KR20120116668A - Boat for supporting substrate, supporting unit including the boat and apparatus for processing substrate using the supporting unit - Google Patents

Boat for supporting substrate, supporting unit including the boat and apparatus for processing substrate using the supporting unit Download PDF

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Abstract

PURPOSE: A boat for supporting a substrate, a supporting unit including the same, and an apparatus for processing the substrate using the supporting unit are provided to improve product reliability by supporting an entire surface of a substrate when the substrate is processed. CONSTITUTION: A pair of outer main bars(141) is arranged while having a mutual interval. A pair of outer support bars is formed into a diameter smaller than that of the outer main bar and is combined to the outer main bar while being respectively laminated. A plurality of main connection bars(145) interconnects the pair of outer main bars. A plurality of support pins(145a) is formed in the main connection bar and supports the substrate.

Description

기판 지지용 보트, 보트를 포함하는 지지 유닛 및 지지 유닛을 사용한 기판 처리 장치 {BOAT FOR SUPPORTING SUBSTRATE, SUPPORTING UNIT INCLUDING THE BOAT AND APPARATUS FOR PROCESSING SUBSTRATE USING THE SUPPORTING UNIT}BOAT FOR SUPPORTING SUBSTRATE, SUPPORTING UNIT INCLUDING THE BOAT AND APPARATUS FOR PROCESSING SUBSTRATE USING THE SUPPORTING UNIT}

본 발명은 기판의 처리시 기판이 처짐에 의하여 변형되는 것을 방지한 기판 지지용 보트, 보트를 포함하는 지지 유닛 및 지지 유닛을 사용한 기판 처리 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate support boat, a support unit including a boat, and a substrate processing apparatus using the support unit, wherein the substrate is prevented from being deformed by sag during processing of the substrate.

기판 처리 장치는, 평판 디스플레이의 제조시 사용되며, 증착(Vapor Deposition) 장치와 어닐링(Annealing) 장치로 대별된다.The substrate processing apparatus is used for manufacturing a flat panel display, and is roughly divided into a vapor deposition apparatus and an annealing apparatus.

증착 장치는 평판 디스플레이의 핵심 구성을 이루는 투명 전도층, 절연층, 금속층 또는 실리콘층을 형성하는 장치로써, LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition) 또는 PECVD(Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) 등과 같은 화학 증착 장치와 스퍼터링(Sputtering) 등과 같은 물리 증착 장치가 있다.The deposition apparatus is a device for forming a transparent conductive layer, an insulating layer, a metal layer, or a silicon layer, which constitute the core of a flat panel display, and is a chemical vapor deposition apparatus such as low pressure chemical vapor deposition (LPCVD) or plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD). And physical vapor deposition apparatuses such as sputtering.

그리고, 어닐링 장치는 기판에 막을 증착을 한 후, 증착된 막의 특성을 향상시키는 장치로써, 증착된 막을 결정화 또는 상 변화시키기 위하여 열처리하는 처리 장치다.The annealing device is a device that improves the properties of the deposited film after depositing a film on the substrate, and is a processing device that performs heat treatment to crystallize or phase change the deposited film.

일반적으로, 기판 처리 장치는 하나의 기판을 처리하는 매엽식(Single Substrate Type)과 복수의 기판을 처리하는 배치식(Batch Type)이 있다. 매엽식 기판 처리 장치는 구성이 간단한 이점이 있으나 생산성이 떨어지는 단점이 있어, 대량 생산에는 배치식 기판 처리 장치가 많이 사용된다.Generally, a substrate processing apparatus includes a single substrate type for processing one substrate and a batch type for processing a plurality of substrates. Single sheet substrate processing apparatus has a simple configuration, but has a disadvantage of low productivity, a batch substrate processing apparatus is frequently used for mass production.

배치식 기판 처리 장치에는 기판이 처리되는 공간을 제공하는 챔버가 형성되고, 챔버에는 챔버로 로딩된 기판을 지지하는 보트가 필수적으로 사용된다.In the batch substrate processing apparatus, a chamber is provided which provides a space in which the substrate is processed, and a boat for supporting the substrate loaded into the chamber is essentially used.

그런데, 종래의 보트는 기판의 전체면을 지지하지 못하므로, 기판이 처리될 때, 기판이 자중에 의하여 휘어서 변형될 우려가 있다. 이로 인해, 평판 디스플레이의 특성이 저하되어, 제품의 신뢰성이 저하되는 문제점이 있었다.However, the conventional boat does not support the entire surface of the substrate, so when the substrate is processed, the substrate may be bent and deformed by its own weight. For this reason, there existed a problem that the characteristic of a flat panel display fell and the reliability of a product fell.

본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점을 해소하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 기판의 전체면을 지지할 수 있도록 구성하여 제품의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 기판 지지용 보트, 보트를 포함하는 지지 유닛 및 지지 유닛을 사용한 기판 처리 장치를 제공함에 있다.The present invention has been made to solve the problems of the prior art as described above, the object of the present invention is configured to support the entire surface of the substrate includes a boat for supporting the substrate, which can improve the reliability of the product, boat To provide a support unit and a substrate processing apparatus using the support unit.

본 발명의 다른 목적은 간단한 구조로 제조 원가를 절감할 수 있는 보트를 포함하는 지지 유닛 및 지지 유닛을 사용한 기판 처리 장치를 제공함에 있다.Another object of the present invention to provide a substrate processing apparatus using a support unit and a support unit including a boat that can reduce the manufacturing cost with a simple structure.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판 지지용 보트는, 상호 간격을 가지면서 배치된 한쌍의 외측 메인바; 상기 외측 메인바의 직경 보다 작은 직경으로 형성되어 상기 외측 메인바에 각각 적층되는 형태로 결합되며, 기판의 테두리부측이 지지되는 한쌍의 외측 지지바; 상기 한쌍의 외측 메인바를 상호 연결하는 복수의 메인 연결바; 상기 메인 연결바에 형성되어 상기 기판을 지지하는 복수의 지지핀을 포함한다.Board for supporting the substrate according to the present invention for achieving the above object, a pair of outer main bar disposed at intervals; A pair of outer support bars formed in a diameter smaller than the diameter of the outer main bar and coupled to the outer main bar to be stacked on the outer main bar, the edge portions of the substrate being supported; A plurality of main connecting bars interconnecting the pair of outer main bars; It is formed on the main connecting bar includes a plurality of support pins for supporting the substrate.

