JP2001179600A - Dresser - Google Patents

Dresser

Info

Publication number
JP2001179600A
JP2001179600A JP36188299A JP36188299A JP2001179600A JP 2001179600 A JP2001179600 A JP 2001179600A JP 36188299 A JP36188299 A JP 36188299A JP 36188299 A JP36188299 A JP 36188299A JP 2001179600 A JP2001179600 A JP 2001179600A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gear
dresser
rotating body
platen
surface plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP36188299A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshinari Suzuki
俊成 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SpeedFam Co Ltd
Original Assignee
SpeedFam Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SpeedFam Co Ltd filed Critical SpeedFam Co Ltd
Priority to JP36188299A priority Critical patent/JP2001179600A/en
Publication of JP2001179600A publication Critical patent/JP2001179600A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a dresser capable of dressing an entire polishing surface of a surface plate uniformly and evenly. SOLUTION: This dresser 1 comprises a substrate 2 and six rotors 3. The substrate 2 has an outline matching to a carrier of a double polishing device, and a gear part 20 engageable with a sun gear and an internal gear. Six holes 21 are drilled in the substrate 2. The rotors 3 are rotatably engaged with the holes 21. Each rotor 3 is formed with a shaft part 30 and a pair of disk parts 31, 32, the disk parts 31, 32 are mounted to both ends of the shaft part 30, and pellets 4 for dressing the surface plate are adhered to the surfaces of the pair of disk parts 31, 32.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、研磨装置の定盤
をドレッシングするためのドレッサに関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dresser for dressing a surface plate of a polishing apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、ポリッシング用の両面研磨装置
は、図17に示すように、サンギア100とインターナ
ルギア101とに噛合された状態で下定盤110上に載
置されたキャリア120のワーク保持孔121内にワー
クWを収納し、上定盤130でワークWを押圧しなが
ら、サンギア100,インターナルギア101,キャリ
ア120及び上定盤130を回転させることで、キャリ
ア120を下定盤110上で自公転させながら、キャリ
ア120に保持されたワークWの両面を下定盤110と
上定盤130とによって研磨するようになっている。そ
して、長時間の研磨作業によって下定盤110や上定盤
130の表面に貼り付けられている研磨パッド140が
偏摩耗した場合には、所定のドレッサで研磨パッド14
0の表面を削るなどして研磨パッド140の表面を平坦
にするドレッシング作業が行われる。図18は、従来の
ドレッサの一例を示す平面図であり、図19は、図18
に示すドレッサの断面図である。図18及び図19に示
すように、このドレッサ200は、外周面にギア部21
1を有した基体210の一方面の略全体に定盤用ドレッ
シング部材であるペレット220を固着させた構成にな
っている。このようなドレッサ200を用いて、下定盤
110及び上定盤130を同時にドレッシングする際に
は、全てのキャリア120を両面研磨装置から取り外
し、キャリア120の代わりに、ドレッサ200を両面
研磨装置に装着する。具体的には、図20に示すよう
に、ペレット220を下方に向けたドレッサ200−1
とペレット220を上方に向けたドレッサ200−2と
をそれぞれサンギア100とインターナルギア101と
に噛合させた状態で下定盤110上に載置する。しかる
後、上定盤130によりこれらドレッサ200−1,2
00−2を押圧しながら、サンギア100,インターナ
ルギア101,下定盤110及び上定盤130を回転さ
せることで、ドレッサ200−1,200−2を、キャ
リア120と同様に、自公転させる。これにより、下定
盤110の研磨パッド140がドレッサ200−1のペ
レット220によってドレッシングされ、上定盤130
の研磨パッド140がドレッサ200−2のペレット2
20によってドレッシングされる。
2. Description of the Related Art Generally, as shown in FIG. 17, a double-side polishing apparatus for polishing uses a work holding hole of a carrier 120 mounted on a lower platen 110 while being engaged with a sun gear 100 and an internal gear 101. The work W is accommodated in the lower surface plate 121 by rotating the sun gear 100, the internal gear 101, the carrier 120 and the upper surface plate 130 while pressing the work W with the upper surface plate 130. Both surfaces of the work W held by the carrier 120 are polished by the lower surface plate 110 and the upper surface plate 130 while revolving. If the polishing pad 140 stuck on the surface of the lower surface plate 110 or the upper surface plate 130 is unevenly worn due to a long polishing operation, the polishing pad 14 is fixed with a predetermined dresser.
A dressing operation for flattening the surface of the polishing pad 140 by, for example, shaving the surface of the polishing pad 140 is performed. FIG. 18 is a plan view showing an example of a conventional dresser, and FIG.
It is sectional drawing of the dresser shown in FIG. As shown in FIGS. 18 and 19, the dresser 200 has a gear portion 21 on its outer peripheral surface.
A pellet 220, which is a dressing member for a surface plate, is fixed to substantially the entirety of one surface of the base 210 having the substrate 1. When the lower platen 110 and the upper platen 130 are simultaneously dressed using such a dresser 200, all the carriers 120 are removed from the double-side polishing device, and the dresser 200 is mounted on the double-side polishing device instead of the carrier 120. I do. Specifically, as shown in FIG. 20, the dresser 200-1 with the pellet 220 turned downward.
The dresser 200-2 with the pellet 220 facing upward is placed on the lower platen 110 in a state where the dresser 200-2 meshes with the sun gear 100 and the internal gear 101, respectively. Then, these dressers 200-1 and 200-2 are moved by the upper platen 130.
By rotating the sun gear 100, the internal gear 101, the lower platen 110, and the upper platen 130 while pressing 00-2, the dressers 200-1 and 200-2 revolve around themselves, similarly to the carrier 120. Thus, the polishing pad 140 of the lower platen 110 is dressed by the pellet 220 of the dresser 200-1 and the upper platen 130
Polishing pad 140 is the pellet 2 of the dresser 200-2.
20 for dressing.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来のド
レッサ200では、次のような問題がある。ペレット2
20がドレッサ200−1,200−2に固着されてい
るので、ドレスムラが生じる。すなわち、図21に示す
ように、各ペレット220の研磨パッド140に対する
ドレス軌跡が一定周期のサイクロイド曲線Sを描き、ド
レス方向がサイクロイド曲線Sの方向に限定され、常に
一定である。このため、研磨パッド140全体を均一且
つ万遍にドレッシングすることができない。図20に示
したドレッサと類似する技術として特開平9−2963
3号公報及び特公平8−9142号公報記載の技術があ
るが、これらの技術も上記問題を解決するものではな
い。
However, the conventional dresser 200 has the following problems. Pellet 2
Since 20 is fixed to the dressers 200-1 and 200-2, dress unevenness occurs. That is, as shown in FIG. 21, the dress trajectory of each pellet 220 with respect to the polishing pad 140 draws a cycloid curve S having a constant period, and the dress direction is limited to the direction of the cycloid curve S and is always constant. Therefore, the entire polishing pad 140 cannot be dressed uniformly and uniformly. A technique similar to the dresser shown in FIG.
There are techniques described in Japanese Patent Publication No. 3 and Japanese Patent Publication No. Hei 9-9142, but these techniques do not solve the above problem.

