KR20120042681A - 배치 스테이지 및 노광 장치 - Google Patents

배치 스테이지 및 노광 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20120042681A
KR20120042681A KR1020110108231A KR20110108231A KR20120042681A KR 20120042681 A KR20120042681 A KR 20120042681A KR 1020110108231 A KR1020110108231 A KR 1020110108231A KR 20110108231 A KR20110108231 A KR 20110108231A KR 20120042681 A KR20120042681 A KR 20120042681A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
axis
slider
plate
support point
adjustment plate
Prior art date
Application number
KR1020110108231A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101347462B1 (ko
Inventor
료 오치아이
시게루 요시다
Original Assignee
가부시키가이샤 토프콘
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 가부시키가이샤 토프콘 filed Critical 가부시키가이샤 토프콘
Publication of KR20120042681A publication Critical patent/KR20120042681A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101347462B1 publication Critical patent/KR101347462B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • H01L21/681—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment using optical controlling means
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
    • B23Q3/00—Devices holding, supporting, or positioning work or tools, of a kind normally removable from the machine
    • B23Q3/18—Devices holding, supporting, or positioning work or tools, of a kind normally removable from the machine for positioning only
    • B23Q3/183—Centering devices
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
    • B23Q3/00—Devices holding, supporting, or positioning work or tools, of a kind normally removable from the machine
    • B23Q3/18—Devices holding, supporting, or positioning work or tools, of a kind normally removable from the machine for positioning only
    • B23Q3/186—Aligning devices
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • H01L21/0271—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
    • H01L21/0273—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers characterised by the treatment of photoresist layers
    • H01L21/0274—Photolithographic processes
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • H01L21/682—Mask-wafer alignment
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6831—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using electrostatic chucks
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6831—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using electrostatic chucks
    • H01L21/6833—Details of electrostatic chucks
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6835—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

본 발명은, 간단한 구성으로 워크의 위치 자세 제어를 매우 높은 정밀도로 행할 수 있는 배치 스테이지를 제공하는 것을 과제로 한다.
본 발명의 배치 스테이지는, 노광광이 결상되어 소정의 마스크 패턴이 노광되는 워크(22)의 기준 평면에 대한 위치 및 자세를 제어하는 배치 스테이지(30)이다. 이 배치 스테이지는, 기준 평면에 대하여 고정적으로 설치된 베이스 부재(31)와, 기준 평면을 따르는 제1 방향(Y축 방향)으로 이동 가능하게 베이스 부재(31) 상에 설치된 제1 구동 기구(32)와, 제1 구동 기구에 의해 지지되는 제1 슬라이더(33)와, 기준 평면을 따르며 또한 제1 방향에 대하여 경사지는 제2 방향(X축 방향)으로 이동 가능하게, 제1 슬라이더 상에서 제1 방향으로 간격을 두고서 설치된 1쌍의 제2 구동 기구(34)와, 각 제2 구동 기구에 의해 개별적으로 지지되는 2개의 제2 슬라이더(35)와, 워크(22)를 배치하도록 양 제2 슬라이더를 제1 방향으로 걸쳐 기준 평면을 따라서 설치된 평면 조정판(36)을 구비한다.

