KR20220037269A - Boat device including an insulation portion - Google Patents

Boat device including an insulation portion Download PDF

Info

Publication number
KR20220037269A
KR20220037269A KR1020200120011A KR20200120011A KR20220037269A KR 20220037269 A KR20220037269 A KR 20220037269A KR 1020200120011 A KR1020200120011 A KR 1020200120011A KR 20200120011 A KR20200120011 A KR 20200120011A KR 20220037269 A KR20220037269 A KR 20220037269A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
insulating part
gap
insulating
plate
thin film
Prior art date
Application number
KR1020200120011A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102507991B1 (en
Inventor
박상태
김영기
최종성
김경민
정아름
Original Assignee
주식회사 한화
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 한화 filed Critical 주식회사 한화
Priority to KR1020200120011A priority Critical patent/KR102507991B1/en
Priority to CN202110894775.8A priority patent/CN114203602A/en
Publication of KR20220037269A publication Critical patent/KR20220037269A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102507991B1 publication Critical patent/KR102507991B1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/18Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)

Abstract

The present invention relates to a boat device for supporting a substrate in a chamber in a solar cell manufacturing device and having an insulation unit. The bot device of the present invention includes: a plate unit comprising a first plate and a second plate adjacent to each other, wherein the substrate is attached to and detached from the gap between the respective plates; a fastening member coupled through the plate unit; and an insulation unit coupled to the fastening member and maintaining a gap between the respective plates. The insulating unit forms a gap in which the thin film is blocked, so that electricity does not flow between the plates when the thin film is deposited on the substrate.

Description

절연부를 구비하는 보트 장치{BOAT DEVICE INCLUDING AN INSULATION PORTION}BOAT DEVICE INCLUDING AN INSULATION PORTION

본 발명은 솔라셀 제조 장치에서 챔버 내의 기판을 지지하고 절연부를 구비하는 보트 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a boat apparatus for supporting a substrate in a chamber in a solar cell manufacturing apparatus and having an insulating part.

솔라셀 제조 장치는 다수의 기판을 챔버 내에 투입하고 PECVD 등의 플라즈마 공정을 거쳐 기판에 P-N 접합을 형성하는 것이다.In a solar cell manufacturing apparatus, a plurality of substrates are put into a chamber and a P-N junction is formed on the substrate through a plasma process such as PECVD.

보트 장치는 챔버 내에서 솔라셀 기판을 지지할 수 있다. The boat apparatus may support a solar cell substrate within the chamber.

챔버 내에 ICP 방식 또는 CCP 방식의 플라즈마를 형성하거나 기판을 보트 장치에 정전기적으로 척킹(chucking)하는 등의 목적을 위하여 보트 장치에 전기를 인가하고 기판을 지지할 수 있다.Electricity may be applied to the boat apparatus and the substrate may be supported for purposes such as forming ICP or CCP plasma in the chamber or electrostatically chucking the substrate to the boat apparatus.

이때, 보트 장치에 전기적 쇼트가 발생하면 플라즈마 형성에 불량이 발생하거나 기판 박막 형성에 불량이 발생할 수 있다.In this case, when an electrical short occurs in the boat apparatus, a defect may occur in plasma formation or a defect in substrate thin film formation.

본 발명은 솔라셀 제조 장치의 보트 장치에 있어서, 챔버 내부의 플라즈마 형성시 보트 장치의 전기적 쇼트로 인하여 기판 박막 불량이 발생하는 것을 억제할 수 있는 보트 장치를 제공하기 위한 것이다.An object of the present invention is to provide a boat apparatus capable of suppressing the occurrence of defects in a thin substrate in a boat apparatus of a solar cell manufacturing apparatus due to an electrical short of the boat apparatus when plasma is formed inside the chamber.

본 발명의 해결 수단은 서로 인접한 제1 플레이트 및 제2 플레이트를 포함하고, 상기 각 플레이트 사이의 빈 틈에 기판이 착탈되는 플레이트부; 상기 플레이트부를 관통하여 결합하는 체결 부재; 상기 체결 부재에 결합되고, 상기 각 플레이트간의 간격을 유지시키는 절연부를 포함하고,The solution means of the present invention includes a plate portion including a first plate and a second plate adjacent to each other, the substrate is attached to and detached from the gap between the respective plates; a fastening member coupled through the plate portion; It is coupled to the fastening member and includes an insulating portion for maintaining a gap between the respective plates,

상기 절연부는 상기 기판의 박막 증착시 플레이트간의 통전이 이루어지지 않도록 박막이 차단되는 갭이 형성되는 보트 장치가 제공될 수 있다. The insulating portion may be provided with a boat device in which a gap is formed in which the thin film is blocked so that electricity does not flow between the plates when the thin film is deposited on the substrate.

챔버 내부에 보트 장치가 위치하고, 보트 장치의 플레이트 사이에 각각의 기판이 안착될 수 있다. 서로 이웃한 제1 플레이트 및 제2 플레이트는 플라즈마 형성을 유발하기 위하여 (+) 및 (-) 전기가 인가될 수 있다. 챔버 내부에 반응 가스가 주입되고, 반응 가스 분위기에서 플라즈마 형성시 기판에 박막이 증착될 수 있다. 이때, 기판은 물론 각각의 플레이트의 연결 부위를 포함한 보트 장치에도 박막이 증착될 수 있다. A boat device is positioned inside the chamber, and each substrate may be seated between the plates of the boat device. (+) and (-) electricity may be applied to adjacent first and second plates to induce plasma formation. A reactive gas may be injected into the chamber, and a thin film may be deposited on the substrate when plasma is formed in the reactive gas atmosphere. In this case, the thin film may be deposited not only on the substrate but also on the boat device including the connection portion of each plate.

챔버의 내부에 가스가 투입되고, 플레이트간 플라즈마가 유지된 상태에서 플레이트에 안착된 기판에 원하는 막질을 증착하는데, 이때 전도성 막을 증착시 보트 전체가 증착될 수 있어 플레이트간에 절연을 유지시켜주는 부재로서 스페이서 역할을 하는 절연부가 마련되며, 여기서 절연부의 외부에 전도성 막이 증착되기 때문에 통전이 이루어져서 정상적인 플라즈마 방전이 불가능해질 수 있다. A desired film quality is deposited on a substrate seated on the plates in a state where gas is introduced into the chamber and plasma between the plates is maintained. An insulating part serving as a spacer is provided, and since a conductive film is deposited on the outside of the insulating part, electricity is conducted so that normal plasma discharge may be impossible.

한편, 플레이트 사이에 플라즈마 발생시 거리가 가까운 부분으로 플라즈마가 집중되는 현상을 고려하면, 플라즈마가 기판에 집중되지 않고 플레이트의 연결 부위에 해당하는 절연부에 집중되면 기판에 박막 증착시 두께 균일도 저하와 증착막의 품질을 떨어뜨릴 수 있다. On the other hand, when plasma is generated between the plates, considering the phenomenon that the plasma is concentrated to a part that is close to the distance, if the plasma is not concentrated on the substrate but on the insulating part corresponding to the connection part of the plate, the thickness uniformity decreases when depositing a thin film on the substrate and the deposition film may decrease the quality of

또한, 플라즈마 형성을 위하여 제1 플레이트 및 제2 플레이트에 인가되는 전류가 플레이트의 절연부에서 차단되지 않고 절연부가 쇼트되어 제1 플레이트 및 제2 플레이트에 전기 통로가 형성되면 플라즈마 품질이 문제될 수 있고 아크 발생(arcing) 원인이 될 수 있다.In addition, if the current applied to the first plate and the second plate for plasma formation is not cut off at the insulating part of the plate and the insulating part is shorted to form an electric path in the first plate and the second plate, the plasma quality may be a problem, It can cause arcing.

본 발명은 보트 장치 내에서 플레이트 연결 부위에 위치한 절연부에 박막이 증착되는 현상을 억제할 수 있다. 절연부에 증착되는 원하지 않는 박막으로 인하여 인접한 두 플레이트가 전기적으로 쇼트(short)되는 현상을 억제할 수 있다. 박막으로 인해 절연부의 쇼트가 발생하지 않도록 할 수 있고, 절연부의 쇼트로 인하여 제1 플레이트로부터 제2 플레이트로 전류가 흐르는 것을 방지할 수 있다. 절연부의 쇼트로 인하여 절연부에서 플라즈마 불량이 발생하거나 아크가 발생하는 것을 방지할 수 있다.According to the present invention, it is possible to suppress a phenomenon in which a thin film is deposited on an insulating portion located at a plate connection portion in a boat device. It is possible to suppress a phenomenon in which two adjacent plates are electrically shorted due to an unwanted thin film deposited on the insulating portion. A short circuit in the insulating part may be prevented from occurring due to the thin film, and current flowing from the first plate to the second plate due to the short circuit in the insulating part may be prevented. It is possible to prevent a plasma defect or an arc from occurring in the insulating part due to a short circuit in the insulating part.

따라서, 플라즈마 집중 현상 및 아킹(arcing) 발생을 억제할 수 있다. 기판에 증착되는 박막의 균일도 향상 및 품질 개선이 가능하고, 아킹이 억제되어 장비 신뢰성이 향상될 수 있다.Accordingly, plasma concentration and arcing can be suppressed. It is possible to improve the uniformity and quality of the thin film deposited on the substrate, and the arcing can be suppressed, thereby improving equipment reliability.

