KR20100109098A - Working stage with antistatic treatment - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: An antistatic working stage is provided to improve an ANTISTATIC effect by coating a film having a nanotube on a work stage. CONSTITUTION: A wafer substrate or a display substrate is mounted on one side of a working stage(20). A carbon nanotube coating film(25) is formed on one side of the working stage. The carbon nanotube includes acryl, urethane, polyester, epoxy, polyimide, melamine, conductivity polymer or organic, and an inorganic hybrid binder. The thickness of the carbon nanotube coating film is within 0.1um and 100um. An adhesive promotion layer is formed between the carbon nanotube coating film and the working stage. The adhesion promoting layer improves the adhesive force between the nanotube coating film and the working stage.

Description

대전 방지 처리된 작업 스테이지{Working stage with antistatic treatment}Working stage with antistatic treatment

본 발명은 대전 방지 처리된 작업 스테이지에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판 등의 편평한 작업물이 안착되는 것으로 상기 작업물을 정전기로부터 보호할 수 있는 대전 방지 처리된 작업 스테이지에 관한 것이다. The present invention relates to an antistatic working stage, and more particularly to an antistatic working stage that can protect the workpiece from static electricity by mounting a flat workpiece such as a substrate.

반도체 제조 장치에서 사용되는 작업 스테이지는 웨이퍼 기판이 안착되는 것으로 통상 금속성의 재질로 제작된다. 상기 작업 스테이지를 사용하는 반도체 제조 장치에서, 핸들러가 웨이퍼 기판을 고정하여 상기 작업 스테이지로 이동시킨 이후, 상기 웨이퍼 기판을 작업 스테이지에 올려놓을 때 상기 작업 스테이지와 웨이퍼 기판 간에 마찰 정전기가 발생한다.The work stage used in the semiconductor manufacturing apparatus is a substrate on which a wafer is placed and is usually made of a metallic material. In the semiconductor manufacturing apparatus using the work stage, after the handler fixes the wafer substrate and moves to the work stage, tribostatic static electricity occurs between the work stage and the wafer substrate when the wafer substrate is placed on the work stage.

또한, FPD(Flat Panel Display)용 디스펜서에 사용되는 작업 스테이지는 통상 진공 방식으로 디스플레이 기판을 흡착한다. 이 경우의 작업 스테이지 또한 통상 금속성의 재질로 제작되며, 상기 디스플레이 기판이 작업 스테이지 상에 흡착될 때 또는 상기 흡착 고정되었던 디스플레이 기판이 작업 스테이지로부터 박리될 때, 상기 작업 스테이지에는 대전이 발생하여, 디스플레이 기판에 대전된다. 최근에는 디스플레이 기판이 대형화됨에 따라서 대전량이 증가되어서, 정전기 대전 문제가 커지는 경향이다.In addition, the work stage used in the flat panel display (FPD) dispenser usually adsorbs the display substrate in a vacuum manner. The work stage in this case is also usually made of a metallic material, and when the display substrate is adsorbed on the work stage or when the display substrate which was fixed to the adsorption is detached from the work stage, charging occurs in the work stage, so that the display It is charged to the substrate. In recent years, as the display substrate is enlarged, the amount of charging increases, so that the problem of electrostatic charging increases.

상기 웨이퍼 기판 및 디스플레이 기판에는 반도체 소자 등의 복수의 전자부품들이 배치되어 있다. 따라서, 정전기가 발생하게 되면 상기 전자부품에 인가되어서 그 내부회로에 전달될 수 있다. 이는 결과적으로 전자부품의 신뢰성에 치명적인 손상을 주게 된다. 또한, 정전기의 대전으로 인하여 상기 기판에 파티클이 부착되거나, 기판을 리프트 업(lift up)시에 기판이 깨어지는 문제점이 있다. A plurality of electronic components such as semiconductor devices are disposed on the wafer substrate and the display substrate. Therefore, when static electricity is generated, it may be applied to the electronic component and transferred to the internal circuit. This, in turn, will seriously damage the reliability of the electronic components. In addition, there is a problem in that particles are attached to the substrate or the substrate is broken when the substrate is lifted up due to the electrostatic charging.

종래에는 상기 정전기의 대전을 방지하기 위하여, 작업 스테이지에 이오나이저를 설치하여 대전 전위를 중화하도록 하였다. 그러나, 이 경우에는 리프트 업이 불가능하면 이오나이저의 이온풍이 도달하지 않고, 리프트 업이 되어도 중화가 필요한 곳에 이온풍이 도달하기 전에 방전 등의 트러불이 발생하는 등 작업 스테이지와 기판 사이에서 발생한 정전기가 순간적으로 일으키는 박리대전문제를 해결할 수 없다. Conventionally, in order to prevent the charging of the static electricity, an ionizer is installed on the work stage to neutralize the charging potential. In this case, however, if the lift up is impossible, static electricity generated between the work stage and the substrate is momentarily generated, such as an ionizer of the ionizer does not reach, and a trouble such as discharge occurs before the ion wind reaches a place where neutralization is required even when the lift is up. The problem of peeling charge caused by

이런 문제점을 해결하기 위하여, 상기 작업 스테이지의 정전기 방지를 위하여 불소수지로 코팅(일명, 테프론 코팅)을 할 수 있다. 불소수지는 다른 물질과의 흡착에너지가 작고, 비점착성이 우수하며, 마찰계수가 작기 때문에, 유리기판과의 상관관계가 작아져, 박리에 의한 정전기의 발생량이 작아진다.In order to solve this problem, in order to prevent the static electricity of the work stage can be coated with a fluorine resin (aka, Teflon coating). Since the fluorine resin has a small adsorption energy with other substances, excellent non-tackiness, and a small coefficient of friction, the fluorine resin has a small correlation with the glass substrate, and thus a small amount of static electricity generated by peeling.

