KR101380781B1 - Substrate supporting unit and substrate processing apparatus using the same - Google Patents

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Abstract

기판용 지지 유닛 및 이를 사용한 기판 처리 장치가 개시된다. 본 발명에 따른 기판용 지지 유닛 및 이를 사용한 기판 처리 장치는, 기판의 중앙부측을 지지하는 지지부재의 지지바의 일단부측이 지지대에 견고하게 결합되므로, 지지바의 타단부측이 상대적으로 덜 처진다. 이로 인해, 지지바에 의하여 기판의 중앙부측이 견고하게 지지되므로, 기판이 변형되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다. 그리고, 지지 유닛을 출입하면서 기판을 지지 유닛에 로딩하거나, 기판을 지지 유닛으로부터 언로딩하는 로봇의 아암이 지지바의 간섭을 받지 않으므로, 지지바 또는 로봇의 아암이 손상되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.Disclosed are a support unit for a substrate and a substrate processing apparatus using the same. In the substrate support unit and the substrate processing apparatus using the same according to the present invention, since one end side of the support bar of the support member supporting the center side side of the substrate is firmly coupled to the support, the other end side of the support bar sags relatively less. . For this reason, since the center part side of a board | substrate is firmly supported by the support bar, there exists an effect which can prevent a board | substrate from being deformed. And, since the arm of the robot loading or unloading the substrate from the support unit while the support unit is entering or leaving the support unit is not interfered with by the support bar, the support bar or the arm of the robot can be prevented from being damaged. There is.

Description

기판용 지지 유닛 및 이를 사용한 기판 처리 장치 {SUBSTRATE SUPPORTING UNIT AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS USING THE SAME}Substrate support unit and substrate processing apparatus using the same {SUBSTRATE SUPPORTING UNIT AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS USING THE SAME}

본 발명은 기판의 중앙부측을 견고하게 지지할 수 있는 기판용 지지 유닛 및 이를 사용한 기판 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate support unit capable of firmly supporting a central portion side of a substrate and a substrate processing apparatus using the same.

기판 처리 장치는, 평판 디스플레이의 제조시 사용되며, 증착(Vapor Deposition) 장치와 어닐링(Annealing) 장치로 대별된다.The substrate processing apparatus is used for manufacturing a flat panel display, and is roughly divided into a vapor deposition apparatus and an annealing apparatus.

증착 장치는 평판 디스플레이의 핵심 구성을 이루는 투명 전도층, 절연층, 금속층 또는 실리콘층을 형성하는 장치로써, LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition) 또는 PECVD(Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) 등과 같은 화학기상 증착 장치와 스퍼터링(Sputtering) 등과 같은 물리기상 증착 장치가 있다.The deposition apparatus is a device for forming a transparent conductive layer, an insulating layer, a metal layer, or a silicon layer, which constitute the core of a flat panel display, and deposits chemical vapor such as low pressure chemical vapor deposition (LPCVD) or plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD). Physical vapor deposition apparatuses such as sputtering and the like.

그리고, 어닐링 장치는 기판에 막을 증착을 한 후, 증착된 막의 특성을 향상시키는 장치로써, 증착된 막을 결정화 또는 상 변화시키는 열처리 장치이다.The annealing device is a device for improving the properties of the deposited film after depositing a film on the substrate, and is a heat treatment device for crystallizing or phase changing the deposited film.

일반적으로, 기판 처리 장치는 하나의 기판을 열처리하는 매엽식(Single Substrate Type)과 복수의 기판을 처리하는 배치식(Batch Type)이 있다. 매엽식 기판 처리 장치는 구성이 간단한 이점이 있으나 생산성이 떨어지는 단점이 있어, 대량 생산에는 배치식 기판 처리 장치가 많이 사용된다.In general, a substrate processing apparatus includes a single substrate type for heat treating one substrate and a batch type for processing a plurality of substrates. Although the single wafer processing apparatus has a simple structure, it has a disadvantage that the productivity is low, and a batch type substrate processing apparatus is widely used for mass production.

배치식 기판 처리 장치에는 기판 처리 공간을 제공하는 챔버가 형성되고, 챔버에는 챔버로 로딩된 복수의 기판을 각각 지지하는 지지부재인 홀더가 설치된다.The batch substrate processing apparatus is provided with a chamber providing a substrate processing space, and the chamber is provided with a holder, which is a supporting member for supporting a plurality of substrates loaded into the chamber, respectively.

상기와 같은 종래의 기판 처리 장치는, 홀더와 대향하는 기판의 일면 전체가 홀더와 접촉하므로, 홀더와 접촉하는 기판의 일면과 비접촉하는 기판의 타면이 불균일하게 처리되는 단점이 있었다.In the conventional substrate processing apparatus as described above, since one surface of the substrate facing the holder contacts the holder, there is a disadvantage in that the other surface of the substrate that is not in contact with the surface of the substrate in contact with the holder is unevenly processed.

상기와 같은 단점을 해소하기 위하여, 본 출원인은 한국특허출원 10-2012-0006016호에 기판의 일측 및 타측 테두리부측과 기판의 중앙부측을 지지하여 기판을 균일하게 처리할 수 있는 기판용 지지 유닛을 개발하여 출원한 바 있다.In order to solve the above disadvantages, the applicant has a support unit for a substrate that can uniformly process the substrate by supporting one side and the other edge portion of the substrate and the center side of the substrate in Korean Patent Application No. 10-2012-0006016 It has been developed and filed.

한국특허출원 10-2012-0006016호에 개시된 기판용 지지 유닛(200)은, 도 1에 도시된 바와 같이, 기판의 중앙부측이 지지되는 제 3 지지부재(230)를 포함한다.The substrate support unit 200 disclosed in Korean Patent Application No. 10-2012-0006016 includes a third support member 230 on which a central side of the substrate is supported, as shown in FIG. 1.

