JP2016081210A - Conductive laminate and touch panel prepared therewith - Google Patents

Conductive laminate and touch panel prepared therewith Download PDF

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大井 亮
Akira Oi
亮 大井
直樹 今津
Naoki Imazu
直樹 今津
渡邊 修
Osamu Watanabe
渡邊  修
高代志 桐本
Takayoshi Kirimoto
高代志 桐本
清成 前田
Kiyoshige Maeda
清成 前田
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Toray Industries Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a conductive laminate using carbon nanotubes as conductive material, the conductive laminate having a sufficiently small reflectance of a conductive layer surface.SOLUTION: A conductive laminate has, on at least one side of a base material, an undercoat layer, a carbon nanotubes layer and an overcoat layer stacked in order from the base material side, with the undercoat layer having a refractive index of 1.40 or less, and the overcoat layer having a refractive index of 1.43 or less.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、導電性材料としてカーボンナノチューブを用いた導電性積層体、およびそれを用いたタッチパネルに関する。   The present invention relates to a conductive laminate using carbon nanotubes as a conductive material, and a touch panel using the same.

携帯機器やタブレット端末等に搭載されたタッチパネルを駆動させるために、導電性積層体(導電性フィルム)が使用されている。   In order to drive a touch panel mounted on a portable device, a tablet terminal, or the like, a conductive laminate (conductive film) is used.

導電性積層体を構成する導電層に使用される導電性材料として、酸化錫をドープした酸化インジウム(ITO)やアンチモン/スズ酸化物(ATO)などの金属酸化物系、銀や銅などの金属ナノワイヤー、カーボンナノチューブなどが知られている。   As a conductive material used for the conductive layer constituting the conductive laminate, metal oxides such as indium oxide doped with tin oxide (ITO) and antimony / tin oxide (ATO), metals such as silver and copper Nanowires and carbon nanotubes are known.

導電性材料としてカーボンナノチューブを用いた導電性積層体の開発が進んでいる。カーボンナノチューブからなる導電層は、ウェットコーティングが可能であり、簡易なプロセスで製造できるという利点、およびカーボンナノチューブは屈曲性に富むため柔軟な基材上にカーボンナノチューブからなる導電層を設けることにより屈曲性にすぐれた導電性積層体が得られるという利点がある。   Development of a conductive laminate using carbon nanotubes as a conductive material is in progress. Conductive layers composed of carbon nanotubes can be wet-coated, and can be manufactured by a simple process. Since carbon nanotubes are highly flexible, they can be bent by providing a conductive layer composed of carbon nanotubes on a flexible substrate. There is an advantage that a conductive laminate having excellent properties can be obtained.

カーボンナノチューブを用いた導電性積層体において、導電性積層体の透過率を高くするために、導電性積層体表面の反射率を小さくすることが提案されている(特許文献1、2)。   In the conductive laminate using carbon nanotubes, in order to increase the transmittance of the conductive laminate, it has been proposed to reduce the reflectance of the surface of the conductive laminate (Patent Documents 1 and 2).

また、基材とカーボンナノチューブ層との間にアンダーコート層を設けることが提案されている(特許文献3〜5)。   Moreover, providing an undercoat layer between a base material and a carbon nanotube layer is proposed (patent documents 3-5).

特開2010−192186号公報JP 2010-192186 A 特開2012−66580号公報JP 2012-66580 A 特開2011−103231号公報JP 2011-103231 A 特開2014−29831号公報JP 2014-29831 A 特開2014−60158号公報JP 2014-60158 A

導電性積層体をタッチパネルに適用した場合、導電性積層体の導電層表面の反射率が高いと、タッチパネル内部の空間(空気層)の存在により、導電性積層体表面(導電層表面)と空気層との界面反射が大きくなり、それによって、液晶等の画像表示パネルから発せられた発光画像のタッチパネル透過性が低下するという不都合が生じる場合がある。   When the conductive laminate is applied to the touch panel, if the reflectance of the conductive layer surface of the conductive laminate is high, the surface of the conductive laminate (conductive layer surface) and the air due to the presence of the space (air layer) inside the touch panel In some cases, the interface reflection with the layer becomes large, which may cause a disadvantage that the touch panel transparency of a light emitting image emitted from an image display panel such as a liquid crystal is lowered.

従って、本発明の目的は、導電性材料としてカーボンナノチューブを用いた導電性積層体において、導電層表面の反射率を十分に小さくした導電性積層体およびそれを用いてなるタッチパネルを提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a conductive laminate using a carbon nanotube as a conductive material, and a conductive laminate in which the reflectance of the surface of the conductive layer is sufficiently reduced, and a touch panel using the same. is there.

本発明の上記目的は、以下の発明によって基本的に達成された。
[1]基材の少なくとも一方の面に、基材側から順に、アンダーコート層、カーボンナノチューブ層およびオーバーコート層が積層された導電性積層体であって、アンダーコート層の屈折率が1.40以下、オーバーコート層の屈折率が1.43以下であることを特徴とする、導電性積層体。
[2]アンダーコート層、カーボンナノチューブ層およびオーバーコート層の合計の厚みが75〜125nmである、[1]に記載の導電性積層体。
[3]基材の屈折率が1.61〜1.70である、[1]または[2]に記載の導電性積層体。
[4]基材がポリエチレンテレフタレートフィルムである、[3]に記載の導電性積層体。
[5]基材とアンダーコート層との間に、屈折率が1.55〜1.70である樹脂層を有する、[4]に記載の導電性積層体。
[6]樹脂層の屈折率が1.61〜1.70である、[5]に記載の導電性積層体。
[7][1]〜[6]のいずれかに記載の導電性積層体を用いたタッチパネル。
The above object of the present invention has been basically achieved by the following invention.
[1] A conductive laminate in which an undercoat layer, a carbon nanotube layer, and an overcoat layer are laminated in order from the substrate side on at least one surface of the substrate, and the refractive index of the undercoat layer is 1. A conductive laminate having a refractive index of 40 or less and an overcoat layer of 1.43 or less.
[2] The conductive laminate according to [1], wherein the total thickness of the undercoat layer, the carbon nanotube layer, and the overcoat layer is 75 to 125 nm.
[3] The conductive laminate according to [1] or [2], wherein the base material has a refractive index of 1.61 to 1.70.
[4] The conductive laminate according to [3], wherein the substrate is a polyethylene terephthalate film.
[5] The conductive laminate according to [4], having a resin layer having a refractive index of 1.55 to 1.70 between the base material and the undercoat layer.
[6] The conductive laminate according to [5], wherein the resin layer has a refractive index of 1.61 to 1.70.
[7] A touch panel using the conductive laminate according to any one of [1] to [6].

本発明によれば、反射率が十分に小さい導電性積層体を提供することができる。また、本発明の導電性積層体を用いたタッチパネルは、画像表示パネルから発せられた発光画像のタッチパネル透過性の低下を抑制することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a conductive laminate having a sufficiently low reflectance. Moreover, the touch panel using the electroconductive laminated body of this invention can suppress the fall of the touch panel transparency of the luminescent image emitted from the image display panel.

図1は本発明の導電性積層体を用いたタッチパネルの一例を示す模式断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a touch panel using the conductive laminate of the present invention.

本発明にかかる導電性積層体は、基材の少なくとも一方の面に、基材側から順に、アンダーコート層、カーボンナノチューブ層およびオーバーコート層が積層された導電性積層体であり、かかる導電性積層体の特徴的な構成は、アンダーコート層の屈折率が1.40以下、およびオーバーコート層の屈折率が1.43以下である。   The conductive laminate according to the present invention is a conductive laminate in which an undercoat layer, a carbon nanotube layer, and an overcoat layer are laminated in order from the substrate side on at least one surface of the substrate. The characteristic structure of the laminate is that the refractive index of the undercoat layer is 1.40 or less, and the refractive index of the overcoat layer is 1.43 or less.

本発明にかかる導電性積層体は、上記の特徴的な構成を組み合わせることによって、導電性積層体表面の反射率を小さくすることができる。   The conductive laminate according to the present invention can reduce the reflectance of the surface of the conductive laminate by combining the above-described characteristic configurations.

本発明にかかる導電性積層体において、アンダーコート層、カーボンナノチューブ層およびオーバーコート層の合計の厚みは、75〜125nmであることが好ましく、80〜120nmであることがより好ましく、85〜115nmであることが特に好ましい。これにより、導電性積層体表面の反射率をさらに低下させることができる。   In the conductive laminate according to the present invention, the total thickness of the undercoat layer, the carbon nanotube layer, and the overcoat layer is preferably 75 to 125 nm, more preferably 80 to 120 nm, and 85 to 115 nm. It is particularly preferred. Thereby, the reflectance of the electroconductive laminated body surface can further be reduced.

また、本発明にかかる導電性積層体において、屈折率が1.61〜1.70である基材を用いることが好ましい。これにより、導電性積層体表面の反射率をさらに低下させることができる。   Moreover, in the electroconductive laminated body concerning this invention, it is preferable to use the base material whose refractive index is 1.61-1.70. Thereby, the reflectance of the electroconductive laminated body surface can further be reduced.

本発明において、カーボンナノチューブ層とその上に積層されるオーバーコート層とを合わせて導電層ということがある。   In the present invention, the carbon nanotube layer and the overcoat layer laminated thereon may be collectively referred to as a conductive layer.

本発明において、導電性積層体表面(導電層表面)の反射率(視感反射率)は、1.7%未満であることが好ましく、1.5%未満であることがより好ましく、さらに1.4%未満であることが好ましく、特に1.3%未満であることが好ましい。下限の反射率(視感反射率)は、特に限定されないが、現実的には0.1%程度である。   In the present invention, the reflectance (luminous reflectance) of the conductive laminate surface (conductive layer surface) is preferably less than 1.7%, more preferably less than 1.5%, and further 1 Is preferably less than 4%, particularly preferably less than 1.3%. The lower limit reflectance (luminous reflectance) is not particularly limited, but is practically about 0.1%.

上記したような反射率を低下させた本発明の導電性積層体をタッチパネル(例えば、抵抗膜式タッチパネル)に用いることにより、タッチパネル内に存在する空間(空気層)と導電性積層体表面(導電層表面)との界面反射が低減し、その結果、液晶や有機EL(Electro-Luminescence)等の表示パネルから発光されてタッチパネルを透過する光量の低下が抑制される。つまり、タッチパネルを透過する光量を比較的多くすることができる。   By using the conductive laminate of the present invention with reduced reflectance as described above for a touch panel (for example, a resistive touch panel), the space (air layer) present in the touch panel and the surface of the conductive laminate (conductive) Interfacial reflection with the surface of the layer is reduced, and as a result, a decrease in the amount of light emitted from a display panel such as liquid crystal or organic EL (Electro-Luminescence) and transmitted through the touch panel is suppressed. That is, the amount of light transmitted through the touch panel can be relatively increased.

以下、本発明の導電性積層体を構成する各構成要素について詳細に説明する。   Hereinafter, each component which comprises the electroconductive laminated body of this invention is demonstrated in detail.

[基材]
本発明に用いられる基材としては、樹脂基材やガラス板などを挙げることができる。樹脂基材としては、比較的厚みが小さく(例えば厚みが250μm以下)、ロール状に巻き取りが可能な樹脂フィルム、あるいは厚みが比較的大きい樹脂基板(例えば厚みが250μm超)を用いることができる。上記した基材の中でも、導電性積層体の生産性の観点から、樹脂フィルムが好ましく用いられる。
[Base material]
Examples of the substrate used in the present invention include a resin substrate and a glass plate. As the resin base material, a resin film having a relatively small thickness (for example, a thickness of 250 μm or less) and capable of being wound in a roll shape, or a resin substrate having a relatively large thickness (for example, a thickness of more than 250 μm) can be used. . Among the above-described substrates, a resin film is preferably used from the viewpoint of productivity of the conductive laminate.

樹脂フィルムや樹脂基材を構成する樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)などのポリエステル、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、アラミド、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリ乳酸、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、脂環式アクリル樹脂、シクロオレフィン樹脂、トリアセチルセルロースなどを挙げることができる。   Examples of the resin constituting the resin film and resin substrate include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), polyimide, polyphenylene sulfide, aramid, polypropylene, polyethylene, polylactic acid, polyvinyl chloride, polycarbonate, poly Examples include methyl methacrylate, alicyclic acrylic resin, cycloolefin resin, and triacetyl cellulose.

ガラス板のガラスとしては、通常のソーダガラスを用いることができる。   As the glass of the glass plate, ordinary soda glass can be used.

本発明にかかる基材としては、導電性積層体表面の反射率を小さくするという観点から、屈折率が1.61〜1.70である基材が好ましく用いられる。かかる基材としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム)が好ましく用いられる。   As the substrate according to the present invention, a substrate having a refractive index of 1.61-1.70 is preferably used from the viewpoint of reducing the reflectance of the surface of the conductive laminate. As such a base material, a polyethylene terephthalate film (PET film) is preferably used.

また、ポリエチレンテレフタレートフィルムの中でも、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(二軸延伸PETフィルム)は、屈折率が比較的高く、引っ張り強度、耐熱性、耐溶剤性、透明性などの特性に優れていることから、本発明にかかる導電性積層体の基材として有用である。   Among polyethylene terephthalate films, biaxially stretched polyethylene terephthalate film (biaxially stretched PET film) has a relatively high refractive index and excellent properties such as tensile strength, heat resistance, solvent resistance, and transparency. Therefore, it is useful as a base material for the conductive laminate according to the present invention.

基材の屈折率は、導電性積層体表面の反射率を小さくするという観点から、1.62以上が好ましく、1.63以上がより好ましく、1.64以上が特に好ましい。基材の屈折率の上限は、導電性積層体の色相や干渉縞等の観点から、1.69以下が好ましく、1.68以下が好ましい。   The refractive index of the substrate is preferably 1.62 or more, more preferably 1.63 or more, and particularly preferably 1.64 or more from the viewpoint of reducing the reflectance of the surface of the conductive laminate. The upper limit of the refractive index of the substrate is preferably 1.69 or less, and more preferably 1.68 or less, from the viewpoints of the hue and interference fringes of the conductive laminate.

基材は、前述したようにフィルム状であることが好ましく、樹脂フィルムの厚みは20〜250μmの範囲が適当であるが、剛性、強度、加工性等の観点から、50μm以上が好ましく、75μm以上がより好ましい。樹脂フィルムの上限の厚みは、ある程度の柔軟性を確保するという観点および加工性の観点から、250μm以下が好ましく、200μm以下がより好ましい。   The base material is preferably in the form of a film as described above, and the resin film thickness is suitably in the range of 20 to 250 μm. From the viewpoint of rigidity, strength, workability, etc., 50 μm or more is preferable, and 75 μm or more. Is more preferable. The upper limit thickness of the resin film is preferably 250 μm or less, more preferably 200 μm or less, from the viewpoint of securing a certain degree of flexibility and the workability.

基材としてポリエチレンテレフタレートフィルムを用いる場合は、ポリエチレンテレフタレートフィルムとアンダーコート層との密着性を向上させるために、ポリエチレンテレフタレートフィルムのアンダーコート層が設けられる面に、後述する樹脂層が設けられていることが好ましい。   When a polyethylene terephthalate film is used as a substrate, a resin layer to be described later is provided on the surface of the polyethylene terephthalate film on which the undercoat layer is provided in order to improve the adhesion between the polyethylene terephthalate film and the undercoat layer. It is preferable.

[アンダーコート層]
本発明にかかるアンダーコート層は、その屈折率が1.40以下である。アンダーコート層の屈折率は、導電性積層体表面の反射率を小さくするという観点から、1.38以下が好ましく、1.37以下がより好ましく、1.36以下が特に好ましい。アンダーコート層の屈折率の下限は、特に限定されないが、現実的には1.20程度である。
[Undercoat layer]
The undercoat layer according to the present invention has a refractive index of 1.40 or less. The refractive index of the undercoat layer is preferably 1.38 or less, more preferably 1.37 or less, and particularly preferably 1.36 or less, from the viewpoint of reducing the reflectance of the conductive laminate surface. The lower limit of the refractive index of the undercoat layer is not particularly limited, but is practically about 1.20.

屈折率が1.40以下であるアンダーコート層を形成するために、アンダーコート層はシリカ粒子を含有することが好ましい。かかるシリカ粒子の平均粒子径は、5〜70nmの範囲が好ましく、7〜60nmの範囲がより好ましく、10〜50nmの範囲が特に好ましい。   In order to form an undercoat layer having a refractive index of 1.40 or less, the undercoat layer preferably contains silica particles. The average particle diameter of such silica particles is preferably in the range of 5 to 70 nm, more preferably in the range of 7 to 60 nm, and particularly preferably in the range of 10 to 50 nm.

このようなシリカ粒子として、コロイダルシリカ、内部に空洞を有するシリカ粒子(中空シリカ)が好ましく用いられる。   As such silica particles, colloidal silica and silica particles having a cavity inside (hollow silica) are preferably used.

コロイダルシリカは、市販品を用いることができる。例えば、日産化学工業(株)の「スノーテックス」や「オルガノシリカゾル」、日揮触媒化成(株)の「CATAROID」が挙げられる。   A commercial item can be used for colloidal silica. For example, “Snowtex” and “organosilica sol” of Nissan Chemical Industries, Ltd. and “CATAROID” of JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd. can be mentioned.

内部に空洞を有するシリカ粒子とは、外殻によって包囲された空洞部を有するシリカ粒子である。内部に空洞を有するシリカ粒子における空洞の占める体積、すなわち粒子の空隙率としては、5%以上が好ましく、10%以上がより好ましく、30%以上がさらに好ましい。上限の空隙率は70%以下が好ましい。このような内部に空洞を有すシリカ粒子は、例えば特開2001−233611号公報の[0033]〜[0046]段落に記載された方法や、特許第3272111号公報の[0043]段落に記載された方法で製造することができる。また、一般に市販されているものも使用することができる。   The silica particle having a cavity inside is a silica particle having a cavity part surrounded by an outer shell. The volume occupied by the cavities in the silica particles having cavities therein, that is, the porosity of the particles is preferably 5% or more, more preferably 10% or more, and even more preferably 30% or more. The upper limit porosity is preferably 70% or less. Such silica particles having cavities are described in, for example, the method described in paragraphs [0033] to [0046] of JP-A-2001-233611 and paragraph [0043] of Japanese Patent No. 3272111. Can be manufactured by the following methods. Moreover, what is generally marketed can also be used.

アンダーコート層は、さらに、親水性である有機あるいは無機のバインダーを含有することが好ましい。   The undercoat layer preferably further contains a hydrophilic organic or inorganic binder.

