JP5497144B2 - 半導体製造装置のプロセス監視装置及び半導体製造装置のプロセス監方法並びに半導体製造装置 - Google Patents
半導体製造装置のプロセス監視装置及び半導体製造装置のプロセス監方法並びに半導体製造装置 Download PDFInfo
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Claims (10)
- 被処理基板を処理する半導体製造装置のプロセスの状態を監視する半導体製造装置の監視装置であって、
正常な前記処理の状態を示す正常時動画データを記憶する記憶手段と、
監視対象の前記処理の状態を撮像して動画データを取得する撮像手段と、
前記撮像手段によって取得された動画データと、前記正常時動画データからフレーム毎に特徴量を抽出し、抽出した特徴量に基づいて異常度を定量的に算出する異常度算出手段と、
前記異常度算出手段によって算出された異常度を、前記動画データのフレームの位置と関連付けて表示する表示手段と、
を具備することを特徴とする半導体製造装置の監視装置。 - 請求項1記載の半導体製造装置の監視装置であって、
前記表示手段は、前記異常度の前記動画データのフレーム毎の変化をグラフによって表示し、このグラフ上の位置を指定することによって、指定されたグラフの位置に対応する前記動画データを表示する
ことを特徴とする半導体製造装置の監視装置。 - 請求項2記載の半導体製造装置の監視装置であって、
前記異常度の閾値を格納する閾値格納手段と、
当該閾値格納手段に格納された前記閾値と、前記異常度算出手段によって算出された異常度とを比較し、算出された異常度が前記閾値を越えている場合は、異常事象の発生の警告を発する異常判定手段と
を具備することを特徴とする半導体製造装置の監視装置。 - 請求項1〜3いずれか1項記載の半導体製造装置の監視装置であって、
前記異常度算出手段は、ST−patch特徴から前記異常度を算出する
ことを特徴とする半導体製造装置の監視装置。 - 被処理基板を処理する半導体製造装置のプロセスの状態を監視する半導体製造装置の監視方法であって、
正常な前記処理の状態を示す正常時動画データを記憶する記憶ステップと、
監視対象の前記処理の状態を撮像して動画データを取得する撮像ステップと、
前記撮像ステップによって取得された動画データと、前記正常時動画データからフレーム毎に特徴量を抽出し、抽出した特徴量に基づいて異常度を定量的に算出する異常度算出ステップと、
前記異常度算出ステップによって算出された異常度を、前記動画データのフレームの位置と関連付けて表示する表示ステップと、
を具備することを特徴とする半導体製造装置の監視方法。 - 請求項5記載の半導体製造装置の監視方法であって、
前記表示ステップでは、前記異常度の前記動画データのフレーム毎の変化をグラフによって表示し、このグラフ上の位置を指定することによって、指定されたグラフの位置に対応する前記動画データを表示する
ことを特徴とする半導体製造装置の監視方法。 - 請求項6記載の半導体製造装置の監視方法であって、
前記異常度の閾値を格納する閾値格納ステップと、
前記閾値格納ステップで格納された前記閾値と、前記異常度算出ステップによって算出された異常度とを比較し、算出された異常度が前記閾値を越えている場合は、異常事象の発生の警告を発する異常判定ステップと
を具備することを特徴とする半導体製造装置の監視方法。 - 請求項5〜7いずれか1項記載の半導体製造装置の監視方法であって、
前記異常度算出ステップでは、ST−patch特徴から前記異常度を算出する
ことを特徴とする半導体製造装置の監視方法。 - 被処理基板を処理する半導体製造装置であって、
正常な前記処理の状態を示す正常時動画データを記憶する記憶手段と、
監視対象の前記処理の状態を撮像して動画データを取得する撮像手段と、
前記撮像手段によって取得された動画データと、前記正常時動画データからフレーム毎に特徴量を抽出し、抽出した特徴量に基づいて異常度を定量的に算出する異常度算出手段と、
前記異常度算出手段によって算出された異常度を、前記動画データのフレームの位置と関連付けて表示する表示手段と、
を具備する半導体製造装置の監視装置を有する
ことを特徴とする半導体製造装置。 - 請求項1〜4いずれか1項記載の半導体製造装置の監視装置であって、
前記異常度算出手段によって算出された異常度を用いて、異常事象、および/または、異常予兆事象を検出する
ことを特徴とする半導体製造装置の監視装置。
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