JP2004255483A - Polishing device and polishing method - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、研磨装置において研磨精度を向上する技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
ワークと呼ばれる非研磨体を研磨する研磨装置としては、従来、たとえば、ワークを保持するキャリアを、下定盤と、キャリア毎に設けた上定盤との間に配置し、太陽歯車と内歯歯車に噛合させて公転及び自転させると共に、上定盤をキャリアと同様に公転させながらキャリアとは異なる回転速度で自転させることにより、キャリアに保持したワークの上下面を研磨する両面研磨装置が知られている。
【0003】
図5に、このような両面研磨装置の構造を模式的に示す。
図中aは、垂直方向から見た場合の太陽歯車1、内歯歯車2、下定盤3、キャリア4、上定盤6の配置を模式的に示した図である。
図示するように、各キャリア4は、その外周に設けられた歯列によって太陽歯車1の外周に設けられた歯列と内歯歯車2の内周に設けられた歯列と噛合しており、太陽歯車1を回転させることにより、太陽歯車1の周りを公転しながら、自キャリア4の中心の周りを自転する。一方、各々キャリア4に対向させて1対1に設けた上定盤6は、キャリア4と同様に公転しながら、キャリア4の自転軸と同じ軸を自転軸として、キャリア4の自転速度とは異なる回転速度で自転する。
【0004】
次に、図中bは、水平方向から見た両面研磨装置の構造を模式的に示したものである。
図示するように、両面研磨装置は、垂直方向に上下する、上定盤保持部5を有し、上定盤保持部5には複数の上定盤6が保持されている。そして、研磨の際には、この上定盤保持部5を、下定盤3上に配置したキャリア4の自転軸と上定盤6の自転軸が一致するように下降する。そして、研磨剤を供給しながら、下定盤3を回転させると共に、太陽歯車1を回転させることによりワークをキャリア4と共々公転、自転させと共に、上定盤保持部5をキャリアの公転速度と同じ回転速度回転させながら、上定盤6を上定盤保持部5に対して回転させることにより自転させる。これにより、キャリア4に保持させたワークの上下両面を、上定盤6と下定盤3で研磨する。なお、このような両面研磨装置において、さらに内歯歯車2を回転させる場合もある。
【0005】
次に、図中cにこのような従来の両面研磨装置におけるキャリア4の構造を示す。図中、c1はキャリアの上面図、c2は側面図、c3はキャリア中心を通る垂直な平面による断面図である。
図示するように、各キャリア4は、強度を増強するために、外縁部41の高さをその内側のワーク保持部42より高くした形状を有している。そして、ワーク保持部42にはワークを水平方向に関して保持するための貫通した孔が設けられており、ワーク保持部42の高さはワークの目標研磨厚より小さい値となっている。また、キャリア外縁部41は、ちょうど厚みを持った筒形状を有しており、その外周には歯列が設けられている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
図5に示した前記従来の両面研磨装置によれば、ワークの上面は、上定盤6とキャリア4との相対運動によってのみ研磨されることになる。そして、上定盤6とキャリア4の自転軸は一致しているので、上定盤6及びキャリア4の自転軸から距離によって、ワークの研磨作用を生み出す上定盤6とキャリア4の相対速度に定常的な違いが生じることになる。すなわち、上定盤6及びキャリア4の自転軸付近では、上定盤6とキャリア4の相対速度は小さくワークに働く研磨作用も小さい、上定盤6及びキャリア4の自転軸から離れた位置ではワークの研磨作用を生み出す上定盤6とキャリア4の相対速度は大きワークに働く研磨作用も大きくなる。
【0007】
このため、図5に示した前記従来の両面研磨装置では、ワーク上面に研磨の不均一が生じ、充分な研磨精度を得ることができない場合があった。
そこで、本発明は、キャリアと共に公転する上定盤を自転させてワークの研磨を行う研磨装置において、研磨精度を向上することを課題とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
前記課題達成のために、本発明は、同軸に配置された太陽歯車と内歯歯車を用いて所定数のキャリアを太陽歯車の周囲に公転させながら自転させ、前記キャリアに保持された被研磨体の上下面を下定盤と上定盤によって研磨する研磨装置であって、前記各キャリアに対して設けられた、複数の上定盤と、前記各上定盤を、前記キャリアの公転速度と同回転速度で前記太陽歯車の回転軸と同じ軸を回転軸として公転させる公転手段と、前記各上定盤を前記各キャリアの自転軸と平行な軸を自転軸として自転させる自転手段とを有し、前記各上定盤の自転軸は、対応するキャリアの自転軸に対して当該自転軸と垂直な方向に変位していることを特徴とする研磨装置を提供する。
【0009】
ここで、このような研磨装置においては、前記キャリアを、当該キャリアの外周側端部は、その内側に比べ上下方向厚さが大きく、前記キャリアの前記外縁部の内側には被研磨体の移動を水平方向に関し拘束するための孔が設けられているものとし、前記上定盤を、その下端部が前記キャリアの前記外縁部の内側に配置された状態において、前記キャリア及び上定盤の公転及び自転の動作において、前記キャリアの外縁部と干渉しない大きさ及び形状を有するものとしても良い。
【0010】
このような研磨装置によれば、前記各上定盤の自転軸は、対応するキャリアの自転軸に対して当該自転軸と垂直な方向に変位しているので、キャリアに保持されたワークの上面上の各位置の上定盤の自転軸からの距離は、研磨中において変動することになる。そして、この変位量を適当に設定することにより、上定盤の自転軸近傍に定常的に位置することにより弱い研磨作用しか受けることのできないワーク上の位置の発生を排除することができる。したがって、研磨作用の不均一が緩和され研磨精度が向上することになる。
【0011】
また、前記課題達成のために、本発明は、同軸に配置された太陽歯車と内歯歯車を用いて所定数のキャリアを太陽歯車の周囲に公転させながら自転させ、前記キャリアに保持された被研磨体の上下面を、下定盤と、前記太陽歯車の回転軸と同じ軸を回転軸として公転しながら前記各キャリアの自転軸と平行な軸を自転軸として自転する上定盤によって研磨する研磨装置を用いる研磨方法であって、前記各キャリアと前記各上定盤を、各上定盤の自転軸が、対応するキャリアの自転軸に対して変位するように配置するステップと、前記太陽歯車と前記内歯歯を駆動して前記キャリアに前記公転及び自転を行わせながら、前記上定盤を、前記キャリアの公転速度と同じ回転速度で公転しつつ自転して、前記被研磨体の上下面を研磨するステップとを有することを特徴とする研磨方法を提供する。
【0012】
このような研磨方法によれば、前記各上定盤の自転軸は、対応するキャリアの自転軸に対して当該自転軸と垂直な方向に変位しているので、キャリアに保持されたワークの上面上の各位置の上定盤の自転軸からの距離は、研磨中において変動することになる。そして、この変位量を適当に設定することにより、上定盤の自転軸近傍に定常的に位置することにより弱い研磨作用しか受けることのできないワーク上の位置の発生を排除することができる。したがって、研磨作用の不均一が緩和され研磨精度が向上することになる。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について説明する。
図1に、本実施形態に係る研磨装置の構造を模式的に示す。
図中、11は太陽歯車、12は内歯歯車、13は下定盤、100はキャリアである。
太陽歯車11は筒状の太陽歯車駆動軸111に連結し、太陽歯車駆動軸下部の歯部112を駆動系40によって回転することにより、回転軸AAを中心に水平方向に回転する。また、内歯歯車12は筒状の内歯歯車駆動軸121に連結し、内歯車駆動軸下部の歯部122を駆動系40によって回転することにより、回転軸AAを中心に水平方向に回転する。また、下定盤13は筒状の下定盤駆動軸131に連結し、下定盤駆動軸下部の歯部132を駆動系40によって回転することにより、回転軸AAを中心に水平方向に回転する。
【0014】
次に、15は筒状の上部太陽歯車駆動軸であり、上部太陽歯車駆動軸下部の歯部151を駆動系40によって回転することにより、回転軸AAを中心に水平方向に回転する。また、16は上部内歯歯車駆動軸であり、上部内歯歯車駆動軸下部の歯部161を駆動系40によって回転することにより、回転軸AAを中心に水平方向に回転する。
【0015】
ここで、このような構成において、図2aに垂直方向から見た配置を示すように、各キャリア100はその外周に設けられた歯列によって、太陽歯車11の外周に設けられた歯列と内歯歯車12の内周に設けられた歯列に噛み合っている。そして、各キャリア100は、太陽歯車11、内歯歯車12の回転に伴い、図1の回転軸AAを中心に公転しながら、自キャリア100の中心を回転軸として自転する。
【0016】
次に、図2cにキャリア100の形状を示す。
図中、c1はキャリア4を垂直方向から見たようすを表しており、c2はキャリア4を水平方向からみたようすを、c3はキャリア100の中心を通る垂直な平面による断面を表している。
図示するように、キャリア4は外周に歯列が設けらた円形のシート状の部材であり、ワークを保持するための孔101が設けられている。ここでキャリア100の厚さは、上定35盤、下定盤13のワークの研磨に干渉しないようにワークの目標研磨厚さより薄い厚さとなっている。
【0017】
さて図1に戻り、ベース20は、以上各部を、油圧、ベアリング等の機構により回動可能に支持している。なお、ベース20は静圧軸受機構19によって下定盤13を支持している。また、ベース20は、研磨剤収集用の収集枠18をも支持しており、この収集枠18に下定盤13より落下した研磨剤は収集枠18に設けられたドレン(図示省略)より排出される。
【0018】
次に、21は吊り下げアーム部であり、油圧等の伸縮シリンダ22を介して、上部研磨部30を昇降可能に支持している。
そして、上部研磨部30において、31は伸縮シリンダ22下部に固定的に連結されたフレーム、32はフレーム31に対して回転軸AAを中心にして水平方向に自由回転可能に取付られた公転盤、33はフレーム31に回転軸AAを中心にして水平方向に回転可能に支持された上部内歯歯車、34は公転盤32に対して回転軸AAを中心にして水平方向に回転可能に支持された上部太陽歯車、35は各々公転盤32に油圧等の伸縮シリンダ38を介して、公転盤32と共に回転軸AAの回りを公転する回転軸BB、CCを中心に水平方向に自転可能に支持された上定盤、36はフレーム31に回転軸AAを中心にして水平方向に回転可能に支持された駆動力伝達歯車、37は各々フレーム31に回転軸DD、EEを中心にして水平方向に回転可能に支持された駆動歯車である。
【0019】
ここで、このような構成において、図2bに垂直方向から見た配置を示すように、各上定盤35はその外周に設けられた歯列によって、上部太陽歯車34の外周に設けられた歯列と上部内歯歯車33の内周に設けられた歯列に噛み合っている。また、上部内歯歯車33の内周に設けられた歯列は駆動歯車37に噛合し、駆歯車37は駆動力伝達歯車36に噛合している。
【0020】
さて、図1に戻り、伸縮シリンダの伸長22により上部研磨部30が図中破線で示した位置に下降すると、上部太陽歯車34中心に設けられた筒状の噛合部341は上部太陽歯車駆動軸15に噛合し、上部太陽歯車駆動軸15の回転に伴い回転する。また、駆動力伝達歯車36の中心に設けられた筒状の噛合部361は、上部内歯歯車駆動軸16に噛合し、上部内歯歯車駆動軸16に伴い回転し、駆動歯車37を介して上部内歯歯車を回転させる。
【0021】
また、図2dに各キャリア100と各上定盤35の位置関係を示すように、各上定盤35の自転の軸の回転軸AAからの距離は、各キャリア100の自転の軸の回転軸AAからの距離に一致している。そして、上定盤35の自転の軸の位置は、各キャリア100の自転の軸から、所定距離、公転の周方向にずれた位置となっている。
