KR20130003393A - 이형필름 및 이의 제조방법 - Google Patents

이형필름 및 이의 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20130003393A
KR20130003393A KR1020110064726A KR20110064726A KR20130003393A KR 20130003393 A KR20130003393 A KR 20130003393A KR 1020110064726 A KR1020110064726 A KR 1020110064726A KR 20110064726 A KR20110064726 A KR 20110064726A KR 20130003393 A KR20130003393 A KR 20130003393A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
film
release film
particles
stretching
coating solution
Prior art date
Application number
KR1020110064726A
Other languages
English (en)
Inventor
송기상
김시민
Original Assignee
코오롱인더스트리 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 코오롱인더스트리 주식회사 filed Critical 코오롱인더스트리 주식회사
Priority to KR1020110064726A priority Critical patent/KR20130003393A/ko
Publication of KR20130003393A publication Critical patent/KR20130003393A/ko

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/40Adhesives in the form of films or foils characterised by release liners
    • C09J7/405Adhesives in the form of films or foils characterised by release liners characterised by the substrate of the release liner
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18Manufacture of films or sheets
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/40Adhesives in the form of films or foils characterised by release liners
    • C09J7/403Adhesives in the form of films or foils characterised by release liners characterised by the structure of the release feature
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2301/00Additional features of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2301/30Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

본 발명은 디스플레이/전자재료용 이형필름에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 표면 안티블록킹제로 사용되는 유/무기 입자를 수지 자체에 고분산시켜 기능을 발현하는 대신, 입자를 포함하지 않은 기재필름과, 이의 표면에 이접착 조성물에 입자를 분산시켜 도포하여 이접착 코팅층을 형성함으로써 불필요한 입자의 소모를 줄이고, 헤이즈를 낮추며, 균일한 표면조도를 가지고 이형특성 부여를 하는 이형필름에 관한 것이다.

Description

이형필름 및 이의 제조방법{Release film and manufacturing method thereof}
본 발명은 디스플레이/전자재료용 이형필름에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 표면 안티블록킹제로 사용되는 유/무기 입자를 수지 자체에 고분산시켜 기능을 발현하는 대신, 입자를 포함하지 않은 기재필름과, 이의 표면에 이접착 조성물에 입자를 분산시켜 도포하여 이접착 코팅층을 형성함으로써 불필요한 입자의 소모를 줄이고, 헤이즈를 낮추며, 균일한 표면조도를 가지고 이형특성 부여를 하는 이형필름에 관한 것이다.
일반적으로 이형 필름은 접착면 보호용 필름으로 사용되거나 수지의 시트를 형성하기 위한 케리어 시트, 자세하게는 세라믹 시트, 전극시트 등으로 사용되고 있다. 근래 광학용 제품의 용도와 품종이 다양화되고 생산량이 늘어남과 더불어 생산성 개선 등의 이유로 점착제 및 접착제 등이 액상형태에서 시트 형태로 변화되고 있는 추세이다. 이러한 시트 형태의 이형필름은 예를 들어 라벨이 사용 준비될 때까지 분진, 파편, 수분 및 기타 오염물에 의한 오염으로부터 접착제품의 점착성 접착면을 일시적으로 보호한다. 일반적으로 이형필름은 접착제품의 사용직전에 접착면으로부터 분리된다. 따라서 이형필름은 제품의 표면에 박리성을 부여하면서 제품과의 밀착력을 부여할 수 있는 코팅층이 형성되어 있다. 이러한 코팅층은 통상 실리콘 코팅층을 포함한다.
광학용 이형필름은 디스플레이 패널의 제조공정 중, 피착체에 접촉하여 피착체의 표면 혹은 피착체에 도포된 점착 성분을 보호하기 위한 목적으로 사용된다. 이러한 역할을 수행하는 폴리에스테르 필름은 일반적으로 가공성을 높이기 위해, 일반적으로 안티블록제(Anti-blocking Agent)라고 불리우는 유/무기 입자를 표면에 분산시켜 요철을 주어 표면 스크래치 및 권취/주행성을 높여주는 방법을 사용하고 있다.
