KR20150005984A - 홀로그램 전사박, 화상 표시체의 제작 방법, 화상 표시체 및 개인 인증 매체 - Google Patents

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Abstract

본 형태에 따른 홀로그램 전사박은, 피전사 기재에 대해 열전사 가능하다. 홀로그램 전사박은, 기재의 한쪽의 면에, 박리층, 회절 구조 형성층, 접착층을 적층한 구성을 갖는다. 회절 구조 형성층은, 홀로그램 또는 회절 격자의 미세 요철을 포함한다. 박리층 및 접착층 중 적어도 한쪽은, 열전도성 은닉 정보 소유부에, 열전도성 은닉 정보를 구비한다.

Description

홀로그램 전사박, 화상 표시체의 제작 방법, 화상 표시체 및 개인 인증 매체{HOLOGRAM TRANSCRIPTION FOIL, METHOD FOR PRODUCING IMAGE DISPLAY ELEMENT, IMAGE DISPLAY ELEMENT, AND PERSONAL AUTHENTICATION MEDIUM}
본 발명은, 식별이 용이하고, 위조 및 개찬이 곤란한 홀로그램 전사박, 화상 표시체의 제작 방법, 화상 표시체 및 개인 인증 매체에 관한 것이다.
여권 또는 ID(identification) 카드 등의 개인 인증 매체의 대부분은, 육안에 의한 개인 인증을 가능하게 하기 위해, 얼굴 화상을 사용하고 있다. 예를 들어, 일반적인 여권에는, 얼굴 화상을 베이킹한 인화지가 책자체(booklet)에 부착되어 있다. 그러나, 그와 같은 여권은, 사진 인화의 재부착에 의해 개찬되는 것이 염려된다.
이와 같은 이유에 의해, 최근에는, 얼굴 화상의 정보가 디지털화되어, 디지털 정보가 책자체 상에 재현되어 있다. 화상 재현을 위해 사용되는 화상 표시 기술로서는, 예를 들어 승화성(열 이행성) 염료, 또는, 안료를 분산시킨 수지형 용융 타입 또는 왁스 용융 타입을 이용한 전사 리본에 의한 감열 전사 기록법, 또는, 전자 사진법 등이 이용된다.
최근, 승화성 염료 또는 착색한 열가소성 수지를 사용하는 감열 전사 기록 방식의 프린터가 널리 보급되어 오고 있다. 이 감열 전사 기록 방식을 이용하면, 여권으로부터 얼굴 화상을 제거하고, 그 부분에 다른 얼굴 화상을 기록하는 것이 반드시 곤란하지는 않다.
한편, 상기와 같은 화상 표시 기술을 이용하여 얼굴 화상을 인쇄하고, 그 위에 형광 잉크를 이용하여 얼굴 화상을 기록하는 형광체 인쇄물이 제안되어 있다(예를 들어, 문헌 1(일본 특허 출원 공개 제2000-141863호 공보) 참조). 또한, 무색 또는 담색의 형광 염료와 유색의 안료를 함유한 잉크를 이용하여 얼굴 화상을 기록한 위조 방지 화상 형성체(예를 들어, 문헌 2(일본 특허 출원 공개 제2002-226740호 공보) 참조), 또한, 통상의 얼굴 화상과 펄 안료를 이용하여 형성된 얼굴 화상을 나란히 배치한 개인 인증 매체가 제안되어 있다(예를 들어, 문헌 3(일본 특허 출원 공개 제2003-170685호 공보) 참조).
상기와 같은 화상 표시 기술을 여권에 적용함으로써, 여권의 개찬은 보다 곤란해진다.
그러나, 형광 재료를 이용하여 기록한 얼굴 화상은, 자외선 램프 등의 특수한 광원을 사용하지 않는 한 관찰할 수 없다. 또한, 펄 안료를 이용하여 형성한 얼굴 화상은, 육안으로 시인할 수 있지만, 펄 안료의 입경이 크므로, 이 펄 안료를 이용하여 고정밀의 화상을 형성하는 것이 곤란하다.
개인 인증 매체에 기록되는 얼굴 화상의 외관이 단순하고 특별한 시각 효과가 없는 경우, 얼굴 화상이 복잡하고 특징이 있는 시각 효과를 갖는 경우와 비교하여, 얼굴 화상의 개찬은 용이하다. 또한, 얼굴 화상이 단순한 외관으로 표시되어 있는 경우, 개찬, 위조된 얼굴 화상을 육안으로 용이하게 판단하는 것이 곤란하다.
본 발명은, 상기 실정을 감안하여 이루어진 것으로, 식별이 용이하고, 위조 및 개찬이 곤란한 홀로그램 전사박, 화상 표시체의 제작 방법, 화상 표시체 및 개인 인증 매체를 제공하는 것을 목적으로 한다.
제1 형태에 있어서, 홀로그램 전사박은, 피전사 기재에 대해 열전사 가능하다. 홀로그램 전사박은, 기재의 한쪽의 면에, 박리층, 회절 구조 형성층, 접착층을 적층한 구성을 갖는다. 회절 구조 형성층은, 홀로그램 또는 회절 격자의 미세 요철을 포함한다. 박리층 및 접착층 중 적어도 한쪽은, 열전도성 은닉 정보 소유부에, 열전도성 은닉 정보를 구비한다.
제1 형태에 있어서, 열전도성 은닉 정보는, 기하학 패턴, 주기적으로 배치된 2치의 문자 패턴, 또는, 주기적으로 배치된 2치의 도형 패턴으로 해도 된다. 박리층 및 접착층 중 적어도 한쪽은, 열전도성 은닉 정보 소유부에, 요철을 형성함으로써 열전도성 은닉 정보를 기록하는 것으로 해도 된다. 열전도성 은닉 정보는, 열전도성 은닉 정보 소유부에, 접착층의 함유물의 응집 상태에 따라 기록되는 것으로 해도 된다.
