KR20140023821A - 금속 분말, 전자 부품 및 이의 제조 방법 - Google Patents

금속 분말, 전자 부품 및 이의 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20140023821A
KR20140023821A KR1020120090324A KR20120090324A KR20140023821A KR 20140023821 A KR20140023821 A KR 20140023821A KR 1020120090324 A KR1020120090324 A KR 1020120090324A KR 20120090324 A KR20120090324 A KR 20120090324A KR 20140023821 A KR20140023821 A KR 20140023821A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
metal
copper
particles
organic
metal powder
Prior art date
Application number
KR1020120090324A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101434024B1 (ko
Inventor
이귀종
오성일
Original Assignee
삼성전기주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전기주식회사 filed Critical 삼성전기주식회사
Priority to KR1020120090324A priority Critical patent/KR101434024B1/ko
Priority to JP2012244498A priority patent/JP2014037614A/ja
Priority to CN201210441317.XA priority patent/CN103594139A/zh
Priority to US13/717,059 priority patent/US20140049874A1/en
Publication of KR20140023821A publication Critical patent/KR20140023821A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101434024B1 publication Critical patent/KR101434024B1/ko
Priority to US14/932,923 priority patent/US20160141116A1/en

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F1/00Metallic powder; Treatment of metallic powder, e.g. to facilitate working or to improve properties
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G4/00Fixed capacitors; Processes of their manufacture
    • H01G4/002Details
    • H01G4/228Terminals
    • H01G4/232Terminals electrically connecting two or more layers of a stacked or rolled capacitor
    • H01G4/2325Terminals electrically connecting two or more layers of a stacked or rolled capacitor characterised by the material of the terminals
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G13/00Apparatus specially adapted for manufacturing capacitors; Processes specially adapted for manufacturing capacitors not provided for in groups H01G4/00 - H01G11/00
    • H01G13/006Apparatus or processes for applying terminals
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B38/00Ancillary operations in connection with laminating processes
    • B32B38/14Printing or colouring
    • B32B38/145Printing
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/02Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of metals or alloys
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G4/00Fixed capacitors; Processes of their manufacture
    • H01G4/002Details
    • H01G4/005Electrodes
    • H01G4/008Selection of materials
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G4/00Fixed capacitors; Processes of their manufacture
    • H01G4/30Stacked capacitors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G4/00Fixed capacitors; Processes of their manufacture
    • H01G4/002Details
    • H01G4/018Dielectrics
    • H01G4/06Solid dielectrics
    • H01G4/08Inorganic dielectrics
    • H01G4/12Ceramic dielectrics

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Ceramic Capacitors (AREA)
  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)
  • Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)

Abstract

본 발명은 세라믹 본체, 상기 세라믹 본체 내부에 형성된 내부 전극, 상기 내부 전극과 전기적으로 접속되고 상기 세라믹 본체의 외측에 형성되며 금속 입자 표면에 유기 금속으로 형성된 나노 돌기를 구비하는 금속 분말을 포함하는 외부 전극을 포함하는 전자 부품에 관한 것이다.

