KR20150040759A - 기록 장치 및 기록 위치 조정 방법 - Google Patents

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캐논 가부시끼가이샤
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Abstract

조정값 취득 유닛은, 패턴 형성 유닛이 제2 주사 속도의 조정 패턴을 형성하기 전에, 제1 주사 속도의 조정 패턴을 취득하고, 패턴 형성 유닛은, 상기 제1 주사 속도에 대하여 취득된 조정값에 근거하는 시프트 양을 이용하여 제2 주사 속도로 기록 헤드에 의해 주사함으로써 조정 패턴을 형성하고, 조정값 취득 유닛은, 제2 주사 속도로 기록 헤드에 의해 주사함으로써 형성된 조정 패턴에 근거하는 제2 주사 속도의 조정값을 취득한다.

Description

기록 장치 및 기록 위치 조정 방법{PRINTING APPARATUS AND METHOD FOR ADJUSTING PRINTING POSITION}
본 발명은 기록 장치 및 기록 위치 조정 방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 기록 헤드의 주사에 의해 기록되는 도트의 기록 위치를 조정하는 기술에 관한 것이다.
기록 장치에서는, 예를 들면, 기록 헤드가 2 방향으로 왕복하는 쌍방향 주사에 의해 기록을 행할 경우에, 왕복 주사에 의해 기록되는 도트는 서로 시프트될 수 있다. 이러한 도트의 기록 위치에서의 기록 위치 어긋남을 보정하기 위해, 기록 헤드의 주사에서의 기록 위치를 조정하는 처리(이하, "레지스트레이션 처리"라고도 한다)를 행하는 것이 알려져 있다. 레지스트레이션 처리는, 예를 들면, 다른 색을 이용하여 기록을 행하는 기록 헤드에 의해 도트를 기록할 때의 기록 위치 어긋남을 보정하기 위해서도 행하여진다.
이러한 레지스트레이션 처리에서 기록 위치를 조정하는 데에 이용되는 조정값을 취득하는 처리에서는, 상이한 기록 타이밍에서 복수의 패턴(이하, "조정 패턴"이라고도 한다)을 기록한다. 예를 들면, 쌍방향 기록의 경우, 기준 패턴인 순방향 주사에 의해 기록된 패턴에 대하여, 미리 정해진 양만큼 시프트된 기록 타이밍에서 역방향 주사에 의해 패턴이 기록된다. 이러한 복수의 왕복 패턴이 미리 정해진 양만큼 다양하게 시프트된 타이밍에서 기록된다. 이러한 복수의 패턴으로부터, 왕복 주사의 기록에서 가장 기록 위치 어긋남이 작은 것을 나타내는 패턴을 선택하고, 그 미리 정해진 시프트 양을 조정값으로 설정한다.
몇몇 기록 장치는, 높은 기록 속도를 위하여 비교적 빠른 속도의 주사를 행하는 기록 모드, 고화질을 위하여 비교적 느린 속도의 주사를 행하는 기록 모드 등, 주사 속도가 다른 복수의 기록 모드에서 기록을 행할 수 있다. 이러한 기록 장치가 레지스트레이션 처리를 실행하는 경우, 주사 속도마다 조정값을 취득하는 것이 바람직하다. 일본 특허 출원 공개 평11-291470호 공보(1999년)에는, 주사 속도마다 조정 패턴을 기록하고, 조정 패턴을 판독하여 취득된 결과에 근거해서 주사 속도마다 조정값을 취득하는 것이 기재되어 있다. 이것은, 기록 모드 등에 따라 주사 속도가 상이한 경우에, 주사 속도에 따른 적절한 레지스트레이션 처리를 가능하게 한다.
그러나, 기록 헤드의 토출 속도, 또는 기록 헤드와 기록 매체 간의 거리에 변화 또는 변동이 있으면 레지스트레이션에 영향을 주지만, 그 영향의 정도는 주사 속도에 따라 변한다. 보다 구체적으로는, 주사 속도가 클수록, 상기 변화 등에 따라 변하는 기록 위치를 조정하는 데에 필요한 조정값이 커진다. 이 경우, 일본 특허 출원 공개 평11-291470호 공보(1999년)에 개시된 레지스트레이션 기술에서는, 기록 위치의 기록 위치 어긋남을 제거하기 위한 적절한 조정값이 기록된 조정 패턴에 대응한 시프트 양의 범위를 넘게 되는 문제가 발생할 수 있다. 그 결과, 주사 속도에서 따라서는 취득된 조정값이 적절하지 않아, 양호한 기록 위치의 조정을 행할 수 없을 수도 있다. 이를 해결하기 위해, 주사 속도가 커짐에 따라 시프트 양의 범위를 넓게 해서 적절한 조정값을 취득하는 것을 고려할 수 있다. 이 경우, 넓어진 시프트 양의 범위에 따라서 보다 많은 조정 패턴을 기록할 필요가 있고, 이에 따라 처리의 부하가 증가하게 된다.
본 발명의 목적은, 레지스트레이션 처리에서 기록 헤드의 복수의 주사 속도에 대하여, 기록될 패턴의 수를 증가시키지 않고 고정밀도의 기록 위치 조정을 가능하게 하는 기록 장치 및 기록 위치 조정 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 제1 양태에서, 기록 헤드에 의해 주사함으로써 기록 매체에 기록을 행하고, 상기 기록 헤드의 제1 주사 속도와 상기 제1 주사 속도보다 고속인 제2 주사 속도가 설정될 수 있는 기록 장치이며, 상기 제1 주사 속도 및 상기 제2 주사 속도 각각에 대하여, 각각 제1 패턴 및 제2 패턴을 포함하고, 상기 제1 패턴과 상기 제2 패턴의 상대적인 기록 위치의 차이에 대응하는 상이한 시프트 양을 갖는 복수의 조정 패턴을 형성하도록 구성된 패턴 형성 유닛과, 상기 제1 주사 속도 및 상기 제2 주사 속도 각각에 대해서, 기록 위치를 조정하기 위하여 형성된 상기 복수의 조정 패턴에 근거하여 조정값을 취득하도록 구성된 조정값 취득 유닛을 포함하고, 상기 조정값 취득 유닛은, 상기 제1 주사 속도의 조정값을, 상기 패턴 형성 유닛이 상기 제2 주사 속도의 조정 패턴을 형성하기 전에 취득하고, 상기 패턴 형성 유닛은, 상기 제1 주사 속도에 대해서 취득된 조정값에 근거하는 시프트 양을 이용하여 상기 제2 주사 속도로 상기 기록 헤드에 의해 주사함으로써 조정 패턴을 형성하고, 상기 조정값 취득 유닛은 상기 제2 주사 속도로 상기 기록 헤드에 의해 주사함으로써 형성된 상기 조정 패턴에 근거하여 상기 제2 주사 속도의 조정값을 취득하는 기록 장치가 제공된다.
본 발명의 제2 양태에서, 기록 헤드에 의해 주사함으로써 기록 매체에 기록을 행하고, 상기 기록 헤드의 제1 주사 속도와, 상기 제1 주사 속도보다 고속인 제2 주사 속도가 설정될 수 있는 기록 장치에서의 기록 위치 조정 방법이며, 상기 제1 주사 속도 및 제2 주사 속도 각각에 대하여, 각각 제1 패턴 및 제2 패턴을 포함하고, 상기 제1 패턴과 상기 제2 패턴의 상대적인 기록 위치의 차이에 대응하는 상이한 시프트 양을 갖는 복수의 조정 패턴을 형성하는 패턴 형성 공정과, 상기 제1 주사 속도 및 상기 제2 주사 속도 각각에 대하여, 기록 위치를 조정하기 위하여 형성된 상기 복수의 조정 패턴에 근거하는 조정값을 취득하는 조정값 취득 공정을 포함하고, 상기 조정값 취득 공정에서는, 상기 제1 주사 속도의 조정값을, 상기 패턴 형성 유닛이 상기 제2 주사 속도의 조정 패턴을 형성하기 전에 취득하고, 상기 패턴 형성 공정에서는, 상기 제1 주사 속도에 대해서 취득된 조정값에 근거하는 시프트 양을 이용하여, 상기 제2 주사 속도로 상기 기록 헤드에 의해 주사함으로써 조정 패턴을 형성하고, 상기 조정값 취득 공정에서는, 상기 제2 주사 속도로 상기 기록 헤드에 의해 주사함으로써 형성되는 상기 조정 패턴에 근거하여 상기 제2 주사 속도의 조정값을 취득하는 기록 위치 조정 방법이 제공된다.
