JP3942956B2 - Inclined surface polishing machine - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、金属のほか、水晶、ガラス、セラミックまたは半導体集積回路用基板などの表面の両面または片面の研磨加工を行う傾斜形平面研磨装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来技術の遊星歯車方式平面研磨装置の構造およびウェーハ両面のラッピング・ポリシング等の研磨工程について簡単に説明する。図5は従来技術の遊星歯車方式平面研磨装置の構造図である。
遊星歯車方式平面研磨装置は、図5で示すように、研磨工具である上定盤(図示せず)と下定盤2とを有し、これら上定盤(図示せず)と下定盤2は互いに反対方向に回転するようになされている。これら上定盤(図示せず)と下定盤2との間には、単数または複数個の被加工物24を被加工物保持穴19内に保持するキャリア28が配置されている。キャリア28は、外周部が歯車状に形成され、たとえば、図5で示すように、5個というように複数個配置されるのが一般的である。
【0003】
これらキャリア28はインターナルギア27と噛み合い、さらに太陽ギア29とも噛み合っている。これらインターナルギア27および太陽ギア29は、それぞれの駆動源により回転駆動されるようになされており、インターナルギア27および太陽ギア29が回転駆動されるとき、キャリア28は、自転しつつ公転する。
【0004】
したがって、上定盤(図示せず)および下定盤2に両面が接触する被加工物24は、上定盤(図示せず)および下定盤2の反対方向の回転とキャリア28の自転・公転とにより、一方向に偏らずに多方向に移動する。この状態で研磨液が供給されて被加工物24の上下両面を同時に研磨加工し、被加工物24を平行平面とする。遊星歯車方式平面研磨装置による研磨はこのようになる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
被加工物の厚みが薄くなるとキャリアも薄くする必要が生じる。このため、歯車であるキャリア歯面の材料強度も低下し、歯車の側面に集中した負荷によって歯の摩耗が起こりやすく、負荷に耐え切れない歯先は、曲がったり欠けたりすることがしばしばあった。
【0006】
また、被加工物の加工数量は、遊星運動をする歯車状のキャリアの数とキャリア内の被加工物保持穴の穴径によって決まり、更に隣接するキャリア間の空間は機構上なくすことができない。したがって、被加工物の数を増やすにはより大きなキャリアが必要だった。
しかし、材料強度の関係から限界があり、大きなキャリアには実用性がなかった。
【0007】
そこで、本発明はこのような問題点を解決するためになされたものであり、その目的は、被加工物の数を増やし、かつ歯車状のキャリアを用いないようにした、新しい方案による傾斜形平面研磨装置を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記した課題を解決するため、請求項1に記載の発明に係る傾斜形平面研磨装置は、
対向した上定盤および下定盤により挟まれた被加工物の両方の接触面を研磨する傾斜形平面研磨装置において、
回動力を伝える駆動装置と、
軸受により回動自在に軸支されるロータと、
被加工物を保持する穴を設けたケージを太鼓状に張り上げたケージリングと、
を備え、
少なくとも上定盤、下定盤、ロータおよびケージリングを傾斜して配置するとともに、上定盤および下定盤の外周部はケージリング内周部に接触し、また、ケージリングの外周部はロータの内周部にそれぞれ接触し、
回転するロータとの接触摩擦によりロータから駆動力が伝導されて上定盤および下定盤が被加工物の両面を転がり運動をしながら研磨することを特徴とする。
【0009】
また、請求項2に記載の発明に係る傾斜形平面研磨装置は、
請求項1に記載の傾斜形平面研磨装置において、
上定盤の外周部、下定盤の外周部、ケージリングの内周部、ケージリングの外周部またはロータの内周部のいずれかの接触部に摩擦材料が設けられ、
回動するロータとの接触摩擦によりケージリングはロータに従動し、また、ケージリングとの接触摩擦により上定盤および下定盤はケージリングに従動し、重力により傾斜面を滑りながらロータと同方向に回動することで、上定盤および下定盤が被加工物の両面を研磨することを特徴とする。
【0010】
また、請求項3に記載の発明に係る傾斜形平面研磨装置は、
請求項1に記載の傾斜形平面研磨装置において、
上定盤の外周部、下定盤の外周部、ケージリングの内周部、ケージリングの外周部およびロータの内周部に歯車が形成され、
回動するロータとの噛み合いによりケージリングはロータに従動して回動し、また、ケージリングとの噛み合いにより上定盤および下定盤はケージリングに従動して回動することで、上定盤および下定盤が被加工物の両面を研磨することを特徴とする。
【0011】
また、請求項4に記載の発明に係る傾斜形平面研磨装置は、
請求項1〜請求項3の何れか一項に記載の傾斜形平面研磨装置において、
前記の傾斜した下定盤は、下定盤静圧軸受により回動自在に支持されることを特徴とする。
【0012】
また、請求項5に記載の発明に係る傾斜形平面研磨装置は、
