KR20120139021A - Apparatus for rotation and revolution of polishing plate, and operation methods for the same - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: An apparatus for rotating and revolving an upper surface plate and an upper surface plate operating method using the same are provided to improve the polishing rate of a glass substrate as the rotation and revolution of the glass substrate occur at the same time. CONSTITUTION: An apparatus for rotating and revolving an upper surface plate comprises a cylindrical member(20), a shaft(50), and a ring gear. A hollow portion is formed along the longitudinal direction of the cylindrical member, and a gear(26) is formed on the outer surface of the cylindrical member. The shaft is installed in the hollow portion in a longitudinal direction, and rotates at an eccentric position from the center. A shaft gear(51) is installed on the outer surface of the shaft. The shaft is supported to the cylindrical member, and connected to the upper surface plate. The ring gear comprises internal and external gears on the inner and outer surfaces, respectively The shaft revolves in the hollow portion by eccentricity when the cylindrical member rotates by driving force.

Description

상정반의 자전 및 공전을 위한 장치 및, 이를 이용한 상정반의 작동방법{Apparatus for rotation and revolution of polishing plate, and operation methods for the same} Apparatus for rotation and revolution of polishing plate, and operation methods for the same}

본 발명은 상정반의 자전 및 공전을 위한 장치 및, 이를 이용한 상정반의 작동방법에 관한 것으로서, 더욱 구체적으로는 상정반을 자전시킴과 동시에 공전시킬 수 있기 때문에 유리 기판의 연마율을 높일 수 있는, 상정반의 자전 및 공전을 위한 장치 및, 이를 이용한 상정반의 작동방법에 대한 것이다. The present invention relates to a device for rotating and revolving a top plate and a method of operating the top plate using the same. More specifically, the polishing rate of a glass substrate can be increased because the top plate can be rotated and revolved at the same time. The present invention relates to a device for rotating and revolving a class and a method of operating a top plate using the same.

일반적으로, 액정 디스플레이에 적용되는 유리기판은 화상을 정확히 구현하기 위해 그 평탄도를 일정 수준으로 유지하는 것이 매우 중요하다. 따라서, 유리기판의 표면에 존재하는 미세한 요철 또는 기복은 연마 공정에 의해 제거되어야 한다. In general, it is very important for the glass substrate applied to the liquid crystal display to maintain a certain level of flatness in order to accurately implement an image. Therefore, minute irregularities or undulations present on the surface of the glass substrate must be removed by the polishing process.

이러한 유리기판의 연마 공정은 개별 유리기판을 하나씩 연마하는 소위, '오스카' 방식과 일련의 유리기판들을 연속적으로 연마하는 소위, '인라인' 방식으로 나눌 수 있고, 유리기판의 일면만을 연마하는 '단면 연마'와 유리기판의 양면을 모두 연마하는 '양면 연마'로 구분된다. The glass substrate polishing process can be divided into a so-called 'Oscar' method of polishing individual glass substrates one by one, and a so-called 'in-line' method of continuously polishing a series of glass substrates, and a 'cross section' that polishes only one surface of the glass substrate. And two-sided polishing, which polishes both sides of the glass substrate.

종래기술에 따른 유리기판 연마 장치를 개략적으로 도시한 구성도인 도 1을 참조하면, 연마 장치(10)는 캐리어(4)를 이용하여 유리 기판(G)을 하정반(2) 위에 유지시킨 상태에서 연마 패드(6)가 설치된 상정반(8)을 유리 기판(G)에 접촉시킴과 동시에 상정반(8)을 회전시키는 과정에서 상정반(8)과 유리 기판(G) 사이에 연마액을 공급하여 유리 기판(G)을 연마하게 된다. 이를 위해, 연마 장치(10)는 상정반(8)에 형성된 다수의 슬롯 구멍들(8a)과, 상정반(8)과 떨어져 그 상부에 설치된 호스(3)를 이용하여 자연 낙하에 의해 연마액을 공급한다.Referring to FIG. 1, which schematically illustrates a glass substrate polishing apparatus according to the related art, the polishing apparatus 10 is a state in which a glass substrate G is held on a lower plate 2 using a carrier 4. In the process of contacting the top plate 8 provided with the polishing pad 6 to the glass substrate G and rotating the top plate 8 at the same time, the polishing liquid is applied between the top plate 8 and the glass substrate G. The glass substrate G is polished by feeding. To this end, the polishing apparatus 10 uses a plurality of slot holes 8a formed in the top plate 8 and a hose 3 installed away from the top plate 8 by natural dropping to remove the polishing liquid. To supply.

상정반(8)의 상기 회전은 샤프트(7)로부터 전달된 회전력에 의해서 이루어진다. 그러나, 상정반(8)이 회전만을 하기 때문에 유리기판(G)의 연마율을 높이는 데에는 한계가 있다는 문제점이 있다. The rotation of the upper plate 8 is made by the rotational force transmitted from the shaft 7. However, since the upper plate 8 only rotates, there is a problem in that the polishing rate of the glass substrate G is limited.

본 발명은 상정반(샤프트)을 자전시킴과 동시에 공전시킬 수 있는 장치 및, 이를 이용한 상정반의 작동방법을 제공하는 데에 그 목적이 있다. An object of the present invention is to provide an apparatus capable of rotating and simultaneously rotating an upper plate (shaft), and a method of operating the upper plate using the same.

