KR20130090162A - 홀로그램 스탬퍼의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
홀로그램 스탬퍼의 제조방법이 개시된다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 홀로그램 스탬퍼의 제조방법은, 제1 홀로그램 패턴형성단계와, 제2 홀로그램 패턴형성단계 및 홀로그램 스탬퍼 형성단계를 포함하여, 다양한 홀로그램 형상의 표현이 가능하고, 제조가 용이한 홀로그램 스탬퍼를 제조할 수 있다.
Description
본 발명은 홀로그램 스탬퍼의 제조방법에 관한 것이다.
일반적인 홀로그램 복제 스탬퍼를 제조하기 위한 홀로그램 스탬퍼로서, 이미지 홀로그램(Image Hologram), 패턴 홀로그램(Pattern Hologram), HOE(Holographic Optical Elements) 및 DOE(Diffractive Optical Elements)로 기록되는 표면 요철(릴리프) 형태로 만들어진 홀로그램 글래스 마스터(Hologram Glass Master) 및 홀로그램 메탈 마스터(Hologram Metal Master) 등이 있다.
이와 같은 홀로그램 스탬퍼를 통해 UV(ultraviolet) 경화 또는 열 경화 방식으로 홀로그램 복제 스탬프를 제조한다.
종래 홀로그램 마스터 또는 스탬퍼는 일본 특허공개 1993-281894호에 기재되어 있는 바와 같이 니켈 전기 도금을 통해 니켈로 만들어진 메탈 마스터 및 메탈 스탬퍼(메탈 심)를 제작하여 엠보싱 머신에 클램핑 또는 접착제로 부착하여 사용하였다.
이러한 방식을 사용하는 경우, 은경반응을 위해 만들어야하는 실버 스프레이 또는 실버 증착(스파터링)을 통해 유리 홀로그램 마스터에 전기가 통하도록 하는 작업이 먼저 이루어지고 난 후에 니켈 도금조에 전기분해를 통해 도금하여 메탈 마스터 및 메탈 스탬퍼를 만들므로 제작이 어렵고, 환경 오염을 시키는 문제가 있다.
본 발명의 하나의 관점은 다양한 홀로그램 형상의 구현이 가능한 홀로그램 스탬퍼의 제조방법을 제공하고자 한다.
또한, 본 발명의 다른 관점은 광경화성 수지를 사용하여 메탈 홀로그램 스탬퍼와 동일한 강도와 내구성을 갖는 홀로그램 스탬퍼의 제조방법을 제공하고자 한다.
본 발명의 홀로그램 스탬퍼의 제조방법은, 제1 투명필름에 도포된 제1 광경화성 수지를 제1 홀로그램 성형판에 위치시켜 제1 포토마스크를 이용하여 선택적으로 경화시킨 후, 상기 제1 홀로그램 성형판을 분리하고, 상기 제1 광경화성 수지의 비경화된 부분을 수세액으로 제거하여 일부분이 제거된 제1 성형체를 형성시키는 제1 홀로그램 패턴형성단계; 상기 제1 성형체에 제2 광경화성 수지를 도포하고, 이를 제2 홀로그램 성형판에 위치시킨 다음, 제2 포토마스크를 이용하여 선택적으로 경화시킨 후, 상기 제2 홀로그램 성형판 및 상기 제2 포토마스크와 분리시켜 제2 성형체를 형성시키는 제2 홀로그램 패턴 형성단계; 및 상기 제2 성형체에 광경화성 수지가 도포된 제2 투명필름을 위치시킨 다음 상기 광경화성 수지를 경화시킨 후, 상기 제2 성형체를 분리시켜 홀로그램 스탬퍼 형성시키는 홀로그램 스탬퍼 형성단계;를 포함한다.
