KR101464662B1 - Improved Boat, and Heat Treatment Chamber and Apparatus of Substrate Having the Same - Google Patents

Improved Boat, and Heat Treatment Chamber and Apparatus of Substrate Having the Same Download PDF

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KR101464662B1 KR1020130087688A KR20130087688A KR101464662B1 KR 101464662 B1 KR101464662 B1 KR 101464662B1 KR 1020130087688 A KR1020130087688 A KR 1020130087688A KR 20130087688 A KR20130087688 A KR 20130087688A KR 101464662 B1 KR101464662 B1 KR 101464662B1
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이장혁
서태헌
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주식회사 나래나노텍
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Abstract

Disclosed are an improved boat, a heat treatment chamber, and a device for a substrate therewith. The boat used in a chamber for heat treatment according to the present invention comprises a first support part; a second support part spaced from the first support part; multiple cross bars of which one side is coupled to the first support part and the other side is coupled to the second support part to have gaps between the first and second support parts; and multiple support pins which are formed on the cross bars to support holders where the substrate is installed.

Description

개선된 보트, 및 이를 구비한 기판 열처리 챔버 및 기판 열처리 장치{Improved Boat, and Heat Treatment Chamber and Apparatus of Substrate Having the Same}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to an improved boat, and a substrate heat treatment chamber and a heat treatment chamber having the same,

본 발명은 개선된 보트, 및 이를 구비한 기판 열처리 챔버 및 기판 열처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an improved boat, and a substrate heat treatment chamber and a substrate heat treatment apparatus having the same.

좀 더 구체적으로, 본 발명은 기판 또는 기판이 장착되는 홀더(holder)를 지지하기 위한 보트를 금속 재질로 구현하고, 또한 보트를 각각이 복수의 지지 핀을 구비하며 쿼츠 재질로 구현되는 복수의 크로스 바를 이용하여 연결하되, 보트와 복수의 크로스 바의 일측에서는 정홀을 이용하여 고정 상태로 체결하고, 타측에서는 상이한 열팽창에 따른 변형에 대응하도록 장홀(slit hole)을 이용하여 체결함으로써, 기판의 대형화에 대응하여 홀더 및 기판의 처짐량을 최소화할 수 있고, 그에 따라 박막 필름의 주름 발생 방지 및 두께의 균일 유지가 가능하며, 대면적 기판의 열처리가 가능하고, 열팽창률의 차이에 따른 보트의 파손이 방지되며, 기판의 불량 발생이 현저하게 감소되는 개선된 보트, 및 이를 구비한 기판 열처리 챔버 및 기판 열처리 장치에 관한 것이다.More particularly, the present invention relates to a boat comprising: a boat for supporting a holder on which a substrate or a substrate is mounted; and a plurality of boats, each having a plurality of support pins, The boat and the plurality of crossbars are fastened in a fixed state by using a hole and the other side is fastened by using a slit hole so as to correspond to deformation due to different thermal expansion, It is possible to minimize the amount of deflection of the holder and the substrate correspondingly, thereby preventing wrinkling of the thin film and maintaining uniform thickness, enabling heat treatment of the large area substrate and preventing damage to the boat due to the difference in thermal expansion coefficient An improved boat in which the occurrence of substrate defects is significantly reduced, and a substrate heat treatment chamber and a substrate heat treatment apparatus having the same The.

반도체, 평판 디스플레이 및 태양전지 제조에 사용되는 어닐링(annealing) 장치는 실리콘 웨이퍼, 글래스, 또는 플라스틱 기판과 같은 플렉시블 기판(이하 통칭하여 "기판"이라 함) 상에 증착되어 있는 소정의 필름(유기물 및 무기물)에 대하여 결정화, 상 변화 등의 공정을 위하여 필수적인 열처리를 수행하는 장치이다.An annealing apparatus used for manufacturing semiconductors, flat panel displays and solar cells can be applied to a predetermined film (organic material and / or organic material) deposited on a flexible substrate (hereinafter collectively referred to as "substrate") such as a silicon wafer, Inorganic substance), which is necessary for a process such as crystallization and phase change.

대표적인 어닐링 장치로는 액정 디스플레이 또는 박막형 결정질 실리콘 태양전지를 제조하는 경우 글래스 기판 상에 증착된 비정질 실리콘을 폴리 실리콘으로 결정화시키는 실리콘 결정화 장치가 있다.A typical annealing apparatus is a silicon crystallization apparatus for crystallizing amorphous silicon deposited on a glass substrate into polysilicon when a liquid crystal display or a thin film crystalline silicon solar cell is manufactured.

이와 같은 결정화 공정(열처리 공정)을 수행하기 위해서는 소정의 박막 필름(이하 "필름"이라 함)이 형성되어 있는 기판의 히팅이 가능한 열처리 장치가 있어야 한다. 예를 들어, 비정질 실리콘의 결정화를 위해서는 최소한 550 내지 600℃의 온도가 필요하다.In order to perform such a crystallization process (heat treatment process), a heat treatment apparatus capable of heating a substrate on which a predetermined thin film (hereinafter referred to as "film") is formed must be provided. For example, for crystallization of amorphous silicon, a temperature of at least 550 to 600 DEG C is required.

통상적으로 열처리 장치에는 하나의 기판에 대하여 열처리를 수행할 수 있는 매엽식과 복수의 기판에 대하여 열처리를 수행할 수 있는 배치식이 있다. 매엽식은 장치의 구성이 간단한 이점이 있으나 생산성이 떨어지는 단점이 있어서 최근의 대량 생산용으로는 배치식이 각광을 받고 있다.Generally, a heat treatment apparatus includes a single-wafer type in which heat treatment can be performed on one substrate, and a batch type in which heat treatment can be performed on a plurality of substrates. There is a merit of simple configuration of the apparatus, but there is a disadvantage that the productivity is low, and the batch formula is getting popular for the mass production in recent years.

도 1은 종래 기술에 따른 배치식 열처리 장치의 구성을 도시한 사시도이고, 도 2a는 도 1에 도시된 종래 기술에 따른 배치식 열처리 장치의 챔버의 구성을 도시한 사시도이며, 도 2b는 종래 기술에 따른 배치식 열처리 장치의 기판, 메인 히터 유닛 및 보조 히터 유닛의 배치 상태를 도시한 사시도이다. 이러한 종래 기술에 따른 배치식 열처리 장치는 예를 들어, 허판선 등에 의해 2008년 7월 16일자에 "배치식 열처리 장치"라는 발명의 명칭으로 대한민국 특허출원 제10-2008-0069329로 출원된 후, 2011년 2월 11일자로 등록된 대한민국 특허 제10-1016048호에 상세히 기술되어 있다.FIG. 1 is a perspective view showing a configuration of a batch type heat treatment apparatus according to the prior art, FIG. 2 (a) is a perspective view showing a configuration of a chamber of a batch type heat treatment apparatus according to the prior art shown in FIG. 1, Fig. 5 is a perspective view showing the arrangement of the substrate, the main heater unit, and the auxiliary heater unit of the batch type heat treatment apparatus according to the first embodiment. Such a batch heat treatment apparatus according to the prior art is filed in Korean Patent Application No. 10-2008-0069329, entitled " Batch Heat Treatment Apparatus ", filed July 16, 2008 by Huh, Are described in detail in Korean Patent No. 10-1016048, filed on February 11,

도 1 내지 도 2b를 참조하면, 종래 기술에 따른 배치식 열처리 장치(1)에서는 열처리 공간을 제공하는 직육면체 형상의 챔버(100)와, 챔버(100)를 지지하는 프레임(110)을 포함하여 구성된다.1 to 2B, a batch type thermal processing apparatus 1 according to the related art includes a chamber 100 having a rectangular parallelepiped shape for providing a heat treatment space and a frame 110 for supporting the chamber 100, do.

챔버(100)의 일측에는 챔버(100)에 기판(10)을 로딩하기 위하여 상하 방향으로 개폐되는 도어(140)가 설치된다. 도어(140)가 개방된 상태에서 트랜스퍼 암과 같은 기판 로딩 장치(미도시)를 이용하여 기판(10)을 챔버(100)로 로딩할 수 있다. 한편, 열처리가 종료된 후 도어(140)를 통하여 챔버(100)로부터 기판(10)을 언로딩할 수도 있다.A door 140 is installed at one side of the chamber 100 to open and close the chamber 100 in order to load the substrate 10 into the chamber 100. The substrate 10 can be loaded into the chamber 100 by using a substrate loading device (not shown) such as a transfer arm in a state where the door 140 is opened. On the other hand, after the heat treatment is completed, the substrate 10 may be unloaded from the chamber 100 through the door 140.

챔버(100)의 상측에는 챔버(100)의 내부에 설치되는, 예를 들어 보트(120), 가스 공급관(300) 및 가스 배출관(320) 등의 수리 및 교체를 위하여 커버(160)가 개폐 가능하도록 설치된다.A cover 160 is provided on the upper side of the chamber 100 for repairing and replacing the boats 120, the gas supply pipes 300 and the gas discharge pipes 320 installed in the chamber 100 .

챔버(100)의 내부에는 기판(10)을 직접 가열하기 위한 메인 히터 유닛(200)과, 챔버(100) 내부의 열 손실을 방지하기 위한 보조 히터 유닛(220)과, 열처리가 종료된 후 챔버(100) 내부를 신속하게 냉각시키기 위한 냉각관(250)이 설치된다.A main heater unit 200 for directly heating the substrate 10 in the chamber 100, an auxiliary heater unit 220 for preventing heat loss in the chamber 100, A cooling pipe 250 for rapidly cooling the inside of the cooling pipe 100 is installed.

도 2a 및 도 2b를 참조하면, 메인 히터 유닛(200)은 기판(10)의 단변 방향과 평행하게 일정한 간격을 가지면서 단위 메인 히터(210)를 포함한다. 단위 메인 히터(210)는 통상적인 길이가 긴 원통형의 히터로서 석영관 내부에 발열체가 삽입되어 있고 양단에 설치된 단자를 통하여 외부의 전원을 인가받아 열을 발생시키는 메인 히터 유닛(200)을 구성하는 단위체이다.Referring to FIGS. 2A and 2B, the main heater unit 200 includes a unit main heater 210 having a predetermined interval in parallel with the short side direction of the substrate 10. The unit main heater 210 is a conventional cylindrical heater having a long length and constitutes a main heater unit 200 in which a heating element is inserted into a quartz tube and external power is applied through terminals provided at both ends to generate heat Lt; / RTI >

메인 히터 유닛(200)은 기판(10)의 적층 방향을 따라 일정 간격을 가지면서 복수개가 배치된다. 기판(10)은 복수의 메인 히터 유닛(200) 사이에 배치된다. 기판(10)은 메인 히터 유닛(200) 사이의 중앙에 배치하는 것이 바람직하다.A plurality of main heater units 200 are arranged at regular intervals along the stacking direction of the substrates 10. The substrate 10 is disposed between a plurality of main heater units 200. It is preferable that the substrate 10 is disposed at the center between the main heater units 200.

상술한 바와 같이 종래 기술에 따른 배치식 열처리 장치(1)에서는 기판(10)의 상부 및 하부에 기판(10)의 전면적을 커버할 수 있는 단위 메인 히터(210)로 구성되는 메인 히터 유닛(200)이 설치됨으로써, 기판(10)은 단위 메인 히터(210)로부터 전면적에 걸쳐서 열을 인가받아 열처리가 이루어질 수 있다.As described above, in the batch type thermal processing apparatus 1 according to the related art, a main heater unit 200 (hereinafter, referred to as " main heater ") 200 composed of a unit main heater 210 capable of covering the entire surface of the substrate 10, The substrate 10 can receive heat from the unit main heater 210 over the entire surface thereof, and can be heat-treated.

또한, 도 2a 및 도 2b를 참조하면, 보조 히터 유닛(220)은 기판(10)의 단변 방향을 따라 평행하게 배치되는 제1 보조 히터유닛(220a)과 기판(10)의 장변 방향을 따라 배치되는 제2 보조 히터 유닛(220b)을 포함한다. 제1 보조 히터 유닛(220a)은 메인 히터 유닛(200)의 양측에 단위 메인 히터(210)와 평행하게 배치되는 복수의 제1 단위 보조 히터(230a)를 포함한다.2A and 2B, the auxiliary heater unit 220 includes a first auxiliary heater unit 220a disposed parallel to the short side direction of the substrate 10 and a second auxiliary heater unit 220b disposed along the long side direction of the substrate 10 And a second auxiliary heater unit 220b. The first auxiliary heater unit 220a includes a plurality of first unit auxiliary heaters 230a disposed on both sides of the main heater unit 200 in parallel with the unit main heaters 210. [

도 3a 및 도 3b는 종래 기술에 따른 배치식 열처리 장치에 사용되는 보트의 구성을 사시도 및 단면도이다.3A and 3B are a perspective view and a cross-sectional view, respectively, of the configuration of a boat used in a batch type heat treatment apparatus according to the related art.