제 3 지지부재(230)는 제 3 받침대(231), 제 3 받침대(231)에 하단부가 결합되어 제 3 받침대(231)와 수직을 이루는 제 3 지지대(234), 제 3 지지대(234)에 일측에 결합되어 제 3 받침대(231)을 수평을 이루는 복수의 보조지지바(237)를 가지며, 보조지지바(237)에 기판의 중앙부측이 지지된다.The third support member 230 has a lower end coupled to the third pedestal 231 and the third pedestal 231 to the third support 234 and the third support 234 which are perpendicular to the third pedestal 231. A plurality of auxiliary support bars 237 coupled to one side to form a third pedestal 231 horizontally, the central side of the substrate is supported by the auxiliary support bar 237.

이때, 제 3 지지대(234)에 결합된 보조지지바(237)는 외팔보 형태를 이룬다. 이로 인해, 보조지지바(237)의 고정단부측이 제 3 지지대(234)에 견고하게 결합되지 않으면, 보조지지바(237)의 자유단부측이 소정 이상 하측으로 처질 수 있다.At this time, the auxiliary support bar 237 coupled to the third support 234 forms a cantilever shape. For this reason, if the fixed end side of the auxiliary support bar 237 is not firmly coupled to the third support 234, the free end side of the auxiliary support bar 237 may sag below a predetermined level or more.

그러면, 보조지지바(237)의 자유단부측에 기판이 지지되지 못할 수 있으므로, 기판의 중앙부측이 하측으로 처져서 변형될 우려가 있다.Then, since the substrate may not be supported on the free end side of the auxiliary support bar 237, there is a fear that the center side of the substrate sags downward to deform.

그리고, 지지 유닛(200)을 출입하면서 기판을 지지 유닛(200)에 로딩하거나, 기판을 지지 유닛(200)으로부터 언로딩하는 로봇의 아암이 보조지지바(237)의 간섭을 받을 수 있으므로, 보조지지바(237) 또는 로봇의 아암이 손상될 우려가 있다.In addition, since the arm of the robot that loads the substrate into the support unit 200 while entering and exits the support unit 200 or unloads the substrate from the support unit 200 may receive interference from the auxiliary support bar 237, The support bar 237 or the arm of the robot may be damaged.

본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점들을 해소하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 기판의 중앙부측을 견고하게 지지하여 기판이 변형되는 것을 방지할 수 있는 기판용 지지 유닛 및 이를 사용한 기판 처리 장치를 제공함에 있다.The present invention has been made in order to solve the problems of the prior art as described above, the object of the present invention is to support the substrate support unit and substrate processing using the same to firmly support the center side of the substrate to prevent deformation In providing a device.

본 발명의 다른 목적은 기판을 로딩 또는 언로딩시키는 로봇의 아암 및 기판의 중앙부측을 지지하는 지지바가 손상되는 것을 방지할 수 있는 기판용 지지 유닛 및 이를 사용한 기판 처리 장치를 제공함에 있다.Another object of the present invention is to provide a support unit for a substrate and a substrate processing apparatus using the same, which can prevent the arm of the robot loading or unloading the substrate and the support bar supporting the central portion of the substrate from being damaged.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판용 지지 유닛은, 복수의 기판의 테두리부측이 각각 지지되어 적재 저장되며, 기판의 중앙부측을 지지하는 지지부재를 구비하는 기판용 지지 유닛으로서, 상기 지지부재는 받침대, 상기 받침대에서 상측으로 연장 형성된 지지대, 상기 지지대에 일측이 결합되어 상하로 간격을 가지며 상기 기판의 중앙부측이 탑재 지지되는 복수의 지지바를 가지고, 상기 지지대에 결합된 상기 지지바의 일측을 지지하여 상기 지지바의 타측이 처지는 것을 방지하는 수단을 포함한다.A substrate support unit according to the present invention for achieving the above object is a substrate support unit having a support member for supporting the central portion side of the substrate, the edge portion side of the plurality of substrates are stored and stored, The member has a pedestal, a support extending upwardly from the pedestal, one side is coupled to the support has a plurality of support bars having a vertical spaced up and down and the central portion side of the substrate is mounted and supported, one side of the support bar coupled to the support And means for supporting the other side of the support bar from sagging.

또한, 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판 처리 장치는, 기판이 투입되어 처리되는 챔버가 내부에 형성된 본체, 상기 본체의 내부에 설치되고 복수의 기판의 테두리부측이 각각 지지되어 적재 저장되고 기판의 중앙부측을 지지하는 지지부재를 가지는 지지 유닛을 포함하는 기판 처리 장치로서, 상기 지지부재는 받침대, 상기 받침대에서 상측으로 연장 형성된 지지대, 상기 지지대에 일측이 결합되어 상하로 간격을 가지며 상기 기판의 중앙부측이 탑재 지지되는 복수의 지지바를 가지고, 상기 지지대에 결합된 상기 지지바의 일측을 지지하여 상기 지지바의 타측이 처지는 것을 방지하는 수단을 포함한다.In addition, the substrate processing apparatus according to the present invention for achieving the above object is a main body formed with a chamber in which the substrate is inserted and processed, is installed in the interior of the main body is supported by the edge portion of the plurality of substrates are stored and stored A substrate processing apparatus including a support unit having a support member for supporting a central portion of a substrate, wherein the support member is a pedestal, a support extending upwardly from the pedestal, and one side of the support is coupled to the support, and the substrate is spaced vertically. The central portion of the side has a plurality of support bars mounted and supported, and means for supporting one side of the support bar coupled to the support to prevent the other side of the support bar sag.

본 발명에 따른 기판용 지지 유닛 및 이를 사용한 기판 처리 장치는, 기판의 중앙부측을 지지하는 지지부재의 지지바의 일단부측이 지지대에 견고하게 결합되므로, 지지바의 타단부측이 상대적으로 덜 처진다. 이로 인해, 지지바에 의하여 기판의 중앙부측이 견고하게 지지되므로, 기판이 변형되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.In the substrate support unit and the substrate processing apparatus using the same according to the present invention, since one end side of the support bar of the support member supporting the center side side of the substrate is firmly coupled to the support, the other end side of the support bar sags relatively less. . For this reason, since the center part side of a board | substrate is firmly supported by the support bar, there exists an effect which can prevent a board | substrate from being deformed.

