JP2016137611A - Transparent laminated film and production method of the same - Google Patents

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彰二 祖父江
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transparent laminated film which has excellent antiblocking property and high light transmittance.SOLUTION: A transparent laminated film has a functional layer on one surface (A surface) of a substrate film and a back coat layer on the other surface (B surface) of the substrate film, in which the back coat layer is formed by layer separation of a coating layer into two layers of an upper side layer and a lower side layer, and an upper side layer containing silica particles is formed on the opposite side of the substrate film.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、タッチパネル用透明導電性フィルム、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム、ディスプレイの保護フィルムや光学フィルムなどに適用される透明積層フィルムに関する。   The present invention relates to a transparent conductive film for a touch panel, a base film of a transparent conductive film for a touch panel, a transparent laminated film applied to a protective film, an optical film, and the like of a display.

タッチパネル用透明導電性フィルム、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム(例えばハードコートフィルムや屈折率調整フィルム)、ディスプレイの保護フィルム(例えばハードコートフィルム、帯電防止フィルム、防汚性フィルム)、あるいは光学フィルム(例えば反射防止フィルムや防眩フィルム)は、基材フィルム上に各種機能性層、例えば、導電層、ハードコート層、屈折率調整層、反射防止層、帯電防止層、防汚層などが設けられている。   Transparent conductive film for touch panel, base film for transparent conductive film for touch panel (for example, hard coat film and refractive index adjusting film), protective film for display (for example, hard coat film, antistatic film, antifouling film), or optical A film (for example, an antireflection film or an antiglare film) has various functional layers such as a conductive layer, a hard coat layer, a refractive index adjustment layer, an antireflection layer, an antistatic layer, and an antifouling layer on the base film. Is provided.

以下、これらの各種機能性層が設けられたフィルムを総称して、「機能性フィルム」ということがある。   Hereinafter, films provided with these various functional layers may be collectively referred to as “functional films”.

上記した機能性フィルムは、基材フィルムの機能性層が設けられた面とは反対面に、バックコート層を設けることが知られている(例えば、特許文献1〜4)。これらのバックコート層は、機能性フィルムのカールバランスの調整やブロッキング防止等のために設けられている。   It is known that the functional film described above is provided with a backcoat layer on the surface opposite to the surface on which the functional layer of the base film is provided (for example, Patent Documents 1 to 4). These back coat layers are provided for adjusting the curl balance of the functional film and preventing blocking.

特開2005−18551号公報JP 2005-18551 A 特開2005−266231号公報JP 2005-266231 A 特開2008−310343号公報JP 2008-310343 A 特開2010−107543号公報JP 2010-107543 A

機能性フィルムのブロッキングを防止するために、バックコート層に粒子を含有させて表面に凹凸を形成することが知られている。このようなバックコート層を設けることによって、ブロッキング防止性は向上するが、機能性フィルムの光透過率が低下する傾向にある。   In order to prevent blocking of the functional film, it is known that the back coat layer contains particles to form irregularities on the surface. By providing such a backcoat layer, the anti-blocking property is improved, but the light transmittance of the functional film tends to be lowered.

従って、本発明の目的は、上記従来技術の課題に鑑み、ブロッキング防止性が良好で光透過率が高い透明積層フィルム(機能性フィルム)を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a transparent laminated film (functional film) having good anti-blocking properties and high light transmittance in view of the above-mentioned problems of the prior art.

本発明の上記目的は、以下の発明により基本的に達成された。
[1]基材フィルムの一方の面(A面)に機能性層を有し、基材フィルムの他方の面(B面)にバックコート層を有する透明積層フィルムであって、バックコート層は、1つの塗布層が上側層と下側層の2層に層分離せしめられて形成されたものであり、基材フィルムの反対側にシリカ粒子を含有する上側層が形成されていることを特徴とする、透明積層フィルム。
[2]前記の塗布層が、少なくともバインダー成分とシリカ粒子を含有する、[1]に記載の透明積層フィルム。
[3]前記の塗布層が、少なくとも、バインダー成分、シリカ粒子および金属酸化物粒子を含有する、[1]または[2]に記載の透明積層フィルム。
[4]前記シリカ粒子がフッ素化合物により処理されている、[1]〜[3]のいずれかに記載の透明積層フィルム。
[5]前記シリカ粒子が中空シリカ粒子である、[1]〜[4]のいずれかに記載の透明積層フィルム。
[6]前記上側層表面の最低反射率が2.0%以下である、[1]〜[5]のいずれかに記載の透明積層フィルム。
[7]基材フィルムの一方の面(A面)に機能性層を有し、基材フィルムの他方の面(B面)にバックコート層を有する透明積層フィルムの製造方法であって、基材フィルムの一方の面(A面)に機能性層を積層する工程、および基材フィルムの他方の面(B面)にバックコート層を積層する工程を有し、バックコート層を積層する工程において、少なくとも、バインダー成分、フッ素化合物により処理されたシリカ粒子および溶媒を含有する塗布液を、基材フィルム上に1回塗布して1つの塗布層を形成し、この塗布層を層分離せしめて、基材フィルムの反対側にフッ素化合物により処理されたシリカ粒子を含有する上側層を形成せしめ、基材フィルム側にシリカ粒子以外の成分を主成分とする下側層を形成せしめることを特徴とする、透明積層フィルムの製造方法。
[8]前記塗布液が更に金属酸化物粒子を含有する、[7]に記載の透明積層フィルムの製造方法。
The above object of the present invention has been basically achieved by the following invention.
[1] A transparent laminated film having a functional layer on one side (A side) of a base film and having a back coat layer on the other side (B side) of the base film, One coating layer is formed by separating the upper layer and the lower layer into two layers, and an upper layer containing silica particles is formed on the opposite side of the base film. A transparent laminated film.
[2] The transparent laminated film according to [1], wherein the coating layer contains at least a binder component and silica particles.
[3] The transparent laminated film according to [1] or [2], wherein the coating layer contains at least a binder component, silica particles, and metal oxide particles.
[4] The transparent laminated film according to any one of [1] to [3], wherein the silica particles are treated with a fluorine compound.
[5] The transparent laminated film according to any one of [1] to [4], wherein the silica particles are hollow silica particles.
[6] The transparent laminated film according to any one of [1] to [5], wherein the minimum reflectance of the upper layer surface is 2.0% or less.
[7] A method for producing a transparent laminated film having a functional layer on one side (A side) of a base film and having a backcoat layer on the other side (B side) of the base film, A step of laminating a backcoat layer, comprising a step of laminating a functional layer on one surface (A surface) of a material film and a step of laminating a backcoat layer on the other surface (B surface) of the base film The coating liquid containing at least the binder component, the silica particles treated with the fluorine compound and the solvent is applied once on the base film to form one coating layer, and the coating layer is separated into layers. An upper layer containing silica particles treated with a fluorine compound is formed on the opposite side of the base film, and a lower layer mainly composed of components other than silica particles is formed on the base film side. To see through Method for producing a laminated film.
[8] The method for producing a transparent laminated film according to [7], wherein the coating solution further contains metal oxide particles.

本発明によれば、ブロッキング防止性が良好で光透過率が高い透明積層フィルムを提供することができる。本発明によれば、さらに干渉縞の発生を抑制することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a transparent laminated film having good anti-blocking properties and high light transmittance. According to the present invention, generation of interference fringes can be further suppressed.

本発明にかかる透明積層フィルムは、各種機能性フィルム、例えば、タッチパネル用透明導電性フィルム、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム(例えばハードコートフィルムや屈折率調整フィルム)、ディスプレイの保護フィルム(例えばハードコートフィルム、帯電防止フィルム、防汚性フィルム)、および光学フィルム(例えば反射防止フィルムや防眩性フィルム)等に適用される。   The transparent laminated film according to the present invention includes various functional films such as a transparent conductive film for a touch panel, a base film for a transparent conductive film for a touch panel (for example, a hard coat film or a refractive index adjusting film), and a protective film for a display (for example, It is applied to hard coat films, antistatic films, antifouling films), optical films (for example, antireflection films and antiglare films), and the like.

本発明にかかる透明積層フィルムは、基材フィルムの一方の面(A面)に機能性層を有し、基材フィルムの他方の面(B面)にバックコート層を有する。   The transparent laminated film concerning this invention has a functional layer in one side (A surface) of a base film, and has a backcoat layer in the other side (B surface) of a base film.

機能性層は、上記したような各種機能性フィルムを構成する機能性層であれば、特に限定されない。機能性層としては、例えば、導電層、ハードコート層、屈折率調整層、反射防止層、帯電防止層、防汚層などが挙げられる。機能性層は1層であっても、複数層の積層構成であってもよい。積層構成としては、例えば、ハードコート層と反射防止層との積層、ハードコート層と導電層との積層、ハードコート層と屈折率調整層の積層、屈折率調整層と導電層との積層、反射防止層と防汚層との積層などが挙げられる。   A functional layer will not be specifically limited if it is a functional layer which comprises the above various functional films. Examples of the functional layer include a conductive layer, a hard coat layer, a refractive index adjusting layer, an antireflection layer, an antistatic layer, and an antifouling layer. The functional layer may be a single layer or a laminated structure of a plurality of layers. Examples of the laminated structure include a lamination of a hard coat layer and an antireflection layer, a lamination of a hard coat layer and a conductive layer, a lamination of a hard coat layer and a refractive index adjustment layer, a lamination of a refractive index adjustment layer and a conductive layer, Examples include lamination of an antireflection layer and an antifouling layer.

本発明にかかる透明積層フィルムは、バックコート層に主たる特徴を有する。すなわち、本発明のバックコート層は、1つの塗布層が上側層(基材フィルムから遠い側の層)と下側層(基材フィルムから近い側の層)の2層に層分離せしめられて形成されたものであり、基材フィルムの反対側(基材フィルムから遠い側)にシリカ粒子を含有する上側層が形成されていることを特徴とする。このようなバックコート層を設けることにより、透明積層フィルムのブロッキング防止性および透過率を向上させることができる。   The transparent laminated film according to the present invention has the main characteristics of the backcoat layer. That is, in the back coat layer of the present invention, one coating layer is separated into two layers, an upper layer (layer far from the base film) and a lower layer (layer closer to the base film). It is formed, The upper layer containing a silica particle is formed in the other side (far side from a base film) of a base film, It is characterized by the above-mentioned. By providing such a back coat layer, the anti-blocking property and transmittance of the transparent laminated film can be improved.

本発明にかかる透明積層フィルムの全光線透過率は、高いほど好ましく、具体的には85%以上が好ましく、88%以上がより好ましく、90%以上が特に好ましい。   The total light transmittance of the transparent laminated film according to the present invention is preferably as high as possible. Specifically, it is preferably 85% or more, more preferably 88% or more, and particularly preferably 90% or more.

本発明のバックコート層を設けることにより、透明積層フィルムの機能性層とは反対面(B面)の反射率が小さくなり、その結果、透明積層フィルムの透過率が高められる。バックコート層表面(上側層表面)の反射率は小さいほど好ましく、具体的には、最低反射率が、2.0%以下が好ましく、1.5%以下がより好ましく、1.0%以下が特に好ましい。バックコート層表面(上側層表面)の最低反射率を2.0%以下に小さくすることにより、透明積層フィルムの透過率が向上する。下限は特に限定されるものではないが、0%が実質的な下限となる。   By providing the backcoat layer of the present invention, the reflectance of the surface (B surface) opposite to the functional layer of the transparent laminated film is reduced, and as a result, the transmittance of the transparent laminated film is increased. The smaller the reflectance of the backcoat layer surface (upper layer surface), the more preferable. Specifically, the minimum reflectance is preferably 2.0% or less, more preferably 1.5% or less, and 1.0% or less. Particularly preferred. By reducing the minimum reflectance of the backcoat layer surface (upper layer surface) to 2.0% or less, the transmittance of the transparent laminated film is improved. The lower limit is not particularly limited, but 0% is a substantial lower limit.

[バックコート層]
本発明にかかるバックコート層は、層分離構造を有する。つまり、本発明のバックコート層は、基材フィルム上に1つの塗布層が塗布され、この塗布層が上側層と下側層の2層に層分離せしめられて形成されたものである。そして、基材フィルムの反対側(基材フィルムから遠い側)に位置する上側層はシリカ粒子を含有する層である。
[Back coat layer]
The back coat layer according to the present invention has a layer separation structure. That is, the back coat layer of the present invention is formed by applying one coating layer on a substrate film and separating the coating layer into two layers, an upper layer and a lower layer. And the upper layer located in the other side (side far from a base film) of a base film is a layer containing a silica particle.

本発明のバックコート層の好ましい1つの態様(態様1)は、少なくともバインダー成分とシリカ粒子を含有する1つの塗布層が2つの層(上側層と下側層)に層分離せしめられて形成されることにある。   A preferred embodiment (embodiment 1) of the backcoat layer of the present invention is formed by separating one coating layer containing at least a binder component and silica particles into two layers (an upper layer and a lower layer). There is to be.

上記態様1のバックコート層は、例えば、少なくとも、バインダー成分、シリカ粒子および溶媒を含有する塗布液を、基材フィルム上に1回塗布して1つの塗布層を形成し、この塗布層の乾燥過程で、シリカ粒子を基材フィルムとは反対側(空気側)に移動させることによって形成することができる。このようにして形成されたバックコート層は、シリカ粒子を含有する上側層とシリカ粒子以外の成分(例えばバインダー成分)を主成分とする下側層の層分離構造を有する。   The back coat layer of the above aspect 1 is formed by, for example, coating a coating solution containing at least a binder component, silica particles, and a solvent once on a base film to form one coating layer, and drying the coating layer. In the process, it can be formed by moving silica particles to the opposite side (air side) of the base film. The back coat layer formed in this manner has a layer separation structure of an upper layer containing silica particles and a lower layer mainly composed of components other than silica particles (for example, a binder component).

本発明のバックコート層の好ましい他の態様(態様2)は、少なくとも、バインダー成分、シリカ粒子および金属酸化物粒子を含有する1つの塗布層が2つの層(上側層と下側層)に層分離せしめられて形成されることにある。   In another preferred embodiment (embodiment 2) of the backcoat layer of the present invention, at least one coating layer containing a binder component, silica particles and metal oxide particles is formed into two layers (an upper layer and a lower layer). It is to be formed by being separated.

上記態様2のバックコート層は、例えば、少なくとも、バインダー成分、シリカ粒子、金属酸化物粒子および溶媒を含有する塗布液を、基材フィルム上に1回塗布して1つの塗布層を形成し、この塗布層の乾燥過程で、シリカ粒子を基材フィルムとは反対側(空気側)に移動させることによって形成することできる。このようにして形成されたバックコート層は、シリカ粒子を含有する上側層とシリカ粒子以外の成分(例えばバインダー成分や金属酸化物粒子)を主成分とする下側層の層分離構造を有する。   The back coat layer of the above aspect 2 is formed by, for example, applying a coating solution containing at least a binder component, silica particles, metal oxide particles and a solvent once on a base film to form one coating layer. In the drying process of this coating layer, it can form by moving a silica particle to the opposite side (air side) from a base film. The back coat layer thus formed has a layer separation structure of an upper layer containing silica particles and a lower layer mainly composed of components other than silica particles (for example, binder components and metal oxide particles).

本発明のバックコート層は、上側層と下側層が明確な界面を形成するように層分離されていることが重要である。これによって、バックコート層表面の反射率が低下し、透明積層フィルムの透過率の向上が図られる。上側層と下側層が明確な界面によって層分離されているかどうかは、バックコート層の断面を透過型電子顕微鏡(TEM)で観察することによって確認することができる。   It is important that the back coat layer of the present invention is separated so that the upper layer and the lower layer form a clear interface. Thereby, the reflectance on the surface of the backcoat layer is lowered, and the transmittance of the transparent laminated film is improved. Whether the upper layer and the lower layer are separated by a clear interface can be confirmed by observing the cross section of the backcoat layer with a transmission electron microscope (TEM).

上側層と下側層が1つの塗布層から層分離によって形成されたバックコート層は、更に干渉縞の発生を抑制する効果がある。これは、層分離によって形成された上側層と下側層の界面は、上側層と下側層を別々に塗り重ねた時の上側層と下側層の界面に比べて、界面に微小な凹凸構造が比較的多く存在することにより干渉縞が抑制されると推測される。   The back coat layer in which the upper layer and the lower layer are formed by layer separation from one coating layer has an effect of further suppressing the generation of interference fringes. This is because the interface between the upper layer and the lower layer formed by layer separation is slightly uneven compared to the interface between the upper layer and the lower layer when the upper layer and the lower layer are separately coated. It is presumed that interference fringes are suppressed due to the relatively large number of structures.

本発明のバックコート層は、バックコート層表面の反射率を低下させて透明積層フィルムの透過率を高めるという観点から、上記態様2が好ましい。   The above aspect 2 is preferable for the backcoat layer of the present invention from the viewpoint of reducing the reflectance of the backcoat layer surface and increasing the transmittance of the transparent laminated film.

本発明の層分離によって形成された上側層は、シリカ粒子が比較的密に配列された構造となることから、ブロッキング防止性および透過率が向上すると考えられる。   Since the upper layer formed by the layer separation of the present invention has a structure in which silica particles are arranged relatively densely, it is considered that antiblocking properties and transmittance are improved.