도 3a 및 도 3b를 참조하면, 챔버(100)의 내부에는 챔버(100)로 로딩된 기판(10)을 지지하기 위한 보트(120)가 설치되어 있다. 보트(120)는 기판(10)의 장변측을 지지하도록 설치되는 것이 바람직하다. 도 3a에 도시된 보트(120)는 각각의 기판(10)의 양쪽 장변 측에 3개씩 모두 6개의 지지 부재(122)가 설치되어 있으나, 기판(10)의 안정적인 지지를 위하여 그 이상의 개수로 설치될 수도 있으며 기판(10)의 크기에 따라 다양하게 변경될 수 있다. 보트(120)의 재질은 석영(쿼츠)인 것이 바람직하다.Referring to FIGS. 3A and 3B, a boat 120 for supporting a substrate 10 loaded into a chamber 100 is installed in a chamber 100. The boat 120 is preferably installed to support the long side of the substrate 10. 3A, six support members 122 are provided on each of the long side sides of each of the substrates 10, but three or more support members 122 are provided on the long side sides of the respective substrates 10 in order to stably support the substrate 10. [ And may be variously changed depending on the size of the substrate 10. The material of the boat 120 is preferably quartz.

또한, 도 3a 및 도 3b를 참조하면, 기판(10)은 홀더(12)에 장착된 상태로 보트(120)에 로딩되는 것이 바람직하다. 열처리 과정 중에 열처리 온도가 복수의 기판(10)의 연화(softening) 온도에 도달하면 기판 자체의 무게 때문에 기판의 아래 방향으로의 휨 현상이 발생하는데, 특히 이러한 휨 현상은 기판이 대면적화 됨에 따라 더 큰 문제가 된다. 이러한 문제점을 해결하기 위하여 기판(10)을 홀더(12)에 장착한 상태로 열처리를 진행한다.3A and 3B, it is preferable that the substrate 10 is loaded on the boat 120 while being mounted on the holder 12. When the heat treatment temperature reaches the softening temperature of the plurality of substrates 10 during the heat treatment process, the substrate may be warped downward due to the weight of the substrate itself. In particular, It becomes a big problem. In order to solve such a problem, the substrate 10 is mounted on the holder 12 and the heat treatment proceeds.

그러나, 상술한 종래 기술의 보트(120)는 다음과 같은 문제점을 갖는다.However, the above-described prior art boat 120 has the following problems.

좀 더 구체적으로, 도 3c는 종래 기술에 따른 배치식 열처리 장치에 사용되는 보트에서의 홀더의 처짐량을 그래픽으로 도시한 도면이다.More particularly, Fig. 3c is a graphical representation of the amount of deflection of the holder in a boat used in a batch heat treatment apparatus according to the prior art.

도 3c를 참조하면, 종래 기술에 따른 배치식 열처리 장치에 사용되는 보트(120)에서는 기판(10)이 장착된 홀더(12)가 보트(120)의 양측면 지지 부재(122) 상에서 지지된다. 이 때, 보트(120) 상에 사용되는 기판(10)이 예를 들어 1,000mm x 1,200mm 사이즈를 갖는 5세대 기판인 경우, 홀더(12)의 처짐량은 양 끝단에서 최소값(0.00021224mm)을 가지며, 중앙 부분에서 최대값(2.5129mm)을 갖는다. 따라서, 그 차이값(즉, 처짐량)이 2.5125878mm이고, 이러한 처짐량은 보트(120) 상에 장착된 기판(10)에 형성된 소정의 박막 필름(미도시)에도 그대로 반영되어, 주름이 형성되거나 박막 필름 두께의 균일도(uniformity)가 유지되지 못하는 등과 같은 문제점이 발생하고, 그에 따라 종래 기술에서는 최종 생성된 기판의 불량 발생 가능성이 상당히 높다.Referring to FIG. 3C, in a boat 120 used in a batch type heat treatment apparatus according to the related art, a holder 12 on which a substrate 10 is mounted is supported on both side support members 122 of a boat 120. At this time, when the substrate 10 used on the boat 120 is a fifth generation substrate having a size of, for example, 1,000 mm x 1,200 mm, the deflection amount of the holder 12 has a minimum value (0.00021224 mm) at both ends , And the maximum value (2.5129 mm) in the center portion. The deflection amount is 2.5125878 mm, and this amount of deflection is directly reflected in a predetermined thin film (not shown) formed on the substrate 10 mounted on the boat 120, The uniformity of the thickness of the film can not be maintained. Therefore, in the prior art, there is a high possibility that defects generated in the final substrate are generated.

또한, 상술한 문제점은 5세대 이후의 더 대형화된 대면적 기판의 경우에는 홀더(12) 및 그에 따른 기판(10)의 처짐량이 더욱 더 증가하여 대면적 기판의 경우 초미세 박막의 형성이 실질적으로 불가능하다는 문제가 발생한다.In addition, the problem described above is that the deflection of the holder 12 and thus the substrate 10 is further increased in the case of a larger-sized large-area substrate after the fifth generation, so that in the case of a large-area substrate, The problem arises that it is impossible.

또한, 종래 기술의 보트(120)는 상술한 바와 같이 석영(쿼츠) 재질로 이루어지고, 그에 따라 보트(120)의 연결 부분이 용접에 의해 체결된다. 따라서, 챔버(100) 내에서 기판(10)의 열처리를 위해 가열에 의한 온도 상승에 따라 보트(120)도 열팽창이 일어난다. 이 때, 용접에 의해 체결된 보트(120)의 연결 부분과 비연결 부분의 열팽창률이 서로 상이하여 보트(120)가 변형되거나 심한 경우 파손되는 문제가 발생한다. 이러한 보트(120)의 변형 또는 파손은 기판(10)의 불량 발생의 직접적인 원인이 된다는 점에서 심각한 문제를 야기한다.In addition, the boat 120 of the prior art is made of quartz material as described above, so that the connecting portion of the boat 120 is fastened by welding. Therefore, thermal expansion of the boat 120 occurs due to the temperature rise due to heating for the heat treatment of the substrate 10 in the chamber 100. At this time, since the coefficient of thermal expansion of the connecting portion and the non-connecting portion of the boat 120 fastened by welding is different from each other, there is a problem that the boat 120 is deformed or severely damaged. Such deformation or breakage of the boat 120 causes a serious problem in that it is a direct cause of the failure of the substrate 10.

따라서, 상술한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 새로운 방안이 요구된다. Therefore, there is a need for a new method for solving the problems of the above-described conventional techniques.

대한민국 특허 제10-1016048호Korean Patent No. 10-1016048

본 발명은 상술한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 기판 또는 기판이 장착되는 홀더(holder)를 지지하기 위한 보트를 금속 재질로 구현하고, 또한 보트를 각각이 복수의 지지 핀을 구비하며 쿼츠 재질로 구현되는 복수의 크로스 바를 이용하여 연결하되, 보트와 복수의 크로스 바의 일측에서는 정홀을 이용하여 고정 상태로 체결하고, 타측에서는 상이한 열팽창에 따른 변형에 대응하도록 장홀(slit hole)을 이용하여 체결함으로써, 기판의 대형화에 대응하여 홀더 및 기판의 처짐량을 최소화할 수 있고, 그에 따라 박막 필름의 주름 발생 방지 및 두께의 균일 유지가 가능하며, 대면적 기판의 열처리가 가능하고, 열팽창률의 차이에 따른 보트의 파손이 방지되며, 기판의 불량 발생이 현저하게 감소되는 개선된 보트, 및 이를 구비한 기판 열처리 챔버 및 기판 열처리 장치를 제공하기 위한 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems of the prior art, and it is an object of the present invention to provide a boat for supporting a holder on which a substrate or a substrate is mounted, A slit hole is used to correspond to the deformation due to the different thermal expansion at the other side of the boat and a plurality of crossbars are fastened in a fixed state by using a hole at one side of the boat and a plurality of crossbars It is possible to minimize the amount of deflection of the holder and the substrate in correspondence with the enlargement of the substrate, thereby preventing the occurrence of wrinkles of the thin film and maintaining the thickness uniformity, enabling the heat treatment of the large area substrate, An improved boat in which breakage of the boat along the axis of the boat is prevented and the occurrence of defects in the substrate is significantly reduced, Burr and substrate heat treatment apparatus.

본 발명의 제 1 특징에 따른 기판 열처리용 챔버에 사용되는 보트는 제 1 지지부; 상기 제 1 지지부와 이격되어 제공되는 제 2 지지부; 일측이 상기 제 1 지지부에 고정 체결되며, 타측이 상기 제 2 지지부에 유격(gap)을 갖도록 체결되는 복수의 크로스 바; 상기 복수의 크로스 바 상에 각각 제공되며, 기판 또는 상기 기판이 장착되는 홀더를 지지하기 위한 복수의 지지핀을 포함하는 것을 특징으로 한다.The boat used in the substrate heat treatment chamber according to the first aspect of the present invention includes a first support portion; A second support portion provided apart from the first support portion; A plurality of cross bars fixed on one side of the first support portion and on the other side of the cross bar so as to have a gap therebetween; And a plurality of support pins provided on the plurality of crossbars, respectively, for supporting the substrate or the holder on which the substrate is mounted.

본 발명의 제 2 특징에 따른 기판 열처리용 챔버에 사용되는 보트는 제 1 상하 지지부 및 상기 제 1 상하 지지부 사이에 제공되는 복수의 제 1 수직 지지부로 구성되는 제 1 보트 프레임; 상기 제 1 보트 프레임과 이격되어 제공되며, 제 2 상하 지지부 및 상기 제 1 상하 지지부 사이에 제공되는 복수의 제 2 수직 지지부로 구성되는 제 2 보트 프레임; 일측이 상기 제 1 상하 지지부에 각각 고정 체결되며, 타측이 상기 제 2 상하 지지부에 각각 유격(gap)을 갖도록 체결되는 복수의 상부 및 하부 크로스 바; 상기 복수의 상부 및 하부 크로스 바 상에 각각 제공되며, 상부 및 하부 기판 또는 상기 상부 및 하부 기판이 장착되는 상부 및 하부 홀더를 지지하기 위한 복수의 상부 및 하부 지지핀을 포함하는 것을 특징으로 한다.The boat used in the substrate heat treatment chamber according to the second aspect of the present invention comprises a first boat frame composed of a first upper support part and a plurality of first vertical support parts provided between the first upper support part and the first upper support part; A second boat frame provided at a distance from the first boat frame and composed of a second vertical support portion and a plurality of second vertical support portions provided between the first upper and lower support portions; A plurality of upper and lower cross bars fastened at one side to the first upper support portion and fastened at the other side to the second upper support portion so as to have a gap therebetween; And a plurality of upper and lower support pins provided on the plurality of upper and lower crossbars for supporting upper and lower substrates or upper and lower holders on which the upper and lower substrates are mounted, respectively.

본 발명의 제 3 특징에 따른 기판 열처리 챔버는 내부에 기판의 열처리 공간을 형성하도록 제공되는 상부 및 하부 하우징; 상기 열처리 공간 내에 제공되며, 상기 기판이 로딩 및 지지되는 보트; 상기 상부 하우징의 내측 하부면 및 상기 하부 하우징의 내측 상부면에 각각 제공되는 상부 및 하부 윈도우 플레이트; 및 상기 상부 및 하부 하우징 및 상기 상부 및 하부 윈도우 플레이트 사이에 각각 제공되는 복수의 상부 및 하부 열원을 포함하고, 상기 보트는 제 1 지지부; 상기 제 1 지지부와 이격되어 제공되는 제 2 지지부; 일측이 상기 제 1 지지부에 고정 체결되며, 타측이 상기 제 2 지지부에 유격(gap)을 갖도록 체결되는 복수의 크로스 바; 상기 복수의 크로스 바 상에 각각 제공되며, 기판 또는 상기 기판이 장착되는 홀더를 지지하기 위한 복수의 지지핀을 포함하는 것을 특징으로 한다.A substrate heat treatment chamber according to a third aspect of the present invention includes upper and lower housings provided to form a heat treatment space of a substrate therein; A boat provided in the heat treatment space, the boat being loaded and supported; Upper and lower window plates provided on an inner lower surface of the upper housing and an inner upper surface of the lower housing, respectively; And a plurality of upper and lower heat sources provided between the upper and lower housings and the upper and lower window plates, respectively, the boat comprising: a first support; A second support portion provided apart from the first support portion; A plurality of cross bars fixed on one side of the first support portion and on the other side of the cross bar so as to have a gap therebetween; And a plurality of support pins provided on the plurality of crossbars, respectively, for supporting the substrate or the holder on which the substrate is mounted.