親水性有機バインダーとしては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルソース、アルギン酸ナトリウム、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリアルキレンオキサイド、デンプン、デキストラン、ゼラチン、およびそれらの変性物を挙げることができる。   Examples of the hydrophilic organic binder include polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, methyl cellulose, carboxymethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, hydroxypropyl cell source, sodium alginate, ethylene-vinyl alcohol copolymer, polyalkylene oxide, starch, dextran, gelatin, and Those modified products can be mentioned.

親水性無機バインダーとしては、例えば、加水分解性シラン誘導体、加水分解性シラン誘導体の加水分解物、加水分解性シラン誘導体の加水分解物の縮合物などが挙げられる。   Examples of the hydrophilic inorganic binder include a hydrolyzable silane derivative, a hydrolyzate of the hydrolyzable silane derivative, and a condensate of the hydrolyzate of the hydrolyzable silane derivative.

加水分解性シラン誘導体としては、例えばアルコキシシランが挙げられる。かかるアルコキシシランとしては、例えば、テトラアルコキシシラン、トリアルコキシシラン、ジアルコキシシランが挙げられる。   Examples of the hydrolyzable silane derivative include alkoxysilane. Examples of such alkoxysilanes include tetraalkoxysilane, trialkoxysilane, and dialkoxysilane.

以下、本発明に用いることができるアルコキシシランを例示する。   Hereinafter, alkoxysilanes that can be used in the present invention are exemplified.

テトラアルコキシシランとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、トリエトキシメトキシシラン、ジエトキシジメトキシシラン、トリメトキシエトキシシランなどが挙げられる。   Examples of the tetraalkoxysilane include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, triethoxymethoxysilane, diethoxydimethoxysilane, and trimethoxyethoxysilane.

トリアルコキシシランとしては、例えば、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、ペンチルトリメトキシシラン、ペンチルトリエトキシシラン、ヘプチルトリメトキシシラン、ヘプチルトリエトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、ドデシルトリエトキシシラン、ヘキサデシルトリメトキシシラン、ヘキサデシルトリエトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3,4−エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシランなどが挙げられる。   Examples of trialkoxysilanes include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, propyltrimethoxysilane, propyltriethoxysilane, butyltrimethoxysilane, butyltriethoxysilane, and pentyltrisilane. Methoxysilane, pentyltriethoxysilane, heptyltrimethoxysilane, heptyltriethoxysilane, octyltrimethoxysilane, octyltriethoxysilane, dodecyltrimethoxysilane, dodecyltriethoxysilane, hexadecyltrimethoxysilane, hexadecyltriethoxysilane, Octadecyltrimethoxysilane, octadecyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, vinyl Methoxysilane, vinyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxy Examples thereof include silane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, and 3,4-epoxycyclohexylethyltrimethoxysilane.

ジアルコキシシランとしては、例えば、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジエトキシシランなどが挙げられる。   Examples of dialkoxysilane include dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, and diethyldiethoxysilane.

上記したアルコキシシランの中でも、比較的良好な膜強度が得られるという観点から、テトラアルコキシシランが好ましく、さらにテトラメトキシシラン(メチルシリケート)、テトラエトキシシラン(エチルシリケート)が好ましく用いられる。   Among the above alkoxysilanes, tetraalkoxysilane is preferable from the viewpoint that relatively good film strength can be obtained, and tetramethoxysilane (methyl silicate) and tetraethoxysilane (ethyl silicate) are preferably used.

上述したアルコキシシランは、それぞれ単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。   The above alkoxysilanes may be used alone or in combination of two or more.

加水分解性シラン誘導体(アルコキシシラン)の加水分解物は、上述した加水分解性シラン誘導体(アルコキシシラン)が、水の存在下に加水分解されて生成する化合物である。   A hydrolyzate of a hydrolyzable silane derivative (alkoxysilane) is a compound produced by hydrolysis of the hydrolyzable silane derivative (alkoxysilane) described above in the presence of water.

加水分解性シラン化合物(アルコキシシラン)の加水分解物の縮合物は、上述した加水分解性シラン化合物(アルコキシシラン)が、水の存在下に加水分解された後、縮合して生成する化合物である。このような縮合物としては、GPC法によるポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)が、例えば1,000〜10,000程度の縮合物が好ましく用いられる。   The condensate of a hydrolyzate of a hydrolyzable silane compound (alkoxysilane) is a compound formed by condensation after the hydrolyzable silane compound (alkoxysilane) described above is hydrolyzed in the presence of water. . As such a condensate, a condensate having a polystyrene-equivalent weight average molecular weight (Mw) of, for example, about 1,000 to 10,000 is preferably used.

加水分解の反応は、公知の方法により行うことができる。例えばアルコキシシランを大量のアルコール溶媒(例えばメチルアルコールやエチルアルコールなど)に入れ、水と酸触媒(塩酸、硝酸など)の存在下、所定温度で所定時間反応させる。この反応によりアルコキシシランは加水分解し、続いて縮合反応が起こり、加水分解物および/またはその縮合物が得られる。   The hydrolysis reaction can be performed by a known method. For example, alkoxysilane is placed in a large amount of alcohol solvent (for example, methyl alcohol or ethyl alcohol), and reacted at a predetermined temperature for a predetermined time in the presence of water and an acid catalyst (hydrochloric acid, nitric acid, etc.). By this reaction, the alkoxysilane is hydrolyzed, followed by a condensation reaction, whereby a hydrolyzate and / or a condensate thereof is obtained.

上記したアルコキシシラン、アルコキシランの加水分解物、およびアルコキシシランの加水分解物の縮合物は、例えば、市場から入手することもできる。市販例としては、例えばコルコート社製の「コルコート」シリーズが挙げられる。   The above alkoxysilane, alkoxysilane hydrolyzate, and alkoxysilane hydrolyzate condensate can also be obtained from the market, for example. Examples of commercially available products include the “Colcoat” series manufactured by Colcoat.

アンダーコート層は、屈折率を小さくするという観点から、上述のシリカ粒子と親水性無機バインダーを含有することが好ましい。   The undercoat layer preferably contains the above-described silica particles and a hydrophilic inorganic binder from the viewpoint of reducing the refractive index.

また、アンダーコート層の屈折率をさらに小さくするという観点から、アンダーコート層内部に微細な空隙(ミクロボイド)を形成せしめることが好ましい。微細空隙は、シリカ粒子の内部および/またはシリカ粒子間(シリカ粒子とシリカ粒子の間)に存在させることができる。前者の空隙は、シリカ粒子として前述の内部に空洞を有するシリカ粒子(中空シリカ)を用いることによって微細空隙をシリカ粒子内部に存在させることができる。   From the viewpoint of further reducing the refractive index of the undercoat layer, it is preferable to form fine voids (microvoids) inside the undercoat layer. The fine voids can be present inside the silica particles and / or between the silica particles (between the silica particles and the silica particles). As for the former voids, fine voids can be present inside the silica particles by using the silica particles having the above-described voids (hollow silica) as the silica particles.

後者の空隙は、シリカ微粒子および親水性無機バインダーを含有する組成物でアンダーコート層を形成し、アンダーコート層の形成に際し、シリカ微粒子と親水性無機バインダーとの含有比率を調整することによって粒子間に微細空隙を存在(形成)することができる。粒子間に有効な微細空隙を存在(形成)させるには、シリカ粒子の含有量(A)と親水性無機バインダーの含有量(B)との質量比(A/B)は、0.4以上が好ましく、0.6以上がより好ましく、さらに0.8以上が好ましく、特に1.0以上が好ましい。一方、上記質量比(A/B)が小さくなりすぎると、アンダーコート層の膜強度が低下することがあるので、上限の質量比(A/B)は、30以下が適当であり、20以下が好ましく、10以下が特に好ましい。   The latter void is formed between the particles by forming an undercoat layer with a composition containing silica fine particles and a hydrophilic inorganic binder, and adjusting the content ratio of the silica fine particles and the hydrophilic inorganic binder when forming the undercoat layer. Fine voids can be present (formed) on the surface. In order to allow (form) effective fine voids between the particles, the mass ratio (A / B) of the silica particle content (A) and the hydrophilic inorganic binder content (B) is 0.4 or more. Is preferably 0.6 or more, more preferably 0.8 or more, and particularly preferably 1.0 or more. On the other hand, if the mass ratio (A / B) becomes too small, the film strength of the undercoat layer may decrease, so the upper limit mass ratio (A / B) is suitably 30 or less, and 20 or less. Is preferable, and 10 or less is particularly preferable.

アンダーコート層は親水性であることが好ましい。アンダーコート層の上に積層されるカーボンナノチューブ層の塗布組成物(分散液)は、後述するように水系であることが好ましく、カーボンナノチューブ層の塗布性や密着性を向上させるという観点から、アンダーコート層は親水性であることが好ましい。また、親水性であるアンダーコート層は、カーボンナノチューブ層中に含まれる分散剤(絶縁性物質)を優先的に吸着してカーボンナノチューブ層の導電性を向上させることができる。   The undercoat layer is preferably hydrophilic. The coating composition (dispersion) of the carbon nanotube layer laminated on the undercoat layer is preferably water-based as described later, and from the viewpoint of improving the coating property and adhesion of the carbon nanotube layer, The coat layer is preferably hydrophilic. The hydrophilic undercoat layer can preferentially adsorb the dispersant (insulating substance) contained in the carbon nanotube layer to improve the conductivity of the carbon nanotube layer.

親水性であるアンダーコート層は、上述したように、シリカ粒子と親水性である無機バインダーあるいは有機バインダーを含有する塗布組成物を塗布することによって形成することができる。   As described above, the hydrophilic undercoat layer can be formed by applying a coating composition containing silica particles and a hydrophilic inorganic or organic binder.

アンダーコート層の厚みは、前述したようにアンダーコート層、カーボンナノチューブ層およびオーバーコート層の合計厚みが75〜125nmの範囲となるように調整されることが好ましい。   As described above, the thickness of the undercoat layer is preferably adjusted so that the total thickness of the undercoat layer, the carbon nanotube layer, and the overcoat layer is in the range of 75 to 125 nm.

アンダーコート層の厚みは、導電性積層体表面の反射率を小さくするという観点、およびカーボンナノチューブ層の塗布性向上やカーボンナノチューブ層に含まれる分散剤の吸着機能の発現という観点から、具体的には15〜65nmの範囲が好ましく、20〜60nmの範囲がより好ましく、さらに25〜55nmの範囲が好ましく、特に30〜50nmの範囲が好ましい。   The thickness of the undercoat layer is specifically determined from the viewpoint of reducing the reflectivity of the surface of the conductive laminate, and from the viewpoint of improving the coating properties of the carbon nanotube layer and developing the adsorption function of the dispersant contained in the carbon nanotube layer. Is preferably in the range of 15 to 65 nm, more preferably in the range of 20 to 60 nm, further preferably in the range of 25 to 55 nm, and particularly preferably in the range of 30 to 50 nm.

アンダーコート層は、ウェットコーティング法により塗布することができる。ウェットコーティング法としては、キャストコート法、ディップコート法、スピンコート法、ナイフコート法、キスコート法、ロールコート法、グラビアコート法、スロットダイコート法、バーコート法等が挙げられる。   The undercoat layer can be applied by a wet coating method. Examples of the wet coating method include cast coating, dip coating, spin coating, knife coating, kiss coating, roll coating, gravure coating, slot die coating, and bar coating.

[カーボンナノチューブ層]
本発明にかかるカーボンナノチューブ層は、少なくともカーボンナノチューブを含有する層である。
[Carbon nanotube layer]
The carbon nanotube layer according to the present invention is a layer containing at least carbon nanotubes.

カーボンナノチューブは、実質的にグラファイトの1枚面を巻いて筒状にした形状を有するものであれば特に限定されず、グラファイトの1枚面を1層に巻いた単層カーボンナノチューブ、多層に巻いた多層カーボンナノチューブを適用できる。これらの中でも、グラファイトの1枚面を二層に巻いた二層カーボンナノチューブが、導電性ならびに分散液中でのカーボンナノチューブの分散性が高くなることから好ましい。   The carbon nanotube is not particularly limited as long as it has a shape obtained by winding one surface of graphite into a cylindrical shape. Single-walled carbon nanotubes in which one surface of graphite is wound in one layer, wound in multiple layers. Multi-walled carbon nanotubes can be applied. Among these, double-walled carbon nanotubes in which one surface of graphite is wound in two layers are preferable because of high conductivity and dispersibility of the carbon nanotubes in the dispersion.

カーボンナノチューブは、直径が0.3〜20nm、長さが0.1〜20μm程度のものが好ましく用いられる。特に、導電層の透明性を高め、表面抵抗を低下させるという観点から、カーボンナノチューブの直径は1〜10nmでかつ長さは1〜10μmであることが好ましい。   A carbon nanotube having a diameter of about 0.3 to 20 nm and a length of about 0.1 to 20 μm is preferably used. In particular, from the viewpoint of increasing the transparency of the conductive layer and reducing the surface resistance, the carbon nanotubes preferably have a diameter of 1 to 10 nm and a length of 1 to 10 μm.

カーボンナノチューブは、例えば次のように製造される。マグネシアに鉄を担持した粉末状の触媒を、縦型反応器中、反応器の水平断面方向全面に存在させ、該反応器内にメタンを鉛直方向に供給し、メタンと前記触媒を500〜1,200℃で接触させ、カーボンナノチューブを製造した後、カーボンナノチューブを酸化処理することにより、単層〜5層のカーボンナノチューブを含有するカーボンナノチューブを得ることができる。   For example, the carbon nanotube is manufactured as follows. A powdery catalyst in which iron is supported on magnesia is present in the entire horizontal cross-sectional direction of the reactor in a vertical reactor, and methane is supplied in the vertical direction into the reactor. The carbon nanotubes containing single- to five-layer carbon nanotubes can be obtained by contacting the carbon nanotubes at 200 ° C. to produce carbon nanotubes and then oxidizing the carbon nanotubes.

カーボンナノチューブは製造した後、酸化処理を施すことにより、単層〜5層の割合(特に2層〜5層の割合)を増加させることができる。酸化処理は例えば、硝酸処理する方法により行われる。硝酸はカーボンナノチューブに対するドーパントとしても作用するため、好ましい。ドーパントとは、カーボンナノチューブに余剰の電子を与える、または電子を奪ってホールを形成する作用をなすものであり、自由に動くことのできるキャリアを生じさせることにより、カーボンナノチューブの導電性を向上させるものである。硝酸処理の条件は、特に限定されないが、通常、140℃のオイルバス中で行われる。硝酸処理の時間は特に限定されないが、5〜50時間の範囲が好ましい。   Carbon nanotubes can be manufactured and then subjected to an oxidation treatment to increase the ratio of single to 5 layers (particularly, the ratio of 2 to 5 layers). The oxidation treatment is performed, for example, by a nitric acid treatment method. Nitric acid is preferable because it also acts as a dopant for the carbon nanotubes. The dopant is a function of giving a surplus electron to the carbon nanotube or taking away the electron to form a hole, thereby generating a freely movable carrier, thereby improving the conductivity of the carbon nanotube. Is. The conditions for the nitric acid treatment are not particularly limited, but are usually performed in an oil bath at 140 ° C. Although the nitric acid treatment time is not particularly limited, it is preferably in the range of 5 to 50 hours.

カーボンナノチューブ層は、カーボンナノチューブ分散液を含む塗布組成物をウェットコーティング法により塗布することによって形成することができる。ウェットコーティング法としては、例えばキャストコート法、ディップコート法、スピンコート法、ナイフコート法、キスコート法、ロールコート法、グラビアコート法、スロットダイコート法、バーコート法等が挙げられる。これらの中でも、スロットダイコート法が好ましく用いられる。   The carbon nanotube layer can be formed by applying a coating composition containing a carbon nanotube dispersion liquid by a wet coating method. Examples of the wet coating method include cast coating, dip coating, spin coating, knife coating, kiss coating, roll coating, gravure coating, slot die coating, and bar coating. Of these, the slot die coating method is preferably used.

カーボンナノチューブ分散液は、カーボンナノチューブの分散剤を含有することが好ましい。かかる分散剤としては、分散性が高いイオン性分散剤が好ましく用いられる。イオン性分散剤としては、アニオン性分散剤、カチオン性分散剤、両性分散剤が挙げられる。これらのイオン性分散剤の中でも、カーボンナノチューブの分散性および分散保持性に優れることから、アニオン性分散剤が好ましく用いられる。アニオン性分散剤の中でも、さらにカルボキシメチルセルロースおよびその塩(ナトリウム塩、アンモニウム塩等)、ポリスチレンスルホン酸の塩が、カーボンナノチューブを効率的に分散することができるので好ましい。   The carbon nanotube dispersion preferably contains a carbon nanotube dispersant. As such a dispersant, an ionic dispersant having high dispersibility is preferably used. Examples of the ionic dispersant include an anionic dispersant, a cationic dispersant, and an amphoteric dispersant. Among these ionic dispersants, anionic dispersants are preferably used because of excellent dispersibility and dispersion retention of carbon nanotubes. Among the anionic dispersants, carboxymethyl cellulose and salts thereof (sodium salt, ammonium salt, etc.) and polystyrene sulfonic acid salt are preferable because carbon nanotubes can be efficiently dispersed.

分散剤の含有量は、カーボンナノチューブの導電性を低下させずにかつ良好な分散性を確保するという観点から、カーボンナノチューブ100質量部に対して50〜1,000質量部の範囲が好ましく、100〜600質量部の範囲がより好ましく、200〜400質量部の範囲が特に好ましい。   The content of the dispersant is preferably in the range of 50 to 1,000 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the carbon nanotubes from the viewpoint of ensuring good dispersibility without reducing the conductivity of the carbon nanotubes. The range of -600 mass parts is more preferable, and the range of 200-400 mass parts is particularly preferable.

カーボンナノチューブ分散液の調製に用いる分散媒は、上記した分散剤を安全に溶解できること、廃液の処理が容易であること等の観点から、水が好ましい。   The dispersion medium used for the preparation of the carbon nanotube dispersion liquid is preferably water from the viewpoints that the above-described dispersant can be safely dissolved and that the waste liquid can be easily treated.

