JPH0222213Y2 - - Google Patents

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JPH0222213Y2
JPH0222213Y2 JP1984109206U JP10920684U JPH0222213Y2 JP H0222213 Y2 JPH0222213 Y2 JP H0222213Y2 JP 1984109206 U JP1984109206 U JP 1984109206U JP 10920684 U JP10920684 U JP 10920684U JP H0222213 Y2 JPH0222213 Y2 JP H0222213Y2
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JP
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workpiece
surface plate
plates
guide ring
guide
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Description

【考案の詳細な説明】 産業上の利用分野 本考案は、ラツピングやポリツシング、研削な
どのようにワークの表裏両面を同時に精密加工す
るための平面研摩装置に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] Industrial Application Field The present invention relates to a flat surface polishing device for precision processing both the front and back surfaces of a workpiece at the same time, such as wrapping, polishing, and grinding.

従来の技術 従来のこの種の研摩装置として、回転する内歯
歯車と太陽歯車との間にキヤリヤを噛合させ、こ
のキヤリヤに保持させたワークを上下の定盤によ
つて加工するようにしたものは知られているが、
かかる研摩装置は、ワークの保持にキヤリヤを使
用していたため、該キヤリヤばかりでなくそれを
駆動するための内歯歯車や太陽歯車及びそれらに
関連する部材を必要とし、構造が複雑化且つ大形
化すると同時に、ワークの装填及び取出しが煩雑
でその作業に非常に多くの手数を必要とするとい
う欠点があつた。また、例えば電子計算機用デイ
スクメモリ基板として使用されるアルミニウム製
薄板の加工には、それよりもさらに薄いキヤリヤ
を必要とするが、このような薄いキヤリヤは、破
損やギヤの傷みが早く、管理が面倒であつた。
Prior Art A conventional polishing device of this type has a carrier meshed between a rotating internal gear and a sun gear, and a workpiece held by the carrier is processed by upper and lower surface plates. is known, but
Since such a polishing device uses a carrier to hold the workpiece, it requires not only the carrier but also an internal gear, a sun gear, and related members to drive it, resulting in a complex and large structure. At the same time, there was a drawback that loading and unloading of workpieces was complicated and required a great deal of effort. Furthermore, thinner carriers are required for processing aluminum thin plates used as disk memory boards for electronic computers, but such thinner carriers can easily break or damage gears, making them difficult to manage. It was troublesome.

考案が解決しようとする問題点 本考案は、キヤリヤを必要としない簡単な構造
の研摩装置を提供することを課題とする。
Problems to be Solved by the Invention It is an object of the present invention to provide a polishing device with a simple structure that does not require a carrier.

問題点を解決するための手段 上記課題を解決するため、本考案の平面研摩装
置は、駆動源により強制回転可能に配設され、一
定間隔で円周状且つ水平に配列された多数の円板
状のワークを片寄つた位置で加工面からはみ出し
た状態に挟持して加工する円環状の上下の定盤
と、該定盤の中心を回転中心として偏心回転可能
に配設され、上記ワークの側面を定盤の内側から
支持するガイドリングと、定盤の回りに一定間隔
で回転自在に配設され、上記ワークの側面を定盤
の外側から支持するガイドローラとによつて構成
したことを特徴とするものである。
Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, the surface polishing apparatus of the present invention consists of a large number of circularly arranged horizontally arranged circular plates at regular intervals, which are arranged to be forcibly rotated by a drive source. Annular upper and lower surface plates are used to hold and process a workpiece in an offset position protruding from the machining surface, and the surface plate is arranged to be eccentrically rotatable about the center of the surface plate, and the side surface of the workpiece is A guide ring that supports the surface plate from inside the surface plate, and guide rollers that are rotatably arranged around the surface plate at regular intervals and that support the side surface of the workpiece from the outside of the surface plate. That is.