이 경우 통상의 불소 성분은 절연성을 가지므로, 테프론 코팅에는 상기 불소 성분에 대전물질을 함유시킨다. 즉, 작업 스테이지를 아노다이징(anodizing) 후 테프론 코팅을 행함으로써, 상기 작업 스테이지의 정전기 발생을 방지하도록 하였 다.In this case, since the normal fluorine component has insulation, the teflon coating contains a charged material in the fluorine component. In other words, by anodizing the work stage and then applying Teflon coating, the static electricity generation of the work stage was prevented.

그러나, 상기 테프론 코팅 방법은 제조 비용이 상대적으로 많이 든다. 특히 디스펜서의 경우 디스플레이 기판의 대형화됨에 따라서, 상기 작업 스테이지의 사이즈 또한 증가 하게 됨으로써, 상기 제조 비용은 더욱더 많이 들 수 밖에 없다.However, the Teflon coating method is relatively expensive to manufacture. In particular, in the case of the dispenser, as the size of the display substrate is increased, the size of the work stage is also increased, so that the manufacturing cost is inevitably higher.

또한, 불소 자체의 경도가 낮아, 상기 불소로 이루어진 코팅막의 경도가 낮을 수 밖에 없어서 쉽게 스크래치가 발생한다. 이로 인하여 스크래치가 발생한 부분의 평탄도 유지가 어려우며, 파티클이 발생하는 요인이 된다.In addition, since the hardness of the fluorine itself is low, the hardness of the coating film made of fluorine is low, and scratches easily occur. As a result, it is difficult to maintain flatness of the scratched portion, which causes particles to occur.

또한, 불소는 절연성을 가지고 있으므로 카본 블랙이나 전도성 폴리머 등의 필러를 추가하여 대전 방지용의 면저항을 갖도록 하여야 하는데, 카본 블랙은 구형으로서 분진이 발생한다는 문제점이 있고, 전도성 폴리머의 경우에는 내용제성이 약하고, 과령의 바인더를 사용하여야 하며, 박막 형성이 어렵다는 문제점이 있다.In addition, since fluorine has an insulating property, a filler such as carbon black or a conductive polymer should be added to have an antistatic sheet resistance. Carbon black has a problem that dust is generated as a spherical shape. , An excessive binder should be used, and a thin film is difficult to form.

따라서 본 발명은, 스테이지의 기판과 만나는 면에 정전기 발생을 최소화 시킴과 동시에, 그 제조 비용이 저감되고, 적절히 면저항을 조절할 수 있으며, 마찰계수가 낮고 내마모성이 향상된 작업 스테이지를 제공하는 것을 목적으로 한다. Accordingly, an object of the present invention is to provide a work stage which minimizes the generation of static electricity on the surface of the stage and meets the substrate, and at the same time reduces the manufacturing cost thereof, can appropriately adjust the sheet resistance, and has a low coefficient of friction and improved wear resistance. .

상기의 과제를 달성하기 위한 본 발명의 바람직한 실시예에 의한 대전 방지 처리된 작업 스테이지는 스테이지 본체와, 탄소나노튜브 코팅막을 구비한다. 탄소나노튜브 코팅막의 면저항이 105 ~ 109 Ω/□이다.An antistatic working stage according to a preferred embodiment of the present invention for achieving the above object includes a stage body and a carbon nanotube coating film. The sheet resistance of the carbon nanotube coating film is 10 5 to 10 9 Ω / □.

본 발명에 의하면, 전도성 물질인 탄소나노튜브를 주 재료로 한 도포막을 작업 스테이지 본체에 코팅함으로써, 상기 도포막의 면저항이 낮아져서 정전기 방지 효과가 우수하여 기판의 신뢰성이 향상된다. According to the present invention, by coating a coating film made mainly of carbon nanotubes, which is a conductive material, on the work stage body, the sheet resistance of the coating film is lowered, so that the antistatic effect is excellent and the reliability of the substrate is improved.

또한, 불소가 아닌 탄소나노튜브가 함유된 도포막을 사용하여 코팅하므로 비용이 저감된다.In addition, since the coating using a coating film containing carbon nanotubes other than fluorine, the cost is reduced.

또한, 탄소나노튜브 코팅막은 탄소나노튜브 자체의 물리적 성질에 기인하여 마찰계수가 낮고 내마모성이 높아 스크래치 발생이 일어나지 않거나 극소수로 일어나며, 따라서 파티클 발생이 적다. In addition, the carbon nanotube coating film has a low coefficient of friction and high abrasion resistance due to the physical properties of the carbon nanotube itself, so that scratches do not occur or are generated in a very small number.

이하 첨부된 도면을 참조하여, 바람직한 실시예에 의한 본 발명을 상세히 설명하기로 한다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 대전 방지 처리된 작업 스테이지가 적용되는 일예로서 페이스트 디스펜서의 일 예를 도시한 사시도이다. 1 is a perspective view illustrating an example of a paste dispenser as an example to which an antistatic work stage of the present invention is applied.