도 1은 본 발명의 보트 장치가 설치되는 솔라셀 제조 장치를 도시한 단면도이다.
도 2는 본 발명의 보트 장치를 도시한 사시도이다.
도 3은 본 발명의 실시 예로서, 서로 인접한 플레이트를 부분적으로 도시한 측면도이다.
도 4는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 절연부 구조를 나타낸 확대 단면도이다.
도 5는 본 발명의 제2 실시 예에 따른 절연부 구조를 나타낸 확대 단면도이다.
도 6은 본 발명의 제3 실시 예에 따른 절연부 구조를 나타낸 확대 단면도이다.
도 7은 본 발명의 제4 실시 예에 따른 절연부 구조를 나타낸 확대 단면도이다.
도 8은 본 발명의 제5 실시 예에 따른 절연부 구조를 나타낸 확대 단면도이다.
도 9는 본 발명의 제6 실시 예에 따른 절연부 구조를 나타낸 확대 단면도이다.
도 10은 본 발명의 제7 실시 예에 따른 절연부 구조를 나타낸 확대 단면도이다.
도 11은 본 발명의 제8 실시 예에 따른 절연부 구조를 나타낸 확대 단면도이다.
1 is a cross-sectional view illustrating a solar cell manufacturing apparatus in which a boat apparatus of the present invention is installed.
Figure 2 is a perspective view showing a boat device of the present invention.
3 is a side view partially illustrating plates adjacent to each other according to an embodiment of the present invention.
4 is an enlarged cross-sectional view showing the structure of the insulating part according to the first embodiment of the present invention.
5 is an enlarged cross-sectional view illustrating a structure of an insulating part according to a second embodiment of the present invention.
6 is an enlarged cross-sectional view illustrating a structure of an insulating part according to a third embodiment of the present invention.
7 is an enlarged cross-sectional view illustrating a structure of an insulating part according to a fourth embodiment of the present invention.
8 is an enlarged cross-sectional view showing the structure of an insulating part according to a fifth embodiment of the present invention.
9 is an enlarged cross-sectional view illustrating a structure of an insulating part according to a sixth embodiment of the present invention.
10 is an enlarged cross-sectional view illustrating a structure of an insulating part according to a seventh embodiment of the present invention.
11 is an enlarged cross-sectional view showing the structure of an insulating part according to an eighth embodiment of the present invention.

이하, 본 발명을 실시하기 위한 구체적인 내용을 첨부된 예시 도면에 의거 상세하게 설명한다.Hereinafter, specific contents for carrying out the present invention will be described in detail based on the accompanying exemplary drawings.

도 1은 본 발명의 보트 장치가 설치되는 솔라셀 제조 장치를 도시한 단면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating a solar cell manufacturing apparatus in which a boat apparatus of the present invention is installed.

도 1을 참조하면, 반응 가스나 불활성 가스를 챔버(210) 내에 투입하는 노즐부(214)가 마련된다. 일정한 반응 온도나 압력을 유지하는 챔버(210) 내에 각 공정별로 다양한 종류의 반응 가스나 불활성 가스가 노즐부(214)를 통하여 투입될 수 있다. 반응 가스나 불활성 가스의 종류에 따라 챔버(210) 내부에서 기판(100)에 도핑층, 패시베이션층, 캡핑층, 반사 방지층 등이 증착될 수 있다.Referring to FIG. 1 , a nozzle unit 214 for introducing a reactive gas or an inert gas into the chamber 210 is provided. Various types of reactive gases or inert gases may be introduced through the nozzle unit 214 for each process into the chamber 210 maintaining a constant reaction temperature or pressure. A doping layer, a passivation layer, a capping layer, an anti-reflection layer, etc. may be deposited on the substrate 100 inside the chamber 210 according to the type of the reactive gas or the inert gas.

복수의 기판(100)을 한꺼번에 가공하는 것이 생산성 향상에 유리하므로, 다수의 기판(100)이 보트 장치(220)에 의하여 한꺼번에 투입될 수 있다. 챔버(210)에는 기판(100)이 적재된 보트(220)가 챔버 입구(211)를 통하여 투입되고, 챔버(210)의 내부 또는 외부에는 챔버(210)에 열을 공급하는 히터(205)가 설치될 수 있다.Since processing the plurality of substrates 100 at once is advantageous for productivity improvement, the plurality of substrates 100 may be inputted at once by the boat device 220 . A boat 220 on which the substrate 100 is loaded is put into the chamber 210 through the chamber inlet 211 , and a heater 205 supplying heat to the chamber 210 is provided inside or outside the chamber 210 . can be installed.

챔버(210) 내에서 플라즈마 공정 뿐만 아니라 열처리 공정도 수행될 수 있다. 예를 들면 PDA(Post-deposition annealing) 공정 수행을 위하여 일정한 온도로 유지되는 챔버(210)의 내부에 노즐부(214)는 산화제, 반응 가스 등을 분사할 수 있다. 챔버(210) 내부의 산화제 분위기에서 챔버(210) 내부의 온도를 200 ~ 500℃로 유지하며 열처리 공정을 수행할 수 있다. A heat treatment process as well as a plasma process may be performed in the chamber 210 . For example, the nozzle unit 214 may inject an oxidizing agent, a reactive gas, etc. into the chamber 210 maintained at a constant temperature to perform a post-deposition annealing (PDA) process. The heat treatment process may be performed while maintaining the temperature inside the chamber 210 at 200 to 500° C. in an oxidizing agent atmosphere inside the chamber 210 .

도 2는 본 발명의 보트 장치(220)를 도시한 사시도이다. 도 1 및 도 2를 참조하면, 플레이트부(221)는 서로 인접한 여러 개의 플레이트로서, 제1 플레이트(221a), 제2 플레이트(221b), 제2 플레이트(221b)를 포함할 수 있다. 각 플레이트 사이의 빈 틈에 기판(100)이 착탈될 수 있다. 기판(100)은 플레이트와 플레이트 사이에 여러 개가 장착될 수 있으며, 하나의 플레이트의 길이 방향을 따라 여러 개가 장착될 수 있다.2 is a perspective view showing a boat device 220 of the present invention. 1 and 2 , the plate part 221 is a plurality of adjacent plates, and may include a first plate 221a, a second plate 221b, and a second plate 221b. The substrate 100 may be attached to and detached from the gap between the respective plates. A plurality of substrates 100 may be mounted between the plates, and a plurality of substrates 100 may be mounted along the longitudinal direction of one plate.

플레이트부(221)는 복수의 기판(100)이 적재된 상태로 챔버(210)의 내부 또는 외부로 이동될 수 있다. 보트 장치(220)가 챔버 입구(211)를 통하여 외부로 인출된 상태에서 가공 완료된 기판(100)이 언로딩되거나 새로운 기판(100)이 로딩될 수 있다.The plate part 221 may be moved inside or outside the chamber 210 in a state in which the plurality of substrates 100 are loaded. In a state in which the boat apparatus 220 is drawn out through the chamber inlet 211 , the processed substrate 100 may be unloaded or a new substrate 100 may be loaded.

보트 장치(220)는 복수의 기판(100)을 적재한 상태로 챔버(210) 내에 투입될 수 있다. 챔버(210) 내에 플라즈마가 형성되면 보트 장치(220)에 적재된 복수의 기판(100)이 한꺼번에 가공된다.The boat apparatus 220 may be loaded into the chamber 210 in a state in which the plurality of substrates 100 are loaded. When plasma is formed in the chamber 210 , the plurality of substrates 100 loaded on the boat apparatus 220 are simultaneously processed.

제1 플레이트(221a) 및 제2 플레이트(221b)가 적층되는 플레이트부(221)의 가로 방향을 제1 방향이라 정의하고, 제1 플레이트(221a) 또는 제2 플레이트(221b)가 연장되는 플레이트부(221)의 길이 방향을 제2 방향이라 정의한다. 기판(100)은 각각의 플레이트의 길이 방향인 제2 방향을 따라 복수 개가 적재되며, 플레이트의 갯수에 대응되는 제2 방향을 따라 복수 개가 적재된다. 복수의 기판(100)은 한번에 챔버(210)에 투입되어 한번에 가공될 수 있다.A transverse direction of the plate part 221 in which the first plate 221a and the second plate 221b are stacked is defined as a first direction, and the plate part in which the first plate 221a or the second plate 221b extends. A longitudinal direction of (221) is defined as a second direction. A plurality of substrates 100 are loaded along the second direction, which is the longitudinal direction of each plate, and a plurality of substrates 100 are loaded along the second direction corresponding to the number of plates. The plurality of substrates 100 may be input into the chamber 210 at once and processed at once.

각각의 플레이트는 각 플레이트를 부분적으로 천공한 플레이트 포켓(226)을 구비하며, 플레이트 포켓(226)을 통하여 노출된 기판(100)은 플라즈마 또는 반응 가스와 대면되고 가공이 이루어진다.Each plate has a plate pocket 226 partially perforated in each plate, and the substrate 100 exposed through the plate pocket 226 is faced with a plasma or reactant gas and processed.

솔라셀 제조 장치를 구현하기 위해서 챔버(210)는 열처리를 수행하는 퍼니스(furnace)가 될 수 있다. 챔버(210)가 도 1과 같이 수평으로 길게 연장되는 포리젠털 퍼니스(horizontal furnace)의 경우 플라즈마 형성 전원을 기판(100)에 인가하기 위하여 전도성 물체인 그라파이트 재질의 핀을 이용하여 플라즈마 전원 공급 및 기판(100) 지지하는 홀더로 사용할 수 있다.In order to implement a solar cell manufacturing apparatus, the chamber 210 may be a furnace for performing heat treatment. In the case of a horizontal furnace in which the chamber 210 extends horizontally as shown in FIG. 1 , in order to apply plasma forming power to the substrate 100 , plasma power is supplied and It can be used as a holder for supporting the substrate 100 .

한편, 기판(100)에 인가하는 플라즈마의 전원이 비대칭적으로 공급되는 경우, 플라즈마 파워의 특정 지역으로의 쏠림이 발생될 수 있고, 이로 인해 박막의 두께가 국부적으로 증가하는 불량이 발생할 수 있으며, 양산시 균일한 박막 두께 제어가 어려운 문제가 발생할 수 있다.On the other hand, when the plasma power applied to the substrate 100 is asymmetrically supplied, the concentration of plasma power to a specific region may occur, which may cause a defect in that the thickness of the thin film is locally increased, During mass production, it may be difficult to control a uniform thin film thickness.

본 발명은 플라즈마 밀도가 챔버(210) 내에서 균일하게 형성되게 하여 박막 균일도를 개선하고, 추가되는 부품없이 보트 장치(220) 내에서 플레이트의 간격을 균일하게 유지하는 구조를 채용하여 품질 향상과 원가 절감을 도모한다.The present invention improves the uniformity of the thin film by allowing the plasma density to be uniformly formed in the chamber 210, and adopts a structure that maintains the plate spacing uniformly in the boat device 220 without additional parts to improve quality and cost promote savings

복수의 기판(100)을 한꺼번에 챔버(210)에 출입시키는 배치(batch) 방식으로 기판(100)을 이송하거나, 기판(100)에 대하여 플라즈마를 유도할 수 있는 전극의 역할을 하는 보트 장치(220)에 있어서, 기판(100)의 외곽에 접촉되는 핀 구조물은 플레이트보다 돌출될 수 있다.The boat apparatus 220 serves as an electrode capable of transferring the substrates 100 in a batch method in which a plurality of substrates 100 are brought in and out of the chamber 210 at once, or inducing plasma to the substrates 100 . ), the fin structure in contact with the outside of the substrate 100 may protrude from the plate.