上記観点から、本発明のバックコート層における上側層においては、シリカ粒子の体積比率が高いことが好ましい。上側層におけるシリカ粒子の体積比率は、例えば、上側層の任意の断面面積に対するシリカ粒子の断面面積の比率で表すことができる(以下、シリカ粒子の面積比率という)。上記シリカ粒子の面積比率は、50%以上が好ましく、60%以上がより好ましく、70%以上が特に好ましい。   From the above viewpoint, the volume ratio of the silica particles is preferably high in the upper layer in the backcoat layer of the present invention. The volume ratio of the silica particles in the upper layer can be represented, for example, by the ratio of the cross-sectional area of the silica particles to the arbitrary cross-sectional area of the upper layer (hereinafter referred to as the area ratio of the silica particles). The area ratio of the silica particles is preferably 50% or more, more preferably 60% or more, and particularly preferably 70% or more.

上側層のシリカ粒子の面積比率を高めることによって、透明積層フィルムのブロッキング防止性が向上し、かつバックコート層表面(上側層表面)の反射率が低下して透明積層フィルムの透過率が向上する。   By increasing the area ratio of the silica particles in the upper layer, the anti-blocking property of the transparent laminated film is improved, and the reflectance of the back coat layer surface (upper layer surface) is lowered to improve the transmittance of the transparent laminated film. .

シリカ粒子の面積比率が高くなり過ぎると、上側層の膜強度が低下することによりシリカ粒子が脱落したり、上側層の耐擦傷性が低下したりすることがあるので、シリカ粒子の面積比率の上限は97%以下が好ましく、95%以下がより好ましい。   If the area ratio of the silica particles becomes too high, the silica particles may fall off due to a decrease in the film strength of the upper layer, or the scratch resistance of the upper layer may decrease. The upper limit is preferably 97% or less, and more preferably 95% or less.

ここで、シリカ粒子が中空シリカである場合、中空シリカの中空部はシリカ粒子の断面面積に含まれる。   Here, when a silica particle is a hollow silica, the hollow part of a hollow silica is contained in the cross-sectional area of a silica particle.

本発明にかかるバックコート層は、前述の態様1および態様2で説明したように、少なくとも、バインダー成分とシリカ粒子を含有する(態様2は更に金属酸化物粒子を含有する)1つの塗布層が層分離せしめられて形成されたものであり、塗布層中のシリカ粒子の大部分は層分離が完成することにより表面側(空気側)に移動して上側層を形成し、下側層中にはシリカ粒子以外の成分、すなわち、バインダー成分や金属酸化物粒子等が主成分として残る。上側層には、バインダー成分も存在し、このバインダー成分はシリカ粒子とシリカ粒子の間や上側層と下側層の界面近傍に存在して結着材として機能する。   As described in the first and second embodiments, the backcoat layer according to the present invention includes at least one binder layer and silica particles (the second embodiment further contains metal oxide particles). It is formed by layer separation, and most of the silica particles in the coating layer move to the surface side (air side) upon completion of layer separation to form an upper layer, and in the lower layer The component other than the silica particles, that is, the binder component, the metal oxide particles and the like remain as the main components. A binder component is also present in the upper layer, and this binder component is present between the silica particles and the silica particles or in the vicinity of the interface between the upper layer and the lower layer and functions as a binder.

層分離が完成しても、下側層にはいくらかのシリカ粒子が残存することが想定されるが、下側層におけるシリカ粒子の含有比率は小さいことが好ましい。下側層にシリカ粒子が比較的多く存在すると、透明積層フィルムの透過率が十分に向上しないことがある。具体的には、下側層におけるシリカ粒子の面積比率(上側層におけるシリカ粒子の面積比率と同義)は、15%以下が好ましく、10%以下がより好ましく、5%以下が特に好ましい。下限は、特に限定されるものではないが、0%が実質的な下限となる。   Even if the layer separation is completed, it is assumed that some silica particles remain in the lower layer, but the content ratio of the silica particles in the lower layer is preferably small. When a relatively large amount of silica particles are present in the lower layer, the transmittance of the transparent laminated film may not be sufficiently improved. Specifically, the area ratio of silica particles in the lower layer (synonymous with the area ratio of silica particles in the upper layer) is preferably 15% or less, more preferably 10% or less, and particularly preferably 5% or less. The lower limit is not particularly limited, but 0% is a substantial lower limit.

下側層は、バインダー成分および/または金属酸化物粒子を主成分とする層であることが好ましい。つまり、下側層は、バインダー成分および金属酸化物粒子のどちらか一方が主成分である態様、およびバインダーと金属酸化物粒子との合計が主成分である態様を含む。   The lower layer is preferably a layer mainly composed of a binder component and / or metal oxide particles. That is, the lower layer includes an embodiment in which one of the binder component and the metal oxide particles is a main component, and an embodiment in which the total of the binder and the metal oxide particles is a main component.

前述の態様1は、バインダー成分を主成分とする下側層が形成されていることが好ましく、態様2は、バインダー成分および金属酸化物粒子との合計を主成分とする下側層が形成されていることが好ましい。   In the above-mentioned aspect 1, it is preferable that the lower layer mainly composed of the binder component is formed, and in the aspect 2, the lower layer mainly composed of the binder component and the metal oxide particles is formed. It is preferable.

上記態様1において、バインダー成分を主成分とする下側層を形成するには、上側層と下側層に層分離せしめる前の1つの塗布層の固形分総量(質量)からシリカ粒子を除いた質量(A1)に対するバインダー成分の質量(B1)の比率(B1/A1×100)が50質量%以上であることが好ましく、60質量%以上であることがより好ましい。   In the first aspect, in order to form the lower layer containing the binder component as a main component, the silica particles are removed from the total solid content (mass) of one coating layer before the upper layer and the lower layer are separated. The ratio (B1 / A1 × 100) of the mass (B1) of the binder component to the mass (A1) is preferably 50% by mass or more, and more preferably 60% by mass or more.

上記態様2において、バインダー成分および金属酸化物粒子との合計を主成分とする下側層を形成するには、上側層と下側層に層分離せしめる前の1つの塗布層の固形分総量(質量)からシリカ粒子を除いた質量(A2)に対するバインダー成分と金属酸化物粒子との合計質量(B2)の比率(B2/A2×100)が50質量%以上であることが好ましく、60質量%以上であることがより好ましく、70質量%以上であることが好ましい。   In the above aspect 2, in order to form the lower layer mainly composed of the binder component and the metal oxide particles, the total solid content of one coating layer before the upper layer and the lower layer are separated ( The ratio (B2 / A2 × 100) of the total mass (B2) of the binder component and the metal oxide particles to the mass (A2) excluding the silica particles from the mass) is preferably 50% by mass or more, and 60% by mass The above is more preferable, and 70% by mass or more is preferable.

上記態様1および態様2における上記比率の上限は、特に限定されないが、99質量%以下が好ましく、97質量%以下がより好ましく、95質量%以下が特に好ましい。   The upper limit of the ratio in the first and second embodiments is not particularly limited, but is preferably 99% by mass or less, more preferably 97% by mass or less, and particularly preferably 95% by mass or less.

本発明のバックコート層における上側層の厚みは、透明積層フィルムの透過率およびブロッキング防止性を向上させるという観点から、60〜150nmの範囲が好ましく、70〜130nmの範囲がより好ましく、80〜120nmの範囲が特に好ましい。   The thickness of the upper layer in the backcoat layer of the present invention is preferably in the range of 60 to 150 nm, more preferably in the range of 70 to 130 nm, and more preferably in the range of 80 to 120 nm from the viewpoint of improving the transmittance and antiblocking property of the transparent laminated film. The range of is particularly preferable.

本発明のバックコート層における下側層の厚みは、透明積層フィルムの透過率および耐擦傷性の向上ならびに基材フィルムからのオリゴマー析出を抑制するという観点から、80nm以上が好ましく、100nm以上がより好ましく、200nm以上が更に好ましく、300nm以上が特に好ましい。下側層の厚みが大きくなり過ぎると、層分離構造が形成されにくくなることがあるので、上限の厚みは2000nm以下が好ましく、1500nm以下がより好ましく、1000nm以下が特に好ましい。   The thickness of the lower layer in the backcoat layer of the present invention is preferably 80 nm or more, more preferably 100 nm or more from the viewpoint of improving the transmittance and scratch resistance of the transparent laminated film and suppressing oligomer precipitation from the base film. Preferably, 200 nm or more is more preferable, and 300 nm or more is particularly preferable. If the thickness of the lower layer becomes too large, the layer separation structure may be difficult to be formed. Therefore, the upper limit thickness is preferably 2000 nm or less, more preferably 1500 nm or less, and particularly preferably 1000 nm or less.

本発明のバックコート層は、従来のバックコート層に比べて、表面粗さRaが比較的小さくとも、良好なブロッキング防止性が得られる。バックコート層の表面粗さを比較的小さくすることにより、透明積層フィルムの透過率を向上させることができる。   The back coat layer of the present invention provides good anti-blocking properties even when the surface roughness Ra is relatively small as compared with the conventional back coat layer. By making the surface roughness of the backcoat layer relatively small, the transmittance of the transparent laminated film can be improved.

バックコート層表面の表面粗さRaは、15nm以下が好ましく、12nm以下より好ましく、特に10nm以下が好ましい。表面粗さRaの下限は、良好なブロッキング性を確保するという観点から、3nm以上が好ましく、5nm以上が特に好ましい。   The surface roughness Ra of the backcoat layer surface is preferably 15 nm or less, more preferably 12 nm or less, and particularly preferably 10 nm or less. The lower limit of the surface roughness Ra is preferably 3 nm or more, and particularly preferably 5 nm or more from the viewpoint of ensuring good blocking properties.

[バックコート層の成分]
本発明にかかるバックコート層は、前述したように、少なくともバインダー成分とシリカ粒子を含有する1つの塗布層が2つの層(上側層と下側層)に層分離せしめられて形成されることが好ましく(態様1)、更に、少なくとも、バインダー成分、シリカ粒子および金属酸化物粒子を含有する1つの塗布層が2つの層(上側層と下側層)に層分離せしめられて形成されることが好ましい(態様2)。
[Components of back coat layer]
As described above, the backcoat layer according to the present invention may be formed by separating one coating layer containing at least a binder component and silica particles into two layers (an upper layer and a lower layer). Preferably (Aspect 1), at least one coating layer containing at least a binder component, silica particles, and metal oxide particles is formed by separating the layers into two layers (an upper layer and a lower layer). Preferred (Aspect 2).

シリカ粒子としては、中空シリカ粒子、多孔質シリカ粒子、コロイダルシリカ(中空シリカに対して中実シリカ)が好ましく用いられる。ここで中空シリカ粒子とは、粒子の内部に空洞を有するシリカ粒子であり、多孔質シリカ粒子とは、粒子の表面および内部に細孔を有するシリカ粒子である。これらのシリカ粒子の中でも、透明積層フィルムの透過率を向上させるという観点から、特に中空シリカが好ましい。   As silica particles, hollow silica particles, porous silica particles, and colloidal silica (solid silica with respect to hollow silica) are preferably used. Here, the hollow silica particles are silica particles having cavities inside the particles, and the porous silica particles are silica particles having pores on the surface and inside of the particles. Among these silica particles, hollow silica is particularly preferable from the viewpoint of improving the transmittance of the transparent laminated film.

シリカ粒子の平均粒子径は、10〜120nmの範囲が好ましく、20〜100nmの範囲がより好ましく、30〜80nm範囲が特に好ましい。シリカ粒子の平均粒子径が10nm未満では、ブロッキング防止性が十分に向上しないことがある。シリカ粒子の平均粒子径が120nmより大きくなると、透明積層フィルムの透過率が十分に向上しないことがあり、また、層分離構造が形成されないことがある。   The average particle diameter of the silica particles is preferably in the range of 10 to 120 nm, more preferably in the range of 20 to 100 nm, and particularly preferably in the range of 30 to 80 nm. When the average particle diameter of the silica particles is less than 10 nm, the antiblocking property may not be sufficiently improved. When the average particle diameter of the silica particles is larger than 120 nm, the transmittance of the transparent laminated film may not be sufficiently improved, and a layer separation structure may not be formed.

シリカ粒子は、フッ素化合物で処理されていることが好ましい。フッ素処理されたシリカ粒子は表面自由エネルギーが小さくなることから、空気側(基材フィルムとは反対側)へ移動しやすくなり、層分離構造が形成されやすくなる。   The silica particles are preferably treated with a fluorine compound. Since the surface-free energy of the fluorine-treated silica particles becomes small, the silica particles easily move to the air side (the side opposite to the base film), and a layer separation structure is easily formed.

シリカ粒子のフッ素化合物による処理とは、シリカ粒子を化学的に修飾して、シリカ粒子にフッ素化合物を導入する処理を指す。シリカ粒子のフッ素化合物による処理は、一段階で行われてもよいし、多段階で行われてもよい。また、複数の処理段階でフッ素化合物が用いられてもよいし、一つの処理段階のみでフッ素化合物が用いられてもよい。ここで「導入」とは、フッ素化合物が、シリカ粒子に化学結合(共有結合、水素結合、イオン結合、ファンデルワールス結合、疎水結合等を含む)や吸着(物理吸着、化学吸着を含む)している状態を指す。   The treatment of silica particles with a fluorine compound refers to a treatment in which the silica particles are chemically modified and a fluorine compound is introduced into the silica particles. The treatment of the silica particles with the fluorine compound may be performed in one stage or in multiple stages. Further, the fluorine compound may be used in a plurality of treatment stages, or the fluorine compound may be used in only one treatment stage. Here, “introduction” means that a fluorine compound is chemically bonded (including covalent bond, hydrogen bond, ionic bond, van der Waals bond, hydrophobic bond, etc.) or adsorbed (including physical adsorption and chemical adsorption) to silica particles. Refers to the state.

かかるフッ素化合物としては、次の一般式(I)で表される化合物が好ましく用いられる。   As such a fluorine compound, a compound represented by the following general formula (I) is preferably used.

−R−R ・・・ 一般式(I)
ここで、Rはフルオロアルキル基、Rは反応性部位、Rは炭素数1から6のアルキレン基又はそれらから導出されるエステル構造を示す。それぞれ側鎖を構造中に持っても良い。
R 1 -R 2 -R f ... General formula (I)
Here, R f represents a fluoroalkyl group, R 1 represents a reactive site, and R 2 represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms or an ester structure derived therefrom. Each may have a side chain in the structure.

フルオロアルキル基とは、アルキル基が持つ水素の一部あるいは全てがフッ素に置き換わったものであり、主にフッ素原子と炭素原子から構成される基である。   A fluoroalkyl group is a group in which part or all of hydrogen in an alkyl group is replaced with fluorine, and is a group mainly composed of fluorine atoms and carbon atoms.

反応性部位とは、熱または光などの外部エネルギーにより他の成分と反応する部位をさす。このような反応性部位として、反応性の観点から、アルコキシシリル基、アルコキシシリル基が加水分解されたシラノール基、シリルエーテル基、カルボキシル基、水酸基、エポキシ基、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などが挙げられる。これらの中でも、アルコキシシリル基、シラノール基、シリルエーテル基、エポキシ基、アクリロイル基、メタクリロイル基が好ましい。   A reactive site refers to a site that reacts with other components by external energy such as heat or light. As such a reactive site, from the viewpoint of reactivity, alkoxysilyl group, silanol group in which alkoxysilyl group is hydrolyzed, silyl ether group, carboxyl group, hydroxyl group, epoxy group, vinyl group, allyl group, acryloyl group, And a methacryloyl group. Among these, an alkoxysilyl group, a silanol group, a silyl ether group, an epoxy group, an acryloyl group, and a methacryloyl group are preferable.

このフッ素化合物を導入する処理法の一つは、前記一般式(I)におけるRがアルコキシシリル基、シラノール基、あるいはシリルエーテル基であるフルオロアルコキシシラン化合物の少なくとも1種類と、シリカ粒子もしくはシリカ粒子分散物と、溶媒、触媒等とを共に撹拌、場合によっては加熱または脱アルコール処理をし、シリカ粒子表面の水酸基と縮合させる方法である。シリカ粒子のフッ素化合物による処理は、シリカ粒子を微細に分散した状態で行うという観点から、シリカ粒子分散物の状態で行うことが好ましい。 One of the treatment methods for introducing this fluorine compound is at least one fluoroalkoxysilane compound in which R 1 in the general formula (I) is an alkoxysilyl group, silanol group, or silyl ether group, and silica particles or silica. In this method, the particle dispersion is mixed with a solvent, a catalyst, etc., and heated or dealcoholized in some cases to condense with the hydroxyl groups on the surface of the silica particles. The treatment of the silica particles with the fluorine compound is preferably performed in the form of a silica particle dispersion from the viewpoint of performing the silica particles in a finely dispersed state.

ここでいうシリカ粒子分散物とは、シリカ粒子が溶媒中に分散された状態のものを指し、ゾル、サスペンジョン、スラリー、コロイド溶液ともよばれることもあり、シリカ粒子、溶媒のほかに、分散剤、界面活性剤、表面処理剤等、安定化剤等を含んでもよい。   The silica particle dispersion as used herein refers to a state in which the silica particles are dispersed in a solvent, and is sometimes referred to as a sol, suspension, slurry, colloidal solution. In addition to the silica particles and the solvent, a dispersant, A stabilizer, a surface treatment agent, and the like may be included.

