KR20120120278A - Manufacturing method for contact for current inspection jig, contact for current inspection jig manufactured using said method, and current inspection jig provided with said contact - Google Patents
Manufacturing method for contact for current inspection jig, contact for current inspection jig manufactured using said method, and current inspection jig provided with said contact Download PDFInfo
- Publication number
- KR20120120278A KR20120120278A KR1020127020385A KR20127020385A KR20120120278A KR 20120120278 A KR20120120278 A KR 20120120278A KR 1020127020385 A KR1020127020385 A KR 1020127020385A KR 20127020385 A KR20127020385 A KR 20127020385A KR 20120120278 A KR20120120278 A KR 20120120278A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- layer
- electroforming
- inspection jig
- gold
- contact
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D1/00—Electroforming
- C25D1/02—Tubes; Rings; Hollow bodies
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/02—Local etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D1/00—Electroforming
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D1/00—Electroforming
- C25D1/04—Wires; Strips; Foils
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/12—Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/48—Electroplating: Baths therefor from solutions of gold
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
- G01R1/06711—Probe needles; Cantilever beams; "Bump" contacts; Replaceable probe pins
- G01R1/06733—Geometry aspects
- G01R1/06738—Geometry aspects related to tip portion
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R3/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture or maintenance of measuring instruments, e.g. of probe tips
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
- G01R1/06711—Probe needles; Cantilever beams; "Bump" contacts; Replaceable probe pins
- G01R1/06716—Elastic
- G01R1/06722—Spring-loaded
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/49117—Conductor or circuit manufacturing
- Y10T29/49204—Contact or terminal manufacturing
- Y10T29/49208—Contact or terminal manufacturing by assembling plural parts
- Y10T29/4921—Contact or terminal manufacturing by assembling plural parts with bonding
- Y10T29/49211—Contact or terminal manufacturing by assembling plural parts with bonding of fused material
- Y10T29/49213—Metal
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/49117—Conductor or circuit manufacturing
- Y10T29/49204—Contact or terminal manufacturing
- Y10T29/49224—Contact or terminal manufacturing with coating
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Geometry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Measuring Leads Or Probes (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Micromachines (AREA)
- Springs (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
스프링 구조를 구비하고 있는 매우 가늘고, 얇은 통전 검사 지그용 접촉자를, 보다 정밀도 높고, 보다 정밀하게 제조한다. 심재의 외주에 도금에 의해 금 또는 금합금의 도금층을 형성한 후, 형성된 당해 도금층의 외주에 전주에 의해 Ni 전주층을 형성하고, 상기 Ni 전주층의 외주에 레지스트층을 형성한 후, 레이저로 노광하여 상기 레지스트층에 나선상의 홈을 형성하고, 상기 레지스트층을 마스킹재로 하여 에칭을 행하고, 상기 레지스트층에 나선상의 홈이 형성되어 있던 부분의 Ni 전주층을 제거하고, 상기 레지스트층을 제거함과 아울러, 상기 Ni 전주층이 제거된 나선상의 홈 부분의 상기 도금층을 제거하고, 상기 도금층을 상기 Ni 전주층의 내주에 남긴 채 상기 심재만을 제거한다.A very thin, thin, energized inspection jig contactor having a spring structure is manufactured with higher precision and more precision. After forming a plating layer of gold or gold alloy on the outer circumference of the core material, forming a Ni electroforming layer on the outer circumference of the formed plating layer by electroforming and forming a resist layer on the outer circumference of the Ni electroforming layer, and then exposing with a laser. Forming a spiral groove in the resist layer, etching using the resist layer as a masking material, removing a Ni electroforming layer in a portion where the spiral groove is formed in the resist layer, and removing the resist layer; In addition, the plating layer of the spiral groove portion from which the Ni electrode layer is removed is removed, and only the core material is removed while leaving the plating layer on the inner circumference of the Ni electrode layer.
Description
본 발명은 통전 검사 장치에 사용되는 통전 검사 지그에 관한 것으로, 특히 통전 검사 지그에 배비되어 있고, 통전 검사되는 검체에 탄성적으로 접촉하는 통전 검사 지그용 접촉자에게 관한 것이다.BACKGROUND OF THE
통전 검사는 종래부터 다양한 기술분야에서 행해지고 있다. 통전 검사가 행해지는 것으로서 예를 들면 반도체 집적회로, 플랫 패널 디스플레이(FPD) 등의 전자 디바이스 기판, 회로 배선 기판 등이 있다. 이들의 소형화, 고밀도화, 고성능화가 진행되는 가운데, 통전 검사에 사용되는 통전 검사 지그에 배비되어 있고 검체에 탄성적으로 접촉시키는 콘택트 프로브 등의 통전 검사 지그용 접촉자에게도 극세화, 미세화가 요구되고 있다.An energization test has been conventionally performed in various technical fields. Examples of conduction inspections include semiconductor integrated circuits, electronic device substrates such as flat panel displays (FPDs), and circuit wiring boards. As these miniaturization, high density, and high performance are in progress, microminiaturization and miniaturization are also required for contacts for energization inspection jigs, such as contact probes, which are disposed in the energization inspection jig used for energization inspection and elastically contact the specimen.
본원 발명자들은 이러한 극세화, 미세화에 대응하는 통전 검사 지그용 접촉자로서 스프링 구조를 일부에 구비하고 있는 Ni 전주 파이프를 제안하고 있다(특허문헌 1).The inventors of the present application propose a Ni electroforming pipe having a spring structure in part as a contactor for an energization inspection jig corresponding to such miniaturization and miniaturization (Patent Document 1).
특허문헌 1의 스프링 구조를 일부에 구비하고 있는 Ni 전주 파이프는 외경이 32μm~500μm, 내경이 30μm~450μm로 마우 가늘고, 얇으며, 높은 탄성 특성을 발휘할 수 있는 것이다. 이것은 본원 발명자들이 제안하고 있는 전주관의 제조법(특허문헌 2)을 응용하여 제조되어 있다.The Ni pole pipe provided with a part of the spring structure of
또, 극세 스프링 구조에 관해서는, 중공의 극세 파이프의 외주에 레지스트층을 형성하고, 이 레지스트층에 노광빔을 쏘아 균일한 홈 폭의 나선상 홈을 상기 레지스트층에 형성한 후, 상기 레지스트층을 마스킹재로 하여 에칭을 행하고 상기 홈이 형성되어 있던 부분의 극세 파이프벽을 제거하는 제조 방법이 제안되어 있다(특허문헌 3).In the ultrafine spring structure, a resist layer is formed on the outer periphery of the hollow ultrafine pipe, and an exposure beam is directed to the resist layer to form a spiral groove having a uniform groove width in the resist layer. A manufacturing method is proposed in which a masking material is etched to remove the ultrafine pipe walls of portions where the grooves are formed (Patent Document 3).
특허문헌 1에서 제안한 스프링 구조를 일부에 구비하고 있는 Ni 전주 파이프는 매우 가늘고, 얇으며, 높은 탄성 특성을 발휘할 수 있으므로, 검체의 소형화, 고밀도화, 고성능화가 진행되는 다양한 기술분야에서의 통전 검사에 널리 사용될 가능성이 넓어지고 있다.Ni pole pipe having a spring structure proposed in
통전 검사가 행해지는 검체의 소형화, 고밀도화, 고성능화가 진행되는 가운데, 스프링 구조를 일부에 구비하고 있는 Ni 전주 파이프로 이루어지는 통전 검사 지그용 접촉자에 대해서도, 보다 정밀도 높고, 보다 정밀하게 제조하는 것이 요구되고 있다.While miniaturization, high density, and high performance of samples subjected to conduction inspection are in progress, a contactor for an energization inspection jig made of Ni pole pipe having a spring structure in part is required to be manufactured with higher precision and more precision. have.
그래서, 본 발명은 전주제의 스프링 구조를 구비하고 있는 매우 가늘고, 얇은 통전 검사 지그용 접촉자를, 보다 정밀도 높고, 보다 정밀하게 제조할 수 있는 통전 검사 지그용 접촉자의 제조 방법 및 이것에 의해 제조한 통전 검사 지그용 접촉자 및 이것을 구비하고 있는 통전 검사 지그를 제안하는 것을 목적으로 하고 있다.Accordingly, the present invention provides a manufacturing method of a contactor for an energization inspection jig capable of manufacturing a very thin and thin current conduction inspection jig contactor having a spring structure of a main agent, which can be manufactured more precisely and more precisely. An object of the present invention is to propose a contactor for an energization inspection jig and an energization inspection jig provided with the same.