作 用 ワークを挟持した状態で上下の定盤を等速で同
方向に回転させると、該ワークには、それが定盤
によつて片寄つた位置で挟持されているため該定
盤の回転方向に応じた回転が与えられ、該ワーク
は、ガイドリングとガイドローラとに当接支持さ
れた状態で定位置で自転しながら加工される。こ
のとき、ガイドリング及びガイドローラもワーク
に追随して回転するが、ガイドリングは定盤の中
心を回転中心として偏心回転するため、ワークは
定盤の半径方向へ往復運動し、ワークと定盤との
接触面積の変化によつて定盤の平面度が維持され
る。
Effect When the upper and lower surface plates are rotated at the same speed and in the same direction while holding a workpiece, the rotational direction of the surface plate will change because the workpiece is held in an offset position by the surface plates. The workpiece is rotated at a fixed position while being supported by the guide ring and the guide roller and processed. At this time, the guide ring and guide roller also rotate following the workpiece, but since the guide ring rotates eccentrically around the center of the surface plate, the workpiece reciprocates in the radial direction of the surface plate, and the workpiece and the surface plate The flatness of the surface plate is maintained by changing the contact area with the surface plate.

効 果 ワークをガイドリングとガイドローラとによつ
て直接支持させるようにしたので、キヤリヤを省
略できるばかりでなく、該キヤリヤを駆動するた
めの内歯歯車や太陽歯車、及びそれらに関連する
駆動源や動力伝達機構等を全て省略することがで
き、しかも、円環状の上下の定盤によりワークを
片寄つた位置で加工面からはみ出した状態に挟持
して加工することにより、その加工力を利用して
ワークを自然に回転させるようにしているため、
該ワークをガイドリング又はガイドローラ等によ
つて強制的に回転させる必要がなく、そのためこ
れらのガイドリング又はガイドローラの駆動機構
も不要であり、その結果、装置の構成を従来の両
面研摩装置に比べて非常に簡略化することができ
ると同時に小形化することができる。また、ガイ
ドリングを偏心回転自在とすることによつてワー
クに揺動運動を与えるようにしたので、ワークと
定盤とを均等に摺接させて定盤の片減りを防止
し、平面度を良好に維持することができる。更
に、キヤリヤを不要にしたことにより、ワークの
交換時にキヤリヤを介することなくワークのみを
搬入、搬出すれば良いため、交換作業が非常に簡
略化され、自動化も容易である。
Effects Since the workpiece is directly supported by the guide ring and guide roller, not only can the carrier be omitted, but also the internal gear and sun gear for driving the carrier, and their related drive source can be omitted. It is possible to omit a power transmission mechanism, etc., and by using the annular upper and lower surface plates to hold and process the workpiece in an offset position protruding from the machining surface, the machining force can be utilized. This allows the workpiece to rotate naturally.
There is no need to forcibly rotate the workpiece using a guide ring or guide roller, and therefore a drive mechanism for these guide rings or guide rollers is also unnecessary. In comparison, it can be extremely simplified and at the same time can be made smaller. In addition, by making the guide ring eccentrically rotatable, it gives a swinging motion to the workpiece, so the workpiece and the surface plate slide evenly, preventing uneven wear of the surface plate, and improving flatness. Can be maintained well. Furthermore, by eliminating the need for a carrier, it is only necessary to carry in and out the workpiece without using the carrier when exchanging the workpiece, which greatly simplifies the exchanging work and facilitates automation.

実施例 以下、本考案の実施例を図面に基づいて詳細に
説明するに、第1図及び第2図において、1,
1,…は一定間隔で円周状且つ水平に配列された
多数の円板状のワーク、2,3はこれらのワーク
1の両面を同時に加工するための円環状の上下の
定盤であつて、これらの定盤2,3は、同心状に
位置する駆動軸4,5を介してそれぞれ図示しな
い駆動源に接続され、該駆動源によつて任意の速
度及び方向に強制回転されるようになつており、
該定盤2,3における加工面2a,3aの幅Wは
ワーク1の半径より小さく形成し、該ワーク1を
一側に片寄つた位置において両加工面2a,3a
間にはみ出した状態に挟持し、その状態で該ワー
ク1の加工を行うように構成している。
Embodiments Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail based on the drawings. In FIGS. 1 and 2, 1,
1, . . . are a large number of disk-shaped workpieces arranged circumferentially and horizontally at regular intervals; 2, 3 are annular upper and lower surface plates for simultaneously processing both sides of the workpieces 1; , these surface plates 2 and 3 are connected to a drive source (not shown) through drive shafts 4 and 5 located concentrically, and are forced to rotate at arbitrary speeds and directions by the drive source. It's getting old,
The width W of the machining surfaces 2a, 3a on the surface plates 2, 3 is formed to be smaller than the radius of the workpiece 1, and when the workpiece 1 is shifted to one side, both machining surfaces 2a, 3a are formed to be smaller than the radius of the workpiece 1.
The workpiece 1 is held in a state where it protrudes between the workpieces 1 and 1, and the workpiece 1 is processed in that state.

上記定盤2,3の内側には、ワーク1の側面に
当接してそれを支持するガイドリング6を、その
中心から外れた位置を下定盤3の駆動軸5にベア
リング7を介して回転自在に支持させることによ
り、上記定盤2,3の中心を回転中心として偏心
回転可能に配設し、一方定盤2,3の回りには、
上記ワーク1の側面を定盤の外側から支持する多
数のガイドローラ8,8,…を、テーブル9に立
設した竪軸10,10,…上に回転自在に支持さ
せることにより一定間隔で円周状に配設してい
る。これらのガイドローラ8の上面8aは、ワー
ク1との接触面積を小さくするために外下り状の
テーパー面となし、また、各ガイドローラ8,
8,…の配列間隔は、加工時にワーク1が隣接す
る二つのガイドローラ8,8に同時に当接しない
ような大きさに設定している。従つて、加工時に
おけるワーク1の支持は、上記ガイドリング6
と、定盤2,3の回転方向側に位置するガイドロ
ーラ8とによつて行われる。
Inside the surface plates 2 and 3, there is a guide ring 6 that abuts against and supports the side surface of the workpiece 1, and the guide ring 6 is rotatable at a position offset from the center of the workpiece 1 via a bearing 7 on the drive shaft 5 of the lower surface plate 3. By supporting the above-mentioned surface plates 2 and 3, the surface plates 2 and 3 are arranged so as to be eccentrically rotatable about the centers of rotation, while around the surface plates 2 and 3,
A large number of guide rollers 8, 8, . . . , which support the side surfaces of the workpiece 1 from the outside of the surface plate, are rotatably supported on vertical shafts 10, 10, . They are arranged in a circumferential manner. The upper surfaces 8a of these guide rollers 8 are tapered outward in order to reduce the contact area with the workpiece 1, and each guide roller 8,
The arrangement interval of the rollers 8, . . . is set to such a size that the workpiece 1 does not come into contact with two adjacent guide rollers 8, 8 at the same time during machining. Therefore, the workpiece 1 is supported during machining by the guide ring 6.
and a guide roller 8 located on the rotational direction side of the surface plates 2 and 3.

なお、図中11はパウダを供給するためのノズ
ル、12は駆動軸5をテーブル9に回転自在に支
持させるための支持機構である。
In the figure, 11 is a nozzle for supplying powder, and 12 is a support mechanism for rotatably supporting the drive shaft 5 on the table 9.

上記構成を有する平面研摩装置において、第1
図の状態から上定盤2を下降させ、上下の定盤
2,3間にワーク1を挟持した状態でこれらの定
盤を第2図に矢印aで示す方向に等速で回転させ
ると、各ワーク1には、それが定盤2,3によつ
て片寄つた位置で挟持されているため、矢印bで
代表的に示す方向の回転が与えられ、該ワーク1
は、ガイドリング6と定盤2,3の回転方向側に
位置するガイドローラ8とに当接し、定位置にお
いて自転しながらその両面が同時に加工される。
このとき、ワーク1は、上定盤2によつて下定盤
3に押付けられるが、該ワーク1がアルミニウム
製の薄板のように軽量の場合には、その重量をほ
とんど無視することができるため該ワーク1の両
面にはほぼ等しい加工圧が作用していると考えら
れ、従つて、該ワーク1の両面は実質的に同一条
件で加工されることになる。
In the surface polishing apparatus having the above configuration, the first
If the upper surface plate 2 is lowered from the state shown in the figure, and the workpiece 1 is held between the upper and lower surface plates 2 and 3, these surface plates are rotated at a constant speed in the direction shown by arrow a in FIG. 2. Since each workpiece 1 is held in an offset position by the surface plates 2 and 3, rotation in the direction typically shown by arrow b is applied to the workpiece 1.
is in contact with the guide ring 6 and the guide roller 8 located on the rotational direction side of the surface plates 2 and 3, and both surfaces thereof are simultaneously processed while rotating in a fixed position.
At this time, the workpiece 1 is pressed against the lower surface plate 3 by the upper surface plate 2, but if the workpiece 1 is lightweight such as a thin aluminum plate, its weight can be almost ignored. It is considered that substantially equal machining pressure is applied to both sides of the workpiece 1, and therefore both sides of the workpiece 1 are machined under substantially the same conditions.

また、ガイドリング6及びガイドローラ8もワ
ーク1に追随して回転するが、ガイドリング6は
定盤2,3の中心を回転中心として偏心回転する
ため、ワーク1も矢印c方向へ往復運動しながら
回転することになり、これによつて該ワーク1と
定盤2,3の加工面2a,3aとの接触面積が変
化して該加工面の片減りが防止され、その平面度
が良好に維持される。
Further, the guide ring 6 and the guide roller 8 also rotate following the workpiece 1, but since the guide ring 6 rotates eccentrically around the centers of the surface plates 2 and 3, the workpiece 1 also reciprocates in the direction of arrow c. As a result, the contact area between the workpiece 1 and the machined surfaces 2a and 3a of the surface plates 2 and 3 changes, preventing uneven wear of the machined surfaces and improving its flatness. maintained.

ワーク1の加工が終了すると、上定盤2が第1
図の位置に上昇し、各ワーク1が取出される。こ
のワーク1の取出し及び装填は、手作業であるい
はロボツトにより自動的に行うことができる。
When the machining of workpiece 1 is completed, upper surface plate 2 is moved to the first
It rises to the position shown in the figure, and each workpiece 1 is taken out. This removal and loading of the workpiece 1 can be performed manually or automatically by a robot.

なお、上記定盤2,3は、第2図に示す場合と
逆向きに回転させることもでき、このような定盤
の反転は、特にポリツシングを行う場合にパツド
のドレツシングを同時に行うことができるので有
効である。
Incidentally, the above-mentioned surface plates 2 and 3 can also be rotated in the opposite direction to the case shown in FIG. 2, and such reversal of the surface plates allows dressing of pads to be performed at the same time, especially when performing polishing. Therefore, it is valid.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図及び第2図は本考案の一実施例を示す縦
断面図及び部分平面図である。 1……ワーク、2,3……定盤、2a,3a…
…加工面、6……ガイドリング、8……ガイドロ
ーラ。
1 and 2 are a longitudinal sectional view and a partial plan view showing an embodiment of the present invention. 1... Workpiece, 2, 3... Surface plate, 2a, 3a...
...Machining surface, 6...Guide ring, 8...Guide roller.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】 駆動源により強制回転可能に配設され、一定間
隔で円周状且つ水平に配列された多数の円板状の
ワークを片寄つた位置で加工面からはみ出した状
態に挟持して加工する円環状の上下の定盤と、 該定盤の中心を回転中心として偏心回転可能に
配設され、上記ワークの側面を定盤の内側から支
持するガイドリングと、 定盤の回りに一定間隔で回転自在に配設され、
上記ワークの側面を定盤の外側から支持するガイ
ドローラと、 を有することを特徴とする平面研摩装置。
[Claims for Utility Model Registration] A large number of disc-shaped workpieces arranged so as to be forcibly rotated by a driving source and arranged circumferentially and horizontally at regular intervals, protruding from the machining surface in an offset position. Annular upper and lower surface plates for clamping and processing; a guide ring that is arranged to be eccentrically rotatable about the center of the surface plate and supports the side surface of the work from the inside of the surface plate; Rotatably arranged at regular intervals around the
A surface polishing device comprising: a guide roller that supports the side surface of the workpiece from the outside of the surface plate;
JP1984109206U 1984-07-19 1984-07-19 Surface polishing equipment Granted JPS6124147U (en)

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JPS6124147U JPS6124147U (en) 1986-02-13
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0637023B2 (en) * 1990-06-05 1994-05-18 日清工業株式会社 Brake disk double-sided surface grinding method

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5133393A (en) * 1974-09-13 1976-03-22 Canon Kk

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JPS5133393A (en) * 1974-09-13 1976-03-22 Canon Kk

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