본 발명의 일 실시 예에 있어서, 상기 방법은, 상기 제2 광경화성 수지의 도포 후, 상기 제1 성형체와 상기 제2 홀로그램 성형판을 롤러를 통해 상호 압착시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 실시 예에 있어서, 상기 방법은, 상기 제2 성형체를 분리한 후, 상기 제2 성형체의 잔류물을 수세액을 통해 수세 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 또 다른 실시 예에 있어서, 상기 방법은, 상기 제2 홀로그램 패턴 형성단계에서, 상기 제2 광경화성 수지의 비경화된 부분을 수세액으로 제거한 다음, 여기에 제3 광경화성 수지를 도포하고, 이를 제3 홀로그램 성형판에 위치시킨 다음, 제3 포토마스크를 이용하여 선택적으로 경화시킨 후, 상기 제3 홀로그램 성형판 및 상기 제3 포토마스크와 분리시켜 제3 성형체를 형성시키는 제3 홀로그램 패턴 형성단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 또 다른 실시 예에 있어서, 상기 수세액은 알코올인 것을 특징으로 한다.
본 발명의 특징 및 이점들은 첨부도면에 의거한 다음의 상세한 설명으로부터 더욱 명백해질 것이다.
이에 앞서 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이고 사전적인 의미로 해석되어서는 아니되며, 발명자가 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합되는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.
본 발명은 다양한 홀로그램 형상의 구현이 가능할 수 있다. 또한, 본 발명은 광경화성 수지를 사용하여 메탈 홀로그램 스탬퍼와 동일한 강도와 내구성을 갖는 홀로그램 스탬퍼를 제조할 수 있고, 제조가 용이하다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 홀로그램 스탬퍼의 제조방법에 대한 순서도이다.
도 2 내지 24는 본 발명의 일 실시예에 따른 홀로그램 스탬퍼의 제조방법을 공정순서대로 나타낸 단면도 및 평면도이다.
도 2 내지 24는 본 발명의 일 실시예에 따른 홀로그램 스탬퍼의 제조방법을 공정순서대로 나타낸 단면도 및 평면도이다.
본 발명의 목적, 특정한 장점들 및 신규한 특징들은 첨부된 도면들과 연관되어지는 이하의 상세한 설명과 바람직한 일 실시 예들로부터 더욱 명백해질 것이다. 본 명세서에서 각 도면의 구성요소들에 참조번호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 한해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 번호를 가지도록 하고 있음에 유의하여야 한다. 또한, 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 일 실시 예에 한정되지 않는다. 그리고, 본 발명을 설명함에 있어서, 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있는 관련된 공지 기술에 대한 상세한 설명은 생략하도록 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 홀로그램 스탬퍼의 제조방법에 대한 순서도이다.
도 1 을 참고하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 홀로그램 스탬퍼의 제조방법은, 제1 홀로그램 패턴 형성단계와, 제2 홀로그램 패턴 형성단계 및 홀로그램 스탬퍼 형성단계를 포함한다.
여기서, 제1 홀로그램 패턴 형성단계는 제1 도포단계(S110), 제1 노광단계(S120), 제1 분리단계(S130) 및 제1 제거단계(S140)를 포함한다.
또한, 제2 홀로그램 패턴 형성단계는 제2 도포단계(S150), 제2 노광단계(S160), 제2 분리단계(S170)를 포함한다.
아울러, 홀로그램 스탬퍼 형성단계는 제3 도포단계(S180), 제3 노광단계(S190) 및 제3 분리단계(S195)를 포함하여 이루어진다.
도 2 내지 19는 본 발명의 일 실시예에 따른 홀로그램 스탬퍼의 제조방법을 공정순서대로 나타낸 단면도 및 평면도이다.
여기서, 도 2 내지 도 9 및 도 11 내지 도 18은 본 발명의 일 실시예에 따른 홀로그램 스탬퍼의 제조방법을 공정순서대로 나타낸 단면도이고, 도 10 및 도 19는 본 발명의 일 실시 예에 따른 홀로그램 스탬퍼의 제조방법을 제조된 제1 성형체 및 제2 성형체를 나타낸 평면도이다.
이하에서, 도 1 내지 도 19를 참조하여, 홀로그램 스탬퍼의 제조방법인 본 발명의 일 실시 예에 대해 보다 상세히 설명하기로 한다.
도 1을 참고하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 홀로그램 스탬퍼의 제조방법의 제1 홀로그램 패턴형성단계는 제1 도포단계(S110), 제1 노광단계(S120), 제1 분리단계(S130) 및 제1 제거단계(S140)를 포함하여 제1 홀로그램 패턴을 형성한다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 제1 도포단계(S110)는 제1 투명필름(30)에 제1 광경화성 수지(20)를 도포한 후 제1 홀로그램 성형판(10)에 밀착시킨다. 이때, 제1 투명필름(30)에 도포된 제1 광경화성 수지(20)의 외측면과 제1 홀로그램 성형판(10)의 홀로그램 패턴이 형성된 면이 상호 밀착된다.