Description

배치 스테이지 및 노광 장치{PLACING STAGE AND EXPOSURE APPARATUS}
본 발명은, 프린트 기판이나 액정 기판 등의 기판이 배치되는 배치 스테이지 및 이 배치 스테이지를 탑재하는 노광 장치에 관한 것이다.
표면에 포토레지스트 등의 감광 재료가 도포된 가공되어야 할 워크를 위치 결정하여, 이 워크의 감광 재료에, 소정의 마스크 패턴을 노광 장치에 의해 노광하고, 그 후 에칭 공정에 의해 기판 상에 마스크 패턴을 형성하는 포토리소그래피법이 여러 가지 분야에서 널리 응용되고 있으며, 프린트 배선 기판이나 액정 기판 등도 이 포토리소그래피법에 의해서 제조되고 있다. 이 노광 장치는, 소정의 패턴이 형성된 마스크를 투과한 노광광을 투영 렌즈로 워크 상에 결상시킴으로써, 워크 상에 소정의 마스크 패턴을 형성한다. 이 노광 장치에서는, 워크 상의 원하는 위치에 소정의 패턴을 결상시키기 위해서, 워크를 이동 가능하게 유지하는 배치 스테이지를 이용하는 것이 알려져 있다(예컨대, 특허문헌 1 참조).
이런 종래의 노광 장치의 배치 스테이지는, Y축 방향으로 연장되는 2개의 Y 레일 상의 각각에 이동 가능하게 Y 슬라이더를 설치하고, 양(兩) Y 슬라이더를 걸치는 식으로 X 레일을 설치하며, X 레일 상에 이동 가능하게 X 슬라이더를 설치하여, X 슬라이더를 배치대로 하고 있다. 이 배치 스테이지에서는, 2개의 Y 슬라이더의 Y 레일 상에서의 위치를 동기시켜 제어함으로써, Y축 방향에서의 X 레일의 위치, 즉 그 위의 X 슬라이더에 배치되는 워크의 Y축 방향에서의 위치를 결정하는 Y축 구동 기구로서 기능한다. 또한, 2개의 Y 슬라이더의 Y 레일 상에서의 위치를 개별적으로 제어함으로써, X-Y 평면상에서의 X 레일의 회전 자세, 즉 워크의 회전 자세를 결정하는 회전 구동 기구로서 기능한다. 또한, X 슬라이더의 X 레일 상에서의 위치를 제어함으로써, 결정된 X 레일의 위치 및 자세에 따른 X축 방향에서의 워크의 위치를 결정하는 X축 구동 기구로서 기능한다. 이 때문에, 상기한 배치 스테이지에서는, 워크를 X-Y 평면상에 있어서의 임의의 위치에서 임의의 회전 자세로 할 수 있게 된다.
일본 특허 제3947652호 공보
그런데, 상기한 배치 스테이지에서는, Y축 구동 기구 및 회전 구동 기구로서 기능하는 2개의 Y 슬라이더와 2개의 Y 레일 상에, X축 구동 기구가 설치되어 있다. 이 때문에, X축 구동 기구 자체가 회전 기구에 의해 회전되므로, X축 방향에서의 워크의 위치를 결정하기 위해서는, X 레일의 회전 자세에 따라서 X 슬라이더의 위치를 변경할 필요가 있기 때문에, 워크를 위치 결정하는 데 복잡한 작업을 필요로 하여, 워크를 높은 정밀도로 위치 결정하기가 곤란해져 버린다.
또한, 상기한 배치 스테이지에서는, 서면상으로는 워크를 X-Y 평면상에 있어서의 임의의 위치에서 임의로 회전하는 것이 가능하기는 하지만, 실제로는, Y 슬라이더에 있어서의 X 레일의 유지를 위한 기구에 정밀하고도 복잡한 구성이 필요하게 되어 버리기 때문에, 높은 정밀도로 워크 위치 결정을 하기가 곤란해져 버린다.
본 발명의 목적은, 간단한 구성으로, 워크의 위치 결정을 매우 높은 정밀도로 행할 수 있는 배치 스테이지를 제공하는 데에 있다.
상기 목적을 달성하기 위해서, 본 발명의 한 실시예에 따른 배치 스테이지는, 노광광이 결상되어 소정의 마스크 패턴이 노광되는 워크의 기준 평면에 대한 위치 및 자세를 제어하도록 되어, 상기 기준 평면에 대하여 고정적으로 설치된 베이스 부재와, 상기 기준 평면을 따르는 제1 방향으로 이동 가능하게 상기 베이스 부재 상에 설치된 제1 구동 기구와, 이 제1 구동 기구에 의해 지지되는 제1 슬라이더와, 상기 기준 평면을 따르며 상기 제1 방향에 대하여 경사지는 제2 방향으로 이동 가능하게, 상기 제1 슬라이더 상에서 상기 제1 방향으로 간격을 두고서 쌍을 이뤄 설치된 2개의 제2 구동 기구와, 이 각 제2 구동 기구에 의해 개별적으로 지지되는 2개의 제2 슬라이더와, 상기 워크를 배치하도록 양(兩) 제2 슬라이더를 상기 제1 방향으로 걸쳐 상기 기준 평면을 따라서 설치된 평면 조정판을 구비하고 있다.
상기 평면 조정판과 한쪽의 상기 제2 슬라이더는, 일단이 판측 제1 지지점에서 상기 평면 조정판에 접속되고, 또한 타단이 슬라이더측 제1 지지점에서 한쪽의 상기 제2 슬라이더에 접속되도록, 상기 기준 평면에 직교하는 방향으로 연장되는 제1 연결부에 의해 연결되고, 이 제1 연결부는, 상기 판측 제1 지지점과 상기 슬라이더측 제1 지지점과의 위치 관계를 변경하는 일없이, 상기 판측 제1 지지점 및 상기 슬라이더측 제1 지지점을 포함하는 기준 축선 둘레로의 상기 평면 조정판과 한쪽의 상기 제2 슬라이더의 상대적인 회전을 허용하며, 상기 평면 조정판과 다른쪽의 상기 제2 슬라이더는, 일단이 판측 제2 지지점에서 상기 평면 조정판에 접속되고, 또한 타단이 슬라이더측 제2 지지점에서 다른쪽의 상기 제2 슬라이더에 접속되도록, 상기 기준 평면에 직교하는 방향으로 연장되는 제2 연결부에 의해 연결되며, 이 제2 연결부는, 상기 기준 평면을 따르는 제3 방향에서의 상기 판측 제2 지지점과 상기 슬라이더측 제2 지지점의 상대적인 위치의 변화를 허용하고, 상기 기준 평면에 직교하는 방향 둘레로의 상기 평면 조정판과 다른쪽의 상기 제2 슬라이더의 상대적인 회전을 허용하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 배치 스테이지에 따르면, 양 제2 슬라이더의 제2 방향에서의 상대적인 위치에 의해 평면 조정판의 회전 자세를 설정할 수 있고, 양 제2 슬라이더의 상대적인 위치 관계를 유지한 채로 상기 양 제2 슬라이더를 동기시켜 구동 제어함으로써, 평면 조정판의 회전 자세를 유지한 채로 평면 조정판을 제2 방향으로 이동시킬 수 있으며, 제1 슬라이더를 제1 방향으로 이동시킴으로써 제2 방향에서의 위치에 상관없이 평면 조정판의 회전 자세를 유지한 채로 평면 조정판을 제1 방향으로 이동시킬 수 있다. 이에 따라, 평면 조정판의 제1 방향(제1 방향)의 위치 조정을 위한 기구와, 평면 조정판의 제2 방향(제2 방향)의 위치 조정을 위한 기구의 2개의 구성으로, 각각의 위치 조정에 영향을 주는 일없이 평면 조정판의 회전 자세를 설정할 수 있는 회전 구동 기구를 형성할 수 있다. 이와 같이, 평면 조정판의 회전 자세 변화의 영향을 받는 일없이, 평면 조정판에 있어서의 제2 방향에서의 위치와 제1 방향에서의 위치를 개별적으로 조정할 수 있기 때문에, 평면 조정판의 회전 자세에 상관없이 동일한 제어 방법에 의해 평면 조정판, 즉 워크의 위치를 조정할 수 있다.
상기한 구성에 더하여, 상기 평면 조정판과 한쪽의 상기 제2 슬라이더는, 일단이 판측 제1 지지점에서 상기 평면 조정판에 접속되고, 또한 타단이 슬라이더측 제1 지지점에서 한쪽의 상기 제2 슬라이더에 접속되도록, 상기 기준 평면에 직교하는 방향으로 연장되는 제1 연결부에 의해 연결되고, 이 제1 연결부는, 상기 판측 제1 지지점과 상기 슬라이더측 제1 지지점과의 위치 관계를 변경하는 일없이, 상기 판측 제1 지지점 및 상기 슬라이더측 제1 지지점을 포함하는 기준 축선 둘레로의 상기 평면 조정판과 한쪽의 상기 제2 슬라이더의 상대적인 회전을 허용하며, 상기 평면 조정판과 다른쪽의 상기 제2 슬라이더는, 일단이 판측 제2 지지점에서 상기 평면 조정판에 접속되고, 또한 타단이 슬라이더측 제2 지지점에서 다른쪽의 상기 제2 슬라이더에 접속되도록, 상기 기준 평면에 직교하는 방향으로 연장되는 제2 연결부에 의해 연결되고, 이 제2 연결부는, 상기 기준 평면을 따르는 제3 방향에서의 상기 판측 제2 지지점과 상기 슬라이더측 제2 지지점의 상대적인 위치의 변화를 허용하며, 상기 기준 평면에 직교하는 방향 둘레로의 상기 평면 조정판과 다른쪽의 상기 제2 슬라이더의 상대적인 회전을 허용하는 것으로 하면, 기준 축선에 대한 판측 제2 지지점 및 슬라이더측 제2 지지점의 위치 관계와 평면 조정판의 회전 자세를 1대1로 대응시킬 수 있다. 이 때문에, 양 제2 슬라이더의 상대적인 위치관계에 의해, 평면 조정판, 즉 워크의 회전 자세를 높은 정밀도로 설정할 수 있다.
상기한 구성에 더하여, 상기 기준 평면을 따르는 제3 방향은, 상기 제1 방향과 상기 제2 방향의 각각에 대하여 경사지는 것으로 하면, 제1 방향과 제2 방향의 각도 관계에 상관없이, 양 제2 슬라이더를 상대적으로 제2 방향으로 이동시킴으로써, 평면 조정판을 회전시킬 수 있다.
상기한 구성에 더하여, 상기 제1 방향과 상기 제2 방향은, 직교하게 되면, 보다 효율적으로 평면 조정판, 즉 워크의 위치를 설정할 수 있다.
상기한 구성에 더하여, 상기 판측 제1 지지점과 상기 판측 제2 지지점은, 상기 양 제2 슬라이더가 상기 제2 방향으로의 이동의 기준이 되는 기준 위치로 되었을 때, 상기 제1 방향과 상기 제2 방향의 각각에 대하여 경사지는 직선상에 위치되어 있는 것으로 하면, 평면 조정판, 즉 워크의 회전 방향에 상관없이, 한쪽의 제2 슬라이더에 대하여 다른쪽의 제2 슬라이더를 원활하게 이동시킬 수 있다.
상기한 구성에 더하여, 상기 기준 평면을 따르는 제3 방향은, 상기 판측 제1 지지점과 상기 판측 제2 지지점을 연결하는 선분의 연장 방향인 것으로 하면, 이동된 슬라이더측 제2 지지점 상에 제3 방향이 위치하도록, 평면 조정판을 기준 축선 둘레로 회전시킬 수 있다. 이 때문에, 평면 조정판, 즉 워크의 회전 자세를 설정할 때의, 한쪽의 제2 슬라이더에 대한 다른쪽의 제2 슬라이더의 이동량 설정을 용이한 것으로 할 수 있다.
상기한 구성에 더하여, 상기 제3 방향은, 상기 양 제2 슬라이더가 상기 제2 방향으로의 이동의 기준이 되는 기준 위치로 되었을 때에 있어서의 상기 슬라이더측 제1 지지점과 상기 슬라이더측 제2 지지점을 연결하는 선분의 연장 방향인 것으로 하면, 이동된 슬라이더측 제2 지지점을 포함하는 제3 방향 상에 판측 제2 지지점이 위치하도록, 평면 조정판을 기준 축선 둘레로 회전시킬 수 있다. 이 때문에, 평면 조정판, 즉 워크의 회전 자세를 설정할 때, 한쪽의 제2 슬라이더에 대한 다른쪽의 제2 슬라이더의 이동량 설정을 용이하게 행할 수 있다.
상기한 구성에 더하여, 상기 판측 제1 지지점과 상기 판측 제2 지지점은, 상기 양 제2 슬라이더가 상기 기준 위치로 되었을 때, 서로를 연결하는 선분의 연장 방향이 상기 제1 방향과 상기 제2 방향의 각각에 대하여 45도의 경사를 이루고 있는 것으로 하면, 워크의 회전 방향의 차이에 의한 영향을 매우 작은 것으로 할 수 있다.
상기한 구성에 더하여, 또한, 상기 기준 평면에 직교하는 제4 방향에서의 상기 워크의 위치 및 상기 제4 방향에 대한 경사의 변경을 위해서 상기 평면 조정판 상에 설치된 제4 방향 조정판과, 이 제4 방향 조정판의 상기 제4 방향에서의 위치 및 상기 제4 방향에 대한 경사를 변경시키는 제4 방향 구동 기구를 구비하고, 이 제4 방향 구동 기구는, 상기 제4 방향 조정판을 지지하는 적어도 3개의 지지부와, 이 각 지지부를 상기 제4 방향으로 이동시키는 구동 본체부를 구비하며, 이 구동 본체부는, 적어도 일부를 상기 제1 슬라이더와 상기 제2 슬라이더 사이에 위치시키면서 상기 평면 조정판의 하측에 설치되고, 상기 각 지지부는, 상기 제4 방향에서 보아, 상기 평면 조정판의 아래쪽의 상기 구동 본체부에 접속하며, 상기 평면 조정판의 위쪽에서 상기 제4 방향 조정판을 지지하고 있는 것으로 하면, 제4 방향 구동 기구를 설치함에 의한 높이 치수(기준 평면에 직교하는 방향에서 본 크기 치수)의 증대를 억제할 수 있다.
상기한 구성에 더하여, 상기 각 지지부는, 상기 제4 방향 조정판에 대한 지지 위치를 변화시키는 일없이 상기 제4 방향 조정판에 대한 지지 각도를 변경 가능하게 지지하는 제1 지지부와, 상기 제4 방향 조정판에 대한 지지 위치를 상기 제1 지지부에 의한 지지 위치와의 선분 방향으로 변경 가능하게, 또한 상기 제4 방향 조정판에 대한 지지 각도를 변경 가능하게 지지하는 제2 지지부와, 상기 제4 방향 조정판에 대한 지지 위치를 변경 가능하게, 또한 상기 제4 방향 조정판에 대한 지지 각도를 변경 가능하게 지지하는 제3 지지부를 갖는 것으로 하면, 제4 방향 조정판이, 제4 방향 구동 기구의 제1 지지부가 고정된 부위를 기점으로 하여, 기준 평면에 직교하는 방향 둘레로 회동하는 것을 방지할 수 있다. 이 때문에, 각 제4 방향 구동 기구에 의한 지지 높이 위치(제4 방향에서 본 지지 위치)를 적절하게 변경함으로써, 평면 조정판에 있어서 설정된 위치 및 회전 자세의 변경을 초래하는 일없이, 제4 방향 조정판, 즉 워크의 제4 방향에서의 위치 및 제4 방향에 대한 기울기를 설정할 수 있다.
상기한 배치 스테이지를 이용한 노광 장치에서는, 배치 스테이지에 있어서 워크가 매우 높은 정밀도로 위치 및 회전 자세가 설정되고 있으므로, 그 워크에 마스크 패턴상을 적절하게 노광할 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 노광 장치의 구성을 모식적으로 도시하는 설명도이다.
도 2는 배치 스테이지의 구성을 모식적으로 도시하는 사시도이다.
도 3은 도 2의 I-I선을 따라서 얻어진 단면도이다.
도 4는 배치 스테이지에 있어서의 베이스 부재, 양 Y축 구동 기구, Y축 슬라이더, 양 X축 구동 기구 및 양 X축 슬라이더의 모습을 도시하는 도 2와 같은 식의 사시도이다.
도 5는 도 4에 XY 조정판 및 각 연결부를 더한 모습을 도시하는 도 2와 같은 식의 사시도이다.
도 6은 양 X축 슬라이더, XY 조정판 및 각 연결부의 위치 관계를 설명하기 위한 설명도이다.
도 7은 제1 연결부의 구성을 모식적으로 도시하는 사시도이다.
도 8은 제2 연결부의 구성을 모식적으로 도시하는 사시도이다.
도 9는 제3 연결부의 구성을 모식적으로 도시하는 사시도이다.
도 10은 제4 연결부의 구성을 모식적으로 도시하는 사시도이다.
도 11은 도 5에 각 Z축 구동 기구를 더한 모습을 도시하는 도 2와 같은 식의 사시도이다.
도 12는 Z축 구동 기구의 구성을 설명하기 위해, 그 구동 본체부의 주변을 확대하여 도시하는 도 3과 같은 식의 단면도이다.
도 13은 도 6에 도시하는 양 X축 슬라이더와 XY 조정판이 각 연결부에 의해 연결된 모식도를 Z축 방향의 위쪽에서 본 모습을 도시하는 설명도이다.
도 14는 도 13과 같은 식의 설명도로서, (a)가 X축 슬라이더를 정면에서 보아 좌측(X축 방향의 마이너스측)으로 이동한 모습을 나타내고, (b)가 X축 슬라이더를 정면에서 보아 우측(X축 방향의 플러스측)으로 이동한 모습을 나타내고 있다.
도 15는 기준 축선(Ba)을 원점 O으로 하는 좌표 상에서의 기준 XY 조정판을 도시하는 설명도이다.
도 16은 도 15와 같은 식의 설명도로서, (a)가 기준 XY 조정판을 플러스측으로 A도 회전시키도록, X축 슬라이더를 X축 방향의 마이너스측으로 Xs만큼 이동시킨 모습을 나타내고, (b)가 기준 XY 조정판을 마이너스측으로 A도 회전시키도록, X축 슬라이더를 X축 방향의 플러스측으로 Xs만큼 이동시킨 모습을 나타내고 있다.
도 17은 도 15와 같은 식의 설명도로서, (a)가 플러스측으로 A도 회전된 기준 XY 조정판을 이동하는 모습을 나타내고, (b)가 마이너스측으로 A도 회전된 기준 XY 조정판을 이동하는 모습을 나타내고 있다.
도 18은 좌표 위치(X0, Y0)가 기준 원점 Ob를 회전 중심으로 하여 임의의 회전 각도 θr만큼 회전 이동된 좌표 위치(X1, Y1)를 나타내는 설명도이다.
도 19는 다른 예의 제2 연결부의 구성을 모식적으로 도시하는 사시도이다.
도 20은 다른 예에 있어서의 도 16과 같은 식의 설명도로서, (a)가 기준 XY 조정판을 플러스측으로 A도 회전시키도록, X축 슬라이더를 X축 방향의 마이너스측으로 Xs만큼 이동시킨 모습을 나타내고, (b)가 기준 XY 조정판을 마이너스측으로 A도 회전시키도록, X축 슬라이더를 X축 방향의 플러스측으로 Xs만큼 이동시킨 모습을 나타내고 있다.
이하에, 본 발명에 따른 배치 스테이지의 실시예를 도면을 참조하면서 상세하게 설명한다.
실시예
우선, 본 발명에 따른 배치 스테이지(30)가 이용된 노광 장치(10)의 개략적인 구성을 도 1을 참조하여 설명한다. 노광 장치(10)는, 도 1에 도시된 바와 같이, 광축 방향을 따라서 출사측에서부터 순서대로, 광원(11)과, 콜드 미러(12)와, 노광 셔터(13)와, 자외선 밴드패스 필터(14)와, 인테그레이터 렌즈(15)와, 콜리메이터 렌즈(16)와, 평면 거울(17)과, 마스크 스테이지(18)와, 마스크 블라인드(19)와, 투영 렌즈(20)와, 배율 보정부(21)와, 배치 스테이지(30)(투영 노광 스테이지)를 갖는다. 이 배치 스테이지(30) 상에는 가공해야 하는 워크(22)가 배치된다. 이 노광 장치(10)는, 워크(22)에 투영해야 하는 노광광으로서 자외선을 이용하고 있다. 워크(22)의 위치 결정에 대해서는 후술한다.
광원(11)은 노광에 이용하는 노광광으로서의 자외선의 조사를 위해 설치되어 있으며, 본 실시예에서는, 광원(11)은, 예컨대 타원 거울(11b)과 이 타원 거울(11b)의 제1 초점 위치에 배치된 수은 램프(11a)로 구성되어 있다. 타원 거울(11b)은 예컨대 타원 반사경으로 구성되어 있다. 이 광원(11)에서는, 수은 램프(11a)로부터 출사된 출사광을 타원 반사경(11b)에서 반사하여 콜드 미러(12)로 진행시킨다.
콜드 미러(12)는, 입사된 빛 중, 적외 영역의 열선을 투과시키고 다른 파장 대역의 빛을 반사하는 것으로, 입사된 빛으로부터 적외 영역의 열선을 분리할 수 있다. 이 때문에, 광원(11)으로부터의 출사광은, 콜드 미러(12)에 의해 적외 영역의 열선이 분리되어, 노광 셔터(13) 혹은 자외선 밴드패스 필터(14)로 진행한다.
노광 셔터(13)는, 콜드 미러(12)에 의해 반사된 출사광의 투과 및 차단의 전환을 가능하게 하기 위해, 콜드 미러(12)에서 자외선 밴드패스 필터(14)로 향하는 광로(후술하는 조사 광로) 상에 출입 가능하게 되어 있다. 이 노광 셔터(13)는, 광로 상에서 후퇴되면 후술하는 바와 같이 워크(22)의 노광을 가능하게 하고, 광로 상에 위치되면 워크(22)의 노광을 정지시킨다.
자외선 밴드패스 필터(14)는, 입사된 빛 중 자외선만의 투과를 허용하는 것으로, 본 실시예에서는, 파장 365 nm의 수은의 스펙트럼선인 i선의 투과를 허용하는 i선 밴드패스 필터에 의해 구성되어 있다. 이 때문에, 콜드 미러(12)에 의해 반사된 출사광은, 자외선 밴드패스 필터(14)에 의해 자외선(i선) 파장 대역만의 빛(실제로는, i선 파장 대역 근방의 강도가 높은 빛)으로 되어, 인테그레이터 렌즈(15)로 진행한다.
인테그레이터 렌즈(15)는, 입사된 빛의 조도 불균일을 없애 조사면에 있어서 주변부까지 균일하고 밝은 조도 분포로 한다. 이 때문에, 자외선 밴드패스 필터(14)를 지나서 자외선(i선)의 파장 대역만의 빛으로 된 입사광은, 인테그레이터 렌즈(15)에 의해 균일한 조도 분포로 되어 콜리메이터 렌즈(16)로 진행한다.
콜리메이터 렌즈(16)는, 입사된 빛을 평행광(광속)으로서 출사한다. 이 때문에, 인테그레이터 렌즈(15)를 거쳐 균일한 조도 분포로 된 출사광은, 콜리메이터 렌즈(16)에 의해 평행광으로 되어 평면 거울(17)로 진행하고, 그 평면 거울(17)에 의해 반사되어 마스크 스테이지(18)로 진행한다.
마스크 스테이지(18)는, 패턴이 형성된 마스크(18a)를, 평면 거울(17)에 의해 반사된 출사광의 광로 상에 위치시키면서 그 광로의 광축에 직교하는 방향으로 이동 가능하게 유지한다. 또한, 마스크 스테이지(18)는, 마스크(18a)의 착탈이 가능하게 되어 있고, 또 마스크(18a)와는 다른 패턴이 형성된 마스크로의 교환이 가능하게 되어 있다(도시하지 않음). 이 때문에, 평면 거울(17)에 의해 반사된 출사광은, 마스크(18a)를 투과함으로써, 마스크(18a)에 형성된 패턴의 형상에 따른 것으로 되어 투영 렌즈(20)로 진행한다.
이 때문에, 노광 장치(10)에서는, 광원(11)으로부터, 콜드 미러(12), 노광 셔터(13), 자외선 밴드패스 필터(14), 인테그레이터 렌즈(15), 콜리메이터 렌즈(16) 및 평면 거울(17)을 거치는 광로가, 노광광으로서의 자외선(i선)으로 마스크(18a)를 조사하기 위한 조사 광학계로서 기능한다.
이 마스크 스테이지(18)와 투영 렌즈(20) 사이에, 마스크 블라인드(19)가 설치된다. 마스크 블라인드(19)는, 마스크(18a)를 거친 출사광의 광로 상에 진퇴 가능하게 설치되어 있어, 마스크(18a)의 마스크 패턴 중 원하는 영역만의 마스크 패턴상을, 배치 스테이지(30)에 배치된 후술하는 워크(22) 상에 적절하게 형성하도록, 마스크(18a)의 마스크 패턴에 따라서 적절하게 광로 상으로 진출된다.
투영 렌즈(20)는, 배치 스테이지(30) 상의 워크(22)에, 마스크(18a)에 형성된 패턴을 적절하게 노광하기 위한 것으로, 마스크 스테이지(18)에 유지된 마스크(18a) 패턴의 상(이하, 마스크 패턴상이라고도 함)을, 적절하게 변배(變倍)하여 배치 스테이지(30)에 배치된 워크(22)의 표면에 형성한다. 즉, 투영 렌즈(20)는, 배치 스테이지(30)에 배치된 상태의 워크(22)의 표면을 결상면으로 하여, 그 결상면과 마스크(18a)가 광학적으로 공역(共役)의 위치 관계로 설정되어 있다. 노광 장치(10)에서는, 전술한 바와 같이, 노광광으로서 자외선(i선)을 이용하므로, 투영 렌즈(20)는 노광광인 자외선(i선)을 높은 정밀도로 수차(收差)하여 보정하도록 설정되어 있다. 이 때문에, 마스크(18a)를 투과한 출사광이 투영 렌즈(20)에 입사되면, 이 투영 렌즈(20)는, 마스크(18a)의 마스크 패턴상을 배치 스테이지(30) 상의 결상면[후술하는 워크(22) 상]에 적절하게 형성한다.
