない。
×:パターン部が視認できる。
(12) Visibility of transparent conductive film pattern A transparent conductive film was placed on a black plate, and whether or not the pattern portion of the transparent conductive film could be visually confirmed was evaluated according to the following criteria.
○: The pattern portion cannot be visually recognized.
X: A pattern part can be visually recognized.

続いて、以下の実施例および比較例において、用いた原料等について説明する。   Subsequently, raw materials used in the following examples and comparative examples will be described.

<樹脂層形成用塗布液>
(樹脂層形成用塗布液a)
固形分質量比で、ポリエステル樹脂aを27質量%、ポリエステル樹脂bを54質量%、メラミン系架橋剤を18質量%、粒子を1質量%混合して水分散塗布液を調製した。
・ポリエステル樹脂a;2,6−ナフタレンジカルボン酸43モル%/5−ナトリウムスルホイソフタル酸7モル%/エチレングリコール45モル%/ジエチレングリコール5モル%で構成されているポリエステル樹脂。
・ポリエステル樹脂b;テレフタル酸38モル%/トリメリット酸12モル%/エチレングリコール45モル%/ジエチレングリコール5モル%で構成されているポリエステル樹脂。
・メラミン系架橋剤;三和ケミカル(株)製の「ニカラック MW12LF」)
・粒子;平均粒子径0.19μmのコロイダルシリカ。
<Resin layer forming coating solution>
(Resin layer forming coating solution a)
A water-dispersed coating solution was prepared by mixing 27% by mass of polyester resin a, 54% by mass of polyester resin b, 18% by mass of melamine-based crosslinking agent, and 1% by mass of particles in terms of solid content mass ratio.
Polyester resin a: a polyester resin composed of 43 mol% of 2,6-naphthalenedicarboxylic acid / 5 mol% of 5-sodium sulfoisophthalic acid / 45 mol% of ethylene glycol / 5 mol% of diethylene glycol.
Polyester resin b: a polyester resin composed of terephthalic acid 38 mol% / trimellitic acid 12 mol% / ethylene glycol 45 mol% / diethylene glycol 5 mol%.
・ Melamine-based cross-linking agent; “Nicarac MW12LF” manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.)
Particles: colloidal silica having an average particle size of 0.19 μm.

(樹脂層形成用塗布液b)
固形分質量比で、ポリエステル樹脂cを42質量%、アクリル樹脂aを42質量%、エポキシ系架橋剤を6質量%、界面活性剤を9質量%、粒子を1質量%混合して水分散塗布液を調製した。
・ポリエステル樹脂c;テレフタル酸35モル%/イソフタル酸11モル%/5−ナトリウムスルホイソフタル酸4モル%/エチレングリコール45モル%/ジエチレングリコール4モル%/ポリエチレングリコール(繰り返し単位数n=23)1モル%で構成されているポリエステル樹脂。
・アクリル樹脂a;メチルメタクリレート75モル%/エチルアクリレート18モル%/N−メチロールアクリルアミド4モル%/メトキシポリエチレングリコール(繰り返し単位数n=10)メタクリレート3モル%で構成されているアクリル樹脂。
・エポキシ系架橋剤;1,3−ビス(N,N−ジグリシジルアミン)シクロヘキサン
・界面活性剤;ポリオキシエチレンラウリルエーテル
・粒子;平均粒子径0.19μmのコロイダルシリカ。
(Resin layer forming coating solution b)
Solid resin mass ratio: 42% by mass of polyester resin c, 42% by mass of acrylic resin a, 6% by mass of epoxy-based crosslinking agent, 9% by mass of surfactant, and 1% by mass of particles and water dispersion coating A liquid was prepared.
Polyester resin c: terephthalic acid 35 mol% / isophthalic acid 11 mol% / 5-sodium sulfoisophthalic acid 4 mol% / ethylene glycol 45 mol% / diethylene glycol 4 mol% / polyethylene glycol (number of repeating units n = 23) 1 mol % Polyester resin.
-Acrylic resin a; acrylic resin composed of 75 mol% of methyl methacrylate / 18 mol% of ethyl acrylate / 4 mol% of N-methylolacrylamide / methoxypolyethylene glycol (number of repeating units n = 10) 3 mol% of methacrylate.
-Epoxy-based crosslinking agent; 1,3-bis (N, N-diglycidylamine) cyclohexane-Surfactant; Polyoxyethylene lauryl ether-Particles; Colloidal silica having an average particle size of 0.19 [mu] m.

(樹脂層形成用塗布液c)
固形分質量比で、ポリエステル樹脂dを40質量%、アクリル樹脂bを40質量%、メラミン系架橋剤を10質量%、界面活性剤を9質量%、粒子を1質量%混合して水分散塗布液を調製した。
・ポリエステル樹脂d;テレフタル酸30モル%/イソフタル酸15モル%/5−ナトリウムスルホイソフタル酸5モル%/エチレングリコール30モル%/1,4−ブタンジオール20モル%で構成されているポリエステル樹脂。
・アクリル樹脂b;メチルメタクリレート75モル%/エチルアクリレート22モル%/アクリル酸1モル%/N−メチロールアクリルアミド2モル%で構成されているアクリル樹脂
・メラミン系架橋剤;三和ケミカル(株)製の「ニカラック MW12LF」)
・界面活性剤;ポリオキシエチレンラウリルエーテル
・粒子;平均粒子径0.19μmのコロイダルシリカ。
(Resin layer forming coating solution c)
Polyester resin d, 40% by mass, acrylic resin b, 40% by mass, melamine-based crosslinking agent, 10% by mass, surfactant, 9% by mass, and 1% by mass of particles, in a solid content mass ratio. A liquid was prepared.
Polyester resin d: Polyester resin composed of terephthalic acid 30 mol% / isophthalic acid 15 mol% / 5-sodium sulfoisophthalic acid 5 mol% / ethylene glycol 30 mol% / 1,4-butanediol 20 mol%.
・ Acrylic resin b; acrylic resin composed of 75 mol% of methyl methacrylate / 22 mol% of ethyl acrylate / 1 mol% of acrylic acid / 2 mol% of N-methylolacrylamide ・ Melamine-based crosslinking agent; manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd. "Nikarak MW12LF")
-Surfactant; Polyoxyethylene lauryl ether-Particles; Colloidal silica having an average particle size of 0.19 μm.

(樹脂層形成用塗布液d)
固形分質量比で、ポリエステル樹脂eを45質量%、アクリル樹脂cを45質量%、メラミン系架橋剤を5質量%、界面活性剤を4質量%、粒子を1質量%混合して水分散塗布液を調製した。
・ポリエステル共重合体e:テレフタル酸32モル%/イソフタル酸12モル%/5−ナトリウムスルホイソフタル酸6モル%/エチレングリコール46モル%/ジエチレングリコール4モル%で構成されているポリエステル共重合体。
・アクリル樹脂c:メチルメタクリレート70モル%/エチルアクリレート22モル%/N−メチロールアクリルアミド4モル%/N,N−ジメチルアクリルアミド4モル%で構成されているアクリル共重合体。
・メラミン系架橋剤;三和ケミカル(株)製の「ニカラック MW12LF」)
・界面活性剤;ポリオキシエチレンラウリルエーテル
・粒子;平均粒子径0.19μmのコロイダルシリカ。
(Resin layer forming coating solution d)
Polyester resin e is 45% by mass, acrylic resin c is 45% by mass, melamine-based crosslinking agent is 5% by mass, surfactant is 4% by mass, and particles are 1% by mass. A liquid was prepared.
Polyester copolymer e: A polyester copolymer composed of terephthalic acid 32 mol% / isophthalic acid 12 mol% / 5-sodium sulfoisophthalic acid 6 mol% / ethylene glycol 46 mol% / diethylene glycol 4 mol%.
Acrylic resin c: an acrylic copolymer composed of 70% by mole of methyl methacrylate / 22% by mole of ethyl acrylate / 4% by mole of N-methylolacrylamide / 4% by mole of N, N-dimethylacrylamide.
・ Melamine-based cross-linking agent; “Nicarac MW12LF” manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.)
-Surfactant; Polyoxyethylene lauryl ether-Particles; Colloidal silica having an average particle size of 0.19 μm.

