KR20200076827A - Composition of repairing solution for working stage, method of repairing the working stage - Google Patents

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Abstract

The present invention provides a composition of a repairing solution for a damaged working stage, and a method of a repairing working stage using the same. The solution composition of the present invention includes: a solvent including at least one selected from alcohol, toluene, methyl ethyl ketone, and cyclohexanone; black pigment having a size of 1 nm to 500 nm and including at least one selected from carbon black, Ketjen black, acetylene black, fullerene, graphene and carbon nanotubes; dispersant; and an organic-inorganic hybrid binder in which an organic binder which is at least one selected from polyfunctional acrylic, polyfunctional urethane, and phenoxy-based resin is mixed with an inorganic binder which is at least one selected from alumina sol, silica sol, and titanium dioxide sol. According to the present invention, the method of repairing a work stage of semiconductor and display manufacturing equipment at low cost is provided.

Description

손상된 작업스테이지 보수용 용액 조성물, 상기 보수용 용액 조성물을 이용한 손상된 작업스테이지 보수 방법 {Composition of repairing solution for working stage, method of repairing the working stage}Damaged work stage repair solution composition, damaged work stage repair method using the repair solution composition {Composition of repairing solution for working stage, method of repairing the working stage}

본 발명은 손상된 작업스테이지 보수용 용액 조성물, 상기 보수용 용액 조성물을 이용한 손상된 작업스테이지 보수 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 반도체, 평판 디스플레이 제조장비, 및 검사장비 등의 작업스테이지 상면이 반복적 작업공정에 의해 물리적 손상이 발생한 경우 평탄도, 반사율, 대전방지 등의 성능을 복원할 수 있는 손상된 작업 스테이지의 보수용 용액 조성물 및 이를 이용한 손상된 작업스테이지의 보수방법에 관한 것이다.The present invention relates to a damaged work stage repair solution composition, and to a damaged work stage repair method using the repair solution composition, more specifically, a semiconductor, flat panel display manufacturing equipment, and inspection equipment, such as the upper surface of the work stage iterative work process It relates to a repair composition for a damaged work stage capable of restoring performance such as flatness, reflectance, and antistatic when a physical damage occurs by the repair method and a repair method for a damaged work stage using the same.

반도체 제조 장비에서 사용되는 작업 스테이지는 웨이퍼 기판이 안착되는 것으로 통상 금속 및 세라믹 재질로 제작된다. 또한, LCD, OLED 등 평판 디스플레이 제조장비인 노광기(Photolithography equipment), LC 디스펜서(Liquid Crystal Dispenser), 검사기(Inspection equipment) 등 에 사용되는 작업 스테이지는 유리기판이 안착되는 것으로 통상 금속이나 세라믹으로 이루어지며 알루미늄 스테이지의 경우 일반적으로 최상면에 산화알루미늄 피막(경질 아노다이징)이 형성되어 있다.The working stage used in semiconductor manufacturing equipment is a wafer substrate, which is usually made of metal and ceramic materials. In addition, work stages used in flat panel display manufacturing equipment such as LCD, OLED, photolithography equipment, liquid crystal dispenser, and inspection equipment are usually made of metal or ceramic as the glass substrate is seated. In the case of the aluminum stage, an aluminum oxide film (hard anodizing) is generally formed on the top surface.

상기 작업스테이지 상부 면은 평면이거나, 다수의 요철 패턴 혹은 나란히 이격 배치되어 돌출된 복수개의 엠보싱으로 구성되어있다. The upper surface of the work stage is a flat surface, or is composed of a plurality of uneven patterns or a plurality of embossed protrusions spaced apart from one another.

또한 상기 작업스테이지 상부 면에는 통상 다수의 진공 홀이 형성되어 있어 제조공정 중에는 진공방식으로 기판을 흡착하여 기판을 안정적으로 고정한다. In addition, a number of vacuum holes are usually formed on the upper surface of the work stage, and during the manufacturing process, the substrate is adsorbed by a vacuum method to stably fix the substrate.

이 때 기판과의 마찰에 의해 작업스테이지 상부 면에 스크래치 등 마모가 발생하고 장기간 흡착 및 탈착을 반복하면서 국부적으로 물리적 손상이 발생하여 표면 높낮이의 차가 발생하게 된다.At this time, due to friction with the substrate, abrasion such as scratches occurs on the upper surface of the work stage and local physical damage occurs while repeating adsorption and desorption for a long time, resulting in a difference in surface height.

이로 인하여 기판 진공흡착 압력에 의해 기판 평탄도의 왜곡이 발생하여 작업 정밀도에 영향을 주게 된다. 특히 노광기 스테이지의 경우 노광 정밀도가 낮아져 제품의 회로 패턴 불량이 발생된다. Due to this, distortion of the flatness of the substrate is generated by the vacuum adsorption pressure, thereby affecting the working precision. In particular, in the case of an exposure machine stage, exposure precision is lowered, resulting in defective product circuit patterns.

또한 흑색의 산화알루미늄 피막이 형성된 스테이지의 경우 피막의 손상으로 알루미늄이 노출되면서 반사율이 높아지고, 이로 인하여 노광 공정의 경우 제품의 회로패턴 불량이 발생된다. 더불어 금속성 알루미늄이 상면에 들어나게 되어 정전기의 급격한 방전으로 인한 기판의 파손과 회로 단락 등의 문제점이 야기된다. In addition, in the case of a stage in which a black aluminum oxide film is formed, the reflectance is increased as aluminum is exposed due to damage to the film, thereby causing a defective circuit pattern of the product in the case of an exposure process. In addition, metallic aluminum enters the upper surface, causing problems such as breakage of the substrate and short circuit due to rapid discharge of static electricity.

이에 따라서, 종래에는 아노다이징 펜이나 흑색 마커펜을 이용하여 임시방편으로 작업스테이지의 손상된 부위를 칠하거나, 신규로 작업스테이지를 제작하여 교체하는 방안이 있었다. Accordingly, in the related art, there has been a method of painting an damaged stage of the work stage by using an anodizing pen or a black marker pen as a temporary measure, or by manufacturing a new work stage and replacing it.

그러나, 종래의 아노다이징펜이나 마커펜을 이용하여 손상된 부위를 칠하게 되면 일시적으로 높이 혹은 반사율을 보전 할 수 있으나 작업스테이지를 세척하거나 기판과의 접촉마찰에 의해 잉크 도막이 쉽게 제거되며 도막 두께가 불균일하여 적용에 한계가 있었다. 또한 작업스테이지를 신규로 제작하여 교체하는 방법은 막대한 비용이 발생되고 스테이지 탈착 및 재장착에 많은 시간이 소요되어 장비를 장시간 가동하지 못하는 문제가 있어왔다.However, if the damaged area is painted with a conventional anodizing pen or marker pen, the height or reflectance can be temporarily preserved, but the ink coating is easily removed by washing the work stage or contact friction with the substrate, and the thickness of the coating is uneven. There was a limit to its application. In addition, the method of manufacturing and replacing the work stage has been expensive, and it has been a problem that the equipment cannot be operated for a long time because it takes a lot of time to detach and re-install the stage.

한국등록특허번호 제10-1171316호Korean Registered Patent No. 10-1171316

본 발명은 상기와 같은 문제점을 비롯한 여러 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 장기간 내구성을 가지면서도 소요 비용이 적은 손상된 작업 스테이지의 보수 방법과 이에 적용될 수 있는 보수용 용액 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다. 특히 국부적으로 마모된 작업 스테이지 상부 면의 높낮이 차를 보정하여 미세 회로패턴 형성 등 평탄도에 민감한 공정에서 불량을 저감하는 방법을 제공하며, 산화알루미늄 피막 처리가 된 작업스테이지의 경우 금속 알루미늄 노출로 높아진 반사율을 보정하여 노광 공정 등에서 회로패턴 불량을 저감하는 방법을 제공한다. The present invention is to solve a number of problems, including the above problems, and has an object to provide a method for repairing a damaged work stage having long-term durability and low cost and a solution composition for repair that can be applied thereto. In particular, it provides a method to reduce defects in flatness-sensitive processes such as fine circuit pattern formation by correcting the difference in height of the upper surface of the work stage that is locally worn, and in the case of work stages treated with aluminum oxide film, it is increased by exposure to metal aluminum Provided is a method of reducing circuit pattern defects in an exposure process or the like by correcting reflectance.