본 발명의 제3 양태에서, 복수의 상이한 주사 속도가 설정될 수 있는 기록 헤드에 의해 주사함으로써 기록 매체 상에 기록을 행하는 기록 장치의 기록 위치 조정 방법이며, 상기 기록 헤드에 의해 주사함으로써, 각각 제1 패턴 및 제2 패턴을 포함하고, 상기 제1 패턴과 상기 제2 패턴의 상대적인 기록 위치의 차이에 대응하는 상이한 시프트 양을 갖는 복수의 조정 패턴으로 이루어지는 하나 이상의 조정 패턴 군을 형성하는 제1 패턴 형성 공정과, 상기 하나 이상의 조정 패턴 군을 형성한 후에, 상기 제1 및 제2 조정 패턴 군과 동일한 시프트 양의 범위를 갖는 조정 패턴 군을, 상기 하나 이상의 조정 패턴 군이 형성될 때의 주사 속도보다 고속인 주사 속도로 기록하는 제2 패턴 형성 공정을 포함하는 기록 위치 조정 방법이 제공된다.
본 발명의 제4 양태에서, 기록 헤드에 의해 주사함으로써 기록 매체에 기록을 행하고, 상기 기록 헤드의 제1 주사 속도와, 상기 제1 주사 속도보다 고속인 제2 주사 속도가 설정될 수 있는 기록 장치이며, 상기 제1 주사 속도 및 제2 주사 속도 각각에 대하여, 각각 제1 패턴 및 제2 패턴을 포함하고, 상기 제1 패턴과 상기 제2 패턴의 상대적인 기록 위치의 차이인 상이한 시프트 양을 갖는 복수의 조정 패턴을 형성하도록 구성된 패턴 형성 유닛과, 상기 복수의 조정 패턴을 판독하도록 구성된 판독 유닛과, 상기 제1 주사 속도 및 상기 제2 주사 속도 각각에 대하여, 기록 위치를 조정하기 위하여 형성된 상기 복수의 조정 패턴의 판독 결과에 근거하는 조정값을 취득하도록 구성된 조정값 취득 유닛을 포함하고, 상기 판독 유닛은, 상기 패턴 형성 유닛이 상기 제2 주사 속도의 조정 패턴을 형성하기 전에 상기 제1 주사 속도의 복수의 조정 패턴을 판독하고, 상기 패턴 형성 유닛은, 상기 제1 주사 속도의 상기 복수의 조정 패턴의 판독 결과에 근거하는 시프트 양을 이용하여 상기 제2 주사 속도로 상기 기록 헤드에 의해 주사함으로써 조정 패턴을 형성하는 기록 장치가 제공된다.
이상의 구성에 따르면, 레지스트레이션 처리에서 기록 헤드의 복수의 주사 속도에 대하여, 기록될 패턴의 수를 증가시키지 않고 고정밀도의 기록 위치 조정이 가능해진다.
본 발명의 추가적인 특징은 (첨부 도면을 참조하여) 아래의 예시적인 실시 형태의 설명으로부터 명확해질 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 잉크제트 기록 장치의 외관 구성을 도시하는 사시도.
도 2는 도 1에 도시된 광학 센서(500)에 의한 판독 처리를 설명하는 도면.
도 3은 도 1에 도시된 기록 헤드(301)의 각 색의 잉크의 노즐열을 도시하는 정면도.
도 4는 도 1에 도시된 기록 장치의, 주로, 데이터 처리 및 제어를 위한 구성을 도시하는 블록도.
도 5는 본 발명의 제1 실시 형태에 따른 기록 위치 조정 처리에서 이용되는 조정 패턴을 도시하는 도면.
도 6은 도 5에 도시된 조정 패턴을 조정값마다 기록해서 취득되는, 레지스트레이션 처리에서 기록되는 패턴을 도시하는 도면.
도 7은 도 6에 도시된 조정값마다의 조정 패턴을 광학 센서(500)로 판독한 결과의 일례를 도시하는 그래프.
도 8은 기록 헤드와 기록 매체 간의 거리가 변할 경우의 도트 기록 위치 어긋남을, 2개의 다른 주사 속도에 대해서 나타내는 도면.
도 9는 잉크 토출 속도가 변할 경우의 도트 기록 위치 어긋남을, 2개의 다른 주사 속도에 대해서 나타내는 도면.
도 10은 기록 헤드와 기록 매체 간의 거리, 또는 잉크 토출 속도의 변화에 의해, 도트의 기록 위치에서의 기록 위치 어긋남이 발생할 경우의 조정 패턴 군을 나타내는 도면.
도 11은 도 10에 도시된 조정 패턴의 광학 반사율의 측정 결과를 나타내는 그래프.
도 12는 본 발명의 제1 실시 형태에 따른, 조정 패턴에 대응하는 시프트 양의 범위의 설정을 2개의 다른 주사 속도에 대해서 설명하는 그래프.
도 13은 도 4에 도시된 컨트롤러(60)에 의해 실현되는 제어 및 처리의 기능을 도시하는 블록도.
도 14는 본 발명의 제1 실시 형태에 따른, 기록 장치에서의 조정값을 취득하는 처리를 나타내는 플로우차트.
도 15는 본 발명의 제2 실시 형태에 따른, 조정 패턴에 대응하는 시프트 양의 범위의 설정을 3개의 다른 주사 속도에 대해서 설명하는 그래프.
첨부 도면을 참조해서 본 발명의 실시 형태를 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 잉크제트 기록 장치의 외관 구성을 도시하는 사시도이다. 본 실시 형태의 잉크제트 기록 장치(1)는, 잉크를 토출하는 기록 헤드(301)를 캐리지(202)에 장착하고, 이 캐리지(202)를 화살표 X로 표시된 방향(주주사 방향)으로 왕복 이동시켜서 기록을 행한다. 이에 의해, 기록 헤드(301)는 기록 매체(S)에 대한 주사를 행하고, 이 주사 동안에 기록 매체에 잉크를 토출해서 기록을 행한다. 기록 장치(1)는 기록지 등의 기록 매체(S)를 급지 기구를 개재해서 급지하고, 화살표 Y에 의해 표시된 방향(부주사 방향)으로 반송한다. 상기 기록 헤드의 이동과 기록 매체의 반송을 반복함으로써, 기록 매체의 전체에 대한 기록이 행해질 수 있다.
보다 구체적으로, 캐리지(202)에는 잉크 카트리지(401)가 탑재된다. 본 실시 형태에서는, 마젠타(M), 시안(C), 옐로우(Y), 블랙(Bk)의 잉크를 각각 수용하는 4개의 잉크 카트리지(401)(401K, 401C, 401M, 401Y)가 탑재된다. 이들 4개의 잉크 카트리지(401)는 각각 독립적으로 착탈될 수 있다.
기록 헤드(301)에는, 도 3을 참조하여 후술하는 바와 같이, 각 색의 잉크를 토출하기 위한 노즐이 각각 배열된 노즐열(토출구 열)이 마련되어져 있다. 본 실시 형태의 기록 헤드(301)는 노즐마다 제공된 발열 저항 소자를 포함하고, 이 소자가 기록 신호에 따라 인가되는 펄스 전압에 의해 열에너지를 발생시킨다. 이러한 열로 인해 잉크가 토출된다. 이와 같은 잉크 토출에 이용되는 에너지 발생 소자로서, 발열 저항 소자의 이외에, 압전 소자를 이용해도 된다. 기록 헤드(301)가 탑재되어 있는 캐리지(202)는 가이드 레일(204)에 의해 미끄럼이동가능하게 지지되고 있어, 모터 등의 구동 기구(도시 생략)에 의해 가이드 레일(204)을 따라 왕복 이동할 수 있다. 기록 매체(S)는 기록 헤드(301)의 토출구 면(토출구가 마련되어진 면)과 일정한 간격이 유지되고, 반송 롤러(203)에 의해 부주사 방향(화살표 Y로 표시된 방향)으로 반송된다.
캐리지(202)의 왕복 이동의 범위 외부(기록 영역 외부)의 홈 포지션에는, 기록 헤드(301)의 토출 성능을 유지하기 위한 회복 유닛(207)이 마련되어져 있다. 회복 유닛(207)에는, 기록 헤드(301)의 토출구의 캡핑(capping)이 가능한 캡(208)(208K, 208C, 208M, 208Y)이 구비된다. 캡(208K, 208C, 208M, 208Y)은 블랙, 시안, 마젠타, 옐로우의 잉크를 각각 토출하는 노즐열에 대응해서 노즐열을 캡핑하도록 구성된다. 각 캡(208)의 내부는 흡인 펌프(부압 발생 기구)에 접속된다. 이에 의해, 캡(208)이 기록 헤드(301)의 대응하는 노즐열을 캡핑할 때에, 그 캡(208)의 내부에 부압을 도입하여, 잉크를 노즐로부터 캡(208)의 내부로 흡인 배출(흡인 회복 동작)할 수 있다. 또한, 회복 유닛(207)에는, 기록 헤드(301)의 토출구 면을 와이핑하기 위한, 고무 블레이드 등의 와이퍼(209)가 구비된다. 또한, 기록 헤드(301)로부터 캡(208) 내부를 향해서 잉크를 토출하기 위해 예비 토출을 행할 수도 있다.
