KR101039151B1 - Boat - Google Patents

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Abstract

배치식 열처리 장치에서 복수개의 기판이 로딩되어 지지되는 보트에 기판의 장변과 단변을 지지할 수 있는 지지 로드를 형성하여 열처리 진행 도중 기판이 자체 하중에 의해 변형되는 것을 방지할 수 있는 보트가 개시된다. 본 발명에 따른 보트(100)는 하부 프레임(110); 상부 프레임(120); 하부 프레임(110) 및 상부 프레임(120)과 연결되며 기판(10)의 내측 방향으로 복수개의 제1 지지 로드(202)가 형성되어 있는 복수개의 제1 수직 프레임(200); 및 하부 프레임(110) 및 상부 프레임(120)과 연결되며 기판(10)의 내측 방향으로 복수개의 제2 지지 로드(212)가 형성되어 있는 제2 수직 프레임(210)을 포함하고, 제1 지지 로드(202)는 기판(10)의 장변을 지지하고 제2 지지 로드(212)는 기판(10)의 단변을 지지하는 것을 특징으로 한다. Disclosed is a boat in which a support rod capable of supporting long and short sides of a substrate is formed in a boat in which a plurality of substrates are loaded and supported in a batch heat treatment apparatus, thereby preventing the substrate from being deformed by its own load during heat treatment. . Boat 100 according to the present invention is the lower frame 110; Upper frame 120; A plurality of first vertical frames 200 connected to the lower frame 110 and the upper frame 120 and having a plurality of first supporting rods 202 formed in an inward direction of the substrate 10; And a second vertical frame 210 connected to the lower frame 110 and the upper frame 120 and having a plurality of second supporting rods 212 formed in an inward direction of the substrate 10. The rod 202 supports the long side of the substrate 10, and the second support rod 212 supports the short side of the substrate 10.

배치식 열처리 장치, 챔버, 보트, 기판, 지지 로드 Batch Heat Treatment Devices, Chambers, Boats, Boards, Support Rods

Description

보트{Boat}Boat {Boat}

본 발명은 배치식 열처리 장치에서 기판이 로딩되는 보트에 관한 것이다. 보다 상세하게는 배치식 열처리 장치에서 열처리 진행 도중 기판이 자체 하중에 의해 변형되는 것을 방지할 수 있도록 기판의 장변과 단변을 지지할 수 있는 지지 로드를 포함하는 보트에 관한 것이다. The present invention relates to a boat on which a substrate is loaded in a batch heat treatment apparatus. More particularly, the present invention relates to a boat including a support rod capable of supporting the long side and the short side of the substrate to prevent the substrate from being deformed by its own load during the heat treatment in the batch heat treatment apparatus.

평판 디스플레이 제조시 사용되는 기판처리 시스템은 크게 증착 장치와 어닐링 장치로 구분될 수 있다.Substrate processing systems used in the manufacture of flat panel displays can be roughly divided into deposition apparatus and annealing apparatus.

증착 장치는 평판 디스플레이의 핵심 구성을 이루는 투명 전도층, 절연층, 금속층 또는 실리콘층을 형성하는 단계를 담당하는 장치로서, 예를 들어 LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition) 또는 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)와 같은 화학 증착 장치와 스퍼터링(sputtering)과 같은 물리 증착 장치가 있다. 또한, 어닐링 장치는 증착 공정 후에 증착된 막의 특성을 향상시키는 단계를 담당하는 장치로서, 예를 들어 증착된 막을 결정화 또는 상 변화시키기 위한 열처리 장치가 있다.The deposition apparatus is a device responsible for forming a transparent conductive layer, an insulating layer, a metal layer, or a silicon layer, which constitute the core of a flat panel display. For example, a low pressure chemical vapor deposition (LPCVD) or plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) Chemical vapor deposition devices, and physical vapor deposition devices such as sputtering. In addition, the annealing device is a device responsible for improving the properties of the deposited film after the deposition process, for example, there is a heat treatment device for crystallization or phase change of the deposited film.

통상적으로 열처리 장치에는 하나의 기판에 대하여 열처리를 수행할 수 있는 매엽식과 복수개의 기판에 대하여 열처리를 수행할 수 있는 배치식이 있다. 매엽식은 장치의 구성이 간단한 이점이 있으나 생산성이 떨어지는 단점이 있어서 대량 생산용으로는 배치식이 각광을 받고 있다.Typically, the heat treatment apparatus includes a sheet type that can perform heat treatment on one substrate and a batch type that can perform heat treatment on a plurality of substrates. Single-leaf type has the advantage of simple configuration of the device, but the disadvantage of low productivity has been spotlighted for batch production for mass production.

