KR20110087217A

KR20110087217A - 광학 필름 제조용 롤 금형의 세정 방법 및 방현 필름의 제조 방법

Info

Publication number: KR20110087217A
Application number: KR1020110005072A
Authority: KR
Inventors: 도모코 다나카; 츠토무 후루야; 도루 진노
Original assignee: 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
Priority date: 2010-01-25
Filing date: 2011-01-18
Publication date: 2011-08-02
Also published as: CN102189089A; JP2011148247A; TW201130627A

Abstract

본 발명은 광학 필름의 제조에 사용되며 금형 오염 물질이 부착된 롤 금형을, pH 10 이상의 염기성 수용액 내, 30℃∼70℃에서 초음파 처리하는 것을 포함하는 광학 필름 제조용 롤 금형의 세정 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 세정 방법은 상기 롤 금형에 손상을 주지 않고, 그 오염된 표면을 양호하게 세정할 수 있기 때문에, 상기 금형 오염 물질이 광경화성 수지인 경우에 적합하게 채용된다.

Description

광학 필름 제조용 롤 금형의 세정 방법 및 방현 필름의 제조 방법{A CLEANING METHOD OF A METAL MOLD FOR PRODUCING AN OPTICAL FILM AND A PROCESS FOR PRODUCING AN ANTIGLARE FILM}

본 발명은 액정 표시 장치 등에 사용되는 프리즘 필름, 확산 필름 및 방현 필름 등의 광학 필름의 제조 기술 분야에 속하는 것으로서, 더욱 상세하게는 광학 필름을 제조할 때에 사용되는 롤 금형의 세정 방법에 관한 것이다.

액정 표시 장치 등에 사용되는 프리즘 필름, 확산 필름 및 방현 필름 등의 광학 필름은, 예컨대 필름형의 수지를 롤 금형의 표면에 압착시켜 롤 금형의 표면 형상을 필름에 전사한 후, 이 필름을 롤 금형으로부터 박리시킴으로써 제조되는 것이 알려져 있다.

이러한 방법에 의해 광학 필름을 연속해서 제조하면, 광학 필름을 구성하는 수지의 일부가 금형 오염 물질로서 서서히 롤 금형의 표면에 잔존하여 퇴적되게 되는 경우가 있다. 따라서, 광학 필름을 좋은 품질로 연속해서 제조하기 위해서는, 롤 금형을 정기적으로 분해하여 세정하고, 표면에 부착된 금형 오염 물질을 제거해야만 한다.

이러한 롤 금형의 세정 방법으로서 여러 가지 제안되어 있지만, 어느 방법도 세정 효율의 관점에서 반드시 충분하다고는 할 수 없으며, 만족할 수 있는 것은 아니었다.

본 발명의 목적은 광학 필름을 제조하기 위한 롤 금형의 세정 방법에 있어서, 이 롤 금형에 손상을 주지 않고, 그 오염된 표면을 양호하게 세정할 수 있는 세정 방법을 제공하는 것이다.

본 발명은 하기의 것을 포함한다.

[1] 광학 필름의 제조에 사용되며, 금형 오염 물질이 부착된 롤 금형을, pH 10 이상의 염기성 수용액 내, 30℃∼70℃에서 초음파 처리하는 것을 포함하는 광학 필름 제조용 롤 금형의 세정 방법.

[2] 상기 금형 오염 물질은 광경화성 수지인 것인 [1]에 기재된 광학 필름 제조용 롤 금형의 세정 방법.

[3] 초음파 처리는 40℃∼65℃에서 이루어지는 것인 [1] 또는 [2]에 기재된 광학 필름 제조용 롤 금형의 세정 방법.

[4] 상기 염기성 수용액은 수용성 유기 용매를 함유하는 것인 [1] 내지 [3] 중 어느 하나에 기재된 광학 필름 제조용 롤 금형의 세정 방법.

[5] 상기 염기성 수용액 내의 수용성 유기 용매의 함유량은 염기성 수용액 총량에 대하여 70 중량% 이하인 것인 [4]에 기재된 광학 필름 제조용 롤 금형의 세정 방법.

