KR20110093393A - 노출형 증착장치 - Google Patents

노출형 증착장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20110093393A
KR20110093393A KR1020100013420A KR20100013420A KR20110093393A KR 20110093393 A KR20110093393 A KR 20110093393A KR 1020100013420 A KR1020100013420 A KR 1020100013420A KR 20100013420 A KR20100013420 A KR 20100013420A KR 20110093393 A KR20110093393 A KR 20110093393A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
mask
cathode
plate
cover
roll
Prior art date
Application number
KR1020100013420A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101166420B1 (ko
Inventor
김민호
이춘건
Original Assignee
(주) 에이알티
이춘건
김민호
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주) 에이알티, 이춘건, 김민호 filed Critical (주) 에이알티
Priority to KR20100013420A priority Critical patent/KR101166420B1/ko
Publication of KR20110093393A publication Critical patent/KR20110093393A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101166420B1 publication Critical patent/KR101166420B1/ko

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/562Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/564Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

본 발명은 노출형 증착장치에 관한 것으로서, 캐소드가 노출되는 컴팩트한 구성으로도 충분히 롤투롤 스퍼트 시스템 내부의 오염을 방지할 수 있고, 다양한 폭의 플렉시블 필름에 대응이 가능하며, 냉각 기능이 구비되어 플렉시블 필름이 손상되는 현상을 방지할 수 있는, 노출형 증착장치에 관한 것이다.