배치식 열처리 장치에는 복수개의 기판에 대하여 동시에 열처리가 가능하도록 열처리 공간을 제공하는 챔버 내에 복수개의 기판이 로딩되어 지지될 수 있게 하는 보트의 사용이 필수적이다.The batch heat treatment apparatus is essential to the use of a boat that allows a plurality of substrates to be loaded and supported in a chamber that provides a heat treatment space for simultaneously heat treating a plurality of substrates.

한편 최근 평판 디스플레이의 사이즈가 증가함에 따라 대면적 기판을 안정적으로 로딩시켜서 지지할 수 있는 보트의 필요성이 점점 증가하고 있다. 특히 종래의 보트에서는 열처리 도중에 기판의 자체 하중에 의하여 기판의 휨과 같은 변형이 발생하여 평판 디스플레이의 특성이 저하되는 문제점이 있었다.Meanwhile, as the size of a flat panel display increases, the need for a boat capable of stably loading and supporting a large area substrate is increasing. Particularly, in the conventional boat, deformation such as bending of the substrate occurs due to the load of the substrate during the heat treatment, thereby deteriorating the characteristics of the flat panel display.

이에 본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 배치식 열처리 장치에서 복수개로 로딩된 기판에 대한 열처리 공정을 수행할 때 로딩된 기판의 장변과 단변을 동시에 지지하여 기판의 하중을 분산시킴으로써 기판의 변형을 방지할 수 있는 보트를 제공하는 것을 목적으로 한다. Accordingly, the present invention has been made to solve the above problems, by carrying out the heat treatment process for a plurality of substrates loaded in a batch heat treatment apparatus by simultaneously supporting the long and short sides of the loaded substrate to distribute the load of the substrate An object of the present invention is to provide a boat capable of preventing deformation of the substrate.

상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 보트는, 열처리 공정을 수행하기 위한 공간을 제공하는 챔버 내에 설치되고 복수개의 기판이 로딩되는 보트로서, 하부 프레임; 상부 프레임; 상기 하부 프레임 및 상기 상부 프레임과 연결되며 상기 기판의 내측 방향으로 복수개의 제1 지지 로드가 형성되어 있는 복수개의 제1 수직 프레임; 및 상기 하부 프레임 및 상기 상부 프레임과 연결되며 상기 기판의 내측 방향으로 복수개의 제2 지지 로드가 형성되어 있는 제2 수직 프레임; 을 포함하고, 상기 제1 지지 로드는 상기 기판의 장변을 지지하고 상기 제2 지지 로드는 상기 기판의 단변을 지지하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the boat according to the present invention, the boat is installed in the chamber that provides a space for performing the heat treatment process, a plurality of substrates are loaded, the lower frame; Upper frame; A plurality of first vertical frames connected to the lower frame and the upper frame and having a plurality of first supporting rods formed in an inward direction of the substrate; And a second vertical frame connected to the lower frame and the upper frame and having a plurality of second supporting rods formed in an inward direction of the substrate. And a first support rod supporting a long side of the substrate, and the second support rod supporting a short side of the substrate.

상기 제2 수직 프레임은 복수개일 수 있다.The second vertical frame may be plural in number.

상기 제1 로드와 상기 제2 로드는 서로 직교될 수 있다. The first rod and the second rod may be orthogonal to each other.

상기 제2 지지 로드의 길이는 상기 제1 지지 로드의 길이보다 길 수 있다. The length of the second support rod may be longer than the length of the first support rod.

상기 제2 지지 로드의 길이는 상기 기판의 장변의 길이의 1/2과 실질적으로 동일할 수 있다.The length of the second support rod may be substantially equal to one half of the length of the long side of the substrate.

상기 제1 지지 로드와 상기 제2 지지 로드의 개수는 동일하며, 상기 제1 지지로드간의 간격과 상기 제2 지지 로드간의 간격은 동일할 수 있다. The number of the first support rods and the second support rods may be the same, and the distance between the first support rods and the second support rods may be the same.

상기 제2 지지 로드의 단부에는 제3 지지 로드가 설치될 수 있다. A third support rod may be installed at an end of the second support rod.

상기 제2 로드와 상기 제3 로드는 서로 직교될 수 있다. The second rod and the third rod may be orthogonal to each other.

상기 프레임 및 상기 지지 로드의 재질은 석영을 포함할 수 있다. The material of the frame and the support rod may include quartz.