請求項1〜請求項4の何れか一項に記載の傾斜形平面研磨装置において、
少なくとも上定盤、下定盤、ロータおよびケージリングを含む機構全体の傾斜角度を調節するための角度調整機構を備え、
傾斜角度を変えて上定盤が被加工物に与える加圧力を変更自在とすることを特徴とする。
【0013】
また、請求項6に記載の発明に係る傾斜形平面研磨装置は、
請求項1〜請求項5の何れか一項に記載の傾斜形平面研磨装置において、
下定盤の回転中心部分に突出部がないことを特徴とする。
【0014】
請求項1〜請求項6の発明に係る第1の発明は、具体的には傾斜形両面研磨装置に係るものである。従来技術の遊星歯車方式によらない方法として、複数あったキャリアを1枚の円盤状のケージとし、分割したケージリングによって太鼓状に張り上げることでケージの素材を引っ張り方向に変えると共に、ケージリングとの一体化でケージ全体の強度を高めている。
また、ロータとケージリングの摩擦・噛み合いによる駆動形の転がり運動方式に変えることにより、従来のキャリア歯面の強度問題を解消する。
また、一体化したケージ内の被加工物保持穴は同心円状に配置ができるため無駄な空間もなく、被加工物の数を増やすことができる。
【0015】
また、請求項7に記載の発明に係る傾斜形平面研磨装置は、
下定盤に接する被加工物の片方の接触面を研磨する傾斜形平面研磨装置において、
回動力を伝える駆動装置と、
軸受により回動自在に軸支されるロータと、
被加工物が固着されるケージを太鼓状に張り上げたケージリングと、
ケージの上側に配置され、被加工物を加圧するウェイトと、
ウェイトとケージとの間にエアを介在させるウェイト静圧軸受と、
を備え、
少なくともウェイト、下定盤、ロータおよびケージリングを傾斜して配置するとともに、下定盤とウェイトの外周部はケージリング内周部に接触し、また、ケージリングの外周部はロータの内周部にそれぞれ接触し、
回動するロータとの接触摩擦によりロータから駆動力が伝導されて下定盤が被加工物の片面を転がり運動をしながら研磨することを特徴とする。
【0016】
また、請求項8に記載の発明に係る傾斜形平面研磨装置は、
請求項7に記載の傾斜形平面研磨装置において、
下定盤の外周部、ウェイトの外周部、ケージリングの内周部、ケージリングの外周部またはロータの内周部のいずれかの接触部に摩擦材料が設けられ、
回動するロータとの接触摩擦によりケージリングはロータに従動し、また、ケージリングとの接触摩擦により下定盤とウェイトはケージリングに従動し、重力により傾斜面を滑りながらロータと同方向に回動することで、下定盤が被加工物の片面を研磨することを特徴とする。
【0017】
また、請求項9に記載の発明に係る傾斜形平面研磨装置は、
請求項7に記載の傾斜形平面研磨装置において、
下定盤の外周部、ウェイトの外周部、ケージリングの内周部、ケージリングの外周部およびロータの内周部に歯車が形成され、
回動するロータとの噛み合いによりケージリングはロータに従動して回動し、また、ケージリングとの噛み合いにより下定盤とウェイトはケージリングに従動して回動することで、下定盤が被加工物の片面を研磨することを特徴とする。
【0018】
また、請求項10に記載の発明に係る傾斜形平面研磨装置は、
請求項7〜請求項9の何れか一項に記載の傾斜形平面研磨装置において、
前記の傾斜した下定盤は、下定盤静圧軸受により回動自在に支持されることを特徴とする。
【0019】
また、請求項11に記載の発明に係る傾斜形平面研磨装置は、
請求項7〜請求項10の何れか一項に記載の傾斜形平面研磨装置において、
少なくともウェイト、下定盤、ロータおよびケージリングを含む機構全体の傾斜角度を調節するための角度調整機構を備え、
傾斜角度を変えてウェイトが被加工物に与える加圧力を変更自在とすることを特徴とする。
【0020】
また、請求項12に記載の発明に係る傾斜形平面研磨装置は、
請求項7〜請求項11の何れか一項に記載の傾斜形平面研磨装置において、
下定盤の回転中心部分に突出部がないことを特徴とする。
【0021】
請求項7〜請求項12の発明に係る第2の発明は、具体的には傾斜形片面研磨装置に係るものである。従来技術の遊星歯車方式によらない方法として、複数あったキャリアを1枚の円盤状にしたケージを、分割したケージリングによって太鼓状に張り上げることでケージの素材を引っ張り方向に変えると共に、ケージリングとの一体化でケージ全体の強度を高め、ロータによる摩擦駆動形の転がり運動方式に変えることにより、従来のキャリア歯面の強度問題を解消する。
また、一体化したケージに被加工物を固着して同心円状に配置ができるため無駄な空間もなく、被加工物の数を増やすことができる。
【0022】
【発明の実施の形態】
以下、請求項1〜請求項6に係る発明の実施形態である傾斜形平面研磨装置について図面を参照しつつ説明する。本実施形態は、詳しくは、傾斜形両面研磨装置である。図1は本実施形態の傾斜形両面研磨装置の断面構成図、図2は本実施形態の傾斜形両面研磨装置のA矢視概略平面図である。このうち、図2では上定盤を取外し、被加工物保持穴、被加工物、ケージおよびケージリングが見える状態にある。
【0023】
まず、このような傾斜形両面研磨装置の各部構成および機能について説明する。傾斜形両面研磨装置は、基体となる本体15に支点11が設けられ、この支点11によって傾斜ベース14が回動可能に軸支される。角度調整機構13は、支点11に対向した側の本体15内に設置され、その先端が揺動と伸縮とが可能なように構成されている。