또한, 캐리지(202)에는, 반사형 광학 센서(이하, "광학 센서"라고 부른다)(500)가 장착된다. 광학 센서(500)는 광학 특성을 취득할 수 있는 센서이며, 후술하는 레지스트레이션 처리에서 기록 매체(S)에 기록된 조정 패턴을 광학적으로 판독하고, 그 조정 패턴의 기록 농도를 측정할 수 있다.
도 2는 광학 센서(500)에 의한 판독 처리를 설명하는 도면이다. 도 2에 도시된 바와 같이, 광학 센서(500)는 LED 등에 의해 실현되는 발광부(501)와, 포토다이오드 등에 의해 실현되는 수광부(502)를 포함한다. 발광부(501)로부터의 조사광(510)은 기록 매체(S) 상에서 반사되고, 그 반사광(520)은 수광부(502)에 입사한다. 수광부(502)는 그 반사광(520)을 전기 신호로 변환한다. 조정 패턴의 기록 농도를 측정할 때는, 부주사 방향으로의 기록 매체(S)의 반송과, 광학 센서(500)가 탑재된 캐리지(202)의 주주사 방향으로의 이동이 교대로 실시된다. 이에 따라, 광학 센서(500)는 기록 매체 상에 기록된 조정 패턴을 판독해서 그 농도를 광학 반사율로서 검출한다.
도 3은 도 1에 나타내는 기록 헤드(301)에서의 각 잉크 색의 노즐열을 설명하는 정면도이다. 도 3에 도시한 바와 같이, 기록 헤드(301)에는 각 잉크 색마다의 노즐열(302K, 302C, 302M, 302Y)이 마련되어져 있다. 각 잉크 색의 노즐열은 2열의 노즐열(302K-A, 302K-B, 302C-A, 302C-B, 302M-A, 302M-B, 302Y-A, 302Y-B)로 구성된다. 2열의 노즐열의 각각에서, 600dpi(dots per inch) 상당의 간격으로 노즐을 640개 배열하고, 상기 2열의 노즐열이 노즐열의 배열 피치의 반만큼 부주사 방향으로 서로 어긋나게 해서 배치된다. 이에 의해, 각각의 잉크 색의 노즐열(302K, 302C, 302M, 302Y)은 1200dpi 상당의 간격으로 배열된 1280개의 노즐을 가진다. 이에 의해, 기록 헤드(301)는 부주사 방향으로 1200dpi의 해상도의 기록이 가능해진다.
이상 설명한 본 실시 형태의 기록 장치는 복수의 기록 모드로 기록을 실행하는 것이 가능하며, 이 복수의 기록 모드는, 고화질의 기록을 중시하는 비교적 느린 속도(제1 주사 속도)의 주사를 행하는 기록 모드와, 기록 속도를 중시하는, 상기 제1 주사 속도보다 빠른 주사 속도(제2 주사 속도)의 주사를 행하는 기록 모드를 포함한다. 후술될 기록 위치 조정 처리에서는, 각 주사 속도마다 기록 위치 조정을 행한다.
도 4는 도 1에 나타내는 기록 장치의, 주로, 데이터 처리 및 제어를 위한 구성을 도시하는 블록도이다. 도 4에서, 컨트롤러(60)는 MPU(51), ROM(52), 특수 용도 집적 회로(ASIC)(53), RAM(54), 시스템 버스(55), A/D 변환기(56) 등을 포함한다. 여기서, ROM(52)은 도 14 등을 참조하여 후술하는 처리, 제어에 대응한 프로그램, 미리 정해진 테이블, 기타의 고정 데이터를 저장한다. ASIC(53)은 캐리지 모터(M1) 및 반송 모터(M2)의 제어를 행한다. 또한, ASIC(53)은 기록 헤드(301)를 제어하기 위한 제어 신호의 생성도 행한다. 보다 구체적으로는, ASIC(53)은, 기록 헤드(301)에 의한 주사 동안에, RAM(54)의 기억 영역에 직접 액세스하면서 기록 헤드(301)에 대하여 기록 소자(토출용 히터)를 구동하기 위한 데이터를 전송한다. RAM(54)은 화상 데이터의 전개 영역, 프로그램 실행을 위한 작업용 영역 등으로 이용할 수 있다. 시스템 버스(55)는 MPU(51), ASIC(53), RAM(54)을 서로 접속해서 데이터를 송수신한다. A/D 변환기(56)는 후술하는 센서 군으로부터 입력되는 아날로그 신호를 A/D 변환하고, 변환 후의 디지털 신호를 MPU(51)에 공급한다.
MPU(51)는 기록 장치(1)에서의 동작을 제어한다. MPU(51)는, 예를 들면, 본 발명의 실시 형태로서 후술되는 기록 위치 조정 처리에서, 조정 패턴의 측정 결과에 근거해서 기록 위치 조정값(이하, 간단히 "조정값"이라고도 한다)의 산출을 행한다. 산출된 조정값은, 예를 들면, RAM(54)에 저장된다. 또한, MPU(51)는 RAM(54) 등에 저장된 조정값에 근거해서 노즐로부터 토출되는 잉크의 토출 타이밍을 조정하고, 기록 매체 상에 형성되는 도트의 착탄 위치(부착 위치)를 보정한다. 잉크의 토출 타이밍의 조정은, 미리 정해진 타이밍에서 연속적으로 구동되는 에너지 발생 소자의 소정의 구동 타이밍에 대하여 할당하는 데이터를, 조정값에 대응하는 시프트 양만큼 조정 방향(예를 들면, 주주사 방향)에 대응하는 방향으로 시프트함으로써 행할 수 있다. 데이터의 시프트는 데이터의 저장 어드레스를 어긋나게 하거나, 데이터를 저장하는 메모리로부터의 판독 타이밍을 제어함으로써 행할 수 있다.
스위치 군(20)은 전원 스위치(21), 프린트 스위치(22), 회복 스위치(23) 등을 포함한다. 센서 군(30)은 장치의 상태를 검출하기 위해서 이용될 수 있으며, 위치 센서(31), 온도 센서(32) 등을 포함한다.
기록 헤드 제어부(44)는 기록 헤드(301)가 기록 매체를 상대적으로 주사하도록 제어하여, 기록 헤드(301)에 의한 기록 동작을 제어한다. 캐리지 모터(M1)는 캐리지(202)가 미리 정해진 방향으로 왕복 이동하게 하는 구동원이며, 캐리지 모터 드라이버(40)는 캐리지 모터(M1)의 구동을 제어한다. 반송 모터(M2)는 기록 매체를 반송하기 위한 구동원이며, 반송 모터 드라이버(42)는 반송 모터(M2)의 구동을 제어한다. 기록 헤드(301)는, 상술한 것과 같이, 기록 매체의 반송 방향과 거의 직교하는 방향(주주사 방향)으로 주사한다. 광학 센서(500)는 기록 매체 상에 기록된 조정 패턴의 농도를 광학 반사율로서 검출한다.
호스트 장치(10)는 화상 데이터가 공급되는 컴퓨터(혹은, 화상 판독용 리더, 디지털 카메라 등)이다. 호스트 장치(10)와 기록 장치(1)는 인터페이스(이하, "I/F"라고 부른다)(11)를 개재해서 화상 데이터, 커맨드, 스테이터스 신호 등을 송수신한다.
이상 설명한 기록 장치에서의 기록 위치 조정 처리(이하, "레지스트레이션 처리"라고도 한다)의 몇몇 실시 형태를 설명한다.
(제1 실시 형태)
도 5는 본 발명의 제1 실시 형태에 따른 기록 위치 조정 처리에서 이용되는 조정 패턴을 설명하는 도면이다. 도 5에 도시한 바와 같이, 조정 패턴은 기준 패턴(제1 패턴)(601) 및 시프트된 패턴(제2 패턴)(602)을 포함하고, 각각의 패턴은 주주사 방향(X1 및 X2 방향)에서의 n 화소×부주사 방향(Y방향)에서의 i 화소로 이루어지는 직사각형 패턴이다. 기준 패턴(601)과 시프트된 패턴(602) 각각은, 단위 패턴인 상기 직사각형 패턴이 m개의 화소에 대응하는 공백 영역을 가지고서 주주사 방향으로 배열되도록 형성된다. 본 실시 형태에 따른 레지스트레이션 처리는 다른 잉크 색의 노즐열의 기록 위치 조정의 일례로서 설명된다. 기준 패턴(601)은 기준 노즐열에 의해 기록되고, 시프트된 패턴(602)은 조정 대상이 되는 노즐열에 의해 기록된다. 또한, 실제로 기록되는 조정 패턴에서는, 기준 패턴(601)과 시프트된 패턴(602)이 부주사 방향으로의 동일한 위치의 영역에 기록되고, 주주사 방향으로는 서로 "a" 화소만큼 어긋나게 된다. 즉, 기준 패턴(601)과 시프트된 패턴(602)은 부주사 방향으로의 동일한 위치의 영역에서 일부가 서로 중첩되도록 기록된다. 또한, 이들 조정 패턴의 해상도나 시프트 양은, 기록 장치의 기록 해상도에 따라서 정할 수 있고, 본 실시 형태에서는, 기록 해상도가 1200dpi에 대응한다. 본 발명이 적용된 레지스트레이션 처리는, 다른 잉크 색의 노즐열의 기록 위치 조정에 대한 처리에 한정되지 않고, 예를 들면, 쌍방향 기록에 대한 기록 위치 조정에 관한 처리이어도 됨에 주의한다. 다른 잉크 색의 노즐열의 기록 위치 조정 이외의 기록 위치 조정에도 본 발명을 적용할 수 있는 것은, 이하의 설명으로부터도 명확하다.
