KR101435453B1 - Boat for supporting substrate and support unit using the same - Google Patents

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Abstract

기판 지지용 보트 및 이를 사용한 지지유닛이 개시된다. 본 발명에 따른 기판 지지용 보트 및 지지유닛은 복수의 제 1 및 제 2 지지핀에 의하여 기판의 전체면이 균일하게 지지되므로, 기판의 열처리시 기판이 자중에 의하여 처지는 것이 방지된다. 그러므로, 기판을 열처리 하여도, 기판의 특성 변화가 없으므로, 기판의 열처리 공정의 신뢰성이 향상되는 효과가 있다.A boat for supporting a substrate and a supporting unit using the same are disclosed. The boats for supporting a substrate and the support unit according to the present invention are uniformly supported on the entire surface of the substrate by the plurality of first and second support pins so that the substrate is prevented from sagging due to its own weight during the heat treatment of the substrate. Therefore, even when the substrate is heat-treated, there is no change in the characteristics of the substrate, so that the reliability of the heat treatment process of the substrate is improved.

Description

기판 지지용 보트 및 이를 사용한 지지유닛 {BOAT FOR SUPPORTING SUBSTRATE AND SUPPORT UNIT USING THE SAME}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a boat for supporting a substrate,

본 발명은 기판의 전체면을 균일하게 지지하여 기판의 열처리 도중에 기판이 자중에 의하여 변형되는 것을 방지할 수 있는 기판 지지용 보트 및 이를 사용한 지지유닛에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a boat for supporting a substrate and a support unit using the same, which can uniformly support the entire surface of the substrate and prevent the substrate from being deformed due to its own weight during heat treatment of the substrate.

평판 디스플레이 제조시 사용되는 기판 처리장치는 크게 증착장치와 어닐링장치로 구분될 수 있다.A substrate processing apparatus used in manufacturing a flat panel display can roughly be divided into a deposition apparatus and an annealing apparatus.

증착장치는 평판 디스플레이의 핵심 구성을 이루는 투명 전도층, 절연층, 금속층 또는 실리콘층을 형성하는 장치이며, LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition) 또는 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 등과 같은 화학기상 증착장치와 스퍼터링(Sputtering) 등과 같은 물리기상 증착장치가 있다.The deposition apparatus is a device for forming a transparent conductive layer, an insulating layer, a metal layer, or a silicon layer which is a core constituent of a flat panel display, and is a chemical vapor deposition apparatus such as LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) or PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) And a physical vapor deposition apparatus such as sputtering.

또한, 어닐링장치는 증착 공정 후에 증착된 막의 특성을 향상시키는 장치이며, 증착된 막을 결정화 또는 상 변화시키기 위한 열처리장치가 있다.In addition, the annealing apparatus is an apparatus for improving the characteristics of the deposited film after the deposition process, and there is a heat treatment apparatus for crystallizing or phase-changing the deposited film.

통상적으로 열처리장치에는 하나의 기판을 열처리하는 매엽식과 복수개의 기판을 열처리하는 배치식이 있다. 매엽식은 장치의 구성이 간단한 이점이 있으나 생산성이 떨어지는 단점이 있어서 대량 생산용으로는 배치식이 각광을 받고 있다.Generally, a heat treatment apparatus includes a sheet-fed type in which one substrate is heat-treated and a batch type in which a plurality of substrates are heat-treated. There is a merit of simple configuration of the apparatus, but it has a disadvantage that productivity is low, and the batch formula is in the spotlight for mass production.

배치식 열처리장치에는 복수개의 기판을 동시에 열처리하기 위한 공간인 챔버에 복수개의 기판을 지지할 수 있는 지지유닛을 설치하여 사용한다. 그리고, 최근 평판 디스플레이의 사이즈가 증가함에 따라 대면적의 기판을 안정적으로 지지할 수 있는 지지유닛의 필요성이 점점 증가하고 있다.The batch type heat treatment apparatus is provided with a support unit capable of supporting a plurality of substrates in a chamber which is a space for simultaneously heat treating a plurality of substrates. In recent years, as the size of a flat panel display increases, the need for a supporting unit capable of stably supporting a large area substrate is increasing.

그런데, 종래의 지지유닛은, 기판의 열처리 도중, 기판이 자중에 의하여 휘는 것을 방지하지 못하므로, 기판의 특성이 변화된다. 이로 인해, 기판의 열처리 공정의 신뢰성이 저하되는 단점이 있었다.However, the conventional support unit can not prevent the substrate from being warped due to its own weight during the heat treatment of the substrate, so that the characteristics of the substrate are changed. As a result, the reliability of the heat treatment process of the substrate is lowered.

본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 기판의 전체면을 균일하게 지지하여 기판의 열처리 도중 기판이 자중에 의하여 변형되는 것을 방지할 수 있는 기판 지지용 보트 및 이를 사용한 지지유닛을 제공함에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the problems of the prior art as described above, and it is an object of the present invention to provide a substrate supporting apparatus for uniformly supporting an entire surface of a substrate, And a support unit using the same.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판 지지용 보트는, 기판 처리장치의 챔버에 투입되어 처리되는 기판을 지지하는 보트로서, 상호 대향하는 한 쌍의 메인바; 상기 한 쌍의 메인바를 상호 연결하는 복수의 연결바; 및 상기 메인바에 설치되며, 상기 기판이 탑재 지지되는 복수의 제 1 지지핀을 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a boat for supporting a substrate, comprising: a pair of main bars opposed to each other; A plurality of connecting bars interconnecting the pair of main bars; And a plurality of first support pins installed on the main bar to support the substrate.

