JP2011230473A - Ｏｖｄ転写箔、およびそれを用いた画像形成体、個人認証媒体とその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】耐熱性が高く、キレ性、転写性の良いＯＶＤ転写箔を提供し、それを用いて偽造・改竄防止性、視認性に優れた高セキュリティ性の画像形成体、個人認証媒体、ならびにその製造方法を提供する。
【解決手段】ＯＶＤ層が、分子中にカルボキシル基を有するメタクリル酸化合物もしくは分子中に水酸基を有するメタクリレート化合物と、分子中に少なくとも水酸基を１つ以上有するグリシジル型エポキシ化合物とを反応させて合成したエポキシアクリレート樹脂を主成分とした光硬化性樹脂の硬化物により微細凹凸パターンを形成してなることを特徴とするＯＶＤ転写箔である。
【選択図】図１

Description

本発明は、耐熱性、キレ性を同時に有する被膜形成が可能なエポキシアクリレート樹脂を主成分とする光硬化性樹脂組成物を用いて形成した微細凹凸パターンを有する回折格子又はレリーフホログラム等のＯＶＤ転写箔と、それによって形成された偽造防止、及び個人認証用途の画像形成体、個人認証媒体、及びその製造方法に関する。
本発明に係る個人認証媒体とは、パスポートや査証などの冊子または、カード等に個人特定の要である顔画像や指紋を印刷・印字・描画して表示されたものであり、特に、正当な所有者の顔や指紋の画像といった画像情報や、その本人の姓名、生年月日などの個人情報の印字内容を、回折格子及び受像体を組み合わせることにより、偽造困難にすることを目的とするものである。（セキュリティ対策を施した画像形成体は、偽造防止画像形成体と称したりもする。）

複数の微細な凹凸を並べてなる回折格子状の微細凹凸パターンを含むことにより、通常の印刷物とは異なる視覚効果を有する光学物品がエンボスホログラムとして知られている。この光学物品には、例えば、観察条件に応じて変化する像を表示させることや、立体像を表示させることができる。また、微細凹凸パターンが表現する虹色に輝く分光色は、通常の印刷技術では表現することができない。これらは、光学的に可変であるという意味でＯＶＤとも呼ばれる（ＯＶＤは、Ｏｐｔｉｃａｌ Ｖａｒｉａｂｌｅ Ｄｅｖｉｃｅの略）。微細凹凸パターンを含んだ光学物品は、偽造防止対策が必要な物品に広く用いられている。

この光学物品では、複数の溝を形成してなるレリーフ型の回折格子を使用することが一般的である。

レリーフ型回折格子の製造では、原版として所望の凹凸構造が形成されている金属版を作成し、この金属版を母型として用いてレリーフ型の回折格子を、樹脂形成物として複製する方法が一般的である。

従来、連続的に樹脂成形物を大量複製するための代表的な手法として、以下のものが知られている。
（１）プレス法
加熱された母型を用いて押圧し、成形物を作製する手法である。しかし、プレス法は熱可塑性樹脂を用いているため、成型物の耐熱性は一般的に低い。また、角のある形状のパターンの場合、丸みを帯びてしまうことが多い。
（２）キャスティング法
溶融軟化した熱可塑性樹脂を、母型の凹凸形成面に塗布または注入し、前記樹脂を固化させて成型物を作製する手法である。しかし、キャスティング法は局所的な温度偏りが存在し、成形品に歪みやカールが起こりやすい。
（３）光硬化性樹脂法
プレス法やキャスティング法のような熱可塑性樹脂ではなく、光や電子線等に代表される電離放射線の照射によって硬化するタイプの樹脂を使用し、成型物を作製する手法である。通常、液状の未硬化樹脂を使用するので母型の細かな形状も再現できる。

パスポートや査証用ステッカー、あるいはカード類といった個人認証に係わる情報記録媒体においては、従来、色々なセキュリティ手法が提案されてきている。例えば、パスポートにおいては、現在使用されているパスポートはいわゆるＩＣＡＯの規定によれば、目視および光学文字識別方式の両方で読めなければならないとされている。（ＩＣＡＯは、Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｃｉｖｉｌ Ｏｒｇａｎｉｚａｔｉｏｎの略）
ＩＣＡＯの規定によれば、パスポートに使用する材質やセキュリティに関しては各国の自由裁量であり、セキュリティ機能として一般に使われているのは、有機溶剤等で反応する化学反応体、虹彩色のパールチップ、ファイバー（絹もしくは合成繊維、可視もしくは不可視、蛍光もしくは非蛍光）、ホログラムやマイクロ文字の印刷されたフィルムのセキュリティ糸、透かし模様等を盛り込んだ用紙や退色性インキ、蛍光インキ、感熱インキ、光学的に変化するインキ（いわゆるＯＶＩなど）等の各種インキ、細線印刷、レインボー印刷、凹版印刷、ピクセル印刷等の様々な技法を組み込んでセキュリティと美観の同時向上を図っている。