[6] 상기 롤 금형은 표면에 요철 형상을 갖는 방현 필름 제조용 금형인 것인 [1] 내지 [5] 중 어느 하나에 기재된 광학 필름 제조용 롤 금형의 세정 방법.

[7] [6]에 기재된 방법으로 롤 금형을 세정하고, 이 롤 금형의 요철면을 투명 지지체 상에 전사한 후, 요철면이 전사된 투명 지지체를 롤 금형으로부터 박리하는 것을 포함하는 방현 필름의 제조 방법.

본 발명에 따르면, 롤 금형에 손상을 주지 않고, 그 오염된 표면을 양호하게 세정할 수 있다. 또한, 상기 세정 방법에 의해 얻어진 롤 금형을 사용함으로써, 광학 필름, 그 중에서도, 방현 필름을 좋은 품질로 제조할 수 있다.

도 1은 초음파 세정 장치의 일례를 모식적으로 나타낸 사시도이다.
도 2는 실시예 1에서 제작한 롤 금형의 표면 요철 형상의 형성에 이용된 화상 데이터를 포함하는 패턴의 일부를 확대하여 나타낸 도면이다.

본 발명에서는, 광학 필름 제조용 롤 금형을 세정의 대상으로 한다. 광학 필름으로서는, 액정 디스플레이나 플라즈마 디스플레이 패널, CRT 디스플레이, 유기 EL 디스플레이 등의 화상 표시 장치에 이용되는 프리즘 필름, 확산 필름 및 방현 필름 등을 들 수 있다. 이 광학 필름의 표면에는 광학 다층막에 의한 간섭을 이용한 무반사 처리를 실시할 수도 있다. 본 발명의 세정 방법은 전술한 바와 같이 롤 금형에 손상을 주지 않고, 그 오염된 표면을 양호하게 세정할 수 있기 때문에, 표면에 미세한 요철 형상을 갖는 롤 금형에 있어서 유리하게 채용되며, 그 중에서도, 일반적으로 방현 필름이라 칭해지는, 방현성을 갖게 하기 위해서 표면에 미세한 요철 형상을 가진 필름을 제조하기 위한 롤 금형의 세정 방법으로서 보다 바람직하다.

상기 방현 필름 제조용 롤 금형에는 종래 공지된 것을 채용할 수 있으며, 그 제조 방법으로서는, 기재를 연마하여, 샌드 블라스트 가공을 실시한 후, 무전해 니켈 도금을 실시하여 롤 금형을 제작하는 방법(JP2006-53371-A); 기재에 구리 도금 또는 니켈 도금을 실시한 후, 연마하여, 샌드 블라스트 가공을 실시한 후, 크롬 도금을 실시하는 방법(JP2007-187952-A); 구리 도금 또는 니켈 도금을 실시한 후, 연마하여, 샌드 블라스트 가공을 실시한 후, 에칭 공정 또는 구리 도금 공정을 실시하고, 이어서 크롬 도금을 실시하는 방법(JP2007-237541-A); 금형용 기재의 표면에 구리 도금 또는 니켈 도금을 실시한 후, 연마하여, 연마된 면에 감광성 수지막을 도포 형성하고, 이 감광성 수지막 상에 패턴을 노광한 후, 현상하여, 현상된 감광성 수지막을 마스크로서 이용하여 에칭 처리를 실시하며, 감광성 수지막을 박리하고, 에칭 처리를 더 실시하여 요철면을 둔하게 한 후, 형성된 요철면에 크롬 도금을 실시하는 방법 등을 들 수 있다.

다음에, 상기한 표면에 미세한 요철 형상을 갖는 롤 금형을 이용하여 엠보스법에 의해 방현 필름을 제조하는 방법에 대해서 설명한다. 엠보스법에서는, 목적에 따른 요철 표면을 갖는 롤 금형을 제조하고, 제조된 롤 금형의 요철면을 투명 지지체 상에 전사하며, 계속해서 요철면이 전사된 투명 지지체를 롤 금형으로부터 박리함으로써, 방현 필름을 제조할 수 있기 때문에, 미세 요철 표면을 정밀도 좋게, 또한, 재현성 좋게 제조할 수 있다. 여기서, 엠보스법으로서는, 광경화성 수지를 이용하는 UV 엠보스법, 열가소성 수지를 이용하는 핫 엠보스법이 예시되고, 그 중에서도, 생산성의 관점에서 UV 엠보스법이 바람직하다.

