KR20110006418U - boat - Google Patents

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KR20110006418U KR2020090016553U KR20090016553U KR20110006418U KR 20110006418 U KR20110006418 U KR 20110006418U KR 2020090016553 U KR2020090016553 U KR 2020090016553U KR 20090016553 U KR20090016553 U KR 20090016553U KR 20110006418 U KR20110006418 U KR 20110006418U
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강호영
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주식회사 테라세미콘
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    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/67303—Vertical boat type carrier whereby the substrates are horizontally supported, e.g. comprising rod-shaped elements
    • H01L21/67309—Vertical boat type carrier whereby the substrates are horizontally supported, e.g. comprising rod-shaped elements characterized by the substrate support

Abstract

기판을 지지하는 지지 로드 상에 최소한의 면적으로 기판과 접촉하며 기판을 지지하는 지지 컬럼을 추가하여 기판 처리시 기판의 온도가 전체적으로 균일하도록 하는 보트가 개시된다. 본 고안에 따른 보트는, 배치식 기판 처리 장치에서 기판 처리 공정을 수행하기 위한 공간을 제공하는 챔버 내에 배치되고 복수개의 기판이 로딩되는 보트로서, 챔버 내에 서로 대향하여 배치되는 제1 및 제2 본체(100A, 100B)를 포함하고, 제1 및 제2 본체(100A, 100B)는 지지 프레임(110), 지지 프레임(110) 상에 설치되는 복수개의 수직 프레임(200), 수직 프레임(200) 상에 기판의 내측을 향하도록 설치되는 복수개의 지지 로드(210); 및 지지 로드(210) 상에 설치되는 복수개의 지지 컬럼(220)을 포함하는 특징으로 한다.A boat is disclosed that adds a support column that contacts the substrate to a minimum area on the support rod that supports the substrate and that supports the substrate so that the temperature of the substrate as a whole is uniform during substrate processing. The boat according to the present invention is a boat in which a plurality of substrates are loaded and arranged in a chamber that provides a space for performing a substrate processing process in a batch substrate processing apparatus, wherein the first and second bodies are disposed to face each other in the chamber. (100A, 100B), the first and second body (100A, 100B) is a support frame 110, a plurality of vertical frame 200, the vertical frame 200 is installed on the support frame 110 A plurality of support rods 210 installed to face the inside of the substrate; And a plurality of support columns 220 installed on the support rod 210.

보트, 챔버, 보트, 기판, 지지 로드, 지지 컬럼, 잠열 Boat, chamber, boat, board, support rod, support column, latent heat

Description

보트{Boat}Boat {Boat}

본 고안은 배치식 기판 처리 장치에서 기판이 로딩되어 지지되는 보트에 관한 것이다. 보다 상세하게는 기판을 지지하는 지지 로드 상에 최소한의 면적으로 기판과 접촉하며 기판을 지지하는 지지 컬럼을 추가하여 기판 처리시 기판의 온도가 전체적으로 균일하도록 하는 보트에 관한 것이다.The present invention relates to a boat in which a substrate is loaded and supported in a batch substrate processing apparatus. More particularly, the invention relates to a boat that contacts a substrate with a minimum area on a support rod for supporting the substrate and adds a support column for supporting the substrate so that the temperature of the substrate is uniform throughout the substrate processing.

평판 디스플레이 제조시 사용되는 대면적 기판처리 시스템은 크게 증착 장치와 어닐링 장치로 구분될 수 있다.Large-area substrate processing systems used in the manufacture of flat panel displays can be broadly classified into deposition apparatuses and annealing apparatuses.