도 1에 도시된 바와 같이, 페이스트 디스펜서(1)는 프레임(10)과, 대전 방지 처리된 작업 스테이지(20)와, 헤드 지지대(30)와, 헤드 유닛(40)을 구비한다. 대전 방지 처리된 작업 스테이지(20)는 프레임(10)의 상측에 배치된다. 스테이지(20)는 프레임(10)의 일 측으로부터 공급되는 기판(S)을 안착시킬 수 있게 형성된다. As shown in FIG. 1, the paste dispenser 1 includes a frame 10, an antistatic work stage 20, a head support 30, and a head unit 40. The antistatic work stage 20 is disposed above the frame 10. The stage 20 is formed to seat the substrate S supplied from one side of the frame 10.

대전 방지 처리된 작업 스테이지(20)는 프레임(10)에 고정되거나, 액추에이터에 의해 X축 및/또는 Y축 방향으로 슬라이드 이동할 수 있다. The antistatic work stage 20 may be fixed to the frame 10 or may slide in the X-axis and / or Y-axis directions by the actuator.

헤드 지지대(30)는 스테이지(20)의 상측에 배치된다. 헤드 지지대(30)는 X축 방향으로 연장되게 형성되며, 양단이 프레임(10)에 지지가 된다. 헤드 지지대(30)는 이를 구동하는 액추에이터에 의해 Y축 방향으로 슬라이드 이동할 수 있다. The head support 30 is disposed above the stage 20. The head support 30 is formed to extend in the X-axis direction, both ends are supported by the frame 10. The head support 30 can slide in the Y-axis direction by an actuator for driving the head support 30.

헤드 유닛(40)은 헤드 지지대(30)에 X축 방향을 따라 이동 가능하게 지지가 된다. 상기 헤드 유닛(40)은, 페이스트가 토출되는 노즐(44)이 장착되는 적어도 하나의 도포 헤드(42)를 구비한다. 노즐(44)은 페이스트를 담고 있는 시린지(syringe)와 연결된다. The head unit 40 is supported by the head support 30 to be movable along the X axis direction. The head unit 40 includes at least one coating head 42 on which a nozzle 44 through which paste is discharged is mounted. The nozzle 44 is connected with a syringe containing a paste.

도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ부를 잘라서 도시한 단면도이다. 도 2에 도시된 바와 같이, 작업 스테이지(20) 일면에는 탄소나노튜브 코팅막(25)이 코팅되어 있다.FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line II-II of FIG. 1. As shown in FIG. 2, one surface of the work stage 20 is coated with a carbon nanotube coating layer 25.

상기 작업 스테이지(20)는 통상 알루미늄 등의 금속 소재로 이루어진다. 이 경우, 상기 작업 스테이지(20) 상면에는 아노다이징(Anodizing) 처리가 되어 있을 수 있다. The work stage 20 is usually made of a metal material such as aluminum. In this case, an anodizing process may be performed on the upper surface of the work stage 20.

아노다이징은 전기-화학반응을 이용하여 표면처리되지 않은 알루미늄의 표면에 인위적인 산화물 도장을 입히는 것이다. 상기 아노다이징 처리에 의하여 표면 마모가 방지되고, 부식방지의 효과가 있다. Anodizing is the use of an electrochemical reaction to apply an artificial oxide coating to the surface of unsurfaced aluminum. Surface abrasion is prevented by the anodizing treatment, and there is an effect of preventing corrosion.

탄소나노튜브 코팅막(25)은 상기 작업 스테이지(20)의 상기 기판이 안착되는 면에 형성되는 것으로, 탄소나노튜브를 포함한다. The carbon nanotube coating layer 25 is formed on a surface on which the substrate of the work stage 20 is seated, and includes carbon nanotubes.

탄소나노튜브(Carbon Nanotube:CNT)는 하나의 탄소가 다른 탄소원자와 육각형 벌집무늬로 결합되어 튜브형태를 이루고 있고, 튜브의 직경이 나노미터 수준으로 극히 작아서 특유의 전기 화학적 특성을 나타낸다. Carbon nanotubes (CNT) form a tube in which one carbon is combined with other carbon atoms in a hexagonal honeycomb pattern to form a tube.

탄소나노튜브는 우수한 기계적 특성, 전기적 선택성, 뛰어난 전계방출 특성을 가진다. 이러한 탄소나노튜브를 스테이지에 얇은 도전막으로 형성하면 높은 전도성을 가지므로 정전기 방지효과가 있다. Carbon nanotubes have excellent mechanical properties, electrical selectivity, and excellent field emission characteristics. When the carbon nanotubes are formed in a thin conductive film on the stage, they have high conductivity and thus have an antistatic effect.

또한, 상기 탄소나노튜브들은 구형 형상이 아닌 튜브 형상으로 서로 네트웍을 구성하고 있기 때문에 분진 가능성이 적으며, 내습성이 우수하다.In addition, since the carbon nanotubes constitute a network with each other in a tube shape instead of a spherical shape, there is little possibility of dust and excellent moisture resistance.

상기 탄소나노튜브로는 단일벽 탄소나노튜브, 이중벽 탄소나노튜브, 다중벽 탄소나노튜브 및 다발형 탄소나노튜브 및 이들의 조합으로부터 선택될 수 있다.The carbon nanotubes may be selected from single-walled carbon nanotubes, double-walled carbon nanotubes, multi-walled carbon nanotubes and bundled carbon nanotubes, and combinations thereof.