또한, 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 지지 유닛은, 상호 평행하게 배치되며, 일단부측 및 타단부측이 상대물에 각각 결합된 한쌍의 크로스 지지바; 상호 간격을 가지면서 배치되며 일단부측 각각은 어느 하나의 상기 크로스 지지바에 지지되고, 타단부측 각각은 다른 하나의 상기 크로스 지지바에 지지된 한쌍의 외측 메인바; 상기 외측 메인바의 직경 보다 작은 직경으로 형성되어 상기 외측 메인바에 각각 적층되는 형태로 결합되며, 기판의 테두리부측이 지지되는 한쌍의 외측 지지바; 상기 한쌍의 외측 메인바를 상호 연결하는 복수의 메인 연결바; 상기 메인 연결바에 형성되어 상기 기판을 지지하는 복수의 지지핀을 포함한다.In addition, the support unit according to the present invention for achieving the above object is disposed in parallel with each other, a pair of cross support bars, one end side and the other end side coupled to the counterpart, respectively; A pair of outer main bars disposed at intervals from each other and having one end side supported by one of the cross support bars, and the other end side supported by the other one of the cross support bars; A pair of outer support bars formed in a diameter smaller than the diameter of the outer main bar and coupled to the outer main bar to be stacked on the outer main bar, the edge portions of the substrate being supported; A plurality of main connecting bars interconnecting the pair of outer main bars; It is formed on the main connecting bar includes a plurality of support pins for supporting the substrate.

또한, 상기 목적을 달성하기 위한 기판 처리 장치는, 기판이 투입되어 처리되는 챔버가 형성된 본체; 일단부측 및 타단부측이 상기 본체의 측벽에 각각 결합되며, 상기 챔버에 위치되어 상호 평행하게 배치된 한쌍의 크로스 지지바; 상호 간격을 가지면서 배치되며 일단부측 각각은 어느 하나의 상기 크로스 지지바에 지지되고, 타단부측 각각은 다른 하나의 상기 크로스 지지바에 지지된 한쌍의 외측 메인바; 상기 외측 메인바의 직경 보다 작은 직경으로 형성되어 상기 외측 메인바에 각각 적층되는 형태로 결합되며, 기판의 테두리부측이 지지되는 한쌍의 외측 지지바; 상기 한쌍의 외측 메인바를 상호 연결하는 복수의 메인 연결바; 상기 메인 연결바에 형성되어 상기 기판을 지지하는 복수의 지지핀; 일단부측 및 타단부측이 상기 본체의 측벽에 각각 결합되어 상기 크로스 지지바와 평행을 이루며, 상기 외측 메인바 및 상기 외측 지지바를 사이에 두는 형태로 배치된 복수의 히터를 포함한다.In addition, the substrate processing apparatus for achieving the above object, the main body is formed with a chamber in which the substrate is inserted and processed; A pair of cross support bars having one end side and the other end side coupled to sidewalls of the main body, respectively, disposed in the chamber and disposed in parallel to each other; A pair of outer main bars disposed at intervals from each other and having one end side supported by one of the cross support bars, and the other end side supported by the other one of the cross support bars; A pair of outer support bars formed in a diameter smaller than the diameter of the outer main bar and coupled to the outer main bar to be stacked on the outer main bar, the edge portions of the substrate being supported; A plurality of main connecting bars interconnecting the pair of outer main bars; A plurality of support pins formed on the main connection bar to support the substrate; One end side and the other end side are coupled to the side wall of the main body, respectively, parallel to the cross support bar, and includes a plurality of heaters disposed in such a way as to sandwich the outer main bar and the outer support bar.

본 발명에 따른 기판 지지용 보트, 보트를 포함하는 지지 유닛 및 지지 유닛을 사용한 기판 처리 장치는, 기판의 처리시, 기판의 전체면을 지지하므로, 기판이 자중에 의하여 휘어서 변형될 우려가 없다. 따라서, 평판 디스플레이 제품의 신뢰성이 향상되는 효과가 있다.Since the board | substrate support boat which concerns on this invention, the support unit containing a boat, and the board | substrate processing apparatus using a support unit support the whole surface of a board | substrate at the time of processing of a board | substrate, there is no possibility that a board | substrate may be bent and deformed by own weight. Therefore, the reliability of the flat panel display product is improved.

또한, 본 발명에 따른 보트를 포함하는 지지 유닛은 챔버를 형성하는 본체의 측벽에 지지되므로, 지지 유닛을 지지하기 위한 별도의 부품이 필요 없다. 따라서, 보트를 포함하는 지지 유닛 및 지지 유닛을 사용한 기판 처리 장치의 제조 원가가 절감되는 효과가 있다.In addition, since the support unit including the boat according to the present invention is supported on the side wall of the main body forming the chamber, there is no need for a separate component for supporting the support unit. Therefore, there is an effect that the manufacturing cost of the substrate processing apparatus using the support unit and the support unit including the boat is reduced.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 개략 사시도.
도 2는 도 1에 도시된 지지 유닛의 사시도.
도 3은 도 2에 도시된 어느 하나의 지지 유닛의 사시도.
도 4는 도 3에 도시된 보트의 사시도.1 is a schematic perspective view of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a perspective view of the support unit shown in FIG. 1. FIG.
3 is a perspective view of any one of the support units shown in FIG. 2.
4 is a perspective view of the boat shown in FIG.

후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시하여 도시한 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있도록 충분히 상세하게 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 상호 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 특정 구조 및 특성은 일 실시예와 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미가 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에 도시된 실시예들의 길이, 면적, 두께 및 형태는, 편의상, 과장되어 표현될 수도 있다.DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The following detailed description of the invention refers to the accompanying drawings that illustrate specific embodiments in which the invention may be practiced. These embodiments are described in sufficient detail to enable those skilled in the art to practice the invention. It should be understood that the various embodiments of the present invention are mutually exclusive, but need not be mutually exclusive. For example, certain features, specific structures, and features described herein may be implemented in other embodiments without departing from the spirit and scope of the invention in connection with one embodiment. It is also to be understood that the position or arrangement of the individual components within each disclosed embodiment may be varied without departing from the spirit and scope of the invention. The following detailed description, therefore, is not to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention is defined only by the appended claims, along with the full scope of equivalents to which such claims are entitled. The length, area, thickness, and shape of the embodiments shown in the drawings may be exaggerated for convenience.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들에 따른 기판 지지용 보트, 이를 포함하는 지지 유닛 및 지지 유닛을 사용한 기판 처리 장치를 상세히 설명한다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, a boat for supporting a substrate, a support unit including the same, and a substrate processing apparatus using the support unit will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 실시예들을 설명함에 있어서, 기판의 처리라 함은 기판을 가열 및 냉각하는 공정, 기판에 소정의 막을 증착하기 위한 모든 공정, 기판에 증착된 소정의 막을 어닐링, 결정화 또는 상변화 하기 위한 모든 열처리 공정 등을 포함하는 개념으로 이해되어야 한다.In describing the embodiments, the treatment of the substrate refers to a process of heating and cooling the substrate, all processes for depositing a predetermined film on the substrate, and all heat treatments for annealing, crystallizing, or phase changing a predetermined film deposited on the substrate. It should be understood as a concept including processes and the like.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 개략 사시도이고, 도 2는 도 1에 도시된 지지 유닛의 사시도이다.1 is a schematic perspective view of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a perspective view of the support unit shown in FIG. 1.