(樹脂層形成用塗布液e)
固形分質量比で、ウレタン樹脂を85質量%、エポキシ系架橋剤を5質量%、界面活性剤を9質量%、粒子を1質量%混合して塗布液を調製した。
・ウレタン樹脂;大日本インキ化学工業(株)製の「ハイドランAP−20」
・エポキシ系架橋剤;トリエチレングリコールジグリシジルエーテル
・界面活性剤;ポリオキシエチレンラウリルエーテル
・粒子;平均粒子径0.19μmのコロイダルシリカ。
(Resin layer forming coating solution e)
A coating liquid was prepared by mixing 85% by mass of urethane resin, 5% by mass of epoxy-based crosslinking agent, 9% by mass of surfactant, and 1% by mass of particles in a solid content mass ratio.
-Urethane resin: "Hydran AP-20" manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.
Epoxy-based crosslinking agent; triethylene glycol diglycidyl ether; surfactant; polyoxyethylene lauryl ether; particles; colloidal silica having an average particle size of 0.19 μm.

(樹脂層形成用塗布液f)
固形分質量比で、アクリル樹脂dを90質量%、界面活性剤を9質量%、粒子を1質量%混合して水分散塗布液を調製した。
・アクリル樹脂d;メチルメタクリレート70モル%/エチルアクリレート22モル%/N−メチロールアクリルアミド4モル%/アクリロイルモルホリン4モル%で構成されているアクリル共重合体。
・界面活性剤;ポリオキシエチレンラウリルエーテル
・粒子;平均粒子径0.19μmのコロイダルシリカ。
(Resin layer forming coating solution f)
An aqueous dispersion coating solution was prepared by mixing 90% by mass of acrylic resin d, 9% by mass of surfactant, and 1% by mass of particles in a solid content mass ratio.
Acrylic resin d: an acrylic copolymer composed of 70 mol% methyl methacrylate / 22 mol% ethyl acrylate / 4 mol% N-methylolacrylamide / 4 mol% acryloylmorpholine.
-Surfactant; Polyoxyethylene lauryl ether-Particles; Colloidal silica having an average particle size of 0.19 μm.

<表面処理シリカ粒子分散液>
(表面処理シリカ粒子分散液A)
コロイダルシリカ(日産化学工業株式会社製の「オルガノシリカゾル IPA−ST−ZL」)150質量部に、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン13.7質量部と10質量%蟻酸水溶液1.7質量部を混合し、70℃にて1時間撹拌した。次いで、フッ素化合物(HC=CH−COO−CH−(CFF)13.8質量部および2,2−アゾビスイソブチロニトリル0.57質量部を加えた後、60分間90℃にて加熱撹拌して分散液を得た。
<Surface treatment silica particle dispersion>
(Surface treatment silica particle dispersion A)
150 parts by mass of colloidal silica (“organosilica sol IPA-ST-ZL” manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) is mixed with 13.7 parts by mass of methacryloxypropyltrimethoxysilane and 1.7 parts by mass of a 10% by mass formic acid aqueous solution. , And stirred at 70 ° C. for 1 hour. Next, after adding 13.8 parts by mass of fluorine compound (H 2 C═CH—COO—CH 2 — (CF 2 ) 8 F) and 0.57 parts by mass of 2,2-azobisisobutyronitrile, A dispersion was obtained by heating and stirring at 90 ° C. for minutes.

(表面処理シリカ粒子分散液B)
コロイダルシリカ(日産化学工業株式会社製の「オルガノシリカゾル IPA−ST−ZL」)150質量部に、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン13.7質量部と10質量%蟻酸水溶液1.7質量部を混合し、70℃にて1時間撹拌した。次いで、フッ素化合物(HC=CH−COO−CH−(CFF)を9質量部とシリコーン化合物(大日本インキ化学工業株式会社製の「PC−4131」)を4.8質量部、および2,2−アゾビスイソブチロニトリルを0.57質量部加えた後、60分間90℃にて加熱撹拌して分散液を得た。
(Surface treatment silica particle dispersion B)
150 parts by mass of colloidal silica (“organosilica sol IPA-ST-ZL” manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) is mixed with 13.7 parts by mass of methacryloxypropyltrimethoxysilane and 1.7 parts by mass of a 10% by mass formic acid aqueous solution. , And stirred at 70 ° C. for 1 hour. Next, 9 parts by mass of fluorine compound (H 2 C═CH—COO—CH 2 — (CF 2 ) 8 F) and 4.8 of silicone compound (“PC-4131” manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) After adding 0.57 mass part of mass part and 2, 2- azobisisobutyronitrile, it heated and stirred at 90 degreeC for 60 minutes, and the dispersion liquid was obtained.

(表面処理シリカ粒子分散液C)
コロイダルシリカ(日産化学工業株式会社製の「オルガノシリカゾル IPA−ST−ZL」)330質量部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製)8質量部、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン(GE東芝シリコーン(株)製)2質量部、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート1.5質量部加え混合した後に、イオン交換水9質量を加えた。60℃で8時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン1.8質量部を添加した。次に、この分散液にシクロヘキサノンを添加しながら、圧力20kPaで減圧蒸留による溶媒置換を行って分散液を得た。
(Surface treatment silica particle dispersion C)
Colloidal silica (“organosilica sol IPA-ST-ZL” manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) 330 parts by mass, acryloyloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 8 parts by mass, tridecafluorooctyltrimethoxy After adding 2 parts by mass of silane (manufactured by GE Toshiba Silicone Co., Ltd.) and 1.5 parts by mass of diisopropoxyaluminum ethyl acetate, 9 masses of ion-exchanged water was added. After making it react at 60 degreeC for 8 hours, it cooled to room temperature and added 1.8 mass parts of acetylacetone. Next, while adding cyclohexanone to this dispersion, solvent displacement was performed by distillation under reduced pressure at a pressure of 20 kPa to obtain a dispersion.