본 발명의 제 4 특징에 따른 기판 열처리 장치는 각각이 기판의 열처리 공간을 제공하는 복수의 챔버; 상기 복수의 챔버가 각각 착탈 가능하게 지지되는 프레임; 및 상기 복수의 챔버 각각의 전면에 제공되는 복수의 도어를 포함하고, 상기 복수의 챔버는 각각 내부에 기판의 열처리 공간을 형성하도록 제공되는 상부 및 하부 하우징; 상기 열처리 공간 내에 제공되며, 상기 기판이 로딩 및 지지되는 보트; 상기 상부 하우징의 내측 하부면 및 상기 하부 하우징의 내측 상부면에 각각 제공되는 상부 및 하부 윈도우 플레이트; 및 상기 상부 및 하부 하우징 및 상기 상부 및 하부 윈도우 플레이트 사이에 각각 제공되는 복수의 상부 및 하부 열원을 포함하며, 상기 보트는 제 1 지지부; 상기 제 1 지지부와 이격되어 제공되는 제 2 지지부; 일측이 상기 제 1 지지부에 고정 체결되며, 타측이 상기 제 2 지지부에 유격(gap)을 갖도록 체결되는 복수의 크로스 바; 상기 복수의 크로스 바 상에 각각 제공되며, 기판 또는 상기 기판이 장착되는 홀더를 지지하기 위한 복수의 지지핀을 포함하는 것을 특징으로 한다.According to a fourth aspect of the present invention, The substrate heat treatment apparatus comprises: a plurality of chambers each providing a heat treatment space of the substrate; A frame in which the plurality of chambers are detachably supported; And a plurality of doors provided on a front surface of each of the plurality of chambers, wherein the plurality of chambers each include upper and lower housings provided therein to form a heat treatment space of the substrate; A boat provided in the heat treatment space, the boat being loaded and supported; Upper and lower window plates provided on an inner lower surface of the upper housing and an inner upper surface of the lower housing, respectively; And a plurality of upper and lower heat sources respectively provided between the upper and lower housings and between the upper and lower window plates, wherein the boat comprises: a first support portion; A second support portion provided apart from the first support portion; A plurality of cross bars fixed on one side of the first support portion and on the other side of the cross bar so as to have a gap therebetween; And a plurality of support pins provided on the plurality of crossbars, respectively, for supporting the substrate or the holder on which the substrate is mounted.

본 발명에 따른 개선된 보트, 및 이를 구비한 기판 열처리 챔버 및 기판 열처리 장치를 사용하면 다음과 같은 효과가 달성된다.The improved boats according to the present invention, and the substrate heat treatment chamber having the same and the substrate heat treatment apparatus having the same, the following effects are achieved.

1. 기판의 대형화에 대응하여 홀더 및 기판의 처짐량을 최소화할 수 있다.1. The amount of deflection of the holder and the substrate can be minimized in response to the increase in size of the substrate.

2. 기판 상에서 박막 필름의 주름 발생이 방지되고, 두께가 균일하게 유지될 수 있다.2. The occurrence of wrinkles of the thin film on the substrate is prevented, and the thickness can be kept uniform.

3. 대면적 기판의 열처리가 가능하다.3. It is possible to heat-treat large area substrates.

4. 열팽창률의 차이에 따른 보트의 파손이 방지된다.4. Boat breakage due to difference in thermal expansion rate is prevented.

5. 상술한 1 내지 4의 장점에 의해 기판의 불량 발생 가능성이 현저하게 감소된다.5. The advantages of the above-described 1 to 4 significantly reduce the possibility of substrate failure.

본 발명의 추가적인 장점은 동일 또는 유사한 참조번호가 동일한 구성요소를 표시하는 첨부 도면을 참조하여 이하의 설명으로부터 명백히 이해될 수 있다. Further advantages of the present invention can be clearly understood from the following description with reference to the accompanying drawings, in which like or similar reference numerals denote like elements.

도 1은 종래 기술에 따른 배치식 열처리 장치의 구성을 도시한 사시도이다.
도 2a는 도 1에 도시된 종래 기술에 따른 배치식 열처리 장치의 챔버의 구성을 도시한 사시도이다.
도 2b는 종래 기술에 따른 배치식 열처리 장치의 기판, 메인 히터 유닛 및 보조 히터 유닛의 배치 상태를 도시한 사시도이다.
도 3a 및 도 3b는 종래 기술에 따른 배치식 열처리 장치에 사용되는 보트의 구성을 사시도 및 단면도이다.
도 3c는 종래 기술에 따른 배치식 열처리 장치에 사용되는 보트에서의 홀더의 처짐량을 그래픽으로 도시한 도면이다.
도 4a는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 열처리 챔버에 사용되는 보트를 개략적으로 도시한 사시도이다.
도 4b는 도 4a에 도시된 본 발명의 일 실시예에 따른 보트를 A 방향에서 본 단면도를 도시한 도면이다.
도 4c는 도 4a에 도시된 본 발명의 일 실시예에 따른 보트의 일측 부분(A 부분)의 확대도이다.
도 4d는 도 4a에 도시된 본 발명의 일 실시예에 따른 보트의 타측 부분(B 부분)의 확대도이다.
도 4e는 도 4a에 도시된 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 열처리 챔버에 사용되는 보트의 상면도를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 4f는 도 4a에 도시된 본 발명의 일 실시예의 대안적인 실시예에 따른 보트를 A 방향에서 본 단면도를 도시한 도면이다.
도 4g는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 열처리 챔버의 구성을 도시한 단면도이다.
도 4h는 도 4g에 도시된 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 열처리 챔버를 개략적으로 도시한 단면도이다.
도 4i는 도 4g에 도시된 본 발명의 일 실시예의 대안적인 실시예에 따른 보트를 구비한 본 발명의 대안적인 실시예에 따른 기판 열처리 챔버를 개략적으로 도시한 단면도이다.
도 4j는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 열처리 장치를 도시한 사시도이다.1 is a perspective view showing a configuration of a batch type heat treatment apparatus according to the prior art.
FIG. 2A is a perspective view showing a configuration of a chamber of the batch type heat treatment apparatus according to the prior art shown in FIG. 1. FIG.
FIG. 2B is a perspective view showing the arrangement of the substrate, the main heater unit, and the auxiliary heater unit of the batch type heat treatment apparatus according to the related art.
3A and 3B are a perspective view and a cross-sectional view, respectively, of the configuration of a boat used in a batch type heat treatment apparatus according to the related art.
3C is a graphical representation of the amount of deflection of the holder in the boat used in the batch heat treatment apparatus according to the prior art.
4A is a perspective view schematically illustrating a boat used in a substrate thermal processing chamber according to an embodiment of the present invention.
FIG. 4B is a cross-sectional view of the boat shown in FIG. 4A, taken along the direction A, according to an embodiment of the present invention.
4C is an enlarged view of one side (part A) of the boat according to an embodiment of the present invention shown in FIG. 4A.
4D is an enlarged view of the other portion (portion B) of the boat according to the embodiment of the present invention shown in FIG. 4A.
FIG. 4E is a schematic top view of a boat used in a substrate heat treatment chamber according to an embodiment of the present invention shown in FIG. 4A.
4f is a cross-sectional view of the boat viewed from direction A according to an alternative embodiment of the embodiment of the present invention shown in Fig. 4a.
FIG. 4G is a cross-sectional view showing a configuration of a substrate heat treatment chamber according to an embodiment of the present invention.
4H is a cross-sectional view schematically illustrating a substrate heat treatment chamber according to an embodiment of the present invention shown in FIG. 4G.
Figure 4i is a schematic cross-sectional view of a substrate thermal processing chamber in accordance with an alternative embodiment of the present invention with a boat according to an alternative embodiment of an embodiment of the present invention shown in Figure 4g.
4J is a perspective view illustrating a substrate thermal processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

이하에서 본 발명의 실시예 및 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 기술한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described in detail below with reference to embodiments and drawings of the present invention.

도 4a는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 열처리 챔버에 사용되는 보트를 개략적으로 도시한 사시도이고, 도 4b는 도 4a에 도시된 본 발명의 일 실시예에 따른 보트를 A 방향에서 본 단면도를 도시한 도면이며, 도 4c는 도 4a에 도시된 본 발명의 일 실시예에 따른 보트의 일측 부분(A 부분)의 확대도이고, 도 4d는 도 4a에 도시된 본 발명의 일 실시예에 따른 보트의 타측 부분(B 부분)의 확대도이다.FIG. 4A is a perspective view schematically showing a boat used in a substrate heat treatment chamber according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4B is a sectional view of the boat taken along line A in FIG. Fig. 4C is an enlarged view of one side portion (portion A) of the boat according to the embodiment of the present invention shown in Fig. 4A, Fig. 4D is an enlarged view of the side of the boat according to an embodiment of the present invention shown in Fig. (B portion) of the boat.

도 4a 내지 도 4d를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 열처리용 챔버에 사용되는 보트(420)는 제 1 상하 지지부(422a) 및 상기 제 1 상하 지지부(422a) 사이에 제공되는 복수의 제 1 수직 지지부(424a)로 구성되는 제 1 보트 프레임(421a); 상기 제 1 보트 프레임(421a)과 이격되어 제공되며, 제 2 상하 지지부(422b) 및 상기 제 1 상하 지지부(422b) 사이에 제공되는 복수의 제 2 수직 지지부(424b)로 구성되는 제 2 보트 프레임(421b); 일측이 상기 제 1 상하 지지부(422a)에 각각 고정 체결되며, 타측이 상기 제 2 상하 지지부(422b)에 각각 유격(gap)을 갖도록 체결되는 복수의 상부 및 하부 크로스 바(426u,426d); 및 상기 복수의 상부 및 하부 크로스 바(426u,426d) 상에 각각 제공되며, 상부 및 하부 기판(10a,10b) 또는 상부 및 하부 기판(10a,10b)이 장착되는 상부 및 하부 홀더(12a,12b)를 지지하기 위한 복수의 상부 및 하부 지지핀(428u,428d)을 포함한다. 여기서, 도 4b의 실시예에서는 복수의 상부 및 하부 지지핀(428u,428d) 상에 상부 및 하부 기판(10a,10b)이 장착되는 상부 및 하부 홀더(12a,12b)가 지지되는 것으로 예시적으로 도시되어 있지만, 본 발명에서는 상부 및 하부 기판(10a,10b)이 복수의 상부 및 하부 지지핀(428u,428d) 상에 직접 지지될 수도 있다는 점에 유의하여야 한다.4A to 4D, a boat 420 used in a substrate thermal processing chamber according to an embodiment of the present invention includes a first upper support portion 422a and a plurality of A first vertical frame 421a comprising a first vertical support portion 424a; And a second vertical support portion 424b provided between the first upper frame support portion 421a and the second upper support portion 422b and between the first upper support portion 422b and the second upper support portion 422b, (421b); A plurality of upper and lower cross bars 426u and 426d fastened to the first upper and lower support portions 422a and 422b, respectively, one side of which is fastened to the first upper and lower support portions 422a and the other is fastened to the second upper and lower support portions 422b respectively; And upper and lower holders 12a and 12b which are respectively provided on the upper and lower cross bars 426u and 426d and on which the upper and lower substrates 10a and 10b or the upper and lower substrates 10a and 10b are mounted, And a plurality of upper and lower support pins 428u and 428d for supporting the upper and lower support pins 428u and 428d. In the embodiment of FIG. 4B, the upper and lower holders 12a and 12b, on which the upper and lower substrates 10a and 10b are mounted, are supported on a plurality of upper and lower support pins 428u and 428d. It should be noted that although in the present invention the upper and lower substrates 10a and 10b may be directly supported on the plurality of upper and lower support pins 428u and 428d.

상술한 본 발명의 일 실시예에 따른 보트(420)에서는, 제 1 및 제 2 상하 지지부(422a,422b) 및 복수의 제 1 및 제 2 수직 지지부(424a,424b)는 각각 금속 재질로 구현될 수 있다. 또한, 복수의 상부 및 하부 크로스 바(426u,426d) 및 복수의 상부 및 하부 지지핀(428u,428d)은 각각 쿼츠 재질로 구현될 수 있다.The first and second upper and lower support portions 422a and 422b and the plurality of first and second vertical support portions 424a and 424b may be formed of a metal material . In addition, the plurality of upper and lower cross bars 426u and 426d and the plurality of upper and lower support pins 428u and 428d may be formed of quartz material, respectively.

한편, 복수의 상부 및 하부 크로스 바(426u,426d)의 일측은 복수의 제 1 상부 및 하부 고정핀(430a)(도 4c에는 제 1 상부 고정핀만 도시됨)에 의해 제 1 상하 지지부(422a)에 각각 고정 체결된다. 이를 위해, 복수의 상부 및 하부 크로스 바(426u,426d)에는 복수의 제 1 상부 및 하부 관통홀(431a)(도 4c에는 제 1 상부 관통홀만 도시됨)이 형성되어 있고, 제 1 상하 지지부(422a)에는 복수의 제 1 상부 및 하부 관통홀(431a)과 대응되는 위치에 복수의 제 2 상부 및 하부 관통홀(423a)(도 4c에는 제 2 상부 관통홀만 도시됨)이 형성되어 있다. 이 경우, 복수의 제 1 및 제 2 상부 및 하부 관통홀(431a,423a)은 각각 복수의 제 1 상부 및 하부 고정핀(430a)이 고정 체결될 수 있도록 정홀로 구현되는 것이 바람직하다.One side of the plurality of upper and lower cross bars 426u and 426d is connected to the first upper and lower support portions 422a and 422b by a plurality of first upper and lower fixing pins 430a (only a first upper fixing pin is shown in FIG. 4C) Respectively. To this end, a plurality of first upper and lower through holes 431a (only a first upper through hole is shown in FIG. 4C) are formed in the plurality of upper and lower cross bars 426u and 426d, A plurality of second upper and lower through holes 423a (only a second upper through hole is shown in FIG. 4C) are formed at positions corresponding to the plurality of first upper and lower through holes 431a . In this case, it is preferable that the plurality of first and second upper and lower through holes 431a and 423a are formed in a regular hole so that the plurality of first upper and lower fixing pins 430a can be fixedly fastened.

반면에, 복수의 상부 및 하부 크로스 바(426u,426d)의 타측은 복수의 제 2 상부 및 하부 고정핀(430b)(도 4d에는 제 2 상부 고정핀만 도시됨)에 의해 제 2 상하 지지부(422b)에 각각 이동 가능하게 체결된다. 이를 위해, 복수의 상부 및 하부 크로스 바(426u,426d)에는 복수의 제 3 상부 및 하부 관통홀(431b)(도 4d에는 제 3 상부 관통홀만 도시됨)이 형성되어 있고, 제 2 상하 지지부(422b)에는 복수의 제 3 상부 및 하부 관통홀(431b)과 대응되는 위치에 복수의 제 4 상부 및 하부 관통홀(423b)(도 4d에는 제 4 상부 관통홀만 도시됨)이 형성되어 있다. 이 경우, 복수의 제 3 상부 및 하부 관통홀(431b)은 각각 복수의 제 2 상부 및 하부 고정핀(430b)이 복수의 상부 및 하부 크로스 바(426u,426d)의 길이방향(도 4d에서 L1 방향)을 따라 이동할 수 있는 유격을 갖도록 체결될 수 있는 장홀(slit hole)로 구현되고, 또한 복수의 제 4 상부 및 하부 관통홀(423b)은 각각 복수의 제 2 상부 및 하부 고정핀(430b)이 각각 제 2 상하 지지부(422b)의 길이방향(도 4d에서 L2 방향)을 따라 이동할 수 있는 유격을 갖도록 체결될 수 있는 장홀로 구현되는 것이 바람직하다. 여기서, 복수의 제 1 및 제 2 상부 및 하부 고정핀(430a,430b)은 각각 쿼츠 재질로 구현될 수 있다.On the other hand, the other side of the plurality of upper and lower cross bars 426u and 426d is supported by the second upper and lower support portions 430a and 430b by a plurality of second upper and lower fixing pins 430b (only the second upper fixing pin is shown in FIG. 422b, respectively. To this end, a plurality of third upper and lower through holes 431b (only a third upper through hole is shown in FIG. 4D) are formed in the plurality of upper and lower cross bars 426u and 426d, A plurality of fourth upper and lower through holes 423b (only a fourth upper through hole is shown in FIG. 4D) are formed at positions corresponding to the plurality of third upper and lower through holes 431b . In this case, the plurality of third upper and lower through holes 431b are formed such that a plurality of the second upper and lower fixing pins 430b extend in the longitudinal direction of the plurality of upper and lower cross bars 426u and 426d And a plurality of fourth upper and lower through holes 423b are respectively formed in a plurality of second upper and lower fixing pins 430b, (L2 direction in Fig. 4D) of the second upper and lower support portion 422b, respectively. Here, the plurality of first and second upper and lower fixing pins 430a and 430b may be formed of quartz material.

상술한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 보트(420)에서는, 금속 재질로 구현되는 제 1 및 제 2 보트 프레임(421a,421b)과 쿼츠 재질로 구현되고, 금속 재질과 쿼츠 재질은 열팽창률이 상이하므로, 후술하는 기판 열처리 챔버(400) 내에서의 열처리 진행 시 온도 상승에 따른 제 1 및 제 2 보트 프레임(421a,421b)과 복수의 상부 및 하부 크로스 바(426u,426d)의 열팽창량도 상이하다. 그러나, 본 발명에서는 복수의 상부 및 하부 크로스 바(426u,426d) 및 제 2 상하 지지부(422b)에 각각 유격을 갖는 장홀로 구현되는 복수의 제 3 및 제 4 상부 및 하부 관통홀(431b,423b)을 구비함으로써, 상이한 재질에 따른 상이한 열팽창량이 발생하더라도 각각의 길이 방향(L1 및 L2 방향)의 편차를 충분히 보상할 수 있다.As described above, in the boat 420 according to the embodiment of the present invention, the first and second boat frames 421a and 421b, which are made of a metal material, and the quartz material, The thermal expansion of the first and second boat frames 421a and 421b and the plurality of upper and lower cross bars 426u and 426d due to temperature rise during the heat treatment in the substrate heat treatment chamber 400 described later The amount is also different. However, in the present invention, a plurality of third and fourth upper and lower through holes 431b, 423b (423b, 423b) which are embodied as long holes having clearances respectively in the upper and lower cross bars 426u, 426d and the second upper and lower support portions 422b ), It is possible to sufficiently compensate for the deviation in the longitudinal direction (L1 and L2 directions) of each material even if a different thermal expansion amount is generated depending on different materials.

따라서, 본 발명에서는 종래 기술의 보트(120)에서의 용접에 따른 문제점이 발생하지 않으며, 또한 보트(420)의 변형 또는 파손이 방지될 수 있다.Therefore, in the present invention, there is no problem caused by welding in the conventional boat 120, and deformation or breakage of the boat 420 can be prevented.

또한, 본 발명에서는 상부 및 하부 기판(10a,10b), 또는 상부 및 하부 기판(10a,10b) 및 상부 및 하부 홀더(12a,12b)가 복수의 상부 및 하부 지지핀(428u,428d)에 의해 여러 위치 또는 지점에서 지지된다.In the present invention, the upper and lower substrates 10a and 10b or the upper and lower substrates 10a and 10b and the upper and lower holders 12a and 12b are supported by a plurality of upper and lower support pins 428u and 428d It is supported at several locations or points.

좀 더 구체적으로, 도 4e는 도 4a에 도시된 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 열처리 챔버에 사용되는 보트의 상면도를 개략적으로 도시한 도면이다.More particularly, FIG. 4E is a schematic top view of a boat used in a substrate thermal processing chamber according to an embodiment of the present invention shown in FIG. 4A.

도 4e를 도 4a 내지 도 4d와 함께 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 보트(420)에서는, 복수의 상부 및 하부 지지핀(428u,428d)이 상부 및 하부 기판(10a,10b), 또는 상부 및 하부 기판(10a,10b)이 장착된 상부 및 하부 홀더(12a,12b)를 양측면 부분은 물론 중앙 부분에서 지지하므로, 상부 및 하부 기판(10a,10b)의 처짐량, 또는 상부 및 하부 홀더(12a,12b) 및 그 각각의 상부에 장착된 상부 및 하부 기판(10a,10b)의 처짐량이 최소화된다. 이 경우, 도 4a 및 도 4e의 실시예에서는 복수의 상부 및 하부 지지핀(428u,428d)이 복수의 상부 및 하부 크로스 바(426u,426d) 상의 3개 위치에 제공되는 것으로 예시적으로 도시되어 있지만, 당업자라면 복수의 상부 및 하부 지지핀(428u,428d)이 상부 및 하부 기판(10a,10b)의 사이즈가 증가함에 따라 복수의 상부 및 하부 크로스 바(426u,426d) 상의 4개 이상의 위치에 제공될 수 있다는 것을 충분히 이해할 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 보트(420)를 사용하면 상부 및 하부 기판(10a,10b)의 처짐량, 또는 상부 및 하부 홀더(12a,12b)와 상부 및 하부 기판(10a,10b)의 처짐량이 최소화되고, 그에 따라 주름 발생 및 박막 필름(14)의 두께가 균일하게 유지될 수 있으며, 대면적 기판의 열처리가 가능해진다는 장점이 달성될 수 있다.Referring to FIG. 4E with FIGS. 4A to 4D, in the boat 420 according to an embodiment of the present invention, a plurality of upper and lower support pins 428u and 428d are disposed on the upper and lower substrates 10a and 10b, Or the upper and lower holders 12a and 12b on which the upper and lower substrates 10a and 10b are mounted are supported at the center portion as well as both side portions so that the amount of deflection of the upper and lower substrates 10a and 10b, The deflection amount of the upper and lower substrates 10a and 10b mounted on the upper portions 12a and 12b and their upper portions is minimized. In this case, in the embodiment of Figs. 4A and 4E, a plurality of upper and lower support pins 428u and 428d are illustrated as being provided at three positions on the plurality of upper and lower cross bars 426u and 426d However, those skilled in the art will appreciate that a plurality of upper and lower support pins 428u, 428d may be disposed at more than four locations on the plurality of upper and lower crossbars 426u, 426d as the size of the upper and lower substrates 10a, It will be appreciated that the present invention can be provided. Accordingly, when the boat 420 of the present invention is used, the amount of deflection of the upper and lower substrates 10a and 10b or the amount of deflection of the upper and lower holders 12a and 12b and the deflection of the upper and lower substrates 10a and 10b is minimized, Whereby the wrinkle generation and the thickness of the thin film 14 can be uniformly maintained, and the heat treatment of the large area substrate can be achieved.

도 4f는 도 4a에 도시된 본 발명의 일 실시예의 대안적인 실시예에 따른 보트를 A 방향에서 본 단면도를 도시한 도면이다.4f is a cross-sectional view of the boat viewed from direction A according to an alternative embodiment of the embodiment of the present invention shown in Fig. 4a.

도 4f를 도 4a 내지 도 4e와 함께 참조하면, 본 발명의 일 실시예의 대안적인 실시예에 따른 보트(420)는 제 1 지지부(422a); 상기 제 1 지지부(422a)와 이격되어 제공되는 제 2 지지부(422b); 일측이 상기 제 1 지지부(422a)에 고정 체결되며, 타측이 상기 제 2 지지부(422b)에 유격(gap)을 갖도록 체결되는 복수의 크로스 바(426); 및 상기 복수의 크로스 바(426) 상에 각각 제공되며, 기판(10) 또는 상기 기판(10)이 장착되는 홀더(12)를 지지하기 위한 복수의 지지핀(428)을 포함한다.Referring to Figure 4f, with reference to Figures 4a-4e, a boat 420 according to an alternative embodiment of an embodiment of the present invention includes a first support portion 422a; A second support portion 422b provided to be spaced apart from the first support portion 422a; A plurality of cross bars 426 fixed on one side of the first support portion 422a and one side of the cross bars 426 on the other side of the second support portion 422b so as to have a gap therebetween; And a plurality of support pins 428 provided on the plurality of cross bars 426 for supporting the substrate 10 or the holder 12 on which the substrate 10 is mounted.