도시된 바와 같이, 기판 처리 장치는 대략 직육면체 형상으로 형성되어 외관을 이루는 본체(110)를 포함하고, 본체(110)의 내부에는 기판(50)이 처리되는 챔버(113)가 형성된다. 본체(110)는 직육면체 형상뿐만 아니라 기판(50)의 형상에 따라 다양한 형상으로 형성될 수 있다. 그리고, 챔버(113)는 밀폐된 공간으로 마련된다.As shown, the substrate processing apparatus includes a main body 110 formed in a substantially rectangular parallelepiped shape to form an appearance, and a chamber 113 in which the substrate 50 is processed is formed inside the main body 110. The main body 110 may be formed in various shapes according to the shape of the substrate 50 as well as the rectangular parallelepiped shape. The chamber 113 is provided as a closed space.

본체(110)의 전면은 개방되어 도어(115)가 설치되는데, 도어(115)는 챔버(113)를 개폐한다. 도어(115)를 열어 챔버(113)를 개방한 상태에서, 지그(미도시) 등으로 기판(50)을 지지하여 기판(50)을 챔버(113)의 내부로 로딩한다. 그리고, 도어(115)를 닫아 챔버(113)를 폐쇄한 상태에서, 기판(50)을 처리한다. 기판(50)의 재질은 특별히 제한되지 않으며 글래스, 플라스틱, 폴리머, 실리콘 웨이퍼 또는 스테인레스 스틸 등과 같은 재질로 형성될 수 있다.The front surface of the main body 110 is opened so that the door 115 is installed, and the door 115 opens and closes the chamber 113. In the state in which the door 115 is opened to open the chamber 113, the substrate 50 is supported by a jig (not shown) or the like to load the substrate 50 into the chamber 113. The substrate 50 is processed while the door 115 is closed and the chamber 113 is closed. The material of the substrate 50 is not particularly limited and may be formed of a material such as glass, plastic, polymer, silicon wafer or stainless steel.

본체(110)의 상면도 개방될 수 있으며 이를 위하여 커버(117)가 설치되는데, 챔버(113)는 커버(117)에 의하여도 개폐된다. 커버(117)의 재질은 석영인 것이 바람직하나 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 커버(117)는 챔버(113)의 내부에 설치된, 기판(50)의 처리에 필요한, 부품들의 수리 또는 교체시 챔버(113)의 내부를 개방한다.The upper surface of the main body 110 may also be opened, and for this purpose, a cover 117 is installed, and the chamber 113 is also opened and closed by the cover 117. The material of the cover 117 is preferably quartz, but is not necessarily limited thereto. The cover 117 opens the interior of the chamber 113 upon repair or replacement of the components required for the processing of the substrate 50, installed inside the chamber 113.

챔버(113)의 내부에 설치되는 상기 부품들에는 기판(50)을 탑재시켜 지지하는 지지 유닛(120), 기판(50)을 가열하기 위한 히터(150), 기판(50)을 냉각시키기 위한 냉각관(160) 등이 있다.The components installed inside the chamber 113 include a support unit 120 mounted with a substrate 50 to support the heater 150, a heater 150 for heating the substrate 50, and a cooling for cooling the substrate 50. Tube 160 and the like.

히터(150)는 좌단부측 및 우단부측이 본체(110)의 좌측벽 및 우측벽에 각각 지지되며, 후술할 지지 유닛(120)의 크로스 지지바(130)와 평행을 이룬다. 히터(150)는 본체(110)의 전면측에서 후면측으로 소정 간격을 가지면서 복수개 설치됨과 동시에, 본체(110)의 상측에서 하측으로 소정 간격을 가지면서 복수개 설치된다.The heater 150 has a left end side and a right end side supported on the left side wall and the right side wall of the main body 110, respectively, and is parallel to the cross support bar 130 of the support unit 120 to be described later. A plurality of heaters 150 are installed with a predetermined interval from the front side to the rear side of the main body 110, and a plurality of heaters 150 are installed with the predetermined interval from the upper side to the lower side of the main body 110.

이때, 본체(110)의 상측에 위치된 히터(150)와 하측에 위치된 히터(150) 사이에 지지 유닛(120)의 외측 지지바(143)(도 3 및 도 4 참조)가 위치된다. 그리고, 본체(110)의 전면측에 위치된 히터(150)와 후면측에 위치된 히터(150) 사이에 냉각관(160)이 위치된다.At this time, the outer support bar 143 (see FIGS. 3 and 4) of the support unit 120 is positioned between the heater 150 positioned above the main body 110 and the heater 150 positioned below. In addition, the cooling tube 160 is positioned between the heater 150 positioned at the front side and the heater 150 positioned at the rear side of the main body 110.

도 1의 미설명 부호 170은 기판 처리 장치를 지지하는 지지프레임이다.Reference numeral 170 in FIG. 1 is a support frame that supports the substrate processing apparatus.

본 발명의 일 실시예에 따른 지지 유닛(120)에 대하여 도 1 내지 도 3을 참조하여 설명한다. 도 3은 도 2에 도시된 어느 하나의 지지 유닛의 사시도이다.A support unit 120 according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 3. 3 is a perspective view of any one of the support units shown in FIG. 2.

도시된 바와 같이, 지지 유닛(120)은 쌍을 이루는 크로스 지지바(130)와 보트(140)를 가진다. 본 실시예에 따른 기판 처리 장치는 복수의 기판(50)을 한번에 처리 할 수 있도록, 지지 유닛(120)이 적층된 형태로 복수개 설치된다.As shown, the support unit 120 has a pair of cross support bars 130 and a boat 140. In the substrate processing apparatus according to the present embodiment, a plurality of substrates 50 are provided in a stacked form so that the plurality of substrates 50 can be processed at one time.