또한 산처리 등에 의해 탄소나노튜브 표면이 개질된 탄소나노튜브나, 금속성 및 반도체성 등 서로 다른 속성이 분리된 탄소나노튜브가 선택될 수 있다.In addition, carbon nanotubes on which the surface of carbon nanotubes is modified by acid treatment, or carbon nanotubes having different properties such as metallicity and semiconductivity may be selected.

상기 탄소나노튜브를 포함하는 코팅액은 적절한 분산제를 포함할 수 있는데, 상기 분산제의 구체적인 예로서, 소듐 도데실 설페이트(SDS), 트리톤 X(Triton X)(Sigma사), Tween20(Polyoxyethyelene Sorbitan Monooleate), CTAB(Cetyl Trimethyl Ammonium Bromide)를 들 수 있다. The coating solution including the carbon nanotubes may include a suitable dispersant. Specific examples of the dispersant include sodium dodecyl sulfate (SDS), Triton X (Sigma), Tween20 (Polyoxyethyelene Sorbitan Monooleate), CTAB (Cetyl Trimethyl Ammonium Bromide) is mentioned.

상기 탄소나노튜브 코팅막(25)은 그 면저항을 105 ~ 109 Ω/□가 되도록 조절할 수 있다. 상기 면저항이 스테이지에서 정전기 발생을 방지하기 위한 적절한 수준이다. 만약 그 면저항이 109Ω/□이상이라면, 전기 전도도가 우수하지 못하여 상기 스테이지 상의 정전기를 외부로 방출하는 효과가 작으며, 그 면저항이 105 Ω/□ 이하이라면 그 자체의 전기 전도성이 너무 커서 인접하는 전자부품에 영향을 미칠 수 있다. The carbon nanotube coating film 25 can be adjusted so that the sheet resistance is 10 5 ~ 10 9 Ω / □. The sheet resistance is at an appropriate level to prevent the generation of static electricity at the stage. If the sheet resistance is more than 10 9 Ω / □, the electrical conductivity is not good and the effect of dissipating static electricity on the stage is small, and if the sheet resistance is less than 10 5 Ω / □, its electrical conductivity is too large. It may affect adjacent electronic components.

상기 탄소나노튜브 코팅막(25)은 바인더(binder)를 포함하여 이루어질 수 있다. 상기 바인더는 아크릴계, 우레탄계, 폴리에스테르계, 에폭시계, 폴리이미드계, 멜라민계, 전도성고분자계 또는 유무기 하이브리드계 바인더일 수 있다. 상기 바인더는 열경화형수지 혹은 광경화형 수지 일 수 있다. The carbon nanotube coating layer 25 may include a binder. The binder may be an acrylic, urethane, polyester, epoxy, polyimide, melamine, conductive polymer or organic / inorganic hybrid binder. The binder may be a thermosetting resin or a photocurable resin.

이 경우, 상기 탄소나노튜브 코팅막(25)에 포함된 탄소나노튜브는 단일벽, 이중벽 또는 다중벽 탄소나노튜브일 수 있다.In this case, the carbon nanotubes included in the carbon nanotube coating layer 25 may be single-walled, double-walled or multi-walled carbon nanotubes.

상기 탄소나노튜브 코팅막(25)의 두께는 0.1μm 내지 100μm일 수 있다. The carbon nanotube coating layer 25 may have a thickness of 0.1 μm to 100 μm.

한편, 상기 탄소나노튜브 코팅막(25)과 작업 스테이지(20) 사이에는 접착 촉 진층(23)이 형성될 수 있다. 상기 접착 촉진층(23)은 상기 탄소나노튜브 코팅막(25)과 작업 스테이지(20) 사이의 접착력을 향상시키는 기능을 한다. 이 경우, 접착 촉진층(23)은 산화 알루미늄 표면과 화학흡착을 할 수 있는 carboxylic acid group, anhydride group 또는 phosphonic acid group을 가지는 단분자, 올리고머, 폴리머 소재로서 이루어질 수 있다. 상기 접착 촉진층(23)의 두께는 1nm 내지 1μm일 수 있다. Meanwhile, an adhesion promoter layer 23 may be formed between the carbon nanotube coating layer 25 and the work stage 20. The adhesion promotion layer 23 functions to improve adhesion between the carbon nanotube coating layer 25 and the work stage 20. In this case, the adhesion promotion layer 23 may be made of a single molecule, oligomer, or polymer material having a carboxylic acid group, anhydride group, or phosphonic acid group capable of chemisorption with the aluminum oxide surface. The adhesion promotion layer 23 may have a thickness of about 1 nm to about 1 μm.

이 경우, 상기 탄소나노튜브 코팅막(25)에 포함된 바인더는 상기 접착 촉진층(23)과 접합력을 가지는 단분자 또는 고분자일 수 있다. In this case, the binder included in the carbon nanotube coating layer 25 may be a single molecule or a polymer having a bonding force with the adhesion promotion layer 23.

따라서, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 작업 스테이지(20) 상면이 아노다이징 처리(22a)된 후에, 접착 촉진층(23)과, 바인더가 혼합된 탄소나노튜브 코팅막(25)층이 차례대로 적층될 수 있다. Therefore, as shown in FIG. 3, after the upper surface of the work stage 20 is anodized 22a, the adhesion promotion layer 23 and the carbon nanotube coating layer 25 mixed with the binder are sequentially stacked. Can be.