상술한 본 발명의 대안적인 실시예에 따른 보트(420)에서는, 제 1 및 제 2 지지부(422a,422b)는 각각 금속 재질로 구현될 수 있다. 또한, 복수의 크로스 바(426) 및 복수의 지지핀(428)은 각각 쿼츠 재질로 구현될 수 있다.In the boat 420 according to the alternative embodiment of the present invention, the first and second support portions 422a and 422b may be formed of a metal material, respectively. Further, the plurality of cross bars 426 and the plurality of support pins 428 may be formed of quartz material, respectively.

한편, 복수의 크로스 바(426)의 일측은 복수의 제 1 고정핀(430a)에 의해 제 1 지지부(422a)에 각각 고정 체결된다. 이를 위해, 복수의 크로스 바(426)에는 복수의 제 1 관통홀(431a)이 형성되어 있고, 제 1 지지부(422a)에는 복수의 제 1 관통홀(431a)과 대응되는 위치에 복수의 제 2 관통홀(423a)이 형성되어 있다. 이 경우, 복수의 제 1 및 제 2 관통홀(431a,423a)은 각각 복수의 제 1 고정핀(430a)이 고정 체결될 수 있도록 정홀로 구현되는 것이 바람직하다.On the other hand, one side of the plurality of cross bars 426 is fixedly fastened to the first support portion 422a by a plurality of first fixing pins 430a. For this purpose, a plurality of first through holes 431a are formed in the plurality of cross bars 426, and a plurality of second through holes 431a are formed in the first support portions 422a at positions corresponding to the plurality of first through holes 431a. A through hole 423a is formed. In this case, it is preferable that the plurality of first and second through holes 431a and 423a are formed in a regular hole so that a plurality of first fixing pins 430a can be fixedly fastened.

반면에, 복수의 크로스 바(426)의 타측은 복수의 제 2 고정핀(430b)에 의해 제 2 지지부(422b)에 각각 이동 가능하게 체결된다. 이를 위해, 복수의 크로스 바(426)에는 복수의 제 3 관통홀(431b)이 형성되어 있고, 제 2 지지부(422b)에는 복수의 제 3 관통홀(431b)과 대응되는 위치에 복수의 제 4 관통홀(423b)이 형성되어 있다. 이 경우, 복수의 제 3 관통홀(431b)은 각각 복수의 제 2 고정핀(430b)이 복수의 크로스 바(426u,426d)의 길이방향(도 4d에서 L1 방향)을 따라 이동할 수 있는 유격을 갖도록 체결될 수 있는 장홀로 구현되고, 또한 복수의 제 4 관통홀(423b)은 각각 복수의 제 2 고정핀(430b)이 각각 제 2 지지부(422b)의 길이방향(도 4d에서 L2 방향)을 따라 이동할 수 있는 유격을 갖도록 체결될 수 있는 장홀로 구현되는 것이 바람직하다. 여기서, 복수의 제 1 및 제 2 고정핀(430a,430b)은 각각 쿼츠 재질로 구현될 수 있다.On the other hand, the other side of the plurality of cross bars 426 is movably fastened to the second supporting portion 422b by the plurality of second fixing pins 430b. To this end, a plurality of third through holes 431b are formed in the plurality of cross bars 426, and a plurality of third through holes 431b are formed in the second support portions 422b at positions corresponding to the plurality of third through holes 431b. A through hole 423b is formed. In this case, each of the plurality of third through holes 431b has a clearance that allows the plurality of second fixing pins 430b to move along the longitudinal direction of the plurality of cross bars 426u and 426d (L1 direction in FIG. 4D) And a plurality of second through holes 423b are formed in the longitudinal direction of the second support portion 422b (L2 direction in FIG. 4D) It is preferable to be embodied as a long hole which can be fastened so as to have a movable clearance. Here, the plurality of first and second fixing pins 430a and 430b may be formed of a quartz material.

상술한 바와 같이, 도 4f에 도시된 본 발명의 대안적인 실시예에 따른 보트(420)는 하나의 제 1 및 제 2 지지부(422a,422b), 복수의 크로스 바(426), 및 복수의 지지핀(428)만이 사용되어 하나의 기판(10), 또는 하나의 홀더(12) 및 하나의 기판(10)만을 지지할 수 있다는 점을 제외하고는 도 4a 내지 도 4e에 도시된 본 발명의 일 실시예에 따른 보트(420)와 실질적으로 동일하다는 점에 유의하여야 한다.As described above, the boat 420 according to the alternative embodiment of the present invention shown in Figure 4f includes one first and second support portions 422a and 422b, a plurality of crossbars 426, 4A-4E except that only pin 428 can be used to support one substrate 10, or one holder 12 and one substrate 10, Is substantially the same as the boat 420 according to the embodiment.

도 4g는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 열처리 챔버의 구성을 도시한 단면도이고, 도 4h는 도 4g에 도시된 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 열처리 챔버를 개략적으로 도시한 단면도이며, 도 4i는 도 4g에 도시된 본 발명의 일 실시예의 대안적인 실시예에 따른 보트를 구비한 본 발명의 대안적인 실시예에 따른 기판 열처리 챔버를 개략적으로 도시한 단면도이다.FIG. 4G is a cross-sectional view showing a configuration of a substrate heat treatment chamber according to an embodiment of the present invention, FIG. 4H is a cross-sectional view schematically showing a substrate heat treatment chamber according to an embodiment of the present invention shown in FIG. 4i are cross-sectional views schematically illustrating a substrate thermal processing chamber according to an alternative embodiment of the present invention with a boat according to an alternative embodiment of an embodiment of the invention shown in Fig. 4g.

도 4g 내지 도 4i를 를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 열처리 챔버(400)는 내부에 기판(10)의 열처리 공간(heat process space: 472)을 형성하도록 제공되는 상부 및 하부 하우징(470a,470b); 상기 열처리 공간(472) 내에 제공되며, 상기 기판(10)이 로딩 및 지지되는 보트(420); 상기 상부 하우징(470a)의 내측 하부면 및 상기 하부 하우징(470b)의 내측 상부면에 각각 제공되는 상부 및 하부 윈도우 플레이트(474a,474b); 및 상기 상부 및 하부 하우징(470a,470b) 및 상기 상부 및 하부 윈도우 플레이트(474a,474b) 사이에 각각 제공되는 복수의 상부 및 하부 열원(410a,410b)을 포함한다.Referring to Figures 4G-4I, a substrate thermal processing chamber 400 according to one embodiment of the present invention includes an upper and a lower housing (not shown) provided to form a heat process space 472 of a substrate 10 therein, (470a, 470b); A boat 420 provided in the heat treatment space 472 and on which the substrate 10 is loaded and supported; Upper and lower window plates 474a and 474b provided on an inner lower surface of the upper housing 470a and an inner upper surface of the lower housing 470b, respectively; And a plurality of upper and lower heat sources 410a and 410b provided between the upper and lower housings 470a and 470b and the upper and lower window plates 474a and 474b, respectively.

이하에서는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 열처리 챔버(400)의 구체적인 구성 및 동작에 대해 상세히 기술하기로 한다.Hereinafter, the detailed configuration and operation of the substrate thermal processing chamber 400 according to an embodiment of the present invention will be described in detail.

다시 도 4g 내지 도 4i를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 열처리 챔버(400)는 상부 및 하부 하우징(470a,470b)을 포함한다. 상부 및 하부 하우징(470a,470b)은 내부에 기판의 열처리 공간(472)을 형성한다. 여기서, 기판(10)은 1개의 기판(10a)(도 4i 참조)이거나, 또는 2개의 기판(10a,10b)(도 4h 참조)일 수 있다.Referring again to Figures 4g-4i, a substrate thermal processing chamber 400 according to one embodiment of the present invention includes upper and lower housings 470a, 470b. The upper and lower housings 470a and 470b form a heat treatment space 472 of the substrate therein. Here, the substrate 10 may be one substrate 10a (see FIG. 4i) or two substrates 10a and 10b (see FIG. 4h).

상기 열처리 공간(472) 내에는 기판(10)을 로딩 및 지지하는 보트(420)가 제공되어 있다. 보트(42)는 도 4a 내지 도 4e에 도시된 본 발명의 일 실시예에 따른 보트(420)(도 4h 참조) 또는 도 4f에 도시된 본 발명의 대안적인 실시예에 따른 보트(420)(도 4i 참조)로 구현될 수 있다. 이러한 본 발명의 일 실시예에 따른 보트(420) 및 대안적인 실시예에 따른 보트(420)의 구체적인 구성 및 동작은 도 4a 내지 도 4f를 참조하여 상세히 기술하였으므로 그 자세한 설명은 생략하기로 한다.In the heat treatment space 472, a boat 420 for loading and supporting the substrate 10 is provided. The boat 42 may be a boat 420 (see FIG. 4H) according to an embodiment of the invention shown in FIGS. 4A-4E or a boat 420 (see FIG. 4B) according to an alternative embodiment of the invention shown in FIG. 4F See Fig. 4i). The detailed configuration and operation of the boat 420 according to an embodiment of the present invention and the boat 420 according to an alternative embodiment have been described in detail with reference to FIGS. 4A to 4F, and a detailed description thereof will be omitted.

또한, 상부 하우징(470a)의 내측 하부면 및 상기 하부 하우징(470b)의 내측 상부면에는 각각 상부 및 하부 윈도우 플레이트(474a,474b)가 제공된다. 상부 및 하부 윈도우 플레이트(474a,474b)는 각각 쿼츠(quartz) 또는 네오 세라믹(neo ceramic) 재질로 구현될 수 있다.In addition, upper and lower window plates 474a and 474b are provided on an inner lower surface of the upper housing 470a and an inner upper surface of the lower housing 470b, respectively. The upper and lower window plates 474a and 474b may be formed of quartz or neo ceramic, respectively.

또한, 상부 및 하부 하우징(470a,470b) 및 상부 및 하부 윈도우 플레이트(474a,474b) 사이에는 각각 복수의 상부 및 하부 열원(410a,410b)이 제공되어 있다. 상부 및 하부 하우징(470a,470b)은 각각 알루미늄(Al) 재질로 구현될 수 있으며, 복수의 상부 및 하부 열원(410a,410b)은 각각 근적외선 램프 히터로 구현될 수 있다. 이 경우, 근적외선 램프 히터는 SiO2 재질의 기판(10) 및 기판(10) 상에 도포된 필름(14)(예를 들어, 폴리이미드(PI))(도 4e 참조)을 가열하여 건조 및 소성하기에 적합한 대략 1 내지 5㎛ 범위의 파장 대역의 근적외선을 방출하는 것이 바람직하다. 또한, 각각 근적외선 램프 히터로 구현될 수 있는 복수의 상부 및 하부 열원(410a,410b)의 출력 파워(output power)는 개별적으로 제어되거나 그룹 방식으로 제어될 수 있다. 여기서 그룹 방식이란 예를 들어 복수의 상부 열원(410a)을 제 1 열원 그룹으로 하여 동시에 제어하고, 복수의 하부 열원(410b)을 제 2 열원 그룹으로 하여 동시에 제어하는 방식일 수 있다. 이러한 복수의 상부 및 하부 열원(410a,410b)의 출력 파워의 개별 제어 또는 그룹 방식 제어에 의해 기판(10)의 온도를 균일하게 제어하는 것이 가능하다. 따라서, 기판(10)의 온도 균일도가 향상되므로 궁극적으로 기판(10)의 불량 발생 가능성이 크게 감소된다.A plurality of upper and lower heat sources 410a and 410b are provided between the upper and lower housings 470a and 470b and the upper and lower window plates 474a and 474b, respectively. The upper and lower housings 470a and 470b may be formed of aluminum (Al), and the plurality of upper and lower heat sources 410a and 410b may be formed of a near infrared lamp heater. In this case, the near-infrared lamp heater is formed by heating a substrate 10 made of SiO 2 and a film 14 (for example, polyimide (PI)) (see FIG. 4 e) It is preferable to emit near infrared rays in a wavelength band in the range of about 1 to 5 mu m suitable for the following. In addition, the output power of the plurality of upper and lower heat sources 410a and 410b, which may be implemented by a near-infrared lamp heater, may be individually controlled or controlled in a group manner. For example, the group method may be a method of simultaneously controlling a plurality of upper heat sources 410a as a first heat source group and controlling a plurality of lower heat sources 410b as a second heat source group. It is possible to uniformly control the temperature of the substrate 10 by individual control or group type control of the output power of the plurality of upper and lower heat sources 410a and 410b. Accordingly, since the temperature uniformity of the substrate 10 is improved, the possibility of occurrence of defects of the substrate 10 is greatly reduced.

