KR20110099775A - 페놀성 화합물 및 기록 재료 - Google Patents
페놀성 화합물 및 기록 재료 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20110099775A KR20110099775A KR1020117017578A KR20117017578A KR20110099775A KR 20110099775 A KR20110099775 A KR 20110099775A KR 1020117017578 A KR1020117017578 A KR 1020117017578A KR 20117017578 A KR20117017578 A KR 20117017578A KR 20110099775 A KR20110099775 A KR 20110099775A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- methyl
- hydrogen atom
- acid
- alkyl group
- hydroxy
- Prior art date
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
- B41M5/30—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using chemical colour formers
- B41M5/333—Colour developing components therefor, e.g. acidic compounds
- B41M5/3333—Non-macromolecular compounds
- B41M5/3335—Compounds containing phenolic or carboxylic acid groups or metal salts thereof
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
- B41M5/30—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using chemical colour formers
- B41M5/333—Colour developing components therefor, e.g. acidic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C233/00—Carboxylic acid amides
- C07C233/01—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
- C07C233/16—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by singly-bound oxygen atoms
- C07C233/24—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by singly-bound oxygen atoms with the substituted hydrocarbon radical bound to the nitrogen atom of the carboxamide group by a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C233/29—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by singly-bound oxygen atoms with the substituted hydrocarbon radical bound to the nitrogen atom of the carboxamide group by a carbon atom of a six-membered aromatic ring having the carbon atom of the carboxamide group bound to an acyclic carbon atom of a carbon skeleton containing six-membered aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C235/00—Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by oxygen atoms
- C07C235/02—Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by oxygen atoms having carbon atoms of carboxamide groups bound to acyclic carbon atoms and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton
- C07C235/32—Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by oxygen atoms having carbon atoms of carboxamide groups bound to acyclic carbon atoms and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton the carbon skeleton containing six-membered aromatic rings
- C07C235/38—Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by oxygen atoms having carbon atoms of carboxamide groups bound to acyclic carbon atoms and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton the carbon skeleton containing six-membered aromatic rings having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M2205/00—Printing methods or features related to printing methods; Location or type of the layers
- B41M2205/28—Storage stability; Improved self life
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
바탕면 및 화상의 보존성이 우수한, 특히 바탕면 내광성, 화상 내광성, 내습열성 어느 면에 있어서나 매우 우수한 기록 재료를 제공하는 것을 목적으로 한다.
식 (Ⅰ)
[식 중, R1 ∼ R3 은 각각 독립적으로 수소 원자, 또는 C1 ∼ C4 알킬기를 나타내고, R5 는 수소 원자, C1 ∼ C4 알킬기, 또는 C1 ∼ C4 알콕시기를 나타낸다. 단, R5 가 수소 원자인 경우, R4 는 C1 ∼ C4 알킬기이며, R5 가 C1 ∼ C4 알킬기인 경우, R4 는 수소 원자이며, R5 가 C1 ∼ C4 알콕시기인 경우, R4 는 C1 ∼ C4 알콕시기를 나타낸다.]로 나타내는 페놀성 화합물을 함유한다.
식 (Ⅰ)
[식 중, R1 ∼ R3 은 각각 독립적으로 수소 원자, 또는 C1 ∼ C4 알킬기를 나타내고, R5 는 수소 원자, C1 ∼ C4 알킬기, 또는 C1 ∼ C4 알콕시기를 나타낸다. 단, R5 가 수소 원자인 경우, R4 는 C1 ∼ C4 알킬기이며, R5 가 C1 ∼ C4 알킬기인 경우, R4 는 수소 원자이며, R5 가 C1 ∼ C4 알콕시기인 경우, R4 는 C1 ∼ C4 알콕시기를 나타낸다.]로 나타내는 페놀성 화합물을 함유한다.
Description
본 발명은 페놀성 화합물 및 그 화합물을 함유한 바탕면 및 화상의 보존성이 우수한 기록 재료에 관한 것이다. 본원은 2009년 2월 3일에 출원된 일본국 특허출원 제2009-22193호에 대해 우선권을 주장하고, 그 내용을 여기에 원용한다.
발색성 염료와 현색제의 반응에 의한 발색을 이용한 기록 재료는 현상 정착 등의 번잡한 처리를 실시하지 않고 비교적 간단한 장치로 단시간에 기록할 수 있기 때문에, 팩시밀리, 프린터 등의 출력 기록을 위한 감열 기록지 또는 여러 장을 동시에 복사하는 장표 (帳票) 를 위한 감압 복사지 등에 널리 사용되고 있다. 이들의 기록 재료로는, 신속하게 발색되고, 미발색 부분 (이하 「바탕면」 이라고 한다) 의 흰색도가 유지되고, 또 발색된 화상의 견뢰성이 높은 것이 요망되고 있는데, 장기간 보존 안정성면에서 특히 바탕면 내광성이 우수한 기록 재료가 요구되고 있다. 그 때문에, 발색성 염료, 현색제, 보존 안정제 등의 개발 노력이 이루어지고 있지만, 발색의 감도, 바탕면 그리고 화상의 보존성 등의 밸런스가 양호하게 충분히 만족할 수 있는 것은 아직 발견되지 않았다.
또, 종래부터 바탕면의 보존성이 우수한 기록 재료로서, 2,4'-디하이드록시디페닐술폰 및 4-이소프로폭시-4'-하이드록시디페닐술폰이 알려져 있지만, 바탕면 내광성은 여전히 만족할 수 있는 것은 아니었다.
본 발명자들은 계피산아미드계 화합물을 현색제로 사용한 바탕면 내광성이 우수한 기록 재료를 이미 제안하고 있지만 (특허문헌 1 참조), 아직도 충분히 만족할 수 있는 것은 아니어서 실용적인 기록 재료는 얻어지지 않았다.
본 발명의 목적은 상기와 같은 종래의 기록 재료가 갖는 결점을 개선시켜 바탕면 및 화상의 보존성이 우수한, 특히 바탕면 내광성, 화상 내광성, 내습열성 어느 면에 있어서나 매우 우수한 기록 재료를 제공하는 것에 있다.
본 발명자들은 이미 계피산아미드계 화합물을 현색제로 사용하면 바탕면 내광성에 있어서 우수한 기록 재료를 제공할 수 있음을 알아냈다 (일본 공개특허공보 2003-305959호).
[화학식 1]
[상기 식 중, R1, R4 는 각각 독립적으로 수소 원자, 수산기, 할로겐 원자, C1 ∼ C6 알킬기, C1 ∼ C6 알콕시기를 나타내고, p 는 0 ∼ 4 의 정수를 나타내고, q 는 0 ∼ 5 의 정수를 나타내고, p, q 가 2 이상 때, R1, R4 는 각각 동일하거나 상이해도 된다. R2, R3 은 각각 독립적으로 수소 원자, C1 ∼ C6 알킬기를 나타내고, R5 는 수소 원자, C1 ∼ C6 알킬기, 치환되어 있어도 되는 페닐기, 치환되어 있어도 되는 벤질기를 나타낸다.]
