KR20110004278A - 액처리 장치, 액처리 방법 및 기억 매체 - Google Patents

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Abstract

횡방향으로 일렬로 배치된 기판 보지부를 구비한 복수의 액처리부와, 이들 액처리부에 대하여 공용화된 처리액 노즐을 구비한 액처리 장치에서, 상기 처리액 노즐로부터 기판으로의 처리액의 낙하를 억제하여 수율의 저하를 방지하는 것이다. 각 처리액 노즐에 접속된 플렉서블한 처리액 통류 부재와, 상기 처리액 통류 부재의 하류측이 상기 지지체 구동 기구의 이동에 따라 이동하고, 그 상류측이 상기 지지체 구동 기구의 이동에 따라 이동하지 않도록 상기 액처리부에 대하여 그 위치를 고정시키는 고정부와, 상기 처리액 통류 부재에 상기 고정부보다 상류측에 설치되며, 당해 처리액 통류 부재의 진동을 검출하기 위한 진동 센서와, 진동 센서로부터의 검출 신호에 기초하여 처리액 노즐로부터의 액 맺힘 및 처리액의 적하에 대한 대처 동작을 행하는 대처 수단을 구비하도록 장치를 구성한다.

Description

액처리 장치, 액처리 방법 및 기억 매체{LIQUID PROCESSING APPARATUS, LIQUID PROCESSING METHOD AND STORAGE MEDIUM}
본 발명은 기판으로 처리액을 공급하여 액처리를 행하는 액처리 장치, 액처리 방법 및 기억 매체에 관한 것이다.
반도체 제조 공정 중 하나인 포토레지스트 공정에서는 반도체 웨이퍼(이하, 웨이퍼라고 함)의 표면에 레지스트를 도포하고, 이 레지스트를 소정의 패턴으로 노광시킨 후에 현상하여 레지스트 패턴을 형성하고 있다. 이러한 처리는 일반적으로 레지스트의 도포, 현상을 행하는 도포 현상 장치에 노광 장치를 접속시킨 시스템을 이용하여 행해진다.
이 도포 현상 장치에는 웨이퍼로 처리액을 공급하여 액처리를 행하는 각종 액처리 모듈이 설치되어 있다. 이 액처리 모듈로는 웨이퍼에, 예를 들면 레지스트를 도포하는 레지스트 도포 모듈(레지스트 도포 장치)이 있다. 레지스트 도포 모듈은 웨이퍼를 보지(保持)하는 스핀 척과, 이 스핀 척에 보지된 웨이퍼를 둘러싸도록 설치된 배액 수단 및 배기 수단을 구비한 컵으로 이루어지는 도포 처리부를 구비한다. 또한, 레지스트 도포 모듈은 웨이퍼로 레지스트를 토출하기 위한 레지스트 토출 노즐과, 상기 레지스트 공급 전에 웨이퍼로 처리액, 예를 들면 시너를 토출하여 상기 레지스트의 습윤성을 향상시키기 위한 시너 토출 노즐을 구비하고 있다. 이들 레지스트 토출 노즐 및 시너 토출 노즐은 이들을 지지하는 암(arm)에 장착되어, 상기 컵 상과 각 노즐을 대기시키기 위하여 컵의 외측에 설치된 노즐 배스(nozzle bath)와의 사이를 이동한다.
그런데, 근래에는 다품종 소량 생산의 요청에 따라 농도 또는 성분이 상이한 복수 종류의 레지스트를 구분하여 사용하는 경우가 있다. 레지스트를 이처럼 구분하여 사용하기 위하여, 서로 상이한 종류의 레지스트를 각각 공급하기 위한 복수의 라인에 각각 접속된 복수의 레지스트 토출 노즐을 상기 암이 처리를 전환할 때마다 바꾸는 것을 고려할 수 있다. 그러나, 장치 구성을 간소화할 목적에서 이들 복수의 레지스트 토출 노즐과 시너 토출 노즐을 하나로 합친 집합 노즐을 하나의 암에 장착하여 구동시키는 구조로 하는 경우가 있다. 각 노즐에는 각종 약액 공급원에 접속된 가요성(可撓性)을 가지는 배관의 일단(一端)이 각각 접속되어, 암의 구동에 맞추어 각 배관이 이동하게 된다.
또한, 장치 구성을 간소화하기 위하여 단일 레지스트 도포 모듈 내에서는, 예를 들면 상기 컵을 구비한 도포 처리부가 가로로 나란히 복수 개 설치되는 경우가 있다. 이 경우, 이들 각 도포 처리부와 노즐 배스는, 예를 들면 직선 상에 배설(配設)되고, 각 도포 처리부에 대하여 공통화된 상기 암이 노즐 배스와 컵 간을 이동하면서 레지스트 도포 처리를 행한다. 스루풋 향상을 위하여 상기 암이 이동 개시점으로부터 종료점까지를 최단 거리로 이동하는 것이 요구되므로, 도포 처리부 및 노즐 배스의 배열 방향과 평행하게 직선 형상으로 이동한다. 따라서, 이와 같이 구성된 레지스트 도포 모듈에서는 그 구조상 각 노즐이 컵 상을 횡단하게 된다. 그리고, 각 노즐을 웨이퍼 상으로 이동시킨 후에 즉시 레지스트 및 시너의 토출을 개시하기 위하여, 노즐의 선단 근처까지 이들 액이 채워진다.
그러나, 상기와 같이 구성된 장치에서는 암이 구동할 때의 진동 또는 굴곡에 의한 배관의 내압 변동에 의해 당해 배관이 진동하는 경우가 있어, 이 배관의 진동이 상기와 같이 각 액이 채워진 집합 노즐 선단에 전해지면 각 노즐의 선단으로부터 액 맺힘 나아가서는 액적(液適) 낙하가 발생할 우려가 있다. 집합 노즐이 컵 상을 횡단할 때에 스핀 척 또는 처리 전 또는 처리 완료 웨이퍼 상에 이처럼 액적이 낙하되면, 스핀 척의 오염에 의해 파티클이 발생하거나 제품 웨이퍼의 도포 불량을 일으켜 수율이 저하될 우려가 있다. 특허 문헌 1의 장치는 상기의 집합 노즐 및 복수의 도포 처리부를 구비하고 있으나, 상기의 문제를 해결하는 수단에 대해서는 기재하고 있지 않다.
일본특허공개공보 2008-103374호
본 발명은 이러한 사정 하에 이루어진 것이며, 그 목적은 횡방향으로 일렬로 배치된 기판 보지부를 구비한 복수의 액처리부와, 이들 액처리부에 대해서 공용화되어 액처리부의 배열 방향을 따라 설치된 복수의 처리액 노즐을 구비한 액처리 장치에서, 상기 처리액 노즐로부터 기판 및 기판 보지부로의 처리액의 낙하를 억제하여 수율의 저하를 방지할 수 있는 액처리 장치, 액처리 방법 및 기억 매체를 제공하는 것에 있다.
본 발명의 액처리 장치는, 상측에 개구부가 형성된 컵 내에 기판을 수평하게 보지하는 기판 보지부를 설치하여 구성된 액처리부와, 상기 기판 보지부에 보지된 기판으로 처리액을 공급하기 위하여 지지체에 설치된 처리액 노즐과, 상기 처리액 노즐을 대기시키기 위하여 설치된 노즐 배스와, 상기 액처리부의 상방 영역과 상기 노즐 배스와의 사이에서 상기 지지체를 개재하여 각 처리액 노즐을 이동시키기 위한 지지체 구동 기구와, 처리액 노즐로 처리액을 공급하기 위한 플렉서블한 처리액 통류 부재와, 상기 처리액 통류 부재를 그 하류측이 상기 지지체 구동 기구의 이동에 따라 이동하고, 그 상류측이 상기 지지체 구동 기구의 이동에 따라 이동하지 않도록 상기 액처리부에 대하여 그 위치를 고정시키는 고정부와, 상기 처리액 통류 부재에 상기 고정부보다 상류측에 설치되며, 상기 처리액 통류 부재의 진동을 검출하여 상기 진동에 따라 검출 신호를 출력하는 진동 센서와, 상기 진동 센서로부터의 검출 신호에 기초하여 처리액 노즐로부터의 처리액의 액 맺힘 및 적하에 대한 대처 동작을 행하는 대처 수단을 구비한 것을 특징으로 한다.
상기 액처리부는, 복수 개 설치되고, 서로 횡방향으로 일렬로 배치되어도 좋고, 상기 처리액 노즐은, 상기 복수의 액처리부에 대하여 공용화되어도 좋다. 상기 진동 센서는, 예를 들면 바닥으로부터 떠 있도록 설치된 처리액 통류 부재의 진동을 검출하고, 상기 처리액 노즐은 상기 액처리부의 배열 방향을 따라 복수 설치되어 각 처리액 노즐에 상기 처리액 통류 부재가 접속되어 있고 복수의 처리액 통류 부재를 둘러싸는 외측 관이 설치되며, 상기 진동 센서는 상기 외측 관에 설치되어 있어도 좋다. 상기 대처 수단은, 예를 들면 미리 설정된 진동량보다 큰 진동이 검출되었을 때에 알람을 출력하는 알람 발생 수단을 구비하고 있으며, 상기 대처 수단은 미리 설정된 진동량보다 큰 진동이 검출되었을 때에 지지체 구동 기구의 이동 및 액공급 수단에 의한 처리액 노즐로부터의 처리액의 토출 중 적어도 일방을 정지시키는 정지 수단을 구비하고 있어도 좋고, 상기 대처 수단은, 각 처리액 노즐의 선단부를 촬상하는 촬상 수단과, 미리 설정된 진동량보다 큰 진동이 검출되었을 때에만 상기 촬상 수단에 의한 촬상에 기초하여 어느 처리액 노즐에 처리액의 액 맺힘 또는 적하가 발생했는지를 판단하는 판단 수단을 구비하고 있어도 좋다. 이 경우, 예를 들면 상기 처리액 노즐마다 상기 판단 수단에 의해 처리액의 액 맺힘 또는 적하가 발생했다고 판단된 시각을 기억하는 기억 수단과, 이 기억된 시각에 기초하여 처리액의 액 맺힘 또는 적하가 발생하는 주기를 연산하는 연산 수단을 구비하고 있어도 좋다.