일 실시 예로서, 플레이트 자체가 전극이 되거나 핀 보다 낮은 전극이 보트 장치(220)에 설치되는 경우, 기판(100)을 지지하는 핀 구조물은 플레이트나 전극보다 돌출될 수 있다. 따라서, 보트 장치(220)에서, 기판(100)의 지지 구조물에 해당하는 핀이 플레이트나 전극보다 돌출되면, 전극간 거리보다 핀 사이의 거리가 상대적으로 더 가까와질 수 있다.As an embodiment, when the plate itself becomes an electrode or an electrode lower than the fin is installed in the boat device 220 , the fin structure supporting the substrate 100 may protrude more than the plate or the electrode. Accordingly, in the boat device 220 , when the pin corresponding to the support structure of the substrate 100 protrudes from the plate or electrode, the distance between the pins may be relatively closer than the distance between the electrodes.

이러한 구조는 플라즈마 발생시 거리가 가까운 부분으로 플라즈마가 집중되는 현상을 고려하면, 기판(100)에 박막 증착시 두께 균일도 저하와 증착막의 품질을 떨어뜨릴 수 있다. 또한, 플라즈마 형성을 위한 전류가 기판(100)의 지지 구조물에 해당하는 핀에 집중되기 때문에 아크 발생(arcing) 원인이 된다.In such a structure, when the plasma is concentrated to a part having a close distance when the plasma is generated, when the thin film is deposited on the substrate 100 , the thickness uniformity may be lowered and the quality of the deposited film may be deteriorated. In addition, since the current for plasma formation is concentrated on the fin corresponding to the support structure of the substrate 100 , it causes arcing.

따라서, 본 발명은 보트 장치(220) 내에서 기판(100)의 지지 구조물인 핀을 지그재그로 배치하여 지지 구조물끼리의 거리를 전극간 거리보다 멀리함으로써, 플라즈마 집중 현상 및 아킹(arcing) 발생을 억제할 수 있다.Accordingly, the present invention suppresses plasma concentration and arcing by arranging the fins, which are the supporting structures of the substrate 100, in a zigzag manner in the boat device 220 so that the distance between the supporting structures is greater than the inter-electrode distance. can do.

보트 장치(220)는 전극 역할을 하는 플레이트를 구비하고, 플레이트에 기판(100)을 고정하는 지지 구조물인 핀이 지그재그 구조로 배치될 수 있다. 핀은 기판(100)을 플레이트의 전극면에 고정하거나, 플레이트에 인가된 전원을 기판(100)에 전달하는 기능을 할 수 있다. The boat device 220 may include a plate serving as an electrode, and pins serving as a support structure for fixing the substrate 100 to the plate may be disposed in a zigzag structure. The pin may serve to fix the substrate 100 to the electrode surface of the plate or to transmit power applied to the plate to the substrate 100 .

기판(100)의 컨택 포인트는 제1 핀(222), 제2 핀(223) 및 제3 핀(224)이 기판(100)과 접촉하는 3개소로 제한하여 안정적인 3점 지지 구조를 달성하고, 서로 인접한 플레이트에 각각 장착된 제1 핀(222) 내지 제3 핀(224)이 서로 대면되지 않게 배치되며, 각각의 핀은 복수의 플레이트가 적층되는 방향인 제1 방향을 따라 지그재그로 배치될 수 있다.The contact point of the substrate 100 is limited to three places where the first pin 222, the second pin 223, and the third pin 224 are in contact with the substrate 100 to achieve a stable three-point support structure, The first pins 222 to third pins 224 respectively mounted on adjacent plates are disposed so as not to face each other, and each pin may be disposed in a zigzag manner along the first direction, which is the direction in which the plurality of plates are stacked. there is.

보트 장치(220)의 위에서 보았을 때, 서로 인접한 제1 플레이트(221a) 및 제2 플레이트(221b) 각각에 배치된 제1 핀(222)이 제1 플레이트(221a) 및 제2 플레이트(221b)가 배열되는 제1 방향을 따라 서로 다른 위치에 배치되는 것이 바람직하다.When viewed from above of the boat device 220 , the first fins 222 disposed on the first and second plates 221a and 221b adjacent to each other are connected to the first plate 221a and the second plate 221b. Preferably, they are arranged at different positions along the first arrangement direction.

제1 플레이트(221a)에 설치된 제1 핀(222)에 대하여 보트 장치(220)의 일측 단부로부터 측정한 보트 단부 거리인 제1 거리는 제1 플레이트(221a)와 인접 배치되는 제2 플레이트(221b)에 설치된 제1 핀(222)에 대하여 보트 장치(220)의 일측 단부로부터의 측정한 보트 단부 거리인 제2 거리보다 긴 것이 바람직하다.A first distance, which is a boat end distance measured from one end of the boat device 220 with respect to the first pin 222 installed on the first plate 221a, is a second plate 221b disposed adjacent to the first plate 221a. It is preferable to be longer than the second distance, which is a distance from one end of the boat device 220 with respect to the first pin 222 installed in the boat, which is the distance from one end of the boat.

제2 플레이트(221b)에 인접한 제3 플레이트(221c)에 설치된 제1 핀(222)의 보트 단부 거리는 제3 플레이트(221c)와 인접 배치되지 않은 제1 플레이트(221a)에 설치된 제1 핀(222)의 보트 단부 거리와 동일하여도 무방할 수 있다.The boat end distance of the first fin 222 installed on the third plate 221c adjacent to the second plate 221b is the first fin 222 installed on the first plate 221a not disposed adjacent to the third plate 221c. ) may be the same as the distance at the end of the boat.

각각의 핀은 플레이트로부터 돌출되는 돌출부(250)를 구비할 수 있다.Each pin may have a protrusion 250 protruding from the plate.

각각의 핀은 기판(100)과 경사지게 접촉되거나 기판(100)의 측면과 점 접촉되도록 경사부(251)를 구비할 수 있다. 경사부(251)는 돌출부(250)의 측면에 형성된 경사면에 해당한다.Each pin may have an inclined portion 251 in contact with the substrate 100 in an inclined manner or point-contact with the side surface of the substrate 100 . The inclined portion 251 corresponds to an inclined surface formed on a side surface of the protrusion 250 .

각각의 핀에 의하여 눌려진 기판(100)의 적어도 일부가 플레이트와 접촉되는 밀착부(252)가 플레이트에 마련될 수 있다. 밀착부(252)를 통하여 기판(100)의 일부만 플레이트에 밀착되도록 플레이트의 일부가 절개된 갭부(254)가 마련될 수 있다. A contact portion 252 in which at least a portion of the substrate 100 pressed by each pin is in contact with the plate may be provided on the plate. A gap portion 254 in which a portion of the plate is cut out may be provided so that only a portion of the substrate 100 is in close contact with the plate through the adhesion portion 252 .

각각의 플레이트는 밀착부(252)와 갭부(254)를 구비하며, 갭부(254)에서는 기판(100)과 플레이트가 비접촉되고, 밀착부(252)에서는 기판(100)과 플레이트가 밀착될 수 있다.Each plate has a contact portion 252 and a gap portion 254, and in the gap portion 254, the substrate 100 and the plate are not in contact, and in the adhesion portion 252, the substrate 100 and the plate may be in close contact. .

각각의 핀에 형성된 돌출부(250), 각각의 핀에 형성된 경사부(251), 각각의 플레이트에 형성된 밀착부(252) 중 적어도 하나를 통하여 기판(100)에 전원이 인가될 수 있다. 기판(100)에 인가된 전원은 플라즈마 형성 또는 정전기력을 제공할 수 있다.Power may be applied to the substrate 100 through at least one of the protrusion 250 formed on each pin, the inclined portion 251 formed on each pin, and the contact portion 252 formed on each plate. Power applied to the substrate 100 may provide plasma formation or electrostatic force.

도 3을 참조하면, 복수의 플레이트를 지지할 수 있는 체결 부재(310)가 관통하여 결합될 수 있다. 체결 부재(310)에는 각 플레이트의 간격마다 절연부(320)가 결합될 수 있다. 절연부(320)는 원통형으로 형성되고 체결 부재(310)의 외주면에 삽입되어서 플레이트간의 간격을 유지시켜줄 수 있다. Referring to FIG. 3 , a fastening member 310 capable of supporting a plurality of plates may be coupled therethrough. An insulating part 320 may be coupled to the fastening member 310 at intervals of each plate. The insulating part 320 may be formed in a cylindrical shape and be inserted into the outer circumferential surface of the fastening member 310 to maintain a space between the plates.

절연부(320)는 일례로서 세라믹 부싱으로 이루어질 수 있다. The insulating part 320 may be formed of, for example, a ceramic bushing.

챔버(210) 내부에 보트 장치(220)가 위치하고, 보트 장치(220)의 플레이트 사이에 각각의 기판(100)이 안착될 수 있다. 서로 이웃한 제1 플레이트(221a), 제2 플레이트(221b) 및 제3 플레이트(221c)는 플라즈마 형성을 유발하기 위하여 서로 다른 극성을 가지도록 (+) 및 (-) 전기가 인가될 수 있다. 챔버(210) 내부에 반응 가스가 주입되고, 반응 가스 분위기에서 플라즈마 형성시 기판(100)에 박막이 증착될 수 있다. 이때, 기판(100)은 물론 각각의 플레이트의 연결 부위를 포함한 보트 장치(220)에도 박막이 증착될 수 있다. The boat apparatus 220 is positioned inside the chamber 210 , and each substrate 100 may be seated between the plates of the boat apparatus 220 . (+) and (-) electricity may be applied to adjacent first plate 221a , second plate 221b , and third plate 221c to have different polarities to induce plasma formation. A reactive gas is injected into the chamber 210 , and when plasma is formed in a reactive gas atmosphere, a thin film may be deposited on the substrate 100 . In this case, the thin film may be deposited on the substrate 100 as well as the boat device 220 including the connection portion of each plate.

도 3을 참조하면, 기판(1100)의 박막 증착시, 절연부(320)의 외주면 전체에 대하여 증착된 박막(301)이 형성될 수 있다. Referring to FIG. 3 , when the thin film is deposited on the substrate 1100 , the deposited thin film 301 may be formed on the entire outer circumferential surface of the insulating part 320 .