UV 엠보스법은 투명 지지체의 표면에 광경화성 수지층을 형성하고, 그 광경화성 수지층을 금형의 요철면에 압착하면서 경화시킴으로써 금형의 요철면을 광경화성 수지층에 전사시키는 방법이다. 구체적으로는, 투명 지지체 상에 자외선 경화성 수지를 도포하고, 도포된 자외선 경화성 수지를 금형의 요철면에 밀착시킨 상태로 투명 지지체측에서 자외선을 조사하여 자외선 경화성 수지를 경화시키며, 그 후 금형으로부터, 경화 후의 자외선 경화성 수지층이 형성된 투명 지지체를 박리함으로써, 금형의 형상을 자외선 경화형 수지에 전사한다.

UV 엠보스법을 이용하는 경우, 투명 지지체로서는, 실질적으로 광학적으로 투명한 필름으로서, 광경화성 수지가 경화 가능한 파장 영역의 활성 에너지선을 투과하는 것이면 특별히 제한되지 않고, 각종 투명 수지 필름을 이용할 수 있다. 구체적으로는, 트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스, 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트 등의 셀룰로오스계 수지; 폴리카보네이트계 수지; 폴리아크릴레이트, 폴리메틸메타크릴레이트 등의 (메트)아크릴계 수지; 폴리에틸렌텔레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등의 쇄형 폴리올레핀계 수지; 환형 폴리올레핀계 수지; 스티렌계 수지; 폴리술폰; 폴리에테르술폰; 폴리염화비닐 등으로 이루어진 필름이 예시된다.

투명 지지체의 광경화성 수지의 도포면 및/또는 그 반대측의 표면에는, 대전 방지층이나 접착 용이층이 형성될 수도 있다. 대전 방지층이나 접착 용이층은 광경화성 수지의 도포성이나 밀착성을 저하시키는 것, 또는 필요 이상의 착색이나 백화를 일으키는 것, 투과율을 현저하게 저하시키는 것이 아니라면 특별히 제한되지 않고, 종래 공지된 것을 이용할 수 있다.

상기 광경화성 수지로는, 광중합 개시제의 종류를 적절하게 선택함으로써 자외선보다 파장이 긴 가시광으로도 경화가 가능한 수지를 이용할 수도 있다. 자외선 경화성 수지의 종류는 특별히 한정되지 않고, 예컨대 다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물과 광중합 개시제를 함유하는 것일 수 있다. 다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물 및 광중합 개시제는 시판품이어도 좋다. 대부분의 경우, 자외선 경화성 수지는 다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물, 광중합 개시제, 기타 필요에 따라 첨가된 첨가제를 함유하는 것으로서 시판되고 있다.

다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물이란, 분자 내에 적어도 2개의 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기를 갖는 화합물이다. 다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물로서는, 예컨대 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 트리메틸올에탄트리(메트)아크릴레이트, 테트라메틸올메탄트리(메트)아크릴레이트, 테트라메틸올메탄테트라(메트)아크릴레이트, 펜타글리세롤트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 글리세린트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 트리스((메트)아크릴로일옥시에틸)이소시아누레이트; 포스파젠 화합물의 포스파젠고리에 (메트)아크릴로일옥시기가 도입된 포스파젠계 (메트)아크릴레이트 화합물; 분자 내에 적어도 2개의 이소시아네이트기를 갖는 폴리이소시아네이트와 적어도 1개의 (메트)아크릴로일옥시기 및 수산기를 갖는 폴리올 화합물과의 반응에 의해 얻어지는 우레탄(메트)아크릴레이트 화합물; 분자 내에 적어도 2개의 카르복실산할로겐화물과 적어도 1개의 (메트)아크릴로일옥시기 및 수산기를 갖는 폴리올 화합물과의 반응에 의해 얻어지는 폴리에스테르(메트)아크릴레이트 화합물; 및, 상기 각 화합물의 2량체, 3량체 등과 같은 올리고머 등을 들 수 있다. 이들 화합물은 각각 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 이용된다.