Description

금속 분말, 전자 부품 및 이의 제조 방법 {Metal powder, electronic device and method of producing the same}
본 발명은 금속 분말, 상기 금속 분말을 이용한 전자 부품 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.
최근, 전자 제품들의 소형화 및 고기능화 추세에 따라, 전자 부품 역시 소형화 및 고기능화가 요구되고 있다.
전자부품의 소형화 및 고집도에 따라 전자 회로의 전기적 통전성을 높이는 것이 요구되고 있다. 세라믹 전자부품의 경우, 전자부품과 기판과의 통전성을 위해 접촉부위를 구리 분말 페이스트로 도포 및 소결 후 니켈/주석/금 도금을 실시할 수 있다. 그러나 구리분말 페이스트와 세라믹 본체와의 소결 수축 차이에 의해 소결시 크랙(crack)이 발생하는 문제점이 있다. 또한, 최근에는 자동차 분야와 같이 사용 온도범위가 넓고 진동이 존재하는 적용분야에서는 종래의 소결형 전극재료보다 유연성이 좋은 재료가 요구되고 있다. 소결 크랙(crack)이나 유연성 측면에서 은 에폭시(Ag epoxy)와 같은 저온경화형 페이스트(paste)가 적용되고 있다. 그러나, 은(Ag)의 경우 원자재 가격의 급등으로 대체 재료들이 검토되고 있으며, Ag-coated copper 등이 대체제로 개발되어 오고 있다.
종래의 copper의 경우, epoxy로 바로 적용하기에는 도전성 및 산화성에 문제가 있었다.
도전성과 산화성 측면에서 수 um 이상의 입자나 flake가 사용되기도 하였다. 그러나 이러한 큰 입자들은 소형 전자부품에 적용하기에는 전극 도포두께가 너무 크다는 단점이 있다.
따라서 소형 전자부품의 전극 형성에 적합한 작은 크기의 구리분말을 적용하는 동시에 도전성을 개선시킬 방법이 도입될 필요가 있다.
일본공개공보 제1996-143792호
본 발명은 도전성을 향상시킬 수 있는 금속 분말을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또, 본 발명은 신뢰성이 우수한 전자 부품 및 이의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 일 실시 형태에 의한 금속 분말은 금속 입자, 상기 금속 입자 표면에 형성된 나노 돌기를 포함하며, 상기 나노 돌기는 유기 금속으로 형성될 수 있다.
상기 금속 입자는 구리 입자일 수 있다.
상기 유기 금속은 유기 구리일 수 있다.
본 발명의 일 실시 형태에 의한 전자 부품은 세라믹 본체, 상기 세라믹 본체 내부에 형성된 내부 전극, 상기 내부 전극과 전기적으로 접속되고 상기 세라믹 본체의 외측에 형성되며 금속 입자 표면에 유기 금속으로 형성된 나노 돌기를 구비하는 금속 분말을 포함하는 외부 전극을 포함할 수 있다.
상기 금속 입자는 구리(Cu) 입자일 수 있다.
상기 유기 금속은 유기 구리일 수 있다.
상기 금속 분말은 상기 나노 돌기를 통하여 인접하는 금속 분말과 접촉할 수 있다.
본 발명의 일 실시 형태에 의한 전자 부품의 제조 방법은 복수 개의 세라믹 그린시트를 마련하는 단계, 상기 세라믹 그린시트에 금속 페이스트로 내부전극을 형성하는 단계, 상기 내부전극이 형성된 세라믹 그린시트를 적층하여 적층체를 형성하는 단계, 상기 적층체를 소결하는 단계, 상기 소결체 외측에 바인더, 용제, 구리 입자 및 유기 구리를 포함하는 도전성 페이스트를 도포하는 단계, 상기 도전성 페이스트에 열처리를 가하여 나노 돌기를 구비한 금속 분말을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
본 발명의 다른 실시 형태에 의한 전자 부품의 제조 방법은 복수 개의 세라믹 그린시트를 마련하는 단계, 상기 세라믹 그린시트에 니켈 페이스트로 내부전극을 형성하는 단계, 상기 내부전극이 형성된 세라믹 그린시트를 적층하여 적층체를 형성하는 단계, 상기 적층체를 소결하는 단계, 상기 소결체 외부에 바인더, 용제 및 구리 입자 표면에 유기 구리로 형성된 나노 돌기를 구비한 금속 분말을 포함하는 도전성 페이스트로 외부 전극을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 전자 부품의 제조 방법은 구리 입자와 유기 구리를 혼합하여 상기 유기 구리를 상기 구리 입자의 표면에 코팅하는 단계, 코팅된 상기 구리 입자를 열처리하는 단계를 더 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 금속 분말은 도전성이 향상된 전극을 형성할 수 있다.