그리고, 지지 유닛을 출입하면서 기판을 지지 유닛에 로딩하거나, 기판을 지지 유닛으로부터 언로딩하는 로봇의 아암이 지지바의 간섭을 받지 않으므로, 지지바 또는 로봇의 아암이 손상되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.And, since the arm of the robot loading or unloading the substrate from the support unit while the support unit is entering or leaving the support unit is not interfered with by the support bar, the support bar or the arm of the robot can be prevented from being damaged. There is.

도 1은 종래의 기판용 지지 유닛의 사시도.
도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 기판용 지지 유닛이 설치된 기판 처리 장치의 사시도.
도 3은 도 2에 도시된 기판용 지지 유닛의 사시도.
도 4a는 제 3에 도시된 지지부재의 일부 분해 확대 사시도.
도 4b는 지지대와 지지바의 결합 단면도.
도 5는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 기판용 지지 유닛의 사시도.
도 6a는 도 5에 도시된 지지부재의 일부 분해 확대 사시도.
도 6b는 지지대와 지지바의 결합 단면도.
도 7은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 기판용 지지 유닛의 사시도.
도 8은 도 7에 도시된 지지부재의 일부 분해 확대 사시도.1 is a perspective view of a conventional support unit for a substrate.
2 is a perspective view of a substrate processing apparatus provided with a substrate support unit according to a first embodiment of the present invention.
3 is a perspective view of the support unit for a substrate shown in FIG.
4A is an exploded, partially exploded perspective view of the support member shown in the third;
Figure 4b is a cross-sectional view of the support bar and the support bar.
5 is a perspective view of a support unit for a substrate according to a second embodiment of the present invention.
6A is an exploded perspective view of a portion of the support member shown in FIG. 5;
Figure 6b is a cross-sectional view of the combination of the support and the support bar.
7 is a perspective view of a support unit for a substrate according to a third embodiment of the present invention.
8 is an exploded perspective view of a part of the support member shown in FIG. 7;

후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시하여 도시한 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있도록 충분하게 상세히 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 상호 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 특정 구조 및 특성은 일 실시예와 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미가 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에 도시된 실시예들의 길이, 면적, 두께 및 형태는, 편의상, 과장되어 표현될 수도 있다.DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The following detailed description of the invention refers to the accompanying drawings that illustrate specific embodiments in which the invention may be practiced. These embodiments are described in sufficient detail to enable those skilled in the art to practice the invention. It should be understood that the various embodiments of the present invention are mutually exclusive, but need not be mutually exclusive. For example, certain features, specific structures, and features described herein may be implemented in other embodiments without departing from the spirit and scope of the invention in connection with one embodiment. It is also to be understood that the position or arrangement of the individual components within each disclosed embodiment may be varied without departing from the spirit and scope of the invention. The following detailed description is, therefore, not to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention is to be limited only by the appended claims, along with the full scope of equivalents to which such claims are entitled. The length, area, thickness, and shape of the embodiments shown in the drawings may be exaggerated for convenience.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들에 따른 기판 처리 장치를 상세히 설명한다.Hereinafter, a substrate processing apparatus according to embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

여기서, 기판의 처리라 함은 기판을 가열 및 냉각하는 모든 공정, 기판 상에 소정의 막을 증착하기 위한 모든 공정, 기판 상에 증착된 막의 어닐링, 결정화 또는 상변화를 위한 모든 열처리 공정 등을 포함하는 개념으로 이해되어야 한다.Here, the treatment of the substrate includes all processes for heating and cooling the substrate, all processes for depositing a predetermined film on the substrate, all annealing processes for the film deposited on the substrate, and all heat treatment processes for crystallization or phase change. It should be understood as a concept.

제 1 1st 실시예Example

도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 기판용 지지 유닛이 설치된 기판 처리 장치의 사시도이다.2 is a perspective view of a substrate processing apparatus provided with a substrate support unit according to a first embodiment of the present invention.

도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 기판 처리 장치는 대략 직육면체 형상으로 형성되어 외관을 이루는 본체(110)를 포함하고, 본체(110)의 내부에는 기판(50)이 처리되는 공간인 챔버(110a)가 형성된다. 본체(110)는 직육면체 형상뿐만 아니라 기판(50)의 형상에 따라 다양한 형상으로 형성될 수 있고, 챔버(110a)는 밀폐된 공간으로 마련된다.As shown, the substrate processing apparatus according to the present embodiment includes a main body 110 formed in a substantially rectangular parallelepiped shape to form an appearance, and a chamber 110a which is a space in which the substrate 50 is processed inside the main body 110. ) Is formed. The main body 110 may be formed in various shapes according to the shape of the substrate 50 as well as a rectangular parallelepiped shape, and the chamber 110a is provided as a closed space.

본체(110)의 전면은 개방되어 도어(113)가 설치되는데, 도어(113)는 챔버(110a)를 개폐한다. 도어(113)를 열어 챔버(110a)를 개방한 상태에서, 로봇의 아암(미도시) 등으로 기판(50)을 지지하여 기판(50)을 챔버(110a)로 로딩한다. 그리고, 도어(113)를 닫아 챔버(110a)를 폐쇄한 상태에서, 기판(50)을 처리한다.The front surface of the main body 110 is opened, and a door 113 is installed. The door 113 opens and closes the chamber 110a. The substrate 50 is loaded into the chamber 110a by supporting the substrate 50 with an arm (not shown) of the robot or the like while opening the door 113 to open the chamber 110a. Then, the substrate 50 is processed in a state where the door 113 is closed and the chamber 110a is closed.

본체(110)의 내부에는 기판(50)이 적재 지지되는 지지 유닛(200), 기판(50)을 가열하기 위한 히터(미도시)가 설치되고, 기판(50)을 냉각시키기 위한 냉각관(미도시) 등이 설치될 수 있다.Inside the main body 110, a support unit 200 on which the substrate 50 is mounted and supported, and a heater (not shown) for heating the substrate 50 are installed, and a cooling tube (not shown) for cooling the substrate 50. May be installed.