여기서, 제1 홀로그램 성형판(10)은 금속재질로 이루어지고, 일면에 제1 홀로그램 패턴이 선택적으로 형성된다.
또한, 제1 광경화성 수지(20)는 UV(ultraviolet, 자외선) 경화 수지를 포함할 수 있다. 아울러, 제1 광경화성 수지(20)는 PET(polyethylene terephthalate), PVC(polyvinyl chloride) 또는 폴리카보네이트(PC) 중에서 어느 하나로 이루어질 수 있지만, 본 발명의 일 실시 예에 따른 제1 광경화성 수지(20)의 재질이 여기에 반드시 한정되는 것은 아니다.
그리고, 제1 투명필름(30)은 PET, 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리에테르설폰(PES), 폴리카보네이트(PC), 고리형 올레핀 고분자(COC) 또는 폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA) 중에서 어느 하나로 이루어질 수 있지만, 본 발명에 따른 제1 투명필름(30)의 재질이 여기에 반드시 한정되는 것은 아니다.
한편, 도 3을 참고하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 홀로그램 스탬퍼의 제조방법의 제1 도포단계(S110)는 제1 투명필름(30)과 제1 광경화성 수지(20) 및 제1 홀로그램 성형판(10)을 롤러(40)로 상호 압착하는 제1 압착단계를 더 포함할 수 있다.
이때, 제1 광경화성 수지(20)의 상,하측에 위치된 제1 투명필름(30) 및 제1 홀로그램 성형판(10)의 양측에 제1 롤러(41) 및 제2 롤러(42)가 위치되어 제1 광경화성 수지(20)와 함께 이동되는 제1 투명필름(30) 및 제1 홀로그램 성형판(10)에 압축력을 가한다.
이에 따라, 제1 홀로그램 성형판(10)과 상호 밀착되는 제1 광경화성 수지(20)의 일면에 제1 홀로그램 패턴이 보다 명확하게 형성된다. 아울러, 제1 광경화성 수지(20)의 타면과 제1 투명필름(30)이 보다 강하게 접착된다.
도 6 및 도 7을 참고하면, 제1 노광단계(S120)는 제1 포토마스크(photomask)(50)를 통해 제1 광경화성 수지(20)를 노광하여 선택적으로 경화시킨다. 이때, 노광장치(50)에서 조사되는 자외선이 제1 포토마스크(50)의 개구부(52)를 통과하여 제1 광경화성 수지(20)의 제1 부분을 경화시킨다. 이에 따라, 제1 광경화성 수지(20)의 제1 부분에 제1 홀로그램 패턴이 형성된 제1 홀로그램 형성부(21)가 형성된다.
한편, 도 4를 참고하면, 제1 노광단계(S120)는 노광하기 전에 제1 광경화성 수지(20)의 일면에 제1 포토마스크(50)를 위치시키되, 제1 광경화성 수지(20)와 제1 포토마스크(50)의 사이에 오일(51)을 도포한 후 제1 포토마스크(50)를 안착시킬 수 있다. 이에 따라, 도포된 오일(51)에 의해 제1 노광단계(S120)를 거친 후 제1 포토마스크(50)를 제1 광경화성 수지(20)로 부터 분리하기가 용이하다.
여기서, 도 5를 참고하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 제1 노광단계(S120)는 제1 투명필름(30) 및 제1 포토마스크(50)를 롤러(40)로 가압하여 상호 밀착시키는 밀착단계를 더 포함할 수 있다.
도 8을 참고하면, 제1 분리단계(S130)는 제1 광경화성 수지(20)를 제1 포토마스크(50) 및 제1 홀로그램 성형판(10)에서 분리시킨다. 이때, 제1 광경화성 수지(20)의 일면에 배치된 제1 투명필름(30)은 분리되지 않고, 제1 광경화성 수지(20)를 지지한다.