본 발명의 또 다른 목적은 유리기판의 연마율을 높일 수 있는 장치 및, 이를 이용한 상정반의 작동방법을 제공하는 데에 있다. Still another object of the present invention is to provide an apparatus capable of increasing the polishing rate of a glass substrate and a method of operating a top plate using the same.

상기 문제점들을 해결하기 위해서 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 장치는, 길이방향을 따라 중공이 형성되고 외주면에 외주면 기어(26)가 형성된 원통부재(20); 상기 길이방향을 따라 상기 중공에 설치되고, 원통부재(20)의 중심으로부터 편심된 위치에서 자전이 가능하도록 원통부재(20)에 지지되어 설치되며, 외주면에는 축기어(51)가 설치되고, 상정반과 연결된 샤프트(50); 및, 내주면에는 내부기어(61)가 형성되고 외주면에는 외부기어(62)가 형성되며, 내부기어(61)는 축기어(51)와 맞물리도록 설치된 링기어(60);를 구비한다. 소정의 구동력이 원통부재(20)에 전달되어 원통부재(20)가 회전함에 따라 샤프트(50)는 상기 편심에 의해 공전을 하고, 상기 공전은 축기어(51)가 내부기어(61)에 맞물린 상태에서 이루어진다.In order to solve the above problems, a device according to a preferred embodiment of the present invention, the hollow member is formed along the longitudinal direction and the outer peripheral surface gears 26 formed on the outer peripheral surface (26); It is installed in the hollow along the longitudinal direction, is supported and installed on the cylindrical member 20 so that it can rotate in a position eccentric from the center of the cylindrical member 20, the shaft gear 51 is installed on the outer peripheral surface, A shaft 50 connected with the van; And an inner gear 61 is formed on the inner circumferential surface and an outer gear 62 is formed on the outer circumferential surface, and the inner gear 61 is a ring gear 60 provided to engage with the shaft gear 51. As the driving force is transmitted to the cylindrical member 20 and the cylindrical member 20 rotates, the shaft 50 revolves by the eccentricity, and the revolving shaft shaft 51 is engaged with the internal gear 61. In the state.

이 때, 구동력이 외부기어(62)에 전달되어 링기어(60)가 회전하면 축기어(51)가 자전될 수 있다.At this time, when the driving force is transmitted to the external gear 62 and the ring gear 60 rotates, the shaft gear 51 may rotate.

상기 링기어(60)는 자전용 모터로부터 구동력을 전달받아서 회전되고, 원통부재(20)는 공전용 모터로부터 구동력을 전달받아서 회전되는 것이 바람직하다.The ring gear 60 is rotated by receiving the driving force from the motor for the motor, the cylindrical member 20 is preferably rotated by receiving the driving force from the motor for public.

또한, 링기어(60)와 자전용 모터 사이에는 복수 개의 기어(71)(72)(73)(74)(75)가 자전용 모터의 구동력을 전달할 수 있도록 설치되어 기어 감속비를 조절할 수 있는 것이 바람직하다.In addition, a plurality of gears (71, 72, 73, 74, 75) is installed between the ring gear 60 and the motor for the motor for controlling the gear reduction ratio. desirable.

아울러, 외주면 기어(26)와 공전용 모터 사이에는 복수 개의 기어(22)(23)(24)가 공전용 모터의 구동력을 전달할 수 있도록 설치되어 기어 감속비를 조절할 수 있는 것이 바람직하다. In addition, it is preferable that a plurality of gears 22 and 23 and 24 are installed between the outer circumferential surface gear 26 and the motor for the purpose of transmission to control the gear reduction ratio.

한편, 본 발명의 다른 측면인 상정반의 작동방법은 유리 기판을 연마하는 상정반과 연결된 샤프트(50)를 자전 및 공전시킴으로써 상정반을 자전시킴과 동시에 공전시킨다. On the other hand, the operating method of the top plate, which is another aspect of the present invention, rotates and revolves the top plate by rotating and revolving the shaft 50 connected to the top plate for polishing the glass substrate.

상기 작동방법에 사용되는 장치는, 길이방향을 따라 중공이 형성되고 외주면에는 외주면 기어(26)가 형성된 원통부재(20); 상기 길이방향을 따라 상기 중공에 설치되고, 원통부재(20)의 중심으로부터 편심된 위치에서 상기 자전이 가능하도록 원통부재(20)에 지지되어 설치되며, 외주면에는 축기어(51)가 설치되고, 상기 상정반과 연결된 샤프트(50); 및 내주면에는 내부기어(61)가 형성되고 외주면에는 외부기어(62)가 형성되며, 내부기어(61)는 축기어(51)와 맞물리도록 설치된 링기어(60);를 구비할 수 있다. 소정의 구동력에 의해 원통부재(20)가 회전함에 따라 샤프트(50)는 상기 편심에 의해 공전을 하고, 상기 공전은 축기어(51)가 내부기어(61)에 맞물린 상태에서 이루어진다. 또한, 구동력이 외부기어(62)에 전달되어 링기어(60)가 회전하면 축기어(51)가 자전을 하게 된다.The apparatus used in the operation method includes a cylindrical member 20 in which a hollow is formed along a longitudinal direction and an outer circumferential surface gear 26 is formed on an outer circumferential surface thereof; It is installed in the hollow along the longitudinal direction, is supported and installed on the cylindrical member 20 so that the rotation is possible at a position eccentric from the center of the cylindrical member 20, the shaft gear 51 is provided on the outer peripheral surface, A shaft 50 connected to the upper plate; And an inner gear 61 is formed on the inner circumferential surface, and an outer gear 62 is formed on the outer circumferential surface, and the inner gear 61 is a ring gear 60 installed to engage the shaft gear 51. As the cylindrical member 20 rotates by a predetermined driving force, the shaft 50 revolves by the eccentricity, and the revolving operation is performed when the shaft gear 51 is engaged with the inner gear 61. In addition, when the driving force is transmitted to the external gear 62 and the ring gear 60 rotates, the shaft gear 51 rotates.