【0004】この発明は上述した課題を解決するために
なされたもので、定盤の研磨面全体を均一且つ万遍なく
ドレッシング可能なドレッサを提供することを目的とす
るものである。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problem, and has as its object to provide a dresser capable of uniformly and uniformly dressing the entire polished surface of a surface plate.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項1の発明は、回転可能な下定盤と、この下定
盤の中心部で回転可能なサンギアと、このサンギアの外
側に同心状に配された回転可能なインターナルギアと、
サンギアとインターナルギアとに噛合された状態でサン
ギアの中心周りに配された複数のキャリアと、これらの
キャリアで保持されたワークを下定盤と共に挟持した状
態で回転可能な上定盤とを具備した両面研磨装置の下定
盤と上定盤とをドレッシング可能なドレッサにおいて、
キャリアと略一致した外形状を成し、そのギア部でサン
ギアとインターナルギアとに噛合可能な基体と、基体に
形成された一以上の孔内に回転自在に嵌められた軸部及
びこの軸部の両端部に取り付けられ且つ孔径よりも大径
の一対の板部を有してなる回転体と、回転体の一対の板
部の少なくとも一方の板部の表面に設けられた定盤用ド
レッシング部材とを具備する構成とした。かかる構成に
より、ドレッサを下定盤上に載置し、その基体のギア部
をサンギアとインターナルギアとに噛合させた状態で、
サンギアとインターナルギアとを回転させると、ドレッ
サが自転しながらサンギアの周りを公転する。そして、
下定盤と上定盤とでドレッサを挟持した状態で、これら
の定盤を回転させると、一対の板部をこれらの定盤に接
触させている回転体が、定盤の回転作用によって、軸部
を中心に回転する。これにより、定盤用ドレッシング部
材が設けられた一対の板部が、自転しながら基体を中心
に公転し、しかも、基体と一体にサンギア周りを公転す
るので、これらの板部に接触している定盤の研磨面が定
盤用ドレッシング部材によって均一且つ万遍なくドレッ
シングされる。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems, a first aspect of the present invention provides a rotatable lower stool, a sun gear rotatable at the center of the lower stool, and a concentric outside of the sun gear. A rotatable internal gear arranged in a shape,
A plurality of carriers arranged around the center of the sun gear in a state of being meshed with the sun gear and the internal gear, and an upper surface plate rotatable while holding a work held by these carriers together with a lower surface plate. In a dresser capable of dressing the lower surface plate and the upper surface plate of a double-side polishing machine,
A base having an outer shape substantially coinciding with the carrier, the gear of which can mesh with the sun gear and the internal gear; a shaft rotatably fitted in one or more holes formed in the base; and a shaft. A rotating body attached to both ends of the rotating body and having a pair of plates having a diameter larger than the hole diameter, and a dressing member for a platen provided on a surface of at least one of the pair of plates of the rotating body. . With this configuration, the dresser is placed on the lower platen, and the gear portion of the base is meshed with the sun gear and the internal gear,
When the sun gear and the internal gear are rotated, the dresser revolves around the sun gear while rotating. And
When these platens are rotated while the dresser is sandwiched between the lower platen and the upper platen, the rotating body that makes a pair of plate portions contact these platens is rotated by the rotation of the platen. Rotate around the part. As a result, the pair of plate portions provided with the dressing members for the platen revolve around the base while rotating, and revolve around the sun gear integrally with the base, so that they are in contact with these plate portions. The polished surface of the surface plate is dressed uniformly and evenly by the dressing member for the surface plate.

【0006】特に、請求項2の発明は、請求項1に記載
のドレッサにおいて、定盤用ドレッシング部材を、回転
体の双方の板部の表面に設けた。また、請求項3の発明
は、請求項1または請求項2に記載のドレッサにおい
て、回転体の一方の板部を軸部の端部に着脱自在に取り
付けた構成としてある。
[0006] In particular, the invention of claim 2 is the dresser of claim 1, wherein the dressing members for the platen are provided on the surfaces of both plate portions of the rotating body. According to a third aspect of the present invention, in the dresser of the first or second aspect, one of the plate portions of the rotating body is detachably attached to an end of the shaft portion.