증착 장치는 평판 디스플레이의 핵심 구성을 이루는 투명 전도층, 절연층, 금속층 또는 실리콘층을 형성하는 단계를 담당하는 장치로서, 예를 들어 LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition) 또는 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)와 같은 화학 기상 증착 장치와 스퍼터링(sputtering)과 같은 물리 기상 증착 장치가 있다. 또한, 어닐링 장치는 증착 공정 후에 증착된 막의 특성을 향상시키는 단계를 담당하는 장치로서, 예를 들어 증착된 막을 결정화 또는 상변화시키기 위한 기판 처리 장치가 있다.The deposition apparatus is a device that is responsible for forming a transparent conductive layer, an insulating layer, a metal layer, or a silicon layer, which constitute the core of a flat panel display. For example, a low pressure chemical vapor deposition (LPCVD) or plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) Chemical vapor deposition apparatuses, and physical vapor deposition apparatuses such as sputtering. In addition, the annealing device is a device that is responsible for improving the properties of the deposited film after the deposition process, for example, there is a substrate processing device for crystallizing or phase changing the deposited film.

통상적으로 기판 처리 장치에는 하나의 기판에 대하여 기판 처리를 수행할 수 있는 매엽식과 복수개의 기판에 대하여 기판 처리를 수행할 수 있는 배치식이 있다. 매엽식은 장치의 구성이 간단한 이점이 있으나 생산성이 떨어지는 단점이 있어서 대량 생산용으로는 배치식이 각광을 받고 있다.Typically, substrate processing apparatuses include a sheet type that can perform substrate processing on one substrate and a batch type that can perform substrate processing on a plurality of substrates. Single-leaf type has the advantage of simple configuration of the device, but the disadvantage of low productivity has been spotlighted for batch production for mass production.

이와 같은 배치식 기판처리 장치에서는 챔버 내에서 복수개의 기판에 대하여 기판 처리가 가능하게 하는 복수개의 기판이 로딩되는 보트의 사용이 필수적이다.In such a batch substrate processing apparatus, it is essential to use a boat loaded with a plurality of substrates to enable substrate processing for a plurality of substrates in a chamber.

하지만 종래의 보트는 보트에 기판을 로딩한 후 기판 처리를 위해 챔버 내부의 온도를 상승 및 하강시킬 때 보트의 잠열로 인해 기판을 지지하는 지지 로드에 접촉하는 기판의 접촉면은 비 접촉면보다 온도의 변화가 늦게 나타나 기판 전체에 걸쳐 온도의 균일성이 저하되는 문제점이 있었다. However, in the conventional boat, when the substrate is loaded in the boat and the temperature inside the chamber is raised and lowered for substrate processing, the contact surface of the substrate contacting the support rod supporting the substrate due to the latent heat of the boat changes in temperature more than the non-contact surface. Appeared late and there was a problem that the uniformity of the temperature was reduced throughout the substrate.

이에 본 고안은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 보트의 기판을 지지하는 지지 로드에 기판과 최소한의 접촉 면적을 갖는 지지 컬럼을 형성함으로써 기판 처리를 위한 온도 상승 및 하강 시 기판 전체의 온도 변화가 균일하게 나타나도록 하는 보트를 제공하는 것을 목적으로 한다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above problems, by forming a support column having a minimum contact area with the substrate in the support rod for supporting the substrate of the boat, the temperature of the entire substrate during the temperature rise and fall for substrate processing It is an object to provide a boat in which the change appears uniformly.

상기한 목적을 달성하기 위하여, 본 고안에 따른 보트는, 배치식 기판 처리 장치에서 기판 처리 공정을 수행하기 위한 공간을 제공하는 챔버 내에 배치되고 복수개의 기판이 로딩되는 보트로서, 상기 챔버 내에 서로 대향하여 배치되는 제1 및 제2 본체; 를 포함하고, 상기 제1 및 제2 본체는 지지 프레임, 상기 지지 프레임 상에 설치되는 복수개의 수직 프레임, 상기 수직 프레임 상에 상기 기판의 내측을 향하도록 설치되는 복수개의 지지 로드; 및 상기 지지 로드 상에 설치되는 복수개의 지지 컬럼을 포함하는 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the boat according to the present invention is a boat disposed in a chamber providing a space for performing a substrate processing process in a batch substrate processing apparatus, a plurality of substrates are loaded, First and second bodies disposed towards; The first and second main body includes a support frame, a plurality of vertical frames installed on the support frame, a plurality of support rods installed to face the substrate on the vertical frame; And a plurality of support columns installed on the support rods.

