JPH1134206A - Transparent conductive film and touch panel - Google Patents

Transparent conductive film and touch panel

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JPH1134206A
JPH1134206A JP18877397A JP18877397A JPH1134206A JP H1134206 A JPH1134206 A JP H1134206A JP 18877397 A JP18877397 A JP 18877397A JP 18877397 A JP18877397 A JP 18877397A JP H1134206 A JPH1134206 A JP H1134206A
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transparent
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thin film
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寿幸 大谷
Tetsuo Shimomura
哲生 下村
Yozo Yamada
陽三 山田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve durability against pen input in using as a touch panel by providing film containing a transparent plastic film layer, a cushioning layer having specified value of dynamic hardness formed on one side of the film layer, and a transparent conductive thin film layer formed on the cushioning layer. SOLUTION: Transparent conductive film 101 is composed of a plastic film layer 11, a cushioning layer 12 formed on one side of the plastic film layer 11, and a transparent conductive thin film layer 14 formed on the cushioning layer 12. The cushioning layer 12 is for relieving pen input impact, when the transparent conductive film 101 is used for a touch panel. The hardness thereof should be 0.005-2 dynamic hardness. If the dynamic hardness is less than 0.005, the film is too soft for forming the transparent conductive thin film 14 on the cushioning layer 12. Meanwhile, if the dynamic hardness is more than 2, cushioning effect against pen input is not developed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラスチックフィ
ルムを用いた透明導電性フィルム、およびこれを用いた
タッチパネルに関するものである。特に耐ペン入力性に
優れたタッチパネルを提供しうる透明導電性フィルムに
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transparent conductive film using a plastic film and a touch panel using the same. In particular, the present invention relates to a transparent conductive film capable of providing a touch panel excellent in pen input resistance.

【0002】[0002]

【従来の技術】透明プラスチックフィルム上に透明かつ
導電性の化合物の薄膜を形成した透明導電性フィルム
は、その導電性を利用した用途、例えば、液晶ディスプ
レイ、ELディスプレイといったフラットパネルディス
プレイやタッチパネルの透明電極など電気電子分野で広
く使用される。
2. Description of the Related Art A transparent conductive film in which a thin film of a transparent and conductive compound is formed on a transparent plastic film is used in applications utilizing the conductivity, for example, the transparency of flat panel displays such as liquid crystal displays and EL displays and touch panels. Widely used in electrical and electronic fields such as electrodes.

【0003】透明導電性薄膜を構成する化合物として
は、一般的には、酸化すず、酸化インジウム、酸化イン
ジウム・すず、酸化亜鉛などが代表的なものであり、そ
の基板としては、ポリエチレンテレフタレートをはじめ
とする各種のプラスチックフィルムが用いられる。
[0003] As a compound constituting a transparent conductive thin film, generally, tin oxide, indium oxide, indium oxide / tin oxide, zinc oxide and the like are typical, and as a substrate thereof, polyethylene terephthalate or the like is used. Various plastic films are used.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】近年、携帯情報端末の
普及により、導電性フィルムには、ペンによる文字入力
の機能を有することが要求されるようになってきた。こ
れに従って該フィルムの耐久特性として、ペン入力によ
る導電性劣化が起こらないことが求められるようになっ
てきている。ところが、タッチパネル用に透明導電性フ
ィルムを用いた場合、スペーサーを介して対向させた一
対の導電性薄膜同士が、ペン入力による押圧で強く接触
するため、薄膜にクラックや剥離が生じてしまい、電気
抵抗が増大したり、断線を生じたりするという問題点が
あった。
In recent years, with the spread of portable information terminals, conductive films have been required to have a function of inputting characters with a pen. Accordingly, it has been demanded that the durability of the film does not cause deterioration in conductivity due to pen input. However, when a transparent conductive film is used for a touch panel, a pair of conductive thin films opposed to each other via a spacer come into strong contact with each other by pressing with a pen input. There has been a problem that the resistance is increased or disconnection occurs.

【0005】点荷重のみに対する耐久性、すなわち打点
特性を向上させるために、120μm以下の厚さの透明
プラスチックフィルム上に透明導電性薄膜を形成し、粘
着剤層で他の透明基体と貼りあわせた透明導電性フィル
ム(特開平2−66809公報)が提案されているが、
ペン入力に対する耐久性は十分ではない。
In order to improve the durability against only a point load, that is, the hitting point characteristics, a transparent conductive thin film is formed on a transparent plastic film having a thickness of 120 μm or less, and is bonded to another transparent substrate with an adhesive layer. A transparent conductive film (JP-A-2-66809) has been proposed.
The durability against pen input is not sufficient.

【0006】本発明は、上記した問題点に鑑み、透明な
プラスチックフィルム上に透明導電性薄膜を形成した透
明導電性フィルムにおいて、これをタッチパネルに用い
た際のペン入力耐久性を改良することを目的としてい
る。
The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to improve a pen input durability when a transparent conductive thin film is formed on a transparent plastic film and used in a touch panel. The purpose is.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に鋭意検討した結果本発明者らは、透明なプラスチック
フィルムの一方の面に、硬さがダイナミック硬度で0.
005〜2の範囲内にあるクッション層を介して透明導
電性薄膜層を形成することによって、タッチパネルに用
いた際のペン入力耐久性に極めて優れた透明導電性フィ
ルムになることを発見し、本発明を完成するに至った。
As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have found that one surface of a transparent plastic film has a dynamic hardness of 0.1.
By forming the transparent conductive thin film layer via the cushion layer in the range of 005 to 2 the transparent conductive film having excellent pen input durability when used for a touch panel was discovered. The invention has been completed.

【0008】すなわち本発明は、(1)透明プラスチッ
クフィルム層、該フィルム層の一方の面に形成された、
ダイナミック硬度が0.005〜2であるクッション層
および該クッション層上に形成された透明導電性薄膜層
とを含む透明導電性フィルム、(2)クッション層と透
明導電性薄膜層との間に形成された透明樹脂層を含む上
記(1)記載の透明導電性フィルム、(3)透明プラス
チックフィルム層の透明導電性薄膜層が形成されている
面とは反対の面に形成されたハードコート処理層を含む
上記(1)または(2)記載の透明導電性フィルム、
(4)透明プラスチックフィルム層の透明導電性薄膜層
が形成されている面とは反対の面に形成された防眩処理
層を含む上記(1)または(2)記載の透明導電性フィ
ルム、(5)透明プラスチックフィルム層の透明導電性
薄膜層が形成されている面とは反対の面に形成された反
射防止処理層を含む上記(1)または(2)記載の透明
導電性フィルム、および(6)透明導電性薄膜層を有す
る一対のパネル板を、透明導電性薄膜層が対向するよう
にスペーサーを介して配置してなるタッチパネルであっ
て、少なくとも一方のパネル板が上記(1)〜(5)の
いずれかに記載の透明導電性フィルムを含むことを特徴
とするタッチパネルに関する。
That is, the present invention relates to (1) a transparent plastic film layer, which is formed on one surface of the film layer;
A transparent conductive film including a cushion layer having a dynamic hardness of 0.005 to 2 and a transparent conductive thin film layer formed on the cushion layer; (2) formed between the cushion layer and the transparent conductive thin film layer And (3) a hard coat treatment layer formed on the surface of the transparent plastic film layer opposite to the surface on which the transparent conductive thin film layer is formed. The transparent conductive film according to the above (1) or (2), comprising:
(4) The transparent conductive film according to (1) or (2), further including an antiglare treatment layer formed on a surface of the transparent plastic film layer opposite to a surface on which the transparent conductive thin film layer is formed, ( 5) The transparent conductive film according to the above (1) or (2), including an antireflection treatment layer formed on the surface of the transparent plastic film layer opposite to the surface on which the transparent conductive thin film layer is formed; 6) A touch panel in which a pair of panel plates each having a transparent conductive thin film layer is arranged via a spacer so that the transparent conductive thin film layers face each other, and at least one of the panel plates has any of the above (1) to (1). 5) A touch panel comprising the transparent conductive film according to any one of the above items.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】本発明の透明導電性フィルムを形
成する透明プラスチックフィルム層は、有機高分子の溶
融押出しまたは溶液押出しによって得られたフィルム
を、必要に応じて、長手方向および/または幅方向に延
伸、冷却、熱固定して得られる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The transparent plastic film layer forming the transparent conductive film of the present invention can be obtained by, if necessary, forming a film obtained by melt extrusion or solution extrusion of an organic polymer in the longitudinal direction and / or width. It is obtained by stretching in the direction, cooling and heat setting.

【0010】有機高分子としては、例えば、ポリエチレ
ン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレン−2、6−ナフタレー
トなどのポリエステル、ナイロン6、ナイロン4、ナイ
ロン66、ナイロン12などのポリアミド、ポリイミ
ド、ポリアミドイミド、ポリエーテルサルファン、ポリ
エーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリアリ
レート、ポリアクリル、セルロースプロピオネート、ポ
リ塩化ビニール、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアル
コール、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンスルフィ
ド、ポリフェニレンオキサイド、ポリスチレン、シンジ
オタクチックポリスチレン、ノルボルネン系ポリマーな
どが挙げられる。これらのうち、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレン−2、6−ナフタレートおよびシ
ンジオタクチックポリスチレンなどが最も好ましく用い
られる。また、これらの有機高分子は他の有機重合体を
少量共重合したり、ブレンドしたりしてもよい。
Examples of the organic polymer include polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene-2,6-naphthalate, polyamides such as nylon 6, nylon 4, nylon 66 and nylon 12, polyimides and polyamides. Imide, polyether sulfane, polyether ether ketone, polycarbonate, polyarylate, polyacryl, cellulose propionate, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyetherimide, polyphenylene sulfide, polyphenylene oxide, polystyrene, syndiotactic Tic polystyrene, norbornene-based polymers, and the like. Of these, polyethylene terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalate, syndiotactic polystyrene and the like are most preferably used. In addition, these organic polymers may be copolymerized or blended with a small amount of another organic polymer.

【0011】透明プラスチックフィルム層の厚みは、1
0μmを越え300μmの範囲にあることが好ましく、
さらに好ましくは70〜250μmである。この厚みが
10μmを越え300μmの範囲にあれば、機械的強度
が十分で、特にタッチパネルに用いた際のペン入力に対
する変形が小さく、耐久性が十分であり、一方、タッチ
パネルに用いた際のペン入力時の荷重を大きくする必要
もない。
The thickness of the transparent plastic film layer is 1
It is preferably in the range of more than 0 μm and 300 μm,
More preferably, it is 70 to 250 μm. When the thickness is more than 10 μm and in the range of 300 μm, the mechanical strength is sufficient, and the deformation due to pen input when used for a touch panel is small, and the durability is sufficient. There is no need to increase the load at the time of input.

【0012】透明プラスチックフィルム層は、本発明の
目的を損なわない限り、コロナ放電処理、グロー放電処
理などの表面処理、公知のアンカーコート処理が施され
てもよい。
The transparent plastic film layer may be subjected to a surface treatment such as a corona discharge treatment or a glow discharge treatment, or a known anchor coat treatment, as long as the object of the present invention is not impaired.

【0013】透明プラスチックフィルム層の一方の面に
クッション層を積層する。このクッション層は、透明導
電性フィルムをタッチパネルに用いた際のペン入力の衝
撃を緩和するために設けられる層で、柔らかくなければ
ならない。この層が発揮する衝撃緩和効果により、ペン
入力時に透明導電性薄膜層にクラックや剥離が生じた
り、電気抵抗が増大したり、断線を生じたりすることが
なくなる。クッション層の硬さは、ダイナミック硬度で
0.005〜2の範囲内、好ましくは0.007〜1.
8の範囲内である。ダイナミック硬度が0.005より
も小さい場合は、柔らか過ぎるため、該層の上に透明導
電性薄膜を成膜することができない。一方、ダイナミッ
ク硬度が2よりも大きいと、ペン入力に対するクッショ
ン効果が発現しない。
A cushion layer is laminated on one side of the transparent plastic film layer. This cushion layer is a layer provided to reduce the impact of pen input when the transparent conductive film is used for a touch panel, and must be soft. Due to the shock absorbing effect exhibited by this layer, cracks and peeling, increase in electric resistance and breakage of the transparent conductive thin film layer at the time of pen input are prevented. The hardness of the cushion layer is in the range of 0.005 to 2 in dynamic hardness, preferably 0.007 to 1.
8 is within the range. When the dynamic hardness is smaller than 0.005, the transparent conductive thin film cannot be formed on the layer because it is too soft. On the other hand, if the dynamic hardness is larger than 2, the cushion effect for pen input is not exhibited.

【0014】ダイナミック硬度とは、三角すい圧子を樹
脂表面に押し当て、荷重P(mN)とその時の圧子の樹
脂への侵入長D(μm)から算出される硬度である。三
角すい圧子の先端角を115°とした場合、ダイナミッ
ク硬度DHは以下の式で定義される。 DH=3.8584×P/D2 樹脂の平均的な硬さを測定するために、本明細書では樹
脂への侵入長D(μm)を0.5μmとした。
The dynamic hardness is a hardness calculated from a load P (mN) and a penetration length D (μm) of the indenter into the resin at the time when a triangular indenter is pressed against the resin surface. When the tip angle of the triangular cone indenter is 115 °, the dynamic hardness DH is defined by the following equation. DH = 3.8584 × P / D 2 In order to measure the average hardness of the resin, the penetration length D (μm) into the resin was set to 0.5 μm in this specification.

【0015】クッション層を形成するのに用いられる樹
脂としては、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ
アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコン系樹脂など
が挙げられる。これらの樹脂は他の樹脂を少量共重合し
たり、ブレンドしたりしてもよい。
The resin used to form the cushion layer includes polyester resin, polyamide resin, polyacryl resin, polyurethane resin, silicone resin and the like. These resins may be copolymerized or blended in small amounts with other resins.

【0016】これらの樹脂のうち、ポリエステル樹脂は
多価カルボン酸類と多価アルコール類とから得られる。
多価カルボン酸類としては、例えば、テレフタル酸、イ
ソフタル酸、オルソフタル酸、1,5−ナフタレンジカ
ルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、ジフェン
酸、スルホテレフタル酸、5−スルホイソフタル酸、4
−スルホフタル酸、4−スルホナフタレン−2,7ジカ
ルボン酸、5〔4−スルホフェノキシ〕イソフタル酸、
スルホテレフタル酸、これらの金属塩、アンモニウム塩
などの芳香族ジカルボン酸;p−オキシ安息香酸、p−
(ヒドロキシエトキシ)安息香酸などの芳香族オキシカ
ルボン酸;コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバ
シン酸、ドデカンジカルボン酸などの脂肪族ジカルボン
酸;フマール酸、マレイン酸、イタコン酸、ヘキサヒド
ロフタル酸、テトラヒドロフタル酸などの不飽和脂肪族
ジカルボン酸および脂環族ジカルボン酸、トリメリット
酸、トリメシン酸、ピロメリット酸などの三価以上の多
価カルボン酸などが例示される。
Among these resins, polyester resins are obtained from polyhydric carboxylic acids and polyhydric alcohols.
Examples of the polycarboxylic acids include terephthalic acid, isophthalic acid, orthophthalic acid, 1,5-naphthalenedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, diphenic acid, sulfoterephthalic acid, 5-sulfoisophthalic acid,
-Sulfophthalic acid, 4-sulfonaphthalene-2,7 dicarboxylic acid, 5 [4-sulfophenoxy] isophthalic acid,
Aromatic dicarboxylic acids such as sulfoterephthalic acid, metal salts and ammonium salts thereof; p-oxybenzoic acid, p-
Aromatic hydroxycarboxylic acids such as (hydroxyethoxy) benzoic acid; aliphatic dicarboxylic acids such as succinic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, dodecanedicarboxylic acid; fumaric acid, maleic acid, itaconic acid, hexahydrophthalic acid; Examples thereof include unsaturated aliphatic dicarboxylic acids such as tetrahydrophthalic acid and alicyclic dicarboxylic acids, and trivalent or higher polycarboxylic acids such as trimellitic acid, trimesic acid, and pyromellitic acid.

【0017】多価アルコール類としては、脂肪族多価ア
ルコール類、脂環族多価アルコール類、芳香族多価アル
コール類などが例示できる。脂肪族多価アルコール類と
しては、エチレングリコール、プロピレングリコール、
1,3−プロパンジオール、2,3−ブタンジオール、
1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、
1,6−へキサンジオール、ネオペンチルグリコール、
ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、2,
2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、ポリ
エチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリ
テトラメチレングリコールなどの脂肪族ジオール類、ト
リメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセ
リン、ペンタエリスリトールなどのトリオールおよびテ
トラオール類などが例示できる。
Examples of polyhydric alcohols include aliphatic polyhydric alcohols, alicyclic polyhydric alcohols, and aromatic polyhydric alcohols. As aliphatic polyhydric alcohols, ethylene glycol, propylene glycol,
1,3-propanediol, 2,3-butanediol,
1,4-butanediol, 1,5-pentanediol,
1,6-hexanediol, neopentyl glycol,
Diethylene glycol, dipropylene glycol, 2,
Aliphatic diols such as 2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, polyethylene glycol, polypropylene glycol and polytetramethylene glycol; triols and tetraols such as trimethylolethane, trimethylolpropane, glycerin and pentaerythritol; Can be exemplified.

【0018】脂環族多価アルコール類としては、1,4
−シクロへキサンジオール、1,4−シクロへキサンジ
メタノール、スピログリコール、水素化ビスフェノール
A、水素化ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加
物およびプロピレンオキサイド付加物、トリシクロデカ
ンジオール、トリシクロデカンジメタノールなどが例示
できる。
The alicyclic polyhydric alcohols include 1,4
-Cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, spiroglycol, hydrogenated bisphenol A, ethylene oxide adduct and propylene oxide adduct of hydrogenated bisphenol A, tricyclodecanediol, tricyclodecanedimethanol, etc. Can be exemplified.

【0019】芳香族多価アルコール類としては、パラキ
シレングリコール、メタキシレングリコール、オルトキ
シレングリコール、1,4−フェニレングリコール、
1,4−フェニレングリコールのエチレンオキサイド付
加物、ビスフェノールA、ビスフェノールAのエチレン
オキサイド付加物およびプロピレンオキサイド付加物な
どを例示できる。
The aromatic polyhydric alcohols include para-xylene glycol, meta-xylene glycol, ortho-xylene glycol, 1,4-phenylene glycol,
Examples thereof include an ethylene oxide adduct of 1,4-phenylene glycol, bisphenol A, an ethylene oxide adduct of bisphenol A, and a propylene oxide adduct.

【0020】また、クッション層を形成する時、イソシ
アネート、メラミン、エポキシなどを添加して該層に架
橋構造を付与してもよい。
When the cushion layer is formed, a crosslinked structure may be imparted to the layer by adding isocyanate, melamine, epoxy or the like.

【0021】クッション層のダイナミック硬度は、使用
する樹脂の数平均分子量、架橋剤の添加量により変化さ
せることができる。樹脂の数平均分子量、架橋剤の添加
量はダイナミック硬度が0.005〜2の範囲内になる
ように選択する。樹脂の分子量の目安となる還元粘度
は、0.05〜5の範囲が好ましく、架橋剤の添加量は
樹脂に対して0.1〜80重量%の範囲が好ましい。一
般に、還元粘度が小さいほど樹脂の架橋密度が高いた
め、あるいは架橋剤の添加量が多いほど架橋の効果が強
いため、硬い樹脂になる傾向にある。一方、還元粘度が
大きいほど架橋密度が低いため、あるいは架橋剤の添加
量が少ないほど架橋の効果が少なくなるため、柔らかい
樹脂層になる傾向にある。
The dynamic hardness of the cushion layer can be changed by the number average molecular weight of the resin used and the amount of the crosslinking agent added. The number average molecular weight of the resin and the amount of the crosslinking agent added are selected so that the dynamic hardness is in the range of 0.005 to 2. The reduced viscosity, which is a measure of the molecular weight of the resin, is preferably in the range of 0.05 to 5, and the amount of the crosslinking agent added is preferably in the range of 0.1 to 80% by weight based on the resin. Generally, a resin having a reduced reduced viscosity has a higher crosslinking density, or a resin having a larger amount of a crosslinking agent has a stronger crosslinking effect. On the other hand, the higher the reduced viscosity, the lower the cross-linking density, or the smaller the amount of the cross-linking agent, the lower the cross-linking effect.

【0022】衝撃緩和効果を十分に発現させるために
は、ダイナミック硬度が0.005〜2のクッション層
の厚さを2〜100μmの範囲にするのが好ましく、よ
り好ましくは5〜90μmの範囲である。厚さが2〜1
00μmであると、衝撃緩和効果が十分発現でき、かつ
適度の柔らかさをもっているので、タッチパネル組立プ
ロセスで支障をきたすこともない。
In order to sufficiently exert the impact relaxation effect, the thickness of the cushion layer having a dynamic hardness of 0.005 to 2 is preferably in the range of 2 to 100 μm, more preferably in the range of 5 to 90 μm. is there. 2-1 thickness
When the thickness is 00 μm, the effect of alleviating the impact can be sufficiently exhibited and the softness is moderate, so that there is no trouble in the touch panel assembling process.

【0023】クッション層を透明プラスチックフィルム
層上に積層するには、コーティング法を用いるのが適し
ている。コーティング法としては、エアドクタコート
法、ナイフコート法、ロッドコート法、正回転ロールコ
ート法、リバースロールコート法、グラビアコート法、
キスコート法、ビードコート法、スリットオリフェスコ
ート法、キャストコート法などが用いられる。架橋構造
を付与する場合には、積層後に加熱もしくは紫外線照射
によりエネルギー印加してもよい。
For laminating the cushion layer on the transparent plastic film layer, it is suitable to use a coating method. Coating methods include air doctor coating, knife coating, rod coating, forward rotation roll coating, reverse roll coating, gravure coating,
A kiss coat method, a bead coat method, a slit orifice coat method, a cast coat method, or the like is used. When imparting a crosslinked structure, energy may be applied by heating or ultraviolet irradiation after lamination.

【0024】本発明における透明導電性薄膜層は、透明
性と導電性とをあわせもつ材料であれば特に制限はな
い。代表的なものとしては、酸化インジウム、酸化亜
鉛、酸化スズ、インジウム−スズ複合酸化物、スズ−ア
ンチモン複合酸化物、亜鉛−アルミニウム複合酸化物、
インジウム−亜鉛複合酸化物、インジウム−亜鉛−ガリ
ウム複合酸化物などの薄膜が挙げられる。これらの化合
物薄膜は、適当な作成条件とすることで、透明性と導電
性をあわせもつ透明導電性薄膜となることが知られてい
る。
The transparent conductive thin film layer in the present invention is not particularly limited as long as it is a material having both transparency and conductivity. Representative examples are indium oxide, zinc oxide, tin oxide, indium-tin composite oxide, tin-antimony composite oxide, zinc-aluminum composite oxide,
Examples of the thin film include an indium-zinc composite oxide and an indium-zinc-gallium composite oxide. It is known that these compound thin films can be made into transparent conductive thin films having both transparency and conductivity under appropriate conditions.

【0025】透明導電性薄膜層の膜厚としては、40〜
8000Åの範囲が望ましく、さらに望ましくは50〜
5000Åである。透明導電性薄膜層の膜厚が40〜8
000Åの場合、連続した薄膜になりやすく良好な導電
性を示し、また透明性も満足できる。
The thickness of the transparent conductive thin film layer is from 40 to
It is preferably in the range of 8000 °, more preferably 50 to
5000 $. The thickness of the transparent conductive thin film layer is 40 to 8
In the case of 000 °, a continuous thin film is easily formed, good conductivity is exhibited, and transparency is satisfactory.

【0026】透明導電性薄膜層は、公知の方法、例えば
真空蒸着法、スパッタリング法、CVD法、イオンプレ
ーティング法、スプレー法などにより作成され、上記材
料の種類および必要膜厚に応じて適宜の方法を選択す
る。
The transparent conductive thin film layer is formed by a known method, for example, a vacuum deposition method, a sputtering method, a CVD method, an ion plating method, a spray method, or the like. Choose a method.

【0027】例えばスパッタリング法の場合、化合物を
用いた通常のスパッタリング法、あるいは、金属ターゲ
ットを用いた反応性スパッタリング法などが用いられ
る。この時、反応性ガスとして、酸素、窒素、水蒸気な
どを導入したり、オゾン添加、イオンアシストなどの手
段を併用してもよい。また、本発明の目的を損なわない
限り、基板を加熱、冷却したり、基板に直流、交流、高
周波などのバイアスを印加してもよい。蒸着法、CVD
法などの他の作成方法を採用する場合も上記と同様であ
る。
For example, in the case of the sputtering method, an ordinary sputtering method using a compound, a reactive sputtering method using a metal target, or the like is used. At this time, oxygen, nitrogen, water vapor or the like may be introduced as a reactive gas, or means such as ozone addition or ion assist may be used in combination. Further, as long as the object of the present invention is not impaired, the substrate may be heated or cooled, or a bias such as direct current, alternating current, or high frequency may be applied to the substrate. Evaporation method, CVD
The same applies to the case where another creation method such as a method is adopted.

【0028】本発明の透明導電性フィルムの一実施態様
を図1に示す。図1中、101は透明導電性フィルム、
11は透明プラスチックフィルム層、12はクッション
層および14は透明導電性薄膜層である。
FIG. 1 shows an embodiment of the transparent conductive film of the present invention. In FIG. 1, 101 is a transparent conductive film,
11 is a transparent plastic film layer, 12 is a cushion layer, and 14 is a transparent conductive thin film layer.

【0029】本発明の透明導電性フィルムは、クッショ
ン層と透明導電性薄膜層との間に透明樹脂層を設けても
よい。透明導電性薄膜を形態保持性のある透明樹脂層上
に形成すると、ペン入力耐久性がさらに向上する。
In the transparent conductive film of the present invention, a transparent resin layer may be provided between the cushion layer and the transparent conductive thin film layer. When the transparent conductive thin film is formed on a transparent resin layer having shape retention, pen input durability is further improved.

【0030】透明樹脂層を形成するのに用いられる樹脂
としては、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイ
ミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアクリル樹脂、
ポリウレタン樹脂、シリコン系樹脂などが挙げられる。
これらの樹脂は他の樹脂を少量共重合したり、ブレンド
したりしてもよい。また、透明樹脂層を形成する時、イ
ソシアネート、メラミン、エポキシなどを添加して層に
架橋構造を付与してもよい。
The resin used to form the transparent resin layer includes polyester resin, polyamide resin, polyimide resin, polyamideimide resin, polyacryl resin,
Polyurethane resins, silicone resins, and the like are listed.
These resins may be copolymerized or blended in small amounts with other resins. When forming the transparent resin layer, a crosslinked structure may be imparted to the layer by adding isocyanate, melamine, epoxy or the like.

【0031】透明樹脂層を形成するのに用いるポリエス
テル樹脂として、クッション層を形成するのに用いるポ
リエステルと同じものが使用できる。また、ポリアミド
イミド樹脂としては、酸成分として、無水トリメリット
酸を用いることが必須である。
As the polyester resin used for forming the transparent resin layer, the same polyester resin as used for forming the cushion layer can be used. In addition, it is essential to use trimellitic anhydride as an acid component in the polyamideimide resin.

【0032】無水トリメリット酸の他に共重合してもよ
い酸成分としては、例えばシュウ酸、マロン酸、コハク
酸、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸、ドデカン
ジオン酸、シクロへキサンジカルボン酸などの脂肪族、
あるいは脂環族ジカルボン酸、イソフタル酸、テレフタ
ル酸、ジフェニルメタン−4,4’−ジカルボン酸、ジ
フェニルエーテル−4,4’−ジカルボン酸、ビス
[(4−カルボキシ)フタルイミド]−4,4’−ジフ
ェニルエーテル、ビス[(4−カルボキシ)フタルイミ
ド]−α,α−メタキシレンなどの芳香族ジカルボン
酸、ブタン−1,2,4−トリカルボン酸、ベンゼン−
1,2,4−トリカルボン酸、ナフタレン−1,2,4
−トリカルボン酸などのトリカルボン酸、およびこれら
の酸無水物、ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸、ベンゼン−1,2,3,4−テトラカルボン
酸、ビフェニルテトラカルボン酸、ナフタレンテトラカ
ルボン酸、ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボ
ン酸、エチレングリコールビス(アンヒドロトリメリテ
ート)、プロピレングリコールビス(アンヒドロトリメ
リテート)、3,3’,4,4’−オキシジフタル酸な
どのテトラカルボン酸およびこれらの二無水物が挙げら
れる。これらは単独あるいは2種以上の混合物として用
いられる。共重合してもよい酸成分は、本発明の目的効
果が達成しうる範囲内で使用されるが、通常酸成分中6
0モル%以下、好ましくは30モル%以下である。
Acid components which may be copolymerized in addition to trimellitic anhydride include, for example, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, adipic acid, sebacic acid, azelaic acid, dodecanedioic acid, cyclohexanedicarboxylic acid and the like. Aliphatic,
Or an alicyclic dicarboxylic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, diphenylmethane-4,4′-dicarboxylic acid, diphenylether-4,4′-dicarboxylic acid, bis [(4-carboxy) phthalimide] -4,4′-diphenylether, Aromatic dicarboxylic acids such as bis [(4-carboxy) phthalimide] -α, α-meta-xylene, butane-1,2,4-tricarboxylic acid, benzene-
1,2,4-tricarboxylic acid, naphthalene-1,2,4
-Tricarboxylic acids such as tricarboxylic acids, and their anhydrides, pyromellitic acid, benzophenonetetracarboxylic acid, benzene-1,2,3,4-tetracarboxylic acid, biphenyltetracarboxylic acid, naphthalenetetracarboxylic acid, perylene- Tetracarboxylic acids such as 3,4,9,10-tetracarboxylic acid, ethylene glycol bis (anhydrotrimellitate), propylene glycol bis (anhydrotrimellitate), and 3,3 ′, 4,4′-oxydiphthalic acid Acids and their dianhydrides. These are used alone or as a mixture of two or more. The acid component which may be copolymerized is used within a range in which the object effect of the present invention can be achieved.
0 mol% or less, preferably 30 mol% or less.

【0033】ジアミン成分としてはイソホロンジアミ
ン、m−キシリレンジアミン、p−キシリレンジアミ
ン、1,3−ジシクロヘキシレンジアミン、1,4−ジ
シクロヘキシレンジアミン、あるいはこれに対応するジ
イソシアネートを単独、もしくは2種以上の混合物とし
て用いることが必須である。
As the diamine component, isophoronediamine, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, 1,3-dicyclohexylenediamine, 1,4-dicyclohexylenediamine, or a corresponding diisocyanate alone or It is essential to use as a mixture of two or more.

【0034】さらにジアミン成分として、1,4−ビス
(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4
−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−ア
ミノフェノキシベンゼン、2,2−ビス[4−(4−ア
ミノフェノキシ)フェニル]へキサフルオロプロパン、
ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホ
ン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]ス
ルホン、ビス[4−(2−アミノフェノキシ)フェニ
ル]スルホン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホ
ン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’
−[1,3−フェニレンビス(1−メチルエチリデ
ン)]ビスアニリン、4,4’−[1,4−フェニレン
ビス(1−メチルエチリデン)]ビスアニリン、3,
3’−[1,3−フェニレンビス(1−メチルエチリデ
ン)]ビスアニリン、1,3−ビス(アミノメチル)シ
クロヘキサン、1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘ
キサン、m−フェニレンジアミン、p−フェニレンジア
ミン、オキシジアニリン、メチレンジアニリン、ヘキサ
フルオロイソプロピリデンジアニリン、1,4−ナフタ
レンジアミン、1,5−ナフタレンジアミン、2,6−
ナフタレンジアミン、2,7−ナフタレンジアミン、
2,2’−ビス(4−アミノフェニル)へキサフルオロ
プロパン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、
3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジ
アミノベンゾフェノン、ヘキサメチレンジアミン、テト
ラメチレンジアミン、5−アミノ−1−(4’−アミノ
フェニル)−1,3,3’−トリメチルインダン、3,
4’−ジアミノジフェニルエーテル、イソプロピリデン
ジアニリン、3,3’−ジアミノベンゾフェノン、4,
4’−ジアミノシクロヘキシル、o−トリジン、2,4
−トリレンジアミン、4,4’−ビス(4−アミノフェ
ノキシ)ビフェニル、4,4’−ジアミノジフェニルス
ルフィド、3,3’−ジアミノジフェニルスルフィド、
6−アミノ−1−(4’−アミノフェニル)−1,3,
3−トリメチルインダン、あるいはこれに対応するジイ
ソシアネートを重合しても構わない。これらは単独もし
くは2種以上の混合物として重合することができる。共
重合してもよいジアミンは、本発明のポリアミドイミド
の特性を落とさない範囲内で使用されるが、通常全ジア
ミン成分中50モル%以下、好ましくは30モル%以下
である。
Further, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene and 1,3-bis (4
-Aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxybenzene, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane,
Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (2-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 3,3′-diaminodiphenylsulfone 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 4,4 '
-[1,3-phenylenebis (1-methylethylidene)] bisaniline, 4,4 ′-[1,4-phenylenebis (1-methylethylidene)] bisaniline, 3,
3 '-[1,3-phenylenebis (1-methylethylidene)] bisaniline, 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (aminomethyl) cyclohexane, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine , Oxydianiline, methylenedianiline, hexafluoroisopropylidenedianiline, 1,4-naphthalenediamine, 1,5-naphthalenediamine, 2,6-
Naphthalenediamine, 2,7-naphthalenediamine,
2,2′-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, 4,4′-diaminodiphenyl ether,
3,4′-diaminodiphenyl ether, 4,4′-diaminobenzophenone, hexamethylenediamine, tetramethylenediamine, 5-amino-1- (4′-aminophenyl) -1,3,3′-trimethylindane, 3,
4'-diaminodiphenyl ether, isopropylidene dianiline, 3,3'-diaminobenzophenone, 4,
4'-diaminocyclohexyl, o-tolidine, 2,4
-Tolylenediamine, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-diaminodiphenyl sulfide,
6-amino-1- (4'-aminophenyl) -1,3,3
3-Trimethylindane or a corresponding diisocyanate may be polymerized. These can be polymerized alone or as a mixture of two or more. The diamine that may be copolymerized is used within a range that does not impair the properties of the polyamideimide of the present invention, but is usually 50 mol% or less, preferably 30 mol% or less, based on all diamine components.

【0035】ポリアミドイミド樹脂の製造は、イソシア
ネート法、あるいは酸クロリド法など通常の方法で合成
できるが、工業的にはイソシアネート法が有利である。
イソシアネート法の場合、用いうる有機溶剤としては、
N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−メチルアセト
アミド、N,N−ジエチルアセトアミド、N,N−ジメ
チルメトキシアセトアミド、N−メチル−2−ピロリド
ン、ヘキサメチルホスファミドなどのアミド系有機溶
剤、N−メチルカプロラクタムなどのラクタム系有機溶
剤、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、テトラ
メチル尿素などの尿素系有機溶剤、1,2−ジメトキシ
エタン、1,2−ビス(2−メトキシエトキシ)エタ
ン、ビス[2−(2−メトキシエトキシ)エタン]など
の炭化水素系有機溶剤、ビス(2−メトキシエチル)エ
ーテル、ビス[2−(2−メトキシエトキシ)エチル]
エーテル、1,3−ジオキサン、1,4−ジオキサン、
テトラヒドロフラン、ジグライムなどのエーテル系有機
溶剤、γ−ブチロラクトンなどのエステル系有機溶剤、
ピリジン、ピコリンなどのピリジン系有機溶剤、ジメチ
ルスルホキシド、ジメチルスルホン、スルホランなどの
イオウ系有機溶剤、ニトロメタン、ニトロエタン、ニト
ロベンゼンなどのニトロ系有機溶剤、アセトニトリルな
どのニトリル系有機溶剤などが挙げられるが、これらに
限定されるわけではない。また、これらの有機溶剤は単
独でも2種以上の混合系でも用いることができる。
The polyamideimide resin can be produced by a usual method such as an isocyanate method or an acid chloride method, but the isocyanate method is industrially advantageous.
In the case of the isocyanate method, as an organic solvent that can be used,
Amide-based organic solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-methylacetamide, N, N-diethylacetamide, N, N-dimethylmethoxyacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, hexamethylphosphamide; Lactam organic solvents such as -methylcaprolactam, urea organic solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone and tetramethylurea, 1,2-dimethoxyethane, 1,2-bis (2-methoxyethoxy) Hydrocarbon organic solvents such as ethane and bis [2- (2-methoxyethoxy) ethane], bis (2-methoxyethyl) ether, bis [2- (2-methoxyethoxy) ethyl]
Ether, 1,3-dioxane, 1,4-dioxane,
Tetrahydrofuran, ether organic solvents such as diglyme, ester organic solvents such as γ-butyrolactone,
Pyridine, pyridine-based organic solvents such as picoline, dimethylsulfoxide, dimethylsulfone, sulfur-based organic solvents such as sulfolane, nitromethane, nitroethane, nitro-based organic solvents such as nitrobenzene, nitrile-based organic solvents such as acetonitrile, and the like. It is not limited to. These organic solvents can be used alone or in a mixture of two or more.

【0036】反応温度は、通常50〜200℃が好まし
い。反応はイソシアネートと活性水素化合物の反応に対
する触媒、例えば3級アミン類、アルカリ金属化合物、
アルカリ土類金属化合物、コバルト、チタニウム、錫、
亜鉛などの金属、半金属化合物などの存在下に行っても
よい。
The reaction temperature is usually preferably from 50 to 200 ° C. The reaction is a catalyst for the reaction between the isocyanate and the active hydrogen compound, for example, tertiary amines, alkali metal compounds,
Alkaline earth metal compounds, cobalt, titanium, tin,
The reaction may be performed in the presence of a metal such as zinc, a metalloid compound, or the like.

【0037】透明樹脂層の厚さは0.1〜50μmの範
囲が好ましく、より好ましくは、0.5〜30μmの範
囲である。厚さが0.1〜50μmの範囲の場合、形態
保持性が十分発現し、かつクッション層の衝撃緩和効果
も十分発現できる。
The thickness of the transparent resin layer is preferably in the range of 0.1 to 50 μm, more preferably in the range of 0.5 to 30 μm. When the thickness is in the range of 0.1 to 50 μm, the shape retention property is sufficiently exhibited, and the cushioning layer can also have a sufficient impact relaxation effect.

【0038】本発明の透明導電性フィルムで、透明樹脂
層をもつ一実施態様を図2に示す。図2中、102は透
明導電性フィルム、11は透明プラスチックフィルム
層、12はクッション層、13は透明樹脂層および14
は透明導電性薄膜層である。
One embodiment of the transparent conductive film of the present invention having a transparent resin layer is shown in FIG. 2, 102 is a transparent conductive film, 11 is a transparent plastic film layer, 12 is a cushion layer, 13 is a transparent resin layer and 14
Is a transparent conductive thin film layer.

【0039】本発明の透明導電性フィルムには、透明プ
ラスチックフィルム層の透明導電性薄膜層を設けた面の
反対側の面に、タッチパネルに用いた際のペンなどによ
る傷つき防止のために、ハードコート処理(HC)層を
設けてもよい。このハードコート処理(HC)層として
は、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系
樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコン系樹
脂、ポリイミド系樹脂などの硬化性樹脂を使用し、架橋
剤としてイソシアネート、メラミンなどを使用した架橋
性樹脂の硬化物層が好ましい。上記した樹脂は、単独あ
るいは混合して用いてもよい。
The transparent conductive film of the present invention has a hard plastic surface on the side opposite to the surface on which the transparent conductive thin film layer is provided, in order to prevent damage by a pen or the like when used for a touch panel. A coat treatment (HC) layer may be provided. As the hard coat (HC) layer, a curable resin such as a polyester resin, a urethane resin, an acrylic resin, a melamine resin, an epoxy resin, a silicon resin, and a polyimide resin is used. A cured product layer of a crosslinkable resin using isocyanate, melamine or the like is preferable. The above resins may be used alone or in combination.

【0040】ハードコート処理(HC)層の厚さは、
0.1〜50μmの範囲が好ましく、さらに好ましくは
0.5〜30μmの範囲である。0.l〜50μmの範
囲であれば、ハードコート処理の機能が十分発現し、か
つHC層の形成速度が著しく遅くなることもなく、生産
性の面で好結果が得られる。
The thickness of the hard coat treatment (HC) layer is as follows:
The range is preferably from 0.1 to 50 μm, and more preferably from 0.5 to 30 μm. 0. When the thickness is in the range of 1 to 50 μm, the function of the hard coat treatment is sufficiently exhibited, and the formation rate of the HC layer is not significantly reduced, so that good results can be obtained in terms of productivity.

【0041】ハードコート処理(HC)層を積層する方
法としては、透明導電性フィルムの透明導電性薄膜層を
設けた面の反対側の面に、上記の樹脂をグラビア方式、
リバース方式、ダイ方式などでコーティングした後、
熱、紫外線、電子線などのエネルギーを印加して硬化さ
せる。
As a method of laminating a hard coat treatment (HC) layer, the above resin is coated on the surface of the transparent conductive film opposite to the surface provided with the transparent conductive thin film layer by a gravure method.
After coating by reverse method, die method, etc.
Curing is performed by applying energy such as heat, ultraviolet rays, and electron beams.

【0042】本発明の透明導電性フィルムで、HC層を
もつ一実施態様を図3に示す。図3中、103は透明導
電性フィルム、11は透明プラスチックフィルム層、1
2はクッション層、13は透明樹脂層、14は透明導電
性薄膜層および15はHC層である。
FIG. 3 shows an embodiment of the transparent conductive film of the present invention having an HC layer. 3, 103 is a transparent conductive film, 11 is a transparent plastic film layer, 1
2 is a cushion layer, 13 is a transparent resin layer, 14 is a transparent conductive thin film layer, and 15 is an HC layer.

【0043】本発明の透明導電性フィルムには、透明プ
ラスチックフィルム層の透明導電性薄膜層を設けた面の
反対側の面に、タッチパネルの視認性向上のために、防
眩処理(AG)層を設けてもよい。防眩処理(AG)層
は、硬化性樹脂をコーティング、乾燥した後、エンボス
ロールで表面に凹凸を形成し、この後、熱、紫外線、電
子線などのエネルギーを印加して硬化させる。好ましい
硬化性樹脂としては、ポリエステル系樹脂、ウレタン系
樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹
脂、シリコン系樹脂、ポリイミド系樹脂などが挙げら
れ、これらは単独あるいは混合物として使用される。
The transparent conductive film of the present invention has an antiglare (AG) layer on the surface of the transparent plastic film layer opposite to the surface on which the transparent conductive thin film layer is provided, in order to improve the visibility of the touch panel. May be provided. The anti-glare treatment (AG) layer is formed by coating a curable resin and drying, then forming irregularities on the surface with an embossing roll, and thereafter, curing by applying energy such as heat, ultraviolet rays, and electron beams. Preferred curable resins include polyester resins, urethane resins, acrylic resins, melamine resins, epoxy resins, silicone resins, polyimide resins, and the like, and these may be used alone or as a mixture.

【0044】防眩処理(AG)層の厚さは、0.1〜5
0μmの範囲が好ましく、さらに好ましくは0.5〜3
0μmの範囲である。
The thickness of the anti-glare (AG) layer is 0.1 to 5
The range is preferably 0 μm, more preferably 0.5 to 3 μm.
The range is 0 μm.

【0045】本発明の透明導電性フィルムで、AG層を
もつ一実施態様を図4に示す。図4中、104は透明導
電性フィルム、11は透明プラスチックフィルム層、1
2はクッション層、13は透明樹脂層、14は透明導電
性薄膜層および16はAG層である。
FIG. 4 shows an embodiment of the transparent conductive film of the present invention having an AG layer. In FIG. 4, 104 is a transparent conductive film, 11 is a transparent plastic film layer, 1
2 is a cushion layer, 13 is a transparent resin layer, 14 is a transparent conductive thin film layer, and 16 is an AG layer.

【0046】本発明の透明導電性フィルムには、透明プ
ラスチックフィルム層の透明導電性薄膜層を設けた面の
反対側の面に、タッチパネルとして用いた際に可視光線
の透過率をさらに向上させるために、反射防止処理(A
R)層を設けてもよい。反射防止処理(AR)層には、
透明プラスチックフィルム層の屈折率とは異なる屈折率
を有する材料を、単層もしくは2層以上の多層として形
成するのが好ましい。反射防止処理(AR)層が単層構
造の場合、透明プラスチックフィルム層よりも小さな屈
折率を有する材料を用いるのがよい。また2層以上の多
層構造とする場合は、プラスチックフィルム層と隣接す
る層は、該プラスチックフィルム層よりも大きな屈折率
を有する材料を用い、この上の層にはこれよりも小さな
屈折率を有する材料を選ぶのがよい。このような反射防
止処理(AR)層を構成する材料としては、有機材料で
も無機材料でも上記の屈折率の関係を満足すれば特に限
定されないが、例えば、CaF2 、MgF2 、NaAi
4 、SiO2 、ThF4 、ZrO2 、Nd2 3 、S
nO2 、TiO2 、CeO2 、ZnS、ln2 3 など
の誘電体を用いるのが好ましい。
The transparent conductive film of the present invention has a transparent plastic film layer on the surface opposite to the surface on which the transparent conductive thin film layer is provided, in order to further improve the visible light transmittance when used as a touch panel. The anti-reflection treatment (A
R) A layer may be provided. In the anti-reflection treatment (AR) layer,
It is preferable to form a material having a refractive index different from the refractive index of the transparent plastic film layer as a single layer or a multilayer of two or more layers. When the antireflection treatment (AR) layer has a single-layer structure, it is preferable to use a material having a smaller refractive index than the transparent plastic film layer. In the case of a multilayer structure of two or more layers, a layer having a refractive index higher than that of the plastic film layer is used for a layer adjacent to the plastic film layer, and a layer having a lower refractive index is used for a layer above the plastic film layer. It is good to choose the material. The material constituting such an anti-reflection treatment (AR) layer is not particularly limited as long as it satisfies the above-mentioned relationship of the refractive index, whether it is an organic material or an inorganic material. For example, CaF 2 , MgF 2 , NaAi
F 4 , SiO 2 , ThF 4 , ZrO 2 , Nd 2 O 3 , S
It is preferable to use a dielectric such as nO 2 , TiO 2 , CeO 2 , ZnS, and In 2 O 3 .

【0047】反射防止処理(AR)層は、真空蒸着法、
スパッタリング法、CVD法、イオンプレーティング法
などのドライコーティングプロセスでも、グラビア方
式、リバース方式、ダイ方式などのウェットコーティン
グプロセスでも形成することができる。
The anti-reflection (AR) layer is formed by a vacuum evaporation method,
It can be formed by a dry coating process such as a sputtering method, a CVD method, or an ion plating method, or a wet coating process such as a gravure method, a reverse method, or a die method.

【0048】反射防止処理(AR)層の厚さd(μm)
は、該層を構成する材料の屈折率をn、AR層に入る光
の中心波長をλ(nm)としたとき、n・d=λ/4の
関係を満足するのがよい。
Antireflection treatment (AR) layer thickness d (μm)
When the refractive index of the material constituting the layer is n and the center wavelength of light entering the AR layer is λ (nm), it is preferable that the relationship of n · d = λ / 4 is satisfied.

【0049】本発明の透明導電性フィルムで、AR層を
もつ一実施態様を図5に示す。図5中、105は透明導
電性フィルム、11は透明プラスチックフィルム層、1
2はクッション層、13は透明樹脂層、14は透明導電
性薄膜層および17は3層構造のAR層である。
FIG. 5 shows an embodiment of the transparent conductive film of the present invention having an AR layer. 5, 105 is a transparent conductive film, 11 is a transparent plastic film layer, 1
2 is a cushion layer, 13 is a transparent resin layer, 14 is a transparent conductive thin film layer, and 17 is an AR layer having a three-layer structure.

【0050】さらに、このハードコート処理(HC)
層、防眩処理(AG)層、反射防止処理(AR)層の積
層に先立って、プラスチックフィルム層に、前処理とし
て、コロナ放電処理、プラズマ処理、スパッタエッチン
グ処理、電子線照射処理、紫外線照射処理、プライマ処
理、易接着処理などの公知の処理を施してもよい。
Further, the hard coat treatment (HC)
Prior to lamination of a layer, an antiglare treatment (AG) layer and an antireflection treatment (AR) layer, a corona discharge treatment, a plasma treatment, a sputter etching treatment, an electron beam irradiation treatment, and an ultraviolet irradiation are applied to the plastic film layer as pretreatments. Known treatments such as treatment, primer treatment, and easy adhesion treatment may be performed.

【0051】本発明の透明導電性フィルムの透明度は、
JIS K 7105に規定する積分球式光線透過率法
で測定する光線透過率(%)で、好ましくは80%以
上、さらに好ましくは85%以上である。また、フィル
ムの導電性は、JIS K 7194に準拠する4端子
法で測定した表面抵抗率(Ω/□)で、好ましくは50
〜5000Ω/□、さらに好ましくは100〜3000
Ω/□である。フィルムの厚さは、12〜450μmが
好ましく、さらに好ましくは15〜300μmである。
The transparency of the transparent conductive film of the present invention is as follows:
The light transmittance (%) measured by the integrating sphere light transmittance method specified in JIS K 7105 is preferably 80% or more, more preferably 85% or more. Further, the conductivity of the film is a surface resistivity (Ω / □) measured by a four-terminal method in accordance with JIS K 7194, preferably 50.
-5000 Ω / □, more preferably 100-3000
Ω / □. The thickness of the film is preferably from 12 to 450 μm, more preferably from 15 to 300 μm.

【0052】本発明の透明導電性フィルムは、液晶表示
パネル、EL表示パネルやタッチパネルとして利用され
る。特にタッチパネルとして好適に利用できる。図6に
本発明の透明導電性フィルムを用いたタッチパネルの一
実施例を示す。一対のパネル板102、6を、透明導電
性薄膜層14、14aが対向するようにスペーサー3を
介して配置してなるタッチパネル4において、一方のパ
ネル板として、透明プラスチックフィルム層11、クッ
ション層12、透明樹脂層13および透明導電性薄膜層
14からなる本発明の透明導電性フィルム102を用
い、もう一方のパネル板として、透明導電性薄膜層14
aとガラス板2とからなる透明導電性パネル板6を用い
ている。このタッチパネル4は、透明プラスチックフィ
ルム層11側から、ペン5により文字入力したときに、
ペン5からの押圧により、対向した透明導電性薄膜層1
4、14a同士が接触し、電気的にONになり、ペン5
のタッチパネル4上での位置を検出できる。このペン位
置を連続的かつ正確に検出することで、ペン5の軌跡か
ら文字を入力できる。この際、ペン接触側のパネル板が
本発明の透明導電性フィルム102であるため、ペン入
力耐久性に優れ、従って長期にわたってペン位置検出が
安定なタッチパネルとなる。
The transparent conductive film of the present invention is used as a liquid crystal display panel, an EL display panel, and a touch panel. In particular, it can be suitably used as a touch panel. FIG. 6 shows an embodiment of a touch panel using the transparent conductive film of the present invention. In a touch panel 4 in which a pair of panel plates 102 and 6 are arranged via a spacer 3 so that the transparent conductive thin film layers 14 and 14a face each other, a transparent plastic film layer 11 and a cushion layer 12 are used as one panel plate. The transparent conductive film 102 of the present invention comprising the transparent resin layer 13 and the transparent conductive thin film layer 14 is used.
a and a glass plate 2 are used. When touch panel 4 is used to input characters from pen 5 on the transparent plastic film layer 11 side,
The transparent conductive thin film layer 1 opposing by pressing from the pen 5
4 and 14a come into contact with each other and are electrically turned on, and the pen 5
On the touch panel 4 can be detected. By continuously and accurately detecting the pen position, characters can be input from the locus of the pen 5. At this time, since the panel plate on the pen contact side is the transparent conductive film 102 of the present invention, the touch panel is excellent in pen input durability, and therefore, can stably detect the pen position for a long time.

【0053】なお、図6では、もう一方のパネル板は、
ガラス基板2の上に透明導電性薄膜層14aを積層した
ものであるが、基板はガラスに限らず透明であれば特に
制限なく使用でき、透明プラスチックフィルムや、ある
いはもう一方のパネル板も本発明の透明導電性フィルム
を使用してもよい。
In FIG. 6, the other panel plate is
Although the transparent conductive thin film layer 14a is laminated on the glass substrate 2, the substrate is not limited to glass and can be used without any particular limitation as long as it is transparent. A transparent plastic film or another panel plate can be used in the present invention. May be used.

【0054】[0054]

【実施例】本発明を以下の実施例に基づいてより具体的
に説明する。 実施例1 図1に示す透明導電性フィルム101を以下のようにし
て製造した。厚さが188μmのポリエチレンテレフタ
レートフィルム(東洋紡績(株)製:A4100)を透
明プラスチックフィルム層11として用いた。光線透過
率は92%であった。
EXAMPLES The present invention will be described more specifically based on the following examples. Example 1 The transparent conductive film 101 shown in FIG. 1 was manufactured as follows. A polyethylene terephthalate film (A4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 188 μm was used as the transparent plastic film layer 11. The light transmittance was 92%.

【0055】プラスチックフィルム層11の上に、クッ
ション層12としてポリエステル樹脂を積層した。この
ポリエステル樹脂は以下のようにして合成した。すなわ
ち、温度計および攪拌機を備えたオートクレーブ中に、
テレフタル酸130重量部、イソフタル酸56重量部、
アゼライン酸6重量部、トリメリット酸3重量部、エチ
レングリコール159重量部、およびネオペンチルグリ
コール30重量部を仕込み、180〜230℃で120
分間加熱してエステル交換反応を行った。次いで反応系
を240℃まで昇温し、系の圧力1〜10mmHgで反
応を続け、共重合ポリエステル樹脂を得た(実施例1−
1)。分子量の異なる共重合ポリエステル樹脂をさらに
2種類(実施例1−2および実施例1−3)得た。これ
らの樹脂の還元粘度を表1に示す。得られたポリエステ
ル樹脂340重量部、メチルエチルケトン150重量
部、テトラヒドロフラン140重量部および硬化剤とし
て日本ポリウレタン工業(株)製:コロネートL 15
重量部からなる混合物を、ナイフコート法にてプラスチ
ックフィルム層11上にコーティングした。120℃1
0分の乾燥後、130℃1時間の加熱で硬化させ、厚さ
30μmのクッション層12を形成した。
A polyester resin was laminated as a cushion layer 12 on the plastic film layer 11. This polyester resin was synthesized as follows. That is, in an autoclave equipped with a thermometer and a stirrer,
130 parts by weight of terephthalic acid, 56 parts by weight of isophthalic acid,
6 parts by weight of azelaic acid, 3 parts by weight of trimellitic acid, 159 parts by weight of ethylene glycol, and 30 parts by weight of neopentyl glycol are charged and heated at 180 to 230 ° C. for 120 parts.
The mixture was heated for one minute to perform a transesterification reaction. Next, the temperature of the reaction system was raised to 240 ° C., and the reaction was continued at a system pressure of 1 to 10 mmHg to obtain a copolymerized polyester resin (Example 1-).
1). Two more types of copolymerized polyester resins having different molecular weights (Example 1-2 and Example 1-3) were obtained. Table 1 shows the reduced viscosities of these resins. 340 parts by weight of the obtained polyester resin, 150 parts by weight of methyl ethyl ketone, 140 parts by weight of tetrahydrofuran, and Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd .: Coronate L 15 as a curing agent
The mixture consisting of parts by weight was coated on the plastic film layer 11 by a knife coating method. 120 ° C1
After drying for 0 minutes, the mixture was cured by heating at 130 ° C. for 1 hour to form a cushion layer 12 having a thickness of 30 μm.

【0056】クッション層12上に、インジウムスズ複
合酸化物をターゲットに用いて、高周波マグネトロンス
パッタリング法で、250Å厚の透明導電性薄膜層14
を製膜し、3種類の透明導電性フィルム101を得た。
なお上記スパッタリングは、真空度は3×10-3Tor
rとし、ガスとしてAr60sccm、O2 2sccm
流した。また、該透明導電性薄膜層の製膜中、透明プラ
スチックフィルム層11とクッション層12とからなる
基板は、加熱もしくは冷却せず室温のままとした。
The transparent conductive thin film layer 14 having a thickness of 250 mm was formed on the cushion layer 12 by high frequency magnetron sputtering using indium tin composite oxide as a target.
To form three types of transparent conductive films 101.
The sputtering was performed at a degree of vacuum of 3 × 10 −3 Torr.
r, gas as Ar 60 sccm, O 2 2 sccm
Shed. During the formation of the transparent conductive thin film layer, the substrate comprising the transparent plastic film layer 11 and the cushion layer 12 was kept at room temperature without heating or cooling.

【0057】得られた透明導電性フィルムを使用して、
タッチパネルを作製した。すなわち、得られた透明導電
性フィルム101を一方のパネル板として用い、他方の
パネル板として、ガラス基板上に上記と同じ方法で40
0Å厚の透明導電性薄膜層を形成したものを用いた。こ
の2枚のパネル板を透明導電性薄膜層が対向するよう
に、直径30μmのエポキシビーズ(スペーサー)を介
して配置し、タッチパネルを作製した。
Using the obtained transparent conductive film,
A touch panel was manufactured. That is, the obtained transparent conductive film 101 is used as one panel plate, and the other panel plate is formed on a glass substrate by the same method as described above.
A transparent conductive thin film layer having a thickness of 0 mm was used. The two panel plates were arranged via epoxy beads (spacers) having a diameter of 30 μm so that the transparent conductive thin film layers faced each other, to produce a touch panel.

【0058】実施例2 図2に示す透明導電性フィルム102を以下のようにし
て製造した。厚さが188μmのポリエチレンテレフタ
レートフィルム(東洋紡績(株)製:A4100)を透
明プラスチックフィルム層11として用いた。
Example 2 A transparent conductive film 102 shown in FIG. 2 was manufactured as follows. A polyethylene terephthalate film (A4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 188 μm was used as the transparent plastic film layer 11.

【0059】プラスチックフィルム層11の上に、実施
例1と同じポリエステル系樹脂(3種類)(実施例2−
1、実施例2−2および実施例2−3)を用いてクッシ
ョン層12を積層した。すなわち、実施例1で使用した
ポリエステル樹脂と同じ樹脂を340重量部、メチルエ
チルケトン150重量部、テトラヒドロフラン140重
量部および硬化剤として日本ポリウレタン工業(株)製
のコロネートHX15重量部からなる混合物を、ナイフ
コート法にてプラスチックフィルム層11上にコーティ
ングした。120℃10分の乾燥後、130℃1時間の
加熱で硬化させ、厚さ20μmのクッション層12とし
た。
On the plastic film layer 11, the same polyester resin (3 types) as in Example 1 (Example 2)
1, the cushion layer 12 was laminated using Example 2-2 and Example 2-3). That is, a mixture consisting of 340 parts by weight of the same resin as the polyester resin used in Example 1, 150 parts by weight of methyl ethyl ketone, 140 parts by weight of tetrahydrofuran, and 15 parts by weight of Coronate HX manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd. as a curing agent was knife-coated. It was coated on the plastic film layer 11 by a method. After drying at 120 ° C. for 10 minutes, the mixture was cured by heating at 130 ° C. for 1 hour to form a cushion layer 12 having a thickness of 20 μm.

【0060】さらにこの上に、透明樹脂層13として、
ポリエステル系樹脂を厚さ10μmの層として積層し
た。この樹脂は、東洋紡績(株)製のバイロン296
30重量部と住友化学工業(株)製のスミテックスレジ
ン(Sumitex Resin)M−41 5重量部
とをテトラヒドロフランに溶解して40重量%溶液とし
た。この溶液を使用してキャストコート法で成膜し、1
30℃5分で乾燥、そして120℃10分で硬化させ
た。
Further, a transparent resin layer 13 is further formed thereon.
A polyester resin was laminated as a layer having a thickness of 10 μm. This resin is manufactured by Toyobo Co., Ltd. Byron 296
30 parts by weight and 5 parts by weight of Sumitex Resin M-415 manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd. were dissolved in tetrahydrofuran to prepare a 40% by weight solution. Using this solution, a film is formed by a cast coat method.
Dry at 30 ° C. for 5 minutes and cure at 120 ° C. for 10 minutes.

【0061】透明樹脂層13上に、インジウムスズ複合
酸化物をターゲットに用いて、高周波マグネトロンスパ
ッタリング法で、300Å厚の透明導電性薄膜層14を
製膜して、3種類の透明導電性フィルム102を得た。
なお上記スパッタリングは、真空度は1×10-3Tor
rとし、ガスとしてAr 30sccm、O2 1scc
m流した。また、透明導電性薄膜層の製膜中、プラスチ
ックフィルム層11、クッション層12および透明樹脂
層13からなる基板は加熱もしくは冷却せず、室温のま
まとした。さらに、基板電位はグランドとした。
On the transparent resin layer 13, a transparent conductive thin film layer 14 having a thickness of 300 mm was formed by high frequency magnetron sputtering using indium tin composite oxide as a target. I got
In the above sputtering, the degree of vacuum was 1 × 10 −3 Torr.
r, gas as Ar 30 sccm, O 2 1 scc
m. During the formation of the transparent conductive thin film layer, the substrate composed of the plastic film layer 11, the cushion layer 12, and the transparent resin layer 13 was not heated or cooled, and was kept at room temperature. Further, the substrate potential was set to ground.

【0062】得られた透明導電性フィルムを使用して、
図6に示すタッチパネルを作製した。すなわち、透明プ
ラスチックフィルム層11、クッション層12、透明樹
脂層13および透明導電性薄膜層14からなる透明導電
性フィルム102を一方のパネル板として用い、他方の
パネル板として、ガラス基板2上に上記と同じ方法で4
00Å厚の透明導電性薄膜層14aを形成したパネル6
を用いた。この2枚のパネル板102、6を透明導電性
薄膜層14、14aが対向するように、直径30μmの
エポキシビーズ(スペーサー)3を介して配置し、タッ
チパネル4を作製した。
Using the obtained transparent conductive film,
The touch panel shown in FIG. 6 was produced. That is, the transparent conductive film 102 including the transparent plastic film layer 11, the cushion layer 12, the transparent resin layer 13, and the transparent conductive thin film layer 14 is used as one panel plate, and the other panel plate is formed on the glass substrate 2 as described above. 4 in the same way as
Panel 6 having a transparent conductive thin film layer 14a having a thickness of 00 mm
Was used. The two panel boards 102 and 6 were arranged via epoxy beads (spacers) 3 having a diameter of 30 μm so that the transparent conductive thin film layers 14 and 14a faced each other, and a touch panel 4 was manufactured.

【0063】実施例3 図2に示す透明導電性フィルム102を以下のようにし
て製造した。厚さが188μmのポリエチレンテレフタ
レートフィルム(東洋紡績(株)製:A4100)を透
明プラスチックフィルム層11として用いた。透明プラ
スチックフィルム層11上に、実施例1と同じポリエス
テル系樹脂(3種類)(実施例3−1、実施例3−2お
よび実施例3−3)を用いてクッション層12を積層し
た。すなわち、実施例1で使用したポリエステル樹脂と
同じ樹脂を340重量部、メチルエチルケトン150重
量部、テトラヒドロフラン140重量部、および硬化剤
として日本ポリウレタン工業(株)製のコロネートHX
を20重量部からなる混合物を、ナイフコート法にてプ
ラスチックフィルム層11上にコーティングした。12
0℃15分の乾燥後、130℃1時間の加熱で硬化さ
せ、厚さ40μmのクッション層12とした。
Example 3 A transparent conductive film 102 shown in FIG. 2 was manufactured as follows. A polyethylene terephthalate film (A4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 188 μm was used as the transparent plastic film layer 11. The cushion layer 12 was laminated on the transparent plastic film layer 11 by using the same polyester resin (three types) (Example 3-1, Example 3-2, and Example 3-3) as in Example 1. That is, 340 parts by weight of the same resin as the polyester resin used in Example 1, 150 parts by weight of methyl ethyl ketone, 140 parts by weight of tetrahydrofuran, and Coronate HX manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd. as a curing agent
Was coated on the plastic film layer 11 by knife coating. 12
After drying at 0 ° C. for 15 minutes, the mixture was cured by heating at 130 ° C. for 1 hour to form a cushion layer 12 having a thickness of 40 μm.

【0064】さらにこの上に、透明樹脂層13として、
ポリアミドイミド樹脂を厚さ10μmの層として積層し
た。ポリアミドイミド樹脂は以下のように合成した。反
応容器に無水トリメリット酸50重量部、イソホロンジ
イソシアネート50重量部、およびγ−ブチロラクトン
200重量部を仕込み、攪拌しながら約30分で190
℃まで昇温した。その後190℃で約5時間攪拌した
後、150℃まで冷却した。これにN−メチル−2−ピ
ロリドン100重量部を加えて希釈し、さらに50℃以
下になるまで冷却した。得られた樹脂混合物を使ってク
ッション層12上にキャストコート法で成膜後、130
℃15分で乾燥した。
Further, a transparent resin layer 13 is further formed thereon.
The polyamideimide resin was laminated as a layer having a thickness of 10 μm. The polyamideimide resin was synthesized as follows. A reaction vessel was charged with 50 parts by weight of trimellitic anhydride, 50 parts by weight of isophorone diisocyanate, and 200 parts by weight of γ-butyrolactone, and stirred for 190 minutes in about 30 minutes.
The temperature was raised to ° C. After stirring at 190 ° C. for about 5 hours, the mixture was cooled to 150 ° C. This was diluted by adding 100 parts by weight of N-methyl-2-pyrrolidone, and further cooled to 50 ° C. or lower. After forming a film on the cushion layer 12 by the cast coating method using the obtained resin mixture, 130
Dry at 15 ° C for 15 minutes.

【0065】透明樹脂層13上に、インジウムスズ複合
酸化物をターゲットに用いて、高周波マグネトロンスパ
ッタリング法で、300Å厚の透明導電性薄膜層14を
製膜し、3種類の透明導電性フィルム102を得た。な
お上記スパッタリングは、真空度は1×10-3Torr
とし、ガスとしてAr 30sccm、O2 1sccm
流した。また、透明導電性薄膜層の製膜中、プラスチッ
ク(ポリエステル)フィルム層11、クッション層12
および透明樹脂層13からなる基板は加熱もしくは冷却
せず、室温のままとした。さらに、基板電位はグランド
とした。
A transparent conductive thin film layer 14 having a thickness of 300 mm was formed on the transparent resin layer 13 by high frequency magnetron sputtering using indium tin composite oxide as a target, and three types of transparent conductive films 102 were formed. Obtained. The sputtering was performed at a degree of vacuum of 1 × 10 −3 Torr.
And gas as Ar 30 sccm, O 2 1 sccm
Shed. During the formation of the transparent conductive thin film layer, a plastic (polyester) film layer 11, a cushion layer 12
The substrate made of the transparent resin layer 13 was not heated or cooled and was kept at room temperature. Further, the substrate potential was set to ground.

【0066】得られた透明導電性フィルムを使用して図
6に示すタッチパネルを作製した。すなわち、透明導電
性フィルム102を一方のパネル板として用い、他方の
パネル板としてガラス基板2上に上記と同じ方法で40
0Å厚の透明導電性薄膜層14aを形成したものを用い
た。この2枚のパネル板102、6を透明導電性薄膜層
14、14aが対向するように、直径30μmのエポキ
シビーズ(スペーサー)3を介して配置し、タッチパネ
ル4を作製した。
Using the obtained transparent conductive film, a touch panel as shown in FIG. 6 was produced. That is, the transparent conductive film 102 is used as one panel plate, and the other panel plate is formed on the glass substrate 2 by the same method as described above.
A transparent conductive thin film layer 14a having a thickness of 0 ° was used. The two panel boards 102 and 6 were arranged via epoxy beads (spacers) 3 having a diameter of 30 μm so that the transparent conductive thin film layers 14 and 14a faced each other, and a touch panel 4 was manufactured.

【0067】実施例4 図3に示す透明導電性フィルム103を以下のようにし
て得た。厚さが188μmのポリエチレンテレフタレー
トフィルム(東洋紡績(株)製:A4100)を透明な
プラスチックフィルム層11として用いた。プラスチッ
クフィルム層11の上に、クッション層12として実施
例1と同じポリエステル樹脂(還元粘度:0.41)を
実施例1と同様にして積層した(厚さ:30μm)。さ
らにこの上に、透明樹脂層13として、実施例3と同じ
ポリアミドイミド樹脂を実施例3と同様にして積層した
(厚さ:10μm)。透明プラスチックフィルム層11
の透明樹脂層13を形成した面とは反対側の面にハード
コート処理(HC)層を設けた。ハードコート剤として
は、エポキシアクリル樹脂100重量部にベンゾフェノ
ン4重量部を加えた紫外線硬化型樹脂組成物を用い、リ
バースコート法で成膜し、80℃5分の予備乾燥、50
0mJ/cm2 の紫外線照射により硬化させた。硬化後
の層の厚さは5μmであった。
Example 4 A transparent conductive film 103 shown in FIG. 3 was obtained as follows. A 188 μm-thick polyethylene terephthalate film (A4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) was used as the transparent plastic film layer 11. The same polyester resin (reduced viscosity: 0.41) as in Example 1 was laminated on the plastic film layer 11 as the cushion layer 12 in the same manner as in Example 1 (thickness: 30 μm). Further, the same polyamide imide resin as in Example 3 was laminated thereon as a transparent resin layer 13 in the same manner as in Example 3 (thickness: 10 μm). Transparent plastic film layer 11
A hard coat treatment (HC) layer was provided on the surface opposite to the surface on which the transparent resin layer 13 was formed. As a hard coating agent, an ultraviolet curable resin composition obtained by adding 4 parts by weight of benzophenone to 100 parts by weight of an epoxy acrylic resin was used, and a film was formed by a reverse coating method.
The composition was cured by irradiating 0 mJ / cm 2 with ultraviolet rays. The thickness of the layer after curing was 5 μm.

【0068】透明樹脂層13上に、インジウムスズ複合
酸化物をターゲットに用いて、高周波マグネトロンスパ
ッタリング法で、300Å厚の透明導電性薄膜層14を
製膜して、透明導電性フィルム103を得た。スパッタ
リングは、真空度は1×10 -3Torrとし、ガスとし
てAr 30sccm,O2 1sccm流した。また、
透明プラスチックフィルム層11、クッション層12、
透明樹脂層13およびHC層からなる基板は、製膜中、
加熱もしくは冷却せず、室温のままとした。
On the transparent resin layer 13, an indium tin composite
Using an oxide as a target, a high-frequency magnetron spa
A 300Å thick transparent conductive thin film layer 14 is formed by the
A transparent conductive film 103 was obtained by forming a film. Spatter
The ring has a vacuum of 1 × 10 -3Torr and gas
Ar 30 sccm, OTwoThe flow was 1 sccm. Also,
Transparent plastic film layer 11, cushion layer 12,
The substrate composed of the transparent resin layer 13 and the HC layer is
Room temperature was maintained without heating or cooling.

【0069】得られた透明導電性フィルム103を一方
のパネル板として用い、他方のパネル板として、ガラス
基板上に上記と同じ方法で400Å厚の透明導電性薄膜
層を形成したものを用いた。この2枚のパネル板を透明
導電性薄膜層14が対向するように、直径30μmのエ
ポキシビーズ(スペーサー)を介して配置し、タッチパ
ネルを作製した。
The obtained transparent conductive film 103 was used as one panel plate, and as the other panel plate, a transparent conductive thin film layer having a thickness of 400 mm formed on a glass substrate in the same manner as described above was used. The two panel plates were arranged via epoxy beads (spacers) having a diameter of 30 μm such that the transparent conductive thin film layer 14 was opposed to each other, thereby producing a touch panel.

【0070】実施例5 図4に示す透明導電性フィルム104を以下のようにし
て得た。厚さが188μmのポリエチレンテレフタレー
トフィルム(東洋紡績(株)製:A41OO)を透明プ
ラスチックフィルム層11として用いた。プラスチック
フィルム層11上に、クッション層12として実施例1
と同じポリエステル樹脂(還元粘度:0.41)を、実
施例1と同様にして積層した(厚さ:30μm)。さら
にこの上に、透明樹脂層13として、実施例3と同じポ
リアミドイミド樹脂を実施例3と同様にして積層した
(厚さ:10μm)。透明プラスチックフィルム層11
の透明樹脂層13を形成した面と反対側の面上に防眩処
理(AG)層を設けた。コート剤としては、エポキシア
クリル樹脂100重量部にベンゾフェノン2重量部を加
えた紫外線硬化型樹脂組成物を用い、リバースコート法
で成膜後、80℃5分の予備乾燥し、エンボスロールで
表面に凹凸を形成し500mJ/cm2 の紫外線照射に
より硬化させた。硬化後の層の厚さは5μmであった。
Example 5 A transparent conductive film 104 shown in FIG. 4 was obtained as follows. A polyethylene terephthalate film (manufactured by Toyobo Co., Ltd .: A41OO) having a thickness of 188 μm was used as the transparent plastic film layer 11. Example 1 as a cushion layer 12 on a plastic film layer 11
The same polyester resin (reduced viscosity: 0.41) was laminated in the same manner as in Example 1 (thickness: 30 μm). Further, the same polyamide imide resin as in Example 3 was laminated thereon as a transparent resin layer 13 in the same manner as in Example 3 (thickness: 10 μm). Transparent plastic film layer 11
An anti-glare (AG) layer was provided on the surface opposite to the surface on which the transparent resin layer 13 was formed. As a coating agent, a UV-curable resin composition obtained by adding 2 parts by weight of benzophenone to 100 parts by weight of an epoxy acrylic resin is used, and after forming a film by a reverse coating method, preliminary drying is performed at 80 ° C. for 5 minutes, and the surface is embossed with an embossing roll. Irregularities were formed and cured by irradiation with ultraviolet rays at 500 mJ / cm 2 . The thickness of the layer after curing was 5 μm.

【0071】透明樹脂層13上に、インジウムスズ複合
酸化物をターゲットに用いて、高周波マグネトロンスパ
ッタリング法で、300Å厚の透明導電性薄膜層14を
製膜し、透明導電性フィルム104を得た。スパッタリ
ング法は、真空度は1×10 -3Torrとし、ガスとし
てAr 30sccm、O2 1sccm流した。また、
透明プラスチックフィルム層11、クッション層12、
透明樹脂層13およびAG層からなる基板は製膜中、加
熱もしくは冷却せず、室温のままとした。
An indium tin composite is formed on the transparent resin layer 13.
Using an oxide as a target, a high-frequency magnetron spa
A 300Å thick transparent conductive thin film layer 14 is formed by the
A transparent conductive film 104 was obtained by forming a film. Spattery
The vacuum method is 1 × 10 -3Torr and gas
Ar 30 sccm, OTwoThe flow was 1 sccm. Also,
Transparent plastic film layer 11, cushion layer 12,
The substrate composed of the transparent resin layer 13 and the AG layer is processed during film formation.
Room temperature was maintained without heat or cooling.

【0072】得られた透明導電性フィルム104を一方
のパネル板として用い、他方のパネル板として、ガラス
基板上に上記と同じ方法で400Å厚の透明導電性薄膜
層を形成したものを用いた。この2枚のパネル板を透明
導電性薄膜層が対向するように、直径30μmのエポキ
シビーズ(スペーサー)を介して配置し、タッチパネル
を作製した。
The obtained transparent conductive film 104 was used as one panel plate, and the other panel plate was formed by forming a transparent conductive thin film layer having a thickness of 400 mm on a glass substrate in the same manner as described above. The two panel plates were arranged via epoxy beads (spacers) having a diameter of 30 μm so that the transparent conductive thin film layers faced each other, to produce a touch panel.

【0073】実施例6 図4に示す透明導電性フィルム104を以下のようにし
て得た。厚さが188μmのポリエチレンテレフタレー
トフィルム(東洋紡績(株)製:A4100)を透明プ
ラスチックフィルム層11として用いた。プラスチック
フィルム層11上に、クッション層12として実施例1
と同じポリエステル樹脂(還元粘度:0.41)を実施
例1と同様にして積層した(厚さ:30μm)。さらに
この上に、透明樹脂層13として、実施例3と同じポリ
アミドイミド樹脂を実施例3と同様にして積層した(厚
さ:10μm)。透明プラスチックフィルム層11の透
明樹脂層13を形成した面と反対側の面上に厚さ730
Åで屈折率1.89のY2 3 層、厚さ1200Åで屈
折率2.3のTiO2 層、厚さ940Åで屈折率1.4
6のSiO2 層を、それぞれ高周波スパッタリング法で
製膜した反射防止処理(AR)層を形成した。このそれ
ぞれの誘電体薄膜を製膜する時、いずれも真空度は1×
10-3Torrとし、ガスとしてAr 30sccm,
2 1sccm流した。また、透明プラスチックフィ
ルム層11、クッション層12および透明樹脂層13か
らなる基板は製膜中、加熱もしくは冷却せず、室温のま
まとした。
Example 6 A transparent conductive film 104 shown in FIG. 4 was obtained as follows. A polyethylene terephthalate film (A4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 188 μm was used as the transparent plastic film layer 11. Example 1 as a cushion layer 12 on a plastic film layer 11
The same polyester resin (reduced viscosity: 0.41) was laminated in the same manner as in Example 1 (thickness: 30 μm). Further, the same polyamide imide resin as in Example 3 was laminated thereon as a transparent resin layer 13 in the same manner as in Example 3 (thickness: 10 μm). A thickness 730 is formed on the surface of the transparent plastic film layer 11 opposite to the surface on which the transparent resin layer 13 is formed.
Å, a Y 2 O 3 layer with a refractive index of 1.89, a thickness of 1200 °, a TiO 2 layer with a refractive index of 2.3, and a refractive index of 1.4 with a thickness of 940 °.
An anti-reflection (AR) layer was formed by forming each of the SiO 2 layers 6 by a high frequency sputtering method. When each of these dielectric thin films is formed, the degree of vacuum is 1 ×
10 −3 Torr, Ar gas 30 sccm,
O 2 was flowed at 1 sccm. The substrate composed of the transparent plastic film layer 11, the cushion layer 12, and the transparent resin layer 13 was kept at room temperature without heating or cooling during film formation.

【0074】透明樹脂層13の上に、インジウムスズ複
合酸化物をターゲットに用いて、高周波マグネトロンス
パッタリング法で、300Å厚の透明導電性薄膜層14
を製膜し、透明導電性フィルム104を得た。スパッタ
リングは、真空度は1×10 -3Torrとし、ガスとし
てAr 30sccm,O2 1sccm流した。また、
透明プラスチックフィルム層11、クッション層12、
透明樹脂層13およびAR層からなる基板1は製膜中、
加熱もしくは冷却せず、室温のままとした。
On the transparent resin layer 13, indium tin compound
High-frequency magnetrons using composite oxides as targets
The transparent conductive thin film layer 14 having a thickness of 300 mm is formed by the sputtering method.
Was formed to obtain a transparent conductive film 104. Spatter
The ring has a vacuum of 1 × 10 -3Torr and gas
Ar 30 sccm, OTwoThe flow was 1 sccm. Also,
Transparent plastic film layer 11, cushion layer 12,
The substrate 1 composed of the transparent resin layer 13 and the AR layer is
Room temperature was maintained without heating or cooling.

【0075】得られた透明導電性フィルム104を一方
のパネル板として用い、他方のパネル板として、ガラス
基板上に上記と同等の方法で400Å厚の透明導電性薄
膜層を形成したものを用いた。この2枚のパネル板を透
明導電性薄膜層が対向するように、直径30μmのエポ
キシビーズ(スペーサー)を介して配置し、タッチパネ
ルを作製した。
The obtained transparent conductive film 104 was used as one panel plate, and the other panel plate was formed by forming a transparent conductive thin film layer having a thickness of 400 mm on a glass substrate by the same method as described above. . The two panel plates were arranged via epoxy beads (spacers) having a diameter of 30 μm so that the transparent conductive thin film layers faced each other, to produce a touch panel.

【0076】比較例1 クッション層を形成しなかった以外は実施例1と同様に
して透明導電性フィルムを得た。得られたフィルムを用
い、実施例1と同様にしてタッチパネルを作製した。
Comparative Example 1 A transparent conductive film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the cushion layer was not formed. A touch panel was produced in the same manner as in Example 1 using the obtained film.

【0077】比較例2 還元粘度が3.8のポリエステル樹脂を用いてクッショ
ン層(ダイナミック硬度:0.002)を形成した以外
は実施例1と同様にして透明導電性フィルムを得た。得
られたフィルムを用いて実施例1と同様にしてタッチパ
ネルを作製した。
Comparative Example 2 A transparent conductive film was obtained in the same manner as in Example 1 except that a cushion layer (dynamic hardness: 0.002) was formed using a polyester resin having a reduced viscosity of 3.8. Using the obtained film, a touch panel was manufactured in the same manner as in Example 1.

【0078】比較例3 還元粘度が0.08のポリエステル樹脂を用いてクッシ
ョン層(ダイナミック硬度:2.3)を形成した以外は
実施例1と同様にして透明導電性フィルムを得た。得ら
れたフィルムを用いて実施例1と同様にしてタッチパネ
ルを作製した。
Comparative Example 3 A transparent conductive film was obtained in the same manner as in Example 1 except that a cushion layer (dynamic hardness: 2.3) was formed using a polyester resin having a reduced viscosity of 0.08. Using the obtained film, a touch panel was manufactured in the same manner as in Example 1.

【0079】比較例4、5 厚さが188μmのポリエチレンテレフタレートフィル
ム(東洋紡績(株)製:A4100)を透明プラスチッ
クフィルム層として用いた。透明プラスチックフィルム
層上に還元粘度が3.8(比較例4)あるいは0.08
(比較例5)のポリエステル樹脂を用いた以外は実施例
2と同様にしてコーティングし、クッション層(ダイナ
ミック硬度:0.001)とした。クッション層上に実
施例3と同様にして透明樹脂層としてポリアミドイミド
樹脂層(厚さ:10μm)を積層した。透明樹脂層上
に、実施例3と同様にして透明導電性薄膜を製膜し、透
明導電性フィルムを得た。得られたフィルムを用いて実
施例1と同様にしてタッチパネルを作製した。
Comparative Examples 4 and 5 A polyethylene terephthalate film (A4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 188 μm was used as a transparent plastic film layer. A reduced viscosity of 3.8 (Comparative Example 4) or 0.08 on the transparent plastic film layer
Coating was performed in the same manner as in Example 2 except that the polyester resin of (Comparative Example 5) was used to form a cushion layer (dynamic hardness: 0.001). A polyamideimide resin layer (thickness: 10 μm) was laminated on the cushion layer as a transparent resin layer in the same manner as in Example 3. A transparent conductive thin film was formed on the transparent resin layer in the same manner as in Example 3 to obtain a transparent conductive film. Using the obtained film, a touch panel was manufactured in the same manner as in Example 1.

【0080】実施例1〜6および比較例1〜5の透明導
電性フィルムについて、光線透過率および表面抵抗率を
下記の方法で測定した。また、実施例1〜6および比較
例1〜5の透明導電性フィルムを用いて作製したタッチ
パネルについて、ペン入力耐久試験を実施した。
The light transmittance and surface resistivity of the transparent conductive films of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 5 were measured by the following methods. In addition, a pen input durability test was performed on the touch panels manufactured using the transparent conductive films of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 5.

【0081】<表面抵抗率>JIS K 7194に準
拠した4端子法にて測定した。測定機としては、三菱油
化(株)製:Lotest AMCP−T400を用い
た。
<Surface Resistivity> The surface resistivity was measured by a four-terminal method according to JIS K 7194. As a measuring device, Mitsubishi Yuka Co., Ltd .: Lotest AMCP-T400 was used.

【0082】<光線透過率>JIS K 7105に準
拠した積分球式光線透過率法にて測定した。測定機とし
ては、日本電色工業(株)製:NDH−1001DPを
用いた。
<Light Transmittance> The light transmittance was measured by an integrating sphere light transmittance method based on JIS K 7105. As a measuring instrument, NDH-1001DP manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. was used.

【0083】<ダイナミック硬度>クッション層を構成
する樹脂のダイナミック硬度を、島津製作所製:島津ダ
イナミック超微小硬度計DUH−201を用いて測定し
た。圧子は115°三角すい圧子を用いた。また、圧子
の樹脂への侵入量が0.5μmの時の値を樹脂のダイナ
ミック硬度とした。
<Dynamic Hardness> The dynamic hardness of the resin constituting the cushion layer was measured using a Shimadzu Dynamic Ultra-Micro Hardness Tester DUH-201 manufactured by Shimadzu Corporation. The indenter used was a 115 ° triangular cone indenter. The value when the indentation amount of the indenter into the resin was 0.5 μm was defined as the dynamic hardness of the resin.

【0084】<還元粘度>クッション層を構成する樹脂
の架橋前の還元粘度をフェノールとテトラクロルエタン
との混合溶媒(6:4、体積比)を用いて測定した。粘
度管の温度は30℃に設定し、混合溶媒の流下時間to
と混合溶媒中に樹脂を溶解した溶液の流下時間tを測定
し、還元粘度を(t−to)/toで算出した。
<Reduced Viscosity> The reduced viscosity of the resin constituting the cushion layer before crosslinking was measured using a mixed solvent of phenol and tetrachloroethane (6: 4, volume ratio). The temperature of the viscosity tube was set at 30 ° C., and the falling time of the mixed solvent was
And the falling time t of the solution in which the resin was dissolved in the mixed solvent was measured, and the reduced viscosity was calculated by (t-to) / to.

【0085】<ペン入力耐久試験>透明導電性フィルム
で構成されたパネル板側から、ポリアセタール樹脂から
なるペン先半径0.8mmのタッチペン(シャープ
(株)製ハイパー電子手帳DB−Zタッチペン)を用い
て、プロッタ(ローランド(株)製:DXY−115
0)により、2cm角サイズのカタカナのア〜ンまでの
文字を100000字の筆記を行った。この時、ペン荷
重200g、文字筆記速度2000字/時間とした。こ
のペン入力試験前後に、タッチペンの位置検出精度をタ
ッチパネルの電圧線形性のズレで測定した。パネル板の
上下に配置した電極部に5Vの定電圧を印加し、上部電
極から下部電極にかけて、印加電圧が線形変化から最も
変化した割合を測定した。結果を表1に示す。
<Pen Input Durability Test> A touch pen (Hyperelectronic Notebook DB-Z touch pen manufactured by Sharp Corporation) with a pen tip radius of 0.8 mm made of polyacetal resin was used from the side of the panel plate made of a transparent conductive film. Plotter (Roland Co., Ltd .: DXY-115)
According to 0), 100,000 characters of 2 cm square size katakana characters A to A were written. At this time, the pen load was 200 g, and the character writing speed was 2,000 characters / hour. Before and after the pen input test, the position detection accuracy of the touch pen was measured by the deviation of the voltage linearity of the touch panel. A constant voltage of 5 V was applied to the electrode portions arranged above and below the panel plate, and the rate at which the applied voltage changed the most from the linear change from the upper electrode to the lower electrode was measured. Table 1 shows the results.

【0086】[0086]

【表1】 [Table 1]

【0087】表1の結果から、本発明の透明導電性フィ
ルムは、導電性および透明性に極めて優れ、かつ本発明
の透明導電性フィルムを用いたタッチパネルはペン入力
耐久性に極めて優れていることがわかる。
From the results shown in Table 1, it can be seen that the transparent conductive film of the present invention has extremely excellent conductivity and transparency, and that the touch panel using the transparent conductive film of the present invention has extremely excellent pen input durability. I understand.

【0088】[0088]

【発明の効果】本発明の透明導電性フィルムは、プラス
チックフィルム層と透明導電性薄膜層との間に設けたク
ッション層の衝撃緩和効果により、ペン入力耐久性に極
めて優れているため、ペン位置検出安定性が極めて優れ
たタッチパネルを提供することができる。
The transparent conductive film of the present invention is extremely excellent in pen input durability due to the shock absorbing effect of the cushion layer provided between the plastic film layer and the transparent conductive thin film layer. A touch panel having extremely excellent detection stability can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の透明導電性フィルムの一実施態様であ
って、実施例1で製造した透明導電性フィルムの層構成
を示す図である。
FIG. 1 is a view showing one embodiment of the transparent conductive film of the present invention, showing a layer configuration of the transparent conductive film produced in Example 1.

【図2】本発明の透明導電性フィルムの一実施態様であ
って、実施例2、3で製造した透明導電性フィルムの層
構成を示す図である。
FIG. 2 is a view showing one embodiment of the transparent conductive film of the present invention, showing a layer configuration of the transparent conductive films produced in Examples 2 and 3.

【図3】本発明の透明導電性フィルムの一実施態様であ
って、実施例4で製造した透明導電性フィルムの層構成
を示す図である。
FIG. 3 is a view showing one embodiment of the transparent conductive film of the present invention, showing a layer configuration of the transparent conductive film produced in Example 4.

【図4】本発明の透明導電性フィルムの一実施態様であ
って、実施例5で製造した透明導電性フィルムの層構成
を示す図である。
FIG. 4 is a view showing one embodiment of the transparent conductive film of the present invention, showing a layer configuration of the transparent conductive film manufactured in Example 5.

【図5】本発明の透明導電性フィルムの一実施態様であ
って、実施例6で製造した透明導電性フィルムの層構成
を示す図である。
FIG. 5 is a view showing one embodiment of the transparent conductive film of the present invention, showing a layer configuration of the transparent conductive film produced in Example 6.

【図6】本発明のタッチパネルの一実施態様であって、
実施例2および3で製造したタッチパネルの断面を示す
図である。
FIG. 6 is an embodiment of the touch panel of the present invention,
FIG. 6 is a diagram showing a cross section of a touch panel manufactured in Examples 2 and 3.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101、102、103、104、105透明導電性フ
ィルム 11 透明プラスチックフィルム層 12 クッション層 13 透明樹脂層 14 透明導電性薄膜層 15 ハードコート処理(HC)層 16 防眩処理(AG)層 17 反射防止処理(AR)層 2 ガラス基板 3 スペーサー(エポキシビーズ) 4 タッチパネル 5 ペン 6 透明導電性パネル板
101, 102, 103, 104, 105 Transparent conductive film 11 Transparent plastic film layer 12 Cushion layer 13 Transparent resin layer 14 Transparent conductive thin film layer 15 Hard coat treatment (HC) layer 16 Anti-glare treatment (AG) layer 17 Anti-reflection Processing (AR) layer 2 Glass substrate 3 Spacer (epoxy beads) 4 Touch panel 5 Pen 6 Transparent conductive panel board

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明プラスチックフィルム層、該フィル
ム層の一方の面に形成された、ダイナミック硬度が0.
005〜2であるクッション層および該クッション層上
に形成された透明導電性薄膜層とを含む透明導電性フィ
ルム。
1. A transparent plastic film layer, having a dynamic hardness of 0.3 formed on one surface of the film layer.
A transparent conductive film comprising a cushion layer of 005 to 2 and a transparent conductive thin film layer formed on the cushion layer.
【請求項2】 クッション層と透明導電性薄膜層との間
に形成された透明樹脂層を含む請求項1記載の透明導電
性フィルム。
2. The transparent conductive film according to claim 1, further comprising a transparent resin layer formed between the cushion layer and the transparent conductive thin film layer.
【請求項3】 透明プラスチックフィルム層の透明導電
性薄膜層が形成されている面とは反対の面に形成された
ハードコート処理層を含む請求項1または2記載の透明
導電性フィルム。
3. The transparent conductive film according to claim 1, further comprising a hard coat treatment layer formed on a surface of the transparent plastic film layer opposite to a surface on which the transparent conductive thin film layer is formed.
【請求項4】 透明プラスチックフィルム層の透明導電
性薄膜層が形成されている面とは反対の面に形成された
防眩処理層を含む請求項1または2記載の透明導電性フ
ィルム。
4. The transparent conductive film according to claim 1, further comprising an antiglare treatment layer formed on the surface of the transparent plastic film layer opposite to the surface on which the transparent conductive thin film layer is formed.
【請求項5】 透明プラスチックフィルム層の透明導電
性薄膜層が形成されている面とは反対の面に形成された
反射防止処理層を含む請求項1または2記載の透明導電
性フィルム。
5. The transparent conductive film according to claim 1, further comprising an antireflection treatment layer formed on the surface of the transparent plastic film layer opposite to the surface on which the transparent conductive thin film layer is formed.
【請求項6】 透明導電性薄膜層を有する一対のパネル
板を、透明導電性薄膜層が対向するようにスペーサーを
介して配置してなるタッチパネルであって、少なくとも
一方のパネル板が請求項1〜5のいずれかに記載の透明
導電性フィルムを含むことを特徴とするタッチパネル。
6. A touch panel in which a pair of panel plates having a transparent conductive thin film layer is disposed via a spacer so that the transparent conductive thin film layers face each other, and at least one of the panel plates is provided. A touch panel comprising the transparent conductive film according to any one of claims 1 to 5.
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