また、パスポートの目視確認情報としての顔写真は、従来写真を貼り合わせたものであったが、近年では写真情報をデジタル化し、これをパスポートに再現する傾向にある。パスポートへの画像再現方法としては、昇華性（熱移行性）染料や、顔料を分散させた樹脂型溶融タイプやワックス溶融タイプを用いた転写リボンによる感熱転写記録法、あるいは電子写真法などが検討されている。

パスポートへの画像再現方法としては、上記方式以外に、インクジェットプリンターによる記録法や（例えば、特許文献１参照）、ＣＯ２もしくはＹＡＧレーザーおよび感熱発色剤を使用したレーザー印字記録法（例えば、特許文献２参照）、さらには基材中に存在する炭素（Ｃ）を利用して基材の深さ方向にも印字記録するレーザーエングレービング印字記録法（例えば、特許文献３参照）などがある。

査証用ステッカーにおいても、ステッカー自体を剥がそうとしても綺麗に剥がすことが困難な様に切り込みを一定パターン状に設けたものを使用するなどの工夫がされているものもある。

さらに、この種の個人認識データの入った画像表示体としては、画像データに基づいて形成された画像パターンをポリ塩化ビニル等のカード基材上に備えたもの、あるいは上記画像パターンに加えて上記のようなＯＶＤ画像を具備するもの等が知られている。

これらホログラムや回折格子のＯＶＤ技術は、上記でも紹介したように高度な製造技術を要し、複製の難しいことから有効な偽造防止手段としてクレジットカード、ＩＤカード、プリペイドカード等のカード類に利用されてきた。さらには、その装飾性の高さから、包装材、書籍、パンフレット、ＰＯＰ等への利用も少なくない。これらＯＶＤを物品に貼着するための手段として従来からＯＶＤを転写箔構成にして転写形成するといった方法が採られてきた。この種の転写は、支持体上に剥離層、ホログラムや回折格子の画像パターンを形成されているレリーフ層と、公知の薄膜形成手段により形成される反射層、接着層を順次積層してなる構成のものが知られている。これら、転写箔に刻まれたＯＶＤパターン（ホログラムおよび回折格子パターン）は、微少な凹凸パターンをニッケル性のプレス版に複製し、レリーフ層に加熱押圧するという周知の方法により大量複製が行われている。

また、上記反射層は屈折率の異なる透明な物質を真空蒸着法等の公知の薄膜形成手段により形成することで（以下透明薄膜層と呼ぶ）、透明ホログラムや透明回折格子形成対となることは、公知の技術である。この場合、レリーフ層と透明薄膜層との間の屈折率差が大きい程、反射率も大きくなることは、光学的見地からも明らかである。但し、ここで、 一般的には
（レリーフ層の屈折率） ＜ （透明薄膜層の屈折率）
の関係がある。

この様にして得られたホログラムまたは回折格子構造物を有するＯＶＤ転写箔は、偽造防止手段としてクレジットカード、キャッシュカード、会員証カード、社員証カード、プリペイドカード、運転免許証等の各種カード類、商品券、ギフト券、株券等の各種紙券類や申込用紙、領収書、複写伝票等の各種帳票類や、パスポート、通帳、年金手帳等の各種冊子類の他、本や手帳などの表紙やパネル等のディスプレイ用途等の一部または全体に貼着して使用されている。

また、ＯＶＤ転写箔を用いて顔写真などの画像情報を形成する手段もある。（例えば、特許文献４参照）これは昇華転写方式、熱溶融性の転写リボン方式あるいは電子写真方式などのプリンタ等を用いる。このような場合、偽造が困難なＯＶＤ画像で個別情報を表現することができ、かつ特殊な視覚効果で表現することができるため、真偽判定や偽造防止手段としては非常に優れた個人認証媒体となる。

しかし、顔写真などの画像情報を形成するためには、非常に緻密で高解像度のドット構成とする必要があるため、ＯＶＤ転写箔の材料のキレ性や転写性が悪いと、綺麗な画像表現が難しくなる。また、熱をかけてＯＶＤを支持体に転写するため、樹脂材料の耐熱性が悪いと、転写熱によってＯＶＤパターンが崩れてしまい、視認性が激減して真偽判定が困難になるという問題がある。

特開２００２−２２６７４０号公報 特開昭４９−１３１１４２号公報 特開２００６−１２３１７４号公報 特願平１１−１８５２３

本発明は、前記従来の技術の問題点に鑑みてなされた発明であり、耐熱性が高く、キレ性、転写性の良いＯＶＤ転写箔を提供する。そして、そのＯＶＤ転写箔を用いて、偽造や改竄あるいは変造に対する予防性能や、万一それらの不正がなされた場合であっても被疑不正品を観察等すると容易に発見できるような視認性に優れた発見容易性能を備える高セキュリティ性を兼ね備えた画像形成体（必ずしも限定されない。代表例としてはパスポート、査証、あるいは各種のカード類、等。）、個人認証媒体、ならびにその製造方法を提供することを目的とする。