【0022】
以下、このような研磨装置におけるワークの研磨動作について説明する。
研磨開始に先だって、作業者は、上部研磨部30が下定盤13から上方に離れた状態において、各キャリア100を、キャリア100の中心が上定盤35の自転軸から下定盤3の周方向に所定距離ずれた位置で、キャリア100の外周の歯が太陽歯車11と内歯歯車12に噛み合うように、下定盤13上に載置し、各キャリア100の孔101にワークを入れる。
【0023】
次に、各上定盤35の下面がワークの上面に当接し、駆動力伝達歯車36の噛合部361が上部内歯歯車駆動軸16と噛合し、上部太陽歯車34の噛合部341が上部太陽歯車駆動軸15に噛合するように上部研磨部30を下降させる。
次に、図示を省略した研磨剤供給機構によって研磨剤をワーク位置に供給しながら、駆動系40によって、内歯歯車駆動軸121、太陽歯車駆動軸111、下定盤駆動軸131、上部内歯歯車駆動軸16、上部太陽歯車駆動軸15を回転させる。このとき、内歯歯車駆動軸121、太陽歯車駆動軸111、上部内歯歯車駆動軸16、上部太陽歯車駆動軸15の回転速度は、キャリア100と上定盤35の回転軸AA回りの公転速度が一致し、キャリア100と上定盤35それぞれの自転速度が異なるように設定する。また、下定盤35の回転速度とキャリア100の公転速度も異なるように設定する。
【0024】
これにより、キャリア100に保持された各ワークは、回転軸AAの回りを公転しながら、キャリア100中心回りに回転しつつ、下定盤13と上定盤35によって上下の両面が研磨される。
以上、本発明の実施形態について説明した。
ところで、以上の実施形態においては、キャリアとして、図5に示した従来のキャリアと同様の形状を有するキャリアを用いることができる。
すなわち、以上で説明した研磨装置において、図3に示すように、キャリア100を、図4aに示す形状を有するキャリア200に置き換える。図4a中、1はキャリアの上面図、a2は側面図、a3はキャリア中心を通る垂直な平面による断面図である。図示するように、各キャリア100は、強度を増強するために、外縁部210の高さをその内側のワーク保持部220より高くした形状を有している。そして、ワーク保持部220にはワークを水平方向に保持するための貫通した孔201が設けられており、ワーク保持部42の高さはワークの目標研磨厚より小さい値となっている。また、キャリア外縁部41は、ちょうど厚みを持った筒形状を有しており、その外周には歯列が設けられている。
【0025】
そして、このようなキャリア200の使用のために、図3に示すように、上定盤35に代えて、その下部の少なくともキャリア200の高さ以上の垂直方向長さ部分において、その直径が、キャリア200の直径よりも小さい形状を有する上定盤351を用いる。
【0026】
そして、図4bに示すように、上定盤351の自転の軸の位置が、上部研磨部30の下降時に、各上定盤351の下部が下定盤13上の各キャリア200の外縁部210の内側に挿入されて上定盤351の下面がワークの上面に当接する位置であって、各キャリア100の自転の軸から、所定距離、公転の周方向にずれた位置となるように、キャリア200と上定盤351の相対位置を配置する。
【0027】
以上のように本実施形態に係る研磨装置によれば、前記各上定盤35/351の自転軸は、対応するキャリア100/200の自転軸に対して当該自転軸と垂直な方向に変位しているので、キャリア100/200に保持されたワークの上面上の各位置の上定盤35/351の自転軸からの距離は、研磨中において変動することになる。そして、この変位量を適当に設定することにより、上定盤の自転軸近傍に定常的に位置することにより弱い研磨作用しか受けることのできないワーク上の位置の発生を排除することができる。したがって、研磨作用の不均一が緩和される。また、キャリア100/200に保持されたワーク上の各位置と、当該位置に当接する上定盤35/351の下面との位置との相対速度の方向、すなわち研磨作用の方向が複雑に変動するので、研磨作用の方向に依存して生じる研磨の異方性を是正することができる。したがって、本実施形態によれば、研磨精度を向上することができる。
【0028】
なお、本実施形態で示した研磨装置は、上定盤35/351の自転の軸とキャリア100/200の自転の軸を一致させて用いることにより、従来と同様の両面研磨を行う研磨装置として使用することもできる。また、ワークの上面または下面を適当な保護材で保護して研磨を行うことにより、片面研磨装置として使用することもできる。
【0029】
また、以上で示した研磨の技術は、両面ラッピング機、両面ポリシング機に適用することができる他、片面の研磨を行う装置にも応用することができる。
なお、本研磨装置によって研磨するワークとしては、たとえば水晶、半導体基板、光学部材などがある。
【0030】
【発明の効果】
以上のように、本発明によれば、キャリアと共に公転する上定盤を自転させてワークの研磨を行う研磨装置において、研磨精度を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態に係る研磨装置の構造を模式的に示す図である。
【図2】本発明の実施形態に係る研磨装置におけるキャリアおよび上定盤の配置とキャリアの形状を示す図である。
【図3】本発明の実施形態に係る研磨装置の構造の他の例を模式的に示す図である。
【図4】本発明の実施形態に係る研磨装置におけるキャリアおよび上定盤の配置とキャリアの形状の他の例を示す図である。
【図5】従来の研磨装置の構造を模式的に示す図である。
【符号の説明】