상기 제1 및 제2 본체는 상기 기판의 장변 양측에 배치될 수 있다.The first and second bodies may be disposed on both sides of the long side of the substrate.

상기 제1 및 제2 본체는 상기 기판의 크기에 대응하여 이동 가능하게 배치될 수 있다.The first and second bodies may be disposed to be movable in correspondence with the size of the substrate.

상기 제1 및 제2 본체는 연동할 수 있다.The first and second bodies may interlock.

상기 지지 컬럼은 상부로 갈수록 폭이 좁아질 수 있다.The support column may be narrower toward the top.

상기 복수개의 지지 컬럼의 높이는 모두 동일할 수 있다.The heights of the plurality of support columns may all be the same.

상기와 같이 구성된 본 고안에 따르면, 배치식 기판처리 장치에서 복수개의 기판이 로딩되는 보트의 지지 로드 상에 기판과 최소한의 면적으로 접촉하는 지지 컬럼을 추가로 설치하여 기판 처리를 위한 온도 상승 및 하강 시 기판 전체의 온도가 균일하게 하여 평판 디스플레이의 표시 특성이 저하되는 것을 억제할 수 있는 효과가 있다.According to the present invention configured as described above, in the batch substrate processing apparatus, by further installing a support column in contact with the substrate with a minimum area on the support rod of the boat on which the plurality of substrates are loaded, the temperature rise and fall for the substrate processing There is an effect that the temperature of the entire substrate can be uniform and thereby the display characteristics of the flat panel display can be suppressed from being lowered.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 고안의 구성을 상세하게 설명하도록 한다.Hereinafter, the configuration of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 고안에 의한 보트는 복수개의 기판에 대하여 동시에 기판 처리가 진행되는 배치식 기판 처리 장치에서 사용될 수 있다. 상기 배치식 기판 처리 장치는 내부에 기판 처리 공간이 제공되는 챔버, 기판을 가열하기 위한 히터 및 기판 처리 공정 분위기 조절을 위한 분위기 가스의 공급과 배기를 위한 가스 공급관 및 가스 배기관을 포함하여 구성될 수 있다. 이와 같은 배치식 기판 처리 장치의 구성과 배치식 기판 처리 장치를 이용한 기판 처리 공정은 이 분야에서는 널리 알려져 있는 공지 기술이므로 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.The boat according to the present invention can be used in a batch substrate processing apparatus in which substrate processing is simultaneously performed on a plurality of substrates. The batch substrate processing apparatus may include a chamber in which a substrate processing space is provided, a heater for heating the substrate, and a gas supply pipe and a gas exhaust pipe for supplying and exhausting an atmosphere gas for controlling the atmosphere of the substrate processing process. have. Since the configuration of the batch substrate processing apparatus and the substrate processing process using the batch substrate processing apparatus are well known techniques in the art, a detailed description thereof will be omitted.

도 1은 본 고안의 일 실시예에 따른 보트(100)의 구성을 나타내는 도면이다. 1 is a view showing the configuration of a boat 100 according to an embodiment of the present invention.

도 2는 도 1의 A 부분의 상세도면이다.FIG. 2 is a detailed view of portion A of FIG. 1.