【0024】
この角度調整機構13は、傾斜ベース14内に配置されたガイドシャフト22のジョイント21と連結され、本体15の側面にあるガイド穴12に沿って、傾斜ベース14上にある装置全体(以下、傾斜ベース14上の装置を一括して単に研磨装置という)の角度を調整することができる。角度調整機構13により傾斜角度を大きくすると上定盤・下定盤・ケージが起立して被加工物24への加圧力が小さくなり、傾斜角度を小さくすると上定盤・下定盤・ケージが倒れて被加工物24への加圧力が大きくなる。
【0025】
実際の角度調整は、研磨開始時は傾斜角度を大きくて加圧力を小さくし、研磨開始直後の被加工物24の粗面を軽い力で研磨する。そして、次第に傾斜角度を小さくして傾斜角度として加圧力を強くし、研磨が進んで滑らかな面をさらに滑らかにするように研磨する。
【0026】
続いて研磨装置について説明する。
傾斜ベース14にはロータシャフト17が固定されている。このロータシャフト17の軸受10を中心にロータ5が回動自在となるように軸支されている。このロータ5にはリングギア8が同心固定されており、このリングギア8に、本発明の駆動装置の一具体例である減速機・モータ9からなる駆動源を持ったピニオンギア7に噛み合い、ロータ5に回転力が伝えられる。
【0027】
このロータ5には、上定盤1、ケージ4および下定盤2がロータの内部に位置するように配置され、図1でも示すように、側面から見て、上定盤1と下定盤2の間にケージ4が挟まれるように配置されている。
また、図2に示すように、ロータ5の内周部にケージリング3の外周部が線接触するように配置され、また、ケージリング3の内周部に上定盤1と下定盤2の外周部がそれぞれ線接触するように配置される。そして、ケージリング3の外周はロータ5の内周よりも小さく、また、上定盤1と下定盤2との外周はケージリング3の内周よりも小さくなるように設けられている。
【0028】
ケージ4は、図2で示すように、被加工物24を保持する被加工物保持穴19を持ち、分割されたケージリング3によって太鼓状に張り付けられている。
なお、これら上定盤1、下定盤2、ケージリング3、ロータ5の接触部分は、基本的にはそのまま接触する構造であるが、摩擦力を高めるため摩擦部材を設けるようにしてもよい。
摩擦部材を設ける場合、全ての接触部に摩擦部材を設ける必要がなく、例えば、ケージリング3の内周部および外周部にのみ摩擦部材を設け、ロータ5の内周部ならびに上定盤1および下定盤2の外周部には摩擦部材を設けなくとも良い。少なくとも、摩擦部材は接触する相手か、または、自らの一方が持っていればよい。
【0029】
この下定盤2の下側には、図1で示すように、下定盤静圧軸受6が設けられており、空気供給穴20から送られた空気の圧力によって、上定盤1、ケージ4、下定盤2による重力に拘わらず、下定盤2が自在に回動するように構成されている。この下定盤2の下側には突出部がなく、下定盤静圧軸受6上を下定盤2が二次元方向に移動できるようになされている。また、この下定盤2の上側には、従来技術の太陽ギアのような突出部がなく、ケージ4の接触面を広く取れるようにしている。
【0030】
続いて、このように構成される傾斜形両面研磨装置の操作・動作について概略説明する。
下定盤静圧軸受6に空気を供給して下定盤2を回動自在とする。この下定盤2の上に、ケージリング3が張り渡されたケージ4を配置し、図2で示すように被加工物24を配置し、上定盤1を更に配置する。
【0031】
あらかじめ角度調整機構13により傾斜が大きい状態(加圧力が小さい状態)となるように傾斜させておき、減速機・モータ9を回転駆動させて、ロータ5を回転させる。
この場合研磨装置全体が傾斜しているため、ロータ5の内周部とケージリング3の外周部とが線接触となり、また、ケージリング3の内周部と、上定盤1および下定盤2の外周部とがそれぞれ線接触の状態となるため、ロータ5の回動力が各く接触部の摩擦力によって伝達され、ケージリング3、上定盤1、下定盤2はロータ5と同方向に転がり、回動運動を開始する。
そして、ケージリング3は、ロータ5の回転方向と同方向に回転し、また、上定盤1および下定盤2は、ケージリング3の回転方向(つまりロータ5の回転方向)と同方向に回転する。
【0032】
下定盤2は、上部にある上定盤1・ケージリング3・ケージ4等の部材の重量と摩擦力により、何らか工夫しないと滑ることが難しいが、本実施形態では、摩擦係数の小さい軸受である下定盤静圧軸受6が設けられているため、この空気供給穴20から送られた空気の圧力によって、下定盤2は、回転と傾斜滑り双方の運動ができるように支持されている。
【0033】
回転中心を支持されたロータ5とは別に、下定盤2、上定盤1およびケージリング4は、それぞれの摩擦力の差や径の違いによって回転中心の位置が異なる転がり運動を始め、ケージリング4内にある被加工物24は、前記の各部材が起こす中心位置ずれ現象によって研磨加工が行われる。
このように上定盤1・下定盤2・ケージリング3は傾斜面に沿って滑り、被加工物24は、上定盤1・下定盤2により両面が平面研磨される。
【0034】