한쌍으로 마련된 크로스 지지바(130)는 본체(110)의 하면을 기준으로 동일 높이에 위치되어 상호 평행하게 배치된다. 이때, 어느 하나의 크로스 지지바(130)는 도어(115)와 인접한 본체(110)의 전면측 양측벽에 지지되고, 다른 하나의 크로스 지지바(130)는 본체(110)의 후면측 양측벽에 지지된다.The pair of cross support bars 130 are provided at the same height with respect to the lower surface of the main body 110 and are disposed in parallel to each other. At this time, one cross support bar 130 is supported on both side walls of the front side of the main body 110 adjacent to the door 115, the other cross support bar 130 is both side walls of the rear side of the main body 110 Is supported.

크로스 지지바(130)의 지지구조를 상세히 설명한다.The supporting structure of the cross support bar 130 will be described in detail.

크로스 지지바(130)의 좌단부측 및 우단부측은 본체(110)의 좌측벽 및 우측벽을 관통하여 본체(110)의 외측에 위치되고, 본체(110)의 좌측벽 및 우측벽에는 크로스 지지바(130)를 지지하는 지지 브라켓(135)이 결합된다.The left end side and the right end side of the cross support bar 130 are positioned outside the main body 110 through the left and right walls of the main body 110, and the cross support bars on the left and right walls of the main body 110. The support bracket 135 supporting the 130 is coupled.

지지 브라켓(135)의 상면에는 상호 직교하는 형태로 지지홈(135a) 및 걸림홈(135b)이 각각 형성된다. 크로스 지지바(130)와 평행하게 형성된 지지홈(135a)에는 본체(110)의 외측으로 노출된 크로스 지지바(130)의 단부 하부측이 삽입 지지된다. 그리고, 크로스 지지바(130)와 직교하는 걸림홈(135b)에는 크로스 지지바(130)의 단부측 외주면에 형성된 걸림링(131)이 삽입 지지된다.The upper surface of the support bracket 135 is formed with a support groove 135a and a locking groove 135b in a form orthogonal to each other. The lower end portion of the cross support bar 130 exposed to the outside of the main body 110 is inserted and supported in the support groove 135a formed in parallel with the cross support bar 130. In addition, the locking groove 135b orthogonal to the cross support bar 130 is inserted and supported by the locking ring 131 formed on the outer peripheral surface of the end side of the cross support bar 130.

지지홈(135a)에 크로스 지지바(130)의 단부측이 삽입 지지되고, 걸림홈(135b)에 걸림링(131)이 삽입 지지되므로, 크로스 지지바(130)가 지지 브라켓(135)에 의하여 견고하게 지지되는 것이다.Since the end side of the cross support bar 130 is inserted and supported in the support groove 135a, and the locking ring 131 is inserted and supported in the locking groove 135b, the cross support bar 130 is supported by the support bracket 135. It is firmly supported.

본 실시예에 따른 보트를 도 3 및 도 4를 참조하여 설명한다. 도 4는 도 3에 도시된 보트의 사시도이다.The boat according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 3 and 4. 4 is a perspective view of the boat shown in FIG.

도시된 바와 같이, 보트(140)는 기판(50)의 처리시 고온에 견딜 수 있음과 동시에 구조의 변화가 거의 없는 석영으로 이루어지는 것이 바람직하다. 보트(140)는 상호 간격을 가지면서 배치된 한쌍의 외측 메인바(141)를 포함한다. 외측 메인바(141)의 전단부측 각각은 본체(110)(도 1 참조)의 전면측에 위치된 어느 하나의 크로스 지지바(130)에 지지되고, 후단부측은 본체(110)의 후면측에 위치된 다른 하나의 크로스 지지바(130)에 지지된다.As shown, the boat 140 is preferably made of quartz that can withstand high temperatures during the processing of the substrate 50 and hardly changes in structure. The boat 140 includes a pair of outer main bars 141 that are disposed at a distance from each other. Each of the front end side of the outer main bar 141 is supported by any one of the cross support bars 130 located at the front side of the main body 110 (see FIG. 1), and the rear end side of the outer main bar 141 is located at the rear side of the main body 110. It is supported by another cross support bar 130 positioned.

외측 메인바(141)를 크로스 지지바(130)에 견고하게 지지하기 위하여, 외측 메인바(141)의 전단부에는 어느 하나의 크로스 지지바(130)에 삽입 결합되는 제 1 걸림편(141a)이 각각 형성되고, 후단부에는 다른 하나의 크로스 지지바(130)에 지지되는 제 2 걸림편(141b)이 각각 형성된다.In order to firmly support the outer main bar 141 to the cross support bar 130, the front end of the outer main bar 141 is first engaging piece 141a inserted into and coupled to any one of the cross support bars 130. Each of which is formed, and the second end piece 141b supported by the other cross support bar 130 is formed at the rear end, respectively.

제 1 걸림편(141a)은 단면(斷面) 형상이 반원형으로 형성되어 크로스 지지바(130)에 삽입되고, 제 2 걸림편(141b)은 바 형상으로 형성되어 크로스 지지바(130)에 탑재 지지된다. 제 2 걸림편(141b)은 한쌍의 외측 메인바(141)에 좌단부측 및 우단부측이 각각 결합되어 한쌍의 외측 메인바(141)를 상호 연결하는 보조 연결바(147)에 형성될 수도 있다.The first locking piece 141a is formed in a semicircular cross section and inserted into the cross support bar 130, and the second locking piece 141b is formed in a bar shape and mounted on the cross support bar 130. Supported. The second locking piece 141b may be formed on the auxiliary connecting bar 147 which is coupled to the left end side and the right end side of the pair of outer main bars 141, respectively, to interconnect the pair of outer main bars 141.

제 1 걸림편(141a)이 크로스 지지바(130)에 삽입 결합되고, 제 2 걸림편(141b)이 크로스 지지바(130)에 탑재 지지되므로, 보트(140)는 견고하게 지지된다. 또한, 보트(140)의 제 1 걸림편(141a)이 반원형으로 형성되어 크로스 지지바(130)에 삽입되어 있으므로, 보트(140)를 상측으로 들기만 하면, 보트(140)가 크로스 지지바(130)로부터 분리된다. 따라서, 보트(140)를 크로스 지지바(130)로부터 용이하게 분리할 수 있다.Since the first locking piece 141a is inserted and coupled to the cross support bar 130, and the second locking piece 141b is supported to be mounted on the cross support bar 130, the boat 140 is firmly supported. In addition, since the first locking piece 141a of the boat 140 is formed in a semi-circular shape and inserted into the cross support bar 130, the boat 140 is simply formed by lifting the boat 140 upward. 130). Thus, the boat 140 can be easily separated from the cross support bar 130.

외측 메인바(141)에는 외측 지지바(143)가 각각 결합된다. 외측 메인바(141)에 외측 지지바(143)가 각각 결합되므로, 외측 지지바(143)도 한쌍으로 마련된다. 외측 지지바(143)는 외측 메인바(141)의 직경 보다 작은 직경으로 형성되어 외측 메인바(141)에 각각 적층되는 형태로 결합된다. 외측 지지바(143)에 기판(50)의 테두리부측이 지지된다.The outer support bar 143 is coupled to the outer main bar 141, respectively. Since the outer support bar 143 is coupled to the outer main bar 141, respectively, the outer support bar 143 is also provided in pairs. The outer support bar 143 is formed to a diameter smaller than the diameter of the outer main bar 141 is coupled in the form of being laminated to the outer main bar 141, respectively. The edge portion side of the substrate 50 is supported by the outer support bar 143.

외측 메인바(141)가 소정 이상의 강성(剛性)을 가지지 위해서는 외측 메인바(141)의 직경이 상대적으로 커야 한다. 그런데, 기판(50)을 외측 메인바(141)에 접촉시켜 지지하면, 외측 메인바(141)와 접촉하는 기판(50)의 부위가 균일하게 처리되지 않을 우려가 있다. 이로 인해, 외측 메인바(141) 보다 직경이 작은 외측 지지바(143)를 외측 메인바(141)에 결합하고, 외측 지지바(143)에 기판(50)을 접촉시켜 지지하는 것이다.In order for the outer main bar 141 to have a predetermined rigidity, the outer main bar 141 should have a relatively large diameter. By the way, when the substrate 50 is brought into contact with the outer main bar 141, the portion of the substrate 50 in contact with the outer main bar 141 may not be uniformly processed. Therefore, the outer support bar 143 having a smaller diameter than the outer main bar 141 is coupled to the outer main bar 141, and the substrate 50 is brought into contact with and supported by the outer support bar 143.

한쌍의 외측 메인바(141)는 복수의 메인 연결바(145)에 의하여 상호 결합된다. 그리고, 메인 연결바(145)에는 기판(50)을 지지하는 복수의 지지핀(145a)이 결합된다. 지지핀(145a)에 의하여 기판(50)의 전체 부위가 골고루 지지되므로, 기판(50)이 자중 등에 의하여 처져서 변형되는 것이 방지된다.The pair of outer main bars 141 are coupled to each other by a plurality of main connecting bars 145. In addition, a plurality of support pins 145a supporting the substrate 50 are coupled to the main connection bar 145. Since the entire portion of the substrate 50 is evenly supported by the support pins 145a, the substrate 50 is prevented from sagging due to its own weight or the like.

지지핀(145a)은 메인 연결바(145)에 착탈가능하게 결합되는 것이 바람직하다. 지지핀(145a)을 메인 연결바(145)에 착탈할 수 있으면, 기판(50)의 자중에 의하여 기판(50)이 처지는 부위에 지지핀(145a)을 집중적으로 배치할 수 있으므로, 기판(50)이 변형되는 것을 완전하게 방지할 수 있다.The support pin 145a is preferably detachably coupled to the main connecting bar 145. If the support pins 145a can be attached to or detached from the main connecting bar 145, the support pins 145a can be concentrated at a portion where the substrate 50 sags due to the weight of the substrate 50, thereby providing a substrate 50. ) Can be completely prevented from deforming.

보트(140)의 외측 지지바(143)에는 복수의 기판(50)이 구획되어 지지될 수 있다. 이때, 구획되어 지지된 복수의 기판(50)이 외측 지지바(143) 상에서 유동하는 것을 방지하기 위하여, 외측 지지바(143)에는 복수의 스토퍼(143a)가 형성된다. 스토퍼(143a)는 기판(50)의 측면과 각각 접촉되어 기판(50)이 외측 지지바(143)의 길이방향으로 각각 유동하는 것을 방지한다.A plurality of substrates 50 may be partitioned and supported on the outer support bar 143 of the boat 140. At this time, in order to prevent the plurality of substrates 50 partitioned and supported from flowing on the outer support bar 143, a plurality of stoppers 143a are formed in the outer support bar 143. The stoppers 143a are in contact with the side surfaces of the substrate 50 to prevent the substrate 50 from flowing in the longitudinal direction of the outer support bar 143, respectively.

스토퍼(143a)도 외측 지지바(143)에 착탈가능하게 결합되는 것이 바람직하다. 그러면, 기판(50)의 크기에 따라 스토퍼(143a)를 착탈할 수 있으므로, 다양한 크기의 기판(50)을 외측 지지바(143)에 지지할 수 있다.The stopper 143a is also preferably detachably coupled to the outer support bar 143. Then, since the stopper 143a may be attached or detached according to the size of the substrate 50, the substrate 50 having various sizes may be supported by the outer support bar 143.

메인 연결바(145) 및 외측 지지바(143)에는 지지핀(145a) 및 스토퍼(143a)의 하부측이 각각 삽탈 가능하게 결합되는 제 1 결합홈(145b) 및 제 2 결합홈(143b)이 각각 형성된다.The first coupling groove 145b and the second coupling groove 143b to which the lower side of the support pin 145a and the stopper 143a are detachably coupled to the main connecting bar 145 and the outer support bar 143 are respectively. Each is formed.

외측 지지바(143)의 전단부측 및 후단부측에는 외측 지지바(143)와 직교하는 형태로 형성되어 기판(50)의 테두리부측을 지지하는 지지편(143c)이 형성될 수도 있다. 지지편(143c)에 의하여 기판(50)이 더욱 견고하게 지지된다.The support piece 143c may be formed on the front end side and the rear end side of the outer support bar 143 so as to be orthogonal to the outer support bar 143 to support the edge portion side of the substrate 50. The substrate 50 is more firmly supported by the support piece 143c.