상술한 본 발명의 상부 및 하부 윈도우 플레이트(474a,474b)는 예를 들어 근적외선 램프 히터로 구현되는 복수의 상부 및 하부 열원(410a,410b)에서 방출되는 대략 1 내지 5㎛ 범위의 파장 대역의 근적외선은 통과시키는 반면에 상기 파장 대역 이외의 대역은 컷오프(cut-off)시킨다. 그에 따라, 복수의 상부 및 하부 열원(410a,410b)은 각각 상부 및 하부 윈도우 플레이트(474a,474b)를 통해 기판(10) 상으로 열 에너지를 복사 방식으로 직접 전달하여 기판(10) 및 기판(10) 상부에 도포된 필름(14)(도 4e 참조)을 열처리한다.The above-described upper and lower window plates 474a and 474b of the present invention can be used as a near infrared ray lamp in a wavelength band ranging from approximately 1 to 5 占 퐉 emitted from a plurality of upper and lower heat sources 410a and 410b, While the band other than the above-mentioned wavelength band is cut off. The plurality of upper and lower heat sources 410a and 410b direct thermal energy radially onto the substrate 10 through the upper and lower window plates 474a and 474b, respectively, 10) is heat-treated.

또한, 상기 상부 및 하부 하우징(470a,470b)은 각각 복수의 상부 및 하부 열원(410a,410b)의 배면에 제공되는 상부 및 하부 반사부(412a,412b)를 구비한다. 상부 및 하부 반사부(412a,412b)는 복수의 상부 및 하부 열원(410a,410b)으로부터 방출되는 열 에너지를 반사하여 상부 및 하부 윈도우 플레이트(474a,474b)를 통해 상기 기판(10)으로 상기 열 에너지를 복사 방식으로 전달한다. 즉, 복수의 상부 및 하부 열원(410a,410b)은 상부 및 하부 반사부(412a,412b)를 이용하여 복사 방식으로 기판(10)을 직접 가열하여 열처리한다. 따라서, 종래 기술의 전도 또는 대류 방식에 비해 기판(10)의 열처리 전달 효율이 우수할 뿐만 아니라, 기판(10)에 균일한 열전달이 상대적으로 용이하다.The upper and lower housings 470a and 470b include upper and lower reflectors 412a and 412b provided on the rear surfaces of a plurality of upper and lower heat sources 410a and 410b, respectively. The upper and lower reflectors 412a and 412b reflect the thermal energy emitted from the plurality of upper and lower heat sources 410a and 410b and transmit heat to the substrate 10 through the upper and lower window plates 474a and 474b, Energy is transferred by a radiation method. That is, the plurality of upper and lower heat sources 410a and 410b directly heat the substrate 10 by a radiation method using the upper and lower reflectors 412a and 412b, and heat-treat the substrate. Therefore, the heat transfer efficiency of the substrate 10 is superior to that of the conventional conduction or convection method, and uniform heat transfer to the substrate 10 is relatively easy.

상술한 바와 같이, 본 발명에서는 복수의 상부 및 하부 열원(410a,410b)이 상부 및 하부 반사부(412a,412b)를 사용하여 기판(10) 및 기판(10) 상부에 도포된 필름(14)(도 4e 참조)의 열처리에 적합한 열 에너지를 균일하게 전달할 수 있다.As described above, in the present invention, a plurality of upper and lower heat sources 410a and 410b are formed on the substrate 10 and the film 14 coated on the substrate 10 using the upper and lower reflectors 412a and 412b, (See FIG. 4E) can be uniformly transmitted.

또한, 상술한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 열처리 챔버(400)에서는, 복수의 상부 및 하부 열원(410a,410b)이 처리 공간(472)의 외부에 제공된다. 따라서, 기판(10) 및 기판(10) 상의 필름(미도시)의 열처리에 의해 발생하는 흄(fume)이 복수의 상부 및 하부 열원(410a,410b) 상에 증착되지 않으므로 복수의 상부 및 하부 열원(410a,410b)의 열효율을 유지할 수 있다. 또한, 흄 세정이 불필요하므로 전체 공정 시간 및 비용이 크게 감소된다.In addition, as described above, in the substrate thermal processing chamber 400 according to the embodiment of the present invention, a plurality of upper and lower heat sources 410a and 410b are provided outside the process space 472. [ Therefore, since fumes generated by the heat treatment of the substrate 10 and the film (not shown) on the substrate 10 are not deposited on the plurality of upper and lower heat sources 410a and 410b, It is possible to maintain the thermal efficiency of the heaters 410a and 410b. In addition, since no fume washing is required, the overall process time and cost are greatly reduced.

도 4j는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 열처리 장치를 도시한 사시도이다.4J is a perspective view illustrating a substrate thermal processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 4f를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 열처리 장치(1)는 복수의 챔버(400a,400b,400c400d,400e)를 포함한다. 복수의 챔버(400a,400b,400c400d,400e)는 각각 기판(10)의 열처리 공간(472)을 제공한다.Referring to FIG. 4F, the substrate thermal processing apparatus 1 according to an embodiment of the present invention includes a plurality of chambers 400a, 400b, 400c400d, and 400e. The plurality of chambers 400a, 400b, 400c400d, and 400e provide a heat treatment space 472 of the substrate 10, respectively.

복수의 챔버(400a,400b,400c,400d,400e)는 각각 프레임(410) 상에서 착탈 가능하게 지지된다. 복수의 챔버(400a,400b,400c,400d,400e) 각각의 전면에는 복수의 도어(미도시)가 제공되어 있다. 복수의 도어(미도시)는 복수의 챔버(400a,400b,400c,400d,400e) 각각에 제공되는 열처리 공간(472)으로 기판(10)을 로딩하기 위한 트랜스퍼 암과 같은 기판 로딩 장치(미도시)를 이용하여 기판(10)을 로딩하거나 열처리가 종료된 기판(10)을 언로딩하기 위해 개방 또는 폐쇄될 수 있다.The plurality of chambers 400a, 400b, 400c, 400d, and 400e are detachably supported on the frame 410, respectively. A plurality of doors (not shown) are provided on the front surface of each of the plurality of chambers 400a, 400b, 400c, 400d, and 400e. A plurality of doors (not shown) are mounted on a substrate loading device (not shown) such as a transfer arm for loading the substrate 10 into a heat treatment space 472 provided in each of the plurality of chambers 400a, 400b, 400c, 400d, May be used to open or close the substrate 10 to load or unload the substrate 10 after the heat treatment has been completed.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 열처리 장치(1)에 사용되는 복수의 챔버(400a,400b,400c400d,400e)는 각각 도 4g에 도시된 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 열처리 챔버(400)와 동일한 구성을 갖는다는 점에 유의하여야 한다. 이러한 도 4g에 도시된 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 열처리 챔버(400)의 구체적인 구성 및 동작은 이미 상세히 설명하였으므로 그 자세한 설명은 생략하기로 한다.The plurality of chambers 400a, 400b, 400c400d, and 400e used in the substrate thermal processing apparatus 1 according to an embodiment of the present invention may include a substrate heating chamber 400). ≪ / RTI > The detailed configuration and operation of the substrate heat treatment chamber 400 according to the embodiment of the present invention shown in FIG. 4G have already been described in detail, and a detailed description thereof will be omitted.

상술한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 열처리용 챔버(400) 및 기판 열처리 장치(1)의 복수의 챔버(400a,400b,400c400d,400e) 각각에서는, 복수의 상부 및 하부 열원(410a,410b)이 각각의 처리 공간(472)의 외부에 제공된다. 따라서, 기판(10) 및 기판(10) 상의 필름(14)(도 4e 참조)의 열처리에 의해 발생하는 흄(fume)이 복수의 상부 및 하부 열원(410a,410b) 상에 증착되지 않으므로 복수의 상부 및 하부 열원(410a,410b)의 열효율을 유지할 수 있다. 또한, 흄 세정이 불필요하므로 전체 공정 시간 및 비용이 크게 감소된다.As described above, in each of the plurality of chambers 400a, 400b, 400c400d, 400e of the substrate heat treatment chamber 400 and the substrate heat treatment apparatus 1 according to the embodiment of the present invention, a plurality of upper and lower heat sources 410a, and 410b are provided outside the processing space 472, respectively. Therefore, since fumes generated by the heat treatment of the substrate 10 and the film 14 (see FIG. 4E) on the substrate 10 are not deposited on the plurality of upper and lower heat sources 410a and 410b, The thermal efficiency of the upper and lower heat sources 410a and 410b can be maintained. In addition, since no fume washing is required, the overall process time and cost are greatly reduced.

한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 열처리 장치(1)에서는, 복수의 챔버(400a,400b,400c,400d,400e)에 각각 제공되는 복수의 상부 및 하부 열원(410a,410b) 중 일부에 고장 등이 발생할 수 있다. 예를 들어, 도 4j의 실시예에서, 복수의 챔버(400a,400b,400c,400d,400e) 중 챔버(400a) 내의 복수의 상부 및 하부 열원(410a,410b) 중 일부에 고장 등이 발생하더라도, 나머지 챔버(400a,400b,400c,400d,400e) 내의 각각의 기판(10)은 정상적인 열처리가 가능하다. 따라서, 본 발명에서는 복수의 챔버(400a,400b,400c,400d,400e)의 개별 프로세싱이 가능하고, 그에 따라 복수의 챔버(400a,400b,400c,400d,400e) 내의 복수의 기판(10) 전체에 불량이 발생할 가능성이 실질적으로 제거된다.In the substrate heating apparatus 1 according to an embodiment of the present invention, a plurality of upper and lower heat sources 410a and 410b provided in the plurality of chambers 400a, 400b, 400c, 400d, Failure or the like may occur. For example, in the embodiment of FIG. 4J, even if some of the plurality of upper and lower heat sources 410a and 410b in the chamber 400a among the plurality of chambers 400a, 400b, 400c, 400d, And each of the substrates 10 in the remaining chambers 400a, 400b, 400c, 400d, and 400e can be subjected to normal heat treatment. Therefore, in the present invention, the individual processing of the plurality of chambers 400a, 400b, 400c, 400d, and 400e is possible, and thus the entire plurality of the substrates 10 in the plurality of chambers 400a, 400b, 400c, 400d, The possibility of occurrence of defects is substantially eliminated.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 열처리 장치(1)에서는, 복수의 챔버(400a,400b,400c,400d,400e)에 각각 제공되는 복수의 상부 및 하부 열원(410a,410b) 중 일부에 고장 등이 발생하는 경우, 위의 예시에서 고장이 발생한 챔버(400a)만을 수리 또는 교체하면 되고, 나머지 챔버(400a,400b,400c,400d,400e)는 정상적으로 동작이 가능하다. 즉, 본 발명의 실시예에서는 복수의 챔버(400a,400b,400c,400d,400e)의 개별적인 유지 보수가 가능하다. 따라서, 기판 열처리 장치(1)의 나머지 챔버(400a,400b,400c,400d,400e) 내의 열처리 동작이 중단될 필요가 없으므로 전체 열처리 공정 시간(tact time)이 크게 감소된다.In the substrate heating apparatus 1 according to an embodiment of the present invention, a plurality of upper and lower heat sources 410a and 410b provided in the plurality of chambers 400a, 400b, 400c, 400d, In the above example, only the chamber 400a in which the failure occurs can be repaired or replaced, and the remaining chambers 400a, 400b, 400c, 400d, and 400e can be normally operated. That is, in the embodiment of the present invention, individual maintenance of the plurality of chambers 400a, 400b, 400c, 400d, and 400e is possible. Therefore, since the heat treatment operation in the remaining chambers 400a, 400b, 400c, 400d, and 400e of the substrate heat treatment apparatus 1 need not be interrupted, the total heat treatment process time tact time is greatly reduced.

다양한 변형예가 본 발명의 범위를 벗어남이 없이 본 명세서에 기술되고 예시된 구성 및 방법으로 만들어질 수 있으므로, 상기 상세한 설명에 포함되거나 첨부 도면에 도시된 모든 사항은 예시적인 것으로 본 발명을 제한하기 위한 것이 아니다. 따라서, 본 발명의 범위는 상술한 예시적인 실시예에 의해 제한되지 않으며, 이하의 청구범위 및 그 균등물에 따라서만 정해져야 한다.Various modifications may be made by those skilled in the art without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the following claims. It is not. Accordingly, the scope of the present invention should not be limited by the above-described exemplary embodiments, but should be determined only in accordance with the following claims and their equivalents.