본 발명의 액처리 방법은, 상측에 개구부가 형성된 컵 내에 기판을 수평하게 보지하는 기판 보지부를 구비하고 지지체에 설치된 처리액 노즐로부터 기판으로 처리액을 공급하는 공정과, 노즐 배스에 처리액 노즐을 대기시키는 공정과, 지지체 구동 기구에 의해 상기 액처리부의 상방 영역과 상기 노즐 배스와의 사이에서 상기 지지체를 개재하여 처리액 노즐을 액처리부의 열을 따라 이동시키는 공정과, 플렉서블한 처리액 통류 부재를 개재하여 각 처리액 노즐로 각각 처리액을 공급하는 공정과, 상기 처리액 통류 부재에 상기 고정부보다 상류측에 설치된 진동 센서에 의해 상기 처리액 통류 부재의 진동을 검출하여 상기 진동에 따라 검출 신호를 출력하는 공정과, 상기 검출 신호에 기초하여 대처 수단에 의해 처리액 노즐로부터의 처리액의 액 맺힘 및 적하에 대한 대처 동작을 행하는 공정을 구비하되, 상기 처리액 통류 부재는 그 하류측이 상기 지지체 구동 기구의 이동에 따라 이동하고, 그 상류측이 상기 지지체 구동 기구의 이동에 따라 이동하지 않도록 상기 액처리부에 대하여 그 위치가 고정되어 있는 것을 특징으로 한다.
상기 대처 동작을 행하는 공정은 미리 설정된 진동량보다 큰 진동이 검출되었을 때에 알람을 출력하는 공정을 포함하고 있어도 좋고, 상기 대처 동작을 행하는 공정은 미리 설정된 진동량보다 큰 진동이 검출되었을 때에 지지체 구동 기구의 이동 및 액공급 수단에 의한 처리액 노즐로부터의 처리액의 토출 중 적어도 일방을 정지시키는 공정을 포함하고 있어도 좋다. 또한, 상기 대처 동작을 행하는 공정은, 촬상 수단에 의해 처리액 노즐의 선단부를 촬상하는 공정과, 상기 촬상 수단에 의한 촬상 결과에 기초하여 어느 처리액 노즐에 처리액의 액 맺힘 또는 적하가 발생했는지를 판단 수단에 의해 판단하는 공정과, 상기 검출 신호의 출력에 기초하여 판단 수단에 의한 판단이 행해지는 공정을 포함하고 있어도 좋다. 이 경우, 기억 수단에 의해 상기 처리액 노즐마다 상기 판단 수단에 의해 처리액의 액 맺힘 또는 적하가 발생했다고 판단된 시각을 기억하는 공정과, 연산 수단에 의해 이 기억된 시각에 기초하여 처리액의 액 맺힘 또는 적하가 발생하는 주기를 연산하는 공정을 구비하고 있어도 좋다.
또한, 본 발명의 기억 매체는 기판에 대한 액처리를 행하는 액처리 장치에 이용되는 컴퓨터 프로그램이 기억된 기억 매체로서, 상기 컴퓨터 프로그램은 상술한 액처리 방법을 실시하기 위한 것인 것을 특징으로 한다.
본 발명의 액처리 장치는, 각 처리액 노즐에 접속된 플렉서블한 처리액 통류 부재와, 상기 처리액 통류 부재의 하류측이 상기 지지체 구동 기구의 이동에 따라 이동하고, 그 상류측이 상기 지지체 구동 기구의 이동에 따라 이동하지 않도록 액처리부에 대하여 그 위치를 고정시키는 고정부와, 상기 처리액 통류 부재에 상기 고정부보다 상류측에 설치되며, 당해 처리액 통류 부재의 진동을 검출하여 이 진동에 따라 검출 신호를 출력하는 진동 센서와, 상기 진동 센서로부터의 검출 신호에 기초하여 처리액 노즐로부터의 액 맺힘 및 처리액의 적하에 대한 대처 동작을 행하는 대처 수단을 구비한다. 따라서, 상기 처리액 노즐로부터 기판 및 기판 보지부로의 처리액의 적하를 방지할 수 있으므로, 수율의 저하를 억제할 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 레지스트 도포 장치의 사시도이다.
도 2는 상기 레지스트 도포 장치의 평면도이다.
도 3은 상기 레지스트 도포 장치의 도포 처리부의 구성도이다.
도 4는 상기 레지스트 도포 장치의 레지스트 공급부의 암의 이면측의 사시도이다.
도 5는 상기 레지스트 공급부의 배관의 평면도이다.
도 6은 상기 배관의 측면도이다.
도 7은 상기 배관의 단면도이다.
도 8a 및 도 8b는 상기 레지스트 공급부가 이동하는 모습을 도시한 설명도이다.
도 9는 상기 암의 집합 노즐에서 액 맺힘이 발생한 상태를 도시한 설명도이다.
도 10a 및 도 10b는 레지스트가 웨이퍼에 도포되는 공정을 도시한 공정도이다.
도 11은 상기 레지스트 도포 장치의 제어부의 구성도이다.
도 12는 각 출력 신호의 파형의 일례를 나타낸 그래프이다.
도 13은 제어부의 처리 공정을 나타낸 순서도이다.
도 14는 노즐 배스로 약액이 토출되는 모습을 도시한 설명도이다.
도 15는 다른 제어부의 구성도이다.
도 16은 상기 제어부의 처리 공정을 나타낸 순서도이다.
도 17은 상기 레지스트 도포 장치를 구비한 도포 현상 장치의 평면도이다.
도 18은 상기 도포 현상 장치의 사시도이다.
도 19는 상기 도포 현상 장치의 종단 평면도이다.
도 20은 다른 위치에 장착한 진동 센서로부터의 출력을 나타낸 그래프이다.
(제 1 실시예)
본 발명의 액처리 장치의 일례인 레지스트 도포 장치(1)에 대하여 그 사시도 및 상면도인 도 1 및 도 2를 각각 참조하여 설명한다. 레지스트 도포 장치(1)는 3 개의 도포 처리부(11a, 11b, 11c)와, 레지스트 공급부(3)와, 레지스트막의 주연부 제거 기구(61a, 61b, 61c)와, 레지스트 공급부(3)의 각 노즐을 대기시키기 위한 노즐 배스(bath)(29)를 구비하고 있다.
액처리부인 도포 처리부(11a ~ 11c)는 횡방향으로 일렬로 배열되어 있다. 각 도포 처리부(11a ~ 11c)는 각각 동일하게 구성되어 있으며, 여기서는 도포 처리부(11a)를 예로 들어 그 종단 측면을 도시한 도 3을 함께 참조하여 설명한다. 도포 처리부(11a)는 각각 웨이퍼(W)의 이면 중앙부를 흡착하여 수평하게 보지(保持)하는 기판 보지부인 스핀 척(12a)을 구비하고, 스핀 척(12a)은 회전축(13a)을 개재하여 회전 구동 기구(14a)와 접속되어 있다. 스핀 척(12a)은 회전 구동 기구(14a)에 의해 웨이퍼(W)를 보지한 상태로 수직축을 중심으로 회전 가능하게 구성되어 있고, 그 회전축 상에 웨이퍼(W)의 중심이 위치하도록 설정되어 있다. 회전 구동 기구(14a)는 후술하는 제어부(7)로부터의 제어 신호를 받아 스핀 척(12a)의 회전 속도를 제어한다.
스핀 척(12a)의 주위에는 스핀 척(12a) 상의 웨이퍼(W)를 둘러싸도록 하여 상방측에 개구부(20a)를 구비한 컵(21a)이 설치되어 있고, 컵(21a)의 측주면 상단측은 내측으로 경사진 경사부(22a)를 형성하고 있다. 컵(21a)의 저부(底部)측에는, 예를 들면 오목부 형상을 이루는 액받이부(23a)가 형성되어 있다. 액받이부(23a)는 격벽(24a)에 의해 웨이퍼(W)의 주연부 하방측으로 전체 둘레에 걸쳐 외측 영역과 내측 영역으로 구획되어 있다. 외측 영역의 저부에는 저장한 레지스트 등의 드레인을 배출하기 위한 배액구(25a)가 형성되고, 내측 영역의 저부에는 처리 분위기를 배기하기 위한 배기구(26a, 26a)가 형성되어 있다. 배기구(26a, 26a)에는 배기관(27a)의 일단이 접속되어 있고, 배기관(27a)의 타단은 배기 댐퍼(damper)(28a)를 개재하여, 예를 들면 레지스트 도포 장치(1)가 설치된 공장의 배기로에 접속되어 있다. 배기 댐퍼(28a)는 제어부(7)로부터의 제어 신호를 받아 컵(21a) 내의 배기량을 제어한다.
도면 중 15a는 승강 가능하게 구성된 승강핀으로서, 컵(21a) 내에 3 개 설치되어 있다(도 1 및 도 3에서는 편의상 2 개만 표시함). 레지스트 도포 장치(1)로 웨이퍼(W)를 반송하는 도시하지 않은 기판 반송 수단의 동작에 따라, 제어부(7)로부터 출력된 제어 신호에 따라 승강 기구(16a)가 승강핀(15a)을 승강시켜, 이 기판 반송 수단과 스핀 척(12a)과의 사이에서 웨이퍼(W)가 전달된다.
도포 처리부(11b, 11c)에 대하여 도포 처리부(11a)의 각 부에 대응되는 부분에 대해서는 도포 처리부(11a)의 설명에서 이용한 숫자와 동일한 숫자를 이용하고, 또한 a 대신에 b 및 c를 각각 부여하여 각 도면 중에 도시하고 있다. 또한, 각 도포 처리부(11a ~ 11c)의 각 컵은, 후술하는 바와 같이, 액 맺힘 발생 시에 각 컵 간에서 이 액 맺힘을 일으키고 있는 노즐로부터 액의 토출 처리를 행하고, 액 맺힘 제거를 행하기 위하여 간격을 두고 배열되어 있다.