또한, 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판 지지용 지지유닛은, 기판 처리장치의 챔버에 투입되어 처리되는 기판을 지지하는 지지유닛으로서, 상기 챔버의 바닥면과 접촉되는 받침대, 상기 받침대의 일단부에서 수직으로 연장 형성된 지지대, 상기 지지대의 일측면에서 수평으로 연장 형성되며 상호 간격을 가지면서 상하로 적층된 형태로 형성된 복수의 지지리브를 각각 가지고, 상호 대향하는 한 쌍이 세트를 이루면서 상기 챔버의 전면측 및 후면측에 각각 설치된 서포터; 쌍을 이루면서 상호 대향하는 상기 서포터의 상기 지지리브에 일단부측 및 타단부측이 각각 지지된 크로스 지지바; 및 상기 챔버의 전면측에 위치된 상기 크로스 지지바 및 상기 챔버의 후면측이 위치된 상기 크로스 지지바에 일단부측 및 타단부측이 각각 지지되며, 상기 기판이 탑재 지지되는 복수의 제 1 지지핀을 가지는 보트를 포함한다.In order to achieve the above object, a support unit for supporting a substrate according to the present invention comprises: a support unit for supporting a substrate to be introduced into a chamber of a substrate processing apparatus to be processed, the support unit comprising: a pedestal contacting the bottom surface of the chamber; And a plurality of support ribs extending horizontally from one side of the support and extending in the vertical direction and formed in a vertically stacked shape with a space therebetween, A supporter provided on a front side and a rear side of the support; A cross support bar having one end side and the other end side supported by the support ribs of the pair of supporters facing each other; And a plurality of first support pins on which the substrate is mounted and supported, wherein one end side and the other end side are respectively supported on the cross support bar on the front side of the chamber and on the cross support bar on which the rear side of the chamber is located, The branch includes a boat.

본 발명에 따른 기판 지지용 보트 및 이를 사용한 지지유닛은 복수개의 제 1 및 제 2 지지핀에 의하여 기판의 전체면이 균일하게 지지되므로, 기판의 열처리시, 기판이 자중에 의하여 처지는 것이 방지된다. 그러므로, 기판을 열처리 하여도, 기판의 특성에 변화가 없으므로, 기판의 열처리 공정의 신뢰성이 향상되는 효과가 있다.The boat for supporting a substrate and the supporting unit using the same according to the present invention can uniformly support the entire surface of the substrate by the plurality of first and second supporting pins so that the substrate is prevented from sagging due to its own weight during the heat treatment of the substrate. Therefore, even when the substrate is heat-treated, there is no change in the characteristics of the substrate, so that the reliability of the heat treatment process of the substrate is improved.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 지지용 지지유닛이 설치된 기판 처리장치의 사시도.
도 2는 도 1에 도시된 지지유닛의 사시도.
도 3은 도 2에 도시된 서포터의 확대도.
도 4는 도 2의 일부 확대도.
도 5는 도 2에 도시된 보트의 사시도.
도 6은 도 5의 정면도.
도 7은 도 2에 도시된 지지유닛에 기판이 지지된 상태를 보인 사시도.
1 is a perspective view of a substrate processing apparatus provided with a substrate supporting unit according to an embodiment of the present invention;
Figure 2 is a perspective view of the support unit shown in Figure 1;
3 is an enlarged view of the supporter shown in Fig.
4 is a partially enlarged view of Fig.
Fig. 5 is a perspective view of the boat shown in Fig. 2; Fig.
Figure 6 is a front view of Figure 5;
FIG. 7 is a perspective view showing a state where a substrate is supported on the support unit shown in FIG. 2. FIG.

후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시로서 도시하는 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있기에 충분하도록 상세히 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 일 실시예에 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미로서 취하려는 것이 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일하거나 유사한 기능을 지칭하며, 길이 및 면적, 두께 등과 그 형태는 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다.The following detailed description of the invention refers to the accompanying drawings, which illustrate, by way of illustration, specific embodiments in which the invention may be practiced. These embodiments are described in sufficient detail to enable those skilled in the art to practice the invention. It should be understood that the various embodiments of the present invention are different, but need not be mutually exclusive. For example, certain features, structures, and characteristics described herein may be implemented in other embodiments without departing from the spirit and scope of the invention in connection with an embodiment. It is also to be understood that the position or arrangement of the individual components within each disclosed embodiment may be varied without departing from the spirit and scope of the invention. The following detailed description is, therefore, not to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention is to be limited only by the appended claims, along with the full scope of equivalents to which such claims are entitled, if properly explained. In the drawings, like reference numerals refer to the same or similar functions throughout the several views, and length and area, thickness, and the like may be exaggerated for convenience.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 지지용 보트 및 이를 사용한 지지유닛을 상세히 설명한다.Hereinafter, a boat for supporting a substrate and a support unit using the boat according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 지지용 지지유닛이 설치된 기판 처리장치의 사시도이다.1 is a perspective view of a substrate processing apparatus provided with a substrate supporting unit according to an embodiment of the present invention.