따라서 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 손상된 작업스테이지의 보수용 용액 조성물은: 알코올, 톨루엔, 메틸에틸케톤, 사이클로헥사논 중 선택된 적어도 하나를 포함하는 용매; 1nm 내지 500nm의 사이즈를 가지며, 카본블랙, 케첸블랙, 아세틸렌블랙, 플러렌, 그래핀 및 탄소나노튜브 중 선택된 적어도 하나를 포함하는 흑색안료; 분산제; 및 다관능성 아크릴, 다관능성 우레탄, 및 페녹시계 레진 중 선택된 적어도 하나인 유기계 바인더와, 알루미나졸, 실리카졸, 중 이산화티탄졸 중 선택된 적어도 하나의 무기계 바인더가 혼합된 유무기하이브리드 바인더;를 포함한다.Accordingly, a solution composition for repairing a damaged work stage according to a preferred embodiment of the present invention includes: a solvent comprising at least one selected from alcohol, toluene, methyl ethyl ketone, and cyclohexanone; A black pigment having a size of 1 nm to 500 nm, and comprising at least one selected from carbon black, ketjen black, acetylene black, fullerene, graphene, and carbon nanotubes; Dispersant; And an organic-inorganic hybrid binder in which at least one organic binder selected from polyfunctional acrylic, polyfunctional urethane, and phenoxy resin is mixed, and at least one inorganic binder selected from aluminasol, silica sol, and titanium dioxide among; .

상기 흑색안료의 함량은 전체 보수용 용액의 0.5wt% 내지 3wt%일 수 있다.The content of the black pigment may be 0.5wt% to 3wt% of the total repair solution.

또한, 상기 유무기하이브리드 바인더의 함량은 전체 보수용 용액의 1wt% 내지 20wt%일 수 있다.In addition, the content of the organic-inorganic hybrid binder may be 1wt% to 20wt% of the total repair solution.

본 발명의 다른 측면에서, 작업 스테이지의 손상된 부분 상면에 상기 손상된 작업스테이지의 보수용 용액 조성물로 이루어진 보수용 용액을 도포하는 단계를 포함하는 손상된 작업스테이지 보수 방법을 제공한다.In another aspect of the present invention, there is provided a method for repairing a damaged work stage, comprising applying a repair solution composed of a repair solution composition of the damaged work stage to an upper surface of the damaged portion of the work stage.

이 경우, 상기 작업 스테이지의 상면은, 돌출된 엠보싱부가 서로 이격 배치되도록 형성되고, 상기 보수용 용액을 도포하는 단계는, 손상된 엠보싱부 상면에 상기 보수용 용액을 도포할 수 있다.In this case, the upper surface of the working stage is formed so that the protruding embossing parts are spaced apart from each other, and the step of applying the repairing solution may apply the repairing solution to the damaged embossing upper surface.

또한, 상기 보수용 용액을 도포하는 단계는, 디스펜서로 상기 보수용 용액 조성물을 도포할 수 있다.In addition, in the step of applying the repair solution, the repair solution composition may be applied with a dispenser.

또한, 상기 보수용 용액을 도포하는 단계는, 1 μm 내지 20 μm 높이를 도포할 수 있다. In addition, the step of applying the repair solution may be applied to a height of 1 μm to 20 μm.

또한, 상기 보수용 용액을 도포하는 단계 이후에, 상기 도포된 보수용 용액을 보호하는 보호용 용액을 도포하는 단계를 포함하고, 상기 보호용 용액은: 알코올, 다이뷰틸에테르, 이소프로필에테르, 에틸에테르, 다이메칠카보네이트, 중 선택된 적어도 하나를 포함하는 용매, 및 규소, 질소 및 수소로 이루어진 무기화합물, 알콕시실란, 콜로이달실리카 중 선택된 적어도 하나의 무기물을 포함할 수 있다.In addition, after the step of applying the repair solution, comprising the step of applying a protective solution to protect the applied repair solution, the protection solution is: alcohol, dibutyl ether, isopropyl ether, ethyl ether, Dimethyl carbonate, a solvent containing at least one selected from among, and silicon, an inorganic compound consisting of nitrogen and hydrogen, alkoxysilane, may include at least one inorganic material selected from colloidal silica.

상기 보호층 용액 중 무기물의 함량은 전체 보호층 용액의 5wt% 내지 20wt%일 수 있다. The content of the inorganic substance in the protective layer solution may be 5wt% to 20wt% of the total protective layer solution.

또한, 상기 보수용 용액을 도포하는 단계 이전에, 5 μm 내지 50 μm의 입자 사이즈를 가지는 알루미나, 실리콘카바이드, 가넷, 지르코늄 중 선택된 적어도 하나를 포함하는 경면화 제거 시트로 손상된 작업 스테이지의 상면의 표면조도가 0.5 μm 내지 1.0 μm 가 되도록 상기 작업 스테이지의 상면을 전처리하는 단계를 더 포함할 수 있다. In addition, prior to the step of applying the repair solution, the surface of the upper surface of the work stage damaged by a mirror-removing sheet comprising at least one selected from alumina, silicon carbide, garnet, and zirconium having a particle size of 5 μm to 50 μm. It may further include the step of pre-treating the upper surface of the work stage so that the roughness is 0.5 μm to 1.0 μm.

본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 작업 스테이지의 손상된 부분 상면에, 상기 손상된 작업스테이지의 보수용 용액 조성물로 이루어진 보수용 용액을 도포하는 단계; 상기 보수용 용액을 도포하는 단계 이후에, 상기 작업스테이지 상면의 면저항이 106Ω/□ 내지 109Ω/□ 이 되도록 상기 작업 스테이지 상면에 대전방지 코팅액을 코팅하는 단계;를 포함하는 손상된 작업스테이지의 대전방지 코팅방법을 제공한다.According to another embodiment of the present invention, applying a repair solution made of a repair solution composition of the damaged work stage on the upper surface of the damaged portion of the work stage; After the step of applying the repair solution, coating the antistatic coating solution on the upper surface of the work stage so that the surface resistance of the upper surface of the work stage is 10 6 Ω/□ to 10 9 Ω/□; It provides an antistatic coating method.

이 경우, 상기 작업 스테이지의 상면은, 돌출된 엠보싱부가 서로 이격 배치되도록 형성되고, 상기 보수용 용액을 도포하는 단계는, 손상된 엠보싱부 상면에 상기 보수용 용액을 도포할 수 있다.In this case, the upper surface of the working stage is formed so that the protruding embossing parts are spaced apart from each other, and the step of applying the repairing solution may apply the repairing solution to the damaged embossing upper surface.

또한, 상기 보수용 용액을 도포하는 단계는, 디스펜서로 상기 보수용 용액 조성물을 도포할 수 있다.In addition, in the step of applying the repair solution, the repair solution composition may be applied with a dispenser.

또한 상기 보수용 용액을 도포하는 단계는, 1 μm 내지 20 μm 높이를 도포할 수 있다. In addition, the step of applying the repair solution may be applied to a height of 1 μm to 20 μm.

한편, 상기 보수용 용액을 도포하는 단계와, 상기 대전방지 코팅액을 코팅하는 단계 사이에, 상기 도포된 보수용 용액을 보호하는 보호용 용액을 도포하는 단계를 포함하고, 이 경우, 상기 보호용 용액은: 알코올, 다이뷰틸에테르, 이소프로필에테르, 에틸에테르, 다이메칠카보네이트, 중 선택된 적어도 하나를 포함하는 용매; 및 규소, 질소 및 수소로 이루어진 무기화합물, 알콕시실란, 콜로이달실리카 중 선택된 적어도 하나의 무기물;을 포함하고, 상기 보호층 용액 중 무기물의 함량은 전체 보호층 용액의 5wt% 내지 20wt%일 수 있다.On the other hand, between the step of applying the repair solution and the step of coating the antistatic coating solution, comprising the step of applying a protective solution to protect the applied repair solution, in this case, the protective solution: A solvent containing at least one selected from alcohol, dibutyl ether, isopropyl ether, ethyl ether, and dimethyl carbonate; And at least one inorganic material selected from inorganic compounds consisting of silicon, nitrogen, and hydrogen, alkoxysilane, and colloidal silica. The content of the inorganic material in the protective layer solution may be 5 wt% to 20 wt% of the total protective layer solution. .

한편, 상기 보수용 용액을 도포하는 단계 이전에, 5 μm 내지 50 μm의 입자 사이즈를 가지는 알루미나, 실리콘카바이드, 가넷, 지르코늄 중 선택된 적어도 하나를 포함하는 경면화 제거 시트로 작업 스테이지의 손상된 부분의 상면이 표면조도가 0.5 μm 내지 1.0 μm 가 되도록 상기 작업 스테이지의 상면을 전처리하는 단계를 더 포함할 수 있다.On the other hand, prior to the step of applying the repair solution, the upper surface of the damaged portion of the work stage with a mirror surface removal sheet comprising at least one selected from alumina, silicon carbide, garnet, and zirconium having a particle size of 5 μm to 50 μm. The surface roughness may further include a step of pre-treating the upper surface of the work stage to be 0.5 μm to 1.0 μm.

본 발명에 따르면, 작업스테이지와 기판과의 잦은 접촉, 마찰에 의해 국부적으로 손상된 위치에 보수용 용액 조성물로 이루어진 보수용 용액을 도포하되, 경면화 제거 시트를 이용하여 전처리 공정을 행한 후, 보수용 용액을 손상된 작업스테이지 상면에 도포하며 이 후에 보호용 용액을 도포함으로써, 작업 스테이지의 마찰에 의해 국부적으로 손상된 작업스테이지의 높낮이 차를 평탄하게 할 수 있으며, 산화알루미늄 피막처리가 된 스테이지의 경우 높낮이 차를 평탄하게 할 뿐만 아니라 알루미늄의 노출로 높아진 반사율을 낮추어 제품의 회로패턴 불량의 발생이 최소화된다. 또한 작업스테이지 상면에 대전방지코팅액을 코팅하여 작업스테이지와 기판간의 정전기발생을 최소화 할 수 있다.According to the present invention, a repair solution composed of a repair solution composition is applied to a location damaged locally by frequent contact and friction between the work stage and the substrate, but after performing a pretreatment process using a mirror surface removal sheet, for repair By applying the solution to the upper surface of the damaged work stage and then applying a protective solution, the height difference of the work stage locally damaged by friction of the work stage can be flattened. In addition to flattening, the occurrence of defective circuit patterns in the product is minimized by lowering the increased reflectance due to the exposure of aluminum. In addition, by coating an antistatic coating solution on the upper surface of the work stage, it is possible to minimize the generation of static electricity between the work stage and the substrate.

따라서 본 발명은 손상된 작업스테이지를 신규 제작하여 교체할 필요 없이 단시간 내에 손상된 위치만을 보수하여 평탄도 및 반사율 불량을 감소시키고, 보수된 부분은 기판과의 마찰에 대해 장기간 내구성을 가지게 되어 반도체, 디스플레이 제조공정의 생산 효율을 향상시키는 효과를 제공한다.Therefore, the present invention reduces the defects in flatness and reflectance by repairing only the damaged position within a short period of time without the need to replace it by manufacturing a new damaged work stage, and the repaired part has long-term durability against friction with the substrate, thereby manufacturing semiconductors and displays. It provides the effect of improving the production efficiency of the process.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 손상된 작업스테이지의 보수용 용액 조성물로 이루어진 보수용 용액이 도포된 작업스테이지를 도시한 사시도이다.
도 2a, 도2b는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ선을 따라 취한 단면도이다.
도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 손상된 작업스테이지 보수 방법의 흐름도이다.
도 4a 및 도 4d는 각각 상기 도 3의 각 단계를 도시한 단면도이다.
도 5는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 손상된 작업스테이지의 대전방지 코팅방법을 도시한 흐름도이다.
도 6은 도 5의 대전방지코팅액을 도포하는 각 단계를 도시한 흐름도이다.
도 7은 도 5에 의하여 대전방지코팅된 작업스테이지의 단면도이다.1 is a perspective view showing a work stage coated with a repair solution made of a repair solution composition of a damaged work stage according to a preferred embodiment of the present invention.
2A and 2B are cross-sectional views taken along line II-II of FIG. 1.
3 is a flowchart of a method for repairing a damaged work stage according to a preferred embodiment of the present invention according to a preferred embodiment of the present invention.
4A and 4D are cross-sectional views showing the steps of FIG. 3, respectively.
5 is a flow chart showing a method of antistatic coating of a damaged work stage according to a preferred embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a flow chart showing each step of applying the antistatic coating solution of FIG. 5.
7 is a cross-sectional view of the antistatic coating work stage shown in FIG.

이하 첨부된 도면을 참조하여, 바람직한 실시예에 의한 본 발명을 상세히 설명하기로 한다. Hereinafter, the present invention according to a preferred embodiment will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 손상된 작업스테이지의 보수용 용액 조성물로 이루어진 보수용 용액을 도포한 상태를 도시한 평면도이고, 도 2a는 알루미늄기재에서, 도2b는 세라믹기재에서 도 1의 Ⅱ-Ⅱ선을 따라 취한 단면도이다. 1 is a plan view showing a state in which a repair solution composed of a repair solution composition of a damaged work stage according to a preferred embodiment of the present invention is applied, FIG. 2A is an aluminum substrate, FIG. 2B is a ceramic substrate of FIG. 1 It is a cross-sectional view taken along line II-II.

도 1 및 도 2a, 도2b에 도시된 바와 같이, 작업스테이지(100)는 금속 또는 세라믹 기재(102)로 이루어진다. 따라서, 본 발명의 금속 소재는 알루미늄(Al), 마그네슘(Mg), 아연(Zn), 티타늄(Ti) 소재 중 어느 하나일 수 있다. 또한 세라믹 소재는 탄화규소, 질화규소, 알루미나, 지르코니아 소재 중 어느 하나일 수 있다. 알루미늄 기재의 경우 산화알루미늄 피막층(110)을 형성되어 있다. 또한, 상기 작업 스테이지의 표면은 나란히 이격 배치되어 돌출된 복수개의 엠보싱부(105)가 형성된다. 1 and 2A, 2B, the work stage 100 is made of a metal or ceramic substrate 102. Therefore, the metal material of the present invention may be any one of aluminum (Al), magnesium (Mg), zinc (Zn), and titanium (Ti) materials. In addition, the ceramic material may be any one of silicon carbide, silicon nitride, alumina, and zirconia materials. In the case of an aluminum substrate, an aluminum oxide coating layer 110 is formed. In addition, a plurality of embossing portions 105 protruding from the side surfaces of the work stage are arranged to be formed.

상기 엠보싱부(105)는 높이(H)가 150μm 내지 300μm이고, 폭(W)이 약 1mm인 단면이 사각형 혹은 사다리꼴 형상인 육면체 형상일 수 있다. 상기 엠보싱부(105)는 기판과의 닿는 면적을 최소화하면서 작업 스테이지의 평탄도를 유지시키는 기능을 한다. The embossing portion 105 may have a hexahedral shape in which a cross section having a height (H) of 150 μm to 300 μm and a width (W) of about 1 mm is square or trapezoidal. The embossing unit 105 functions to maintain the flatness of the work stage while minimizing the contact area with the substrate.

그런데 반도체, 디스플레이 기판의 진공 흡착과 탈착이 장기간 반복되면서 돌출된 엠보싱부(105) 상면은 기판과의 마찰로 인하여 마모가 발생한다. 알루미늄 기재의 경우 엠보싱부 표면의 산화알루미늄 피막층(110)이 국부적으로 손상되어서 알루미늄이 외부로 노출됨과 동시에 엠보싱부(105)의 높이가 낮아지는 부분(105a)이 발생하게 된다. 예를 들어 노광기의 경우, 상기 기재가 외부로 노출되게 되면 작업 스테이지의 반사율이 변하면서 노광시 기판을 통과한 광이 작업 스테이지에 의하여 반사되어서 패턴 불량이 발생할 수 있다. 또한, 산화알루미늄 피막층(110)이 마모로 인하여 패턴의 왜곡이 발생할 수 있다. 또한, 전기 절연성의 산화알루미늄 피막이 손상되어서 도전성이 기재가 노출되어 급격한 방전으로 인한 기판의 파손과 회로 불량이 발생할 수 있다. However, as the vacuum adsorption and desorption of the semiconductor and display substrates are repeated for a long time, wear occurs on the upper surface of the embossed portion 105 protruding due to friction with the substrate. In the case of the aluminum substrate, the aluminum oxide coating layer 110 on the surface of the embossing portion is locally damaged, and at the same time, the portion 105a of which the height of the embossing portion 105 is lowered occurs while aluminum is exposed to the outside. For example, in the case of an exposure machine, when the substrate is exposed to the outside, the reflectance of the work stage changes, and light passing through the substrate during exposure is reflected by the work stage, and thus a pattern defect may occur. In addition, distortion of the pattern may occur due to wear of the aluminum oxide coating layer 110. In addition, since the electrically insulating aluminum oxide film is damaged, the conductive substrate may be exposed, resulting in substrate damage and circuit failure due to rapid discharge.

본 발명에 의하여 조성된 보수용 용액은 작업스테이지의 손상된 위치에 도포되어서 손상되지 않은 부분과 높이가 동일하도록 스테이지 최상면의 높이를 보정하여 평탄도를 향상시키며, 표면 반사율을 손상 전의 반사율로 복구가 가능하게 한다. The repair solution prepared by the present invention is applied to the damaged position of the work stage to correct the height of the top surface of the stage so that it has the same height as the undamaged part, thereby improving flatness and recovering surface reflectance to reflectance before damage. To do.

이를 위하여, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 손상된 작업스테이지의 보수용 용액 조성물은 용매와, 흑색안료와, 분산제 및 유무기하이브리드 바인더를 포함한다. To this end, the solution composition for repairing a damaged work stage according to a preferred embodiment of the present invention includes a solvent, a black pigment, a dispersant, and an organic-inorganic hybrid binder.

용매는, 알코올, 톨루엔, 메틸에틸케톤, 사이클로헥사논 중 선택된 적어도 하나를 포함한다. The solvent includes at least one selected from alcohol, toluene, methyl ethyl ketone, and cyclohexanone.

흑색안료는, 1nm 내지 500nm의 사이즈를 가지며, 카본블랙, 케첸블랙, 아세틸렌블랙, 플러렌, 그래핀 및 탄소나노튜브 중 선택된 적어도 하나를 포함한다. The black pigment has a size of 1 nm to 500 nm, and includes at least one selected from carbon black, ketjen black, acetylene black, fullerene, graphene, and carbon nanotubes.

유무기하이브리드 바인더는 유기계 바인더와, 무기계 바인더를 포함한다. 유기계 바인더는 다관능성 아크릴, 다관능성 우레탄, 및 페녹시계 레진 중 선택된 적어도 하나이다. 무기계 바인더는 알루미나졸, 실리카졸, 중 이산화티탄졸 중 선택된 적어도 하나이다. The organic-inorganic hybrid binder includes an organic-based binder and an inorganic-based binder. The organic binder is at least one selected from polyfunctional acrylic, polyfunctional urethane, and phenoxy resin. The inorganic binder is at least one selected from alumina sol, silica sol, and titanium dioxide sol.

이 경우, 흑색안료는 1nm 내지 500nm 크기인 것이 바람직하다. In this case, the black pigment is preferably 1nm to 500nm size.

흑색안료는 전체 용액 조성물 대비 0.5wt% 내지 3wt%의 함량을 가지는 것이 바람직하다. 상기 함량이 0.5wt% 미만인 경우에는 반사율이 개선이 미비하고, 상기 함량이 3wt%를 초과하는 경우에는 결합력이 약해지기 때문이다. It is preferable that the black pigment has a content of 0.5 wt% to 3 wt% compared to the total solution composition. This is because, when the content is less than 0.5 wt%, the reflectance is poorly improved, and when the content exceeds 3 wt%, the bonding strength is weakened.

상기 유무기하이브리드바인더는 작업스테이지와의 부착성 및 내구성을 향상시킨다. 이 경우, 유무기하이브리드바인더의 함량은 전체 용액 조성물 대비 1wt% 내지 20wt%인 것이 바람직하다. 상기 함량이 1wt% 미만인 경우에는 막의 두께가 얇아서 내구성이 저하되고, 상기 함량이 20wt%를 초과하는 경우에는 보수작업이 어려우며 평탄도의 불량을 초래할 수 있기 때문이다. The organic-inorganic hybrid binder improves adhesion and durability with a work stage. In this case, the content of the organic-inorganic hybrid binder is preferably 1wt% to 20wt% compared to the total solution composition. This is because when the content is less than 1 wt%, the thickness of the film is thin and durability decreases, and when the content exceeds 20 wt%, repair work is difficult and the flatness may be poor.

본 발명의 다른 측면에서, 손상된 작업스테이지의 보수용 용액 조성물로 조성된 보수용 용액을 이용한 손상된 작업스테이지의 보수하는 단계(S110)는, 도 3에 도시된 바와 같이, 작업 스테이지의 손상된 부분 상면에, 상기한 바와 같은 손상된 작업스테이지의 보수용 용액 조성물로 이루어진 보수용 용액을 도포하는 단계(S12)를 포함한다. In another aspect of the present invention, the step (S110) of repairing a damaged work stage using a repair solution composed of a repair solution composition of a damaged work stage, as shown in FIG. , Applying a repair solution composed of a repair solution composition of the damaged work stage as described above (S12).

도 4a에서와 같이, 상기 작업스테이지(100)는, 작업스테이지 기재(102)와, 산화알루미늄 피막층(110)이 추가로 형성되어 있을 수 있다.As shown in FIG. 4A, the work stage 100 may further include a work stage substrate 102 and an aluminum oxide coating layer 110.

상기 작업스테이지 기재(102)는 금속 또는 세라믹 소재로 이루어진다. 따라서, 본 발명의 금속 소재는 알루미늄(Al), 마그네슘(Mg), 아연(Zn), 티타늄(Ti) 소재 중 어느 하나일 수 있다. 또한 세라믹 소재는 탄화규소, 질화규소, 알루미나, 지르코니아 소재 중 어느 하나일 수 있다. 상기 산화알루미늄 피막층(110)은 상기 스테이지의 기재가 알루미늄 기재일 경우 아노다이징 처리를 통하여 이루어진 피막층이다. 또한, 상기 작업 스테이지의 표면은 나란히 이격 배치되어 돌출된 복수개의 엠보싱부(105)가 형성된다. The work stage substrate 102 is made of a metal or ceramic material. Therefore, the metal material of the present invention may be any one of aluminum (Al), magnesium (Mg), zinc (Zn), and titanium (Ti) materials. In addition, the ceramic material may be any one of silicon carbide, silicon nitride, alumina, and zirconia materials. The aluminum oxide coating layer 110 is a coating layer made through an anodizing treatment when the substrate of the stage is an aluminum substrate. In addition, a plurality of embossing portions 105 protruding from the side surfaces of the work stage are arranged to be formed.

상기 작업스테이지를 일정 기간 사용하게 되면, 표면에 마모가 발생하게 되어서, 기판의 분리 시 정전기가 대량 발생 할 수 있다. 따라서, 손상된 작업스테이지의 표면을 대전방지 코팅을 실시하여, 정전기의 발생을 저감시킬 필요 가 있다. When the work stage is used for a period of time, abrasion occurs on the surface, and a large amount of static electricity may be generated when the substrate is separated. Therefore, it is necessary to reduce the generation of static electricity by applying an antistatic coating to the surface of the damaged work stage.

이는 작업 스테이지 상에서 이송되거나 작업되는 기판이, 작업 스테이지에서부터의 진공 흡착 및 흡착 해제를 반복하면서, 일부의 작업스테이지 표면이 마찰에 의해 손상되는 현상이 발생하기 때문이다. This is because a substrate to be transported or operated on the work stage repeats vacuum adsorption and desorption from the work stage, and some work stage surfaces are damaged by friction.

이 경우, 작업스테이지 표면은 상기한 바와 같이 복수개의 이격된 엠보싱부(105)가 형성되어 있는데, 상기 엠부싱부 중 일부분(105a)에 손상이 발생하게 된다. In this case, a plurality of spaced apart embossing portions 105 are formed on the surface of the work stage as described above, and damage is caused to a portion 105a of the embossing portions.

상기 손상으로 인하여, 엠보싱부가 마모되어 손상된 엠보싱부와 손상되지 않은 엠보싱부 사이에 높이 차이가 발생하게 되며 알루미늄 기재의 경우 산화알루미늄 피막이 벗겨지는 현상이 발생하게 되어 높이 차이 및 반사율 차이가 발생하게 된다. Due to the damage, a height difference occurs between the embossed portion which is worn and damaged and the embossed portion that is not damaged, and an aluminum oxide film is peeled off in the case of an aluminum substrate, resulting in a difference in height and reflectance.