또, 본 발명에 따른 전자 부품의 제조 방법은 전극의 도전성을 향상시킴으로써 신뢰성이 우수한 전자 부품을 구현할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따른 적층 세라믹 커패시터를 나타내는 개략적인 사시도이다.
도 2는 도 1의 A-A'선을 따라 취한 적층 세라믹 커패시터를 나타내는 개략적인 단면도이다.
도 3은 일반적인 금속 분말을 나타내 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 의한 금속 분말을 나타낸 도면이다.
도 5는 본 발명의 일 실시형태에 따른 적층 세라믹 커패시터의 제조 공정도이다.
도 6은 실시예 1에서 형성되는 나노돌기를 구비한 금속 분말이다.
도 7은 실시예 2에서 형성되는 나노돌기를 구비한 금속 분말이다.
본 명세서에서 사용되는 기술적 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아님을 유의해야 한다. 또한, 본 명세서에서 사용되는 기술적 용어는 본 명세서에서 특별히 다른 의미로 정의되지 않는 한, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 의미로 해석되어야 하며, 과도하게 포괄적인 의미로 해석되거나, 과도하게 축소된 의미로 해석되지 않아야 한다. 또한, 본 명세서에서 사용되는 기술적인 용어가 본 발명의 사상을 정확하게 표현하지 못하는 잘못된 기술적 용어일 때에는, 당업자가 올바르게 이해할 수 있는 기술적 용어로 대체되어 이해되어야 할 것이다. 또한, 본 발명에서 사용되는 일반적인 용어는 사전에 정의되어 있는 바에 따라, 또는 전후 문맥상에 따라 해석되어야 하며, 과도하게 축소된 의미로 해석되지 않아야 한다.
또한, 본 명세서에서 사용되는 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "구성된다" 또는 "포함한다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 여러 구성 요소들, 또는 여러 단계들을 반드시 모두 포함하는 것으로 해석되지 않아야 하며, 그 중 일부 구성 요소들 또는 일부 단계들은 포함되지 않을 수도 있고, 또는 추가적인 구성 요소 또는 단계들을 더 포함할 수 있는 것으로 해석되어야 한다.
또한, 본 명세서에서 사용되는 제1, 제2 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성 요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성 요소도 제1 구성 요소로 명명될 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세히 설명하되, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 유사한 구성 요소는 동일한 참조 번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
또한, 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 첨부된 도면은 본 발명의 사상을 쉽게 이해할 수 있도록 하기 위한 것일 뿐, 첨부된 도면에 의해 본 발명의 사상이 제한되는 것으로 해석되어서는 아니 됨을 유의해야 한다.
이하에서는 본 발명의 일 실시형태에 따른 전자 부품 및 이의 제조방법을 설명하되, 특히 적층 세라믹 커패시터의 제조방법으로 설명하지만 이에 제한되는 것은 아니다.
예들 들어, 이하의 실시예에서는 적층 세라믹 커패시터 및 이의 제조 방법을 예로 들어 설명했지만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며 세라믹, 고분자 본체에 전극이 형성되는 전자 부품이라면 폭넓게 적용될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따른 적층 세라믹 커패시터를 나타내는 개략적인 사시도이다.
도 2는 도 1의 A-A'선을 따라 취한 적층 세라믹 커패시터를 나타내는 개략적인 단면도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 실시형태에 따른 적층 세라믹 커패시터는 복수 개의 유전체층이 적층된 세라믹 본체(110), 상기 유전체층에 형성된 복수 개의 내부 전극(121, 122), 상기 세라믹 본체(110)의 측면에 형성되는 외부 전극(131, 132)을 포함한다.
상기 세라믹 본체(110)의 형상에 특별히 제한은 없지만, 일반적으로 직방체 형상일 수 있다. 또한, 그 치수에 특별히 제한은 없으나, 예를 들면 0.6mm×0.3mm 크기일 수 있고, 22.5 ㎌ 이상의 고적층 및 고용량 적층 세라믹 커패시터일 수 있다.