그러나, 아직도 실용적인 수준이 아니어서 보다 고내광성이 요구되고 있다. 본 발명자들은 이러한 기록 재료에 사용되는 현색제 화합물을 더욱 예의 연구한 결과, 먼저 알아낸 계피산아미드계 화합물에 있어서 특정 치환기를 특정 위치로 치환한 화합물을 현색제로 사용하면 바탕면 내광성이 매우 우수한 기록 재료가 얻어짐과 함께 발색 화상의 내광성도 우수한 기록 재료가 얻어짐을 발견하였다. 나아가서는 발색 화상의 내습열성도 매우 우수하여, 바탕면 및 화상의 양방에 있어서 종합적으로 우수한 지금까지 없는 기록 재료를 제공할 수 있음을 알아내어 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
즉, 본 발명은 (1) 식 (Ⅰ)
[화학식 2]
[식 중, R1 ∼ R3 은 각각 독립적으로 수소 원자, 또는 C1 ∼ C4 알킬기를 나타내고, R5 는 수소 원자, C1 ∼ C4 알킬기, 또는 C1 ∼ C4 알콕시기를 나타낸다. 단, R5 가 수소 원자인 경우, R4 는 C1 ∼ C4 알킬기이며, R5 가 C1 ∼ C4 알킬기인 경우, R4 는 수소 원자이며, R5 가 C1 ∼ C4 알콕시기인 경우, R4 는 C1 ∼ C4 알콕시기를 나타낸다.]로 나타내는 페놀성 화합물이며, (2) 식 (Ⅱ)
[화학식 3]
[식 중, R1 ∼ R3 은 수소 원자를 나타내고, R5 는 수소 원자, C1 ∼ C4 알킬기, 또는 C1 ∼ C4 알콕시기를 나타낸다. 단, R5 가 수소 원자인 경우, R4 는 C1 ∼ C4 알킬기이며, R5 가 C1 ∼ C4 알킬기인 경우, R4 는 수소 원자이며, R5 가 C1 ∼ C4 알콕시기인 경우, R4 는 C1 ∼ C4 알콕시기를 나타낸다.]로 나타내는 상기 (1) 기재의 페놀성 화합물이다. 또 (3) 발색성 염료를 함유하는 기록 재료에 있어서 식 (Ⅰ)
[화학식 4]
[식 중, R1 ∼ R3 은 각각 독립적으로 수소 원자, 또는 C1 ∼ C4 알킬기를 나타내고, R5 는 수소 원자, C1 ∼ C4 알킬기, 또는 C1 ∼ C4 알콕시기를 나타낸다. 단, R5 가 수소 원자인 경우, R4 는 C1 ∼ C4 알킬기이며, R5 가 C1 ∼ C4 알킬기인 경우, R4 는 수소 원자이며, R5 가 C1 ∼ C4 알콕시기인 경우, R4 는 C1 ∼ C4 알콕시기를 나타낸다.]로 나타내는 페놀성 화합물의 적어도 1 종을 함유하는 것을 특징으로 하는 기록 재료이며, (4) 발색성 염료를 함유하는 기록 재료에 있어서 식 (Ⅱ)
[화학식 5]
[식 중, R1 ∼ R3 은 수소 원자를 나타내고, R5 는 수소 원자, C1 ∼ C4 알킬기, 또는 C1 ∼ C4 알콕시기를 나타낸다. 단, R5 가 수소 원자인 경우, R4 는 C1 ∼ C4 알킬기이며, R5 가 C1 ∼ C4 알킬기인 경우, R4 는 수소 원자이며, R5 가 C1 ∼ C4 알콕시기인 경우, R4 는 C1 ∼ C4 알콕시기를 나타낸다.]로 나타내는 페놀성 화합물의 적어도 1 종을 함유하는 것을 특징으로 하는 상기 (3) 기재의 기록 재료이다.
본 발명에 의하면, 특정 계피산아미드계 페놀 화합물을 현색제로 사용하면 종래에 없는 바탕면 및 화상의 양방의 보존성을 겸비한, 특히 바탕면 내광성, 화상 내광성, 내습열성 어느 면에 있어서나 매우 실용적으로 우수한 기록 재료를 얻을 수 있다.
(기록 재료)
본 발명의 기록 재료는 발색성 염료와 식 (Ⅰ)
[화학식 6]
[식 중, R1 ∼ R3 은 각각 독립적으로 수소 원자, 또는 C1 ∼ C4 알킬기를 나타내고, R5 는 수소 원자, C1 ∼ C4 알킬기, 또는 C1 ∼ C4 알콕시기를 나타낸다. 단, R5 가 수소 원자인 경우, R4 는 C1 ∼ C4 알킬기이며, R5 가 C1 ∼ C4 알킬기인 경우, R4 는 수소 원자이며, R5 가 C1 ∼ C4 알콕시기인 경우, R4 는 C1 ∼ C4 알콕시기를 나타낸다.]로 나타내는 페놀성 화합물의 적어도 1 종을 함유하는 기록 재료이면 어떤 용도에도 사용할 수 있으며, 예를 들어, 감열 기록 재료 또는 감압 복사 재료 등에 이용할 수 있다.
특히 바람직하게는 페놀성 수산기의 치환 위치가 4 위치로 한정된 식 (Ⅱ)
[화학식 7]
[식 중, R1 ∼ R3 은 수소 원자를 나타내고, R5 는 수소 원자, C1 ∼ C4 알킬기, 또는 C1 ∼ C4 알콕시기를 나타낸다. 단, R5 가 수소 원자인 경우, R4 는 C1 ∼ C4 알킬기이며, R5 가 C1 ∼ C4 알킬기인 경우, R4 는 수소 원자이며, R5 가 C1 ∼ C4 알콕시기인 경우, R4 는 C1 ∼ C4 알콕시기를 나타낸다.]로 나타내는 페놀성 화합물을 사용한 기록 재료이다.
(식 (Ⅰ) 로 나타내는 페놀성 화합물의 제조 방법)
본 발명에서 사용하는 식 (Ⅰ) 로 나타내는 화합물은 식 (Ⅲ)
[화학식 8]
[식 중, R1 은 상기와 동일한 의미를 나타낸다.]로 나타내는 화합물과, 식 (Ⅳ)
[화학식 9]
[식 중, R2 ∼ R5 는 상기와 동일한 의미를 나타내고, Y 는 염소 원자, 브롬 원자 등의 할로겐 원자를 나타낸다.]로 나타내는 화합물을 아세토니트릴 등의 유기 용매 중, 피리딘 등의 염기 존재하에서 반응시킴으로써 얻을 수 있다.
또한, 본 발명의 화합물인 식 (Ⅰ) 로 나타내는 화합물에는, 이하에 나타내는 바와 같이, 기하 이성체가 존재하고, 반응 조건 및 정제 방법에 따라, 어느 1 종의 이성체만이 얻어지는 경우, 혹은 이성체 혼합물로서 얻어지는 경우가 있다. 이들의 이성체는 모두 본 발명의 범위에 포함된다.
[화학식 10]
(식 (Ⅰ) 로 나타내는 페놀성 화합물)
이하, 식 (Ⅰ) 로 나타내는 페놀성 화합물에 대해 설명한다.
식 (Ⅰ) 중, R1 ∼ R3 으로는, 각각 독립적으로 수소 원자 ; 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, t-부틸기 등의 C1 ∼ C4 알킬기를 들 수 있다. 특히 바람직하게는 R1 ∼ R3 이 모두 수소 원자인 경우이다.
R4 로는, 수소 원자 ; 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, t-부틸기 등의 C1 ∼ C4 알킬기 ; 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, sec-부톡시기, t-부톡시기 등의 C1 ∼ C4 알콕시기를 들 수 있다.
단, R4 는 R5 가 수소 원자인 경우에는 항상 C1 ∼ C4 알킬기이며, R5 가 알킬기인 경우에는 항상 수소 원자이며, R5 가 알콕시기인 경우에는 항상 알콕시기이다.
R5 로는, 수소 원자 ; 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, t-부틸기 등의 C1 ∼ C4 알킬기 ; 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, sec-부톡시기, t-부톡시기 등의 C1 ∼ C4 알콕시기를 들 수 있다.
식 (Ⅰ) 로 나타내는 대표적인 화합물을 이하에 나타낸다.
N-(4-하이드록시페닐)-2-메틸신나모일아미드
N-(4-하이드록시페닐)-3-메틸신나모일아미드
N-(4-하이드록시페닐)-2,3-디메톡시신나모일아미드
(기록 재료의 다른 성분)
본 발명의 기록 재료 중에는, 발색성 염료 그리고, 식 (Ⅰ) 로 나타내는 화합물 이외에 공지된 현색제, 화상 안정제, 증감제, 전료 (塡料), 분산제, 산화 방지제, 감감제 (減感劑), 점착 방지제, 소포제, 광 안정제, 형광 증백제 등을 필요에 따라 1 종 또는 2 종 이상 함유시킬 수 있다. 각각의 사용량은, 발색성 염료 1 질량부에 대해, 통상 0.1 ∼ 15 질량부, 바람직하게는 1 ∼ 10 질량부의 범위이다.
이들 약제는 발색층 중에 함유시켜도 되지만, 다층 구조로 이루어지는 경우에는, 예를 들어 보호층 등 임의의 층 중에 함유시켜도 된다. 특히, 발색층의 상부 및/또는 하부에 오버코트층이나 언더코트층을 형성한 경우, 이들 층에는 산화 방지제, 광 안정제 등을 함유시킬 수 있다. 또한, 산화 방지제, 광 안정제는 필요에 따라 마이크로 캡슐에 내포하는 형태로 이들 층에 함유시킬 수 있다.
본 발명의 기록 재료에 사용되는 발색성 염료로는, 플루오란계, 프탈리드계, 락탐계, 트리페닐메탄계, 페노티아진계, 스피로피란계 등의 로이코 염료를 들 수 있는데, 이들에 한정되는 것은 아니며, 산성 물질인 현색제와 접촉함으로써 발색되는 발색성 염료이면 사용할 수 있다. 또, 이들 발색성 염료는 단독으로 사용하여, 그 발색되는 색의 기록 재료를 제조하는 것은 물론이며, 그들의 2 종 이상을 혼합 사용할 수 있다. 예를 들어, 적색, 청색, 녹색의 3 원색의 발색성 염료 또는 흑발색 염료를 혼합 사용하여 실제로 흑색으로 발색되는 기록 재료를 제조할 수 있다.
플루오란계 발색성 염료로는, 예를 들어, 3,3-비스(p-디메틸아미노페닐)-프탈리드, 3,3-비스(p-디메틸아미노페닐)-6-디메틸아미노프탈리드 (별칭 크리스탈 바이올렛 락톤), 3,3-비스(p-디메틸아미노페닐)-6-디에틸아미노프탈리드, 3,3-비스(p-디메틸아미노페닐)-6-클로르프탈리드, 3,3-비스(p-디부틸아미노페닐)-프탈리드, 3-시클로헥실아미노-6-클로르플루오란, 3-디메틸아미노-5,7-디메틸플루오란, 3-N-메틸-N-이소프로필아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-N-메틸-N-이소부틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-N-메틸-N-이소아밀아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디에틸아미노-7-클로로플루오란, 3-디에틸아미노-6,8-디메틸플루오란, 3-디에틸아미노-7-메틸플루오란, 3-디에틸아미노-7,8-벤즈플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-클로르플루오란, 3-디부틸아미노-6-메틸-7-브로모플루오란, 3-(N-p-톨릴-N-에틸아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-피롤리디노-6-메틸아미노-7-아닐리노플루오란, 2-{N-(3'-트리플루오르메틸페닐)아미노}-6-디에틸아미노플루오란, 2-{3,6-비스(디에틸아미노)-9-(o-클로르아닐리노)크산틸벤조산락탐}, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-(m-트리클로로메틸아닐리노)플루오란, 3-디에틸아미노-7-(o-클로르아닐리노)플루오란, 3-디부틸아미노-7-(o-클로르아닐리노)플루오란, 3-N-메틸-N-아밀아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-N-메틸-N-시클로헥실아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-(2',4'-디메틸아닐리노)플루오란, 3-(N,N-디에틸아미노)-5-메틸-7-(N,N-디벤질아미노)플루오란, 3-(N,N-디에틸아미노)-7-(N,N-디벤질아미노)플루오란, 3-(N-에틸-N-이소부틸아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N-에틸-N-프로필아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N-메틸-N-프로필아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N-에틸-N-이소펜틸아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N-에틸-N-톨루이디노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-피롤리디노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-피페리디노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디메틸아미노-7-(m-트리플루오로메틸아닐리노)플루오란, 3-디펜틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N-에톡시프로필-N-에틸아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디부틸아미노-7-(o-플루오로아닐리노)플루오란, 3-디에틸아미노벤조[a]플루오란, 3-디에틸아미노-5-메틸-7-벤질아미노플루오란, 3-디에틸아미노-5-클로로플루오란, 3-디에틸아미노-6-(N,N'-디벤질아미노)플루오란, 3,6-디메톡시플루오란, 2,4-디메틸-6-(4-디메틸아미노페닐)아미노플루오란, 3-디에틸아미노-7-(m-트리플루오로메틸아닐리노)플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-옥틸아미노플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-(m-톨릴아미노)플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-(2,4-자일릴아미노)플루오란, 3-디에틸아미노-7-(o-플루오로아닐리노)플루오란, 3-디페닐아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란,
벤조일로이코메틸렌블루, 6'-클로로-8'-메톡시-벤조인돌리노-스피로피란, 6'-브로모-3'-메톡시-벤조인돌리노-스피로피란, 3-(2'-하이드록시-4'-디메틸아미노페닐)-3-(2'-메톡시-5'-클로르페닐)프탈리드, 3-(2'-하이드록시-4'-디메틸아미노페닐)-3-(2'-메톡시-5'-니트로페닐)프탈리드, 3-(2'-하이드록시-4'-디에틸아미노페닐)-3-(2'-메톡시-5'-메틸페닐)프탈리드, 3-(2'-메톡시-4'-디메틸아미노페닐)-3-(2'-하이드록시-4'-클로르-5'-메틸페닐)프탈리드, 3-모르폴리노-7-(N-프로필-트리플루오로메틸아닐리노)플루오란, 3-피롤리디노-7-트리플루오로메틸아닐리노플루오란, 3-디에틸아미노-5-클로로-7-(N-벤질-트리플루오로메틸아닐리노)플루오란, 3-피롤리디노-7-(디-p-클로르페닐)메틸아미노플루오란, 3-디에틸아미노-5-클로르-7-(α-페닐에틸아미노)플루오란, 3-(N-에틸-p-톨루이디노)-7-(α-페닐에틸아미노)플루오란, 3-디에틸아미노-7-(o-메톡시카르보닐페닐아미노)플루오란, 3-디에틸아미노-5-메틸-7-(α-페닐에틸아미노)플루오란, 3-디에틸아미노-7-피페리디노플루오란, 2-클로로-3-(N-메틸톨루이디노)-7-(p-n-부틸아닐리노)플루오란, 3-(N-메틸-N-이소프로필아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디부틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디펜틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3,6-비스(디메틸아미노)플루오렌스피로(9,3')-6'-디메틸아미노프탈리드, 3-(N-벤질-N-시클로헥실아미노)-5,6-벤조-7-α-나프틸아미노-4'-브로모플루오란, 3-디에틸아미노-6-클로로-7-아닐리노플루오란, 3-N-에틸-N-(2-에톡시프로필)아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-N-에틸-N-테트라하이드로푸르푸릴아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-메시티디노-4',5'-벤조플루오란, 3-(N-에틸-p-톨루이디노)-7-(메틸페닐아미노)플루오란 등을 들 수 있다.