따라서 손상된 엠보싱부 상면을 보수용 용액을 도포하지 않고 대전방지 코팅을 실시하게 되면, 작업 스테이지의 평탄도가 적정수준을 벗어나게 되어 진공흡착 시 기판 평탄도의 왜곡이 발생하여 제품의 회로 패턴 불량을 가져올 수 있다. 산화알루미늄 피막이 손상된 경우 알루미늄이 노출되어 손상되지 않은 엠보싱부와 비교하여 반사율이 높아지면서 광의 반사에 의해 기판의 회로 패턴 불량을 야기 시킬 수 있으며, 금속성 알루미늄으로 인해 급격한 방전이 발생하여 기판의 파손이나 회로 불량을 가져 올 수 있다.Therefore, if an antistatic coating is applied to the damaged top surface of the embossed part without applying a repair solution, the flatness of the work stage will exceed the appropriate level, resulting in distortion of the flatness of the substrate during vacuum adsorption, resulting in defective product circuit patterns. Can. When the aluminum oxide film is damaged, the aluminum is exposed and the reflectance is increased as compared with the undamaged embossed portion, which may cause a defect in the circuit pattern of the substrate due to the reflection of light. It can bring bad.

상기 보수용 용액 조성물은, 본 발명의 바람직한 실시예의 손상된 작업스테이지의 보수용 용액 조성물과 동일하므로 이에 대한 상세한 설명은 생략한다. The repair solution composition is the same as the repair solution composition of the damaged work stage of the preferred embodiment of the present invention, so detailed description thereof will be omitted.

이 단계(S12)에서, 상기 보수용 용액은 손상된 엠보싱부의 표면(105a)에 도포된다. 상기 단계는 정밀 디스펜서를 이용하여 필요한 위치에서 도포하도록 할 수 있다. 정밀 디스펜서를 이용하는 경우에는 손상 부위 주변의 오염을 최소화함과 동시에 손상부위를 특정하여 보수가 가능하며, 동일한 양을 코팅할 수 있어서 정확한 높이로 손상부분을 복구 할 수 있다.In this step (S12), the repair solution is applied to the surface 105a of the damaged embossed portion. The above step can be applied at a required position using a precision dispenser. In the case of using a precision dispenser, it is possible to repair the damage by specifying the damage area while minimizing the contamination around the damaged area, and by coating the same amount, it is possible to restore the damaged part to the correct height.

이와 달리, 붓이나 주사기 등의 공지된 다른 수단을 이용해 도포하는 경우에도 본 발명에 포함되는 것은 당연하다. On the other hand, it is natural that the present invention is included even when applied using other known means such as a brush or a syringe.

본 발명의 손상된 작업스테이지의 보수용 용액 조성물로 이루어진 보수용 용액은 작업 스테이지와의 부착성이 우수하고, 용제 내식성이 우수하여 쉽게 제거되지 않고, 경도가 높아서 내구성이 우수하다. 또한, 작업스테이지가 장비에 장착된 상태에서 보수가 가능하여서 작업성 또한 우수하다. The repair solution composed of the repair solution composition of the damaged work stage of the present invention is excellent in adhesion to the work stage, solvent corrosion resistance is not easily removed, high hardness and excellent durability. In addition, it is excellent in workability because it can be repaired while the work stage is mounted on the equipment.

이 경우, 손상된 엠보싱부의 높이에 맞추어 보수용 용액을 도포하는 단계에서, 보수용 용액을 1 μm 내지 20 μm 높이로 도포할 수 있다. In this case, in the step of applying the repair solution to the height of the damaged embossing portion, the repair solution may be applied to a height of 1 μm to 20 μm.

한편, 도 3 및 도 4b에 도시된 바와 같이, 상기 보수용 용액을 도포하기 이전에, 경면화 제거시트를 이용하여 경면화제거 및 표면조도를 복원하는 전처리 단계를 거칠 수 있다. Meanwhile, as shown in FIGS. 3 and 4B, before applying the repair solution, a pretreatment step of removing the mirror surface and restoring the surface roughness using a mirror surface removal sheet may be performed.

상기 경면화제거시트는, 5 μm 내지 50 μm의 입자 사이즈를 가지는 알루미나, 실리콘카바이드, 가넷, 지르코늄 중 선택된 적어도 하나를 포함한다. 또한 상기 단계에서 상기 경면화제거시트로 작업시에 작업 스테이지의 손상된 부분(105a)의 상면이 표면조도가 0.5 μm 내지 1.0 μm 가 되도록 하는 것이 바람직한데, 이는 표면조도가 상기 범위 일 때 도포된 보수용 용액의 부착력이 우수하기 때문이다. The mirror surface removal sheet includes at least one selected from alumina, silicon carbide, garnet, and zirconium having a particle size of 5 μm to 50 μm. In addition, it is preferable to make the surface of the damaged part 105a of the work stage to have a surface roughness of 0.5 μm to 1.0 μm when working with the mirror surface removal sheet in the above step, which is applied when the surface roughness is within the above range. This is because the adhesion of the solution is excellent.

또한, 도 4c와 같이 상기 보수용 용액을 도포하고 난 이후에, 도 3 및 도 4d에 도시된 바와 같이, 상기 도포된 보수용 용액을 보호하는 보호용 용액을 도포하는 단계(S13)를 포함할 수 있다. 이에 따라서 보호층(125)이 형성될 수 있다. In addition, after applying the repair solution as shown in Figure 4c, as shown in Figures 3 and 4d, may include the step of applying a protective solution to protect the applied repair solution (S13). have. Accordingly, the protective layer 125 may be formed.

상기 보호용 용액을 이루는 용액 조성물은, 용매와, 무기물을 포함할 수 있다. The solution composition constituting the protective solution may include a solvent and an inorganic material.

용매는, 알코올, 다이뷰틸에테르, 이소프로필에테르, 에틸에테르, 다이메칠카보네이트, 중 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다. The solvent may include at least one selected from alcohol, dibutyl ether, isopropyl ether, ethyl ether, and dimethyl carbonate.

또한, 무기물은, 규소, 질소 및 수소로 이루어진 무기화합물, 알콕시실란, 콜로이달실리카 중 선택된 적어도 하나 일 수 있다. In addition, the inorganic material may be at least one selected from inorganic compounds consisting of silicon, nitrogen, and hydrogen, alkoxysilanes, and colloidal silica.

상기 보호용 용액을 도포하는 단계를 통하여, 보수용 용액이 도포된 층을 보호하며 오염이나 파손을 방지하여 내구성을 더 향상 시킬 수 있다. Through the step of applying the protective solution, it is possible to further improve durability by protecting the layer coated with the repair solution and preventing contamination or damage.

이 경우 상기 무기물의 함량은 전체 보호층 용액의 5wt% 내지 20wt%일 수 있다. 상기 함량이 5wt% 미만인 경우 보수용 용액이 도포된 층을 보호하기 위한 충분한 두께가 형성되지 못하여 내구성이 저하되며 20wt% 이상인 경우 경화시간이 오래 걸리고 용액의 점도 상승으로 인해 두께 조절이 어렵다는 문제점이 있기 때문이다 In this case, the content of the inorganic material may be 5wt% to 20wt% of the total protective layer solution. If the content is less than 5wt%, there is a problem that durability is deteriorated because a sufficient thickness is not formed to protect the layer to which the repair solution is applied. Because

본 발명의 또 다른 측면에서의 손상된 작업스테이지의 대전방지 코팅방법(S100)은, 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 손상된 작업스테이지 보수 단계(S110) 이후에, 작업 스테이지 상면에 대전방지 코팅액을 코팅하는 단계(S120)를 포함한다. In another aspect of the present invention, an antistatic coating method (S100) of a damaged work stage, as shown in FIG. 5, after the damaged work stage repair step (S110), coats an antistatic coating solution on the upper surface of the work stage. It includes a step (S120).

상기 손상된 작업스테이지 보수 단계(S110)는, 도 3에 기재된 바와 같이, 보수용 용액을 작업스테이지 상에 도포하는 단계(S12)를 거칠 수 있다. 또한, 보수용 용액을 도포하는 단계 이전에, 상기 작업 스테이지의 손상된 부분을 전처리하는 단계(S11)를 거칠 수 있고, 보수용 용액을 도포하는 단계 이후에 보호용 용액을 도포하는 단계(S13)를 거칠 수 있다. 상기 단계들은 도 3 및 도 4a 및 도 4d를 설명하는 내용과 동일하므로 이에 대한 상세한 설명은 생략한다. The damaged work stage repair step (S110), as described in Figure 3, may be subjected to the step (S12) of applying a repair solution on the work stage. In addition, prior to the step of applying the repair solution, the damaged portion of the work stage may be pretreated (S11), and after the step of applying the repair solution, the protection solution may be applied (S13). Can. Since the steps are the same as those described with reference to FIGS. 3 and 4A and 4D, detailed description thereof will be omitted.