도 9 및 도 10을 참고하면, 제1 제거단계(S140)는 제1 광경화성 수지(20)의 비경화 부분인 제2 부분을 수세액을 통해 제거하여 일측이 제거된 제1 성형체(110)를 형성시킨다. 이때, 제1 성형체(110)의 일부분이 제거된 부분에 홈(23)이 형성된다. 그리고, 제1 성형체(110)는 경화된 제1 광경화성 수지(20) 및 제1 광경화성 수지(20)에 밀착된 제1 투명필름(30)을 포함하여 이루어진다. 또한, 수세액은 알코올일 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다.
도 1을 참고하면, 제2 홀로그램 패턴형성단계는 제2 도포단계(S150), 제2 노광단계(S160) 및 제2 분리단계(S170)를 포함하여 제2 홀로그램 패턴을 형성한다.
먼저, 도 11을 참고하면, 제2 도포단계(S150)는 제1 성형체(110)에 제2 광경화성 수지(22)를 도포하고, 제2 홀로그램 성형판(90)의 일면에 밀착시킨다. 그리고, 제2 홀로그램 성형판(90)은 금속재질로 이루어지고, 일면에 제2 홀로그램 패턴이 선택적으로 형성된다.
아울러, 제2 광경화성 수지(22)는 PET, PVC 또는 폴리카보네이트 중에서 어느 하나로 이루어질 수 있지만, 본 발명의 일 실시 예에 따른 제2 광경화성 수지(22)의 재질이 여기에 반드시 한정되는 것은 아니다.
또한, 제1 성형체(110)의 상,하부를 반전시켜 제1 투명필름(30)이 하부에 위치되고, 제1 광경화성 수지(20)가 경화된 제1 홀로그램 형성부(21)가 상부에 위치되도록 한 후, 제2 광경화성 수지(22)를 도포할 수 있다. 이때, 제1 성형체(110)의 일부분에 형성된 홈(23)으로 제2 광경화성 수지(22)가 스며들게 된다. 여기서, 제2 홀로그램 성형판(90)의 제2 홀로그램 패턴이 형성된 면과 제1 성형체(110)의 일부분에 위치된 제2 광경화성 수지(22)가 접촉된다.
또한, 제2 광경화성 수지(22)의 도포 후 제2 홀로그램 성형판(90)에 제1 성형체(110)를 밀착시킨다. 이때, 제1 성형체(110)의 상,하부를 다시 반전시켜 제1 투명필름(30)이 상부에 위치되고, 제1 홀로그램 형성부(21)가 하부에 위치되도록 제1 성형체(110)를 배치할 수 있다.
한편, 도 12를 참고하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 홀로그램 스탬퍼의 제조방법의 제2 도포단계(S150)는 제2 홀로그램 성형판(90)과 제2 광경화성 수지(22)가 도포된 제1 성형체(110)를 롤러(40)를 통해 상호압착하는 제2 압착단계를 더 포함할 수 있다. 이때, 제2 홀로그램 성형판(90)과 상호 밀착되는 제1 성형체(110)의 일부분에 위치된 제2 광경화성 수지(22)에 제2 홀로그램 패턴이 보다 명확하게 형성된다.
도 13 내지 도 16을 참고하면, 제2 노광단계(S160)는 제2 포토마스크(60)를 통해 제1 성형체(110)의 일부분을 노광하여 경화시킴으로써, 제2 성형체(120)를 형성시킨다. 이때, 노광장치(50)에서 조사되는 자외선이 제2 포토마스크(60)의 개구부(62)를 통과하여 제1 성형체(110)의 일부분을 경화시킨다. 이때, 경화되는 제1 성형체(110)의 일부분은 제1 성형체(110)의 홈(23)에 위치된 제2 광경화성 수지(22)이다. 이에 따라, 제1 성형체(110)의 경화된 일부분에 제2 홀로그램 패턴이 형성된 제2 홀로그램 형성부(24)가 형성된다. 결국, 제2 성형체(120)의 일부분에 제1 홀로그램 패턴이 형성되고, 타부분에 제2 홀로그램 패턴이 형성된다. 이때, 제2 성형체(120)의 상부에는 제1 투명필름(30)이 위치될 수 있다.
또한, 도 14를 참고하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 제2 노광단계(S160)는 제1 투명필름(30) 및 제2 포토마스크(60)를 롤러(40)로 가압하여 상호 밀착시키는 밀착단계를 더 포함할 수 있다.
한편, 도 13을 참고하면, 제2 노광단계(S160)는 제1 성형체(110)의 타면에 제2 포토마스크(60)를 위치시키되, 제1 성형체(110)와 제2 포토마스크(60)의 사이에 오일(61)을 도포한 후 제2 포토마스크(60)를 안착시킨다. 이때, 제1 성형체(110)의 일면은 제2 홀로그램 성형판(90)과 접촉되고, 타면은 제2 포토마스크(60)와 접촉된다. 이에 따라, 도포된 오일(61)에 의해 제2 노광단계(S160)를 거친 후 제2 포토마스크(60)를 제1 성형체(110)로부터 분리하기가 용이하다.
도 17을 참고하면, 제2 분리단계(S170)는 제2 성형체(120)를 제2 홀로그램 성형판(90) 및 제2 포토마스크(60)와 분리한다. 이때, 제2 성형체(120)는 제1 홀로그램 형성부(21) 및 제2 홀로그램 형성부(24)를 포함하는 제1 성형체(110)이다.
또한, 도 1, 도 11 및 도 17을 참고하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 홀로그램 스탬퍼의 제조방법은 제2 분리단계를 거친 제2 성형체(120)에 잔존하는 잔류물을 알코올 등의 수세액을 통해 수세 제거하는 제2 제거단계(S170)를 더 포함할 수 있다. 이때, 제2 도포단계(S170)에서 제1 성형체(110)에 도포되어 경화되지 않은 제2 광경화성 수지(22)가 제거될 수 있다.
도 20 내지 24는 본 발명의 일 실시 예에 따른 홀로그램 스탬퍼 제조방법을 공정순서대로 나타낸 단면도 및 평면도이다.
여기서, 도 20 내지 23은 본 발명의 일 실시 예에 따른 홀로그램 스탬퍼 제조방법에서 홀로그램 스탬퍼 형성단계를 공정순서대로 나타낸 단면도이고, 도 24는 본 발명의 일 실시 예에 따른 홀로그램 스탬퍼 제조방법으로 제조된 홀로그램 스탬퍼를 나타낸 평면도이다.
먼저, 도 1을 참고하면, 홀로그램 스탬퍼 형성단계는 제3 도포단계(S180), 제3 노광단계(S190) 및 제3 분리단계(S195)를 포함하여 이루어진다.
도 20을 참고하면, 제3 도포단계(S180)는 본 발명의 일 실시예에 따른 홀로그램 마스터 제조방법에 의해 제조된 제2 성형체(120)의 일면에 제2 투명필름(230)에 도포된 광경화성 수지(220)를 위치시킨다.
또한, 광경화성 수지(220)는 PET, PVC 또는 폴리카보네이트 중에서 어느 하나로 이루어질 수 있지만, 본 발명의 일 실시 예에 따른 광경화성 수지(220)의 재질이 여기에 반드시 한정되는 것은 아니다.
아울러, 제2 투명필름(230)은 PET, 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리에테르설폰(PES), 폴리카보네이트(PC), 고리형 올레핀 고분자(COC) 또는 폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA) 중에서 어느 하나로 이루어질 수 있지만, 본 발명의 일 실시 예에 따른 제2 투명필름(230)의 재질이 여기에 반드시 한정되는 것은 아니다.
아울러, 도 21을 참고하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 홀로그램 스탬퍼 제조방법의 제3 도포단계(S180)는 제2 투명필름(230)와 광경화성 수지(220) 및 제2 성형체(120)를 롤러(40)로 상호 압착하는 압착단계를 더 포함할 수 있다.
여기서, 광경화성 수지(220)의 상,하측에 위치된 제2 투명필름(230) 및 제2 성형체(120)의 양측에 복수개의 롤러(40)가 위치되어 광경화성 수지(220)와 제2 투명필름(230) 및 제2 성형체(120)에 압축력을 가한다. 이때, 제2 홀로그램 성형판(90)과 상호 밀착되는 제2 성형체(120)의 일부분에 위치된 광경화성 수지(220)에 제1 성형체(110)에 형성된 제1 홀로그램 패턴 및 제2 홀로그램 패턴이 보다 명확하게 복사되어 형성된다.