도시된 바와 같이, 기판 처리장치(100)는 대략 직육면체 형상으로 형성되어 외관을 이루는 본체(110)를 포함하고, 본체(110)의 내부에는 기판(50)이 처리되는 챔버(110a)가 형성된다. 본체(110)는 직육면체 형상뿐만 아니라 기판(50)의 형상에 따라 다양한 형상으로 형성될 수 있고, 챔버(110a)는 밀폐된 공간으로 마련된다.The substrate processing apparatus 100 includes a main body 110 formed in a substantially rectangular parallelepiped shape and having an outer appearance and a chamber 110a in which the substrate 50 is processed is formed in the main body 110 . The main body 110 may be formed in various shapes according to the shape of the substrate 50 as well as a rectangular parallelepiped shape, and the chamber 110a is provided as a closed space.

본체(110)의 전면은 개방되어 도어(113)가 설치되는데, 도어(113)는 챔버(110a)를 개폐한다. 도어(113)를 열어 챔버(110a)를 개방한 상태에서, 로봇의 아암(미도시) 등으로 기판(50)을 지지하여 기판(50)을 챔버(110a)로 로딩한다. 그리고, 도어(113)를 닫아 챔버(110a)를 폐쇄한 상태에서, 기판(50)을 처리한다.The front surface of the main body 110 is opened, and a door 113 is installed. The door 113 opens and closes the chamber 110a. The substrate 50 is loaded into the chamber 110a by supporting the substrate 50 with an arm (not shown) of the robot or the like while opening the door 113 to open the chamber 110a. Then, the substrate 50 is processed in a state where the door 113 is closed and the chamber 110a is closed.

본체(110)의 내부에는 기판(50)을 지지하는 지지유닛(120), 기판(50)을 가열하기 위한 히터(미도시) 및 기판(50)을 냉각시키기 위한 냉각관(미도시) 등이 설치된다.A support unit 120 for supporting the substrate 50, a heater (not shown) for heating the substrate 50 and a cooling tube (not shown) for cooling the substrate 50 are provided in the main body 110 Respectively.

본 실시예에 따른 지지유닛(120)에 대하여 도 1 내지 도 4를 참조하여 설명한다. 도 2는 도 1에 도시된 지지유닛의 사시도이고, 도 3은 도 2에 도시된 서포터의 확대도이며, 도 4는 도 2의 일부 확대도이다.The support unit 120 according to this embodiment will be described with reference to Figs. 1 to 4. Fig. Fig. 2 is a perspective view of the support unit shown in Fig. 1, Fig. 3 is an enlarged view of the supporter shown in Fig. 2, and Fig. 4 is a partially enlarged view of Fig.

도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 지지유닛(120)은 서포터(130), 크로스 지지바(140) 및 보트(150)를 포함한다.As shown, the support unit 120 according to the present embodiment includes a supporter 130, a cross support bar 140, and a boat 150.

서포터(130)는 챔버(110a)를 형성하는 본체(110)의 바닥면에 접촉되는 받침대(131), 받침대(131)의 일단부에서 수직으로 연장 형성된 지지대(133), 지지대(133)의 일측면에서 수평으로 연장 형성되며 상호 간격을 가지면서 상하로 적층된 형태로 형성된 복수의 지지리브(135)를 가진다.The supporter 130 includes a pedestal 131 contacting the bottom surface of the main body 110 forming the chamber 110a, a support 133 extending vertically from one end of the pedestal 131, And has a plurality of support ribs 135 formed horizontally extending from the side surface and formed in a vertically stacked shape with mutual spacing.

서포터(130)는 상호 대향하는 한 쌍으로 마련되어 세트를 이루며, 세트를 이루는 서포터(130)는 본체(110)의 전면측 양모서리부 및 후면측 양모서리부에 각각 설치된다. 그리고, 세트를 이루는 서포터(130)의 지지리브(135)는 상호 대향한다.The supporters 130 are provided in pairs so as to form a set, and the supporters 130 constituting the set are installed at both front and rear side corners of the main body 110, respectively. The supporting ribs 135 of the supporter 130 constituting the set are opposed to each other.

세트를 이루면서 상호 대향하는 서포터(130) 사이의 거리 및 세트를 이루는 서포터(130) 사이의 거리는 기판(50)의 크기에 따라 적절하게 조절할 수 있다.The distance between the supporters 130 and the supporters 130 forming the set and the supporters 130 forming the set can be appropriately adjusted according to the size of the substrate 50.

세트를 이루는 서포터(130)의 지지리브(135)에는 크로스 지지바(140)의 좌단부측 및 우단부측이 각각 고정되어 지지된다. 그리고, 각 세트를 이루는 서포터(130)의 지지리브(135)에 지지된 크로스 지지바(140)는 상하로 배치되어 상호 평행을 이룸은 당연하다. 그리고, 어느 하나의 세트를 이루는 서포터(130)의 지지리브(135)에 각각 지지된 각각의 크로스 지지바(140)와 다른 하나의 세트를 이루는 서포터(130)의 지지리브(135)에 각각 지지된 각각의 크로스 지지바(140)는 동일 높이에 위치됨은 당연하다.The left end side and the right end side of the cross support bar 140 are fixedly supported to the support ribs 135 of the supporter 130 constituting the set. The cross support bars 140 supported by the support ribs 135 of the supporters 130 constituting each set are arranged vertically and naturally parallel to each other. Each of the cross support bars 140 supported on the support ribs 135 of the supporter 130 constituting any one set is supported on the support ribs 135 of the supporter 130 constituting the other set. Each of the cross support bars 140 is naturally located at the same height.