이 투영 렌즈(20)와 배치 스테이지(30)의 사이에, 배율 보정부(21)가 설치된다. 이 배율 보정부(21)는, 배치 스테이지(30) 상에 배치되는 워크(22)에 있어서의 왜곡에 따라서, 배치 스테이지(30) 상의 결상면에 형성하는 마스크 패턴상을 변형시킨다. 이 배율 보정부(21)는, 광로에 직교하는 면에서 보아, 임의 방향에서의 배율을 적절하게 변화시킴으로써, 결상면에서의 마스크 패턴상을 변형시킨다. 배율 보정부(21)는, 예컨대 광로 방향으로 여러 장의 유리판을 배열하고, 각 유리판을 적절하게 만곡시키거나 회전시키거나 함으로써, 마스크 패턴상의 변형을 실현할 수 있다.
이와 같이, 노광 장치(10)에서는, 마스크 블라인드(19), 투영 렌즈(20) 및 배율 보정부(21)가, 소정의 패턴이 형성된 마스크(18a)를 투과한 노광광으로서의 자외선을, 배치 스테이지(30) 상의 결상면[후술하는 워크(22) 상]에 마스크 패턴상으로서 결상시키는 투영 광학계로서 기능한다.
배치 스테이지(30)에서는, 마스크 패턴의 노광을 위해서 워크(22)가 배치된다. 이 배치 스테이지(30)는, 배치되는 워크(22)의 표면을 투영 렌즈(20)의 결상면에 일치시켜 워크(22)를 유지할 수 있고, 이 유지된 워크(22)를 투영 광로에 직교하는 면을 따라서 이동시키는 것이 가능하다. 이 배치 스테이지(30)에 있어서의 워크(22)의 이동은, 본 실시예에서는, 배치 스테이지(30)의 안쪽에 설치된 구동 제어부(도시하지 않음)의 제어 하에서 이루어진다. 이 배치 스테이지(30)의 구성에 대해서는 이후에 상세하게 설명한다. 한편, 배치 스테이지(30)에 있어서의 워크(22)의 이동은 수동에 의해 행하는 것이라도 좋다.
워크(22)는, 실리콘 웨이퍼, 유리 기판 또는 프린트 기판 등과, 이들 기판 등에 도포 또는 부착되어 자외선(i선)에 대하여 광반응하는 포토레지스트 등의 감광 재료를 구비하고 있다. 이 때문에, 워크(22)는 자외선(i선)의 조사에 의해 노광 가능하게 되어 있다.
이 노광 장치(10)에서는, 조사 광학계에 있어서, 광원(11)으로부터 출사된 출사광이, 콜드 미러(12), 자외선 밴드패스 필터(14), 인테그레이터 렌즈(15), 콜리메이터 렌즈(16) 및 평면 거울(17)을 지나, 마스크 스테이지(18)에 도달함으로써, 마스크 스테이지(18)에 유지된 마스크(18a)를 자외선(i선)으로 균일하게 조사한다. 그러면, 노광 장치(10)에서는, 투영 광학계, 즉 마스크 블라인드(19), 투영 렌즈(20) 및 배율 보정부(21)의 기능에 의해, 배치 스테이지(30) 상의 결상면에, 자외선(i선)에 의한 마스크 패턴상이 적절하게 형성된다. 이 때문에, 노광 장치(10)에서는, 워크(22)를 결상면을 따라서 적절하게 위치 결정함으로써, 마스크 패턴상을 워크(22)에 적절하게 노광시킬 수 있다. 이 마스크 패턴상에 대한 워크(22)의 위치, 즉 광학적으로 투영 광학계[주로, 투영 렌즈(20)]를 거친 마스크(18a)에 대한 워크(22)의 위치는, 배치 스테이지(30)가 유지하는 워크(22)를 결상면 상에서 적절하게 이동시킴으로써 조정(얼라인먼트)할 수 있다.
본 발명에 따른 노광 장치(10)에서 이용하는 배치 스테이지(30)는, 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 베이스 부재(31)와, 2개의 Y축 구동 기구(32)와, Y축 슬라이더(33)와, 2개의 X축 구동 기구(34)와, 2개의 X축 슬라이더(35)와, XY 조정판(36)과, 3개의 Z축 구동 기구(37)와, Z축 조정판(38)과, 리프트 기구(39)와, 척 플레이트(40)를 갖는다.
베이스 부재(31)는, 전술한 투영 광학계에 대한 워크(22)(도 1 참조)의 위치 관계를 설정할 때의 기준이 되는 기준 평면을 따라서 연장되는 판형 부재이며, 투영 광학계에 대하여 고정적으로 설치된다. 이 기준 평면은, 전술한 투영 광학계에 의해 마스크 패턴상이 결상되는 위치, 즉 투영 렌즈(20)에 의해 마스크(18a)와 광학적으로 공역의 위치 관계로 된 결상면이다. 본 실시예에서는, 상기 투영 광학계의 광축 방향을 Z축 방향으로 하고, 기준 평면은, 이 Z축에 직교하는 평면인 X-Y 평면에 평행한 평면으로 한다. 이 Z축 방향의 플러스의 측은, 배치 스테이지(30)로부터 전술한 투영 광학계로 향하는 측(도 2를 정면에서 보아 상측)으로 하며, 본 명세서에서는, 배치 스테이지(30)에 있어서의 상측이라고도 한다. 이 때문에, 베이스 부재(31)는 X-Y 평면을 따라서 연장되어 있다. 이 베이스 부재(31)의 상면에 2개의 Y축 구동 기구(32)가 설치된다.
2개의 Y축 구동 기구(32)는, 도 2 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 베이스 부재(31)의 상면에 있어서, X축 방향에서 본 양단 위치에 설치된다. 이 양 Y축 구동 기구(32)는, 베이스 부재(31)에 대한 Y축 방향으로의 구동력을 Y축 슬라이더(33)에 부여하는 것이다. Y축 슬라이더(33)는, 중앙에 관통 구멍(33a)을 갖는 판형을 띠며, 기준 평면을 따라 설치된다.
각 Y축 구동 기구(32)는, 후술하는 X축 구동 기구(34)와 기본적으로 같은 구성이며, Y축 고정자(32a)와, 1쌍의 베이스측 Y축 가이드 부재(32b)와, 도시하지는 않지만, Y축 가동자와, 1쌍의 슬라이더측 Y축 가이드 부재를 갖는다. Y축 고정자(32a)는, 베이스 부재(31)의 상면에 있어서, 다른 자극(磁極)이 인접하도록 복수의 영구자석이 Y축 방향으로 정렬되어 있어, 소위 마그넷 트랙을 구성하고 있다. 1쌍의 베이스측 Y축 가이드 부재(32b)는, 베이스 부재(31)의 상면에 있어서, Y축 고정자(32a)를 사이에 두는 식으로 설치되어 있으며, Y축 방향으로 연장되어 있다. 양 베이스측 Y축 가이드 부재(32b)는, Y축 슬라이더(33)의 하면(이면)에 설치된 1쌍의 슬라이더측 Y축 가이드 부재(도시하지 않음)와, 연장 방향(Y축 방향)으로의 미끄럼 이동이 자유로운 감합(嵌合)이 가능하게 되어 있다. 도시하지 않는 Y축 가동자는, Y축 슬라이더(33)의 하면(이면)에 있어서, 1쌍의 슬라이더측 Y축 가이드 부재(도시하지 않음) 사이에 설치되어 있으며, Z축 방향(상하 방향)에서 Y축 고정자(32a)와 대향 가능하게 되어 있다. 이 Y축 가동자(도시하지 않음)에는 전류의 인가가 가능하게 된 코일이 수용되어 있다.
각 Y축 구동 기구(32)에서는, Y축 가동자(도시하지 않음)와 Y축 고정자(32a) 사이에서의 자력에 의한 흡인 반발력을 적절하게 작용시킴으로써, 상기 Y축 가동자가 고정된 Y축 슬라이더(33)를 베이스 부재(31)에 대하여 Y축 방향으로 적절하게 이동시킬 수 있다. 이 때문에, 본 실시예에서는, Y축 방향이 기준 평면을 따르는 제1 방향으로서 기능하고, 양 Y축 구동 기구(32)가 제1 구동 기구로서 기능하며, Y축 슬라이더(33)가 제1 슬라이더로서 기능한다. 이 베이스 부재(31)에 있어서의 Y축 슬라이더(33)의 위치를 검출하기 위해서, 도시하지는 않지만 위치 검출 소자가 설치되어 있다. 한편, 양 Y축 구동 기구(32)는, 단일의 Y축 슬라이더(33)를 이동시키는 것이므로, 쌍방이 동기되어 제어된다.
배치 스테이지(30)에서는, 그 안쪽에 설치된 구동 제어부(도시하지 않음)에 의해, 양 Y축 가동자(도시하지 않음)로의 인가 전류를 동기적으로 제어하여, 상기 양 Y축 가동자와 양 Y축 고정자(32a) 사이에서의 자력에 의한 흡인 반발력을 적절하게 작용시킴으로써, 양 Y축 가동자가 고정된 Y축 슬라이더(33)를 베이스 부재(31)에 대하여 적절하게 이동시킨다. 이때, 전술한 구동 제어부(도시하지 않음)에서는, 이 이동이 자력에 의한 흡인 반발력을 이용하는 것이므로, 설정한 이동 목표 위치로 적절하게 이동하도록, 위치 검출 소자(도시하지 않음)로부터의 위치 정보에 기초하여 서보 제어를 행한다. Y축 슬라이더(33)에, 2개의 X축 구동 기구(34)가 설치된다.
2개의 X축 구동 기구(34)는, Y축 슬라이더(33)의 상면에 있어서, Y축 방향에서 본 양단 위치에 설치된다. 이 각 X축 구동 기구(34)는, Y축 슬라이더(33)에 대한 X축 방향으로의 구동력을, 대응하는 X축 슬라이더(35)(35A, 35B)에 부여하는 것이다. 양 X축 슬라이더(35)는, X축 방향에서 보아 대략 같은 길이 치수로 된 판형을 띠며, Z축 방향에서 보아 같은 높이 위치(상하 위치)로 기준 평면을 따라서 설치된다.
각 X축 구동 기구(34)는, X축 고정자(34a)와, 1쌍의 베이스측 X축 가이드 부재(34b)와, X축 가동자(34c)와, 1쌍의 슬라이더측 X축 가이드 부재(34d)를 갖는다. X축 고정자(34a)는, Y축 슬라이더(33)의 상면에 있어서, 다른 자극이 인접하도록 복수의 영구자석이 X축 방향으로 정렬되어 형성되어 있어, 소위 마그넷 트랙을 구성하고 있다. 양 베이스측 X축 가이드 부재(34b)는, Y축 슬라이더(33)의 상면에 있어서, X축 고정자(34a)를 사이에 끼우는 식으로 쌍을 이루어 설치되어 있으며, X축 방향으로 연장되어 있다. 양 베이스측 X축 가이드 부재(34b)는, 대응하는 슬라이더측 X축 가이드 부재(34d)의 연장 방향으로의 미끄럼 이동이 자유로운 감합이 가능하게 되어 있다. X축 가동자(34c)는, X축 슬라이더(35)의 하면(이면)에 설치되어 있으며, Z축 방향(상하 방향)에서 X축 고정자(34a)와 대향할 수 있게 되어 있다(도 3 참조). 이 X축 가동자(34c)에는, 전류의 인가가 가능하게 된 코일이 수용되어 있다. X축 가동자(34c)의 양측에, 1쌍의 슬라이더측 X축 가이드 부재(34d)가 설치된다.
2개의 X축 구동 기구(34)는, 한쪽(개별적으로 말할 때는 34A라고 함)이 X축 슬라이더(35A)에 대응되어 설치되어 있고, 다른쪽(개별적으로 말할 때는 34B라고 함)이 X축 슬라이더(35B)에 대응되어 설치되어 있다. 즉, X축 구동 기구(34A)는, 한쪽의 X축 슬라이더(35A)를 X축 방향으로 이동시키도록 설치되어 있으며, 그 X축 가동자(34c)가 X축 슬라이더(35A)의 하면에 설치되어 있다. 또한, X축 구동 기구(34B)는, 다른쪽의 X축 슬라이더(35B)를 X축 방향으로 이동시키도록 설치되어 있으며, X축 가동자(34c)가 X축 슬라이더(35B)의 하면에 설치되어 있다.
각 X축 구동 기구(34)에서는, X축 가동자(34c)와 X축 고정자(34a)의 사이에서의 자력에 의한 흡인 반발력을 적절하게 작용시킴으로써, 대응하는 X축 슬라이더(35)(35A 혹은 35B)를 Y축 슬라이더(33)에 대하여 X축 방향으로 적절하게 이동시킬 수 있다. 이 때문에, 본 실시예에서는, X축 방향이 기준 평면을 따르며 또한 제1 방향에 대하여 경사지는 제2 방향으로서 기능하고, 각 X축 구동 기구(34)가 제2 구동 기구로서 기능하며, 각 X축 슬라이더(35)가 제2 슬라이더로서 기능한다. Y축 슬라이더(33) 상에 있어서의 각 X축 슬라이더(35A, 35B)의 위치를 검출하기 위해서, 도시하지는 않지만 위치 검출 소자가 설치되어 있다. 한편, 본 실시예에서는, X축 슬라이더(35A)와 X축 슬라이더(35B)가 X축 방향에서의 이동 가능한 범위의 중앙 위치에 있는 상태, 즉 X축 슬라이더(35A)와 X축 슬라이더(35B)가 Y축 슬라이더(33)의 상면에 있어서 X축 방향에서의 중앙 위치에서 Y축 방향으로 정렬되어 있는 상태(도 4 등 참조)를, 양 X축 구동 기구(34)에 의한 구동 제어(X축 방향으로의 이동)의 기준 위치로 하고 있다.
배치 스테이지(30)에서는, 그 안쪽에 설치된 구동 제어부(도시하지 않음)에 의해, 각 X축 가동자(34c)에의 인가 전류가 개별적으로 제어되고, X축 가동자(34c)와 X축 고정자(34a)의 사이에서의 자력에 의한 흡인 반발력을 적절하게 작용시킴으로써, X축 가동자(34c)가 고정된 X축 슬라이더(35)(35A 혹은 35B)가 Y축 슬라이더(33)에 대하여 적절하게 개별적으로 혹은 일체적으로 이동된다. 이때, 전술한 구동 제어부(도시하지 않음)에서는, 이 이동이 자력에 의한 흡인 반발력을 이용하는 것이므로, 설정한 이동 목표 위치로 적절하게 이동하도록, 위치 검출 소자(도시하지 않음)로부터의 위치 정보에 기초하여 서보 제어를 행한다. 2개의 X축 슬라이더(35)를 걸치는 식으로 XY 조정판(36)이 설치된다(도 5 참조).
XY 조정판(36)은, 워크(22)(도 1 참조)의 X-Y 방향에서의 위치 및 X-Y 평면을 따르는 회전 자세의 설정(조정)을 위해서 설치된다. XY 조정판(36)은, 도 5에 도시된 바와 같이, 판형을 띠며, 양 X축 슬라이더(35)의 위쪽에서, X축 슬라이더(35A)와 X축 슬라이더(35B)를 기준 평면을 따라서 걸치는 식으로 연장되어 있다. XY 조정판(36)은, 기본적으로는, 제1 연결부(51)에 의해 X축 슬라이더(35A)에 연결되고, 제2 연결부(52)에 의해 X축 슬라이더(35B)에 연결되어 있다. 본 실시예에서는, 제1 연결부(51) 및 제2 연결부(52)에 더하여, 제3 연결부(53)에 의해 X축 슬라이더(35A)에 연결되고, 제4 연결부(54)에 의해 X축 슬라이더(35B)에 연결되어 있다. 각 연결부(51, 52, 53, 54)는 Z축 방향으로 연장되어 있으며, 상측의 일단에서 XY 조정판(36)에 접속되고, 하측의 타단에서 X축 슬라이더(35)(35A, 35B)에 접속되어 있다.
여기서, 도 6에 도시된 바와 같이, XY 조정판(36)에 있어서, 제1 연결부(51)가 접속된 부위를 판측 제1 지지점(Sb1)으로 하고, 제2 연결부(52)가 접속된 부위를 판측 제2 지지점(Sb2)으로 하며, 제3 연결부(53)가 접속된 부위를 판측 제3 지지점(Sb3)으로 하고, 제4 연결부(54)가 접속된 부위를 판측 제4 지지점(Sb4)으로 한다. 또한, X축 슬라이더(35A)에 있어서, 제1 연결부(51)가 접속된 부위를 슬라이더측 제1 지지점(Ss1)으로 하고, 제3 연결부(53)가 접속된 부위를 슬라이더측 제3 지지점(Ss3)으로 한다. 또한, X축 슬라이더(35B)에 있어서, 제2 연결부(52)가 접속된 부위를 슬라이더측 제2 지지점(Ss2)으로 하고, 제4 연결부(54)가 접속된 부위를 슬라이더측 제4 지지점(Ss4)으로 한다. 본 실시예에서는, XY 조정판(36)에 있어서의 각 지지점(Sb1, Sb2, Sb3, Sb4)은, Z축 방향에서 보면, 정방형을 그리도록 배치되어 있다.
제1 연결부(51)는, 판측 제1 지지점(Sb1)과 슬라이더측 제1 지지점(Ss1)을 Z축 방향에서 보아 동일 직선상에 위치시키면서 상대적인 위치 관계를 고정한 상태에서, 양 지지점(Sb1, Ss1)을 포함하는 기준 축선(Ba) 둘레로 X축 슬라이더(35A)와 XY 조정판(36)이 상대적으로 회전하는 것을 허용하도록, X축 슬라이더(35A)와 XY 조정판(36)을 연결한다. 본 실시예에서는, 제1 연결부(51)는, 도 7에 도시된 바와 같이, X축 슬라이더(35A)에 고정되어 Z축 방향으로 연장되는 연결 기초 부분(51a)과, 그 연장단 부분(51b)에 대하여 회전 가능하게 설치된 회전 부분(51c)을 갖는다. 연결 기초 부분(51a)은 전체적으로 원통형을 띠며, 그 중심 축선(Ba)이 Z축 방향을 따르는 것으로 되어 있다. 이 회전 부분(51c)은, 연결 기초 부분(51a)의 연장단 부분(51b)을 둘러싸는 환상을 띠며, 연장단 부분(51b)에 대하여 연결 기초 부분(51a)의 중심 축선(Ba) 둘레로 회전 가능하게 되어 있다. 제1 연결부(51)에서는, 회전 부분(51c)이 XY 조정판(36)에 고정적으로 부착되어 있다.
이 제1 연결부(51)에서는, 연결 기초 부분(51a)의 중심 축선(Ba) 둘레로, 연결 기초 부분(51a)과 회전 부분(51c)의 상대적인 회전이 가능하므로, 연결 기초 부분(51a)이 마련된 X축 슬라이더(35A)와 회전 부분(51c)이 마련된 XY 조정판(36)의 상기 중심 축선(Ba) 둘레로의 상대적인 회전을 허용하면서, X축 슬라이더(35A)와 XY 조정판(36)을 연결하고 있다. 이 때문에, 제1 연결부(51)에서는, 연결 기초 부분(51a)의 중심 축선이 기준 축선(Ba)으로 되어, 연결 기초 부분(51a)의 중심 위치가 슬라이더측 제1 지지점(Ss1)으로 되고, 회전 부분(51c)의 중심 위치가 판측 제1 지지점(Sb1)으로 된다.
제2 연결부(52)는, 판측 제2 지지점(Sb2)과 슬라이더측 제2 지지점(Ss2)을 X-Y 평면을 따르는 제3 방향으로의 상대적인 위치 변화를 허용하고, 또한 Z축 방향 둘레로 X축 슬라이더(35B)와 XY 조정판(36)이 상대적으로 회전하는 것을 허용하도록, X축 슬라이더(35B)와 XY 조정판(36)을 연결한다(도 6 등 참조). 이 제2 연결부(52)는, 본 실시예에서는, 도 8에 도시된 바와 같이, X축 슬라이더(35B)에 고정되어 Z축 방향으로 연장된 연결 기초 부분(52a)과, 이 연결 기초 부분(52a)에 대하여 회전 가능하게 된 연결 회전 부분(52b)과, 그 상단면에 고정된 레일 유지 부분(52c)과, 이 레일 유지 부분(52c)에 미끄럼 이동 가능하게 유지되는 레일(52d)과, 이 레일(52d)에 고정된 부착 부분(52e)을 갖는다. 이 연결 기초 부분(52a)은, 전체적으로 원통형을 띠며, 그 중심 축선이 Z축 방향을 따르는 것으로 되어 있다. 연결 회전 부분(52b)은, 연결 기초 부분(52a)보다도 작은 직경 치수의 원기둥 형상을 띠며, 그 연결 기초 부분(52a) 상의 동심 위치에 마련된다. 연결 회전 부분(52b)은, 연결 기초 부분(52a)에 대하여 그 연결 기초 부분(52a)의 중심 축선 둘레로 회전 가능하게 되어 있다. 레일 유지 부분(52c)은, X-Y 평면을 따르는 방향이며, X축 방향(제2 방향) 및 Y축 방향(제1 방향)에 대하여 경사지는 제3 방향으로 미끄럼 이동 가능하게 레일(52d)을 유지할 수 있게 되어 있다. 레일(52d)은, 제3 방향으로 연장된 막대 형상을 띠며, 부착 부분(52e)에 고정되어 있다. 부착 부분(52e)은, 전체적으로 원기둥 형상을 띠며, XY 조정판(36)에 고정적으로 부착되어 있다. 이 때문에, 레일(52d)은 부착 부분(52e)을 통해 XY 조정판(36)에 고정되어 있게 된다. 이 레일(52d)의 연장 방향, 즉 제3 방향은, 본 실시예에서는, XY 조정판(36) 상에 있어서 판측 제2 지지점(Sb2)과 판측 제1 지지점(Sb1)을 연결하는 선분의 연장 방향에 일치하는 것으로 되어 있고, 각 지지점(Sb1, Sb2, Sb3, Sb4)이 그리는 정방형의 대각선과 일치되고 있다. 이 때문에, 제3 방향은, 양 X축 구동 기구(34)가 구동 제어의 기준 위치로 되면, X축 방향(제2 방향) 및 Y축 방향(제1 방향)에 대하여 45도의 경사를 갖는 것으로 된다.
이 제2 연결부(52)에서는, 레일(52d)과 레일 유지 부분(52c)의 제3 방향으로의 상대적인 이동이 가능하고, 레일 유지 부분(52c)이 마련된 연결 회전 부분(52b)의 중심 축선 둘레로, 연결 회전 부분(52b)과 연결 기초 부분(52a)의 상대적인 회전이 가능하다. 이 때문에, 제2 연결부(52)는, 연결 기초 부분(52a)이 마련된 X축 슬라이더(35B)와 레일(52d)[부착 부분(52e)]이 마련된 XY 조정판(36)의 제3 방향으로의 상대적인 변위를 허용하고, 또한 연결 기초 부분(52a)[연결 회전 부분(52b)]의 중심 축선 둘레로의 X축 슬라이더(35B)와 XY 조정판(36)의 상대적인 회전을 허용하면서, X축 슬라이더(35B)와 XY 조정판(36)을 연결하고 있다. 이 때문에, 제2 연결부(52)에서는, 연결 기초 부분(52a)의 중심 위치가 슬라이더측 제2 지지점(Ss2)으로 되고, 레일(52d)[부착 부분(52e)]의 중심 위치가 판측 제2 지지점(Sb2)으로 된다. 이 제2 연결부(52)는, X축 슬라이더(35A)와 X축 슬라이더(35B)가 구동 제어의 기준 위치로 되었을 때, 판측 제2 지지점(Sb2)과 슬라이더측 제2 지지점(Ss2)을 Z축 방향에서 보아 동일 직선상에 위치시키는[레일(52d)의 중심 위치(부착 부분(52e)의 중심 축선)와 연결 기초 부분(52a)의 중심 축선이 일치함] 기준 위치가 되도록 위치 설정되어, X축 슬라이더(35B)와 XY 조정판(36)에 각각 마련된다.