前述したフッ素化合物の具体例としては、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリイソプロポキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリクロロシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリイソシアネートシラン、2−パーフルオロオクチルトリメトキシシラン、2−パーフルオロオクチルエチルトリエトキシシラン、2−パーフルオロオクチルエチルトリイソプロポキシシラン、2−パーフルオロオクチルエチルトリクロロシラン、2−パーフルオロオクチルイソシアネートシラン等が挙げられる。   Specific examples of the fluorine compound described above include 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltriethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltriisopropoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrichlorosilane, 3,3,3-trifluoropropyltriisocyanate silane, 2-perfluorooctyltrimethoxysilane, 2-perfluorooctylethyltriethoxysilane, 2-perfluorooctylethyl Examples include triisopropoxysilane, 2-perfluorooctylethyltrichlorosilane, and 2-perfluorooctyl isocyanate silane.

フッ素化合物によるシリカ粒子の処理の別の方法として、シリカ粒子もしくはシリカ粒子分散物を、フッ素原子を有しないシラン化合物にて処理し、次いでフッ素化合物で処理してシラン化合物とフッ素化合物をつなぎ合わせる方法がある。   As another method for treating silica particles with a fluorine compound, a method in which silica particles or a silica particle dispersion is treated with a silane compound having no fluorine atom and then treated with a fluorine compound to join the silane compound and the fluorine compound together. There is.

このシラン化合物は、次の一般式(II)で表される化合物であることが好ましい。   This silane compound is preferably a compound represented by the following general formula (II).

−R−SiR n2(OR3−n2 一般式(II)
上記一般式(II)中のRは反応性部位を示し、Rは炭素数1から6のアルキレン基あるいはそれらから導出されるエステル構造を表し、RおよびRはそれぞれ水素または炭素数が1から4のアルキル基を表し、n2は0から2の整数を表す。
R 3 -R 4 -SiR 5 n2 ( OR 6) 3-n2 general formula (II)
In the general formula (II), R 3 represents a reactive site, R 4 represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms or an ester structure derived therefrom, and R 5 and R 6 represent hydrogen or carbon number, respectively. Represents an alkyl group of 1 to 4, and n2 represents an integer of 0 to 2.

で表される反応性部位としては、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基が挙げられる。 Examples of the reactive site represented by R 3 include a vinyl group, an allyl group, an acryloyl group, and a methacryloyl group.

一般式(II)で表される化合物の具体例としては、アクリロキシエチルトリメトキシシラン、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、アクリロキシブチルトリメトキシシラン、アクリロキシペンチルトリメトキシシラン、アクリロキシヘキシルトリメトキシシラン、アクリロキシヘプチルトリメトキシシラン、メタクリロキシエチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メタクリロキシブチルトリメトキシシラン、メタクリロキシヘキシルトリメトキシシラン、メタクリロキシヘプチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン及びこれら化合物中のメトキシ基が他のアルコキシル基及び水酸基に置換された化合物を含むものなどが挙げられる。   Specific examples of the compound represented by the general formula (II) include acryloxyethyltrimethoxysilane, acryloxypropyltrimethoxysilane, acryloxybutyltrimethoxysilane, acryloxypentyltrimethoxysilane, and acryloxyhexyltrimethoxysilane. , Acryloxyheptyltrimethoxysilane, methacryloxyethyltrimethoxysilane, methacryloxypropyltrimethoxysilane, methacryloxybutyltrimethoxysilane, methacryloxyhexyltrimethoxysilane, methacryloxyheptyltrimethoxysilane, methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, Including methacryloxypropylmethyldimethoxysilane and compounds in which the methoxy group in these compounds is substituted with other alkoxyl groups and hydroxyl groups And the like.

また、この処理(シラン化合物で処理し次いでフッ素化合物で処理する)に用いられるフッ素化合物としては、前述の一般式(I)で表される化合物の中で、Rで表される反応性部位がビニル基、アリル基、アクリロイル基、またはメタクリロイル基である化合物が好ましい。 In addition, as the fluorine compound used in this treatment (treated with a silane compound and then treated with a fluorine compound), among the compounds represented by the general formula (I), the reactive site represented by R 1 Are preferably vinyl, allyl, acryloyl, or methacryloyl.

かかるフッ素化合物の具体例としては、2,2,2−トリフルオロエチルアクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフロオロプロピルアクリレート、2−パーフルオロブチルエチルアクリレート、3−パーフルオロブチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロヘキシルエチルアクリレート、3−パーフルオロヘキシル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロオクチルエチルアクリレート、3−パーフルオロオクチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロデシルエチルアクリレート、2−パーフルオロ−3−メチルブチルエチルアクリレート、3−パーフルオロ−3−メトキシブチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロ−5−メチルヘキシルエチルアクリレート、3−パーフルオロ−5−メチルヘキシル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロ−7−メチルオクチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラフルオロプロピルアクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、ドデカフルオロヘプチルアクリレート、ヘキサデカフルオロノニルアクリレート、ヘキサフルオロブチルアクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルメタクリレート、2−パーフルオロブチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロブチル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロオクチル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロデシルエチルメタクリレート、2−パーフルオロ−3−メチルブチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロ−3−メチルブチル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロ−5−メチルヘキシルエチルメタクリレート、3−パーフルオロ−5−メチルヘキシル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロ−7−メチルオクチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロ−7−メチルオクチルエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、ドデカフルオロヘプチルメタクリレート、ヘキサデカフルオロノニルメタクリレート、1−トリフルオロメチルトリフルオロエチルメタクリレート、ヘキサフルオロブチルメタクリレートなどが挙げられる。   Specific examples of such fluorine compounds include 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl acrylate, 2-perfluorobutylethyl acrylate, 3-perfluorobutyl- 2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluorohexylethyl acrylate, 3-perfluorohexyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluorooctylethyl acrylate, 3-perfluorooctyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluoro Decyl ethyl acrylate, 2-perfluoro-3-methylbutyl ethyl acrylate, 3-perfluoro-3-methoxybutyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluoro-5-methylhexyl ethyl acetate 3-perfluoro-5-methylhexyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluoro-7-methyloctyl-2-hydroxypropyl acrylate, tetrafluoropropyl acrylate, octafluoropentyl acrylate, dodecafluoroheptyl acrylate, hexa Decafluorononyl acrylate, hexafluorobutyl acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl methacrylate, 2-perfluorobutylethyl methacrylate, 3-perfluorobutyl- 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluorooctylethyl methacrylate, 3-perfluorooctyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-par Fluorodecylethyl methacrylate, 2-perfluoro-3-methylbutylethyl methacrylate, 3-perfluoro-3-methylbutyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluoro-5-methylhexylethyl methacrylate, 3-perfluoro- 5-methylhexyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluoro-7-methyloctylethyl methacrylate, 3-perfluoro-7-methyloctylethyl methacrylate, tetrafluoropropyl methacrylate, octafluoropentyl methacrylate, octafluoropentyl methacrylate, Dodecafluoroheptyl methacrylate, hexadecafluorononyl methacrylate, 1-trifluoromethyltrifluoroethyl methacrylate, hex Examples include safluorobutyl methacrylate.

バインダー成分としては、活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましく用いられる。活性エネルギー線硬化性樹脂は、紫外線や電子線などの活性エネルギー線によって重合されて硬化する樹脂であり、かかる活性エネルギー線硬化性樹脂としては、分子中に少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有する化合物(モノマーやオリゴマー)が挙げられる。ここで、エチレン性不飽和基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アリル基、ビニル基等が挙げられる。   As the binder component, an active energy ray curable resin is preferably used. The active energy ray-curable resin is a resin that is polymerized and cured by active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams, and the active energy ray-curable resin includes at least one ethylenically unsaturated group in the molecule. The compound (monomer and oligomer) which has. Here, examples of the ethylenically unsaturated group include acryloyl group, methacryloyl group, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, allyl group, and vinyl group.

尚、以下の説明において、「・・・(メタ)アクリレート」とは、「・・・アクリレート」と「・・・メタクリレート」の総称である。   In the following description, “... (Meth) acrylate” is a general term for “... Acrylate” and “.

分子中に少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有する化合物として、例えば、メチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、エチルジエチレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、グリセリンプロポキシトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレオリゴマー、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート−トルエンジイソシアネートウレタンオリゴマー、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート−イソホロンジイソシアネートウレタンオリゴマーなどが挙げられる。   Examples of the compound having at least one ethylenically unsaturated group in the molecule include methyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, ethyldiethylene glycol (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol ( (Meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) ) Acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol (Meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, glycerin propoxy Tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, di Pentaerythritol hexa (meth) acrylate, tripentaerythritol tri (meth) acrylate, tripenta Listylitol hexa (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate hexamethylene diisocyanate urethane pre-oligomer, pentaerythritol tri (meth) acrylate-toluene diisocyanate urethane oligomer, pentaerythritol tri (meth) acrylate-isophorone diisocyanate urethane oligomer It is done.

活性エネルギー線硬化性樹脂として、分子中にエチレン性不飽和基を2個以上有する化合物が好ましく、更に分子中にエチレン性不飽和基を3個以上有する化合物が好ましく用いられる。   As the active energy ray-curable resin, a compound having 2 or more ethylenically unsaturated groups in the molecule is preferable, and a compound having 3 or more ethylenically unsaturated groups in the molecule is preferably used.

金属酸化物粒子としては、屈折率が1.65以上である金属酸化物粒子が好ましく、特に屈折率が1.7〜2.8の金属酸化物粒子が好ましく用いられる。   As the metal oxide particles, metal oxide particles having a refractive index of 1.65 or more are preferable, and metal oxide particles having a refractive index of 1.7 to 2.8 are particularly preferably used.

屈折率が1.7〜2.8の金属酸化物粒子としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチモン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム(ITO)、アンチモンドープ酸化錫(ATO)、リンドープ酸化錫、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ酸化錫等が挙げられ、これらの金属酸化物粒子は単独で用いてもよいし、複数併用してもよい。上記金属酸化物粒子の中でも、特に酸化チタンおよび酸化ジルコニウムが、透明性を低下させずに下側層の屈折率を高めることができるので好ましい。下側層の屈折率を高めることにより、上側層表面の反射率が低下し、透明積層フィルムの透過率が高められる。   Examples of the metal oxide particles having a refractive index of 1.7 to 2.8 include titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, antimony oxide, cerium oxide, iron oxide, zinc antimonate, and tin oxide doped indium oxide. (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), phosphorus-doped tin oxide, aluminum-doped zinc oxide, gallium-doped zinc oxide, fluorine-doped tin oxide, and the like. These metal oxide particles may be used alone, Two or more may be used together. Among the metal oxide particles, titanium oxide and zirconium oxide are particularly preferable because the refractive index of the lower layer can be increased without reducing transparency. By increasing the refractive index of the lower layer, the reflectance of the upper layer surface is lowered and the transmittance of the transparent laminated film is increased.

[層分離構造の形成]
本発明にかかるバックコート層は、少なくとも、バインダー成分、シリカ粒子(フッ素化合物で処理されたシリカ粒子)および溶媒を含有する塗布液を、基材フィルム上に1回の塗布によって得られた塗布層が層分離せしめられることにより形成されることが好ましい。塗布液は、更に金属酸化物粒子を含有することが好ましい。
[Formation of layer separation structure]
The backcoat layer according to the present invention is a coating layer obtained by coating a coating solution containing at least a binder component, silica particles (silica particles treated with a fluorine compound) and a solvent on a substrate film once. Is preferably formed by layer separation. The coating solution preferably further contains metal oxide particles.

基材フィルム上に塗布されて得られた塗布層は、その乾燥過程で塗布層に含有される成分の表面エネルギー差によって、表面エネルギーの小さいシリカ粒子(フッ素化合物で処理されたシリカ粒子)が空気側(基材フィルムとは反対側)へ移動して、基材フィルムの反対側にシリカ粒子を含有する上側層が形成され、同時に塗布層中のシリカ粒子以外の成分(バインダー成分や金属酸化物粒子等)を主成分とする下側層が基材フィルム側に形成される。   The coating layer obtained by coating on the base film has silica particles with a small surface energy (silica particles treated with a fluorine compound) due to the difference in surface energy of components contained in the coating layer during the drying process. The upper layer containing silica particles is formed on the opposite side of the base film, and at the same time, components other than the silica particles in the coating layer (binder component and metal oxide) A lower layer mainly composed of particles or the like is formed on the base film side.

バックコート層を形成するための塗布液は、少なくともバインダー成分およびシリカ粒子が溶媒中に溶解もしくは分散された液体であることが好ましい。塗布液は、更に、金属酸化物粒子を含有することが好ましい。溶媒としては特に限定されないが、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコール、ピロピレングリコールモノメチルエーテル、シクロヘキサン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルホルムアミドなどが挙げられる。   The coating liquid for forming the backcoat layer is preferably a liquid in which at least a binder component and silica particles are dissolved or dispersed in a solvent. The coating solution preferably further contains metal oxide particles. The solvent is not particularly limited, but an organic solvent is preferably used. Examples of the organic solvent include methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, butyl alcohol, ethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol, pyropyrene glycol monomethyl ether, cyclohexane, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, toluene, xylene, and ethyl acetate. , Butyl acetate, dimethylformamide and the like.

バックコート層を形成するための塗布液において、バインダー成分、シリカ粒子、および金属酸化物粒子の含有量は、シリカ粒子を主成分とする上側層の厚み、バインダーおよび/または金属酸化物粒子を主成分とする下側層の厚みおよび屈折率に応じて適宜調整される。   In the coating solution for forming the backcoat layer, the content of the binder component, silica particles, and metal oxide particles is mainly the thickness of the upper layer mainly composed of silica particles, the binder and / or metal oxide particles. It adjusts suitably according to the thickness and refractive index of the lower layer used as a component.

塗布液におけるシリカ粒子の含有量は、シリカ粒子を主成分とする上側層の厚み設計に応じて調整される。上側層の厚みは、前述したとおりである。   The content of the silica particles in the coating solution is adjusted according to the thickness design of the upper layer mainly composed of silica particles. The thickness of the upper layer is as described above.

塗布液におけるバインダー成分および金属酸化物粒子の含有量は、バインダー成分および/または金属酸化物粒子を主成分とする下側層の厚みおよび屈折率の設計に応じて調整される。下側層の厚みは前述したとおりである。   Content of the binder component and metal oxide particle in a coating liquid is adjusted according to the thickness and refractive index design of the lower layer which have a binder component and / or metal oxide particle as a main component. The thickness of the lower layer is as described above.

下側層の屈折率は、上側層表面の反射率を小さくして透明積層フィルムの透過率を高めるという観点から、1.50〜1.80の範囲が好ましい。   The refractive index of the lower layer is preferably in the range of 1.50 to 1.80 from the viewpoint of increasing the transmittance of the transparent laminated film by reducing the reflectance of the upper layer surface.

シリカ粒子を主成分とする上側層の屈折率は、通常1.50未満であり、下側層の屈折率と上側層の屈折率との屈折率差を大きくすることによって、上側層表面の反射率を小さくすることができる。上側層の屈折率は、1.50未満が好ましく、1.48以下がより好ましく、1.40以下が特に好ましい。上側層の下限の屈折率は、特に限定されるものではないが、現実的には1.20程度である。   The refractive index of the upper layer containing silica particles as a main component is usually less than 1.50. By increasing the refractive index difference between the refractive index of the lower layer and the refractive index of the upper layer, the reflection of the upper layer surface is increased. The rate can be reduced. The refractive index of the upper layer is preferably less than 1.50, more preferably 1.48 or less, and particularly preferably 1.40 or less. The lower limit refractive index of the upper layer is not particularly limited, but is practically about 1.20.

この観点から、下側層の屈折率は、更に1.53以上が好ましく、1.55以上がより好ましく、1.60以上が特に好ましい。下側層の屈折率が高くなり過ぎると干渉縞が発生しやすくなるので、上限の屈折率は1.80以下が好ましく、1.75以下がより好ましく、1.70以下が特に好ましい。   In this respect, the refractive index of the lower layer is preferably 1.53 or more, more preferably 1.55 or more, and particularly preferably 1.60 or more. If the refractive index of the lower layer becomes too high, interference fringes are likely to occur. Therefore, the upper limit refractive index is preferably 1.80 or less, more preferably 1.75 or less, and particularly preferably 1.70 or less.

下側層の屈折率は、前述したように屈折率が1.65以上である金属酸化物粒子を含有することによって高められる。つまり、塗布液における金属酸化物粒子の含有比率を大きくすることによって下側層の屈折率を高めることができる。   As described above, the refractive index of the lower layer is increased by containing metal oxide particles having a refractive index of 1.65 or more. That is, the refractive index of the lower layer can be increased by increasing the content ratio of the metal oxide particles in the coating solution.

バックコート層は、基材フィルム上にバックコート層を形成するための塗布液を塗布し、乾燥した後、活性エネルギー線(特に紫外線が好ましい)を照射し硬化させて形成されることが好ましい。   The back coat layer is preferably formed by applying a coating solution for forming the back coat layer on the substrate film, drying it, and then irradiating it with an active energy ray (particularly preferably ultraviolet rays) to cure.