크로스 지지바(140)가 서포터(130)에 안정되게 지지될 수 있도록, 지지리브(135)에는 크로스 지지바(140)와 대응되는 형상으로 형성되며, 크로스 지지바(140)가 삽입 지지되는 안치홈(135a)이 형성된다. 그리고, 안치홈(135a)이 형성된 지지리브(135)의 부위에는 안치홈(135a)의 길이방향과 수직으로 걸림홈(135b)이 형성되고, 크로스 지지바(140)의 단부측 외주면에는 걸림홈(135b)에 삽입되어 걸리는 걸림링(141)이 각각 형성된다.The support rib 135 is formed in a shape corresponding to the cross support bar 140 so that the cross support bar 140 can be stably supported on the supporter 130, A groove 135a is formed. An engagement groove 135b is formed perpendicularly to the longitudinal direction of the catch groove 135a at the portion of the support rib 135 where the catch groove 135a is formed, And an engaging ring 141 inserted into and engaged with the engaging portion 135b.

안치홈(135a)에 크로스 지지바(140)가 삽입 지지되므로, 크로스 지지바(140)가 지지리브(135) 상에서 전후방향으로 유동하는 것이 방지된다. 그리고, 안치홈(135a)과 수직하는 걸림홈(135b) 및 걸림링(141)에 의하여 크로스 지지바(140)가 지지리브(135) 상에서 좌우방향으로 유동하는 것이 방지된다.The cross support bar 140 is inserted and supported in the anchor groove 135a so that the cross support bar 140 is prevented from flowing back and forth on the support rib 135. [ The cross support bar 140 is prevented from flowing in the lateral direction on the support rib 135 by the engagement groove 135b and the engagement ring 141 which are perpendicular to the installation groove 135a.

도 2 및 도 4에는 크로스 지지바(140)가 받침대(131)에도 지지된 것이 도시되어 있으며, 이 경우에는 받침대(131)의 상면에도 지지리브(135)의 상면에 형성된 안치홈(135a) 및 걸림홈(135b)이 동일하게 형성될 수 있다.2 and 4 illustrate that the cross support bar 140 is also supported on the pedestal 131. In this case, on the upper surface of the pedestal 131, an annular groove 135a formed on the upper surface of the support rib 135, The engaging groove 135b may be formed in the same manner.

챔버(110a)의 전면측에 위치된 크로스 지지바(140)와 후면측에 위치된 크로스 지지바(140)에는 기판(50)이 탑재 지지되는 보트(150)가 탑재 지지된다. 보트(150)에 대하여 도 2, 도 4 내지 도 6을 참조하여 설명한다. 도 5는 도 2에 도시된 보트의 사시도이고, 도 6은 도 5의 정면도이다.A boat 150 on which a substrate 50 is mounted is mounted and supported on a cross support bar 140 positioned on the front side of the chamber 110a and a cross support bar 140 positioned on the rear side. The boat 150 will be described with reference to Figs. 2 and 4 to 6. Fig. Fig. 5 is a perspective view of the boat shown in Fig. 2, and Fig. 6 is a front view of Fig. 5. Fig.

도시된 바와 같이, 보트(150)는 상호 간격을 가지면서 대향되게 배치된 한쌍의 메인바(161)와 메인바(161)를 상호 연결하는 복수의 연결바(171)를 가진다. 그리고, 메인바(161)의 전단부측은 챔버(110a)의 전면측에 위치된 어느 하나의 크로스 지지바(140)에 각각 지지 설치되고, 후단부측은 챔버(110a)의 후면측에 위치된 다른 하나의 크로스 지지바(140)에 각각 지지 설치된다.As shown, the boats 150 have a pair of main bars 161 arranged opposite to each other and a plurality of connecting bars 171 connecting the main bars 161 to each other. The front end side of the main bar 161 is supported on one of the cross support bars 140 positioned on the front side of the chamber 110a and the other end side of the main bar 161 is supported on the rear side of the chamber 110a. And are supported by a single cross support bar 140, respectively.

보트(150)를 크로스 지지바(140)에 견고하게 지지하기 위하여, 메인바(161)의 전단부에는 챔버(110a)의 전면측에 위치된 크로스 지지바(140)에 걸려서 고정되는 아크형 지지편(163)이 형성된다. 아크형 지지편(163)의 형상은 크로스 지지바(140)의 외형과 대응되는 형상인 반원형으로 형성된다.An arc-shaped support member 150 is attached to the front end portion of the main bar 161 to be fixed to the cross support bar 140 positioned on the front side of the chamber 110a in order to firmly support the boat 150 to the cross support bar 140. [ A piece 163 is formed. The shape of the arc-shaped support piece 163 is formed in a semicircular shape having a shape corresponding to the outer shape of the cross support bar 140.

그리고, 메인바(161)의 후단부측에 위치된 연결바(171)에는 크로스 지지바(140)에 탑재 지지되는 바 형상의 직선형 지지편(164)이 형성된다. 직선형 지지편(164)은 크로스 지지바(140)와 수직으로 배치되어 크로스 지지바(140)에 탑재 지지된다.A bar-shaped linear support piece 164 mounted on the cross support bar 140 is formed on the connection bar 171 located on the rear end side of the main bar 161. The straight support piece 164 is vertically disposed to the cross support bar 140 and mounted on the cross support bar 140.