상기 세라믹 본체(110)는 복수 개의 유전체층(112)이 적층되어 형성될 수 있다. 상기 세라믹 본체(110)를 구성하는 복수의 유전체층(112)은 소결된 상태로써, 인접하는 유전체층끼리의 경계는 확인할 수 없을 정도로 일체화되어 있을 수 있다.
일 유전체층(112)은 세라믹 분말을 포함하는 세라믹 그린시트의 소결에 의하여 형성될 수 있다.
상기 세라믹 분말은 당업계에서 일반적으로 사용되는 것이면 특별히 제한되지 않는다. 이에 제한되는 것은 아니나, 예를 들면 BaTiO3계 세라믹 분말을 포함할 수 있다. 상기 BaTiO3계 세라믹 분말은 이에 제한되는 것은 아니며, 예를 들면, BaTiO3 에 Ca, Zr 등이 일부 고용된 (Ba1 - xCax)TiO3, Ba(Ti1 - yCay)O3, (Ba1 -xCax)(Ti1-yZry)O3 또는 Ba(Ti1 - yZry)O3 등이 있다. 상기 세라믹 분말의 평균 입경은 이에 제한되는 것은 아니나, 예를 들면, 1.0㎛이하 일 수 있다.
또한, 상기 세라믹 그린시트는 상기 세라믹 분말과 함께 전이금속 산화물 또는 탄화물, 희토류 원소, 또는 Mg, Al 등을 포함할 수 있다.
상기 일 유전체층(112)의 두께는 적층 세라믹 커패시터의 용량 설계에 맞추어 적절히 변경될 수 있다. 이에 제한되는 것은 아니나, 예를 들면 소결 후 일 유전체층(112)의 두께는 1.0㎛이하 일 수 있다.
상기 세라믹 본체(110) 내부에는 복수 개의 내부전극(121, 122)이 형성될 수 있다. 상기 내부전극(121, 122)은 일 유전체층(112) 상에 형성되어 소결에 의하여 일 유전체층을 사이에 두고, 상기 세라믹 본체(110) 내부에 형성될 수 있다.
상기 내부전극은 서로 다른 극성을 갖는 제1 내부전극(121) 및 제2 내부전극(122)을 한 쌍으로 할 수 있으며, 유전체층의 적층 방향에 따라 대향 배치될 수 있다. 상기 제1 및 제2 내부 전극(121, 122)의 말단은 세라믹 본체(110)의 대향하는 양면에 교대로 노출될 수 있다.
상기 내부 전극(121, 122)의 두께는 용도 등에 따라 적절히 결정할 수 있는데, 예를 들면, 1.0㎛이하 일 수 있다. 또는 0.1 내지 1.0㎛의 범위 내에서 선택될 수 있다.
상기 내부전극(121, 122)은 금속 페이스트로 형성될 수 있다. 예컨대, 세라믹 그린시트에 금속 페이스트를 인쇄하고 소성하여 상기 내부전극(121, 122)이 형성될 수 있다. 상기 인쇄 방법에는 스크린 인쇄, 그라비아 인쇄 등이 있다.
상기 내부 전극(121, 122)은 도전성 금속 재질로 형성될 수 있다. 여기서 도전성 금속은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어 은(Ag), 납(Pb), 백금(Pt), 니켈(Ni) 또는 구리(Cu) 등이 이용될 수 있으며, 이들을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 외부 전극(131, 132)은 세라믹 본체(110)의 측면에 형성되어 내부전극(121, 122)과 전기적으로 연결될 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 세라믹 본체(110)일면으로 노출된 제1 내부 전극(121)과 전기적으로 연결된 제1 외부전극(131) 및 상기 세라믹 본체(110)의 타면으로 노출된 제2 내부 전극(122)과 전기적으로 연결된 제2 외부전극으로 구성될 수 있다.
상기 외부 전극(131, 132)은 본 발명의 일 실시예에 따른 도전성 페이스트로 형성될 수 있다. 상기 도전성 페이스트에 포함되는 도전재는 특별히 제한되지 않지만, 예를 들면 Ni, Cu, 또는 이들 합금을 사용할 수 있다. 상기 외부 전극(131, 132)의 두께는 용도 등에 따라 적절히 결정될 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에 따른 외부전극용 도전성 페이스트 조성물은 바인더, 용제 및 금속 입자 표면에 유기 금속으로 형성된 나노 돌기를 구비한 금속 분말을 포함할 수 있다.
상기 금속 분말에 사용될 수 있는 금속 입자, 유기 금속은 특별히 제한되지 않지만, 예를 들면 구리 입자, 유기 구리를 사용할 수 있다.
도 3은 일반적인 금속 분말을 나타내 도면이다.
도 3(a)는 금속 분말간의 접촉 상태를 나타내고 있다.
도 3(a)에 도시되어 있는 바와 같이, 일반적인 금속 분말을 이용하여 외부 전극 등을 형성하는 경우, 인접한 금속 입자(10)가 서로 접촉을 한다. 그리고 상기 금속 입자(10) 간의 접촉에 의하여, 상기 외부 전극은 도전성을 띨 수 있다.