(表面処理シリカ粒子分散液D)
コロイダルシリカ(日産化学工業株式会社製の「オルガノシリカゾル MEK−ST−2040」)150質量部に、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン13.7質量部と10質量%蟻酸水溶液1.7質量部を混合し、70℃にて1時間撹拌した。次いで、フッ素化合物(HC=CH−COO−CH−(CFF)13.8質量部および2,2−アゾビスイソブチロニトリル0.57質量部を加えた後、60分間90℃にて加熱撹拌して分散液を得た。
(Surface treatment silica particle dispersion D)
150 parts by mass of colloidal silica (“organosilica sol MEK-ST-2040” manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) is mixed with 13.7 parts by mass of methacryloxypropyltrimethoxysilane and 1.7 parts by mass of 10% by mass aqueous formic acid solution. , And stirred at 70 ° C. for 1 hour. Next, after adding 13.8 parts by mass of fluorine compound (H 2 C═CH—COO—CH 2 — (CF 2 ) 8 F) and 0.57 parts by mass of 2,2-azobisisobutyronitrile, A dispersion was obtained by heating and stirring at 90 ° C. for minutes.

(表面処理シリカ粒子分散液E)
コロイダルシリカ(日産化学工業株式会社製の「オルガノシリカゾル MEK−ST−L」)150質量部に、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン13.7質量部と10質量%蟻酸水溶液1.7質量部を混合し、70℃にて1時間撹拌した。次いで、フッ素化合物(HC=CH−COO−CH−(CFF)13.8質量部および2,2−アゾビスイソブチロニトリル0.57質量部を加えた後、60分間90℃にて加熱撹拌して分散液を得た。
(Surface treatment silica particle dispersion E)
150 parts by mass of colloidal silica (“organosilica sol MEK-ST-L” manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) is mixed with 13.7 parts by mass of methacryloxypropyltrimethoxysilane and 1.7 parts by mass of a 10% by mass formic acid aqueous solution. , And stirred at 70 ° C. for 1 hour. Next, after adding 13.8 parts by mass of fluorine compound (H 2 C═CH—COO—CH 2 — (CF 2 ) 8 F) and 0.57 parts by mass of 2,2-azobisisobutyronitrile, A dispersion was obtained by heating and stirring at 90 ° C. for minutes.

(表面処理シリカ粒子分散液F)
シリカ微粒子SP−03F(扶桑化学(株)製)を300質量部にKBM7103(信越化学(株)製、フルオロアルキルアルコキシシラン)を15質量部、MIBK(メチルイソブチルケトン)を2685質量部を混合し、ペイントシェーカーを用いて、粒径2mmのジルコニアビーズで1時間、粒径0.1mmのジルコニアビーズで3時間分散した。その後、ジルコニアビーズを除き、得られた分散液を50℃で1時間加熱撹拌して分散液を得た。
(Surface treatment silica particle dispersion F)
Silica fine particle SP-03F (manufactured by Fuso Chemical Co., Ltd.) is mixed with 300 parts by mass of KBM7103 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., fluoroalkylalkoxysilane) with 15 parts by mass and MIBK (methyl isobutyl ketone) with 2585 parts by mass. Using a paint shaker, dispersion was performed for 1 hour with zirconia beads having a particle diameter of 2 mm and for 3 hours with zirconia beads having a particle diameter of 0.1 mm. Thereafter, zirconia beads were removed, and the obtained dispersion was heated and stirred at 50 ° C. for 1 hour to obtain a dispersion.

(表面処理シリカ粒子分散液G)
シリカゾル(日揮触媒化成(株)製:ELCOM V−8901)メタノール分散液100質量部に分子中にエチレンオキシ基を有する陰イオン界面活性剤(第一工業製薬(株)製:プライサーフA212E)2質量部を混合し20時間撹拌して、界面活性剤で処理したシリカ粒子分散液を得た。
(Surface treatment silica particle dispersion G)
Silica sol (manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd .: ELCOM V-8901) Anionic surfactant having an ethyleneoxy group in the molecule in 100 parts by mass of methanol dispersion (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd .: Prisurf A212E) 2 Mass parts were mixed and stirred for 20 hours to obtain a silica particle dispersion treated with a surfactant.

[実施例1]
下記の要領で積層フィルムを作製した。
[Example 1]
A laminated film was produced in the following manner.

<樹脂層(易接着層)積層PETフィルムの作製>
実質的に外部添加粒子を含有しないPETペレット(極限粘度0.63dl/g)を充分に真空乾燥した後、押し出し機に供給し285℃で溶融し、T字型口金よりシート状に押し出し、静電印加キャスト法を用いて表面温度25℃の鏡面キャスティングドラムに巻き付けて冷却固化せしめた。この未延伸フィルムを90℃に加熱して長手方向に3.4倍延伸し、一軸延伸フィルムとした。この一軸延伸フィルムの両面に空気中でコロナ放電処理を施した後、一軸延伸フィルムの一方の面(第1面)に樹脂層塗布液a、他方の面(第2面)に下記の易接着層塗布液をそれぞれ塗布した。
<Preparation of resin layer (easy adhesion layer) laminated PET film>
PET pellets (intrinsic viscosity 0.63 dl / g) substantially free of externally added particles are sufficiently vacuum-dried, then supplied to an extruder, melted at 285 ° C., extruded from a T-shaped die into a sheet shape, It was wound around a mirror-casting drum having a surface temperature of 25 ° C. using an electric application casting method and cooled and solidified. This unstretched film was heated to 90 ° C. and stretched 3.4 times in the longitudinal direction to obtain a uniaxially stretched film. After performing corona discharge treatment in air on both surfaces of this uniaxially stretched film, the resin layer coating liquid a is applied to one surface (first surface) of the uniaxially stretched film, and the following easy adhesion to the other surface (second surface). Each layer coating solution was applied.

次に、両面にそれぞれの塗布液が塗布された1軸延伸フィルムをクリップで把持して予熱ゾーンに導き、雰囲気温度75℃で乾燥、ラジエーションヒーターを用いて110℃に上げ、再度90℃で乾燥した後、引き続き連続的に120℃の加熱ゾーンで幅方向に3.5倍延伸し、続いて220℃の加熱ゾーンで20秒間熱処理を施し、結晶配向の完了した二軸延伸PETフィルムを作製した。この樹脂層(易接着層)積層PETフィルムは第1面に樹脂層、第2面に易接着層を有するPETフィルムである。この樹脂層(易接着層)積層PETフィルムの厚みは100μm、第1面に設けられた樹脂層の厚みは0.08μm、第2面に設けられた易接着層の厚みは0.08μmであった。   Next, the uniaxially stretched film coated with each coating solution on both sides is held by clips and guided to a preheating zone, dried at an ambient temperature of 75 ° C., raised to 110 ° C. using a radiation heater, and dried again at 90 ° C. After that, the film was continuously stretched 3.5 times in the width direction in a heating zone at 120 ° C., and subsequently subjected to heat treatment for 20 seconds in the heating zone at 220 ° C., thereby producing a biaxially stretched PET film in which crystal orientation was completed. . This resin layer (easy adhesion layer) laminated PET film is a PET film having a resin layer on the first surface and an easy adhesion layer on the second surface. The thickness of the resin layer (easy-adhesive layer) laminated PET film was 100 μm, the thickness of the resin layer provided on the first surface was 0.08 μm, and the thickness of the easy-adhesive layer provided on the second surface was 0.08 μm. It was.

PETフィルムの屈折率は1.65、第2面の易接着層の屈折率は1.58であった。   The refractive index of the PET film was 1.65, and the refractive index of the easily adhesive layer on the second surface was 1.58.