상기 탄소나노튜브 코팅막(25) 외측면에는 보호층(26)이 형성될 수 있다. 상기 보호층(26)은 정전기 방지성능을 유지하면서도 탄소나노튜브 코팅막(25) 표면을 외부로부터 보호하면서 탄소나노튜브 코팅막(25)의 내구성과 내마모성을 더욱더 향상시킨다. 이 경우, 보호층(26)은 무기물, 유기 단분자 및 고분자 화합물, 혹은 유, 무기 하이브리드 재료를 사용할 수 있으며, 그 두께는 0.1μm 내지 100μm일 수 있다. A protective layer 26 may be formed on the outer surface of the carbon nanotube coating layer 25. The protective layer 26 further improves the durability and wear resistance of the carbon nanotube coating layer 25 while protecting the surface of the carbon nanotube coating layer 25 from the outside while maintaining antistatic performance. In this case, the protective layer 26 may use an inorganic material, an organic single molecule and a high molecular compound, or an organic or inorganic hybrid material, and the thickness thereof may be 0.1 μm to 100 μm.

종래의 불소 소재의 대전방지용 코팅의 경우, 불소의 경도가 약하기 때문에 상기 보호층의 두께가 두꺼워질 수 밖에 없다. 상기 두께로 인하여 대전방지 효과가 떨어지게 된다. 그러나, 본 발명의 경우에는 탄소나노튜브 코팅막의 내마모성이 우수하고, 보호층과의 결합력이 우수하므로, 그 두께를 최소한으로 얇게 할 수 있다.In the conventional antistatic coating of fluorine material, since the hardness of the fluorine is weak, the thickness of the protective layer is inevitably thickened. Due to the thickness, the antistatic effect is reduced. However, in the case of the present invention, since the carbon nanotube coating film has excellent abrasion resistance and excellent bonding strength with the protective layer, the thickness thereof can be minimized.

이 경우, 상기 보호층은 세라믹 계열로 이루어질 수 있는데, 이는 상기 세라믹 계열의 보호층이 높은 내화학성을 가져서, 아세톤, 알콜류 등에 강한 내구성을 가지기 때문이다.In this case, the protective layer may be formed of a ceramic-based, because the ceramic-based protective layer has a high chemical resistance, and has a strong durability in acetone, alcohols and the like.

한편, 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 탄소나노튜브 코팅막(25)과 작업 스테이지(20) 사이에 내측 바인더층(24)이 개재될 수 있다. 즉, 아노다이징 처리(22a)된 작업 스테이지(20) 상면에 먼저 내측 바인더층(24)을 코팅시킨 후에, 탄소나노튜브 코팅막(25)을 상기 내측 바인더층(24) 상면에 코팅되도록 할 수 있다. 이 경우, 상기 내측 바인더층(24)과 작업 스테이지(20) 사이에는 접착 촉진층(23)이 개재될 수 있다. Meanwhile, as shown in FIG. 4, an inner binder layer 24 may be interposed between the carbon nanotube coating layer 25 and the work stage 20. That is, after the inner binder layer 24 is first coated on the upper surface of the work stage 20 subjected to the anodizing 22a, the carbon nanotube coating layer 25 may be coated on the upper surface of the inner binder layer 24. In this case, an adhesion promoting layer 23 may be interposed between the inner binder layer 24 and the work stage 20.

상기 내측 바인더층(24)는 상기 작업 스테이지(20) 위에 바코팅, 슬릿다이코팅, 딥코팅, 스핀코팅, 스프레이코팅, 스크린코팅, 잉크젯코팅법 등을 사용하여 도포할 수 있다. 또한, 상기 탄소나노튜브 코팅막(25)을 상기 내측 바인더층(24) 상에, 바코팅, 슬릿다이코팅, 딥코팅, 스핀코팅, 스프레이코팅, 스크린코팅, 잉크젯코팅법 등을 사용하여 도포할 수 있다. The inner binder layer 24 may be coated on the work stage 20 using bar coating, slit die coating, dip coating, spin coating, spray coating, screen coating, ink jet coating, or the like. In addition, the carbon nanotube coating layer 25 may be coated on the inner binder layer 24 by using bar coating, slit die coating, dip coating, spin coating, spray coating, screen coating, ink jet coating, or the like. have.

또한, 상기 접착 촉진층(23)은 작업 스테이지(20) 위에 바코팅, 슬릿다이코팅, 딥코팅, 스핀코팅, 스프레이코팅, 스크린코팅, 잉크젯코팅법 등을 사용하여 도포할 수 있다. In addition, the adhesion promotion layer 23 may be applied on the work stage 20 using bar coating, slit die coating, dip coating, spin coating, spray coating, screen coating, ink jet coating, or the like.

이 경우, 내측 바인더층(24)의 주소재는 아크릴계, 우레탄계, 폴리에스테르 계, 에폭시계, 폴리이미드계, 멜라민계, 전도성고분자계, 유무기 하이브리드계 바인더일 계열로 이루어지는 것이 바람직하다. 일예로 우레탄 계열의 주소재는 상기 작업 스테이지에 높은 접착력으로 코팅되는 동시에 탄소나노튜브 코팅막(25)을 높은 접착력으로 코팅되게 한다. 따라서, 상기 주소재는 상기 작업 스테이지와 탄소나노튜브 코팅막 간의 접착력을 크게 향상시키게 된다.In this case, it is preferable that the address material of the inner binder layer 24 is made of acryl-based, urethane-based, polyester-based, epoxy-based, polyimide-based, melamine-based, conductive polymer-based and organic-inorganic hybrid-based binder-based series. For example, the urethane-based address material is coated on the work stage with a high adhesive force and at the same time the carbon nanotube coating film 25 is coated with a high adhesive force. Therefore, the address material greatly improves the adhesive force between the work stage and the carbon nanotube coating film.

