KR20220037269A - Boat device including an insulation portion - Google Patents
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- 238000009413 insulation Methods 0.000 title claims abstract description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 74
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 47
- 230000005611 electricity Effects 0.000 claims abstract description 9
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 13
- 238000003780 insertion Methods 0.000 claims description 5
- 230000037431 insertion Effects 0.000 claims description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 10
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 10
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 8
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 6
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 6
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 2
- 230000036470 plasma concentration Effects 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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Abstract
Description
본 발명은 솔라셀 제조 장치에서 챔버 내의 기판을 지지하고 절연부를 구비하는 보트 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a boat apparatus for supporting a substrate in a chamber in a solar cell manufacturing apparatus and having an insulating part.
솔라셀 제조 장치는 다수의 기판을 챔버 내에 투입하고 PECVD 등의 플라즈마 공정을 거쳐 기판에 P-N 접합을 형성하는 것이다.In a solar cell manufacturing apparatus, a plurality of substrates are put into a chamber and a P-N junction is formed on the substrate through a plasma process such as PECVD.
보트 장치는 챔버 내에서 솔라셀 기판을 지지할 수 있다. The boat apparatus may support a solar cell substrate within the chamber.
챔버 내에 ICP 방식 또는 CCP 방식의 플라즈마를 형성하거나 기판을 보트 장치에 정전기적으로 척킹(chucking)하는 등의 목적을 위하여 보트 장치에 전기를 인가하고 기판을 지지할 수 있다.Electricity may be applied to the boat apparatus and the substrate may be supported for purposes such as forming ICP or CCP plasma in the chamber or electrostatically chucking the substrate to the boat apparatus.
이때, 보트 장치에 전기적 쇼트가 발생하면 플라즈마 형성에 불량이 발생하거나 기판 박막 형성에 불량이 발생할 수 있다.In this case, when an electrical short occurs in the boat apparatus, a defect may occur in plasma formation or a defect in substrate thin film formation.
본 발명은 솔라셀 제조 장치의 보트 장치에 있어서, 챔버 내부의 플라즈마 형성시 보트 장치의 전기적 쇼트로 인하여 기판 박막 불량이 발생하는 것을 억제할 수 있는 보트 장치를 제공하기 위한 것이다.An object of the present invention is to provide a boat apparatus capable of suppressing the occurrence of defects in a thin substrate in a boat apparatus of a solar cell manufacturing apparatus due to an electrical short of the boat apparatus when plasma is formed inside the chamber.
본 발명의 해결 수단은 서로 인접한 제1 플레이트 및 제2 플레이트를 포함하고, 상기 각 플레이트 사이의 빈 틈에 기판이 착탈되는 플레이트부; 상기 플레이트부를 관통하여 결합하는 체결 부재; 상기 체결 부재에 결합되고, 상기 각 플레이트간의 간격을 유지시키는 절연부를 포함하고,The solution means of the present invention includes a plate portion including a first plate and a second plate adjacent to each other, the substrate is attached to and detached from the gap between the respective plates; a fastening member coupled through the plate portion; It is coupled to the fastening member and includes an insulating portion for maintaining a gap between the respective plates,
상기 절연부는 상기 기판의 박막 증착시 플레이트간의 통전이 이루어지지 않도록 박막이 차단되는 갭이 형성되는 보트 장치가 제공될 수 있다. The insulating portion may be provided with a boat device in which a gap is formed in which the thin film is blocked so that electricity does not flow between the plates when the thin film is deposited on the substrate.
챔버 내부에 보트 장치가 위치하고, 보트 장치의 플레이트 사이에 각각의 기판이 안착될 수 있다. 서로 이웃한 제1 플레이트 및 제2 플레이트는 플라즈마 형성을 유발하기 위하여 (+) 및 (-) 전기가 인가될 수 있다. 챔버 내부에 반응 가스가 주입되고, 반응 가스 분위기에서 플라즈마 형성시 기판에 박막이 증착될 수 있다. 이때, 기판은 물론 각각의 플레이트의 연결 부위를 포함한 보트 장치에도 박막이 증착될 수 있다. A boat device is positioned inside the chamber, and each substrate may be seated between the plates of the boat device. (+) and (-) electricity may be applied to adjacent first and second plates to induce plasma formation. A reactive gas may be injected into the chamber, and a thin film may be deposited on the substrate when plasma is formed in the reactive gas atmosphere. In this case, the thin film may be deposited not only on the substrate but also on the boat device including the connection portion of each plate.
챔버의 내부에 가스가 투입되고, 플레이트간 플라즈마가 유지된 상태에서 플레이트에 안착된 기판에 원하는 막질을 증착하는데, 이때 전도성 막을 증착시 보트 전체가 증착될 수 있어 플레이트간에 절연을 유지시켜주는 부재로서 스페이서 역할을 하는 절연부가 마련되며, 여기서 절연부의 외부에 전도성 막이 증착되기 때문에 통전이 이루어져서 정상적인 플라즈마 방전이 불가능해질 수 있다. A desired film quality is deposited on a substrate seated on the plates in a state where gas is introduced into the chamber and plasma between the plates is maintained. An insulating part serving as a spacer is provided, and since a conductive film is deposited on the outside of the insulating part, electricity is conducted so that normal plasma discharge may be impossible.
한편, 플레이트 사이에 플라즈마 발생시 거리가 가까운 부분으로 플라즈마가 집중되는 현상을 고려하면, 플라즈마가 기판에 집중되지 않고 플레이트의 연결 부위에 해당하는 절연부에 집중되면 기판에 박막 증착시 두께 균일도 저하와 증착막의 품질을 떨어뜨릴 수 있다. On the other hand, when plasma is generated between the plates, considering the phenomenon that the plasma is concentrated to a part that is close to the distance, if the plasma is not concentrated on the substrate but on the insulating part corresponding to the connection part of the plate, the thickness uniformity decreases when depositing a thin film on the substrate and the deposition film may decrease the quality of
또한, 플라즈마 형성을 위하여 제1 플레이트 및 제2 플레이트에 인가되는 전류가 플레이트의 절연부에서 차단되지 않고 절연부가 쇼트되어 제1 플레이트 및 제2 플레이트에 전기 통로가 형성되면 플라즈마 품질이 문제될 수 있고 아크 발생(arcing) 원인이 될 수 있다.In addition, if the current applied to the first plate and the second plate for plasma formation is not cut off at the insulating part of the plate and the insulating part is shorted to form an electric path in the first plate and the second plate, the plasma quality may be a problem, It can cause arcing.
본 발명은 보트 장치 내에서 플레이트 연결 부위에 위치한 절연부에 박막이 증착되는 현상을 억제할 수 있다. 절연부에 증착되는 원하지 않는 박막으로 인하여 인접한 두 플레이트가 전기적으로 쇼트(short)되는 현상을 억제할 수 있다. 박막으로 인해 절연부의 쇼트가 발생하지 않도록 할 수 있고, 절연부의 쇼트로 인하여 제1 플레이트로부터 제2 플레이트로 전류가 흐르는 것을 방지할 수 있다. 절연부의 쇼트로 인하여 절연부에서 플라즈마 불량이 발생하거나 아크가 발생하는 것을 방지할 수 있다.According to the present invention, it is possible to suppress a phenomenon in which a thin film is deposited on an insulating portion located at a plate connection portion in a boat device. It is possible to suppress a phenomenon in which two adjacent plates are electrically shorted due to an unwanted thin film deposited on the insulating portion. A short circuit in the insulating part may be prevented from occurring due to the thin film, and current flowing from the first plate to the second plate due to the short circuit in the insulating part may be prevented. It is possible to prevent a plasma defect or an arc from occurring in the insulating part due to a short circuit in the insulating part.