도 6은, 도 5에 나타내는 조정 패턴을 시프트 양마다 기록해서 취득되는, 레지스트레이션 처리에서 기록되는 패턴을 나타내는 도면이다. 도 6에 도시한 바와 같이, 본 실시 형태에서 기록되는 패턴에 대응한 시프트 양의 범위는, "-3" 내지 "+3"이다. 본 실시 형태에서는, 후술하는 바와 같이, 주사 속도마다 행하여지는 레지스트레이션 처리에서 패턴이 기록되는 시프트 양의 범위가, 주사 속도에 관계없이 고정된다. 즉, 기록되는 조정 패턴의 수는 이 시프트 양의 범위에 대응하고, 이에 의해, 기록 모드에 따라 주사 속도가 상이하더라도, 기록되는 조정 패턴의 수는 고정될 수 있다. 도 6에 나타내는 패턴은 도 5에 도시된 바와 같이 "a" 화소에 대응하는 시프트 양에 따라 변하고, 예를 들면, 시프트 양 "-3"은 기준 패턴(601)으로부터 X2 방향으로(도 5) 3 화소만큼 시프트된 패턴(602)을 어긋나게 해서 기록된 조정 패턴에 대응한다. 한편, 시프트 양 "+3"은 기준 패턴(601)으로부터 X1 방향으로(도 5) 3 화소만큼 시프트된 패턴(602)을 어긋나게 해서 기록된 조정 패턴에 대응한다. 보다 구체적으로는, 1200dpi의 해상도로 상이한 주사 속도로 조정 패턴(및 통상 기록에서의 화상)을 기록하는 경우, 주사 속도에 따라서, 예를 들면, 시프트 양 "-3"에 따른 1200dpi의 해상도로 3 화소만큼 서로 어긋나도록 상기 언급된 2개의 패턴이 상이한 토출 타이밍에서 기록된다. 이 경우, 주사 속도가 증가할 수록 보다 높은 토출 주파수를 갖는 토출 타이밍에서 조정 패턴이 기록된다. 또한, 시프트 양을 나타내는 수가 반드시 어긋날 화소의 수와 일치할 필요는 없고, 예를 들면, 시프트 양 "-3"이 어긋날 화소의 수 6에 대응하여도 된다.
도 7은, 도 6에서 설명한 시프트 양마다의 조정 패턴을 광학 센서(500)로 판독한 결과의 일례를 도시하는 도면이며, 조정 패턴 각각의 반사율의 측정 결과를 나타내고 있다. 여기서, 광학 반사율은, 조정 패턴에서의 기준 패턴과 시프트된 패턴 간의 위치 어긋남이 작을수록 커진다. 따라서, 본 실시 형태에서는, 도 6에 나타내는 7개의 시프트 양에 대응하는 조정 패턴의 측정 결과에 근거하여 반사율의 근사 곡선이 취득되고, 가장 높은 반사율에 대응하는 시프트 양이 취득된다. 시프트 양에 근거하여, 토출 타이밍을 조정하는 데에 이용되는 조정값이 취득된다. 조정 패턴의 농도는 반사율과 반비례의 관계에 있어, 기록 매체 상에 기록되는 조정 패턴에서의 위치 어긋남이 작을수록 농도가 낮아짐에 주의한다.
또한, 기록 매체 상에 형성되는 조정 패턴의 수 및 시프트 양은, 장치의 기계적 공차를 고려할 때에 필요한 조정 범위나, 기록 위치의 시프트 단위에 따라서 결정될 수 있다. 즉, 기록 매체 상에 형성되는 조정 패턴의 수 및 시프트 양은 기록 위치 조정 처리의 정밀도에 따라 결정될 수 있다. 또한, 조정 패턴의 기록 영역은, 광학 센서(500)의 검출 영역의 크기, 1회의 주사에서 기록가능한 영역의 폭, 조정 패턴 군에 대한 기록 매체의 기록가능 영역의 크기 등에 따라서 결정될 수 있다. 또한, 기준 패턴 및 시프트된 패턴의 기록에 이용되는 노즐열은, 조정 대상이 되는 노즐열의 잉크 색, 주사 방향 등의 조합에 따라 결정된다. 순방향 주사 시의 조정에서는, 기준 노즐열(예를 들면, 302K-A)을 결정해서 기준 패턴을 형성하고, 그 후에 다른 노즐열(예를 들면, 302C-A)을 이용하여 시프트된 패턴을 형성한다. 역방향 주사 시의 조정도 마찬가지로 실시할 수 있다.
다음으로, 기록 헤드의 주사 속도의 차이가 기록 위치의 변동에 끼치는 영향에 대해서 설명한다.
기록 헤드의 노즐로부터 토출되는 잉크가 기록 매체 상에 착탄하는 위치는, 기록 헤드와 기록 매체의 거리(헤드-기록 매체 거리), 잉크의 토출 속도, 기록 헤드의 주사 속도 등 여러가지 요인에 의해 변화한다. 특히, 기록 헤드의 주사 속도가 증가되면, 잉크 토출 속도의 변동이나 헤드-기록 매체 거리의 변동에 의한, 잉크 도트의 기록 위치의 기록 위치 어긋남은 커진다.
도 8은, 기록 헤드와 기록 매체의 거리가 변동할 경우 2개의 다른 주사 속도에 대한 도트의 기록 위치의 기록 위치 어긋남을 나타내는 도면이다. 도 8에서, 참조 부호 701은 기록 헤드(701)를 나타내고, 참조 부호 Vy는 기록 헤드에 의한 잉크 토출 속도를 나타내고 있다. 또한, 참조 부호 V1, V2는, 기록 헤드에 의한 주사가 각각 Vx1, Vx2(Vx1<Vx2)의 주사 속도로 행해졌을 때의 비상 속도를 나타내고 있다.
기록 헤드와 기록 매체의 거리가 ΔH만큼 변화할 경우, 주사 속도 Vx1로 주사할 경우에 상기 거리의 변화에 의한 잉크 도트 기록 위치(착탄 위치)의 기록 위치 어긋남은 L1로 표시되고, 주사 속도 Vx2로 주사할 경우의 기록 위치 어긋남은 L2로 표시된다. 도 8로부터 명백해지는 바와 같이, 헤드-기록 매체 거리의 변화량이 동일할 경우, 기록 헤드가 더 빠른 주사 속도 Vx2로 주사함에 따라, 도트의 기록 위치의 기록 위치 어긋남은 커진다.
도 9는 잉크 토출 속도가 변동할 경우의 2개의 다른 주사 속도에 대한 도트의 기록 위치의 기록 위치 어긋남을 나타내는 도면이다. 도 8과 마찬가지로, 참조 부호 701은 기록 헤드(701)를 나타내고, 참조 부호 Vy는 기록 헤드에 의한 잉크 토출 속도를 나타낸다. 또한, 참조 부호 V1, V2는 기록 헤드에 의한 주사가 각각 Vx1, Vx2(Vx1<Vx2)의 주사 속도로 행해졌을 때의 비상 속도를 나타내고 있다.
잉크 토출 속도가 ΔV만큼 변화하면, 주사 속도 Vx1, Vx2로 주사하면, 비상 속도는 각각 V1', V2'가 되고, 도트의 기록 위치의 기록 위치 어긋남은 L1, L2로 나타난다. 도 9로부터도 명백해지는 바와 같이, 잉크 토출 속도의 변화량이 동일할 경우, 기록 헤드가 더 빠른 주사 속도가 Vx2로 주사하는 경우에 도트의 기록 위치의 기록 위치 어긋남이 더 크다.
이상 설명한 바와 같이, 기록 헤드의 주사 속도가 증가할수록, 헤드-기록 매체 거리, 잉크 토출 속도의 변화에 기인하는 도트의 기록 위치의 기록 위치 어긋남은 커진다. 그 결과, 주사 속도가 빠른 경우의 레지스트레이션 처리에서, 기록될 조정 패턴이 부적절할 경우가 있다.
도 10은 상술한 헤드-기록 매체 거리나 잉크 토출 속도의 변화에 의해 도트의 기록 위치의 기록 위치 어긋남이 발생할 경우의 조정 패턴 군을 나타내는 도면이다. 또한, 도 11은, 도 10에 나타내는 조정 패턴의 광학 반사율의 측정 결과를 나타내는 그래프이다.
도 10 및 도 11에 나타내는 예에서는, "-3" 내지 "+3"의 범위 내의 시프트 양에서, 시프트 양 "+3"의 조정 패턴의 반사율이 가장 높다(농도가 가장 낮다). 그러나, 시프트 양 "+3" 이상의 범위에서, 조정 패턴의 기준 패턴과 시프트된 패턴의 어긋남이 최소가 될 가능성도 있다. 이 경우, 시프트 양 "-3" 내지 "+3"의 범위에서 조정 패턴을 형성하고, 조정 패턴의 측정 결과에 근거해서 조정값을 정할 경우, 기록 장치에서 발생하고 있는 기록 위치의 기록 위치 어긋남을 적절하게 보정할 수 없게 된다.
도 12는 본 발명의 제1 실시 형태에 따른, 조정 패턴에 대응하는 시프트 양의 범위의 설정을 2개의 다른 주사 속도에 대해서 설명하는 그래프이다. 보다 구체적으로는, 도 12는 주사 속도와 기록 위치 조정 시에 필요한 조정값(조정량)의 관계를 나타낸다. 도 8, 도 9를 참조하여 상술한 헤드-기록 매체 거리, 잉크 토출 속도 등의 변동 전의 관계를 실선으로 나타내고, 변동 후의 관계를 파선으로 나타내고 있다. 상기한 "필요한 조정값(조정량)"은, 기록 위치 조정에 있어서, 도 6 등에 도시한 조정 패턴에 대응하는 시프트 양이 같은 경우에도, 취득된 조정값에 근거해서 토출 타이밍 등을 조정할 때, 예를 들면, 주사 속도가 2배가 되면 필요한 조정값(조정량)도 2배가 되는 것을 의미하고, 상기한 "필요한 조정값(조정량)"은 조정량 자체를 나타내고 있는 것은 아니다. 또한, 기록 위치의 변동 전후의 상기 관계를 나타내는 실선 및 파선의 직선 각각에서, 그 직선상의 점은, 그 점에 대응하는 조정값(조정량)이 기록 위치의 기록 위치 어긋남을 적절하게 해소할 수 있는 것으로 추정되는 것을 나타낸다.
도 12에 나타내는 바와 같이, 헤드-기록 매체 거리, 잉크 토출 속도 등이 변하는 경우, 주사 속도와 기록 위치 조정에 필요한 조정값(조정량)의 관계가 파선으로 나타난 관계로 변할 때의 기록 위치 조정에 대하여 검토한다. 변동 이전에는, 주사 속도 25ips(인치/초) 및 주사 속도 50ips에 대해서 시프트 양의 범위 1201이 설정된다. 이러한 시프트 양의 범위("-3" 내지 "+3")는, 예를 들면, 그 시프트 양의 중간값 "0"(검은 동그라미로 표시됨)이 실선과 교차하는 위치로 설정된다. 변동 전의 상태가 파선으로 나타내는 변동 후의 상태로 되면, 주사 속도 25ips의 기록 위치의 조정에서는, 적절한 것으로 추정되는 조정값(흰 동그라미로 표시됨)이 그 시프트 양의 범위 내에 놓인다. 이에 의해서, 상기 시프트 양의 범위 내에서 조정 패턴을 형성하고, 그 조정 패턴을 측정함으로써 적절한 조정값(조정량)을 취득할 수 있다. 한편, 주사 속도 50ips의 기록 위치의 조정에서는, 변동 전에 설정한 시프트 양의 범위 1201에 적절한 것으로 추정되는 조정값(흰 동그라미로 표시됨)이 시프트 양의 범위 1201 내에 놓이지 않고 있다. 이 때문에, 이 시프트 양의 범위 내에서 조정 패턴을 형성하고, 그것을 측정하는 경우에도, 적절한 기록 위치 조정을 행할 수는 없다. 보다 주사 속도가 빠를 경우에는, 주사 속도에 따라서 시프트 양의 범위를 확장할 수 있지만, 그러한 경우에는, 전술한 바와 같이, 형성해야 할 조정 패턴의 수가 증가한다.
본 실시 형태에서는, 주사 속도 50ips에서의 기록 위치 조정 전에, 주사 속도 25ips에서의 기록 위치 조정을 행한다. 그리고, 주사 속도 25ips의 기록 위치 조정에서 취득된 조정값(범위 1201에서 파선 상의 흰 동그라미에 의해 나타남)에 근거하여, 주사 속도 50ips의 조정값(파선에 의해 나타내는 범위 1202에서 파선 상의 흰 동그라미에 의해 나타남)을 추정한다.
도 12의 실선 및 파선의 선형 관계에 의해 도시한 바와 같이, 조정값은 기록 헤드의 주사 속도에 비례한다. 도 12에 나타내는 예에서는, 주사 속도 25ips의 조정값은 7이다. 따라서, 주사 속도 50ips에서의 조정값을 14로 추정할 수 있다. 이들 숫자 "7", "14"는 반드시 실제의 구체적인 조정값(조정량)을 나타내는 것은 아니며, 주사 속도 25ips에서 기록 위치의 기록 위치 어긋남을 해소할 수 있는 조정값으로서의 값을 나타내고, 또한, 주사 속도 50ips에서의 조정값은 그 값의 2배인 것을 의미한다. 다음으로, 추정된 조정값을 시프트 양의 중간값에 연관시키는 방식으로 주사 속도 50ips에서의 조정 패턴을 형성한다. 즉, 추정값 14를 중간값 "0"에 연관시켜서, 조정값 범위 1202("-3" 내지 "+3") 내에 7개의 조정 패턴을 형성한다. 이에 의해, 주사 속도 50ips의 기록 위치 조정에 있어서도, 주사 속도 25ips에서의 조정값 범위와 같은 조정값 범위에서 적절한 조정값을 취득할 수 있다. 이에 의해, 조정 패턴의 수를 증가시키지 않고서 적절하게 기록 위치 조정을 행하는 것이 가능해진다.
주사 속도 50ips에서의 조정값의 추정 후에, 기준 패턴과 시프트된 패턴을 기록해서 조정 패턴을 형성할 수 있음에 주의한다. 또는, 주사 속도 50ips에서의 조정값의 추정 전에, 혹은 주사 속도 25ips에서의 조정값을 취득하기 전에, 주사 속도 50ips로 기준 패턴을 기록하고(예를 들면, 상기한 바와 같이 7개의 기준 패턴), 그 후에, 주사 속도 50ips에서의 조정값의 추정 후에, 추정된 주사 속도 50ips에서의 조정값을 시프트 양의 중간값에 연관시키고, 주사 속도 50ips로 시프트된 패턴을 기록해서 주사 속도 50ips용 조정 패턴을 완성시켜도 된다.
도 13은, 도 4에 나타낸 컨트롤러(60)에 의해 실현되는 제어 및 처리의 기능을 도시하는 블록도이며, 상술한 레지스트레이션 처리(기록 위치 조정)를 위한 제어 및 처리를 나타내고 있다. 도 13에 도시한 바와 같이, 컨트롤러(60)는, 그 기능으로서, 기준 노즐열 선택부(71)와, 조정 노즐열 선택부(72)와, 제1 기록 제어부(73)와, 제2 기록 제어부(74)와, 조정값 산출부(75)와, 조정 처리 제어부(76)와, 조정 처리 제어부(77)를 실현한다.
기준 노즐열 선택부(71)는 기준 패턴의 기록에 이용되는 노즐열을 복수 선택한다. 예를 들면, 기록 헤드(301)가 복수의 칩이 배치되어 구성될 경우에는, 기준 노즐열로서 선택되는 복수의 노즐열에 대해서는, 동일 칩 내에 배열된 노즐열이 선택된다. 조정 노즐열 선택부(72)는 기록 위치 조정의 대상이 되는 노즐열을 선택한다. 다시 말해, 시프트된 패턴의 기록에 이용되는 노즐열을 선택한다. 쌍방향 기록에 대한 기록 위치 조정을 행하는 경우에는, 예를 들면, 조정 대상이 되는 노즐열을 선택하고, 해당 노즐열을 이용하여, 순방향 및 역방향 중 하나의 방향의 기록 주사로 기준 패턴을 기록한다. 다른 방향의 기록 주사 시에, 조정 대상이 되는 노즐열을 이용해서 시프트된 패턴을 기록한다.
제1 기록 제어부(73)는 기준 패턴을 기록 매체에 복수 기록시키는 처리의 제어를 행한다. 제2 기록 제어부(74)는 기록 매체에 기록된 복수의 기준 패턴에 대하여 주주사 방향으로 시프트 양을 변경시킴으로써, 제2 패턴을 제1 패턴에 겹쳐서 기록하는 처리의 제어를 행한다.
조정값 산출부(75)는 조정 노즐열에 의한 도트의 기록 위치를 조정하기 위한 조정값을 산출한다. 보다 구체적으로는, 기록 매체에 기록된 제1 패턴 및 제2 패턴의 반사율 변화에 근거해서 제1 패턴을 기록하는 데에 이용된 하나의 노즐열에 의해 형성된 도트의 기록 위치에 대한 조정 노즐열에 의한 도트의 기록 위치를 조정하기 위한 조정값을 산출한다. 조정 처리 제어부(77)는 기록 위치 조정 처리에 관련된 처리를 제어한다.
조정 처리 제어부(76)는 RAM(54) 등에 저장된 조정값에 근거해서 각 노즐의 토출 타이밍이 조정된 기록 동작을 제어한다. 이에 의해, 기록 매체 상에 형성되는 도트의 착탄 위치(부착 위치)가 보정(조정)된다.
도 14는, 본 실시 형태에 따른 기록 장치에서의 조정값을 취득하는 처리를 나타내는 플로우차트이다.
우선, 복수의 기록 헤드의 주사 속도 중, 가장 느린 주사 속도로 설정한다(S1401). 본 실시 형태에 따른 기록 장치는 상이한 주사 속도로 기록하기 위한 복수의 기록 모드를 설정할 수 있으며, 먼저, 그 기록 모드의 주사 속도의 가장 느린 주사 속도에 대해서 레지스트레이션을 행한다. 다음으로, 기준 노즐열 선택부(71)는 기준으로 되는 노즐열(기준 노즐열)을 선택하고, 조정 노즐열 선택부(72)는 조정 대상이 되는 노즐열을 선택한다(S1402). 그리고, 제1 기록 제어부(73)는 기준 노즐열을 이용해서 기록 매체에 기준 패턴(601)을 기록하고, 제2 기록 제어부(74)는 조정 노즐열을 이용해서 기록 매체에 시프트된 패턴(602)을 기록한다(S1403; 패턴 기록 공정).
다음으로, 광학 센서(500)를 이용하여, 기록 매체 상에 형성된 조정 패턴의 농도를 판독한다(S1404). 조정 패턴의 농도는, 도 7에 도시한 바와 같이, 광학 센서(500)에 의해 광학 반사율로서 취득될 수 있다. 그리고, 조정값 산출부(75)는 취득된 조정 패턴의 광학 반사율로부터 근사 곡선을 산출한다. 또한, 조정값 산출부(75)는 산출된 근사 곡선에 근거해서 기준 패턴과 시프트된 패턴의 위치 어긋남이 가장 적어지는 시프트 양을 특정한다. 그리고, 조정 패턴을 형성했을 때의 시프트 양에 대응하는 조정값(즉, 초기값)과, 상기 취득된 시프트 양에 근거해서 조정값을 산출한다(S1405; 조정값 취득 공정). 보다 구체적으로는, 조정 패턴을 형성했을 때의 시프트 양 중, 상기 취득된 시프트 양보다 1 단위만큼 더 큰 시프트 양에 대응하는 조정값과, 상기 취득된 시프트 양보다 1 단위만큼 더 작은 시프트 양에 대응하는 조정값을 이용해서 보간 연산을 행하고, 상기 취득된 시프트 양에 대응하는 조정값을 취득한다. 조정 패턴의 (주주사 방향으로의) 해상도가 1200dpi이면, 조정값은 1200dpi 단위에 의해 산출된다.
다음으로, 산출된 조정값으로부터 두 번째로 느린 주사 속도의 조정값을 추정한다(S1406). 보다 구체적으로는, 도 12를 참조하여 설명한 바와 같이, S1401에서 설정한 가장 느린 주사 속도에 대한 두 번째로 느린 주사 속도의 비를, 상기 산출한 조정값에 곱하여, 상기 두 번째로 느린 주사 속도에 대한 조정값을 추정한다. 또한, 도 12에 나타낸 예에서는, 주사 속도와 조정값이 선형 관계에 있기 때문에, 1차 함수에 근거하여 추정을 행하였다. 주사 속도와 조정값의 관계에 근거해서 추정 방법을 변경해도 됨에 주의한다.
다음으로, 초기값으로서 추정된 조정값에 근거하여 조정 패턴을 형성하고(S1407; 패턴 기록 공정), 기록 매체에 기록된 조정 패턴의 반사율을 측정한다(농도를 판독한다)(S1408). 그리고, S1405의 처리와 마찬가지 방식으로, 측정한 광학 반사율에 근거하여 위치 어긋남이 가장 작아지는 시프트 양을 취득하고, 조정 패턴을 형성했을 때의 조정값과 해당 시프트 양에 근거해서 조정값을 산출한다(S1409; 조정값 취득 공정).
본 실시 형태에 따른 기록 헤드에서의 다른 주사 속도의 전부에 대해서 조정값이 산출될 때까지, S1406 내지 S1409의 처리를 되풀이한다(S1410). 전체의 주사 속도에 대한 조정값의 산출이 완료하면(S1410), 산출된 조정값을 RAM(54) 등의 기억 영역에 주사 속도마다 저장하고, 본 처리를 종료한다.
이상 설명한 바와 같이, 제1 실시 형태에 따르면, 느린 기록 헤드의 주사 속도의 조정을 먼저 실행하고, 그 느린 주사 속도의 조정값에 근거하여 보다 빠른 주사 속도의 조정값을 추정한다. 초기값으로서 상기 추정된 조정값에 근거하여, 조정 패턴을 형성하고, 그 측정을 행한다. 이에 의해, 보다 빠른 속도에 대하여 시프트 양의 범위를 넓히지 않고서 적절한 조정값을 산출할 수 있다. 그 결과, 조정 패턴 수의 증가를 억제할 수 있기 때문에, 조정 정밀도를 유지하면서, 조정 패턴을 감소시킬 수가 있고, 잉크 사용 또는 기록 매체의 소비도 가능한 한 적게 할 수 있다.
(제2 실시 형태)
전술한 제1 실시 형태는 기록 헤드의 2 레벨의 주사 속도에 대한 기록 위치 조정에 본 발명을 적용한 형태에 관한 것이다. 본 발명의 제2 실시 형태는 3 레벨 이상의 주사 속도에 대한 기록 위치 조정에 본 발명을 적용한 형태에 관한 것이다.
제1 실시 형태에 관해서 도 12를 참조해서 상술한 것과 같이, 기록 헤드의 주사 속도가 2 레벨의 주사 속도를 갖는 경우, 보다 느린 주사 속도의 조정을 먼저 실시하고, 취득된 조정값에 근거하여 보다 빠른 주사 속도의 조정값을 추정한다. 추정된 조정값은 보다 빠른 주사 속도의 조정 패턴을 형성하기 위한 초기값(시프트 양의 범위의 중간값)으로 설정한다. 이것에 대하여, 기록 헤드의 주사 속도가 3 레벨 이상의 주사 속도를 갖는 경우에는, 가장 빠른 기록 헤드 주사 속도의 조정값을 추정하는 데에 있어서, 적어도 2개의 주사 속도에 대한 조정값이 존재하기 때문에, 1개의 주사 속도에 대한 조정값에 근거하여 보다 빠른 주사 속도의 조정값을 추정하는 경우와 비교하여, 추정된 조정값의 신뢰성이 높아진다. 이러한 점에서, 본 실시 형태는, 3 레벨 이상의 기록 헤드의 주사 속도의 모드를 갖는 기록 장치에 관한 것으로, 이러한 장치에서, 적어도 2개의 주사 속도에 대한 기록 위치 조정을 위한 조정값에 근거하여, 보다 빠른 주사 속도에 대한 조정값의 추정을 행한다.
도 15는 본 실시 형태에 따른 조정 패턴에 대응하는 시프트 양의 범위의 설정을 3개의 다른 주사 속도에 대해서 설명하는 그래프이다. 도 15는 제1 실시 형태에 따른 도 12와 마찬가지의 그래프이다. 도 15에 나타난 예는, 주사 속도 33ips(인치/초), 45ips, 67ips의 주사 속도에서의 기록을 위한 기록 모드를 갖는 기록 장치에 관한 것이다.
주사 속도 33ips, 45ips의 기록 위치 조정에 대해서는, 제1 실시 형태에 따른 도 14에 나타낸 처리와 마찬가지의 처리를 행할 수가 있어, 그 설명은 생략한다. 우선, 주사 속도 33ips, 45ips의 기록 위치 조정을 완료하고, 주사 속도 67ips에 대한 조정 패턴을 형성하는 초기값을 추정하는 처리에 대해서 설명한다. 주사 속도 33ips 및 45ips에 대한 기록 위치 조정에서, 적절한 조정값으로부터 미소한 차이가 존재할 경우가 있다. 도 15에서, 실선 상의 점은, 주사 속도 33ips에 대해서 취득된 조정값에 근거하여 추정되는 적절한 조정값을 나타내고, 파선 상의 점은, 주사 속도 33ips 및 45ips의 양쪽의 조정값에 근거하여 추정되는 적절한 조정값을 나타낸다.
이러한 방식으로, 실제로 취득되는 조정값이 적절한 조정값으로부터 어긋나는 경우, 도 15에 도시한 바와 같이, 초기값으로서 주사 속도 33ips에 대한 조정값으로부터만 추정된 조정값에 근거하여 조정 패턴이 형성될 경우, 주사 속도 33ips의 조정값에 따라, 주사 속도 67ips에 대한 적절한 조정값이, 시프트 양의 범위 1501에 놓이지 않을 경우가 있을 수 있다. 이 경우에는, 패턴을 증가시키지 않으면 적절한 기록 위치 조정을 할 수 없게 된다.
이것에 대하여, 주사 속도 33ips 및 45ips의 양쪽의 조정값으로부터 추정되는 적절한 조정값이 초기값으로 설정되고, 주사 속도 67ips에 대한 조정 패턴이 형성되는 경우, 시프트 양의 범위 1502에 적절한 조정값이 포함되기 때문에, 조정 패턴 수를 늘리지 않고서 적절하게 조정을 행할 수 있다. 주사 속도 33ips 및 45ips의 양쪽의 조정값에 근거하는 구체적인 추정의 방법은 다음과 같다. 주사 속도 33ips, 45ips 각각에 대해서 취득된 조정값을 이용함으로써, 주사 속도에 대한 근사 곡선(도 15의 파선)을 작성한다. 그리고, 이 파선의 관계를 충족시키는, 주사 속도 67ips에 대한 조정값을 취득한다. 바꾸어 말하면, 주사 속도 33ips, 45ips 각각에 대한 조정값을 이용함으로써, 주사 속도 67ips에 대한 선형 보간을 행하여, 주사 속도 67ips에 대한 조정값을 취득한다.
이상 설명한 예는, 2개의 주사 속도에 대한 조정값에 근거하여, 보다 빠른 1개의 주사 속도에 대한 조정값을 취득하는 처리에 관한 것이다. 본 발명의 적용은 이 예에 한정되지 않는다. 전술한 2개의 주사 속도는, 제K 주사 속도로부터 제(K+ (N-1)) 주사 속도(K는 양의 정수, N은 2 이상의 정수)까지의 2개 이상(N 레벨)의 주사 속도에 포함되고, 제M(M은 2≤M≤N-1의 정수) 주사 속도보다 저속인, 제1 주사 속도 내지 제(M-1) 주사 속도에 관한 조정값이, 상기 제M 주사 속도의 조정 패턴의 형성 전에 취득되고, 또한, 제1 주사 속도 내지 제(M-1) 주사 속도에 대해서 취득된 조정값에 근거하여 추정된 조정값에 근거하여, 제M 주사 속도의 조정 패턴이 형성된다. 그 제M 주사 속도의 기록된 조정 패턴의 광학 특성에 근거하여, 제M 주사 속도의 조정값이 취득된다.
본 실시 형태의 기록 위치 조정에서, 조정 처리는 33ips, 45ips, 67ips와 같이 주사 속도가 가장 느린 것으로부터 가장 빠른 것으로의 순서로 행하였다. 그러나, 예를 들면 주사 속도 33ips, 45ips에서는 도트의 기록 위치의 기록 위치 어긋남이 작고, 조정 범위에 충분히 들어간다고 판단될 경우에는, 45ips, 33ips, 67ips의 순으로 기록 위치 조정을 행해도 된다. 제1 실시 형태에서 설명한 바와 같이, 기록 헤드의 주사 속도가 증가함에 따라, 헤드-기록 매체 거리, 잉크 토출 속도에 기인하는 도트의 기록 위치의 기록 위치 어긋남은 커진다. 이에 따라, 조정 범위와 기록 헤드 주사 속도의 관계에 근거하여, 기록 위치 어긋남이 조정 범위에 들어가는 것으로 판단되지 않은 주사 속도에서의 조정을, 보다 느린 주사 속도의 조정 후에 행하여도 된다.
제2 실시 형태에 따른 컨트롤러(60)에서의 기능적인 구성과, 기록 위치 조정의 처리는, 제1 실시 형태에 따른 도 13 및 도 14와 마찬가지이기 때문에 그 설명은 생략한다. 본 실시 형태에 따른 기록 위치 조정 처리에서는, 도 14의 S1406의 처리에서의 주사 속도에 대한 초기값의 산출 방법이 상이하다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명의 제2 실시 형태에 따르면, 주사 속도에 대한 조정 패턴의 형성 시에, 주사 속도보다 낮은 적어도 2개 이상의 주사 속도에서의 기록 위치 조정값에 근거하여 추정된 초기값으로 기록을 행한다. 이에 의해, 1개의 주사 속도에서의 기록 위치 조정값으로부터 추정하는 경우에 비하여, 기록 위치 조정 자체의 변동의 영향을 억제할 수 있다. 따라서, 조정 패턴 수를 늘리지 않고서 정밀하게 기록 위치 조정을 행하는 것이 가능해진다.
(기타의 실시 형태)
조정 패턴의 형태는 도 5, 도 6에 나타내는 형태에 한정되지 않고, 기록 위치가 어긋나지 않은 상태에서 가장 농도가 높은 패턴을 이용해도 된다.
전술한 제1 및 제2 실시 형태에서 산출되는 조정값에 관하여, 갱신이 필요하지 않다면, 공장 출시 시의 검사 공정에서 조정값의 디폴트 값을 결정하고, 이 디폴트 값을, ROM(52) 등에 저장하는 것도 가능하다. 단, 유저의 지시에 근거하거나, 서비스맨 또는 서비스센터에 반입하여 기록 위치 조정이 행하여 질 경우에는, 조정값이 EEPROM(도시 생략)에 저장되도록 구성되어 적절히 갱신될 수도 있다.
제1 및 제2 실시 형태에서 설명한 노즐열 또는 기록 헤드의 구성 또는 개수, 또한, 잉크 색조의 종류나 수 등은 어디까지나 예시일 뿐이며, 적절히 변경될 수 있다. 예를 들면, 상술한 설명에서는, Bk, C, M, Y의 4색의 잉크를 탑재한 기록 장치를 예에 들어서 기록 장치를 설명했지만, 라이트 시안 또는 라이트 마젠타 등의 농도가 낮은 잉크, 혹은 레드 또는 그린 등의 색 잉크를 설치하는 것도 가능하다. 기록 장치는 기록 헤드를 복수 탑재한 구성이어도 된다.
제1 및 제2 실시 형태에서는, 잉크 제트 방식의 기록 장치를 예로 들어서 설명했지만, 기록 장치는 이것에 한정되지 않는다. 기록 장치는 기록 매체에 대하여 기록 헤드를 상대적으로 이동(상대 이동)시켜서 도트를 형성함으로써 기록을 행하기만 하면, 어떠한 구성을 가져도 된다. 본 발명은 기록 방식에 관계없이 어떠한 기록 장치에 적용되어도 된다.
또한, 제1 및 제2 실시 형태에서는, 조정 패턴의 어긋남을 검출하는 예시적인 방법으로서, 광학 센서를 이용한 농도의 검출을 설명했지만, 검출 방법은 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 유저가 시각적인 확인에 의해 적절한 패턴을 선택하고, 그 선택된 패턴을 기록 장치에 입력하여, 조정값을 취득하여도 된다.
본 발명이 예시적인 실시 형태를 참조하여 설명되었지만, 본 발명이 개시된 예시적인 실시 형태에 한정되지 않음을 이해하여야 한다. 아래의 특허청구범위의 범위는 모든 변경과, 등가 구조 및 기능을 포함하도록 가장 넓은 해석과 일치하여야 한다.