이어서 레지스트 공급부(3)의 구성에 대하여 설명한다. 레지스트 공급부(3)는 구동 기구(31)와 암(33)과 집합 노즐(40)을 구비하고 있다. 구동 기구(31)는 당해 구동 기구(31)를 지지하는 기부(基部)(30)에서 도포 처리부(11a ~ 11c)의 배열 방향으로 연장된 가이드(32)의 길이 방향을 따라 횡방향으로 이동한다. 기부(30)에는 각 도포 처리부(11a ~ 11c)가 고정된다. 암(33)은 구동 기구(31)로부터 당해 구동 기구(31)의 이동 방향과 직교하도록 수평 방향으로 연장되어 있고, 그 선단측은 집합 노즐(40)을 지지하는 노즐 헤드(34)로서 구성되어 있다. 또한, 구동 기구(31)는 암(33)을 승강시켜, 각 도포 처리부(11a ~ 11c)로 이동할 때에 암(33) 및 집합 노즐(40)이 주연부 제거 기구(61a ~ 61c) 및 컵(21a ~ 21c)과 간섭하지 않도록 구성되어 있다. 또한, 구동 기구(31)에는 후술하는 외측 관을 묶어 그 움직임을 규제하는 역할을 하는 규제부(35)가 설치되어 있다.
도 4는 암(33)의 하측을 나타낸 사시도이다. 집합 노즐(40)은 농도 또는 성분이 다른 10 종류의 레지스트를 각각 공급하는 10 개의 레지스트 토출 노즐(41)과, 웨이퍼(W) 상에서 레지스트를 쉽게 퍼지도록 하기 위한 처리액, 예를 들면 시너를 공급하는 시너 토출 노즐(42)로 이루어진다. 여기서는 레지스트 및 시너를 총칭하여 약액이라고 부른다. 각 노즐(41, 42)은 암(33)에 의한 이들 노즐(41, 42)의 이동 방향과 병행하여 배열되어 있다.
각 노즐(41, 42)은 수직 하방으로 개구된 약액의 토출구를 구비하고 있다. 각 노즐(41, 42)은 구동 기구(31)의 횡방향의 이동에 따라 웨이퍼(W)의 중심부 상으로 이동할 수 있으며, 수직축을 중심으로 회전하는 웨이퍼(W)의 중심부로 각 토출구로부터 약액을 토출한다. 토출된 약액은 원심력에 의해 웨이퍼(W)의 주연부로 확산되는 이른바 스핀 코팅에 의해 웨이퍼(W) 표면 전체에 도포된다.
각 레지스트 토출 노즐(41), 시너 토출 노즐(42)에는 약액 공급 배관(43, 44)의 일단이 접속되고, 이들 약액 공급 배관(43, 44)의 타단은, 도 3에 도시하는 바와 같이, 유량 제어부(45)를 개재하여 약액 공급 유닛(46)에 접속되어 있다. 약액 공급 배관(43, 44)은 서로 동일하게 구성되어 있다. 약액 공급 유닛(46)은 각 노즐(41, 42)로 각각 공급할 약액이 저장된 탱크와, 탱크 내를 가압하여 당해 탱크 내의 약액을 노즐로 송액(送液)하기 위한 송액 수단을 구비한 약액 공급 기구(47)에 의해 구성되어 있으며, 약액 공급 기구(47)는 노즐(41, 42)과 같은 수인 11 대 설치되어 있다. 유량 제어부(45)는 밸브(48)를 포함하며, 제어부(7)로부터 출력되는 제어 신호를 받아 각 밸브(48)의 개폐가 제어되어 10 종류의 레지스트와 시너를 전환하여 웨이퍼(W)로 공급할 수 있도록 되어 있다.
노즐 헤드(34)로부터 그 상류측을 향하여 5 개의 약액 공급 배관(43), 5 개의 약액 공급 배관(43) 및 1 개의 약액 공급 배관(44)은 외측 관(51, 51)에 각각 피복 되어 있다. 각 배관의 구성을 도시한 도 5 내지 도 7을 함께 참조하여 설명한다. 도 5는 후술하는 고정부(52) 부근의 각 배관의 평면도, 도 6은 고정부(52) 부근의 측면도, 도 7은 외측 관(51) 및 약액 공급 배관(43, 44)의 종단면을 도시하고 있다. 외측 관(51)의 상류측은 노즐 헤드(34)로부터 구동 기구(31)의 규제부(35)를 향하여 연장되고 당해 규제부(35)에서 굴곡되어, 기부(30) 상을 도포 처리부(11a ~ 11c)의 배열 방향을 향하여 연장되어 있다. 또한, 이 배열 방향으로 연장된 외측 관(51)의 상류단은 고정부(52), 진동 검출부(53)를 거쳐 이 기부(30)의 외측을 향하여 연장되어 있다. 외측 관(51)의 단부(端部)로부터 각 약액 공급 배관(43, 44)이 인출되어, 각 약액 공급 배관(43, 44)은 기술한 바와 같이 유량 제어부(45)를 개재하여 약액 공급 유닛(46)에 접속되어 있다.
또한, 도면 중 54는 전기용 배관으로서 각종 전기 배선을 포함하고 있다. 전기용 배관(54)의 일단은 구동 기구(31)에 접속되고, 타단은 규제부(35)를 거쳐 고정부(52)를 향하여 당해 고정부(52)의 하방으로 연장되어 있다. 외측 관(51) 및 전기용 배관(54)은 벨로우즈 형상의 배관으로서 구성되어 있다. 고정부(52)와 규제부(35)와의 사이에서 이들 각 외측 관(51)과 전기용 배관(54)은 피복 부재(55)에 의해 피복되며, 규제부(35)로부터 고정부(52)까지의 사이는 서로 병렬 형상으로 접속되어 있다. 외측 관(51), 전기용 배관(54), 약액 공급 배관(43, 44) 및 피복 부재(55)는 도 8a 및 도 8b에 도시한 바와 같은 구동 기구(31)의 횡방향의 이동을 방해하지 않도록 플렉서블하게 구성되어 있다.
또한, 도 7에 도시한 외측 관(51)의 내경(L1)은, 예를 들면 12 mm ~ 15 mm이고, 약액 공급관(43, 44)의 외경(L2)은, 예를 들면 3 mm ~ 4 mm이다. 구동 기구(31)의 이동을 방해하지 않도록 구동 기구(31)가 이동했을 때에 약액 공급 배관(43, 44)은 외측 관(51) 내를 그 직경 방향으로 이동할 수 있다. 즉, 외측 관(51)에 약액 공급관(43, 44)이 항상 밀착되어 있는 것은 아니며, 외측 관(51)과 약액 공급관(43, 44)과의 사이에는 여유가 있다. 외측 관(51)은 각 약액 공급 배관(43, 44)을 묶어 이들 배관(43, 44)의 움직임을 규제하고, 구동 기구(31)의 이동에 의해 각 약액 공급 배관(43, 44)이 얽히거나 장치(1)의 각 부에 걸리는 것을 방지하는 역할과, 이들 약액 공급 배관(43, 44)의 진동을 진동 검출부(53)에 의해 일괄적으로 감시하기 위한 역할을 한다.
상기 고정부(52)는 외측 관(51) 및 전기용 배관(54)을 기부(30) 상에 고정시키는, 즉 각 액처리부(11a ~ 11c)에 대하여 고정시키는 역할을 한다. 또한, 도 6에 도시한 바와 같이, 외측 관(51)은 고정부(52)에 의해 기부(30)의 표면으로부터 떠 있도록 지지되어 있고, 상기 진동 검출부(53)는 외측 관(51)에서 이 고정부(52)보다 상류측의 기부(30) 표면으로부터 떠 있는 개소에 장착되어 있다. 진동 검출부(53)는 전체적으로 아래를 향한 ⊃ 자형으로 형성된 지지부(56)를 구비하고 있다. 지지부(56)는 2 개의 외측 관(51)의 상측에 설치된 상면 부재(56a)와, 상면 부재(56a)의 양 단으로부터 하방으로 연장되어 2 개의 외측 관(51) 을 좌우에서 샌드위치하는 측면 부재(56b)에 의해 구성되며, 상면 부재(56a) 상에는 진동 센서(57)가 설치되어 있다. 구동 기구(31)가 횡방향으로 이동하면, 약액 공급 배관(43, 44)은, 도 7 중 점선 화살표로 도시하는 바와 같이, 약액 공급 배관(43, 44)의 진동 내지는 요동이 발생하는 경우가 있어, 배관(43, 44)끼리 충돌, 이격이 일어난다. 그리고, 이에 따라 외측 관(51)이 진동하고 이 진동이 지지부(56)로 전해져 진동 센서(57)가 진동한다. 당해 진동 센서(57)는 그 진동이 클 수록 제어부(7)로 출력하는 신호 레벨이 커진다. 도 6 중 L3으로 도시한 고정부(52)로부터 지지부(56)까지의 거리는 1 mm ~ 5 mm이고, 또한 H1로 도시한 기부(30) 표면으로부터 지지부(56)까지의 높이는 1 mm ~ 2 mm이다.
도 4로 돌아와 설명을 계속한다. 당해 암(33)의 이면측에는 화상을 취득하기 위한 이미지 센서인 카메라(36)와 광원(37)이 설치되어 있다. 카메라(36)는, 예를 들면 광각 렌즈를 구비하고, 노즐(41, 42)의 배열 방향과 대략 직교하는 방향에서 이들 노즐(41, 42)의 선단부를 촬상하여, 후술하는 바와 같이, 유저가 노즐(41, 42)로부터의 액 맺힘 및 액적 낙하를 확인할 수 있도록 되어 있다. 촬상을 행할 때에 광원(37)은 노즐(41, 42)을 비춘다. 이 실시예에서 카메라(36)는 레지스트 도포 처리 중에 제어부(7)로 상시 화상을 송신하고 있다. 여기서, 액 맺힘이란, 도 9에 도시한 바와 같이, 노즐(41, 42)의 선단으로부터 하방으로 약액이 노출된 상태를 의미하고, 액적 낙하(처리액의 적하)란 이 액 맺힘이 성장한 결과, 상기 선단으로부터 약액이 분리된 상태를 의미한다.