상기 자전을 위한 구동력은 자전용 모터로부터 공급되고, 상기 공전을 위한 구동력은 공전용 모터로부터 공급되며, 링기어(60)와 자전용 모터 사이에는 복수 개(71)(72)(73)(74)(75)의 기어가 자전용 모터의 구동력을 전달할 수 있도록 설치되어 기어 감속비를 조절할 수 있고, 외주면 기어(26)와 공전용 모터 사이에는 복수 개의 기어(22)(23)(24)가 공전용 모터의 구동력을 전달할 수 있도록 설치되어 기어 감속비를 조절할 수 있다. The driving force for the rotation is supplied from the motor for rotation, the driving force for the rotation is supplied from the motor for rotation, and a plurality of (71) (72) (73) (74) between the ring gear 60 and the motor for rotation. (75) of the gear is installed to transmit the driving force of the motor for the self-adjustment to adjust the gear reduction ratio, a plurality of gears (22) (23) (24) between the outer peripheral gear 26 and motor It is installed to transmit the driving force of the dedicated motor and can adjust the gear reduction ratio.

본 발명에 따른 상정반의 자전 및 공전을 위한 장치 및, 이를 이용한 상정반의 작동방법은 다음과 같은 효과를 가진다. Apparatus for rotating and revolving top plate according to the present invention, and the operating method of the top plate using the same has the following effects.

첫째, 상정반(샤프트)을 자전시킴과 동시에 공전시킬 수 있다.First, the top plate can be rotated and rotated at the same time.

둘째, 상정반(샤프트)을 자전시킴과 동시에 공전시킴으로써 유리기판의 연마율을 높일 수 있다. Second, the polishing rate of the glass substrate can be increased by rotating the top plate and rotating at the same time.

도 1은 종래 기술에 따른 유리기판 연마장치를 보여주는 측면 구성도이다.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른, 상정반의 자전 및 공전을 위한 장치를 보여주는 사시도이다.
도 3은 도 2의 장치에 구비된 공전 유니트를 보여주는 사시도이다.
도 4는 도 2의 장치에 구비된 원통부재와 샤프트를 보여주는 종단면도이다.
도 5는 도 2의 장치에 구비된 자전 유니트를 보여주는 사시도이다.1 is a side configuration diagram showing a glass substrate polishing apparatus according to the prior art.
2 is a perspective view showing a device for rotating and revolving a top plate according to a preferred embodiment of the present invention.
3 is a perspective view showing a revolving unit provided in the apparatus of FIG.
4 is a longitudinal sectional view showing a cylindrical member and a shaft provided in the apparatus of FIG.
5 is a perspective view illustrating a rotating unit provided in the apparatus of FIG. 2.

이하, 첨부된 도면들을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예에 대해서 상세히 설명하기로 한다. 이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다. 따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Prior to this, terms or words used in the specification and claims should not be construed as having a conventional or dictionary meaning, and the inventors should properly explain the concept of terms in order to best explain their own invention. Based on the principle that can be defined, it should be interpreted as meaning and concept corresponding to the technical idea of the present invention. Therefore, the embodiments described in this specification and the configurations shown in the drawings are merely the most preferred embodiments of the present invention and do not represent all the technical ideas of the present invention. Therefore, It is to be understood that equivalents and modifications are possible.

도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른, 상정반의 자전 및 공전을 위한 장치를 보여주는 사시도이다.2 is a perspective view showing a device for rotating and revolving a top plate according to a preferred embodiment of the present invention.

도면을 참조하면, 상기 장치(100)는 샤프트(50)의 공전을 위한 공전 유니트와, 샤프트(50)의 자전을 위한 자전 유니트를 포함한다. Referring to the drawings, the device 100 includes a revolving unit for revolving the shaft 50 and a revolving unit for revolving the shaft 50.

한편, 샤프트(50)는 상정반(도 1의 8, 도 2에는 미도시)과 연결된다. 이에 따라, 본 발명에서는 샤프트(50)가 자전하면 상정반(8)이 자전하게 되고, 샤프트(50)가 공전하면 상정반(8)이 공전하게 되며, 샤프트(50)가 자전 및 공전을 하게 되면 상정반(8)이 자전 및 공전을 하게 된다. 따라서, 본 발명의 설명에서 샤프트(50)의 자전은 상정반(8)의 자전을 의미하고, 샤프트(50)의 공전은 상정반(8)의 공전을 의미한다. On the other hand, the shaft 50 is connected to the upper plate (not shown in 8, 2 of Figure 1). Accordingly, in the present invention, when the shaft 50 rotates, the upper plate 8 rotates, and when the shaft 50 rotates, the upper plate 8 rotates, and the shaft 50 rotates and rotates. When the upper plate (8) is rotated and idle. Accordingly, in the description of the present invention, the rotation of the shaft 50 means the rotation of the upper plate 8, and the rotation of the shaft 50 means the rotation of the upper plate 8.