아크형 지지편(163)이 크로스 지지바(140)에 삽입 지지되고, 직선형 지지편(164)이 크로스 지지바(140)에 탑재 지지되므로, 보트(150)는 견고하게 크로스 지지바(140)에 탑재 지지된다. 또한, 아크형 지지편(163)이 반원형으로 형성되어 크로스 지지바(140)에 삽입 지지되고, 직선형 지지편(164)이 바 형으로 형성되어 크로스 지지바(140)에 탑재 지지되므로, 보트(150)를 상측으로 들기만 하면, 보트(150)가 크로스 지지바(140)로부터 분리된다. 따라서, 보트(150)를 크로스 지지바(140)로부터 용이하게 분리할 수 있다.Since the arc-shaped support piece 163 is inserted into and supported by the cross support bar 140 and the linear support piece 164 is supported by the cross support bar 140, the boat 150 is firmly fixed to the cross support bar 140, Respectively. Since the arc-shaped support piece 163 is formed in a semicircular shape and inserted and supported in the cross support bar 140 and the straight support piece 164 is formed in a bar shape and mounted on the cross support bar 140, 150 is lifted upward, the boat 150 is separated from the cross support bar 140. Therefore, the boat 150 can be easily separated from the cross support bar 140.

메인바(161) 및 연결바(171)에는 기판(50)이 탑재 지지되는 제 1 및 제 2 지지핀(166, 173)이 각각 복수개 형성된다. 제 1 및 제 2 지지핀(166, 173)이 메인바(161) 및 연결바(171)에 일정 간격으로 복수개 마련되므로, 기판(50)의 전체면이 균일하게 지지된다. 따라서, 기판(50)의 열처리시 기판(50)이 자중에 의하여 처지는 것이 방지된다.The main bar 161 and the connection bar 171 are formed with a plurality of first and second support pins 166 and 173 on which the substrate 50 is mounted. A plurality of first and second support pins 166 and 173 are provided at regular intervals in the main bar 161 and the connection bar 171 so that the entire surface of the substrate 50 is uniformly supported. Therefore, the substrate 50 is prevented from being sagged by its own weight during the heat treatment of the substrate 50.

보트(150)는, 기판(50)의 크기에 따라, 크기가 상호 상이한 2개의 보트(150a, 150b)가 크로스 지지바(140)에 탑재 지지될 수 있다.The boats 150 can be supported on the cross support bars 140 by two boats 150a and 150b of different sizes depending on the size of the substrate 50. [

그리고, 크로스 지지바(140)에는 보트(150)가 크로스 지지바(140) 상에서 크로스 지지바(140)를 따라 유동하는 것을 방지하는 스토퍼(143)가 복수개 형성된다. 스토퍼(143)는 챔버(110a)의 전면측에 위치된 크로스 지지바(140)에 형성되어 아크형 지지편(163)과 접촉한다. 스토퍼(143)의 개수는 크로스 지지바(140)에 삽입 지지된 아크형 지지편(163)의 개수와 대응되게 형성됨은 당연하다.A plurality of stoppers 143 are formed on the cross support bar 140 to prevent the boat 150 from flowing along the cross support bar 140 on the cross support bar 140. The stopper 143 is formed on the cross support bar 140 located on the front side of the chamber 110a and contacts the arc-shaped support piece 163. [ The number of the stoppers 143 is formed to correspond to the number of the arc-shaped support pieces 163 inserted and supported in the cross support bar 140.

본 실시예에 따른 기판 지지용 보트 및 이를 사용한 지지유닛에서 아크형 지지편(163)이 제 1 지지편(163)이고, 직선형 지지편(164)이 제 2 지지편(164)이다.The arc type support piece 163 is the first support piece 163 and the linear support piece 164 is the second support piece 164 in the support boat using the substrate according to this embodiment.

연결바(171)의 직경은 메인바(161)의 직경 보다 작게 마련되어 메인바(161)에 결합될 수 있다. 연결바(171)가 메인바(161) 보다 낮은 위치에 위치될 경우, 연결바(171)는 "

Figure 112014047713786-pat00001
" 형상으로 형성되어 일측 상단부 및 타측 상단부가 메인바(161)에 각각 결합된다. 연결바(171)를 메인바(161)보다 낮게 위치시키는 이유는, 제 1 및 제 2 지지핀(166, 173)에 기판(50)을 탑재하여 기판(50)을 처리할 때, 기판(50)과 연결바(171) 사이에 충분한 간격이 형성되어, 기판(50)의 처리시 투입되는 기판의 처리가스가 원활하게 흐르게 하기 위함이다.The diameter of the connecting bar 171 may be less than the diameter of the main bar 161 and may be coupled to the main bar 161. When the connecting bar 171 is located at a lower position than the main bar 161,
Figure 112014047713786-pat00001
And one upper end portion and the other upper end portion are respectively coupled to the main bar 161. The reason why the connecting bar 171 is positioned lower than the main bar 161 is that the first and second support pins 166 and 173 A sufficient gap is formed between the substrate 50 and the connecting bar 171 when the substrate 50 is mounted on the substrate 50 to process the substrate 50 so that the process gas of the substrate, So as to smoothly flow.