カーボンナノチューブ分散液は、例えば、カーボンナノチューブと分散剤とを分散媒中で混合分散機(例えばボールミル、ビーズミル、サンドミル、ロールミル、ホモジナイザー、超音波ホモジナイザー、高圧ホモジナイザー、超音波装置、アトライター、デゾルバー、ペイントシェーカー等)を用いて分散することによって調製することができる。これらの混合分散機は単独で用いてもよいし、複数の混合分散機を組み合わせて段階的に分散を行ってもよい。中でも、振動ボールミルで予備的に分散を行った後、超音波装置を用いて分散する方法が、カーボンナノチューブの分散性が良好であることから好ましい。   The carbon nanotube dispersion is, for example, a carbon nanotube and a dispersing agent mixed in a dispersion medium (for example, a ball mill, a bead mill, a sand mill, a roll mill, a homogenizer, an ultrasonic homogenizer, a high-pressure homogenizer, an ultrasonic device, an attritor, a resolver, It can be prepared by dispersing using a paint shaker or the like. These mixing and dispersing machines may be used alone or may be dispersed stepwise by combining a plurality of mixing and dispersing machines. Among them, a method of preliminarily dispersing with a vibrating ball mill and then dispersing using an ultrasonic device is preferable because the dispersibility of the carbon nanotubes is good.

カーボンナノチューブを分散せしめるときのカーボンナノチューブの濃度は、分散時の処理時間が短縮できることから、0.003〜0.15質量%の範囲が好ましい。このようにして調製されたカーボンナノチューブ分散液は、さらに希釈して塗布に適した所定濃度に調整される。   The concentration of the carbon nanotubes when dispersing the carbon nanotubes is preferably in the range of 0.003 to 0.15% by mass because the treatment time at the time of dispersion can be shortened. The carbon nanotube dispersion prepared in this manner is further diluted and adjusted to a predetermined concentration suitable for coating.

カーボンナノチューブ分散液を塗布するに際し、塗布性を高めるために、カーボンナノチューブ分散液にアルコールや界面活性剤を含有させることができる。これらの中でもアルコールが好ましく、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール等の低級アルコールが好ましく用いられる。   In applying the carbon nanotube dispersion liquid, alcohol or a surfactant can be contained in the carbon nanotube dispersion liquid in order to improve the coating property. Among these, alcohol is preferable, and lower alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, propyl alcohol, and isopropyl alcohol are preferably used.

カーボンナノチューブ層におけるカーボンナノチューブの含有量は、導電性積層体の用途によって適宜設定されるが、タッチパネルの用途の場合、0.5〜20mg/mの範囲が適当であり、1〜15mg/mの範囲が好ましく、特に1〜10mg/mの範囲が好ましい。これによって、導電性積層体の高透過率を維持しながら表面抵抗値を1×10Ω/□以下とすることができる。 The content of carbon nanotubes in the carbon nanotube layer is appropriately set depending on the use of the conductive laminate, but in the case of touch panel use, a range of 0.5 to 20 mg / m 2 is appropriate, and 1 to 15 mg / m 2. The range of 2 is preferable, and the range of 1 to 10 mg / m 2 is particularly preferable. Thereby, the surface resistance value can be set to 1 × 10 4 Ω / □ or less while maintaining the high transmittance of the conductive laminate.

また、カーボンナノチューブ層の全固形分塗布量は、2〜50mg/mの範囲が適当であり、3〜30mg/mの範囲が好ましく、4〜25mg/mの範囲が好ましい。 Also, the total solid content coating amount of the carbon nanotube layer is suitably in the range of 2 to 50 mg / m 2, preferably in the range of 3 to 30 mg / m 2, the range of 4~25mg / m 2 is preferred.

上記のようにして得られたカーボンナノチューブ層の厚みは、通常、1〜20nmの範囲であるが、本発明においては、さらに2〜15nmの範囲が好ましく、特に3〜10nmの範囲が好ましい。   The thickness of the carbon nanotube layer obtained as described above is usually in the range of 1 to 20 nm, but in the present invention, the range of 2 to 15 nm is more preferable, and the range of 3 to 10 nm is particularly preferable.

[オーバーコート層]
オーバーコート層は、カーボンナノチューブ層上に塗布されて形成される。オーバーコート層は、カーボンナノチューブ層を保護する役目を有する。
[Overcoat layer]
The overcoat layer is formed by coating on the carbon nanotube layer. The overcoat layer serves to protect the carbon nanotube layer.

オーバーコート層は、その屈折率が1.43以下である。オーバーコート層の屈折率は、導電性積層体表面の反射率を低下させるという観点から、さらに1.42以下が好ましく、1.40以下がより好ましく、さらに1.38以下が好ましく、特に1.37以下が好ましい。オーバーコート層の屈折率の下限は、特に限定されないが、現実的には1.25程度である。   The overcoat layer has a refractive index of 1.43 or less. The refractive index of the overcoat layer is preferably 1.42 or less, more preferably 1.40 or less, further preferably 1.38 or less, particularly from the viewpoint of reducing the reflectance of the surface of the conductive laminate. 37 or less is preferable. The lower limit of the refractive index of the overcoat layer is not particularly limited, but is practically about 1.25.

オーバーコート層は、その屈折率を1.43以下にせしめるために、屈折率が比較的小さい材料で形成されることが好ましい。屈折率が比較的小さい材料としては、例えば、ケイ素化合物やフッ素化合物が挙げられ、これらの化合物は単独あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。   The overcoat layer is preferably formed of a material having a relatively low refractive index in order to make its refractive index 1.43 or less. Examples of the material having a relatively low refractive index include silicon compounds and fluorine compounds, and these compounds can be used alone or in combination of two or more.

ケイ素化合物としては、例えば、アルコキシシラン、アルコキシシランの加水分解物、アルコキシシランの加水分解物の縮合物、重合性官能基を有するアルコキシシラン、ポリシロキサン化合物、シリカ粒子等が挙げられ、これらの化合物は単独あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of the silicon compound include alkoxysilane, alkoxysilane hydrolyzate, alkoxysilane hydrolyzate condensate, alkoxysilane having a polymerizable functional group, polysiloxane compound, silica particles, and the like. Can be used alone or in combination of two or more.

アルコキシシランとしては、アンダーコート層に用いられるアルコキシシランと同様の化合物を用いることができる。   As alkoxysilane, the same compound as the alkoxysilane used for an undercoat layer can be used.

重合性官能基を有するアルコキシシランとして、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。   Examples of the alkoxysilane having a polymerizable functional group include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, and 3-methacryloxypropyltriethoxysilane.

ポリシロキサン化合物としては、重量平均分子量が5,000以下の化合物が好ましく、また、分子中に重合性官能基(ビニル基やアクリル基等のエチレン性不飽和基)を有する化合物が好ましい。例えば、分子の片末端もしくは両末端にアクリル基を有するポリシロキサン化合物を挙げることができる。   As the polysiloxane compound, a compound having a weight average molecular weight of 5,000 or less is preferable, and a compound having a polymerizable functional group (ethylenically unsaturated group such as vinyl group or acrylic group) in the molecule is preferable. For example, a polysiloxane compound having an acrylic group at one or both ends of the molecule can be mentioned.

シリカ粒子としては、平均粒子径が5〜100nmである粒子が好ましく、さらに平均粒子径が7〜70nmである粒子が好ましく、特に平均粒子径が10〜60nmである粒子が好ましい。シリカ粒子としては、コロイダルシリカ、内部に空洞を有するシリカ粒子(中空シリカ)が好ましく用いられる。   As the silica particles, particles having an average particle diameter of 5 to 100 nm are preferable, particles having an average particle diameter of 7 to 70 nm are preferable, and particles having an average particle diameter of 10 to 60 nm are particularly preferable. As the silica particles, colloidal silica and silica particles having a cavity inside (hollow silica) are preferably used.

フッ素化合物としては、含フッ素モノマー、含フッ素オリゴマー、含フッ素高分子化合物、含フッ素シラン化合物、フッ化マグネシウム粒子等が挙げられ、これらの化合物は単独あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。ここで、含フッ素モノマー、含フッ素オリゴマーは、分子中にビニル基やアクリル基等のエチレン性不飽和基とフッ素原子とを有するモノマーやオリゴマーである。   Examples of the fluorine compound include fluorine-containing monomers, fluorine-containing oligomers, fluorine-containing polymer compounds, fluorine-containing silane compounds, and magnesium fluoride particles. These compounds can be used alone or in combination of two or more. Here, the fluorine-containing monomer and fluorine-containing oligomer are monomers and oligomers having an ethylenically unsaturated group such as a vinyl group or an acrylic group and a fluorine atom in the molecule.

含フッ素モノマー、含フッ素オリゴマーとしては、例えば、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロブチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロオクチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロデシル)エチル(メタ)アクリレート、βー(パーフロロオクチル)エチル(メタ)アクリレートなどのフッ素含有(メタ)アクリル酸エステル類、 ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,2−トリフルオロエチルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,4,4,4−ヘキサフルオロブチルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,4,4,5,5,5−ノナフルオロペンチルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,6−ウンデカフルオロヘキシルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,7−トリデカフルオロヘプチルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−ペンタデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,9−ヘプタデカフルオロノニルエチレングリコールなどのジ−(α−フルオロアクリル酸)フルオロアルキルエステル類が挙げられる。   Examples of the fluorine-containing monomer and fluorine-containing oligomer include 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl (meth) acrylate, and 2- (perfluorobutyl). ) Ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorooctyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorodecyl) ethyl (meth) acrylate, β- (per Fluoro-containing (meth) acrylic esters such as fluorooctyl) ethyl (meth) acrylate, di- (α-fluoroacrylic acid) -2,2,2-trifluoroethylethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid) ) -2,2,3,3,3-pentafluoropropylethylene glycol, di (Α-fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,4,4,4-hexafluorobutylethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,4,4,4 5,5,5-nonafluoropentylethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,6-undecafluorohexylethylene glycol , Di- (α-fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,7-tridecafluoroheptylethylene glycol, di- (α-fluoro Acrylic acid) -2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-pentadecafluorooctylethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid) -3, 3, 4, 4, 5, 5, 6, 6, 7, 7, 8, 8, 8-tridecafluorooctylethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9 , 9-heptadecafluorononylethylene glycol and the like di- (α-fluoroacrylic acid) fluoroalkyl esters.

含フッ素高分子化合物としては、例えば、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等)、(メタ)アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えばビスコート6FM(大阪有機化学製)やM−2020(ダイキン製)等)、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等である。架橋性基付与のためのモノマーとしてはグリシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有する(メタ)アクリレートモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する(メタ)アクリレートモノマー(例えば(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、アリルアクリレート等)が挙げられる。   Examples of the fluorine-containing polymer compound include a fluorine-containing copolymer having a fluorine-containing monomer and a monomer for imparting a crosslinkable group as constituent units. Specific examples of the fluorine-containing monomer unit include, for example, fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole, etc. ), (Meth) acrylic acid partial or fully fluorinated alkyl ester derivatives (for example, Biscoat 6FM (manufactured by Osaka Organic Chemicals) and M-2020 (manufactured by Daikin)), fully or partially fluorinated vinyl ethers, and the like. As a monomer for imparting a crosslinkable group, in addition to a (meth) acrylate monomer having a crosslinkable functional group in the molecule like glycidyl methacrylate, it has a carboxyl group, a hydroxyl group, an amino group, a sulfonic acid group, etc. ) Acrylate monomers (for example, (meth) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allyl acrylate, etc.).

含フッ素シラン化合物としては、例えば、トリフルオロメチルメトキシシラン、トリフルオロメチルエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシラン等が挙げられる。   Examples of the fluorine-containing silane compound include trifluoromethylmethoxysilane, trifluoromethylethoxysilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, trifluoropropyltriethoxysilane, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, and tridecafluorooctyltrimethoxysilane. Heptadecafluorodecyltriethoxysilane, tridecafluorooctyltriethoxysilane, heptadecafluorodecylmethyldimethoxysilane, and the like.

フッ化マグネシウム粒子としては、平均粒子径が5〜100nmである粒子が好ましく、さらに平均粒子径が7〜70nmである粒子が好ましく、特に平均粒子径が10〜60nmである粒子が好ましい。   As the magnesium fluoride particles, particles having an average particle diameter of 5 to 100 nm are preferable, particles having an average particle diameter of 7 to 70 nm are preferable, and particles having an average particle diameter of 10 to 60 nm are particularly preferable.

また、オーバーコート層は、上述のケイ素化合物および/またはフッ素化合物に加えて、紫外線硬化型アクリルモノマーやオリゴマーを含有することができる。   The overcoat layer can contain an ultraviolet curable acrylic monomer or oligomer in addition to the above silicon compound and / or fluorine compound.

かかる紫外線硬化型アクリルモノマーとしては、特に限定されないが、例えば、メチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシ(メタ)アクリレート等の単官能アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ(メタ)トリアクリレート、トリメチロールプロパン(メタ)アクリル酸安息香酸エステル、トリメチロールプロパン安息香酸エステル等の多官能アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレートヘキサメチレンジイソシアネート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートヘキサメチレンジイソシアネート等のウレタンアクリレート等を挙げることができる。   The ultraviolet curable acrylic monomer is not particularly limited, and examples thereof include methyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, and phenoxyethyl (meth) acrylate. Monofunctional acrylates such as tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxy (meth) acrylate, Neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythrito Rutri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, Multifunctional acrylates such as tripentaerythritol tri (meth) acrylate, tripentaerythritol hexa (meth) triacrylate, trimethylolpropane (meth) acrylic acid benzoate, trimethylolpropane benzoate, glycerin di (meth) acrylate hexa Urethane acrylates such as methylene diisocyanate, pentaerythritol tri (meth) acrylate hexamethylene diisocyanate, etc. It can be mentioned.

紫外線硬化型オリゴマーとしては、ウレタンアクリレートオリゴマーが挙げられる。   Examples of the ultraviolet curable oligomer include urethane acrylate oligomer.

屈折率が比較的小さいオーバーコート層を形成するという観点から、オーバーコート層は以下の熱硬化性組成物から形成されることが好ましい。   From the viewpoint of forming an overcoat layer having a relatively low refractive index, the overcoat layer is preferably formed from the following thermosetting composition.

かかる熱硬化性組成物としては、例えばシリカ粒子と結合してなるシロキサンポリマーを主成分とする組成物が挙げられる。このような組成物は、詳細には、シリカ粒子のシリカ成分とマトリックスのシロキサンポリマーが反応して均質化したものであり、シリカ粒子と結合してなるシロキサンポリマーは、該シリカ粒子の存在下、多官能性シラン化合物を溶剤中、酸触媒により、公知の加水分解反応によって、一旦シラノール化合物を形成し、公知の縮合反応を利用することによって得ることができる。   Examples of such a thermosetting composition include a composition mainly composed of a siloxane polymer formed by bonding with silica particles. Specifically, such a composition is obtained by reacting and homogenizing the silica component of the silica particles and the siloxane polymer of the matrix, and the siloxane polymer bonded to the silica particles is present in the presence of the silica particles. A polyfunctional silane compound can be obtained by forming a silanol compound once by a known hydrolysis reaction in a solvent with an acid catalyst and utilizing a known condensation reaction.

上記のシリカ粒子としては、コロイダルシリカ、内部に空洞を有するシリカ粒子(中空シリカ)が好ましく、その平均粒子径は5〜100nmの範囲が好ましく、さらに7〜70nmの範囲が好ましく、特に10〜60nmの範囲が好ましい。   As the above silica particles, colloidal silica and silica particles having a cavity inside (hollow silica) are preferable, and the average particle diameter is preferably in the range of 5 to 100 nm, more preferably in the range of 7 to 70 nm, and particularly in the range of 10 to 60 nm. The range of is preferable.

上記の多官能性シラン化合物としては、前述のアルコキシシラン化合物、含フッ素シラン化合物が挙げられる。   As said polyfunctional silane compound, the above-mentioned alkoxysilane compound and fluorine-containing silane compound are mentioned.

熱硬化性組成物は、さらに硬化剤を含有することが好ましい。かかる硬化剤としては、チタニウム系、ジルコニウム系、アルミニウム系、マグネシウム系が挙げられる。これらの中でも、屈折率を比較的小さくするという観点から、屈折率の低いアルミニウム系やマグネシウム系の硬化剤が好ましい。これらの硬化剤は、金属アルコキシドにキレート化剤を反応させることにより容易に得ることができる。キレート化剤の例としては、アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、ジベンゾイルメタンなどのβ−ジケトン;アセト酢酸エチル、ベンゾイル酢酸エチルなどのβ−ケト酸エステルなどを用いることができる。   The thermosetting composition preferably further contains a curing agent. Examples of the curing agent include titanium, zirconium, aluminum, and magnesium. Among these, from the viewpoint of relatively reducing the refractive index, an aluminum-based or magnesium-based curing agent having a low refractive index is preferable. These curing agents can be easily obtained by reacting a metal alkoxide with a chelating agent. Examples of chelating agents include β-diketones such as acetylacetone, benzoylacetone, and dibenzoylmethane; β-keto acid esters such as ethyl acetoacetate and ethyl benzoylacetate.

金属キレート化合物の好ましい具体的例としては、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムモノアセチルアセテートビス(エチルアセトアセテート)、アルミニウムトリス(アセチルアセトネート)等のアルミニウムキレート化合物、エチルアセトアセテートマグネシウムモノイソプロピレート、マグネシウムビス(エチルアセトアセテート)、アルキルアセトアセテートマグネシウムモノソプロピレート、マグネシウムビス(アセチルアセトネート)等のマグネシウムキレート化合物が挙げられる。これらのうち、好ましくは、アルミニウムトリス(アセチルアセトネート)、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、マグネシウムビス(アセチルアセトネート)、マグネシウムビス(エチルアセトアセテート)であり、保存安定性、入手容易さを考慮すると、アルミニウムトリス(アセチルアセトネート)、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)が特に好ましい。   Preferable specific examples of the metal chelate compound include ethyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum tris (ethyl acetoacetate), alkyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum monoacetyl acetate bis (ethyl acetoacetate), aluminum tris (acetyl) Examples include aluminum chelate compounds such as acetonate), and magnesium chelate compounds such as ethyl acetoacetate magnesium monoisopropylate, magnesium bis (ethyl acetoacetate), alkyl acetoacetate magnesium monosopropylate, and magnesium bis (acetylacetonate). Of these, aluminum tris (acetylacetonate), aluminum tris (ethyl acetoacetate), magnesium bis (acetylacetonate), and magnesium bis (ethyl acetoacetate) are preferable, considering storage stability and availability. Then, aluminum tris (acetylacetonate) and aluminum tris (ethylacetoacetate) are particularly preferable.

オーバーコート層は、前述した組成からなる塗布組成物(塗布液)をウェットコーティング法により塗布し、乾燥、硬化(熱硬化や紫外線照射による硬化)することによって形成されることが好ましい。ウェットコーティング法としては、前述のカーボンナノチューブ層の塗布に用いられるウェットコーティング法と同様の塗布方式を用いることができる。   The overcoat layer is preferably formed by applying a coating composition (coating solution) having the above-described composition by a wet coating method, and drying and curing (thermal curing or curing by ultraviolet irradiation). As the wet coating method, a coating method similar to the wet coating method used for coating the carbon nanotube layer described above can be used.