11:太陽歯車、12:内歯歯車、13:下定盤、15:上部太陽歯車駆動軸、16:上部内歯歯車駆動軸、19:静圧軸受機構、20:ベース、21:吊り下げアーム部、30:上部研磨部、31:フレーム、32:公転盤、33:上部内歯歯車、34:上部太陽歯車、35:上定盤、36:駆動力伝達歯車、37:駆動歯車、40:駆動系、100:キャリア、111:太陽歯車駆動軸、120:ワーク保持部、121:内歯歯車駆動軸下定盤駆動軸、200:キャリア、210:外縁部、220:ワーク保持部。[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a technique for improving polishing accuracy in a polishing apparatus.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, as a polishing apparatus for polishing a non-abrasive body called a work, for example, a carrier holding a work is disposed between a lower surface plate and an upper surface plate provided for each carrier, and a sun gear and an internal gear are provided. 2. Description of the Related Art A double-side polishing apparatus is known which grinds the upper and lower surfaces of a work held on a carrier by rotating the upper platen and the carrier at a rotation speed different from that of the carrier while revolving in the same manner as the carrier while revolving and rotating in the same manner as the carrier. ing.
[0003]
FIG. 5 schematically shows the structure of such a double-side polishing apparatus.
In the figure, a is a diagram schematically illustrating the arrangement of the
As shown in the figure, each
[0004]
Next, b in the figure schematically shows the structure of the double-side polishing apparatus viewed from the horizontal direction.
As shown in the figure, the double-side polishing apparatus has an upper
[0005]
Next, the structure of the
As shown in the drawing, each
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
According to the conventional double-side polishing apparatus shown in FIG. 5, the upper surface of the work is polished only by the relative movement between the
[0007]
For this reason, in the conventional double-side polishing apparatus shown in FIG. 5, the polishing may be uneven on the upper surface of the work, and it may not be possible to obtain sufficient polishing accuracy.
Therefore, an object of the present invention is to improve the polishing accuracy in a polishing apparatus for polishing a work by rotating an upper platen that revolves with a carrier.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the object, the present invention provides a polishing object held by the carrier while rotating a predetermined number of carriers using a coaxially arranged sun gear and internal gear while revolving around the sun gear. A polishing apparatus for polishing the upper and lower surfaces of the carrier with a lower stool and an upper stool. Revolving means for revolving around the same axis as the rotation axis of the sun gear at the rotation speed as a rotation axis, and rotation means for rotating the upper platen with an axis parallel to the rotation axis of the carrier as the rotation axis. A polishing apparatus is provided, wherein the rotation axis of each upper platen is displaced in a direction perpendicular to the rotation axis of the corresponding carrier.