【0007】また、請求項4の発明は、請求項1ないし
請求項3のいずれかに記載のドレッサにおいて、基体の
中心部に一以上の孔と連通するギア収納穴を設けて、こ
のギア収納穴内に一のギアを回転自在に遊嵌し、回転体
の軸部にギア部を形成して、このギア部とギア収納穴内
の一のギアとを噛合させた構成とした。かかる構成によ
り、基体の中心部のギア収納穴内に遊嵌された一のギア
は、基体の回転速度よりも遅く回転するか又は無回転状
態になるので、この一のギアに噛合したギア部を有する
回転体が基体の自転速度に対応した速度で回転すること
となる。さらに、請求項5の発明は、請求項4に記載の
ドレッサにおいて、一のギアを回転させるための駆動部
を設けた構成とした。かかる構成により、駆動部によっ
て、一のギアの自転速度を自由に制御することができ
る。
According to a fourth aspect of the present invention, in the dresser according to any one of the first to third aspects, a gear housing hole communicating with one or more holes is provided in a central portion of the base, and the gear housing hole is provided. One gear is freely rotatably fitted in the hole, a gear portion is formed on the shaft portion of the rotating body, and this gear portion is meshed with one gear in the gear storage hole. With this configuration, the one gear loosely fitted into the gear storage hole at the center of the base rotates at a speed lower than the rotation speed of the base or is in a non-rotation state. The rotating body rotates at a speed corresponding to the rotation speed of the base. Further, a fifth aspect of the present invention is the dresser according to the fourth aspect, wherein a driving unit for rotating one gear is provided. With this configuration, the rotation speed of one gear can be freely controlled by the drive unit.

【0008】ところで、定盤用ドレッシング部材は、定
盤の研磨面を研磨可能な素材であれば良く、全ての素材
を定盤用ドレッシング部材として用いることができる。
そこで、その好例として、請求項6の発明は、請求項1
ないし請求項4のいずれかに記載のドレッサにおいて、
定盤用ドレッシング部材は、ペレット,植毛又はスクレ
ーパのいずれかである構成とした。
The dressing member for the surface plate may be any material that can polish the polished surface of the surface plate, and any material can be used as the dressing member for the surface plate.
Therefore, as a good example, the invention of claim 6 is based on claim 1
In the dresser according to any one of claims 4 to 4,
The dressing member for the platen was configured to be any of pellets, flocking, or a scraper.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態につ
いて図面を参照して説明する。 (第1の実施形態)図1は、この発明の第1の実施形態
に係るドレッサを一部破断して示す斜視図であり、図2
は図1の矢視A−A断面図であり、図3は平面図であ
る。これらの図に示すように、ドレッサ1は、後述する
下定盤と上定盤とをドレッシングするための器具であ
り、基体2と6個の回転体3とで構成されている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. (First Embodiment) FIG. 1 is a perspective view showing a dresser according to a first embodiment of the present invention, partially cut away, and FIG.
3 is a sectional view taken along the line AA in FIG. 1, and FIG. 3 is a plan view. As shown in these figures, the dresser 1 is an instrument for dressing a lower platen and an upper platen, which will be described later, and is composed of a base 2 and six rotating bodies 3.

【0010】基体2は、後述するキャリアと一致した外
形状を成し、サンギアとインターナルギアとに噛合可能
なギア部20を外周部に有している。そして、この基体
2には、基体2の厚さ方向に貫通する6つの孔21が点
対称状態で穿設されている。
The base 2 has an outer shape conforming to a carrier to be described later, and has a gear portion 20 on an outer peripheral portion that can mesh with a sun gear and an internal gear. The base 2 is provided with six holes 21 penetrating in the thickness direction of the base 2 in a point-symmetric state.

【0011】回転体3は、基体2の孔21に回転自在に
はめられている。図4は、回転体3の分解斜視図であ
る。図4に示すように、各回転体3は、1本の軸部30
と、孔21より大径の一対の円板部31,32とで形成
されている。具体的には、円板部31は軸部30の上端
に固着されている。一方、円板部32は、その中心に穴
32aを有し、この穴32aの内周には雌ネジ部32b
が刻設されている。これにより、円板部32の雌ネジ部
32bを軸部30の下端部に形成された雄ネジ部30b
に螺入することで、円板部32を軸部30の下端部に着
脱自在に取り付けて、回転体3を組み立てることができ
る。このような一対の円板部31,32の表面には、定
盤用ドレッシング部材であるペレット4が固着されてい
る。
The rotating body 3 is rotatably fitted in a hole 21 of the base 2. FIG. 4 is an exploded perspective view of the rotating body 3. As shown in FIG. 4, each rotating body 3 has one shaft 30
And a pair of disk portions 31 and 32 having a larger diameter than the hole 21. Specifically, the disk part 31 is fixed to the upper end of the shaft part 30. On the other hand, the disc portion 32 has a hole 32a at the center thereof, and a female screw portion 32b is formed on the inner periphery of the hole 32a.
Is engraved. Thereby, the female screw part 32b of the disk part 32 is connected to the male screw part 30b formed at the lower end of the shaft part 30.
, The disk 32 can be removably attached to the lower end of the shaft 30 to assemble the rotating body 3. Pellets 4, which are dressing members for the surface plate, are fixed to the surfaces of the pair of disk portions 31, 32.

【0012】ここで、ドレッサ1の組立方法について述
べておく。図5はドレッサ1の組立方法を示す断面図で
ある。図5に示すように、回転体3の軸部30を、下方
に向けて、基体2の孔21にそれぞれ挿入する。する
と、軸部30の雄ネジ部30bが基体2の下面から突出
する。そこで、円板部32の雌ネジ部32bをこの雄ネ
ジ部30bに螺入することで、ドレッサ1を組み立てる
ことができる。
Here, a method of assembling the dresser 1 will be described. FIG. 5 is a sectional view showing a method of assembling the dresser 1. As shown in FIG. 5, the shaft 30 of the rotating body 3 is inserted downward into the hole 21 of the base 2. Then, the male screw portion 30 b of the shaft portion 30 projects from the lower surface of the base 2. The dresser 1 can be assembled by screwing the female screw portion 32b of the disk portion 32 into the male screw portion 30b.