본 발명에 따르면, 배치식 열처리 장치에서 보트에 로딩된 기판의 장변과 단변을 동시에 지지할 수 있는 지지 로드를 설치하여 기판에 대한 열처리 공정이 진행될 때 기판의 하중을 분산시켜 기판의 변형을 방지하는 효과가 있다. According to the present invention, by installing a support rod that can simultaneously support the long side and short side of the substrate loaded in the boat in a batch heat treatment apparatus to distribute the load of the substrate during the heat treatment process for the substrate to prevent deformation of the substrate It works.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 구성을 상세하게 설명하도록 한다.Hereinafter, the configuration of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명에 의한 보트는 복수개의 기판에 대하여 동시에 열처리가 진행되는 배치식 열처리 장치에서 사용될 수 있다. 상기 배치식 열처리 장치는 내부에 열처리 공간이 제공되는 챔버, 기판을 가열하기 위한 히터 및 열처리 공정 분위기 조절을 위한 분위기 가스의 공급과 배기를 위한 가스 공급관 및 가스 배기관을 포함하여 구성될 수 있다. 이와 같은 배치식 열처리 장치의 구성과 배치식 열처리 장치를 이용한 열처리 공정은 이 분야에서는 널리 알려져 있는 공지 기술이므로 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.The boat according to the present invention can be used in a batch heat treatment apparatus in which heat treatment is simultaneously performed on a plurality of substrates. The batch heat treatment apparatus may include a chamber in which a heat treatment space is provided, a heater for heating a substrate, and a gas supply pipe and a gas exhaust pipe for supplying and exhausting an atmosphere gas for controlling the atmosphere of the heat treatment process. Since the configuration of the batch heat treatment apparatus and the heat treatment process using the batch heat treatment apparatus are well known in the art, detailed description thereof will be omitted.

제1 실시예First embodiment

도 1a와 도 1b는 본 발명의 제1 실시예에 따른 보트(100)의 구성을 나타내는 사시도 및 분해 사시도이다. 1A and 1B are perspective and exploded perspective views showing the configuration of the boat 100 according to the first embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 보트(100)에 기판(10)이 로딩되어 있는 상태를 나타내는 사시도이다. 2 is a perspective view showing a state in which the substrate 10 is loaded on the boat 100 according to the first embodiment of the present invention.

도시한 바와 같이, 보트(100)는 하부 및 상부 프레임(110, 120), 제1 및 제2 수직 프레임(200, 210) 및 제1 및 제2 수직 프레임(200, 210) 각각에 복수개로 설치되는 제1 및 제2 지지 로드(202, 212)를 포함하여 구성된다.As shown, a plurality of boats 100 are installed in each of the lower and upper frames 110 and 120, the first and second vertical frames 200 and 210, and the first and second vertical frames 200 and 210, respectively. And first and second support rods 202, 212.

배치식 열처리 장치에서는 열처리 공간을 제공하는 챔버(미도시)의 내부에 보트(100)가 설치되어 있는 상태에서 기판(10)을 로딩한 후 열처리 공정을 진행할 수 있으며, 경우에 따라서는 상기 챔버의 외부에 설치된 보트(100)에 기판(10)을 로딩하고 그 상태에서 보트(100)를 상기 챔버의 내부로 장입한 후 열처리 공정을 진행할 수도 있다.In the batch heat treatment apparatus, the heat treatment process may be performed after loading the substrate 10 in a state in which the boat 100 is installed in a chamber (not shown) that provides a heat treatment space. The substrate 10 may be loaded onto the boat 100 installed outside, and the boat 100 may be charged into the chamber in that state, and then heat treatment may be performed.

하부 프레임(110)과 상부 프레임(120)은 후술할 제1 수직 프레임(200)과 함께 보트(100)의 기본적인 골격을 이룬다.The lower frame 110 and the upper frame 120 form the basic frame of the boat 100 together with the first vertical frame 200 to be described later.

하부 프레임(110)과 상부 프레임(120)의 형상은 보트(100)에 로딩되는 기판(10)과 동일한 형상으로 이루어지는 것이 바람직하다. 통상적으로 평판 디스플레이 제조용 배치식 열처리 장치에 로딩되는 기판(10)의 형상은 직사각형이므로 하부 프레임(110)과 상부 프레임(120)도 직사각형으로 이루어지는 것이 일반적이다. 또한, 하부 프레임(110)과 상부 프레임(120)의 전체 사이즈는 보트(100)에 로딩되는 기판(10)의 전체 사이즈보다 크게 하는 것이 바람직하다. The shape of the lower frame 110 and the upper frame 120 preferably has the same shape as the substrate 10 loaded on the boat 100. In general, since the shape of the substrate 10 loaded in the batch heat treatment apparatus for manufacturing a flat panel display is rectangular, the lower frame 110 and the upper frame 120 are also generally rectangular. In addition, the total size of the lower frame 110 and the upper frame 120 is preferably larger than the total size of the substrate 10 loaded in the boat 100.

제1 수직 프레임(200)은 전술한 하부 프레임(110) 및 상부 프레임(120)에 연 결되어 보트(100)의 기본적인 골격을 이룬다. The first vertical frame 200 is connected to the lower frame 110 and the upper frame 120 described above to form a basic skeleton of the boat 100.

도 1a 및 도 1b를 참조하면, 제1 수직 프레임(200)의 양단은 각각 하부 프레임(110) 및 상부 프레임(120)과 연결된다. 이때, 제1 수직 프레임(200)은 보트(100)에 로딩되는 기판(10)의 장변측에 배치되어 하부 및 상부 프레임(110, 120)과 연결된다.1A and 1B, both ends of the first vertical frame 200 are connected to the lower frame 110 and the upper frame 120, respectively. In this case, the first vertical frame 200 is disposed on the long side of the substrate 10 loaded on the boat 100 and is connected to the lower and upper frames 110 and 120.

제1 수직 프레임(200)은 복수개가 설치되며 이 경우 제1 수직 프레임(200)의 형상 및 길이는 모두 동일한 것이 바람직하다. 도 1 및 도 2를 참조하면, 제1 수직 프레임(200)의 개수는 기판(10)의 장변측마다 3개씩 모두 6개가 설치되는 것으로 되어 있으나 반드시 이에 한정되는 것은 아니고 필요에 따라 다양하게 변경될 수 있다. 다만 보트(100)에 로딩되는 기판(10)의 안정적인 지지를 위하여 제1 수직 프레임(200)은 하부 프레임(110)과 상부 프레임(120)의 네 모서리를 연결할 수 있도록 최소한 4개는 설치하는 것이 바람직하다.A plurality of first vertical frames 200 are installed, in which case the shape and length of the first vertical frame 200 are all the same. 1 and 2, the number of the first vertical frame 200 is to be installed in all three of each of the long side side of the substrate 10, but not necessarily limited to this, but is not necessarily limited to this and variously changed as necessary Can be. However, in order to stably support the substrate 10 loaded on the boat 100, at least four first vertical frames 200 may be installed to connect four corners of the lower frame 110 and the upper frame 120. desirable.

제1 지지 로드(202)는 제1 수직 프레임(200)의 일측에 형성되어 보트(100)에 로딩되는 기판(10)의 장변을 지지하는 역할을 한다. 이때, 제1 지지 로드(202)는 기판(10)의 내측 방향으로 형성된다.The first support rod 202 is formed on one side of the first vertical frame 200 to support the long side of the substrate 10 loaded on the boat 100. In this case, the first support rod 202 is formed in the inward direction of the substrate 10.

각각의 제1 수직 프레임(200)에는 동일한 개수의 제1 지지 로드(202)가 동일한 간격으로 설치되는 것이 바람직하다. 제1 수직 프레임(200)당 형성되어 있는 제1 지지 로드(202)의 개수는 보트(100)에 로딩되는 기판(10)의 개수와 동일한 것이 바람직하다. 따라서, 보트(100)에 형성되어 있는 제1 지지 로드(202)의 총 개수는 기판(10)의 개수의 6배가 될 수 있다. 예를 들어, 도 1a 및 도 1b를 참조할 때 보트(100)에 23개의 기판(10)이 로딩되면 제1 지지 로드(202)의 총 개수는 138개가 될 수 있다.It is preferable that the same number of first support rods 202 are provided at the same interval in each of the first vertical frames 200. The number of first support rods 202 formed per first vertical frame 200 is preferably equal to the number of substrates 10 loaded in the boat 100. Therefore, the total number of first support rods 202 formed in the boat 100 may be six times the number of substrates 10. For example, referring to FIGS. 1A and 1B, if the boat 100 is loaded with 23 substrates 10, the total number of the first support rods 202 may be 138.

제1 지지 로드(202)의 길이와 폭은 기판(10)의 장변을 안정적으로 지지할 수 있는 범위 내에서 다양하게 변경할 수 있다.The length and width of the first support rod 202 may be variously changed within a range capable of stably supporting the long side of the substrate 10.

제2 수직 프레임(210)은 역시 제1 수직 프레임(200)과 마찬가지로 전술한 하부 프레임(110) 및 상부 프레임(120)에 연결되어 보트(100)의 기본적인 골격을 이룬다. The second vertical frame 210 is also connected to the lower frame 110 and the upper frame 120 described above like the first vertical frame 200 to form a basic skeleton of the boat 100.

도 1a 및 도 1b를 참조하면, 제2 수직 프레임(210)의 양단은 각각 하부 프레임(110) 및 상부 프레임(120)과 연결된다. 이때, 제2 수직 프레임(210)은 보트(100)에 로딩되는 기판(10)의 단변측, 더 상세하게는 보트(100)에 기판이 로딩되는 측(도 1a의 화살표 방향 참조)의 반대측에 배치되어 하부 및 상부 프레임(110, 120)과 연결된다.1A and 1B, both ends of the second vertical frame 210 are connected to the lower frame 110 and the upper frame 120, respectively. At this time, the second vertical frame 210 is located on the short side of the substrate 10 loaded on the boat 100, more specifically, on the opposite side of the side on which the substrate is loaded on the boat 100 (see arrow direction in FIG. 1A). Disposed and connected to the lower and upper frames 110 and 120.