オーバーコート層の厚みは、前述したようにアンダーコート層、カーボンナノチューブ層およびオーバーコートの合計厚みが75〜125nmの範囲となるように調整されることが好ましい。   As described above, the thickness of the overcoat layer is preferably adjusted so that the total thickness of the undercoat layer, the carbon nanotube layer, and the overcoat is in the range of 75 to 125 nm.

オーバーコート層の厚みは、導電性積層体表面の反射率を小さくするという観点、およびカーボンナノチューブを保護するという観点から、具体的には、20〜100nmの範囲が好ましく、30〜90nmの範囲がより好ましく、40〜80nmの範囲が特に好ましい。   The thickness of the overcoat layer is specifically preferably in the range of 20 to 100 nm, and in the range of 30 to 90 nm, from the viewpoint of reducing the reflectance of the surface of the conductive laminate and protecting the carbon nanotubes. More preferably, the range of 40 to 80 nm is particularly preferable.

[樹脂層]
基材としてポリエチレンテレフタレートフィルム(特に二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム)を用いる場合は、アンダーコート層との密着性を向上させるために、ポリエチレンテレフタレートフィルムとアンダーコート層との間に樹脂層を介在させることが好ましい。つまり、基材として、予め樹脂層が積層されたポリエチレンテレフタレートフィルムを用いることが好ましい。
[Resin layer]
When using a polyethylene terephthalate film (especially a biaxially stretched polyethylene terephthalate film) as the base material, a resin layer is interposed between the polyethylene terephthalate film and the undercoat layer in order to improve the adhesion to the undercoat layer. Is preferred. That is, it is preferable to use a polyethylene terephthalate film in which a resin layer is previously laminated as a base material.

樹脂層は、樹脂としてポリエステル樹脂、アクリル樹脂およびウレタン樹脂からなる群の中から選ばれる少なくとも一種の樹脂を含有することが好ましい。   The resin layer preferably contains at least one resin selected from the group consisting of a polyester resin, an acrylic resin, and a urethane resin as a resin.

樹脂層における樹脂の含有量は、樹脂層の固形分総量100質量%に対して10質量%以上が好ましく、20質量%以上がより好ましく、30質量%以上が特に好ましい。上限の含有量は90質量%以下が好ましく、80質量%以下がより好ましく、70質量%以下が特に好ましい。   The resin content in the resin layer is preferably 10% by mass or more, more preferably 20% by mass or more, and particularly preferably 30% by mass or more with respect to 100% by mass of the total solid content of the resin layer. The upper limit content is preferably 90% by mass or less, more preferably 80% by mass or less, and particularly preferably 70% by mass or less.

樹脂層は、さらに架橋剤を含有することが好ましい。樹脂層は、樹脂と架橋剤を含有する熱硬化層であることが好ましい。樹脂層をこのような熱硬化層とすることにより、基材(ポリエチレンテレフタレートフィルム)とアンダーコート層との密着性をさらに向上させることができる。樹脂層を熱硬化するときの条件(加熱温度、時間)は特に限定されないが、加熱温度は70℃以上が好ましく、100℃以上がより好ましく、150℃以上が特に好ましく、200℃以上が最も好ましい。上限は300℃以下が好ましい。加熱時間は5〜300秒の範囲が好ましく、10〜200秒の範囲がより好ましい。   The resin layer preferably further contains a crosslinking agent. The resin layer is preferably a thermosetting layer containing a resin and a crosslinking agent. By using such a thermosetting layer as the resin layer, the adhesion between the base material (polyethylene terephthalate film) and the undercoat layer can be further improved. The conditions (heating temperature, time) for thermosetting the resin layer are not particularly limited, but the heating temperature is preferably 70 ° C or higher, more preferably 100 ° C or higher, particularly preferably 150 ° C or higher, and most preferably 200 ° C or higher. . The upper limit is preferably 300 ° C. or lower. The heating time is preferably in the range of 5 to 300 seconds, and more preferably in the range of 10 to 200 seconds.

樹脂層に含有させる架橋剤としては、例えばメラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アジリジン系架橋剤、エポキシ系架橋剤が挙げられる。これらの中でも、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤が好ましく用いられる。   Examples of the crosslinking agent contained in the resin layer include a melamine crosslinking agent, an oxazoline crosslinking agent, a carbodiimide crosslinking agent, an isocyanate crosslinking agent, an aziridine crosslinking agent, and an epoxy crosslinking agent. Among these, melamine-based crosslinking agents, oxazoline-based crosslinking agents, and carbodiimide-based crosslinking agents are preferably used.

樹脂層における架橋剤の含有量は、樹脂層の固形分総量100質量%に対して、1〜40質量%の範囲が好ましく、3〜30質量%の範囲がより好ましく、5〜25質量%の範囲が特に好ましい。   The content of the crosslinking agent in the resin layer is preferably in the range of 1 to 40% by mass, more preferably in the range of 3 to 30% by mass, with respect to 100% by mass of the total solid content of the resin layer. A range is particularly preferred.

樹脂層は、さらに滑り性や耐ブロッキング性の向上のために、有機あるいは無機の粒子を含有することが好ましい。このような粒子としては、特に限定されないが、例えばシリカ、炭酸カルシウム、ゼオライト粒子などの無機粒子や、アクリル粒子、シリコーン粒子、ポリイミド粒子、テフロン(登録商標)粒子、架橋ポリエステル粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋重合体粒子、コアシェル粒子などの有機粒子が挙げられる。これらの粒子の中でも、シリカが好ましく、更にコロイダルシリカが好ましく用いられる。   The resin layer preferably contains organic or inorganic particles for further improving slipperiness and blocking resistance. Examples of such particles include, but are not limited to, inorganic particles such as silica, calcium carbonate, zeolite particles, acrylic particles, silicone particles, polyimide particles, Teflon (registered trademark) particles, crosslinked polyester particles, crosslinked polystyrene particles, Organic particles such as crosslinked polymer particles and core-shell particles may be mentioned. Among these particles, silica is preferable, and colloidal silica is more preferably used.

粒子の平均粒子径は、滑り性や耐ブロッキング性を向上させるという観点から30nm以上が好ましく、50nm以上がより好ましく、特に100nm以上が好ましい。平均粒子径の上限は500nm以下が好ましく、400nm以下がより好ましく、特に300nm以下が好ましい。   The average particle diameter of the particles is preferably 30 nm or more, more preferably 50 nm or more, and particularly preferably 100 nm or more from the viewpoint of improving slipperiness and blocking resistance. The upper limit of the average particle diameter is preferably 500 nm or less, more preferably 400 nm or less, and particularly preferably 300 nm or less.

樹脂層における粒子の含有量は、樹脂層の固形分総量100質量%に対して0.05〜8質量%の範囲が好ましく、0.1〜5質量%の範囲がより好ましい。   The content of the particles in the resin layer is preferably in the range of 0.05 to 8% by mass and more preferably in the range of 0.1 to 5% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of the resin layer.

樹脂層は、基材(ポリエチレンテレフタレートフィルム)上にウェットコーティング法により積層されることが好ましい。特に樹脂層を基材の製造工程内で積層する、いわゆる「インラインコーティング法」で積層されることが好ましい。基材上に樹脂層を塗布する際には、塗布性や密着性を向上させるための予備処理として、基材表面にコロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理等を施しておくことが好ましい。   The resin layer is preferably laminated on a base material (polyethylene terephthalate film) by a wet coating method. In particular, the resin layer is preferably laminated by a so-called “in-line coating method” in which the resin layer is laminated in the production process of the substrate. When applying a resin layer on a base material, it is preferable to perform corona discharge treatment, flame treatment, plasma treatment, etc. on the surface of the base material as a preliminary treatment for improving applicability and adhesion.

上記のウェットコーティング法としては、例えばリバースコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、スロットダイコート法、スピンコート法、エクストルージョンコート、ディップコート法等の塗布方法を用いることができる。   Examples of the wet coating method include a reverse coating method, a spray coating method, a bar coating method, a gravure coating method, a rod coating method, a slot die coating method, a spin coating method, an extrusion coating method, and a dip coating method. be able to.

インラインコーティング法について、樹脂層を有するポリエチレンテレフタレートフィルムの製造例を挙げて説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。   The in-line coating method will be described with reference to a production example of a polyethylene terephthalate film having a resin layer, but the present invention is not limited to this.

ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムの原料である極限粘度0.5〜0.8dl/gのPETペレットを真空乾燥した後、押し出し機に供給し260〜300℃で溶融し、T字型口金よりシート状に押し出し、静電印加キャスト法を用いて表面温度10〜60℃の鏡面キャスティングドラムに巻き付けて、冷却固化せしめて未延伸PETフィルムを作製する。この未延伸PETフィルムを70〜100℃に加熱されたロール間で縦方向(フィルムの進行方向を指し「長手方向」ともいう)に2.5〜5倍延伸する。この延伸で得られた一軸延伸PETフィルムの少なくとも片面に空気中でコロナ放電処理を施し、該表面の濡れ張力を47mN/m以上とし、その処理面に樹脂層形成用塗布組成物を上述の方法により塗布する。   After vacuum drying PET pellets with an intrinsic viscosity of 0.5 to 0.8 dl / g, which is a raw material for polyethylene terephthalate (PET) film, it is supplied to an extruder and melted at 260 to 300 ° C., and then in sheet form from a T-shaped die. And is wound around a mirror-casting drum having a surface temperature of 10 to 60 ° C. using an electrostatic application casting method, and is cooled and solidified to produce an unstretched PET film. This unstretched PET film is stretched 2.5 to 5 times in the longitudinal direction (referring to the traveling direction of the film and also referred to as “longitudinal direction”) between rolls heated to 70 to 100 ° C. At least one surface of the uniaxially stretched PET film obtained by this stretching is subjected to corona discharge treatment in the air, the wetting tension of the surface is set to 47 mN / m or more, and the coating composition for forming a resin layer is applied to the treated surface as described above. Apply by.

次に、塗布組成物が塗布された一軸延伸PETフィルムをクリップで把持して乾燥ゾーンに導き、一軸延伸PETフィルムのTg未満の温度で乾燥した後、Tg以上の温度に上げ、再度Tg近傍の温度で乾燥、引き続き連続的に70〜150℃の加熱ゾーンで横方向(フィルムの進行方向とは直交する方向を指し「幅方向」ともいう)に2.5〜5倍延伸し、続いて180〜240℃の加熱ゾーンで5〜40秒間熱処理を施し、結晶配向の完了したPETフィルム(二軸延伸PETフィルム)に樹脂層が積層された積層ポリエチレンテレフタレートフィルムが得られる。尚、上記熱処理中に必要に応じて3〜12%の弛緩処理を施してもよい。二軸延伸は縦、横逐次延伸あるいは同時二軸延伸のいずれでもよく、また縦、横延伸後、縦、横いずれかの方向に再延伸してもよい。   Next, the uniaxially stretched PET film coated with the coating composition is held with a clip and guided to a drying zone, dried at a temperature lower than Tg of the uniaxially stretched PET film, then raised to a temperature equal to or higher than Tg, and again near Tg. Drying at a temperature, followed by continuous stretching in a heating zone at 70 to 150 ° C. in the transverse direction (referring to a direction perpendicular to the film traveling direction, also referred to as “width direction”) 2.5 to 5 times, followed by 180 A laminated polyethylene terephthalate film in which a resin layer is laminated on a PET film (biaxially stretched PET film) in which crystal orientation is completed is obtained by performing heat treatment in a heating zone of ˜240 ° C. for 5 to 40 seconds. In addition, you may perform a 3-12% relaxation process as needed during the said heat processing. Biaxial stretching may be longitudinal, transverse sequential stretching, or simultaneous biaxial stretching, and may be re-stretched in either the longitudinal or transverse direction after longitudinal and transverse stretching.

樹脂層の屈折率は、導電性積層体表面の反射率を小さくするという観点および導電層の色調をニュートラルに近づけるという観点から、1.55〜1.70の範囲が好ましく、1.57〜1.69の範囲がより好ましい。   The refractive index of the resin layer is preferably in the range of 1.55 to 1.70, from the viewpoint of reducing the reflectance of the surface of the conductive laminate and bringing the color tone of the conductive layer closer to neutral. A range of .69 is more preferred.

特に、導電性積層体表面の反射率をさらに小さくするという観点から、樹脂層の屈折率は、1.61〜1.70の範囲が好ましく、1.62〜1.69の範囲がより好ましく、1.63〜1.67の範囲が特に好ましい。   In particular, from the viewpoint of further reducing the reflectance of the conductive laminate surface, the refractive index of the resin layer is preferably in the range of 1.61-1.70, more preferably in the range of 1.62-1.69, A range of 1.63-1.67 is particularly preferred.

上記した樹脂層の屈折率(1.55〜1.70)は、従来のポリエチレンテレフタレートフィルムに一般的に積層されている樹脂層の屈折率(1.48〜1.54)に比べて比較的高めであり、このように屈折率が比較的高い樹脂層は、例えば、高屈折率樹脂や金属酸化物粒子等の高屈折率材料を含有させることによって得ることができる。   The refractive index (1.55 to 1.70) of the resin layer described above is relatively lower than the refractive index (1.48 to 1.54) of the resin layer generally laminated on a conventional polyethylene terephthalate film. Such a resin layer having a high refractive index and a relatively high refractive index can be obtained, for example, by containing a high refractive index material such as a high refractive index resin or metal oxide particles.

高屈折率樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等の樹脂に、芳香族環、硫黄原子、臭素原子等を導入することにより高屈折率化した樹脂を挙げることができる。   Examples of the high refractive index resin include a resin having a high refractive index by introducing an aromatic ring, a sulfur atom, a bromine atom, or the like into a resin such as a polyester resin, an acrylic resin, or a urethane resin.

上記の高屈折率樹脂の中でも、分子中に縮合芳香族環を有するポリエステル樹脂が好ましく用いられる。上記縮合芳香族環としては、ナフタレン環やフルオレン環が好ましい。   Among the high refractive index resins, a polyester resin having a condensed aromatic ring in the molecule is preferably used. The condensed aromatic ring is preferably a naphthalene ring or a fluorene ring.

ポリエステル樹脂は、一般的にカルボン酸成分とグリコール成分から重縮合して得られる。上記の分子中にナフタレン環を有するポリエステル樹脂は、カルボン酸成分として、1,4−ナフタレンジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸等のナフタレン環を有するジカルボン酸を用いることによって合成することができる。分子中にナフタレン環を有するポリエステル樹脂の屈折率は、全カルボン酸成分中のナフタレン環を有するジカルボン酸の比率を調整することによって制御することができる。   The polyester resin is generally obtained by polycondensation from a carboxylic acid component and a glycol component. The polyester resin having a naphthalene ring in the molecule can be synthesized by using a dicarboxylic acid having a naphthalene ring such as 1,4-naphthalenedicarboxylic acid or 2,6-naphthalenedicarboxylic acid as a carboxylic acid component. . The refractive index of the polyester resin having a naphthalene ring in the molecule can be controlled by adjusting the ratio of the dicarboxylic acid having a naphthalene ring in the total carboxylic acid component.

分子中にフルオレン環を有するポリエステル樹脂は、カルボン酸成分および/またはグリコール成分として、フルオレン環を有する化合物を用いることによって合成することができる。上記フルオレン環を有する化合物の含有量を調整することによって該ポリエステル樹脂の屈折率を制御することができる。分子中にフルオレン環を有するポリエステル樹脂は、例えば、国際公開第2009/145075号に詳しく記載されており、それを参照して合成することができる。   The polyester resin having a fluorene ring in the molecule can be synthesized by using a compound having a fluorene ring as the carboxylic acid component and / or glycol component. The refractive index of the polyester resin can be controlled by adjusting the content of the compound having a fluorene ring. The polyester resin which has a fluorene ring in a molecule | numerator is described in detail in the international publication 2009/145075, for example, It can synthesize | combine with reference to it.

上記の高屈折率樹脂は、樹脂層を構成する全樹脂の一部もしくは全部を置き換えて用いることができる。   The high refractive index resin can be used by replacing part or all of the entire resin constituting the resin layer.

金属酸化物粒子としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチモン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム(ITO)、アンチモンドープ酸化錫(ATO)、リンドープ酸化錫、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ酸化錫等が挙げられ、これらの金属酸化物粒子は単独で用いてもよいし、複数併用してもよい。上記金属酸化物粒子の中でも、特に酸化チタンおよび酸化ジルコニウムが、透明性を低下させずに樹脂層の屈折率を高めることができるので好ましい。   Examples of the metal oxide particles include titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, antimony oxide, cerium oxide, iron oxide, zinc antimonate, tin oxide-doped indium oxide (ITO), and antimony-doped tin oxide (ATO). , Phosphorus-doped tin oxide, aluminum-doped zinc oxide, gallium-doped zinc oxide, fluorine-doped tin oxide, and the like. These metal oxide particles may be used alone or in combination. Among the metal oxide particles, titanium oxide and zirconium oxide are particularly preferable because the refractive index of the resin layer can be increased without reducing transparency.

樹脂層における金属酸化物粒子の含有量は、樹脂層の屈折率に応じて適宜調整されるが、樹脂層の固形分総量100質量%に対して10〜80質量%の範囲で調整されることが好ましく、20〜70質量%の範囲で調整されることがより好ましい。   The content of the metal oxide particles in the resin layer is appropriately adjusted according to the refractive index of the resin layer, but is adjusted in the range of 10 to 80% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of the resin layer. Is preferable, and it is more preferable to adjust in 20-70 mass%.

樹脂層が、高屈折率材料として金属酸化物粒子を含有する場合は、樹脂としてポリエステル樹脂、アクリル樹脂およびウレタン樹脂からなる群の中から選ばれる少なくとも一種の樹脂を含有することが好ましい。また、これらの樹脂の一部もしくは全部を、前述の高屈折率ポリエステル樹脂に替えて用いることが好ましく、これによって金属酸化物粒子の含有量を少なくすることができる。   When the resin layer contains metal oxide particles as a high refractive index material, the resin layer preferably contains at least one resin selected from the group consisting of a polyester resin, an acrylic resin, and a urethane resin. Moreover, it is preferable to use a part or all of these resins in place of the above-described high refractive index polyester resin, whereby the content of metal oxide particles can be reduced.