그리고, 연결바(171)는 상호 상이한 간격을 가질 수 있다. 연결바(171)가 상호 상이한 간격으로 배치될 경우, 제 2 지지핀(173)은 복수번 벤딩된 "

Figure 112014047713786-pat00002
"형상으로 형성될 수 있다. 이는, 연결바(171) 사이의 간격이 일정하지 않을 때, 연결바(171)에 설치된 제 2 지지핀(173)이 일정한 간격을 가지면서 기판(50)의 전체면을 균일하게 지지할 수 있도록 하기 위함이다.And, the connection bars 171 may have mutually different intervals. When the connection bars 171 are arranged at mutually different intervals, the second support pin 173 is bent in a plurality of times to form a "
Figure 112014047713786-pat00002
When the interval between the connecting bars 171 is not uniform, the second supporting pins 173 provided on the connecting bars 171 are spaced apart from each other by a predetermined distance, So that the surface can be uniformly supported.

보트(150)의 메인바(161)의 단부측에는 기판(50)의 모서리부측과 접촉하여 기판(50)이 제 1 및 제 2 지지핀(166, 173) 상에서 유동하는 것을 방지하는 제 3 지지핀(167)이 각각 형성된다.A third support pin 166 is provided on the end side of the main bar 161 of the boat 150 to prevent the substrate 50 from flowing on the first and second support pins 166 and 173 in contact with the edge side of the substrate 50. [ (167) are formed.

하나의 보트(150)를 이용하여 기판(50)을 지지할 경우에는 제 3 지지핀(167)이 한 쌍의 메인바(161)의 양단부측에 각각 형성된다. 그러나, 도 2 및 도 4에서 도시한 바와 같이, 2개의 보트(150a, 150b)를 이용하여 하나의 기판(50)을 지지하는 경우에는, 상호 이격된 어느 하나의 보트(150a)의 어느 하나의 메인바(161) 및 다른 하나의 보트(150b)의 어느 하나의 메인바(161)에만 제 3 지지핀(167)이 각각 형성된다.The third support pins 167 are formed on both ends of the pair of main bars 161 when the board 50 is supported by one boat 150. [ However, as shown in FIGS. 2 and 4, when one board 50 is supported using two boats 150a and 150b, one of the boats 150a spaced apart from each other The third support pin 167 is formed only on the main bar 161 of either the main bar 161 or the other boat 150b.

그리고, 메인바(161)의 양단부측에는 로봇의 아암(미도시)이 삽입되어 걸리는 걸림후크(169)가 각각 형성된다. 상기 로봇의 아암이 걸림후크(169)에 삽입되어 걸림후크(169)를 승강시키면 보트(150)가 승강하는 것이다.At both ends of the main bar 161, hooking hooks 169 for receiving and engaging arms (not shown) of the robot are respectively formed. When the arm of the robot is inserted into the hook 169 to raise and lower the hook 169, the boat 150 is moved up and down.

크로스 지지바(140) 및 보트(150)는 기판(50)의 열처리시에 견딜 수 있고, 구조의 변화가 거의 없는 석영으로 형성되는 것이 바람직하다.It is preferable that the cross support bar 140 and the boat 150 are formed of quartz that can withstand the heat treatment of the substrate 50 and hardly changes the structure.

본 실시예에 따른 기판 지지용 보트 및 이를 사용한 지지유닛은 복수의 제 1 및 제 2 지지핀(166, 173)에 의하여 기판(50)의 전체면이 균일하게 지지되므로, 기판(50)의 열처리시, 기판(50)이 자중에 의하여 처지는 것이 방지된다.Since the entire surface of the substrate 50 is uniformly supported by the plurality of first and second support pins 166 and 173 in the support boat using the substrate supporting boat according to the present embodiment, The substrate 50 is prevented from being sagged by its own weight.

도 7은 도 2에 도시된 지지유닛에 기판이 지지된 상태를 보인 사시도로서, 이를 설명한다.FIG. 7 is a perspective view showing a state in which the substrate is supported by the support unit shown in FIG. 2. FIG.

도시된 바와 같이, 보트(150)는 기판(50)의 크기에 따라 폭이 넓은 보트(150a)와 폭이 좁은 보트(150b)가 함께 사용될 수 있다. 이때, 상호 인접하는 보트(150a)의 메인바(161)와 보트(150b)의 메인바(161)에는 제 3 지지핀(167)이 형성되지 않고, 상호 이격된 보트(150a)의 메인바(161) 및 보트(150b)의 메인바(161)에 제 3 지지핀(167)이 각각 형성된다.As shown, the boat 150 can be used together with a wide boat 150a and a narrow boat 150b, depending on the size of the substrate 50. [ At this time, the third support pins 167 are not formed on the main bars 161 of the adjacent boats 150a and the main bars 161 of the boats 150b, And a third support pin 167 is formed on the main bar 161 of the boat 150b.

상기와 같이 기술된 본 발명의 실시예들에 대한 도면은 자세한 윤곽 라인을 생략한 것으로서, 본 발명의 기술사상에 속하는 부분을 쉽게 알 수 있도록 개략적으로 도시한 것이다. 또한, 상기 실시예들은 본 발명의 기술사상을 한정하는 기준이 될 수 없으며, 본 발명의 청구범위에 포함된 기술사항을 이해하기 위한 참조적인 사항에 불과하다.The above-described embodiments of the present invention have been described in detail with reference to the accompanying drawings, in which detailed contour lines are omitted. It should be noted that the above-described embodiments are not intended to limit the technical spirit of the present invention, but merely as a reference for understanding the technical idea included in the claims of the present invention.

