KR20100125531A - 반도체 발광소자 및 그 제조방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (28)
- 제1도전형 반도체층;상기 제1도전형 반도체층 위에 형성된 활성층;상기 활성층 위에 형성된 제2도전형 반도체층;상기 제1도전형 반도체층 위에 적어도 한 가지 형상을 갖는 제1전극;상기 제1전극 위에 형성된 절연층;상기 절연층 및 상기 제2도전형 반도체층 중 적어도 한 층 위에 적어도 한 가지 형상으로 형성된 제2전극을 포함하는 반도체 발광소자.
- 제1항에 있어서, 상기 제2전극은 상기 절연층 또는 상기 제2도전형 반도체층 위에 형성되며,상기 제2전극, 상기 절연층 및 상기 제2도전형 반도체층의 위에 형성된 전류 확산층을 포함하는 반도체 발광소자.
- 제1항에 있어서, 상기 제2전극은 상기 절연층 및 상기 제2도전형 반도체층 위에 형성되며,상기 절연층, 상기 제2전극 및 상기 제2도전형 반도체층의 위에 형성된 전류 확산층을 포함하는 반도체 발광소자.
- 제2항에 있어서, 상기 절연층 위에 형성된 상기 제2전극의 일단 및 상기 제2도전형 반도체층 위에 형성된 제2전극 패드가 형성되는 반도체 발광소자.
- 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 제2전극, 상기 전류 확산층, 및 상기 제2도전형 반도체층에 직접 연결된 제2전극 패드를 포함하는 반도체 발광소자.
- 제1항에 있어서,상기 절연층은 상기 제1전극의 상면 및 둘레면에 배치되며, 일측에 제1개방 홈이 형성되는 반도체 발광소자.
- 제6항에 있어서, 상기 제1개방 홈을 통해 상기 제1전극 위에 형성된 제1전극 패드를 포함하는 반도체 발광소자.
- 제3항에 있어서, 상기 제2전극과 상기 제2도전형 반도체층 사이에 형성된 서브 전류확산층을 포함하는 반도체 발광소자.
- 제2항 또는 제3항에 있어서,상기 전류 확산층은 투명 전극층 또는 반사 전극층을 포함하는 반도체 발광소자.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제2전극의 일부 또는 전 패턴은 상기 절연층 위에 배치되며,상기 제1전극과 제2전극의 일부는 상기 절연층의 아래 및 위에 오버랩되게 형성되는 반도체 발광소자.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제2전극은 상기 제2도전형 반도체층 위에 배치되며,상기 제1전극과 제2전극은 공간적으로 엇갈리게 배치되는 반도체 발광소자.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 제1전극 및 제2전극 중 적어도 한 전극은 직선형 패턴, 곡선형 패턴, 직선 및 곡선형 패턴이 혼합된 패턴, 1개의 패턴에서 복수개로 분기한 가지형 패턴, 다각형 패턴, 격자형상 패턴, 도트형상 패턴, 마름모형상 패턴, 평행사변형 패턴, 메쉬형 패턴, 스트라이프형 패턴, 십자형 패턴, 방사형 패턴, 원형 패턴, 상기 패턴들 중 복수개의 패턴이 혼합된 패턴 중 적어도 한 패턴을 포함하는 반도체 발광소자.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 전류 확산층과 상기 제2도전형 반도체층 사이에 3족-5족 화합물 반도체를 이용한 N형 또는 P형 반도체층을 포함하는 반도체 발광소자.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 제1도전형 반도체층 아래에 언도프드 반도체층, 버퍼층, 및 기판 중 적어도 하나를 포함하는 반도체 발광소자.
- 제1도전형 반도체층을 형성하는 단계;상기 제1도전형 반도체층 위에 활성층을 형성하는 단계;상기 활성층 위에 제2도전형 반도체층을 형성하는 단계;메사 에칭하여 상기 제1도전형 반도체층 위에 제1전극을 형성하는 단계;상기 제1전극 위에 절연층을 형성하는 단계;상기 절연층 및 상기 제2도전형 반도체층 중 적어도 한 층 위에 제2전극을 형성하는 단계; 및상기 제2전극 및 상기 제2도전형 반도체층 위에 전류 확산층을 형성하는 단계를 포함하는 반도체 발광소자 제조방법.