따라서, 플라즈마 형성을 위하여 제1 플레이트(221a), 제2 플레이트(221b) 및 제3 플레이트(221c)에 인가되는 전류가 플레이트의 절연부(320)에서 차단되지 않고 절연부(320)가 쇼트되어 제1 플레이트(221a) 및 제2 플레이트(221b)에 전기 통로가 형성되면 플라즈마 품질이 문제될 수 있고, 아크 발생(arcing) 원인이 될 수 있다. Therefore, the current applied to the first plate 221a, the second plate 221b, and the third plate 221c is not blocked by the insulating part 320 of the plate for plasma formation, and the insulating part 320 is shorted. When an electric path is formed in the first plate 221a and the second plate 221b, plasma quality may be a problem, and arcing may be a cause.

[제1 실시 예](청구항 3,4)[First embodiment] (claims 3 and 4)

도 4는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 절연부 구조를 나타낸 확대 단면도이다. 도 4를 참조하면, 절연부(320)는 체결 부재(310)의 외주면에 삽입되는 제1 절연부(321)와 제2 절연부(322)로 이루어질 수 있다. 4 is an enlarged cross-sectional view showing the structure of the insulating part according to the first embodiment of the present invention. Referring to FIG. 4 , the insulating part 320 may include a first insulating part 321 and a second insulating part 322 inserted into the outer circumferential surface of the fastening member 310 .

제1 절연부(321)와 제 절연부(322)는 각각 한쪽 플레이트에 대면되어 접촉된 상태일 수 있다. 도 4에서의 플레이트는 제1 플레이트(221a), 제2 플레이트(221b), 제3 플레이트(221c)가 도시되어 있고, 각각의 제1 플레이트(221a)와 제2 플레이트(22b) 사이, 제2 플레이트(221b)와 제3 플레이트(221c) 사이에 제1 절연부(321)의 일측면이 대면되어 접촉된 상태이며, 제2 절연부(322)의 일측면에는 다른쪽 플레이트에 대면되어 접촉된 상태일 수 있다.The first insulating part 321 and the second insulating part 322 may be in contact with one plate facing each other. 4, a first plate 221a, a second plate 221b, and a third plate 221c are shown, and between each of the first plate 221a and the second plate 22b, the second plate Between the plate 221b and the third plate 221c, one side of the first insulating part 321 is facing and in contact, and one side of the second insulating part 322 is facing and in contact with the other plate. state may be

이때, 제1 내지 제3 플레이트(221a)(221b)(221c)와 제1 절연부(321) 및 제2 절연부(322)에는 체결 부재(310)가 관통되어 접촉된 구조일 수 있다. In this case, the first to third plates 221a , 221b , 221c , the first insulating part 321 , and the second insulating part 322 may have a structure in which the fastening member 310 penetrates and makes contact.

제1 플레이트(221a)는 (+) 극성, 제2 플레이트(221b)는 (-) 극성, 제3 플레이트(221c)는 (+) 극성을 가질 수 있다. The first plate 221a may have a (+) polarity, the second plate 221b may have a (-) polarity, and the third plate 221c may have a (+) polarity.

제1 절연부(321)는 돌기부(321a)가 돌출되어 형성되고, 제2 절연부(322)는 제1 절연부(321)의 돌기부(321a)가 삽입되는 삽입홈(322a)이 형성되는 구조를 가질 수 있다. The first insulating part 321 is formed by protruding a protrusion 321a, and the second insulating part 322 has a structure in which an insertion groove 322a into which the protrusion 321a of the first insulating part 321 is inserted is formed. can have

제1 절연부(321)의 제1 면(323)과 제2 절연부(322)의 끝단부 사이와 돌기부(321a)와 삽입홈(322a)의 사이에 갭(G)이 형성될 수 있고. 제1 절연부(321)의 제2 면(324)은 플레이트의 측면에 대면될 수 있다. A gap G may be formed between the first surface 323 of the first insulating part 321 and the end of the second insulating part 322 and between the protrusion 321a and the insertion groove 322a. The second surface 324 of the first insulating part 321 may face the side surface of the plate.

이러한 구조에 의해 제1 절연부(321)와 제2 절연부(322)의 사이에 형성되는 갭(G)은 "ㄴ"자 형의 경로를 가지게 형성될 수 있다. Due to this structure, the gap G formed between the first insulating part 321 and the second insulating part 322 may be formed to have a "L"-shaped path.

따라서, 플라즈마 형성시 기판(100)에 박막이 증착될 때, 기판(100)은 물론 각각의 플레이트의 연결 부위를 포함한 보트 장치(220)에도 박막이 증착될 수 있고, 절연부(320)에도 박막이 증착될 수 있다.Therefore, when the thin film is deposited on the substrate 100 during plasma formation, the thin film may be deposited on the substrate 100 as well as the boat device 220 including the connection portion of each plate, and also on the insulating part 320 . This can be deposited.

본 발명의 절연부(320)에서는 제1 절연부(321)의 바깥면과 제2 절연부(322)의 바깥면에 박막이 쉽게 증착될 수 있다. 그러나, 제1 절연부(321)과 제2 절연부(322) 사이에 형성된 갭(G)에는 박막이 쉽게 증착되기 어렵다. In the insulating part 320 of the present invention, a thin film may be easily deposited on the outer surface of the first insulating part 321 and the outer surface of the second insulating part 322 . However, it is difficult to easily deposit a thin film in the gap G formed between the first insulating part 321 and the second insulating part 322 .

따라서, 갭(G)에 의해 박막이 증착되지 않게 되므로, 절연부(320)에 의한 플레이트간의 통전이 이루어지지 않으며, 그에 따라 절연부(320)에 형성되는 박막에 의해 플레이트간에 흐르는 전기가 차단될 수 있고, 플레이트간의 통전에 의해 쇼트되는 현상을 방지할 수 있다.Therefore, since the thin film is not deposited by the gap G, conduction between the plates by the insulating part 320 is not made, and thus electricity flowing between the plates by the thin film formed in the insulating part 320 is blocked. It is possible to prevent a short circuit caused by energization between the plates.

[제2 실시 예] (청구항 5,6)[Second embodiment] (Claim 5,6)

도 5는 본 발명의 제2 실시 예에 따른 절연부 구조를 나타낸 확대 단면도이다. 도 5를 참조하면, 본 발명의 제2 실시 예에 따른 절연부(320)는 체결 부재(310)의 외주면에 삽입되어 대면되는 제1 절연부(326), 제1 절연부(326)의 외주면에 슬라이딩 이동 가능하게 삽입되는 제2 절연부(327)로 이루어질 수 있다.5 is an enlarged cross-sectional view illustrating a structure of an insulating part according to a second embodiment of the present invention. Referring to FIG. 5 , the insulating part 320 according to the second embodiment of the present invention is inserted into the outer peripheral surface of the fastening member 310 to face the first insulating part 326 and the outer peripheral surfaces of the first insulating part 326 . It may be formed of a second insulating part 327 that is slidably inserted into the .

제1 절연부(326)의 외주면과 제2 절연부(327)과의 사이에 갭(G)이 형성되도록 제2 절연부(327)는 제1 절연부(326)의 외주면과 간격을 두고 마주보는 내측면(327a), 플레이트와 간격을 두고 형성되는 양쪽의 측면부(327b), 제1 절연부(326)의 외주면과 슬라이딩 이동 가능하게 대면되는 돌출면(327c)이 형성되는 구조일 수 있다.The second insulating part 327 faces the outer peripheral surface of the first insulating part 326 at a distance from each other so that a gap G is formed between the outer peripheral surface of the first insulating part 326 and the second insulating part 327 . The beam may have a structure in which an inner surface 327a, side portions 327b on both sides formed to be spaced apart from the plate, and a protrusion surface 327c slidably facing the outer peripheral surface of the first insulating portion 326 are formed.

제2 절연부(327)는 양쪽의 측면부(327b)에 의해 제1 플레이트(221a)와 제2 플레이트(221b)의 사이에 간격(제1 간격)을 두고 형성되고, 제2 절연부(327)의 내측면(327a)은 돌출면(327c)에 의해 제1 절연부(326)와 간격(제2 간격)을 두고 형성되어 있으므로, 플라즈마 형성에 따른 증착시 박막이 쉽게 형성되지 않는다. 이러한 2군데의 제1,2 간격으로 갭(G)이 형성될 수 있다. The second insulating part 327 is formed with a gap (a first gap) between the first plate 221a and the second plate 221b by the side surfaces 327b of both sides, and the second insulating part 327 Since the inner surface 327a of the surface 327a is formed to be spaced apart from the first insulating part 326 by the protruding surface 327c (second gap), a thin film is not easily formed during deposition according to plasma formation. A gap G may be formed at these two first and second intervals.

그에 따라 플레이트간의 통전이 차단되므로, 절연부(320)의 박막 증착에 따른 쇼트 현상을 방지할 수 있다. Accordingly, electricity between the plates is cut off, so that a short circuit caused by deposition of a thin film on the insulating part 320 can be prevented.

또한, 제2 절연부(327)는 제1 절연부(326)의 외주면을 따라 슬라이딩 이동할 수 있기 때문에, 갭(G)에서의 박막 증착 및 제1 절연부(326)의 외주면에서의 박막 증착을 보다 양호하게 억제할 수 있다. In addition, since the second insulating part 327 can slide along the outer peripheral surface of the first insulating part 326, thin film deposition in the gap G and thin film deposition on the outer peripheral surface of the first insulating part 326 are performed. It can be suppressed more favorably.

갭(G)에 의한 경로가 복잡하고 박막 증착이 이루어지는 제2 절연부(327)의 해당 영역의 면이 연장된 길이를 가지므로, 그 만큼 박막 증착이 어렵게 되는 것이다. Since the path by the gap G is complicated and the surface of the corresponding region of the second insulating part 327 on which the thin film is deposited has an extended length, the thin film deposition is difficult to that extent.

[제3 실시 예](청구항 7)[Third Embodiment] (Claim 7)

도 6은 본 발명의 제3 실시 예에 따른 절연부 구조를 나타낸 확대 단면도이다. 도 6을 참조하면, 본 발명의 제3 실시 예에 따른 절연부(320)는 체결 부재(310)의 외주면에 대면되게 삽입되는 제1 절연부(328), 제1 절연부(328)에 갭(G)을 두고 결합되는 제2 절연부(329)로 이루어지는 2개의 부재로 마련될 수 있다.6 is an enlarged cross-sectional view illustrating a structure of an insulating part according to a third embodiment of the present invention. Referring to FIG. 6 , the insulating part 320 according to the third embodiment of the present invention has a gap between the first insulating part 328 inserted to face the outer circumferential surface of the fastening member 310 and the first insulating part 328 . It may be provided with two members consisting of the second insulating portion 329 coupled with a (G).

제1 절연부(328)의 외주면(328a)에는 제1 돌출부(328b)가 형성되고, 제1 돌출부(328b)에는 홈이 형성되며, 제2 절연부(329)는 플레이트와 간격을 두고 형성되는 제1 면(329a), 제1 면(329a)으로부터 제1 절연부(328)의 외주면(328a)과 간격을 두고 근접되는 방향으로 형성되는 제2 면(329b), 제2 면(329b)으로부터 제2 절연부(329)의 내측으로 형성되는 제3 면(329c), 제1 절연부(328)의 제1 돌출부(328b)에 삽입되는 제2 돌출부(329d)가 형성되는 구조일 수 있다.A first protrusion 328b is formed on the outer circumferential surface 328a of the first insulating part 328, a groove is formed in the first protrusion 328b, and the second insulating part 329 is formed to be spaced apart from the plate. From the first surface 329a and the first surface 329a to the outer peripheral surface 328a of the first insulating part 328 and the second surface 329b and the second surface 329b formed in a direction adjacent to each other at a distance from the first surface 329a It may have a structure in which a third surface 329c formed inside the second insulating part 329 and a second protrusion 329d inserted into the first protrusion 328b of the first insulating part 328 are formed.

따라서, 본 발명의 제3 실시 예에 따른 절연부(320)는 제2 절연부(329)의 제2 돌출면(329d)이 제1 절연부(328)의 제1 돌출부(328b)안에 삽입되고, 플레이트와 간격을 두고 형성되는 제2 절연부(329)의 제1 면(329a), 제1 면(329a)으로부터 제1 절연부(328)와 갭(G)이 형성되면서 근접되는 방향으로 형성되는 제2 면(329b), 제2 면(329b)으로부터 내측으로 형성되는 제3 면(329c)에 의해 형성되는 갭(G)의 경로가 복잡하고, 갭(G)의 길이가 연장되는 구조이므로, 기판의 박막 증착시, 절연부(320)의 갭(G) 위치에서의 박막 증착이 연속적으로 형성되지 않고 차단될 수 있다. 그에 따라 플레이트간의 통전을 방지할 수 있다. Accordingly, in the insulating part 320 according to the third embodiment of the present invention, the second protruding surface 329d of the second insulating part 329 is inserted into the first protruding part 328b of the first insulating part 328 and , the first surface 329a of the second insulating part 329 formed to be spaced apart from the plate, formed in a direction in which the first insulating part 328 and the gap G are formed from the first surface 329a in a direction close to each other Since the path of the gap G formed by the second surface 329b and the third surface 329c formed inward from the second surface 329b is complicated, the length of the gap G is extended. , when the thin film deposition on the substrate, the thin film deposition at the position of the gap (G) of the insulating portion 320 may be blocked without being continuously formed. Accordingly, it is possible to prevent current between the plates.

[제4 실시 예](청구항 8,9)[Fourth embodiment] (Claim 8,9)

도 7은 본 발명의 제4 실시 예에 따른 절연부 구조를 나타낸 확대 단면도이다. 7 is an enlarged cross-sectional view illustrating a structure of an insulating part according to a fourth embodiment of the present invention.

도 7을 참조하면, 절연부(400)는 체결부재(310)가 관통 결합되는 제1 절연부(410), 제1 절연부(410)와 간격을 두고 제1 절연부(410)가 삽입되는 제2 절연부(420)로 이루어질 수 있다. Referring to FIG. 7 , the insulating part 400 includes a first insulating part 410 to which the fastening member 310 is through-coupled, and the first insulating part 410 being inserted at a distance from the first insulating part 410 . The second insulating part 420 may be formed.

제1 절연부(410)의 외주면은 길이 방향을 따라 계단식 구조로 이루어지는 복수의 제1 단턱부(412)가 형성되고, 제2 절연부(420)의 내주면은 제1 절연부(410)의 외주면에 형성된 복수의 제1 단턱부(412)와 대응되면서 갭(G)을 두고 복수의 제2 단턱부(422)가 형성되는 구조를 가질 수 있다. A plurality of first stepped portions 412 having a stepped structure are formed on the outer peripheral surface of the first insulating part 410 in the longitudinal direction, and the inner peripheral surface of the second insulating part 420 is the outer peripheral surface of the first insulating part 410 . It may have a structure in which a plurality of second stepped portions 422 are formed with a gap G while corresponding to the plurality of first stepped portions 412 formed in the .

제1 단턱부(412)의 맨 끝단부의 제1 엔드부(413)는 제2 절연부(420)의 제2 단턱부(422)의 맨끝단부의 제2 엔드부(423)와 대면되어 접촉된 상태일 수 있다. The first end portion 413 of the extreme end of the first stepped portion 412 is in contact with the second end portion 423 of the extreme end of the second stepped portion 422 of the second insulating portion 420 . state may be

또한, 제1 절연부(410)의 일측면은 한쪽 플레이트에 대면되고, 제2 절연부(420)의 일측면은 다른쪽 플레이트에 대면되어 접촉된 상태일 수 있다. Also, one side of the first insulating part 410 may face one plate, and one side of the second insulating part 420 may face the other plate to be in contact with the other plate.

제1 단턱부(412)는 제2 절연부(420)의 내부로 들어 갈 수록 하향 경사지게 형성될 수 있고, 제2 단턱부(422)도 제1 단턱부(412)와 마찬가지로 제2 절연부(420)의 내부로 들어 갈 수록 하향 경사지게 형성될 수 있다. The first stepped portion 412 may be formed to be inclined downward as it goes into the interior of the second insulating portion 420 , and the second stepped portion 422 also has a second insulating portion ( 420) may be inclined downward as it enters the interior.

따라서, 본 발명의 제4 실시 예에 따르면, 제1 절연부(410)와 제2 절연부(420)간의 갭(G)의 경로가 복잡하고, 갭(G)의 길이가 연장되는 구조이므로, 기판의 박막 증착시, 절연부(400)의 갭(G) 위치에서의 박막 증착이 연속적으로 형성되지 않고 차단될 수 있다. 그에 따라 플레이트간의 통전을 방지할 수 있다. Therefore, according to the fourth embodiment of the present invention, the path of the gap G between the first insulating part 410 and the second insulating part 420 is complicated and the length of the gap G is extended. When depositing the thin film on the substrate, the thin film deposition at the position of the gap G of the insulating portion 400 may be blocked without being continuously formed. Accordingly, it is possible to prevent current between the plates.

[제5 실시 예](청구항 10)[Fifth embodiment] (Claim 10)

도 8은 본 발명의 제5 실시 예에 따른 절연부 구조를 나타낸 확대 단면도이다. 8 is an enlarged cross-sectional view showing the structure of an insulating part according to a fifth embodiment of the present invention.

도 8을 참조하면, 절연부(500)는 체결 부재(310)가 관통 결합되는 제1 절연부(510), 제1 절연부(510)의 외주면에 슬라이딩 이동 가능하게 삽입되는 제2 절연부(520)로 이루어질 수 있다. Referring to FIG. 8 , the insulating part 500 includes a first insulating part 510 to which the fastening member 310 is coupled through, and a second insulating part 510 , which is slidably inserted into the outer circumferential surface of the first insulating part 510 . 520).

제1 절연부(510)의 양쪽 측면은 각각 플레이트에 대면되고, 제2 절연부(520)의 내부에는 길이 방향을 따라 복수의 요홈부(522)가 형성되고, 제1 절연부(510)의 외주면과 간격을 두고 형성되는 제1 면(524), 제1 절연부(510)의 외주면과 슬라이딩 이동 가능하게 대면되는 제2 면(526)으로 이루어질 수 있다. Both side surfaces of the first insulating part 510 each face the plate, and a plurality of recessed parts 522 are formed in the inside of the second insulating part 520 in the longitudinal direction, and It may include a first surface 524 formed to be spaced apart from the outer circumferential surface and a second surface 526 slidably facing the outer circumferential surface of the first insulating part 510 .

제1 면(524)과 제1 절연부(510)의 외주면 사이의 간격에 의해 갭(G)이 형성되고, 요홈부(522)에 의해 갭(G)이 형성될 수 있다.A gap G may be formed by a gap between the first surface 524 and the outer peripheral surface of the first insulating part 510 , and a gap G may be formed by the recessed part 522 .

따라서, 본 발명의 제5 실시 예에 따르면, 제1 절연부(510)와 제2 절연부(520)간의 갭(G)의 경로가 복잡하고, 갭(G)의 길이가 연장되는 구조이므로, 기판의 박막 증착시, 절연부(500)의 갭(G) 위치에서의 박막 증착이 연속적으로 형성되지 않고 차단될 수 있다. 그에 따라 플레이트간의 통전을 방지할 수 있다. Therefore, according to the fifth embodiment of the present invention, the path of the gap G between the first insulating part 510 and the second insulating part 520 is complicated and the length of the gap G is extended. When depositing the thin film on the substrate, the thin film deposition at the position of the gap G of the insulating part 500 may not be continuously formed and may be blocked. Accordingly, it is possible to prevent current between the plates.

[제6 실시 예](청구항 11)[Sixth embodiment] (Claim 11)

도 9는 본 발명의 제6 실시 예에 따른 절연부 구조를 나타낸 확대 단면도이다.9 is an enlarged cross-sectional view illustrating a structure of an insulating part according to a sixth embodiment of the present invention.

도 9를 참조하면, 절연부(600)는 체결 부재(310)가 관통 결합되는 제1 절연부(610), 제1 절연부(610)의 외주면에 마련되는 제2 절연부(620)로 이루어질 수 있다. Referring to FIG. 9 , the insulating part 600 includes a first insulating part 610 to which the fastening member 310 is through-coupled, and a second insulating part 620 provided on the outer circumferential surface of the first insulating part 610 . can

제1 절연부(610)의 양쪽 측면은 플레이트에 대면될 수 있고, 제2 절연부(620)는 플레이트와 간격을 두고 형성될 수 있다. Both side surfaces of the first insulating part 610 may face the plate, and the second insulating part 620 may be formed to be spaced apart from the plate.