우선, 배치식 기판 처리 장치에서는 기판 처리 공간을 제공하는 챔버(미도시)의 내부에 보트(100)가 설치되어 있는 상태에서 기판(10)을 로딩한 후 기판 처리 공정을 진행할 수 있으며, 경우에 따라서는 챔버의 외부에 설치된 보트(100)에 기판(10)을 로딩하고 그 상태에서 보트(100)를 챔버의 내부로 장입한 후 기판 처리 공정을 진행할 수도 있다.First, in the batch type substrate processing apparatus, the substrate 10 may be loaded after the substrate 10 is loaded in a state in which the boat 100 is installed in a chamber (not shown) providing a substrate processing space. Therefore, the substrate 10 may be loaded in the boat 100 installed outside the chamber, and the boat 100 may be charged into the chamber in the state, and then the substrate processing process may be performed.

이때, 본 실시예에서는 기판(10)은 홀더(12) 상에 안착된 상태에서 보트(100)에 로딩되어 있지만, 기판(10)은 홀더(12) 상에 안착되지 않고 기판(10) 만이 보트(100)에 로딩될 수도 있다. 기판(10)이 홀더(12) 상에 안착된 상태에서 로딩되는 경우에도 설명의 편의를 위해 기판(10) 만이 로딩되는 것으로 설명하기로 한다.At this time, in the present embodiment, the substrate 10 is loaded on the boat 100 while being seated on the holder 12, the substrate 10 is not seated on the holder 12, only the substrate 10 is boat It may be loaded to 100. Even when the substrate 10 is loaded on the holder 12, only the substrate 10 is loaded for convenience of description.

도 1을 참조하면, 보트(100)는 제1 및 제2 본체(100A, 100B)를 포함하여 구성될 수 있다.Referring to FIG. 1, the boat 100 may include first and second bodies 100A and 100B.

챔버(미도시)의 내부에는 제1 및 제2 본체(100A, 100B)가 서로 대향하여 배치된다. 제1 및 제2 본체(100A, 100B)는 보트에 로딩되는 기판(10)의 양측, 즉 기판(10)의 장변측에 위치되도록 하는 것이 바람직하다.In the chamber (not shown), the first and second bodies 100A and 100B are disposed to face each other. The first and second bodies 100A and 100B are preferably positioned at both sides of the substrate 10 loaded on the boat, that is, at the long side of the substrate 10.

제1 및 제2 본체(100A, 100B)는 소정의 이격 간격을 두고 배치된다. 제1 및 제2 본체(100A, 100B)의 이격 간격은 로딩되는 기판(10)의 크기에 대응하여 결정된다.The first and second main bodies 100A and 100B are disposed at predetermined intervals. The separation distance between the first and second bodies 100A and 100B is determined corresponding to the size of the substrate 10 to be loaded.

이를 좀더 상세히 설명하면 다음과 같다.This will be described in more detail as follows.

보트(100)에 로딩되는 기판(10)의 크기는 다양하게 변화할 수 있다. 다양한 크기를 갖는 기판(10)의 안정적인 로딩을 위해서 제1 및 제2 본체(100A, 100B)는 이동 가능하게 배치함으로써, 이격 간격을 조절할 수 있도록 하는 것이 바람직하다. 특히, 제1 및 제2 본체(100A, 100B)의 이격 간격은 기판(10)의 단변 길이에 대응하여 조절 가능하도록 배치되는 것이 바람직하다. 그리고, 제1 및 제2 본체(100A, 100B)의 이격 간격을 조절할 때, 제1 및 제2 본체(100A, 100B)는 연동되도록 하여 기판(10)은 항상 챔버의 내측 중앙에 위치되도록 하는 것이 바람직하다.The size of the substrate 10 loaded on the boat 100 may vary. In order to stably load the substrate 10 having various sizes, the first and second bodies 100A and 100B may be disposed to be movable to adjust the separation interval. In particular, the spacing between the first and the second body (100A, 100B) is preferably arranged to be adjustable corresponding to the short side length of the substrate (10). In addition, when adjusting the separation distance between the first and second main bodies 100A and 100B, the first and second main bodies 100A and 100B are interlocked so that the substrate 10 is always located at the inner center of the chamber. desirable.