- 제15항에 있어서, 상기 제2전극은 상기 절연층 위에 형성되어 상기 제1전극의 일부와 공간적으로 오버랩되는 반도체 발광소자 제조방법.
- 제15항에 있어서, 상기 제2전극은 상기 절연층 및 상기 제2도전형 반도체층 위에 적어도 한 가지 형상으로 형성되는 반도체 발광소자 제조방법.
- 제15항에 있어서, 상기 전류 확산층은 상기 절연층 위에 형성되는 반도체 발광소자 제조방법.
- 제15항에 있어서, 상기 제2전극과 상기 제2도전형 반도체층 사이에 형성된 서브 전류확산층을 포함하는 반도체 발광소자.
- 제15항에 있어서,상기 제2전극 및 상기 제1전극은 적어도 한 가지 형상의 패턴을 갖고,상기 제2전극과 상기 제1전극은 공간적으로 엇갈리게 배치되는 반도체 발광소자 제조방법.
- 제15항에 있어서, 상기 제2전극, 상기 전류 확산층 및 상기 제2도전형 반도체층 중 적어도 하나에 직접 연결된 제2전극패드;상기 제1전극에 연결된 제1전극패드를 포함하는 반도체 발광소자.
- 제15항에 있어서,상기 제1전극 및 절연층 형성 단계는,메사 에칭하여 상기 제1도전형 반도체층이 노출되는 제1전극 홈을 형성하는 단계;상기 제1전극 홈을 따라 제1전극을 상기 활성층의 연장선상보다 낮은 높이로 형성하는 단계;상기 제1전극 위에 절연층을 형성하는 단계를 포함하는 반도체 발광소자 제조방법.
- 제15항에 있어서,상기 제1전극 및 절연층 형성 단계는,메사 에칭하여 상기 제1도전형 반도체층이 노출되는 제1전극 홈을 형성하는 단계;상기 제1전극 홈 내측의 상기 제1도전형 반도체층 위에 제1전극을 형성하는 단계;상기 제1전극의 둘레 및 상면에 절연층을 형성하는 단계를 포함하는 반도체 발광소자 제조방법.
- 제15항에 있어서,상기 절연층 및 제1전극 형성 단계는,상기 제1도전형 반도체층의 하층 위에 사이드 절연층을 형성하는 단계;상기 사이드 절연층의 내측을 에칭하여, 상기 제1도전형 반도체층을 노출시켜 제1전극을 형성하는 단계;상기 제1전극 위에 제1개방 홈을 갖는 상기 절연층을 형성하는 단계를 포함하는 반도체 발광소자 제조방법.
- 제15항에 있어서,상기 제1전극 및 제2전극 중 적어도 하나는 직선형 패턴, 곡선형 패턴, 직선 및 곡선형 패턴이 혼합된 패턴, 1개의 패턴에서 복수개로 분기한 가지형 패턴, 다각형 패턴, 격자형상 패턴, 도트형상 패턴, 마름모형상 패턴, 평행사변형 패턴, 메쉬형 패턴, 스트라이프형 패턴, 십자형 패턴, 방사형 패턴, 원형 패턴, 상기 패턴들 중 복수개의 패턴이 혼합된 패턴 중 적어도 한 패턴을 포함하는 반도체 발광소자 제조방법.
- 제15항에 있어서,상기 제1전극과 상기 제2전극은 한 개의 패턴 또는 복수개 패턴의 일부가 오버랩되는 반도체 발광소자 제조방법.
- 제15항에 있어서,상기 전류 확산층은 투명 전극 재료 또는 반사 전극재료로 형성되는 반도체 발광소자 제조방법.
- 제15항에 있어서,상기 제1도전형 반도체층 아래에 언도프드 반도체층, 버퍼층, 기판 중 적어도 하나를 포함하는 반도체 발광소자 제조방법.
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