도전성을 향상시키기 위한 방법으로는 도전성이 우수한 재료로 금속 입자를 표면처리하는 방법, 금속 입자간의 접촉을 증가시키는 방법 등이 있다.
예컨대, 도 3(b)에 도시되어 있는 바와 같이, 금속 입자(10, 예컨대 구리)의 표면에 은(Ag) 코팅막이 형성될 수 있다. 그러나 코팅막을 형성하는 방법은 입자간의 접촉성을 크게 향상시키지 못하므로 전극의 도전성을 향상시키는데 한계가 있다.
한편, 상기 표면 코팅 방식은 입자간 접촉을 높이기 위한 것이 주목적이 아니라, 금속 입자의 산화를 방지하거나 은(Ag)과 같은 귀금속의 사용량을 줄이는 것이 주목적이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 의한 금속 분말을 나타낸 도면이다.
도 4(a)를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 의한 금속 분말은 금속 입자(10), 나노돌기(20)를 포함할 수 있다.
상기 금속 입자(10)는 구리(Cu)로 형성되는 것이 바람직하다.
상기 나노돌기(20)는 유기 금속으로 형성되는 것이 바람직하다. 또, 상기 나노돌기(20)는 유기 구리로 형성되는 것이 바람직하다.
종래의 금속 도금법에 의해서는 금속 입자 전체가 코팅된 구조(도 3(b) 참조)만 형성될 수 있었다.
따라서 금속 입자 표면에 나노돌기를 형성하기 위해서는 새로운 재료가 요구되었다.
본 발명의 일 실시예에 의할 때, 유기 금속을 이용하여 금속 입자에 나노 돌기를 형성할 수 있다. 왜냐하면 상기 유기 금속의 분자 구조를 제어함으로써 용매와의 상용성 및 분해 온도를 제어할 수 있기 때문이다.
도 4(b)는 본 발명의 일 실시예에 의한 금속 분말의 접촉 상태를 나타낸 도면이다.
도 4(b)에 도시되어 있는 바와 같이, 상기 금속 분말은 나노 돌기를 이용하여 서로 접촉한다. 따라서 상기 금속 분말의 접촉성이 크게 향상될 수 있다.
도 2를 참조하면, B영역에 대한 확대도를 통하여, 본 발명의 일 실시예에 의한 금속 분말을 사용하여 형성된 외부 전극을 확인할 수 있다.
상기 확대도에 도시되어 있는 바와 같이, 금속 분말은 나노돌기(10)를 통하여 서로 접촉할 수 있다.
이 때, 금속 분말의 접촉성이 향상됨에 따라, 상기 외부 전극(131, 132)의 도전 특성이 향상될 수 있다.
도 5는 본 발명의 일 실시형태에 따른 적층 세라믹 커패시터의 제조 공정도이다.
도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시형태에 따른 적층 세라믹 커패시터의 제조방법은 복수 개의 세라믹 그린시트를 마련하는 단계; 상기 세라믹 그린시트에 니켈 페이스트 조성물로 내부전극을 형성하는 단계; 상기 내부전극이 형성된 세라믹 그린시트를 적층하여 적층체를 형성하는 단계; 상기 적층체를 소결하는 단계; 도전성 페이스트 조성물로 외부 전극을 형성하는 단계; 상기 외부 전극을 소결하는 단계를 포함할 수 있다.
한편, 상기 도전성 페이스트 조성물은 바인더, 용제, 금속 입자, 유기 금속을 포함할 수 있다.
이 경우에는, 금속 입자와 유기 금속이 용매에 혼합된 상태에서 상기 도전성 페이스트 조성물이 건조, 열처리를 거친다. 이 때, 상기 도전성 페이스트 조성물에 포함된 금속 입자, 유기 금속의 작용에 의하여 나노 돌기를 구비한 금속 분말이 생성될 수 있다.
이 방식의 경우에는 외부 전극이 형성되는 과정에서 나노 돌기가 구비된 금속 분말이 형성되어 입자간 접촉성을 더욱 높일 수 있다는 장점이 있다.
또는, 상기 도전성 페이스트 조성물은 바인더, 용제, 금속 입자 표면에 유기 금속으로 형성된 나노 돌기를 구비한 금속 분말을 포함할 수 있다.
이 경우에는, 상기 도전성 페이스트 조성물로 외부 전극을 형성하는 단계 이전에, 금속 입자 표면에 유기금속으로 형성된 나노 돌기를 구비한 금속 분말을 마련할 수 있다.
나노 돌기를 구비한 금속 분말을 마련하는 단계는 금속 입자와 유기 금속을 용매에 혼합하여 유기 금속을 금속 입자 표면에 코팅시키는 단계; 코팅된 상기 금속 입자를 건조, 열처리하는 단계를 포함할 수 있다.
이 때, 상기 건조, 열처리 과정에서 유기 금속이 열분해되며, 상기 금속 입자 표면에 상기 열분해된 유기 금속이 금속화되면서 나노돌기를 형성할 수 있다.
이와 같이, 나노돌기를 구비한 금속 분말을 미리 형성하는 방법은 도전성 페이스트에 포함되는 금속 분말의 양을 세밀하게 조절할 수 있다는 장점이 있다. 즉, 목적에 따라 적절한 도전성 페이스트가 형성될 수 있다.
이와 같은 도전성 페이스트가 본 발명의 일 실시예에 따른 적층 세라믹 커패시터의 제조 과정에서 이용될 수 있다.
