JPS6210778B2 - - Google Patents

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JPS6210778B2
JPS6210778B2 JP53019216A JP1921678A JPS6210778B2 JP S6210778 B2 JPS6210778 B2 JP S6210778B2 JP 53019216 A JP53019216 A JP 53019216A JP 1921678 A JP1921678 A JP 1921678A JP S6210778 B2 JPS6210778 B2 JP S6210778B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lap
plate
correction
carrier
plates
Prior art date
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Expired
Application number
JP53019216A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS54112091A (en
Inventor
Koichiro Ichikawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujikoshi Machinery Corp
Original Assignee
Fujikoshi Kikai Kogyo KK
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujikoshi Kikai Kogyo KK filed Critical Fujikoshi Kikai Kogyo KK
Priority to JP1921678A priority Critical patent/JPS54112091A/en
Publication of JPS54112091A publication Critical patent/JPS54112091A/en
Publication of JPS6210778B2 publication Critical patent/JPS6210778B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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  • Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はラツピング装置におけるラツプ・プレ
ートのラツプ表面を修正する装置の改良に関する
ものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an improvement in a device for modifying the lap surface of a lap plate in a wrapping machine.

従来、共通の軸まわりに相互に回転可能とされ
た2枚のラツプ・プレートを、相互に軸方向に間
隔をおいて配設し、それぞれのラツプ・プレート
の環状ラツプ表面を向い合わせ、これら環状ラツ
プ表面の間に一般に平坦なワークピースを接続配
置して、上記ラツプ・プレートを相互に回転させ
る間にワークピースの両面を研摩することができ
るようにした、一般にラツピング・マシンと称さ
れる種々の機械が広く知られ実際に用いられてい
る。しかして、この種従来のラツピング・マシン
においては、ワークピースの研摩に伴なつて、ラ
ツプ・プレートの環状ラツプ表面が変則的に摩耗
するので、これらラツプ表面は定期的に研削して
平滑な面に修正しなければならない。
Conventionally, two lap plates that are mutually rotatable about a common axis are disposed at an axial distance from each other, and the annular lap surfaces of each lap plate are faced to each other. Various types of lapping machines, commonly referred to as lapping machines, have a generally flat workpiece connected and arranged between lapping surfaces so that both sides of the workpiece can be polished while the lapping plates are rotated relative to each other. These machines are widely known and actually used. However, in this type of conventional lapping machine, the annular lapping surfaces of the lapping plate wear irregularly as the workpiece is polished, so these lapping surfaces are periodically ground to create a smooth surface. must be corrected.

ラツプ・プレートのラツプ表面を修正する従来
公知の代表的な方法の一つとして、2枚のラツ
プ・プレートの環状ラツプ表面間に、該ラツプ表
面の巾に少なくとも等しい外径を有する少なくと
も3個のラツプ修正リングを接触配置し、上記2
枚のラツプ・プレートを回転させている間上記リ
ングをラツプ・プレートの回転軸のまわりに公転
させつつ自転させる方法が知られている。
One of the typical methods known in the art for modifying the lap surfaces of lap plates includes at least three annular lap surfaces of two lap plates having an outer diameter at least equal to the width of the lap surfaces. Place the wrap correction ring in contact with the above 2
A method is known in which the ring is rotated while revolving around the axis of rotation of the lap plates while the two lap plates are being rotated.

しかしながら、上記修正方法においては、これ
に使用するラツプ修正リングの外径がラツプ表面
の巾に等しいかあるいはそれより大きくかつ重量
の大きなものであるために、この修正リングをラ
ツプ表面間に設置する作業ならびに取外す作業に
多大な労力を要し、その取扱いが極めて困難であ
るという欠点がある。また、上記修正方法におい
ては、2枚のラツプ・プレートを相互に逆回転さ
せている間に、ラツプ修正リングがラツプ・プレ
ートの回転軸のまわりに公転しつつ自転すると
き、上ラツプ・プレートおよび下ラツプ・プレー
トのラツプ修正リングの公転に対する相対速度を
ほゞ等しくするとき、ラツプ修正リングの自転速
度が大きくなるほど強制回転させられるリング上
にある一点の上下ラツプ・プレートに対する相対
速度差が大きくなり、この結果上記ラツプ修正リ
ングによるラツプ表面の研摩にむらが生じ、より
均一なラツプ表面が得がたいという欠点がある。
However, in the above correction method, the outer diameter of the lap correction ring used for this is equal to or larger than the width of the lap surface and is heavy, so this correction ring is installed between the lap surfaces. The drawback is that it requires a great deal of effort to operate and remove, and is extremely difficult to handle. In addition, in the above correction method, while the two lap plates are being rotated in opposite directions, when the lap correction ring rotates while revolving around the rotation axis of the lap plate, the upper lap plate and When the relative speed of the lower lap plate to the revolution of the lap correction ring is made approximately equal, the greater the rotation speed of the lap correction ring, the greater the difference in relative speed of a point on the ring that is forced to rotate with respect to the upper and lower lap plates. As a result, the polishing of the lap surface by the lap correction ring becomes uneven, making it difficult to obtain a more uniform lap surface.

本発明の目的は、前記した従来のラツプ表面修
正方法における不利、欠点を伴なわない改良され
たラツプ表面修正装置を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide an improved lap surface modification apparatus that does not have the disadvantages and drawbacks of the conventional lap surface modification methods described above.

本発明の他の目的はラツプ表面の修正に使用す
るラツプ修正リングまたはプレートの取扱いが容
易であり、ラツプ表面を短時間のうちにより均一
に修正することができる改良された修正装置を備
えたラツピング・マシンを提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a lapping machine with an improved repairing device which allows for easy handling of the lap repair ring or plate used for modifying the lap surface and allows for a more uniform modification of the lap surface in a short period of time.・The purpose is to provide machines.

本発明のさらに他の目的はラツプ表面の修正作
業中にラツプ表面の修正の状態を容易にチエツク
することができる修正装置を提供することにあ
る。
Still another object of the present invention is to provide a repairing device which allows the state of the repair of the lap surface to be easily checked during the repair operation of the lap surface.

上記した目的および説明が進むにしたがつて、
より明らかにされるさらに他の目的を達成するた
めの本発明になる装置は、共通軸のまわりを独立
して回転することができ、かつ相互に軸方向に間
隔をおいて平行に対向配置された環状のラツプ表
面を備えた2枚のラツプ・プレート;該両ラツ
プ・プレートの間において、該環状のラツプ・プ
レートの中心位置と外側周縁部にそれぞれ非偏心
状に配設されたサン・ギアとインターナル・ギア
の間に配置され、外周縁部に上記両ギアとかみ合
うギアを備えた少なくとも3つのキヤリア;外径
が上記環状のラツプ表面の幅より小さく、両面が
研摩面とされた、上記両ラツプ表面間に接触配置
される多数個のラツプ修正リングまたはプレート
からなり、上記キヤリアには、該ラツプ修正リン
グまたはプレートを内側に収容する穴が、該キヤ
リアの自転において内側に収容されたラツプ修正
リングまたはプレートを上記環状ラツプ・プレー
トの幅全体に往復運動させ得る偏心位置に形成さ
れてなるラツピング・マシンのラツプ表面修正装
置を要旨とするものである。
Following the above objectives and explanations,
To achieve still another object which will become clearer, the present invention provides a device capable of independently rotating about a common axis and arranged oppositely in parallel and axially spaced from each other. two lap plates with annular lap surfaces; a sun gear non-eccentrically disposed between the two lap plates at the center and outer periphery of the annular lap plates; and an internal gear, at least three carriers having gears on their outer peripheries that mesh with both gears; having an outer diameter smaller than the width of the annular lap surface and having abrasive surfaces on both sides; a plurality of wrap correction rings or plates disposed in contact between the wrap surfaces, the carrier having holes therein for receiving the wrap correction rings or plates when the carrier rotates about its axis; The object of the present invention is to provide a lap surface modifying device for a wrapping machine in which a lap modifying ring or plate is formed at an eccentric position capable of reciprocating across the width of the annular wrap plate.

以下添付図面に基づいて本発明装置を詳細に説
明する。
The apparatus of the present invention will be explained in detail below based on the accompanying drawings.

まず、第1図には環状のラツプ・プレート1,
2を備えた本発明になる装置の一実施態様におけ
る要部概略構成が示されており、第2図はその平
面からみた概略構成を示すものである。環状の上
ラツプ・プレート1および下ラツプ・プレート2
は、図面には示してないが、それぞれ共通回転軸
xのまわりに独立して回転できるようにされてい
る。上記1組の環状ラツプ・プレート1,2の中
心位置にはサン・ギア3が配設され、またラツ
プ・プレートの外側にはインターナル・ギア4が
配設されていて、図面には示してないが、これら
の両ギアもそれぞれ回転軸xのまわりに独立して
回転できるようにされている。なお、上記した1
対の環状ラツプ・プレート1,2、サン・ギア3
およびインターナル・ギア4のそれぞれの回転運
動はこの種従来公知の4ウエイ(way)ラツピン
グ・マシンの回転伝達機構により行なうことがで
き、したがつてこの回転伝達機構の詳細について
は当該技術分野における技術者にとつて容易に理
解されるところであるのでこれを省略する。
First, Fig. 1 shows an annular lap plate 1,
FIG. 2 shows a schematic configuration of essential parts of an embodiment of the device according to the present invention, which is equipped with a device according to the present invention, and FIG. Annular upper lap plate 1 and lower lap plate 2
Although not shown in the drawings, they are designed to be able to rotate independently around a common rotation axis x. A sun gear 3 is disposed at the center of the pair of annular lap plates 1 and 2, and an internal gear 4 is disposed outside the lap plates, not shown in the drawing. However, both of these gears are also configured to be able to rotate independently around the rotation axis x. In addition, above 1
Pair of annular lap plates 1, 2, sun gear 3
The rotational movement of each of the internal gears 4 and 4 can be performed by a rotation transmission mechanism of a conventionally known four-way wrapping machine of this type, and the details of this rotation transmission mechanism are well known in the art. Since this is easily understood by engineers, it will be omitted.

上記2枚のラツプ・プレート1,2の間には、
4個のラツプ修正リング5が接触配置され、これ
らリング5はそれぞれキヤリア6に設けた穴7の
中におかれている。上記キヤリア6にはそれぞれ
その外周囲にギア8が形成され、このギア8が前
記サン・ギア3およびインターナル・ギア4にか
み合わされている。
Between the above two lap plates 1 and 2,
Four lap correction rings 5 are arranged in contact, each of these rings 5 being placed in a hole 7 provided in the carrier 6. A gear 8 is formed around the outer periphery of each of the carriers 6, and this gear 8 meshes with the sun gear 3 and the internal gear 4.

上記ラツプ修正リング5は、本発明にしたがつ
てその外径D1がラツプ表面の巾d2より小さな
ものとされ、一方上記キヤリア6に設けられた穴
7の内径d3はd1より大きなものとされ、その
結果ラツプ修正リング5はキヤリア6に対して固
定されず、穴7の内で自由に動き得る状態とされ
ている。また上記キヤリアの穴7は偏心位置に設
けられており、このキヤリアはサン・ギア3およ
びインターナル・ギア4とかみ合つてラツプ・プ
レート1,2の回転軸xのまわりを公転すると
き、同時に自転運動が与えられ、したがつてこの
穴7に収容されたリング5はラツプ表面の巾方向
に運動されるようになるので、上記リング5はそ
の外径d1がラツプ表面の巾d2より小さくされ
ているにもかかわらず、ラツプ表面の全巾にわた
つて研削を行なうことができることを理解すべき
である。
According to the present invention, the wrap correction ring 5 has an outer diameter D1 smaller than the width d2 of the wrap surface, while an inner diameter d3 of the hole 7 provided in the carrier 6 is larger than d1; As a result, the lap correction ring 5 is not fixed to the carrier 6, but is free to move within the hole 7. Further, the hole 7 of the carrier is provided at an eccentric position, and when this carrier meshes with the sun gear 3 and internal gear 4 and revolves around the rotation axis x of the lap plates 1 and 2, Since the ring 5 accommodated in the hole 7 is rotated in the direction of the width of the wrap surface, the outer diameter d1 of the ring 5 is smaller than the width d2 of the wrap surface. It should be understood that grinding can be carried out over the entire width of the lap surface.

本発明における上記ラツプ修正リング5の両面
には好ましくは複数本の溝9が刻設されており、
この溝はラツプ表面の修正工程中にラツプ表面に
供給される砥粒スラリーならびにラツプ表面の研
削くずをラツプ表面から排除する上に極めて有効
である。
Preferably, a plurality of grooves 9 are carved on both sides of the lap correction ring 5 in the present invention.
These grooves are extremely effective in removing from the lap surface the abrasive slurry supplied to the lap surface during the lap surface modification process as well as the grinding debris on the lap surface.