Description

노출형 증착장치{Cathode installation of exposure type}
본 발명은 노출형 증착장치에 관한 것으로서, 더욱 상세히는 캐소드가 노출되는 컴팩트한 구성으로도 충분히 롤투롤 스퍼트 시스템 내부의 오염을 방지할 수 있고, 다양한 폭의 플렉시블 필름에 대응이 가능하며, 냉각 기능이 구비되어 플렉시블 필름이 손상되는 현상을 방지할 수 있는, 노출형 증착장치에 관한 것이다.
이하, 첨부되는 도면과 관련하여 종래기술의 구성과 작동례를 살펴보면 다음과 같다.
도 1은 종래의 기술에 의한 금속증착장치가 장착된 롤투롤 스퍼트 시스템을 도시한 단면도, 도 2는 종래의 기술에 의한 금속증착장치에 구성되는 커버를 도시한 사시도, 도 3은 도 1의 A-A'선을 따라 취한 단면도, 도 4는 도 3의 E부를 도시한 확대도, 도 5는 본 발명의 기술에 의한 노출형 증착장치가 장착된 롤투롤 스퍼트 시스템을 도시한 단면도로서 함께 설명한다.
일반적으로 플렉시블 필름(F)은 LCD 표면이나 건축물의 외장재에 코팅되어 사용되는 것으로서 합성수지재의 필름의 일측면에 금속 물질이 증착된 것이다.
이처럼, 합성수지재의 필름의 일측면에 금속 물질을 증착시키는 장치가 롤투롤 스퍼트 시스템(1)이라고 한다.
상기 롤투롤 스퍼트 시스템(1)은 진공 및 진공 해제가 가능한 챔버(10) 내에 플렉시블 필름(F)이 풀려나는 리와인딩 롤(도시하지 않음)과 상기 리와인딩 롤의 측방에 배치되어 상기 플렉시블 필름(F)이 감기는 와인딩 롤(13)이 구성되고, 상기 리와인딩 롤과 와인딩 롤(13)의 하방에는 메인롤(15)이 구성되어 리와인딩 롤에서 풀려난 플렉시블 필름(F)이 상기 메인롤(15)을 거쳐서 상기 와인딩 롤(13)에 감기도록 구성된 것이다.
그리고 상기 메인 롤(15) 하방에는 상기 메일 롤(15)을 통해 지나가는 플렉시블 필름(F)에 금속 물질을 증착시키는 금속증착장치(20)가 구성된다.
상기 금속증착장치(20)는 챔버(10) 내에서 일측면에 고정되어 플렉시블 필름(F)을 향해 플라즈마를 발생시키는 캐소드(21)가 구성되고, 상기 캐소드(21)를 수용하며 상방으로 개방된 캐소드 챔버(23)가 구성되며, 상기 캐소드 챔버(23)의 개방된 상부를 덮는 커버(24)로 구성된다. 상기 커버(24)는 챔버(10) 내에 지지되어 구성되는데 상기 메인롤(15)을 지지하는 좌우 측판(17, 19)에 부착되어 구성된다.
상기 캐소드(21)는 롤투롤 스퍼트 시스템(1)에 일반적으로 장착되는 것으로서 상부에 금, 은, 구리, 알루미늄 등으로 형성된 판 형상의 타겟(22)이 노출된 것으로서 당해업자라면 누구나 알 수 있는 사항이기에 자세한 설명은 생략한다.
상기 커버(24)는 메인 롤(15)을 따라 원호형인 판 형상이고 캐소드(21)가 통과하는 통공(26)이 형성된 판 형상의 윈도우(25)가 구성된다. 상기 윈도우(25)는 상면에 플랜지(27)가 부착되고 상기 플랜지(27)가 상기 좌우 측판(17, 19)에 고정됨으로써 캐소드 챔버(23) 상부에 위치할 수 있다. 또한, 상기 윈도우(25)의 하방에는 이격되어 고정되는 판 형상의 마스크(28)가 구성된다. 상기 마스크(28) 또한 상기 통공(26)에 대응되는 또 다른 통공(29)이 형성됨으로써 플라즈마의 통과가 가능하도록 구성된다. 상기 마스크(28)와 윈도우(25)는 이격된 상태가 유지되도록 축(S)이 개재되어 구성된다. 따라서 마스크(28)의 열이 윈도우(25)로 전달되는 현상을 최대한 방지하도록 구성된다.
상기 롤투롤 스퍼트 시스템(1)의 작동 원리를 살펴보면 다음과 같다.
상기 챔버(10) 내부를 진공으로 한 후에 상기 리와인딩 롤에서 플렉시블 필름(F)이 풀려나와서 메일롤(15)을 거쳐서 와인딩 롤(13)에 감긴다. 이때, 상기 캐소드(21) 상방에 불활성 가스인 아르곤 등을 분사하면서 상기 캐소드(21)에 전기를 인가하면 상기 윈도우(25)와 마스크(28)의 통공(26, 29)을 통해, 플렉시블 필름(F)과 상기 타겟(22) 사이에 플라즈마가 발생하게 된다. 그러면, 상기 불활성 가스를 구성하는 원자에서 전자가 방출되면서 형성된 양이온은 음극을 띠는 타겟(22)에 충돌하면서 타겟(22)의 금속 원자가 이탈되어 상기 플렉시블 필름(F)의 표면에 증착되어 박막을 형성하게 된다.
상기 구성에 의한 금속증착장치는 다음과 같은 문제점을 가지고 있었다.