이하에서, 상기 도전성 페이스트를 이용한 적층 세라믹 커패시터의 제조 방법에 대해서 구체적으로 살펴보기로 한다.
본 발명의 일 실시예에 의할 때, 우선, 복수 개의 그린시트를 마련하는데(도 5(a)), 그린시트는 세라믹 그린시트로서 티탄산바륨(BaTiO3) 등의 파우더를 세라믹 첨가제, 유기용제, 가소제, 결합제, 분산제와 배합하여 수 ㎛ 두께의 유전체 층(112)을 형성할 수 있다.
그리고, 그린시트 상에 니켈 페이스트에 의한 내부전극 층(121, 122)을 형성할 수 있다(도 5(b)).
이와 같이 내부전극 층(121, 122)이 형성된 후 그린시트를 캐리어 필름으로부터 분리시킨 후 복수의 그린시트 각각을 서로 겹쳐서 적층하여 적층체를 형성할 수 있다(도 5(c)).
이어 그린시트 적층체를 고온, 고압으로 압착시킨 후(도 5(d)), 압착된 시트 적층체를 절단공정을 통해 소정의 크기로 절단하여(도 5(e)) 그린 칩(green chip)을 제조할 수 있다(도 5(f)).
이 후, 칩화한 적층체를 소성하여 세라믹 본체를 제조할 수 있다.
다음으로, 세라믹 본체의 측면을 덮으며, 세라믹 본체의 측면으로 노출된 제1 및 제2 내부전극과 전기적으로 연결되도록 제1 및 제2 외부전극을 형성할 수 있다(도 5(g)). 상기 제1 및 제2 외부 전극은 본 발명의 일 실시예에 의한 도전성 페이스트에 의하여 형성될 수 있다. 이 후, 외부 전극의 표면에 니켈, 주석 등의 도금처리를 실시할 수 있다.
이하 실시예를 통하여 본 발명을 더욱 상세히 설명하지만, 이는 발명의 구체적인 이해를 돕기 위한 것으로 본 발명의 범위가 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
본 실시예는 나노돌기를 구비한 금속 분말의 구조 형성 및 이에 의한 전도 효과를 확인하기 위한 것이다.
[실시예 1]
실시예 1은 나노돌기를 구비한 금속 분말을 미리 형성하는 방법에 대한 것이다.
우선 구리 합금 분말과 구리 유기 금속을 에탄올 용매에 투입하고, 믹서(mixer)를 통하여 교반하였다.
교반 완료 후, 상기 교반물에서 에탄올을 건조시킨 다음에 상기 교반물을 200℃에서 열처리하였다.
도 6은 실시예 1에 의할 때, 형성되는 나노돌기를 구비한 금속 분말이다.
도 6에서 확인할 수 있는 바와 같이, 구리 합금 분말 표면에 수십 nm 크기의 나노 돌기가 형성되었다.
한편, 상기와 같은 과정을 통하여 획득한 나노 돌기를 구비한 구리 분말을 에폭시(epoxy)와 혼합하여 전극을 형성한 후의 저항값을 측정하였다. 또, 나노 돌기를 구비하지 않은 일반적인 구리 분말을 에폭시(epoxy)와 혼합하여 전극을 형성한 후의 저항값을 측정하였다.
본 발명의 일 실시예에 의한 전극은 100 ohm 정도의 낮은 저항값을 나타낸다. 한편, 나노 돌기를 구비하지 않은 금속 분말을 사용한 전극은 1000 ohm 이상의 저항값을 나타낸다.
따라서 나노돌기를 구비한 금속 분말을 사용하여 전극을 형성하는 경우, 저항값을 크게 낮출 수 있다는 것을 확인하였다.
[실시예 2]
실시예 2는 도전성 페이스트를 이용하여 전극을 형성하는 공정에서 나노돌기를 구비한 금속 분말을 형성하는 방법에 대한 것이다.
우선 구리 합금 분말과 구리 유기 금속을 에폭시(epoxy) 용액과 혼합하여 교반 및 3-roll milling하여 에폭시(epoxy) 페이스트를 제작하였다.
상기 페이스트를 유전체층에 도포하고 200℃에서 열처리한 후, SEM으로 관찰한 결과 나노돌기가 형성된 금속 분말을 확인하였다.
도 7은 실시예 2에 의할 때, 형성되는 나노돌기를 구비한 금속 분말이다.
도 7에서 확인할 수 있는 바와 같이, 구리 합금 분말 표면에 수십 nm 크기의 나노 돌기가 형성되었다.
한편, 상기와 같은 과정을 통하여 전극을 형성한 후의 저항값을 측정하였다. 또, 유기 금속을 구비하지 않은 도전성 페이스트를 이용하여 전극을 형성한 후의 저항값을 측정하였다.
본 발명의 일 실시예에 의한 전극은 50 ohm의 저항값을 나타낸다. 한편, 유기 금속을 구비하지 않은 도전성 페이스트를 이용하여 형성한 전극은 4500 ohm의 저항값을 나타낸다.
따라서 유기 금속을 구비한 도전성 페이스트를 사용하여 전극을 형성하는 경우, 저항값을 크게 낮출 수 있다는 것을 확인하였다.
한편, 실시예 1과 실시예 2를 비교하면, 나노돌기를 구비한 금속 분말을 포함하는 도전성 페이스트를 사용하는 것보다 금속 입자 및 유기 금속을 포함하는 도전성 페이스트를 사용하는 것이 도전성 측면에서 유리하다는 것을 확인할 수 있다.
10 : 금속 입자 20 : 나노 돌기
110 : 세라믹 본체 112 : 유전체층
121, 122 : 내부 전극 131, 132 : 외부 전극