尚、PETフィルムの屈折率は、両面に樹脂層(易接着層)を積層しない以外は上記と同様の条件で製造したPETフィルムの屈折率を測定し、その値をPETフィルムの屈折率とした。   In addition, the refractive index of PET film measured the refractive index of the PET film manufactured on the conditions similar to the above except not laminating | stacking a resin layer (easy-adhesion layer) on both surfaces, and made the value the refractive index of PET film .

<易接着層塗布液>
固形分質量比で、ポリエステル樹脂1を27質量%、ポリエステル樹脂2を53質量%、メラミン系架橋剤を18質量%、粒子を2質量%混合して水分散塗布液を調製した。
・ポリエステル樹脂1;2,6−ナフタレンジカルボン酸43モル%/5−ナトリウムスルホイソフタル酸7モル%/エチレングリコール45モル%/ジエチレングリコール5モル%で構成されているポリエステル樹脂。
・ポリエステル樹脂2;テレフタル酸38モル%/トリメリット酸12モル%/エチレングリコール45モル%/ジエチレングリコール5モル%で構成されているポリエステル樹脂。
・メラミン系架橋剤;三和ケミカル(株)製の「ニカラック MW12LF」)
・粒子;平均粒子径0.19μmのコロイダルシリカ。
<Easily adhesive layer coating solution>
A solid dispersion mass ratio of 27% by mass of polyester resin 1, 53% by mass of polyester resin 2, 18% by mass of melamine-based crosslinking agent, and 2% by mass of particles was mixed to prepare an aqueous dispersion coating solution.
Polyester resin 1: a polyester resin composed of 43 mol% of 2,6-naphthalenedicarboxylic acid / 5 mol% of 5-sodium sulfoisophthalic acid / 45 mol% of ethylene glycol / 5 mol% of diethylene glycol.
Polyester resin 2: a polyester resin composed of 38 mol% terephthalic acid / 12 mol% trimellitic acid / 45 mol% ethylene glycol / 5 mol% diethylene glycol.
・ Melamine-based cross-linking agent; “Nicarac MW12LF” manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.)
Particles: colloidal silica having an average particle size of 0.19 μm.

<第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の積層>
上記で得られた樹脂層(易接着層)積層PETフィルムの第1面の樹脂層上に下記の第1活性エネルギー線硬化性樹脂層を形成するための活性エネルギー線硬化性組成物aをグラビアコート法で塗布し、90℃で乾燥後、紫外線400mJ/cmを照射し硬化させて、第1活性エネルギー線硬化性樹脂層を形成した。この第1活性エネルギー線硬化性樹脂層は、厚みが1.0μmmであった。なお、この第1活性エネルギー線硬化性樹脂層における粒子(表面処理シリカ粒子)の含有量は、この第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の固形分総量100質量%に対して9質量%である。
<Lamination of first active energy ray-curable resin layer>
Gravure an active energy ray-curable composition a for forming the following first active energy ray-curable resin layer on the resin layer on the first surface of the resin layer (easily adhesive layer) laminated PET film obtained above. It apply | coated by the coating method, and after drying at 90 degreeC, the ultraviolet-ray 400mJ / cm < 2 > was irradiated and hardened, and the 1st active energy ray curable resin layer was formed. This first active energy ray-curable resin layer had a thickness of 1.0 μm. The content of the particles (surface-treated silica particles) in the first active energy ray-curable resin layer is 9% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of the first active energy ray-curable resin layer. .

<活性エネルギー線硬化性組成物a>
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート50質量部、アクリレート化合物(東亜合成株式会社製の「アロニックスM111」)36質量部、表面処理シリカ粒子分散液Aを固形分換算で9質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)5質量部を有機溶剤(メチルエチルケトン)に混合して、固形分濃度が30質量%の組成物を調製した。
<Active energy ray-curable composition a>
50 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, 36 parts by mass of an acrylate compound (“Aronix M111” manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.), 9 parts by mass of the surface-treated silica particle dispersion A in terms of solid content, a photopolymerization initiator (Ciba 5 parts by mass of “Irgacure (registered trademark) 184” manufactured by Specialty Chemicals Co., Ltd. was mixed with an organic solvent (methyl ethyl ketone) to prepare a composition having a solid content concentration of 30% by mass.

<第2活性エネルギー線硬化性樹脂層の積層>
次いで、樹脂層(易接着層)積層PETフィルムの第2の面の易接着層上に、下記の第2活性エネルギー線硬化性樹脂層を形成するための活性エネルギー線硬化性組成物Zをグラビアコート法で塗布し、90℃で乾燥後、紫外線400mJ/cmを照射し硬化させて、第2活性エネルギー線硬化性樹脂層を形成した。この第2活性エネルギー線硬化性樹脂層は、厚みが1.5μmm、屈折率が1.52であった。
<Lamination of second active energy ray curable resin layer>
Subsequently, an active energy ray-curable composition Z for forming the following second active energy ray-curable resin layer is gravured on the easy-adhesion layer on the second surface of the resin layer (easy-adhesion layer) laminated PET film. It apply | coated by the coating method, and after drying at 90 degreeC, the ultraviolet-ray 400mJ / cm < 2 > was irradiated and hardened, and the 2nd active energy ray-curable resin layer was formed. This second active energy ray-curable resin layer had a thickness of 1.5 μmm and a refractive index of 1.52.

<活性エネルギー線硬化性組成物Z>
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート48質量部、ウレタンアクリレートオリゴマー(根上工業(株)の「UN−901T」;分子中に重合性官能基を9個含む)47質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)5質量部を有機溶剤(メチルエチルケトン)に混合して、固形分濃度が30質量%の組成物を調製した。
<Active energy ray-curable composition Z>
48 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, urethane acrylate oligomer (“UN-901T” from Negami Kogyo Co., Ltd .; containing 9 polymerizable functional groups in the molecule), photopolymerization initiator (Ciba Specialty) 5 parts by mass of “Irgacure (registered trademark) 184” manufactured by Chemicals Co., Ltd. was mixed with an organic solvent (methyl ethyl ketone) to prepare a composition having a solid content concentration of 30% by mass.

[実施例2〜8、比較例1〜10]
実施例1の樹脂層(易接着層)積層PETフィルムの作製において、第1面に塗布する樹脂層塗布液を表1に示すように変更する以外は、実施例1と同様にして樹脂層(易接着層)積層PETフィルムを作製した。次いで第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の厚みを表1に示すように変更する以外は、実施例1と同様にしてそれぞれの積層フィルムを作製した。
[Examples 2-8, Comparative Examples 1-10]
In the production of the resin layer (easy-adhesive layer) laminated PET film of Example 1, a resin layer (as in Example 1) except that the resin layer coating solution applied to the first surface is changed as shown in Table 1. Easy adhesion layer) A laminated PET film was prepared. Subsequently, each laminated film was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the first active energy ray-curable resin layer was changed as shown in Table 1.

実施例1〜8および比較例1〜10において、PETフィルムの第2面の易接着層および第2活性エネルギー線硬化性樹脂層はいずれも同一である。第2面の活性エネルギー線硬化性樹脂層表面の中心線平均粗さ(Ra2)は、いずれも5nmであった。   In Examples 1-8 and Comparative Examples 1-10, the easy-adhesion layer and the second active energy ray-curable resin layer on the second surface of the PET film are the same. The centerline average roughness (Ra2) of the surface of the active energy ray-curable resin layer on the second surface was 5 nm in all cases.