따라서, 플라즈마 집중 현상 및 아킹(arcing) 발생을 억제할 수 있다. 기판에 증착되는 박막의 균일도 향상 및 품질 개선이 가능하고, 아킹이 억제되어 장비 신뢰성이 향상될 수 있다.Accordingly, plasma concentration and arcing can be suppressed. It is possible to improve the uniformity and quality of the thin film deposited on the substrate, and the arcing can be suppressed, thereby improving equipment reliability.
도 1은 본 발명의 보트 장치가 설치되는 솔라셀 제조 장치를 도시한 단면도이다.
도 2는 본 발명의 보트 장치를 도시한 사시도이다.
도 3은 본 발명의 실시 예로서, 서로 인접한 플레이트를 부분적으로 도시한 측면도이다.
도 4는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 절연부 구조를 나타낸 확대 단면도이다.
도 5는 본 발명의 제2 실시 예에 따른 절연부 구조를 나타낸 확대 단면도이다.
도 6은 본 발명의 제3 실시 예에 따른 절연부 구조를 나타낸 확대 단면도이다.
도 7은 본 발명의 제4 실시 예에 따른 절연부 구조를 나타낸 확대 단면도이다.
도 8은 본 발명의 제5 실시 예에 따른 절연부 구조를 나타낸 확대 단면도이다.
도 9는 본 발명의 제6 실시 예에 따른 절연부 구조를 나타낸 확대 단면도이다.
도 10은 본 발명의 제7 실시 예에 따른 절연부 구조를 나타낸 확대 단면도이다.
도 11은 본 발명의 제8 실시 예에 따른 절연부 구조를 나타낸 확대 단면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating a solar cell manufacturing apparatus in which a boat apparatus of the present invention is installed.
Figure 2 is a perspective view showing a boat device of the present invention.
3 is a side view partially illustrating plates adjacent to each other according to an embodiment of the present invention.
4 is an enlarged cross-sectional view showing the structure of the insulating part according to the first embodiment of the present invention.
5 is an enlarged cross-sectional view illustrating a structure of an insulating part according to a second embodiment of the present invention.
6 is an enlarged cross-sectional view illustrating a structure of an insulating part according to a third embodiment of the present invention.
7 is an enlarged cross-sectional view illustrating a structure of an insulating part according to a fourth embodiment of the present invention.
8 is an enlarged cross-sectional view showing the structure of an insulating part according to a fifth embodiment of the present invention.
9 is an enlarged cross-sectional view illustrating a structure of an insulating part according to a sixth embodiment of the present invention.
10 is an enlarged cross-sectional view illustrating a structure of an insulating part according to a seventh embodiment of the present invention.
11 is an enlarged cross-sectional view showing the structure of an insulating part according to an eighth embodiment of the present invention.
이하, 본 발명을 실시하기 위한 구체적인 내용을 첨부된 예시 도면에 의거 상세하게 설명한다.Hereinafter, specific contents for carrying out the present invention will be described in detail based on the accompanying exemplary drawings.
도 1은 본 발명의 보트 장치가 설치되는 솔라셀 제조 장치를 도시한 단면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating a solar cell manufacturing apparatus in which a boat apparatus of the present invention is installed.
도 1을 참조하면, 반응 가스나 불활성 가스를 챔버(210) 내에 투입하는 노즐부(214)가 마련된다. 일정한 반응 온도나 압력을 유지하는 챔버(210) 내에 각 공정별로 다양한 종류의 반응 가스나 불활성 가스가 노즐부(214)를 통하여 투입될 수 있다. 반응 가스나 불활성 가스의 종류에 따라 챔버(210) 내부에서 기판(100)에 도핑층, 패시베이션층, 캡핑층, 반사 방지층 등이 증착될 수 있다.Referring to FIG. 1 , a
복수의 기판(100)을 한꺼번에 가공하는 것이 생산성 향상에 유리하므로, 다수의 기판(100)이 보트 장치(220)에 의하여 한꺼번에 투입될 수 있다. 챔버(210)에는 기판(100)이 적재된 보트(220)가 챔버 입구(211)를 통하여 투입되고, 챔버(210)의 내부 또는 외부에는 챔버(210)에 열을 공급하는 히터(205)가 설치될 수 있다.Since processing the plurality of
챔버(210) 내에서 플라즈마 공정 뿐만 아니라 열처리 공정도 수행될 수 있다. 예를 들면 PDA(Post-deposition annealing) 공정 수행을 위하여 일정한 온도로 유지되는 챔버(210)의 내부에 노즐부(214)는 산화제, 반응 가스 등을 분사할 수 있다. 챔버(210) 내부의 산화제 분위기에서 챔버(210) 내부의 온도를 200 ~ 500℃로 유지하며 열처리 공정을 수행할 수 있다. A heat treatment process as well as a plasma process may be performed in the
도 2는 본 발명의 보트 장치(220)를 도시한 사시도이다. 도 1 및 도 2를 참조하면, 플레이트부(221)는 서로 인접한 여러 개의 플레이트로서, 제1 플레이트(221a), 제2 플레이트(221b), 제2 플레이트(221b)를 포함할 수 있다. 각 플레이트 사이의 빈 틈에 기판(100)이 착탈될 수 있다. 기판(100)은 플레이트와 플레이트 사이에 여러 개가 장착될 수 있으며, 하나의 플레이트의 길이 방향을 따라 여러 개가 장착될 수 있다.2 is a perspective view showing a
플레이트부(221)는 복수의 기판(100)이 적재된 상태로 챔버(210)의 내부 또는 외부로 이동될 수 있다. 보트 장치(220)가 챔버 입구(211)를 통하여 외부로 인출된 상태에서 가공 완료된 기판(100)이 언로딩되거나 새로운 기판(100)이 로딩될 수 있다.The
보트 장치(220)는 복수의 기판(100)을 적재한 상태로 챔버(210) 내에 투입될 수 있다. 챔버(210) 내에 플라즈마가 형성되면 보트 장치(220)에 적재된 복수의 기판(100)이 한꺼번에 가공된다.The
제1 플레이트(221a) 및 제2 플레이트(221b)가 적층되는 플레이트부(221)의 가로 방향을 제1 방향이라 정의하고, 제1 플레이트(221a) 또는 제2 플레이트(221b)가 연장되는 플레이트부(221)의 길이 방향을 제2 방향이라 정의한다. 기판(100)은 각각의 플레이트의 길이 방향인 제2 방향을 따라 복수 개가 적재되며, 플레이트의 갯수에 대응되는 제2 방향을 따라 복수 개가 적재된다. 복수의 기판(100)은 한번에 챔버(210)에 투입되어 한번에 가공될 수 있다.A transverse direction of the
각각의 플레이트는 각 플레이트를 부분적으로 천공한 플레이트 포켓(226)을 구비하며, 플레이트 포켓(226)을 통하여 노출된 기판(100)은 플라즈마 또는 반응 가스와 대면되고 가공이 이루어진다.Each plate has a plate pocket 226 partially perforated in each plate, and the