제3 연결부(53)는, 판측 제3 지지점(Sb3)과 슬라이더측 제3 지지점(Ss3)을 X-Y 평면을 따르는 방향으로의 상대적인 위치의 변화를 허용하며, 또한 Z축 방향 둘레로 X축 슬라이더(35A)와 XY 조정판(36)이 상대적으로 회전하는 것을 허용하도록, X축 슬라이더(35A)와 XY 조정판(36)을 연결한다(도 6 등 참조). 본 실시예에서는, 제3 연결부(53)는, 도 9에 도시된 바와 같이, X축 슬라이더(35A)에 고정된 제1 레일(53a)과, 제1 레일(53a)을 미끄럼 이동 가능하게 유지하는 제1 레일 유지 부분(53b)과, 제1 레일 유지 부분(53b)에 고정된 고정판 부분(53c)과, 고정판 부분(53c)에 고정된 제2 레일 유지 부분(53d)과, 제2 레일 유지 부분(53d)에 미끄럼 이동 가능하게 유지되는 제2 레일(53e)과, 제2 레일(53e)에 고정된 회전축 부분(53f)과, 회전축 부분(53f)에 대하여 회전 가능하게 형성된 회전 부분(53g)을 갖는다. 제1 레일(53a)은 Y축 방향으로 연장된 막대 형상을 띤다. 제1 레일 유지 부분(53b)은, 제1 레일(53a)의 연장 방향으로 미끄럼 이동 가능하게 제1 레일(53a)을 유지하는 것이 가능하게 되어 있다. 고정판 부분(53c)은, 판형을 띠며, 하면측에 제1 레일 유지 부분(53b)이 마련되고, 상면측에 제2 레일 유지 부분(53d)이 형성되어 있어, 제1 레일 유지 부분(53b)과 제2 레일 유지 부분(53d)의 위치 관계를 고정하고 있다. 제2 레일 유지 부분(53d)은, X축 방향으로 미끄럼 이동 가능하게 제2 레일(53e)을 유지할 수 있게 되어 있다. 제2 레일(53e)은, X축 방향으로 연장된 막대 형상을 띠며, 그 연장 방향으로 이동 가능하게 제2 레일 유지 부분(53d)에 유지되어 있다. 회전축 부분(53f)은, 전체적으로 원기둥 형상을 띠며, 중심 축선이 Z축 방향을 따르도록 제2 레일(53e)에 고정되어 있다. 회전 부분(53g)은, 회전축 부분(53f)을 둘러싸는 환상의 형상을 지니며, 회전축 부분(53f)에 대하여 회전축 부분(53f)의 중심 축선 둘레로 회전 가능하게 되어 있다. 제3 연결부(53)에서는, 회전 부분(53g)이 XY 조정판(36)에 고정적으로 부착되어 있다.
제3 연결부(53)에서는, 제1 레일(53a)과 제1 레일 유지 부분(53b)[그것이 고정판 부분(53c)을 통해 고정된 제2 레일 유지 부분(53d)]의 Y축 방향으로의 상대적인 이동이 가능하며, 또한 제2 레일 유지 부분(53d)과 제2 레일(53e)의 X축 방향으로의 상대적인 이동이 가능하고, 더구나 제2 레일(53e)에 설치된 회전축 부분(53f)의 중심 축선 둘레로, 회전축 부분(53f)과 회전 부분(53g)의 상대적인 회전이 가능하다. 이 때문에, 제3 연결부(53)는, 제1 레일(53a)이 설치된 X축 슬라이더(35A)와 회전 부분(53g)이 설치된 XY 조정판(36)의 X-Y 평면을 따르는 방향으로의 상대적인 변위를 허용하고, 또한 회전축 부분(53f)의 중심 축선 둘레로의 상대적인 회전을 허용하면서, X축 슬라이더(35A)와 XY 조정판(36)을 연결하고 있다. 이 때문에, 제3 연결부(53)에서는, 제1 레일(53a)의 중심 위치가 슬라이더측 제3 지지점(Ss3)으로 되고, 회전 부분(53g)의 중심 위치가 판측 제3 지지점(Sb3)으로 된다. 제3 연결부(53)는, X축 슬라이더(35A)와 X축 슬라이더(35B)가 구동 제어의 기준 위치로 되었을 때, 판측 제3 지지점(Sb3)과 슬라이더측 제3 지지점(Ss3)을 Z축 방향에서 보아 동일 직선상에 위치시키는[회전축 부분(53f)의 중심 축선과 제1 레일(53a)의 중심 위치를 포함하는 Z축 방향을 따르는 직선이 일치하는] 기준 위치가 되도록 위치 설정되어, X축 슬라이더(35A)와 XY 조정판(36)에 각각 마련된다. 즉, 제3 연결부(53)는, 판측 제3 지지점(Sb3)과 슬라이더측 제3 지지점(Ss3)의 Z축 방향에서 본 간격을 변동시키는 일없이(그 간격을 소정의 크기 치수로 유지하면서), 판측 제3 지지점(Sb3)과 슬라이더측 제3 지지점(Ss3)의 X-Y 평면을 따르는 방향으로의 상대적인 위치의 변동을 가능하게 하는 것이다.
제4 연결부(54)는, 판측 제4 지지점(Sb4)과 슬라이더측 제4 지지점(Ss4)을 X-Y 평면을 따르는 방향으로의 상대적인 위치의 변화를 허용하며, 또한 Z축 방향 둘레로 X축 슬라이더(35B)와 XY 조정판(36)이 상대적으로 회전하는 것을 허용하도록, X축 슬라이더(35B)와 XY 조정판(36)을 연결한다(도 6 등 참조). 본 실시예에서는, 제4 연결부(54)는, 도 10에 도시된 바와 같이, X축 슬라이더(35B)에 고정된 제1 레일(54a)과, 제1 레일(54a)을 미끄럼 이동 가능하게 유지하는 제1 레일 유지 부분(54b)과, 제1 레일 유지 부분(54b)에 고정된 고정판 부분(54c)과, 고정판 부분(54c)에 고정된 제2 레일 유지 부분(54d)과, 제2 레일 유지 부분(54d)에 미끄럼 이동 가능하게 유지되는 제2 레일(54e)과, 제2 레일(54e)에 고정된 회전축 부분(54f)과, 회전축 부분(54f)에 대하여 회전 가능하게 마련된 회전 부분(54g)을 갖는다. 제1 레일(54a)은 X축 방향으로 연장된 막대 형상을 띤다. 제1 레일 유지 부분(54b)은, 제1 레일(54a)의 연장 방향으로 미끄럼 이동 가능하게 제1 레일(54a)을 유지할 수 있게 되어 있다. 고정판 부분(54c)은, 판형을 띠며, 하면측에 제1 레일 유지 부분(54b)이 마련되고, 상면측에 제2 레일 유지 부분(54d)이 마련되어 있어, 제1 레일 유지 부분(54b)과 제2 레일 유지 부분(54d)의 위치 관계를 고정하고 있다. 제2 레일 유지 부분(54d)은, Y축 방향으로 미끄럼 이동 가능하게 제2 레일(54e)을 유지할 수 있게 되어 있다. 제2 레일(54e)은, Y축 방향으로 연장된 막대 형상을 띠며, 그 연장 방향으로 이동 가능하게 제2 레일 유지 부분(54d)에 유지되어 있다. 회전축 부분(54f)은, 전체적으로 원기둥 형상을 띠며, 중심 축선이 Z축 방향을 따르도록 제2 레일(54e)에 고정되어 있다. 회전 부분(54g)은, 회전축 부분(54f)을 둘러싸는 환상을 띠며, 회전축 부분(54f)에 대하여 회전축 부분(54f)의 중심 축선 둘레로 회전 가능하게 되어 있다. 제4 연결부(54)에서는, 회전 부분(54g)이 XY 조정판(36)에 고정적으로 부착되어 있다.
이 제4 연결부(54)에서는, 제1 레일(54a)과 제1 레일 유지 부분(54b)[그것이 고정판 부분(54c)을 통해 고정된 제2 레일 유지 부분(54d)]의 X축 방향으로의 상대적인 이동이 가능하고, 또한 제2 레일 유지 부분(54d)과 제2 레일(54e)의 Y축 방향으로의 상대적인 이동이 가능하며, 더구나 제2 레일(54e)에 마련된 회전축 부분(54f)의 중심 축선 둘레로, 회전축 부분(54f)과 회전 부분(54g)의 상대적인 회전이 가능하다. 이 때문에, 제4 연결부(54)는, 제1 레일(54a)이 마련된 X축 슬라이더(35B)와 회전 부분(54g)이 마련된 XY 조정판(36)의 X-Y 평면을 따르는 방향으로의 상대적인 변위를 허용하고, 또한 회전축 부분(54f)의 중심 축선 둘레로의 상대적인 회전을 허용하면서, X축 슬라이더(35B)와 XY 조정판(36)을 연결하고 있다. 이 때문에, 제4 연결부(54)에서는, 제1 레일(54a)의 중심 위치가 슬라이더측 제4 지지점(Ss4)으로 되고, 회전 부분(54g)의 중심 위치가 판측 제4 지지점(Sb4)으로 된다. 제4 연결부(54)는, X축 슬라이더(35A)와 X축 슬라이더(35B)가 구동 제어의 기준 위치로 되었을 때, 판측 제4 지지점(Sb4)과 슬라이더측 제4 지지점(Ss4)을 Z축 방향에서 보아 동일 직선상에 위치시키는[회전축 부분(54f)의 중심 축선과 제1 레일(54a)의 중심 위치를 포함하는 Z축 방향을 따르는 직선이 일치하는] 기준 위치가 되도록 위치 설정되어, X축 슬라이더(35B)와 XY 조정판(36)에 각각 마련된다. 즉, 제4 연결부(54)는, 판측 제4 지지점(Sb4)과 슬라이더측 제4 지지점(Ss4)의 Z축 방향에서 본 간격을 변동시키는 일없이(그 간격을 소정의 크기 치수로 유지하면서), 판측 제4 지지점(Sb4)과 슬라이더측 제4 지지점(Ss4)의 X-Y 평면을 따르는 방향으로의 상대적인 위치의 변동을 가능하게 하는 것이다.
이 때문에, XY 조정판(36)은, 베이스 부재(31) 상에 있어서, Y축 슬라이더(33)를 Y축 방향으로 적절하게 이동시킴으로써 Y축 방향의 위치의 조정이 가능하고, 양 X축 슬라이더(35)(35A, 35B)를 일체적으로 X축 방향으로 적절하게 이동시킴으로써 X축 방향의 위치의 조정이 가능하여, X-Y 평면을 따르는 이동 가능하게 되어 있다. 또한, XY 조정판(36)은, 도 6에 도시된 바와 같이, 베이스 부재(31) 상에 있어서, X축 슬라이더(35A)와 X축 슬라이더(35B)를 개별적으로 X축 방향으로 적절하게 이동시킴으로써, 기준 축선(Ba)을 회전 중심으로 하여 Z축 방향 둘레에서 본 회전 자세를 적절하게 조정할 수 있게 되고 있다(화살표 A1 참조). 이때, XY 조정판(36)에서는, 기준 축선(Ba)을 기점으로 하는 회전에 기인하는 판측 제2 지지점(Sb2) 및 슬라이더측 제2 지지점(Ss2)과, 판측 제3 지지점(Sb3) 및 슬라이더측 제3 지지점(Ss3)과, 판측 제4 지지점(Sb4) 및 슬라이더측 제4 지지점(Ss4)의 X-Y 평면을 따르는 방향에서의 변동분이, 제2 연결부(52)에 있어서의 제3 방향으로의 변위와, 제3 연결부(53) 및 제4 연결부(54)에 있어서의 X-Y 평면을 따르는 방향으로의 변위로 흡수됨으로써, 양 X축 슬라이더(35)(35A, 35B)에 의한 지지가 가능하게 되고 있다. 또한, XY 조정판(36)에서는, 제2 연결부(52)가 제3 방향으로의 변위만을 허용하는 구성으로 되어 있으므로, X축 슬라이더(35A)에 대한 X축 슬라이더(35B)의 위치 관계와 XY 조정판(36)의 기준 축선(Ba) 둘레로의 회전 자세를 1대1로 대응시킬 수 있다. 이 때문에, 본 실시예에서는, XY 조정판(36)이 평면 조정판으로서 기능하며, 양 X축 구동 기구(34)와 양 X축 슬라이더(35)가 회전 구동 기구로서의 기능도 갖는다. 이 XY 조정판(36)에 있어서, X-Y 평면을 따르는 상태에서의 위치 및 회전 자세의 조정 제어에 대해서는 이후에 상세히 설명한다.
이 XY 조정판(36)에는, 중심 위치를 둘러싸도록 형성된 3개의 지지부 삽통 구멍(36a, 36b, 36c)과, 그 중앙에 형성된 중앙 관통 구멍(36d)이 마련되어 있다. 3개의 지지부 삽통 구멍(36a, 36b, 36c)은, 3개의 Z축 구동 기구(37)에 대응하여 형성된다. 중앙 관통 구멍(36d)은, Z축 방향에서 보아 Y축 슬라이더(33)의 관통 구멍(33a)보다도 작은 크기 치수로 되어 있으며, X축 슬라이더(35A)와 X축 슬라이더(35B)가 구동 제어의 기준 위치로 되었을 때, 관통 구멍(33a)의 중심에 위치하는 것으로 되어 있다.
3개의 Z축 구동 기구(37)는, XY 조정판(36)의 하측(이면측)에 설치된다(도 11 및 도 12 참조). 각 Z축 구동 기구(37)는, 워크(22)(도 1 참조)의 Z축 방향에서의 위치 및 Z축 방향에 대한 경사의 설정(조정)을 위해 설치된다. 3개의 Z축 구동 기구(37)는, 본 실시예에서는, 도 11에 도시된 바와 같이, 하나(개별적으로 말할 때는 37A로 함)가 X축 슬라이더(35A)의 위쪽에 위치되어 있고, 나머지 2개(개별적으로 말할 때는 37B, 37C로 함)가 X축 슬라이더(35B)의 위쪽에 위치되어 있다. 이 각 Z축 구동 기구(37)는 기본적인 구성은 같으므로, Z축 구동 기구(37A)의 개략적인 구성을 설명하고, 그 외의 것에 대해서는 생략한다.
Z축 구동 기구(37A)는, 도 12에 도시된 바와 같이, 구동 모터(37a)와, 변환부(37b)와, 전달축(37c)과, 슬라이드 베어링부(37d)와, 제1 이동부(37e)와, 제1 가이드부(37f)와, 제2 가이드부(37g)와, 제2 가이드 유지부(37h)와, 제2 이동부(37i)와, 제3 가이드부(37j)와, 제3 가이드 유지부(37k)와, 볼조인트축(37l)과, 구면 베어링부(37m)와, Z축 이동부(37n)를 갖는다.
구동 모터(37a)는, 배치 스테이지(30)의 안쪽에 설치된 구동 제어부(도시하지 않음)에 의해 인가 전류가 적절하게 제어되어, 회전 제어된다. 이 구동 모터(37a)는 본 실시예에서는 스테핑 모터가 이용되고 있다. 이 구동 모터(37a)의 출력축은 변환부(37b)에 접속되어 있다. 이 변환부(37b)에는, 전달축(37c)도 접속되어 있어, 구동 모터(37a)(그 출력축)의 회전 운동을, 전달축(37c)의 Y축 방향으로의 진퇴 운동으로 변환한다. 전달축(37c)은, Y축 방향으로 연장된 막대 형상을 띠며, 슬라이드 베어링부(37d)에 Y축 방향으로 진퇴 가능하게 유지되어 있다. 슬라이드 베어링부(37d)는, XY 조정판(36)의 이면(하측의 면)에 고정되어 있으며, 구동 모터(37a)로부터 구동력이 부여된 전달축(37c)이 Y축 방향으로 진퇴 이동하는 것을 보조한다.
전달축(37c)에 제1 이동부(37e)가 고정되어 있다. 제1 이동부(37e)는, 상면이 X-Y 평면을 따르며 또한 하면이 X-Y 평면에 대하여 경사지는 소위 쐐기 형상을 띠고, 상면부에서 제1 가이드부(37f)를 미끄럼 이동 가능하게 유지하고 있다. 제1 가이드부(37f)는, Y축 방향으로 연장된 막대 형상을 띠며, XY 조정판(36)의 이면(하측의 면)에 고정되어 있다. 이 때문에, 제1 이동부(37e)는, 전달축(37c)의 Y축 방향으로의 진퇴 이동에 따라서, Y축 방향으로 진퇴 이동하는 것이 가능하게 되어 있다.
제1 이동부(37e)의 하면을 따르도록, 제2 가이드부(37g)가 고정되어 있다. 제2 가이드부(37g)는 막대 형상을 띠며, Y-Z 평면을 따르고 또한 Y축에 경사지는 방향으로 연장되어 있다. 제2 가이드부(37g)는 제2 가이드 유지부(37h)에 유지된다. 제2 가이드 유지부(37h)는, 제2 가이드부(37g)를 연장 방향으로 미끄럼 이동 가능하게 유지할 수 있게 되어 있으며, 제2 이동부(37i)에 고정되어 있다.
제2 이동부(37i)는, 전체적으로 기둥형을 띠며, Y축 방향으로 연장되는 아암 부분(37o)을 갖는다. 아암 부분(37o)의 상면은 제1 이동부(37e)의 하면과 평행하게 되어 있다. 아암 부분(37o)의 상면에 제2 가이드 유지부(37h)가 고정되어 있다. 제2 이동부(37i)에는, Y축 방향에서 보아 아암 부분(37o)이 연장되는 측과는 반대측에 제3 가이드부(37j)가 고정되어 있다. 제3 가이드부(37j)는, 막대 형상을 띠며, Z축 방향으로 연장되어 있다. 제3 가이드부(37j)는 제3 가이드 유지부(37k)에 유지된다. 제3 가이드 유지부(37k)는, 제3 가이드부(37j)를 연장 방향으로 미끄럼 이동 가능하게 유지할 수 있게 되어 있으며, XY 조정판(36)의 연장벽(36e)에 고정되어 있다. 연장벽(36e)은, XY 조정판(36)의 이면(하측의 면)으로부터, Z축 방향을 따라서 하측으로 연장되어 있다.
이 때문에, 제2 이동부(37i)는, 제1 이동부(37e)가 Y축 방향으로 진퇴 이동되면, 제1 이동부(37e)에 제2 가이드부(37g) 및 제2 가이드 유지부(37h)를 통해 접속되어 있음으로 인해, 제3 가이드 유지부(37k)와 제3 가이드부(37j)의 안내 방향인 Z축 방향으로 진퇴 이동된다. 즉, 제2 이동부(37i)는, 전달축(37c)이 가장 진출하면[제1 이동부(37e)가 구동 모터(37a)로부터 이격되면], Z축 방향에서 하측으로 이동하고, 전달축(37c)이 가장 후퇴하면[제1 이동부(37e)가 구동 모터(37a)에 접근하면], Z축 방향에서 상측으로 이동한다. 이 때문에, 각 Z축 구동 기구(37)는 소위 쐐기 기구로 되어 있다. 이 Z축 방향으로 진퇴 이동되는 제2 이동부(37i) 및 제3 가이드부(37j)와, XY 조정판(36)에 고정되어 Z축 방향의 높이 위치가 일정하게 된 연장벽(36e) 및 제3 가이드 유지부(37k)는, 하부가 X축 슬라이더(35A)와 X축 슬라이더(35B) 사이의 공간에 위치되어 있다.
제2 이동부(37i)의 상부에 볼조인트축(37l)이 설치된다. 볼조인트축(37l)은, Z축 방향으로 연장되어 마련되어 있고, 그 연장단이 구형(37p)으로 되어 있다. 볼조인트축(37l)의 구형부(37p)는 구면 베어링부(37m)에 의해 유지되어 있다. 구면 베어링부(37m)는, 볼조인트축(37l)의 구형부(37p)를, 그 구면 형상을 따라서 미끄럼 이동 가능하게 유지하고 있다. 구면 베어링부(37m)의 위쪽에 Z축 이동부(37n)가 마련된다. Z축 이동부(37n)는 기둥형을 띠고 있다. Z축 이동부(37n)는, 제2 이동부(37i)에 대하여, 볼조인트축(37l)의 구형부(37p)의 중심 위치 둘레로, 요동 가능하게 되어 있다.
이 때문에, Z축 구동 기구(37A)에서는, 구동 모터(37a)가 적절하게 회전 구동됨으로써 제1 이동부(37e)가 Y축 방향으로 진퇴 이동하고, 이 제1 이동부(37e)의 Y축 방향으로의 진퇴 이동에 따라 제2 이동부(37i)가 Z축 방향으로 진퇴 이동하며, 제2 이동부(37i)에 볼조인트축(37l) 및 구면 베어링부(37m)를 통해 부착된 Z축 이동부(37n)가, 슬라이드 베어링부(37d), 제1 이동부(37e) 및 제3 가이드 유지부(37k)를 통해 부착된 XY 조정판(36)에 대하여 Z축 방향으로 진퇴 이동한다.
각 Z축 구동 기구(37)는, 전술한 바와 같이, XY 조정판(36)의 각 지지부 삽통 구멍(36a, 36b, 36c)에 개별적으로 대응하여 마련된다. 구체적으로는, 도 11에 도시된 바와 같이, Z축 구동 기구(37A)의 Z축 이동부(37n)는 지지부 삽통 구멍(36a)에 삽입 관통되어 있고, Z축 구동 기구(37B)의 Z축 이동부(37n)는 지지부 삽통 구멍(36b)에 삽입 관통되어 있으며, Z축 구동 기구(37C)의 Z축 이동부(37n)는 지지부 삽통 구멍(36c)에 삽입 관통되어 있다. 각 Z축 구동 기구(37)에서는, Z축 이동부(37n)의 위쪽에, Z축 조정판(38)의 지지를 위한 조정판 지지부(37q, 37r, 37s)가 마련된다. 이 때문에, 본 실시예에서는, Z축 방향이 기준 평면에 직교하는 제4 방향으로 되어, Z축 조정판(38)이 제4 방향 조정판으로서 기능하고, 각 Z축 구동 기구(37)가 제4 방향 구동 기구로서 기능한다. 또한, 각 Z축 구동 기구(37)에서는, 구동 모터(37a), 변환부(37b), 전달축(37c), 슬라이드 베어링부(37d), 제1 이동부(37e), 제1 가이드부(37f), 제2 가이드부(37g), 제2 가이드 유지부(37h), 제2 이동부(37i), 제3 가이드부(37j), 제3 가이드 유지부(37k), 볼조인트축(37l), 구면 베어링부(37m) 및 Z축 이동부(37n)가 구동 본체부로서 기능한다.
Z축 구동 기구(37A)의 Z축 이동부(37n) 상에 마련되는 조정판 지지부(37q)는, 전체적으로 원기둥 형상을 띠며, Z축 조정판(38)의 이면(하측의 면)에 대하여 소정 위치에서 고정된다. 즉, 조정판 지지부(37q)는, 볼조인트축(37l)과 구면 베어링부(37m) 에 의해 요동 가능하게 된 Z축 이동부(37n) 상에 마련되므로, Z축 조정판(38)의 X-Y 평면에 대한 경사의 변화를 허용(지지 각도를 변경할 수 있게)하면서 Z축 조정판(38)의 소정의 위치를 고정적으로 지지하고 있다. 이 때문에, 조정판 지지부(37q)는 제4 방향 구동 기구에 있어서의 제1 지지부로서 기능한다.
Z축 구동 기구(37B)의 Z축 이동부(37n) 상에 마련되는 조정판 지지부(37r)는, 긴 가이드 레일을 갖고, 도시하지는 않지만 Z축 조정판(38)의 이면에 설치된 가이드 레일 유지부에 의해 미끄럼 이동 가능하게 상기 가이드 레일이 유지됨으로써, Z축 조정판(38)의 이면에 접속된다. 이 가이드 레일은, 연장 방향의 연장선 상에 Z축 구동 기구(37A)의 조정판 지지부(37q)[Z축 이동부(37n)]의 축선이 위치하도록, 바꿔 말하면, 이 축선 방향으로 연장되도록 위치 설정되어 있다. 이 조정판 지지부(37r)는, 볼조인트축(37l)과 구면 베어링부(37m)에 의해 요동 가능하게 된 Z축 이동부(37n) 상에 설치되므로, Z축 조정판(38)의 X-Y 평면에 대한 경사의 변화를 허용(지지 각도를 변경할 수 있게)하면서 Z축 조정판(38)의 이면을 가이드 레일의 연장 방향으로 변위 가능하게 지지하고 있다. 이 때문에, 조정판 지지부(37r)는 제4 방향 구동 기구에 있어서의 제2 지지부로서 기능한다.
Z축 구동 기구(37C)의 Z축 이동부(37n) 상에 설치되는 조정판 지지부(37s)는, 전체적으로 원기둥 형상을 띠며, Z축 조정판(38)의 이면에 미끄럼 이동 가능하게 접촉된다. 즉, 조정판 지지부(37s)는, 볼조인트축(37l)과 구면 베어링부(37m)에 의해 요동 가능하게 된 Z축 이동부(37n) 상에 설치되므로, Z축 조정판(38)의 X-Y 평면에 대한 경사의 변화를 허용(지지 각도를 변경할 수 있게)하면서 Z축 조정판(38)을 이동 가능하게 지지하고 있다. 이 때문에, 조정판 지지부(37s)는, 제4 방향 구동 기구에 있어서의 제3 지지부로서 기능한다.
Z축 조정판(38)은, 도 2에 도시된 바와 같이, 워크(22)(도 1 참조)를 흡착 유지하는 척 플레이트(40)의 고정적인 배치를 가능하게 하는 판형 부재이다. Z축 조정판(38)은, 각 Z축 구동 기구(37)를 동기시켜 구동함으로써, Z축 방향에서 본 높이 위치가 조정된다. 또한, Z축 조정판(38)은, 각 Z축 구동 기구(37)를 적절하게 개별적으로 구동함으로써, X-Y 평면에 대한 경사가 조정된다. 이때, Z축 조정판(38)에서는, Z축 구동 기구(37A)의 조정판 지지부(37q)가 고정된 부위가 기점이 되어, 조정판 지지부(37q), Z축 구동 기구(37B)의 조정판 지지부(37r) 및 Z축 구동 기구(37C)의 조정판 지지부(37s)의 높이 위치의 차이에 기인하는 각각의 간격의 변동분이, 조정판 지지부(37r)에 있어서의 가이드 레일의 연장 방향으로의 변위와 조정판 지지부(37s)에 있어서의 변위에 의해 흡수됨으로써, 각 Z축 구동 기구(37)에 의한 지지가 가능하게 되고 있다. 또한, Z축 조정판(38)에서는, Z축 구동 기구(37B)의 조정판 지지부(37r)가 가이드 레일의 연장 방향으로의 변위만을 허용하는 구성으로 되어 있으므로, Z축 구동 기구(37A)의 조정판 지지부(37q)가 고정된 부위를 기점으로 하여, Z축 방향 둘레로 회동하는 것이 방지되고 있다.
