KR20140032425A - 텅스텐 카바이드계 분사 분말 및 텅스텐 카바이드계 열 분사 층을 갖는 기재 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 텅스텐 카바이드계의 열 분사 분말 뿐만 아니라 기재, 특히 차량용 브레이크 디스크의 열 코팅용의 이와 같은 분사 분말의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 분사 분말은 불순물 외에 60 중량% 내지 75 중량%의 범위의 WC, 14 중량% 내지 22 중량%의 범위의 Cr3C2, 및 11 중량% 내지 23 중량%의 범위의 Ni을 포함한다. 본 발명은 또한 텅스텐 카바이드계 열 분사 층을 갖는 브레이크 디스크용 기재 뿐만 아니라 기재 상에 열 분사 층을 제조하는 방법에 관한 것이다.
Description
본 발명은 텅스텐 카바이드계의 분사 분말 및 기재의 열 코팅을 위한, 특히 차량의 브레이크 디스크 뿐만 아니라 특히 텅스텐 카바이드계의 열 분사 층을 갖는 브레이크 디스크의 열 코팅을 위한 이와 같은 분사 분말의 제조를 위한 방법, 및 각각의 카테고리의 독립 청구항의 전제부에 따른 열 분사 층의 제조를 위한 방법에 관한 것이다.
열 분사법에 의해 도포되는 코팅은 장기간 동안 다수의 용도에 대해 알려져 왔다. 따라서, 예를 들면, 차량 엔진 내의 오일에 의해 윤활되는 실린더 주행면의 표면은 매우 장기간 동안 특히 플라즈마 분사법에 의해 코팅되어 왔고, 이 층은 피스톤 링과 실린더 벽 사이에 실재하는 특히 마찰 계수를 상당히 감소시킴으로써 피스톤 링과 실린더의 마모가 상당히 감소되고, 그 결과 엔진의 주행 성능이 향상되고, 유지관리, 예를 들면, 오일 교체 간격의 주기가 길어지고, 또한 특히 엔진 성능이 상당히 향상된다.
열 분사법에 의해 도포되는 표면의 추가의 전형적인 용도는, 크랭크 베어링이나 특수한 물리적, 화학적 또는 열적 부하를 받는 기타 공작물의 코팅과 같은, 오일 윤활식 또는 건조 윤활식 베어링의 구성요소의 마모 방지층 및 단열층으로 터빈 부품을 코팅하는 것이다. 이 층이 만족시켜야 할 목적에 따라, 일반적으로 분사 분말이나 분사 와이어 형태의 매우 특수한 재료가 사용되고, 이들 재료는 분사될 표면층의 요구되는 특성을 발생시키기 위해 요구되는 특수 특성 및 조성을 갖는다.
상이한 용도의 예는 표면에 마찰면을 제공하는 것으로서, 이것은 정반대되는 목적을 갖고 또한 기재와 이 기재에 접촉하게 될 마찰 상대 부재 사이의 마찰을 증가시켜야 하고, 동시에 기재 자체는 마모 및/또는 손상으로부터 보호되어야 한다.
따라서, 예를 들면, 한편으로 차량의 제동 시에 제동 효과를 증대시키고, 다른 한편으로 동시에 기재, 즉 브레이크 디스크 자체를 직접적인 마모로부터 보호함으로써, 결국 브레이크 디스크의 수명도 증가시키는 열 분사 층을 갖는 차량용 브레이크 디스크를 제공하는 것이 DE 43 21 713 A1으로부터 이미 공지되어 있다.