지지 유닛(200)에 대하여 도 2 내지 도 4b를 참조하여 설명한다. 도 3은 도 2에 도시된 기판용 지지 유닛의 사시도이고, 도 4a는 제 3에 도시된 지지부재의 일부 분해 확대 사시도이며, 도 4b는 지지대와 지지바의 결합 단면도이다.The support unit 200 will be described with reference to FIGS. 2 to 4B. FIG. 3 is a perspective view of the support unit for a substrate shown in FIG. 2, FIG. 4A is an exploded perspective view of a part of the support member shown in FIG. 3, and FIG. 4B is a cross-sectional view of a combination of the support and the support bar.

도시된 바와 같이, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 지지 유닛(200)은 석영재 또는 세라믹으로 형성되며, 제 1 사이드 지지부재(210), 제 2 사이드 지지부재(220), 지지부재(230), 제 1 연결부재(241), 제 2 연결부재(244), 제 3 연결부재(247) 및 메인지지바(250)를 포함하며, 케이스 형상으로 형성된다.As shown, the support unit 200 according to the first embodiment of the present invention is formed of a quartz material or ceramic, the first side support member 210, the second side support member 220, the support member 230 , The first connection member 241, the second connection member 244, the third connection member 247, and the main support bar 250 are formed in a case shape.

제 1 사이드 지지부재(210)는 상호 대향하는 한 쌍(210a, 210b)으로 마련되어 세트를 이루고, 챔버(110a)를 형성하는 본체(110)의 하면과 접촉하는 제 1 사이드 받침대(211), 제 1 사이드 받침대(211)의 일단부측에서 상측으로 연장 형성되며 제 1 사이드 받침대(211)와 수직을 이루는 제 1 사이드 지지대(214), 제 1 사이드 지지대(214)의 일측면에 상하로 간격을 가지면서 복수개 형성되며 각각 제 1 사이드 받침대(211)와 수평을 이루는 제 1 사이드 지지핀(217)을 각각 가진다.The first side support member 210 is formed as a pair (210a, 210b) opposed to each other to form a set, the first side pedestal 211, in contact with the lower surface of the main body 110 forming the chamber (110a), The first side support 214, which is formed to extend upward from one end side of the first side pedestal 211 and is perpendicular to the first side pedestal 211, is spaced up and down on one side of the first side support 214 And a plurality of first side support pins 217 are formed to be parallel to the first side pedestal 211.

한 쌍의 제 1 사이드 지지부재(210a, 210b) 중, 어느 하나의 제 1 사이드 지지부재(210a)는 본체(110)의 전면측 좌측 모서리부에 위치되고, 다른 하나의 제 1 사이드 지지부재(210b)는 본체(110)의 전면측 우측 모서리부에 위치된다. 이때, 어느 하나의 제 1 사이드 지지부재(210a)의 제 1 사이드 지지핀(217)과 다른 하나의 제 1 사이드 지지부재(210b)의 제 1 사이드 지지핀(217)은 상호 대향한다.Among the pair of first side support members 210a and 210b, one of the first side support members 210a is positioned at the front left side corner of the main body 110 and the other first side support member ( 210b) is located at the front right side corner of the main body 110. In this case, the first side support pin 217 of one of the first side support members 210a and the first side support pin 217 of the other first side support member 210b face each other.

제 1 연결부재(241)는 일측은 어느 하나의 제 1 사이드 지지부재(210a)의 제 1 사이드 지지대(214)의 상단면에 결합되고, 타측은 다른 하나의 제 1 사이드 지지부재(210b)의 제 1 사이드 지지대(214)의 상단면에 결합되어, 한 쌍을 이루는 제 1 사이드 지지부재(210a, 210b)를 상호 일체로 연결한다.One side of the first connection member 241 is coupled to an upper end surface of the first side support 214 of one of the first side support members 210a, and the other side of the first side support member 210b of the other side. Coupled to the top surface of the first side support 214, the pair of first side support members 210a and 210b are integrally connected to each other.

제 2 사이드 지지부재(220)는 상호 대향하는 한 쌍(220a, 220b)으로 마련되어 세트를 이루고, 챔버(110a)를 형성하는 본체(110)의 하면과 접촉하는 제 2 사이드 받침대(221), 제 2 사이드 받침대(221)의 일단부측에서 상측으로 연장 형성되며 제 2 사이드 받침대(221)와 수직을 이루는 제 2 사이드 지지대(224), 제 2 사이드 지지대(224)의 일측면에 상하로 간격을 가지면서 복수개 형성되며 각각 제 2 사이드 받침대(221)와 수평을 이루는 제 2 사이드 지지핀(227)을 각각 가진다.The second side support member 220 is formed as a pair of mutually opposing pairs 220a and 220b to form a set, and the second side support 221 is in contact with the bottom surface of the main body 110 forming the chamber 110a. The second side support 224, which extends upward from one end side of the second side support 221 and is perpendicular to the second side support 221, has one side of the second side support 224 having a vertical space therebetween. And a plurality of second side support pins 227 are formed to be parallel to the second side pedestal 221, respectively.

한 쌍의 제 2 사이드 지지부재(220a, 220b) 중, 어느 하나의 제 2 사이드 지지부재(220a)는 본체(110)의 후면측 좌측 모서리부에 위치되고, 다른 하나의 제 2 사이드 지지부재(220b)는 본체(110)의 후면측 우측 모서리부에 위치된다. 이때, 어느 하나의 제 2 사이드 지지부재(220a)의 제 2 사이드 지지핀(227)과 다른 하나의 제 2 사이드 지지부재(220b)의 제 2 사이드 지지핀(227)은 상호 대향한다.Of the pair of second side support members 220a and 220b, one of the second side support members 220a is positioned at the rear left side corner of the main body 110 and the other second side support member 220 220b) is located at the rear right side corner of the main body 110. In this case, the second side support pin 227 of one second side support member 220a and the second side support pin 227 of the other second side support member 220b face each other.