樹脂層の厚みは特に限定されないが、樹脂層の積層工程における塗布性や厚み精度、樹脂層の滑り性や耐ブロッキング性、あるいは導電性積層体の外観(色むら等)の観点から、樹脂層の厚みは、200nm未満が好ましく、120nm未満がより好ましく、50nm未満が特に好ましい。   The thickness of the resin layer is not particularly limited, but from the viewpoints of coating properties and thickness accuracy in the resin layer laminating process, slipperiness and blocking resistance of the resin layer, or appearance (color unevenness, etc.) of the conductive laminate. The thickness of is preferably less than 200 nm, more preferably less than 120 nm, and particularly preferably less than 50 nm.

樹脂層の下限の厚みは、基材とアンダーコート層との密着性を向上させるという観点から5nm以上が好ましく、10nm以上がより好ましい。   The lower limit thickness of the resin layer is preferably 5 nm or more, and more preferably 10 nm or more from the viewpoint of improving the adhesion between the substrate and the undercoat layer.

[導電性積層体]
本発明において、アンダーコート層および導電層(カーボンナノチューブ層とオーバーコート層とからなる導電層)は、基材の片面のみに設けられていてもよいし、基材の両面に設けられていてもよい。
[Conductive laminate]
In the present invention, the undercoat layer and the conductive layer (the conductive layer composed of the carbon nanotube layer and the overcoat layer) may be provided only on one side of the base material, or may be provided on both sides of the base material. Good.

また、基材の片面のみにアンダーコート層および導電層が設けられる場合、基材の反対側の面に後述のハードコート層を設けることができる。   Moreover, when an undercoat layer and a conductive layer are provided only on one side of the substrate, a hard coat layer described later can be provided on the opposite side of the substrate.

本発明の導電積層体は、タッチパネルの透明導電性フィルム(電極基板)に好適である。タッチパネルに好適に用いるためには、導電性積層体の導電層表面の表面抵抗値は低い方が駆動安定性の点から好ましい。導電性積層体の導電層表面の表面抵抗値は、具体的には10,000Ω/□以下が好ましく、5,000Ω/□以下がより好ましく、2,000Ω/□以下が特に好ましい。下限は1Ω/□程度である。   The conductive laminate of the present invention is suitable for a transparent conductive film (electrode substrate) of a touch panel. In order to use suitably for a touch panel, the surface resistance value of the surface of the conductive layer of the conductive laminate is preferably low from the viewpoint of driving stability. Specifically, the surface resistance value on the surface of the conductive layer of the conductive laminate is preferably 10,000Ω / □ or less, more preferably 5,000Ω / □ or less, and particularly preferably 2,000Ω / □ or less. The lower limit is about 1Ω / □.

[ハードコート層]
本発明の導電性積層体は、基材を挟んでアンダーコート層および導電層とは反対側の面にハードコート層を設けることができる。ハードコート層は、耐擦傷性、防汚性あるいは耐指紋性などを付与するために設けられる。また、表面に微細な凹凸を形成し防眩性を付与することもできる。ハードコート層としては、硬化した際の透明性、硬度などの特性が優れる点から、熱硬化型アクリル樹脂あるいは紫外線硬化型アクリル系樹脂が好適に用いられる。
[Hard coat layer]
In the conductive laminate of the present invention, a hard coat layer can be provided on the surface opposite to the undercoat layer and the conductive layer with the base material interposed therebetween. The hard coat layer is provided for imparting scratch resistance, antifouling property or fingerprint resistance. Further, it is possible to impart antiglare properties by forming fine irregularities on the surface. As the hard coat layer, a thermosetting acrylic resin or an ultraviolet curable acrylic resin is preferably used from the viewpoint of excellent properties such as transparency and hardness when cured.

ハードコート層の厚みは、導電性積層体に良好なカール性と耐擦傷性を付与するという観点から、0.5〜7μmの範囲が好ましく、1〜5μmの範囲がより好ましい。   The thickness of the hard coat layer is preferably in the range of 0.5 to 7 μm and more preferably in the range of 1 to 5 μm from the viewpoint of imparting good curling properties and scratch resistance to the conductive laminate.

基材にハードコート層を積層する場合、基材とハードコート層との密着性を向上させるために、基材とハードコート層との間に樹脂層を介在させることが好ましい。以下、基材とハードコート層との間に設けられる樹脂層を樹脂層Bと言う。特に、基材としてポリエチレンテレフタレートフィルム(特に二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム)を用いる場合は、ポリエチレンテレフタレートフィルムとハードコート層との間に樹脂層Bを介在させることが好ましい。   When laminating a hard coat layer on a substrate, it is preferable to interpose a resin layer between the substrate and the hard coat layer in order to improve adhesion between the substrate and the hard coat layer. Hereinafter, the resin layer provided between the base material and the hard coat layer is referred to as a resin layer B. In particular, when a polyethylene terephthalate film (especially a biaxially stretched polyethylene terephthalate film) is used as the substrate, it is preferable to interpose the resin layer B between the polyethylene terephthalate film and the hard coat layer.

基材として、屈折率が1.61〜1.70であるポリエチレンテレフタレートフィルムを用いる場合、樹脂層Bの屈折率は、1.55〜1.60であることが好ましい。   When a polyethylene terephthalate film having a refractive index of 1.61 to 1.70 is used as the substrate, the refractive index of the resin layer B is preferably 1.55 to 1.60.

ハードコート層の屈折率は、通常、1.48〜1.54の範囲であり、上記したポリエチレンテレフタレートフィルムの屈折率(1.61〜1.70)とハードコート層との屈折率差が大きいことに起因して、ハードコート層の面側に干渉縞が発生することがある。   The refractive index of the hard coat layer is usually in the range of 1.48 to 1.54, and the refractive index difference between the above-described polyethylene terephthalate film (1.61 to 1.70) and the hard coat layer is large. As a result, interference fringes may occur on the surface side of the hard coat layer.

この干渉縞の発生は、樹脂層Bの屈折率を1.55〜1.60とすることにより抑制することができる。さらに、干渉縞の発生を抑制するという観点から、樹脂層Bの屈折率は1.56〜1.59の範囲がより好ましく、1.57〜1.59の範囲が特に好ましい。   Generation | occurrence | production of this interference fringe can be suppressed by making the refractive index of the resin layer B into 1.55-1.60. Furthermore, from the viewpoint of suppressing the generation of interference fringes, the refractive index of the resin layer B is more preferably in the range of 1.56 to 1.59, and particularly preferably in the range of 1.57 to 1.59.

樹脂層Bの厚みは、干渉縞の発生を抑制するという観点から、60〜130nmの範囲が好ましく、70〜120nmの範囲が特に好ましい。   The thickness of the resin layer B is preferably in the range of 60 to 130 nm, particularly preferably in the range of 70 to 120 nm, from the viewpoint of suppressing the generation of interference fringes.

このような樹脂層B(屈折率が1.55〜1.60である樹脂層)は、前述のアンダーコート層側に設けられる樹脂層と同様の構成とすることができる。前述のアンダーコート層側に設けられる樹脂層に含有させる高屈折率樹脂あるいは金属酸化物粒子の含有量を調整することによって、樹脂層Bの屈折率を1.55〜1.60の範囲とすることができる。   Such a resin layer B (a resin layer having a refractive index of 1.55 to 1.60) can have the same configuration as the resin layer provided on the above-described undercoat layer side. By adjusting the content of the high refractive index resin or metal oxide particles contained in the resin layer provided on the undercoat layer side, the refractive index of the resin layer B is set in the range of 1.55 to 1.60. be able to.

[導電性積層体の製造方法]
本発明にかかる導電積層体は、例えば、以下の製造方法によって製造されることが好ましい。つまり、
基材の少なくとも一方の面に、基材側から順に、アンダーコート層、カーボンナノチューブ層およびオーバーコート層が積層された導電性積層体を製造するに際し、基材上に屈折率が1.40以下であるアンダーコート層形成用塗布組成物を塗布してアンダーコート層を積層する工程、このアンダーコート層上にカーボンナノチューブ層形成用塗布組成物を塗布してカーボンナノチューブ層を積層する工程、このカーボンナノチューブ層上に屈折率が1.43以下あるオーバーコート層形成用塗布組成物を塗布してオーバーコート層を積層する工程を含む、導電性積層体の製造方法である。
[Method for producing conductive laminate]
The conductive laminate according to the present invention is preferably manufactured, for example, by the following manufacturing method. That means
When producing a conductive laminate in which an undercoat layer, a carbon nanotube layer, and an overcoat layer are laminated in order from the substrate side on at least one surface of the substrate, the refractive index is 1.40 or less on the substrate. A step of applying an undercoat layer-forming coating composition and laminating an undercoat layer, a step of applying a carbon nanotube layer-forming coating composition on the undercoat layer and laminating a carbon nanotube layer, the carbon It is a manufacturing method of a conductive laminated body including the process of apply | coating the coating composition for overcoat layer formation which has a refractive index of 1.43 or less on a nanotube layer, and laminating | stacking an overcoat layer.

[導電性積層体のタッチパネルへの適用]
本発明の導電性積層体は、タッチパネル(特に抵抗膜式タッチパネル)に適用されることが好ましい。以下、本発明の導電性積層体を抵抗膜式タッチパネルに適用したときの態様例を説明する。
[Application of conductive laminate to touch panel]
The conductive laminate of the present invention is preferably applied to a touch panel (particularly a resistive film type touch panel). Hereinafter, the example of an aspect when the electroconductive laminated body of this invention is applied to a resistive film type touch panel is demonstrated.

図1は、本発明の導電性積層体を用いた抵抗膜式タッチパネルの一例を示す模式断面図である。抵抗膜式タッチパネルは、通常、上部電極を構成する導電性積層体1と下部電極を構成する導電性積層体2とが、それぞれの導電層10と導電層22が向き合うように、スペーサー3で一定の空間5を介して配置されている。抵抗膜式タッチパネルは、タッチペン4あるいは指でタッチ操作される。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a resistive film type touch panel using the conductive laminate of the present invention. The resistive touch panel is usually fixed with a spacer 3 so that the conductive laminate 1 constituting the upper electrode and the conductive laminate 2 constituting the lower electrode face each other with the conductive layer 10 and the conductive layer 22 facing each other. The space 5 is arranged. The resistive touch panel is touch-operated with the touch pen 4 or a finger.

本発明の導電性積層体は、上部電極を構成する導電性積層体1と下部電極を構成する導電性積層体2の両方に用いることができるが、少なくとも上部電極を構成する導電性積層体1に用いることが好ましい。図1は、上部電極を構成する導電性積層体1に本発明の導電性積層体を用いた態様例である。   The conductive laminate of the present invention can be used for both the conductive laminate 1 constituting the upper electrode and the conductive laminate 2 constituting the lower electrode, but at least the conductive laminate 1 constituting the upper electrode. It is preferable to use for. FIG. 1 shows an embodiment in which the conductive laminate of the present invention is used for the conductive laminate 1 constituting the upper electrode.

導電性積層体1(本発明の導電性積層体)は、基材11の一方の面(下方面)にアンダーコート層12、カーボンナノチューブ層13およびオーバーコート層14を有し、他方の面にハードコート層15を有する。導電層10は、カーボンナノチューブ層13とオーバーコート層14とからなる。   The conductive laminate 1 (the conductive laminate of the present invention) has an undercoat layer 12, a carbon nanotube layer 13 and an overcoat layer 14 on one surface (lower surface) of a substrate 11, and the other surface. A hard coat layer 15 is provided. The conductive layer 10 includes a carbon nanotube layer 13 and an overcoat layer 14.

下部電極を構成する導電性積層体2は、特に限定されないが、ここでは基材21上に導電層22が積層された導電性積層体を例示する。   The conductive laminate 2 constituting the lower electrode is not particularly limited, but here, a conductive laminate in which the conductive layer 22 is laminated on the substrate 21 is exemplified.

抵抗膜式タッチパネルは、画像表示装置(携帯機器やタブレット端末等)の画像表示パネル上に組み込まれる。図示しない画像表示パネル(液晶や有機EL)から発せられた画像(図中の「光」)はタッチパネルを介して(タッチパネルを透過して)観察者側に表示される。ここで、導電性積層体1の導電層10の表面反射率が高いと、空間(空気層)5の存在により、導電層10の表面と空気層5との界面反射が大きくなり、それによって、液晶等の画像表示パネルから発せられた光がタッチパネルを透過する際に乱反射し、タッチパネルを透過する光量が低下するという不都合が生じる場合がある。   The resistive film type touch panel is incorporated on an image display panel of an image display device (such as a portable device or a tablet terminal). An image ("light" in the figure) emitted from an image display panel (liquid crystal or organic EL) (not shown) is displayed on the viewer side via the touch panel (through the touch panel). Here, if the surface reflectance of the conductive layer 10 of the conductive laminate 1 is high, the presence of the space (air layer) 5 increases the interface reflection between the surface of the conductive layer 10 and the air layer 5, thereby There is a case in which light emitted from an image display panel such as a liquid crystal is diffusely reflected when passing through the touch panel, and the amount of light passing through the touch panel is reduced.

上記課題は、導電性積層体1として本発明の導電性積層体を用いることによって抑制される。   The said subject is suppressed by using the electroconductive laminated body of this invention as the electroconductive laminated body 1. FIG.

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。尚、本実施例における、測定方法、評価方法および使用材料を以下に示す。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited by these Examples. The measurement method, evaluation method, and materials used in this example are shown below.

[測定方法および評価方法]
(1)屈折率の測定方法
各層(樹脂層、アンダーコート層、オーバーコート層、ハードコート層)を形成するためのそれぞれの塗布組成物をシリコンウエハー上に塗布して形成された塗膜について、高速分光メーターM−2000(J.A.Woolam社製)を用い、塗膜の反射光の偏光状態の変化を入射角度60度、65度、70度で測定、解析ソフトWVASEにて、波長550nmの屈折率を計算で求めた。
[Measurement method and evaluation method]
(1) Measuring method of refractive index About the coating film formed by apply | coating each coating composition for forming each layer (resin layer, undercoat layer, overcoat layer, hard-coat layer) on a silicon wafer, Using a high-speed spectrometer M-2000 (manufactured by JA Woollam), the change in the polarization state of the reflected light of the coating film was measured at an incident angle of 60 degrees, 65 degrees, and 70 degrees, and the analysis software WVASE used a wavelength of 550 nm. The refractive index of was calculated.

また、基材の屈折率は、JIS K7105(1981)に準じてアッベ屈折率計で550nmの屈折率を測定した。   Moreover, the refractive index of the base material measured the refractive index of 550 nm with the Abbe refractometer according to JISK7105 (1981).

(2)樹脂層の厚みの測定方法
樹脂層が積層された基材(ポリエチレンテレフタレートフィルム)の断面を超薄切片に切り出し、RuO 染色、OsO 染色、あるいは両者の二重染色による染色超薄切片法により、TEM(透過型電子顕微鏡)で断面構造が目視可能な以下の条件にて観察し、その断面写真から樹脂層の厚みを測定する。厚みの測定は3箇所で行い、その平均値を厚みとした。
・測定装置:透過型電子顕微鏡(日立(株)製 H−7100FA型)
・測定条件:加速電圧 100kV
・試料調整:凍結超薄切片法
・倍率:30万倍。
(2) Measuring method of thickness of resin layer A cross section of a base material (polyethylene terephthalate film) on which a resin layer is laminated is cut into ultrathin sections and stained by RuO 4 staining, OsO 4 staining, or double staining of both. The section method is observed under the following conditions where the cross-sectional structure is visible with a TEM (transmission electron microscope), and the thickness of the resin layer is measured from the cross-sectional photograph. The thickness was measured at three locations, and the average value was taken as the thickness.
Measurement device: Transmission electron microscope (H-7100FA type, manufactured by Hitachi, Ltd.)
・ Measurement conditions: Acceleration voltage 100kV
-Sample preparation: frozen ultrathin section method-Magnification: 300,000 times.

(3)導電性積層体を構成する各層の厚みの測定方法
ハードコート層、アンダーコート層、カーボンナノチューブ層およびオーバーコート層の厚みは、導電性積層体の断面を超薄切片に切り出し、TEM(透過型電子顕微鏡)で加速電圧100kVにて観察(1〜30万倍の倍率で観察)し、その断面写真から厚みを測定する。厚みの測定はそれぞれ3箇所で行い、その平均値を厚みとした。
(3) Measuring method of thickness of each layer constituting conductive laminate The thickness of the hard coat layer, the undercoat layer, the carbon nanotube layer and the overcoat layer is obtained by cutting a cross section of the conductive laminate into ultrathin sections, Observation is performed with a transmission electron microscope) at an acceleration voltage of 100 kV (observation at a magnification of 1 to 300,000 times), and the thickness is measured from the cross-sectional photograph. The thickness was measured at three locations, and the average value was taken as the thickness.

(4)粒子の平均粒子径の測定方法
粒子を含有する層が積層されたサンプル(導電性積層体)の断面をTEM(透過型電子顕微鏡)で加速電圧100kVにて観察(1〜30万倍の倍率で観察)し、その断面写真から、無作為に選択した30個の粒子のそれぞれの最大長さを計測し、それらを相加平均した値を粒子の平均粒子径とした。
(4) Measuring method of average particle diameter of particles A cross section of a sample (conductive laminate) in which layers containing particles are laminated is observed with a TEM (transmission electron microscope) at an acceleration voltage of 100 kV (1 to 300,000 times) The maximum length of each of 30 randomly selected particles was measured from the cross-sectional photograph, and the value obtained by arithmetically averaging them was taken as the average particle diameter of the particles.

(5)視感反射率の測定方法
<試料の作成>
導電性積層体を150mm×150mmに切り出し、導電層が設けられている側とは反対側の面をサンドペーパーで粗らし、さらに黒インクで塗りつぶして測定用試料を作製した。
(5) Measuring method of luminous reflectance <Sample preparation>
The conductive laminate was cut out to 150 mm × 150 mm, the surface opposite to the side provided with the conductive layer was roughened with sandpaper, and further painted with black ink to prepare a measurement sample.

<測定>
分光光度計(島津製作所製の「UV3150PC」)を用いて、測定用試料の測定面(導電層の面)から5度の入射角で、波長380〜780nmの反射率(片面反射)を測定し、C光源における視感反射率(JIS Z8701−1999において規定されている反射の刺激値Y)を求めた。分光光度計で分光立体角を測定し、JIS Z8701−1999に従って反射率(片面光線反射)を算出した。算出式は以下の通りである。
T=K・ ∫S(λ)・y(λ)・ R(λ) ・dλ (ただし、積分区間は380〜780nm)
T:片面光線反射率
S(λ) :色の表示に用いる標準の光の分布
y(λ) :XYZ表示系における等色関数
R(λ) :分光立体角反射率。
<Measurement>
Using a spectrophotometer (“UV3150PC” manufactured by Shimadzu Corporation), the reflectance (single-sided reflection) at a wavelength of 380 to 780 nm was measured at an incident angle of 5 degrees from the measurement surface (surface of the conductive layer) of the measurement sample. The luminous reflectance of the C light source (reflection stimulation value Y defined in JIS Z8701-1999) was determined. The spectral solid angle was measured with a spectrophotometer, and the reflectance (single-sided light reflection) was calculated according to JIS Z8701-1999. The calculation formula is as follows.
T = K ∫S (λ) · y (λ) · R (λ) · dλ (however, the integration interval is 380 to 780 nm)
T: single-sided light reflectance S (λ): standard light distribution used for color display y (λ): color matching function R (λ) in XYZ display system: spectral solid angle reflectance.

(6)全線透過率の測定方法
タッチパネルの全光線透過率は、JIS−K7361(1997年)に基づき、濁度計NDH2000(日本電色工業(株)製)を用いて測定した。
(6) Measuring method of total line transmittance The total light transmittance of the touch panel was measured using a turbidimeter NDH2000 (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.) based on JIS-K7361 (1997).

[使用材料]
[樹脂層を形成するための塗布組成物]
(塗布組成物a1)
下記のナフタレン環含有のポリエステル樹脂を100質量部、メラミン系架橋剤(メチロール型メラミン系架橋剤(三和ケミカル(株)製の「ニカラック MW12LF」))を15質量部、平均粒子径が190nmのコロイダルシリカを1質量部含有する水系分散物である。この塗布組成物の屈折率(上記(1)「屈折率の測定方法」で測定された屈折率)は1.58であった。尚、以下に示す塗布組成物の屈折率は、上記と同様の測定方法で求めたものである。
[Materials used]
[Coating composition for forming resin layer]
(Coating composition a1)
100 parts by mass of the following naphthalene ring-containing polyester resin, 15 parts by mass of a melamine-based crosslinking agent (methylol-type melamine-based crosslinking agent (“Nicarac MW12LF” manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.)), and an average particle diameter of 190 nm It is an aqueous dispersion containing 1 part by mass of colloidal silica. The refractive index of this coating composition (refractive index measured by the above (1) “refractive index measurement method”) was 1.58. In addition, the refractive index of the coating composition shown below was calculated | required with the measuring method similar to the above.

<ナフタレン環含有のポリエステル樹脂>
下記の共重合組成からなるポリエステル樹脂である。
・カルボン酸成分
テレフタル酸 35モル%
2,6−ナフタレンジカルボン酸 9モル%
5−Naスルホイソフタル酸 6モル%
・グリコール成分
エチレングリコール 49モル%
ジエチレングリコール 1モル%。
<Naphthalene ring-containing polyester resin>
A polyester resin having the following copolymer composition.
・ Carboxylic acid component terephthalic acid 35mol%
2,6-Naphthalenedicarboxylic acid 9 mol%
5-Na sulfoisophthalic acid 6 mol%
・ Glycol component ethylene glycol 49 mol%
Diethylene glycol 1 mol%.

(塗布組成物a2)
上記のナフタレン環含有のポリエステル樹脂を100質量部、酸化ジルコニウムを60質量部、メラミン系架橋剤(メチロール型メラミン系架橋剤(三和ケミカル(株)製の「ニカラック MW12LF」))を15質量部、平均粒子径が190nmのコロイダルシリカを1質量部含有する水系分散物である。この塗布組成物の屈折率は1.65であった。
(Coating composition a2)
100 parts by mass of the naphthalene ring-containing polyester resin, 60 parts by mass of zirconium oxide, and 15 parts by mass of a melamine-based cross-linking agent (methylol-type melamine-based cross-linking agent (“Nicarac MW12LF” manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.)) An aqueous dispersion containing 1 part by mass of colloidal silica having an average particle diameter of 190 nm. The refractive index of this coating composition was 1.65.

(塗布組成物a3)
下記のフルオレン環含有のポリエステル樹脂を100質量部、メラミン系架橋剤(メチロール型メラミン系架橋剤(三和ケミカル(株)製の「ニカラック MW12LF」))を15質量部、平均粒子径が190nmのコロイダルシリカを1質量部含有する水系分散物である。この塗布組成物の屈折率は1.63であった。
(Coating composition a3)
100 parts by mass of the following fluorene ring-containing polyester resin, 15 parts by mass of a melamine-based crosslinking agent (methylol-type melamine-based crosslinking agent (“Nicarac MW12LF” manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.)), and an average particle diameter of 190 nm It is an aqueous dispersion containing 1 part by mass of colloidal silica. The refractive index of this coating composition was 1.63.

<フルオレン環含有のポリエステル樹脂>
下記の共重合組成からなるポリエステル樹脂である。
・カルボン酸成分
コハク酸 40モル%
5−Naスルホイソフタル酸 10モル%
・グリコール成分
9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレン 42モル%
エチレングリコール 8モル%。
<Polyester resin containing fluorene ring>
A polyester resin having the following copolymer composition.
・ Carboxylic acid component Succinic acid 40mol%
5-Na sulfoisophthalic acid 10 mol%
-Glycol component 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] fluorene 42 mol%
Ethylene glycol 8 mol%.

(塗布組成物a4)
下記のアクリル樹脂を100質量部、メラミン系架橋剤(メチロール型メラミン系架橋剤(三和ケミカル(株)製の「ニカラック MW12LF」))を15質量部、平均粒子径が190nmのコロイダルシリカを1質量部含有する水系分散物である。この塗布組成物の屈折率は1.52であった。
(Coating composition a4)
100 parts by mass of the following acrylic resin, 15 parts by mass of melamine-based cross-linking agent (methylol-type melamine-based cross-linking agent (“Nicarac MW12LF” manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.)), and 1 colloidal silica having an average particle diameter of 190 nm An aqueous dispersion containing parts by mass. The refractive index of this coating composition was 1.52.

<アクリル樹脂>
下記の共重合組成からなるアクリル樹脂である。
・共重合成分
メチルメタクリレート 63重量%
エチルアクリレート 35重量%
アクリル酸 1重量%
N−メチロールアクリルアミド 1重量%。
<Acrylic resin>
An acrylic resin having the following copolymer composition.
・ Methyl methacrylate 63% by weight
Ethyl acrylate 35% by weight
Acrylic acid 1% by weight
N-methylolacrylamide 1% by weight.

[アンダーコート層を形成するための塗布組成物]
(塗布組成物uc1)
平均粒子径が22nmのコロイダルシリカ(日産化学工業(株)の「スノーテックス」(登録商標)、ST−O−40)と、テトラメトキシシランのオリゴマー(コルコート(株)の「コルコート」(登録商標)メチルシリケート51)とを、固形分質量比70:30で混合し、イソプロピルアルコールで固形分濃度が1質量%になるように調整して塗布組成物を得た。この塗布組成物の屈折率は、1.33であった。
[Coating composition for forming undercoat layer]
(Coating composition uc1)
Colloidal silica having an average particle size of 22 nm ("Snowtex" (registered trademark), ST-O-40, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) and an oligomer of tetramethoxysilane ("Colcoat" (registered trademark), manufactured by Colcoat Co., Ltd.) ) Methyl silicate 51) was mixed at a solid content mass ratio of 70:30 and adjusted to a solid content concentration of 1% by mass with isopropyl alcohol to obtain a coating composition. The refractive index of this coating composition was 1.33.

(塗布組成物uc2)
平均粒子径が40nmの内部に空洞を有するシリカ粒子(日揮触媒化成(株)製、イソプロピルアルコール分散ゾル)と、親水性ポリシリケート(コルコート(株)の「コルコート」(登録商標)N103X)とを、固形分質量比55:45で混合し、イソプロピルアルコールで固形分濃度が1質量%になるように調整して塗布組成物を得た。この塗布組成物の屈折率は、1.35であった。
(Coating composition uc2)
Silica particles having an average particle diameter of 40 nm having voids inside (manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd., isopropyl alcohol dispersion sol), and hydrophilic polysilicate (“Colcoat” (registered trademark) N103X of Colcoat Co., Ltd.) The mixture was mixed at a solid content mass ratio of 55:45, and adjusted to a solid content concentration of 1% by mass with isopropyl alcohol to obtain a coating composition. The refractive index of this coating composition was 1.35.

(塗布組成物uc3)
平均粒子径が40nmの内部に空洞を有するシリカ粒子(日揮触媒化成(株)製、イソプロピルアルコール分散ゾル)を固形分換算で20質量部、テトラメトキシシランのオリゴマー(コルコート(株)の「コルコート」(登録商標)メチルシリケート51)を固形分換算で20質量部、アンモニア水(アンモニア28質量%)34質量部を混合し、さらにイソプロピルアルコールで固形分濃度が1質量%になるように調整して塗布組成物を得た。この塗布組成物の屈折率は、1.36であった。
(Coating composition uc3)
Silica particles having an average particle diameter of 40 nm and having cavities (manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd., isopropyl alcohol dispersion sol) 20 parts by mass in terms of solid content, tetramethoxysilane oligomer (Colcoat Co., Ltd.) (Registered trademark) methyl silicate 51) is mixed with 20 parts by mass in terms of solid content and 34 parts by mass of ammonia water (ammonia 28 mass%), and further adjusted with isopropyl alcohol so that the solid content concentration becomes 1 mass%. A coating composition was obtained. The refractive index of this coating composition was 1.36.

(塗布組成物uc4)
平均粒子径が22nmのコロイダルシリカ(日産化学工業(株)の「スノーテックス」(登録商標)、ST−O−40)と、親水性ポリシリケート(コルコート(株)の「コルコート」(登録商標)N−103X)とを、固形分質量比50:50で混合し、イソプロピルアルコールで固形分濃度が1質量%になるように調整して塗布組成物を得た。この塗布組成物の屈折率は、1.38であった。
(Coating composition uc4)
Colloidal silica having an average particle size of 22 nm ("Snowtex" (registered trademark), ST-O-40, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) and hydrophilic polysilicate ("Colcoat" (registered trademark), manufactured by Colcoat Co., Ltd.) N-103X) was mixed at a solid content mass ratio of 50:50 and adjusted to a solid content concentration of 1% by mass with isopropyl alcohol to obtain a coating composition. The refractive index of this coating composition was 1.38.

(塗布組成物uc5)
平均粒子径が12nmのコロイダルシリカ(日産化学工業(株)の「スノーテックス」(登録商標)、ST−O)と、親水性ポリシリケート(コルコート(株)の「コルコート」(登録商標)N−103X)とを、固形分質量比55:45で混合し、イソプロピルアルコールで固形分濃度が1質量%になるように調整して塗布組成物を得た。この塗布組成物の屈折率は、1.39であった。
(Coating composition uc5)
Colloidal silica having an average particle size of 12 nm (“Snowtex” (registered trademark), ST-O from Nissan Chemical Industries, Ltd.) and hydrophilic polysilicate (“Colcoat” (registered trademark) N— from Colcoat, Inc.) 103X) at a solid content mass ratio of 55:45, and adjusted to a solid content concentration of 1% by mass with isopropyl alcohol to obtain a coating composition. The refractive index of this coating composition was 1.39.

(塗布組成物uc6)
親水性ポリシリケート(コルコート(株)の「コルコート」(登録商標)N−103X)を、イソプロピルアルコールで固形分濃度が1質量%になるように調整して塗布組成物を得た。この塗布組成物の屈折率は、1.44であった。
(Coating composition uc6)
Hydrophilic polysilicate ("Colcoat" (registered trademark) N-103X of Colcoat Co., Ltd.) was adjusted with isopropyl alcohol so that the solid concentration was 1% by mass to obtain a coating composition. The refractive index of this coating composition was 1.44.

[オーバーコート層を形成するための塗布組成物]
(塗布組成物oc1)
メチルトリメトキシシラン95.2質量部とトリフルオロプロピルトリメトキシシラン 65.4質量部とを、プロピレングリコールモノメチルエーテル300質量部とイソプロピルアルコール100質量部に溶解した。この溶液に、平均粒子径が40nmの内部に空洞を有するシリカ微粒子分散液(日揮触媒化成(株)製、イソプロピルアルコール分散ゾル)297.9質量部、水54質量部およびギ酸1.8質量部を、撹拌しながら、反応温度が30℃を越えないように滴下した。滴下後、得られた溶液をバス温40℃で2時間加熱し、その後、溶液をバス温85℃で2時間加熱し、内温を80℃まで上げて、1.5時間加熱した後、室温まで冷却し、溶液Aを得た。
[Coating composition for forming overcoat layer]
(Coating composition oc1)
95.2 parts by mass of methyltrimethoxysilane and 65.4 parts by mass of trifluoropropyltrimethoxysilane were dissolved in 300 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether and 100 parts by mass of isopropyl alcohol. In this solution, 297.9 parts by mass of silica fine particle dispersion liquid (manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd., isopropyl alcohol dispersion sol) having an average particle diameter of 40 nm, 54 parts by mass of water and 1.8 parts by mass of formic acid Was added dropwise with stirring so that the reaction temperature did not exceed 30 ° C. After the dropwise addition, the obtained solution was heated at a bath temperature of 40 ° C. for 2 hours, and then the solution was heated at a bath temperature of 85 ° C. for 2 hours, the internal temperature was raised to 80 ° C. and heated for 1.5 hours, The solution A was obtained.

得られた溶液Aに、アルミニウム系硬化剤として、アルミニウムトリス(アセチルアセテート)(商品名 アルミキレートA(W)、川研ファインケミカル(株)社製)4.8質量部をメタノール125質量部に溶解したものを添加し、さらにイソプロピルアルコール1,500質量部およびプロピレングリコールモノメチルエーテル250質量部を添加して、室温にて2時間撹拌し、イソプロピルアルコールで固形分濃度が1質量%になるように調整して塗布組成物を得た。この塗布組成物の屈折率は1.36であった。   In the obtained solution A, 4.8 parts by mass of aluminum tris (acetyl acetate) (trade name: Aluminum Chelate A (W), manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.) is dissolved in 125 parts by mass of methanol as an aluminum curing agent. Add 1,500 parts by weight of isopropyl alcohol and 250 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether, stir at room temperature for 2 hours, and adjust the solid content concentration to 1% by weight with isopropyl alcohol. Thus, a coating composition was obtained. The refractive index of this coating composition was 1.36.

(塗布組成物oc2)
内部に空洞を有するシリカ粒子を含有するアクリル系紫外線硬化型材料(JSR(株)製のTU―2180)を、固形分濃度が1質量%になるようにメチルエチルケトンで希釈して塗布組成物を調製した。この塗布組成物の屈折率は、1.37であった。
(Coating composition oc2)
A coating composition is prepared by diluting acrylic UV curable material (TU-2180 manufactured by JSR Corporation) containing silica particles having voids inside with methyl ethyl ketone so that the solid content concentration is 1% by mass. did. The refractive index of this coating composition was 1.37.

(塗布組成物oc3)
メチルトリメトキシシラン109.0質量部、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン56.8質量部、ジメチルジメトキシシラン12質量部をジアセトンアルコール300質量部、イソプロパノール100質量部に溶解した。この溶液に、メチルイソブチルケトンに分散された平均粒子径が12nmのシリカ粒子のゾル(商品名 MIBK−ST、日産化学工業(株)製、固形分30質量%)250質量部、水60質量部および酢酸2質量部を、撹拌しながら、反応温度が30℃を越えないように滴下した。滴下後、得られた溶液をバス温40℃で2時間加熱し、その後、溶液をバス温85℃で2時間加熱し、内温を80℃まで上げて、1.5時間加熱した後、室温まで冷却し、溶液Bを得た。
(Coating composition oc3)
109.0 parts by mass of methyltrimethoxysilane, 56.8 parts by mass of heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, and 12 parts by mass of dimethyldimethoxysilane were dissolved in 300 parts by mass of diacetone alcohol and 100 parts by mass of isopropanol. In this solution, 250 parts by mass of silica particle sol (trade name MIBK-ST, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., solid content 30% by mass) dispersed in methyl isobutyl ketone and having an average particle size of 12 nm, 60 parts by mass of water And 2 parts by mass of acetic acid was added dropwise with stirring so that the reaction temperature did not exceed 30 ° C. After the dropwise addition, the obtained solution was heated at a bath temperature of 40 ° C. for 2 hours, and then the solution was heated at a bath temperature of 85 ° C. for 2 hours, the internal temperature was raised to 80 ° C. and heated for 1.5 hours, Until solution B was obtained.

得られた溶液Bに、マグネシウム系硬化剤として、マグネシウムビス(エチルアセトアセテート)3.8質量部をメタノール250質量部に溶解したものを添加し、さらにイソプロパノール1,700質量部およびジアセトンアルコール500質量部を添加して、室温にて2時間撹拌し、固形分濃度が1質量%になるように調整して塗布組成物を得た。この塗布組成物の屈折率は、1.38であった。   A solution obtained by dissolving 3.8 parts by mass of magnesium bis (ethylacetoacetate) in 250 parts by mass of methanol as a magnesium-based curing agent is added to the obtained solution B, and 1,700 parts by mass of isopropanol and 500 parts of diacetone alcohol are added. The coating composition was obtained by adding part by mass, stirring for 2 hours at room temperature, and adjusting the solid content concentration to 1% by mass. The refractive index of this coating composition was 1.38.

(塗布組成物oc4)
シリカ粒子のゾルの添加量を、250質量部から56質量部に変更した以外は、塗布組成物oc3と同様にして、塗布組成物を調製した。この塗布組成物の屈折率は、1.40であった。
(Coating composition oc4)
A coating composition was prepared in the same manner as the coating composition oc3 except that the amount of silica particle sol added was changed from 250 parts by mass to 56 parts by mass. The refractive index of this coating composition was 1.40.

(塗布組成物oc5)
紫外線硬化型樹脂(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとウレタンアクリレートとを質量比1:3で含有)77質量部、平均粒子径が40nmの内部に空洞を有するシリカ微粒子分散液(日揮触媒化成(株)製、イソプロピルアルコール分散ゾル)を固形分で20質量部、および光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)3質量部を、有機溶剤(メチルエチルケトン)に分散あるいは溶解し、メチルエチルケトンで固形分濃度が1質量%になるように調整して塗布組成物を得た。この塗布組成物の屈折率は1.42であった。
(Coating composition oc5)
Ultraviolet curable resin (containing dipentaerythritol hexaacrylate and urethane acrylate at a mass ratio of 1: 3) 77 parts by mass, silica fine particle dispersion having voids inside with an average particle size of 40 nm (manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd.) Isopropyl alcohol dispersion sol) in a solid content of 20 parts by mass, and 3 parts by mass of a photopolymerization initiator (“Irgacure (registered trademark) 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) are dispersed in an organic solvent (methyl ethyl ketone). Or it melt | dissolved and it adjusted so that solid content concentration might be 1 mass% with methyl ethyl ketone, and obtained the coating composition. The refractive index of this coating composition was 1.42.

(塗布組成物oc6)
容器に、エタノール20質量部を入れ、n-ブチルシリケート40質量部を添加し30分間撹拌した。その後、0.1N塩酸水溶液を10質量部添加した後2時間撹拌を行い(加水分解反応)、4℃で保管した。24時間後、この溶液をイソプロピルアルコールとトルエンとn−ブタノールとの混合液(混合質量比2:1:1)で固形分濃度が1質量%となるように調整して塗布組成物を得た。この塗布組成物の屈折率は、1.44であった。
(Coating composition oc6)
In a container, 20 parts by mass of ethanol was added, and 40 parts by mass of n-butyl silicate was added and stirred for 30 minutes. Then, after adding 10 mass parts of 0.1N hydrochloric acid aqueous solution, it stirred for 2 hours (hydrolysis reaction) and stored at 4 degreeC. After 24 hours, this solution was adjusted with a mixed solution of isopropyl alcohol, toluene, and n-butanol (mixing mass ratio 2: 1: 1) so that the solid concentration was 1% by mass to obtain a coating composition. . The refractive index of this coating composition was 1.44.

[ハードコート層を形成するための塗布組成物(hc1)]
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート58質量部、ウレタンアクリレートオリゴマー(根上工業(株)の「UN−901T」;分子中にエチレン性不飽和基を9個含む)37質量部、重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)5質量部を有機溶剤(メチルイソブチルケトン)に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は1.52であった。
[Coating composition for forming hard coat layer (hc1)]
58 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, urethane acrylate oligomer (“UN-901T” from Negami Kogyo Co., Ltd .; containing 9 ethylenically unsaturated groups in the molecule), polymerization initiator (Ciba Specialty) 5 parts by mass of “Irgacure (registered trademark) 184” manufactured by Chemicals Co., Ltd. was dispersed and dissolved in an organic solvent (methyl isobutyl ketone). The refractive index of this coating composition was 1.52.

[カーボンナノチューブ層を形成するための塗布組成物(cnt1)]
(触媒調製例:マグネシアへの触媒金属塩の担持)
クエン酸アンモニウム鉄(和光純薬工業(株)製)2.46gをメタノール(関東化学(株)製)500mLに溶解した。この溶液に、酸化マグネシウム(岩谷化学工業(株)製MJ−30)を100.0g加え、撹拌機で60分間激しく撹拌処理し、懸濁液とした後、該懸濁液を減圧下、40℃で濃縮乾固した。得られた粉末を120℃で加熱乾燥してメタノールを除去し、酸化マグネシウム粉末に金属塩が担持された触媒体を得た。得られた固形分を乳鉢で細粒化し、篩いを用いて20〜32メッシュ(0.5〜0.85mm)の範囲の粒径を回収した。得られた触媒体に含まれる鉄含有量は0.38質量%であった。また、かさ密度は、0.61g/mLであった。
[Coating composition for forming carbon nanotube layer (cnt1)]
(Catalyst preparation example: Catalytic metal salt supported on magnesia)
2.46 g of ammonium iron citrate (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was dissolved in 500 mL of methanol (Kanto Chemical Co., Ltd.). To this solution, 100.0 g of magnesium oxide (MJ-30 manufactured by Iwatani Chemical Industry Co., Ltd.) was added and vigorously stirred with a stirrer for 60 minutes to form a suspension. Concentrated to dryness at ° C. The obtained powder was heated and dried at 120 ° C. to remove methanol, and a catalyst body in which a metal salt was supported on magnesium oxide powder was obtained. The obtained solid was finely divided in a mortar, and a particle size in the range of 20 to 32 mesh (0.5 to 0.85 mm) was collected using a sieve. The iron content contained in the obtained catalyst body was 0.38% by mass. The bulk density was 0.61 g / mL.

(カーボンナノチューブ集合体製造例:カーボンナノチューブ集合体の合成)
触媒調製例で調製した固体触媒体132gをとり、鉛直方向に設置した反応器の中央部の石英焼結板上に導入することで触媒層を形成した。反応管内温度が約860℃になるまで、触媒体層を加熱しながら、反応器底部から反応器上部方向へ向けてマスフローコントローラーを用いて窒素ガスを16.5L/分で供給し、触媒体層を通過するように流通させた。その後、窒素ガスを供給しながら、さらにマスフローコントローラーを用いてメタンガスを0.78L/分で60分間導入して触媒体層を通過するように通気し、反応させた。この際の固体触媒体の質量をメタンの流量で割った接触時間(W/F)は、169分・g/L、メタンを含むガスの線速は6.55cm/secであった。メタンガスの導入を止め、窒素ガスを16.5L/分通気させながら、石英反応管を室温まで冷却した。
(Example of carbon nanotube aggregate production: synthesis of carbon nanotube aggregate)
A catalyst layer was formed by taking 132 g of the solid catalyst prepared in the catalyst preparation example and introducing it onto a quartz sintered plate at the center of the reactor installed in the vertical direction. While heating the catalyst layer until the temperature in the reaction tube reaches about 860 ° C., nitrogen gas is supplied at 16.5 L / min from the bottom of the reactor toward the top of the reactor using a mass flow controller. Circulated to pass through. Thereafter, while supplying nitrogen gas, methane gas was further introduced at 0.78 L / min for 60 minutes using a mass flow controller, and the gas was passed through the catalyst body layer for reaction. The contact time (W / F) obtained by dividing the mass of the solid catalyst body by the flow rate of methane at this time was 169 minutes · g / L, and the linear velocity of the gas containing methane was 6.55 cm / sec. The quartz reaction tube was cooled to room temperature while the introduction of methane gas was stopped and nitrogen gas was passed through at 16.5 L / min.

加熱を停止させ室温まで放置し、室温になってから反応器から触媒体とカーボンナノチューブを含有するカーボンナノチューブ含有組成物を取り出した。   The heating was stopped and the mixture was allowed to stand at room temperature. After the temperature reached room temperature, the carbon nanotube-containing composition containing the catalyst body and the carbon nanotubes was taken out from the reactor.

(カーボンナノチューブ集合体の精製および酸化処理)
カーボンナノチューブ集合体製造例で得られた触媒体とカーボンナノチューブを含有するカーボンナノチューブ含有組成物を130g用いて4.8Nの塩酸水溶液2,000mL中で1hr撹拌することで触媒金属である鉄とその担体であるMgOを溶解した。得られた黒色懸濁液は濾過した後、濾取物を再度4.8Nの塩酸水溶液400mLに投入し脱MgO処理をし、濾取した。この操作を3回繰り返した(脱MgO処理)。その後、イオン交換水で濾取物の懸濁液が中性となるまで水洗後、水を含んだウェット状態のままカーボンナノチューブ含有組成物を保存した。このとき水を含んだウェット状態のカーボンナノチューブ含有組成物全体の質量は102.7gであった(カーボンナノチューブの濃度:3.12質量%)。
(Purification of carbon nanotube aggregate and oxidation treatment)
The catalyst body obtained in the carbon nanotube aggregate production example and the carbon nanotube-containing composition containing carbon nanotubes were stirred for 1 hour in 4.8 mL of 4.8N hydrochloric acid aqueous solution using 130 g of the carbon nanotube-containing composition. The carrier MgO was dissolved. The resulting black suspension was filtered, and the filtered material was again poured into 400 mL of a 4.8N hydrochloric acid aqueous solution, treated with MgO, and collected by filtration. This operation was repeated 3 times (de-MgO treatment). Thereafter, the carbon nanotube-containing composition was stored in a wet state containing water after washing with ion-exchanged water until the suspension of the filtered material became neutral. At this time, the mass of the wet carbon nanotube-containing composition containing water was 102.7 g (concentration of carbon nanotube: 3.12% by mass).

得られたウェット状態のカーボンナノチューブ含有組成物の乾燥質量分に対して、約300倍の質量の濃硝酸(和光純薬工業(株)製、1級、Assay60〜61質量%)を添加した。その後、約140℃のオイルバスで25hr攪拌しながら加熱還流した。加熱還流後、カーボンナノチューブ含有組成物を含む硝酸溶液をイオン交換水で3倍に希釈して吸引ろ過した。イオン交換水で濾取物の懸濁液が中性となるまで水洗後、水を含んだウェット状態のカーボンナノチューブ集合体を得た。このとき水を含んだウェット状態のカーボンナノチューブ組成物全体の質量は3.351gあった(カーボンナノチューブの濃度:5.29質量%)。   About 300 times as much concentrated nitric acid (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., first grade, Assay 60-61 mass%) was added to the dry mass of the obtained carbon nanotube-containing composition in the wet state. Thereafter, the mixture was heated to reflux with stirring in an oil bath at about 140 ° C. for 25 hours. After heating to reflux, a nitric acid solution containing the carbon nanotube-containing composition was diluted with ion-exchanged water three times and suction filtered. After washing with ion-exchanged water until the suspension of the filtered material became neutral, a wet carbon nanotube aggregate containing water was obtained. At this time, the mass of the wet carbon nanotube composition containing water was 3.351 g (concentration of carbon nanotube: 5.29% by mass).

(カーボンナノチューブ分散液の調製)
得られたウェット状態のカーボンナノチューブ集合体(乾燥質量換算で25mg)、6質量%カルボキシメチルセルロースナトリウム(第一工業製薬(株)製、セロゲン7A(重量平均分子量:19,0000))水溶液1.04g、ジルコニアビーズ(東レ(株)社製、トレセラム、ビーズサイズ:0.8mm)6.7gを容器に加えた分散液に、28質量%アンモニア水溶液(キシダ化学(株)製)を加えてpHを10に調整した。この容器を振動ボールミル((株)入江商会製、VS−1、振動数:1,800cpm(60Hz))を用いて2hr振盪させ、カーボンナノチューブペーストを調製した。
(Preparation of carbon nanotube dispersion)
1.04 g of the obtained carbon nanotube aggregate in a wet state (25 mg in terms of dry mass), 6% by mass sodium carboxymethyl cellulose (Dell Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., Selogen 7A (weight average molecular weight: 19,0000)) To a dispersion obtained by adding 6.7 g of zirconia beads (manufactured by Toray Industries, Inc., Treceram, bead size: 0.8 mm) to a container, add a 28 mass% aqueous ammonia solution (manufactured by Kishida Chemical Co., Ltd.) to adjust the pH. Adjusted to 10. This container was shaken for 2 hours using a vibration ball mill (manufactured by Irie Shokai Co., Ltd., VS-1, frequency: 1,800 cpm (60 Hz)) to prepare a carbon nanotube paste.

次に、このカーボンナノチューブペーストをカーボンナノチューブの濃度が0.15質量%となるようにイオン交換水で希釈し、その希釈液10gに対して再度28質量%アンモニア水溶液を加えてpHを10に調整した。その水溶液を超音波ホモジナイザー(家田貿易(株)製、VCX−130)の出力を20Wとし、1.5分間(1kW・分/g)、氷冷下分散処理した。分散中液温が10℃以下となるようにした。得られた液を高速遠心分離機((株)トミー精工、MX−300)を用いて10,000Gで15分遠心処理し、カーボンナノチューブ分散液9gを得た。   Next, this carbon nanotube paste is diluted with ion-exchanged water so that the concentration of carbon nanotubes is 0.15% by mass, and the pH is adjusted to 10 by adding 28% by mass aqueous ammonia again to 10 g of the diluted solution. did. The aqueous solution was subjected to dispersion treatment under ice-cooling for 1.5 minutes (1 kW · min / g) with an output of an ultrasonic homogenizer (manufactured by Ieda Trading Co., Ltd., VCX-130) at 20 W. The liquid temperature during dispersion was adjusted to 10 ° C. or lower. The obtained liquid was centrifuged at 10,000 G for 15 minutes using a high-speed centrifuge (Tomy Seiko Co., Ltd., MX-300) to obtain 9 g of a carbon nanotube dispersion.

(カーボンナノチューブ含有塗布組成物の調製)
前記カーボンナノチューブ分散液にイオン交換水を添加して、固形分濃度を0.04質量%として、塗布組成物(cnt1)を得た。
(Preparation of carbon nanotube-containing coating composition)
Ion exchange water was added to the carbon nanotube dispersion liquid to obtain a coating composition (cnt1) with a solid content concentration of 0.04% by mass.

[実施例1]
下記の要領で導電性積層体を作成した。
[Example 1]
A conductive laminate was prepared in the following manner.

<樹脂層を有するポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム)の作製>
実質的に外部添加粒子を含有しないPETペレット(極限粘度0.63dl/g)を充分に真空乾燥した後、押し出し機に供給し285℃で溶融し、T字型口金よりシート状に押し出し、静電印加キャスト法を用いて表面温度25℃の鏡面キャスティングドラムに巻き付けて冷却固化せしめた。この未延伸フィルムを90℃に加熱して長手方向に3.4倍延伸し、一軸延伸フィルムとした。この一軸延伸フィルムの両面に空気中でコロナ放電処理を施した後、一軸延伸フィルムの一方の面(第1面)に樹脂層を形成するための塗布組成物a1、他方の面(第2面)にも樹脂層Bを形成するための塗布組成物a1をそれぞれ塗布した。
<Production of polyethylene terephthalate film (PET film) having a resin layer>
PET pellets (intrinsic viscosity 0.63 dl / g) substantially free of externally added particles are sufficiently vacuum-dried, then supplied to an extruder, melted at 285 ° C., extruded from a T-shaped die into a sheet shape, It was wound around a mirror-casting drum having a surface temperature of 25 ° C. using an electric application casting method and cooled and solidified. This unstretched film was heated to 90 ° C. and stretched 3.4 times in the longitudinal direction to obtain a uniaxially stretched film. After performing corona discharge treatment in air on both surfaces of this uniaxially stretched film, coating composition a1 for forming a resin layer on one surface (first surface) of the uniaxially stretched film, the other surface (second surface) ) Was also coated with a coating composition a1 for forming the resin layer B.

次に、両面にそれぞれの樹脂層形成用塗布組成物が塗布された一軸延伸フィルムをクリップで把持して予熱ゾーンに導き、雰囲気温度75℃で乾燥、ラジエーションヒーターを用いて110℃に上げ、再度90℃で乾燥した後、引き続き連続的に120℃の加熱ゾーンで幅方向に3.5倍延伸し、続いて220℃の加熱ゾーンで20秒間熱処理を施し、結晶配向の完了した二軸延伸PETフィルムを作製した。このPETフィルムは両面に樹脂層を有するPETフィルムである。   Next, the uniaxially stretched film coated with the resin layer forming coating composition on both sides is held with a clip, guided to a preheating zone, dried at an ambient temperature of 75 ° C., raised to 110 ° C. using a radiation heater, and again After drying at 90 ° C., the film is continuously stretched 3.5 times in the width direction in a heating zone at 120 ° C., followed by heat treatment for 20 seconds in the heating zone at 220 ° C. A film was prepared. This PET film is a PET film having resin layers on both sides.

このPETフィルムの厚みは100μm、第1面に設けられた樹脂層の厚みは80nm、第2面に設けられた樹脂層Bの厚みは80nmであった。   The thickness of this PET film was 100 μm, the thickness of the resin layer provided on the first surface was 80 nm, and the thickness of the resin layer B provided on the second surface was 80 nm.

PETフィルムの屈折率は1.65、第1面の樹脂層の屈折率は1.58、第2面の樹脂層Bの屈折率は1.58であった。   The refractive index of the PET film was 1.65, the refractive index of the resin layer on the first surface was 1.58, and the refractive index of the resin layer B on the second surface was 1.58.

尚、PETフィルムの屈折率は、両面に樹脂層を積層しない以外は上記と同様の条件で製造したPETフィルムの屈折率を測定し、その値をPETフィルムの屈折率とした。   In addition, the refractive index of PET film measured the refractive index of the PET film manufactured on the conditions similar to the above except not laminating | stacking a resin layer on both surfaces, and made the value the refractive index of PET film.

<ハードコート層の積層>
上記で作製したPETフィルムの第2面の樹脂層B上に、ハードコート層を形成するための塗布組成物(hc1)をグラビアコート法により塗布して、90℃で乾燥後、紫外線を500mJ/cm照射し硬化させてハードコート層を形成した。このハードコート層は、厚み2.5μmであった。
<Lamination of hard coat layer>
A coating composition (hc1) for forming a hard coat layer is applied on the resin layer B on the second surface of the PET film prepared above by a gravure coating method, dried at 90 ° C., and then irradiated with ultraviolet rays of 500 mJ / A hard coat layer was formed by curing with irradiation of cm 2 . This hard coat layer had a thickness of 2.5 μm.

<アンダーコート層の積層>
上記でハードコート層が積層されPETフィルムの第1面の樹脂層上に、アンダーコート層を形成するための塗布組成物uc1を、スロットダイコート法にて乾燥厚みが40nmとなるように塗布した後、90℃で1分間乾燥してアンダーコート層を形成した。
<Lamination of undercoat layer>
After applying the coating composition uc1 for forming the undercoat layer onto the resin layer on the first surface of the PET film with the hard coat layer laminated as described above, the dry thickness is 40 nm by the slot die coating method. And dried at 90 ° C. for 1 minute to form an undercoat layer.

<カーボンナノチューブ層の形成>
上記で積層されたアンダーコート層の上に、カーボンナノチューブ層を形成するための塗布組成物(cnt1)を、スロットダイコート法により固形分塗布量が15mg/mとなるように塗布した後、80℃で1分間乾燥してカーボンナノチューブ層を形成した。
<Formation of carbon nanotube layer>
On the undercoat layer laminated above, a coating composition (cnt1) for forming a carbon nanotube layer was applied by a slot die coating method so that the solid content was 15 mg / m 2. A carbon nanotube layer was formed by drying at 1 ° C. for 1 minute.

<オーバーコート層の塗布>
上記で積層されたカーボンナノチューブ層の上に、オーバーコート層を形成するための塗布組成物oc1をスロットダイコート法にて乾燥厚みが60nmとなるように塗布した後、125℃で1分間乾燥して、オーバーコート層を積層した。
<Application of overcoat layer>
A coating composition oc1 for forming an overcoat layer was applied on the carbon nanotube layer laminated as described above so as to have a dry thickness of 60 nm by a slot die coating method, and then dried at 125 ° C. for 1 minute. The overcoat layer was laminated.