Z축 조정판(38)에는, 도 3에 도시된 바와 같이, 공구 현미경(41)과 초음파 센서(42)가 설치되어 있다. 공구 현미경(41)과 초음파 센서(42)는, 도시하지는 않지만 중앙 삽통 구멍(38a)의 내주 가장자리에 고정되어 있다. 공구 현미경(41)은, 중앙 삽통 구멍(38a)으로부터 아래쪽으로, 그리고 XY 조정판(36)의 중앙 관통 구멍(36d) 및 X축 슬라이더(35A)와 X축 슬라이더(35B) 사이의 공간으로 연장되어 있다. 공구 현미경(41)은, 노광 장치(10)의 투영 광학계에 대한 Z축 조정판(38)[XY 조정판(36)]의 기준 위치의 조정에 이용하는 현미경이며, 광축 방향이 중앙 삽통 구멍(38a)을 통해 고정된 Z축 조정판(38)이 기준 자세로 된 상태에 있어서 Z축 방향과 같은 것으로 되어 있다. Z축 조정판(38)의 기준 자세는, 각 Z축 구동 기구(37)[조정판 지지부(37q, 37r, 37s)]에 의한 지지의 높이 위치가 같은 것으로 된 상태, 즉 베이스 부재(31)를 기준으로 하여 X-Y 평면을 따르는 상태를 말한다. 공구 현미경(41)은, 광축을 노광 장치(10)의 투영 광학계의 투영 광축과 일치시킴으로써, 노광 장치(10)의 투영 광학계에 대한 X-Y 평면을 따르는 방향에서 본 Z축 조정판(38)[XY 조정판(36)]의 위치를 기준 위치로 하도록 배치되어 있다. 또한, 공구 현미경(41)은, 척 플레이트(40) 상에 워크(22)가 흡착 유지되었을 때, 워크(22)를 기준 평면을 따르는 것으로 하도록, 전술한 척 플레이트(40)가 부착되는 Z축 조정판(38)의 Z축 방향에서 본 위치(높이 위치)의 조정을 위해서도 이용할 수 있게 되어 있다.
초음파 센서(42)는, Z축 조정판(38)의 중앙 삽통 구멍(38a)으로부터 아래쪽으로, XY 조정판(36)의 중앙 관통 구멍(36d) 및 X축 슬라이더(35A)와 X축 슬라이더(35B) 사이의 공간으로 연장되어 있다. 이 초음파 센서(42)는, 척 플레이트(40) 상에 평탄한 워크(22)가 흡착 유지(배치)되어 있는지 여부를 판별하기 위해 설치된다. 초음파 센서(42)는, 검출 방향이, Z축 조정판(38)이 기준 자세로 된 상태에서의 Z축 방향과 같은 것으로 되어 있다.
도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, Z축 조정판(38)의 아래쪽에, 리프트 기구(39)(도 2 및 도 3 참조)가 설치된다. 이 리프트 기구(39)는, 척 플레이트(40) 상에서, 워크(22)(도 1 참조)를 Z축 방향(정확하게는 Z축을 포함하는 높이 방향)으로 이동시키는 것이다. 리프트 기구(39)는, 리프트 베이스(39a)와, 복수의 리프트 핀(39b)을 갖는다. 리프트 베이스(39a)는 도시하지 않는 상하 구동부에 의해 Z축 방향으로 변위 가능하게 유지된 프레임 부재이다. 이 상하 구동부(도시하지 않음)는, Z축 조정판(38)의 이면(하측의 면)에 부착되어 있다. 이 때문에, 리프트 베이스(39a)는, Z축 조정판(38)의 X-Y 평면에 대한 경사에 상관없이, 상하 구동부(도시하지 않음)에 의해, Z축 조정판(38)과 XY 조정판(36)의 사이에서, Z축 조정판(38)의 판면에 직교하는 방향에서 본 위치(Z축을 포함하는 높이 방향의 위치)가 변위 가능하게 되어 있다. 리프트 베이스(39a)에 각 리프트 핀(39b)이 설치되어 있다.
각 리프트 핀(39b)은, 리프트 베이스(39a)로부터 Z축 방향의 상측으로 돌기된 통형 부재이며, 상단면에 배치되는 워크(22)(도 1 참조)의 흡착 유지가 가능하게 되어 있다. 각 리프트 핀(39b)은, Z축 조정판(38)에 형성된 핀 삽통 구멍(38b) 및 척 플레이트(40)에 형성된 핀 삽통 구멍(40a)(도 3 참조)을 지나서, 척 플레이트(40)의 위쪽으로 돌출 가능하게 되어 있다. 이 리프트 기구(39)는, 각 리프트 핀(39b)을 척 플레이트(40)의 위쪽으로 돌출시킨 상태에서, 각 리프트 핀(39b)의 상단면에 배치된 워크(22)(도 1 참조)를 흡착 유지하고, 그 후 리프트 베이스(39a)를 하강시켜 각 리프트 핀(39b)을 척 플레이트(40) 측으로 인입함으로써, 흡착 유지한 워크(22)를 척 플레이트(40) 상에 배치시킨다.
척 플레이트(40)는 복수의 흡착 구멍(40b)을 갖는다. 각 흡착 구멍(40b)은, 배치된 워크(22)(도 1 참조)의 흡착 유지가 가능하게 되어 있다. 각 흡착 구멍(40b)에 의한 흡착 동작은, 리프트 기구(39)의 동작과 함께, 배치 스테이지(30)의 안쪽에 설치된 구동 제어부(도시하지 않음)에 의해 제어된다.
배치 스테이지(30)에서는, 척 플레이트(40)의 위쪽으로 돌출시킨 각 리프트 핀(39b)의 상단면에 배치된 워크(22)(도 1 참조)를 흡착 유지하고, 그 워크(22)를, 리프트 기구(39)의 동작에 의해, 척 플레이트(40)에 의한 흡착 유지로 이행한다. 그 후, 배치 스테이지(30)에서는, 척 플레이트(40)로 흡착 유지한 워크(22)의 상태에 따라서, 워크(22)를 노광 장치(10)의 투영 광학계의 결상면(기준 평면)을 따르는 적절한 위치(자세)로 되게 한다. 구체적으로는, 베이스 부재(31) 상에 있어서, 양 Y축 슬라이더(33)를 Y축 방향으로, 또한 양 X축 슬라이더(35)(35A, 35B)를 X축 방향으로 적절하게 이동시킴으로써, 척 플레이트(40), Z축 조정판(38) 및 각 Z축 구동 기구(37)를 통해 XY 조정판(36)에 마련된 워크(22)의 X-Y 평면을 따르는 위치 및 회전 자세를 조정한다. 또한, 각 Z축 구동 기구(37)에 의한 지지 위치를 적절하게 변경함으로써, 척 플레이트(40) 및 Z축 조정판(38)을 통해 XY 조정판(36)에 마련된 워크(22)의 Z축 방향에서의 위치(높이 위치) 및 X-Y 평면에 대한 경사를 조정한다. 이로써, 노광 장치(10)에서는, 워크(22)에 마스크 패턴상을 적절하게 노광할 수 있다.
이어서, 양 Y축 슬라이더(33) 및 양 X축 슬라이더(35)를 이용한 워크(22), 즉 XY 조정판(36)의 X-Y 평면을 따르는 상태에서의 위치 및 회전 자세의 조정에 관해서, 도 13 내지 도 18을 이용하여 설명한다. 도 13은, 도 6에 도시하는 양 X축 슬라이더(35)와 XY 조정판(36)이 각 연결부(51, 52, 53, 54)에 의해 연결된 모식도를 Z축 방향의 상측에서 본 모습을 도시하는 설명도이며, 도 14는, 도 13과 같은 식의 설명도로, (a)가 X축 슬라이더(35B)를 정면에서 보아 좌측(X축 방향의 마이너스측)으로 이동한 모습을 나타내고, (b)가 X축 슬라이더(35B)를 정면에서 보아 우측(X축 방향의 플러스측)으로 이동한 모습을 나타내고 있다.
우선, 도 13에 도시하는 기준 위치에서, 양 Y축 슬라이더(33) 및 X축 슬라이더(35A)를 고정한 상태로, X축 슬라이더(35B)만을 X축 방향으로 이동시키는 장면을 고려한다(도 14 참조). 이 경우, 각 연결부(51, 52, 53, 54)의 작용에 의해, 도 14에 도시된 바와 같이, 제1 연결부(51)의 중심축인 기준 축선(Ba) 둘레로 XY 조정판(36)이 회전된다. 이 회전 자세는, 제1 연결부(51)에 있어서의 연결 상태에 대한 제2 연결부(52)에 있어서의 연결 상태, 즉 기준 축선(Ba)[판측 제1 지지점(Sb1) 및 슬라이더측 제1 지지점(Ss1)]에 대한 판측 제2 지지점(Sb2) 및 슬라이더측 제2 지지점(Ss2)의 위치 관계에 따라 결정한다. 이것은, 제1 연결부(51)가 기준 축선(Ba) 둘레로 X축 슬라이더(35A)와 XY 조정판(36)이 상대적으로 회전하는 것을 허용하고, 제2 연결부(52)가 X축 슬라이더(35B)와 XY 조정판(36)과의 제3 방향으로의 상대적인 변위를 허용하며 연결 기초 부분(52a)의 중심 축선 둘레로의 상대적인 회전을 허용함에 의한다. 여기서, 이하의 설명에서는, XY 조정판(36)에 있어서의 판측 제1 지지점(Sb1)과 판측 제2 지지점(Sb2)을 연결하는 직선인 제3 방향을, X-Y 평면상에서 본 XY 조정판(36)의 회전 자세의 기준으로 하는 회전 기준선 Rm으로 하고, X축 슬라이더(35A)와 X축 슬라이더(35B)가 구동 제어의 기준 위치로 되었을 때의 회전 기준선 Rm(제3 방향)의 연장 방향을 회전 기준선 Rb로 한다. 이 회전 기준선 Rb는, 본 실시예에서는, X축 방향(제2 방향) 및 Y축 방향(제1 방향)에 대하여 45도의 경사를 갖는다.
X축 슬라이더(35B)만이 X축 방향으로 이동하면, 도 14의 (a) 및 (b)에 도시된 바와 같이, X-Y 평면상에서 보아, X축 슬라이더(35A)의 슬라이더측 제1 지지점(Ss1)이 이동하지 않는데 비하여, X축 슬라이더(35B)의 슬라이더측 제2 지지점(Ss2)이 X축 방향으로 이동한다. 그러면, 제2 연결부(52)가, 슬라이더측 제2 지지점(Ss2)에 대하여, XY 조정판(36) 상에서 고정된 판측 제2 지지점(Sb2)을, XY 조정판(36) 상의 제3 방향인 회전 기준선 Rm을 따라서 이동 가능하게 연결하는 것이므로, XY 조정판(36)은, 이동된 슬라이더측 제2 지지점(Ss2) 상에 회전 기준선 Rm이 위치하도록 기준 축선(Ba) 둘레로 회전한다.
여기서, 이하의 설명에서는, 이해를 쉽게 하기 위해, 도 15에 도시된 바와 같이, 각 연결부(51, 52, 53, 54)에 의한 XY 조정판(36)에 있어서의 각 지지점(Sb1, Sb2, Sb3, Sb4)으로 이루어지는 정방형을 기준 XY 조정판(36')으로 한다. 도 15에서는, 기준 XY 조정판(36')[XY 조정판(36)]의 회전 중심이 되는 기준 축선(Ba)을 원점 O으로 하고, 정면에서 보아 상하 방향을 Y축으로 하며 상측을 플러스측으로 하고, 좌우 방향을 X축으로 하며 우측을 플러스측으로 하고, 반시계 방향을 기준 XY 조정판(36')[XY 조정판(36)]의 회전 방향 플러스측[도 16의 (a) 및 도 17의 (a) 참조]으로 한다. 또한, 기준 XY 조정판(36')에 있어서, 판측 제1 지지점(Sb1)과 판측 제3 지지점(Sb3)을 연결하는 변의 반의 길이 치수를 Ax로 하고, 판측 제1 지지점(Sb1)과 판측 제4 지지점(Sb4)을 연결하는 변의 반의 길이 치수를 Ay로 한다. 또한, Y축 방향에 대하여 회전 기준선 Rb가 이루는 회전 기준각도를 θb로 하고, 회전 기준선 Rb에 대하여 회전 기준선 Rm이 이루는 각도 즉 기준 XY 조정판(36')[XY 조정판(36)]의 기준 자세로부터의 기준 축선(Ba) 둘레로의 회전 각도를 θr(도 16 참조)로 한다. 한편, 본 실시예에서는, 모든 각도를 「°(도)」의 단위로 나타내는 것으로 한다. 이어서, X축 구동 기구(34A), 즉 X축 슬라이더(35A)의 X축 방향으로의 이동량을 Xm으로 하고, X축 구동 기구(34B), 즉 X축 슬라이더(35B)의 X축 방향으로의 이동량을 Xs로 하며, 기준 축선(Ba)[제1 연결부(51)]측에 위치하는 Y축 구동 기구(32)의 Y축 방향으로의 이동량을 Ym으로 하고, 반대측에 위치하는 Y축 이동 기구(32)의 Y축 방향으로의 이동량을 Ys로 한다. 한편, 본 실시예에서는, 2개의 Y축 이동 기구(32)는, 단일의 Y축 슬라이더(33)에 대하여 마련되어 항상 동기되어 제어되므로, 이동량 Ys와 이동량 Ym은 같은 것으로 된다.
기준 XY 조정판(36')을 기준 위치로부터 임의의 회전 각도 θr까지 회전시키기 위해서, X축 슬라이더(35B)를 기준 위치로부터 이동량 Xs까지 이동시킨 모습을 도 16에 나타낸다. 도 16은, 전술한 바와 같이, X축 슬라이더(36B)만을 X축 방향으로 이동하면, 슬라이더측 제2 지지점(Ss2) 상에 회전 기준선 Rm을 위치시키도록, 기준 XY 조정판(36')이 기준 축선(Ba)[슬라이더측 제1 지지점(Ss1)] 둘레로 회전하는 것에 기초한다. 도 16에서는, (a)가 기준 XY 조정판(36')을 플러스측으로 A도 회전시키도록, X축 슬라이더(35B)를 X축 방향의 마이너스측으로 Xs만큼 이동시킨 모습을 나타내고, (b)가 기준 XY 조정판(36')을 마이너스측으로 A도 회전시키도록, X축 슬라이더(35B)를 X축 방향의 플러스측으로 Xs만큼 이동시킨 모습을 나타내고 있다. 이 X축 슬라이더(35B)에 있어서의 기준 위치로부터의 이동량 Xs는, 다음 식(1)으로 나타낼 수 있다. 한편, 식(1)에서는, X축 슬라이더(35B)만을 X축 방향으로 이동하는 것이므로, 이동량 Xm, 이동량 Ys 및 이동량 Ym은 모두 0이 된다.
Figure pat00001
이 식(1)에 의해, X축 슬라이더(35A)에 대하여 X축 슬라이더(35B)를 상대적으로 이동량 Xs만큼 이동시킴으로써, 기준 XY 조정판(36'), 즉 XY 조정판(36)을 X-Y 평면을 따르는 상태에서의 임의의 회전 자세(기준 자세에서 임의의 회전 각도 θr만큼 회전한 자세)로 할 수 있다.
이어서, 회전 중심을 기준 XY 조정판(36')의 중심 위치로 변환하는 것을 고려한다. 이것은, 식(1)으로 나타내는 각 이동량은, X축 슬라이더(35B)만을 X축 방향으로 이동한 장면에 있어서, 기준 XY 조정판(36')이 기준 축선(Ba)[슬라이더측 제1 지지점(Ss1)] 둘레로 회전 각도 θr만큼 회전시키기 위해서 필요한 값을 나타내는 것에 의한다. 이 때문에, 도 17에 도시된 바와 같이, 기준 축선(Ba) 둘레로 회전 각도 θr만큼 회전시킨 기준 XY 조정판(36')의 중심 위치가, 기준 위치에 있는 기준 XY 조정판(36')의 중심 위치가 되도록(화살표 A2 참조), 회전 후의 기준 XY 조정판(36')의 회전 자세를 유지한 채로 이동시킨다(화살표 A3 참조). 도 17에서는, (a)가 플러스측으로 A도 회전된 기준 XY 조정판(36')을 이동하는 모습을 나타내고, (b)가 마이너스측으로 A도 회전된 기준 XY 조정판(36')을 이동하는 모습을 나타내고 있다. 또한, 도 17에서는, 기준 위치에 있는 기준 XY 조정판(36')을 1점쇄선으로 나타내고, 회전 후의 기준 XY 조정판(36')을 실선으로 나타내며, 회전 자세가 유지되어 이동된 기준 XY 조정판(36')을 2점쇄선으로 나타내고 있다. 이 때의 각 이동량 Xs, Xm, Ys, Ym은 다음 식(2)으로 나타낼 수 있다. 한편, 이 식(2)에서는, 식(1)에 의한 기준 XY 조정판(36')의 회전 자세를 유지한 채로 이동시키는 것이므로, 이동량 Xs와 이동량 Xm이 같은 것으로 되고, 이동량 Ys와 이동량 Ym이 같은 것으로 된다.
Figure pat00002
이 식(2)에 의해, 식(1)에서 임의의 회전 자세로 된 기준 XY 조정판(36')을, 그 중심 위치가 기준 위치에 있는 기준 XY 조정판(36')의 중심 위치가 되도록(화살표 A2 참조) 변위시킬 수 있다[2점쇄선으로 나타내는 기준 XY 조정판(36') 및 화살표 A3 참조]. 이 때문에, 식(1) 및 식(2)으로 나타내는 각 이동량을 가산한 것이, 기준 위치에 있는 기준 XY 조정판(36')의 중심 위치 둘레로, 그 기준 XY 조정판(36')을 회전 각도 θr만큼 회전시키기 위해서 필요한 각 이동량 Xs, Xm, Ys, Ym으로 된다.
이어서, 회전 중심을 임의의 좌표 위치(X0, Y0)로 변환하는 것을 고려한다. 이것은, 식(1) 및 식(2)으로 나타내는 각 이동량은, 기준 위치에 있는 기준 XY 조정판(36')의 중심 위치를 회전 중심으로 하는 것에 의한다. 이 때문에, 도 18에 도시된 바와 같이, 좌표 위치(X0, Y0)가, 기준 원점 Ob를 회전 중심으로 하여 임의의 회전 각도 θr만큼 플러스측 혹은 마이너스측으로 회전 이동된 좌표 위치를 (X1, Y1)로 하여, 좌표 위치(X1, Y1)로부터 좌표 위치(X0, Y0)로 이동시키기 위한 이동량(화살표 A4 참조)을 구한다. 이 이동량(화살표 A4 참조)에 있어서의 X축 방향의 이동량이 이동량 Xs 및 이동량 Xm이 되고, Y축 방향의 이동량이 이동량 Ys 및 이동량 Ym이 된다. 각 이동량 Xs, Xm, Ys, Ym은 다음 식(3)으로 나타낼 수 있다. 한편, 식(3)에서는, 기준 원점 Ob와 좌표 위치(X0, Y0)를 연결하는 선분이 X축에 대하여 이루는 각도를 θ0으로 나타내고 있다.
Figure pat00003
이 식(3)은, 기준 원점 Ob를 회전 중심으로 하여 회전 각도 θr만큼 회전된 기준 XY 조정판(36')의 회전 자세를 유지한 채로, 그 회전 후의 기준 XY 조정판(36')에 있어서, 기준 자세(회전 전)의 기준 XY 조정판(36')에 있어서의 임의의 좌표 위치(X0, Y0)에 상당하는 좌표 위치(X1, Y1)를, 좌표 위치(X0, Y0)로 이동시키는 것으로 된다. 한편, 이 식(3)에 있어서, 기준 원점 0b에서 본 임의의 좌표 위치(X0, Y0)의 각도 θ0은 하기의 조건으로 나타낼 수 있다.
Figure pat00004
이 때문에, 기준자세의 기준 XY 조정판(36')에 있어서의 중심 위치를 기준 원점 Ob라고 간주하면, 식(1), 식(2) 및 식(3)으로 나타내는 각 이동량을 가산한 것이, 임의의 좌표 위치(X0, Y0) 둘레로, 기준 XY 조정판(36')을 회전 각도 θr만큼 회전시키기 위해서 필요한 각 이동량 Xs, Xm, Ys, Ym으로 된다. 기준 자세의 기준 XY 조정판(36')에 있어서의 중심 위치를 기준 원점 Ob라고 간주하는 경우, 기준 원점 Ob를 원점(X=0,Y=0)으로 하여, 회전 중심으로 하고 싶은 임의 위치의 좌표(X0, Y0)를 구하고, 그 좌표 위치(X0, Y0)와 기준 원점 Ob를 연결하는 선분이 X축에 대하여 이루는 각도 θ0을 구한다.
또한, 기준 축선(Ba)을 기준 원점 Ob라고 간주하면, 식(1) 및 식(3)으로 나타내는 각 이동량을 가산한 것이, 임의의 좌표 위치(X0, Y0) 둘레로, 기준 XY 조정판(36')을 회전 각도 θr만큼 회전시키기 위해서 필요한 각 이동량 Xs, Xm, Ys, Ym으로 된다.
이와 같이, 배치 스테이지(30)에서는, X축 슬라이더(35A)에 대하여 X축 슬라이더(35B)를 적절하게 이동시킴으로써, XY 조정판(36)을 임의의 회전 각도 θr에 의한 회전 자세로 할 수 있다. 이 XY 조정판(36)에 있어서의 회전 자세는, 식(1)을 이용하여 산출한 임의의 회전 각도 θr에 따른 이동량 Xs만큼, X축 슬라이더(35A)에 대하여 X축 슬라이더(35B)를 이동시키는 것만으로 설정할 수 있다.
또한, 배치 스테이지(30)에서는, 양 X축 슬라이더(35)를 일체적으로 X축 방향으로 적절하게 이동하고 Y축 슬라이더(33)를 Y축 방향으로 적절하게 이동함으로써, 임의의 회전 자세로 한 XY 조정판(36)을, 그 회전 자세를 유지한 채로 X축 방향 및 Y축 방향으로 적절하게 이동시킬 수 있다. 이때, 식(2)을 이용하여 산출한 임의의 회전 각도 θr에 따른 각 이동량 Xs, Xm, Ys, Ym만큼, 양 X축 슬라이더(35) 및 Y축 슬라이더(33)를 이동시킴으로써, 기준 위치에 있는 XY 조정판(36)을, 그 중심 위치 둘레로 임의의 회전 각도 θr만큼 회전시킨 상태로 할 수 있다. 또한, 식(2) 및 식(3), 혹은 식(3)을 이용하여 산출한 임의의 회전 각도 θr에 따른 각 이동량 Xs, Xm, Ys, Ym만큼, 양 X축 슬라이더(35) 및 Y축 슬라이더(33)를 이동시킴으로써, 기준 위치에 있는 XY 조정판(36)을, 임의의 좌표 위치(X0, Y0) 둘레로 임의의 회전 각도 θr만큼 회전시킨 상태로 할 수 있다.
본 실시예에서는, 전술한 바와 같이 XY 조정판(36)에 있어서의 각 지지점(Sb1, Sb2, Sb3, Sb4)이 정방형을 형성하는[기준 XY 조정판(36')] 위치 관계로 되어 있고, 그 한 변의 길이 치수가 430 mm로 되어 있다. 이 때문에, 길이 치수 Ax=길이 치수 Ay=215 mm가 되고, 회전 기준 각도 θb=45도가 된다. 이 때문에, 전술한 양 Y축 슬라이더(33) 및 양 X축 슬라이더(35)를 이용한 XY 조정판(36)[기준 XY 조정판(36')]의 X-Y 평면을 따르는 상태에서의 회전 자세의 조정을 위한 식(1)은 다음 식(1')으로 나타낼 수 있다.
Figure pat00005
또한, 식(2)는 다음 식(2')으로 나타낼 수 있다.
Figure pat00006
한편, 식(3) 및 그 각도 θ0의 조건은, 회전 중심을 원점으로 하는 좌표 위치(X0, Y0) 및 그 각도 θ0으로 나타내는 것이므로, 전술한 바와 같다.