도 1 및 도 2를 참조하면, 제1 및 제2 본체(100A, 100B)는 각각 지지 프레임(110), 수직 프레임(200), 지지 로드(210) 및 지지 컬럼(220)을 포함하여 구성된다.1 and 2, the first and second bodies 100A and 100B may include a support frame 110, a vertical frame 200, a support rod 210, and a support column 220, respectively. .

지지 프레임(110)은 후술하는 수직 프레임(200)과 함께 보트(100)의 기본적인 골격을 이룬다.The support frame 110 forms a basic skeleton of the boat 100 together with the vertical frame 200 to be described later.

지지 프레임(110)은 각각 소정의 사이즈를 갖는 직사각형의 형상을 가지며, 서로 소정 거리로 이격되어 보트(100)의 양측으로 평행하게 동일한 방향으로 배치되는 것이 바람직하다.The support frame 110 has a rectangular shape each having a predetermined size, and is preferably spaced apart from each other by a predetermined distance and disposed in the same direction in parallel to both sides of the boat 100.

이때 지지 프레임(110)의 사이즈는 통상적으로 평판 디스플레이 제조용 배치식 기판 처리 장치에 로딩되는 직사각형 형상의 기판(10)의 사이즈를 고려하여 결정되는 것이 좋다. 예를 들어, 지지 프레임(110)의 길이는 기판(10)의 장변의 길이보다 크게 설정하는 것이 바람직하다.In this case, the size of the support frame 110 may be generally determined in consideration of the size of the rectangular substrate 10 loaded in the batch type substrate processing apparatus for manufacturing a flat panel display. For example, the length of the support frame 110 is preferably set larger than the length of the long side of the substrate 10.

수직 프레임(200)은 지지 프레임(110) 상에 연결되어 보트(100)의 기본적인 골격을 이룬다.The vertical frame 200 is connected on the support frame 110 to form a basic skeleton of the boat 100.

수직 프레임(200)의 하단부는 지지 프레임(110)에 연결된다. 이때, 수직 프레임(200)은 보트(100)에 로딩되는 기판(10)의 장변측에 배치되어 지지 프레임(110)과 연결된다. 수직 프레임(200)의 상단부에는 지지 프레임(110)과 동일한 형상을 갖는 상부 프레임(미도시)이 연결될 수 있다.The lower end of the vertical frame 200 is connected to the support frame 110. In this case, the vertical frame 200 is disposed on the long side of the substrate 10 loaded on the boat 100 and connected to the support frame 110. An upper frame (not shown) having the same shape as the support frame 110 may be connected to the upper end of the vertical frame 200.

수직 프레임(200)은 복수개가 설치되며 이 경우 수직 프레임(200)의 형상 및 길이는 모두 동일한 것이 바람직하다. 도 1에 도시한 바와 같이, 수직 프레임(200)의 개수는 기판(10)의 장변측마다 3개씩 모두 6개가 설치되는 것으로 되어 있으나 반드시 이에 한정되는 것은 아니고 필요에 따라 다양하게 변경될 수 있다. 다만 보트(100)에 로딩되는 기판(10)의 안정적인 지지를 위하여 수직 프레임(200)은 보트(100)의 양측으로 배치된 지지 프레임(110)의 네 모서리를 연결할 수 있도록 최소한 4개는 설치하는 것이 바람직하다.A plurality of vertical frame 200 is installed in this case, it is preferable that the shape and length of the vertical frame 200 are all the same. As shown in FIG. 1, the number of the vertical frames 200 is six, three for each long side of the substrate 10. However, the number of the vertical frames 200 is not limited thereto and may be variously changed as necessary. However, in order to stably support the substrate 10 loaded on the boat 100, at least four vertical frames 200 may be installed to connect four corners of the support frame 110 disposed on both sides of the boat 100. It is preferable.