자외선 경화성 수지는 상기 다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물 이외에 단관능 (메트)아크릴레이트계 화합물을 함유할 수도 있다. 단관능 (메트)아크릴레이트계 화합물로서는, 예컨대 히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메트)아크릴레이트, 글리시딜(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.

광중합 개시제로서는, 예컨대 이가큐어 907(치바 스페셜티 케미컬사 제조), 이가큐어 184(치바 스페셜티 케미컬사 제조), 루시린 TPO(BASF사 제조) 등을 들 수 있다.

전술한 바와 같이, 롤 금형을 사용하여 광학 필름을 연속해서 제조해 나가면, 광학 필름을 구성하는 수지의 일부가 금형 오염 물질로서 그 롤 금형의 표면에 서서히 부착되어 나간다. 그 중에서도, 금형 오염 물질이 경화성 수지인 경우에는, 그 금형 오염 물질이 롤 금형의 표면에 강고하게 부착되는 경우가 있다. 본 발명의 세정 방법에 따르면, 이와 같이 금형 오염 물질이 부착된 롤 금형을 pH 10 이상의 염기성 수용액 내, 30℃∼70℃라고 하는 종래의 방법보다 비교적 높은 온도에서 초음파 처리함으로써, 이 롤 금형에 손상을 주지 않고, 그 오염된 표면을 양호하게 세정하는 것이 가능해진다. 또한, 여기서, 금형 오염 물질이란, 광학 필름 제조용 롤 금형 표면(미세 요철 표면 등)에 부착되어 있는 덩어리형 혹은 박막형의 수지(경화성 수지나 열가소성 수지 등) 등을 의미한다.

염기성 수용액이란, 물에 염기성 화합물이 용해된 수용액이다. 염기성 화합물로서는, 예컨대 수산화리듐, 수산화나트륨, 수산화칼륨과 같은 수산화물, 탄산칼륨, 탄산나트륨과 같은 탄산염, 탄산수소칼륨, 탄산수소나트륨과 같은 중탄산염 등의 무기 염기성 화합물이나, 암모니아나, 트리에틸아민, N,N,-디메틸아미노에탄올, N,N-디부틸아미노에탄올, N-메틸-디에탄올아민, 2-아미노-2-메틸프로판올, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, N-메틸아미노에탄올, N,N-디에틸아미노에탄올아민과 같은 아민 등의 유기 염기성 화합물을 들 수 있다. 그 중에서도, 광경화성 수지에 대한 세정력의 점에서, 무기 염기성 화합물이 바람직하고, 수산화나트륨, 수산화칼륨이 보다 바람직하다. 한편, 물에는 순수가 적합하게 사용된다.

염기성 수용액에는, 수용성 유기 용매가 함유되는 것이 바람직하다. 이 수용성 유기 용매로서는, 예컨대 메탄올, 에탄올, 이소프로판올과 같은 1가 알코올, 디에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 글리세린과 같은 다가 알코올 이외에, 아세톤 등을 들 수 있고, 필요에 따라 이들의 2종 이상을 이용할 수도 있다. 수용성 유기 용매의 함유량은, 염기성 수용액 총량에 대하여 70 중량% 이하인 것이 바람직하고, 50 중량% 이하인 것이 보다 바람직하다. 수용성 유기 용매의 함유량이 70 중량%를 초과하면, 세정력이 불충분해질 우려가 있다.

또한, 염기성 수용액에는, 세정력을 향상시키기 위해서, 적절하게, 비이온성 계면활성제, 음이온계 계면활성제를 첨가할 수도 있다.

본 발명의 세정 방법에서 사용하는 염기성 수용액의 pH는 10 이상이며, 바람직하게는 pH 11∼13이다. pH가 10 미만이면 세정력이 충분하지 않은 경우가 있다. 또한, 염기성 수용액에서의 염기성 화합물의 함유량은 상기 pH의 범위가 되도록 적절하게 조정되지만, 염기성 수용액 총량에 대하여 바람직하게는 0.1∼1 중량%이며, 보다 바람직하게는 0.1∼0.3 중량%이다.