이와 같이, 본 발명에 따른 배치 스테이지(30)[노광 장치(10)]에서는, 베이스 부재(31) 상에 Y축 구동 기구(32)에 의해 Y축 방향(제1 방향)으로 이동 가능하게 Y축 슬라이더(33)를 설치하고, Y축 슬라이더(33) 상에 Y축 방향으로 이격된 2개의 X축 구동 기구(34B)에 의해 X축 방향(제2 방향)으로 이동 가능하게 2개의 X축 슬라이더(35)를 설치하며, X축 슬라이더(35)를 Y축 방향으로 걸치도록 XY 조정판(36)(평면 조정판)이 설치되어 있다. 이 때문에, X축 슬라이더(35A)와 X축 슬라이더(35B)의 X축 방향에서의 상대적인 위치에 의해 XY 조정판(36)의 회전 자세를 설정할 수 있고, X축 슬라이더(35A)와 X축 슬라이더(35B)의 상대적인 위치 관계를 유지한 채로 양 X축 슬라이더(35)를 동기시켜 구동 제어함으로써, XY 조정판(36)의 회전 자세를 유지한 채로 XY 조정판(36)을 X축 방향으로 이동시킬 수 있으며, Y축 슬라이더(33)를 Y축 방향으로 이동시킴으로써 X축 방향에서의 위치에 상관없이 XY 조정판(36)의 회전 자세를 유지한 채로 XY 조정판(36)을 Y축 방향으로 이동시킬 수 있다. 이 때문에, XY 조정판(36)의 Y축 방향(제1 방향)의 위치 조정을 위한 기구와 XY 조정판(36)의 X축 방향(제2 방향)의 위치 조정을 위한 기구의 2개의 구성으로, 각각의 위치 조정에 영향을 주지 않고서 XY 조정판(36)의 회전 자세를 설정할 수 있는 회전 구동 기구를 형성할 수 있다. 이와 같이, XY 조정판(36)의 회전 자세 변화의 영향을 받는 일없이, XY 조정판(36)에 있어서 X축 방향에서의 위치와 Y축 방향에서의 위치를 개별적으로 조정할 수 있기 때문에, XY 조정판(36)의 회전 자세에 상관없이 동일한 제어 방법에 의해 XY 조정판(36), 즉 워크(22)의 X-Y 평면상에서의 위치를 조정할 수 있다. 따라서, 간단한 구성으로 또 간단한 위치 자세 제어임에도 불구하고, 매우 높은 정밀도로 XY 조정판(36), 즉 워크(22)의 X-Y 평면상에서의 위치 및 회전 자세를 설정할 수 있다.
또한, 배치 스테이지(30)[노광 장치(10)]에서는, Y축 구동 기구의 위쪽에 X축 구동 기구가 설치되어 있고, 그 X축 구동 기구가 회전 구동 기구로서도 기능하는 구성으로 되어 있으므로, 높이 치수(Z축 방향에서 본 크기 치수)의 증대를 억제할 수 있다.
또한, 배치 스테이지(30)[노광 장치(10)]에서는, 식(1)에서 구한 이동량 Xs만큼 X축 슬라이더(35A)에 대하여 X축 슬라이더(35B)를 이동시킴으로써, XY 조정판(36)[기준 XY 조정판(36')]을 X-Y 평면을 따르는 상태에서의 임의의 회전 자세(기준 자세에서 임의의 회전 각도 θr만큼 회전한 자세)로 할 수 있고, 그 후, 식(2) 및 식(3)으로 나타내는 것과 같이, X축 방향 및 Y축 방향으로 적절하게 이동시킴으로써, 임의의 좌표 위치를 XY 조정판(36)의 회전 중심으로 할 수 있다. 이 때문에, XY 조정판(36), 즉 워크(22)를, 간이한 제어로, X-Y 평면을 따르는 상태에서의 임의의 좌표 위치를 회전 중심으로 한 임의의 회전 자세로 할 수 있다.
배치 스테이지(30)[노광 장치(10)]에서는, X축 슬라이더(35A)와 XY 조정판(36)이, 기준 축선(Ba) 둘레로의 상대적인 회전을 허용하는 제1 연결부(51)에 의해 연결되고, X축 슬라이더(35B)와 XY 조정판(36)이, 제3 방향으로의 상대적인 변위를 허용하며 또한 연결 기초 부분(52a)의 중심 축선 둘레로의 상대적인 회전을 허용하는 제2 연결부(52)에 의해 연결되어 있으므로, 기준 축선(Ba)에 대한 판측 제2 지지점(Sb2) 및 슬라이더측 제2 지지점(Ss2)의 위치 관계와 XY 조정판(36)의 회전 자세를 1대1로 대응시킬 수 있다. 이 때문에, 간이한 구성임에도 불구하고, X축 슬라이더(35A)에 대하여 X축 슬라이더(35B)를 적절하게 이동시킴으로써, XY 조정판(36), 즉 워크(22)의 회전 자세를 높은 정밀도로 설정할 수 있다.
배치 스테이지(30)[노광 장치(10)]에서는, 제2 연결부(52)가 X축 슬라이더(35B)의 슬라이더측 제2 지지점(Ss2)에 대하여 XY 조정판(36)의 판측 제2 지지점(Sb2)을 제3 방향을 따라서 이동 가능하게 연결하는 것으로, 그 제3 방향이 XY 조정판(36) 상에 있어서 판측 제2 지지점(Sb2)으로부터 판측 제1 지지점(Sb1)으로 향하는 방향인 회전 기준선 Rm으로 되어 있으므로, 이동된 슬라이더측 제2 지지점(Ss2) 상에 회전 기준선 Rm이 위치하도록, XY 조정판(36)을 기준 축선(Ba) 둘레로 회전시킬 수 있다. 이 때문에, XY 조정판(36), 즉 워크(22)의 회전 자세를 설정할 때, X축 슬라이더(35A)에 대한 X축 슬라이더(35B)의 이동량 Xs의 설정을 용이하게 행할 수 있다.
배치 스테이지(30)[노광 장치(10)]에서는, 제1 연결부(51)가 기준 축선(Ba) 둘레로 X축 슬라이더(35A)와 XY 조정판(36)이 상대적으로 회전하는 것을 허용하는 구성이며, 제2 연결부(52)가 X축 슬라이더(35B)와 XY 조정판(36)의 제3 방향으로의 상대적인 변위를 허용하고 또한 연결 기초 부분(52a)의 중심 축선 둘레로의 상대적인 회전을 허용하는 구성이므로, 간이한 구성임에도 불구하고, X축 슬라이더(35A)에 대한 X축 슬라이더(35B)의 X축 방향의 위치를 설정하는 것만으로, XY 조정판(36), 즉 워크(22)의 회전 자세를 매우 높은 정밀도로 설정할 수 있다.
배치 스테이지(30)에서는, Y축 슬라이더(33)의 이동 방향인 제1 방향과, 양 X축 슬라이더(35)의 이동 방향인 제2 방향이 직교되어 있으므로, 보다 효율적으로 XY 조정판(36), 즉 워크(22)의 위치 및 회전 자세를 설정할 수 있다.
배치 스테이지(30)에서는, 양 X축 슬라이더(35)가 기준 위치로 된 상태에 있어서, 제1 연결부(51)에 있어서의 판측 제1 지지점(Sb1) 및 슬라이더측 제1 지지점(Ss1)과, 제2 연결부(52)에 있어서의 판측 제2 지지점(Sb2) 및 슬라이더측 제2 지지점(Ss2)을 연결하는 선분의 연장 방향이, 제1 방향 및 제2 방향 각각으로 경사지고 있으므로, XY 조정판(36), 즉 워크(22)의 회전 방향에 상관없이, X축 슬라이더(35A)에 대하여 X축 슬라이더(35B)를 원활하게 이동시킬 수 있다. 특히, 본 실시예에서는, 전술한 선분의 연장 방향이 제1 방향 및 제2 방향 각각에 대하여 45도의 경사로 되어 있으므로, 워크(22)의 회전 방향의 차이에 의한 영향을 매우 작은 것으로 할 수 있다.
배치 스테이지(30)에서는, 각 Z축 구동 기구(37)가, XY 조정판(36)(평면 조정판)의 지지부 삽통 구멍(36a, 36b, 36c)을 지나서 XY 조정판(36)의 위쪽으로 돌출되는 조정판 지지부(37q, 37r, 37s)를, 구동 본체부(37a?37n)가 XY 조정판(36)에 대하여 제4 방향(Z축 방향)으로 각각 진퇴시키는 구성으로 되어 있다. 구동 본체부(37a?37n)는, XY 조정판(36)의 이면측에 설치되어 있고, 아래쪽의 일부가 X축 슬라이더(35A)와 X축 슬라이더(35B) 사이의 공간에 위치되어 있다. 이 때문에, 높이 치수(Z축 방향에서 본 크기 치수)의 증대를 억제할 수 있다. 이것은, 각 Z축 구동 기구(37)는, XY 조정판(36)의 위쪽에 배치된 Z축 조정판(38)(제4 방향 조정판)의, XY 조정판(36)에 대한 제4 방향(Z축 방향)에서의 위치 및 제4 방향에 대한 기울기(X-Y 평면에 대한 기울기)를 변경하는 것이므로, 일반적으로는 XY 조정판(36)의 위쪽에 설치되는 것에 의한다. 특히, 본 실시예에서는, 구동 본체부(37a?37n)의 다른 부분이, Z축 방향(제4 방향)에서 보아, XY 조정판(36)의 X-Y 평면을 따르는 위치 및 회전 자세의 조정을 가능하게 하도록, Y축 슬라이더(33)와 양 X축 슬라이더(35)를 연결하는 각 연결부(51, 52, 53, 54)가 마련된 위치에 배치되어 있으므로, 각 Z축 구동 기구(37)를 설치함에 의한 높이 치수(Z축 방향에서 본 크기 치수)의 증대를 대폭 억제할 수 있다.
노광 장치(10)에 이용된 배치 스테이지(30)에서는, 각 Z축 구동 기구(37)가, XY 조정판(36)의 위쪽에 배치된 Z축 조정판(38)(제4 방향 조정판)의 XY 조정판(36)에 대한 제4 방향(Z축 방향)에서의 위치를 설정하는 기능과, 상기 Z축 조정판(38)(제4 방향 조정판)의 제4 방향에 대한 기울기(X-Y 평면에 대한 기울기)를 설정하는 기능을 아울러 지니므로, 각각의 기능을 위한 구성을 개별적으로 설치하는 것에 비하여, 높이 치수(Z축 방향에서 본 크기 치수)를 대폭 억제할 수 있다.
배치 스테이지(30)에서는, XY 조정판(36)의 Y축 방향(제1 방향)의 위치 조정을 위한 기구 및 XY 조정판(36)의 X축 방향(제2 방향)의 위치 조정을 위한 기구의 2개의 구성으로, XY 조정판(36)의 Y축 방향(제1 방향)의 위치 조정을 위한 기능과, XY 조정판(36)의 X축 방향(제2 방향)의 위치 조정을 위한 기능과, XY 조정판(36)의 회전 자세를 설정하기 위한 기능을 실현하고, 또한 단일의 구성인 각 Z축 구동 기구(37)로, Z축 조정판(38)의 XY 조정판(36)에 대한 Z축 방향에서의 위치를 설정하는 기능과, 상기 Z축 조정판(38)의 제4 방향에 대한 기울기를 설정하는 기능을 실현하며, 또한 각 Z축 구동 기구(37)가 Z축 방향에서 보아 X축 방향(제2 방향)의 위치 조정을 위한 기구와 겹치는 구성으로 되어 있으므로, 매우 작은 구성(크기 치수)으로 5개의 기능을 구비할 수 있다.
배치 스테이지(30)에서는, Z축 조정판(38)이, Z축 구동 기구(37A)의 조정판 지지부(37q)에 의해 회전 가능하게 지지되고, 또한 Z축 구동 기구(37B)의 조정판 지지부(37r)에 의해 가이드 레일의 연장 방향으로의 변위만이 허용되어 지지되며, 또한 Z축 구동 기구(37C)의 조정판 지지부(37s)에 의해 변위 가능하게 지지되어 있으므로, Z축 구동 기구(37A)의 조정판 지지부(37q)가 고정된 부위를 기점으로 하여, Z축 방향 둘레로 회동하는 것이 방지되고 있다. 이 때문에, 각 Z축 구동 기구(37)에 의한 지지 높이 위치(Z축 방향에서 본 지지 위치)를 적절하게 변경함으로써, XY 조정판(36)에 있어서 설정된 X-Y 평면을 따르는 상태에서의 위치 및 회전 자세의 변경을 초래하는 일없이, Z축 조정판(38), 즉 워크(22)의 제4 방향(Z축 방향)에서의 위치 및 제4 방향에 대한 기울기(X-Y 평면에 대한 기울기)를 설정할 수 있다.
배치 스테이지(30)에서는, 리프트 기구(39)의 리프트 베이스(39a)가, Z축 조정판(38)(제4 방향 조정판)의 아래쪽에 있어서, 각 Z축 구동 기구(37)의 조정판 지지부(37q, 37r, 37s)에 의해 형성된 Z축 조정판(38)과 XY 조정판(36)(평면 조정판) 사이의 공간에 배치되어 있고, 이 공간 내에서 Z축 방향(제4 방향)으로 이동할 수 있게 되어 있으므로, 리프트 기구(39)를 설치함에 따른 높이 치수(Z축 방향에서 본 크기 치수)의 증대를 대폭 억제할 수 있다.
배치 스테이지(30)에서는, 워크(22)[XY 조정판(36)]의 X-Y 평면을 따르는 위치 및 회전 자세의 설정을 위한 X축 구동 기구(34) 및 X축 슬라이더(35)가, Y축 슬라이더(33)의 상면에 있어서 Y축 방향에서 본 양단 위치에 개별적으로 설치되고, 또한 양 X축 슬라이더(35)를 Y축 방향으로 걸치는 식으로 XY 조정판(36)(평면 조정판)이 설치되어 있으므로, XY 조정판(36)의 아래쪽에 있어서, 양 X축 슬라이더(35)의 이동에 상관없이 용량이 대략 일정한 공간을 양 X축 슬라이더(35) 사이에 형성할 수 있다. 이 때문에, 상기 공간을 배치 스페이스로서 이용할 수 있으므로, 크기 치수의 증대를 억제할 수 있다. 예컨대, 배치 스테이지(30)[노광 장치(10)]에서는, Z축 조정판(38)에 중앙 삽통 구멍(38a)을 마련하고 XY 조정판(36)에 중앙 관통 구멍(36d)을 마련하고 있으므로, Z축 조정판(38) 상에 배치되는 척 플레이트(40), 즉 여기에 흡착 유지되는 워크(22)에 대한 노광 장치(10)의 투영 광학계에 위치 설정하기 위한 공구 현미경(41)을, 양 X축 슬라이더(35) 사이에 마련한 공간에 배치할 수 있다. 또한, 배치 스테이지(30)[노광 장치(10)]에서는, Z축 조정판(38)에 중앙 삽통 구멍(38a)을 마련하고 XY 조정판(36)에 중앙 관통 구멍(36d)을 마련하고 있으므로, Z축 조정판(38) 상에 배치되는 척 플레이트(40)에, 워크(22)가 배치되어 있는지 여부를 판별하기 위한 초음파 센서(42)를 양 X축 슬라이더(35) 사이에 형성한 공간에 배치할 수 있다.
배치 스테이지(30)에서는, 척 플레이트(40)에 워크(22)가 배치되어 있는지 여부를 판별하기 위해서, 초음파 센서(42)를 이용하고 있으므로, 척 플레이트(40) 상에서의 높이 위치(Z축 방향에서 본 위치)에 상관없이 워크(22)의 유무를 검출할 수 있다.
노광 장치(10)에서는, 배치 스테이지(30)에 있어서 워크(22)가 매우 높은 정밀도로 위치 및 회전 자세가 설정되어 있으므로, 마스크 패턴상을 워크(22)에 적절하게 노광시킬 수 있다.
따라서, 노광 장치(10)에 적용된 본 발명에 따른 배치 스테이지(30)에서는, 간단한 구성으로, 워크(22)의 위치 자세 제어를 매우 높은 정밀도로 행할 수 있다.
한편, 상기한 실시예에서는, 본 발명에 따른 배치 스테이지의 일례로서의 배치 스테이지(30)에 대해서 설명했지만, 노광광이 결상되어 소정의 마스크 패턴이 노광되는 기준 평면에 대한 워크의 위치 및 자세를 제어하는 배치 스테이지로서, 상기 기준 평면에 대하여 고정적으로 설치된 베이스 부재와, 상기 기준 평면을 따르는 제1 방향으로 이동 가능하게 상기 베이스 부재 상에 설치된 제1 구동 기구와, 이 제1 구동 기구에 의해 지지되는 제1 슬라이더와, 상기 기준 평면을 따르며 또한 상기 제1 방향에 대하여 경사지는 제2 방향으로 이동 가능하게, 상기 제1 슬라이더 상에서 상기 제1 방향으로 간격을 두고서 쌍을 이루어 설치된 2개의 제2 구동 기구와, 이 각 제2 구동 기구에 의해 개별적으로 지지되는 2개의 제2 슬라이더와, 상기 워크를 배치하도록 상기 양 제2 슬라이더를 상기 제1 방향으로 걸쳐 상기 기준 평면을 따라서 설치된 평면 조정판을 구비하는 배치 스테이지이면 되며, 상기한 실시예에 한정되는 것은 아니다.
또한, 상기한 실시예에서는, 제1 연결부(51) 및 제2 연결부(52)가 전술한 바와 같이 구성되어 있지만, 제1 연결부가, 기준 축선(Ba) 둘레로의 상대적인 회전을 허용하면서 X축 슬라이더(35A)와 XY 조정판(36)을 연결하는 것이고, 제2 연결부가, 제3 방향으로의 상대적인 변위를 허용하며 또한 연결 기초 부분(52a)의 중심 축선 둘레로의 상대적인 회전을 허용하면서 X축 슬라이더(35B)와 XY 조정판(36)을 연결하는 것이면 되며, 상기한 실시예에 한정되는 것은 아니다.
또한, 상기한 실시예에서는, 제3 연결부(53) 및 제4 연결부(54)가 설치되어 있었지만, 이들은 양 X축 슬라이더(35)의 위쪽에 있어서 XY 조정판(36)을 안정적으로 지지하기 위해서 설치되는 것이므로, XY 조정판(36)측의 지지점(Sb3, Sb4)에 대한 양 X축 슬라이더(35)측의 지지점(Ss3, Ss4)의 Z축 방향에서의 간격을 변동시키는 일없이 X-Y 방향에서의 위치 변동을 허용하는 것이면 되며, 상기한 실시예에 한정되는 것은 아니다. 이 점에서, 제1 연결부(51)와 제2 연결부(52)에 의해, 양 X축 슬라이더(35)의 위쪽에 있어서 XY 조정판(36)을 안정적으로 지지할 수 있는 것이라면, 제3 연결부(53) 및 제4 연결부(54)는 설치하지 않더라도 좋다.
상기한 실시예에서는, 제2 연결부(52)에 있어서의 제3 방향이, XY 조정판(36) 상에 있어서 판측 제2 지지점(Sb2)에서 판측 제1 지지점(Sb1)으로 향하는 방향(회전 기준선 Rm)으로 되어 있었지만, X축 슬라이더(35A)와 X축 슬라이더(35B)의 X축 방향에서의 상대적인 위치에 의해 XY 조정판(36)의 회전 자세를 설정할 수 있는 것이면 되므로, XY 조정판(36)에 있어서의 각 지지점(Sb1, Sb2, Sb3, Sb4)의 위치 관계에 대하여 변동되는 일이 없는 일정한 방향, 혹은 X축 슬라이더(35B) 상에 있어서 변동되는 일이 없는 일정한 방향이면 되며, 상기한 실시예에 한정되는 것은 아니다.
전술한 실시예와는 다른 일례를, 이하에서 도 19 및 도 20을 이용하여 설명한다. 이 예에서는, 양 X축 구동 기구(34)가 구동 제어의 기준 위치로 된 상태에 있어서, X축 슬라이더(35B)의 슬라이더측 제2 지지점(Ss2)으로부터, X축 슬라이더(35A)의 슬라이더측 제1 지지점(Ss1)으로 향하는 방향을 제3 방향으로 하는 것이다. 이 경우, 예컨대 제2 연결부(52)(도 8 참조) 대신에, 도 19에 도시하는 제2 연결부(52')를 이용하면 된다. 이 제2 연결부(52')는, X축 슬라이더(35B)에 고정되어 Z축 방향으로 연장되는 연결 기초 부분(52a')과, 그 상단면에 고정된 레일 유지 부분(52b')과, 그 레일 유지 부분(52b')에 미끄럼 이동 가능하게 유지되는 레일(52c')과, 그 레일(52c')에 고정된 회전축 부분(52d')과, 그 회전축 부분(52d')에 대하여 회전 가능하게 설치된 회전 부분(52e')을 갖는다. 이 연결 기초 부분(52a')은, 전체적으로 단차 구비 원통 형상을 지니며, 그 중심 축선은 Z축 방향을 따르도록 설정되어 있다. 레일 유지 부분(52b')은, X-Y 평면을 따르는 방향이며, X축 방향(제2 방향) 및 Y축 방향(제1 방향)에 대하여 경사지는 제3 방향으로 미끄럼 이동 가능하게 레일(52c')을 유지할 수 있도록 되어 있다. 레일(52c')은, 제3 방향으로 연장된 막대 형상 부재로 이루어지며, 회전축 부분(52d')에 고정되어 있다. 회전축 부분(52d')은 전체적으로 원기둥 형상을 지니며, 중심 축선이 Z축 방향을 따르도록 배치되어 레일(52c')에 고정되어 있다. 회전 부분(52e')은, 회전축 부분(52d')을 둘러싸는 환상의 형상을 지니며, 그 회전축 부분(52d')에 대하여 그 회전축 부분(52d')의 중심 축선 둘레로 회전 가능하게 되어 있다. 제2 연결부(52')에서는 회전 부분(52e')이 XY 조정판(36)에 고정적으로 부착되어 있다. 이 때문에, 레일(52c')은, X축 슬라이더(35B)에 대하여 연장 방향이 고정되어 있게 된다. 이 레일(52c')의 연장 방향, 즉 제3 방향은, 이 예에서는, 양 X축 구동 기구(34)가 구동 제어의 기준 위치로 된 상태에 있어서, X축 슬라이더(35B)의 슬라이더측 제2 지지점(Ss2)으로부터, X축 슬라이더(35A)의 슬라이더측 제1 지지점(Ss1)으로 향하는 방향으로 되어 있으며, 각 지지점(Ss1, Ss2, Ss3, Ss4)이 그리는 정방형의 대각선과 일치하고 있다. 이 때문에, 상기한 실시예의 설정에 맞추면, 제3 방향은, 항상 X축 방향(제2 방향) 및 Y축 방향(제1 방향)에 대하여 45도의 경사를 갖는다. 이러한 구성의 경우, 상기한 실시예의 제어식(1)을 다음 식(4)으로 변경할 필요가 있다.
Figure pat00007
또한, 상기한 실시예와 같이, XY 조정판(36)에 있어서의 각 지지점(Sb1, Sb2, Sb3, Sb4)이 정방형을 형성하는 [기준 XY 조정판(36')] 위치 관계로 설정되어 있고, 그 한 변의 길이 치수가 430 mm이면, 길이 치수 Ax=길이 치수 Ay=215 mm로 되어, 회전 기준 각도 θb=45도가 된다. 이 때문에, 전술한 양 Y축 슬라이더(33) 및 양 X축 슬라이더(35)를 이용한 XY 조정판(36)[기준 XY 조정판(36')]의 X-Y 평면을 따르는 상태에서의 회전 자세를 조정하기 위한 식(4)은 다음 식(4')으로 나타낼 수 있다.
Figure pat00008
이 예의 구성이라도, 기본적으로 상기한 실시예의 배치 스테이지(30)[노광 장치(10)]와 같은 구성이므로, 기본적으로 상기한 실시예와 동일한 효과를 얻을 수 있다.
그에 더하여, 제2 연결부(52')가 X축 슬라이더(35B)의 슬라이더측 제2 지지점(Ss2)에 대하여 XY 조정판(36)의 판측 제2 지지점(Sb2)을 제3 방향을 따라서 이동 가능하게 연결되고, 그 제3 방향은, 양 X축 구동 기구(34)가 구동 제어의 기준 위치로 된 상태에 있어서, X축 슬라이더(35B)의 슬라이더측 제2 지지점(Ss2)으로부터, X축 슬라이더(35A)의 슬라이더측 제1 지지점(Ss1)으로 향하는 방향으로 되어 있으므로, 이동된 슬라이더측 제2 지지점(Ss2)을 포함하는 제3 방향 상에 판측 제2 지지점(Sb2)이 위치하도록, XY 조정판(36)을 기준 축선(Ba) 둘레로 회전시킬 수 있다. 이 때문에, XY 조정판(36), 즉 워크(22)의 회전 자세를 설정할 때의, X축 슬라이더(35A)에 대한 X축 슬라이더(35B)의 이동량 Xs의 설정을 용이한 것으로 할 수 있다.
이상, 본 발명의 배치 스테이지 및 이것을 이용한 노광 장치를 실시예에 기초하여 설명해 왔지만, 구체적인 구성은, 이 실시예에 한정되는 것이 아니라, 본 발명의 요지를 일탈하지 않는 한, 이들 실시예에 여러 가지 변경 및 변형이 이루어질 수 있음은 물론이다.
10 : 노광 장치 22 : 워크
30 : 배치 스테이지 31 : 베이스 부재
32 : (제1 구동 기구로서의) Y축 구동 기구
33 : (제1 슬라이더로서의) Y축 슬라이더
34 : (제2 구동 기구로서의) X축 구동 기구
35 : (제2 슬라이더로서의) X축 슬라이더
36 : (평면 조정판으로서의) XY 조정판
37 : (제4 방향 구동 기구로서의) Z축 구동 기구
37q : (제1 지지부로서의) 조정판 지지부
37r : (제2 지지부로서의) 조정판 지지부
37s : (제3 지지부로서의) 조정판 지지부
38 : (제4 방향 조정판으로서의) Z축 조정판
51 : 제1 연결부 52, 52' :제2 연결부
Ba : 기준 축선 Sb1 : 판측 제1 지지점
Sb2 : 판측 제2 지지점 Ss1 : 슬라이더측 제1 지지점
Ss2 : 슬라이더측 제2 지지점