[0009]
Here, in such a polishing apparatus, the thickness of the carrier in the vertical direction is greater at the outer peripheral end than at the inside thereof, and the object to be polished is moved inside the outer edge of the carrier. A hole for restraining the carrier in the horizontal direction, and the upper platen is revolved with the carrier and the upper platen in a state where a lower end portion thereof is arranged inside the outer edge portion of the carrier. In the rotation operation, the carrier may have a size and a shape that do not interfere with the outer edge of the carrier.
[0010]
According to such a polishing apparatus, the rotation axis of each of the upper stools is displaced in a direction perpendicular to the rotation axis of the corresponding carrier with respect to the rotation axis of the corresponding carrier. The distance from the rotation axis of the upper surface plate to each of the above positions varies during polishing. By appropriately setting the amount of displacement, it is possible to eliminate the occurrence of a position on the work that can be subjected to only a weak polishing action by being constantly located near the rotation axis of the upper platen. Therefore, the unevenness of the polishing action is alleviated, and the polishing accuracy is improved.
[0011]
Further, in order to achieve the above object, the present invention uses a sun gear and an internal gear that are coaxially arranged to rotate a predetermined number of carriers around the sun gear while revolving around the sun gear, and to cover the carrier held by the carrier. Polishing the upper and lower surfaces of the polishing body by a lower surface plate and an upper surface plate that rotates around an axis parallel to the rotation axis of each carrier while revolving around the same axis as the rotation axis of the sun gear. A polishing method using an apparatus, wherein the carrier and the upper platen are arranged such that the rotation axis of each upper platen is displaced with respect to the rotation axis of the corresponding carrier; and The upper platen is rotated while revolving at the same rotation speed as the rotation speed of the carrier, while driving the internal teeth and causing the carrier to perform the revolving and rotation, thereby rotating the upper surface of the object to be polished. Polishing the lower surface; To provide a polishing method characterized by having.