제2 형태에 있어서, 홀로그램 전사박은, 피전사 기재에 대해 열전사 가능한 홀로그램 전사박이다. 홀로그램 전사박은, 기재의 한쪽의 면에, 박리층, 회절 구조 형성층, 접착층을 적층한 구성을 갖는다. 회절 구조 형성층은, 홀로그램 또는 회절 격자의 미세 요철을 포함한다. 박리층 및 접착층 중 적어도 한쪽은, 열전도성 은닉 정보 소유부에, 열전도성 은닉 정보를 구비하고, 열전도성 은닉 정보 비소유부에, 은닉 정보를 구비하지 않는다.
제2 형태에 있어서, 회절 구조 형성층은, 열전도성 은닉 정보 소유부와 열전도성 은닉 정보 비소유부에서, 서로, 공간 주파수와 격자 각도 중 적어도 한쪽이 상이한 한 것으로 해도 된다.
제3 형태에 있어서, 화상 표시체의 제작 방법은, 제2의 형태에 따른 홀로그램 전사박을 피전사 기재에 열전사한다. 화상 표시체의 제작 방법은, 홀로그램 전사박의 열전도성 은닉 정보 소유부를, 피전사 기재에 전사하는 공정과, 홀로그램 전사박의, 식별 정보를 포함하는 열전도성 은닉 정보 비소유부를, 피전사 기재에 전사하는 공정을 구비한다.
제4 형태에 있어서, 화상 표시체는, 제3 형태에 따른 제작 방법에 의해 제작된다. 화상 표시체는, 기재의 한쪽의 면에, 수상층, 접착층, 회절 구조 형성층, 박리층을 적층한 구성을 갖는다.
제5 형태에 있어서, 개인 인증 매체는, 제4 형태에 따른 화상 표시체를 구비한다.
본 발명의 형태에 있어서는, 식별이 용이하고, 위조 및 개찬이 곤란한 홀로그램 전사박, 화상 표시체의 제작 방법, 화상 표시체 및 개인 인증 매체를 제공할 수 있다.
도 1은, 본 실시 형태에 따른 개인 인증 매체의 일례를 나타내는 평면도이다.
도 2는, 본 실시 형태에 따른 홀로그램 전사박의 제1 예를 나타내는 단면도이다.
도 3은, 본 실시 형태에 따른 홀로그램 전사박의 제2 예를 나타내는 평면도이다.
도 4는, 본 실시 형태에 따른 홀로그램 전사박의 제2 예를 나타내는 단면도이다.
도 5는, 본 실시 형태에 따른 홀로그램 전사박의 제2 예를 나타내는 단면도이다.
도 6a는, 본 실시 형태에 따른 화상 표시체의 제작 방법의 제1 스텝의 예를 나타내는 단면도이다.
도 6b는, 본 실시 형태에 따른 화상 표시체의 제작 방법의 제2 스텝의 예를 나타내는 단면도이다.
도 7은, 본 실시 형태에 따른 화상 표시체의 제작 방법에 의해 제작된 화상 표시체의 일례를 나타내는 단면도이다.
도 8은, 본 실시 형태에 따른 화상 표시체가 전사되어 있는 개인 인증 매체의 일례를 나타내는 단면도이다.
도 9는, 본 실시 형태에 따른 개인 인증 매체의 관찰 상태의 일례를 나타내는 단면도이다.
도 10a는, 본 실시 형태에 따른 개인 인증 매체의 식별 정보의 일례를 나타내는 평면도이다.
도 10b는, 본 실시 형태에 따른 개인 인증 매체의 은닉 정보의 일례를 나타내는 평면도이다.
도 11은, 종래의 화상과 본 실시 형태에 따른 화상과의 대비의 일례를 나타내는 모식도이다.
본 실시 형태는, 홀로그램 전사박, 화상 표시체, 화상 표시체의 제작 방법, 개인 인증 매체에 관한 것이다.
본 실시 형태에 따른 홀로그램 전사박은, 기재의 한쪽의 면에, 박리층, 회절 구조 형성층, 접착층을 적층하여 형성된다. 회절 구조 형성층은, 홀로그램 또는 회절 격자의 미세 요철로 형성된다. 박리층 및 접착층 중 적어도 한쪽은, 열전도성 은닉 정보 소유부에 은닉 정보를 구비하고, 열전도성 은닉 정보 비소유부에 은닉 정보를 구비하지 않는다.
본 실시 형태에 따른 화상 표시체는, 홀로그램 전사박을 피전사 기재에 열전사하여 제작된다.
본 실시 형태에 따른 화상 표시체의 제작 방법은, 홀로그램 전사박의 열전도성 은닉 정보 소유부를, 피전사 기재에 기록하는 공정과, 홀로그램 전사박의 식별 정보를 포함하는 열전도성 은닉 정보 비소유부를 피전사 기재에 기록하는 공정을 구비한다.
본 실시 형태에 의해, 본인을 식별하기 위한 화상을 육안으로 용이하게 확인할 수 있고, 또한, 위조 및 개찬되는 것을 예방하여, 고보안성을 실현할 수 있다.
이하, 본 실시 형태에 대해, 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.
도 1은, 본 실시 형태에 따른 개인 인증 매체의 일례를 개략적으로 도시하는 평면도이다. 개인 인증 매체(1)는, 예를 들어 여권 등의 책자체이다. 도 1에 있어서, 개인 인증 매체(1)는, 펼쳐진 상태로 나타나 있다.