【0013】次に、この実施形態のドレッサ1を両面研
磨装置に使用した場合にドレッサ1が示す動作について
説明する。図6は、この両面研磨装置1を示す断面図で
ある。図6に示す両面研磨装置は、下定盤110及び上
定盤130によって、ワークWの両面を研磨する周知の
両面ポリッシング装置である。下定盤110は回転軸1
11を中心に回転できるように支持されており、この下
定盤110の回転軸111の上端部にサンギア100が
固着されている。そして、これら下定盤110及びサン
ギア100と同心状に配されたインターナルギア101
が回転自在に支持されている。また、これら下定盤11
0,サンギア100,インターナルギア101の下部に
はギア102,112,103が設けられており、モー
タ118a,118b,118cを駆動することで、ギ
ア102,112,103に噛合した略示のギア機構1
17を介してサンギア100,下定盤110,及びイン
ターナルギア101を独立に回転させることができるよ
うになっている。そして、下定盤110の表面には研磨
パッド140a(研磨面)が貼り付けられている。一
方、上定盤130は、下定盤110の真上に吊り下げら
れており、下降して下定盤110と共にワークWを挟持
するようになっている。このような上定盤130の表面
にも研磨パッド140b(研磨面)が貼り付けられてい
る。これにより、上定盤130と下定盤110とを互い
に逆回転させると共に、サンギア100及びインターナ
ルギア101の少なくとも一方を駆動回転させること
で、キャリア120がサンギア100の周りを自公転
し、キャリア120で保持されたワークWを両面研磨す
ることができるようになっている。
Next, the operation of the dresser 1 when the dresser 1 of this embodiment is used in a double-side polishing apparatus will be described. FIG. 6 is a sectional view showing the double-side polishing apparatus 1. The double-side polishing apparatus shown in FIG. 6 is a well-known double-side polishing apparatus for polishing both surfaces of the work W using a lower platen 110 and an upper platen 130. Lower surface plate 110 is rotating shaft 1
The lower surface plate 110 has a sun gear 100 fixed to an upper end portion of a rotating shaft 111 thereof. The internal gear 101 concentrically arranged with the lower surface plate 110 and the sun gear 100.
Are rotatably supported. In addition, these lower platen 11
The gears 102, 112, and 103 are provided below the gears 0, the sun gear 100, and the internal gear 101, and are driven by the motors 118a, 118b, and 118c, thereby meshing with the gears 102, 112, and 103. 1
The sun gear 100, the lower stool 110, and the internal gear 101 can be independently rotated via the intermediary gear 17. A polishing pad 140a (polishing surface) is attached to the surface of the lower surface plate 110. On the other hand, the upper stool 130 is suspended just above the lower stool 110, and descends to clamp the work W together with the lower stool 110. The polishing pad 140b (polishing surface) is also attached to the surface of the upper platen 130. Thus, the upper platen 130 and the lower platen 110 are rotated in opposite directions to each other, and at least one of the sun gear 100 and the internal gear 101 is driven to rotate, so that the carrier 120 revolves around the sun gear 100 and the carrier 120 revolves. The held work W can be polished on both sides.