본 발명에 있어서의 세정 온도는 30℃∼70℃이며, 바람직하게는 40℃∼65℃이다. 세정 온도가 30℃ 미만이면 세정력이 불충분해진다. 또한, 세정 온도가 70℃를 초과하면, 예컨대 염기성 수용액 내에 수용성 유기 용매가 함유되는 경우에는, 이 유기 용매의 휘발 등이 걱정된다.

본 발명에서는, 광학 필름의 제조에 사용되고, 금형 오염 물질이 부착된 롤 금형에 대해, 전술한 염기성 수용액 내, 상기 미리 정해진 온도에서 초음파 처리를 실시한다. 이러한 초음파 처리는, 예컨대 도 1에 도시된 바와 같은 초음파 세정 장치를 이용하여 이루어질 수 있다. 도 1에 도시된 초음파 세정 장치는 염기성 수용액(1)(세정제)을 넣는 세정조(2)와, 세정되는 롤 금형(3)을 유지하는 축을 구비하고, 이 축을 회전시킴으로써 롤 금형(3)을 회전시키는, 장치 상부에 배치된 회전체(4)와, 세정조(2)의 바닥부에 배치된 초음파 발진기(5)를 구비하며, 롤 금형(3)의 전부 또는 일부가 염기성 수용액(1)에 침지된 상태에서 롤 금형(3)을 회전시키면서, 초음파를 조사하여 세정할 수 있는 구성으로 되어 있다.

초음파 세정 시, 롤 금형(3)은 그 전체가 염기성 수용액(1) 내에 침지된 상태일 수도 있다. 그 일부[예컨대, 도 1에 도시된 바와 같이, 롤 금형(3)의 외주면(세정되는 면)의 약 1/2]가 염기성 수용액(1) 내에 침지된 상태일 수도 있다. 또한, 초음파 세정은 롤 금형(3)을 회전시키면서 이루어질 수도 있고, 회전시키지 않고 이루어질 수도 있다. 예컨대, 롤 금형(3)의 일부가 염기성 수용액(1) 내에 침지되어 있는 경우, 초음파 세정 시, 롤 금형(3)을 연속적으로 회전시킴으로써, 또는, 롤 금형(3)을 정지한 상태로 초음파 세정을 실시하고, 이어서 롤 금형(3)을 회전시켜 상이한 세정면을 염기성 수용액(1)에 침지시킴으로써(또는 이 조작의 반복), 세정면 전체를 초음파 세정할 수 있다.

또한, 도 1에 도시된 바와 같이, 세정조(2)는 급수구(6) 및 배수구(7)를 가지며, 급수구(6), 항온 순환 장치(도시하지 않음) 및 배수구(7)를 접속하는 세정제 급수/배수용 배관을 포함하는 순환 라인이 설치되는 것이 바람직하다. 이에 따라, 세정조(2) 내의 염기성 수용액(1)을 일정 온도로 유지할 수 있어, 온도 상승에 의한 금형에의 손상을 방지할 수 있다. 또한, 세정제를 항상 청결하게 유지할 수 있고, 금형 오염 물질의 재부착을 보다 효과적으로 방지할 수 있기 때문에, 순환 라인에 필터를 부착하는 것이 보다 바람직하다.

초음파 발진기의 주파수는 롤 금형의 재질이나 제거되는 금형 오염 물질의 크기 등에 따라 결정되기 때문에, 특별히 한정되지 않지만, 28 kHz∼50 kHz의 범위인 것이 바람직하다. 또한, 초음파 발진기의 출력도 특별히 한정되지 않고, 세정조의 크기나, 롤 금형의 재질, 크기 등에 따라 최적의 출력인 것을 사용하는 것이 바람직하다.

초음파 처리 시간은 0.5∼24 시간 정도인 것이 바람직하고, 이 처리 시간 중, 롤 금형을 회전시키면서 세정하는 것이 바람직하다.

실시예

이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다.