そして、傾斜角度を小さくしていくにつれて、上定盤1が被加工物24に与える分力荷重も増大していく。このように本実施形態では、加工中でも荷重のコントロールが可能になり、被加工物24に対する接近性も向上する。
また、本実施形態では研磨剤の回収も傾斜によりスラリー受け皿18の下部に集まるので処理がしやすい。
【0035】
以上本実施形態について図を参照しつつ説明した。
本実施形態は、回動するロータ5との接触摩擦により、上定盤1、下定盤2およびケージリング3がロータ5に従動して回動し重力により傾斜面を滑りながら、上定盤1および下定盤2が被加工物24の両面を研磨する重力利用の摩擦転がり回転機構を有する形態であった。
【0036】
しかしながら、図示しないものの、第1実施形態の上定盤1の外周部、下定盤2の外周部、ケージリング3の内周部、ケージリング3の外周部およびロータ5の内周部に、摩擦部材に代えて歯車が形成され、回動するロータ5との噛み合いにより、上定盤1、下定盤2およびケージリングはロータに従動して回動することで、上定盤1および下定盤2が被加工物の両面を研磨する回転機構を有するようにしてもよい。
この場合も、本発明の効果を奏しうるものである。
【0037】
続いて、請求項7〜請求項12の発明に係る第2実施形態の傾斜形平面研磨装置について図を参照しつつ説明する。本実施形態は、詳しくは、傾斜形片面研磨装置である。図3は本実施形態の傾斜形片面研磨装置の断面構成図、図4は本実施形態の傾斜形片面研磨装置のB矢視概略平面図である。図4では、ウェイトを取外し片面研磨用ケージとケージリング及び被加工物が見える状態にある。
【0038】
本実施形態では、第1実施形態の上定盤1に代えてウエイト16を使用する。まず、図4で示すように、被加工物保持穴19を持たない片面研磨用ケージ23の下面に被加工物24を貼付けるなどの方法によって装着し、被加工物24と下定盤2が接触する状態で下定盤2の上に配置する。
【0039】
そして、図3で示すように、空気供給パイプ26とロータリージョイント25から送られた空気をウエイト16の下面に設けたウェイト静圧軸受30に導き、片面研磨用ケージ23を回動自在にしつつ、ウェイト16により加圧する。
このような状態でロータ5を回転させると、静圧状態のまま回転と傾斜滑りをしながらウェイト16の荷重を被加工物24に伝え、被加工物24の片面を研磨する。
【0040】
以上本実施形態について図を参照しつつ説明した。
しかしながら、図示しないものの、第2実施形態の下定盤2の外周部、ウェイト16の外周部、ケージリング3の内周部、ケージリング3の外周部ならびにロータ5の内周部に、歯車が形成され、回動するロータ5との噛み合いにより、下定盤2とウェイト16はケージリング3に従動し、またケージリング3はロータ5に従動して回動するようにして、下定盤2が被加工物の片面を研磨する回転機構を有するようにしてもよい。
この場合も、本発明の効果を奏しうるものである。
【0041】
【発明の効果】
本発明の研磨装置は、摩擦力と重力と転がり運動を利用した簡単な構造であり、被加工物を保持するケージとケージリングが一体化されているため、従来の遊星運動方式で使用している被加工物を保持する歯車状キャリアの欠点であった歯先の材料強度不足から起こる破損事故などは無くなり、薄い被加工物であっても容易に加工することができる。さらに1枚の円盤から造られているケージには、同心円状に被加工物を保持する穴を設けることができるため無駄な空間がなくなり被加工物装填密度の向上が図れる。
【0042】
総じて、本発明によれば、被加工物の数を増やし、かつ歯車状のキャリアを用いないようにした、新しい方案による傾斜形平面研磨装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態の傾斜形両面研磨装置の断面構成図である。
【図2】本発明の第1実施形態の傾斜形両面研磨装置のA矢視概略平面図である。
【図3】本発明の第2実施形態の傾斜形片面研磨装置の断面構成図である。
【図4】本発明の第2実施形態の傾斜形片面研磨装置のB矢視概略平面図である。
【図5】従来技術の遊星歯車方式平面研磨装置の構造図である。
【符号の説明】
1 上定盤
2 下定盤
3 ケージリング
4 ケージ
5 ロータ
6 下定盤静圧軸受
7 ピニオンギア
8 リングギア
9 減速機・モータ
10 軸受
11 支点
12 ガイド穴
13 角度調整機構
14 傾斜ベース
15 本体
16 ウェイト
17 ロータシャフト
18 スラリー受け皿
19 被加工物保持穴
20 空気供給穴
21 ジョイント
22 ガイドシャフト
23 片面研磨用ケージ
24 被加工物
25 ロータリージョイント
26 空気供給パイプ
27 インターナルギア
28 キャリア
29 太陽ギア
30 ウェイト静圧軸受[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an inclined planar polishing apparatus that performs polishing on both sides or one side of a surface of a substrate such as quartz, glass, ceramic, or a semiconductor integrated circuit in addition to metal.
[0002]
[Prior art]
The structure of the prior art planetary gear type planar polishing apparatus and the polishing steps such as lapping and polishing on both surfaces of the wafer will be briefly described. FIG. 5 is a structural diagram of a conventional planetary gear type plane polishing apparatus.
As shown in FIG. 5, the planetary gear type planar polishing apparatus has an upper surface plate (not shown) and a
[0003]
These
[0004]
Therefore, the
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
When the thickness of the workpiece is reduced, it is necessary to reduce the thickness of the carrier. For this reason, the material strength of the carrier tooth surface, which is a gear, also decreases, tooth wear tends to occur due to the load concentrated on the side surface of the gear, and the tip of the tooth that cannot withstand the load is often bent or chipped. .
[0006]
In addition, the number of workpieces to be processed is determined by the number of gear-shaped carriers that make a planetary motion and the diameter of the workpiece holding hole in the carrier, and the space between adjacent carriers cannot be eliminated by the mechanism. Therefore, a larger carrier was needed to increase the number of workpieces.
However, there was a limit due to the material strength, and there was no practicality for large carriers.
[0007]
Therefore, the present invention has been made to solve such problems, and the purpose thereof is to increase the number of workpieces and to use an inclined surface polishing by a new method in which a gear-shaped carrier is not used. To provide an apparatus.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above-described problem, an inclined planar polishing apparatus according to the invention described in
In an inclined flat surface polishing apparatus for polishing both contact surfaces of a workpiece sandwiched between an upper surface plate and a lower surface plate facing each other,
A driving device for transmitting rotational force;
A rotor pivotally supported by a bearing;
A cage ring in which a cage provided with a hole for holding a workpiece is stretched in a drum shape;
With
At least the upper surface plate, the lower surface plate, the rotor, and the cage ring are inclined and the outer peripheral portions of the upper surface plate and the lower surface plate are in contact with the inner peripheral portion of the cage ring, and the outer peripheral portion of the cage ring is the inner surface of the rotor. Each contact with the circumference,
A driving force is transmitted from the rotor by contact friction with the rotating rotor, and the upper surface plate and the lower surface plate are polished while rolling on both surfaces of the workpiece.
[0009]
In addition, an inclined planar polishing apparatus according to the invention of
The inclined planar polishing apparatus according to
Friction material is provided on the outer peripheral part of the upper surface plate, the outer peripheral part of the lower surface plate, the inner peripheral part of the cage ring, the outer peripheral part of the cage ring or the inner peripheral part of the rotor,
The cage ring follows the rotor due to contact friction with the rotating rotor, and the upper and lower surface plates follow the cage ring due to contact friction with the cage ring. The upper surface plate and the lower surface plate polish the both surfaces of the workpiece by rotating in the direction.
[0010]
In addition, the inclined planar polishing apparatus according to the invention of
The inclined planar polishing apparatus according to
Gears are formed on the outer periphery of the upper surface plate, the outer periphery of the lower surface plate, the inner periphery of the cage ring, the outer periphery of the cage ring, and the inner periphery of the rotor.
By engaging with the rotating rotor, the cage ring follows the rotor and rotates, and by engaging with the cage ring, the upper surface plate and the lower surface plate rotate following the cage ring. The lower surface plate polishes both surfaces of the workpiece.
[0011]
Further, an inclined planar polishing apparatus according to the invention of
In the inclined flat surface polishing apparatus according to any one of
The inclined lower surface plate is rotatably supported by a lower surface plate hydrostatic bearing.
[0012]
Further, an inclined planar polishing apparatus according to the invention of
In the inclined planar polishing apparatus according to any one of
An angle adjustment mechanism for adjusting the inclination angle of the entire mechanism including at least the upper surface plate, the lower surface plate, the rotor and the cage ring,
The pressure applied to the workpiece by the upper surface plate can be changed by changing the inclination angle.
[0013]
Further, an inclined planar polishing apparatus according to the invention of
In the inclined planar polishing apparatus according to any one of
There is no protrusion at the center of rotation of the lower surface plate.
[0014]
The first invention according to the first to sixth inventions specifically relates to an inclined double-side polishing apparatus. As a method not based on the planetary gear system of the prior art, a plurality of carriers are made into one disk-shaped cage, and the cage material is changed in the pulling direction by lifting it up in a drum shape with the divided cage ring. The strength of the entire cage is increased by integrating the above.
In addition, the conventional carrier tooth surface strength problem is solved by changing to a driving type rolling motion method by friction and engagement of the rotor and the cage ring.
Moreover, since the workpiece holding holes in the integrated cage can be arranged concentrically, there is no wasted space and the number of workpieces can be increased.
[0015]
In addition, the inclined planar polishing apparatus according to the invention of
In an inclined plane polishing apparatus that polishes one contact surface of a workpiece that contacts the lower surface plate,
A driving device for transmitting rotational force;
A rotor pivotally supported by a bearing;
A cage ring in which the cage to which the workpiece is fixed is raised like a drum,
A weight disposed above the cage and pressurizing the workpiece;
A weight hydrostatic bearing in which air is interposed between the weight and the cage;
With
At least the weight, lower surface plate, rotor, and cage ring are inclined and the outer periphery of the lower surface plate and weight are in contact with the inner periphery of the cage ring, and the outer periphery of the cage ring is in contact with the inner periphery of the rotor. Touch,
A driving force is transmitted from the rotor by contact friction with the rotating rotor, and the lower surface plate polishes one surface of the workpiece while rolling.
[0016]
An inclined planar polishing apparatus according to the invention described in
The inclined planar polishing apparatus according to
Friction material is provided on the outer peripheral part of the lower surface plate, the outer peripheral part of the weight, the inner peripheral part of the cage ring, the outer peripheral part of the cage ring or the inner peripheral part of the rotor,
The cage ring follows the rotor due to the contact friction with the rotating rotor, and the lower surface plate and the weight follow the cage ring due to the contact friction with the cage ring, and rotates in the same direction as the rotor while sliding on the inclined surface due to gravity. By moving, the lower surface plate polishes one side of the workpiece.
[0017]
Further, an inclined planar polishing apparatus according to the invention of
The inclined planar polishing apparatus according to
Gears are formed on the outer periphery of the lower surface plate, the outer periphery of the weight, the inner periphery of the cage ring, the outer periphery of the cage ring, and the inner periphery of the rotor.
The cage ring is driven by the rotor and meshed with the rotating rotor, and the lower surface plate and the weight are rotated by the cage ring by meshing with the cage ring. It is characterized by polishing one side of an object.
[0018]
Further, an inclined planar polishing apparatus according to the invention of
In the inclined planar polishing apparatus according to any one of
The inclined lower surface plate is rotatably supported by a lower surface plate hydrostatic bearing.
[0019]
An inclined planar polishing apparatus according to the invention described in
In the inclined planar polishing apparatus according to any one of
An angle adjustment mechanism for adjusting the inclination angle of the entire mechanism including at least the weight, the lower surface plate, the rotor and the cage ring;
The pressure applied to the workpiece by the weight can be changed by changing the inclination angle.
[0020]
An inclined planar polishing apparatus according to the invention of
In the inclined planar polishing apparatus according to any one of
There is no protrusion at the center of rotation of the lower surface plate.
[0021]
The second invention according to the inventions of
Further, since the workpieces can be fixed to the integrated cage and arranged concentrically, there is no wasted space and the number of workpieces can be increased.
[0022]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, an inclined plane polishing apparatus which is an embodiment of the invention according to
[0023]
First, the configuration and function of each part of such an inclined double-side polishing apparatus will be described. In the inclined double-side polishing apparatus, a
[0024]
The
[0025]
In actual angle adjustment, when the polishing is started, the inclination angle is increased to reduce the applied pressure, and the rough surface of the
[0026]
Next, the polishing apparatus will be described.
A
[0027]
In this
Further, as shown in FIG. 2, the outer periphery of the
[0028]
As shown in FIG. 2, the
The contact portions of the
When the friction member is provided, it is not necessary to provide the friction member at all the contact portions. For example, the friction member is provided only at the inner peripheral portion and the outer peripheral portion of the
[0029]
As shown in FIG. 1, a lower surface plate static pressure bearing 6 is provided below the
[0030]
Next, the operation / operation of the inclined double-side polishing apparatus configured as described above will be outlined.
Air is supplied to the lower surface plate static pressure bearing 6 to make the
[0031]
The
In this case, since the entire polishing apparatus is inclined, the inner peripheral portion of the
The
[0032]
The
[0033]
Apart from the
Thus, the
[0034]
As the inclination angle is decreased, the component load applied to the
Further, in this embodiment, the recovery of the abrasive is also collected at the lower part of the
[0035]
The present embodiment has been described above with reference to the drawings.
In the present embodiment, the
[0036]
However, although not shown, the outer peripheral portion of the
Also in this case, the effects of the present invention can be achieved.
[0037]
Subsequently, an inclined planar polishing apparatus according to a second embodiment of the invention of
[0038]
In the present embodiment, a
[0039]
Then, as shown in FIG. 3, the air sent from the
When the
[0040]
The present embodiment has been described above with reference to the drawings.
However, although not shown, gears are formed on the outer periphery of the
Also in this case, the effects of the present invention can be achieved.
[0041]
【The invention's effect】
The polishing apparatus of the present invention has a simple structure using frictional force, gravity, and rolling motion, and since the cage and cage ring for holding the workpiece are integrated, it is used in the conventional planetary motion method. A damage accident caused by insufficient material strength of the tooth tip, which was a defect of the gear-shaped carrier that holds the workpiece, is eliminated, and even a thin workpiece can be easily processed. Furthermore, a cage made of a single disk can be provided with holes for holding the workpiece in a concentric manner, so there is no wasted space and the workpiece loading density can be improved.
[0042]
In general, according to the present invention, it is possible to provide an inclined plane polishing apparatus according to a new method in which the number of workpieces is increased and a gear-shaped carrier is not used.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional configuration diagram of an inclined double-side polishing apparatus according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic plan view as seen from an arrow A of the inclined double-side polishing apparatus according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a cross-sectional configuration diagram of an inclined single-side polishing apparatus according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a schematic plan view of the inclined single-side polishing apparatus according to the second embodiment of the present invention as viewed in the direction of arrow B. FIG.
FIG. 5 is a structural diagram of a conventional planetary gear type planar polishing apparatus.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF
Claims (12)
回動力を伝える駆動装置と、
軸受により回動自在に軸支されるロータと、
被加工物を保持する穴を設けたケージを太鼓状に張り上げたケージリングと、
を備え、
少なくとも上定盤、下定盤、ロータおよびケージリングを傾斜して配置するとともに、上定盤および下定盤の外周部はケージリング内周部に接触し、また、ケージリングの外周部はロータの内周部にそれぞれ接触し、
回動するロータとの接触摩擦によりロータから駆動力が伝導されて上定盤および下定盤が被加工物の両面を転がり運動をしながら研磨することを特徴とする傾斜形平面研磨装置。In an inclined flat surface polishing apparatus for polishing both contact surfaces of a workpiece sandwiched between an upper surface plate and a lower surface plate facing each other,
A driving device for transmitting rotational force;
A rotor pivotally supported by a bearing;
A cage ring in which a cage provided with a hole for holding a workpiece is stretched in a drum shape;
With
At least the upper surface plate, the lower surface plate, the rotor, and the cage ring are inclined and the outer peripheral portions of the upper surface plate and the lower surface plate are in contact with the inner peripheral portion of the cage ring, and the outer peripheral portion of the cage ring is the inner surface of the rotor. Each contact with the circumference,
An inclined planar polishing apparatus, wherein a driving force is conducted from a rotor by contact friction with a rotating rotor, and an upper surface plate and a lower surface plate perform polishing while rolling on both surfaces of a workpiece.
上定盤の外周部、下定盤の外周部、ケージリングの内周部、ケージリングの外周部またはロータの内周部のいずれかの接触部に摩擦材料が設けられ、
回動するロータとの接触摩擦によりケージリングはロータに従動し、また、ケージリングとの接触摩擦により上定盤および下定盤はケージリングに従動し、重力により傾斜面を滑りながらロータと同方向に回動することで、上定盤および下定盤が被加工物の両面を研磨することを特徴とする傾斜形平面研磨装置。The inclined planar polishing apparatus according to claim 1,
Friction material is provided on the outer peripheral part of the upper surface plate, the outer peripheral part of the lower surface plate, the inner peripheral part of the cage ring, the outer peripheral part of the cage ring or the inner peripheral part of the rotor,
The cage ring follows the rotor due to contact friction with the rotating rotor, and the upper and lower surface plates follow the cage ring due to contact friction with the cage ring. An inclined flat surface polishing apparatus in which the upper surface plate and the lower surface plate polish both surfaces of the workpiece by rotating in the direction.
上定盤の外周部、下定盤の外周部、ケージリングの内周部、ケージリングの外周部およびロータの内周部に歯車が形成され、
回動するロータとの噛み合いによりケージリングはロータに従動して回動し、また、ケージリングとの噛み合いにより上定盤および下定盤はケージリングに従動して回動することで、上定盤および下定盤が被加工物の両面を研磨することを特徴とする傾斜形平面研磨装置。The inclined planar polishing apparatus according to claim 1,
Gears are formed on the outer periphery of the upper surface plate, the outer periphery of the lower surface plate, the inner periphery of the cage ring, the outer periphery of the cage ring, and the inner periphery of the rotor.
The cage ring is driven by the rotor by meshing with the rotating rotor, and the upper surface plate and the lower surface plate are rotated by following the cage ring by meshing with the cage ring. And an inclined plane polishing apparatus, wherein the lower surface plate polishes both surfaces of the workpiece.
前記の傾斜した下定盤は、下定盤静圧軸受により回動自在に支持されることを特徴とする傾斜形平面研磨装置。In the inclined flat surface polishing apparatus according to any one of claims 1 to 3,
The inclined flat surface polishing apparatus, wherein the inclined lower surface plate is rotatably supported by a lower surface plate hydrostatic bearing.
少なくとも上定盤、下定盤、ロータおよびケージリングを含む機構全体の傾斜角度を調節するための角度調整機構を備え、
傾斜角度を変えて上定盤が被加工物に与える加圧力を変更自在とすることを特徴とする傾斜形平面研磨装置。In the inclined planar polishing apparatus according to any one of claims 1 to 4,
An angle adjustment mechanism for adjusting the inclination angle of the entire mechanism including at least the upper surface plate, the lower surface plate, the rotor and the cage ring,
An inclined planar polishing apparatus characterized in that the applied pressure applied to the workpiece by the upper surface plate can be changed by changing the inclination angle.
下定盤の回転中心部分に突出部がないことを特徴とする傾斜形平面研磨装置。In the inclined planar polishing apparatus according to any one of claims 1 to 5,
An inclined planar polishing apparatus characterized in that there is no protrusion at the center of rotation of the lower surface plate.
回動力を伝える駆動装置と、
軸受により回動自在に軸支されるロータと、
被加工物が固着されるケージを太鼓状に張り上げたケージリングと、
ケージの上側に配置され、被加工物を加圧するウェイトと、
ウェイトとケージとの間にエアを介在させるウェイト静圧軸受と、
を備え、
少なくともウェイト、下定盤、ロータおよびケージリングを傾斜して配置するとともに、下定盤とウェイトの外周部はケージリング内周部に接触し、また、ケージリングの外周部はロータの内周部にそれぞれ接触し、
回動するロータとの接触摩擦によりロータから駆動力が伝導されて下定盤が被加工物の片面を転がり運動をしながら研磨することを特徴とする傾斜形平面研磨装置。In an inclined plane polishing apparatus that polishes one contact surface of a workpiece that contacts the lower surface plate,
A driving device for transmitting rotational force;
A rotor pivotally supported by a bearing;
A cage ring in which the cage to which the workpiece is fixed is raised like a drum,
A weight disposed above the cage and pressurizing the workpiece;
A weight hydrostatic bearing in which air is interposed between the weight and the cage;
With
At least the weight, lower surface plate, rotor, and cage ring are inclined and the outer periphery of the lower surface plate and weight are in contact with the inner periphery of the cage ring, and the outer periphery of the cage ring is in contact with the inner periphery of the rotor. Touch,
An inclined planar polishing apparatus characterized in that a driving force is conducted from a rotor by contact friction with a rotating rotor, and a lower surface plate polishes one surface of a workpiece while rolling.
下定盤の外周部、ウェイトの外周部、ケージリングの内周部、ケージリングの外周部またはロータの内周部のいずれかの接触部に摩擦材料が設けられ、
回動するロータとの接触摩擦によりケージリングとウェイトはロータに従動し、また、ケージリングとの接触摩擦により下定盤はケージリングに従動し、重力により傾斜面を滑りながらロータと同方向に回動することで、下定盤が被加工物の片面を研磨することを特徴とする傾斜形平面研磨装置。The inclined planar polishing apparatus according to claim 7, wherein
Friction material is provided on the outer peripheral part of the lower surface plate, the outer peripheral part of the weight, the inner peripheral part of the cage ring, the outer peripheral part of the cage ring or the inner peripheral part of the rotor,
The cage ring and weight follow the rotor due to contact friction with the rotating rotor, and the lower surface plate follows the cage ring due to contact friction with the cage ring and rotates in the same direction as the rotor while sliding on the inclined surface due to gravity. An inclined planar polishing apparatus, wherein the lower surface plate polishes one side of a workpiece by moving.
下定盤の外周部、ウェイトの外周部、ケージリングの内周部、ケージリングの外周部およびロータの内周部に歯車が形成され、
回動するロータとの噛み合いによりケージリングはロータに従動して回動し、また、ケージリングとの噛み合いにより下定盤とウェイトはケージリングに従動して回動することで、下定盤が被加工物の片面を研磨することを特徴とする傾斜形平面研磨装置。The inclined planar polishing apparatus according to claim 7, wherein
Gears are formed on the outer periphery of the lower surface plate, the outer periphery of the weight, the inner periphery of the cage ring, the outer periphery of the cage ring, and the inner periphery of the rotor.
The cage ring is driven by the rotor and meshed with the rotating rotor, and the lower surface plate and the weight are rotated by the cage ring by meshing with the cage ring. An inclined planar polishing apparatus characterized by polishing one surface of an object.
前記の傾斜した下定盤は、下定盤静圧軸受により回動自在に支持されることを特徴とする傾斜形平面研磨装置。In the inclined planar polishing apparatus according to any one of claims 7 to 9,
The inclined flat surface polishing apparatus, wherein the inclined lower surface plate is rotatably supported by a lower surface plate hydrostatic bearing.
少なくともウェイト、下定盤、ロータおよびケージリングを含む機構全体の傾斜角度を調節するための角度調整機構を備え、
傾斜角度を変えてウェイトが被加工物に与える加圧力を変更自在とすることを特徴とする傾斜形平面研磨装置。In the inclined planar polishing apparatus according to any one of claims 7 to 10,
An angle adjustment mechanism for adjusting the inclination angle of the entire mechanism including at least the weight, the lower surface plate, the rotor and the cage ring;
An inclined planar polishing apparatus characterized in that a pressure applied to a workpiece by a weight can be changed by changing an inclination angle.
下定盤の回転中心部分に突出部がないことを特徴とする傾斜形平面研磨装置。In the inclined planar polishing apparatus according to any one of claims 7 to 11,
An inclined planar polishing apparatus characterized in that there is no protrusion at the center of rotation of the lower surface plate.
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