Claims (10)

  1. 금속 입자; 및
    상기 금속 입자 표면에 형성된 나노 돌기;를 포함하며,
    상기 나노 돌기는 유기 금속으로 형성된 금속 분말.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 금속 입자는 구리 입자인 금속 분말.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 유기 금속은 유기 구리인 금속 분말.
  4. 세라믹 본체;
    상기 세라믹 본체 내부에 형성된 내부 전극; 및
    상기 내부 전극과 전기적으로 접속되고, 상기 세라믹 본체의 외측에 형성되며, 금속 입자 표면에 유기 금속으로 형성된 나노 돌기를 구비하는 금속 분말을 포함하는 외부 전극;
    을 포함하는 전자 부품.
  5. 제4 항에 있어서,
    상기 금속 입자는 구리(Cu) 입자인 전자 부품.
  6. 제4 항에 있어서,
    상기 유기 금속은 유기 구리인 전자 부품.
  7. 제4 항에 있어서,
    상기 금속 분말은 상기 나노 돌기를 통하여 인접하는 금속 분말과 접촉하는 전자 부품.
  8. 복수 개의 세라믹 그린시트를 마련하는 단계;
    상기 세라믹 그린시트에 금속 페이스트로 내부전극을 형성하는 단계;
    상기 내부전극이 형성된 세라믹 그린시트를 적층하여 적층체를 형성하는 단계;
    상기 적층체를 소결하는 단계;
    상기 소결체 외측에 바인더, 용제, 구리 입자 및 유기 구리를 포함하는 도전성 페이스트를 도포하는 단계; 및
    상기 도전성 페이스트에 열처리를 가하여 나노 돌기를 구비한 금속 분말을 형성하는 단계;
    를 포함하는 전자 부품의 제조 방법.
  9. 복수 개의 세라믹 그린시트를 마련하는 단계;
    상기 세라믹 그린시트에 니켈 페이스트로 내부전극을 형성하는 단계;
    상기 내부전극이 형성된 세라믹 그린시트를 적층하여 적층체를 형성하는 단계;
    상기 적층체를 소결하는 단계; 및
    상기 소결체 외부에 바인더, 용제 및 구리 입자 표면에 유기 구리로 형성된 나노 돌기를 구비한 금속 분말을 포함하는 도전성 페이스트로 외부 전극을 형성하는 단계;
    를 포함하는 전자 부품의 제조 방법.
  10. 제9 항에 있어서,
    구리 입자와 유기 구리를 혼합하여 상기 유기 구리를 상기 구리 입자의 표면에 코팅하는 단계; 및
    코팅된 상기 구리 입자를 열처리하는 단계를 더 포함하는 전자 부품의 제조 방법.
KR1020120090324A 2012-08-17 2012-08-17 금속 분말, 전자 부품 및 이의 제조 방법 KR101434024B1 (ko)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120090324A KR101434024B1 (ko) 2012-08-17 2012-08-17 금속 분말, 전자 부품 및 이의 제조 방법
JP2012244498A JP2014037614A (ja) 2012-08-17 2012-11-06 金属粉末、電子部品及びその製造方法
CN201210441317.XA CN103594139A (zh) 2012-08-17 2012-11-07 金属粉末、电子元件及其制造方法
US13/717,059 US20140049874A1 (en) 2012-08-17 2012-12-17 Metal powder, electronic component and method of producing the same
US14/932,923 US20160141116A1 (en) 2012-08-17 2015-11-04 Metal powder, electronic component and method of producing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120090324A KR101434024B1 (ko) 2012-08-17 2012-08-17 금속 분말, 전자 부품 및 이의 제조 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20140023821A true KR20140023821A (ko) 2014-02-27
KR101434024B1 KR101434024B1 (ko) 2014-08-25