통상 이러한 안티블록제는 수지상에 컴파운딩(Compounding), 혹은 중합 시 슬러리(Slurry)의 형태로 투입하여 분산 후, 제막 공정을 통하여 표면에 입자를 돌출시키는 방법이 일반적이나, 이러한 방법을 사용할 경우 필름 내부에도 입자가 분산되어 입자의 투입량 대비 표면물성 발현에 대한 효율이 직접적으로 저하될 뿐만 아니라, 입자-수지 계면 간 산란을 증대시켜 헤이즈(Haze)의 상승을 가져올 수 있다.
이러한 문제를 개선하기 위한 가장 일반적인 방법은, 2대 이상의 압출기와 피드블록(Feedblock), 멀티 매니폴드 다이(Multi Manifold Die)를 이용한 공압출을 적용하여 전체 필름 두께 중 낮은 두께 분율을 갖는 표면층에 입자를 포함한 수지를 돌출시켜 내부에 분산되는 입자의 수를 상대적으로 줄임으로써 표면 물성을 극대화하고 내부 입자의 산란을 방지하며, 입자의 효율을 증대하는 방법을 사용하고 있다. 그러나 이러한 공압출의 경우, 별도의 공압출 설비가 수반되어야 하며 내부-표면 수지의 점도 및 성분, 층구성, 표면층의 입자량 등에 따라 수지의 역전현상, 상혼합현상으로 대표되는 계면파괴현상이 발생함으로써 효율이 떨어질 수 있다.
본 발명은 디스플레이 패널의 제조공정 중, 피착체에 접촉하여 피착체의 표면 혹은 피착체에 도포된 점착 성분을 보호하기 위한 이형필름을 제공하고자 한다.
보다 구체적으로 본 발명은 광학 및 전자재료용 이형필름으로 적용하기 위하여 통상 유/무기입자로 대표되는 표면 안티블록제(Anti-Blocking Agent)를 수지 자체에 고분산시키거나, 공압출하는 방법에 의해 성능을 발현하는 대신, 이접착 코팅층에 입자를 분산시켜 도포함으로써 불필요한 입자의 소모를 줄이고, 헤이즈(Haze)를 낮추며, 균일한 표면조도를 가지고, 이형특성 부여를 위한 실리콘 이접착성능을 갖는 폴리에스테르 필름을 제공하고자 한다.
보다 구체적으로 본 발명은 광학용/전자재료용 목적에 맞는 고투명성을 실현함과 동시에, 코팅방법으로 입자를 표면분산함으로써 수지 내부에 침투하여 표면 안티블록킹(AntiBlocking)성을 발현하지 못하면서 헤이즈(Haze)를 높이는 악영향을 주는 입자를 배제하고 입자의 불필요한 소모를 억제할 수 있는 폴리에스테르 필름을 제공하고자 한다.
본 발명은 입자를 포함하지 않는 무입자 폴리에스테르 기재필름과, 이의 일면 또는 양면에 인-라인 코팅공정에 의해 코팅된 이접착 코팅층을 포함하고, 상기 이접착 코팅층은 입자를 포함하는 수성 코팅액을 이용하여 형성한 이형필름에 관한 것이다.
또한 본 발명은
a) 입자를 포함하지 않는 폴리에스테르수지를 용융압출하여 시트를 제조하고, 종방향으로 1차 연신하는 단계;
b) 상기 1차 연신된 필름에 입자를 포함하는 수성 코팅액을 인-라인 코팅공정으로 도포하고, 횡방향으로 2차 연신하는 단계;
c) 상기 2차 연신된 필름을 열고정하는 단계;
를 포함하는 이형필름의 제조방법에 관한 것이다.
본 발명은 별도의 공압출 설비가 필요하지 않으며, 통칭 ILC(In-Line Coater)가 구비된 모노레이어(Monolayer) 설비에서 코팅(Coating)층 내에 입자를 분산시켜 표면 입자분산을 극대화하는데 특징이 있다.
이하는 본 발명의 각 구성에 대하여 보다 구체적으로 설명한다.
본 발명의 이형필름은 기재필름인 폴리에스테르필름 내에 입자를 포함하지 않는다.
상기 폴리에스테르 필름은 방향족 디카르복실산을 주성분으로 하는 산성분과 알킬렌글리콜을 주성분으로 하는 글리콜성분을 축합 중합하여 분자 내 주 반복단위가 에틸렌테레프탈레이트로 이루어진 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)수지를 통상의 제조방법에 의해 필름으로 제조한다.