제2 수직 프레임(210)은 1개 이상 설치되며 2개 이상 복수개가 설치되는 경우 제2 수직 프레임(210)의 형상 및 길이는 모두 동일한 것이 바람직하다. 또한, 제2 수직 프레임(210)의 길이는 제1 수직 프레임(200)의 길이와 동일한 것이 바람직하다. 도 1 및 도 2를 참조하면, 제2 수직 프레임(210)의 개수는 기판(10)의 일 단변측에 모두 2개가 설치되는 것으로 되어 있으나 반드시 이에 한정되는 것은 아니고 필요에 따라 다양하게 변경될 수 있다. 다만 보트(100)에 로딩되는 기판(10)의 안정적인 지지를 위하여 제2 수직 프레임(200)은 하부 프레임(110)과 상부 프레임(120)을 연결할 수 있도록 최소한 2개는 설치하는 것이 바람직하다.At least one second vertical frame 210 is installed, and when two or more are installed, it is preferable that the shape and length of the second vertical frame 210 are the same. In addition, the length of the second vertical frame 210 is preferably the same as the length of the first vertical frame 200. Referring to FIGS. 1 and 2, the number of the second vertical frames 210 may be two at one short side of the substrate 10, but the present invention is not limited thereto and may be variously changed as necessary. have. However, in order to stably support the substrate 10 loaded on the boat 100, at least two second vertical frames 200 may be installed to connect the lower frame 110 and the upper frame 120.

제2 지지 로드(212)는 제2 수직 프레임(210)의 일측에 형성되어 보트(100)에 로딩되는 기판(10)의 단변을 지지하는 역할을 한다. 이때, 제2 지지 로드(212)는 기판(10)의 내측 방향으로 형성된다.The second support rod 212 is formed at one side of the second vertical frame 210 to support a short side of the substrate 10 loaded on the boat 100. In this case, the second support rod 212 is formed in the inward direction of the substrate 10.

각각의 제2 수직 프레임(210)에는 동일한 개수의 제2 지지 로드(212)가 동일한 간격으로 설치되는 것이 바람직하다. 제2 수직 프레임(210)당 형성되어 있는 제2 지지 로드(212)의 개수는 보트(100)에 로딩되는 기판(10)의 개수와 동일한 것이 바람직하다. 따라서, 보트(100)에 형성되어 있는 제2 지지 로드(212)의 총 개수는 도 1a 및 도 1b를 참조할 때 기판(10)의 개수의 2배가 될 수 있다. 예를 들어, 도 1a 및 도 1b를 참조할 때, 보트(100)에 23개의 기판(10)이 로딩되면 제2 지지 로드(212)의 총 개수는 46개가 될 수 있다.Each second vertical frame 210 is preferably provided with the same number of second support rods 212 at equal intervals. The number of second support rods 212 formed per second vertical frame 210 is preferably the same as the number of substrates 10 loaded in the boat 100. Therefore, the total number of second support rods 212 formed in the boat 100 may be twice the number of substrates 10 when referring to FIGS. 1A and 1B. For example, referring to FIGS. 1A and 1B, if the boat 100 is loaded with 23 substrates 10, the total number of second support rods 212 may be 46.

제2 지지 로드(212)의 길이와 폭은 기판(10)의 단변을 안정적으로 지지할 수 있는 범위 내에서 다양하게 변경할 수 있다. 다만 기판(10)의 보다 안정적인 지지를 위하여 제2 지지 로드(212)의 길이는 제1 지지 로드(202)의 길이보다 길게 형성될 수 있으며, 이 경우 제2 지지 로드(212)의 길이가 실질적으로 기판(10)의 장변의 길이의 1/2이 되도록 함으로써 제2 지지 로드(212)가 기판(10)의 중앙 부분까지 도달할 수 있게 하는 것이 바람직하다. The length and width of the second support rod 212 may be variously changed within a range capable of stably supporting the short side of the substrate 10. However, in order to support the substrate 10 more stably, the length of the second support rod 212 may be formed longer than the length of the first support rod 202, in which case the length of the second support rod 212 is substantially As a result, it is preferable that the second support rod 212 can reach the center portion of the substrate 10 by being 1/2 of the length of the long side of the substrate 10.