120: 지지유닛
130: 서포터
140: 크로스 지지바
150: 보트
161: 메인바
171: 연결바
166, 173: 제 1, 제 2 지지핀
120: support unit
130: Supporters
140: Cross support bar
150: Boat
161: Main bar
171: Connection bar
166, 173: first and second support pins

Claims (18)

기판 처리장치의 챔버에 투입되어 처리되는 기판을 지지하는 보트로서,
상호 대향하는 한 쌍의 메인바;
상기 한 쌍의 메인바를 상호 연결하는 복수의 연결바;
상기 메인바에 설치되며, 상기 기판이 탑재 지지되는 복수의 제 1 지지핀;
반원판 형상으로 형성되고, 상기 메인바의 일단부측에 설치되어 상대물에 삽입 지지되는 제 1 지지편; 및
바 형상으로 형성되고, 상기 메인바의 타단부측에 위치된 상기 연결바에 설치되어 상대물에 탑재 지지되는 제 2 지지편을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 지지용 보트.
A boat for supporting a substrate to be introduced into a chamber of a substrate processing apparatus to be processed,
A pair of main bars facing each other;
A plurality of connecting bars interconnecting the pair of main bars;
A plurality of first support pins installed on the main bar to support the substrate;
A first supporting piece formed in a semi-disc shape and provided at one end of the main bar and inserted and supported in the counterpart; And
And a second support piece which is formed in a bar shape and which is provided on the connecting bar located on the other end side of the main bar and is mounted on and supported by the counterpart.
제1항에 있어서,
상기 연결바에는 상기 기판을 지지하는 복수의 제 2 지지핀이 설치된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 보트.
The method according to claim 1,
Wherein the connection bar is provided with a plurality of second support pins for supporting the substrate.
제2항에 있어서,
상기 연결바들 중, 일부는 상호 상이한 간격을 가지고,
상이한 간격을 가지는 상기 연결바에 설치된 상기 제 2 지지핀은 "
Figure 112014047713786-pat00003
"형상으로 형성된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 보트.
3. The method of claim 2,
Wherein some of the connecting bars have mutually different intervals,
The second support pins provided on the connecting bars having different gaps are "
Figure 112014047713786-pat00003
"≪ / RTI >
제1항에 있어서,
상기 연결바는 상기 메인바의 하측에 위치되고,
상기 연결바는 "
Figure 112014047713786-pat00004
" 형상으로 형성되어 단부가 상기 메인바에 각각 결합되는 것을 특징으로 하는 기판 지지용 보트.
The method according to claim 1,
Wherein the connection bar is positioned below the main bar,
The connection bar is "
Figure 112014047713786-pat00004
"≪ / RTI > and the end portions are respectively coupled to the main bars.
제1항에 있어서,
한 쌍의 상기 메인바의 일단부측 및 타단부측에는 상기 기판의 모서리부측을 지지하는 제 3 지지핀이 설치된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 보트.
The method according to claim 1,
And a third support pin for supporting the edge side of the substrate is provided at one end side and the other end side of the pair of main bars.
제1항에 있어서,
상기 메인바의 양단부측에는 로봇의 아암이 삽입되어 걸리는 걸림후크가 각각 형성된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 보트.
The method according to claim 1,
Wherein the main bar is provided with hooking hooks on both sides of which the arms of the robot are inserted and hooked.
기판 처리장치의 챔버에 투입되어 처리되는 기판을 지지하는 지지유닛으로서,
상기 챔버의 바닥면과 접촉하는 받침대, 상기 받침대의 일단부에서 수직으로 연장 형성된 지지대, 상기 지지대의 일측면에서 수평으로 연장 형성되며 상호 간격을 가지면서 상하로 적층된 형태로 형성된 복수의 지지리브를 각각 가지고, 상호 대향하는 한 쌍이 세트를 이루면서 상기 챔버의 전면측 및 후면측에 각각 설치된 서포터;
쌍을 이루면서 상호 대향하는 상기 서포터의 상기 지지리브에 일단부측 및 타단부측이 각각 지지된 크로스 지지바; 및
상기 챔버의 전면측에 위치된 상기 크로스 지지바 및 상기 챔버의 후면측에 위치된 상기 크로스 지지바에 일단부측 및 타단부측이 각각 지지되며, 상기 기판이 탑재 지지되는 복수의 제 1 지지핀을 가지는 보트
를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.
A supporting unit for supporting a substrate to be processed into a chamber of a substrate processing apparatus,
A plurality of support ribs extending horizontally from one side of the support and formed in a vertically stacked shape with a space therebetween, the support ribs being vertically extended from one end of the support, A supporter provided on each of a front side and a rear side of the chamber so as to form a pair of mutually opposed pairs;
A cross support bar having one end side and the other end side supported by the support ribs of the pair of supporters facing each other; And
A cross support bar positioned at a front side of the chamber and a cross support bar positioned at a rear side of the chamber, respectively, and a plurality of first support pins on which the substrate is mounted and supported boat
And a support member for supporting the substrate.
제7항에 있어서,
상기 지지리브에는 상기 크로스 지지바가 삽입 안치되는 안치홈이 형성된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.
8. The method of claim 7,
Wherein the support rib is formed with an insertion groove into which the cross support bar is inserted.
제8항에 있어서,
상기 안치홈에는 상기 안치홈과 직교하는 걸림홈이 형성되고, 상기 크로스 지지바에는 상기 걸림홈에 삽입되어 걸리는 걸림링이 형성된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.
9. The method of claim 8,
Wherein the catch groove is formed in the catch groove orthogonal to the catch groove, and the catch ring is inserted into the catch groove and is engaged with the catch groove.