방향족 디카르복실산의 구체적인 예로는 디메틸테레프탈산, 테레프탈산, 이소프탈산, 나프탈렌 디카르복실산, 싸이클로헥산디카르복실산, 디페녹시에탄디카르복실산, 안트라센카르복실산, α,β-비스(2-클로로페녹시)에탄-4,4'-디카르복실산 등을 들 수 있으며, 이들 중 디메틸테레프탈산 또는 테레프탈산이 특히 바람직하다. 알킬렌글리콜의 구체적인 예로는 에틸렌글리콜, 트리메틸렌글리콜, 테트라메틸렌글리콜, 펜타메틸렌글리콜, 헥사메틸렌글리콜 등을 들 수 있으며, 이들 중 특히 에틸렌글리콜이 바람직하다.
본 발명에서 상기 이접착 코팅층은 입자를 포함하는 수성 코팅액을 이용하여 형성한다. 보다 구체적으로 상기 수성 코팅액은 실리콘계 바인더수지, 실란경화제, 촉매, 입자 및 물을 주요 조성으로 포함하며, 각종 기능을 부여하기 위한 첨가제가 포함될 수 있다. 즉, 상기 수성 코팅액은 물을 연속상으로 한 에멀젼 형태 또는 분산상 형태로 폴리에스테르필름에 적용되며, 분산은 폴리에틸렌글리콜 또는 폴리비닐알콜 등의 수성 고분자와 알킬페닐폴리글리콜에테르와 같은 계면활성제를 첨가제로 배합 교반하여 이루어질 수도 있다. 상기 수성 코팅액은 고형분 함량이 10% 이하인 것이 바람직하다. 상기 수성 코팅액은 이형필름을 제조하기 위하여 기재필름인 폴리에스테르필름에 도포된 후, 필름을 예열 및 연신하는 과정에서 수분이 증발을 하고, 열고정을 하는 단계에서 가교 및 경화가 이루어지게 되어 최종적인 고형분만 존재하는 코팅층으로 형성된다. 따라서 본 발명에서 고형분은 첨가제를 제외한 이접착 코팅층 내에 존재하는 주요 성분들의 고형분을 의미한다.
상기 바인더수지는 직쇄상(linear) 또는 가지상의 (branched)의 알킬비닐폴리실록산이 사용 가능하며, 구체적으로는 말단 또는 곁가지에 히드록시기, 에틸렌기, 아세틸렌기에서 선택되는 1종 이상의 관능기를 갖는 폴리디메틸실록산을 사용한다.
상기 촉매는 실리콘 수지 바인더의 하이드로실리레이션(hydrosilylation) 반응을 유도하여 경화가 되도록 하기 위하여 사용되는 것으로, 4족~14족 사이에서 선택되는 1종 이상의 금속 또는 양쪽성 원소 즉, Rh, Pt, Sn, Ti, Pd, Ir, W, Co에서 선택되는 어느 하나 이상을 사용한다.
상기 실란경화제는 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 실라놀, 바이닐, 에폭시, 아크릴, 메타크릴, 아미노, 머캡토에서 선택되는 1종 이상의 관능기를 갖는 것을 사용하는 것이 바람직하다.
상기 입자는 이형성을 부여하기 위하여 사용되는 것으로, 코팅 두께에 따라 가변적이나 평균입경이 0.01 ~ 3㎛ 가 바람직하다. 입자의 사이즈가 0.01 ㎛미만인 경우 안티-블록킹성이 저해되고, 3㎛ 초과인 경우 입자의 탈락이 발생하고 산한에 기인한 헤이즈 상승을 유발하고, 표면 조도가 거칠어지므로 표면 균일성이 저해될 수 있다. 또한, 이접착 코팅층을 형성하는 도막의 두께는 입자의 탈락이 일어나지 않을 정도의 코팅두께를 선택해야 하며, 또한 후공정으로써 실리콘 이형코팅 후 입자돌출이 균일하게 일어날 수 있는 표면조도를 가져야 한다. 일반적으로 건조 후 도막의 두께가 입자 반경의 1/2 이상인 0.005㎛ ~ 1.5㎛의 두께를 가질 때 입자의 탈락을 효과적으로 방지할 수 있다.