솔라셀 제조 장치를 구현하기 위해서 챔버(210)는 열처리를 수행하는 퍼니스(furnace)가 될 수 있다. 챔버(210)가 도 1과 같이 수평으로 길게 연장되는 포리젠털 퍼니스(horizontal furnace)의 경우 플라즈마 형성 전원을 기판(100)에 인가하기 위하여 전도성 물체인 그라파이트 재질의 핀을 이용하여 플라즈마 전원 공급 및 기판(100) 지지하는 홀더로 사용할 수 있다.In order to implement a solar cell manufacturing apparatus, the
한편, 기판(100)에 인가하는 플라즈마의 전원이 비대칭적으로 공급되는 경우, 플라즈마 파워의 특정 지역으로의 쏠림이 발생될 수 있고, 이로 인해 박막의 두께가 국부적으로 증가하는 불량이 발생할 수 있으며, 양산시 균일한 박막 두께 제어가 어려운 문제가 발생할 수 있다.On the other hand, when the plasma power applied to the
본 발명은 플라즈마 밀도가 챔버(210) 내에서 균일하게 형성되게 하여 박막 균일도를 개선하고, 추가되는 부품없이 보트 장치(220) 내에서 플레이트의 간격을 균일하게 유지하는 구조를 채용하여 품질 향상과 원가 절감을 도모한다.The present invention improves the uniformity of the thin film by allowing the plasma density to be uniformly formed in the
복수의 기판(100)을 한꺼번에 챔버(210)에 출입시키는 배치(batch) 방식으로 기판(100)을 이송하거나, 기판(100)에 대하여 플라즈마를 유도할 수 있는 전극의 역할을 하는 보트 장치(220)에 있어서, 기판(100)의 외곽에 접촉되는 핀 구조물은 플레이트보다 돌출될 수 있다.The
일 실시 예로서, 플레이트 자체가 전극이 되거나 핀 보다 낮은 전극이 보트 장치(220)에 설치되는 경우, 기판(100)을 지지하는 핀 구조물은 플레이트나 전극보다 돌출될 수 있다. 따라서, 보트 장치(220)에서, 기판(100)의 지지 구조물에 해당하는 핀이 플레이트나 전극보다 돌출되면, 전극간 거리보다 핀 사이의 거리가 상대적으로 더 가까와질 수 있다.As an embodiment, when the plate itself becomes an electrode or an electrode lower than the fin is installed in the
이러한 구조는 플라즈마 발생시 거리가 가까운 부분으로 플라즈마가 집중되는 현상을 고려하면, 기판(100)에 박막 증착시 두께 균일도 저하와 증착막의 품질을 떨어뜨릴 수 있다. 또한, 플라즈마 형성을 위한 전류가 기판(100)의 지지 구조물에 해당하는 핀에 집중되기 때문에 아크 발생(arcing) 원인이 된다.In such a structure, when the plasma is concentrated to a part having a close distance when the plasma is generated, when the thin film is deposited on the
따라서, 본 발명은 보트 장치(220) 내에서 기판(100)의 지지 구조물인 핀을 지그재그로 배치하여 지지 구조물끼리의 거리를 전극간 거리보다 멀리함으로써, 플라즈마 집중 현상 및 아킹(arcing) 발생을 억제할 수 있다.Accordingly, the present invention suppresses plasma concentration and arcing by arranging the fins, which are the supporting structures of the
보트 장치(220)는 전극 역할을 하는 플레이트를 구비하고, 플레이트에 기판(100)을 고정하는 지지 구조물인 핀이 지그재그 구조로 배치될 수 있다. 핀은 기판(100)을 플레이트의 전극면에 고정하거나, 플레이트에 인가된 전원을 기판(100)에 전달하는 기능을 할 수 있다. The
기판(100)의 컨택 포인트는 제1 핀(222), 제2 핀(223) 및 제3 핀(224)이 기판(100)과 접촉하는 3개소로 제한하여 안정적인 3점 지지 구조를 달성하고, 서로 인접한 플레이트에 각각 장착된 제1 핀(222) 내지 제3 핀(224)이 서로 대면되지 않게 배치되며, 각각의 핀은 복수의 플레이트가 적층되는 방향인 제1 방향을 따라 지그재그로 배치될 수 있다.The contact point of the
보트 장치(220)의 위에서 보았을 때, 서로 인접한 제1 플레이트(221a) 및 제2 플레이트(221b) 각각에 배치된 제1 핀(222)이 제1 플레이트(221a) 및 제2 플레이트(221b)가 배열되는 제1 방향을 따라 서로 다른 위치에 배치되는 것이 바람직하다.When viewed from above of the
제1 플레이트(221a)에 설치된 제1 핀(222)에 대하여 보트 장치(220)의 일측 단부로부터 측정한 보트 단부 거리인 제1 거리는 제1 플레이트(221a)와 인접 배치되는 제2 플레이트(221b)에 설치된 제1 핀(222)에 대하여 보트 장치(220)의 일측 단부로부터의 측정한 보트 단부 거리인 제2 거리보다 긴 것이 바람직하다.A first distance, which is a boat end distance measured from one end of the
제2 플레이트(221b)에 인접한 제3 플레이트(221c)에 설치된 제1 핀(222)의 보트 단부 거리는 제3 플레이트(221c)와 인접 배치되지 않은 제1 플레이트(221a)에 설치된 제1 핀(222)의 보트 단부 거리와 동일하여도 무방할 수 있다.The boat end distance of the
각각의 핀은 플레이트로부터 돌출되는 돌출부(250)를 구비할 수 있다.Each pin may have a
각각의 핀은 기판(100)과 경사지게 접촉되거나 기판(100)의 측면과 점 접촉되도록 경사부(251)를 구비할 수 있다. 경사부(251)는 돌출부(250)의 측면에 형성된 경사면에 해당한다.Each pin may have an
각각의 핀에 의하여 눌려진 기판(100)의 적어도 일부가 플레이트와 접촉되는 밀착부(252)가 플레이트에 마련될 수 있다. 밀착부(252)를 통하여 기판(100)의 일부만 플레이트에 밀착되도록 플레이트의 일부가 절개된 갭부(254)가 마련될 수 있다. A
각각의 플레이트는 밀착부(252)와 갭부(254)를 구비하며, 갭부(254)에서는 기판(100)과 플레이트가 비접촉되고, 밀착부(252)에서는 기판(100)과 플레이트가 밀착될 수 있다.Each plate has a
각각의 핀에 형성된 돌출부(250), 각각의 핀에 형성된 경사부(251), 각각의 플레이트에 형성된 밀착부(252) 중 적어도 하나를 통하여 기판(100)에 전원이 인가될 수 있다. 기판(100)에 인가된 전원은 플라즈마 형성 또는 정전기력을 제공할 수 있다.Power may be applied to the
도 3을 참조하면, 복수의 플레이트를 지지할 수 있는 체결 부재(310)가 관통하여 결합될 수 있다. 체결 부재(310)에는 각 플레이트의 간격마다 절연부(320)가 결합될 수 있다. 절연부(320)는 원통형으로 형성되고 체결 부재(310)의 외주면에 삽입되어서 플레이트간의 간격을 유지시켜줄 수 있다. Referring to FIG. 3 , a
절연부(320)는 일례로서 세라믹 부싱으로 이루어질 수 있다. The insulating
챔버(210) 내부에 보트 장치(220)가 위치하고, 보트 장치(220)의 플레이트 사이에 각각의 기판(100)이 안착될 수 있다. 서로 이웃한 제1 플레이트(221a), 제2 플레이트(221b) 및 제3 플레이트(221c)는 플라즈마 형성을 유발하기 위하여 서로 다른 극성을 가지도록 (+) 및 (-) 전기가 인가될 수 있다. 챔버(210) 내부에 반응 가스가 주입되고, 반응 가스 분위기에서 플라즈마 형성시 기판(100)에 박막이 증착될 수 있다. 이때, 기판(100)은 물론 각각의 플레이트의 연결 부위를 포함한 보트 장치(220)에도 박막이 증착될 수 있다. The
도 3을 참조하면, 기판(1100)의 박막 증착시, 절연부(320)의 외주면 전체에 대하여 증착된 박막(301)이 형성될 수 있다. Referring to FIG. 3 , when the thin film is deposited on the substrate 1100 , the deposited
따라서, 플라즈마 형성을 위하여 제1 플레이트(221a), 제2 플레이트(221b) 및 제3 플레이트(221c)에 인가되는 전류가 플레이트의 절연부(320)에서 차단되지 않고 절연부(320)가 쇼트되어 제1 플레이트(221a) 및 제2 플레이트(221b)에 전기 통로가 형성되면 플라즈마 품질이 문제될 수 있고, 아크 발생(arcing) 원인이 될 수 있다. Therefore, the current applied to the
[제1 실시 예](청구항 3,4)[First embodiment] (claims 3 and 4)
도 4는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 절연부 구조를 나타낸 확대 단면도이다. 도 4를 참조하면, 절연부(320)는 체결 부재(310)의 외주면에 삽입되는 제1 절연부(321)와 제2 절연부(322)로 이루어질 수 있다. 4 is an enlarged cross-sectional view showing the structure of the insulating part according to the first embodiment of the present invention. Referring to FIG. 4 , the insulating
제1 절연부(321)와 제 절연부(322)는 각각 한쪽 플레이트에 대면되어 접촉된 상태일 수 있다. 도 4에서의 플레이트는 제1 플레이트(221a), 제2 플레이트(221b), 제3 플레이트(221c)가 도시되어 있고, 각각의 제1 플레이트(221a)와 제2 플레이트(22b) 사이, 제2 플레이트(221b)와 제3 플레이트(221c) 사이에 제1 절연부(321)의 일측면이 대면되어 접촉된 상태이며, 제2 절연부(322)의 일측면에는 다른쪽 플레이트에 대면되어 접촉된 상태일 수 있다.The first insulating
이때, 제1 내지 제3 플레이트(221a)(221b)(221c)와 제1 절연부(321) 및 제2 절연부(322)에는 체결 부재(310)가 관통되어 접촉된 구조일 수 있다. In this case, the first to
제1 플레이트(221a)는 (+) 극성, 제2 플레이트(221b)는 (-) 극성, 제3 플레이트(221c)는 (+) 극성을 가질 수 있다. The
제1 절연부(321)는 돌기부(321a)가 돌출되어 형성되고, 제2 절연부(322)는 제1 절연부(321)의 돌기부(321a)가 삽입되는 삽입홈(322a)이 형성되는 구조를 가질 수 있다. The first insulating
제1 절연부(321)의 제1 면(323)과 제2 절연부(322)의 끝단부 사이와 돌기부(321a)와 삽입홈(322a)의 사이에 갭(G)이 형성될 수 있고. 제1 절연부(321)의 제2 면(324)은 플레이트의 측면에 대면될 수 있다. A gap G may be formed between the
이러한 구조에 의해 제1 절연부(321)와 제2 절연부(322)의 사이에 형성되는 갭(G)은 "ㄴ"자 형의 경로를 가지게 형성될 수 있다. Due to this structure, the gap G formed between the first insulating
따라서, 플라즈마 형성시 기판(100)에 박막이 증착될 때, 기판(100)은 물론 각각의 플레이트의 연결 부위를 포함한 보트 장치(220)에도 박막이 증착될 수 있고, 절연부(320)에도 박막이 증착될 수 있다.Therefore, when the thin film is deposited on the
본 발명의 절연부(320)에서는 제1 절연부(321)의 바깥면과 제2 절연부(322)의 바깥면에 박막이 쉽게 증착될 수 있다. 그러나, 제1 절연부(321)과 제2 절연부(322) 사이에 형성된 갭(G)에는 박막이 쉽게 증착되기 어렵다. In the
따라서, 갭(G)에 의해 박막이 증착되지 않게 되므로, 절연부(320)에 의한 플레이트간의 통전이 이루어지지 않으며, 그에 따라 절연부(320)에 형성되는 박막에 의해 플레이트간에 흐르는 전기가 차단될 수 있고, 플레이트간의 통전에 의해 쇼트되는 현상을 방지할 수 있다.Therefore, since the thin film is not deposited by the gap G, conduction between the plates by the insulating
[제2 실시 예] (청구항 5,6)[Second embodiment] (Claim 5,6)
도 5는 본 발명의 제2 실시 예에 따른 절연부 구조를 나타낸 확대 단면도이다. 도 5를 참조하면, 본 발명의 제2 실시 예에 따른 절연부(320)는 체결 부재(310)의 외주면에 삽입되어 대면되는 제1 절연부(326), 제1 절연부(326)의 외주면에 슬라이딩 이동 가능하게 삽입되는 제2 절연부(327)로 이루어질 수 있다.5 is an enlarged cross-sectional view illustrating a structure of an insulating part according to a second embodiment of the present invention. Referring to FIG. 5 , the insulating
제1 절연부(326)의 외주면과 제2 절연부(327)과의 사이에 갭(G)이 형성되도록 제2 절연부(327)는 제1 절연부(326)의 외주면과 간격을 두고 마주보는 내측면(327a), 플레이트와 간격을 두고 형성되는 양쪽의 측면부(327b), 제1 절연부(326)의 외주면과 슬라이딩 이동 가능하게 대면되는 돌출면(327c)이 형성되는 구조일 수 있다.The second
제2 절연부(327)는 양쪽의 측면부(327b)에 의해 제1 플레이트(221a)와 제2 플레이트(221b)의 사이에 간격(제1 간격)을 두고 형성되고, 제2 절연부(327)의 내측면(327a)은 돌출면(327c)에 의해 제1 절연부(326)와 간격(제2 간격)을 두고 형성되어 있으므로, 플라즈마 형성에 따른 증착시 박막이 쉽게 형성되지 않는다. 이러한 2군데의 제1,2 간격으로 갭(G)이 형성될 수 있다. The second
그에 따라 플레이트간의 통전이 차단되므로, 절연부(320)의 박막 증착에 따른 쇼트 현상을 방지할 수 있다. Accordingly, electricity between the plates is cut off, so that a short circuit caused by deposition of a thin film on the insulating
또한, 제2 절연부(327)는 제1 절연부(326)의 외주면을 따라 슬라이딩 이동할 수 있기 때문에, 갭(G)에서의 박막 증착 및 제1 절연부(326)의 외주면에서의 박막 증착을 보다 양호하게 억제할 수 있다. In addition, since the second insulating
갭(G)에 의한 경로가 복잡하고 박막 증착이 이루어지는 제2 절연부(327)의 해당 영역의 면이 연장된 길이를 가지므로, 그 만큼 박막 증착이 어렵게 되는 것이다. Since the path by the gap G is complicated and the surface of the corresponding region of the second insulating
[제3 실시 예](청구항 7)[Third Embodiment] (Claim 7)
도 6은 본 발명의 제3 실시 예에 따른 절연부 구조를 나타낸 확대 단면도이다. 도 6을 참조하면, 본 발명의 제3 실시 예에 따른 절연부(320)는 체결 부재(310)의 외주면에 대면되게 삽입되는 제1 절연부(328), 제1 절연부(328)에 갭(G)을 두고 결합되는 제2 절연부(329)로 이루어지는 2개의 부재로 마련될 수 있다.6 is an enlarged cross-sectional view illustrating a structure of an insulating part according to a third embodiment of the present invention. Referring to FIG. 6 , the insulating
제1 절연부(328)의 외주면(328a)에는 제1 돌출부(328b)가 형성되고, 제1 돌출부(328b)에는 홈이 형성되며, 제2 절연부(329)는 플레이트와 간격을 두고 형성되는 제1 면(329a), 제1 면(329a)으로부터 제1 절연부(328)의 외주면(328a)과 간격을 두고 근접되는 방향으로 형성되는 제2 면(329b), 제2 면(329b)으로부터 제2 절연부(329)의 내측으로 형성되는 제3 면(329c), 제1 절연부(328)의 제1 돌출부(328b)에 삽입되는 제2 돌출부(329d)가 형성되는 구조일 수 있다.A
따라서, 본 발명의 제3 실시 예에 따른 절연부(320)는 제2 절연부(329)의 제2 돌출면(329d)이 제1 절연부(328)의 제1 돌출부(328b)안에 삽입되고, 플레이트와 간격을 두고 형성되는 제2 절연부(329)의 제1 면(329a), 제1 면(329a)으로부터 제1 절연부(328)와 갭(G)이 형성되면서 근접되는 방향으로 형성되는 제2 면(329b), 제2 면(329b)으로부터 내측으로 형성되는 제3 면(329c)에 의해 형성되는 갭(G)의 경로가 복잡하고, 갭(G)의 길이가 연장되는 구조이므로, 기판의 박막 증착시, 절연부(320)의 갭(G) 위치에서의 박막 증착이 연속적으로 형성되지 않고 차단될 수 있다. 그에 따라 플레이트간의 통전을 방지할 수 있다. Accordingly, in the insulating
[제4 실시 예](청구항 8,9)[Fourth embodiment] (Claim 8,9)
도 7은 본 발명의 제4 실시 예에 따른 절연부 구조를 나타낸 확대 단면도이다. 7 is an enlarged cross-sectional view illustrating a structure of an insulating part according to a fourth embodiment of the present invention.
도 7을 참조하면, 절연부(400)는 체결부재(310)가 관통 결합되는 제1 절연부(410), 제1 절연부(410)와 간격을 두고 제1 절연부(410)가 삽입되는 제2 절연부(420)로 이루어질 수 있다. Referring to FIG. 7 , the insulating
제1 절연부(410)의 외주면은 길이 방향을 따라 계단식 구조로 이루어지는 복수의 제1 단턱부(412)가 형성되고, 제2 절연부(420)의 내주면은 제1 절연부(410)의 외주면에 형성된 복수의 제1 단턱부(412)와 대응되면서 갭(G)을 두고 복수의 제2 단턱부(422)가 형성되는 구조를 가질 수 있다. A plurality of first stepped
제1 단턱부(412)의 맨 끝단부의 제1 엔드부(413)는 제2 절연부(420)의 제2 단턱부(422)의 맨끝단부의 제2 엔드부(423)와 대면되어 접촉된 상태일 수 있다. The first end portion 413 of the extreme end of the first stepped
또한, 제1 절연부(410)의 일측면은 한쪽 플레이트에 대면되고, 제2 절연부(420)의 일측면은 다른쪽 플레이트에 대면되어 접촉된 상태일 수 있다. Also, one side of the first insulating
제1 단턱부(412)는 제2 절연부(420)의 내부로 들어 갈 수록 하향 경사지게 형성될 수 있고, 제2 단턱부(422)도 제1 단턱부(412)와 마찬가지로 제2 절연부(420)의 내부로 들어 갈 수록 하향 경사지게 형성될 수 있다. The first stepped
따라서, 본 발명의 제4 실시 예에 따르면, 제1 절연부(410)와 제2 절연부(420)간의 갭(G)의 경로가 복잡하고, 갭(G)의 길이가 연장되는 구조이므로, 기판의 박막 증착시, 절연부(400)의 갭(G) 위치에서의 박막 증착이 연속적으로 형성되지 않고 차단될 수 있다. 그에 따라 플레이트간의 통전을 방지할 수 있다. Therefore, according to the fourth embodiment of the present invention, the path of the gap G between the first insulating
[제5 실시 예](청구항 10)[Fifth embodiment] (Claim 10)
도 8은 본 발명의 제5 실시 예에 따른 절연부 구조를 나타낸 확대 단면도이다. 8 is an enlarged cross-sectional view showing the structure of an insulating part according to a fifth embodiment of the present invention.
도 8을 참조하면, 절연부(500)는 체결 부재(310)가 관통 결합되는 제1 절연부(510), 제1 절연부(510)의 외주면에 슬라이딩 이동 가능하게 삽입되는 제2 절연부(520)로 이루어질 수 있다. Referring to FIG. 8 , the insulating
제1 절연부(510)의 양쪽 측면은 각각 플레이트에 대면되고, 제2 절연부(520)의 내부에는 길이 방향을 따라 복수의 요홈부(522)가 형성되고, 제1 절연부(510)의 외주면과 간격을 두고 형성되는 제1 면(524), 제1 절연부(510)의 외주면과 슬라이딩 이동 가능하게 대면되는 제2 면(526)으로 이루어질 수 있다. Both side surfaces of the first insulating
제1 면(524)과 제1 절연부(510)의 외주면 사이의 간격에 의해 갭(G)이 형성되고, 요홈부(522)에 의해 갭(G)이 형성될 수 있다.A gap G may be formed by a gap between the
따라서, 본 발명의 제5 실시 예에 따르면, 제1 절연부(510)와 제2 절연부(520)간의 갭(G)의 경로가 복잡하고, 갭(G)의 길이가 연장되는 구조이므로, 기판의 박막 증착시, 절연부(500)의 갭(G) 위치에서의 박막 증착이 연속적으로 형성되지 않고 차단될 수 있다. 그에 따라 플레이트간의 통전을 방지할 수 있다. Therefore, according to the fifth embodiment of the present invention, the path of the gap G between the first insulating
[제6 실시 예](청구항 11)[Sixth embodiment] (Claim 11)
도 9는 본 발명의 제6 실시 예에 따른 절연부 구조를 나타낸 확대 단면도이다.9 is an enlarged cross-sectional view illustrating a structure of an insulating part according to a sixth embodiment of the present invention.
도 9를 참조하면, 절연부(600)는 체결 부재(310)가 관통 결합되는 제1 절연부(610), 제1 절연부(610)의 외주면에 마련되는 제2 절연부(620)로 이루어질 수 있다. Referring to FIG. 9 , the insulating
제1 절연부(610)의 양쪽 측면은 플레이트에 대면될 수 있고, 제2 절연부(620)는 플레이트와 간격을 두고 형성될 수 있다. Both side surfaces of the first insulating
제2 절연부(620)의 내부는 제1 절연부(610)와 연결부(622)로 연결되고, 연결부(622)의 간격을 두고 갭(G)이 형성되는 구조일 수 있다.The inside of the second insulating
따라서, 제1 절연부(610)의 외주면에 갭(G)을 두고 제2 절연부(620)가 마련되고, 연결부(622)를 통해 연결된 구조이므로, 갭(G)의 길이가 연장되어 기판의 박막 증착시, 절연부(600)의 갭(G) 위치에서의 박막 증착이 연속적으로 형성되지 않고 차단될 수 있다. 그에 따라 플레이트간의 통전을 방지할 수 있다. Accordingly, since the second insulating
[제7 실시 예](청구항 12,13)[Seventh embodiment] (Claim 12,13)
도 10은 본 발명의 제7 실시 예에 따른 절연부 구조를 나타낸 확대 단면도이다. 10 is an enlarged cross-sectional view illustrating a structure of an insulating part according to a seventh embodiment of the present invention.
도 10을 참조하면, 제7 실시 예에 따른 절연부(700)는 체결 부재(310)가 관통되어 결합되는 제1 절연부(710), 제1 절연부(710)의 외주면에 형성되는 제2 절연부(720), 제2 절연부(720)의 양측에 간격을 두고 마련되는 제3 절연부(730)와 제4 절연부(740)로 이루어질 수 있다. Referring to FIG. 10 , the insulating
다시 말해서, 제7 실시 예에 따른 절연부(700)는 제6 실시 예에 따른 절연부(600)의 구조에 제3 절연부(730)와 제4 절연부(740)가 마련된 구조일 수 있다. In other words, the insulating
제2 절연부(720)는 제1 절연부(710)의 외주면에 연결부(722)로 연결되고, 연결부(722)를 제외한 나머지 부분은 간격을 두고 갭(G)이 형성되는 구조일 수 있다. The second
제3 절연부(730)와 제4 절연부(740)는 제1 절연부(710)의 외주면에 대면되고, 제3 절연부(730)와 제4 절연부(740)의 일 측면이 각각 플레이트에 대면될 수 있다. The third
또한, 제3 절연부(730)와 제4 절연부(740)는 제2 절연부(720)의 외주면을 간격을 두고 감싸도록 제1 면(732)(742)과 제2 면(734)(744)이 각각 형성될 수 있다.In addition, the third insulating
따라서, 제3 절연부(730)와 제4 절연부(740)는 제2 절연부(720)와 갭(G)을 형성하고 마련될 수 있다. Accordingly, the third insulating
또한, 제3 절연부(730)와 제4 절연부(740)는 서로 간격(d)을 두고 마련될 수 있다. In addition, the third insulating
제3 절연부(730)와 제4 절연부(740)는 단면상 'ㄱ'자로 절곡된 구조일 수 있다. The third
본 발명의 제 7실시 예에 따른 절연부(700)는 제1 절연부(710)의 외주면에 갭(G)을 두고 제2 절연부(720)가 마련되고, 연결부(722)를 통해 연결된 구조이므로, 갭(G)의 길이가 연장되며, 더욱이 제3 절연부(730) 및 제4 절연부(740)가 제2 절연부(720)의 외주면과 갭(G)을 두고 마련된 구조이므로, 기판의 박막 증착시, 절연부(700)의 갭(G) 위치에서의 박막 증착이 연속적으로 형성되지 않고 차단될 수 있다. 그에 따라 플레이트간의 통전을 방지할 수 있다. The insulating
[제8 실시 예][Eighth embodiment]
도 11은 본 발명의 제8 실시 예에 따른 절연부 구조를 나타낸 확대 단면도이다. 도 11을 참조하면, 제8 실시 예에 따른 절연부(800)는 체결 부재(310)가 관통되어 결합되는 제1 절연부(810), 제1 절연부(810)의 외주면에 마련되는 제2 절연부(820), 제1 절연부(810)와 제2 절연부(820)의 사이에 마련되는 제3 절연부(830)로 이루어질 수 있다. 11 is an enlarged cross-sectional view showing the structure of an insulating part according to an eighth embodiment of the present invention. Referring to FIG. 11 , the insulating part 800 according to the eighth embodiment includes a first insulating
제1 절연부(810)의 외주면에는 돌출부(811)가 형성되고, 돌출부(811)의 일측에는 제2 절연부(820)가 삽입되고, 돌출부(811)의 타측에는 제3 절연부(830)가 삽입될 수 있다. A
제2 절연부(820)의 안쪽에 구비되는 제3 절연부(830)는 제1 절연부(810) 및 제2 절연부(820)와 갭을 두고 마련될 수 있다. The third
즉, 제1 절연부(810)의 외주면에 형성된 돌출부(811)와 제3 절연부(830)의 내주면인 제1 면(831)은 제1 갭(G1)을 두고 구비될 수 있다. That is, the
제3 절연부(830)의 끝단면인 제2 면(832)은 제2 절연부(820)의 안쪽에 형성된 제1 내면(821)과 제2 갭(G2)을 두고 구비될 수 있다.The
또한, 제3 절연부(830)의 외주면인 제3 면(833)은 제2 절연부(820)의 안쪽에 형성되고 제1 내면(821)과 직교 방향으로 배치되는 제2 내면(822)과 제3 갭(G3)을 두고 구비될 수 있다. In addition, the
또한, 제2 절연부(820)의 한쪽 끝단면은 플레이트와 대면되고, 제2 절연부(820)의 다른쪽 끝단면은 플레이트와 간격(d1)을 두고 결합될 수 있다. In addition, one end surface of the second insulating
이러한 본 발명의 제8 실시 예에 따르면, 제1 절연부(810)의 외주면에 제1 갭(G1)을 두고 제3 절연부(830)가 마련되고, 제3 절연부(830)는 바깥쪽에 제2 절연부(820)와 제3 갭(G3)을 두고 마련되며, 제2 절연부(820)의 안쪽에 형성된 제1 내면(821)과 제3 절연부(830)의 끝단면인 제2 면(832)과 제2 갭(G2)을 두고 구비되기 때문에, 기판의 박막 증착시, 절연부(800)의 갭 위치에서의 박막 증착이 연속적으로 형성되지 않고 차단될 수 있다. 그에 따라 플레이트간의 통전을 방지할 수 있다. According to the eighth embodiment of the present invention, the third insulating
100... 기판(wafer)
205... 히터(heater)
210... 챔버(chamber)
211... 챔버 입구
214... 노즐부
220... 보트 장치(boat device)
221... 플레이트부
221a...제1 플레이트(plate)
221b... 제2 플레이트
221c...제3 플레이트
222... 제1 핀(pin)
223... 제2 핀
224... 제3 핀
226... 플레이트 포켓(plate pocket)
250... 돌출부
251... 경사부
252... 밀착부
254... 갭부
301... 박막
310... 체결 부재
320... 절연부
321... 제1 절연부
321a... 돌기부
322... 제2 절연부
322a... 삽입홈
323... 제1 면
324... 제2 면
326... 제1 절연부
327... 제2 절연부
327a... 내측면
327b... 측면부
327c... 돌출면
328... 제1 절연부
328a...외주면
328b... 제1 돌출부
329... 제2 절연부
329a... 제1 면
329b... 제2 면
329c... 제3 면
329d.. 제2 돌출부
400,500,600,700,800...절연부
410,510,610,710... 제1 절연부
412... 제1 단턱부
413... 제1 엔드부
420,520,620,720... 제2 절연부
422... 제2 단턱부
423... 제2 엔드부
522... 요홈부
524,732,742... 제1 면
526,734,744... 제2 면
622,722... 연결부
810... 제1 절연부
811... 돌출부
820... 제2 절연부
821... 제1 내면
822... 제2 내면
830... 제3 절연부
831... 제1 면
832... 제2 면
833... 제3 면
d,d1... 간격
G.. 갭(gap)
G1... 제1 갭
G2... 제2 갭
G3... 제3 갭100...
210...
214...
221...
221b...
222... pin 1 223... pin 2
224... 3rd pin
226... plate pocket
250...
252...
301...
320...
321a... projection
322... Second insulating
323...
326 ... first insulating
327a...
327c... Projected
328a... Outer
329...
329b...
329d.. second projection
400,500,600,700,800...insulation
410,510,610,710... First insulating
413... first end portion
420,520,620,720... second insulating
423...
524,732,742... 1st side 526,734,744... 2nd side
622,722... connections
810... first insulating
820... second insulating
822... Second
831... Side 1 832... Side 2
833... the third side
d,d1... Gap G. Gap
G1... first gap G2... second gap
G3... 3rd gap
Claims (15)
상기 플레이트부를 관통하여 결합하는 체결 부재;
상기 체결 부재에 결합되고, 상기 각 플레이트간의 간격을 유지시키는 절연부;
를 포함하고,
상기 절연부는 상기 기판의 박막 증착시 플레이트간의 통전이 이루어지지 않도록 증착 박막이 차단되는 갭이 형성되는 보트 장치.
a plate portion including a first plate and a second plate adjacent to each other, the substrate being attached to and detached from the gap between the plates;
a fastening member coupled through the plate portion;
an insulating part coupled to the fastening member and maintaining a distance between the respective plates;
including,
The insulating portion is a boat device in which a gap is formed in which the deposited thin film is blocked so that electricity does not flow between the plates when the thin film is deposited on the substrate.
상기 절연부는 적어도 2개 이상으로 마련되고,
상기 체결 부재의 외주면에 삽입되는 제1 절연부, 상기 제1 절연부에 증착 박막이 형성되지 않도록 갭을 두고 삽입되는 제2 절연부로 이루어지는 보트 장치.
According to claim 1,
The insulating part is provided in at least two or more,
A boat apparatus comprising: a first insulating part inserted into an outer circumferential surface of the fastening member; and a second insulating part inserted with a gap so that a deposited thin film is not formed on the first insulating part.
상기 제1 절연부는 상기 제2 절연부에 삽입되는 돌기부가 형성되고, 제2 절연부는 제1 절연부의 돌기부가 삽입되는 삽입홈이 형성되며,
상기 제1 절연부에서 플레이트와 대면하는 제2 면과 반대 방향에 형성되는 제1 면은, 상기 제2 절연부의 끝단부와 갭을 두고 형성되고, 상기 돌기부와 삽입홈은 갭을 두고 소정의 길이로 형성되는 보트 장치.
3. The method of claim 2,
The first insulating part has a protrusion to be inserted into the second insulating part, and the second insulating part has an insertion groove into which the protrusion of the first insulating part is inserted,
A first surface formed in the opposite direction to the second surface facing the plate in the first insulating part is formed with a gap from the end of the second insulating part, and the protrusion and the insertion groove have a predetermined length with a gap A boat device formed by .
상기 제1 절연부와 제2 절연부의 사이에 형성되는 갭은 "ㄴ"자 형의 경로를 가지는 보트 장치.
4. The method of claim 3,
A gap formed between the first insulating part and the second insulating part has a "L"-shaped path.
상기 절연부는 체결 부재의 외주면에 삽입되는 제1 절연부, 제1 절연부의 외주면에 삽입되는 제2 절연부로 이루어지고,
상기 제2 절연부는 상기 제1 절연부의 외주면과 간격을 두고 마주보는 내측면, 플레이트와 간격을 두고 형성되는 측면부, 상기 제1 절연부의 외주면과 대면되는 돌출면이 형성되며,
상기 제2 절연부는 제 1절연부와 대면하는 상기 돌출면에 의해 갭이 형성되고, 상기 갭에 의해 증착 박막이 차단되는 보트 장치.
According to claim 1,
The insulating part consists of a first insulating part inserted into the outer peripheral surface of the fastening member, and a second insulating part inserted into the outer peripheral surface of the first insulating part,
The second insulating part has an inner surface facing the outer peripheral surface of the first insulating part at a distance from the plate, a side part formed at a distance from the plate, and a protruding surface facing the outer peripheral surface of the first insulating part,
The second insulating part has a gap formed by the protruding surface facing the first insulating part, and the deposited thin film is blocked by the gap.
상기 제2 절연부는 상기 제1 절연부의 외주면에서 길이 방향을 따라 슬라이딩 이동 가능하게 결합되는 보트 장치.
6. The method of claim 5,
The second insulating part is coupled to be slidably movable along a longitudinal direction on an outer circumferential surface of the first insulating part.
상기 절연부는 체결 부재의 외주면에 삽입되는 제1 절연부, 상기 제1 절연부에 갭을 두고 결합되는 제2 절연부로 이루어지고,
상기 제1 절연부의 외주면에는 제1 돌출부가 형성되고,
상기 제2 절연부는 플레이트와 간격을 두고 형성되는 제1 면, 상기 제1 면으로부터 상기 제1 절연부의 외주면과 간격을 두고 근접되는 방향으로 형성되는 제2 면, 상기 제2 면으로부터 상기 제2 절연부의 내측으로 형성되는 제3 면, 상기 제1 절연부의 제1 돌출면에 삽입되는 제2 돌출부가 형성되며,
상기 제1 절연부의 제1 돌출부와 상기 제2 절연부의 제2 면, 제3 면, 제2 돌출면의 사이에서 형성되는 갭에 의해 증착 박막이 차단되는 보트 장치.
According to claim 1,
The insulating part consists of a first insulating part inserted into the outer circumferential surface of the fastening member, and a second insulating part coupled to the first insulating part with a gap,
A first protrusion is formed on the outer peripheral surface of the first insulating part,
The second insulating portion has a first surface formed to be spaced apart from the plate, a second surface formed to approach the outer peripheral surface of the first insulation portion from the first surface at a distance from the first surface, and the second insulation from the second surface A third surface formed inside the portion, a second projection inserted into the first projection surface of the first insulating portion is formed,
A boat device in which the deposited thin film is blocked by a gap formed between the first protrusion of the first insulating part and the second, third, and second protruding surfaces of the second insulating part.
상기 절연부는 체결 부재의 외주면에 삽입되는 제1 절연부, 상기 제1 절연부에 갭을 두고 결합되는 제2 절연부로 이루어지고,
상기 제1 절연부의 외주면은 길이 방향을 따라 계단식 구조의 제1 단턱부가 복수로 형성되고,
상기 제2 절연부의 내주면은 상기 제1 절연부의 외주면에 형성된 복수의 제1 단턱부와 대응되면서 간격을 두고 복수의 제2 단턱부가 형성되며,
상기 제1 단턱부는 상기 제2 절연부의 내부로 들어 갈 수록 하향 경사지게 형성되고, 상기 제2 단턱부는 상기 제1 단턱부와 마찬가지로 상기 제2 절연부의 내부로 들어 갈 수록 하향 경사지게 형성되며,
상기 제1 절연부의 상기 제1 단턱부와 제2 절연부의 제2 단턱부간에 형성되는 갭에 의해 증착 박막이 차단되는 보트 장치.
According to claim 1,
The insulating part consists of a first insulating part inserted into the outer circumferential surface of the fastening member, and a second insulating part coupled to the first insulating part with a gap,
The outer peripheral surface of the first insulating part is formed in a plurality of first stepped parts of a stepped structure along the longitudinal direction,
A plurality of second stepped portions are formed on an inner circumferential surface of the second insulating portion to correspond to a plurality of first stepped portions formed on an outer circumferential surface of the first insulation portion at intervals therebetween,
The first stepped portion is inclined downward as it goes into the second insulating part, and the second stepped part is formed to be inclined downward as it goes into the inside of the second insulating part, like the first stepped part,
A boat device in which the deposited thin film is blocked by a gap formed between the first stepped portion of the first insulating portion and the second stepped portion of the second insulating portion.
상기 제1 단턱부의 맨 끝단부의 제1 엔드부는 상기 제2 절연부의 제2 단턱부 의 맨 끝단부의 제2 엔드부와 대면되어 접촉된 상태인 보트 장치.
9. The method of claim 8,
The first end of the first end of the first stepped portion is in a state of being in contact with the second end of the second end of the second stepped portion of the second insulating portion.
상기 절연부는 체결 부재의 외주면에 삽입되는 제1 절연부, 상기 제1 절연부에 갭을 두고 결합되는 제2 절연부로 이루어지고,
상기 제1 절연부의 양쪽 측면은 각각 플레이트에 대면되고,
상기 제2 절연부의 내부에는 길이 방향을 따라 복수의 요홈부가 형성되며, 상기 제1 절연부의 외주면과 간격을 두고 형성되는 제1 면, 상기 제1 절연부의 외주면과 슬라이딩 이동 가능하게 대면되는 제2 면으로 이루어지고,
상기 제1 면과 상기 제1 절연부의 외주면 사이의 간격에 의해 갭이 형성되고, 상기 요홈부에 의해 갭이 형성되며, 상기 갭에 의해 증착 박막이 차단되는 보트 장치.
According to claim 1,
The insulating part consists of a first insulating part inserted into the outer circumferential surface of the fastening member, and a second insulating part coupled to the first insulating part with a gap,
Both sides of the first insulating part face the plate, respectively,
A plurality of grooves are formed inside the second insulating part along the longitudinal direction, a first surface formed at a distance from an outer peripheral surface of the first insulating part, and a second surface that slidably faces the outer peripheral surface of the first insulating part is made of,
A boat apparatus in which a gap is formed by a gap between the first surface and an outer peripheral surface of the first insulating part, a gap is formed by the concave part, and the deposited thin film is blocked by the gap.
상기 절연부는 체결 부재의 외주면에 삽입되는 제1 절연부, 상기 제1 절연부에 갭을 두고 결합되는 제2 절연부로 이루어지고,
상기 제2 절연부의 내부는 상기 제1 절연부와 연결부로 연결되고,
상기 연결부를 제외한 나머지 부분인 제1 절연부와 제2 절연부의 길이 방향으로 간격을 두고 갭이 형성되며,
상기 갭에 의해 증착 박막이 차단되는 보트 장치.
According to claim 1,
The insulating part consists of a first insulating part inserted into the outer circumferential surface of the fastening member, and a second insulating part coupled to the first insulating part with a gap,
The inside of the second insulating part is connected to the first insulating part by a connection part,
A gap is formed at intervals in the longitudinal direction of the first insulating part and the second insulating part, which are the remaining parts except for the connection part,
A boat device in which the deposited thin film is blocked by the gap.
상기 절연부는 체결 부재의 외주면에 삽입되는 제1 절연부, 상기 제1 절연부의 외주면에 마련되는 제2 절연부, 상기 제2 절연부의 양측에 간격을 두고 마련되는 제3 절연부와 제4 절연부를 포함하고,
상기 제2 절연부는 상기 제1 절연부의 외주면에 연결부로 연결되고,
상기 연결부를 제외한 나머지 부분인 제1 절연부와 제2 절연부의 길이 방향으로 간격을 두고 갭(G)이 형성되며,
상기 제3 절연부와 상기 제4 절연부는 상기 제1 절연부의 외주면에 대면되고,
상기 제3 절연부와 상기 제4 절연부는 상기 제2 절연부(720)의 외주면을 간격을 두고 감싸도록 하여 갭이 형성되는 제1 면과 제2 면이 각각 형성되며,
상기 제1 절연부와 상기 제2 절연부 사이의 갭과, 상기 제2 절연부와 상기 제3 절연부 및 상기 제 4 절연부간의 갭에 의해 증착 박막이 차단되는 보트 장치.
According to claim 1,
The insulating part includes a first insulating part inserted into the outer peripheral surface of the fastening member, a second insulating part provided on the outer peripheral surface of the first insulating part, and a third insulating part and a fourth insulating part provided at intervals on both sides of the second insulating part including,
The second insulating part is connected to the outer peripheral surface of the first insulating part by a connection part,
A gap (G) is formed at intervals in the longitudinal direction of the first insulating part and the second insulating part, which are the remaining parts except for the connection part,
The third insulating part and the fourth insulating part face the outer peripheral surface of the first insulating part,
The third insulating part and the fourth insulating part surround the outer circumferential surface of the second insulating part 720 with a gap so that a first surface and a second surface on which a gap is formed are respectively formed,
A boat apparatus in which the deposited thin film is blocked by a gap between the first insulating part and the second insulating part and a gap between the second insulating part, the third insulating part, and the fourth insulating part.
상기 제3 절연부와 제4 절연부는 서로 간격을 두고 마련되는 보트 장치.
13. The method of claim 12,
The third insulating part and the fourth insulating part are provided to be spaced apart from each other.
상기 절연부는 체결 부재가 관통되어 결합되는 제1 절연부, 상기 제1 절연부의 외주면에 마련되는 제2 절연부, 상기 제1 절연부와 상기 제2 절연부의 사이에 마련되는 제3 절연부로 이루어지고,
상기 제3 절연부의 내면인 제1 면은 상기 제1 절연부와 제1 갭을 두고 마련되고, 제3 절연부의 외주면인 제3 면은 제2 절연부의 안쪽에 형성되고 상기 제1 내면과 직교 방향으로 형성되는 제2 내면과 제3 갭을 두고 형성되며,
상기 제1 갭 및 제3 갭에 의해 증착 박막이 차단되는 보트 장치.
According to claim 1,
The insulating part includes a first insulating part through which the fastening member is coupled therethrough, a second insulating part provided on an outer circumferential surface of the first insulating part, and a third insulating part provided between the first insulating part and the second insulating part, ,
A first surface that is an inner surface of the third insulating part is provided with a first gap with the first insulating part, and a third surface that is an outer peripheral surface of the third insulating part is formed inside the second insulating part and is perpendicular to the first inner surface It is formed with a second inner surface and a third gap formed by
A boat device in which the deposited thin film is blocked by the first gap and the third gap.
상기 제3 절연부의 끝단면인 제2 면은 상기 제2 절연부의 안쪽에 형성되는 제1 내면과 제2 갭을 두고 마련되며,
상기 제1 절연부의 외주면에는 돌출부가 형성되고, 돌출부의 양측에 각각 제1 절연부와 제3 절연부가 삽입되어 대면되는 보트 장치. 15. The method of claim 14,
A second surface, which is an end surface of the third insulating part, is provided with a first inner surface and a second gap formed inside the second insulating part,
A protrusion is formed on an outer circumferential surface of the first insulating part, and the first insulating part and the third insulating part are respectively inserted into both sides of the protrusion to face each other.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020200120011A KR102507991B1 (en) | 2020-09-17 | 2020-09-17 | Boat device including an insulation portion |
CN202110894775.8A CN114203602A (en) | 2020-09-17 | 2021-08-04 | Crystal boat device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020200120011A KR102507991B1 (en) | 2020-09-17 | 2020-09-17 | Boat device including an insulation portion |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20220037269A true KR20220037269A (en) | 2022-03-24 |
KR102507991B1 KR102507991B1 (en) | 2023-03-09 |
Family
ID=80935760
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