대전방지 코팅액을 코팅하는 단계(S120)는, 상기 작업스테이지 상면의 면저항이 106 Ω/□ 내지 109 Ω/□ 이 되도록 상기 작업 스테이지 상면에 대전방지 코팅액을 코팅한다.In the step of coating the antistatic coating solution (S120), the antistatic coating solution is coated on the upper surface of the work stage so that the surface resistance of the upper surface of the work stage is 10 6 Ω/□ to 10 9 Ω/□.

상기 코팅액 코팅 단계는 여러 방법이 사용될 수 있다. The coating liquid coating step may be used in a number of ways.

그 중 하나의 예로서, 도 6은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 대전방지 코팅액을 코팅하는 방법의 각 단계를 도시한 흐름도이다. As one example, FIG. 6 is a flowchart showing each step of a method of coating an antistatic coating solution according to a preferred embodiment of the present invention.

도 6에 도시된 바와 같이, 대전방지 코팅액을 코팅하는 방법은, 대전방지코팅액을 제조하는 단계(S210)와, 스폰지롤에 대전방지코팅액을 적시는 단계(S220)와, 대전방지코팅액을 적신 스폰지롤을 작업 스테이지에 접촉시키는 단계(S230)와, 상기 작업 스테이지를 건조(S240)시키는 단계를 포함한다.As shown in Figure 6, the method of coating the antistatic coating solution, the step of preparing the antistatic coating solution (S210), the step of soaking the antistatic coating solution on the sponge roll (S220), and the sponge soaking the antistatic coating solution And contacting the roll to the work stage (S230) and drying the work stage (S240).

대전방지코팅액을 제조하는 단계(S210)는, 용매에 탄소나노튜브(CNT)를 분산한 후, 무기졸 바인더와, 경화제를 혼합하여 제조한다.Step (S210) for preparing an antistatic coating solution is prepared by dispersing carbon nanotubes (CNT) in a solvent, and then mixing an inorganic sol binder and a curing agent.

용매는 물 또는 알코올 등 유기용매일 수 있다. The solvent may be an organic solvent such as water or alcohol.

상기 탄소나노튜브로는 단일벽 탄소나노튜브, 이중벽 탄소나노튜브, 다중벽 탄소나노튜브 및 다발형 탄소나노튜브 및 이들의 조합으로부터 선택될 수 있다.The carbon nanotube may be selected from single-walled carbon nanotubes, double-walled carbon nanotubes, multi-walled carbon nanotubes and multi-walled carbon nanotubes, and combinations thereof.

또한 산처리 등에 의해 표면이 개질된 탄소나노튜브나, 금속성 및 반도체성 등 서로 다른 속성이 분리된 탄소나노튜브가 선택될 수 있다.In addition, carbon nanotubes whose surface has been modified by acid treatment or the like, or carbon nanotubes having different properties such as metallicity and semiconductority, may be selected.

바인더는 무기졸을 포함한다. 상기 무기졸은 알루미나졸, 티타니아졸, ZnO졸, CeO2졸, MgO졸 및 실리카졸 중 선택된 적어도 하나 이상을 포함할 수 있다. The binder includes an inorganic sol. The inorganic sol may include at least one selected from alumina sol, titania sol, ZnO sol, CeO 2 sol, MgO sol, and silica sol.

상기 무기졸은 작업 스테이지에 코팅되면, 무기겔로 경화될 수 있다. 상기 무기겔은 대전방지막의 내구성과 내용제성을 부여한다. 또한, 상기 무기겔은 자외선에 의하여 파손되지 않는다.When the inorganic sol is coated on a working stage, it can be cured with an inorganic gel. The inorganic gel provides durability and solvent resistance of the antistatic film. In addition, the inorganic gel is not damaged by ultraviolet rays.

경화제는 상온에서 경화가 가능하도록 한다. 상기 경화제는 지르코늄아세테이트, 지르코늄클로라이드, 메타크릴옥시실란, 메타크릴옥시프로필 트리메톡시실란, 메타크릴옥시프로필 트리에톡시실란, N-(3-메타크릴옥시 하이드록시프로필)-3-아미노프로필트리에톡시실란, 메타크릴로일옥시프로필 트리스트리메틸실릴옥시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 프로필메타크릴레이트, n-부틸메타아크릴레이트 중 선택된 적어도 하나 이상을 포함한다. 이들은 작업 스테이지 표면에서 상온의 수분과 결합하면서 상기 무기졸이 열처리 없이도 상온에서 네트워크를 형성하여 경화되도록 한다.The curing agent allows curing at room temperature. The curing agent is zirconium acetate, zirconium chloride, methacryloxysilane, methacryloxypropyl trimethoxysilane, methacryloxypropyl triethoxysilane, N-(3-methacryloxy hydroxypropyl)-3-aminopropyl tree Among ethoxysilane, methacryloyloxypropyl tristrimethylsilyloxysilane, vinyl tris(2-methoxyethoxy)silane, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, n-butyl methacrylate It includes at least one selected. They combine with moisture at room temperature on the working stage surface, allowing the inorganic sol to cure by forming a network at room temperature without heat treatment.

상기 경화제는 상기 무기졸 1g 당 0.05wt% 내지 2wt%의 무게 비율로 첨가되는 것이 바람직하다. 상기 경화제가 0.05wt% 미만의 무게 비율을 가진 경우에는, 박막의 불균일 현상이 발생하거나 완전한 경화가 이루어지지 않으며 내구성이 저하된다. 또한, 경화제가 2wt%를 초과하는 무게 비율을 가질 경우에 면저항이 높아지며 대전방지 효과가 급격히 나빠진다. The curing agent is preferably added in a weight ratio of 0.05wt% to 2wt% per 1g of the inorganic sol. When the curing agent has a weight ratio of less than 0.05wt%, non-uniformity occurs in the thin film or complete curing does not occur and durability is deteriorated. In addition, when the curing agent has a weight ratio exceeding 2wt%, the sheet resistance becomes high and the antistatic effect rapidly deteriorates.

한편, 상기 무기졸은 대전방지코팅액 총량을 기준으로 5wt% 내지 30wt%를 가지는 것이 바람직하다. 상기 무기졸 함량이 대전방지코팅액 총량의 5wt% 미만이면 내용제성이 저하되고, 자외선(UV)에 대한 내구성이 저하된다. 상기 무기졸 함량이 대전방지코팅액 총량의 30wt% 이상이면 내용제성은 향상되나 대전방지효과가 나빠지며 코팅막에 크랙이 발생할 수 있다.Meanwhile, the inorganic sol preferably has 5 to 30 wt% based on the total amount of the antistatic coating solution. If the content of the inorganic sol is less than 5 wt% of the total amount of the antistatic coating solution, the solvent resistance decreases and durability against ultraviolet light (UV) decreases. When the content of the inorganic sol is 30 wt% or more of the total amount of the antistatic coating solution, the solvent resistance is improved, but the antistatic effect is deteriorated and cracks may occur in the coating film.

그 후에, 물 또는 알코올 등 유기용매에 CNT를 분산시킨 분산용액과 무기졸 바인더와, 경화제를 혼합한 다음, 상기 혼합용액을 5분 내지 20분간 교반 및 초음파 처리하여 대전방지코팅액이 완성될 수 있다. 상기 초음파 공정을 통하여 상기 용액을 이루는 구성요소가 충분히 섞어져서, 상온경화가 가능하도록 개질된다.Thereafter, a dispersion solution of CNTs dispersed in an organic solvent such as water or alcohol, an inorganic sol binder, and a curing agent are mixed, and then the mixed solution is stirred and sonicated for 5 minutes to 20 minutes to complete an antistatic coating solution. . Through the ultrasonic process, the components constituting the solution are sufficiently mixed and modified to allow room temperature curing.

그 후에, 대전방지코팅액을 스폰지롤에 적시는 단계(S220)를 거친다. Thereafter, a step (S220) of applying the antistatic coating solution to the sponge roll is performed.