상기 입자의 종류는 소결법, 침강법, TEOS 반응법을 이용한 무정형/구상 실리카 및, 고도로 정제된 탄화칼슘, 황산바륨 등의 무기입자는 물론, 유기 입자를 병행하여 사용 가능하다. 투입의 형태는 분말형태의 것을 슬러리(Slurry)로 제조하여 첨가하는 방법이 있고, 슬러리(Slurry) 자체로 제조된 것을 희석하여 첨가할 수도 있다. 단, 이 때 Slurry에 사용되는 용매는 Coating 조성 및 건조에 영향을 주지 않는 물질이 선정되어야한다.
상기 수성 코팅액은 공지된 코팅방법을 이용하여 적용될 수 있는 바, 일예로 롤코팅, 그라비아 롤 코팅, 메이어바 코팅, 롤 브러쉬코팅, 분무 코팅, 에어 나이프 코팅, 슬롯 코팅, 침지 또는 메니스커스 코팅 등을 들 수 있다.
인라인 코팅방법에 의해 제조되는 경우에는 예열, 연신 과정에서 수분이 증발되고, 고온의 열고정 온도에서 경화가 이루어지며, 연신에 의해 실리콘계 수지가 폴리에스테르필름에 배향되는 효과가 있어서 우수한 물성의 코팅막을 얻을 수 있다.
또한 조액을 코팅하기 이전에 폴리에스테르필름의 표면에 전기 코로나 방전 등의 방법으로 표면처리를 하는 경우, 폴리에스테르필름 표면의 소수성 특성이 감소되어 조액이 표면을 보다 쉽게 습윤시키므로 폴리에스테르필름 표면에 대한 박리코팅층의 접착력을 향상시킨다.
다음으로 본 발명의 이형필름을 제조하는 방법에 대하여 보다 구체적으로 설명한다.
본 발명의 이형필름 제조방법은
a) 입자를 포함하지 않는 폴리에스테르수지를 용융압출하여 시트를 제조하고, 종방향으로 1차 연신하는 단계;
b) 상기 1차 연신된 필름에 입자를 포함하는 수성 코팅액을 인-라인 코팅공정으로 도포하고, 횡방향으로 2차 연신하는 단계;
c) 상기 2차 연신된 필름을 열고정하는 단계;
를 포함한다.
보다 구체적으로는
a) 입자를 포함하지 않는 폴리에스테르수지 칩을 260 ~ 300℃에서 용융압출한 후, 다이를 통해 토출된 용융물을 30℃ 이하로 급냉하고, 85 ~ 130℃에서 2 ~ 5배 종방향으로 1차 연신하는 단계;
b) 상기 1차 연신된 필름에 입자를 포함하는 수성 코팅액을 그라비아 또는 메이어바를 이용하여 인-라인 코팅공정으로 도포하고, 100℃ ~ 150℃에서 2 ~ 5배 횡방향으로 2차 연신하는 단계;
c) 상기 2차 연신된 필름을 220 ~ 250℃ 조건에서 열고정하는 단계;
를 포함한다.
상기 a)단계에서 종방향 연신 시 세라믹 재질, 텅스텐 재질, 또는 테프론 코팅된 연신롤을 사용하는 것이 바람직하다. 본 발명의 목적은 수성 코팅액 조성에 안티블록 성질을 부여하는 입자를 투입하는 단계를 포함하므로, 종연신 공정에서 무입자 쉬트의 주행 및 연신공정에 기인한 스크래치 및 점착이 발생할 우려가 있다. 이를 제어하기 위해서는 적절한 롤간 주속편차와 예열-연신-냉각에 이르는 온도구배 관리가 중요하며, 고온 연신 시 점착을 방지하기 위해 세라믹 재질, 혹은 테프론 코팅된 연신롤을 사용하나, 스크래치 및 점착방지를 위해 표면조도가 특별하게 관리된 표면처리 세라믹 롤 혹은 텅스텐 재질의 롤을 사용하여 연신할 수 있다.
상기 b)단계에서 횡연신 시 도포된 수성 코팅액이 예열 ~ 열처리구간 내에서 경화 및 건조되도록 온도 및 시간을 조절하는 것이 바람직하다. 구체적으로 횡연신 시 도포된 조액을 경화/건조하기 위한 충분한 온도조건을 부여해야 하며, 경화 및 건조는 예열 ~ 열처리구간에 이르러 종료될 수 있도록 경화반응을 조절할 수 있는 조절제를 투입할 수도 있다. 이 때 경화속도가 빠르면 횡연신 공정에서 이접착 코팅층의 박리 혹은 크랙(Crack)을 유발할 수 있으며, 경화속도가 느리면 미건조상태로 권취가 일어나 품질 저하가 발생할 수 있고 입자의 특정 부분으로의 이행(Migration) 및 탈락이 발생할 수 있다.
