JP5390213B2 - boat - Google Patents
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Description
本発明は、バッチ式熱処理装置において、基板を搭載支持するボートに関するものである。より詳細には、本発明は、バッチ式熱処理装置において、熱処理中に基板が自重によって変形することを防止するべく、基板の長辺側を支持する第1及び第2支持ロードを含むボートに関するものである。 The present invention relates to a boat for mounting and supporting a substrate in a batch heat treatment apparatus. More particularly, the present invention relates to a boat including first and second support loads that support the long side of a substrate in a batch heat treatment apparatus to prevent the substrate from being deformed by its own weight during the heat treatment. It is.
平面ディスプレイを製造する際に使用される大面積基板処理システムは、蒸着装置とアニーリング装置とに区分することができる。 A large area substrate processing system used in manufacturing a flat display can be divided into a vapor deposition apparatus and an annealing apparatus.
蒸着装置は、平面ディスプレイの中心的な構成要素である透明導電層、絶縁層、金属層又はシリコン層を形成するステップで用いられる装置であり、例えば、LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition)又はPECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)などを行う化学気相蒸着装置や、スパッタリング(sputtering)などを行う物理的気相蒸着装置がある。一方、アニーリング装置は、蒸着工程の後に、蒸着された膜の特性を向上させるステップで用いられる装置であり、例えば、蒸着された膜を結晶化又は相変化させるための熱処理装置がある。 The vapor deposition apparatus is an apparatus used in a step of forming a transparent conductive layer, an insulating layer, a metal layer, or a silicon layer, which is a central component of a flat display. For example, LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) or PECVD ( There is a chemical vapor deposition apparatus that performs plasma enhanced chemical vapor deposition) and a physical vapor deposition apparatus that performs sputtering. On the other hand, the annealing apparatus is an apparatus used in the step of improving the characteristics of the deposited film after the deposition process, and includes, for example, a heat treatment apparatus for crystallizing or phase-changing the deposited film.
一般に、熱処理装置には、1つの基板に対して熱処理を実施する枚葉式と複数の基板に対して熱処理を実施するバッチ式とがある。枚葉式は、装置の構成が簡単であるという利点があるものの、生産性が低い。このため、大量生産にはバッチ式が用いられることが多い。 Generally, the heat treatment apparatus includes a single wafer type that performs heat treatment on one substrate and a batch type that performs heat treatment on a plurality of substrates. The single wafer type has the advantage that the configuration of the apparatus is simple, but the productivity is low. For this reason, a batch system is often used for mass production.
バッチ式熱処理装置においては、複数の基板を同時に熱処理可能な熱処理空間を提供するチャンバ内に、複数の基板を搭載支持するボートを配置することが必須である。 In a batch-type heat treatment apparatus, it is essential to arrange a boat for mounting and supporting a plurality of substrates in a chamber that provides a heat treatment space capable of simultaneously heat-treating a plurality of substrates.
一方、近年、平面ディスプレイのサイズが大型化するに従い、大面積基板を安定的に搭載支持するボートの必要性が高まっている。しかし、従来のボートには、熱処理中に基板がその自重によって折れ曲がるなどの基板の変形が発生するという問題があり、平面ディスプレイの表示特性が低下したり、不均一になったりする不都合がある。 On the other hand, in recent years, the need for a boat that stably mounts and supports a large-area substrate is increasing as the size of a flat display increases. However, the conventional boat has a problem that the substrate is deformed such that the substrate is bent by its own weight during the heat treatment, and there is a disadvantage that the display characteristics of the flat display are deteriorated or non-uniform.
したがって、前述した問題点を解決するためになされた本発明は、バッチ式熱処理装置において、複数の基板に対して熱処理工程を実施する際、基板の荷重を分散させることによって基板の変形を防止するように、搭載される基板の長辺側を支持する第1及び第2ロードを備えるボートを提供することにその目的がある。 Accordingly, the present invention, which has been made to solve the above-described problems, prevents the deformation of the substrate by dispersing the substrate load when performing the heat treatment process on a plurality of substrates in a batch heat treatment apparatus. Thus, there is an object to provide a boat including first and second loads that support the long side of a substrate to be mounted.
前述した目的を達成するために、本発明に係るボートは、バッチ式熱処理装置で熱処理工程を実施するための空間を提供するチャンバ内に配置され、複数の基板が搭載されるボートであって、下部フレームと、上部フレームと、前記上部フレーム及び前記下部フレームを結合する複数の垂直フレームと、前記各垂直フレームの一側に、前記基板の内側方向へ延出するように水平方向に形成された複数の第1支持ロードと、前記各第1支持ロードを水平方向に互いに連結する第2支持ロードとを含むことを特徴とする。 In order to achieve the above-described object, a boat according to the present invention is a boat in which a plurality of substrates are mounted and disposed in a chamber that provides a space for performing a heat treatment process in a batch heat treatment apparatus, A lower frame, an upper frame, a plurality of vertical frames connecting the upper frame and the lower frame, and a horizontal direction formed on one side of each vertical frame so as to extend inward of the substrate. It includes a plurality of first support loads and a second support load that connects the first support loads in the horizontal direction.
ここで、前記第1支持ロードと前記第2支持ロードは、互いに直交することが好ましい。 Here, it is preferable that the first support load and the second support load are orthogonal to each other.
また、前記第1支持ロード及び前記第2支持ロードは、前記基板の長辺側を支持することが好ましい。 The first support load and the second support load preferably support the long side of the substrate.
また、前記基板は、前記第1支持ロード及び前記第2支持ロードのうちの少なくとも一方と接触し、支持されるようにすることが好ましい。 The substrate is preferably in contact with and supported by at least one of the first support load and the second support load.
さらに、前記基板は、前記第1支持ロード及び前記第2支持ロードの両方と接触し、支持されるようにすることが好ましい。 Furthermore, the substrate is preferably in contact with and supported by both the first support load and the second support load.
本発明によれば、バッチ式熱処理装置において、ボートが、搭載される基板の長辺側を支持する第1及び第2ロードを備えることによって、基板に対して熱処理工程を実施する際、基板の荷重を分散させることにより基板の変形を防止するという効果が得られる。また、本発明によれば、バッチ式熱処理装置のボートに搭載された基板に対して、基板を変形させることなく熱処理工程を実施することができるので、基板上に形成される平面ディスプレイの表示特性が向上するという効果が得られる。 According to the present invention, in the batch heat treatment apparatus, when the boat is provided with the first and second loads that support the long side of the substrate to be mounted, when performing the heat treatment process on the substrate, By dispersing the load, an effect of preventing the deformation of the substrate can be obtained. In addition, according to the present invention, since the heat treatment process can be performed on the substrate mounted on the boat of the batch heat treatment apparatus without deforming the substrate, the display characteristics of the flat display formed on the substrate are displayed. Is obtained.
以下、添付した図面を参照して本発明の構成を詳細に説明する。 Hereinafter, the configuration of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
本発明に係るボートは、複数の基板に対して同時に熱処理を実施するためのバッチ式熱処理装置で使用することができる。バッチ式熱処理装置は、内部に熱処理空間が提供されるチャンバ、基板を加熱するためのヒータ、並びに熱処理工程の雰囲気を調節するために雰囲気ガスを供給又は排気するガス供給管及びガス排気管を含んで構成されることができる。このようなバッチ式熱処理装置の構成及び該バッチ式熱処理装置を用いた熱処理工程は、当該分野において広く知られている公知技術であるため、これについての詳細な説明は省略する。 The boat according to the present invention can be used in a batch type heat treatment apparatus for simultaneously performing heat treatment on a plurality of substrates. The batch heat treatment apparatus includes a chamber in which a heat treatment space is provided, a heater for heating the substrate, and a gas supply pipe and a gas exhaust pipe for supplying or exhausting atmospheric gas to adjust the atmosphere of the heat treatment process. Can be configured with. Since the configuration of such a batch heat treatment apparatus and the heat treatment process using the batch heat treatment apparatus are well-known techniques widely known in the field, a detailed description thereof will be omitted.
図1は、本発明の一実施形態に係るボート100の構成を示す斜視図であり、図2は、本発明の一実施形態に係るボート100の第1及び第2支持ロード210、220の構成を示す斜視図であり、図3は、本発明の一実施形態に係るボート100に基板10を搭載した状態を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing a configuration of a
図1に示すように、ボート100は、下部及び上部フレーム110、120、下部及び上部フレーム110、120を連結するように設けられた垂直フレーム200、この垂直フレーム200に形成された複数の第1ロード210、及び複数の第1ロード210と直交し、複数の第1ロード210を互いに連結させるように設けられた複数の第2支持ロード220を含んで構成される。
As shown in FIG. 1, the
バッチ式熱処理装置では、熱処理空間を提供するチャンバ(図示せず)の内部にボート100を設置した状態で、基板10を搭載した後、熱処理工程を実施することができる。或いは、チャンバの外部に設置したボート100に基板10を搭載し、その状態でボート100をチャンバ内に導入した後、熱処理工程を実施することもできる。
In the batch heat treatment apparatus, the heat treatment process can be performed after the
下部フレーム110及び上部フレーム120は、後述する垂直フレーム200と共にボート100の基本的な骨格をなすものである。
The
下部フレーム110及び上部フレーム120はそれぞれ、所定のサイズを有する長方形の形状を有する。下部フレーム110及び上部フレーム120から成る構成体を、ボート100の両側にそれぞれ、互いに所定間隔離間して平行に配置することが好ましい。
Each of the
下部フレーム110及び上部フレーム120のサイズは、通常、平面ディスプレイ製造用のバッチ式熱処理装置に搭載する長方形状の基板10のサイズを考慮して決定される。
The sizes of the
垂直フレーム200は、下部フレーム110及び上部フレーム120と結合し、ボート100の基本的な骨格を形成する。
The
垂直フレーム200の両端は、下部フレーム110及び上部フレーム120にそれぞれ結合される。垂直フレーム200は、ボート100に搭載される基板10の長辺側に配置され、下部及び上部フレーム110、120に結合される。
Both ends of the
通常、ボート100には複数の垂直フレーム200が設けられる。この場合、複数の垂直フレーム200の形状及び長さは全て同じであることが好ましい。図1では、ボート100に設けられた垂直フレーム200の数は、基板10の両長辺側に3個ずつ、合わせて6個として例示しているが、必ずしもこれに限定されず、必要に応じて多様に変更することができる。なお、ボート100に搭載される基板10を安定的に支持するために、ボート100の両側に配置された下部フレーム110及び上部フレーム120の各端部同士を連結できるように、ボート100全体で少なくとも4個の垂直フレーム200を設けることが好ましい。
Usually, the
第1支持ロード210は、垂直フレーム200の一側に形成され、ボート100に搭載される基板10の長辺側を支持する役割を果たす。このとき、第1支持ロード210は、基板10の内側方向に延出するように形成される。
The
各垂直フレーム200には、同じ数の第1支持ロード210が、同じ間隔をおいて形成されることが好ましい。各垂直フレーム200に形成される第1支持ロード210の数は、ボート100に搭載できる基板10の総数と等しくすることが好ましい。したがって、この実施形態では、1つのボート100に形成される第1支持ロード210の総数は、搭載できる基板10の数の6倍になる。つまり、ボート100に27枚の基板10を搭載する場合、垂直フレーム200に形成される第1支持ロード210の総数は、162個になる。
In each
第1支持ロード210の長さと幅は、基板10の長辺側を安定支持できる範囲内で多様に変更することができる。
The length and width of the
第2支持ロード220は、各々の垂直フレーム200に設けられた複数の第1支持ロード210を互いに連結することによって、第1支持ロード210と共にボート100に搭載された基板10の長辺側を支持する役割を果たす。第2支持ロード220は、各第1支持ロード210と直交するように形成される。
The
第2支持ロード220は、その一側面を各第1支持ロード210の側方端部に密着させた後、溶接などにより各第1支持ロード210と結合されることによって、各第1支持ロード210を連結することができるが、必ずしもこれに限定されるわけではない。例えば、同一の層(垂直位置)に位置する複数の第1支持ロード210と第2支持ロード220とを一体的に形成した後、これを各垂直フレーム200の一側に配置することもできる。
The
図1及び図2に示すように、1つの第2支持ロード220は、3つの第1支持ロード210と結合されるので、1つのボート100に形成される第2支持ロード220の数は、ボート100に搭載できる基板10の数の2倍になることが好ましい。例えば、ボート100に27枚の基板10を搭載する場合、第2支持ロード220の総数は、54個になる。
As shown in FIGS. 1 and 2, since one
第2支持ロード220の長さと幅は、基板10の長辺側を安定支持できる範囲内で多様に変更することができる。
The length and width of the
上記の構成によって、ボート100に搭載される基板10ごとに、第1及び第2支持ロード210、220が対応して設けられるので、第1及び第2支持ロード210、220によって各々の基板10が支持される。つまり、第1及び第2支持ロード210、220の各上面部が実質的に同一平面となるので、第1及び第2支持ロード210、220の両者によって基板10の長辺側を同時に支持することができる。しかしながら、基板10の長辺側を支持する方法は、必ずしもこれに限定されず、第2支持ロード220の上面部が第1支持ロード210の上面部よりも高い位置となるように構成し、第2支持ロード220のみによって基板10の長辺側を支持するようにしてもよい。
With the above configuration, the first and second support loads 210 and 220 are provided correspondingly for each
さらに、第1及び第2支持ロード210、220の基板10の底面に当接する部分を、平面状に加工して、第1及び第2支持ロード210、220上で、基板10をより安定的に支持するようにすることが好ましい。
Further, the portions of the first and second support loads 210 and 220 that are in contact with the bottom surface of the
ボート100を構成する下部及び上部フレーム110、120、垂直フレーム200、並びに第1及び第2支持ロード210、220の材質は、石英であることが好ましいが、必ずしもこれに限定されるわけではない。また、ボート100は、下部及び上部フレーム110、120と垂直フレーム200を、組立式により結合させる、或いは、溶接により結合させることにより作成することができる。
The material of the lower and
また、ボート100は、有底の箱の底面及び側面に、複数の溝部を連続的にかつ互いに等間隔で平行となるように形成することにより作成することもできる。前記溝部を形成するのに研削加工を用いることもできる。
Moreover, the
前述したように構成された本発明の一実施形態に係るボート100は、図3に示すように、第1及び第2支持ロード210、220によって基板10の長辺側を支持するので、基板10の荷重が分散される。したがって、熱処理中に基板10がその自重により変形するということを防止することができ、それによって、平面ディスプレイの表示特性が低下しないようにすることができるという利点がある。
The
特に、本発明のボート100は、基板10と第1及び第2支持ロード210、220との間の接触が線接触となるので、基板10の熱処理中に、ボート100と基板10との間の接触部分に所定の応力(又は熱応力)が集中してしまい基板10にダメージ(損傷)を与えるということを防止することができ、それによって、平面ディスプレイの表示特性が低下しないようにすることができるという利点がある。
In particular, in the
以上のように、本発明によれば、バッチ式熱処理装置において、ボートが、搭載される基板の長辺側を支持する第1及び第2ロードを備えることによって、基板に対して熱処理工程を実施する際、基板の荷重を分散させて基板の変形を防止することができる。また、バッチ式熱処理装置のボートに搭載された基板に対して、基板を変形させることなく熱処理工程を実施することができるので、基板上に形成される平面ディスプレイの表示特性を向上させることができる。従って、本発明の産業利用性はきわめて高いものといえる。 As described above, according to the present invention, in the batch heat treatment apparatus, the boat includes the first and second loads that support the long side of the substrate to be mounted, so that the heat treatment process is performed on the substrate. In doing so, the load on the substrate can be dispersed to prevent the substrate from being deformed. In addition, since the heat treatment process can be performed on the substrate mounted on the boat of the batch type heat treatment apparatus without deforming the substrate, the display characteristics of the flat display formed on the substrate can be improved. . Therefore, it can be said that the industrial applicability of the present invention is extremely high.
以上、本発明について具体的な実施形態を用いて詳細に説明したが、本発明は、本発明の要旨から逸脱しない範囲内で多様に変形できる。よって、本発明の権利範囲は、上述の実施形態に限定されるわけではなく、特許請求の範囲の記載及びその均等物に基づいて定められるべきである。 As mentioned above, although this invention was demonstrated in detail using specific embodiment, this invention can be variously deform | transformed in the range which does not deviate from the summary of this invention. Therefore, the scope of rights of the present invention is not limited to the above-described embodiment, but should be determined based on the description of the claims and equivalents thereof.
10 基板
100 ボート
110 下部フレーム
120 上部フレーム
200 垂直フレーム
210 第1支持ロード
220 第2支持ロード
10
Claims (5)
それぞれが、
下部フレームと、
上部フレームと、
前記上部フレーム及び前記下部フレームを結合する複数の垂直フレームと、
前記各垂直フレームの一方の側に、前記基板の内側方向へ延出するように水平方向に形成された複数の第1支持ロードと、
前記各第1支持ロードを水平方向に互いに連結する第2支持ロードとを含む、互いに対向して配置される第1及び第2の構成体を含み、前記第1及び第2の構成体は分離していることを特徴とするボート。 A boat in which a plurality of substrates are mounted and disposed in a chamber that provides an execution space for a heat treatment process in a batch type heat treatment apparatus,
Each is
A lower frame,
An upper frame,
A plurality of vertical frames connecting the upper frame and the lower frame;
Wherein the hand side of each vertical frame, and a plurality of first support rod which is formed in the horizontal direction so as to extend toward the inside of the substrate,
The second support rod and the including connecting together said respective first support rod horizontally, includes first and second structure being arranged opposite to each other, said first and second constructs A boat characterized by separation .
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