이어서, 도포막 주연부 제거 기구(61a ~ 61c)에 대하여 설명한다. 도포막 주연부 제거 기구(61a ~ 61c)는 도포 처리부(11a ~ 11c)의 각각의 웨이퍼(W)에 형성된 레지스트막의 주연부를 제거하여 당해 주연부의 막의 박리를 방지하기 위하여 설치되어 있다. 각 도포막 주연부 제거 기구(61a ~ 61c)는 레지스트막의 용제인 시너를 공급하는 시너 토출 노즐(62)과, 당해 시너 토출 노즐(62)을 보지하는 암(63)과, 암(63)을 보지하는 구동 기구(64)를 구비하고 있다. 구동 기구(64)는 암(63)을 승강시키고 또한 가이드(65)를 따라 도포 처리부(11a ~ 11c)의 배열 방향인 Y 방향으로 이동한다.
도면 중 66a 내지 66c는 상측이 개구된 컵 형상으로 형성된 노즐 배스로서, 각 시너 토출 노즐(62)은 처리를 행하지 않을 때에 각각 노즐 배스(66a ~ 66c) 내에 수납되어 대기하고, 처리를 행할 때에 대응되는 도포 처리부(11a ~ 11c)의 웨이퍼(W)의 주연부 상으로 이동한다. 또한, 노즐 배스(29)는 집합 노즐(40)이 이동하는 Y 방향의 일단측에 설치되어 있으며, 상측이 개구된 컵 형상으로 형성되어 있다. 집합 노즐(40)은 웨이퍼(W)에 처리를 행하지 않을 때에는 이 노즐 배스(29) 내에 수납되어 대기한다. 액 맺힘 및 액적 낙하가 검출되었을 때에는 배액 영역을 이루는 이들 노즐 배스(29, 66a ~ 66c) 내로 약액이 토출되는 경우가 있어, 노즐 배스(29, 66a ~ 66c) 내에는 이 토출된 약액을 배액시키는 도시하지 않은 배액로가 형성되어 있다.
이어서, 레지스트 도포 장치(1)에 의해 웨이퍼(W)에 레지스트를 도포하는 공정에 대하여 설명한다. 도포 장치(1)의 외부의 기판 반송 수단에 의해, 예를 들면 도포 처리부(11a)로 반송된 웨이퍼(W)는 승강핀(15a)에 의해 스핀 척(12a)으로 전달된다. 그 후, 노즐 배스(29)에서 대기하고 있는 집합 노즐(40)이 암(33)에 의해 상승하여 당해 노즐 배스(29)로부터 나온 후, Y 방향으로 이동하여 시너 토출 노즐(42)이 웨이퍼(W)의 중심부 상에 위치하면(도 10a), 암(33)이 하강한다. 이 암(33)의 이동 동작과 병행하여 스핀 척(12a)을 회전시키고, 이 회전 중인 웨이퍼(W) 상으로 시너를 공급한다. 시너가 스핀 코팅된 후, 당해 처리에서 이용되는 레지스트 토출 노즐(41)이 웨이퍼(W)의 중심부 상에 위치하도록 암(33)이 Y 방향으로 이동한다. 이 이동 동작과 병행하여 웨이퍼(W)의 회전 수가 상승하고, 웨이퍼(W) 상에 레지스트(R)가 공급되어 스핀 코팅에 의해 웨이퍼(W) 표면 전체에 레지스트(R)가 도포된다(도 10b).
상기 레지스트(R) 공급 정지 후, 웨이퍼(W)의 회전 수를 저하시켜 레지스트(R)의 두께를 균일하게 하고, 이어서 재차 회전 수를 상승시킴으로써 코팅된 레지스트(R)를 털어내기 건조하여 레지스트막을 형성한다. 그 동안에 암(33)이 상승 위치로 이동한 후, 노즐 배스(29) 상으로 횡방향으로 이동한 후에 하강하여 당해 노즐 배스(29) 내에서 대기한다. 한편, 털어내기 건조가 완료된 웨이퍼(W)에 대해서는 이 웨이퍼(W)가 회전하는 상태로 시너 토출 노즐(62)로부터 시너가 공급되어 웨이퍼(W) 주연부에 도포한 레지스트막이 제거된다. 그 후, 레지스트막의 경우와 마찬가지로 시너의 털어내기 건조를 행하여 일련의 액처리를 완료한다.
시너 토출 노즐(62)을 주연부 제거 기구(61a)의 노즐 배스(66a)까지 퇴피시킨 후, 웨이퍼(W)는 승강핀(15a)에 의해 장치(1)의 외부의 기판 반송 수단으로 전달되어 레지스트 도포 장치(1)로부터 반출된다. 이렇게 하여 각 도포 처리부(11a ~ 11c)에는, 예를 들면 미리 설정된 웨이퍼(W)의 반송 사이클에 따라 상기 기판 반송 수단에 의해 웨이퍼(W)가 소정의 간격으로 차례로 반송된다. 그리고, 암(33)은 도포 처리부(11a)로 이동했을 때와 마찬가지로 다른 도포 처리부로도 이동하여 상술한 레지스트 도포 처리가 행해진다.
이 예에서, 암(33)은 노즐 배스(29)로부터 먼저 웨이퍼(W)가 반송된 도포 처리부(11a ~ 11c)로 이동하여, 거기서 액처리를 마친 후에 일단 노즐 배스(29)로 돌아오고, 나중에 웨이퍼(W)가 반송된 도포 처리부(11a ~ 11c)로 이동한다. 하지만, 노즐 배스(29)로부터 하나의 도포 처리부로 이동한 후, 노즐 배스(29)로 돌아오지 않고 다른 도포 처리부(11a ~ 11c)로 이동하여 처리를 행하고, 예를 들면 복수 회 도포 처리부(11a ~ 11c) 간을 이동한 후에 노즐 배스(29)로 돌아오도록 암(33)을 동작시켜도 좋다.
이어서, 레지스트 도포 장치(1)에 설치된, 예를 들면 컴퓨터로 이루어지는 제어부(7)에 대하여 그 구성을 도시한 도 11을 참조하여 설명한다. 도면 중 70은 버스이며, 제어부(7)는 이들 버스(70)에 접속된 처리 프로그램(71), 제 1 메모리(72), 제 2 메모리(73), CPU(74), 조작부(75), 표시부(76)를 구비하고 있다. 제 1 메모리(72)에는 처리 온도, 처리 시간, 각 약액의 공급량 또는 전력치 등의 처리 파라미터 값이 기입되는 영역을 구비하고 있다. CPU(74)가 처리 프로그램(71)의 각 명령을 실행할 때 이들 처리 파라미터가 독출되고, 이 파라미터치에 따른 제어 신호가 이 레지스트 도포 장치(1)의 각 부로 보내진다. 처리 프로그램(71)의 작용으로는 이들 처리 파라미터의 입력 조작 또는 표시에 관한 동작도 포함된다. 처리 프로그램(71)은, 예를 들면 플렉서블 디스크, 콤팩트 디스크, 하드 디스크, MO(광자기 디스크) 및 메모리 카드 등의 컴퓨터 기억 매체에 의해 구성된 프로그램 저장부(77)에 저장되어 제어부(7)에 인스톨된다.
제 2 메모리(73)에는 카메라(36)로부터 수신되는 집합 노즐(40) 선단의 화상 데이터와, 후술하는 이상 알람을 발생시키기 위한 기준이 되는 제 1 임계치 및 제 2 임계치와, 이상 알람의 발생 시각 또는 이에 기초하여 연산되는 각종 연산 결과가 기억된다. 상기 제 2 임계치는 제 1 임계치보다 크며, 제 1 임계치는 진동 검출부(53)로부터의 출력 신호(검출 신호) 전압과 비교되어 경고 알람의 발생을 행할지 행하지 않을지의 판정 기준이 되는 설정치이다. 제 2 임계치는 진동 검출부(53)로부터의 출력 신호 전압과 비교되어 레지스트 처리 정지 및 처리 정지 알람의 발생을 행할지 행하지 않을지의 판정 기준이 되는 설정치이다. 기억된 상기 화상 데이터에 대하여, 통상적으로는 제 2 메모리(73)의 사용 용량을 억제하기 위하여 처리 프로그램(71)에 의해, 예를 들면 소정의 시간 경과 후에 당해 제 2 메모리(73)로부터 소거되지만, 후술하는 바와 같이, 이상 발생 시의 화상으로서 기억된 데이터는 유저가 삭제할 때까지 보존된다.
조작부(75)로는 마우스, 키보드 등에 의해 구성되어 있으며, 예를 들면 기술한 처리 파라미터의 설정은 이 조작부(75)에 의해 행해진다. 또한, 유저는 배관의 진동이 검출되었을 때에 조작부(75)를 통하여 집합 노즐(40)을 임의의 노즐 배스 상으로 이동시키고, 촬상된 화상에 기초하여 액 맺힘 및 액적 낙하가 일어나고 있는 노즐로부터 약액을 이 노즐 배스로 토출시키는 처리(더미 디스펜스)를 행할 수 있다. 또한, 레지스트 도포 처리를 행하기 전에 유저는 미리 조작부(75)를 통하여 상기 제 1 임계치 및 제 2 임계치의 설정과, 경고 알람이 몇 회 발생할 때마다 카메라(36)로부터의 화상을 이상 발생 시의 화상으로서 보존할 것인가 하는 기준 횟수의 설정과, 배관의 진동이 검출되었을 때에 취할 대처 처치로서 레지스트 도포 장치(1)에서의 처리 정지를 행할지 행하지 않을지의 설정을 행할 수 있다.