공전 유니트는 원통부재(20)와, 원통부재(20)를 회전시키기 위한 구동력을 제공하는 공전용 모터(21) 및, 공전용 모터(21)의 구동력을 원통부재(20)에 전달하는 복수 개의 기어(22)(23)(24)를 구비한다. 공전 유니트는 원통부재(20)를 관통하도록 설치된 샤프트(50)를 원통부재(20)의 중심을 기준으로 공전시킨다. The revolving unit includes a cylindrical member 20, a motor 21 for providing a driving force for rotating the cylinder member 20, and a plurality of motors for transmitting the driving force of the motor 21 to the cylindrical member 20. Gears 22, 23, 24. The revolving unit revolves the shaft 50 installed to penetrate the cylindrical member 20 based on the center of the cylindrical member 20.

도 4에 나타난 바와 같이, 원통부재(20)는 그 길이방향을 따라 형성된 중공(25)과, 외주면에 설치된 외주면 기어(26) 및, 샤프트(50)를 지지하기 위한 베어링(27)을 포함한다. 원통부재(20)는 프레임(30)의 내부에 고정되어 설치된다. As shown in FIG. 4, the cylindrical member 20 includes a hollow 25 formed along its longitudinal direction, an outer circumferential gear 26 provided on the outer circumferential surface, and a bearing 27 for supporting the shaft 50. . The cylindrical member 20 is fixedly installed inside the frame 30.

상기 중공(25)은 원통부재(20)의 길이방향을 따라 원통부재(20)를 관통하도록 형성되고, 외주면 기어(26)는 공전용 모터(21)로부터 구동력을 전달받아서 회전된다.The hollow 25 is formed to penetrate the cylindrical member 20 in the longitudinal direction of the cylindrical member 20, the outer peripheral surface gear 26 is rotated by receiving a driving force from the motor 21 for the revolution.

베어링(27)은 중공(25)을 관통하도록 설치된 샤프트(50)를 자전 가능하도록 지지한다. 샤프트(50)는 원통부재(20)의 중심으로부터 소정 거리(d)만큼 편심되도록 설치된다. 이에 따라, 원통부재(20)가 회전되면 샤프트(50)는 상기 편심된 거리(d)를 반경으로 하는 원을 그리면서 공전을 하게 된다. The bearing 27 supports the shaft 50 installed to penetrate the hollow 25 so as to be rotatable. The shaft 50 is installed to be eccentric by a predetermined distance d from the center of the cylindrical member 20. Accordingly, when the cylindrical member 20 is rotated, the shaft 50 revolves while drawing a circle having a radius of the eccentric distance d.

공전용 모터(21)는 복수 개의 기어(22)(23)(24)를 통하여 구동력을 외주면 기어(26)에 전달한다. 복수 개의 기어(22)(23)(24)는 톱니 수가 서로 다르기 때문에 공전용 모터(21)의 회전속도(R.P.M.)를 감속시킬 수 있는 것이 바람직하다. 도 3은 세 개의 기어(22)(23)(24)가 맞물리도록 설치된 것을 도시하고 있지만, 원하는 감속비를 얻을 수 있도록 하기 위해서 기어들의 조합이 다양하게 변경될 수 있다. The motor 21 transmits a driving force to the outer circumferential surface gear 26 through the plurality of gears 22, 23, 24. It is preferable that the gears 22, 23 and 24 are able to reduce the rotational speed R.P.M. of the motor 21 for revolution because the number of teeth is different from each other. 3 shows that the three gears 22, 23, 24 are installed to engage, but the combination of gears can be varied in various ways to achieve the desired reduction ratio.

자전 유니트는 샤프트(50)의 중심을 기준으로 샤프트(50)를 자전시킨다. 도 5에 나타난 바와 같이, 자전 유니트는 축기어(51)가 설치된 샤프트(50)와, 축기어(51)와 맞물리도록 설치된 링기어(60)와, 자전용 모터(70)와, 자전용 모터(70)의 구동력을 링기어(60)에 전달하는 복수 개의 기어(71)(72)(73)(74)(75)를 포함한다. The rotating unit rotates the shaft 50 about the center of the shaft 50. As shown in FIG. 5, the rotating unit includes a shaft 50 in which a shaft gear 51 is installed, a ring gear 60 provided to mesh with the shaft gear 51, a motor 70 for motor use, and a motor for motor power. And a plurality of gears 71, 72, 73, 74, 75 for transmitting the driving force of the 70 to the ring gear 60.