첫째, 상기 캐소드에서 장시간 플라즈마가 조사될 경우, 상기 윈도우와 마스크가 과열되어 상기 플렉시블 필름을 가열하게 된다. 이때 가열된 플렉시블 필름은 연화되어 표면에 주름이 발생한다. 또한, 식으면서 경화되기 때문에 부서지면서 끊어지거나 홀이 형성되어 불량을 초래하는 문제점이 있었다.
둘째, 상기 캐소드 챔버의 유지보수가 어려운 문제점이 있었다. 상기 플렉시블 필름에 금속이 증착될 경우, 상기 캐소드 챔버의 내벽 및 윈도우 그리고 마스크의 하면에도 금속원자가 증착되어 오염된다. 이렇게 증착된 금속원자를 방치할 경우, 리와인딩이 종료된 후, 챔버 내부의 진공을 해제할 때, 챔버 내부에 산소가 유입되는데, 이때, 산소 원자가 상기 챔버 내부 및 커버의 증착된 금속원자에 부착된다. 이후에 다시 와인딩 롤에 플렉시블 필름을 장착한 후, 챔버 내부가 진공 상태가 되도록 하면, 상기 금속원자에 부착되었던 산소가 다시 상기 플렉시블 필름에 증착된 금속원자에 부착되면서 산화를 발생시켜서 불량을 초래한다. 따라서, 수시로 상기 캐소드 챔버 및 상기 커버(윈도우, 마스크)로부터 캐소드를 분리한 후, 상기 증착된 금속을 제거해 주어야 하는데, 상기 커버는 분리가 가능하기 때문에 용이하게 오염물 제거가 가능하지만, 상기 캐소드 챔버는 챔버 내부에 고정된 것이기 때문에 작업자가 일일이 챔버 속에 들어가서 캐소드 챔버 내부를 청소해야 하는 번거러움이 있었다.
세째, 상기 커버를 구성하는 윈도우 및 마스크의 통공의 폭은 가변이 불가능하기 때문에, 상기 플렉시블 필름의 폭에 따라, 상기 커버도 바꿔 주어야 하는 불편함이 있었다.
본 발명에 의한 노출형 증착장치는, 상부로 타겟이 노출되고 상기 타겟 주위에 판 형상의 애노드 실드가 고정되고 플렉시블 필름의 폭을 따라 길게 형성된 캐소드와, 상기 캐소드의 길이방향 측방을 덮고 상부를 덮는 커버가 구성되고, 상기 캐소드는 내측의 종단부 상면에 상부로 연장되는 마감판이 부착되어 구성되고, 상기 커버는, 캐소드의 상면을 덮는 평판과 상기 평판의 길이방향 모서리에서 하방으로 연장된 측판과 상기 측판의 외측방향의 종단에 상기 캐소드의 종단부를 덮도록 형성된 단부 마감판과 상기 평판에 관통된 길이 방향의 장공이 형성된 하부 마스크와, 상기 장공의 길이방향 모서리에서 상부로 연장되어 형성된 판재인 사이드 마스크와, 상기 사이드 마스크의 양측 내측면에 부착된 브래킷과, 상기 브래킷에 로딩되는 판 형상의 에지 마스크와, 상기 에지 마스크의 상부에서 상기 장공을 덮는 판 형상으로서 상기 사이드 마스크의 양쪽 종단부 사이를 덮도록 플랜지가 하방으로 연장되어 상기 하부 마스크에 고정되고, 상기 하부 마스크의 장공에 연통되는 장공이 관통된 윈도우와, 상기 윈도우를 관통하는 장공이 형성되어, 상기 윈도우를 관통하여 상기 하부 마스크의 상면에 이격되어 형성되는 상부 마스크와, 상기 상부 마스크와 하부 마스크 사이에 개재되는 냉각수 채널로 구성된다.
본 발명에 의한 노출형 증착장치는 에지 마스크의 이송으로 인해서 다양한 플렉시블 필름의 폭에 대응이 가능하기 때문에, 플렉시블 필름이 바뀔 때마다 커버를 상이한 규격으로 교체해야 하는 불편이 없다.
또한, 상부 마스크 및 하부 마스크가 상하로 이격되어 구성되고, 상기 상부 마스크와 하부 마스크 사이에 냉가수 채널이 개재됨으로써, 캐소드의 열이 플렉시블 필름 쪽으로 이송되는 현상을 최대한 억제할 수 있다. 따라서, 상기 플렉시블 필름이 열에 의해 연화되어 주름지는 현상이 방지되고, 연화된 후 식으면서 경화되어, 끊어지거나 구멍이 형성되는 현상을 방지하 수 있다.
또한, 본 발명은 종래기술처럼 캐소드 챔버 없이, 상기 커버만으로도 충분히 챔버 내부가 금속증착물로 오염되는 현상을 방지할 수 있는 효과가 있다. 따라서, 컴팩트한 디자인이 가능하고, 상기 커버를 분리한 후, 커버 내부에 증착된 금속증착물만 제거하면 유지보수가 완료되기 때문에, 종래처럼 챔버에 들어가서 캐소드 챔버를 유지보수할 필요가 없다.
도 1은 종래의 기술에 의한 금속증착장치가 장착된 롤투롤 스퍼트 시스템을 도시한 단면도.
도 2는 종래의 기술에 의한 금속증착장치에 구성되는 커버를 도시한 사시도.
도 3은 도 1의 A-A'선을 따라 취한 단면도.
도 4는 도 3의 E부를 도시한 확대도.
도 5는 본 발명의 기술에 의한 노출형 증착장치가 장착된 롤투롤 스퍼트 시스템을 도시한 단면도.
도 6은 도 7의 C-C'선을 따라 취한 단면도.
도 7은 본 발명의 기술에 의한 노출형 증착장치를 도시한 사시도.
도 8은 도 5의 F-F'선을 따라 취한 단면도.
도 9는 본 발명의 기술에 의한 노출형 증착장치에 구성되는 커버를 도시한 단면도.