버스(70)에는 알람 발생부(79)가 접속되어 있다. 이 알람 발생부(79)는 장치의 이상을 나타내는 이상 알람으로서 액 맺힘 및 액적 낙하가 일어났을 가능성이 있음을 나타내는 경고 알람, 장치의 처리 정지가 행해진 것을 나타내는 처리 정지 알람을 각각 출력한다. 그 외에 알람 발생부(79)는 장치의 메인터넌스 추천 시기에 이른 것을 나타내는 고지용 알람, 유저에게 노즐의 감시를 촉구하는 확인 촉구 알람을 각각 출력한다. 구체적으로, 알람 발생부(79)는 표시 화면을 구비하며, 이 표시 화면에 각종 경고의 내용이 표시된다. 또한, 버스(70)에는 드라이버(38)가 접속되어 있다. 드라이버(38)는 제어부(7)로부터 출력된 제어 신호를 받아 이 제어 신호에 따라 구동 기구(31)를 상기 Y 방향으로 이동시키기 위한 신호를 당해 구동 기구(31)에 출력한다. 또한, 드라이버(38)는 구동 기구(31)가 횡방향으로 이동하지 않을 때에는 상시 소정의 전압치(기준치)의 신호를 출력하고, 구동 기구(31)를 횡방향으로 이동시키고 있을 때에는 이 기준치보다 크거나 혹은 작은 전압치의 이동 신호를 출력한다.
표시부(76)는, 예를 들면 디스플레이로서 구성된다. 이 표시부(76)는 카메라(36)로부터 수신한 화상을 나타내는 영역과, 진동 센서(57)로부터의 출력 신호(편의상, 진동 검출 신호라고 함) 및 드라이버(38)로부터의 출력 신호(편의상, 이동 신호라고 함)의 파형을 나타내는 영역과, 후술하는 바와 같이 연산되는 이상 알람이 발생하는 주기 및 메인터넌스 추천 시기를 나타내는 영역을 구비하고 있다. 도 12에는 상기 이동 신호 및 진동 검출 신호의 파형을 나타내는 영역의 일례를 나타내고 있으며, 도면 중의 그래프의 세로축에는 전압을, 가로축에는 시간을 각각 나타내고 있다. 그래프 중의 각 쇄선은 유저가 설정한 제 1 임계치, 제 2 임계치를 각각 나타내고 있다.
도 12 중의 구간(K1)에는 집합 노즐(40)이 노즐 배스(29)로부터 도포 처리부(11a)로 이동했을 때에 드라이버(38)로부터 출력되는 신호의 파형이, 구간(K2)에는 도포 처리부(11a)로부터 노즐 배스(29)로 이동했을 때에 드라이버(38)로부터 출력되는 신호의 파형이 각각 나타나 있다. 또한, 구간(K3)에는 노즐 배스(29)로부터 도포 처리부(11b)로 이동했을 때에 드라이버(38)로부터 출력되는 신호의 파형이, 구간(K4)에는 도포 처리부(11b)로부터 노즐 배스(29)로 이동했을 때에 드라이버(38)로부터 출력되는 신호의 파형이 각각 나타나 있다. 또한, 구간(K5)에는 노즐 배스(29)로부터 도포 처리부(11c)로 이동했을 때에 드라이버(38)로부터 출력되는 신호의 파형이, 구간(K6)에는 도포 처리부(11c)로부터 노즐 배스(29)로 이동했을 때에 드라이버(38)로부터 출력되는 신호의 파형이 각각 나타나 있다. 이 도면에 나타낸 바와 같이, 구동 기구(31)가 이동 중에는 기준치인 5 V보다 크거나 혹은 작은 전압의 신호가 출력된다. 이 도면에서는, 집합 노즐(40)이 도포 처리부(11c)로부터 노즐 배스(29)로 이동하는 동안에 제 1 임계치를 초과하는 진동 검출 신호가 진동 검출부(53)로부터 출력된 예를 나타내고 있다.
또한, 버스(70)에는 기술한 카메라(36), 광원(37), 유량 제어부(45), 약액 공급 유닛(46) 등이 접속되어 있어, 웨이퍼(W)로의 레지스트 도포 처리와 진동 검출 시에 소정의 대처 동작을 실행할 수 있도록 되어 있다. 또한, 예를 들면 웨이퍼(W)의 반송을 제어하는 상위 컴퓨터로부터 제어부(7)로는 레지스트 도포 장치(1)로 반송될 웨이퍼(W)의 ID와, 이 웨이퍼(W)가 반송될 타이밍 및 반송처인 도포 처리부와 도포되어야 하는 레지스트의 종류의 데이터가 송신된다. 이 데이터에 기초하여 처리 프로그램(71)은 집합 노즐(40)을 각 도포 처리부(11a ~ 11c)로 이동시켜, 웨이퍼(W)에 따른 노즐에 의해 레지스트 도포 처리가 행해진다.
이어서, 도 13의 순서도를 참조하여 처리 프로그램(71)이 상기의 레지스트 도포 처리 중에 행하는 판정 공정에 대하여 설명한다. 먼저, 처리 프로그램(71)은 진동 센서(57)로부터 출력된 진동 검출 신호의 전압이 제 1 임계치 이상인지 아닌지를 판정한다(단계(S1)). 단계(S1)에서 제 1 임계치 이상이라고 판정한 경우, 이러한 진동 검출 신호가 출력된 타이밍에서 상기 드라이버(38)로부터 출력된 이동 신호의 전압이 기준치인지 아닌지를 판정한다(단계(S2)).
단계(S2)에서 상기 이동 신호가 기준치가 아니라고 판정된 경우, 처리 프로그램(71)은 단계(S1)에서 제 1 임계치 이상이라고 판정된 진동 검출 신호가 제 2 임계치 이상인지 아닌지를 판정하고, 이 진동 검출 신호의 전압치를 제 2 메모리(73)에 기억한다(단계(S3)). 단계(S3)에서 진동 검출 신호가 제 2 임계치 이상이 아니라고 판정된 경우, 처리 프로그램(71)은 알람 발생부(79)를 통하여 집합 노즐(40)이 횡방향으로 이동 중에 액 맺힘 및 액적 낙하가 일어났을 가능성이 있음을 나타내는 경고 알람을 발생시킨다. 또한, 처리 프로그램(71)은 이 경고 알람의 발생 시각을 제 2 메모리(73)에 기억한다. 그리고, 금회의 경고 알람 발생 시각과 과거에 제 2 메모리(73)에 기억된 경고 알람 발생 시각 및 처리 정지 알람 발생 시각으로부터 각 이상 알람의 발생 간격의 평균을 이상 알람 발생 주기로서 산출한다. 그리고, 금회의 경고 알람 발생 시각에 이 발생 주기를 더한 시각을 다음의 이상 알람 발생 예상 시기로서 산출하여, 산출된 이상 알람 발생 주기 및 다음의 이상 알람 발생 예상 시기가 표시부(76)에 표시된다(단계(S4)).
그 후, 처리 프로그램(71)은 카메라(36)로부터의 화상을 마지막으로 이상 발생 시의 화상으로서 보존한 후에, 경고 알람이 발생한 횟수의 합계가 유저가 설정한 기준 횟수에 도달했는지 아닌지를 판정한다(단계(S5)). 단계(S5)에서 기준 횟수에 도달했다고 판정된 경우에 처리 프로그램(71)은 단계(S2) 개시로부터 소정의 기간에 촬상된 집합 노즐(40)의 선단부의 화상을 이상 발생 시의 화상으로서 제 2 메모리(73)에 기억시키고, 이 화상을 표시부(76)에 표시한다(단계(S6)). 또한, 처리 프로그램(71)은 유저에게 표시부(76)의 확인을 촉구하기 위한 확인 촉구 알람을 발생시킨다.
유저는 표시부(76)에 표시된 화상에 기초하여 액 맺힘 및 액적 낙하를 일으키고 있는 노즐이 있는지 확인한다. 이처럼 액 맺힘 및 액적 낙하를 일으키고 있는 노즐을 확인한 경우에 유저는 임의의 타이밍에서 조작부(75)를 통하여 레지스트 도포 처리의 중단 처리를 행한다. 그 후, 집합 노즐(40)을 임의의 노즐 배스 상으로 이동시켜 액 맺힘 및 액적 낙하를 일으키고 있는 노즐로부터 약액을 이 노즐 배스로 토출시킨다. 이에 따라, 토출구 내의 약액을 일단 제거하여 액적 낙하를 방지하고 또한 액 맺힘을 흘려 보내서 제거하여 노즐을 정상 상태로 복귀시킨다. 도 14에서는 일례로서 노즐 배스(66a)로 약액을 토출하는 모습을 도시하고 있으나, 다른 노즐 배스(29, 66b, 66c)로 약액을 토출하는 경우도 마찬가지이다. 그 후, 유저는 조작부(75)를 통하여 통상적인 레지스트 도포 처리를 재개시키는 처리를 행하고 각 알람을 정지시킨다. 상기 표시부(76)의 화상을 유저가 판단하여, 액 맺힘 및 액적 낙하를 일으키고 있는 노즐이 없는 경우에 유저는 노즐 배스로의 약액 토출을 행하지 않고 각 알람의 정지 처리를 행한다(단계(S7)). 단계(S5)에서 기준 횟수에 도달하지 않았다고 판정된 경우에는, 예를 들면 소정의 시간 경과 후에 경고 알람의 발생이 정지하고 통상적인 레지스트 도포 처리가 속행된다(단계(S8)).
또한, 단계(S3)에서 진동 검출 신호가 제 2 임계치 이상이라고 판정된 경우, 처리 프로그램(71)은 유저에 의해 처리 정지의 설정이 이루어졌는지 아닌지를 판정한다(단계(S9)). 처리 정지의 설정이 이루어졌다고 판정된 경우, 처리 프로그램(71)에 의해 구동 기구(31)의 이동, 각 도포 처리부(11a ~ 11c)에서의 레지스트 도포 처리 및 기판 반송 수단에 의한 레지스트 도포 장치(1)로의 웨이퍼(W)의 반송이 정지하고, 알람 발생부(79)에 의해 처리 정지 알람이 발생한다. 또한, 처리 프로그램(71)은 이 처리 정지 알람의 발생 시각을 제 2 메모리(73)에 기억한다. 그리고, 금회의 처리 정지 알람의 발생 시각과 과거에 제 2 메모리(73)에 기억된 경고 알람 발생 시각 및 처리 정지 알람 발생 시각에 기초하여 단계(S4)와 마찬가지로 이상 알람 발생 주기 및 다음의 이상 알람 발생 예상 시기를 산출하여 표시부(76)에 표시한다(단계(S10)). 유저는 처리 정지 알람에 기초하여 레지스트 도포 장치(1)의 메인터넌스를 행하고 알람의 발생을 정지시킨 후(단계(S11)), 조작부(75)를 통해 통상 처리를 재개하기 위한 조작을 행한다.
단계(S9)에서 처리 정지의 설정이 이루어지지 않았다고 판정된 경우에는 단계(S5) 이후의 처리가 실시된다. 또한, 단계(S1)에서 진동 검출 신호가 제 1 임계치보다 낮다고 판정된 경우 및 단계(S2)에서 드라이버(38)로부터 출력된 이동 신호가 기준치라고 판정된 경우, 통상적인 레지스트 도포 처리가 계속된다(단계(S12)).
그리고, 처리 프로그램(71)은 단계(S4) 및 단계(S10)에서 연산된 이상 알람 발생 예상 시기가 가까워지면 메인터넌스 추천 시기가 왔음을 고지하는 고지용 알람을 알람 발생부(79)에 의해 발생시킨다. 유저는 이 알람에 기초하여 장치(1)의 메인터넌스를 행할 수 있다. 기술한 바와 같이, 단계(S3)가 실행되면 진동 검출 신호의 전압치가 기억되고, 이 전압치는 표시부(76)에 표시된다. 이 전압치는 진동 센서(57)가 검출한 배관의 진동량에 대응되므로 메인터넌스를 행할 때에 적절하게 유저에 의해 참조된다.
또한, 예를 들어 단계(S3)가 실행되면, 상기 시각에 장치로 반입되어 있는 웨이퍼(W) 및 상기 시각 이후에 장치로 반입된 웨이퍼(W)의 ID가 제 2 메모리(73)에 기억된다. 이 웨이퍼(W)의 ID의 기억은, 예를 들면 단계(S7)에서 노즐 배스로의 약액 토출 처리가 행해지거나, 단계(S8)에서 소정의 시간이 경과되어 경고 알람이 정지하거나, 혹은 단계(S10)에서 장치의 처리 정지가 행해질 때까지 계속되며, 기억된 웨이퍼(W)의 ID는 표시부(76)에 표시된다. 유저는 레지스트 도포 후에 행해지는 검사 공정에서 이처럼 표시부(76)에 표시된 웨이퍼의 ID에 기초하여 웨이퍼(W)를 선택하여 검사할 수 있다.
상기의 실시예에 따르면, 배관에 진동 검출부(53)를 설치하여 구동 기구(31)가 횡방향으로 이동하고 있을 때에 그 진동 센서(57)의 검출 결과에 기초하여 경고 알람을 발생시켜 유저의 주의를 촉구하거나, 처리 정지 알람을 발생시키고 또한 레지스트 도포 처리를 정지시킬 수 있다. 따라서, 집합 노즐(40)이 각 도포 처리부(11a ~ 11c) 상을 이동함에 있어서, 웨이퍼(W) 또는 스핀 척(12a ~ 12c)에 약액이 적하되어 정상적인 처리가 방해되거나 파티클이 되는 것이 억제된다. 그 결과로서 제품의 수율의 저하를 억제할 수 있다. 또한, 통상적인 레지스트 도포 처리 시에 집합 노즐(40)을 지지하는 암(33)의 움직임은 이 진동 검출부(53)에 의한 배관(43, 44)의 진동의 검출에 따른 영향을 받지 않기 때문에, 이러한 배관의 진동의 감시를 행함에 따른 스루풋의 저하를 억제할 수 있다. 또한, 이 실시예에서는 배관(43, 44)을 2 개의 외측 관(51)으로 묶어 이들 외측 관(51) 상에 진동 센서(57)를 설치함으로써, 각 배관(43, 44)의 진동을 하나의 진동 센서(57)에 의해 일괄적으로 감시하고 있다. 이러한 구성으로 함으로써 사용하는 노즐의 수에 상관 없이 하나의 레지스트 도포 장치(1)에 진동 센서(57)를 1 개만 설치하면 되기 때문에, 장치의 구성 부품 수의 증가를 억제할 수 있다. 또한, 상기의 실시예에서는 기부(30)로부터 떠 있는 외측 관(51)에 진동 검출부(53)가 설치됨으로써 그 진동 검출의 감도가 높게 구성되어 있기 때문에 바람직하다.
또한, 상기의 실시예에서는 이상이 일어나는 주기를 산출하고, 이 주기에 기초하여 이상이 발생할 예상 시기를 산출하여, 이 시기가 가까워지면 레지스트 도포 장치(1)의 메인터넌스 추천 시기에 이르렀음을 나타내는 고지용 알람이 출력된다. 따라서, 유저는 적정한 메인터넌스 타이밍을 알 수 있다.
그런데, 배관의 진동이 쉽게 일어나는 원인으로서, 배관을 구성하는 재질의 열화에 따른 배관의 강도 또는 가요성의 변화가 있다. 그래서, 예를 들면 유저는 임의의 기간을 조작부(75)를 통해 설정하고, 이 기간에 대하여 제 2 메모리(73)에 기억할 수 있도록 되어 있다. 그리고, 상기와 같이 산출되는 이상 알람 발생 주기가 이 설정된 기간보다 짧아지면, 배관(43, 44)의 교환 및 장치의 메인터넌스를 촉구하기 위한 알람이 알람 발생부(79)로부터 출력되도록 해도 좋다.
(제 2 실시예)
이어서, 제 2 실시예에 대하여 제 1 실시예와의 차이점을 중심으로 설명한다. 도 15는 제 2 실시예의 제어부(7)의 구성을 도시하고 있다. 이 제어부(7)는 카메라(36)에 의해 촬상된 화상을 해석하는 해석 프로그램(7A)을 구비하고 있으며, 통상적으로 해석 프로그램(7A)은 처리를 정지하고 있다. 또한, 제어부(7)는, 예를 들면 암(33)의 선단측에서 봤을 때 왼쪽으로부터 차례로 No. 1, No. 2, … No. 11과 같이, 노즐 번호를 부여하고, 이 번호마다, 후술하는 바와 같이, 이상 알람의 발생 시각을 관리하고 있다. 이 제 2 실시예에서는 검출된 진동이 제 1 임계치 이상이 될 때마다 집합 노즐(40)의 선단의 화상 해석을 행하여, 액 맺힘 및 액적 낙하를 검출하여 노즐마다 이상 알람 발생 예상 시기를 관리한다.
도 16의 순서도를 참조하여 제 2 실시예의 처리 공정에 대하여 설명한다. 먼저, 제 1 실시예의 단계(S1)와 마찬가지로 진동 검출 신호의 전압이 제 1 임계치 이상인지 판정하고(단계(T1)), 단계(T1)에서 제 1 임계치 이상이라고 판정된 경우, 단계(S2)와 마찬가지로 이동 신호의 전압이 기준치인지 아닌지의 판정이 행해진다(단계(T2)). 단계(T2)에서 상기 이동 신호가 기준치가 아니라고 판정된 경우, 해석 프로그램(7A)이 기동된다(단계(T3)). 기동된 해석 프로그램(7A)은 제 2 메모리(73)에 기억된 화상에 기초하여 액 맺힘 및 액적 낙하를 일으키고 있는 노즐이 있는지 없는지를 판정한다(단계(T4)). 상기 화상에 의한 판정 후, 해석 프로그램(7A)은 그 동작을 정지한다. 액 맺힘 및 액적 낙하를 일으키고 있는 노즐이 있다고 판정된 경우, 단계(S3)와 마찬가지로 처리 프로그램(71)은 상기 진동 검출 신호가 제 2 임계치 이상인지 아닌지를 판정한다(단계(T5)).
단계(T5)에서 제 2 임계치 이상이 아니라고 판정된 경우, 처리 프로그램(71)은 알람 발생부(79)에 의해 경고 알람을 발생시키고, 또한 액 맺힘 및 액적 낙하를 일으켰다고 판정된 노즐 번호와 그 경고 알람의 발생 시각을 대응시켜 기억한다. 그리고, 처리 프로그램(71)은 이 액 맺힘 및 액적 낙하를 일으킨 노즐에 대하여 금회의 경고 알람 발생 시각과 과거에 제 2 메모리(73)에 기억된 경고 알람 발생 시각 및 처리 정지 알람 발생 시각으로부터 이상 알람의 발생 주기 및 다음의 이상 알람 발생 예상 시기를 연산한다. 이들 이상 알람 발생 주기 및 다음의 이상 알람 발생 예상 시기의 산출 방법에 대해서는 제 1 실시예와 동일하나, 제 2 실시예에서는 노즐마다 산출된다. 또한, 제 2 실시예에서는 처리 프로그램(71)에 의해 집합 노즐(40)이 자동으로 임의의 노즐 배스 상으로 이동하여, 액 맺힘 및 액적 낙하가 일어나고 있다고 판정된 노즐로부터 이 노즐 배스로 약액이 토출된다(단계(T6)). 단, 제 1 실시예와 마찬가지로 유저의 조작에 의해 이러한 약액의 토출이 행해져도 좋다.
단계(T5)에서 제 2 임계치 이상이라고 판정된 경우, 처리 프로그램(71)은 유저에 의해 처리 정지가 선택되어 있는지 아닌지를 판정하여(단계(T7)), 처리 정지가 선택되어 있지 않다고 판정된 경우, 상기 단계(T6)가 실시된다. 또한, 단계(T7)에서 처리 정지가 선택되어 있다고 판정된 경우, 처리 프로그램(71)은 제 1 실시예의 단계(S10)와 마찬가지로 처리 정지를 행하고 알람 발생부(79)에 의해 처리 정지 알람을 발생시킨다. 그리고, 액 맺힘 및 액적 낙하를 일으켰다고 판정된 노즐 번호와 그 처리 정지 알람의 발생 시각을 대응시켜 기억한다. 그리고, 단계(T6)와 마찬가지로 처리 프로그램(71)은 이 액 맺힘 및 액적 낙하를 일으킨 노즐에 대하여 금회의 처리 정지 알람 발생 시각과 과거에 제 2 메모리(73)에 기억된 이상 알람 발생 시각으로부터 이상 알람의 발생 주기 및 다음의 이상 알람의 발생 예상 시기를 연산한다(단계(T8)). 단계(T1)에서 진동 검출 신호의 전압이 제 1 임계치 이상이 아니라고 판정된 경우, 단계(T2)에서 이동 신호의 전압이 기준치라고 판정된 경우 및 단계(T4)에서 액 맺힘 및 액적 낙하를 일으키고 있는 노즐이 없다고 판정된 경우에는 통상적인 레지스트 도포 처리가 속행된다(단계(T9)).