[実施例11]
実施例1と同様にして樹脂層(易接着層)積層PETフィルムを作製した。次いで、樹脂層(易接着層)積層PETフィルムの第1面の樹脂層上に下記の第1活性エネルギー線硬化性樹脂層を形成するための活性エネルギー線硬化性組成物bを塗布する以外は、実施例1と同様にして積層フィルムを作製した。なお、この第1活性エネルギー線硬化性樹脂層における粒子(表面処理シリカ粒子)の含有量は、この第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の固形分総量100質量%に対して9質量%である。
[Example 11]
In the same manner as in Example 1, a resin layer (easy adhesion layer) laminated PET film was produced. Subsequently, the active energy ray-curable composition b for forming the following first active energy ray-curable resin layer is applied on the resin layer on the first surface of the resin layer (easily adhesive layer) laminated PET film. A laminated film was produced in the same manner as in Example 1. The content of the particles (surface-treated silica particles) in the first active energy ray-curable resin layer is 9% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of the first active energy ray-curable resin layer. .

<活性エネルギー線硬化性組成物b>
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート86質量部、表面処理シリカ粒子分散液Bを固形分換算で9質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)5質量部を有機溶剤(メチルエチルケトン)に混合して、固形分濃度が30質量%の組成物を調製した。
<Active energy ray-curable composition b>
86 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, 9 parts by mass of the surface-treated silica particle dispersion B in terms of solid content, 5 parts by mass of a photopolymerization initiator (“Irgacure (registered trademark) 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals) Parts were mixed with an organic solvent (methyl ethyl ketone) to prepare a composition having a solid content concentration of 30% by mass.

[実施例12〜18、比較例11〜20]
実施例11の樹脂層(易接着層)積層PETフィルムの作製において、第1面に塗布する樹脂層塗布液を表2に示すように変更する以外は、実施例11と同様にして樹脂層(易接着層)積層PETフィルムを作製した。次いで第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の厚みを表2に示すように変更する以外は、実施例11と同様にしてそれぞれの積層フィルムを作製した。
[Examples 12 to 18, Comparative Examples 11 to 20]
In the production of the resin layer (easy-adhesion layer) laminated PET film of Example 11, the resin layer (as shown in Example 11) except that the resin layer coating solution applied to the first surface was changed as shown in Table 2. Easy adhesion layer) A laminated PET film was prepared. Subsequently, each laminated film was produced in the same manner as in Example 11 except that the thickness of the first active energy ray-curable resin layer was changed as shown in Table 2.

実施例11〜18および比較例11〜20において、PETフィルムの第2面の易接着層および第2活性エネルギー線硬化性樹脂層はいずれも同一である。第2面の活性エネルギー線硬化性樹脂層表面の中心線平均粗さ(Ra2)は、いずれも5nmであった。   In Examples 11-18 and Comparative Examples 11-20, the easy-adhesion layer on the second surface of the PET film and the second active energy ray-curable resin layer are both the same. The centerline average roughness (Ra2) of the surface of the active energy ray-curable resin layer on the second surface was 5 nm in all cases.

[実施例21]
実施例1と同様にして樹脂層(易接着層)積層PETフィルムを作製した。次いで、樹脂層(易接着層)積層PETフィルムの第1面の樹脂層上に下記の第1活性エネルギー線硬化性樹脂層を形成するための活性エネルギー線硬化性組成物cを塗布する以外は、実施例1と同様にして積層フィルムを作製した。なお、この第1活性エネルギー線硬化性樹脂層における粒子(表面処理シリカ粒子)の含有量は、この第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の固形分総量100質量%に対して9質量%である。
[Example 21]
In the same manner as in Example 1, a resin layer (easy adhesion layer) laminated PET film was produced. Next, the active energy ray-curable composition c for forming the following first active energy ray-curable resin layer is applied on the resin layer on the first surface of the resin layer (easy-adhesive layer) laminated PET film. A laminated film was produced in the same manner as in Example 1. The content of the particles (surface-treated silica particles) in the first active energy ray-curable resin layer is 9% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of the first active energy ray-curable resin layer. .

<活性エネルギー線硬化性組成物c>
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート86質量部、表面処理シリカ粒子分散液Cを固形分換算で9質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)5質量部を有機溶剤(メチルエチルケトン)に混合して、固形分濃度が30質量%の組成物を調製した。
<Active energy ray-curable composition c>
86 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate, 9 parts by weight of the surface-treated silica particle dispersion C in terms of solid content, 5 parts by weight of a photopolymerization initiator (“Irgacure (registered trademark) 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals) Parts were mixed with an organic solvent (methyl ethyl ketone) to prepare a composition having a solid content concentration of 30% by mass.

[実施例22〜28、比較例21〜30]
実施例21の樹脂層(易接着層)積層PETフィルムの作製において、第1面に塗布する樹脂層塗布液を表3に示すように変更する以外は、実施例21と同様にして樹脂層(易接着層)積層PETフィルムを作製した。次いで第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の厚みを表3に示すように変更する以外は、実施例21と同様にしてそれぞれの積層フィルムを作製した。
[Examples 22 to 28, Comparative Examples 21 to 30]
In the production of the resin layer (easy-adhesion layer) laminated PET film of Example 21, the resin layer (as shown in Example 21) except that the resin layer coating solution applied to the first surface was changed as shown in Table 3. Easy adhesion layer) A laminated PET film was prepared. Subsequently, each laminated film was produced in the same manner as in Example 21 except that the thickness of the first active energy ray-curable resin layer was changed as shown in Table 3.

実施例21〜28および比較例21〜30において、PETフィルムの第2面の易接着層および第2活性エネルギー線硬化性樹脂層はいずれも同一である。第2面の活性エネルギー線硬化性樹脂層表面の中心線平均粗さ(Ra2)は、いずれも5nmであった。   In Examples 21 to 28 and Comparative Examples 21 to 30, the easy-adhesion layer and the second active energy ray-curable resin layer on the second surface of the PET film are the same. The centerline average roughness (Ra2) of the surface of the active energy ray-curable resin layer on the second surface was 5 nm in all cases.

[実施例31]
実施例1と同様にして樹脂層(易接着層)積層PETフィルムを作製した。次いで、樹脂層(易接着層)積層PETフィルムの第1面の樹脂層上に下記の第1活性エネルギー線硬化性樹脂層を形成するための活性エネルギー線硬化性組成物dを塗布する以外は、実施例1と同様にして積層フィルムを作製した。なお、この第1活性エネルギー線硬化性樹脂層における粒子(表面処理シリカ粒子)の含有量は、この第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の固形分総量100質量%に対して9質量%である。
[Example 31]
In the same manner as in Example 1, a resin layer (easy adhesion layer) laminated PET film was produced. Subsequently, the active energy ray-curable composition d for forming the following first active energy ray-curable resin layer is applied on the resin layer on the first surface of the resin layer (easily adhesive layer) laminated PET film. A laminated film was produced in the same manner as in Example 1. The content of the particles (surface-treated silica particles) in the first active energy ray-curable resin layer is 9% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of the first active energy ray-curable resin layer. .