도 10은 본 발명의 기술에 의한 노출형 증착장치로서, 캐소드의 상부가 커버 내부로 수납되는 과정을 도시한 분해 사시도.
도 11은 본 발명의 기술에 의한 노출형 증착장치에 구성되는 커버에서 상부 마스크가 하부 마스크에 부착되는 과정을 도시한 분해 사시도.
도 12는 본 발명의 기술에 의한 노출형 증착장치에 구성되는 사이드 마스크에 에지 마스크가 지지되고 윈도우가 하부 마스크에 결합되는 과정을 도시한 분해 사시도.
이하, 첨부되는 도면과 관련하여 상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 구성과 작동례를 살펴보면 다음과 같다.
도 5는 본 발명의 기술에 의한 노출형 증착장치가 장착된 롤투롤 스퍼트 시스템을 도시한 단면도, 도 6은 도 7의 C-C'선을 따라 취한 단면도, 도 7은 본 발명의 기술에 의한 노출형 증착장치를 도시한 사시도, 도 8은 도 5의 F-F'선을 따라 취한 단면도, 도 9는 본 발명의 기술에 의한 노출형 증착장치에 구성되는 커버를 도시한 단면도, 도 10은 본 발명의 기술에 의한 노출형 증착장치로서, 캐소드의 상부가 커버 내부로 수납되는 과정을 도시한 분해 사시도, 도 11은 본 발명의 기술에 의한 노출형 증착장치에 구성되는 커버에서 상부 마스크가 하부 마스크에 부착되는 과정을 도시한 분해 사시도, 도 12는 본 발명의 기술에 의한 노출형 증착장치에 구성되는 사이드 마스크에 에지 마스크가 지지되고 윈도우가 하부 마스크에 결합되는 과정을 도시한 분해 사시도로서 함께 설명한다.
일반적으로 플렉시블 필름(F)은 LCD 표면이나 건축물의 외장재에 코팅되어 사용되는 것으로서 합성수지재의 필름의 일측면에 금속 물질이 증착된 것이다.
이처럼, 합성수지재의 필름의 일측면에 금속 물질을 증착시키는 장치가 롤투롤 스퍼트 시스템(100)이라고 한다.
상기 롤투롤 스퍼트 시스템(100)은 진공 및 진공 해제가 가능한 챔버(110) 내에 플렉시블 필름(F)이 풀려나는 리와인딩 롤(120)과 상기 리와인딩 롤(120)의 측방에 배치되어 상기 플렉시블 필름(F)이 감기는 와인딩 롤(130)이 구성되고, 상기 리와인딩 롤(120)과 와인딩 롤(130)의 하방에는 메인롤(140)이 구성되어 리와인딩 롤(120)에서 풀려난 플렉시블 필름(F)이 상기 메인롤(140)을 거쳐서 상기 와인딩 롤(130)에 감기도록 구성된 것이다.
그리고 상기 메인 롤(140) 하방에는 상기 메일 롤(140)을 통해 지나가는 플렉시블 필름(F)에 금속 물질을 증착시키는 금속증착장치(200)가 구성된다.
본 발명에서는 상기 금속증착장치(200)를 캐소드(210)가 노출되도록 구성하여 유지보수가 용이하도록 하면서 캐소드(210)에서 발생하는 열로 인해서 플렉시블 필름(F)이 손상되는 것을 방지할 수 있을 뿐만 아니라, 다양한 플렉시블 필름(F)의 폭(V)에 따라 가변되어 적용이 가능하도록 구성한 것을 특징으로 한다.
이를 위하여 본 발명에서는 상기 금속증착장치(200)를 다음과 같이 구성한다.
먼저, 상부로 타겟(213)이 노출되고 상기 타겟(213) 주위에 판 형상의 애노드 실드(217)가 고정되고 상기 플렉시블 필름(F)의 폭(V)을 따라 길게 형성된 캐소드(210)가 구성된다. 그리고, 상기 캐소드(210)의 길이방향 측방(212) 및 외측 종단부(214)를 이격되어 덮고 상부를 덮는 커버(220)가 구성된다.
상기 캐소드(210)는 상기 챔버(110)의 일측면에 고정되어 상기 플렉시블 필름(F)의 폭(V) 방향으로 연장되도록 장착된다. 상기 캐소드(210)는 챔버(110)에 고정된 쪽인 내측의 종단부 상면에 상부로 연장되는 마감판(219)이 부착되어 구성됨으로써, 다음에 기재하는 상기 커버(220)의 하부 마스크(230)의 개방된 종단(F)을 막도록 구성된다. 상기에서 내측의 종단부는, 상기 커버(220)가 캐소드(210)를 수용한 상태에서 상기 하부 마스크(230)의 개방된 종단(F)이 위치하는 부분을 가리킨다.
상기 커버(220)는, 먼저 하부마스크(230)가 구성되는데, 하부마스크(230)의 구성을 살펴보면 다음과 같다. 상기 캐소드(210)의 상면을 덮는 평판(231)과 상기 평판(231)의 길이방향 모서리(233)에서 하방으로 연장된 측판(235)이 구성되고, 상기 대향하는 양쪽 측판(235)에서 외측방향(상기 마감판(219)의 상대측 방향)의 종단(E)에는 상기 캐소드(210)의 종단부(214)를 덮는 단부 마감판(236)이 형성된다. 따라서, 상기 하부마스크(230)는 캐소드(210) 쪽과 하방이 개방된 통 형상이 된다. 그리고, 상기 평판(231)에 관통된 장공(237)이 형성된다.
또한, 상기 하부마스크(230)의 장공(237)에서 서로 대향하는 길이방향 모서리(239)에서 상부로 연장되어 형성된 판재인 사이드 마스크(240)가 도 12에서처럼 서로 대응되어 구성된다.
또한, 도 12에서처럼, 상기 사이드 마스크(240)의 대향하는 내측면에 후기하는 에지 마스크(260)를 받치는 브래킷(250)이 부착되어 구성된다. 상기 브래킷(250)은 양측 사이드 마스크(240)의 양측 종단부 쪽에 부착되어 구성되며, 일측 사이드 마스크(240)와 상대측 사이드 마스크(240)에 부착된 브래킷(250)은 상호 대향하도록 구성된다.
그리고, 상기 브래킷(250)에 로딩되는 판 형상의 에지 마스크(260)가 구성된다. 상기 에지 마스크(260)는 상기 브리킷(250)에 로딩될 경우, 2개가 구비되어 상기 장공(237)의 양측 종단부 쪽에 위치하는 구조가 된다. 상기 에지 마스크(260)는 상기 메인 롤(140)에 부합하는 형상이 되도록 하방으로 볼록하도록 구성될 수 있다.
그리고, 상기 에지 마스크(260)의 상부에서 상기 하부 마스크(230)의 장공(237)을 덮는 판 형상으로서 상기 사이드 마스크(240)의 양쪽 종단부(243) 사이를 덮도록 플랜지(271)가 하방으로 연장되어 상기 하부 마스크(230)에 고정되고, 상기 하부 마스크(230)의 장공(237)에 연통되는 또 다른 장공(273)이 관통된 윈도우(270)가 구성된다.
상기 윈도우(270)와 에지 마스크(260)의 상호 구성 관계를 보다 상세히 살펴보면, 상기 윈도우(270)의 하방에 에지 마스크(260)가 자리 잡고 있으므로, 상기 윈도우(270)의 장공(273) 양쪽 종단부 쪽에는 상기 에지 마스크(260)가 커버하는 구조가 된다. 따라서, 상기 양측 에지 마스크(260)를 이송함으로써, 상기 윈도우(270)의 장공(273)의 길이(D)를 플렉시블 필름(F)의 폭(V)에 따라 자유롭게 조정할 수 있는 구성이 된다. 상기 윈도우(270)는 상기 메인 롤(140)에 부합하도록 하방으로 오목하도록 벤딩되어 형성되는 것이 바람직하다.
또한, 상기 윈도우(270)를 관통하는 장공(273)이 형성됨으로써, 상기 윈도우(270)를 상부에서 관통하여 상기 하부 마스크(230)의 상면에 이격되도록 구성되는 상부 마스크(280)가 구성된다. 즉, 상기 상부 마스크(280)는 판 형상으로서 상기 장공(273)이 형성됨으로써 액자 형상이 되어 상기 윈도우(270)를 관통하여 상기 하부 마스크(230)의 상부에 위치하는 구성이 된다. 또한, 상기 메인 롤(140)을 양측에서 지지하는 측판(155, 157)에 고정되는 플랜지(271, 272)가 상기 장공(273)의 바깥쪽에 형성되고 상부로 연장되어 형성된다. 따라서, 상기 커버(220)는 상기 측판(155, 157)에 고정되어 장착이 가능하다. 그리고 상기 캐소드(210)는 챔버(110)의 일측에 고정되어 형성된다.
또한, 상기 상부 마스크(280)와 하부 마스크(230) 사이에 축(M)이 개재되어 이격된 상태가 유지되도록 하고, 상기 이격된 공간에 냉각수가 순환하는 냉각수 채널(290)이 구성된다.
상기 캐소드(210)의 애노드 실드(217) 중, 상기 하부 마스크(230)의 측판(235)에 대향하는 애노드 실드(217), 즉, 길이 방향의 애노드 실드(217)는 측방으로 연장되어 측판(235)에 근접하도록 함이 바람직하다. 근접 거리는 일례로서 2∼3mm 정도가 바람직한 데, 그 이유는 상기 근접 거리의 경우, 플라즈마가 통과하지 못하기 때문이다. 또한, 상기 애노드 실드(217)가 측판(235)에 부착하는 것도 가능한데, 근접 거리를 두는 이유는 상기 커버(220)와 캐소드(210)의 조립이 용이하도록 하기 위해서이다. 즉, 상기 근접거리는 여유공차인 것이다.
상기 구성에 의하면, 상기 커버(220)의 하부마스크(230)의 측판(235)은 캐소드(210)의 길이방향 측면을 덮게 되고, 상기 단부마감판(236)은 캐소드(210)의 외측 종단부(214)를 덮게 된다. 물론, 이때 이격된 상태로 덮게 됨은 물론이다. 또한, 상기 마감판(219)은 상기 하부마스크(230)의 개방된 쪽 종단(F)을 막게 되어 금속 증착물이 누설되는 현상이 방지되어 상기 챔버(110) 내부를 오염시키는 현상이 방지된다.
또한, 상기 하부 마스크(230)는 캐소드(210)에서 이격되도록 구성됨으로써 캐소드(210)에서 발생하는 열이 직접적으로 상기 커버(220)에 전달되지 않도록 한다.