이들 발색 염료 중에서는 3,3-비스(p-디메틸아미노페닐)-6-디메틸아미노프탈리드, 3-시클로헥실아미노-6-클로르플루오란, 3-디에틸아미노-7-클로로플루오란, 3-디에틸아미노-6,8-디메틸플루오란, 3-디에틸아미노-7-메틸플루오란, 3-디에틸아미노-7,8-벤즈플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-클로르플루오란, 3-디부틸아미노-6-메틸-7-브로모플루오란, 3-디에틸아미노-7-(o-클로르아닐리노)플루오란, 3-디부틸아미노-7-(o-클로르아닐리노)플루오란, 3-N-메틸-N-시클로헥실아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N,N-디에틸아미노)-5-메틸-7-(N,N-디벤질아미노)플루오란, 3-(N,N-디에틸아미노)-7-(N,N-디벤질아미노)플루오란, 3-(N-에틸-N-이소부틸아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N-메틸-N-프로필아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N-에틸-N-이소펜틸아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N-에틸-N-톨루이디노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N-에톡시프로필-N-에틸아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디부틸아미노-7-(o-플루오로아닐리노)플루오란, 3-디에틸아미노-7-(m-트리플루오로메틸아닐리노)플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-옥틸아미노플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-(m-톨릴아미노)플루오란, 3-디에틸아미노-7-(o-플루오로아닐리노)플루오란, 3-디페닐아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 벤조일로이코메틸렌블루, 3-디부틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-N-에틸-N-테트라하이드로푸르푸릴아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N-에틸-p-톨루이디노)-7-(메틸페닐아미노)플루오란을 바람직하게 들 수 있다.
또, 근적외 흡수 염료로는, 3-[4-[4-(4-아닐리노)-아닐리노]아닐리노]-6-메틸-7-클로로플루오란, 3,3-비스[2-(4-디메틸아미노페닐)-2-(4-메톡시페닐)비닐]-4,5,6,7-테트라클로로프탈리드, 3,6,6'-트리스(디메틸아미노)스피로(플루오렌-9,3'-프탈리드) 등을 들 수 있다.
본 발명의 식 (Ⅰ) 로 나타내는 화합물은 주로 감열성 기록 재료에 있어서 현색제로서 바람직하게 사용되는데, 단독으로 사용해도 되고, 공지된 복수의 현색제와 병용해도 된다. 그 비율은 임의이다.
다른 현색제로는 구체적으로는 예를 들어, 다음의 것을 예시할 수 있다.
비스페놀 A, 4,4'-sec-부틸리덴비스페놀, 4,4'-시클로헥실리덴비스페놀, 2,2'-비스(4-하이드록시페닐)-3,3'-디메틸부탄, 2,2'-디하이드록시디페닐, 펜타메틸렌-비스(4-하이드록시벤조에이트), 2,2-디메틸-3,3-디(4-하이드록시페닐)펜탄, 2,2-디(4-하이드록시페닐)헥산, 2,2-비스(4-하이드록시페닐)프로판, 2,2-비스(4-하이드록시페닐)부탄, 2,2-비스(4-하이드록시-3-메틸페닐)프로판, 4,4'-(1-페닐에틸리덴)비스페놀, 4,4'-에틸리덴비스페놀, (하이드록시페닐)메틸페놀, 2,2'-비스(4-하이드록시-3-페닐-페닐)프로판, 4,4'-(1,3-페닐렌디이소프로필리덴)비스페놀, 4,4'-(1,4-페닐렌디이소프로필리덴)비스페놀, 2,2-비스(4-하이드록시페닐)아세트산부틸 등의 비스페놀 화합물 ; 4,4'-디하이드록시디페닐티오에테르, 1,7-디(4-하이드록시페닐티오)-3,5-디옥사헵탄, 2,2'-비스(4-하이드록시페닐티오)디에틸에테르, 4,4'-디하이드록시-3,3'-디메틸디페닐티오에테르 등의 함황 비스페놀 화합물 ; 4-하이드록시벤조산벤질, 4-하이드록시벤조산에틸, 4-하이드록시벤조산프로필, 4-하이드록시벤조산이소프로필, 4-하이드록시벤조산부틸, 4-하이드록시벤조산이소부틸, 4-하이드록시벤조산클로로벤질, 4-하이드록시벤조산메틸벤질, 4-하이드록시벤조산디페닐메틸 등의 4-하이드록시벤조산에스테르류 ; 벤조산아연, 4-니트로벤조산아연 등의 벤조산 금속염, 4-[2-(4-메톡시페닐옥시)에틸옥시]살리실산 등의 살리실산류 ; 살리실산아연, 비스[4-(옥틸옥시카르보닐아미노)-2-하이드록시벤조산]아연 등의 살리실산 금속염 ; 4,4'-디하이드록시디페닐술폰, 2,4'-디하이드록시디페닐술폰, 4-하이드록시-4'-메틸디페닐술폰, 4-하이드록시-4'-이소프로폭시디페닐술폰, 4-하이드록시-4'-부톡시디페닐술폰, 4,4'-디하이드록시-3,3'-디알릴디페닐술폰, 3,4-디하이드록시-4'-메틸디페닐술폰, 4,4'-디하이드록시-3,3',5,5'-테트라브로모디페닐술폰, 4-알릴옥시-4'-하이드록시디페닐술폰, 2-(4-하이드록시페닐술포닐)페놀, 4,4'-술포닐비스[2-(2-프로페닐)]페놀, 4-[{4-(프로폭시)페닐}술포닐]페놀, 4-[{4-(알릴옥시)페닐}술포닐]페놀, 4-[{4-(벤질옥시)페닐}술포닐]페놀, 2,4-비스(페닐술포닐)-5-메틸-페놀 등의 하이드록시술폰류 ; 4-페닐술포닐페녹시아연마그네슘, 알루미늄, 티탄 등의 하이드록시술폰류의 다가 금속염류, 4-하이드록시프탈산디메틸, 4-하이드록시프탈산디시클로헥실, 4-하이드록시프탈산디페닐 등의 4-하이드록시프탈산디에스테르류 ; 2-하이드록시-6-카르복시나프탈렌 등의 하이드록시나프토산의 에스테르류 ; 트리브로모메틸페닐술폰 등의 트리할로메틸술폰류 ; 4,4'-비스(p-톨루엔술포닐아미노카르보닐아미노)디페닐메탄, N-(4-메틸페닐술포닐)-N'-(3-(4-메틸페닐술포닐옥시)페닐)우레아 등의 술포닐우레아류 ; 하이드록시아세토페논, p-페닐페놀, 4-하이드록시페닐아세트산벤질, p-벤질페놀, 하이드로퀴논-모노벤질에테르, 2,4-디하이드록시-2'-메톡시벤즈아닐리드, 테트라시아노퀴노디메탄류, N-(2-하이드록시페닐)-2-[(4-하이드록시페닐)티오]아세타미드, N-(4-하이드록시페닐)-2-[(4-하이드록시페닐)티오]아세타미드, 4-하이드록시벤젠술폰아닐리드, 4'-하이드록시-4-메틸벤젠술폰아닐리드, 4,4'-비스(4-메틸-3-페녹시카르보닐)아미노페닐우레이도))디페닐술폰, 3-(3-페닐우레이도)벤젠술폰아닐리드, 옥타데실인산, 도데실인산 ; 또는 하기 식으로 나타내는 디페닐술폰 가교형 화합물 혹은 그들의 혼합물 등을 들 수 있다.
[화학식 11]
이들 중에서는 4-하이드록시-4'-이소프로폭시디페닐술폰이나 디페닐술폰 가교형 화합물 혹은 그들의 혼합물을 바람직하게 들 수 있다.
화상 보존 안정제로는, 예를 들어, 4-벤질옥시-4'-(2-메틸글리시딜옥시)-디페닐술폰, 4,4'-디글리시딜옥시디페닐술폰 등의 에폭시기 함유 디페닐술폰류 ; 1,4-디글리시딜옥시벤젠, 4-[α-(하이드록시메틸)벤질옥시]-4'-하이드록시디페닐술폰, 2-프로판올 유도체, 살리실산 유도체, 옥시나프토산 유도체의 금속염 (특히 아연염), 2,2-메틸렌비스(4,6-t-부틸페닐)포스페이트의 금속염, 그 외 수불용성의 아연 화합물, 2,2-비스(4'-하이드록시-3',5'-디브로모페닐)프로판, 4,4'-술포닐비스(2,6-디브로모페놀) 등을 들 수 있다.