도 22 내지 도 24를 참고하면, 제3 노광단계(S190)는 광경화성 수지(220)를 노광하여 경화시킴으로써 제2 성형체(120)에 형성된 홀로그램 패턴이 복사 형성된 홀로그램 스탬퍼(200)를 형성시킨다.
도 23 및 도 24를 참고하면, 제3 분리단계(S195)는 홀로그램 스탬퍼(200)를 제2 성형체(120)에서 분리한다.
상기와 같은 본 발명의 일 실시 예에 따른 홀로그램 스탬퍼의 제조방법으로 제조된 홀로그램 스탬퍼(200)는 홀로그램 패턴이 형성되는 부분이 광경화성 수지로 이루어져, 홀로그램의 다양한 형상을 구현하기 용이하고, 제조가 용이하며, 홀로그램 패턴의 요철부 형상을 안정적으로 보존할 수 있다. 또한, 플랙서블(flexible) 재질로 형성되어 금속재질의 마스크에 비해 다양한 형태로 장착될 수 있다.
한편, 본 발명의 일 실시 예에 따른 홀로그램 스탬퍼의 제조방법은 제3 홀로그램 패턴을 형성하는 제3 홀로그램 패턴 형성단계를 더 포함할 수 있다.
좀 더 상세히 설명하면, 제3 홀로그램 패턴 형성단계는 제2 광경화성 수지(22)의 비경화된 부분을 알코올 등의 수세액으로 제거한 다음, 제3 광경화성 수지(미도시)를 도포하고, 이를 제3 홀로그램 성형판(미도시)에 위치시킨다. 그리고, 제3 홀로그램 패턴 형성단계는 제3 포토마스크(미도시)를 이용하여 선택적으로 경화시킨 후, 상기 제3 홀로그램 성형판 및 상기 제3 포토마스크와 분리시켜 제3 성형체를 형성시키는 제3 홀로그램 패턴을 형성시킨다.
여기서, 제1, 제2 및 제3 홀로그램 패턴이 형성된 홀로그램 스탬퍼(200)를 제조할 때, 제2 성형체(120)에 홀로그램 패턴이 형성되지 않은 곳에 추가적인 제3 홀로그램 패턴을 형성시킬 수 있다.
그리고, 제3 홀로그램 패턴 형성단계는 제2 홀로그램 패턴 형성단계와 제2 홀로그램 성형판 대신 제3 홀로 그램 성형판으로 대체되고, 제2 성형체에서 제3 성형체로 형성되는 부분의 차이점이 있지만, 제조하는 과정은 동일하여 추가적인 도면 및 상세한 설명은 생략하기로 하고, 제2 홀로그램 패턴 형성단계를 참고하기로 한다.
아울러, 상기와 같은 방법으로 본 발명의 일 실시예에 따른 홀로그램 스탬퍼의 제조방법은 제3 홀로그램 패턴 뿐만 아니라 제4 홀로그램 패턴, 제5 홀로그램 패턴 등의 다양한 홀로그램 패턴이 형성된 홀로그램 스탬퍼(200)를 제조할 수 있다.
하지만, 본 발명의 일 실시 예에 따른 홀로그램 스탬퍼의 제조방법은 홀로그램 패턴 형성단계를 반복할 때 마다 반드시 다른 홀로그램 패턴이 형성된 홀로그램 성형판으로 교체되는 것은 아니며, 동일 홀로그램 패턴이 형성된 홀로그램 성형판으로 교체할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시 예에 따른 홀로그램 스탬퍼의 제조방법으로 제조된 홀로그램 스탬퍼(120)는 마스터를 통해 형성되는 스탬퍼로 기능으로 한정되는 것은 아니며, 예를 들어 본 발명의 일 실시 예에 따른 홀로그램 스탬퍼는 홀로그램 마스터, 홀로그램 스탬퍼, 홀로그램 복제틀, 홀로그램 주형틀 등의 다양한 형태로 사용될 수 있음은 물론이다.
이상 본 발명을 구체적인 일 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명에 따른 홀로그램 스탬퍼의 제조방법은 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당해 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함은 명백하다고 할 것이다.
또한, 본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 모두 본 발명의 영역에 속하는 것으로 본 발명의 구체적인 보호 범위는 첨부된 특허청구범위에 의하여 명확해질 것이다.