샤프트(50)는 원통부재(20)의 길이방향을 따라 중공(25)에 설치된다. 샤프트(50)는 원통부재(20)의 중심으로부터 소정 거리(d)만큼 편심된 위치에 설치된다. 샤프트(50)는 베어링(27)에 의해 자전이 가능하도록 지지된다. The shaft 50 is installed in the hollow 25 along the longitudinal direction of the cylindrical member 20. The shaft 50 is installed at a position eccentrically from the center of the cylindrical member 20 by a predetermined distance d. The shaft 50 is supported by the bearing 27 so that rotation is possible.

샤프트(50)의 외주면에는 축기어(51)가 설치되고, 샤프트(50)의 하단에는 상정반(도 1의 8, 도 5에는 미도시)이 설치된다. The shaft gear 51 is installed on the outer circumferential surface of the shaft 50, and an upper plate (not shown in FIGS. 1 and 8 of FIG. 1) is installed at the lower end of the shaft 50.

링기어(60)는 원통부재(20)의 상측에 설치된다. 링기어(60)는 내주면에 형성된 내부기어(61)와, 외주면에 형성된 외부기어(62)를 포함한다. 내부기어(61)는 축기어(51)와 맞물리도록 설치되고, 외부기어(62)는 기어(75)와 맞물리도록 설치된다. The ring gear 60 is installed above the cylindrical member 20. The ring gear 60 includes an inner gear 61 formed on the inner circumferential surface and an outer gear 62 formed on the outer circumferential surface. The inner gear 61 is installed to mesh with the shaft gear 51, and the outer gear 62 is installed to mesh with the gear 75.

링기어(60)와 원통부재(20)는 별도로 회전된다. 즉, 링기어(60)는 자전용 모터(70)의 구동력에 의해서 회전되고 원통부재(20)는 공전용 모터(21)의 구동력에 의해서 회전된다. The ring gear 60 and the cylindrical member 20 are rotated separately. That is, the ring gear 60 is rotated by the driving force of the motor 70 for autonomous use, and the cylindrical member 20 is rotated by the driving force of the motor 21 for public use.

링기어(60)는 샤프트(50)가 자전과 공전을 동시에 할 수 있도록 하는 내부 직경(링기어(60)의 내주면이 이루는 직경)을 가진다. 즉, 샤프트(50)는 원통부재(20)의 중심으로부터 편심된 위치에 설치되어 상기 편심된 거리(d)를 반경으로 가지는 원을 그리면서 공전을 하는데, 링기어(60)는 샤프트(50)가 이러한 공전을 하는 동안에도 내부기어(61)와 맞물린 상태를 계속 유지할 수 있는 내부 직경을 가지고, 이에 따라 샤프트(50)는 자전과 공전을 동시에 할 수 있다. The ring gear 60 has an inner diameter (diameter formed by the inner circumferential surface of the ring gear 60) that allows the shaft 50 to rotate and rotate at the same time. That is, the shaft 50 is installed at an eccentric position from the center of the cylindrical member 20 to revolve while drawing a circle having a radius of the eccentric distance (d), the ring gear 60 is the shaft 50 Has an inner diameter that can maintain the state of engagement with the inner gear 61 even during this idle, so that the shaft 50 can rotate and rotate at the same time.

자전용 모터(70)는 복수 개의 기어(71)(72)(73)(74)(75)를 통해서 구동력을 외부기어(62)에 전달한다. 복수 개의 기어(71)(72)(73)(74)(75)는 톱니 수가 서로 다르기 때문에 자전용 모터(70)의 회전속도(R.P.M.)를 감속시킬 수 있는 것이 바람직하다. 도 5는 다섯 개의 기어(71)(72)(73)(74)(75)가 맞물리도록 설치된 것을 도시하고 있지만, 원하는 감속비를 얻을 수 있도록 하기 위해서 기어들의 조합이 다양하게 변경될 수 있다.The motor 70 transmits driving force to the external gear 62 through a plurality of gears 71, 72, 73, 74, 75. It is preferable that the gears 71, 72, 73, 74, 75 can reduce the rotational speed R.P.M. of the motor 70 for a magnetic motor because the number of teeth differs. 5 shows that five gears 71, 72, 73, 74, 75 are installed to engage, but the combination of gears can be varied in various ways to achieve the desired reduction ratio.

그러면, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 장치(100)의 작동 과정을 설명하기로 한다. 상기 작동과정은 상정반의 작동방법에 대한 것이기도 하다. 한편, 상기 작동방법 중에서 캐리어(도 1의 4)를 이용하여 유리기판(도 1의 G)을 하정반(2)의 상면에 위치시키는 것 및, 상정반(8)과 유리 기판(G) 사이에 연마액을 공급하는 것은 통상적인 것이므로 여기서는 설명을 생략하기로 한다.Then, the operation of the device 100 according to the preferred embodiment of the present invention will be described. The operation process is also about the operation method of the upper plate. Meanwhile, in the above operation method, the glass substrate (G in FIG. 1) is positioned on the upper surface of the lower surface plate 2 using the carrier (4 in FIG. 1), and the upper surface plate 8 and the glass substrate G are interposed. Since it is common to supply the polishing liquid to the above, description thereof will be omitted.