[0012]
According to such a polishing method, the rotation axis of each upper platen is displaced in a direction perpendicular to the rotation axis of the corresponding carrier, so that the upper surface of the work held by the carrier is The distance from the rotation axis of the upper surface plate to each of the above positions varies during polishing. By appropriately setting the amount of displacement, it is possible to eliminate the occurrence of a position on the work that can be subjected to only a weak polishing action by being constantly located near the rotation axis of the upper platen. Therefore, the unevenness of the polishing action is alleviated, and the polishing accuracy is improved.
[0013]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.
FIG. 1 schematically shows the structure of the polishing apparatus according to the present embodiment.
In the figure, 11 is a sun gear, 12 is an internal gear, 13 is a lower surface plate, and 100 is a carrier.
The
[0014]
Next,
[0015]
Here, in such a configuration, as shown in FIG. 2 a, the arrangement viewed from the vertical direction, each
[0016]
Next, FIG. 2C shows the shape of the
In the figure, c1 represents the
As shown in the figure, the
[0017]
Returning to FIG. 1, the
[0018]
Next,
In the
[0019]
Here, in such a configuration, as shown in FIG. 2b, the arrangement seen from the vertical direction, each
[0020]
Returning to FIG. 1, when the
[0021]
In addition, as shown in FIG. 2d, the distance between the rotation axis AA of the rotation axis of each
[0022]
Hereinafter, a polishing operation of a workpiece in such a polishing apparatus will be described.
Prior to the start of polishing, the operator moves each
[0023]
Next, the lower surface of each
Next, an internal
[0024]
As a result, the upper and lower surfaces of the work held by the
The embodiments of the present invention have been described above.
By the way, in the above embodiment, a carrier having the same shape as the conventional carrier shown in FIG. 5 can be used as the carrier.
That is, in the polishing apparatus described above, as shown in FIG. 3, the
[0025]
In order to use such a
[0026]
Then, as shown in FIG. 4B, the position of the axis of rotation of the
[0027]
As described above, according to the polishing apparatus according to the present embodiment, the rotation axis of each of the
[0028]
The polishing apparatus shown in the present embodiment is a polishing apparatus for performing double-side polishing similar to the conventional one by using the rotation axis of the
[0029]
The polishing technique described above can be applied not only to a double-sided lapping machine and a double-side polishing machine but also to an apparatus for polishing one side.
The work to be polished by the polishing apparatus includes, for example, quartz, a semiconductor substrate, an optical member, and the like.
[0030]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, the polishing accuracy can be improved in a polishing apparatus for polishing a work by rotating an upper platen that revolves with a carrier.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram schematically showing a structure of a polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a diagram showing an arrangement of a carrier and an upper surface plate and a shape of the carrier in the polishing apparatus according to the embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a view schematically showing another example of the structure of the polishing apparatus according to the embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a diagram showing another example of the arrangement of the carrier and the upper platen and the shape of the carrier in the polishing apparatus according to the embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a view schematically showing a structure of a conventional polishing apparatus.
[Explanation of symbols]
11: sun gear, 12: internal gear, 13: lower surface plate, 15: upper sun gear drive shaft, 16: upper internal gear drive shaft, 19: hydrostatic bearing mechanism, 20: base, 21: suspension arm section , 30: upper polishing part, 31: frame, 32: revolving disk, 33: upper internal gear, 34: upper sun gear, 35: upper surface plate, 36: driving force transmission gear, 37: driving gear, 40: driving System, 100: Carrier, 111: Sun gear drive shaft, 120: Work holder, 121: Internal gear drive shaft lower platen drive shaft, 200: Carrier, 210: Outer edge, 220: Work holder.