<活性エネルギー線硬化性組成物d>
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート86質量部、表面処理シリカ粒子分散液Dを固形分換算で9質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)5質量部を有機溶剤(メチルエチルケトン)に混合して、固形分濃度が30質量%の組成物を調製した。
<Active energy ray-curable composition d>
86 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, 9 parts by mass of the surface-treated silica particle dispersion D in terms of solid content, 5 parts by weight of a photopolymerization initiator (“Irgacure (registered trademark) 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals) Parts were mixed with an organic solvent (methyl ethyl ketone) to prepare a composition having a solid content concentration of 30% by mass.

[実施例32〜38、比較例31〜40]
実施例31の樹脂層(易接着層)積層PETフィルムの作製において、第1面に塗布する樹脂層塗布液を表4に示すように変更する以外は、実施例31と同様にして樹脂層(易接着層)積層PETフィルムを作製した。次いで第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の厚みを表4に示すように変更する以外は、実施例31と同様にしてそれぞれの積層フィルムを作製した。
[Examples 32-38 and Comparative Examples 31-40]
In the production of the resin layer (easy adhesion layer) laminated PET film of Example 31, the resin layer (as in Example 31) except that the resin layer coating liquid applied to the first surface was changed as shown in Table 4. Easy adhesion layer) A laminated PET film was prepared. Subsequently, each laminated film was produced in the same manner as in Example 31 except that the thickness of the first active energy ray-curable resin layer was changed as shown in Table 4.

実施例31〜38および比較例31〜40において、PETフィルムの第2面の易接着層および第2活性エネルギー線硬化性樹脂層はいずれも同一である。第2面の活性エネルギー線硬化性樹脂層表面の中心線平均粗さ(Ra2)は、いずれも5nmであった。   In Examples 31-38 and Comparative Examples 31-40, the easy-adhesion layer on the second surface of the PET film and the second active energy ray-curable resin layer are both the same. The centerline average roughness (Ra2) of the surface of the active energy ray-curable resin layer on the second surface was 5 nm in all cases.

[実施例41]
実施例1と同様にして樹脂層(易接着層)積層PETフィルムを作製した。次いで、樹脂層(易接着層)積層PETフィルムの第1面の樹脂層上に下記の第1活性エネルギー線硬化性樹脂層を形成するための活性エネルギー線硬化性組成物eを塗布する以外は、実施例1と同様にして積層フィルムを作製した。なお、この第1活性エネルギー線硬化性樹脂層における粒子(表面処理シリカ粒子)の含有量は、この第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の固形分総量100質量%に対して9質量%である。
[Example 41]
In the same manner as in Example 1, a resin layer (easy adhesion layer) laminated PET film was produced. Subsequently, the active energy ray-curable composition e for forming the following first active energy ray-curable resin layer is applied on the resin layer on the first surface of the resin layer (easily adhesive layer) laminated PET film. A laminated film was produced in the same manner as in Example 1. The content of the particles (surface-treated silica particles) in the first active energy ray-curable resin layer is 9% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of the first active energy ray-curable resin layer. .

<活性エネルギー線硬化性組成物e>
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート86質量部、表面処理シリカ粒子分散液Eを固形分換算で9質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)5質量部を有機溶剤(メチルエチルケトン)に混合して、固形分濃度が30質量%の組成物を調製した。
<Active energy ray-curable composition e>
86 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate, 9 parts by weight of the surface-treated silica particle dispersion E in terms of solid content, 5 parts by weight of a photopolymerization initiator (“Irgacure (registered trademark) 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals) Parts were mixed with an organic solvent (methyl ethyl ketone) to prepare a composition having a solid content concentration of 30% by mass.

[実施例42〜48、比較例41〜50]
実施例41の樹脂層(易接着層)積層PETフィルムの作製において、第1面に塗布する樹脂層塗布液を表5に示すように変更する以外は、実施例41と同様にして樹脂層(易接着層)積層PETフィルムを作製した。次いで第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の厚みを表5に示すように変更する以外は、実施例41と同様にしてそれぞれの積層フィルムを作製した。
[Examples 42 to 48, Comparative Examples 41 to 50]
In the production of the resin layer (easy adhesion layer) laminated PET film of Example 41, a resin layer (as in Example 41) except that the resin layer coating solution applied to the first surface was changed as shown in Table 5. Easy adhesion layer) A laminated PET film was prepared. Subsequently, each laminated film was produced in the same manner as in Example 41 except that the thickness of the first active energy ray-curable resin layer was changed as shown in Table 5.

実施例41〜48および比較例41〜50において、PETフィルムの第2面の易接着層および第2活性エネルギー線硬化性樹脂層はいずれも同一である。第2面の活性エネルギー線硬化性樹脂層表面の中心線平均粗さ(Ra2)は、いずれも5nmであった。   In Examples 41 to 48 and Comparative Examples 41 to 50, the easy-adhesion layer and the second active energy ray-curable resin layer on the second surface of the PET film are the same. The centerline average roughness (Ra2) of the surface of the active energy ray-curable resin layer on the second surface was 5 nm in all cases.

[実施例51]
実施例1と同様にして樹脂層(易接着層)積層PETフィルムを作製した。次いで、樹脂層(易接着層)積層PETフィルムの第1面の樹脂層上に下記の第1活性エネルギー線硬化性樹脂層を形成するための活性エネルギー線硬化性組成物fを塗布する以外は、実施例1と同様にして積層フィルムを作製した。なお、この第1活性エネルギー線硬化性樹脂層における粒子(表面処理シリカ粒子)の含有量は、この第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の固形分総量100質量%に対して9質量%である。
[Example 51]
In the same manner as in Example 1, a resin layer (easy adhesion layer) laminated PET film was produced. Subsequently, the active energy ray-curable composition f for forming the following first active energy ray-curable resin layer is applied on the resin layer on the first surface of the resin layer (easily adhesive layer) laminated PET film. A laminated film was produced in the same manner as in Example 1. The content of the particles (surface-treated silica particles) in the first active energy ray-curable resin layer is 9% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of the first active energy ray-curable resin layer. .

<活性エネルギー線硬化性組成物f>
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート86質量部、表面処理シリカ粒子分散液Fを固形分換算で9質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)5質量部を有機溶剤(メチルエチルケトン)に混合して、固形分濃度が30質量%の組成物を調製した。
<Active energy ray-curable composition f>
86 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate, 9 parts by weight of the surface-treated silica particle dispersion F in terms of solid content, 5 parts by weight of a photopolymerization initiator (“Irgacure (registered trademark) 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals) Parts were mixed with an organic solvent (methyl ethyl ketone) to prepare a composition having a solid content concentration of 30% by mass.

[実施例52〜58、比較例51〜60]
実施例51の樹脂層(易接着層)積層PETフィルムの作製において、第1面に塗布する樹脂層塗布液を表6に示すように変更する以外は、実施例51と同様にして樹脂層(易接着層)積層PETフィルムを作製した。次いで第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の厚みを表6に示すように変更する以外は、実施例51と同様にしてそれぞれの積層フィルムを作製した。
[Examples 52 to 58, Comparative Examples 51 to 60]
In the production of the resin layer (easy-adhesive layer) laminated PET film of Example 51, a resin layer (as shown in Example 51) except that the resin layer coating solution applied to the first surface was changed as shown in Table 6. Easy adhesion layer) A laminated PET film was prepared. Subsequently, each laminated film was produced in the same manner as in Example 51 except that the thickness of the first active energy ray-curable resin layer was changed as shown in Table 6.