먼저, 자전용 모터(70)를 작동시키면 자전용 모터(70)의 구동력은 복수 개의 기어(71)(72)(73)(74)(75)를 통해서 외부기어(62)로 전달되고, 이에 따라 링기어(60)가 회전하게 된다. 링기어(60)가 회전하면 내부기어(61)와 맞물린 축기어(51)가 회전하고, 이에 따라 샤프트(50)가 자전을 하게 된다. 도 5에 도시된 바와 같이, 링기어(60)가 반시계 방향(화살표 방향. 위에서 내려다 봤을 때 반시계 방향임)으로 회전되면 샤프트(50)도 반시계 방향(화살표 방향)으로 자전된다. First, when the magnetic motor 70 is operated, the driving force of the magnetic motor 70 is transmitted to the external gear 62 through the plurality of gears 71, 72, 73, 74, and 75. The ring gear 60 is rotated accordingly. When the ring gear 60 rotates, the shaft gear 51 meshed with the inner gear 61 rotates, thereby causing the shaft 50 to rotate. As shown in Fig. 5, when the ring gear 60 is rotated counterclockwise (arrow direction. Counterclockwise when viewed from above), the shaft 50 is also rotated counterclockwise (arrow direction).

한편, 공전용 모터(21)를 작동시키면 공전용 모터(21)의 구동력이 복수 개의 기어(22)(23)(24)를 통해서 외주면 기어(26)에 전달되고, 이에 따라 원통부재(20)가 회전하게 된다. On the other hand, when the motor 21 is operated, the driving force of the motor 21 is transmitted to the outer circumferential surface gear 26 through the plurality of gears 22, 23, 24, and thus the cylindrical member 20. Will rotate.

원통부재(20)가 회전하면 샤프트(50)는 편심 거리(d)를 반경으로 하는 원을 그리면서 원통부재(20)의 중심 주위를 공전하게 된다. 이 때, 원하는 감속비를 얻기 위해서 기어(22)(23)(24)를 교체하여 감속비를 변경시킬 수 있다. When the cylindrical member 20 rotates, the shaft 50 revolves around the center of the cylindrical member 20 while drawing a circle having a radius of the eccentric distance d. At this time, the gear reduction ratio can be changed by replacing the gears 22, 23 and 24 in order to obtain a desired reduction ratio.

도 3에 나타난 바와 같이, 원통부재(20)가 시계 방향(화살표 방향. 위에서 내려다 봤을 때 시계 방향임)으로 회전되면 샤프트(50)도 시계 방향(위에서 내려다 봤을 때 시계 방향임)으로 '공전'하게 된다. As shown in Fig. 3, when the cylindrical member 20 is rotated clockwise (arrow direction. Clockwise when viewed from above), the shaft 50 also rotates clockwise (clockwise when viewed from above). Done.

상기 공전은 축기어(51)가 내부기어(61)와 맞물린 상태를 계속적으로 유지하면서 이루어지기 때문에 상기 공전이 이루어지는 동안에 자전이 계속적으로 이루어진다. Since the idle is continuously maintained while the shaft gear 51 is engaged with the internal gear 61, the idle is continuously performed during the idle.

이와 같이, 본 발명에 따른 장치(100)는 공전용 모터(21)와 자전용 모터(70)를 모두 작동시킴으로써 상정반(8)의 자전과 공전이 동시에 이루어지기 때문에 연마율을 높일 수 있다. 예를 들어, 본 발명에 따른 장치(100)는 유리기판(G)의 연마율을 0.3μm/min 이상으로 높일 수 있다. As described above, the apparatus 100 according to the present invention can increase the polishing rate because the rotating and revolving of the upper plate 8 are simultaneously performed by operating both the motor 21 and the motor 70. For example, the device 100 according to the present invention can increase the polishing rate of the glass substrate G to 0.3 μm / min or more.

한편, 이상에서는 공전용 모터(21)와 자전용 모터(70)를 모두 작동시킴으로써 샤프트(50)의 공전과 자전 즉, 상정반(8)의 공전과 자전이 동시에 이루어지는 것을 설명하였지만, 본 발명에 따른 장치(100)에서는 자전용 모터(70)를 오프(off) 시킨 상태에서 공전용 모터(21)만을 작동시킴으로써 상정반(8)의 공전 및 자전이 이루어지도록 할 수도 있다. 자전용 모터(70)를 오프(off) 시키더라도 샤프트(50)가 공전하는 동안에 축기어(51)가 내부기어(61)와 맞물린 상태를 유지하기 때문에 샤프트(50)의 자전이 이루어진다. On the other hand, it has been described above that the revolution and rotation of the shaft 50, that is, the revolution and rotation of the upper plate 8, are simultaneously performed by operating both the motor 21 and the motor 70 for revolution. In the apparatus 100 according to the present invention, only the motor 21 is operated in a state in which the motor 70 is turned off, thereby allowing the upper plate 8 to rotate and rotate. Even when the motor 70 is turned off, the shaft 50 is rotated while the shaft 50 is engaged with the internal gear 61 while the shaft 50 is idle.

또한, 자전용 모터(70)만을 작동시키고 공전용 모토(21)를 오프(off) 시킴으로써 상정반(8)의 자전만 이루어지도록 할 수도 있다. 이러한 점은 본 명세서를 참조한 당업자가 쉽게 알 수 있을 것이므로 여기서는 자세한 설명을 생략하기로 한다. In addition, only the motor 70 may be operated and the motor moto 21 may be turned off to allow only the top plate 8 to rotate. This point will be easily understood by those skilled in the art with reference to the present specification, which will not be elaborated herein.

<도면의 주요 참조부호에 대한 설명>
20 : 원통부재 21 : 공전용 모터
22, 23, 24 : 기어 25 : 중공
26 : 외주면 기어 50 : 샤프트
51 : 축기어 60 : 링기어
61 : 내부기어 62 : 외부기어
70 : 자전용 모터 71, 72, 73, 74, 75 : 기어
100 : 상정반의 자전 및 공전을 위한 회전장치
G : 유리기판 d : 편심거리<Description of main reference numerals in the drawings>
20: cylindrical member 21: motor for revolution
22, 23, 24: gear 25: hollow
26: outer peripheral gear 50: shaft
51: shaft gear 60: ring gear
61: internal gear 62: external gear
70: motor 71, 72, 73, 74, 75 for gears
100: rotating device for rotating and revolving top plate
G: Glass substrate d: Eccentric distance

Claims (8)

길이방향을 따라 중공이 형성되고, 외주면에 외주면 기어(26)가 형성된 원통부재(20);
상기 길이방향을 따라 상기 중공에 설치되고, 원통부재(20)의 중심으로부터 편심된 위치에서 자전이 가능하도록 원통부재(20)에 지지되어 설치되며, 외주면에는 축기어(51)가 설치되고, 상정반과 연결된 샤프트(50); 및
내주면에는 내부기어(61)가 형성되고 외주면에는 외부기어(62)가 형성되며, 내부기어(61)는 축기어(51)와 맞물리도록 설치된 링기어(60);를 구비하고,
구동력이 원통부재(20)에 전달되어 원통부재(20)가 회전함에 따라 샤프트(50)는 상기 편심에 의해 상기 중공의 내부에서 공전을 하고, 상기 공전은 축기어(51)가 내부기어(61)에 맞물린 상태에서 이루어지는 것을 특징으로 하는, 상정반의 자전 및 공전을 위한 회전장치.A cylindrical member 20 formed along the longitudinal direction and having an outer circumferential surface gear 26 formed on an outer circumferential surface thereof;
It is installed in the hollow along the longitudinal direction, is supported and installed on the cylindrical member 20 so that it can rotate in a position eccentric from the center of the cylindrical member 20, the shaft gear 51 is installed on the outer peripheral surface, A shaft 50 connected with the van; And
An inner gear 61 is formed on the inner circumferential surface and an outer gear 62 is formed on the outer circumferential surface, and the inner gear 61 has a ring gear 60 installed to engage the shaft gear 51.
As the driving force is transmitted to the cylindrical member 20 and the cylindrical member 20 rotates, the shaft 50 revolves inside the hollow by the eccentricity, and the revolving shaft shaft 51 is an internal gear 61. Rotating device for rotating and revolving the top plate, characterized in that in the state engaged with the). 제1항에 있어서,
구동력이 외부기어(62)에 전달되어 링기어(60)가 회전하면 축기어(51)가 자전하게 되는 것을 특징으로 하는, 상정반의 자전 및 공전을 위한 회전장치.The method of claim 1,
The driving force is transmitted to the external gear 62, the ring gear 60 is rotated, characterized in that the shaft gear 51 is rotated, the rotating device for rotating and revolving the top plate. 제2항에 있어서,
링기어(60)는 자전용 모터로부터 구동력을 전달받아서 회전되고, 원통부재(20)는 공전용 모터로부터 구동력을 전달받아서 회전되는 것을 특징으로 하는, 상정반의 자전 및 공전을 위한 회전장치.The method of claim 2,
The ring gear 60 is rotated by receiving the driving force from the motor for the motor, and the cylindrical member 20 is rotated by receiving the driving force from the motor for the revolution. 제3항에 있어서,
링기어(60)와 자전용 모터 사이에는 복수 개의 기어(71)(72)(73)(74)(75)가 자전용 모터의 구동력을 전달할 수 있도록 설치되어 기어 감속비를 조절할 수 있는 것을 특징으로 하는, 상정반의 자전 및 공전을 위한 회전장치.The method of claim 3,
A plurality of gears 71, 72, 73, 74, 75 are installed between the ring gear 60 and the motor for the motor for controlling the gear reduction ratio. Rotating device for rotating and revolving top plate. 제3항에 있어서,
외주면 기어(26)와 공전용 모터 사이에는 복수 개의 기어(22)(23)(24)가 공전용 모터의 구동력을 전달할 수 있도록 설치되어 기어 감속비를 조절할 수 있는 것을 특징으로 하는, 상정반의 자전 및 공전을 위한 회전장치.The method of claim 3,
Between the outer circumferential surface gear 26 and the motor for revolution, a plurality of gears 22, 23, 24 are installed to transmit the driving force of the motor for the motor, and the gear reduction ratio can be adjusted. Rotator for static. 유리 기판을 연마하는 상정반과 연결된 샤프트(50)를 자전 및 공전시킴으로써 상정반을 자전시킴과 동시에 공전시키는 것을 특징으로 하는, 상정반의 작동방법. A method of operating a top plate, characterized in that the top plate rotates and revolves simultaneously by rotating and revolving the shaft (50) connected to the top plate for polishing the glass substrate. 제6항에 있어서,
길이방향을 따라 중공이 형성되고, 외주면에는 외주면 기어(26)가 형성된 원통부재(20);
상기 길이방향을 따라 상기 중공에 설치되고, 원통부재(20)의 중심으로부터 편심된 위치에서 상기 자전이 가능하도록 원통부재(20)에 지지되어 설치되며, 외주면에는 축기어(51)가 설치되고, 상기 상정반과 연결된 샤프트(50); 및
내주면에는 내부기어(61)가 형성되고 외주면에는 외부기어(62)가 형성되며, 내부기어(61)는 축기어(51)와 맞물리도록 설치된 링기어(60);를 구비하고,