상기 냉각수 채널(290)은 유입구와 배수구가 형성되어 냉각수가 유입된 후 열교환되고나서 배출되도록 구성된다.
상기 구성에 의한 본 발명의 작동례를 살펴보면 다음과 같다.
상기 리와인딩 롤(120)에서 플렉시블 필름(F)이 풀려나도록 한 후, 메인 롤(140)을 거쳐서 와인딩 롤(130)에 감기도록 한다. 그리고 상기 에지 마스크(260)를 이송시켜서 윈도우(270)의 장공 길이(D)가 플렉시블 필름(F)의 폭(V)에 부합되도록 한다. 즉, 상기 윈도우(270)와 양측 에지 마스크(260)는 플렉시블 필름(F)의 폭(V) 만큼만 금속물질이 증착되도록 제한하는 역할을 하게 된다.
이 상태에서 상기 캐소드(210)의 상부로 아르곤과 같은 불활성가스를 공급하면서, 상기 캐소드(210)에 전기를 인가하게 되면, 상기 플렉시블 필름(F)과 상기 캐소드(210)의 타겟(213) 사이에 플라즈마가 발생하게 된다. 이것은 상기 하부 마스크(230)의 장공(237)과 윈도우(270)의 장공(273)이 있음으로 가능함은물론이다. 그러면, 상기 불활성 가스를 구성하는 원자에서 전자가 방출되면서 형성된 양이온은 음극을 띠는 타겟(213)에 충돌하면서 타겟(213)의 금속 원자가 이탈되어 상기 플렉시블 필름(F)의 표면에 증착되어 박막을 형성하게 된다. 이때, 커버(220)는 금속증착물이 챔버(110) 내부를 오염시키는 현상을 방지하도록 한다. 이때, 상기 사이드 마스크(240)와 상기 윈도우(270)의 플랜지(271, 272)는 상부 마스크(280)와 하부 마스크(230) 사이로 플라즈마가 누설되는 것을 방지하여 금속증착물이 챔버(110) 내부를 오염시키는 현상을 방지하도록 한다.
물론, 상기 커버(220)의 하부 마스크(230)는 양측 종단부는 개방된 구조이지만, 하부 마스크(230)의 길이를 길게 하여 캐소드(210)의 양측 종단부에서 멀어질수록 금속증착물이 상기 양측 종단부를 지나서 유출되는 현상을 방지할 수 있다. 이렇게 하부 마스크(230)의 양측 종단부를 개방하는 이유는 측방으로 이송하여 상기 캐소드(210)를 수용하도록 하기 위함이다.
이때, 상기 캐소드(210) 특히, 애노드 실드(217)에서는 고열이 발생하면서 상기 커버(220)를 가열하게 된다. 그러나, 상기 냉각수 채널(290)을 통해 냉각수가 순환하도록 함으로써, 하부 마스크(230), 상부 마스크(280)의 열을 흡수하여 배출된다. 또한, 상기 상부 마스크(280)와 하부 마스크(230)에 연결된 브래킷(250), 사이드 마스크(240), 에지 마스크(60), 윈도우(270)의 열도 상기 하부 마스크(230)와 상부 마스크(280)로 전도되어 냉각수에 열교환된다.
특히, 상기 상부 마스크(280)와 하부 마스크(230)가 이중으로 상하로 이격되어 구성됨으로써, 캐소드(210)에서 발생한 열이 상부로 배출되는 현상을 최대한 억제하게 된다. 특히, 상기 냉각수 채널(290)로 인해서 상기 효과는 더욱 증대된다.
따라서, 본 발명에 의하면 상기 에지 마스크(260)의 이송으로 인해서 다양한 플렉시블 필름(F)의 폭(V)에 대응이 가능하고, 특히, 상기 냉각수 채널(290) 및 상기 상부 마스크(280) 및 하부 마스크(230)가 이중으로 구성됨으로써, 캐소드(210)의 열이 플렉시블 필름(F) 쪽으로 이송되는 현상을 최대한 억제할 수 있다. 따라서, 상기 플렉시블 필름(F)이 열에 의해 연화되어 주름지는 현상이 방지되고, 연화된 후 식으면서 경화되어, 끊어지거나 구멍이 형성되는 현상을 방지하 수 있다.
또한, 본 발명은 종래기술처럼 캐소드 챔버(미도시) 없이, 상기 커버(220)만으로도 충분히 챔버(110) 내부가 금속증착물로 오염되는 현상을 방지할 수 있는 효과가 있다. 따라서, 컴팩트한 디자인이 가능하고, 상기 커버(220)를 분리한 후, 커버(220) 내부에 증착된 금속증착물만 제거하면 유지보수가 완료되기 때문에, 종래처럼 캐소드 챔버(미도시)를 유지보수할 필요가 없다. 따라서, 유지보수가 용이한 이점이 있다.
110: 챔버 120: 리와인딩 롤
130: 와인딩 롤 140: 메인 롤
155, 157: 측판 200: 노출형 증착장치
210: 캐소드 213: 타겟
217: 애노드 실드 220: 커버
230: 하부 마스크 231; 평판
235: 측판 237: 장공
240: 사이드 마스크 250: 브래킷
260: 에지 마스크 270: 윈도우
271, 272: 플랜지 273: 장공
280: 상부 마스크 281: 장공
285: 플랜지 290: 냉각수 채널