제7항에 있어서,
상기 크로스 지지바에는 상기 보트가 상기 크로스 지지바를 따라 유동하는 것을 방지하는 스토퍼가 복수개 형성된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.
8. The method of claim 7,
Wherein the cross support bar is formed with a plurality of stoppers for preventing the boat from flowing along the cross support bar.
제7항에 있어서,
상기 보트는,
상호 대향하는 한 쌍으로 마련되어 상기 제 1 지지핀이 각각 설치되며, 일단부측은 상기 챔버의 전면측에 위치된 상기 크로스 지지바에 지지되고 타단부측은 상기 챔버의 후면측에 위치된 상기 크로스 지지바에 지지되는 한 쌍의 메인바;
상기 한 쌍의 메인바를 상호 연결하는 복수의 연결바를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.
8. The method of claim 7,
The boat,
Wherein the first support pins are provided on a pair of mutually opposed sides and are supported on the cross support bar located on the front side of the chamber and the other end side is supported on the cross support bar located on the rear side of the chamber A pair of main bars;
And a plurality of connection bars connecting the pair of main bars to each other.
제11항에 있어서,
상기 메인바의 일단부측에는 반원판 형상으로 형성되어 상기 챔버의 전면측에 위치된 상기 크로스 지지바에 삽입 지지되는 제 1 지지편이 설치되고,
상기 메인바의 타단부측에 위치된 상기 연결바에는 상기 챔버의 후면측에 위치된 상기 크로스 지지바에 탑재 지지되는 제 2 지지편이 설치된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.
12. The method of claim 11,
A first support piece inserted into and supported by the cross support bar disposed at the front side of the chamber is provided at one end of the main bar,
Wherein the connecting bar located at the other end of the main bar is provided with a second supporting piece mounted on the cross supporting bar located at the rear side of the chamber.
제11항에 있어서,
상기 연결바에는 상기 기판을 지지하는 복수의 제 2 지지핀이 설치된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.
12. The method of claim 11,
Wherein the connection bar is provided with a plurality of second support pins for supporting the substrate.
제13항에 있어서,
상기 연결바들 중, 일부는 상호 상이한 간격을 가지고,
상이한 간격을 가지는 상기 연결바에 설치된 상기 제 2 지지핀은 "
Figure 112014047713786-pat00005
"형상으로 형성된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.
14. The method of claim 13,
Wherein some of the connecting bars have mutually different intervals,
The second support pins provided on the connecting bars having different gaps are "
Figure 112014047713786-pat00005
"≪ / RTI >
제11항에 있어서,
상기 연결바는 상기 메인바의 하측에 위치되고,
상기 연결바는 "
Figure 112014047713786-pat00006
" 형상으로 형성되어 단부가 상기 메인바에 각각 결합되는 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.
12. The method of claim 11,
Wherein the connection bar is positioned below the main bar,
The connection bar is "
Figure 112014047713786-pat00006
"≪ / RTI > and the ends are coupled to the main bars, respectively.
제11항에 있어서,
한 쌍의 상기 메인바의 단부측에는 상기 기판의 모서리부측을 지지하는 제 3 지지핀이 각각 설치된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.
12. The method of claim 11,
And a third support pin for supporting a side edge portion of the substrate is provided on an end side of the pair of main bars.
제11항에 있어서,
상기 보트는 복수개가 하나의 상기 기판을 지지하고,
복수의 상기 보트의 메인바들 중, 최외곽에 위치된 상기 메인바에는 상기 기판의 모서리부측을 지지하는 제 3 지지핀이 각각 설치된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.
12. The method of claim 11,
Wherein the plurality of boats support one substrate,
Wherein a third support pin for supporting a corner portion of the substrate is provided on the main bar located at the outermost of the main bars of the plurality of boats.
제11항에 있어서,
상기 메인바의 양단부측에는 로봇의 아암이 삽입되어 걸리는 걸림후크가 각각 형성된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.
12. The method of claim 11,
Wherein the main bar is provided with hooking hooks for receiving and engaging the arms of the robot on both sides of the main bar.
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KR101670453B1 (en) * 2015-04-29 2016-10-28 주식회사 테라세미콘 Batch type apparatus for processing substrate
KR102002552B1 (en) * 2016-02-05 2019-07-22 주식회사 원익아이피에스 Supporter for substrate

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100554631B1 (en) 2002-07-15 2006-02-22 샤프 가부시키가이샤 A cassette for substrates
KR100600515B1 (en) 2005-01-20 2006-07-13 (주)상아프론테크 Cassette having a connector for installing the cross-bar
JP3977481B2 (en) * 1997-04-11 2007-09-19 淀川ヒューテック株式会社 Substrate tray cassette
KR20100064504A (en) * 2008-12-05 2010-06-15 주식회사 에스에프에이 Cassette for storing the substrate and system having the same

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3977481B2 (en) * 1997-04-11 2007-09-19 淀川ヒューテック株式会社 Substrate tray cassette
KR100554631B1 (en) 2002-07-15 2006-02-22 샤프 가부시키가이샤 A cassette for substrates
KR100600515B1 (en) 2005-01-20 2006-07-13 (주)상아프론테크 Cassette having a connector for installing the cross-bar
KR20100064504A (en) * 2008-12-05 2010-06-15 주식회사 에스에프에이 Cassette for storing the substrate and system having the same

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