본 발명은 기존 광학용 및 전자재료용 이형 필름보다 낮은 헤이즈, 즉 높은 투명도를 가지며, 균일한 표면조도로 가공 또는 사용 중에 필름 표면 스크래치나 돌기 형성 등의 문제가 없는 이형필름을 제공할 수 있으며, 이를 사용한 점착제 부착된 보호 필름을 제조하는데 유리한 필름을 제공할 수 있다.
특히 디스플레이 패널의 제조공정 중, 피착체에 접촉하여 피착체의 표면 혹은 피착체에 도포된 점착 성분을 보호하기 위한 이형필름을 제공할 수 있다. 이때 본 발명에 의한 이형 필름은 도포된 점착제 층에 이형필름의 표면 불균일에 기인한 전사 결점을 남기지 않는다.
본 발명은 광학용/전자재료용 목적에 맞는 고투명성을 실현함과 동시에, 코팅방법으로 입자를 표면 분산함으로써 수지 내부에 침투하여 표면 안티 블록킹(AntiBlocking)성을 발현하지 못하면서 헤이즈(Haze)를 높이는 악영향을 주는 입자를 배제하고 입자의 불필요한 소모를 억제할 수 있는 폴리에스테르 필름을 제공할 수 있다.
이하, 본 발명을 실시예에 의거 상세히 설명하면 다음과 같은 바, 본 발명이 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
제조되는 필름에 대하여 구체적인 물성 측정방법은 다음과 같다.
(1) 이형력
박리코팅층 위에 Nitto31B 테이프를 놓고 2kg 고무롤을 사용하여 2회 왕복 문지른 다음 25mm x 20cm의 크기로 잘라 샘플을 준비하였다. 준비된 샘플을 20g/㎠의 하중을 주고 70℃에서 1일간 방치한 후 만능시험기(인스트론사, Instron4303)를 사용하여 T형 박리평가를 실시하였다. 박리속도는 300mm/분으로 하였다.
(2) 밀착력
밀착력은 박리코팅층을 엄지손가락을 사용하여 5회 왕복 힘껏 문지른 다음 코팅층이 벗겨지는 정도를 관찰하고 다음과 같이 평가하였다.
<구분등급>
A등급: 스미어 현상이 전혀 관찰되지 않는다.
B등급: 스미어 현상이 관찰되기 시작한다.
C등급: 러브-오프 현상이 관찰되기 시작한다.
D등급: 러브-오프 현상이 쉽게 관찰된다.
(3) 헤이즈
제막된 필름의 시편을 HAZE METER (모델명: Nipon denshoku, Model NDH 300A)를 이용하여 측정하였다.
(4) 표면조도(Ra)
사용기기 : 3차원 비접촉 표면조도측정기(NT-2000, WYCO사)
상기의 기기를 활용하여 Ra (중심선 평균거칠기)를 측정하였다.
(5) 전사결점
제조된 필름을 피착체의 점착면에 붙였다 뗀 후, 고도의 숙련자가 형광등 아래에서 점착면을 육안으로 관찰하여 결점이 발생하는지 여부를 관찰하였다.
200㎛ 이상인 결점이 5개/1㎡ 이하인 경우를 사용 가능한 범위로 한다.
[실시예 1]
수성 코팅액(A) 제조
바인더수지(Wacker사, 제품명 D-430)가 전체 고형분 함량 중 50 중량%, 에폭시기를 포함하는 실란경화제(Wacker사, 제품명 HF-86)가 전체 고형분 함량 중 10 중량%, 입자(평균입경 0.01㎛인 실리카) 40 중량%를 혼합을 하고, 코팅액 중 전체 고형분함량이 10%가 되도록 물을 첨가하여 조액하였다. 이때, 첨가제로 촉매(백금계 촉매, (Wacker사 D-440, Na2PtCl4·4H2O)는 수지 함량에 대해 100 ppm, 유화제로 폴리비닐알콜(획스트사, 모위올 4-80)는 코팅액의 고형분 함량 100 중량부에 대해 5중량부를 사용하였다. 이렇게 제조된 코팅액의 조액안정성을 측정하여 하기 표 1에 나타내었다.