한편 각 제1 수직 프레임(200)에 형성된 제1 지지 로드(202)의 개수는 각 제2 수직 프레임(210)에 형성된 제2 지지 로드(212)의 개수와 동일한 것이 바람직하다. 이로써 보트(100)에 로딩되는 기판(10)마다 기판(10)을 지지하는 제1 및 제2 지지 로드(202, 212)가 대응되며 이 경우 기판(10)이 용이하게 로딩될 수 있도록 대응하는 제1 및 제2 지지 로드(202, 212)의 각 상단부는 실질적으로 동일면 상에 배열되게 하는 것이 바람직하다.On the other hand, the number of the first support rods 202 formed in each of the first vertical frames 200 is preferably the same as the number of the second support rods 212 formed in the second vertical frames 210. As a result, the first and second supporting rods 202 and 212 supporting the substrate 10 correspond to each substrate 10 loaded on the boat 100, and in this case, the substrate 10 may be easily loaded. Each upper end of the first and second support rods 202, 212 is preferably arranged to be substantially coplanar.

또한, 보트(100)에 로딩되는 기판(10)의 안정적인 지지를 위하여 제1 지지 로드(202)와 제2 지지 로드(212)는 서로 직교하도록 형성될 수 있다. In addition, the first support rod 202 and the second support rod 212 may be formed to be orthogonal to each other in order to stably support the substrate 10 loaded on the boat 100.

보트(100)를 이루는 하부 및 상부 프레임(110, 120), 제1 및 제2 수직 프레임(200, 210), 및 제1 및 제2 지지 로드(202, 212)의 재질은 석영인 것이 바람직하나 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 보트(100) 제작시 하부 및 상부 프레임(110, 120)과 제1 및 제2 수직 프레임(200, 210)은 조립식으로 연결되어 설치될 수 있으나 경우에 따라서는 용접식으로 연결되어 설치될 수도 있다.The lower and upper frames 110 and 120, the first and second vertical frames 200 and 210, and the first and second support rods 202 and 212 constituting the boat 100 may be made of quartz. It is not necessarily limited thereto. In addition, when the boat 100 is manufactured, the lower and upper frames 110 and 120 and the first and second vertical frames 200 and 210 may be installed in a prefabricated manner, but in some cases, they may be connected by welding. It may be.

상기와 같이 구성되어 있는 본 발명의 제1 실시예에 따른 보트(100)는 제1 지지 로드(202)에 의해 기판(10)의 장변이 지지되고 제2 지지 로드(212)에 의해 기판(10)의 단변이 지지되어 기판(10)의 하중이 제1 지지 로드(202)와 제2 지지 로드(212)에 의해 분산됨으로써 열처리 도중에 기판(10)의 자체 하중에 의한 기판의 휨과 같은 변형이 방지될 수 있고 이에 따라 평판 디스플레이의 특성이 저하되는 것이 방지될 수 있는 이점이 있다.In the boat 100 according to the first embodiment of the present invention configured as described above, the long side of the substrate 10 is supported by the first support rod 202 and the substrate 10 is supported by the second support rod 212. ), And the load of the substrate 10 is distributed by the first support rod 202 and the second support rod 212 so that deformation such as bending of the substrate due to the self load of the substrate 10 during the heat treatment is prevented. There is an advantage that can be prevented and thus can be prevented from deteriorating the characteristics of the flat panel display.

제2 실시예Second embodiment

도 3a와 도 3b는 본 발명의 제2 실시예에 따른 보트(100A)의 구성을 나타내는 사시도 및 분해 사시도이다.3A and 3B are perspective and exploded perspective views showing the configuration of the boat 100A according to the second embodiment of the present invention.

도 4는 제3 지지 로드(214)의 설치 상태를 나타내는 사시도이다. 4 is a perspective view illustrating an installation state of the third support rod 214.

도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 보트(100A)에 기판(10)이 로딩되어 있 는 상태를 나타내는 도면이다. 5 is a view showing a state in which the substrate 10 is loaded on the boat (100A) according to a second embodiment of the present invention.

도시한 바와 같이, 본 발명의 제2 실시예에 따른 보트(100A)는 제1 및 제2 지지 로드(202, 212) 이외에 제3 지지 로드(214)를 더 포함하여 구성된다. 본 실시예 이외의 구성은 본 발명의 제1 실시예의 구성과 동일하므로 상세한 설명은 생략한다. As shown, the boat 100A according to the second embodiment of the present invention further includes a third support rod 214 in addition to the first and second support rods 202 and 212. Since the configuration other than this embodiment is the same as that of the first embodiment of the present invention, detailed description thereof will be omitted.

제3 지지 로드(214)는 제2 지지 로드(212)의 단부에 보트(100A)에 로딩되는 기판(10)의 일부 내부면을 지지하는 역할을 한다. 이때, 제3 지지 로드(214)는 제2 지지 로드(212)와 직교하는 형태로 형성된다.The third support rod 214 serves to support a portion of the inner surface of the substrate 10 loaded in the boat 100A at the end of the second support rod 212. In this case, the third support rod 214 is formed in a form orthogonal to the second support rod 212.