그리고, 제 1 실시예와 동일하게 산출된 다음의 이상 알람 발생 예상 시기가 가까워지면, 처리 프로그램(71)은 메인터넌스 고지용 알람을 출력한다. 이 제 2 실시예에서는 노즐마다 이상 알람 발생 예상 시기를 구하고 있으므로, 노즐마다 그 메인터넌스 고지용 알람이 출력된다. 따라서, 유저는 이 고지된 노즐에 대응된 약액 공급 배관(43, 44)의 상태의 확인을 행할 수 있다.
이 제 2 실시예에서도 제 1 실시예와 마찬가지로 수율의 저하를 억제할 수 있다. 또한, 상기의 실시예에서는 구동 기구(31)의 이동 시에 진동 검출부로부터의 진동 검출 신호가 소정의 값보다 커졌을 때에만, 즉 배관의 진동량이 소정의 값보다 커졌을 때에만 해석 프로그램(7A)이 동작하여 카메라(36)로부터 제어부(7)로 송신된 화상의 해석이 행해진다. 따라서, 해석 프로그램(7A)을 실행하는 것에 따른 CPU(74)의 부하를 억제할 수 있기 때문에 바람직하다. 또한 제 1 실시예에서 설명한 배관의 교환을 촉구하기 위한 알람을 발생시키는 방법은 제 2 실시예에도 적용할 수 있다. 이 경우, 제 2 실시예에서는 노즐마다 이상 알람 발생 주기를 산출하고 있으므로, 노즐마다 메인터넌스 추천 시기를 알리는 고지용 알람이 출력된다.
제 1 실시예 및 제 2 실시예에서, 카메라(36)에 대하여 상기의 예에서는 이상 발생 시에 신속하게 촬상을 행하기 위하여 레지스트 도포 처리 중에는 항상 전원이 온(on)으로 되어 있으며, 화상 데이터는 상시 제어부(7)로 송신되고 있다. 그러나, 단계(S2) 및 단계(T2)에서 이동 신호가 기준치가 아니라고 판정된 경우, 즉 구동 기구(31)가 횡방향으로 이동 중에 배관이 소정량 이상 진동했다고 판정되었을 때에만 전원이 온으로 되어 제어부(7)로의 화상 데이터의 송신이 행해져도 좋다. 또한, 각 실시예에서 각 노즐 배스 및 도포 처리부는 상기와 같이 직선 방향이 아니라 둘레 방향으로 배열되어 집합 노즐(40)을 지지한 암(33)이 이 배열 방향으로 이동하는 구성이어도 좋다. 또한, 상기의 실시예에서는 복수의 노즐에 의해 구성된 집합 노즐을 이용하고 있으나, 노즐이 한 개인 액처리 장치에도 본 발명을 적용할 수 있다. 한 개만 설치되어 소정의 약액을 공급하는 구성이어도 좋다. 배관(43, 44)은 외측 관에 의해 피복 되지 않고 이들 배관(43, 44)에 직접 진동 센서(57)가 설치되어 있어도 좋다.
이하, 상기의 레지스트 도포 장치(1)가 탑재된 도포 현상 장치(110)에 대하여 설명한다. 도 17은 도포 현상 장치(110)에 노광 장치(C4)가 접속된 레지스트 패턴 형성 시스템의 평면도를 도시하고 있고, 도 18은 이 시스템의 사시도이다. 또한, 도 19는 도포 현상 장치(110)의 종단면도이다. 이 도포 현상 장치(110)에는 캐리어 블록(C1)이 설치되어 있고, 그 재치대(111) 상에 재치된 밀폐형의 캐리어(C)로부터 전달 암(112)이 웨이퍼(W)를 취출하여 처리 블록(C2)으로 전달한다. 또한, 처리 블록(C2)으로부터 전달 암(112)이 처리 완료 웨이퍼(W)를 수취하여 캐리어(C)로 되돌리도록 구성되어 있다. 캐리어(C)는 다수 매의 웨이퍼(W)를 포함하며, 각 웨이퍼(W)는 차례로 처리 블록(C2)으로 반송된다.
상기 처리 블록(C2)은, 도 18에 도시한 바와 같이, 이 예에서는 현상 처리를 행하기 위한 제 1 블록(DEV층)(B1), 레지스트막의 하층의 반사 방지막의 형성을 행하기 위한 제 2 블록(BCT층)(B2), 레지스트막의 도포를 행하기 위한 제 3 블록(COT층)(B3), 레지스트막의 상층에 형성되는 보호막의 형성을 행하기 위한 제 4 블록(ITC층)(B4)을 아래에서부터 차례로 적층하여 구성되어 있다.
처리 블록(C2)의 각 층은 평면에서 봤을 때와 동일하게 구성되어 있다. 제 3 블록(COT층)(B3)을 예로 들어 설명하면, COT층(B3)은 도포막으로서 레지스트막을 형성하는 레지스트 도포 모듈(113)과, 이 레지스트 도포 모듈(113)에서 행해지는 처리의 전 처리 및 후 처리를 행하기 위한 가열·냉각계의 처리 모듈군을 구성하는 선반 모듈(U1 ~ U4)을 구비하고 있다. 또한, COT층(B3)은 상기 레지스트 도포 모듈과 가열·냉각계의 처리 모듈군의 사이에 설치되어 이들 사이에서 웨이퍼(W)의 전달을 행하는 반송 암(A3)을 구비하고 있다. 이 레지스트 도포 모듈(113)이 기술한 레지스트 도포 장치(1)에, 반송 암(A3)이 기술한 기판 반송 수단에 상당한다.
상기 선반 모듈(U1 ~ U4)은 반송 암(A3)이 이동하는 반송 영역(R1)을 따라 배열되며, 각각 상기의 가열 모듈, 냉각 모듈이 적층됨으로써 구성된다. 가열 모듈은 재치된 웨이퍼를 가열하기 위한 가열판을 구비하고 있고, 냉각 모듈은 재치된 웨이퍼를 냉각하기 위한 냉각판을 구비하고 있다.
제 2 블록(BCT층)(B2), 제 4 블록(ITC층)(B4)에 대해서는 상기 레지스트 도포 모듈에 상당하는 반사 방지막 형성 모듈, 보호막 형성 모듈이 각각 설치되어 있다. 이들 모듈에서 레지스트 대신에 도포액으로서 반사 방지막 형성용의 약액, 보호막 형성용의 약액이 각각 웨이퍼(W)로 공급되는 것을 제외하면 COT층(B3)과 동일한 구성이다.
제 1 블록(DEV층)(B1)에 대해서는 하나의 DEV층(B1) 내에 레지스트 도포 모듈에 대응되는 현상 모듈이 2 단으로 적층되어 있다. 각 현상 모듈은 공통의 하우징 내에 3 대의 현상 처리부 또는 각 노즐을 포함하고 있다. 또한, DEV층(B1)에는 이 현상 모듈의 전 처리 및 후 처리를 행하기 위한 가열·냉각계의 처리 모듈군을 구성하는 선반 모듈(U1 ~ U4)이 설치되어 있다. 그리고, DEV층(B1) 내에는 이들 2 단의 현상 모듈과 상기 가열·냉각계의 처리 모듈로 웨이퍼(W)를 반송하기 위한 반송 암(A1)이 설치되어 있다. 즉, 2 단의 현상 모듈에 대하여 반송 암(A1)이 공통화되어 있는 구성으로 되어 있다.
또한, 처리 블록(C2)에는, 도 17 및 도 19에 도시한 바와 같이, 선반 모듈(U5)이 설치되고, 캐리어 블록(C1)으로부터의 웨이퍼(W)는 상기 선반 모듈(U5) 중 하나의 전달 모듈, 예를 들면 제 2 블록(BCT층)(B2)의 대응되는 전달 모듈(CPL2)로 차례로 반송된다. 제 2 블록(BCT층)(B2) 내의 반송 암(A2)은 이 전달 모듈(CPL2)로부터 웨이퍼(W)를 수취하여 각 모듈(반사 방지막 형성 모듈 및 가열·냉각계의 처리 모듈군)로 반송하고, 이들 모듈에서 웨이퍼(W)에는 반사 방지막이 형성된다.
그 후, 웨이퍼(W)는 선반 모듈(U5)의 전달 모듈(BF2), 전달 암(D1), 선반 모듈(U5)의 전달 모듈(CPL3)로 차례로 반송되고, 거기서 예를 들면 23℃로 온도 조정된다. 그 후, 웨이퍼(W)는 반송 암(A3)에 의해 제 3 블록(COT층)(B3)으로 반입되고, 레지스트 도포 모듈에서 웨이퍼(W)의 표면에 레지스트막이 형성된다. 또한, 웨이퍼(W)는 반송 암(A3) → 선반 모듈(U5)의 전달 모듈(BF3) → 전달 암(D1)을 거쳐 선반 모듈(U5)에서의 전달부(115)로 전달된다. 또한, 레지스트막이 형성된 웨이퍼(W)는 제 4 블록(ITC층)(B4)에서 추가로 보호막이 형성되는 경우도 있다. 이 경우에, 웨이퍼(W)는 전달 모듈(CPL4)에 의해 반송 암(A4)으로 전달되고 보호막이 형성된 후에 반송 암(A4)에 의해 전달 모듈(TRS4)로 전달된다.