청구항 1에 기재된 발명은,According to a first aspect of the present invention,
심재의 외주에 도금에 의해 금 또는 금합금의 도금층을 형성한 후, 형성된 당해 도금층의 외주에 전주에 의해 Ni 전주층을 형성하고,After the plating layer of gold or gold alloy is formed on the outer circumference of the core material, a Ni electroforming layer is formed on the outer circumference of the formed plating layer by electroforming.
상기 Ni 전주층의 외주에 레지스트층을 형성한 후, 레이저로 노광하여 상기 레지스트층에 나선상의 홈을 형성하고,After forming a resist layer on the outer periphery of said Ni electroforming layer, it exposes by a laser and forms a spiral groove in the said resist layer,
상기 레지스트층을 마스킹재로 하여 에칭을 행하고, 상기 레지스트층에 나선상의 홈이 형성되어 있던 부분의 Ni 전주층을 제거하고,Etching is performed using the resist layer as a masking material, and a Ni electroforming layer in a portion where a spiral groove is formed in the resist layer is removed,
상기 레지스트층을 제거함과 아울러, 상기 Ni 전주층이 제거된 나선상의 홈 부분의 상기 도금층을 제거하고,While removing the resist layer, the plating layer of the spiral groove portion from which the Ni electroforming layer was removed,
상기 도금층을 상기 Ni 전주층의 내주에 남긴 채 상기 심재만을 제거하여By removing only the core material while leaving the plating layer on the inner circumference of the Ni electroforming layer
전주제의 스프링 구조를 구비하고 있는 통전 검사 지그용 접촉자를 제조하는 방법이다.It is a method of manufacturing the contactor for energization test jig provided with the spring structure of the electroplating agent.
청구항 2에 기재된 발명은,The invention according to claim 2,
청구항 1에 기재된 방법으로 제조한 전주제의 스프링 구조를 구비하고 있는 통전 검사 지그용 접촉자의 일단측을 검체에 대한 접촉단으로 하고, 타단측을 통전 검사 지그에 대한 접속부로 하는 통전 검사 지그용 접촉자이다.Contact for energization inspection jig having one end side of contact for jig for jig provided with spring structure of electroforming agent manufactured by the method according to
청구항 3에 기재된 발명은,The invention according to
청구항 2에 기재된 통전 검사 지그용 접촉자를 구비하고 있는 통전 검사 지그이다.It is an electricity supply inspection jig provided with the contactor for electricity supply inspection jig of Claim 2.
본 발명에 의하면, 전주제의 스프링 구조를 구비하고 있는 매우 가늘고, 얇은 통전 검사 지그용 접촉자를, 보다 정밀도 높고, 보다 정밀하게 제조할 수 있다. 이 통전 검사 지그용 접촉자는 내측에 금 또는 금합금의 도금층을 구비하고 있는 점에서 우수한 통전성을 발휘할 수 있다. 그리고, 이와 같이 정밀도 높고, 정밀하게 제조되어 있어, 우수한 통전성을 발휘할 수 있는 통전 검사 지그용 접촉자를 구비하고 있는 통전 검사 지그를 제공할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the contactor for the very thin and thin electricity supply test jig provided with the spring structure of the electroforming agent can be manufactured more precisely and more precisely. The contact for jig for electrical conduction inspection jig can exhibit excellent electrical conduction in that the plating layer of gold or gold alloy is provided inside. And the electricity supply inspection jig provided with the contactor for electricity supply inspection jig which is manufactured with high precision and is precisely in this way, and can exhibit the outstanding electricity supply property can be provided.
도 1은 심재의 외주에 도금에 의해 도금층을 형성한 후, 형성된 도금층의 외주에 전주에 의해 Ni 전주층을 형성할 때까지의 공정이 실시되는 연속 처리 장치의 배치 구성의 일례를 개략적으로 설명하는 것으로, (a)는 평면도, (b)는 측면도.
도 2는 본 발명의 제조 방법을 개략적으로 설명하는 블록도.
도 3은 본 발명에 의한 제조 공정을 설명하는 도면으로서, (a)는 레지스트층에 나선상의 홈이 형성된 상태를 나타내는 측면도 및 X-X, Y-Y, Z-Z 부분에 있어서의 심재, 금 도금층, Ni 전주층의 적층 상태를 설명하는 일부를 생략한 확대 단면도, (b)는 에칭에 의해 레지스트층에 나선상의 홈이 형성되어 있던 부분의 Ni 전주층이 제거된 상태를 나타내는 측면도 및 X-X, Y-Y, Z-Z 부분에 있어서의 심재, 도금층, Ni 전주층의 적층 상태를 설명하는 일부를 생략한 확대 단면도, (c)는 레지스트층 및 Ni 전주층이 제거된 나선상의 홈 부분의 도금층이 제거된 상태를 나타내는 측면도 및 X-X, Y-Y, Z-Z 부분에 있어서의 심재, 도금층, Ni 전주층의 적층 상태를 설명하는 일부를 생략한 확대 단면도, (d)는 심재가 제거된 상태를 나타내는 측면도 및 X-X, Y-Y 부분에 있어서의 도금층, Ni 전주층의 적층 상태를 설명하는 일부를 생략한 확대 단면도.
도 4(a), (b)는 본 발명의 제조 방법으로 제조한 통전 검사 지그용 접촉자의 일례를 나타내는 측면도.
도 5는 도 4(a)에 도시한 통전 검사 지그용 접촉자의 단면도.
도 6(a), (b)는 본 발명의 제조 방법으로 제조한 통전 검사 지그용 접촉자의 다른 예를 나타내는 측면도.
도 7은 본 발명의 제조 방법으로 제조한 통전 검사 지그용 접촉자의 다른 일례를 나타내는 단면도.
도 8(a), (b), (c), (d)는 본 발명의 제조 방법으로 제조한 통전 검사 지그용 접촉자의 검체에 접촉하는 측의 선단 형상을 나타내는 일부를 생략한 측면도.1 schematically illustrates an example of a configuration of arrangement of a continuous processing apparatus in which a step of forming a plating layer on the outer circumference of the core material by plating and then forming a Ni electroforming layer on the outer circumference of the formed plating layer is performed. (A) is a top view, (b) is a side view.
2 is a block diagram schematically illustrating a manufacturing method of the present invention.
FIG. 3 is a view for explaining a manufacturing process according to the present invention, wherein (a) is a side view showing a state in which a spiral groove is formed in a resist layer and a core material, a gold plating layer, and a Ni electroforming layer in XX, YY, and ZZ portions. (B) is a side view showing a state in which a Ni electroforming layer of a portion where a spiral groove is formed in a resist layer by etching is removed, and in XX, YY, and ZZ portions. (C) is a side view showing a state in which a plating layer of a spiral groove portion from which a resist layer and a Ni electroforming layer has been removed has been removed. An enlarged sectional view in which parts of the core, the plating layer, and the Ni electroforming layer in the YY and ZZ portions are omitted, (d) is a side view showing a state in which the core is removed, and the plating layer in the XX and YY portions, and Ni. Jeonju An enlarged cross-sectional view omitting a portion for explaining the stacked state.
Fig.4 (a), (b) is a side view which shows an example of the contactor for electricity supply jig manufactured by the manufacturing method of this invention.
Fig. 5 is a sectional view of the contactor for the energization inspection jig shown in Fig. 4A.
6 (a) and 6 (b) are side views illustrating another example of the contactor for the energization inspection jig manufactured by the manufacturing method of the present invention.
It is sectional drawing which shows another example of the contactor for electricity supply jig manufactured by the manufacturing method of this invention.
8 (a), (b), (c) and (d) are side views in which part of the tip shape of the side in contact with the specimen of the contactor for the energization inspection jig manufactured by the manufacturing method of the present invention is omitted;
전주제의 스프링 구조를 구비하고 있는 매우 가늘고, 얇은 본 발명에 의한 통전 검사 지그용 접촉자는 이하와 같이 하여 제조할 수 있다.A very thin and thin contact for jig according to the present invention having a spring structure of a main agent can be manufactured as follows.
심재의 외주에 도금에 의해 금 또는 금합금의 도금층을 형성한 후, 형성된 당해 도금층의 외주에 전주에 의해 Ni 전주층을 형성한다.After the plating layer of gold or gold alloy is formed on the outer circumference of the core material, a Ni electroforming layer is formed on the outer circumference of the formed plating layer by electroforming.
심재는 외경 5μm 이상의 극세 금속선이나 수지선을 사용할 수 있다. 금속선으로서는 스테인레스선, 알루미늄선 등을 사용할 수 있다.As the core material, an ultrafine metal wire or resin wire having an outer diameter of 5 μm or more can be used. As the metal wire, a stainless wire, an aluminum wire, or the like can be used.
수지선으로서는 나일론 수지, 폴리에틸렌 수지 등으로 이루어지는 합성 수지선을 사용할 수 있고, 또한, 심재에 수지선을 채용한 경우에는, 금 또는 금합금의 도금층의 형성을 무전해 도금으로 행할 필요가 있다. 그래서, 생산성을 고려한 경우에는, 심재에 금속선을 사용하고, 전해 도금으로 금 또는 금합금의 도금층을 형성하는 것이 바람직하다.As the resin wire, a synthetic resin wire made of nylon resin, polyethylene resin, or the like can be used, and in the case where a resin wire is used as the core material, it is necessary to form the plating layer of gold or gold alloy by electroless plating. Therefore, when productivity is considered, it is preferable to use the metal wire for a core material, and to form the plating layer of gold or a gold alloy by electroplating.
금 또는 금합금의 도금층은 두께 0.2μm~1μm의 두께로 형성하고, 그 외주에 전주로 형성하는 Ni 전주층의 두께는 5μm~35μm로 하는 것이 바람직하다.It is preferable that the plating layer of gold or a gold alloy is formed in thickness of 0.2 micrometer-1 micrometer, and the thickness of the Ni electroplating layer formed in the outer periphery by 5 micrometers-35 micrometers.
본 발명의 제조 방법에 의해 제조되는 통전 검사 지그용 접촉자 및 이것을 구비하고 있는 통전 검사 지그는, 예를 들면, LSI 등의 집적회로의 제조에 있어서의 기판 검사용의 콘택트 프로브 및 이것을 구비하고 있는 통전 검사 지그로서 사용된다. 즉, 소형화, 고밀도화, 고성능화가 진행되는 전자 디바이스 기판, 회로 배선 기판 등의 통전 검사나, 그 밖의 극미세, 고밀도의 검체의 통전 검사에 사용된다. 그래서, 제조되는 통전 검사 지그용 접촉자의 사이즈에는 외경 20μm~500μm, 두께 2.5μm~50μm정도의 매우 가늘고 얇은 것이 요구된다. 금 또는 금합금의 도금층, Ni 전주층의 상기 서술한 두께는 제조되는 통전 검사 지그용 접촉자의 상기 서술한 사이즈에 대응하고, 또한 후술하는 바와 같이 에칭에 의해 Ni 전주층의 소정 개소를 용해·제거하고, 또 그 후의 처리에 의해 상기 도금층의 소정 개소를 용해·제거하여 원하는 형상, 사이즈의 나선 형상의 홈을 정확하고 정밀하게 형성하고, 이것에 의해 정확하고 정밀한 사이즈의 홈 폭(슬릿 폭)을 가지는 스파이럴 구조를 형성하는 관점에서 정해져있다.The contactor for the electricity supply inspection jig manufactured by the manufacturing method of this invention, and the electricity supply inspection jig provided with this are the contact probe for board | substrate inspection in manufacture of integrated circuits, such as an LSI, and an electricity supply provided with this, for example. Used as inspection jig. That is, it is used for conduction inspection of electronic device substrates, circuit wiring boards, etc. which are downsized, high density, and high performance, and the conduction inspection of other ultrafine and high density samples. Therefore, the size of the contactor for the energization inspection jig to be manufactured is required to be very thin and thin with an outer diameter of 20 µm to 500 µm and a thickness of about 2.5 µm to 50 µm. The above-mentioned thickness of the plating layer of a gold or gold alloy and Ni electroplating layer corresponds to the above-mentioned size of the contactor for electricity supply jig manufactured, and also melt | dissolves and removes the predetermined location of Ni electroplating layer by etching as mentioned later. In addition, by dissolving and removing a predetermined portion of the plating layer by subsequent processing, a spiral groove of a desired shape and size is accurately and precisely formed, thereby having a groove width (slit width) of accurate and precise size. It is determined from the point of view of forming a spiral structure.
다음에 외주에 금 또는 금합금의 도금층, Ni 전주층이 형성되어 있는 심재의 외주에 레지스트층(두께는 2μm~50μm)을 형성한다.Next, a resist layer (2 micrometers-50 micrometers in thickness) is formed in the outer periphery of the core material in which the plating layer of gold or a gold alloy and Ni electroplating layer are formed in the outer periphery.
레지스트층의 형성은 예를 들면 외주에 금 또는 금합금의 도금층, Ni 전주층이 형성되어 있는 전기의 심재를 포토레지스트액이 수용되어 있는 포토레지스트조에 소정 시간 침지하여 형성한다.For example, the resist layer is formed by immersing an electric core material in which a plating layer of gold or a gold alloy and a Ni electroforming layer are formed on an outer circumference of a photoresist bath containing a photoresist liquid for a predetermined time.
이렇게 하여 상기 Ni 전주층의 외주에 레지스트층을 형성한 후, 레이저로 노광하여 상기 레지스트층에 나선상의 홈을 형성한다.In this manner, a resist layer is formed on the outer circumference of the Ni electroforming layer, and then exposed by laser to form a spiral groove in the resist layer.
레이저에 의한 노광은 레지스트층이 형성되어 있는 심재의 중심축을 회전 중심으로 하여 심재를 회전시키면서, 소정의 속도로 심재를 연직 방향 상방향, 또는 연직 방향 하방향으로 이동시킨다. 한편 심재의 길이 방향에 있어서 스파이럴 구조를 형성해야 할 소정의 길이 방향의 범위의 심재 외주에 레이저 빔을 쏜다.The exposure by the laser moves the core material in the vertical direction or in the vertical direction at a predetermined speed while rotating the core material with the center axis of the core material on which the resist layer is formed as the rotation center. On the other hand, a laser beam is aimed at the outer periphery of the core material of the predetermined longitudinal direction which should form a spiral structure in the longitudinal direction of the core material.
또한, 포지티브형 포토레지스트를 사용한 경우에는, 레이저로 노광한 부분이 현상액에 용해하여 레지스트층에 나선상의 홈이 형성된다. 한편, 네가티브형 포토레지스트를 사용한 경우에는, 레이저로 노광한 부분이 현상액에 불용이 되므로, 레이저에 노광하지 않은 부분이 현상액에 용해하여, 레지스트층에 나선상의 홈이 형성된다. 이것을 고려하여 레이저 빔을 쏜다.In addition, when a positive photoresist is used, the part exposed by the laser melt | dissolves in a developing solution, and a spiral groove is formed in a resist layer. On the other hand, in the case where a negative photoresist is used, the portion exposed by the laser becomes insoluble in the developer, so that the portion not exposed to the laser is dissolved in the developer and a spiral groove is formed in the resist layer. Consider this and shoot the laser beam.
이렇게 하여 레지스트층에 나선상의 홈을 형성함으로써, 레지스트층에 나선상의 홈이 형성된 개소에 있어서의 Ni 전주층의 외주를 노출시킨다.In this way, by forming a spiral groove in the resist layer, the outer periphery of the Ni electroforming layer in the place where the spiral groove is formed in the resist layer is exposed.
다음에 Ni 전주층의 외주에 남아있는 레지스트층을 마스킹재로 하여 에칭을 행하고, 레지스트층에 나선상의 홈이 형성되어 있던 부분의 Ni 전주층을 제거한다.Next, etching is performed using the resist layer remaining on the outer circumference of the Ni electroforming layer as a masking material to remove the Ni electroforming layer of the portion where the spiral grooves are formed in the resist layer.
예를 들면, 상기 서술한 바와 같이 하여 Ni 전주층의 외주에 형성되어 있는 레지스트층에 나선상의 홈이 형성되어 있는 심재를 산성의 전해 연마액 중에 침지하여 전해 연마한다. 이것에 의해, Ni 전주층의 외주에 남아있는 레지스트층을 마스킹재로 하여 에칭하고, 레지스트층에 나선상의 홈이 형성되어 있던 부분의 Ni 전주층을 제거한다.For example, as described above, the core material in which the spiral grooves are formed in the resist layer formed on the outer periphery of the Ni electroforming layer is immersed in an acidic electrolytic polishing liquid for electropolishing. Thereby, the resist layer remaining on the outer circumference of the Ni electroforming layer is etched using the masking material, and the Ni electroforming layer of the portion where the spiral grooves are formed in the resist layer is removed.
다음에 레지스트층을 제거함과 아울러, Ni 전주층이 제거된 나선상의 홈 부분의 금 또는 금합금의 도금층을 제거한다.Next, the resist layer is removed, and the plating layer of gold or gold alloy in the spiral groove portion from which the Ni electrode layer is removed is removed.
상기 도금층의 제거는 예를 들면 나선상의 홈에 Ni 전주층이 제거되어 있는 심재를 소정의 용액 중에 있어서 초음파 세정 처리함으로써 행한다.Removal of the plating layer is performed by, for example, ultrasonic cleaning treatment of a core material in which a Ni electroforming layer is removed in a spiral groove in a predetermined solution.
마지막으로 금 또는 금합금의 도금층을 Ni 전주층의 내측에 남긴 채 심재를 제거한다.Finally, the core material is removed while leaving the plating layer of gold or gold alloy inside the Ni electroforming layer.
금 또는 금합금의 도금층을 Ni 전주층의 내측에 남긴 채 심재를 제거하기 위해서는, 심재를 한쪽 또는 양쪽으로부터 잡아당겨 단면적이 작아지도록 변형시키고, 심재 외주와, 상기 도금층 내주 사이에 간극을 형성하여 심재를 인발(引拔)하는 방법을 채용할 수 있다. 또, 용해액 중에 심재를 침지하여, 화학적 혹은 전기 화학적으로 심재를 용해시켜 제거할 수 있다.In order to remove the core material while leaving the plating layer of gold or gold alloy inside the nickel electroplating layer, the core material is pulled from one or both sides to be deformed so as to have a small cross-sectional area, and a gap is formed between the core outer periphery and the plating layer inner periphery. A drawing method can be adopted. In addition, the core material is immersed in the solution, and the core material can be dissolved and removed chemically or electrochemically.
심재에 스테인레스선이나 수지선을 사용한 경우에는 전자의 인발하는 방법에 의해 제거하고, 심재에 알루미늄선을 사용한 경우에는 후자의 화학적, 전기 화학적인 제거 방법을 채용할 수 있다. 이 경우, 용해액에는 전착물에 거의 영향을 주지 않는 수산화나트륨, 수산화칼륨 등의 강 알칼리액을 사용할 수 있다.In the case of using a stainless steel wire or a resin wire in the core material, the former may be removed by a method of drawing the former. In the case of using an aluminum wire in the core material, the latter chemical and electrochemical removal methods may be adopted. In this case, a strong alkaline liquid such as sodium hydroxide or potassium hydroxide, which hardly affects the electrodeposited material, can be used for the solution.
본 발명의 제조 방법에 의하면, 레지스트재로서 네가티브형, 포지티브형의 어느쪽을 채용하는지에도 따르지만, 기본적으로 레이저 노광에 의해 스파이럴 구조 부분에 있어서의 홈(슬릿)의 폭을 설정할 수 있다. 그래서, 매우 가늘고, 얇은 Ni 전주관에 있어서 스파이럴 구조 부분을 형성하는 영역을 임의로 설정할 수 있는 것에 더해, 스파이럴 구조 부분에 있어서의 홈(슬릿)의 폭을 임의로 설정하는 것이 가능하게 되고, 정밀도가 높은 탄성 특성을 가지는 통전 검사 지그용 접촉자를 제공할 수 있다.According to the manufacturing method of this invention, although it depends also whether a negative type or a positive type is used as a resist material, the width | variety of the groove | channel (slit) in a spiral structure part can be basically set by laser exposure. Therefore, in addition to being able to arbitrarily set a region for forming a spiral structure portion in a very thin and thin Ni electroplating tube, it is possible to arbitrarily set the width of the groove (slit) in the spiral structure portion, thereby providing high precision and elasticity. A contactor for the energization inspection jig having characteristics can be provided.
본 발명의 제조 방법에 의하면, 상기 서술한 바와 같이, Ni 전주층의 외주에 남아있는 레지스트층을 마스킹재로 하여 에칭함으로써, 레지스트층에 나선상의 홈이 형성되어 있는 부분의 Ni 전주층을 제거한다.According to the manufacturing method of the present invention, as described above, by etching the resist layer remaining on the outer circumference of the Ni electroforming layer as a masking material, the Ni electroforming layer of the portion where the spiral grooves are formed in the resist layer is removed. .
이 때, Ni 전주층의 내측에 금 또는 금합금의 도금층이 존재하고 있는 점에서, 나선상 홈이 형성되는 부분 이외의 Ni 전주층 부분에 에칭액이 돌아 들어가는 것을 방지할 수 있다. 이것에 의해, Ni 전주층에 나선상의 홈이 형성되는 부분만이 에칭액에 의해 침지·용해된다. 이 결과, 심재를 제거했을 때에 형성되는 Ni 전주관의 스파이럴 구조 부분에 있어서의 홈 폭을 레이저 노광에 의해 형성한 정밀한 홈 폭으로 할 수 있고, 스파이럴 구조 부분의 홈 폭(슬릿 폭)을 원하는 균일한 홈 폭으로 할 수 있다.At this time, since the plating layer of gold or a gold alloy exists inside the Ni electroforming layer, the etching liquid can be prevented from entering into the Ni electroforming layer portions other than the portion where the spiral grooves are formed. Thereby, only the part in which the spiral groove is formed in Ni electroplating layer is immersed and melt | dissolved by etching liquid. As a result, the groove width in the spiral structure portion of the Ni electroforming tube formed when the core material is removed can be made the precise groove width formed by laser exposure, and the groove width (slit width) of the spiral structure portion is desired to be uniform. I can do it with groove width.
스파이럴 구조 부분에 있어서의 홈(슬릿)의 폭이 원하는 균일한 홈 폭이면, 제조된 통전 검사 지그용 접촉자의 일단측을 통전 검사 지그에 접속시켜 두고, 타단측을 검체에 눌러 접촉시킬 때의 탄성 특성이 향상된다.When the width of the groove (slit) in the spiral structure portion is the desired uniform groove width, the elasticity when the one end side of the manufactured energization inspection jig contactor is connected to the energization inspection jig and the other end is pressed against the specimen to make contact Characteristics are improved.
또, 본 발명의 제조 방법에 의하면, 에칭시에 Ni 전주층의 내측에 금 또는 금합금의 도금층이 존재하고 있는 점에서, 에칭액이 심재에까지 도달하는 것을 방지할 수 있다. 에칭액이 심재에 접촉하면 심재가 침식되고, 심재 제거시에 인발법을 사용하는 경우에는 심재의 중도 파단 등이 생겨, 깔끔한 심재 제거가 어려워진다.Moreover, according to the manufacturing method of this invention, since the plating layer of gold or a gold alloy exists in the inside of Ni electroplating layer at the time of an etching, an etching liquid can be prevented from reaching a core material. When the etching liquid contacts the core material, the core material is eroded. When the drawing method is used when removing the core material, breakage of the core material occurs, etc., making it difficult to remove the core material neatly.
본원 발명에 있어서는 상기 서술한 바와 같이, 가장 먼저 심재의 외주에 도금에 의해 금 또는 금합금의 도금층을 형성하고, 다음에 형성된 도금층의 외주에 전주에 의해 Ni 전주층을 형성하고 있다.In the present invention, as described above, first, a plating layer of gold or a gold alloy is formed on the outer circumference of the core material, and a Ni electroforming layer is formed on the outer circumference of the formed plating layer by electroforming.
이와 같이 Ni 전주층의 내측에 금 또는 금합금의 도금층이 형성되어 있는 의의는 그 후의 「레지스트층을 마스킹재로 하여 에칭을 행하고, 레지스트층에 나선상의 홈이 형성되어 있던 부분의 Ni 전주층을 제거」하는 공정에서 발휘된다.The significance of the gold or gold alloy plated layer being formed inside the Ni electroplating layer as described above was etched using the resist layer as a masking material to remove the Ni electroplating layer of the portion where the spiral groove was formed in the resist layer. Is exhibited in the process.
즉, 상기 서술한 바와 같이, Ni 전주층의 내측에 금 또는 금합금의 도금층이 존재하고 있는 점에서, 나선 홈이 형성되는 부분 이외의 Ni 전주층 부분에 에칭액이 돌아 들어가는 것을 방지할 수 있다. 그리고, 스파이럴 구조 부분의 홈 폭(슬릿 폭)을 원하는 균일한 홈 폭으로 할 수 있다.That is, as mentioned above, since the plating layer of gold or a gold alloy exists inside the Ni electroforming layer, etching liquid can be prevented from returning to Ni electroforming layer parts other than the part in which a spiral groove is formed. And the groove width (slit width) of the spiral structure part can be made into desired uniform groove width.
본원 발명에 있어서는, 에칭할 때, 스프링 구조 부분으로서 남아야 할 Ni 전주층 부분(레지스트층에 나선 홈이 형성되어 있는 부분 이외의 Ni 전주층 부분)의 외측은 레지스트층으로, 내측은 금 또는 금합금의 도금층으로 각각 마스크되어 있다. 그래서, 에칭에 의해 설계 치수의 두께(두꺼움)로 스프링 구조 부분을 형성하는 것이 가능하게 된다.In the present invention, when etching, the outer side of the Ni electrode layer layer portion (the Ni electrode layer portion other than the portion where the spiral groove is formed in the resist layer) to remain as a spring structure portion is a resist layer, and the inner side is formed of a gold or gold alloy. Each is masked by a plating layer. Thus, it becomes possible to form the spring structure part by the thickness (thickness) of the design dimension by etching.
특히, 내측의 금 또는 금합금의 도금층의 외주에 전주에 의해 Ni 전주층이 형성되어 있는 구조이므로, 상기 도금층과 Ni 전주층의 접촉면에 에칭액이 침입하여 (에칭액이 돌아 들어가) Ni 전주층의 내측의 홈(슬릿)에 면하는 단부 및 그 내측이 에칭액에 침식될 우려가 없어진다.In particular, since the Ni electroforming layer is formed on the outer circumference of the plating layer of the inner gold or gold alloy, an etching solution penetrates into the contact surface between the plating layer and the Ni electroforming layer (the etching solution is returned). There is no fear that the end face and the inner side facing the groove (slit) are eroded by the etching solution.
이것에 의해, 스파이럴 구조 부분의 홈 폭(슬릿 폭)을 원하는 균일한 홈 폭으로 하는 것이 가능하게 되고, 또 스파이럴 구조 부분의 두께를 설계 치수대로 정밀한 것으로 할 수 있다.As a result, the groove width (slit width) of the spiral structure portion can be set to a desired uniform groove width, and the thickness of the spiral structure portion can be made precise according to design dimensions.
스파이럴 구조 부분의 홈 폭(슬릿 폭)이 원하는 균일한 홈 폭으로 형성되고, 또 두께가 원하는 두께(일정의 두께)로 형성되는 것은 스프링부에 원하는 탄성 특성을 발휘시키고, 또 프로브와 같은 복수회(수십만회~백만회)의 수축 운동을 반복해도, 안정적인 내구성을 발휘시킴에 있어서 매우 중요하다.The groove width (slit width) of the spiral structure portion is formed to the desired uniform groove width, and the thickness is formed to the desired thickness (constant thickness) to exhibit the desired elastic characteristics in the spring portion, and to provide a plurality of times such as a probe. It is very important for showing stable durability even if the contraction movement of several hundred thousand times to one million times is repeated.
본원 발명은 레지스트층을 마스킹재로 하여 에칭을 행하고, 상기 레지스트층에 나선상의 홈이 형성되어 있던 부분의 Ni 전주층을 제거하는 공정에서, 상기 서술한 바와 같이, Ni 전주층의 내측에 에칭액이 침입하여 (에칭액이 돌아 들어가) Ni 전주층의 내측의 홈(슬릿)에 면하는 단부 및 그 내측이 에칭액에 침식되는 것을 미연에 방지하기 위해, Ni 전주층을 심재의 외주에 형성하기 전에, 에칭 처리 공정에서 레지스트, 마스크재로서 기능하는 부재에 의한 층을 심재의 외주에 형성하는 것이다.In the present invention, etching is performed using a resist layer as a masking material, and a Ni electroforming layer in a portion where a spiral groove is formed in the resist layer is removed. As described above, an etching solution is formed inside the Ni electroforming layer. Before forming the Ni electroforming layer on the outer periphery of the core material in order to prevent the intrusion (the etching liquid enters) and the end portion facing the groove (slit) inside the Ni electroforming layer and the inside thereof from being eroded by the etching solution. In the processing step, a layer formed of a member that functions as a resist or a mask material is formed on the outer circumference of the core material.
그리고, 이렇게 하여, Ni 전주층을 심재의 외주에 형성하기 전에, 심재의 외주에 형성되는 층은 스파이럴 구조 부분을 형성한 후에도 Ni 전주층의 내측에 남지 않을 수 없는 것이기 때문, 도전성을 고려하여, 금 또는 금합금을 채용하고, 금 또는 금합금의 도금층을 형성하기로 한 것이다.In this way, before the Ni electroforming layer is formed on the outer circumference of the core, the layer formed on the outer circumference of the core is inevitably left inside the Ni electroforming layer even after the spiral structure portion is formed. Gold or a gold alloy is adopted, and a plating layer of gold or a gold alloy is formed.
(실시예 1)(Example 1)
심재에 직경(5μm 내지 450μm)의 SUS선을 사용하여 전주제의 스프링 구조를 구비하고 있는 매우 가늘고, 얇은 통전 검사 지그용 접촉자(20)를 제조하는 방법의 일례를 설명한다.An example of the method of manufacturing the ultra-thin and thin electricity supply inspection jig |
도 1은 심재의 외주에 도금에 의해 금 도금층(12)을 형성한 후, 형성된 금 도금층(12)의 외주에 전주에 의해 Ni 전주층(13)을 형성할 때까지의 공정이 실시되는 연속 처리 장치의 배치 구성의 일례를 개략적으로 설명하는 것이며, 도 2는 본 발명의 제조 방법의 일례를 설명하는 블록도이다.FIG. 1 shows a continuous process in which a
공급 유닛(1)에는 심재가 되는 SUS선(11)이 권회되어 있는 릴(10)이 구비되어 있다.The
수납 유닛(5)에 있어서의 반송 롤러(14)에 의해 SUS선(11)은 공급 유닛(1)의 릴(10)로부터 공급되어, 세정 유닛(2), 통전·반송 유닛(3)을 거쳐, 금 도금 유닛(4)에 반송된다.The
세정 유닛(2)에는 소정의 약 알칼리액 또는 약 산성액이 장입되어 있어, 여기서 SUS선(11)의 외주가 세정된다.Predetermined weak alkaline liquid or weak acid liquid is charged in the washing | cleaning unit 2, and the outer periphery of the
금 도금 유닛(4)에는 소정의 전해액, 예를 들면, 논시안 Au액이 들어가 있고, 금 도금 유닛(4) 내를 반송되어가는 SUS선(11)의 외주에 도금에 의해 소정의 두께(0.2μm~1μm)의 금 도금층(12)이 형성된다.The
계속해서, 도시하지 않는 절단 유닛을 구비하고 있는 수납 유닛(9)에 있어서의 반송 롤러(15)에 의해 외주에 금 도금층(12)이 형성된 SUS선(11)은 세정 유닛(6), 통전·반송 유닛(7)을 거쳐, 니켈 전주 유닛(8)에 반송된다.Subsequently, the
세정 유닛(6)에는 소정의 약 알칼리액 또는 약 산성액이 수용되어 있어, 여기서 금 도금층(12)의 외주가 세정된다.The
니켈 전주 유닛(8)에는 소정의 전해액, 예를 들면 술폰산 니켈액이 넣어져 있고, 니켈 전주 유닛(8) 내를 반송되어가는 SUS선(11)의 금 도금층(12)의 외주에 전주에 의해 소정의 두께(3μm~50μm)의 Ni 전주층(13)이 형성된다.A predetermined electrolytic solution, for example, a sulfonic acid nickel liquid, is put in the
수납 유닛(5, 9)에 있어서의 반송 롤러(14, 15)의 반송 속도는 어느 정도의 두께의 금 도금층(12), Ni 전주층(13)을 SUS선(11)의 외주에 형성할지에 따라 조정한다.The conveyance speed of the
이렇게 하여, 외주에 금 도금층(12), Ni 전주층(13)이 적층된 SUS선(11)은 수납 유닛(9)에 구비되어 있는 절단 유닛(도시하지 않음)에 의해 원하는 길이, 예를 들면 30mm로 절단된다.In this way, the
다음에 외주에 금 도금층(12), Ni 전주층(13)이 형성된 SUS선(11)을 포지티브형 포토레지스트액이 수용되어 있는 포토레지스트조에 소정 시간 침지하고, Ni 전주층(13)의 외주에 소정의 두께(2μm~30μm)의 레지스트층(30)을 형성한다.Next, the
다음에 레지스트층(30)이 형성되어 있는 SUS선(11)의 중심축을 회전 중심으로 하여 심재를 화살표 40, 또한 화살표 41 방향으로 회전시키면서, 소정의 속도로 SUS선(11)을 연직 방향 상방향(화살표 42), 또는 연직 방향 하방향(화살표 43)으로 이동시킨다. 동시에 SUS선(11)의 길이 방향에 있어서 스파이럴 구조부(14)(도 3(d))를 형성해야 할 소정의 길이 방향의 범위의 외주에 레이저 빔을 쏜다.Next, the
그 후, 현상액에 침지하여, 레이저로 노광한 부분의 레지스트층(30)을 용해시키고, 레지스트층(30)에 나선상의 홈(31)을 형성한다(도 3(a)). 레지스트층(30)에 나선상의 홈(31)을 형성함으로써, 이 나선상의 홈(31)이 형성된 개소에 있어서의 Ni 전주층(13)의 외주가 노출된다(도 3(a)).Thereafter, the developer is immersed in the developer to dissolve the resist
다음에 Ni 전주층(13)의 외주에 형성되어 있는 레지스트층(30)에 나선상의 홈(31)이 형성되어 있는 상태의 SUS선(11)을 산성의 전해 연마액 중에 침지하여 전해 연마한다. 이것에 의해, Ni 전주층(13)의 외주에 남아있는 레지스트층(30)을 마스킹재로 하여 에칭하고, 레지스트층(30)에 나선상의 홈(31)이 형성되어 있는 부분의 Ni 전주층(13)을 제거한다(도 3(b)). 이렇게 하여, 나선상의 홈(31)이 형성되어 있던 개소에 있어서의 금 도금층(12)의 외주가 노출된다(도 3(b)).Next, the
다음에 레지스트층(30)을 제거함과 아울러, SUS선(11)을 상온보다 높은 온도(50도 정도)의 순수 중에 있어서 초음파 세정함으로써, Ni 전주층(13)이 제거된 나선상의 홈(31)에 대응하는 부분의 금 도금층(12)을 제거한다((도 3(c)). 이것에 의해, 나선상의 홈(31)이 형성되어 있던 개소에 있어서의 SUS선(11)의 외주가 노출된다(도 3(c)).Next, the resist
마지막으로, SUS선(11)을 한쪽 또는 양쪽으로부터 잡아당겨 단면적이 작아지도록 변형시키고, SUS선(11)의 외주와, 금 도금층(12)의 내주 사이에 간극을 형성하여 SUS선(11)을 인발함으로써, 금 도금층(12)을 Ni 전주층(13)의 내측에 남긴 채 SUS선(11)을 제거하고, Ni 전주제의 스프링 구조를 구비하고 있는 매우 가늘고, 얇은 통전 검사 지그용 접촉자(20)가 된다((도 3(d), 도 4(a), 도 5).Finally, the
이렇게 하여 제조된 통전 검사 지그용 접촉자(20)는 도 3(d), 도 4(a), 도 5에 도시한 바와 같이, 내측에 금 도금층(12)을 구비하고 있고, 일부에 스파이럴 구조 부분(14)을 가지는 얇은 Ni 전주관이다. 이 내측에 금 도금층(12)을 구비하고 있는 얇은 Ni 전주관은 심재로 되어 있던 SUS선(11)의 외주에 형성되어 있던 금 도금층(12), Ni 전주층(13)으로부터, 금 도금층(12)을 Ni 전주층(13)의 내측에 남긴 채 SUS선(11)이 제거됨으로써 형성되어 있다.The
그리고, 스파이럴 구조 부분(14)은 Ni 전주층(13)의 나선상의 홈(31)에 대응하는 부분이 에칭에 의해 용해된 것에 의해, Ni 전주층(13)에 나선상의 홈(슬릿)(31a)이 형성된 것에 의해 형성되어 있다.The
도 4(a)는 본 발명의 제조 방법에 의해 제조되는 전주제의 스프링 구조를 구비하고 있는 매우 가늘고, 얇은 통전 검사 지그용 접촉자(20)의 일례를 나타내는 측면도이며, 부호 14로 나타내는 스프링 구조 부분이 일부에 형성되어 있는 것이다.Fig.4 (a) is a side view which shows an example of the
또, 도 6에 도시한 바와 같이, 내측에 금 도금층을 구비하고 있는 Ni 전주층으로 이루어지는 관상 부분(23)과, 복수의 스프링 구조 부분(24a, 24b, 25a, 25b, 25c)을 구비하고 있는 통전 검사 지그용 접촉자(21, 22)로 할 수도 있다.Moreover, as shown in FIG. 6, the
외경 21μm의 SUS선(11)을 사용하여, 상기 서술한 공정에 의해, 전체길이(L1)가 1mm, 내측에 금 도금층(12)을 구비하고 있는 Ni 전주층(13)으로 이루어지는 관상 부분의 길이(L2, L4)가 각각 0.1mm, 스프링 구조 부분(14)의 길이(L3)가 0.8mm, 외경(φ1)이 35μm, 내경(φ2)이 21μm인 본 발명의 통전 검사 지그용 접촉자(20)를 제조할 수 있었다.By using the
또한, 상기한 수치 L1, L2, L3, L4, φ1, φ2는 설계 조건에 맞춘 수치로 설정할 수 있다.In addition, said numerical value L1, L2, L3, L4,
이와 같이 미소한 길이(L1)의 접촉자(20)를 제조하는 경우, 내측에 금 도금층(12)이 형성되어 있는 Ni 전주층(13)으로 이루어지는 관체를 1mm 길이마다 절단한 후에 SUS선(11)을 제거함으로써, 복수개의 접촉자(20)를 동시에 제조할 수 있다.When manufacturing the
즉, 상기 서술한 바와 같이, 전체길이 30mm의 SUS선(11)을 심재로서 사용한 경우, 일방의 단으로부터 0.1mm의 범위가 관상이며, 계속되는 0.8mm의 범위가 스프링 구조 부분, 계속되는 0.2mm의 범위가 관상, 계속되는 0.8mm의 범위가 스프링 구조 부분이 되도록 레이저 노광에 의해 스프링 구조 부분(14)을 형성한다. 그리고, 도 3(c)에 도시한 공정 후의 SUS선(11)을 제거하기 전에, 레이저를 사용하여 1mm마다 절단하고, 그 후 SUS선(11)을 제거하면 30개의 접촉자(20)를 동시에 제조할 수 있다. 상기 서술한 바와 같이 SUS선(11)을 한쪽 또는 양쪽으로부터 잡아당겨 제거하는 경우에는 단부측에 필요하게 되는 협지부를 고려할 필요가 있지만, 이 경우도 전체길이(L1)가 1mm인 접촉자(20)를 25~26개 동시에 제조할 수 있다.That is, as mentioned above, when the
또, 도 4(b)에 도시한 Ni 전주제의 스프링 구조를 구비하고 있는 매우 가늘고, 얇은 통전 검사 지그용 접촉자(20a)를 제조할 수도 있다. 이 경우에는 전체길이 30mm의 SUS선(11)의 전체길이에 걸쳐 스프링 구조 부분(14)이 형성되도록 레이저 노광하고, SUS선(11)을 제거하기 전에, 레이저에 의해 희망하는 길이로 절단하고, 그 후 SUS선(11)을 제거하여 복수개의 접촉자(20a)를 동시에 제조할 수 있다.In addition, a very thin and thin current conduction
도 3(d), 도 4(a), 도 5에 도시한 것은 일부에 스프링 구조를 구비하고 있는 통전 검사 지그용 접촉자, 도 4(b)에 도시한 것은 전체가 스프링 구조로 이루어지는 통전 검사 지그용 접촉자라고 할 수 있다.3 (d), 4 (a), and 5, a contactor for an energization inspection jig having a spring structure in part thereof, and an energization inspection jig composed of a spring structure as a whole is shown in FIG.4 (b). It can be called a contact person.
어쨌든 간에, 본 발명의 제조 방법에 의하면, 레이저 노광에 의해 나선 형상의 홈(31)이 형성되어 있는 레지스트층(30)을 마스크로 한 에칭에 의해 Ni 전주층(13)의 소정 개소를 용해·제거하고, 그 후 Ni 전주층(13)이 제거된 나선상의 홈(31)에 대응하는 부분의 금 도금층(12)을 제거하여 스프링 구조 부분(14)을 형성한다. 그래서, 원하는 형상, 사이즈의 나선 형상의 홈(31)을 정확하고 정밀하게 형성하고, 이것에 의해 정확하고 정밀한 사이즈의 홈 폭(슬릿 폭)으로 이루어지는 나선상의 홈(슬릿)(31a)을 가지는 스파이럴 구조를 형성할 수 있다.In any case, according to the manufacturing method of this invention, the predetermined location of the
본 발명의 제조법에 의해 제조한 전주제의 스프링 구조를 구비하고 있는 매우 가늘고, 얇은 통전 검사 지그용 접촉자(20, 20a)(도 4)는 우수한 탄성 특성을 발휘할 수 있다. 이것은 상기 서술한 바와 같이, 스파이럴 구조 부분에 있어서의 홈(슬릿)(31a)의 폭이 원하는 균일한 홈 폭인 점에서 발휘되는 특성의 하나이다.The ultra-thin, thin current-carrying
상기 서술한 본 발명의 제조법에 의해 제조한 내측에 금 도금층을 구비하고 있는 Ni 전주층(13)의 두께가 10μm, 외경(φ1)이 80μm, 스프링 구조 부분(14)의 길이(L3)가 2mm, 권수:25회의 본 발명에 의한 통전 검사 지그용 접촉자의 스프링 하중은 2gf/0.2mm였다. 또, 내측에 금 도금층을 구비하고 있는 Ni 전주층(13)의 두께가 10μm, 외경(φ1)이 50μm, 스프링 구조 부분(14)의 길이(L3)가 2mm, 권수:40회의 본 발명에 의한 통전 검사 지그용 접촉자의 스프링 하중은 4gf/0.2mm였다.The thickness of the
본 발명의 제조법에 의해 제조한 전주제의 스프링 구조를 구비하고 있는 매우 가늘고, 얇은 통전 검사 지그용 접촉자(20, 20a)(도 4)는 일단측을 검체에 대한 접촉단으로 하고, 타단측을 통전 검사 지그에 대한 접속부로서 사용된다.The ultra-thin, thin current conduction
이 경우, 도 4(a)에 있어서 부호 17로 나타낸 일단측을 검체에 대한 접촉단으로 하고, 부호 16으로 나타낸 타단측을 통전 검사 지그에 대한 접속부로 하여 사용하는 것이 가능하다.In this case, it is possible to use one end side indicated by
또, 도 7에 도시한 바와 같이, 내부에 도전성의 핀(26)을 삽입하고, 통전 검사 지그용 접촉자(20)의 선단(17)측에 닿는 핀(26)의 선단(27)을 검체에 대한 접촉단으로 함으로써, 통전 검사 지그용 접촉자(20)의 일단측을 검체에 대한 접촉단으로 할 수도 있다.In addition, as shown in Fig. 7, the
도 7에 도시한 형태의 경우에는, 도면 중, 부호 18로 나타내는 부분에 있어서, 코킹, 용접, 접착제 등의 수단에 의해 핀(26)을 고정할 수 있다.In the case of the form shown in FIG. 7, the
또, 도 7에 도시한 형태의 경우, 내부에 삽입되어 있는 도전성의 핀(26)은 도전성이 좋은 금속선, 예를 들면 백금·로듐 또는 그들의 합금으로 이루어지는 극세선, 또는 Ni도금상에 Au도금한 텅스텐이나 BeCu(베릴륨구리)제의 극세선으로 할 수 있다.In the case shown in Fig. 7, the
통전 검사 지그용 접촉자(20)의 부호 17로 나타내는 일단측을 검체에 대한 접촉단으로 하는 경우, 또는 통전 검사 지그용 접촉자(20)의 일단측에 닿는 핀(26)의 선단(27)을 검체에 대한 접촉단으로 하는 경우의 어느 쪽이어도, 접촉단의 형상은 테이퍼 형상(도 8(a)), R이 있는 만곡 형상(도 8(b)), 평탄한 플랫 형상(도 8(c)), 왕관(크라운) 형상(도 8(d)) 등, 다양한 형상으로 할 수 있다.When the one end side shown by the code |
통전 검사 지그용 접촉자(20, 20a)(도 4, 도 7)는 LSI 등의 집적회로의 제조에 있어서의 기판 검사용의 콘택트 프로브로서 사용할 수 있다. 또, 이 통전 검사 지그용 접촉자(20, 20a)(도 4, 도 7)를 구비하고 있는 통전 검사 지그는 전자 디바이스 기판, 회로 배선 기판 등의 통전 검사 뿐만아니라, 그 밖에 극미세, 고밀도의 검체의 통전 검사에 사용된다.
이상, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시형태를 설명했는데, 본 발명은 이러한 실시형태에 한정되는 것은 아니며, 특허청구의 범위의 기재로부터 파악되는 기술적 범위에 있어서 다양한 형태로 변경 가능하다. 예를 들면, 상기 실시예에서는 심재가 되는 SUS선(11)의 외주에 도금에 의해 금 도금층(12)을 형성했지만, 금 도금층 대신에 금합금의 도금층을 형성해도 된다.As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described with reference to an accompanying drawing, this invention is not limited to this embodiment, It can change into various forms in the technical scope grasped | ascertained from description of a claim. For example, in the said Example, although the
11…SUS선(심재)
12…금 도금층
13…Ni 전주층
14…스파이럴 구조부
30…레지스트층
31…나선상의 홈
31a…나선상의 홈(슬릿)
20, 20a, 21, 22…통전 검사 지그용 접촉자11 ... SUS wire (core material)
12... Gold plated layer
13 ... Ni pole layer
14 ... Spiral Rescue
30 ... Resist layer
31 ... Spiral home
31a... Spiral Grooves (Slits)
20, 20a, 21, 22... Contact for Jig
Claims (3)
상기 Ni 전주층의 외주에 레지스트층을 형성한 후, 레이저로 노광하여 상기 레지스트층에 나선상의 홈을 형성하고,
상기 레지스트층을 마스킹재로 하여 에칭을 행하고, 상기 레지스트층에 나선상의 홈이 형성되어 있던 부분의 Ni 전주층을 제거하고,
상기 레지스트층을 제거함과 아울러, 상기 Ni 전주층이 제거된 나선상의 홈 부분의 상기 도금층을 제거하고,
상기 도금층을 상기 Ni 전주층의 내주에 남긴 채 상기 심재만을 제거하여
전주제의 스프링 구조를 구비하고 있는 통전 검사 지그용 접촉자를 제조하는 것을 특징으로 하는 방법.After the plating layer of gold or gold alloy is formed on the outer circumference of the core material, a Ni electroforming layer is formed on the outer circumference of the formed plating layer by electroforming.
After forming a resist layer on the outer periphery of said Ni electroforming layer, it exposes by a laser and forms a spiral groove in the said resist layer,
Etching is performed using the resist layer as a masking material, and a Ni electroforming layer in a portion where a spiral groove is formed in the resist layer is removed,
While removing the resist layer, the plating layer of the spiral groove portion from which the Ni electroforming layer was removed,
By removing only the core material while leaving the plating layer on the inner circumference of the Ni electroforming layer
A method for manufacturing a contactor for an energization inspection jig having a spring structure of a main agent.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2010-029354 | 2010-02-12 | ||
JP2010029354A JP4572303B1 (en) | 2010-02-12 | 2010-02-12 | Method for manufacturing contact for electric current inspection jig, contact for electric current inspection jig manufactured thereby, and electric current inspection jig including the same |
PCT/JP2011/051560 WO2011099371A1 (en) | 2010-02-12 | 2011-01-27 | Manufacturing method for contact for current inspection jig, contact for current inspection jig manufactured using said method, and current inspection jig provided with said contact |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20120120278A true KR20120120278A (en) | 2012-11-01 |
KR101783382B1 KR101783382B1 (en) | 2017-09-29 |
Family
ID=43319572
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020127020385A KR101783382B1 (en) | 2010-02-12 | 2011-01-27 | Manufacturing method for contact for current inspection jig, contact for current inspection jig manufactured using said method, and current inspection jig provided with said contact |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9109294B2 (en) |
EP (1) | EP2535726B1 (en) |
JP (1) | JP4572303B1 (en) |
KR (1) | KR101783382B1 (en) |
CN (1) | CN102753980B (en) |
SG (1) | SG183281A1 (en) |
TW (1) | TWI516770B (en) |
WO (1) | WO2011099371A1 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101521722B1 (en) * | 2012-12-04 | 2015-05-19 | 니혼덴산리드가부시키가이샤 | Conveying apparatus and contactor assembling device |
KR20190073539A (en) * | 2016-12-16 | 2019-06-26 | 니혼덴산리드가부시키가이샤 | Contact probes and electrical connection jigs |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5903888B2 (en) * | 2010-03-15 | 2016-04-13 | 日本電産リード株式会社 | Connection terminal and inspection jig |
JP2012049100A (en) * | 2010-07-30 | 2012-03-08 | Nidec-Read Corp | Connection terminal, and method of manufacturing connection terminal |
KR20140041746A (en) * | 2011-06-22 | 2014-04-04 | 메이코 일렉트로닉스 컴파니 리미티드 | Spiral probe and manufacturing method for same |
JP5845678B2 (en) * | 2011-07-21 | 2016-01-20 | 日本電産リード株式会社 | Inspection contact and inspection jig |
JP5821432B2 (en) * | 2011-09-05 | 2015-11-24 | 日本電産リード株式会社 | Connection terminal and connection jig |
JP2014025737A (en) | 2012-07-25 | 2014-02-06 | Nidec-Read Corp | Inspecting tool and contact |
JP6168384B2 (en) * | 2012-12-28 | 2017-07-26 | 日本電産リード株式会社 | Chuck and processing device |
TWI555987B (en) * | 2014-01-28 | 2016-11-01 | Spring sleeve type probe and its manufacturing method | |
TWI548879B (en) * | 2014-01-28 | 2016-09-11 | Spring sleeve probe | |
JP5926763B2 (en) * | 2014-04-24 | 2016-05-25 | 日本発條株式会社 | Manufacturing method of stabilizer bar with rubber bush |
JP6411169B2 (en) * | 2014-10-22 | 2018-10-24 | 株式会社日本マイクロニクス | Electrical contact and electrical connection device |
JP6484137B2 (en) * | 2014-11-26 | 2019-03-13 | 株式会社日本マイクロニクス | Probe and contact inspection device |
JP6484136B2 (en) * | 2015-07-27 | 2019-03-13 | 株式会社日本マイクロニクス | Contact inspection device |
JP2017142080A (en) * | 2016-02-08 | 2017-08-17 | 日本電産リード株式会社 | Contact terminal, inspection tool, and inspection device |
KR101996789B1 (en) * | 2016-11-30 | 2019-07-04 | 니혼덴산리드가부시키가이샤 | Contact terminal, inspection jig and inspection device |
JP6892277B2 (en) * | 2017-02-10 | 2021-06-23 | 株式会社日本マイクロニクス | Probes and electrical connections |
JP7005939B2 (en) | 2017-05-25 | 2022-01-24 | 日本電産リード株式会社 | Contact probe |
JP7098886B2 (en) * | 2017-07-04 | 2022-07-12 | 日本電産リード株式会社 | Contact terminals, inspection jigs, and inspection equipment |
CN110809805B (en) * | 2017-07-10 | 2021-10-26 | 株式会社协成 | Conductive member, contact pin, and device using copper-silver alloy |
CN109752574A (en) * | 2017-11-07 | 2019-05-14 | 特克特朗尼克公司 | Probe end and probe assembly |
JP2018116066A (en) * | 2018-04-11 | 2018-07-26 | 株式会社日本マイクロニクス | Electric contact and electric connection device |
TWI748171B (en) * | 2018-04-27 | 2021-12-01 | 日商日本電產理德股份有限公司 | Cylindrical body and its manufacturing method |
TW202210838A (en) * | 2020-09-11 | 2022-03-16 | 日商日本電產理德股份有限公司 | Contact terminal, inspection jig, inspection device, and manufacturing method |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ATE259966T1 (en) * | 1996-05-09 | 2004-03-15 | Harvard College | PRODUCTION OF SMALL COILS AND TAPES AS PHOTOMASKS ON OPTICAL FIBERS FOR GENERATING FIBER EMMITTERS, ELECTROMAGNETS AS MICRO-NMR COILS, MICROTRANSFORMERS AND INTRAVSCULAR STANTS |
US5951881A (en) * | 1996-07-22 | 1999-09-14 | President And Fellows Of Harvard College | Fabrication of small-scale cylindrical articles |
CN1246698C (en) * | 1998-07-10 | 2006-03-22 | 日本发条株式会社 | Conductive contact |
JP2002231399A (en) * | 2001-02-02 | 2002-08-16 | Fujitsu Ltd | Semiconductor device testing contact and manufacturing method therefor |
DE10297011T5 (en) * | 2001-07-02 | 2004-07-22 | NHK Spring Co., Ltd., Yokohama | Electrically conductive contact unit |
JP3889689B2 (en) * | 2002-09-24 | 2007-03-07 | 株式会社ルス・コム | Electroformed pipe manufacturing method and electroformed pipe |
JP2005129428A (en) * | 2003-10-27 | 2005-05-19 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Manufacturing method for telescopic contact, contact manufactured by the method and inspection device or electronic instrument provided with the contact |
JP2008025833A (en) * | 2006-06-21 | 2008-02-07 | Luzcom:Kk | Nickel electrocasting coiled ultrafine spring and nickel electrocasting pipe equipped with coiled spring structure partly |
JP4899681B2 (en) * | 2006-07-18 | 2012-03-21 | 富士ゼロックス株式会社 | Microchannel device |
JP5268135B2 (en) * | 2008-01-09 | 2013-08-21 | 学校法人東京電機大学 | Micro coil manufacturing method |
-
2010
- 2010-02-12 JP JP2010029354A patent/JP4572303B1/en active Active
-
2011
- 2011-01-27 SG SG2012059689A patent/SG183281A1/en unknown
- 2011-01-27 EP EP11742118.0A patent/EP2535726B1/en active Active
- 2011-01-27 US US13/578,436 patent/US9109294B2/en active Active
- 2011-01-27 WO PCT/JP2011/051560 patent/WO2011099371A1/en active Application Filing
- 2011-01-27 KR KR1020127020385A patent/KR101783382B1/en active IP Right Grant
- 2011-01-27 CN CN201180008947.1A patent/CN102753980B/en active Active
- 2011-02-11 TW TW100104567A patent/TWI516770B/en active
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101521722B1 (en) * | 2012-12-04 | 2015-05-19 | 니혼덴산리드가부시키가이샤 | Conveying apparatus and contactor assembling device |
KR20190073539A (en) * | 2016-12-16 | 2019-06-26 | 니혼덴산리드가부시키가이샤 | Contact probes and electrical connection jigs |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9109294B2 (en) | 2015-08-18 |
EP2535726A4 (en) | 2015-12-30 |
EP2535726A1 (en) | 2012-12-19 |
WO2011099371A1 (en) | 2011-08-18 |
KR101783382B1 (en) | 2017-09-29 |
TW201144816A (en) | 2011-12-16 |
US20130057309A1 (en) | 2013-03-07 |
JP4572303B1 (en) | 2010-11-04 |
EP2535726B1 (en) | 2018-07-11 |
TWI516770B (en) | 2016-01-11 |
CN102753980A (en) | 2012-10-24 |
JP2011164028A (en) | 2011-08-25 |
SG183281A1 (en) | 2012-09-27 |
CN102753980B (en) | 2015-03-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101783382B1 (en) | Manufacturing method for contact for current inspection jig, contact for current inspection jig manufactured using said method, and current inspection jig provided with said contact | |
US11408915B2 (en) | Cylindrical body and method for producing same | |
KR102461856B1 (en) | Manufacturing method of contact probes for inspection heads | |
KR20140013985A (en) | Jig and probe for inspection | |
KR20130105326A (en) | Probe and connection jig | |
JP2009128218A (en) | Electric contact and inspection tool having it | |
JP5255459B2 (en) | Contact probe | |
JPWO2010016608A1 (en) | Work member, electrical contact member, contact probe, and method of manufacturing electrical contact member | |
JP6221031B1 (en) | Contact probe and electrical connection jig | |
JP2007155474A (en) | Probe and its manufacturing method | |
KR20180129636A (en) | Contact probe | |
JP6814558B2 (en) | Electrical connection device and contact | |
JP2008096293A (en) | Manufacturing method of contact for inspection, contact for inspection, tool for inspection, and inspection device | |
US20140111238A1 (en) | Spiral probe and method of manufacturing the spiral probe | |
JP2008116284A (en) | Contact probe, and method for manufacturing the same | |
JP4074297B2 (en) | Manufacturing method of probe unit | |
CN117054698A (en) | Method for preparing probe tip and probe tip prepared by the same | |
JP2004233128A (en) | Probe unit and method of manufacturing probe unit | |
JP2009229087A (en) | Method of manufacturing contact probe | |
KR20080074755A (en) | Probe and probe assembly | |
JPWO2012176289A1 (en) | Spiral probe and manufacturing method thereof |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
N231 | Notification of change of applicant | ||
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |