KR20100097658A - 옥심에스테르 화합물 및 상기 화합물을 함유하는 광중합 개시제 - Google Patents

옥심에스테르 화합물 및 상기 화합물을 함유하는 광중합 개시제 Download PDF

Info

Publication number
KR20100097658A
KR20100097658A KR1020107010726A KR20107010726A KR20100097658A KR 20100097658 A KR20100097658 A KR 20100097658A KR 1020107010726 A KR1020107010726 A KR 1020107010726A KR 20107010726 A KR20107010726 A KR 20107010726A KR 20100097658 A KR20100097658 A KR 20100097658A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
compound
carbon atoms
atom
acid
Prior art date
Application number
KR1020107010726A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101418735B1 (ko
Inventor
다이스케 사와모토
노부히데 토미나가
Original Assignee
가부시키가이샤 아데카
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 가부시키가이샤 아데카 filed Critical 가부시키가이샤 아데카
Publication of KR20100097658A publication Critical patent/KR20100097658A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101418735B1 publication Critical patent/KR101418735B1/ko

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C251/00Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
    • C07C251/32Oximes
    • C07C251/62Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C251/00Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
    • C07C251/32Oximes
    • C07C251/62Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified
    • C07C251/64Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified by carboxylic acids
    • C07C251/66Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified by carboxylic acids with the esterifying carboxyl groups bound to hydrogen atoms, to acyclic carbon atoms or to carbon atoms of rings other than six-membered aromatic rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C07C323/23Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton
    • C07C323/46Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having at least one of the nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, further bound to other hetero atoms
    • C07C323/47Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having at least one of the nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, further bound to other hetero atoms to oxygen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C07C323/50Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C323/62Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton
    • C07C323/63Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton the carbon skeleton being further substituted by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C391/00Compounds containing selenium
    • C07C391/02Compounds containing selenium having selenium atoms bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D209/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D209/56Ring systems containing three or more rings
    • C07D209/80[b, c]- or [b, d]-condensed
    • C07D209/82Carbazoles; Hydrogenated carbazoles
    • C07D209/86Carbazoles; Hydrogenated carbazoles with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to carbon atoms of the ring system
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D215/00Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems
    • C07D215/02Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D215/16Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D215/18Halogen atoms or nitro radicals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D303/00Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D303/02Compounds containing oxirane rings
    • C07D303/12Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms
    • C07D303/16Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms by esterified hydroxyl radicals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D303/00Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D303/02Compounds containing oxirane rings
    • C07D303/12Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms
    • C07D303/18Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms by etherified hydroxyl radicals
    • C07D303/20Ethers with hydroxy compounds containing no oxirane rings
    • C07D303/22Ethers with hydroxy compounds containing no oxirane rings with monohydroxy compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D307/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D307/77Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D307/91Dibenzofurans; Hydrogenated dibenzofurans
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D327/00Heterocyclic compounds containing rings having oxygen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D327/02Heterocyclic compounds containing rings having oxygen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms one oxygen atom and one sulfur atom
    • C07D327/06Six-membered rings
    • C07D327/08[b,e]-condensed with two six-membered carbocyclic rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D333/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
    • C07D333/50Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D333/76Dibenzothiophenes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D345/00Heterocyclic compounds containing rings having selenium or tellurium atoms as the only ring hetero atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/50Organo-phosphines
    • C07F9/5022Aromatic phosphines (P-C aromatic linkage)
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2603/00Systems containing at least three condensed rings
    • C07C2603/02Ortho- or ortho- and peri-condensed systems
    • C07C2603/04Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings
    • C07C2603/06Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings containing at least one ring with less than six ring members
    • C07C2603/10Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings containing at least one ring with less than six ring members containing five-membered rings
    • C07C2603/12Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings containing at least one ring with less than six ring members containing five-membered rings only one five-membered ring
    • C07C2603/18Fluorenes; Hydrogenated fluorenes
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

본 발명의 옥심에스테르 화합물은 하기 일반식(Ⅰ)로 표시되는 것으로, 광중합 개시제로서 유용하다. 상기 옥심에스테르 화합물을 유효 성분으로 하는 광중합 개시제는 405nm이나 365nm 등의 장파장의 빛을 효율적으로 흡수해 활성화되어, 고감도를 나타낸다.
Figure pct00045

(식 중, R1 및 R2는 R11, OR11, COR11, SR11, CONR12R13 또는 CN을 나타내고, R11∼R13은 수소원자, C1∼20 알킬기, C6∼30 아릴기, C7∼30 아릴알킬기 또는 C2∼20 복소환기를 나타내고, R3 및 R4는 R11, OR11, SR11, COR11, CONR12R13, NR12COR11, OCOR11, COOR11, SCOR11, OCSR11, COSR11, CSOR11, CN, 할로겐원자 또는 수산기를 나타내며, a 및 b는 0∼4이고, X는 산소원자, 유황원자, 셀렌원자, CR31R32, CO, NR33 또는 PR34를 나타내며, R31∼R34는 R1과 동일하다.)

Description

옥심에스테르 화합물 및 상기 화합물을 함유하는 광중합 개시제{OXIME ESTERS AND PHOTOPOLYMERIZATION INITIATORS CONTAINING THE SAME}
본 발명은 감광성 조성물에 사용되는 광중합 개시제로서 유용한 신규인 옥심에스테르 화합물, 상기 옥심에스테르 화합물을 유효 성분으로 하는 광중합 개시제, 및 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물에 상기 광중합 개시제를 함유시켜 이루어지는 감광성 조성물에 관한 것이다.
감광성 조성물은 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물에 광중합 개시제를 첨가한 것이며, 이 감광성 조성물에 405nm이나 365nm의 빛을 조사함으로써 중합 경화시킬 수 있으므로, 광경화성 잉크, 감광성 인쇄판, 각종 포토레지스트 등에 사용되고 있다.
상기 감광성 조성물에 사용하는 광중합 개시제로서, 하기 특허문헌 1∼8에는 카르바졸릴 구조를 가지는 O-아실옥심 화합물이 제안되어 있다. 그러나 이들 공지의 O-아실옥심 화합물은 특히 감도의 점에서 충분히 만족할 수 있는 것은 아니었다.
일본국 공개특허공보 2001-302871호 일본국 공표특허공보 2004-534797호 일본국 공개특허공보 2005-25169호 일본국 공개특허공보 2005-128483호 일본국 공개특허공보 2005-242279호 일본국 공개특허공보 2005-242280호 일본국 공개특허공보 2006-16545호 일본국 특허공보 제3754065호
해결하고자 하는 문제점은 만족할 수 있는 감도를 가지는 광중합 개시제가 지금까지 없었다는 것이다.
따라서, 본 발명의 목적은 405nm이나 365nm 등의 장파장의 빛을 효율적으로 흡수해 활성화되는 고감도의 광중합 개시제를 제공하는 것에 있다.
본 발명은 하기 일반식(Ⅰ)로 표시되는 옥심에스테르 화합물, 및 상기 옥심에스테르 화합물을 유효 성분으로 하는 광중합 개시제를 제공함으로써 상기 목적을 달성한 것이다.
Figure pct00001
(식 중, R1 및 R2는 각각 독립적으로 R11, OR11, COR11, SR11, CONR12R13 또는 CN을 나타내고,
R11, R12 및 R13은 각각 독립적으로 수소원자, 탄소원자수 1∼20의 알킬기, 탄소원자수 6∼30의 아릴기, 탄소원자수 7∼30의 아릴알킬기 또는 탄소원자수 2∼20의 복소환기를 나타내고, 이들 알킬기, 아릴기, 아릴알킬기 및 복소환기의 수소원자는 또한 OR21, COR21, SR21, NR22R23, CONR22R23, -NR22-OR23, -NCOR22-OCOR23, -C(=N-OR21)-R22, -C(=N-OCOR21)-R22, CN, 할로겐원자, -CR21=CR22R23, -CO-CR21=CR22R23, 카르복실기, 또는 에폭시기로 치환되어 있어도 되고, R21, R22 및 R23은 각각 독립적으로 수소원자, 탄소원자수 1∼20의 알킬기, 탄소원자수 6∼30의 아릴기, 탄소원자수 7∼30의 아릴알킬기, 또는 탄소원자수 2∼20의 복소환기를 나타내며,
상기 R11, R12, R13, R21, R22 및 R23으로 표시되는 치환기의 알킬렌 부분의 메틸렌기는 불포화 결합, 에테르 결합, 티오에테르 결합, 에스테르 결합, 티오에스테르 결합, 아미드 결합 또는 우레탄 결합에 의해 1∼5회 중단되어 있어도 되고, 상기 치환기의 알킬 부분은 분기 측쇄가 있어도 되고, 환상 알킬이어도 되며, 상기 치환기의 알킬 말단은 불포화 결합이어도 되고, 또한 R12와 R13 및 R22와 R23은 각각 함께 환을 형성하고 있어도 된다.
R3 및 R4는 각각 독립적으로 R11, OR11, SR11, COR11, CONR12R13, NR12COR11, OCOR11, COOR11, SCOR11, OCSR11, COSR11, CSOR11, CN, 할로겐원자 또는 수산기를 나타내고, a 및 b는 각각 독립적으로 0∼4이다.
X는 산소원자, 유황원자, 셀렌원자, CR31R32, CO, NR33 또는 PR34를 나타내고, R31, R32, R33 및 R34는 각각 독립적으로 R11, OR11, COR11, SR11, CONR12R13 또는 CN을 나타내며,
X가 CR31R32일 때, R3 및 R4가 함께 환을 형성하고 있거나, 혹은 R3이, -X-를 통해 인접하는 벤젠환의 탄소원자의 1개와 결합하여 환 구조를 형성해도 되고,
X가 산소원자, 유황원자, 셀렌원자 또는 PR34일 때, R3은 -X-를 통해 인접하는 벤젠환의 탄소원자의 1개와 결합하여 환 구조를 형성하고 있어도 되고, 혹은 R3과 R4가 함께 환을 형성하고 있어도 되며, R31, R32, R33 및 R34는 각각 독립적으로, 인접하는 어느 한쪽의 벤젠환과 함께 환을 형성하고 있어도 된다.)
또한, 본 발명은 상기 광중합 개시제 및 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물을 함유하여 이루어지는 감광성 조성물을 제공하는 것이다.
또한, 본 발명은 상기 광중합 개시제 및 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 알칼리 현상성 화합물을 함유하여 이루어지는 알칼리 현상성 감광성 수지 조성물을 제공하는 것이다.
또한, 본 발명은 상기 알칼리 현상성 감광성 수지 조성물에 색재를 더 함유시켜 이루어지는 착색 알칼리 현상성 감광성 수지 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명에 따르면, 405nm이나 365nm 등의 장파장의 빛을 효율적으로 흡수해 활성화되는 고감도의 광중합 개시제를 제공할 수 있다.
이하, 본 발명의 옥심에스테르 화합물 및 상기 화합물을 유효 성분으로 하는 광중합 개시제에 대하여 상세하게 설명한다.
상기 일반식(Ⅰ) 중, R11, R12, R13, R21, R22, R23, R31, R32, R33 및 R34로 표시되는 알킬기로서는, 예를 들면 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, s-부틸, t-부틸, 아밀, 이소아밀, t-아밀, 헥실, 헵틸, 옥틸, 이소옥틸, 2-에틸헥실, t-옥틸, 노닐, 이소노닐, 데실, 이소데실, 운데실, 비닐, 알릴, 부테닐, 에티닐, 프로피닐, 메톡시에틸, 에톡시에틸, 프로폭시에틸, 메톡시에톡시에틸, 에톡시에톡시에틸, 프로폭시에톡시에틸, 메톡시프로필, 2-(벤조옥사졸-2'-일)에테닐 등을 들 수 있고, 그 중에서도 탄소원자수 1∼8의 알킬기가 바람직하다.
R11, R12, R13, R21, R22, R23, R31, R32, R33 및 R34로 표시되는 아릴기로서는, 예를 들면 페닐, 톨릴, 크실릴, 에틸페닐, 클로로페닐, 나프틸, 안트릴, 페난트레닐 등을 들 수 있고, 그 중에서도 탄소원자수 6∼12의 아릴기가 바람직하다.
R11, R12, R13, R21, R22, R23, R31, R32, R33 및 R34로 표시되는 아릴알킬기로서는, 예를 들면 벤질, 클로로벤질, α-메틸벤질, α,α-디메틸벤질, 페닐에틸, 페닐에테닐 등의 탄소원자수 7∼13의 아릴알킬기를 바람직하게 들 수 있다.
R11, R12, R13, R21, R22, R23, R31, R32, R33 및 R34로 표시되는 복소환기로서는, 예를 들면 피리딜, 피리미딜, 푸릴, 티에닐, 테트라하이드로푸라닐, 디옥소라닐 등의 5∼7원 복소환을 바람직하게 들 수 있다.
또한 R12와 R13이 함께 형성할 수 있는 환, R22와 R23이 함께 형성할 수 있는 환, R3과 R4가 함께 형성할 수 있는 환, R3이 -X-를 통해 인접하는 벤젠환의 탄소원자의 1개와 결합하여 형성할 수 있는 환 구조, 및 R31, R32, R33이 인접하는 벤젠환과 함께 형성할 수 있는 환으로서는, 예를 들면 시클로펜탄환, 시클로헥산환, 시클로펜텐환, 벤젠환, 피페리딘환, 모르폴린환, 락톤환, 락탐환 등의 5∼7원환을 바람직하게 들 수 있다.
또한 R11, R12, R13, R21, R22, R23, R31, R32, R33 및 R34를 치환해도 되는 할로겐원자로서는 불소, 염소, 브롬, 요오드를 들 수 있다. 또한 R11, R12, R13, R21, R22, R23, R31, R32, R33 및 R34를 치환해도 되는 복소환기로서는, 예를 들면 피리딜, 피리미딜, 푸릴, 벤조옥사졸-2-일, 테트라하이드로피라닐, 피롤리딜, 이미다졸리딜, 피라졸리딜, 티아졸리딜, 이소티아졸리딜, 옥사졸리딜, 이소옥사졸리딜, 피페리딜, 피페라질, 모르폴리닐 등의 5∼7원 복소환기를 들 수 있다.
또한, R3 및 R4로 표시되는 할로겐원자로서는 불소, 염소, 브롬, 요오드를 들 수 있다.
상기 R11, R12, R13, R21, R22 및 R23으로 표시되는 치환기의 알킬렌 부분의 메틸렌기는 불포화 결합, 에테르 결합, 티오에테르 결합, 에스테르 결합, 티오에스테르 결합, 아미드 결합 또는 우레탄 결합에 의해 1∼5회 중단되어 있어도 되고, 이때, 중단하는 결합기는 1종이어도 2종 이상이어도 되며, 연속해서 중단할 수 있는 기의 경우는 2개 이상이 연속해서 중단해도 된다.
또한, 상기 치환기의 알킬 부분은 분기 측쇄가 있어도 되고, 환상 알킬이어도 되며, 상기 치환기의 알킬 말단은 불포화 결합이어도 된다.
본 발명의 옥심에스테르 화합물 중에서도, 상기 일반식(Ⅰ)에 있어서, X가 유황원자인 것이 용해성이 뛰어나기 때문에 바람직하다. 또한, 상기 일반식(Ⅰ)에 있어서, R1 및 R2가 분기 측쇄가 있어도 되고, 환상 알킬이어도 되고, 할로겐원자, OR21 및 COR21에서 선택되는 1종 이상으로 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 1∼20의 알킬기; 할로겐원자, OR21 및 COR21에서 선택되는 1종 이상으로 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 6∼30의 아릴기; 또는 할로겐원자, OR21 및 COR21에서 선택되는 1종 이상으로 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 7∼30의 아릴알킬기인 것도, 용해성이 뛰어나기 때문에 바람직하다.
이들 중에서도, X가 유황원자인 것, 혹은 R1 및 R2가 분기 측쇄가 있어도 되고, 환상 알킬이어도 되고, 할로겐원자로 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 1∼20의 알킬기, 할로겐원자로 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 6∼30의 아릴기, 또는 할로겐원자로 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 7∼30의 아릴알킬기인 것이, 합성이 용이하고 감도도 높으므로 바람직하다. 특히 바람직한 것으로서는 R1이 메틸기 또는 운데실기인 것, R2가 메틸기 또는 페닐기인 것을 들 수 있다.
따라서, 상기 일반식(Ⅰ)로 표시되는 본 발명의 옥심에스테르 화합물의 바람직한 구체예로서는, 이하의 화합물 No.1∼No.25의 화합물을 들 수 있다. 단, 본 발명은 이하의 화합물에 의해 하등 제한을 받지 않는다.
Figure pct00002
Figure pct00003
Figure pct00004
Figure pct00005
Figure pct00006
Figure pct00007
Figure pct00008
Figure pct00009
Figure pct00010
Figure pct00011
Figure pct00012
Figure pct00013
Figure pct00014
Figure pct00015
Figure pct00016
Figure pct00017
Figure pct00018
Figure pct00019
Figure pct00020
Figure pct00021
Figure pct00022
Figure pct00023
[화학식 23A]
Figure pct00024
[화학식 23B]
Figure pct00025
[화학식 23C]
Figure pct00026
상기 일반식(Ⅰ)로 표시되는 본 발명의 옥심에스테르 화합물의 합성 방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 X가 유황원자인 것은 하기 [화학식 24]의 반응식에 따라 이하의 방법에 의해 제조할 수 있다. 먼저, p-클로로니트로벤젠 1과 티오페놀 2를 수산화나트륨의 존재하에 반응시켜 술피드 화합물 3을 얻고, 이어서 술피드 화합물 3과 산클로리드 4를 염화알루미늄의 존재하에 반응시켜 아실 화합물 5를 얻는다. 이어서, 아실 화합물 5와 염산하이드록실아민을 반응시켜 옥심 화합물 6을 얻는다. 나아가, 옥심 화합물 6과 산무수물 7 혹은 산클로리드 7'을 반응시켜 상기 일반식(Ⅰ)에 있어서의 X가 유황원자인 본 발명의 옥심에스테르 화합물을 얻는다. 또한 X가 산소원자, 셀렌원자, 탄소원자, N-R5 및 P-R12인 것도 상기의 방법에 준하여 제조할 수 있다.
Figure pct00027
본 발명의 옥심에스테르 화합물은 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물의 광중합 개시제로서 유용하다.
다음으로 본 발명의 감광성 조성물에 대하여 설명한다.
본 발명의 감광성 조성물은 상술한 본 발명의 옥심에스테르 화합물을 유효 성분으로 하는 광중합 개시제 및 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물, 그리고 필요에 따라 무기 충전제 및/또는 색재, 또한 용매 등의 임의 성분을 함유하는 것이다.
상기 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물로서는, 특별히 한정되지 않으며, 종래 감광성 조성물에 사용되고 있는 것을 사용할 수 있는데, 예를 들면 에틸렌, 프로필렌, 부틸렌, 이소부틸렌, 염화비닐, 염화비닐리덴, 불화비닐리덴, 테트라플루오로에틸렌 등의 불포화 지방족 탄화수소; (메타)아크릴산, α-클로로아크릴산, 이타콘산, 말레산, 시트라콘산, 푸말산, 하이믹산, 크로톤산, 이소크로톤산, 비닐아세트산, 알릴아세트산, 계피산, 소르빈산, 메사콘산, 트리멜리트산, 피로멜리트산, 2,2'-3,3'-벤조페논테트라카르본산, 3,3'-4,4'-벤조페논테트라카르본산, 숙신산모노[2-(메타)아크릴로일옥시에틸], 프탈산모노[2-(메타)아크릴로일옥시에틸], ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트 등의 양 말단에 카르복시기와 수산기를 가지는 폴리머의 모노(메타)아크릴레이트, 하이드록시에틸(메타)아크릴레이트·말레이트, 하이드록시프로필(메타)아크릴레이트·말레이트, 디시클로펜타디엔·말레이트 혹은 1개의 카르복실기와 2개 이상의 (메타)아크릴로일기를 가지는 다관능 (메타)아크릴레이트 등의 불포화 다염기산; (메타)아크릴산-2-하이드록시에틸, (메타)아크릴산-2-하이드록시프로필, (메타)아크릴산글리시딜, 하기 화합물 No.26∼No.29, (메타)아크릴산메틸, (메타)아크릴산부틸, (메타)아크릴산이소부틸, (메타)아크릴산-t-부틸, (메타)아크릴산시클로헥실, (메타)아크릴산N-옥틸, (메타)아크릴산이소옥틸, (메타)아크릴산이소노닐, (메타)아크릴산스테아릴, (메타)아크릴산라우릴, (메타)아크릴산메톡시에틸, (메타)아크릴산디메틸아미노메틸, (메타)아크릴산디메틸아미노에틸, (메타)아크릴산아미노프로필, (메타)아크릴산디메틸아미노프로필, (메타)아크릴산에톡시에틸, (메타)아크릴산폴리(에톡시)에틸, (메타)아크릴산부톡시에톡시에틸, (메타)아크릴산에틸헥실, (메타)아크릴산페녹시에틸, (메타)아크릴산테트라하이드로푸릴, (메타)아크릴산비닐, (메타)아크릴산알릴, (메타)아크릴산벤질, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올에탄트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 트리시클로데칸디메틸올디(메타)아크릴레이트, 트리((메타)아크릴로일에틸)이소시아누레이트, 폴리에스테르(메타)아크릴레이트 올리고머 등의 불포화 일염기산 및 다가 알코올 또는 다가 페놀의 에스테르; (메타)아크릴산아연, (메타)아크릴산마그네슘 등의 불포화 다염기산의 금속염; 말레산무수물, 이타콘산무수물, 시트라콘산무수물, 메틸테트라하이드로무수프탈산, 테트라하이드로무수프탈산, 트리알킬테트라하이드로무수프탈산, 5-(2,5-디옥소테트라하이드로푸릴)-3-메틸-3-시클로헥센-1,2-디카르본산무수물, 트리알킬테트라하이드로무수프탈산-무수말레산 부가물, 도데세닐무수숙신산, 무수메틸하이믹산 등의 불포화 다염기산의 산무수물; (메타)아크릴아미드, 메틸렌비스-(메타)아크릴아미드, 디에틸렌트리아민트리스(메타)아크릴아미드, 크실릴렌비스(메타)아크릴아미드, α-클로로아크릴아미드, N-2-하이드록시에틸(메타)아크릴아미드 등의 불포화 일염기산 및 다가 아민의 아미드; 아크롤레인 등의 불포화 알데히드; (메타)아크릴로니트릴, α-클로로아크릴로니트릴, 시안화비닐리덴, 시안화알릴 등의 불포화 니트릴; 스티렌, 4-메틸스티렌, 4-에틸스티렌, 4-메톡시스티렌, 4-하이드록시스티렌, 4-클로로스티렌, 디비닐벤젠, 비닐톨루엔, 비닐안식향산, 비닐페놀, 비닐술폰산, 4-비닐벤젠술폰산, 비닐벤질메틸에테르, 비닐벤질글리시딜에테르 등의 불포화 방향족 화합물; 메틸비닐케톤 등의 불포화 케톤; 비닐아민, 알릴아민, N-비닐피롤리돈, 비닐피페리딘 등의 불포화 아민 화합물; 알릴알코올, 크로틸알코올 등의 비닐알코올; 비닐메틸에테르, 비닐에틸에테르, N-부틸비닐에테르, 이소부틸비닐에테르, 알릴글리시딜에테르 등의 비닐에테르; 말레이미드, N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드 등의 불포화 이미드류; 인덴, 1-메틸인덴 등의 인덴류; 1,3-부타디엔, 이소프렌, 클로로프렌 등의 지방족 공역 디엔류; 폴리스티렌, 폴리메틸(메타)아크릴레이트, 폴리-n-부틸(메타)아크릴레이트, 폴리실록산 등의 중합체 분자쇄의 말단에 모노(메타)아크릴로일기를 가지는 매크로모노머류; 비닐클로리드, 비닐리덴클로리드, 디비닐숙시네이트, 디알릴프탈레이트, 트리알릴포스페이트, 트리알릴이소시아누레이트, 비닐티오에테르, 비닐이미다졸, 비닐옥사졸린, 비닐카르바졸, 비닐피롤리돈, 비닐피리딘, 수산기 함유 비닐 모노머 및 폴리이소시아네이트 화합물의 비닐 우레탄 화합물, 수산기 함유 비닐 모노머 및 폴리에폭시 화합물의 비닐에폭시 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 양 말단에 카르복시기와 수산기를 가지는 폴리머의 모노(메타)아크릴레이트, 1개의 카르복시기와 2개 이상의 (메타)아크릴로일기를 가지는 다관능 (메타)아크릴레이트, 불포화 일염기산 및 다가 알코올 또는 다가 페놀의 에스테르에, 본 발명의 옥심에스테르 화합물을 유효 성분으로 하는 광중합 개시제가 바람직하다.
이들 중합성 화합물은 단독으로 또는 2종 이상을 혼합해서 사용할 수 있고, 또한 2종 이상을 혼합해서 사용할 경우에는 그들을 미리 공중합하여 공중합체로서 사용해도 된다.
Figure pct00028
Figure pct00029
Figure pct00030
Figure pct00031
또한, 상기 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물로서, 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 알칼리 현상성 화합물을 이용해서, 본 발명의 감광성 조성물을 알칼리 현상성 감광성 수지 조성물로 할 수도 있다. 상기 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 알칼리 현상성 화합물로서는, 아크릴산에스테르의 공중합체나, 페놀 및/또는 크레졸 노볼락 에폭시 수지, 다관능 에폭시기를 가지는 폴리페닐메탄형 에폭시 수지, 하기 일반식(Ⅱ)로 표시되는 에폭시 화합물 등의 에폭시 화합물에 불포화 일염기산을 작용시키고, 다염기산무수물을 더 작용시켜 얻어진 수지를 사용할 수 있다. 이들 중에서도 하기 일반식(Ⅱ)로 표시되는 에폭시 화합물 등의 에폭시 화합물에 불포화 일염기산을 작용시키고, 다염기산무수물을 더 작용시켜 얻어진 수지가 바람직하다.
또한, 상기 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 알칼리 현상성 화합물은 불포화기를 0.2∼1.0당량 함유하고 있는 것이 바람직하다.
Figure pct00032
(식 중, X1은 직접 결합, 메틸렌기, 탄소원자수 1∼4의 알킬리덴기, 탄소원자수 3∼20의 지환식 탄화수소기, O, S, SO2, SS, SO, CO, OCO 또는 하기 [화학식 30] 혹은 [화학식 31]로 표시되는 치환기를 나타내고, 상기 알킬리덴기는 할로겐원자로 치환되어 있어도 되고, R41, R42, R43 및 R44는 각각 독립적으로 수소원자, 탄소원자수 1∼5의 알킬기, 탄소원자수 1∼8의 알콕시기, 탄소원자수 2∼5의 알케닐기 또는 할로겐원자를 나타내며, 알킬기, 알콕시기 및 알케닐기는 할로겐원자로 치환되어 있어도 되고, m은 0∼10의 정수이다.)
Figure pct00033
(식 중, Y1은 수소원자, 또는 탄소원자수 1∼10의 알킬기 혹은 알콕시기에 의해 치환되어 있어도 되는 페닐기 혹은 탄소원자수 3∼10의 시클로알킬기를 나타내고, Z1은 탄소원자수 1∼10의 알킬기, 탄소원자수 1∼10의 알콕시기, 탄소원자수 2∼10의 알케닐기 또는 할로겐원자를 나타내며, 알킬기, 알콕시기 및 알케닐기는 할로겐원자로 치환되어 있어도 되고, d는 0∼5의 수이다.)
Figure pct00034
상기 에폭시 화합물에 작용시키는 상기 불포화 일염기산으로서는, 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, 계피산, 소르빈산, 하이드록시에틸메타크릴레이트·말레이트, 하이드록시에틸아크릴레이트·말레이트, 하이드록시프로필메타크릴레이트·말레이트, 하이드록시프로필아크릴레이트·말레이트, 디시클로펜타디엔·말레이트 등을 들 수 있다.
또한, 상기 불포화 일염기산을 작용시킨 후에 작용시키는 상기 다염기산무수물로서는, 비페닐테트라카르본산 2무수물, 테트라하이드로무수프탈산, 무수숙신산, 비프탈산무수물, 무수말레산, 트리멜리트산무수물, 피로멜리트산무수물, 2,2'-3,3'-벤조페논테트라카르본산무수물, 에틸렌글리콜비스안하이드로트리멜리테이트, 글리세롤트리스안하이드로트리멜리테이트, 헥사하이드로무수프탈산, 메틸테트라하이드로무수프탈산, 나딕산무수물, 메틸나딕산무수물, 트리알킬테트라하이드로무수프탈산, 헥사하이드로무수프탈산, 5-(2,5-디옥소테트라하이드로푸릴)-3-메틸-3-시클로헥센-1,2-디카르본산무수물, 트리알킬테트라하이드로무수프탈산-무수말레산 부가물, 도데세닐무수숙신산, 무수메틸하이믹산 등을 들 수 있다.
상기 에폭시 화합물, 상기 불포화 일염기산 및 상기 다염기산무수물의 반응 몰비는 아래와 같이 하는 것이 바람직하다. 즉, 상기 에폭시 화합물의 에폭시기 1개에 대하여, 상기 불포화 일염기산의 카르복실기가 0.1∼1.0개로 부가시킨 구조를 가지는 에폭시 부가물에 있어서, 상기 에폭시 부가물의 수산기 1개에 대하여, 상기 다염기산무수물의 산무수물 구조가 0.1∼1.0개가 되는 비율이 되도록 하는 것이 바람직하다.
상기 에폭시 화합물, 상기 불포화 일염기산 및 상기 다염기산무수물의 반응은 상법에 따라 행할 수 있다.
산가 조정하여 본 발명의 (착색)알칼리 현상성 감광성 수지 조성물의 현상성을 개량하기 위해, 상기 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 알칼리 현상성 화합물과 함께, 또한 단관능 또는 다관능 에폭시 화합물을 병용할 수 있다. 상기 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 알칼리 현상성 화합물은 고형분의 산가가 5∼120mgKOH/g의 범위인 것이 바람직하고, 단관능 또는 다관능 에폭시 화합물의 사용량은 상기 산가를 만족시키도록 선택하는 것이 바람직하다.
상기 단관능 에폭시 화합물로서는, 글리시딜메타크릴레이트, 메틸글리시딜에테르, 에틸글리시딜에테르, 프로필글리시딜에테르, 이소프로필글리시딜에테르, 부틸글리시딜에테르, 이소부틸글리시딜에테르, t-부틸글리시딜에테르, 펜틸글리시딜에테르, 헥실글리시딜에테르, 헵틸글리시딜에테르, 옥틸글리시딜에테르, 노닐글리시딜에테르, 데실글리시딜에테르, 운데실글리시딜에테르, 도데실글리시딜에테르, 트리데실글리시딜에테르, 테트라데실글리시딜에테르, 펜타데실글리시딜에테르, 헥사데실글리시딜에테르, 2-에틸헥실글리시딜에테르, 알릴글리시딜에테르, 프로파르길글리시딜에테르, p-메톡시에틸글리시딜에테르, 페닐글리시딜에테르, p-메톡시글리시딜에테르, p-부틸페놀글리시딜에테르, 크레질글리시딜에테르, 2-메틸크레질글리시딜에테르, 4-노닐페닐글리시딜에테르, 벤질글리시딜에테르, p-쿠밀페닐글리시딜에테르, 트리메틸글리시딜에테르, 2,3-에폭시프로필메타크릴레이트, 에폭시화 대두유, 에폭시화 아마인유, 글리시딜부티레이트, 비닐시클로헥산모노옥시드, 1,2-에폭시-4-비닐시클로헥산, 스티렌옥시드, 피넨옥시드, 메틸스티렌옥시드, 시클로헥센옥시드, 프로필렌옥시드, 하기 화합물 No.30, No.31 등을 들 수 있다.
Figure pct00035
Figure pct00036
상기 다관능 에폭시 화합물로서는, 비스페놀형 에폭시 화합물 및 글리시딜에테르류로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상을 사용하면, 특성이 한층 양호한 (착색)알칼리 현상성 감광성 수지 조성물을 얻을 수 있으므로 바람직하다. 상기 비스페놀형 에폭시 화합물로서는, 상기 일반식(Ⅱ)로 표시되는 에폭시 화합물을 사용할 수 있을 뿐만 아니라, 예를 들면, 수첨(水添) 비스페놀형 에폭시 화합물 등의 비스페놀형 에폭시 화합물도 사용할 수 있다. 또한, 상기 글리시딜에테르류로서는, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 1,4-부탄디올디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 1,8-옥탄디올디글리시딜에테르, 1,10-데칸디올디글리시딜에테르, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올디글리시딜에테르, 디에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 트리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 테트라에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 헥사에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 1,4-시클로헥산디메탄올디글리시딜에테르, 1,1,1-트리(글리시딜옥시메틸)프로판, 1,1,1-트리(글리시딜옥시메틸)에탄, 1,1,1-트리(글리시딜옥시메틸)메탄, 1,1,1,1-테트라(글리시딜옥시메틸)메탄 등을 들 수 있다.
그 외, 페놀 노볼락형 에폭시 화합물, 비페닐 노볼락형 에폭시 화합물, 크레졸 노볼락형 에폭시 화합물, 비스페놀A 노볼락형 에폭시 화합물, 디시클로펜타디엔 노볼락형 에폭시 화합물 등의 노볼락형 에폭시 화합물; 3,4-에폭시-6-메틸시클로헥실메틸-3,4-에폭시-6-메틸시클로헥산카르복시레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복시레이트, 1-에폭시에틸-3,4-에폭시시클로헥산 등의 지환식 에폭시 화합물; 프탈산디글리시딜에스테르, 테트라하이드로프탈산디글리시딜에스테르, 다이머산글리시딜에스테르 등의 글리시딜에스테르류; 테트라글리시딜디아미노디페닐메탄, 트리글리시딜P-아미노페놀, N,N-디글리시딜아닐린 등의 글리시딜아민류; 1,3-디글리시딜-5,5-디메틸히단토인, 트리글리시딜이소시아누레이트 등의 복소환식 에폭시 화합물; 디시클로펜타디엔디옥시드 등의 디옥시드 화합물; 나프탈렌형 에폭시 화합물, 트리페닐메탄형 에폭시 화합물, 디시클로펜타디엔형 에폭시 화합물 등을 사용할 수도 있다.
본 발명의 감광성 조성물에 있어서, 광중합 개시제의 첨가량은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 본 발명의 옥심에스테르 화합물의 첨가량은 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 상기 중합성 화합물 100질량부에 대하여, 바람직하게는 1∼70질량부, 보다 바람직하게는 1∼50질량부, 가장 바람직하게는 5∼30질량부이다.
특히 본 발명의 감광성 조성물을 (착색)알칼리 현상성 감광성 수지 조성물로 할 경우, 상기 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 알칼리 현상성 화합물의 함유량은 본 발명의 (착색)알칼리 현상형 감광성 수지 조성물에 있어서 1∼20질량%, 특히 3∼12질량%가 바람직하다.
본 발명의 감광성 조성물에는 또한 용매를 첨가할 수 있다. 상기 용매로서는, 통상, 필요에 따라 상기의 각 성분(본 발명의 옥심에스테르 화합물 및 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물 등)을 용해 또는 분산시킬 수 있는 용매, 예를 들면, 메틸에틸케톤, 메틸아밀케톤, 디에틸케톤, 아세톤, 메틸이소프로필케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 에틸에테르, 디옥산, 테트라하이드로푸란, 1,2-디메톡시에탄, 1,2-디에톡시에탄, 디프로필렌글리콜디메틸에테르 등의 에테르계 용매; 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산-n-프로필, 아세트산이소프로필, 아세트산n-부틸 등의 에스테르계 용매; 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등의 셀로솔브계 용매; 메탄올, 에탄올, 이소- 또는 n-프로판올, 이소- 또는 n-부탄올, 아밀알코올 등의 알코올계 용매; 에틸렌글리콜모노메틸아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸아세테이트, 프로필렌글리콜메틸아세테이트 등의 에테르에스테르계 용매; 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 BTX계 용매; 헥산, 헵탄, 옥탄, 시클로헥산 등의 지방족 탄화수소계 용매; 테레핀유, D-리모넨, 피넨 등의 테르펜계 탄화수소유; 미네랄 스피릿, 스와졸 #310(코스모마츠야마세키유(주)), 솔벳소 #100(엑손카가쿠(주)) 등의 파라핀계 용매; 사염화탄소, 클로로포름, 트리클로로에틸렌, 염화메틸렌, 1,2-디클로로에탄 등의 할로겐화 지방족 탄화수소계 용매; 클로로벤젠 등의 할로겐화 방향족 탄화수소계 용매; 카르비톨계 용매, 아닐린, 트리에틸아민, 피리딘, 아세트산, 아세토니트릴, 이황화탄소, N,N-디메틸포름아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭시드, 물 등을 들 수 있고, 이들 용매는 1종으로 또는 2종 이상의 혼합 용매로서 사용할 수 있다.
이들 중에서도 케톤류, 셀로솔브계 용매 등, 특히 프로필렌글리콜-1-모노메틸에테르-2-아세테이트, 시클로헥사논 등이, 감광성 조성물에 있어서 레지스트와 광중합 개시제의 상용성이 좋으므로 바람직하다.
본 발명의 감광성 조성물에는 또한 무기 화합물을 함유시킬 수 있다. 상기 무기 화합물로서는, 예를 들면 산화니켈, 산화철, 산화이리듐, 산화티탄, 산화아연, 산화마그네슘, 산화칼슘, 산화칼륨, 실리카, 알루미나 등의 금속 산화물; 층상 점토광물, 밀로리 블루(Milori blue), 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 코발트계, 망간계, 유리 분말, 마이카, 탈크, 카올린, 페로시안화물, 각종 금속 황산염, 황화물, 셀렌화물, 알루미늄실리케이트, 칼슘실리케이트, 수산화알루미늄, 백금, 금, 은, 구리 등을 들 수 있으며, 이들 중에서도 산화티탄, 실리카, 층상 점토광물, 은 등이 바람직하다. 본 발명의 감광성 조성물에 있어서, 무기 화합물의 함유량은 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 상기 중합성 화합물 100질량부에 대하여 바람직하게는 0.1∼50질량부, 보다 바람직하게는 0.5∼20질량부이다. 이들 무기 화합물은 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다.
이들 무기 화합물은 예를 들면, 충전제, 반사 방지제, 도전제, 안정제, 난연제, 기계적 강도 향상제, 특수 파장 흡수제, 발(撥)잉크제 등으로서 사용된다.
또한 본 발명의 감광성 조성물(특히 알칼리 현상성 감광성 수지 조성물)은 또한 색재를 함유시켜 착색 감광성 조성물로 해도 된다. 상기 색재로서는 안료, 염료, 천연 색소 등을 들 수 있다. 이들 색재는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합해서 사용할 수 있다.
상기 안료로서는, 예를 들면 니트로소 화합물, 니트로 화합물, 아조 화합물, 디아조 화합물, 크산텐 화합물, 퀴놀린 화합물, 안트라퀴논 화합물, 쿠마린 화합물, 프탈로시아닌 화합물, 이소인돌리논 화합물, 이소인돌린 화합물, 퀴나크리돈 화합물, 안탄트론(anthanthrone) 화합물, 페리논(perynone) 화합물, 페릴렌(perylene) 화합물, 디케토피롤로피롤 화합물, 티오인디고 화합물, 디옥사진 화합물, 트리페닐메탄 화합물, 퀴노프탈론 화합물, 나프탈렌테트라카르본산; 아조 염료, 시아닌 염료의 금속 착체 화합물; 레이크(lake) 안료; 퍼니스(furnace)법, 채널(channel)법, 서멀(thermal)법에 의해 얻어지는 카본 블랙, 혹은 아세틸렌 블랙, 케첸 블랙 또는 램프 블랙 등의 카본 블랙; 상기 카본 블랙을 산성 또는 알칼리성 표면 처리한 것; 흑연, 흑연화 카본 블랙, 활성탄, 탄소 섬유, 카본 나노튜브, 카본 마이크로코일, 카본 나노혼, 카본 에어로겔, 풀러린(fullerene); 아닐린 블랙, 피그먼트 블랙 7, 티탄 블랙; 소수성 수지, 산화크롬 그린, 밀로리 블루, 코발트 그린, 코발트 블루, 망간계, 페로시안화물, 인산염 군청, 감청, 울트라마린, 세룰리안 블루(cerulean blue), 비리디안(viridian), 에메랄드 그린, 황산납, 황색납, 아연황, 철단(적색 산화철(Ⅲ)), 카드뮴 레드, 합성 철흑, 앰버 등의 유기 또는 무기 안료를 사용할 수 있다. 이들 안료는 단독으로, 혹은 복수를 혼합해서 사용할 수 있다.
상기 안료로서는 시판되는 안료를 사용할 수도 있으며, 예를 들면 피그먼트 레드 1, 2, 3, 9, 10, 14, 17, 22, 23, 31, 38, 41, 48, 49, 88, 90, 97, 112, 119, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 169, 170, 171, 177, 179, 180, 184, 185, 192, 200, 202, 209, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, 254; 피그먼트 오렌지 13, 31, 34, 36, 38, 43, 46, 48, 49, 51, 52, 55, 59, 60, 61, 62, 64, 65, 71; 피그먼트 옐로우 1, 3, 12, 13, 14, 16, 17, 20, 24, 55, 60, 73, 81, 83, 86, 93, 95, 97, 98, 100, 109, 110, 113, 114, 117, 120, 125, 126, 127, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 166, 168, 175, 180, 185; 피그먼트 그린 7, 10, 36; 피그먼트 블루 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15:4, 15:5, 15:6, 22, 24, 56, 60, 61, 62, 64; 피그먼트 바이올렛 1, 19, 23, 27, 29, 30, 32, 37, 40, 50 등을 들 수 있다.
상기 염료로서는, 아조 염료, 안트라퀴논 염료, 인디고이드 염료, 트리아릴메탄 염료, 크산텐 염료, 알리자린 염료, 아크리딘 염료, 스틸벤 염료, 티아졸 염료, 나프톨 염료, 퀴놀린 염료, 니트로 염료, 인다민 염료, 옥사진 염료, 프탈로시아닌 염료, 시아닌 염료 등의 염료 등을 들 수 있으며, 이들은 복수를 혼합해서 사용해도 된다.
본 발명의 감광성 조성물에 있어서, 상기 색재의 첨가량은 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 상기 중합성 화합물 100질량부에 대하여, 바람직하게는 50∼350질량부, 보다 바람직하게는 100∼250질량부이다.
또한, 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 상기 중합성 화합물과 함께, 다른 유기 중합체를 사용함으로써 경화물의 특성을 개선할 수도 있다. 상기 유기 중합체로서는, 예를 들면 폴리스티렌, 폴리메틸메타크릴레이트, 메틸메타크릴레이트-에틸아크릴레이트 공중합체, 폴리(메타)아크릴산, 스티렌-(메타)아크릴산 공중합체, (메타)아크릴산-메틸메타크릴레이트 공중합체, 에틸렌-염화비닐 공중합체, 에틸렌-비닐 공중합체, 폴리염화비닐 수지, ABS 수지, 나일론 6, 나일론 66, 나일론 12, 우레탄 수지, 폴리카보네이트폴리비닐부티랄, 셀룰로오스에스테르, 폴리아크릴아미드, 포화 폴리에스테르, 페놀 수지, 페녹시 수지, 폴리아미드이미드 수지, 폴리아믹산 수지, 에폭시 수지 등을 들 수 있고, 이들 중에서도 폴리스티렌, (메타)아크릴산-메틸메타크릴레이트 공중합체, 에폭시 수지가 바람직하다.
다른 유기 중합체를 사용할 경우, 그 사용량은 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 상기 중합성 화합물 100질량부에 대하여, 바람직하게는 10∼500질량부이다.
본 발명의 감광성 조성물에는, 또한 불포화 결합을 가지는 모노머, 연쇄 이동제, 계면활성제 등을 병용할 수 있다.
상기 불포화 결합을 가지는 모노머로서는, 아크릴산-2-하이드록시에틸, 아크릴산-2-하이드록시프로필, 아크릴산이소부틸, 아크릴산N-옥틸, 아크릴산이소옥틸, 아크릴산이소노닐, 아크릴산스테아릴, 아크릴산메톡시에틸, 아크릴산디메틸아미노에틸, 아크릴산아연, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 메타크릴산-2-하이드록시에틸, 메타크릴산-2-하이드록시프로필, 메타크릴산 부틸, 메타크릴산터셔리부틸, 메타크릴산시클로헥실, 트리메틸올프로판트리메타크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 비스페놀A디글리시딜에테르(메타)아크릴레이트, 비스페놀F디글리시딜에테르(메타)아크릴레이트, 비스페놀Z디글리시딜에테르(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
상기 연쇄 이동제로서는, 티오글리콜산, 티오사과산, 티오살리실산, 2-메르캅토프로피온산, 3-메르캅토프로피온산, 3-메르캅토부티르산, N-(2-메르캅토프로피오닐)글리신, 2-메르캅토니코틴산, 3-[N-(2-메르캅토에틸)카르바모일]프로피온산, 3-[N-(2-메르캅토에틸)아미노]프로피온산, N-(3-메르캅토프로피오닐)알라닌, 2-메르캅토에탄술폰산, 3-메르캅토프로판술폰산, 4-메르캅토부탄술폰산, 도데실(4-메틸티오)페닐에테르, 2-메르캅토에탄올, 3-메르캅토-1,2-프로판디올, 1-메르캅토-2-프로판올, 3-메르캅토-2-부탄올, 메르캅토페놀, 2-메르캅토에틸아민, 2-메르캅토이미다졸, 2-메르캅토-3-피리디놀, 2-메르캅토벤조티아졸, 메르캅토아세트산, 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트) 등의 메르캅토 화합물, 상기 메르캅토 화합물을 산화해서 얻어지는 디술피드 화합물, 요오드아세트산, 요오드프로피온산, 2-요오드에탄올, 2-요오드에탄술폰산, 3-요오드프로판술폰산 등의 요오드화 알킬 화합물을 들 수 있다.
상기 계면활성제로서는, 퍼플루오로알킬인산에스테르, 퍼플루오로알킬카르본산염 등의 불소 계면활성제, 고급 지방산 알칼리염, 알킬술폰산염, 알킬황산염 등의 음이온계 계면활성제, 고급 아민 할로겐산염, 제4급 암모늄염 등의 양이온계 계면활성제, 폴리에틸렌글리콜알킬에테르, 폴리에틸렌글리콜지방산에스테르, 소르비탄지방산에스테르, 지방산모노글리세리드 등의 비이온 계면활성제, 양성 계면활성제, 실리콘계 계면활성제 등의 계면활성제를 사용할 수 있으며, 이들은 조합시켜 사용해도 된다.
또한, 본 발명의 감광성 조성물에는, 광중합 개시제로서, 본 발명의 옥심에스테르 화합물 외에, 필요에 따라 다른 광중합 개시제 혹은 증감제를 병용하는 것도 가능하며, 그 밖의 광중합 개시제를 병용함으로써 현저한 상승 효과를 발휘하는 경우도 있다.
본 발명의 옥심에스테르 화합물과 병용할 수 있는 광중합 개시제로서는, 종래 기지의 화합물을 사용하는 것이 가능하며, 예를 들면, 벤조페논, 페닐비페닐케톤, 1-하이드록시-1-벤조일시클로헥산, 벤조인, 벤질디메틸케탈, 1-벤질-1-디메틸아미노-1-(4'-모르폴리노벤조일)프로판, 2-모르폴릴-2-(4'-메틸메르캅토)벤조일프로판, 티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤, 이소프로필티오크산톤, 디에틸 티오크산톤, 에틸안트라퀴논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술피드, 벤조인부틸에테르, 2-하이드록시-2-벤조일프로판, 2-하이드록시-2-(4'-이소프로필)벤조일프로판, 4-부틸벤조일트리클로로메탄, 4-페녹시벤조일디클로로메탄, 벤조일포름산메틸, 1,7-비스(9'-아크리디닐)헵탄, 9-n-부틸-3,6-비스(2'-모르폴리노이소부티로일)카르바졸, 2-메틸-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-페닐-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-나프틸-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2,2-비스(2-클로로페닐)-4,5,4',5'-테트라페닐-1-2'-비이미다졸, 4,4-아조비스이소부티로니트릴, 트리페닐포스핀, 캠퍼퀴논(camphorquinone), N-1414, N-1717, N-1919, PZ-408((주)ADEKA사 제품), IRGACURE369, IRGACURE907, IRGACUREOXEO1, IRGACUREOXEO2(치바·스페셜티·케미칼즈(주)사 제품), 과산화벤조일, 하기 일반식(Ⅲ)∼(Ⅴ)로 표시되는 화합물 등을 들 수 있고, 이들 광중합 개시제는 1종으로 또는 2종 이상을 조합시켜 사용할 수 있다. 이들 다른 광중합 개시제를 사용할 경우, 그 사용량은 바람직하게는 본 발명의 옥심에스테르 화합물의 사용량의 등량 이하로 한다.
Figure pct00037
(식 중, R1 및 R2는 상기 일반식(Ⅰ)과 같고, R6은 R1과 같으며, Y2는 할로겐원자 또는 알킬기를 나타내고, n은 0∼5이다.)
Figure pct00038
(식 중, R1 및 R2는 상기 일반식(Ⅰ)과 같고, R6, Y2 및 n은 상기 일반식(Ⅲ)과 같으며, R'1, R'2 및 R'6은 R1과 같고, Y'2는 Y2와 같으며, R7은 디올 잔기 또는 디티올 잔기를 나타내고, Z2는 산소원자 또는 유황원자를 나타낸다.)
Figure pct00039
(식 중, R1 및 R2는 상기 일반식(Ⅰ)과 같고, R6, Y2 및 n은 상기 일반식(Ⅲ)과 같으며, Z3은 산소원자, 유황원자 또는 셀렌원자를 나타내고, A는 복소환기를 나타내고, p는 0∼5의 정수이며, q는 0 또는 1이다.)
또한, 본 발명의 감광성 조성물에는 필요에 따라서 p-아니솔, 하이드로퀴논, 피로카테콜, 제3부틸카테콜, 페노티아진 등의 열중합 억제제; 가소제; 접착 촉진제; 충전제; 소포제; 레벨링제; 표면 조정제; 산화 방지제; 자외선 흡수제; 분산 조제; 응집 방지제; 촉매; 효과 촉진제; 증감제; 가교제; 증점제 등의 관용의 첨가물을 첨가할 수 있다.
본 발명의 감광성 조성물에 있어서, 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 상기 중합성 화합물 및 본 발명의 옥심에스테르 화합물 이외의 임의 성분(단, 상기의 다른 광중합 개시제, 무기 충전제, 색재 및 용매는 제외함)의 사용량은 그 사용 목적에 따라 적절히 선택되며 특별히 제한되지 않지만, 바람직하게는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 상기 중합성 화합물 100질량부에 대하여 합계로 50질량부 이하로 한다.
본 발명의 감광성 조성물은 스핀코터, 롤코터, 바코터, 다이코터, 커튼코 터, 각종의 인쇄, 침지 등의 공지의 수단으로, 소다 유리, 석영 유리, 반도체 기판, 금속, 종이, 플라스틱 등의 지지 기체상에 적용할 수 있다. 또한, 일단 필름 등의 지지 기체상에 실시한 후, 다른 지지 기체상에 전사(轉寫)할 수도 있으며, 그 적용 방법에 제한은 없다.
본 발명의 감광성 조성물은 광경화성 도료 혹은 바니쉬, 광경화성 접착제, 프린트 기판, 혹은 컬러 TV, PC 모니터, 휴대 정보 단말, 디지털 카메라 등의 컬러 표시의 액정 표시 소자에 있어서의 컬러 필터, 플라즈마 표시 패널용의 전극재료, 분말 코팅, 인쇄 잉크, 인쇄판, 접착제, 치과용 조성물, 겔 코팅, 전자 공학용의 포토레지스트, 전기 도금 레지스트, 에칭 레지스트, 액상 및 건조막의 쌍방, 솔더 레지스트, 각종 표시 용도용의 컬러 필터를 제조하기 위한 혹은 플라즈마 표시 패널, 전기발광 표시장치 및 LCD의 제조 공정에 있어서 구조를 형성하기 위한 레지스트, 전기 및 전자부품을 봉입하기 위한 조성물, 자기기록재료, 미소기계부품, 도파로, 광 스위치, 도금용 마스크, 에칭 마스크, 컬러 시험계, 유리 섬유 케이블 코팅, 스크린 인쇄용 스텐실, 스테레오 리소그래피에 의해 삼차원 물체를 제조하기 위한 재료, 홀로그래피 기록용 재료, 화상기록재료, 미세전자회로, 탈색재료, 화상기록재료를 위한 탈색재료, 마이크로 캡슐을 사용하는 화상기록재료용의 탈색재료, 인쇄 배선판용 포토레지스트 재료, UV 및 가시 레이저 직접 화상계용의 포토레지스트 재료, 프린트 회로 기판의 순차 적층에서의 유전체층 형성에 사용하는 포토레지스트 재료 혹은 보호막 등의 각종 용도로 사용할 수 있으며, 그 용도에 특별히 제한은 없다.
또한, 본 발명의 옥심에스테르 화합물을 함유하는 감광성 조성물을 경화시킬 때에 사용되는 활성광의 광원으로서는 파장 300∼450nm의 빛을 발광하는 것을 사용할 수 있으며, 예를 들면 초고압 수은, 수은 증기 아크, 카본 아크, 크세논 아크 등을 사용할 수 있다.
<실시예>
이하, 실시예 등을 들어 본 발명을 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.
[실시예 1-1] 화합물 No.1의 제조
<스텝 1> 술피드 화합물의 제조
질소 분위기하, p-클로로니트로벤젠 15.8g(100밀리몰), 티오페놀 12.1g(110밀리몰) 및 디메틸아세트아미드 69.4g을 투입하고, 수산화나트륨 12.5g(150밀리몰)을 첨가하여 50℃에서 1시간 교반하였다. 실온까지 냉각하여, 아세트산에틸/수계(水系)로 유수 분리를 행하였다. 용매를 증류 제거하여, 황색 결정으로서 목적물인 술피드 화합물 23.1g(수율 99%, HPLC 순도 99%)을 얻었다.
<스텝 2> 아실체의 제조
질소 분위기하, 염화알루미늄 12.0g(90밀리몰) 및 이염화에탄 27.0g을 투입하고, 빙냉하에서 아세트산클로리드 3.56g(45밀리몰), 이어서 스텝 1에서 얻어진 술피드 화합물의 5.78g(25밀리몰) 및 이염화에탄 27.0g을 서서히 적하하고, 5℃에서 30분간 교반하였다. 반응액을 얼음물에 부어 유수 분리를 행하였다. 탈용매, 아세트산에틸로부터의 재결정을 거쳐 담황색 결정으로서 목적물인 아실체 2.94g(수율 43%, HPLC 순도 96%)을 얻었다.
<스텝 3> 화합물 No.1의 제조
질소 기류하, 스텝 2에서 얻어진 아실체의 2.73g(10밀리몰), 염산하이드록실 아민 1.04g(15밀리몰), 및 디메틸아세트아미드 5.8g을 투입하고 80℃에서 1시간 교반하였다. 실온으로 냉각하여 유수 분리를 행하였다. 용매를 증류 제거하고, 잔사에 아세트산부틸 10.0g, 이어서 무수아세트산 1.23g(12밀리몰)을 첨가하여 90℃에서 1시간 교반하고, 실온으로 냉각하였다. 5% 수산화나트륨 수용액으로 중화하고, 유수 분리, 탈용매, 아세트산에틸로부터의 재결정을 거쳐 담황색 결정 2.41g(수율 73%, HPLC 순도 99%)을 얻었다. 상기 담황색 결정에 대하여 각종 분석을 행한 바, 상기 담황색 결정은 목적물인 화합물 No.1인 것이 확인되었다. 분석 결과를 이하에 나타낸다.
(분석 결과)
(1)융점: 91.9℃
(2)1H-NMR 측정: (ppm)
2.29(s:3H), 2.42(s:3H), 7.28(d:2H), 7.53(d:2H), 7.81(d:2H), 8.10(d:2H)
(3)IR 측정: (cm-1)
1775, 1592, 1576, 1519, 1477, 1393, 1368, 1342, 1316, 1203, 1115, 1085, 1009, 993, 939, 902, 853, 846, 836, 741, 682, 639
(4)UV 스펙트럼 측정(클로로포름)
λmax=346nm