구동력에 의해 원통부재(20)가 회전함에 따라 샤프트(50)는 상기 편심에 의해 상기 중공 내부에서 상기 공전을 하고, 상기 공전은 축기어(51)가 내부기어(61)에 맞물린 상태에서 이루어지며,
구동력이 외부기어(62)에 전달되어 링기어(60)가 회전하면 축기어(51)가 자전을 하게 되는 것을 특징으로 하는, 상정반의 작동방법.The method according to claim 6,
A hollow member is formed along the longitudinal direction, and an outer circumferential surface thereof has a cylindrical member 20 having an outer circumferential gear 26 formed thereon;
It is installed in the hollow along the longitudinal direction, is supported and installed on the cylindrical member 20 so that the rotation is possible at a position eccentric from the center of the cylindrical member 20, the shaft gear 51 is provided on the outer peripheral surface, A shaft 50 connected to the upper plate; And
An inner gear 61 is formed on the inner circumferential surface and an outer gear 62 is formed on the outer circumferential surface, and the inner gear 61 has a ring gear 60 installed to engage the shaft gear 51.
As the cylindrical member 20 is rotated by the driving force, the shaft 50 rotates in the hollow interior by the eccentricity, and the rotation is performed while the shaft gear 51 is engaged with the inner gear 61. ,
When the driving force is transmitted to the external gear 62, the ring gear 60 is rotated, the shaft gear 51 is to rotate, characterized in that the operation of the upper plate. 제7항에 있어서,
상기 자전을 위한 구동력은 자전용 모터로부터 공급되고, 상기 공전을 위한 구동력은 공전용 모터로부터 공급되며,
링기어(60)와 자전용 모터 사이에는 복수 개(71)(72)(73)(74)(75)의 기어가 자전용 모터의 구동력을 전달할 수 있도록 설치되어 기어 감속비를 조절할 수 있고, 외주면 기어(26)와 공전용 모터 사이에는 복수 개의 기어(22)(23)(24)가 공전용 모터의 구동력을 전달할 수 있도록 설치되어 기어 감속비를 조절할 수 있는 것을 특징으로 하는, 상정반의 작동방법. The method of claim 7, wherein
The driving force for the rotation is supplied from the motor for rotation, the driving force for the rotation is supplied from the motor for revolution,
A plurality of 71, 72, 73, 74 and 75 gears are installed between the ring gear 60 and the motor for the motor for controlling the gear reduction ratio. A plurality of gears (22) (23) (24) are installed between the gear (26) and the motor for power transmission, characterized in that the gear reduction ratio can be adjusted to transmit the driving force of the motor for motor, the operation of the upper plate.
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103894908B (en) * 2014-04-17 2016-07-06 台州联帮机器人科技有限公司 The rotating mechanism of frame in a kind of belt grinder
KR101574753B1 (en) 2014-11-09 2015-12-04 (주)앰솔 Disk Adjusting Device of Polishing Machine
CN106392835B (en) * 2015-07-30 2019-03-08 南京德朔实业有限公司 Sander
CN105108636B (en) * 2015-08-20 2017-11-24 苏州富强科技有限公司 It is a kind of to be used for the grinding and polishing tool with face of cylinder workpiece
CN106064348A (en) * 2016-07-29 2016-11-02 廊坊西波尔钻石技术有限公司 A kind of composite polycrystal-diamond mirror finish pendulous device and method
CN110103099B (en) * 2019-05-10 2019-12-10 青岛顺运通运输装备有限公司 Automatic feed formula foundry goods polisher

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3172241A (en) * 1963-02-15 1965-03-09 Carl J Habenicht Lapping machine
JP2610930B2 (en) * 1988-03-01 1997-05-14 株式会社三協精機製作所 Grinding equipment
US5516328A (en) * 1992-10-27 1996-05-14 Seiko Electronic Components Ltd. End surface polishing machine
CN2191065Y (en) * 1994-03-19 1995-03-08 贺鸿恩 Polisher
JP2000296451A (en) * 1999-04-12 2000-10-24 Seiko Instruments Inc End face polishing device
JP2001071229A (en) * 1999-07-05 2001-03-21 Leben Co Ltd Work device and rocking rotation converting unit
JP2001293656A (en) * 2000-04-17 2001-10-23 Asahi Glass Co Ltd Continuous-type polishing device of plate-like body, and its method
JP5061296B2 (en) * 2007-07-11 2012-10-31 サイチ工業株式会社 Flat double-side polishing method and flat double-side polishing apparatus
JP5605554B2 (en) * 2009-09-17 2014-10-15 旭硝子株式会社 Glass plate local polishing apparatus, glass plate local polishing method, glass product manufacturing apparatus, and glass product manufacturing method

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