Family

ID=50084240

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020120090324A KR101434024B1 (ko) 2012-08-17 2012-08-17 금속 분말, 전자 부품 및 이의 제조 방법

Country Status (4)

Country Link
US (2) US20140049874A1 (ko)
JP (1) JP2014037614A (ko)
KR (1) KR101434024B1 (ko)
CN (1) CN103594139A (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160047334A (ko) * 2014-10-22 2016-05-02 삼성전기주식회사 페이스트용 조성물, 그 제조 방법 및 이를 포함하는 세라믹 전자 부품의 제조 방법
KR20190130998A (ko) * 2019-11-14 2019-11-25 삼성전기주식회사 전극형성용 도전성 금속 분말, 그 제조방법 및 이를 포함하는 전자부품 외부전극용 도전성 페이스트

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10236622B2 (en) * 2014-07-16 2019-03-19 Siemens Aktiengesellschaft Subsea electrical connector component
KR20190121210A (ko) 2018-10-17 2019-10-25 삼성전기주식회사 적층 세라믹 전자부품 및 그 제조방법
KR20230027853A (ko) * 2021-08-20 2023-02-28 삼성전기주식회사 도전성 페이스트 및 이를 이용한 적층형 세라믹 부품

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6454085A (en) * 1987-08-25 1989-03-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd Conductive adhesive
JP3739830B2 (ja) * 1995-05-25 2006-01-25 松下電器産業株式会社 チップ状電子部品およびその製造方法
JP3205793B2 (ja) * 1996-12-19 2001-09-04 株式会社巴製作所 超微粒子及びその製造方法
WO1998036888A1 (en) * 1997-02-24 1998-08-27 Superior Micropowders Llc Aerosol method and apparatus, particulate products, and electronic devices made therefrom
US20050097987A1 (en) * 1998-02-24 2005-05-12 Cabot Corporation Coated copper-containing powders, methods and apparatus for producing such powders, and copper-containing devices fabricated from same
JP4301646B2 (ja) * 1999-07-28 2009-07-22 Dowaホールディングス株式会社 ニッケル粉の製造法
JP2002187770A (ja) * 2000-12-15 2002-07-05 Toho Titanium Co Ltd 誘電体磁器組成物及びこれを用いた積層セラミックコンデンサ
JP3734731B2 (ja) * 2001-09-06 2006-01-11 株式会社ノリタケカンパニーリミテド セラミック電子部品及びその製造方法
JP4163987B2 (ja) * 2003-04-10 2008-10-08 三井金属鉱業株式会社 フレーク状銅粉、フレーク状銅粉の製造方法及び導電性ペースト
US6828266B1 (en) * 2003-05-16 2004-12-07 Ferro Corporation X7R dielectric composition
JP4164010B2 (ja) * 2003-08-26 2008-10-08 三井金属鉱業株式会社 無機超微粒子コート金属粉及びその製造方法
US8075949B2 (en) * 2004-09-29 2011-12-13 Tdk Corporation Method of production of a conductive particle, conductive paste, and method of production of electronic device
JP4651533B2 (ja) * 2005-12-26 2011-03-16 三井金属鉱業株式会社 銅粒子の製造方法
JP5444699B2 (ja) * 2008-11-28 2014-03-19 富士通株式会社 異方性導電性接着剤のための導電性粒子、異方性導電性接着剤、異方性導電性接着剤のための導電性粒子の製造方法、半導体装置
CN101798683B (zh) * 2009-02-11 2012-05-30 财团法人工业技术研究院 纳米金属溶液、纳米金属复合颗粒及金属膜层的制作方法
JP5476631B2 (ja) * 2010-03-05 2014-04-23 株式会社村田製作所 電子部品およびその製造方法
JP5699472B2 (ja) 2010-07-27 2015-04-08 富士通株式会社 はんだ材料とその作製方法、及びこれを用いた半導体装置の製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160047334A (ko) * 2014-10-22 2016-05-02 삼성전기주식회사 페이스트용 조성물, 그 제조 방법 및 이를 포함하는 세라믹 전자 부품의 제조 방법
KR20190130998A (ko) * 2019-11-14 2019-11-25 삼성전기주식회사 전극형성용 도전성 금속 분말, 그 제조방법 및 이를 포함하는 전자부품 외부전극용 도전성 페이스트

Also Published As

Publication number Publication date
JP2014037614A (ja) 2014-02-27
US20160141116A1 (en) 2016-05-19
US20140049874A1 (en) 2014-02-20
CN103594139A (zh) 2014-02-19
KR101434024B1 (ko) 2014-08-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20130258546A1 (en) Multilayer ceramic electronic component and fabrication method thereof
KR102527715B1 (ko) 내부전극용 도전성 분말 및 커패시터
CN102568822B (zh) 多层陶瓷电容器及其制造方法
TWI814730B (zh) 積層陶瓷電容器及其製造方法
US9396879B2 (en) Multilayer ceramic capacitor and board having the same
JP5483498B2 (ja) 積層セラミック電子部品及びその製造方法
US20130250480A1 (en) Multi-layer ceramic electronic component and method of manufacturing the same
US9524825B2 (en) Multilayer ceramic capacitor and board for mounting thereof
US11062849B2 (en) Method of manufacturing multilayer ceramic electronic component and multilayer ceramic electronic component
KR102552423B1 (ko) 유전체 파우더 및 이를 이용한 적층형 세라믹 전자부품
KR101434024B1 (ko) 금속 분말, 전자 부품 및 이의 제조 방법
JP2013080903A (ja) 積層セラミック電子部品及びその製造方法
US10262795B2 (en) Multilayer ceramic electronic component including ceramic-metal compound layers
US20140226254A1 (en) Conductive paste composition, multilayer ceramic capacitor using the same, and method of manufacturing multilayer ceramic capacitor using the same
KR101792275B1 (ko) 내부 전극용 도전성 페이스트, 이를 포함하는 적층 세라믹 전자 부품 및 그 제조 방법
US20140098454A1 (en) Multilayered ceramic electronic component and method of manufacturing the same
US9672984B2 (en) Multilayer ceramic electronic component and manufacturing method thereof
US11908626B2 (en) Multilayer ceramic electronic component and method of manufacturing the same
KR20120066945A (ko) 내부전극용 도전성 페이스트 조성물, 이를 이용한 적층 세라믹 전자부품 및 그 제조방법
CN108231409B (zh) 介电组合物和具有介电组合物的多层陶瓷电容器
KR101912262B1 (ko) 적층 세라믹 전자 부품 및 그 제조 방법
US20230260709A1 (en) Multilayer electronic component
KR20190012988A (ko) 적층 세라믹 커패시터 제조 방법 및 동일 방법으로 제조된 적층 세라믹 커패시터
KR102198539B1 (ko) 내부전극용 도전성 페이스트 및 적층 세라믹 전자부품의 제조방법
JP2002231561A (ja) 積層セラミック電子部品及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170703

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180702

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190701

Year of fee payment: 6