한편 본 실시예에서와 같이 제3 지지 로드(214)를 포함하는 경우 설치 공간 상의 제약으로 인하여 제2 수직 프레임(210)은 1개만 설치하는 것이 바람직하다. 따라서, 보트(100A)에 형성되어 있는 제3 지지 로드(214)의 총 개수는 도 3a 및 도 3b를 참조할 때 기판(10)의 개수와 동일할 수 있다. 예를 들어, 도 3a 및 도 3b를 참조할 때, 보트(100A)에 23개의 기판(10)이 로딩되면 제3 지지 로드(214)의 총 개수는 23개가 될 수 있다.On the other hand, when including the third support rod 214 as in the present embodiment, it is preferable to install only one second vertical frame 210 due to constraints on the installation space. Accordingly, the total number of third support rods 214 formed in the boat 100A may be equal to the number of substrates 10 when referring to FIGS. 3A and 3B. For example, referring to FIGS. 3A and 3B, if the boat 100A is loaded with 23 substrates 10, the total number of the third support rods 214 may be 23.

도 5를 참조하면, 제3 지지 로드(214)는 가능한 기판(10)과의 접촉 면적을 줄이기 위하여 봉 형상을 갖도록 하는 것이 바람직하다. 제3 지지 로드(214)의 직경과 길이는 기판(10)의 일부 내부면을 안정적으로 지지할 수 있는 범위 내에서 다양하게 변경할 수 있다. 다만 보트(100A)에 기판(10)을 로딩할 때 사용되는 엔드 이펙터(end effector)의 암과 간섭되지 않도록 제3 지지 로드(214)의 직경과 길이를 설정하는 것이 바람직하다.Referring to FIG. 5, the third support rod 214 may have a rod shape in order to reduce the contact area with the substrate 10 as much as possible. The diameter and length of the third support rod 214 may be variously changed within a range capable of stably supporting some inner surfaces of the substrate 10. However, it is preferable to set the diameter and length of the third support rod 214 so as not to interfere with the arm of the end effector used when loading the substrate 10 into the boat 100A.

또한, 도 5를 참조하면, 제3 지지 로드(214)는 제2 지지 로드(212)의 단부에 소정의 삽입부를 형성한 후 상기 삽입부에 제3 지지 로드(214)를 끼우는 방식에 의하여 설치될 수 있으나 반드시 이 방식으로 한정되는 것은 아니다.In addition, referring to FIG. 5, the third support rod 214 is formed by inserting a third support rod 214 into the insertion portion after forming a predetermined insertion portion at the end of the second support rod 212. May be, but is not necessarily limited to this manner.

상기와 같이 구성되어 있는 본 발명의 제2 실시예에 따른 보트(100A)는 제1 지지 로드(202)에 의해 기판(10)의 장변이 지지되고 제2 지지 로드(212)에 의해 기판(10)의 단변이 지지될 뿐만 아니라 제3 지지 로드(214)에 의해서도 기판(10)의 일부 내부면이 지지되어 기판(10)의 하중이 제1, 제2 및 제3 지지 로드(202, 212, 214))에 의해 분산됨으로써 열처리 도중에 기판(10)의 자체 하중에 의한 기판의 휨과 같은 변형이 방지될 수 있고 이에 따라 평판 디스플레이의 특성이 저하되는 것이 방지될 수 있는 이점이 있다.In the boat 100A according to the second embodiment of the present invention configured as described above, the long side of the substrate 10 is supported by the first support rod 202 and the substrate 10 is supported by the second support rod 212. In addition to supporting the short sides, the inner surface of the substrate 10 is also supported by the third supporting rod 214 so that the load of the substrate 10 is increased by the first, second and third supporting rods 202, 212, 214)) can prevent deformation such as warpage of the substrate due to its own load of the substrate 10 during the heat treatment, thereby preventing deterioration of the characteristics of the flat panel display.

본 발명은 상술한 바와 같이 바람직한 실시예를 들어 도시하고 설명하였으나, 상기 실시예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형과 변경이 가능하다. 그러한 변형예 및 변경예는 본 발명과 첨부된 특허청구범위의 범위 내에 속하는 것으로 보아야 한다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be taken in conjunction with the present invention. Variations and changes are possible. Such modifications and variations are intended to fall within the scope of the invention and the appended claims.

도 1a와 도 1b는 본 발명의 제1 실시예에 따른 보트의 구성을 나타내는 사시도 및 분해 사시도.1A and 1B are a perspective view and an exploded perspective view showing the configuration of a boat according to a first embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 보트에 기판이 로딩되어 있는 상태를 나타내는 사시도.2 is a perspective view showing a state in which a substrate is loaded on the boat according to the first embodiment of the present invention.