도 4의 경우에도 상기 탄소나노튜브 코팅막 외측면에 보호층(26)이 형성될 수 있다. 4, a protective layer 26 may be formed on the outer surface of the carbon nanotube coating layer.

정전기 발생 방지를 위하여 상기 탄소나노튜브 코팅막은 그라운드(ground)에 접지될 수 있다. 이에 따라서, 작업 스테이지에 발생한 전기가 탄소나노튜브 코팅막(25)에 머무르지 않고, 그라운드로 신속하게 이동되어서 외부로 방출될 수 있다. 그 하나의 예로 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 작업 스테이지(20)는 스테이지 베이스(21)와, 상기 스테이지 베이스(21)에 결합된 복수의 안착 블록(22)들을 포함할 수 있다. 이 경우, 상기 안착 블록(22) 각각은 중공인 사각 기둥 형상을 하여서, 상기 스테이지 베이스(21)의 상면에 결합되며, 이에 따라서 상기 안착 블록(22)의 하면은 상기 스테이지 베이스(21)에 접하고, 상기 안착 블록의 측면 및 상면은 상기 스테이지 베이스(21)에 접하지 않게 된다. The carbon nanotube coating layer may be grounded to ground to prevent static electricity. Accordingly, the electricity generated in the work stage does not stay in the carbon nanotube coating film 25, but can be quickly moved to the ground and released to the outside. As an example, as shown in FIG. 2, the work stage 20 may include a stage base 21 and a plurality of seating blocks 22 coupled to the stage base 21. In this case, each of the seating blocks 22 has a hollow rectangular pillar shape, and is coupled to the top surface of the stage base 21. Accordingly, the bottom surface of the seating block 22 is in contact with the stage base 21. The side and top surfaces of the seating block are not in contact with the stage base 21.

이 경우, 상기 탄소나노튜브 코팅막(25)을 상기 안착 블록(22)의 상면뿐만 아니라 그 측면을 따라서 하면까지 형성시킴으로써, 상기 탄소나노튜브 코팅막(25)이 상기 스테이지 베이스(21)에 접촉시킬 수 있다. 이에 따라서 상기 안착 블록(22)에서 발생하는 전기가 상기 탄소나노튜브 코팅막(25)을 따라서 상기 스테이 지 베이스(21)까지 전달되어서, 그라운드에 접지될 수 있다. In this case, the carbon nanotube coating layer 25 may be formed to contact the stage base 21 by forming the carbon nanotube coating layer 25 not only on the upper surface of the seating block 22 but also on the lower surface thereof. have. Accordingly, electricity generated in the seating block 22 may be transferred to the stage base 21 along the carbon nanotube coating layer 25, and grounded to the ground.

그라운드에 접지시키는 다른 방법으로서는, 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 탄소나노튜브 코팅막(25)을 상기 안착 블록(22)의 상면 및 측면에 걸쳐서 형성시킴과 동시에, 상기 안착 블록(22)이 차지하지 않은 상기 스테이지 베이스(21) 상면에도 형성시킬 수 있다. As another method of grounding the ground, as shown in FIG. 5, the carbon nanotube coating layer 25 is formed on the top and side surfaces of the seating block 22, and the seating block 22 is occupied. It can also be formed on the upper surface of the stage base 21 that is not.

한편, 도시되지는 않으나, 탄소나노튜브 코팅막(25) 단부로부터 접지선을 연장하여서 상기 스테이지 베이스(21)에 접촉시킴으로써 그라운드에 접지시킬 수 있다.On the other hand, although not shown, it can be grounded by contacting the stage base 21 by extending the ground line from the end of the carbon nanotube coating film 25.

본 발명의 실시예에 따른 작업 스테이지 상에 탄소나노튜브 코팅막을 코팅 하는 하나의 방법은 다음과 같다. 이 경우, 상기 코팅 방법은 도 4를 참조하여 설명한다.One method of coating a carbon nanotube coating film on a work stage according to an embodiment of the present invention is as follows. In this case, the coating method will be described with reference to FIG. 4.

먼저 작업 스테이지(20)의 스테이지 코팅면을 아노다이징 처리한다. 이로 인하여 상기 작업 스테이지의 상면에 Al2O3층(22a)이 코팅된다. First, the stage coating surface of the work stage 20 is anodized. As a result, an Al 2 O 3 layer 22a is coated on the upper surface of the work stage.

그 후에, 상기 Al2O3층(22a) 상면에 접착제를 도포하여 접착 촉진층(23)을 형성시키고, 그 접착 촉진층(23) 외면에 내측 바인더층(24)을 코팅한다. 이 경우 상기 내측 바인더층(24)은 우레탄 계열 바인더일 수 있다.Thereafter, an adhesive is applied on the upper surface of the Al 2 O 3 layer 22a to form an adhesion promoting layer 23, and an inner binder layer 24 is coated on the outer surface of the adhesion promoting layer 23. In this case, the inner binder layer 24 may be a urethane-based binder.