上記の目的を達成するために、本発明は、透明基材の一方の面上に少なくとも離型層、ＯＶＤ層、光反射層、接着層を設けてなり、前記ＯＶＤ層が、分子中にカルボキシル基を有するメタクリル酸化合物もしくは分子中に水酸基を有するメタクリレート化合物と、分子中に少なくとも水酸基を１つ以上有するグリシジル型エポキシ化合物とを反応させて合成したエポキシアクリレート樹脂を主成分とした光硬化性樹脂の硬化物により微細凹凸パターンを形成してなることを特徴とするＯＶＤ転写箔である。
また、本発明は、前記微細凹凸パターンが、レリーフ型ホログラム又は回折格子であることを特徴とする請求項１に記載のＯＶＤ転写箔である。
また、本発明は、前記光硬化性樹脂が、ＵＶ硬化性であることを特徴とする請求項１乃至２に記載のＯＶＤ転写箔である。
また、本発明は、前記ＯＶＤ層の膜厚が、１．０μｍ以上１．５μｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至３に記載のＯＶＤ転写箔である。
また、本発明は、前記ＯＶＤ層が、シリカのナノ微粒子を含むことを特徴とする請求項１乃至４に記載のＯＶＤ転写箔である。
また、本発明は、前記光反射層が、透明被膜層であることを特徴とした請求項１乃至５に記載のＯＶＤ転写箔である。
また、本発明は、前記光反射層が、金属被膜層であることを特徴とした請求項１乃至５に記載のＯＶＤ転写箔である。
また、本発明は、前記光反射層が、透明被膜層と金属被膜層の積層体であることを特徴とした請求項１乃至５に記載のＯＶＤ転写箔である。
また、本発明は、請求項１乃至８に記載のＯＶＤ転写箔を、被転写基材の少なくとも一方の面上に微小面積のドット状にして複数設けることで、該ドットを構成要素とした画像を形成する画像形成体である。
また、本発明は、偽造防止、及び個人認証の用途で用いられる個人認証媒体の少なくとも一方の面上に該個人認証媒体を保持する正当な所有者、もしくは使用者、発行者、作成者を識別できる顔画像、指紋、サイン等の少なくとも一つ以上を有する個別情報を画像として表示されてなる個人認証媒体であり、該個別情報が、請求項９に記載の画像形成体の画像によって表示されてなることを特徴とする個人認証媒体である。
また、本発明は、請求項１乃至８に記載のＯＶＤ転写箔を透明な中間箔上に微小面積のドットとして熱転写し、前記ドットを構成要素とした画像として前記個別情報を形成した後、これを前記個人認証媒体の少なくとも一方の面上に熱転写して形成する請求項１０に記載の個人認証媒体の製造方法である。

請求項１乃至５の発明によれば、耐熱性が高く、キレ性、熱転写性の良いＯＶＤ転写箔が提供される。

請求項６の発明によれば、透過性に優れたＯＶＤ転写箔が提供されるため、被転写体に予め模様、細紋パターン等が記されている場合、それらを隠蔽すること無く転写することが可能となる。

請求項７の発明によれば、より視認性に優れたＯＶＤ転写箔が提供される。

請求項８の発明によれば、視認性に優れた部分と、透過性に優れた部分を使い分けて転写することが可能になるＯＶＤ転写箔が提供される。

請求項９乃至１０の発明によれば、ホログラム等のＯＶＤにより個別情報を表現した画像形成体及び個人認証媒体が提供される。正規品を用いて改竄を行おうとしても、ＯＶＤ画像は個々に異なるため、パターンのデータを照合することにより正規の所有者が特定可能となり、データが改竄されたものであることが容易に判別できる。また、耐熱性が高く、キレ性、熱転写性の良いＯＶＤ転写箔を用いているため、より明るく高精細なＯＶＤ画像を表現することが可能となり、視認性が格段に上がり、個人認証媒体の真偽判定が目視で行い易くなる。
また、セキュリティ性も上がる。

請求項１１の発明によれば、耐熱性が高く、キレ性、熱転写性の良いＯＶＤ転写箔を用いて、視認性が良く、セキュリティ性に優れた個人認証媒体の製造方法を提供できる。

本発明の一態様に係るＯＶＤ転写箔の概略断面図である。 本発明の一態様に係る画像形成体の概略断面図である。 本発明の一態様に係る個人認証媒体の概略断面図である。 本発明の一態様に係る個人認証媒体の平面図である。

本発明に係る光硬化性樹脂は、分子中にカルボキシル基を有するメタクリル酸化合物（例．式１）もしくは分子中に水酸基を有するメタクリレート化合物（例．式２）と、分子中に少なくとも水酸基を１つ以上有するグリシジル型エポキシ化合物（例．式３）とを反応させたエポキシアクリレート樹脂が主成分であることが特徴である。

従って、メタクリル酸のカルボキシル基もしくはメタクリレートに含まれる水酸基が、グリシジル型エポキシ化合物中のエポキシ基と付加反応を起こして生成される樹脂であり、分子内には光照射によりラジカル重合反応性を示すメタクリロイル基を含み、かつ水酸基を複数含んだ光硬化性のエポキシアクリレートである。

分子中にカルボキシル基を有するメタクリル酸化合物としては、例えば最も基本的な構造を持つ式１に示したメタクリル酸を用いても良く、その他にも特に限定なく公知のものを用いることができる。

分子中に水酸基を有するメタクリレート化合物としては、特に限定なく公知のものを用いることができる。具体的には、例えば、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルメタクリレートなどのヒドロキシアルキルメタクリレート類、前記ヒドロキシアルキルメタクリレート類のε−カプロラクトン縮合物、ポリエチレングリコールモノメタクリレート、ポリプロピレングリコールモノメタクリレート、２−ヒドロキシフェノキシプロピルメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート等が挙げられる。

水酸基を１つ以上有するグリシジル型エポキシ化合物としては、一般的に幅広く使用することができる。代表的なものとしては、例えばビスフェノールＡグリシジルエーテル型、ノボラック型、ポリオール型、内部エポキシ型、エポキシ化油脂、エポキシ化ポリブタジエン、脂肪酸変性エポキシ樹脂等が挙げられる。

上記した各化合物を有機溶媒に投入し、反応させることにより製造できる。反応温度は、通常２０〜２５０℃であり、５０〜１５０℃の範囲が好ましい。また、反応時間は通常１０分間〜２４時間である。有機溶媒としては、例えば、炭化水素系、ケトン系、エーテル系、エステル系などの各種溶媒を使用できる。また、反応時には、必要に応じて反応触媒を添加することができ、このような反応触媒としては、オレイン酸鉛、テトラブチルスズ、三塩化アンチモン、トリフェニルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、ナフテン酸亜鉛、ナフテン酸ジルコニウム、ジブチルスズジラウレート、テトラ−ｎ−ブチル−１，３−ジアセチルオキシジスタノキサン、１，４−ジアザ［２，２，２］ビシクロオクタン、Ｎ−エチルモルホリンなどを挙げることができる。

本発明に係るエポキシアクリレート樹脂を主成分とした光硬化性樹脂の未硬化塗膜面に光照射すると、末端のメタクリロイル基がラジカル重合反応を起こし、架橋して硬化する。また、上記エポキシアクリレート樹脂は、メタクリロイル基の反応性の高さと、分子内の水酸基の水素結合による強い分子間力が作用し、光照射後は硬く、耐熱性に優れた硬化物が出来上がる。これは、分子内の水酸基が多ければ多いほど効果的である。
また、上記エポキシアクリレート樹脂の数平均分子量も硬化後の架橋密度に影響してくるため重要である。数平均分子量が６千〜１万程度のオリゴマーであると、硬化した際の架橋密度が大きくなり、耐熱性にもより優れるためより良い。

本発明に係る光硬化性樹脂の硬化物をＯＶＤ転写箔のＯＶＤ層に用いることによって、ＯＶＤ層の耐熱性も向上し、該硬化物からなるＯＶＤ層被転写基材への熱転写時に加わる熱と圧力によって賦型した凹凸形状の変形や材料の変質が起き難くなり、ＯＶＤの視認性も良好となる。

また、従来エポキシアクリレート樹脂は、ウレタンアクリレート等のその他の樹脂と比較して硬化物がより硬く脆い性質を持っており、転写時にも樹脂間で繋がることなく箔キレ性も良好となる。そのため、サーマルヘッド等の熱転写により、非常に細かいドットによる個別情報の表現が可能となる。

また、箔キレ性をより向上させるためにナノシリカフィラー等の無機微粒子を含めても良い。

以下、本発明の態様について、図面を参照しながら詳細に説明する。

図１は本発明の一態様に係るＯＶＤ転写箔の概略断面図である。

ＯＶＤ転写箔２０は、図１に示したように、基材５０の一方の面に、剥離層５１、ＯＶＤ層５２、光反射層５３、接着層５４を順に積層した構成になっている。

画像形成体３０は、図２に示したように、基材６０の一方の面に、剥離層６１、個別情報６３を記録した個別情報記録層６２を順に積層した中間箔２５の、個別情報記録層６２の面上に、図１に示したＯＶＤ転写箔２０を部分的に転写させることによって個別情報を形成させた構成となっている。

基材５０、６０の材料としては、例えばポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレン（ＰＥ）等のプラスチックシート等のプラスチックシートが挙げられる。その厚みとしては、１０〜１００μｍ程度が一般的であるが、特にＯＶＤ転写箔２０の基材５０は、転写性を向上させるため、薄い方が良く、特に１０〜１５μｍ程度であるとより好ましい。