層分離を十分に完成させるには、塗布後の乾燥を緩やかに行うことが好ましい。つまり、低温乾燥と高温乾燥の2段階で行うことが好ましい。具体的には、60℃未満の低温乾燥と60℃以上の高温乾燥を組み合わせることが好ましい。   In order to sufficiently complete the layer separation, it is preferable to perform drying after coating gently. That is, it is preferable to carry out in two stages of low temperature drying and high temperature drying. Specifically, it is preferable to combine low temperature drying below 60 ° C. and high temperature drying above 60 ° C.

バインダー成分として、活性エネルギー線硬化性樹脂が用いられる場合は、乾燥後、活性エネルギー線(紫外線)が照射されて硬化される。紫外線の照射量は、50mJ/cm以上が好ましく、100mJ/cm以上がより好ましく、特に150mJ/cm以上が好ましい。上限は2000mJ/cm以下が好ましく、1000mJ/cm以下がより好ましい。 When an active energy ray-curable resin is used as the binder component, the active energy ray (ultraviolet ray) is irradiated and cured after drying. The dose of ultraviolet rays is preferably from 50 mJ / cm 2 or more, 100 mJ / cm 2 or more, and particularly 150 mJ / cm 2 or more. The upper limit is preferably 2000 mJ / cm 2 or less, and more preferably 1000 mJ / cm 2 or less.

バックコート層の紫外線照射による硬化を促進させるために、塗布液は光重合開始剤を含有することが好ましい。   In order to promote curing of the backcoat layer by ultraviolet irradiation, the coating solution preferably contains a photopolymerization initiator.

かかる光重合開始剤の具体例としては、例えばアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、p−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、2種以上組み合せて用いてもよい。   Specific examples of such photopolymerization initiators include, for example, acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4,4′-dichlorobenzophenone, 4,4′-bisdiethylaminobenzophenone, Michler's ketone, benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, methyl benzoylformate, p-isopropyl-α-hydroxyisobutylphenone, α-hydroxyisobutylphenone, 2, Carbonyl compounds such as 2-dimethoxy-2-phenylacetophenone and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, tetramethylthiuram monosulfide, teto Sulfur compounds such as lamethylthiuram disulfide, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, and 2-methylthioxanthone can be used. These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

また、光重合開始剤は一般に市販されており、それらを使用することができる。例えば、チバ・スペシャリティー・ケミカルズ(株)製のイルガキュア184、イルガキュア907、イルガキュア379、イルガキュア819、イルガキュア127、イルガキュア500、イルガキュア754、イルガキュア250、イルガキュア1800、イルガキュア1870、イルガキュアOXE01、DAROCUR TPO、DAROCUR1173等、日本シイベルヘグナー(株)製のSpeedcureMBB、SpeedcurePBZ、SpeedcureITX、SpeedcureCTX、SpeedcureEDB、Esacure ONE、Esacure KIP150、Esacure KTO46等、日本化薬(株)製のKAYACURE DETX−S、KAYACURE CTX、KAYACURE BMS、KAYACURE DMBI等が挙げられる。   Moreover, generally the photoinitiator is marketed and they can be used. For example, Irgacure 184, Irgacure 907, Irgacure 379, Irgacure 819, Irgacure 127, Irgacure 500, Irgacure 754, Irgacure 250, Irgacure 1800, Irgacure 1870, Irgacure OXE01, DAROC OXERO 73 SPEEDCURE MBB, SPEEDCURE PBZ, SPEEDCURE ITX, SPEEDCURE CTX, SPEEDCURE EDB, XE Y, AC KY150, EAC Examples include KAYACURE DMBI.

バックコート層を形成するための塗布液は、前述のシリカ粒子をフッ素化合物で処理するためのフッ素化合物とは別に、添加剤としてフッ素化合物を添加し塗布液中に存在させることが好ましい。以下、添加剤として塗布液に添加されるフッ素化合物をフッ素化合物(B)ということがある。塗布液中にフッ素化合物(B)を含有させることにより、更に層分離構造の形成が促進される。   In addition to the fluorine compound for treating the silica particles with the fluorine compound, the coating liquid for forming the backcoat layer is preferably added with a fluorine compound as an additive and present in the coating liquid. Hereinafter, the fluorine compound added to the coating solution as an additive may be referred to as a fluorine compound (B). By including the fluorine compound (B) in the coating solution, formation of a layer separation structure is further promoted.

かかるフッ素化合物(B)としては、前述のシリカ粒子を処理するためのフッ素化合物と同様の化合物を用いることができる。   As the fluorine compound (B), the same compound as the fluorine compound for treating the silica particles described above can be used.

バックコート層を形成するための塗布液を基材フィルム上に塗布するための塗布方法としては、特に限定されず、公知の塗布方法を用いることができる。例えば、グラビアコート法、ダイコート法、ディップコート法、ロールコート法、スピンコート法、エクストルージョンコート法などが挙げられる。   It does not specifically limit as a coating method for apply | coating the coating liquid for forming a backcoat layer on a base film, A well-known coating method can be used. Examples thereof include a gravure coating method, a die coating method, a dip coating method, a roll coating method, a spin coating method, and an extrusion coating method.

[基材フィルム]
本発明における基材フィルムの材料は、特に限定されるものではないが、該材料として、ポリエステル(例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなど)、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、トリアセチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等が挙げられる。好ましくは、熱、溶剤、折り曲げ等の加工時の負荷に対する耐性が高く、透明性が特に高い点で、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂等が挙げられ、より好ましくは、加工性に優れている点でポリエステルが使用される。ポリエステルの中でも特にポリエチレンテレフタレートが好ましい。
[Base film]
Although the material of the base film in the present invention is not particularly limited, examples of the material include polyester (for example, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc.), polymethyl methacrylate, acrylic resin, Polycarbonate, polystyrene, triacetyl cellulose, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral, metal ion crosslinked ethylene-methacrylic acid copolymer, polyurethane, cellophane, etc. . Preferably, polyester, polycarbonate, polymethyl methacrylate, acrylic resin, and the like are mentioned in terms of high resistance to loads during processing such as heat, solvent, and bending, and particularly high transparency, and more preferably excellent workability. Polyester is used. Among polyesters, polyethylene terephthalate is particularly preferable.

基材フィルムの厚みは、20〜300μmの範囲が適当であり、50〜250μmの範囲が好ましく、50〜200μmの範囲がより好ましい。   The thickness of the substrate film is suitably in the range of 20 to 300 μm, preferably in the range of 50 to 250 μm, and more preferably in the range of 50 to 200 μm.

[易接着層]
本発明の基材フィルムは、少なくともバックコート層を積層する側の面に易接着層が設けられていることが好ましい。基材フィルムとバックコート層との間に易接着層が介在することにより、基材フィルムとバックコート層との密着力が向上する。
[Easily adhesive layer]
In the base film of the present invention, it is preferable that an easy-adhesion layer is provided on at least the surface on which the backcoat layer is laminated. When the easy adhesion layer is interposed between the base film and the back coat layer, the adhesion between the base film and the back coat layer is improved.

易接着層は、樹脂を主成分とする層であることが好ましい。すなわち、易接着層の固形分総量100質量%に対して樹脂を50質量%以上含むことが好ましく、60質量%以上含むことがより好ましく、70質量%以上含むことが特に好ましく、80質量%以上含むことが最も好ましい。上限は99質量%以下が好ましく、98質量%以下がより好ましく、特に95質量%以下が好ましい。   The easy adhesion layer is preferably a layer containing a resin as a main component. That is, the resin content is preferably 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, particularly preferably 70% by mass or more, and particularly preferably 80% by mass or more, based on 100% by mass of the total solid content of the easy-adhesion layer. The inclusion is most preferred. The upper limit is preferably 99% by mass or less, more preferably 98% by mass or less, and particularly preferably 95% by mass or less.

このような樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂が好ましく用いられる。これらの樹脂の中でもポリエステル樹脂が好ましく、さらに分子中にナフタレン環を有するポリエステル樹脂が好ましく用いられる。   As such a resin, a polyester resin, an acrylic resin, or a urethane resin is preferably used. Among these resins, a polyester resin is preferable, and a polyester resin having a naphthalene ring in the molecule is preferably used.

易接着層の厚みは、10〜200nmの範囲が好ましく、15〜150nmの範囲がより好ましく、20〜120nmの範囲が特に好ましい。   The thickness of the easy adhesion layer is preferably in the range of 10 to 200 nm, more preferably in the range of 15 to 150 nm, and particularly preferably in the range of 20 to 120 nm.

また、基材フィルムとしてポリエチレンテレフタレートフィルムを用いる場合、易接着層の屈折率は、バックコート層側の干渉縞を抑制するという観点から、1.55〜1.70の範囲が好ましく、1.57〜1.66の範囲がより好ましく、1.58〜1.65の範囲が特に好ましい。   When a polyethylene terephthalate film is used as the base film, the refractive index of the easy adhesion layer is preferably in the range of 1.55 to 1.70, from the viewpoint of suppressing interference fringes on the backcoat layer side, and 1.57. The range of ˜1.66 is more preferable, and the range of 1.58 to 1.65 is particularly preferable.

易接着層の屈折率を上記範囲に調整するには、樹脂としてナフタレン環を有するポリエステル樹脂やフルオレン環を有するポリエステル樹脂を用いることが好ましい。また、前述した屈折率が1.65以上である金属酸化物粒子を含有させることによって、易接着層の屈折率を上記範囲に調整することができる。   In order to adjust the refractive index of the easy-adhesion layer to the above range, it is preferable to use a polyester resin having a naphthalene ring or a polyester resin having a fluorene ring as the resin. Moreover, the refractive index of an easily bonding layer can be adjusted to the said range by containing the metal oxide particle whose refractive index mentioned above is 1.65 or more.

[ハードコート層]
本発明にかかる透明積層フィルムは、基材フィルムとバックコート層との間にハードコート層を設けることができる。
[Hard coat layer]
The transparent laminated film concerning this invention can provide a hard-coat layer between a base film and a backcoat layer.

バックコート層を構成する下側層の厚みが80nm未満である場合は、良好な耐擦傷性を付与するという観点から、基材フィルムとバックコート層との間にハードコート層を設けることが好ましい。   When the thickness of the lower layer constituting the back coat layer is less than 80 nm, it is preferable to provide a hard coat layer between the base film and the back coat layer from the viewpoint of imparting good scratch resistance. .

この場合、ハードコート層の厚みは、0.3〜5μmの範囲が好ましく、0.5〜4μmの範囲がより好ましく、0.8〜3μmの範囲が特に好ましい。ハードコート層は、鉛筆硬度がH以上であることが好ましく、2H以上であることがより好ましい。上限は9H程度である。鉛筆硬度は、JIS K5600−5−4(1999年)に準拠して測定されるものである。ハードコート層は、前述の活性エネルギー線硬化性樹脂を用いることによって鉛筆硬度をH以上とすることができる。   In this case, the thickness of the hard coat layer is preferably in the range of 0.3 to 5 μm, more preferably in the range of 0.5 to 4 μm, and particularly preferably in the range of 0.8 to 3 μm. The hard coat layer preferably has a pencil hardness of H or higher, more preferably 2H or higher. The upper limit is about 9H. The pencil hardness is measured according to JIS K5600-5-4 (1999). A hard coat layer can make pencil hardness H or more by using the above-mentioned active energy ray hardening resin.

[本発明の透明積層フィルムが適用される機能性フィルム]
本発明にかかる透明積層フィルムは、各種機能性フィルム、例えば、タッチパネル用透明導電性フィルム、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム(例えばハードコートフィルムや屈折率調整フィルム)、ディスプレイの保護フィルム(例えばハードコートフィルム、帯電防止フィルム、防汚性フィルム)、および光学フィルム(例えば反射防止フィルムや防眩性フィルム)等に適用される。
[Functional film to which the transparent laminated film of the present invention is applied]
The transparent laminated film according to the present invention includes various functional films such as a transparent conductive film for a touch panel, a base film for a transparent conductive film for a touch panel (for example, a hard coat film or a refractive index adjusting film), and a protective film for a display (for example, It is applied to hard coat films, antistatic films, antifouling films), optical films (for example, antireflection films and antiglare films), and the like.

本発明の透明積層フィルムは、上記の機能性フィルムの中でも、高い透過率が要求されるタッチパネル用透明導電性フィルムおよびタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムに好適である。   The transparent laminated film of this invention is suitable for the base film of the transparent conductive film for touch panels in which high transmittance | permeability is requested | required among said functional films, and the transparent conductive film for touch panels.

[機能性層]
機能性層は、上記したような各種機能性フィルムに適した機能を有する層であれば良い。機能性層としては、例えば、導電層、ハードコート層、屈折率調整層、反射防止層、帯電防止層、防汚層などが挙げられる。本発明では、機能性層は、導電層、ハードコート層、屈折率調整層、反射防止層、帯電防止層および防汚層からなる群から選ばれる一以上の層を含むことが好ましい。より好ましくは、機能性層が、導電層、ハードコート層、屈折率調整層、反射防止層、および帯電防止層からなる群から選ばれる一以上の層を含むことである。さらに好ましくは、機能性層が、導電層、ハードコート層、および屈折率調整層からなる群から選ばれる一以上の層を含むことである。ここで、屈折率調整層としては、高屈折率層および/または低屈折率層が挙げられる。
[Functional layer]
The functional layer may be a layer having a function suitable for various functional films as described above. Examples of the functional layer include a conductive layer, a hard coat layer, a refractive index adjusting layer, an antireflection layer, an antistatic layer, and an antifouling layer. In the present invention, the functional layer preferably includes one or more layers selected from the group consisting of a conductive layer, a hard coat layer, a refractive index adjusting layer, an antireflection layer, an antistatic layer and an antifouling layer. More preferably, the functional layer includes one or more layers selected from the group consisting of a conductive layer, a hard coat layer, a refractive index adjusting layer, an antireflection layer, and an antistatic layer. More preferably, the functional layer includes one or more layers selected from the group consisting of a conductive layer, a hard coat layer, and a refractive index adjusting layer. Here, examples of the refractive index adjusting layer include a high refractive index layer and / or a low refractive index layer.

また、機能性層は1層であっても、複数層の積層構成であってもよい。積層構成としては、例えば、ハードコート層と反射防止層との積層構成、ハードコート層と導電層との積層構成、ハードコート層と屈折率調整層の積層構成、屈折率調整層と導電層との積層構成、反射防止層と防汚層との積層構成などが挙げられる。   In addition, the functional layer may be a single layer or may have a multilayer structure. Examples of the laminated structure include a laminated structure of a hard coat layer and an antireflection layer, a laminated structure of a hard coat layer and a conductive layer, a laminated structure of a hard coat layer and a refractive index adjusting layer, and a refractive index adjusting layer and a conductive layer. And a laminated structure of an antireflection layer and an antifouling layer.

本発明の透明積層フィルムは、タッチパネル用透明導電性フィルムに好適である。また、本発明の透明積層フィルムは、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムにも好適である。以下、これらの機能性フィルムを構成する機能性層について説明するが、本発明はこれらに限定されない。   The transparent laminated film of the present invention is suitable for a transparent conductive film for a touch panel. Moreover, the transparent laminated film of this invention is suitable also for the base film of the transparent conductive film for touchscreens. Hereinafter, although the functional layer which comprises these functional films is demonstrated, this invention is not limited to these.

本発明の透明積層フィルムをタッチパネル用透明導電性フィルムとして用いる場合は、機能性層として少なくとも導電層を有する。導電層の材料としては、タッチパネルの電極に用いられる公知の材料を用いることができる。例えば、酸化錫、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、ITO(酸化インジウム錫)、ATO(酸化アンチモン錫)等の金属酸化物、銀ナノワイヤー等の金属ナノワイヤー、カーボンナノチューブ等が挙げられる。これらの中でもITOが好ましく用いられる。   When using the transparent laminated film of this invention as a transparent conductive film for touch panels, it has at least a conductive layer as a functional layer. As a material of the conductive layer, a known material used for an electrode of a touch panel can be used. Examples thereof include metal oxides such as tin oxide, indium oxide, antimony oxide, zinc oxide, ITO (indium tin oxide) and ATO (antimony tin oxide), metal nanowires such as silver nanowires, and carbon nanotubes. Among these, ITO is preferably used.

導電層の厚みは、例えば表面抵抗値を10Ω/□以下の良好な導電性を確保するという観点から、8nm以上であることが好ましく、10nm以上であることがより好ましく、特に15m以上であることが好ましい。一方、導電層の厚みが大きくなりすぎると、透明性が低下するという不都合が生じることがあるので、導電層の厚みの上限は、60nm以下が好ましく、50nm以下がより好ましく、特に40nm以下が好ましい。表面導電層の表面抵抗値の下限値は特に限定されないが、0Ω/□が実質的な下限となる。 The thickness of the conductive layer is preferably 8 nm or more, more preferably 10 nm or more, and particularly preferably 15 m or more, from the viewpoint of ensuring good conductivity with a surface resistance value of 10 3 Ω / □ or less, for example. Preferably there is. On the other hand, if the thickness of the conductive layer becomes too large, there may be a disadvantage that the transparency is lowered. Therefore, the upper limit of the thickness of the conductive layer is preferably 60 nm or less, more preferably 50 nm or less, and particularly preferably 40 nm or less. . The lower limit value of the surface resistance value of the surface conductive layer is not particularly limited, but 0Ω / □ is a substantial lower limit.

導電層の形成方法としては特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。具体的には、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライプロセス、およびウェットコーティング法を用いることができる。   It does not specifically limit as a formation method of a conductive layer, A conventionally well-known method can be used. Specifically, for example, a vacuum process, a sputtering method, a dry process such as an ion plating method, and a wet coating method can be used.

上記のようにして製膜された導電層はパターン化されていてもよい。静電容量式タッチパネル用透明導電性フィルムの導電層は、通常、所定パターンにパターン化される。   The conductive layer formed as described above may be patterned. The conductive layer of the transparent conductive film for a capacitive touch panel is usually patterned into a predetermined pattern.

一方、本発明の透明積層フィルムをタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムとして用いる場合は、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムとは、上記した導電層が積層される前のフィルムを指す。このベースフィルムにおいては、タッチパネル用透明導電性フィルムに耐擦傷性を付与したり、導電層の色味を調整したり、あるいはパターン化された導電層のパターン部が視認される、いわゆる「骨見え」を抑制するなどの目的のために、機能性層としてハードコート層や屈折率調整層が設けられる。そして、このベースフィルムの機能性層の上に導電層が積層されてタッチパネル用透明導電性フィルムが製造される。   On the other hand, when using the transparent laminated film of this invention as a base film of the transparent conductive film for touchscreens, the base film of the transparent conductive film for touchscreens points out the film before an above-described conductive layer is laminated | stacked. In this base film, the transparent conductive film for touch panel is provided with scratch resistance, the color of the conductive layer is adjusted, or the pattern portion of the patterned conductive layer is visually recognized. For the purpose of suppressing “,” a hard coat layer or a refractive index adjusting layer is provided as a functional layer. And a conductive layer is laminated | stacked on the functional layer of this base film, and the transparent conductive film for touchscreens is manufactured.

ベースフィルムを構成する機能性薄膜としては、ハードコート層および屈折率調整層が単一層で構成されていてもよいし、複数層で構成されていてもよい。なお、前述のとおり、屈折率調整層としては、高屈折率層および/または低屈折率層が挙げられる。   As a functional thin film which comprises a base film, the hard-coat layer and the refractive index adjustment layer may be comprised by the single layer, and may be comprised by the multiple layer. As described above, examples of the refractive index adjustment layer include a high refractive index layer and / or a low refractive index layer.

複数層の構成としては、ハードコート層と高屈折率層との積層構成、ハードコート層と低屈折率層との積層構成、ハードコート層と高屈折率層と低屈折率層との積層構成、高屈折率層と低屈折率層との積層構成が挙げられる。   As a multi-layer configuration, a stacked configuration of a hard coat layer and a high refractive index layer, a stacked configuration of a hard coat layer and a low refractive index layer, a stacked configuration of a hard coat layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer And a laminated structure of a high refractive index layer and a low refractive index layer.

また、ハードコート層は、屈折率調整層の高屈折率層としての機能を併せ持つ、高屈折率ハードコート層であってもよい。この場合の積層構成としては、高屈折率ハードコート層と低屈折率層との積層が挙げられる。   Further, the hard coat layer may be a high refractive index hard coat layer having a function as a high refractive index layer of the refractive index adjusting layer. As a laminated structure in this case, a laminated structure of a high refractive index hard coat layer and a low refractive index layer can be mentioned.

ハードコート層および高屈折率ハードコート層は、鉛筆硬度がH以上であることが好ましく、2H以上であることがより好ましい。上限は9H程度である。鉛筆硬度は、JIS K5600−5−4(1999年)に準拠して測定されるものである。ハードコート層および高屈折率ハードコート層は、前述の活性エネルギー線硬化性樹脂を用いることによって鉛筆硬度をH以上とすることができる。   The hard coat layer and the high refractive index hard coat layer preferably have a pencil hardness of H or higher, more preferably 2H or higher. The upper limit is about 9H. The pencil hardness is measured according to JIS K5600-5-4 (1999). The hard coat layer and the high refractive index hard coat layer can have a pencil hardness of H or higher by using the above-mentioned active energy ray-curable resin.

ハードコート層および高屈折率ハードコート層の厚みは、0.5〜5μmの範囲が好ましく、0.8〜3μmの範囲がより好ましい。   The thickness of the hard coat layer and the high refractive index hard coat layer is preferably in the range of 0.5 to 5 μm, and more preferably in the range of 0.8 to 3 μm.

ハードコート層の屈折率は、通常、1.46〜1.54程度であり、前述の活性エネルギー線硬化性樹脂を用いることによって、この屈折率範囲とすることができる。   The refractive index of the hard coat layer is usually about 1.46 to 1.54, and this refractive index range can be obtained by using the aforementioned active energy ray-curable resin.

高屈折率ハードコート層の屈折率は、導電層の色味調整や「骨見え」を抑制するという観点から、1.60〜1.80の範囲が好ましく、1.62〜1.75の範囲がより好ましく、1.63〜1.73の範囲が特に好ましい。高屈折率ハードコート層は、前述の活性エネルギー線硬化性樹脂と前述の屈折率が1.65以上である金属酸化物粒子を含有させて形成することができる。金属酸化物粒子の含有比率を大きくすることによって屈折率を高めることができる。   The refractive index of the high refractive index hard coat layer is preferably in the range of 1.60 to 1.80, preferably in the range of 1.62 to 1.75, from the viewpoint of suppressing the color adjustment of the conductive layer and “bone appearance”. Is more preferable, and the range of 1.63 to 1.73 is particularly preferable. The high refractive index hard coat layer can be formed by containing the above-mentioned active energy ray-curable resin and the above-described metal oxide particles having a refractive index of 1.65 or more. The refractive index can be increased by increasing the content ratio of the metal oxide particles.

屈折率調整層を構成する高屈折率層の厚みは、導電層の色味調整や「骨見え」を抑制するという観点から、厚みが20〜200nmの範囲が好ましく、30〜100nmの範囲がより好ましく、30〜60nmの範囲が特に好ましい。   The thickness of the high refractive index layer constituting the refractive index adjustment layer is preferably in the range of 20 to 200 nm, more preferably in the range of 30 to 100 nm, from the viewpoint of suppressing color adjustment of the conductive layer and “visibility”. A range of 30 to 60 nm is particularly preferable.

高屈折率層の屈折率は、導電層の色味調整や「骨見え」を抑制するという観点から、1.60〜1.80の範囲が好ましく、1.62〜1.75の範囲がより好ましく、1.63〜1.73の範囲が特に好ましい。高屈折率層は、前述の活性エネルギー線硬化性樹脂と前述の屈折率が1.65以上である金属酸化物粒子を含有させて形成することができる。金属酸化物粒子の含有比率を大きくすることによって屈折率を高めることができる。   The refractive index of the high refractive index layer is preferably in the range of 1.60 to 1.80, more preferably in the range of 1.62 to 1.75, from the viewpoint of suppressing color adjustment and “bone appearance” of the conductive layer. The range of 1.63 to 1.73 is particularly preferable. The high refractive index layer can be formed by containing the above-mentioned active energy ray-curable resin and the above-described metal oxide particles having a refractive index of 1.65 or more. The refractive index can be increased by increasing the content ratio of the metal oxide particles.

屈折率調整層を構成する低屈折率層の厚みは、導電層の色味調整や「骨見え」を抑制するという観点から、厚みが10〜70nmの範囲が好ましく、15〜60nmの範囲がより好ましく、15〜50nmの範囲が特に好ましい。   The thickness of the low refractive index layer constituting the refractive index adjustment layer is preferably in the range of 10 to 70 nm and more preferably in the range of 15 to 60 nm from the viewpoint of suppressing the color adjustment of the conductive layer and suppressing “bone appearance”. A range of 15 to 50 nm is particularly preferable.

低屈折率層の屈折率は、導電層の色味調整や「骨見え」を抑制するという観点から、1.53以下が好ましく、1.51以下がより好ましく、1.50以下が特に好ましい。低屈折率層の下限の屈折率は、導電層の色味調整や「骨見え」を抑制するという観点から、1.35以上が好ましく、1.38以上がより好ましく、1.40以上が特に好ましい。   The refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.53 or less, more preferably 1.51 or less, and particularly preferably 1.50 or less, from the viewpoint of suppressing the color adjustment of the conductive layer and suppressing “bone appearance”. The lower limit refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.35 or more, more preferably 1.38 or more, and particularly preferably 1.40 or more, from the viewpoint of suppressing color adjustment of the conductive layer and “bone appearance”. preferable.

低屈折率層は、前述の活性エネルギー線硬化性樹脂と低屈折率材料を用いることによって屈折率を1.53以下に調整することができる。低屈折率材料としては、シリカ粒子やフッ化マグネシウム粒子等の低屈折率粒子、あるいはフッ素化合物を用いることができる。   A low refractive index layer can adjust a refractive index to 1.53 or less by using the above-mentioned active energy ray curable resin and a low refractive index material. As the low refractive index material, low refractive index particles such as silica particles and magnesium fluoride particles, or fluorine compounds can be used.

また、低屈折率層は、SiO膜(スパッタリングによる製膜)であってもよい。 The low refractive index layer may be a SiO 2 film (film formation by sputtering).

本発明にかかる機能性層としては、上記した導電層、ハードコート層、屈折率調整層の他に、前述したように反射防止層、帯電防止層および防汚層が挙げられる。   Examples of the functional layer according to the present invention include an antireflection layer, an antistatic layer, and an antifouling layer, as described above, in addition to the above-described conductive layer, hard coat layer, and refractive index adjusting layer.

反射防止層は、その表面の最低反射率が2.0%以下であることが好ましく、1.5%以下であることがより好ましく、1.0%以下であることがより好ましい。下限の最低反射率は特に限定されるものではないが、0%が実質的な下限となる。   The antireflection layer preferably has a minimum reflectance of 2.0% or less on its surface, more preferably 1.5% or less, and more preferably 1.0% or less. The minimum reflectance of the lower limit is not particularly limited, but 0% is a practical lower limit.

帯電防止層は、その表面抵抗値が1013Ω/□以下であることが好ましく、1012Ω/□以下であることがより好ましく、1011Ω/□以下であることが特に好ましい。下限は、導電層とは区別するという観点から、10Ω/□以上であることが好ましい。 The antistatic layer has a surface resistance value of preferably 10 13 Ω / □ or less, more preferably 10 12 Ω / □ or less, and particularly preferably 10 11 Ω / □ or less. The lower limit is preferably 10 6 Ω / □ or more from the viewpoint of distinguishing from the conductive layer.

防汚層は、指の指紋が付着しないか、あるいは指紋が付着してもティッシュペーパー等で簡単に拭き取ることができることが好ましい。   It is preferable that the antifouling layer does not adhere to the fingerprint of the finger or can be easily wiped off with a tissue paper or the like even if the fingerprint is attached.

本発明にかかる透明積層フィルムの機能性層表面の表面粗さRaは、透明積層フィルムの透過率を高めるという観点から、小さいほど好ましい。機能性層表面の表面粗さRaは、具体的には、12nm以下が好ましく、10nm以下がより好ましく、8nm以下が特に好ましい。下限は特に限定されるものではないが、0nmが実質的な下限となる。   The surface roughness Ra of the functional layer surface of the transparent laminated film according to the present invention is preferably as small as possible from the viewpoint of increasing the transmittance of the transparent laminated film. Specifically, the surface roughness Ra of the functional layer surface is preferably 12 nm or less, more preferably 10 nm or less, and particularly preferably 8 nm or less. The lower limit is not particularly limited, but 0 nm is a substantial lower limit.

上記したように、透明積層フィルムの機能性層表面の表面粗さRaを小さくすると、透明積層フィルムのブロッキング防止性が低下することがあるが、本発明のバックコート層を設けることにより、ブロッキング防止性を向上させることができる。   As described above, when the surface roughness Ra of the surface of the functional layer of the transparent laminated film is reduced, the antiblocking property of the transparent laminated film may be reduced, but by providing the back coat layer of the present invention, blocking prevention is achieved. Can be improved.

[透明積層フィルムの製造方法]
本発明にかかる透明積層フィルムは、以下の製造方法で製造することが好ましい。即ち、本発明の透明積層フィルムの好ましい製造方法は、基材フィルムの一方の面(A面)に機能性層を有し、基材フィルムの他方の面(B面)にバックコート層を有する透明積層フィルムの製造方法であって、基材フィルムの一方の面(A面)に機能性層を積層する工程、および基材フィルムの他方の面(B面)にバックコート層を積層する工程を有し、バックコート層を積層する工程において、少なくとも、バインダー成分、フッ素化合物により処理されたシリカ粒子および溶媒を含有する塗布液を、基材フィルム上に1回塗布して1つの塗布層を形成し、この塗布層を層分離せしめて、基材フィルムの反対側にフッ素化合物により処理されたシリカ粒子を含有する上側層を形成せしめ、基材フィルム側にシリカ粒子以外の成分を主成分とする下側層を形成せしめることを特徴とする、透明積層フィルムの製造方法である。
[Method for producing transparent laminated film]
The transparent laminated film according to the present invention is preferably produced by the following production method. That is, the preferable manufacturing method of the transparent laminated film of this invention has a functional layer in one side (A surface) of a base film, and has a backcoat layer in the other side (B surface) of a base film. It is a manufacturing method of a transparent laminated film, Comprising: The process of laminating | stacking a functional layer on one side (A surface) of a base film, and the process of laminating | stacking a backcoat layer on the other side (B surface) of a base film In the step of laminating the back coat layer, at least a coating liquid containing a binder component, a silica particle treated with a fluorine compound, and a solvent is applied once on the base film to form one coating layer. The coating layer is separated, and an upper layer containing silica particles treated with a fluorine compound is formed on the opposite side of the base film, and components other than silica particles are the main components on the base film side. Wherein the allowed to form a lower layer which is a method for producing a transparent laminate film.

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。尚、本実施例における、測定方法および評価方法を以下に示す。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited by these Examples. In addition, the measuring method and evaluation method in a present Example are shown below.

[測定方法および評価方法]
(1)バックコート層を構成する上側層と下側層との界面の有無
透過型電子顕微鏡(日立製H−7100FA型)を用いてバックコート層の断面を観察することにより、バックコート層を構成する上側層と下側層の界面の有無を判定した。界面の有無の判定は以下の方法に従って判断した。
[Measurement method and evaluation method]
(1) Presence / absence of interface between upper layer and lower layer constituting back coat layer By observing a cross section of the back coat layer using a transmission electron microscope (H-7100FA type manufactured by Hitachi), The presence / absence of an interface between the upper layer and the lower layer to be formed was determined. The presence or absence of the interface was determined according to the following method.

透過型電子顕微鏡により20万倍の倍率で撮影した画像を、スキャナーを用いてプレゼンテーションソフトウェア(Microsoft Power Point2003)に貼付した。次いで貼付した写真のイメージコントロール処理(コントラストを90%とする)を行い、コントラストを強調した。この際に、1つの層と他の層との界面に明確な境界を引くことができる場合を、明確な界面があるとみなした(表1においては、明確な境界を引くことができる場合を界面有りとして「○」で示し、明確な境界を引くことができない場合を界面無しとして「×」で示した。)。   An image taken with a transmission electron microscope at a magnification of 200,000 times was affixed to presentation software (Microsoft Power Point 2003) using a scanner. Next, image control processing (contrast was set to 90%) of the attached photograph was performed to enhance the contrast. At this time, a case where a clear boundary can be drawn at the interface between one layer and the other layer was regarded as a clear interface (in Table 1, a case where a clear boundary can be drawn). The case where there is an interface is indicated by “◯”, and the case where a clear boundary cannot be drawn is indicated by “×” as no interface.)

(2)バックコート層を構成する上側層と下側層の厚み
透過型電子顕微鏡(日立製H−7100FA型)を用いてバックコート層の断面を観察することにより、バックコート層を構成する下側層と上側層の厚みを測定した。各層の厚みは、以下の方法に従い測定した。バックコート層の断面の超薄切片を透過型電子顕微鏡により20万倍の倍率で撮影した画像から、ソフトウェア(画像処理ソフトEasyAccess)にて各層の厚みを読み取った。合計で30点の層厚みを測定して平均値とした。
(2) Thickness of upper layer and lower layer constituting backcoat layer Lower part constituting backcoat layer by observing cross section of backcoat layer using transmission electron microscope (Hitachi H-7100FA type) The thickness of the side layer and the upper layer was measured. The thickness of each layer was measured according to the following method. The thickness of each layer was read by software (image processing software EasyAccess) from an image obtained by photographing an ultrathin section of the cross section of the backcoat layer with a transmission electron microscope at a magnification of 200,000 times. The layer thickness of 30 points in total was measured and taken as the average value.

(3)バックコート層を構成する上側層におけるシリカ粒子の面積比率
バックコート層の断面の超薄切片を透過型電子顕微鏡(日立製H−7100FA型)により20万倍の倍率で撮影した画像から、上側層の断面積に占めるシリカ粒子の断面積の割合を求めた。
(3) Area ratio of silica particles in the upper layer constituting the backcoat layer From an image obtained by photographing an ultrathin section of the cross section of the backcoat layer with a transmission electron microscope (H-7100FA type manufactured by Hitachi) at a magnification of 200,000 times The ratio of the cross-sectional area of the silica particles to the cross-sectional area of the upper layer was determined.