実施例51〜58および比較例51〜60において、PETフィルムの第2面の易接着層および第2活性エネルギー線硬化性樹脂層はいずれも同一である。第2面の活性エネルギー線硬化性樹脂層表面の中心線平均粗さ(Ra2)は、いずれも5nmであった。   In Examples 51-58 and Comparative Examples 51-60, the easy-adhesion layer on the second surface of the PET film and the second active energy ray-curable resin layer are both the same. The centerline average roughness (Ra2) of the surface of the active energy ray-curable resin layer on the second surface was 5 nm in all cases.

[実施例61]
実施例1と同様にして樹脂層(易接着層)積層PETフィルムを作製した。次いで、樹脂層(易接着層)積層PETフィルムの第1面の樹脂層上に下記の第1活性エネルギー線硬化性樹脂層を形成するための活性エネルギー線硬化性組成物gを塗布する以外は、実施例1と同様にして積層フィルムを作製した。なお、この第1活性エネルギー線硬化性樹脂層における粒子(表面処理シリカ粒子)の含有量は、この第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の固形分総量100質量%に対して9質量%である。
[Example 61]
In the same manner as in Example 1, a resin layer (easy adhesion layer) laminated PET film was produced. Subsequently, the active energy ray-curable composition g for forming the following first active energy ray-curable resin layer is applied on the resin layer on the first surface of the resin layer (easily adhesive layer) laminated PET film. A laminated film was produced in the same manner as in Example 1. The content of the particles (surface-treated silica particles) in the first active energy ray-curable resin layer is 9% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of the first active energy ray-curable resin layer. .

<活性エネルギー線硬化性組成物g>
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート86質量部、表面処理シリカ粒子分散液Gを固形分換算で9質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)5質量部を有機溶剤(メチルエチルケトン)に混合して、固形分濃度が30質量%の組成物を調製した。
<Active energy ray-curable composition g>
86 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate, 9 parts by weight of the surface-treated silica particle dispersion G in terms of solid content, 5 parts by weight of a photopolymerization initiator (“Irgacure (registered trademark) 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals) Parts were mixed with an organic solvent (methyl ethyl ketone) to prepare a composition having a solid content concentration of 30% by mass.

[実施例62〜68、比較例61〜70]
実施例61の樹脂層(易接着層)積層PETフィルムの作製において、第1面に塗布する樹脂層塗布液を表7に示すように変更する以外は、実施例61と同様にして樹脂層(易接着層)積層PETフィルムを作製した。次いで第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の厚みを表7に示すように変更する以外は、実施例61と同様にしてそれぞれの積層フィルムを作製した。
[Examples 62 to 68, Comparative Examples 61 to 70]
In the production of the resin layer (easy-adhesion layer) laminated PET film of Example 61, a resin layer (as in Example 61) except that the resin layer coating solution applied to the first surface was changed as shown in Table 7. Easy adhesion layer) A laminated PET film was prepared. Subsequently, each laminated film was produced in the same manner as in Example 61 except that the thickness of the first active energy ray-curable resin layer was changed as shown in Table 7.

実施例61〜68および比較例61〜70において、PETフィルムの第2面の易接着層および第2活性エネルギー線硬化性樹脂層はいずれも同一である。第2面の活性エネルギー線硬化性樹脂層表面の中心線平均粗さ(Ra2)は、いずれも5nmであった。   In Examples 61-68 and Comparative Examples 61-70, the easy-adhesion layer and the second active energy ray-curable resin layer on the second surface of the PET film are the same. The centerline average roughness (Ra2) of the surface of the active energy ray-curable resin layer on the second surface was 5 nm in all cases.

[評価]
上記の実施例および比較例で得られた積層フィルムについて、耐ブロッキング性、第1活性エネルギー線硬化性樹脂層表面の中心線平均粗さ(Ra1)、粒子による突起の有無、積層フィルムのヘイズ値、第2活性エネルギー線硬化性樹脂層面の反射色むらを評価・測定した。その結果を表1〜7に示す。
[Evaluation]
About laminated film obtained by said Example and comparative example, blocking resistance, the centerline average roughness (Ra1) of the 1st active energy ray-curable resin layer surface, the presence or absence of the protrusion by particle | grains, the haze value of laminated film The reflection color unevenness of the second active energy ray-curable resin layer surface was evaluated and measured. The results are shown in Tables 1-7.

本発明の実施例は、いずれも耐ブロッキング性が良好であり、かつ積層フィルムのヘイズ値が小さく透明性に優れたものである。   Each of the examples of the present invention has good blocking resistance, and the laminated film has a small haze value and excellent transparency.

一方、ぬれ張力が52mN/mより大きい樹脂層上に第1活性エネルギー線硬化性樹脂層が積層された比較例は、耐ブロッキング性が低下している。   On the other hand, in the comparative example in which the first active energy ray-curable resin layer is laminated on the resin layer having a wetting tension greater than 52 mN / m, the blocking resistance is lowered.

また、第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の厚みが2μm以上である比較例は、樹脂層のぬれ張力の影響はあまり受けず耐ブロッキング性は良好であるが、ヘイズ値が上昇している。   Moreover, the comparative example in which the thickness of the first active energy ray-curable resin layer is 2 μm or more is not significantly affected by the wetting tension of the resin layer and has good blocking resistance, but the haze value is increased.

[実施例71〜84]
実施例1、5、11、15、22、26、32、36、43、47、53、57、64および68で得られたそれぞれの積層フィルムの第2活性エネルギー線硬化性樹脂層の面に、下記の高屈折率層と低屈折率層をこの順に積層し、次いで低屈折率層の上に下記の透明導電膜を形成して、静電容量式タッチパネル用の透明導電性フィルムを作製した。
[Examples 71 to 84]
On the surface of the second active energy ray-curable resin layer of each laminated film obtained in Examples 1, 5, 11, 15, 22, 26, 32, 36, 43, 47, 53, 57, 64 and 68 The following high refractive index layer and low refractive index layer were laminated in this order, and then the following transparent conductive film was formed on the low refractive index layer to produce a transparent conductive film for a capacitive touch panel. .

<高屈折率層の積層>
下記の高屈折率層形成用の活性エネルギー線硬化性組成物をグラビアコート法により塗布し、90℃で乾燥後、紫外線400mJ/cmを照射して硬化させて厚みが0.04μmの高屈折率層を形成した。この高屈折率層の屈折率は1.65であった。
(高屈折率層形成用の活性エネルギー線硬化性組成物)
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート47質量部、酸化ジルコニウム50質量部、および重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)3質量部を有機溶媒(プロピレングリコールモノエチルエーテル)に分散・溶解して調製した。この組成物の屈折率は1.65であった。
<Lamination of high refractive index layer>
The following active energy ray-curable composition for forming a high refractive index layer is applied by a gravure coating method, dried at 90 ° C., and then cured by irradiation with ultraviolet ray 400 mJ / cm 2 to give a thickness of 0.04 μm. A rate layer was formed. The refractive index of this high refractive index layer was 1.65.
(Active energy ray-curable composition for forming a high refractive index layer)
As an active energy ray-curable resin, 47 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, 50 parts by mass of zirconium oxide, and 3 parts by mass of a polymerization initiator (“Irgacure (registered trademark) 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) are organic. It was prepared by dispersing and dissolving in a solvent (propylene glycol monoethyl ether). The refractive index of this composition was 1.65.