10 : 제1 홀로그램 성형판 20 : 제1 광경화성 수지
21 : 제1 홀로그램 형성부 24 : 제2 홀로그램 형성부
30 : 제1 투명필름 40 : 롤러
41 : 제1 롤러 42 : 제2 롤러
50 : 제1 포토마스크 51,61 : 오일
52,62 : 개구부 60 : 제2 포토마스크
80 : 노광장치 90 : 제2 홀로그램 성형판
110: 제1 성형체 120: 제2 성형체
200: 홀로그램 스탬퍼
21 : 제1 홀로그램 형성부 24 : 제2 홀로그램 형성부
30 : 제1 투명필름 40 : 롤러
41 : 제1 롤러 42 : 제2 롤러
50 : 제1 포토마스크 51,61 : 오일
52,62 : 개구부 60 : 제2 포토마스크
80 : 노광장치 90 : 제2 홀로그램 성형판
110: 제1 성형체 120: 제2 성형체
200: 홀로그램 스탬퍼
Claims (5)
- 제1 투명필름에 도포된 제1 광경화성 수지를 제1 홀로그램 성형판에 위치시켜 제1 포토마스크를 이용하여 선택적으로 경화시킨 후, 상기 제1 홀로그램 성형판을 분리하고, 상기 제1 광경화성 수지의 비경화된 부분을 수세액으로 제거하여 일부분이 제거된 제1 성형체를 형성시키는 제1 홀로그램 패턴형성단계;
상기 제1 성형체에 제2 광경화성 수지를 도포하고, 이를 제2 홀로그램 성형판에 위치시킨 다음, 제2 포토마스크를 이용하여 선택적으로 경화시킨 후, 상기 제2 홀로그램 성형판 및 상기 제2 포토마스크와 분리시켜 제2 성형체를 형성시키는 제2 홀로그램 패턴 형성단계; 및
상기 제2 성형체에 광경화성 수지가 도포된 제2 투명필름을 위치시킨 다음 상기 광경화성 수지를 경화시킨 후, 상기 제2 성형체를 분리시켜 홀로그램 스탬퍼 형성시키는 홀로그램 스탬퍼 형성단계;
를 포함하는 홀로그램 스탬퍼의 제조방법.
- 청구항 1에 있어서,
상기 방법은,
상기 제2 광경화성 수지의 도포 후, 상기 제1 성형체와 상기 제2 홀로그램 성형판을 롤러를 통해 상호 압착시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 홀로그램 스탬퍼의 제조방법.
- 청구항 1에 있어서,
상기 방법은,
상기 제2 성형체를 분리한 후, 상기 제2 성형체의 잔류물을 수세액을 통해 수세 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 홀로그램 스탬퍼의 제조방법.
- 청구항 1에 있어서,
상기 방법은,
상기 제2 홀로그램 패턴 형성단계에서,
상기 제2 광경화성 수지의 비경화된 부분을 수세액으로 제거한 다음, 여기에 제3 광경화성 수지를 도포하고, 이를 제3 홀로그램 성형판에 위치시킨 다음, 제3 포토마스크를 이용하여 선택적으로 경화시킨 후, 상기 제3 홀로그램 성형판 및 상기 제3 포토마스크와 분리시켜 제3 성형체를 형성시키는 제3 홀로그램 패턴 형성단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 홀로그램 스탬퍼의 제조방법.
- 청구항 1, 청구항 3 또는 청구항 4에 있어서,
상기 수세액은 알코올인 것을 특징으로 하는 홀로그램 마스터 제조방법.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020120011273A KR20130090162A (ko) | 2012-02-03 | 2012-02-03 | 홀로그램 스탬퍼의 제조방법 |
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KR1020120011273A KR20130090162A (ko) | 2012-02-03 | 2012-02-03 | 홀로그램 스탬퍼의 제조방법 |
Publications (1)
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Family
ID=49215867
Family Applications (1)
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KR1020120011273A KR20130090162A (ko) | 2012-02-03 | 2012-02-03 | 홀로그램 스탬퍼의 제조방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
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KR (1) | KR20130090162A (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20210397009A1 (en) * | 2019-06-20 | 2021-12-23 | Facebook Technologies, Llc | Surface-relief grating with patterned refractive index modulation |
-
2012
- 2012-02-03 KR KR1020120011273A patent/KR20130090162A/ko not_active Application Discontinuation
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