그 후에, 상기 내측 바인더층(24) 외면에 탄소나노튜브 코팅막(25)을 코팅한다. Thereafter, a carbon nanotube coating layer 25 is coated on the inner surface of the inner binder layer 24.

상기 탄소나노튜브 코팅막(25)을 제조하는 방법의 하나의 예로서는, 먼저, 탄소나노튜브, 분산제 및 용매를 혼합하여 상기 탄소나노튜브를 분산시킨 코팅용액을 제조한다. 상기 탄소나노튜브로는 단일벽 탄소나노튜브, 이중벽 탄소나노튜브, 다중벽 탄소나노튜브 및 다발형 탄소나노튜브 및 이들의 조합으로부터 선택될 수 있으나 반드시 이들로 제한되는 것은 아니다. As an example of a method of manufacturing the carbon nanotube coating film 25, first, a carbon nanotube, a dispersant and a solvent are mixed to prepare a coating solution in which the carbon nanotubes are dispersed. The carbon nanotubes may be selected from single-walled carbon nanotubes, double-walled carbon nanotubes, multi-walled carbon nanotubes and bundled carbon nanotubes, and combinations thereof, but are not necessarily limited thereto.

상기 분산제로는 탄소나노튜브를 용매에서 분산시킬 수 있는 것이라면 모두 다 사용가능하다. 상기 용매로는 물, 에탄올, 메탄올, 이소프로판올, 1,2-디 클로로 벤젠(1,2-Dichlorobenzene), 클로로포름, 디메틸포름아미드, 아세톤, 및 그 혼합물 등을 사용한다.As the dispersant, any one that can disperse carbon nanotubes in a solvent can be used. As the solvent, water, ethanol, methanol, isopropanol, 1,2-dichlorobenzene, chloroform, dimethylformamide, acetone, and mixtures thereof are used.

그 후, 상기 코팅 용액을 상기 내측 바인더층에 코팅하고, 이를 건조하면, 탄소나노튜브 코팅막이 코팅된다.Thereafter, the coating solution is coated on the inner binder layer, and when dried, the carbon nanotube coating film is coated.

상기 코팅 방법은 공지된 다양한 방법을 사용할 수 있으며, 그 하나의 예로서는 스프레이 코팅을 들 수 있다. 본 발명에서 사용하는 스프레이 코팅은 일반적인 스프레이 코팅 장비와 초음파 분무기 등을 사용하는 것이 가능하다. 그리고 스프레이 코팅에 사용되는 노즐의 형태는 일류체, 이류체, 이들의 혼합 노즐 등의 다양한 종류를 사용할 수 있다.The coating method may use a variety of known methods, one example thereof is spray coating. As the spray coating used in the present invention, it is possible to use general spray coating equipment and an ultrasonic nebulizer. And the shape of the nozzle used for spray coating can use a variety of types, such as a hydraulic body, two-fluid body, and these mixing nozzles.

본 발명의 스프레이 공정에서 용매를 증발시키기 위한 장치를 포함할 수 있다. 이를 위해서 발열판을 사용할 수 있으며 코팅 용액의 증발을 위해 코팅면의 아래, 위, 옆면 등에서 온도를 가열할 수 있다.It may include an apparatus for evaporating the solvent in the spray process of the present invention. To this end, a heating plate may be used and the temperature may be heated at the bottom, top, side, etc. of the coating surface for evaporation of the coating solution.

상기 탄소나노튜브 코팅막(25) 외면에는 보호층(26)이 형성될 수 있다. 상기 보호층(26)은 고분자하드코팅 또는 세라믹 코팅일 수 있다.A protective layer 26 may be formed on an outer surface of the carbon nanotube coating layer 25. The protective layer 26 may be a polymer hard coating or a ceramic coating.

본 발명의 실시예에 따른 작업 스테이지 상에 탄소나노튜브 코팅막을 코팅 하는 다른 하나의 방법은 다음과 같다. 이 경우, 도 3의 경우를 예를 들어서 설명한다.Another method for coating a carbon nanotube coating film on a work stage according to an embodiment of the present invention is as follows. In this case, the case of FIG. 3 will be described by taking an example.

먼저 작업 스테이지(20)의 스테이지 코팅면을 아노다이징 처리한다. 이로 인하여 상기 작업 스테이지의 상면에 Al2O3층(22a)이 코팅된다. First, the stage coating surface of the work stage 20 is anodized. As a result, an Al 2 O 3 layer 22a is coated on the upper surface of the work stage.

그 후에, 상기 Al2O3층(22a)에 접착제를 도포하여 접착 촉진층(23)을 형성시키고, 그 접착 촉진층(23) 외면에 탄소나노튜브 코팅막(25)을 코팅한다. 이 경우, 상기 탄소나노튜브 코팅막(25)은 바인더를 포함하며, 상기 바인더는 아크릴 계열의 바인더일 수 있다. Thereafter, an adhesive is applied to the Al 2 O 3 layer 22a to form an adhesion promotion layer 23, and the carbon nanotube coating layer 25 is coated on the adhesion promotion layer 23. In this case, the carbon nanotube coating layer 25 may include a binder, and the binder may be an acrylic binder.

상기 탄소나노튜브 코팅막(25) 외면에는 보호층(26)이 코팅될 수 있다. 이 경우, 상기 보호층의 주소재는 하드코팅용 고분자 및 세라믹 계열일 수 있다.A protective layer 26 may be coated on the outer surface of the carbon nanotube coating layer 25. In this case, the address material of the protective layer may be a polymer and ceramic series for hard coating.