第3図および第4図は本発明になる装置の他の
実施態様を例示するものであつて、この装置にお
いては第1図、第2図に示す装置のキヤリア6に
相当するキヤリア16に、それぞれ3個の穴17
が設けられ、それぞれの穴にラツプ修正プレート
15が収容されている。
3 and 4 illustrate another embodiment of the apparatus according to the present invention, in which a carrier 16 corresponding to the carrier 6 of the apparatus shown in FIGS. 1 and 2, 3 holes each 17
are provided, and a lap correction plate 15 is accommodated in each hole.

第1図〜第4図はいずれもラツピング・マシン
のラツプ表面を修正する状態における実施態様を
示すものであるが、通常はこの種従来公知のラツ
ピング・マシンにおけると同様に上下のラツプ・
プレートの間にワークキヤリアあるいはホルダー
と共にシリコンウエハーなどのワークピースを多
数個配置し、上下のラツプ・プレート、サン・ギ
アおよびインターナル・ギアにそれぞれ回転運動
を与えることによつて、ワークピースの研摩作業
が行なわれることを理解すべきである。
1 to 4 each show an embodiment of the wrapping machine in a state in which the wrapping surface is modified, but normally the upper and lower wraps are modified in the same manner as in conventional wrapping machines of this type.
A large number of workpieces such as silicon wafers are placed between the plates along with workpiece carriers or holders, and the workpieces are polished by applying rotational motion to the upper and lower lap plates, sun gear, and internal gear. It should be understood that work is done.

しかして、本発明によればラツプ表面の修正は
つぎのようにして行なわれる。すなわち、ワーク
ピースの研摩作業中に上下ラツプ・プレート間に
置かれていたワーク・キヤリアまたはホルダは、
修正作業に先だつてラツプ修正リング5またはプ
レート15用のキヤリア6または16と置き換え
られるが、この際上記キヤリアはワーク・キヤリ
アまたはホルダをそのまま使用することもでき
る。したがつて上記キヤリア6または16はワー
クピースのラツピング工程中と同様にして、共通
軸xのまわりを公転し、自転することができる。
According to the invention, the lap surface is modified as follows. That is, the workpiece carrier or holder placed between the upper and lower lap plates during the workpiece polishing operation is
Prior to the correction operation, the carrier 6 or 16 for the lap correction ring 5 or the plate 15 is replaced, but the carrier can also be used as a workpiece carrier or holder. Therefore, the carrier 6 or 16 can revolve around the common axis x and rotate on its own axis in the same manner as during the workpiece wrapping process.

上記キヤリア6または16には、ついでラツプ
修正リング5またはプレート15が収容される
が、これらリングまたはプレートの外径はキヤリ
アの穴7,17の内径より小さいので、キヤリア
が自転している間にラツプ修正リングまたはプレ
ートはキヤリアと共に自転されることはなく、む
しろほとんど自転せず、キヤリアと共に公転し、
公転中ラツプ表面の巾方向に運動する。ラツプ修
正リング5またはプレート15の上下両面はラツ
プ・プレート1,2または11,12のラツプ表
面に接しており、各リング5またはプレート15
の高さはそれぞれ同じ高さとされ、またこの高さ
はキヤリア6または16の高さより大きいものと
されている。
The carrier 6 or 16 then accommodates a lap correction ring 5 or plate 15, but since the outer diameter of these rings or plates is smaller than the inner diameter of the holes 7, 17 in the carrier, it is possible to The lap correction ring or plate does not rotate with the carrier, rather it rotates very little and revolves with the carrier,
During the revolution, it moves in the width direction of the lap surface. The upper and lower surfaces of the lap correction ring 5 or plate 15 are in contact with the lap surfaces of the lap plates 1, 2 or 11, 12, and each ring 5 or plate 15
The heights of the carriers 6 and 16 are respectively the same and are greater than the height of the carriers 6 or 16.

ラツプ修正リング5またはプレート15の公転
速度および公転方向はラツプ表面の修正割合に応
じて任意に変えられることが望ましい。
It is desirable that the revolution speed and direction of the lap correction ring 5 or the plate 15 be changed arbitrarily depending on the rate of correction of the lap surface.