이것에 관련하여, 특히 자동차 산업 및 또한 예를 들면 항공 분야에서, 제동 시스템에 관한 요건은 지속적으로 증가되어 왔다. 제동 시스템은 또한 비교적 대형 차량이나 항공기를 게다가 고속에서 또한 아쿠아플래닝(aquaplaning)과 같은 악조건에서 제어 가능하게 그리고 신뢰성 있게 제동시켜야 한다. 이것은, 예를 들면, 브레이크 디스크의 마찰 코팅의 접착 인장 강도에 대해서 뿐만 아니라 미시-경도 및 거시-경도와 같은 물리적 파라미터, 마찰 층의 특성의 열적 안정성 등에 대해서 많은 노력 및 비용이 요구됨을 의미한다. 이것에 관련하여, 마찰 층은 단독으로 비교적 간단하게 그리고 경제적 이유로 가능하면 이미 확립된 방법으로 제작될 수 있어야 하고, 또 코팅용으로 사용되는 재료는 그 화학 조성이 단순한 구조를 가져야 하고, 비교적 적은 노력과 비용으로 제조될 수 있어야 한다. 더욱이, 동시에 마찰 층은 동시에 긴 수명을 가져야 하고, 즉 기계적 관점에서 작동 중에 가능한 한 적게 마모되어야 하고, 게다가 제동 시의 극고온의 발생에 대해 그리고 화학 공격에 대해, 예를 들면 부식에 대해 가능한 한 저항을 갖도록 충분한 저항성을 가짐으로써, 긴 유지관리 기간 및/또는 교체 기간이 실현될 수 있도록 해야 한다.
이와 관련하여, 종래 기술로부터 공지된 해결책은 일반적으로 전술한 양태 중의 하나의 특수한 양태 또는 기껏해야 소수의 양태만을 최적화할 수 있을 뿐이고, 다른 특성에 대해서는 양보해야 한다.
이 결점을 적어도 부분적으로 상쇄시키기 위해, 복잡한 층 시스템을 갖는 부분적으로 비교적 많이 요구되는 코팅 방법이 브레이크 디스크에 관해 제안되어 왔다. 따라서, DE 10 2009 008 114 A1에서, 텅스텐 카바이드계 코팅을 갖는 브레이크 디스크가 제안되었고, 여기서 열 분사 방법에 의해 도포되는 텅스텐 카바이드 코팅은 탄화, 산화, 가스 질탄화(gas nitro carbonizing) 또는 상이한 가스 또는 플라즈마계 방법을 이용하여 후처리되어야 한다.
이것에 관련하는 후처리는, 내마모 및 내부식성 경화 표면층이 플라즈마 및/또는 가스상으로부터 원자의 확산을 통해 형성되므로, 표면에 근접한 마찰 영역의 경도를 달성하기 위해 필수적으로 필요하다.
브레이크 디스크의 열 코팅 후, 가스 처리 방법은 강제적인 방식으로 하류로 절환되어야 하고, 이것은 제조를 불필요하게 복잡하게 하고 고비용이 되게 하므로 자연히 이 방법은 많은 노력 및 비용이 요구된다.
이런 이유로, 본 발명의 목적은 기재의 열 코팅용 열 분사 분말을 제공하는 것으로, 이 것에 의해, 일반적으로 공지된 열 분사 방법의 사용 시, 예를 들면, 모든 종류의 육상 차량 또는 비행체의 브레이크 디스크에서 마찰 층으로서 특히 바람직하게 사용될 수 있고, 이것에 관련하여 층의 모든 본질적인 요구 특성이 동시에 최적화되는 열 분사된 층이 제조될 수 있다. 이것에 관련하여, 제조는 종래 기술에 비해 상당히 단순화되어야 하고, 제조 중에 요구되는 방법 단계의 수는 최소로 감소되어야 한다.
더욱이, 본 발명의 목적은 대응하는 분사 분말의 제조 방법 뿐만 아니라 대응하는 열 분사 층의 제조를 위한 열 분사 방법을 제공하는 것이다.
이 목적을 만족시키는 본 발명의 주제는 각각의 카테고리의 독립 청구항의 구성을 특징으로 한다.
각각의 종속 청구항은 본 발명의 특히 유리한 실시형태에 관한 것이다.
따라서, 본 발명은 기재의 열 코팅을 위한 텅스텐 카바이드계 분사 분말에 관한 것으로서, 이 분사 분말은 불순물 외에 60 중량% 내지 75 중량%의 범위의 WC, 14 중량% 내지 22 중량%의 범위의 Cr3C2, 및 11 중량% 내지 23 중량%의 범위의 Ni을 포함한다.
본 발명의 중요한 실현은, 예를 들면, 분사 분말 내에, 예를 들면, 약 11 중량% 내지 23 중량%의 범위의 증가된 니켈 함량을 사용함으로써, 예를 들면, 전처리 없이 특히 충분한 내식성 및 경도를 갖는 브레이크 디스크의 마찰면이 제조될 수 있는 것이다. 이것은, 예를 들면, 사용 시 마찰층의 분사 후에 후처리가 필수적으로 필요한 DE 10 2009 008 114 A1로부터 공지된 바와 같은 분사 분말에 대해 결정적인 이점이다.
이것에 관하여 바람직한 실시형태에서, 분사 분말 내의 WC의 부분은 63 중량% 내지 70 중량%의 범위, 바람직하게는 67 중량%이다.
분사 분말 내의 Cr3C2의 부분은 바람직하게 17 중량% 내지 19 중량%의 범위, 특히 18 중량%로 선택되고, 분사 분말 내의 Ni의 부분은 바람직하게 13 중량% 내지 20 중량%의 범위, 바람직하게는 15 중량%로 선택된다.
이와 관련하여, 분사 분말의 공칭 입도는 바람직하게 +11 ㎛ 내지 -45 ㎛의 범위, 특히 +20 ㎛ 내지 -45 ㎛의 범위이다. 입도(particle size)에 관해 이전에 사용된 명명법은 본 기술 분야의 당업자에게 일반적인 방식으로 이해되어야 한다. 따라서, 예를 들면, 관례와 같이 +11 ㎛ 내지 -45 ㎛의 범위는 입자가 11 ㎛를 초과하고 45 ㎛보다 작은 것을 의미한다.
이와 관련하여, 본 발명에 따른 분사 분말은, 전술한 기술적으로 중요한 화학적 구성요소인 텅스텐 카바이드(WC), 크롬 카바이드(Cr3C2) 및 니켈(Ni) 외에, 기술적으로 측정 가능한 불순물인 최대 0.5 중량%의 Fe 불순물을 포함할 수 있고, 및/또는 기껏해야 약어 TAO(Total All Other)로 요약되는 불순물로서의 다음의 화학 원소를 포함한다: Na, Mg, Al, Si, K, Ca, Ti, V, Mn, Co, Cu, Zn, Ge, Rb, Sr, Y, Zr, Nb, Mo, Rh, Pd, Cd, In, Sn, Hf, Ta, Tl, Pb.
이와 관련하여, TAO의 전체 부분은 마찬가지로 최대 0.5 중량%에 달하고, 본 발명에 따른 분사 분말 내에서, 기술적으로 관련되는 화학적 구성요소인 텅스텐 카바이드(WC), 크롬 카바이드(Cr3C2) 및 니켈(Ni) 외에, 최대 1 중량%의 실제로 바람직하지 않은 불순물, 즉 최대 0.5 중량%의 Fe 및 약어 TAO에 의해 위에서 정의된 원소들의 군으로부터 선택되는 최대 0.5 %의 총 불순물이 포함될 수 있다. 본 발명에 따른 분사 분말 내에 불순물이 없는 것, 즉 Fe나 TAO의 군으로부터의 원소가 포함되지 않는 것이 이상적인 경우이지만, 이것은 실제로 실현되기 어렵다는 것이 이해된다.
이것에 관련하여, Fe는 이와 같은 분사 분말로 분사된 층의 특성의 본 발명에 기술적으로 상당한 영향을 주지 않는, 예를 들면, 특히 0.05 중량% 내지 0.5 중량%의 범위로 본 발명의 분사 분말 내에 제공될 수 있다. Fe 불순물의 함량이 0.5 중량% 이하인 한, 특히 분사 분말로 분사된 층의 요구되는 내식성은 신뢰성 있게 보장될 수 있다. 그리고 또한 층의 나머지 특성, 예를 들면, 본 발명에 따른 분사 분말을 이용하여 분사된 층의 기공도, 미시-경도 및 거시-경도 또는 접착 인장 강도는 실제로 이와 같은 소량의 Fe 혼입에 의해 및/또는 TAO로 요약되는 기타 불순물에 의해 영향을 받지 않는다.
이미 언급한 바와 같이, 전술한 크기 범위의 불순물은 본 발명에 따른 분사 분말 및/또는 이 방식으로 열 분사되는 분사 층의 기술적으로 관련되는 특성에 실제로 영향을 미치지 않으므로, 본 발명에 따른 분사 분말 내에 제공될 수 있는, 전술한 일반적으로 바람직하지 않은 불순물의 경우, 정당한 기술적 노력 및 비용을 이용하여 종종 방지할 수 없고, 또한 모든 실제 목적을 위해 방지할 필요도 없는 다양한 이유가 존재할 수 있다.
Co는, 예를 들면, 본 발명에 따른 분사 분말의 원료 물질을 분사 분말의 제조 시에 공지된 방식으로 분쇄시키는 경질의 금속구(metal balls) 내에 WC 이외에 포함될 수 있으므로, 코발트(Co)는, 예를 들면, 최대 거의 0.5 중량%, 실제로 최대 0.05 중량%, 0.1 중량% 또는 0.1 중량% 내지 거의 0.5 중량%의 범위로 제공될 수 있다. 분사 분말의 제조에 사용되는 원료 물질은 또한 소량의 불순물, 예를 들면, 탄탈륨(Ta)을 포함할 수 있다. 이와 관련하여, 불순물은 제조 공정 중에 필수 화학 원료 물질인 텅스텐 카바이드(WC), 크롬 카바이드(Cr3C2) 및 니켈(Ni)에 의해 도입될 수 있거나, 또한 분말의 제조에 관한, 예를 들면, 결합제, 소포제에 의해, 공구, 공정 체임버 등에 의해 도입될 수 있거나, 본 기술 분야의 당업자에게 공지된 다른 방식으로 제조 공정 내에 바람직하지 않은 방식으로 도입될 수 있고, 이러한 방식으로 결국 전술한 바와 같은 중요하지 않은 정도까지 분사 분말 내에 혼입될 수 있다.
이와 관련하여, 본 발명은 또한 본 발명에 따른 분사 분말의 제조 방법에 관한 것으로, 이 방법은 각각 독립적으로 공지된 다음의 방법 단계를 포함한다: 일차 카바이드인 WC, Cr3C2 뿐만 아니라 Ni을 제공하고, 앞에서 이미 상술한 바와 같이, 불순물 외에 60 중량% 내지 75 중량%의 범위의 WC, 14 중량% 내지 22 중량%의 범위의 Cr3C2, 및 11 중량% 내지 23 중량%의 범위의 Ni만으로 구성되는 전술한 성분으로부터 분말 혼합물의 제조하는 단계. 이와 관련하여, 본 발명에 따른 분사 분말의 제조를 위한 출발 물질의 역할을 할 수 있는 언급된 일차 카바이드의 표준 입도는 0.5 ㎛ 내지 4 ㎛의 범위, 특히 2 ㎛ 내지 3 ㎛의 범위, 특히 바람직하게는 2.5 ㎛이고, 또한 유리하게 당연히 이것과 다른 입도를 가진 다른 일차 카바이드도 사용될 수 있다.
이와 관련하여, 약 0.5 ㎛ 내지 4 ㎛의 범위의 일차 카바이드의 작은 입도는 특히 마모 거동 및 이러한 방식으로 특히 브레이크 디스크의 마모 거동에 대단히 적극적으로 영향을 미친다는 것이 입증되었다. 즉, 이와 같은 작은 일차 카바이드 입자는 분사된 층 내에 매우 균일하게 또한 균질하게 분포되고, 동시에 층 내에서 상호 매우 근접하여 배치되므로 층 내에서 일차 카바이드 입자의 치밀한 분포 패턴을 형성한다. 이와 달리, 만일 동일한 질량 비율의 더 큰 일차 입자가 사용되면, 이 입자는 층 내에서 더 낮은 밀도, 더 낮은 균일도 및 더 낮은 균질도로 분포되므로, 층의 기계적 부하 시에, 예를 들면, 제동 과정 중의 브레이크 디스크의 경우에, 분사 층은 파 형상(corrugation)으로 변형되는 경향이 있고, 이 것에 의해 조기 마모가 발생하기 쉽다. 더욱이, 작은 일차 입도의 경우 층의 미시-경도는 훨씬 더 큰 일차 카바이드로 분사된 층에 비해 상당히 개선될 수 있다는 것이 입증되었다.
다음에 현탁액이 제조되고, 이 현탁액은 분말 혼합물, 액체, 특히 예를 들면 이소헥산이나 다른 일반적으로 공지된 용매와 같은 용매, 및 추가적으로 바람직하게 하나 이상의 첨가제, 예를 들면, 결합제 및/또는 소포제 및/또는 분말의 제조 기술 분야의 당업자에게 공지된 다양한 첨가제로부터 균질화된다.
균질화된 현탁액으로부터, 분사 건조 단계, 바람직하게 건조된 혼합물의 압축 단계 및 그 후의 바람직하게 압축된 혼합물의 소결 단계에 의해 분말 케이크, 특히 응집체가 제조된다. 마지막으로 소결된 분말 케이크는 파쇄 및/또는 분쇄되어 분말 재료로 된다.
특수 용도에 따라, 최종적으로 분말 재료는 분류 방법에 의해 소정의 시드(seed) 크기 분포의 선택에 의해 분류된 후에 의도된 용도를 위해, 예를 들면, 차량용 브레이크 디스크의 열 코팅을 위해 사용될 수 있다.
다음의 표 1에서, 시험에서 우수한 것으로 입증된 본 발명에 따른 분사 분말의 특히 바람직한 실시형태의 화학 조성이 예시적으로 제공되어 있다. 이와 관련하여, 모든 %는 중량%이다.
CNiCrCoFeW6.29 %15.03 %14.93 %0.15 %0.08 % 잔부표 1: 본 발명에 따른 분사 분말의 화학 조성
표 2에서, 표 1에 따른 분사 분말의 시드 크기 분포는 ㎛로 제공되어 있다. 이것에 관련하여, 일반적으로, 예를 들면 " -63 + 53 범위 0.47 %"는 분류된 분말의 시드의 0.47%는 53 ㎛ 보다 크고 63 ㎛ 보다 작은 것을, 즉 시드 크기의 0.47 %는 53 ㎛ 내지 63 ㎛의 범위에 있을 수 있음을 의미한다.
㎛ 중량% +630.00-63 +530.47-53 +454.88-45 +2081.61-2013.04표 2: 표 1에 따른 분사 분말의 입도 분포
본 발명은 또한 텅스텐 카바이드계의 열 분사 층을 갖는 기재에 관한 것으로서, 본 발명에 따르면 열 분사 층은 불순물 외에 60 중량% 내지 75 중량%의 범위의 WC, 14 중량% 내지 22 중량%의 Cr3C2, 11 중량% 내지 23 중량%의 범위의 Ni을 포함한다. 이와 관련하여, 바람직하게 기재는 차량을 위한, 예를 들면, 육상 차량 또는 비행체를 위한 브레이크 디스크이고, 여기서 기재는 마찰층을 구비해야 하는 다른 기재일 수도 있다..
이와 관련하여, 본 발명에 따른 기재의 분사 층은 또한, 전술한 기술적으로 중요한 화학적 구성요소인 텅스텐 카바이드(WC), 크롬 카바이드(Cr3C2) 및 니켈(Ni) 외에, 기술적으로 측정 가능한 불순물인, 분사 분말에 대해서 설명한 이미 언급된 불순물인, 최대 약 0.5 중량%의 Fe 불순물 및/또는 기껏해야 약어 TAO를 이용하여 다음에 요약되는 불순물을 포함한다: Na, Mg, Al, Si, K, Ca, Ti, V, Mn, Co, Cu, Zn, Ge, Rb, Sr, Y, Zr, Nb, Mo, Rh, Pd, Cd, In, Sn, Hf, Ta, Tl, Pb.
분사 분말의 대응하는 불순물에 의해 자연히 초래되는 이들 불순물에 더하여, 본 발명에 따른 기재의 열 분사 층은, 분사 공정 중에 분사 층에 도달할 수 있고 또한, 예를 들면, 분사 분말의 하나 이상의 불순물의 산화에 의해 또는 다른 방식으로 분사 층에 결합될 수 있는 최대 약 1 중량% 산소(O)를 또한 포함할 수 있다. 특히, 산소 함량은 0.1 중량% 내지 0.5 중량%의 범위, 및/또는 0.5 중량% 내지 1 중량%의 범위일 수 있다.
본 발명에 따른 분사 층의 생성을 위해 선택되는 분사 방법에 따라, 또한 추가의 최저의 불순물이 분사 공정 자체에 의해 분사 층 내에 도달할 수 있다. 따라서, 예를 들면, 열 에너지의 생성을 위해, 예를 들면, 케로신 또는 다른 유기질 연료 또는 무기질 연료가 연소되는 HVOF 방법의 사용 시, 연료로부터 추가의 탄소가 최대 약 0.1 중량%까지의 양으로 층 내에 도달할 수 있다.
이와 관련하여, TAO 불순물의 전체 부분은 마찬가지로 약 최대 0.5 중량%에 달하고, 본 발명에 따른 분사 층 내에서, 기술적으로 필수적인 화학적 구성요소인 텅스텐 카바이드(WC), 크롬 카바이드(Cr3C2) 및 니켈(Ni) 외에, 최대 약 2 중량%를 약간 상회하는 실제로 바람직하지 않은 불순물, 즉 최대 0.5 중량%의 Fe 및 약어 TAO에 의해 위에서 정의된 원소들의 군의 최대 0.5 %의 총 불순물 뿐만 아니라, 분사 방법에 따라 최대 1 % 산소 및 추가되는 것이 가능한 최대 0.1 %의 추가의 탄소가 최저의 불순물 이외에 포함될 수 있다.
이와 관련하여, 실제로 Fe는 본 발명에 따라 분사된 층의 특성에 상당한 영향을 보이지 상태로 본 발명에 따른 기재의 분사 층 내에 대략 0.05 중량% 내지 0.5 중량%의 범위로 존재할 수 있다. Fe 불순물의 함량이 0.5 중량% 이하인 한, 특히 분사 층의 요구되는 내식성이 신뢰성 있게 보장된다. 그리고 또한 층의 다른 특성, 예를 들면, 기공도, 미시-경도 및 거시-경도 또는 분사 층의 접착 인장 강도는 실제로 소량의 Fe 혼입에 의해 및/또는 TAO로 요약되는 기타 불순물에 의해, 또한 분사 공정 중에 층 내에 결합되는 것이 가능한 산소 또는 추가의 탄소에 의해 실제로 영향을 받지 않는다.
이것에 관련하여, 코발트(Co)는, 예를 들면, 최대 0.5 중량%, 실제로 최대 약 0.05 중량%, 0.1 중량% 또는 0.1 내지 거의 0.5 중량%의 범위로 제공될 수 있다.
본 발명에 따른 분사 분말 내에 불순물이 없는 것, 즉 Fe나 TAO의 군으로부터 선택되는 원소나 산소, 탄소 또는 다양한 불순물이 포함되지 않는 것이 이상적인 경우이지만, 이것은 실제로 실현되기 어렵다는 것이 이해된다.
특히 실시에 관련된 실시형태에서, 열 분사 층은 고속 플레임 분사 방법(HVOF, High Velocity Oxygen Fuel)으로 제조되고, 그러나, 원칙적으로 상이한 플레임 분사 방법, 냉 가스(cold gas) 분사법, 플라즈마 분사법 또는 상이한 열 분사 방법과 같은 임의의 기타 유형의 공지된 열 분사 방법이 유리하게 사용될 수 있다.
이와 관련하여, 본 발명에 따른 분사 층은 종래 기술에 비해 상당히 개선된 미시-경도를 갖고, 이 미시-경도는, 특히 예를 들면, 브레이크 디스크에 대해 공지된 종래 기술로부터 공지된 다른 분사 층보다 약 50 HV 0.3 만큼 더 높다. 이것은 본 발명에 따른 열 분사 층의 미시-경도는 1000 내지 1200 HV 0.3의 범위, 바람직하게는 1100 내지 1200의 HV 0.3의 범위, 특히 1160의 HV 0.3이라는 것을 의미한다.
또한, 본 발명에 따른 분사 층의 미시-경도는 공지된 층의 것보다 상당히 우수하고, 예를 들면, 적어도 1 내지 2 유닛(거시-경도 척도: HR 15N) 만큼 더 높으므로 본 발명의 열 분사 층의 거시-경도는 90 내지 93 HR 15N의 범위이다.
더욱이, 본 발명에 따른 열 분사 층의 접착 인장 강도는 또한 상당히 개선될 수 있고, 특히 바람직하게는 65 MPa 내지 75 MPa의 범위이고, 그 결과 종래 기술로부터 공지된 대응하는 분사 층의 접착 인장 강도보다 적어도 5 MPa 더 높다.
본 발명에 따른 열 분사 층의 기공율은 유리하게 0.5 체적% 내지 1.5 체적%의 범위, 바람직하게는 1 체적%이므로, 공지된 분사 층에 대한 기공율은 적어도 1 체적% 만큼 감소되고, 즉 종래 기술에 비해 약 1/2 만큼 감소된다.
본 발명에 따른 분사 층은 또한 이미 언급된 개선 이외에 특히 결함의 감소를 특징으로 하므로, 본 발명에 따른 분사 층은 부식될 가능성이 극히 적고, 상당히 증가된 전성을 갖고, 공지된 분사 층에 비해 층 내에 균열이 형성될 위험성이 훨씬 적다.
결론적으로, 결국 이들 모두로부터, 예를 들면, DE 10 2009 008 114 A1에 따른 종래 기술에서 공지된 바와 같은 필수적으로 필요한 추가의 후처리가 본 발명에 따른 층을 위해서는 완전히 생략될 수 있다.
마지막으로 본 발명은 다음의 방법 단계를 포함하는 기재에 열 분사 층을 제조하기 위한 방법에 관한 것이다: 전술한 설명에 따라 본 발명에 따른 분사 분말을 제공하는 단계. 기재, 특히 차량용 브레이크 디스크를 제공하는 단계. 본 발명에 따른 분사 분말의 사용 시, 열 분사 방법에 의해, 바람직하게는 HVOF 방법에 의해 기재를 코팅하는 단계. 이와 관련하여, 열 분사법의 공정 파라미터는, 본 발명에 따른 방법 중에 기재에서의 부착 효율이 60 % 내지 65 %의 범위, 바람직하게는 50 % 내지 55 %의 범위로 달성되도록 선택된다.
Claims (15)
- 기재의 열 코팅을 위한 텅스텐 카바이드계 분사 분말로서,
상기 분사 분말은 불순물 외에 60 중량% 내지 75 중량%의 범위의 WC, 14 중량% 내지 22 중량%의 범위의 Cr3C2, 및 11 중량% 내지 23 중량%의 범위의 Ni을 포함하는, 텅스텐 카바이드계 분사 분말. - 제 1 항에 있어서,
상기 분사 분말 내의 WC의 부분은 63 중량% 내지 70 중량%의 범위, 바람직하게는 67 중량%인, 텅스텐 카바이드계 분사 분말. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 분사 분말 내의 Cr3C2의 부분은 17 중량% 내지 19 중량%의 범위, 바람직하게는 18 중량%인, 텅스텐 카바이드계 분사 분말. - 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 분사 분말 내의 Ni의 부분은 13 중량% 내지 20 중량%, 바람직하게는 15 중량%인, 텅스텐 카바이드계 분사 분말. - 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 분사 분말의 공칭 입도는 +11 ㎛ 내지 -45 ㎛의 범위, 특히 +20 ㎛ 내지 -45 ㎛의 범위고, 및/또는 상기 일차 카바이드의 입도는 0.5 ㎛ 내지 4 ㎛의 범위, 특히 2 ㎛ 내지 3 ㎛의 범위, 특히 바람직하게는 2.5 ㎛인, 텅스텐 카바이드계 분사 분말. - 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 따른 분사 분말의 제조 방법으로서,
- WC, Cr3C2 및 Ni을 제공하고, 불순물 외에 60 중량% 내지 75 중량%의 범위의 WC, 14 중량% 내지 22 중량%의 범위의 Cr3C2, 및 11 중량% 내지 23 중량%의 범위의 Ni로 구성되는 분말 혼합물을 제조하는 단계,
- 상기 분말 혼합물, 용매 및 첨가제를 포함하는 현탁액을 제조하고, 상기 현탁액을 균질화하는 단계;
- 상기 현탁액의 분사 건조( spray drying)에 의해 분말 케이크, 특히 응집체를 제조하는 단계;
- 상기 분말 케이크를 소결하는 단계;
- 상기 소결된 분말 케이크를 파쇄 및/또는 분쇄하여 분말 재료를 얻는 단계;
- 분류 방법에 의해 소정의 시드(seed) 크기 분포의 선택을 통해 분사 분말을 제공하는 단계를 포함하는, 분사 분말의 제조 방법. - 제 6 항에 있어서,
상기 용매는 이소헥산이고, 상기 첨가제는 결합제 및/또는 소포제인, 분사 분말의 제조 방법. - 텅스텐 카바이드계 열 분사 층을 갖는 기재로서,
상기 열 분사 층은 불순물 외에 60 중량% 내지 75 중량%의 범위의 WC, 14 중량% 내지 22 중량%의 범위의 Cr3C2, 및 11 중량% 내지 23 중량%의 범위의 Ni을 포함하는, 텅스텐 카바이드계 열 분사 층을 갖는 기재. - 제 8 항에 있어서,
상기 열 분사 층은 고속 플레임 분사 방법으로 제조되는, 텅스텐 카바이드계 열 분사 층을 갖는 기재. - 제 8 항 또는 제 9 항에 있어서,
상기 열 분사 층의 미시-경도(micro-hardness)는 1000 내지 1200 HV 0.3의 범위, 바람직하게는 1100 내지 1200의 HV 0.3의 범위, 특히 1160의 HV 0.3이고, 상기 열 분사 층의 거시-경도(macro-hardness)는 90 내지 93 HR 15N의 범위인, 텅스텐 카바이드계 열 분사 층을 갖는 기재. - 제 8 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 열 분사 층의 접착 인장 강도는 65 내지 75 MPa인, 텅스텐 카바이드계 열 분사 층을 갖는 기재. - 제 8 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
열 분사 층의 기공율은 0.5 체적% 내지 1.5 체적%, 바람직하게는 1 체적%인, 텅스텐 카바이드계 열 분사 층을 갖는 기재. - 제 8 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기재는 바람직하게는 차량용 브레이크 디스크인, 텅스텐 카바이드계 열 분사 층을 갖는 기재. - 제 8 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 따른 기재 상에 열 분사 층을 제조하는 방법으로서,
- 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 따른 분사 분말을 제공하는 단계;
- 기재, 특히 차량을 위한 브레이크 디스크 블랭크를 제공하는 단계;
- 열 분사 방법에 의해, 바람직하게는 상기 분사 분말의 사용 시 HVOF 방법에 의해 상기 기재를 코팅하는 단계를 포함하는, 기재 상에 열 분사 층을 제조하는 방법. - 제 14 항에 있어서,
상기 기재에서 60 % 내지 65 %의 범위, 바람직하게는 50 % 내지 55 %의 부착 효율이 달성되는, 기재 상에 열 분사 층을 제조하는 방법.
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