剥離層５１、６１の材料としては、例えばポリカーボネート樹脂、アクリル系樹脂、フッ素系アクリル樹脂、シリコーン系アクリル系樹脂、エポキシアクリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、シクロオレフィンポリマー、メチルスチレン樹脂、フルオレン樹脂、ＰＥＴ、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタラート樹脂、ポリアセタール樹脂等の熱可塑性樹脂にシリコーンやフッ素系の添加剤を加えたものが好ましく、もしくはフッ素系アクリル樹脂、シリコーン系アクリル系樹脂等、基材５０、６０から剥離しやすいものを選出しても良い。また、ＯＶＤ転写箔２０の剥離層６１は、部分的にかつ精確に熱転写させるため、層の箔キレ性が無くてはならい。そのため、上記した材料にシリカ等の無機微粒子を加えるとなお好ましい。また、上記以外の種類の材料を用いても、剥離層として必要な性能を出すことができれば問題無い。例えば、光硬化性樹脂中に上記熱可塑性樹脂を含有させても良い。また、ＯＶＤ層５２との密着性を向上させるため、ＯＶＤ層５２と同一の光硬化性樹脂を用いても良い。

ＯＶＤ層５２としては、上記した光硬化性樹脂材料を用い。これらの材料を、所望の凹凸を賦型して硬化させることにより形成する。これらの樹脂の硬化物は全て光透過性であり、屈折率は一般的には１．５程度である。
また、膜厚としては、ＯＶＤ層の耐熱性、箔キレ性、熱転写性を向上させるために、１．０〜１．５μｍの範囲であると好ましい。もし、１．０μｍ未満であると、光硬化させる際に硬化不良を起こしてしまうため、耐熱性が悪くなる恐れがある。また、１．５μｍを超えると、箔キレ性が悪くなり、かつ熱感度も低下してしまう恐れがある。

光反射層５３の材料としては、透明被膜もしくは、金属被膜等を用いることができる。透明材料の場合、ＯＶＤ層５２と屈折率が異なる誘電体層、誘電体多層膜、もしくは高屈折率材料を使用する。例えば、屈折率が２．０以上であるＺｎＳ、ＴｉＯ２、ＰｂＴｉＯ２、ＺｒＯ、ＺｎＴｅ、ＰｂＣｒＯ４等が好ましい。これは、ＯＶＤ層５２との屈折率差が小さいと、ＯＶＤ層５２の凹凸による回折光の視覚効果が弱まってしまうためである。具体的には、ＯＶＤ層５２と透明被膜５３の屈折率差は少なくとも０．５以上あると良い。また、膜厚は５０ｎｍ〜１００ｎｍが好ましい。また、金属被膜である場合、クロム、ニッケル、アルミニウム、鉄、チタン、銀、金、銅の中から選択される単体又はそれらの混合物、合金等を用いることができる。こちらも、膜厚は５０ｎｍ〜１００ｎｍが好ましい。

接着層５４としては、プロプロピレン樹脂、ポリエチレンテレフタラート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリエステル樹脂等の熱可塑性樹脂等を用いる。透明被膜材料や、その他樹脂との密着力、加刷性のあるものであれば、特に限定はしない。また、熱転写の際の箔キレ性も無ければならないので、上記樹脂にシリカ等の無機材料を含めるとなお良い。膜厚も特に限定は無いが、０．５μｍ〜１．５μｍ程度であると好ましい。

個別情報記録層６２としては、プロプロピレン樹脂、ポリエチレンテレフタラート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリエステル樹脂等の熱可塑性樹脂等を用いる。これらの樹脂は、カラーリボンを用いて顔写真、名前、生年月日等の文字情報等、いわゆる個人認証に係わる情報を書き込むためのものであり、同時に被写体の基材上へ熱転写した際に密着する接着剤としての機能も兼ね備えていると好ましい。

個人認証媒体４０は、図３に示したように、ＯＶＤ転写箔によって中間転写箔上に個別情報を表現した画像形成体３０を、被転写基材７０の一方の面上に転写してなる構成である。

また、画像形成体３０の剥離層６１と個別情報記録層６２の間にＯＶＤ転写箔２０と同様にＯＶＤ層と光反射層を設け、固定デザインの回折格子凹凸等を設けても良い。そうすることで、固定デザインの回折光により見栄えも良くなり、セキュリティ性も向上する。

個人認証媒体４０の観察者方向からの平面図を図４に示す。

図４の場合、顔写真と文字数字による個人認証用の情報６３ａはカラーリボンで個別情報受像層６２に書き込まれて表示されており、顔画像ＯＶＤ５２ａは、ＯＶＤ転写箔２０のＯＶＤ層５２の凹凸パターンによる回折光で表示されている。また、全面に表示されている固定柄デザイン６４は、画像形成体３０の剥離層６１と個別情報記録層６２の間にＯＶＤ転写箔２０に設けているものと同様にＯＶＤ層と光反射層を設け、固定デザインの回折格子凹凸等を設けた場合、回折光で表現されるデザインを示している。