上記のようにしてラツプ修正リング5またはプ
レート15をラツプ・プレート1,2または1
1,12のラツプ表面間に接触配置し、従来公知
の方法にしたがつて上下ラツプ・プレートをそれ
ぞれ回転させ、キヤリア6,16を回転軸xのま
わりに公転させるときには、このキヤリア内部に
収容されたリング5またはプレート15は、キヤ
リア6,16と共に回転軸xのまわりに回転しな
がら、ラツプ表面の巾方向に運動する。本発明に
おいて重要なことは、ラツプ修正リング5または
プレート15がキヤリア6または16に固定され
ておらず、したがつてキヤリアと共に回転軸xの
まわりを回転するが、しかしキヤリアと共に自転
することはなく、むしろほとんど自転しないこと
であり、このことはラツプ表面の修正効果に重大
なる影響を及ぼす。すなわち、従来公知のラツプ
表面の修正は、ラツプ表面の巾と等しいかあるい
はこれより大きな外径を有するラツプ修正リング
を使用し、このラツプ修正リングをラツプ・プレ
ートの回転軸まわりを公転させながら強制的に自
転させていたのであるが、これに対して、本発明
にしたがつて、ラツプ表面の巾より小さい外径を
有するラツプ修正リングまたはプレートを使用
し、このリングまたはプレートをラツプ・プレー
トの回転軸まわりを公転させながら、ラツプ表面
の巾方向に運動させるときには、その理由は明ら
かではないが、意外にもその修正効果が向上する
のである。換言すれば上記した従来公知の方法に
従つてラツプ表面を修正する場合に比較して、本
発明によればより短い作業時間で同じ修正効果を
得ることができるのである。
As described above, attach the lap correction ring 5 or plate 15 to the lap plate 1, 2 or 1.
When the carriers 6, 16 are revolved around the axis of rotation x by placing the upper and lower lap plates in contact with each other in accordance with conventionally known methods, the The ring 5 or plate 15 moves in the width direction of the lap surface while rotating together with the carriers 6, 16 about the axis of rotation x. What is important in the invention is that the lap correction ring 5 or the plate 15 is not fixed to the carrier 6 or 16 and therefore rotates with the carrier around the axis of rotation x, but does not rotate together with the carrier. , rather, it hardly rotates on its axis, which has a significant effect on the modification effect of the lap surface. That is, the conventionally known lap surface correction uses a lap correction ring having an outer diameter equal to or larger than the width of the lap surface, and the lap correction ring is forced while rotating around the rotation axis of the lap plate. In contrast, in accordance with the present invention, a lap correction ring or plate having an outer diameter smaller than the width of the lap surface is used, and this ring or plate is rotated on the lap plate. When the lap is moved in the width direction of the lap surface while revolving around the rotation axis, the correction effect is surprisingly improved, although the reason is not clear. In other words, compared to the case of modifying the lap surface according to the conventionally known method described above, according to the present invention, the same modification effect can be obtained in a shorter working time.

また、本発明によれば相対的に小さな外径のラ
ツプ修正リングまたはプレートを用いているの
で、ラツプ表面の修正に先だつて、このラツプ修
正リングまたはプレートをラツプ表面間に設置す
る作業を容易かつ迅速に行なうことができ、ま
た、同様に修正後にラツプ修正リングまたはプレ
ートを取除く作業も能率的に行なうことができ
る。そして第3図、第4図に示すように、比較的
小さな外径を有するラツプ修正プレート15を使
用する場合には、そのキヤリア16として、通常
のラツピング作業中に使用していたワーク・キヤ
リアまたはホルダをそのままラツプ修正プレート
用のキヤリアとして転用することができるので、
このような場合はラツプ修正リングまたはプレー
トの取扱がより容易なものとされる。
Furthermore, since the present invention uses a lap correction ring or plate with a relatively small outer diameter, it is easy and convenient to install the lap correction ring or plate between the lap surfaces prior to modifying the lap surface. This can be done quickly, and the removal of the lap correction ring or plate after correction can also be done efficiently. As shown in FIGS. 3 and 4, when using the wrap correction plate 15 having a relatively small outer diameter, the carrier 16 may be the workpiece carrier used during the normal wrapping operation or Since the holder can be used as a carrier for the lap correction plate,
In such cases, the lap correction ring or plate may be easier to handle.

さらに本発明によれば相対的に小さな外径のラ
ツプ修正リングまたはプレートを用いるので、そ
の厚さ測定が容易であり、厚さの寸法を正確にチ
エツクすることによつてラツプ表面の平坦度の修
正度合を容易に知ることができるという利点が与
えられる。
Furthermore, since the present invention uses a lap correction ring or plate with a relatively small outer diameter, its thickness can be easily measured, and the flatness of the lap surface can be determined by accurately checking the thickness dimension. This provides the advantage that the degree of modification can be easily known.