한편, DEV층(B1) 내의 상부에는 선반 모듈(U5)에 설치된 전달부(115)로부터 선반 모듈(U6)에 설치된 전달부(116)로 웨이퍼(W)를 직접 반송하기 위한 전용의 반송 수단인 셔틀(117)이 설치되어 있다. 레지스트막 또는 추가로 보호막이 형성된 웨이퍼(W)는 전달 암(D1)에 의해 전달 모듈(BF3, TRS4)로부터 전달부(115)로 전달되고, 여기로부터 셔틀(117)에 의해 선반 모듈(U6)의 전달부(116)로 직접 반송되어 인터페이스 블록(C3)으로 운반되게 된다. 또한, 도 19 중에 CPL이 부여되어 있는 전달 모듈은 온도 조절용의 냉각 모듈을 겸하고 있고, BF가 부여되어 있는 전달 모듈은 복수 매의 웨이퍼(W)를 재치 가능한 버퍼 모듈을 겸하고 있다.
이어서, 웨이퍼(W)는 인터페이스 암(118)에 의해 노광 장치(C4)로 반송되어 여기서 소정의 노광 처리가 행해진 후, 선반 모듈(U6)의 전달 모듈(TRS6)에 재치되어 처리 블록(C2)으로 되돌려진다. 되돌려진 웨이퍼(W)는 제 1 블록(DEV층)(B1)에서 현상 처리가 행해지고, 반송 암(A1)에 의해 선반 모듈(U5)의 전달 모듈(TRS1)로 전달된다. 그 후, 전달 암(112)에 의해 캐리어(C)로 되돌려진다.
본 발명의 액처리 장치를 상기의 예에서는 레지스트 도포 장치로서 구성하였으나, 예를 들면 이 도포 현상 장치(1)에 설치된 현상 모듈, 반사 방지막 형성 모듈로서 구성하고, 레지스트 대신에 각 모듈에 대응되는 약액을 토출하는 것이어도 좋다. 또한, 그 외의 처리액을 기판으로 공급하는 장치로서 본 발명을 구성해도 좋다.
(평가 시험)
상기의 제 1 실시예의 레지스트 도포 장치(1)와, 진동 센서(57)를 지지부(56)에 설치하는 대신에 고정부(52)에 설치한 참조 장치에서, 진동 검출 신호의 파형의 비교를 행하였다. 도 20은 이들 신호의 파형을 나타내고 있다. 참조 장치의 파형은 그래프를 보기 쉽게 하기 위하여 제 1 실시예의 레지스트 도포 장치(1)의 파형에 대하여 상측으로 이동시켜 그렸으나, 진동을 검출하지 않은 경우에는 모든 출력이 0 V이다. 그래프 중에는 화살표로 구동 기구(31)를 횡방향으로 이동시킨 구간을 나타내고 있다. 이 그래프로부터 명확한 바와 같이 제 1 실시예의 레지스트 도포 장치(1)에서는 참조 장치에 비해 S / N 비가 커서 배관의 진동의 변화가 명확하게 나타나 있다. 따라서, 상기의 실시예와 같이 진동 센서(57)를 고정부(52)의 상류측에 설치하는 것이 효과적이다.
1 : 레지스트 도포 장치
11a ~ 11c : 도포 처리부
12a ~ 12c : 스핀 척
21a ~ 21c : 컵
29 : 노즐 배스
3 : 레지스트 공급부
31 : 구동 기구
33 : 암
40 : 집합 노즐
41 : 레지스트 토출 노즐
42 : 시너 토출 노즐
43, 44 : 약액 공급 배관
51 : 외측 관
52 : 고정부
53 : 진동 검출부
7 : 제어부
71 : 처리 프로그램

Claims (14)

  1. 상측에 개구부가 형성된 컵 내에 기판을 수평하게 보지(保持)하는 기판 보지부를 설치하여 구성된 액처리부와,
    상기 기판 보지부에 보지된 기판으로 처리액을 공급하기 위하여 지지체에 설치된 처리액 노즐과,
    상기 처리액 노즐을 대기시키기 위하여 설치된 노즐 배스(bath)와,
    상기 액처리부의 상방 영역과 상기 노즐 배스와의 사이에서, 상기 지지체를 개재하여 각 처리액 노즐을 이동시키기 위한 지지체 구동 기구와,
    처리액 노즐로 처리액을 공급하기 위한 플렉서블한 처리액 통류 부재와,
    상기 처리액 통류 부재를 그 하류측이 상기 지지체 구동 기구의 이동에 따라 이동하고, 그 상류측이 상기 지지체 구동 기구의 이동에 따라 이동하지 않도록 상기 액처리부에 대하여 그 위치를 고정시키는 고정부와,
    상기 처리액 통류 부재에 상기 고정부보다 상류측에 설치되며, 상기 처리액 통류 부재의 진동을 검출하여 상기 진동에 따라 검출 신호를 출력하는 진동 센서와,
    상기 진동 센서로부터의 검출 신호에 기초하여 처리액 노즐로부터의 처리액의 액 맺힘 및 적하에 대한 대처 동작을 행하는 대처 수단
    을 구비한 것을 특징으로 하는 액처리 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 액처리부는, 복수 개 설치되고 서로 횡방향으로 일렬로 배치되며,
    상기 처리액 노즐은 상기 복수의 액처리부에 대하여 공용화되어 있는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 처리액 노즐은 상기 액처리부의 배열 방향을 따라 복수 설치되고, 각 처리액 노즐에 상기 처리액 통류 부재가 접속되어 있고, 복수의 처리액 통류 부재를 둘러싸는 외측 관이 설치되며, 상기 진동 센서는 상기 외측 관에 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 진동 센서는, 바닥으로부터 떠 있도록 설치된 처리액 통류 부재의 진동을 검출하는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.
  5. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 대처 수단은 미리 설정된 진동량보다 큰 진동이 검출되었을 때에 알람을 출력하는 알람 발생 수단을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.
  6. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 대처 수단은 미리 설정된 진동량보다 큰 진동이 검출되었을 때에 지지체 구동 기구의 이동 및 액공급 수단에 의한 처리액 노즐로부터의 처리액의 토출 중 적어도 일방을 정지시키는 정지 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.
  7. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 대처 수단은, 각 처리액 노즐의 선단부를 촬상하는 촬상 수단과,
    상기 촬상 수단에 의한 촬상에 기초하여 어느 처리액 노즐에 처리액의 액 맺힘 또는 적하가 발생했는지를 판단하는 판단 수단
    을 구비하고, 상기 검출 신호의 출력에 기초하여 판단 수단에 의한 판단이 행해지는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 대처 수단은,
    상기 처리액 노즐마다 상기 판단 수단에 의해 처리액의 액 맺힘 또는 적하가 발생했다고 판단된 시각을 기억하는 기억 수단과,
    상기 기억된 시각에 기초하여 처리액의 액 맺힘 또는 적하가 발생하는 주기를 연산하는 연산 수단
    을 구비한 것을 특징으로 하는 액처리 장치.
  9. 상측에 개구부가 형성된 컵 내에 기판을 수평하게 보지하는 기판 보지부를 구비하고, 지지체에 설치된 처리액 노즐로부터 기판으로 처리액을 공급하는 공정과,
    노즐 배스에 처리액 노즐을 대기시키는 공정과,
    지지체 구동 기구에 의해 상기 액처리부의 상방 영역과 상기 노즐 배스와의 사이에서 상기 지지체를 개재하여 처리액 노즐을 이동시키는 공정과,
    플렉서블한 처리액 통류 부재를 개재하여 각 처리액 노즐로 각각 처리액을 공급하는 공정과,
    상기 처리액 통류 부재에 상기 고정부보다 상류측에 설치된 진동 센서에 의해 상기 처리액 통류 부재의 진동을 검출하여 상기 진동에 따라 검출 신호를 출력하는 공정과,
    상기 검출 신호에 기초하여, 대처 수단에 의해 처리액 노즐로부터의 처리액의 액 맺힘 및 적하에 대한 대처 동작을 행하는 공정
    을 구비하되,
    상기 처리액 통류 부재는, 그 하류측이 상기 지지체 구동 기구의 이동에 따라 이동하고, 그 상류측이 상기 지지체 구동 기구의 이동에 따라 이동하지 않도록 상기 액처리부에 대하여 그 위치가 고정되어 있는 것을 특징으로 하는 액처리 방법.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 대처 동작을 행하는 공정은, 미리 실정된 진동량보다 큰 진동이 검출되었을 때에 알람을 출력하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 액처리 방법.
  11. 제 9 항 또는 제 10 항에 있어서,
    상기 대처 동작을 행하는 공정은, 미리 설정된 진동량보다 큰 진동이 검출되었을 때에 지지체 구동 기구의 이동 및 액공급 수단에 의한 처리액 노즐로부터의 처리액의 토출을 정지시키는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 액처리 방법.
  12. 제 9 항 또는 제 10 항에 있어서,
    상기 대처 동작을 행하는 공정은, 촬상 수단에 의해 처리액 노즐의 선단부를 촬상하는 공정과,
    상기 촬상 수단에 의한 촬상 결과에 기초하여, 어느 처리액 노즐에 처리액의 액 맺힘 또는 적하가 발생했는지를 판단 수단에 의해 판단하는 공정과,
    상기 검출 신호의 출력에 기초하여 판단 수단에 의한 판단이 행해지는 공정
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 액처리 방법.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 대처 동작을 행하는 공정은, 기억 수단에 의해 상기 처리액 노즐마다 상기 판단 수단에 의해 처리액의 액 맺힘 또는 적하가 발생했다고 판단된 시각을 기억하는 공정과,
    연산 수단에 의해 상기 기억된 시각에 기초하여 처리액의 액 맺힘 또는 적하가 발생하는 주기를 연산하는 공정
    을 구비한 것을 특징으로 하는 액처리 방법.
  14. 기판에 대한 액처리를 행하는 액처리 장치에 이용되는 컴퓨터 프로그램이 기억된 기억 매체로서,
    상기 컴퓨터 프로그램은 청구항 9 또는 청구항 10에 기재된 액처리 방법을 실시하기 위한 것인 것을 특징으로 하는 기억 매체.
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