증감제로는, 예를 들어, 스테아르산아미드 등의 고급 지방산 아미드 ; 벤즈아미드, 스테아르산아닐리드, 아세토아세트산아닐리드, 티오아세트아닐리드 ; 프탈산디메틸, 이소프탈산디벤질, 이소프탈산디메틸, 테레프탈산디메틸, 이소프탈산디에틸, 이소프탈산디페닐, 테레프탈산디벤질 등의 프탈산디에스테르류 ; 옥살산디벤질, 옥살산디(4-메틸벤질), 옥살산디(4-클로로벤질), 비스(t-부틸페놀)류 ; 4,4'-디메톡시디페닐술폰, 4,4'-디에톡시디페닐술폰, 4,4'-디프로폭시디페닐술폰, 4,4'-디이소프로폭시디페닐술폰, 4,4'-디부톡시디페닐술폰, 4,4'-디이소부톡시디페닐술폰, 4,4'-디펜틸옥시디페닐술폰, 4,4'-디헥실옥시디페닐술폰 등의 4,4'-디하이드록시디페닐술폰의 디에테르류 ; 2,4'-디메톡시디페닐술폰, 2,4'-디에톡시디페닐술폰, 2,4'-디프로폭시디페닐술폰, 2,4'-디이소프로폭시디페닐술폰, 2,4'-디부톡시디페닐술폰, 2,4'-디이소부톡시디페닐술폰, 2,4'-디펜틸옥시디페닐술폰, 2,4'-디헥실옥시디페닐술폰 등의 2,4'-디하이드록시디페닐술폰의 디에테르류 ; 1,2-비스(페녹시)에탄, 1,2-비스(4-메틸페녹시)에탄, 1,2-비스(3-메틸페녹시)에탄, 1,2-비스(페녹시메틸)벤젠, 2-나프톨벤질에테르, 디페닐아민, 카르바졸, 2,3-디-m-톨릴부탄, 4-벤질비페닐, 4,4'-디메틸비페닐, m-터페닐, 디-β-나프틸페닐렌디아민, 1-하이드록시-나프토산페닐, 2-나프틸벤질에테르, 4-메틸페닐-비페닐에테르, 1,2-비스(3,4-디메틸페닐)에탄, 2,3,5,6-테트라메틸-4'-메틸디페닐메탄, 1,2-비스(페녹시메틸)벤젠, 아크릴산아미드, 디페닐술폰, 아세틸비페닐(4'-페닐아세토페논), 탄산디페닐, 4-아세틸비페닐 등을 들 수 있다.
바람직하게는, 1,2-비스(3-메틸페녹시)에탄, 2-나프톨벤질에테르 등의 에테르류, m-터페닐, 4-벤질페닐, 옥살산디(4-메틸벤질) 등의 방향족 탄화 수소류를 들 수 있으며, 더욱 바람직하게는, 디페닐술폰 및 그 유도체, 특히 4,4'-디하이드록시디페닐술폰의 디에테르류 및 2,4'-디하이드록시디페닐술폰의 디에테르류가 바람직하고, 4,4'-디메톡시디페닐술폰, 4,4'-디에톡시디페닐술폰, 4,4'-디프로폭시디페닐술폰, 4,4'-디이소프로폭시디페닐술폰, 4,4'-디부톡시디페닐술폰, 4,4'-디이소부톡시디페닐술폰, 4,4'-디펜틸옥시디페닐술폰, 4,4'-디헥실페닐술폰, 2,4'-디메톡시디페닐술폰, 2,4'-디에톡시디페닐술폰, 2,4'-디프로폭시디페닐술폰, 2,4'-디이소프로폭시디페닐술폰, 2,4'-디부톡시디페닐술폰, 2,4'-디펜틸옥시디페닐술폰, 2,4'-디헥실옥시디페닐술폰 등을 들 수 있다.
전료로는, 예를 들어, 실리카, 클레이, 카올린, 소성 카올린, 탤크, 새틴 화이트, 수산화 알루미늄, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 산화아연, 산화티탄, 황산바륨, 규산마그네슘, 규산알루미늄, 플라스틱 피그먼트 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 알칼리 토금속의 염, 그 중에서도, 탄산칼슘, 탄산마그네슘 등의 탄산염을 바람직하게 예시할 수 있다.
분산제로는, 예를 들어, 폴리비닐알코올이나, 아세트아세틸화 폴리비닐알코올, 카르복시 변성 폴리비닐알코올, 술폰산 변성 폴리비닐알코올 등의 각종 비누화도, 중합도의 폴리비닐알코올, 폴리아크릴산소다, 메틸셀룰로오스, 카르복시메틸셀룰로오스, 하이드록시에틸셀룰로오스, 폴리아크릴아미드, 전분, 술포숙신산디옥틸나트륨 등의 술포숙신산에스테르류, 도데실벤젠술폰산나트륨, 라우릴알코올황산에스테르의 나트륨염, 지방산염 등을 들 수 있다.
산화 방지제로는, 예를 들어, 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-에틸-6-t-부틸페놀), 4,4'-프로필메틸렌비스(3-메틸-6-t-부틸페놀), 4,4'-부틸리덴비스(3-메틸-6-t-부틸페놀), 4,4'-티오비스(2-t-부틸-5-메틸페놀), 1,1,3-트리스(2-메틸-4-하이드록시-5-t-부틸페닐)부탄, 1,1,3-트리스(2-메틸-4-하이드록시-5-시클로헥실페닐)부탄, 4-{4-[1,1-비스(4-하이드록시페닐)에틸]-α,α-디메틸벤질}페놀, 1,1,3-트리스(2-메틸-4-하이드록시-5-시클로헥실페닐)부탄, 2,2'-메틸렌비스(6-tert-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-tert-부틸-4-에틸페놀), 4,4'-티오비스(6-tert-부틸-3-메틸페놀), 1,3,5-트리스[{4-(1,1-디메틸에틸)-3-하이드록시-2,6-디메틸페닐}메틸]-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온, 1,3,5-트리스[{3,5-비스(1,1-디메틸에틸)-4-하이드록시페닐}메틸]-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온 등을 들 수 있다.
감감제로는, 예를 들어 지방족 고급 알코올, 폴리에틸렌글리콜, 구아니딘 유도체 등을, 또, 점착 방지제로는, 예를 들어 스테아르산, 스테아르산아연, 스테아르산칼슘, 카르나우바 왁스, 파라핀 왁스, 에스테르 왁스 등을 들 수 있다.
점착 방지제로는, 예를 들어 스테아르산, 스테아르산아연, 스테아르산칼슘, 카르나우바 왁스, 파라핀 왁스, 에스테르 왁스 등을 들 수 있다.
소포제로는, 예를 들어 고급 알코올계, 지방산 에스테르계, 오일계, 실리콘계, 폴리에테르계, 변성 탄화 수소계, 파라핀계 등을 들 수 있다.
광 안정제로는, 예를 들어 페닐살리실레이트, p-t-부틸페닐살리실레이트, p-옥틸페닐살리실레이트 등의 살리실산계 자외선 흡수제 ; 2,4-디하이드록시벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-벤질옥시벤조페논, 2-하이드록시-4-옥틸옥시벤조페논, 2-하이드록시-4-도데실옥시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4-메톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시-5-술포벤조페논, 비스(2-메톡시-4-하이드록시-5-벤조일페닐)메탄 등의 벤조페논계 자외선 흡수제 ; 2-(2'-하이드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-t-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3',5'-디-t-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-t-부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3',5'-디-t-부틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3',5'-디-t-아밀페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-tert-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-(1'',1'',3'',3''-테트라메틸부틸)페닐)벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-3'-(3'',4'',5'',6''-테트라하이드로프탈이미드메틸)-5'-메틸페닐]벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-t-옥틸페닐)벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-3',5'-비스(α,α-디메틸벤질)페닐]-2H-벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-도데실-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-운데실-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-트리데실-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-테트라데실-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-펜타데실-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-헥사데실-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-4'-(2''-에틸헥실)옥시페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-4'-(2''-에틸헵틸)옥시페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-4'-(2''-에틸옥틸)옥시페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-4'-(2''-프로필옥틸)옥시페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-4'-(2''-프로필헵틸)옥시페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-4'-(2''-프로필헥실)옥시페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-4'-(1''-에틸헥실)옥시페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-4'-(1''-에틸헵틸)옥시페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-4'-(1'-에틸옥틸)옥시페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-4'-(1''-프로필옥틸)옥시페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-4'-(1''-프로필헵틸)옥시페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-4'-(1''-프로필헥실)옥시페닐]벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-(2H-벤조트리아졸-2-일)]페놀, 폴리에틸렌글리콜과 메틸-3-[3-t-부틸-5-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-하이드록시페닐]프로피오네이트의 축합물 등의 벤조트리아졸계 자외선 흡수제 ; 2'-에틸헥실-2-시아노-3,3-디페닐아크릴레이트, 에틸-2-시아노-3,3-디페닐아크릴레이트 등의 시아노아크릴레이트계 자외선 흡수제 ; 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 숙신산-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)에스테르, 2-(3,5-디-t-부틸)말론산-비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)에스테르 등의 힌다드아민계 자외선 흡수제 ; 1,8-디하이드록시-2-아세틸-3-메틸-6-메톡시나프탈렌 등을 들 수 있다.
형광 증백제로는, 예를 들어, 4,4'-비스[2-아닐리노-4-(2-하이드록시에틸)아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산=2나트륨염, 4,4'-비스[2-아닐리노-4-비스(하이드록시에틸)아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산=2나트륨염, 4,4'-비스[2-아닐리노-4-비스(하이드록시프로필)아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산=2나트륨염, 4,4'-비스[2-메톡시-4-(2-하이드록시에틸)아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산=2나트륨염, 4,4'-비스[2-메톡시-4-(2-하이드록시프로필)아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산=2나트륨염, 4,4'-비스[2-m-술포아닐리노-4-비스(하이드록시에틸)아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산=2나트륨염, 4-[2-p-술포아닐리노-4-비스(하이드록시에틸)아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]-4'-[2-m-술포아닐리노-4-비스(하이드록시에틸)아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산=4나트륨염, 4,4'-비스[2-p-술포아닐리노-4-비스(하이드록시에틸)아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산=4나트륨염, 4,4'-비스[2-(2,5-디술포아닐리노)-4-페녹시아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산=6나트륨염, 4,4'-비스[2-(2,5-디술포아닐리노)-4-(p-메톡시카르보닐페녹시)아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산=6나트륨염, 4,4'-비스[2-(p-술포페녹시)-4-비스(하이드록시에틸)아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산=6나트륨염, 4,4'-비스[2-(2,5-디술포아닐리노)-4-포르말리닐아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산=6나트륨염, 4,4'-비스[2-(2,5-디술포아닐리노)-4-비스(하이드록시에틸)아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산=6나트륨염 등을 들 수 있다.
(기록 재료의 제조 방법)
본 발명을 감열 기록지에 사용하는 경우에는, 이미 알려진 사용 방법과 동일하게 실시하면 되고, 예를 들어, 본 발명 화합물의 미립자 및 발색성 염료의 미립자 각각을 폴리비닐알코올이나 셀룰로오스 등의 수용성 결합제의 수용액 중에 분산된 현탁액을 혼합하여 종이 등의 지지체에 도포하여 건조시킴으로써 제조할 수 있다.
발색성 염료에 대한 식 (Ⅰ) 로 나타내는 화합물의 사용 비율은 통상 발색성 염료의 1 질량부에 대해 0.01 ∼ 10 질량부, 바람직하게는 1 ∼ 10 질량부, 더욱 바람직하게는 1.5 ∼ 5 질량부의 비율이다.
본 발명의 화합물을 감압 복사지에 사용하려면 이미 알려진 현색제 혹은 증감제를 사용하는 경우와 동일하게 하여 제조할 수 있다. 예를 들어, 공지된 방법에 의해 마이크로 캡슐화한 발색성 염료를 적당한 분산제에 의해 분산시키고, 종이에 도포하여 발색제 시트를 제작한다. 또, 현색제의 분산액을 종이에 도포하여 현색제 시트를 제작한다. 그 때, 본 발명의 화합물을 화상 보존 안정제로 사용하는 경우에는 발색제 시트 혹은 현색제 시트의 어느 분산액 중에 분산시켜 사용해도 된다. 이와 같이 하여 제작된 양 시트를 조합하여 감압 복사지가 제작된다. 감압 복사지로는, 발색성 염료의 유기 용매 용액을 내포하는 마이크로 캡슐을 하면에 도포 담지하고 있는 상용지 (上用紙) 와 현색제 (산성 물질) 를 상면에 도포 담지하고 있는 하용지(下用紙)로 이루어지는 유닛이거나, 혹은 마이크로 캡슐과 현색제가 동일한 지면에 도포되어 있는 이른바 셀프 컨텐트 페이퍼이어도 된다.
그 때 사용하는 현색제 또는 본 발명 화합물과 혼합하여 사용하는 현색제로는, 종래 이미 알려진 것이 이용되며, 예를 들어 산성 백토, 활성 백토, 애터펄자이트, 벤토나이트, 콜로이달 실리카, 규산알루미늄, 규산마그네슘, 규산아연, 규산주석, 소성 카올린, 탤크 등의 무기산성 물질 ; 옥살산, 말레산, 타르타르산, 시트르산, 숙신산, 스테아르산 등의 지방족 카르복실산 ; 벤조산, p-t-부틸벤조산, 프탈산, 갈산, 살리실산, 3-이소프로필살리실산, 3-페닐살리실산, 3-시클로헥실살리실산, 3,5-디-t-부틸살리실산, 3-메틸-5-벤질살리실산, 3-페닐-5-(2,2-디메틸벤질)살리실산, 3,5-디-(2-메틸벤질)살리실산, 2-하이드록시-1-벤질-3-나프토산 등의 방향족 카르복실산 및 이들 방향족 카르복실산의 아연, 마그네슘, 알루미늄, 티탄 등의 금속염 ; p-페닐페놀-포르말린 수지, p-부틸페놀-아세틸렌 수지 등의 페놀 수지계 현색제 및 이들 페놀 수지계 현색제와 상기 방향족 카르복실산의 금속염과의 혼합물 등을 들 수 있다.
본 발명에서 사용하는 지지체는 종래 공지된 종이, 합성지, 필름, 플라스틱 필름, 발포 플라스틱 필름, 부직포, 폐지 펄프 등의 재생지 등을 사용할 수 있다. 또 이들을 조합한 것을 지지체로 사용할 수도 있다.
실시예
이하, 본 발명의 기록 재료에 대해 실시예를 들어 상세하게 설명하는데, 본 발명은 반드시 이것에만 한정되는 것은 아니다.
(실시예 1)
(페놀 화합물의 합성 : N-(4-하이드록시페닐)-2,3-디메톡시신나모일아미드)
교반기, 온도계를 구비한 500 mL 의 4 구 나스형 플라스크에 디클로로메탄 (200 mL) 과 2,3-디메톡시계피산 41.6 g (0.20 ㏖) 을 첨가하였다. 여기에 옥살릴클로라이드 27.9 g (0.22 ㏖) 과 DMF (10 방울) 를 첨가하여, 실온에서 4 시간 반응을 실시하였다. 얻어진 용액의 용매를 증류 제거하여, 대응하는 산클로라이드를 얻었다. 계속해서, 교반기, 온도계를 구비한 1 L 의 4 구 나스형 플라스크에 4-아미노페놀 24.0 g (0.22 ㏖), 탄산수소나트륨 18.5 g (0.22 ㏖) 을 아세톤 (600 mL) 과 증류수 (200 mL) 의 혼합 용매에 용해시켰다. 여기에 디클로로메탄 (120 mL) 에 용해된 산클로라이드를 빙욕하에서 적하하여, 18 시간 반응을 실시하였다. 용매 증류 제거 후에 얻어진 결정을 여과 분리하고, 70 ℃ 에서 감압 건조시켜 수량 28.3 g 으로 얻었다.
융점 208 ∼ 210 ℃
(실시예 2)
(페놀 화합물의 합성 : N-(4-하이드록시페닐)-3-메틸신나모일아미드)
교반기, 온도계를 구비한 500 mL 의 4 구 나스형 플라스크에 디클로로메탄 (200 mL) 과 3-메틸계피산 32.4 g (0.20 ㏖) 을 첨가하였다. 여기에 옥살릴클로라이드 27.9 g (0.22 ㏖) 과 DMF (10 방울) 를 첨가하여, 실온에서 4 시간 반응을 실시하였다. 얻어진 용액의 용매를 증류 제거하여, 대응하는 산클로라이드를 얻었다. 계속해서, 교반기, 온도계를 구비한 1 L 의 4 구 나스형 플라스크에 4-아미노페놀 24.0 g (0.22 ㏖), 탄산수소나트륨 18.5 g (0.22 ㏖) 을 아세톤 (600 mL) 과 증류수 (200 mL) 의 혼합 용매에 용해시켰다. 여기에 디클로로메탄 (120 mL) 에 용해된 산클로라이드를 빙욕하에서 적하하여, 18 시간 반응을 실시하였다. 용매 증류 제거 후에 얻어진 결정을 여과 분리하고, 70 ℃ 에서 감압 건조시켜 수량 14.4 g 으로 얻었다.
융점 207 ∼ 208 ℃
(실시예 3)
(페놀 화합물의 합성 : N-(4-하이드록시페닐)-2-메틸신나모일아미드)
교반기, 온도계를 구비한 500 mL 의 4 구 나스형 플라스크에 디클로로메탄 (200 mL) 과 2-메틸계피산 9.7 g (0.06 ㏖) 을 첨가하였다. 여기에 옥살릴클로라이드 9.2 g (0.07 ㏖) 과 DMF (10 방울) 를 첨가하여, 실온에서 4 시간 반응을 실시하였다. 얻어진 용액의 용매를 증류 제거하여, 대응하는 산클로라이드를 얻었다. 계속해서, 교반기, 온도계를 구비한 1 L 의 4 구 나스형 플라스크에 4-아미노페놀 7.2 g (0.07 ㏖), 탄산수소나트륨 5.6 g (0.07 ㏖) 을 아세톤 (120 mL) 과 증류수 (30 mL) 의 혼합 용매에 용해시켰다. 여기에 디클로로메탄 (120 mL) 에 용해된 산클로라이드를 빙욕하에서 적하하여, 18 시간 반응을 실시하였다. 용매 증류 제거 후에 얻어진 결정을 여과 분리하고, 70 ℃ 에서 감압 건조시켜 수량 5.0 g 으로 얻었다.
융점 192 ∼ 194 ℃
(실시예 4)
(감열 기록지의 제작)
염료 분산액 (A 액)
3-디-n-부틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란 16 부
폴리비닐알코올 10 % 수용액 84 부
현색제 분산액 (B 액)
실시예 1 의 화합물 16 부
폴리비닐알코올 10 % 수용액 84 부
전료 분산액 (C 액)
탄산칼슘 27.8 부
폴리비닐알코올 10 % 수용액 26.2 부
물 71 부
(부는 질량부)
우선, A ∼ C 액의 각 조성의 혼합물을 각각 샌드 그라인더로 충분히 마쇄하여, A ∼ C 액의 각 성분의 분산액을 조정하고, A 액 1 질량부, B 액 2 질량부, C 액 4 질량부를 혼합하여 도포액으로 하였다. 이 도포액을 와이어 로드 (Webster 사 제조, 와이어 바 NO.12) 를 사용하여 백색지에 도포·건조시킨 후, 캘린더 처리를 하여, 감열 기록지를 제작하였다 (도포액은 건조 질량으로 약 5.5 g/㎡).
(실시예 5)
실시예 4 의 현색제 분산액 (B 액) 중, 실시예 1 의 화합물 대신에 실시예 2 의 화합물을 사용한 것 이외에는, 실시예 4 에 기재된 방법으로 감열지를 제작하였다.
(실시예 6)
실시예 4 의 현색제 분산액 (B 액) 중, 실시예 1 의 화합물 대신에 실시예 3 의 화합물을 사용한 것 이외에는, 실시예 4 에 기재된 방법으로 감열지를 제작하였다.
(비교예 1)
실시예 4 의 현색제 분산액 (B 액) 중, 실시예 1 의 화합물 대신에 (E)-N-(2-하이드록시페닐)신나모일아미드 (일본 공개특허공보 2003-305959호의 실시예 1 의 화합물) 를 사용한 것 이외에는, 실시예 4 에 기재된 방법으로 감열지를 제작하였다.
(비교예 2)
실시예 4 의 현색제 분산액 (B 액) 중, 실시예 1 의 화합물 대신에 (E)-N-(3-하이드록시페닐)신나모일아미드 (일본 공개특허공보 2003-305959호의 실시예 2 의 화합물) 를 사용한 것 이외에는, 실시예 4 에 기재된 방법으로 감열지를 제작하였다.
(비교예 3)
실시예 4 의 현색제 분산액 (B 액) 중, 실시예 1 의 화합물 대신에 (E)-N-(4-하이드록시페닐)신나모일아미드 (일본 공개특허공보 2003-305959호의 실시예 3 의 화합물) 를 사용한 것 이외에는, 실시예 4 에 기재된 방법으로 감열지를 제작하였다.
(시험 1)
(감열 평가 시험 - 바탕면 내광성 시험)
실시예 4 ∼ 6, 비교예 1 ∼ 3 에서 제작한 감열 기록지의 일부를 자라내서, 내광성 시험기 (스가 시험기 (주) 제조, 자외선 롱 라이프 페이드 미터 U48 형) 를 사용하여 내광성 시험을 실시하여, 24 시간 후의 바탕면 농도를 멕베스 반사 농도계로 측정하였다 (사용 필터 : #47). 그 결과를 표 1 에 나타냈다.
(시험 2)
(감열 평가 시험 - 화상 내습열성)
실시예 4 ∼ 6, 비교예 1 ∼ 3 에서 제작한 감열 기록지의 일부를 잘라내서, 감열지 발색 시험 장치 (오쿠라 전기 제조 TH-PMH 형) 를 사용하여, 1 도트 당 0.72 mj 의 조건으로 발색시켰다. 그 발색 화상에 대해 내습열성 시험기 (아드반텍 토요 (주) 제조, 저온 항온 항습기 THN050FA 형) 를 사용하여 내습열성 시험을 실시하고, 24 시간 후의 발색 화상 농도를 멕베스 반사 농도계 (사용 필터 : #106) 로 측정하여, 초기 상태로부터의 잔존율을 산출하였다. 그 결과를 표 1 에 나타냈다.
(시험 3)
(감열 평가 시험 - 화상 내광성)
실시예 4 ∼ 6, 비교예 1 ∼ 3 에서 제작한 감열 기록지의 일부를 잘라내서, 감열지 발색 시험 장치 (오쿠라 전기 제조 TH-PMH 형) 를 사용하여, 1 도트 당 0.72 mj 의 조건으로 발색시켰다. 그 발색 화상에 대해 내광성 시험기 (스가 시험기 (주) 제조, 자외선 롱 라이프 페이드 미터 U48 형) 를 사용하여 내광성 시험을 실시하고, 24 시간 후의 발색 화상 농도를 멕베스 반사 농도계 (사용 필터 : #106) 로 측정하여, 초기 상태로부터의 잔존율을 산출하였다. 그 결과를 표 1 에 나타냈다.
|
시험 1 | 시험 2 | 시험 3 | |||
바탕면 내광성 | 화상 내습열성 | 화상 내광성 | ||||
실시예 4 | 0.19 | ◎ | 97% | ◎ | 71% | ◎ |
실시예 5 | 0.19 | ◎ | 100% | ◎ | 67% | ◎ |
실시예 6 | 0.20 | ◎ | 94% | ◎ | 77% | ◎ |
비교예 1 | 0.26 | △ | 37% | △ | 61% | ◎ |
비교예 2 | 0.25 | △ | 75% | ○ | 54% | △ |
비교예 3 | 0.24 | △ | 98% | ◎ | 63% | ◎ |
◎ : 실용적으로 양호
○ : 다소 떨어지지만 실용상 문제없음
△ : 실용적으로 불가
Claims (4)
- 염색성 염료를 함유하는 기록 재료에 있어서 식 (Ⅰ)
[화학식 3]
[식 중, R1 ∼ R3 은 각각 독립적으로 수소 원자, 또는 C1 ∼ C4 알킬기를 나타내고, R5 는 수소 원자, C1 ∼ C4 알킬기, 또는 C1 ∼ C4 알콕시기를 나타낸다. 단, R5 가 수소 원자인 경우, R4 는 C1 ∼ C4 알킬기이며, R5 가 C1 ∼ C4 알킬기인 경우, R4 는 수소 원자이며, R5 가 C1 ∼ C4 알콕시기인 경우, R4 는 C1 ∼ C4 알콕시기를 나타낸다.]로 나타내는 페놀성 화합물의 적어도 1 종을 함유하는 것을 특징으로 하는 기록 재료.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009022193 | 2009-02-03 | ||
JPJP-P-2009-022193 | 2009-02-03 | ||
PCT/JP2010/000573 WO2010089984A1 (ja) | 2009-02-03 | 2010-02-01 | フェノール性化合物および記録材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20110099775A true KR20110099775A (ko) | 2011-09-08 |
KR101342799B1 KR101342799B1 (ko) | 2013-12-19 |
Family
ID=42541895
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020117017578A KR101342799B1 (ko) | 2009-02-03 | 2010-02-01 | 페놀성 화합물 및 기록 재료 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8529688B2 (ko) |
EP (1) | EP2394985B1 (ko) |
JP (1) | JP5258909B2 (ko) |
KR (1) | KR101342799B1 (ko) |
CN (1) | CN102300841B (ko) |
BR (1) | BRPI1007208B1 (ko) |
ES (1) | ES2471366T3 (ko) |
TW (1) | TWI402250B (ko) |
WO (1) | WO2010089984A1 (ko) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2484534B1 (en) * | 2009-09-29 | 2019-01-16 | Nippon Soda Co., Ltd. | Recording material using phenolic compound |
BR112013004255B1 (pt) * | 2010-09-01 | 2018-09-11 | Nippon Soda Co | composto de fenol, material de gravação, e, folha de gravação |
JP2014151611A (ja) * | 2013-02-13 | 2014-08-25 | Oji Holdings Corp | 感熱記録体 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1484413A (en) * | 1974-04-18 | 1977-09-01 | Kissei Pharmaceutical | Aromatic amidocarboxylic acid derivatives |
JPS511439A (ja) | 1974-04-18 | 1976-01-08 | Kissei Pharmaceutical | Hokozokuamidokarubonsan no seiho |
JPS5720942B2 (ko) | 1974-04-18 | 1982-05-04 | ||
JPS5132537A (ja) * | 1974-09-06 | 1976-03-19 | Kissei Pharmaceutical | Shinkinahokozokuamidokarubonsan no seizohoho |
JPS6097946A (ja) * | 1983-11-01 | 1985-05-31 | Ono Pharmaceut Co Ltd | カルボキサミド誘導体 |
US5047555A (en) | 1988-12-13 | 1991-09-10 | Tanabe Seiyaku Co., Ltd. | 4-aminophenol derivatives and processes for preparing the same |
JPH0558894A (ja) | 1991-08-27 | 1993-03-09 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 抗腫瘍剤 |
US6017919A (en) | 1996-02-06 | 2000-01-25 | Japan Tobacco Inc. | Compounds and pharmaceutical use thereof |
US5712008A (en) | 1996-02-12 | 1998-01-27 | Transhield Technology Co., L.L.C. | Wrap material with woven fabric |
JP2005518371A (ja) * | 2001-12-10 | 2005-06-23 | アムジエン・インコーポレーテツド | バニロイド受容体リガンド及び治療に於けるこれらの使用 |
JP3835749B2 (ja) | 2002-04-15 | 2006-10-18 | 日本曹達株式会社 | フェノール性化合物を用いた記録材料 |
JP4946687B2 (ja) | 2007-07-18 | 2012-06-06 | 富士通株式会社 | マイクロインジェクション装置および流体の注入方法 |
WO2010089982A1 (ja) * | 2009-02-03 | 2010-08-12 | 日本曹達株式会社 | リライタブル記録材料 |
-
2010
- 2010-02-01 TW TW099102872A patent/TWI402250B/zh not_active IP Right Cessation
- 2010-02-01 BR BRPI1007208A patent/BRPI1007208B1/pt not_active IP Right Cessation
- 2010-02-01 WO PCT/JP2010/000573 patent/WO2010089984A1/ja active Application Filing
- 2010-02-01 EP EP10738327.5A patent/EP2394985B1/en not_active Not-in-force
- 2010-02-01 CN CN201080006160.7A patent/CN102300841B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2010-02-01 KR KR1020117017578A patent/KR101342799B1/ko active IP Right Grant
- 2010-02-01 US US13/138,301 patent/US8529688B2/en active Active
- 2010-02-01 JP JP2010549385A patent/JP5258909B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2010-02-01 ES ES10738327.5T patent/ES2471366T3/es active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2010089984A1 (ja) | 2012-08-09 |
US8529688B2 (en) | 2013-09-10 |
BRPI1007208A2 (pt) | 2016-02-23 |
EP2394985A4 (en) | 2012-07-25 |
EP2394985A1 (en) | 2011-12-14 |
TWI402250B (zh) | 2013-07-21 |
KR101342799B1 (ko) | 2013-12-19 |
JP5258909B2 (ja) | 2013-08-07 |
CN102300841B (zh) | 2014-03-12 |
ES2471366T3 (es) | 2014-06-26 |
WO2010089984A1 (ja) | 2010-08-12 |
EP2394985B1 (en) | 2014-05-07 |
TW201031628A (en) | 2010-09-01 |
CN102300841A (zh) | 2011-12-28 |
US20110308429A1 (en) | 2011-12-22 |
BRPI1007208B1 (pt) | 2018-05-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6869344B2 (ja) | 記録材料及び化合物 | |
EP3254860B1 (en) | Recording material and recording sheet | |
KR101342799B1 (ko) | 페놀성 화합물 및 기록 재료 | |
JP6754838B2 (ja) | 記録材料及び記録シート | |
EP3575100B1 (en) | Recording material and recording sheet | |
JP6162204B2 (ja) | フェノール性化合物を用いた記録材料 | |
KR101323543B1 (ko) | 페놀성 화합물을 사용한 기록 재료 | |
JP4252221B2 (ja) | ビスフェノール化合物及びそれを用いた記録材料 | |
JP4252245B2 (ja) | ビスフェノール化合物及びそれを用いた記録材料 | |
KR101409064B1 (ko) | 페놀성 화합물 및 기록 재료 | |
KR20050067421A (ko) | 디페닐술폰 유도체를 사용한 기록재료 및 신규 디페닐술폰유도체 화합물 | |
JP2002249481A (ja) | フェノール性化合物及びそれを用いた記録材料 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20161205 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20171201 Year of fee payment: 5 |