본 발명에 의하면, 상기 스프레이 코팅에 의하여 스테이지 에지 부분을 포함하여 전체적으로 스테이지 전면의 코팅막이 일정하게 되어 스테이지 평탄도 유지가 가능하다. According to the present invention, by the spray coating, the coating film on the entire surface of the stage is uniform, including the stage edge portion, so that the stage flatness can be maintained.

또한, 바인더에 의하여 접착력이 향상되어서 파티클 발생요인을 제거할 수 있다.In addition, the adhesive force is improved by the binder to remove the particle generation factor.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 대전 방지 처리된 작업 스테이지를 구비한 페이스트 디스펜서의 일 예를 도시한 사시도이다. 1 is a perspective view showing an example of a paste dispenser having an antistatic work stage according to a preferred embodiment of the present invention.

도 2는 도 1에서 작업스테이지의 상측의 단면을 도시한 단면도이다.2 is a cross-sectional view showing a cross section of the upper side of the work stage in FIG.

도 3은 도 2의 A부를 확대 도시한 단면도이다.3 is an enlarged cross-sectional view of part A of FIG. 2.

도 4는 도 3의 변형예이다.4 is a modification of FIG. 3.

도 5는 도 2의 다른 변형예를 도시한 단면도이다. 5 is a cross-sectional view showing another modified example of FIG.

Claims (7)

웨이퍼 기판 또는 디스플레이 기판이 안착되며, 적어도 상기 기판이 안착되는 면이 도전성 물질로 이루어진 작업 스테이지; 및A work stage on which a wafer substrate or a display substrate is seated, and at least a surface on which the substrate is seated is made of a conductive material; And 상기 작업 스테이지의 적어도 상기 기판이 안착되는 일면에 상기 기판과 작업 스테이지 사이에 대전을 방지하도록 코팅된 것으로, 탄소노나튜브를 포함하는 탄소나노튜브 코팅막;A carbon nanotube coating film coated on at least one surface of the work stage to prevent charging between the substrate and the work stage, the carbon nanotube coating layer including carbon non-tubes; 을 포함하는 대전방지 물질이 코팅된 대전 방지 처리된 작업 스테이지.An antistatic treated work stage coated with an antistatic material comprising a. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 탄소나노튜브 코팅막의 면저항은 105 ~ 109 Ω/□인 것을 특징으로 하는 대전방지 물질이 코팅된 대전 방지 처리된 작업 스테이지.The sheet resistance of the carbon nanotube coating film is 10 5 ~ 10 9 Ω / □ Antistatic material coated antistatic work stage, characterized in that the work stage. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 탄소나노튜브 코팅막은 아크릴계, 우레탄계, 폴리에스테르계, 에폭시계, 폴리이미드계, 멜라민계, 전도성고분자계 또는 유무기 하이브리드계 바인더를를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 대전방지 물질이 코팅된 대전 방지 처리된 작업 스테이지.The carbon nanotube coating film is an antistatic treatment coated with an antistatic material further comprising an acrylic, urethane, polyester, epoxy, polyimide, melamine, conductive polymer or organic-inorganic hybrid binder Job stages. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 작업 스테이지와 탄소나노튜브 코팅막 사이에는 접착 촉진층이 개재되고, An adhesion promoting layer is interposed between the working stage and the carbon nanotube coating film. 상기 접착 촉진층은 carboxylic acid group, anhydride group 및 phosphonic acid group 중 적어도 하나를 가지는 단분자, 올리고머 또는 폴리머 소재로 이루어진 것을 특징으로 하는 대전방지 물질이 코팅된 대전 방지 처리된 작업 스테이지.The adhesion promoting layer is an antistatic material coated antistatic work stage, characterized in that consisting of a single molecule, oligomer or polymer material having at least one of a carboxylic acid group, anhydride group and phosphonic acid group. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 탄소나노튜브 코팅막 외측면에는 보호층이 형성되고, A protective layer is formed on the outer surface of the carbon nanotube coating film, 상기 보호층은 무기물, 유기 단분자 및 고분자 화합물, 혹은 유ㅇ무기 하이브리드 재료로 이루어진 것을 특징으로 하는 대전방지 물질이 코팅된 대전 방지 처리된 작업 스테이지.The protective layer is an antistatic material coated antistatic work stage, characterized in that consisting of inorganic materials, organic monomolecules and polymer compounds, or organic-inorganic hybrid materials. 제1항 내지 제 5항 중 어느 하나의 항에 있어서, The method according to any one of claims 1 to 5, 상기 작업 스테이지는 디스펜싱을 위한 기판이 안착되는 디스펜서 장치용 작업 스테이지인 것을 특징으로 하는 대전방지 물질이 코팅된 대전 방지 처리된 작업 스테이지.And the working stage is a working stage for a dispenser device on which a substrate for dispensing is placed. 제6항에 있어서, The method of claim 6, 상기 탄소나노튜브 코팅막은 작업 스테이지에 그라운드(ground) 접지되는 것 을 특징으로 하는 대전방지 물질이 코팅된 대전 방지 처리된 작업 스테이지.The carbon nanotube coating layer is grounded on the work stage (ground), characterized in that the antistatic material coated antistatic work stage characterized in that the ground.
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