(5)분해 온도 측정(질소가스 분위기하, 승온 속도 10℃/분, 5% 질량 감소 온도)
270℃
[실시예 1-2] 화합물 No.23의 제조
실시예 1-1의 스텝 2에서 사용한 아세트산클로리드를 도데카노일클로리드로 바꾼 것 이외에는 모두 실시예 1-1과 동일한 순서로 화합물 No.23의 제조를 행하였다. 중간체인 아실체는 수율 30%, HPLC 순도 99%이었다. 얻어진 화합물 No.23은 수율 66%, HPLC 순도 99%이었다. 얻어진 화합물 No.23에 관한 분석 결과를 이하에 나타낸다.
(1)융점: 73.9℃
(2)1H-NMR 측정: (ppm)
0.88(t:3H), 1.20∼1.49(m:16H), 1.58(tt:2H), 2.28(s:3H), 2.86(t:2H), 7.25(d:2H), 7.54(d:2H), 7.77(d:2H), 8.10(d:2H)
(3)IR 측정: (cm-1)
3095, 2917, 2851, 1766, 1598, 1517, 1471, 1397, 1365, 1348, 1284, 1204, 1083, 1000, 946, 895, 853, 837, 745, 720, 686
(4)UV 스펙트럼 측정(클로로포름)
λmax=341nm
(5)분해 온도 측정(질소가스 분위기하, 승온 속도 10℃/분, 5% 질량 감소 온도)
255℃
[실시예 1-3] 화합물 No.24의 제조
실시예 1-1의 스텝 2에서 사용한 아세트산클로리드를 도데카노일클로리드로 바꾸고, 실시예 1-1의 스텝 3에서 사용한 무수아세트산을 벤조일클로리드 및 트리에틸아민으로 바꾼 것 이외에는 모두 실시예 1-1과 동일한 순서로 화합물 No.24의 제조를 행하였다. 중간체인 아실체는 수율 30%, HPLC 순도 99%이었다. 얻어진 화합물 No.24는 수율 64%, HPLC 순도 99%이었다. 얻어진 화합물 No.24에 관한 분석 결과를 이하에 나타낸다.
(1)융점: 92.0℃
(2)1H-NMR 측정: (ppm)
0.87(t:3H), 1.20∼1.49(m:16H), 1.69(tt:2H), 2.99(t:2H), 7.27(ddd:2H), 7.52(dd:2H), 7.57(ddd:2H), 7.64(tt:1H), 7.86(ddd:2H), 8.11(ddd:2H), 8.13(d:2H)
(3)IR 측정: (cm-1)
2952, 2918, 2849, 1749, 1593, 1575, 1509, 1470, 1449, 1340, 1243, 1177, 1110, 1082, 1065, 1022, 919, 884, 846, 784, 744, 722, 707, 680
(4)UV 스펙트럼 측정(클로로포름)
λmax=341nm
(5)분해 온도 측정(질소가스 분위기하, 승온 속도 10℃/분, 5% 질량 감소 온도)
245℃
[실시예 2] 감광성 조성물 No.1의 조제
아크릴계 공중합체 14.0g에 대하여, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 5.90g, 실시예 1-1에서 얻어진 화합물 No.1의 2.70g 및 에틸셀로솔브 79.0g을 첨가해서 잘 교반하여 감광성 조성물 No.1을 얻었다.
한편, 상기 아크릴계 공중합체는 메타크릴산 20질량부, 하이드록시에틸메타크릴레이트 15질량부, 메틸메타크릴레이트 10질량부 및 부틸메타크릴레이트 55질량부를 에틸셀로솔브 300질량부에 용해하고, 질소 분위기하에서 아조비스이소부티로니트릴 0.75질량부를 첨가하여 70℃에서 5시간 반응시킴으로써 얻어진 것이다.
[실시예 3-1∼3-3] 감광성 조성물 No.2-1∼No.2-3의 조제
디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트 15.0g, 1,4-부탄디올디글리시딜에테르 3.74g을 혼합하고, 실시예 1-1∼1-3에서 얻어진 화합물 No.1, 화합물 No.23 및 화합물 No.24 중 어느 하나의 3.30g, 그리고 에틸셀로솔브 78g을 첨가해서 잘 교반하여, 감광성 조성물 No.2-1∼2-3을 각각 얻었다.
[실시예 4-1∼4-3] 알칼리 현상성 감광성 수지 조성물인 감광성 조성물 No.3-1∼No.3-3의 조제
<스텝 1> 알칼리 현상성 수지 조성물 No.1의 조제
1,1-비스(4'-에폭시프로필옥시페닐)-1-(1''-비페닐)-1-시클로헥실메탄 17.0g, 아크릴산 4.43g, 2,6-디-tert-부틸-p-크레졸 0.06g, 테트라부틸암모늄아세테이트 0.11g 및 프로필렌글리콜-1-모노메틸에테르-2-아세테이트 14.3g을 투입하고 120℃에서 16시간 교반하였다. 실온까지 냉각하여, 프로필렌글리콜-1-모노메틸에테르-2-아세테이트 7.18g, 무수숙신산 4.82g 및 테트라부틸암모늄아세테이트 0.25g을 첨가하고 100℃에서 5시간 교반하였다. 또한 1,1-비스(4'-에폭시프로필옥시페닐)-1-(1''-비페닐)-1-시클로헥실메탄 5.08g 및 프로필렌글리콜-1-모노메틸에테르-2-아세테이트 2.18g을 첨가하고, 120℃에서 12시간, 80℃에서 2시간, 40℃에서 2시간 교반한 후, 프로필렌글리콜-1-모노메틸에테르-2-아세테이트 13.1g을 첨가하여, 프로필렌글리콜-1-모노메틸에테르-2-아세테이트 용액으로서 목적물인 알칼리 현상성 수지 조성물 No.1을 얻었다(Mw=4200, Mn=2100, 산가(고형분) 55mgKOH/g).
<스텝 2> 감광성 조성물 No.3-1∼No.3-3의 조제
스텝 1에서 얻어진 알칼리 현상성 수지 조성물 No.1의 2.68g, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 0.73g, 프로필렌글리콜-1-모노메틸에테르-2-아세테이트 7.91g 및 시클로헥사논 5.18g을 혼합하고, 실시예 1-1∼1-3에서 얻어진 화합물 No.1, 화합물 No.23 및 화합물 No.24 중 어느 하나의 1.58g을 첨가해서 잘 교반하여, 알칼리 현상성 감광성 수지 조성물인 감광성 조성물 No.3-1∼3-3을 각각 얻었다.
[실시예 5] 알칼리 현상성 감광성 수지 조성물인 감광성 조성물 No.4의 조제
<스텝 1> 알칼리 현상성 수지 조성물 No.2의 조제
비스페놀플루오렌형 에폭시 수지(에폭시 당량 231) 184g, 아크릴산 58.0g, 2,6-디-tert-부틸-p-크레졸 0.26g, 테트라부틸암모늄아세테이트 0.11g 및 프로필렌글리콜-1-모노메틸에테르-2-아세테이트 23.0g을 투입하고 120℃에서 16시간 교반하였다. 실온까지 냉각하여, 프로필렌글리콜-1-모노메틸에테르-2-아세테이트 35.0g, 비프탈산무수물 59.0g 및 테트라-n-부틸암모늄브로미드 0.24g을 첨가하고, 120℃에서 4시간 교반하였다. 또한 테트라하이드로무수프탈산 20g을 첨가하고, 120℃에서 4시간, 100℃에서 3시간, 80℃에서 4시간, 60℃에서 6시간, 40℃에서 11시간 교반한 후, 프로필렌글리콜-1-모노메틸에테르-2-아세테이트 90.0g을 첨가하여, 프로필렌글리콜-1-모노메틸에테르-2-아세테이트 용액으로서 목적물인 알칼리 현상성 수지 조성물 No.2를 얻었다(Mw=5000, Mn=2100, 산가(고형분) 92.7mgKOH/g).
<스텝 2> 감광성 조성물 No.4의 조제
스텝 1에서 얻어진 알칼리 현상성 수지 조성물 No.2의 2.68g, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 0.73g, 프로필렌글리콜-1-모노메틸에테르-2-아세테이트 7.91g 및 시클로헥사논 5.18g을 혼합하고, 실시예 1-1에서 얻어진 화합물 No.1의 1.58g을 첨가해서 잘 교반하여, 알칼리 현상성 감광성 수지 조성물인 감광성 조성물 No.4를 얻었다.
[실시예 6] 착색 알칼리 현상성 감광성 수지 조성물인 감광성 조성물 No.5의 조제
피그먼트 블루 15의 2.00g을 더 첨가한 것 이외에는 실시예 4-1∼4-3과 동일하게 해서, 착색 알칼리 현상성 감광성 수지 조성물인 감광성 조성물 No.5-1∼5-3을 얻었다.
[실시예 7] 착색 알칼리 현상성 감광성 수지 조성물인 감광성 조성물 No.6의 조제
카본 블랙의 3.00g을 더 첨가한 것 이외에는 실시예 5와 동일하게 해서, 착색 알칼리 현상성 감광성 수지 조성물인 감광성 조성물 No.6을 얻었다.
[비교예 1] 감광성 조성물 No.7의 조제
실시예 1-1에서 얻어진 화합물 No.1의 3.30g 대신에, 하기 [화학식 37]에 나타내는 비교 화합물 1의 3.30g을 사용한 것 이외에는 실시예 3-1과 동일하게 해서, 비교용의 감광성 조성물 No.7을 얻었다.
Figure pct00040
[비교예 2] 감광성 조성물 No.8의 조제
실시예 1-1에서 얻어진 화합물 No.1의 3.30g 대신에, 하기 [화학식 38]에 나타내는 비교 화합물 2의 1.58g을 사용한 것 이외에는 실시예 3-1과 동일하게 해서, 비교용의 감광성 조성물 No.8을 얻었다.
Figure pct00041
[비교예 3] 알칼리 현상성 감광성 수지 조성물인 감광성 조성물 No.9의 조제
실시예 1-1에서 얻어진 화합물 No.1의 1.58g 대신에, 비교 화합물 1의 1.58g을 사용한 것 이외에는 실시예 4-1과 동일하게 해서, 비교용의 알칼리 현상성 감광성 수지 조성물인 감광성 조성물 No.9를 얻었다.
[비교예 4] 알칼리 현상성 감광성 수지 조성물인 감광성 조성물 No.10의 조제
실시예 1-1에서 얻어진 화합물 No.1의 1.58g 대신에, 비교 화합물 2의 1.58g 을 사용한 것 이외에는 실시예 4-1과 동일하게 해서, 비교용의 알칼리 현상성 감광성 수지 조성물인 감광성 조성물 No.10을 얻었다.
[실시예 8] 감광성 조성물 No.11의 조제
산화티탄 4.52g을 더 첨가한 것 이외에는 실시예 2와 동일하게 해서, 감광성 조성물 No.11을 얻었다.
얻어진 감광성 조성물 No.2-1∼No.2-3 및 비교용의 감광성 조성물 No.7, No.8에 대하여, 경도 시험을 아래와 같이 행하였다. 시험 결과를 표 1에 나타낸다.
또한, 알칼리 현상성 감광성 수지 조성물인 감광성 조성물 No.3-1∼No.3-3 및 비교용의 감광성 조성물 No.9, No.10에 대하여, 감도의 평가를 아래와 같이 행하였다. 평가 결과를 표 2에 나타낸다.
<경도 시험>
감광성 조성물을 두께 50㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름에 #3의 바코터로 도포하였다. 이것에, 벨트 컨베이어가 부착된 광조사 장치를 사용해서 80W/cm의 고압 수은등의 빛을 조사하여 경화시켰다. 램프에서 벨트 컨베이어까지의 거리는 10cm, 벨트 컨베이어의 라인 스피드는 8cm/분으로 하였다. 경화 후 24시간 실온에 방치하고 나서, 연필 경도 시험기를 이용해서 하중 1kg으로 연필 경도를 측정하였다.
<감도>
알칼리 현상성 감광성 수지 조성물을 알루미늄 기판에 #3의 바코터로 약 1㎛의 두께로 도포하였다. 60℃에서 15분간 프리베이킹(prebaking)을 행한 후, 니혼분코 가부시키가이샤 제품인 분광 조사 장치 CT-25CP에 의해 광원으로서 초고압 수은 램프를 이용해서 노광하고, 이어서 2.5질량% 탄산나트륨 용액에 25℃에서 침지하여 현상하고, 잘 수세하여, 365nm 및 405nm 각각에서의 분광 감도를 측정하였다. 감도는 365nm 및 405nm 각각의 빛에 있어서 경화에 필요한 최소의 경화 에너지를, 알루미늄 기판상에 남은 경화막 단수와 365nm 및 405nm 각각의 사출 광량으로부터 구하였다.
Figure pct00042
Figure pct00043
표 1로부터 명확한 바와 같이, 실시예 3-1∼3-3의 감광성 조성물 No.2-1∼No.2-3은 경도가 높았지만, 비교예 1의 감광성 조성물 No.7 및 비교예 2의 감광성 조성물 No.8은 충분한 경도를 가지고 있지 않았다.
또한 표 2로부터 명확한 바와 같이, 알칼리 현상성 감광성 수지 조성물인 실시예 4-1∼4-3의 감광성 조성물 No.3-1∼No.3-3은 장파장인 365nm 및 405nm 중 어느 빛에 대해서도 감도가 뛰어났다. 이에 반해, 비교예 3의 감광성 조성물 No.9는 365nm의 빛에 대해서는 감도가 낮기 때문에 노광량을 많이 하지 않을 수 없고, 405nm의 빛에 대해서는 경화하지 않았다. 또한, 비교예 4의 감광성 조성물 No.10은 365nm의 빛에 대해서는 충분한 감도를 가지고 있었지만, 405nm의 빛에 대해서는 감도가 낮기 때문에 노광량을 많이 하지 않을 수 없었다.
본 발명의 옥심에스테르 화합물은 감광성이 뛰어나고, 특히 장파장인 365nm (i선) 및 405nm(h선)의 휘선에 대한 감도가 뛰어나기 때문에 광중합 개시제로서 유용한 것이다.

Claims (8)

  1. 하기 일반식(Ⅰ)로 표시되는 것을 특징으로 하는 옥심에스테르 화합물.
    [화학식 1]
    Figure pct00044

    (식 중, R1 및 R2는 각각 독립적으로 R11, OR11, COR11, SR11, CONR12R13 또는 CN을 나타내고,
    R11, R12 및 R13은 각각 독립적으로 수소원자, 탄소원자수 1∼20의 알킬기, 탄소원자수 6∼30의 아릴기, 탄소원자수 7∼30의 아릴알킬기, 또는 탄소원자수 2∼20의 복소환기를 나타내며, 이들 알킬기, 아릴기, 아릴알킬기 및 복소환기의 수소원자는 또한 OR21, COR21, SR21, NR22R23, CONR22R23, -NR22-OR23, -NCOR22-OCOR23, -C(=N-OR21)-R22, -C(=N-OCOR21)-R22, CN, 할로겐원자, -CR21=CR22R23, -CO-CR21=CR22R23, 카르복실기 또는 에폭시기로 치환되어 있어도 되고, R21, R22 및 R23은 각각 독립적으로 수소원자, 탄소원자수 1∼20의 알킬기, 탄소원자수 6∼30의 아릴기, 탄소원자수 7∼30의 아릴알킬기, 또는 탄소원자수 2∼20의 복소환기를 나타내며,
    상기 R11, R12, R13, R21, R22 및 R23으로 표시되는 치환기의 알킬렌 부분의 메틸렌기는 불포화 결합, 에테르 결합, 티오에테르 결합, 에스테르 결합, 티오에스테르 결합, 아미드 결합 또는 우레탄 결합에 의해 1∼5회 중단되어 있어도 되고, 상기 치환기의 알킬 부분은 분기 측쇄가 있어도 되고, 환상 알킬이어도 되며, 상기 치환기의 알킬 말단은 불포화 결합이어도 되고, 또한 R12와 R13 및 R22와 R23은 각각 함께 환을 형성하고 있어도 된다.
    R3 및 R4는 각각 독립적으로 R11, OR11, SR11, COR11, CONR12R13, NR12COR11, OCOR11, COOR11, SCOR11, OCSR11, COSR11, CSOR11, CN, 할로겐원자 또는 수산기를 나타내고, a 및 b는 각각 독립적으로 0∼4이다.
    X는 산소원자, 유황원자, 셀렌원자, CR31R32, CO, NR33 또는 PR34를 나타내고, R31, R32, R33 및 R34는 각각 독립적으로 R11, OR11, COR11, SR11, CONR12R13 또는 CN을 나타내며,
    X가 CR31R32일 때, R3 및 R4가 함께 환을 형성하고 있거나, 혹은 R3이, -X-를 통해 인접하는 벤젠환의 탄소원자의 1개와 결합하여 환 구조를 형성하고 있어도 되고,
    X가 산소원자, 유황원자, 셀렌원자 또는 PR34일 때, R3은 -X-를 통해 인접하는 벤젠환의 탄소원자의 1개와 결합하여 환 구조를 형성하고 있어도 되고, 혹은 R3과 R4가 함께 환을 형성하고 있어도 되며, R31, R32, R33 및 R34는 각각 독립적으로, 인접하는 어느 한쪽의 벤젠환과 함께 환을 형성하고 있어도 된다.)
  2. 제1항에 있어서,
    상기 일반식(Ⅰ) 중의 X가 유황원자인 것을 특징으로 하는 옥심에스테르 화합물.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 일반식(Ⅰ) 중의 R1 및 R2가, 분기 측쇄가 있어도 되고, 환상 알킬이어도 되며, 할로겐원자로 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 1∼20의 알킬기, 할로겐원자로 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 6∼30의 아릴기, 또는 할로겐원자로 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 7∼30의 아릴알킬기인 것을 특징으로 하는 옥심에스테르 화합물.
  4. 제1항 내지 제3항에 기재된 옥심에스테르 화합물을 유효 성분으로 하는 광중합 개시제.
  5. 제4항에 기재된 광중합 개시제 및 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물을 함유하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
  6. 제5항에 있어서,
    무기 화합물을 더 함유하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
  7. 제4항에 기재된 광중합 개시제 및 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 알칼리 현상성 화합물을 함유하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 알칼리 현상성 감광성 수지 조성물.
  8. 제7항에 기재된 알칼리 현상성 감광성 수지 조성물에, 색재를 더 함유시켜 이루어지는 것을 특징으로 하는 착색 알칼리 현상성 감광성 수지 조성물.
KR1020107010726A 2007-12-25 2007-12-25 옥심에스테르 화합물 및 상기 화합물을 함유하는 광중합 개시제 KR101418735B1 (ko)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2007/074832 WO2009081483A1 (ja) 2007-12-25 2007-12-25 オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20100097658A true KR20100097658A (ko) 2010-09-03
KR101418735B1 KR101418735B1 (ko) 2014-07-11

Family

ID=40800801

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020107010726A KR101418735B1 (ko) 2007-12-25 2007-12-25 옥심에스테르 화합물 및 상기 화합물을 함유하는 광중합 개시제

Country Status (6)

Country Link
US (1) US8202679B2 (ko)
EP (1) EP2223910B1 (ko)
JP (1) JPWO2009081483A1 (ko)
KR (1) KR101418735B1 (ko)
CN (1) CN101855201B (ko)
WO (1) WO2009081483A1 (ko)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140075588A (ko) * 2012-12-11 2014-06-19 제이에스알 가부시끼가이샤 감방사선성 수지 조성물, 표시 소자용 경화막, 표시 소자용 경화막의 형성 방법 및 표시 소자
KR101531149B1 (ko) * 2012-09-28 2015-06-23 다이토 케믹스 코포레이션 플루오렌계 화합물, 상기 플루오렌계 화합물을 포함하는 광중합 개시제, 및 상기 광중합 개시제를 포함하는 감광성 조성물
KR20180055105A (ko) * 2016-11-16 2018-05-25 동우 화인켐 주식회사 감광성 수지 조성물 및 이로부터 형성된 광경화 패턴
KR20190055020A (ko) * 2016-09-16 2019-05-22 가부시키가이샤 아데카 경화성 조성물, 경화물 및 경화물의 제조 방법

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2128132B1 (en) * 2006-12-27 2014-01-15 Adeka Corporation Oxime ester compound and photopolymerization initiator containing the same
JP5236587B2 (ja) 2009-07-15 2013-07-17 太陽ホールディングス株式会社 光硬化性樹脂組成物
JP5944898B2 (ja) * 2011-07-08 2016-07-05 新日鉄住金化学株式会社 光重合開始剤、感光性組成物及び硬化物
WO2013084282A1 (ja) 2011-12-05 2013-06-13 日立化成株式会社 樹脂硬化膜パターンの形成方法、感光性樹脂組成物及び感光性エレメント
WO2013084283A1 (ja) 2011-12-05 2013-06-13 日立化成株式会社 タッチパネル用電極の保護膜の形成方法、感光性樹脂組成物及び感光性エレメント
US9777138B2 (en) * 2012-07-31 2017-10-03 Adeka Corporation Latent additive and composition containing latent additive
JP6061697B2 (ja) * 2013-01-24 2017-01-18 株式会社日本化学工業所 新規な光重合開始剤及びその使用方法
KR101435652B1 (ko) * 2014-01-17 2014-08-28 주식회사 삼양사 신규한 β-옥심에스테르 플루오렌 화합물, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물
JP6741427B2 (ja) * 2015-01-13 2020-08-19 東友ファインケム株式会社Dongwoo Fine−Chem Co., Ltd. 自発光感光性樹脂組成物、これから製造された色変換層を含む表示装置
KR101824429B1 (ko) 2015-01-26 2018-02-06 주식회사 삼양사 신규한 디옥심에스테르 화합물 및 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물
KR101824443B1 (ko) 2015-04-09 2018-02-05 주식회사 삼양사 신규한 플루오렌일 옥심 에스테르 화합물, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물
KR101828927B1 (ko) 2015-02-06 2018-02-14 주식회사 삼양사 신규한 옥심에스테르 화합물, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물
JP6539476B2 (ja) * 2015-04-06 2019-07-03 株式会社Adeka オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤
KR101777845B1 (ko) 2015-06-08 2017-09-12 주식회사 삼양사 신규한 플루오란텐 옥심 에스테르 유도체, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물
KR102613079B1 (ko) 2015-07-17 2023-12-12 타코마테크놀러지 주식회사 옥심에스테르 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물
CN108475019B (zh) * 2016-03-29 2022-02-11 株式会社艾迪科 黑色感光性树脂组合物

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5019482A (en) * 1987-08-12 1991-05-28 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Polymer/oxime ester/coumarin compound photosensitive composition
NL1016815C2 (nl) * 1999-12-15 2002-05-14 Ciba Sc Holding Ag Oximester-fotoinitiatoren.
JP2001302871A (ja) 2000-04-25 2001-10-31 Taiyo Ink Mfg Ltd 光硬化性・熱硬化性樹脂組成物とこれを用いて形成したソルダーレジスト皮膜や樹脂絶縁層を有するプリント配線板
ATE446322T1 (de) 2001-06-11 2009-11-15 Basf Se Oxim ester photoinitiatoren mit kombinierter struktur
TW200714651A (en) 2002-10-28 2007-04-16 Mitsubishi Chem Corp Photopolymerization composition and color filter using the same
JP4595374B2 (ja) 2003-04-24 2010-12-08 住友化学株式会社 黒色感光性樹脂組成物
JP2005242280A (ja) 2003-04-24 2005-09-08 Sumitomo Chemical Co Ltd 黒色感光性樹脂組成物
JP3754065B2 (ja) 2003-06-10 2006-03-08 三菱化学株式会社 光重合性組成物及びこれを用いたカラーフィルター
JP4442292B2 (ja) 2003-06-10 2010-03-31 三菱化学株式会社 光重合性組成物、カラーフィルター及び液晶表示装置
JP5140903B2 (ja) 2004-07-02 2013-02-13 三菱化学株式会社 着色樹脂組成物、カラーフィルタ及び液晶表示装置
CA2574054A1 (en) * 2004-07-20 2006-01-26 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Oxime derivatives and the use therof as latent acids
KR20130040260A (ko) * 2004-08-18 2013-04-23 시바 홀딩 인크 옥심 에스테르 광개시제
JP2007219362A (ja) * 2006-02-20 2007-08-30 Toyo Ink Mfg Co Ltd 重合性組成物およびそれを用いたネガ型レジストおよびそれを用いた画像パターン形成方法。
WO2007119651A1 (ja) * 2006-04-13 2007-10-25 Taiyo Ink Mfg. Co., Ltd. アルカリ現像型ソルダーレジスト及びその硬化物並びにそれを用いて得られるプリント配線板
JP2007310027A (ja) 2006-05-16 2007-11-29 Fujifilm Corp 感光性組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板
JP5030527B2 (ja) 2006-10-20 2012-09-19 株式会社Adeka オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤
EP2128132B1 (en) * 2006-12-27 2014-01-15 Adeka Corporation Oxime ester compound and photopolymerization initiator containing the same
KR20090104877A (ko) * 2007-01-23 2009-10-06 후지필름 가부시키가이샤 옥심 화합물, 감광성 조성물, 컬러 필터, 그 제조방법 및 액정표시소자
CN102317863B (zh) * 2009-02-13 2013-11-20 株式会社Lg化学 光活性化合物和含有该化合物的光敏树脂组合物
JP4344400B1 (ja) * 2009-02-16 2009-10-14 株式会社日本化学工業所 オキシムエステル化合物及びこれらを用いた感光性樹脂組成物

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101531149B1 (ko) * 2012-09-28 2015-06-23 다이토 케믹스 코포레이션 플루오렌계 화합물, 상기 플루오렌계 화합물을 포함하는 광중합 개시제, 및 상기 광중합 개시제를 포함하는 감광성 조성물
US9684238B2 (en) 2012-09-28 2017-06-20 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Fluorene-type compound, photopolymerization initiator comprising said fluorene-type compound, and photosensitive composition containing said photopolymerization initiator
KR20140075588A (ko) * 2012-12-11 2014-06-19 제이에스알 가부시끼가이샤 감방사선성 수지 조성물, 표시 소자용 경화막, 표시 소자용 경화막의 형성 방법 및 표시 소자
KR20190055020A (ko) * 2016-09-16 2019-05-22 가부시키가이샤 아데카 경화성 조성물, 경화물 및 경화물의 제조 방법
KR20180055105A (ko) * 2016-11-16 2018-05-25 동우 화인켐 주식회사 감광성 수지 조성물 및 이로부터 형성된 광경화 패턴

Also Published As

Publication number Publication date
CN101855201B (zh) 2013-09-18
EP2223910A1 (en) 2010-09-01
KR101418735B1 (ko) 2014-07-11
US20100249262A1 (en) 2010-09-30
CN101855201A (zh) 2010-10-06
EP2223910A4 (en) 2011-09-07
WO2009081483A1 (ja) 2009-07-02
JPWO2009081483A1 (ja) 2011-05-06
US8202679B2 (en) 2012-06-19
EP2223910B1 (en) 2012-11-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100910103B1 (ko) 옥심에스테르화합물 및 상기 화합물을 함유하는 광중합 개시제
KR101471644B1 (ko) 옥심에스테르화합물 및 상기 화합물을 함유하는 광중합 개시제
KR101418735B1 (ko) 옥심에스테르 화합물 및 상기 화합물을 함유하는 광중합 개시제
KR102369426B1 (ko) 옥심에스테르 화합물 및 상기 화합물을 함유하는 광중합 개시제
KR101153575B1 (ko) 옥심에스테르 화합물 및 상기 화합물을 함유하는 광중합 개시제
KR100799043B1 (ko) 옥심 에스테르 화합물 및 이 화합물을 함유하는 광중합개시제
JP2010015025A (ja) 特定の光重合開始剤を含有する感光性組成物
JP2008100955A (ja) オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤
KR102423976B1 (ko) 신규 중합 개시제 및 상기 중합 개시제를 함유하는 라디칼 중합성 조성물
JP2015093842A (ja) オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤
JP6539476B2 (ja) オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤
KR102545326B1 (ko) 옥심에스테르 화합물 및 상기 화합물을 함유하는 광중합 개시제
JP6688087B2 (ja) 化合物、組成物及び光重合開始剤
JP5550814B2 (ja) カルバゾリル基を有するβ−ジケトン化合物及び該化合物を用いた光重合開始剤

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180628

Year of fee payment: 5