【0014】ドレッサ1のかかる両面研磨装置へのセッ
トは、図7に示すように、各ドレッサ1のギア部20
(図1参照)をキャリア100とインターナルギア10
1とに噛合させた状態で、下定盤110の研磨パッド1
40aの上に載置することで、行うことができる。そし
て、図6の二点鎖線で示すように、上定盤130を下降
させ、10個のドレッサ1をこの上定盤130と下定盤
110とで挟んだ状態で、モータ118a,118b,
118cを駆動すると、モータ118a,118b,1
18cの駆動力がギア機構117を介してサンギア10
0,下定盤110,インターナルギア101,上定盤1
30に伝達され、サンギア100,下定盤110,イン
ターナルギア101,上定盤130が回転して、ドレッ
サ1がサンギア100の周りで自公転する。これによ
り、ドレッサ1の基体2に取り付けられた各回転体3が
ドレッサ1の中心周りで公転すると共に、6個の回転体
3全体がドレッサ1と一体にキャリア100周りを公転
する。しかし、この実施形態のドレッサ1では、さら
に、各回転体3が基体2の孔21内で自転する。これ
は、下定盤110と上定盤130の回転力によるものと
解される。すなわち、回転体3の円板部31は上定盤1
30の研磨パッド140bに接触しているため、図8に
示すように、上定盤130の周速度の影響を受ける。そ
して、上定盤130の周速度は上定盤130の外周に近
いほど大きくなる。このため、円板部31の右側部分に
は大きな周速度V1で上定盤130の研磨パッド140
bが接触し、円板部31の左側部分には小さな周速度V
2で研磨パッド140bが接触することとなる。この結
果、円板部31が周速度V1とV2との差V1−V2に
対応した回転力を上定盤130から受けることとなり、
円板部31が矢印B方向に回転しようとする。一方、円
板部32は、上定盤130とは逆方向に回転している下
定盤110の回転力を受けて矢印Bとは逆の矢印C方向
に回転しようとする。これにより、回転体3は矢印B方
向の回転力と矢印C方向の回転力との差の回転力で自転
することとなる。したがって、6個の回転体3は、図9
に示すように、自転しながらサイクロイド曲線Sに沿っ
て移動する。この結果、円板部31,32に固着された
ペレット4が下定盤110及び上定盤130の研磨パッ
ド140a,140bをサイクロイド曲線Sの方向だけ
でなく、回転体3の自転方向にもドレッシングするの
で、研磨パッド140a,140bが均一且つ万遍なく
ドレッシングされることとなる。
As shown in FIG. 7, the dresser 1 is set in such a double-side polishing apparatus as shown in FIG.
The carrier 100 and the internal gear 10 (see FIG. 1)
1 and the polishing pad 1 of the lower platen 110.
This can be performed by placing the device on the 40a. Then, as shown by a two-dot chain line in FIG. 6, the upper platen 130 is lowered, and the motors 118 a, 118 b, and 118 b are sandwiched by the ten dressers 1 between the upper platen 130 and the lower platen 110.
When the motor 118c is driven, the motors 118a, 118b, 1
18c is transmitted to the sun gear 10 via the gear mechanism 117.
0, lower surface plate 110, internal gear 101, upper surface plate 1
The sun gear 100, the lower platen 110, the internal gear 101, and the upper platen 130 rotate, and the dresser 1 revolves around the sun gear 100. As a result, each rotating body 3 attached to the base 2 of the dresser 1 revolves around the center of the dresser 1, and the entire six rotating bodies 3 revolve around the carrier 100 integrally with the dresser 1. However, in the dresser 1 of this embodiment, each rotating body 3 further rotates in the hole 21 of the base 2. This is understood to be due to the rotational force of the lower stool 110 and the upper stool 130. That is, the disk portion 31 of the rotating body 3 is
Since it is in contact with the 30 polishing pads 140b, it is affected by the peripheral speed of the upper platen 130 as shown in FIG. The peripheral speed of the upper stool 130 increases as it approaches the outer periphery of the upper stool 130. For this reason, the polishing pad 140 of the upper surface plate 130 is provided at the right peripheral portion of the disc portion 31 at a large peripheral speed V1.
b comes into contact, and a small peripheral velocity V
2, the polishing pad 140b comes into contact. As a result, the disk portion 31 receives a rotational force corresponding to the difference V1-V2 between the peripheral speeds V1 and V2 from the upper surface plate 130,
The disk portion 31 tries to rotate in the direction of arrow B. On the other hand, the disk portion 32 tends to rotate in the direction of arrow C opposite to the arrow B by receiving the rotational force of the lower surface plate 110 rotating in the opposite direction to the upper surface plate 130. As a result, the rotating body 3 rotates by the difference between the rotational force in the direction of arrow B and the rotational force in the direction of arrow C. Therefore, the six rotating bodies 3 correspond to FIG.
As shown in (5), it moves along the cycloid curve S while rotating. As a result, the pellets 4 fixed to the disk portions 31 and 32 dress the polishing pads 140a and 140b of the lower surface plate 110 and the upper surface plate 130 not only in the direction of the cycloid curve S but also in the rotation direction of the rotating body 3. Therefore, the polishing pads 140a and 140b are uniformly and uniformly dressed.

【0015】(第2の実施形態)図10は、この発明の
第2の実施形態に係るドレッサを示す断面図である。こ
の実施形態のドレッサは、基体2の中心部に設けた一の
ギア22の作用によって6個の回転体3を自転させるよ
うにした点が、上記第1の実施形態のドレッサと異な
る。具体的には、基体2の中心部に厚さ方向に貫通する
中心孔23が穿設され、この中心孔23の中央部に、6
つの孔21と連通するギア収納穴24が形成されてい
る。そして、中心孔23にギア22の軸部25が回転自
在に挿通され、ギア22がギア収納穴24内に収納され
ている。すなわち、ギア22はギア収納穴24内に回転
自在に遊嵌された状態になっている。また、各回転体3
の軸部30にもギア部33が形成され、このギア部33
が上記ギア22に噛合されている。
(Second Embodiment) FIG. 10 is a sectional view showing a dresser according to a second embodiment of the present invention. The dresser of this embodiment differs from the dresser of the first embodiment in that six rotating bodies 3 are rotated by the action of one gear 22 provided at the center of the base 2. Specifically, a center hole 23 penetrating in the thickness direction is formed in the center of the base 2, and 6
A gear storage hole 24 communicating with the two holes 21 is formed. The shaft portion 25 of the gear 22 is rotatably inserted into the center hole 23, and the gear 22 is housed in the gear housing hole 24. That is, the gear 22 is freely rotatably fitted into the gear storage hole 24. In addition, each rotating body 3
A gear portion 33 is also formed on the shaft portion 30 of the
Are meshed with the gear 22.

【0016】かかる構成により、ドレッサがキャリア1
00周りで自公転すると、6つの回転体3は基体2の中
心周りで公転するが、ギア22は回転体3の公転速度よ
りも遅く回転するか又は無回転状態になる。このため、
公転している回転体3がギア部33と上記ギア22との
噛合力による抵抗を受けて、高速に回転することとな
る。その他の構成,作用効果は上記第1の実施形態と同
様であるので、その記載は省略する。
With this configuration, the dresser is used for the carrier 1
When rotating around 00, the six rotating bodies 3 revolve around the center of the base 2, but the gear 22 rotates at a speed lower than the revolving speed of the rotating body 3 or enters a non-rotating state. For this reason,
The revolving rotating body 3 is rotated at high speed by receiving the resistance due to the meshing force between the gear portion 33 and the gear 22. The other configuration, operation, and effect are the same as those of the first embodiment, and the description thereof is omitted.