以上本発明の好ましい実施態様について図示
し、説明したが、本発明はこれらに限定されるも
のではなく、前記した特許請求の範囲内において
種々具現化し、実施し得るものであることを理解
すべきである。
Although the preferred embodiments of the present invention have been illustrated and described above, it should be understood that the present invention is not limited to these but can be embodied and implemented in various ways within the scope of the claims set forth above. It is.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の装置の一実施態様における要
部の概略断面図、第2図は第1図の−線に沿
つて見た平面図である。第3図は本発明の装置の
他の実施態様における要部の概略断面図、第4図
は第3図の−線に沿つて見た平面図である。 1,11……上ラツプ・プレート、2,12…
…下ラツプ・プレート、3,13……サン・ギ
ア、4,14……インターナル・ギア、5,15
……修正リングまたはプレート、6,16……キ
ヤリア、7,17……穴、8,18……ギア、
9,19……溝。
FIG. 1 is a schematic sectional view of essential parts of an embodiment of the apparatus of the present invention, and FIG. 2 is a plan view taken along the line - in FIG. 1. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of essential parts of another embodiment of the device of the present invention, and FIG. 4 is a plan view taken along the line - in FIG. 3. 1, 11... upper lap plate, 2, 12...
...Lower lap plate, 3,13...Sun gear, 4,14...Internal gear, 5,15
...correction ring or plate, 6,16...carrier, 7,17...hole, 8,18...gear,
9,19...groove.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 (a) 共通軸のまわりを独立して回転すること
ができ、かつ相互に軸方向に間隔をおいて平行
に対向配置された環状のラツプ表面を備えた2
枚のラツプ・プレート、 (b) 該両ラツプ・プレートの間において、該環状
のラツプ・プレートの中心位置と外側周縁部に
それぞれ非偏心状に配設されたサン・ギアとイ
ンターナル・ギアの間に配置され、外周縁部に
上記両ギアとかみ合うギアを備えた少なくとも
3つのキヤリア、 (c) 外径が上記環状のラツプ表面の幅より小さ
く、両面が研摩面とされた、上記両ラツプ表面
間に接触配置される多数個のラツプ修正リング
またはプレート、からなり、 (d) 上記キヤリアには、該ラツプ修正リングまた
はプレートを内側に収容する穴が、該キヤリア
の自転において内側に収容されたラツプ修正リ
ングまたはプレートを上記環状ラツプ・プレー
トの幅全体に往復運動させ得る偏心位置に形成
されている ことを特徴とするラツピング・マシンのラツプ表
面修正装置。 2 各キヤリアが、ラツプ修正リングまたはプレ
ートを収容する複数個の穴を備えてなる特許請求
の範囲第1項記載のラツピング・マシンのラツプ
表面修正装置。 3 ラツプ修正リングまたはプレートが、研磨面
に放射方向に延びる複数本の溝または格子状の溝
を有する特許請求の範囲第1項記載のラツピン
グ・マシンのラツプ表面修正装置。
[Scope of Claims] 1 (a) having annular lap surfaces independently rotatable about a common axis and arranged axially spaced and parallel to each other; 2;
(b) a sun gear and an internal gear disposed non-eccentrically at the center and outer periphery of the annular wrap plate, respectively, between the two wrap plates; (c) at least three carriers disposed between the carriers and having gears on their outer peripheries meshing with the gears; a number of lap correction rings or plates disposed in contact between the surfaces; (d) said carrier having holes therein for receiving said lap correction rings or plates in rotation of said carrier; A lap surface modification device for a wrapping machine, characterized in that the lap modification ring or plate is formed at an eccentric position capable of reciprocating across the width of the annular wrap plate. 2. A lap surface modification device for a wrapping machine as claimed in claim 1, wherein each carrier is provided with a plurality of holes for receiving a lap modification ring or plate. 3. A lapping surface correction device for a lapping machine according to claim 1, wherein the lapping correction ring or plate has a plurality of grooves or grid-like grooves extending radially on the polishing surface.
JP1921678A 1978-02-22 1978-02-22 Lap surface compensator of lapping machine Granted JPS54112091A (en)

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JP1921678A JPS54112091A (en) 1978-02-22 1978-02-22 Lap surface compensator of lapping machine

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Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS54112091A JPS54112091A (en) 1979-09-01
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ID=11993170

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JP1921678A Granted JPS54112091A (en) 1978-02-22 1978-02-22 Lap surface compensator of lapping machine

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