도 3a와 도 3b는 본 발명의 제2 실시예에 따른 보트의 구성을 나타내는 사시도 및 분해 사시도.3A and 3B are a perspective view and an exploded perspective view showing the configuration of a boat according to a second embodiment of the present invention.

도 4는 제3 지지 로드의 설치 상태를 나타내는 사시도. 4 is a perspective view illustrating an installation state of a third support rod.

도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 보트에 기판이 로딩되어 있는 상태를 나타내는 도면.5 is a view showing a state in which the substrate is loaded on the boat according to the second embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명> <Explanation of symbols for main parts of the drawings>

10: 기판10: Substrate

100, 100A: 보트100, 100A: boat

110: 하부 프레임110: lower frame

120: 상부 프레임120: upper frame

200: 제1 수직 프레임200: first vertical frame

202: 제1 지지 로드202: first supporting rod

210: 제2 수직 프레임210: second vertical frame

212: 제2 지지 로드212: second support rod

214: 제3 지지 로드214: third support rod

Claims (9)

열처리 공정을 수행하기 위한 공간을 제공하는 챔버 내에 설치되고 복수개의 기판이 로딩되는 보트로서,A boat installed in a chamber that provides a space for performing a heat treatment process and loaded with a plurality of substrates, 하부 프레임;Lower frame; 상부 프레임;Upper frame; 상기 하부 프레임 및 상기 상부 프레임과 연결되며 상기 기판의 내측 방향으로 복수개의 제1 지지 로드가 형성되어 있는 복수개의 제1 수직 프레임; 및A plurality of first vertical frames connected to the lower frame and the upper frame and having a plurality of first supporting rods formed in an inward direction of the substrate; And 상기 하부 프레임 및 상기 상부 프레임과 연결되며 상기 기판의 내측 방향으로 복수개의 제2 지지 로드가 형성되어 있는 제2 수직 프레임;A second vertical frame connected to the lower frame and the upper frame and having a plurality of second supporting rods formed in an inward direction of the substrate; 을 포함하고,Including, 상기 제1 지지 로드는 상기 기판의 장변을 지지하고 상기 제2 지지 로드는 상기 기판의 단변을 지지하며,The first support rod supports the long side of the substrate and the second support rod supports the short side of the substrate, 상기 제2 지지 로드의 길이는 상기 제1 지지 로드의 길이보다 길고,The length of the second support rod is longer than the length of the first support rod, 상기 제2 지지 로드의 길이는 상기 기판의 장변의 길이의 1/2과 실질적으로 동일한 것을 특징으로 하는 보트.And the length of the second support rod is substantially equal to one half of the length of the long side of the substrate. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 제2 수직 프레임은 복수개인 것을 특징으로 하는 보트.And the second vertical frame is plural. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 제1 로드와 상기 제2 로드는 서로 직교되는 형태인 것을 특징으로 하는 보트.The first rod and the second rod is characterized in that the boat orthogonal to each other. 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 제1 지지 로드와 상기 제2 지지 로드의 개수는 동일하며, 상기 제1 지지로드간의 간격과 상기 제2 지지 로드간의 간격은 동일한 것을 특징으로 하는 보트.The number of the first support rod and the second support rod is the same, the interval between the first support rod and the boat, characterized in that the same interval between the second support rod. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 제2 지지 로드의 단부에는 제3 지지 로드가 설치되는 것을 특징으로 하는 보트.Boats, characterized in that the third support rod is installed at the end of the second support rod. 제7항에 있어서, The method of claim 7, wherein 상기 제2 로드와 상기 제3 로드는 서로 직교되는 형태인 것을 특징으로 하는 보트.And the second rod and the third rod are orthogonal to each other. 제1항 또는 제7항에 있어서, The method according to claim 1 or 7, 상기 프레임 및 상기 지지 로드의 재질은 석영을 포함하는 것을 특징으로 하는 보트.And the material of the frame and the support rod comprises quartz.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR19990005816U (en) * 1997-07-21 1999-02-18 문정환 Boat of Semiconductor Vertical Diffusion Furnace
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KR100684566B1 (en) * 2005-09-07 2007-02-20 주식회사 테라세미콘 Glass panel loading/unloading boat for display panel annealing process
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Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990005816U (en) * 1997-07-21 1999-02-18 문정환 Boat of Semiconductor Vertical Diffusion Furnace
US20020130061A1 (en) 2000-11-02 2002-09-19 Hengst Richard R. Apparatus and method of making a slip free wafer boat
KR100684566B1 (en) * 2005-09-07 2007-02-20 주식회사 테라세미콘 Glass panel loading/unloading boat for display panel annealing process
JP2008277619A (en) 2007-05-01 2008-11-13 Shin Etsu Handotai Co Ltd Wafer supporting jig, longitudinal-type heat treatment boat having wafer supporting jig, and method of manufacturing wafer supporting jig

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