실시예 1

(1) 롤 금형의 제작

직경 200 ㎜의 알루미늄 롤(JIS에 의한 A5056)의 표면에 구리 발라드 도금(ballard plating)이 실시된 것을 준비하였다. 구리 발라드 도금은, 구리 도금층/얇은 은도금층/표면 구리 도금층을 포함하는 것으로서, 도금층 전체의 두께는 약 200 ㎛가 되도록 설정하였다. 그 구리 도금 표면을 경면 연마하고, 연마된 구리 도금 표면에 감광성 수지를 도포, 건조시켜 감광성 수지막을 형성하였다. 이어서, 도 2에 도시된 패턴을 반복하여 배열한 패턴을 감광성 수지막 상에 레이저광에 의해 노광하고, 현상하였다. 레이저광에 의한 노광 및 현상은 Laser Stream FX(가부시키가이샤 싱크 래버러토리 제조)를 이용하여 이루어졌다.

또한, 도 2에 도시된 패턴인 화상 데이터는 20.9 ㎜×20.9 ㎜의 크기, 12800 dpi로 작성하였다. 감광성 수지막에는 포지티브형의 감광성 수지를 사용하였다.

그 후, 염화제2구리액으로 제1 에칭 처리를 실시하였다. 그 때의 에칭량은 3 ㎛가 되도록 설정하였다. 제1 에칭 처리 후의 롤로부터 감광성 수지막을 제거하고, 재차, 염화제2구리액으로 제2 에칭 처리를 실시하였다. 그 때의 에칭량은 10 ㎛가 되도록 설정하였다. 그 후, 크롬 도금 가공(크롬 도금층의 두께 4 ㎛)을 실시하여 롤 금형을 제작하였다.

(2) 방현 필름의 제작

광경화성 수지 조성물 「GRANDIC 806T」(다이니혼 잉크 가가쿠고교 가부시키가이샤 제조)를 아세트산에틸로 용해하여 50 중량% 농도의 용액으로 하고, 또한, 광중합 개시제인 루시린 TPO(BASF사 제조, 화학명: 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드)를, 경화성 수지 성분 100 중량부당 5중량부 첨가하여 도포액을 조제하였다. 이 도포액을, 두께 80 ㎛의 트리아세틸셀룰오로스(TAC) 필름 상에, 건조 후의 도포 두께가 10 ㎛가 되도록 도포하고, 60℃로 설정한 건조기 속에서 3분간 건조시켰다. 건조 후의 필름을, 먼저 얻어진 롤 금형의 요철면에, 광경화성 수지 조성물층이 롤 금형측이 되도록 고무 롤로 압착하여 밀착시켰다. 이 상태로 TAC 필름측에서, 강도 20 mW/㎠의 고압 수은등으로부터의 광을 h선 환산 광량으로 200 mJ/㎠가 되도록 조사하여 광경화성 수지 조성물층을 경화시켰다. 이 후, TAC 필름을 경화 수지마다 롤 금형으로부터 박리하여 표면에 요철을 갖는 경화 수지와 TAC 필름과의 적층체를 포함하는 투명한 방현 필름을 제작하였다. 이상과 같이 방현 필름을 연속적으로 제조하였다.

(3) 롤 금형의 세정

도 1에 도시된 바와 같은 초음파 세정 장치를 이용하여 세정 처리를 실시하였다. 세정액으로서, 순수에, 카오 가부시키가이샤에서 제조한 「크린스루 PA900」 (등록상표)을 5 중량% 및 카오 가부시키가이샤에서 제조한 「크린스루 PA970」(등록상표; 수산화칼륨 3∼5 중량% 함유)을 5 중량% 함유시킨 염기성 수용액(pH=13, 염기성 수용액 내의 수산화칼륨 함유량은 0.15∼0.25 중량%)을 사용하고, 롤 금형의 외주면의 약 1/2이 세정액 내에 침지된 상태가 되도록 롤 금형을 설치하며, 회전체를 이용하여 롤 금형을 회전시키면서 세정 온도를 60℃로 하여 연속적으로 초음파 세정을 실시하고, 2시간에 걸쳐 세정면 전체를 세정하였다. 이 때, 초음파 발진기로서 초음파 세정기 「WS-1200-40형」(혼다덴시 가부시키가이샤 제조)을 사용하고, 주파수 40 kHz, 출력 1200 W의 조건으로 초음파 세정을 실시하였다. 그 후, 유수(流水)로써 5분간 세정한 후, 롤 금형을 관찰하였다.