<低屈折率層の積層>
下記の低屈折率層形成用の活性エネルギー線硬化性組成物をグラビアコート法により塗布し、90℃で乾燥後、紫外線400mJ/cmを照射して硬化させて厚みが0.04μmの低屈折率層を形成した。この低屈折率層の屈折率は1.40であった。
(低屈折率層形成用の活性エネルギー線硬化性組成物)
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート84質量部、中空シリカ14質量部、単量体の重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)2質量部を有機溶媒(メチルイソブチルケトンとプロピレングリコールモノエチルエーテルとの質量比1:1の混合溶媒)に分散・溶解して調製した。この組成物の屈折率は1.46であった。
<Lamination of low refractive index layer>
The following active energy ray-curable composition for forming a low refractive index layer is applied by a gravure coating method, dried at 90 ° C., and cured by irradiation with ultraviolet rays of 400 mJ / cm 2 to have a thickness of 0.04 μm. A rate layer was formed. The refractive index of this low refractive index layer was 1.40.
(Active energy ray-curable composition for forming a low refractive index layer)
84 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, 14 parts by mass of hollow silica as an active energy ray curable resin, 2 parts by mass of a monomer polymerization initiator (“Irgacure (registered trademark) 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals) A part was prepared by dispersing and dissolving in an organic solvent (a mixed solvent of methyl isobutyl ketone and propylene glycol monoethyl ether having a mass ratio of 1: 1). The refractive index of this composition was 1.46.

<透明導電膜の積層>
ITO膜を厚みが22nmとなるようにスパッタリング法で積層し、格子状パターンにパターン加工(エッチング処理)して透明導電膜を形成した。
<Lamination of transparent conductive film>
An ITO film was laminated by a sputtering method so as to have a thickness of 22 nm, and a transparent conductive film was formed by pattern processing (etching process) into a lattice pattern.

[評価]
実施例71〜84の透明導電性フィルムについて、耐ブロッキング性および透明導電膜パターンの視認性を評価した。その結果を表8に示す。
[Evaluation]
About the transparent conductive film of Examples 71-84, the visibility of blocking resistance and the transparent conductive film pattern was evaluated. The results are shown in Table 8.

尚、透明導電性フィルムの耐ブロッキング性の評価は、前述の「(10)耐ブロッキング性の評価」において、第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の面と透明導電膜の面とが向き合うように重ねるように変更した以外は同様にして評価した。その結果を表8に示す。   In addition, evaluation of blocking resistance of a transparent conductive film is made so that the surface of the first active energy ray-curable resin layer and the surface of the transparent conductive film face each other in the above-mentioned “(10) Evaluation of blocking resistance”. Evaluations were made in the same manner except that they were changed to overlap. The results are shown in Table 8.

実施例71から84の透明導電性フィルムはいずれも、耐ブロッキング性および透明導電膜パターンの視認性は良好であった。   All the transparent conductive films of Examples 71 to 84 had good blocking resistance and visibility of the transparent conductive film pattern.

Claims (9)

基材フィルムの少なくとも一方の面に樹脂層が積層され、前記樹脂層上に第1活性エネルギー線硬化性樹脂層が直接に積層されており、前記第1活性エネルギー線硬化性樹脂層は粒子を含有し、この粒子による突起を第1活性エネルギー線硬化性樹脂層表面に有する積層フィルムであって、前記第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の厚み(d)が2μm未満、前記第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の厚み(d:μm)に対する前記粒子の平均粒子径(r:μm)の比率(r/d)が0.5以下であり、かつ前記樹脂層表面のぬれ張力が52mN/m以下であることを特徴とする、積層フィルム。   A resin layer is laminated on at least one surface of the base film, and a first active energy ray-curable resin layer is laminated directly on the resin layer, and the first active energy ray-curable resin layer contains particles. A laminated film having protrusions of the particles on the surface of the first active energy ray-curable resin layer, the thickness (d) of the first active energy ray-curable resin layer being less than 2 μm, The ratio (r / d) of the average particle diameter (r: μm) of the particles to the thickness (d: μm) of the linear curable resin layer is 0.5 or less, and the wetting tension of the resin layer surface is 52 mN / A laminated film characterized by being m or less. 積層フィルムのヘイズ値が0.5%以下である、請求項1に記載の積層フィルム。   The laminated film according to claim 1, wherein the laminated film has a haze value of 0.5% or less. 前記基材フィルムがポリエチレンテレフタレートフィルムである、請求項1または2に記載の積層フィルム。   The laminated film according to claim 1 or 2, wherein the base film is a polyethylene terephthalate film. 前記第1活性エネルギー線硬化性樹脂層表面の中心線平均粗さ(Ra1)が30nm未満である、請求項1〜3のいずれかに記載の積層フィルム。   The laminated film according to any one of claims 1 to 3, wherein a center line average roughness (Ra1) of the surface of the first active energy ray-curable resin layer is less than 30 nm. 前記粒子の平均粒子径(r)が0.03〜0.5μmの範囲である、請求項1〜4のいずれかに記載の積層フィルム。   The laminated film according to any one of claims 1 to 4, wherein an average particle diameter (r) of the particles is in a range of 0.03 to 0.5 µm. 前記第1活性エネルギー線硬化性樹脂層における粒子の含有量が、第1活性エネルギー線硬化性樹脂層の固形分総量100質量%に対して3〜17質量%である、請求項1〜5のいずれかに記載の積層フィルム。   The content of particles in the first active energy ray-curable resin layer is 3 to 17% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of the first active energy ray-curable resin layer. The laminated film according to any one of the above. 前記基材フィルムの第1活性エネルギー線硬化性樹脂層が設けられた面とは反対面に、易接着層を介して第2活性エネルギー線硬化性樹脂層を有し、第2活性エネルギー線硬化性樹脂層の厚みが2.5μm未満でかつ第2活性エネルギー線硬化性樹脂層表面の中心線平均粗さ(Ra2)が25nm以下である、請求項1〜6のいずれかに記載の積層フィルム。   The substrate film has a second active energy ray-curable resin layer on the opposite side of the surface on which the first active energy ray-curable resin layer is provided, with an easy-adhesion layer interposed therebetween, and the second active energy ray-curable resin is cured. The laminated film according to any one of claims 1 to 6, wherein the thickness of the conductive resin layer is less than 2.5 µm and the center line average roughness (Ra2) of the surface of the second active energy ray-curable resin layer is 25 nm or less. . 前記基材フィルムが、屈折率が1.61〜1.70であるポリエチレンテレフタレートフィルムであり、前記易接着層の屈折率が1.55〜1.60、前記第2活性エネルギー線硬化性樹脂層の屈折率が1.48〜1.54である、請求項7に記載の積層フィルム。   The base film is a polyethylene terephthalate film having a refractive index of 1.61-1.70, the refractive index of the easy-adhesion layer is 1.55-1.60, and the second active energy ray-curable resin layer. The laminated film according to claim 7, having a refractive index of 1.48 to 1.54. 請求項1〜8のいずれかに記載の積層フィルムの少なくとも一方の面に透明導電膜を有する、透明導電性フィルム。   The transparent conductive film which has a transparent conductive film in the at least one surface of the laminated | multilayer film in any one of Claims 1-8.
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