Claims (3)
前記各キャリアに対して設けられた、複数の上定盤と、
前記各上定盤を、前記キャリアの公転速度と同回転速度で前記太陽歯車の回転軸と同じ軸を回転軸として公転させる公転手段と、
前記各上定盤を、前記各キャリアの自転軸と平行な軸を自転軸として自転させる自転手段とを有し、
前記各上定盤の自転軸は、対応するキャリアの自転軸に対して当該自転軸と垂直な方向に変位していることを特徴とする研磨装置。A predetermined number of carriers are revolved around the sun gear while revolving around the sun gear using a coaxially arranged sun gear and internal gear, and the upper and lower surfaces of the object to be polished held by the carrier are formed by a lower surface plate and an upper surface plate. A polishing apparatus for polishing,
A plurality of upper stools provided for each carrier,
Revolving means for revolving each of the upper stools, with the same rotation axis as the rotation axis of the sun gear at the same rotation speed as the rotation speed of the carrier,
Each upper platen has a rotation unit that rotates on an axis parallel to the rotation axis of each carrier as a rotation axis,
A polishing apparatus, wherein a rotation axis of each of the upper stools is displaced relative to a rotation axis of a corresponding carrier in a direction perpendicular to the rotation axis.
前記キャリアの外周側端部は、その内側に比べ上下方向厚さが大きく、
前記キャリアの前記外縁部の内側には被研磨体の移動を水平方向に関し拘束するための孔が設けられており、
前記上定盤は、その下端部が前記キャリアの前記外縁部の内側に配置された状態において、前記キャリア及び上定盤の公転及び自転の動作において、前記キャリアの外縁部と干渉しない大きさ及び形状を有していることを特徴とする研磨装置。The polishing apparatus according to claim 1,
The outer peripheral end of the carrier has a greater vertical thickness than its inner side,
Inside the outer edge portion of the carrier, a hole for restricting movement of the object to be polished in the horizontal direction is provided,
The upper platen has a size that does not interfere with the outer edge portion of the carrier in the revolving and rotating operations of the carrier and the upper platen in a state where the lower end portion is disposed inside the outer edge portion of the carrier. A polishing apparatus having a shape.
前記各キャリアと当該キャリアに対して設けた上定盤を、各上定盤の自転軸が、対応するキャリアの自転軸に対して変位するように配置するステップと、
前記太陽歯車と前記内歯歯を駆動して前記キャリアに前記公転及び自転を行わせながら、前記上定盤を、前記キャリアの公転速度と同じ回転速度で公転しつつ、自転させ、前記被研磨体の上下面を研磨するステップとを有することを特徴とする研磨方法。A predetermined number of carriers are revolved around the sun gear while revolving around the sun gear using a coaxially arranged sun gear and an internal gear, and the upper and lower surfaces of the object to be polished held by the carrier, a lower surface plate, and the carrier A polishing apparatus is provided which is polished by an upper platen that revolves around an axis parallel to the rotation axis of each carrier while revolving around the same axis as the rotation axis of the sun gear. The method,
A step of arranging the upper surface plate provided for each carrier and the carrier so that the rotation axis of each upper surface plate is displaced with respect to the rotation axis of the corresponding carrier.
While driving the sun gear and the internal gear teeth to cause the carrier to perform the revolution and rotation, the upper platen is rotated while rotating at the same rotation speed as the rotation speed of the carrier, and the polishing is performed. Polishing the upper and lower surfaces of the body.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003046725A JP2004255483A (en) | 2003-02-25 | 2003-02-25 | Polishing device and polishing method |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2003046725A JP2004255483A (en) | 2003-02-25 | 2003-02-25 | Polishing device and polishing method |
Publications (1)
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JP2004255483A true JP2004255483A (en) | 2004-09-16 |
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ID=33113156
Family Applications (1)
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JP2003046725A Pending JP2004255483A (en) | 2003-02-25 | 2003-02-25 | Polishing device and polishing method |
Country Status (1)
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103331698A (en) * | 2013-06-06 | 2013-10-02 | 上海森宝机电设备厂(普通合伙) | Novel workpiece clamping device |
CN105773332A (en) * | 2016-05-18 | 2016-07-20 | 上海森宝机电设备厂(普通合伙) | Vertical-type paralleled surface grinding machine for grinding large parts |
CN107855913A (en) * | 2017-12-02 | 2018-03-30 | 广东轻工机械二厂有限公司 | A kind of more mill curved surface polishing machines |
-
2003
- 2003-02-25 JP JP2003046725A patent/JP2004255483A/en active Pending
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