次に、本発明に係る画像形成体３０及び、個人認証媒体４０の具体的製造方法について述べる。

まず、ＯＶＤ転写箔２０は、別名ホログラムリボンと呼ばれており、構成としては、基材剥離層、ＯＶＤ層（ホログラム層）、光反射層、接着層の順に積層したフィルムである。ホログラム転写リボンはサーマルヘッドプリンター等を用いた熱転写により中間箔２５の個別情報記録層６２上に部分的に接着させた後、基材から剥離する機能を有するものである。中間箔２５上に転写されたホログラム転写媒体はその後さらに基材上へ熱転写されるため、ホログラム転写媒体に求められる機能としては、中間箔２５上への転写時の熱だけでなく基材上への転写時の熱にも十分耐えられる耐熱性が挙げられる。また、ホログラムリボンは、サーマルヘッドにより、顔画像等の個別情報を非常に微小サイズのドットを狙った場所へ転写して表現できなければならないため、基材から剥離する際には良好な箔切れ性が要求される。

本発明におけるホログラム転写媒体の転写時におけるドットサイズは、特に限定されるものではないが、ドットの一辺の長さが０．０４２ｍｍから０．５０８ｍｍの間（６００ｄｐｉから５０ｄｐｉの間）が好ましいが、パターニングされたホログラム図柄を対象となる個人の顔写真にする場合には、ドットの一辺の長さが０．０４２ｍｍから０．１６９ｍｍの間（６００ｄｐｉから１５０ｄｐｉの間）であることが好ましい。これは、ドットサイズが大きくなるとホログラム図柄の表現力が低下し、逆にドットサイズが小さくなると転写時のばらつきの影響が大きくなるためである。

まず、図１に示したＯＶＤ転写箔２０の製造方法は以下のようになる。

まず、公知のグラビア等の塗工方式により、任意の樹脂を選択し、基材５０となるプラスチックフィルム上に剥離層５１、ＯＶＤ層５２を順に塗工し、一般的には塗工された樹脂を熱乾燥等によりタックフリーの状態にしてロール状に巻き取る。ここで用いる基材、樹脂の材料については、上記した通りである。
この場合、ＯＶＤ層を有するフィルムは、次工程の凹凸パターン形成と同じラインで作製しても別ラインで作製しても良いが、通常、ＯＶＤ層塗工と凹凸パターン形成の速度は異なるため、別ラインで作製した方が好ましい。
また、ＯＶＤ層となる樹脂の膜厚は、前記した理由により、１．０〜１．５μｍ程度を狙って塗工する。

次に、エンボスロールに巻きつけた所望の凹凸パターンを有する金属版を用いて、凹凸パターン成形を行う。加熱してＯＶＤ層と金属版を加圧貼合し、パターニングされたＯＶＤ層を基材とともに剥離して所望の凹凸パターンを得ることができる。本発明では、ＯＶＤ層５２に用いている樹脂が光硬化性のものなので、加圧貼合と同時に光照射を行い、樹脂を硬化させて剥離する方法を取る。

次に、凹凸パターン成形したＯＶＤ層５２に光反射層５３を積層させる。方法としては、例えば真空蒸着、スパッタリング等の気相堆積法が挙げられる。この際、ＯＶＤ層５２と光反射層５３との密着性を上げるため、ＯＶＤ層５２上にコロナ処理をしておくとより好ましい。

次に、光反射層５３上に接着層５４を上記と同様にグラビア等の塗工方式により塗工し、熱乾燥等によりタックフリーの状態にしてロール状に巻き取る。

中間箔２５の個別情報記録層６２の上に上記ＯＶＤ転写箔２０が転写されて画像が表示される。

本発明に用いられる中間箔２５は、ＯＶＤ転写箔２０が転写される被転写体であると同時に、中間箔２５自身が基材７０へ転写される転写体である。剥離層５１は、ＯＶＤ転写箔２０やインクリボンに設けられている剥離層６１よりも重くなければならない。軽い場合、中間箔の剥離層５１ごとリボン側に持っていかれてしまうからである。

中間箔２５は、基材７０へ転写された後は個人認証媒体４０の最表面に位置するため、個別情報がパターニングされたＯＶＤ画像や、下地に印刷された細紋パターンの視認性を上げるために透明であることが望ましい。セキュリティ性を上げるために、透明の固定柄デザインのＯＶＤ層を設けても良い。また、視認可能な範囲で着色することも可能である。さらに、中間箔５２の一部に網点、万線、および図形のいずれかまたは組み合わせにより表現される不透明反射層を設けることも可能であるが、その下に表示される個別情報を有するＯＶＤ画像や印刷された細紋パターンは隠蔽されることになる。

また、本形態では、昇華転写方式および／または溶融転写方式のインクリボンを用いて、サーマルヘッドにより顔写真および／または個人情報を含んだ文字情報を中間箔２５上に転写するプロセスを組み合わせている。

次に、中間箔２５の製造方法を説明する。

基本的な工程はＯＶＤ転写箔と同じである。まず、公知のグラビア等の塗工方式により、任意の樹脂を選択し、基材６０となるプラスチックフィルム上に剥離層６１、個別情報記録層６２を順に塗工し、一般的には塗工された樹脂を熱乾燥等によりタックフリーの状態にしてロール状に巻き取る。ここで用いる基材、樹脂の材料については、上記した通りである。