상기 스폰지롤은 폴리올레핀(PO), 폴리우레탄(PU) 소재의 연속기공다공질 롤러일 수 있다. 이러한 롤러를 사용하게 되면, 작업 스테이지 표면을 균일하게 코팅을 행할 수 있게 된다. The sponge roll may be a continuous porous porous roller made of polyolefin (PO) or polyurethane (PU). When such a roller is used, it is possible to uniformly coat the working stage surface.

그 후에 상기 스폰지롤을 상기 작업 스테이지 상에 접촉시켜서 대전방지코팅층을 형성시킨다(S230). Thereafter, the sponge roll is brought into contact with the work stage to form an antistatic coating layer (S230).

그 후에, 상온에서 30분 내지 60분 건조하게 되면, 작업 스테이지 표면에 대전방지코팅층이 형성된다(S240). After that, when dried at room temperature for 30 to 60 minutes, an antistatic coating layer is formed on the surface of the work stage (S240).

이 경우, 작업 스테이지 표면의 면 저항을 106 Ω/□ ~ 109 Ω/□가 되도록 조절할 수 있다. 상기 면저항이 작업 스테이지에서 정전기 발생을 방지하기 위한 적절한 수준이다. 만약 그 면저항이 109 Ω/□를 초과하면, 전기 전도도가 우수하지 못하여 상기 스테이지 상의 정전기 전하를 확산하는 효과가 작으며, 그 면 저항이 106Ω/□ 미만이라면 급속한 방전현상으로 인접하는 회로와 부품에 영향을 미칠 수 있다. In this case, the surface resistance of the work stage surface can be adjusted to be 10 6 Ω/□ to 10 9 Ω/□. The sheet resistance is an appropriate level for preventing the generation of static electricity in the work stage. If the sheet resistance exceeds 10 9 Ω/□, the electrical conductivity is not excellent, so the effect of spreading the static charge on the stage is small, and if the sheet resistance is less than 10 6 Ω/□, the adjacent circuit is rapidly discharged. And parts.

도 7은 본 발명의 실시예에 따른 대전방지된 작업 스테이지(100)를 도시한 단면도이다. 도 7에 도시된 바와 같이, 본 발명의 대전방지된 작업 스테이지(100)는 작업 스테이지 기재(102)와, 산화알루미늄 피막층(110)과, 보수층(120)과, 보호층(125)과, 대전방지층(200)을 포함한다. 7 is a cross-sectional view showing an antistatic work stage 100 according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 7, the antistatic work stage 100 of the present invention includes a work stage substrate 102, an aluminum oxide coating layer 110, a repair layer 120, a protective layer 125, and an electrification. The prevention layer 200 is included.

상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만 해당 기술분야의 숙련된 작업자라면 하기의 청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.As described above, although described with reference to preferred embodiments of the present invention, those skilled in the art variously modify and change the present invention without departing from the spirit and scope of the present invention as set forth in the claims below. You can understand that you can.

<실시예><Example>

산화알루미늄 피막이 손상된 엠보싱부를 가지는 작업스테이지의 상면을 경면화제거시트를 이용하여 표면조도가 0.5 μm 내지 1.0 μm 가 되도록 전처리를 행한 후 보수용 용액을 정밀디스펜서 장비를 이용하여 엠보싱부 상면에 도포하였다. 이 후 보호용 용액을 정밀디스펜서 장비를 이용하여 보수용 용액이 도포된 엠보싱부 상면에 도포하여 손상된 작업스테이지를 보수하였다After the pretreatment was performed so that the surface roughness was 0.5 μm to 1.0 μm using a mirror surface removal sheet on the top surface of the work stage having an aluminum oxide film damaged embossing part, a repair solution was applied to the top surface of the embossing part using a precision dispenser equipment. After that, the damaged solution stage was repaired by applying a protective solution to the upper surface of the embossing part where the repair solution was applied using a precision dispenser equipment.

<비교예><Comparative Example>

상기 손상된 작업스테이지는 동일하며 손상된 엠보싱부에 종래의 아노다이징펜을 칠하여 손상된 작업스테이지를 보수하였다.The damaged work stage was the same, and a damaged anodizing pen was applied to the damaged embossing part to repair the damaged work stage.

<특성의 평가><Evaluation of characteristics>

측정항목 및 측정방법은 다음과 같다.Measurement items and measurement methods are as follows.

내용제성: 보수된 작업스테이지의 표면을 알코올 와이퍼를 이용하여 세척하여 보수부분의 제거 상태를 평가하였으며 양호(◎), 보통(△), 불량(X)으로 구분하였다.Solvent resistance: The surface of the repaired work stage was washed with an alcohol wiper to evaluate the removal status of the repair part, and classified into good (◎), normal (△), and poor (X).

마찰내구성: 보수된 작업스테이지의 표면을 오일스톤을 이용하여 마찰하여 보수부분의 내구성상태를 평가하였으며 양호(◎), 보통(△), 불량(X)으로 구분하였다.Friction durability: The durability of the repaired part was evaluated by rubbing the surface of the repaired work stage using oil stone, and classified into good (◎), normal (△), and bad (X).

보수도포막 두께 균일도: 3D현미경을 통해 보수도포막의 두께를 평가하였다(두께 균일도 (%) = ). Uniformity of repair coating film thickness: The thickness of the repair coating film was evaluated through a 3D microscope (thickness uniformity (%) = ).

반사율: 분광측색계를 이용하여 보수된 작업스테이지의 반사율을 측정하였다.Reflectance: The reflectance of the repaired work stage was measured using a spectrophotometer.

구분division 내용제성Solvent resistance 마찰내구성Friction durability 도포막 두께 균일도(%)Uniformity of coating film thickness (%) 반사율(%)reflectivity(%) 실시예Example ◎◎ ◎◎ 80.080.0 5.55.5 비교예Comparative example XX XX 61.561.5 5.55.5

100: 작업 스테이지
102: 작업 스테이지 기재
105: 엠보싱부
110: 산화알루미늄 피막층
120: 보수층
125: 보호층
200: 대전방지층100: work stage
102: work stage description
105: embossing unit
110: aluminum oxide coating layer
120: conservative layer
125: protective layer
200: antistatic layer

Claims (16)

알코올, 톨루엔, 메틸에틸케톤, 사이클로헥사논 중 선택된 적어도 하나를 포함하는 용매;
1nm 내지 500nm의 사이즈를 가지며, 카본블랙, 케첸블랙, 아세틸렌블랙, 플러렌, 그래핀 및 탄소나노튜브 중 선택된 적어도 하나를 포함하는 흑색안료;
분산제; 및
다관능성 아크릴, 다관능성 우레탄, 및 페녹시계 레진 중 선택된 적어도 하나인 유기계 바인더와, 알루미나졸, 실리카졸, 중 이산화티탄졸 중 선택된 적어도 하나의 무기계 바인더가 혼합된 유무기하이브리드 바인더;
를 포함하는 손상된 작업스테이지의 보수용 용액 조성물.A solvent containing at least one selected from alcohol, toluene, methyl ethyl ketone, and cyclohexanone;
A black pigment having a size of 1 nm to 500 nm, and comprising at least one selected from carbon black, ketjen black, acetylene black, fullerene, graphene, and carbon nanotubes;
Dispersant; And
An organic-inorganic hybrid binder in which at least one organic binder selected from polyfunctional acrylic, polyfunctional urethane, and phenoxy resin is mixed with at least one inorganic binder selected from aluminasol, silica sol, and titanium dioxide among;
Solution composition for repair of a damaged work stage comprising a. 제1항에 있어서,
상기 흑색안료의 함량은 전체 보수용 용액의 0.5wt% 내지 3wt%인 것을 특징으로 하는 손상된 작업스테이지의 보수용 용액 조성물.According to claim 1,
The content of the black pigment is 0.5wt% to 3wt% of the total repair solution, the repair solution composition of the damaged work stage, characterized in that. 제1항에 있어서,
상기 유무기하이브리드 바인더의 함량은 전체 보수용 용액의 1wt% 내지 20wt%인 것을 특징으로 하는 손상된 작업스테이지의 보수용 용액 조성물.According to claim 1,
The content of the organic/inorganic hybrid binder is 1 wt% to 20 wt% of the total repair solution. 작업 스테이지의 손상된 부분 상면에, 제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 손상된 작업스테이지의 보수용 용액 조성물로 이루어진 보수용 용액을 도포하는 단계를 포함하는 손상된 작업스테이지 보수 방법.A method for repairing a damaged work stage, comprising applying a repair solution comprising a repair solution composition of the damaged work stage of any one of claims 1 to 3 to a damaged upper surface of the work stage. 제4항에 있어서,
상기 작업 스테이지의 상면은, 돌출된 엠보싱부가 서로 이격 배치되도록 형성되고,
상기 보수용 용액을 도포하는 단계는, 손상된 엠보싱부 상면에 상기 보수용 용액을 도포하는 것을 특징으로 하는 손상된 작업스테이지 보수 방법.According to claim 4,
The upper surface of the work stage is formed so that the protruding embossing parts are spaced apart from each other,
The step of applying the repair solution, the damaged work stage repair method, characterized in that for applying the repair solution on the upper surface of the damaged embossing. 제4항에 있어서,
상기 보수용 용액을 도포하는 단계는, 디스펜서로 상기 보수용 용액 조성물을 도포하는 것을 특징으로 하는 손상된 작업스테이지 보수 방법.According to claim 4,
Step of applying the repair solution, damaged work stage repair method, characterized in that for applying the repair solution composition with a dispenser. 제4항에 있어서,
상기 보수용 용액을 도포하는 단계는, 1 μm 내지 20 μm 높이를 도포하는 것을 특징으로 하는 손상된 작업스테이지 보수 방법.According to claim 4,
The step of applying the repair solution, damaged work stage repair method characterized in that to apply a height of 1 μm to 20 μm. 제4항에 있어서,
상기 보수용 용액을 도포하는 단계 이후에,
상기 도포된 보수용 용액을 보호하는 보호용 용액을 도포하는 단계를 포함하고,
상기 보호용 용액은:
알코올, 다이뷰틸에테르, 이소프로필에테르, 에틸에테르, 다이메칠카보네이트, 중 선택된 적어도 하나를 포함하는 용매; 및
규소, 질소 및 수소로 이루어진 무기화합물, 알콕시실란, 콜로이달실리카 중 선택된 적어도 하나의 무기물;
을 포함하는 손상된 작업스테이지 보수 방법.According to claim 4,
After the step of applying the repair solution,
Comprising the steps of applying a protective solution for protecting the applied repair solution,
The protective solution is:
A solvent containing at least one selected from alcohol, dibutyl ether, isopropyl ether, ethyl ether, and dimethyl carbonate; And
At least one inorganic material selected from inorganic compounds consisting of silicon, nitrogen and hydrogen, alkoxysilanes and colloidal silica;
Damaged work stage repair method comprising a. 제8항에 있어서,
상기 보호층 용액 중 무기물의 함량은 전체 보호층 용액의 5wt% 내지 20wt%인 것을 특징으로 하는 손상된 작업스테이지 보수 방법.The method of claim 8,
Damaged work stage repair method, characterized in that the content of the inorganic material in the protective layer solution is 5wt% to 20wt% of the total protective layer solution. 제4항에 있어서,
상기 보수용 용액을 도포하는 단계 이전에,
5 μm 내지 50 μm의 입자 사이즈를 가지는 알루미나, 실리콘카바이드, 가넷, 지르코늄 중 선택된 적어도 하나를 포함하는 경면화제거 시트로 손상된 작업 스테이지의 상면의 표면조도가 0.5 μm 내지 1.0 μm 가 되도록 상기 작업 스테이지의 상면을 전처리 하는 단계;를 포함하는 손상된 작업스테이지 보수 방법.According to claim 4,
Before the step of applying the repair solution,
The surface of the upper surface of the damaged work stage is 0.5 μm to 1.0 μm with a mirror surface removal sheet comprising at least one selected from alumina, silicon carbide, garnet, and zirconium having a particle size of 5 μm to 50 μm. Pre-processing the upper surface; Damaged work stage repair method comprising a. 작업 스테이지의 손상된 부분 상면에, 제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 손상된 작업스테이지의 보수용 용액 조성물로 이루어진 보수용 용액을 도포하는 단계;
상기 보수용 용액을 도포하는 단계 이후에, 상기 작업스테이지 상면의 면저항이 106Ω/□ 내지 109Ω/□ 이 되도록 상기 작업 스테이지 상면에 대전방지 코팅액을 코팅하는 단계;를 포함하는 손상된 작업스테이지의 대전방지 코팅방법.Applying a repair solution consisting of a repair solution composition of any one of claims 1 to 3 to the damaged part upper surface of the work stage;
After the step of applying the repair solution, coating the antistatic coating solution on the upper surface of the work stage so that the surface resistance of the upper surface of the work stage is 10 6 Ω/□ to 10 9 Ω/□; Anti-static coating method. 제11항에 있어서,
상기 작업 스테이지의 상면은, 돌출된 엠보싱부가 서로 이격 배치되도록 형성되고,
상기 보수용 용액을 도포하는 단계는, 손상된 엠보싱부 상면에 상기 보수용 용액을 도포하는 것을 특징으로 하는 손상된 작업스테이지의 대전방지 코팅방법.The method of claim 11,
The upper surface of the work stage is formed so that the protruding embossing parts are spaced apart from each other,
The step of applying the repair solution, the anti-static coating method of a damaged work stage, characterized in that for applying the repair solution on the upper surface of the damaged embossing. 제11항에 있어서,
상기 보수용 용액을 도포하는 단계는, 디스펜서로 상기 보수용 용액 조성물을 도포하는 것을 특징으로 하는 손상된 작업스테이지의 대전방지 코팅방법.The method of claim 11,
The step of applying the repair solution, the anti-static coating method of the damaged work stage, characterized in that for applying the repair solution composition with a dispenser. 제11항에 있어서,
상기 보수용 용액을 도포하는 단계는, 1 μm 내지 20 μm 높이를 도포하는 것을 특징으로 하는 손상된 작업스테이지의 대전방지 코팅방법. The method of claim 11,
The step of applying the repair solution, anti-static coating method of a damaged work stage, characterized in that to apply a height of 1 μm to 20 μm. 제11항에 있어서,
상기 보수용 용액을 도포하는 단계와, 상기 대전방지 코팅액을 코팅하는 단계 사이에,
상기 도포된 보수용 용액을 보호하는 보호용 용액을 도포하는 단계를 포함하고,
상기 보호용 용액은:
알코올, 다이뷰틸에테르, 이소프로필에테르, 에틸에테르, 다이메칠카보네이트, 중 선택된 적어도 하나를 포함하는 용매; 및
규소, 질소 및 수소로 이루어진 무기화합물, 알콕시실란, 콜로이달실리카 중 선택된 적어도 하나의 무기물;
을 포함하고,
상기 보호층 용액 중 무기물의 함량은 전체 보호층 용액의 5wt% 내지 20wt%인 것을 특징으로 하는 손상된 작업스테이지의 대전방지 코팅방법. The method of claim 11,
Between the step of applying the repair solution and the step of coating the antistatic coating solution,
Comprising the steps of applying a protective solution for protecting the applied repair solution,
The protective solution is:
A solvent containing at least one selected from alcohol, dibutyl ether, isopropyl ether, ethyl ether, and dimethyl carbonate; And
At least one inorganic material selected from inorganic compounds consisting of silicon, nitrogen and hydrogen, alkoxysilanes and colloidal silica;
Including,
The content of the inorganic substance in the protective layer solution is 5 wt% to 20 wt% of the total protective layer solution. 제11항에 있어서,
상기 보수용 용액을 도포하는 단계 이전에,
5 μm 내지 50 μm의 입자 사이즈를 가지는 알루미나, 실리콘카바이드, 가넷, 지르코늄 중 선택된 적어도 하나를 포함하는 경면화제거 시트로 작업 스테이지의 손상된 부분의 상면이 표면조도가 0.5 μm 내지 1.0 μm 가 되도록 상기 작업 스테이지의 상면을 전처리하는 단계;를 포함하는 손상된 작업스테이지 대전방지코팅 방법.The method of claim 11,
Before the step of applying the repair solution,
The above-described work is such that the surface of the damaged portion of the work stage has a surface roughness of 0.5 μm to 1.0 μm with a mirror-removing sheet comprising at least one selected from alumina, silicon carbide, garnet, and zirconium having a particle size of 5 μm to 50 μm. Pre-treating the upper surface of the stage; Damaged work stage anti-static coating method comprising a.
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