실시예 2

세정액의 용매를, 순수에서 순수 및 에탄올의 혼합액(중량비=1:1)으로 바꾼 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 세정하였다.

실시예 3

세정액 내의 「크린스루 PA970」(등록상표)의 함유량을 1중량%로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 세정하였다.

비교예 1

세정액으로서, 순수를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 세정하였다.

비교예 2

세정액으로서, 에탄올을 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 세정하였다.

비교예 3

세정액으로서, 순수에, 가부시키가이샤 SND에서 제조한 「USC-702」(음이온계 계면활성제)를 10 중량% 함유시킨 수용액(pH=9)을 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 세정하였다.

비교예 4

세정액의 용매를, 순수에서 순수 및 에탄올의 혼합액(중량비=1:1)으로 바꾼 것 이외에는 비교예 3과 동일하게 하여 세정하였다.

비교예 5

세정 온도를 25℃로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 세정하였다.

(세정력 및 롤 금형에 대한 손상의 평가)

세정 전 및 세정 후의 롤 금형에 대해서, 육안 및 광학 현미경(키엔스사에서 제조한 「디지털마이크로스코프 「VHX-500」)에 의해 미세 요철 표면을 관찰하고, 금형 오염 물질(이물)의 잔존 상태 및 미세 요철 표면의 크랙의 확대, 크롬 도금층의 박리나 흠집의 유무를 확인함으로써, 세정력 및 롤 금형에 대한 손상을 평가하였다. 평가 기준은 다음과 같으며, 얻어진 평가 결과를 세정 조건과 함께 표 1에 나타낸다.

(세정력의 평가 기준)

1: 육안으로 이물이 대부분에서 관찰된다.

2: 육안으로 이물이 일부 관찰된다.

3: 육안으로 이물이 관찰되지 않지만, 광학 현미경 관찰로 이물이 일부 관찰된다.

4: 육안으로 이물이 관찰되지 않고, 또한 광학 현미경 관찰로도 이물이 관찰되지 않는다.

(롤 금형에 대한 손상 평가 기준)

1: 금형 표면의 크랙의 확대, 크롬 도금층의 박리 및 흠집이 관찰되지 않는다.

2: 금형 표면의 크랙의 확대, 크롬 도금층의 박리 또는 흠집이 일부에서 관찰된다.

3: 금형 표면의 크랙의 확대, 크롬 도금층의 박리 또는 흠집이 대부분에서 관찰된다.

1 : 염기성 수용액(세정제) 2 : 세정조
3 : 롤 금형 4 : 회전체
5 : 초음파 발진기 6 : 급수구
7 : 배수구

Claims

광학 필름의 제조에 사용되며, 금형 오염 물질이 부착된 롤 금형을, pH 10 이상의 염기성 수용액 내, 30℃∼70℃에서 초음파 처리하는 것을 포함하는 광학 필름 제조용 롤 금형의 세정 방법.
제1항에 있어서, 상기 금형 오염 물질은 광경화성 수지인 것인 광학 필름 제조용 롤 금형의 세정 방법.
제1항 또는 제2항에 있어서, 초음파 처리는 40℃∼65℃에서 이루어지는 것인 광학 필름 제조용 롤 금형의 세정 방법.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 염기성 수용액은 수용성 유기 용매를 함유하는 것인 광학 필름 제조용 롤 금형의 세정 방법.
제4항에 있어서, 상기 염기성 수용액 내의 수용성 유기 용매의 함유량은 염기성 수용액 총량에 대하여 70 중량% 이하인 것인 광학 필름 제조용 롤 금형의 세정 방법.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 롤 금형은 표면에 요철 형상을 갖는 방현 필름 제조용 금형인 것인 광학 필름 제조용 롤 금형의 세정 방법.
제6항에 기재된 광학 필름 제조용 롤 금형의 세정 방법으로 롤 금형을 세정하고, 이 롤 금형의 요철면을 투명 지지체 상에 전사한 후, 요철면이 전사된 투명 지지체를 롤 금형으로부터 박리하는 것을 포함하는 방현 필름의 제조 방법.