이형필름의 제조
입자를 포함하지 않는 폴리에틸렌테레프탈레이트수지 칩을 용융 압출한 후 급냉각 하여 얻어진 시트를 예열부에서 95℃로 예열한 후 종방향(MD)으로 4배 연신하여 냉각하였다. 냉각된 필름에 그라비아 코터를 이용하여 전체 고형분 함량이 10%로 조제된 코팅액(A)을 8㎛가 되도록 도포하였다. 130℃로 건조 및 예열한 후 횡방향(TD)으로 4배 연신을 하고, 230℃로 열고정하여 30㎛ 두께의 기재필름에 건조 후 도포두께가(Dry Pick-up) 0.2㎛ 인 코팅층이 균일하게 형성된 이형필름을 제조하였다.
이렇게 제조된 필름의 물성을 측정하여 하기 표 1에 나타내었다.
[실시예 2]
상기 실시예 1에서 이형필름 제조 시 전체 고형분 함량이 5%로 조제된 코팅액(A)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하였다.
그 결과 30㎛ 두께의 기재필름에 건조 후 도포두께가(Dry Pick-up) 0.2㎛ 인 코팅층이 균일하게 형성된 이형필름을 제조하였다.
이렇게 제조된 필름의 물성을 측정하여 하기 표 1에 나타내었다.
[실시예 3]
수성 코팅액(A) 제조
바인더수지(Wacker사, 제품명 D-430)가 전체 고형분 함량 중 50 중량%, 에폭시기를 포함하는 실란경화제(Wacker사, 제품명 HF-86)가 전체 고형분 함량 중 10 중량%, 입자(평균입경 0.5㎛인 실리카) 40 중량%를 혼합을 하고, 코팅액 중 전체 고형분함량이 10%가 되도록 물을 첨가하여 조액하였다. 이때, 첨가제로 백금계 촉매 (Wacker사 D-440, Na2PtCl4·4H2O)는 수지 함량에 대해 100 ppm, 유화제(폴리비닐알콜(획스트사, 모위올 4-80)는 코팅액의 고형분 함량 100 중량부에 대해 5중량부를 사용하였다. 이렇게 제조된 코팅액의 조액안정성을 측정하여 하기 표 1에 나타내었다.
이형필름의 제조
입자를 포함하지 않는 폴리에틸렌테레프탈레이트수지 칩을 용융 압출한 후 급냉각 하여 얻어진 시트를 예열부에서 95℃로 예열한 후 종방향(MD)으로 4배 연신하여 냉각하였다. 냉각된 필름에 그라비아 코터를 이용하여 전체 고형분 함량이 10%로 조제된 코팅액(A)을 8㎛가 되도록 도포하였다. 130℃로 건조 및 예열한 후 횡방향(TD)으로 4배 연신을 하고, 230℃로 열고정하여 30㎛ 두께의 기재필름에 건조 후 도포두께가(Dry Pick-up) 0.2㎛ 인 코팅층이 균일하게 형성된 이형필름을 제조하였다.
이렇게 제조된 필름의 물성을 측정하여 하기 표 1에 나타내었다.
[실시예 4]
수성 코팅액(A) 제조
바인더수지(Wacker사, 제품명 D-430)가 전체 고형분 함량 중 50 중량%, 에폭시기를 포함하는 실란경화제(Wacker사, 제품명 HF-86)가 전체 고형분 함량 중 10 중량%, 입자(평균입경 3㎛인 실리카) 40 중량%를 혼합을 하고, 코팅액 중 전체 고형분함량이 10%가 되도록 물을 첨가하여 조액하였다. 이때, 첨가제로 백금계 촉매 (Wacker사 D-440, Na2PtCl4·4H2O)는 수지 함량에 대해 100 ppm, 유화제 폴리비닐알콜(획스트사, 모위올 4-80)는 코팅액의 고형분 함량 100 중량부에 대해 5중량부를 사용하였다. 이렇게 제조된 코팅액의 조액안정성을 측정하여 하기 표 1에 나타내었다.