Claims (12)

  1. 기준 평면에 대하여, 노광광이 결상되어 정해진 마스크 패턴이 노광되는 워크의 위치 결정을 제어하도록 한 배치 스테이지로서,
    상기 기준 평면에 대하여 고정적으로 마련된 베이스 부재와,
    상기 기준 평면을 따르는 제1 방향으로 이동 가능하게 상기 베이스 부재 상에 마련된 제1 구동 기구와,
    상기 제1 구동 기구에 의해 지지되는 제1 슬라이더와,
    상기 기준 평면을 따르며 상기 제1 방향에 대하여 경사지는 제2 방향으로 이동 가능하게, 상기 제1 슬라이더 상에 상기 제1 방향으로 간격을 두고 마련된 1쌍의 제2 구동 기구와,
    상기 제2 구동 기구 각각에 의해 개별적으로 지지된 2개의 제2 슬라이더와,
    상기 워크를 배치하도록 상기 양 제2 슬라이더를 상기 제1 방향으로 걸쳐 상기 기준 평면을 따라서 설치된 평면 조정판
    을 구비하는 것을 특징으로 하는 배치 스테이지.
  2. 제1항에 있어서, 상기 평면 조정판과 한쪽의 상기 제2 슬라이더는, 일단이 판측 제1 지지점에서 상기 평면 조정판에 접속되고, 타단이 슬라이더측 제1 지지점에서 한쪽의 상기 제2 슬라이더에 접속되도록, 상기 기준 평면에 직교하는 방향으로 연장되는 제1 연결부에 의해 연결되며,
    상기 제1 연결부는, 상기 판측 제1 지지점과 상기 슬라이더측 제1 지지점의 위치 관계를 변경하는 일없이, 상기 판측 제1 지지점 및 상기 슬라이더측 제1 지지점을 포함하는 기준 축선 둘레로 상기 평면 조정판과 한쪽의 상기 제2 슬라이더를 상대적으로 회전시키고,
    상기 평면 조정판과 다른쪽의 상기 제2 슬라이더는, 일단이 판측 제2 지지점에서 상기 평면 조정판에 접속되고, 타단이 슬라이더측 제2 지지점에서 다른쪽의 상기 제2 슬라이더에 접속되도록, 상기 기준 평면에 직교하는 방향으로 연장되는 제2 연결부에 의해 연결되며,
    상기 제2 연결부는, 상기 기준 평면을 따르는 제3 방향에서의 상기 판측 제2 지지점과 상기 슬라이더측 제2 지지점의 상대적인 위치의 변화를 허용하고, 상기 기준 평면에 직교하는 방향 둘레로 상기 평면 조정판과 다른쪽의 상기 제2 슬라이더를 상대적으로 회전시키는 것을 특징으로 하는 배치 스테이지.
  3. 제1항에 있어서, 상기 기준 평면을 따르는 제3 방향은, 상기 제1 방향과 상기 제2 방향의 각각에 대하여 경사지는 방향인 것을 특징으로 하는 배치 스테이지.
  4. 제2항에 있어서, 상기 제3 방향은, 상기 제1 방향과 상기 제2 방향의 각각에 대하여 경사지는 방향인 것을 특징으로 하는 배치 스테이지.
  5. 제1항에 있어서, 상기 제1 방향과 상기 제2 방향은, 직교하고 있는 것을 특징으로 하는 배치 스테이지.
  6. 제4항에 있어서, 상기 판측 제1 지지점과 상기 판측 제2 지지점은, 상기 양 제2 슬라이더가 상기 제2 방향으로의 이동의 기준이 되는 기준 위치로 되었을 때, 상기 제1 방향과 상기 제2 방향의 각각에 대하여 경사지는 직선상에 위치되어 있는 것을 특징으로 하는 배치 스테이지.
  7. 제5항에 있어서, 상기 기준 평면을 따르는 제3 방향은, 상기 판측 제1 지지점과 상기 판측 제2 지지점을 연결하는 선분의 연장 방향인 것을 특징으로 하는 배치 스테이지.
  8. 제2항에 있어서, 상기 제3 방향은, 상기 양 제2 슬라이더가 상기 제2 방향으로의 이동의 기준이 되는 기준 위치로 되었을 때에 있어서의 상기 슬라이더측 제1 지지점과 상기 슬라이더측 제2 지지점을 연결하는 선분의 연장 방향인 것을 특징으로 하는 배치 스테이지.
  9. 제6항에 있어서, 상기 판측 제1 지지점과 상기 판측 제2 지지점은, 상기 양 제2 슬라이더가 상기 기준 위치로 되었을 때, 서로를 연결하는 선분의 연장 방향이 상기 제1 방향과 상기 제2 방향의 각각에 대하여 45도의 경사를 형성하고 있는 것을 특징으로 하는 배치 스테이지.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 기준 평면에 직교하는 제4 방향에서의 상기 워크의 위치 및 상기 제4 방향에 대한 경사의 변경을 위해서 상기 평면 조정판 상에 마련된 제4 방향 조정판과,
    상기 제4 방향 조정판의 상기 제4 방향에서의 위치 및 상기 제4 방향에 대한 경사를 변경시키는 제4 방향 구동 기구
    를 더 구비하고,
    상기 제4 방향 구동 기구는, 상기 제4 방향 조정판을 지지하는 적어도 3개의 지지부와, 각 지지부를 상기 제4 방향으로 이동시키는 구동 본체부를 구비하며,
    상기 구동 본체부는, 적어도 일부가 상기 제1 슬라이더와 상기 제2 슬라이더 사이에 위치하면서 상기 평면 조정판의 하측에 설치되고,
    상기 각 지지부는, 상기 제4 방향에서 보아, 상기 평면 조정판의 아래쪽의 상기 구동 본체부에 접속하며, 상기 평면 조정판의 위쪽에서 상기 제4 방향 조정판을 지지하고 있는 것을 특징으로 하는 배치 스테이지.
  11. 제10항에 있어서, 상기 각 지지부는, 상기 제4 방향 조정판에 대한 지지 위치를 변화시키는 일없이 상기 제4 방향 조정판에 대한 지지 각도를 변경 가능하게 지지하는 제1 지지부와,
    상기 제4 방향 조정판에 대한 지지 위치를 상기 제1 지지부에 의한 지지 위치와의 선분 방향으로 변경 가능하게, 그리고 상기 제4 방향 조정판에 대한 지지 각도를 변경 가능하게 지지하는 제2 지지부와,
    상기 제4 방향 조정판에 대한 지지 위치를 변경 가능하게, 그리고 상기 제4 방향 조정판에 대한 지지 각도를 변경 가능하게 지지하는 제3 지지부를 갖는 것을 특징으로 하는 배치 스테이지.
  12. 제1항 내지 제11항 중의 어느 한 항에 기재된 배치 스테이지를 이용하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
KR1020110108231A 2010-10-22 2011-10-21 배치 스테이지 및 노광 장치 KR101347462B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010237854A JP5677025B2 (ja) 2010-10-22 2010-10-22 載置ステージ
JPJP-P-2010-237854 2010-10-22