中間箔２５に固定柄デザインのＯＶＤ層を設ける場合、上記の塗工時にＯＶＤ層を設けておき、エンボスロールに巻きつけた所望の凹凸パターンを有する金属版を用いて、凹凸パターン成形を行う。加熱してＯＶＤ層と金属版を加圧貼合し、パターニングされたＯＶＤ層を基材とともに剥離して所望の凹凸パターンを得る。そして光反射層を設けた上で、個別情報記録層を塗工する。

以上のように作成した中間箔２５上に、サーマルヘッドによりインクリボンで顔写真や、氏、名生年月日等の文字情報を個別情報記録層６２に転写し、更にＯＶＤ転写箔２０を狙った位置にドット状に熱転写していくことで、個別情報のＯＶＤ画像も形成する。そのようにしてインク、ＯＶＤ層のそれぞれにより個別情報が表示された中間箔２５（画像形成体３０）を、被転写体である紙面やプラスチックシート上に転写することで、個別認証媒体４０が完成する。

まず、中間箔フィルムを作成した。支持体として厚み２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用い、剥離層・ホログラム形成層の順にグラビアコーターで印刷を行った。オーブンでの乾燥後、剥離層の膜厚は０．６μｍ、固定柄ＯＶＤ層の膜厚は０．７μｍであった。なお、固定柄ＯＶＤ層はアクリレート／イソシアネートの二液性の熱硬化樹脂のため、１μｍ未満の膜厚となっても問題は無い。

このフィルムを、固定柄回折格子版を用いてロールエンボス装置にて熱プレスを行い、固定柄ＯＶＤ層に固定柄回折格子の凹凸を成形した。

固定柄ＯＶＤ層上にＺｎＳ蒸着を行い、透明薄膜層を設けた。ＺｎＳ蒸着の膜厚は８０ｎｍであった。また、このフィルムに個別情報記録層の印刷を行った。膜厚は０．６μｍであった。

上記のようにして中間箔を得た。

次に、ＯＶＤ転写箔を作成した。基材として厚み１２μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用い、剥離層・ＯＶＤ層の順にグラビアコーターで印刷を行った。オーブンでの乾燥後、剥離層の膜厚は０．６μｍ、ＯＶＤ層の膜厚は１．０μｍであった。なお、こちらのＯＶＤ層にはＵＶ硬化樹脂を用いた。材料詳細は下記に詳しく記す。

このフィルムを、ベタ柄回折格子版を用いてロールエンボス装置にて熱プレス、ＵＶ硬化を行い、ＯＶＤ層にベタ柄回折格子の凹凸を成形した。

ＯＶＤ層上にＺｎＳ蒸着を行い、透明薄膜層を設けた。ＺｎＳ蒸着の膜厚は８０ｎｍであった。また、このフィルムに接着層の印刷を行った。接着層の膜厚は０．６μｍであった。

上記フィルムを転写リボンサイズの幅にスリットして小分けし、それぞれを繋ぎ合わせてＯＶＤ転写箔を作成した。

更に、公知のイエロー、マゼンタ、シアン、ブラックのインクリボンを用意した。

サーマルヘッドを用いて、中間箔の個別情報記録層上の狙った位置にＯＶＤ転写箔を転写して顔画像を表現した。
なお、予め被写体となる人物の顔写真を撮影し、撮影写真から、回折格子セルが転写される位置をコンピューター上のプログラムで設定しておき、サーマルヘッドの機械にアウトプットすることで上記画像の表現を行った。解像度は３００ｄｐｉ、６００ｄｐｉで実施した。

次に、同様にインクリボンにて個別情報記録層上に顔写真および文字情報を印字し、情報印字側から被転写用の支持体である紙面上に中間箔を転写することにより、本発明の個人認証媒体を得た。

なお、ＯＶＤ転写箔のＯＶＤ層に用いる樹脂材料は下記のように合成して得た。

温度計、冷却管、攪拌装置を備えた１Ｌの４口フラスコに、２−ヒドロキシエチルメタクリレート３００ｇと、エポキシ樹脂（シェル化学製 エピコート８１２ ポリオール型エポキシ樹脂）２００ｇと、ジブチルスズジラウレート（反応触媒）０．２ｇ、メチルエチルケトン（有機溶媒）４００ｇとを投入し、８０±２０℃にて反応させた。また、赤外線吸収スペクトル測定を行ってエポキシ残基が観測されなくなったことを確認した。

ついで、これらの樹脂液中の樹脂（固形分）１００質量部に対して、１．５質量部の光重合開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製イルガキュア１８４、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン）を加え、ＵＶ硬化樹脂材料を得た。

ＯＶＤ転写箔のＯＶＤ層に用いる樹脂材料の比較サンプル用として、ウレタンアクリレート樹脂（根上工業社製 ＵＮ−９５２）に光開始剤を加えて得られたＵＶ硬化性樹脂液Ａと、アクリレート／イソシアネート（ＤＩＣ社製）の二液硬化性樹脂Ｂを用意した。二液硬化性樹脂Ｂに関しては、熱プレス（ＵＶ硬化は用いず）により、凹凸形成を行った。