Claims (1)

  1. 상부로 타겟(213)이 노출되고 상기 타겟(213) 주위에 판 형상의 애노드 실드(217)가 고정되고 플렉시블 필름(F)의 폭(V)을 따라 길게 형성된 캐소드(210)와,
    상기 캐소드(210)의 길이방향 측방을 덮고 상부를 덮는 커버(220)가 구성되고,
    상기 캐소드(210)는 내측의 종단부 상면에 상부로 연장되는 마감판(219)이 부착되어 구성되고,
    상기 커버(220)는, 캐소드(210)의 상면을 덮는 평판(231)과 상기 평판(231)의 길이방향 모서리(233)에서 하방으로 연장된 측판(235)과 상기 측판(235)의 외측방향의 종단(E)에 상기 캐소드(210)의 종단부(214)를 덮도록 형성된 단부 마감판(236)과 상기 평판(231)에 관통된 길이 방향의 장공(237)이 형성된 하부 마스크(230)와,
    상기 장공(237)의 길이방향 모서리(239)에서 상부로 연장되어 형성된 판재인 사이드 마스크(240)와,
    상기 사이드 마스크(240)의 양측 내측면(241)에 부착된 브래킷(250)과,
    상기 브래킷(250)에 로딩되는 판 형상의 에지 마스크(260)와,
    상기 에지 마스크(260)의 상부에서 상기 장공(237)을 덮는 판 형상으로서 상기 사이드 마스크(240)의 양쪽 종단부(243) 사이를 덮도록 플랜지(271, 272)가 하방으로 연장되어 상기 하부 마스크(230)에 고정되고, 상기 하부 마스크(230)의 장공(237)에 연통되는 장공(273)이 관통된 윈도우(270)와,
    상기 윈도우(270)를 관통하는 장공(281)이 형성되어, 상기 윈도우(270)를 관통하여 상기 하부 마스크(230)의 상면(234)에 이격되어 형성되는 상부 마스크(280)와,
    상기 상부 마스크(280)와 하부 마스크(230) 사이에 개재되는 냉각수 채널(290)로 구성되는 것을 특징으로 하는 노출형 증착장치.
KR20100013420A 2010-02-12 2010-02-12 노출형 증착장치 KR101166420B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20100013420A KR101166420B1 (ko) 2010-02-12 2010-02-12 노출형 증착장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20100013420A KR101166420B1 (ko) 2010-02-12 2010-02-12 노출형 증착장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20110093393A true KR20110093393A (ko) 2011-08-18
KR101166420B1 KR101166420B1 (ko) 2012-07-19

Family

ID=44930099

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR20100013420A KR101166420B1 (ko) 2010-02-12 2010-02-12 노출형 증착장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101166420B1 (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160116990A (ko) 2015-03-31 2016-10-10 (주)맥스필름 롤투롤 스퍼터링 시스템

Also Published As

Publication number Publication date
KR101166420B1 (ko) 2012-07-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8821638B2 (en) Continuous deposition apparatus
US5000114A (en) Continuous vacuum vapor deposition system having reduced pressure sub-chambers separated by seal devices
KR100953577B1 (ko) 권취식 프라즈마 cvd 장치
JP2009062617A (ja) Pecvdシステムにおけるソースガス流路の制御によるチャンバ内部での副生成物の膜堆積制御
KR101409617B1 (ko) 스퍼터링 장치
CN109075007B (zh) Rf返回条带屏蔽盖罩
CA1066663A (en) Method and apparatus for supplying background gas in a sputtering chamber
JP4747665B2 (ja) 成膜装置及び成膜方法
JP5458185B2 (ja) 基板処理装置及び方法
KR101166420B1 (ko) 노출형 증착장치
CN106282930B (zh) 蒸镀装置
JP2005220434A (ja) 真空室及び被覆ローラを備えた帯材被覆装置
KR20170113795A (ko) 방착쉴드가 구비된 증착장치
KR20150140384A (ko) 성막 장치 및 성막 방법
JP2011094188A (ja) 真空ロール搬送処理装置
JP4027598B2 (ja) プレート状の基板をコーティングするための装置
KR101118193B1 (ko) 냉각 드럼 마스크
JP2003013291A (ja) めっき処理装置
JP6316144B2 (ja) 現像液吐出ノズルおよび現像処理装置
JP2000178717A (ja) 成膜装置
JP5261813B2 (ja) 真空蒸着装置
JPH03503576A (ja) 保護シールドを具備した被覆装置
JP4573272B2 (ja) 連続成膜装置
JP2008031493A5 (ko)
JP2007509237A (ja) 帯状体加工プラント

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150710

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160711

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170623

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180710

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190710

Year of fee payment: 8