지지 로드(210)는 수직 프레임(200)의 일측에 형성되어 보트(100)에 로딩되는 기판(10)의 장변측을 지지하는 역할을 한다. 이때, 지지 로드(210)는 기판(10)의 내측 방향을 향하도록 형성된다.The support rod 210 is formed on one side of the vertical frame 200 and serves to support the long side of the substrate 10 loaded on the boat 100. In this case, the support rod 210 is formed to face the inner direction of the substrate 10.

각각의 수직 프레임(200)에는 동일한 개수의 지지 로드(210)가 동일한 간격으로 형성되어 있는 것이 바람직하다. 수직 프레임(200) 당 형성되어 있는 지지 로드(210)의 개수는 보트(100)에 로딩될 수 있는 기판(10)의 총 개수와 동일한 것이 바람직하다. 따라서, 보트(100)에 형성되어 있는 지지 로드(210)의 총 개수는 기판(10) 개수의 6배가 될 수 있다. 예를 들어, 도 1을 참조할 때, 보트(100)에 6개의 기판(10)이 로딩될 수 있다면 지지 로드(210)의 총 개수는 36개가 될 수 있다.It is preferable that the same number of support rods 210 are formed at the same interval in each vertical frame 200. The number of support rods 210 formed per vertical frame 200 is preferably equal to the total number of substrates 10 that can be loaded into the boat 100. Therefore, the total number of support rods 210 formed in the boat 100 may be six times the number of substrates 10. For example, referring to FIG. 1, the total number of support rods 210 may be 36 if six substrates 10 may be loaded in the boat 100.

지지 로드(210)의 길이와 폭은 기판(10)의 장변측을 안정적으로 지지할 수 있는 범위 내에서 다양하게 변경할 수 있다.The length and width of the support rod 210 may be variously changed within a range capable of stably supporting the long side of the substrate 10.

지지 로드(210) 상에는 기판(10)을 소정의 높이로 지지하는 지지 컬럼(220)이 형성된다.The support column 220 is formed on the support rod 210 to support the substrate 10 at a predetermined height.

지지 컬럼(220)은 각 수직 프레임(200)에 형성되어 있는 지지 로드(210) 상에 형성된다. 지지 컬럼(220)은 보트(100)에 로딩되는 기판(10)의 장변측을 지지 로드(210) 상에서 소정의 높이로 이격시킨 상태에서 지지한다.The support column 220 is formed on the support rod 210 formed in each vertical frame 200. The support column 220 supports the long side of the substrate 10 loaded on the boat 100 at a predetermined height on the support rod 210.

지지 컬럼(220)은 상부로 갈수록 폭이 좁게 형성되는 마름모꼴 또는 삼각형 형태의 단면 구조로 형성되어, 지지 컬럼(220)과 기판(10)의 접촉면이 최소화되도록 하는 것이 바람직하다.The support column 220 is formed in a cross-sectional structure having a rhombic or triangular shape that is narrower toward the top, so that the contact surface between the support column 220 and the substrate 10 is minimized.

기판(10)을 안정적으로 지지할 수 있도록 하기 위해 각각의 지지 로드(210) 상에는 적어도 하나 이상의 지지 컬럼(220)이 형성되는 것이 바람직하다. 도면에는 지지 컬럼(220)이 지지 로드(210) 상에 2개가 형성되어 있는 것으로 도시되어 있으나, 사용자의 필요에 따라 그 이상의 개수로 형성될 수도 있다.At least one support column 220 is preferably formed on each support rod 210 in order to stably support the substrate 10. Although two support columns 220 are formed on the support rod 210 in the figure, the number of the support columns 220 may be increased according to the needs of the user.

예를 들어, 보트(100)에 6개의 기판(10)이 로딩될 수 있다면 지지 컬럼(220)의 총 개수는 72개가 될 수 있다.For example, if six boats 10 can be loaded into the boat 100, the total number of support columns 220 may be 72.

지지 컬럼(220)의 높이는 기판(10)의 장변측을 안정적으로 지지할 수 있는 범위 내에서 다양하게 변경할 수 있다. 다만, 지지 컬럼(220)의 각 상단부가 실질적으로 동일면 상에 배열되게 하여 기판(10)의 장변측이 지지 로드(220)에 의해 동시에 지지되게 하는 것이 바람직하다.The height of the support column 220 may be variously changed within a range capable of stably supporting the long side of the substrate 10. However, it is preferable that each upper end of the support column 220 is arranged on substantially the same surface so that the long side of the substrate 10 is simultaneously supported by the support rod 220.

지지 컬럼(220)은 지지 로드(210)의 상부면에 밀착시킨 후 용접에 의해 지지 로드(210)와 결합됨으로써 기판(10)을 지지할 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것 은 아니고 지지 로드(210)와 지지 컬럼(220)를 일체로 형성한 후에 이를 각 수직 프레임(200) 상에 설치할 수도 있다.The support column 220 may support the substrate 10 by being in close contact with the upper surface of the support rod 210 and then coupled to the support rod 210 by welding, but is not necessarily limited thereto. ) And the support column 220 may be integrally formed and then installed on each vertical frame 200.

보트(100)를 이루는 지지 프레임(110), 수직 프레임(200), 지지 로드(220) 및 지지 컬럼(220)의 재질은 석영인 것이 바람직하나 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 보트(100) 제작시 지지 프레임(110)과 수직 프레임(200)은 조립식으로 연결되어 설치될 수 있으나 경우에 따라서는 용접식으로 연결되어 설치될 수도 있다.The material of the support frame 110, the vertical frame 200, the support rod 220, and the support column 220 constituting the boat 100 is preferably quartz, but is not necessarily limited thereto. In addition, when the boat 100 is manufactured, the support frame 110 and the vertical frame 200 may be installed in a prefabricated manner, but in some cases, may be installed by welding.

도 3은 본 고안의 일 실시예에 따른 보트(100)에 기판(10)이 로딩되어 있는 상태를 나타내는 도면이다. 도 4는 본 고안의 일 실시예에 따른 보트(100)의 지지 컬럼(220)에 의해 기판(10)이 지지되는 상태를 나타내는 도면이다.3 is a view showing a state in which the substrate 10 is loaded on the boat 100 according to an embodiment of the present invention. 4 is a view showing a state in which the substrate 10 is supported by the support column 220 of the boat 100 according to an embodiment of the present invention.

도 3 및 도 4를 참조하면, 상기와 같이 구성되어 있는 본 고안의 일 실시예에 따른 보트(100)는 지지 컬럼(220)에 의해 기판(10)의 장변측을 지지한다.3 and 4, the boat 100 according to the embodiment of the present invention configured as described above supports the long side of the substrate 10 by the support column 220.

이때, 기판(10)은 지지 컬럼(220)과 최소한의 면적으로 접촉되어 지지되면서 지지 로드(210)에서 소정의 높이로 이격되어 있다.In this case, the substrate 10 is spaced apart from the support rod 210 by a predetermined height while being supported in contact with the support column 220 with a minimum area.

따라서, 본 고안에 의한 보트(100)는 기판(10)과 지지 컬럼(220) 사이의 접촉 면적이 최소화됨으로써 챔버 내에서 기판 처리 공정의 수행을 위한 온도 상승 및 하강 도중에 보트(100)의 잠열에 의해 지지 로드(210)에 접촉하는 기판(10)의 접촉면에서의 온도 변화가 다른 부분에 비해 느리게 나타나 기판(10)의 온도 균일성이 저하되는 것을 방지할 수 있고, 이에 따라 평판 디스플레이의 표시 특성이 저하되는 것을 억제할 수 있는 이점이 있다.Accordingly, the boat 100 according to the present invention minimizes the contact area between the substrate 10 and the support column 220, thereby minimizing the latent heat of the boat 100 during the temperature rise and fall for performing the substrate processing process in the chamber. As a result, a change in temperature at the contact surface of the substrate 10 in contact with the support rod 210 is slower than that of other portions, thereby preventing the temperature uniformity of the substrate 10 from being lowered, thereby displaying display characteristics of the flat panel display. There is an advantage of being able to suppress this deterioration.

본 고안은 상술한 바와 같이 바람직한 실시예를 들어 도시하고 설명하였으나, 상기 실시예에 한정되지 아니하며 본 고안의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 고안이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형과 변경이 가능하다. 그러한 변형예 및 변경예는 본 고안과 첨부된 실용신안등록청구범위의 범위 내에 속하는 것으로 보아야 한다.The present invention has been shown and described with reference to the preferred embodiments as described above, but is not limited to the above embodiments and various modifications made by those skilled in the art to which the subject innovation pertains without departing from the spirit of the present invention. Modifications and variations are possible. Such modifications and variations should be regarded as falling within the scope of the present invention and the appended claims.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 보트의 구성을 나타내는 도면.1 is a view showing the configuration of a boat according to an embodiment of the present invention.

도 2는 도 1의 A 부분의 상세도면.FIG. 2 is a detailed view of portion A of FIG. 1; FIG.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 보트에 기판이 로딩되어 있는 상태를 나타내는 도면.3 is a view showing a state in which a substrate is loaded in a boat according to an embodiment of the present invention.

도 4는 본 고안의 일 실시예에 따른 보트의 지지 컬럼에 의해 기판이 지지되는 상태를 나타내는 도면.4 is a view showing a state in which the substrate is supported by the support column of the boat according to an embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

10: 기판10: Substrate

12: 홀더12: holder

100: 보트100: boat

100A: 제1 본체100A: first body

100B: 제2 본체100B: second body

110: 지지 프레임110: support frame

200: 수직 프레임200: vertical frame

210: 지지 로드210: support rod

220: 지지 컬럼220: support column

Claims (6)

배치식 기판 처리 장치에서 기판 처리 공정을 수행하기 위한 공간을 제공하는 챔버 내에 배치되고 복수개의 기판이 로딩되는 보트로서,A boat in which a plurality of substrates are loaded and disposed in a chamber that provides space for performing a substrate processing process in a batch substrate processing apparatus, 상기 챔버 내에 서로 대향하여 배치되는 제1 및 제2 본체를 포함하고,A first body and a second body disposed to face each other in the chamber, 상기 제1 및 제2 본체는The first and second body is 지지 프레임,Support frame, 상기 지지 프레임 상에 설치되는 복수개의 수직 프레임,A plurality of vertical frames installed on the support frame, 상기 수직 프레임 상에 상기 기판의 내측을 향하도록 설치되는 복수개의 지지 로드; 및A plurality of support rods installed on the vertical frame to face the inside of the substrate; And 상기 지지 로드 상에 설치되는 복수개의 지지 컬럼A plurality of support columns installed on the support rods 을 포함하는 특징으로 하는 보트.A boat comprising a. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1 및 제2 본체는 상기 기판의 장변 양측에 배치되는 것을 특징으로 하는 보트.The first and second body boats, characterized in that arranged on both sides of the long side of the substrate. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1 및 제2 본체는 상기 기판의 크기에 대응하여 이동 가능하게 배치되는 것을 특징으로 하는 보트.And the first and second bodies are arranged to be movable in correspondence with the size of the substrate. 제3항에 있어서,The method of claim 3, 상기 제1 및 제2 본체는 연동하는 것을 특징으로 하는 보트.And the first and second bodies interlock. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 지지 컬럼은 상부로 갈수록 폭이 좁아지는 것을 특징으로 하는 보트.The boat is characterized in that the width becomes narrower toward the top. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 복수개의 지지 컬럼의 높이는 모두 동일한 것을 특징으로 하는 보트.And the heights of the plurality of support columns are all the same.
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KR20220037269A (en) * 2020-09-17 2022-03-24 주식회사 한화 Boat device including an insulation portion

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