[実施例2〜17および比較例1〜6]
実施例1において、アンダーコート層を形成するための塗布組成物および/またはオーバーコート層を形成するための塗布組成物を表1に示すように変更する以外は、実施例1と同様にして導電性積層体を作製した。
[Examples 2 to 17 and Comparative Examples 1 to 6]
In Example 1, except that the coating composition for forming the undercoat layer and / or the coating composition for forming the overcoat layer was changed as shown in Table 1, it was conducted in the same manner as in Example 1. A conductive laminate was produced.

なお、オーバーコート層形成塗布組成物oc2およびoc5は紫外線硬化型であり、これらの塗布組成物を用いる際は、塗布・乾燥後に、紫外線を500mJ/cm照射し硬化させた。 The overcoat layer-forming coating compositions oc2 and oc5 are of an ultraviolet curable type, and when these coating compositions were used, the coating and drying were performed by irradiation with ultraviolet rays of 500 mJ / cm 2 and cured.

[評価]
上記で作製した実施例および比較例について、導電層表面の視感反射率を評価した。その結果を表1に示す。
[Evaluation]
About the Example produced above and the comparative example, the luminous reflectance of the conductive layer surface was evaluated. The results are shown in Table 1.

Figure 2016081210
Figure 2016081210

表1の結果から、本発明の実施例は、いずれも視感反射率が小さいことが分かる。   From the results in Table 1, it can be seen that all of the examples of the present invention have small luminous reflectance.

一方、比較例1〜6は、アンダーコート層およびオーバーコート層のいずれか一方の屈折率が本発明の範囲を外れており、視感反射率が相対的に高くなっている。   On the other hand, in Comparative Examples 1 to 6, the refractive index of any one of the undercoat layer and the overcoat layer is out of the range of the present invention, and the luminous reflectance is relatively high.

[実施例21〜35]
実施例1において、アンダーコート層およびオーバーコート層の厚みを表1に示すように変更する以外は、実施例1と同様にして導電性積層体を作製した。
[Examples 21 to 35]
In Example 1, a conductive laminate was produced in the same manner as in Example 1 except that the thicknesses of the undercoat layer and the overcoat layer were changed as shown in Table 1.

[評価]
上記で作製した実施例について、導電層表面の視感反射率を評価した。その結果を表2に示す。
[Evaluation]
About the Example produced above, the luminous reflectance of the conductive layer surface was evaluated. The results are shown in Table 2.

Figure 2016081210
Figure 2016081210

表2の結果から、アンダーコート層、カーボンナノチューブ層およびオーバーコート層の合計厚みを75〜125nmの範囲にすることによって視感反射率が相対的に小さくなり、さらに80〜120nmにすることによって視感反射率が相対的に小さくなることが分かる。   From the results of Table 2, the luminous reflectance is relatively reduced by setting the total thickness of the undercoat layer, the carbon nanotube layer, and the overcoat layer to be in the range of 75 to 125 nm, and is further reduced by setting the thickness to 80 to 120 nm. It can be seen that the reflectance is relatively small.

[実施例41]
実施例1の樹脂層を有するポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム)の作製において、第1面に積層される樹脂層形成用塗布組成物a1を塗布組成物a2に変更し、かつ厚みを20nmに変更する以外は、実施例1と同様にして樹脂層を有するポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム)を作製し、このPETフィルムの第2面の樹脂層上に実施例1と同様にしてハードコート層を積層し、さらにPETフィルムの第1面の樹脂層上に、実施例1と同様にしてアンダーコート層、カーボンナノチューブ層およびオーバーコート層を積層して導電性積層体を作製した。
[Example 41]
In the production of the polyethylene terephthalate film (PET film) having the resin layer of Example 1, the resin layer forming coating composition a1 laminated on the first surface is changed to the coating composition a2, and the thickness is changed to 20 nm. Except for the above, a polyethylene terephthalate film (PET film) having a resin layer was produced in the same manner as in Example 1, and a hard coat layer was laminated on the resin layer on the second surface of this PET film in the same manner as in Example 1. Further, an undercoat layer, a carbon nanotube layer, and an overcoat layer were laminated on the resin layer on the first surface of the PET film in the same manner as in Example 1 to produce a conductive laminate.

[実施例42〜60]
実施例41において、アンダーコート層を形成するための塗布組成物および/またはオーバーコート層を形成するための塗布組成物を表3に示すように変更する以外は、実施例41と同様にして導電性積層体を作製した。
[Examples 42 to 60]
In Example 41, except that the coating composition for forming the undercoat layer and / or the coating composition for forming the overcoat layer was changed as shown in Table 3, it was conducted in the same manner as in Example 41. A conductive laminate was produced.

なお、オーバーコート層形成塗布組成物oc2およびoc5は紫外線硬化型であり、これらの塗布組成物を用いる際は、塗布・乾燥後に、紫外線を500mJ/cm照射し硬化させた。 The overcoat layer-forming coating compositions oc2 and oc5 are of an ultraviolet curable type, and when these coating compositions were used, the coating and drying were performed by irradiation with ultraviolet rays of 500 mJ / cm 2 and cured.

[評価]
上記で作製した実施例について、導電層表面の視感反射率を評価した。その結果を表3に示す。
[Evaluation]
About the Example produced above, the luminous reflectance of the conductive layer surface was evaluated. The results are shown in Table 3.

Figure 2016081210
Figure 2016081210

表3の結果から、基材とアンダーコート層との間に設けられる樹脂層の屈折率を1.61〜1.70の範囲とすることで、視感反射率が一段と小さくなることが分かる。   From the results of Table 3, it can be seen that the luminous reflectance is further reduced by setting the refractive index of the resin layer provided between the base material and the undercoat layer to be in the range of 1.61-1.70.

[実施例61]
実施例1の樹脂層を有するポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム)の作製において、第1面に積層される樹脂層形成用塗布組成物a1を塗布組成物a3に変更し、かつ厚みを40nmに変更する以外は、実施例1と同様にして樹脂層を有するポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム)を作製し、このPETフィルムの第2面の樹脂層上に実施例1と同様にしてハードコート層を積層し、さらにPETフィルムの第1面の樹脂層上に、実施例1と同様にしてアンダーコート層、カーボンナノチューブ層およびオーバーコート層を積層して導電性積層体を作製した。
[Example 61]
In the production of the polyethylene terephthalate film (PET film) having the resin layer of Example 1, the resin layer forming coating composition a1 laminated on the first surface is changed to the coating composition a3, and the thickness is changed to 40 nm. Except for the above, a polyethylene terephthalate film (PET film) having a resin layer was produced in the same manner as in Example 1, and a hard coat layer was laminated on the resin layer on the second surface of this PET film in the same manner as in Example 1. Further, an undercoat layer, a carbon nanotube layer, and an overcoat layer were laminated on the resin layer on the first surface of the PET film in the same manner as in Example 1 to produce a conductive laminate.

[実施例62]
実施例1の樹脂層を有するポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム)の作製において、第1面に積層される樹脂層形成用塗布組成物a1を塗布組成物a4に変更する以外は、実施例1と同様にして樹脂層を有するポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム)を作製し、このPETフィルムの第2面の樹脂層上に実施例1と同様にしてハードコート層を積層し、さらにPETフィルムの第1面の樹脂層上に、実施例1と同様にしてアンダーコート層、カーボンナノチューブ層およびオーバーコート層を積層して導電性積層体を作製した。
[Example 62]
In the production of the polyethylene terephthalate film (PET film) having the resin layer of Example 1, it is the same as Example 1 except that the coating composition a1 for resin layer formation laminated on the first surface is changed to the coating composition a4. A polyethylene terephthalate film (PET film) having a resin layer was prepared, a hard coat layer was laminated on the resin layer on the second surface of the PET film in the same manner as in Example 1, and the first surface of the PET film was further laminated. An undercoat layer, a carbon nanotube layer, and an overcoat layer were laminated on the resin layer in the same manner as in Example 1 to produce a conductive laminate.

[評価]
上記で作製した実施例61および62について、導電層表面の視感反射率を評価した。その結果を表4に示す。
[Evaluation]
About Examples 61 and 62 produced above, the luminous reflectance of the conductive layer surface was evaluated. The results are shown in Table 4.

Figure 2016081210
Figure 2016081210

実施例61は、基材とアンダーコート層との間に設けられる樹脂層の屈折率が1.61〜1.70の範囲であり、視感反射率が一段と小さくなっている。   In Example 61, the refractive index of the resin layer provided between the base material and the undercoat layer is in the range of 1.61 to 1.70, and the luminous reflectance is further reduced.

実施例62は、基材とアンダーコート層との間に設けられる樹脂層の屈折率が1.55未満であり、実施例1(樹脂層の屈折率1.58)や実施例61(樹脂層の屈折率1.63)に比べて視感反射率が相対的に高くなっている。   In Example 62, the refractive index of the resin layer provided between the base material and the undercoat layer is less than 1.55, and Example 1 (refractive index of the resin layer 1.58) and Example 61 (resin layer) The refractive index is relatively higher than the refractive index of 1.63).

つまり、樹脂層の屈折率が1.55〜1.70であることにより視感反射率が小さくなり、さらに樹脂層の屈折率が1.61〜1.70であることにより視感反射率が一段と小さくなる。   That is, when the refractive index of the resin layer is 1.55 to 1.70, the luminous reflectance is reduced, and when the refractive index of the resin layer is 1.61 to 1.70, the luminous reflectance is reduced. It gets smaller.

[実施例71]
基材として、厚みが80μmのトリアセチルセルロース(TAC)フィルム(コニカミノルタオプト(株)の商品名「KC8UY」、屈折率1.49)を用いた。この基材は、樹脂層は積層されていない。この基材の一方の面に実施例1と同様にしてハードコート層を積層し、他方の面に、実施例1と同様にアンダーコート層、カーボンナノチューブ層およびオーバーコート層を積層して導電性積層体を作製した。
[Example 71]
A triacetyl cellulose (TAC) film having a thickness of 80 μm (trade name “KC8UY”, refractive index 1.49, manufactured by Konica Minolta Opto Co., Ltd.) having a thickness of 80 μm was used as the substrate. As for this base material, the resin layer is not laminated | stacked. A hard coat layer is laminated on one side of the substrate in the same manner as in Example 1, and an undercoat layer, a carbon nanotube layer, and an overcoat layer are laminated on the other side in the same manner as in Example 1 to provide conductivity. A laminate was produced.

[実施例72〜73および比較例7〜8]
実施例71において、アンダーコート層を形成するための塗布組成物および/またはオーバーコート層を形成するための塗布組成物を表5に示すように変更する以外は、実施例71と同様にして導電性積層体を作製した。
[Examples 72 to 73 and Comparative Examples 7 to 8]
In Example 71, except that the coating composition for forming the undercoat layer and / or the coating composition for forming the overcoat layer was changed as shown in Table 5, it was conducted in the same manner as in Example 71. A conductive laminate was produced.

なお、オーバーコート層形成塗布組成物oc2は紫外線硬化型であり、これらの塗布組成物を用いる際は、塗布・乾燥後に、紫外線を500mJ/cm照射し硬化させた。 The overcoat layer-forming coating composition oc2 is of an ultraviolet curable type, and when these coating compositions were used, they were cured by irradiation with ultraviolet rays of 500 mJ / cm 2 after coating and drying.

[評価]
上記で作製した実施例および比較例について、導電層表面の視感反射率を評価した。その結果を表5に示す。
[Evaluation]
About the Example produced above and the comparative example, the luminous reflectance of the conductive layer surface was evaluated. The results are shown in Table 5.

Figure 2016081210
Figure 2016081210

表5の結果から、本発明の実施例は、いずれも視感反射率が小さいことが分かる。   From the results of Table 5, it can be seen that all of the examples of the present invention have low luminous reflectance.

一方、比較例7、8は、アンダーコート層およびオーバーコート層のいずれか一方の屈折率が本発明の範囲を外れており、視感反射率が相対的に高くなっている。   On the other hand, in Comparative Examples 7 and 8, the refractive index of either the undercoat layer or the overcoat layer is out of the range of the present invention, and the luminous reflectance is relatively high.

また、屈折率が1.49のTACフィルムを用いた実施例71〜73と、屈折率が1.65のPETフィルムを用いた実施例1、7、11を対比すると、基材として屈折率が1.65のPETフィルムを用いた方が、視感反射率が相対的に小さくなっていることが分かる。つまり、屈折率が1.61〜1.70である基材を用いることにより、導電層表面の視感反射率をさらに小さくすることができる。   Further, when Examples 71 to 73 using a TAC film having a refractive index of 1.49 and Examples 1, 7, and 11 using a PET film having a refractive index of 1.65 are compared, the refractive index is as a substrate. It can be seen that the luminous reflectance is relatively small when the 1.65 PET film is used. That is, by using a base material having a refractive index of 1.61 to 1.70, the luminous reflectance of the conductive layer surface can be further reduced.

[実施例81]
実施例1で作製した導電性積層体を抵抗膜式タッチパネルの上部電極および下部電極の両方に適用した例を以下に示す。
[Example 81]
The example which applied the electroconductive laminated body produced in Example 1 to both the upper electrode and lower electrode of a resistive film type touch panel is shown below.

実施例1の導電性積層体の導電層に銀ペーストで配線を施して上部電極とした。同様に、実施例1の導電性積層体の導電層側にUV硬化樹脂でスペーサーを設け、さらに銀ペーストで配線を施して下部電極とした。この上部電極と下部電極を両面テープで貼合わせ、フレキシブルプリント回路を接続し、抵抗膜式タッチパネルを作製した。   Wiring was applied to the conductive layer of the conductive laminate of Example 1 with silver paste to form an upper electrode. Similarly, a spacer was provided with a UV curable resin on the conductive layer side of the conductive laminate of Example 1, and wiring was further provided with a silver paste to form a lower electrode. The upper electrode and the lower electrode were bonded with a double-sided tape, a flexible printed circuit was connected, and a resistive film type touch panel was produced.

この抵抗膜式タッチパネルをタッチペンでタッチ操作したところ、上部電極と下部電極が接触しタッチ操作した箇所の座標情報が出力できた。このタッチパネルの全光線透過率は79%であり、タッチパネルとして十分な透過率であった。   When this resistive touch panel was touch-operated with a touch pen, the upper electrode and the lower electrode were in contact with each other, and coordinate information of the touch-operated location could be output. The total light transmittance of this touch panel was 79%, which was a sufficient transmittance as a touch panel.

[実施例82]
導電性積層体を実施例41の導電性積層体に変更する以外は、実施例81と同様にして抵抗膜式タッチパネルを作製した。
[Example 82]
A resistive touch panel was produced in the same manner as in Example 81 except that the conductive laminate was changed to the conductive laminate of Example 41.

この抵抗膜式タッチパネルをタッチペンでタッチ操作したところ、上部電極と下部電極が接触しタッチ操作した箇所の座標情報が出力できた。このタッチパネルの全光線透過率は80%であり、タッチパネルとして十分な透過率であった。   When this resistive touch panel was touch-operated with a touch pen, the upper electrode and the lower electrode were in contact with each other, and coordinate information of the touch-operated location could be output. The total light transmittance of this touch panel was 80%, which was a sufficient transmittance as a touch panel.

[比較例9]
導電性積層体を比較例1の導電性積層体に変更する以外は、実施例81と同様にして抵抗膜式タッチパネルを作製した。
[Comparative Example 9]
A resistive touch panel was produced in the same manner as in Example 81 except that the conductive laminate was changed to the conductive laminate of Comparative Example 1.

この抵抗膜式タッチパネルをタッチペンでタッチ操作したところ、上部電極と下部電極が接触しタッチ操作した箇所の座標情報が出力できた。このタッチパネルの全光線透過率は76%であり、実施例81および82に比べて透過率が低くなっている。   When this resistive touch panel was touch-operated with a touch pen, the upper electrode and the lower electrode were in contact with each other, and coordinate information of the touch-operated location could be output. The total light transmittance of this touch panel is 76%, which is lower than that of Examples 81 and 82.

1 上部電極を構成する導電性積層体
2 下部電極を構成する導電性積層体
3 スペーサー
4 タッチペン
5 空間(空気層)
10 導電層
11 基材
12 アンダーコート層
13 カーボンナノチューブ層
14 オーバーコート層
15 ハードコート層
21 基材
22 導電層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Conductive laminated body which comprises upper electrode 2 Conductive laminated body which comprises lower electrode 3 Spacer 4 Touch pen 5 Space (air layer)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Conductive layer 11 Base material 12 Undercoat layer 13 Carbon nanotube layer 14 Overcoat layer 15 Hard coat layer 21 Base material 22 Conductive layer

Claims (7)

基材の少なくとも一方の面に、基材側から順に、アンダーコート層、カーボンナノチューブ層およびオーバーコート層を有する導電性積層体であって、アンダーコート層の屈折率が1.40以下、オーバーコート層の屈折率が1.43以下であることを特徴とする、導電性積層体。   A conductive laminate having an undercoat layer, a carbon nanotube layer, and an overcoat layer in order from the base material side on at least one surface of the base material, wherein the refractive index of the undercoat layer is 1.40 or less and the overcoat A conductive laminate having a refractive index of a layer of 1.43 or less. アンダーコート層、カーボンナノチューブ層およびオーバーコート層の合計の厚みが75〜125nmである、請求項1に記載の導電性積層体。   The conductive laminate according to claim 1, wherein the total thickness of the undercoat layer, the carbon nanotube layer, and the overcoat layer is 75 to 125 nm. 基材の屈折率が1.61〜1.70である、請求項1または2に記載の導電性積層体。   The electroconductive laminated body of Claim 1 or 2 whose refractive index of a base material is 1.61-1.70. 基材がポリエチレンテレフタレートフィルムである、請求項3に記載の導電性積層体。   The electroconductive laminated body of Claim 3 whose base material is a polyethylene terephthalate film. 基材とアンダーコート層との間に、屈折率が1.55〜1.70である樹脂層を有する、請求項4に記載の導電性積層体。   The conductive laminate according to claim 4, comprising a resin layer having a refractive index of 1.55 to 1.70 between the base material and the undercoat layer. 樹脂層の屈折率が1.61〜1.70である、請求項5に記載の導電性積層体。   The conductive laminate according to claim 5, wherein the resin layer has a refractive index of 1.61 to 1.70. 請求項1〜6のいずれかに記載の導電性積層体を用いたタッチパネル。   A touch panel using the conductive laminate according to claim 1.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019015965A (en) * 2017-07-03 2019-01-31 デクセリアルズ株式会社 Fine irregular laminate, method for manufacturing the same, and camera module-equipped device
US11693157B2 (en) 2017-07-03 2023-07-04 Dexerials Corporation Fine concave-convex laminate and production method therefor, and camera module-mounted device

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