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20120042681A true KR20120042681A (ko) 2012-05-03
KR101347462B1 KR101347462B1 (ko) 2014-01-02

Family

ID=46038938

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020110108231A KR101347462B1 (ko) 2010-10-22 2011-10-21 배치 스테이지 및 노광 장치

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP5677025B2 (ko)
KR (1) KR101347462B1 (ko)
CN (1) CN102455606A (ko)
TW (1) TWI442190B (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11919116B1 (en) * 2020-04-23 2024-03-05 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Methods of aligning components for vehicle assembly

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102897531B (zh) * 2012-10-09 2014-12-10 中天科技精密材料有限公司 一种预制棒装卸系统及其控制方法
FR3012891B1 (fr) * 2013-11-06 2015-11-27 Altix Plateau pour machine d'insolation
GB2520983A (en) * 2013-12-06 2015-06-10 Huber Diffraktionstechnik Gmbh & Co Kg Redundant parallel positioning table
CN104360508B (zh) * 2014-11-21 2017-04-05 合肥鑫晟光电科技有限公司 一种承载台以及覆晶薄膜压接维修设备
CN104599864B (zh) * 2015-01-22 2017-10-24 太原理工大学 一种可增加mems超级电容器电极比表面积的斜光刻方法
CN105817916B (zh) * 2016-05-25 2018-06-15 深圳市富诚达科技有限公司 产品加工用夹具
CN113459644B (zh) * 2021-06-25 2023-02-10 合肥维信诺科技有限公司 矫正装置
CN113934113A (zh) * 2021-10-18 2022-01-14 深圳市凯瑞得智能股份有限公司 一种基于ccd对位系统的曝光机

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE60032568T2 (de) * 1999-12-01 2007-10-04 Asml Netherlands B.V. Positionierungsapparat und damit versehener lithographischer Apparat
JP4474020B2 (ja) * 2000-06-23 2010-06-02 キヤノン株式会社 移動装置及び露光装置
JP2002158274A (ja) * 2000-08-10 2002-05-31 Nsk Ltd 位置決め装置
JP4360064B2 (ja) * 2002-06-10 2009-11-11 株式会社ニコン ステージ装置および露光装置
JP4266713B2 (ja) * 2003-06-03 2009-05-20 キヤノン株式会社 位置決め装置及び露光装置
JP2005175176A (ja) * 2003-12-11 2005-06-30 Nikon Corp 露光方法及びデバイス製造方法
JP2005189776A (ja) 2003-12-26 2005-07-14 Nsk Ltd Ｘｙ位置決めテーブル及び露光装置
JP5130714B2 (ja) * 2004-04-09 2013-01-30 株式会社ニコン 移動体の駆動方法、ステージ装置、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法
JP4587786B2 (ja) 2004-11-15 2010-11-24 駿河精機株式会社 位置調整装置
JP2006237485A (ja) * 2005-02-28 2006-09-07 Yaskawa Electric Corp アライメント装置
JP4826149B2 (ja) 2005-06-15 2011-11-30 株式会社安川電機 長ストローク移動可能なアライメントステージ
JP4692276B2 (ja) * 2005-12-28 2011-06-01 ウシオ電機株式会社 支持機構及び支持機構を使ったマスクステージ
JP4877925B2 (ja) * 2006-03-02 2012-02-15 住友重機械工業株式会社 ステージ装置
JP2007266187A (ja) * 2006-03-28 2007-10-11 Nikon Corp ステージ装置、露光装置、デバイスの製造方法
JP2007311597A (ja) * 2006-05-19 2007-11-29 Nikon Corp 干渉計システム、ステージ装置及び露光装置
JP2009049119A (ja) * 2007-08-17 2009-03-05 Nikon Corp ベース部材とその製造方法及びステージ装置並びに露光装置
JP2010234498A (ja) * 2009-03-31 2010-10-21 Thk Co Ltd チルトステージ

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11919116B1 (en) * 2020-04-23 2024-03-05 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Methods of aligning components for vehicle assembly

Also Published As

Publication number Publication date
TWI442190B (zh) 2014-06-21
TW201234128A (en) 2012-08-16
CN102455606A (zh) 2012-05-16
JP5677025B2 (ja) 2015-02-25
KR101347462B1 (ko) 2014-01-02
JP2012094557A (ja) 2012-05-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101347462B1 (ko) 배치 스테이지 및 노광 장치
TW511155B (en) Stage unit and exposure apparatus
TW561523B (en) Exposure device, exposure method, and manufacturing method of devices
TWI584079B (zh) 移動體裝置、曝光裝置、以及元件製造方法
JP2012151418A (ja) 吸着ステージ
TW530333B (en) Exposure method and exposure apparatus
TW587275B (en) Exposure method and exposure apparatus
TW201220419A (en) Movable body apparatus, object processing device, exposure apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method
TW200537254A (en) Stage drive method and stage drive apparatus, exposure apparatus, and device producing method
TW201730691A (zh) 曝光裝置及曝光方法、以及元件製造方法
TW200935184A (en) Exposure apparatus, exposure method and device manufacturing method
CN106104382A (zh) 传感器系统、衬底输送系统和光刻设备
KR20180008316A (ko) 광학 장치 조정 방법
US20070188732A1 (en) Stage apparatus and exposure apparatus
KR100554869B1 (ko) 리소그래피장치 및 디바이스 제조방법
TWI484306B (zh) 微影裝置及器件製造方法
WO2019169733A1 (zh) 一种无掩模光刻系统及其曝光方法
KR100824022B1 (ko) 투영 노광장치 및 투영 노광방법
KR20150118017A (ko) 노광 장치 및 그 고정 방법
JP6965332B2 (ja) 基板ハンドリングシステムおよびリソグラフィ装置
JP2007025085A (ja) 露光装置、光学素子アレー及びマルチスポットビームジェネレータ、並びにデバイス製造方法
WO2016159200A1 (ja) 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び露光方法
JP2008209632A (ja) マスク装着方法及び露光装置ユニット
JP2014038225A (ja) 露光方法及び露光装置、並びにフラットパネルディスプレイの製造方法及びデバイス製造方法
JP2000012422A (ja) 露光装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20161129

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20171110

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181012

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191010

Year of fee payment: 7