외측 지지바(143)에 기판(50)이 구획되어 복수개 지지될 경우에는 지지편(143c)이 기판(50)과 대응되게 외측 지지바(143)의 중앙부측에는 형성될 수 있다.When the substrate 50 is divided and supported by the outer support bar 143, the support piece 143c may be formed at the center side of the outer support bar 143 to correspond to the substrate 50.

외측 메인바(141)의 전단부측 및 후단부측에는 지그(미도시)로 보트(140)를 걸어서 보트(141)를 챔버(113)(도 1 참조)로 로딩시키고, 챔버(113)로부터 언로딩시키기 위한 걸림후크(141c)가 각각 형성된다. 상기 지그로 걸림후크(141c)를 걸 때, 상기 지그가 지지판(145a) 및 걸림핀(143a)의 간섭을 받지 않도록 걸림후크(141c)의 높이를 적절하게 조절하면 된다.On the front end side and the rear end side of the outer main bar 141, the boat 140 is hanged with a jig (not shown) to load the boat 141 into the chamber 113 (see FIG. 1), and to unload it from the chamber 113. The hook hooks 141c are formed respectively. When the hook hook 141c is hooked with the jig, the height of the hook hook 141c may be appropriately adjusted so that the jig does not interfere with the support plate 145a and the hook pin 143a.

본 실시예에 따른 기판 지지용 보트, 이를 포함하는 지지 유닛 및 지지 유닛을 사용한 기판 처리 장치는, 기판의 처리시, 기판의 전체면을 지지하므로, 기판이 자중에 의하여 휘어서 변형될 우려가 없다. 따라서, 평판 디스플레이 제품의 신뢰성이 향상되는 효과가 있다.The substrate support boat according to the present embodiment, the support unit including the same, and the substrate processing apparatus using the support unit support the entire surface of the substrate during the processing of the substrate, so that the substrate is not deformed due to its own weight. Therefore, the reliability of the flat panel display product is improved.

또한, 지지 유닛이 챔버를 형성하는 본체의 측벽에 지지되므로, 지지 유닛을 지지하기 위한 별도의 부품이 필요 없다. 따라서, 지지 유닛 및 이를 사용하는 기판 처리 장치의 제조 원가가 절감되는 효과가 있다.In addition, since the support unit is supported on the side wall of the main body forming the chamber, no separate part for supporting the support unit is required. Therefore, the manufacturing cost of the support unit and the substrate processing apparatus using the same can be reduced.

상기와 같이 기술된 본 발명의 실시예들에 대한 도면은 자세한 윤곽 라인을 생략하여, 본 발명의 기술사상에 속하는 부분을 쉽게 알 수 있도록 개략적으로 도시한 것이다. 또한, 상기 실시예들은 본 발명의 기술사상을 한정하는 기준이 될 수 없으며, 본 발명의 청구범위에 포함된 기술사항을 이해하기 위한 참조적인 사항에 불과하다.The drawings of the embodiments of the present invention described above are schematically illustrated so as to easily understand the parts belonging to the technical idea of the present invention by omitting detailed outline lines. It should be noted that the above-described embodiments are not intended to limit the technical spirit of the present invention and are merely a reference for understanding the technical scope of the present invention.

110: 본체 113: 챔버
120: 지지 유닛 130: 크로스 지지바
140: 보트110: main body 113: chamber
120: support unit 130: cross support bar
140: boat

Claims (28)

상호 간격을 가지면서 배치된 한쌍의 외측 메인바;
상기 외측 메인바의 직경 보다 작은 직경으로 형성되어 상기 외측 메인바에 각각 적층되는 형태로 결합되며, 기판의 테두리부측이 지지되는 한쌍의 외측 지지바;
상기 한쌍의 외측 메인바를 상호 연결하는 복수의 메인 연결바;
상기 메인 연결바에 형성되어 상기 기판을 지지하는 복수의 지지핀을 포함하는 것을 특징으로 하는 보트.A pair of outer main bars disposed at intervals from each other;
A pair of outer support bars formed in a diameter smaller than the diameter of the outer main bar and coupled to the outer main bar to be stacked on the outer main bar, the edge portions of the substrate being supported;
A plurality of main connecting bars interconnecting the pair of outer main bars;
And a plurality of support pins formed on the main connecting bar to support the substrate. 제1항에 있어서,
상기 외측 지지바에는 복수의 기판이 구획되어 지지되고,
상기 외측 지지바에는 상기 기판의 측면과 각각 접촉되어 상기 기판이 상기 외측 지지바의 길이방향으로 각각 유동하는 것을 방지하는 복수의 스토퍼가 각각 형성된 것을 특징으로 하는 보트.The method of claim 1,
A plurality of substrates are partitioned and supported by the outer support bar,
The outer support bar is a boat, characterized in that each of the plurality of stoppers are formed in contact with the side of the substrate to prevent the substrate from flowing in the longitudinal direction of the outer support bar, respectively. 제2항에 있어서,
상기 지지핀 및 상기 스토퍼는 상기 메인 연결바 및 상기 외측 지지바에 각각 착탈가능하게 결합된 것을 특징으로 하는 보트.The method of claim 2,
The support pin and the stopper is characterized in that the boat is detachably coupled to the main connecting bar and the outer support bar, respectively. 제3항에 있어서,
상기 메인 연결바 및 상기 외측 지지바에는 상기 지지핀 및 상기 스토퍼의 일측이 각각 삽탈 가능하게 결합되는 제 1 결합홈 및 제 2 결합홈이 각각 형성된 것을 특징으로 하는 보트.The method of claim 3,
Boats, characterized in that the main connecting bar and the outer support bar is formed with a first coupling groove and a second coupling groove, respectively, the one side of the support pin and the stopper is detachably coupled. 제1항에 있어서,
상기 외측 메인바의 일단부측 및 타단부측에는 지그로 상기 보트를 걸어서 상기 보트를 이동시키기 위한 걸림후크가 각각 형성된 것을 특징으로 하는 보트.The method of claim 1,
One end of the outer main bar and the other end side of the boat, characterized in that each hook hook for moving the boat by the jig is formed on the boat. 제1항에 있어서,
상기 외측 지지바에는 상기 외측 지지바와 직교하는 형태로 형성되어 상기 기판의 테두리부측을 지지하는 지지편이 형성된 것을 특징으로 하는 보트.The method of claim 1,
The outer support bar is formed in a form orthogonal to the outer support bar, characterized in that the support piece for supporting the edge portion side of the substrate is formed. 상호 평행하게 배치되며, 일단부측 및 타단부측이 상대물에 각각 결합된 한쌍의 크로스 지지바;
상호 간격을 가지면서 배치되며 일단부측 각각은 어느 하나의 상기 크로스 지지바에 지지되고, 타단부측 각각은 다른 하나의 상기 크로스 지지바에 지지된 한쌍의 외측 메인바;
상기 외측 메인바의 직경 보다 작은 직경으로 형성되어 상기 외측 메인바에 각각 적층되는 형태로 결합되며, 기판의 테두리부측이 지지되는 한쌍의 외측 지지바;
상기 한쌍의 외측 메인바를 상호 연결하는 복수의 메인 연결바;
상기 메인 연결바에 형성되어 상기 기판을 지지하는 복수의 지지핀을 포함하는 것을 특징으로 하는 지지 유닛.A pair of cross support bars disposed in parallel to each other and having one end side and the other end side coupled to the counterpart, respectively;
A pair of outer main bars disposed at intervals from each other and having one end side supported by one of the cross support bars, and the other end side supported by the other one of the cross support bars;
A pair of outer support bars formed in a diameter smaller than the diameter of the outer main bar and coupled to the outer main bar to be stacked on the outer main bar, the edge portions of the substrate being supported;
A plurality of main connecting bars interconnecting the pair of outer main bars;
And a plurality of support pins formed on the main connection bar to support the substrate. 제7항에 있어서,
상기 외측 지지바에는 복수의 기판이 구획되어 지지되고,
상기 외측 지지바에는 상기 기판의 측면과 각각 접촉되어 상기 기판이 상기 외측 지지바의 길이방향으로 각각 유동하는 것을 방지하는 복수의 스토퍼가 각각 형성된 것을 특징으로 하는 지지 유닛.The method of claim 7, wherein
A plurality of substrates are partitioned and supported by the outer support bar,
And a plurality of stoppers respectively formed at the outer support bar to contact the side surfaces of the substrate to prevent the substrate from flowing in the longitudinal direction of the outer support bar, respectively. 제8항에 있어서,
상기 지지핀 및 상기 스토퍼는 상기 메인 연결바 및 상기 외측 지지바에 각각 착탈가능하게 결합된 것을 특징으로 하는 지지 유닛.9. The method of claim 8,
And the support pin and the stopper are detachably coupled to the main connection bar and the outer support bar, respectively. 제9항에 있어서,
상기 메인 연결바 및 상기 외측 지지바에는 상기 지지핀 및 상기 스토퍼의 일측이 각각 삽탈 가능하게 결합되는 제 1 결합홈 및 제 2 결합홈이 각각 형성된 것을 특징으로 하는 지지 유닛.10. The method of claim 9,
The main connecting bar and the outer support bar is a support unit, characterized in that the first coupling groove and the second coupling groove which is respectively detachably coupled to one side of the support pin and the stopper are formed. 제7항에 있어서,
상기 외측 메인바의 일단부측 및 타단부측에는 지그로 상기 보트를 걸어서 상기 보트를 이동시키기 위한 걸림후크가 각각 형성된 것을 특징으로 하는 지지 유닛.The method of claim 7, wherein
And an engaging hook for moving the boat by walking the boat with a jig on one end side and the other end side of the outer main bar, respectively. 제7항에 있어서,
상기 외측 메인바의 일단부에는 어느 하나의 상기 크로스 지지바에 삽입 결합되는 제 1 걸림편이 각각 형성되고, 타단부에는 다른 하나의 상기 크로스 지지바에 지지되는 제 2 걸림편이 각각 형성된 것을 특징으로 하는 지지 유닛.The method of claim 7, wherein
One end of each of the outer main bar is formed with a first engaging piece to be coupled to any one of the cross support bar, the other end of the support unit, characterized in that the second engaging piece is supported on the other cross support bar, respectively . 제12항에 있어서,
상기 제 2 걸림편은 한쌍의 상기 외측 메인바에 일단부측 및 타단부측이 각각 결합된 보조 연결바에 형성된 것을 특징으로 하는 지지 유닛.The method of claim 12,
The second engaging piece is a support unit, characterized in that formed on the auxiliary connecting bar, one end side and the other end side coupled to the pair of the outer main bar, respectively. 제7항에 있어서,
상기 상대물에는 상기 크로스 지지바의 일단부측 및 타단부측이 각각 지지되는 지지 브라켓이 각각 결합된 것을 특징으로 하는 지지 유닛.The method of claim 7, wherein
And a support bracket having one end side and the other end side of the cross support bar respectively coupled to the counterpart. 제14항에 있어서,
상기 지지 브라켓에는 상기 크로스 지지바의 단부측이 삽입 지지되는 지지홈이 형성된 것을 특징으로 하는 지지 유닛.15. The method of claim 14,
And a support groove in which the end bracket of the cross support bar is inserted and supported in the support bracket. 제14항에 있어서,
상기 크로스 지지바의 단부측 외주면에는 걸림링이 각각 형성되고,
상기 지지 브라켓에는 상기 걸림링이 삽입되어 결합되는 걸림홈이 형성된 것을 특징으로 하는 지지 유닛.15. The method of claim 14,
Engaging rings are formed on outer end surfaces of the cross support bars, respectively.
The support bracket, characterized in that the engaging groove is formed is coupled to the engaging ring is coupled. 제7항에 있어서,
상기 외측 지지바에는 상기 외측 지지바와 직교하는 형태로 형성되어 상기 기판의 테두리부측을 지지하는 지지편이 형성된 것을 특징으로 하는 지지 유닛.The method of claim 7, wherein
The outer support bar is formed in a form orthogonal to the outer support bar, the support unit, characterized in that the support piece for supporting the edge portion side of the substrate is formed. 기판이 투입되어 처리되는 챔버가 형성된 본체;
일단부측 및 타단부측이 상기 본체의 측벽에 각각 결합되며, 상기 챔버에 위치되어 상호 평행하게 배치된 한쌍의 크로스 지지바;
상호 간격을 가지면서 배치되며 일단부측 각각은 어느 하나의 상기 크로스 지지바에 지지되고, 타단부측 각각은 다른 하나의 상기 크로스 지지바에 지지된 한쌍의 외측 메인바;
상기 외측 메인바의 직경 보다 작은 직경으로 형성되어 상기 외측 메인바에 각각 적층되는 형태로 결합되며, 기판의 테두리부측이 지지되는 한쌍의 외측 지지바;
상기 한쌍의 외측 메인바를 상호 연결하는 복수의 메인 연결바;
상기 메인 연결바에 형성되어 상기 기판을 지지하는 복수의 지지핀;
일단부측 및 타단부측이 상기 본체의 측벽에 각각 결합되어 상기 크로스 지지바와 평행을 이루며, 상기 외측 메인바 및 상기 외측 지지바를 사이에 두는 형태로 배치된 복수의 히터를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.A main body in which a chamber into which a substrate is inserted and processed is formed;
A pair of cross support bars having one end side and the other end side coupled to sidewalls of the main body, respectively, disposed in the chamber and disposed in parallel to each other;
A pair of outer main bars disposed at intervals from each other and having one end side supported by one of the cross support bars, and the other end side supported by the other one of the cross support bars;
A pair of outer support bars formed in a diameter smaller than the diameter of the outer main bar and coupled to the outer main bar to be stacked on the outer main bar, the edge portions of the substrate being supported;
A plurality of main connecting bars interconnecting the pair of outer main bars;
A plurality of support pins formed on the main connection bar to support the substrate;
One end side and the other end side is coupled to the side wall of the main body, respectively, parallel to the cross support bar, comprising a plurality of heaters disposed in such a manner that sandwiches the outer main bar and the outer support bar; Processing unit. 제18항에 있어서,
상기 외측 지지바에는 복수의 기판이 구획되어 지지되고,
상기 외측 지지바에는 상기 기판의 측면과 각각 접촉되어 상기 기판이 상기 외측 지지바의 길이방향으로 각각 유동하는 것을 방지하는 복수의 스토퍼가 각각 형성된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.19. The method of claim 18,
A plurality of substrates are partitioned and supported by the outer support bar,
And a plurality of stoppers respectively formed at the outer support bar to contact the side surfaces of the substrate to prevent the substrate from flowing in the longitudinal direction of the outer support bar, respectively. 제19항에 있어서,
상기 지지핀 및 상기 스토퍼는 상기 메인 연결바 및 상기 외측 지지바에 각각 착탈가능하게 결합된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.20. The method of claim 19,
And the support pin and the stopper are detachably coupled to the main connection bar and the outer support bar, respectively. 제20항에 있어서,
상기 메인 연결바 및 상기 외측 지지바에는 상기 지지핀 및 상기 스토퍼의 일측이 각각 삽탈 가능하게 결합되는 제 1 결합홈 및 제 2 결합홈이 각각 형성된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.21. The method of claim 20,
The main connecting bar and the outer support bar substrate processing apparatus, characterized in that the first coupling groove and the second coupling groove are formed to be detachably coupled to each side of the support pin and the stopper, respectively. 제18항에 있어서,
상기 외측 메인바의 일단부측 및 타단부측에는 지그로 상기 보트를 걸어서 상기 보트를 이동시키기 위한 걸림후크가 각각 형성된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.19. The method of claim 18,
And an engaging hook for moving the boat by walking the boat with a jig on one end side and the other end side of the outer main bar, respectively. 제18항에 있어서,
상기 외측 메인바의 일단부에는 어느 하나의 상기 크로스 지지바에 삽입 결합되는 제 1 걸림편이 각각 형성되고, 타단부에는 다른 하나의 상기 크로스 지지바에 지지되는 제 2 걸림편이 각각 형성된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.19. The method of claim 18,
Substrate processing, characterized in that each of the first engaging piece is inserted into one of the cross support bar is coupled to one end of the outer main bar, the second engaging piece is supported on the other cross support bar is formed on the other end, respectively Device. 제23항에 있어서,
상기 제 2 걸림편은 한쌍의 상기 외측 메인바에 일단부측 및 타단부측이 각각 결합된 보조 연결바에 형성된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.24. The method of claim 23,
And the second locking piece is formed on an auxiliary connection bar having one end side and the other end side coupled to the pair of outer main bars, respectively. 제18항에 있어서,
상기 본체의 측벽에는 상기 크로스 지지바의 일단부측 및 타단부측이 지지되는 지지 브라켓이 각각 결합된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.19. The method of claim 18,
And a support bracket for supporting one end side and the other end side of the cross support bar, respectively, on the side wall of the main body. 제25항에 있어서,
상기 지지 브라켓에는 상기 크로스 지지바의 단부측이 삽입 지지되는 지지홈이 형성된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.26. The method of claim 25,
And a support groove in which the end bracket of the cross support bar is inserted and supported in the support bracket. 제26항에 있어서,
상기 크로스 지지바의 단부측 외주면에는 걸림링이 형성되고,
상기 지지 브라켓에는 상기 걸림링이 삽입되어 걸리는 걸림홈이 형성된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.The method of claim 26,
A locking ring is formed on the outer peripheral surface of the end side of the cross support bar,
Substrate processing apparatus, characterized in that the support bracket is formed with a locking groove for the locking ring is inserted. 제18항에 있어서,
상기 외측 지지바에는 상기 외측 지지바와 직교하는 형태로 형성되어 상기 기판의 테두리부측을 지지하는 지지편이 형성된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.19. The method of claim 18,
The outer support bar is formed in a form orthogonal to the outer support bar, the substrate processing apparatus characterized in that the support piece for supporting the edge portion side of the substrate is formed.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107203693A (en) * 2017-05-17 2017-09-26 江苏大唐健康科技有限公司 A kind of family prevention doctor system
CN107229821A (en) * 2017-05-17 2017-10-03 江苏大唐健康科技有限公司 A kind of family health care doctor system
KR20200028135A (en) * 2018-09-06 2020-03-16 주식회사 원익아이피에스 Boat for supporting substrate and substrate treatment apparatus

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4079651B2 (en) 2002-02-12 2008-04-23 オリンパス株式会社 Substrate support device
JP2004107006A (en) 2002-09-18 2004-04-08 Masato Toshima Conveyer for substrate
KR101016048B1 (en) * 2008-07-16 2011-02-23 주식회사 테라세미콘 Batch Type Heat Treatment Apparatus
KR101058187B1 (en) * 2008-12-05 2011-08-22 주식회사 에스에프에이 Cassette system for substrate storage

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107203693A (en) * 2017-05-17 2017-09-26 江苏大唐健康科技有限公司 A kind of family prevention doctor system
CN107229821A (en) * 2017-05-17 2017-10-03 江苏大唐健康科技有限公司 A kind of family health care doctor system
KR20200028135A (en) * 2018-09-06 2020-03-16 주식회사 원익아이피에스 Boat for supporting substrate and substrate treatment apparatus

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