(4)バックコート層を構成する下側層におけるシリカ粒子の面積比率
バックコート層の断面の超薄切片を透過型電子顕微鏡(日立製H−7100FA型)により20万倍の倍率で撮影した画像から、下側層の断面積に占めるシリカ粒子の断面積の割合を求めた。
(4) Area ratio of silica particles in the lower layer constituting the backcoat layer Image obtained by photographing an ultrathin section of the cross section of the backcoat layer with a transmission electron microscope (H-7100FA type manufactured by Hitachi) at a magnification of 200,000 times From this, the ratio of the cross-sectional area of the silica particles to the cross-sectional area of the lower layer was determined.

(5)易接着層、高屈折率層、低屈折率層およびハードコート層の厚み
透明積層フィルムの断面を超薄切片に切り出し、透過型電子顕微鏡(日立製H−7100FA型)にて5万倍〜30万倍の倍率でサンプルの断面を観察し、それぞれの層の厚みを測定した。尚、各層の境界が明確でない場合は必要に応じて染色処理を施した。
(5) Thickness of easy-adhesion layer, high refractive index layer, low refractive index layer, and hard coat layer The cross section of the transparent laminated film was cut into ultrathin sections and 50,000 with a transmission electron microscope (Hitachi H-7100FA type). The cross section of the sample was observed at a magnification of 300 to 300,000 times, and the thickness of each layer was measured. In addition, when the boundary of each layer was not clear, the dyeing | staining process was performed as needed.

(6)屈折率の測定1(易接着層、機能性層の屈折率)
易接着層および機能性層(ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層)のそれぞれの塗布液をシリコンウエハー上にスピンコーターにて塗工形成した塗膜(乾燥厚み約2μm)について、25℃の温度条件下で位相差測定装置(ニコン(株)製:NPDM−1000)で589nmの屈折率を測定した。
(6) Refractive index measurement 1 (refractive index of easy adhesion layer and functional layer)
About the coating film (dry thickness of about 2 μm) formed by coating each of the easy-adhesion layer and the functional layer (hard coat layer, high refractive index layer, low refractive index layer) on a silicon wafer with a spin coater. The refractive index of 589 nm was measured with a phase difference measuring device (Nikon Corporation: NPDM-1000) under a temperature condition of 25 ° C.

(7)屈折率の測定2
基材フィルム(PETフィルム)の屈折率は、JIS K7105(1981)に準じて、アッベ屈折率計で589nmの屈折率を測定した。
(7) Refractive index measurement 2
The refractive index of the base film (PET film) was measured at 589 nm with an Abbe refractometer according to JIS K7105 (1981).

(8)透明積層フィルムの全光線透過率の測定
JIS−K7361(1997年)に基づき、濁度計NDH2000(日本電色工業(株)製)を用いて測定した。
(8) Measurement of total light transmittance of transparent laminated film Based on JIS-K7361 (1997), it measured using turbidimeter NDH2000 (made by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).

(9)バックコート層表面の最低反射率の測定
透明積層フィルムのA面(機能性層側の面)に黒粘着テープ(日東電工製“ビニルテープNo.21 トクハバ 黒”)を貼り付けた測定サンプルを用意し、この測定サンプルを用いてB面(バックコート層側の面)の400〜800nmの波長領域における反射スペクトルを島津製作所製分光光度計UV−3100にて測定し、最低反射率(ボトム反射率)を求めた。
(9) Measurement of the minimum reflectance of the back coat layer surface Measurement with a black adhesive tape (Nitto Denko “Vinyl Tape No. 21 Tokuhaba Black”) attached to the A side (the functional layer side surface) of the transparent laminated film A sample is prepared, and using this measurement sample, the reflection spectrum in the wavelength region of 400 to 800 nm on the B surface (the surface on the backcoat layer side) is measured with a spectrophotometer UV-3100 manufactured by Shimadzu Corporation. Bottom reflectance).

(10)表面粗さRaの測定
透明積層フィルムの機能性層表面およびバックコート層表面の表面粗さRaを、表面粗さ計(SURFCORDER ET4000A:(株)小坂研究所製)を用い、JIS−B−0601(2001)に基づき、下記測定条件にて測定を行った。表面粗さRaとは、測定される断面曲線から、カットオフ値λcの高域フィルタによって長波長成分を遮断して得られた輪郭曲線(粗さ曲線)を求め、その曲線の基準長さにおける高さ(平均線から測定曲線までの距離)の絶対値の平均値のことである。
<測定条件>
測定速度:0.1mm/S
評価長さ:10mm
カットオフ値λc:0.1mm
フィルタ:ガウンシアンフィルタ低域カット。
(10) Measurement of surface roughness Ra The surface roughness Ra of the functional layer surface and the backcoat layer surface of the transparent laminated film was measured using a surface roughness meter (SURFCORDER ET4000A: manufactured by Kosaka Laboratory Ltd.), JIS- Based on B-0601 (2001), the measurement was performed under the following measurement conditions. The surface roughness Ra is a contour curve (roughness curve) obtained by blocking a long wavelength component with a high-pass filter having a cutoff value λc from a measured cross-sectional curve, and is obtained at the reference length of the curve. It is the average of the absolute values of the height (distance from the average line to the measurement curve).
<Measurement conditions>
Measurement speed: 0.1 mm / S
Evaluation length: 10mm
Cut-off value λc: 0.1 mm
Filter: Low-frequency cut of the Gauntian filter.

(11)ブロッキング防止性の評価
透明積層フィルムを切断して2枚のシート片(20cm×15cm)を作製する。この2枚のシートのA面(機能性層側の面)とB面(バックコート層側の面)とが向き合うようにして重ね合わせる。次に、2枚のシート片を重ね合わせた試料をガラス板で挟み込み、約2kgの重りを載せて、50℃、80%(RH)の雰囲気下に48時間放置する。次に、重ね合わせ面を目視により観察しニュートンリングの発生状況を確認した後、両者を剥離し、以下の基準で評価した。
○(最良):剥離前はニュートンリングが発生しておらず、剥離時には剥離音を立てずに軽く剥離される。
△(良好):剥離前は一部ニュートンリングが発生しており、剥離時には小さな剥離音を立てながら剥離される。
×(不良):剥離前は全面にニュートンリングが発生しており、剥離時には大きな剥離音を立てて剥離される。
(11) Evaluation of anti-blocking property The transparent laminated film is cut to produce two sheet pieces (20 cm × 15 cm). The two sheets are overlaid so that the A side (the functional layer side surface) and the B side (the back coat layer side surface) face each other. Next, a sample in which two sheet pieces are overlapped is sandwiched between glass plates, a weight of about 2 kg is placed, and left in an atmosphere of 50 ° C. and 80% (RH) for 48 hours. Next, the overlapping surface was visually observed to confirm the occurrence of Newton rings, and then both were peeled off and evaluated according to the following criteria.
○ (best): No Newton ring is generated before peeling, and light peeling occurs without peeling noise during peeling.
Δ (good): Some Newton rings are generated before peeling, and peeling is performed while making a small peeling sound.
X (defect): Newton rings are generated on the entire surface before peeling, and peeling occurs with a loud peeling sound during peeling.

(12)バックコート層面の干渉縞の評価
透明積層フィルムのA面(機能性層側の面)に黒粘着テープ(日東電工製“ビニルテープNo.21 トクハバ 黒”)を貼り付け、B面(バックコート層側の面)を暗室三波長蛍光灯下にて目視観察し、以下の基準で評価した。
○(良好):干渉縞がほとんど観察されない。
×(不良):干渉縞が観察される。
(12) Evaluation of interference fringes on the back coat layer surface A black adhesive tape (Nitto Denko “Vinyl Tape No. 21 Tokuhaba Black”) was applied to the A side (the functional layer side surface) of the transparent laminated film, and the B side ( The backcoat layer side surface) was visually observed under a darkroom three-wavelength fluorescent lamp and evaluated according to the following criteria.
○ (Good): Interference fringes are hardly observed.
X (defect): Interference fringes are observed.

[原料]
<易接着層>
易接着層形成用塗布液として下記の2種類の塗布液を用意した。
[material]
<Easily adhesive layer>
The following two types of coating solutions were prepared as the coating solution for forming the easy adhesion layer.

<易接着層形成用塗布液a1>
下記のナフタレン環含有のポリエステル樹脂を100質量部、メラミン系架橋剤(メチロール型メラミン系架橋剤(三和ケミカル(株)製の「ニカラック MW12LF」))を15質量部、平均粒子径が190nmのコロイダルシリカを1質量部含有する水系分散物である。この塗布液の屈折率は1.58であった。
<Easily adhesive layer forming coating solution a1>
100 parts by mass of the following naphthalene ring-containing polyester resin, 15 parts by mass of a melamine-based crosslinking agent (methylol-type melamine-based crosslinking agent (“Nicarac MW12LF” manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.)), and an average particle diameter of 190 nm It is an aqueous dispersion containing 1 part by mass of colloidal silica. The refractive index of this coating solution was 1.58.

<ナフタレン環含有のポリエステル樹脂>
下記の共重合組成からなるポリエステル樹脂である。
・カルボン酸成分
テレフタル酸 35モル%
2,6−ナフタレンジカルボン酸 9モル%
5−Naスルホイソフタル酸 6モル%
・グリコール成分
エチレングリコール 49モル%
ジエチレングリコール 1モル%。
<Naphthalene ring-containing polyester resin>
A polyester resin having the following copolymer composition.
・ Carboxylic acid component terephthalic acid 35mol%
2,6-Naphthalenedicarboxylic acid 9 mol%
5-Na sulfoisophthalic acid 6 mol%
・ Glycol component ethylene glycol 49 mol%
Diethylene glycol 1 mol%.

<易接着層形成用塗布液a2>
上記のナフタレン環含有のポリエステル樹脂を100質量部、酸化ジルコニウムを60質量部、メラミン系架橋剤(メチロール型メラミン系架橋剤(三和ケミカル(株)製の「ニカラック MW12LF」))を15質量部、平均粒子径が190nmのコロイダルシリカを1質量部含有する水系分散物である。この塗布液の屈折率は1.65であった。
<Easily adhesive layer forming coating solution a2>
100 parts by mass of the naphthalene ring-containing polyester resin, 60 parts by mass of zirconium oxide, and 15 parts by mass of a melamine-based cross-linking agent (methylol-type melamine-based cross-linking agent (“Nicarac MW12LF” manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.)) An aqueous dispersion containing 1 part by mass of colloidal silica having an average particle diameter of 190 nm. The refractive index of this coating solution was 1.65.

<機能性層>
機能性層として、下記のハードコート層形成用塗布液、高屈折率層形成用塗布液および低屈折率層形成用塗布液を用意した。
<Functional layer>
As the functional layer, the following coating liquid for forming a hard coat layer, coating liquid for forming a high refractive index layer, and coating liquid for forming a low refractive index layer were prepared.

<ハードコート層形成用塗布液>
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート58質量部、およびウレタンアクリレートオリゴマー(根上工業(株)の「UN−901T」;分子中に重合性官能基を9個含む)37質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)5質量部を有機溶剤(メチルイソブチルケトン)に分散・溶解して調製した。この塗布液の屈折率は1.52であった。
<Coating liquid for forming hard coat layer>
As active energy ray-curable resin, 58 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, and urethane acrylate oligomer (“UN-901T” of Negami Kogyo Co., Ltd .; containing 9 polymerizable functional groups in the molecule), light It was prepared by dispersing and dissolving 5 parts by mass of a polymerization initiator (“Irgacure (registered trademark) 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals) in an organic solvent (methyl isobutyl ketone). The refractive index of this coating solution was 1.52.

<高屈折率層形成用塗布液>
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを41質量部、金属酸化物微粒子として酸化ジルコニウムを56質量部、および光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製の「イルガキュア184」)3質量部を有機溶剤(メチルイソブチルケトン)に分散あるいは溶解して調製した。この塗布液の屈折率は、1.68であった。
<Coating liquid for forming a high refractive index layer>
41 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate as an active energy ray-curable resin, 56 parts by mass of zirconium oxide as metal oxide fine particles, and a photopolymerization initiator (“Irgacure 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals) It was prepared by dispersing or dissolving 3 parts by mass in an organic solvent (methyl isobutyl ketone). The refractive index of this coating solution was 1.68.

<低屈折率層形成用塗布液>
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを65質量部、含フッ素化合物(ダイキン工業(株)製のフッ素樹脂「AR110」)を30質量部、コロイダルシリカ(日産化学工業(株)のオルガノシリカゾル「MIBK−SD−L」、平均粒子径45nm)を固形分換算で2質量部、重合開始剤としてオリゴマー型光重合開始剤(ランベルティ社製のエザキュアワン;ポリ[2−ヒドロキシ−2−メチル−1−〔4−(1−メチルビニル)フェニル〕プロパノン])3質量部を有機溶媒(メチルイソブチルケトンとプロピレングリコールモノエチルエーテルとの質量比1:1の混合溶媒)に分散・溶解して調製した。この塗布液の屈折率は1.47であった。
<Coating liquid for forming a low refractive index layer>
65 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate as active energy ray-curable resin, 30 parts by mass of fluorine-containing compound (fluorine resin “AR110” manufactured by Daikin Industries, Ltd.), colloidal silica (organo of Nissan Chemical Industries, Ltd.) 2 parts by mass of silica sol “MIBK-SD-L” (average particle size 45 nm) in terms of solid content, oligomer type photopolymerization initiator (Ezacure One manufactured by Lamberti Co., Ltd .; poly [2-hydroxy-2-methyl] −1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propanone]) 3 parts by mass is dispersed and dissolved in an organic solvent (a mixed solvent of methyl isobutyl ketone and propylene glycol monoethyl ether in a mass ratio of 1: 1). Prepared. The refractive index of this coating solution was 1.47.

<バックコート層形成用塗布液>
バックコート層形成用塗布液として下記の6種類の塗布液を用意した。
<Backcoat layer forming coating solution>
The following six types of coating solutions were prepared as the back coating layer forming coating solutions.

<バックコート層形成用塗布液bc1>
下記のフッ素化合物で処理されたシリカ粒子分散物(a)を38質量部、活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを11質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製の「イルガキュア184」)を0.6質量部、メチルイソブチルケトンを31質量部、エチレングリコールモノブチルエーテルを10質量部、およびフッ素化合物B(ダイキン(株)製の「R1820」)を3質量部含有する。
<Backcoat layer forming coating solution bc1>
38 parts by mass of a silica particle dispersion (a) treated with the following fluorine compound, 11 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate as an active energy ray-curable resin, a photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) "Irgacure 184") manufactured by 0.6 parts by weight, methyl isobutyl ketone 31 parts by weight, ethylene glycol monobutyl ether 10 parts by weight, and fluorine compound B ("R1820" manufactured by Daikin Corporation) 3 parts by weight contains.

[フッ素化合物で処理されたシリカ粒子分散物(a)]
中空シリカ粒子のイソプロピルアルコール分散物(日揮触媒化成(株)製:固形分濃度20質量%、平均粒子径50nm)15質量部に、(CH=C(CH)COOCSi(OCH)1.37質量部と10質量%蟻酸水溶液0.17質量部、水0.306質量部とを混合し、70℃にて1時間撹拌した。次いでフッ素化合物としてHC=CHCOOCH(CFFを1.38質量部及び2,2−アゾビスイソブチロニトリル0.057質量部を加えた後、60分間90℃にて加熱撹拌した。次いで、イソプロピルアルコールを加えて希釈し、固形分濃度が3.5質量%のシリカ粒子分散物(a)を調製した。
[Silica particle dispersion treated with fluorine compound (a)]
To 15 parts by mass of isopropyl alcohol dispersion of hollow silica particles (manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd .: solid content concentration 20% by mass, average particle size 50 nm), (CH 2 = C (CH 3 ) COOC 3 H 6 Si (OCH 3 ) 3 ) 1.37 parts by mass, 0.17 parts by mass of a 10% by mass aqueous formic acid solution, and 0.306 parts by mass of water were mixed and stirred at 70 ° C. for 1 hour. Next, 1.38 parts by mass of H 2 C═CHCOOCH 2 (CF 2 ) 8 F and 0.057 parts by mass of 2,2-azobisisobutyronitrile were added as fluorine compounds, and then heated at 90 ° C. for 60 minutes. Stir. Subsequently, isopropyl alcohol was added and diluted to prepare a silica particle dispersion (a) having a solid content concentration of 3.5% by mass.

<バックコート層形成用塗布液bc2>
上記のフッ素化合物で処理されたシリカ粒子分散物(a)を43質量部、酸化ジルコニウムのイソプロピルアルコール分散物(CIKナノテック(株)製;固形分濃度30質量%;平均粒子径19nm)を36質量部、活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを5質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製の「イルガキュア184」)を0.3質量部、エチレングリコールモノブチルエーテルを10質量部、2−プロパノールを6質量部、フッ素化合物B(ダイキン(株)製の「R1820」)を3質量部含有する。
<Backcoat layer forming coating solution bc2>
43 parts by mass of the silica particle dispersion (a) treated with the above fluorine compound, 36 parts by mass of isopropyl alcohol dispersion of zirconium oxide (manufactured by CIK Nanotech Co., Ltd .; solid content concentration 30% by mass; average particle size 19 nm) 5 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate as an active energy ray-curable resin, 0.3 parts by mass of a photopolymerization initiator (“Irgacure 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals), ethylene glycol monobutyl ether 10 parts by mass, 6 parts by mass of 2-propanol, and 3 parts by mass of fluorine compound B (“R1820” manufactured by Daikin Co., Ltd.).

<バックコート層形成用塗布液bc3>
下記のフッ素化合物で処理されたシリカ粒子分散物(b)を38質量部、活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを11質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製の「イルガキュア184」)を0.6質量部、メチルイソブチルケトンを31質量部、エチレングリコールモノブチルエーテルを10質量部、およびフッ素化合物B(ダイキン(株)製の「R1820」)を3質量部含有する。
<Backcoat layer forming coating solution bc3>
38 parts by mass of silica particle dispersion (b) treated with the following fluorine compound, 11 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate as an active energy ray-curable resin, photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) "Irgacure 184") manufactured by 0.6 parts by weight, methyl isobutyl ketone 31 parts by weight, ethylene glycol monobutyl ether 10 parts by weight, and fluorine compound B ("R1820" manufactured by Daikin Corporation) 3 parts by weight contains.

[フッ素化合物で処理されたシリカ粒子分散物(b)]
イソプロピルアルール分散のコロイダルシリカ(扶桑化学工業(株)製:固形分濃度30質量%、平均粒子径18nm)15質量部に、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン1.37質量部と10質量%蟻酸水溶液0.17質量部を混合し、70℃にて1時間撹拌した。ついで、フッ素化合物として、HC=CH−COO−CH−(CFFを1.38質量部及び2,2−アゾビスイソブチロニトリル0.057質量部を加えた後、60分間90℃にて加熱撹拌した。その後、イソプロピルアルコールを加え希釈し、固形分濃度が3.5質量%のシリカ粒子分散物(b)を調製した。
[Silica particle dispersion treated with fluorine compound (b)]
To 15 parts by mass of colloidal silica (manufactured by Fuso Chemical Industry Co., Ltd .: solid content concentration 30% by mass, average particle size 18 nm), 1.37 parts by mass of methacryloxypropyltrimethoxysilane and 10% by mass formic acid aqueous solution 0 .17 parts by mass were mixed and stirred at 70 ° C. for 1 hour. Next, after adding 1.38 parts by mass of H 2 C═CH—COO—CH 2 — (CF 2 ) 8 F and 0.057 parts by mass of 2,2-azobisisobutyronitrile as a fluorine compound, The mixture was heated and stirred at 90 ° C. for 60 minutes. Then, isopropyl alcohol was added and diluted to prepare a silica particle dispersion (b) having a solid content concentration of 3.5% by mass.

<バックコート層形成用塗布液bc4>
上記のフッ素化合物で処理されたシリカ粒子分散物(b)を43質量部、酸化ジルコニウムのイソプロピルアルコール分散物(CIKナノテック(株)製;固形分濃度30質量%;平均粒子径19nm)を36質量部、活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを5質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製の「イルガキュア184」)を0.3質量部、エチレングリコールモノブチルエーテルを10質量部、2−プロパノールを6質量部、フッ素化合物B(ダイキン(株)製の「R1820」)を3質量部含有する。
<Backcoat layer forming coating solution bc4>
43 parts by mass of silica particle dispersion (b) treated with the above-mentioned fluorine compound, 36 parts by mass of isopropyl alcohol dispersion of zirconium oxide (manufactured by CIK Nanotech Co., Ltd .; solid content concentration 30% by mass; average particle size 19 nm) 5 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate as an active energy ray-curable resin, 0.3 parts by mass of a photopolymerization initiator (“Irgacure 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals), ethylene glycol monobutyl ether 10 parts by mass, 6 parts by mass of 2-propanol, and 3 parts by mass of fluorine compound B (“R1820” manufactured by Daikin Co., Ltd.).

<バックコート層形成用塗布液bc5>
イソプロピルアルール分散のコロイダルシリカ(扶桑化学工業(株)製:固形分濃度30質量%、平均粒子径18nm)を5質量部、活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを11質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製の「イルガキュア184」)を0.6質量部、メチルイソブチルケトンを31質量部、エチレングリコールモノブチルエーテルを10質量部含有する。
<Backcoat layer forming coating solution bc5>
5 parts by mass of colloidal silica (manufactured by Fuso Chemical Industry Co., Ltd .: solid content concentration 30% by mass, average particle size 18 nm), 11 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate as an active energy ray curable resin, light It contains 0.6 parts by mass of a polymerization initiator (“Irgacure 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), 31 parts by mass of methyl isobutyl ketone, and 10 parts by mass of ethylene glycol monobutyl ether.

<バックコート層形成用塗布液bc6>
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを92質量部、スチレン−アクリル系共重合樹脂粒子(ガンツ化成(株)製の商品名「スタフィロイド EA−1135」;平均粒子径130nm)を固形分換算で8質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)5質量部を有機溶媒(酢酸エチル:トルエン=1:1(質量比)の混合溶媒)に溶解あるいは分散した塗布液(固形分濃度30質量%)を調製した。
<Backcoat layer forming coating solution bc6>
92 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate as an active energy ray curable resin, solid styrene-acrylic copolymer resin particles (trade name “STAPHYLOID EA-1135” manufactured by Ganz Kasei Co., Ltd .; average particle size 130 nm) 8 parts by mass, 5 parts by mass of a photopolymerization initiator (“Irgacure (registered trademark) 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) in an organic solvent (ethyl acetate: toluene = 1: 1 (mass ratio)) A coating solution (solid content concentration of 30% by mass) dissolved or dispersed in (mixed solvent) was prepared.

<バックコート層形成用塗布液bc7>
中空シリカ粒子のイソプロピルアルコール分散物(日揮触媒化成(株)製:固形分濃度20質量%、平均粒子径50nm)7.5質量部、活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを11質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製の「イルガキュア184」)を0.6質量部、メチルイソブチルケトンを31質量部、エチレングリコールモノブチルエーテルを10質量部、およびフッ素化合物B(ダイキン(株)製の「R1820」)を3質量部含有する。
<Backcoat layer forming coating solution bc7>
Isopropyl alcohol dispersion of hollow silica particles (manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd .: solid content concentration 20% by mass, average particle size 50 nm) 7.5 parts by mass, 11 masses of dipentaerythritol hexaacrylate as an active energy ray curable resin Part, 0.6 parts by mass of photopolymerization initiator (“Irgacure 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), 31 parts by mass of methyl isobutyl ketone, 10 parts by mass of ethylene glycol monobutyl ether, and fluorine compound B (3 parts by mass of “R1820” manufactured by Daikin Corporation).

[実施例1]
下記の要領で透明積層フィルム(タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム)を作製した。
[Example 1]
A transparent laminated film (a base film of a transparent conductive film for a touch panel) was produced in the following manner.

<易接着層積層ポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム)の作製>
実質的に外部添加粒子を含有しないPETペレット(極限粘度0.63dl/g)を充分に真空乾燥した後、押し出し機に供給し285℃で溶融し、T字型口金よりシート状に押し出し、静電印加キャスト法を用いて表面温度25℃の鏡面キャスティングドラムに巻き付けて冷却固化せしめた。この未延伸フィルムを90℃に加熱して長手方向に3.4倍延伸し、一軸延伸フィルムとした。この一軸延伸フィルムの両面に空気中でコロナ放電処理を施した後、一軸延伸フィルムの両面にそれぞれ易接着層形成用塗布液a1を塗布した。
<Preparation of easy-adhesion layer laminated polyethylene terephthalate film (PET film)>
PET pellets (intrinsic viscosity 0.63 dl / g) substantially free of externally added particles are sufficiently vacuum-dried, then supplied to an extruder, melted at 285 ° C., extruded from a T-shaped die into a sheet shape, It was wound around a mirror-casting drum having a surface temperature of 25 ° C. using an electric application casting method and cooled and solidified. This unstretched film was heated to 90 ° C. and stretched 3.4 times in the longitudinal direction to obtain a uniaxially stretched film. After performing corona discharge treatment in air on both surfaces of the uniaxially stretched film, the easy-adhesion layer-forming coating solution a1 was applied to both surfaces of the uniaxially stretched film.

次に、両面にそれぞれの易接着層形成用塗布液が塗布された一軸延伸フィルムをクリップで把持して予熱ゾーンに導き、雰囲気温度75℃で乾燥、ラジエーションヒーターを用いて110℃に上げ、再度90℃で乾燥した後、引き続き連続的に120℃の加熱ゾーンで幅方向に3.5倍延伸し、続いて220℃の加熱ゾーンで20秒間熱処理を施し、結晶配向の完了した二軸延伸PETフィルムを作製した。   Next, the uniaxially stretched film coated with the coating liquid for forming each easy-adhesion layer on both sides is held with a clip, guided to a preheating zone, dried at an ambient temperature of 75 ° C., raised to 110 ° C. using a radiation heater, and again After drying at 90 ° C., the film is continuously stretched 3.5 times in the width direction in a heating zone at 120 ° C., followed by heat treatment for 20 seconds in the heating zone at 220 ° C. A film was prepared.

このようにして得られた易接着層積層PETフィルムの厚みは100μm、両面に積層された易接着層の厚みは、それぞれ90nmであった。また、PETフィルムの屈折率は1.65、両面に積層された易接着層の屈折率はそれぞれ1.58であった。   The thickness of the easy adhesion layer laminated PET film thus obtained was 100 μm, and the thickness of the easy adhesion layer laminated on both surfaces was 90 nm. Moreover, the refractive index of the PET film was 1.65, and the refractive index of the easy adhesion layer laminated on both surfaces was 1.58.

尚、PETフィルムの屈折率は、両面に易接着層を積層しない以外は上記と同様の条件で製造したPETフィルムの屈折率を測定し、その値をPETフィルムの屈折率とした。   In addition, the refractive index of PET film measured the refractive index of the PET film manufactured on the conditions similar to the above except not laminating | stacking an easily bonding layer on both surfaces, and made the value the refractive index of PET film.

<バックコート層の積層>
上記で得られた易接着層積層PETフィルムの一方の面(B面)の易接着層上に前述のバックコート層形成用塗布液bc1を、乾燥厚みが900nmとなるようにグラビアコート法で塗布し、45℃と85℃の2段階で乾燥後、紫外線を照射し硬化させてバックコート層を形成した。
<Lamination of back coat layer>
The above-mentioned coating liquid for forming a back coat layer bc1 is applied on the easy-adhesion layer on one surface (B surface) of the easy-adhesion layer-laminated PET film obtained above by a gravure coating method so that the dry thickness becomes 900 nm. Then, after drying at two stages of 45 ° C. and 85 ° C., it was cured by irradiation with ultraviolet rays to form a backcoat layer.

このバックコート層は、上側層と下側層とに明確な界面をもって層分離していることが確認された。上側層の厚みは100nm、下側層の厚みは800nmであった。   It was confirmed that this back coat layer was separated into an upper layer and a lower layer with a clear interface. The thickness of the upper layer was 100 nm, and the thickness of the lower layer was 800 nm.

上側層はシリカ粒子(中空シリカ粒子)を含有し、上側層におけるシリカ粒子の面積比率は75%であった。下側層はバインダー成分(活性エネルギー線硬化性樹脂)を主体とする層であり、下側層におけるシリカ粒子の面積比率は5%以下であった。また、上側層表面の最低反射率は0.8%であった。   The upper layer contained silica particles (hollow silica particles), and the area ratio of the silica particles in the upper layer was 75%. The lower layer was a layer mainly composed of a binder component (active energy ray-curable resin), and the area ratio of silica particles in the lower layer was 5% or less. The minimum reflectance of the upper layer surface was 0.8%.

<機能性層の積層>
上記でバックコート層が積層された易接着層積層PETフィルムの他方の面(A面)の易接着層上に、機能性層として下記のハードコート層、屈折率調整層(高屈折率層および低屈折率層)をこの順に積層した。
<Lamination of functional layer>
On the easy-adhesion layer on the other surface (A surface) of the easy-adhesion layer-laminated PET film on which the backcoat layer is laminated as described above, the following hard coat layer, refractive index adjustment layer (high refractive index layer and A low refractive index layer) was laminated in this order.

<ハードコート層の積層>
前述のハードコート層形成用塗布液をグラビアコート法で塗布し、90℃で乾燥後、紫外線を照射し硬化させてハードコート層を形成した。このハードコート層は、厚みが1.0μmm、屈折率が1.52であった。
<Lamination of hard coat layer>
The above-mentioned coating liquid for forming a hard coat layer was applied by a gravure coating method, dried at 90 ° C., and then cured by irradiation with ultraviolet rays to form a hard coat layer. This hard coat layer had a thickness of 1.0 μm and a refractive index of 1.52.

<高屈折率層の積層>
上記で形成したハードコート層の上に、前述の高屈折率層形成用塗布液をグラビアコート法で塗布し、70℃で乾燥後、紫外線を照射し硬化させて高屈折率層を形成した。この高屈折率層の屈折率は1.68、厚みは35nmであった。
<Lamination of high refractive index layer>
On the hard coat layer formed above, the above-described coating solution for forming a high refractive index layer was applied by a gravure coating method, dried at 70 ° C., and then irradiated with ultraviolet rays to be cured to form a high refractive index layer. This high refractive index layer had a refractive index of 1.68 and a thickness of 35 nm.

<低屈折率層の積層>
上記で形成した高屈折率層の上に、低屈折率層形成用塗布液グラビアコート法で塗布し、70℃で乾燥し、紫外線を照射し硬化させて低屈折率層を形成した。この低屈折率層の屈折率は1.47、厚みは40nmであった。
<Lamination of low refractive index layer>
On the high refractive index layer formed above, it was applied by a low refractive index layer forming coating liquid gravure coating method, dried at 70 ° C., and irradiated with ultraviolet rays to be cured to form a low refractive index layer. The low refractive index layer had a refractive index of 1.47 and a thickness of 40 nm.

[実施例2]
下記の要領で透明積層フィルム(タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム)を作製した。
[Example 2]
A transparent laminated film (a base film of a transparent conductive film for a touch panel) was produced in the following manner.

<易接着層積層ポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム)の作製>
実質的に外部添加粒子を含有しないPETペレット(極限粘度0.63dl/g)を充分に真空乾燥した後、押し出し機に供給し285℃で溶融し、T字型口金よりシート状に押し出し、静電印加キャスト法を用いて表面温度25℃の鏡面キャスティングドラムに巻き付けて冷却固化せしめた。この未延伸フィルムを90℃に加熱して長手方向に3.4倍延伸し、一軸延伸フィルムとした。この一軸延伸フィルムの両面に空気中でコロナ放電処理を施した後、一軸延伸フィルムの両面にそれぞれ易接着層形成用塗布液a2を塗布した。
<Preparation of easy-adhesion layer laminated polyethylene terephthalate film (PET film)>
PET pellets (intrinsic viscosity 0.63 dl / g) substantially free of externally added particles are sufficiently vacuum-dried, then supplied to an extruder, melted at 285 ° C., extruded from a T-shaped die into a sheet shape, It was wound around a mirror-casting drum having a surface temperature of 25 ° C. using an electric application casting method and cooled and solidified. This unstretched film was heated to 90 ° C. and stretched 3.4 times in the longitudinal direction to obtain a uniaxially stretched film. After performing corona discharge treatment in air on both surfaces of the uniaxially stretched film, an easy-adhesion layer-forming coating solution a2 was applied to both surfaces of the uniaxially stretched film.

次に、両面にそれぞれの易接着層形成用塗布液が塗布された一軸延伸フィルムをクリップで把持して予熱ゾーンに導き、雰囲気温度75℃で乾燥、ラジエーションヒーターを用いて110℃に上げ、再度90℃で乾燥した後、引き続き連続的に120℃の加熱ゾーンで幅方向に3.5倍延伸し、続いて220℃の加熱ゾーンで20秒間熱処理を施し、結晶配向の完了した二軸延伸PETフィルムを作製した。   Next, the uniaxially stretched film coated with the coating liquid for forming each easy-adhesion layer on both sides is held with a clip, guided to a preheating zone, dried at an ambient temperature of 75 ° C., raised to 110 ° C. using a radiation heater, and again After drying at 90 ° C., the film is continuously stretched 3.5 times in the width direction in a heating zone at 120 ° C., followed by heat treatment for 20 seconds in the heating zone at 220 ° C. A film was prepared.

このようにして得られた易接着層積層PETフィルムの厚みは100μm、両面に積層された易接着層の厚みは、それぞれ20nmであった。また、PETフィルムの屈折率は1.65、両面に積層された易接着層の屈折率はそれぞれ1.65であった。   The thickness of the easy adhesion layer laminated PET film thus obtained was 100 μm, and the thickness of the easy adhesion layer laminated on both surfaces was 20 nm. Moreover, the refractive index of PET film was 1.65, and the refractive index of the easily bonding layer laminated | stacked on both surfaces was 1.65, respectively.

尚、PETフィルムの屈折率は、両面に易接着層を積層しない以外は上記と同様の条件で製造したPETフィルムの屈折率を測定し、その値をPETフィルムの屈折率とした。   In addition, the refractive index of PET film measured the refractive index of the PET film manufactured on the conditions similar to the above except not laminating | stacking an easily bonding layer on both surfaces, and made the value the refractive index of PET film.

<バックコート層の積層>
上記で得られた易接着層積層PETフィルムの一方の面(B面)の易接着層上に前述のバックコート層形成用塗布液bc2を、乾燥厚みが800nmとなるようにグラビアコート法で塗布し、45℃と85℃の2段階で乾燥後、紫外線を照射し硬化させてバックコート層を形成した。
<Lamination of back coat layer>
The above-mentioned coating liquid for forming a back coat layer bc2 is applied by a gravure coating method on the easy adhesion layer on one surface (B surface) of the easy adhesion layer laminated PET film obtained above so that the dry thickness becomes 800 nm. Then, after drying at two stages of 45 ° C. and 85 ° C., it was cured by irradiation with ultraviolet rays to form a backcoat layer.

このバックコート層は、上側層と下側層とに明確な界面をもって層分離していることが確認された。上側層の厚みは100nm、下側層の厚みは700nmであった。   It was confirmed that this back coat layer was separated into an upper layer and a lower layer with a clear interface. The upper layer had a thickness of 100 nm and the lower layer had a thickness of 700 nm.

上側層はシリカ粒子(中空シリカ粒子)を含有し、上側層におけるシリカ粒子の面積比率は75%であった。下側層はバインダー成分(活性エネルギー線硬化性樹脂)と金属酸化物粒子(酸化ジルコニウム)を主体とする層であり、下側層におけるシリカ粒子の面積比率は5%以下であった。また、上側層表面の最低反射率は0.3%であった。   The upper layer contained silica particles (hollow silica particles), and the area ratio of the silica particles in the upper layer was 75%. The lower layer was a layer mainly composed of a binder component (active energy ray-curable resin) and metal oxide particles (zirconium oxide), and the area ratio of silica particles in the lower layer was 5% or less. The minimum reflectance of the upper layer surface was 0.3%.

<機能性層の積層>
上記でバックコート層が積層された易接着層積層PETフィルムの他方の面(A面)の易接着層上に、機能性層として下記の屈折率調整層(高屈折率ハードコート層および低屈折率層)を積層した。
<Lamination of functional layer>
The following refractive index adjusting layer (high refractive index hard coat layer and low refractive index) as a functional layer on the easy adhesion layer on the other surface (A surface) of the easy adhesion layer laminated PET film on which the backcoat layer is laminated as described above Rate layer).

<高屈折率ハードコート層の積層>
前述の高屈折率層形成用塗布液を乾燥厚みが1.0μmとなるようにグラビアコート法で塗布し、90℃で乾燥後、紫外線を照射し硬化させて高屈折率ハードコート層を形成した。この高屈折率ハードコート層の屈折率は1.68、厚みは1.0μmであった。
<Lamination of high refractive index hard coat layer>
The above-described coating solution for forming a high refractive index layer was applied by a gravure coating method so as to have a dry thickness of 1.0 μm, dried at 90 ° C., and then cured by irradiation with ultraviolet rays to form a high refractive index hard coat layer. . The high refractive index hard coat layer had a refractive index of 1.68 and a thickness of 1.0 μm.

<低屈折率層の積層>
上記で形成した高屈折率ハードコート層の上に、前述の低屈折率層形成用塗布液グラビアコート法で塗布し、70℃で乾燥し、紫外線を照射し硬化させて低屈折率層を形成した。この低屈折率層の屈折率は1.47、厚みは35nmであった。
<Lamination of low refractive index layer>
On the high refractive index hard coat layer formed above, the low refractive index layer forming coating solution is applied by the gravure coating method, dried at 70 ° C., and irradiated with ultraviolet rays to be cured to form the low refractive index layer. did. The low refractive index layer had a refractive index of 1.47 and a thickness of 35 nm.

[実施例3]
実施例1において、バックコート層形成用塗布液をbc3に変更する以外は、実施例1と同様にして透明積層フィルム(タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム)を作製した。
[Example 3]
In Example 1, a transparent laminated film (a base film of a transparent conductive film for a touch panel) was produced in the same manner as in Example 1 except that the backcoat layer-forming coating solution was changed to bc3.

このバックコート層は、上側層と下側層とに明確な界面をもって層分離していることが確認された。上側層の厚みは100nm、下側層の厚みは800nmであった。   It was confirmed that this back coat layer was separated into an upper layer and a lower layer with a clear interface. The thickness of the upper layer was 100 nm, and the thickness of the lower layer was 800 nm.

上側層はシリカ粒子(コロイダルシリカ)を含有し、上側層におけるシリカ粒子の面積比率は60%であった。下側層はバインダー成分(活性エネルギー線硬化性樹脂)を主体とする層であり、下側層におけるシリカ粒子の面積比率は5%以下であった。また、上側層表面の最低反射率は2.7%であった。   The upper layer contained silica particles (colloidal silica), and the area ratio of the silica particles in the upper layer was 60%. The lower layer was a layer mainly composed of a binder component (active energy ray-curable resin), and the area ratio of silica particles in the lower layer was 5% or less. The minimum reflectance of the upper layer surface was 2.7%.

[実施例4]
実施例2において、バックコート層形成用塗布液をbc4に変更する以外は、実施例2と同様にして透明積層フィルム(タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム)を作製した。
[Example 4]
In Example 2, a transparent laminated film (a base film of a transparent conductive film for a touch panel) was produced in the same manner as in Example 2 except that the coating liquid for forming the backcoat layer was changed to bc4.

このバックコート層は、上側層と下側層とに明確な界面をもって層分離していることが確認された。上側層の厚みは100nm、下側層の厚みは700nmであった。   It was confirmed that this back coat layer was separated into an upper layer and a lower layer with a clear interface. The upper layer had a thickness of 100 nm and the lower layer had a thickness of 700 nm.

上側層はシリカ粒子(コロイダルシリカ)を含有し、上側層におけるシリカ粒子の面積比率は60%であった。下側層はバインダー成分(活性エネルギー線硬化性樹脂)と金属酸化物粒子(酸化ジルコニウム)を主体とする層であり、下側層におけるシリカ粒子の面積比率は5%以下であった。また、上側層表面の最低反射率は1.8%であった。   The upper layer contained silica particles (colloidal silica), and the area ratio of the silica particles in the upper layer was 60%. The lower layer was a layer mainly composed of a binder component (active energy ray-curable resin) and metal oxide particles (zirconium oxide), and the area ratio of silica particles in the lower layer was 5% or less. The minimum reflectance of the upper layer surface was 1.8%.

[比較例1]
実施例1において、バックコート層形成用塗布液をbc5に変更し、バックコート層の乾燥厚みを900nmに変更する以外は、実施例1と同様にして透明積層フィルム(タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム)を作製した。
[Comparative Example 1]
In Example 1, the transparent laminated film (transparent conductive film for touch panel) was changed in the same manner as in Example 1 except that the backcoat layer-forming coating solution was changed to bc5 and the dry thickness of the backcoat layer was changed to 900 nm. Base film).

このバックコート層は、上側層と下側層とに層分離していないことが確認された。バックコート層の厚みは900nm、バックコート層表面の最低反射率は3.5%であった。   It was confirmed that this back coat layer was not separated into an upper layer and a lower layer. The thickness of the back coat layer was 900 nm, and the minimum reflectance of the surface of the back coat layer was 3.5%.

[比較例2]
実施例1において、バックコート層形成用塗布液をbc6に変更し、バックコート層の乾燥厚みを900nmに変更する以外は、実施例1と同様にして透明積層フィルム(タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム)を作製した。
[Comparative Example 2]
In Example 1, except that the backcoat layer-forming coating solution was changed to bc6 and the dry thickness of the backcoat layer was changed to 900 nm, the transparent laminated film (transparent conductive film for touch panel) was changed in the same manner as in Example 1. Base film).

このバックコート層は、上側層と下側層とに層分離していないことが確認された。バックコート層の厚みは900nm、バックコート層表面の最低反射率は3.6%であった。   It was confirmed that this back coat layer was not separated into an upper layer and a lower layer. The thickness of the back coat layer was 900 nm, and the minimum reflectance of the back coat layer surface was 3.6%.

[比較例3]
実施例1において、バックコート層形成用塗布液をbc7に変更し、バックコート層の乾燥厚みを900nmに変更する以外は、実施例1と同様にして透明積層フィルム(タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム)を作製した。
[Comparative Example 3]
In Example 1, the transparent laminated film (transparent conductive film for touch panel) was changed in the same manner as in Example 1 except that the backcoat layer-forming coating solution was changed to bc7 and the dry thickness of the backcoat layer was changed to 900 nm. Base film).

このバックコート層は、上側層と下側層とに層分離していないことが確認された。バックコート層の厚みは900nm、バックコート層表面の最低反射率は3.1%であった。   It was confirmed that this back coat layer was not separated into an upper layer and a lower layer. The thickness of the back coat layer was 900 nm, and the minimum reflectance of the back coat layer surface was 3.1%.

[比較例4]
実施例1と同様にして易接着層積層PETフィルムを作製し、B面の易接着層上にバックコート層として下記のバックコート用ハードコート層とバックコート用低屈折率層を順次積層する以外は、実施例1と同様にして透明積層フィルム(タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム)を作製した。このバックコート層表面の最低反射率は0.8%であった。
[Comparative Example 4]
In the same manner as in Example 1, an easy-adhesion layer-laminated PET film was prepared, and the following backcoat hardcoat layer and backcoat low-refractive index layer were sequentially laminated as a backcoat layer on the B-side easy-adhesion layer. Produced a transparent laminated film (a base film of a transparent conductive film for a touch panel) in the same manner as in Example 1. The minimum reflectance of the back coat layer surface was 0.8%.

このバックコート層は、実施例1のバックコート層の上側層と下側層に概略相当する2つの層を、それぞれ別々に塗布して積層(塗り重ね)したものである。このバックコート層のバックコート用低屈折率層が実施例1の上側層に概略相当し、バックコート用ハードコート層が実施例1の下側層に概略相当する。   This back coat layer is obtained by applying two layers roughly corresponding to the upper layer and the lower layer of the back coat layer of Example 1 and laminating (coating) them separately. The back coat low refractive index layer of this back coat layer roughly corresponds to the upper layer of Example 1, and the back coat hard coat layer roughly corresponds to the lower layer of Example 1.

<バックコート用ハードコート層の積層>
下記のバックコート用ハードコート層形成用塗布液をグラビアコート法で塗布し、90℃で乾燥後、紫外線を照射し硬化させてバックコート用ハードコート層を形成した。このバックコート用ハードコート層の屈折率は1.51、厚みは800nmであった。
<Lamination of hard coat layer for back coat>
The following coating liquid for forming a backcoat hard coat layer was applied by a gravure coating method, dried at 90 ° C., and then cured by irradiation with ultraviolet rays to form a backcoat hardcoat layer. The back coat hard coat layer had a refractive index of 1.51 and a thickness of 800 nm.

<バックコート用ハードコート層形成用塗布液>
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート94質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)6質量部を有機溶剤(メチルイソブチルケトン)に分散・溶解して調製した。
<Backcoat hard coat layer forming coating solution>
94 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate as an active energy ray curable resin and 6 parts by mass of a photopolymerization initiator (“Irgacure (registered trademark) 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals) are used as an organic solvent (methyl isobutyl ketone). It was prepared by dispersing and dissolving.

<バックコート用低屈折率層の積層>
上記で形成したバックコート用ハードコート層の上に、下記のバックコート用低屈折率層形成用塗布液をグラビアコート法で塗布し、80℃で乾燥し、紫外線を照射し硬化させてバックコート用低屈折率層を形成した。このバックコート用低屈折率層の屈折率は1.35、厚みは100nmであった。また、バックコート用低屈折率層におけるシリカ粒子の面積比率は75%であった。
<Lamination of low refractive index layer for back coat>
The following coating liquid for forming a low refractive index layer for back coating is applied by the gravure coating method on the hard coating layer for back coating formed above, dried at 80 ° C., cured by irradiation with ultraviolet rays, and back coating. A low refractive index layer was formed. The back coating low refractive index layer had a refractive index of 1.35 and a thickness of 100 nm. Further, the area ratio of the silica particles in the low refractive index layer for the back coat was 75%.

<バックコート用低屈折率層形成用塗布液>
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート47質量部、中空シリカ粒子のイソプロピルアルコール分散物(日揮触媒化成(株)製の中空シリカ:固形分濃度20質量%、平均粒子径50nm)を固形分換算で50質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)3質量部を有機溶剤(メチルイソブチルケトン)に分散・溶解して調製した。
<Liquid for forming low refractive index layer for back coat>
As active energy ray-curable resin, 47 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, isopropyl alcohol dispersion of hollow silica particles (hollow silica manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd .: solid content concentration 20% by mass, average particle size 50 nm) are solid. It was prepared by dispersing and dissolving 50 parts by mass in terms of minutes and 3 parts by mass of a photopolymerization initiator (“Irgacure (registered trademark) 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) in an organic solvent (methyl isobutyl ketone).

<評価>
上記で作製したそれぞれの透明積層フィルムについて、全光線透過率、ブロッキング防止性、上側層と下側層の界面の有無、最低反射率、干渉縞および表面粗さRaを評価した。その結果を表1に示す。
<Evaluation>
About each transparent laminated film produced above, total light transmittance, blocking prevention property, the presence or absence of the interface of an upper layer and a lower layer, the minimum reflectance, an interference fringe, and surface roughness Ra were evaluated. The results are shown in Table 1.

Figure 2016137611
Figure 2016137611

Claims (8)

基材フィルムの一方の面(A面)に機能性層を有し、基材フィルムの他方の面(B面)にバックコート層を有する透明積層フィルムであって、バックコート層は、1つの塗布層が上側層と下側層の2層に層分離せしめられて形成されたものであり、基材フィルムの反対側にシリカ粒子を含有する上側層が形成されていることを特徴とする、透明積層フィルム。   A transparent laminated film having a functional layer on one side (A side) of a base film and a back coat layer on the other side (B side) of the base film, wherein the back coat layer is one The coating layer is formed by separating the upper layer and the lower layer into two layers, and an upper layer containing silica particles is formed on the opposite side of the base film, Transparent laminated film. 前記の塗布層が、少なくともバインダー成分とシリカ粒子を含有する、請求項1に記載の透明積層フィルム。   The transparent laminated film according to claim 1, wherein the coating layer contains at least a binder component and silica particles. 前記の塗布層が、少なくとも、バインダー成分、シリカ粒子および金属酸化物粒子を含有する、請求項1または2に記載の透明積層フィルム。   The transparent laminated film according to claim 1 or 2, wherein the coating layer contains at least a binder component, silica particles, and metal oxide particles. 前記シリカ粒子がフッ素化合物により処理されている、請求項1〜3のいずれかに記載の透明積層フィルム。   The transparent laminated film according to any one of claims 1 to 3, wherein the silica particles are treated with a fluorine compound. 前記シリカ粒子が中空シリカ粒子である、請求項1〜4のいずれかに記載の透明積層フィルム。   The transparent laminated film in any one of Claims 1-4 whose said silica particle is a hollow silica particle. 前記上側層表面の最低反射率が2.0%以下である、請求項1〜5のいずれかに記載の透明積層フィルム。   The transparent laminated film in any one of Claims 1-5 whose minimum reflectance of the said upper layer surface is 2.0% or less. 基材フィルムの一方の面(A面)に機能性層を有し、基材フィルムの他方の面(B面)にバックコート層を有する透明積層フィルムの製造方法であって、
基材フィルムの一方の面(A面)に機能性層を積層する工程、および基材フィルムの他方の面(B面)にバックコート層を積層する工程を有し、
バックコート層を積層する工程において、少なくとも、バインダー成分、フッ素化合物により処理されたシリカ粒子および溶媒を含有する塗布液を、基材フィルム上に1回塗布して1つの塗布層を形成し、この塗布層を層分離せしめて、基材フィルムの反対側にフッ素化合物により処理されたシリカ粒子を含有する上側層を形成せしめ、基材フィルム側にシリカ粒子以外の成分を主成分とする下側層を形成せしめることを特徴とする、透明積層フィルムの製造方法。
It is a method for producing a transparent laminated film having a functional layer on one side (A side) of a base film and having a back coat layer on the other side (B side) of the base film,
Having a step of laminating a functional layer on one side (A side) of the base film, and a step of laminating a backcoat layer on the other side (B side) of the base film,
In the step of laminating the back coat layer, at least a coating solution containing silica particles treated with a binder component, a fluorine compound, and a solvent is applied once onto a base film to form one coating layer. The coating layer is separated into layers, an upper layer containing silica particles treated with a fluorine compound is formed on the opposite side of the base film, and a lower layer mainly composed of components other than silica particles is formed on the base film side. A process for producing a transparent laminated film, characterized in that
前記塗布液が更に金属酸化物粒子を含有する、請求項7に記載の透明積層フィルムの製造方法。   The method for producing a transparent laminated film according to claim 7, wherein the coating solution further contains metal oxide particles.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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