제2 절연부(620)의 내부는 제1 절연부(610)와 연결부(622)로 연결되고, 연결부(622)의 간격을 두고 갭(G)이 형성되는 구조일 수 있다.The inside of the second insulating part 620 may have a structure in which the first insulating part 610 and the connection part 622 are connected, and a gap G is formed with a distance between the connection parts 622 .

따라서, 제1 절연부(610)의 외주면에 갭(G)을 두고 제2 절연부(620)가 마련되고, 연결부(622)를 통해 연결된 구조이므로, 갭(G)의 길이가 연장되어 기판의 박막 증착시, 절연부(600)의 갭(G) 위치에서의 박막 증착이 연속적으로 형성되지 않고 차단될 수 있다. 그에 따라 플레이트간의 통전을 방지할 수 있다. Accordingly, since the second insulating part 620 is provided with a gap G on the outer circumferential surface of the first insulating part 610 and connected through the connection part 622, the length of the gap G is extended and the When the thin film is deposited, the thin film deposition at the position of the gap G of the insulating part 600 may not be continuously formed and may be blocked. Accordingly, it is possible to prevent current between the plates.

[제7 실시 예](청구항 12,13)[Seventh embodiment] (Claim 12,13)

도 10은 본 발명의 제7 실시 예에 따른 절연부 구조를 나타낸 확대 단면도이다. 10 is an enlarged cross-sectional view illustrating a structure of an insulating part according to a seventh embodiment of the present invention.

도 10을 참조하면, 제7 실시 예에 따른 절연부(700)는 체결 부재(310)가 관통되어 결합되는 제1 절연부(710), 제1 절연부(710)의 외주면에 형성되는 제2 절연부(720), 제2 절연부(720)의 양측에 간격을 두고 마련되는 제3 절연부(730)와 제4 절연부(740)로 이루어질 수 있다. Referring to FIG. 10 , the insulating part 700 according to the seventh embodiment includes a first insulating part 710 through which the fastening member 310 is coupled thereto, and a second insulating part 710 formed on the outer circumferential surface of the first insulating part 710 . The insulating part 720 and the second insulating part 720 may be formed of a third insulating part 730 and a fourth insulating part 740 provided at intervals on both sides of the insulating part 720 .

다시 말해서, 제7 실시 예에 따른 절연부(700)는 제6 실시 예에 따른 절연부(600)의 구조에 제3 절연부(730)와 제4 절연부(740)가 마련된 구조일 수 있다. In other words, the insulating part 700 according to the seventh embodiment may have a structure in which the third insulating part 730 and the fourth insulating part 740 are provided in the structure of the insulating part 600 according to the sixth embodiment. .

제2 절연부(720)는 제1 절연부(710)의 외주면에 연결부(722)로 연결되고, 연결부(722)를 제외한 나머지 부분은 간격을 두고 갭(G)이 형성되는 구조일 수 있다. The second insulating part 720 may be connected to the outer peripheral surface of the first insulating part 710 by a connection part 722 , and a gap G may be formed in the remaining portions except for the connection part 722 .

제3 절연부(730)와 제4 절연부(740)는 제1 절연부(710)의 외주면에 대면되고, 제3 절연부(730)와 제4 절연부(740)의 일 측면이 각각 플레이트에 대면될 수 있다. The third insulating part 730 and the fourth insulating part 740 face the outer peripheral surface of the first insulating part 710 , and one side of the third insulating part 730 and the fourth insulating part 740 is a plate, respectively. can be faced with

또한, 제3 절연부(730)와 제4 절연부(740)는 제2 절연부(720)의 외주면을 간격을 두고 감싸도록 제1 면(732)(742)과 제2 면(734)(744)이 각각 형성될 수 있다.In addition, the third insulating part 730 and the fourth insulating part 740 have first surfaces 732 and 742 and second surfaces 734 and 734 ( 744) may be formed respectively.

따라서, 제3 절연부(730)와 제4 절연부(740)는 제2 절연부(720)와 갭(G)을 형성하고 마련될 수 있다. Accordingly, the third insulating part 730 and the fourth insulating part 740 may be provided after forming a gap G with the second insulating part 720 .

또한, 제3 절연부(730)와 제4 절연부(740)는 서로 간격(d)을 두고 마련될 수 있다. In addition, the third insulating part 730 and the fourth insulating part 740 may be provided with an interval d from each other.

제3 절연부(730)와 제4 절연부(740)는 단면상 'ㄱ'자로 절곡된 구조일 수 있다. The third insulating part 730 and the fourth insulating part 740 may have a structure bent in a 'L' shape in cross-section.

본 발명의 제 7실시 예에 따른 절연부(700)는 제1 절연부(710)의 외주면에 갭(G)을 두고 제2 절연부(720)가 마련되고, 연결부(722)를 통해 연결된 구조이므로, 갭(G)의 길이가 연장되며, 더욱이 제3 절연부(730) 및 제4 절연부(740)가 제2 절연부(720)의 외주면과 갭(G)을 두고 마련된 구조이므로, 기판의 박막 증착시, 절연부(700)의 갭(G) 위치에서의 박막 증착이 연속적으로 형성되지 않고 차단될 수 있다. 그에 따라 플레이트간의 통전을 방지할 수 있다. The insulating part 700 according to the seventh embodiment of the present invention has a structure in which the second insulating part 720 is provided with a gap G on the outer circumferential surface of the first insulating part 710 and connected through the connection part 722 . Therefore, the length of the gap G is extended, and further, since the third insulating part 730 and the fourth insulating part 740 have a structure in which the outer peripheral surface of the second insulating part 720 and the gap G are spaced apart, the substrate During the deposition of the thin film of , the deposition of the thin film at the position of the gap G of the insulating part 700 may be blocked without being continuously formed. Accordingly, it is possible to prevent current between the plates.

[제8 실시 예][Eighth embodiment]

도 11은 본 발명의 제8 실시 예에 따른 절연부 구조를 나타낸 확대 단면도이다. 도 11을 참조하면, 제8 실시 예에 따른 절연부(800)는 체결 부재(310)가 관통되어 결합되는 제1 절연부(810), 제1 절연부(810)의 외주면에 마련되는 제2 절연부(820), 제1 절연부(810)와 제2 절연부(820)의 사이에 마련되는 제3 절연부(830)로 이루어질 수 있다. 11 is an enlarged cross-sectional view showing the structure of an insulating part according to an eighth embodiment of the present invention. Referring to FIG. 11 , the insulating part 800 according to the eighth embodiment includes a first insulating part 810 through which the fastening member 310 is coupled therethrough, and a second insulating part 810 provided on an outer circumferential surface of the first insulating part 810 . It may include an insulating part 820 , and a third insulating part 830 provided between the first insulating part 810 and the second insulating part 820 .

제1 절연부(810)의 외주면에는 돌출부(811)가 형성되고, 돌출부(811)의 일측에는 제2 절연부(820)가 삽입되고, 돌출부(811)의 타측에는 제3 절연부(830)가 삽입될 수 있다. A protrusion 811 is formed on the outer circumferential surface of the first insulating part 810 , a second insulating part 820 is inserted into one side of the protrusion 811 , and a third insulating part 830 is inserted at the other side of the protrusion 811 . can be inserted.

제2 절연부(820)의 안쪽에 구비되는 제3 절연부(830)는 제1 절연부(810) 및 제2 절연부(820)와 갭을 두고 마련될 수 있다. The third insulating part 830 provided inside the second insulating part 820 may be provided with a gap between the first insulating part 810 and the second insulating part 820 .

즉, 제1 절연부(810)의 외주면에 형성된 돌출부(811)와 제3 절연부(830)의 내주면인 제1 면(831)은 제1 갭(G1)을 두고 구비될 수 있다. That is, the protrusion 811 formed on the outer peripheral surface of the first insulating part 810 and the first surface 831 , which is the inner peripheral surface of the third insulating part 830 , may be provided with a first gap G1 .

제3 절연부(830)의 끝단면인 제2 면(832)은 제2 절연부(820)의 안쪽에 형성된 제1 내면(821)과 제2 갭(G2)을 두고 구비될 수 있다.The second surface 832 , which is an end surface of the third insulating part 830 , may be provided with a first inner surface 821 formed inside the second insulating part 820 and a second gap G2 .

또한, 제3 절연부(830)의 외주면인 제3 면(833)은 제2 절연부(820)의 안쪽에 형성되고 제1 내면(821)과 직교 방향으로 배치되는 제2 내면(822)과 제3 갭(G3)을 두고 구비될 수 있다. In addition, the third surface 833 that is the outer peripheral surface of the third insulating part 830 includes a second inner surface 822 formed inside the second insulating part 820 and disposed in a direction perpendicular to the first inner surface 821 and The third gap G3 may be provided.

또한, 제2 절연부(820)의 한쪽 끝단면은 플레이트와 대면되고, 제2 절연부(820)의 다른쪽 끝단면은 플레이트와 간격(d1)을 두고 결합될 수 있다. In addition, one end surface of the second insulating part 820 may face the plate, and the other end surface of the second insulating part 820 may be coupled to the plate with a gap d1 .

이러한 본 발명의 제8 실시 예에 따르면, 제1 절연부(810)의 외주면에 제1 갭(G1)을 두고 제3 절연부(830)가 마련되고, 제3 절연부(830)는 바깥쪽에 제2 절연부(820)와 제3 갭(G3)을 두고 마련되며, 제2 절연부(820)의 안쪽에 형성된 제1 내면(821)과 제3 절연부(830)의 끝단면인 제2 면(832)과 제2 갭(G2)을 두고 구비되기 때문에, 기판의 박막 증착시, 절연부(800)의 갭 위치에서의 박막 증착이 연속적으로 형성되지 않고 차단될 수 있다. 그에 따라 플레이트간의 통전을 방지할 수 있다. According to the eighth embodiment of the present invention, the third insulating part 830 is provided with a first gap G1 on the outer peripheral surface of the first insulating part 810 , and the third insulating part 830 is on the outside. The second is provided with the second insulating part 820 and the third gap G3 separated, and is an end surface of the first inner surface 821 and the third insulating part 830 formed inside the second insulating part 820 . Since the surface 832 and the second gap G2 are spaced apart, deposition of the thin film at the gap position of the insulating portion 800 may be blocked without being continuously formed when the thin film is deposited on the substrate. Accordingly, it is possible to prevent current between the plates.