개인 인증 매체(1)는, 화상 정보(1a, 1b)를 표시하고 있다. 화상 정보(1a)는, 광의 흡수를 이용하여 표시되는 화상 정보이다. 구체적으로는, 화상 정보(1a)는, 백색광으로 조명하고, 육안으로 관찰한 경우에, 시인 가능한 화상이다.
화상 정보(1a)는, 예를 들어 염료 및 안료로 구성될 수도 있다. 이 경우, 화상 정보(1a)의 형성에는, 서멀 헤드를 이용한 열전사 기록법, 잉크젯 기록법, 전자 사진법, 또는, 그들 2개 이상의 조합이 이용되어도 된다. 화상 정보(1a)는, 감열 발색제를 포함하는 층을 형성하고, 이 층에 레이저 빔으로 묘화함으로써 형성되어도 된다. 화상 정보(1a)는, 상기의 각종 방법을 조합하여 형성되어도 된다. 화상 정보(1a)의 적어도 일부는, 핫 스탬프를 이용한 열전사 기록법에 의해 형성되어도 되고, 인쇄법에 의해 형성되어도 되고, 그들의 조합을 이용하여 형성되어도 된다.
화상 정보(1b)는, 홀로그램 및/또는 회절 격자의 회절 구조에 의해 표시되는 화상이다. 화상 정보(1b)는, 예를 들어 서멀 헤드를 이용한 열전사 기록과, 핫 스탬프 또는 열 롤을 이용한 열전사 기록을 이 순서대로 행함으로써 형성된다.
화상 정보(1b)는, 개인을 인증하기 위한 중간 계조를 갖는 식별 정보와, 식별 정보와는 다른 시인 각도에 의해 인식되는 은닉 정보를 포함하고 있다. 개인을 인증하기 위한 중간 계조를 갖는 식별 정보는, 예를 들어 얼굴 화상 등이다. 은닉 정보는, 예를 들어 기호, 부호 및 표장 등, 비개인 정보이다.
이어서, 개인 인증 매체(1)의 제작에 필요한 홀로그램 전사박의 구조에 대해, 도 2 내지 도 4를 참조하면서 설명한다.
도 2는, 본 실시 형태에 따른 홀로그램 전사박의 제1 예를 나타내는 단면도이다.
도 3은, 본 실시 형태에 따른 홀로그램 전사박의 제2 예를 나타내는 평면도이다.
도 4 및 도 5는, 본 실시 형태에 따른 홀로그램 전사박의 제2 예를 나타내는 단면도이다.
홀로그램 전사박(100, 200)은, 기재(11, 21)의 한쪽의 면에, 박리층(12, 22(22a, 22b)), 회절 구조 형성층(13, 23), 접착층(14, 24(24a, 24b))을 순서대로 적층함으로써 형성된다. 이 홀로그램 전사박(100, 200)은, 홀로그램 리본 또는 시트의 형태로 적용되어도 된다.
박리층(22a)은, 은닉 정보를 포함하지 않는 박리층이다. 박리층(22b)은, 은닉 정보를 포함하는 박리층이다.
접착층(24a)은, 은닉 정보를 포함하지 않는 접착층이다. 접착층(24b)은, 은닉 정보를 포함하는 접착층이다.
기재(11, 21)는, 예를 들어 수지 필름 또는 시트이다. 기재(11, 21)는, 예를 들어 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리프로필렌(PP), 폴리카보네이트(PC), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 폴리에틸렌(PE) 등의 플라스틱 재료를 이용하여 형성된다.
박리층(12, 22)은, 기재(11, 21) 상에 형성된다. 박리층(12, 22)은, 홀로그램 전사박(100, 200)의 기재(11, 21)로부터의 박리를 안정화함과 함께, 후술하는 도 6의 피전사 기재(301)에의 접착을 촉진하는 역할을 한다. 박리층(12, 22)은, 광투과성을 갖고 있어, 전형적으로는 투명하다. 박리층(12, 22)의 재료로서는, 예를 들어 폴리카보네이트 수지, 아크릴계 수지, 불소계 아크릴 수지, 실리콘계 아크릴계 수지, 에폭시아크릴레이트 수지, 폴리스티렌 수지, 시클로올레핀 중합체, 메틸스티렌 수지, 플루오렌 수지, PET, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지, 폴리아세탈 수지 등의 열가소성 수지에 실리콘 또는 불소계의 첨가제를 첨가한 수지, 불소계 아크릴 수지, 또는, 실리콘계 아크릴계 수지 등이 이용되어도 된다.
박리층(12, 22b)은, 예를 들어 그라비아 코터에 의해 도포 시공된다. 그라비아 코터에 의한 도포 시공에 있어서, 그라비아 인쇄판으로서 무늬가 있는 판이 사용됨으로써, 무늬에 따라 두께가 미소하게 다른(전형적으로는, 두께의 차가 약 0.2㎛ 이하이다) 박리층(12, 22b)의 도포 시공이 가능해진다. 또한, 박리층(22, 22a)은, 예를 들어 립 코터 등, 도포 시공층 두께가 면 내에서 균일해지는 도포 시공 방식으로 도포 시공되어도 된다.
회절 구조 형성층(13, 23)은, 박리층(12, 22) 상에 형성된다. 회절 구조 형성층(13, 23)의 재료로서는, 예를 들어 폴리카보네이트 수지, 아크릴계 수지, 불소계 아크릴 수지, 실리콘계 아크릴계 수지, 에폭시아크릴레이트 수지, 폴리스티렌 수지, 시클로올레핀 중합체, 메틸스티렌 수지, 플루오렌 수지, PET, 폴리프로필렌 등의 광경화성 수지가 이용되어도 된다. 또한, 회절 구조 형성층(13, 23)의 재료로서는, 아크릴니트릴 스티렌 공중합체 수지, 페놀 수지, 멜라민 수지, 요소 수지, 알키드 수지 등의 열경화성 수지가 이용되어도 된다. 또한, 회절 구조 형성층(13, 23)의 재료로서는, 폴리프로필렌 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지, 폴리아세탈 수지 등의 열가소성 수지가 이용되어도 된다. 예를 들어, 상기의 수지를 원하는 구조로 부형하여 경화시킴으로써, 박리층(12, 22)의 표면 상에 회절 구조 형성층(13, 23)이 형성된다.
또한, 회절 구조 형성층(13, 23)을 형성하는 수지의 경화물은, 모두 광투과성이다. 회절 구조 형성층(13, 23)을 형성하는 수지의 경화물 굴절률은, 일반적으로는, 1.5 정도이다. 회절 구조 형성층(13, 23)의 막 두께는, 내열성, 박절단성, 열전사성을 향상시키기 위해 얇은 쪽이 좋고, 약 1.5㎛ 이하인 것이 바람직하다.
회절 구조 형성층(13, 23)은, 홀로그램 및/또는 회절 격자의 회절 구조 형성부 K1, K2를 포함한다. 이 회절 구조 형성부 K1, K2의 파라미터로서는,
(1) 회절 구조의 공간 주파수(격자선의 피치:단위 길이당의 격자선의 개수)
(2) 회절 구조의 방향(격자선의 방향)
이 있다. 상기 (1)에 따라, 그 화상 셀의 빛나 보이는 색이 변화된다. 상기 (2)에 따라, 그 화상 셀의 빛나 보이는 방향이 변화된다.
회절 구조 형성부 K1, K2는, 상기 (1), (2)의 파라미터가 상이해도 되고, 상이하지 않아도 되지만, 바람직하게는 (1), (2)의 파라미터 중 적어도 1개 이상이 상이하다.
회절 구조 형성층(13, 23)은, 반사층을 포함하는 것으로 해도 된다. 반사층을 형성한 경우에는 회절 구조가 표시되는 화상의 시인성이 향상된다. 반사층으로서는, 예를 들어 투명 반사층을 사용할 수 있다. 투명 반사층은, 예를 들어 진공 증착 또는 스퍼터링 등의 진공 성막법에 의해 형성된다.
투명 반사층으로서는, 예를 들어 회절 구조 형성층(13, 23)과는 굴절률이 다른 투명 재료를 포함하는 층이 사용된다. 투명 재료를 포함하는 투명 반사층은, 단층 구조 또는 다층 구조 중 어느 것이어도 된다. 다층 구조의 경우, 투명 반사층은, 반복해서 반사 간섭을 발생하도록 설계되어 있어도 된다. 투명 재료로서는, 예를 들어 황화아연 또는 이산화티타늄 등의 투명 유전체가 사용된다.
또한, 투명 반사층으로서는, 두께가 약 20㎚ 미만의 금속층이 사용되어도 된다. 금속층의 재료로서는, 예를 들어 크롬, 니켈, 알루미늄, 철, 티타늄, 은, 금, 또는, 구리 등의 단체 금속, 또는, 그들의 합금이 사용된다. 투명 반사층의 막 두께는, 전형적으로는, 50㎚ 이상, 100㎚ 이하 정도인 것이 바람직하다.
접착층(14, 24)은, 회절 구조 형성층(13, 23) 위에 형성된다. 접착층(14, 24)의 재료로서는, 예를 들어 폴리프로필렌 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지, 폴리아세탈 수지, 폴리에스테르 수지 등의 열가소성 수지, 또는, 이들 수지에 실리카 등의 무기 미립자를 첨가시킨 재료가 사용되어도 된다.
접착층(14, 24b)은, 예를 들어 그라비아 코터에 의해 도포 시공된다. 그라비아 코터에 의한 도포 시공에 있어서, 그라비아 인쇄판으로서 무늬가 있는 판이 사용됨으로써, 무늬에 따라 두께가 미소하게 다른(전형적으로는, 두께의 차가 약 0.2㎛ 이하이다) 접착층(14, 24b)의 도포 시공이 가능해진다. 혹은, 접착층(14, 24b)의 재료에 무기 미립자가 첨가된 경우, 접착층(14, 24b)에 함유되는 첨가제를 판의 무늬에 따라 응집시키는 것이 가능해진다. 이에 의해, 서멀 헤드에 의한 열전사 시에, 판의 무늬에 따라 열전도성을 상이하게 할 수 있다.
접착층(24, 24a)은, 예를 들어 립 코터 등, 도포 시공 층 두께 및 무기 미립자의 함유 상태가 면 내에서 균일해지는 도포 시공 방식으로 도포 시공된다.
도 6a 및 도 6b는, 각각, 본 실시 형태에 따른 화상 표시체의 제작 방법의 제1 스텝 및 제2 스텝의 예를 나타내는 단면도이다. 이 도 6a 및 도 6b에서는, 상기 홀로그램 전사박(200)을 피전사 기재(301)의 표면 상에 전사함으로써 화상 표시체(300)가 제작된다. 그러나, 홀로그램 전사박(100)에 의해 화상 표시체가 제작되는 경우도 동일한 제작 방법을 이용할 수 있다.
도 7은, 도 6a 및 도 6b에 도시하는 전사 방식에 의해 제작된 화상 표시체(300)의 일례를 개략적으로 도시하는 단면도이다.
상기의 도 3에 도시하는 홀로그램 전사박(200)에 기초하여 도 7에 도시하는 화상 표시체(300)가 제작되는 경우, 먼저, 도 6a에 도시한 바와 같이, 홀로그램 전사박(200)이, 피전사 기재(301)의 표면 상에, 홀로그램 전사박(200)의 기재(21)가 상측으로 되고, 접착층(24)이 피전사 기재(301)의 표면에 접착되도록 배치된다. 이어서, 홀로그램 전사박(200)의 상면에, 열압(15)이 도 6a에 도시하는 파선 사이에 가해진다. 그 후, 열압(15)이 가해져 있지 않은 부분이 피전사 기재(301)로부터 박리된다. 이에 의해, 도 6b에 도시한 바와 같이, 홀로그램 전사박(200) 중 열압(15)이 가해진 부분(16)만이 피전사 기재(301)의 표면 상에 전사된다. 이어서, 열압(15)이 가해진 부분(16)의 기재(21)와 박리층(22) 사이에서 박리가 발생된다. 이에 의해, 피전사 기재(301)의 표면 상의 소정 위치에 홀로그램 전사박(200)의 일부가 전사된 화상 표시체(300)가 제작된다.
홀로그램 전사박(100, 200)이 전사되는 피전사 기재(301)는, 기재(31)와 박리층(32)과 수상층(35)을 포함하고 있다. 상기 기재(31)로서는, 예를 들어 기재(11, 21)에 대해 예시한 재료를 사용할 수 있다. 박리층(32)으로서는, 예를 들어 상기의 박리층(12, 22)에 대해 예시한 재료를 사용할 수 있다. 수상층(35)은, 홀로그램 전사박(100, 200)의 접착층(14, 24)과의 밀착성이 양호한 재료를 포함하는 것이 바람직하다.
이어서, 은닉 정보 및 개인을 인증하기 위한 식별 정보를 포함하는, 화상 표시체(300)의 형성 방법에 대해 설명한다.
화상 표시체(300)의 제작에 있어서는, 예를 들어 먼저, 열전도성 은닉 정보 소유부 H2가 피전사 기재(301)에 형성된다. 구체적으로는, 홀로그램 전사박(100, 200)의 열전도성 은닉 정보 소유부 H2가, 피전사 기재(301)의 수상층(35) 상에 열전사된다. 이 열전사에는, 예를 들어 서멀 헤드가 이용된다. 또한, 서멀 헤드를 이용한 열전사 대신에 열 롤 또는 핫 스탬프를 이용한 열전사가 행해져도 된다. 열전도성 은닉 정보 소유부 H2의 열전사 면적은, 전사 지정 영역의 적어도 10％ 이상으로 한다. 또한, 열전도성 은닉 정보 소유부 H2의 전사 형상은, 은닉 정보를 확인할 수 있도록, 연속적인 형상인 것이 바람직하다.
이어서, 개인을 인증하기 위한 중간 계조를 갖는 식별 정보가 피전사 기재(301)에 형성된다. 개인을 인증하기 위한 중간 계조를 갖는 식별 정보는, 예를 들어 촬상 장치를 이용하여 인물의 얼굴을 촬영함으로써, 또는, 인화로부터 얼굴 화상 등을 판독함으로써 얻어지는 화상 전자 정보에 기초하여 인쇄된다. 예를 들어, 얼굴 화상 등의 식별 정보는, 열전도성 은닉 정보 비소유부 H1에 대응한다. 식별 정보는, 열전도성 은닉 정보 비소유부 H1에 있어서, 피전사 기재(301) 상에 형성된다. 구체적으로는, 화상 정보에 기초하여, 도 3에 도시하는 홀로그램 전사박(200)에 있어서의 열전도성 은닉 정보 비소유부 H1에 있어서의 전사층(320)을, 도 7에 도시하는 수상층(35), 및/또는, 열전도성 은닉 정보 소유부 H2에 있어서의 전사층(310) 상에 열전사한다. 이 열전사는, 서멀 헤드를 이용하여, 홀로그램 전사박(200)으로부터 수상층(35)에 열전사되는 부분이, 이전의 얼굴 화상에 대응한 계조 및 패턴을 갖도록 실행된다. 또한, 여기서는, 열전도성 은닉 정보 비소유부 H1의 회절 구조 형성부 K1과, 이전 열전사를 행한 열전도성 은닉 정보 소유부 H2의 회절 구조 형성부 K2에서는, 상술한 파라미터가 다른 것으로 한다.
이와 같이 하여 얻어지는 얼굴 화상에 대응한 패턴은, 서멀 헤드를 이용한 열전사에 의해 형성되므로, 전형적으로는, 복수의 도트 형상 또는 선 형상에 의해 형성된다.
도트 형상부의 직경, 또는, 선 형상부의 선 폭은, 예를 들어 약 0.085㎜ 이상, 0.508㎜ 이하(약 50dpi(dots per inch) 이상, 약 300dpi 이하)의 범위 내로 하고, 전형적으로는, 약 0.085㎜ 이상, 0.169㎜ 이하(약 150dpi 이상, 약 300dpi 이하)의 범위 내로 한다. 도트 형상부의 직경, 또는, 선 형상부의 선 폭의 치수를 크게 하면, 고정밀의 얼굴 화상을 표시시키는 것이 어려워진다. 또한, 도트 형상부의 직경, 또는, 선 형상부의 선 폭의 치수를 작게 하면, 도트 형상부의 직경, 또는, 선 형상부의 선 폭의 재현성이 저하된다.
또한, 화상 표시체(300)의 제작에 있어서, 개인을 인증하기 위한 중간 계조를 갖는 식별 정보가 먼저 형성되고, 열전도성 은닉 정보 소유부 H2가 나중에 형성되어도 된다.
화상 표시체(300)에 있어서, 열전도성 은닉 정보 소유부 H2는, 예를 들어 은닉 정보를 갖는다. 은닉 정보는, 예를 들어 주기적으로 배치된 2치의 문자ㆍ도형 패턴, 또는, 채문(彩文) 패턴으로 해도 된다. 따라서, 은닉 정보와, 중간 계조를 갖는 개인을 인증하기 위한 식별 정보의 구별은 용이하다.
화상 표시체(300)는, 여권 또는 사증 등의 책자 상에, 또는, 카드 등의 개인 인증 매체 상에, 개인 특정이 필요해지는 얼굴 화상 또는 지문으로서, 인쇄ㆍ인자ㆍ묘화된다.
본 실시 형태에 있어서는, 예를 들어 정당한 소유자의 얼굴 등의 개인의 식별 정보가, 회절 구조를 형성한 구조체와 온 디맨드 인쇄 기술을 조합하여 형성되고, 또한, 식별 정보와는 다른 광사출 각도를 갖는 은닉 정보가 형성된다.
개인 인증을 행하는 관찰자(심사관)는, 화상 표시체(300)를 관찰하여 개인 인증을 용이하게 행할 수 있고, 위조 및 개찬을 적발하는 것이 용이해진다. 또한, 화상 표시체(300)는, 위조 및 개찬이 곤란하다.
이어서, 화상 표시체(300)가 열전사됨으로써 제작되는 개인 인증 매체에 대해, 도 8을 참조하면서 설명한다.
도 8은, 도 7에 도시하는 화상 표시체(300)를 열전사함으로써 제작된 개인 인증 매체(400)의 일례를 개략적으로 나타내는 단면도이다.
개인 인증 매체(400)는, 도 7에 도시하는 화상 표시체(300)를, 기재(31)로부터 기재(41)에 열전사하여 얻어진다. 이 열전사에는, 예를 들어 핫 스탬프가 이용된다. 또한, 핫 스탬프를 이용하는 열전사 대신에 열 롤 또는 서멀 헤드를 이용한 열전사가 행해져도 된다. 이상과 같이 하여 개인 인증 매체(400)가 제작된다.
상기와 같이 하여 제작된 개인 인증 매체(400)에 대해, 도 9에 도시하는 관찰 범위(40a)로부터 관찰하면, 도 10a에 도시하는 개인을 인증하기 위한 중간 계조를 갖는 식별 정보(얼굴 화상)(420)가 관찰자에 의해 관찰된다.
도 9에 도시하는 관찰 범위(40b)로부터 관찰하면, 개인을 인증하기 위한 중간 계조를 갖는 식별 정보(420)의 회절광은 관찰자에 의해 관찰되지 않고, 그 대신에 도 10b에 도시하는 은닉 정보(410)가 관찰자에 의해 관찰된다.
기재(41)에는, 접착 강도를 높이기 위해 접착 앵커층이 형성되어도 된다.
개인 인증 매체(400)를 기재(41)에 강한 접착력으로 접착시키는 것이 어려운 경우, 도 8 및 도 9에 도시한 바와 같이, 개인 인증 매체(400)는, 접착층(44)을 개재하여 기재(41)에 열전사되어도 된다. 접착층(44)으로서는, 예를 들어 접착 리본이 사용된다. 접착층(44)을 구비함으로써, 개인 인증 매체(400)와 기재(41)의 접착력을 강하게 할 수 있다.
화상 표시체(300)를 부착하는 기재(41)의 재질은, 종이 이외여도 된다. 예를 들어, 화상 표시체(300)를 부착하는 기재(41)는, 플라스틱 기재, 금속 기판, 세라믹스 기판, 또는, 유리기판이어도 된다.
도 11은, 종래의 화상과 본 실시 형태에 따른 화상의 대비의 일례를 나타내는 모식도이다.
종래의 화소 S1은, 서멀 헤드에 의해, 화상의 농담에 따른 화소를 종래의 홀로그램 전사박에 전사함으로써 제작되는 홀로그램이다.
본 실시 형태에 따른 화상 S2는, 얼굴 화상을 표시하는 식별 정보 S2A와, 예를 들어 요철에 의한 은닉 정보 S2B(이 도 10의 예에서는 채문 패턴)를 포함한다.
본 실시 형태에 있어서는, 화상의 농담에 따라 식별 정보 S2A의 화소를 전사할 때에, 은닉 정보 S2B를 동시 형성한다. 종래는, 은닉 정보 S2B까지는 형성되지 않는다. 따라서, 본 실시 형태에 있어서는, 위조품을 판별 가능하고, 개찬을 방지할 수 있다.
상기와 같은 본 실시 형태의 효과에 대해, 이하에서 설명한다.
본 실시 형태에 있어서는, 개찬 및 위장에 사용되는 것이 곤란하고, 또한, 우수한 화질로 특징이 있는 시각 효과를 갖는 화상을 표현할 수 있다.
본 실시 형태에 있어서는, 진위의 판단을 육안으로 용이하게 행할 수 있다.
본 실시 형태에 있어서는, 특정한 범위로부터 관찰함으로써 은닉 정보를 확인할 수 있고, 특정한 범위가 아닌 다른 범위에서는 은닉 정보를 확인할 수 없다. 따라서, 홀로그램 전사박(100, 200)을 피전사 기재(301)에 전사함으로써 제작되는 화상 표시체(300)는, 진위를 판단하는 것이 용이하다.
본 실시 형태에 있어서는, 특정한 조명 조건 하에서 열전도성 은닉 정보 소유부 H2와 열전도성 은닉 정보 비소유부 H1로부터 회절광이 사출되고, 열전도성 은닉 정보 소유부 H2에 있어서 은닉 정보의 화상을 확인할 수 있고, 열전도성 은닉 정보 비소유부 H1에 있어서 은닉 정보의 화상을 확인할 수 없다.
본 실시 형태에 있어서는, 열전도성 은닉 정보 소유부 H2와 열전도성 은닉 정보 비소유부 H1 사이에서, 홀로그램층의 공간 주파수 및/또는 격자 각도가 상이함으로써, 특정한 조명 조건으로 열전도성 은닉 정보 소유부 H2만으로부터 회절광을 사출시킬 수 있다. 이 결과, 관찰자는, 특정한 조명 조건에 있어서 은닉 정보의 화상을 확인할 수 있다. 한편, 특정한 조명 조건과는 상이한 다른 조사 조건으로, 열전도성 은닉 정보 비소유부 H1만으로부터 회절광을 사출시킬 수 있다. 다른 조사 조건에 있어서, 열전도성 은닉 정보 소유부 H2는 회절광을 사출하지 않는다. 이 결과, 관찰자는, 다른 조사 조건에 있어서 은닉 정보의 화상을 확인할 수는 없다.
본 실시 형태에 있어서는, 관찰자는, 열전도성 은닉 정보 비소유부 H1로부터 회절광이 사출되는 경우의 다른 조명 조건에서는, 개인을 인증하기 위한 식별 정보를 관찰할 수 있다. 한편, 관찰자는, 열전도성 은닉 정보 소유부 H2로부터 회절광이 사출되는 경우의 특정한 조명 조건에서는, 은닉 정보의 화상을 관찰할 수 있다. 열전도성 은닉 정보 비소유부 H1과 열전도성 은닉 정보 소유부 H2에서 홀로그램층의 공간 주파수 및/또는 격자 각도를 변경함으로써, 개인을 인증하기 위한 식별 정보(420)의 관찰 각도와, 은닉 정보(410)의 화상을 확인하는 관찰 각도를 변경할 수 있다. 이 결과, 개인을 인증하기 위한 식별 정보(420)를 관찰하는 경우에, 은닉 정보(410)의 화상이 함께 관찰되는 것을 방지할 수 있다.
실시예
화상 표시체(300)의 제작의 구체예에 대해 이하에서 설명한다.
먼저, 제1 홀로그램 전사박(예를 들어, 도 2에 도시하는 홀로그램 전사박(100))이 제작된다.
기재(11)로서, 두께가 약 12㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름이 준비된다. 이 기재(11) 상에 그라비아 코터를 이용하여, 박리층(12)과 회절 구조 형성층(13)이 이 순서로 형성된다. 기재(11)와 박리층(12)과 회절 구조 형성층(13)의 적층 구조물은, 오븐에서 건조된다. 또한, 그라비아 코터의 판에는, 175선/㎜의 채문 무늬로 되어 있는 판이 사용된다. 또한, 박리층(12)의 재료로서는, 아크릴 수지가 사용된다. 회절 구조 형성층(13)의 재료로서는, 아크릴폴리올이 사용된다. 박리층(12) 및 회절 구조 형성층(13)의 건조 후의 막 두께는, 각각, 약 0.6㎛ 및 0.7㎛로 한다.
이어서, 롤 엠보싱 장치를 이용하는 열 프레스에 의해, 회절 구조 형성층(13)의 표면에, 홀로그램으로서의 회절 구조가 형성된다. 형성된 회절 구조의 깊이는, 약 100㎚로 한다. 공간 주파수는, 약 2000개/㎜로 한다.
이어서, 회절 구조 형성층(13)의 회절 구조 상에 증착법을 이용하여 황화 아연을 포함하는 투명 반사층이 형성된다. 투명 반사층의 막 두께는 약 50㎚로 한다.
이상과 같은 조건으로, 은닉 정보를 포함하는 제1 홀로그램 전사박이 제작된다.
이어서, 제1 홀로그램 전사박과 거의 동일한 구성 및 재료를 구비하지만, 박리층(12)에 은닉 정보를 포함하지 않는 제2 홀로그램 전사박이 제작된다. 이 제2 홀로그램 전사박의 제작에 있어서, 박리층(12)은 립 코터를 이용하여 형성되고, 오븐에서 건조된다. 박리층(12) 및 회절 구조 형성층(13)의 건조 후의 막 두께는, 각각 약 0.6㎛ 및 0.7㎛로 한다. 이어서, 롤 엠보싱 장치를 이용하는 열 프레스에 의해, 회절 구조 형성층(13)의 표면에, 깊이 약 100㎚, 공간 주파수 약 1000개/㎜의 홀로그램으로서의 회절 구조가 형성된다. 이 회절 구조 상에 증착법을 이용하여 황화 아연을 포함하는 투명 반사층이 약 50㎚의 막 두께로 형성된다.
이상과 같은 조건으로, 은닉 정보를 포함하지 않는 제2 홀로그램 전사박이 제작된다.
이어서, 화상 표시체(300)가 이하의 방법에 의해 제조된다.
먼저, 기재(31)로서, 두께가 약 25㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름이 준비된다. 이 기재(31) 상에 립 코터를 이용하여, 박리층(32)과 수상층(35)이 이 순서로 형성된다. 기재(31)와 박리층(32)과 수상층(35)의 적층 구조물은, 오븐에서 건조된다. 박리층(32)의 재료로서, 아크릴 수지가 사용된다. 수상층(35)의 재료로서, 아크릴폴리올이 사용된다. 박리층(32) 및 수상층(35)의 건조 후의 막 두께는, 각각, 약 1.2㎛ 및 1.0㎛로 한다.
이어서, 약 300dpi의 서멀 헤드를 이용하여 제1 및 제2 홀로그램 전사박의 열전사를 행함으로써, 열전도성 은닉 정보 소유부 H2 및 열전도성 은닉 정보 비소유부 H1이, 각각 기재(11)로부터 수상층(35) 상에 전사된다.
화상 표시체(300)의 제작은, 도 7에 도시한 바와 같이, 먼저, 소정의 전사 범위 전체면을 매립하도록, 열전도성 은닉 정보 소유부 H2에 대응하는 전사층(310)을 형성하는 것, 이어서, 개인을 인증하기 위한 중간 계조를 갖는 식별 정보(얼굴 화상)를 열전도성 은닉 정보 비소유부 H1에 배치하도록 전사를 행하여, 열전도성 은닉 정보 비소유부 H1의 전사층(320)을 형성하는 것을 포함한다.
이상과 같은 조건으로 제작된 개인 인증 매체(400)에 대해서는, 도 9에 도시한 바와 같이, 공간 주파수 약 1000개/㎜에 대응시킨 관찰 각도에서 관찰된 경우에, 도 10a에 도시하는 식별 화상(420)이 확인되고, 한편 도 10b에 도시하는 은닉 정보는 관찰되지 않는다.
한편, 공간 주파수 약 2000개/㎜에 대응시킨 관찰 각도에서 관찰된 경우에, 열전도성 은닉 정보 소유부 H2의 회절광이 사출되어, 도 10b에 도시하는 은닉 정보(410)가 확인되고, 도 10a에 도시하는 식별 화상(420)은 관찰되지 않는다.
상기의 실시 형태 및 실시예는, 일례로서 제시한 것으로, 발명의 범위를 한정하는 것은 의도하고 있지 않다. 상기의 실시 형태 및 실시예는, 그 밖의 다양한 형태로 실시되는 것이 가능하고, 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위에서, 다양하게 생략, 치환, 변경을 행할 수 있다. 상기의 실시 형태 및 실시예 및 그 변형은, 발명의 범위나 요지에 포함됨과 함께, 특허 청구 범위에 기재된 발명과 그 균등한 범위에 포함된다.
본 발명은, 여권 또는 사증 등의 책자, 또는, 카드 등과 같은, 개인 인증 매체의 위조 및 개찬을 곤란하게 하는 분야에 이용된다.

Claims (9)

  1. 피전사 기재에 대해 열전사 가능한 홀로그램 전사박으로서,
    기재의 한쪽의 면에, 박리층, 회절 구조 형성층, 접착층을 적층한 구성을 갖고,
    상기 회절 구조 형성층은, 홀로그램 또는 회절 격자의 미세 요철을 포함하고,
    상기 박리층 및 상기 접착층 중 적어도 한쪽은, 열전도성 은닉 정보 소유부에, 열전도성 은닉 정보를 구비하는,
    것을 특징으로 하는 홀로그램 전사박.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 열전도성 은닉 정보는, 기하학 패턴, 주기적으로 배치된 2치의 문자 패턴, 또는 주기적으로 배치된 2치의 도형 패턴인 것을 특징으로 하는 홀로그램 전사박.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 박리층 및 상기 접착층 중 적어도 한쪽은, 상기 열전도성 은닉 정보 소유부에, 요철을 형성함으로써 상기 열전도성 은닉 정보를 기록하는 것을 특징으로 하는 홀로그램 전사박.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 열전도성 은닉 정보는, 상기 열전도성 은닉 정보 소유부에, 상기 접착층의 함유물의 응집 상태에 따라 기록되는 것을 특징으로 하는 홀로그램 전사박.
  5. 피전사 기재에 대해 열전사 가능한 홀로그램 전사박으로서,
    기재의 한쪽의 면에, 박리층, 회절 구조 형성층, 접착층을 적층한 구성을 갖고,
    상기 회절 구조 형성층은, 홀로그램 또는 회절 격자의 미세 요철을 포함하고,
    상기 박리층 및 상기 접착층 중 적어도 한쪽은, 열전도성 은닉 정보 소유부에 열전도성 은닉 정보를 구비하고, 열전도성 은닉 정보 비소유부에 은닉 정보를 구비하지 않는 것을 특징으로 하는 홀로그램 전사박.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 회절 구조 형성층은, 상기 열전도성 은닉 정보 소유부와 상기 열전도성 은닉 정보 비소유부에서, 서로 공간 주파수와 격자 각도 중 적어도 한쪽이 다른 것을 특징으로 하는 홀로그램 전사박.
  7. 제5항에 기재된 상기 홀로그램 전사박을 상기 피전사 기재에 열전사하는 화상 표시체의 제작 방법으로서,
    상기 홀로그램 전사박의 상기 열전도성 은닉 정보 소유부를, 상기 피전사 기재에 전사하는 공정과,
    상기 홀로그램 전사박의, 식별 정보를 포함하는 상기 열전도성 은닉 정보 비소유부를, 상기 피전사 기재에 전사하는 공정
    을 구비하는 것을 특징으로 하는 화상 표시체의 제작 방법.
  8. 제7항에 기재된 제작 방법에 의해 제작되는 화상 표시체로서,
    상기 화상 표시체는, 기재의 한쪽의 면에, 수상층, 접착층, 회절 구조 형성층, 박리층을 적층한 구성을 갖는 것을 특징으로 하는 화상 표시체.
  9. 제8항에 기재된 화상 표시체를 구비하는 것을 특징으로 하는 개인 인증 매체.
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