이형필름의 제조
입자를 포함하지 않는 폴리에틸렌테레프탈레이트수지 칩을 용융 압출한 후 급냉각 하여 얻어진 시트를 예열부에서 95℃로 예열한 후 종방향(MD)으로 4배 연신하여 냉각하였다. 냉각된 필름에 그라비아 코터를 이용하여 전체 고형분 함량이 10%로 조제된 코팅액(A)을 8㎛가 되도록 도포하였다. 130℃로 건조 및 예열한 후 횡방향(TD)으로 4배 연신을 하고, 230℃로 열고정하여 30㎛ 두께의 기재필름에 건조 후 도포두께가(Dry Pick-up) 0.2㎛ 인 코팅층이 균일하게 형성된 이형필름을 제조하였다.
이렇게 제조된 필름의 물성을 측정하여 하기 표 1에 나타내었다.
[실시예 5]
상기 실시예 1에서 이형필름 제조 시 실란경화제를 Dow Corning 社로 Z-6040으로 조제된 코팅액(A)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하였다.
그 결과 30㎛ 두께의 기재필름에 건조 후 도포두께가(Dry Pick-up) 0.2㎛ 인 코팅층이 균일하게 형성된 이형필름을 제조하였다.
이렇게 제조된 필름의 물성을 측정하여 하기 표 1에 나타내었다.
[표 1]
Figure pat00001
상기 표에서 보이는 바와 같이, 본 발명에 따른 이형필름은 이형력 및 밀착력이 우수할 뿐만 아니라, 헤이즈, 표면조도 및 전사결점이 광학필름용 이형필름으로 사용하기에 적합한 것을 알 수 있었다.

Claims (10)

  1. 입자를 포함하지 않는 무입자 폴리에스테르 기재필름과, 이의 일면 또는 양면에 인-라인 코팅공정에 의해 코팅된 이접착 코팅층을 포함하고, 상기 이접착 코팅층은 입자를 포함하는 수성 코팅액을 이용하여 형성한 이형필름.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 이접착 코팅층의 두께가 0.005 ~ 1.5㎛이고, 입자는 평균입경이 0.01 ~ 3㎛인 이형필름.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 실란경화제는 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 실라놀, 바이닐, 에폭시, 아크릴, 메타크릴, 아미노, 머캡토에서 선택되는 1종 이상의 관능기를 갖는 것을 사용하는 이형필름.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 수성 코팅액은 고형분 함량이 5 ~ 10 중량%이고, 상기 수성 코팅액 내 입자 함량은 고형분 중량의 5 ~ 30 중량%를 포함하는 이형필름.
  5. a) 입자를 포함하지 않는 폴리에스테르수지를 용융압출하여 시트를 제조하고, 종방향으로 1차 연신하는 단계;
    b) 상기 1차 연신된 필름에 입자를 포함하는 수성 코팅액을 인-라인 코팅공정으로 도포하고, 횡방향으로 2차 연신하는 단계;
    c) 상기 2차 연신된 필름을 열고정하는 단계;
    를 포함하는 이형필름의 제조방법.
  6. 제 5항에 있어서,
    상기 a)단계에서 종방향 연신 시 세라믹 재질, 텅스텐 재질, 또는 테프론 코팅된 연신롤을 사용하는 이형필름의 제조방법.
  7. 제 5항에 있어서,
    상기 b)단계에서 횡연신 시 도포된 수성 코팅액이 예열 ~ 열처리구간 내에서 경화 및 건조되도록 온도 및 시간을 조절하는 것인 이형필름의 제조방법.
  8. 제 5항에 있어서,
    a) 입자를 포함하지 않는 폴리에스테르수지 칩을 260 ~ 300℃에서 용융압출한 후, 다이를 통해 토출된 용융물을 30℃ 이하로 급냉하고, 85 ~ 130℃에서 2 ~ 5배 종방향으로 1차 연신하는 단계;
    b) 상기 1차 연신된 필름에 입자를 포함하는 수성 코팅액을 그라비아 또는 메이어바를 이용하여 인-라인 코팅공정으로 도포하고, 100℃ ~ 150℃에서 2 ~ 5배 횡방향으로 2차 연신하는 단계;
    c) 상기 2차 연신된 필름을 220 ~ 250℃ 조건에서 열고정하는 단계;
    를 포함하는 이형필름의 제조방법.
  9. 제 8항에 있어서,
    상기 b)단계에서 수성 코팅액은 평균입경이 0.01 ~ 3㎛인 입자를 포함하며, 건조 후 도포두께가 0.005 ~ 1.5㎛이 되도록 도포하는 이형필름의 제조방법.