제 2 연결부재(244)는 일측은 어느 하나의 제 2 사이드 지지부재(220a)의 제 2 사이드 지지대(224)의 상단면에 결합되고, 타측은 다른 하나의 제 2 사이드 지지부재(220b)의 제 2 사이드 지지대(224)의 상단면에 결합되어, 한 쌍을 이루는 제 2 사이드 지지부재(220a, 220b)를 상호 일체로 연결한다.The second connection member 244 is coupled to an upper end surface of the second side support 224 of one of the second side support members 220a, and the other side of the second side support member 220b of the other side. It is coupled to the top surface of the second side support 224, and connects a pair of second side support members (220a, 220b) integrally with each other.

제 1 사이드 지지부재(210)와 제 2 사이드 지지부재(220)는 공용으로 사용할 수 있도록 동일하게 형성된다.The first side support member 210 and the second side support member 220 are formed in the same manner so that they can be used in common.

제 3 연결부재(247)는 일측은 제 1 연결부재(241)에 결합되고 타측은 제 2 연결부재(244)에 결합되어 한 쌍을 이루는 제 1 사이드 지지부재(210)와 한 쌍을 이루는 제 2 사이드 지지부재(220)를 상호 일체로 연결한다.The third connection member 247 is coupled to the first connection member 241 on one side and the other side is coupled to the second connection member 244 to form a pair with the first side support member 210 which is a pair 2 side support member 220 is connected to each other integrally.

메인지지바(250)는 한 쌍으로 마련되어 제 1 및 제 2 사이드 지지핀(217, 227)에 탑재 지지되며, 기판(50)의 일측 테두리부측 하면 및 타측 테두리부측 하면이 탑재 지지된다.The main support bar 250 is provided as a pair to be mounted and supported on the first and second side support pins 217 and 227, and the bottom surface of one side of the substrate 50 and the bottom surface of the other edge of the substrate 50 are supported.

상세히 설명하면, 한 쌍의 메인지지바(250a, 250b) 중, 어느 하나의 메인지지바(250a)의 일측은 어느 하나의 제 1 사이드 지지부재(210a)의 제 1 사이드 지지핀(217)에 탑재 지지되고, 타측은 어느 하나의 제 2 사이드 지지부재(220a)의 제 2 사이드 지지핀(227)에 탑재 지지된다. 그리고, 다른 하나의 메인지지바(250b)의 일측은 다른 하나의 제 1 사이드 지지부재(210b)의 제 1 사이드 지지핀(217)에 탑재 지지되고, 타측은 다른 하나의 제 2 사이드 지지부재(220b)의 제 2 사이드 지지핀(227)에 탑재 지지된다.In detail, one side of any one of the main support bars 250a of the pair of main support bars 250a and 250b is connected to the first side support pins 217 of the first side support members 210a. It is mounted and supported, and the other side is mounted and supported by the second side support pin 227 of any one second side support member 220a. One side of the other main support bar 250b is mounted and supported by the first side support pin 217 of the other first side support member 210b, and the other side of the other side support member 250b It is mounted and supported on the second side support pin 227 of 220b).

메인지지바(250)가 견고하게 제 1 및 제 2 사이드 지지핀(217, 227)에 탑재 지지될 수 있도록, 제 1 및 제 2 사이드 지지핀(217, 227)에는 메인지지바(250)의 일측 및 타측이 삽입 지지되는 지지홈(미도시)이 형성될 수 있다. 그리고, 메인지지바(250)의 일단부측 및 타단부측에는 제 1 및 제 2 사이드 지지핀(217, 227)에 걸려서 메인지지바(250)가 길이방향으로 유동하는 것을 방지하는 걸림편(미도시)이 형성될 수 있다. 그리고, 메인지지바(250) 내측에 위치된 제 1 및 제 2 사이드 지지핀(217, 227)의 부위에는 기판(50)이 접촉 지지되는 지지돌기(217a, 227a)가 각각 형성될 수 있다.The first and second side support pins 217 and 227 may be mounted on the first and second side support pins 217 and 227 so that the main support bar 250 can be firmly mounted on the first and second side support pins 217 and 227. Support grooves (not shown) in which one side and the other side are inserted and supported may be formed. And, one end portion and the other end side of the main support bar 250 is caught by the first and second side support pins (217, 227) to prevent the main support bar 250 from flowing in the longitudinal direction (not shown) ) May be formed. In addition, support protrusions 217a and 227a may be formed at portions of the first and second side support pins 217 and 227 positioned inside the main support bar 250 to contact and support the substrate 50.

기판(50)의 양측면측 테두리부측만이 지지되면, 기판(50)의 중앙부측이 자중에 의하여 하측으로 처질 수 있다. 이를 방지하기 위하여, 한 쌍을 이루는 제 2 사이드 지지부재(220a, 220b) 사이에 지지부재(230)가 설치되어, 기판(50)의 중앙부측을 지지한다. 지지부재(230)는 제 2 연결부재(244)에 결합된다.When only both side surface side edge portions of the substrate 50 are supported, the center portion side of the substrate 50 may sag downward due to its own weight. In order to prevent this, the support member 230 is installed between the pair of second side support members 220a and 220b to support the central portion of the substrate 50. The support member 230 is coupled to the second connection member 244.

상세히 설명하면, 지지부재(230)는 챔버(110a)를 형성하는 본체(110)의 하면과 접촉하는 받침대(231), 받침대(231)에서 상측으로 연장 형성되어 받침대(231)와 수직을 이루며 상단면(上端面)이 제 2 연결부재(244)에 결합되는 지지대(234), 지지대(234)에 상하로 간격을 가지면서 일측이 결합되며 받침대(231)와 각각 수평을 이루는 복수의 지지바(237)를 가진다. 지지바(237)의 타측에 기판(50)의 중앙부측이 탑재 지지된다.In detail, the support member 230 extends upwardly from the pedestal 231 and the pedestal 231 in contact with the bottom surface of the main body 110 forming the chamber 110a and is perpendicular to the pedestal 231. A plurality of support bars having one side coupled to the support 234 and the support 234 coupled to the second connection member 244 at intervals vertically and horizontally with the pedestal 231, respectively. 237). On the other side of the support bar 237, the central portion side of the substrate 50 is mounted and supported.

지지바(237)는 제 1 및 제 2 사이드 지지핀(217, 227)에 지지된 상호 대응하는 각각의 메인지지바(250) 보다 약간 높게 설치되는 것이 바람직하다. 그러면, 기판(50)의 중앙부측이 테두리부측 보다 약간 높게 위치되어 지지되므로, 기판(50)이 자중에 의하여 처지는 것을 방지할 수 있다.The support bar 237 is preferably installed slightly higher than the corresponding main support bar 250 supported on the first and second side support pins 217 and 227. Then, since the center part side of the board | substrate 50 is supported by being located slightly higher than the edge part side, it can prevent the board | substrate 50 from sagging by self weight.

지지바(237)의 일단부측이 지지대(234)에 견고하게 결합되지 않으면, 지지바(237)의 타측이 하측으로 처질 수 있다. 이를 방지하기 위하여, 지지대(234) 및 지지바(237)에는 지지대(234)에 결합된 지지바(237)의 일측을 지지하여 지지바(237)의 타측이 처지는 것을 방지하는 수단이 마련된다.If one end of the support bar 237 is not firmly coupled to the support 234, the other side of the support bar 237 may sag downward. In order to prevent this, the support 234 and the support bar 237 are provided with means for supporting one side of the support bar 237 coupled to the support 234 to prevent the other side of the support bar 237 from sagging.

상기 수단은 결합공(234a), 경사부(237a) 및 너트(239)를 포함한다.The means includes a coupling hole 234a, an inclined portion 237a and a nut 239.

결합공(234a)은 지지대(234)에 관통 형성되며, 지지대(234)의 외면에서 내면으로 가면서 직경이 점점 작아지는 형태로 경사지게 형성된다. 경사부(237a)는 결합공(234a)과 대응되게 지지바(237)의 일단부측에 경사지게 형성되어 결합공(234a)에 삽입 결합된다.The coupling hole 234a is formed to penetrate through the support 234, and is formed to be inclined in a form in which the diameter gradually decreases from the outer surface of the support 234 to the inner surface. The inclined portion 237a is formed to be inclined at one end side of the support bar 237 to correspond to the coupling hole 234a and is inserted and coupled to the coupling hole 234a.

그리고, 너트(239)는 경사부(237a)와 접하는 지지바(237)의 외면에 형성된 치(齒)(237b)와 맞물려 지지대(234)의 내면과 접촉하며, 지지바(237)를 지지대(234)를 기준으로 내측으로 당겨서 지지한다. 너트(239)가 지지바(237)에서 풀리는 것을 방지하기 위하여 너트(239)는 지지바(237)에 복수개 결합될 수 있다.In addition, the nut 239 meshes with the teeth 237b formed on the outer surface of the support bar 237 in contact with the inclined portion 237a to contact the inner surface of the support 234, and the support bar 237 is connected to the support bar 237. 234 is pulled inward to support it. In order to prevent the nut 239 from being released from the support bar 237, a plurality of nuts 239 may be coupled to the support bar 237.

지지바(237)의 타단부측을 지지대(234)의 외측에 위치시킨 상태에서 지지바(237)의 타단부측을 결합공(234a)으로 삽입하면, 지지바(237)의 일단부측에 형성된 경사부(237a)가 결합공(234a)에 삽입 결합된다. 그리고, 지지바(237)의 타단부측으로 너트(239)를 삽입하여, 너트(239)를 치(237b)에 결합한 다음, 너트(239)가 지지대(234)의 내면과 접촉되도록 꽉 조으면, 지지바(237)가 지지대(234)의 내측으로 당겨지면서 지지된다.When the other end side of the support bar 237 is inserted into the coupling hole 234a in the state where the other end side of the support bar 237 is positioned outside the support base 234, one end side of the support bar 237 is formed. The inclined portion 237a is inserted into and coupled to the coupling hole 234a. Then, the nut 239 is inserted into the other end side of the support bar 237, the nut 239 is coupled to the teeth 237b, and then the nut 239 is tightly tightened to contact the inner surface of the support 234. The support bar 237 is supported while being pulled into the support 234.

그러면, 지지바(237)의 일측이 지지대(234)에 견고하게 결합되므로, 지지바(237)의 타측이 하측으로 처지는 것이 방지된다.Then, since one side of the support bar 237 is firmly coupled to the support 234, the other side of the support bar 237 is prevented from sagging downward.

제 2 Second 실시예Example

도 5는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 기판용 지지 유닛의 사시도이고, 도 6a는 도 5에 도시된 지지부재의 일부 분해 확대 사시도이며, 도 6b는 지지대와 지지바의 결합 단면도로서, 제 1 실시예와의 차이점만을 설명한다.5 is a perspective view of a substrate support unit according to a second embodiment of the present invention, Figure 6a is a partially exploded perspective view of the support member shown in Figure 5, Figure 6b is a cross-sectional view of the combination of the support and the support bar, Only differences from the first embodiment will be described.

도시된 바와 같이, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 기판용 지지 유닛(300)의 지지부재(330)의 지지바(337)의 타측이 처지는 것을 방지하는 수단은 결합공(334a), 지지홈(334b), 돌출부(337a), 이탈방지판(339)을 포함한다.As shown, the means for preventing the other side of the support bar 337 of the support member 330 of the support unit 300 for the substrate 300 according to the second embodiment of the present invention is a coupling hole (334a), the support groove 334b, the protrusion 337a, and the release preventing plate 339.

결합공(334a)은 지지바(337)의 일단부측과 대응되게 지지대(334)의 외면에서 내면을 향하여 관통 형성되며, 지지바(337)의 일단부측이 삽입 결합된다. 그리고, 지지홈(334b)은 결합공(334a)의 직경 보다 큰 직경으로 형성되며, 지지대(334)의 외면과 접하는 결합공(334a)의 내주면에 형성된다. The coupling hole 334a is formed to penetrate toward the inner surface from the outer surface of the support 334 to correspond to the one end side of the support bar 337, one end side of the support bar 337 is inserted and coupled. The support groove 334b is formed to have a diameter larger than the diameter of the coupling hole 334a and is formed on the inner circumferential surface of the coupling hole 334a in contact with the outer surface of the support 334a.

돌출부(337a)는 지지바(337)의 일단부측 외주면에 돌출 형성되어 지지홈(334b)에 삽입 지지된다. 돌출부(337a)와 지지홈(334b)으로 인하여 지지바(337)가 지지대(334)의 내면측으로 이탈되는 것이 방지된다. 이탈방지판(339)은 지지대(334)의 외면에 결합되어 지지바(337)가 지지대(334)의 외면 외측으로 이탈하는 것을 방지한다.The protruding portion 337a protrudes from one end side outer circumferential surface of the support bar 337 and is inserted and supported by the support groove 334b. The protrusion 337a and the support groove 334b prevent the support bar 337 from being separated to the inner surface side of the support 334. The release preventing plate 339 is coupled to the outer surface of the support 334 to prevent the support bar 337 from escaping to the outside of the outer surface of the support 334.

지지바(337)의 일단부측이 지지대(334)에 삽입 지지되고, 돌출부(337a)와 지지홈(334b), 이탈방지판(339)에 의하여 지지바(337)가 지지대(334)로부터 이탈하는 것이 방지되므로, 지지바(337)가 지지대(334)에 견고하게 결합된다.One end side of the support bar 337 is inserted and supported by the support 334, and the support bar 337 is separated from the support 334 by the protrusion 337a, the support groove 334b, and the release preventing plate 339. Since it is prevented, the support bar 337 is firmly coupled to the support 334.

제 3 Third 실시예Example

도 7은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 기판용 지지 유닛의 사시도이고, 도 8은 도 7에 도시된 지지부재의 일부 분해 확대 사시도로서, 제 1 실시예와의 차이점만을 설명한다.FIG. 7 is a perspective view of a support unit for a substrate according to a third embodiment of the present invention, and FIG. 8 is a partially exploded enlarged perspective view of the support member shown in FIG. 7, which describes only differences from the first embodiment.

도시된 바와 같이, 본 발명의 제 3 실시예에 따른 기판용 지지 유닛(400)의 지지부재(430)의 지지바(437)의 타측이 처지는 것을 방지하는 수단은 지지홈(434a)과 체결부재(439)를 포함한다.As shown, the means for preventing the other side of the support bar 437 of the support member 430 of the support unit 400 for the substrate according to the third embodiment of the present invention sagging support groove 434a and the fastening member (439).

지지홈(434a)은 지지바(437)의 일단부측과 대응되게 지지대(434)의 일측면에 형성되며 지지바(437)의 일단부측이 삽입 지지된다. 그리고, 체결부재(439)는 지지바(437)를 지지대(434)에 결합하기 위하여, 지지바(437)의 일단부측을 관통하여 지지대(434)에 결합된다. 따라서, 지지홈(434a)과 체결부재(439)에 의하여 지지바(437)를 지지대(434)에 견고하게 결합된다.The support groove 434a is formed at one side of the support 434 so as to correspond to one end side of the support bar 437, and one end side of the support bar 437 is inserted and supported. In addition, the fastening member 439 is coupled to the support 434 through one end of the support bar 437 to couple the support bar 437 to the support 434. Accordingly, the support bar 437 is firmly coupled to the support 434 by the support groove 434a and the fastening member 439.

지지바(437)는 각형으로 형성되며, 일단부측에서 타단부측으로 갈수록 상하 높이가 낮아지는 형태로 경사지게 형성될 수 있다. 그리고, 지지홈(434a)도 지지바(437)와 대응되게 경사지게 형성됨은 당연하다.The support bar 437 is formed in a rectangular shape, and may be formed to be inclined in a form in which the vertical height decreases from one end side to the other end side. In addition, the support groove 434a is naturally formed to be inclined to correspond to the support bar 437.

본 실시예들에 따른 기판용 지지 유닛 및 이를 사용한 기판 처리 장치는 기판(50)의 중앙부측을 지지하는 지지부재(230, 330, 430)의 지지바(237, 337, 437)의 일단부측이 지지대(234, 334, 434)에 견고하게 결합되므로, 지지바(237, 337, 437)의 타단부측이 상대적으로 덜 처진다.In the substrate support unit and the substrate processing apparatus using the same according to the present embodiments, one end side of the support bars 237, 337, and 437 of the support members 230, 330, and 430 supporting the central side of the substrate 50 may be formed. Since firmly coupled to the support (234, 334, 434), the other end side of the support bar (237, 337, 437) is relatively less sagging.

이로 인해, 지지바(237, 337, 437)에 의하여 기판(50)의 중앙부측이 견고하게 지지되므로, 기판(50)이 변형되는 것이 방지된다.For this reason, since the center part side of the board | substrate 50 is firmly supported by the support bars 237, 337, and 437, the board | substrate 50 is prevented from being deformed.

그리고, 지지 유닛(200, 300, 400)을 출입하면서 기판을 지지 유닛(200, 300, 400)에 로딩하거나, 기판을 지지 유닛(200, 300, 400)으로부터 언로딩하는 상기 로봇의 아암이 지지바(237, 337, 437)의 간섭을 받지 않으므로, 지지바(237, 337, 437) 또는 상기 로봇의 아암이 손상되는 것이 방지된다.And the arm of the said robot which loads a board | substrate to the support unit 200, 300, 400, or unloads a board | substrate from the support unit 200, 300, 400 while entering and leaving the support unit 200, 300, 400 is supported. Since the bars 237, 337 and 437 are not interfered with, the supporting bars 237, 337 and 437 or the arms of the robot are prevented from being damaged.

본 실시예들에 따른 지지바(237, 337, 437)에는 기판(50)을 지지하는 도 3에 도시된 지지돌기(217a, 227a)와 동일한 지지돌기가 형성될 수 있다.The support bars 237, 337, and 437 according to the present embodiments may have the same support protrusions as the support protrusions 217a and 227a shown in FIG. 3 to support the substrate 50.

상기와 같이 기술된 본 발명의 실시예들에 대한 도면은 자세한 윤곽 라인을 생략하여, 본 발명의 기술사상에 속하는 부분을 쉽게 알 수 있도록 개략적으로 도시한 것이다. 또한, 상기 실시예들은 본 발명의 기술사상을 한정하는 기준이 될 수 없으며, 본 발명의 청구범위에 포함된 기술사항을 이해하기 위한 참조적인 사항에 불과하다.The above-described embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, in which the detailed contour lines are omitted and portions belonging to the technical idea of the present invention are easily seen. It should be noted that the above-described embodiments are not intended to limit the technical spirit of the present invention and are merely a reference for understanding the technical scope of the present invention.

110: 본체
200: 지지 유닛
230: 지지부재
231: 받침판
234: 지지대
237: 지지바110:
200: support unit
230: Support member
231: base plate
234: support
237: support bar

Claims (2)

복수의 기판의 테두리부측이 각각 지지되어 적재 저장되며, 기판의 중앙부측을 지지하는 지지부재를 구비하는 기판용 지지 유닛으로서,
상기 지지부재는 받침대, 상기 받침대에서 상측으로 연장 형성된 지지대, 상기 지지대에 일측이 결합되어 상하로 간격을 가지며 상기 기판의 중앙부측이 탑재 지지되는 복수의 지지바를 가지고,
상기 지지대에 결합된 상기 지지바의 일측을 지지하여 상기 지지바의 타측이 처지는 것을 방지하는 수단을 포함하고,
상기 수단은,
상기 지지바의 일단부측과 대응되게 상기 지지대의 일면에서 타면을 향하여 관통 형성되며 상기 지지바의 일단부측이 삽입 결합되는 결합공;
상기 결합공의 직경 보다 큰 직경을 가지며 상기 지지대의 일면과 접하는 상기 결합공의 내주면에 형성된 지지홈;
상기 지지바의 일단부측 외주면에 돌출 형성되어 상기 지지홈에 삽입 지지되는 돌출부;
상기 지지대의 일면에 결합되어 상기 지지바가 상기 지지대의 일면 외측으로 이탈하는 것을 방지하는 이탈방지판을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판용 지지 유닛.A substrate support unit having a support member for supporting a central portion side of a substrate, wherein the edge portions of the plurality of substrates are supported and stored, respectively,
The support member has a support, a support extending extending upward from the support, one side is coupled to the support has a plurality of support bars are spaced up and down and the central side of the substrate is supported mounted,
And means for supporting one side of the support bar coupled to the support to prevent the other side of the support bar from sagging.
Said means comprising:
A coupling hole formed to penetrate from one surface of the support bar toward the other surface so as to correspond to the one end side of the support bar, and the one end side of the support bar is inserted and coupled;
A support groove having a diameter larger than the diameter of the coupling hole and formed on an inner circumferential surface of the coupling hole in contact with one surface of the support;
A protruding portion protruding from one end portion of the support bar and inserted into the support groove;
And a release preventing plate coupled to one surface of the support to prevent the support bar from escaping to the outside of one surface of the support. 기판이 투입되어 처리되는 챔버가 내부에 형성된 본체, 상기 본체의 내부에 설치되고 복수의 기판의 테두리부측이 각각 지지되어 적재 저장되고 기판의 중앙부측을 지지하는 지지부재를 가지는 지지 유닛을 포함하는 기판 처리 장치로서,
상기 지지부재는 받침대, 상기 받침대에서 상측으로 연장 형성된 지지대, 상기 지지대에 일측이 결합되어 상하로 간격을 가지며 상기 기판의 중앙부측이 탑재 지지되는 복수의 지지바를 가지고,
상기 지지대에 결합된 상기 지지바의 일측을 지지하여 상기 지지바의 타측이 처지는 것을 방지하는 수단을 포함하고,
상기 수단은,
상기 지지바의 일단부측과 대응되게 상기 지지대의 일면에서 타면을 향하여 관통 형성되며 상기 지지바의 일단부측이 삽입 결합되는 결합공;
상기 결합공의 직경 보다 큰 직경을 가지며 상기 지지대의 일면과 접하는 상기 결합공의 내주면에 형성된 지지홈;
상기 지지바의 일단부측 외주면에 돌출 형성되어 상기 지지홈에 삽입 지지되는 돌출부;
상기 지지대의 일면에 결합되어 상기 지지바가 상기 지지대의 일면 외측으로 이탈하는 것을 방지하는 이탈방지판을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.A substrate comprising a main body having a chamber into which a substrate is inserted and processed, and a support unit installed inside the main body, and having a supporting member for supporting and storing the edge portions of the plurality of substrates, respectively, and supporting the central portion of the substrate. As a processing device,
The support member has a support, a support extending extending upward from the support, one side is coupled to the support has a plurality of support bars are spaced up and down and the central side of the substrate is supported mounted,
And means for supporting one side of the support bar coupled to the support to prevent the other side of the support bar from sagging.
Said means comprising:
A coupling hole formed to penetrate from one surface of the support bar toward the other surface so as to correspond to the one end side of the support bar, and the one end side of the support bar is inserted and coupled;
A support groove having a diameter larger than the diameter of the coupling hole and formed on an inner circumferential surface of the coupling hole in contact with one surface of the support;
A protruding portion protruding from one end portion of the support bar and inserted into the support groove;
And a release preventing plate coupled to one surface of the support to prevent the support bar from being separated out of one surface of the support.
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