KR20140036509A - 비스무트 텔루라이드계 열전재료의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
Description
도 2는 Bi2Te3 원료 분말에 대한 X-선회절(X-ray diffraction; XRD) 패턴과 Bi2Te3 원료 분말을 방전플라즈마 소결(SPS)하여 얻어진 소결체에 대한 X-선회절(XRD) 패턴을 보여주는 도면이다.
도 3은 박리된 Bi2Te3의 후속 공정에 따른 X-선회절(XRD) 결과를 보여주는 도면이다.
도 4는 Bi2Te3의 박리(exfoliation), 하이드라진 하이드레이트(Hydrazine hydrate), 방전플라즈마 소결(SPS) 공정 후의 X-선회절(XRD) 결과를 나타낸 도면이다.
도 5 및 도 6은 박리(exfoliation) 유, 무에 따른 방전플라즈마 소결(SPS) 후 시편의 파단면에 대한 주사전자현미경(SEM) 사진이다.
도 7은 온도를 변화시키며 전기전도도(electrical conductivity)를 측정한 결과를 보여주는 그래프이다.
도 8은 온도에 따른 제백계수를 보여주는 그래프이다.
도 9는 파워 팩터(power factor)의 온도의존성을 보여주는 그래프이다.
도 10은 박리(exfoliation) 전후의 열전도도(thermal conductivity)의 온도 의존성을 나타내는 그래프이다.
도 11은 박리(exfoliation) 전후의 ZT 값의 온도 의존성을 나타내는 그래프이다.
Sb | Te | Bi | O | |
(a) Bi2Te3 원료 분말 | 21.93 | 42.6 | 7.23 | 28.24 |
(b) Bi2Te3 원료 분말의 방전플라즈마 소결 500oC | 26.11 | 49.82 | 8.85 | 15.22 |
(c) 박리 | 15.8 | 35.795 | 5.995 | 42.41 |
(d) 박리 후 375℃에서 방전플라즈마 소결 | 18.44 | 34.38 | 6.1 | 41.09 |
(e) 박리 후 하이드라진 하이드레이트 처리 | 22.89 | 48.09 | 8.55 | 20.47 |
(f) 박리 후 하이드라진 하이드레이트 처리 후 375℃에서 방전플라즈마 소결 | 25.94 | 52.58 | 8.78 | 12.70 |
(g) 박리 후 하이드라진 하이드레이트 처리 후 450℃에서 방전플라즈마 소결 | 26.86 | 50.73 | 8.77 | 13.64 |
120: 분말 130: 펀치
140: 직류펄스 발진기
Claims (9)
- 적층 구조의 Bi2Te3계 화합물을 층간으로 박리하는 단계;
박리된 Bi2Te3계 화합물을 하이드라진 하이드레이트를 사용하여 환원반응시키는 단계; 및
환원반응된 Bi2Te3계 화합물을 방전플라즈마 소결법을 이용하여 소결하는 단계를 포함하는 비스무트 텔루라이드계 열전재료의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 박리하는 단계는,
Bi2Te3계 화합물에 대한 리튬(Li)의 인터칼레이션을 위해 리튬 전구체와 Bi2Te3계 화합물을 혼합하여 반응시키는 단계;
리튬(Li)이 Bi2Te3계 화합물에 인터칼레이션되어 형성된 LixBi2Te3계 화합물(여기서, x는 0보다 큰 실수)을 세척하고 원심분리하는 단계;
Bi2Te3계 화합물의 층상에 삽입된 Li+를 제거하기 위해 증류수로 투석하는 단계; 및
투석된 결과물을 원심분리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 비스무트 텔루라이드계 열전재료의 제조방법.
- 제2항에 있어서, 상기 리튬 전구체와 상기 Bi2Te3계 화합물은 1:1∼5:1의 몰비로 혼합하는 것을 특징으로 하는 비스무트 텔루라이드계 열전재료의 제조방법.
- 제2항에 있어서, 상기 리튬 전구체로 n-부틸리튬(n-butyllithium), n-옥틸리튬(n-octyllithium), n-헥실리튬(n-hexyllithium), 리튬보로하이드라이드(lithium borohydride; LiBH4) 또는 리튬이 암모니아에 녹아있는 리튬-암모니아(Li(NH3)n) 용액을 사용하는 것을 특징으로 하는 비스무트 텔루라이드계 열전재료의 제조방법.
- 제2항에 있어서, 상기 리튬 전구체와 상기 Bi2Te3계 화합물을 혼합하여 반응시키는 단계는 질소 분위기에서 수행하는 것을 특징으로 하는 비스무트 텔루라이드계 열전재료의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 환원반응시키는 단계는,
박리된 Bi2Te3계 화합물을 하이드라진 하이드레이트와 혼합하고 리플럭스 시키면서 환원반응시키는 단계; 및
환원반응 후에 표면에 잔류하는 하이드라진을 제거하기 위하여 증류수로 세척하고, 원심분리하여 침전물을 얻는 단계를 포함하며,
상기 환원반응은 60∼180℃의 온도에서 실시하고,
상기 리플럭스는 10∼500rpm의 회전속도로 수행하는 것을 특징으로 하는 비스무트 텔루라이드계 열전재료의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 소결하는 단계는,
환원반응된 Bi2Te3계 화합물을 몰드에 충진하고 방전플라즈마 소결 장치의 챔버에 세팅하는 단계;
상기 챔버 내부를 진공화시켜 감압하고, 상기 Bi2Te3계 화합물을 가압하면서 직류펄스를 인가하여 상기 Bi2Te3계 화합물의 용융 온도보다 낮은 목표하는 소결 온도로 상승시키는 단계;
상기 소결 온도에서 상기 Bi2Te3계 화합물을 가압하면서 상기 Bi2Te3계 화합물을 방전 플라즈마 소결하는 단계; 및
상기 챔버의 온도를 냉각하여 Bi2Te3계 화합물 소결체를 얻는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 비스무트 텔루라이드계 열전재료의 제조방법.
- 제7항에 있어서, 상기 소결 온도는 250∼750℃이고, 상기 소결 온도에서 10초∼30분 동안 유지되어 상기 Bi2Te3계 화합물의 방전플라즈마 소결이 이루어지는 것을 특징으로 하는 비스무트 텔루라이드계 열전재료의 제조방법.
- 제7항에 있어서, 상기 Bi2Te3계 화합물을 가압하는 압력은 10∼100MPa 범위이고,
상기 챔버 내부는 1.0×10-1∼1.0×10-3torr 범위로 감압되며,
상기 직류펄스는 0.1∼2000A 범위로 인가되는 것을 특징으로 하는 비스무트 텔루라이드계 열전재료의 제조방법.
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