  10. 제 8항에 있어서,
    상기 b)단계에서 수성 코팅액은 고형분 함량이 5 ~ 10 중량%이고, 상기 수성 코팅액 내 입자 함량은 고형분 중량의 5 ~ 30 중량%를 포함하는 것인 이형필름의 제조방법.
KR1020110064726A 2011-06-30 2011-06-30 이형필름 및 이의 제조방법 KR20130003393A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110064726A KR20130003393A (ko) 2011-06-30 2011-06-30 이형필름 및 이의 제조방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110064726A KR20130003393A (ko) 2011-06-30 2011-06-30 이형필름 및 이의 제조방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20130003393A true KR20130003393A (ko) 2013-01-09

Family

ID=47835628

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020110064726A KR20130003393A (ko) 2011-06-30 2011-06-30 이형필름 및 이의 제조방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20130003393A (ko)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170038639A (ko) * 2015-09-30 2017-04-07 코오롱인더스트리 주식회사 이형 필름 및 이의 제조방법
WO2017116201A1 (ko) * 2015-12-31 2017-07-06 코오롱인더스트리 주식회사 이형 필름 및 이의 제조방법
KR20170080515A (ko) * 2015-12-31 2017-07-10 코오롱인더스트리 주식회사 이형 필름 및 이의 제조방법
WO2021246851A1 (ko) * 2020-06-02 2021-12-09 코오롱인더스트리 주식회사 폴리에스테르 이형 필름 및 이의 제조 방법

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170038639A (ko) * 2015-09-30 2017-04-07 코오롱인더스트리 주식회사 이형 필름 및 이의 제조방법
WO2017116201A1 (ko) * 2015-12-31 2017-07-06 코오롱인더스트리 주식회사 이형 필름 및 이의 제조방법
KR20170080515A (ko) * 2015-12-31 2017-07-10 코오롱인더스트리 주식회사 이형 필름 및 이의 제조방법
WO2021246851A1 (ko) * 2020-06-02 2021-12-09 코오롱인더스트리 주식회사 폴리에스테르 이형 필름 및 이의 제조 방법
CN115443302A (zh) * 2020-06-02 2022-12-06 可隆工业株式会社 聚酯离型膜及其制备方法
JP2023524491A (ja) * 2020-06-02 2023-06-12 コーロン インダストリーズ インク ポリエステル離型フィルムおよびその製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101704548B1 (ko) 기재가 없는 양면 점착 시트
KR101077822B1 (ko) 코팅외관 결점이 개선된 대전방지 폴리에스테르 필름 및 그제조방법
JP7473865B2 (ja) シリコーン離型ポリエステルフィルム
JP2010017932A (ja) 離型フィルム
JP3268784B2 (ja) 離形フィルム
KR101707863B1 (ko) 이형 필름
KR20150104477A (ko) 중박리 이형 코팅 폴리에스테르 필름
KR20080084347A (ko) 편광판용 폴리에스테르 필름
WO2012090762A1 (ja) 離型フィルム
KR20120132487A (ko) 2축배향 폴리에스테르 필름 및 이를 이용한 이형필름
KR20130003393A (ko) 이형필름 및 이의 제조방법
JP2015508339A (ja) 光学的に透明なフィルムのための変性剥離コーティング
JP2013010880A (ja) 離型フィルム
JP2014028473A (ja) 離型フィルム
JP2000062122A (ja) 離型フィルム
KR101049527B1 (ko) 이형필름
JP5735278B2 (ja) 離型フィルム
JP2000108252A (ja) 離型フィルム
KR20150028416A (ko) 실리콘 이형 필름 및 그의 제조방법
JP6390149B2 (ja) ポリエステルフィルム
JP2013136208A (ja) 離型フィルム
JP2009214347A (ja) 離型フィルム
JP2022147557A (ja) 離型フィルム
KR20140085217A (ko) 계면접착 특성이 우수한 실리콘 이형 조성물, 그를 이용한 실리콘 이형 필름 및 그의 제조방법
KR102081075B1 (ko) 대전방지 폴리에스테르 필름의 제조방법 및 그로부터 제조된 대전방지 폴리에스테르 필름으로 이루어진 편광판 보호필름

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application