【0017】(第3の実施形態)図11は、この発明の
第3の実施形態に係るドレッサを示す断面図である。こ
の実施形態のドレッサは、ギア22を駆動回転させるた
めの駆動部を有している点が上記第2の実施形態と異な
る。具体的には、駆動部としての小型モータ26を基体
2に固定し、小型モータ26の回転軸27をギア22の
軸部としている。これにより、小型モータ26を駆動す
ることで、ギア22が回転し、ギア部33がギア22に
噛合した6つの回転体3が孔21内で自転する。このよ
うに、この実勢形態によれば、小型モータ26によっ
て、回転体3の自転速度を自由に制御することができる
ので、研磨面である研磨パッド140a,140bの条
件に合わせた最適なドレッシングが可能となり、非常に
便利である。
(Third Embodiment) FIG. 11 is a sectional view showing a dresser according to a third embodiment of the present invention. The dresser of this embodiment differs from the second embodiment in that it has a drive unit for driving and rotating the gear 22. Specifically, a small motor 26 as a driving unit is fixed to the base 2, and a rotation shaft 27 of the small motor 26 is used as a shaft of the gear 22. Thus, by driving the small motor 26, the gear 22 rotates, and the six rotating bodies 3 in which the gear portion 33 meshes with the gear 22 rotate within the hole 21. As described above, according to the present embodiment, the rotation speed of the rotating body 3 can be freely controlled by the small motor 26, so that optimal dressing according to the conditions of the polishing pads 140a and 140b, which are the polishing surfaces, can be performed. It is possible and very convenient.

【0018】なお、この発明は、上記実施形態に限定さ
れるものではなく、発明の要旨の範囲内において種々の
変形や変更が可能である。例えば、上記実施形態では、
回転体3の一対の円板部31,32の双方にペレット4
を固着したが、円板部31,32のいずれか一方にのみ
ペレット4を固着した構造とすることもできる。具体的
には、図12に示すように、回転体3’の円板部31を
基体2に形成した凹部2aに嵌めて円板部31の表面と
基体2の表面とを面一し、円板部32にのみペレット4
を固着する。これにより、円板部31が上定盤130の
回転力の影響を受けず、円板部32のみが下定盤110
の回転力を受けるので、このドレッサの回転体3’は、
上記第1の実施形態で示した回転体3より高速に回転す
る。さらに、図13に示すように、円板部31が存在す
る面側からドレッサをヘッド300で保持することがで
きるので、このヘッド300と下定盤301とを回転さ
せることで、片面研磨装置の下定盤301もドレッシン
グすることができる。また、上記実施形態では、6個の
回転体3を基体2に回転自在に取り付けたが、回転体3
の数は6個の限定されるものではない。また、6個の回
転体3の円板部31,32全ての形状と大きさを同じに
設定したが、例えば、図14に示すように、3個の同形
の回転体3を基体2に取り付けても良く、また、図15
に示すように、大径の円板部31,32を有した回転体
3を基体2に偏心させて取り付けても良い。さらに、図
16の(a)及び図16の(b)に示すように、大きな
回転体3−1と小さな回転体3−2とを混在させても良
い。また、上記実施形態では、定盤用ドレッシング部材
として、ペレット4を用いたが、ペレット4の代わりに
植毛やスクレーパなどを用いても良いことは勿論であ
る。
The present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications and changes can be made within the scope of the invention. For example, in the above embodiment,
Pellets 4 are attached to both the pair of disk portions 31 and 32 of the rotating body 3.
However, it is also possible to adopt a structure in which the pellets 4 are fixed to only one of the disk portions 31 and 32. Specifically, as shown in FIG. 12, the disk portion 31 of the rotating body 3 ′ is fitted into the concave portion 2 a formed in the base 2, and the surface of the disk portion 31 and the surface of the base 2 are flush with each other. Pellets 4 only on plate 32
Is fixed. Thus, the disk portion 31 is not affected by the rotational force of the upper platen 130, and only the disk portion 32 is
The rotating body 3 'of this dresser
It rotates faster than the rotator 3 shown in the first embodiment. Further, as shown in FIG. 13, the dresser can be held by the head 300 from the side where the disk portion 31 is present, so that by rotating the head 300 and the lower platen 301, The board 301 can also be dressed. In the above embodiment, the six rotating bodies 3 are rotatably attached to the base 2.
Is not limited to six. In addition, the shape and size of all the disk portions 31 and 32 of the six rotating bodies 3 are set to be the same. For example, as shown in FIG. FIG. 15
As shown in (2), the rotating body 3 having the large-diameter disk portions 31 and 32 may be eccentrically attached to the base 2. Further, as shown in FIGS. 16A and 16B, a large rotating body 3-1 and a small rotating body 3-2 may be mixed. In the above embodiment, the pellets 4 are used as the dressing member for the platen. However, it is a matter of course that flocking or a scraper may be used instead of the pellets 4.

【0019】[0019]

【発明の効果】以上詳しく説明したように、この発明の
ドレッサによれば、上及び下定盤の研磨面を均一且つ万
遍なくドレッシングすることができるので、ドレッシン
グ性能の高いドレッサを提供することができるという優
れた効果がある。特に、請求項4の発明に係るドレッサ
によれば、回転体が基体の自転速度に対応した高速度で
回転するので、ドレッシング効率を向上させることがで
きる。また、請求項5の発明に係るドレッサによれば、
駆動部によって、回転体の自転速度を自由に制御するこ
とができるので、研磨面の条件に合わせた最適なドレッ
シングが可能となり、非常に便利である。
As described above in detail, according to the dresser of the present invention, it is possible to uniformly and evenly dress the polished surfaces of the upper and lower platens, so that a dresser having high dressing performance can be provided. There is an excellent effect that it can be done. In particular, according to the dresser of the fourth aspect, the rotating body rotates at a high speed corresponding to the rotation speed of the base, so that the dressing efficiency can be improved. According to the dresser of the invention of claim 5,
Since the rotation speed of the rotating body can be freely controlled by the driving unit, it is possible to perform optimal dressing according to the conditions of the polishing surface, which is very convenient.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の第1の実施形態に係るドレッサを一
部破断して示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing a dresser according to a first embodiment of the present invention, partially cut away.

【図2】図1の矢視A−A断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along line AA of FIG.

【図3】図1に示すドレッサの平面図である。FIG. 3 is a plan view of the dresser shown in FIG. 1;

【図4】回転体の分解斜視図である。FIG. 4 is an exploded perspective view of a rotating body.

【図5】回転体の基体への組付方法を示す断面図であ
る。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a method of assembling a rotating body to a base.

【図6】両面研磨装置を示す断面図である。FIG. 6 is a sectional view showing a double-side polishing apparatus.

【図7】ドレッサの両面研磨装置へのセット方法を示す
概略平面図である。
FIG. 7 is a schematic plan view showing a method of setting a dresser on a double-side polishing apparatus.

【図8】回転体が自転することを説明するための平面図
である。
FIG. 8 is a plan view for explaining that a rotating body rotates.

【図9】ドレッサのドレッシング状態を示す平面図であ
る。
FIG. 9 is a plan view showing a dressing state of the dresser.

【図10】この発明の第2の実施形態に係るドレッサを
示す断面図である。
FIG. 10 is a sectional view showing a dresser according to a second embodiment of the present invention.

【図11】この発明の第3の実施形態に係るドレッサを
示す断面図である。
FIG. 11 is a sectional view showing a dresser according to a third embodiment of the present invention.

【図12】ドレッサの第1変形例を示す断面図である。FIG. 12 is a sectional view showing a first modification of the dresser.

【図13】図12のドレッサを片面研磨装置に適用した
例を示す断面図である。
FIG. 13 is a sectional view showing an example in which the dresser of FIG. 12 is applied to a single-side polishing apparatus.

【図14】ドレッサの第2変形例を示す平面図である。FIG. 14 is a plan view showing a second modification of the dresser.

【図15】ドレッサの第3変形例を示す平面図である。FIG. 15 is a plan view showing a third modification of the dresser.

【図16】ドレッサのその他の変形例を示す平面図であ
り、図16の(a)は1つの大きな回転体と1つの小さ
な回転体とを基体に取り付けた例を示し、図16の
(b)は1つの大きな回転体と2つの小さな回転体とを
基体に取り付けた例を示す。
FIG. 16 is a plan view showing another modification of the dresser. FIG. 16A shows an example in which one large rotating body and one small rotating body are attached to a base, and FIG. ) Shows an example in which one large rotating body and two small rotating bodies are attached to a base.

【図17】一般のポリッシング用の両面研磨装置を示す
断面図である。
FIG. 17 is a cross-sectional view showing a general polishing double-side polishing apparatus.

【図18】従来のドレッサの一例を示す平面図である。FIG. 18 is a plan view showing an example of a conventional dresser.

【図19】図18に示すドレッサの断面図である。FIG. 19 is a sectional view of the dresser shown in FIG. 18;

【図20】従来のドレッサのセット状態を示す平面図で
ある。
FIG. 20 is a plan view showing a set state of a conventional dresser.

【図21】従来のドレッサのドレッシング状態を示す平
面図である。
FIG. 21 is a plan view showing a dressing state of a conventional dresser.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…レッサ、 2…基体、 3…回転体、 4…ペレッ
ト、 20…ギア部、21…孔、 30…軸部、 30
b…雄ネジ部、 31,32…円板部、 32a…穴、
32b…雌ネジ部、 100…サンギア、 101…
インターナルギア、 110…下定盤、 130…上定
盤、 140a,140b…研磨パッド。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Lesser, 2 ... Substrate, 3 ... Rotating body, 4 ... Pellet, 20 ... Gear part, 21 ... Hole, 30 ... Shaft part, 30
b: male screw part, 31, 32: disk part, 32a: hole,
32b ... female screw part, 100 ... sun gear, 101 ...
Internal gear, 110: Lower surface plate, 130: Upper surface plate, 140a, 140b: Polishing pad.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 回転可能な下定盤と、この下定盤の中心
部で回転可能なサンギアと、このサンギアの外側に同心
状に配された回転可能なインターナルギアと、上記サン
ギアとインターナルギアとに噛合された状態でサンギア
の中心周りに配された複数のキャリアと、これらのキャ
リアで保持されたワークを上記下定盤と共に挟持した状
態で回転可能な上定盤とを具備した両面研磨装置の上記
下定盤と上定盤とをドレッシング可能なドレッサにおい
て、 上記キャリアと略一致した外形状を成し、そのギア部で
上記サンギアとインターナルギアとに噛合可能な基体
と、 上記基体に形成された一以上の孔内に回転自在に嵌めら
れた軸部及びこの軸部の両端部に取り付けられ且つ上記
孔径よりも大径の一対の板部を有してなる回転体と、 上記回転体の一対の板部の少なくとも一方の板部の表面
に設けられた定盤用ドレッシング部材とを具備すること
を特徴とするドレッサ。
1. A rotatable lower surface plate, a sun gear rotatable at the center of the lower surface plate, a rotatable internal gear concentrically arranged outside the sun gear, and the sun gear and the internal gear. The above-mentioned double-side polishing apparatus comprising a plurality of carriers arranged around the center of the sun gear in a meshed state, and an upper platen rotatable while holding the work held by these carriers together with the lower platen. A dresser capable of dressing the lower platen and the upper platen, having an outer shape substantially coinciding with the carrier, and having a gear portion capable of meshing with the sun gear and the internal gear, and a dresser formed on the base. A rotating body having a shaft portion rotatably fitted in the hole and a pair of plate portions attached to both ends of the shaft portion and having a diameter larger than the hole diameter; A dressing member for a surface plate provided on a surface of at least one of the pair of plate portions.
【請求項2】 請求項1に記載のドレッサにおいて、 上記定盤用ドレッシング部材を、上記回転体の双方の板
部の表面に設けた、 ことを特徴とするドレッサ。
2. The dresser according to claim 1, wherein the dressing member for the platen is provided on a surface of both plate portions of the rotating body.
【請求項3】 請求項1または請求項2に記載のドレッ
サにおいて、 上記回転体の一方の板部を上記軸部の端部に着脱自在に
取り付けた、 ことを特徴とするドレッサ。
3. The dresser according to claim 1, wherein one plate of the rotating body is detachably attached to an end of the shaft.
【請求項4】 請求項1ないし請求項3のいずれかに記
載のドレッサにおいて、 上記基体の中心部に上記一以上の孔と連通するギア収納
穴を設けて、このギア収納穴内に一のギアを回転自在に
遊嵌し、 上記回転体の軸部にギア部を形成して、このギア部と上
記ギア収納穴内の一のギアとを噛合させた、 ことを特徴とするドレッサ。
4. The dresser according to claim 1, further comprising: a gear receiving hole communicating with the one or more holes in a central portion of the base, wherein one gear is provided in the gear receiving hole. And a gear portion is formed on a shaft portion of the rotating body, and the gear portion and one gear in the gear housing hole are meshed with each other.
【請求項5】 請求項4に記載のドレッサにおいて、 上記一のギアを回転させるための駆動部を設けた、 ことを特徴とするドレッサ。5. The dresser according to claim 4, further comprising a drive unit for rotating said one gear. 【請求項6】 請求項1ないし請求項4のいずれかに記
載のドレッサにおいて、 上記定盤用ドレッシング部材は、ペレット,植毛又はス
クレーパのいずれかである、 ことを特徴とするドレッサ。
6. The dresser according to claim 1, wherein the dressing member for a platen is any one of a pellet, a flocking, and a scraper.
JP36188299A 1999-12-20 1999-12-20 Dresser Pending JP2001179600A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP36188299A JP2001179600A (en) 1999-12-20 1999-12-20 Dresser

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP36188299A JP2001179600A (en) 1999-12-20 1999-12-20 Dresser

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001179600A true JP2001179600A (en) 2001-07-03

Family

ID=18475172

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP36188299A Pending JP2001179600A (en) 1999-12-20 1999-12-20 Dresser

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001179600A (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102343551A (en) * 2010-07-28 2012-02-08 硅电子股份公司 Method and apparatus for trimming working layers of double-side grinding apparatus
KR101285923B1 (en) * 2011-12-27 2013-07-12 주식회사 엘지실트론 Grinding apparatus and dressing gear for the same
KR20170081928A (en) * 2016-01-05 2017-07-13 주식회사 엘지실트론 An dressing apparatus
JP2018034257A (en) * 2016-08-31 2018-03-08 信越半導体株式会社 dresser
JP2019005815A (en) * 2017-06-21 2019-01-17 浜井産業株式会社 Polishing device and dressing method for polishing pad
KR20210112707A (en) * 2020-03-06 2021-09-15 에스케이실트론 주식회사 Pad dresser loading device

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102343551A (en) * 2010-07-28 2012-02-08 硅电子股份公司 Method and apparatus for trimming working layers of double-side grinding apparatus
JP2012030353A (en) * 2010-07-28 2012-02-16 Siltronic Ag Method for trimming two working layers, and trimming device
US8911281B2 (en) 2010-07-28 2014-12-16 Siltronic Ag Method for trimming the working layers of a double-side grinding apparatus
US8986070B2 (en) 2010-07-28 2015-03-24 Siltronic Ag Method for trimming the working layers of a double-side grinding apparatus
US9011209B2 (en) 2010-07-28 2015-04-21 Siltronic Ag Method and apparatus for trimming the working layers of a double-side grinding apparatus
KR101285923B1 (en) * 2011-12-27 2013-07-12 주식회사 엘지실트론 Grinding apparatus and dressing gear for the same
KR20170081928A (en) * 2016-01-05 2017-07-13 주식회사 엘지실트론 An dressing apparatus
KR101881376B1 (en) * 2016-01-05 2018-07-24 에스케이실트론 주식회사 An dressing apparatus
JP2018034257A (en) * 2016-08-31 2018-03-08 信越半導体株式会社 dresser
WO2018043054A1 (en) * 2016-08-31 2018-03-08 信越半導体株式会社 Dresser
JP2019005815A (en) * 2017-06-21 2019-01-17 浜井産業株式会社 Polishing device and dressing method for polishing pad
KR20210112707A (en) * 2020-03-06 2021-09-15 에스케이실트론 주식회사 Pad dresser loading device
KR102341340B1 (en) 2020-03-06 2021-12-17 에스케이실트론 주식회사 Pad dresser loading device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2984263B1 (en) Polishing method and polishing apparatus
JP2564214B2 (en) Uniform speed double-side polishing machine and method of using the same
JPH08168953A (en) Dressing device
JP2004106173A (en) Double-sided polishing device
JP2001179600A (en) Dresser
JP2000218482A (en) Paper sheet type end face polsher
JP2004148425A (en) Both-sided polishing device
JPH02167674A (en) Polishing device
JPH0525809Y2 (en)
JP2001038603A (en) Dresser, grinding device with the dresser, and dressing method
JP2552305B2 (en) Double side polishing machine
JP3587505B2 (en) Polishing carrier
JP2000271842A (en) Workpiece carrier device for double head surface grinder
JP3797504B2 (en) Double-side polishing machine
JPH11254302A (en) Both side polishing device
JPS5828759Y2 (en) kenmabanno ji kouten undo usouchi
JPH07178655A (en) Polishing method for glass sheet
JP3939706B2 (en) Vertical double-sided surface grinding machine
JP2003340712A (en) Inclined plane polishing apparatus
JP2659235B2 (en) Planar polishing apparatus and method for producing polished product with uniform polishing marks
JP3933544B2 (en) Double-side polishing method for workpieces
JPS59107854A (en) Both surfaces simultaneous grinding method of wafer
JPS60155357A (en) Surface machining device
JP2003080453A5 (en)
JPS6315007Y2 (en)

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20061124

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080716

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080722

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20081118