1: 배치식/기판 열처리 장치 10,10a,10b: 기판
1212a,12b: 홀더 100,400,400a,400b,400c,400d,400e: 챔버
120,420: 보트 110,410: 프레임 122: 지지 부재
140: 도어 160: 커버 200: 메인 히터 유닛
210: 단위 메인 히터 220,220a,220b: 보조 히터 유닛
230a: 제1 단위 보조 히터 250: 냉각관 410a,410b: 열원
412a,412b: 반사부 421a,421b: 보트 프레임 422a,422b: 지지부
423a,423b,431a,431b: 관통홀 424a,424b: 수직 지지부
426,426u,426d: 크로스 바 428,428u,428d:지지핀
430a,430b: 고정핀 470a,470b: 하우징
472: 열처리 공간 474a,474b: 윈도우 플레이트1: batch type / substrate heat treatment apparatus 10, 10a, 10b: substrate
1212a, 12b: holder 100, 400, 400a, 400b, 400c, 400d, 400e:
120, 420: boat 110, 410: frame 122: support member
140: Door 160: Cover 200: Main heater unit
210: unit main heater 220, 220a, 220b: auxiliary heater unit
230a: first unit auxiliary heater 250: cooling tube 410a, 410b: heat source
412a, 412b: reflection part 421a, 421b: boat frame 422a, 422b:
423a, 423b, 431a, 431b: Through holes 424a, 424b:
426, 426u, 426d: crossbar 428, 428u, 428d:
430a, 430b: fixing pins 470a, 470b: housing
472: heat treatment space 474a, 474b: window plate

Claims (18)