Claims (13)

  1. 기록 헤드에 의해 주사함으로써 기록 매체에 기록을 행하고, 상기 기록 헤드의 제1 주사 속도와 상기 제1 주사 속도보다 고속인 제2 주사 속도가 설정될 수 있는 기록 장치이며,
    상기 제1 주사 속도 및 상기 제2 주사 속도 각각에 대하여, 각각 제1 패턴 및 제2 패턴을 포함하고 상기 제1 패턴과 상기 제2 패턴의 상대적인 기록 위치의 차이에 대응하는 상이한 시프트 양을 갖는 복수의 조정 패턴을 형성하도록 구성된 패턴 형성 유닛과,
    상기 제1 주사 속도 및 상기 제2 주사 속도 각각에 대해서, 기록 위치를 조정하기 위하여 형성된 상기 복수의 조정 패턴에 근거하여 조정값을 취득하도록 구성된 조정값 취득 유닛을 포함하고,
    상기 조정값 취득 유닛은, 상기 제1 주사 속도의 조정값을, 상기 패턴 형성 유닛이 상기 제2 주사 속도의 조정 패턴을 형성하기 전에 취득하고, 상기 패턴 형성 유닛은, 상기 제1 주사 속도에 대해서 취득된 조정값에 근거하는 시프트 양을 이용하여 상기 제2 주사 속도로 상기 기록 헤드에 의해 주사함으로써 조정 패턴을 형성하고, 상기 조정값 취득 유닛은 상기 제2 주사 속도로 상기 기록 헤드에 의해 주사함으로써 형성된 상기 조정 패턴에 근거하여 상기 제2 주사 속도의 조정값을 취득하는 기록 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 패턴 형성 유닛은, 상기 제2 주사 속도의 조정 패턴을 형성하기 위한 상기 시프트 양을, 주사 속도와 조정값의 선형 관계에서의 상기 제2 주사 속도에 대응하는 조정값에 근거해서 결정하는 기록 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 제1 주사 속도 및 상기 제2 주사 속도는, 제K 주사 속도부터 제(K+(N-1)) 주사 속도(K는 양의 정수, N은 2 이상의 정수)까지의 N 레벨의 주사 속도에 포함되고, 상기 조정값 취득 유닛은, 제M 주사 속도(M은 2≤M≤N-1의 정수)보다 저속인, 상기 제1 주사 속도 내지 제(M-1) 주사 속도의 조정값을 상기 제M 주사 속도의 조정 패턴을 형성하기 전에 취득하고,
    또한, 상기 패턴 형성 유닛은, 상기 제1 주사 속도 내지 제(M-1) 주사 속도에 대해서 취득된 조정값에 근거하는 시프트 양을 이용하여 상기 제M 주사 속도의 조정 패턴을 형성하고, 상기 조정값 취득 유닛은, 형성된 상기 제M 주사 속도의 조정 패턴에 근거하여 상기 제M 주사 속도의 조정값을 취득하는 기록 장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 패턴 형성 유닛은, 상기 제M 주사 속도의 조정 패턴을 형성하기 위한 상기 시프트 양을, 상기 제1 주사 속도 내지 제(M-1) 주사 속도의 조정값의 선형 보간에 의해 결정하는 기록 장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 제1 패턴은 상기 기록 헤드의 순방향 주사에 의해 형성되고, 상기 제2 패턴은 상기 기록 헤드의 역방향 주사에 의해 형성되는 기록 장치.
  6. 제1항에 있어서, 상기 조정값 취득 유닛은, 유저에 의해 입력된 상기 조정 패턴에 관한 정보에 근거해서 조정값을 취득하는 기록 장치.
  7. 제1항에 있어서, 상기 조정값 취득 유닛은, 광학 센서를 이용해서 조정 패턴의 광학 특성을 취득하는 기록 장치.
  8. 제1항에 있어서, 상기 조정값 취득 유닛에 의해 취득된 상기 제1 주사 속도의 조정값에 근거하여, 상기 제1 주사 속도의 조정값에 근거하는 시프트 양을 결정하도록 구성된 결정 유닛을 더 포함하고,
    상기 패턴 형성 유닛은, 상기 결정 유닛에 의해 결정된 상기 시프트 양에 근거하여, 상기 제1 패턴을 기준 패턴으로 하여, 상기 복수의 패턴 중 상기 제1 패턴으로부터의 상기 제2 패턴의 시프트 양이 변하도록 상기 복수의 조정 패턴을 형성하고, 상기 패턴 형성 유닛은, 상기 결정 유닛이 상기 시프트 양을 결정하기 전에 상기 제1 패턴을 형성하는 기록 장치.
  9. 제1항에 있어서, 상기 조정값 취득 유닛에 의해 취득된 상기 제1 주사 속도의 조정값에 근거하여, 상기 제1 주사 속도의 조정값에 근거하는 시프트 양을 결정하도록 구성된 결정 유닛을 더 포함하고,
    상기 패턴 형성 유닛은, 상기 결정 유닛에 의해 결정된 상기 시프트 양에 근거하여, 상기 제1 패턴을 기준 패턴으로서 설정하여, 상기 복수의 패턴 중 상기 제1 패턴으로부터의 상기 제2 패턴의 시프트 양이 변하도록 상기 복수의 조정 패턴을 형성하고, 상기 패턴 형성 유닛은, 상기 조정값 취득 유닛이 상기 제1 주사 속도의 조정값을 취득한 후에, 상기 제1 패턴의 형성 및 상기 제2 패턴의 형성을 시작하는 기록 장치.
  10. 제1항에 있어서, 상기 패턴 형성 유닛은, 취득된 상기 제2 주사 속도의 조정값에 대응하는 상기 조정 패턴의 시프트 양이 상기 제2 주사 속도의 상기 복수의 조정 패턴의 상이한 시프트 양의 중간값에 대응하도록, 상기 제1 주사 속도에 대하여 취득된 조정값에 근거하는 시프트 양을 이용하여 상기 제2 주사 속도로 상기 기록 헤드에 의해 주사함으로써 조정 패턴을 형성하는 기록 장치.
  11. 기록 헤드에 의해 주사함으로써 기록 매체에 기록을 행하고, 상기 기록 헤드의 제1 주사 속도와, 상기 제1 주사 속도보다 고속인 제2 주사 속도가 설정될 수 있는 기록 장치에서의 기록 위치 조정 방법이며,
    상기 제1 주사 속도 및 제2 주사 속도 각각에 대하여, 각각 제1 패턴 및 제2 패턴을 포함하고, 상기 제1 패턴과 상기 제2 패턴의 상대적인 기록 위치의 차이에 대응하는 상이한 시프트 양을 갖는 복수의 조정 패턴을 형성하는 패턴 형성 공정과,
    상기 제1 주사 속도 및 상기 제2 주사 속도 각각에 대하여, 기록 위치를 조정하기 위하여 형성된 상기 복수의 조정 패턴에 근거하는 조정값을 취득하는 조정값 취득 공정을 포함하고,
    상기 조정값 취득 공정에서는, 상기 제1 주사 속도의 조정값을, 상기 패턴 형성 공정이 상기 제2 주사 속도의 조정 패턴을 형성하기 전에 취득하고, 상기 패턴 형성 공정에서는, 상기 제1 주사 속도에 대해서 취득된 조정값에 근거하는 시프트 양을 이용하여, 상기 제2 주사 속도로 상기 기록 헤드에 의해 주사함으로써 조정 패턴을 형성하고, 상기 조정값 취득 공정에서는, 상기 제2 주사 속도로 상기 기록 헤드에 의해 주사함으로써 형성되는 상기 조정 패턴에 근거하여 상기 제2 주사 속도의 조정값을 취득하는 기록 위치 조정 방법.
  12. 복수의 상이한 주사 속도가 설정될 수 있는 기록 헤드에 의해 주사함으로써 기록 매체 상에 기록을 행하는 기록 장치의 기록 위치 조정 방법이며,
    상기 기록 헤드에 의해 주사함으로써, 각각 제1 패턴 및 제2 패턴을 포함하고 상기 제1 패턴과 상기 제2 패턴의 상대적인 기록 위치의 차이에 대응하는 상이한 시프트 양을 갖는 복수의 조정 패턴으로 이루어지는 하나 이상의 조정 패턴 군을 형성하는 제1 패턴 형성 공정과,
    상기 하나 이상의 조정 패턴 군을 형성한 후에, 상기 하나 이상의 조정 패턴 군과 동일한 시프트 양의 범위를 갖는 조정 패턴 군을, 상기 하나 이상의 조정 패턴 군이 형성될 때의 주사 속도보다 고속인 주사 속도로 기록하는 제2 패턴 형성 공정을 포함하는 기록 위치 조정 방법.
  13. 기록 헤드에 의해 주사함으로써 기록 매체에 기록을 행하고, 상기 기록 헤드의 제1 주사 속도와, 상기 제1 주사 속도보다 고속인 제2 주사 속도가 설정될 수 있는 기록 장치이며,
    상기 제1 주사 속도 및 제2 주사 속도 각각에 대하여, 각각 제1 패턴 및 제2 패턴을 포함하고 상기 제1 패턴과 상기 제2 패턴의 상대적인 기록 위치의 차이인 상이한 시프트 양을 갖는 복수의 조정 패턴을 형성하도록 구성된 패턴 형성 유닛과,
    상기 복수의 조정 패턴을 판독하도록 구성된 판독 유닛과,
    상기 제1 주사 속도 및 상기 제2 주사 속도 각각에 대하여, 기록 위치를 조정하기 위하여 형성된 상기 복수의 조정 패턴의 판독 결과에 근거하는 조정값을 취득하도록 구성된 조정값 취득 유닛을 포함하고,
    상기 판독 유닛은, 상기 패턴 형성 유닛이 상기 제2 주사 속도의 조정 패턴을 형성하기 전에 상기 제1 주사 속도의 복수의 조정 패턴을 판독하고, 상기 패턴 형성 유닛은, 상기 제1 주사 속도의 상기 복수의 조정 패턴의 판독 결과에 근거하는 시프트 양을 이용하여 상기 제2 주사 속도로 상기 기록 헤드에 의해 주사함으로써 조정 패턴을 형성하는 기록 장치.
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