100... 기판(wafer) 205... 히터(heater)
210... 챔버(chamber) 211... 챔버 입구
214... 노즐부 220... 보트 장치(boat device)
221... 플레이트부 221a...제1 플레이트(plate)
221b... 제2 플레이트 221c...제3 플레이트
222... 제1 핀(pin) 223... 제2 핀
224... 제3 핀
226... 플레이트 포켓(plate pocket)
250... 돌출부 251... 경사부
252... 밀착부 254... 갭부
301... 박막 310... 체결 부재
320... 절연부 321... 제1 절연부
321a... 돌기부
322... 제2 절연부 322a... 삽입홈
323... 제1 면 324... 제2 면
326... 제1 절연부 327... 제2 절연부
327a... 내측면 327b... 측면부
327c... 돌출면 328... 제1 절연부
328a...외주면 328b... 제1 돌출부
329... 제2 절연부 329a... 제1 면
329b... 제2 면 329c... 제3 면
329d.. 제2 돌출부
400,500,600,700,800...절연부
410,510,610,710... 제1 절연부 412... 제1 단턱부
413... 제1 엔드부
420,520,620,720... 제2 절연부 422... 제2 단턱부
423... 제2 엔드부 522... 요홈부
524,732,742... 제1 면 526,734,744... 제2 면
622,722... 연결부
810... 제1 절연부 811... 돌출부
820... 제2 절연부 821... 제1 내면
822... 제2 내면 830... 제3 절연부
831... 제1 면 832... 제2 면
833... 제3 면
d,d1... 간격 G.. 갭(gap)
G1... 제1 갭 G2... 제2 갭
G3... 제3 갭
100... wafer 205... heater
210... chamber 211... chamber entrance
214... nozzle unit 220... boat device
221... plate part 221a... first plate
221b... second plate 221c... third plate
222... pin 1 223... pin 2
224... 3rd pin
226... plate pocket
250... overhang 251... bevel
252... Adhesive part 254... Gap part
301... thin film 310... fastening member
320... Insulation 321... First Insulation
321a... projection
322... Second insulating part 322a... Insertion groove
323... 1st side 324... 2nd side
326 ... first insulating part 327 ... second insulating part
327a... Inner side 327b... Side
327c... Projected surface 328... First insulation
328a... Outer circumferential surface 328b... First protrusion
329... second insulation 329a... first side
329b... 2nd side 329c... 3rd side
329d.. second projection
400,500,600,700,800...insulation
410,510,610,710... First insulating portion 412... First stepped portion
413... first end portion
420,520,620,720... second insulating part 422... second stepped part
423... Second end portion 522... Groove portion
524,732,742... 1st side 526,734,744... 2nd side
622,722... connections
810... first insulating part 811... protrusion
820... second insulating part 821... first inner surface
822... Second inner surface 830... Third insulation
831... Side 1 832... Side 2
833... the third side
d,d1... Gap G. Gap
G1... first gap G2... second gap
G3... 3rd gap

Claims (15)

서로 인접한 제1 플레이트 및 제2 플레이트를 포함하고, 상기 각 플레이트 사이의 빈 틈에 기판이 착탈되는 플레이트부;
상기 플레이트부를 관통하여 결합하는 체결 부재;
상기 체결 부재에 결합되고, 상기 각 플레이트간의 간격을 유지시키는 절연부;
를 포함하고,
상기 절연부는 상기 기판의 박막 증착시 플레이트간의 통전이 이루어지지 않도록 증착 박막이 차단되는 갭이 형성되는 보트 장치.
a plate portion including a first plate and a second plate adjacent to each other, the substrate being attached to and detached from the gap between the plates;
a fastening member coupled through the plate portion;
an insulating part coupled to the fastening member and maintaining a distance between the respective plates;
including,
The insulating portion is a boat device in which a gap is formed in which the deposited thin film is blocked so that electricity does not flow between the plates when the thin film is deposited on the substrate.
제1 항에 있어서,
상기 절연부는 적어도 2개 이상으로 마련되고,
상기 체결 부재의 외주면에 삽입되는 제1 절연부, 상기 제1 절연부에 증착 박막이 형성되지 않도록 갭을 두고 삽입되는 제2 절연부로 이루어지는 보트 장치.
According to claim 1,
The insulating part is provided in at least two or more,
A boat apparatus comprising: a first insulating part inserted into an outer circumferential surface of the fastening member; and a second insulating part inserted with a gap so that a deposited thin film is not formed on the first insulating part.
제2 항에 있어서,
상기 제1 절연부는 상기 제2 절연부에 삽입되는 돌기부가 형성되고, 제2 절연부는 제1 절연부의 돌기부가 삽입되는 삽입홈이 형성되며,
상기 제1 절연부에서 플레이트와 대면하는 제2 면과 반대 방향에 형성되는 제1 면은, 상기 제2 절연부의 끝단부와 갭을 두고 형성되고, 상기 돌기부와 삽입홈은 갭을 두고 소정의 길이로 형성되는 보트 장치.
3. The method of claim 2,
The first insulating part has a protrusion to be inserted into the second insulating part, and the second insulating part has an insertion groove into which the protrusion of the first insulating part is inserted,
A first surface formed in the opposite direction to the second surface facing the plate in the first insulating part is formed with a gap from the end of the second insulating part, and the protrusion and the insertion groove have a predetermined length with a gap A boat device formed by .
제3 항에 있어서,
상기 제1 절연부와 제2 절연부의 사이에 형성되는 갭은 "ㄴ"자 형의 경로를 가지는 보트 장치.
4. The method of claim 3,
A gap formed between the first insulating part and the second insulating part has a "L"-shaped path.
제1 항에 있어서,
상기 절연부는 체결 부재의 외주면에 삽입되는 제1 절연부, 제1 절연부의 외주면에 삽입되는 제2 절연부로 이루어지고,
상기 제2 절연부는 상기 제1 절연부의 외주면과 간격을 두고 마주보는 내측면, 플레이트와 간격을 두고 형성되는 측면부, 상기 제1 절연부의 외주면과 대면되는 돌출면이 형성되며,
상기 제2 절연부는 제 1절연부와 대면하는 상기 돌출면에 의해 갭이 형성되고, 상기 갭에 의해 증착 박막이 차단되는 보트 장치.
According to claim 1,
The insulating part consists of a first insulating part inserted into the outer peripheral surface of the fastening member, and a second insulating part inserted into the outer peripheral surface of the first insulating part,
The second insulating part has an inner surface facing the outer peripheral surface of the first insulating part at a distance from the plate, a side part formed at a distance from the plate, and a protruding surface facing the outer peripheral surface of the first insulating part,
The second insulating part has a gap formed by the protruding surface facing the first insulating part, and the deposited thin film is blocked by the gap.
제5 항에 있어서,
상기 제2 절연부는 상기 제1 절연부의 외주면에서 길이 방향을 따라 슬라이딩 이동 가능하게 결합되는 보트 장치.
6. The method of claim 5,
The second insulating part is coupled to be slidably movable along a longitudinal direction on an outer circumferential surface of the first insulating part.
제1 항에 있어서,
상기 절연부는 체결 부재의 외주면에 삽입되는 제1 절연부, 상기 제1 절연부에 갭을 두고 결합되는 제2 절연부로 이루어지고,
상기 제1 절연부의 외주면에는 제1 돌출부가 형성되고,
상기 제2 절연부는 플레이트와 간격을 두고 형성되는 제1 면, 상기 제1 면으로부터 상기 제1 절연부의 외주면과 간격을 두고 근접되는 방향으로 형성되는 제2 면, 상기 제2 면으로부터 상기 제2 절연부의 내측으로 형성되는 제3 면, 상기 제1 절연부의 제1 돌출면에 삽입되는 제2 돌출부가 형성되며,
상기 제1 절연부의 제1 돌출부와 상기 제2 절연부의 제2 면, 제3 면, 제2 돌출면의 사이에서 형성되는 갭에 의해 증착 박막이 차단되는 보트 장치.
According to claim 1,
The insulating part consists of a first insulating part inserted into the outer circumferential surface of the fastening member, and a second insulating part coupled to the first insulating part with a gap,
A first protrusion is formed on the outer peripheral surface of the first insulating part,
The second insulating portion has a first surface formed to be spaced apart from the plate, a second surface formed to approach the outer peripheral surface of the first insulation portion from the first surface at a distance from the first surface, and the second insulation from the second surface A third surface formed inside the portion, a second projection inserted into the first projection surface of the first insulating portion is formed,
A boat device in which the deposited thin film is blocked by a gap formed between the first protrusion of the first insulating part and the second, third, and second protruding surfaces of the second insulating part.
제1 항에 있어서,
상기 절연부는 체결 부재의 외주면에 삽입되는 제1 절연부, 상기 제1 절연부에 갭을 두고 결합되는 제2 절연부로 이루어지고,
상기 제1 절연부의 외주면은 길이 방향을 따라 계단식 구조의 제1 단턱부가 복수로 형성되고,
상기 제2 절연부의 내주면은 상기 제1 절연부의 외주면에 형성된 복수의 제1 단턱부와 대응되면서 간격을 두고 복수의 제2 단턱부가 형성되며,
상기 제1 단턱부는 상기 제2 절연부의 내부로 들어 갈 수록 하향 경사지게 형성되고, 상기 제2 단턱부는 상기 제1 단턱부와 마찬가지로 상기 제2 절연부의 내부로 들어 갈 수록 하향 경사지게 형성되며,
상기 제1 절연부의 상기 제1 단턱부와 제2 절연부의 제2 단턱부간에 형성되는 갭에 의해 증착 박막이 차단되는 보트 장치.
According to claim 1,
The insulating part consists of a first insulating part inserted into the outer circumferential surface of the fastening member, and a second insulating part coupled to the first insulating part with a gap,
The outer peripheral surface of the first insulating part is formed in a plurality of first stepped parts of a stepped structure along the longitudinal direction,
A plurality of second stepped portions are formed on an inner circumferential surface of the second insulating portion to correspond to a plurality of first stepped portions formed on an outer circumferential surface of the first insulation portion at intervals therebetween,
The first stepped portion is inclined downward as it goes into the second insulating part, and the second stepped part is formed to be inclined downward as it goes into the inside of the second insulating part, like the first stepped part,
A boat device in which the deposited thin film is blocked by a gap formed between the first stepped portion of the first insulating portion and the second stepped portion of the second insulating portion.
제8 항에 있어서,
상기 제1 단턱부의 맨 끝단부의 제1 엔드부는 상기 제2 절연부의 제2 단턱부 의 맨 끝단부의 제2 엔드부와 대면되어 접촉된 상태인 보트 장치.
9. The method of claim 8,
The first end of the first end of the first stepped portion is in a state of being in contact with the second end of the second end of the second stepped portion of the second insulating portion.
제1 항에 있어서,
상기 절연부는 체결 부재의 외주면에 삽입되는 제1 절연부, 상기 제1 절연부에 갭을 두고 결합되는 제2 절연부로 이루어지고,
상기 제1 절연부의 양쪽 측면은 각각 플레이트에 대면되고,
상기 제2 절연부의 내부에는 길이 방향을 따라 복수의 요홈부가 형성되며, 상기 제1 절연부의 외주면과 간격을 두고 형성되는 제1 면, 상기 제1 절연부의 외주면과 슬라이딩 이동 가능하게 대면되는 제2 면으로 이루어지고,
상기 제1 면과 상기 제1 절연부의 외주면 사이의 간격에 의해 갭이 형성되고, 상기 요홈부에 의해 갭이 형성되며, 상기 갭에 의해 증착 박막이 차단되는 보트 장치.
According to claim 1,
The insulating part consists of a first insulating part inserted into the outer circumferential surface of the fastening member, and a second insulating part coupled to the first insulating part with a gap,
Both sides of the first insulating part face the plate, respectively,
A plurality of grooves are formed inside the second insulating part along the longitudinal direction, a first surface formed at a distance from an outer peripheral surface of the first insulating part, and a second surface that slidably faces the outer peripheral surface of the first insulating part is made of,
A boat apparatus in which a gap is formed by a gap between the first surface and an outer peripheral surface of the first insulating part, a gap is formed by the concave part, and the deposited thin film is blocked by the gap.
제1 항에 있어서,
상기 절연부는 체결 부재의 외주면에 삽입되는 제1 절연부, 상기 제1 절연부에 갭을 두고 결합되는 제2 절연부로 이루어지고,
상기 제2 절연부의 내부는 상기 제1 절연부와 연결부로 연결되고,
상기 연결부를 제외한 나머지 부분인 제1 절연부와 제2 절연부의 길이 방향으로 간격을 두고 갭이 형성되며,
상기 갭에 의해 증착 박막이 차단되는 보트 장치.
According to claim 1,
The insulating part consists of a first insulating part inserted into the outer circumferential surface of the fastening member, and a second insulating part coupled to the first insulating part with a gap,
The inside of the second insulating part is connected to the first insulating part by a connection part,
A gap is formed at intervals in the longitudinal direction of the first insulating part and the second insulating part, which are the remaining parts except for the connection part,
A boat device in which the deposited thin film is blocked by the gap.
제1 항에 있어서,
상기 절연부는 체결 부재의 외주면에 삽입되는 제1 절연부, 상기 제1 절연부의 외주면에 마련되는 제2 절연부, 상기 제2 절연부의 양측에 간격을 두고 마련되는 제3 절연부와 제4 절연부를 포함하고,
상기 제2 절연부는 상기 제1 절연부의 외주면에 연결부로 연결되고,
상기 연결부를 제외한 나머지 부분인 제1 절연부와 제2 절연부의 길이 방향으로 간격을 두고 갭(G)이 형성되며,
상기 제3 절연부와 상기 제4 절연부는 상기 제1 절연부의 외주면에 대면되고,
상기 제3 절연부와 상기 제4 절연부는 상기 제2 절연부(720)의 외주면을 간격을 두고 감싸도록 하여 갭이 형성되는 제1 면과 제2 면이 각각 형성되며,
상기 제1 절연부와 상기 제2 절연부 사이의 갭과, 상기 제2 절연부와 상기 제3 절연부 및 상기 제 4 절연부간의 갭에 의해 증착 박막이 차단되는 보트 장치.
According to claim 1,
The insulating part includes a first insulating part inserted into the outer peripheral surface of the fastening member, a second insulating part provided on the outer peripheral surface of the first insulating part, and a third insulating part and a fourth insulating part provided at intervals on both sides of the second insulating part including,
The second insulating part is connected to the outer peripheral surface of the first insulating part by a connection part,
A gap (G) is formed at intervals in the longitudinal direction of the first insulating part and the second insulating part, which are the remaining parts except for the connection part,
The third insulating part and the fourth insulating part face the outer peripheral surface of the first insulating part,
The third insulating part and the fourth insulating part surround the outer circumferential surface of the second insulating part 720 with a gap so that a first surface and a second surface on which a gap is formed are respectively formed,
A boat apparatus in which the deposited thin film is blocked by a gap between the first insulating part and the second insulating part and a gap between the second insulating part, the third insulating part, and the fourth insulating part.
제12 항에 있어서,
상기 제3 절연부와 제4 절연부는 서로 간격을 두고 마련되는 보트 장치.
13. The method of claim 12,
The third insulating part and the fourth insulating part are provided to be spaced apart from each other.
제1 항에 있어서,
상기 절연부는 체결 부재가 관통되어 결합되는 제1 절연부, 상기 제1 절연부의 외주면에 마련되는 제2 절연부, 상기 제1 절연부와 상기 제2 절연부의 사이에 마련되는 제3 절연부로 이루어지고,
상기 제3 절연부의 내면인 제1 면은 상기 제1 절연부와 제1 갭을 두고 마련되고, 제3 절연부의 외주면인 제3 면은 제2 절연부의 안쪽에 형성되고 상기 제1 내면과 직교 방향으로 형성되는 제2 내면과 제3 갭을 두고 형성되며,
상기 제1 갭 및 제3 갭에 의해 증착 박막이 차단되는 보트 장치.
According to claim 1,
The insulating part includes a first insulating part through which the fastening member is coupled therethrough, a second insulating part provided on an outer circumferential surface of the first insulating part, and a third insulating part provided between the first insulating part and the second insulating part, ,
A first surface that is an inner surface of the third insulating part is provided with a first gap with the first insulating part, and a third surface that is an outer peripheral surface of the third insulating part is formed inside the second insulating part and is perpendicular to the first inner surface It is formed with a second inner surface and a third gap formed by
A boat device in which the deposited thin film is blocked by the first gap and the third gap.
제14 항에 있어서,
상기 제3 절연부의 끝단면인 제2 면은 상기 제2 절연부의 안쪽에 형성되는 제1 내면과 제2 갭을 두고 마련되며,
상기 제1 절연부의 외주면에는 돌출부가 형성되고, 돌출부의 양측에 각각 제1 절연부와 제3 절연부가 삽입되어 대면되는 보트 장치.
15. The method of claim 14,
A second surface, which is an end surface of the third insulating part, is provided with a first inner surface and a second gap formed inside the second insulating part,
A protrusion is formed on an outer circumferential surface of the first insulating part, and the first insulating part and the third insulating part are respectively inserted into both sides of the protrusion to face each other.
KR1020200120011A 2020-09-17 2020-09-17 Boat device including an insulation portion KR102507991B1 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200120011A KR102507991B1 (en) 2020-09-17 2020-09-17 Boat device including an insulation portion
CN202110894775.8A CN114203602A (en) 2020-09-17 2021-08-04 Crystal boat device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200120011A KR102507991B1 (en) 2020-09-17 2020-09-17 Boat device including an insulation portion