기판 열처리용 챔버에 사용되는 보트에 있어서,
제 1 지지부;
상기 제 1 지지부와 이격되어 제공되는 제 2 지지부;
일측이 상기 제 1 지지부에 고정 체결되며, 타측이 상기 제 2 지지부에 유격(gap)을 갖도록 체결되는 복수의 크로스 바; 및
상기 복수의 크로스 바 상에 각각 제공되며, 기판 또는 상기 기판이 장착되는 홀더를 지지하기 위한 복수의 지지핀
을 포함하는 보트. In a boat used in a substrate heat treatment chamber,
A first support portion;
A second support portion provided apart from the first support portion;
A plurality of cross bars fixed on one side of the first support portion and on the other side of the cross bar so as to have a gap therebetween; And
A plurality of support pins provided on the plurality of crossbars, respectively, for supporting a substrate or a holder on which the substrate is mounted,
A boat containing. 제 1항에 있어서,
상기 복수의 크로스 바의 일측에는 복수의 제 1 관통홀이 형성되고 타측에는 복수의 제 3 관통홀이 형성되어 있고, 상기 복수의 제 1 및 제 3 관통홀은 각각 복수의 제 1 고정핀이 고정 체결될 수 있도록 정홀로 구현되며,
상기 제 1 지지부의 타측에는 상기 복수의 제 1 관통홀 및 상기 복수의 제 3 관통홀과 각각 대응되는 위치에 복수의 제 2 관통홀 및 복수의 제 4 관통홀이 각각 형성되어 있고, 상기 복수의 제 3 관통홀 및 상기 복수의 제 4 관통홀은 각각 복수의 제 2 고정핀이 상기 복수의 크로스 바의 길이방향 및 상기 제 2 지지부의 길이방향을 따라 각각 이동할 수 있는 유격을 갖도록 체결될 수 있는 장홀로 구현되는
보트. The method according to claim 1,
Wherein a plurality of first through-holes are formed on one side of the plurality of crossbars, and a plurality of third through-holes are formed on the other side, and the plurality of first through- And is implemented as a positive hole,
A plurality of second through holes and a plurality of fourth through holes are formed at positions respectively corresponding to the plurality of first through holes and the plurality of third through holes on the other side of the first support portion, The third through holes and the plurality of fourth through holes may be fastened so that each of the plurality of second fixing pins has a clearance capable of moving along the longitudinal direction of the plurality of cross bars and the longitudinal direction of the second support, Embodied in a long hall
boat. 제 2항에 있어서,
상기 제 1 및 제 2 지지부는 각각 금속 재질로 구현되고,
상기 복수의 크로스 바, 상기 복수의 지지핀, 및 상기 복수의 제 1 및 제 2 고정핀은 각각 쿼츠 재질로 구현되는
보트.3. The method of claim 2,
Wherein the first and second support portions are each formed of a metal material,
The plurality of crossbars, the plurality of support pins, and the plurality of first and second fixing pins are each formed of a quartz material
boat. 기판 열처리용 챔버에 사용되는 보트에 있어서,
제 1 상하 지지부 및 상기 제 1 상하 지지부 사이에 제공되는 복수의 제 1 수직 지지부로 구성되는 제 1 보트 프레임;
상기 제 1 보트 프레임과 이격되어 제공되며, 제 2 상하 지지부 및 상기 제 1 상하 지지부 사이에 제공되는 복수의 제 2 수직 지지부로 구성되는 제 2 보트 프레임;
일측이 상기 제 1 상하 지지부에 각각 고정 체결되며, 타측이 상기 제 2 상하 지지부에 각각 유격(gap)을 갖도록 체결되는 복수의 상부 및 하부 크로스 바; 및
상기 복수의 상부 및 하부 크로스 바 상에 각각 제공되며, 상부 및 하부 기판 또는 상기 상부 및 하부 기판이 장착되는 상부 및 하부 홀더를 지지하기 위한 복수의 상부 및 하부 지지핀
을 포함하는 보트.In a boat used in a substrate heat treatment chamber,
A first boat frame including a first vertical support portion and a plurality of first vertical support portions provided between the first vertical support portion and the first vertical support portion;
A second boat frame provided at a distance from the first boat frame and composed of a second vertical support portion and a plurality of second vertical support portions provided between the first upper and lower support portions;
A plurality of upper and lower cross bars fastened at one side to the first upper support portion and fastened at the other side to the second upper support portion so as to have a gap therebetween; And
A plurality of upper and lower support pins provided on the plurality of upper and lower crossbars, respectively, for supporting upper and lower substrates or upper and lower holders on which the upper and lower substrates are mounted,
A boat containing. 제 4항에 있어서,
상기 복수의 상하 크로스 바의 일측에는 각각 복수의 제 1 관통홀이 형성되고 타측에는 복수의 제 3 관통홀이 형성되어 있고, 상기 복수의 제 1 및 제 3 관통홀은 각각 복수의 제 1 상부 및 하부 고정핀이 고정 체결될 수 있도록 정홀로 구현되며,
상기 제 1 상하 지지부의 타측에는 상기 복수의 제 1 관통홀 및 상기 복수의 제 3 관통홀과 각각 대응되는 위치에 복수의 제 2 관통홀 및 복수의 제 4 관통홀이 각각 형성되어 있고, 상기 복수의 제 3 관통홀 및 상기 복수의 제 4 관통홀은 각각 복수의 제 2 상부 및 하부 고정핀이 상기 복수의 상부 및 하부 크로스 바의 길이방향 및 상기 제 2 상하 지지부의 길이방향을 따라 각각 이동할 수 있는 유격을 갖도록 체결될 수 있는 장홀로 구현되는
보트. 5. The method of claim 4,
Wherein a plurality of first through holes are formed on one side of the plurality of upper and lower cross bars and a plurality of third through holes are formed on the other side of the plurality of upper and lower cross bars, The lower fixing pin is fixedly mounted so that it can be fixedly fastened,
And a plurality of second through holes and a plurality of fourth through holes are formed at positions respectively corresponding to the plurality of first through holes and the plurality of third through holes on the other side of the first up and down support portion, The third through holes and the plurality of fourth through holes can respectively move a plurality of second upper and lower fixing pins along the longitudinal direction of the plurality of upper and lower cross bars and the longitudinal direction of the second upper and lower supports Which is embodied as a slotted hole that can be fastened with a clearance
boat. 제 5항에 있어서,
상기 제 1 및 제 2 상하 지지부와 상기 복수의 제 1 및 제 2 수직 지지부는 각각 금속 재질로 구현되고,
상기 복수의 상부 및 하부 크로스 바, 상기 복수의 상부 및 하부 지지핀, 및 상기 복수의 제 1 및 제 2 상부 및 하부 고정핀은 각각 쿼츠 재질로 구현되는
보트. 6. The method of claim 5,
Wherein the first and second upper and lower support portions and the plurality of first and second vertical support portions are each made of a metal material,
The plurality of upper and lower crossbars, the plurality of upper and lower support pins, and the plurality of first and second upper and lower fixing pins are each formed of a quartz material
boat. 기판 열처리 챔버에 있어서,
내부에 기판의 열처리 공간을 형성하도록 제공되는 상부 및 하부 하우징;
상기 열처리 공간 내에 제공되며, 상기 기판이 로딩 및 지지되는 보트;
상기 상부 하우징의 내측 하부면 및 상기 하부 하우징의 내측 상부면에 각각 제공되는 상부 및 하부 윈도우 플레이트; 및
상기 상부 및 하부 하우징 및 상기 상부 및 하부 윈도우 플레이트 사이에 각각 제공되는 복수의 상부 및 하부 열원
을 포함하고,
상기 보트는
제 1 지지부;
상기 제 1 지지부와 이격되어 제공되는 제 2 지지부;
일측이 상기 제 1 지지부에 고정 체결되며, 타측이 상기 제 2 지지부에 유격(gap)을 갖도록 체결되는 복수의 크로스 바; 및
상기 복수의 크로스 바 상에 각각 제공되며, 기판 또는 상기 기판이 장착되는 홀더를 지지하기 위한 복수의 지지핀
을 포함하는 기판 열처리 챔버. In the substrate heat treatment chamber,
An upper and a lower housing provided to form a heat treatment space of a substrate therein;
A boat provided in the heat treatment space, the boat being loaded and supported;
Upper and lower window plates provided on an inner lower surface of the upper housing and an inner upper surface of the lower housing, respectively; And
A plurality of upper and lower heat sources provided between the upper and lower housings and the upper and lower window plates, respectively,
/ RTI >
The boat
A first support portion;
A second support portion provided apart from the first support portion;
A plurality of cross bars fixed on one side of the first support portion and on the other side of the cross bar so as to have a gap therebetween; And
A plurality of support pins provided on the plurality of crossbars, respectively, for supporting a substrate or a holder on which the substrate is mounted,
And a heat treatment chamber. 제 7항에 있어서,
상기 복수의 크로스 바의 일측에는 복수의 제 1 관통홀이 형성되고 타측에는 복수의 제 3 관통홀이 형성되어 있고, 상기 복수의 제 1 및 제 3 관통홀은 각각 복수의 제 1 고정핀이 고정 체결될 수 있도록 정홀로 구현되며,
상기 제 1 지지부의 타측에는 상기 복수의 제 1 관통홀 및 상기 복수의 제 3 관통홀과 각각 대응되는 위치에 복수의 제 2 관통홀 및 복수의 제 4 관통홀이 각각 형성되어 있고, 상기 복수의 제 3 관통홀 및 상기 복수의 제 4 관통홀은 각각 복수의 제 2 고정핀이 상기 복수의 크로스 바의 길이방향 및 상기 제 2 지지부의 길이방향을 따라 각각 이동할 수 있는 유격을 갖도록 체결될 수 있는 장홀로 구현되는
기판 열처리 챔버. 8. The method of claim 7,
Wherein a plurality of first through-holes are formed on one side of the plurality of crossbars, and a plurality of third through-holes are formed on the other side, and the plurality of first through- And is implemented as a positive hole,
A plurality of second through holes and a plurality of fourth through holes are formed at positions respectively corresponding to the plurality of first through holes and the plurality of third through holes on the other side of the first support portion, The third through holes and the plurality of fourth through holes may be fastened so that each of the plurality of second fixing pins has a clearance capable of moving along the longitudinal direction of the plurality of cross bars and the longitudinal direction of the second support, Embodied in a long hall
Substrate heat treatment chamber. 제 8항에 있어서,
상기 제 1 및 제 2 지지부는 각각 금속 재질로 구현되고,
상기 복수의 크로스 바, 상기 복수의 지지핀, 및 상기 복수의 제 1 및 제 2 고정핀은 각각 쿼츠 재질로 구현되는
기판 열처리 챔버.9. The method of claim 8,
Wherein the first and second support portions are each formed of a metal material,
The plurality of crossbars, the plurality of support pins, and the plurality of first and second fixing pins are each formed of a quartz material
Substrate heat treatment chamber. 제 7항에 있어서,
상기 보트는
제 1 상하 지지부 및 상기 제 1 상하 지지부 사이에 제공되는 복수의 제 1 수직 지지부로 구성되는 제 1 보트 프레임;
상기 제 1 보트 프레임과 이격되어 제공되며, 제 2 상하 지지부 및 상기 제 1 상하 지지부 사이에 제공되는 복수의 제 2 수직 지지부로 구성되는 제 2 보트 프레임;
일측이 상기 제 1 상하 지지부에 각각 고정 체결되며, 타측이 상기 제 2 상하 지지부에 각각 유격(gap)을 갖도록 체결되는 복수의 상부 및 하부 크로스 바; 및
상기 복수의 상부 및 하부 크로스 바 상에 각각 제공되며, 상부 및 하부 기판 또는 상기 상부 및 하부 기판이 장착되는 상부 및 하부 홀더를 지지하기 위한 복수의 상부 및 하부 지지핀
을 포함하는 기판 열처리 챔버.8. The method of claim 7,
The boat
A first boat frame including a first vertical support portion and a plurality of first vertical support portions provided between the first vertical support portion and the first vertical support portion;
A second boat frame provided at a distance from the first boat frame and composed of a second vertical support portion and a plurality of second vertical support portions provided between the first upper and lower support portions;
A plurality of upper and lower cross bars fastened at one side to the first upper support portion and fastened at the other side to the second upper support portion so as to have a gap therebetween; And
A plurality of upper and lower support pins provided on the plurality of upper and lower crossbars, respectively, for supporting upper and lower substrates or upper and lower holders on which the upper and lower substrates are mounted,
And a heat treatment chamber. 제 10항에 있어서,
상기 복수의 상하 크로스 바의 일측에는 각각 복수의 제 1 관통홀이 형성되고 타측에는 복수의 제 3 관통홀이 형성되어 있고, 상기 복수의 제 1 및 제 3 관통홀은 각각 복수의 제 1 상부 및 하부 고정핀이 고정 체결될 수 있도록 정홀로 구현되며,
상기 제 1 상하 지지부의 타측에는 상기 복수의 제 1 관통홀 및 상기 복수의 제 3 관통홀과 각각 대응되는 위치에 복수의 제 2 관통홀 및 복수의 제 4 관통홀이 각각 형성되어 있고, 상기 복수의 제 3 관통홀 및 상기 복수의 제 4 관통홀은 각각 복수의 제 2 상부 및 하부 고정핀이 상기 복수의 상부 및 하부 크로스 바의 길이방향 및 상기 제 2 상하 지지부의 길이방향을 따라 각각 이동할 수 있는 유격을 갖도록 체결될 수 있는 장홀로 구현되는
기판 열처리 챔버. 11. The method of claim 10,
Wherein a plurality of first through holes are formed on one side of the plurality of upper and lower cross bars and a plurality of third through holes are formed on the other side of the plurality of upper and lower cross bars, The lower fixing pin is fixedly mounted so that it can be fixedly fastened,
And a plurality of second through holes and a plurality of fourth through holes are formed at positions respectively corresponding to the plurality of first through holes and the plurality of third through holes on the other side of the first up and down support portion, The third through holes and the plurality of fourth through holes can respectively move a plurality of second upper and lower fixing pins along the longitudinal direction of the plurality of upper and lower cross bars and the longitudinal direction of the second upper and lower supports Which is embodied as a slotted hole that can be fastened with a clearance
Substrate heat treatment chamber. 제 11항에 있어서,
상기 제 1 및 제 2 상하 지지부와 상기 복수의 제 1 및 제 2 수직 지지부는 각각 금속 재질로 구현되고,
상기 복수의 상부 및 하부 크로스 바, 상기 복수의 상부 및 하부 지지핀, 및 상기 복수의 제 1 및 제 2 상부 및 하부 고정핀은 각각 쿼츠 재질로 구현되는
기판 열처리 챔버.12. The method of claim 11,
Wherein the first and second upper and lower support portions and the plurality of first and second vertical support portions are each made of a metal material,
The plurality of upper and lower crossbars, the plurality of upper and lower support pins, and the plurality of first and second upper and lower fixing pins are each formed of a quartz material
Substrate heat treatment chamber. 기판 열처리 장치에 있어서,
각각이 기판의 열처리 공간을 제공하는 복수의 챔버;
상기 복수의 챔버가 각각 착탈 가능하게 지지되는 프레임; 및
상기 복수의 챔버 각각의 전면에 제공되는 복수의 도어
를 포함하고,
상기 복수의 챔버는 각각
내부에 기판의 열처리 공간을 형성하도록 제공되는 상부 및 하부 하우징;
상기 열처리 공간 내에 제공되며, 상기 기판이 로딩 및 지지되는 보트;
상기 상부 하우징의 내측 하부면 및 상기 하부 하우징의 내측 상부면에 각각 제공되는 상부 및 하부 윈도우 플레이트; 및
상기 상부 및 하부 하우징 및 상기 상부 및 하부 윈도우 플레이트 사이에 각각 제공되는 복수의 상부 및 하부 열원
을 포함하며,
상기 보트는
제 1 지지부;
상기 제 1 지지부와 이격되어 제공되는 제 2 지지부;
일측이 상기 제 1 지지부에 고정 체결되며, 타측이 상기 제 2 지지부에 유격(gap)을 갖도록 체결되는 복수의 크로스 바; 및
상기 복수의 크로스 바 상에 각각 제공되며, 기판 또는 상기 기판이 장착되는 홀더를 지지하기 위한 복수의 지지핀
을 포함하는 기판 열처리 장치. In the substrate heat treatment apparatus,
A plurality of chambers each providing a heat treatment space of the substrate;
A frame in which the plurality of chambers are detachably supported; And
A plurality of doors provided on a front surface of each of the plurality of chambers
Lt; / RTI >
The plurality of chambers
An upper and a lower housing provided to form a heat treatment space of a substrate therein;
A boat provided in the heat treatment space, the boat being loaded and supported;
Upper and lower window plates provided on an inner lower surface of the upper housing and an inner upper surface of the lower housing, respectively; And
A plurality of upper and lower heat sources provided between the upper and lower housings and the upper and lower window plates, respectively,
/ RTI >
The boat
A first support portion;
A second support portion provided apart from the first support portion;
A plurality of cross bars fixed on one side of the first support portion and on the other side of the cross bar so as to have a gap therebetween; And
A plurality of support pins provided on the plurality of crossbars, respectively, for supporting a substrate or a holder on which the substrate is mounted,
And a substrate heating device for heating the substrate. 제 13항에 있어서,
상기 복수의 크로스 바의 일측에는 복수의 제 1 관통홀이 형성되고 타측에는 복수의 제 3 관통홀이 형성되어 있고, 상기 복수의 제 1 및 제 3 관통홀은 각각 복수의 제 1 고정핀이 고정 체결될 수 있도록 정홀로 구현되며,
상기 제 1 지지부의 타측에는 상기 복수의 제 1 관통홀 및 상기 복수의 제 3 관통홀과 각각 대응되는 위치에 복수의 제 2 관통홀 및 복수의 제 4 관통홀이 각각 형성되어 있고, 상기 복수의 제 3 관통홀 및 상기 복수의 제 4 관통홀은 각각 복수의 제 2 고정핀이 상기 복수의 크로스 바의 길이방향 및 상기 제 2 지지부의 길이방향을 따라 각각 이동할 수 있는 유격을 갖도록 체결될 수 있는 장홀로 구현되는
기판 열처리 장치. 14. The method of claim 13,
Wherein a plurality of first through-holes are formed on one side of the plurality of crossbars, and a plurality of third through-holes are formed on the other side, and the plurality of first through- And is implemented as a positive hole,
A plurality of second through holes and a plurality of fourth through holes are formed at positions respectively corresponding to the plurality of first through holes and the plurality of third through holes on the other side of the first support portion, The third through holes and the plurality of fourth through holes may be fastened so that each of the plurality of second fixing pins has a clearance capable of moving along the longitudinal direction of the plurality of cross bars and the longitudinal direction of the second support, Embodied in a long hall
Substrate heat treatment apparatus. 제 14항에 있어서,
상기 제 1 및 제 2 지지부는 각각 금속 재질로 구현되고,
상기 복수의 크로스 바, 상기 복수의 지지핀, 및 상기 복수의 제 1 및 제 2 고정핀은 각각 쿼츠 재질로 구현되는
기판 열처리 장치.15. The method of claim 14,
Wherein the first and second support portions are each formed of a metal material,
The plurality of crossbars, the plurality of support pins, and the plurality of first and second fixing pins are each formed of a quartz material
Substrate heat treatment apparatus. 제 13항에 있어서,
상기 보트는
제 1 상하 지지부 및 상기 제 1 상하 지지부 사이에 제공되는 복수의 제 1 수직 지지부로 구성되는 제 1 보트 프레임;
상기 제 1 보트 프레임과 이격되어 제공되며, 제 2 상하 지지부 및 상기 제 1 상하 지지부 사이에 제공되는 복수의 제 2 수직 지지부로 구성되는 제 2 보트 프레임;
일측이 상기 제 1 상하 지지부에 각각 고정 체결되며, 타측이 상기 제 2 상하 지지부에 각각 유격(gap)을 갖도록 체결되는 복수의 상부 및 하부 크로스 바; 및
상기 복수의 상부 및 하부 크로스 바 상에 각각 제공되며, 상부 및 하부 기판 또는 상기 상부 및 하부 기판이 장착되는 상부 및 하부 홀더를 지지하기 위한 복수의 상부 및 하부 지지핀
을 포함하는 기판 열처리 장치.14. The method of claim 13,
The boat
A first boat frame including a first vertical support portion and a plurality of first vertical support portions provided between the first vertical support portion and the first vertical support portion;
A second boat frame provided at a distance from the first boat frame and composed of a second vertical support portion and a plurality of second vertical support portions provided between the first upper and lower support portions;
A plurality of upper and lower cross bars fastened at one side to the first upper support portion and fastened at the other side to the second upper support portion so as to have a gap therebetween; And
A plurality of upper and lower support pins provided on the plurality of upper and lower crossbars, respectively, for supporting upper and lower substrates or upper and lower holders on which the upper and lower substrates are mounted,
And a substrate heating device for heating the substrate. 제 16항에 있어서,
상기 복수의 상하 크로스 바의 일측에는 각각 복수의 제 1 관통홀이 형성되고 타측에는 복수의 제 3 관통홀이 형성되어 있고, 상기 복수의 제 1 및 제 3 관통홀은 각각 복수의 제 1 상부 및 하부 고정핀이 고정 체결될 수 있도록 정홀로 구현되며,
상기 제 1 상하 지지부의 타측에는 상기 복수의 제 1 관통홀 및 상기 복수의 제 3 관통홀과 각각 대응되는 위치에 복수의 제 2 관통홀 및 복수의 제 4 관통홀이 각각 형성되어 있고, 상기 복수의 제 3 관통홀 및 상기 복수의 제 4 관통홀은 각각 복수의 제 2 상부 및 하부 고정핀이 상기 복수의 상부 및 하부 크로스 바의 길이방향 및 상기 제 2 상하 지지부의 길이방향을 따라 각각 이동할 수 있는 유격을 갖도록 체결될 수 있는 장홀로 구현되는
기판 열처리 장치. 17. The method of claim 16,
Wherein a plurality of first through holes are formed on one side of the plurality of upper and lower cross bars and a plurality of third through holes are formed on the other side of the plurality of upper and lower cross bars, The lower fixing pin is fixedly mounted so that it can be fixedly fastened,
And a plurality of second through holes and a plurality of fourth through holes are formed at positions respectively corresponding to the plurality of first through holes and the plurality of third through holes on the other side of the first up and down support portion, The third through holes and the plurality of fourth through holes can respectively move a plurality of second upper and lower fixing pins along the longitudinal direction of the plurality of upper and lower cross bars and the longitudinal direction of the second upper and lower supports Which is embodied as a slotted hole that can be fastened with a clearance
Substrate heat treatment apparatus. 제 17항에 있어서,
상기 제 1 및 제 2 상하 지지부와 상기 복수의 제 1 및 제 2 수직 지지부는 각각 금속 재질로 구현되고,
상기 복수의 상부 및 하부 크로스 바, 상기 복수의 상부 및 하부 지지핀, 및 상기 복수의 제 1 및 제 2 상부 및 하부 고정핀은 각각 쿼츠 재질로 구현되는
기판 열처리 장치.18. The method of claim 17,
Wherein the first and second upper and lower support portions and the plurality of first and second vertical support portions are each made of a metal material,
The plurality of upper and lower crossbars, the plurality of upper and lower support pins, and the plurality of first and second upper and lower fixing pins are each formed of a quartz material
Substrate heat treatment apparatus.
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