ＯＶＤ転写箔のＯＶＤ層に用いる樹脂材料のみ上記した三種類を用い、それ以外は全て同じ材料を用いて作製し、ＯＶＤ層違いの三種類のＯＶＤ転写箔を得て、上記個人認証媒体を作成した。なお、二液硬化性樹脂Ｂの回折格子凹凸成形に関しては、固定柄ＯＶＤ層と同様に、熱プレス（ＵＶ硬化は用いず）により行った。

個人認証媒体を観察した結果、ＵＶ硬化性樹脂液Ａを用いたＯＶＤ転写箔の場合、明るさが出て視認性は良好であった。しかし、箔キレ性は比較的悪く、画像解像度３００ｄｐｉは何とか表現できたものの、６００ｄｐｉの高精細な画像表現はできなかった。二液硬化性樹脂Ｂを用いたＯＶＤ転写箔の場合、逆に箔キレ性は良好であり、６００ｄｐｉの高精細な画像表現が可能であったが、熱により輝度が低減してしまい、視認性が悪かった。
本発明に係る光硬化性樹脂を用いたＯＶＤ転写箔の場合のみ、６００ｄｐｉの高精細な顔画像を表現でき、かつ熱転写による輝度低減も起きず、明るく表現できることが分かった。

以上より、耐熱性が高く、かつ６００ｄｐｉの高精細な顔画像を表現可能なキレ性、転写性の良いＯＶＤ転写箔が作成できた。そして、そのＯＶＤ転写箔を用いて、偽造や改竄あるいは変造に対する予防性能や、万一それらの不正がなされた場合であっても被疑不正品を観察等すると容易に発見できるような視認性に優れた発見容易性能を備える高セキュリティ性を兼ね備えた画像形成体（必ずしも限定されない。代表例としてはパスポート、査証、あるいは各種のカード類、等。）、個人認証媒体、ならびにその製造方法を提供できることがわかった。

１０・・・観察者方向
２０・・・ＯＶＤ転写箔
２５・・・中間箔
３０・・・画像形成体
４０・・・個人認証媒体
５０、６０・・・基材
５１、６１・・・剥離層
５２・・・ＯＶＤ層
５２ａ・・・顔画像ＯＶＤ
５３・・・光反射層
５４・・・接着層
６２・・・個別情報記録層
６３・・・個別情報
６３ａ・・・個別情報
６４・・・固定柄ＯＶＤ
７０・・・被転写基材

Claims (11)

1. 透明基材の一方の面上に少なくとも離型層、ＯＶＤ層、光反射層、接着層を設けてなり、
   前記ＯＶＤ層が、分子中にカルボキシル基を有するメタクリル酸化合物もしくは分子中に水酸基を有するメタクリレート化合物と、分子中に少なくとも水酸基を１つ以上有するグリシジル型エポキシ化合物とを反応させて合成したエポキシアクリレート樹脂を主成分とした光硬化性樹脂の硬化物により微細凹凸パターンを形成してなることを特徴とするＯＶＤ転写箔。
2. 前記微細凹凸パターンが、レリーフ型ホログラム又は回折格子であることを特徴とする請求項１に記載のＯＶＤ転写箔。
3. 前記光硬化性樹脂が、ＵＶ硬化性であることを特徴とする請求項１乃至２に記載のＯＶＤ転写箔。
4. 前記ＯＶＤ層の膜厚が、１．０μｍ以上１．５μｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至３に記載のＯＶＤ転写箔。
5. 前記ＯＶＤ層が、シリカのナノ微粒子を含むことを特徴とする請求項１乃至４に記載のＯＶＤ転写箔。
6. 前記光反射層が、透明被膜層であることを特徴とした請求項１乃至５に記載のＯＶＤ転写箔。
7. 前記光反射層が、金属被膜層であることを特徴とした請求項１乃至５に記載のＯＶＤ転写箔。
8. 前記光反射層が、透明被膜層と金属被膜層の積層体であることを特徴とした請求項１乃至５に記載のＯＶＤ転写箔。
9. 請求項１乃至８に記載のＯＶＤ転写箔を、被転写基材の少なくとも一方の面上に微小面積のドット状にして複数設けることで、該ドットを構成要素とした画像を形成する画像形成体。
10. 偽造防止、及び個人認証の用途で用いられる個人認証媒体の少なくとも一方の面上に該個人認証媒体を保持する正当な所有者、もしくは使用者、発行者、作成者を識別できる顔画像、指紋、サイン等の少なくとも一つ以上を有する個別情報を画像として表示されてなる個人認証媒体であり、
    該個別情報が、請求項９に記載の画像形成体の画像によって表示されてなることを特徴とする個人認証媒体。
11. 請求項１乃至８に記載のＯＶＤ転写箔を透明な中間箔上に微小面積のドットとして熱転写し、前記ドットを構成要素とした画像として前記個別情報を形成した後、これを前記個人認証媒体の少なくとも一方の面上に熱転写して形成する請求項１０に記載の個人認証媒体の製造方法。