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20220037269A true KR20220037269A (en) 2022-03-24
KR102507991B1 KR102507991B1 (en) 2023-03-09

Family

ID=80935760

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020200120011A KR102507991B1 (en) 2020-09-17 2020-09-17 Boat device including an insulation portion

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102507991B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115094401A (en) * 2022-03-31 2022-09-23 深圳市石金科技股份有限公司 Graphite boat suitable for conductive film deposition

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20110006418U (en) * 2009-12-18 2011-06-24 주식회사 테라세미콘 boat
KR20170135903A (en) * 2015-04-02 2017-12-08 센트로테에름 인터내셔널 아게 Processing equipment for wafer boats and wafers
KR20190025419A (en) * 2017-09-01 2019-03-11 주식회사 한화 Boat device

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20110006418U (en) * 2009-12-18 2011-06-24 주식회사 테라세미콘 boat
KR20170135903A (en) * 2015-04-02 2017-12-08 센트로테에름 인터내셔널 아게 Processing equipment for wafer boats and wafers
KR20190025419A (en) * 2017-09-01 2019-03-11 주식회사 한화 Boat device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115094401A (en) * 2022-03-31 2022-09-23 深圳市石金科技股份有限公司 Graphite boat suitable for conductive film deposition
CN115094401B (en) * 2022-03-31 2024-03-01 深圳市石金科技股份有限公司 Graphite boat suitable for conductive film deposition

Also Published As

Publication number Publication date
KR102507991B1 (en) 2023-03-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20210319982A1 (en) Gas supply unit and substrate processing apparatus including the same
JP6386519B2 (en) CVD apparatus and method of manufacturing CVD film
KR20170047155A (en) Semiconductor Manufacturing System Including Deposition Apparatus
KR20170107935A (en) Symmetric plasma source to generate pie shaped treatment
KR20040034474A (en) Electronic device, production method thereof, and plasma process apparatus
KR102275905B1 (en) Boat Apparatus with Seperated Electrode Plate
KR20220037269A (en) Boat device including an insulation portion
KR101708397B1 (en) Method and apparatus for forming a dielectric layer on a substrate
KR102251672B1 (en) Boat Apparatus with Enhanced Rigidity
EP2202785A1 (en) Plasma treatment apparatus, plasma treatment method, and semiconductor element
KR102006435B1 (en) Boat device
KR102251678B1 (en) Boat Apparatus with Insulated Structure
KR102371771B1 (en) Batch Type Boat Apparatus
CN115710697A (en) Electrode feeder and chemical deposition equipment
JP3649898B2 (en) Multilayer thin film forming apparatus using plasma CVD apparatus
CN213124388U (en) Equipment for controlling wafer curvature
US11410869B1 (en) Electrostatic chuck with differentiated ceramics
KR101138609B1 (en) Plasma generation apparatus for making radical effectively
KR20090087190A (en) Equipment for manufacturing semiconductor device and semiconductor device manufacturing methode used the same
KR102371772B1 (en) Both Side Processing Apparatus of Substrate
CN114203602A (en) Crystal boat device
CN218932302U (en) Plasma auxiliary oxidation device for stabilizing air flow
JP6024417B2 (en) Sample holder
US20230290669A1 (en) Semiconductor manufacturing apparatus
KR20100004194A (en) Tary and dry etching apparatus using the same

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant